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JP7647013B2 - Work holding device - Google Patents
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JP7647013B2 - Work holding device - Google Patents

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Description

本発明はワーク搬送装置に係り、特に半導体ウェーハ等のワークを加工する加工装置に設けられるワーク搬送装置に関する。 The present invention relates to a workpiece transport device, and in particular to a workpiece transport device installed in a processing device that processes workpieces such as semiconductor wafers.

ダイシング装置は、表面に電子部品が形成された半導体ウェーハ等のワークに対し、高速で回転するブレードを用いて切断又は溝入れ等の切削加工を行う装置である(例えば、特許文献1参照)。 A dicing machine is a device that uses a blade that rotates at high speed to perform cutting processes such as cutting or grooving on workpieces such as semiconductor wafers with electronic components formed on their surfaces (see, for example, Patent Document 1).

このようなダイシング装置は、装置本体にカセット収納部、ワーク切断部、洗浄部及びワーク搬送装置等を有している。カセット収納部には、複数枚のウェーハが収納されたカセットが収納されており、このカセットに収納されたウェーハは、ワーク搬送装置によって1枚ずつ引き出されてワーク切断部まで搬送される。このワーク加工部においてウェーハは、ブレードによってダイス状に切断加工され、そして、切断加工終了したウェーハは、ワーク搬送装置によって洗浄部に搬送され、そして、洗浄後にワーク搬送装置によってカセットに戻される。 Such dicing machines have a cassette storage section, a work cutting section, a cleaning section, and a work transport device in the main body of the machine. The cassette storage section contains a cassette containing multiple wafers, and the wafers stored in this cassette are pulled out one by one by the work transport device and transported to the work cutting section. In this work processing section, the wafers are cut into dices by a blade, and after cutting, the wafers are transported to the cleaning section by the work transport device, and after cleaning, they are returned to the cassette by the work transport device.

特許文献2には、ダイシング装置に設けられるワーク搬送装置(搬送機構)が開示されている。このワーク搬送装置は、保護テープに貼着されたウェーハを搬送するものであり、保護テープが装着された支持フレームの上面を吸着する複数の吸着パッドを有している。 Patent Document 2 discloses a workpiece transport device (transport mechanism) that is installed in a dicing device. This workpiece transport device transports a wafer attached to a protective tape, and has multiple suction pads that adsorb the upper surface of a support frame to which the protective tape is attached.

また、特許文献3には、ウェーハを非接触状態で吸引して搬送するワーク搬送装置(ウェーハ搬送装置)が開示されている。このワーク搬送装置は、ウェーハの裏面を研削する平面加工装置に設けられたものであり、平面加工装置の各種処理部の間でウェーハを搬送する。 Patent Document 3 also discloses a workpiece transport device (wafer transport device) that transports wafers by suction in a non-contact manner. This workpiece transport device is provided in a planar processing device that grinds the back surface of the wafer, and transports the wafer between various processing sections of the planar processing device.

特開2002-299287号公報JP 2002-299287 A 特開2003-243483号公報JP 2003-243483 A 特開2017-92397号公報JP 2017-92397 A

ところで、近年では、ワーク搬送装置において、ワークの種類によってはワークを直接保持して搬送することを実現することが必要とされている。しかしながら、特許文献2のワーク搬送装置は、支持フレーム及び保護テープを介してウェーハを間接的に搬送する装置であり、ワークを直接保持して搬送する装置ではない。 In recent years, there has been a demand for a workpiece transport device that can directly hold and transport a workpiece depending on the type of workpiece. However, the workpiece transport device in Patent Document 2 is a device that indirectly transports a wafer via a support frame and protective tape, and is not a device that directly holds and transports a workpiece.

一方、特許文献3のワーク搬送装置は、ウェーハを非接触状態で吸引して搬送する装置であるが、例えば表面に反りや凹凸が発生しているワーク、又は厚みにばらつきのあるワークの場合には、そのワークを安定して搬送することができないという問題があった。 On the other hand, the workpiece transport device in Patent Document 3 is a device that transports wafers by suction in a non-contact manner, but there is a problem in that it cannot transport the workpiece stably, for example, when the workpiece has a warped or uneven surface, or when the workpiece has uneven thickness.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面が反っているようなワークであってもワークを直接保持して搬送することができるワーク搬送装置を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a workpiece transport device that can directly hold and transport a workpiece, even if the workpiece has a warped surface.

本発明のワーク搬送装置は、本発明の目的を達成するために、ワークを直接保持して搬送するためのワーク搬送装置であって、ワークを直接保持するワーク保持手段と、ワーク保持手段を搬送する搬送手段と、を備え、ワーク保持手段は、搬送手段に連結されたベースと、ベースに互いに対向する位置に離間して設けられた一対のワーク吸着手段であって、ワークの下面を吸着するための一対のワーク吸着手段と、一対のワーク吸着手段の間隔を変更する間隔変更手段と、を有する。 The work transport device of the present invention is a work transport device for directly holding and transporting a work in order to achieve the object of the present invention, and is equipped with a work holding means for directly holding the work and a transport means for transporting the work holding means, and the work holding means has a base connected to the transport means and a pair of work suction means provided at a distance from each other in positions facing each other on the base, the pair of work suction means for suctioning the underside of the work, and a spacing change means for changing the spacing between the pair of work suction means.

本発明の一形態によれば、ワーク搬送装置を制御するための制御部を備え、制御部は、間隔変更手段とワーク吸着手段とを制御してワークの下面を一対のワーク吸着手段によって吸着させてワークをワーク保持手段に保持させた後、搬送手段を制御してワーク保持手段を搬送することが好ましい。 According to one aspect of the present invention, a control unit is provided for controlling the work transport device, and the control unit preferably controls the interval changing means and the work suction means to cause the lower surface of the work to be suctioned by the pair of work suction means so that the work is held by the work holding means, and then controls the transport means to transport the work holding means.

本発明の一形態によれば、ベースに対し、吸着手段を鉛直方向に移動自在に支持する支持部材を備え、支持部材は、吸着手段を上方に向けて付勢可能な第1付勢部材と、一対の吸着手段を下方に向けて付勢可能な第2付勢部材と、を有することが好ましい。 According to one aspect of the present invention, a support member is provided that supports the suction means so that the suction means can be moved freely in the vertical direction relative to the base, and the support member preferably has a first biasing member that can bias the suction means upward, and a second biasing member that can bias the pair of suction means downward.

本発明によれば、表面が反っているようなワークであってもワークを直接保持して搬送することができる。 According to the present invention, it is possible to directly hold and transport a workpiece even if the workpiece has a warped surface.

実施形態のワーク搬送装置が適用されたダイシング装置の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a dicing machine to which a workpiece transport device according to an embodiment is applied; 図1のダイシング装置の加工部の構成を示した斜視図FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of a processing unit of the dicing device of FIG. 1; ワーク搬送装置の制御装置の機能ブロック図Functional block diagram of the control device for the workpiece transport device ワーク搬送装置を構成する吸着ユニットの全体斜視図FIG. 1 is an overall perspective view of a suction unit constituting a workpiece transport device; 図4に示した吸着ユニットの正面図FIG. 5 is a front view of the suction unit shown in FIG. ワークを搬送する動作を時系列的に示した説明図An explanatory diagram showing the workpiece transport operation in chronological order. ワークを搬送する動作を時系列的に示した説明図An explanatory diagram showing the workpiece transport operation in chronological order. フローティング支持機構の構造を示した正面図FIG. 1 is a front view showing the structure of the floating support mechanism 図8に示したフローティング支持機構の斜視図FIG. 9 is a perspective view of the floating support mechanism shown in FIG. 図8に示したフローティング支持機構の斜視図FIG. 9 is a perspective view of the floating support mechanism shown in FIG. フローティング支持機構の作用を示した説明図An explanatory diagram showing the operation of the floating support mechanism. ワークとチャックテーブルの形状のバリエーションを示した説明図Diagram showing the variations in the shape of the workpiece and chuck table

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク搬送装置の好ましい実施形態について説明する。なお、実施形態では、加工装置としてダイシング装置を例示して説明する。 A preferred embodiment of the workpiece transport device according to the present invention will be described below with reference to the attached drawings. In the embodiment, a dicing device will be used as an example of the processing device.

図1は、実施形態のワーク搬送装置10が設けられたダイシング装置12の斜視図である。 Figure 1 is a perspective view of a dicing device 12 equipped with a workpiece transport device 10 according to an embodiment.

図1に示すように、ダイシング装置12は、上記のワーク搬送装置10の他、半導体ウェーハ等のワークWを加工する加工部14と、加工済みのワークWをスピン洗浄する洗浄部16と、複数枚のワークWを収納したカセットが載置されるロードポート18とを備えている。なお、ダイシング装置12によって加工されるワークWは、その上面である表面に電子部品(不図示)が形成されたものである。 As shown in FIG. 1, the dicing device 12 includes, in addition to the work transport device 10, a processing section 14 that processes a workpiece W such as a semiconductor wafer, a cleaning section 16 that spin-cleans the processed workpiece W, and a load port 18 on which a cassette containing multiple workpieces W is placed. The workpiece W processed by the dicing device 12 has electronic components (not shown) formed on its top surface.

本明細書では、3軸方向(X軸方向、Y軸方向、Z軸方向)の三次元直交座標系を用いて説明する。図1に示すX軸方向は水平方向であって、後述するXテーブル20(図2参照)の切削送り方向を指している。また、Y軸方向は、水平方向のうちX軸方向に直交する方向であって、後述するブレード22のインデックス送り方向を指している。更に、Z軸方向は、X軸方向及びY軸方向に直交する鉛直方向であって、ブレード22の切り込み送り方向を指している。 In this specification, the description will be given using a three-dimensional Cartesian coordinate system with three axial directions (X-axis, Y-axis, and Z-axis). The X-axis direction in FIG. 1 is the horizontal direction, and indicates the cutting feed direction of the X-table 20 (see FIG. 2), which will be described later. The Y-axis direction is the horizontal direction perpendicular to the X-axis direction, and indicates the index feed direction of the blade 22, which will be described later. Furthermore, the Z-axis direction is the vertical direction perpendicular to the X-axis and Y-axis directions, and indicates the cutting feed direction of the blade 22.

図2は、加工部14の構成を示した斜視図である。 Figure 2 is a perspective view showing the configuration of the processing section 14.

図2に示すように加工部14は、Xベース24の一対のXガイドレール26、26にガイドされたXテーブル20であって、リニアモータ28によってX軸方向に移動されるXテーブル20を有する。このXテーブル20上には、θ方向に回転する回転テーブル30を介してワークテーブル(チャックテーブル)32が設けられている。 As shown in FIG. 2, the processing section 14 has an X table 20 that is guided by a pair of X guide rails 26, 26 of an X base 24 and is moved in the X-axis direction by a linear motor 28. A work table (chuck table) 32 is provided on the X table 20 via a rotary table 30 that rotates in the θ direction.

ワークテーブル32は、一例として円盤状に構成されており、その上面には水平方向に平坦な吸着面34を備え、この吸着面34にワークW(図1参照)が真空吸着されて固定される。 The work table 32 is, as an example, configured in a disk shape, and has a horizontally flat suction surface 34 on its upper surface, to which the work W (see Figure 1) is vacuum-adsorbed and fixed.

Xベース24の上方には、Xベース24を跨ぐようにYベース36が立設される。Yベース36の正面には、一対のYガイドレール38、38にガイドされた一対のYテーブル40、40であって、Y軸方向に移動自在な一対のYテーブル40、40が設けられる。このYテーブル40、40は、Yベース36に設けられた不図示のY軸駆動機構部によってY軸方向に移動される。 A Y base 36 is erected above the X base 24 so as to straddle the X base 24. A pair of Y tables 40, 40 guided by a pair of Y guide rails 38, 38 and movable in the Y-axis direction are provided in front of the Y base 36. The Y tables 40, 40 are moved in the Y-axis direction by a Y-axis drive mechanism (not shown) provided on the Y base 36.

Yテーブル40、40には、不図示のZ軸駆動機構部によってZ軸方向に駆動されるZテーブル44、44が設けられている。Zテーブル44、44には高周波モータ内蔵型のスピンドルモータ46、46がY軸方向において対向した状態で固定され、スピンドルモータ46、46のスピンドル48、48の先端にブレード22、22がY軸方向において対向した状態で固定されている。これらのスピンドルモータ46、46は、Zテーブル44、44を介してYテーブル40、40に支持されており、スピンドル48、48は、その軸心がYテーブル40、40の移動方向であるY軸方向に沿って配置されている。 The Y tables 40, 40 are provided with Z tables 44, 44 that are driven in the Z-axis direction by a Z-axis drive mechanism (not shown). High-frequency built-in spindle motors 46, 46 are fixed to the Z tables 44, 44 in a state facing each other in the Y-axis direction, and blades 22, 22 are fixed to the tips of spindles 48, 48 of the spindle motors 46, 46 in a state facing each other in the Y-axis direction. These spindle motors 46, 46 are supported by the Y tables 40, 40 via the Z tables 44, 44, and the spindles 48, 48 are arranged with their axes aligned along the Y-axis direction, which is the direction of movement of the Y tables 40, 40.

ブレード22は、一例として、ダイヤモンド砥粒又はCBN(cubic boron nitride)砥粒をニッケルで電着した電着ブレードを例示する。また、電着ブレードの他、金属粉末を混入した樹脂で結合したメタルレジンボンドのブレードも使用することができる。このブレード22は、スピンドルモータ46によって、例えば、6000rpm~80000rpmで高速回転される。 As an example of the blade 22, an electroplated blade in which diamond abrasive grains or CBN (cubic boron nitride) abrasive grains are electroplated with nickel is shown. In addition to electroplated blades, metal resin bonded blades in which metal powder is mixed into the resin and bonded together can also be used. This blade 22 is rotated at high speed, for example, at 6,000 rpm to 80,000 rpm, by the spindle motor 46.

このように構成された加工部14によれば、ワークテーブル32はXテーブル20によってX軸方向に切削送りされるとともに回転テーブル30によってθ方向に回転される。そして、ブレード22、22は、Y軸駆動機構部によってY軸方向にインデックス送りされるとともにZ軸駆動機構部によってZ軸方向に切り込み送りされる。このような加工部14の動作によってワークWが碁盤目状に切削加工される。 With the machining unit 14 configured in this way, the work table 32 is fed for cutting in the X-axis direction by the X-table 20 and rotated in the θ direction by the rotary table 30. The blades 22, 22 are index-fed in the Y-axis direction by the Y-axis drive mechanism and cut-fed in the Z-axis direction by the Z-axis drive mechanism. This operation of the machining unit 14 cuts the workpiece W into a checkerboard pattern.

図1に戻り、洗浄部16は、上面に吸着面50が設けられたスピンナテーブル(チャックテーブル)52と、スピンナテーブル52上のワークへ向けて洗浄水を噴射するノズル(不図示)とを備えている。加工部14によって加工されたワークWは、ワーク搬送装置10によってワークテーブル32からスピンナテーブル52に搬送され、その後、吸着面50で吸着された後、回転されてノズルから噴射される洗浄水によって洗浄される。 Returning to FIG. 1, the cleaning section 16 includes a spinner table (chuck table) 52 with an adsorption surface 50 on its upper surface, and a nozzle (not shown) that sprays cleaning water toward the workpiece on the spinner table 52. The workpiece W machined by the processing section 14 is transported from the work table 32 to the spinner table 52 by the work transport device 10, and is then adsorbed by the adsorption surface 50, rotated, and cleaned with cleaning water sprayed from the nozzle.

次に、実施形態のワーク搬送装置10について説明する。 Next, we will explain the workpiece transport device 10 of the embodiment.

図1に示すように、ワーク搬送装置10は、アーム60と吸着ユニット62とを備えている。ここで、吸着ユニット62は、本発明のワーク保持手段の一例である。 As shown in FIG. 1, the workpiece transport device 10 includes an arm 60 and a suction unit 62. Here, the suction unit 62 is an example of the workpiece holding means of the present invention.

実施形態のワーク搬送装置10は、図3に示すように、ダイシング装置12を制御する制御装置63によってその動作が制御されている。 As shown in FIG. 3, the operation of the workpiece transport device 10 of this embodiment is controlled by a control device 63 that controls the dicing device 12.

図3は、ダイシング装置12の制御装置63の機能ブロック図である。なお、図3の機能ブロック図では、ワーク搬送装置10に関連した要素のみ図示し、ワーク搬送装置10に直接関連しない要素については図示を省略している。ここで、制御装置63は、本発明の制御部の一例である。 Figure 3 is a functional block diagram of the control device 63 of the dicing device 12. Note that in the functional block diagram of Figure 3, only elements related to the work transport device 10 are shown, and elements that are not directly related to the work transport device 10 are omitted. Here, the control device 63 is an example of the control unit of the present invention.

図3に示すように、制御装置63は、不図示のCPU(central processing unit)を含む各演算処理回路と、ROM(Read Only Memory)又はRAM(Random Access Memory)等のメモリと、キーボード等の入力装置と、モニタ等の出力装置とを備えている。制御装置63は、メモリに記憶されたプログラムがCPUによって実行されることにより、制御装置63の各部の機能が実現される。図3に示すように、制御装置63は、統括制御部63Aを有し、この統括制御部63Aは搬送制御部63B、間隔変更制御63C、吸引制御部63Dを統括制御する。 As shown in FIG. 3, the control device 63 includes various arithmetic processing circuits including a CPU (central processing unit) (not shown), a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), an input device such as a keyboard, and an output device such as a monitor. The functions of each part of the control device 63 are realized by the CPU executing a program stored in the memory. As shown in FIG. 3, the control device 63 has an overall control unit 63A, which overall controls the transport control unit 63B, the interval change control unit 63C, and the suction control unit 63D.

搬送制御部63Bは、搬送装置66を制御する。搬送装置66は、アーム60をX-Yの水平面に沿って水平移動させる水平駆動部と、アーム60を鉛直方向に昇降移動させる昇降駆動部とを有している。具体的に説明すると、水平駆動部を構成するモータの出力軸に、アーム60の基端部に鉛直軸に沿って配設された回転軸64(図1参照)が連結されている。これによってアーム60は、水平駆動部のモータによって水平移動される。また、昇降駆動部は、アーム60を鉛直方向に移動させるモータを備えている。これによってアーム60は、昇降駆動部のモータによって鉛直方向に移動される。ここで、搬送装置66は、本発明の搬送手段の一例である。 The transport control unit 63B controls the transport device 66. The transport device 66 has a horizontal drive unit that moves the arm 60 horizontally along the XY horizontal plane, and an elevation drive unit that moves the arm 60 up and down in the vertical direction. More specifically, a rotating shaft 64 (see FIG. 1) that is disposed along the vertical axis at the base end of the arm 60 is connected to the output shaft of a motor that constitutes the horizontal drive unit. As a result, the arm 60 is moved horizontally by the motor of the horizontal drive unit. The elevation drive unit also has a motor that moves the arm 60 vertically. As a result, the arm 60 is moved vertically by the motor of the elevation drive unit. Here, the transport device 66 is an example of the transport means of the present invention.

間隔変更部63Bは、後述する吸着パッド74、74(図5参照)の間隔を変更するためにシリンダ装置76、76を制御する。ここで、シリンダ装置76、76は、本発明の間隔変更手段の一例である。 The spacing change unit 63B controls cylinder devices 76, 76 to change the spacing between suction pads 74, 74 (see FIG. 5) described below. Here, the cylinder devices 76, 76 are an example of the spacing change means of the present invention.

吸引制御部63Dは、吸着パッド74、74(図5参照)に吸引力を与える吸引装置68を制御する。 The suction control unit 63D controls the suction device 68 that applies suction force to the suction pads 74, 74 (see Figure 5).

図1に戻り、アーム60の先端部には、連結部材70を介して吸着ユニット62が設けられている。このような構成より、吸着ユニット62は、図3に示した搬送装置66によって水平方向及び鉛直方向に搬送される。 Returning to FIG. 1, the tip of the arm 60 is provided with a suction unit 62 via a connecting member 70. With this configuration, the suction unit 62 is transported in the horizontal and vertical directions by the transport device 66 shown in FIG. 3.

図4は、吸着ユニット62の全体構成を示す斜視図であり、図5は、図4に示した吸着ユニット62の正面図である。 Figure 4 is a perspective view showing the overall configuration of the suction unit 62, and Figure 5 is a front view of the suction unit 62 shown in Figure 4.

図4及び図5に示すように、吸着ユニット62は、ベース72と、一対の吸着パッド74、74と、一対のシリンダ装置76、76とを備えている。ここで、ベース72は、本発明のベースの一例であり、一対の吸着パッド74、74は、本発明の一対の吸着手段の一例である。 As shown in Figures 4 and 5, the suction unit 62 includes a base 72, a pair of suction pads 74, 74, and a pair of cylinder devices 76, 76. Here, the base 72 is an example of a base of the present invention, and the pair of suction pads 74, 74 is an example of a pair of suction means of the present invention.

ベース72は、例えば、矩形状の板状に構成されている。また、ベース72は、その中央部に連結部78を備えており、この連結部78に連結部材70(図1参照)を連結することによりアーム60の先端部に連結される。なお、図4において、ベース72は、その長辺72AがX軸方向に沿って配置され、その短辺72BがY軸方向に沿って配置されている。 The base 72 is configured, for example, in the shape of a rectangular plate. The base 72 also has a connecting portion 78 in its center, and is connected to the tip of the arm 60 by connecting the connecting member 70 (see FIG. 1) to this connecting portion 78. In FIG. 4, the long side 72A of the base 72 is arranged along the X-axis direction, and the short side 72B is arranged along the Y-axis direction.

一対の吸着パッド74、74は、長辺72A方向においてベース72に互いに対向する短辺部72B、72Bに配置されることにより、ベース72に互いに離間して設けられるとともに、それぞれフック80、80を介してベース72に設けられている。これらの吸着パッド74は、フック80の下部80Aに、その吸引口82を上方に向けた状態で固定されている。吸着パッド74は、一例として直方体形状に構成されており、その長辺74Aが短辺72Bに沿った姿勢でフック80に固定されている。また、吸引口82は長辺74Aに沿って複数配置されている。 The pair of suction pads 74, 74 are disposed on the short side portions 72B, 72B of the base 72 facing each other in the direction of the long side 72A, and are provided at a distance from each other on the base 72, and are also provided on the base 72 via hooks 80, 80, respectively. These suction pads 74 are fixed to the lower portion 80A of the hook 80 with their suction ports 82 facing upward. As an example, the suction pad 74 is configured in a rectangular parallelepiped shape, and is fixed to the hook 80 with its long side 74A aligned along the short side 72B. In addition, multiple suction ports 82 are arranged along the long side 74A.

フック80は、その中央部にベース72が貫通される開口部80Bを有している。また、フック80の上部80Cの下面にはリニアガイド84が固定されている。このリニアガイド84は、ベース72の上面に長辺72Aに沿って配置されたガイドレール86に移動自在に係合されている。これにより、一対の吸着パッド74、74はフック80、80とともに、長辺72A方向において、互いに近接した近接位置と互いに離隔した離間位置との間で移動自在に設けられる。 The hook 80 has an opening 80B in the center through which the base 72 passes. A linear guide 84 is fixed to the underside of the upper part 80C of the hook 80. This linear guide 84 is movably engaged with a guide rail 86 arranged along the long side 72A on the upper surface of the base 72. This allows the pair of suction pads 74, 74, together with the hooks 80, 80, to be freely movable in the direction of the long side 72A between a close position where they are close to each other and a spaced position where they are spaced apart from each other.

また、フック80の上部80Cの上面には、L字形状のブラケット88が固定されており、このブラケット88にシリンダ装置76のピストン90(図5参照)が固定されている。このシリンダ装置76は、ピストン90の軸線方向が長辺72A方向に沿うように、基台92に固定され、この基台92はガイドレール86を跨いでベース72の上面に固定されている。したがって、一対のシリンダ装置76、76によってピストン90、90が同時に伸長及び収縮されると、一対の吸着パッド74、74はフック80、80とともに、上記の離間位置と近接位置との間で移動され、吸着パッド74、74間の間隔が変更される。 An L-shaped bracket 88 is fixed to the upper surface of the upper portion 80C of the hook 80, and a piston 90 (see FIG. 5) of the cylinder device 76 is fixed to the bracket 88. The cylinder device 76 is fixed to a base 92 so that the axis of the piston 90 is aligned with the long side 72A, and the base 92 is fixed to the upper surface of the base 72 across the guide rail 86. Therefore, when the pistons 90 are simultaneously extended and contracted by the pair of cylinder devices 76, the pair of suction pads 74, together with the hooks 80, are moved between the above-mentioned separated position and close position, and the distance between the suction pads 74, is changed.

図5に示すように、シリンダ装置76、76によってピストン90、90が同時に収縮動作して吸着パッド74、74が近接位置に配置されると、ワークWの裏面(下面)の両側の縁部WA、WAが吸着パッド74、74の吸引口82、82によって吸着保持される。この縁部WA、WAは、ワークテーブル32の吸着面34、及びスピンナテーブル52の吸着面50に吸着される被吸着面WBではなく、被吸着面WBの外側に位置する非吸着面として構成されている。 As shown in FIG. 5, when the pistons 90, 90 are simultaneously contracted by the cylinder devices 76, 76 and the suction pads 74, 74 are positioned in close proximity, the edges WA, WA on both sides of the back surface (lower surface) of the workpiece W are suction-held by the suction ports 82, 82 of the suction pads 74, 74. These edges WA, WA are not the suction surface WB that is suctioned by the suction surface 34 of the work table 32 and the suction surface 50 of the spinner table 52, but are configured as non-suction surfaces located outside the suction surface WB.

次に、前記の如く構成されたワーク搬送装置10の作用について説明する。 Next, we will explain the operation of the workpiece transport device 10 configured as described above.

図6から図7に示すワーク搬送装置10の動作図は、ワークテーブル32からスピンナテーブル52にワークWを搬送する動作を時系列的に示したものである。また、図6から図7における、アーム60の搬送動作、吸着パッド74、74の間隔変更動作、及び吸着パッド74、74の吸着動作は、図3に示した制御装置63の統括制御部63Aが、搬送制御部63B、間隔変更制御63C、及び吸引制御部63Dを各々制御することにより実行されるものである。 The operation diagrams of the workpiece transport device 10 shown in Figures 6 to 7 show the time series of operations for transporting the workpiece W from the worktable 32 to the spinner table 52. In addition, the transport operation of the arm 60, the spacing change operation of the suction pads 74, 74, and the suction operation of the suction pads 74, 74 in Figures 6 to 7 are performed by the general control unit 63A of the control device 63 shown in Figure 3 controlling the transport control unit 63B, the spacing change control unit 63C, and the suction control unit 63D, respectively.

まず、図6の6Aは、ワークテーブル32に吸着保持されているワークWをワーク搬送装置10によって搬出する前の初期状態を示している。この初期状態では、アーム60はワークテーブル32から上方に退避した退避位置に配置され、シリンダ装置76、76によって吸着パッド74、74(フック80、80も同様)は近接位置に配置されている。なお、この時の吸着パッド74、74の吸引動作はOFF状態であり、ワークテーブル32の吸引状態はON状態であり、スピンナテーブル52(図1参照)の吸引状態はOFF
状態である。
6A shows the initial state before the workpiece W sucked and held on the worktable 32 is transported by the work transport device 10. In this initial state, the arm 60 is located at a retracted position above the worktable 32, and the suction pads 74 (as well as the hooks 80) are located at a close position by the cylinder devices 76. Note that the suction operation of the suction pads 74 is OFF at this time, the suction state of the worktable 32 is ON, and the suction state of the spinner table 52 (see FIG. 1) is OFF.
This is the state.

次に、図6の6Bは、シリンダ装置76、76のピストン90、90をそれぞれ伸張させて吸着パッド74、74(フック80、80も同様)を近接位置から離間位置に配置させた状態を示している。この時の吸着パッド74、74、ワークテーブル32及びスピンナテーブル52の各々の吸引状態も図6の6Aの初期状態のままである。 Next, FIG. 6B shows the state in which the pistons 90, 90 of the cylinder devices 76, 76 are extended to move the suction pads 74, 74 (as well as the hooks 80, 80) from the close position to the separated position. At this time, the suction states of the suction pads 74, 74, the work table 32, and the spinner table 52 also remain in the initial state of FIG. 6A.

次に、図6の6Cは、アーム60を搬送装置66(図3参照)によって下降移動させてフック80、80をフック開閉動作位置に配置させた状態を示している。この時の吸着パッド74、74、ワークテーブル32及びスピンナテーブル52の各々の吸引状態も図6の6Aの初期状態のままである。なお、フック開閉動作位置とは、吸着パッド74の吸引口82(図4参照)がワークテーブル32の吸着面34よりも下方に位置した位置である。 Next, FIG. 6C shows the state in which the arm 60 has been moved downward by the transport device 66 (see FIG. 3) to position the hooks 80, 80 in the hook opening and closing operation position. At this time, the suction states of the suction pads 74, 74, the work table 32, and the spinner table 52 also remain in the initial state of FIG. 6A. The hook opening and closing operation position is a position in which the suction port 82 (see FIG. 4) of the suction pad 74 is located below the suction surface 34 of the work table 32.

次に、図6の6Dは、シリンダ装置76、76のピストン90、90をそれぞれ収縮させて吸着パッド74、74(フック80、80も同様)を離間位置(図6の6B参照)から近接位置に配置させた状態を示している。この動作によって、ワークWの反った縁部WA、WAの直下位置に吸着パッド74、74の吸引口82、82が配置される。この時の吸着パッド74、74、ワークテーブル32及びスピンナテーブル52の各々の吸引状態も図6の6Aの初期状態のままである。 Next, FIG. 6D shows the state in which the pistons 90, 90 of the cylinder devices 76, 76 are retracted to move the suction pads 74, 74 (as well as the hooks 80, 80) from the distant position (see FIG. 6B) to the close position. This action positions the suction ports 82, 82 of the suction pads 74, 74 directly below the curved edges WA, WA of the workpiece W. At this time, the suction states of the suction pads 74, 74, work table 32, and spinner table 52 also remain in the initial state of FIG. 6A.

次に、図6の6Eは、ワークWの受け取り位置までアーム60を搬送装置66(図3参照)によって上昇移動させて、吸着パッド74、74の吸引動作をOFF状態からON状態に切り替えた状態を示している。また、図6の6Eは、ワークテーブル32の吸引状態をON状態からOFF状態に切り替えるとともに、ワークテーブル32の吸着面34からエアを外部に噴射するエアブロー動作に切り替えた状態を示している。これにより、ワークテーブル32に吸着されたワークWを吸着パッド74、74側に円滑に受け渡しすることができる。なお、ワークWの受け取り位置とは、反った縁部WA、WAに吸引口82が当接される位置であって、ワークテーブル32の吸着面34よりも上方に設定された位置である。 Next, FIG. 6E shows the state in which the arm 60 is moved upward by the transport device 66 (see FIG. 3) to the receiving position of the workpiece W, and the suction operation of the suction pads 74, 74 is switched from OFF to ON. FIG. 6E also shows the state in which the suction state of the worktable 32 is switched from ON to OFF, and switched to an air blow operation in which air is sprayed to the outside from the suction surface 34 of the worktable 32. This allows the workpiece W adsorbed to the worktable 32 to be smoothly transferred to the suction pads 74, 74. The receiving position of the workpiece W is the position where the suction port 82 abuts against the curved edges WA, WA, and is set above the suction surface 34 of the worktable 32.

次に、図7の7Aは、アーム60を昇降装置68(図3参照)によって上昇移動させてワークWを水平方向搬送位置に配置させた状態を示している。この時の吸着パッド74、74の吸引動作はON状態であり、ワークテーブル32はエアブロー動作が停止されて吸引状態がOFF状態となっている。 Next, FIG. 7A shows the state in which the arm 60 has been raised by the lifting device 68 (see FIG. 3) to place the workpiece W in the horizontal transport position. At this time, the suction operation of the suction pads 74, 74 is ON, and the air blowing operation of the worktable 32 has been stopped, so the suction state is OFF.

次に、図7の7Bは、アーム60を搬送装置66(図3参照)によって水平移動させてワークWをスピンナテーブル52の直上位置に配置させ、その後、スピンナテーブル52へのワークWの受け渡し位置までアーム60を搬送装置66によって下降移動させた後、スピンナテーブル52の吸引状態をOFF状態からON状態に切り替えた状態を示している。また、図7の7Bでは、吸着パッド74、74がスピンナテーブル52の吸着面50に向かう下方向において、吸着面50と同一面上の位置まで吸引口82(図4参照)が移動されていることが示されている。 Next, FIG. 7B shows the state in which the arm 60 is moved horizontally by the transport device 66 (see FIG. 3) to position the workpiece W directly above the spinner table 52, and then the arm 60 is moved downward by the transport device 66 to a position where the workpiece W is transferred to the spinner table 52, and the suction state of the spinner table 52 is switched from OFF to ON. FIG. 7B also shows that the suction pads 74, 74 are moved downward toward the suction surface 50 of the spinner table 52, and the suction port 82 (see FIG. 4) is moved to a position on the same plane as the suction surface 50.

これにより、ワークWの中央部分が下方に凸状に反った形状のワークWであっても、縁部WA、WAを吸着した吸引口82(図4参照)を、吸着面50と同一面上の位置まで移動したので、スピンナテーブル52に確実に吸着保持させることができる。 As a result, even if the central portion of the workpiece W is curved downward in a convex shape, the suction port 82 (see FIG. 4) that adsorbs the edges WA, WA is moved to a position on the same plane as the suction surface 50, so the workpiece can be reliably adsorbed and held on the spinner table 52.

次に、図7の7Cは、吸着パッド74、74の吸引状態をON状態からOFF状態に切り替えるとともに、アーム60を搬送装置66(図3参照)によって下降移動させながら吸引口82からエアを外部に噴射するエアブロー動作に切り替えた状態を示している。これにより、吸引口82と縁部WA、WAとの吸着を円滑に解除することができる。 Next, FIG. 7C shows a state in which the suction state of the suction pads 74, 74 is switched from ON to OFF, and the arm 60 is moved downward by the conveying device 66 (see FIG. 3) while switching to an air blow operation in which air is sprayed to the outside from the suction port 82. This allows the suction between the suction port 82 and the edges WA, WA to be smoothly released.

次に、図7の7Dは、シリンダ装置76、76のピストン90、90をそれぞれ伸張させて吸着パッド74、74(フック80、80も同様)をフック開閉動作位置(図6の6C参照)に配置させた状態を示している。この動作によってワークWの縁部WA、WAの直下位置から吸着パッド74、74が外側に退避する。 Next, FIG. 7D shows the state in which the pistons 90, 90 of the cylinder devices 76, 76 are extended to position the suction pads 74, 74 (as well as the hooks 80, 80) in the hook opening and closing operation position (see FIG. 6C in 6C). This operation causes the suction pads 74, 74 to retract outward from the position directly below the edges WA, WA of the workpiece W.

次に、図7の7Eは、スピンナテーブル52からアーム60を搬送装置66(図3)によって上昇移動させた状態を示している。この後、ワークWは、スピンナテーブル52の回転動作によって洗浄される。そして、洗浄終了後、ワークWはワーク搬送装置10によって保持されてロードポート18(図1参照)のカセットに収納される。なお、ワーク搬送装置10によるスピンナテーブル52からロードポート18への搬送方法は、先に説明したワークテーブル32からスピンナテーブル52への搬送と略同様なのでその説明は省略する。 Next, FIG. 7E shows the state in which the arm 60 has been moved upward from the spinner table 52 by the transport device 66 (FIG. 3). The workpiece W is then cleaned by the rotation of the spinner table 52. After cleaning is complete, the workpiece W is held by the workpiece transport device 10 and stored in a cassette in the load port 18 (see FIG. 1). The method of transporting the workpiece W from the spinner table 52 to the load port 18 by the workpiece transport device 10 is substantially the same as the transport from the worktable 32 to the spinner table 52 described above, so a description thereof will be omitted.

このように実施形態のワーク搬送装置10によれば、ワークWを直接保持する吸着ユニット62と、吸着ユニット62を搬送する搬送装置66と、を備え、吸着ユニット62は、アーム60に連結されたベース72と、ベース72に互いに対向する位置に離間して設けられ、ワークWの下面を吸着する一対の吸着パッド74、74と、一対の吸着パッド74、74の間隔を変更するシリンダ装置76、76と、を有しているので、表面に反りのあるワークWであっても直接保持して搬送することができる。 According to the embodiment of the workpiece transport device 10, the device is equipped with a suction unit 62 that directly holds the workpiece W, and a transport device 66 that transports the suction unit 62. The suction unit 62 has a base 72 connected to the arm 60, a pair of suction pads 74, 74 that are arranged at opposing positions on the base 72 at a distance and that suction the underside of the workpiece W, and cylinder devices 76, 76 that change the spacing between the pair of suction pads 74, 74. Therefore, even a workpiece W with a warped surface can be directly held and transported.

また、実施形態のワーク搬送装置10によれば、吸着パッド74の吸引口82によってワークWの裏面の縁部WA、WAを吸着した後、吸着面50と同一面上の位置まで吸引口82、82を下方向に移動させたので、反りのあるワークWをスピンナテーブル52に確実に吸着させることができる。 In addition, according to the embodiment of the workpiece transport device 10, after the edges WA, WA of the back surface of the workpiece W are sucked by the suction port 82 of the suction pad 74, the suction ports 82, 82 are moved downward to a position on the same plane as the suction surface 50, so that the warped workpiece W can be reliably sucked onto the spinner table 52.

また、好ましい態様としては、吸着パッド74、74がスピンナテーブル52の吸着面50に向かう下方向において、上記の同一面上の位置を超えた位置まで吸引口82を移動させることが好ましい。これにより、縁部WA、WAを吸着パッド74、74で吸着した状態でワークWの被吸着面WB(図5参照)をスピンナテーブル52の吸着面50に押え付けることができるので、ワークWをスピンナテーブル52に効果的に吸着保持させることができる。なお、上記の同一面上の位置を超えた位置とは、例えば、同一面上の位置を超えた位置まで吸引口82を移動させた場合でも、ワークWが損傷しない位置であり、その位置はワークWの剛性等によって設定される。 In a preferred embodiment, the suction pads 74, 74 are moved downward toward the suction surface 50 of the spinner table 52 to a position beyond the above-mentioned coplanar position. This allows the suctioned surface WB (see FIG. 5) of the workpiece W to be pressed against the suction surface 50 of the spinner table 52 while the edges WA, WA are suctioned by the suction pads 74, 74, so that the workpiece W can be effectively suctioned and held on the spinner table 52. Note that the position beyond the above-mentioned coplanar position is a position where the workpiece W will not be damaged even if the suction pads 82 are moved to a position beyond the coplanar position, and this position is set according to the rigidity of the workpiece W, etc.

図8は、吸着パッド74をベース72にフローティング状態で支持するフローティング支持機構100の構造を示した正面図である。また、図9及び図10は、図8に示したフローティング支持機構100をそれぞれ異なる方向から見た斜視図である。 Figure 8 is a front view showing the structure of a floating support mechanism 100 that supports the suction pad 74 in a floating state on the base 72. Figures 9 and 10 are perspective views of the floating support mechanism 100 shown in Figure 8, each viewed from a different direction.

図8から図10に示すように、フローティング支持機構100は、一対の吸着パッド74、74をベース72に対し鉛直方向に移動自在に支持するパッド支持部材102、102を有している。 As shown in Figures 8 to 10, the floating support mechanism 100 has pad support members 102, 102 that support a pair of suction pads 74, 74 so that they can move freely in the vertical direction relative to the base 72.

図9に示すように、パッド支持部材102は、シリンダ装置76のピストン90に連結された矩形状のベース104と、ベース104に連結されるとともに下部に吸着パッド74が固定されたクランク形状のブラケット106と、鉛直方向に沿って配置されたシャフト112と、を有している。 As shown in FIG. 9, the pad support member 102 has a rectangular base 104 connected to the piston 90 of the cylinder device 76, a crank-shaped bracket 106 connected to the base 104 and having the suction pad 74 fixed to its lower part, and a shaft 112 arranged vertically.

図10に示すように、ブラケット106は、その上部に鉛直方向に沿った一対の長孔114、114が形成され、この長孔114、114に挿入されたピン116、116を介してベース104に連結される。これにより、ベース104とブラケット106は、長孔114、114とピン116、116とからなる直動ガイド部材によって、相対的に鉛直方向に移動自在に連結される。 As shown in FIG. 10, the bracket 106 has a pair of elongated holes 114, 114 formed in the upper part along the vertical direction, and is connected to the base 104 via pins 116, 116 inserted into the elongated holes 114, 114. As a result, the base 104 and the bracket 106 are connected so as to be movable relative to each other in the vertical direction by the linear guide member consisting of the elongated holes 114, 114 and the pins 116, 116.

図8に示すように、シャフト112は、ベース104の貫通孔108にスリーブベアリング110(図11参照)を介して鉛直方向に貫通配置されている。これにより、ベース104とシャフト112は、スリーブベアリング110によって相対的に鉛直方向に移動自在に連結されている。また、シャフト112の下部は、ブラケット106の水平部107にネジ118(図11参照)によって固定されている。 As shown in FIG. 8, the shaft 112 is disposed so as to pass vertically through the through hole 108 of the base 104 via a sleeve bearing 110 (see FIG. 11). As a result, the base 104 and the shaft 112 are connected by the sleeve bearing 110 so as to be movable vertically relative to each other. In addition, the lower part of the shaft 112 is fixed to the horizontal part 107 of the bracket 106 by a screw 118 (see FIG. 11).

このように構成されたパッド支持部材102は、図8に示すように、吸着パッド74を上方に付勢可能なコイルバネ120と、吸着パッド74を下方に付勢可能なコイルバネ122とを備えている。 As shown in FIG. 8, the pad support member 102 configured in this manner includes a coil spring 120 capable of biasing the suction pad 74 upward, and a coil spring 122 capable of biasing the suction pad 74 downward.

コイルバネ120は、シャフト112に外装されてシャフト112の上部フランジ部113とベース104の上面との間に配置される。また、コイルバネ122は、シャフト112に外装されてベース104の下面とブラケット106の水平部107との間に配置される。このようなコイルバネ120、122を備えることにより、吸着パッド74は、ブラケット106及びシャフト112を介してベース104にフローティング状態で支持される。ここで、コイルバネ120、122は、本発明の第1付勢部材及び第2付勢部材の一例である。 The coil spring 120 is fitted around the shaft 112 and disposed between the upper flange portion 113 of the shaft 112 and the upper surface of the base 104. The coil spring 122 is fitted around the shaft 112 and disposed between the lower surface of the base 104 and the horizontal portion 107 of the bracket 106. By providing such coil springs 120, 122, the suction pad 74 is supported in a floating state on the base 104 via the bracket 106 and the shaft 112. Here, the coil springs 120, 122 are an example of the first and second biasing members of the present invention.

次に、前記の如く構成されたフローティング支持機構100の作用について、図11に示す断面図を用いて説明する。 Next, the operation of the floating support mechanism 100 configured as described above will be explained using the cross-sectional view shown in Figure 11.

図11に示す断面図は、一例としてワークテーブル32からワークWを持ち上げる場合(図6の6E参照)を示したものである。なお、図11に示すワークWは、中央部分が下方に凸状に反った形状のワークを対象としている。 The cross-sectional view shown in FIG. 11 shows an example of lifting the workpiece W from the worktable 32 (see FIG. 6E). Note that the workpiece W shown in FIG. 11 is intended for a workpiece whose central portion is warped downward in a convex shape.

図11の11Aで示すように、吸着パッド74がワークの裏面の縁部WAに接触した後、ベース72(図9参照)の上昇移動によりベース104を介して吸着パッド74を上昇させようとすると、吸着パッド74は縁部WAに当接しているため、吸着パッド74とブラケット106とシャフト112は上方への移動が規制され、ベース104がシャフト112に沿って上昇移動していく。そうすると、図11の11Bで示すように、コイルバネ120がベース104の上昇量L分だけ図11の11Aの状態から収縮するので、そのときに生じたコイルバネ120の付勢力がシャフト112とブラケット106を介して吸着パッド74に伝達されて、吸着パッド74が上方に付勢される。これにより、コイルバネ120の付勢力を利用して吸着パッド74をワークWの縁部WAに効果的に押し付けることができる。 As shown in 11A of FIG. 11, after the suction pad 74 comes into contact with the edge WA of the back surface of the workpiece, when the base 72 (see FIG. 9) is moved upward to raise the suction pad 74 via the base 104, the suction pad 74, bracket 106, and shaft 112 are restricted from moving upward because the suction pad 74 is in contact with the edge WA, and the base 104 moves upward along the shaft 112. Then, as shown in 11B of FIG. 11, the coil spring 120 contracts from the state shown in 11A of FIG. 11 by the amount of lift L of the base 104, and the biasing force of the coil spring 120 generated at that time is transmitted to the suction pad 74 via the shaft 112 and bracket 106, and the suction pad 74 is biased upward. This allows the biasing force of the coil spring 120 to be used to effectively press the suction pad 74 against the edge WA of the workpiece W.

また、縁部WAの反り量が縁部WAの全域において均一ではない場合、このように吸着パッド74をフローティング支持機構100で支持し、図11の11Bで示すようにベース104を上昇移動させることで全ての吸着パッド74を縁部WAに吸着させることができる。また、ベース104を上昇移動させたときに吸着パッド74から縁部WAにかかる余分な力はコイルバネ120が収縮して吸収するので、ベース104の上昇に起因する縁部WAの損傷を防止することができる。 Furthermore, if the amount of warping of the edge portion WA is not uniform across the entire edge portion WA, the suction pads 74 can be supported by the floating support mechanism 100 in this manner, and all of the suction pads 74 can be adsorbed to the edge portion WA by moving the base 104 upward as shown in FIG. 11B. Furthermore, when the base 104 is moved upward, the excess force applied from the suction pads 74 to the edge portion WA is absorbed by contraction of the coil spring 120, thereby preventing damage to the edge portion WA caused by the base 104 being raised.

また、図11の11Bの状態からワークテーブル32の吸引状態をON状態からOFFに切り替えると、シャフト112とブラケット106とがコイルバネ120の付勢力により上方に移動して吸着パッド74が上方に移動する。これにより、コイルバネ120の付勢力を利用してワークWをワークテーブル32から効果的に持ち上げることができる。 In addition, when the suction state of the work table 32 is switched from ON to OFF from the state of 11B in FIG. 11, the shaft 112 and the bracket 106 move upward due to the biasing force of the coil spring 120, and the suction pad 74 moves upward. This makes it possible to effectively lift the work W from the work table 32 by utilizing the biasing force of the coil spring 120.

一方、吸着パッド74で縁部WAが吸着されたワークWをスピンナテーブル52に吸着させる場合(図7の7B参照)、アーム60によってベース104を下降移動させていく。このとき、吸引口82を吸着面50と同一面上の位置を超えた位置まで移動させようとすると、ワークWの被吸着面WBはスピンナテーブル52に接触しているため、吸着パッド74とブラケット106とシャフト112は下方への移動が規制され、ベース104がシャフト112に沿って下降移動していく。そうすると、コイルバネ122がベース104の下降量分だけ図11の11Aの状態から収縮するので、そのときに生じたコイルバネ122の付勢力がブラケット106を介して吸着パッド74に伝達されて、吸着パッド74が下方に付勢される。これにより、コイルバネ122の付勢力を利用してワークWをスピンナテーブル52に効果的に押し付けることができる。 On the other hand, when the workpiece W, whose edge WA is sucked by the suction pad 74, is to be sucked onto the spinner table 52 (see 7B in FIG. 7), the base 104 is moved downward by the arm 60. At this time, if the suction port 82 is moved beyond the position on the same plane as the suction surface 50, the suction pad 74, bracket 106, and shaft 112 are restricted from moving downward, since the suction surface WB of the workpiece W is in contact with the spinner table 52, and the base 104 moves downward along the shaft 112. Then, the coil spring 122 contracts from the state of 11A in FIG. 11 by the amount of descent of the base 104, and the biasing force of the coil spring 122 generated at that time is transmitted to the suction pad 74 via the bracket 106, and the suction pad 74 is biased downward. As a result, the biasing force of the coil spring 122 can be used to effectively press the workpiece W against the spinner table 52.

また、中央部分が上方に凸状に反った形状のワークW又は反りのないワークWの場合であって、ワークテーブル32からワークWを持ち上げる場合、吸着パッド74をワークWの裏面よりも少し高い位置に移動させるが、このとき、吸着パッド74から縁部WAにかかる余分な力はコイルバネ120が収縮して吸収するので、ベース104の上昇に起因する縁部WAの損傷を防止することができる。 In addition, when the workpiece W has a shape with a convex upward warp in the center or is not warped, and the workpiece W is lifted from the work table 32, the suction pad 74 is moved to a position slightly higher than the back surface of the workpiece W. At this time, the coil spring 120 contracts and absorbs the excess force applied from the suction pad 74 to the edge portion WA, thereby preventing damage to the edge portion WA caused by the lifting of the base 104.

また、中央部分が上方に凸状に反った形状のワークW又は反りのないワークWの場合であって、吸着パッド74で縁部WAが吸着されたワークWをスピンナテーブル52に吸着させる場合、吸着パッド74をワークWの裏面よりも少し低い位置に移動させるが、このとき、吸着パッド74から縁部WAにかかる余分な力はコイルバネ122が収縮して吸収するので、ベース104の下降に起因する縁部WAの損傷を防止することができる。 In addition, in the case of a workpiece W with a central portion warped upward in a convex shape or a workpiece W without warping, when the workpiece W with its edge portion WA adsorbed by the suction pad 74 is to be adsorbed to the spinner table 52, the suction pad 74 is moved to a position slightly lower than the back surface of the workpiece W. At this time, the coil spring 122 contracts and absorbs the excess force applied to the edge portion WA by the suction pad 74, thereby preventing damage to the edge portion WA caused by the lowering of the base 104.

以上の如く、上記のフローティング支持機構100をワーク搬送装置10に採用することにより、中央部分が下方に凸状に反った形状のワークWであっても、また、中央部分が上方に凸状に反った形状のワークWであっても、それらの縁部WAを効果的に吸着することができ、且つワークWをチャックテーブルに効果的に押し付けることができる。 As described above, by adopting the floating support mechanism 100 in the workpiece transport device 10, even if the central portion of the workpiece W is curved in a downward convex shape, or even if the central portion of the workpiece W is curved in an upward convex shape, the edge portion WA of the workpiece W can be effectively adsorbed and the workpiece W can be effectively pressed against the chuck table.

図12の12Aから12Fは、本発明のワーク搬送装置に適用可能なワークとチャックテーブルのバリエーションを示した説明図である。なお、図12に示すワークにはW1~W6の符号を付し、チャックテーブルにはC1~C6の符号を付して説明する。 Figures 12A to 12F are explanatory diagrams showing variations of workpieces and chuck tables that can be applied to the workpiece transport device of the present invention. Note that the workpieces shown in Figure 12 are labeled W1 to W6, and the chuck tables are labeled C1 to C6.

図12の12Aに示すワークW1は、平面視において略正方形に構成され、チャックテーブルC1はワークW1の外形よりも若干小さい略正方形に構成されている。図12の12Aでは4つの吸着パッド74が示されており、ワークW1の互いに対向する2つの縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。 The workpiece W1 shown in FIG. 12A is configured to be approximately square in plan view, and the chuck table C1 is configured to be approximately square and slightly smaller than the outer shape of the workpiece W1. Four suction pads 74 are shown in FIG. 12A, and two opposing edges of the workpiece W1 are suctioned by two suction pads 74 each.

図12の12Bに示すワークW2は、平面視において略正方形に構成され、チャックテーブルC2はワークW2の外形と略等しい略正方形に構成されている。同図では4つの吸着パッド74が示されており、ワークW2の互いに対向する2つの縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。また、チャックテーブルC2の互いに対向する2つの縁部には、4つの吸着パッド74が収容される凹状の逃げ溝130が形成されている。このような逃げ溝130をチャックテーブルC2に備えることにより、チャックテーブルC2の大きさをワークW2の大きさに近づけることができるので、チャックテーブルC2によるワークW2の保持力を向上させることができる。 The workpiece W2 shown in FIG. 12B is configured to have a substantially square shape in a plan view, and the chuck table C2 is configured to have a substantially square shape that is substantially the same as the outer shape of the workpiece W2. Four suction pads 74 are shown in the figure, and two opposing edges of the workpiece W2 are suctioned by two suction pads 74 each. In addition, concave escape grooves 130 that accommodate the four suction pads 74 are formed on two opposing edges of the chuck table C2. By providing the chuck table C2 with such escape grooves 130, the size of the chuck table C2 can be made closer to the size of the workpiece W2, thereby improving the holding force of the chuck table C2 for the workpiece W2.

図12の12Cに示すワークW3は、平面視において八角形に構成され、チャックテーブルC3はワークW3の外形よりも若干小さい八角形に構成されている。同図では4つの吸着パッド74が示されており、ワークW3の互いに対向する2つの縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。 The workpiece W3 shown in FIG. 12C is configured as an octagon in a plan view, and the chuck table C3 is configured as an octagon that is slightly smaller than the outer shape of the workpiece W3. Four suction pads 74 are shown in the figure, and two opposing edges of the workpiece W3 are suctioned by two suction pads 74 each.

図12の12Dに示すワークW4は、平面視において八角形に構成され、チャックテーブルC4はワークW4の外形と略等しい八角形に構成されている。同図では4つの吸着パッド74が示されており、ワークW4の互いに対向する2つの縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。また、チャックテーブルC4の互いに対向する2つの縁部には、4つの吸着パッド74が収容される凹状の逃げ溝132が形成されているので、図12の12Bに示したチャックテーブルC2と同様にチャックテーブルC4によるワークW4の保持力を向上させることができる。 The workpiece W4 shown in FIG. 12D is configured as an octagon in a plan view, and the chuck table C4 is configured as an octagon that is approximately the same as the outer shape of the workpiece W4. Four suction pads 74 are shown in the figure, and two opposing edges of the workpiece W4 are suctioned by two suction pads 74 each. In addition, two opposing edges of the chuck table C4 are formed with recessed escape grooves 132 that accommodate the four suction pads 74, so that the holding force of the chuck table C4 for the workpiece W4 can be improved in the same way as the chuck table C2 shown in FIG. 12B.

図12の12Eに示すワークW5は、平面視において円形に構成され、チャックテーブルC5はワークW5の外形よりも若干小さい円形に構成されている。同図では4つの吸着パッド74が示されており、ワークW5の互いに対向する周縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。 The workpiece W5 shown in FIG. 12E is circular in plan view, and the chuck table C5 is circular and slightly smaller than the outer shape of the workpiece W5. Four suction pads 74 are shown in the figure, and two suction pads 74 each hold opposing peripheral portions of the workpiece W5.

図12の12Fに示すワークW6は、平面視において円形状に構成され、チャックテーブルC6はワークW6の外形と略等しい円形に構成されている。同図では4つの吸着パッド74が示されており、ワークW6の互いに対向する周縁部をそれぞれ2つの吸着パッド74によって吸着している。また、チャックテーブルC6の互いに対向する周縁部には、4つの吸着パッド74が収容される凹状の逃げ溝134が形成されているので、図12の12B及び図12の12Dに示したチャックテーブルC2、C4と同様にチャックテーブルC6によるワークW6の保持力を向上させることができる。 The workpiece W6 shown in FIG. 12F is circular in plan view, and the chuck table C6 is circular in shape, approximately the same as the outer shape of the workpiece W6. Four suction pads 74 are shown in the figure, and two suction pads 74 are used to suction the opposing peripheral portions of the workpiece W6. In addition, recessed escape grooves 134 that accommodate the four suction pads 74 are formed on the opposing peripheral portions of the chuck table C6, so that the holding force of the workpiece W6 by the chuck table C6 can be improved, similar to the chuck tables C2 and C4 shown in FIG. 12B and FIG. 12D.

なお、実施形態では、表面に反りのあるワークWを搬送対象としたが、搬送対象のワークWはこれに限定されるものではない。すなわち、本発明のワーク搬送装置によれば、表面に凹凸のあるワークであっても、厚みにばらつきのあるワークであっても、反りや凹凸がなくチャックテーブルに対して表面が平行であるワークであっても直接保持して搬送することができる。 In the embodiment, the workpiece W to be transported is one with a warped surface, but the workpiece W to be transported is not limited to this. In other words, the workpiece transport device of the present invention can directly hold and transport workpieces with uneven surfaces, workpieces with varying thicknesses, and workpieces that are free of warping or unevenness and have a surface parallel to the chuck table.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above examples, and various improvements and modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

10…ワーク搬送装置、12…ダイシング装置、14…加工部、16…洗浄部、18…ロードポート、20…Xテーブル、22…ブレード、24…Xベース、26…Xガイドレール、28…リニアモータ、30…回転テーブル、32…ワークテーブル、34…吸着面、36…Yベース、38…Yガイドレール、40…Yテーブル、44…Zテーブル、46…スピンドルモータ、48…スピンドル、50…吸着面、52…スピンナテーブル、60…アーム、62…吸着ユニット、63…制御装置、64…回転軸、66…搬送装置、68…吸引装置、70…連結部材、72…ベース、74…吸着パッド、76…シリンダ装置、78…連結部、80…フック、82…吸引口、84…リニアガイド、86…ガイドレール、88…ブラケット、90…ピストン、92…基台、100…フローティング支持機構、102…パッド支持部材、104…ベース、106…ブラケット、107…水平部、108…貫通孔、110…スリーブベアリング、112…シャフト、114…長孔、116…ピン、118…ネジ、120…コイルバネ、122…コイルバネ 10...workpiece transport device, 12...dicing device, 14...processing section, 16...cleaning section, 18...load port, 20...X table, 22...blade, 24...X base, 26...X guide rail, 28...linear motor, 30...rotary table, 32...work table, 34...suction surface, 36...Y base, 38...Y guide rail, 40...Y table, 44...Z table, 46...spindle motor, 48...spindle, 50...suction surface, 52...spinner table, 60...arm, 62...suction unit, 63...control device, 64...rotary axis, 66...transport device, 68...suction device, 70...connecting member, 72...base, 74...suction pad, 76...cylinder device, 78...connecting part, 80...hook, 82...suction port, 84...linear guide, 86...guide rail, 88...bracket, 90...piston, 92...base, 100...floating support mechanism, 102...pad support member, 104...base, 106...bracket, 107...horizontal part, 108...through hole, 110...sleeve bearing, 112...shaft, 114...long hole, 116...pin, 118...screw, 120...coil spring, 122...coil spring

Claims (4)

反りのあるワークを直接保持するためのワーク保持装置であって、
ベースと、
前記ベースに設けられ、前記ワークを吸着するための一対のワーク吸着手段と、
前記一対のワーク吸着手段の間隔を変更する間隔変更手段と、
を備えるワーク保持装置。
A workpiece holding device for directly holding a warped workpiece,
With the base,
A pair of workpiece suction means provided on the base for suctioning the workpiece;
A gap change means for changing the gap between the pair of workpiece suction means;
A work holding device comprising:
前記間隔変更手段と前記ワーク吸着手段とを制御して前記ワークを前記一対のワーク吸着手段によって吸着させて前記ワークを前記ワーク吸着手段に保持させる制御部を備える、
請求項1に記載のワーク保持装置。
a control unit that controls the interval change means and the workpiece suction means to suction the workpiece by the pair of workpiece suction means and hold the workpiece on the workpiece suction means,
The workpiece holding device according to claim 1 .
前記ベースに対し、前記ワーク吸着手段を鉛直方向に移動自在に支持する支持部材を備え、
前記支持部材は、前記ワーク吸着手段を上方に向けて付勢可能な第1付勢部材と、前記ワーク吸着手段を下方に向けて付勢可能な第2付勢部材と、を有する、
請求項1又は2に記載のワーク保持装置。
a support member that supports the workpiece suction means so as to be movable in a vertical direction relative to the base;
The support member has a first biasing member capable of biasing the workpiece suction means upward, and a second biasing member capable of biasing the workpiece suction means downward.
The workpiece holding device according to claim 1 or 2.
前記ベースに対し、前記ワーク吸着手段を鉛直方向に移動自在に支持する支持部材を備え、
前記支持部材は、ベース部材と、前記ベース部材に対して前記鉛直方向に移動自在されるとともに前記ワーク吸着手段が固定されたブラケットと、前記ベース部材に対して前記鉛直方向に移動自在に連結されたシャフトと、を有し、
前記シャフトを前記ベース部材に対して前記鉛直方向の一方に付勢する第1付勢部材と、前記ブラケットを前記ベース部材に対して前記鉛直方向の他方に付勢する第2付勢部材と、を有し、前記ワーク吸着手段を、前記ブラケット及び前記シャフトを介して前記ベース部材にフローティング状態で支持するフローティング機構を有する、
請求項1又は2に記載のワーク保持装置。
a support member that supports the workpiece suction means so as to be movable in a vertical direction relative to the base;
the support member includes a base member, a bracket that is movable in the vertical direction relative to the base member and to which the workpiece suction means is fixed, and a shaft that is connected to the base member and is movable in the vertical direction,
a first biasing member that biases the shaft in one direction in the vertical direction relative to the base member, and a second biasing member that biases the bracket in the other direction in the vertical direction relative to the base member, and a floating mechanism that supports the workpiece suction means in a floating state on the base member via the bracket and the shaft.
The workpiece holding device according to claim 1 or 2.
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