JP7644535B2 - 減衰領域を備えた光学素子及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、減衰領域を備えた光学素子及びその製造方法に関する。

光通信の分野において光源として機能する発光素子と受光素子とを光学的に結合する光学素子（光モジュール）が使用されている。このような光学素子を使用する際に、安全性及び規格の観点から通過する光量を所望の減衰率で減衰させることが要求される場合がある。光量を所望の減衰率で減衰させるために、光の通過する面に光減衰用の膜を備えた光学素子（特許文献１）、内部において光を拡散させる形状を備えた光学素子（特許文献２）などが開発されている。

しかし、膜を備えた光学素子を製造するには工数及びコストが増加する。また、内部において光を拡散させる形状を備えた光学素子の場合には、拡散された光によるノイズが増加する可能性がある。また、いずれの方法の場合も所望の減衰率を高い精度で実現するのは容易ではない。

このように、光源として機能する発光素子と受光素子とを光学的に結合する光学素子であって、簡単に製造することができ、所望の減衰率を高い精度で実現する光学素子及びその製造方法は開発されていない。そこで、光源として機能する発光素子と受光素子とを光学的に結合する光学素子であって、簡単に製造することができ、所望の減衰率を高い精度で実現する光学素子及びその製造方法に対するニーズがある。

特開平11-119063 特開2008-145678

本発明の技術的課題は、光源として機能する発光素子と受光素子とを光学的に結合する光学素子であって、簡単に製造することができ、所望の減衰率を高い精度で実現する光学素子及びその製造方法を提供することである。

本発明の第１の態様の光学素子は、光源と該光源からの光を受け取る受光素子とを光学的に結合するように、該光源に対向するように構成された入射面と該受光素子に対向するように構成された出射面とを備えた光学素子であって、該光源から該入射面に入射した光が該光学素子内において該光源の第１の像を形成し、該出射面から射出した後、該光源の第２の像を形成するように構成され、該第１の像が形成される位置の近傍に、通過する光の量を減少させる減衰領域を備えている。

本態様の光学素子は光源として機能する発光素子と受光素子とを光学的に結合する光学素子であって、簡単に製造することができ、所望の減衰率を高い精度で実現する。

本発明の第１の態様の第１の実施形態の光学素子は、該入射面及び該出射面の少なくとも一方がフェルールを介して光ファイバに対向するように構成されている。

本発明の第１の態様の第２の実施形態の光学素子は、該入射面及び該出射面の中心を通過する光線の経路を光軸として、該光源及び該入射面間の光軸に沿った設計上の距離をａ、該入射面及び該出射面間の光軸に沿った距離をｌ、該出射面及び該第２の像間の光軸に沿った設計上の距離をｄ、該入射面の該光源側の焦点距離をｆ_１、該出射面の該受光素子側の焦点距離をｆ_２、該光学素子の屈折率をｎで表して

が満たされる。

本発明の第２の態様の光学素子の製造方法は、光源と該光源からの光を受け取る受光素子とを光学的に結合するように、該光源に対向するように構成された入射面と該受光素子に対向するように構成された出射面とを備え、内部に減衰領域を備えた光学素子の製造方法であって、該光源から該入射面に入射した光が該光学素子内において該光源の第１の像を形成し、該出射面から射出した後、該光源の第２の像を形成するように形状を定めた光学素子を製造するステップと、該入射面または該出射面を介してレーザ光を照射することによって該第１の像が形成される位置の近傍に、通過する光の量を減少させる減衰領域を形成するステップと、を含む。

本態様の光学素子の製造方法によれば、所望の減衰率を高い精度で実現する光学素子を簡単に製造することができる。

本発明の第２の態様の第１の実施形態の光学素子の製造方法においては、該入射面及び該出射面の少なくとも一方がフェルールを介して光ファイバに対向するように構成されており、該減衰領域を形成するステップにおいて、該フェルール及び該入射面または該出射面を介して該レーザ光を照射する。

本実施形態によれば、減衰領域を形成するステップにおいて、フェルールによってレーザ光の照射位置を高い精度で位置決めすることができる。

本発明の第２の態様の第２の実施形態の光学素子の製造方法においては、該光学素子が受信用光学素子であり、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時の光ファイバの位置にファイバレーザを配置して該入射面を介して該レーザ光を照射する。

本実施形態によれば、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時の光ファイバの位置にファイバレーザを配置して入射面を介してレーザ光を照射するのでほぼ第１の像の位置に減衰領域を形成することができる。

本発明の第２の態様の第３の実施形態の光学素子の製造方法においては、該光学素子が送信用光学素子であり、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時のほぼ該第２の像の位置にファイバレーザを配置して該出射面を介して該レーザ光を照射する。

本実施形態によれば、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時のほぼ該第２の像の位置にファイバレーザを配置して該出射面を介して該レーザ光を照射するのでほぼ第１の像の位置に減衰領域を形成することができる。

本発明の一実施形態の光学素子を示す透視図である。 本発明の一実施形態の光学素子、光ファイバ及び光学素子と光ファイバとを光学的に接続するために使用されるフェルールを示す透視図である。 本発明の一実施形態の光学素子、光ファイバ及び光学素子と光ファイバとを光学的に接続するために使用されるフェルールの平面図である。 図３のＡ-Ａ断面を示す図である。 図３のＢ-Ｂ断面を示す図である。 図４のＣの部分の拡大図である。 図５のＤの部分の拡大図である。 本発明の光学素子の光学系の近軸結像光学系モデルを示す図である。 実施例１の光学素子の動作時の光線経路を示す図である。 実施例１の光学素子の減衰領域形成時の光線経路を示す図である。 実施例１と同様に反射面を備えた光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。 実施例１と同様に反射面を備えた光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の他の例を示す図である。 実施例２の光学素子の動作時の光線経路を示す図である。 実施例２と同様に反射面を備えていない光学素子の動作時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。 実施例２の光学素子の減衰領域形成時の光線経路を示す図である。 実施例２と同様に反射面を備えていない光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。 光源と該光源からの光を受け取る受光素子とを光学的に結合するように、該光源に対向するように構成された入射面と該受光素子に対向するように構成された出射面とを備えた光学素子であって、内部に通過する光の量を減少させる減衰領域を備えた光学素子の製造方法を説明する流れ図である。 光学素子の動作時の光学系を示す図である。

図１は、本発明の一実施形態の光学素子１００を示す透視図である。

図２は、本発明の一実施形態の光学素子１００、光ファイバ２１０及び光学素子１００と光ファイバ２１０とを光学的に接続するために使用されるフェルール２２０を示す透視図である。

図３は、図２に示す、光学素子１００、光ファイバ２１０及び光学素子１００と光ファイバ２１０とを光学的に接続するために使用されるフェルール２２０の平面図である。

図４は、図３のＡ-Ａ断面を示す図である。

図５は、図３のＢ-Ｂ断面を示す図である。

図６は、図４のＣの部分の拡大図である。図６によると、光学素子１００の受光側レンズ１１０は光ファイバ２１０に対向し、光学素子１００の出射側レンズ１２０は受光素子３００に対向するように配置される。光ファイバ２１０から射出して受光側レンズ１１０に入射した光は全反射面Ｒで反射され、出射側レンズ１２０によって受光素子３００の受光面の近傍に集光される。受光側レンズ１１０及び出射側レンズ１２０はそれぞれ受光側レンズアレイ及び出射側レンズアレイを形成する。複数の光ファイバのうちの一つからの光は、その光ファイバに対向する一つの受光側レンズ、その受光側レンズに対応する一つの出射側レンズを経由してその出射側レンズに対向する一つの受光素子に到達する。一つの受光側レンズ及び一つの出射側レンズをそれぞれ光学素子の入射面及び出射面とも呼称する。

図７は、図５のＤの部分の拡大図である。図７によると、光学素子１００のフェルール嵌合用ピン１０５がフェルール２２０の穴にはめあわされることによって光学素子１００及びフェルール２２０が位置合わせされ固定される。この結果、光ファイバ２１０及び入射面１１０が高い精度で位置合わせされる。

一般的に本発明の光学素子１００は、光源及び受光素子を光学的に結合するように構成されている。光学素子１００が送信用に使用される場合には、光源はVCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER、垂直共振器面発光レーザ)などの半導体光学素子であり、
受光素子は光ファイバである。光学素子１００が受信用に使用される場合には、光源は光ファイバであり、受光素子はフォトダイオードなどの半導体光学素子である。

図１-６を使用して説明した光学素子は受信用光学素子である。光学素子１００が送信
用に使用される場合には、入射面が光源であるVCSELなどの半導体光学素子に対向し、出
射面が受光素子である光ファイバの端面に対向する。

近軸結像光学系モデルを使用して本発明の光学素子の光学系の特徴を説明する。上述のように、光学素子の入射面は光源に対向し、光学素子の出射面は受光素子に対向する。

図８は、本発明の光学素子の光学系の近軸結像光学系モデルを示す図である。光学素子の光学系は、光源Ｌ_０の第１の像Ｌ_１を光学素子の内部に形成し、光源Ｌ_０の第２の像Ｌ_２を光学素子の外部に形成するように構成されている。ここで、光源Ｌ_０、入射面Ｓ_１及び出射面Ｓ_２の中心を通過する光線の経路を光学系の光軸とする。なお、図８において光源及びその像は光軸よりも上または下の部分のみが記載されている。

光源Ｌ_０の第１の像Ｌ_１を光学素子の内部に形成し、光源Ｌ_０の第２の像Ｌ_２を光学素子の外部に形成するように構成するために光学系は以下の条件を満たす必要がある。

符号の説明は以下のとおりである。
ａ：光源Ｌ_０から入射面Ｓ_１までの光軸に沿った距離
ｂ：入射面Ｓ_１から第１の像Ｌ_１までの光軸に沿った距離
ｃ：第１の像Ｌ_１から出射面Ｓ_２までの光軸に沿った距離
ｄ：出射面Ｓ_２から第２の像Ｌ_２までの光軸に沿った距離
ｎ：光学素子の屈折率
ｆ_１：入射面Ｓ_１の焦点距離
ｆ_２：出射面Ｓ_２の焦点距離

つぎに、光束が出射面Ｓ_２内に収まるための条件を検討する。光束が出射面Ｓ_２内に収まるために光学系は以下の条件を満たす必要がある。

他方、図８から以下の関係が成立する。

上記の式から光束が出射面Ｓ_２内に収まるための条件として以下の式が得られる。

符号の説明は以下のとおりである。
ｐ_１：入射面Ｓ_１における光束半径
ｐ_２：出射面Ｓ_２における光束半径
ｈ_０：光源Ｌ_０の光軸からの最大高さ
ｈ_１：第１の像Ｌ_１の光軸からの最大高さ
Ｄ：出射面Ｓ_２の有効径
θ_０：光源の拡散角度（半角値、単位はラジアン）

また、光束が出射面Ｓ_２内に収まるための条件を主光線のみで検討すれば以下の式が得られる。

上記の式から光束が出射面Ｓ_２内に収まるための条件として以下の式が得られる。

つぎに、受光素子が光ファイバであるとして、光束がファイバ端面内に収まるための条件を検討する。光源Ｌ_０の第２の像Ｌ_２が光ファイバの端面上に形成されるとして、光束がファイバコア内に収まるために光学系は以下の条件を満たす必要がある。

他方、図８から以下の関係が成立する。

上記の式から光束がファイバコア内に収まるための条件として以下の式が得られる。

符号の説明は以下のとおりである。
ｈ_２：第２の像Ｌ_２の光軸からの最大高さ
ｈcore：ファイバコアの半径

式（４）及び（６）から光束が出射面及びファイバコア内に収まるためには以下の条件を満たす必要がある。

なお、一般的にファイバコアの半径を受光素子の円状の受光面の半径と置き換えれば、式（７）が満たされれば光束は受光素子の受光面内に収まる。

また、最大像高の主光線が光軸となす角度をαとすると、図８から以下の関係が成立する。

ここで、

を考慮すると、光ファイバの開口数をＮＡとして、光ファイバの損失が生じないようするための以下の関係が得られる。

本発明の実施例を以下に説明する。実施例においてレンズ面の形状は以下の式によって定義される。

符号の説明は以下のとおりである。
ｓａｇ：サグ量、すなわちレンズ面頂点からの光軸方向の距離
レンズ面頂点から物体側は負、像側は正
ｃ_０：曲率（曲率半径の逆数）
ｒ：光軸からの距離
ｋ：コーニック定数

実施例１
図９は実施例１の光学素子の動作時の光線経路を示す図である。実施例１の光学素子は、光源Ｌ_０及び受光素子を光学的に結合するように、光源Ｌ_０に対向するように構成された入射面Ｓ_１と該受光素子に対向するように構成された出射面Ｓ_２とを備えている。実施例１の光学素子は送信用光学素子であり、光源はVCSELであり、受光素子は光ファイバで
ある。実施例１の光学素子は内部に反射面Ｒを備える。VCSELから放出された光は光学素
子内で光源の像（第１の像）Ｌ_１を形成した後、反射面Ｒで全反射され出射面Ｓ_２を通過した後光ファイバの端面の近傍で光源Ｌ_０の像（第２の像）Ｌ_２を形成する。図９に示す光学系において光源Ｌ_０と第２の像Ｌ_２とは共役関係にある。図９において、実線は光源の中心から出る光線を示し点線は光源の中心から5μmの高さの点から出る光線を示す。

表１は実施例１の光学系の式（１）-（８）に使用されるデータを示す表である。表１において長さの単位はミリメータである。また、近軸結像光学系モデルを使用するので、正弦（sin θ₀）の値はラジアンで表した角度（θ_０）の値にほぼ等しい。

表１によれば、式（１）-（３）、式（７）及び式（８）は満たされる。

表２は実施例１の各面の形状、面間距離、及びレンズの材料、屈折率を示す表である。

表２及び以下に示す表４において、PEIはポリエーテルイミドを表す。

つぎに、光学素子にどのようにして減衰領域を形成するかについて説明する。減衰領域を形成する際には、フェルールを介して送信用光学素子の動作時の出射面Ｓ_２からファイバレーザなどの高強度のレーザ光を照射する。送信用光学素子の動作時の出射面Ｓ_２は、動作時にフェルールを介して光ファイバに接続されるように構成されているので動作時に使用されるフェルールを減衰領域形成時にファイバレーザ用にそのまま使用することができる。したがって、ファイバレーザなどの高強度のレーザ光の光源の光学素子に対する位置合わせを高精度で実施できる。

図１０は実施例１の光学素子の減衰領域形成時の光線経路を示す図である。図１０の光学系において、ほぼ、図９の光学系の第２の像の位置にファイバレーザなどの光源Ｌ_０’が位置する。上述のように、図９に示す光学系において光源と第２の像とは共役関係にあるので、図１０の光学系においても、ほぼ、図９の光学系の第１の像の位置に高強度のレーザ光の光源の像Ｌ _１ ’が形成される。このため、高強度のレーザ光の光源の像が形成される位置の樹脂（プラスチック）の屈折率または透過率が変化し減衰領域が作成される。図１０において、実線は光源の中心から出る光線を示し点線は光源の中心から5μmの高さの点から出る光線を示す。

図１１は実施例１と同様に反射面を備えた光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。図１１においてはファイバレーザ２１１から射出され、光学素子１００を通過したレーザ光の強度がフォトダイオード３１０で測定される。

図１２は実施例１と同様に反射面を備えた光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の他の例を示す図である。図１２においてはファイバレーザ２１１から射出され、光学素子１００を通過したレーザ光の強度がパワーメータ３２０で測定される。

図１１及び図１２に示すように、ファイバレーザ２１１から射出され、光学素子１００を通過したレーザ光の強度を測定しながらファイバレーザ２１１の強度及び照射時間の少なくとも一方を調整することにより所望の減衰率の減衰領域を作成することができる。

実施例１の光学素子の第１の像が、反射面Ｒの近傍に存在すると、光線の経路が減衰領域を二度通過し、光の減衰量が過大となる可能性がある。また、反射面Ｒにおける光束径が小さいと、反射面Ｒの光束位置の局所的な形状誤差により光学性能が大幅に劣化する可能性がある。したがって、光学素子の第１の像は、光軸上で反射面Ｒから少なくとも第１の像Ｌ_１の高さｈ_１だけ離れているのが好ましい。

実施例２
図１３は実施例２の光学素子の動作時の光線経路を示す図である。実施例２の光学素子は、光源Ｌ_０及び受光素子を光学的に結合するように、光源Ｌ_０に対向するように構成された入射面Ｓ_１と該受光素子に対向するように構成された出射面Ｓ_２とを備えている。実施例２の光学素子は送信用光学素子であり、光源はVCSELであり、受光素子は光ファイバ
である。実施例２の光学素子は内部に反射面を備えていない。VCSELから放出された光は
光学素子内で光源Ｌ_０の像（第１の像）Ｌ_１を形成した後、出射面Ｓ_２を通過した後光ファイバの端面の近傍で光源の像（第２の像）Ｌ_２を形成する。図１３に示す光学系において光源Ｌ_０と第２の像Ｌ_２とは共役関係にある。図１３において、実線は光源の中心から出る光線を示し点線は光源の中心から5μmの高さの点から出る光線を示す。

図１４は実施例２と同様に反射面を備えていない光学素子の動作時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。入射面Ｓ_１はＬＤで示すVCSELと対向し、出射面Ｓ_２は光ファ
イバ２１０と対向する。

表３は実施例２の光学系の式（１）-（８）に使用されるデータを示す表である。表３において長さの単位はミリメータである。また、近軸結像光学系モデルを使用するので、正弦（sin θ₀）の値はラジアンで表した角度（θ_０）の値にほぼ等しい。

表３によれば、式（１）-（３）、式（７）及び式（８）は満たされる。

表４は実施例２の各面の形状、面間距離、及びレンズの材料、屈折率を示す表である。

つぎに、実施例２の光学素子にどのようにして減衰領域を形成するかについて説明する。減衰領域を形成する際には、フェルールを介して動作時の出射面Ｓ_２からファイバレーザなどの高強度のレーザ光を照射する。送信用光学素子の動作時の出射面Ｓ_２は、動作時にフェルールを介して光ファイバに接続されるように構成されているので動作時に使用されるフェルールを減衰領域形成時にファイバレーザ用にそのまま使用することができる。したがって、ファイバレーザなどの高強度のレーザ光の光源の光学素子に対する位置合わせを高精度で実施できる。

図１５は実施例２の光学素子の減衰領域形成時の光線経路を示す図である。図１５の光学系において、ほぼ、図１３の光学系の第２の像の位置にファイバレーザなどの光源Ｌ_０’が位置する。上述のように、図１３に示す光学系において光源と第２の像とは共役関係にあるので、図１５の光学系においても、ほぼ、図１３の光学系の第１の像の位置に高強度のレーザ光の光源の像Ｌ_１’が形成される。このため、高強度のレーザ光の光源の像が形成される位置の樹脂（プラスチック）の屈折率または透過率が変化し減衰領域が作成される。図１５において、実線は光源の中心から出る光線を示し点線は光源の中心から5μmの高さの点から出る光線を示す。

図１６は実施例２と同様に反射面を備えていない光学素子の減衰領域形成時の光線経路を含む断面の一例を示す図である。送信用光学素子１００の入射面Ｓ_１はパワーメータ３２０の光量モニタリング受光面と対向し、送信用光学素子１００の出射面Ｓ_２は光源であるファイバレーザ２１１と対向する。

内部に通過する光の量を減少させる減衰領域を備えた光学素子の製造方法
図１７は、光源と該光源からの光を受け取る受光素子とを光学的に結合するように、該光源に対向するように構成された入射面と該受光素子に対向するように構成された出射面とを備えた光学素子であって、内部に通過する光の量を減少させる減衰領域を備えた光学素子の製造方法を説明する流れ図である。

図１７のステップＳ１０１０において、光源から入射面に入射した光が光学素子内において光源の第１の像を形成し、出射面から射出した後、外部に光源の第２の像を形成するように形状を定めた光学素子を製造する。

式（１）-（３）を満たすように光学素子の形状を定めることにより、光源、光学素子
及び受光素子からなる光学系において、光源から入射面に入射した光が光学素子内において光源の第１の像を形成し、出射面から射出した後、外部に光源の第２の像を形成するようにすることができる。さらに式（７）を満たすことにより光束が出射面及び受光素子の受光面内に収まる。また、受光素子が光ファイバである場合に式（８）を満たせば光ファイバにおける光の損失は生じない。

図１７のステップＳ１０２０において、入射面または出射面からレーザ光を照射することによって上記の第１の像が形成される位置の周辺に、通過する光の量を減少させる減衰領域を形成する。上記のレーザ光の光源としてファイバレーザを使用し、入射面及び出射面のうち動作時に光ファイバに対向する面を介してレーザ光を照射するのが好ましい。動作時に使用されるフェルールを使用することによりファイバレーザの照射位置を高い精度で定めることができる。

送信用光学素子の場合に、減衰領域形成時に動作時に光ファイバが設置される出射側にファイバレーザを設置して減衰領域を形成する。ファイバレーザをほぼ第２の像の位置に配置することにより第１の像の近傍に減衰領域を形成することができる。受信用光学素子の場合には、減衰領域形成時に動作時に光ファイバが設置される入射側にファイバレーザを設置して減衰領域を形成する。ファイバレーザを動作時に光ファイバが設置される位置に配置することにより第１の像の近傍に減衰領域を形成することができる。

一例として、ファイバレーザの出力は20ｋｗから70ｋｗの範囲である。

一般的に光学素子の材料はPEI（ポリエーテルイミド）、ＰI（ポリイミド）及びPESU（PES）（ポリエーテルサルフォン）などの樹脂（プラスチック）であるのが好ましい。光
学素子は上記の材料を使用して射出成形によって一体に製造することができる。

上記の方法によって0％から100％の範囲の任意の減衰率の減衰領域を形成することができる。通常、通信光学系において減衰率は、90%から25.5%（-0.5dBから-6.0dB）の範囲である。

ここで、動作時の光源の第２の像の位置と受光面の位置との関係について説明する。

図１８は動作時の光学素子の光学系を示す図である。上述のように、動作時の光学素子の光学系は、光源Ｌ_０の第２の像Ｌ_２が、受光素子の受光面、または光ファイバの端面に形成されるように構成されている。図１８において第２の像の位置をＡで示す。送信用光学素子の場合に、光ファイバの端面をＡに配置すると、光源と光ファイバの端面とは共役関係にある。したがって、送信用光学素子の場合に、減衰領域形成時にＡにファイバレーザを設置して動作時の第１の像の位置にファイバレーザの光束を集光させ減衰領域を形成することができる。

図１８において、光学素子を射出した光束の径が最小となる位置をＢで示す。受光面または光ファイバの端面をＢに配置することも考えられる。この場合に、受光面または光ファイバの端面の位置合わせの許容精度は大きくなる。

送信用光学素子の場合に、減衰領域形成時にＢにファイバレーザを設置して減衰領域を形成すると、動作時の第１の像の位置にファイバレーザの光束を集光させ減衰領域を形成するすることができないので動作時の減衰効率が低下する。そこで、減衰領域形成時にＡにファイバレーザを設置するためのアダプタなどの工夫が必要となる。

受信用光学素子の場合には、減衰領域形成時に動作時の光ファイバの位置にファイバレーザを配置するので、送信用光学素子の場合の上記の問題は生じない。したがって、受光素子の受光面の位置は光束径が受光面の径よりも小さくなるように定めればよい。

減衰領域の位置に関し、「第１の像の位置の近傍」とは、減衰領域の各点の、第１の像の光軸上の位置からの光軸に沿った距離が、光学素子の入射面から出射面までの光軸に沿った距離の+/-15％以内の範囲であることを意味する。さらに、減衰領域の各点の、第１
の像の光軸上の位置からの光軸に沿った距離が、光学素子の入射面から出射面までの光軸に沿った距離の+/-5％以内であればより好ましい。

動作時において「受光面の近傍に光源の第２の像を形成する」とは、受光素子の受光面が十分な光量を光束から受け取ることができるような光軸上の位置に光源の第２の像を形成することを意味する。

Claims (5)

1. 光源と該光源からの光を受け取る受光素子とを光学的に結合するように、該光源に対向するように構成された入射面と該受光素子に対向するように構成された出射面とを備え、内部に減衰領域を備えた光学素子の製造方法であって、
   該光源から該入射面に入射した光が該光学素子内において該光源の第１の像を形成し、該出射面から射出した後、該光源の第２の像を形成するように形状を定めた光学素子を製造するステップと、
   該入射面または該出射面を介してレーザ光を照射することによって該第１の像が形成される位置の近傍に、通過する光の量を減少させる減衰領域を形成するステップと、を含む光学素子の製造方法。
2. 該入射面及び該出射面の少なくとも一方がフェルールを介して光ファイバに対向するように構成されており、該減衰領域を形成するステップにおいて、該フェルール及び該入射面または該出射面を介して該レーザ光を照射する請求項１に記載の光学素子の製造方法。
3. 該光学素子が受信用光学素子であり、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時の光ファイバの位置にファイバレーザを配置して該入射面を介して該レーザ光を照射する請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
4. 該光学素子が送信用光学素子であり、減衰領域を形成するステップにおいて、動作時のほぼ該第２の像の位置にファイバレーザを配置して該出射面を介して該レーザ光を照射する請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
5. 該光学素子を通過した後の強度を観測しながら該レーザ光を照射することによって該減衰領域の減衰率を所望の値とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。

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