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JP7640870B2 - Cyclic diol compound, method for producing said compound and use of said compound - Google Patents
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Description

本発明は、環式ジオール化合物、該化合物の製造方法及び該化合物の用途に関する。The present invention relates to a cyclic diol compound, a method for producing the compound, and uses of the compound.

ポリエステル樹脂及びポリカーボネート樹脂の樹脂原料として各種の環状ジオール化合物が知られている。工業的に入手可能な環式ジオール化合物としては、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジオールや2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン(水素化ビスフェノールA)等がある。このほかにも、製造される樹脂の用途に応じて種々の環式ジオール化合物が報告されている。 Various cyclic diol compounds are known as resin raw materials for polyester resins and polycarbonate resins. Industrially available cyclic diol compounds include 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanediol, and 2,2-bis(4-hydroxycyclohexyl)propane (hydrogenated bisphenol A). In addition to these, various cyclic diol compounds have been reported depending on the application of the resin to be produced.

例えば、光学用途(例えば、光学レンズ)に用いられるポリカーボネート樹脂については、着色低減、透明性などの樹脂の光学特性の改良を目的として、フルオレン環構造をもつ特定の芳香族ジオール化合物を含むジオール成分を用いて製造する方法(特許文献1)が報告され、また、特定のフルオレン含有ジヒドロキシ化合物及び他のジヒドロキシ化合物を特定割合で用いて製造する方法(特許文献2)等が報告されている。For example, with regard to polycarbonate resins used in optical applications (e.g., optical lenses), a method for producing the resin using a diol component containing a specific aromatic diol compound having a fluorene ring structure has been reported (Patent Document 1) for the purpose of improving the optical properties of the resin, such as reducing coloration and improving transparency, and a method for producing the resin using a specific fluorene-containing dihydroxy compound and other dihydroxy compounds in specific ratios has also been reported (Patent Document 2).

しかし、ポリエステル樹脂及びポリカーボネート樹脂等の樹脂の特性は、樹脂が使用される様々な応用分野に応じて多岐に渡り、その分野で求められる樹脂特性を満足できる環式ジオール化合物の探索が進められている。特に、樹脂を光学用途に用いる場合、当該樹脂の光学特性を向上できる環式ジオール化合物が求められている。However, the properties of resins such as polyester resins and polycarbonate resins vary widely depending on the various fields of application in which the resins are used, and the search is on for cyclic diol compounds that can satisfy the resin properties required in these fields. In particular, when resins are used for optical applications, there is a demand for cyclic diol compounds that can improve the optical properties of the resins.

特開2012-214803号公報JP 2012-214803 A 特開2013-001867号公報JP 2013-001867 A

本発明は、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂の改質剤を提供することを課題とする。また、本発明は、樹脂改質剤として有用な環式ジオール化合物、その製造方法を提供することをも課題とする。The present invention aims to provide a modifier for resins such as polyester resins, polyester carbonate resins, and polycarbonate resins. Another objective of the present invention is to provide a cyclic diol compound useful as a resin modifier and a method for producing the same.

本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意検討した結果、式(1)で表されるジアセタール構造を有する環式ジオール化合物が、樹脂中に構成単位(繰り返し単位)として組み込まれることにより、該樹脂の物性を改質して新たな物性を有する樹脂を製造できることを見出した。具体的には、該環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等の樹脂の原料(モノマー)又は改質剤として有用であることを見出した。かかる知見に基づいてさらに検討を加えて本発明を完成するに至った。The present inventors conducted intensive research to solve the above problems and found that a cyclic diol compound having a diacetal structure represented by formula (1) can be incorporated as a structural unit (repeating unit) in a resin to modify the physical properties of the resin and produce a resin with new physical properties. Specifically, the inventors found that the cyclic diol compound is useful as a raw material (monomer) or modifier for resins such as polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, and polyester polyol resins. Based on this knowledge, the inventors conducted further research and completed the present invention.

即ち、本発明は、以下の環式ジオール化合物からなる樹脂改質剤、環式ジオール化合物及び該化合物の製造方法を提供するものである。That is, the present invention provides a resin modifier comprising the following cyclic diol compound, a cyclic diol compound, and a method for producing the compound.

[項1]
一般式(1)で表される化合物(以下「環式ジオール化合物」ともいう。)からなる樹脂改質剤。

Figure 0007640870000001
[式中、Rは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基又は炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。環Aは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、及び炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基からなる群から選択される1~4個の基で置換されていてもよいベンゼン環を示す。]
[項2]
樹脂改質剤が、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びポリエステルポリオール樹脂からなる群より選択される1以上の樹脂の改質剤である、[項1]に記載の樹脂改質剤。
[項3]
一般式(1)において、Rが、同一又は異なって、それぞれ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基又はフェニル基である、[項1]又は[項2]に記載の樹脂改質剤。
[項4]
一般式(1)において、Rが、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基である、[項3]に記載の樹脂改質剤。
[項5]
一般式(1)において、環Aが、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、及び炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基からなる群から選択される1~4個の基で置換されていてもよいベンゼン環である、[項1]~[項4]のいずれかに記載の樹脂改質剤。
[項6]
一般式(1)において、Rが、メチル基又はエチル基であり、環Aが、メチル基及びエチル基からなる群から選択される1~4個の基で置換されていてもよいベンゼン環である、[項1]~[項5]のいずれかに記載の樹脂改質剤。
[項7]
一般式(1)において、環Aが、ベンゼン環である、[項1]~[項6]のいずれかに記載の樹脂改質剤。
[項8]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1a)で表される化合物である、[項1]又は[項2]に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000002
[式中、Rは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、又は炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Rは、前記に同じ。]
[項9]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1b)で表される化合物である、[項1]又は[項2]に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000003
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項10]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1c)で表される化合物である、[項1]又は[項2]に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000004
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項11]
一般式(1)で表される化合物からなる樹脂原料用モノマー。
[項12]
一般式(1a)で表される化合物。
Figure 0007640870000005
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項13]
一般式(1c)で表される化合物。
Figure 0007640870000006
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項14]
が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基又はフェニル基である、[項12]又は[項13]に記載の化合物。
[項15]
が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基である、[項14]に記載の化合物。
[項16]
が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、又は炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基である、[項12]~[項15]のいずれかに記載の化合物。
[項17]
が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基であり、Rが、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、メチル基又はエチル基である、[項12]~[項16]のいずれかに記載の化合物。
[項18]
が、すべて水素原子である、[項12]~[項17]のいずれかに記載の化合物。
[項19]
一般式(1)で表される化合物の製造方法であって、一般式(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応(アセタール化反応)させる工程を含む、製造方法。
Figure 0007640870000007
[式中、R及び環Aは、前記に同じ。]
[項20]
一般式(1a)で表される化合物の製造方法であって、一般式(3a)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応(アセタール化反応)させる工程を含む、製造方法。
Figure 0007640870000008
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項21]
一般式(1c)で表される化合物の製造方法であって、一般式(3c)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応(アセタール化反応)させる工程を含む、製造方法。
Figure 0007640870000009
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項22]
一般式(2)で表される構成単位(繰り返し単位)を含有するポリカーボネート樹脂。
Figure 0007640870000010
[式中、R及び環Aは、前記に同じ。]
[項23]
一般式(2a)で表される構成単位(繰り返し単位)を含有する[項22]に記載のポリカーボネート樹脂。
Figure 0007640870000011
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項24]
一般式(2c)で表される構成単位(繰り返し単位)を含有する[項22]に記載のポリカーボネート樹脂。
Figure 0007640870000012
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項25]
一般式(2b)で表される構成単位(繰り返し単位)を含有する[項22]に記載のポリカーボネート樹脂。
Figure 0007640870000013
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
[項26]
ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びポリエステルポリオール樹脂からなる群より選択される1以上の樹脂を製造するための、一般式(1)で表される化合物の使用。
[項27]
一般式(1)で表される化合物を、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びポリエステルポリオール樹脂からなる群より選択される1以上の樹脂の(原料である)モノマーとして使用する方法。
[項28]
ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びポリエステルポリオール樹脂からなる群より選択される1以上の樹脂を改質するための、一般式(1)で表される化合物のモノマーとしての使用。
[項29]
一般式(1)で表される化合物を含むモノマーを用いて、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びポリエステルポリオール樹脂からなる群より選択される1以上の樹脂を改質する方法。 [Item 1]
A resin modifier comprising a compound represented by general formula (1) (hereinafter also referred to as a "cyclic diol compound").
Figure 0007640870000001
[In the formula, R 1 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Ring A represents a benzene ring which may be substituted with 1 to 4 groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.]
[Item 2]
The resin modifier is a modifier for one or more resins selected from the group consisting of polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins and polyester polyol resins. The resin modifier according to [Item 1].
[Item 3]
In the general formula (1), R 1 is the same or different and is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, or a phenyl group. The resin modifier according to [Item 1] or [Item 2].
[Item 4]
In the general formula (1), R 1 is the same or different and is a methyl group or an ethyl group.
[Item 5]
In the general formula (1), ring A is a benzene ring optionally substituted with 1 to 4 groups selected from the group consisting of linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms and linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. [Item 1] to [Item 4] are resin modifiers according to any one of the above.
[Item 6]
In the general formula (1), R 1 is a methyl group or an ethyl group, and ring A is a benzene ring optionally substituted with 1 to 4 groups selected from the group consisting of methyl groups and ethyl groups. [Item 1] to [Item 5] are described in any one of the resin modifiers.
[Item 7]
In the general formula (1), ring A is a benzene ring. The resin modifier according to any one of [1] to [6].
[Item 8]
The resin modifier according to [Item 1] or [Item 2], wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1a).
Figure 0007640870000002
[In the formula, R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 is the same as above.]
[Item 9]
The resin modifier according to [Item 1] or [Item 2], wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1b).
Figure 0007640870000003
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 10]
The resin modifier according to [Item 1] or [Item 2], wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1c):
Figure 0007640870000004
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 11]
A resin raw material monomer comprising a compound represented by general formula (1):
[Item 12]
A compound represented by general formula (1a):
Figure 0007640870000005
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 13]
A compound represented by general formula (1c):
Figure 0007640870000006
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 14]
The compound according to [Item 12] or [Item 13], wherein R 1 is the same or different and is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, or a phenyl group.
[Item 15]
The compound according to [Item 14], wherein R 1 is the same or different and is a methyl group or an ethyl group.
[Item 16]
The compound according to any one of [Item 12] to [Item 15], wherein R 2 is the same or different and is a hydrogen atom, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
[Item 17]
The compound according to any one of [Item 12] to [Item 16], wherein R 1 is the same or different and is a methyl group or an ethyl group, and R 2 is the same or different and is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
[Item 18]
The compound according to any one of [Item 12] to [Item 17], wherein all of R 2 's are hydrogen atoms.
[Item 19]
A method for producing a compound represented by general formula (1), comprising a step of reacting a compound represented by general formula (3) with a compound represented by general formula (4) (acetalization reaction).
Figure 0007640870000007
[In the formula, R1 and ring A are the same as above.]
[Item 20]
A method for producing a compound represented by general formula (1a), comprising a step of reacting a compound represented by general formula (3a) with a compound represented by general formula (4) (acetalization reaction).
Figure 0007640870000008
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 21]
A method for producing a compound represented by general formula (1c), comprising a step of reacting a compound represented by general formula (3c) with a compound represented by general formula (4) (acetalization reaction).
Figure 0007640870000009
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 22]
A polycarbonate resin containing a structural unit (repeating unit) represented by general formula (2).
Figure 0007640870000010
[In the formula, R1 and ring A are the same as above.]
[Item 23]
The polycarbonate resin according to [22], which contains a structural unit (repeating unit) represented by general formula (2a):
Figure 0007640870000011
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 24]
The polycarbonate resin according to [22], which contains a structural unit (repeating unit) represented by general formula (2c):
Figure 0007640870000012
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 25]
The polycarbonate resin according to [22], which contains a structural unit (repeating unit) represented by general formula (2b):
Figure 0007640870000013
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]
[Item 26]
Use of a compound represented by general formula (1) for producing one or more resins selected from the group consisting of polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, and polyester polyol resins.
[Item 27]
A method in which a compound represented by general formula (1) is used as a monomer (a raw material) of one or more resins selected from the group consisting of polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, and polyester polyol resins.
[Item 28]
Use of a compound represented by general formula (1) as a monomer for modifying one or more resins selected from the group consisting of polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, and polyester polyol resins.
[Item 29]
A method for modifying one or more resins selected from the group consisting of polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, and polyester polyol resins, using a monomer containing a compound represented by general formula (1).

一般式(1)で表される化合物(環式ジオール化合物)は、ポリエステル結合、ポリウレタン結合、ポリカーボネート結合等を有する樹脂の改質剤又は原料モノマーとして有用である。一般式(1a)で表される化合物及び一般式(1c)で表される化合物は新規な化合物であり、前記樹脂の改質剤又は原料として有用である。The compound represented by the general formula (1) (cyclic diol compound) is useful as a modifier or raw material monomer for resins having polyester bonds, polyurethane bonds, polycarbonate bonds, etc. The compound represented by the general formula (1a) and the compound represented by the general formula (1c) are novel compounds and are useful as modifiers or raw materials for the resins.

本発明の樹脂改質剤を用いて得られる樹脂(例えば、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂等)は、屈折率が大きいという特徴を有する。これにより、モノマー中の該樹脂改質剤の含有量を調節することにより、得られる樹脂の屈折率を広範囲に調整することができる。
また、本発明の樹脂改質剤は、種々のジヒドロキシ化合物と適切な割合で共重合することにより、得られる樹脂の複屈折を限りなくゼロに近づけることが可能となる。そのため、当該樹脂は光学用途(光学レンズ、光学フィルム、光学シート等)に好適に用いることができる。
Resins (e.g., polyester carbonate resins, polycarbonate resins, etc.) obtained using the resin modifier of the present invention are characterized by their large refractive index, and thus the refractive index of the resulting resin can be adjusted over a wide range by adjusting the content of the resin modifier in the monomer.
In addition, the resin modifier of the present invention can be copolymerized with various dihydroxy compounds in an appropriate ratio to make the birefringence of the resulting resin as close to zero as possible, and therefore the resin can be suitably used for optical applications (optical lenses, optical films, optical sheets, etc.).

実施例1で得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物1)のIRスペクトルである。1 is an IR spectrum of isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 1) obtained in Example 1. 実施例1で得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物1)のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 1) obtained in Example 1. 実施例2で得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(化合物2)のIRスペクトルである。1 is an IR spectrum of isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal (compound 2) obtained in Example 2. 実施例2で得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(化合物2)のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal (compound 2) obtained in Example 2. 実施例3で得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物3)のIRスペクトルである。1 is an IR spectrum of terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 3) obtained in Example 3. 実施例3で得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物3)のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 3) obtained in Example 3. 実施例4で得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(化合物4)のIRスペクトルである。1 is an IR spectrum of terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal (compound 4) obtained in Example 4. 実施例4で得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(化合物4)のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal (compound 4) obtained in Example 4. 実施例5で得られたオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物5)のIRスペクトルである。1 is an IR spectrum of ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 5) obtained in Example 5. 実施例5で得られたオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(化合物5)のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal (compound 5) obtained in Example 5.

1.樹脂改質剤
本発明の樹脂改質剤は、一般式(1)で表される化合物からなる。

Figure 0007640870000014
[式中、Rは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基又は炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。環Aは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、及び炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基からなる群から選択される1~4個の基で置換されていてもよいベンゼン環を示す。] 1. Resin Modifier The resin modifier of the present invention comprises a compound represented by general formula (1).
Figure 0007640870000014
[In the formula, R 1 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Ring A represents a benzene ring which may be substituted with 1 to 4 groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.]

一般式(1)において、Rは、同一又は異なって、それぞれ、炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、フェニル基が好ましい。Rで示される炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、特に制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。このうち好ましくは、メチル基、エチル基、イソブチル基、tert-ブチル基である。さらに好ましくは、メチル基、エチル基である。特に好ましくは、メチル基である。 In general formula (1), R 1 may be the same or different and is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group. The linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 1 is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Of these, preferred are a methyl group, an ethyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group. More preferred are a methyl group and an ethyl group. Particularly preferred is a methyl group.

一般式(1)において、環Aは、2つのアセタール基が互いにベンゼン環上のオルト位、メタ位又はパラ位に結合していることを意味する。具体的には、環Aは下記の構造を包含する。

Figure 0007640870000015
[式中、環Aは前記に同じ。] In the general formula (1), ring A means that two acetal groups are bonded to each other at the ortho, meta or para position on the benzene ring. Specifically, ring A includes the following structures:
Figure 0007640870000015
[In the formula, ring A is the same as above.]

一般式(1)において、環Aは、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、及び炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基からなる群から選択される1~4個の基で置換されていてもよいベンゼン環であることが好ましい。In general formula (1), ring A is preferably a benzene ring optionally substituted with 1 to 4 groups selected from the group consisting of linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms and linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.

置換基である「炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基」としては、特に制限はなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基等が挙げられる。このうち好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基である。The substituent "linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms" is not particularly limited, and examples thereof include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, and tert-butyloxy. Among these, methoxy, ethoxy, isopropyloxy, isobutyloxy, and tert-butyloxy are preferred.

置換基である「炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基」としては、特に制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。このうち好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基である。The substituent "linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms" is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, and tert-butyl groups. Of these, methyl, ethyl, isopropyl, isobutyl, and tert-butyl groups are preferred.

環Aとして特に好ましくは、置換基を有しないベンゼン環、即ち、下記構造を有する2価のフェニレン基である。

Figure 0007640870000016
Particularly preferred as ring A is a benzene ring having no substituent, that is, a divalent phenylene group having the following structure:
Figure 0007640870000016

一般式(1)で表される化合物は、2つのアセタール基中のヒドロキシメチル基及びRが結合する炭素原子の立体配置に基づいて、複数の立体異性体の存在が考えられる。これらの異性体はそれぞれ単独でも混合物でもよい。 The compound represented by the general formula (1) may have a number of stereoisomers based on the configuration of the carbon atom to which the hydroxymethyl group in the two acetal groups and R 1 are bonded. These isomers may exist alone or in mixture.

本発明の樹脂改質剤が適用される樹脂としては、一般式(1)で表される環式ジオール化合物に由来する繰り返し単位(構成単位)、即ち、一般式(1)で表される環式ジオール化合物から水酸基の水素原子を除いて得られる2価の繰り返し単位を含み得る樹脂であれば特に限定はなく、例えば、分子内にポリエステル結合、ポリカーボネート結合、ポリウレタン結合等を有する樹脂が挙げられる。具体的には、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等が挙げられる。好ましくはポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂であり、さらに好ましくはポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂である。Resins to which the resin modifier of the present invention is applied are not particularly limited as long as they contain a repeating unit (structural unit) derived from a cyclic diol compound represented by general formula (1), that is, a divalent repeating unit obtained by removing the hydrogen atom of a hydroxyl group from a cyclic diol compound represented by general formula (1), and examples thereof include resins having polyester bonds, polycarbonate bonds, polyurethane bonds, etc. in the molecule. Specific examples include polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, polyester polyol resins, etc. Preferred are polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, and polyurethane resins, and more preferably polyester carbonate resins and polycarbonate resins.

一般式(1)で表される化合物に包含される、環A上の2つのアセタール基の置換位置に基づき分類した3つの化合物、つまり、以下の一般式(1a)、一般式(1b)及び一般式(1c)で表される化合物について、具体的に説明する。Three compounds classified based on the substitution positions of the two acetal groups on ring A, which are included in the compounds represented by general formula (1), namely, the compounds represented by the following general formulas (1a), (1b), and (1c), will be specifically described below.

一般式(1a)で表される化合物は下記の通りである。

Figure 0007640870000017
[式中、Rは、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、又は炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Rは、前記に同じ。] The compound represented by the general formula (1a) is as follows.
Figure 0007640870000017
[In the formula, R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a phenyl group, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 is the same as above.]

一般式(1a)において、Rとして好ましくは、炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基が挙げられる。このうち好ましくは、メチル基、エチル基、イソブチル基、tert-ブチル基である。特に、メチル基及びエチル基は、立体障害の観点から、アセタール化反応の進行に有利である。 In general formula (1a), R 1 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, an isobutyl group, or a tert-butyl group is preferred. In particular, a methyl group and an ethyl group are advantageous for the progress of the acetalization reaction from the viewpoint of steric hindrance.

一般式(1a)において、Rとして好ましくは、水素原子、炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基又は炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基である。Rとして特に好ましくは水素原子である。
で示される「炭素数1~4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基」としては、特に制限はなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基等が挙げられる。このうち好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基である。
In general formula (1a), R2 is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R2 is particularly preferably a hydrogen atom.
The "straight or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms" represented by R2 is not particularly limited, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, etc. Among these, preferred are a methoxy group, an ethoxy group, an isopropyloxy group, an isobutyloxy group, and a tert-butyloxy group.

で示される「炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基」としては、特に制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。このうち好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基である。 The "straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms" represented by R2 is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, etc. Among these, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group are preferred.

一般式(1a)で表される化合物は、以下のような異性体A、異性体B、又は異性体Cなどの異性体の存在が考えられる。これらの異性体は、それぞれ単独でも混合物でも良い。

Figure 0007640870000018
[式中、R及びRは前記に同じ。] The compound represented by the general formula (1a) may have isomers such as the following isomer A, isomer B, or isomer C. These isomers may be present alone or in admixture.
Figure 0007640870000018
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1a)で表される化合物が2以上の異性体の混合物である場合、異性体比率は、実施例に記載の手法を用いて、ガスクロマトグラフィー(GC)分析を行い、面積百分率法により求めることができる。各異性体は、通常、GC分析によりそれぞれ特有のピークを有している。異性体の含有割合は、環式ジオール化合物の全ピーク面積に対する、各異性体のピーク面積の百分率で表すことができる。当該各異性体の百分率の比率を異性体比率とすることができる。本発明の環式ジオール化合物をN,O-ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド等を用いて水酸基をトリメチルシリル化した後、GC分析を行うこともできる。When the compound represented by general formula (1a) is a mixture of two or more isomers, the isomer ratio can be determined by the area percentage method by performing gas chromatography (GC) analysis using the method described in the Examples. Each isomer usually has its own unique peak in GC analysis. The content ratio of the isomer can be expressed as the percentage of the peak area of each isomer relative to the total peak area of the cyclic diol compound. The percentage ratio of each isomer can be taken as the isomer ratio. The cyclic diol compound of the present invention can also be subjected to trimethylsilylation of the hydroxyl groups using N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide or the like, followed by GC analysis.

一般式(1a)で表される化合物は、上記のような異性体(1a-A)、異性体(1a-B)、又は異性体(1a-C)などの異性体の存在が考えられる。GC分析で検出された異性体ピークは2本又は3本であり、これらは異性体(1a-A)、異性体(1a-B)、又は異性体(1a-C)と考えられる。GC分析による異性体比率は、異性体(1a-A):異性体(1a-B):異性体(1a-C)=10~1:10~1:1の範囲とすることができる。The compound represented by general formula (1a) may have isomers such as isomer (1a-A), isomer (1a-B), or isomer (1a-C) as described above. Two or three isomer peaks were detected by GC analysis, and these are considered to be isomer (1a-A), isomer (1a-B), or isomer (1a-C). The isomer ratio by GC analysis may be in the range of isomer (1a-A):isomer (1a-B):isomer (1a-C) = 10 to 1:10 to 1:1.

一般式(1a)で表される化合物の具体的な例としては、例えば、イソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、イソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-クロロイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-クロロイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジメチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,4-ジメチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,5-ジクロロイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジクロロイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,5-ジブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-tert-ブチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,4,5,6-テトラフルオロイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-(ブロモメチル)イソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-イソプロピルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジイソプロピルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ブロモ-5-tert-ブチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-フェニルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-フェニルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-フェニル-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,5-ジエチル-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-ヘキシルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-ヘキシルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-ブチルオキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチル-4-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-メチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジメトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-4-エチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,6-ジメチル-2-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,4-ジメトキシ-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,4-ジメチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-エチル-5-メチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-クロロイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-クロロイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジメチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,4-ジメチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,5-ジクロロイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジクロロイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,5-ジブロモイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-tert-ブチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,4,5,6-テトラフルオロイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、アセタール、4-イソプロピルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジイソプロピルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ブロモ-5-tert-ブチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-フェニルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-フェニルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-フェニル-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,5-ジエチル-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-ヘキシルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-ヘキシルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-ブチルオキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、5-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メチル-4-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジメトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-4-エチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,6-ジメチル-2-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,4-ジメトキシ-6-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,4-ジメチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-エチル-5-メチル-6-メトキシイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール等があげられる。その中でも好ましい化合物は、イソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、イソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、5-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられ、特に好ましい化合物は、イソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、イソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by general formula (1a) include, for example, isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-chloroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-chloroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dimethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,4-dimethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-chloroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dimethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,4-dimethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-bromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dimethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-bromo ... Tyrrolethane diacetal, 2,5-dichloroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dichloroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dibromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,5-dibromoisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-tert-butylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,4,5,6-tetrafluoroisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-(bromomethyl)isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-isopropylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-diisopropylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-bromo-5-tert-butylisophthalaldehyde isophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 4-phenylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 5-phenylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 4-phenyl-6-methylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 4,5-diethyl-6-methylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 5-hexylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 4-hexylisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 5-butyloxyisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-methoxyisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 4-methoxyisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 5-methoxyisophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-Methoxy-4-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methyl-4-methoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methoxy-5-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-methyl-6-methoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dimethoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methoxy-4-ethylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,6-dimethyl-2-methoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,4-dimethoxy-6-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2,4-dimethyl-6-methoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-ethyl-5-methylisophthalaldehyde ethyl-6-methoxyisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-methylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-chloroisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-chloroisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-bromoisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-bromoisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-bromoisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,6-dimethylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,4-dimethylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,5-dichloroisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal isophthalaldehyde diacetal, 4,6-dichloroisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,6-dibromoisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,5-dibromoisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-tert-butylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,4,5,6-tetrafluoroisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, acetal, 4-isopropylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,6-diisopropylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-bromo-5-tert-butylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-phenylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-phenylisophthalaldehyde isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-phenyl-6-methyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,5-diethyl-6-methyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-hexyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-hexyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-butyloxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxyisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methoxyisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 5-methoxyisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-4-methyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methyl-4-methoxyisophthalaldehyde Examples of the isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal include soft aldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-5-methyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methyl-6-methoxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,6-dimethoxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-4-ethyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,6-dimethyl-2-methoxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,4-dimethoxy-6-methyl isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,4-dimethyl-6-methoxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, and 4-ethyl-5-methyl-6-methoxy isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal. Among these, preferred compounds include isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 5-methylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methylisophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methylisophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like. Particularly preferred compounds include isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like.

一般式(1b)で表される化合物は下記の通りである。

Figure 0007640870000019
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by the general formula (1b) is as follows.
Figure 0007640870000019
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1b)における好ましいRとしては、一般式(1a)における好ましいRと同じである。また、一般式(1b)における好ましいRとしては、一般式(1a)における好ましいRと同じである。 Preferred R1 in formula (1b) is the same as preferred R1 in formula (1a). Preferred R2 in formula (1b) is the same as preferred R2 in formula (1a).

一般式(1b)で表される化合物は、以下のような異性体(1b-A)、異性体(1b-B)、又は異性体(1b-C)などの異性体の存在が考えらえる。これらの異性体は、それぞれ単独でも混合物でも良い。

Figure 0007640870000020
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by the general formula (1b) may have isomers such as the following isomer (1b-A), isomer (1b-B), or isomer (1b-C). These isomers may exist alone or in mixture.
Figure 0007640870000020
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1b)で表される化合物が2以上の異性体の混合物である場合、異性体比率は、実施例に記載の手法を用いて、ガスクロマトグラフィー(GC)分析を行い、面積百分率法により求めることができる。各異性体は、通常、GC分析によりそれぞれ特有のピークを有している。異性体の含有割合は、環式ジオール化合物の全ピーク面積に対する、各異性体のピーク面積の百分率で表すことができる。当該各異性体の百分率の比率を異性体比率とすることができる。本発明の環式ジオール化合物をN,O-ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド等を用いて水酸基をトリメチルシリル化した後、GC分析を行うこともできる。When the compound represented by general formula (1b) is a mixture of two or more isomers, the isomer ratio can be determined by the area percentage method by performing gas chromatography (GC) analysis using the method described in the Examples. Each isomer usually has its own unique peak in GC analysis. The content ratio of the isomer can be expressed as the percentage of the peak area of each isomer relative to the total peak area of the cyclic diol compound. The percentage ratio of each isomer can be taken as the isomer ratio. The cyclic diol compound of the present invention can also be subjected to trimethylsilylation of the hydroxyl groups using N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide or the like, followed by GC analysis.

一般式(1b)で表される化合物は、上記のような異性体(1b-A)、異性体(1b-B)、又は異性体(1b-C)などの異性体の存在が考えられる。GC分析で検出された異性体ピークは2本又は3本であり、これらは異性体(1b-A)、異性体(1b-B)、又は異性体(1b-C)と考えられる。GC分析による異性体比率は、異性体(1b-A):異性体(1b-B):異性体(1b-C)=10~1:10~1:1の範囲とすることができる。The compound represented by general formula (1b) may have isomers such as isomer (1b-A), isomer (1b-B), or isomer (1b-C) as described above. Two or three isomer peaks were detected by GC analysis, and these are considered to be isomer (1b-A), isomer (1b-B), or isomer (1b-C). The isomer ratio by GC analysis may be in the range of isomer (1b-A):isomer (1b-B):isomer (1b-C) = 10 to 1:10 to 1:1.

一般式(1b)で表される化合物の具体的な例としては、例えば、テレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、テレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-クロロテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-クロロテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-ブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,3-ジメチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,5-ジクロロテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジクロロテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,5-ジブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-tert-ブチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,3,5,6-テトラフルオロテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-イソプロピルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジイソプロピルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ブロモ-5-tert-ブチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-フェニルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-フェニルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-フェニル-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,5-ジエチル-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ヘキシルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-ヘキシルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-ブチルオキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチル-3-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-5-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メトキシ-3-エチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメチル-2-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,3-ジメトキシ-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2,3-ジメチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-エチル-5-メチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-クロロテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-クロロテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-ブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,3-ジメチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,5-ジクロロテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジクロロテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,5-ジブロモテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-tert-ブチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,3,5,6-テトラフルオロテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-イソプロピルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジイソプロピルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ブロモ-5-tert-ブチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-フェニルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-フェニルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-フェニル-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,5-ジエチル-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ヘキシルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-ヘキシルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-ブチルオキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メチル-3-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-3-エチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2-メトキシ-5-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメチル-2-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,3-ジメトキシ-6-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、2,3-ジメチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-エチル-5-メチル-6-メトキシテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール等があげられる。その中でも好ましい化合物は、テレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、テレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、2-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メチルテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられ、特に好ましい化合物は、テレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、テレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by general formula (1b) include, for example, terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-chloroterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-chloroterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-bromoterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-bromoterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dimethylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and 2,3-dimethylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal. terephthalaldehyde, 2,5-dichloroterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-dichloroterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-dibromoterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2,5-dibromoterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-tert-butylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2,3,5,6-tetrafluoroterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-isopropylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-diisopropylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-bromo-5-tert-butylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-phenyl Terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-phenylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-phenyl-6-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,5-diethyl-6-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-hexylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-hexylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-butyloxyterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methoxyterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methoxyterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methoxy-3-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal terephthalaldehyde, 2-methyl-3-methoxyterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-methoxy-5-methylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-methyl-6-methoxyterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-dimethoxyterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2-methoxy-3-ethylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-dimethyl-2-methoxyterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2,3-dimethoxy-6-methylterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 2,3-dimethyl-6-methoxyterephthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-ethyl-5-methyl-6-methoxyterephthalaldehyde terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-chloroterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-chloroterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-bromoterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-bromoterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,3-dimethylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,5-dichloroterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dichloroterephthalaldehyde terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dibromo terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,5-dibromo terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-tert-butyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,3,5,6-tetrafluoro terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-isopropyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-diisopropyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-bromo-5-tert-butyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-phenyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-phenyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal Tyrolpropane diacetal, 3-phenyl-6-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,5-diethyl-6-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-hexylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-hexylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-butyloxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-3-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methyl-3-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal acetal, 3-methyl-6-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-3-ethyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2-methoxy-5-methyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethyl-2-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,3-dimethoxy-6-methyl terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 2,3-dimethyl-6-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-ethyl-5-methyl-6-methoxyterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, and the like. Among these, preferred compounds include terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 2-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methylterephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methylterephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like. Particularly preferred compounds include terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like.

一般式(1c)で表される化合物は下記の通りである。

Figure 0007640870000021
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by general formula (1c) is as follows.
Figure 0007640870000021
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1c)における好ましいRとしては、一般式(1a)における好ましいRと同じである。また、一般式(1c)における好ましいRとしては、一般式(1a)における好ましいRと同じである。 Preferred R1 in formula (1c) is the same as preferred R1 in formula (1a). Preferred R2 in formula (1c) is the same as preferred R2 in formula (1a).

一般式(1c)で表される化合物は、以下のような異性体(1c-A)、異性体(1c-B)、又は異性体(1c-C)などの異性体の存在が考えらえる。これらの異性体は、それぞれ単独でも混合物でも良い。

Figure 0007640870000022
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by formula (1c) may have isomers such as isomer (1c-A), isomer (1c-B), or isomer (1c-C) as shown below. These isomers may exist alone or in mixture.
Figure 0007640870000022
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1c)で表される化合物が2以上の異性体の混合物である場合、異性体比率は、実施例に記載の手法を用いて、ガスクロマトグラフィー(GC)分析を行い、面積百分率法により求めることができる。各異性体は、通常、GC分析によりそれぞれ特有のピークを有している。異性体の含有割合は、環式ジオール化合物の全ピーク面積に対する、各異性体のピーク面積の百分率で表すことができる。当該各異性体の百分率の比率を異性体比率とすることができる。本発明の環式ジオール化合物をN,O-ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド等を用いて水酸基をトリメチルシリル化した後、GC分析を行うこともできる。When the compound represented by general formula (1c) is a mixture of two or more isomers, the isomer ratio can be determined by the area percentage method by performing gas chromatography (GC) analysis using the method described in the Examples. Each isomer usually has its own unique peak in GC analysis. The content ratio of the isomer can be expressed as the percentage of the peak area of each isomer relative to the total peak area of the cyclic diol compound. The percentage ratio of each isomer can be taken as the isomer ratio. The cyclic diol compound of the present invention can also be subjected to trimethylsilylation of the hydroxyl groups using N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide or the like, followed by GC analysis.

一般式(1c)で表される化合物は、上記のような異性体(1c-A)、異性体(1c-B)、又は異性体(1c-C)などの異性体の存在が考えられる。GC分析で検出された異性体ピークは2本又は3本であり、これらは異性体(1c-A)、異性体(1c-B)、又は異性体(1c-C)と考えられる。GC分析による異性体比率は、異性体(1c-A):異性体(1c-B):異性体(1c-C)=10~1:10~1:1の範囲とすることができる。The compound represented by general formula (1c) may have isomers such as isomer (1c-A), isomer (1c-B), or isomer (1c-C) as described above. Two or three isomer peaks were detected by GC analysis, and these are considered to be isomer (1c-A), isomer (1c-B), or isomer (1c-C). The isomer ratio by GC analysis may be in the range of isomer (1c-A):isomer (1c-B):isomer (1c-C) = 10 to 1:10 to 1:1.

一般式(1c)で表される化合物の具体的な例としては、例えば、オルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、オルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-クロロオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-ブロモオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,4-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,5-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、4,5-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジクロロオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジブロモオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジエチル-4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-ヘキシルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-ブチルオキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メトキシ-6-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチル-6-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メトキシ-6-エチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメチル-4-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3,6-ジメトキシ-4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-クロロオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-ブロモオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,4-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,5-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4,5-ジメチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジクロロオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジブロモオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジエチル-4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-ヘキシルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-ブチルオキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メトキシ-6-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メチル-6-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3-メトキシ-6-エチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメチル-4-メトキシオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、3,6-ジメトキシ-4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、その中でも好ましい化合物は、オルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、オルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール、3-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、4-メチルオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられ、特に好ましい化合物は、オルトフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール、オルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール等が挙げられる。 Specific examples of compounds represented by general formula (1c) include, for example, orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methylorthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4-methylorthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-chloroorthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-bromoorthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dimethylorthophthalaldehyde Aldehyde trimethylolethane diacetal, 3,4-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,5-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 4,5-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dichloro orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dibromo orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-diethyl-4-methyl orthophthalaldehyde trimethylol 3-hexyl orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-butyloxy orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-methoxy orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-methoxy-6-methyl orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3-methyl-6-methoxy orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3,6-dimethoxy orthophthalaldehyde trimethylol ethane diacetal, 3 -Methoxy-6-ethyl orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dimethyl-4-methoxy orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3,6-dimethoxy-4-methyl orthophthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-chloro orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-bromo orthophthalaldehyde orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,4-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,5-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4,5-dimethyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dichloro orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dibromo orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal Methylolpropane diacetal, 3,6-diethyl-4-methyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-hexyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-butyloxy orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methoxy orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methoxy-6-methyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methyl-6-methoxy orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethoxy orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3-methoxy-6-ethyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethyl-4-methoxy orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 3,6-dimethoxy-4-methyl orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, among which preferred compounds are orthophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal and orthophthalaldehyde Examples of the compounds include 3-methyl-o-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methyl-o-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal, 3-methyl-o-phthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methyl-o-phthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, 4-methyl-o-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like. Particularly preferred compounds include ortho-phthalaldehyde trimethylolpropane diacetal, ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal, and the like.

2.樹脂改質剤の製造方法
一般式(1)で表される化合物の製造方法は特に限定はなく、例えば、下記の<反応式1>に示すように、一般式(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応(アセタール化反応)させる工程を経て製造することができる。

Figure 0007640870000023
[式中、R及び環Aは、前記に同じ。]
具体的には、一般式(1)で表される化合物は、一般式(3)で表される化合物と、一般式(4)で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応(アセタール化反応)させることにより製造することができる。 2. Method for Producing Resin Modifier The method for producing the compound represented by general formula (1) is not particularly limited, and for example, as shown in the following <Reaction Scheme 1>, the compound represented by general formula (3) can be produced through a step of reacting (acetalization reaction) a compound represented by general formula (4).
Figure 0007640870000023
[In the formula, R1 and ring A are the same as above.]
Specifically, the compound represented by general formula (1) can be produced by reacting a compound represented by general formula (3) with a compound represented by general formula (4) in the presence of an acid catalyst (acetalization reaction).

反応は、通常、溶媒(例えば、トルエン等)中で実施することができる。溶媒を加熱還流し、生成する水を溶媒と共沸させて除去しながら反応させることができる。酸性触媒としては、触媒作用があれば特に限定されず、公知の酸性触媒が使用される。例えば、塩酸、硫酸、硝酸及びリン酸等の鉱酸;p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸;陽イオン交換樹脂、ゼオライト、シリカアルミナ、ヘトロポリ酸(例えば、リンタングステン酸、リンモリブデン酸等)等の固体酸;その他、各種ルイス酸等が挙げられる。
一般式(4)で表される化合物の使用量は、一般式(3)で表される化合物1モルに対し、通常、0.5~3モル程度であり、好ましくは、0.8~2モル程度である。
The reaction can usually be carried out in a solvent (e.g., toluene, etc.). The solvent can be heated and refluxed, and the reaction can be carried out while removing the generated water by azeotropic distillation with the solvent. The acid catalyst is not particularly limited as long as it has a catalytic effect, and known acid catalysts can be used. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; organic acids such as p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, and trifluoromethanesulfonic acid; solid acids such as cation exchange resins, zeolites, silica alumina, and heteropolyacids (e.g., phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, etc.); and various Lewis acids.
The amount of the compound represented by formula (4) used is usually about 0.5 to 3 moles, and preferably about 0.8 to 2 moles, per mole of the compound represented by formula (3).

一般式(1)で表される化合物に包含される、一般式(1a)で表される化合物、一般式(1b)で表される化合物、及び一般式(1c)で表される化合物も<反応式1>と同様にして製造することができる。
一般式(1a)で表される化合物は、下記の<反応式2>に示すように、一般式(3a)で表される化合物と、一般式(4)で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応(アセタール化反応)させることにより製造することができる。

Figure 0007640870000024
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compounds represented by general formula (1a), (1b), and (1c), which are included in the compounds represented by general formula (1), can also be produced in the same manner as in <Reaction Scheme 1>.
The compound represented by general formula (1a) can be produced by reacting a compound represented by general formula (3a) with a compound represented by general formula (4) in the presence of an acid catalyst (acetalization reaction), as shown in the following <Reaction Scheme 2>.
Figure 0007640870000024
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1b)で表される化合物は、下記の<反応式3>に示すように、一般式(3b)で表される化合物と、一般式(4)で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応(アセタール化反応)させることにより製造することができる。

Figure 0007640870000025
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by general formula (1b) can be produced by reacting a compound represented by general formula (3b) with a compound represented by general formula (4) in the presence of an acid catalyst (acetalization reaction), as shown in the following <Reaction Scheme 3>.
Figure 0007640870000025
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(1c)で表される化合物は、下記の<反応式4>に示すように、一般式(3c)で表される化合物と、一般式(4)で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応(アセタール化反応)させることにより製造することができる。

Figure 0007640870000026
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compound represented by general formula (1c) can be produced by reacting a compound represented by general formula (3c) with a compound represented by general formula (4) in the presence of an acid catalyst (acetalization reaction), as shown in the following <Reaction Scheme 4>.
Figure 0007640870000026
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

3.樹脂改質剤を用いた樹脂の製造
一般式(1)で表される化合物(環式ジオール化合物)は、樹脂を製造するための原料モノマーとして用いて、単独で又は他のモノマーと併用して重合し、一般式(2)で表される繰り返し単位(構成単位)を含有する樹脂を製造することができる。樹脂としては、前述した分子内にポリエステル結合、ポリカーボネート結合、ポリウレタン結合等を有する樹脂が挙げられる。具体的には、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等が挙げられる。好ましくはポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂が挙げられ、さらに好ましくはポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂である。
3. Production of resin using resin modifier The compound represented by the general formula (1) (cyclic diol compound) can be used as a raw material monomer for producing a resin, and can be polymerized alone or in combination with other monomers to produce a resin containing a repeating unit (structural unit) represented by the general formula (2). Examples of the resin include the above-mentioned resins having polyester bonds, polycarbonate bonds, polyurethane bonds, etc. in the molecule. Specific examples include polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic acid ester resins, polymethacrylic acid ester resins, polyester polyol resins, etc. Preferred are polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, and polyurethane resins, and more preferred are polyester carbonate resins and polycarbonate resins.

樹脂が、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂である場合、下記の一般式(2)で表される繰り返し単位(構成単位)を含有することが好ましい。

Figure 0007640870000027
[式中、R及び環Aは、前記に同じ。] When the resin is a polyester carbonate resin or a polycarbonate resin, it preferably contains a repeating unit (structural unit) represented by the following general formula (2).
Figure 0007640870000027
[In the formula, R1 and ring A are the same as above.]

一般式(2)において、R及び環Aの具体例及び好ましい例は、前記一般式(1)において記載されたR及び環Aの具体例及び好ましい例と同じである。 In formula (2), specific examples and preferred examples of R 1 and ring A are the same as the specific examples and preferred examples of R 1 and ring A described in formula (1).

一般式(1)で表される化合物に包含される、一般式(1a)、一般式(1b)及び一般式(1c)で表される化合物についても、同様にして、単独で又は他のモノマーと併用して重合し、それぞれ下記の一般式(2a)、一般式(2b)若しくは一般式(2c)で表される繰り返し単位(構成単位)を含有するポリエステルカーボネート樹脂又はポリカーボネート樹脂を製造することができる。

Figure 0007640870000028
[式中、R及びRは、前記に同じ。] The compounds represented by general formulae (1a), (1b), and (1c), which are included in the compounds represented by general formula (1), can be polymerized in the same manner, either alone or in combination with other monomers, to produce polyester carbonate resins or polycarbonate resins containing repeating units (structural units) represented by the following general formulas (2a), (2b), and (2c), respectively.
Figure 0007640870000028
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

Figure 0007640870000029
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
Figure 0007640870000029
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

Figure 0007640870000030
[式中、R及びRは、前記に同じ。]
Figure 0007640870000030
[In the formula, R1 and R2 are the same as above.]

一般式(2)で表される繰り返し単位(構成単位)を含有するポリカーボネート樹脂の場合、は、一般式(1)で表される化合物を含む原料モノマーとカルボニル前駆体化合物とを(重合)反応させることにより製造することができる。In the case of a polycarbonate resin containing a repeating unit (structural unit) represented by general formula (2), it can be produced by (polymerizing) a raw material monomer containing a compound represented by general formula (1) with a carbonyl precursor compound.

ポリカーボネート樹脂の原料モノマーとして、一般式(1)で表される化合物を単独で用いることができる。得られるポリカーボネート樹脂は、一般式(1)で表される化合物のみとカルボニル前駆体化合物とを重合して得られるホモポリマーであり、一般式(2)で表される構成単位のみからなる。このようなホモポリマーとしては、一般式(2a)で表される構成単位又は一般式(2c)で表される構成単位を有するホモポリマーが好ましい。As a raw material monomer for polycarbonate resin, the compound represented by general formula (1) can be used alone. The resulting polycarbonate resin is a homopolymer obtained by polymerizing only the compound represented by general formula (1) with a carbonyl precursor compound, and is composed of only the structural unit represented by general formula (2). As such a homopolymer, a homopolymer having a structural unit represented by general formula (2a) or a structural unit represented by general formula (2c) is preferable.

ポリカーボネート樹脂の原料モノマーには、一般式(1)で表される化合物の他に、ポリカーボネート樹脂の構成単位として一般的に用いられるジヒドロキシ化合物を含んでいてもよい。該ジヒドロキシ化合物としては、例えば、脂肪族ジヒドロキシ化合物、芳香族ジヒドロキシ化合物等が挙げられる。In addition to the compound represented by general formula (1), the raw material monomer for polycarbonate resin may contain a dihydroxy compound that is generally used as a structural unit of polycarbonate resin. Examples of the dihydroxy compound include aliphatic dihydroxy compounds and aromatic dihydroxy compounds.

つまり、ポリカーボネート樹脂は、一般式(1)で表される化合物に由来する一般式(2)で表される構成単位の他に、一般的なジヒドロキシ化合物に由来する構成単位を含む共重合体であってもよい。複数の種類の構成単位を有する共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体のいずれでも良い。In other words, the polycarbonate resin may be a copolymer that contains a structural unit derived from a general dihydroxy compound in addition to the structural unit represented by general formula (2) derived from the compound represented by general formula (1). A copolymer having multiple types of structural units may be either a block copolymer or a random copolymer.

脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、様々なものが挙げられ、特に、1,4-シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、1,3-アダマンタンジメタノール、2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)-プロパン、3,9-ビス(2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル)-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、2-(5-エチル-5-ヒドロキシメチル-1,3-ジオキサン-2-イル)-2-メチルプロパン-1-オール、イソソルビド、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール等が挙げられる。 Examples of aliphatic dihydroxy compounds include various ones, particularly 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, 1,3-adamantanedimethanol, 2,2-bis(4-hydroxycyclohexyl)-propane, 3,9-bis(2-hydroxy-1,1-dimethylethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, 2-(5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane-2-yl)-2-methylpropan-1-ol, isosorbide, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and the like.

芳香族ジヒドロキシ化合物としては、様々なものを挙げられ、特に2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン〔ビスフェノールA〕、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)プロパン、4,4’-ジヒドロキシジフェニル、ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロアルカン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)オキシド、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホキシド、及びビス(4-ヒドロキシフェニル)ケトン、ビスフェノキシエタノールフルオレン等が挙げられる。この他、ハイドロキノン、レゾルシン及びカテコール等が挙げられる。 Aromatic dihydroxy compounds include a variety of compounds, particularly 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane [bisphenol A], bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propane, 4,4'-dihydroxydiphenyl, bis(4-hydroxyphenyl)cycloalkane, bis(4-hydroxyphenyl)oxide, bis(4-hydroxyphenyl)sulfide, bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, bis(4-hydroxyphenyl)sulfoxide, bis(4-hydroxyphenyl)ketone, bisphenoxyethanolfluorene, etc. Other examples include hydroquinone, resorcinol, and catechol.

使用する原料モノマーにおける、一般式(1)で表される化合物の割合は、特に限定はなく、モノマーの全量中、例えば、1モル%以上であり、好ましくは1~80モル%であり、より好ましくは1~60モル%であり、よりさらに好ましくは5~50モル%であり、特に好ましくは15~35モル%である。つまり、ポリカーボネート樹脂において、一般式(1)で表される化合物に由来する一般式(2)で表される構成単位の割合は、特に限定はなく、全構成単位中、例えば、1モル%以上であり、好ましくは1~80モル%であり、より好ましくは1~60モル%であり、よりさらに好ましくは5~50モル%であり、特に好ましくは15~35モル%である。The proportion of the compound represented by general formula (1) in the raw material monomer used is not particularly limited, and is, for example, 1 mol% or more, preferably 1 to 80 mol%, more preferably 1 to 60 mol%, even more preferably 5 to 50 mol%, and particularly preferably 15 to 35 mol% of the total amount of monomers. In other words, in the polycarbonate resin, the proportion of the structural unit represented by general formula (2) derived from the compound represented by general formula (1) is not particularly limited, and is, for example, 1 mol% or more, preferably 1 to 80 mol%, more preferably 1 to 60 mol%, even more preferably 5 to 50 mol%, and particularly preferably 15 to 35 mol% of the total amount of structural units.

カルボニル前駆体化合物としては、例えば、ホスゲン、トリホスゲン、ジフェニルカーボネート等が挙げられる。 Examples of carbonyl precursor compounds include phosgene, triphosgene, diphenyl carbonate, etc.

ポリエステルカーボネート樹脂の原料モノマーには、一般式(1)で表される化合物の他に、ポリエステルカーボネート樹脂の構成単位として一般的に用いられるジヒドロキシ化合物、ジカルボン酸化合物、ジカルボン酸無水物化合物、ヒドロキシカルボン酸化合物、ヒドロキシカルボン酸エステル化合物、ジカルボン酸エステル化合物等を含んでいてもよい。該ジヒドロキシ化合物としては、例えば、上述した脂肪族ジヒドロキシ化合物、芳香族ジヒドロキシ化合物等が挙げられる。原料モノマーとしては、例えば、下記のモノマー群から選択される少なくとも一つのモノマーに由来する構成単位を含むものも好ましい。

Figure 0007640870000031
[式中、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はエチル基を表し、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、又は炭素数2~5のアルキレングリコールから1つの水酸基を除いて得られる一価の基を表す。] In addition to the compound represented by the general formula (1), the raw material monomer of the polyester carbonate resin may contain a dihydroxy compound, a dicarboxylic acid compound, a dicarboxylic anhydride compound, a hydroxycarboxylic acid compound, a hydroxycarboxylic acid ester compound, a dicarboxylic acid ester compound, etc., which are generally used as a structural unit of the polyester carbonate resin. Examples of the dihydroxy compound include the above-mentioned aliphatic dihydroxy compounds and aromatic dihydroxy compounds. As the raw material monomer, for example, one containing a structural unit derived from at least one monomer selected from the following monomer group is also preferred.
Figure 0007640870000031
[In the formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and R3 and R4 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a monovalent group obtained by removing one hydroxyl group from an alkylene glycol having 2 to 5 carbon atoms.]

つまり、ポリエステルカーボネート樹脂は、一般式(1)で表される化合物に由来する一般式(2)で表される構成単位の他に、一般的なジヒドロキシ化合物、ジカルボン酸化合物、ジカルボン酸無水物化合物、ヒドロキシカルボン酸化合物、ヒドロキシカルボン酸エステル化合物、ジカルボン酸エステル化合物等に由来する構成単位を含んでいてもよい。複数の種類の構成単位を有する共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体のいずれでも良い。That is, the polyester carbonate resin may contain, in addition to the structural unit represented by general formula (2) derived from the compound represented by general formula (1), structural units derived from general dihydroxy compounds, dicarboxylic acid compounds, dicarboxylic anhydride compounds, hydroxycarboxylic acid compounds, hydroxycarboxylic acid ester compounds, dicarboxylic acid ester compounds, etc. Copolymers having multiple types of structural units may be either block copolymers or random copolymers.

一般式(2)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂又はポリエステルカーボネート樹脂の数平均分子量(Mn)は、4000~100,000程度、好ましくは10000~50000程度であり、重量平均分子量(Mw)は、5000~100,000程度、好ましくは6000~80000程度であり、多分散度(Mw/Mn)は1~5程度、好ましくは1.5~4.5程度である。また、ガラス転移温度(Tg)は、100~200℃程度、好ましくは120~160℃程度である。The number average molecular weight (Mn) of the polycarbonate resin or polyester carbonate resin containing the structural unit represented by general formula (2) is about 4000 to 100,000, preferably about 10,000 to 50,000, the weight average molecular weight (Mw) is about 5,000 to 100,000, preferably about 6,000 to 80,000, and the polydispersity (Mw/Mn) is about 1 to 5, preferably about 1.5 to 4.5. The glass transition temperature (Tg) is about 100 to 200°C, preferably about 120 to 160°C.

一般式(2)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂又はポリエステルカーボネート樹脂の屈折率(n)は、比較的大きく、通常、1.500~1.750であり、好ましくは1.520~1.650である。屈折率は、実施例に記載の方法で測定した値である。 The refractive index (n D ) of a polycarbonate resin or polyester carbonate resin containing a structural unit represented by general formula (2) is relatively large, and is usually 1.500 to 1.750, and preferably 1.520 to 1.650. The refractive index is a value measured by the method described in the examples.

一般式(2)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂又はポリエステルカーボネート樹脂の複屈折のアッベ数(ν)は、通常、20.0~55.0であり、好ましくは24.0~45.0である。アッベ数は、実施例に記載の方法で測定した値である。 The Abbe number (ν d ) of birefringence of a polycarbonate resin or polyester carbonate resin containing a structural unit represented by general formula (2) is usually 20.0 to 55.0, and preferably 24.0 to 45.0. The Abbe number is a value measured by the method described in the examples.

4.改質された樹脂の用途
一般式(1)で表される化合物は、単独モノマーとして又は共重合用モノマーとして用い重合させることにより、樹脂の特性を改質することができる。例えば、一般式(1)で表される化合物の添加量を調整して他のモノマーと共重合させることで、樹脂の屈折率、複屈折等の特性を調整することができる。
4. Uses of modified resins The compound represented by formula (1) can be polymerized as a single monomer or as a copolymerization monomer to modify the properties of the resin. For example, the refractive index, birefringence, and other properties of the resin can be adjusted by adjusting the amount of the compound represented by formula (1) added and copolymerizing it with other monomers.

そのため、本発明の樹脂改質剤を用いて得られた樹脂は、例えば、光学部材に好適に用いることができる。光学部材には、光ディスク、透明導電性基板、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、レンズ、プリズム、光学膜、基盤、光学フィルター、ハードコート膜等が含まれるが、これらに限定されない。本発明の樹脂は、高流動でキャスト法による成形が可能であるため、特に薄型の光学部材の製造に好適である。本発明の好ましい実施形態において、本発明の樹脂を用いて製造される光学部材としては、光学レンズ、光学フィルム、光学シート等が挙げられる。Therefore, the resin obtained using the resin modifier of the present invention can be suitably used for optical components, for example. Optical components include, but are not limited to, optical disks, transparent conductive substrates, optical cards, sheets, films, optical fibers, lenses, prisms, optical films, substrates, optical filters, hard coat films, etc. The resin of the present invention can be molded by a casting method with high flow, and is therefore particularly suitable for the manufacture of thin optical components. In a preferred embodiment of the present invention, optical components manufactured using the resin of the present invention include optical lenses, optical films, optical sheets, etc.

本発明の樹脂は、光学レンズに好適に用いることができる。本発明の樹脂(特に、ポリカーボネート樹脂)を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。The resin of the present invention can be suitably used for optical lenses. Optical lenses manufactured using the resin of the present invention (particularly polycarbonate resin) have a high refractive index and excellent heat resistance, and are therefore extremely useful in fields where expensive high refractive index glass lenses have traditionally been used, such as telescopes, binoculars, and television projectors.

また、本発明の樹脂は、一般式(1)で表される化合物に由来する構成単位の含有量を調節することにより、各種光学レンズの設計に合わせて樹脂の屈折率を広範囲に調整することができる。 In addition, by adjusting the content of the structural units derived from the compound represented by general formula (1), the refractive index of the resin of the present invention can be adjusted over a wide range to suit the design of various optical lenses.

本発明の樹脂は、光学フィルムに好適に用いることができる。本発明の樹脂(特に、ポリカーボネート樹脂)を用いて製造される光学フィルムは、透明性及び耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。The resin of the present invention can be suitably used for optical films. Optical films produced using the resin of the present invention (particularly polycarbonate resin) have excellent transparency and heat resistance, and are therefore suitably used for films for liquid crystal substrates, optical memory cards, etc.

本発明の樹脂は、一般式(1)で表される化合物に由来する構成単位の含有量を調節することにより複屈折が限りなくゼロに近づけることができる。
一般的に、重合して得られた光学部材用の樹脂において観測される複屈折を分類すると、配向複屈折、応力複屈折及び形態複屈折がある。その中で形態複屈折は、樹脂中の微細な繊維状物質が配列した場合などにみられるもので、通常、光学部材用の樹脂の光学特性としては無視できる。配向複屈折は分子配向によるものであり、応力複屈折は成形時の残留応力に起因する。
The birefringence of the resin of the present invention can be made as close to zero as possible by adjusting the content of the structural unit derived from the compound represented by general formula (1).
Generally, birefringence observed in resins for optical components obtained by polymerization can be classified into orientation birefringence, stress birefringence, and form birefringence. Among them, form birefringence is observed when fine fibrous materials in the resin are aligned, and can usually be ignored as an optical property of resins for optical components. Orientation birefringence is caused by molecular orientation, and stress birefringence is caused by residual stress during molding.

光学部材用の樹脂は、複屈折が大きいと光学的な歪みが大きくなるため、例えば、光学レンズ用途に用いる場合、にじむ、ぼやけるという問題が生じる。そのため、より鮮明な見え方になるよう、複屈折を小さくすることが求められている。 When resins for optical components have large birefringence, the optical distortion increases, so when they are used for optical lenses, for example, problems such as bleeding and blurring occur. For this reason, there is a demand for smaller birefringence to provide a clearer view.

一般に用いられている光学部材用の樹脂は、種々あるが、その中でもポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられ、特にポリエステルカーボネート樹脂又はポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、耐熱性、寸法安定性などに優れている。There are various resins commonly used for optical components, including polyester resin, polyester carbonate resin, polycarbonate resin, etc., with polyester carbonate resin and polycarbonate resin in particular being excellent in transparency, impact resistance, heat resistance, dimensional stability, etc.

より具体的には、一般式(1)で表される化合物を用いて単独重合又は共重合した樹脂(特に、ポリカーボネート樹脂)は、一般式(1c)、一般式(1a)、一般式(1b)の順に複屈折強度が大きくなる性質を有しており、これらの化合物は樹脂の複屈折の強度を調整することに優れ、一般式(1)で表される化合物由来の構成単位と、他のジヒドロキシ化合物の構成単位とを共重合することにより、複屈折が限りなくゼロに近い樹脂を製造することができる。当該樹脂は、複屈折を限りなくゼロに近づける必要のある用途、特に光学レンズ、光学フィルム、光学シート等の光学部材として好適に用いることできる。適用可能な光学部材としては、特に限定はないが、例えば、スマートフォンのカメラのレンズ、車載カメラのレンズ、VR(仮想現実)又はMR(複合現実)用のゴーグル用レンズ、防犯カメラ用レンズ等が挙げられる。More specifically, resins (particularly polycarbonate resins) homopolymerized or copolymerized using a compound represented by general formula (1) have the property that the birefringence strength increases in the order of general formula (1c), general formula (1a), and general formula (1b). These compounds are excellent at adjusting the birefringence strength of the resin, and by copolymerizing a structural unit derived from a compound represented by general formula (1) with a structural unit of another dihydroxy compound, a resin with birefringence close to zero can be produced. The resin can be suitably used in applications where the birefringence needs to be as close to zero as possible, particularly as optical components such as optical lenses, optical films, and optical sheets. Applicable optical components are not particularly limited, but examples include smartphone camera lenses, vehicle-mounted camera lenses, goggle lenses for VR (virtual reality) or MR (mixed reality), and security camera lenses.

本明細書において、「を含む」又は「含有する」なる表現には、「から必須としてなる」及び「のみからなる」の意味を包含する。In this specification, the expressions "comprise" and "contain" include the meanings of "consisting essentially of" and "consisting only of".

以下に実施例を掲げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、環式ジオール化合物の各種測定は以下の方法により測定した。また、特に言及していない化合物は試薬を使用した。The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, various measurements of cyclic diol compounds were performed by the following methods. Reagents were used for compounds not specifically mentioned.

<使用化合物>
・イソフタルアルデヒド:東京化成工業株式会社製
・テレフタルアルデヒド:東京化成工業株式会社製
・オルトフタルアルデヒド:東京化成工業株式会社製
・p-トルエンスルホン酸一水和物:ナカライテスク株式会社製
・トリメチロールエタン、及びトリメチロールプロパン:東京化成工業株式会社製
・ビスフェノキシエタノールフルオレン(BPEF):東京化成工業株式会社製
・ジフェニルカーボネート:東京化成工業株式会社製
<Compounds used>
Isophthalaldehyde: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Terephthalaldehyde: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Orthophthalaldehyde: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. p-Toluenesulfonic acid monohydrate: manufactured by Nacalai Tesque, Inc. Trimethylolethane and trimethylolpropane: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Bisphenoxyethanolfluorene (BPEF): manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Diphenyl carbonate: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

<ガスクロマトグラフィー(GC)による分析>
環式ジオール化合物の純度は、下記の条件及び方法にてガスクロマトグラフィー(GC)分析を行い、面積百分率法より求めた。
(サンプル調整)
環式ジオール化合物0.5gにメタノール50mlを加えて室温で振り混ぜ、環式ジオール化合物のメタノール溶液を調製し、分析用サンプルとした。
<Analysis by Gas Chromatography (GC)>
The purity of the cyclic diol compound was determined by gas chromatography (GC) analysis under the following conditions and method, and the purity was determined by the area percentage method.
(Sample Preparation)
50 ml of methanol was added to 0.5 g of the cyclic diol compound and the mixture was shaken at room temperature to prepare a methanol solution of the cyclic diol compound, which was used as a sample for analysis.

[測定条件]
機器:島津製作所製 GC-2020
カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製DB-1 30m×0.25mm×0.25μm
カラム温度:80℃(保持時間5min)-昇温速度10℃/min-320℃(保持時間5min)
インジェクション温度/検出器温度:300℃/325℃
スプリット比:30
カラム流量1.17ml/min
パージ流量10.0ml/min
検出器:FID
キャリアガス:ヘリウム
ガス線速度:30cm/sec
注入量:1μl
[Measurement conditions]
Equipment: Shimadzu GC-2020
Column: Agilent Technologies DB-1 30m x 0.25mm x 0.25μm
Column temperature: 80°C (holding time 5 min) - heating rate 10°C/min - 320°C (holding time 5 min)
Injection temperature/detector temperature: 300°C/325°C
Split ratio: 30
Column flow rate: 1.17 ml/min
Purge flow rate: 10.0 ml/min
Detector: FID
Carrier gas: Helium Gas linear velocity: 30 cm/sec
Injection volume: 1 μl

<融点>
環式ジオール化合物の融点は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置DSC6220を用いて測定した。試料10.7mgを同社製アルミパンに入れて密封し、50ml/分の窒素気流下、昇温速度10℃/分で30℃から200℃まで昇温して、吸熱ピークを観測した。そのピークトップが示した温度を融点とした。
<Melting Point>
The melting point of the cyclic diol compound was measured using a differential calorimeter DSC6220 manufactured by SII NanoTechnology Inc. 10.7 mg of the sample was placed in an aluminum pan manufactured by the same company and sealed, and the temperature was raised from 30°C to 200°C at a rate of 10°C/min under a nitrogen flow of 50 ml/min, and an endothermic peak was observed. The temperature indicated by the peak top was taken as the melting point.

<赤外吸収スペクトル(IRスペクトル)>
環式ジオール化合物のIRスペクトルは、赤外分光分析装置(株式会社パーキンエルマージャパン製Spectrum400)を用い、ATR法(減衰全反射法)で行った。
<Infrared absorption spectrum (IR spectrum)>
The IR spectrum of the cyclic diol compound was measured by an infrared spectrometer (Spectrum 400, manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.) using the ATR method (attenuated total reflection method).

<プロトン核磁気共鳴スペクトル(H-NMR)>
環式ジオール化合物のH-NMRは、重水素化された溶媒(重水素化クロロホルム又は重水素化メタノール)に溶かした後、核磁気共鳴装置(Bruker社製DRX-500、H-NMR(500MHz))を用いて測定した。
なお、H-NMR測定に用いられる溶媒には水のピークが見られる場合がある。重水素化クロロホルム含まれる水に由来するピークは1.56ppm付近、重水素化メタノールに含まれる水に由来するピークは4.87ppm付近に存在する。
<Proton Nuclear Magnetic Resonance Spectrum ( 1 H-NMR)>
1 H-NMR of the cyclic diol compound was measured by dissolving it in a deuterated solvent (deuterated chloroform or deuterated methanol) and then using a nuclear magnetic resonance apparatus (DRX-500, 1 H-NMR (500 MHz) manufactured by Bruker).
In addition, a water peak may be observed in the solvent used for 1 H-NMR measurement. The peak due to water contained in deuterated chloroform is present at about 1.56 ppm, and the peak due to water contained in deuterated methanol is present at about 4.87 ppm.

<ガラス転移温度>
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置DSC6220を用いて測定した。試料6.7mgを同社製アルミパンに入れて密封し、50ml/分の窒素気流下、昇温速度10℃/分で30℃から220℃まで昇温し、220℃から30℃まで降温速度10℃/分で冷却し、昇温速度10℃/分で30℃から220℃まで昇温し2ndRUNにおける変曲点をガラス転移温度とした。
<Glass transition temperature>
The glass transition temperature of the obtained polycarbonate resin was measured using a differential calorimeter DSC6220 manufactured by SII Nanotechnology, Inc. 6.7 mg of the sample was placed in an aluminum pan manufactured by the same company and sealed, and the sample was heated from 30°C to 220°C at a heating rate of 10°C/min under a nitrogen flow of 50 ml/min, cooled from 220°C to 30°C at a heating rate of 10°C/min, and heated from 30°C to 220°C at a heating rate of 10°C/min. The inflection point in the 2nd RUN was taken as the glass transition temperature.

<数平均分子量、重量平均分子量及び多分散度>
ポリカーボネート樹脂約30mgをテトラヒドロフラン8mlで溶解して、分子量測定用の試料溶液を調製した。数平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)を用いて下記の測定条件でポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び多分散度(Mw/Mn)を求めた。
(測定条件)
装置:ポンプ(株式会社島津製作所製LC-20AD型)
オートサンプラー(株式会社島津製作所製SIL-20A HT型)
検出器RI(株式会社島津製作所製RID-10A型)
カラムオーブン(株式会社島津製作所製CTO-20A型)
カラム:Shodex LF-802、2本(昭和電工株式会社製)
溶離液:ナカライテスク株式会社製 テトラヒドロフラン(THF)BHT約0.025%含有
カラム温度:40℃
流量:1.0mL/min
インジェクション量:100μl
解析法:PS換算分子量
使用標準ポリマー:Shodex STANDARD SM-105
<Number average molecular weight, weight average molecular weight and polydispersity index>
About 30 mg of polycarbonate resin was dissolved in 8 ml of tetrahydrofuran to prepare a sample solution for molecular weight measurement. The number average molecular weight Mn and weight average molecular weight Mw were determined by gel permeation chromatography (GPC) under the following measurement conditions: polystyrene equivalent number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw) and polydispersity (Mw/Mn).
(Measurement conditions)
Equipment: Pump (Shimadzu Corporation LC-20AD type)
Autosampler (Shimadzu Corporation SIL-20A HT type)
Detector RI (Shimadzu Corporation RID-10A type)
Column oven (Shimadzu Corporation, CTO-20A model)
Column: Shodex LF-802, 2 columns (Showa Denko K.K.)
Eluent: Tetrahydrofuran (THF) containing approximately 0.025% BHT, manufactured by Nacalai Tesque, Inc. Column temperature: 40°C
Flow rate: 1.0mL/min
Injection volume: 100 μl
Analysis method: PS-equivalent molecular weight Standard polymer used: Shodex STANDARD SM-105

<屈折率>
後述の各製造例にて得られたポリカーボネート樹脂を、神藤金属工業所社製圧縮成型機にて樹脂量0.8gを240℃、1MPaの圧力を加え1分間加熱し、20MPaの圧力で30秒間加熱した後、10MPaの圧力を加え、1分30秒間加熱した。その後3分間冷却を行い、厚さ0.1mmのポリカーボネートフィルムを得た。
この厚さ0.1mmのフィルムから、長さ40mm、幅8mmの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長589nm(D線)の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計DR-M2にて、JIS-K-7142の方法で屈折率nを測定した。測定は中間液としてジヨードメタン(東京化成工業株式会社製)を用いた。
<Refractive index>
The polycarbonate resin obtained in each of the production examples described below was heated in an amount of 0.8 g at 240° C. under a pressure of 1 MPa for 1 minute in a compression molding machine manufactured by Shinto Metal Industries Co., Ltd., and then heated under a pressure of 20 MPa for 30 seconds, and then heated under a pressure of 10 MPa for 1 minute and 30 seconds. After that, the resin was cooled for 3 minutes to obtain a polycarbonate film having a thickness of 0.1 mm.
A rectangular test piece 40 mm long and 8 mm wide was cut out from this 0.1 mm thick film to prepare a measurement sample. The refractive index nD was measured according to the method of JIS-K-7142 using an interference filter with a wavelength of 589 nm (D line) and a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 manufactured by Atago Co., Ltd. Diiodomethane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used as an intermediate liquid for the measurement.

<全光線透過率>
上記<屈折率>の方法で作製した厚さ0.1mmのフィルムを測定試料とし、日本電色製HazeMaterNDH7000SPIIにて、JIS-K-7136の方法で全光線透過率を測定した。測定は3枚のフィルムに対して実施し、それらの測定で得られた実測値の平均値を測定値とした。
<Total light transmittance>
The 0.1 mm-thick film prepared by the method described above in "Refractive Index" was used as a measurement sample, and the total light transmittance was measured using a HazeMater NDH7000SPII manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. according to the method of JIS-K-7136. The measurement was performed on three sheets of film, and the average of the actual measured values obtained in these measurements was taken as the measured value.

<アッベ数>
上記<屈折率>の方法で作製した厚さ0.1mmのフィルムから、長さ40mm、幅8mmの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長656nm(C線)、589nm(D線)、486nm(F線)の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計DR-M2にて、JIS-K-7142の方法で各波長の屈折率n、n、nを測定し、これら測定値と次式よりアッベ数νを求めた。
vD=(nD-1)/(nF-nC)
測定は中間液としてジヨードメタン(東京化成工業株式会社製)を用いた。
<Abbe number>
A rectangular test piece 40 mm long and 8 mm wide was cut out from the 0.1 mm thick film prepared by the method described above in "Refractive Index" to prepare a measurement sample. The refractive indices nC, nD, and nF at each wavelength were measured by a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 manufactured by Atago Co., Ltd. using interference filters with wavelengths of 656 nm ( C line), 589 nm (D line ) , and 486 nm ( F line) according to the method of JIS-K-7142, and the Abbe number νd was calculated from these measured values and the following formula.
vD=(nD-1)/(nF-nC)
In the measurements, diiodomethane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used as the intermediate liquid.

<複屈折>
試料は固体粘弾性測定装置(UBM、S1000-DVE3)に引張型治具を備えて加熱一軸延伸を行った。延伸停止後に恒温槽を開き、送風機にて冷却した。延伸フィルムを、光源装置としてHAYASHI-REPIC株式会社製 ルミナースエースLA-100USWを用い、王子計測機器(株)製位相差測定装置KOBRA-WPRを用いて、測定波長449.9、498.0、548.0、588.8、628.8、751.0nmの各波長で位相差を測定した。得られた波長588.8nmの位相差と延伸フィルムの膜厚から、次式より複屈折Δnを求めた。尚、遅相軸が延伸方向と一致している場合は、Δnを正の値で示し、遅相軸が垂直の方向に一致している場合は、Δnを負の値で示した。
複屈折Δn=(測定波長588.8nmの位相差[nm])/(フィルム厚み[mm]×10
<Birefringence>
The sample was heated and uniaxially stretched using a solid viscoelasticity measuring device (UBM, S1000-DVE3) equipped with a tensile jig. After the stretching was stopped, the thermostatic chamber was opened and cooled with a blower. The stretched film was measured for retardation at each wavelength of 449.9, 498.0, 548.0, 588.8, 628.8, and 751.0 nm using a HAYASHI-REPIC Corporation-manufactured Luminous Ace LA-100USW light source device and a retardation measuring device KOBRA-WPR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. The birefringence Δn was calculated from the retardation at a wavelength of 588.8 nm obtained and the film thickness of the stretched film according to the following formula. In addition, when the slow axis coincides with the stretching direction, Δn is shown as a positive value, and when the slow axis coincides with the perpendicular direction, Δn is shown as a negative value.
Birefringence Δn=(Retardation at a measurement wavelength of 588.8 nm [nm])/(Film thickness [mm]×10 6 )

<環式ジオール化合物の合成>
[実施例1]
攪拌機、温度計、冷却管付きディーンスタークを装着した500MLの4つ口フラスコにイソフタルアルデヒド13.4g(0.1mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物0.67g、トリメチロールエタン26.4g(0.22mol)、トルエン60ml、N、N-ジメチルホルムアミド60mlを加えた後、昇温し、還流条件下で、生成水を抜きながら約6時間攪拌した。
反応混合物を室温に戻し、トリエチルアミン1gで中和後、トルエンを減圧条件下で59ml留去した後、イオン交換水100gを追加し、氷水で冷却した。生成した結晶を濾別し、得られた結晶をまずイオン交換水50mlで二回リンスした後、60℃温水100mlで二回リンスした。最後にイオン交換水50mlで二回リンスした。湿結晶を80℃で、減圧乾燥することにより、純度99.7%(GC面積百分率)のイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(以下、化合物1とする)を26.7g(0.08mol)得た。結晶の融点165.9℃であった。
得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールについて、IRスペクトル及びH-NMRスペクトルを測定した。得られた結果を、図1及び図2に示した。図1中に示される下記特性ピーク及び図2よりイソフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールであることを確認した。
<Synthesis of Cyclic Diol Compound>
[Example 1]
Into a 500 mL four-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a Dean-Stark condenser, 13.4 g (0.1 mol) of isophthalaldehyde, 0.67 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 26.4 g (0.22 mol) of trimethylolethane, 60 ml of toluene, and 60 ml of N,N-dimethylformamide were added, and the mixture was heated and stirred under reflux conditions for approximately 6 hours while removing the generated water.
The reaction mixture was returned to room temperature, neutralized with 1g of triethylamine, 59ml of toluene was distilled off under reduced pressure, 100g of ion-exchanged water was added, and the mixture was cooled with ice water. The generated crystals were filtered off, and the obtained crystals were first rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water, and then rinsed twice with 100ml of 60°C warm water. Finally, the crystals were rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water. The wet crystals were dried under reduced pressure at 80°C to obtain 26.7g (0.08mol) of isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal (hereinafter referred to as compound 1) with a purity of 99.7% (GC area percentage). The melting point of the crystals was 165.9°C.
The obtained isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal was subjected to IR and 1H -NMR spectroscopy. The results are shown in Figures 1 and 2. From the following characteristic peaks shown in Figure 1 and Figure 2, it was confirmed that the product was isophthalaldehyde trimethylolethane diacetal.

IR(cm-1):653,690,714,803,891,962,982,1007,1024,1043,1100,1164,1378,2866,2955,3349 IR (cm -1 ): 653,690,714,803,891,962,982,1007,1024,1043,1100,1164,1378,2866,2955,3349

[実施例2]
攪拌機、温度計、冷却管付きディーンスタークを装着した500MLの4つ口フラスコにイソフタルアルデヒド13.4g(0.1mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物0.67g、トリメチロールプロパン29.5g(0.22mol)、トルエン60ml、N、N-ジメチルホルムアミド60mlを加えた後、昇温し、還流条件下で、生成水を抜きながら約8時間攪拌した。
反応混合物を室温に戻し、トリエチルアミン1gで中和後、トルエンを減圧条件下で60ml留去した後、イオン交換水150gを追加し、氷水で冷却した。生成した結晶を濾別し、得られた結晶をまずイオン交換水50mlで二回リンスした後、60℃温水100mlで二回リンスした。最後にイオン交換水50mlで二回リンスした。湿結晶を80℃で減圧乾燥することにより、純度92.7%(GC面積百分率)のイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールを得た。得られた結晶はイソプロピルアルコール60gを加えて加熱溶解し、イソプロピルアルコール40gを留去後100mlの水を加えた。析出した結晶を濾別し、結晶をイオン交換水50mlで二回リンスした後、湿結晶を80℃で減圧乾燥することにより、純度98.5%(GC面積百分率)のイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(以下、化合物2とする)を27.0g(0.07mol)得た。結晶の融点95.5℃であった。
得られたイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールについて、IRスペクトル及びH-NMRスペクトルを測定した。得られた結果を図3及び図4に示した。図3中に示される下記特性ピーク及び図4よりイソフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
[Example 2]
Into a 500 mL four-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a Dean-Stark condenser, 13.4 g (0.1 mol) of isophthalaldehyde, 0.67 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 29.5 g (0.22 mol) of trimethylolpropane, 60 ml of toluene, and 60 ml of N,N-dimethylformamide were added, and the mixture was heated and stirred under reflux conditions for approximately 8 hours while removing the generated water.
The reaction mixture was returned to room temperature, neutralized with 1g of triethylamine, and 60ml of toluene was distilled off under reduced pressure, after which 150g of ion-exchanged water was added and cooled with ice water. The resulting crystals were filtered off, and the crystals were first rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water, and then rinsed twice with 100ml of 60°C warm water. Finally, the crystals were rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water. The wet crystals were dried under reduced pressure at 80°C to obtain isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal with a purity of 92.7% (GC area percentage). The obtained crystals were dissolved by heating with the addition of 60g of isopropyl alcohol, and 100ml of water was added after distilling off 40g of isopropyl alcohol. The precipitated crystals were separated by filtration, rinsed twice with 50 ml of ion-exchanged water, and then dried under reduced pressure at 80° C. to obtain 27.0 g (0.07 mol) of isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal (hereinafter referred to as Compound 2) having a purity of 98.5% (GC area percentage). The melting point of the crystals was 95.5° C.
The obtained isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal was subjected to IR and 1H -NMR spectroscopy. The results are shown in Figures 3 and 4. From the following characteristic peaks shown in Figure 3 and Figure 4, it was confirmed that the product was isophthalaldehyde trimethylolpropane diacetal.

IR(cm-1):712,803,933,971,1030,1101,1165,1377,2859,2962,3374 IR (cm -1 ): 712,803,933,971,1030,1101,1165,1377,2859,2962,3374

[実施例3]
攪拌機、温度計、冷却管付きディーンスタークを装着した500MLの4つ口フラスコにテレフタルアルデヒド13.4g(0.1mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物0.67g、トリメチロールエタン26.4g(0.22mol)、トルエン60ml、N、N-ジメチルホルムアミド60mlを加えた後、昇温し、還流条件下で、生成水を抜きながら約6時間攪拌した。
反応混合物を室温に戻し、トリエチルアミン1gで中和後、トルエンを減圧条件下で50ml留去した後、イオン交換水100gを追加し、氷水で冷却した。生成した結晶を濾別し、得られた結晶をまずイオン交換水50mlで二回リンスした後、60℃温水50mlで二回リンスした。湿結晶を100℃で、減圧乾燥することにより、純度99.7%(GC面積百分率)のテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(以下、化合物3とする)を30.4g(0.09mol)得た。結晶の融点247.3℃であった。
得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールについて、IRスペクトル及びH-NMRスペクトルを測定した。得られた結果を、図5及び図6に示した。図5中に示される下記特性ピーク及び図6よりテレフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールであることを確認した。
[Example 3]
Into a 500 mL four-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a Dean-Stark condenser, 13.4 g (0.1 mol) of terephthalaldehyde, 0.67 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 26.4 g (0.22 mol) of trimethylolethane, 60 ml of toluene, and 60 ml of N,N-dimethylformamide were added, and the mixture was heated and stirred under reflux conditions for approximately 6 hours while removing the generated water.
The reaction mixture was returned to room temperature, neutralized with 1g of triethylamine, 50ml of toluene was distilled off under reduced pressure, 100g of ion-exchanged water was added, and the mixture was cooled with ice water. The resulting crystals were filtered off, and the crystals were rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water, and then rinsed twice with 50ml of 60°C warm water. The wet crystals were dried under reduced pressure at 100°C to obtain 30.4g (0.09mol) of terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal (hereinafter referred to as compound 3) with a purity of 99.7% (GC area percentage). The melting point of the crystals was 247.3°C.
The IR spectrum and 1 H-NMR spectrum of the obtained terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal were measured. The results are shown in Figures 5 and 6. From the following characteristic peaks shown in Figure 5 and Figure 6, it was confirmed that the product was terephthalaldehyde trimethylolethane diacetal.

IR(cm-1):656,778,804,918,964,977,993,1016,1042,1094,1374,2844,2933,2959,3413 IR (cm -1 ): 656,778,804,918,964,977,993,1016,1042,1094,1374,2844,2933,2959,3413

[実施例4]
攪拌機、温度計、冷却管付きディーンスタークを装着した500MLの4つ口フラスコにテレフタルアルデヒド13.4g(0.1mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物0.67g、トリメチロールプロパン26.4g(0.2mol)、トルエン60ml、N、N-ジメチルホルムアミド60mlを加えた後、昇温し、還流条件下で、生成水を抜きながら約10時間攪拌した。
反応混合物を室温に戻し、トリエチルアミン1gで中和後、トルエンを減圧条件下で50ml留去した後、イオン交換水150gを追加し、氷水で冷却した。生成した結晶を濾別し、得られた結晶をまずイオン交換水50mlで二回リンスした後、60℃温水50mlで二回リンスした。湿結晶を100℃で減圧乾燥することにより、純度96.9%(GC面積百分率)のテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールを得た。得られた結晶はイソプロピルアルコール140gを加えて加熱溶解し、イソプロピルアルコールを留去後析出した結晶を濾別し、結晶をイオン交換水50mlで二回リンスした後、湿結晶を100℃で減圧乾燥することにより、純度97.0%(GC面積百分率)のテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタール(以下、化合物4とする)を30.0g(0.08mol)得た。結晶の融点187.2℃であった。
得られたテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールについて、IRスペクトル及びH-NMRスペクトルを測定した。得られた結果を図7及び図8に示した。図7中に示される下記特性ピーク及び図8よりテレフタルアルデヒドトリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
[Example 4]
Into a 500 mL four-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a Dean-Stark condenser, 13.4 g (0.1 mol) of terephthalaldehyde, 0.67 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 26.4 g (0.2 mol) of trimethylolpropane, 60 ml of toluene, and 60 ml of N,N-dimethylformamide were added, and the mixture was heated and stirred under reflux conditions for about 10 hours while removing the generated water.
The reaction mixture was returned to room temperature, neutralized with 1g of triethylamine, 50ml of toluene was distilled off under reduced pressure, 150g of ion-exchanged water was added, and the mixture was cooled with ice water. The resulting crystals were filtered off, and the obtained crystals were first rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water, and then rinsed twice with 50ml of 60°C warm water. The wet crystals were dried under reduced pressure at 100°C to obtain terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal with a purity of 96.9% (GC area percentage). The obtained crystals were dissolved by heating with the addition of 140g of isopropyl alcohol, and the precipitated crystals were filtered off after distilling off the isopropyl alcohol. The crystals were rinsed twice with 50ml of ion-exchanged water, and the wet crystals were dried under reduced pressure at 100°C to obtain 30.0g (0.08mol) of terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal with a purity of 97.0% (GC area percentage) (hereinafter referred to as compound 4). The melting point of the crystals was 187.2°C.
The IR spectrum and 1 H-NMR spectrum of the obtained terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal were measured. The results are shown in Figures 7 and 8. From the following characteristic peaks shown in Figure 7 and Figure 8, it was confirmed that the product was terephthalaldehyde trimethylolpropane diacetal.

IR(cm-1):801,971,1000,1018,1099,1379,2855,2928,2967,3355 IR (cm -1 ): 801,971,1000,1018,1099,1379,2855,2928,2967,3355

[実施例5]
攪拌機、温度計、冷却管付きディーンスタークを装着した1000MLの4つ口フラスコにオルトフタルアルデヒド40.2g(0.3mol)、p-トルエンスルホン酸一水和物1.0g、トリメチロールエタン75.6g(0.63mol)、キシレン180ml、N-メチルピロリドン180mlを加えた後、昇温し、還流条件下で、生成水を抜きながら約4時間攪拌した。
キシレンを減圧条件下で170ml留去した後、反応混合物を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム25mlで中和後、イオン交換水400gを追加した。酢酸エチル100mlを追加し、有機層と水層を分液ロートにて分離した。分取した水層へ酢酸エチルを100ml追加し、有機層と水層を分取する操作を合計2回行った。得られた有機層をロータリーエバポレーターにて有機層を濃縮した。得られた結晶は純度99.2%(GC面積百分率)のオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタール(以下、化合物5とする)、90.2g(0.27mol)であった。
得られたオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールについて、IRスペクトル及びH-NMRスペクトルを測定した。得られた結果を、図9及び図10に示した。図9中に示される下記特性ピーク及び図10よりオルトフタルアルデヒドトリメチロールエタンジアセタールであることを確認した。
[Example 5]
Into a 1000 mL four-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a Dean-Stark with a condenser, 40.2 g (0.3 mol), 1.0 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 75.6 g (0.63 mol) of trimethylolethane, 180 ml of xylene, and 180 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was heated and stirred under reflux conditions for about 4 hours while removing the generated water.
After distilling off 170 ml of xylene under reduced pressure, the reaction mixture was returned to room temperature, neutralized with 25 ml of saturated sodium bicarbonate, and 400 g of ion-exchanged water was added. 100 ml of ethyl acetate was added, and the organic layer and the aqueous layer were separated using a separatory funnel. 100 ml of ethyl acetate was added to the separated aqueous layer, and the operation of separating the organic layer and the aqueous layer was performed twice in total. The obtained organic layer was concentrated using a rotary evaporator. The obtained crystals were ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal (hereinafter referred to as compound 5) with a purity of 99.2% (GC area percentage), 90.2 g (0.27 mol).
The IR spectrum and 1 H-NMR spectrum of the obtained ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal were measured. The results are shown in Figures 9 and 10. From the following characteristic peaks shown in Figure 9 and Figure 10, it was confirmed that the product was ortho-phthalaldehyde trimethylolethane diacetal.

IR(cm-1):663,698,760,920,948,969,1003,1021,1042,1082,1099,1203,1386,1455,2850,2955,3414 IR (cm -1 ): 663,698,760,920,948,969,1003,1021,1042,1082,1099,1203,1386,1455,2850,2955,3414

<樹脂の製造及び物性評価>
[製造例1](ポリカーボネート樹脂1の製造)
実施例1にて得られた化合物1を9.5g(0.03mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン49.2g(0.11mol)、ジフェニルカーボネート30.9g(0.15mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液283.29μL(70.8×10-7mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂1」とする)を45g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂1を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、148℃であった。数平均分子量Mnは、20240、重量平均分子量Mwは、34640、多分散度Mw/Mnは1.71であった。
屈折率は、1.619であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.006×10-2であった。アッベ数は25.6であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
<Production of Resin and Evaluation of Physical Properties>
[Production Example 1] (Production of Polycarbonate Resin 1)
9.5 g (0.03 mol) of compound 1 obtained in Example 1, 49.2 g (0.11 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 30.9 g (0.15 mol) of diphenyl carbonate, and 283.29 μL (70.8 × 10 -7 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after 20 minutes of holding, 45 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 1") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 1 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 148°C. The number average molecular weight Mn was 20240, the weight average molecular weight Mw was 34640, and the polydispersity Mw/Mn was 1.71.
The refractive index was 1.619. The birefringence was +0.006×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 25.6. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例2](ポリカーボネート樹脂2の製造)
実施例1にて得られた化合物1を7.6g(0.02mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン23.0g(0.05mol)、ジフェニルカーボネート16.5g(0.08mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液30.2μL(76.1×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂2」とする)を28g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂2を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、143℃であった。数平均分子量Mnは、27800、重量平均分子量Mwは、56000、多分散度Mw/Mnは2.00であった。
屈折率は、1.610であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.033×10-2であった。アッベ数は、26.8であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 2] (Production of Polycarbonate Resin 2)
7.6 g (0.02 mol) of compound 1 obtained in Example 1, 23.0 g (0.05 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 16.5 g (0.08 mol) of diphenyl carbonate, and 30.2 μL (76.1 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after holding for 20 minutes, 28 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 2") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 2 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 143°C. The number average molecular weight Mn was 27,800, the weight average molecular weight Mw was 56,000, and the polydispersity Mw/Mn was 2.00.
The refractive index was 1.610. The birefringence was +0.033×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 26.8. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例3](ポリカーボネート樹脂3の製造)
実施例1にて得られた化合物1を23.0g(0.07mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン29.8g(0.07mol)、ジフェニルカーボネート29.9g(0.14mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液54.9μL(137.2×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂3」とする)を35g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂3を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、145℃であった。数平均分子量Mnは、26300、重量平均分子量Mwは、53630、多分散度Mw/Mnは2.04であった。
屈折率は、1.588であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.062×10-2であった。アッベ数は、28.5であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 3] (Production of Polycarbonate Resin 3)
23.0 g (0.07 mol) of compound 1 obtained in Example 1, 29.8 g (0.07 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 29.9 g (0.14 mol) of diphenyl carbonate, and 54.9 μL (137.2 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 ° C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after holding for 20 minutes, 35 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 3") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 3 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 145°C. The number average molecular weight Mn was 26,300, the weight average molecular weight Mw was 53,630, and the polydispersity Mw/Mn was 2.04.
The refractive index was 1.588. The birefringence was +0.062×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 28.5. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例4](ポリカーボネート樹脂4の製造)
実施例1にて得られた化合物1を15.4g(0.05mol)、ジフェニルカーボネート10.0g(0.05mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液18.4μL(46.0×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂4」とする)を12g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂4を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、127℃であった。数平均分子量Mnは、19920、重量平均分子量Mwは、51900、多分散度Mw/Mnは2.61であった。
屈折率は、1.525であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.165×10-2であった。アッベ数は、43.0であった。全光線透過率は92%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 4] (Production of Polycarbonate Resin 4)
15.4 g (0.05 mol) of compound 1 obtained in Example 1, 10.0 g (0.05 mol) of diphenyl carbonate, and 18.4 μL (46.0 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere and heated to 200 ° C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after 20 minutes of holding, 12 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 4") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 4 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 127°C. The number average molecular weight Mn was 19920, the weight average molecular weight Mw was 51900, and the polydispersity Mw/Mn was 2.61.
The refractive index was 1.525. The birefringence was +0.165×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 43.0. The total light transmittance was 92%. The results are shown in Table 1.

[製造例5](ポリカーボネート樹脂5の製造)
実施例2にて得られた化合物2を10.4g(0.03mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン49.9g(0.11mol)、ジフェニルカーボネート31.3g(0.15mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液286.9μL(717.0×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂5」とする)を45g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂5を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、132℃であった。数平均分子量Mnは、4350、重量平均分子量Mwは、7850、多分散度Mw/Mnは1.80であった。
屈折率は、1.620であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.008×10-2であった。アッベ数は、25.7であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 5] (Production of Polycarbonate Resin 5)
10.4 g (0.03 mol) of compound 2 obtained in Example 2, 49.9 g (0.11 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 31.3 g (0.15 mol) of diphenyl carbonate, and 286.9 μL (717.0 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 ° C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after 20 minutes of holding, 45 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 5") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The taken-out polycarbonate resin 5 was pulverized, and the glass transition temperature was measured to be 132°C. The number average molecular weight Mn was 4350, the weight average molecular weight Mw was 7850, and the polydispersity Mw/Mn was 1.80.
The refractive index was 1.620. The birefringence was +0.008×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 25.7. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例6](ポリカーボネート樹脂6の製造)
実施例3にて得られた化合物3を9.5g(0.03mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン49.2g(0.11mol)、ジフェニルカーボネート30.9g(0.15mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液283.6μL(70.9×10-7mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂6」とする)を45g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂6を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、148℃であった。数平均分子量Mnは、18270、重量平均分子量Mwは、33430、多分散度Mw/Mnは1.83であった。
屈折率は、1.620であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.013×10-2であった。アッベ数は25.7であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 6] (Production of Polycarbonate Resin 6)
9.5 g (0.03 mol) of compound 3 obtained in Example 3, 49.2 g (0.11 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 30.9 g (0.15 mol) of diphenyl carbonate, and 283.6 μL (70.9 × 10 -7 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and 45 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 6") was taken out after 20 minutes of holding. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 6 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 148°C. The number average molecular weight Mn was 18270, the weight average molecular weight Mw was 33430, and the polydispersity Mw/Mn was 1.83.
The refractive index was 1.620. The birefringence was +0.013×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 25.7. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例7](ポリカーボネート樹脂7の製造)
実施例3にて得られた化合物3を13.8g(0.04mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン41.8g(0.09mol)、ジフェニルカーボネート30.0g(0.14mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液55.0μL(137.5×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂7」とする)を45g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂7を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、152.2℃であった。数平均分子量Mnは、28570、重量平均分子量Mwは、73910、多分散度Mw/Mnは2.59であった。
屈折率は、1.610であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.052×10-2であった。アッベ数は27.5であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 7] (Production of Polycarbonate Resin 7)
13.8 g (0.04 mol) of compound 3 obtained in Example 3, 41.8 g (0.09 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 30.0 g (0.14 mol) of diphenyl carbonate, and 55.0 μL (137.5 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after 20 minutes of holding, 45 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 7") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 7 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured to be 152.2°C. The number average molecular weight Mn was 28570, the weight average molecular weight Mw was 73910, and the polydispersity Mw/Mn was 2.59.
The refractive index was 1.610. The birefringence was +0.052×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 27.5. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例8](ポリカーボネート樹脂8の製造)
実施例4にて得られた化合物4を10.6g(0.02mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン49.2g(0.11mol)、ジフェニルカーボネート30.9g(0.15mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液283.5μL(70.9×10-7mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂8」とする)を45g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂8を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、140℃であった。数平均分子量Mnは、11790、重量平均分子量Mwは、50470、多分散度Mw/Mnは4.28であった。
屈折率は、1.622であった。複屈折は、波長588.8nmでは、+0.014×10-2であった。アッベ数は、25.7であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 8] (Production of Polycarbonate Resin 8)
10.6 g (0.02 mol) of compound 4 obtained in Example 4, 49.2 g (0.11 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 30.9 g (0.15 mol) of diphenyl carbonate, and 283.5 μL (70.9 × 10 -7 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and 45 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 8") was taken out after 20 minutes of holding. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 8 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 140°C. The number average molecular weight Mn was 11790, the weight average molecular weight Mw was 50470, and the polydispersity Mw/Mn was 4.28.
The refractive index was 1.622. The birefringence was +0.014×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 25.7. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.

[製造例9](ポリカーボネート樹脂9の製造)
実施例5にて得られた化合物5を5.8g(0.02mol)、ビスフェノキシエタノールフルオレン30.3g(0.07mol)、ジフェニルカーボネート19.1g(0.09mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液34.9μL(87.3×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂9」とする)を25g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂9を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、146.1℃であった。数平均分子量Mnは、15400、重量平均分子量Mwは、39800、多分散度Mw/Mnは2.58であった。
得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、1.619であった。複屈折は、波長588.8nmでは、-0.004×10-2であった。アッベ数は26.0であった。全光線透過率は89%であった。得られた結果を表1に示した。
[Production Example 9] (Production of Polycarbonate Resin 9)
5.8 g (0.02 mol) of compound 5 obtained in Example 5, 30.3 g (0.07 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 19.1 g (0.09 mol) of diphenyl carbonate, and 34.9 μL (87.3 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium hydrogen carbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 ° C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and 25 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin 9") was taken out after 20 minutes of holding. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin 9 taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured to be 146.1°C. The number average molecular weight Mn was 15,400, the weight average molecular weight Mw was 39,800, and the polydispersity Mw/Mn was 2.58.
The physical properties of the obtained polycarbonate film were measured. The refractive index was 1.619. The birefringence was −0.004×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 26.0. The total light transmittance was 89%. The results are shown in Table 1.

[比較製造例1](ポリカーボネート樹脂Aの製造)
ビスフェノキシエタノールフルオレン59.0g(0.13mol)、ジフェニルカーボネート30.0g(0.14mol)、および2.5×10-2mol/Lの炭酸水素ナトリウム水溶液55.0μL(137.5×10-8mol)を攪拌機および留出装置付きの300mL四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、200℃に加熱した。
基質溶解後、80分かけて240℃まで段階的に昇温、150mmHgまで段階的に減圧した。
さらに40分かけて段階的に真空になるまで減圧し、20分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂(以下、「ポリカーボネート樹脂A」とする)を55g取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂Aを粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、147℃であった。数平均分子量Mnは、21940、重量平均分子量Mwは、41680、多分散度Mw/Mnは1.90であった。
[Comparative Production Example 1] (Production of Polycarbonate Resin A)
59.0 g (0.13 mol) of bisphenoxyethanolfluorene, 30.0 g (0.14 mol) of diphenyl carbonate, and 55.0 μL (137.5 × 10 -8 mol) of a 2.5 × 10 -2 mol/L aqueous sodium bicarbonate solution were placed in a 300 mL four-neck flask equipped with a stirrer and a distillation apparatus, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 200 °C.
After the substrate was dissolved, the temperature was raised stepwise to 240° C. over 80 minutes, and the pressure was reduced stepwise to 150 mmHg.
The pressure was further reduced stepwise over 40 minutes until a vacuum was reached, and after 20 minutes of holding, 55 g of the resulting polycarbonate resin (hereinafter referred to as "polycarbonate resin A") was taken out. During the reaction, phenol by-product was distilled off. The polycarbonate resin A taken out was pulverized, and the glass transition temperature was measured and found to be 147°C. The number average molecular weight Mn was 21940, the weight average molecular weight Mw was 41680, and the polydispersity Mw/Mn was 1.90.

屈折率は、1.638であった。複屈折は、波長588.8nmでは、-0.023×10-2であった。アッベ数は23.5であった。全光線透過率は90%であった。得られた結果を表1に示した。

Figure 0007640870000032
The refractive index was 1.638. The birefringence was −0.023×10 −2 at a wavelength of 588.8 nm. The Abbe number was 23.5. The total light transmittance was 90%. The results are shown in Table 1.
Figure 0007640870000032

表1の製造例1~9より、化合物1~5を用いて得られるポリカーボネート樹脂は比較的高い屈折率を有し、高いアッベ数を有することが分かった。また、化合物5、化合物1、及び化合物3の順に(ベンゼン環上の2つのアセタール基の置換位置がオルト位、メタ位、パラ位である化合物の順に)、樹脂の複屈折強度が高くなることが分かった。例えば、共重合比(BPEF:環式ジオール化合物)=80:20において、製造例1、6及び9で得られた樹脂の複屈折を比較することで容易に理解できる。その結果、求められる樹脂の複屈折強度に応じて、適宜、本発明の化合物を選択し組み合わせることができる。 From Production Examples 1 to 9 in Table 1, it was found that the polycarbonate resins obtained using Compounds 1 to 5 have a relatively high refractive index and a high Abbe number. It was also found that the birefringence strength of the resin increases in the order of Compound 5, Compound 1, and Compound 3 (compounds in which the substitution positions of the two acetal groups on the benzene ring are the ortho, meta, and para positions). For example, this can be easily understood by comparing the birefringence of the resins obtained in Production Examples 1, 6, and 9 at a copolymerization ratio (BPEF:cyclic diol compound) of 80:20. As a result, the compounds of the present invention can be appropriately selected and combined depending on the desired birefringence strength of the resin.

比較製造例1と製造例1~4との対比、並びに比較製造例1と製造例6及び7との対比より、原料モノマーとして化合物1又は化合物3の共重合比を変化させることにより、得られるポリカーボネート樹脂の屈折率、複屈折、アッベ数を調整できることが分かった。Comparing Comparative Manufacturing Example 1 with Manufacturing Examples 1 to 4, and comparing Comparative Manufacturing Example 1 with Manufacturing Examples 6 and 7, it was found that the refractive index, birefringence and Abbe number of the resulting polycarbonate resin can be adjusted by changing the copolymerization ratio of Compound 1 or Compound 3 as the raw material monomer.

化合物1及び2(一般式(1a)で表される化合物に含まれる)は、屈折率、複屈折、アッベ数などの光学物性の良さとガラス転移温度で表される耐熱性の良さに加え、原料が工業的に入手しやすいことから有用である。Compounds 1 and 2 (included in the compounds represented by general formula (1a)) are useful because they have good optical properties such as refractive index, birefringence, and Abbe number, good heat resistance represented by glass transition temperature, and because the raw materials are easily available industrially.

製造例6及び7より、化合物3の共重合比が高くなると、樹脂のガラス転移温度が顕著に高くなることが確認された。そのため、化合物3(一般式(1b)で表される化合物に含まれる)を用いた樹脂は高耐熱性用途に適している。 From Production Examples 6 and 7, it was confirmed that the glass transition temperature of the resin increases significantly as the copolymerization ratio of compound 3 increases. Therefore, resins using compound 3 (included in the compounds represented by general formula (1b)) are suitable for high heat resistance applications.

製造例9より、化合物5(一般式(1c)で表される化合物に含まれる)を用いた樹脂は、複屈折強度が比較的小さいと考えられるため、共重合で得られる樹脂の複屈折をゼロにするために、組み合わせるモノマーとの共重合比を微調整し易いというメリットがある。結果として、樹脂の複屈折を限りなくゼロにすることができる。 From Production Example 9, it is believed that the resin using compound 5 (included in the compound represented by general formula (1c)) has a relatively small birefringence intensity, and therefore has the advantage that it is easy to fine-tune the copolymerization ratio with the combined monomer in order to make the birefringence of the resin obtained by copolymerization zero. As a result, the birefringence of the resin can be made as close to zero as possible.

本発明の環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂及びポリメタクリル酸エステル樹脂等の樹脂の原料モノマー及び改質剤として使用することができる。特に、当該環式ジオール化合物から誘導される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂として好適である。また、本発明の環式ジオール化合物は、樹脂改質剤として用いることにより、樹脂のガラス転移温度、屈折率、複屈折、アッベ数等の物性を広く調節することができる。そのため、光学レンズ、光学フィルム等の光学材料の用途に好適に用いられる。The cyclic diol compound of the present invention can be used as a raw material monomer and modifier for resins such as polyester resins, polyester carbonate resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyacrylic ester resins, and polymethacrylic ester resins. In particular, it is suitable for polycarbonate resins containing structural units derived from the cyclic diol compound. In addition, by using the cyclic diol compound of the present invention as a resin modifier, the physical properties such as the glass transition temperature, refractive index, birefringence, and Abbe number of the resin can be widely adjusted. Therefore, it is suitable for use in optical materials such as optical lenses and optical films.

Claims (13)

一般式(1)で表される化合物からなる樹脂改質剤であって、
該樹脂改質剤は、分子内にカーボネート結合を有する樹脂の原料モノマーとして用いて該樹脂の物性を改質する剤である、
樹脂改質剤。
Figure 0007640870000033
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。環Aは、ベンゼン環を示す。]
A resin modifier comprising a compound represented by general formula (1):
The resin modifier is an agent used as a raw material monomer for a resin having a carbonate bond in the molecule, and modifies the physical properties of the resin.
Resin modifier.
Figure 0007640870000033
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group. Ring A represents a benzene ring.]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1a)で表される化合物である、請求項1に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000034
[式中、Rは、水素原子を示す。Rは、前記に同じ。]
The resin modifier according to claim 1, wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1a).
Figure 0007640870000034
[In the formula, R2 represents a hydrogen atom. R1 is the same as above.]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1b)で表される化合物である、請求項1に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000035
[式中、Rは、水素原子を示す。Rは、前記に同じ。]
The resin modifier according to claim 1, wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1b).
Figure 0007640870000035
[In the formula, R2 represents a hydrogen atom. R1 is the same as above.]
一般式(1)で表される化合物が、一般式(1c)で表される化合物である、請求項1に記載の樹脂改質剤。
Figure 0007640870000036
[式中、Rは、水素原子を示す。Rは、前記に同じ。]
The resin modifier according to claim 1, wherein the compound represented by general formula (1) is a compound represented by general formula (1c).
Figure 0007640870000036
[In the formula, R2 represents a hydrogen atom. R1 is the same as above.]
前記樹脂が、ポリカーボネート樹脂又はポリエステルカーボネート樹脂である、請求項1に記載の樹脂改質剤。 The resin modifier according to claim 1, wherein the resin is a polycarbonate resin or a polyester carbonate resin. 前記樹脂が、光学部材に用いられる樹脂である、請求項1に記載の樹脂改質剤。 The resin modifier according to claim 1, wherein the resin is a resin used for optical components. 前記光学部材が、光学レンズ、光学フィルム、又は光学シートである、請求項6に記載の樹脂改質剤。 The resin modifier according to claim 6, wherein the optical component is an optical lens, an optical film, or an optical sheet. 一般式(1a)で表される化合物。
Figure 0007640870000037
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。Rは、水素原子を示す。]
A compound represented by general formula (1a):
Figure 0007640870000037
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group; and R 2 represents a hydrogen atom.]
一般式(1c)で表される化合物。
Figure 0007640870000038
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。Rは、水素原子を示す。]
A compound represented by general formula (1c):
Figure 0007640870000038
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group; and R 2 represents a hydrogen atom.]
一般式(1a)で表される化合物の製造方法であって、一般式(3a)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応させる工程を含む、製造方法。
Figure 0007640870000039
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。Rは、水素原子を示す。]
A method for producing a compound represented by general formula (1a), comprising a step of reacting a compound represented by general formula (3a) with a compound represented by general formula (4).
Figure 0007640870000039
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group; and R 2 represents a hydrogen atom.]
一般式(1c)で表される化合物の製造方法であって、一般式(3c)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物とを反応させる工程を含む、製造方法。
Figure 0007640870000040
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。Rは、水素原子を示す。]
A method for producing a compound represented by general formula (1c), comprising a step of reacting a compound represented by general formula (3c) with a compound represented by general formula (4).
Figure 0007640870000040
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group; and R 2 represents a hydrogen atom.]
分子内にカーボネート結合を有する樹脂を製造するための、一般式(1)で表される化合物の原料モノマーとしての使用。
Figure 0007640870000041
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。環Aは、ベンゼン環を示す。]
Use of a compound represented by formula (1) as a raw material monomer for producing a resin having a carbonate bond in the molecule.
Figure 0007640870000041
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group. Ring A represents a benzene ring.]
一般式(1)で表される化合物を、分子内にカーボネート結合を有する樹脂の原料モノマーとして使用する方法。
Figure 0007640870000042
[式中、Rは、同一又は異なって、メチル基又はエチル基を示す。環Aは、ベンゼン環を示す。]
A method in which a compound represented by the general formula (1) is used as a raw material monomer for a resin having a carbonate bond in the molecule.
Figure 0007640870000042
[In the formula, R 1 is the same or different and represents a methyl group or an ethyl group. Ring A represents a benzene ring.]
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