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JP7641708B2 - Composite having a supporting substrate and a polymer member and also having inorganic particles, method for producing the same, and polymer particles suitable for the method - Google Patents
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JP7641708B2 - Composite having a supporting substrate and a polymer member and also having inorganic particles, method for producing the same, and polymer particles suitable for the method - Google Patents

Composite having a supporting substrate and a polymer member and also having inorganic particles, method for producing the same, and polymer particles suitable for the method Download PDF

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Description

本開示は、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体並びにその製造方法に関する。 The present disclosure relates to a composite having a support substrate and a polymer member and inorganic particles, and a method for producing the same.

本開示は、また、上記の方法に好適に用いることができるポリマー粒子及び分散体にも関する。さらに、本開示は、ポリマー基材、ポリマー基材及び支持基材を含む複合体、ポリマー基材及び追加のポリマー基材を含む複合体、ポリマー基材及び無機基材を含む複合体、ポリマー基材積層体、並びにポリマー基材積層体及び無機基材を含む複合体、並びにそれらの製造方法にも関する。 The present disclosure also relates to polymer particles and dispersions that can be suitably used in the above-mentioned methods. Furthermore, the present disclosure also relates to a polymer substrate, a composite comprising a polymer substrate and a support substrate, a composite comprising a polymer substrate and an additional polymer substrate, a composite comprising a polymer substrate and an inorganic substrate, a polymer substrate laminate, and a composite comprising a polymer substrate laminate and an inorganic substrate, as well as methods for producing the same.

ポリマー部材、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、シクロオレフィンポリマーなどのポリオレフィン系ポリマー基材は、軽さ、機械的強度、耐薬品性などに優れていることから、樹脂フィルム、不織布、自動車用部品、電気機器用部品、カメラレンズなどの成形品に幅広く用いられている。これに対して、金属、半導体、又はそれらの酸化物等の無機材料は、ポリマー部材とは異なる機械的、熱的、光学的、及び化学的性質を有する。 Polymer materials, such as polyolefin-based polymer substrates such as polypropylene, polyethylene, and cycloolefin polymers, are widely used in molded products such as resin films, nonwoven fabrics, automotive parts, electrical equipment parts, and camera lenses because of their excellent lightness, mechanical strength, and chemical resistance. In contrast, inorganic materials such as metals, semiconductors, and their oxides have different mechanical, thermal, optical, and chemical properties than polymer materials.

したがって、ポリマー部材を無機基材に接合してポリマー部材-無機基材複合体を製造し、それらの異なる性質を好ましく利用することが検討されている。 Therefore, studies are being conducted to produce a polymer member-inorganic substrate composite by bonding a polymer member to an inorganic substrate, and to utilize their different properties in a favorable manner.

さらに、このようなポリマー部材-無機基材複合体に、無機粒子を含有するポリマーをさらに堆積することによって、新たな特性を有する複合体を得ることも検討されている。 In addition, it is being considered to obtain a composite with new properties by further depositing a polymer containing inorganic particles onto such a polymer member-inorganic substrate composite.

ここで、上述のような複合体を製造する際に、上層を形成するために用いられる溶剤によって下層の支持基材が望ましくない影響を受けるおそれがある。 Here, when producing the above-mentioned composite, the solvent used to form the upper layer may have an undesirable effect on the supporting substrate of the lower layer.

特許文献1は、有機機能層が積層された有機薄膜積層体の製造方法を開示している。当該文献では、上層の溶媒が下層に浸透することをブロック可能な中間層を形成することによって、上層(第2発光層側)を湿式法で形成する際に下層(第1発光層側)に対する溶媒によるダメージを低減したことが記載されている。 Patent Document 1 discloses a method for manufacturing an organic thin film laminate in which organic functional layers are laminated. The document describes that by forming an intermediate layer that can block the solvent of the upper layer from penetrating into the lower layer, damage caused by the solvent to the lower layer (first light-emitting layer side) when forming the upper layer (second light-emitting layer side) by a wet method is reduced.

特開2017-22063号公報JP 2017-22063 A

上述のように、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体を製造する際に、溶剤によって支持基材が望ましくない影響を受けるおそれがあった。 As described above, when producing a composite having a support substrate and a polymer member and also having inorganic particles, there was a risk that the support substrate would be undesirably affected by the solvent.

この背景において、本開示は、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体を、優れた品質を確保しつつ製造するための方法を提供することを目的とする。 In this context, the present disclosure aims to provide a method for producing a composite having a support substrate and a polymer member and having inorganic particles while ensuring excellent quality.

また、本開示は、上記の方法に好適なポリマー粒子及び分散体を提供することを目的とする。さらに本開示は、優れた品質を有するポリマー基材、ポリマー基材及び支持基材を含む複合体、ポリマー基材及び追加のポリマー基材を含む複合体、ポリマー基材及び無機基材を含む複合体、ポリマー基材積層体、並びにポリマー基材積層体及び無機基材を含む複合体、並びにそれらの製造方法を提供することを目的とする。 The present disclosure also aims to provide polymer particles and dispersions suitable for the above-mentioned method. Furthermore, the present disclosure also aims to provide a polymer substrate having excellent quality, a composite including a polymer substrate and a support substrate, a composite including a polymer substrate and an additional polymer substrate, a composite including a polymer substrate and an inorganic substrate, a polymer substrate laminate, and a composite including a polymer substrate laminate and an inorganic substrate, as well as methods for producing the same.

上記の課題に対して、本件の発明者らは、下記の態様を有する本発明を見出した:
〈態様1〉
ポリマー粒子を提供すること、
支持基材を提供すること、及び
前記支持基材上に前記ポリマー粒子を堆積させて、前記支持基材上にポリマー粒子層を形成すること、
を含み、
前記ポリマー粒子又は前記支持基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を含む、
ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法。
〈態様2〉
前記ポリマー粒子が、無機粒子含有ポリマー粒子である、態様1に記載の方法。
〈態様3〉
前記ポリマー粒子が、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物である、態様1に記載の方法。
〈態様4〉
前記支持基材への前記ポリマー粒子の堆積が、下記の操作を含む、態様1~3のいずれか一項に記載の方法:
分散媒に前記ポリマー粒子が分散している分散体を提供すること、及び
前記分散体を前記支持基材上に塗布し、そして乾燥させること。
〈態様5〉
前記支持基材が、無機粒子非含有ポリマー基材である、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
〈態様6〉
前記支持基材が、無機粒子含有ポリマー基材である、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
〈態様7〉
前記支持基材が、下記である、態様1~4のいずれか一項に記載の方法:
ポリマー基材及び追加のポリマー基材を有しており、前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されており、かつ、前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが無機粒子を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体。
〈態様8〉
前記支持基材が、無機基材である、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
〈態様9〉
態様1~8のいずれか一項に記載の方法によってポリマー粒子層-支持基材複合体を製造すること、及び
前記ポリマー粒子層-支持基材複合体の前記ポリマー粒子層を熱プレスすることによって、前記支持基材上にポリマー基材を形成すること、
を含む、ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法。
〈態様10〉
前記支持基材が、剥離用基材上に保持されており、かつ
前記ポリマー粒子層を熱プレスする前に、又は前記ポリマー粒子層を熱プレスした後に、前記剥離用基材から前記支持基材を剥がすこと、
をさらに含む、態様9に記載の方法。
〈態様11〉
前記支持基材として剥離用基材を用いて、態様9に記載の方法によって、ポリマー基材-支持基材複合体を得ること、
前記ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である前記支持基材から前記ポリマー基材を剥がすことによって、ポリマー基材を得ること、
を含む、ポリマー基材の製造方法。
〈態様12〉
態様11に記載の方法によって、ポリマー基材を製造すること、
追加のポリマー基材を提供すること、及び、
前記ポリマー基材と前記追加のポリマー基材とを互いに重ね合わせることを含む、
追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法。
〈態様13〉
態様11に記載の方法によって、ポリマー基材を製造すること、
無機基材を提供すること、及び、
前記ポリマー基材を、前記無機基材上に配置すること、
を含む、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法。
〈態様14〉
態様9又は13に記載の方法によって、ポリマー基材-無機基材複合体を製造すること
追加のポリマー基材を提供すること、及び
前記追加のポリマー基材を、前記ポリマー基材-無機基材複合体のポリマー基材の上に配置すること、
を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法。
〈態様15〉
態様1~8のいずれか一項に記載の方法によってポリマー粒子層-支持基材複合体を得ること、
前記ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、無機粒子非含有ポリマー粒子、無機粒子含有ポリマー粒子、又は無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を堆積させて、前記ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、追加のポリマー粒子層を形成すること、
を含む、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法。
〈態様16〉
態様15に記載の方法によって、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体を製造すること、
前記追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の前記ポリマー粒子層及び前記追加のポリマー粒子層を熱プレスすることによって、前記支持基材上に、ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を形成すること、
を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法。
〈態様17〉
前記支持基材として剥離用基材を用いて、態様16に記載の方法によって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体を得ること、
前記追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である前記支持基材から追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を剥がすことによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を得ること
を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法。
〈態様18〉
態様9、10、12及び17のいずれか一項に記載の方法によって、少なくとも部分的に互いに重なり合っているポリマー基材及び追加のポリマー基材を有している追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を製造すること、ここで、前記ポリマー基材が、無機粒子含有ポリマー基材であり、かつ/又は、前記追加のポリマー基材が、追加の無機粒子含有ポリマー基材である、
無機基材を提供すること、並びに
前記無機基材に、無機粒子ポリマー基材である前記ポリマー基材又は追加の無機粒子含有ポリマー基材である前記追加のポリマー基材が前記無機基材の方を向くようにして、前記追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を配置すること、
を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法。
〈態様19〉
積層されている少なくとも3つのポリマー基材を有しているポリマー基材積層体であって、前記ポリマー基材それぞれにおける無機粒子の含有量が前記積層体の最外層から始めて積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、前記少なくとも3つのポリマー基材が積層されているポリマー基材積層体、を製造するための、下記を含む方法:
(a)無機粒子非含有ポリマー基材、無機粒子含有ポリマー基材、及び、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体、からなる群から、少なくとも2つの材料を選択すること、ここで、前記少なくとも2つの材料は、態様11に記載の方法によって製造されたポリマー基材、及び/又は、態様9、10、12、16及び17のいずれか一項に記載の方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体、を含み、かつ、合計で少なくとも3つのポリマー基材を含む、
(b)無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、前記少なくとも2つの材料を積層して、ポリマー基材積層体を得ること。
〈態様20〉
少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材を有しており、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有しているポリマー基材積層体を製造するための、下記を含む方法:
(a)無機粒子非含有ポリマー基材、無機粒子含有ポリマー基材、並びに、少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材から構成されておりかつ無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有している複合体、からなる群から、少なくとも2つの材料を選択すること、ここで、前記少なくとも2つの材料は、態様11に記載の方法によって製造されたポリマー基材、又は、態様9、10、12、16及び17のいずれか一項に記載の方法によって製造された複合体、を含み、かつ、合計で少なくとも3つのポリマー基材を含む、
(b)前記少なくとも2つの材料を、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが隣り合うように積層して、ポリマー基材積層体を製造すること。
〈態様21〉
態様9、10、16、19又は20に記載の方法によって、少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体を製造すること、
無機基材、又は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体、を提供すること、並びに
前記ポリマー基材積層体を、前記無機基材の上に、又は前記複合体の前記ポリマー基材の上に、配置すること、
を含む、ポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法。
〈態様22〉
無機基材、又は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体、を提供すること、並びに
前記無機基材の上に又は前記複合体の前記ポリマー基材の上に、態様19又は20に記載の方法によって、前記ポリマー基材積層体を製造すること、
を含む、ポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法。
〈態様23〉
前記ポリマー基材及び無機基材を有する複合体を、態様8,13,14,16及び18のいずれか一項に記載の方法によって製造する、態様21又は22に記載の方法。
〈態様24〉
ポリマー、並びに
金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択され、一次粒径が1nm~500nmであり、かつ前記ポリマー中に分散している、無機粒子、
を含む、無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様25〉
前記無機粒子が、シリコン粒子である、態様24に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様26〉
前記ポリマーが、オレフィンポリマーである、態様24又は25に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様27〉
前記ポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、態様24~26のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様28〉
カップリング剤をさらに含む、態様24~27のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様29〉
平均粒径が0.5μm~100μmである、態様24~28のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。
〈態様30〉
無機粒子非含有ポリマー粒子及び/又は態様24~29のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子、並びに分散媒を含む、分散体。
〈態様31〉
前記分散媒が、2-プロパノール、エチレングリコール、及びターピネオールのうち少なくとも1種類を含む、態様30に記載の分散体。
〈態様32〉
ポリマー基材、及び
前記ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層
を有しており、かつ、
前記ポリマー粒子層が、態様24~29のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子を含む、
ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体。
〈態様33〉
ポリマー基材、及び
前記ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層
を有しており、かつ、
前記ポリマー粒子層が、無機粒子非含有ポリマー粒子からなる、
ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体。
〈態様34〉
前記ポリマー基材が、無機粒子含有ポリマー基材である、態様33に記載の複合体。
〈態様35〉
ポリマー基材、
前記ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層、
前記ポリマー粒子層に堆積されている、追加のポリマー粒子層、
を含む、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体。
〈態様36〉
前記ポリマー基材、前記ポリマー粒子層、前記追加のポリマー粒子層のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有している、態様35に記載の複合体。
〈態様37〉
ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を有しており、
前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有しており、
前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されており、かつ
前記ポリマー基材と前記追加のポリマー基材との界面が、平坦である、
追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体。
〈態様38〉
前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、カップリング剤をさらに含む、態様37に記載の複合体。
〈態様39〉
前記ポリマー基材及び前記追加のポリマー基材が、膜状又はフィルム状である、態様37又は38に記載の複合体。
〈態様40〉
積層されている少なくとも3つのポリマー基材を含有し、かつ
隣接するポリマー基材の界面のうちの少なくとも1つが、平坦である、
ポリマー基材積層体。
〈態様41〉
前記ポリマー基材積層体を構成する前記少なくとも3つのポリマー基材における無機粒子の含有量が、それぞれ、互いに異なっている、態様40に記載の積層体。
〈態様42〉
前記ポリマー基材積層体を構成する前記少なくとも3つのポリマー基材における無機粒子の含有量が、積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、前記ポリマー基材が積層されている、
態様41に記載の積層体。
〈態様43〉
少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材を有しており、かつ、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機粒子含有ポリマー基材が交互に積層された構造を有している、
態様40に記載の積層体。
〈態様44〉
光学用である、態様32~40のいずれか一項に記載の複合体、又は態様41~43のいずれか一項に記載の積層体。
〈態様45〉
シクロオレフィンポリマー、及び
一次粒径が1nm~500nmであるシリコン粒子
を含む、膜状又はフィルム状基材。
In response to the above problems, the present inventors have discovered the present invention having the following aspects:
<Aspect 1>
Providing polymer particles;
providing a supporting substrate; and depositing the polymer particles onto the supporting substrate to form a polymer particle layer on the supporting substrate.
Including,
At least one of the polymer particles or the supporting substrate contains inorganic particles;
A method for producing a polymer particle layer-support substrate composite.
<Aspect 2>
2. The method of claim 1, wherein the polymer particles are inorganic particle-containing polymer particles.
Aspect 3
2. The method of claim 1, wherein the polymer particles are a mixture of inorganic particle-containing and inorganic particle-free polymer particles.
<Aspect 4>
The method of any one of the preceding aspects, wherein depositing the polymer particles onto the support substrate comprises:
providing a dispersion of said polymer particles in a dispersion medium; and coating said dispersion onto said supporting substrate and drying.
<Aspect 5>
The method of any one of the preceding aspects, wherein the support substrate is a polymeric substrate free of inorganic particles.
<Aspect 6>
The method of any one of the preceding aspects, wherein the supporting substrate is an inorganic particle-containing polymeric substrate.
Aspect 7
The method of any one of aspects 1 to 4, wherein the supporting substrate is:
An additional polymer substrate-polymer substrate composite comprising a polymer substrate and an additional polymer substrate, the polymer substrate and the additional polymer substrate being disposed at least partially on top of each other, and at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprising inorganic particles.
<Aspect 8>
The method of any one of the preceding aspects, wherein the supporting substrate is an inorganic substrate.
<Aspect 9>
Producing a polymer particle layer-support substrate composite by the method according to any one of aspects 1 to 8; and forming a polymer substrate on the support substrate by heat pressing the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite.
A method for producing a polymer substrate-support substrate composite, comprising:
Aspect 10
the supporting substrate is held on a release substrate; and before or after the polymer particle layer is heat-pressed, the supporting substrate is peeled off from the release substrate.
10. The method of claim 9, further comprising:
<Aspect 11>
Obtaining a polymer substrate-support substrate composite by the method according to aspect 9 using a release substrate as the support substrate;
Obtaining a polymer substrate by peeling the polymer substrate from the support substrate, which is a release substrate, in the polymer substrate-support substrate composite;
A method for producing a polymer substrate comprising:
<Aspect 12>
Producing a polymer substrate by the method according to aspect 11;
Providing an additional polymeric substrate; and
laminating the polymer substrate and the additional polymer substrate together;
Additional methods for making polymer substrate-polymer substrate composites.
<Aspect 13>
Producing a polymer substrate by the method according to aspect 11;
Providing an inorganic substrate; and
disposing the polymeric substrate on the inorganic substrate;
The method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite includes the steps of:
<Aspect 14>
Producing a polymer substrate-inorganic substrate composite by the method of claim 9 or 13, comprising: providing an additional polymer substrate; and disposing the additional polymer substrate on the polymer substrate of the polymer substrate-inorganic substrate composite.
Additional methods for making a polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite include:
<Aspect 15>
Obtaining a polymer particle layer-support substrate composite by the method according to any one of aspects 1 to 8;
depositing inorganic particle-free polymer particles, inorganic particle-containing polymer particles, or a mixture of inorganic particle-containing and inorganic particle-free polymer particles on the polymer particle layer-support substrate composite to form an additional polymer particle layer on the polymer particle layer-support substrate composite;
A method for producing an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite, comprising:
<Aspect 16>
Producing an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite by the method of claim 15;
forming a polymer substrate and an additional polymer substrate on the supporting substrate by heat pressing the polymer substrate layer and the additional polymer substrate layer of the additional polymer substrate layer-polymer substrate layer-supporting substrate composite;
Additional methods for making a polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite include:
<Aspect 17>
Obtaining an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite by the method according to aspect 16 using a release substrate as the support substrate;
A method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite, the method including: obtaining an additional polymer substrate-polymer substrate composite by peeling the additional polymer substrate-polymer substrate composite from the support substrate, which is a release substrate, in the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite.
<Aspect 18>
Producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite having a polymer substrate and an additional polymer substrate at least partially overlapping each other by the method of any one of aspects 9, 10, 12 and 17, wherein the polymer substrate is an inorganic particle-containing polymer substrate and/or the additional polymer substrate is an additional inorganic particle-containing polymer substrate.
providing an inorganic substrate; and disposing the additional polymer substrate-polymer substrate composite on the inorganic substrate such that the polymer substrate is an inorganic particle polymer substrate or the additional polymer substrate is an additional inorganic particle-containing polymer substrate faces the inorganic substrate.
Additional methods for making a polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite include:
<Aspect 19>
A method for producing a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates stacked together such that the content of inorganic particles in each of the polymer substrates increases or decreases stepwise along the stacking direction starting from the outermost layer of the laminate, the method comprising:
(a) selecting at least two materials from the group consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles, a polymer substrate containing inorganic particles, and a composite composed of at least two polymer substrates, wherein the at least two materials include a polymer substrate produced by the method according to aspect 11 and/or a composite composed of at least two polymer substrates produced by the method according to any one of aspects 9, 10, 12, 16, and 17, and the composite comprises at least three polymer substrates in total;
(b) laminating said at least two materials such that the content of inorganic particles increases or decreases stepwise along the lamination direction to obtain a polymeric substrate laminate.
Aspect 20
A method for producing a polymer substrate laminate having at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate, the polymer substrate laminate having a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated, the method comprising:
(a) selecting at least two materials from the group consisting of inorganic particle-free polymer substrates, inorganic particle-containing polymer substrates, and composites consisting of at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate and having a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated, wherein the at least two materials include a polymer substrate produced by the method according to aspect 11 or a composite produced by the method according to any one of aspects 9, 10, 12, 16, and 17, and the total number of polymer substrates is at least three;
(b) laminating said at least two materials in a side-by-side relationship between the inorganic particle-containing polymeric substrate and the inorganic particle-free polymeric substrate to produce a polymeric substrate laminate;
<Aspect 21>
Producing a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates by the method of claim 9, 10, 16, 19 or 20;
Providing an inorganic substrate or a composite having a polymeric substrate and an inorganic substrate; and disposing the polymeric substrate laminate on the inorganic substrate or on the polymeric substrate of the composite.
A method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite, comprising:
<Aspect 22>
providing an inorganic substrate or a composite having a polymeric substrate and an inorganic substrate; and producing the polymeric substrate laminate on the inorganic substrate or on the polymeric substrate of the composite by the method of claim 19 or 20.
A method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite, comprising:
<Aspect 23>
23. The method according to claim 21 or 22, wherein the composite having a polymeric substrate and an inorganic substrate is produced by the method according to any one of claims 8, 13, 14, 16 and 18.
<Aspect 24>
a polymer; and inorganic particles selected from the group consisting of metals and semi-metals, oxides of metals and semi-metals, nitrides of metals and semi-metals, carbides of metals and semi-metals, carbon materials, and combinations thereof, the particles having a primary particle size of 1 nm to 500 nm and dispersed in the polymer.
The inorganic particle-containing polymer particle comprises:
<Aspect 25>
25. The inorganic particle-containing polymer particles according to claim 24, wherein the inorganic particles are silicon particles.
Aspect 26
26. The inorganic particle-containing polymer particle according to claim 24 or 25, wherein the polymer is an olefin polymer.
<Aspect 27>
27. The inorganic particle-containing polymer particle according to any one of aspects 24 to 26, wherein the polymer is a cycloolefin polymer.
<Aspect 28>
28. The inorganic particle-containing polymeric particle of any one of aspects 24 to 27, further comprising a coupling agent.
<Aspect 29>
29. The inorganic particle-containing polymer particles according to any one of aspects 24 to 28, having an average particle size of 0.5 μm to 100 μm.
Aspect 30
A dispersion comprising inorganic particle-free polymer particles and/or inorganic particle-containing polymer particles according to any one of aspects 24 to 29, and a dispersion medium.
<Aspect 31>
31. The dispersion of claim 30, wherein the dispersion medium comprises at least one of 2-propanol, ethylene glycol, and terpineol.
<Aspect 32>
a polymeric substrate; and a layer of polymeric particles deposited on the polymeric substrate;
The polymer particle layer comprises the inorganic particle-containing polymer particles according to any one of aspects 24 to 29.
Polymer particle layer-polymer substrate composite.
<Aspect 33>
a polymeric substrate; and a layer of polymeric particles deposited on the polymeric substrate;
The polymer particle layer is made of polymer particles that do not contain inorganic particles.
Polymer particle layer-polymer substrate composite.
Aspect 34
34. The composite of claim 33, wherein the polymeric substrate is an inorganic particle-containing polymeric substrate.
<Aspect 35>
Polymer substrate,
a layer of polymer particles deposited on the polymer substrate;
an additional layer of polymer particles deposited on said layer of polymer particles;
The additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composite comprising:
Aspect 36
36. The composite of claim 35, wherein at least one of the polymer substrate, the polymer particle layer, and the additional polymer particle layer comprises inorganic particles.
<Aspect 37>
a polymer substrate and an additional polymer substrate;
At least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprises inorganic particles;
The polymer substrate and the additional polymer substrate are disposed so as to at least partially overlap each other, and an interface between the polymer substrate and the additional polymer substrate is flat.
Additional polymer substrate-polymer substrate composites.
<Aspect 38>
38. The composite of claim 37, wherein the polymeric substrate and/or the additional polymeric substrate further comprises a coupling agent.
<Aspect 39>
39. The composite of claim 37 or 38, wherein the polymer substrate and the additional polymer substrate are in the form of a membrane or film.
<Aspect 40>
The laminated laminate includes at least three polymer substrates, and at least one of the interfaces of adjacent polymer substrates is flat.
Polymer-based laminates.
<Aspect 41>
A laminate according to claim 40, wherein the inorganic particle content in the at least three polymer substrates constituting the polymer substrate laminate is different from each other.
<Aspect 42>
The polymer substrates are laminated such that the content of inorganic particles in the at least three polymer substrates constituting the polymer substrate laminate increases or decreases stepwise along the lamination direction.
42. The laminate according to claim 41.
<Aspect 43>
The polymer substrate has at least one inorganic particle-free polymer substrate and at least one inorganic particle-containing polymer substrate, and has a structure in which the inorganic particle-free polymer substrate and the inorganic particle-containing polymer substrate are alternately laminated.
41. The laminate according to claim 40.
<Aspect 44>
A composite according to any one of aspects 32 to 40, or a laminate according to any one of aspects 41 to 43, which is for optical use.
<Aspect 45>
A membrane- or film-like substrate comprising a cycloolefin polymer and silicon particles having a primary particle size of 1 nm to 500 nm.

本開示によれば、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体を、優れた品質を確保しつつ製造するための方法を提供することができる。 The present disclosure provides a method for producing a composite having a support substrate and a polymer member and also having inorganic particles while ensuring excellent quality.

また、本開示によれば、上記の方法に好適なポリマー粒子及び分散体を提供することができる。さらに本開示によれば、優れた品質を有する無機粒子含有ポリマー基材、ポリマー粒子層-支持基材複合体、ポリマー基材-支持基材複合体、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体、及びポリマー基材積層体、並びにそれらの製造方法を提供することができる。 The present disclosure also provides polymer particles and dispersions suitable for the above-mentioned methods. Furthermore, the present disclosure also provides inorganic particle-containing polymer substrates, polymer particle layer-support substrate composites, polymer substrate-support substrate composites, additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composites, and polymer substrate laminates, as well as methods for producing the same, all of which have excellent quality.

図1は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 1 illustrates generally one embodiment of a method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. 図2は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 2 illustrates generally another embodiment of a method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. 図3は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における堆積工程の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 3 illustrates a schematic diagram of one embodiment of a deposition step in a method for making a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. 図4は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における堆積工程で用いることができる分散体の実施態様を概略的に示す。FIG. 4 shows a schematic representation of an embodiment of a dispersion that can be used in the deposition step of the method for making a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. 図5は、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 5 illustrates generally one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure. 図6Aは、支持基材として無機粒子非含有ポリマー基材を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 6A shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, in which a polymer substrate not containing inorganic particles is used as the support substrate. 図6Bは、支持基材として無機粒子含有ポリマー基材を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 6B shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, when a polymer substrate containing inorganic particles is used as the support substrate. 図6Cは、支持基材として無機粒子含有ポリマー基材を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 6C shows a schematic diagram of another embodiment of the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, in which an inorganic particle-containing polymer substrate is used as the support substrate. 図7Aは、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 7A is a schematic diagram illustrating one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, in which a composite having two polymer substrates is used as the support substrate. 図7Bは、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 7B is a schematic diagram illustrating another embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, in which a composite having two polymer substrates is used as the support substrate. 図8Aは、支持基材が剥離用基材に支持されている場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 8A illustrates a schematic diagram of one embodiment of a method for making a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, where the support substrate is supported by a release substrate. 図8Bは、支持基材が剥離用基材に支持されている場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 8B illustrates a schematic diagram of another embodiment of a method for making a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, where the support substrate is supported by a release substrate. 図9は、支持基材として無機基材を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 9 is a schematic diagram showing one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, in which an inorganic substrate is used as the support substrate. 図10Aは、支持基材として剥離用基材を用いた場合の、本開示に係るポリマー基材の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 10A illustrates a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate according to the present disclosure, in which a release substrate is used as a supporting substrate. 図10Bは、支持基材として剥離用基材を用いた場合の、本開示に係るポリマー基材の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 10B is a schematic diagram showing another embodiment of the method for producing a polymer substrate according to the present disclosure, in which a release substrate is used as the supporting substrate. 図11は、基材を重ね合わせることを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 11 illustrates generally one embodiment of a method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, which includes overlapping substrates. 図12は、ポリマー基材を無機基材上に配置することを含む、本開示に係るポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 12 illustrates generally one embodiment of a method for making a polymer substrate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, comprising disposing a polymer substrate on an inorganic substrate. 図13は、追加のポリマー基材を提供することを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 13 illustrates generally one embodiment of a method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, comprising providing an additional polymer substrate. 図14Aは、支持基材としてポリマー基材を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 14A illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, including using a polymer substrate as the support substrate. 図14Bは、支持基材としてポリマー基材を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 14B illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, which includes using a polymer substrate as the support substrate. 図15Aは、支持基材として2つのポリマー基材を含む複合体を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 15A illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, comprising using a composite comprising two polymer substrates as the support substrate. 図15Bは、支持基材として2つのポリマー基材を含む複合体を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマーポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 15B illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, comprising using a composite comprising two polymer substrates as the support substrate. 図16は、支持基材として無機基材を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマーポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 16 illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, which includes using an inorganic substrate as the support substrate. 図17は、支持基材として剥離用基材を用いることを含む、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 17 illustrates generally one embodiment of an additional method for making a polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, including using a release substrate as the supporting substrate. 図18は、無機基材の上に追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を配置することを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 18 illustrates generally one embodiment of a method for making an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite, comprising disposing an additional polymer substrate-polymer substrate composite on an inorganic substrate. 図19は、本開示に係るポリマー基材積層体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 19 illustrates generally one embodiment of a method for making a polymeric substrate laminate according to the present disclosure. 図20は、本開示に係るポリマー基材積層体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 20 illustrates generally another embodiment of a method for making a polymeric substrate laminate according to the present disclosure. 図21は、ポリマー基材積層体を無機基材の上に配置することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 21 illustrates generally one embodiment of a method for making a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, comprising placing a polymer substrate laminate onto an inorganic substrate. 図22は、ポリマー基材積層体を、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体のポリマー基材の上に配置することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。FIG. 22 illustrates generally one embodiment of a method for making a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, comprising placing a polymer substrate laminate on a polymer substrate of a composite having a polymer substrate and an inorganic substrate. 図23は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体のポリマー基材の上にポリマー基材積層体を製造することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。FIG. 23 illustrates generally another embodiment of a method for making a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, comprising producing a polymer substrate laminate on the polymer substrate of a composite having a polymer substrate and an inorganic substrate. 図24は、スプレードライ法によって製造した実施例1に係るポリマー粒子のSEM画像を示す。FIG. 24 shows an SEM image of the polymer particles according to Example 1 produced by a spray drying method. 図25は、再沈殿法によって製造した実施例2に係るポリマー粒子のSEM画像を示す。FIG. 25 shows an SEM image of the polymer particles according to Example 2 produced by the reprecipitation method. 図26Aは、比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体の断面のSEM画像、及び平坦性の評価方法を示す図である。FIG. 26A is a diagram showing an SEM image of a cross section of a polymer substrate-support substrate composite according to Comparative Example 2, and a method for evaluating flatness. 図26Bは、実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体の断面のSEM画像、及び平坦性の評価方法を示す図である。FIG. 26B is a diagram showing an SEM image of a cross section of the polymer substrate-support substrate composite according to Example 1, and a method for evaluating flatness.

≪ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法≫
本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法は、
ポリマー粒子を提供すること(ポリマー粒子提供工程)、
支持基材を提供すること(支持基材提供工程)、並びに
支持基材上にポリマー粒子を堆積させて、支持基材上にポリマー粒子層を形成すること(堆積工程)、
を含み、
ポリマー粒子又は支持基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を含む。
<<Method for producing polymer particle layer-support substrate composite>>
The method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure includes the steps of:
Providing polymer particles (polymer particle providing step);
providing a support substrate (support substrate providing step); and depositing polymer particles on the support substrate to form a polymer particle layer on the support substrate (depositing step);
Including,
At least one of the polymer particles or the supporting substrate comprises inorganic particles.

図1は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体210aの製造方法の1つの実施態様を概略的に示したものである。図1の方法では、無機粒子13及びポリマー12を含むポリマー粒子14を支持基材100上に堆積させて、支持基材100上にポリマー粒子層160aを形成させ、それによって、ポリマー粒子層-支持基材複合体210aを得ている。 Figure 1 is a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer particle layer-support substrate composite 210a according to the present disclosure. In the method of Figure 1, polymer particles 14 including inorganic particles 13 and a polymer 12 are deposited on a support substrate 100 to form a polymer particle layer 160a on the support substrate 100, thereby obtaining a polymer particle layer-support substrate composite 210a.

本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法では、ポリマー粒子又は支持基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を含む。したがって、本開示に係る方法によれば、ポリマー粒子層及び支持基材のうちの少なくともいずれかが無機粒子を含んでいる複合体を得ることができる。 In the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, at least one of the polymer particles or the support substrate contains inorganic particles. Therefore, according to the method according to the present disclosure, a composite can be obtained in which at least one of the polymer particle layer and the support substrate contains inorganic particles.

従来の方法では、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体を製造する場合、ポリマーを支持基材上に配置する際に、ポリマーを溶剤に溶解させた溶液を用いていた。その場合、ポリマーを溶解させるための溶剤によって、支持基材に望ましくない影響が及ぼされるおそれがあった。 In conventional methods, when manufacturing a composite having a support substrate and a polymer member and also having inorganic particles, a solution in which the polymer is dissolved in a solvent is used when placing the polymer on the support substrate. In such cases, there is a risk that the solvent used to dissolve the polymer may have an undesirable effect on the support substrate.

これに対して、本開示に係る方法では、支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体を製造する際に、ポリマー溶液を支持基材上に適用する代わりに、ポリマー粒子の堆積を行うので、ポリマーを溶解させるための溶剤を低減することができる。したがって、溶剤によって支持基材に望ましくない影響が及ぼされることを回避又は抑制することができる。また、本開示に係る方法では、ポリマーを溶解させるための溶剤の使用が抑制されているため、溶剤を用いることに伴う環境負荷、及び健康への望ましくない影響を低減することができる。 In contrast, in the method according to the present disclosure, when a composite having a support substrate and a polymer member and inorganic particles is produced, instead of applying a polymer solution onto the support substrate, polymer particles are deposited, so that the amount of solvent used to dissolve the polymer can be reduced. Therefore, it is possible to avoid or suppress undesirable effects on the support substrate caused by the solvent. In addition, in the method according to the present disclosure, the use of a solvent used to dissolve the polymer is suppressed, so that the environmental burden and undesirable effects on health associated with the use of a solvent can be reduced.

〈ポリマー粒子提供工程〉
本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法におけるポリマー粒子提供工程では、ポリマー粒子を提供する。
<Polymer particle providing step>
In the polymer particle providing step in the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, polymer particles are provided.

(ポリマー粒子)
ポリマー粒子としては、無機粒子非含有ポリマー粒子、無機粒子含有ポリマー粒子、及び、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物が挙げられる。
(Polymer Particles)
The polymer particles include inorganic particle-free polymer particles, inorganic particle-containing polymer particles, and mixtures of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles.

支持基材が無機粒子を含まない場合、例えば支持基材が無機粒子非含有ポリマー基材である場合には、ポリマー粒子として、無機粒子含有ポリマー粒子、又は、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を用いることができる。 When the supporting substrate does not contain inorganic particles, for example when the supporting substrate is a polymer substrate that does not contain inorganic particles, the polymer particles may be polymer particles that contain inorganic particles, or a mixture of polymer particles that contain inorganic particles and polymer particles that do not contain inorganic particles.

支持基材が無機粒子を含む場合、例えば支持基材が無機粒子含有ポリマー基材である場合には、ポリマー粒子として、無機粒子非含有ポリマー粒子を用いることができる。 When the support substrate contains inorganic particles, for example when the support substrate is a polymer substrate containing inorganic particles, polymer particles not containing inorganic particles can be used as the polymer particles.

ポリマー粒子の平均粒径は、好ましくは、0.1μm~1000μmであり、より好ましくは0.5μm~100μmであり、特に好ましくは、1.0μm~50μmであり、更に特に好ましくは、1.5μm~10μmである。ポリマー粒子の平均粒子径が当該範囲であることによって、ポリマー粒子を用いて層を形成する場合などに、良好な成形性が確保されうる。 The average particle size of the polymer particles is preferably 0.1 μm to 1000 μm, more preferably 0.5 μm to 100 μm, particularly preferably 1.0 μm to 50 μm, and even more particularly preferably 1.5 μm to 10 μm. By having the average particle size of the polymer particles within this range, good moldability can be ensured, for example, when forming a layer using the polymer particles.

なお、ポリマー粒子の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)、透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)等を用いて取得した画像において、無作為に選んだ100個の粒子の面積円相当径の平均を算出することによって測定することができる。 The average particle size of the polymer particles can be measured by calculating the average equivalent circle diameter of 100 randomly selected particles in images taken with a scanning electron microscope (SEM), transmission electron microscope (TEM), etc.

本開示に係るポリマー粒子は、不定形の粒子であってよく、その形状は特に限定されない。ポリマー粒子の形状は、例えば、球状、鱗片状、又は繊維状であってよい。なお、本願に関して、「不定形」は、ポリマー粒子が型などによって成形されていないことを意味している。 The polymer particles according to the present disclosure may be amorphous particles, and the shape is not particularly limited. The shape of the polymer particles may be, for example, spherical, scaly, or fibrous. In the present application, "amorphous" means that the polymer particles are not shaped by a mold or the like.

(無機粒子含有ポリマー粒子)
無機粒子含有ポリマー粒子は、無機粒子及びポリマーを含む。
(Polymer particles containing inorganic particles)
The inorganic particle-containing polymer particles include inorganic particles and a polymer.

上述した図1に係る方法では、ポリマー粒子として無機粒子含有ポリマー粒子14を用いている。この場合には、例えば、無機粒子含有ポリマー粒子に含有される無機粒子の含有量を調節することによって、得られるポリマー粒子層における無機粒子の含有量を調節することができる。 In the method according to FIG. 1 described above, inorganic particle-containing polymer particles 14 are used as the polymer particles. In this case, for example, the content of inorganic particles in the inorganic particle-containing polymer particles can be adjusted by adjusting the content of inorganic particles in the resulting polymer particle layer.

無機粒子含有ポリマー粒子における無機粒子及びポリマーの含有割合は、例えば、無機粒子含有ポリマー粒子におけるポリマーと無機粒子の体積比が、1:99~99:1、5:95~95:5、10:90~85:15、20:80~80:20、30:70~75:25、又は40:60~70:30になるようにすることができる。無機粒子が少なすぎる場合には、無機粒子を含有することによって期待される所望の効果が得られない場合がある。また、無機粒子が多すぎる場合には、無機粒子含有ポリマー粒子の一体性及び強度等が維持できない場合がある。 The content ratio of inorganic particles and polymer in the inorganic particle-containing polymer particles can be, for example, such that the volume ratio of polymer to inorganic particles in the inorganic particle-containing polymer particles is 1:99 to 99:1, 5:95 to 95:5, 10:90 to 85:15, 20:80 to 80:20, 30:70 to 75:25, or 40:60 to 70:30. If the amount of inorganic particles is too small, the desired effect expected from the inclusion of inorganic particles may not be obtained. Also, if the amount of inorganic particles is too large, the integrity and strength of the inorganic particle-containing polymer particles may not be maintained.

無機粒子含有ポリマー粒子においては、無機粒子がポリマー中に分散していることが好ましい。 In inorganic particle-containing polymer particles, it is preferable that the inorganic particles are dispersed in the polymer.

本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子は、例えば、スプレードライ法、又は再沈殿法などの方法によって製造することができる。 The inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure can be produced, for example, by a spray-drying method or a reprecipitation method.

スプレードライ法による無機粒子含有ポリマー粒子の製造方法では、スプレードライ装置を用いることができる。具体的には、スプレードライ法による無機粒子含有ポリマー粒子の製造方法は、例えば、ポリマー溶液に無機粒子が分散している前駆体溶液を調整する工程、この前駆体溶液を噴霧(スプレー)する工程、噴霧によって形成された無機粒子含有ポリマー粒子前駆体を乾燥させる工程、及び、乾燥処理された無機粒子含有ポリマー粒子前駆体を解砕する工程を含む。前駆体溶液を調整する工程において、ポリマー溶液は、例えば、ポリマーをトルエンなどの溶剤に溶解させることによって調製してよい。また、無機粒子含有ポリマー粒子は、ポリマーを溶解させるための溶剤を実質的に含まないことが好ましい。解砕の方法は、特に限定されず、公知の方法によって行うことができる。 In the method for producing inorganic particle-containing polymer particles by the spray drying method, a spray drying device can be used. Specifically, the method for producing inorganic particle-containing polymer particles by the spray drying method includes, for example, a step of preparing a precursor solution in which inorganic particles are dispersed in a polymer solution, a step of spraying this precursor solution, a step of drying the inorganic particle-containing polymer particle precursor formed by spraying, and a step of disintegrating the dried inorganic particle-containing polymer particle precursor. In the step of preparing the precursor solution, the polymer solution may be prepared, for example, by dissolving a polymer in a solvent such as toluene. In addition, it is preferable that the inorganic particle-containing polymer particles are substantially free of a solvent for dissolving the polymer. The method of disintegration is not particularly limited and can be performed by a known method.

スプレードライ法によれば、比較的球形度が高い無機粒子含有ポリマー粒子を得ることができる場合がある。また、スプレードライ法によれば、面積円相当径が0.1~50μmである無機粒子含有ポリマー粒子を得ることができる場合がある。 The spray-drying method may produce inorganic particle-containing polymer particles with relatively high sphericity. The spray-drying method may also produce inorganic particle-containing polymer particles with an area-equivalent circle diameter of 0.1 to 50 μm.

再沈殿法による無機粒子含有ポリマー粒子の製造方法は、例えば、ポリマー溶液に無機粒子が分散している前駆体溶液を調整する工程、この前駆体溶液を溶媒中に滴下する工程、溶媒中に生成される固形分を沈殿物として回収する工程、及び、回収した沈殿物を乾燥する工程を含む。前駆体溶液を調整する工程では、例えば、ポリマーをトルエンなどの溶剤に溶解させることによってポリマー溶液を調整することができる。無機粒子含有ポリマー粒子は、ポリマーを溶解させるための溶剤を実質的に含まないことが好ましい。前駆体溶液を溶媒中に滴下する工程では、例えば2-プロパノールを溶媒として用いることができる。沈殿物を回収する工程では、例えば、遠心分離機を用いることができる。回収した沈殿物を乾燥する工程では、真空炉を用いて乾燥を行うことができる。 The method for producing inorganic particle-containing polymer particles by the reprecipitation method includes, for example, a step of preparing a precursor solution in which inorganic particles are dispersed in a polymer solution, a step of dropping this precursor solution into a solvent, a step of recovering the solid content generated in the solvent as a precipitate, and a step of drying the recovered precipitate. In the step of preparing the precursor solution, for example, the polymer solution can be prepared by dissolving the polymer in a solvent such as toluene. It is preferable that the inorganic particle-containing polymer particles are substantially free of a solvent for dissolving the polymer. In the step of dropping the precursor solution into the solvent, for example, 2-propanol can be used as the solvent. In the step of recovering the precipitate, for example, a centrifuge can be used. In the step of drying the recovered precipitate, drying can be performed using a vacuum oven.

再沈殿法によれば、比較的不定形の無機粒子含有ポリマー粒子を得ることができる場合がある。また、再沈殿法によって、面積円相当径が1μm以下である無機粒子含有ポリマーポリマー粒子を得ることができる場合がある。 The reprecipitation method may be able to obtain relatively amorphous inorganic particle-containing polymer particles. The reprecipitation method may also be able to obtain inorganic particle-containing polymer particles with an area-equivalent circle diameter of 1 μm or less.

(無機粒子)
本開示における無機粒子としては、ポリマー中に分散させることができる任意の無機粒子を挙げることができ、このような無機粒子としては、例えば金属又は半金属の粒子、金属又は半金属の酸化物又はフッ化物の粒子、金属又は半金属を含む化合物の粒子を挙げることができる。
(Inorganic particles)
Inorganic particles in the present disclosure can include any inorganic particles that can be dispersed in a polymer, such as metal or semi-metal particles, metal or semi-metal oxide or fluoride particles, and metal or semi-metal containing compound particles.

このような金属又は半金属としては、Si、Ge、Al、Mg,Ti、Ni、Cr,Fe、Cu、Au、Ag、W、Zr、Y、In及びIrからなる群から選ばれる少なくとも一種を好適に用いることができ、Si、Geを特に好適に用いることができる。また、このような金属又は半金属の酸化物及びフッ化物としては、MgO、Al、Bi、CaF、In、In・SnO、HfO、La、MgF、Sb、Sb・SnO、SiO、SnO、TiO、Y、ZnO及びZrO、からなる群から選ばれる少なくとも一種を好適に用いることができ、MgO、Al、SiO、TiOを特に好適に用いることができる。また、このような金属又は半金属を含む化合物としては、GaAs、InGaAs、InAlAs、LiTaOx、NbTaOx、ZnTe、GaSe、GaP、CdTe、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、SiCなどが挙げられる。 As such a metal or semimetal, at least one selected from the group consisting of Si, Ge, Al, Mg, Ti, Ni, Cr, Fe, Cu, Au, Ag, W, Zr, Y, In and Ir can be preferably used, and Si and Ge can be particularly preferably used. Furthermore, as such metal or semi-metal oxides and fluorides, at least one selected from the group consisting of MgO, Al2O3 , Bi2O3 , CaF2 , In2O3 , In2O3.SnO2 , HfO2 , La2O3 , MgF2 , Sb2O5 , Sb2O5.SnO2 , SiO2 , SnO2 , TiO2 , Y2O3 , ZnO and ZrO2 can be preferably used, and MgO, Al2O3 , SiO2 and TiO2 can be particularly preferably used. Furthermore, examples of compounds containing such metals or semimetals include GaAs, InGaAs, InAlAs, LiTaOx, NbTaOx, ZnTe, GaSe, GaP, CdTe, diamond, diamond-like carbon, and SiC.

無機粒子がシリコン粒子である場合、シリコン粒子としては、レーザー熱分解法、特にCOレーザーを用いたレーザー熱分解法によって得られたシリコン粒子を挙げることができる。 When the inorganic particles are silicon particles, examples of the silicon particles include silicon particles obtained by laser pyrolysis, particularly laser pyrolysis using a CO2 laser.

上記の無機粒子、特にシリコン粒子は、個々の不純物元素の濃度が1,000ppm以下、500ppm以下、300ppm以下、100ppm以下、50ppm以下、10ppm以下、又は1ppm以下であってよい。上記の無機粒子がシリコン粒子である場合、このような不純物としては、13族及び15族元素を挙げることができる。不純物が上記のように低減されているシリコン粒子は、良好な物理的性質を有するため好ましく、特には、良好な光学的な性質を与えるため、好ましい。 The inorganic particles, particularly silicon particles, may have individual impurity element concentrations of 1,000 ppm or less, 500 ppm or less, 300 ppm or less, 100 ppm or less, 50 ppm or less, 10 ppm or less, or 1 ppm or less. When the inorganic particles are silicon particles, such impurities may include Group 13 and Group 15 elements. Silicon particles in which impurities have been reduced as described above are preferred because they have good physical properties, and are particularly preferred because they provide good optical properties.

無機粒子の平均一次粒子径は、1nm以上、又は3nm以上であって、10000nm以下、5000nm以下、2000nm以下、1000nm以下、500nm以下、200nm以下、100nm以下、50nm以下、30nm以下、20nm以下、又は10nm以下であることが好ましい。 The average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 1 nm or more, or 3 nm or more, and 10,000 nm or less, 5,000 nm or less, 2,000 nm or less, 1,000 nm or less, 500 nm or less, 200 nm or less, 100 nm or less, 50 nm or less, 30 nm or less, 20 nm or less, or 10 nm or less.

ここで、本発明においては、粒子の平均一次粒子径は、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡等によって撮影した画像を元に直接に面積円相当径を計測し、集合数100以上からなる粒子群を解析することで、数平均一次粒子径として求めることができる。 Here, in the present invention, the average primary particle diameter of the particles can be determined as the number average primary particle diameter by directly measuring the equivalent circle diameter based on images taken by a scanning electron microscope, a transmission electron microscope, or the like, and analyzing particle groups consisting of 100 or more aggregates.

なお、無機粒子の粒径が大きすぎる場合は、散乱を生じやすくなるため好ましくないことがあり、また、無機粒子の粒径が小さすぎる場合は、粒子の比表面積が増大することにより粒子表面の活性化を促し、粒子同士の凝集性が著しく高くなり、それによって取り扱い性が低下するため好ましくないことがある。 In addition, if the particle size of the inorganic particles is too large, scattering may occur easily, which may be undesirable. Also, if the particle size of the inorganic particles is too small, the specific surface area of the particles increases, promoting activation of the particle surface, and the cohesion between the particles increases significantly, which may be undesirable as it reduces handleability.

無機粒子、特に金属又は半金属は、ポリマーとの結合に利用できる官能基、例えば水酸基を増加させるために、オゾン処理、紫外線処理等の処理をその表面に行うことができる。 Inorganic particles, particularly metal or metalloid particles, can be treated on their surfaces with ozone, UV light, etc. to increase the functional groups, e.g., hydroxyl groups, available for bonding with the polymer.

(ポリマー)
ポリマー粒子に含有されるポリマーは、オレフィンポリマー、例えばシクロオレフィンポリマーで形成されていてよい。
(polymer)
The polymer contained in the polymer particles may be formed of an olefin polymer, for example, a cycloolefin polymer.

なお、オレフィンポリマーは、オレフィンを主成分として含有するモノマーを重合させることによって得られるポリマー、すなわちオレフィン由来のモノマー部分を50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上、90質量%以上、又は95質量%以上含有するモノマーを重合させることによって得られるポリマーを意味する。オレフィンポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、プロピレン-エチレン共重合体やプロピレン-ブテン共重合体などのα-オレフィンとエチレン若しくはプロピレンとの共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ヘキサジエン-スチレン共重合体、スチレン-ペンタジエン-スチレン共重合体、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体(RPDM)、シクロオレフィンポリマー等が挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのオレフィンポリマーは、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 The olefin polymer refers to a polymer obtained by polymerizing a monomer containing an olefin as a main component, that is, a polymer obtained by polymerizing a monomer containing 50% by mass or more, 60% by mass or more, 70% by mass or more, 80% by mass or more, 90% by mass or more, or 95% by mass or more of a monomer portion derived from an olefin. Examples of olefin polymers include copolymers of α-olefins and ethylene or propylene, such as polyethylene, polypropylene, polybutene, polymethylpentene, propylene-ethylene copolymers and propylene-butene copolymers, styrene-butadiene-styrene block copolymers, styrene-hexadiene-styrene copolymers, styrene-pentadiene-styrene copolymers, ethylene-propylene-diene copolymers (RPDM), and cycloolefin polymers, but the present invention is not limited to these examples. These olefin polymers may be used alone or in combination of two or more types.

これらのオレフィンポリマーのなかでは、特にシクロオレフィンポリマーを挙げることができる。 Among these olefin polymers, cycloolefin polymers can be mentioned in particular.

シクロオレフィンポリマーは、ポリマー主鎖にシクロオレフィン部分を有するポリマーである。このようなシクロオレフィンポリマーとしては、例えば、シクロオレフィンモノマーの開環重合体、シクロオレフィンモノマーの付加重合体、シクロオレフィンモノマーと鎖状オレフィンとの共重合体などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。 Cycloolefin polymers are polymers that have a cycloolefin moiety in the polymer backbone. Examples of such cycloolefin polymers include ring-opening polymers of cycloolefin monomers, addition polymers of cycloolefin monomers, and copolymers of cycloolefin monomers and linear olefins, but the present invention is not limited to these examples.

シクロオレフィンモノマーは、炭素原子で形成される環構造を有し、当該環構造中に炭素-炭素二重結合を有する化合物である。シクロオレフィンモノマーとしては、例えば、2-ノルボルネン、ノルボルナジエンなどの二環体、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエンなどの三環体、テトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、フニルテトラシクロドデセンなどの四環体、トリシクロペンタジエンなどの五環体、テトラシクロペンタジエンなどの七環体などのノルボルネン環を含むモノマーであるノルボルネン系モノマー;シクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロドデセン、1,5-シクロオクタジエンなどの単環シクロオレフィンなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。シクロオレフィンモノマーは、本発明の目的が阻害されない範囲で置換基を有していてもよい。 Cycloolefin monomers are compounds that have a ring structure formed by carbon atoms and have a carbon-carbon double bond in the ring structure. Examples of cycloolefin monomers include norbornene-based monomers that are monomers containing a norbornene ring, such as bicyclic monomers such as 2-norbornene and norbornadiene, tricyclic monomers such as dicyclopentadiene and dihydrodicyclopentadiene, tetracyclic monomers such as tetracyclododecene, ethylidenetetracyclododecene, and phenyltetracyclododecene, pentacyclic monomers such as tricyclopentadiene, and heptacyclic monomers such as tetracyclopentadiene; and monocyclic cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cyclooctene, cyclododecene, and 1,5-cyclooctadiene, but the present invention is not limited to these examples. Cycloolefin monomers may have a substituent within the scope of the present invention.

シクロオレフィンポリマーは、例えば、日本ゼオン(株)製、商品名:ゼオネックス・シリーズ、ゼオノア・シリーズなど、住友ベークライト(株)製、商品名:スミライト・シリーズ、JSR(株)製、商品名:アートン・シリーズ、三井化学(株)製、商品名:アペル・シリーズ、Ticona社製、商品名:Topas、日立化成(株)製、商品名:オプトレッツ・シリーズなどとして商業的に容易に入手することができる。 Cycloolefin polymers are readily available commercially, for example, under the trade names Zeonex series and Zeonor series manufactured by Zeon Corporation, Sumilite series manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., Arton series manufactured by JSR Corporation, APEL series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Topas manufactured by Ticona, and Optretz series manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.

(カップリング剤)
本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子は、さらにカップリング剤を含むことができる。
(Coupling Agent)
The inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure may further include a coupling agent.

本発明におけるカップリング剤は、特に限定されず、好ましくは、無機粒子と組み合わせることができる任意のカップリング剤を用いることができる。具体的にはカップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤を用いることができ、特にシランカップリング剤を用いることができる。 The coupling agent in the present invention is not particularly limited, and any coupling agent that can be combined with inorganic particles can be preferably used. Specifically, the coupling agent may be a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or an aluminate coupling agent, and in particular, a silane coupling agent can be used.

無機粒子含有ポリマー粒子に含有されるポリマーとして、オレフィンポリマー、例えばシクロオレフィンポリマーを用いる場合、カップリング剤としては、これらのポリマーに対する混和性が良好な官能基、例えばアルキル鎖、シクロヘキシル基、ベンゼン環を有するカップリング剤、より具体的には炭素原子数が1~30、1~25、又は1~20のアルキル鎖、シクロヘキシル基、ベンゼン環を有するカップリング剤を用いることができる。カップリング剤及び/又はカップリング剤の加水分解縮合物は、単独もしくは2種以上を併用してもよい。 When an olefin polymer, for example, a cycloolefin polymer, is used as the polymer contained in the inorganic particle-containing polymer particles, the coupling agent may be a coupling agent having a functional group with good miscibility with these polymers, such as an alkyl chain, a cyclohexyl group, or a benzene ring, more specifically, a coupling agent having an alkyl chain, a cyclohexyl group, or a benzene ring having 1 to 30, 1 to 25, or 1 to 20 carbon atoms. The coupling agent and/or the hydrolysis condensate of the coupling agent may be used alone or in combination of two or more kinds.

具体的には、カップリング剤としては、オクタデシルトリエトキシシラン(OTS)、オクチルトリエトキシシラン、トリエトキシフェニルシラン、3-フェニルプロピルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、3-アミノプロピルトリメトシシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン・塩酸塩、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ-アニリノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、オクタデシルジメチル〔3-(トリメトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル〔3-(トリエトキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロライド、γ-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Specifically, coupling agents include octadecyltriethoxysilane (OTS), octyltriethoxysilane, triethoxyphenylsilane, 3-phenylpropyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltriethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, Examples include N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltriethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, octadecyldimethyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, octadecyldimethyl[3-(triethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

無機粒子含有ポリマー粒子がさらにカップリング剤を含有していることによって、無機粒子含有ポリマー粒子と支持基材との間の密着性をさらに向上することができる場合がある。特に、無機粒子を含有していることによって無機粒子含有ポリマー粒子と支持基材との間の密着性が低下する場合に、密着性をさらに向上させうる。 By further containing a coupling agent in the inorganic particle-containing polymer particles, the adhesion between the inorganic particle-containing polymer particles and the supporting substrate may be further improved. In particular, when the adhesion between the inorganic particle-containing polymer particles and the supporting substrate is reduced due to the inclusion of inorganic particles, the adhesion may be further improved.

理論に限定されるものではないが、無機粒子含有ポリマー粒子がさらにカップリング剤を含有している場合には、無機粒子の表面に付着しているカップリング剤が、無機粒子含有ポリマー粒子中における無機粒子の分散性を改良すると考えられ、かつ、残部のカップリング剤が、支持基材(特にポリマー基材)に対する無機粒子含有ポリマー粒子の密着性を改良すると考えられる。 Without being limited by theory, it is believed that when the inorganic particle-containing polymer particles further contain a coupling agent, the coupling agent attached to the surfaces of the inorganic particles improves the dispersibility of the inorganic particles in the inorganic particle-containing polymer particles, and the remaining coupling agent improves the adhesion of the inorganic particle-containing polymer particles to the supporting substrate (particularly the polymer substrate).

無機粒子含有ポリマー粒子がカップリング剤を含有する場合、カップリング剤の含有割合は、例えば、無機粒子とカップリング剤との質量比が、1:99~99:1、5:95~95:5、10:90~90:10、20:80~80:20、30:70~70:30、又は40:60~60:40になるようにすることができる。無機粒子とカップリング剤との質量比が当該範囲であることによって、無機粒子含有ポリマー粒子と支持基材と間の特に良好な密着性を確保できる場合があり、かつ、無機粒子含有ポリマー粒子の一体性及び強度等を良好に確保できる場合がある。 When the inorganic particle-containing polymer particles contain a coupling agent, the content ratio of the coupling agent can be, for example, such that the mass ratio of the inorganic particles to the coupling agent is 1:99 to 99:1, 5:95 to 95:5, 10:90 to 90:10, 20:80 to 80:20, 30:70 to 70:30, or 40:60 to 60:40. By having the mass ratio of the inorganic particles to the coupling agent in this range, it may be possible to ensure particularly good adhesion between the inorganic particle-containing polymer particles and the supporting substrate, and it may be possible to ensure good integrity and strength of the inorganic particle-containing polymer particles.

本開示に係る製造方法で使用される無機粒子含有ポリマー粒子は、その他の添加剤を含むことができる。添加剤としては、硬化促進剤、変色防止剤、界面活性剤、着色剤、及び粘度調整剤を例示することができる。 The inorganic particle-containing polymer particles used in the manufacturing method according to the present disclosure may contain other additives. Examples of additives include a curing accelerator, a discoloration inhibitor, a surfactant, a colorant, and a viscosity modifier.

(無機粒子非含有ポリマー粒子)
無機粒子非含有ポリマー粒子は、ポリマーを含み、かつ無機粒子を含まない。
(Polymer particles not containing inorganic particles)
The inorganic particle-free polymer particles contain a polymer and are free of inorganic particles.

無機粒子非含有ポリマー粒子に含まれるポリマーについては、無機粒子含有ポリマー粒子についての上述の記載を参照することができる。また、無機粒子非含有ポリマー粒子は、無機粒子含有ポリマー粒子について上述したのと同様に、カップリング剤及びその他の添加物を含むことができる。無機粒子非含有ポリマー粒子がさらにカップリング剤を含有していることによって、無機粒子非含有ポリマー粒子と支持基材との間の密着性をさらに向上することができる場合がある。 For the polymer contained in the inorganic particle-free polymer particles, the above description of the inorganic particle-containing polymer particles can be referred to. In addition, the inorganic particle-free polymer particles can contain a coupling agent and other additives, as described above for the inorganic particle-containing polymer particles. When the inorganic particle-free polymer particles further contain a coupling agent, the adhesion between the inorganic particle-free polymer particles and the supporting substrate can be further improved in some cases.

無機粒子非含有ポリマー粒子は、ポリマー溶液に無機粒子が分散している前駆体溶液の代わりにポリマー溶液を前駆体溶液として用いること以外は、無機粒子含有ポリマー粒子に関して上述したスプレードライ法又は再沈殿法と同様にして、製造することができる。 Polymer particles not containing inorganic particles can be produced in the same manner as the spray drying method or reprecipitation method described above for polymer particles containing inorganic particles, except that a polymer solution is used as the precursor solution instead of a precursor solution in which inorganic particles are dispersed in a polymer solution.

(無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物)
ポリマー粒子は、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物であってよい。
(Mixture of polymer particles containing inorganic particles and polymer particles not containing inorganic particles)
The polymer particles may be a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles.

図2は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。図2に係る方法では、ポリマー粒子として、無機粒子含有ポリマー粒子14と無機粒子非含有ポリマー粒子15との混合物を用いている。ポリマー粒子として無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を用いる場合には、無機粒子含有ポリマー粒子中に含有される無機粒子の含有量だけではなく、混合物における無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との割合も調節することができる。したがって、ポリマー粒子として無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を用いることによって、ポリマー粒子層における無機粒子の含有量を、さらに簡便に調節することが可能となる。 Figure 2 shows a schematic diagram of another embodiment of the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. In the method according to Figure 2, a mixture of inorganic particle-containing polymer particles 14 and inorganic particle-free polymer particles 15 is used as the polymer particles. When a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles is used as the polymer particles, it is possible to adjust not only the content of inorganic particles contained in the inorganic particle-containing polymer particles, but also the ratio of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles in the mixture. Therefore, by using a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles as the polymer particles, it is possible to more easily adjust the content of inorganic particles in the polymer particle layer.

無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物における無機粒子含有ポリマー粒子及び無機粒子非含有ポリマー粒子の割合は、特に限定されないが、混合物に含まれる無機粒子非含有ポリマー粒子が、無機粒子含有ポリマー粒子100質量部に対して、0.01質量部以上、0.1質量部以上、1質量部以上、5質量部以上、10質量部以上、若しくは50質量部以上であってよく、かつ/又は、10000質量部以下、1000質量部以下、100質量部以下、若しくは75質量部以下であってよい。 The ratio of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles in a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles is not particularly limited, but the inorganic particle-free polymer particles contained in the mixture may be 0.01 parts by mass or more, 0.1 parts by mass or more, 1 part by mass or more, 5 parts by mass or more, 10 parts by mass or more, or 50 parts by mass or more relative to 100 parts by mass of inorganic particle-containing polymer particles, and/or 10,000 parts by mass or less, 1,000 parts by mass or less, 100 parts by mass or less, or 75 parts by mass or less.

無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物は、無機粒子含有ポリマー粒子及び無機粒子非含有ポリマー粒子を直接に混合して製造してもよく、又は、無機粒子含有ポリマー粒子又は無機粒子非含有ポリマー粒子を含有する適当な分散媒に、無機粒子非含有ポリマー粒子又は無機粒子含有ポリマー粒子を添加して攪拌することによって、製造してもよい。 A mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles may be produced by directly mixing the inorganic particle-containing polymer particles and the inorganic particle-free polymer particles, or by adding the inorganic particle-free polymer particles or the inorganic particle-containing polymer particles to a suitable dispersion medium containing the inorganic particle-containing polymer particles or the inorganic particle-free polymer particles, and stirring the mixture.

〈支持基材提供工程〉
本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の支持基材提供工程では、支持基材を提供する。
<Support base material provision process>
In the support substrate providing step of the polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, a support substrate is provided.

(支持基材) (Support substrate)

支持基材としては、ポリマー基材、無機基材、又は剥離用基材を用いることができる。 The support substrate can be a polymer substrate, an inorganic substrate, or a peelable substrate.

支持基材は任意の形態であってよく、例えば、フィルム状、シート状、プレート状(板状)、管状、棒状、円盤状等であってよい。また、支持基材は任意の大きさであってよい。 The support substrate may be in any shape, such as a film, sheet, plate, tube, rod, or disk. The support substrate may be in any size.

支持基材の厚さは、特に限定されないが、例えば1nm以上、5nm以上、又は10nm以上であってよく、また10cm以下、1cm以下、1mm以下、100μm以下、30μm以下、又は10μm以下、さらには1000nm以下、500nm以下、又は100nm以下であってよい。 The thickness of the support substrate is not particularly limited, but may be, for example, 1 nm or more, 5 nm or more, or 10 nm or more, and may be 10 cm or less, 1 cm or less, 1 mm or less, 100 μm or less, 30 μm or less, or 10 μm or less, or even 1000 nm or less, 500 nm or less, or 100 nm or less.

支持基材上のポリマー粒子層をさらに熱プレス処理する場合には、好ましくは、支持基材を構成する材料として、ポリマー粒子を構成するポリマーのガラス転移温度よりも高いガラス転移温度又は融点を有する材料を用いる。 When the polymer particle layer on the support substrate is further subjected to a heat press treatment, it is preferable to use a material that has a glass transition temperature or melting point higher than the glass transition temperature of the polymer that constitutes the polymer particles as the material that constitutes the support substrate.

(ポリマー基材)
ポリマー基材は、ポリマーを含む。ポリマー基材に含まれるポリマーについては、ポリマー粒子に含まれるポリマーに関する上記の記載を参照することができる。ポリマー基材は、オレフィンポリマー、例えばシクロオレフィンポリマーで形成されていてよい。ポリマー基材は、任意の形状の部材であってよく、例えば膜状又はフィルム状であってよい。ポリマー基材の厚みは、0.5μm以上、1μm以上、2μm以上、5μm以上、又は10μm以上であってよく、1000μm以下、500μm以下、200μm以下、又は100μm以下であってよい。
(Polymer Substrate)
The polymer substrate includes a polymer. For the polymer contained in the polymer substrate, the above description regarding the polymer contained in the polymer particle can be referred to. The polymer substrate may be formed of an olefin polymer, for example, a cycloolefin polymer. The polymer substrate may be a member of any shape, for example, a membrane or film. The thickness of the polymer substrate may be 0.5 μm or more, 1 μm or more, 2 μm or more, 5 μm or more, or 10 μm or more, and may be 1000 μm or less, 500 μm or less, 200 μm or less, or 100 μm or less.

ポリマー基材は、例えば、溶剤に溶解させたポリマーを室温において混合及び攪拌することによって得たポリマー溶液を、ガラス板などの基材上に塗布し、かつ乾燥させることによって得ることができる。このようにして製造されたポリマー基材は、必要に応じて基材から剥離させてよい。ポリマー溶液の塗布過程では、ドクターブレード、グラビアコーターを用いて一定の厚みで塗布を行ってよい。また、塗布後の乾燥過程では、加熱することによって乾燥を行ってよく、例えば、80℃~200℃の温度で1分間~2時間にわたって乾燥を行ってよい。ポリマーを溶解させるための溶剤としては、例えば、トルエンを用いることができる。 The polymer substrate can be obtained, for example, by mixing and stirring a polymer dissolved in a solvent at room temperature to obtain a polymer solution, which is then applied to a substrate such as a glass plate and dried. The polymer substrate thus produced may be peeled off from the substrate as necessary. In the process of applying the polymer solution, a doctor blade or gravure coater may be used to apply the solution at a constant thickness. In the drying process after application, the solution may be dried by heating, for example, at a temperature of 80°C to 200°C for 1 minute to 2 hours. For example, toluene may be used as a solvent for dissolving the polymer.

また、ポリマー基材は、例えば、ポリマーからなる粉体を、ガラス板等の基材又はポリマー粒子層の上に堆積し、堆積された粉体からなる層を熱プレスすることによって、得ることもできる。 The polymer substrate can also be obtained, for example, by depositing a powder made of a polymer on a substrate such as a glass plate or a layer of polymer particles, and then heat-pressing the layer made of the deposited powder.

また、ポリマー基材は、溶融したポリマーをTダイ等の口金から押し出すことによって得たフィルムを延伸し、所望の厚さに成型することによって得ることもできる。 The polymer substrate can also be obtained by extruding molten polymer through a die such as a T-die, stretching the resulting film, and molding it to the desired thickness.

ポリマー基材は、無機粒子を含んでいてもよく、含まなくてもよい。特には、ポリマー基材は、無機粒子を含有しない無機粒子非含有ポリマー基材、又は無機粒子を含有する無機粒子含有ポリマー基材であってよい。 The polymer substrate may or may not contain inorganic particles. In particular, the polymer substrate may be an inorganic particle-free polymer substrate that does not contain inorganic particles, or an inorganic particle-containing polymer substrate that contains inorganic particles.

ポリマー基材が無機粒子を含む場合、ポリマー基材における無機粒子及びポリマーの含有割合は、例えば、ポリマーと無機粒子の体積比が、1:99~99:1、5:95~95:5、10:90~85:15、20:80~80:20、30:70~75:25、又は40:60~70:30になるようにすることができる。 When the polymer substrate contains inorganic particles, the content ratio of the inorganic particles and the polymer in the polymer substrate can be, for example, such that the volume ratio of polymer to inorganic particles is 1:99 to 99:1, 5:95 to 95:5, 10:90 to 85:15, 20:80 to 80:20, 30:70 to 75:25, or 40:60 to 70:30.

また、支持基材としてのポリマー基材は、下記の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体であってもよい:
ポリマー基材及び追加のポリマー基材を有しており、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されており、かつ、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが無機粒子を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体。
The polymer substrate as the supporting substrate may also be the following additional polymer substrate-polymer substrate composites:
An additional polymer substrate-polymer substrate composite comprising a polymer substrate and an additional polymer substrate, the polymer substrate and the additional polymer substrate being disposed at least partially overlapping each other, and at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprising inorganic particles.

上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材は、それぞれ、その主たる面を介して、互いに少なくとも部分的に重なり合っていることが好ましく、互いに重なり合っていることがより好ましい。さらに好ましくは、上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの一方の主たる面が、他方の主たる面を実質的に覆っている。 In the above-mentioned additional polymer substrate-polymer substrate composite, it is preferable that the polymer substrate and the additional polymer substrate at least partially overlap each other via their respective main surfaces, and it is more preferable that they overlap each other. Even more preferably, in the above-mentioned additional polymer substrate-polymer substrate composite, the main surface of one of the polymer substrate and the additional polymer substrate substantially covers the main surface of the other.

あるいは、ポリマー基材は、下記の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体であってもよい:
ポリマー基材、及び、ポリマー基材に積層されている追加のポリマー基材を有しており、かつ、
ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが無機粒子を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体。
Alternatively, the polymer substrate may be an additional polymer substrate-polymer substrate composite as described below:
a polymer substrate and an additional polymer substrate laminated to the polymer substrate;
An additional polymer substrate-polymer substrate composite, wherein at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprises inorganic particles.

好ましくは、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、追加のポリマー基材は、ポリマー基材の主たる面に積層されている。 Preferably, in the additional polymer substrate-polymer substrate composite, the additional polymer substrate is laminated to a major surface of the polymer substrate.

支持基材としての無機粒子非含有ポリマー基材、無機粒子含有ポリマー基材、又は上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、本開示に係る方法によって製造されたものであってよい。 The inorganic particle-free polymer substrate, inorganic particle-containing polymer substrate, or the additional polymer substrate-polymer substrate composite described above as the support substrate may be manufactured by the method according to the present disclosure.

ポリマー粒子が無機粒子を含まない場合、例えばポリマー粒子が無機粒子非含有ポリマー粒子である場合には、支持基材提供工程で提供される支持基材は、無機粒子を含む。 When the polymer particles do not contain inorganic particles, for example, when the polymer particles are inorganic particle-free polymer particles, the support substrate provided in the support substrate providing step contains inorganic particles.

(無機基材)
無機基材を構成する材料は、任意の無機材料であってよく、例えば金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択することができる。具体的には、金属としては、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ニッケル、クロム、鉄、銅、金、銀、タングステン、ジルコニウム、イットリウム、インジウム、イリジウム等を挙げることができ、半金属としては、シリコン、ゲルマニウム、GaAs、InGaAs、InAlAs、LiTaOx、NbTaOx、ZnTe、GaSe、GaP、CdTe、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン等を挙げることができる。したがって、金属酸化物としては、これらの金属の酸化物等を挙げることができ、また半金属酸化物としては、これらの半金属の酸化物等を挙げることができる。シリコンの酸化物としては、石英ガラス、ソーダガラスなどのガラスを挙げることができ、アルミニウムの酸化物としてはサファイア等を挙げることができる。窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等を挙げることができる。炭化物としては、炭化ケイ素を挙げることができる。また、炭素材料としては、ダイヤモンド等を挙げることができる。
(Inorganic Substrate)
The material constituting the inorganic substrate may be any inorganic material, and may be selected from the group consisting of, for example, metals and semimetals, oxides of metals and semimetals, nitrides of metals and semimetals, carbides of metals and semimetals, carbon materials, and combinations thereof. Specifically, metals include aluminum, magnesium, titanium, nickel, chromium, iron, copper, gold, silver, tungsten, zirconium, yttrium, indium, iridium, etc., and semimetals include silicon, germanium, GaAs, InGaAs, InAlAs, LiTaOx, NbTaOx, ZnTe, GaSe, GaP, CdTe, diamond, diamond-like carbon, etc. Therefore, metal oxides include oxides of these metals, etc., and semimetal oxides include oxides of these semimetals, etc. Examples of silicon oxides include glass such as quartz glass and soda glass, and examples of aluminum oxides include sapphire, etc. Examples of nitrides include aluminum nitride, silicon nitride, etc. An example of the carbide is silicon carbide, and an example of the carbon material is diamond.

無機基材を構成する無機材料、特に金属又は半金属は、ポリマー粒子層又は無機粒子含有ポリマー層に含有されるポリマーとの結合に利用できる官能基、例えば水酸基を増加させるために、オゾン処理、紫外線処理等の処理をその表面に行うことができる。 The surface of the inorganic material constituting the inorganic substrate, particularly a metal or semimetal, can be treated with ozone, ultraviolet light, or the like to increase the number of functional groups, such as hydroxyl groups, available for bonding with the polymer contained in the polymer particle layer or inorganic particle-containing polymer layer.

無機基材の上に形成されたポリマー粒子層を熱プレス処理する場合には、無機基材上に安定にポリマー基材を形成する観点から、熱変性ポリマー層の熱変性温度よりも高い融点を有する無機材料を好ましく用いることができる。 When a polymer particle layer formed on an inorganic substrate is subjected to a heat press treatment, from the viewpoint of forming a stable polymer substrate on the inorganic substrate, it is preferable to use an inorganic material having a melting point higher than the thermal modification temperature of the thermally modified polymer layer.

(剥離用基材)
剥離用基材は、特に限定されないが、ポリマー基材からの剥離性に優れているものが好ましい。剥離用基材は、例えば、ガラス板、ポリアミドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリテトラフルオロエチレンなどであってよい。
(Release Substrate)
The release substrate is not particularly limited, but is preferably one that has excellent release properties from the polymer substrate. The release substrate may be, for example, a glass plate, a polyamide film, a polyethylene naphthalate film, a polyethylene sulfide, a polyphenylene oxide, or a polytetrafluoroethylene.

〈堆積工程〉
本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における堆積工程では、支持基材にポリマー粒子を堆積させて、支持基材上にポリマー粒子層を形成する。
<Stacking Process>
In the depositing step in the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, polymer particles are deposited on the support substrate to form a polymer particle layer on the support substrate.

支持基材へのポリマー粒子の堆積は、公知の方法で行ってよく、例えば、ポリマー粒子を分散媒に分散させること等を含む湿式法、電着法、静電吸着法、又はインクジェット法などによって行ってよい。 The deposition of the polymer particles on the support substrate may be carried out by a known method, such as a wet method including dispersing the polymer particles in a dispersion medium, an electrodeposition method, an electrostatic adsorption method, or an inkjet method.

本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様では、堆積工程が、下記の操作を含んでよい:
分散媒にポリマー粒子が分散している分散体を提供すること、及び、
分散体を支持基材上に塗布し、そして乾燥させること。
In one embodiment of the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, the depositing step may include the following operations:
Providing a dispersion in which polymer particles are dispersed in a dispersion medium; and
Coating the dispersion onto a supporting substrate and drying.

図3は、本開示に係る堆積工程の1つの実施態様を概略的に示したものである。図3で示されている方法では、無機粒子含有ポリマー粒子14を分散媒24に分散させて、分散体22を得る。そして、この分散体22を、支持基材100上に、例えばドクターブレード等の機器29を用いて塗布し、かつ乾燥させて、ポリマー粒子層-支持基材複合体210aを得る。 Figure 3 is a schematic diagram of one embodiment of a deposition process according to the present disclosure. In the method shown in Figure 3, inorganic particle-containing polymer particles 14 are dispersed in a dispersion medium 24 to obtain a dispersion 22. This dispersion 22 is then applied onto a support substrate 100 using an instrument 29, such as a doctor blade, and dried to obtain a polymer particle layer-support substrate composite 210a.

(分散)
分散媒にポリマー粒子が分散している分散体を提供する様式は、特に限定されない。例えば、容器内に保持された分散媒にポリマー粒子を投入し、ホモジナイザーなどによって適宜攪拌を行うことによって、分散体を得てよい。
(Dispersion)
The method of providing the dispersion in which the polymer particles are dispersed in the dispersion medium is not particularly limited. For example, the dispersion may be obtained by adding the polymer particles to the dispersion medium held in a container and appropriately stirring the mixture with a homogenizer or the like.

図4は、堆積工程で用いることができる分散体の種々の実施態様を概略的に示す。図4左に示される分散体22′では、分散媒24に無機粒子非含有ポリマー粒子15及び無機粒子含有ポリマー粒子14が分散している。図4右に示される分散体22′′では、分散媒24に無機粒子非含有ポリマー粒子15が分散している。 Figure 4 shows schematics of various embodiments of dispersions that can be used in the deposition process. In the dispersion 22' shown on the left in Figure 4, inorganic particle-free polymer particles 15 and inorganic particle-containing polymer particles 14 are dispersed in a dispersion medium 24. In the dispersion 22'' shown on the right in Figure 4, inorganic particle-free polymer particles 15 are dispersed in a dispersion medium 24.

(分散媒)
堆積工程において使用することができる分散媒は、ポリマー粒子を良好に分散させることができるものであれば特に限定されないが、ポリマー粒子に含まれるポリマー成分を溶解しにくいものであることが好ましい。また、堆積工程において使用することができる分散媒は、支持基材を構成する材料を溶解しにくいものであることが特に好ましい。支持基材を構成する材料を溶解しにくいものを分散媒として用いることによって、支持基材上にポリマー粒子を堆積する際に、支持基材が望ましくない影響を受けることを回避又は抑制することができる。
(Dispersion medium)
The dispersion medium that can be used in the deposition step is not particularly limited as long as it can disperse the polymer particles well, but it is preferable that it is difficult to dissolve the polymer components contained in the polymer particles.Moreover, it is particularly preferable that the dispersion medium that can be used in the deposition step is difficult to dissolve the material that constitutes the support substrate.By using a dispersion medium that is difficult to dissolve the material that constitutes the support substrate, it is possible to avoid or suppress the undesirable influence on the support substrate when the polymer particles are deposited on the support substrate.

特に、支持基材としてポリマー基材を用いる場合、堆積工程で用いる分散媒は、ポリマー基材を構成するポリマー成分を溶解しにくいものであることが好ましい。 In particular, when a polymer substrate is used as the support substrate, it is preferable that the dispersion medium used in the deposition process is one that does not easily dissolve the polymer components that make up the polymer substrate.

堆積工程において使用することができる分散媒としては、水、アルコール、エステル、エーテル溶剤、並びにこれらのうち少なくとも1つを含む混合物が挙げられる。アルコールとしては、例えば、エタノール、2-プロパノール、エチレングリコール、及びターピネオールが挙げられる。 Dispersion media that can be used in the deposition process include water, alcohols, esters, ether solvents, and mixtures containing at least one of these. Examples of alcohols include ethanol, 2-propanol, ethylene glycol, and terpineol.

分散媒の粘度が高い場合には、粘度の高い分散体が得られるため、塗工工程において均一性の高い塗膜が得られる利点がある。そのような観点から、分散媒は、エチレングリコール、ターピネオール等の高粘度溶剤を含むことが好ましい。 When the viscosity of the dispersion medium is high, a highly viscous dispersion is obtained, which has the advantage of producing a highly uniform coating film in the coating process. From this perspective, it is preferable that the dispersion medium contains a high-viscosity solvent such as ethylene glycol or terpineol.

分散媒を構成する溶剤の沸点は、20℃以上、又は50℃以上であることが好ましく、350℃以下、300℃以下、250℃以下、又は230℃以下であることが好ましい。分散媒を構成する溶剤の沸点が上記の範囲であると、塗工中の乾燥による塗工不良が生じにくく、乾燥工程における溶剤の除去性が良い利点がある。 The boiling point of the solvent constituting the dispersion medium is preferably 20°C or higher, or 50°C or higher, and is preferably 350°C or lower, 300°C or lower, 250°C or lower, or 230°C or lower. If the boiling point of the solvent constituting the dispersion medium is within the above range, coating defects due to drying during coating are unlikely to occur, and the solvent can be easily removed in the drying process.

分散媒は、ポリマー粒子に含まれる樹脂との濡れ性の良い分散媒を用いることが好ましい。ポリマー粒子に対する、分散媒の濡れ性が良い場合には、分散体中でのポリマー粒子が良好に分散し、均一かつ欠点の無い塗膜が形成できる利点がある。 It is preferable to use a dispersion medium that has good wettability with the resin contained in the polymer particles. When the dispersion medium has good wettability with the polymer particles, the polymer particles are well dispersed in the dispersion, which has the advantage that a uniform, defect-free coating film can be formed.

また、分散体は、ポリマー粒子の分散媒中での分散性を向上させるため、分散剤を含んでよい。分散剤は、例えば、界面活性剤を用いることができる。 The dispersion may also contain a dispersant to improve the dispersibility of the polymer particles in the dispersion medium. The dispersant may be, for example, a surfactant.

(塗布)
堆積工程の1つの実施態様では、例えば、上記の分散体を支持基材上に塗布し、そして乾燥させる。塗布の方法としては、スピンコート法、ロールコーター法、スプレーコーティング法、ダイコーター法、アプリケータ法、浸漬コーティング法、刷毛塗り、ヘラ塗り、ローラー塗り、カーテンフローコーター法等の溶液を用いる手法等を挙げることができる。堆積工程の塗布過程では、例えばドクターブレードを用いて、一定の厚みで塗布を行ってよい。
(Coating)
In one embodiment of the deposition process, for example, the above dispersion is applied onto a support substrate and then dried. Examples of the application method include a method using a solution such as spin coating, roll coater method, spray coating method, die coater method, applicator method, dip coating method, brush coating, spatula coating, roller coating, curtain flow coater method, etc. In the application process of the deposition process, for example, a doctor blade may be used to apply the solution to a certain thickness.

(乾燥)
堆積工程の1つの実施態様における塗布後の乾燥過程では、加熱することによって乾燥を行ってよく、例えば、100℃~200℃の温度で1分間~2時間にわたって乾燥を行ってよい。例えば、堆積工程において分散体を支持基材に塗布した後に、加熱によって分散媒を除去することによって、乾燥を行ってよい。この場合、加熱条件は、塗膜から分散媒を除去するのに十分な温度及び加熱時間、雰囲気圧力条件を選択することができる。
(Drying)
In one embodiment of the deposition step, the drying step after coating may be performed by heating, for example, at a temperature of 100° C. to 200° C. for 1 minute to 2 hours. For example, after the dispersion is applied to the support substrate in the deposition step, drying may be performed by removing the dispersion medium by heating. In this case, the heating conditions may be selected to be a temperature, heating time, and atmospheric pressure conditions sufficient to remove the dispersion medium from the coating film.

(支持基材-ポリマー粒子層-無機基材複合体の製造方法)
本開示に係る1つの実施態様では、下記の工程を有する方法によって、支持基材-ポリマー粒子層-無機基材複合体を形成することもできる:
本開示の方法に従って、ポリマー粒子層-支持基材複合体を製造すること、
無機基材を提供すること、及び
ポリマー粒子層-支持基材複合体を、ポリマー粒子層が無機基材側に向くようにして、無機基材上に配置すること。
(Method for producing the supporting substrate-polymer particle layer-inorganic substrate composite body)
In one embodiment according to the present disclosure, the support substrate-polymer particle layer-inorganic substrate composite can also be formed by a method having the following steps:
Producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the method of the present disclosure;
Providing an inorganic substrate and disposing a polymer particle layer-support substrate composite on the inorganic substrate with the polymer particle layer facing the inorganic substrate.

ここで、上記の支持基材-ポリマー粒子層-無機基材複合体の製造における支持基材としては、好ましくは、ポリマー基材が用いられる。 Here, a polymer substrate is preferably used as the support substrate in the production of the support substrate-polymer particle layer-inorganic substrate composite.

≪ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法≫
本開示に係る、ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法は、
本開示に係る方法によって、ポリマー粒子層-支持基材複合体を得ること(複合体提供工程)、及び
ポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層を熱プレスすることによって、支持基材上にポリマー基材を形成すること(熱プレス工程)、
を含む。
<Method for producing polymer substrate-support substrate composite>
The method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure includes the steps of:
Obtaining a polymer particle layer-support substrate composite by the method according to the present disclosure (composite providing step); and forming a polymer substrate on the support substrate by heat pressing the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite (heat pressing step).
Includes.

図5は、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図5に示されている製造方法では、ポリマー粒子層-支持基材複合体210aが、支持基材100上に堆積された無機粒子含有ポリマー粒子層160aを有しており、かつ、ポリマー粒子層-支持基材複合体210aを熱プレス処理することによって得られる無機粒子含有ポリマー基材-支持基材複合体220aが、支持基材100上に配置された無機粒子含有ポリマー基材170aを有している。 Figure 5 shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure. In the production method shown in Figure 5, the polymer particle layer-support substrate composite 210a has an inorganic particle-containing polymer particle layer 160a deposited on the support substrate 100, and the inorganic particle-containing polymer substrate-support substrate composite 220a obtained by subjecting the polymer particle layer-support substrate composite 210a to a heat press treatment has an inorganic particle-containing polymer substrate 170a disposed on the support substrate 100.

図5で例示されているポリマー基材-支持基材複合体の製造方法では、本開示に係る方法によって得られるポリマー粒子層-支持基材複合体を用いている。したがって、上記で説明したように、ポリマーを溶解させるための溶剤によって支持基材が望ましくない影響を受けることを回避又は抑制することができる。また、ポリマーを溶解させるための溶剤を低減することができるため、ポリマーを溶解させるための溶剤を用いることに伴う環境負荷、及び健康への望ましくない影響を低減することができる。 The method for producing a polymer substrate-support substrate composite illustrated in FIG. 5 uses a polymer particle layer-support substrate composite obtained by the method according to the present disclosure. Therefore, as explained above, it is possible to avoid or suppress undesirable effects on the support substrate caused by the solvent for dissolving the polymer. In addition, since the amount of the solvent for dissolving the polymer can be reduced, the environmental burden and undesirable effects on health associated with the use of the solvent for dissolving the polymer can be reduced.

さらに、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法は、ポリマー粒子層を熱プレス処理する工程を含むため、ポリマー粒子層と比較して充填性及び強度がさらに優れているポリマー基材を得ることができると考えられる。理論によって限定する意図はないが、ポリマー粒子層には、ポリマー粒子の間に間隙が存在する場合があり、ポリマー粒子層を熱プレスすることによって、このような間隙を低減又は実質的に除去することができると考えられる。結果として、充填性及び強度がさらに優れるポリマー基材を得ることができると考えられる。 Furthermore, since the manufacturing method of the polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure includes a step of heat-pressing the polymer particle layer, it is believed that a polymer substrate having even better packing properties and strength than the polymer particle layer can be obtained. Without intending to be limited by theory, it is believed that gaps may exist between the polymer particles in the polymer particle layer, and that such gaps can be reduced or substantially eliminated by heat-pressing the polymer particle layer. As a result, it is believed that a polymer substrate having even better packing properties and strength can be obtained.

〈複合体提供工程〉
ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法における複合体提供工程では、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法に従って、ポリマー粒子層-支持基材複合体を得る。ポリマー粒子層-支持基材複合体を得る方法については、上述のポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法についての記載を参照することができる。
<Complex Providing Step>
In the composite providing step in the method for producing a polymer substrate-support substrate composite, a polymer particle layer-support substrate composite is obtained according to the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. For the method for obtaining the polymer particle layer-support substrate composite, the description of the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite described above can be referred to.

本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法では、ポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層における無機粒子の含有量を調節することによって、得られるポリマー基材-支持基材複合体のポリマー基材における無機粒子含有量を調節することができる。ポリマー粒子層における無機粒子の含有量の調節は、ポリマー粒子層を構成する無機粒子含有ポリマー粒子中の無機粒子の量を調節することによって行ってもよく、又は、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との割合を調節することによって行ってもよい。 In the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, the content of inorganic particles in the polymer substrate of the resulting polymer substrate-support substrate composite can be adjusted by adjusting the content of inorganic particles in the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite. The content of inorganic particles in the polymer particle layer may be adjusted by adjusting the amount of inorganic particles in the inorganic particle-containing polymer particles that make up the polymer particle layer, or by adjusting the ratio of inorganic particle-containing polymer particles to inorganic particle-free polymer particles.

〈熱プレス工程〉
ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法における熱プレス工程では、上記の複合体提供工程で提供されるポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層を熱プレスすることによって、支持基材上にポリマー基材を形成する。
<Heat pressing process>
In the heat pressing step in the manufacturing method of the polymer substrate-support substrate composite, the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite provided in the above-mentioned composite providing step is heat pressed to form a polymer substrate on the support substrate.

熱プレスを行う様式は、特に限定されない。熱プレスとしては、例えば、真空加熱プレス機を用いた真空熱プレスを挙げることができる。熱プレスの温度は、ポリマー粒子を構成するポリマーの熱変性温度以上であることが好ましい。熱プレスは、例えば、真空条件(例えば0~10Pa)で行ってよく、100℃~300℃の温度条件下で行ってよく、かつ、1分間から10時間にわたって行ってよい。熱プレスは、例えば、0.1~1000MPa、0.2~500MPa、0.5~500MPa、1~200MPa、2~100MPa、5~100MPa、10~70MPaの加圧条件で行ってよい。 The manner in which the heat press is performed is not particularly limited. For example, the heat press may be vacuum heat press using a vacuum heating press. The temperature of the heat press is preferably equal to or higher than the thermal denaturation temperature of the polymer that constitutes the polymer particles. The heat press may be performed, for example, under vacuum conditions (e.g., 0 to 10 Pa), or under temperature conditions of 100°C to 300°C, and may be performed for 1 minute to 10 hours. The heat press may be performed, for example, under pressure conditions of 0.1 to 1000 MPa, 0.2 to 500 MPa, 0.5 to 500 MPa, 1 to 200 MPa, 2 to 100 MPa, 5 to 100 MPa, or 10 to 70 MPa.

〈支持基材としてのポリマー基材〉
本開示に係る1つの実施態様では、ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法において、支持基材として、ポリマー基材を用いる。
<Polymer Substrate as Support Substrate>
In one embodiment according to the present disclosure, in the method for producing a polymer substrate-support substrate composite, a polymer substrate is used as the support substrate.

図6Aは、支持基材として無機粒子非含有ポリマー基材を用いることを含む、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図6Aに示されている製造方法では、支持基材としての無機粒子非含有ポリマー基材150上に堆積された無機粒子含有ポリマー粒子層160aを有しているポリマー粒子層-支持基材複合体212aを熱プレス処理することによって、無機粒子含有ポリマー基材-支持基材複合体222aを得ている。得られた無機粒子含有ポリマー基材-支持基材複合体222aは、支持基材としての無機粒子非含有ポリマー基材150上に配置された無機粒子含有ポリマー基材170aを有している。 Figure 6A shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, which includes using a polymer substrate that does not contain inorganic particles as a support substrate. In the production method shown in Figure 6A, a polymer particle layer-support substrate composite 212a having an inorganic particle-containing polymer particle layer 160a deposited on an inorganic particle-free polymer substrate 150 as a support substrate is heat-pressed to obtain an inorganic particle-containing polymer substrate-support substrate composite 222a. The obtained inorganic particle-containing polymer substrate-support substrate composite 222a has an inorganic particle-containing polymer substrate 170a disposed on an inorganic particle-free polymer substrate 150 as a support substrate.

従来から、無機粒子及びポリマーを含有する無機粒子含有ポリマーと無機粒子非含有ポリマーとが積層されている複合体が、例えば光学用部材として用いられてきた。従来の方法では、無機粒子非含有ポリマー基材上に無機粒子含有ポリマーを配置する際に、ポリマーを溶剤に溶解させたポリマー溶液に無機粒子を含有させて塗布していた。しかしながら、この方法では、塗布の際に、ポリマーを溶解させるための溶剤によってポリマー基材が溶解し、結果として得られる複合体の品質が低下するおそれがあった。 Conventionally, composites in which inorganic particle-containing polymers containing inorganic particles and polymers are laminated with inorganic particle-free polymers have been used, for example, as optical components. In conventional methods, when placing an inorganic particle-containing polymer on an inorganic particle-free polymer substrate, inorganic particles are added to a polymer solution in which the polymer is dissolved in a solvent, and then the solution is applied. However, with this method, the polymer substrate is dissolved by the solvent for dissolving the polymer during application, and there is a risk of the quality of the resulting composite being degraded.

これに対して、図6Aで例示されている方法では、ポリマー溶液を塗布する代わりにポリマー粒子の堆積を行うことによって、無機粒子含有ポリマー層が支持基材としてのポリマー基材上に配置されている複合体を得ることができるため、ポリマーを溶解させるための溶剤が低減されている。そのため、溶剤によってポリマー基材が溶解してしまうという問題を回避又は抑制することができ、結果として、製造される複合体の良好な性質を確保することができる。また、本開示に係る方法によって得られる、支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、従来のポリマー溶液によって堆積を行う方法と比較して、ポリマー基材間の界面の平坦性が向上している。 In contrast, in the method illustrated in FIG. 6A, instead of applying a polymer solution, deposition of polymer particles is performed to obtain a composite in which an inorganic particle-containing polymer layer is disposed on a polymer substrate as a support substrate, and the amount of solvent used to dissolve the polymer is reduced. Therefore, the problem of the polymer substrate being dissolved by the solvent can be avoided or suppressed, and as a result, good properties of the composite produced can be ensured. In addition, the polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate obtained by the method according to the present disclosure has improved flatness of the interface between the polymer substrates compared to the conventional method of deposition using a polymer solution.

さらに、無機粒子含有ポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、ポリマーのみからなる基材と比較して、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、無機粒子含有ポリマー基材は、ポリマーのみからなる層とは異なる屈折率を有しうると考えられるため、無機粒子含有ポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、優れた反射・透過特性、特には優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 Furthermore, a polymer substrate-support substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate has physical properties that are useful for various applications, compared to a substrate consisting of only a polymer. For example, since it is believed that an inorganic particle-containing polymer substrate may have a refractive index different from that of a layer consisting of only a polymer, a polymer substrate-support substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate is believed to be useful as an optical component having excellent reflection and transmission properties, particularly excellent anti-reflection properties.

本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様では、支持基材として、無機粒子含有ポリマー基材を用いることもできる。 In another embodiment of the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, a polymer substrate containing inorganic particles can also be used as the support substrate.

図6Bは、支持基材として無機粒子含有ポリマー基材を用いることを含む、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。 Figure 6B shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, which includes using an inorganic particle-containing polymer substrate as the support substrate.

図6Bでは、支持基材としての無機粒子含有ポリマー基材170a上に堆積された無機粒子非含有ポリマー粒子層160を有しているポリマー粒子層-支持基材複合体213aを熱プレス処理することによって、ポリマー基材-支持基材複合体222aを得ている。ポリマー基材-支持基材複合体222aは、支持基材としての無機粒子含有ポリマー基材170a上に配置された無機粒子非含有ポリマー基材150を有している。 In FIG. 6B, a polymer particle layer-support substrate composite 213a having an inorganic particle-free polymer particle layer 160 deposited on an inorganic particle-containing polymer substrate 170a as a support substrate is heat-pressed to obtain a polymer substrate-support substrate composite 222a. The polymer substrate-support substrate composite 222a has an inorganic particle-free polymer substrate 150 disposed on an inorganic particle-containing polymer substrate 170a as a support substrate.

図6A及び図6Bで示される製造工程は、互いに異なる工程を有しているが、結果として得られる複合体は、同一の構成を有している。したがって、本開示によれば、特定の構成を有する複合体を製造するために、複数の選択肢を提供することができる。 The manufacturing processes shown in Figures 6A and 6B have different steps, but the resulting composite has the same configuration. Therefore, the present disclosure can provide multiple options for manufacturing a composite having a specific configuration.

図6Cは、支持基材として無機粒子含有ポリマー基材を用いることを含む、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の、別の実施態様を概略的に示す。図6Cでは、ポリマー粒子層-支持基材複合体213bが、支持基材としての無機粒子含有ポリマー基材170a上に堆積された無機粒子含有ポリマー粒子層160bを有しており、かつ、熱プレスによって得られるポリマー基材-支持基材複合体222bが、支持基材としての無機粒子含有ポリマー基材170a上に配置された無機粒子含有ポリマー基材170bを有している。 Figure 6C shows a schematic diagram of another embodiment of the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, which includes using an inorganic particle-containing polymer substrate as the support substrate. In Figure 6C, the polymer particle layer-support substrate composite 213b has an inorganic particle-containing polymer particle layer 160b deposited on the inorganic particle-containing polymer substrate 170a as the support substrate, and the polymer substrate-support substrate composite 222b obtained by heat pressing has an inorganic particle-containing polymer substrate 170b disposed on the inorganic particle-containing polymer substrate 170a as the support substrate.

図6Cにおいて、無機粒子含有ポリマー基材170bは、無機粒子含有ポリマー基材170aと比較して、無機粒子の含有量が低い。すなわち、ポリマー基材-支持基材複合体222bは、積層方向に沿って無機粒子の含有量が増加又は減少する無機粒子含有量の勾配を有している。このような無機粒子含有量の勾配を形成するために、図6Cに係る方法では、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を用い、かつ混合物における無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との割合を調節することによって、無機粒子含有ポリマー基材170bにおける無機粒子の含有量が、無機粒子含有ポリマー基材170aよりも低い値となるようにしている。 In FIG. 6C, the inorganic particle-containing polymer substrate 170b has a lower inorganic particle content than the inorganic particle-containing polymer substrate 170a. That is, the polymer substrate-support substrate composite 222b has a gradient of inorganic particle content in which the inorganic particle content increases or decreases along the stacking direction. In order to form such a gradient of inorganic particle content, the method according to FIG. 6C uses a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles, and adjusts the ratio of inorganic particle-containing polymer particles to inorganic particle-free polymer particles in the mixture so that the inorganic particle content in the inorganic particle-containing polymer substrate 170b is lower than that in the inorganic particle-containing polymer substrate 170a.

したがって、本開示に係る方法によれば、無機粒子の含有量が互いに異なっている2つのポリマー基材を有する複合体を、優れた品質を確保しつつ、比較的簡便に製造することができる。 Therefore, according to the method of the present disclosure, a composite having two polymer substrates with different inorganic particle contents can be produced relatively easily while ensuring excellent quality.

また、無機粒子含有量が異なる2つの無機粒子含有ポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、ポリマーのみからなる基材と比較して、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、この複合体では、隣り合う無機粒子含有ポリマー基材の間での無機粒子含有量の差を調節することによって、構成部材間における屈折率を調節することが可能であるため、優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 In addition, a polymer substrate-support substrate composite having two inorganic particle-containing polymer substrates with different inorganic particle contents has physical properties that are useful for a variety of applications, compared to a substrate consisting of only a polymer. For example, this composite is considered to be useful as an optical component with excellent anti-reflection properties, since it is possible to adjust the refractive index between the constituent members by adjusting the difference in inorganic particle content between adjacent inorganic particle-containing polymer substrates.

本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の別の実施態様では、支持基材として、下記の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を用いることができる:
ポリマー基材及び追加のポリマー基材を有しており、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されており、かつ、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが無機粒子を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体。
In another embodiment of the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, the following additional polymer substrate-polymer substrate composites can be used as the support substrate:
An additional polymer substrate-polymer substrate composite comprising a polymer substrate and an additional polymer substrate, the polymer substrate and the additional polymer substrate being disposed at least partially overlapping each other, and at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprising inorganic particles.

支持基材としての追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体については、ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における支持基材に関する上述の記載を参照することができる。追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、例えば、図6A~図6Cに例示される複合体222a又は222bであってよい。 For the additional polymer substrate-polymer substrate composite as the support substrate, the above description regarding the support substrate in the manufacturing method of the polymer particle layer-support substrate composite can be referred to. The additional polymer substrate-polymer substrate composite may be, for example, the composite 222a or 222b illustrated in Figures 6A to 6C.

図7A及び図7Bは、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を用いることを含む、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図7A及び図7Bに示されているポリマー粒子層-支持基材複合体322a、322bは、それぞれ、支持基材として、2つのポリマー基材を有する複合体222a、222bを有しており、かつ、それぞれ、ポリマー粒子層160a、160cを有している。複合体222a及び222bは、図6A及び図6Bで記載したものと同一の構成を有している。 Figures 7A and 7B are schematic diagrams illustrating one embodiment of a method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, including using a composite having two polymer substrates as the support substrate. The polymer particle layer-support substrate composites 322a and 322b shown in Figures 7A and 7B each have a composite having two polymer substrates 222a and 222b as the support substrate, respectively, and each have a polymer particle layer 160a and 160c, respectively. The composites 222a and 222b have the same configuration as described in Figures 6A and 6B.

図7Aの複合体322aでは、複合体222aを構成している無機粒子非含有ポリマー基材150の上に無機粒子含有ポリマー粒子層160aが形成されている。この複合体322aを熱プレスすることによって得られる複合体332aは、2つの無機粒子含有ポリマー基材170a、170a′、及び、これらによって挟持されている無機粒子非含有ポリマー基材150を、有している。 In the composite 322a in FIG. 7A, an inorganic particle-containing polymer particle layer 160a is formed on the inorganic particle-free polymer substrate 150 constituting the composite 222a. The composite 332a obtained by heat pressing this composite 322a has two inorganic particle-containing polymer substrates 170a, 170a' and the inorganic particle-free polymer substrate 150 sandwiched between them.

また、図7Bの複合体322bでは、複合体222bを構成している2つの無機粒子含有ポリマー基材のうち、比較的低い無機粒子含有量を有している170b上に、無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物から構成されるポリマー粒子層160cが形成されている。この複合体322bを熱プレス処理することによって得られる複合体332bは、3つの無機粒子含有ポリマー基材170a、170b、170cを有しており、これらの基材は、積層方向に沿った無機粒子含有量の勾配を有するように積層されている。 In the composite 322b of FIG. 7B, a polymer particle layer 160c composed of a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles is formed on 170b, which is one of the two inorganic particle-containing polymer substrates constituting composite 222b and has a relatively low inorganic particle content. Composite 332b obtained by subjecting this composite 322b to a heat press treatment has three inorganic particle-containing polymer substrates 170a, 170b, and 170c, which are stacked so as to have a gradient of inorganic particle content along the stacking direction.

支持基材としての2つのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、これらの複合体では、隣り合う無機粒子含有ポリマー基材の間での無機粒子含有量の差を調節することによって、構成部材間における屈折率を調節することが可能であるため、優れた透過・反射特性、特には優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。特に、図7A及びBで例示される複合体は3つのポリマー基材を有しているため、光学特性をさらに細かく調節することが可能であると考えられる。 Polymer substrate-support substrate composites having two polymer substrates as support substrates have physical properties that are useful for a variety of applications. For example, in these composites, it is possible to adjust the refractive index between the constituent members by adjusting the difference in inorganic particle content between adjacent inorganic particle-containing polymer substrates, and therefore it is believed that they are useful as optical components having excellent transmission and reflection properties, particularly excellent anti-reflection properties. In particular, the composite exemplified in Figures 7A and B has three polymer substrates, and therefore it is believed that the optical properties can be adjusted even more finely.

(支持基材が剥離用基材に保持されている態様)
本開示に係る1つの実施態様では、支持基材が剥離用基材上に保持されており、かつ、ポリマー粒子層を熱プレスする前に、又はポリマー粒子層を熱プレスした後に、この剥離用基材からポリマー基材を剥がす。
(An embodiment in which the supporting substrate is held by the peeling substrate)
In one embodiment according to the present disclosure, the support substrate is held on a release substrate, and the polymer substrate is peeled off from the release substrate before or after the polymer particle layer is heat pressed.

図8Aに示されている方法では、支持基材としてのポリマー基材150が、剥離用基材190の上に保持されている。本開示に係る方法によって、支持基材としてのポリマー基材150の上に無機粒子含有ポリマー粒子層160aを形成した後に、熱プレス処理によって、ポリマー基材-支持基材複合体222aと剥離用基材190との複合体226aを得る。そして、この複合体226aにおいて、剥離用基材190からポリマー基材-支持基材複合体222aを剥がすことによって、ポリマー基材-支持基材複合体222aを得る。 In the method shown in FIG. 8A, the polymer substrate 150 as the support substrate is held on the peeling substrate 190. After forming the inorganic particle-containing polymer particle layer 160a on the polymer substrate 150 as the support substrate by the method according to the present disclosure, a composite 226a of the polymer substrate-support substrate composite 222a and the peeling substrate 190 is obtained by a heat press treatment. Then, in this composite 226a, the polymer substrate-support substrate composite 222a is peeled off from the peeling substrate 190 to obtain the polymer substrate-support substrate composite 222a.

また、本開示に係る別の実施態様では、ポリマー粒子層を熱プレスする前に、上記剥離用基材から、支持基材としてのポリマー基材を剥がしてもよい。すなわち、例えば、図8Bで見られるように、剥離用基材190上に支持基材としてのポリマー基材150を形成し、かつポリマー基材150の上に無機粒子含有ポリマー粒子層160aを形成することによって、ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体と剥離用基材との複合体216aを得た後に、この複合体216aにおいて、剥離用基材190からポリマー粒子層-支持基材複合体212aを剥がすことによって、ポリマー粒子層-支持複合体212aを得てよい。さらに、このようにして得られたポリマー粒子層-支持基材複合体212aに熱プレス処理を行うことによって、ポリマー基材-支持基材複合体222aを製造することができる。 In another embodiment of the present disclosure, the polymer substrate as a support substrate may be peeled off from the peeling substrate before the polymer particle layer is heat-pressed. That is, for example, as shown in FIG. 8B, a polymer substrate 150 as a support substrate is formed on a peeling substrate 190, and an inorganic particle-containing polymer particle layer 160a is formed on the polymer substrate 150 to obtain a composite 216a of the polymer particle layer-polymer substrate composite and the peeling substrate, and then the polymer particle layer-support substrate composite 212a is peeled off from the peeling substrate 190 in the composite 216a to obtain a polymer particle layer-support composite 212a. Furthermore, the polymer substrate-support substrate composite 222a can be manufactured by subjecting the polymer particle layer-support substrate composite 212a thus obtained to a heat press treatment.

支持基材を保持するための剥離用基材は、特に限定されない。剥離基材からポリマー含有層を剥がす際の剥離性が良好であることから、剥離用基材は、ガラス板、ポリアミドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリテトラフルオロエチレンであることが好ましい。 The release substrate for holding the support substrate is not particularly limited. The release substrate is preferably a glass plate, a polyamide film, a polyethylene naphthalate film, a polyethylene sulfide, a polyphenylene oxide, or a polytetrafluoroethylene, because these substrates have good releasability when peeling the polymer-containing layer from the release substrate.

支持基材が剥離用基材に保持されている上記の製造方法によれば、ポリマー粒子層を形成する際、及び/又は、ポリマー粒子層を熱プレスする際などに、支持基材を外部環境から保護することが可能となり、得られる複合体の品質をさらに向上させることができる場合がある。 According to the above manufacturing method in which the support substrate is held by the release substrate, it is possible to protect the support substrate from the external environment when forming the polymer particle layer and/or when the polymer particle layer is heat pressed, and in some cases, the quality of the obtained composite can be further improved.

〈支持基材として無機基材を用いる態様〉
本開示に係る1つの実施態様では、ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法において、支持基材として無機基材を用いる。
<Aspect of using an inorganic substrate as a supporting substrate>
In one embodiment according to the present disclosure, in the method for producing a polymer substrate-support substrate composite, an inorganic substrate is used as the support substrate.

図9は、支持基材として無機基材を使用した場合の、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図9に示されている実施態様では、本開示に係る方法によって、支持基材としての無機基材180上に堆積された無機粒子含有ポリマー粒子層160aを有しているポリマー粒子層-支持基材複合体421aを製造する。そして、得られたポリマー粒子層-支持基材複合体421aのポリマー粒子層160aを熱プレスし、支持基材としての無機基材180上に無機粒子含有ポリマー基材170aを形成して、ポリマー基材-支持基材複合体420aを得る。得られたポリマー基材-支持基材複合体420aは、支持基材としての無機基材180上に配置された無機粒子含有ポリマー基材170aを有している。 Figure 9 shows a schematic diagram of one embodiment of the method for producing a polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure when an inorganic substrate is used as the support substrate. In the embodiment shown in Figure 9, a polymer particle layer-support substrate composite 421a having an inorganic particle-containing polymer particle layer 160a deposited on an inorganic substrate 180 as the support substrate is produced by the method according to the present disclosure. Then, the polymer particle layer 160a of the obtained polymer particle layer-support substrate composite 421a is heat-pressed to form an inorganic particle-containing polymer substrate 170a on the inorganic substrate 180 as the support substrate, thereby obtaining a polymer substrate-support substrate composite 420a. The obtained polymer substrate-support substrate composite 420a has an inorganic particle-containing polymer substrate 170a disposed on the inorganic substrate 180 as the support substrate.

支持基材として無機基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、例えば無機基材と比較して異なる物理的性質を有しており、種々の用途、特に光学部材として有用である。例えば、ポリマー基材として無機粒子含有ポリマー基材を有しかつ支持基材として無機基材を有するポリマー基材-支持基材複合体は、無機粒子非含有ポリマー基材と無機基材とからなる複合体と比較して、構成部材間での屈折率の差異が低減されており、その結果として、複合体における反射率が低減されていると考えられる。 A polymer substrate-support substrate composite having an inorganic substrate as the support substrate has different physical properties compared to, for example, inorganic substrates, and is useful in a variety of applications, particularly as an optical component. For example, a polymer substrate-support substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate and an inorganic substrate as the support substrate has a reduced difference in refractive index between the constituent members compared to a composite consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles and an inorganic substrate, and as a result, it is believed that the reflectance of the composite is reduced.

〈支持基材として剥離用基材を用いる態様〉
本開示に係る1つの実施態様では、ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法において、支持基材として剥離用基材を用いる。
<Aspect of using a release substrate as a supporting substrate>
In one embodiment according to the present disclosure, in the method for producing a polymer substrate-support substrate composite, a release substrate is used as the support substrate.

特に、本開示によれば、支持基材として剥離用基材と用いることによって、ポリマー基材を製造することができる。すなわち、本開示は、下記を含む、ポリマー基材の製造方法を含む:
支持基材として剥離用基材を用いて、本開示に係る方法によって、ポリマー基材-支持基材複合体を得ること(複合体提供工程)、
ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である前記支持基材から前記ポリマー基材を剥がすことによって、ポリマー基材を得ること(剥離工程)。
In particular, according to the present disclosure, a polymer substrate can be produced by using a release substrate as a supporting substrate. That is, the present disclosure includes a method for producing a polymer substrate, including:
Obtaining a polymer substrate-support substrate composite by the method according to the present disclosure using a release substrate as the support substrate (composite providing step);
In the polymer substrate-support substrate complex, the polymer substrate is peeled off from the support substrate, which is a peeling substrate, to obtain the polymer substrate (peeling step).

図10Aは、支持基材として剥離用基材190を用いることによって、無機粒子非含有ポリマー基材150を得る方法の概略図を示している。図10Aに示されている方法では、ポリマー粒子として無機粒子非含有ポリマー粒子を用い、かつ支持基材として剥離用基材190を用いることによって、本開示に係る方法によってポリマー粒子層-支持基材複合体216bを製造している。そして、このポリマー粒子層-支持基材複合体216bにおける無機粒子非含有ポリマー粒子層160を熱プレスすることによって剥離用基材190上に無機粒子非含有ポリマー基材150を形成して、ポリマー基材-支持基材複合体226bを得る。そして、剥離用基材190から無機粒子非含有ポリマー基材150を剥がすことによって、ポリマー基材としての無機粒子非含有ポリマー基材150を得ている。 Figure 10A shows a schematic diagram of a method for obtaining an inorganic particle-free polymer substrate 150 by using a peeling substrate 190 as a support substrate. In the method shown in Figure 10A, a polymer particle layer-support substrate composite 216b is produced by the method according to the present disclosure, using inorganic particle-free polymer particles as the polymer particles and a peeling substrate 190 as the support substrate. Then, the inorganic particle-free polymer particle layer 160 in this polymer particle layer-support substrate composite 216b is heat-pressed to form an inorganic particle-free polymer substrate 150 on the peeling substrate 190, thereby obtaining a polymer substrate-support substrate composite 226b. Then, the inorganic particle-free polymer substrate 150 is peeled off from the peeling substrate 190 to obtain an inorganic particle-free polymer substrate 150 as a polymer substrate.

図10Bは、ポリマー粒子として無機粒子含有ポリマー粒子を用いること以外は、図10Aと同様の方法によって、ポリマー基材としての無機粒子含有ポリマー基材170aを得る方法を示している。 Figure 10B shows a method for obtaining an inorganic particle-containing polymer substrate 170a as a polymer substrate by a method similar to that shown in Figure 10A, except that inorganic particle-containing polymer particles are used as the polymer particles.

ポリマー基材を得るための上記の本開示に係る製造方法では、適当な剥離用基材を選択することによって、無機粒子含有ポリマー基材の剥離を比較的容易に行うことができる。 In the manufacturing method according to the present disclosure for obtaining a polymer substrate, peeling of the inorganic particle-containing polymer substrate can be performed relatively easily by selecting an appropriate substrate for peeling.

また、本開示に係る製造方法によって得られる無機粒子含有ポリマー基材は、無機粒子を含有していることに起因して、例えばポリマーのみからなるポリマー基材とは異なる物理的性質を有している。特に、無機粒子含有ポリマー基材は、屈折率に関して、無機基材とポリマーとの間の中間的な値を有しうるため、例えば光学用途において有用である。具体的には、例えば、無機基材とポリマーとの屈折率の差が大きい場合に、その差に起因する問題、例えば反射率の増加の問題を低減するために、無機粒子含有ポリマー基材を用いることができる。 In addition, the inorganic particle-containing polymer substrate obtained by the manufacturing method according to the present disclosure has physical properties different from those of, for example, a polymer substrate consisting only of a polymer due to the inclusion of inorganic particles. In particular, the inorganic particle-containing polymer substrate can have an intermediate refractive index value between the inorganic substrate and the polymer, and is therefore useful, for example, in optical applications. Specifically, for example, when there is a large difference in refractive index between the inorganic substrate and the polymer, the inorganic particle-containing polymer substrate can be used to reduce problems caused by the difference, such as an increase in reflectance.

(複合体提供工程)
本開示に係るポリマー基材の製造方法の複合体提供工程では、支持基材として剥離用基材を用いて、本開示に係る方法によって、ポリマー基材-支持基材複合体を得る。ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法については、上記の記載を参照することができる。
(Complex providing step)
In the composite providing step of the method for producing a polymer substrate according to the present disclosure, a release substrate is used as the supporting substrate, and a polymer substrate-supporting substrate composite is obtained by the method according to the present disclosure. The above description can be referred to for the method for producing a polymer substrate-supporting substrate composite.

(剥離用基材)
本開示に係るポリマー基材の製造方法で支持基材として用いられる剥離用基材は、特に限定されないが、ポリマー基材からの剥離性に優れているものが好ましい。剥離用基材については、上述の記載を参照することができる。
(Release Substrate)
The release substrate used as the supporting substrate in the method for producing a polymer substrate according to the present disclosure is not particularly limited, but is preferably one that has excellent releasability from the polymer substrate. For the release substrate, the above description can be referred to.

(剥離工程)
本開示に係るポリマー基材の製造方法の剥離工程では、ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である前記支持基材から前記ポリマー基材を剥がすことによって、ポリマー基材を得る。剥離の方法は、特に限定されず、公知の方法で行うことができる。
(Peeling process)
In the peeling step of the method for producing a polymer substrate according to the present disclosure, the polymer substrate is obtained by peeling the polymer substrate from the supporting substrate, which is a substrate for peeling, in the polymer substrate-supporting substrate composite. The peeling method is not particularly limited and can be performed by a known method.

≪基材を重ね合わせることを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法を含んでいる:
本開示に係る方法によって、ポリマー基材を製造すること(基材製造工程)、
追加のポリマー基材を提供すること(基材提供工程)、及び、
ポリマー基材と追加のポリマー基材とを互いに重ね合わせること(配置工程)。
<<Method for producing additional polymer substrate-polymer substrate composite, including overlapping substrates>>
The present disclosure includes additional methods of making polymer substrate-polymer substrate composites, including:
Producing a polymer substrate by the method according to the present disclosure (substrate production step);
Providing an additional polymer substrate (substrate providing step); and
Laminating the polymer substrate and the additional polymer substrate onto one another (positioning step).

図11に示される方法では、本開示に係る方法によって無機粒子含有ポリマー基材170aを製造し、かつ、追加のポリマー基材として、無機粒子非含有ポリマー基材150を提供する。そして、無機粒子含有ポリマー基材170aと無機粒子非含有ポリマー基材150とを互いに重ね合わせて、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体222a′を得ている。 In the method shown in FIG. 11, an inorganic particle-containing polymer substrate 170a is produced by the method according to the present disclosure, and an inorganic particle-free polymer substrate 150 is provided as an additional polymer substrate. The inorganic particle-containing polymer substrate 170a and the inorganic particle-free polymer substrate 150 are then stacked on top of each other to obtain an additional polymer substrate-polymer substrate composite 222a'.

追加のポリマー基材として無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、ポリマーのみからなる基材と比較して、種々の用途に有用な物理的特性を有する。特に、無機粒子含有ポリマー基材は、ポリマーのみからなる層とは異なる屈折率を有しうると考えられるため、当該複合体は、優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 An additional polymer substrate-polymer substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate as the additional polymer substrate has physical properties that are useful for various applications, compared to a substrate consisting of only a polymer. In particular, since it is believed that the inorganic particle-containing polymer substrate may have a refractive index different from that of a layer consisting of only a polymer, the composite is believed to be useful as an optical component having excellent anti-reflection properties.

〈基材製造工程〉
本開示に係る、基材を重ね合わせることを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法における基材製造工程では、本開示に係る方法によって、ポリマー基材を製造する。ポリマー基材の製造方法については、上記の記載を参照することができる。
<Substrate manufacturing process>
In the substrate manufacturing step of the additional method for manufacturing a polymer substrate-polymer substrate composite including overlapping substrates according to the present disclosure, a polymer substrate is manufactured by the method according to the present disclosure. The above description of the method for manufacturing a polymer substrate can be referred to.

〈基材提供工程〉
本開示に係る、基材を重ね合わせることを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法における基材提供工程では、追加のポリマー基材を提供する。追加のポリマー基材としては、無機基材含有ポリマー基材又は無機基材非含有ポリマー基材が挙げられる。追加のポリマー基材としての無機基材含有ポリマー基材又は無機基材非含有ポリマー基材については、上記の記載を参照することができる。追加のポリマー基材としての無機基材含有ポリマー基材又は無機基材非含有ポリマー基材は、本開示に係るポリマー基材の製造方法によって製造されたものであってよい。
<Substrate provision process>
In the substrate providing step in the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite including overlapping substrates according to the present disclosure, an additional polymer substrate is provided. The additional polymer substrate may be an inorganic substrate-containing polymer substrate or an inorganic substrate-free polymer substrate. For the inorganic substrate-containing polymer substrate or inorganic substrate-free polymer substrate as the additional polymer substrate, reference may be made to the above description. The inorganic substrate-containing polymer substrate or inorganic substrate-free polymer substrate as the additional polymer substrate may be one produced by the method for producing a polymer substrate according to the present disclosure.

〈配置工程〉
本開示に係る、基材を重ね合わせることを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法における配置工程では、ポリマー基材と追加のポリマー基材とを、互いに重ね合わせる。配置工程では、好ましくは、ポリマー基材と追加のポリマー基材とを、それらの主たる面を介して、互いに少なくとも部分的に重なり合うように、特には互いに重なり合うように、重ね合わせる。より好ましくは、ポリマー基材と追加のポリマー基材とを、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの一方の主たる面が、他方の主たる面を実質的に覆うように、互いに重ね合わせる。
Placement process
In the arranging step in the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite including overlapping substrates according to the present disclosure, the polymer substrate and the additional polymer substrate are overlapped with each other. In the arranging step, the polymer substrate and the additional polymer substrate are preferably overlapped with each other via their main surfaces so as to at least partially overlap with each other, in particular so as to overlap with each other. More preferably, the polymer substrate and the additional polymer substrate are overlapped with each other so that the main surface of one of the polymer substrate and the additional polymer substrate substantially covers the main surface of the other.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、配置工程で得られた追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。複合体に対して熱圧着処理を行うことによって、追加のポリマー基材とポリマー基材との密着性がさらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関する下記の記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the additional polymer substrate-polymer substrate composite obtained in the disposing step can be further subjected to a thermocompression treatment. By subjecting the composite to a thermocompression treatment, the adhesion between the additional polymer substrate and the polymer substrate can be further improved. For the thermocompression treatment, the following description regarding the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法を含む:
本開示に係る方法によって、ポリマー基材を製造すること(基材製造工程)、
無機基材を提供すること(無機基材提供工程)、及び、
ポリマー基材を、無機基材上に配置すること(配置工程)。
<Method for producing polymer substrate-inorganic substrate composite>
The present disclosure includes a method for making a polymer substrate-inorganic substrate composite, comprising:
Producing a polymer substrate by the method according to the present disclosure (substrate production step);
Providing an inorganic substrate (inorganic substrate providing step); and
Disposing a polymeric substrate on an inorganic substrate (disposing step).

図12に示される方法では、本開示に係る方法によって無機粒子含有ポリマー基材170aを製造し、かつ、無機基材180を提供する。そして、無機基材180上に、無機粒子含有ポリマー基材170aを配置して、ポリマー基材-無機基材複合体420aを得る。無機粒子含有ポリマー基材170aは、例えば、図10Bで例示される製造方法によって製造してよい。 In the method shown in FIG. 12, an inorganic particle-containing polymer substrate 170a is produced by the method according to the present disclosure, and an inorganic substrate 180 is provided. Then, the inorganic particle-containing polymer substrate 170a is placed on the inorganic substrate 180 to obtain a polymer substrate-inorganic substrate composite 420a. The inorganic particle-containing polymer substrate 170a may be produced, for example, by the production method illustrated in FIG. 10B.

ポリマー基材として無機粒子含有ポリマー基材を有するポリマー基材-無機基材複合体は、無機基材と比較して異なる物理的性質を有しており、種々の用途、得には光学用部材として有用である。特に、当該複合体は、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機基材からなる複合体と比較して、構成部材間での屈折率の差異が低減されており、その結果として、複合体における反射率が低減されていると考えられる。 A polymer substrate-inorganic substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate has different physical properties compared to inorganic substrates, and is useful for various applications, particularly as optical components. In particular, the composite has a reduced difference in refractive index between the constituent members compared to a composite consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles and an inorganic substrate, and as a result, it is believed that the reflectance of the composite is reduced.

〈基材製造工程〉
本開示のポリマー基材-無機基材複合体の製造方法における基材製造工程では、本開示に係る方法によって、ポリマー基材を製造する。ポリマー基材の製造方法については、本開示に係る上述の記載を参照することができる。
<Substrate manufacturing process>
In the substrate manufacturing process in the method for manufacturing a polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, a polymer substrate is manufactured by the method according to the present disclosure. For the method for manufacturing a polymer substrate, the above description according to the present disclosure can be referred to.

〈無機基材提供工程〉
本開示のポリマー基材-無機基材複合体の製造方法における無機基材提供工程では、無機基材を提供する。無機基材については、上述の記載を参照することができる。
<Inorganic base material provision process>
In the inorganic substrate providing step in the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, an inorganic substrate is provided. For the inorganic substrate, the above description can be referred to.

〈配置工程〉
本開示のポリマー基材-無機基材複合体の製造方法における配置工程では、ポリマー基材を、無機基材上に配置する。
Placement process
In the disposing step in the manufacturing method of the polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, the polymer substrate is disposed on the inorganic substrate.

配置工程では、好ましくは、ポリマー基材及び無機基材が、それらの主たる面を介して、互いに少なくとも部分的に重なり合うように、特には互いに重なり合うように、ポリマー基材を、無機基材上に配置してよい。あるいは、配置工程において、ポリマー基材及び無機基材のうちの一方の主たる面が、他方の主たる面を実質的に覆うように、ポリマー基材を、無機基材上に配置してよい。 In the disposing step, the polymer substrate may be disposed on the inorganic substrate, preferably such that the polymer substrate and the inorganic substrate at least partially overlap each other, particularly overlap each other, via their main surfaces. Alternatively, in the disposing step, the polymer substrate may be disposed on the inorganic substrate, such that the main surface of one of the polymer substrate and the inorganic substrate substantially covers the main surface of the other.

配置工程においてポリマー基材を無機基材上に配置する様式は、特に限定されない。例えば、ポリマー基材を無機基材に直接配置することができる。 The manner in which the polymer substrate is disposed on the inorganic substrate in the disposing step is not particularly limited. For example, the polymer substrate can be disposed directly on the inorganic substrate.

別の実施態様では、配置工程においてポリマー基材を無機基材上に配置する際に、例えば、あらかじめ無機基材上に密着ポリマー層を配置し、かつ、ポリマー基材を、当該密着ポリマー層を介して、無機基材上に配置することができる。ポリマー基材が密着ポリマー層を介して無機基材上に配置されている場合には、ポリマー基材と無機基材との密着性がさらに向上するため、好ましい。 In another embodiment, when the polymer substrate is disposed on the inorganic substrate in the disposing step, for example, an adhesive polymer layer may be disposed on the inorganic substrate in advance, and the polymer substrate may be disposed on the inorganic substrate via the adhesive polymer layer. When the polymer substrate is disposed on the inorganic substrate via the adhesive polymer layer, the adhesion between the polymer substrate and the inorganic substrate is further improved, which is preferable.

密着ポリマー層は、ポリマー基材と無機基材との密着性を向上させることができるものであれば、特に限定されない。密着ポリマー層とポリマー基材との接合がさらに促進されるため、密着ポリマー層は、ポリマー基材と同種のポリマーで構成されていることが特に好ましい。 The adhesive polymer layer is not particularly limited as long as it can improve the adhesion between the polymer substrate and the inorganic substrate. It is particularly preferable that the adhesive polymer layer is composed of the same type of polymer as the polymer substrate, since this further promotes bonding between the adhesive polymer layer and the polymer substrate.

密着ポリマー層は、好ましくは、熱変性ポリマー層である。密着ポリマー層としての熱変性ポリマー層は、例えば、コーティング及び/又は熱圧着によって無機基材上にポリマー層を形成し、かつ、当該ポリマー層を加熱して熱変性ポリマー層にすることによって、形成することができる。加熱の方法は、特に限定されないが、例えば、オーブン、ホットプレート、赤外線、火炎、レーザー、又はフラッシュランプなどの加熱源を用いた方法が挙げられる。ここで、熱変性の程度は、熱変性のための加熱の温度、時間、周囲雰囲気等によって調節することができる。具体的には、熱変性の程度は、例えば、無機基材に対するポリマー層の密着性と比較して、熱変性ポリマー層の無機基材に対する密着性が大きくなる程度にすることができる。 The adhesive polymer layer is preferably a thermally modified polymer layer. The thermally modified polymer layer as the adhesive polymer layer can be formed, for example, by forming a polymer layer on the inorganic substrate by coating and/or thermocompression bonding, and then heating the polymer layer to form a thermally modified polymer layer. The heating method is not particularly limited, but examples include methods using a heating source such as an oven, a hot plate, infrared rays, a flame, a laser, or a flash lamp. Here, the degree of thermal modification can be adjusted by the heating temperature, time, surrounding atmosphere, etc. for thermal modification. Specifically, the degree of thermal modification can be, for example, such that the adhesion of the thermally modified polymer layer to the inorganic substrate is greater than the adhesion of the polymer layer to the inorganic substrate.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、配置工程で得られたポリマー基材-無機基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。複合体に対して熱圧着処理を行った場合には、ポリマー基材と無機基材と間の密着性が、さらに向上しうる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the polymer substrate-inorganic substrate composite obtained in the disposing step can be further subjected to a thermocompression treatment. When the thermocompression treatment is performed on the composite, the adhesion between the polymer substrate and the inorganic substrate can be further improved.

ポリマー基材-無機基材複合体に対する熱圧着処理の様式は、特に限定されず、公知の方法によって行うことができる。熱圧着処理は、例えば、真空条件(例えば0~10Pa)で行ってよく、かつ/又は、ポリマー基材を構成するポリマーの熱変性温度以上で行ってよい。熱圧着処理の温度は、例えば、80℃~300℃であってよい。熱圧着処理の圧力は、例えば、0.1~1000MPaであってよく、又は、0.2~500MPa、0.5~500MPa、1~200MPa、2~100MPa、5~100MPa、若しくは10~70MPaであってよい。熱圧着処理の時間は、例えば、1分間~10時間であってよく、又は、10分間~300分間、若しくは30分間~120分間であってよい。 The manner of thermocompression bonding of the polymer substrate-inorganic substrate composite is not particularly limited, and can be performed by a known method. The thermocompression bonding can be performed, for example, under vacuum conditions (e.g., 0 to 10 Pa) and/or at or above the thermal denaturation temperature of the polymer constituting the polymer substrate. The temperature of the thermocompression bonding can be, for example, 80°C to 300°C. The pressure of the thermocompression bonding can be, for example, 0.1 to 1000 MPa, or 0.2 to 500 MPa, 0.5 to 500 MPa, 1 to 200 MPa, 2 to 100 MPa, 5 to 100 MPa, or 10 to 70 MPa. The time of the thermocompression bonding can be, for example, 1 minute to 10 hours, or 10 minutes to 300 minutes, or 30 minutes to 120 minutes.

≪追加のポリマー基材を提供することを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法を、含む:
本開示に係る方法によって、ポリマー基材-無機基材複合体を製造すること(複合体製造工程)
追加のポリマー基材を提供すること(基材提供工程)、及び
追加のポリマー基材を、ポリマー基材-無機基材複合体におけるポリマー基材の上に配置すること(配置工程)。
<<Method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite, comprising providing an additional polymer substrate>>
The present disclosure includes additional methods of making polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composites, including:
Producing a polymer substrate-inorganic substrate composite by the method according to the present disclosure (composite production process)
providing an additional polymer substrate (substrate providing step); and disposing the additional polymer substrate on the polymer substrate in the polymer substrate-inorganic substrate composite (disposing step).

図13では、本開示に係る方法によってポリマー基材-無機基材複合体420aを製造し、かつ、追加のポリマー基材として無機粒子非含有ポリマー基材150を提供している。そして、無機粒子非含有ポリマー基材150を、ポリマー基材-無機基材複合体420aにおける無機粒子含有ポリマー基材170aの上に配置することによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体430aを製造している。 In FIG. 13, a polymer substrate-inorganic substrate composite 420a is produced by the method according to the present disclosure, and an inorganic particle-free polymer substrate 150 is provided as an additional polymer substrate. The inorganic particle-free polymer substrate 150 is then placed on top of the inorganic particle-containing polymer substrate 170a in the polymer substrate-inorganic substrate composite 420a, thereby producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite 430a.

無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体は、優れた物性を有しており、特に、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機基材のみからなる複合体と比較して、構成部材間での屈折率の差異が低減されており、その結果として、優れた反射特性を有すると考えられる。 The additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate has excellent physical properties, and in particular, compared to composites consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles and an inorganic substrate only, the difference in refractive index between the constituent members is reduced, and as a result, it is believed to have excellent reflective properties.

〈複合体製造工程〉
本開示に係る、追加のポリマー基材を提供することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の複合体製造工程では、本開示に係る方法によって、ポリマー基材-無機基材複合体を製造する。ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法については、上記の記載を参照することができ、例えば、上述の図9又は図12で例示される製造方法によって、ポリマー基材-無機基材複合体を製造することができる。
<Composite Manufacturing Process>
In the composite production step of the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite production method according to the present disclosure, which includes providing an additional polymer substrate, a polymer substrate-inorganic substrate composite is produced by the method according to the present disclosure. The above description can be referred to for the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite, and for example, a polymer substrate-inorganic substrate composite can be produced by the production method exemplified in FIG. 9 or FIG. 12 described above.

好ましくは、複合体製造工程において、ポリマー基材として無機基材含有ポリマー基材を有する、ポリマー基材-無機基材複合体を製造する。この場合には、構成部材間における屈折率が比較的低減された追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体を得ることができ、特に光学用途において有用である。 Preferably, in the composite manufacturing process, a polymer substrate-inorganic substrate composite is manufactured, in which the polymer substrate is an inorganic substrate-containing polymer substrate. In this case, an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite can be obtained in which the refractive index between the constituent members is relatively reduced, which is particularly useful in optical applications.

〈基材提供工程〉
本開示に係る、追加のポリマー基材を提供することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の基材提供工程では、追加のポリマー基材を提供する。追加のポリマー基材としては、無機基材含有ポリマー基材又は無機基材非含有ポリマー基材が挙げられ、本開示に係る方法によって製造されたものであってよい。追加のポリマー基材としての無機基材含有ポリマー基材又は無機基材非含有ポリマー基材については、上記の記載を参照することができる。好ましくは、基材提供工程で提供される追加のポリマー基材は、無機粒子非含有ポリマー基材であるか、又は、複合体製造工程で製造される複合体に含まれるポリマー基材よりも低い無機粒子含有量を有している。
<Substrate provision process>
In the substrate providing step of the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, which includes providing an additional polymer substrate, an additional polymer substrate is provided. The additional polymer substrate may be an inorganic substrate-containing polymer substrate or an inorganic substrate-free polymer substrate, which may be produced by the method according to the present disclosure. For the inorganic substrate-containing polymer substrate or inorganic substrate-free polymer substrate as the additional polymer substrate, the above description can be referred to. Preferably, the additional polymer substrate provided in the substrate providing step is an inorganic particle-free polymer substrate, or has a lower inorganic particle content than the polymer substrate contained in the composite produced in the composite production step.

〈配置工程〉
本開示に係る、追加のポリマー基材を提供することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法の配置工程では、追加のポリマー基材を、ポリマー基材-無機基材複合体におけるポリマー基材の上に配置する。配置工程では、追加のポリマー基材、及びポリマー基材-無機基材複合体におけるポリマー基材が、それぞれ、それらの主たる面を介して、互いに少なくとも部分的に重なり合うように、特には互いに重なり合うように、配置を行ってよい。あるいは、配置工程において、追加のポリマー基材、又はポリマー基材-無機基材複合体におけるポリマー基材のうちの一方の主たる面が、他方の主たる面を実質的に覆うように、配置を行ってよい。
Placement process
In the arranging step of the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, which includes providing an additional polymer substrate, the additional polymer substrate is arranged on the polymer substrate in the polymer substrate-inorganic substrate composite. In the arranging step, the additional polymer substrate and the polymer substrate in the polymer substrate-inorganic substrate composite may be arranged so that they at least partially overlap each other via their respective main surfaces, in particular so that they overlap each other. Alternatively, in the arranging step, the arrangement may be performed so that one main surface of the additional polymer substrate or the polymer substrate in the polymer substrate-inorganic substrate composite substantially covers the other main surface.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、配置工程で得られた追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、複合体を構成する基材間の密着性が、さらに向上しうる。熱圧着処理については、「ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法」に関して上述した記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite obtained in the disposing step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the substrates constituting the composite. For the thermocompression treatment, the above description regarding the "method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite" can be referred to.

なお、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体を製造する際に、ポリマー基材-無機基材複合体におけるポリマー基材の上に追加のポリマー基材を配置するだけではなく、異なるタイミングで、ポリマー基材を配置してもよい。図13には示していないが、例えば、無機粒子含有ポリマー基材上にポリマー基材を配置することによって追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を製造した後に、この追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を、無機基材上に配置してもよく、又は、ポリマー基材-剥離用基材複合体において剥離用基材からポリマー基材を剥離する前に、ポリマー基材上に追加のポリマー基材を配置してもよい。 When producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite, the additional polymer substrate may be placed on the polymer substrate in the polymer substrate-inorganic substrate composite, or the polymer substrate may be placed at a different timing. Although not shown in FIG. 13, for example, after producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite by placing a polymer substrate on an inorganic particle-containing polymer substrate, this additional polymer substrate-polymer substrate composite may be placed on the inorganic substrate, or the additional polymer substrate may be placed on the polymer substrate before peeling the polymer substrate from the peeling substrate in the polymer substrate-peeling substrate composite.

≪追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法を含む:
本開示に係る方法によってポリマー粒子層-支持基材複合体を得ること(複合体提供工程)、
ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、無機粒子非含有ポリマー粒子、無機粒子含有ポリマー粒子、又は無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を堆積させて、ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、追加のポリマー粒子層を形成すること(追加のポリマー粒子層提供工程)。
<<Method for producing additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite>>
The present disclosure includes additional methods of making a polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite, including:
Obtaining a polymer particle layer-support substrate composite by the method according to the present disclosure (composite providing step);
Depositing inorganic particle-free polymer particles, inorganic particle-containing polymer particles, or a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles on the polymer particle layer-support substrate composite to form an additional polymer particle layer on the polymer particle layer-support substrate composite (additional polymer particle layer providing step).

図14Aに示されている例では、無機粒子含有ポリマー粒子14と無機粒子非含有ポリマー粒子15との混合物を、ポリマー粒子層-支持基材複合体214bのポリマー粒子層160b上に堆積することによって、追加のポリマー粒子層160cを形成し、複合体312bを製造している。 In the example shown in FIG. 14A, a mixture of inorganic particle-containing polymer particles 14 and inorganic particle-free polymer particles 15 is deposited onto the polymer particle layer 160b of the polymer particle layer-support substrate composite 214b to form an additional polymer particle layer 160c, producing composite 312b.

本開示に係る製造方法によれば、2つのポリマー粒子層を有する複合体を比較的簡便に製造することができ、特には、無機粒子の含有量が互いに異なる2つのポリマー粒子層を有する複合体を、比較的簡便に製造することができる。 The manufacturing method according to the present disclosure allows a composite having two polymer particle layers to be produced relatively easily, and in particular, allows a composite having two polymer particle layers with different inorganic particle contents to be produced relatively easily.

支持基材としてポリマー基材を有する追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体は、異なる無機粒子含有量を有する複数のポリマー粒子層を有しうることに起因して、例えば1つのポリマー基材と比較して異なる光学的性質を有するため、光学用部材として有用であると考えられる。 The additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate is believed to be useful as an optical component, since it may have multiple polymer particle layers with different inorganic particle contents and therefore have different optical properties compared to, for example, a single polymer substrate.

〈複合体提供工程〉
本開示に係る追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における複合体提供工程では、本開示に係る方法によって、ポリマー粒子層-支持基材複合体を得る。好ましくは、ポリマー粒子層-支持基材複合体は、支持基材としてポリマー基材を用いて製造される。ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法については、上述の記載を参照することができる。
<Complex Providing Step>
In the composite providing step in the additional method for producing a polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, a polymer particle layer-support substrate composite is obtained by the method according to the present disclosure. Preferably, the polymer particle layer-support substrate composite is produced using a polymer substrate as the support substrate. The above description can be referred to for the method for producing a polymer particle layer-support substrate composite.

〈追加のポリマー粒子層提供工程〉
本開示に係る追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法における追加のポリマー粒子層提供工程では、ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、無機粒子非含有ポリマー粒子、無機粒子含有ポリマー粒子、又は無機粒子含有ポリマー粒子と無機粒子非含有ポリマー粒子との混合物を堆積させて、ポリマー粒子層-支持基材複合体の上に、追加のポリマー粒子層を形成する。
<Step of Providing Additional Polymer Particle Layer>
In the additional polymer particle layer providing step in the manufacturing method for the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure, inorganic particle-free polymer particles, inorganic particle-containing polymer particles, or a mixture of inorganic particle-containing polymer particles and inorganic particle-free polymer particles are deposited on the polymer particle layer-support substrate composite to form an additional polymer particle layer on the polymer particle layer-support substrate composite.

ポリマー粒子の堆積は、本開示に係るポリマー粒子層-支持基材複合体について上述した方法と同様にして、行うことができる。具体的には、例えば、ポリマー粒子を分散媒に分散させることによって分散体を作製し、そして、複合体提供工程で提供されるポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層の上にこの分散体を堆積し、かつ分散体を乾燥させることによって、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体を製造することができる。 The deposition of the polymer particles can be carried out in the same manner as described above for the polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. Specifically, for example, a dispersion is prepared by dispersing the polymer particles in a dispersion medium, and the dispersion is deposited on the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite provided in the composite providing step, and the dispersion is dried to produce an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite.

≪追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法≫
本開示に係る方法は、下記を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法を含む:
本開示に係る方法によって、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体を製造すること(複合体製造工程)、
追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層及び追加のポリマー粒子層を熱プレスすることによって、支持基材上に、ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を形成すること(熱プレス工程)。
<<Additional method for producing polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite>>
Methods according to the present disclosure include additional methods for making polymer substrate-polymer substrate-support substrate composites, including:
Producing an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite by the method according to the present disclosure (composite production step);
The polymer particle layer and the additional polymer particle layer of the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite are heat-pressed to form a polymer substrate and an additional polymer substrate on the support substrate (heat-pressing step).

図14Bは、支持基材としてポリマー基材を用いた場合の、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法の1つの実施態様を示す。図14Bに示されている方法では、本開示に係る方法によって製造された追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体312bのポリマー粒子層160b及び追加のポリマー粒子層160cを熱プレスことによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体332bを製造している。得られた追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体332bは、無機粒子の含有量が互いに異なるポリマー基材170a、170b、及び170cを有している。 Figure 14B shows one embodiment of a method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure when a polymer substrate is used as the support substrate. In the method shown in Figure 14B, the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite 332b is produced by heat pressing the polymer particle layer 160b and the additional polymer particle layer 160c of the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite 312b produced by the method according to the present disclosure. The obtained additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite 332b has polymer substrates 170a, 170b, and 170c with different inorganic particle contents.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法では、積層された複数のポリマー粒子層を含む複合体に対して熱プレスを行うため、2つのポリマー粒子層を一度に熱プレスして、積層された複数のポリマー基材を有する複合体を製造することができる。したがって、この製造方法によれば、積層された2つのポリマー基材を有する複合体を、比較的簡便に製造することができる。特には、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法によれば、支持基材としてポリマー基材を用いることによって、3つ又は4つのポリマー基材を含む複合体を比較的簡便に製造することができる。 In the additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, a composite including multiple stacked polymer particle layers is heat-pressed, so that two polymer particle layers can be heat-pressed at once to produce a composite having multiple stacked polymer substrates. Therefore, according to this production method, a composite having two stacked polymer substrates can be produced relatively easily. In particular, according to the additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, a composite including three or four polymer substrates can be produced relatively easily by using a polymer substrate as the support substrate.

また、本開示に係る方法では、ポリマーを溶解させるための溶剤の使用が低減されているため、得られる複合体において、隣り合うポリマー基材の間の界面の平坦性が向上している。 In addition, the method disclosed herein reduces the use of solvents to dissolve the polymer, resulting in a composite with improved interface flatness between adjacent polymer substrates.

さらに、無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、当該複合体では、隣り合う無機粒子含有ポリマー基材の間での無機粒子含有量の差を調製することによって、構成部材間における屈折率を調節することが可能であるため、優れた反射特性、特には優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 Furthermore, the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate has physical properties that are useful for various applications. For example, the composite is considered to be useful as an optical component having excellent reflective properties, particularly excellent anti-reflective properties, because it is possible to adjust the refractive index between the components by adjusting the difference in inorganic particle content between adjacent inorganic particle-containing polymer substrates.

上述のように、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法によれば、4つのポリマー基材から構成される複合体を製造することもできる。図15Aに示されている方法では、本開示に係る方法によって、支持基材として2つのポリマー基材を有しているポリマー粒子層-支持基材複合体322bを製造し、そして、この複合体322bのポリマー粒子層160cの上に、追加のポリマー粒子層160dを形成して、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体422aを製造している。そして、図15Bでは、得られた複合体422aの追加のポリマー粒子層160d、及びポリマー粒子層160cを熱プレスすることによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体442aを製造している。得られた複合体442aは、無機粒子の含有量が互いに異なっている4つのポリマー基材170a、170b、170c、及び170dを有しており、積層方向における無機粒子含有量の勾配を有している。 As described above, according to the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite of the present disclosure, a composite composed of four polymer substrates can also be manufactured. In the method shown in FIG. 15A, a polymer particle layer-support substrate composite 322b having two polymer substrates as support substrates is manufactured by the method of the present disclosure, and an additional polymer particle layer 160d is formed on the polymer particle layer 160c of this composite 322b to manufacture an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite 422a. Then, in FIG. 15B, an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite 442a is manufactured by heat pressing the additional polymer particle layer 160d and the polymer particle layer 160c of the obtained composite 422a. The obtained composite 442a has four polymer substrates 170a, 170b, 170c, and 170d having different inorganic particle contents, and has a gradient of inorganic particle content in the stacking direction.

本開示に係る方法によって得られる4つのポリマー基材から構成される複合体は、例えば図15Bに見られるように、無機粒子の含有量が、最外層を構成するポリマー基材から出発して、積層方向に段階的に増加又は減少している構成を有することができる。このような複合体では、無機粒子含有量が異なる4つの無機粒子含有ポリマー基材が隣り合って存在しているため、構成部材間における屈折率をさらにより細かく調節することが可能であり、優れた反射防止特性を有する光学用部材として、特に有用であると考えられる。 The composite composed of four polymer substrates obtained by the method according to the present disclosure can have a configuration in which the content of inorganic particles increases or decreases stepwise in the stacking direction, starting from the polymer substrate constituting the outermost layer, as shown in FIG. 15B, for example. In such a composite, four inorganic particle-containing polymer substrates with different inorganic particle contents are adjacent to each other, making it possible to adjust the refractive index between the constituent members even more finely, and it is believed to be particularly useful as an optical component with excellent anti-reflection properties.

〈複合体製造工程〉
本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法における複合体製造工程では、本開示に係る方法によって、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体を製造する。追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造方法については、上記の記載を参照することができる。
<Composite Manufacturing Process>
In the composite manufacturing step in the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite is manufactured by the method according to the present disclosure. The manufacturing method of the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite can be referred to the above description.

〈熱プレス工程〉
本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法における熱プレス工程では、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層及び追加のポリマー粒子層を熱プレスすることによって、支持基材上に、ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を形成する。ポリマー粒子層及び追加のポリマー粒子層を熱プレスする方法については、本開示に係るポリマー基材-支持基材複合体の製造方法で上述した記載を参照することができる。
<Heat pressing process>
In the heat pressing step in the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, the polymer particle layer and the additional polymer particle layer of the additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite are heat pressed to form a polymer substrate and an additional polymer substrate on the support substrate. For the method of heat pressing the polymer particle layer and the additional polymer particle layer, the above description of the manufacturing method of the polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure can be referred to.

≪支持基材として無機基材を用いることを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法≫
本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法において、支持基材として無機基材を用いることによって、無機基材の上にポリマー基材及び追加のポリマー基材が積層されている複合体を得ることができる。
<<Additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite, including using an inorganic substrate as the support substrate>>
In the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite according to the present disclosure, by using an inorganic substrate as the support substrate, a composite in which a polymer substrate and an additional polymer substrate are laminated on the inorganic substrate can be obtained.

図16では、無機基材180の上に堆積されたポリマー粒子層160a及び160を有する追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体431aを製造し、この複合体431aに対して熱プレス処理を行うことによって、支持基材としての無機基材180の上に配置されたポリマー基材150及び170aを有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体430a′を製造している。 In FIG. 16, an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite 431a is produced having polymer particle layers 160a and 160 deposited on an inorganic substrate 180, and a heat press process is performed on this composite 431a to produce an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite 430a' having polymer substrates 150 and 170a disposed on the inorganic substrate 180 as a support substrate.

当該方法によれば、無機基材の上にポリマー基材及び追加のポリマー基材が積層されている複合体を、比較的簡便に得ることができる。また、支持基材として無機基材を有しかつ無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体は、優れた物性を有しており、例えば、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機基材のみからなる複合体と比較して、構成部材間での屈折率の差異が低減されており、その結果として、優れた反射特性、特には優れた反射防止特性を有すると考えられる。 According to this method, a composite in which a polymer substrate and an additional polymer substrate are laminated on an inorganic substrate can be obtained relatively easily. In addition, the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having an inorganic substrate as a support substrate and an inorganic particle-containing polymer substrate has excellent physical properties. For example, compared to a composite consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles and an inorganic substrate alone, the difference in refractive index between the constituent members is reduced, and as a result, it is considered to have excellent reflective properties, particularly excellent anti-reflective properties.

≪支持基材として剥離用基材を用いることを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法を含む:
支持基材として剥離用基材を用いて、上記の本開示に係る方法によって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体を得ること(複合体製造工程)、
追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である支持基材から追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を剥がすことによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を得ること(剥離工程)。
<<Additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate composite, including using a release substrate as a supporting substrate>>
The present disclosure includes additional methods of making polymer substrate-polymer substrate composites, including:
Obtaining an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite by the method according to the present disclosure using a release substrate as the support substrate (composite manufacturing step);
In the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite, the additional polymer substrate-polymer substrate composite is peeled off from the support substrate, which is a peeling substrate, to obtain an additional polymer substrate-polymer substrate composite (peeling step).

図17は、支持基材として剥離用基材を用いることを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体222a′の製造方法の1つの実施態様を示す。図中の各構成要素については、上述の記載を参照することができる。無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、既述した追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体と同様に、種々の用途に有用な物理的特性を有すると考えられ、特に、優れた反射防止特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 Figure 17 shows one embodiment of a method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite 222a', including using a release substrate as a support substrate. For each component in the figure, the above description can be referenced. The additional polymer substrate-polymer substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate is believed to have physical properties useful for various applications, similar to the additional polymer substrate-polymer substrate composites already described, and is believed to be useful as an optical component having excellent anti-reflection properties.

〈複合体製造工程〉
本開示に係る、支持基材として剥離用基材を用いることを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法の複合体製造工程では、支持基材として剥離用基材を用いて、上記の本開示に係る方法によって、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体を製造する。支持基材としての剥離用基材、及び、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法については、上述の記載を参照することができる。
<Composite Manufacturing Process>
In the composite manufacturing step of the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate composite including using a release substrate as a supporting substrate according to the present disclosure, the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite is manufactured by the above-described method according to the present disclosure using a release substrate as a supporting substrate. The above description can be referred to for the release substrate as a supporting substrate and the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite.

複合体製造工程で製造される追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を構成する追加のポリマー基材及びポリマー基材のうち、少なくともいずれかは、無機粒子含有ポリマー基材であることが好ましい。 At least one of the additional polymer substrate and the polymer substrate that constitute the additional polymer substrate-polymer substrate composite produced in the composite production process is preferably an inorganic particle-containing polymer substrate.

〈剥離工程〉
本開示に係る、支持基材として剥離用基材を用いることを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の製造方法の剥離工程では、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体において、剥離用基材である支持基材から追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を剥がすことによって、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を得る。剥離の方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。
<Peeling process>
In the peeling step of the method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite including using a release substrate as a support substrate according to the present disclosure, the additional polymer substrate-polymer substrate composite is peeled off from the support substrate, which is the release substrate, in the additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite to obtain an additional polymer substrate-polymer substrate composite. The peeling method is not particularly limited, and a known method can be used.

≪無機基材に複合体を配置することを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法、を含む:
本開示に係る製造方法によって、少なくとも部分的に互いに重なり合っているポリマー基材及び追加のポリマー基材を有している追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を製造すること(複合体製造工程)、ここで、ポリマー基材が、無機粒子含有ポリマー基材であり、かつ/又は、追加のポリマー基材が、追加の無機粒子含有ポリマー基材である、
無機基材を提供すること(無機基材提供工程)、並びに
無機基材に、無機粒子ポリマー基材であるポリマー基材又は追加の無機粒子含有ポリマー基材である追加のポリマー基材が無機基材の方を向くようにして、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を配置すること(配置工程)。
<<Additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite, comprising disposing the composite on an inorganic substrate>>
The present disclosure includes additional methods of making polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composites, including:
Producing an additional polymer substrate-polymer substrate composite having a polymer substrate and an additional polymer substrate at least partially overlapping each other by the production method according to the present disclosure (composite production step), wherein the polymer substrate is an inorganic particle-containing polymer substrate and/or the additional polymer substrate is an additional inorganic particle-containing polymer substrate;
providing an inorganic substrate (inorganic substrate providing step); and disposing an additional polymer substrate-polymer substrate composite on the inorganic substrate such that the polymer substrate is an inorganic particle polymer substrate or the additional polymer substrate is an additional inorganic particle-containing polymer substrate faces the inorganic substrate (disposing step).

図18は、無機基材に複合体を配置することを含む、追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体430a′′の製造方法の1つの実施態様を示す。図18に示されている方法では、図6Aなどで例示される本開示に係る方法によって、ポリマー基材-支持基材複合体222aを製造し、かつ、無機基材180を提供している。そして、無機基材180に、ポリマー基材-支持基材複合体222aを、ポリマー基材-支持基材複合体222aの無機粒子含有ポリマー基材170aが無機基材180の方を向くようにして、配置している。 Figure 18 shows one embodiment of a method for producing an additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite 430a'' including disposing the composite on an inorganic substrate. In the method shown in Figure 18, a polymer substrate-support substrate composite 222a is produced by the method according to the present disclosure illustrated in Figure 6A and the like, and an inorganic substrate 180 is provided. Then, the polymer substrate-support substrate composite 222a is disposed on the inorganic substrate 180 such that the inorganic particle-containing polymer substrate 170a of the polymer substrate-support substrate composite 222a faces the inorganic substrate 180.

無機粒子含有ポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体は、既述したように、優れた物性を有している。例えば、当該複合体は、ポリマー部材及び無機基材のみからなる複合体と比較して、構成部材間での屈折率の差異が低減されており、その結果として、優れた反射防止特性を有すると考えられる。 As described above, the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate has excellent physical properties. For example, the composite has a reduced difference in refractive index between the constituent members compared to a composite consisting of only a polymer member and an inorganic substrate, and as a result, it is believed to have excellent anti-reflection properties.

〈複合体製造工程〉
本開示の、無機基材に複合体を配置することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に係る複合体製造工程では、少なくとも部分的に互いに重なり合っているポリマー基材及び追加のポリマー基材を有している追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を、製造する。ここで、「追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体」は、図11又は図17で例示される本開示に係る方法によって製造される、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体であってよい。また、「追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体」は、上記の図6A、6B、6C、図8A及び図8Bで例示される本開示に係る方法によって製造される、支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材であってよい。
<Composite Manufacturing Process>
In the composite manufacturing process according to the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, which includes disposing a composite on an inorganic substrate, an additional polymer substrate-polymer substrate composite having a polymer substrate and an additional polymer substrate that are at least partially overlapped with each other is manufactured. Here, the "additional polymer substrate-polymer substrate composite" may be an additional polymer substrate-polymer substrate composite manufactured by the method according to the present disclosure illustrated in FIG. 11 or FIG. 17. Also, the "additional polymer substrate-polymer substrate composite" may be a polymer substrate-support substrate having a polymer substrate as a support substrate, manufactured by the method according to the present disclosure illustrated in the above-mentioned FIGs. 6A, 6B, 6C, 8A, and 8B.

〈無機基材提供工程〉
本開示の、無機基材に複合体を配置することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に係る無機基材提供工程では、無機基材を提供する。無機基材については、上述の記載を参照することができる。
<Inorganic base material provision process>
In the inorganic substrate providing step of the additional method for producing a polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, which includes disposing a composite on an inorganic substrate, an inorganic substrate is provided. For the inorganic substrate, the above description can be referred to.

〈配置工程〉
本開示の、無機基材に複合体を配置することを含む追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に係る配置工程では、無機基材に、無機粒子ポリマー基材であるポリマー基材又は追加の無機粒子含有ポリマー基材である追加のポリマー基材が無機基材の方を向くようにして、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を配置する。
Placement process
In the disposing step of the manufacturing method of the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite of the present disclosure, which includes disposing a composite on an inorganic substrate, the additional polymer substrate-polymer substrate composite is disposed on the inorganic substrate such that the polymer substrate which is an inorganic particle polymer substrate or the additional polymer substrate which is an additional inorganic particle-containing polymer substrate faces the inorganic substrate.

配置工程において追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を無機基材上に配置する様式に関しては、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関して上述した記載を参照することができる。例えば、無機基材上に、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を、直接に、又は、密着ポリマー層を介して、配置することができる。 For the manner in which the additional polymer substrate-polymer substrate composite is disposed on the inorganic substrate in the disposing step, the above description regarding the manufacturing method of the polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to. For example, the additional polymer substrate-polymer substrate composite can be disposed on the inorganic substrate directly or via an adhesive polymer layer.

配置工程では、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体の追加のポリマー基材又はポリマー基材と、無機基材とが、それぞれ、それらの主たる面を介して、互いに少なくとも部分的に重なり合うように、特には互いに重なり合うように、配置を行ってよい。あるいは、配置工程において、追加のポリマー基材又はポリマー基材、及び無機基材のうちの一方の主たる面が、他方の主たる面を実質的に覆うように、配置を行ってよい。 In the positioning step, the additional polymer substrate or polymer substrate and the inorganic substrate of the additional polymer substrate-polymer substrate composite may be positioned so that they at least partially overlap each other, particularly so that they overlap each other, via their respective main surfaces. Alternatively, in the positioning step, the additional polymer substrate or polymer substrate and the inorganic substrate may be positioned so that the main surface of one of them substantially covers the main surface of the other.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、配置工程で得られた追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体と無機基材複合体との密着性が、さらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関して上述した記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite obtained in the disposing step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the additional polymer substrate-polymer substrate composite and the inorganic substrate composite. For the thermocompression treatment, the above description regarding the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪勾配型のポリマー基材積層体の製造方法≫
本開示は、積層されている少なくとも3つのポリマー基材を有しているポリマー基材積層体であって、ポリマー基材それぞれにおける無機粒子の含有量が積層体の最外層から始めて積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、少なくとも3つのポリマー基材が積層されているポリマー基材積層体(以下、「勾配型のポリマー基材積層体」と呼ぶ。)を製造する方法、を含んでおり、この製造方法は、下記の(a)及び(b)を含む:
(a)無機粒子非含有ポリマー基材、無機粒子含有ポリマー基材、及び、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体、からなる群から、少なくとも2つの材料を選択すること(材料選択工程)、ここで、少なくとも2つの材料は、本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材、及び/又は本開示に係る方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体、を含み、かつ、合計で少なくとも3つのポリマー基材を含む、
(b)無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、少なくとも2つの材料を積層して、ポリマー基材積層体を得ること(積層工程)。
<Method for manufacturing gradient polymer substrate laminate>
The present disclosure includes a method for producing a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates stacked together, in which the at least three polymer substrates are stacked together such that the content of inorganic particles in each of the polymer substrates increases or decreases stepwise along the stacking direction starting from the outermost layer of the laminate (hereinafter referred to as a "gradient type polymer substrate laminate"). The method for producing the polymer substrate laminate includes the following steps (a) and (b):
(a) selecting at least two materials from the group consisting of a polymer substrate not containing inorganic particles, a polymer substrate containing inorganic particles, and a composite composed of at least two polymer substrates (material selection step), wherein the at least two materials include a polymer substrate produced by the method according to the present disclosure, and/or a composite composed of at least two polymer substrates produced by the method according to the present disclosure, and the at least two materials include a total of at least three polymer substrates;
(b) Laminating at least two materials so that the content of inorganic particles increases or decreases stepwise along the lamination direction to obtain a polymer substrate laminate (lamination step).

図19は、勾配型のポリマー基材積層体の製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図19に示されている方法では、少なくとも2つの材料として、本開示に係る方法によって製造された、支持基材としてポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体222b、222d及び222eを選択している。これらの複合体は、本開示に係る方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体である。複合体222bにおいて、ポリマー基材170aにおける無機粒子の含有量は、ポリマー基材170bよりも多い。複合体222dにおいて、ポリマー基材170cにおける無機粒子の含有量は、ポリマー基材170bよりも少なく、かつ、ポリマー基材170dよりも多い。複合体222eは、ポリマー基材170dよりも少ない無機粒子含有量を有するポリマー基材170e、及び無機粒子非含有ポリマー基材150を有している。 Figure 19 shows a schematic diagram of one embodiment of a method for manufacturing a gradient polymer substrate laminate. In the method shown in Figure 19, polymer substrate-support substrate composites 222b, 222d, and 222e having a polymer substrate as a support substrate, which are manufactured by the method according to the present disclosure, are selected as at least two materials. These composites are composites composed of at least two polymer substrates manufactured by the method according to the present disclosure. In composite 222b, the content of inorganic particles in polymer substrate 170a is higher than that in polymer substrate 170b. In composite 222d, the content of inorganic particles in polymer substrate 170c is lower than that in polymer substrate 170b and higher than that in polymer substrate 170d. Composite 222e has polymer substrate 170e having a lower inorganic particle content than polymer substrate 170d, and inorganic particle-free polymer substrate 150.

図19に示されている方法では、選択されたこれらの材料を、無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように積層して、ポリマー基材積層体470a′を得ている。ポリマー基材積層体470a′は、積層されている6つのポリマー基材170a~170e及び150を有しており、ポリマー基材積層体470a′を構成するポリマー基材それぞれにおける無機粒子の含有量が、積層体の最外層から始めて積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、6つのポリマー基材が積層されている。 In the method shown in FIG. 19, these selected materials are laminated so that the content of inorganic particles increases or decreases stepwise along the lamination direction to obtain polymer substrate laminate 470a'. Polymer substrate laminate 470a' has six polymer substrates 170a-170e and 150 that are laminated, and the six polymer substrates are laminated so that the content of inorganic particles in each of the polymer substrates that make up polymer substrate laminate 470a' increases or decreases stepwise along the lamination direction, starting from the outermost layer of the laminate.

この方法によれば、優れた品質を有する勾配型のポリマー基材積層体を、比較的簡便に製造することができる。特に、本開示に係る製造方法によって得られる2つのポリマー基材を有する複合体を用いた場合には、ポリマー基材間の界面の平坦性が比較的高いポリマー基材積層体を得ることができる。 This method allows for the relatively easy production of gradient-type polymer substrate laminates with excellent quality. In particular, when a composite having two polymer substrates obtained by the production method according to the present disclosure is used, a polymer substrate laminate with relatively high flatness at the interface between the polymer substrates can be obtained.

また、上記の方法によって得られる勾配型のポリマー基材積層体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、多数の無機粒子含有ポリマー基材を有する勾配型のポリマー基材積層体では、その膜構造を変化させることによって、特殊な効果を付加することができ、例えば、透過する波長帯域の拡大・縮小若しくは限定を行うこと、又は反射率を任意の値にすることができる。したがって、本開示に係る勾配型のポリマー基材積層体は、優れた反射・透過特性を有する光学用部材として特に有用である。 The gradient polymer substrate laminate obtained by the above method has physical properties that are useful for various applications. For example, in a gradient polymer substrate laminate having a large number of inorganic particle-containing polymer substrates, special effects can be added by changing the film structure, for example, the transmitted wavelength band can be expanded, contracted or limited, or the reflectance can be set to any value. Therefore, the gradient polymer substrate laminate according to the present disclosure is particularly useful as an optical component having excellent reflection and transmission properties.

(勾配型のポリマー基材積層体)
勾配型のポリマー基材積層体は、積層されている少なくとも3つのポリマー基材を有している。勾配型のポリマー基材積層体は、例えば、少なくとも3つの無機粒子含有ポリマー基材からなっていてよく、又は、少なくとも2つの無機粒子含有ポリマー基材及び1つの無機粒子非含有ポリマー基材からなっていてよい。ポリマー基材積層体を構成するポリマー基材、無機粒子、及びポリマーについては、上記の記載を参照することができる。ポリマー基材積層体を構成する少なくとも3つのポリマー基材は、好ましくは、同じ種類のポリマーを含有している。
Gradient Polymer-Based Laminates
The gradient type polymer substrate laminate has at least three polymer substrates laminated. The gradient type polymer substrate laminate may be composed of at least three inorganic particle-containing polymer substrates, or may be composed of at least two inorganic particle-containing polymer substrates and one inorganic particle-free polymer substrate. The above description can be referred to for the polymer substrate, inorganic particles, and polymer constituting the polymer substrate laminate. The at least three polymer substrates constituting the polymer substrate laminate preferably contain the same type of polymer.

勾配型のポリマー基材積層体は、好ましくは、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、若しくは8以上のポリマー基材を有していてよく、かつ/又は、20以下、18以下、16以下、14以下、12以下、若しくは10以下のポリマー基材を有していてよい。 The gradient polymer substrate laminate may preferably have 3 or more, 4 or more, 5 or more, 6 or more, 7 or more, or 8 or more polymer substrates, and/or 20 or less, 18 or less, 16 or less, 14 or less, 12 or less, or 10 or less polymer substrates.

勾配型のポリマー基材積層体においては、ポリマー基材それぞれにおける無機粒子の含有量が、積層体の最外層から始めて、積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、少なくとも3つのポリマー基材が積層されている。 In a gradient polymer substrate laminate, at least three polymer substrates are laminated so that the content of inorganic particles in each polymer substrate increases or decreases stepwise along the stacking direction, starting from the outermost layer of the laminate.

「無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少する」とは、ポリマー基材積層体において、積層方向に沿って無機粒子の含有量における勾配が形成されていることを意味する。無機粒子の含有量における段階的な増加又は減少は、ポリマー基材積層体を構成するポリマー基材のうちの少なくとも1つのペアの間で形成されていればよい。例えば、6つのポリマー基材から構成されるポリマー基材積層体において、最外層から5つのポリマー基材における無機粒子含有量が同一であり、かつ、6つ目のポリマー基材が、その他の5つのポリマー基材よりも多いか又は少ない無機粒子含有量を有していてもよい。好ましくは、ポリマー基材積層体を構成しているポリマー基材が、それぞれ、隣り合うポリマー基材とは異なる無機粒子含有量を有している。 "The content of inorganic particles increases or decreases stepwise along the stacking direction" means that a gradient in the content of inorganic particles is formed along the stacking direction in the polymer substrate laminate. The stepwise increase or decrease in the content of inorganic particles may be formed between at least one pair of polymer substrates constituting the polymer substrate laminate. For example, in a polymer substrate laminate composed of six polymer substrates, the inorganic particle content in the five polymer substrates from the outermost layer may be the same, and the sixth polymer substrate may have a higher or lower inorganic particle content than the other five polymer substrates. Preferably, each of the polymer substrates constituting the polymer substrate laminate has a different inorganic particle content from the adjacent polymer substrates.

ポリマー基材における無機粒子の含有量については、支持基材としてのポリマー基材に関する上述の記載を参照することができる。ポリマー基材積層体を構成するそれぞれのポリマー基材は、互いに異なる種類の無機粒子を含有していてもよく、又は、互いに同じ種類の無機粒子を含有していてもよい。好ましくは、ポリマー基材積層体を構成するそれぞれのポリマー基材が、互いに同じ種類の無機粒子を含有している。 For the content of inorganic particles in the polymer substrate, the above description regarding the polymer substrate as a support substrate can be referred to. Each polymer substrate constituting the polymer substrate laminate may contain different types of inorganic particles, or may contain the same type of inorganic particles. Preferably, each polymer substrate constituting the polymer substrate laminate contains the same type of inorganic particles.

好ましくは、ポリマー基材積層体は、ポリマー基材からなっており、剥離用基材及び無機基材を含んでいない。このようなポリマー基材積層体は、ポリマー基材及び/又はポリマー基材からなる複合体を材料として用いることによって、製造することができる。 Preferably, the polymer substrate laminate is made of a polymer substrate and does not include a release substrate or an inorganic substrate. Such a polymer substrate laminate can be manufactured by using a polymer substrate and/or a composite of a polymer substrate as a material.

〈材料選択工程〉
本開示に係る、勾配型のポリマー基材積層体の製造方法における材料選択工程では、下記からなる群から、少なくとも2つの材料を選択する:
無機粒子非含有ポリマー基材、
無機粒子含有ポリマー基材、及び、
少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体。
<Material selection process>
In the method of making a gradient polymeric substrate laminate according to the present disclosure, the material selection step comprises selecting at least two materials from the group consisting of:
Polymer substrates free of inorganic particles;
An inorganic particle-containing polymer substrate, and
A composite comprised of at least two polymeric substrates.

材料選択工程において選択される少なくとも2つの材料は、本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材、及び/又は、本開示に係る方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体、を含み、かつ、合計で少なくとも3つのポリマー基材を含む。 The at least two materials selected in the material selection process include a polymer substrate produced by the method of the present disclosure, and/or a composite composed of at least two polymer substrates produced by the method of the present disclosure, and include a total of at least three polymer substrates.

材料選択工程における「本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材」は、本開示に係る方法によって製造された無機粒子含有ポリマー基材であってよい。無機基材含有ポリマー基材の製造方法については、上記の記載を参照することができる。 The "polymer substrate manufactured by the method according to the present disclosure" in the material selection process may be an inorganic particle-containing polymer substrate manufactured by the method according to the present disclosure. For the method of manufacturing the inorganic substrate-containing polymer substrate, please refer to the above description.

材料選択工程における「本開示に係る方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体」は、好ましくは2つ~4つ、より好ましくは2つ~3つ、特に好ましくは2つのポリマー基材から構成されており、かつ/又は、ポリマー基材以外の構成要素、特には無機基材又は剥離用基材、を含んでいない。「本開示に係る方法によって製造された、少なくとも2つのポリマー基材から構成される複合体」としては、例えば、支持基材としてポリマー基材を用いて製造されたポリマー基材-支持基材複合体(例えば図6A~C参照)、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を用いて製造されたポリマー基材-支持基材複合体(例えば図7B参照)、無機粒子含有ポリマー基材を含む追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体(例えば図11参照)、支持基材としてポリマー基材又は2つのポリマー基材を有する複合体を有する、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体(例えば図14B、図15B参照)、追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体(例えば図17参照)を挙げることができる。 In the material selection step, the "composite composed of at least two polymer substrates produced by the method according to the present disclosure" is preferably composed of two to four, more preferably two to three, and particularly preferably two polymer substrates, and/or does not include any components other than the polymer substrate, particularly an inorganic substrate or a release substrate. Examples of the "composite composed of at least two polymer substrates produced by the method according to the present disclosure" include a polymer substrate-support substrate composite produced using a polymer substrate as a support substrate (see, for example, Figures 6A to 6C), a polymer substrate-support substrate composite produced using a composite having two polymer substrates as a support substrate (see, for example, Figure 7B), an additional polymer substrate-polymer substrate composite containing an inorganic particle-containing polymer substrate (see, for example, Figure 11), an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate or a composite having two polymer substrates as a support substrate (see, for example, Figures 14B and 15B), and an additional polymer substrate-polymer substrate composite (see, for example, Figure 17).

材料選択工程では、選択された材料全体に含まれるすべてのポリマー基材を考慮した場合に、少なくともいずれかのポリマー基材のペアの間で、無機粒子の含有量が異なっている。好ましくは、選択された材料全体に含まれるすべてのポリマー基材を考慮した場合に、すべてのポリマー基材における無機粒子の含有量が、それぞれ互いに異なっている。例えば、図19の例では、選択された材料222b、222d、及び222eに含まれるすべてのポリマー基材170a~170e及び150を考慮した場合に、すべてのポリマー基材における無機粒子の含有量が、それぞれ互いに異なっている。 In the material selection process, when all polymer substrates contained in the entire selected material are considered, the inorganic particle content differs between at least any pair of polymer substrates. Preferably, when all polymer substrates contained in the entire selected material are considered, the inorganic particle content differs from each other in all polymer substrates. For example, in the example of FIG. 19, when all polymer substrates 170a to 170e and 150 contained in selected materials 222b, 222d, and 222e are considered, the inorganic particle content differs from each other in all polymer substrates.

材料選択工程において、材料は、得られるポリマー基材積層体が少なくとも3つのポリマー基材を有するように、選択される。例えば、材料として、3つ若しくは4つのポリマー基材を有する複合体のみを選択することができ、又は、材料として、2つのポリマー基材を有する複合体及び1つのポリマー基材を、選択することができる。 In the material selection step, the materials are selected so that the resulting polymer substrate laminate has at least three polymer substrates. For example, only composites having three or four polymer substrates can be selected as materials, or composites having two polymer substrates and one polymer substrate can be selected as materials.

また、材料選択工程において、材料は、材料を積層して得られるポリマー基材積層体において、無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、選択される。例えば、材料として、3つ又は4つのポリマー基材を有する複合体を選択した場合、当該複合体は、積層方向に沿って段階的に増加又は減少する無機粒子の含有量を有する。 In addition, in the material selection process, the materials are selected so that the content of inorganic particles in the polymer substrate laminate obtained by stacking the materials increases or decreases stepwise along the stacking direction. For example, when a composite having three or four polymer substrates is selected as a material, the composite has a content of inorganic particles that increases or decreases stepwise along the stacking direction.

〈積層工程〉
本開示に係る勾配型のポリマー基材積層体の製造方法における積層工程では、無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、少なくとも2つの材料を積層して、ポリマー基材積層体を得る。
<Lamination process>
In the lamination step in the method for producing a gradient-type polymer substrate laminate according to the present disclosure, at least two materials are laminated so that the content of inorganic particles increases or decreases stepwise along the lamination direction to obtain a polymer substrate laminate.

例えば、図19に示されている例では、複合体222bを構成するポリマー基材170bの上に、ポリマー基材170bよりも無機粒子含有量が少ないポリマー基材170cがポリマー基材170bの方を向くようにして、複合体222dを積層する。そして、得られた複合体222b及び222dからなる積層体において、ポリマー基材170dの上に、ポリマー基材170dよりも無機粒子含有量が少ないポリマー基材170eがポリマー基材170dの方を向くようにして、複合体222eを積層する。結果として、最外層を構成するポリマー基材170aから出発して、無機粒子の含有量が積層方向に沿って段階的に減少しているポリマー基材積層体470a′が得られる。なお、ポリマー基材積層体470a′では、最外層を構成するポリマー基材150から出発して、無機粒子の含有量が、積層方向に沿って段階的に増加している。 For example, in the example shown in FIG. 19, the composite 222d is laminated on the polymer substrate 170b constituting the composite 222b, with the polymer substrate 170c having a lower inorganic particle content than the polymer substrate 170b facing the polymer substrate 170b. Then, in the laminate consisting of the obtained composites 222b and 222d, the composite 222e is laminated on the polymer substrate 170d, with the polymer substrate 170e having a lower inorganic particle content than the polymer substrate 170d facing the polymer substrate 170d. As a result, starting from the polymer substrate 170a constituting the outermost layer, a polymer substrate laminate 470a' is obtained in which the content of inorganic particles decreases stepwise along the lamination direction. In the polymer substrate laminate 470a', the content of inorganic particles increases stepwise along the lamination direction, starting from the polymer substrate 150 constituting the outermost layer.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、積層工程で得られた勾配型のポリマー基材積層体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、勾配型のポリマー基材積層体を構成するポリマー基材間の密着性が、さらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関して上述した記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the gradient-type polymer substrate laminate obtained in the lamination step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the polymer substrates constituting the gradient-type polymer substrate laminate. For the thermocompression treatment, the above description regarding the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪交互型のポリマー基材積層体の製造方法≫
本開示は、少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材を有しており、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有しているポリマー基材積層体(以下、「交互型のポリマー基材積層体」と呼ぶ。)を製造する方法を含んでおり、この方法は、下記の(a)及び(b)を含む:
(a)無機粒子非含有ポリマー基材、無機粒子含有ポリマー基材、並びに、少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材から構成されておりかつ無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有している複合体、からなる群から、少なくとも2つの材料を選択すること(材料選択工程)、ここで、少なくとも2つの材料は、本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材、又は、本開示に係る方法によって製造された複合体、を含み、かつ、合計で少なくとも3つのポリマー基材を含む、
(b)少なくとも2つの材料を、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが隣り合うように積層して、ポリマー基材積層体を製造すること(積層工程)。
<Method for producing alternating polymer substrate laminate>
The present disclosure includes a method for producing a polymer substrate laminate having at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate, the polymer substrate laminate having a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated (hereinafter referred to as an "alternate type polymer substrate laminate"), the method including the following steps (a) and (b):
(a) selecting at least two materials from the group consisting of inorganic particle-free polymer substrates, inorganic particle-containing polymer substrates, and composites consisting of at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate and having a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated (material selection step), wherein the at least two materials include a polymer substrate produced by the method according to the present disclosure or a composite produced by the method according to the present disclosure, and include at least three polymer substrates in total;
(b) Laminating at least two materials, with an inorganic particle-containing polymer substrate and an inorganic particle-free polymer substrate side-by-side, to produce a polymer substrate laminate (lamination step).

図20は、本開示に係るポリマー基材積層体の製造方法の別の実施態様を概略的に示す。図20に示されている方法では、材料として、複合体222aを4つ選択している。材料としてのこれらの複合体222aは、無機粒子含有ポリマー基材及び無機粒子非含有ポリマー基材をそれぞれ1つずつ有している。複合体222aは、例えば、本開示に係る方法によって製造された、支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体であってよい(図6A、6B参照)。図20に示される方法では、選択された4つの複合体222aを、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが隣り合うように積層して、ポリマー基材積層体490a′を製造している。得られたポリマー基材積層体490a′は、4つの無機粒子含有ポリマー基材及び4つの無機粒子非含有ポリマー基材を有しており、かつ、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有している。 20 is a schematic diagram of another embodiment of the method for producing a polymer substrate laminate according to the present disclosure. In the method shown in FIG. 20, four composites 222a are selected as materials. These composites 222a as materials each have one inorganic particle-containing polymer substrate and one inorganic particle-free polymer substrate. The composites 222a may be, for example, a polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate produced by the method according to the present disclosure (see FIGS. 6A and 6B). In the method shown in FIG. 20, the four selected composites 222a are laminated so that the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are adjacent to each other to produce a polymer substrate laminate 490a'. The obtained polymer substrate laminate 490a' has four inorganic particle-containing polymer substrates and four inorganic particle-free polymer substrates, and has a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated.

上記の方法によれば、優れた品質を有する交互型のポリマー基材積層体を、比較的簡便に製造することができる。 The above method allows for the relatively easy production of alternating polymer substrate laminates with excellent quality.

上記の方法によって得られる交互型のポリマー基材積層体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、無機粒子非含有ポリマー基材と無機粒子含有ポリマー基材が交互に積層されている本開示に係る交互型のポリマー基材積層体では、屈折率が互いに異なる基材が交互に配列しているため、積層体全体として、非常に反射率の高い反射膜を得ることができる場合がある。また、多数のポリマー基材を有している本開示に係るポリマー基材積層体では、その膜構造を変化させることによって、特殊な効果を付加することができ、例えば、透過する波長帯域の拡大・縮小若しくは限定を行うこと、又は反射率を任意の値にすることができる場合がある。したがって、本開示に係る交互型のポリマー基材積層体は、優れた反射・透過特性を有する光学用部材として特に有用である。 The alternating polymer substrate laminate obtained by the above method has physical properties useful for various applications. For example, in the alternating polymer substrate laminate according to the present disclosure in which inorganic particle-free polymer substrates and inorganic particle-containing polymer substrates are alternately laminated, substrates with different refractive indices are arranged alternately, so that a reflective film with a very high reflectance may be obtained as a whole laminate. In addition, in the polymer substrate laminate according to the present disclosure, which has a large number of polymer substrates, special effects can be added by changing the film structure, for example, the transmitted wavelength band may be expanded, reduced or limited, or the reflectance may be set to an arbitrary value. Therefore, the alternating polymer substrate laminate according to the present disclosure is particularly useful as an optical component having excellent reflection and transmission properties.

(交互型のポリマー基材積層体)
交互型のポリマー基材積層体は、少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材を有している。ポリマー基材積層体を構成するポリマー基材、無機粒子、及びポリマーについては、上記の記載を参照することができる。ポリマー基材積層体を構成するそれぞれのポリマー基材は、好ましくは、同じ種類のポリマーから構成されている。
Alternating Polymer-Based Laminates
The alternating polymer substrate laminate has at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate. The polymer substrate, inorganic particles, and polymer constituting the polymer substrate laminate can be referred to the above description. Each polymer substrate constituting the polymer substrate laminate is preferably composed of the same type of polymer.

交互型のポリマー基材積層体は、好ましくは、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、若しくは8以上のポリマー基材を有していてよく、かつ/又は、20以下、18以下、16以下、14以下、12以下、若しくは10以下のポリマー基材を有している。交互型のポリマー基材積層体は、好ましくは、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機粒子含有ポリマー基材を、それぞれ同一の数ずつ有している。 The alternating polymer substrate laminate may preferably have 3 or more, 4 or more, 5 or more, 6 or more, 7 or more, or 8 or more polymer substrates, and/or 20 or less, 18 or less, 16 or less, 14 or less, 12 or less, or 10 or less polymer substrates. The alternating polymer substrate laminate preferably has the same number of inorganic particle-free polymer substrates and inorganic particle-containing polymer substrates.

〈材料選択工程〉
本開示に係る、交互型のポリマー基材積層体の製造方法における材料選択工程では、下記からなる群から、少なくとも2つの材料を選択する:
無機粒子非含有ポリマー基材、
無機粒子含有ポリマー基材、並びに、
少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材から構成されており、かつ無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが交互に積層された構造を有している、複合体、
<Material selection process>
In the method of making an alternating polymeric substrate laminate according to the present disclosure, the material selection step comprises selecting at least two materials from the group consisting of:
Polymer substrates free of inorganic particles;
A polymer substrate containing inorganic particles, and
A composite which is composed of at least one inorganic particle-containing polymer substrate and at least one inorganic particle-free polymer substrate, and has a structure in which the inorganic particle-containing polymer substrate and the inorganic particle-free polymer substrate are alternately laminated;

材料選択工程において選択される少なくとも2つの材料は、本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材、又は、本開示に係る方法によって製造された複合体、を含む。 The at least two materials selected in the material selection process include a polymer substrate produced by the method of the present disclosure, or a composite produced by the method of the present disclosure.

材料選択工程における「本開示に係る方法によって製造されたポリマー基材」は、図10Bで例示される本開示に係る方法によって製造された無機基材含有ポリマー基材であってよい。無機基材含有ポリマー基材の製造方法については、上記の記載を参照することができる。 The "polymer substrate manufactured by the method according to the present disclosure" in the material selection process may be an inorganic substrate-containing polymer substrate manufactured by the method according to the present disclosure as illustrated in FIG. 10B. The above description may be referred to for the method for manufacturing an inorganic substrate-containing polymer substrate.

材料選択工程における「本開示に係る方法によって製造された複合体」は、好ましくは、2~4つのポリマー基材、より好ましくは2又は3つのポリマー基材、特に好ましくは2つのポリマー基材から構成されており、かつ/又は、ポリマー基材以外の構成要素、特には無機基材又は剥離用基材、を含んでいない。「本開示に係る方法によって製造された複合体」としては、例えば、支持基材としてポリマー基材又は2つのポリマー基材を有する複合体を有する、ポリマー基材-支持基材複合体(例えば図6A~B、図7A、図8A、及び図8B参照)、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とを有する追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体(例えば図11参照)、支持基材としてポリマー基材又は2つのポリマー基材を有する複合体を有する、追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体、追加のポリマー基材-ポリマー基材(例えば図17参照)を挙げることができる。これらの複合体の製造方法については、上述の記載を参照することができる。 The "composite produced by the method according to the present disclosure" in the material selection step is preferably composed of two to four polymer substrates, more preferably two or three polymer substrates, and particularly preferably two polymer substrates, and/or does not include any components other than the polymer substrate, particularly an inorganic substrate or a release substrate. Examples of the "composite produced by the method according to the present disclosure" include a polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate or a composite having two polymer substrates as a support substrate (see, for example, Figures 6A-B, 7A, 8A, and 8B), an additional polymer substrate-polymer substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate and an inorganic particle-free polymer substrate (see, for example, Figure 11), an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate or a composite having two polymer substrates as a support substrate, and an additional polymer substrate-polymer substrate (see, for example, Figure 17). The above description can be referred to for the manufacturing method of these composites.

〈積層工程〉
本開示に係る勾配型のポリマー基材積層体の製造方法における積層工程では、少なくとも2つの材料を、無機粒子含有ポリマー基材と無機粒子非含有ポリマー基材とが隣り合うように積層して、ポリマー基材積層体を製造する。
<Lamination process>
In the lamination step in the method for producing a gradient-type polymer substrate laminate according to the present disclosure, at least two materials are laminated so that an inorganic particle-containing polymer substrate and an inorganic particle-free polymer substrate are adjacent to each other to produce a polymer substrate laminate.

積層工程について、図20を参照して説明すると、例えば、材料としての4つの複合体222aのうちの1つの複合体222aの無機粒子非含有ポリマー基材150上に、別の複合体222aに含まれる無機粒子含有ポリマー基材170aが接するようにして、別の複合体222aを配置して、合計で4つのポリマー基材を有する積層体前駆体Aを製造する。そして、当該積層体前駆体Aの最外層を構成している無機粒子非含有ポリマー層150に、さらに別の複合体222aを、同様に配置して、合計で6つのポリマー基材を有する積層体前駆体Bを製造する。そして、同様の工程を繰り返すことによって、交互型のポリマー基材積層体490a′を製造することができる。 The lamination process will be described with reference to FIG. 20. For example, one of the four composites 222a as materials is arranged so that the inorganic particle-containing polymer substrate 170a contained in another composite 222a is in contact with the inorganic particle-free polymer substrate 150 of the other composite 222a, thereby producing a laminate precursor A having a total of four polymer substrates. Then, another composite 222a is similarly arranged on the inorganic particle-free polymer layer 150 constituting the outermost layer of the laminate precursor A, thereby producing a laminate precursor B having a total of six polymer substrates. Then, by repeating the same process, an alternating type polymer substrate laminate 490a' can be produced.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、積層工程で得られた交互型のポリマー基材積層体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、交互型のポリマー基材積層体を構成するポリマー基材間の密着性が、さらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体に関して上述した記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the alternating polymer substrate laminate obtained in the lamination step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the polymer substrates constituting the alternating polymer substrate laminate. For the thermocompression treatment, the above description regarding the polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪配置工程を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法≫
本開示は、ポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法を含み、この方法は、下記を含む:
本開示に係る方法によって、少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体を製造すること(ポリマー基材積層体製造工程)、
無機基材、又は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体、を提供すること(提供工程)、並びに
ポリマー基材積層体を、無機基材の上に、又は複合体の前記ポリマー基材の上に、配置すること(配置工程)。
<Production method of polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having arrangement step>
The present disclosure includes a method for making a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite, the method comprising:
Producing a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates by the method according to the present disclosure (polymer substrate laminate production process);
Providing an inorganic substrate or a composite having a polymeric substrate and an inorganic substrate (Providing step); and disposing a polymeric substrate laminate on the inorganic substrate or on the polymeric substrate of the composite (Disposing step).

図21は、ポリマー基材積層体470a′を無機基材180の上に配置することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体470aの製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。図22は、ポリマー基材積層体470a′′を、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体430bのポリマー基材170bの上に配置することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体470aの製造方法の1つの実施態様を概略的に示す。 Figure 21 shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite 470a according to the present disclosure, which includes placing a polymer substrate laminate 470a' on an inorganic substrate 180. Figure 22 shows a schematic diagram of one embodiment of a method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite 470a according to the present disclosure, which includes placing a polymer substrate laminate 470a'' on a polymer substrate 170b of a composite 430b having a polymer substrate and an inorganic substrate.

本開示に係る上記のポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法では、本開示に係る方法によって製造されるポリマー基材積層体を用いてポリマー基材積層体-無機基材複合体を製造するため、優れた品質を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体を比較的簡便に製造することができる。また、本開示に係る方法によって製造されるポリマー基材積層体-無機基材複合体は、本開示に係るポリマー基材積層体を有しているため、光学用途において特に有用であると考えられる。 In the above-described method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite is produced using a polymer substrate laminate produced by the method according to the present disclosure, so that a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having excellent quality can be produced relatively easily. In addition, since the polymer substrate laminate-inorganic substrate composite produced by the method according to the present disclosure has the polymer substrate laminate according to the present disclosure, it is believed to be particularly useful in optical applications.

(ポリマー基材積層体-無機基材複合体)
ポリマー基材積層体-無機基材複合体は、無機基材、及び、無機基材の上に配置された、少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体を有する。少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体は、上述の勾配型のポリマー基材積層体、又は上述の交互型のポリマー基材積層体であってよい(例えば図19、20参照)。また、少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体は、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を用いているポリマー基材-支持基材複合体(例えば図7A、B参照)、又は、支持基材としてのポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体であってよい(例えば図14B、図15B参照)。
(Polymer Substrate Laminate-Inorganic Substrate Composite)
The polymer substrate laminate-inorganic substrate composite comprises an inorganic substrate and a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates disposed on the inorganic substrate. The polymer substrate laminate having at least three polymer substrates may be the gradient type polymer substrate laminate described above or the alternating type polymer substrate laminate described above (see, for example, Figures 19 and 20). The polymer substrate laminate having at least three polymer substrates may also be a polymer substrate-support substrate composite using a composite having two polymer substrates as a support substrate (see, for example, Figures 7A and 7B), or an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate (see, for example, Figures 14B and 15B).

〈ポリマー基材積層体製造工程〉
本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法のポリマー基材積層体製造工程では、本開示に係る方法によって、少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体を製造する。少なくとも3つのポリマー基材を有するポリマー基材積層体としての、ポリマー基材積層体、支持基材として2つのポリマー基材を有する複合体を用いているポリマー基材-支持基材複合体、及び、支持基材としてのポリマー基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体の製造方法については、上述の記載を参照することができる。
<Polymer substrate laminate manufacturing process>
In the polymer substrate laminate manufacturing step of the method for manufacturing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, a polymer substrate laminate having at least three polymer substrates is manufactured by the method according to the present disclosure. For the polymer substrate laminate having at least three polymer substrates, the polymer substrate-support substrate composite using a composite having two polymer substrates as the support substrate, and the manufacturing method of an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as the support substrate, reference can be made to the above descriptions.

〈提供工程〉
本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法の提供工程では、無機基材、又は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体、を提供する。
<Provision process>
In the providing step of the method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, an inorganic substrate or a composite having a polymer substrate and an inorganic substrate is provided.

当該提供工程で提供される「ポリマー基材及び無機基材を有する複合体」は、本開示に係る方法によって製造される複合体であってよい。例えば、「ポリマー基材及び無機基材を有する複合体」は、本開示に係る製造方法によって製造されるポリマー基材若しくは追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を無機基材上に配置することによって製造される複合体(例えば図12、図13、図18参照)であってよく、又は、支持基材として無機基材を用いて本開示に係る方法によって製造されるポリマー基材-支持基材複合体(例えば図9参照)若しくは追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体(例えば図16参照)であってもよい。 The "composite having a polymer substrate and an inorganic substrate" provided in the providing step may be a composite produced by the method according to the present disclosure. For example, the "composite having a polymer substrate and an inorganic substrate" may be a composite produced by disposing a polymer substrate produced by the production method according to the present disclosure or an additional polymer substrate-polymer substrate composite on an inorganic substrate (see, for example, Figures 12, 13, and 18), or may be a polymer substrate-support substrate composite produced by the method according to the present disclosure using an inorganic substrate as the support substrate (see, for example, Figure 9) or an additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite (see, for example, Figure 16).

〈配置工程〉
本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法の配置工程では、ポリマー基材積層体を、無機基材の上に、又は複合体の前記ポリマー基材の上に、配置する。
Placement process
In the disposing step of the method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite according to the present disclosure, the polymer substrate laminate is disposed on the inorganic substrate or on the polymer substrate of the composite.

配置工程においてポリマー基材積層体を無機基材上に配置する様式については、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関して上述した記載を参照することができる。例えば、無機基材上に、ポリマー基材積層体を、直接に、又は、密着ポリマー層を介して、配置することができる。 For the manner in which the polymer substrate laminate is disposed on the inorganic substrate in the disposing step, the above description regarding the manufacturing method of the polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to. For example, the polymer substrate laminate can be disposed on the inorganic substrate directly or via an adhesive polymer layer.

〈熱圧着工程〉
本開示に係る1つの実施態様では、配置工程で得られたポリマー基材積層体-無機基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、ポリマー基材積層体と無機基材との密着性が、さらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体の製造方法に関して上述した記載を参照することができる。
<Thermocompression bonding process>
In one embodiment according to the present disclosure, the polymer substrate laminate-inorganic substrate composite obtained in the disposing step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the polymer substrate laminate and the inorganic substrate. For the thermocompression treatment, the above description regarding the method for producing a polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪無機基材の上にポリマー基材積層体を製造することを含む、ポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法≫
本開示は、下記を含む、ポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法も含む:
無機基材、又は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体、を提供すること(提供工程)、並びに
無機基材の上に又は前記複合体の前記ポリマー基材の上に、本開示に係る方法によって、ポリマー基材積層体を製造すること(積層工程)。
<<Method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite, comprising producing a polymer substrate laminate on an inorganic substrate>>
The present disclosure also includes a method for making a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite, comprising:
providing an inorganic substrate or a composite having a polymer substrate and an inorganic substrate (providing step); and producing a polymer substrate laminate on the inorganic substrate or on the polymer substrate of the composite by the method according to the present disclosure (laminating step).

図23は、ポリマー基材及び無機基材を有する複合体430bのポリマー基材170bの上に、材料としてポリマー基材170c及び3つのポリマー基材を有する複合体332cを用いてポリマー基材積層体を製造することを含む、本開示に係るポリマー基材積層体-無機基材複合体470aの製造方法の別の実施態様を概略的に示す。 FIG. 23 shows a schematic diagram of another embodiment of a method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite 470a according to the present disclosure, which includes producing a polymer substrate laminate on top of a polymer substrate 170b of a composite 430b having a polymer substrate and an inorganic substrate, using a polymer substrate 170c and a composite 332c having three polymer substrates as materials.

本開示に係る、積層工程を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法では、本開示に係る方法によって無機基材等の上にポリマー基材積層体製造することによって、ポリマー基材積層体-無機基材複合体を製造する。したがって、当該方法によれば、優れた品質を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体を比較的簡便に製造することができる。 In the method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having a lamination process according to the present disclosure, a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite is produced by producing a polymer substrate laminate on an inorganic substrate or the like by the method according to the present disclosure. Therefore, according to this method, a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having excellent quality can be produced relatively easily.

(提供工程)
積層工程を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法における提供工程については、上述の「配置工程を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法」における記載を参照することができる。
(Providing process)
For the providing step in the method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having a lamination step, the description in the above "Method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having an arrangement step" can be referred to.

(積層工程)
積層工程を有するポリマー基材積層体-無機基材複合体の製造方法における積層工程では、上記の提供工程で提供された無機基材、又は上記の提供工程で提供された複合体におけるポリマー基材の上に、本開示に係る方法に従って、ポリマー基材積層体を製造する。製造されるポリマー基材積層体は、上述の勾配型のポリマー基材積層体、又は上述の交互型のポリマー基材積層体であってよい。これらのポリマー基材積層体の製造方法については、上述の記載を参照することができる。
(Lamination process)
In the lamination step in the method for producing a polymer substrate laminate-inorganic substrate composite having a lamination step, a polymer substrate laminate is produced on the inorganic substrate provided in the above-mentioned providing step, or on the polymer substrate in the composite provided in the above-mentioned providing step, according to the method according to the present disclosure. The produced polymer substrate laminate may be the above-mentioned gradient type polymer substrate laminate or the above-mentioned alternating type polymer substrate laminate. The above description can be referred to for the production method of these polymer substrate laminates.

(熱圧着工程)
本開示に係る1つの実施態様では、積層工程で得られたポリマー基材積層体-無機基材複合体に対して、さらに熱圧着処理を行うことができる。熱圧着処理によって、ポリマー基材積層体と無機基材との密着性がさらに向上しうる。熱圧着処理については、ポリマー基材-無機基材複合体に関して上述した記載を参照することができる。
(Thermocompression bonding process)
In one embodiment according to the present disclosure, the polymer substrate laminate-inorganic substrate composite obtained in the lamination step can be further subjected to a thermocompression treatment. The thermocompression treatment can further improve the adhesion between the polymer substrate laminate and the inorganic substrate. For the thermocompression treatment, the above description regarding the polymer substrate-inorganic substrate composite can be referred to.

≪無機粒子含有ポリマー粒子≫
本開示は、下記を含む無機粒子含有ポリマー粒子を含んでいる:
ポリマー、並びに
金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択され、一次粒径が1nm~500nmであり、かつポリマー中に分散している、無機粒子。
<Polymer particles containing inorganic particles>
The present disclosure includes inorganic particle-containing polymer particles comprising:
a polymer; and inorganic particles selected from the group consisting of metals and semi-metals, oxides of metals and semi-metals, nitrides of metals and semi-metals, carbides of metals and semi-metals, carbon materials, and combinations thereof, the particles having a primary particle size of 1 nm to 500 nm and dispersed in the polymer.

本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子は、本開示に係る上述のポリマー粒子層-支持基材複合体を製造する際に、特に有用である。本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子を用いることによって、ポリマーを溶解させるための溶剤を低減しつつ複合体を製造することができるため、ポリマーを溶解させるための溶剤によって支持基材が望ましくない影響を受けることを回避することができる。特に、支持基材がポリマー基材である場合には、ポリマーを溶解させるための溶剤によって支持基材が溶解することを回避することができる。 The inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure are particularly useful in producing the above-mentioned polymer particle layer-support substrate composite according to the present disclosure. By using the inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure, a composite can be produced while reducing the amount of solvent used to dissolve the polymer, and therefore it is possible to avoid undesirable effects on the support substrate caused by the solvent used to dissolve the polymer. In particular, when the support substrate is a polymer substrate, it is possible to avoid dissolving the support substrate caused by the solvent used to dissolve the polymer.

本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子、並びに無機粒子含有ポリマー粒子に含有されるポリマー及び無機粒子については、本開示の製造方法における無機粒子含有ポリマー粒子、並びに無機粒子含有ポリマー粒子に含有されるポリマー及び無機粒子についての上記の記載を参照することができる。 For the inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure, and the polymer and inorganic particles contained in the inorganic particle-containing polymer particles, the above description of the inorganic particle-containing polymer particles according to the manufacturing method of the present disclosure, and the polymer and inorganic particles contained in the inorganic particle-containing polymer particles, may be referred to.

〈カップリング剤〉
本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子は、カップリング剤をさらに含むことができる。本開示の無機粒子含有ポリマー粒子に含有されうるカップリング剤については、本開示の製造方法における無機粒子含有ポリマー粒子に含有されうるカップリング剤についての上述の記載を参照することができる。
<Coupling Agent>
The inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure can further comprise a coupling agent.For the coupling agent that can be contained in the inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure, the above description of the coupling agent that can be contained in the inorganic particle-containing polymer particles according to the manufacturing method of the present disclosure can be referred to.

≪分散体≫
本開示は、無機粒子非含有ポリマー粒子及び/又は本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子並びに分散媒を含む、分散体を含んでいる。
<Dispersion body>
The present disclosure includes a dispersion comprising inorganic particle-free polymer particles and/or inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure and a dispersion medium.

本開示に係る分散体を用いることによって、支持基材上に膜状のポリマー粒子層を形成する場合などに、均一なポリマー粒子層を容易に得ることが可能となる。 By using the dispersion according to the present disclosure, it is possible to easily obtain a uniform polymer particle layer, for example, when forming a film-like polymer particle layer on a support substrate.

また、分散体を構成する分散媒として、支持基材を溶解しにくいものを用いることが好ましく、この場合には、分散体を用いて支持基材上にポリマー粒子を堆積する際に、支持基材への望ましくない影響をさらに抑制することができる。 It is also preferable to use a dispersion medium that does not easily dissolve the support substrate as the dispersion medium. In this case, undesirable effects on the support substrate can be further suppressed when polymer particles are deposited on the support substrate using the dispersion.

〈ポリマー粒子、分散媒、分散体〉
本開示に係る分散体、並びに分散体に含有されるポリマー粒子及び分散媒については、それぞれ、本開示に係る製造方法における分散体、ポリマー粒子及び分散媒についての上記の記載を参照することができる。
<Polymer particles, dispersion medium, dispersion body>
For the dispersion according to the present disclosure, and the polymer particles and dispersion medium contained in the dispersion, reference may be made to the above descriptions of the dispersion, polymer particles, and dispersion medium in the production method according to the present disclosure, respectively.

≪無機粒子含有ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体≫
本開示は、下記である、ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体、を含む:
ポリマー基材、及び
ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層
を有しており、かつ、
ポリマー粒子層が、本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子を含む。
<Inorganic particle-containing polymer particle layer-polymer substrate composite>
The present disclosure includes a polymer particle layer-polymer substrate composite that is:
a polymeric substrate; and a layer of polymeric particles deposited on the polymeric substrate;
The polymer particle layer comprises inorganic particle-containing polymer particles according to the present disclosure.

無機粒子含有ポリマー粒子層を含むポリマー粒子層-ポリマー基材複合体は、ポリマー粒子層に無機粒子を有していることによって、例えばポリマーのみからなる基材と比較して異なる物理的性質を有しうる。例えば、当該複合体は、ポリマーのみからなる基材とは異なる屈折率を有しうるため、光学用部材、特には反射防止フィルム、又は当該反射防止フィルムのための前駆体素材として有用であると考えられる。 A polymer particle layer-polymer substrate composite including an inorganic particle-containing polymer particle layer may have different physical properties compared to, for example, a substrate made of only a polymer, due to the presence of inorganic particles in the polymer particle layer. For example, the composite may have a refractive index different from that of a substrate made of only a polymer, and is therefore considered to be useful as an optical component, particularly an anti-reflection film, or a precursor material for the anti-reflection film.

このようなポリマー粒子層-ポリマー基材複合体は、上述した本開示に係る製造方法によって製造することができる。本開示に係るポリマー粒子層-ポリマー基材複合体に含有されるポリマー基材、無機粒子含有ポリマー粒子層、及び無機粒子含有ポリマー粒子については、本開示に係る製造方法に関する上述の記載を参照することができる。 Such a polymer particle layer-polymer substrate composite can be manufactured by the manufacturing method according to the present disclosure described above. For the polymer substrate, inorganic particle-containing polymer particle layer, and inorganic particle-containing polymer particles contained in the polymer particle layer-polymer substrate composite according to the present disclosure, the above description of the manufacturing method according to the present disclosure can be referenced.

無機粒子含有ポリマー粒子層の厚みは、2μm以上、5μm以上、10μm以上、又は20μm以上であってよく、2000μm以下、1000μm以下、500μm以下、200μm以下、又は100μm以下であってよい。 The thickness of the inorganic particle-containing polymer particle layer may be 2 μm or more, 5 μm or more, 10 μm or more, or 20 μm or more, and may be 2000 μm or less, 1000 μm or less, 500 μm or less, 200 μm or less, or 100 μm or less.

〈カップリング剤〉
本開示に係るポリマー粒子層-ポリマー基材複合体において、ポリマー粒子層及びポリマー基材のいずれか又は両方が、カップリング剤をさらに含んでいてよい。本開示のポリマー粒子に含有されうるカップリング剤については、本開示の製造方法におけるポリマー粒子に含有されうるカップリング剤についての上記の記載を参照することができる。
<Coupling Agent>
In the polymer particle layer-polymer substrate composite according to the present disclosure, either or both of the polymer particle layer and the polymer substrate may further contain a coupling agent. For the coupling agent that may be contained in the polymer particles of the present disclosure, reference may be made to the above description of the coupling agent that may be contained in the polymer particles in the production method of the present disclosure.

≪無機粒子非含有ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体≫
また、本開示は、下記である、ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体、を含む:
ポリマー基材、及び
ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層
を有しており、かつ、
ポリマー粒子層が、無機粒子非含有ポリマー粒子からなる。
<<Inorganic particle-free polymer particle layer-polymer substrate composite>>
The present disclosure also includes a polymer particle layer-polymer substrate composite that is:
a polymeric substrate; and a layer of polymeric particles deposited on the polymeric substrate;
The polymer particle layer is made of polymer particles that do not contain inorganic particles.

当該ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体を構成するポリマー基材は、好ましくは、無機粒子含有ポリマー基材である。 The polymer substrate constituting the polymer particle layer-polymer substrate composite is preferably a polymer substrate containing inorganic particles.

ポリマー基材として無機粒子含有ポリマー基材を有する無機粒子非含有ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体は、無機粒子含有ポリマー粒子層に無機粒子を有していることによって、例えばポリマーのみからなる基材と比較して異なる物理的性質を有しうる。例えば、当該複合体は、ポリマーのみからなる基材とは異なる屈折率を有しうるため、光学用部材、特には反射防止フィルム、又は当該反射防止フィルムのための前駆体素材として有用であると考えられる。 The inorganic particle-free polymer particle layer-polymer substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate may have different physical properties, for example, compared to a substrate consisting of only a polymer, due to the presence of inorganic particles in the inorganic particle-containing polymer particle layer. For example, the composite may have a refractive index different from that of a substrate consisting of only a polymer, and is therefore considered to be useful as an optical component, particularly an anti-reflection film, or a precursor material for the anti-reflection film.

このようなポリマー粒子層-ポリマー基材複合体は、上述した本開示に係る製造方法によって製造することができる。本開示に係るポリマー粒子層-ポリマー基材複合体に含有されるポリマー基材、無機粒子非含有ポリマー粒子層、及び無機粒子非含有ポリマー粒子については、本開示に係る上述の製造方法に係る記載を参照することができる。 Such a polymer particle layer-polymer substrate composite can be manufactured by the manufacturing method according to the present disclosure described above. For the polymer substrate, inorganic particle-free polymer particle layer, and inorganic particle-free polymer particles contained in the polymer particle layer-polymer substrate composite according to the present disclosure, the description of the manufacturing method according to the present disclosure described above can be referenced.

〈カップリング剤〉
本開示に係る無機粒子含有ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体において、無機粒子含有ポリマー粒子層及びポリマー基材のいずれか又は両方が、カップリング剤をさらに含んでいてよい。本開示のポリマー粒子に含有されうるカップリング剤については、本開示の製造方法におけるポリマー粒子に含有されうるカップリング剤についての上記の記載を参照することができる。
<Coupling Agent>
In the inorganic particle-containing polymer particle layer-polymer substrate composite according to the present disclosure, either or both of the inorganic particle-containing polymer particle layer and the polymer substrate may further contain a coupling agent. For the coupling agent that may be contained in the polymer particles of the present disclosure, the above description of the coupling agent that may be contained in the polymer particles in the manufacturing method of the present disclosure can be referred to.

≪追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体≫
本開示は、下記を含む、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体を含む:
ポリマー基材、
ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層、
ポリマー粒子層に堆積されている、追加のポリマー粒子層。
<<Additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composite>>
The present disclosure includes additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composites, including:
Polymer substrate,
a layer of polymer particles deposited on a polymer substrate;
An additional layer of polymer particles is deposited on the layer of polymer particles.

好ましくは、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体に含有されるポリマー基材、ポリマー粒子層、追加のポリマー粒子層のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有している。 Preferably, at least one of the polymer substrate, the polymer particle layer, and the additional polymer particle layer contained in the additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composite contains inorganic particles.

無機粒子含有ポリマー粒子層を含む追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体では、隣り合うポリマー粒子層の間における無機粒子含有量の差を調節することによって、屈折率を調節することができるため、光学用部材として有用であると考えられる。 In an additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite including an inorganic particle-containing polymer particle layer, the refractive index can be adjusted by adjusting the difference in inorganic particle content between adjacent polymer particle layers, and therefore it is believed to be useful as an optical component.

追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体に含まれるポリマー基材は、無機粒子非含有ポリマー基材、若しくは無機粒子含有ポリマー基材であってよく、又は、少なくとも2つのポリマー基材を有する複合体であってよい。ポリマー基材、及び少なくとも2つのポリマー基材を有する複合体は、上述の本開示に係る方法によって得られるものであってよい。 The polymer substrate included in the additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composite may be a polymer substrate not containing inorganic particles, or a polymer substrate containing inorganic particles, or may be a composite having at least two polymer substrates. The polymer substrate and the composite having at least two polymer substrates may be obtained by the method according to the present disclosure described above.

ポリマー粒子層及び追加のポリマー粒子層は、それぞれ、無機粒子非含有ポリマー粒子若しくは無機粒子含有ポリマー粒子、又は、無機粒子非含有ポリマー粒子と無機粒子含有ポリマー粒子との混合物から構成される。 The polymer particle layer and the additional polymer particle layer are each composed of inorganic particle-free polymer particles, inorganic particle-containing polymer particles, or a mixture of inorganic particle-free polymer particles and inorganic particle-containing polymer particles.

このような無機粒子非含有ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体は、上述した本開示に係る製造方法によって製造することができる。本開示に係る追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体に含有されるポリマー基材、ポリマー粒子層、及び追加のポリマー粒子層については、本開示に係る上述の製造方法に係る記載を参照することができる。 Such inorganic particle-free polymer particle layer-polymer substrate composites can be manufactured by the manufacturing method according to the present disclosure described above. For the polymer substrate, polymer particle layer, and additional polymer particle layer contained in the additional polymer particle layer-polymer particle layer-polymer substrate composite according to the present disclosure, the description of the manufacturing method according to the present disclosure described above can be referenced.

≪追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体≫
本開示は、下記である追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体、を含む:
ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を有しており、
ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有しており、
ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されており、かつ
ポリマー基材と追加のポリマー基材との界面が、平坦である。
Additional polymer substrate-polymer substrate composite
The present disclosure includes additional polymer substrate-polymer substrate composites that are:
a polymer substrate and an additional polymer substrate;
At least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate comprises inorganic particles;
The polymer substrate and the additional polymer substrate are disposed at least partially on top of each other, and an interface between the polymer substrate and the additional polymer substrate is flat.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、光学用部材として使用することができ、特には、反射防止フィルムとして使用することができる。特に、無機粒子含有ポリマー基材を有するポリマー基材-ポリマー基材複合体は、ポリマー基材と無機粒子含有ポリマー層との界面における界面粗さが低減されているため、光散乱が抑制され、光学用部材特には反射防止フィルムとして特に有用であると考えられる。 The additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure can be used as an optical component, and in particular can be used as an anti-reflection film. In particular, a polymer substrate-polymer substrate composite having an inorganic particle-containing polymer substrate has reduced interfacial roughness at the interface between the polymer substrate and the inorganic particle-containing polymer layer, which suppresses light scattering and is believed to be particularly useful as an optical component, in particular an anti-reflection film.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、ポリマー基材、及び追加のポリマー基材を有しており、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有しており、好ましくは、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、無機粒子を有している。特には、本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体においては、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、無機粒子含有ポリマー基材であり、特に好ましくは、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、無機粒子含有ポリマー基材である。本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、ポリマー基材又は追加のポリマー基材として、無機粒子非含有ポリマー基材を有していることができる。ポリマー基材及び追加のポリマー基材がともに無機粒子含有ポリマー基材である場合、それぞれの基材における無機粒子含有量が、互いに異なっていてよい。 The additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure has a polymer substrate and an additional polymer substrate, and at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate has inorganic particles, and preferably the polymer substrate and the additional polymer substrate have inorganic particles. In particular, in the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate is an inorganic particle-containing polymer substrate, and particularly preferably the polymer substrate and the additional polymer substrate are inorganic particle-containing polymer substrates. The additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure may have an inorganic particle-free polymer substrate as the polymer substrate or the additional polymer substrate. When both the polymer substrate and the additional polymer substrate are inorganic particle-containing polymer substrates, the inorganic particle content in each substrate may be different from each other.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、本開示に係る製造方法によって製造される追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体であってよく、例えば、支持基材としてポリマー基材を用いて本開示に係る方法によって製造されるポリマー基材-支持基材複合体であってよい。 The additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure may be an additional polymer substrate-polymer substrate composite produced by the manufacturing method according to the present disclosure, for example, a polymer substrate-support substrate composite produced by the method according to the present disclosure using a polymer substrate as the support substrate.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体を構成するポリマー基材、無機粒子、及びポリマー、並びに、無機粒子含有ポリマー基材及び無機粒子非含有ポリマー基材については、本開示に係る製造方法についての上記の記載を参照することができる。 For the polymer substrate, inorganic particles, and polymer that constitute the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, as well as the inorganic particle-containing polymer substrate and inorganic particle-free polymer substrate, the above description of the manufacturing method according to the present disclosure can be referenced.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、膜状又はフィルム状であってよく、又は、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、膜状又はフィルム状であってよい。 In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate may be in the form of a membrane or film, or the polymer substrate and the additional polymer substrate may be in the form of a membrane or film.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材の厚みは、0.5μm以上、1μm以上、2μm以上、又は5μm以上であってよく、2000μm以下、1000μm以下、500μm以下、200μm以下、又は100μm以下であってよい。 In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, the thickness of the polymer substrate and the additional polymer substrate may be 0.5 μm or more, 1 μm or more, 2 μm or more, or 5 μm or more, and may be 2000 μm or less, 1000 μm or less, 500 μm or less, 200 μm or less, or 100 μm or less.

〈カップリング剤〉
本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、カップリング剤をさらに含んでいてよい。ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかに含有されうるカップリング剤については、本開示の製造方法においてポリマー粒子に含有されうるカップリング剤についての上記の記載を参照することができる。
<Coupling Agent>
In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate may further contain a coupling agent. For the coupling agent that may be contained in at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate, reference may be made to the above description of the coupling agent that may be contained in the polymer particles in the production method of the present disclosure.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材のうちの少なくともいずれかが、カップリング剤をさらに含んでいることによって、追加のポリマー基材とポリマー基材との密着性がさらに向上する場合がある。 In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, at least one of the polymer substrate and the additional polymer substrate may further contain a coupling agent, which may further improve the adhesion between the additional polymer substrate and the polymer substrate.

本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体では、ポリマー基材及び追加のポリマー基材が、少なくとも部分的に、互いに重なり合って配置されている。 In the additional polymer substrate-polymer substrate composite of the present disclosure, the polymer substrate and the additional polymer substrate are arranged to at least partially overlap each other.

上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材は、それぞれ、その主たる面を介して互いに少なくとも部分的に重なり合っていてよい。あるいは、上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体において、ポリマー基材及び追加のポリマー基材は、一方の主たる面が他方の主たる面を実質的に覆っていてよい。あるいは、上述の追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体は、ポリマー基材、及び、ポリマー基材に積層されている追加のポリマー基材を有していてよい。 In the above-mentioned additional polymer substrate-polymer substrate composite, the polymer substrate and the additional polymer substrate may at least partially overlap each other via their respective main surfaces. Alternatively, in the above-mentioned additional polymer substrate-polymer substrate composite, the polymer substrate and the additional polymer substrate may have one main surface substantially covering the other main surface. Alternatively, the above-mentioned additional polymer substrate-polymer substrate composite may have a polymer substrate and an additional polymer substrate laminated to the polymer substrate.

〈平坦性〉
本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体では、ポリマー基材と追加のポリマー基材との界面が、平坦である。界面が平坦であるとは、界面の粗さ(界面粗さ)が低減されていることを意味している。本開示に係る追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体では、ポリマー基材と追加のポリマー基材との界面における界面の粗さが低減されており、好ましくは、下記の方法で算出される「界面の粗さs」が、0.01μm以上、0.1μm以上、0.2μm以上、0.5μm以上、0.8μm以上、1.0μm以上、又は1.2μm以上であり、2.5μm以下、2.0μm以下、又は1.7μm以下である。
<Flatness>
In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, the interface between the polymer substrate and the additional polymer substrate is flat. The interface being flat means that the roughness of the interface (interface roughness) is reduced. In the additional polymer substrate-polymer substrate composite according to the present disclosure, the interface roughness at the interface between the polymer substrate and the additional polymer substrate is reduced, and preferably, the "interface roughness s" calculated by the following method is 0.01 μm or more, 0.1 μm or more, 0.2 μm or more, 0.5 μm or more, 0.8 μm or more, 1.0 μm or more, or 1.2 μm or more, and is 2.5 μm or less, 2.0 μm or less, or 1.7 μm or less.

少なくとも部分的に互いに重なり合って配置されているポリマー基材(P1)とポリマー基材(P2)との界面における「界面の粗さs」を評価する方法について、図26Bを参照して説明する。図26Bは、実施例1に係る、支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体の断面のSEM画像、及び平坦性の評価方法を示す図である。 A method for evaluating the "interface roughness s" at the interface between polymer substrate (P1) and polymer substrate (P2) that are arranged to at least partially overlap each other will be described with reference to Figure 26B. Figure 26B shows an SEM image of a cross section of a polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate according to Example 1, and a method for evaluating flatness.

少なくとも部分的に互いに重なり合って配置されているポリマー基材P1とポリマー基材P2との界面における「界面の粗さs」は、下記の方法によって評価することができる:
走査型電子顕微鏡(SEM)によって取得した複合体の断面のSEM画像において、ポリマー基材P2と周囲雰囲気(空気など)との界面A(又は、ポリマー基材P2の、ポリマー基材P1とは反対側の表面A)からポリマー基材P2とポリマー基材P1との界面Bにまで厚み方向に延びる線分を、ポリマー基材P2の面方向に沿って、一定間隔で25本引く;
25本の線分のうち、ポリマー基材P1側界面Bにおける末端が最も周囲雰囲気寄りに位置している(ポリマー基材P1側界面Bにおける末端がポリマー基材P1から最も離れて位置している)線分を特定する;
このように特定した線分のポリマー基材P1側界面Bにおける末端に接しており、かつ、当該線分と垂直である直線(基準線)を引く;
25本の線分それぞれについて、当該基準線との交点からポリマー基材側界面における末端までの長さを計測する;
計測された長さの標準偏差を算出し、算出された標準偏差を、界面の粗さsとする。
The "interface roughness s" at the interface between the polymer substrate P1 and the polymer substrate P2, which are arranged at least partially overlapping each other, can be evaluated by the following method:
In an SEM image of a cross section of the composite obtained by a scanning electron microscope (SEM), 25 line segments are drawn at regular intervals along the surface direction of the polymer substrate P2, extending in the thickness direction from an interface A between the polymer substrate P2 and the surrounding atmosphere (air or the like) (or a surface A of the polymer substrate P2 opposite to the polymer substrate P1) to an interface B between the polymer substrate P2 and the polymer substrate P1;
Among the 25 line segments, a line segment whose end at the interface B on the polymer substrate P1 side is located closest to the ambient atmosphere (whose end at the interface B on the polymer substrate P1 side is located farthest from the polymer substrate P1) is identified;
Draw a straight line (reference line) that is tangent to the end of the line segment at the interface B on the polymer substrate P1 side and perpendicular to the line segment;
For each of the 25 line segments, measure the length from the intersection with the reference line to the end at the interface on the polymer substrate side;
The standard deviation of the measured length is calculated, and the calculated standard deviation is set as the roughness s of the interface.

≪ポリマー基材積層体≫
本開示は、下記であるポリマー基材積層体を含む:
積層されている少なくとも3つのポリマー基材を含有し、かつ
隣接するポリマー基材の界面のうちの少なくとも1つが、平坦である。
<Polymer-based laminate>
The present disclosure includes a polymeric substrate laminate that is:
It contains at least three polymeric substrates that are stacked together, and at least one of the interfaces of adjacent polymeric substrates is flat.

本開示に係るポリマー基材積層体は、光学用部材として使用することができ、特には、反射防止フィルムとして使用することができる。特に、本開示に係るポリマー基材積層体においては、隣接するポリマー基材の界面のうちの少なくとも1つの界面粗さが低減されているため、光散乱が抑制され、光学用部材特には反射防止フィルムとして特に有用であると考えられる。 The polymer substrate laminate according to the present disclosure can be used as an optical component, and in particular can be used as an anti-reflection film. In particular, in the polymer substrate laminate according to the present disclosure, the interface roughness of at least one of the interfaces of adjacent polymer substrates is reduced, so that light scattering is suppressed, and it is considered to be particularly useful as an optical component, in particular an anti-reflection film.

本開示に係るポリマー基材積層体は、少なくとも3つのポリマー基材を含有している。少なくとも3つのポリマー基材は、無機粒子含有ポリマー基材及び/又は無機粒子非含有ポリマー基材から構成されてよい。好ましくは、ポリマー基材積層体は、交互型のポリマー基材積層体、又は勾配型のポリマー基材積層体であってよい。 The polymer substrate laminate according to the present disclosure contains at least three polymer substrates. The at least three polymer substrates may be composed of inorganic particle-containing polymer substrates and/or inorganic particle-free polymer substrates. Preferably, the polymer substrate laminate may be an alternating type polymer substrate laminate or a gradient type polymer substrate laminate.

本開示に係るポリマー基材積層体において、少なくとも3つのポリマー基材は、積層されている。好ましくは、少なくとも3つのポリマー基材は、それぞれ、その主たる面を介して、下層を構成しているポリマー基材の主たる面に接触している。より好ましくは、少なくとも3つのポリマー基材は、それぞれ、その主たる面によって、下層を構成しているポリマー基材の主たる面を、実質的に覆っている。 In the polymer substrate laminate according to the present disclosure, at least three polymer substrates are laminated. Preferably, the at least three polymer substrates are in contact with the main surface of the polymer substrate constituting the lower layer via their main surfaces. More preferably, the at least three polymer substrates are each substantially covering, with their main surfaces, the main surface of the polymer substrate constituting the lower layer.

本開示に係るポリマー基材積層体においては、隣接するポリマー基材の界面のうちの少なくとも1つが、平坦である。界面の平坦性及び界面の平坦性を評価する指標としての界面の粗さsについては、上記の記載を参照することができる。 In the polymer substrate laminate according to the present disclosure, at least one of the interfaces of adjacent polymer substrates is flat. The above description can be referred to for the flatness of the interface and the interface roughness s as an index for evaluating the flatness of the interface.

本開示に係るポリマー基材積層体の1つの実施態様では、ポリマー基材積層体を構成する少なくとも3つのポリマー基材における無機粒子の含有量が、それぞれ、互いに異なっており、特には、ポリマー基材積層体を構成する少なくとも3つの無機粒子含有ポリマー基材における無機粒子の含有量が、それぞれ、互いに異なっている。当該実施態様において、ポリマー基材積層体が、互いに異なる無機粒子含有量を有する複数の無機粒子含有ポリマー基材に加えて、無機粒子非含有ポリマー基材を有していてもよい。 In one embodiment of the polymer substrate laminate according to the present disclosure, the inorganic particle contents of at least three polymer substrates constituting the polymer substrate laminate are different from each other, and in particular, the inorganic particle contents of at least three inorganic particle-containing polymer substrates constituting the polymer substrate laminate are different from each other. In this embodiment, the polymer substrate laminate may have a polymer substrate not containing inorganic particles in addition to a plurality of inorganic particle-containing polymer substrates having different inorganic particle contents from each other.

(勾配型のポリマー基材積層体)
本開示に係るポリマー基材積層体の別の実施態様では、ポリマー基材積層体を構成する少なくとも3つのポリマー基材における無機粒子の含有量が、積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、ポリマー基材が積層されており、特には、ポリマー基材積層体を構成する少なくとも3つの無機粒子含有ポリマー基材における無機粒子の含有量が、積層方向に沿って段階的に増加又は減少するように、ポリマー基材が積層されている。このようなポリマー基材積層体については、勾配型のポリマー基材積層体の製造方法における上記の記載を参照することができる。
Gradient Polymer-Based Laminates
In another embodiment of the polymer substrate laminate according to the present disclosure, the polymer substrates are laminated such that the content of inorganic particles in at least three polymer substrates constituting the polymer substrate laminate increases or decreases stepwise along the lamination direction, and in particular, the polymer substrates are laminated such that the content of inorganic particles in at least three inorganic particle-containing polymer substrates constituting the polymer substrate laminate increases or decreases stepwise along the lamination direction. For such a polymer substrate laminate, the above description of the method for producing a gradient type polymer substrate laminate can be referred to.

当該実施態様において、ポリマー基材積層体が、互いに異なる無機粒子含有量を有する複数の無機粒子含有ポリマー基材に加えて、無機粒子非含有ポリマー基材を有していてもよい。 In this embodiment, the polymer substrate laminate may have a polymer substrate that does not contain inorganic particles in addition to a plurality of inorganic particle-containing polymer substrates having different inorganic particle contents.

勾配型のポリマー基材積層体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、多数の無機粒子含有ポリマー基材を有する勾配型のポリマー基材積層体では、その膜構造を変化させることによって、特殊な効果を付加することができ、例えば、透過する波長帯域の拡大・縮小若しくは限定を行うこと、又は反射率を任意の値にすることができる。したがって、本開示に係る勾配型のポリマー基材積層体は、優れた反射・透過特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 Gradient-type polymer substrate laminates have physical properties that are useful for a variety of applications. For example, in a gradient-type polymer substrate laminate having a large number of inorganic particle-containing polymer substrates, special effects can be added by changing the film structure, such as expanding, contracting or limiting the transmitted wavelength band, or setting the reflectance to an arbitrary value. Therefore, the gradient-type polymer substrate laminate according to the present disclosure is considered to be useful as an optical component having excellent reflection and transmission properties.

(交互型のポリマー基材積層体)
本開示に係るポリマー基材積層体のさらに別の実施態様では、ポリマー基材積層体が、少なくとも1つの無機粒子非含有ポリマー基材及び少なくとも1つの無機粒子含有ポリマー基材を有しており、かつ、無機粒子非含有ポリマー基材及び無機粒子含有ポリマー基材が交互に積層された構造を有している。このようなポリマー基材積層体については、交互型のポリマー基材積層体の製造方法における上記の記載を参照することができる。
Alternating Polymer-Based Laminates
In yet another embodiment of the polymer substrate laminate according to the present disclosure, the polymer substrate laminate has at least one inorganic particle-free polymer substrate and at least one inorganic particle-containing polymer substrate, and has a structure in which the inorganic particle-free polymer substrate and the inorganic particle-containing polymer substrate are alternately laminated. For such a polymer substrate laminate, the above description of the method for producing an alternating type polymer substrate laminate can be referred to.

交互型のポリマー基材積層体は、種々の用途に有用な物理的特性を有する。例えば、無機粒子非含有ポリマー基材と無機粒子含有ポリマー基材が交互に積層されている本開示に係る交互型のポリマー基材積層体では、屈折率が互いに大きく異なる基材が交互に配列することとなるため、積層体全体として、非常に反射率の高い反射膜を得ることができる場合がある。また、多数のポリマー基材を有しているポリマー基材積層体では、その膜構造を変化させることによって、特殊な効果を付加することができ、例えば、透過する波長帯域の拡大・縮小若しくは限定を行うこと、又は反射率を任意の値にすることができる場合がある。したがって、本開示に係る勾配型のポリマー基材積層体は、優れた反射・透過特性を有する光学用部材として有用であると考えられる。 The alternating polymer substrate laminate has physical properties that are useful for various applications. For example, in the alternating polymer substrate laminate according to the present disclosure, in which inorganic particle-free polymer substrates and inorganic particle-containing polymer substrates are alternately laminated, substrates with significantly different refractive indices are arranged alternately, so that the entire laminate may be able to obtain a reflective film with a very high reflectance. In addition, in a polymer substrate laminate having a large number of polymer substrates, special effects can be added by changing the film structure, for example, the transmitted wavelength band may be expanded, reduced, or limited, or the reflectance may be set to an arbitrary value. Therefore, the gradient polymer substrate laminate according to the present disclosure is considered to be useful as an optical component with excellent reflection and transmission properties.

本開示に係るポリマー基材積層体は、上述の本開示に係るポリマー基材積層体の製造方法によって、製造することができる。 The polymer substrate laminate according to the present disclosure can be manufactured by the manufacturing method for the polymer substrate laminate according to the present disclosure described above.

≪シリコン粒子含有シクロオレフィンポリマー部材≫
本開示は、シクロオレフィンポリマー及び一次粒径が1nm~500nmであるシリコン粒子を含有する膜状又はフィルム状部材を、含む。
<Silicon particle-containing cycloolefin polymer component>
The present disclosure includes a membrane- or film-like member containing a cycloolefin polymer and silicon particles having a primary particle size of 1 nm to 500 nm.

シリコン粒子含有シクロオレフィンポリマー部材は、シリコン粒子を含有していることに起因して、例えばシクロオレフィンポリマーのみからなるポリマー部材とは異なる物理的性質を有している。特に、シリコン粒子含有シクロオレフィンポリマー部材は、屈折率に関して、シリコン基材とシクロオレフィンポリマーとの間の中間的な値を有しうるため、例えば光学用途において有用である。具体的には、例えば、シリコン基材とシクロオレフィンポリマーとの屈折率の差に起因する問題、例えば反射率の増加の問題を低減するために、シリコン粒子含有シクロオレフィンポリマー部材を用いることができる。 The silicon particle-containing cycloolefin polymer member has physical properties different from, for example, a polymer member consisting only of a cycloolefin polymer due to the inclusion of silicon particles. In particular, the silicon particle-containing cycloolefin polymer member can have an intermediate value in terms of refractive index between the silicon substrate and the cycloolefin polymer, and is therefore useful, for example, in optical applications. Specifically, for example, the silicon particle-containing cycloolefin polymer member can be used to reduce problems caused by the difference in refractive index between the silicon substrate and the cycloolefin polymer, such as an increase in reflectance.

さらに、上記のシリコン粒子含有シクロオレフィンポリマー部材は、一次粒径が1nm~500nmであるシリコン粒子を含有していることによって、光学用途において有利な効果を有しており、特には、優れた反射防止効果を有する。また、上記の部材は、膜状又はフィルム状の形状であることによって、反射防止フィルムとして使用するために特に適している。 Furthermore, the silicon particle-containing cycloolefin polymer member contains silicon particles with a primary particle size of 1 nm to 500 nm, which provides advantageous effects in optical applications, and in particular provides excellent anti-reflection effects. In addition, the member is in the form of a membrane or film, which makes it particularly suitable for use as an anti-reflection film.

以下、本開示に係る発明を、実施例により具体的に説明する。 The invention disclosed herein will now be described in more detail with reference to examples.

以下の実施例1~2及び比較例1~2では、ポリマーとして、シクロオレフィンポリマー(cycloolefin polymer、COP;日本ゼオン株式会社、Zeonex(商標)480R、ガラス転移点温度138℃)を用いた。 In the following Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2, a cycloolefin polymer (COP; Zeon Corporation, Zeonex (trademark) 480R, glass transition temperature 138°C) was used as the polymer.

また、以下の実施例1~2及び比較例1~2では、無機粒子として、シリコン粒子を用いた。無機粒子としてのシリコンはレーザー熱分解法で作製した。また、得られたシリコン粒子の金属不純物含有量を、誘導結合プラズマ質量分析計(ICP-MS)を用いて測定したところ、Feの含有量は15ppb、Cuの含有量は18ppb、Niの含有量は10ppb、Crの含有量は21ppb、Coの含有量は13ppb、Naの含有量は20ppb、及びCaの含有量は10ppbであった。無機粒子の平均一次粒径は、100nmであった。 In the following Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2, silicon particles were used as the inorganic particles. The silicon as the inorganic particles was produced by laser pyrolysis. The metal impurity contents of the obtained silicon particles were measured using an inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS), and the Fe content was 15 ppb, the Cu content was 18 ppb, the Ni content was 10 ppb, the Cr content was 21 ppb, the Co content was 13 ppb, the Na content was 20 ppb, and the Ca content was 10 ppb. The average primary particle size of the inorganic particles was 100 nm.

≪実施例1≫
〈無機粒子含有ポリマー粒子の製造〉
(無機粒子分散ポリマー溶液の製造)
無機粒子としてのシリコン粒子35.5質量部、ポリマーとしてのシクロオレフォンポリマー64.5質量部、及びポリマー溶剤としてのトルエン826質量部を混合し、ホモジナイザー(IKA製、T25)を用いて20000rpmの回転速度で分散して、無機粒子分散ポリマー溶液を得た。
Example 1
(Production of polymer particles containing inorganic particles)
(Preparation of inorganic particle-dispersed polymer solution)
35.5 parts by mass of silicon particles as inorganic particles, 64.5 parts by mass of cycloolefin polymer as polymer, and 826 parts by mass of toluene as polymer solvent were mixed and dispersed using a homogenizer (T25, manufactured by IKA) at a rotation speed of 20,000 rpm to obtain an inorganic particle-dispersed polymer solution.

上記の無機粒子分散ポリマー溶液を、スプレードライ装置(大川原化工機製、CNL-3)を用いて乾燥、造粒して、無機粒子含有ポリマー粒子を得た。得られた無機粒子含有ポリマー粒子の面積円相当径は、2.0μmであった。なお面積円相当径は、走査型電子顕微鏡(日立ハイテク製、TM3000)を用いて取得した観察画像において、無作為に選んだ100個の粒子の直径の平均を算出することにより求めた。 The inorganic particle-dispersed polymer solution was dried and granulated using a spray dryer (Okawahara Chemical Engineering, CNL-3) to obtain inorganic particle-containing polymer particles. The resulting inorganic particle-containing polymer particles had an equivalent circle diameter of 2.0 μm. The equivalent circle diameter was determined by calculating the average diameter of 100 randomly selected particles in an observation image obtained using a scanning electron microscope (Hitachi High-Tech, TM3000).

スプレードライ法によって取得した実施例1に係る無機粒子含有ポリマー粒子の光学顕微鏡画像を、図24に示す。 Figure 24 shows an optical microscope image of the inorganic particle-containing polymer particles of Example 1 obtained by the spray drying method.

〈分散体の調製〉
エチレングリコール(富士フイルム和光純薬株式会社製)70質量部、及びターピネオール(富士フイルム和光純薬株式会社製)30質量部を混合することにより、分散媒を得た。この分散媒65質量部及び上記の無機粒子含有ポリマー粒子35質量部を混合し、かつホモジナイザー(IKA製、T20)を用いて20000rpmの回転速度で分散して、無機粒子含有ポリマー粒子が分散媒に分散している分散体(実施例1の分散体)を得た。
Preparation of Dispersion
A dispersion medium was obtained by mixing 70 parts by mass of ethylene glycol (manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 30 parts by mass of terpineol (manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 65 parts by mass of this dispersion medium and 35 parts by mass of the inorganic particle-containing polymer particles were mixed and dispersed at a rotation speed of 20,000 rpm using a homogenizer (manufactured by IKA, T20) to obtain a dispersion in which the inorganic particle-containing polymer particles are dispersed in the dispersion medium (the dispersion of Example 1).

〈剥離用基材上に保持されているポリマー基材の製造〉
ガラス板上に、ポリマーとしてのシクロオレフィンが35重量%の濃度でトルエンに溶解したドープを、ドクターブレードによって塗工し、かつ、100℃の電気炉で10分間加熱して溶剤を除去することによって、剥離用基材としてのガラス板上に保持された支持基材としてのポリマー基材を得た。ポリマー基材の厚さは30μmであった。
Preparation of a polymer substrate supported on a release substrate
A dope in which a cycloolefin as a polymer was dissolved in toluene at a concentration of 35% by weight was applied onto a glass plate by a doctor blade, and the dope was heated in an electric furnace at 100° C. for 10 minutes to remove the solvent, thereby obtaining a polymer substrate as a supporting substrate held on the glass plate as a substrate for peeling. The thickness of the polymer substrate was 30 μm.

〈ポリマー粒子層-支持基材複合体の製造〉
支持基材としての上述のポリマー基材上に、無機粒子含有ポリマー粒子が分散媒に分散している上述の分散体をドクターブレードによって塗工し、かつ170℃の電気炉で15分間加熱して分散媒を除去することによって、無機粒子含有ポリマー粒子層-支持基材複合体と剥離用基材との複合体を得た。そして、ポリマー粒子層-支持基材複合体を、剥離用基材としてのガラス板から剥離して、実施例1に係るポリマー粒子層-支持基材複合体を得た。実施例1に係るポリマー粒子層-支持基材複合体は、ポリマー粒子層として無機粒子含有ポリマー粒子層を有しており、かつ、支持基材として、無機粒子非含有ポリマー基材を有していた。実施例1に係るポリマー粒子層-支持基材複合体のポリマー粒子層の厚みは、52μmであった。
<Production of Polymer Particle Layer-Support Substrate Composite>
The above-mentioned dispersion in which the inorganic particle-containing polymer particles are dispersed in a dispersion medium was applied to the above-mentioned polymer substrate as a support substrate by a doctor blade, and the dispersion medium was removed by heating in an electric furnace at 170°C for 15 minutes to obtain a composite of an inorganic particle-containing polymer particle layer-support substrate composite and a peeling substrate. The polymer particle layer-support substrate composite was then peeled off from the glass plate as the peeling substrate to obtain a polymer particle layer-support substrate composite according to Example 1. The polymer particle layer-support substrate composite according to Example 1 had an inorganic particle-containing polymer particle layer as the polymer particle layer, and had an inorganic particle-free polymer substrate as the support substrate. The thickness of the polymer particle layer of the polymer particle layer-support substrate composite according to Example 1 was 52 μm.

〈ポリマー基材-支持基材複合体の製造〉
得られた実施例1に係るポリマー粒子層-支持基材複合体を、真空熱プレス装置(北川精機製、VH1-2294)を用いて、130℃、50MPaの条件で1時間熱プレスすることによって、実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体を得た。実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体は、ポリマー基材として無機粒子含有ポリマー基材を有しており、かつ、支持基材として、無機粒子非含有ポリマー基材を有していた。無機粒子含有ポリマー基材の厚みは、22μmであった。
<Production of polymer substrate-support substrate composite>
The obtained polymer particle layer-support substrate composite according to Example 1 was heat-pressed for 1 hour under conditions of 130°C and 50 MPa using a vacuum hot press device (Kitagawa Seiki Co., Ltd., VH1-2294), to obtain a polymer substrate-support substrate composite according to Example 1. The polymer substrate-support substrate composite according to Example 1 had an inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate, and had an inorganic particle-free polymer substrate as the support substrate. The thickness of the inorganic particle-containing polymer substrate was 22 µm.

実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体では、表面のひび割れは観察されず、良好な一体性を有していた。 No surface cracks were observed in the polymer substrate-support substrate composite of Example 1, and the composite had good integrity.

〈平坦性評価〉
実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体について、支持基材としての無機粒子非含有ポリマー基材と、ポリマー基材としての無機粒子含有ポリマー基材との界面の平坦性(界面の粗さ)を調べた。実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体を、カッターナイフで切断し、複合体の断面画像を、走査型電子顕微鏡(SEM)によって取得した。取得したSEM画像において、下記の手順で、界面の粗さsを算出した:
(1)ポリマー基材―周囲雰囲気(空気)界面から、ポリマー基材-支持基材界面まで厚み方向に延びる線分を、ポリマー基材の面方向に沿って一定間隔で25本引いた。
(2)25本の線分のうち、支持基材側界面における末端が最も周囲雰囲気側に位置している線分を特定した。
(3)このようにして特定した線分の支持基材側界面における末端に接しており、かつ、当該線分と垂直である直線(基準線)を引いた。
(4)25本の線分それぞれについて、基準線との交点から支持基材側界面における末端までの長さを計測し、計測された長さの標準偏差を算出して、この標準偏差を、界面の粗さsとした。
<Flatness evaluation>
The flatness (interface roughness) of the interface between the inorganic particle-free polymer substrate as the supporting substrate and the inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate was examined for the polymer substrate-supporting substrate composite according to Example 1. The polymer substrate-supporting substrate composite according to Example 1 was cut with a cutter knife, and a cross-sectional image of the composite was obtained with a scanning electron microscope (SEM). From the obtained SEM image, the interface roughness s was calculated according to the following procedure:
(1) 25 line segments were drawn at regular intervals along the surface direction of the polymer substrate, extending in the thickness direction from the polymer substrate-ambient atmosphere (air) interface to the polymer substrate-support substrate interface.
(2) Of the 25 line segments, the line segment whose end at the interface on the supporting substrate side is located closest to the ambient atmosphere was identified.
(3) A straight line (reference line) was drawn that was tangent to the end of the line segment thus identified at the interface on the supporting substrate side and perpendicular to the line segment.
(4) For each of the 25 line segments, the length from the intersection with the reference line to the end at the interface on the supporting substrate side was measured, and the standard deviation of the measured lengths was calculated. This standard deviation was defined as the roughness s of the interface.

実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体について、界面の粗さs=1.54μmであった。実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体の断面のSEM画像、及び界面の粗さを算出する過程を、図26Bに示す。実施例1に関する評価結果を、下記の表1にまとめた。 The interface roughness s of the polymer substrate-support substrate composite of Example 1 was 1.54 μm. Figure 26B shows an SEM image of the cross section of the polymer substrate-support substrate composite of Example 1, and the process of calculating the interface roughness. The evaluation results for Example 1 are summarized in Table 1 below.

≪実施例2≫
下記のようにして、実施例2に係る無機粒子含有ポリマー粒子を製造した:
実施例1に記載の方法によって調製した無機粒子分散ポリマー溶液1質量部に対してトルエンを10質量部混合した分散液を、90質量部の2-プロパノール中に、2-プロパノールを攪拌しながら滴下して、ポリマーを2-プロパノール中で凝固させて、固体分を得た。得られた固体分を、遠心分離機(日立ハイテクノロジー製、CR20GIII)によって沈殿させ、かつ沈殿物を真空炉で乾燥させることによって、実施例2に係る無機粒子含有ポリマー粒子を得た。
Example 2
Inorganic particle-containing polymer particles according to Example 2 were produced as follows:
A dispersion obtained by mixing 10 parts by mass of toluene with 1 part by mass of the inorganic particle-dispersed polymer solution prepared by the method described in Example 1 was dropped into 90 parts by mass of 2-propanol while stirring the 2-propanol, and the polymer was coagulated in the 2-propanol to obtain a solid content. The obtained solid content was precipitated using a centrifuge (CR20GIII, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), and the precipitate was dried in a vacuum oven to obtain inorganic particle-containing polymer particles according to Example 2.

再沈殿法によって製造した実施例2に係る無機粒子含有ポリマー粒子のSEM画像を、図25に示す。 Figure 25 shows an SEM image of the inorganic particle-containing polymer particles of Example 2 produced by the reprecipitation method.

≪比較例1≫
ガラス板上に、シクロオレフィンが35重量%の濃度で溶剤としてのトルエンに溶解したドープを塗工し、100℃の電気炉で10分間加熱し、かつ溶媒を除去することによって、ガラス板上に、支持基材としてのポリマー基材を得た。ポリマー基材の厚さは30μmであった。
Comparative Example 1
A dope in which cycloolefin was dissolved in toluene as a solvent at a concentration of 35% by weight was applied onto a glass plate, and the dope was heated in an electric furnace at 100° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a polymer substrate as a support substrate on the glass plate. The thickness of the polymer substrate was 30 μm.

さらに、実施例1に記載の方法によって調製した無機粒子分散ポリマー溶液を、上記の支持基材としてのポリマー基材上に塗布し、乾燥させたところ、ポリマー基材に割れが生じた。比較例1に関する評価結果を、下記の表1にまとめた。 Furthermore, when the inorganic particle-dispersed polymer solution prepared by the method described in Example 1 was applied to the polymer substrate as the above-mentioned support substrate and dried, cracks occurred in the polymer substrate. The evaluation results for Comparative Example 1 are summarized in Table 1 below.

≪比較例2≫
ガラス基材上に、シクロオレフィンが35重量%の濃度でトルエンに溶解したドープを塗工し、100℃の電気炉で10分間加熱し、かつ溶媒を除去することによって、ガラス基材上に、支持基材としてのポリマー基材を得た。ポリマー基材の厚さは30μmであった。
Comparative Example 2
A dope in which cycloolefin was dissolved in toluene at a concentration of 35% by weight was applied onto a glass substrate, and the dope was heated in an electric furnace at 100° C. for 10 minutes, and the solvent was removed to obtain a polymer substrate as a support substrate on the glass substrate. The thickness of the polymer substrate was 30 μm.

さらに、実施例1に記載の方法によって調製した無機粒子分散ポリマー溶液1質量部とトルエン9質量部を混合することにより得られた液を、上記の支持基材としてのポリマー基材上にスプレー塗布し、かつ、100℃の電気炉で10分間加熱することによって溶媒を除去して、比較例2に係るポリマー基材前駆体-支持基材複合体を得た。 Furthermore, 1 part by mass of the inorganic particle-dispersed polymer solution prepared by the method described in Example 1 was mixed with 9 parts by mass of toluene to obtain a liquid, which was spray-coated onto the polymer substrate as the support substrate, and the solvent was removed by heating in an electric furnace at 100°C for 10 minutes to obtain a polymer substrate precursor-support substrate composite according to Comparative Example 2.

その後、比較例2に係るポリマー基材前駆体-支持基材複合体を、真空熱プレス装置(北川精機製、VH1-2294)を用いて、130℃、50MPaの条件で1時間にわたって熱プレスすることによって、比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体を得た。比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体は、ポリマー基材としての無機粒子含有ポリマー基材を有しており、かつ、支持基材としての無機粒子非含有ポリマー基材を有していた。比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体では、表面のひび割れは観察されず、良好な一体性を有していた。 Then, the polymer substrate precursor-support substrate composite of Comparative Example 2 was heat-pressed for 1 hour at 130°C and 50 MPa using a vacuum heat press device (Kitagawa Seiki, VH1-2294) to obtain a polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2. The polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2 had an inorganic particle-containing polymer substrate as the polymer substrate, and an inorganic particle-free polymer substrate as the support substrate. No surface cracks were observed in the polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2, and it had good integrity.

比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体について、実施例1と同様にポリマー基材と支持基材との界面粗さを評価したところ、界面の粗さs=2.81μmであった。図26Aに、比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体の断面のSEM画像、及び界面の粗さを算出する過程を示す。比較例2に関する評価結果を、下記の表1にまとめた。 When the interface roughness between the polymer substrate and the support substrate of the polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2 was evaluated in the same manner as in Example 1, the interface roughness s was found to be 2.81 μm. Figure 26A shows an SEM image of the cross section of the polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2, and the process of calculating the interface roughness. The evaluation results for Comparative Example 2 are summarized in Table 1 below.

Figure 0007641708000001
Figure 0007641708000001

表1に見られるように、ポリマー粒子の堆積及びポリマー粒子層の熱プレスを伴う方法によって製造された実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体は、塗布工程を伴う方法によって製造されたポリマー基材を有する比較例1に係るポリマー基材-支持基材複合体と比較して、良好な一体性を有していた。 As can be seen in Table 1, the polymer substrate-support substrate composite of Example 1, which was produced by a method involving deposition of polymer particles and heat pressing of the polymer particle layer, had better integrity than the polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 1, which had a polymer substrate produced by a method involving a coating process.

比較例1に係る製造方法は、ポリマー溶解用の溶剤であるトルエンを含む無機粒子分散ポリマー溶液を支持基材としてのポリマー基材上に塗布する工程(塗布工程)を含んでいるため、支持基材が望ましくない影響を受け、結果として良好な一体性を有する複合体を得ることができなかったと考えられる。これに対して、実施例1に係る製造方法では、支持基材としてのポリマー基材上にポリマー粒子を堆積する際にポリマー溶解用の溶剤であるトルエンを用いず、ポリマー粒子の分散媒としてポリマーに対する非溶媒であるエチレングリコールを分散媒として用いているため、支持基材へのダメージを抑制することができ、結果として良好な一体性を有する複合体を得ることができたと考えられる。 The manufacturing method according to Comparative Example 1 includes a step (coating step) of coating the polymer substrate as a supporting substrate with an inorganic particle-dispersed polymer solution containing toluene, which is a solvent for dissolving the polymer, and therefore it is believed that the supporting substrate is undesirably affected and that, as a result, a composite having good integrity cannot be obtained. In contrast, the manufacturing method according to Example 1 does not use toluene, which is a solvent for dissolving the polymer, when depositing the polymer particles on the polymer substrate as a supporting substrate, but uses ethylene glycol, which is a non-solvent for the polymer, as a dispersing medium for the polymer particles, so that damage to the supporting substrate can be suppressed and, as a result, a composite having good integrity can be obtained.

さらに、表1で見られるように、ポリマー粒子の堆積及びポリマー粒子層の熱プレスを伴う方法によって製造された実施例1に係るポリマー基材-支持基材複合体は、スプレー工程を伴う方法によって製造されたポリマー基材を有する比較例2に係るポリマー基材-支持基材複合体と比較して、ポリマー基材と支持基材との界面の平坦性が高かった(界面の粗さが低減されていた)。 Furthermore, as can be seen in Table 1, the polymer substrate-support substrate composite of Example 1, which was produced by a method involving deposition of polymer particles and heat pressing of the polymer particle layer, had a higher flatness at the interface between the polymer substrate and the support substrate (interface roughness was reduced) compared to the polymer substrate-support substrate composite of Comparative Example 2, which had a polymer substrate produced by a method involving a spraying process.

比較例2に係る方法では、ポリマー溶解用の溶剤であるトルエンを含む溶液を支持基材であるポリマー基材上にスプレーする工程(スプレー工程)を含んでいるため、トルエンによって支持基材の表面が部分的に溶解し、結果として、複合体におけるポリマー基材と支持基材との界面が比較的粗くなったと考えられる。これに対して、実施例1に係る製造方法では、支持基材としてのポリマー基材上にポリマー粒子を堆積する際にポリマー溶解用の溶剤であるトルエンを用いず、ポリマー粒子の分散媒としてポリマーに対する非溶媒であるエチレングリコールを分散媒として用いているため、支持基材としてのポリマー基材の溶解を抑制することができ、結果として、複合体におけるポリマー基材と支持基材との界面の平坦性が向上したと考えられる。 The method according to Comparative Example 2 includes a step (spraying step) of spraying a solution containing toluene, which is a solvent for dissolving polymers, onto the polymer substrate, which is the supporting substrate. This is thought to have caused the surface of the supporting substrate to be partially dissolved by toluene, resulting in a relatively rough interface between the polymer substrate and the supporting substrate in the composite. In contrast, the manufacturing method according to Example 1 does not use toluene, which is a solvent for dissolving polymers, when depositing polymer particles on the polymer substrate as the supporting substrate, but uses ethylene glycol, which is a non-solvent for polymers, as a dispersing medium for the polymer particles. This makes it possible to suppress dissolution of the polymer substrate as the supporting substrate, and as a result, it is thought to have improved the flatness of the interface between the polymer substrate and the supporting substrate in the composite.

100 支持基材
12 ポリマー
13 無機粒子
14 無機粒子含有ポリマー粒子
15 無機粒子非含有ポリマー粒子
150 無機粒子非含有ポリマー基材
160、160a、160b、160c、160d ポリマー粒子層
170a、170a′、170b、170c、170d、170e 無機粒子含有ポリマー基材
180 無機基材
190 剥離用基材
210a、210b ポリマー粒子層-支持基材複合体
212a、213a、213b、214b 支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー粒子層-支持基材複合体
214a 支持基材としての剥離用基材を有する追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体
216a 支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー粒子層-支持基材複合体と剥離用基材との複合体
216b、216c 支持基材としての剥離用基材を有するポリマー粒子層-支持基材複合体
220a ポリマー基材-支持基材複合体
222a、222b、222d、222e 支持基材としてのポリマー基材を有する、ポリマー基材-支持基材複合体
222a′ 追加のポリマー基材-ポリマー基材複合体
226a 支持基材としてのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体と剥離用基材との複合体
226b、226c 支持基材としての剥離用基材を有するポリマー基材-支持基材複合体
223a 支持基材としての剥離用基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体
312b 支持基材としてのポリマー基材を有する追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体
322a、322b 2つのポリマー基材を有する複合体を支持基材として有する、ポリマー粒子層-支持基材複合体
332a、332b、332c 支持基材としての2つのポリマー基材を有するポリマー基材-支持基材複合体
420a 支持基材としての無機基材を有するポリマー基材-支持基材複合体
421a 支持基材としての無機基材を有するポリマー粒子層-支持基材複合体
422a 2つのポリマー基材を有する複合体を支持基材として有する、追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体
430a、430a′′ 追加のポリマー基材-ポリマー基材-無機基材複合体
430a′追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体
431a 支持基材としての無機基材を有する追加のポリマー粒子層-ポリマー粒子層-支持基材複合体
430b 支持基材としての無機基材を有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体
442a 2つのポリマー基材を有する複合体を支持基材として有する追加のポリマー基材-ポリマー基材-支持基材複合体
470a′、470a′′ 勾配型のポリマー基材積層体
490a′ 交互型のポリマー基材積層体
470a ポリマー基材積層体-無機基材複合体
22、22′、22′′ 分散体
24 分散媒
29 ドクターブレード
100 Support substrate 12 Polymer 13 Inorganic particles 14 Polymer particles containing inorganic particles 15 Polymer particles not containing inorganic particles 150 Polymer substrate not containing inorganic particles 160, 160a, 160b, 160c, 160d Polymer particle layer 170a, 170a', 170b, 170c, 170d, 170e Polymer substrate containing inorganic particles 180 Inorganic substrate 190 Substrate for release 210a, 210b Polymer particle layer-support substrate composite 212a, 213a, 213b, 214b Polymer particle layer-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate 214a Additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite having a substrate for release as a support substrate 216a Composite of polymer particle layer-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate and substrate for release 216b, 216c Polymer particle layer-support substrate composite having a release substrate as a support substrate 220a Polymer substrate-support substrate composite 222a, 222b, 222d, 222e Polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate 222a' Additional polymer substrate-polymer substrate composite 226a Composite of a polymer substrate-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate and a release substrate 226b, 226c Polymer substrate-support substrate composite having a release substrate as a support substrate 223a Additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having a release substrate as a support substrate 312b Additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite having a polymer substrate as a support substrate 322a, 322b Polymer particle layer-support substrate composite having a composite having two polymer substrates as a support substrate 332a, 332b, 332c Polymer substrate-support substrate composite having two polymer substrates as a support substrate 420a Polymer substrate-support substrate composite having inorganic substrate as support substrate 421a Polymer particle layer-support substrate composite having inorganic substrate as support substrate 422a Additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite having composite having two polymer substrates as support substrate 430a, 430a'' Additional polymer substrate-polymer substrate-inorganic substrate composite 430a' Additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite 431a Additional polymer particle layer-polymer particle layer-support substrate composite having inorganic substrate as support substrate 430b Additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having inorganic substrate as support substrate 442a Additional polymer substrate-polymer substrate-support substrate composite having composite having two polymer substrates as support substrate 470a', 470a'' Gradient type polymer substrate laminate 490a' Alternating type polymer substrate laminate 470a Polymer substrate laminate-inorganic substrate composite 22, 22', 22'' Dispersion 24 Dispersion medium 29 Doctor Blade

Claims (10)

分散媒中に分散させて用いるための無機粒子含有ポリマー粒子であって、
ポリマー、及び
均の面積円相当径として計測される平均一次粒径が1nm~500nmであり、かつ前記ポリマー中に分散している、無機粒子、
を含
前記無機粒子が、シリコン粒子であり、かつ
前記ポリマーが、オレフィンポリマーである
無機粒子含有ポリマー粒子。
The inorganic particle-containing polymer particles are used by dispersing them in a dispersion medium,
Polymers, and
Inorganic particles having an average primary particle size, measured as an average equivalent circle diameter, of 1 nm to 500 nm and dispersed in the polymer;
Including ,
The inorganic particles are silicon particles , and
The polymer is an olefin polymer .
Polymer particles containing inorganic particles.
分散媒中に分散させて分散体としたものを支持基材の上に塗布しかつ乾燥させてポリマー粒子層-支持基材複合体を得るための、請求項1に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。2. The inorganic particle-containing polymer particles according to claim 1, which are dispersed in a dispersion medium to form a dispersion, which is then coated on a supporting substrate and dried to obtain a polymer particle layer-supporting substrate composite. 前記支持基材が無機基材である、請求項2に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。The inorganic particle-containing polymer particles according to claim 2 , wherein the supporting substrate is an inorganic substrate. 前記ポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、請求項1~3のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。 The inorganic particle-containing polymer particle according to any one of claims 1 to 3 , wherein the polymer is a cycloolefin polymer. カップリング剤をさらに含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。 The inorganic particle-containing polymer particle according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a coupling agent. 平均の面積円相当径として計測される平均粒径が0.5μm~100μmである、請求項1~5のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子。 The inorganic particle-containing polymer particles according to any one of claims 1 to 5 , having an average particle size measured as an average equivalent circle diameter of 0.5 µm to 100 µm. 請求項1~6のいずれか一項に記載の無機粒子含有ポリマー粒子、並びに分散媒を含む、分散体。 A dispersion comprising the inorganic particle-containing polymer particles according to any one of claims 1 to 6, and a dispersion medium. 前記分散媒が、2-プロパノール、エチレングリコール、及びターピネオールのうち少なくとも1種類を含む、請求項に記載の分散体。 8. The dispersion of claim 7 , wherein the dispersion medium comprises at least one of 2-propanol, ethylene glycol, and terpineol. ポリマー基材、及び
前記ポリマー基材に堆積されている、ポリマー粒子層
を有しており、かつ、
前記ポリマー粒子層が、請求項1又は2に記載の無機粒子含有ポリマー粒子を含む、
ポリマー粒子層-ポリマー基材複合体。
a polymeric substrate; and a layer of polymeric particles deposited on the polymeric substrate;
The polymer particle layer comprises the inorganic particle-containing polymer particles according to claim 1 or 2 .
Polymer particle layer-polymer substrate composite.
前記ポリマー基材、及び前記ポリマー粒子層のうちの少なくともいずれかが、無機粒子を有している、請求項に記載の複合体。 10. The composite of claim 9 , wherein the polymer substrate and/ or the polymer particle layer comprises inorganic particles.
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