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JP7640269B2 - Reflector - Google Patents
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Description

本発明は、光学的手法で対象物までの距離を測定する測定装置の検査に用いられる反射体に関する。 The present invention relates to a reflector used to inspect a measuring device that measures the distance to an object using optical methods.

近年は、光学的手法で対象物までの距離を測定する測定装置の用途が広がっている。このような測定装置において、距離が正常に測定できているか否かを検査することは重要である。例えば特許文献1には、測定装置の光軸のずれを測定する際に、前方板及び後方板を有する光軸調整装置を用いることが記載されている。前方板は後方板より前に位置しており、測定装置から出射された光を透過させるための孔を有している。特許文献1において、測定装置から出射された光は、前方板により遮られることなく孔を通過して後方板に照射される。 In recent years, the use of measuring devices that use optical methods to measure the distance to an object has expanded. In such measuring devices, it is important to check whether the distance is being measured correctly. For example, Patent Document 1 describes the use of an optical axis adjustment device having a front plate and a rear plate when measuring the deviation of the optical axis of the measuring device. The front plate is located in front of the rear plate and has a hole for transmitting light emitted from the measuring device. In Patent Document 1, the light emitted from the measuring device passes through the hole without being blocked by the front plate and is irradiated to the rear plate.

特開2020-56662号公報JP 2020-56662 A

測定装置の測定対象となる対象物には様々な種類がある。このため、測定対象における光の反射率も様々になる。このため、測定装置の検査において、様々な反射率を想定した検査を行う必要がある。 There are many different types of objects that can be measured with a measuring device. As a result, the light reflectance of the objects varies. For this reason, when inspecting measuring devices, it is necessary to carry out inspections that take into account a variety of reflectances.

本発明の目的の一例は、光学的手法で対象物までの距離を測定する測定装置の検査に用いられる反射体において、反射率を容易に変更できるようにすることにある。 One example of the objective of the present invention is to make it possible to easily change the reflectance of a reflector used in testing a measuring device that measures the distance to an object using optical methods.

請求項1に記載の発明は、光学的手法で対象物までの距離を測定する測定装置の検査に用いられる反射体であって、
前記測定装置から照射された光を反射する基準反射面を有する反射部材と、
前記基準反射面の少なくとも一部の領域に重ねられ、前記光の少なくとも一部が前記基準反射面に到達することを阻害するマスク部材と、
を備え、
前記マスク部材は交換可能である反射体である。
The present invention relates to a reflector for use in inspection of a measuring device that measures a distance to an object by an optical method, the reflector comprising:
a reflecting member having a reference reflecting surface that reflects light irradiated from the measuring device;
a mask member that is overlapped with at least a portion of the reference reflecting surface and that blocks at least a portion of the light from reaching the reference reflecting surface;
Equipped with
The mask member is a replaceable reflector.

実施形態に係る反射体の使用環境を説明するための図である。1A and 1B are diagrams for explaining a usage environment of a reflector according to an embodiment. マスク部材の第1例を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a first example of a mask member. 部分領域の大きさを説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining the size of a partial region. (A)及び(B)は、部分領域における透光領域及び遮光領域の第1例を示す図である。13A and 13B are diagrams illustrating a first example of a light-transmitting region and a light-shielding region in a partial region. (A)及び(B)は、部分領域における透光領域及び遮光領域の第2例を示す図である。13A and 13B are diagrams illustrating a second example of a light-transmitting region and a light-shielding region in a partial region. (A)及び(B)は、部分領域における透光領域及び遮光領域の第3例を示す図である。13A and 13B are diagrams illustrating a third example of a light-transmitting region and a light-shielding region in a partial region. (A)及び(B)は、部分領域における透光領域及び遮光領域の第3例を示す図である。13A and 13B are diagrams illustrating a third example of a light-transmitting region and a light-shielding region in a partial region. 図1に示した反射体の変形例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a modified example of the reflector shown in FIG. 1 . 図8に示したマスク部材の設置目的を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the purpose of installing the mask member shown in FIG. 8 .

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that in all drawings, similar components are given similar reference numerals and descriptions will be omitted where appropriate.

図1は、実施形態に係る反射体10の使用環境を説明するための図である。反射体10は、解析装置30と共に使用され、測定装置20の検査に用いられる。 Figure 1 is a diagram for explaining the usage environment of the reflector 10 according to the embodiment. The reflector 10 is used together with an analysis device 30 and is used to inspect the measurement device 20.

測定装置20は、例えばLiDARであり、光学的手法を用いて対象物までの距離を測定する。具体的には、測定装置20は、光出射部及び受光部を有しており、光出射部が光(例えばレーザ光)を出射してから、対象物によって反射された光を受光部が受光するまでの時間を用いて、対象物までの距離を測定する。測定装置20がLiDARである場合、測定装置20は、水平方向および垂直方向の所定の角度範囲に対して電磁波であるパルスレーザを出射することで、対象物までの距離を離散的に測定し、当該対象物の位置を示す3次元の計測点群情報を生成する。 The measuring device 20 is, for example, a LiDAR, and measures the distance to an object using optical techniques. Specifically, the measuring device 20 has a light emitting unit and a light receiving unit, and measures the distance to the object using the time from when the light emitting unit emits light (for example, laser light) to when the light receiving unit receives the light reflected by the object. When the measuring device 20 is a LiDAR, the measuring device 20 measures the distance to the object discretely by emitting a pulsed laser, which is an electromagnetic wave, over a predetermined angular range in the horizontal and vertical directions, and generates three-dimensional measurement point cloud information indicating the position of the object.

測定装置20の検査において、反射体10は、測定装置20から反射体10までの距離は、予め定められた距離Lに設定される。そしてこの状態において測定装置20は、反射体10を測定する。そして解析装置30は、この測定結果を用いて、測定装置20が正常であるか否かを判断する。 In the inspection of the measuring device 20, the distance from the measuring device 20 to the reflector 10 is set to a predetermined distance L1 . In this state, the measuring device 20 measures the reflector 10. The analyzing device 30 uses the measurement result to determine whether or not the measuring device 20 is normal.

本図に示す例において、反射体10は反射部材110及びマスク部材120を有している。 In the example shown in this figure, the reflector 10 has a reflective member 110 and a mask member 120.

反射部材110は、測定装置20に対向する面が反射面(以下、基準反射面と記載)となっている。基準反射面の反射率は、面内の位置によらず一定になっている。基準反射面は、例えばランバート反射体面は再帰性反射面になっている。 The surface of the reflecting member 110 that faces the measuring device 20 is a reflecting surface (hereinafter referred to as the reference reflecting surface). The reflectance of the reference reflecting surface is constant regardless of the position on the surface. The reference reflecting surface is, for example, a Lambertian reflector surface that is a retroreflective surface.

マスク部材120は、反射部材110の基準反射面の少なくとも一部の領域に重ねられ、反射体10が照射した光の少なくとも一部が基準反射面に到達することを阻害する。そしてマスク部材120は交換可能である。このため、マスク部材120を変えることにより、反射体10の反射率を容易に変更できる。なお、反射部材110の基準反射面は平面であってもよいし、幅方向及び高さ方向の少なくとも一方において曲面になっていてもよい。後者の場合、反射部材110は、例えば基準反射面が凹になる向きに曲がっている。 The mask member 120 is superimposed on at least a partial area of the reference reflecting surface of the reflecting member 110, and prevents at least a portion of the light irradiated by the reflector 10 from reaching the reference reflecting surface. The mask member 120 is replaceable. Therefore, the reflectance of the reflector 10 can be easily changed by changing the mask member 120. The reference reflecting surface of the reflecting member 110 may be flat, or may be curved in at least one of the width direction and height direction. In the latter case, the reflecting member 110 is curved in a direction such that the reference reflecting surface is concave, for example.

図2は、マスク部材120の第1例を示す平面図である。マスク部材120は、透光領域122及び遮光領域124を有している。そして透光領域122の占有率(又は遮光領域124の占有率)によって、マスク部材120の光の透過率が決定される。例えば、マスク部材120は、例えば透光性(例えば測定装置20が照射する光の透過率が90%以上、好ましくは99%以上)の板状の基材の一部に遮光性の塗料を塗布することにより、形成されている。この場合、基材のうち塗料が塗布されていない領域が透光領域122となっており、基材のうち塗料が塗布された領域が遮光領域124となっている。ただし、マスク部材120は、遮光性の基材に複数の開口を設けることにより、形成されていてもよい。この場合、基材のうち開口が設けられている領域が透光領域122となっており、基材のうち開口が設けられていない領域が遮光領域124となっている。 2 is a plan view showing a first example of the mask member 120. The mask member 120 has a light-transmitting region 122 and a light-shielding region 124. The light transmittance of the mask member 120 is determined by the occupancy rate of the light-transmitting region 122 (or the occupancy rate of the light-shielding region 124). For example, the mask member 120 is formed by applying a light-shielding paint to a part of a plate-shaped substrate having light-transmittance (for example, the transmittance of light irradiated by the measuring device 20 is 90% or more, preferably 99% or more). In this case, the region of the substrate where the paint is not applied is the light-transmitting region 122, and the region of the substrate where the paint is applied is the light-shielding region 124. However, the mask member 120 may be formed by providing a plurality of openings in a light-shielding substrate. In this case, the region of the substrate where the openings are provided is the light-transmitting region 122, and the region of the substrate where the openings are not provided is the light-shielding region 124.

また、本図に示す例において、マスク部材120は複数の部分領域126を有している。複数の部分領域126のそれぞれは、透光領域122及び遮光領域124を有している。これら複数の部分領域126の光の透過率は互いに異なっている。ただし、一つの部分領域126の内部では、光の透過率は一定である。このため、反射部材110の上に部分領域126を重ねることで、部分領域126を変えなくても複数の反射率に関する検査を行うことができる。 In the example shown in this figure, the mask member 120 has a plurality of partial regions 126. Each of the plurality of partial regions 126 has a light-transmitting region 122 and a light-shielding region 124. The light transmittance of these plurality of partial regions 126 is different from one another. However, within one partial region 126, the light transmittance is constant. Therefore, by overlapping the partial region 126 on the reflective member 110, it is possible to perform inspections related to a plurality of reflectances without changing the partial region 126.

本図に示す例において、複数の部分領域126の透光領域122の占有率(又は遮光領域124の占有率)は、互いに異なっている。そして反射部材110の幅方向(すなわちマスク部材120の幅方向)に、複数の部分領域126は並んでいる。そして右側にいくにつれて(又は左側にいくにつれて)、部分領域126の透光率は減少している。 In the example shown in this figure, the occupancy rate of the light-transmitting region 122 (or the occupancy rate of the light-shielding region 124) of the multiple partial regions 126 is different from one another. The multiple partial regions 126 are arranged in the width direction of the reflecting member 110 (i.e., the width direction of the mask member 120). The light transmittance of the partial regions 126 decreases toward the right (or toward the left).

ただし、複数の部分領域126は、反射部材110の上下方向(すなわちマスク部材120の上下方向)に並んでいてもよい。また、マスク部材120の幅方向及び上限方向の少なくとも一方において、透光領域122の占有率(又は遮光領域124の占有率)は連続的に変化してもよい。 However, the partial regions 126 may be arranged in the vertical direction of the reflecting member 110 (i.e., the vertical direction of the mask member 120). In addition, the occupancy rate of the light-transmitting region 122 (or the occupancy rate of the light-shielding region 124) may change continuously in at least one of the width direction and the upper limit direction of the mask member 120.

また、マスク部材120において、互いに透光率が異なる2つ以上の部分領域126が繰り返し設けられていてもよい。例えばマスク部材120において、第1の部分領域126と第2の部分領域126とが交互に設けられていてもよい。 In addition, two or more partial regions 126 having different light transmittances may be repeatedly provided in the mask member 120. For example, the first partial region 126 and the second partial region 126 may be alternately provided in the mask member 120.

図3は、部分領域126の大きさを説明するための図である。マスク部材120には、図1に示した測定装置20からの光が照射される。そして、部分領域126の幅Wは、マスク部材120上における測定装置20からの光の大きさ(以下、光領域200と記載:フットプリントに相当)W(例えばフットプリントの幅)よりも大きい。例えば図3のように、横方向のライン毎に半周期ずつずらして光を照射する場合、部分領域126の幅Wは、光の大きさWの1.5倍以上であるのが好ましい。また、それ以外の場合(例えば横方向における照射位置がいずれのラインでも同じ場合)、幅Wは、光の大きさWの2.0倍以上であるのが好ましい。このようにすると、マスク部材120の上において、測定装置20の光が複数の部分領域126に跨ることを抑制できる。 FIG. 3 is a diagram for explaining the size of the partial region 126. The mask member 120 is irradiated with light from the measuring device 20 shown in FIG. 1. The width W 1 of the partial region 126 is larger than the size of the light from the measuring device 20 on the mask member 120 (hereinafter, described as the light region 200: equivalent to a footprint) W 2 (e.g., the width of the footprint). For example, as shown in FIG. 3, when irradiating light by shifting each horizontal line by half a period, the width W 1 of the partial region 126 is preferably 1.5 times or more the size W 2 of the light. In other cases (e.g., when the irradiation position in the horizontal direction is the same for each line), the width W 1 is preferably 2.0 times or more the size W 2 of the light. In this way, it is possible to suppress the light of the measuring device 20 from spanning multiple partial regions 126 on the mask member 120.

また、部分領域126の幅Wは、マスク部材120における光の照射間隔(例えば隣り合う2つのフットプリントの中心間距離)よりも大きい。例えば図3のように、横方向のライン毎に半周期ずつずらして光を照射する場合、幅Wは、光の照射間の1.5倍以上であるのが好ましい。また、それ以外の場合(例えば横方向における照射位置がいずれのラインでも同じ場合)、幅Wは、光の照射間の2.0倍以上であるのが好ましい。このようにすると、複数の部分領域126のそれぞれに対して、光は照射されやすくなる。 Moreover, the width W1 of the partial region 126 is larger than the light irradiation interval (e.g., the center-to-center distance between two adjacent footprints) on the mask member 120. For example, as shown in FIG. 3, when light is irradiated with a half-period shift for each horizontal line, the width W1 is preferably 1.5 times or more the distance between the light irradiations. In other cases (e.g., when the horizontal irradiation position is the same for each line), the width W1 is preferably 2.0 times or more the distance between the light irradiations. In this way, the light is easily irradiated to each of the multiple partial regions 126.

図4(A)及び図4(B)は、部分領域126における透光領域122及び遮光領域124の第1例を示す図である。本図に示す例において、透光領域122及び遮光領域124は、いずれも同じ形状の矩形(例えば正方形)である。そして透光領域122及び遮光領域124は、いずれもマスク部材120上における光領域200よりも小さい。例えば透光領域122の幅及び遮光領域124の幅は、いずれも光領域200の幅(図3のWに相当)の25%以下である。そして、図4(A)に示す例と、図4(B)に示す例とでは、透光領域122の占有率(すなわち遮光領域124の占有率)が異なる。具体的には、図4(A)に示す例における透光領域122の占有率は50%であるが、図4(B)に示す例における透光領域122の占有率は25%である。なお、図4(A)に示す例において、透光領域122及び遮光領域124は幅方向及び高さ方向の双方において交互に配置されているが、これらのレイアウトはこの例に限定されない。 4(A) and 4(B) are diagrams showing a first example of the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 in the partial region 126. In the example shown in this figure, the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 are both rectangular (e.g., square) of the same shape. The light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 are both smaller than the light region 200 on the mask member 120. For example, the width of the light-transmitting region 122 and the width of the light-shielding region 124 are both 25% or less of the width of the light region 200 (corresponding to W1 in FIG. 3). The example shown in FIG. 4(A) and the example shown in FIG. 4(B) have different occupancies of the light-transmitting region 122 (i.e., the occupancy of the light-shielding region 124). Specifically, the occupancy of the light-transmitting region 122 in the example shown in FIG. 4(A) is 50%, while the occupancy of the light-transmitting region 122 in the example shown in FIG. 4(B) is 25%. In the example shown in FIG. 4A, the light-transmitting regions 122 and the light-shielding regions 124 are alternately arranged in both the width direction and the height direction, but the layout thereof is not limited to this example.

図5(A)及び図5(B)は、部分領域126における透光領域122及び遮光領域124の第2例を示す図であり、それぞれ図4(A)及び図4(B)に対応している。本図に示す例において、透光領域122の大きさ及び遮光領域124の大きさは、図4に示す例よりも小さい。そして、[0]図5に示す例を用いたマスク部材120は、測定装置20から反射体10までの距離L(図1参照)が小さい場合に用いられる。これは、距離Lが小さくなるにつれて光領域200が小さくなるためである。すなわち、透光領域122及び遮光領域124は、距離Lが小さくなるにつれて小さくなるのが好ましい。しかし、照射光の指向性が充分高い場合はその限りではない。 5(A) and 5(B) are diagrams showing a second example of the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 in the partial region 126, and correspond to FIG. 4(A) and FIG. 4(B), respectively. In the example shown in this figure, the size of the light-transmitting region 122 and the size of the light-shielding region 124 are smaller than those in the example shown in FIG. 4. [0] The mask member 120 using the example shown in FIG. 5 is used when the distance L 1 from the measuring device 20 to the reflector 10 (see FIG. 1) is small. This is because the light region 200 becomes smaller as the distance L 1 becomes smaller. In other words, it is preferable that the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 become smaller as the distance L 1 becomes smaller. However, this is not the case when the directivity of the irradiated light is sufficiently high.

図6(A)及び図6(B)は、部分領域126における透光領域122及び遮光領域124の第3例を示す図であり、それぞれ図4(A)及び図4(B)に対応している。本図に示す例において、マスク部材120の全体が遮光領域124となっている。そして、遮光領域124の中に複数の透光領域122が設けられている。本図に示す例において、透光領域122は円形(又は楕円形)である。そして図6(A)に示すように、複数の透光領域122の少なくとも一つは、他とは異なる大きさであってもよい。また、図6(B)に示すように、複数の透光領域122はすべて同じ形状であってもよい。 Figures 6(A) and 6(B) show a third example of the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 in the partial region 126, and correspond to Figures 4(A) and 4(B), respectively. In the example shown in this figure, the entire mask member 120 is the light-shielding region 124. A plurality of light-transmitting regions 122 are provided in the light-shielding region 124. In the example shown in this figure, the light-transmitting region 122 is circular (or elliptical). As shown in Figure 6(A), at least one of the plurality of light-transmitting regions 122 may be a different size from the others. Also, as shown in Figure 6(B), the plurality of light-transmitting regions 122 may all be the same shape.

なお、図6(A)に示す例において、マスク部材120の全体が透光領域122となっていてもよい。この場合、透光領域122の中に複数の遮光領域124が設けられる。 In the example shown in FIG. 6(A), the entire mask member 120 may be the light-transmitting region 122. In this case, a plurality of light-shielding regions 124 are provided within the light-transmitting region 122.

図7(A)及び図7(B)部分領域126における透光領域122及び遮光領域124の第3例を示す図であり、それぞれ図4(A)及び図4(B)に対応している。本図に示す例において、光領域200は矩形ではなく、平行四辺形になっている。これは、例えばマスク部材120が平面である場合において、マスク部材120の端部において光領域200が歪むためである。そして透光領域122の形状及び遮光領域124の形状は、歪んだ後の光領域200の形状に相似になっている。 Figures 7(A) and 7(B) show a third example of the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 in the partial region 126, and correspond to Figures 4(A) and 4(B), respectively. In the example shown in this figure, the light region 200 is a parallelogram, not a rectangle. This is because, for example, when the mask member 120 is flat, the light region 200 is distorted at the end of the mask member 120. The shapes of the light-transmitting region 122 and the light-shielding region 124 are similar to the shape of the light region 200 after distortion.

図8は、図1に示した反射体10の変形例を示す図である。本図に示す例において、反射体10のマスク部材120は、一部(例えば中央部)にのみ遮光領域124を有している。言い換えると、マスク部材120は、反射部材110の一部の反射率を低下させるために設けられている。 Figure 8 shows a modified example of the reflector 10 shown in Figure 1. In the example shown in this figure, the mask member 120 of the reflector 10 has a light-shielding region 124 only in a portion (e.g., the center). In other words, the mask member 120 is provided to reduce the reflectance of a portion of the reflector member 110.

図9は、図8に示したマスク部材120の設置目的を説明するための図である。反射体10の反射部材110の反射率が高い場合、図9(A)に示すように、反射光のピーク強度が強すぎるため、測定装置20の受光部は、正確な受信波形を出力することができず、その結果、反射光のピーク位置(時間)を検出できない。このようになるケースとしては、反射部材110の反射面が再帰性反射面になっている場合において、光を反射部材110のうち測定装置20の正面に位置する領域に照射する場合が挙げられる。 Figure 9 is a diagram for explaining the purpose of installing the mask member 120 shown in Figure 8. When the reflectance of the reflecting member 110 of the reflector 10 is high, as shown in Figure 9 (A), the peak intensity of the reflected light is too strong, and the light receiving unit of the measuring device 20 cannot output an accurate received waveform, and as a result, the peak position (time) of the reflected light cannot be detected. An example of a case where this occurs is when the reflecting surface of the reflecting member 110 is a retroreflective surface and light is irradiated onto an area of the reflecting member 110 located in front of the measuring device 20.

このような場合であっても、マスク部材120の遮光領域124を、反射部材110のうち反射率が高すぎる領域に設けると、図9(B)に示すように、測定装置20が受光した反射光のピーク位置(時間)を精度よく検出できる。 Even in such a case, if the light-shielding region 124 of the mask member 120 is provided in an area of the reflecting member 110 where the reflectance is too high, the peak position (time) of the reflected light received by the measuring device 20 can be detected with high accuracy, as shown in FIG. 9(B).

なお、測定装置20から出射された光が反射体10に到達した時の単位面積当たりの強度は、測定装置20から反射体10までの距離Lが大きくなるにつれて低下する。このため、マスク部材120は、距離Lに応じて交換されるのが好ましい。具体的には、マスク部材120の透光率は、距離Lが大きくなるにつれて上がるのが好ましい。 The intensity per unit area of the light emitted from the measuring device 20 when it reaches the reflector 10 decreases as the distance L1 from the measuring device 20 to the reflector 10 increases. Therefore, it is preferable to replace the mask member 120 in accordance with the distance L1 . Specifically, it is preferable that the light transmittance of the mask member 120 increases as the distance L1 increases.

以上、本実施形態によれば、反射部材110の基準反射面の上にはマスク部材120が設けられている。マスク部材120は、取り換え可能である。このため、反射体10の反射率を容易に変更できる。 As described above, according to this embodiment, the mask member 120 is provided on the reference reflecting surface of the reflecting member 110. The mask member 120 is replaceable. Therefore, the reflectance of the reflector 10 can be easily changed.

また、図2及び図3に示すように、マスク部材120は複数の部分領域126を有している。これら複数の部分領域126の少なくとも2つは、透光率が互いに異なる。このため、一つの反射体10で複数の反射率に関する検査を行うことができる。 As shown in Figs. 2 and 3, the mask member 120 has a plurality of partial regions 126. At least two of the plurality of partial regions 126 have different light transmittances. Therefore, a single reflector 10 can be used to perform inspections related to a plurality of reflectances.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 The above describes the embodiments of the present invention with reference to the drawings, but these are merely examples of the present invention, and various configurations other than those described above can also be adopted.

10 反射体
20 測定装置
30 解析装置
110 反射部材
120 マスク部材
122 透光領域
124 遮光領域
126 部分領域
200 光領域
10 reflector 20 measuring device 30 analyzing device 110 reflecting member 120 mask member 122 light-transmitting region 124 light-shielding region 126 partial region 200 light region

Claims (10)

光学的手法で対象物までの距離を測定する測定装置の検査に用いられる反射体であって、
前記測定装置から照射された光を反射する基準反射面を有する反射部材と、
前記反射部材の反射率を変えるための複数のマスク部材と、
を備え、
前記複数のマスク部材の一つが前記基準反射面の少なくとも一部の領域に重ねられることにより、前記光の少なくとも一部が前記基準反射面に到達することを阻害され、
前記一つの前記マスク部材が変わることにより、前記反射部材の反射率が変わる、反射体。
A reflector used in inspection of a measuring device that measures a distance to an object by an optical method,
a reflecting member having a reference reflecting surface that reflects light irradiated from the measuring device;
A plurality of mask members for changing the reflectance of the reflecting member;
Equipped with
One of the plurality of mask members is overlapped on at least a portion of the reference reflecting surface, thereby preventing at least a portion of the light from reaching the reference reflecting surface,
A reflector in which the reflectance of the reflective member is changed by changing one of the mask members .
請求項1に記載の反射体において、
前記マスク部材は、
透光領域と、
前記透光領域に設けられた複数の遮光領域と、
を有しており、
前記遮光領域の大きさは、前記マスク部材上における前記光の大きさよりも小さい、反射体。
2. The reflector according to claim 1,
The mask member is
A light-transmitting region;
A plurality of light-shielding regions provided in the light-transmitting region;
It has
A reflector, wherein the size of the light blocking area is smaller than the size of the light on the mask member.
請求項1に記載の反射体において、
前記マスク部材は、
遮光領域と、
前記遮光領域に設けられた複数の透光領域と、
を有しており、
前記透光領域の大きさは、前記マスク部材上における前記光の大きさよりも小さい、反射体。
2. The reflector according to claim 1,
The mask member is
A light-shielding region;
A plurality of light-transmitting regions provided in the light-shielding region;
It has
A reflector, wherein the size of the light transmitting region is smaller than the size of the light on the mask member.
請求項1に記載の反射体において、2. The reflector according to claim 1,
少なくとも一つの前記マスク部材は遮光領域及び透光領域を有しており、At least one of the mask members has a light blocking region and a light transmitting region,
前記少なくとも一つのマスク部材のいずれかにおいて、少なくとも一つの前記遮光領域及び少なくとも一つの前記透光領域は互いに同一の大きさを有している、反射体。A reflector, wherein in any one of the at least one mask members, at least one of the light blocking regions and at least one of the light transmitting regions have the same size as each other.
請求項1に記載の反射体において、2. The reflector according to claim 1,
少なくとも一つの前記マスク部材は遮光領域及び透光領域を有しており、At least one of the mask members has a light blocking region and a light transmitting region,
前記少なくとも一つのマスク部材のいずれかにおいて、少なくとも一つの前記遮光領域及び少なくとも一つの前記透光領域は互いに異なる大きさを有している、反射体。A reflector, wherein in any one of the at least one mask members, at least one of the light blocking regions and at least one of the light transmitting regions have sizes different from each other.
請求項1~のいずれか一項に記載の反射体において、
前記マスク部材は、前記光の透過率が互いに異なる複数の部分領域を有している反射体。
The reflector according to any one of claims 1 to 5 ,
The mask member is a reflector having a plurality of partial regions each having a different light transmittance.
請求項に記載の反射体において、
前記反射部材の幅方向及び上下方向の少なくとも一方において、徐々に又は段階的に前記光の吸収率が変化している反射体。
7. The reflector according to claim 6 ,
A reflector in which the light absorptance changes gradually or stepwise in at least one of the width direction and the vertical direction of the reflective member.
請求項に記載の反射体において、
前記反射部材の幅方向及び上下方向の少なくとも一方において、互いに透光率が異なる2つ以上の前記部分領域が繰り返し設けられている反射体。
7. The reflector according to claim 6 ,
A reflector in which two or more partial regions having different light transmittances are repeatedly provided in at least one of a width direction and a vertical direction of the reflective member.
請求項1~のいずれか一項に記載の反射体において、
前記一つのマスク部材は、前記測定装置から前記反射体までの距離に応じて選択される反射体。
The reflector according to any one of claims 1 to 8 ,
The one mask member is a reflector that is selected depending on the distance from the measurement device to the reflector.
請求項1~のいずれか一項に記載の反射体において、
前記基準反射面はランバート反射面又は再帰性反射面になっている反射体。
The reflector according to any one of claims 1 to 9 ,
The reference reflecting surface is a Lambertian reflecting surface or a retroreflective surface.
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