JP7640487B2 - Coating Equipment - Google Patents
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Description
本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものであり、特に、塗布液を吐出した直後から乾燥させる塗布装置に関するものである。 The present invention relates to a coating device that applies a coating liquid onto a substrate, and in particular to a coating device that dries the coating liquid immediately after it is discharged.
近年では、様々な用途に基板W上に均一な薄膜が形成されたもの(塗布基板という)が使用される。例えば、基板上に一様な膜厚の塗布膜を形成する場合には、スリット状のノズルを有する塗布装置によって形成されている。この塗布装置は、図6に示すように、基板Wを載置するステージ100と、塗布液を吐出するスリット状のノズルを有する塗布器101とを有しており、ノズルのスリットから塗布液を吐出させながら、基板Wと塗布器101とを相対的に移動させることにより、所定厚さの塗布膜Cが基板W上に形成されるようになっている。
In recent years, substrates W on which a uniform thin film has been formed (called coated substrates) are used for various purposes. For example, when forming a coating film of uniform thickness on a substrate, the coating film is formed by a coating device having a slit-shaped nozzle. As shown in FIG. 6, this coating device has a
そして、形成された塗布基板Wは、塗布装置から搬出された後、塗布装置とは別の乾燥装置102によって乾燥させられる(例えば、下記特許文献1参照)。
The formed coated substrate W is then removed from the coating device and dried by a
しかし、上記塗布装置では、形成された塗布膜Cの機能性が十分に発揮できないという問題があった。すなわち、近年では、材料の特性として、塗布膜Cとして塗布された後、すぐに乾燥させることにより安定して機能性を発揮するものがあり、例えば、ペロブスカイト太陽電池の材料には、そのような材料が使用されている。上記塗布装置では、塗布膜Cが形成された後、別の乾燥装置102に搬送される間、時間を要してしまうため、この時間が塗布膜Cの結晶状態に影響し、材料の機能性が安定して発揮されにくいという問題があった。
However, the above coating device has a problem in that the functionality of the formed coating film C cannot be fully demonstrated. In recent years, some materials have the characteristics that they stably function when they are dried immediately after being applied as the coating film C, and such materials are used, for example, in perovskite solar cells. In the above coating device, after the coating film C is formed, it takes time for it to be transported to another
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができ、さらに膜厚精度の低下を抑えることができる塗布装置を提供することを目的としている。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to provide a coating device that can dry the coating film immediately after it is applied by the applicator and also suppresses any deterioration in film thickness accuracy.
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、を備える塗布装置であって、前記塗布器は、塗布進行側と反対側に、前記ノズルから吐出されて形成された塗布膜にエアを供給することにより前記塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、前記塗布器と前記乾燥器との間には、前記乾燥器の振動の影響を抑える防振部材が設けられていることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the coating device of the present invention is a coating device that includes a stage on which a substrate is placed, and an applicator that moves relative to the substrate placed on the stage while ejecting a coating liquid from a nozzle to form a coating film on the substrate, and the applicator is provided with a dryer on the side opposite to the coating progress side that supplies air to the coating film formed by ejecting the coating liquid from the nozzle to dry the coating film, and a vibration-proof member is provided between the applicator and the dryer to suppress the effects of vibration of the dryer.
上記塗布装置によれば、塗布進行側と反対側に乾燥器が設けられているため、ノズルから吐出されて形成された直後から、塗布膜を乾燥させることができる。すなわち、乾燥器からエアが供給されることにより、形成された塗布膜の乾燥が促進される。そして、乾燥器からエアを供給させると、その振動が塗布器に伝達し、さらにノズルと基板Wを連結する塗布液(ビード103)に伝達することにより塗布膜の厚みの精度に影響するが、塗布器と乾燥器との間に防振部材が設けられることにより、乾燥器から生じる振動が塗布器に伝達するのを抑えることができる。これにより、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができ、さらに、形成された塗布膜の膜厚精度の低下を抑えることができる。 According to the above coating device, since the dryer is provided on the side opposite to the coating progress side, the coating film can be dried immediately after it is ejected from the nozzle and formed. That is, the drying of the formed coating film is promoted by supplying air from the dryer. When air is supplied from the dryer, the vibration is transmitted to the coater and then to the coating liquid (bead 103) connecting the nozzle and the substrate W, affecting the accuracy of the thickness of the coating film. However, by providing a vibration-proof member between the coater and the dryer, it is possible to prevent the vibration generated by the dryer from being transmitted to the coater. This allows the coating film to be dried immediately after it is applied by the coater, and further prevents a decrease in the thickness accuracy of the formed coating film.
また、前記防振部材は、平板形状を有しており、少なくとも、塗布液が吐出される前記塗布器の吐出幅以上の寸法に形成されている構成としてもよい。 The vibration-proof member may also be configured to have a flat plate shape and be formed with dimensions at least equal to or greater than the discharge width of the applicator through which the coating liquid is discharged.
この構成によれば、防振部材により塗布器の吐出幅に渡って、塗布器への振動の影響を抑えることができる。 With this configuration, the vibration-proofing member can reduce the effects of vibration on the applicator across the entire discharge width of the applicator.
また、前記乾燥器は、エアが吐出されるエア吐出部を有しており、前記防振部材は、前記エア吐出部よりも低い位置まで延びて形成されている構成としてもよい。
The dryer may have an air discharge portion from which air is discharged, and the vibration-proof member may be formed to extend to a position lower than the air discharge portion.
この構成によれば、防振部材がエアの流れを遮る役割を果たすことにより、エア吐出部から吐出されるエアがビードに直接当たるのを抑えることができる。すなわち、防振部材が、乾燥器が起因する振動を抑えるだけでなく、整流板としても機能することにより、塗布器に乾燥器を設けたことにより塗布膜の膜厚精度が低下するのを抑えることができる。 With this configuration, the vibration-proofing member acts to block the air flow, preventing the air discharged from the air discharge section from directly hitting the bead. In other words, the vibration-proofing member not only suppresses vibrations caused by the dryer, but also functions as a straightening plate, preventing a decrease in the film thickness accuracy of the coating film caused by providing a dryer to the applicator.
また、前記防振部材は、前記ノズルの位置よりも基板側に近い位置まで延びて形成されている構成にしてもよい。 The vibration-proof member may also be configured to extend to a position closer to the substrate than the nozzle position.
この構成によれば、乾燥器からのエアが直接ビードに当たるのをより確実に抑えることができる。 This configuration more reliably prevents air from the dryer from hitting the beads directly.
また、前記エア吐出部は、前記防振部材に直接当たるように、吐出されるエアの向きが調節されている構成にしてもよい。 The air discharge section may also be configured so that the direction of the discharged air is adjusted so that it hits the vibration-proof member directly.
この構成によれば、エア吐出部から吐出されるエアが防振部材に一度当たってから塗布膜に供給されるため、エアが直接塗布膜に当たる場合に比べて、エアの勢いを抑えることができ、間接的にエアを供給し塗布膜を乾燥させることができる。すなわち、エアの流れが塗布膜に影響し塗布ムラとなるのを抑えつつ、塗布膜を乾燥させることができる。 With this configuration, the air discharged from the air discharge section hits the vibration-proof member once before being supplied to the coating film, so the force of the air can be reduced compared to when the air hits the coating film directly, and the coating film can be dried by indirectly supplying air. In other words, the coating film can be dried while preventing the air flow from affecting the coating film and causing coating unevenness.
また、前記乾燥器から供給されるエアは、ヒータにより加熱されている構成にしてもよい。 The air supplied from the dryer may also be heated by a heater.
この構成によれば、加熱されたエアが供給されることにより、塗布膜の乾燥を促進させることができる。 With this configuration, the supply of heated air can accelerate the drying of the coating film.
本発明の塗布装置によれば、塗布器により塗布された直後から塗布膜を乾燥させることができ、さらに膜厚精度の低下を抑えることができる。 The coating device of the present invention allows the coating film to dry immediately after it is applied by the applicator, and also prevents any deterioration in film thickness accuracy.
本発明に係る実施の形態について図面を用いて説明する。 The embodiment of the present invention will be explained using the drawings.
図1は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図2は、塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図3は、乾燥器が設けられた塗布器を示す図である。 Figure 1 is a perspective view showing a schematic diagram of an application device according to one embodiment of the present invention, Figure 2 is a diagram showing the vicinity of the legs of the application unit, and Figure 3 is a diagram showing an applicator equipped with a dryer.
図1~図3に示すように、塗布装置は、基板W上に薬液やレジスト液等の液状物(以下、塗布液と称す)の塗布膜を形成するものであり、基台2と、基板Wを載置するためのステージ21と、このステージ21に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット30とを備えている。
As shown in Figures 1 to 3, the coating device forms a coating film of a liquid material such as a chemical solution or a resist liquid (hereinafter referred to as a coating liquid) on a substrate W, and includes a
なお、以下の説明では、塗布ユニット30が移動する方向をX軸方向、これと水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。
In the following explanation, the direction in which the
前記基台2には、その中央部分にステージ21が配置されている。このステージ21は、搬入された基板Wを載置するものである。このステージ21には、基板Wを載置する基板載置面21aと、図示しない基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板Wが保持されるようになっている。具体的には、ステージ21の基板載置面21aに形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板Wを基板載置面21aに吸着させて保持できるようになっている。
A
また、ステージ21には、基板Wを昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ21の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはZ軸方向に昇降動作可能なリフトピン(不図示)が埋設されている。すなわち、ステージ21の表面からリフトピンを突出させた状態で基板Wが搬入されるとリフトピンの先端部分が基板Wに当接して基板Wを保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板Wを基板載置面21aに載置することができるようになっている。
The
また、塗布ユニット30は、基板W上に塗布液を吐出して塗布膜Cを形成するものである。この塗布ユニット30は、図1、図2に示すように、基台2と連結される脚部31とY軸方向に延びる塗布器34とを有しており、基台2上をY軸方向に跨いだ状態でX軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台2のY軸方向両端部分にはそれぞれX軸方向に延びるレール22が設置されており、脚部31がこのレール22にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部31にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット30がX軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
The
また、塗布ユニット30の脚部31には、図2に示すように、塗布液を塗布する塗布器34が取り付けられている。具体的には、この脚部31にはZ軸方向に延びるレール37と、このレール37に沿ってスライドするスライダ35が設けられており、これらのスライダ35と塗布器34とが連結されている。そして、スライダ35にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ35がZ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、塗布器34が、ステージ21に保持された基板Wに対して接離可能に支持されている。
As shown in FIG. 2, an
また、図1~3に示すように、塗布器34は、塗布液を吐出して基板W上に塗布膜Cを形成するものである。この塗布器34は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット30の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この塗布器34は、鉛直方向に延びる側面部34bを有しており、この側面部34bから傾斜状に形成される斜面部34cを経て基板Wと対向する基板対向面34dを有している。そして、基板対向面34dには、スリットノズル34aが形成されており、スリットノズル34aから塗布液が吐出されるようになっている。すなわち、塗布器34の基板対向面34dには、スリットノズル34aが長手方向に延びるように形成されており、塗布器34に供給された塗布液がスリットノズル34aから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル34aから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット30をX軸方向に走行させることにより、スリットノズル34aの長手方向に亘って基板W上に一定厚さの塗布膜Cが形成されるようになっている。なお、塗布液を塗布するために、スリットノズル34aから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット30を移動させる方向を本実施形態では塗布方向と呼び、塗布方向側を塗布進行側と呼ぶことにする。
As shown in Figures 1 to 3, the
また、塗布器34には、乾燥器40が設けられている。この乾燥器40は、基板W上に形成された塗布膜Cを乾燥させるものである。ここで、乾燥とは、完全乾燥の意味だけでなく、半乾き状態の乾燥、及び、大気に放置して乾燥させる場合よりも材料の結晶化が促進される程度の乾燥も含まれるものとする。
The
乾燥器40は、本実施形態では、塗布器34において、塗布進行側と反対側に隣接するように一体的に取り付けられている。すなわち、塗布器34が塗布液を吐出しつつ塗布進行方向に移動すると、乾燥器40が塗布器34と一体的に移動しつつ、基板W上に塗布膜Cが形成された直後から、乾燥器40により塗布膜Cが乾燥されるようになっている。
In this embodiment, the
乾燥器40は、塗布器34の長手方向に沿って設けられており、エアを供給する送風部41を有している。本実施形態では、塗布器34に隣接するように送風部41が配置され構成されている。
The
送風部41は、基板W上に形成された塗布膜Cにエアを供給するものである。本実施形態では、送風本体部411と、エア吐出部42とを有しており、送風本体部411で貯留されたエアがエア吐出部42を通じてエアが吹き出されるようになっている。
The
送風本体部411は、ボックス形状を有しており、塗布器34の側面部34bに沿って長手方向に延びる形状に形成されている。本実施形態では、スリットノズル34aの長手方向寸法よりも長い寸法を有するように形成されている。また、送風本体部411には、塗布膜Cに供給するためのエアを溜めるキャビティ41bが設けられており、図示しないエア供給源から供給されたエアがキャビティ41bで一時的に貯留できるようになっている。キャビティ41bは、長手方向に延びる形状に形成されており、キャビティ41bより狭く形成された連通流路43によりエア吐出部42と連通して接続されている。したがって、エアがキャビティ41bに供給されるとキャビティ41b全体に広がって一時的に貯留され、狭い連通流路43を通過することにより、エア吐出部42に対して長手方向に渡って一様にエアが供給されるようになっている。
The
エア吐出部42は、送風本体部411に供給されたエアを塗布膜Cに導くためのものである。エア吐出部42は、エアが吐出される開口部34cを有しており、図3の例では、鉛直方向下向きに形成されている。この開口部34cは、連通流路43と連通して接続されており、エア供給源を作動させると、キャビティ41bのエアが連通流路43を通じて開口部43cから吐出されるようになっている。そして、開口部41cの高さ位置は、スリットノズル34aの高さ位置付近まで延びて形成されている。図3の例では、スリットノズル34aの高さ位置よりもわずかに高い位置、すなわち、基板Wに形成される塗布膜Cに当接しない高さ位置まで延びて形成されている。これにより、エア供給源を作動させると、キャビティ41bのエアが連通流路43を通じて開口部41cから吐出され、スリットノズル34aから塗布液が吐出されて形成された直後の塗布膜Cにエアを導くことができるようになっている。
The
エア吐出部42の開口部41cは、スリット状に形成されており、塗布器34の長手方向に延びるように形成されている。そして、開口部41cの長手方向寸法は、塗布器34のスリットノズル34aの長手寸法とほぼ同じ寸法に形成されている。したがって、エア吐出部42から吐出されるエアは、形成された塗布膜Cの幅方向に亘って、ほぼ一様に供給されるようになっている。
The
また、乾燥器40と塗布器34との間には、防振部材60が設けられている。この防振部材60は、塗布器34への振動の影響を抑えるためのものである。すなわち、乾燥器40からエアが吐出されると、乾燥器40自体の振動、エア供給源からエアが流入する振動、吐出されるエアの振動が発生するため、防振部材60により、これらの振動の影響を極力遮断し、振動が塗布器34に伝達するのを抑えることができる。
A vibration-
この防振部材60は、例えば、ゴム部材、シリコン部材、ウレタン部材等、汎用性のある防振材料が使用することができ、塗布環境に耐える耐薬品性、耐熱性を兼ね備えたものが選択される。本実施形態では、防振部材60は、一様な厚みの平板状に形成されており、乾燥器40と塗布器34それぞれに隣接させて固定されている。また、防振部材60は、塗布器34及び乾燥器40の長手方向寸法と同じ寸法に形成されており、塗布器34及び乾燥器40の長手方向全面に亘って、塗布器34と乾燥器40との間に介在するように設けられている。すなわち、少なくとも、塗布液が吐出されるスリットノズル34aの吐出幅以上の寸法に形成されていることにより、仮に乾燥器40から振動が発生しても、防振部材60により長手方向に亘ってその振動が吸収されることにより、塗布器34に振動が伝達するのを抑えることができるようになっている。
For this vibration-proofing
また、防振部材60は、送風本体部411の側面全体を覆うように設けられており、さらにエア吐出部42よりも高さ位置が低い位置まで延びて形成されている。図3の例では、スリットノズル34aの高さ位置よりも低い位置(基板W側に近い位置)まで延びて形成されている。これにより、エア吐出部42から吐出されたエアがスリットノズル34aと基板Wを連結する塗布液(ビードB)に影響するのを抑えることができる。
The vibration-
具体的には、図4に示すように、エア吐出部42から吐出されたエアは、開口部41cが開口する方向、図3、図4の例では、鉛直方向下向きに吐出され、基板W上に形成された塗布膜Cに向かって吹き出される。吹き出されるエアは、直接塗布膜Cに当たるが、このエアが当たることにより塗布膜Cに塗布ムラが発生しない程度に風圧が調節されている。そして、エア吐出部42から吹き出されたエアは、塗布膜Cに向かって流れると共に、ある広がりを持って流れることにより、エアの一部には、ビードB側に向かうエア、塗布膜Cに当たってビードB側に流れるエアが存在する。ところが、防振部材60がエア吐出部42よりも低い位置(図3、図4の例では、スリットノズル34aの高さ位置よりも低い位置)まで延びているため、ビードB側に流れようとするエアの一部を遮ることができ、直接ビードに当たるエアを抑えることができる。このビードB側に流れるエアを抑える量は、防振部材60と形成された塗布膜Cとの隙間寸法によって調節することができ、塗布膜Cに接触することのない程度にまで防振部材60を延ばすことにより、ビードBへの影響を効果的に抑えることができる。このように、防振部材60は、エア吐出部42からのエアの整流板としても機能させることができる。
Specifically, as shown in FIG. 4, the air discharged from the
このように、上記実施形態における塗布装置によれば、塗布進行側と反対側に乾燥器40が設けられているため、スリットノズル34aから吐出されて形成された直後から、塗布膜Cを乾燥させることができる。すなわち、乾燥器40からエアが供給されることにより、形成された塗布膜Cの乾燥が促進される。そして、乾燥器40からエアを供給させると、その振動が塗布器34に伝達し、さらにスリットノズル34aと基板Wを連結する塗布液(ビードB)に伝達することにより塗布膜Cの厚みの精度に影響するが、塗布器34と乾燥器40との間に防振部材60が設けられることにより、乾燥器40から生じる振動が塗布器34に伝達するのを抑えることができる。これにより、塗布器34により塗布された直後から塗布膜Cを乾燥させることができ、さらに、形成された塗布膜Cの膜厚精度の低下を抑えることができる。
In this way, according to the coating device in the above embodiment, since the
また、上記実施形態では、乾燥器40のエア吐出部42から吐出されたエアは、鉛直方向下向きに吐出され、塗布膜Cに向かって吐出される例について説明したが、エア吐出部42から吐出されるエアが防振部材60に直接当たるように調節されるものであってもよい。具体的には、図5に示すように、乾燥器40と防振部材60との間にスペーサSが介在され、乾燥器40の開口部41cが防振部材60側に向く姿勢で取り付けられている。これにより、エア吐出部42から吐出されたエアは、防振部材60に一度当たった後、塗布膜Cに流れることにより、吐出されたエアが直接、塗布膜Cに当たるのを回避して、間接的にエアを供給することができる。すなわち、エアが直接塗布膜Cに当たる場合に比べて、エアの勢いを抑えることができるため、エア吐出部42から供給されるエアの量を増大させても塗布膜Cに塗布ムラが形成されにくい状態で塗布膜Cの乾燥を促進させることができる。なお、この実施形態であっても、乾燥器40が起因する振動はスペーサSを介して伝達されるが、防振部材60により塗布器34に伝達されるのを抑えることができる。
In the above embodiment, the air discharged from the
また、上記実施形態では、防振部材60として平板形状の例を説明したが、塗布器34と乾燥器40との間に介在すれば、どのような形状でもよく、長手方向に一様に延びる形状でなくても、長手方向に間欠的に配置されるものであってもよい。
In addition, in the above embodiment, an example of a flat plate-shaped vibration-
また、上記実施形態では、防振部材60がエア吐出部42の高さ位置よりも低い位置に延びる例について説明したが、防振部材60がエア吐出部42の高さ位置よりも高い場合であっても、防振部材60が塗布器34と乾燥器40の間に介在されていれば、少なくとも乾燥器40が起因する振動を抑えることができる。
In addition, in the above embodiment, an example was described in which the vibration-
また、上記実施形態では、送風部41から供給されるエアは、エア供給源の温度(塗布装置が設置される空間の温度)である例について説明したが、エア供給源と送風部41との間にヒータを設け、ヒータにより加熱されたエアを供給するものであってもよい。例えば、塗布装置が設置される空間の温度よりも少し高い35℃~45℃程度に設定することにより、エア供給源のエアをそのまま使用する場合に比べて塗布膜Cの乾燥を促進させることができる。
In the above embodiment, an example was described in which the air supplied from the
また、上記実施形態では、塗布器34がスリットノズル34aを有する例について説明したが、一方向に移動し、塗布膜Cを形成した直後から乾燥が必要な塗布器(例えば、インクジェット)であればよく、吐出方式は特に限定されない。
In addition, in the above embodiment, an example was described in which the
21 ステージ
30 塗布ユニット
34 塗布器
34a スリットノズル
40 乾燥器
41C 開口部
B ビード
P 着液点
S スペーサ
W 基板
21
Claims (6)
前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつ
つ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、
を備える塗布装置であって、
前記塗布器は、塗布進行側と反対側に、前記ノズルから吐出されて形成された塗布膜にエアを供給することにより前記塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、前記塗布器と前記乾燥器との間には、前記乾燥器の振動の影響を抑える防振部材が設けられていることを特徴とする塗布装置。 A stage on which a substrate is placed;
a coater that moves relative to the substrate placed on the stage and ejects a coating liquid from a nozzle to form a coating film on the substrate;
A coating apparatus comprising:
The coating device is characterized in that the applicator is provided with a dryer on the side opposite to the side where the coating proceeds, which dries the coating film formed by ejecting from the nozzle by supplying air to the coating film, and a vibration-damping member is provided between the applicator and the dryer to suppress the effects of vibration of the dryer.
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| JP2022038173A JP7640487B2 (en) | 2022-03-11 | 2022-03-11 | Coating Equipment |
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