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JP7645622B2 - Dry Films and Laminates - Google Patents
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Description

本発明は、ドライフィルムに関し、より詳細には、フレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして、ガラス基板/樹脂層の積層体等の製造に好適に使用できるドライフィルムに関する。 The present invention relates to a dry film, and more specifically, to a dry film that can be suitably used in the manufacture of glass substrate/resin layer laminates, etc., as a cover window for a flexible display element.

液晶ディスプレイ(LCD)や有機ELディスプレイ(OLED)等の表示素子や電子ペーパー等の電子デバイスの分野では、従来のフラットパネルに加えて屈曲性を有するフレキシブルパネルが採用され始めている。特に近年では、折り曲げ可能なディスプレイを備えた電子デバイスの開発が進められている。 In the field of electronic devices such as display elements such as liquid crystal displays (LCDs) and organic light-emitting diode displays (OLEDs) and electronic paper, flexible panels that have flexibility are beginning to be adopted in addition to conventional flat panels. In particular, in recent years, there has been progress in the development of electronic devices equipped with foldable displays.

上記したようなフレキシブルデバイスのカバーウィンドウには、従来のガラス基板に代えて、ポリイミド等の有機高分子材料を使用することが提案され、一部では実用化されている。しかしながら、これら高分子材料はガラス基板と比較すると剛性や硬度が劣るため、フレキシブルパネルに使用した場合に屈曲が繰り返されるとシワやヨレが生じたり、表面に傷が付きやすいといった問題がある。 Instead of the conventional glass substrate, it has been proposed to use organic polymer materials such as polyimide for the cover windows of flexible devices such as those described above, and some of these have been put to practical use. However, these polymer materials are inferior in rigidity and hardness to glass substrates, and when used in flexible panels, they can cause wrinkles and kinks when repeatedly bent, and the surface can easily become scratched.

また、従来のガラス基板を数十ミクロン程度の極薄ガラスにすることで、表示パネルとしての平坦性や高級感といった質感は維持しながら、屈曲性を持たせることも提案されている。極薄ガラスはある程度の屈曲半径を有するものの、ガラス特有の性質である圧縮強度や耐衝撃性が低いといった問題がある。そこで、近年では、化学強化した極薄ガラスを使用することが試みられている。 It has also been proposed to make the conventional glass substrate into an ultra-thin glass substrate of about several tens of microns, which would allow the display panel to maintain its flatness and luxurious feel while still being flexible. Although ultra-thin glass has a certain degree of bending radius, it has problems with low compressive strength and impact resistance, which are inherent properties of glass. As a result, in recent years, attempts have been made to use chemically strengthened ultra-thin glass.

しかしながら、化学強化極薄ガラスは、通常の極薄ガラスと比べて、圧縮強度、曲げ強度、耐衝撃性等には優れているものの、耐穿刺性(先の尖ったようなもので押圧した際の耐破損性)に劣ることから、実際は、柔軟性のある接着剤を介してポリエステルフィルム等の保護フィルムで化学強化極薄ガラスを挟持した構造のものが提案されている。 However, although chemically strengthened ultra-thin glass is superior to ordinary ultra-thin glass in terms of compressive strength, bending strength, impact resistance, etc., it is inferior in puncture resistance (resistance to breakage when pressed with a sharp object), so in practice, a structure has been proposed in which the chemically strengthened ultra-thin glass is sandwiched between a protective film such as a polyester film, with a flexible adhesive in between.

ところで、ディスプレイ用基板の技術分野においても、水蒸気バリア特性と可撓性とを両立する材料として、ガラス基板にポリイミド樹脂層を積層した複合基板を使用することが提案されている(例えば、特許文献1~3)。 Incidentally, in the technical field of display substrates, the use of composite substrates in which a polyimide resin layer is laminated onto a glass substrate has been proposed as a material that combines water vapor barrier properties with flexibility (for example, Patent Documents 1 to 3).

特表2002-534305号公報Special Publication No. 2002-534305 特表2015-533685号公報Special Publication No. 2015-533685 特開2019-214159号公報JP 2019-214159 A

フレキシブルデバイスに使用されるディスプレイのカバーウィンドウ等の用途において、折り曲げ可能な極薄ガラスに樹脂フィルムを積層した積層体が提案されているものの、上記したように、樹脂フィルムないしは接着剤には、極薄ガラスとの密着性と衝撃吸収性の観点から柔らかい材料が使用されている。そのため、カバーウィンドウとして使用した場合に表面硬度が不足してディスプレイ表面に傷や凹みが付いたり、極薄ガラスを使用する利点である平坦性や高級感といった質感が損なわれるといった問題もある。また、極薄フィルムと樹脂フィルムとを接着剤を介して貼り合わせる工程が必要なことや、接着剤に衝撃吸収性を持たせるためにはある程度の厚さが必要になるため、カバーウィンドウの総厚みを薄くできないといった問題もある。 For applications such as cover windows for displays used in flexible devices, laminates in which a resin film is laminated onto ultra-thin bendable glass have been proposed. However, as mentioned above, soft materials are used for the resin film or adhesive in terms of adhesion to the ultra-thin glass and shock absorption. Therefore, when used as a cover window, there are problems such as insufficient surface hardness, causing scratches and dents on the display surface, and loss of the texture such as flatness and luxurious feel that are advantages of using ultra-thin glass. In addition, there are problems such as the need for a process to bond the ultra-thin film and the resin film together via an adhesive, and the fact that a certain thickness is required to give the adhesive shock absorption properties, making it impossible to reduce the total thickness of the cover window.

本発明者らは、上記課題に対して鋭意研究する中、透明性に優れるポリイミドに着目し、ポリイミドワニスをガラス基板に塗布して乾燥させ、ガラス基板/ポリイミド層の積層体を作製したところ、この積層体が、表面硬度と耐衝撃性とを高次元で両立できることがわかった。しかし、同様に極薄ガラス基板/ポリイミド層の積層体を作製しようとしたところ、ポリイミドワニスの塗布膜を乾燥させる際の乾燥収縮により、得られた積層体が湾曲するという新たな問題があることに、発明者らは気付いた。
そこで、積層体の湾曲を抑制するために、ポリイミドワニスをドライフィルム化し、ドライフィルムを用いてポリイミド層を極薄ガラス基板上にラミネートする方法を試みたところ、ポリイミド層と極薄ガラス基板との十分な密着性が得られないという別の新たな問題があることに、発明者らは気付いた。特に、透明性に優れるフッ素化ポリイミド等において密着性が不十分であった。
In the course of intensive research into the above-mentioned problems, the inventors focused on polyimide, which has excellent transparency, and produced a laminate of a glass substrate/polyimide layer by applying polyimide varnish to a glass substrate and drying it. The inventors found that the laminate had both high surface hardness and high impact resistance. However, when they tried to produce a laminate of an ultra-thin glass substrate/polyimide layer in the same manner, the inventors noticed a new problem that the laminate curved due to drying shrinkage when drying the coating film of the polyimide varnish.
In order to prevent the laminate from curving, the inventors tried to make a polyimide varnish into a dry film and laminate a polyimide layer onto an ultra-thin glass substrate using the dry film, but they found that this resulted in a new problem in that sufficient adhesion between the polyimide layer and the ultra-thin glass substrate was not obtained. In particular, the adhesion was insufficient for fluorinated polyimides, which have excellent transparency.

本発明は、このような課題のもとになされたものであり、その目的は、接着剤を使用しなくともガラス基板/樹脂層の積層体を簡易かつ簡便に製造できるドライフィルムであって、平坦性や高級感といった質感を維持しつつ、湾曲(反り)が無く、ガラス基板と樹脂層との密着性に優れ、且つ表面硬度や耐衝撃性にも優れる積層体が得られるドライフィルムを提供することである。 The present invention was made in response to these problems, and its purpose is to provide a dry film that can easily and simply manufacture a glass substrate/resin layer laminate without using an adhesive, and that can provide a laminate that is free of curvature (warping) while maintaining texture such as flatness and a luxurious feel, has excellent adhesion between the glass substrate and the resin layer, and is also excellent in surface hardness and impact resistance.

本発明者らは、上述した全ての課題を解消し得るドライフィルムを提供すべく、さらに鋭意検討を行った結果、フッ素が一定量以下のポリイミドに特定のエポキシ化合物を組み合せて樹脂層を形成したドライフィルムとすることにより、得られるガラス基板/樹脂層の積層体は、平坦性や高級感といった質感を維持しつつ、ガラス基板と樹脂層との密着性に優れ、表面硬度や耐衝撃性にも優れる、との知見を得た。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。即ち、本発明の要旨は以下のとおりである。 The inventors of the present invention have further conducted intensive research in order to provide a dry film that can solve all of the above problems, and as a result have discovered that by combining a specific epoxy compound with a polyimide containing a certain amount of fluorine or less to form a resin layer in a dry film, the resulting glass substrate/resin layer laminate maintains texture such as flatness and a luxurious feel while also exhibiting excellent adhesion between the glass substrate and the resin layer, as well as excellent surface hardness and impact resistance. The present invention has been completed based on this discovery. That is, the gist of the present invention is as follows.

[1] 基材と、前記基材上に剥離可能に設けられた樹脂層とを備えるドライフィルムであって、
前記樹脂層は、フッ素含有量が25質量%以下であるポリイミドと、エポキシ当量が1000g/eq以下であり、かつ分子量が10,000以下であるエポキシ化合物と、を含むことを特徴とする、ドライフィルム。
[2] 前記ポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のYI値が5.0以下である、[1]に記載のドライフィルム。
[3] 前記ポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のヘイズが2.0以下である、[1]または[2]に記載のドライフィルム。
[4] 前記エポキシ化合物は、150℃以下の軟化点を有する、[1]~[3]のいずれかに記載のドライフィルム。
[5] 前記エポキシ化合物が、前記樹脂層における固形分合計量に対して1~50質量%含まれる、[1]~[4]のいずれかに記載のドライフィルム。
[6] 前記樹脂層は、ブルーイング剤をさらに含む、[1]~[5]のいずれかに記載のドライフィルム。
[7] ガラス基板と、前記ガラス基板の主面の一方に面に接するように設けられてなる樹脂層とを備えた積層体であって、
前記樹脂層は、[1]~[6]のいずれかに記載のドライフィルムの樹脂層からなる、積層体。
[8] 前記ガラス基板が化学強化ガラスである、[7]に記載の積層体。
[9] フレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして使用される、[7]または[8]に記載の積層体。
[10] ガラス基板と、前記ガラス基板の主面の一方に面に接するように設けられてなる樹脂層とを備えた積層体を製造する方法であって、
[1]~[6]のいずれかに記載のドライフィルムを、ガラス基板の主面の一方に面に、ドライフィルムの樹脂層とガラス基板の主面とが接するように貼り合わせ、
前記ドライフィルムから前記基材を剥離して、前記ガラス基板上に樹脂層を形成し、
前記樹脂層を、前記エポキシ化合物の軟化点温度以上の温度に加熱する、
ことを含む、積層体の製造方法。
[1] A dry film comprising a substrate and a resin layer releasably provided on the substrate,
The resin layer comprises a polyimide having a fluorine content of 25% by mass or less, and an epoxy compound having an epoxy equivalent of 1000 g/eq or less and a molecular weight of 10,000 or less.
[2] The dry film according to [1], wherein the polyimide has a YI value of 5.0 or less when made into a single layer film having a thickness of 50 μm.
[3] The dry film according to [1] or [2], wherein the polyimide has a haze of 2.0 or less when made into a single layer film having a thickness of 50 μm.
[4] The dry film according to any one of [1] to [3], wherein the epoxy compound has a softening point of 150° C. or less.
[5] The dry film according to any one of [1] to [4], wherein the epoxy compound is contained in an amount of 1 to 50 mass% based on the total amount of solids in the resin layer.
[6] The dry film according to any one of [1] to [5], wherein the resin layer further contains a bluing agent.
[7] A laminate comprising a glass substrate and a resin layer provided in contact with one of the main surfaces of the glass substrate,
The resin layer is a laminate comprising a resin layer of the dry film according to any one of [1] to [6].
[8] The laminate according to [7], wherein the glass substrate is chemically strengthened glass.
[9] The laminate according to [7] or [8], which is used as a cover window of a flexible display element.
[10] A method for producing a laminate including a glass substrate and a resin layer provided on one of the main surfaces of the glass substrate so as to be in contact with the surface, comprising the steps of:
The dry film according to any one of [1] to [6] is attached to one of the main surfaces of a glass substrate so that the resin layer of the dry film is in contact with the main surface of the glass substrate;
peeling the base material from the dry film to form a resin layer on the glass substrate;
The resin layer is heated to a temperature equal to or higher than the softening point temperature of the epoxy compound.
A method for producing a laminate, comprising:

本発明によれば、フッ素が一定量以下のポリイミドに特定のエポキシ化合物を組み合せて樹脂層を形成したドライフィルムとすることにより、ガラス基板/樹脂層の積層体とした場合であっても、平坦性や高級感といった質感を維持しつつ、湾曲(反り)が無く、ガラス基板と樹脂層との密着性に優れ、且つ表面硬度や耐衝撃性にも優れる積層体が得られるドライフィルムを実現することができる。 According to the present invention, by forming a dry film by combining a specific epoxy compound with a polyimide having a certain amount of fluorine or less to form a resin layer, it is possible to realize a dry film that, even when used as a laminate of a glass substrate/resin layer, maintains the texture such as flatness and a luxurious feel, is free of curvature (warping), has excellent adhesion between the glass substrate and the resin layer, and provides a laminate with excellent surface hardness and impact resistance.

本発明によるドライフィルムの一実施形態を模式的に示した概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a dry film according to the present invention; 本発明によるドライフィルムの他の実施形態を模式的に示した概略断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the dry film according to the present invention. 本発明による積層体の一実施形態を模式的に示した概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a laminate according to the present invention. 本発明による積層体の他の実施形態を模式的に示した概略断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of a laminate according to the present invention. 本発明による積層体の他の実施形態を模式的に示した概略断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of a laminate according to the present invention.

[ドライフィルム]
本発明によるドライフィルムについて、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明によるドライフィルムの一実施形態を示した概略断面図である。本発明によるドライフィルム1は、基材10と基材10上に設けられた樹脂層20とを備えている。また、本発明においては、ドライフィルムとした際に樹脂層20の表面に塵等が付着するのを防止するとともに、ドライフィルム1の取扱性を考慮して、図2に示すように、樹脂層20の、基材10と接する面とは反対の面側に、更に保護フィルム30が設けられていてもよい。以下、本発明によるドライフィルムを構成する各構成要素について説明する。
[Dry film]
The dry film according to the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the dry film according to the present invention. The dry film 1 according to the present invention includes a substrate 10 and a resin layer 20 provided on the substrate 10. In the present invention, in order to prevent dust or the like from adhering to the surface of the resin layer 20 when the dry film is formed, and in consideration of the handling of the dry film 1, a protective film 30 may be further provided on the surface of the resin layer 20 opposite to the surface that contacts the substrate 10, as shown in Fig. 2. Each component constituting the dry film according to the present invention will be described below.

<基材>
基材としては、後記する樹脂層を形成する際に樹脂塗膜を支持できるものであれば特に制限なく使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の熱可塑性樹脂からなるフィルムを好適に使用することができる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度、取扱性等の観点から、ポリエステルフィルムが好ましい。また、これらフィルムの積層体を基材として使用することもできる。
<Substrate>
The substrate can be any substrate that can support the resin coating film when forming the resin layer described below, and can be suitably used, for example, a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, a polyimide film, a polyamideimide film, a polypropylene film, a polystyrene film, or other thermoplastic resin film. Among these, polyester films are preferred from the viewpoints of heat resistance, mechanical strength, handling, etc. A laminate of these films can also be used as the substrate.

また、上記したような熱可塑性樹脂フィルムは、機械的強度向上の観点から、一軸方向または二軸方向に延伸されたフィルムであることが好ましい。 In addition, from the viewpoint of improving mechanical strength, it is preferable that the thermoplastic resin film described above is a film that has been oriented uniaxially or biaxially.

基材の樹脂層を設ける面には、ドライフィルムの使用時に樹脂層が基材から剥離し易いように、離型処理が施されていてもよい。例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン系樹脂等の離型剤を適当な溶剤に溶解または分散して調製した塗工液を、ロールコート法、スプレーコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の公知の手段により、基材表面に塗布、乾燥することにより、離型処理を施すことができる。 The surface of the substrate on which the resin layer is to be formed may be subjected to a release treatment so that the resin layer can be easily peeled off from the substrate when the dry film is used. For example, a release agent such as wax, silicone wax, or silicone-based resin is dissolved or dispersed in an appropriate solvent to prepare a coating liquid, which is then applied to the substrate surface by a known method such as a coating method such as roll coating or spray coating, gravure printing, or screen printing, and then dried, thereby performing the release treatment.

基材の厚さは、特に制限されるものではないが概ね10~150μmの範囲で用途に応じて適宜選択される。 The thickness of the substrate is not particularly limited, but is generally selected from the range of 10 to 150 μm depending on the application.

<樹脂層>
上記した基材上に剥離可能に設けられる樹脂層について説明する。樹脂層は、ポリイミドとエポキシ化合物とを必須成分として含む。本発明のドライフィルムは、後述するようにポリイミドとエポキシ化合物とを含む樹脂組成物を基材に塗布、乾燥して塗布膜としたものであるが、ドライフィルムの実用性を考慮すると、塗布膜に粘着性がない程度、即ちタックがなくなる程度まで塗布膜を乾燥させなければならない。しかしながら、乾燥した塗布膜(即ち、樹脂層)はタックがほとんどなく、ドライフィルムをガラス基板に貼り合せる(ラミネートする)ときに樹脂層と被着体であるガラス基板との密着性が乏しくなる。特に、表示素子等の光学用途に好適に使用される透明性の高いポリイミドとしてフッ素化ポリイミドが知られているが、フッ素化ポリイミドをドライフィルム化すると被着体との密着性が著しく低下する。本発明においては、フッ素含有量を一定値以下としたポリイミドを用い、特定のエポキシ化合物を併用することにより、ドライフィルムとした場合であっても、被着体であるガラス基板との密着性を向上することができる。以下、本発明による樹脂組成物を構成する成分について説明する。
<Resin Layer>
The resin layer releasably provided on the above-mentioned substrate will be described. The resin layer contains polyimide and an epoxy compound as essential components. As described below, the dry film of the present invention is a coating film obtained by applying a resin composition containing polyimide and an epoxy compound to a substrate and drying it. Considering the practicality of the dry film, the coating film must be dried to the extent that the coating film is not sticky, i.e., to the extent that the tack is eliminated. However, the dried coating film (i.e., the resin layer) has almost no tack, and when the dry film is attached (laminated) to a glass substrate, the adhesion between the resin layer and the glass substrate, which is the adherend, is poor. In particular, fluorinated polyimide is known as a highly transparent polyimide that is preferably used for optical applications such as display elements, but when fluorinated polyimide is made into a dry film, the adhesion to the adherend is significantly reduced. In the present invention, by using a polyimide with a fluorine content of a certain value or less and using a specific epoxy compound in combination, the adhesion to the glass substrate, which is the adherend, can be improved even when the dry film is made. Below, the components constituting the resin composition according to the present invention will be described.

<ポリイミド>
ポリイミドは、カルボン酸無水物とジアミンとの反応物であるポリアミック酸をイミド化した下記式(1)で表される構造を有するものである。式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。
<Polyimide>
Polyimide has a structure represented by the following formula (1) in which polyamic acid, which is a reaction product of carboxylic anhydride and diamine, is imidized. The constitutional unit represented by formula (1) is a constitutional unit formed by the reaction of a tetracarboxylic acid compound with a diamine compound.

Figure 0007645622000001
Figure 0007645622000001

上記式(1)中、Xは、互いに独立して2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。
有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。但し、フッ素置換されている場合であっても、ポリイミドのフッ素含有量は25質量%以下とする必要がある。フッ素含有量が増加するとポリイミドの光学特性(光線透過率、YI値、ヘイズ)は向上するものの、ガラス基板との密着性を維持することができなくなる。
本発明の実施態様においては、ポリイミドは、複数種のXを含んでよく、複数種のXは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。
Xとしては、下記式で表される基を例示でき、各々の基において水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基で置換された基、炭素数6以下の鎖式炭化水素基を例示できる。
In the above formula (1), X's each independently represent a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a divalent organic group having a cyclic structure having 4 to 40 carbon atoms. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure.
The organic group may have a hydrogen atom substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. However, even when fluorine-substituted, the fluorine content of the polyimide must be 25 mass% or less. When the fluorine content increases, the optical properties (light transmittance, YI value, haze) of the polyimide are improved, but the adhesion to the glass substrate cannot be maintained.
In an embodiment of the present invention, the polyimide may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same or different from each other.
Examples of X include groups represented by the following formulas, in which a hydrogen atom in each group is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 0007645622000002
Figure 0007645622000002

上記式中、*は結合手を表し、A、A、Aは、互いに独立して、単結合、-O-、-S-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-CO-またはN(Q)-を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。
一例として、AおよびAが単結合、-O-または-S-であり、かつ、Aが-CH-、-C(CH-、-C(CF-またはSO-である。AとAとの各環に対する結合位置、および、AとAとの各環に対する結合位置は、互いに独立して、好ましくは各環に対してメタ位またはパラ位であり、より好ましくはパラ位である。
In the above formula, * represents a bond, and A 1 , A 2 and A 3 each independently represent a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or N(Q)-, where Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
As an example, A 1 and A 3 are single bonds, -O- or -S-, and A 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 - or SO 2 -. The bonding positions of A 1 and A 2 to each ring, and the bonding positions of A 2 and A 3 to each ring are each independently preferably meta or para positions to each ring, more preferably para positions.

上記の基のなかでも、積層体の表面硬度や耐屈曲性の観点から、下記式:

Figure 0007645622000003
で表される基がより好ましい。
また、A、AおよびAは、積層体の表面硬度および柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立して、単結合、-O-またはS-であることが好ましく、単結合またはO-であることがより好ましい。 Among the above groups, from the viewpoint of the surface hardness and bending resistance of the laminate, a group represented by the following formula:
Figure 0007645622000003
A group represented by the following formula is more preferred.
From the viewpoint of easily increasing the surface hardness and flexibility of the laminate, A 1 , A 2 and A 3 are preferably each independently a single bond, —O— or S—, and more preferably a single bond or O—.

本発明の好ましい実施態様においては、上記式(1)の複数のXの少なくとも一部は、式(2)で表される構成単位である。

Figure 0007645622000004
In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of the multiple Xs in the above formula (1) are constitutional units represented by formula (2).
Figure 0007645622000004

式(2)中、*は結合手を表し、R~Rは、互いに独立して、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基または炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい。 In formula (2), * represents a bond, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 each independently may be substituted with a halogen atom.

~Rは、互いに独立して、好ましくは水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R~Rは、互いに独立して、積層体の表面硬度、透明性および耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR、R、R、R、R、Rが水素原子、RおよびRが水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはRおよびRがメチル基またはトリフルオロメチル基である。但し、ポリイミド全体としてフッ素含有量は25質量%以下とする必要がある。 R 1 to R 8 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may each independently be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 1 to R 8 are each independently more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of the surface hardness, transparency, and bending resistance of the laminate, and particularly preferably R 1 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , and R 8 are hydrogen atoms, and R 2 and R 7 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups, or trifluoromethyl groups, and particularly preferably R 2 and R 7 are methyl groups or trifluoromethyl groups. However, the fluorine content of the polyimide as a whole must be 25% by mass or less.

本発明の好ましい実施態様においては、上記式(2)で表される構成単位は式(3)で表される構成単位である。すなわち、複数のXの少なくとも一部は、式(3)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミドの溶媒への溶解性を高め、ポリイミドを含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、ワニスの粘度を低減しやすく、ドライフィルムとする際の塗布性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、ポリイミドの光学特性(全光線透過率、YI値、ヘイズ等)が向上する。しかしながら、ガラス基板との密着性の観点から、ポリイミド全体としてフッ素含有量は25質量%以下とする必要がある。

Figure 0007645622000005
In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (2) is a structural unit represented by the formula (3). That is, at least a part of the multiple Xs is a structural unit represented by the formula (3). In this case, the fluorine-containing skeleton increases the solubility of the polyimide in a solvent, and the storage stability of the polyimide-containing varnish is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced, and the coating property when the polyimide is made into a dry film is easily improved. In addition, the fluorine-containing skeleton improves the optical properties of the polyimide (total light transmittance, YI value, haze, etc.). However, from the viewpoint of adhesion to a glass substrate, the fluorine content of the polyimide as a whole needs to be 25% by mass or less.
Figure 0007645622000005

本発明の一実施態様において、上記ポリイミド中のXは30モル%以上であることが好ましく、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(2)、特に式(3)で表される。ポリイミドにおける上記範囲内のXが式(2)、特に式(3)で表されると、フッ素元素を含有する骨格により溶媒への溶解性が向上されやすく、当該ポリイミドを含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、ワニスの粘度を低減しやすく塗布性が向上する。また、フッ素元素を含有する骨格により、全光線透過率、YI値、ヘイズ等の光学特性も向上する。なお、ポリイミド中のXの式(2)または(3)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができるが、むろん原料の仕込み比からも算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, X in the polyimide is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more is represented by formula (2), particularly formula (3). When X in the polyimide within the above range is represented by formula (2), particularly formula (3), the solubility in a solvent is easily improved by the skeleton containing fluorine element, and the storage stability of the varnish containing the polyimide is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced, improving the coatability. In addition, the skeleton containing fluorine element also improves optical properties such as total light transmittance, YI value, and haze. The proportion of the structural unit represented by formula (2) or (3) of X in the polyimide can be measured using, for example, 1 H-NMR, but it can also be calculated from the charging ratio of the raw materials.

上記式(1)において、Yは4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。 In the above formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8.

本発明の一実施態様において、ポリイミドは、複数種のYを含んでもよく、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Yとしては、下記式で表される基が好ましい。これらの例示した基においては、水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In one embodiment of the present invention, the polyimide may contain multiple types of Y, which may be the same or different from one another. Y is preferably a group represented by the following formula. Examples of these exemplified groups include groups in which a hydrogen atom is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; and tetravalent chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure 0007645622000006
Figure 0007645622000006

上記式中、*は結合手を表し、Bは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-またはAr-SO-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。 In the above formula, * represents a bond, and B1 represents a single bond, -O-, -CH2-, -CH2 -CH2-, -CH( CH3 ) -, -C(CH3) 2- , -C( CF3 ) 2- , -Ar-, -SO2-, -CO-, -O- Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C( CH3 ) 2 -Ar- or Ar - SO2 -Ar- . Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a specific example is a phenylene group.

上記基のなかでも、積層体の表面硬度および耐屈曲性の観点から、下記式で表される基が好ましい。積層体の表面硬度および耐屈曲性を高めやすく、黄色度を低減しやすい観点から、互いに独立して、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-またはC(CF-であることが好ましく、単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-またはC(CF-であることがより好ましく、単結合、-C(CH-またはC(CF-であることがさらに好ましい。

Figure 0007645622000007
Among the above groups, from the viewpoint of the surface hardness and flex resistance of the laminate, groups represented by the following formulas are preferred: From the viewpoint of easily increasing the surface hardness and flex resistance of the laminate and easily reducing yellowness, they are preferably each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 -, and even more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 -.
Figure 0007645622000007

本発明の一実施形態において、式(1)中の複数のYの少なくとも一部は、下記式(4)で表される構成単位である。式(1)中の複数のYの少なくとも一部が式(4)で表される基であると、ポリイミドの溶媒への溶解性を高め、ポリイミドを含有するワニスの粘度を低減しやすく、塗布性が向上する。また、積層体の光学特性が向上する。

Figure 0007645622000008
In one embodiment of the present invention, at least a part of the Y's in formula (1) are structural units represented by the following formula (4). When at least a part of the Y's in formula (1) are groups represented by formula (4), the solubility of the polyimide in a solvent is increased, the viscosity of a varnish containing the polyimide is easily reduced, and the coatability is improved. In addition, the optical properties of the laminate are improved.
Figure 0007645622000008

式(5)中、*は結合手を表し、R~R16は、互いに独立して、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基または炭素数6~12のアリール基を表し、R~R16に含まれる水素原子は、互いに独立してハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
積層体の表面硬度、耐屈曲性および光学特性を向上しやすい観点から、R~R16は、互いに独立して、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはR、R10、R11、R14、R15およびR16が水素原子、R12およびR13が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR12およびR13がメチル基またはトリフルオロメチル基である。
In formula (5), * represents a bond, R 9 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 9 to R 16 may each independently be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
From the viewpoint of easily improving the surface hardness, bending resistance, and optical properties of the laminate, R 9 to R 16 are more preferably each independently a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, particularly preferably R 9 , R 10 , R 11 , R 14 , R 15 , and R 16 are each a hydrogen atom, R 12 and R 13 are each a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 12 and R 13 are each a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の一実施態様においては、上記した式(4)で表される構成単位は、下記式(5)で表される基であることが好ましい。フッ素元素を含有する骨格によりポリイミドの溶媒への溶解性を高め、ポリイミドを含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、ワニスの粘度を低減しやすく、塗布性が向上する。また、フッ素元素を含有する骨格により、積層体の光学特性が向上する。

Figure 0007645622000009
In one embodiment of the present invention, the structural unit represented by the above formula (4) is preferably a group represented by the following formula (5). The fluorine-containing skeleton increases the solubility of the polyimide in a solvent, and the storage stability of the polyimide-containing varnish is easily improved, while the viscosity of the varnish is easily reduced, improving the coatability. In addition, the fluorine-containing skeleton improves the optical properties of the laminate.
Figure 0007645622000009

本発明の一実施形態において、ポリイミド中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(4)、特に式(5)で表される。ポリイミドにおける上記範囲内のYが式(4)、特に式(5)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミドの溶媒への溶解性を高め、樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、樹脂層の加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、積層体の光学特性を向上させやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド中のYの100モル%以下が式(4)、特に式(5)で表される。ポリイミド中のYは式(4)、特に式(5)であってもよい。ポリイミド中のYの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができるが、むろん原料の仕込み比からも算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 70 mol % or more of Y in the polyimide is represented by formula (4), particularly formula (5). When Y in the polyimide within the above range is represented by formula (4), particularly formula (5), the solubility of the polyimide in a solvent is increased by the skeleton containing a fluorine element, the viscosity of a varnish containing a resin is easily reduced, and the processability of the resin layer is easily improved. In addition, the skeleton containing a fluorine element is easy to improve the optical properties of the laminate. It is preferable that 100 mol % or less of Y in the polyimide is represented by formula (4), particularly formula (5). Y in the polyimide may be formula (4), particularly formula (5). The ratio of the structural unit represented by formula (4) of Y in the polyimide can be measured using, for example, 1 H-NMR, but it can also be calculated from the charging ratio of the raw materials.

上記したポリイミドは、式(1)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位および/または式(31)で表される構成単位を含むことができる。

Figure 0007645622000010
The above-mentioned polyimide can contain, in addition to the constitutional unit represented by formula (1), a constitutional unit represented by formula (30) and/or a constitutional unit represented by formula (31).
Figure 0007645622000010

式(30)において、Y1は4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記したYの好ましい基を例示できる。本発明の一実施形態において、ポリイミドは、複数種のYを含んでもよく、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (30), Y1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y1 include the above-mentioned preferred groups for Y. In one embodiment of the present invention, the polyimide may contain multiple types of Y1 , and the multiple types of Y1 may be the same or different from each other.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記したYの好ましい基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、および3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミドは、複数種のYを含んでもよく、複数種のYは、互いに同一あっても異なっていてもよい。 In formula (31), Y2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y2 include a group in which one of the bonds of the above-mentioned preferred groups of Y is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide may contain multiple types of Y2 , and the multiple types of Y2 may be the same or different from each other.

式(30)および式(31)において、XおよびXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。XおよびXとしては、上記したXの好ましい基を例示できる。 In formula (30) and formula (31), X1 and X2 are each independently a divalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of X1 and X2 include the preferred groups for X described above.

本発明の一実施態様において、ポリイミドは、式(1)で表される構成単位、および場合により式(30)および/または式(31)で表される構成単位からなる。また、積層体の光学特性、表面硬度および耐屈曲性の観点から、上記ポリイミドにおいて、式(1)で表される構成単位は、式(1)、および場合により式(30)および式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミドにおいて、式(1)で表される構成単位は、式(1)、および場合により式(30)および/または式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、または原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide comprises a constitutional unit represented by formula (1) and, optionally, a constitutional unit represented by formula (30) and/or formula (31). In addition, in terms of the optical properties, surface hardness and flex resistance of the laminate, the constitutional unit represented by formula (1) in the polyimide is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and even more preferably 95 mol% or more based on all constitutional units represented by formula (1) and, optionally, formula (30) and formula (31). In addition, in the polyimide, the constitutional unit represented by formula (1) is usually 100% or less based on all constitutional units represented by formula (1) and, optionally, formula (30) and/or formula (31). In addition, the above ratio can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

また、本発明の一実施態様において、樹脂層とガラス基板との密着性および積層体の質感の観点から、ポリイミドは、式(1)で表される構成単位、および場合により式(30)および/または式(31)で表される構成単位に加え、下記式(40)で表される構造単位を含んでいてもよい。

Figure 0007645622000011
In one embodiment of the present invention, from the viewpoint of adhesion between the resin layer and the glass substrate and the texture of the laminate, the polyimide may contain a structural unit represented by the following formula (40), in addition to the structural unit represented by formula (1) and, in some cases, the structural unit represented by formula (30) and/or formula (31).
Figure 0007645622000011

上記式(40)中、*は結合手を表し、R17およびR18は、それぞれ独立して単一結合、炭素数1~5のアルキレン基、または炭素数6以上の2価芳香族基であり、R19およびR20は、それぞれ独立して炭素数1~5のアルキル基であり、R21およびR22は、それぞれ独立して炭素数4~10のアリール基であり、R23およびR24のうち少なくとも一つは、炭素数2~10のアルケニル基であり、m1、m2およびm3は、それぞれ独立して1以上の整数である。 In the above formula (40), * represents a bond, R 17 and R 18 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, or a divalent aromatic group having 6 or more carbon atoms, R 19 and R 20 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 21 and R 22 are each independently an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, at least one of R 23 and R 24 is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and m1, m2, and m3 are each independently an integer of 1 or more.

上記式(40)の構造を有する繰り返し単位は、アルキル基に置換された繰り返し単位、アリール基に置換されたシロキサン繰り返し単位、およびアルケニル基に置換されたシロキサン繰り返し単位を共に含むことで、樹脂層の引張弾性率が向上するとともに、樹脂層とガラス基板との密着性が向上し、積層体とした場合の質感も向上する。 The repeating unit having the structure of the above formula (40) contains a repeating unit substituted with an alkyl group, a siloxane repeating unit substituted with an aryl group, and a siloxane repeating unit substituted with an alkenyl group, thereby improving the tensile modulus of the resin layer, improving the adhesion between the resin layer and the glass substrate, and improving the texture when formed into a laminate.

なお、アルキル基に置換された繰り返し単位、アリール基に置換されたシロキサン繰り返し単位、およびアルケニル基に置換されたシロキサン繰り返し単位の順序は、任意に変更可能であり、交互に位置してもよい。 The order of the repeating units substituted with an alkyl group, the siloxane repeating units substituted with an aryl group, and the siloxane repeating units substituted with an alkenyl group can be changed as desired, and they may be positioned alternately.

本発明の一実施態様において、上記式(40)で表される構造単位中、R17およびR18は、それぞれ独立して単一結合、炭素数1~5のアルキレン基、または炭素数6以上の2価芳香族基であり、好ましくは、炭素数3以上のアルキレン基である。また、R3およびR4は、それぞれ独立して炭素数1~5のアルキル基であり、好ましくは、メチルまたはエチル基である。
また、R19およびR20は、それぞれ独立して炭素数4~10のアリール基であり、好ましくは、フェニル基である。
また、R21およびR22のうち少なくとも一つは、炭素数2~10のアルケニル基であり、好ましくは、エテニルまたはプロペニル基である。なお、アルケニル基でないもう一つは、炭素数1~5のアルキル基である。
In one embodiment of the present invention, in the structural unit represented by the above formula (40), R 17 and R 18 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, or a divalent aromatic group having 6 or more carbon atoms, preferably an alkylene group having 3 or more carbon atoms. In addition, R3 and R4 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl or ethyl group.
Furthermore, R 19 and R 20 are each independently an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, and preferably a phenyl group.
At least one of R 21 and R 22 is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, preferably an ethenyl or propenyl group, while the other one that is not an alkenyl group is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

また、本発明の一実施態様において、上記式(40)で表される構造単位中、m1、m2およびm3は、それぞれ独立して1~10の整数であり、具体的には、m1は3~9、m2は2~9、m3は1~5の整数である。 In one embodiment of the present invention, in the structural unit represented by the above formula (40), m1, m2, and m3 are each independently an integer from 1 to 10; specifically, m1 is an integer from 3 to 9, m2 is an integer from 2 to 9, and m3 is an integer from 1 to 5.

本発明の一実施態様において、上記式(40)で表される構造単位は、耐熱性と密着性とのバランスの観点から、全体の単位に対して5mol%以上または50mol%以下、好ましくは、5~40mol%である。 In one embodiment of the present invention, the structural unit represented by the above formula (40) accounts for 5 mol % or more or 50 mol % or less, preferably 5 to 40 mol %, of the total units, from the viewpoint of the balance between heat resistance and adhesion.

ポリイミドは、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよいが、ポリイミドのフッ素含有量は25質量%以下とする必要がある。ポリイミドがフッ素原子を含む場合、樹脂層の光学特性(光線透過率、YI値、ヘイズ)は向上するものの、ガラス基板との密着性が低下する。ポリイミドにおけるフッ素原子の含有量は、好ましくは0~23質量%、より好ましくは0~20質量%である。 The polyimide may contain halogen atoms such as fluorine atoms, which can be introduced, for example, by the above-mentioned fluorine-containing substituents, but the fluorine content of the polyimide must be 25 mass% or less. If the polyimide contains fluorine atoms, the optical properties (light transmittance, YI value, haze) of the resin layer are improved, but the adhesion to the glass substrate is reduced. The fluorine atom content in the polyimide is preferably 0 to 23 mass%, more preferably 0 to 20 mass%.

ポリイミドのイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。積層体の光学的均質性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミドのイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミドがトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization rate of the polyimide is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and even more preferably 96% or more. From the viewpoint of easily increasing the optical homogeneity of the laminate, it is preferable that the imidization rate is equal to or higher than the above lower limit. The upper limit of the imidization rate is 100% or less. The imidization rate indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide to twice the molar amount of the constituent units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide. In addition, when the polyimide contains a tricarboxylic acid compound, it indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide to the sum of twice the molar amount of the constituent units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide and the molar amount of the constituent units derived from the tricarboxylic acid compound. In addition, the imidization rate can be determined by IR method, NMR method, etc.

ポリイミドは、例えば、テトラカルボン酸化合物およびジアミン化合物を主な原料として製造できる。なお、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。 Polyimide can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as the main raw materials. Note that a diisocyanate compound may be used instead of the diamine compound.

ポリイミドの製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノシロキサン、およびこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基またはその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環およびフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらのなかでも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。さらに、「ジアミノシロキサン」とは、シロキサン骨格の末端にアミノ基を有する化合物を表し、その構造の一部が炭化水素基によって置換されていてもよい。 Examples of diamine compounds used in the production of polyimides include aliphatic diamines, aromatic diamines, diaminosiloxanes, and mixtures thereof. In this embodiment, "aromatic diamines" refers to diamines in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents in part of the structure. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring, but are not limited to these. Of these, a benzene ring is preferable. Furthermore, "aliphatic diamines" refers to diamines in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may contain an aromatic ring or other substituents in part of the structure. Furthermore, "diaminosiloxanes" refers to compounds having an amino group at the end of a siloxane skeleton, and may be substituted in part of the structure with a hydrocarbon group.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミンおよび4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and cyclic aliphatic diamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(3,3’DDSと略すことがある)、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-Rと略すことがある)、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB-Nと略すことがある)、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独または2種以上を組合せて使用できる。 Examples of aromatic diamines include aromatic diamines having one aromatic ring, such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, and 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (sometimes abbreviated as 3,3'DDS), 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (sometimes abbreviated as TPE-R), and 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene. Examples of aromatic diamines having two or more aromatic rings include aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(3,3’DDS)、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB-N)、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独または2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (3,3'DDS), 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene They are benzene (APB-N), bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), and 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

ジアミノシロキサンは、例えば、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω-ビス(2-アミノエチル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス(4-アミノブチル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス(5-アミノペンチル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス[3-(2-アミノフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス[3-(4-アミノフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサンが挙げられる。これらは単独または2種以上を組合せて使用できる。 Examples of diaminosiloxanes include 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, 1,3-bis(4-aminobutyl)tetramethyldisiloxane, α,ω-bis(2-aminoethyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis(3-aminopropyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis(4-aminobutyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis(5-aminopentyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis[3-(2-aminophenyl)propyl]polydimethylsiloxane, and α,ω-bis[3-(4-aminophenyl)propyl]polydimethylsiloxane. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物のなかでも、積層体の表面硬度、柔軟性、および着色度合い(YI値)の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましく、これらのなかでも、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルおよび4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, from the viewpoint of the surface hardness, flexibility, and coloring degree (YI value) of the laminate, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure, and among these, it is more preferable to use one or more selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, and 4,4'-diaminodiphenyl ether, and it is even more preferable to use 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

また、積層体の柔軟性の観点からは、エーテル結合を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましく、これらのなかでも、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB-N)からなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB-N)を用いることがよりさらに好ましい。 From the viewpoint of flexibility of the laminate, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having an ether bond, and among these, it is more preferable to use one or more selected from the group consisting of 4,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), and 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene (APB-N), and it is even more preferable to use 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R) and 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene (APB-N).

また、積層体の透明性の観点からは、スルホン結合を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましく、これらのなかでも、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(3,3’DDS)、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(3,3’DDS)を用いることがよりさらに好ましい。 From the viewpoint of the transparency of the laminate, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having sulfone bonds, and among these, it is more preferable to use one or more selected from the group consisting of 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (3,3'DDS) and bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, and it is even more preferable to use 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (3,3'DDS).

ポリイミドの製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物、および脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Tetracarboxylic acid compounds used in the production of polyimides include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides. The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compounds may be dianhydrides or tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物および縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)]プロパン二無水物(BisDAと略すことがある。)、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと略すことがある。)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides. Examples of non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, and 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)]propane dianhydride. (sometimes abbreviated as BisDA), 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (sometimes abbreviated as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. In addition, an example of a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride is 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and an example of a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride is 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

上記したなかでも、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)]プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物および4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物および4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独または2種以上を組合せて使用できる。 Among the above, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)]propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, Examples of the dianhydride include 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more types.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式または非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物およびこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、および1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物および非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides include cyclic or non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides. Cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides are tetracarboxylic acid dianhydrides having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include cycloalkane tetracarboxylic acid dianhydrides such as 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, and 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic acid dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-dicyclohexyl tetracarboxylic acid dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides include 1,2,3,4-butane tetracarboxylic acid dianhydride and 1,2,3,4-pentane tetracarboxylic acid dianhydride, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. Additionally, a combination of a cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride may be used.

上記テトラカルボン酸二無水物のなかでも、積層体の高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、および低着色性の観点から、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)]プロパン二無水物、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoints of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low colorability of the laminate, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)]propane dianhydride, 3,3',4,4'-dicyclohexyl tetracarboxylic dianhydride, and mixtures thereof are preferred.

ポリイミドの製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、4,4’-オキシビス安息香酸またはそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸や4,4’-オキシビス安息香酸またはそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。
具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物および2つの安息香酸が単結合、-CH-、-C(CH-、-SO-もしくはフェニレン基で連結された化合物、並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)、テレフタロイルクロリドが好ましく、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。
As the dicarboxylic acid compound used in the production of polyimide, terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or an acid chloride compound thereof is preferably used. In addition to terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or an acid chloride compound thereof, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and acid chloride compounds and acid anhydrides related thereto, and two or more of them may be used in combination.
Specific examples include dicarboxylic acid compounds such as isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-biphenyldicarboxylic acid, chain hydrocarbons having 8 or less carbon atoms, and compounds in which two benzoic acids are linked by a single bond, -CH2- , -C( CH3 ) 2- , -SO2- or a phenylene group, as well as acid chloride compounds thereof. Specific examples are preferably 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride, and more preferably a combination of 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride.

上記ポリイミドは、積層体の各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸およびトリカルボン酸並びにそれらの無水物および誘導体をさらに反応させたものであってもよい。テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。また、トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-SO-もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 The polyimide may be a product obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid, as well as their anhydrides and derivatives, in addition to the tetracarboxylic acid compound, as long as the various physical properties of the laminate are not impaired. Examples of the tetracarboxylic acid include water adducts of the anhydrides of the tetracarboxylic acid compounds. Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their related acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of these may be used in combination. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic-2,3-anhydride; and compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group.

ポリイミドの製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物および/またはジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミドの各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of polyimide, the amount of diamine compound, tetracarboxylic acid compound and/or dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each of the desired structural units of the polyimide.

ポリイミドの製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物およびジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5~350℃、好ましくは20~200℃、より好ましくは25~100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分~10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気または減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧および/または不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。 In the production of polyimide, the reaction temperature of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, and more preferably 25 to 100°C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out in an inert atmosphere or under reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or an inert gas atmosphere with stirring. In addition, the reaction is preferably carried out in a solvent that is inert to the reaction.

溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、N-メチル-2-ピロリドン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフランおよびジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;およびそれらの組合せ(混合溶媒)などが挙げられる。これらのなかでも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but examples of the solvent include alcohol-based solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, Examples of suitable solvents include ketone-based solvents such as methyl isobutyl ketone and N-methyl-2-pyrrolidone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile-based solvents such as acetonitrile; ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amide-based solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations (mixed solvents) thereof. Among these, amide-based solvents are preferably used from the viewpoint of solubility.

ポリイミドの製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、およびN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、およびアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、およびイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。 In the imidization step in the production of polyimide, imidization can be carried out in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2. 2] Alicyclic amines (polycyclic) such as nonane; and aromatic amines such as pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In addition, from the viewpoint of facilitating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in imidization reactions, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

ポリイミドは、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により単離(分離精製)してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyimide may be isolated (separated and purified) by a conventional method, such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these. In a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to a reaction solution containing a transparent polyamideimide resin to precipitate the resin, which is then isolated by concentration, filtration, drying, etc.

上記のようにして得られるポリイミドの重量平均分子量(Mw)は、ドライフィルムを作製する際の溶媒に対する溶解性、光学用途にドライフィルムを使用する際の樹脂層の表面硬度や耐屈曲性の観点から、30,000~1,000,000であることが好ましく、70,000~700,000であることがより好ましく、100,000~500,000であることがさらに好ましい。重量平均分子量(Mw)は、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)により測定し、標準ポリスチレン換算により算出された値をいう。 The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide obtained as described above is preferably 30,000 to 1,000,000, more preferably 70,000 to 700,000, and even more preferably 100,000 to 500,000, from the viewpoints of solubility in a solvent when producing a dry film and surface hardness and flex resistance of the resin layer when using the dry film for optical applications. The weight average molecular weight (Mw) is a value measured by GPC (gel permeation chromatography) and calculated in terms of standard polystyrene.

本発明において使用するポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のYI値が5.0以下であることが好ましい。YI値が小さいポリイミドを使用することにより、ドライフィルムを用いて作製した積層体をフレキシブルデバイス用ディスプレイのカバーウィンドウとして、より好適に使用することができる。YI値は2.0以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、YI値(黄色度)は、JIS K 7373:2006に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計を用いて300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Yの式に基づいて算出した値を意味するものとする。 When the polyimide used in the present invention is made into a single layer film having a thickness of 50 μm, the YI value of the single layer film is preferably 5.0 or less. By using a polyimide having a small YI value, a laminate produced using the dry film can be more suitably used as a cover window for a display for a flexible device. The YI value is more preferably 2.0 or less. In this specification, the YI value (yellowness index) means a value calculated based on the formula YI = 100 x (1.2769X - 1.0592Z) / Y by measuring the transmittance of light of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer in accordance with JIS K 7373:2006, determining the tristimulus values (X, Y, Z).

また、ポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のヘイズが2.0以下であることが好ましい。YI値に加え、ヘイズの小さいポリイミドを使用することにより、ドライフィルムを用いて作製した積層体をフレキシブルデバイス用ディスプレイのカバーウィンドウとして、より一層好適に使用することができる。ヘイズは1.0以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、ヘイズはJIS K 7136:2000に準拠して、公知の濁度計により測定した値を意味するものとする。 In addition, when the polyimide is made into a single layer film with a thickness of 50 μm, the haze of the single layer film is preferably 2.0 or less. In addition to the YI value, by using a polyimide with a small haze, a laminate produced using the dry film can be more suitably used as a cover window for a display for a flexible device. It is more preferable that the haze is 1.0 or less. In this specification, the haze means a value measured using a known turbidity meter in accordance with JIS K 7136:2000.

<エポキシ化合物>
樹脂層は、上記したようなフッ素含有量を一定値以下としたポリイミドに加えて特定のエポキシ化合物を含む。ポリイミドと併用して用いるエポキシ化合物としては、エポキシ当量が1000g/eq以下であり、かつ分子量が10,000以下であるエポキシ化合物である。ドライフィルムの樹脂層が、ポリイミドに加えて上記のような特定のエポキシ化合物を含有することにより、ドライフィルムの樹脂層の室温でのタックを抑制して取扱性を向上させながら、ガラス基板等の被着体への密着性を向上させることができる。この理由は明らかではないが、エポキシ化合物とポリイミドとの相溶性が良好であること、さらには、エポキシ化合物がポリイミドの原料であるアミンや酸無水物の一部と反応して粘着性を示すことなどが考えられる。
<Epoxy Compound>
The resin layer contains a specific epoxy compound in addition to the polyimide having a fluorine content of a certain value or less. The epoxy compound used in combination with the polyimide is an epoxy compound having an epoxy equivalent of 1000 g/eq or less and a molecular weight of 10,000 or less. By containing the specific epoxy compound in addition to the polyimide, the resin layer of the dry film can suppress the tack of the resin layer of the dry film at room temperature to improve the handling, while improving the adhesion to the adherend such as a glass substrate. The reason for this is not clear, but it is thought that the compatibility of the epoxy compound with the polyimide is good, and further, the epoxy compound reacts with a part of the amine or acid anhydride, which is the raw material of the polyimide, to show adhesion.

なお、エポキシ当量とは、エポキシ化合物中にあるエポキシ基の総数を意味し、エポキシ当量は、JIS K7236に記載されている方法により求めることができる。 The epoxy equivalent refers to the total number of epoxy groups in an epoxy compound, and can be determined by the method described in JIS K7236.

本発明において好ましく使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ当量が1000g/eq以下であり、かつ分子量が10,000以下であれば特に制限なく使用することができ、例えば、ビフェニル型、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ジシクロペンタジエン型、ナフタレン型、トリアジン環を有するエポキシ化合物を好ましく使用できる。具体的には、三菱ケミカル株式会社製のjER828、jER834、jER1001、jER1004、DIC株式会社製のEPICLON840、EPICLON850、EPICRON860、EPICLON1050、新日鐵住友化学株式会社製のエポトートYD-011、YD-127、YD-128、旭化成株式会社製のA.E.R.330、A.E.R.331、A.E.R.661、A.E.R.664等(いずれも商品名)のビスフェノールA型エポキシ樹脂;DIC株式会社製のEPICLON152、EPICLON165、新日鐵住友化学株式会社製のエポトートYDB-400、YDB-500、住友化学株式会社製のスミ-エポキシESB-400、ESB-700のブロム化エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のjER152、jER154、DIC株式会社製のEPICLONN-730、EPICLONN-770、EPICLONN-865、新日鐵住友化学株式会社製のYDCN-704、日本化薬株式会社製のEPPN-201、EOCN-1025、EOCN-1020、EOCN-104S、NC-3000、のノボラック型エポキシ樹脂;DIC株式会社製のEPICLON830、三菱ケミカル株式会社製jER807、新日鐵住友化学株式会社製のエポトートYDF-170等(いずれも商品名)のビスフェノールF型エポキシ樹脂;新日鐵住友化学株式会社製のエポトートST-2004、ST-2007、ST-3000(商品名)等の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のjER604、新日鐵住友化学株式会社製のエポトートYH-434等(いずれも商品名)のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;株式会社ダイセル製のセロキサイド2021P等(商品名)の脂環式エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のYL-933、ダウケミカル社製のT.E.N.、EPPN-501、EPPN-502等(いずれも商品名)のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のYX-4000(いずれも商品名)等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物;日本化薬株式会社製EBPS-200、DIC株式会社製のEXA-1514(商品名)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のjER157S(商品名)等のビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂;三菱ケミカル株式会社製のjERYL-931等(商品名)のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂;日産化学株式会社製のTEPIC等(いずれも商品名)の複素環式エポキシ樹脂;新日鐵住友化学社製ZX-1063等のテトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂;新日鐵化学株式会社製ESN-190、ESN-360、DIC株式会社製HP-4032D、EXA-4710等のナフタレン基含有エポキシ樹脂;DIC株式会社製HP-7200、HP-7200H、日本化薬株式会社製XD-1000等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂等が挙げられるが、もちろんこれらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、1種または2種以上を組合せて用いることができる。 Epoxy compounds that can be preferably used in the present invention are those that have an epoxy equivalent of 1000 g/eq or less and a molecular weight of 10,000 or less and can be used without particular limitation. For example, biphenyl type, bisphenol A type, bisphenol F type, dicyclopentadiene type, naphthalene type, and epoxy compounds having a triazine ring can be preferably used. Specifically, jER828, jER834, jER1001, and jER1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, EPICLON840, EPICLON850, EPICLON860, and EPICLON1050 manufactured by DIC Corporation, Epotohto YD-011, YD-127, and YD-128 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd., and A.E.R.330, A.E.R.331, and A.E.R. manufactured by Asahi Kasei Corporation. 661, A. E. R. bisphenol A type epoxy resins such as EPICLON 152 and EPICLON 165 manufactured by DIC Corporation, Epotohto YDB-400 and YDB-500 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd., and Sumi-Epoxy ESB-400 and ESB-700 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.; novolac type epoxy resins such as jER152 and jER154 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, EPICLON N-730, EPICLON N-770, and EPICLON N-865 manufactured by DIC Corporation, YDCN-704 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd., and EPPN-201, EOCN-1025, EOCN-1020, EOCN-104S, and NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. epoxy resins; bisphenol F type epoxy resins such as EPICLON 830 manufactured by DIC Corporation, jER 807 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and Epotohto YDF-170 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd. (all trade names); hydrogenated bisphenol A type epoxy resins such as Epotohto ST-2004, ST-2007, and ST-3000 (trade names) manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd.; glycidyl amine type epoxy resins such as jER 604 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation and Epotohto YH-434 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd. (all trade names); alicyclic epoxy resins such as CELLOXIDE 2021P manufactured by Daicel Corporation (trade name); YL-933 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and T.E.N. manufactured by The Dow Chemical Company. trihydroxyphenylmethane type epoxy resins such as EPPN-501, EPPN-502 (all trade names); bixylenol type or biphenol type epoxy resins or mixtures thereof such as YX-4000 (all trade names) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; bisphenol S type epoxy resins such as EBPS-200 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. and EXA-1514 (trade name) manufactured by DIC Corporation; bisphenol A novolac type epoxy resins such as jER157S (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resins such as jERYL-931 (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Phenylolethane type epoxy resins; heterocyclic epoxy resins such as TEPIC manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. (all trade names); tetraglycidyl xylenoylethane resins such as ZX-1063 manufactured by Nippon Steel Sumitomo Chemical Co., Ltd.; naphthalene group-containing epoxy resins such as ESN-190 and ESN-360 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. and HP-4032D and EXA-4710 manufactured by DIC Corporation; epoxy resins having a dicyclopentadiene skeleton such as HP-7200 and HP-7200H manufactured by DIC Corporation and XD-1000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., but of course they are not limited to these. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more kinds.

上記したエポキシ化合物のなかでも150℃以下の軟化点を有するものを好ましく使用することができる。後記するように、本発明のドライフィルムを用いて積層体を製造する際に、ガラス基板上に樹脂層を形成した後に、ガラス基板と樹脂層との密着性を向上させるために、所定温度で加熱することが好ましいが、このときの加熱温度はエポキシ化合物の軟化点温度以上とすることが好ましい。そのため、エポキシ化合物の軟化点温度が高すぎると、積層体の製造の際に樹脂層中の成分を熱劣化させてしまうことがある。 Among the above epoxy compounds, those having a softening point of 150°C or less can be preferably used. As described later, when manufacturing a laminate using the dry film of the present invention, after forming a resin layer on a glass substrate, it is preferable to heat the resin layer at a predetermined temperature in order to improve the adhesion between the glass substrate and the resin layer, and the heating temperature at this time is preferably equal to or higher than the softening point temperature of the epoxy compound. Therefore, if the softening point temperature of the epoxy compound is too high, the components in the resin layer may be thermally deteriorated during the manufacturing of the laminate.

エポキシ化合物の配合量は、樹脂層の透明性と被着体との密着性の観点から、樹脂層を形成するための樹脂組成物中の不揮発成分に対して1~50質量%であることが好ましく、3~40質量%であることがより好ましい。 From the viewpoints of the transparency of the resin layer and adhesion to the adherend, the amount of the epoxy compound is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 3 to 40% by mass, of the non-volatile components in the resin composition used to form the resin layer.

<溶剤>
樹脂組成物は、樹脂層の形成性を考慮すると溶媒が含まれていることが好ましい。溶剤としては、ポリイミドとエポキシ化合物を溶解し得るものであれば特に制限なく使用することができるが、ワニスの塗布性や得られる樹脂層の透明性等の観点から、エステル基、エーテル基、ケトン基、水酸基、スルホン基及びスルフィニル基から成る群から選択される少なくとも1種を含む溶媒が好ましい。
<Solvent>
The resin composition preferably contains a solvent in consideration of the formability of the resin layer. The solvent may be any solvent capable of dissolving the polyimide and the epoxy compound, but from the viewpoints of the coatability of the varnish and the transparency of the resulting resin layer, a solvent containing at least one selected from the group consisting of an ester group, an ether group, a ketone group, a hydroxyl group, a sulfone group, and a sulfinyl group is preferred.

エステル基を有する溶媒としては、エステル系溶媒、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジメチルなどが挙げられる。
環状エステル基を有する溶媒としては、ラクトン系溶媒、例えば、γ-ブチロラクトン(GBL)、δ-バレロラクトン、ε-カプロラクトン、γ-クロトノラクトン、γ-ヘキサノラクトン、α-メチル-γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、α-アセチル-γ-ブチロラクトン、δ-ヘキサノラクトンなどが挙げられる。
エーテル基を有する溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジブチルエーテル、などが挙げられる。
ケトン基を有する溶媒としては、ケトン系溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
水酸基を有する溶媒としては、フェノール系溶媒、例えば、m-クレゾールなどが挙げられる。
スルホン基を有する溶媒としては、メチルスルホン、エチルフェニルスルホン、ジエチルスルホン、ジフェニルスルホン、スルホラン、ビスフェノールS、ソラプソン、ダプソン、ビスフェノールAポリスルホン、スルホランなどが挙げられる。
スルフィニル基を有する溶媒としては、スルホキシド系溶媒、例えば、N,N-ジメチルスルホキシド(DMSO)などが挙げられる。
上記で列挙された溶媒以外に、アミド系溶媒、例えば、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)などを使用することができる。
Examples of the solvent having an ester group include ester-based solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and dimethyl carbonate.
Examples of the solvent having a cyclic ester group include lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL), δ-valerolactone, ε-caprolactone, γ-crotonolactone, γ-hexanolactone, α-methyl-γ-butyrolactone, γ-valerolactone, α-acetyl-γ-butyrolactone, and δ-hexanolactone.
Examples of the solvent having an ether group include tetrahydrofuran, dioxane, and dibutyl ether.
Examples of the solvent having a ketone group include ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
Examples of the solvent having a hydroxyl group include phenol-based solvents such as m-cresol.
Examples of the solvent having a sulfone group include methyl sulfone, ethyl phenyl sulfone, diethyl sulfone, diphenyl sulfone, sulfolane, bisphenol S, sorapsone, dapsone, bisphenol A polysulfone, and sulfolane.
Examples of solvents having a sulfinyl group include sulfoxide solvents, such as N,N-dimethylsulfoxide (DMSO).
In addition to the solvents listed above, amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc), etc. can be used.

<その他の成分>
樹脂組成物には、上記した以外の任意の成分が含まれていてもよく、例えば、ドライフィルムを作製する際のワニスの塗工性を改善する為のレベリング剤、分散剤、界面活性剤、レタデーション調整剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、光安定剤、可塑剤、ワックス類、充填剤、顔料、染料、発泡剤、消泡剤、脱水剤、帯電防止剤、抗菌剤、防カビ剤等が挙げられる。本発明の樹脂組成物は、上記した着色剤のなかでも、ポリイミド由来の黄色味を改善するためにブルーイング剤を含むことが好ましい。
<Other ingredients>
The resin composition may contain any component other than those described above, such as a leveling agent for improving the coatability of the varnish when producing a dry film, a dispersant, a surfactant, a retardation regulator, an antioxidant, an ultraviolet inhibitor, a light stabilizer, a plasticizer, waxes, fillers, pigments, dyes, foaming agents, defoamers, dehydrating agents, antistatic agents, antibacterial agents, antifungal agents, etc. Among the above-mentioned colorants, the resin composition of the present invention preferably contains a bluing agent for improving the yellowish color derived from the polyimide.

ブルーイング剤は、可視光領域のうち、例えば、橙色から黄色などの波長領域の光を吸収し、色相を調整する添加剤(染料、顔料)であって、例えば、群青、紺青、コバルトブルーなどの無機系の染料や顔料、例えば、フタロシアニン系ブルーイング剤、縮合多環系ブルーイング剤などの有機系の染料や顔料などが挙げられる。ブルーイング剤は、特に限定されないが、耐熱性、耐光性、溶解性の観点からは、縮合多環系ブルーイング剤が好ましく、アントラキノン系ブルーイング剤がより好ましい。ブルーイング剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Bluing agents are additives (dyes, pigments) that absorb light in the visible light range, for example, in the orange to yellow wavelength range, and adjust the hue. Examples include inorganic dyes and pigments such as ultramarine, Prussian blue, and cobalt blue, and organic dyes and pigments such as phthalocyanine-based bluing agents and condensed polycyclic bluing agents. The bluing agent is not particularly limited, but from the standpoint of heat resistance, light resistance, and solubility, condensed polycyclic bluing agents are preferred, and anthraquinone-based bluing agents are more preferred. The bluing agents may be used alone or in combination of two or more types.

縮合多環系ブルーイング剤としては、例えばアントラキノン系ブルーイング剤、インジゴ系ブルーイング剤、フタロシアニン系ブルーイング剤が挙げられる。これらのなかでも、耐熱性、耐光性、溶解性の観点から、アントラキノン系ブルーイング剤を含有することが好ましい。 Examples of condensed polycyclic bluing agents include anthraquinone-based bluing agents, indigo-based bluing agents, and phthalocyanine-based bluing agents. Among these, it is preferable to contain an anthraquinone-based bluing agent from the viewpoints of heat resistance, light resistance, and solubility.

樹脂組成物から樹脂層を形成した際の樹脂層の全光線透過率を高く維持する観点からは、ブルーイング剤の総使用量(配合量)は相対的に少なくする方が好ましく、使用するブルーイング剤の種類も少ない方が好ましい。ブルーイング剤の含有量は、YI値を低減しながら全光線透過率を維持する観点から、樹脂組成物の固形分量に対して、好ましくは5~100ppm、より好ましくは10~70ppmである。 From the viewpoint of maintaining a high total light transmittance of the resin layer when the resin layer is formed from the resin composition, it is preferable to keep the total amount (mixture amount) of the bluing agent used relatively small, and it is also preferable to use a small number of types of bluing agents. From the viewpoint of maintaining the total light transmittance while reducing the YI value, the content of the bluing agent is preferably 5 to 100 ppm, more preferably 10 to 70 ppm, based on the solid content of the resin composition.

<樹脂層>
樹脂層は、上記したポリイミド、エポキシ化合物および必要に応じて任意の成分を、溶剤に溶解ないし分散させてワニスを調製し、基材上にワニスを塗布して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥して溶媒を除去することにより形成することができる。塗工工程は、各種の塗工装置を用いて行われることができ、例えば、スピンコート、スリットコート、スロットダイコート及びブレードコートなどの公知の塗工方法を用いてよい。
<Resin Layer>
The resin layer can be formed by dissolving or dispersing the above-mentioned polyimide, epoxy compound, and any other component as required in a solvent to prepare a varnish, applying the varnish to a substrate to form a coating film, and then drying the coating film to remove the solvent. The coating process can be performed using various coating devices, and known coating methods such as spin coating, slit coating, slot die coating, and blade coating may be used.

塗布膜の乾燥工程は、溶剤が揮発する温度であれば特に制限はないが、透明性の高い樹脂層を得る観点からは、60~140℃で30秒~30分間程度であることが好ましい。 There are no particular limitations on the drying process for the coating film as long as the temperature is such that the solvent evaporates, but from the perspective of obtaining a highly transparent resin layer, it is preferable to dry the coating film at 60 to 140°C for about 30 seconds to 30 minutes.

樹脂層の厚みは、基材上に塗布するワニスの塗布量によって調整することができるが、本発明においては、ガラス基板との密着性と、積層体とした場合の表面硬度とを両立できる観点からは、5~25μmであることが好ましく、10~20μmであることが好ましい。また、ガラス基板と樹脂層との厚さの総和は、30~135μmであることが好ましく、30~100μmであることがより好ましい。 The thickness of the resin layer can be adjusted by the amount of varnish applied to the substrate, but in the present invention, from the viewpoint of achieving both adhesion to the glass substrate and surface hardness when formed into a laminate, it is preferably 5 to 25 μm, more preferably 10 to 20 μm. The total thickness of the glass substrate and the resin layer is preferably 30 to 135 μm, more preferably 30 to 100 μm.

また、樹脂層は、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜の全光線透過率が88%以上であることが好ましい。全光線透過率が88%以上であることにより、積層体をフレキシブルデバイス用ディスプレイのカバーウィンドウとして好適に使用することができる。全光線透過率は90%以上であることがより好ましい。なお、本明細書において、全光線透過率は、JIS K 7375:2008に準拠して公知の濁度計により測定した値を意味するものとする。 When the resin layer is a single layer film having a thickness of 50 μm, the single layer film preferably has a total light transmittance of 88% or more. A total light transmittance of 88% or more allows the laminate to be suitably used as a cover window for a display for a flexible device. A total light transmittance of 90% or more is more preferable. In this specification, the total light transmittance means a value measured using a known turbidity meter in accordance with JIS K 7375:2008.

<保護フィルム>
本発明のドライフィルムは、樹脂層の表面に塵等が付着するのを防止するとともに取扱性を向上させる目的で、図2に示すように樹脂層20の、基材10と接する面とは反対の面側に、更に保護フィルム30が設けられていてもよい。
<Protective film>
In the dry film of the present invention, a protective film 30 may be further provided on the side of the resin layer 20 opposite to the side in contact with the substrate 10 as shown in FIG. 2 in order to prevent dust and the like from adhering to the surface of the resin layer and to improve handleability.

保護フィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、表面処理した紙等を用いることができるが、保護フィルムと樹脂層との接着力が、基材と樹脂層との接着力よりも小さくなるような材料を選定することが好ましい。また、ドライフィルムの使用時に、保護フィルムを剥離し易くするため、保護フィルムの樹脂層と接する面には上記したような離型処理が施されていてもよい。 For example, polyester film, polyethylene film, polytetrafluoroethylene film, polypropylene film, surface-treated paper, etc. can be used as the protective film, but it is preferable to select a material such that the adhesive strength between the protective film and the resin layer is smaller than the adhesive strength between the substrate and the resin layer. In addition, in order to make it easier to peel off the protective film when using the dry film, the surface of the protective film that comes into contact with the resin layer may be subjected to a release treatment as described above.

保護フィルムの厚さは、特に制限されるものではないが概ね10~150μmの範囲で用途に応じて適宜選択される。 The thickness of the protective film is not particularly limited, but is generally selected from the range of 10 to 150 μm depending on the application.

[積層体]
本発明による積層体を、図面を参照しながら説明する。図3~5は、本発明の積層体の一実施形態を模式的に示した概略断面図である。本発明による積層体2は、図3に示すように、ガラス基板40と、ガラス基板40の主面の一方に面40Aに接するように設けられてなる樹脂層20とを備えている。本発明の積層体の一実施形態によれば、積層体2は、図4に示すように、樹脂層の最表面20Aに機能層50を備えていてもよい。また、本発明の積層体の一実施形態によれば、積層体2は、図5に示すように、ガラス基板の他方の主面40B側に支持体60を備えていてもよい。なお、図示はしないが、図5に示す実施形態において、ガラス基板40と支持体60とは、接着剤を介して積層されていてもよい。以下、本発明の積層体を構成する各層について詳述する。
[Laminate]
The laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIGS. 3 to 5 are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the laminate according to the present invention. As shown in FIG. 3, the laminate 2 according to the present invention includes a glass substrate 40 and a resin layer 20 provided on one of the main surfaces 40A of the glass substrate 40. According to an embodiment of the laminate according to the present invention, the laminate 2 may include a functional layer 50 on the outermost surface 20A of the resin layer as shown in FIG. 4. According to an embodiment of the laminate according to the present invention, the laminate 2 may include a support 60 on the other main surface 40B side of the glass substrate as shown in FIG. 5. Although not shown, in the embodiment shown in FIG. 5, the glass substrate 40 and the support 60 may be laminated via an adhesive. Hereinafter, each layer constituting the laminate according to the present invention will be described in detail.

<ガラス基板>
本発明の積層体を構成するガラス基板は、厚さが25~100μmである。25~100μmの厚さを有するガラス基板であれば、耐屈曲性や耐衝撃性を有する積層体とすることができる。ガラス基板の厚さは、製造コストと耐屈曲性や耐衝撃性とを両立できる観点から30~70μmであることが好ましい。
<Glass substrate>
The glass substrate constituting the laminate of the present invention has a thickness of 25 to 100 μm. A glass substrate having a thickness of 25 to 100 μm can be used to form a laminate having bending resistance and impact resistance. The thickness of the glass substrate is preferably 30 to 70 μm from the viewpoint of achieving both manufacturing cost and bending resistance and impact resistance.

ガラス基板は、上記厚さを有するものであれば特に制限なく使用することができるが、ケイ酸塩ガラスやシリカガラスが好ましく、より好ましくはホウ珪酸ガラス、ソーダライムガラス、アルミノ珪酸塩ガラスである。特に好ましくは、これらガラスの化学強化ガラスまたは無アルカリガラスである。なお、化学強化ガラスは、上記したガラス材料を化学強化処理したものである。化学強化処理は、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、大きなイオン半径の金属イオンを含む金属塩(例えば、硝酸カリウム)の融液に、ガラス基板を浸漬することにより、ガラス基板中の小さなイオン半径の金属イオン(典型的には、NaイオンまたはLiイオン)が大きなイオン半径の金属イオンと置換され、その結果、ガラス基板表面に残留圧縮応力を発生させることができる。化学強化ガラスは、非化学強化ガラスと比べて圧縮強度、曲げ強度、耐衝撃性が優れる。また、無アルカリガラスとは、アルカリ成分(アルカリ金属酸化物)が実質的に含まれていないガラスのことであって、具体的には、アルカリ成分の重量比が3000ppm以下のガラスをいう。アルカリ成分の重量比は、好ましくは1000ppm以下であり、より好ましくは500ppm以下であり、最も好ましくは300ppm以下である。 The glass substrate can be used without any particular restriction as long as it has the above thickness, but silicate glass or silica glass is preferred, and more preferably borosilicate glass, soda-lime glass, or aluminosilicate glass. Particularly preferred are chemically strengthened glass or alkali-free glass of these glasses. Chemically strengthened glass is a glass material obtained by chemically strengthening the above-mentioned glass material. The chemical strengthening treatment can be performed by a conventionally known method. For example, by immersing a glass substrate in a molten metal salt (e.g., potassium nitrate) containing a metal ion with a large ionic radius, the metal ion with a small ionic radius (typically Na ion or Li ion) in the glass substrate is replaced with a metal ion with a large ionic radius, and as a result, residual compressive stress can be generated on the surface of the glass substrate. Chemically strengthened glass has superior compressive strength, bending strength, and impact resistance compared to non-chemically strengthened glass. In addition, alkali-free glass refers to glass that does not substantially contain an alkali component (alkali metal oxide), specifically, glass with a weight ratio of the alkali component of 3000 ppm or less. The weight ratio of the alkali component is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and most preferably 300 ppm or less.

ガラス基板の曲げ弾性率は、50~150GPaであることが好ましく、より好ましくは70~100GPaである。なお、本明細書において曲げ弾性率とは、JIS R 1602:1995に準拠して、25℃にて測定した値を意味するものとする。 The flexural modulus of the glass substrate is preferably 50 to 150 GPa, and more preferably 70 to 100 GPa. In this specification, the flexural modulus refers to the value measured at 25°C in accordance with JIS R 1602:1995.

上記したようなガラス基板は市販のものを使用してもよく、例えば、Dragontrail(登録商標)(AGC株式会社製:材質=アルミノシリケート、シリコン含有、厚さ=70μm)、SCHOTT AS 87 eco(SCHOTT社製:材質=アルミノシリケート、厚さ=25μm、50μm、70μm)、SCHOTT Xensation(登録商標)Up(SCHOTT社製:材質=アルミノシリケート、厚さ=30μm、50μm、70μm)、D263(登録商標)Teco(SCHOTT社製:材質=ホウ珪酸、厚さ=30μm、70μm)、G-Leaf(登録商標)日本電気硝子株式会社製:材質=無アルカリガラス、厚さ=50μm、100μm)等が挙げられる。 The above-mentioned glass substrate may be a commercially available product, such as Dragontrail (registered trademark) (manufactured by AGC Inc.: material = aluminosilicate, containing silicon, thickness = 70 μm), SCHOTT AS 87 eco (manufactured by SCHOTT: material = aluminosilicate, thickness = 25 μm, 50 μm, 70 μm), SCHOTT Xensation (registered trademark) Up (manufactured by SCHOTT: material = aluminosilicate, thickness = 30 μm, 50 μm, 70 μm), D263 (registered trademark) Teco (manufactured by SCHOTT: material = borosilicate, thickness = 30 μm, 70 μm), G-Leaf (registered trademark) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.: material = alkali-free glass, thickness = 50 μm, 100 μm), etc.

<樹脂層>
樹脂層は、上記したドライフィルムを使用することにより形成することできる。以下、本発明のドライフィルムを用いた樹脂層の形成方法を説明する。先ず、ドライフィルムの樹脂層と接するように、ガラス基板の主面の一方に面にドライフィルムを貼り合わせる。ドライフィルムが保護フィルムを備えている場合は、保護フィルムをドライフィルムから剥離し、樹脂層の表面を露出させてからガラス基板にドライフィルムを貼り合わせる。
<Resin Layer>
The resin layer can be formed by using the above-mentioned dry film. Hereinafter, a method for forming a resin layer using the dry film of the present invention will be described. First, a dry film is attached to one of the main surfaces of a glass substrate so as to contact the resin layer of the dry film. If the dry film has a protective film, the protective film is peeled off from the dry film to expose the surface of the resin layer, and then the dry film is attached to the glass substrate.

ガラス基板とドライフィルムとの貼合は、真空ラミネーター等を用いて、加圧および加熱下で貼合することが好ましい。このような真空ラミネーターを使用することにより、ドライフィルムの樹脂層とガラス基板との間に気泡が混入せずに両者を密着させることができる。加圧条件は、0.1~2.0MPa程度であることが好ましく、また、加熱条件は、40~120℃であることが好ましい。 The glass substrate and the dry film are preferably bonded under pressure and heat using a vacuum laminator or the like. By using such a vacuum laminator, the resin layer of the dry film and the glass substrate can be bonded together without air bubbles being trapped between them. The pressure conditions are preferably about 0.1 to 2.0 MPa, and the heating conditions are preferably 40 to 120°C.

ドライフィルムをガラス基板に貼合した後、ドライフィルムから基材を剥離して、ガラス基板上に樹脂層を形成する。続いて、樹脂層を、エポキシ化合物の軟化点温度以上の温度に加熱することにより、樹脂層とガラス基板との密着性を向上することができる。 After the dry film is laminated to the glass substrate, the substrate is peeled off from the dry film to form a resin layer on the glass substrate. The resin layer is then heated to a temperature equal to or higher than the softening point temperature of the epoxy compound, thereby improving the adhesion between the resin layer and the glass substrate.

<機能層>
上記した樹脂層上に所望により設けられる機能層について説明する。機能層が有する機能は特に限定されず、ハードコート機能、帯電防止機能、防眩機能、低反射機能、反射防止機能、防汚機能、ガスバリア機能、プライマー機能、電磁波遮蔽機能、下塗り機能、紫外線吸収機能、粘着機能、色相調整機能等、フレキシブル表示素子のカバーウィンドウに採用される一般的な機能であってよい。機能層は1種類の機能を有する層であってもよいし、2種以上の機能を兼ね備えた層であってもよい。カバーウィンドウとして使用しやすい観点から、該機能層の少なくとも1つは、ハードコート機能、帯電防止機能、防眩機能、低反射機能、反射防止機能および防汚機能からなる群から選択される少なくとも1つの機能を有する層であることが好ましい。機能層は、1層で複数の機能を有していてもよいし、各機能を有する層を2層以上積層してもよい。2層以上積層する場合、積層する順番はその機能に応じて適宜設定される。
<Functional layer>
The functional layer that is provided on the resin layer as desired will be described. The function of the functional layer is not particularly limited, and may be a general function adopted in the cover window of a flexible display element, such as a hard coat function, an antistatic function, an antiglare function, a low reflection function, an antireflection function, an antifouling function, a gas barrier function, a primer function, an electromagnetic wave shielding function, an undercoat function, an ultraviolet absorbing function, an adhesive function, a hue adjustment function, etc. The functional layer may be a layer having one type of function, or a layer having two or more types of functions. From the viewpoint of easy use as a cover window, at least one of the functional layers is preferably a layer having at least one function selected from the group consisting of a hard coat function, an antistatic function, an antiglare function, a low reflection function, an antireflection function, and an antifouling function. The functional layer may have multiple functions in one layer, or two or more layers having each function may be laminated. When two or more layers are laminated, the order of lamination is appropriately set according to the function.

機能層の厚さは、目的とする機能に応じて適宜設定してよいが、積層体の軽量化および光学的均質性を高めやすい観点からは、好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。 The thickness of the functional layer may be set appropriately depending on the intended function, but from the viewpoint of making the laminate lighter and improving its optical homogeneity, it is preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

(ハードコート機能)
ハードコート機能は、光学フィルムの表面に耐傷性、耐薬品性などを付与して光学フィルムを保護する機能である。本発明の光学積層体において、機能層はハードコート機能を有する層(ハードコート層)であってよい。ハードコート層としては、公知のものを適宜採用してよく、例えばアクリル系、エポキシ系、ウレタン系、ベンジルクロライド系、ビニル系等の公知のハードコート層が挙げられる。これらのなかでも光学積層体の広角方向の視認性の低下を抑制し、かつ耐屈曲性を向上させる観点から、アクリル系、ウレタン系、およびそれらの組合せのハードコート層が好ましい。例えば、ハードコート層は、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物の硬化物であってよい。活性エネルギー線硬化性化合物は、電子線、紫外線などの活性エネルギー線を照射することにより硬化する性質を有する化合物である。このような活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、電子線を照射することにより硬化する電子線硬化性化合物や、紫外線を照射することにより硬化する紫外線硬化性化合物などが挙げられる。これらの化合物は、通常のハードコート層の形成に用いられるハードコート剤の主成分と同様の化合物であり、例えば(メタ)アクリル系樹脂が挙げられる。特に、(メタ)アクリル系樹脂のうち、多官能(メタ)アクリレート系化合物を主成分とするものが好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリルとは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味し、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよび/またはメタクリレートを意味する。
(Hard coat function)
The hard coat function is a function of protecting the optical film by imparting scratch resistance, chemical resistance, etc. to the surface of the optical film. In the optical laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a hard coat function (hard coat layer). As the hard coat layer, a known one may be appropriately adopted, and examples thereof include known hard coat layers such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl. Among these, from the viewpoint of suppressing the decrease in visibility in the wide angle direction of the optical laminate and improving the bending resistance, acrylic, urethane, and combinations thereof are preferred. For example, the hard coat layer may be a cured product of a composition containing an active energy ray curable compound. The active energy ray curable compound is a compound having the property of being cured by irradiation with active energy rays such as electron beams and ultraviolet rays. Examples of such active energy ray curable compounds include, for example, electron beam curable compounds that are cured by irradiation with electron beams and ultraviolet ray curable compounds that are cured by irradiation with ultraviolet rays. These compounds are the same compounds as the main components of hard coat agents used in the formation of ordinary hard coat layers, and examples thereof include (meth)acrylic resins. In particular, among (meth)acrylic resins, those containing a polyfunctional (meth)acrylate compound as a main component are preferred. In this specification, (meth)acrylic means acrylic and/or methacrylic, and (meth)acrylate means acrylate and/or methacrylate.

多官能(メタ)アクリレート系化合物とは、分子中に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基および/またはメタクリロイルオキシ基を有する化合物であり、具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ホスファゼン化合物のホスファゼン環に(メタ)アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼン系アクリレート化合物またはホスファゼン系メタクリレート化合物、分子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基および水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるウレタン(メタ)アクリレート化合物、分子中に少なくとも2個のカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基および水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるポリエステル(メタ)アクリレート化合物、並びに上記各化合物の2量体、3量体などのようなオリゴマーなどが挙げられる。 A polyfunctional (meth)acrylate compound is a compound having at least two acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups in the molecule, and specifically includes ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tetra(meth)acrylate, pentaglycerol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, tris((meth)acryloyloxyethyl)isocyanurate, phosphazene-based acrylate compounds or phosphazene-based methacrylate compounds in which a (meth)acryloyloxy group has been introduced into the phosphazene ring of a phosphazene compound, urethane (meth)acrylate compounds obtained by reacting a polyisocyanate having at least two isocyanate groups in the molecule with a polyol compound having at least one (meth)acryloyloxy group and a hydroxyl group, polyester (meth)acrylate compounds obtained by reacting a polyol compound having at least two carboxylic acid halides in the molecule with at least one (meth)acryloyloxy group and a hydroxyl group, and oligomers such as dimers and trimers of the above compounds.

これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いてよい。なお、上記の多官能(メタ)アクリレート系化合物の他に、少なくとも1種の単官能(メタ)アクリレートを使用してもよい。単官能(メタ)アクリレートとしては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は単独または2種類以上を混合して用いられる。単官能(メタ)アクリレート系化合物の含有量は、機能層形成用組成物(ハードコート層用塗料)に含まれる化合物の固形分に対して、好ましくは10質量%以下の量である。なお、本明細書において、固形分とは、硬化性組成物に含まれる溶媒を除く、全ての成分を意味する。 These compounds may be used alone or in a mixture of two or more. In addition to the above-mentioned polyfunctional (meth)acrylate compounds, at least one monofunctional (meth)acrylate may be used. Examples of monofunctional (meth)acrylates include hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, and glycidyl (meth)acrylate. These compounds may be used alone or in a mixture of two or more. The content of the monofunctional (meth)acrylate compound is preferably 10% by mass or less based on the solid content of the compound contained in the composition for forming the functional layer (paint for the hard coat layer). In this specification, the solid content means all components contained in the curable composition except the solvent.

機能層には、例えば硬度を調整する目的で、重合性オリゴマーを添加してもよい。このようなオリゴマーとしては、末端(メタ)アクリレートポリメチルメタクリレート、末端スチリルポリ(メタ)アクリレート、末端(メタ)アクリレートポリスチレン、末端(メタ)アクリレートポリエチレングリコール、末端(メタ)アクリレートアクリロニトリル-スチレン共重合体、末端(メタ)アクリレートスチレン-メチル(メタ)アクリレート共重合体などのマクロモノマーが挙げられる。重合性オリゴマーを添加する場合、その含有量は、機能層形成用組成物の固形分に対して、好ましくは5~50質量%である。 A polymerizable oligomer may be added to the functional layer, for example to adjust the hardness. Examples of such oligomers include macromonomers such as (meth)acrylate-terminated polymethyl methacrylate, styryl-terminated poly(meth)acrylate, (meth)acrylate-terminated polystyrene, (meth)acrylate-terminated polyethylene glycol, (meth)acrylate-terminated acrylonitrile-styrene copolymer, and (meth)acrylate-terminated styrene-methyl (meth)acrylate copolymer. When a polymerizable oligomer is added, the content is preferably 5 to 50 mass % based on the solid content of the functional layer-forming composition.

活性エネルギー線硬化性化合物は、溶剤と混合された溶液の状態で用いてもよい。活性エネルギー線硬化性化合物やその溶液は、ハードコート剤として市販されているものであってもよい。市販のハードコート剤としては、具体的には、NKハードM101(ウレタンアクリレート化合物、新中村化学株式会社)、NKエステルA-TMM-3L(テトラメチロールメタントリアクリレート、新中村化学株式会社)、NKエステルA-9530(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、新中村化学株式会社)、KAYARAD(登録商標)DPCAシリーズ(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート化合物の誘導体、日本化薬株式会社)、アロニックス(登録商標)M-8560(ポリエステルアクリレート化合物、東亜合成株式会社)、ニューフロンティア(登録商標)TEICA(トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、第一工業製薬株式会社)、PPZ(ホスファゼン系メタクリレート化合物、共栄社化学株式会社)等が例示される。 The active energy ray curable compound may be used in the form of a solution mixed with a solvent. The active energy ray curable compound or its solution may be commercially available as a hard coat agent. Specific examples of commercially available hard coat agents include NK Hard M101 (urethane acrylate compound, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), NK Ester A-TMM-3L (tetramethylolmethane triacrylate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), NK Ester A-9530 (dipentaerythritol hexaacrylate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD (registered trademark) DPCA series (derivatives of dipentaerythritol hexaacrylate compound, Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix (registered trademark) M-8560 (polyester acrylate compound, Toa Gosei Co., Ltd.), New Frontier (registered trademark) TEICA (tris(acryloyloxyethyl) isocyanurate, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), PPZ (phosphazene-based methacrylate compound, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like.

活性エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、通常、重合開始剤として光重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフエノンベンジルケタール、アントラキノン、1-(4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、カルバゾール、キサントン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,1-ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフオリノプロパン-1-オン、トリフェニルアミン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3-メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’-テトラtert-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフエノン(BTTB)、2-(ジメチルアミノ)-1-〔4-(モルフォリニル)フェニル〕-2-フェニルメチル)-1-ブタノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、ベンジルなどが挙げられる。 When ultraviolet light or visible light is used as the active energy ray, a photopolymerization initiator is usually used as the polymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1-(4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzoin, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, triphenylamine, 2 , 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoisopropyl ether, benzophenone, Michler's ketone, 3-methylacetophenone, 3,3',4,4'-tetratert-butylperoxycarbonylbenzophenone (BTTB), 2-(dimethylamino)-1-[4-(morpholinyl)phenyl]-2-phenylmethyl)-1-butanone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzyl, etc.

また、光重合開始剤は色素増感剤と組合せて用いられてもよい。色素増感剤としては、例えばキサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリンなどが挙げられる。光重合開始剤と色素増感剤との組合せとしては、例えばBTTBとキサンテンとの組合せ、BTTBとチオキサンテンとの組合せ、BTTBとクマリンとの組合せ、BTTBとケトクマリンとの組合せなどが挙げられる。 The photopolymerization initiator may be used in combination with a dye sensitizer. Examples of dye sensitizers include xanthene, thioxanthene, coumarin, and ketocoumarin. Examples of combinations of photopolymerization initiators and dye sensitizers include a combination of BTTB and xanthene, a combination of BTTB and thioxanthene, a combination of BTTB and coumarin, and a combination of BTTB and ketocoumarin.

光重合開始剤を用いる場合、その使用量は、活性エネルギー線硬化性化合物100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上である。使用量が上記範囲にあると十分な硬化速度を得やすい傾向にある。なお、光重合開始剤の使用量は、活性エネルギー線硬化性化合物100質量部あたり、好ましくは10質量部以下である。 When a photopolymerization initiator is used, the amount used is preferably 0.1 parts by mass or more per 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound. If the amount used is within the above range, a sufficient curing speed tends to be obtained. The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 10 parts by mass or less per 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound.

ハードコート層の厚さは、適宜設定することができるが、積層体の耐屈曲性、表面硬度および光学的均質性の観点から、好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。 The thickness of the hard coat layer can be set as appropriate, but from the viewpoint of the bending resistance, surface hardness, and optical homogeneity of the laminate, it is preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

ハードコート層を樹脂層の表面に形成する方法としては、例えば活性エネルギー線硬化性化合物(活性エネルギー線硬化性樹脂)を含有するハードコート層形成用組成物を樹脂層の表面に塗布し、活性エネルギー線を照射すればよい。このような組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物を必要に応じて添加剤等と混合することにより得ることができる。ハードコート層形成用組成物の硬化物がハードコート層を構成する。 A method for forming a hard coat layer on the surface of a resin layer may involve, for example, applying a composition for forming a hard coat layer containing an active energy ray curable compound (active energy ray curable resin) to the surface of the resin layer and irradiating the surface with active energy rays. Such a composition may be obtained by mixing the active energy ray curable compound with additives, etc., as necessary. The hard coat layer is formed from the cured product of the composition for forming a hard coat layer.

ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含むことが好ましく、ハードコート層形成用組成物において、活性エネルギー線硬化性化合物が溶剤で希釈されていることが好ましい。この場合、該組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物と表面平滑性等を付与するための各種添加剤(例えばシリコーンオイル等)とを混合後に、得られた混合物を溶剤で希釈して製造してもよいし、活性エネルギー線硬化性化合物を溶剤で希釈後、添加剤を混合して製造してもよいし、活性エネルギー線硬化性化合物と予め溶剤で希釈された添加剤とを混合して製造してもよいし、予め溶剤で希釈された活性エネルギー線硬化性化合物と予め溶剤で希釈された添加剤とを混合して製造してもよい。混合後の組成物はさらに攪拌されてもよい。 The composition for forming a hard coat layer preferably contains a solvent, and in the composition for forming a hard coat layer, the active energy ray curable compound is preferably diluted with a solvent. In this case, the composition may be produced by mixing the active energy ray curable compound with various additives (e.g., silicone oil, etc.) for imparting surface smoothness, etc., and then diluting the resulting mixture with a solvent, or by diluting the active energy ray curable compound with a solvent and then mixing the additives, or by mixing the active energy ray curable compound with an additive previously diluted with a solvent, or by mixing the active energy ray curable compound previously diluted with a solvent with an additive previously diluted with a solvent. The composition after mixing may be further stirred.

塗布を容易にする観点からも、ハードコート層形成用組成物が、適当な溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エタノール、1-プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、セロソルブ類などから適宜選択して用いることができる。これらの有機溶剤は、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。ハードコート層形成用組成物を塗工後に加熱して、有機溶剤を蒸発させやすい観点から、溶剤の沸点は好ましくは70℃~200℃の範囲である。溶剤の種類や使用量は、用いる活性エネルギー線硬化性化合物の種類や量、樹脂層の材質、形状、塗布方法、目的とするハードコート層の厚さみなどに応じて適宜選択される。 From the viewpoint of facilitating application, it is preferable that the composition for forming a hard coat layer contains a suitable solvent. The solvent can be appropriately selected from aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, and 1-butanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, cellosolves, and the like. These organic solvents may be mixed and used as necessary. From the viewpoint of easily evaporating the organic solvent by heating the composition for forming a hard coat layer after application, the boiling point of the solvent is preferably in the range of 70°C to 200°C. The type and amount of the solvent are appropriately selected depending on the type and amount of the active energy ray curable compound used, the material and shape of the resin layer, the application method, the desired thickness of the hard coat layer, and the like.

(帯電防止機能)
帯電防止機能は、積層体の表面の帯電を防止する機能である。本発明の積層体において、機能層は帯電防止機能を有する層(帯電防止層)であってよい。帯電防止層を形成する方法としては、上記ハードコート層形成用組成物に帯電防止剤を添加してハードコート層に帯電防止機能を付与する方法以外に、帯電防止剤を溶剤等で希釈して得た帯電防止層形成用組成物を、樹脂層表面に形成されたハードコート層上に塗布し、必要に応じて乾燥して、単独の膜として形成させる方法が挙げられる。帯電防止剤は、機能層を構成する樹脂(例えば前述した活性エネルギー線硬化性化合物の硬化物)の一部に、帯電防止機能を有する構成単位として含まれていてもよいし、機能層を形成する樹脂中に、添加剤として添加されていてもよい。帯電防止剤を添加剤として添加する場合には、その添加量は、機能層形成用組成物の固形分に対して、好ましくは0.01~20質量%、より好ましくは0.05~10質量%、さらに好ましくは0.1~10質量%である。
(Antistatic function)
The antistatic function is a function of preventing the surface of the laminate from being charged. In the laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antistatic function (antistatic layer). As a method for forming an antistatic layer, in addition to the method of adding an antistatic agent to the composition for forming a hard coat layer to impart an antistatic function to the hard coat layer, a method of applying an antistatic layer forming composition obtained by diluting the antistatic agent with a solvent or the like onto the hard coat layer formed on the surface of the resin layer and drying it as necessary to form a single film can be mentioned. The antistatic agent may be included as a structural unit having an antistatic function in a part of the resin constituting the functional layer (for example, the cured product of the above-mentioned active energy ray curable compound), or may be added as an additive to the resin forming the functional layer. When the antistatic agent is added as an additive, the amount of the antistatic agent added is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, and even more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the solid content of the composition for forming the functional layer.

(防眩機能)
防眩機能は、光を散乱して反射させることで、外光の映り込みを防止する機能である。本発明の積層体において、機能層は防眩機能を有する層(防眩層)であってよい。防眩層としては、公知の物を適宜採用することができる。例えば、透光性樹脂中に1種類以上の透光性微粒子を含む樹脂組成物を用いて、表面に微細な凹凸形状を有する層を形成させることにより、防眩機能を付与してよい。より具体的には、このような防眩層は、例えば、フィラーとしての透光性微粒子を分散させた透光性樹脂溶液を樹脂層表面に塗布し、透光性微粒子が防眩層の表面における凸形状部分となるように塗布の厚さを調整することで形成できる。なお、本明細書において、「透光性」とは、物質内部での散乱の有無を問わず、光がほぼ透過できることを意味する。
(Anti-glare function)
The antiglare function is a function of preventing reflection of external light by scattering and reflecting light. In the laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having an antiglare function (antiglare layer). As the antiglare layer, a known material may be appropriately adopted. For example, the antiglare function may be imparted by forming a layer having a fine uneven shape on the surface using a resin composition containing one or more types of translucent fine particles in a translucent resin. More specifically, such an antiglare layer can be formed, for example, by applying a translucent resin solution in which translucent fine particles as a filler are dispersed on the surface of the resin layer, and adjusting the thickness of the application so that the translucent fine particles become the convex part on the surface of the antiglare layer. In this specification, "translucency" means that light can be almost transmitted regardless of the presence or absence of scattering inside the substance.

(反射防止機能および低反射機能)
反射防止機能および低反射機能は、外光の反射を防止または低減する機能である。本発明の積層体において、機能層は外光の反射を防止する機能を有する層(反射防止層)であってよいし、外光の反射を低減する機能を有する層(低反射層)であってもよい。反射防止層および低反射層は、単層であっても多層であってもよい。
(Anti-reflection and low-reflection functions)
The anti-reflection function and the low reflection function are functions to prevent or reduce the reflection of external light. In the laminate of the present invention, the functional layer may be a layer having a function of preventing the reflection of external light (anti-reflection layer), or may be a layer having a function of reducing the reflection of external light (low reflection layer). The anti-reflection layer and the low reflection layer may be a single layer or a multilayer.

反射防止層は、低屈折率層を備えていてよい。また、反射防止層は、低屈折率層と、低屈折率層と樹脂層との間に積層された高屈折率層および/または中屈折率層をさらに備える多層構造を有する層であってもよい。反射防止層と樹脂層との間に、上述のハードコート層を設けてもよい。 The anti-reflection layer may include a low refractive index layer. The anti-reflection layer may also be a layer having a multi-layer structure further including a low refractive index layer and a high refractive index layer and/or a medium refractive index layer laminated between the low refractive index layer and the resin layer. The above-mentioned hard coat layer may be provided between the anti-reflection layer and the resin layer.

反射防止層の厚さは、好ましくは0.01~1μm、より好ましくは0.02~0.5μmである。反射防止層としては、反射防止層を設ける樹脂層または他の機能層の屈折率よりも小さい屈折率(例えば1.3~1.45の屈折率)を有する低屈折率層や、無機化合物からなる薄膜の低屈折率層と無機化合物からなる薄膜の高屈折率層とを交互に複数積層した層などが挙げられる。ここで、高屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率よりも大きければよいが、1.60以上であることが好ましい。 The thickness of the anti-reflection layer is preferably 0.01 to 1 μm, more preferably 0.02 to 0.5 μm. Examples of the anti-reflection layer include a low refractive index layer having a smaller refractive index (e.g., a refractive index of 1.3 to 1.45) than the resin layer or other functional layer on which the anti-reflection layer is provided, and a layer in which multiple low refractive index layers made of thin films of inorganic compounds and high refractive index layers made of thin films of inorganic compounds are alternately laminated. Here, the refractive index of the high refractive index layer needs only to be larger than the refractive index of the low refractive index layer, but is preferably 1.60 or more.

低屈折率層を形成する材料は、屈折率の低い材料であれば特に制限されない。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂(例えば紫外線硬化型アクリル樹脂)等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル-ゲル材料等が挙げられる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、前駆体となるモノマーやオリゴマーであってもよい。また、反射防止層を構成する材料は、反射防止層に防汚機能を付与することができるため、フッ素を含有する化合物を含むことが好ましい。 The material forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as it has a low refractive index. Examples include resin materials such as active energy ray curable resins (e.g., ultraviolet curable acrylic resins), hybrid materials in which inorganic particles such as colloidal silica are dispersed in a resin, and sol-gel materials using metal alkoxides such as tetraethoxysilane. These materials forming the low refractive index layer may be polymerized polymers, or may be precursor monomers or oligomers. In addition, the material constituting the antireflection layer preferably contains a fluorine-containing compound, since this can impart an antifouling function to the antireflection layer.

高屈折率層は、上述の活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物や金属アルコキシド系ポリマー等の透光性樹脂と無機微粒子および/または有機微粒子とを含有する塗工液を塗布した後、塗布膜を必要に応じて硬化させることによって形成することができる。無機微粒子としては、たとえば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化インジウム錫(ITO)などが挙げられる。これらの無機微粒子を含む高屈折率層は、帯電防止機能も兼ね備え得る。 The high refractive index layer can be formed by applying a coating liquid containing a translucent resin such as a cured product of the above-mentioned active energy ray curable resin or a metal alkoxide polymer and inorganic and/or organic fine particles, and then curing the coating film as necessary. Examples of inorganic fine particles include zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, zirconium oxide, antimony oxide, and indium tin oxide (ITO). The high refractive index layer containing these inorganic fine particles can also have an antistatic function.

低反射層は、樹脂層または所望により設けられる他の機能層よりも屈折率の低い低屈折率材料で形成された層である。低屈折率層は、上述の活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物や金属アルコキシド系ポリマー等の透光性樹脂および無機微粒子を含有する塗工液を塗布した後、塗布膜を必要に応じて硬化させることよって形成することができる。そのような低屈折率材料として、具体的には、フッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化アルミニウム(AlF)、氷晶石(3NaF・AlFまたはNaAlF)等の無機材料微粒子を、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料;フッ素系またはシリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の有機系低反射材料が挙げられる。 The low-reflection layer is a layer formed of a low-refractive index material having a lower refractive index than the resin layer or other functional layers that are provided as required.The low-refractive index layer can be formed by applying a coating liquid containing a translucent resin such as the cured product of the above-mentioned active energy ray curable resin or a metal alkoxide polymer and inorganic fine particles, and then curing the coating film as necessary.Specific examples of such low-refractive index materials include inorganic low-refractive materials in which inorganic material fine particles such as lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), and cryolite (3NaF·AlF 3 or Na 3 AlF 6 ) are contained in acrylic resins or epoxy resins; organic low-refractive materials such as fluorine-based or silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, thermosetting resins, and ultraviolet-curable resins.

<タッチセンサ機能>
樹脂層の表面に透明電極層を形成することにより積層体にタッチセンサ機能を付与することができる。樹脂層または所望により設けられる他の機能層の表面上に、例えば透明電極層をスパッタリング装置で成膜することにより得ることができる。これにより、本発明の積層体をカバーウィンドウに使用した場合に透明電極のようなタッチパネルとすることができる。
<Touch sensor function>
A touch sensor function can be imparted to the laminate by forming a transparent electrode layer on the surface of the resin layer. For example, a transparent electrode layer can be formed on the surface of the resin layer or other functional layers that are provided as desired, using a sputtering device. This allows the laminate of the present invention to be used as a cover window to serve as a touch panel like a transparent electrode.

<支持体>
本発明の積層体は、ガラス基板の樹脂層を形成する面の反対となる面に支持体を設けることにより、積層体の機械的強度を向上させることができる。光透過性と機械的強度、屈曲性を有する材料であれば特に制限なく使用でき、例えばポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフッ化ビニル、ポリアクリレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、非晶質ポリオレフィン、フッ素系樹脂等の透明樹脂シートを好適に使用することができる。
<Support>
The laminate of the present invention can improve the mechanical strength of the laminate by providing a support on the surface of the glass substrate opposite to the surface on which the resin layer is formed. Any material having optical transparency, mechanical strength, and flexibility can be used without particular limitation, and for example, transparent resin sheets such as polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyvinyl fluoride, polyacrylate, polypropylene, polyethylene, amorphous polyolefin, and fluorine-based resin can be suitably used.

支持体の厚さは、積層体の用途によって適宜決定してよく、例えば、フレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして積層体を使用する場合には、40~200μmであることが好ましく、より好ましくは50~100μmである。 The thickness of the support may be appropriately determined depending on the application of the laminate. For example, when the laminate is used as a cover window for a flexible display element, the thickness is preferably 40 to 200 μm, and more preferably 50 to 100 μm.

<積層体の用途>
本発明の積層体を用いてフレキシブル表示素子を製造することができる。フレキシブル表示素子としては、有機ELディスプレイ、例えば、ボトムエミッション型フレキシブル有機ELディスプレイ、トップエミッション型フレキシブル有機ELディスプレイなど;またはフレキシブル液晶ディスプレイが挙げられる。本実施形態の積層体をフレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして用いる場合、フレキシブル表示素子は光源を備え、この光源の光が本実施形態の積層体を通過してフレキシブル表示素子の外部に出力されるように構成されることが好ましい。本実施形態の積層体をフレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして用いる場合、ガラス基板が樹脂層よりも光源側に配置されるように積層体を配置する。
<Applications of the laminate>
A flexible display element can be manufactured using the laminate of the present invention. The flexible display element can be an organic EL display, such as a bottom-emission type flexible organic EL display, a top-emission type flexible organic EL display, or a flexible liquid crystal display. When the laminate of the present embodiment is used as a cover window of a flexible display element, the flexible display element is preferably equipped with a light source, and the light of the light source is preferably output to the outside of the flexible display element through the laminate of the present embodiment. When the laminate of the present embodiment is used as a cover window of a flexible display element, the laminate is arranged so that the glass substrate is arranged closer to the light source than the resin layer.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that in the following, all "parts" and "%" are by weight unless otherwise specified.

<ポリイミドの準備>
以下のポリイミド1~6を準備した。
ポリイミド1:
窒素導入管、撹拌装置を備えた500mlセパラブルフラスコに、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB-N)2.0g(0.007モル)1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE-R)3.3g(0.01モル)1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(PAM-E)2.8g(0.01モル)、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)]プロパン二無水物(BisDA)15.9g(0.03モル)、安息香酸エチル56g、ピリジン0.47g(0.006モル)、トルエン10gを投入し、窒素雰囲気下、180℃で、途中トルエンを系外に除きながら4時間反応させることにより、30重量%のポリイミド溶液を得た。
得られたポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い、固形のポリイミド1を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は300,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.2であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は0%であった。
<Preparation of polyimide>
The following polyimides 1 to 6 were prepared.
Polyimide 1:
Into a 500 ml separable flask equipped with a nitrogen inlet tube and a stirrer, 2.0 g (0.007 mol) of 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene (APB-N), 3.3 g (0.01 mol) of 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPE-R), 2.8 g (0.01 mol) of 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane (PAM-E), 15.9 g (0.03 mol) of 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)]propane dianhydride (BisDA), 56 g of ethyl benzoate, 0.47 g (0.006 mol) of pyridine, and 10 g of toluene were added, and the mixture was reacted under a nitrogen atmosphere at 180° C. for 4 hours while removing toluene from the system during the reaction, thereby obtaining a 30 wt % polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain solid polyimide 1. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 300,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.2. The fluorine content in the polyimide was 0%.

ポリイミド2:
200mLのガラス製のバイアル瓶に、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)60gと2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)3.8g(0.012モル)を入れて攪拌し、TFMBをDMAC中に溶解させた。続いて、バイアル瓶内を攪拌しながら、窒素気流下で、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物(HBPDA)3.7g(0.012モル)を5分程度かけて投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.00であり、ポリアミド酸溶液の濃度は13.0重量%であった。
次いで、ポリアミド酸溶液にイミド化促進剤としてピリジン5.9gを加えて、攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸7.1g(0.07モル)を約10分間かけてゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い、固形のポリイミド2を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は300,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.0であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は21%であった。
Polyimide 2:
In a 200 mL glass vial, 60 g of the solvent N,N-dimethylacetamide (DMAC) and 3.8 g (0.012 mol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB) were added and stirred to dissolve TFMB in DMAC. Next, while stirring the contents in the vial, 3.7 g (0.012 mol) of 3,3',4,4'-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride (HBPDA) was added over about 5 minutes under a nitrogen stream, and the polymerization reaction was carried out by continuing to stir for 6 hours while adjusting the temperature to be in the range of 20 to 40 ° C., to obtain a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine compound used was 1.00, and the concentration of the polyamic acid solution was 13.0 wt%.
Next, 5.9 g of pyridine was added as an imidization accelerator to the polyamic acid solution, and the solution was kept at a temperature of 30 to 40° C. with stirring. 7.1 g (0.07 mol) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent over a period of about 10 minutes. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40° C. and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain a solid polyimide 2. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 300,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.0. The fluorine content in the polyimide was 21%.

ポリイミド3:
200mLのガラス製のバイアル瓶に、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)60gと2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)3.8g(0.012モル)を入れて攪拌し、TFMBをDMAC中に溶解させた。続いて、バイアル瓶内を攪拌しながら、窒素気流下で、ジフェニル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物(s-ODPA)3.7g(0.012モル)を5分程度かけて投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.00であり、ポリアミド酸溶液の濃度は10.0重量%であった。
次いで、ポリアミド酸溶液にイミド化促進剤としてピリジン5.9gを加えて、攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸7.1g(0.07モル)を約10分間かけてゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い固形のポリイミド3を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は250,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.3であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は20%であった。
Polyimide 3:
In a 200 mL glass vial, 60 g of the solvent N,N-dimethylacetamide (DMAC) and 3.8 g (0.012 mol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB) were added and stirred to dissolve TFMB in DMAC. Next, while stirring the contents in the vial, 3.7 g (0.012 mol) of diphenyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride (s-ODPA) was added over about 5 minutes under a nitrogen stream, and the polymerization reaction was carried out by continuing stirring for 6 hours while adjusting the temperature to be in the range of 20 to 40 ° C., to obtain a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine compound used was 1.00, and the concentration of the polyamic acid solution was 10.0 wt%.
Next, 5.9 g of pyridine was added as an imidization accelerator to the polyamic acid solution, and the solution was kept at a temperature of 30 to 40° C. with stirring. 7.1 g (0.07 mol) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent over a period of about 10 minutes. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40° C. and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain solid polyimide 3. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 250,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.3. The fluorine content in the polyimide was 20%.

ポリイミド4:
200mLのガラス製のバイアル瓶に、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)59.5gと3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(3, 3’-DDS)4.7g(0.188モル)を入れて攪拌し、33’-DDSをDMAC中に溶解させた。続いて、バイアル瓶内を攪拌しながら、窒素気流下で、テトラカルボン酸二無水物であるジフェニル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物(s-ODPA)5.8g(0.188モル)を5分程度かけて投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.00であり、ポリアミド酸溶液の濃度は14.9重量%であった。
次いで、ポリアミド酸溶液にイミド化促進剤としてピリジン5.9gを加えて、攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸7.1g(0.07モル)を約10分間かけてゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い固形のポリイミド4を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は210,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.5であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は0%であった。
Polyimide 4:
In a 200 mL glass vial, 59.5 g of the solvent N,N-dimethylacetamide (DMAC) and 4.7 g (0.188 mol) of 3,3'-diaminodiphenylsulfone (3,3'-DDS) were added and stirred to dissolve 33'-DDS in DMAC. Next, while stirring the contents in the vial, 5.8 g (0.188 mol) of tetracarboxylic dianhydride diphenyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride (s-ODPA) was added over about 5 minutes under a nitrogen stream, and the polymerization reaction was carried out by continuing to stir for 6 hours while adjusting the temperature to be in the range of 20 to 40 ° C., to obtain a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine compound used was 1.00, and the concentration of the polyamic acid solution was 14.9 wt %.
Next, 5.9 g of pyridine was added as an imidization accelerator to the polyamic acid solution, and the solution was kept at a temperature of 30 to 40° C. with stirring. 7.1 g (0.07 mol) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent over a period of about 10 minutes. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40° C. and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain solid polyimide 4. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 210,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.5. The fluorine content in the polyimide was 0%.

ポリイミド5:
200mLのガラス製のバイアル瓶に、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)60gと2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)3.8g(0.012モル)を入れて攪拌し、TFMBをDMAC中に溶解させた。続いて、バイアル瓶内を攪拌しながら、窒素気流下で、4,4’-(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジフタル酸二無水物(6FDA)5.3g(0.012モル)を5分程度かけて投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.00であり、ポリアミド酸溶液の濃度は10.0重量%であった。
次いで、ポリアミド酸溶液にイミド化促進剤としてピリジン5.9gを加えて、攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸7.1g(0.07モル)を約10分間かけてゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い固形のポリイミド5を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は210,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.2であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は33%であった。
Polyimide 5:
In a 200 mL glass vial, 60 g of the solvent N,N-dimethylacetamide (DMAC) and 3.8 g (0.012 mol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB) were added and stirred to dissolve TFMB in DMAC. Next, while stirring the contents in the vial, 5.3 g (0.012 mol) of 4,4'-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl)diphthalic dianhydride (6FDA) was added over about 5 minutes under a nitrogen stream, and the polymerization reaction was carried out by continuing stirring for 6 hours while adjusting the temperature to be in the range of 20 to 40 ° C., to obtain a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine compound used was 1.00, and the concentration of the polyamic acid solution was 10.0 wt%.
Next, 5.9 g of pyridine was added as an imidization accelerator to the polyamic acid solution, and the solution was kept at a temperature of 30 to 40° C. with stirring. 7.1 g (0.07 mol) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent over a period of about 10 minutes. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40° C. and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain solid polyimide 5. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 210,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.2. The fluorine content in the polyimide was 33%.

ポリイミド6:
ガラス製の200 mLのバイアル瓶に、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)59.5gとフルオロ基を有する芳香族ジアミン化合物である2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)3.819g(0.012モル)とシリコーン変性ジアミンであるX-22-1660B-3(信越シリコーン製)1.105g(0.0003モル)を入れて攪拌し、TFMBをDMAC中に溶解させた。続いて、バイアル瓶内を攪拌しながら、窒素気流下で、テトラカルボン酸二無水物である4,4’-(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジフタル酸二無水物(6FDA)5.576g(0.013モル)を投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.03であり、ポリアミド酸溶液の濃度は15重量%であった。
次いで、ポリアミド酸溶液にイミド化促進剤としてピリジン3.9gを加えて、攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸5.1g(0.05モル)をゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液にDMAC59.5mL、メタノール59.5mL加え、均一になるまで攪拌した。得られた溶液を、イオン交換水300mL中に滴下し、再沈殿を行い固形のポリイミド6を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は300,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は4.2であった。また、ポリイミド中のフッ素含有量は28%であった。
Polyimide 6:
Into a 200 mL glass vial were placed 59.5 g of a solvent, N,N-dimethylacetamide (DMAC), 3.819 g (0.012 mol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), an aromatic diamine compound having a fluoro group, and 1.105 g (0.0003 mol) of X-22-1660B-3 (manufactured by Shin-Etsu Silicones), a silicone-modified diamine, and the mixture was stirred to dissolve the TFMB in the DMAC. Next, while stirring the contents of the vial, 5.576 g (0.013 moles) of 4,4'-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl)diphthalic dianhydride (6FDA) was added under a nitrogen stream, and the polymerization reaction was carried out by continuing stirring for 6 hours while adjusting the temperature to be in the range of 20 to 40°C, thereby obtaining a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine compound used was 1.03, and the concentration of the polyamic acid solution was 15% by weight.
Next, 3.9 g of pyridine was added as an imidization accelerator to the polyamic acid solution, and the solution was kept at a temperature of 30 to 40° C. with stirring. 5.1 g (0.05 mol) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40° C. and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
59.5 mL of DMAC and 59.5 mL of methanol were added to the obtained polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator, and the mixture was stirred until it became uniform. The obtained solution was dropped into 300 mL of ion-exchanged water, and reprecipitation was performed to obtain solid polyimide 6. The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography was 300,000, and the polydispersity expressed by weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 4.2. The fluorine content in the polyimide was 28%.

<エポキシ化合物>
以下のエポキシ化合物1~4を準備した。
エポキシ1:jER1001(三菱ケミカル株式会社製、エポキシ当量400~500g/eq、分子量900、軟化温度64℃)
エポキシ2:XD1000(日本化薬株式会社製、エポキシ当量245~260g/eq、分子量990~1500、軟化温度68~78℃)
エポキシ3:TEPIC-S(日産化学株式会社製、エポキシ当量100g/eq以下、分子量297、軟化温度100~120℃)
エポキシ4:エポフレンドAT501(株式会社ダイセル製、エポキシ当量850~1250g/eq以下、分子量180,000、軟化温度100℃以上)
<Epoxy Compound>
The following epoxy compounds 1 to 4 were prepared.
Epoxy 1: jER1001 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 400 to 500 g/eq, molecular weight 900, softening temperature 64° C.)
Epoxy 2: XD1000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 245 to 260 g/eq, molecular weight 990 to 1500, softening temperature 68 to 78° C.)
Epoxy 3: TEPIC-S (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., epoxy equivalent 100 g/eq or less, molecular weight 297, softening temperature 100 to 120° C.)
Epoxy 4: Epofriend AT501 (manufactured by Daicel Corporation, epoxy equivalent 850 to 1250 g/eq or less, molecular weight 180,000, softening temperature 100° C. or more)

<その他の樹脂>
エポキシ化合物との比較のため、下記の3種の化合物を準備した。
スチレン-アクリル系共重合体:ARUFON UC3900(東亜合成株式会社製)
ポリビニルブチラール化合物:エスレックBL-1(積水化学工業株式会社製)
ポリエステル化合物:バイロン220(東洋紡株式会社製)
<Other resins>
For comparison with the epoxy compound, the following three compounds were prepared.
Styrene-acrylic copolymer: ARUFON UC3900 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Polyvinyl butyral compound: S-LEC BL-1 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
Polyester compound: Vylon 220 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)

[実施例1~8、比較例1~9]
<ドライフィルムの作製>
下記表1に示した組成にしたがって各成分を溶剤(ジメチルアセトアミド)に混合することにより各ワニスを調製した。溶剤は、ポリイミド100部に対して溶剤が333質量部となるよう調製した。次いで、得られたワニスを、表面が離型処理されているポリエステルフィルム(TN-200、東洋紡株式会社製)に、乾燥後の厚みが15μmとなるように塗布し、80℃で30分間の乾燥を行うことにより樹脂層を形成し、各ドライフィルムを作製した。
なお、表1中の青色染料は、Plast Blue 8514(有本化学工業株式会社製)である。
[Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 to 9]
<Preparation of dry film>
Each varnish was prepared by mixing each component with a solvent (dimethylacetamide) according to the composition shown in Table 1 below. The solvent was adjusted so that the amount of solvent was 333 parts by mass per 100 parts of polyimide. Next, the obtained varnish was applied to a polyester film (TN-200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) whose surface had been subjected to a release treatment so that the thickness after drying would be 15 μm, and the resin layer was formed by drying at 80° C. for 30 minutes, and each dry film was produced.
The blue dye in Table 1 is Plast Blue 8514 (manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.).

各ドライフィルムの樹脂層面を、縦15cm×横11cm×厚み70μmのガラス基板(DragonTrail(登録商標)、AGC株式会社製)の表面にラミネートにより貼り合わせ、ドライフィルムからポリエステルフィルムを剥離した後、150℃で30分間の加熱処理を行うことにより、積層体を得た。
なお、実施例4~6のドライフィルムについては、ドライフィルムの樹脂層面をガラス基板に、真空加圧式ラミネーター(MVLP-500、株式会社名機製作所社製)を用いて上下熱板温度90℃、圧力0.5MPaにてラミネートし、ドライフィルムからポリエステルフィルムを剥離した後、200℃で30分間の加熱処理を行うことにより、積層体を得た。
The resin layer surface of each dry film was laminated onto the surface of a glass substrate (DragonTrail (registered trademark), manufactured by AGC Inc.) measuring 15 cm in length × 11 cm in width × 70 μm in thickness, and the polyester film was peeled off from the dry film. The laminate was then subjected to a heat treatment at 150° C. for 30 minutes to obtain a laminate.
For the dry films of Examples 4 to 6, the resin layer surface of the dry film was laminated to a glass substrate using a vacuum pressure laminator (MVLP-500, manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) at an upper and lower hot plate temperature of 90°C and a pressure of 0.5 MPa. After peeling the polyester film from the dry film, a heat treatment was performed at 200°C for 30 minutes to obtain a laminate.

[比較例10および11]
下記表1に示した組成にしたがって各成分を溶剤(ジメチルアセトアミド)に混合することにより各ワニスを調製した。溶剤は、ポリイミド100部に対して溶剤が333質量部となるよう調製した。次いで、得られたワニスを、縦15cm×横11cm×厚み70μmのガラス基板(DragonTrail(登録商標)、AGC株式会社製)に、乾燥後の厚みが15μmとなるように塗布し、150℃で30分間の乾燥を行うことにより樹脂層を形成することにより、積層体を得た。
[Comparative Examples 10 and 11]
Each varnish was prepared by mixing each component with a solvent (dimethylacetamide) according to the composition shown in Table 1 below. The solvent was prepared so that the solvent was 333 parts by mass per 100 parts of polyimide. Next, the obtained varnish was applied to a glass substrate (DragonTrail (registered trademark), manufactured by AGC Inc.) having a length of 15 cm, a width of 11 cm, and a thickness of 70 μm after drying to a thickness of 15 μm, and a resin layer was formed by drying at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a laminate.

<密着性の評価>
得られた各積層体の表面を、デジタルマイクロスコープ(VHX-5000、株式会社キーエンス製)を用いて、ガラス基板側から観察した。無作為に選んだ積層体の任意箇所1cm角において、確認された気泡の直径を評価した。評価基準は以下のとおりとした。
◎:気泡直径0mm
○:気泡直径0mm~2mm
×:気泡直径2mm以上
評価結果は下記表1および2に示されるとおりであった。なお、表1において「-」の表記は、評価を行わなかったことを意味する。
<Evaluation of Adhesion>
The surface of each of the obtained laminates was observed from the glass substrate side using a digital microscope (VHX-5000, manufactured by Keyence Corporation). The diameter of the confirmed air bubbles was evaluated at randomly selected arbitrary positions of the laminates, each of which was 1 cm square. The evaluation criteria were as follows:
◎: Bubble diameter 0 mm
○: Bubble diameter 0mm to 2mm
×: Air bubble diameter 2 mm or more The evaluation results are shown in the following Tables 1 and 2. In Table 1, the notation "-" means that no evaluation was performed.

<クロスカット剥離試験評価>
得られた各積層体について、ASTM D 3559-Bに準拠したクロスカット剥離試験評価を行った。評価結果は下記表1および2に示されるとおりであった。
<Cross-cut peel test evaluation>
Each of the resulting laminates was subjected to a cross-cut peel test evaluation in accordance with ASTM D 3559-B, and the evaluation results were as shown in Tables 1 and 2 below.

<積層体の反り評価>
加熱乾燥して得られた各積層体を1時間室温で放冷し、その後、積層板をガラス基板側が下面となるように平坦な机の上に置き、積層体の4隅の反りあがり値(机からガラス基板までの距離)を定規で測定し、その平均を反り値とした。評価基準は以下のとおりとした。
◎:8mm未満
○:8mm以上10mm未満
×:10mm以上
××:評価不可
評価結果は下記表1および2に示されるとおりであった。
<Warpage evaluation of laminate>
Each laminate obtained by heating and drying was allowed to cool at room temperature for 1 hour, and then the laminate was placed on a flat desk with the glass substrate side facing downward, and the warpage values (distances from the desk to the glass substrate) of the four corners of the laminate were measured with a ruler, and the average of these values was taken as the warpage value. The evaluation criteria were as follows:
⊚: Less than 8 mm ◯: 8 mm or more and less than 10 mm ×: 10 mm or more XX: Unable to evaluate The evaluation results are shown in Tables 1 and 2 below.

<ヘイズの評価>
得られた各積層体について、JIS K 7136:2000に準拠して、ヘーズメーター(NDH 7000 II、日本電色工業株式会社製)を用いてヘーズ(%)を測定した。評価基準は以下のとおりとした。
〇:ヘイズが2.0%以下
×:ヘイズが2.0%超
評価結果は下記表1および2に示されるとおりであった。なお、積層体に使用したガラス基板自体のヘイズ値は0.35%であった。
<Evaluation of Hayes>
The haze (%) of each of the obtained laminates was measured in accordance with JIS K 7136: 2000 using a haze meter (NDH 7000 II, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) The evaluation criteria were as follows.
◯: Haze is 2.0% or less ×: Haze is more than 2.0% The evaluation results are shown in the following Tables 1 and 2. The haze value of the glass substrate itself used in the laminate was 0.35%.

<耐衝撃性評価>
加熱乾燥して得られた各積層体を1時間室温で放冷し、その後、積層板をガラス基板側が下面となるように平坦な机の上に置き、積層体に、直径30mm、重さ110gの鉄球を落下させた。鉄球落下後のガラスを目視で確認し、ひび割れが確認された時の落下高さを評価した。評価基準は以下のとおりとした。
◎:50cm以上
○:40cm以上50cm未満
△:30cm以上40cm未満
×:30cm未満
なお、積層体に使用したガラス基板の耐衝撃性を評価したところ×であった。
<Impact resistance evaluation>
Each laminate obtained by heating and drying was allowed to cool at room temperature for 1 hour, and then the laminate was placed on a flat desk with the glass substrate side facing downward, and an iron ball with a diameter of 30 mm and a weight of 110 g was dropped onto the laminate. The glass after the iron ball was dropped was visually inspected, and the drop height at which cracks were observed was evaluated. The evaluation criteria were as follows.
⊚: 50 cm or more ◯: 40 cm or more and less than 50 cm Δ: 30 cm or more and less than 40 cm ×: less than 30 cm The impact resistance of the glass substrate used in the laminate was evaluated and rated as ×.

<表面硬度評価>
積層体の樹脂層側の鉛筆硬度をJIS-K5600-5-4:1999に準拠して測定し、塗膜に傷痕が生じなかった最も高い鉛筆の硬度を鉛筆硬度とした。評価結果は表1および2に示されるとおりであった。なお、積層体に使用したガラス基板の鉛筆硬度は9Hであった。
<Surface hardness evaluation>
The pencil hardness of the resin layer side of the laminate was measured in accordance with JIS-K5600-5-4:1999, and the highest pencil hardness that did not cause scratches on the coating film was recorded as the pencil hardness. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2. The pencil hardness of the glass substrate used in the laminate was 9H.

Figure 0007645622000012
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Figure 0007645622000013
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1 :ドライフィルム
2 :積層体
10:基材
20:樹脂層
30:保護フィルム
40:ガラス基板
50:機能層
60:支持体
1: Dry film 2: Laminate 10: Substrate 20: Resin layer 30: Protective film 40: Glass substrate 50: Functional layer 60: Support

Claims (10)

基材と、前記基材上に剥離可能に設けられた樹脂層とを備えるドライフィルムであって、
前記樹脂層は、フッ素含有量が25質量%以下であるポリイミド(ただし、フェノール性水酸基を含有するポリイミド樹脂を除く)と、エポキシ当量が1000g/eq以下であり、かつ分子量が10,000以下であるエポキシ化合物と、を含むことを特徴とする、ドライフィルム(但し、窒化ホウ素を含むものを除く)
A dry film comprising a substrate and a resin layer releasably provided on the substrate,
The resin layer comprises a polyimide having a fluorine content of 25 mass% or less (excluding polyimide resins containing a phenolic hydroxyl group) and an epoxy compound having an epoxy equivalent of 1000 g/eq or less and a molecular weight of 10,000 or less.
前記ポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のYI値が5.0以下である、請求項1に記載のドライフィルム。 The dry film according to claim 1, wherein the polyimide has a YI value of 5.0 or less when made into a single layer film having a thickness of 50 μm. 前記ポリイミドは、厚さ50μmの単層膜とした場合に、該単層膜のヘイズが2.0以下である、請求項1または2に記載のドライフィルム。 The dry film according to claim 1 or 2, wherein the polyimide has a haze of 2.0 or less when made into a single layer film having a thickness of 50 μm. 前記エポキシ化合物は、150℃以下の軟化点を有する、請求項1~3のいずれか一項に記載のドライフィルム。 The dry film according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy compound has a softening point of 150°C or less. 前記エポキシ化合物が、前記樹脂層における固形分合計量に対して1~50質量%含まれる、請求項1~4のいずれか一項に記載のドライフィルム。 The dry film according to any one of claims 1 to 4, wherein the epoxy compound is contained in an amount of 1 to 50 mass% based on the total amount of solids in the resin layer. 前記樹脂層は、ブルーイング剤をさらに含む、請求項1~5のいずれか一項に記載のドライフィルム。 The dry film according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin layer further contains a bluing agent. ガラス基板と、前記ガラス基板の主面の一方に面に接するように設けられてなる樹脂層とを備えた積層体であって、
前記樹脂層は、請求項1~6のいずれか一項に記載のドライフィルムの樹脂層からなる、積層体。
A laminate comprising a glass substrate and a resin layer provided on one of the main surfaces of the glass substrate so as to be in contact with the surface,
The resin layer is a resin layer of the dry film according to any one of claims 1 to 6.
前記ガラス基板が化学強化ガラスである、請求項7に記載の積層体。 The laminate according to claim 7, wherein the glass substrate is chemically strengthened glass. フレキシブル表示素子のカバーウィンドウとして使用される、請求項7または8に記載の積層体。 The laminate according to claim 7 or 8, which is used as a cover window for a flexible display element. ガラス基板と、前記ガラス基板の主面の一方に面に接するように設けられてなる樹脂層とを備えた積層体を製造する方法であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のドライフィルムを、ガラス基板の主面の一方に面に、ドライフィルムの樹脂層とガラス基板の主面とが接するように貼り合わせ、
前記ドライフィルムから前記基材を剥離して、前記ガラス基板上に樹脂層を形成し、
前記樹脂層を、前記エポキシ化合物の軟化点温度以上の温度に加熱する、
ことを含む、積層体の製造方法。
A method for producing a laminate including a glass substrate and a resin layer provided on one of the main surfaces of the glass substrate so as to be in contact with the resin layer, comprising the steps of:
The dry film according to any one of claims 1 to 6 is attached to one of the main surfaces of a glass substrate such that the resin layer of the dry film is in contact with the main surface of the glass substrate;
peeling the base material from the dry film to form a resin layer on the glass substrate;
The resin layer is heated to a temperature equal to or higher than the softening point temperature of the epoxy compound.
A method for producing a laminate, comprising:
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