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JP7644477B2 - Method for producing phosphate compounds - Google Patents
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Description

本発明は、リン酸塩化合物の製造方法に関する。より詳細には、リン酸エステルと原料塩との反応により、極めて簡便に、高純度のリン酸塩化合物の生成が可能なリン酸塩化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a phosphate compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a phosphate compound that can produce a high-purity phosphate compound in an extremely simple manner by reacting a phosphoric acid ester with a raw material salt.

リン酸塩化合物の利用は、洗浄剤組成物における界面活性剤、医薬品、帯電防止剤、難燃剤、及び二次電池用添加剤など多岐にわたり(特許文献1~4)、各用途に応じて多様なリン酸塩化合物の製造方法が開発されている。 Phosphate compounds are used in a wide range of applications, including as surfactants in cleaning compositions, pharmaceuticals, antistatic agents, flame retardants, and additives for secondary batteries (Patent Documents 1 to 4), and a variety of methods for producing phosphate compounds have been developed for each application.

例えば、特許文献5には、リン酸塩化合物としてのリン酸ジエステル塩の製造方法が開示されている。この製造方法によれば、水の存在下でリン酸トリエステルを加水分解してリン酸ジエステルを生成した後、当該リン酸ジエステルと、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の水酸化物とを反応させて、リン酸ジエステル塩を生成させている。しかし、この製造方法では、未反応のリン酸トリエステルや、リン酸トリエステルの加水分解の際に副生するアルコール、及びリン酸トリエステルと水酸化物との反応の際に用いる反応溶媒を分離するための煩雑な工程が必要となる。また、出発原料であるリン酸トリエステルは、例えば、モノハロリン酸ジエステル等とヒドロキシ化合物とを、トリエチルアミン等の有機塩基の存在下で反応させることにより得られることが開示されているが、有機塩基の塩が副生するため、当該有機塩基の塩を除去するための工程も必要となる。従って、特許文献5に記載のリン酸ジエステル塩の製造方法では、精製・分離工程や廃棄物処理の観点から工業生産に於ける課題が多い。 For example, Patent Document 5 discloses a method for producing a phosphoric acid diester salt as a phosphate compound. According to this production method, a phosphoric acid triester is hydrolyzed in the presence of water to produce a phosphoric acid diester, and then the phosphoric acid diester is reacted with a hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide to produce a phosphoric acid diester salt. However, this production method requires a complicated process for separating the unreacted phosphoric acid triester, the alcohol by-produced during the hydrolysis of the phosphoric acid triester, and the reaction solvent used during the reaction of the phosphoric acid triester with the hydroxide. In addition, it is disclosed that the phosphoric acid triester as the starting material can be obtained by reacting, for example, a monohalophosphoric acid diester with a hydroxy compound in the presence of an organic base such as triethylamine, but since a salt of the organic base is by-produced, a process for removing the salt of the organic base is also required. Therefore, the method for producing a phosphoric acid diester salt described in Patent Document 5 has many problems in industrial production in terms of purification and separation processes and waste disposal.

特許文献6には、モノハロゲノリン酸エステル塩又はリン酸ジエステル塩の製造方法が開示されている。この製造方法によれば、ジハロゲノリン酸塩と、アルコール類等と、アルカリ金属塩基等とを反応させて、モノハロゲノリン酸エステル塩等を生成させている。しかし、反応制御が容易ではない上、生成物としてはリン酸ジエステル塩との混合物が得られる。そのため、モノハロゲノリン酸エステル塩等の単離・精製が必要となるが、これらの工程は極めて困難となる。一方、リン酸ジエステル塩が得られる場合、反応基質によっては生成物にモノハロリン酸エステル塩やアルカリ金属塩を含むことがある。その場合、リン酸ジエステル塩の単離工程が必要になるが、製造プロセスが煩雑になる。また、反応基質及び溶媒として、過剰量のアルコールを用いるため、生成物からリン酸ジエステル塩を分離する際、真空乾燥や加熱乾燥等によって多量のアルコールを留去する必要がある。 Patent Document 6 discloses a method for producing monohalogenophosphate ester salts or phosphoric acid diester salts. According to this production method, a dihalogenophosphate salt is reacted with an alcohol or the like and an alkali metal base or the like to produce a monohalogenophosphate ester salt or the like. However, the reaction is not easy to control, and a mixture with a phosphoric acid diester salt is obtained as the product. Therefore, isolation and purification of the monohalogenophosphate ester salt or the like is required, but these steps are extremely difficult. On the other hand, when a phosphoric acid diester salt is obtained, the product may contain a monohalophosphate ester salt or an alkali metal salt depending on the reaction substrate. In that case, a step for isolating the phosphoric acid diester salt is required, but the production process becomes complicated. In addition, since an excess amount of alcohol is used as the reaction substrate and solvent, when separating the phosphoric acid diester salt from the product, a large amount of alcohol must be distilled off by vacuum drying, heat drying, or the like.

特開2007-332355号公報JP 2007-332355 A 特開2008-231026号公報JP 2008-231026 A WO2016/158258号公報WO2016/158258 publication 特開平8-138733号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-138733 特開2017-36273号公報JP 2017-36273 A 特開2019-135215号公報JP 2019-135215 A

本発明は前記問題点に鑑みられたものであり、その目的は、極めて簡便な方法により、高純度のリン酸塩化合物を製造することが可能な新規のリン酸塩化合物の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide a novel method for producing phosphate compounds that is capable of producing high-purity phosphate compounds in an extremely simple manner.

本発明に係るリン酸塩化合物の製造方法は、前記の課題を解決するために、以下の化学式(A)で表されるリン酸エステルと、以下の化学式(B)で表される原料塩とを反応させて、以下の化学式(C)で表されるリン酸塩化合物を生成する工程(I)を少なくとも含むことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, the method for producing a phosphate compound according to the present invention is characterized by including at least a step (I) of reacting a phosphoric acid ester represented by the following chemical formula (A) with a raw material salt represented by the following chemical formula (B) to produce a phosphate compound represented by the following chemical formula (C).

Figure 0007644477000001
[式中、前記Zは、炭素原子又はケイ素原子を表す。前記X及びXは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有するアルコキシ基を表す。前記X~Xは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有するアルコキシ基を表し、かつ、前記X~Xの少なくとも1つは、前記炭素数1~10の炭化水素基又は前記炭素数1~10のアルコキシ基の何れかである。]
Figure 0007644477000001
[In the formula, Z represents a carbon atom or a silicon atom. Each of X1 and X2 independently represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond. X 3 to X 5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond, and at least one of X 3 to X 5 is either the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]

Figure 0007644477000002
[式中、前記Mは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、遷移金属、又はオニウムを表す。前記Xは、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルコキシ基、ハロアシルオキシ基、スルホニルオキシ基(-SOY基:前記Yは、ハロゲン原子、炭素数1~10の炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基を表す。)を表す。前記nは、1~4の自然数を表す。]
Figure 0007644477000002
[In the formula, M represents an alkali metal, an alkaline earth metal, aluminum, a transition metal, or an onium. X6 represents a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a haloacyloxy group, or a sulfonyloxy group (-SO 3 Y group: Y represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond). n represents a natural number of 1 to 4.]

Figure 0007644477000003
[式中、前記Mは、前記化学式(B)と同一のカチオン種を表す。前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記nは、前記化学式(B)と同一の価数を表す。]
Figure 0007644477000003
[In the formula, M represents the same cationic species as in the chemical formula (B). X1 and X2 represent the same functional groups as in the chemical formula (A). n represents the same valence as in the chemical formula (B).]

前記の構成に於いては、前記化学式(A)に於ける前記Zがケイ素原子である場合、以下の化学式(D)で表されるリン酸化合物と、以下の化学式(E)で表されるケイ素化合物とを反応させて、以下の化学式(F)で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程(II)を含むことが好ましい。 In the above-mentioned configuration, when Z in the above-mentioned chemical formula (A) is a silicon atom, it is preferable to include a step (II) of reacting a phosphoric acid compound represented by the following chemical formula (D) with a silicon compound represented by the following chemical formula (E) to produce a phosphoric acid silyl ester represented by the following chemical formula (F).

Figure 0007644477000004
[式中、前記M’は、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭素数が1~10の第1級炭化水素基、炭素数が1~10の第2級炭化水素基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する第1級炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する第2級炭化水素基を表す。前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記nは、前記化学式(B)と同一の価数を表す。]
Figure 0007644477000004
[In the formula, M' represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond, or a secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond. X1 and X2 represent the same functional group as in the chemical formula (A). n represents the same valence as in the chemical formula (B).]

Figure 0007644477000005
[式中、前記X~Xは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記Xは脱離基であって、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルコキシ基、ハロアシルオキシ基、又はスルホニルオキシ基(-SOY基:前記Yは、ハロゲン原子、炭素数1~10の炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基を表す。)を表す。]
Figure 0007644477000005
[In the formula, X 3 to X 5 represent the same functional groups as in the chemical formula (A). X 7 is a leaving group, and represents a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a haloacyloxy group, or a sulfonyloxy group (-SO 3 Y group: Y represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond).]

Figure 0007644477000006
[式中、前記X~Xは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。]
Figure 0007644477000006
[In the formula, X 1 to X 5 represent the same functional groups as those in the chemical formula (A).]

さらに前記の構成に於いては、前記化学式(E)で表されるケイ素化合物が、前記工程(I)で副生する副生物であることが好ましい。 Furthermore, in the above-mentioned configuration, it is preferable that the silicon compound represented by the chemical formula (E) is a by-product produced in the above-mentioned step (I).

前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXが、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記M’が水素原子である場合のリン酸ジエステルであることが好ましい。 In the above-mentioned structure, the phosphoric acid compound is preferably a phosphoric acid diester in which X1 and X2 in the chemical formula (D) are each independently an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and M' is a hydrogen atom.

また前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXの何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記M’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステルであることが好ましい。 In the above-mentioned structure, the phosphoric acid compound is preferably a fluorophosphoric acid ester in which one of X1 and X2 in the chemical formula (D) is a fluorine atom, the other is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and M' is a hydrogen atom.

さらに、前記の構成に於いて、前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXがフッ素原子であり、前記M’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸であることが好ましい。 Furthermore, in the above-mentioned configuration, the phosphoric acid compound is preferably a difluorophosphoric acid in which X1 and X2 in the chemical formula (D) are fluorine atoms and M' is a hydrogen atom.

前記の構成に於いて、前記ケイ素化合物は、前記化学式(E)に於ける前記X~Xが、それぞれ独立して、炭素数1~6の炭化水素基であり、前記Xがハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物であることが好ましい。 In the above-mentioned structure, the silicon compound is preferably a trialkylsilyl halide in which X 3 to X 5 in the above-mentioned chemical formula (E) are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X 7 is a halogen atom.

また、前記の構成に於いて、前記化学式(B)に於ける前記Mは、リチウム原子、ナトリウム原子、マグネシウム原子、1-メチル-1-プロピルピロリジニウム、又は1-エチル-3-メチルイミダゾリウムであることが好ましい。 In addition, in the above configuration, it is preferable that M in the chemical formula (B) is a lithium atom, a sodium atom, a magnesium atom, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium, or 1-ethyl-3-methylimidazolium.

前記の構成に於いては、前記工程(I)及び工程(II)の少なくとも何れか一方を無溶媒下で行うことができる。 In the above configuration, at least one of steps (I) and (II) can be carried out without a solvent.

また、前記の構成に於いては、前記工程(I)及び工程(II)の少なくとも何れか一方を非水溶媒中で行うこともできる。 In the above configuration, at least one of steps (I) and (II) can be carried out in a non-aqueous solvent.

さらに、前記の構成に於いては、前記非水溶媒が非プロトン性有機溶媒であることが好ましい。 Furthermore, in the above configuration, it is preferable that the non-aqueous solvent is an aprotic organic solvent.

本発明によれば、前記化学式(A)で表されるリン酸エステルと、前記化学式(B)で表される原料塩とを反応させることで、前記化学式(C)で表されるリン酸塩化合物を、従来の製造方法よりも極めて簡便に、かつ効率良く、高純度で製造することができる。 According to the present invention, by reacting the phosphate ester represented by the chemical formula (A) with the raw material salt represented by the chemical formula (B), the phosphate compound represented by the chemical formula (C) can be produced with high purity in a much simpler and more efficient manner than conventional production methods.

(リン酸塩化合物の製造方法)
本実施の形態に係るリン酸塩化合物の製造方法について、以下に説明する。
本実施の形態のリン酸塩化合物の製造方法は、以下に示す化学反応式の通り、化学式(A)で表されるリン酸エステルと、化学式(B)で表される原料塩とを反応させて、化学式(C)で表されるリン酸塩化合物を生成する工程(I)を少なくとも含む。
(Method for producing phosphate compounds)
The method for producing a phosphate compound according to the present embodiment will be described below.
The method for producing a phosphate compound of the present embodiment includes at least a step (I) of reacting a phosphate ester represented by chemical formula (A) with a raw material salt represented by chemical formula (B) to produce a phosphate compound represented by chemical formula (C), as shown in the chemical reaction formula below.

Figure 0007644477000007
Figure 0007644477000007

工程(I)の反応は、リン酸エステルのXZ-基と、原料塩のMとが交換されて、リン酸塩化合物を生成するというものであり、当該リン酸塩化合物と当モル量の副生物(E’)も生成する。 The reaction in step (I) is one in which the X 3 X 4 X 5 Z- group of the phosphate ester is exchanged with M of the starting salt to produce a phosphate compound, and also produces a by-product (E') in an equimolar amount to the phosphate compound.

<リン酸エステル>
前記リン酸エステルは、以下の化学式(A)で表される。
<Phosphate ester>
The phosphate ester is represented by the following chemical formula (A).

Figure 0007644477000008
Figure 0007644477000008

前記化学式(A)に於いて、前記Zは炭素原子又はケイ素原子を表す。 In the above chemical formula (A), Z represents a carbon atom or a silicon atom.

前記化学式(A)に於いて、前記X及びXは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基(以下、「ハロゲン原子等を有する炭化水素基」という場合がある。)、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有するアルコキシ基(以下、「ハロゲン原子等を有するアルコキシ基」という場合がある。)を表す。 In the chemical formula (A), X1 and X2 each independently represent a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond (hereinafter, sometimes referred to as a "hydrocarbon group having a halogen atom, etc."), or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a hetero atom, or an unsaturated bond (hereinafter, sometimes referred to as an "alkoxy group having a halogen atom, etc.").

尚、本明細書に於いて官能基に於ける「炭素数」とは、特記しない限り、官能基の総炭素数を意味する。また本明細書に於いて、例えば、「炭素数が1~10の炭化水素基」とは、炭素数が1、2、3、・・・又は10の炭化水素基の総称を意味しており、このことは炭素数を規定した他の官能基に於いても特記しない限り、同様の意味を有する。 In this specification, the "number of carbon atoms" in a functional group means the total number of carbon atoms in the functional group, unless otherwise specified. In this specification, for example, a "hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms" is a general term for hydrocarbon groups having 1, 2, 3, ..., or 10 carbon atoms, and this has the same meaning in other functional groups that specify the number of carbon atoms, unless otherwise specified.

前記X及びXに於ける炭素数が1~10の炭化水素基としては、例えば、炭素数1~10のアルキル基等が挙げられる。さらに、炭素数1~10のアルキル基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基及びデシル基からなる鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記X及びXに於ける炭素数が1~10の炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6の炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 include alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. Furthermore, the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include chain alkyl groups consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl and decyl groups, and cyclic alkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl groups. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 include hydrocarbon groups having 1, 2, 3, 4, 5 and 6 carbon atoms, and more preferably hydrocarbon groups having 1, 2 and 3 carbon atoms.

前記X及びXに於ける炭素数が1~10のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記X及びXに於ける炭素数が1~10のアルコキシ基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のアルコキシ基が好ましく、炭素数1、2及び3のアルコキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 is not particularly limited, and examples thereof include linear alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, and hexoxy group, cyclic alkoxy groups such as cyclopentoxy group and cyclohexoxy group, phenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, etc. The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 is preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably an alkoxy group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in X1 and X2 means a functional group in which part or all of the hydrogen in the hydrocarbon group is substituted with a halogen atom. The halogen atom represents a fluorine, chlorine, bromine, or iodine atom. The hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in X1 and X2 is preferably a hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6, and more preferably a hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, or 3.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 means a functional group in which some or all of the hydrogen and carbon in the hydrocarbon group are substituted with a heteroatom. The heteroatom represents an atom such as oxygen, nitrogen, or sulfur. The hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 is preferably a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記X及びXに於けるハロゲン原子又はヘテロ原子を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、2-ヨードエチル基、2-ブロモエチル基、2-クロロエチル基、2-フルオロエチル基、1,2-ジヨードエチル基、1,2-ジブロモエチル基、1,2-ジクロロエチル基、1,2-ジフルオロエチル基、2,2-ジヨードエチル基、2,2-ジブロモエチル基、2,2-ジクロロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリブロモエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ-2-プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードシクロヘキシル基、2-ブロモシクロヘキシル基、2-クロロシクロヘキシル基及び2-フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードフェニル基、2-ブロモフェニル基、2-クロロフェニル基、2-フルオロフェニル基、3-ヨードフェニル基、3-ブロモフェニル基、3-クロロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-ヨードフェニル基、4-ブロモフェニル基、4-クロロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,6-ジヨードフェニル基、2,6-ジブロモフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、3,5-ジヨードフェニル基、3,5-ジブロモフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、3,5-ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、2-ニトロフェニル基、4-ニトロフェニル基、2,4-ジニトロフェニル基、2,6-ジニトロフェニル基及び3-アミノ-2-ナフチル基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group having a halogen atom or a hetero atom in X1 and X2 include an iodomethyl group, a bromomethyl group, a chloromethyl group, a fluoromethyl group, a diiodomethyl group, a dibromomethyl group, a dichloromethyl group, a difluoromethyl group, a triiodomethyl group, a tribromomethyl group, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-iodoethyl group, a 2-bromoethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 1,2-diiodoethyl group, a 1,2-dibuthyl group, a 1,2-diphenylmethyl ... chain-like halogenated alkyl groups such as 2-iodocyclohexyl group, 2-bromoethyl group, 1,2-dichloroethyl group, 1,2-difluoroethyl group, 2,2-diiodoethyl group, 2,2-dibromoethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and hexafluoro-2-propyl group; cyclic halogenated alkyl group such as 1-fluorocyclohexyl group, 2-iodophenyl group, 2-bromophenyl group, 2-chlorophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-iodophenyl group, 3-bromophenyl group, 3-chlorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-iodophenyl group, 4-bromophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,6-diiodophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, and halogenated aryl groups such as fluorophenyl group, 3,5-diiodophenyl group, 3,5-dibromophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, pentaiodophenyl group, pentabromophenyl group, pentachlorophenyl group, and pentafluorophenyl group; and heteroaryl groups such as 2-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group, 2,4-dinitrophenyl group, 2,6-dinitrophenyl group, and 3-amino-2-naphthyl group.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が1~10の範囲であって、炭素-炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が1、2、3、4及び5の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an unsaturated bond for X1 and X2 means, for example, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a double bond or triple bond between carbon atoms. Furthermore, as the hydrocarbon group having an unsaturated bond, a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4 or 5 unsaturated bonds is preferable, and a hydrocarbon group having 1, 2 or 3 unsaturated bonds is more preferable.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、ペンタ-1,4-ジエニル基、ペンタ-2,4-ジエニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、ヘキサ-1,3-ジエニル基、ヘキサ-1,5-ジエニル基、ヘキサ-2,4-ジエニル基、ヘキサ-2,5-ジエニル基、ヘキサ-3,5-ジエニル基及び3-メチル-ヘキサ-2,4-ジエニル基等の鎖状アルケニル基、1-シクロペンテニル基、2-シクロペンテニル基、2,4-シクロペンタジエニル基、1-シクロヘキセニル基、2-シクロヘキセニル基及び3-シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、1-ナフチル基及び2-ナフチル基等のアリール基、エチニル基、2-プロピニル基、ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基及び4-ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an unsaturated bond in X1 and X2 include, for example, an ethenyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-2-propenyl group, a 2-butenyl group, a 3-butenyl group, a 3-methyl-2-butenyl group, a 1-pentenyl group, a 2-pentenyl group, a 3-pentenyl group, a 4-methyl-2-butenyl group, a 5-methyl-2-butenyl group, a 6-methyl-2-butenyl group, a 7-methyl-2-butenyl group, a 8 ...9-methyl-2-butenyl group, a 10-methyl-2-butenyl group, a 11-methyl-2-butenyl group, a 12-methyl-2-butenyl group, a 13-methyl-2-butenyl group, a 14-methyl-2-butenyl group, a 15-methyl-2-butenyl group, a 16-methyl-2-butenyl group, a 17-methyl-2-butenyl group, a 18-methyl-2-butenyl group, a 19-methyl-2-butenyl group, a 20-methyl-2-butenyl group, a 21-methyl-2-butenyl group, a 22-methyl-2-butenyl group, a 23-methyl-2-butenyl group, a 24-methyl-2 -pentenyl group, penta-1,4-dienyl group, penta-2,4-dienyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, hexa-1,3-dienyl group, hexa-1,5-dienyl group, hexa-2,4-dienyl group, hexa-2,5-dienyl group, hexa-3,5-dienyl group and 3-methyl-1,3-dienyl group. chain alkenyl groups such as ethyl-hexa-2,4-dienyl group; cyclic alkenyl groups such as 1-cyclopentenyl group, 2-cyclopentenyl group, 2,4-cyclopentadienyl group, 1-cyclohexenyl group, 2-cyclohexenyl group, and 3-cyclohexenyl group; aryl groups such as phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group; and chain alkynyl groups such as ethynyl group, 2-propynyl group, butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, and 4-pentynyl group.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のハロゲン原子を有するアルコキシ基とは、当該アルコキシ基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。ここで、ハロゲン原子とは、前述の場合と同様、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を意味する。前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のハロゲン原子を有するアルコキシ基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子を有するアルコキシ基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子を有するアルコキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in X1 and X2 means a functional group in which part or all of the hydrogen in the alkoxy group is substituted with a halogen atom. Here, the halogen atom means a fluorine, chlorine, bromine, or iodine atom, as in the above case. As the alkoxy group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in X1 and X2 , an alkoxy group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6 is preferable, and an alkoxy group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, or 3 is more preferable.

また、前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有するアルコキシ基とは、当該アルコキシ基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。ここで、ヘテロ原子とは、前述の場合と同様、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を意味する。前記X及びXに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有するアルコキシ基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のヘテロ原子を有するアルコキシ基が好ましく、炭素数1、2及び3のヘテロ原子を有するアルコキシ基がより好ましい。 In addition, the alkoxy group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 means a functional group in which some or all of the hydrogen and carbon in the alkoxy group are substituted with a heteroatom. Here, the heteroatom means an atom such as oxygen, nitrogen, or sulfur, as in the above-mentioned case. As the alkoxy group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 , an alkoxy group having a heteroatom with 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having a heteroatom with 1, 2, or 3 carbon atoms is more preferable.

前記X及びXに於けるハロゲン原子又はヘテロ原子を有するアルコキシ基の具体例としては、例えば、ヨードメトキシ基、ブロモメトキシ基、クロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、ジヨードメトキシ基、ジブロモメトキシ基、ジクロロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリヨードメトキシ基、トリブロモメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2-ヨードエトキシ基、2-ブロモエトキシ基、2-クロロエトキシ基、2-フルオロエトキシ基、1,2-ジヨードエトキシ基、1,2-ジブロモエトキシ基、1,2-ジクロロエトキシ基、1,2-ジフルオロエトキシ基、2,2-ジヨードエトキシ基、2,2-ジブロモエトキシ基、2,2-ジクロロエトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリブロモエトキシ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基及びヘキサフルオロ-2-プロポキシ基等の鎖状含ハロゲン化アルコキシ基、2-ヨードシクロヘキシルオキシ基、2-ブロモシクロヘキシルオキシ基、2-クロロシクロヘキシルオキシ基及び2-フルオロシクロヘキシルオキシ基等の環状含ハロゲン化アルコキシ基、2-ヨードフェノキシ基、2-ブロモフェノキシ基、2-クロロフェノキシ基、2-フルオロフェノキシ基、3-ヨードフェノキシ基、3-ブロモフェノキシ基、3-クロロフェノキシ基、3-フルオロフェノキシ基、4-ヨードフェノキシ基、4-ブロモフェノキシ基、4-クロロフェノキシ基、4-フルオロフェノキシ基、2,6-ジヨードフェノキシ基、2,6-ジブロモフェノキシ基、2,6-ジクロロフェノキシ基、2,6-ジフルオロフェノキシ基、3,5-ジヨードフェノキシ基、3,5-ジブロモフェノキシ基、3,5-ジクロロフェノキシ基、3,5-ジフルオロフェノキシ基、ペンタヨードフェノキシ基、ペンタブロモフェノキシ基、ペンタクロロフェノキシ基及びペンタフルオロフェノキシ基等の含ハロゲン化アリール基、2-ニトロフェノキシ基、4-ニトロフェノキシ基、2,4-ジニトロフェノキシ基、2,6-ジニトロフェノキシ基及び3-アミノ-2-ナフトキシ基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxy group having a halogen atom or a hetero atom in X1 and X2 include an iodomethoxy group, a bromomethoxy group, a chloromethoxy group, a fluoromethoxy group, a diiodomethoxy group, a dibromomethoxy group, a dichloromethoxy group, a difluoromethoxy group, a triiodomethoxy group, a tribromomethoxy group, a trichloromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2-iodoethoxy group, a 2-bromoethoxy group, a 2-chloroethoxy group, a 2-fluoroethoxy group, a 1,2-diiodoethoxy group, a 1,2-dibutyl group, a 1,2-diphenyl ... chain-like halogenated alkoxy groups such as bromoethoxy group, 1,2-dichloroethoxy group, 1,2-difluoroethoxy group, 2,2-diiodoethoxy group, 2,2-dibromoethoxy group, 2,2-dichloroethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2-tribromoethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, and hexafluoro-2-propoxy group; 2-iodocyclohexyloxy group, 2-bromocyclohexyloxy group, and 2-chlorocyclohexyloxy group and cyclic halogenated alkoxy groups such as 2-fluorocyclohexyloxy group, 2-iodophenoxy group, 2-bromophenoxy group, 2-chlorophenoxy group, 2-fluorophenoxy group, 3-iodophenoxy group, 3-bromophenoxy group, 3-chlorophenoxy group, 3-fluorophenoxy group, 4-iodophenoxy group, 4-bromophenoxy group, 4-chlorophenoxy group, 4-fluorophenoxy group, 2,6-diiodophenoxy group, 2,6-dibromophenoxy group, 2,6-dichlorophenoxy group, 2, Examples of halogenated aryl groups include 6-difluorophenoxy group, 3,5-diiodophenoxy group, 3,5-dibromophenoxy group, 3,5-dichlorophenoxy group, 3,5-difluorophenoxy group, pentaiodophenoxy group, pentabromophenoxy group, pentachlorophenoxy group, and pentafluorophenoxy group; and heteroaryl groups such as 2-nitrophenoxy group, 4-nitrophenoxy group, 2,4-dinitrophenoxy group, 2,6-dinitrophenoxy group, and 3-amino-2-naphthoxy group.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有するアルコキシ基とは、例えば、炭素-炭素間に二重結合や三重結合を有するアルコキシ基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有するアルコキシ基としては、不飽和結合数が1、2、3、4及び5のアルコキシ基が好ましく、不飽和結合数が1、2及び3のアルコキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and an unsaturated bond in X1 and X2 means, for example, an alkoxy group having a double bond or a triple bond between carbon and carbon. Furthermore, the alkoxy group having an unsaturated bond is preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4 or 5 unsaturated bonds, and more preferably an alkoxy group having 1, 2 or 3 unsaturated bonds.

前記X及びXに於ける、炭素数が1~10の不飽和結合を有するアルコキシ基の具体例としては、例えば、エテニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、2-プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、2-メチル-2-プロペニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、3-ブテニルオキシ基、3-メチル-2-ブテニルオキシ基、1-ペンテニルオキシ基、2-ペンテニルオキシ基、3-ペンテニルオキシ基、4-ペンテニルオキシ基、ペンタ-1,4-ジエニルオキシ基、ペンタ-2,4-ジエニルオキシ基、1-ヘキセニルオキシ基、2-ヘキセニルオキシ基、3-ヘキセニルオキシ基、4-ヘキセニルオキシ基、5-ヘキセニルオキシ基、ヘキサ-1,3-ジエニルオキシ基、ヘキサ-1,5-ジエニルオキシ基、ヘキサ-2,4-ジエニルオキシ基、ヘキサ-2,5-ジエニルオキシ基、ヘキサ-3,5-ジエニルオキシ基及び3-メチル-ヘキサ-2,4-ジエニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基、1-シクロペンテニルオキシ基、2-シクロペンテニルオキシ基、2,4-シクロペンタジエニルオキシ基、1-シクロヘキセニルオキシ基、2-シクロヘキセニルオキシ基、3-シクロヘキセニルオキシ基等の環状アルケニルオキシ基、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、1-ナフトキシ基及び2-ナフトキシ基等のアリールオキシ基、エチニルオキシ基、2-プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、3-ブチニルオキシ基、ペンチニルオキシ基、2-ペンチニルオキシ基、3-ペンチニルオキシ基及び4-ペンチニルオキシ基等の鎖状アルキニルオキシ基等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxy group having an unsaturated bond and having 1 to 10 carbon atoms in X1 and X2 include, for example, an ethenyloxy group, a 1-propenyloxy group, a 2-propenyloxy group, an isopropenyloxy group, a 2-methyl-2-propenyloxy group, a 2-butenyloxy group, a 3-butenyloxy group, a 3-methyl-2-butenyloxy group, a 1-pentenyloxy group, a 2-pentenyloxy group, a 3-pentenyloxy group, a 4-pentenyloxy group, oxy group, penta-1,4-dienyloxy group, penta-2,4-dienyloxy group, 1-hexenyloxy group, 2-hexenyloxy group, 3-hexenyloxy group, 4-hexenyloxy group, 5-hexenyloxy group, hexa-1,3-dienyloxy group, hexa-1,5-dienyloxy group, hexa-2,4-dienyloxy group, hexa-2,5-dienyloxy group, hexa-3,5-dienyloxy group, and 3-methyloxy group. chain alkenyloxy groups such as 1-cyclopentenyloxy group, 2-cyclopentenyloxy group, 2,4-cyclopentadienyloxy group, 1-cyclohexenyloxy group, 2-cyclohexenyloxy group, and 3-cyclohexenyloxy group; phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, and the like; and aryloxy groups such as arylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 1-naphthoxy group and 2-naphthoxy group; and chain alkynyloxy groups such as ethynyloxy group, 2-propynyloxy group, butynyloxy group, 2-butynyloxy group, 3-butynyloxy group, pentynyloxy group, 2-pentynyloxy group, 3-pentynyloxy group and 4-pentynyloxy group.

前記X及びXは、同種でもよく相互に異なっていてもよい。また、前記X及びXとして前記に挙げた官能基は単なる例示に過ぎず、本実施の形態はこれらに限定されるものではない。 X1 and X2 may be the same or different from each other. The functional groups listed above as X1 and X2 are merely examples, and the present embodiment is not limited thereto.

前記化学式(A)に於けるX~Xは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、ハロゲン原子等を有する炭化水素基、又は、ハロゲン原子等を有するアルコキシ基を表す。さらに、前記X~Xの少なくとも1つは、前記炭素数1~10の炭化水素基又は前記炭素数1~10のアルコキシ基の何れかである。 X 3 to X 5 in the chemical formula (A) each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having a halogen atom, etc., or an alkoxy group having a halogen atom, etc. Furthermore, at least one of X 3 to X 5 is either the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.

前記炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、ハロゲン原子等を有する炭化水素基、及びハロゲン原子等を有するアルコキシ基は、前記X及びXで述べたのと同様である。従って、その詳細については省略する。 The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, the hydrocarbon group having a halogen atom or the like, and the alkoxy group having a halogen atom or the like are the same as those described above for X1 and X2 . Therefore, the details thereof will be omitted.

前記X~Xは、同種でもよく相互に異なっていてもよい。また、前記X~Xとして前記に挙げた官能基は単なる例示に過ぎず、本実施の形態はこれらに限定されるものではない。 X 3 to X 5 may be the same or different from each other. The functional groups listed above as X 3 to X 5 are merely examples, and the present embodiment is not limited thereto.

前記化学式(A)で表されるリン酸エステルの具体例としては、例えば、トリメチルホスファート、トリエチルホスファート、トリプロピルホスファート、トリブチルホスファート、トリペンチルホスファート、トリヘキシルホスファート、2-エチルヘキシルジフェニルホスファート、トリアリルホスファート、トリプロパルギルホスファート、トリス(2-ブトキシエチル)ホスファート、トリス(2-クロロエチル)ホスファート、エチルビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、ジエチル2,2,2-トリフルオロエチルホスファート、トリス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、トリス(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル)ホスファート、ジメチルフルオロホスファート、ジエチルフルオロホスファート、ジプロピルフルオロホスファート、ジブチルフルオロホスファート、ジペンチルフルオロホスファート、ジヘキシルフルオロホスファート、2-エチルヘキシルフェニルフルオロホスファート、ジアリルフルオロホスファート、ジプロパルギルフルオロホスファート、ビス(2-ブトキシエチル)フルオロホスファート、ビス(2-クロロエチル)フルオロホスファート、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)フルオロホスファート、ビス(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル)フルオロホスファート、メチルジフルオロホスファート、エチルジフルオロホスファート、プロピルジフルオロホスファート、アリルジフルオロホスファート、プロパルギルジフルオロホスファート、2-ブトキシエチルジフルオロホスファート、2-クロロエチルジフルオロホスファート、2,2,2-トリフルオロエチルジフルオロホスファート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピルジフルオロホスファート、ジメチルトリメチルシリルホスファート、ジエチルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジプロピルホスファート、ジブチルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジペンチルホスファート、ジヘキシルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジフェニルホスファート、ジアリルトリメチルシリルホスファート、トリメチルシリルジプロパルギルホスファート、ビス(2-ブトキシエチル)トリメチルシリルホスファート、ビス(2-クロロエチル)トリメチルシリルホスファート、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファート、ビス(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル)トリメチルシリルホスファート、メチルトリメチルシリルフルオロホスファート、エチルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル(プロピル)フルオロホスファート、ブチルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル(ペンチル)フルオロホスファート、ヘキシルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル(フェニル)フルオロホスファート、アリルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリル(プロパルギル)フルオロホスファート、2-ブトキシエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、2-クロロエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、2,2,2-トリフルオロエチルトリメチルシリルフルオロホスファート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピルトリメチルシリルフルオロホスファート、トリメチルシリルジフルオロホスファート、ジメチルビニルシリルジフルオロホスファート、ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート、トリエチルシリルジフルオロホスファート、シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファート、トリイソプロピルシリルジフルオロホスファート、メチルジフェニルシリルジフルオロホスファート等が挙げられる。但し、前記化学式(A)で表されるリン酸エステルは、これらの化合物群に限定されない。 Specific examples of the phosphate ester represented by the chemical formula (A) include, for example, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tripropyl phosphate, tributyl phosphate, tripentyl phosphate, trihexyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, triallyl phosphate, tripropargyl phosphate, tris(2-butoxyethyl)phosphate, tris(2-chloroethyl)phosphate, ethyl bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, diethyl 2,2,2-trifluoroethyl phosphate, tris(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, tris(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl)phosphate, dimethyl fluorophosphate, diethyl fluorophosphate, dipropyl fluorophosphate, dibutyl fluorophosphate, dipentyl fluorophosphate, dihexyl fluorophosphate, 2-ethylhexylphenyl fluorophosphate, diallyl fluorophosphate, dipropargyl fluorophosphate, bis(2-butoxyethyl)fluorophosphate, bis(2-chloroethyl)fluorophosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)fluorophosphate, bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl)fluorophosphate, methyl difluorophosphate, ethyl difluorophosphate, propyl difluorophosphate, allyl difluorophosphate, propargyl difluorophosphate, 2-butoxyethyl difluorophosphate, 2-chloroethyl difluorophosphate, 2,2,2-trifluoroethyl difluorophosphate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl difluorophosphate, dimethyltrimethylsilyl phosphate, diethyltrimethylsilyl phosphate, Tylsilyl phosphate, trimethylsilyl dipropyl phosphate, dibutyl trimethylsilyl phosphate, trimethylsilyl dipentyl phosphate, dihexyl trimethylsilyl phosphate, trimethylsilyl diphenyl phosphate, diallyl trimethylsilyl phosphate, trimethylsilyl dipropargyl phosphate, bis(2-butoxyethyl)trimethylsilyl phosphate, bis(2-chloroethyl)trimethylsilyl phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilyl phosphate, bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl)trimethylsilyl phosphate, methyl trimethylsilyl fluorophosphate, ethyl trimethylsilyl fluorophosphate, trimethylsilyl(propyl)fluorophosphate, butyl trimethylsilyl fluorophosphate, trimethylsilyl(pentyl)fluorophosphate phosphate, hexyltrimethylsilylfluorophosphate, trimethylsilyl(phenyl)fluorophosphate, allyltrimethylsilylfluorophosphate, trimethylsilyl(propargyl)fluorophosphate, 2-butoxyethyltrimethylsilylfluorophosphate, 2-chloroethyltrimethylsilylfluorophosphate, 2,2,2-trifluoroethyltrimethylsilylfluorophosphate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyltrimethylsilylfluorophosphate, trimethylsilyldifluorophosphate, dimethylvinylsilyldifluorophosphate, dimethylphenylsilyldifluorophosphate, triethylsilyldifluorophosphate, cyclohexyldimethylsilyldifluorophosphate, triisopropylsilyldifluorophosphate, methyldiphenylsilyldifluorophosphate, etc. However, the phosphate ester represented by the chemical formula (A) is not limited to these compound groups.

<原料塩>
前記原料塩は、以下の化学式(B)で表される。
<Raw material salt>
The raw material salt is represented by the following chemical formula (B).

Figure 0007644477000009
Figure 0007644477000009

前記化学式(B)に於いて、前記Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、遷移金属、又はオニウムを表す。 In the chemical formula (B), M represents an alkali metal, an alkaline earth metal, aluminum, a transition metal, or an onium.

前記アルカリ金属としては特に限定されず、Li、Na、K、Rb、Csが挙げられる。これらのアルカリ金属のうち、入手容易性の観点からは、Li、Na及びKが好ましく、リン酸塩化合物の汎用性の観点からは、Li及びNaがより好ましい。 The alkali metal is not particularly limited, and examples thereof include Li, Na, K, Rb, and Cs. Among these alkali metals, Li, Na, and K are preferred from the viewpoint of availability, and Li and Na are more preferred from the viewpoint of versatility of phosphate compounds.

前記アルカリ土類金属としては特に限定されず、Be、Mg、Ca、Sr、Baが挙げられる。これらのアルカリ土類金属のうち、入手容易性及び安全性の観点からは、Mg、Ca及びBaが好ましく、リン酸塩化合物の汎用性の観点からは、Mgがより好ましい。 The alkaline earth metal is not particularly limited, and examples thereof include Be, Mg, Ca, Sr, and Ba. Among these alkaline earth metals, Mg, Ca, and Ba are preferred from the viewpoints of availability and safety, and Mg is more preferred from the viewpoint of versatility of phosphate compounds.

前記遷移金属としては特に限定されず、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Znが挙げられる。これらの遷移金属のうち、入手容易性の観点から、Ti、Mn、Fe、Co、Ni及びCuが好ましい。 The transition metals are not particularly limited, and examples include Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn. Among these transition metals, Ti, Mn, Fe, Co, Ni, and Cu are preferred from the viewpoint of availability.

前記オニウムとしては特に限定されず、第1級アンモニウム、第2級アンモニウム、第3級アンモニウム、第4級アンモニウム、第4級ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられる。 The onium is not particularly limited, and examples thereof include primary ammonium, secondary ammonium, tertiary ammonium, quaternary ammonium, quaternary phosphonium, and sulfonium.

前記第1級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、プロピルアンモニウム、イソプロピルアンモニウム等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The primary ammonium is not particularly limited, and examples thereof include methylammonium, ethylammonium, propylammonium, isopropylammonium, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

前記第2級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、ジメチルアンモニウム、ジエチルアンモニウム、ジプロピルアンモニウム、ジブチルアンモニウム、エチルメチルアンモニウム、メチルプロピルアンモニウム、ブチルメチルアンモニウム、ブチルプロピルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム等が挙げられる。 The secondary ammonium is not particularly limited, and examples thereof include dimethylammonium, diethylammonium, dipropylammonium, dibutylammonium, ethylmethylammonium, methylpropylammonium, butylmethylammonium, butylpropylammonium, and diisopropylammonium.

前記第3級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウムアンモニウム、トリブチルアンモニウム、エチルジメチルアンモニウム、ジエチルメチルアンモニウム、トリイソプロピルアンモニウム、ジメチルイソプロピルアンモニウム、ジエチルイソプロピルアンモニウム、ジメチルプロピルアンモニウム、ブチルジメチルアンモニウム、1-メチルピロリジニウム、1-エチルピロリジニウム、1-プロピルピロリジニウム、1-ブチルプロピルピロリジニウム、1-メチルイミダゾリウム、1-エチルイミダゾリウム、1-プロピルイミダゾリウム、1-ブチルイミダゾリウム、ピラゾリウム、1-メチルピラゾリウム、1-エチルピラゾリウム、1-プロピルピラゾリウム、1-ブチルピラゾリウム、ピリジニウム等が挙げられる。 The tertiary ammonium is not particularly limited, and examples thereof include trimethylammonium, triethylammonium, tripropylammonium, tributylammonium, ethyldimethylammonium, diethylmethylammonium, triisopropylammonium, dimethylisopropylammonium, diethylisopropylammonium, dimethylpropylammonium, butyldimethylammonium, 1-methylpyrrolidinium, 1-ethylpyrrolidinium, 1-propylpyrrolidinium, 1-butylpropylpyrrolidinium, 1-methylimidazolium, 1-ethylimidazolium, 1-propylimidazolium, 1-butylimidazolium, pyrazolium, 1-methylpyrazolium, 1-ethylpyrazolium, 1-propylpyrazolium, 1-butylpyrazolium, pyridinium, and the like.

前記第4級アンモニウムとしては特に限定されず、例えば、脂肪族4級アンモニウム類、イミダゾリウム類、ピリジニウム類、ピラゾリウム類、ピリダジニウム類等が挙げられる。 The quaternary ammonium is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic quaternary ammoniums, imidazoliums, pyridiniums, pyrazoliums, pyridaziniums, etc.

さらに、前記脂肪族4級アンモニウム類としては特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトライソプロピルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリメチルプロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ブチルトリメチルアンモニウム、トリメチルペンチルアンモニウム、ヘキシルトリメチルアンモニウム、1-メチル-1-プロピルピロリジニウム、1-エチル-1-メチル-ピロリジニウム、1-ブチル-1-メチルピロリジニウム、1-エチル-1-メチル-ピペリジニウム、1-ブチル-1-メチルピペリジニウム等が挙げられる。 Furthermore, the aliphatic quaternary ammoniums are not particularly limited, and examples thereof include tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetraisopropylammonium, ethyltrimethylammonium, diethyldimethylammonium, triethylmethylammonium, trimethylpropylammonium, trimethylisopropylammonium, tetrabutylammonium, butyltrimethylammonium, trimethylpentylammonium, hexyltrimethylammonium, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium, 1-ethyl-1-methyl-pyrrolidinium, 1-butyl-1-methylpyrrolidinium, 1-ethyl-1-methyl-piperidinium, 1-butyl-1-methylpiperidinium, and the like.

前記イミダゾリウム類としては特に限定されず、例えば、1,3-ジメチル-イミダゾリウム、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、1-n-プロピル-3-メチルイミダゾリウム、1-n-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、1-n-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウム等が挙げられる。 The imidazoliums are not particularly limited, and examples thereof include 1,3-dimethyl-imidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1-n-propyl-3-methylimidazolium, 1-n-butyl-3-methylimidazolium, and 1-n-hexyl-3-methylimidazolium.

前記ピリジニウム類としては特に限定されず、例えば、1-メチルピリジニウム、1-エチルピリジニウム、1-n-プロピルピリジニウム等が挙げられる。 The pyridiniums are not particularly limited, and examples include 1-methylpyridinium, 1-ethylpyridinium, and 1-n-propylpyridinium.

前記ピラゾリウム類としては特に限定されず、例えば、1,2-ジメチルピラゾリウム、2-エチル-1-メチルピラゾリウム、2-メチル-1-プロピルピラゾリウム、2-ブチル-1-メチルピラゾリウム、1-メチルピラゾリウム、3-メチルピラゾリウム、4-メチルピラゾリウム、4-ヨードピラゾリウム、4-ブロモピラゾリウム、4-ヨード-3-メチルピラゾリウム、4-ブロモー3-メチルピラゾリウム、3-トリフルオロメチルピラゾリウムが挙げられる。 The pyrazoliums are not particularly limited, and examples thereof include 1,2-dimethylpyrazolium, 2-ethyl-1-methylpyrazolium, 2-methyl-1-propylpyrazolium, 2-butyl-1-methylpyrazolium, 1-methylpyrazolium, 3-methylpyrazolium, 4-methylpyrazolium, 4-iodopyrazolium, 4-bromopyrazolium, 4-iodo-3-methylpyrazolium, 4-bromo-3-methylpyrazolium, and 3-trifluoromethylpyrazolium.

前記ピリダジニウム類としては特に限定されず、例えば、1-メチルピリダジニウム、1-エチルピリダジニウム、1-プロピルピリダジニウム、1-ブチルピリダジニウム、3-メチルピリダジニウム、4-メチルピリダジニウム、3-メトキシピリダジニウム、3,6-ジクロロピリダジニウム、3,6-ジクロロ-4-メチルピリダジニウム、3-クロロ-6-メチルピリダジニウム、3-クロロ-6-メトキシピリダジニウムが挙げられる。 The pyridaziniums are not particularly limited, and examples thereof include 1-methylpyridazinium, 1-ethylpyridazinium, 1-propylpyridazinium, 1-butylpyridazinium, 3-methylpyridazinium, 4-methylpyridazinium, 3-methoxypyridazinium, 3,6-dichloropyridazinium, 3,6-dichloro-4-methylpyridazinium, 3-chloro-6-methylpyridazinium, and 3-chloro-6-methoxypyridazinium.

例示したオニウムのうち、入手容易性及び汎用性の観点からは、テトラエチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、1-メチル-1-プロピルピロリジニウム、及び1-エチル-3-メチルイミダゾリウム等が好ましい。 Among the oniums given above, tetraethylammonium, triethylmethylammonium, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium, and 1-ethyl-3-methylimidazolium are preferred from the standpoint of availability and versatility.

前記Xに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。これらのハロゲン原子のうち、脱離能の高さや副生成物の再利用の観点からは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in X6 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms. Among these halogen atoms, from the viewpoints of high elimination ability and reuse of by-products, chlorine, bromine, and iodine atoms are preferred.

前記Xに於ける炭素数1~10のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記Xに於ける炭素数1~10のアルコキシ基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のアルコキシ基が好ましく、炭素数1、2及び3のアルコキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X6 is not particularly limited, and examples thereof include linear alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, and hexoxy group, cyclic alkoxy groups such as cyclopentoxy group and cyclohexoxy group, phenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, etc. The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X6 is preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably an alkoxy group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記Xに於けるハロアシルオキシ基としては特に限定されないが、1~7個の何れかの炭素原子を有し、かつ1個又はそれ以上の水素原子がハロゲン原子により置換された官能基が好ましい。具体的には、例えば、ヨードアセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基、フルオロアセチル基、ジヨードアセチル基、ジブロモアセチル基、ジクロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリヨードアセチル基、トリブロモアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、3,3,3-トリヨードプロパノイル基、3,3,3-トリブロモプロパノイル基、3,3,3-トリクロロプロパノイル基、3,3,3-トリフルオロプロパノイル基、ペンタヨードプロパノイル基、ペンタブロモプロパノイル基、ペンタクロロプロパノイル基、ペンタフルオロプロパノイル基、4,4,4-トリヨードブタノイル基、4,4,4-トリブロモブタノイル基、4,4,4-トリクロロブタノイル基、4,4,4-トリフルオロブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタヨードブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタブロモブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタクロロブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブタノイル基、ヘプタヨードブタノイル基、ヘプタブロモブタノイル基、ヘプタクロロブタノイル基、ヘプタフルオロプブタノイル基、ペンタヨードベンゾイル基、ペンタブロモベンゾイル基、ペンタクロロベンゾイル基及びペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素を表す。 The haloacyloxy group in X6 is not particularly limited, but is preferably a functional group having 1 to 7 carbon atoms and having one or more hydrogen atoms substituted with halogen atoms. Specific examples include an iodoacetyl group, a bromoacetyl group, a chloroacetyl group, a fluoroacetyl group, a diiodoacetyl group, a dibromoacetyl group, a dichloroacetyl group, a difluoroacetyl group, a triiodoacetyl group, a tribromoacetyl group, a trichloroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a 3,3,3-triiodopropanoyl group, a 3,3,3-tribromopropanoyl group, a 3,3,3-trichloropropanoyl group, a 3,3,3-trifluoropropanoyl group, a pentaiodopropanoyl group, a pentabromopropanoyl group, a pentachloropropanoyl group, a pentafluoropropanoyl group, a 4,4,4-trifluoroacetyl group, a 5,5,6-trifluoroacetyl group, a 6,6,7-trifluoroacetyl group, a 7,7,8-trifluoroacetyl group, a 8,8,9-trifluoroacetyl group, a 9,9,10-trifluoroacetyl group, a 10,11,12-trifluoroacetyl group, a 12,13,14-trifluoroacetyl group, a 14,14,15-trifluoroacetyl group, a 15,16,17-trifluoroacetyl group, a 17,18,19-trifluoroacetyl group, a 19,19,12-trifluoroacetyl group, a 20,13,14-trifluoroacetyl group, a 21,14,15-trifluoroacetyl group, a 22,15,16-trifluoroacetyl group, a 23,16,17-trifluoroacetyl group, a 24,18,19-trifluoroacetyl group, a 25,19,18-trifluoroacetyl group, a 26,19,19-trifluoroacetyl group, a Examples of the halogen atom include iodobutanoyl group, 4,4,4-tribromobutanoyl group, 4,4,4-trichlorobutanoyl group, 4,4,4-trifluorobutanoyl group, 3,3,4,4,4-pentaiodobutanoyl group, 3,3,4,4,4-pentabromobutanoyl group, 3,3,4,4,4-pentachlorobutanoyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutanoyl group, heptaiodobutanoyl group, heptabromobutanoyl group, heptachlorobutanoyl group, heptafluorobutanoyl group, pentaiodobenzoyl group, pentabromobenzoyl group, pentachlorobenzoyl group, and pentafluorobenzoyl group. The halogen atom represents fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

前記Xに於けるスルホニルオキシ基は、-SOY基で表される。ここで、前記Yは、ハロゲン原子、炭素数1~10の炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基を表す。 The sulfonyloxy group in X6 is represented by a -SO3Y group, where Y represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond.

前記Yに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。 The halogen atoms in Y include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.

前記Yに於ける炭素数1~10の炭化水素基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Yに於ける炭素数1~10の炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6の炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Y is not particularly limited, and examples thereof include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl, and cyclic alkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Y is preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記Yに於ける炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記Yに於ける炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in Y means a functional group in which some or all of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group are replaced with halogen atoms. The halogen atoms represent fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms. As the hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in Y, a hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6 is preferable, and a hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1, 2, or 3 is more preferable.

前記Yに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記Yに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in Y means a functional group in which some or all of the hydrogen and carbon in the hydrocarbon group are replaced with a heteroatom. The heteroatom represents an atom such as oxygen, nitrogen, or sulfur. As the hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in Y, a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms is preferable, and a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, or 3 carbon atoms is more preferable.

前記Yに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子又はヘテロ原子を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、2-ヨードエチル基、2-ブロモエチル基、2-クロロエチル基、2-フルオロエチル基、1,2-ジヨードエチル基、1,2-ジブロモエチル基、1,2-ジクロロエチル基、1,2-ジフルオロエチル基、2,2-ジヨードエチル基、2,2-ジブロモエチル基、2,2-ジクロロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリブロモエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ-2-プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードシクロヘキシル基、2-ブロモシクロヘキシル基、2-クロロシクロヘキシル基及び2-フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードフェニル基、2-ブロモフェニル基、2-クロロフェニル基、2-フルオロフェニル基、3-ヨードフェニル基、3-ブロモフェニル基、3-クロロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-ヨードフェニル基、4-ブロモフェニル基、4-クロロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,6-ジヨードフェニル基、2,6-ジブロモフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、3,5-ジヨードフェニル基、3,5-ジブロモフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、3,5-ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、2-ニトロフェニル基、4-ニトロフェニル基、2,4-ジニトロフェニル基、2,6-ジニトロフェニル基、及び3-アミノ-2-ナフチル基等の含ヘテロアリール基等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 10 and a halogen atom or a heteroatom in Y include, for example, an iodomethyl group, a bromomethyl group, a chloromethyl group, a fluoromethyl group, a diiodomethyl group, a dibromomethyl group, a dichloromethyl group, a difluoromethyl group, a triiodomethyl group, a tribromomethyl group, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-iodoethyl group, a 2-bromoethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 1,2-di Chain halogenated alkyl groups such as an iodoethyl group, a 1,2-dibromoethyl group, a 1,2-dichloroethyl group, a 1,2-difluoroethyl group, a 2,2-diiodoethyl group, a 2,2-dibromoethyl group, a 2,2-dichloroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-tribromoethyl group, a 2,2,2-trichloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and a hexafluoro-2-propyl group; a 2-iodocyclohexyl group, a 2-bromocyclohexyl group, a 2-chlorocyclohexyl group, a cyclic halogenated alkyl groups such as 2-cyclohexyl and 2-fluorocyclohexyl groups, 2-iodophenyl group, 2-bromophenyl group, 2-chlorophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-iodophenyl group, 3-bromophenyl group, 3-chlorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-iodophenyl group, 4-bromophenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,6-diiodophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 2, Examples of halogenated aryl groups include 6-difluorophenyl, 3,5-diiodophenyl, 3,5-dibromophenyl, 3,5-dichlorophenyl, 3,5-difluorophenyl, pentaiodophenyl, pentabromophenyl, pentachlorophenyl and pentafluorophenyl groups; and heteroaryl groups such as 2-nitrophenyl, 4-nitrophenyl, 2,4-dinitrophenyl, 2,6-dinitrophenyl and 3-amino-2-naphthyl groups.

前記Yに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が1~10の範囲であって、炭素-炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が1、2、3、4及び5の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group for Y having 1 to 10 carbon atoms and an unsaturated bond means, for example, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a double bond or triple bond between carbon atoms. Furthermore, the hydrocarbon group having an unsaturated bond is preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, or 5 unsaturated bonds, and more preferably a hydrocarbon group having 1, 2, or 3 unsaturated bonds.

前記Yに於ける炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、ペンタ-1,4-ジエニル基、ペンタ-2,4-ジエニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、ヘキサ-1,3-ジエニル基、ヘキサ-1,5-ジエニル基、ヘキサ-2,4-ジエニル基、ヘキサ-2,5-ジエニル基、ヘキサ-3,5-ジエニル基及び3-メチル-ヘキサ-2,4-ジエニル基等の鎖状アルケニル基、1-シクロペンテニル基、2-シクロペンテニル基、2,4-シクロペンタジエニル基、1-シクロヘキセニル基、2-シクロヘキセニル基及び3-シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、1-ナフチル基及び2-ナフチル基等のアリール基、エチニル基、2-プロピニル基、ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基及び4-ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group having an unsaturated bond and having 1 to 10 carbon atoms in Y include, for example, ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl group, penta-1,4-dienyl group, penta-2,4-dienyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, hexa-1,3-dienyl group, hexa-1,5-dienyl group, hexa-2,4-dienyl group, hexa-2,5-dienyl group, hexa-3,5-dienyl group and 3-methyl-1,3-dienyl group. chain alkenyl groups such as ethyl-hexa-2,4-dienyl group; cyclic alkenyl groups such as 1-cyclopentenyl group, 2-cyclopentenyl group, 2,4-cyclopentadienyl group, 1-cyclohexenyl group, 2-cyclohexenyl group, and 3-cyclohexenyl group; aryl groups such as phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group; chain alkynyl groups such as ethynyl group, 2-propynyl group, butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, and 4-pentynyl group.

前記化学式(B)で表される原料塩の具体例としては、例えば、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、フッ化セシウム、塩化セシウム、臭化セシウム、ヨウ化セシウム、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化カルシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、フッ化アルミニウム、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化マンガン(II)、臭化マンガン(II)、ヨウ化マンガン(II)、塩化ニッケル(II)、臭化ニッケル(II)、ヨウ化ニッケル(II)、塩化コバルト(II)、臭化コバルト(II)、ヨウ化コバルト(II)、塩化銅(II)、臭化銅(II)、ヨウ化銅(II)、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムヨージド、トリエチルメチルアンモニウムフルオリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムブロミド、トリエチルメチルアンモニウムヨージド、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムフルオリド、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムクロリド、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムブロミド、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムヨージド、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムフルオリド、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムクロリド、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムブロミド、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムヨージド等が挙げられる。但し、前記化学式(B)で表される原料塩は、これらの化合物群に限定されない。 Specific examples of the raw material salt represented by the chemical formula (B) include, for example, lithium fluoride, lithium chloride, lithium bromide, lithium iodide, sodium fluoride, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide, potassium fluoride, potassium chloride, potassium bromide, potassium iodide, cesium fluoride, cesium chloride, cesium bromide, cesium iodide, magnesium fluoride, magnesium chloride, magnesium bromide, magnesium iodide, calcium fluoride, calcium chloride, calcium bromide, calcium iodide, aluminum fluoride, aluminum chloride, aluminum bromide, aluminum iodide, manganese chloride (II), manganese bromide (II), manganese iodide (II), nickel chloride (II), nickel bromide (II), nickel iodide (II), cobalt chloride (II), cobalt bromide (II), cobalt iodide (II), salt Examples of the copper(II) chloride, copper(II) bromide, copper(II) iodide, tetraethylammonium fluoride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, triethylmethylammonium fluoride, triethylmethylammonium chloride, triethylmethylammonium bromide, triethylmethylammonium iodide, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium fluoride, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium chloride, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium bromide, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium iodide, 1-ethyl-3-methylimidazolium fluoride, 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride, 1-ethyl-3-methylimidazolium bromide, 1-ethyl-3-methylimidazolium iodide, etc. However, the raw material salt represented by the above chemical formula (B) is not limited to these compound groups.

前記nは価数であり、1~4の自然数を表す。 The n is the valence and represents a natural number from 1 to 4.

<リン酸塩化合物>
前記リン酸塩化合物は、以下の化学式(C)で表される。
<Phosphate Compounds>
The phosphate compound is represented by the following chemical formula (C).

Figure 0007644477000010
Figure 0007644477000010

前記化学式(C)に於いて、前記Mは前記化学式(A)と同一のカチオン種を表す。また、前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。 In the chemical formula (C), M represents the same cationic species as in the chemical formula (A). Also, X1 and X2 represent the same functional groups as in the chemical formula (A). Therefore, detailed explanations of these will be omitted.

前記化学式(C)で表されるリン酸塩化合物の具体例としては、例えば、ジエチルリン酸リチウム、ジエチルリン酸ナトリウム、ジエチルリン酸カリウム、ジエチルリン酸マグネシウム、ジエチルリン酸カルシウム、ジエチルリン酸アルミニウム、ジエチルリン酸マンガン(II)、ジエチルリン酸ニッケル(II)、ジエチルリン酸コバルト(II)、ジエチルリン酸銅(II)、テトラエチルアンモニウムジエチルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジエチルホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムジエチルホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムジエチルホスファート、ジプロピルリン酸リチウム、ジプロピルリン酸ナトリウム、ジプロピルリン酸カリウム、ジプロピルリン酸マグネシウム、ジプロピルリン酸カルシウム、ジプロピルリン酸アルミニウム、ジプロピルリン酸マンガン(II)、ジプロピルリン酸ニッケル(II)、ジプロピルリン酸コバルト(II)、ジプロピルリン酸銅(II)、テトラエチルアンモニウムジプロピルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジプロピルホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムジプロピルホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムジプロピルホスファート、ジブチルリン酸リチウム、ジブチルリン酸ナトリウム、ジブチルリン酸カリウム、ジブチルリン酸マグネシウム、ジブチルリン酸カルシウム、ジブチルリン酸アルミニウム、ジブチルリン酸マンガン(II)、ジブチルリン酸ニッケル(II)、ジブチルリン酸コバルト(II)、ジブチルリン酸銅(II)、テトラエチルアンモニウムジブチルホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジブチルホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムジブチルホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムジブチルホスファート、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸リチウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ナトリウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸カリウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸マグネシウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸カルシウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸アルミニウム、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸マンガン(II)、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ニッケル(II)、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸コバルト(II)、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸銅(II)、テトラエチルアンモニウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、トリエチルメチルアンモニウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸リチウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ナトリウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸カリウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸マグネシウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸カルシウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸アルミニウム、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸マンガン(II)、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ニッケル(II)、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸コバルト(II)、エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸銅(II)、テトラエチルアンモニウムエチル(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、トリエチルメチルアンモニウムエチル(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムエチル(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムエチル(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、リチウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、ナトリウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、カリウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、マグネシウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、カルシウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、アルミニウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、マンガン(II)2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、ニッケル(II)2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、コバルト(II)2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、銅(II)2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、テトラエチルアンモニウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、トリエチルメチルアンモニウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、リチウムジフルオロホスファート、ナトリウムジフルオロホスファート、カリウムジフルオロホスファート、セシウムジフルオロホスファート、マグネシウムジフルオロホスファート、カルシウムジフルオロホスファート、アルミニウムジフルオロホスファート、マンガン(II)ジフルオロホスファート、ニッケル(II)ジフルオロホスファート、コバルト(II)ジフルオロホスファート、銅(II)ジフルオロホスファート、テトラエチルアンモニウムジフルオロホスファート、トリエチルメチルアンモニウムジフルオロホスファート、1-プロピル-1-メチルピロリジニウムジフルオロホスファート、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムジフルオロホスファート等が挙げられる。但し、前記化学式(C)で表されるリン酸塩化合物は、これらの化合物群に限定されない。 Specific examples of the phosphate compound represented by the chemical formula (C) include, for example, lithium diethyl phosphate, sodium diethyl phosphate, potassium diethyl phosphate, magnesium diethyl phosphate, calcium diethyl phosphate, aluminum diethyl phosphate, manganese (II) diethyl phosphate, nickel (II) diethyl phosphate, cobalt (II) diethyl phosphate, copper (II) diethyl phosphate, tetraethylammonium diethyl phosphate, triethylmethylammonium diethyl phosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium diethyl phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium diethyl phosphate, lithium dipropyl phosphate, sodium dipropyl phosphate, dipropyl phosphate, potassium dipropyl phosphate, magnesium dipropyl phosphate, calcium dipropyl phosphate, aluminum dipropyl phosphate, manganese(II) dipropyl phosphate, nickel(II) dipropyl phosphate, cobalt(II) dipropyl phosphate, copper(II) dipropyl phosphate, tetraethylammonium dipropyl phosphate, triethylmethylammonium dipropyl phosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium dipropyl phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium dipropyl phosphate, lithium dibutyl phosphate, sodium dibutyl phosphate, potassium dibutyl phosphate, magnesium dibutyl phosphate, calcium dibutyl phosphate, aluminum dibutyl phosphate, manganese dibutyl phosphate ammonium dibutyl phosphate, tetraethylammonium dibutyl phosphate, triethylmethylammonium dibutyl phosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium dibutyl phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium dibutyl phosphate, lithium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, sodium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, potassium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, magnesium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, calcium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)aluminum phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)manganese(II) phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)nickel(II) phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)cobalt(II) phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)copper(II) phosphate, tetraethylammonium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, triethylmethylammonium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate lithium, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate sodium, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate potassium, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate magnesium, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate calcium, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate aluminum, ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate manganese(II), ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate nickel(II), ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate cobalt(II), ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate copper(II), tetraethylammonium ethyl(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate ethyl)phosphate, triethylmethylammonium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, lithium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, sodium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, potassium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, magnesium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, calcium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, aluminum 2,2,2-trifluoroethyl fluoroethyl fluorophosphate, manganese(II) 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, nickel(II) 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, cobalt(II) 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, copper(II) 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, tetraethylammonium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, triethylmethylammonium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate , lithium difluorophosphate, sodium difluorophosphate, potassium difluorophosphate, cesium difluorophosphate, magnesium difluorophosphate, calcium difluorophosphate, aluminum difluorophosphate, manganese (II) difluorophosphate, nickel (II) difluorophosphate, cobalt (II) difluorophosphate, copper (II) difluorophosphate, tetraethylammonium difluorophosphate, triethylmethylammonium difluorophosphate, 1-propyl-1-methylpyrrolidinium difluorophosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium difluorophosphate, etc. However, the phosphate compound represented by the chemical formula (C) is not limited to these compound groups.

<工程(I)の反応条件>
前記工程(I)の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸エステルと原料塩の反応モル比に於いて、通常は、リン酸エステルの下限値が、原料塩1モルに対し1モル以上である。また、リン酸エステルの上限値は、通常、2.5モル以下であり、工業生産の観点からは1.5モル以下が好ましい。
<Reaction conditions for step (I)>
The reaction molar ratio in the step (I) is not particularly limited and may be appropriately set depending on the reactant species. In the reaction molar ratio of the phosphoric acid ester to the raw material salt, the lower limit of the phosphoric acid ester is usually 1 mole or more per mole of the raw material salt. The upper limit of the phosphoric acid ester is usually 2.5 moles or less, and preferably 1.5 moles or less from the viewpoint of industrial production.

前記工程(I)の反応開始温度は、当該反応が進行する限りに於いて特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応開始温度の下限値は、通常は0℃以上であり、反応性の観点からは20℃以上が好ましく、60℃以上がより好ましい。また、反応開始温度の上限値は、通常は150℃以下であり、反応性の観点からは120℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましい。尚、反応開始温度の下限値を0℃以上にすることにより、反応速度が著しく減衰するのを防止することができる。その一方、反応開始温度の上限値を150℃以下にすることにより、反応に使用する過剰なエネルギーを抑制することができる。 The reaction initiation temperature in step (I) is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and may be set appropriately depending on the type of reaction. The lower limit of the reaction initiation temperature is usually 0°C or higher, and from the viewpoint of reactivity, it is preferably 20°C or higher, and more preferably 60°C or higher. The upper limit of the reaction initiation temperature is usually 150°C or lower, and from the viewpoint of reactivity, it is preferably 120°C or lower, and more preferably 100°C or lower. By setting the lower limit of the reaction initiation temperature to 0°C or higher, it is possible to prevent the reaction rate from significantly decreasing. On the other hand, by setting the upper limit of the reaction initiation temperature to 150°C or lower, it is possible to suppress the excess energy used in the reaction.

反応開始温度の調整手段としては特に限定されない。例えば、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に冷却して制御する場合には、リン酸エステルと原料塩が投入される反応容器を氷冷等により行うことができる。また、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に加熱して制御する場合には、任意の温度に設定された油浴等により行うことができる。 There are no particular limitations on the means for adjusting the reaction initiation temperature. For example, when controlling the reaction initiation temperature by cooling so that it is within the above-mentioned temperature range, this can be done by ice-cooling the reaction vessel into which the phosphate ester and raw material salt are added. Also, when controlling the reaction initiation temperature by heating so that it is within the above-mentioned temperature range, this can be done by using an oil bath set to any desired temperature.

前記工程(I)の反応時間は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応時間の下限値は、通常は1時間以上である。また、反応時間の上限値は、通常は10時間以下であり、工業生産の観点からは6時間以下が好ましく、4時間以下がより好ましい。 The reaction time in step (I) is not particularly limited and may be set appropriately depending on the reactant species. The lower limit of the reaction time is usually 1 hour or more. The upper limit of the reaction time is usually 10 hours or less, and from the viewpoint of industrial production, 6 hours or less is preferable, and 4 hours or less is more preferable.

前記工程(I)の反応は、無溶媒下又は非水溶媒中で行うことができる。工程(I)の反応を無溶媒下で行う場合、リン酸エステルが反応溶媒としての機能も果たす。 The reaction in step (I) can be carried out without a solvent or in a non-aqueous solvent. When the reaction in step (I) is carried out without a solvent, the phosphate ester also functions as a reaction solvent.

前記非水溶媒としては、他の反応物や生成物と反応するような支障が生じない限り、特に限定されないが、非プロトン性有機溶媒を用いるのが好ましい。 The non-aqueous solvent is not particularly limited as long as it does not cause any problems such as reaction with other reactants or products, but it is preferable to use an aprotic organic solvent.

前記非プロトン性有機溶媒としては特に限定されず、例えば、アルコール類、ニトリル類、エステル類、ケトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The aprotic organic solvent is not particularly limited, and examples thereof include alcohols, nitriles, esters, ketones, ethers, halogenated hydrocarbons, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

前記アルコール類としては特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、2-ヨードエタノール、2-ブロモエタノール、2-クロロエタノール、2-フルオロエタノール、1,2-ジヨードエタノール、1,2-ジブロモエタノール、1,2-ジクロロエタノール、1,2-ジフルオロエタノール、2,2-ジヨードエタノール、2,2-ジブロモエタノール、2,2-ジクロロエタノール、2,2-ジフルオロエタノール、2,2,2-トリブロモエタノール、2,2,2-トリクロロエタノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロ-2-プロパノール等が挙げられる。これらは、一種単独、又は二種類以上を使用することができる。 The alcohols are not particularly limited, and examples thereof include methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, 2-iodoethanol, 2-bromoethanol, 2-chloroethanol, 2-fluoroethanol, 1,2-diiodoethanol, 1,2-dibromoethanol, 1,2-dichloroethanol, 1,2-difluoroethanol, 2,2-diiodoethanol, 2,2-dibromoethanol, 2,2-dichloroethanol, 2,2-difluoroethanol, 2,2,2-tribromoethanol, 2,2,2-trichloroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, and hexafluoro-2-propanol. These may be used alone or in combination.

前記ニトリル類としては特に限定されず、例えば、アセトニトリル、プロパンニトリル等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The nitriles are not particularly limited, and examples thereof include acetonitrile, propanenitrile, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記エステル類としては特に限定されず、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The esters are not particularly limited, and examples thereof include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

前記ケトン類としては特に限定されず、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The ketones are not particularly limited, and examples thereof include acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl methyl ketone, cyclohexanone, etc. These can be used alone or in combination of two or more.

前記エーテル類としては特に限定されず、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The ethers are not particularly limited, and examples thereof include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

前記ハロゲン化炭化水素としは特に限定されず、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは一種単独で、又は二種以上を併用することができる。 The halogenated hydrocarbon is not particularly limited, and examples thereof include dichloromethane, chloroform, 1,1,2,2-tetrachloroethane, chlorobenzene, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

また、非水溶媒のその他の例として、トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ニトロメタン、ニトロエタン等も挙げられる。 Other examples of non-aqueous solvents include toluene, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, nitromethane, and nitroethane.

以上に例示した非水溶媒のうち、本発明に於いては、反応基質の溶解性及び入手容易性の観点から、ニトリル類、エステル類、ケトン類、エーテル類及びハロゲン化炭化水素類が好ましい。 Among the non-aqueous solvents exemplified above, in the present invention, nitriles, esters, ketones, ethers, and halogenated hydrocarbons are preferred from the viewpoints of solubility of the reaction substrate and ease of availability.

前記非水溶媒の使用量に関し、その下限値は、前記リン酸エステル1モルに対し、1モル以上が好ましく、10モル以上がより好ましい。前記非水溶媒の使用量の上限値は、前記リン酸エステル1モルに対し、10000モル以下が好ましく、1000モル以下がより好ましく、100モル以下がさらに好ましい。非水溶媒の使用量の下限値を1モル以上にすることにより、リン酸エステルと原料塩との反応性が低下するのを防止し、リン酸塩化合物の収率やその純度の低下を抑制することができる。その一方、前記非水溶媒の使用量の上限値を10000モル以下にすることにより、これを留去する際のエネルギーを抑制し、工業的生産に於いて不利になるのを防止することができる。 The lower limit of the amount of the nonaqueous solvent used is preferably 1 mol or more, more preferably 10 mol or more, per mol of the phosphate ester. The upper limit of the amount of the nonaqueous solvent used is preferably 10,000 mol or less, more preferably 1,000 mol or less, and even more preferably 100 mol or less, per mol of the phosphate ester. By setting the lower limit of the amount of the nonaqueous solvent to 1 mol or more, it is possible to prevent a decrease in the reactivity between the phosphate ester and the raw salt, and to suppress a decrease in the yield and purity of the phosphate compound. On the other hand, by setting the upper limit of the amount of the nonaqueous solvent used to 10,000 mol or less, it is possible to suppress the energy required for distilling it off, and to prevent it from becoming a disadvantage in industrial production.

前記工程(I)で得られるリン酸塩化合物について、その純度に応じて単離・精製してもよい。その方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、常圧蒸留、減圧蒸留、濾過、濾取、再結晶、昇華精製、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー(PTLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、イオンクロマトグラフィー(IC)等の方法が挙げられる。 The phosphate compound obtained in step (I) may be isolated and purified depending on its purity. The method is not particularly limited, and any known method can be used. Specific examples include atmospheric distillation, reduced pressure distillation, filtration, filtration, recrystallization, sublimation purification, silica gel column chromatography, preparative thin layer chromatography (PTLC), high performance liquid chromatography (HPLC), and ion chromatography (IC).

(リン酸エステルの製造方法)
前記リン酸エステルは、前記Zがケイ素原子である場合、酸無水物等を原料として利用する公知の製造方法により得ることができる。但し、本実施の形態に於いては、以下に示す化学反応式の通り、化学式(D)で表されるリン酸化合物と、化学式(E)で表されるケイ素化合物とを反応させて、化学式(F)で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程(II)を含むのが好ましい。これにより、リン酸エステルを効率的に得ることができる。
(Method for producing phosphoric acid ester)
When Z is a silicon atom, the phosphoric acid ester can be obtained by a known production method using an acid anhydride or the like as a raw material. However, in this embodiment, as shown in the chemical reaction formula below, it is preferable to include a step (II) of reacting a phosphoric acid compound represented by chemical formula (D) with a silicon compound represented by chemical formula (E) to produce a phosphoric acid silyl ester represented by chemical formula (F). This makes it possible to efficiently obtain the phosphoric acid ester.

Figure 0007644477000011
Figure 0007644477000011

工程(II)の反応であると、前記化学式(E)で表されるケイ素化合物として、工程(I)で副生するケイ素化合物の再利用が可能になる。これにより、生産効率が極めて高く、かつ、製造コストを低減してリン酸塩化合物を製造することができる。 The reaction in step (II) makes it possible to reuse the silicon compound by-produced in step (I) as the silicon compound represented by the chemical formula (E). This makes it possible to produce phosphate compounds with extremely high production efficiency and reduced production costs.

<リン酸化合物>
前記リン酸化合物は、以下の化学式(D)で表される。
<Phosphate Compounds>
The phosphate compound is represented by the following chemical formula (D).

Figure 0007644477000012
Figure 0007644477000012

前記化学式(D)に於いて、前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。 In the formula (D), X1 and X2 represent the same functional groups as those in the formula (A), and therefore, detailed explanations thereof will be omitted.

前記化学式(D)に於いて、前記M’は、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭素数が1~10の第1級炭化水素基、炭素数が1~10の第2級炭化水素基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する第1級炭化水素基(以下、「ハロゲン原子等を有する第1級炭化水素基」という。)、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する第2級炭化水素基(以下、「ハロゲン原子等を有する第2級炭化水素基」という。)を表す。 In the above chemical formula (D), M' represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond (hereinafter referred to as a "primary hydrocarbon group having a halogen atom, etc."), or a secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond (hereinafter referred to as a "secondary hydrocarbon group having a halogen atom, etc.").

前記M’に於けるアルカリ金属としては、Li、Na、K、Rb、Csが挙げられる。これらのアルカリ金属のうち、入手容易性の点からは、Li、Na及びKが好ましい。 The alkali metals in M' include Li, Na, K, Rb, and Cs. Of these alkali metals, Li, Na, and K are preferred from the viewpoint of availability.

前記M’に於けるアルカリ土類金属としては特に限定されず、Be、Mg、Ca、Sr、Baが挙げられる。これらのアルカリ土類金属のうち、入手容易性及び安全性の観点からは、Mg、Ca及びBaが好ましい。 The alkaline earth metal in M' is not particularly limited, and examples include Be, Mg, Ca, Sr, and Ba. Among these alkaline earth metals, Mg, Ca, and Ba are preferred from the viewpoints of availability and safety.

前記M’に於ける炭素数1~10の第1級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、第1級アルキル基等が挙げられる。また、前記炭素数1~10の第2級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、第2級アルキル基等が挙げられる。炭素数1~10の第1級アルキル基及び炭素数1~10の第2級アルキル基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記M’に於ける炭素数1~10の第1級炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6の第1級炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3の第1級炭化水素基がより好ましい。また、前記M’に於ける炭素数1~10の第2級炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6の第2級炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3の第2級炭化水素基がより好ましい。 The primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in M' is not particularly limited, and examples thereof include primary alkyl groups. The secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include secondary alkyl groups. The primary alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and the secondary alkyl group having 1 to 10 carbon atoms are not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl, isopropyl, n-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl chain alkyl groups, and cyclopentyl and cyclohexyl chain alkyl groups. The primary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in M' is preferably a primary hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a primary hydrocarbon group having 1, 2, or 3 carbon atoms. In addition, the secondary hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in M' is preferably a secondary hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a secondary hydrocarbon group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記M’に於ける、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子等を有する第1級炭化水素基、及び炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子等を有する第2級炭化水素基としては特に限定されず、例えば、2-ヨードエチル基、2-ブロモエチル基、2-クロロエチル基、2-フルオロエチル基、1,2-ジヨードエチル基、1,2-ジブロモエチル基、1,2-ジクロロエチル基、1,2-ジフルオロエチル基、2,2-ジヨードエチル基、2,2-ジブロモエチル基、2,2-ジクロロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリブロモエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ-2-プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードシクロヘキシル基、2-ブロモシクロヘキシル基、2-クロロシクロヘキシル基、2-フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、2-プロペニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基等の鎖状アルケニル基、2-シクロペンテニル基、2-シクロヘキセニル基、3-シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基等の鎖状アルキニル基等が挙げられる。前記M’に於ける、炭素数が1~10の範囲のハロゲン原子等を有する第1級炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子等を有する第1級炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子等を有する第1級炭化水素基がより好ましい。また、前記M’に於ける、炭素数が1~10の範囲のハロゲン原子等を有する第2級炭化水素基としては、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子等を有する第2級炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子等を有する第2級炭化水素基がより好ましい。 In the above M', the primary hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 10 and having a halogen atom or the like, and the secondary hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 10 and having a halogen atom or the like are not particularly limited, and examples thereof include 2-iodoethyl group, 2-bromoethyl group, 2-chloroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,2-diiodoethyl group, 1,2-dibromoethyl group, 1,2-dichloroethyl group, 1,2-difluoroethyl group, 2,2-diiodoethyl group, 2,2-dibromoethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, and the like. chain-like halogenated alkyl groups such as a 2,2,2-trifluoroethyl group and a hexafluoro-2-propyl group; cyclic halogenated alkyl groups such as a 2-iodocyclohexyl group, a 2-bromocyclohexyl group, a 2-chlorocyclohexyl group and a 2-fluorocyclohexyl group; chain-like alkenyl groups such as a 2-propenyl group, a 2-butenyl group and a 3-butenyl group; cyclic alkenyl groups such as a 2-cyclopentenyl group, a 2-cyclohexenyl group and a 3-cyclohexenyl group; chain-like alkynyl groups such as a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a 2-pentynyl group, a 3-pentynyl group and a 4-pentynyl group. In the above M', the primary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number in the range of 1 to 10 is preferably a primary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6, and more preferably a primary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number of 1, 2, or 3. In addition, in the above M', the secondary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number in the range of 1 to 10 is preferably a secondary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6, and more preferably a secondary hydrocarbon group having a halogen atom or the like and having a carbon number of 1, 2, or 3.

前記M’に於ける不飽和結合とは、例えば、炭素-炭素間に於ける二重結合、又は三重結合を意味する。 The unsaturated bond in M' means, for example, a carbon-carbon double bond or a triple bond.

前記化学式(D)で表されるリン酸化合物は、より具体的には、前記X及びXが、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記Mが水素原子である場合のリン酸ジエステル、前記X及びXの何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記M’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステル、及び、前記X及びXがフッ素原子であり、前記M’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸であることが好ましい。 More specifically, the phosphoric acid compound represented by the chemical formula (D) is preferably a phosphoric acid diester in which X1 and X2 are each independently an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and M ' is a hydrogen atom, a fluorophosphoric acid ester in which one of X1 and X2 is a fluorine atom and the other is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and M' is a hydrogen atom, or a difluorophosphoric acid in which X1 and X2 are fluorine atoms and M' is a hydrogen atom.

前記化学式(D)で表されるリン酸化合物の具体例としては、例えば、ジメチルホスファート、ジエチルホスファート、ジプロピルホスファート、ジブチルホスファート、ジペンチルホスファート、ジヘキシルホスファート、ジフェニルホスファート、ジアリルホスファート、ジプロパルギルホスファート、ビス(2-ブトキシエチル)ホスファート、ビス(2-クロロエチル)ホスファート、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート、ビス(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル)ホスファート、メチルフルオロホスファート、エチルフルオロホスファート、プロピルフルオロホスファート、ブチルフルオロホスファート、ペンチルフルオロホスファート、ヘキシルフルオロホスファート、フェニルフルオロホスファート、アリルフルオロホスファート、プロパルギルフルオロホスファート、2-ブトキシエチルフルオロホスファート、2-クロロエチルフルオロホスファート、2,2,2-トリフルオロエチルフルオロホスファート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピルフルオロホスファート、ジフルオロホスホリック酸等が挙げられる。但し、前記化学式(D)で表されるリン酸化合物は、これらの化合物群に限定されない。 Specific examples of the phosphoric acid compound represented by the chemical formula (D) include, for example, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, dipropyl phosphate, dibutyl phosphate, dipentyl phosphate, dihexyl phosphate, diphenyl phosphate, diallyl phosphate, dipropargyl phosphate, bis(2-butoxyethyl)phosphate, bis(2-chloroethyl)phosphate, bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate, bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl)phosphate, methyl fluoro phosphate, ethyl fluorophosphate, propyl fluorophosphate, butyl fluorophosphate, pentyl fluorophosphate, hexyl fluorophosphate, phenyl fluorophosphate, allyl fluorophosphate, propargyl fluorophosphate, 2-butoxyethyl fluorophosphate, 2-chloroethyl fluorophosphate, 2,2,2-trifluoroethyl fluorophosphate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl fluorophosphate, difluorophosphoric acid, etc. However, the phosphoric acid compound represented by the chemical formula (D) is not limited to these compound groups.

<ケイ素化合物>
前記ケイ素化合物は、以下の化学式(E)で表される。
<Silicon Compounds>
The silicon compound is represented by the following chemical formula (E).

Figure 0007644477000013
Figure 0007644477000013

前記化学式(E)に於いて、前記X~Xは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。従って、これらの詳細については説明を省略する。 In the chemical formula (E), X 3 to X 5 represent the same functional groups as those in the chemical formula (A), and therefore, detailed explanations thereof will be omitted.

前記Xは脱離基であって、ハロゲン原子、炭素数1~10のアルコキシ基、ハロアシルオキシ基、又はスルホニルオキシ基を表す。 The above-mentioned X7 is a leaving group, and represents a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a haloacyloxy group, or a sulfonyloxy group.

前記Xに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。これらのハロゲン原子のうち、脱離能の高さや副生成物の再利用の観点からは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in X7 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms. Among these halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferred from the viewpoints of high elimination ability and reuse of by-products.

前記Xにおける炭素数1~10のアルコキシ基としては特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基及びヘキソキシ基等の鎖状アルコキシ基、シクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基等の環状アルコキシ基、フェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、3,5-ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。前記Xにおける炭素数1~10のアルコキシ基は、炭素数1、2、3、4、5及び6のアルコキシ基が好ましく、1、2及び3のアルコキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X7 is not particularly limited, and examples thereof include linear alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, and hexoxy group, cyclic alkoxy groups such as cyclopentoxy group, cyclohexoxy group, phenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, etc. The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in X7 is preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably an alkoxy group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記Xにおけるハロアシルオキシ基としては、特に限定されないが、1~7個の何れかの炭素原子を有し、かつ1個又はそれ以上の水素原子がハロゲン原子により置換された官能基が好ましい。具体的には、例えば、ヨードアセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基、フルオロアセチル基、ジヨードアセチル基、ジブロモアセチル基、ジクロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリヨードアセチル基、トリブロモアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、3,3,3-トリヨードプロパノイル基、3,3,3-トリブロモプロパノイル基、3,3,3-トリクロロプロパノイル基、3,3,3-トリフルオロプロパノイル基、ペンタヨードプロパノイル基、ペンタブロモプロパノイル基、ペンタクロロプロパノイル基、ペンタフルオロプロパノイル基、4,4,4-トリヨードブタノイル基、4,4,4-トリブロモブタノイル基、4,4,4-トリクロロブタノイル基、4,4,4-トリフルオロブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタヨードブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタブロモブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタクロロブタノイル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブタノイル基、ヘプタヨードブタノイル基、ヘプタブロモブタノイル基、ヘプタクロロブタノイル基、ヘプタフルオロブタノイル基、ペンタヨードベンゾイル基、ペンタブロモベンゾイル基、ペンタクロロベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基等が挙げられる。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素を表す。 The haloacyloxy group in X7 is not particularly limited, but is preferably a functional group having 1 to 7 carbon atoms and having one or more hydrogen atoms substituted with a halogen atom. Specific examples include an iodoacetyl group, a bromoacetyl group, a chloroacetyl group, a fluoroacetyl group, a diiodoacetyl group, a dibromoacetyl group, a dichloroacetyl group, a difluoroacetyl group, a triiodoacetyl group, a tribromoacetyl group, a trichloroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a 3,3,3-triiodopropanoyl group, a 3,3,3-tribromopropanoyl group, a 3,3,3-trichloropropanoyl group, a 3,3,3-trifluoropropanoyl group, a pentaiodopropanoyl group, a pentabromopropanoyl group, a pentachloropropanoyl group, a pentafluoropropanoyl group, a 4,4,4- Examples of the halogen atom include a triiodobutanoyl group, a 4,4,4-tribromobutanoyl group, a 4,4,4-trichlorobutanoyl group, a 4,4,4-trifluorobutanoyl group, a 3,3,4,4,4-pentaiodobutanoyl group, a 3,3,4,4,4-pentabromobutanoyl group, a 3,3,4,4,4-pentachlorobutanoyl group, a 3,3,4,4,4-pentafluorobutanoyl group, a heptaiodobutanoyl group, a heptabromobutanoyl group, a heptachlorobutanoyl group, a heptafluorobutanoyl group, a pentaiodobenzoyl group, a pentabromobenzoyl group, a pentachlorobenzoyl group, a pentafluorobenzoyl group, etc. The halogen atom represents fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

前記Xに於けるスルホニルオキシ基は、-SOY基で表される。ここで、前記Yは、ハロゲン原子、炭素数1~10の炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子若しくは不飽和結合の少なくとも何れか1つを有する炭化水素基を表す。 The sulfonyloxy group in X7 is represented by a -SO3Y group, where Y represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having at least one of a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond.

前記Yに於けるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子が挙げられる。 The halogen atoms in Y include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.

前記Yに於ける炭素数1~10の炭化水素基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。前記Yに於ける炭素数1~10の炭化水素基は、炭素数1、2、3、4、5及び6の炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Y is not particularly limited, and examples thereof include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl, and cyclic alkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Y is preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記Yに於ける炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素の一部又は全部がハロゲン原子で置換された官能基を意味する。前記ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素の原子を表す。前記Yに於ける炭素数が1~10のハロゲン原子を有する炭化水素基は、炭素数1、2、3、4、5及び6のハロゲン原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のハロゲン原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in Y means a functional group in which some or all of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group are replaced with halogen atoms. The halogen atoms represent fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms. The hydrocarbon group having a halogen atom and a carbon number of 1 to 10 in Y is preferably a hydrocarbon group having a halogen atom with a carbon number of 1, 2, 3, 4, 5, or 6, and more preferably a hydrocarbon group having a halogen atom with a carbon number of 1, 2, or 3.

前記Yに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基とは、当該炭化水素基中の水素及び炭素の一部又は全部がヘテロ原子で置換された官能基を意味する。前記ヘテロ原子は、酸素、窒素、及び硫黄等の原子を表す。前記Yに於ける、炭素数が1~10のヘテロ原子を有する炭化水素基は、炭素数1、2、3、4、5及び6のヘテロ原子を有する炭化水素基が好ましく、炭素数1、2及び3のヘテロ原子を有する炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in Y means a functional group in which some or all of the hydrogen and carbon in the hydrocarbon group are replaced with a heteroatom. The heteroatom represents an atom such as oxygen, nitrogen, or sulfur. The hydrocarbon group having a heteroatom with 1 to 10 carbon atoms in Y is preferably a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having a heteroatom with 1, 2, or 3 carbon atoms.

前記Yに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、不飽和結合を有する炭化水素基とは、例えば、炭素数が1~10の範囲であって、炭素-炭素間に二重結合や三重結合を有する炭化水素基を意味する。さらに、当該不飽和結合を有する炭化水素基としては、不飽和結合数が1、2、3、4及び5の炭化水素基が好ましく、不飽和結合数が1、2及び3の炭化水素基がより好ましい。 The hydrocarbon group for Y having 1 to 10 carbon atoms and an unsaturated bond means, for example, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a double bond or triple bond between carbon atoms. Furthermore, the hydrocarbon group having an unsaturated bond is preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, or 5 unsaturated bonds, and more preferably a hydrocarbon group having 1, 2, or 3 unsaturated bonds.

前記Yに於ける、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子、ヘテロ原子又は不飽和結合を有する炭化水素基の具体例としては、例えば、ヨードメチル基、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジヨードメチル基、ジブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリヨードメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、2-ヨードエチル基、2-ブロモエチル基、2-クロロエチル基、2-フルオロエチル基、1,2-ジヨードエチル基、1,2-ジブロモエチル基、1,2-ジクロロエチル基、1,2-ジフルオロエチル基、2,2-ジヨードエチル基、2,2-ジブロモエチル基、2,2-ジクロロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリブロモエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基及びヘキサフルオロ-2-プロピル基等の鎖状含ハロゲン化アルキル基、2-ヨードシクロヘキシル基、2-ブロモシクロヘキシル基、2-クロロシクロヘキシル基及び2-フルオロシクロヘキシル基等の環状含ハロゲン化アルキル基、エテニル基、2-プロペニル基、イソプロペニル基、2-ブテニル基及び3-ブテニル基等の鎖状アルケニル基、2-シクロペンテニル基、2-シクロヘキセニル基及び3-シクロヘキセニル基等の環状アルケニル基、エチニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基及び4-ペンチニル基等の鎖状アルキニル基、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、2-ニトロフェニル基、4-ニトロフェニル基、2,4-ジニトロフェニル基及び2,6-ジニトロフェニル基等のアリール基、2-ヨードフェニル基、2-ブロモフェニル基、2-クロロフェニル基、2-フルオロフェニル基、3-ヨードフェニル基、3-ブロモフェニル基、3-クロロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-ヨードフェニル基、4-ブロモフェニル基、4-クロロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,6-ジヨードフェニル基、2,6-ジブロモフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、3,5-ジヨードフェニル基、3,5-ジブロモフェニル基、3,5-ジクロロフェニル基、3,5-ジフルオロフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタクロロフェニル基及びペンタフルオロフェニル基等の含ハロゲン化アリール基、1-ナフチル基及び2-ナフチル基等のナフチル基等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 10 and having a halogen atom, a heteroatom, or an unsaturated bond in Y include, for example, an iodomethyl group, a bromomethyl group, a chloromethyl group, a fluoromethyl group, a diiodomethyl group, a dibromomethyl group, a dichloromethyl group, a difluoromethyl group, a triiodomethyl group, a tribromomethyl group, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2-iodoethyl group, a 2-bromoethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 1,2-diiodoethyl group, a 1,2-dibromoethyl group, a 1,2-dichloroethyl group, a 1,2-difluoroethyl group, a 2,2-diiodoethyl group, a 2,2 -chain halogenated alkyl groups such as dibromoethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and hexafluoro-2-propyl group; cyclic halogenated alkyl groups such as 2-iodocyclohexyl group, 2-bromocyclohexyl group, 2-chlorocyclohexyl group, and 2-fluorocyclohexyl group; chain alkenyl groups such as ethenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, and 3-butenyl group; cyclic alkenyl groups such as 2-cyclopentenyl group, 2-cyclohexenyl group, and 3-cyclohexenyl group. chain-like alkynyl groups such as ethynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl, 3-pentynyl, and 4-pentynyl groups; aryl groups such as phenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2-nitrophenyl, 4-nitrophenyl, 2,4-dinitrophenyl, and 2,6-dinitrophenyl groups; 2-iodophenyl, 2-bromophenyl, 2-chlorophenyl, 2-fluorophenyl, and 3-iodophenyl groups; Examples of halogenated aryl groups include 3-bromophenyl, 3-chlorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-iodophenyl, 4-bromophenyl, 4-chlorophenyl, 4-fluorophenyl, 2,6-diiodophenyl, 2,6-dibromophenyl, 2,6-dichlorophenyl, 2,6-difluorophenyl, 3,5-diiodophenyl, 3,5-dibromophenyl, 3,5-dichlorophenyl, 3,5-difluorophenyl, pentaiodophenyl, pentabromophenyl, pentachlorophenyl and pentafluorophenyl groups; and naphthyl groups such as 1-naphthyl and 2-naphthyl groups.

前記化学式(E)で表されるケイ素化合物は、より具体的には、前記X~Xが、それぞれ独立して、炭素数1~6の炭化水素基であり、前記Xがハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物であることが好ましい。 More specifically, the silicon compound represented by the chemical formula (E) is preferably a trialkylsilyl halide in which X3 to X5 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and X7 is a halogen atom.

前記化学式(E)で表されるケイ素化合物の具体例としては、例えば、クロロジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、クロロ(エチル)ジメチルシラン、クロロトリエチルシラン、ジイソプロピルクロロシラン、クロロトリイソプロピルシラン、トリブチルクロロシラン、tert-ブチルジメチルクロロシラン、クロロジメチルイソプロピルシラン、クロロジメチルビニルシラン、クロロジエチルイソプロピルシラン、クロロジメチルプロピルシラン、アリルクロロジメチルシラン、ブチルクロロジメチルシラン、クロロ(ヘキシル)ジメチルシラン、クロロトリヘキシルシラン、クロロ(シクロヘキシル)ジメチルシラン、クロロジメチルフェニルシラン、ベンジルクロロジメチルシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、クロロトリフェニルシラン、クロロ(メチル)(フェニル)(ビニル)シラン、クロロ(メチル)ジフェニルシラン等が挙げられる。但し、前記化学式(E)で表されるケイ素化合物は、これらの化合物群に限定されない。 Specific examples of silicon compounds represented by the chemical formula (E) include, for example, chlorodimethylsilane, chlorotrimethylsilane, chloro(ethyl)dimethylsilane, chlorotriethylsilane, diisopropylchlorosilane, chlorotriisopropylsilane, tributylchlorosilane, tert-butyldimethylchlorosilane, chlorodimethylisopropylsilane, chlorodimethylvinylsilane, chlorodiethylisopropylsilane, chlorodimethylpropylsilane, allylchlorodimethylsilane, butylchlorodimethylsilane, chloro(hexyl)dimethylsilane, chlorotrihexylsilane, chloro(cyclohexyl)dimethylsilane, chlorodimethylphenylsilane, benzylchlorodimethylsilane, diphenylmethylchlorosilane, chlorotriphenylsilane, chloro(methyl)(phenyl)(vinyl)silane, and chloro(methyl)diphenylsilane. However, the silicon compounds represented by the chemical formula (E) are not limited to these compound groups.

<工程(II)の反応条件>
前記工程(II)の反応モル比は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。リン酸化合物とケイ素化合物の反応モル比に於いて、通常は、ケイ素化合物の下限値が、リン酸化合物1モルに対し1モル以上である。また、リン酸化合物の上限値は5モル以下であり、工業生産の観点からは2.5モル以下が好ましく、1.5モル以下がより好ましい。
<Reaction conditions for step (II)>
The reaction molar ratio of the step (II) is not particularly limited, and can be appropriately set according to the reaction species.In the reaction molar ratio of phosphoric acid compound and silicon compound, the lower limit of silicon compound is usually 1 mole or more per 1 mole of phosphoric acid compound.In addition, the upper limit of phosphoric acid compound is 5 moles or less, and from the viewpoint of industrial production, it is preferably 2.5 moles or less, more preferably 1.5 moles or less.

前記工程(II)の反応開始温度は、当該反応が進行する限りに於いて特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応開始温度の下限値は、通常は0℃以上であり、反応性の観点からは20℃以上が好ましく、40℃以上がより好ましい。反応開始温度の上限値は、通常は150℃以下であり、反応性の観点からは120℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましい。尚、反応開始温度の下限値を0℃以上にすることにより、反応速度が著しく減衰するのを防止することができる。その一方、反応開始温度の上限値を150℃以下にすることにより、反応に使用する過剰なエネルギーを抑制することができる。 The reaction initiation temperature in step (II) is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and may be set appropriately depending on the type of reaction. The lower limit of the reaction initiation temperature is usually 0°C or higher, and from the viewpoint of reactivity, it is preferably 20°C or higher, and more preferably 40°C or higher. The upper limit of the reaction initiation temperature is usually 150°C or lower, and from the viewpoint of reactivity, it is preferably 120°C or lower, and more preferably 100°C or lower. By setting the lower limit of the reaction initiation temperature to 0°C or higher, it is possible to prevent the reaction rate from significantly decreasing. On the other hand, by setting the upper limit of the reaction initiation temperature to 150°C or lower, it is possible to suppress the excess energy used in the reaction.

反応開始温度の調整手段としては特に限定されない。例えば、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に冷却して制御する場合には、リン酸化合物とケイ素化合物が投入される反応容器を氷冷等により行うことができる。また、反応開始温度を前記温度範囲内となる様に加熱して制御する場合には、任意の温度に設定された油浴等により行うことができる。 The means for adjusting the reaction initiation temperature is not particularly limited. For example, when controlling the reaction initiation temperature by cooling so that it is within the above-mentioned temperature range, this can be done by ice-cooling the reaction vessel into which the phosphoric acid compound and silicon compound are added. Also, when controlling the reaction initiation temperature by heating so that it is within the above-mentioned temperature range, this can be done by using an oil bath set to any desired temperature.

前記工程(II)の反応時間は、特に限定されず、反応種に応じて適宜設定すればよい。反応時間の下限値は、通常は1時間以上である。また、反応時間の上限値は、通常は12時間以下であり、工業生産の観点からは6時間以下が好ましく、3時間以下がより好ましい。 The reaction time in step (II) is not particularly limited and may be set appropriately depending on the reactant species. The lower limit of the reaction time is usually 1 hour or more. The upper limit of the reaction time is usually 12 hours or less, and from the viewpoint of industrial production, 6 hours or less is preferable, and 3 hours or less is more preferable.

前記工程(II)の反応は、無溶媒下又は非水溶媒中で行うことができる。工程(II)の反応を無溶媒下で行う場合、ケイ素化合物が反応溶媒としての機能も果たす。 The reaction in step (II) can be carried out without a solvent or in a non-aqueous solvent. When the reaction in step (II) is carried out without a solvent, the silicon compound also functions as a reaction solvent.

前記非水溶媒としては、前記工程(I)で述べた非水溶媒と同様のものを用いることができる。従って、その詳細については省略する。 The nonaqueous solvent may be the same as the nonaqueous solvent described in step (I). Therefore, details are omitted.

前記非水溶媒の使用量に関し、その下限値は、前記リン酸化合物1モルに対し、1モル以上が好ましく、10モル以上がより好ましい。前記非水溶媒の使用量の上限値は、前記リン酸化合物1モルに対し、10000モル以下が好ましく、1000モル以下がより好ましく、100モル以下がさらに好ましい。非水溶媒の使用量の下限値を1モル以上にすることにより、リン酸化合物とケイ素化合物との反応性が低下するのを防止し、リン酸シリルエステルの収率やその純度の低下を抑制することができる。その一方、前記非水溶媒の使用量の上限値を10000モル以下にすることにより、これを留去する際のエネルギーを抑制し、工業的生産に於いて不利になるのを防止することができる。 The lower limit of the amount of the non-aqueous solvent used is preferably 1 mole or more, more preferably 10 moles or more, per mole of the phosphoric acid compound. The upper limit of the amount of the non-aqueous solvent used is preferably 10,000 moles or less, more preferably 1,000 moles or less, and even more preferably 100 moles or less, per mole of the phosphoric acid compound. By setting the lower limit of the amount of the non-aqueous solvent to 1 mole or more, it is possible to prevent a decrease in the reactivity between the phosphoric acid compound and the silicon compound, and to suppress a decrease in the yield and purity of the phosphoric acid silyl ester. On the other hand, by setting the upper limit of the amount of the non-aqueous solvent used to 10,000 moles or less, it is possible to suppress the energy required for distilling off the non-aqueous solvent, and to prevent it from becoming disadvantageous in industrial production.

前記工程(II)で得られるリン酸エステルについて、その純度に応じて単離・精製してもよい。その方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、常圧蒸留、減圧蒸留、濾過、濾取、再結晶、昇華精製、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー(PTLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、イオンクロマトグラフィー(IC)等の方法が挙げられる。 The phosphate ester obtained in step (II) may be isolated and purified depending on its purity. The method is not particularly limited, and any known method can be used. Specific examples include atmospheric distillation, reduced pressure distillation, filtration, filtration, recrystallization, sublimation purification, silica gel column chromatography, preparative thin layer chromatography (PTLC), high performance liquid chromatography (HPLC), and ion chromatography (IC).

以下に、本発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但し、この実施例に記載されている材料や配合量等は、特に限定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれらに限定する趣旨ではない。 The following is a detailed description of preferred embodiments of the present invention. However, unless otherwise specified, the materials and amounts of ingredients described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention.

尚、以下の実施例に於いて、純度の決定や理化学的性質の測定は、以下の装置を用いて行った。 In the following examples, the purity was determined and the physicochemical properties were measured using the following equipment:

(純度)
リン酸塩化合物の純度は、イオンクロマトグラフィーによるアニオン分析から算出した。分析装置及び測定条件は、以下の通りである。
装置:850 Professional IC Anion(Metrohm製)
カラム:Dionex IonPac AS23 2x250mm
(Thermo Fisher Scientific製)
試料:100ppmの試料水溶液
流量:1mL/min
溶離液:4.5mM NaCOのHO-アセトニトリル(7:3)混合溶液
(purity)
The purity of the phosphate compound was calculated from anion analysis by ion chromatography. The analytical device and measurement conditions are as follows:
Apparatus: 850 Professional IC Anion (manufactured by Metrohm)
Column: Dionex IonPac AS23 2x250mm
(Manufactured by Thermo Fisher Scientific)
Sample: 100 ppm sample aqueous solution Flow rate: 1 mL/min
Eluent: 4.5 mM Na 2 CO 3 in H 2 O-acetonitrile (7:3) mixture

(NMR測定)
卓上核磁気共鳴装置:Spinsolve 60 ULTRA Phosphorus
(Magritek製)
(NMR Measurement)
Tabletop nuclear magnetic resonance spectrometer: Spinsolve 60 ULTRA Phosphorus
(Made by Magritek)

(実施例1)
<エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ナトリウム(無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、原料塩としてのヨウ化ナトリウム(630mg、4.20mmol、富士フイルム和光純薬社製)を入れたのち、リン酸エステルとしてのジエチル2,2,2-トリフルオロエチルホスファート(1.18g、5.00mmol)を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、120℃で4時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、120℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のエチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ナトリウム(930mg、96.1%)を得た。エチル(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸ナトリウムの純度は99.6%であった。
Example 1
<Sodium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (without solvent)>
Sodium iodide (630 mg, 4.20 mmol, Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was placed as a raw salt in a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, and then diethyl 2,2,2-trifluoroethyl phosphate (1.18 g, 5.00 mmol) as a phosphate ester was added at room temperature. This mixed solution was heated at 120° C. for 4 hours under a nitrogen stream. After the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, the reaction mixture was filtered and the residue was dried overnight at 120° C. under a nitrogen stream to obtain white solid sodium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl) phosphate (930 mg, 96.1%) as a phosphate compound. The purity of sodium ethyl (2,2,2-trifluoroethyl) phosphate was 99.6%.

(実施例2)
<ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸銅(II)(無溶媒下)>
攪拌子を入れた100mLナス型フラスコに、原料塩としての塩化銅(II)(980mg、7.29mmol、和光純薬社製)を入れたのち、リン酸エステルとしてのトリス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート(50.0g、145mmol)を室温で加えた。この混合溶液を、窒素気流下、湯浴温度が155℃で6時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、反応混合物を濾過し、窒素気流下、120℃で終夜、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、淡青色固体のビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸銅(II)(4.06g、96.1%)を得た。ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸銅(II)の純度は98.4%であった。
Example 2
<Bis(2,2,2-trifluoroethyl)copper(II)phosphate (without solvent)>
Copper chloride (II) (980 mg, 7.29 mmol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was placed as a raw material salt in a 100 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, and then tris(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (50.0 g, 145 mmol) as a phosphate ester was added at room temperature. This mixed solution was heated and refluxed for 6 hours at a water bath temperature of 155°C under a nitrogen stream. After the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, it was filtered and the residue was dried overnight at 120°C under a nitrogen stream to obtain a pale blue solid bis(2,2,2-trifluoroethyl)copper(II)phosphate (4.06 g, 96.1%) as a phosphate compound. The purity of bis(2,2,2-trifluoroethyl)copper(II)phosphate was 98.4%.

(実施例3)
<1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、原料塩としての1-エチル-3-メチルイミダゾリウムブロミド(760mg、3.11mmol、TCI社製)を入れたのち、リン酸エステルとしてのエチルビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート(905mg、3.12mmol)を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、120℃で4時間、加熱した。反応混合物を室温まで放冷した後、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、引き続き60℃で1時間、液体を乾燥することで、リン酸塩化合物として、無色液体の1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート(1.49g、定量的)を得た。1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファートの純度は99.1%であった。
Example 3
<1-Ethyl-3-methylimidazolium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate>
In a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, 1-ethyl-3-methylimidazolium bromide (760 mg, 3.11 mmol, manufactured by TCI) was placed as a raw material salt, and then ethyl bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (905 mg, 3.12 mmol) as a phosphoric acid ester was added at room temperature. This mixed solution was heated at 120°C for 4 hours under a nitrogen stream. After the reaction mixture was allowed to cool to room temperature, it was concentrated using an evaporator, and the liquid was subsequently dried at 60°C for 1 hour to obtain colorless liquid 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (1.49 g, quantitative) as a phosphate compound. The purity of 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate was 99.1%.

(実施例4)
<ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸リチウムの合成(非水溶媒利用)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、原料塩としての塩化リチウム(0.634g、15.0mmol)と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル(40.0g、974mmol、キシダ化学社製)を入れたのち、リン酸エステルとしてのビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファート(5.00g、15.0mmol)を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、82℃で2時間、加熱・還流した。反応混合物を室温まで放冷した後、さらに0℃で冷却した際の析出物を濾過し、残渣を少量のアセトニトリルで洗浄した。エバポレーターを用いて、45℃で20分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸リチウム(2.28g、56.9%)を得た。ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)リン酸リチウムの純度は99.9%であった。
Example 4
<Synthesis of lithium bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (using non-aqueous solvent)>
Lithium chloride (0.634 g, 15.0 mmol) as a raw material salt and acetonitrile (40.0 g, 974 mmol, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) as an aprotic organic solvent were placed in a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, and then bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilylphosphate (5.00 g, 15.0 mmol) as a phosphate ester was added at room temperature. This mixed solution was heated and refluxed at 82°C for 2 hours under a nitrogen stream. The reaction mixture was allowed to cool to room temperature, and then further cooled to 0°C. The precipitate was filtered, and the residue was washed with a small amount of acetonitrile. The residue was dried at 45°C for 20 minutes using an evaporator to obtain white solid bis(2,2,2-trifluoroethyl)lithium phosphate (2.28 g, 56.9%) as a phosphate compound. The purity of bis(2,2,2-trifluoroethyl)lithium phosphate was 99.9%.

(実施例5)
<リチウムジフルオロホスファートの合成1(無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート(3.50g、20.1mmol)を窒素保護下で加えた後、原料塩としての塩化リチウム(568mg、13.4mmol)を室温で添加した。この混合物を、窒素気流下、80℃で1時間、加熱した。室温まで放冷したのち、反応混合物を濾過し、残渣を少量のDMC(ジメチルカーボネート)で洗浄した。乾燥機を用いて、120℃で15分間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート(920mg、63.6%)を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は99.5%であった。
Example 5
<Synthesis of lithium difluorophosphate 1 (without solvent)>
Trimethylsilyl difluorophosphate (3.50 g, 20.1 mmol) as a phosphoric acid ester was added to a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer under nitrogen protection, and then lithium chloride (568 mg, 13.4 mmol) as a raw salt was added at room temperature. This mixture was heated at 80° C. for 1 hour under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered and the residue was washed with a small amount of DMC (dimethyl carbonate). The residue was dried at 120° C. for 15 minutes using a dryer to obtain white solid lithium difluorophosphate (920 mg, 63.6%) as a phosphate compound. The purity of lithium difluorophosphate was 99.5%.

(実施例6)
<リチウムジフルオロホスファートの合成2(非水溶媒利用)>
攪拌子を入れた500mLナス型フラスコに、リン酸エステルとしてのトリメチルシリルジフルオロホスファート(50.0g、287mmol)を窒素保護下で加えた後、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル(150g、3.65mol、キシダ化学(株)製)で希釈した。さらに、原料塩としての塩化リチウム(11.8g、278mmol)を室温下で添加した。この混合物を、窒素気流下、82℃で5時間、加熱・還流した。室温まで放冷したのち、エバポレーターを用いて、反応混合物を濃縮し、得られた残渣を濾過し、少量のDMC(ジメチルカーボネート)で洗浄した。乾燥機を用いて、120℃で1時間、残渣を乾燥することで、リン酸塩化合物として、白色固体のリチウムジフルオロホスファート(27.4g、91.4%)を得た。リチウムジフルオロホスファートの純度は99.4%であった。
Example 6
<Synthesis of lithium difluorophosphate 2 (using non-aqueous solvent)>
Trimethylsilyl difluorophosphate (50.0 g, 287 mmol) as a phosphoric acid ester was added to a 500 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer under nitrogen protection, and then diluted with acetonitrile (150 g, 3.65 mol, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) as an aprotic organic solvent. Furthermore, lithium chloride (11.8 g, 278 mmol) as a raw material salt was added at room temperature. This mixture was heated and refluxed at 82° C. for 5 hours under a nitrogen stream. After cooling to room temperature, the reaction mixture was concentrated using an evaporator, and the resulting residue was filtered and washed with a small amount of DMC (dimethyl carbonate). The residue was dried at 120° C. for 1 hour using a dryer to obtain white solid lithium difluorophosphate (27.4 g, 91.4%) as a phosphate compound. The purity of the lithium difluorophosphate was 99.4%.

(実施例7)
<ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファートの合成(無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン(16.6g、153mmol、TCI社製)を入れた後、リン酸化合物としてのビス(2,2,2-トリフルオロエチル)ホスファート(20.0g、76.3mmol)を室温で添加した。この混合溶液を、窒素気流下、80℃で6時間、加熱・還流した。エバポレーターによって、反応混合物から過剰のクロロトリメチルシランを除去することで、リン酸エステルとして、無色の液体のビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファート(21.2g、83.1%)を得た。ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファートの純度は99.7%であった。
(Example 7)
<Synthesis of bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilyl phosphate (without solvent)>
In a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, chlorotrimethylsilane (16.6 g, 153 mmol, manufactured by TCI) was placed as a silicon compound, and then bis(2,2,2-trifluoroethyl)phosphate (20.0 g, 76.3 mmol) as a phosphoric acid compound was added at room temperature. This mixed solution was heated and refluxed at 80° C. for 6 hours under a nitrogen stream. Excess chlorotrimethylsilane was removed from the reaction mixture using an evaporator to obtain colorless liquid bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilylphosphate (21.2 g, 83.1%) as a phosphoric acid ester. The purity of bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilylphosphate was 99.7%.

得られたビス(2,2,2-トリフルオロエチル)トリメチルシリルホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):-0.06(s、9H)、4.02(dq、4H、JH-F=JH-P=8.3Hz);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-74.8(t、6F、JH-F=8.3Hz)。
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-10.1(tt、1P、JH-P=8.3Hz)。
The physicochemical properties of the obtained bis(2,2,2-trifluoroethyl)trimethylsilyl phosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -0.06 (s, 9H), 4.02 (dq, 4H, J H-F = J H-P = 8.3 Hz);
19 F-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -74.8 (t, 6F, J HF =8.3 Hz).
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -10.1 (tt, 1P, J H-P = 8.3 Hz).

(実施例8)
<トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成1(無溶媒下)>
攪拌子を入れた200mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン(48.7g、448mmol、TCI社製)を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(45.7g、448mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、50℃で6時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート(49.0g、62.7%)を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は95.6%であった。
(Example 8)
<Synthesis of trimethylsilyl difluorophosphate 1 (without solvent)>
In a 200 mL eggplant flask containing a stirrer, chlorotrimethylsilane (48.7 g, 448 mmol, manufactured by TCI) as a silicon compound was placed, and difluorophosphoric acid (45.7 g, 448 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 50° C. for 6 hours under a nitrogen stream. The reaction mixture was distilled at atmospheric pressure to obtain colorless liquid trimethylsilyl difluorophosphate (49.0 g, 62.7%) as a phosphoric acid ester. The purity of trimethylsilyl difluorophosphate was 95.6%.

(実施例9)
<トリメチルシリルジフルオロホスファートの合成2(副生物であるクロロトリメチルシランの再利用、無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリメチルシラン{7.16g、65.9mmol}を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(6.71g、65.8mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、50℃で3時間、撹拌した。反応混合物の常圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリメチルシリルジフルオロホスファート(7.12g、62.2%)を得た。トリメチルシリルジフルオロホスファートの純度は96.1%であった。尚、クロロトリメチルシランとして、実施例5のリチウムジフルオロホスファートの合成の際に副生した副生物(工程(I)の副生物(E’))を用いた。
Example 9
<Synthesis of trimethylsilyl difluorophosphate 2 (recycling of by-product chlorotrimethylsilane, without solvent)>
In a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, chlorotrimethylsilane {7.16 g, 65.9 mmol} as a silicon compound was added, and then difluorophosphoric acid (6.71 g, 65.8 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 50° C. for 3 hours under a nitrogen stream. The reaction mixture was distilled at normal pressure to obtain colorless liquid trimethylsilyl difluorophosphate (7.12 g, 62.2%) as a phosphoric acid ester. The purity of trimethylsilyl difluorophosphate was 96.1%. In addition, as chlorotrimethylsilane, a by-product (by-product (E') of step (I)) produced during the synthesis of lithium difluorophosphate in Example 5 was used.

得られたトリメチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.33(s、9H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-80.4(d、2F、J=985.9Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-29.1(dd、1P、J=985.9Hz)。
The physicochemical properties of the obtained trimethylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.33 (s, 9H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -80.4 (d, 2F, J = 985.9Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -29.1 (dd, 1P, J=985.9Hz).

(実施例10)
<ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの合成(無溶媒下)>
攪拌子を入れた100mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルビニルシラン(10.1g、83.7mmol、TCI社製)を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(8.14g、79.8mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、60℃で3時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルビニルシリルジフルオロホスファート(2.33g、15.7%)を得た。ジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの純度は97.9%であった。
Example 10
<Synthesis of dimethylvinylsilyl difluorophosphate (without solvent)>
In a 100 mL eggplant flask containing a stirrer, chlorodimethylvinylsilane (10.1 g, 83.7 mmol, manufactured by TCI) was placed as a silicon compound, and then difluorophosphoric acid (8.14 g, 79.8 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Dimethylvinylsilyl difluorophosphate (2.33 g, 15.7%) was obtained as a colorless liquid phosphoric acid ester by vacuum distillation of the reaction mixture. The purity of the dimethylvinylsilyl difluorophosphate was 97.9%.

得られたジメチルビニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.44(s、7H)、6.02-6.13(m、2H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-80.0(d、2F、J=990.3Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-28.4(dd、1P、J=990.3Hz)。
The physicochemical properties of the obtained dimethylvinylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.44 (s, 7H), 6.02-6.13 (m, 2H);
19 F-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -80.0 (d, 2F, J = 990.3 Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -28.4 (dd, 1P, J=990.3Hz).

(実施例11)
<ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成(無溶媒下)>
攪拌子を入れた100mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン(16.8g、98.4mmol、TCI社製)を入れたのち、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(10.1g、99.0mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、60℃で3時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート(10.6g、45.6%)を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は97.5%であった。
(Example 11)
<Synthesis of dimethylphenylsilyl difluorophosphate (without solvent)>
In a 100 mL eggplant flask containing a stirrer, chlorodimethylphenylsilane (16.8 g, 98.4 mmol, manufactured by TCI) as a silicon compound was placed, and then difluorophosphoric acid (10.1 g, 99.0 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Dimethylphenylsilyl difluorophosphate (10.6 g, 45.6%) was obtained as a colorless liquid phosphoric acid ester by vacuum distillation of the reaction mixture. The purity of the dimethylphenylsilyl difluorophosphate was 97.5%.

得られたジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.37(s、6H)、7.07-7.47(m、5H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-79.7(d、2F、J=991.4Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-30.0(dd、1P、J=991.4Hz)。
The physicochemical properties of the obtained dimethylphenylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.37 (s, 6H), 7.07-7.47 (m, 5H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -79.7 (d, 2F, J = 991.4Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -30.0 (dd, 1P, J=991.4Hz).

(実施例12)
<トリエチルシリルジフルオロホスファートの合成(無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロトリエチルシラン(10.0g、66.3mmol、TCI社製)を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(6.69g、65.6mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、60℃で4時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリエチルシリルジフルオロホスファート(7.29g、51.4%)を得た。トリエチルシリルジフルオロホスファートの純度は98.3%であった。
Example 12
<Synthesis of triethylsilyl difluorophosphate (without solvent)>
In a 50 mL eggplant-shaped flask containing a stirrer, chlorotriethylsilane (10.0 g, 66.3 mmol, manufactured by TCI) as a silicon compound was placed, and difluorophosphoric acid (6.69 g, 65.6 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 4 hours under a nitrogen stream. The reaction mixture was distilled under reduced pressure to obtain colorless liquid triethylsilyl difluorophosphate (7.29 g, 51.4%) as a phosphoric acid ester. The purity of triethylsilyl difluorophosphate was 98.3%.

得られたトリエチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.40-1.11(m、15H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-80.9(d、2F、J=986.4Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-29.5(dd、1P、J=986.4Hz)。
The physicochemical properties of the obtained triethylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.40-1.11 (m, 15H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -80.9 (d, 2F, J = 986.4Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -29.5 (dd, 1P, J=986.4Hz).

(実施例13)
<シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの合成(無溶媒下)>
攪拌子を入れた50mLナス型フラスコに、ケイ素化合物としてのクロロ(シクロヘキシル)ジメチルシラン(12.0g、67.9mmol、TCI社製)を入れた後、リン酸化合物としてのジフルオロホスホリック酸(6.83g、67.0mmol)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素気流下、60℃で4時間、撹拌した。反応混合物の減圧蒸留によって、リン酸エステルとして、無色の液体のシクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファート(9.92g、61.0%)を得た。シクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの純度は93.6%であった。
(Example 13)
<Synthesis of cyclohexyldimethylsilyl difluorophosphate (without solvent)>
In a 50 mL eggplant flask containing a stirrer, chloro(cyclohexyl)dimethylsilane (12.0 g, 67.9 mmol, manufactured by TCI) was placed as a silicon compound, and then difluorophosphoric acid (6.83 g, 67.0 mmol) as a phosphoric acid compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 4 hours under a nitrogen stream. The reaction mixture was distilled under reduced pressure to obtain colorless liquid cyclohexyldimethylsilyl difluorophosphate (9.92 g, 61.0%) as a phosphoric acid ester. The purity of cyclohexyldimethylsilyl difluorophosphate was 93.6%.

得られたシクロヘキシルジメチルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.29(s、6H)、0.92-1.67(br m、11H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-79.8(d、2F、J=989.0Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-29.5(dd、1P、J=989.0Hz)。
The physicochemical properties of the obtained cyclohexyldimethylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.29 (s, 6H), 0.92-1.67 (br m, 11H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -79.8 (d, 2F, J = 989.0Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -29.5 (dd, 1P, J=989.0Hz).

(実施例14)
<ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの合成(非水溶媒利用)>
攪拌子を入れた50mLスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート(5.01g、40.4mmol)と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル(20.0g、487mmol、キシダ化学(株)製)を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロジメチルフェニルシラン(6.82g、40.0mmol、TCI社製)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、60℃で2時間、撹拌した。室温まで放冷した後、0.45μmメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで12時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。0.45μmメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のジメチルフェニルシリルジフルオロホスファート(7.79g、82.5%)を得た。ジメチルフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は95.4%であった。
(Example 14)
<Synthesis of dimethylphenylsilyl difluorophosphate (using non-aqueous solvent)>
Sodium difluorophosphate (5.01 g, 40.4 mmol) as a phosphoric acid compound and acetonitrile (20.0 g, 487 mmol, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) as an aprotic organic solvent were added to a 50 mL screw vial containing a stirrer under nitrogen protection, and then chlorodimethylphenylsilane (6.82 g, 40.0 mmol, manufactured by TCI Co., Ltd.) as a silicon compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered using a 0.45 μm membrane filter. The filtrate was bubbled with nitrogen gas for 12 hours to remove acetonitrile. The residue was filtered using a 0.45 μm membrane filter to obtain a colorless liquid dimethylphenylsilyl difluorophosphate (7.79 g, 82.5%) as a phosphoric acid ester. The purity of dimethylphenylsilyl difluorophosphate was 95.4%.

(実施例15)
<トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの合成(非水溶媒利用)>
攪拌子を入れた50mLスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート(2.02g、16.3mmol)と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル(9.13g、222mmol、キシダ化学(株)製)を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロトリイソプロピルシラン(3.14g、16.3mmol、TCI社製)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、60℃で2時間、撹拌した。室温まで放冷した後、0.45μmメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで12時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。0.45μmメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のトリイソプロピルシリルジフルオロホスファート(1.00g、23.7%)を得た。トリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの純度は97.4%であった。
(Example 15)
<Synthesis of triisopropylsilyl difluorophosphate (using non-aqueous solvent)>
Sodium difluorophosphate (2.02 g, 16.3 mmol) as a phosphoric acid compound and acetonitrile (9.13 g, 222 mmol, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) as an aprotic organic solvent were added to a 50 mL screw vial containing a stirrer under nitrogen protection, and then chlorotriisopropylsilane (3.14 g, 16.3 mmol, manufactured by TCI Co., Ltd.) as a silicon compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered using a 0.45 μm membrane filter. Nitrogen gas was bubbled through the filtrate for 12 hours to remove acetonitrile. The residue was filtered using a 0.45 μm membrane filter to obtain colorless liquid triisopropylsilyl difluorophosphate (1.00 g, 23.7%) as a phosphoric acid ester. The purity of triisopropylsilyl difluorophosphate was 97.4%.

得られたトリイソプロピルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.98-1.27(m、21H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-80.4(d、2F、J=983.5Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-29.5(dd、1P、J=989.0Hz)。
The physicochemical properties of the obtained triisopropylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.98-1.27 (m, 21H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -80.4 (d, 2F, J = 983.5Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -29.5 (dd, 1P, J=989.0Hz).

(実施例16)
<メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの合成(非水溶媒利用)>
攪拌子を入れた50mLスクリューバイアルに、リン酸化合物としてのナトリウムジフルオロホスファート(3.01g、24.3mmol)と、非プロトン性有機溶媒としてのアセトニトリル(10.0g、244mmol、キシダ化学(株)製)を窒素保護下で加えた後、ケイ素化合物としてのクロロ(メチル)ジフェニルシラン(5.36g、23.0mmol、TCI社製)を室温で滴下により加えた。この混合溶液を、窒素雰囲気下、60℃で11時間、撹拌した。室温まで放冷した後、0.45μmメンブレンフィルターを用いて反応混合物をろ過した。窒素ガスで12時間、ろ液をバブリングし、アセトニトリルを除去した。0.45μmメンブレンフィルターを用いて残渣をろ過することによって、リン酸エステルとして、無色の液体のメチルジフェニルシリルジフルオロホスファート(5.22g、76.1%)を得た。メチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの純度は88.0%であった。
(Example 16)
<Synthesis of methyldiphenylsilyl difluorophosphate (using non-aqueous solvent)>
Sodium difluorophosphate (3.01 g, 24.3 mmol) as a phosphoric acid compound and acetonitrile (10.0 g, 244 mmol, Kishida Chemical Co., Ltd.) as an aprotic organic solvent were added to a 50 mL screw vial containing a stirrer under nitrogen protection, and then chloro(methyl)diphenylsilane (5.36 g, 23.0 mmol, TCI Co., Ltd.) as a silicon compound was added dropwise at room temperature. The mixed solution was stirred at 60° C. for 11 hours under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered using a 0.45 μm membrane filter. Nitrogen gas was bubbled through the filtrate for 12 hours to remove acetonitrile. The residue was filtered using a 0.45 μm membrane filter to obtain a colorless liquid methyldiphenylsilyl difluorophosphate (5.22 g, 76.1%) as a phosphoric acid ester. The purity of methyldiphenylsilyl difluorophosphate was 88.0%.

得られたメチルジフェニルシリルジフルオロホスファートの理化学的性質は以下の通りである。
H-NMR(CDCl、δ ppm):0.92(s、3H)、7.29-7.73(m、10H);
19F-NMR(CDCl、δ ppm):-78.8(d、2F、J=995.6Hz);
31P-NMR(CDCl、δ ppm):-30.3(dd、1P、J=995.6Hz)。
The physicochemical properties of the obtained methyldiphenylsilyl difluorophosphate are as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm): 0.92 (s, 3H), 7.29-7.73 (m, 10H);
19F -NMR (CDCl 3 , δ ppm): -78.8 (d, 2F, J = 995.6Hz);
31 P-NMR (CDCl 3 , δ ppm): -30.3 (dd, 1P, J=995.6Hz).

Claims (11)

以下の化学式(A)で表されるリン酸エステルと、以下の化学式(B)で表される原料塩とを反応させて、以下の化学式(C)で表されるリン酸塩化合物を生成する工程(I)を少なくとも含むリン酸塩化合物の製造方法。
Figure 0007644477000014
[式中、前記Zはケイ素原子を表す。前記X及びXは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子有する炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子有するアルコキシ基を表す。前記X~Xは、それぞれ独立してハロゲン原子、炭素数が1~10の炭化水素基、炭素数が1~10のアルコキシ基、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子有する炭化水素基、又は、炭素数が1~10の範囲であって、ハロゲン原子有するアルコキシ基を表し、かつ、前記X~Xの少なくとも1つは、前記炭素数1~10の炭化水素基又は前記炭素数1~10のアルコキシ基の何れかである。]
Figure 0007644477000015
[式中、前記Mは、アルカリ金属遷移金属、又はイミダゾリウム類を表す。前記Xは、ハロゲン原子表す。前記nは、1~4の自然数を表す。]
Figure 0007644477000016
[式中、前記Mは、前記化学式(B)と同一である。前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記nは、前記化学式(B)と同一の価数を表す。]
A method for producing a phosphate compound, comprising at least a step (I) of reacting a phosphate ester represented by the following chemical formula (A) with a starting salt represented by the following chemical formula (B) to produce a phosphate compound represented by the following chemical formula (C).
Figure 0007644477000014
[In the formula, Z represents a silicon atom. X1 and X2 each independently represent a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and having a halogen atom. X3 to X5 each independently represent a halogen atom , a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and having a halogen atom, and at least one of X3 to X5 is either the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]
Figure 0007644477000015
[In the formula, M represents an alkali metal , a transition metal, or an imidazolium . X6 represents a halogen atom. n represents a natural number from 1 to 4.]
Figure 0007644477000016
[In the formula, M is the same as in the chemical formula (B). X1 and X2 represent the same functional groups as in the chemical formula (A). n represents the same valence as in the chemical formula (B).]
下の化学式(D)で表されるリン酸化合物と、以下の化学式(E)で表されるケイ素化合物とを反応させて、以下の化学式(F)で表されるリン酸シリルエステルを生成する工程(II)を含む請求項1に記載のリン酸塩化合物の製造方法。
Figure 0007644477000017
[式中、前記M’は、水素原子、又はアルカリ金属表す。前記X及びXは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記nは、前記化学式(B)と同一の価数を表す。]
Figure 0007644477000018
[式中、前記X~Xは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。前記Xは脱離基であって、ハロゲン原子表す。]
Figure 0007644477000019
[式中、前記X~Xは、前記化学式(A)と同一の官能基を表す。]
2. A method for producing a phosphate compound according to claim 1, comprising: a step (II) of reacting a phosphate compound represented by the following chemical formula (D) with a silicon compound represented by the following chemical formula (E) to produce a phosphate silyl ester represented by the following chemical formula (F).
Figure 0007644477000017
[In the formula, M′ represents a hydrogen atom or an alkali metal. X1 and X2 represent the same functional groups as those in the chemical formula (A). n represents the same valence as that in the chemical formula (B).]
Figure 0007644477000018
[In the formula, X 3 to X 5 represent the same functional groups as those in the chemical formula (A). X 7 is a leaving group and represents a halogen atom.]
Figure 0007644477000019
[In the formula, X 1 to X 5 represent the same functional groups as those in the chemical formula (A).]
前記化学式(E)で表されるケイ素化合物が、前記工程(I)で副生する副生物である請求項2に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to claim 2, wherein the silicon compound represented by the chemical formula (E) is a by-product produced in the step (I). 前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXが、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記Mが水素原子である場合のリン酸ジエステルである請求項2又は3に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to claim 2 or 3, wherein the phosphate compound is a phosphate diester in which X1 and X2 in the chemical formula (D) are each independently an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and M ' is a hydrogen atom. 前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXの何れか一方がフッ素原子であり、他方が炭素数1~10のアルコキシ基であり、前記M’が水素原子である場合のフルオロホスホリック酸エステルである請求項2又は3に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to claim 2 or 3 , wherein the phosphate compound is a fluorophosphoric acid ester in which one of X1 and X2 in the chemical formula (D) is a fluorine atom, the other is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and M' is a hydrogen atom. 前記リン酸化合物は、前記化学式(D)に於ける前記X及びXがフッ素原子であり、前記M’が水素原子である場合のジフルオロホスホリック酸である請求項2又は3に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to claim 2 or 3, wherein the phosphate compound is a difluorophosphoric acid in which X1 and X2 in the chemical formula (D) are fluorine atoms and M' is a hydrogen atom. 前記ケイ素化合物は、前記化学式(E)に於ける前記X~Xが、それぞれ独立して、炭素数1~6の炭化水素基であり、前記Xがハロゲン原子である場合のトリアルキルシリルハロゲン化物である請求項2~6の何れか1項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to any one of claims 2 to 6 , wherein the silicon compound is a trialkylsilyl halide in which X3 to X5 in the chemical formula (E) are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X7 is a halogen atom. 前記化学式(B)に於ける前記Mは、リチウム原子、ナトリウム原子、マグネシウム原子又は1-エチル-3-メチルイミダゾリウムである請求項1~7の何れか1項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 8. The method for producing a phosphate compound according to claim 1, wherein M in the chemical formula (B) is a lithium atom, a sodium atom, a magnesium atom , or 1-ethyl-3-methylimidazolium. 前記工程(I)及び工程(II)の少なくとも何れか一方を無溶媒下で行う請求項2~8の何れか1項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to any one of claims 2 to 8, wherein at least one of steps (I) and (II) is carried out in the absence of a solvent. 前記工程(I)及び工程(II)の少なくとも何れか一方を非水溶媒中で行う請求項2~8の何れか1項に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to any one of claims 2 to 8, wherein at least one of steps (I) and (II) is carried out in a non-aqueous solvent. 前記非水溶媒が非プロトン性有機溶媒である請求項10に記載のリン酸塩化合物の製造方法。 The method for producing a phosphate compound according to claim 10, wherein the non-aqueous solvent is an aprotic organic solvent.
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