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JP7644638B2 - Organic thin film, organic electroluminescence element, material for organic electroluminescence element, display device and lighting device - Google Patents
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Organic thin film, organic electroluminescence element, material for organic electroluminescence element, display device and lighting device Download PDF

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Description

本発明は、有機薄膜、有機エレクトロルミネッセンス(以下、エレクトロルミネッセンス(電界発光)を「EL」と記す場合がある。)素子、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、表示装置及び照明装置に関するものである。 The present invention relates to organic thin films, organic electroluminescence (hereinafter, electroluminescence (field emission) may be abbreviated as "EL") elements, materials for organic electroluminescence elements, display devices, and lighting devices.

有機EL素子は、薄く、柔軟でフレキシブルである。また、有機EL素子を用いた表示装置は、現在主流となっている液晶表示装置及びプラズマ表示装置と比べて、高輝度、高精細な表示が可能である。また、有機EL素子を用いた表示装置は、液晶表示装置に比べて視野角が広い。このため、有機EL素子を用いた表示装置は、現在、テレビや携帯電話のディスプレイ等としての利用の拡大が進んでいる。また、有機EL素子は、照明装置としての利用も期待されている。 Organic EL elements are thin, soft, and flexible. Furthermore, displays using organic EL elements are capable of displaying images with higher brightness and resolution than the currently mainstream liquid crystal display devices and plasma display devices. Furthermore, displays using organic EL elements have a wider viewing angle than liquid crystal display devices. For this reason, display devices using organic EL elements are currently being used increasingly as displays for televisions and mobile phones. Organic EL elements are also expected to be used as lighting devices.

有機EL素子を用いた表示装置の場合、製造プロセスとして(印刷)塗布プロセスと真空蒸着プロセスが存在する。現在、各メーカーにおいては、低電圧駆動且つ長寿命な製品を製作するため、材料を高真空下で加熱して昇華させ、基板に成膜する真空蒸着プロセスが一般的である。そして、有機EL素子では、ITO等の陽極から正孔を有機層内に注入する際に、p型のドーパント材料を添加して正孔注入性能を向上させる手法が広く用いられている。 In the case of displays using organic EL elements, there are two manufacturing processes: a (printing) coating process and a vacuum deposition process. Currently, in order to produce products that can be driven at a low voltage and have a long life, manufacturers generally use the vacuum deposition process, in which materials are heated under a high vacuum to sublimate and form a film on the substrate. In organic EL elements, a method is widely used in which a p-type dopant material is added to improve hole injection performance when holes are injected into the organic layer from an anode such as ITO.

一般的な正孔注入材料としては、2,3,5,6-テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノ-キノジメタンや酸化モリブデンのように、深いLUMO(伝導帯の最低エネルギー)準位により、ホスト材料との間に電荷移動錯体を形成する材料や、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホナート)(PEDOT:PSS)のように、スルホン酸等の強酸性ドーパントを添加した材料が挙げられる。これらの中でも、酸性のドーパントを使用することにより、ホスト材料となる正孔を輸送可能な材料のHOMO(価電子帯の最高エネルギー)準位に関わらず、陽極から有機膜への正孔注入障壁を下げることが可能であり、使用できる材料の選択肢が広くなる利点がある。 Common hole injection materials include materials that form charge transfer complexes with host materials due to their deep LUMO (lowest energy of conduction band) levels, such as 2,3,5,6-tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyano-quinodimethane and molybdenum oxide, and materials to which a strongly acidic dopant such as sulfonic acid has been added, such as poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-poly(styrenesulfonate) (PEDOT:PSS). Among these, the use of an acidic dopant makes it possible to lower the hole injection barrier from the anode to the organic film, regardless of the HOMO (highest energy of valence band) level of the host material capable of transporting holes, and has the advantage of broadening the selection of usable materials.

しかしながら、スルホン酸含有材料は、その高い酸性度により下部電極であるITO陽極を溶解し、溶け出したインジウムイオンが発光層近傍まで移動して、素子の駆動寿命を損なうことが確認されている(非特許文献1)。 However, it has been confirmed that sulfonic acid-containing materials dissolve the ITO anode, which is the lower electrode, due to their high acidity, and the dissolved indium ions migrate to the vicinity of the light-emitting layer, impairing the operating life of the element (Non-Patent Document 1).

Sung Jin Jo他,J.Appl.Phys.,103,114502(2008)Sung Jin Jo et al., J. Appl. Phys. , 103, 114502 (2008)

また、多くの酸性材料には、加熱により脱水・分解し易く、材料の性能が損なわれてしまうという課題や、材料の吸湿性が高く、保管性が悪いという課題が存在する。特に、高い電子吸引性を持つスルホン酸やトリフルオロメタンスルフォニル(Tf)基を含有するドーパントは、熱により分解・脱離し易く、蒸着プロセスの適用が困難である。そのため、安定して保管・蒸着可能で、且つ駆動電圧が低く、駆動安定性を向上可能な酸性ドーパント材料の報告は未だない。 In addition, many acidic materials have the problems of being easily dehydrated and decomposed by heating, which impairs the performance of the material, and being highly hygroscopic and difficult to store. In particular, dopants containing sulfonic acid or trifluoromethanesulfonyl (Tf) groups, which have high electron-withdrawing properties, are easily decomposed and eliminated by heat, making it difficult to apply a vapor deposition process. For this reason, there have been no reports yet of acidic dopant materials that can be stably stored and vapor-deposited, have a low driving voltage, and can improve driving stability.

そこで、本発明は、上記従来技術の問題を解決し、蒸着プロセスで製造でき、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上可能な有機薄膜、並びに、蒸着プロセスに適用でき、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上可能な有機EL素子用材料を提供することを課題とする。
また、本発明は、前記有機薄膜又は有機EL素子用材料を用いた有機EL素子、並びに、該有機EL素子を具えた表示装置及び照明装置を提供することを課題とする。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional technology, and to provide an organic thin film that can be produced by a vapor deposition process, capable of reducing the driving voltage of an organic EL element, and capable of improving the driving stability, as well as a material for an organic EL element that can be applied to a vapor deposition process, capable of reducing the driving voltage of an organic EL element, and capable of improving the driving stability.
Another object of the present invention is to provide an organic EL element using the organic thin film or the material for an organic EL element, and a display device and a lighting device including the organic EL element.

本発明者らは、上記の課題を解決するために、有機EL素子の陽極と発光層との間に位置する正孔注入層に添加することで、有機EL素子の正孔注入性能及び駆動安定性の双方を高めることが可能で、且つ真空蒸着法により成膜可能な酸性材料について種々の検討を行った。その結果、特定のフルオロ安息香酸構造又はフルオロナフタレンジカルボン酸構造を含む酸性材料が蒸着プロセスによる有機EL素子の製造に好適であり、該フルオロ安息香酸構造又はフルオロナフタレンジカルボン酸構造を含む酸性材料を有機EL素子の正孔注入層に酸性ドーパントして用いることで、蒸着プロセスを適用した有機EL素子の駆動電圧が低減され、駆動安定性が向上して、上記課題を解決できることに想到し、本発明に到達したものである。
上記課題を解決する本発明の要旨構成は、以下の通りである。
In order to solve the above problems, the present inventors have conducted various studies on acidic materials that can be added to a hole injection layer located between an anode and a light-emitting layer of an organic EL element to improve both the hole injection performance and driving stability of the organic EL element, and can be formed into a film by a vacuum deposition method. As a result, they have come to the conclusion that an acidic material containing a specific fluorobenzoic acid structure or a fluoronaphthalenedicarboxylic acid structure is suitable for manufacturing an organic EL element by a deposition process, and that by using the acidic material containing the fluorobenzoic acid structure or the fluoronaphthalenedicarboxylic acid structure as an acidic dopant in the hole injection layer of an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element to which the deposition process is applied is reduced and the driving stability is improved, thereby solving the above problems, and have arrived at the present invention.
The gist of the present invention for solving the above problems is as follows.

本発明の一実施態様の有機薄膜は、下記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする。

Figure 0007644638000001
(一般式(1)中、Rは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。nは、2~6の整数である。)
かかる有機薄膜は、蒸着プロセスで製造することが可能で、また、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。 The organic thin film according to one embodiment of the present invention is characterized in that it is a single film containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the following general formula (1), and a second material that transports holes, or a laminated film containing a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 0007644638000001
(In general formula (1), R 1 represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom. n is an integer from 2 to 6.)
Such an organic thin film can be produced by a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be reduced and the driving stability can be improved.

本発明の有機薄膜の好適例においては、前記第1材料は、上記一般式(1)におけるnが2又は3のテトラフルオロ安息香酸誘導体である。この場合、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を更に低減でき、駆動安定性を更に向上させることができる。 In a preferred embodiment of the organic thin film of the present invention, the first material is a tetrafluorobenzoic acid derivative in which n in the above general formula (1) is 2 or 3. In this case, by applying the same to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be further reduced and the driving stability can be further improved.

本発明の一実施態様の有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極と陽極との間に、発光層を有し、
前記陽極と前記発光層との間に、下記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料を含む層を有することを特徴とする。

Figure 0007644638000002
(一般式(1)中、Rは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。nは、2~6の整数である。)
かかる有機エレクトロルミネッセンス素子は、蒸着プロセスで製造することが可能で、また、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。 The organic electroluminescence device according to one embodiment of the present invention has a light-emitting layer between a cathode and an anode,
The present invention is characterized in that a layer containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the following general formula (1), is provided between the anode and the light-emitting layer.
Figure 0007644638000002
(In general formula (1), R 1 represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom. n is an integer from 2 to 6.)
Such an organic electroluminescence device can be manufactured by a deposition process, and has a low driving voltage and excellent driving stability.

ここで、前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料を含む層と、正孔を輸送する第2材料を含む層と、の積層膜を有することが好ましい。この場合、駆動電圧が更に低くなり、駆動安定性が更に向上する。 Here, it is preferable to have a laminated film of a layer containing the first material and a layer containing a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer. In this case, the driving voltage is further reduced and driving stability is further improved.

また、前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む層を有し、
前記発光層と、前記第1材料と前記第2材料とを含む層と、の間に、前記第2材料を含む層を有することも好ましい。この場合も、駆動電圧が更に低くなり、駆動安定性が更に向上する。
a layer including the first material and a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer;
It is also preferable to have a layer containing the second material between the light-emitting layer and the layer containing the first material and the second material. In this case, too, the driving voltage is further reduced and driving stability is further improved.

また、本発明の他の実施態様の有機薄膜は、下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする。

Figure 0007644638000003
(一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。)
かかる有機薄膜は、蒸着プロセスで製造することが可能で、また、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。 In addition, the organic thin film according to another embodiment of the present invention is characterized in that it is a single film containing a first material, which is a fluoronaphthalene dicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2), and a second material that transports holes, or a laminated film containing a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 0007644638000003
(In general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.)
Such an organic thin film can be produced by a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be reduced and the driving stability can be improved.

本発明の一実施態様の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料は、下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体を含むことを特徴とする。

Figure 0007644638000004
(一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。)
かかる有機エレクトロルミネッセンス素子用材料は、蒸着プロセスに適用でき、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。 A material for an organic electroluminescence device according to one embodiment of the present invention is characterized by containing a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2).
Figure 0007644638000004
(In general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.)
Such a material for an organic electroluminescence device can be applied to a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL device, the driving voltage of the organic EL device can be reduced and the driving stability can be improved.

本発明の他の実施態様の有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極と陽極との間に、発光層を有し、
前記陽極と前記発光層との間に、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含む層を有することを特徴とする。
かかる有機エレクトロルミネッセンス素子は、蒸着プロセスで製造することが可能で、また、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。
The organic electroluminescence device according to another embodiment of the present invention has a light-emitting layer between a cathode and an anode,
The present invention is characterized in that a layer containing the above-mentioned material for an organic electroluminescence device is provided between the anode and the light-emitting layer.
Such an organic electroluminescence device can be manufactured by a deposition process, and has a low driving voltage and excellent driving stability.

また、本発明の表示装置は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする。かかる本発明の表示装置は、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。 The display device of the present invention is characterized by comprising the organic electroluminescence element described above. The display device of the present invention has a low driving voltage and excellent driving stability.

また、本発明の照明装置は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする。かかる本発明の照明装置は、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。 The lighting device of the present invention is characterized by comprising the organic electroluminescence element described above. The lighting device of the present invention has a low driving voltage and excellent driving stability.

本発明によれば、蒸着プロセスで製造でき、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上可能な有機薄膜、並びに、蒸着プロセスに適用でき、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上可能な有機EL素子用材料を提供することができる。
また、本発明によれば、前記有機薄膜又は有機EL素子用材料を用いた、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れた有機EL素子、並びに、該有機EL素子を具えた表示装置及び照明装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an organic thin film that can be produced by a vapor deposition process, capable of reducing the driving voltage of an organic EL element, and capable of improving the driving stability, as well as a material for an organic EL element that can be applied to a vapor deposition process, capable of reducing the driving voltage of an organic EL element, and capable of improving the driving stability.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an organic EL element which uses the organic thin film or the material for an organic EL element and has a low driving voltage and excellent driving stability, and a display device and a lighting device which include the organic EL element.

本発明の有機EL素子の一例を説明するための概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of an organic EL element of the present invention. 構造式(3)で表される化合物の19F-NMRスペクトルである。1 is a 19 F-NMR spectrum of a compound represented by structural formula (3). 構造式(3)で表される化合物のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of a compound represented by structural formula (3). 構造式(4)で表される化合物の19F-NMRスペクトルである。1 is a 19 F-NMR spectrum of a compound represented by structural formula (4). 構造式(4)で表される化合物のH-NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of a compound represented by structural formula (4). 実施例1~3及び比較例1で作製した有機EL素子の印加電圧と輝度の関係を示したグラフである。1 is a graph showing the relationship between the applied voltage and the luminance of the organic EL elements produced in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1. 実施例1~3及び比較例1で作製した有機EL素子の輝度の経時変化を示したグラフである。1 is a graph showing the change over time in luminance of the organic EL elements produced in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.

以下に、本発明の有機薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、表示装置及び照明装置を、その実施形態に基づき、詳細に例示説明する。 The organic thin film, organic electroluminescence element, material for organic electroluminescence element, display device, and lighting device of the present invention will be described in detail below with reference to their embodiments.

[有機薄膜、有機EL素子用材料]
本発明の一実施態様の有機薄膜は、下記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする。

Figure 0007644638000005
(一般式(1)中、Rは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。一般式(1)中、nは、2~6の整数である。) [Materials for organic thin films and organic EL devices]
The organic thin film according to one embodiment of the present invention is characterized in that it is a single film containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the following general formula (1), and a second material that transports holes, or a laminated film containing a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 0007644638000005
(In general formula (1), R 1 represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom. In general formula (1), n is an integer of 2 to 6.)

また、本発明の他の実施態様の有機薄膜は、下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする。
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料は、下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体を含むことを特徴とする。

Figure 0007644638000006
(一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。) In addition, the organic thin film according to another embodiment of the present invention is characterized in that it is a single film containing a first material, which is a fluoronaphthalene dicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2), and a second material that transports holes, or a laminated film containing a film containing the first material and a film containing the second material.
The material for an organic electroluminescence device of the present invention is characterized by containing a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2).
Figure 0007644638000006
(In general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.)

上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体及び上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体は、加熱により分解し難く、また、保管安定性にも優れる。そのため、蒸着プロセスに適用することができる。
また、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体及び上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体は、上述したスルホン酸等の強酸性ドーパントに比べて、酸性度が低く、下部電極であるITO等からなる陽極を溶解し難い。そのため、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体及び/又は上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体を、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動安定性を向上させることができる。
また、本実施形態の有機薄膜は、正孔を輸送する第2材料を含み、該第2材料が正孔を輸送するため、例えば、有機EL素子の、発光層と陽極との間に配置することで、正孔注入性能が向上し、有機EL素子の駆動電圧を低減できる。
従って、本実施形態の有機薄膜は、蒸着プロセスで製造することが可能で、また、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料は、蒸着プロセスに適用でき、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。
The tetrafluorobenzoic acid derivative having the structure represented by the general formula (1) and the fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having the structure represented by the general formula (2) are not easily decomposed by heating and have excellent storage stability, and therefore can be applied to a vapor deposition process.
Furthermore, the tetrafluorobenzoic acid derivative having the structure represented by the general formula (1) and the fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having the structure represented by the general formula (2) have lower acidity than the strongly acidic dopants such as the above-mentioned sulfonic acids, and are less likely to dissolve the anode made of ITO, etc., which is the lower electrode. Therefore, by applying the tetrafluorobenzoic acid derivative having the structure represented by the general formula (1) and/or the fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having the structure represented by the general formula (2) to an organic EL element, the driving stability of the organic EL element can be improved.
In addition, the organic thin film of the present embodiment contains a second material that transports holes. Since the second material transports holes, for example, by disposing the organic thin film between the light-emitting layer and the anode of an organic EL element, the hole injection performance can be improved and the driving voltage of the organic EL element can be reduced.
Therefore, the organic thin film of this embodiment can be manufactured by a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be reduced and the driving stability can be improved. Also, the material for an organic electroluminescence element of this embodiment can be applied to a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be reduced and the driving stability can be improved.

上記一般式(1)におけるRは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。
芳香族炭化水素基、芳香族複素環基としては、炭素数3~30のものが好ましく、炭素数4~24のものがより好ましく、炭素数5~20のものがさらに好ましい。
芳香族炭化水素基としては、ベンゼン等の1つの芳香環のみからなる化合物;ビフェニル、ジフェニルベンゼン等の複数の芳香環が1つの炭素原子同士で直接結合した化合物;ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン等の縮合環式芳香族炭化水素化合物のいずれかの芳香環から水素原子を1~3個除いてできる基が挙げられる。
芳香族複素環基としては、チオフェン、フラン、ピロール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン等の1つの芳香族複素環のみからなる化合物;これらの1つの芳香族複素環のみからなる化合物が1つの炭素原子同士で複数直接結合した化合物(ビピリジン等);キノリン、キノキサリン、ベンゾチオフェン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チエノ[2,3-d]チオフェン、アクリジン、フェナントロリン等の縮合環式複素芳香族炭化水素化合物のいずれかの芳香族複素環から水素原子を1~3個除いてできる基が挙げられる。
アリールアルキレン基としては、上記芳香族炭化水素基と炭素数1~3のアルキレン基とを組み合わせた基が挙げられる。
2価若しくは3価の環状炭化水素基としては、炭素数3~12のものが好ましく、炭素数3~6のものがより好ましい。
また、Rは、上記芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基を2つ以上組み合わせてできる基でもよい。
更に、Rは、上記芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基であってもよい。そのような基としては、例えば、ジフェニルスルフィド等のジアリールスルフィドやジフェニルスルフィドから水素原子を1~3個除いてできる基等が挙げられる。
R1 in the above general formula (1) represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom.
The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group preferably have 3 to 30 carbon atoms, more preferably have 4 to 24 carbon atoms, and even more preferably have 5 to 20 carbon atoms.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a compound consisting of only one aromatic ring, such as benzene; a compound in which a plurality of aromatic rings, such as biphenyl and diphenylbenzene, are directly bonded to each other via one carbon atom; and a group obtained by removing one to three hydrogen atoms from any of the aromatic rings of a condensed ring aromatic hydrocarbon compound, such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, or pyrene.
Examples of the aromatic heterocyclic group include compounds consisting of only one aromatic heterocycle, such as thiophene, furan, pyrrole, oxazole, oxadiazole, thiazole, thiadiazole, imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, and triazine; compounds in which a plurality of such compounds consisting of only one aromatic heterocycle are directly bonded to each other via one carbon atom (such as bipyridine); and groups obtained by removing 1 to 3 hydrogen atoms from any of the aromatic heterocycles of condensed ring heteroaromatic hydrocarbon compounds, such as quinoline, quinoxaline, benzothiophene, benzothiazole, benzimidazole, benzoxazole, indole, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, thieno[2,3-d]thiophene, acridine, and phenanthroline.
The arylalkylene group includes a group formed by combining the above aromatic hydrocarbon group with an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
The divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms, and more preferably has 3 to 6 carbon atoms.
Furthermore, R 1 may be a group formed by combining two or more of the above-mentioned aromatic hydrocarbon groups, aromatic heterocyclic groups, aryl alkylene groups, and divalent or trivalent cyclic hydrocarbon groups.
Furthermore, R1 may be a group formed by combining one or more of the above aromatic hydrocarbon groups, aromatic heterocyclic groups, aryl alkylene groups, and divalent or trivalent cyclic hydrocarbon groups with a sulfur atom. Examples of such groups include diaryl sulfides such as diphenyl sulfide and groups formed by removing 1 to 3 hydrogen atoms from diphenyl sulfide.

上記芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、又は、アリールアルキレン基は、1価の置換基を1つ又は2つ以上有していてもよい。
1価の置換基としては、フッ素原子;フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数5~7の環状アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数1~20の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基;ニトロ基;シアノ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の炭素数1~10のアルキル基を有するアルキルアミノ基;ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等の環状アミノ基;ジフェニルアミノ基、カルバゾリル基等のジアリールアミノ基;アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等のアシル基;スチリル基等の炭素数2~30のアルケニル基;フッ素原子等のハロゲン原子や炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基等で置換されていてもよい炭素数5~20のアリール基(アリール基の具体例は、上記芳香族炭化水素基と同様);フッ素原子等のハロゲン原子や炭素数1~20のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基等で置換されていてもよい炭素数4~20の窒素原子、硫黄原子、酸素原子のいずれか1つ以上を含む複素環基(複素環基は、1つの環のみからなるものであってもよく、1つの芳香族複素環のみからなる化合物が1つの炭素原子同士で複数直接結合した化合物であってもよく、縮合複素環基であってもよい。複素環基の具体例には、上記芳香族複素環基の具体例が含まれる。);エステル基、チオエーテル基等が挙げられる。なお、これらの基は、ハロゲン原子やヘテロ元素、アルキル基、芳香環等で置換されていてもよい。
The aromatic hydrocarbon group, aromatic heterocyclic group, or arylalkylene group may have one or more monovalent substituents.
Examples of the monovalent substituent include a fluorine atom; haloalkyl groups such as a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group; linear or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group; cyclic alkyl groups having 5 to 7 carbon atoms such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group; linear or branched alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, and an octyloxy group; a nitro group; a cyano group; alkylamino groups having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methylamino group, an ethylamino group, a dimethylamino group, and a diethylamino group; cyclic amino groups such as a pyrrolidino group, a piperidino group, and a morpholino group; group, diarylamino groups such as a carbazolyl group; acyl groups such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group; alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as a styryl group; aryl groups having 5 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an amino group, or the like (specific examples of the aryl group are the same as those of the aromatic hydrocarbon group described above); heterocyclic groups containing one or more of a nitrogen atom, a sulfur atom, and an oxygen atom having 4 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an amino group, or the like (heterocyclic groups may be those consisting of only one ring, or may be compounds in which a plurality of compounds consisting of only one aromatic heterocyclic ring are directly bonded to each other at one carbon atom, or may be condensed heterocyclic groups. Specific examples of heterocyclic groups include the specific examples of the aromatic heterocyclic groups described above); ester groups, thioether groups, and the like. These groups may be substituted with a halogen atom, a hetero element, an alkyl group, an aromatic ring, or the like.

上記一般式(1)におけるnは、2~6の整数であるが、2又は3であることが好ましい。 In the above general formula (1), n is an integer from 2 to 6, preferably 2 or 3.

上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体の具体例としては、下記構造式(3)で表される化合物(DF4CA-TT)等が挙げられる。

Figure 0007644638000007
A specific example of the tetrafluorobenzoic acid derivative having the structure represented by the above general formula (1) is a compound represented by the following structural formula (3) (DF4CA-TT).
Figure 0007644638000007

上記一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。
一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体は、ナフタレン環の水素原子の2つがカルボキシル基で置換され、ナフタレン環の水素原子の5つがフッ素元素で置換され、ナフタレン環の残りの1つの水素原子がフッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基で置換された化合物である。
In the above general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.
A fluoronaphthalene dicarboxylic acid derivative having a structure represented by general formula (2) is a compound in which two hydrogen atoms on the naphthalene ring are substituted with carboxyl groups, five hydrogen atoms on the naphthalene ring are substituted with elemental fluorine, and the remaining hydrogen atom on the naphthalene ring is substituted with elemental fluorine, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.

上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体の具体例としては、下記構造式(4)で表される化合物(F6-DCA)等が挙げられる。

Figure 0007644638000008
A specific example of the fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having the structure represented by the above general formula (2) is a compound represented by the following structural formula (4) (F6-DCA).
Figure 0007644638000008

なお、上記構造式(4)で表される化合物は、その異性体との混合物として使用してもよいし、純物質として使用してもよい。 The compound represented by the above structural formula (4) may be used as a mixture with its isomers or as a pure substance.

前記第2材料は、正孔を輸送する材料であればよく、有機材料であることが好ましい。第2材料として、より好ましくは、最高占有軌道(HOMO)準位が4.0eV~7.0eVの有機材料であり、その中でも、HOMO準位が4.5eV~6.0eVのp型有機半導体材料が特に好ましい。例えば、有機EL素子の正孔輸送層の材料として、下記に示す従来公知のいずれの材料を用いてもよいが、これらの中でも、上記HOMO準位の要件を満たす材料が好ましい。また、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独又は組み合わせて用いることができる。 The second material may be any material that transports holes, and is preferably an organic material. The second material is more preferably an organic material with a highest occupied molecular orbital (HOMO) level of 4.0 eV to 7.0 eV, and among these, a p-type organic semiconductor material with a HOMO level of 4.5 eV to 6.0 eV is particularly preferred. For example, any of the conventionally known materials shown below may be used as the material for the hole transport layer of an organic EL element, but among these, a material that satisfies the above HOMO level requirements is preferred. In addition, various p-type polymer materials and various p-type low molecular materials can be used alone or in combination.

前記p型の高分子材料(有機ポリマー)としては、例えば、ポリアリールアミン、フルオレン-アリールアミン共重合体、フルオレン-ビチオフェン共重合体、ポリ(N-ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p-フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂又はそれらの誘導体等が挙げられる。また、これらの高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等が挙げられる。 Examples of the p-type polymeric material (organic polymer) include polyarylamine, fluorene-arylamine copolymer, fluorene-bithiophene copolymer, poly(N-vinylcarbazole), polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polythiophene, polyalkylthiophene, polyhexylthiophene, poly(p-phenylenevinylene), polytinylenevinylene, pyrene formaldehyde resin, ethylcarbazole formaldehyde resin, and derivatives thereof. These polymeric materials can also be used as mixtures with other compounds. As an example, a mixture containing polythiophene is poly(3,4-ethylenedioxythiophene/styrenesulfonic acid) (PEDOT/PSS).

前記p型の低分子材料としては、1,1-ビス(4-ジ-パラ-トリアミノフェニル)シクロへキサン、1,1’-ビス(4-ジ-パラ-トリルアミノフェニル)-4-フェニル-シクロヘキサン等のアリールシクロアルカン系化合物、4,4’,4”-トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’-テトラフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD1)、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD2)、N,N,N’,N’-テトラキス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD3)、N,N’-ジ(1-ナフチル)-N,N’-ジフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(α-NPD)、4,4’-ビス[N-フェニル-N-[4’-ジフェニルアミノ-1,1’-ビフェニル-4-イル]アミノ]-1,1’-ビフェニル(TPTE)等のアリールアミン系化合物、N,N,N’,N’-テトラフェニル-パラ-フェニレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラ(パラ-トリル)-パラ-フェニレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラ(メタ-トリル)-メタ-フェニレンジアミン(PDA)等のフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、N-イソプロピルカルバゾール、N-フェニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、スチルベン、4-ジ-パラ-トリルアミノスチルベン等のスチルベン系化合物、OxZ等のオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、4,4’,4”-トリス(N-3-メチルフェニル-N-フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m-MTDATA)等のトリフェニルメタン系化合物、1-フェニル-3-(パラ-ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系化合物、ベンジン(シクロヘキサジエン)系化合物、トリアゾール等のトリアゾール系化合物、イミダゾール等のイミダゾール系化合物、1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ジ(4-ジメチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、アントラセン、9-(4-ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のアントラセン系化合物、フルオレノン、2,4,7-トリニトロ-9-フルオレノン、2,7-ビス(2-ヒドロキシ-3-(2-クロロフェニルカルバモイル)-1-ナフチルアゾ)フルオレノン等のフルオレノン系化合物、ポリアニリン等のアニリン系化合物、シラン系化合物、1,4-ジチオケト-3,6-ジフェニル-ピロロ-(3,4-c)ピロロピロール等のピロール系化合物、フルオレン等のフルオレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン等のポルフィリン系化合物、キナクリドン等のキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、テトラ(t-ブチル)銅フタロシアニン、鉄フタロシアニン等の金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニン等の金属又は無金属のナフタロシアニン系化合物、N,N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ジフェニル-ベンジジン、N,N,N’,N’-テトラフェニルベンジジン等のベンジジン系化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、TPTE等のアリールアミン系化合物が特に好ましい。 The p-type low molecular weight materials include arylcycloalkane compounds such as 1,1-bis(4-di-para-triaminophenyl)cyclohexane and 1,1'-bis(4-di-para-tolylaminophenyl)-4-phenyl-cyclohexane, 4,4',4"-trimethyltriphenylamine, N,N,N',N'-tetraphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, and N,N'-diphenyl-N ,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD1), N,N'-diphenyl-N,N'-bis(4-methoxyphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD2), N,N,N',N'-tetrakis(4-methoxyphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD3), N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl arylamine compounds such as N-phenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD) and 4,4'-bis[N-phenyl-N-[4'-diphenylamino-1,1'-biphenyl-4-yl]amino]-1,1'-biphenyl (TPTE); phenylenediamine compounds such as N,N,N',N'-tetraphenyl-para-phenylenediamine, N,N,N',N'-tetra(para-tolyl)-para-phenylenediamine, and N,N,N',N'-tetra(meta-tolyl)-meta-phenylenediamine (PDA); carbazole compounds such as carbazole, N-isopropylcarbazole, and N-phenylcarbazole; stilbene compounds such as stilbene and 4-di-para-tolylaminostilbene; oxazole compounds such as OxZ; triphenylmethane, 4,4',4"-tris(N-3-methyl triphenylmethane compounds such as 1-phenyl-3-(para-dimethylaminophenyl)pyrazoline; benzine (cyclohexadiene) compounds; triazole compounds such as triazole; imidazole compounds such as imidazole; oxadiazole compounds such as 1,3,4-oxadiazole and 2,5-di(4-dimethylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazole; anthracene compounds such as anthracene and 9-(4-diethylaminostyryl)anthracene; fluorenone compounds such as fluorenone, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, and 2,7-bis(2-hydroxy-3-(2-chlorophenylcarbamoyl)-1-naphthylazo)fluorenone; and anilines such as polyaniline. These include compounds based on phthalocyanine, silane compounds, pyrrole compounds such as 1,4-dithioketo-3,6-diphenyl-pyrrolo-(3,4-c)pyrrolopyrrole, fluorene compounds such as fluorene, porphyrin compounds such as porphyrin and metal tetraphenylporphyrin, quinacridone compounds such as quinacridone, metal or non-metallic phthalocyanine compounds such as phthalocyanine, copper phthalocyanine, tetra(t-butyl)copper phthalocyanine, and iron phthalocyanine, metal or non-metallic naphthalocyanine compounds such as copper naphthalocyanine, vanadyl naphthalocyanine, and monochlorogallium naphthalocyanine, and benzidine compounds such as N,N'-di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine and N,N,N',N'-tetraphenylbenzidine, and the like. One or more of these compounds may be used. Among these, arylamine compounds such as TPTE are particularly preferred.

本実施形態の有機薄膜は、一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体及び/又は一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜であってもよいし、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であってもよい。単一の膜であっても、積層膜であっても、蒸着プロセスで製造することが可能であり、また、有機EL素子に適用することで、有機EL素子の駆動電圧を低減でき、駆動安定性を向上させることができる。 The organic thin film of this embodiment may be a single film containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by general formula (1) and/or a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by general formula (2), and a second material that transports holes, or may be a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material. Whether it is a single film or a laminated film, it can be manufactured by a vapor deposition process, and by applying it to an organic EL element, the driving voltage of the organic EL element can be reduced and the driving stability can be improved.

本実施形態の有機薄膜に含まれる第1材料と第2材料との比率は、特に限定されるものではなく、第1材料及び第2材料のそれぞれに使用する化合物の種類に応じて適宜決定できる。第1材料と第2材料との比率は、質量比(第1材料:第2材料)で0.1:99.9~1:1であることが好ましく、0.5:99.5~1:2であることが更に好ましく、1:99~1:3であることがより一層好ましい。上記比率である場合、有機薄膜に第1材料と第2材料とが含まれていることによる正孔輸送性及び正孔注入性の向上効果が顕著となる。 The ratio of the first material to the second material contained in the organic thin film of this embodiment is not particularly limited and can be appropriately determined depending on the type of compound used for each of the first and second materials. The ratio of the first material to the second material is preferably 0.1:99.9 to 1:1 in mass ratio (first material:second material), more preferably 0.5:99.5 to 1:2, and even more preferably 1:99 to 1:3. When the ratio is as above, the effect of improving the hole transport property and hole injection property due to the inclusion of the first material and the second material in the organic thin film becomes significant.

前記有機薄膜の成膜方法としては、抵抗加熱等の真空蒸着法が好ましい。
有機薄膜を蒸着プロセスにより製造する場合、有機EL素子を構成する他の層を蒸着プロセスにより製造する場合と同様の方法により行うことができ、第1材料、第2材料を同時に蒸着してもよく、順に蒸着してもよい。順に蒸着する場合、第1材料、第2材料のいずれを先に蒸着してもよい。また、いずれか一方を先に蒸着した後に、これら両方を共蒸着してもよく、両方を共蒸着した後に、いずれか一方を蒸着してもよい。このような、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料及び/又は上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を同時に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程を含む有機薄膜の製造方法は、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
また、第1材料又は第2材料のいずれかを先に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程と、その後にもう一方又は両方の材料を蒸着する工程とを含む有機薄膜の製造方法、又は、第1材料と第2材料とを同時に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程と、その後に第1材料又は第2材料のいずれかを有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程とを含む有機薄膜の製造方法もまた、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
The organic thin film is preferably formed by a vacuum deposition method such as resistance heating.
When the organic thin film is manufactured by a vapor deposition process, it can be manufactured by the same method as when other layers constituting the organic EL element are manufactured by a vapor deposition process, and the first material and the second material may be simultaneously vapor-deposited or sequentially vapor-deposited. When vapor-depositing sequentially, either the first material or the second material may be vapor-deposited first. In addition, either one may be vapor-deposited first and then both may be vapor-deposited, or either one may be vapor-deposited after both are vapor-deposited. Such a method for manufacturing an organic thin film including a step of simultaneously vapor-depositing a first material which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the above general formula (1) and/or a first material which is a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the above general formula (2) and a second material which transports holes on a surface on which the organic thin film is to be formed is one of the preferred embodiments of the method for manufacturing an organic thin film of the present invention.
In addition, a method for producing an organic thin film comprising a step of first depositing either a first material or a second material onto a surface on which an organic thin film is to be formed, and then depositing the other material or both of the materials, or a method for producing an organic thin film comprising a step of simultaneously depositing a first material and a second material onto a surface on which an organic thin film is to be formed, and then depositing either the first material or the second material onto the surface on which an organic thin film is to be formed, is also one of the preferred embodiments of the method for producing an organic thin film of the present invention.

[有機EL素子]
本発明の一実施態様の有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極と陽極との間に、発光層を有し、前記陽極と前記発光層との間に、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料を含む層を有することを特徴とする。
[Organic EL element]
The organic electroluminescence element according to one embodiment of the present invention is characterized in that it has an emitting layer between a cathode and an anode, and has a layer containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the above general formula (1), between the anode and the emitting layer.

また、本発明の他の実施態様の有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極と陽極との間に、発光層を有し、前記陽極と前記発光層との間に、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含む層(換言すれば、上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料を含む層)を有することを特徴とする。 Another embodiment of the organic electroluminescence element of the present invention is characterized in that it has an emission layer between a cathode and an anode, and a layer containing the above-mentioned material for organic electroluminescence elements (in other words, a layer containing a first material that is a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the above general formula (2)) between the anode and the emission layer.

これらの本実施形態の有機EL素子は、上述した、加熱により分解し難く、保管安定性に優れ、比較的酸性度が低い、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体又は上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体を用いているため、蒸着プロセスで製造することができ、また、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。 These organic EL elements of the present embodiment use the tetrafluorobenzoic acid derivative having the structure represented by the above general formula (1) or the fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having the structure represented by the above general formula (2), which are not easily decomposed by heating, have excellent storage stability, and have a relatively low acidity, and therefore can be manufactured by a vapor deposition process, have a low driving voltage, and have excellent driving stability.

本実施形態の有機EL素子は、前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料を含む層と、正孔を輸送する第2材料を含む層と、の積層膜を有することが好ましい。この場合、駆動電圧が更に低くなり、駆動安定性が更に向上する。
ここで、第1材料を含む層と、第2材料を含む層と、のいずれが陽極側に配置されていてもよいが、第1材料を含む層が陽極側に配置されていることが好ましく、即ち、発光層と、第1材料を含む層と、の間に、第2材料を含む層を有することが好ましい。
The organic EL element of the present embodiment preferably has a laminate film of a layer containing the first material and a layer containing a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer, which further reduces the driving voltage and improves driving stability.
Here, either the layer containing the first material or the layer containing the second material may be disposed on the anode side, but it is preferable that the layer containing the first material is disposed on the anode side, that is, it is preferable to have a layer containing the second material between the light-emitting layer and the layer containing the first material.

また、本実施形態の有機EL素子は、前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む層を有し、前記発光層と、前記第1材料と前記第2材料とを含む層と、の間に、前記第2材料を含む層を有することも好ましい。この場合、駆動電圧が更に低くなり、駆動安定性が更に向上する。 The organic EL element of this embodiment also preferably has a layer containing the first material and a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer, and a layer containing the second material between the light-emitting layer and the layer containing the first material and the second material. In this case, the driving voltage is further reduced, and driving stability is further improved.

次に、本発明の有機EL素子について、例を挙げて詳細に説明する。
図1は、本発明の有機EL素子の一例を説明するための概略断面図である。図1に示す本実施形態の有機EL素子1は、陽極3と陰極9との間に発光層6を有する。図1に示す有機EL素子1では、陽極3と発光層6との間に、本発明の有機薄膜、又は、上記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料又は上記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料を含む正孔注入層4を有している。
本実施形態の有機EL素子1は、基板2上に、陽極3と、正孔注入層4と、正孔輸送層5と、発光層6と、電子輸送層7と、電子注入層8と、陰極9と、がこの順に形成された積層構造を有する。
Next, the organic EL element of the present invention will be described in detail with reference to examples.
Fig. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining one example of an organic EL element of the present invention. The organic EL element 1 of the present embodiment shown in Fig. 1 has an emitting layer 6 between an anode 3 and a cathode 9. The organic EL element 1 shown in Fig. 1 has a hole injection layer 4 between the anode 3 and the emitting layer 6, the hole injection layer 4 containing the organic thin film of the present invention, or a first material which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the above general formula (1), or a first material which is a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the above general formula (2).
The organic EL element 1 of the present embodiment has a laminated structure in which an anode 3, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a light emitting layer 6, an electron transport layer 7, an electron injection layer 8, and a cathode 9 are formed in this order on a substrate 2.

図1に示す有機EL素子1は、基板2と反対側に光を取り出すトップエミッション型のものであってもよいし、基板2側に光を取り出すボトムエミッション型のものであってもよい。 The organic EL element 1 shown in FIG. 1 may be a top-emission type that extracts light on the side opposite the substrate 2, or a bottom-emission type that extracts light on the substrate 2 side.

(基板)
基板2の材料としては、樹脂材料、ガラス材料等が挙げられる。基板2の材料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
基板2に用いられる樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等が挙げられる。基板2の材料として、樹脂材料を用いた場合、柔軟性に優れた有機EL素子1が得られるため好ましい。
一方、基板2に用いられるガラス材料としては、石英ガラス、ソーダガラス等が挙げられる。
(substrate)
Examples of the material for the substrate 2 include a resin material, a glass material, etc. The material for the substrate 2 may be one type alone or a combination of two or more types.
Examples of the resin material used for the substrate 2 include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyarylate, etc. When a resin material is used as the material for the substrate 2, it is preferable because an organic EL element 1 having excellent flexibility can be obtained.
On the other hand, examples of the glass material used for the substrate 2 include quartz glass and soda glass.

有機EL素子1がボトムエミッション型のものである場合には、基板2の材料として、透明基板を用いる。
一方、有機EL素子1がトップエミッション型のものである場合には、基板2の材料として、透明基板だけでなく、不透明基板を用いてもよい。不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料からなる基板、ステンレス鋼のような金属板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成した基板、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
When the organic EL element 1 is of a bottom emission type, the substrate 2 is made of a transparent material.
On the other hand, when the organic EL element 1 is of a top emission type, not only a transparent substrate but also an opaque substrate may be used as the material of the substrate 2. Examples of opaque substrates include a substrate made of a ceramic material such as alumina, a substrate in which an oxide film (insulating film) is formed on the surface of a metal plate such as stainless steel, and a substrate made of a resin material.

前記基板2の平均厚さは、基板2の材料等に応じて決定でき、0.1~30mmであることが好ましく、0.1~10mmであることがより好ましい。なお、基板2の平均厚さは、デジタルマルチメーター、ノギスにより測定できる。 The average thickness of the substrate 2 can be determined depending on the material of the substrate 2, and is preferably 0.1 to 30 mm, and more preferably 0.1 to 10 mm. The average thickness of the substrate 2 can be measured using a digital multimeter and a vernier caliper.

(電極)
本実施形態の有機EL素子1において、陽極3及び陰極9としては、公知の導電性材料を適宜用いることができるが、光取り出しのために少なくともいずれか一方は透明であることが好ましい。公知の透明導電性材料の例としては、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、ATO(アンチモンドープ酸化インジウム)、IZO(インジウムドープ酸化亜鉛)、AZO(アルミニウムドープ酸化亜鉛)、FTO(フッ素ドープ酸化インジウム)等が挙げられる。
一方、不透明な導電性材料の例としては、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、バリウム、錫、インジウム、銅、銀、イッテルビウムやこれらの合金等が挙げられる。
陽極3としては、これらの中でも、ITO、IZO、FTOが好ましい。
一方、陰極9としては、これらの中でも、Al、AgMg合金が好ましい。
(electrode)
In the organic EL element 1 of the present embodiment, a known conductive material can be appropriately used for the anode 3 and the cathode 9, but it is preferable that at least one of them is transparent in order to extract light. Examples of known transparent conductive materials include ITO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped indium oxide), IZO (indium-doped zinc oxide), AZO (aluminum-doped zinc oxide), FTO (fluorine-doped indium oxide), etc.
On the other hand, examples of opaque conductive materials include calcium, magnesium, aluminum, barium, tin, indium, copper, silver, ytterbium, and alloys thereof.
Of these, ITO, IZO, and FTO are preferable for the anode 3 .
On the other hand, among these, Al and AgMg alloys are preferable for the cathode 9 .

前記陽極3の平均厚さは、特に制限されないが、10~500nmであることが好ましく、70~200nmであることが更に好ましい。なお、陽極3の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。 The average thickness of the anode 3 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 70 to 200 nm. The average thickness of the anode 3 can be measured by a stylus step gauge or spectroscopic ellipsometry.

前記陰極9の平均厚さは、特に限定されないが、10~1000nmであることが好ましく、30~150nmであることが更に好ましい。また、不透過な材料を用いる場合でも、例えば、平均厚さを10~30nm程度にすることで、トップエミッション型及び透明型の陰極9として使用することができる。なお、陰極9の平均厚さは、水晶振動子膜厚計により成膜時に測定することができる。 The average thickness of the cathode 9 is not particularly limited, but is preferably 10 to 1000 nm, and more preferably 30 to 150 nm. Even when an opaque material is used, the cathode 9 can be used as a top emission type or transparent type by setting the average thickness to, for example, about 10 to 30 nm. The average thickness of the cathode 9 can be measured during deposition using a quartz crystal film thickness gauge.

(正孔注入層)
正孔注入層4は、上記有機薄膜と同じ構成をとることができ、この構成により正孔注入性と安定性を向上させた正孔注入層4が形成可能である。
また、上述した有機薄膜の一部を正孔注入層4とし、有機薄膜の他の一部を後述する正孔輸送層5としてもよい。例えば、第1材料と第2材料の混合膜を正孔注入層4とし、第2材料からなる膜を正孔輸送層5とする構成であってもよく、第1材料のみからなる膜を正孔注入層4とし、第2材料のみからなる膜を正孔輸送層5とする構成であってもよく、第2材料と第1材料の積層膜を正孔注入層4とし、第2材料のみからなる膜を正孔輸送層5とする構成であってもよく、第1材料と第2材料との混合膜を正孔注入層4兼正孔輸送層5としてもよい。
なお、正孔注入層4が第1材料(ドーパント)と第2材料(ホスト材料)とを含む場合は、第1材料と第2材料との比率は、質量比(第1材料:第2材料)で0.1:99.9~1:1であることが好ましく、1:99~1:2であることが更に好ましい。
(Hole Injection Layer)
The hole injection layer 4 can have the same structure as the organic thin film described above, and this structure makes it possible to form a hole injection layer 4 having improved hole injection properties and stability.
Also, a part of the organic thin film described above may be the hole injection layer 4, and another part of the organic thin film may be the hole transport layer 5 described later. For example, a mixed film of the first material and the second material may be the hole injection layer 4, and a film made of the second material may be the hole transport layer 5, a film made only of the first material may be the hole injection layer 4, and a film made only of the second material may be the hole transport layer 5, a laminated film of the second material and the first material may be the hole injection layer 4, and a film made only of the second material may be the hole transport layer 5, or a mixed film of the first material and the second material may be the hole injection layer 4 and hole transport layer 5.
In addition, when the hole injection layer 4 contains a first material (dopant) and a second material (host material), the ratio of the first material to the second material in terms of mass ratio (first material:second material) is preferably 0.1:99.9 to 1:1, and more preferably 1:99 to 1:2.

正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、1~1000nmであることが好ましく、5~50nmであることがより好ましい。
正孔注入層4の平均厚さは、例えば、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。
The average thickness of the hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 nm, and more preferably 5 to 50 nm.
The average thickness of the hole injection layer 4 can be measured by, for example, a stylus step gauge or spectroscopic ellipsometry.

(正孔輸送層)
正孔輸送層5の材料としては、正孔輸送層の材料として通常用いることができるいずれの化合物も用いることができ、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。例えば、上述した有機薄膜の第2材料として例示した各種材料を適用することができる。
(Hole transport layer)
Any compound that can be generally used as a material for a hole transport layer can be used as the material for the hole transport layer 5, and various p-type polymeric materials and various p-type low molecular weight materials can be used alone or in combination. For example, the various materials exemplified as the second material for the organic thin film described above can be used.

前記p型の高分子材料(有機ポリマー)としては、例えば、ポリアリールアミン、フルオレン-アリールアミン共重合体、フルオレン-ビチオフェン共重合体、ポリ(N-ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p-フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂又はそれらの誘導体等が挙げられる。また、これらの高分子材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等が挙げられる。 Examples of the p-type polymeric material (organic polymer) include polyarylamine, fluorene-arylamine copolymer, fluorene-bithiophene copolymer, poly(N-vinylcarbazole), polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polythiophene, polyalkylthiophene, polyhexylthiophene, poly(p-phenylenevinylene), polytinylenevinylene, pyrene formaldehyde resin, ethylcarbazole formaldehyde resin, and derivatives thereof. These polymeric materials can also be used as mixtures with other compounds. As an example, a mixture containing polythiophene is poly(3,4-ethylenedioxythiophene/styrenesulfonic acid) (PEDOT/PSS).

前記p型の低分子材料としては、1,1-ビス(4-ジ-パラ-トリアミノフェニル)シクロへキサン、1,1’-ビス(4-ジ-パラ-トリルアミノフェニル)-4-フェニル-シクロヘキサン等のアリールシクロアルカン系化合物、4,4’,4”-トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’-テトラフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD1)、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD2)、N,N,N’,N’-テトラキス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD3)、N,N’-ジ(1-ナフチル)-N,N’-ジフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(α-NPD)、4,4’-ビス[N-フェニル-N-[4’-ジフェニルアミノ-1,1’-ビフェニル-4-イル]アミノ]-1,1’-ビフェニル(TPTE)等のアリールアミン系化合物、N,N,N’,N’-テトラフェニル-パラ-フェニレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラ(パラ-トリル)-パラ-フェニレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラ(メタ-トリル)-メタ-フェニレンジアミン(PDA)等のフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、N-イソプロピルカルバゾール、N-フェニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、スチルベン、4-ジ-パラ-トリルアミノスチルベン等のスチルベン系化合物、OxZ等のオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、4,4’,4”-トリス(N-3-メチルフェニル-N-フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m-MTDATA)等のトリフェニルメタン系化合物、1-フェニル-3-(パラ-ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系化合物、ベンジン(シクロヘキサジエン)系化合物、トリアゾール等のトリアゾール系化合物、イミダゾール等のイミダゾール系化合物、1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ジ(4-ジメチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、アントラセン、9-(4-ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のアントラセン系化合物、フルオレノン、2,4,7-トリニトロ-9-フルオレノン、2,7-ビス(2-ヒドロキシ-3-(2-クロロフェニルカルバモイル)-1-ナフチルアゾ)フルオレノン等のフルオレノン系化合物、ポリアニリン等のアニリン系化合物、シラン系化合物、1,4-ジチオケト-3,6-ジフェニル-ピロロ-(3,4-c)ピロロピロール等のピロール系化合物、フルオレン等のフルオレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン等のポルフィリン系化合物、キナクリドン等のキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、テトラ(t-ブチル)銅フタロシアニン、鉄フタロシアニン等の金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニン等の金属又は無金属のナフタロシアニン系化合物、N,N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ジフェニル-ベンジジン、N,N,N’,N’-テトラフェニルベンジジン等のベンジジン系化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、TPTE等のアリールアミン系化合物が特に好ましい。 The p-type low molecular weight materials include arylcycloalkane compounds such as 1,1-bis(4-di-para-triaminophenyl)cyclohexane and 1,1'-bis(4-di-para-tolylaminophenyl)-4-phenyl-cyclohexane, 4,4',4"-trimethyltriphenylamine, N,N,N',N'-tetraphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, and N,N'-diphenyl-N ,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD1), N,N'-diphenyl-N,N'-bis(4-methoxyphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD2), N,N,N',N'-tetrakis(4-methoxyphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD3), N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl arylamine compounds such as N-phenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD) and 4,4'-bis[N-phenyl-N-[4'-diphenylamino-1,1'-biphenyl-4-yl]amino]-1,1'-biphenyl (TPTE); phenylenediamine compounds such as N,N,N',N'-tetraphenyl-para-phenylenediamine, N,N,N',N'-tetra(para-tolyl)-para-phenylenediamine, and N,N,N',N'-tetra(meta-tolyl)-meta-phenylenediamine (PDA); carbazole compounds such as carbazole, N-isopropylcarbazole, and N-phenylcarbazole; stilbene compounds such as stilbene and 4-di-para-tolylaminostilbene; oxazole compounds such as OxZ; triphenylmethane, 4,4',4"-tris(N-3-methyl triphenylmethane compounds such as 1-phenyl-3-(para-dimethylaminophenyl)pyrazoline; benzine (cyclohexadiene) compounds; triazole compounds such as triazole; imidazole compounds such as imidazole; oxadiazole compounds such as 1,3,4-oxadiazole and 2,5-di(4-dimethylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazole; anthracene compounds such as anthracene and 9-(4-diethylaminostyryl)anthracene; fluorenone compounds such as fluorenone, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, and 2,7-bis(2-hydroxy-3-(2-chlorophenylcarbamoyl)-1-naphthylazo)fluorenone; and anilines such as polyaniline. These include compounds based on phthalocyanine, silane compounds, pyrrole compounds such as 1,4-dithioketo-3,6-diphenyl-pyrrolo-(3,4-c)pyrrolopyrrole, fluorene compounds such as fluorene, porphyrin compounds such as porphyrin and metal tetraphenylporphyrin, quinacridone compounds such as quinacridone, metal or non-metallic phthalocyanine compounds such as phthalocyanine, copper phthalocyanine, tetra(t-butyl)copper phthalocyanine, and iron phthalocyanine, metal or non-metallic naphthalocyanine compounds such as copper naphthalocyanine, vanadyl naphthalocyanine, and monochlorogallium naphthalocyanine, and benzidine compounds such as N,N'-di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine and N,N,N',N'-tetraphenylbenzidine, and the like. One or more of these compounds may be used. Among these, arylamine compounds such as TPTE are particularly preferred.

正孔輸送層5の平均厚さは、特に限定されないが、10~150nmであることが好ましく、20~100nmであることがより好ましい。
正孔輸送層5の平均厚さは、例えば、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。
The average thickness of the hole transport layer 5 is not particularly limited, but is preferably from 10 to 150 nm, and more preferably from 20 to 100 nm.
The average thickness of the hole transport layer 5 can be measured by, for example, a stylus step gauge or spectroscopic ellipsometry.

(発光層)
本実施形態の有機EL素子1において、発光層6を形成する材料としては、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよく、これらを混合して用いてもよい。なお、本発明において低分子材料とは、高分子材料(重合体)ではない材料を意味し、分子量が低い有機化合物を必ずしも意味するものではない。
(Light Emitting Layer)
In the organic EL element 1 of the present embodiment, the material forming the light-emitting layer 6 may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound, or a mixture of these may be used. In the present invention, the low molecular weight material means a material that is not a high molecular weight material (polymer), and does not necessarily mean an organic compound with a low molecular weight.

発光層6を形成する高分子材料としては、例えば、トランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリ(ジ-フェニルアセチレン)(PDPA)、ポリ(アルキル,フェニルアセチレン)(PAPA)等のポリアセチレン系化合物;ポリ(パラ-フェニレンビニレン)(PPV)、ポリ(2,5-ジアルコキシ-パラ-フェニレンビニレン)(RO-PPV)、シアノ-置換-ポリ(パラ-フェニレンビニレン)(CN-PPV)、ポリ(2-ジメチルオクチルシリル-パラ-フェニレンビニレン)(DMOS-PPV)、ポリ(2-メトキシ,5-(2’-エチルヘキソキシ)-パラ-フェニレンビニレン)(MEH-PPV)等のポリパラフェニレンビニレン系化合物;ポリ(3-アルキルチオフェン)(PAT)、ポリ(オキシプロピレン)トリオール(POPT)等のポリチオフェン系化合物;ポリ(9,9-ジアルキルフルオレン)(PDAF)、ポリ(ジオクチルフルオレン-アルト-ベンゾチアジアゾール)(F8BT)、α,ω-ビス[N,N’-ジ(メチルフェニル)アミノフェニル]-ポリ[9,9-ビス(2-エチルヘキシル)フルオレン-2,7-ジル](PF2/6am4)、ポリ(9,9-ジオクチル-2,7-ジビニレンフルオレニル-オルト-コ(アントラセン-9,10-ジイル)等のポリフルオレン系化合物;ポリ(パラ-フェニレン)(PPP)、ポリ(1,5-ジアルコキシ-パラ-フェニレン)(RO-PPP)等のポリパラフェニレン系化合物;ポリ(N-ビニルカルバゾール)(PVK)等のポリカルバゾール系化合物;ポリ(メチルフェニルシラン)(PMPS)、ポリ(ナフチルフェニルシラン)(PNPS)、ポリ(ビフェニリルフェニルシラン)(PBPS)等のポリシラン系化合物;更には特開2011-184430号公報、特開2012-151148号公報に記載のホウ素化合物系高分子材料等が挙げられる。 Examples of polymeric materials for forming the light-emitting layer 6 include polyacetylene compounds such as trans-polyacetylene, cis-polyacetylene, poly(diphenylacetylene) (PDPA), and poly(alkyl, phenylacetylene) (PAPA); poly(para-phenylenevinylene) (PPV), poly(2,5-dialkoxy-para-phenylenevinylene) (RO-PPV), cyano-substituted-poly(para-phenylenevinylene) (CN-PPV), and poly(2 poly(2-methoxy,5-(2'-ethylhexoxy)-para-phenylenevinylene) (MEH-PPV) and other polyparaphenylenevinylene-based compounds; poly(3-alkylthiophene) (PAT) and poly(oxypropylene)triol (POPT) and other polythiophene-based compounds; poly(9,9-dialkylfluorene) (PDAF) and poly(dioctylfluorene) -alto-benzothiadiazole) (F8BT), α,ω-bis[N,N'-di(methylphenyl)aminophenyl]-poly[9,9-bis(2-ethylhexyl)fluorene-2,7-dyl] (PF2/6am4), poly(9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenyl-ortho-co(anthracene-9,10-diyl), and other polyfluorene-based compounds; poly(para-phenylene) (PPP), poly(1,5-dialkoxy-para-phenylene) Examples of suitable compounds include polyparaphenylene compounds such as poly(N-vinylcarbazole) (PVK); polycarbazole compounds such as poly(methylphenylsilane) (PMPS), poly(naphthylphenylsilane) (PNPS), and poly(biphenylylphenylsilane) (PBPS); and boron compound-based polymer materials described in JP-A-2011-184430 and JP-A-2012-151148.

発光層6を形成する低分子材料としては、例えば、配位子に2,2’-ビピリジン-4,4’-ジカルボン酸を持つ、3配位のイリジウム錯体、ファクトリス(2-フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy))、8-ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq)、トリス(4-メチル-8-キノリノレート)アルミニウム(III)(Almq)、8-ヒドロキシキノリン亜鉛(Znq)、(1,10-フェナントロリン)-トリス-(4,4,4-トリフルオロ-1-(2-チエニル)-ブタン-1,3-ジオネート)ユーロピウム(III)(Eu(TTA)(phen))、2,3,7,8,12,13,17,18-オクタエチル-21H,23H-ポルフィンプラチナム(II)等の各種金属錯体;ジスチリルベンゼン(DSB)、ジアミノジスチリルベンゼン(DADSB)等のベンゼン系化合物、ナフタレン、ナイルレッド等のナフタレン系化合物、フェナントレン等のフェナントレン系化合物、クリセン、6-ニトロクリセン等のクリセン系化合物、ペリレン、N,N’-ビス(2,5-ジ-t-ブチルフェニル)-3,4,9,10-ペリレン-ジ-カルボキシイミド(BPPC)等のペリレン系化合物、コロネン等のコロネン系化合物、アントラセン、ビススチリルアントラセン等のアントラセン系化合物、ピレン等のピレン系化合物、4-(ジ-シアノメチレン)-2-メチル-6-(パラ-ジメチルアミノスチリル)-4H-ピラン(DCM)等のピラン系化合物、アクリジン等のアクリジン系化合物、スチルベン等のスチルベン系化合物、4,4’-ビス[9-ジカルバゾリル]-2,2’-ビフェニル(CBP)、4,4’-ビス(9-エチル-3-カルバゾビニレン)-1,1’-ビフェニル(BCzVBi)等のカルバゾール系化合物、2,5-ジベンゾオキサゾールチオフェン等のチオフェン系化合物、ベンゾオキサゾール等のベンゾオキサゾール系化合物、ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系化合物、2,2’-(パラ-フェニレンジビニレン)-ビスベンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系化合物、ビスチリル(1,4-ジフェニル-1,3-ブタジエン)、テトラフェニルブタジエン等のブタジエン系化合物、ナフタルイミド等のナフタルイミド系化合物、クマリン等のクマリン系化合物、ペリノン等のペリノン系化合物、オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、アルダジン系化合物、1,2,3,4,5-ペンタフェニル-1,3-シクロペンタジエン(PPCP)等のシクロペンタジエン系化合物、キナクリドン、キナクリドンレッド等のキナクリドン系化合物、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン等のピリジン系化合物、2,2’,7,7’-テトラフェニル-9,9’-スピロビフルオレン等のスピロ化合物、フタロシアニン(HPc)、銅フタロシアニン等の金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、更には特開2009-155325号公報及び特許第5660371号公報に記載のホウ素化合物材料等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。また、量子ドットやペロブスカイト材料も発光層として用いることができる。 Examples of low molecular weight materials for forming the light emitting layer 6 include three-coordinate iridium complexes having 2,2'-bipyridine-4,4'-dicarboxylic acid as a ligand, such as factorys(2-phenylpyridine)iridium (Ir(ppy) 3 ), 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq 3 ), tris(4-methyl-8-quinolinolato)aluminum(III) (Almq 3 ), 8-hydroxyquinoline zinc (Znq 2 ), (1,10-phenanthroline)-tris-(4,4,4-trifluoro-1-(2-thienyl)-butane-1,3-dionate)europium(III) (Eu(TTA) 3 ), and the like. (phen)), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H,23H-porphine platinum (II) and other metal complexes; benzene-based compounds such as distyrylbenzene (DSB) and diaminodistyrylbenzene (DADSB), naphthalene-based compounds such as naphthalene and Nile Red, phenanthrene-based compounds such as phenanthrene, chrysene-based compounds such as chrysene and 6-nitrochrysene, perylene, N,N'-bis(2,5-di-t-butylphenyl)-3,4,9,10-perylene-di-cal perylene compounds such as bis(9-dicarbazolyl)-2,2'-biphenyl (BPPC), coronene compounds such as coronene, anthracene compounds such as anthracene and bisstyrylanthracene, pyrene compounds such as pyrene, pyran compounds such as 4-(di-cyanomethylene)-2-methyl-6-(para-dimethylaminostyryl)-4H-pyran (DCM), acridine compounds such as acridine, stilbene compounds such as stilbene, 4,4'-bis[9-dicarbazolyl]-2,2'-biphenyl (CBP), 4,4'-bis(9-ethyl-3-carbazolyl)-2,2'-biphenyl (CBP), carbazole compounds such as 2,5-dibenzoxazolethiophene; thiophene compounds such as 2,5-dibenzoxazolethiophene; benzoxazole compounds such as benzoxazole; benzimidazole compounds such as benzimidazole; benzothiazole compounds such as 2,2'-(para-phenylenedivinylene)-bisbenzothiazole; butadiene compounds such as bistyryl(1,4-diphenyl-1,3-butadiene) and tetraphenylbutadiene; naphthalimide compounds such as naphthalimide; Examples of the compounds include mide compounds, coumarin compounds such as coumarin, perinone compounds such as perinone, oxadiazole compounds such as oxadiazole, aldazine compounds, cyclopentadiene compounds such as 1,2,3,4,5-pentaphenyl-1,3-cyclopentadiene (PPCP), quinacridone compounds such as quinacridone and quinacridone red, pyridine compounds such as pyrrolopyridine and thiadiazolopyridine, spiro compounds such as 2,2',7,7'-tetraphenyl-9,9'-spirobifluorene, metal or non-metal phthalocyanine compounds such as phthalocyanine (H 2 Pc) and copper phthalocyanine, and boron compound materials described in JP-A-2009-155325 and JP-A-5660371. One or more of these compounds can be used. Quantum dots and perovskite materials can also be used as the light-emitting layer.

発光層6の平均厚さは、特に限定されないが、10~150nmであることが好ましく、20~100nmであることがより好ましい。
発光層6の平均厚さは、触針式段差計により測定してもよいし、水晶振動子膜厚計により発光層6の成膜時に測定してもよい。
The average thickness of the light-emitting layer 6 is not particularly limited, but is preferably from 10 to 150 nm, and more preferably from 20 to 100 nm.
The average thickness of the light-emitting layer 6 may be measured by a stylus type step gauge, or may be measured by a quartz crystal thickness gauge during the deposition of the light-emitting layer 6 .

(電子輸送層)
電子輸送層7の材料としては、電子を輸送可能な公知の材料を広く用いることができ、具体的には、フェニル-ジピレニルホスフィンオキサイド(POPy)等のホスフィンオキサイド誘導体、トリス-1,3,5-(3’-(ピリジン-3”-イル)フェニル)ベンゼン(TmPhPyB)等のピリジン誘導体、(2-(3-(9-カルバゾリル)フェニル)キノリン(mCQ))等のキノリン誘導体、2-フェニル-4,6-ビス(3,5-ジピリジルフェニル)ピリミジン(BPyPPM)等のピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、バソフェナントロリン(BPhen)等のフェナントロリン誘導体、2,4-ビス(4-ビフェニル)-6-(4’-(2-ピリジニル)-4-ビフェニル)-[1,3,5]トリアジン(MPT)、2,4,6-トリス(m-ピリジン-3-イル-フェニル)トリアジン(TmPPyTz)等のトリアジン誘導体、3-フェニル-4-(1’-ナフチル)-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール(TAZ)等のトリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、2-(4-ビフェニリル)-5-(4-tert-ブチルフェニル-1,3,4-オキサジアゾール)(PBD)等のオキサジアゾール誘導体、2,2’,2”-(1,3,5-ベントリイル)-トリス(1-フェニル-1-H-ベンズイミダゾール)(TPBI)等のイミダゾール誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、ビス[2-(2-ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(Zn(BTZ))、トリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq)等に代表される各種金属錯体、2,5-ビス(6’-(2’,2”-ビピリジル-1,1-ジメチル-3,4-ジフェニルシロール(PyPySPyPy)等のシロール誘導体に代表される有機シラン誘導体、特開2013-239691号公報、国際公開第2014/133141号、特開2016-172728号公報、特開2016-199507号公報及び特開2016-199508号公報に記載のホウ素含有化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
(Electron Transport Layer)
As the material for the electron transport layer 7, a wide variety of known materials capable of transporting electrons can be used. Specifically, phosphine oxide derivatives such as phenyl-dipyrenylphosphine oxide (POPy 2 ), pyridine derivatives such as tris-1,3,5-(3'-(pyridin-3"-yl)phenyl)benzene (TmPhPyB), quinoline derivatives such as (2-(3-(9-carbazolyl)phenyl)quinoline (mCQ)), pyrimidine derivatives such as 2-phenyl-4,6-bis(3,5-dipyridylphenyl)pyrimidine (BPyPPM), pyrazine derivatives, phenanthroline derivatives such as bathophenanthroline (BPhen), 2,4-bis(4-biphenyl)-6-(4'-(2-pyridinyl)-4-biphenyl)-[1,3,5]triazine (MPT), 2,4,6-tris(m-pyridin-3-yl-phenyl)pyrimidine (BPyPPM), pyrazine derivatives, phenanthroline derivatives such as 2,4-bis(4-biphenyl)-6-(4'-(2-pyridinyl)-4-biphenyl)-[1,3,5]triazine (MPT), triazine derivatives such as 3-phenyl-4-(1'-naphthyl)-5-phenyl-1,2,4-triazole (TAZ), triazole derivatives such as 2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl-1,3,4-oxadiazole) (PBD), imidazole derivatives such as 2,2',2"-(1,3,5-benzotriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole) (TPBI), aromatic ring tetracarboxylic anhydrides such as naphthalene and perylene, bis[2-(2-hydroxyphenyl)benzothiazolato]zinc (Zn(BTZ) 2 ), various metal complexes represented by tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum (Alq 3 ), and the like; organosilane derivatives represented by silole derivatives such as 2,5-bis(6'-(2',2"-bipyridyl-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole (PyPySPyPy); and boron-containing compounds described in JP-A-2013-239691, WO 2014/133141, JP-A-2016-172728, JP-A-2016-199507, and JP-A-2016-199508, and one or more of these can be used.

電子輸送層7の平均厚さは、特に限定されないが、10~150nmであることが好ましく、20~100nmであることが、より好ましい。
電子輸送層7の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定できる。
The average thickness of the electron transport layer 7 is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 nm, and more preferably 20 to 100 nm.
The average thickness of the electron transport layer 7 can be measured by a stylus step gauge or spectroscopic ellipsometry.

(電子注入層)
電子注入層8に用いられる材料は、陰極9の仕事関数と電子輸送層7のLUMOレベル等の観点から選ばれる。電子輸送層7を設けない場合には、発光層6に用いる材料のLUMOレベルを考慮して選ばれる。電子注入層8の材料は、有機化合物でも無機化合物でもよい。電子注入層8が、無機化合物からなるものである場合には、例えば、アルカリ金属や、アルカリ土類金属の他、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、炭酸セシウム等を用いることができる。また、電子注入層8が、有機化合物からなるものである場合には、例えば、8-キノリノラトリチウム(Liq)等を用いることができる。
(Electron Injection Layer)
The material used for the electron injection layer 8 is selected from the viewpoints of the work function of the cathode 9 and the LUMO level of the electron transport layer 7. When the electron transport layer 7 is not provided, the material is selected in consideration of the LUMO level of the material used for the light emitting layer 6. The material for the electron injection layer 8 may be an organic compound or an inorganic compound. When the electron injection layer 8 is made of an inorganic compound, for example, lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, cesium carbonate, etc., in addition to alkali metals and alkaline earth metals, can be used. When the electron injection layer 8 is made of an organic compound, for example, 8-quinolinolatolithium (Liq) can be used.

電子注入層8の平均厚さは、1nmから数μm程度まで許容できるが、低電圧で駆動できる有機EL素子とする点から、1~1000nmであることが好ましく、2~100nmであることが更に好ましい。電子注入層8の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。 The average thickness of the electron injection layer 8 can be from 1 nm to several μm, but in order to obtain an organic EL element that can be driven at a low voltage, it is preferably 1 to 1000 nm, and more preferably 2 to 100 nm. The average thickness of the electron injection layer 8 can be measured by a stylus step gauge or spectroscopic ellipsometry.

(形成方法)
図1に示す有機EL素子1は、基板2上に、陽極3と、正孔注入層4と、正孔輸送層5と、発光層6と、電子輸送層7と、電子注入層8と、陰極9をこの順に形成することにより製造できる。陽極3、正孔注入層4、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8、陰極9の各層の形成方法は、特に限定されず、各層に用いられる材料の特性に合わせて、従来公知の種々の形成方法を適宜用いて形成できる。各層を形成する方法としては、気相成膜法であるプラズマCVD、熱CVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、溶射法、そして液相成膜法である電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、ゾル・ゲル法、MOD法、スプレー熱分解法、微粒子分散液を用いたドクターブレード法、スピンコート法、インクジェット法、スクリーンプリンティング法等の印刷技術等を用いることができる。これらの方法は、各層の材料の特性に応じて選択するのが好ましく、層ごとに作製方法が異なっていてもよい。
(Formation method)
The organic EL element 1 shown in FIG. 1 can be manufactured by forming an anode 3, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a light emitting layer 6, an electron transport layer 7, an electron injection layer 8, and a cathode 9 in this order on a substrate 2. The method of forming each layer of the anode 3, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, the electron injection layer 8, and the cathode 9 is not particularly limited, and each layer can be formed by appropriately using various conventionally known forming methods according to the characteristics of the material used for each layer. As a method of forming each layer, a chemical vapor deposition method (CVD) such as plasma CVD, thermal CVD, and laser CVD, which is a gas phase film formation method, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, a thermal spraying method, a wet plating method such as electrolytic plating, immersion plating, and electroless plating, which is a liquid phase film formation method, a sol-gel method, a MOD method, a spray pyrolysis method, a doctor blade method using a fine particle dispersion, a spin coating method, an inkjet method, a screen printing method, and the like can be used. It is preferable to select these methods depending on the characteristics of the material of each layer, and the manufacturing method may differ for each layer.

本実施形態の有機EL素子1は、発光層6の材料を適宜選択することによって発光色を変化させることができるし、カラーフィルター等を併用して所望の発光色を得ることもできる。このため、本発明の有機EL素子は、表示装置や照明装置に好適に用いることができる。 The organic EL element 1 of this embodiment can change the emitted light color by appropriately selecting the material of the light-emitting layer 6, and can also obtain the desired emitted light color by using a color filter or the like in combination. For this reason, the organic EL element of the present invention can be suitably used in display devices and lighting devices.

(他の例)
本発明の有機EL素子は、上述した実施形態において説明した有機EL素子に限定されるものではない。
具体的には、上述した実施形態においては、基板2と発光層6との間に陽極3が配置された順構造の有機EL素子1を例に挙げて説明したが、本発明の有機EL素子は、基板と発光層との間に陰極が配置された逆構造のものであってもよい。
(Other examples)
The organic EL element of the present invention is not limited to the organic EL element described in the above-mentioned embodiment.
Specifically, in the above-described embodiment, the organic EL element 1 having a forward structure in which the anode 3 is disposed between the substrate 2 and the light-emitting layer 6 has been described as an example, but the organic EL element of the present invention may have an inverted structure in which the cathode is disposed between the substrate and the light-emitting layer.

また、本発明の有機EL素子においては、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層は、必要に応じて形成すればよく、設けられていなくてもよい。
また、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極の各層は、1層で形成されているものであってもよいし、2層以上からなるものであってもよい。
また、本発明の有機EL素子は、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極の各層の間に、他の層を有するものであってもよい。具体的には、有機EL素子の特性をさらに向上させる等の理由から、必要に応じて、電子阻止層等を有していてもよい。
In the organic EL element of the present invention, the hole transport layer, the electron transport layer and the electron injection layer may be formed as necessary, and may not be provided.
In addition, each of the anode, hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, electron transport layer, electron injection layer, and cathode may be formed as a single layer or may be formed as two or more layers.
The organic EL device of the present invention may have other layers between the anode, hole injection layer, hole transport layer, light emitting layer, electron transport layer, electron injection layer, and cathode. Specifically, the organic EL device may have an electron blocking layer, etc., if necessary, for the purpose of further improving the properties of the organic EL device.

[表示装置]
本発明の表示装置は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする。本発明の表示装置は、上述した駆動電圧が低く、駆動安定性に優れた有機EL素子を具えるため、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。本発明の表示装置は、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子の他に、表示装置に一般に用いられる他の部品を具えることができる。
[Display Device]
The display device of the present invention is characterized by comprising the organic electroluminescence element described above. The display device of the present invention has a low driving voltage and excellent driving stability because it comprises the organic EL element described above, which has a low driving voltage and excellent driving stability. The display device of the present invention can comprise, in addition to the organic electroluminescence element described above, other components that are generally used in display devices.

[照明装置]
本発明の照明装置は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする。本発明の照明装置は、上述した駆動電圧が低く、駆動安定性に優れた有機EL素子を具えるため、駆動電圧が低く、駆動安定性に優れる。本発明の照明装置は、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子の他に、照明装置に一般に用いられる他の部品を具えることができる。
[Lighting equipment]
The lighting device of the present invention is characterized by comprising the organic electroluminescence element described above. The lighting device of the present invention has a low driving voltage and excellent driving stability because it comprises the organic EL element described above, which has a low driving voltage and excellent driving stability. The lighting device of the present invention can comprise other components commonly used in lighting devices in addition to the organic electroluminescence element described above.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<NMRの測定方法>
JEOL社のAL400を用いた。なお、分光計はAL-Series分光計であり、プローブはTH5ATFG2プローブである。
<NMR measurement method>
The spectrometer used was an AL-Series spectrometer, and the probe was a TH5ATFG2 probe.

<構造式(3)で表される化合物(DF4CA-TT)の合成方法>
100mLの反応器にビストリメチルスタニルビチオフェン(1.2g、2.57mmol、1.0eq.)、4-ブロモ-2,3,5,6-テトラフルオロ安息香酸メチル(1.85g、6.44mmol、2.5eq.)、(PhP)Pd(89mg、0.773mmol、0.03eq.)、脱酸素無水トルエン(25mL)を加えた。この溶液を110℃に昇温し、18時間攪拌した。この懸濁液を放冷、ヘキサン(20mL)加え、析出した固体を分離した。濾過床をエタノールにて洗浄、高真空下、60℃で乾燥を行い、ベージュ色の粉末(1.09g)を得た。これにクロロベンゼン(350mL)加え、130℃に加熱、スカベンジャー(キョーワード1000)(1.1g)を加えて攪拌し、この懸濁液を100℃以下にならないようにセライト濾過し、濾過床を加熱したクロロベンゼン(50mL)でかけ洗い、濾過部をそのまま放冷した。濾過床は130℃に加温したクロロベンゼン(80mL)にて分散洗浄後、ガレオンアースV2R(2g)を加え5分間攪拌後、内温が80℃以上で、セライト濾過した。濾過液を合わせて16時間静置し、析出した固体を濾過、濾過床を酢酸エチル、エタノールにて順次洗浄を行った。高真空下、80℃で乾燥し、橙色の粉末(0.78g)を得た。得られた粉末は、19F-NMR、H-NMRにより、下記構造式(5)で表される化合物であることを確認した。
続いて500mLの反応器に、構造式(5)で表される化合物(0.76g、0.923mmol、1.0eq.)、4NのNaOH水溶液(7.06mL、28.2mmol、20eq.)、THF(156mL)を加えた。この混合液をバス温75℃で36時間攪拌した。放冷後、この黄色懸濁液に2NのHCl水溶液(15mL)をゆっくり滴下し、酸性の黄色溶液を得た。この溶液に蒸留水(200mL)を加え、析出した固体をメンブラン濾過、濾過床を洗液が中性になるまで蒸留水でかけ洗いを行った後、小量のメタノールにて洗浄、高真空下、60℃で乾燥を行い、橙色の粉末(0.62g)を得た。この固体を加熱アセトニトリル、酢酸エチル、アセトンにて順次洗浄を行い、さらにTHFで加熱分散洗浄、高真空下、90℃で加熱し、下記構造式(3)で表される化合物(DF4CA-TT)(0.5g、0.953mmol)を得た。HPLCにより測定した純度は、90.1%であった。合成スキームは、以下の通りである。また、合成物は、19F-NMR、H-NMRにて確認した(図2及び図3)。

Figure 0007644638000009
<Method for synthesizing compound (DF4CA-TT) represented by structural formula (3)>
Bistrimethylstannylbithiophene (1.2 g, 2.57 mmol, 1.0 eq.), methyl 4-bromo-2,3,5,6-tetrafluorobenzoate (1.85 g, 6.44 mmol, 2.5 eq.), (Ph 3 P) 4 Pd (89 mg, 0.773 mmol, 0.03 eq.), and deoxygenated anhydrous toluene (25 mL) were added to a 100 mL reactor. The solution was heated to 110° C. and stirred for 18 hours. The suspension was allowed to cool, and hexane (20 mL) was added to separate the precipitated solid. The filter bed was washed with ethanol and dried at 60° C. under high vacuum to obtain a beige powder (1.09 g). Chlorobenzene (350 mL) was added to this, heated to 130°C, scavenger (Kyoward 1000) (1.1 g) was added and stirred, the suspension was filtered through Celite so that the temperature did not fall below 100°C, the filter bed was washed with heated chlorobenzene (50 mL), and the filter part was allowed to cool. The filter bed was dispersed and washed with chlorobenzene (80 mL) heated to 130°C, Galleon Earth V2R (2 g) was added, stirred for 5 minutes, and filtered through Celite when the internal temperature was 80°C or higher. The filtrate was combined and left to stand for 16 hours, the precipitated solid was filtered, and the filter bed was washed successively with ethyl acetate and ethanol. The mixture was dried under high vacuum at 80°C to obtain an orange powder (0.78 g). The obtained powder was confirmed to be a compound represented by the following structural formula (5) by 19 F-NMR and 1 H-NMR.
Next, a compound represented by structural formula (5) (0.76 g, 0.923 mmol, 1.0 eq.), 4N NaOH aqueous solution (7.06 mL, 28.2 mmol, 20 eq.), and THF (156 mL) were added to a 500 mL reactor. The mixture was stirred at a bath temperature of 75 ° C. for 36 hours. After cooling, 2N HCl aqueous solution (15 mL) was slowly dropped into the yellow suspension to obtain an acidic yellow solution. Distilled water (200 mL) was added to the solution, and the precipitated solid was filtered through a membrane, and the filter bed was washed with distilled water until the washing liquid became neutral, after which it was washed with a small amount of methanol and dried at 60 ° C. under high vacuum to obtain an orange powder (0.62 g). This solid was washed successively with heated acetonitrile, ethyl acetate, and acetone, and further washed by heating and dispersion with THF, and heated at 90° C. under high vacuum to obtain a compound (DF4CA-TT) (0.5 g, 0.953 mmol) represented by the following structural formula (3). The purity measured by HPLC was 90.1%. The synthesis scheme is as follows. The synthesized product was confirmed by 19 F-NMR and 1 H-NMR (FIGS. 2 and 3).
Figure 0007644638000009

<構造式(4)で表される化合物(F6-DCN)の合成方法>
アルゴン雰囲気下、200mLの反応器にオクタフルオロナフタレン(5.0g、18.3mmol、1.0eq.)、無水ジエチルエーテル(50mL)を加えた。水浴下、この溶液にメチルリチウム(1.1mol/LのEtO溶液)(35.1mL、38.6mmol、2.1eq.)を15分間かけて加え、そのまま1時間攪拌後、冷却バスを外して室温下、14時間攪拌した。この溶液に3%の塩化アンモニウム水溶液(50mL)にてクエンチ、有機層と水層を分けた。水層をヘキサン/酢酸エチル=1/1(100mL×2)で抽出、有機層を合わせて市水、飽和食塩水にて順次洗浄、乾燥後、濃縮し、薄黄色の固体(6.92g)を得た。これをカラム精製(SiO=55g、加熱へプタンのみ)し、無色の固体である、下記構造式(6)で表される化合物(4.35g、16.4mmol、89%)を得た。これを19F-NMR、H-NMRにて分析したところ、1,6-置換体と1,7-置換体との混合物であることが分かった。
続いて、100mLの反応器に、構造式(6)で表される化合物(4.35g、16.5mmol、1.0eq.)、NBS(8.79g、49.4mmol、3.0eq.)、BPO(1.06g、3.29mmol、0.2eq.)、四塩化炭素(60mL)を加えた。この懸濁液を75℃に加熱し、同温で18時間攪拌した。放冷後、この懸濁液を市水(100mL)にあけて、クロロホルム(100mL)を加えて、2層に分けた。水層をクロロホルム(50mL)にて抽出、有機層を合わせて市水、飽和食塩水にて順次洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、褐色の固体(8.9g)を得た。これをカラム精製(SiO=100g、へプタン/クロロホルム=1/1)し、無色の固体(5.76g、13.6mmol、82%)を得た。続いて、100mLの反応器に、この無色の固体(3.7g、8.77mmol、1.0eq.)、酢酸ナトリウム(1.8g、21.9mmol、2.5eq.)、18-クラウン 6-エーテル(0.463g、1.75mmol、0.2eq.)、無水アセトニトリル(40mL)を加えた。この懸濁液をバス温80℃に昇温し、同温で12時間攪拌した。放冷後、この懸濁を濃縮、残渣に市水(30mL)、酢酸エチル(30mL)を加え、2層に分けた。水層を酢酸エチル(25mL)で抽出、有機層を合わせて市水、飽和食塩水にて順次洗浄、乾燥後、濃縮し、赤黒褐色の粉末(3.27g)を得た。これをカラム精製(SiO=120g、へプタン/酢酸エチル=4/1→3/1)し、無色の固体である、下記構造式(7)で表される化合物(2.29g、6.02mmol、68%、1,6-置換体と1,7-置換体との混合物)を得た。
100mLの反応器に、構造式(7)で表される化合物(2.29g、6.02mmol、1eq.)、THF(23mL)、4N-NaOH水溶液(6mL、24.1mmol、4.0eq.)を加え、バス温60℃で6時間攪拌した。放冷後、溶液に10%塩化アンモニウム水溶液(20mL)、酢酸エチル(50mL)を加え2層に分けた。水層を酢酸エチル(25mL)で抽出、有機層を合わせて市水、飽和食塩水にて順次洗浄、乾燥後、濃縮し、赤黒褐色の粉末(2.41g)を得た。これをカラム精製(NH-SiO=50g、ヘプタン/酢酸エチル=1/1→1/2)し、無色の固体(1.19g、4.01mmol、66%)を得た。続いて、100mLの反応器に、この固体(1.19g、4.02mmol、1.0eq.)、アセトン(30mL)を加えた。この懸濁液に、Jones試薬を内容液が赤褐色になる迄滴下した(ca.8g、過剰)。これを、2時間室温下攪拌後、内容液の色が薄黄色になるまで2-プロパノールを加え、同温で2時間攪拌した。これに市水(80mL)、ジエチルエーテル(80mL)を加え、2層に分けた。水層をジエチルエーテル(50mL)にて抽出、有機層を合わせて市水、飽和食塩水にて順次洗浄、乾燥、濃縮し、薄黄色の粉末(1.36g)を得た。この粉末をアセトニトリル(20mL)にて加熱溶解させ、不溶の固体を熱いままメンブラン遮過、遮液を半量になる迄濃縮、クロロホルム(10mL)加え、攪拌し、析出した固体を濾過し、濾液を濃縮し、残渣にアセトニトリル(5mL)加え、加熱攪拌、放冷後濾過し、濾過床をアセトンにて分散洗浄、高真空下、60℃で3時間乾燥を行い、下記構造式(4)で表される化合物(F6-DCN)(0.52g、1.60mmol)を得た。HPLCにより測定した純度は88.6%であった。合成スキームは、以下の通りである。また、合成物は、19F-NMR、H-NMRにて確認した(図4及び図5)。

Figure 0007644638000010
<Method for synthesizing compound (F6-DCN) represented by structural formula (4)>
Octafluoronaphthalene (5.0 g, 18.3 mmol, 1.0 eq.) and anhydrous diethyl ether (50 mL) were added to a 200 mL reactor under an argon atmosphere. Methyllithium (1.1 mol/L Et 2 O solution) (35.1 mL, 38.6 mmol, 2.1 eq.) was added to this solution over 15 minutes in a water bath, and the solution was stirred for 1 hour. The cooling bath was then removed and the solution was stirred at room temperature for 14 hours. The solution was quenched with 3% aqueous ammonium chloride solution (50 mL), and the organic layer and aqueous layer were separated. The aqueous layer was extracted with hexane/ethyl acetate = 1/1 (100 mL x 2), and the organic layer was combined, washed with city water and saturated saline, dried, and concentrated to obtain a light yellow solid (6.92 g). This was purified by column chromatography (SiO 2 = 55 g, heated heptane only) to obtain a colorless solid compound (4.35 g, 16.4 mmol, 89%) represented by the following structural formula (6), which was analyzed by 19 F-NMR and 1 H-NMR and found to be a mixture of 1,6- and 1,7-substituted compounds.
Next, a compound represented by structural formula (6) (4.35 g, 16.5 mmol, 1.0 eq.), NBS (8.79 g, 49.4 mmol, 3.0 eq.), BPO (1.06 g, 3.29 mmol, 0.2 eq.), and carbon tetrachloride (60 mL) were added to a 100 mL reactor. The suspension was heated to 75° C. and stirred at the same temperature for 18 hours. After cooling, the suspension was poured into city water (100 mL) and chloroform (100 mL) was added to separate into two layers. The aqueous layer was extracted with chloroform (50 mL), and the organic layer was combined and washed with city water and saturated saline, dried over sodium sulfate, and concentrated to obtain a brown solid (8.9 g). This was purified using a column (SiO 2 =100 g, heptane/chloroform=1/1) to obtain a colorless solid (5.76 g, 13.6 mmol, 82%). Next, this colorless solid (3.7 g, 8.77 mmol, 1.0 eq.), sodium acetate (1.8 g, 21.9 mmol, 2.5 eq.), 18-crown 6-ether (0.463 g, 1.75 mmol, 0.2 eq.), and anhydrous acetonitrile (40 mL) were added to a 100 mL reactor. The bath temperature of this suspension was raised to 80° C., and the suspension was stirred at the same temperature for 12 hours. After cooling, the suspension was concentrated, and city water (30 mL) and ethyl acetate (30 mL) were added to the residue, and the mixture was separated into two layers. The aqueous layer was extracted with ethyl acetate (25 mL), and the organic layer was combined, washed with city water and saturated saline, dried, and then concentrated to obtain a reddish-brown powder (3.27 g). This was purified using a column (SiO 2 =120 g, heptane/ethyl acetate = 4/1 → 3/1) to obtain a colorless solid compound represented by the following structural formula (7) (2.29 g, 6.02 mmol, 68%, mixture of 1,6-substituted and 1,7-substituted compounds).
A compound represented by the structural formula (7) (2.29 g, 6.02 mmol, 1 eq.), THF (23 mL), and 4N-NaOH aqueous solution (6 mL, 24.1 mmol, 4.0 eq.) were added to a 100 mL reactor, and the mixture was stirred at a bath temperature of 60° C. for 6 hours. After cooling, a 10% ammonium chloride aqueous solution (20 mL) and ethyl acetate (50 mL) were added to the solution to separate it into two layers. The aqueous layer was extracted with ethyl acetate (25 mL), and the organic layer was combined and washed with city water and saturated saline in that order, dried, and concentrated to obtain a reddish-black brown powder (2.41 g). This was purified by column purification (NH-SiO 2 = 50 g, heptane/ethyl acetate = 1/1 → 1/2) to obtain a colorless solid (1.19 g, 4.01 mmol, 66%). Next, this solid (1.19 g, 4.02 mmol, 1.0 eq.) and acetone (30 mL) were added to a 100 mL reactor. Jones reagent was added dropwise to this suspension until the content turned reddish brown (ca. 8 g, excess). After stirring this for 2 hours at room temperature, 2-propanol was added until the content turned pale yellow, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. City water (80 mL) and diethyl ether (80 mL) were added to this, and the mixture was separated into two layers. The aqueous layer was extracted with diethyl ether (50 mL), and the organic layer was combined, washed with city water and saturated saline, dried, and concentrated to obtain a pale yellow powder (1.36 g). This powder was dissolved by heating in acetonitrile (20 mL), the insoluble solid was filtered through a membrane while still hot, the filtered solution was concentrated to half its volume, chloroform (10 mL) was added, the mixture was stirred, the precipitated solid was filtered, the filtrate was concentrated, acetonitrile (5 mL) was added to the residue, the mixture was heated and stirred, the mixture was allowed to cool, and then filtered. The filter bed was dispersed and washed with acetone, and dried at 60° C. for 3 hours under high vacuum to obtain a compound (F6-DCN) (0.52 g, 1.60 mmol) represented by the following structural formula (4). The purity measured by HPLC was 88.6%. The synthesis scheme is as follows. The synthesized product was also confirmed by 19 F-NMR and 1 H-NMR (FIGS. 4 and 5).
Figure 0007644638000010

(実施例1)
<有機EL素子の製造>
以下に示す方法により、有機EL素子1を製造した。
基板2として、ITOからなる厚み150nmのパターニングされた電極(陽極3)が形成されている平均厚さ0.7mmの市販されている透明ガラス基板を用意した。そして、陽極3を有する基板2を、弱アルカリ洗浄剤中、アセトン中、イソプロパノール中で超音波洗浄し、その後、UVオゾン洗浄を20分間行った。その後、大気下で、150℃、30分のアニール処理を実施し、Oプラズマを5分間照射した。次に、基板2を真空蒸着装置のチャンバー内の基板ホルダーに固定し、真空蒸着装置のチャンバー内を2×10-5Paの圧力となるまで減圧して、抵抗加熱による真空蒸着法により、正孔注入層4、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8、陰極9を連続して形成した。
Example 1
<Manufacture of Organic EL Element>
Organic EL element 1 was produced by the following method.
As the substrate 2, a commercially available transparent glass substrate with an average thickness of 0.7 mm on which a patterned electrode (anode 3) made of ITO with a thickness of 150 nm was formed was prepared. Then, the substrate 2 having the anode 3 was ultrasonically cleaned in a weak alkaline cleaner, in acetone, and in isopropanol, and then UV ozone cleaning was performed for 20 minutes. Then, an annealing treatment was performed at 150° C. for 30 minutes in the atmosphere, and O 2 plasma was irradiated for 5 minutes. Next, the substrate 2 was fixed to a substrate holder in a chamber of a vacuum deposition apparatus, and the pressure in the chamber of the vacuum deposition apparatus was reduced to a pressure of 2×10 −5 Pa, and a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a light-emitting layer 6, an electron transport layer 7, an electron injection layer 8, and a cathode 9 were successively formed by a vacuum deposition method using resistance heating.

まず、上記構造式(3)で表される化合物(DF4CA-TT)を第1材料(ドーパント)、下記構造式(8)で表される化合物(TPTE)を第2材料(ホスト)として、15nm共蒸着を実施し、第1材料と第2材料の混合物からなる正孔注入層4を成膜した。この時、第1材料の濃度は、正孔注入層4全体の5質量%となるよう調節した。

Figure 0007644638000011
First, a compound (DF4CA-TT) represented by the above structural formula (3) was used as a first material (dopant) and a compound (TPTE) represented by the following structural formula (8) was used as a second material (host) to perform co-evaporation to a thickness of 15 nm to form a hole injection layer 4 made of a mixture of the first material and the second material. At this time, the concentration of the first material was adjusted to 5 mass % of the entire hole injection layer 4.
Figure 0007644638000011

続いて、下記構造式(9)で表される化合物(α-NPD)からなる厚み35nmの正孔輸送層5を形成した。

Figure 0007644638000012
Subsequently, a hole transport layer 5 having a thickness of 35 nm and made of a compound (α-NPD) represented by the following structural formula (9) was formed.
Figure 0007644638000012

続いて、下記構造式(10)で表される化合物(Zn(BTZ))をホスト、下記構造式(11)で表される化合物(Ir(piq))をドーパントとして30nm共蒸着し、発光層6を成膜した。この時、ドープ濃度は、Ir(piq)が発光層6全体に対して6質量%となるようにした。

Figure 0007644638000013
Subsequently, a compound (Zn(BTZ) 2 ) represented by the following structural formula (10) was used as a host, and a compound (Ir(piq) 3 ) represented by the following structural formula (11) was used as a dopant, and co-evaporated to a thickness of 30 nm to form an emitting layer 6. At this time, the doping concentration of Ir(piq) 3 was set to 6 mass % relative to the entire emitting layer 6.
Figure 0007644638000013

次に、発光層6まで形成した基板上に、下記構造式(12)で表される化合物(TmPPyTz)を50nm、下記構造式(13)で表される化合物(Liq)を1.2nm成膜し、それぞれ電子輸送層7、電子注入層8を形成した。

Figure 0007644638000014
Next, on the substrate on which the light-emitting layer 6 had been formed, a compound (TmPPyTz) represented by the following structural formula (12) was formed to a thickness of 50 nm, and a compound (Liq) represented by the following structural formula (13) was formed to a thickness of 1.2 nm, to form an electron transport layer 7 and an electron injection layer 8, respectively.
Figure 0007644638000014

次に、電子注入層8まで形成した基板上に、アルミニウムからなる膜厚100nmの陰極9を成膜した。
なお、陰極9は、ステンレス製の蒸着マスクを用いて、蒸着面が幅3mmの帯状になるように形成し、作製した有機EL素子1の発光面積を9mmとした。
Next, a cathode 9 made of aluminum and having a thickness of 100 nm was formed on the substrate on which the electron injection layer 8 had been formed.
The cathode 9 was formed using a stainless steel deposition mask so that the deposition surface would be in the shape of a strip having a width of 3 mm, and the light-emitting area of the fabricated organic EL element 1 was 9 mm2 .

(実施例2)
実施例1において、正孔注入層4の第1材料(ドーパント)を、上記構造式(4)で表される化合物(F6-DCN、第1材料)に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の有機EL素子1を得た。
Example 2
An organic EL element 1 of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the first material (dopant) of the hole injection layer 4 in Example 1 was changed to the compound represented by the above structural formula (4) (F6-DCN, first material).

(実施例3)
実施例1において、ITOからなる陽極3上に、上記構造式(3)で表される化合物(DF4CA-TT、第1材料)を1nm成膜し、その上に上記構造式(5)で表される化合物(TPTE、第2材料)を15nm成膜した積層膜を正孔注入層4とした以外は、実施例1と同様にして、実施例3の有機EL素子1を得た。
Example 3
An organic EL element 1 of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that in Example 1, a layer of the compound represented by the above structural formula (3) (DF4CA-TT, first material) was formed to a thickness of 1 nm on an anode 3 made of ITO, and a layer of the compound represented by the above structural formula (5) (TPTE, second material) was formed to a thickness of 15 nm thereon to form a laminated layer.

(比較例1)
実施例1において、ITOからなる陽極3上に、上記構造式(5)で表される化合物(TPTE、第2材料)を15nm成膜した膜を正孔注入層4とした以外は、実施例1と同様にして、比較例1の有機EL素子1を得た。
(Comparative Example 1)
An organic EL element 1 of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that a film of the compound represented by the above structural formula (5) (TPTE, second material) was formed to a thickness of 15 nm on the anode 3 made of ITO in Example 1 to serve as the hole injection layer 4.

<有機EL素子の発光特性測定>
実施例1~3、比較例1で作製した有機EL素子に対して、ケースレー社製の「2400型ソースメーター」を用いて電圧を印加し、コニカミノルタ社製の「LS-100」を用いて輝度を測定し、印加電圧と輝度の関係、及び初期輝度1000nitsとした場合の輝度の定電流密度下の経時変化を調べた。その結果を図6と図7に示す。
<Measurement of Light Emitting Characteristics of Organic EL Element>
A voltage was applied to the organic EL elements produced in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 using a Keithley 2400 Source Meter, and the luminance was measured using a Konica Minolta LS-100 to examine the relationship between the applied voltage and the luminance, and the change over time in the luminance under a constant current density when the initial luminance was 1000 nits. The results are shown in Figures 6 and 7.

<結果>
実施例1~3の総てにおいて、比較例1に対し低駆動電圧・長寿命な有機EL素子が得られた。
特に、正孔注入層4を第1材料と第2材料の混合膜として形成した実施例1及び2については、低電圧化に加え、2倍以上の長寿命化を達成できており、酸性材料の効果による低電圧化・長寿命化の効果が表れているものと考えられる。
<Results>
In all of Examples 1 to 3, organic EL elements having a lower driving voltage and a longer life than those in Comparative Example 1 were obtained.
In particular, in Examples 1 and 2 in which the hole injection layer 4 was formed as a mixed film of the first material and the second material, in addition to reducing the voltage, a lifespan that was more than twice as long was achieved, which is considered to be due to the effects of the acidic material in reducing the voltage and lengthening the lifespan.

本発明の有機薄膜は、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置等に利用できる。 The organic thin film of the present invention can be used in organic electroluminescence devices, display devices, lighting devices, etc.

1:有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子
2:基板
3:陽極
4:正孔注入層
5:正孔輸送層
6:発光層
7:電子輸送層
8:電子注入層
9:陰極
1: Organic EL (electroluminescence) element 2: Substrate 3: Anode 4: Hole injection layer 5: Hole transport layer 6: Light-emitting layer 7: Electron transport layer 8: Electron injection layer 9: Cathode

Claims (10)

下記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする、有機薄膜。
Figure 0007644638000015
(一般式(1)中、Rは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。nは、2~6の整数である。)
An organic thin film, characterized in that it is a single film containing a first material, which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the following general formula (1), and a second material that transports holes, or a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 0007644638000015
(In general formula (1), R 1 represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom. n is an integer from 2 to 6.)
前記第1材料は、上記一般式(1)におけるnが2又は3のテトラフルオロ安息香酸誘導体である、請求項1に記載の有機薄膜。 The organic thin film according to claim 1, wherein the first material is a tetrafluorobenzoic acid derivative in which n in the general formula (1) is 2 or 3. 陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陽極と前記発光層との間に、下記一般式(1)で表される構造を有するテトラフルオロ安息香酸誘導体である第1材料を含む層を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
Figure 0007644638000016
(一般式(1)中、Rは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アリールアルキレン基、2価若しくは3価の環状炭化水素基、又は、これらの基を2つ以上組み合わせてできる基、これらの基の1つ若しくは2つ以上と硫黄原子とを組み合わせてできる基を表す。nは、2~6の整数である。)
An organic electroluminescence element having a light-emitting layer between a cathode and an anode,
An organic electroluminescence element, comprising a layer between the anode and the light-emitting layer, the layer containing a first material which is a tetrafluorobenzoic acid derivative having a structure represented by the following general formula (1):
Figure 0007644638000016
(In general formula (1), R 1 represents an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, an aryl alkylene group, a divalent or trivalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a group formed by combining two or more of these groups, or a group formed by combining one or more of these groups with a sulfur atom. n is an integer from 2 to 6.)
前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料を含む層と、正孔を輸送する第2材料を含む層と、の積層膜を有する、請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 3, having a laminated film of a layer containing the first material and a layer containing a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer. 前記陽極と前記発光層との間に、前記第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む層を有し、
前記発光層と、前記第1材料と前記第2材料とを含む層と、の間に、前記第2材料を含む層を有する、請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
a layer including the first material and a second material that transports holes between the anode and the light-emitting layer;
The organic electroluminescence device according to claim 3 , further comprising a layer containing the second material between the light emitting layer and the layer containing the first material and the second material.
下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体である第1材料と、正孔を輸送する第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜であることを特徴とする、有機薄膜。
Figure 0007644638000017
(一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。)
An organic thin film, characterized in that it is a single film containing a first material, which is a fluoronaphthalene dicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2), and a second material that transports holes, or a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 0007644638000017
(In general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.)
下記一般式(2)で表される構造を有するフルオロナフタレンジカルボン酸誘導体を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
Figure 0007644638000018
(一般式(2)中、R及びRのいずれか一方は、カルボキシル基であり、もう一方は、フッ素元素、トリフルオロメチル基、シアノ基、又はニトロ基である。)
A material for an organic electroluminescence device, comprising a fluoronaphthalenedicarboxylic acid derivative having a structure represented by the following general formula (2):
Figure 0007644638000018
(In general formula (2), one of R2 and R3 is a carboxyl group, and the other is a fluorine group, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a nitro group.)
陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陽極と前記発光層との間に、請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を含む層を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
An organic electroluminescence element having a light-emitting layer between a cathode and an anode,
10. An organic electroluminescence device comprising a layer comprising the material for an organic electroluminescence device according to claim 7 between said anode and said light-emitting layer.
請求項3~5及び8のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、表示装置。 A display device comprising an organic electroluminescence element according to any one of claims 3 to 5 and 8. 請求項3~5及び8のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、照明装置。 A lighting device comprising an organic electroluminescence element according to any one of claims 3 to 5 and 8.
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