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JP7640449B2 - Display device manufacturing jig, display device manufacturing method, display device manufactured using the display device manufacturing jig, and display device manufactured using the display device manufacturing method - Google Patents
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JP7640449B2 - Display device manufacturing jig, display device manufacturing method, display device manufactured using the display device manufacturing jig, and display device manufactured using the display device manufacturing method - Google Patents

Display device manufacturing jig, display device manufacturing method, display device manufactured using the display device manufacturing jig, and display device manufactured using the display device manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、表示装置製造用治具、表示装置の製造方法、表示装置製造用治具を用いて製造された表示装置、及び表示装置の製造方法を用いて製造された表示装置に関する。 The present invention relates to a display device manufacturing jig, a display device manufacturing method, a display device manufactured using the display device manufacturing jig, and a display device manufactured using the display device manufacturing method.

従来の技術として、第一の樹脂硬化物を有するマイクロLED(Light Emitting Diode)チップ搬送用フィルムを用いたマイクロLEDチップの搬送方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 As a conventional technique, a method for transporting micro LED (Light Emitting Diode) chips using a film for transporting micro LED chips having a first cured resin is known (see, for example, Patent Document 1).

このマイクロLEDチップの搬送方法は、基材上のマイクロLEDチップにマイクロLEDチップ搬送用フィルムを押圧して、第一の樹脂硬化物にマイクロLEDチップを付着させる工程と、第一の樹脂硬化物に付着しているマイクロLEDチップを別の基材上に移行する工程と、を備えている。 This method of transporting micro LED chips includes a step of pressing a micro LED chip transport film onto the micro LED chips on the substrate to adhere the micro LED chips to the first cured resin, and a step of transferring the micro LED chips adhered to the first cured resin onto another substrate.

特開2021-177506号公報JP 2021-177506 A

従来のマイクロLEDチップの搬送方法は、マイクロLEDチップをマイクロLEDチップ搬送用フィルムに押圧して付着させる際、全てのマイクロLEDチップを付着させると共に、第一の樹脂硬化物に付着しているマイクロLEDチップを別の基材上に移行する際、全てのマイクロLEDチップを移行させなければならず、さらに移行先の基材上に精度良く配置する高い位置決めの精度が要求されるので、製造コストが増加する問題がある。 In conventional methods for transporting micro LED chips, when the micro LED chips are pressed onto a film for transporting micro LED chips, all of the micro LED chips must be attached, and when the micro LED chips attached to the first cured resin are transferred to another substrate, all of the micro LED chips must be transferred, and high positioning accuracy is required to place them accurately on the substrate to which they are transferred, resulting in an increase in manufacturing costs.

従って本発明の目的は、製造コストを抑制することができる表示装置製造用治具、表示装置の製造方法、表示装置製造用治具を用いて製造された表示装置、及び表示装置の製造方法を用いて製造された表示装置を提供することにある。 The object of the present invention is therefore to provide a display device manufacturing jig that can reduce manufacturing costs, a display device manufacturing method, a display device manufactured using the display device manufacturing jig, and a display device manufactured using the display device manufacturing method.

本発明の一態様は、表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液に、裏面が接触するように配置される基部と、基部に設けられ、基部の表面から入射する光を裏面の外に透過させない遮光領域と、基部に設けられ、表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した発光素子の材料が表示装置の画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域と、を備えた表示装置製造用治具を提供する。 One aspect of the present invention provides a display device manufacturing tool that includes a base that is arranged so that its back surface comes into contact with a material dispersion liquid in which material forming at least the light-emitting layer of light-emitting elements arranged corresponding to the pixels of the display device is dispersed, a light-shielding region that is provided on the base and does not transmit light incident from the front surface of the base to outside the back surface, and a transparent region that is provided on the base and transmits light incident from the front surface, and in which the material of the light-emitting elements that is accumulated and attached by the transmitted light is arranged in the same two-dimensional arrangement as the pixels of the display device.

本発明の他の態様は、表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液を用意し、表面から入射する光を裏面の外に透過させない遮光領域、及び表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した発光素子の材料が表示装置の画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域を有する表示装置製造用治具の裏面を材料分散液に接触させ、表示装置製造用治具の表面から光を照射し、透過した光によって透過領域を中心として集積した発光素子の材料を裏面に付着させる、表示装置の製造方法を提供する。 Another aspect of the present invention provides a method for manufacturing a display device, which includes preparing a material dispersion liquid in which a material forming at least the light-emitting layer of a light-emitting element arranged corresponding to a pixel of a display device is dispersed, contacting the back surface of a display device manufacturing jig having a light-shielding region that does not transmit light incident from the front surface to the back surface and a transparent region that transmits light incident from the front surface and accumulates and adheres the material of the light-emitting element in the same arrangement as the two-dimensional arrangement of the pixels of the display device with the material dispersion liquid, irradiating light from the front surface of the display device manufacturing jig, and adhering the material of the light-emitting element accumulated around the transparent region by the transmitted light to the back surface.

また本発明の他の態様は、上述の表示装置製造用治具を用いて製造された表示装置を提供する。さらに本発明の他の態様は、上述の表示装置の製造方法を用いて製造された表示装置を提供する。 Another aspect of the present invention provides a display device manufactured using the display device manufacturing jig described above. Still another aspect of the present invention provides a display device manufactured using the display device manufacturing method described above.

本発明によれば、製造コストを抑制することができる。 The present invention makes it possible to reduce manufacturing costs.

図1(a)は、表示装置の一例を示す図であり、図1(b)は、表示画像を形成する画素の一部の一例を拡大した図であり、図1(c)は、マイクロLEDの一例を示す図である。FIG. 1(a) is a diagram showing an example of a display device, FIG. 1(b) is an enlarged diagram of an example of a portion of a pixel that forms a display image, and FIG. 1(c) is a diagram showing an example of a micro LED. 図2(a)は、表示装置製造用治具の一例を示す図であり、図2(b)は、表示装置製造用治具の断面図の一例であり、図2(c)は、変形例に係る貫通孔の一例を示す図である。FIG. 2(a) is a diagram showing an example of a display device manufacturing jig, FIG. 2(b) is an example of a cross-sectional view of the display device manufacturing jig, and FIG. 2(c) is a diagram showing an example of a through hole related to a modified example. 図3(a)~図3(f)は、表示装置の製造工程の一例を示す図である。3A to 3F are diagrams showing an example of a manufacturing process of a display device. 図4(a)~図4(g)は、表示装置の製造工程の一例を示す図である。4A to 4G are diagrams showing an example of a manufacturing process for a display device.

(実施の形態の要約)
実施の形態に係る表示装置製造用治具は、表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液に、裏面が接触するように配置される基部と、基部に設けられ、基部の表面から入射する光を裏面の外に透過させない遮光領域と、基部に設けられ、表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した発光素子の材料が表示装置の画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域と、を備えて概略構成されている。
Summary of the Preferred Embodiments
The display device manufacturing jig of the embodiment is roughly configured to include a base whose back surface is arranged to contact a material dispersion liquid in which material forming at least the light-emitting layer of light-emitting elements arranged to correspond to pixels of the display device is dispersed, a light-shielding region provided on the base that does not allow light incident from the front surface of the base to pass outside the back surface, and a transparent region provided on the base that transmits light incident from the front surface and accumulates and adheres the material of the light-emitting elements in an arrangement identical to the two-dimensional arrangement of the pixels of the display device.

また実施の形態に係る表示装置の製造方法は、表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液を用意し、表面から入射する光を裏面の外に透過させない遮光領域、及び表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した発光素子の材料が表示装置の画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域を有する表示装置製造用治具の裏面を材料分散液に接触させ、表示装置製造用治具の表面から光を照射し、透過した光によって透過領域を中心として集積した発光素子の材料を裏面に付着させる製造方法を含んでいる。 The manufacturing method of the display device according to the embodiment includes a manufacturing method in which a material dispersion liquid in which at least a material forming a light-emitting layer of a light-emitting element arranged corresponding to a pixel of the display device is dispersed is prepared, the back surface of a display device manufacturing jig having a light-shielding region that does not transmit light incident from the front surface to the back surface and a transparent region that transmits light incident from the front surface and accumulates and adheres the material of the light-emitting element in the same arrangement as the two-dimensional arrangement of the pixels of the display device is brought into contact with the material dispersion liquid, light is irradiated from the front surface of the display device manufacturing jig, and the material of the light-emitting element accumulated around the transparent region by the transmitted light is adhered to the back surface.

さらに実施の形態の表示装置は、上述の表示装置製造用治具を用いて製造された表示装置、及び表示装置の製造方法を用いて製造された表示装置の少なくとも一方である。 Furthermore, the display device of the embodiment is at least one of a display device manufactured using the display device manufacturing jig described above and a display device manufactured using the display device manufacturing method.

この表示装置製造用治具を用いて製造された表示装置、及び表示装置の製造方法を用いて製造された表示装置の少なくとも一方は、透過領域が表示装置の画素に対応して設けられ、この透過領域を中心とした周囲に発光素子の材料を集積させるので、画素に応じた多数の発光素子の材料を一度にアレイ化して回路基板に配置することができる。従って表示装置製造用治具、及び表示装置の製造方法は、発光素子を1つずつ配置する場合と比べて、工程が少なく、また発光素子の位置ずれを抑制するので、製造コストを抑制することができる。 At least one of the display device manufactured using this display device manufacturing jig and the display device manufactured using the display device manufacturing method has a transparent region provided corresponding to the pixel of the display device, and the light-emitting element material is accumulated around the transparent region, so that the material of a large number of light-emitting elements corresponding to the pixels can be arrayed at once and arranged on the circuit board. Therefore, the display device manufacturing jig and the display device manufacturing method have fewer steps and suppress misalignment of the light-emitting elements compared to arranging the light-emitting elements one by one, thereby reducing manufacturing costs.

[実施の形態]
(表示装置製造用治具1の概要)
図1(a)は、実施の形態に係る表示装置の一例を示す図であり、図1(b)は、表示画像を形成する画素の一部の一例を拡大した図であり、図1(c)は、マイクロLEDの一例を示す図である。図2(a)は、実施の形態に係る表示装置製造用治具の一例を示す図であり、図2(b)は、表示装置製造用治具の断面図の一例であり、図2(c)は、変形例に係る貫通孔の一例を示す図である。図3(a)~図4(g)は、実施の形態に係る表示装置の製造工程の一例を示す図である。
[Embodiment Mode]
(Overview of display device manufacturing jig 1)
Fig. 1(a) is a diagram showing an example of a display device according to an embodiment, Fig. 1(b) is an enlarged diagram of an example of a portion of a pixel that forms a display image, and Fig. 1(c) is a diagram showing an example of a micro LED. Fig. 2(a) is a diagram showing an example of a jig for manufacturing a display device according to an embodiment, Fig. 2(b) is an example of a cross-sectional view of the jig for manufacturing a display device, and Fig. 2(c) is a diagram showing an example of a through hole according to a modified example. Figs. 3(a) to 4(g) are diagrams showing an example of a manufacturing process for a display device according to an embodiment.

なお以下に記載する実施の形態に係る各図において、図形間の比率や形状は、実際の比率や形状とは異なる場合がある。また数値範囲を示す「A~B」は、A以上B以下の意味で用いるものとする。 Note that in the figures relating to the embodiments described below, the ratios between figures and shapes may differ from the actual ratios and shapes. Also, "A-B" indicating a numerical range is used to mean greater than or equal to A and less than or equal to B.

表示装置9の製造方法は、微細孔の加工を施した表示装置製造用治具1に、微小サイズの自発光構造体22(LEDや量子ドット)を以下に示す方法によって形成すると共に、自発光構造体22に回路基板5への接着用の金属層4などを加工した後、回路基板5に転写する方法である。 The manufacturing method of the display device 9 is to form a micro-sized self-luminous structure 22 (LED or quantum dot) in a display device manufacturing jig 1 with micro-holes by the method described below, and then process a metal layer 4 for adhesion to the circuit board 5 on the self-luminous structure 22, and then transfer it to the circuit board 5.

本実施の形態の表示装置製造用治具1は、微細孔として後述する貫通孔14が形成される。そして表示装置製造用治具1は、後述するレーザ光3の波長の光を透過させない材質で形成、又は透過させない材質で塗装される。貫通孔14は、発光素子としてのマイクロLED7が配置されるピッチPに相当する間隔を開けて形成される。また貫通孔14の大きさは、マイクロLED7の大きさより僅かに小さい程度の大きさを有している。以下では、より具体的に表示装置製造用治具1、及びこの表示装置製造用治具1を用いた表示装置9の製造方法について説明する。なお表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、以下に示す表示装置9に限定されず、一例として、特定の画像のみを表示する表示器、及び照明用のライトやバックライトなどの光を発する発光装置などであっても良い。 In the display device manufacturing jig 1 of this embodiment, through holes 14 are formed as micropores, which will be described later. The display device manufacturing jig 1 is formed of a material that does not transmit light of the wavelength of the laser light 3, which will be described later, or is painted with a material that does not transmit light. The through holes 14 are formed at intervals corresponding to the pitch P at which the micro LEDs 7 are arranged as light-emitting elements. The size of the through holes 14 is slightly smaller than the size of the micro LEDs 7. Below, the display device manufacturing jig 1 and the manufacturing method of the display device 9 using this display device manufacturing jig 1 will be described in more detail. Note that the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1 and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 are not limited to the display device 9 shown below, and may be, for example, a display device that displays only a specific image, and a light-emitting device that emits light such as a light for illumination or a backlight.

表示装置9は、マイクロLEDディスプレイである。マイクロLEDディスプレイは、図1(a)~図1(c)に示すように、表示画像90を形成する複数の画素91としてマイクロLED7が配置されたディスプレイである。 The display device 9 is a micro LED display. As shown in Figures 1(a) to 1(c), a micro LED display is a display in which micro LEDs 7 are arranged as a plurality of pixels 91 that form a display image 90.

表示装置9は、一例として、解像度が1920×1080である場合、1色に付き約200万個のマイクロLED7が必要となる。なお表示装置9がカラー表示のためにRGBの三色で配置される場合、約600万個のマイクロLED7を正確なピッチで並べる必要がある。本実施の形態の表示装置9は、マイクロLED7を1つずつ配置するのではなく、以下の表示装置製造用治具1を用いてアレイ状のマイクロLED7を配置することを可能としている。 When the display device 9 has a resolution of 1920 x 1080, for example, approximately 2 million micro-LEDs 7 are required for each color. When the display device 9 is arranged in three colors, RGB, for color display, approximately 6 million micro-LEDs 7 must be arranged at a precise pitch. The display device 9 of this embodiment makes it possible to arrange the micro-LEDs 7 in an array using the display device manufacturing jig 1 described below, rather than arranging the micro-LEDs 7 one by one.

表示装置製造用治具1は、図2(a)及び図2(b)に示すように、表示装置9の画素91に対応して配置されるマイクロLED7の少なくとも発光層を形成する材料が分散した後述する材料分散液20に、裏面12が接触するように配置される基部10と、基部10に設けられ、基部10の表面11から入射する光を裏面12の外に透過させない遮光領域13と、基部10に設けられ、表面11から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着したマイクロLED7の材料が表示装置9の画素91の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域と、を備えて概略構成されている。 As shown in Figures 2(a) and 2(b), the display device manufacturing jig 1 is roughly configured to include a base 10 arranged so that its back surface 12 comes into contact with a material dispersion liquid 20 (described later) in which material forming at least the light-emitting layer of the micro-LEDs 7 arranged corresponding to the pixels 91 of the display device 9 is dispersed, a light-shielding region 13 provided on the base 10 that does not transmit light incident from the front surface 11 of the base 10 to outside the back surface 12, and a transparent region provided on the base 10 that transmits light incident from the front surface 11 and accumulates and adheres the material of the micro-LEDs 7 in the same two-dimensional arrangement as the pixels 91 of the display device 9.

本実施の形態の透過領域は、図2(a)及び図2(b)に示すように、表面11から入射する光を透過させるように表面11から裏面12に貫通し、吹き付けられた気体8により付着したマイクロLED7の材料を剥離させるように基部10に設けられた複数の貫通孔14である。 As shown in Figures 2(a) and 2(b), the transparent regions in this embodiment are a number of through holes 14 provided in the base 10 that penetrate from the front surface 11 to the back surface 12 so as to transmit light incident from the front surface 11 and peel off the material of the micro-LEDs 7 that has adhered thereto by the sprayed gas 8.

なお変形例として、表示装置製造用治具1は、透過領域が貫通孔14ではない場合、一例として、基部10が透明な材料で形成され、その表面11及び裏面12の少なくとも一方に光を透過させない塗装が行われ、対応する領域をレーザなどで剥離されて透過領域が形成される。また同様に表示装置製造用治具1は、透過領域が貫通孔14ではない場合、一例として、基部10が透明な材料で形成され、その表面11及び裏面12の少なくとも一方に光を透過させない塗料で印刷が行われ、また対応する領域が印刷されないことにより透過領域が形成される。 As a modified example, when the transmissive region of the display device manufacturing jig 1 is not a through hole 14, as an example, the base 10 is formed from a transparent material, and at least one of the front surface 11 and back surface 12 is painted with opaque paint, and the corresponding region is peeled off with a laser or the like to form the transmissive region. Similarly, when the transmissive region of the display device manufacturing jig 1 is not a through hole 14, as an example, the base 10 is formed from a transparent material, and at least one of the front surface 11 and back surface 12 is printed with opaque paint, and the corresponding region is not printed to form the transmissive region.

また集積するマイクロLED7の少なくとも発光層を形成する材料は、一例として、図1(c)に示す自発光構造体22である。また表面11から入射する光は、図3(c)及び図3(d)に示すレーザ光3である。 The material forming at least the light-emitting layer of the integrated micro-LEDs 7 is, for example, a self-luminous structure 22 shown in FIG. 1(c). The light incident from the surface 11 is laser light 3 shown in FIG. 3(c) and FIG. 3(d).

(表示装置製造用治具1の構成)
表示装置製造用治具1は、図2(a)及び図2(b)に示すように、基部10が板形状を有している。この基部10は、平面度が高く、反りが生じ難い材料を用いて形成される。基部10は、一例として、ポリカーボネートなどの樹脂材料やステンレスなどの金属材料、又はガラスを用いて形成される。
(Configuration of display device manufacturing jig 1)
2(a) and 2(b), the display device manufacturing jig 1 has a plate-shaped base 10. The base 10 is formed using a material that has a high degree of flatness and is unlikely to warp. As an example, the base 10 is formed using a resin material such as polycarbonate, a metal material such as stainless steel, or glass.

基部10は、一例として、図2(b)に示す厚みHが5nm程度であるがこれに限定されない。また基部10は、表面11の大きさが任意であるが照射するレーザ光3の径よりも大きくされる。また基部10は、遮光性を有する材料で形成されても良いし、遮光性を有する材料を含有して形成されても良いし、表面11及び裏面12の少なくとも一方に遮光性の塗料などで遮光膜が形成されても良い。本実施の形態の基部10は、一例として、レーザ光3を透過させない材料で形成されている。従って貫通孔14以外の基部10は、遮光領域13である。 As an example, the thickness H of the base 10 shown in FIG. 2(b) is about 5 nm, but is not limited to this. The size of the surface 11 of the base 10 is arbitrary, but is made larger than the diameter of the irradiated laser light 3. The base 10 may be formed of a material having light-shielding properties, may be formed containing a material having light-shielding properties, or may have a light-shielding film formed on at least one of the surface 11 and the back surface 12 with a light-shielding paint or the like. As an example, the base 10 in this embodiment is formed of a material that does not transmit the laser light 3. Therefore, the base 10 other than the through hole 14 is the light-shielding region 13.

貫通孔14は、上述のように、表示装置9の画素91の配置、つまりマイクロLED7の配置に応じて基部10に設けられている。本実施の形態の貫通孔14は、一例として、直径が20μmであるがこれに限定されない。 As described above, the through holes 14 are provided in the base 10 according to the arrangement of the pixels 91 of the display device 9, i.e., the arrangement of the micro-LEDs 7. In this embodiment, the through holes 14 have a diameter of 20 μm, for example, but are not limited to this.

この貫通孔14は、図2(a)に点線の円で示すように、集積したマイクロLED7の材料よりも小さい孔として構成されている。貫通孔14は、図2(a)及び図2(b)に示すように、上面と底面とが同じ円形状となる円柱状に基部10を除去して形成されている。なお貫通孔14の形状は、これに限定されず、矩形状、三角形状、星形状、これら以外の多角形状などであっても良い。 The through-hole 14 is configured as a hole smaller than the material of the integrated micro-LEDs 7, as shown by the dotted circle in FIG. 2(a). As shown in FIG. 2(a) and FIG. 2(b), the through-hole 14 is formed by removing the base 10 into a cylindrical shape with the top and bottom surfaces being the same circular shape. Note that the shape of the through-hole 14 is not limited to this, and may be a rectangular shape, a triangular shape, a star shape, or any other polygonal shape.

ここで変形例として貫通孔14は、図2(c)に示すように、さらに複数の微小透過領域としての微小貫通孔140の集合体として形成されても良い。図2(c)において点線で示す貫通孔14は、複数の微小貫通孔140の集合体として形成されていることを意味している。この微小貫通孔140は、一例として、1~10μmの直径を有する孔である。 As a modified example, the through hole 14 may be formed as a collection of micro through holes 140 as a plurality of micro transmission regions, as shown in FIG. 2(c). The through hole 14 shown by the dotted line in FIG. 2(c) is formed as a collection of a plurality of micro through holes 140. As an example, the micro through hole 140 is a hole having a diameter of 1 to 10 μm.

貫通孔14のピッチPは、図2(a)に示すように、縦方向と横方向で同じピッチである。また貫通孔14の数は、表示装置9の解像度に依存している。本実施の形態のピッチPは、一例として、60~250μmである。なおピッチPは、誤差が数μm以下にすることが好ましい。 The pitch P of the through holes 14 is the same in the vertical and horizontal directions, as shown in FIG. 2(a). The number of through holes 14 depends on the resolution of the display device 9. In this embodiment, the pitch P is, for example, 60 to 250 μm. It is preferable that the error of the pitch P is less than a few μm.

貫通孔14は、図2(a)に一点鎖線で示すように、直線上に中心が位置するように形成され、中心間の距離のズレが小さく、誤差が数μm以下になることが好ましい。 The through holes 14 are formed so that their centers are located on a straight line, as shown by the dashed line in Figure 2 (a), and it is preferable that the deviation in the distance between the centers is small, with an error of a few μm or less.

この貫通孔14は、後述するように、マイクロLED7が形成され、回路基板5の電極パッド6に押し付けられた後、表面11側から吹き付けられた気体8が流れることで裏面12からのマイクロLED7の剥離を促進する。 As described below, after the micro LED 7 is formed and pressed against the electrode pad 6 of the circuit board 5, the gas 8 blown from the front surface 11 flows through the through hole 14, facilitating the peeling of the micro LED 7 from the back surface 12.

(材料分散液20の構成)
材料分散液20は、集積させるマイクロLED7の材料がコロイド粒子状の量子ドット21として容器2の中で分散した溶液である。この量子ドット21は、一例として、直径が2~10nmの半導体である。本実施の形態では、量子ドット21がレーザ光3の照射によって集積固化する現象を利用して自発光構造体22を表示装置製造用治具1の裏面12に集積させると共に付着させる。
(Configuration of material dispersion liquid 20)
The material dispersion liquid 20 is a solution in which the material of the micro-LEDs 7 to be accumulated is dispersed in the container 2 as colloidal particle-like quantum dots 21. As an example, the quantum dots 21 are semiconductors having a diameter of 2 to 10 nm. In this embodiment, the phenomenon in which the quantum dots 21 accumulate and solidify when irradiated with laser light 3 is utilized to accumulate and adhere the self-luminous structure 22 to the rear surface 12 of the display device manufacturing jig 1.

(レーザ光3の構成)
レーザ光3は、集積化する量子ドット21に応じて波長などが定められる。レーザ光3は、一例として、表示装置製造用治具1の全体を照射する広がりを持ったものであっても良いし、部分的に照射するものであっても良い。
(Configuration of Laser Light 3)
The wavelength of the laser light 3 is determined according to the quantum dots 21 to be integrated. For example, the laser light 3 may have a broadening effect so as to irradiate the entire display device manufacturing jig 1, or may irradiate only a portion of the display device manufacturing jig 1.

(金属層4の構成)
金属層4は、一例として、ニッケルや金などの導電性の金属材料を蒸着法などによって形成したものである。この金属層4は、表示装置製造用治具1と回路基板5とを押し付けて加圧した際に回路基板5の電極パッド6と圧接する。なお本実施の形態では、回路基板5に表示装置製造用治具1を押し当てるがこれに限定されず、互いに押し付けあっても良いし、表示装置製造用治具1に回路基板5を押し付けても良い。
(Configuration of Metal Layer 4)
As an example, the metal layer 4 is formed by vapor deposition of a conductive metal material such as nickel or gold. This metal layer 4 is pressed against the electrode pad 6 of the circuit board 5 when the display device manufacturing jig 1 and the circuit board 5 are pressed against each other and pressure is applied. In this embodiment, the display device manufacturing jig 1 is pressed against the circuit board 5, but this is not limiting, and they may be pressed against each other, or the circuit board 5 may be pressed against the display device manufacturing jig 1.

(回路基板5の構成)
回路基板5は、表面50に電極パッド6や配線などが形成されたリジット基板である。この回路基板5は、一例として、マイクロLED7の駆動を制御するための制御素子などが配置されている。
(Configuration of Circuit Board 5)
The circuit board 5 is a rigid board on which electrode pads 6, wiring, and the like are formed on a surface 50. On this circuit board 5, for example, a control element for controlling the driving of the micro LEDs 7, and the like are arranged.

(電極パッド6の構成)
電極パッド6は、マイクロLED7に応じて回路基板5に形成されている。電極パッド6は、一例として、ハンダなどの導電性材料のペースト、又はアルミニウム、銅や金などの導電性金属材料を用いて形成されている。この電極パッド6は、一例として、パッド状の電極である。
(Configuration of electrode pad 6)
The electrode pads 6 are formed on the circuit board 5 in accordance with the micro-LEDs 7. The electrode pads 6 are formed, for example, using a conductive material paste such as solder, or a conductive metal material such as aluminum, copper, or gold. For example, the electrode pads 6 are pad-shaped electrodes.

(マイクロLED7の構成)
マイクロLED7は、一例として、図1(c)に示すように、金属層4と、自発光構造体22と、を備えて概略構成されている。
(Configuration of Micro LED 7)
As an example, the micro LED 7 is roughly configured to include a metal layer 4 and a self-luminous structure 22 as shown in FIG.

自発光構造体22は、量子ドット21によって少なくとも発光層を形成するように構成されている。本実施の形態の自発光構造体22は、一例として、P型半導体と、N型半導体と、P型半導体とN型半導体で挟まれた発光層と、を備えている。 The self-luminous structure 22 is configured to form at least a light-emitting layer using quantum dots 21. As an example, the self-luminous structure 22 of this embodiment includes a P-type semiconductor, an N-type semiconductor, and a light-emitting layer sandwiched between the P-type semiconductor and the N-type semiconductor.

(気体8について)
気体8は、一例として、空気であるがこれに限定されず、マイクロLED7などに影響を与えない希ガスなどの不活性ガスでも良い。
(Regarding Gas 8)
The gas 8 is, for example, air, but is not limited to this, and may be an inert gas such as a rare gas that does not affect the micro-LEDs 7 and the like.

(表示装置9の製造方法の概要)
表示装置9の製造方法は、図3(a)~図3(e)に示すように、表示装置9の画素91に対応して配置されるマイクロLED7の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液20を用意し、表面11から入射するレーザ光3を裏面12の外に透過させない遮光領域13、及び表面11から入射する光を透過させ、透過したレーザ光3によって集積して付着したマイクロLED7の材料が表示装置9の画素91の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域を有する表示装置製造用治具1の裏面12を材料分散液20に接触させ、表示装置製造用治具1の表面11からレーザ光3を照射し、透過したレーザ光3によって集積したマイクロLED7の材料を裏面12に付着させる製造方法を含んでいる。
(Outline of manufacturing method of display device 9)
As shown in Figures 3(a) to 3(e), the manufacturing method of the display device 9 includes a manufacturing method in which a material dispersion liquid 20 is prepared in which a material forming at least the light-emitting layer of the micro LEDs 7 arranged corresponding to the pixels 91 of the display device 9 is dispersed, and the back surface 12 of a display device manufacturing jig 1 having a light-shielding region 13 that does not transmit the laser light 3 incident from the front surface 11 to outside the back surface 12, and a transparent region that transmits the light incident from the front surface 11 and causes the material of the micro LEDs 7 accumulated and attached by the transmitted laser light 3 to be arranged in the same two-dimensional arrangement as the pixels 91 of the display device 9 is brought into contact with the material dispersion liquid 20, and the laser light 3 is irradiated from the front surface 11 of the display device manufacturing jig 1, and the material of the micro LEDs 7 accumulated by the transmitted laser light 3 is attached to the back surface 12.

本実施の形態の透過領域は、上述のように、表面11から入射するレーザ光3を透過させるように表面11から裏面12に貫通した複数の貫通孔14である。 As described above, the transparent region in this embodiment is a plurality of through holes 14 that penetrate from the front surface 11 to the back surface 12 so as to transmit the laser light 3 incident from the front surface 11.

なお透過領域が塗装や遮光領域13の除去などによって形成されている場合、次の製造方法において気体8を吹き付けずに集積したマイクロLED7の材料の剥離を行う。 If the transmissive area is formed by painting or removing the light-shielding area 13, the material of the integrated micro-LEDs 7 is peeled off without spraying the gas 8 in the next manufacturing method.

また表示装置9の製造方法は、さらに表示装置製造用治具1の裏面12に導電性の金属層4を形成し、付着したマイクロLED7の材料の上に金属層4を形成し、表示装置9の画素91の位置に導電性の金属領域としての電極パッド6を有する回路基板5を用意し、表示装置製造用治具1と回路基板5とに圧力を付加、更に必要に応じて加熱してマイクロLED7の材料の金属層4と電極パッド6とを接着させ、表示装置製造用治具1の表面11に気体8を吹き付けて付着していたマイクロLED7の材料を裏面12から剥離させる製造方法を含んでいる。続いて以下では、表示装置9の具体的な製造方法の一例として説明する。 The manufacturing method of the display device 9 further includes forming a conductive metal layer 4 on the back surface 12 of the display device manufacturing jig 1, forming the metal layer 4 on the attached micro-LED 7 material, preparing a circuit board 5 having electrode pads 6 as conductive metal regions at the positions of the pixels 91 of the display device 9, applying pressure to the display device manufacturing jig 1 and the circuit board 5, and further heating as necessary to bond the metal layer 4 of the micro-LED 7 material to the electrode pads 6, and blowing gas 8 onto the front surface 11 of the display device manufacturing jig 1 to peel off the attached micro-LED 7 material from the back surface 12. Next, an example of a specific manufacturing method of the display device 9 will be described below.

(表示装置9の製造方法)
図3(a)に示すように、マイクロLED7の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液20を用意する。この材料分散液20には、上述のように、コロイド粒子状となった量子ドット21が分散している。
(Manufacturing method of display device 9)
3A, a material dispersion liquid 20 is prepared in which a material for forming at least the light-emitting layer of the micro LED 7 is dispersed. As described above, the quantum dots 21 in the form of colloidal particles are dispersed in the material dispersion liquid 20.

次に図3(b)に示すように、表示装置製造用治具1の裏面12を材料分散液20に接触させる。 Next, as shown in FIG. 3(b), the back surface 12 of the display device manufacturing jig 1 is brought into contact with the material dispersion liquid 20.

次に図3(c)に示すように、表示装置製造用治具1の表面11からレーザ光3を照射する。レーザ光3は、遮光領域13は透過せず、透過領域である貫通孔14を透過して材料分散液20に到達する。 Next, as shown in FIG. 3(c), laser light 3 is irradiated from the surface 11 of the display device manufacturing jig 1. The laser light 3 does not pass through the light-shielding region 13, but passes through the through-hole 14, which is a transparent region, and reaches the material dispersion liquid 20.

次に図3(d)に示すように、透過したレーザ光3によって集積したマイクロLED7の材料である自発光構造体22を裏面12に付着させる。この自発光構造体22は、図2(b)の上面視において点線で示すように、上面の形状が貫通孔14を中心として貫通孔14より少し大きい形状となる。 Next, as shown in FIG. 3(d), a self-luminous structure 22, which is the material of the micro LEDs 7 integrated by the transmitted laser light 3, is attached to the back surface 12. As shown by the dotted line in the top view of FIG. 2(b), the shape of the top surface of this self-luminous structure 22 is slightly larger than the through hole 14 with the through hole 14 at the center.

次に図3(e)に示すように、レーザ光3の照射が終了した後、表示装置製造用治具1を材料分散液20から取り出す。 Next, as shown in FIG. 3(e), after irradiation with the laser light 3 is completed, the display device manufacturing jig 1 is removed from the material dispersion liquid 20.

次に図3(f)に示すように、表示装置製造用治具1の裏面12に導電性の金属層4を形成し、付着したマイクロLED7の材料の上に金属層4を形成する。この金属層4は、蒸着法によって形成される。金属層4は、表示装置製造用治具1の裏面12と自発光構造体22に形成される。 Next, as shown in FIG. 3(f), a conductive metal layer 4 is formed on the back surface 12 of the display device manufacturing jig 1, and the metal layer 4 is formed on the attached material of the micro-LEDs 7. This metal layer 4 is formed by a vapor deposition method. The metal layer 4 is formed on the back surface 12 of the display device manufacturing jig 1 and the self-luminous structure 22.

次に図4(a)に示すように、表示装置9の画素91の位置に電極パッド6を有する回路基板5を用意する。表示装置製造用治具1は、貫通孔14の位置が電極パッド6の位置と一致するように回路基板5との位置合わせが精密に行われる。 Next, as shown in FIG. 4(a), a circuit board 5 having electrode pads 6 at the positions of pixels 91 of the display device 9 is prepared. The display device manufacturing jig 1 is precisely aligned with the circuit board 5 so that the positions of the through holes 14 coincide with the positions of the electrode pads 6.

次に図4(b)に示すように、表示装置製造用治具1の自発光構造体22に形成された金属層4と回路基板5の電極パッド6とを接触させる。 Next, as shown in FIG. 4(b), the metal layer 4 formed on the self-luminous structure 22 of the display device manufacturing jig 1 is brought into contact with the electrode pad 6 of the circuit board 5.

次に図4(c)に示すように、表示装置製造用治具1と回路基板5とに加熱しながら圧力を付加して自発光構造体22の金属層4と電極パッド6とを接着する。なお本実施の形態では、金属層4と電極パッド6との接着は、圧着であるがこれに限定されず、導電性接着剤などを介して行われても良い。 Next, as shown in FIG. 4(c), pressure is applied to the display device manufacturing jig 1 and the circuit board 5 while heating them to bond the metal layer 4 and the electrode pad 6 of the self-luminous structure 22. Note that in this embodiment, the metal layer 4 and the electrode pad 6 are bonded by pressure bonding, but this is not limited to this, and may be bonded via a conductive adhesive or the like.

次に図4(d)に示すように、表示装置製造用治具1の表面11に気体8を吹き付ける。この気体8は、表面11の全体に吹き付けられる。気体8の吹き付けにより、表示装置製造用治具1からの金属層4を有する自発光構造体22、つまりマイクロLED7の剥離が容易となる。この剥離の際、表示装置製造用治具1の裏面12に形成された金属層4は、そのまま残される。 Next, as shown in FIG. 4(d), gas 8 is sprayed onto the surface 11 of the display device manufacturing jig 1. This gas 8 is sprayed onto the entire surface 11. By spraying gas 8, the self-luminous structure 22 having the metal layer 4, i.e., the micro LED 7, can be easily peeled off from the display device manufacturing jig 1. During this peeling, the metal layer 4 formed on the back surface 12 of the display device manufacturing jig 1 is left as it is.

次に図4(e)に示すように、付着していたマイクロLED7の材料を裏面12から剥離させる。マイクロLED7は、表示装置製造用治具1から離れ、回路基板5の電極パッド6と一体となる。 Next, as shown in FIG. 4(e), the attached material of the micro LED 7 is peeled off from the back surface 12. The micro LED 7 is separated from the display device manufacturing jig 1 and becomes integrated with the electrode pad 6 of the circuit board 5.

次に図4(f)に示すように、マイクロLED7が表示装置製造用治具1から剥離した後、気体8の吹き付けを終了する。 Next, as shown in FIG. 4(f), after the micro LED 7 is peeled off from the display device manufacturing jig 1, the spraying of the gas 8 is stopped.

次に図4(g)に示すように、表示装置製造用治具1を回路基板5から離し、次の加工処理を行う。次の加工処理は、一例として、必要に応じて、マイクロLED7と他の電極パッドとの接続やカラーフィルタの配置などである。 Next, as shown in FIG. 4(g), the display device manufacturing jig 1 is separated from the circuit board 5, and the next processing step is performed. As an example, the next processing step may include connecting the micro LEDs 7 to other electrode pads and arranging color filters, if necessary.

なお変形例として、表示装置9の製造方法は、必要に応じて表示装置製造用治具1や材料分散液20の種類を変える製造方法を含んでいても良い。例えば、RGBごとにマイクロLED7を作り分ける場合、表示装置9は、RGBごとに表示装置製造用治具1と材料分散液20とを用意して作り分ける製造方法を含んで製造される。 As a modified example, the manufacturing method of the display device 9 may include a manufacturing method in which the type of display device manufacturing jig 1 or material dispersion liquid 20 is changed as necessary. For example, when manufacturing different micro LEDs 7 for each RGB, the display device 9 is manufactured by a manufacturing method that includes preparing a display device manufacturing jig 1 and a material dispersion liquid 20 for each RGB.

(実施の形態の効果)
本実施の形態に係る表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、製造コストを抑制することができる。具体的には、表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、透過領域としての貫通孔14が表示装置9の画素91に対応して表示装置製造用治具1に設けられ、この貫通孔14を中心とした周囲に量子ドット21を集積させてマイクロLED7の自発光構造体22を形成するので、画素に応じた多数のマイクロLED7を一度にアレイ化して回路基板5に配置することができる。従って表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、発光素子を1つずつ配置する場合と比べて、工程が少なく、またマイクロLED7の位置ずれを抑制するので、製造コストを抑制することができる。
(Effects of the embodiment)
The display device manufacturing jig 1, the manufacturing method of the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 according to the present embodiment can suppress manufacturing costs. Specifically, the display device manufacturing jig 1, the manufacturing method of the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 have a through hole 14 as a transmission region provided in the display device manufacturing jig 1 corresponding to the pixel 91 of the display device 9, and the quantum dots 21 are accumulated around the through hole 14 to form the self-luminous structure 22 of the micro LED 7, so that a large number of micro LEDs 7 corresponding to the pixels can be arrayed at once and arranged on the circuit board 5. Therefore, the display device manufacturing jig 1, the manufacturing method of the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 have fewer steps and suppress the positional deviation of the micro LEDs 7 compared to the case where the light-emitting elements are arranged one by one, so that the manufacturing costs can be suppressed.

表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、表示装置9の画素91に応じて表示装置製造用治具1に貫通孔14が設けられているので、発光素子を1つずつ配置する場合と比べて、必要なマイクロLED7を必要な位置に任意のオーダーでアレイ状に製造することができる。 The display device manufacturing jig 1, the manufacturing method for the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method for the display device 9 have through holes 14 in the display device manufacturing jig 1 according to the pixels 91 of the display device 9, so that the required micro LEDs 7 can be manufactured in an array in any order at the required positions, compared to arranging light-emitting elements one by one.

表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、貫通孔14に気体8を吹き付けてアレイ状のマイクロLED7を回路基板5に移し替える転写作業を簡便化することができるので、この構成を採用しない場合と比べて、マイクロLEDディスプレイである表示装置9を簡単に製造することができる。従って表示装置製造用治具1、表示装置9の製造方法、表示装置製造用治具1を用いて製造された表示装置9、及び表示装置9の製造方法を用いて製造された表示装置9は、マイクロLEDディスプレイを非力で簡便な設備で作製することができると共に、設備投資費用を抑制することができる。 The display device manufacturing jig 1, the manufacturing method of the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 can simplify the transfer work of transferring the arrayed micro LEDs 7 to the circuit board 5 by blowing gas 8 into the through holes 14, so that the display device 9, which is a micro LED display, can be manufactured more easily than when this configuration is not adopted. Therefore, the display device manufacturing jig 1, the manufacturing method of the display device 9, the display device 9 manufactured using the display device manufacturing jig 1, and the display device 9 manufactured using the manufacturing method of the display device 9 can produce a micro LED display using low-power and simple equipment, and can reduce capital investment costs.

以上、本発明のいくつかの実施の形態及び変形例を説明したが、これらの実施の形態及び変形例は、一例に過ぎず、特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。これら新規な実施の形態及び変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。また、これら実施の形態及び変形例の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない。さらに、これら実施の形態及び変形例は、発明の範囲及び要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although several embodiments and modifications of the present invention have been described above, these embodiments and modifications are merely examples and do not limit the invention as claimed. These novel embodiments and modifications can be embodied in various other forms, and various omissions, substitutions, modifications, etc. can be made without departing from the gist of the present invention. Furthermore, not all combinations of features described in these embodiments and modifications are necessarily essential to the means for solving the problems of the invention. Furthermore, these embodiments and modifications are included within the scope and gist of the invention, and are included in the scope of the invention and its equivalents as set forth in the claims.

1…表示装置製造用治具、3…レーザ光、4…金属層、5…回路基板、6…電極パッド、7…マイクロLED、8…気体、9…表示装置、10…基部、11…表面、12…裏面、13…遮光領域、14…貫通孔、20…材料分散液、21…量子ドット、22…自発光構造体、91…画素、140…微小貫通孔 1... Display device manufacturing jig, 3... Laser light, 4... Metal layer, 5... Circuit board, 6... Electrode pad, 7... Micro LED, 8... Gas, 9... Display device, 10... Base, 11... Surface, 12... Back, 13... Light-shielding area, 14... Through hole, 20... Material dispersion liquid, 21... Quantum dots, 22... Self-luminous structure, 91... Pixel, 140... Micro through hole

Claims (7)

表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液に、裏面が接触するように配置される基部と、
前記基部に設けられ、前記基部の表面から入射する光を前記裏面の外に透過させない遮光領域と、
前記基部に設けられ、前記表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した前記発光素子の材料が前記表示装置の前記画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域と、
を備えた表示装置製造用治具。
a base portion arranged so that a back surface of the base portion is in contact with a material dispersion liquid in which a material for forming at least a light-emitting layer of a light-emitting element arranged corresponding to a pixel of the display device is dispersed;
a light-shielding region provided on the base and preventing light incident from a front surface of the base from being transmitted to an area outside the rear surface of the base;
a transmission region provided on the base, which transmits light incident from the surface, and in which the material of the light-emitting element that is accumulated and adhered by the transmitted light is arranged in the same two-dimensional arrangement as the pixels of the display device;
A display device manufacturing jig comprising:
前記透過領域は、集積した前記発光素子の材料よりも小さい領域である、
請求項1に記載の表示装置製造用治具。
The transparent region is an area smaller than the integrated light-emitting element material.
The jig for manufacturing a display device according to claim 1 .
前記透過領域は、さらに複数の微小透過領域の集合体である、
請求項1又は2に記載の表示装置製造用治具。
The transmission region is further an aggregate of a plurality of minute transmission regions.
The jig for manufacturing a display device according to claim 1 or 2.
前記透過領域は、前記表面から入射する光を透過させるように前記表面から前記裏面に貫通し、吹き付けられた気体により付着した前記発光素子の材料を剥離させるように前記基部に設けられた複数の貫通孔である、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の表示装置製造用治具。
The transmission region is a plurality of through holes provided in the base so as to penetrate from the front surface to the back surface so as to transmit light incident from the front surface and peel off the material of the light emitting element that has adhered thereto by a gas blown therethrough.
The jig for manufacturing a display device according to claim 1 .
表示装置の画素に対応して配置される発光素子の少なくとも発光層を形成する材料が分散した材料分散液を用意し、
表面から入射する光を裏面の外に透過させない遮光領域、及び前記表面から入射する光を透過させ、透過した光によって集積して付着した前記発光素子の材料が前記表示装置の前記画素の二次元的な配置と同一の配置となる透過領域を有する表示装置製造用治具の前記裏面を前記材料分散液に接触させ、
前記表示装置製造用治具の前記表面から光を照射し、
透過した光によって集積した前記発光素子の材料を前記裏面に付着させる、
表示装置の製造方法。
preparing a material dispersion liquid in which a material for forming at least a light-emitting layer of a light-emitting element disposed corresponding to a pixel of a display device is dispersed;
a back surface of a display device manufacturing jig having a light-shielding region that does not transmit light incident from a front surface to outside of a back surface, and a light-transmitting region that transmits light incident from the front surface and causes the light-emitting element material to be accumulated and adhered by the transmitted light in the same arrangement as the two-dimensional arrangement of the pixels of the display device, the back surface of the jig being brought into contact with the material dispersion liquid;
Irradiating the surface of the display device manufacturing jig with light;
The light-emitting element material accumulated by the transmitted light is deposited on the back surface.
A method for manufacturing a display device.
前記透過領域は、前記表面から入射する光を透過させるように前記表面から前記裏面に貫通した複数の貫通孔である、
請求項5に記載の表示装置の製造方法。
The transmission region is a plurality of through holes penetrating from the front surface to the back surface so as to transmit light incident from the front surface.
The method for manufacturing the display device according to claim 5 .
さらに前記表示装置製造用治具の前記裏面に導電性の金属層を形成し、付着した前記発光素子の材料の上に前記金属層を形成し、
前記表示装置の前記画素の位置に導電性の金属領域を有する回路基板を用意し、
前記表示装置製造用治具と前記回路基板とに圧力を付加して前記発光素子の材料の前記金属層と前記金属領域とを接着させ、
前記表示装置製造用治具の前記表面に気体を吹き付けて付着していた前記発光素子の材料を前記裏面から剥離させる、
請求項6に記載の表示装置の製造方法。
Further, a conductive metal layer is formed on the back surface of the jig for manufacturing the display device, and the metal layer is formed on the material of the attached light-emitting element;
providing a circuit board having conductive metal areas at the locations of the pixels of the display device;
applying pressure to the jig for manufacturing the display device and the circuit board to bond the metal layer of the material of the light-emitting element to the metal region;
a gas is blown onto the front surface of the jig for manufacturing a display device to peel off the material of the light-emitting element adhering thereto from the rear surface;
The method for manufacturing the display device according to claim 6 .
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