JP7650118B2 - Cooling and heating equipment - Google Patents
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Description
本発明は、冷却加熱装置に関し、特に、半導体製造装置等の各種製造装置及び各種計測装置等を所定の温度に調整するために用いられる冷却加熱装置に関する。 The present invention relates to a cooling and heating device, and in particular to a cooling and heating device used to adjust various manufacturing equipment such as semiconductor manufacturing equipment and various measuring equipment to a predetermined temperature.
一般に半導体製造等では、製造装置によるワークの加工箇所、計測箇所等の温度が各製造プロセスに応じた所定の温度になるよう製造装置等の温度を制御する必要がある。従来、このような温度制御を行う装置として、熱媒体が循環する循環経路を有し、その循環経路を循環する熱媒体によって、温度調整が必要な制御対象を冷却または加熱する冷却加熱装置が知られている。この種の冷却加熱装置は、循環する熱媒体を冷却する蒸気圧縮式冷凍サイクルのチラー等と、冷却された熱媒体を加熱する加熱器等と、を備えている。 In general, in semiconductor manufacturing and the like, it is necessary to control the temperature of manufacturing equipment, etc. so that the temperatures of the workpiece processing points, measurement points, etc., are set to predetermined temperatures according to each manufacturing process. Conventionally, as a device for performing such temperature control, a cooling and heating device has a circulation path through which a heat medium circulates, and the heat medium circulating through the circulation path cools or heats a control object whose temperature needs to be adjusted. This type of cooling and heating device is equipped with a chiller or the like of a vapor compression refrigeration cycle that cools the circulating heat medium, and a heater or the like that heats the cooled heat medium.
例えば特許文献1には、半導体製造装置等の各種装置、プロセス等の温度を制御するために用いられるエリア別パラメータ制御方式ハイブリッドチラーが開示されている。同文献に開示されたエリア別パラメータ制御方式ハイブリッドチラーは、冷凍サイクルによって所定温度まで冷却された循環液を制御対象に供給する循環液循環回路と、クーリングタワーで冷却された冷却水によって所定の温度まで冷却された循環液を制御対象に供給する第2の循環液循環回路と、を有する。制御対象に循環液を送る循環液供給路には、循環液を加熱するヒータが設けられている。For example,
このような構成により、冷凍サイクルを用いて循環液を冷却する方法と、クーリングタワーの冷却水を用いて循環液を冷却する方法と、を使い分けて、制御対象に供給される循環液の冷却が行われる。冷凍サイクルまたはクーリングタワーによって冷却された循環液は、ヒータ等の加熱器によって所定の温度に加熱されて制御対象に供給される。With this configuration, the circulating fluid to be supplied to the controlled object is cooled by selectively using either the method of cooling the circulating fluid using the refrigeration cycle or the method of cooling the circulating fluid using cooling water from a cooling tower. The circulating fluid cooled by the refrigeration cycle or the cooling tower is heated to a predetermined temperature by a heater or other heating device and supplied to the controlled object.
また例えば、特許文献2には、凝縮器の中の第1冷媒をポンプ、加熱器、絞り弁及び気化器を介して凝縮器に戻すように循環させる第1循環系と、凝縮器の中に配置された熱交換器を含み第1冷媒を冷却する第2冷媒を循環させる第2循環系と、を備えた冷却装置が開示されている。For example, Patent Document 2 discloses a cooling device that includes a first circulation system that circulates a first refrigerant in a condenser via a pump, a heater, a throttle valve, and an evaporator back to the condenser, and a second circulation system that includes a heat exchanger disposed in the condenser and circulates a second refrigerant that cools the first refrigerant.
第1循環系は、気化器において沸騰する第1冷媒の気化潜熱によって冷却対象物を冷却する。第2循環系は、圧縮機、第2凝縮器、膨張弁及び熱交換器を有し、第1循環系の凝縮器の内部に設けられた熱交換器において、第2冷媒の気化潜熱を利用して第1冷媒を冷却して凝縮させる。The first circulation system cools the object to be cooled by the latent heat of vaporization of the first refrigerant boiling in the evaporator. The second circulation system has a compressor, a second condenser, an expansion valve, and a heat exchanger, and in the heat exchanger provided inside the condenser of the first circulation system, the latent heat of vaporization of the second refrigerant is used to cool and condense the first refrigerant.
また同文献には、第1循環系の加熱器として、第2冷媒の凝縮によって第1冷媒を加熱する第2熱交換器が設けられることが開示されている。第2循環系の第2冷媒は、圧縮機で加圧され第2熱交換器に送られ、第1循環系の第1冷媒を加熱する。The document also discloses that a second heat exchanger is provided as a heater for the first circulation system, which heats the first refrigerant by condensing the second refrigerant. The second refrigerant in the second circulation system is pressurized by a compressor and sent to the second heat exchanger, where it heats the first refrigerant in the first circulation system.
しかしながら、上記した従来技術の冷却加熱装置では、温度調整に要する時間を短縮して半導体製造装置等における生産プロセスの効率化を図ると共に、温度調整のためのエネルギー消費量を減らして省エネルギー化を図るために改善すべき点があった。However, the cooling and heating devices of the conventional technology described above had areas that needed improvement in order to shorten the time required for temperature adjustment to improve the efficiency of the production process in semiconductor manufacturing equipment, etc., as well as to reduce the amount of energy consumed for temperature adjustment to save energy.
具体的には、半導体製造等においては、加工プロセス、計測プロセス等に対応して製造装置等の制御対象の温度を変更する場合がある。例えば、制御対象の設定温度をマイナス40℃として温度制御していた工程から、設定温度を130℃に変更しなければならない場合もある。このような場合、従来技術の冷却加熱装置では、制御対象の温度を所定の設定温度に変更するために長時間を要する。このように制御対象の温度を変更するための時間は、製造工程におけるタイムロスとなる。 Specifically, in semiconductor manufacturing and the like, the temperature of a controlled object, such as manufacturing equipment, may be changed in response to a processing process, measurement process, etc. For example, in a process where the set temperature of the controlled object was controlled at -40°C, the set temperature may need to be changed to 130°C. In such cases, with conventional cooling and heating devices, it takes a long time to change the temperature of the controlled object to the specified set temperature. The time required to change the temperature of the controlled object in this way results in lost time in the manufacturing process.
即ち、従来技術の冷却加熱装置では、制御対象の設定温度を変更して温度を上昇させるために、電熱ヒータ等の加熱器で循環液を長時間加熱する必要があった。加熱器等で循環液を加熱して制御対象の温度を上昇させる工程は、制御対象の温度が安定した設定温度になるまで行われる。加熱器等で循環液を加熱して制御対象の温度を上昇させる時間は、半導体製造装置等において加工プロセス、計測プロセス等を行うことができない待ち時間となっていた。 In other words, in conventional cooling and heating devices, in order to change the set temperature of the controlled object and raise the temperature, it was necessary to heat the circulating fluid for a long period of time using a heater such as an electric heater. The process of heating the circulating fluid using a heater or the like to raise the temperature of the controlled object is continued until the temperature of the controlled object reaches a stable set temperature. The time it takes to heat the circulating fluid using a heater or the like to raise the temperature of the controlled object represents a waiting time during which processing processes, measurement processes, etc. cannot be carried out in semiconductor manufacturing equipment, etc.
また、従来技術の冷却加熱装置は、循環液を冷凍サイクル回路の蒸発器で冷却した後、冷却された循環液をヒータ等の加熱器によって所定の温度まで加熱する構成である。そのため、循環液を加熱するために消費されるエネルギー、即ち加熱器等で消費される電力量等、が大きくなってしまうという問題点があった。In addition, the cooling and heating device of the prior art is configured to cool the circulating fluid in an evaporator of a refrigeration cycle circuit, and then heat the cooled circulating fluid to a predetermined temperature using a heater or other heating device. This poses the problem that the energy consumed to heat the circulating fluid, i.e., the amount of electricity consumed by the heater or other device, becomes large.
これに対して特許文献2には、蒸発潜熱を利用して第1循環系の第1冷媒を冷却する第2循環系の第2冷媒は、第2熱交換器において、凝縮潜熱を利用して第1冷媒を加熱することが開示されている。このように、制御対象に供給される循環液に相当する第1冷媒を、冷凍サイクルの冷媒である第2冷媒の凝縮潜熱を利用して加熱することにより、循環液の加熱に必要なヒータ等のエネルギー消費量を削減することができる。In response to this, Patent Document 2 discloses that the second refrigerant in the second circulation system, which cools the first refrigerant in the first circulation system using the latent heat of evaporation, heats the first refrigerant in the second heat exchanger using the latent heat of condensation. In this way, by heating the first refrigerant, which corresponds to the circulating fluid supplied to the controlled object, using the latent heat of condensation of the second refrigerant, which is the refrigerant in the refrigeration cycle, it is possible to reduce the energy consumption of heaters and the like required to heat the circulating fluid.
しかしながら、特許文献2に開示された冷却装置のように、冷凍サイクル回路の凝縮器で凝縮する冷媒の凝縮潜熱を利用して循環液を加熱する方法では、循環液を高温に加熱することは難しい。そのため、冷媒の凝縮潜熱を利用して循環液を加熱しても、制御対象の設定温度が高く循環液を高温に加熱する必要がある場合には、電熱ヒータ等の加熱器による多くの加熱が必要であり、加熱器の加熱量を大幅に減少できなかった。However, it is difficult to heat the circulating liquid to a high temperature using the method of heating the circulating liquid by using the latent heat of condensation of the refrigerant condensed in the condenser of the refrigeration cycle circuit, as in the cooling device disclosed in Patent Document 2. Therefore, even if the circulating liquid is heated by using the latent heat of condensation of the refrigerant, when the set temperature of the controlled object is high and the circulating liquid needs to be heated to a high temperature, a lot of heating is required by a heater such as an electric heater, and the amount of heat of the heater cannot be significantly reduced.
また、循環液の加熱に冷凍サイクル回路の凝縮器を利用する構成においても、制御対象の設定温度を変更して循環液の温度を大幅に上昇させる場合には、温度変更に時間を要し、加工工程、計測工程等を開始するまでのタイムロスが生じる。 Furthermore, even in a configuration that uses a condenser in a refrigeration cycle circuit to heat the circulating fluid, if the set temperature of the controlled object is changed to significantly increase the temperature of the circulating fluid, it takes time to change the temperature, resulting in a time loss before processing processes, measurement processes, etc. can be started.
本発明は、上記のような課題を解決するためになされた。本発明の目的は、設定温度の変更時等において温度調整に要する時間を短縮して半導体製造等における生産性を向上させることができる冷却加熱装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、半導体製造等におけるエネルギー消費量を減らして省エネルギー化を図ることができる冷却加熱装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a cooling and heating device that can improve productivity in semiconductor manufacturing and the like by shortening the time required for temperature adjustment when changing the set temperature, etc.
Another object of the present invention is to provide a cooling/heating device that can reduce the amount of energy consumed in semiconductor manufacturing and the like, thereby achieving energy conservation.
本発明の冷却加熱装置は、圧縮手段、ガスクーラ、絞り手段及び蒸発器が順次接続され冷媒が循環する冷凍サイクル回路と、循環ポンプ及び加熱器が設けられ制御対象の温度を調整する循環液が循環する循環液回路と、を具備し、前記循環液回路は、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記蒸発器を流れる開閉自在な低温経路と、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記ガスクーラを流れる開閉自在な高温経路と、を有し、前記高温経路には、前記ガスクーラで前記冷媒に加熱された前記循環液を貯留する高温タンクが設けられていることを特徴とする。The cooling and heating device of the present invention comprises a refrigeration cycle circuit in which a compression means, a gas cooler, a throttling means and an evaporator are connected in sequence and a refrigerant circulates, and a circulating fluid circuit in which a circulation pump and a heater are provided and a circulating fluid that adjusts the temperature of a controlled object circulates, the circulating fluid circuit having a low-temperature path that can be opened and closed freely and in which the circulating fluid flows through the evaporator so as to be able to exchange heat with the refrigerant, and a high-temperature path that can be opened and closed freely and in which the circulating fluid flows through the gas cooler so as to be able to exchange heat with the refrigerant, and the high-temperature path is characterized in that a high-temperature tank is provided in which the circulating fluid that has been heated by the refrigerant in the gas cooler is stored.
本発明の冷却加熱装置によれば、圧縮手段、ガスクーラ、絞り手段及び蒸発器が順次接続され冷媒が循環する冷凍サイクル回路と、循環ポンプ及び加熱器が設けられ制御対象の温度を調整する循環液が循環する循環液回路と、を具備し、前記循環液回路は、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記蒸発器を流れる開閉自在な低温経路と、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記ガスクーラを流れる開閉自在な高温経路と、を有する。このような構成により、冷却加熱装置は、半導体製造装置等の制御対象に対して、冷凍サイクル回路の冷媒に冷却または加熱された循環液を供給して高効率な温度調整を行うことができる。According to the cooling and heating device of the present invention, a refrigeration cycle circuit in which a compression means, a gas cooler, a throttling means, and an evaporator are connected in sequence and a refrigerant circulates, and a circulating fluid circuit in which a circulation pump and a heater are provided and a circulating fluid that adjusts the temperature of a controlled object circulates, the circulating fluid circuit having a freely openable/closable low-temperature path in which the circulating fluid flows through the evaporator so as to be able to exchange heat with the refrigerant, and a freely openable high-temperature path in which the circulating fluid flows through the gas cooler so as to be able to exchange heat with the refrigerant. With this configuration, the cooling and heating device can perform highly efficient temperature adjustment of a controlled object such as a semiconductor manufacturing device by supplying cooled or heated circulating fluid to the refrigerant in the refrigeration cycle circuit.
具体的には、制御対象の冷却が必要な場合には、循環液が低温経路を流れるように循環液回路の低温経路が開かれる。そうすると、循環液は、低温経路を流れ、冷凍サイクル回路の蒸発器で蒸発する冷媒の潜熱を利用して冷却される。そして、冷凍サイクル回路で冷却された循環液は、循環液回路の加熱器によって所定の温度に加熱され、制御対象が設定温度になるよう好適な温度で制御対象に供給される。 Specifically, when the controlled object needs to be cooled, the low-temperature path of the circulating fluid circuit is opened so that the circulating fluid flows through the low-temperature path. The circulating fluid then flows through the low-temperature path and is cooled using the latent heat of the refrigerant that evaporates in the evaporator of the refrigeration cycle circuit. The circulating fluid cooled in the refrigeration cycle circuit is then heated to a predetermined temperature by the heater in the circulating fluid circuit and supplied to the controlled object at a suitable temperature so that the controlled object reaches the set temperature.
また、制御対象から戻る循環液の温度が低く、循環液を大きく温度上昇させる必要がある場合には、循環液が高温経路を流れるよう循環液回路の高温経路が開かれる。これにより冷却加熱装置は、冷凍サイクル回路のガスクーラを流れる冷媒の放熱を利用して循環液を加熱することができる。そして、冷凍サイクル回路のガスクーラで加熱された循環液は、循環液回路の加熱器によって所定の温度に加熱され、制御対象が正確な設定温度になるよう好適な温度で制御対象に供給される。このように、冷凍サイクル回路のガスクーラによる放熱を利用して循環液を加熱することができるので、循環液回路の加熱器で消費されるエネルギーを少なく抑えて、高効率な温度調整を行うことができる。
このように、本発明の冷却加熱装置は、冷凍サイクル回路で発生する冷熱及び温熱の双方を利用して、排熱損失の少ない高効率な温度調整を行うことができる。
Furthermore, when the temperature of the circulating fluid returning from the controlled object is low and it is necessary to significantly increase the temperature of the circulating fluid, the high temperature path of the circulating fluid circuit is opened so that the circulating fluid flows through the high temperature path. This allows the cooling and heating device to heat the circulating fluid by utilizing the heat radiation of the refrigerant flowing through the gas cooler of the refrigeration cycle circuit. The circulating fluid heated by the gas cooler of the refrigeration cycle circuit is then heated to a predetermined temperature by the heater of the circulating fluid circuit and supplied to the controlled object at a suitable temperature so that the controlled object has an accurate set temperature. In this way, the circulating fluid can be heated by utilizing the heat radiation from the gas cooler of the refrigeration cycle circuit, so that highly efficient temperature adjustment can be performed by keeping the energy consumed by the heater of the circulating fluid circuit low.
In this manner, the cooling/heating device of the present invention can perform highly efficient temperature adjustment with little exhaust heat loss by utilizing both cold and hot heat generated in the refrigeration cycle circuit.
また、前記高温経路には、前記ガスクーラで前記冷媒に加熱された前記循環液を貯留する高温タンクが設けられている。これにより、例えば、加工工程等の変更により制御対象の設定温度を変更して循環液の温度を大幅に上昇させる場合、高温タンクに貯留された高温の循環液を循環液回路に供給し、循環液回路を循環する循環液の温度を短時間で急速に所定の温度まで上昇させることができる。よって、設定温度の変更に要する時間を大幅に短縮して、加工工程、計測工程等を開始するまでの温度変更に伴うタイムロスを減らすことができる。 In addition, the high-temperature path is provided with a high-temperature tank that stores the circulating fluid that has been heated by the refrigerant in the gas cooler. As a result, for example, when changing the set temperature of the controlled object due to a change in the processing process or the like and significantly increasing the temperature of the circulating fluid, the high-temperature circulating fluid stored in the high-temperature tank can be supplied to the circulating fluid circuit, and the temperature of the circulating fluid circulating through the circulating fluid circuit can be rapidly increased to a predetermined temperature in a short period of time. This significantly shortens the time required to change the set temperature, and reduces the time lost due to the temperature change before starting the processing process, measurement process, etc.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記冷媒は、二酸化炭素であり、前記ガスクーラにおいて、超臨界圧力で前記循環液を加熱しても良い。これにより、循環液を効率良く高温度に加熱することができる。In addition, according to the cooling and heating device of the present invention, the refrigerant may be carbon dioxide, and the circulating liquid may be heated at supercritical pressure in the gas cooler. This allows the circulating liquid to be efficiently heated to a high temperature.
具体的には、HFC(ハイドロフルオロカーボン)系冷媒、HFO(ハイドロフルオロオレフィン)系冷媒またはこれらの混合冷媒を利用した従来技術のチラー等の凝縮器では不可能であった高温域まで、冷凍サイクル回路のガスクーラで循環液を加熱することができる。そのため、加工工程等の変更のために設定温度を例えば130℃の高温に変更するような場合等においても、循環液の温度を短時間で高温度に上昇させることができる。よって、温度調整で生ずるタイムロスを減らし、半導体装置等の生産性を向上させることができる。また、循環液回路の加熱器による加熱量を少なくできるので、加熱器によるエネルギー消費を削減し、省エネルギー化を図ることができる。Specifically, the circulating liquid can be heated by the gas cooler of the refrigeration cycle circuit to a high temperature range that was not possible with conventional condensers such as chillers that use HFC (hydrofluorocarbon) refrigerants, HFO (hydrofluoroolefin) refrigerants, or mixed refrigerants. Therefore, even when the set temperature is changed to a high temperature such as 130°C due to a change in the processing process, the temperature of the circulating liquid can be raised to a high temperature in a short time. This reduces the time loss caused by temperature adjustment and improves the productivity of semiconductor devices, etc. In addition, the amount of heat generated by the heater in the circulating liquid circuit can be reduced, thereby reducing energy consumption by the heater and achieving energy conservation.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記冷凍サイクル回路は、前記ガスクーラの下流に、前記冷媒の熱を外部に放出する第2のガスクーラを備えていても良い。このような構成により、高温タンク内の循環液が高温になり、ガスクーラの冷媒で高温経路の循環液を加熱する必要がない場合においても、冷凍サイクル回路は、第2のガスクーラで冷媒の放熱を行い、蒸発器で低温経路の循環液を冷却することができる。よって、冷凍サイクルを利用した循環液の冷却により、効率の良い温度制御が行われる。 According to the cooling and heating device of the present invention, the refrigeration cycle circuit may be provided with a second gas cooler downstream of the gas cooler that releases heat from the refrigerant to the outside. With this configuration, even when the circulating liquid in the high-temperature tank becomes hot and there is no need to heat the circulating liquid in the high-temperature path with the refrigerant in the gas cooler, the refrigeration cycle circuit can release heat from the refrigerant in the second gas cooler and cool the circulating liquid in the low-temperature path with the evaporator. Therefore, efficient temperature control is achieved by cooling the circulating liquid using the refrigeration cycle.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記ガスクーラは、前記冷媒が上から下に流れるよう前記高温タンクの内部に設けられ、前記ガスクーラを流れる前記冷媒は、前記高温タンク内の前記循環液を加熱しても良い。このような構成により、高温経路の循環液を制御対象に供給する循環液として利用しておらず、高温経路の循環液が流れていない状態においても、ガスクーラを流れる冷媒で高温タンク内の循環液を加熱することができる。即ち、ガスクーラによる加熱のために高温経路の循環液を流す循環ポンプ等を設けることなく、高温タンクに貯留されている循環液をガスクーラで高温に加熱することができる。よって、冷凍サイクル回路が低温経路の循環液を冷却する運転を行っている際、高温経路の循環液を循環させることなく、ガスクーラからの排熱を有効に利用することができる。 In addition, according to the cooling and heating device of the present invention, the gas cooler is provided inside the high-temperature tank so that the refrigerant flows from top to bottom, and the refrigerant flowing through the gas cooler may heat the circulating liquid in the high-temperature tank. With this configuration, the circulating liquid in the high-temperature tank can be heated by the refrigerant flowing through the gas cooler even when the circulating liquid in the high-temperature path is not used as the circulating liquid supplied to the control object and the circulating liquid in the high-temperature path is not flowing. In other words, the circulating liquid stored in the high-temperature tank can be heated to a high temperature by the gas cooler without providing a circulation pump or the like that flows the circulating liquid in the high-temperature path for heating by the gas cooler. Therefore, when the refrigeration cycle circuit is operating to cool the circulating liquid in the low-temperature path, the exhaust heat from the gas cooler can be effectively used without circulating the circulating liquid in the high-temperature path.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記低温経路には、前記循環液を貯留する低温タンクと、前記循環液を送る低温ポンプと、前記循環液を前記制御対象に送らずに前記低温経路の入口側に戻す低温循環経路と、が設けられても良い。低温タンクが設けられていることにより、加工工程等の変更により制御対象の設定温度を変更して循環液の温度を大幅に低下させる場合、低温タンクに貯留された低温の循環液を循環液回路に供給し、循環液回路を循環する循環液の温度を短時間で急速に所定の温度まで低下させることができる。よって、設定温度の変更に要する時間を大幅に短縮して、加工工程、計測工程等を開始するまでの温度変更に伴うタイムロスを減らすことができる。 According to the cooling and heating device of the present invention, the low-temperature path may be provided with a low-temperature tank for storing the circulating fluid, a low-temperature pump for sending the circulating fluid, and a low-temperature circulation path for returning the circulating fluid to the inlet side of the low-temperature path without sending it to the controlled object. By providing the low-temperature tank, when the set temperature of the controlled object is changed due to a change in the processing step or the like to significantly lower the temperature of the circulating fluid, the low-temperature circulating fluid stored in the low-temperature tank can be supplied to the circulating fluid circuit, and the temperature of the circulating fluid circulating through the circulating fluid circuit can be rapidly lowered to a predetermined temperature in a short time. This significantly shortens the time required to change the set temperature, thereby reducing the time loss associated with the temperature change until the start of the processing step, measurement step, or the like.
また、低温経路には、循環液を送る低温ポンプと、循環液を低温経路の出口側から入口側に戻す低温循環経路が設けられている。そのため、低温経路の循環液を制御対象に供給する循環液として利用していない場合であっても、低温経路の循環液を循環させて、蒸発器を流れる冷媒で冷却することができる。そして、冷却された循環液を低温タンクに貯留することができる。また、低温経路の循環液を制御対象に供給していない場合であっても、冷凍サイクル回路を運転して、ガスクーラの冷媒で高温経路の循環液を加熱することができる。 In addition, the low-temperature path is provided with a low-temperature pump that sends the circulating liquid, and a low-temperature circulation path that returns the circulating liquid from the outlet side to the inlet side of the low-temperature path. Therefore, even when the circulating liquid in the low-temperature path is not used as the circulating liquid to be supplied to the controlled object, the circulating liquid in the low-temperature path can be circulated and cooled by the refrigerant flowing through the evaporator. Then, the cooled circulating liquid can be stored in the low-temperature tank. In addition, even when the circulating liquid in the low-temperature path is not supplied to the controlled object, the refrigeration cycle circuit can be operated to heat the circulating liquid in the high-temperature path with the refrigerant in the gas cooler.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記循環液回路には、前記制御対象から戻る前記循環液を前記高温経路に送るか否かを切り替える三方弁と、前記三方弁の下流に設けられ前記制御対象に供給される前記循環液に前記低温経路を通過した前記循環液を混合する混合弁と、が設けられても良い。このような構成により、三方弁及び混合弁を切り替えることにより、冷凍サイクル回路のガスクーラで加熱された循環液を制御対象に供給する運転と、蒸発器で冷却された循環液を制御対象に供給する運転と、を切り替えて実行することができる。また、混合弁の調整により、制御対象から戻ってきた循環液に蒸発器で冷却された循環液を混合して好適な温度とする運転を行うこともできる。また更に、ガスクーラで加熱された循環液及び蒸発器で冷却された循環液を制御対象に供給せず、制御対象から戻ってきた循環液のみを加熱器で加熱し制御対象に送って循環させる温度調整運転を行うこともできる。このように、制御対象の状況に応じて好適な経路に循環液を循環させて、制御対象の温度を効率良く少ないエネルギー消費量で調整することができる。 According to the cooling and heating device of the present invention, the circulating fluid circuit may be provided with a three-way valve for switching whether or not the circulating fluid returning from the controlled object is sent to the high-temperature path, and a mixing valve for mixing the circulating fluid that has passed through the low-temperature path with the circulating fluid that is supplied to the controlled object, which is provided downstream of the three-way valve. With this configuration, by switching the three-way valve and the mixing valve, it is possible to switch between an operation in which the circulating fluid heated by the gas cooler of the refrigeration cycle circuit is supplied to the controlled object and an operation in which the circulating fluid cooled by the evaporator is supplied to the controlled object. In addition, by adjusting the mixing valve, an operation in which the circulating fluid returned from the controlled object is mixed with the circulating fluid cooled by the evaporator to achieve a suitable temperature can be performed. Furthermore, a temperature adjustment operation can be performed in which the circulating fluid heated by the gas cooler and the circulating fluid cooled by the evaporator are not supplied to the controlled object, and only the circulating fluid returned from the controlled object is heated by a heater and sent to the controlled object for circulation. In this way, the circulating fluid can be circulated through a suitable path depending on the condition of the controlled object, and the temperature of the controlled object can be adjusted efficiently with little energy consumption.
また、本発明の冷却加熱装置によれば、前記制御対象が複数存在し、前記循環液回路には、系統分岐管を介して前記低温経路及び前記高温経路に接続される複数の回路モジュールが設けられ、前記回路モジュールは、それぞれが前記循環ポンプ及び前記加熱器を有し、それぞれ別の前記制御対象に前記循環液を送っても良い。これにより、1つの冷凍サイクル回路を利用して、複数の加工箇所、計測箇所等の制御対象を高効率に冷却、加熱して、それぞれ好適な温度に調整することができる。 In addition, according to the cooling and heating device of the present invention, there may be a plurality of the controlled objects, and the circulating fluid circuit may be provided with a plurality of circuit modules connected to the low-temperature path and the high-temperature path via a branch pipe, and each of the circuit modules may have the circulating pump and the heater, and may send the circulating fluid to a different controlled object. This allows a single refrigeration cycle circuit to be used to efficiently cool and heat a plurality of controlled objects, such as processing locations and measurement locations, and adjust each to a suitable temperature.
以下、図面を適宜参照しながら本発明の実施形態に係る冷却加熱装置1を詳細に説明する。なお、図示された態様は本発明を限定するものではなく、あくまでも本発明の実施形態の一例を示したものである。The cooling and
図1は、本発明の実施形態に係る冷却加熱装置1の概略構成を示す図である。図1を参照して、冷却加熱装置1は、半導体製造装置等の各種製造装置、または、半導体製造プロセス等で使用される各種計測装置等、の制御対象46を、プロセスに応じた所定の温度に調整するために用いられる装置である。
Figure 1 is a diagram showing a schematic configuration of a cooling/
冷却加熱装置1は、蒸気圧縮式冷凍サイクルを構成して冷媒で循環液を冷却または加熱する冷凍サイクル回路10と、冷凍サイクル回路10で冷却または加熱された循環液を制御対象46に送るよう循環させて制御対象46の温度を調整する循環液回路20と、を備えている。The cooling and
循環液回路20を循環する循環液は、例えば、水を含む。循環液は、冷凍サイクル回路10の冷媒によって冷却または加熱され、循環液回路20の加熱器26によって好適な温度に加熱されて半導体製造装置等の制御対象46に供給される。これにより、制御対象46は、好適な温度に調整された循環液によって冷却または加熱され、各製造プロセス、計測プロセス等に適合する好適な温度になるよう制御される。The circulating fluid circulating through the circulating
先ず、冷凍サイクル回路10の構成について詳細に説明する。冷凍サイクル回路10は、圧縮手段としての圧縮機11、ガスクーラ12、第2のガスクーラとしての放熱器13、絞り手段としての膨張弁14、及び蒸発器15が冷媒配管17を介して順次接続され形成されている。冷凍サイクル回路10は、冷媒が循環して蒸気圧縮式冷凍サイクルの運転が行われる閉回路を構成する。First, the configuration of the
圧縮機11は、冷媒を圧縮してガスクーラ12に送る圧縮手段である。圧縮機11としては、ロータリー式、スクロール式、レシプロ式、スクリュー式その他各種形式の圧縮装置を採用することができる。The
特にロータリー式の圧縮機11は、冷却能力の小さいコンパクトな冷却加熱装置1を構成する際に好適である。また、圧縮機11は、2段圧縮式でも良い。圧縮機11として2段圧縮式を採用することは、高圧になる二酸化炭素冷媒の圧縮に適している。In particular, the
ガスクーラ12は、圧縮機11で圧縮され高圧高温になった冷媒と、循環液回路20の循環液と、の熱交換が行われる熱交換器である。ガスクーラ12は、例えば、循環液が貯留される高温タンク39の内部に設けられ、図示を省略するが、冷媒が流れる複数のチューブを有する。チューブは、例えば鋼管等である。The
具体的には、ガスクーラ12のチューブは、冷媒が上から下に流れるよう、入口が上方で出口が下方にあり、例えば略螺旋状の形態に巻かれ、高温タンク39の内部に設けられている。このような構成により、ガスクーラ12を流れる冷媒は、高温タンク39内の循環液を効率良く加熱することができる。Specifically, the tubes of the
例えば、高温タンク39内の循環液が制御対象46に供給されていない場合、即ち、高温タンク39が設けられた循環液回路20の高温経路38に循環液が流れていない場合であっても、ガスクーラ12を流れる冷媒で高温タンク39内の循環液を加熱することができる。For example, even when the circulating liquid in the high-
つまり、このような構成によれば、ガスクーラ12で循環液を加熱するために、循環液回路20の高温経路38に循環液を流す循環ポンプ等を設けることなく、高温タンク39に貯留されている循環液をガスクーラ12で高温に加熱することができる。In other words, with this configuration, in order to heat the circulating liquid in the
よって、冷凍サイクル回路10が蒸発器15の蒸発潜熱を利用して循環液を冷却する運転を行っているとき、高温経路38に循環液を循環させることなく、ガスクーラ12からの排熱を有効に利用して高温タンク39内の循環液を高温に加熱することができる。Therefore, when the
なお、ガスクーラ12は、冷媒が循環液と熱交換できる構成であれば、高温タンク39の外部に設けられても良い。例えば、ガスクーラ12として、プレート式、シェルアンドチューブ式、二重管式その他各種形式の熱交換器が採用されても良い。The
放熱器13は、冷媒の熱を外部に放出する第2のガスクーラであり、ガスクーラ12の下流に設けられている。放熱器13は、例えば、冷媒と熱交換する空気が送風ファン16によって送られる空冷式の熱交換器である。例えば放熱器13は、図示を省略するが、フィンアンドチューブ式の熱交換器でも良い。即ち、放熱器13は、冷媒が流れる複数の銅管等のチューブと、それぞれ平行に設けられた複数のアルミニウム製のフィンと、を有し、チューブは、フィンに形成された孔に挿入されている。The
なお、放熱器13は、水冷式の熱交換器であっても良い。また、放熱器13としては、プレート式、シェルアンドチューブ式、二重管式その他各種形式の熱交換器を採用することができる。特にプレート式の熱交換器は、熱交換効率が高く放熱器13をコンパクトにできるので好ましい。The
放熱器13は、ガスクーラ12の下流に設けられているので、ガスクーラ12で循環液を加熱して温度が低下した冷媒を更に低温に冷却することができる。また、高温タンク39内の循環液が高温になり、ガスクーラ12を流れる冷媒で循環液を加熱する必要がない場合においても、ガスクーラ12を通過した高温の冷媒を、放熱器13における放熱によって低温にすることができる。これにより、高温タンク39内が高温の循環液で満たされた状態においても、冷凍サイクル回路10の冷却能力、即ち蒸発器15における冷媒の蒸発潜熱を利用して循環液を冷却する能力、が発揮される。
The
膨張弁14は、ガスクーラ12及び放熱器13を通過して低温になった高圧の冷媒を減圧する絞り手段である。また、膨張弁14は、冷媒の流れを調整する機能を有する。膨張弁14としては、電子膨張弁、温度自動膨張弁、キャピラリーチューブその他各種形式の絞り手段を採用することができる。膨張弁14として電子膨張弁を採用することにより、冷凍サイクル回路10による循環液の冷却及び加熱を高性能に制御することができる。The
蒸発器15は、低圧の液冷媒が蒸発し、その蒸発潜熱によって循環液を冷却する熱交換器である。蒸発器15としては、プレート式、二重管式、チューブ接触式、シェルアンドチューブ式その他各種形式の熱交換器を採用することができる。The
特にプレート式の熱交換器は、熱交換効率が高く蒸発器15をコンパクトにできるので好ましい。また、二重管式及びチューブ接触式は、製造加工が容易で、好適な耐圧強度が容易に得られる点で優れている。In particular, the plate type heat exchanger is preferred because it has high heat exchange efficiency and allows the
蒸発器15の下流の冷媒配管17は、図示しないアキュームレータを介して圧縮機11に接続されている。以上の構成により、圧縮機11、ガスクーラ12、放熱器13、膨張弁14及び蒸発器15が順次接続された冷凍サイクル回路10の閉回路が形成されている。The
冷凍サイクル回路10で使用される冷媒は、二酸化炭素である。そして、二酸化炭素の冷媒は、ガスクーラ12において、超臨界圧力で循環液を加熱する。これにより、循環液を効率良く高温度に加熱することができる。The refrigerant used in the
具体的には、HFC系冷媒、HFO系冷媒またはこれらの混合冷媒を利用した従来技術のチラー等の凝縮器では不可能であった高温域まで、冷凍サイクル回路10のガスクーラ12で循環液を加熱することができる。Specifically, the
例えば、冷却加熱装置1は、加工工程等の変更のために設定温度を130℃の高温に変更する場合等においても、循環液の温度を短時間で高温度に上昇させることができる。よって、冷却加熱装置1は、温度調整で生ずるタイムロスを減らし、半導体装置等の生産性を向上させることができる。また、循環液回路20の加熱器26による加熱量を少なくできるので、加熱器26によるエネルギー消費量を削減し、半導体製造等の省エネルギー化を図ることができる。For example, the cooling and
また、冷凍サイクル回路10には、冷媒の温度を計測する冷媒温度センサ18、冷媒の圧力を計測する圧力センサ19等、が設けられている。制御装置43(図2参照)は、制御対象46の設定温度、計測温度情報の他、冷媒温度センサ18で計測された冷媒の温度、圧力センサ19で計測された冷媒の圧力等に基づいて、圧縮機11の回転数及び膨張弁14の開度を制御する。The
次に、循環液回路20について詳細に説明する。循環液回路20は、制御対象46を冷却、加熱する循環液が循環する閉回路を構成する。具体的には、循環液回路20は、制御対象46に接続され循環液を循環させる複数の回路モジュール21と、回路モジュール21が接続され循環液が冷媒と熱交換可能に蒸発器15を流れる低温経路31と、回路モジュール21が接続され循環液が冷媒と熱交換可能にガスクーラ12を流れる高温経路38と、を有する。Next, the circulating
回路モジュール21は、制御対象46に循環液を供給して制御対象46の温度を調整する装置である。それぞれの回路モジュール21には、循環液を循環させる基本的な閉回路となる基本循環経路22が形成されている。詳しくは、回路モジュール21には、半導体製造装置等の制御対象46に循環液を供給する送り経路23と、制御対象46を冷却、加熱した循環液が戻される戻り経路24と、が接続された閉回路である基本循環経路22が形成されている。
The
それぞれの回路モジュール21の送り経路23には、循環液を制御対象46に送る循環ポンプ25と、制御対象46に供給される循環液を加熱して温度を調整する加熱器26と、加熱器26で加熱された循環液の温度を計測する温度センサ27と、が設けられている。The
加熱器26は、抵抗加熱式の電熱ヒータ等であり、例えば、発熱体としてのニクロム線を金属パイプで覆ったシーズヒータである。また、加熱器26は、誘導加熱式の加熱手段であっても良く、例えば、図示しない誘導加熱電源に接続された誘導コイル等であっても良い。The
温度センサ27は、加熱器26の下流の送り経路23に設けられ、加熱器26で加熱された循環液の温度を計測する。循環ポンプ25、加熱器26及び温度センサ27は、制御装置43に接続されている。制御装置43は、温度センサ27で計測された循環液の温度が所定の温度になるよう循環ポンプ25及び加熱器26を制御する。これにより制御対象46の温度が設定温度になるよう制御される。The
また、各回路モジュール21の基本循環経路22には、送り経路23を開閉する電磁弁28が設けられている。これにより、その回路モジュール21に接続された制御対象46について温度制御が不要である場合には、電磁弁28を閉じて循環液の流れを止めることができる。In addition, the
低温経路31は、冷凍サイクル回路10によって循環液を冷却するための経路である。低温経路31は、基本循環経路22に循環液のバイパス経路を形成するよう、入口側が回路モジュール21の戻り経路24側に接続され、出口側が回路モジュール21の送り経路23側に接続されている。The low-
即ち、回路モジュール21の基本循環経路22を循環する循環液は、低温経路31の入口となる分岐点において、低温経路31に流入可能であると共に、低温経路31に流入せず送り経路23側に流れることも可能である。In other words, the circulating fluid circulating through the
低温経路31の出口と、基本循環経路22と、の合流点には、混合弁30が設けられている。混合弁30は、回路モジュール21の送り経路23を経由して制御対象46に供給される循環液に対して、低温経路31を通過した循環液を混合する弁である。即ち、低温経路31は、混合弁30によって開閉自在且つ流量調整自在である。A mixing
混合弁30の調整により、制御対象46から戻ってきた循環液に、冷凍サイクル回路10の蒸発器15で冷媒の蒸発によって冷却された循環液を混合して好適な温度とする運転を行うことができる。By adjusting the mixing
また、混合弁30の調整により、蒸発器15で冷却された循環液を制御対象46に供給しない運転を行うことも可能である。即ち、制御対象46から戻ってきた循環液のみ、または、ガスクーラ12で加熱された循環液のみ、を送り経路23に送り、加熱器26で加熱して制御対象46に供給して循環させる温度調整運転を行うこともできる。
In addition, by adjusting the mixing
また、低温経路31には、循環液を貯留する低温タンク32と、循環液を送る低温ポンプ33と、循環液を制御対象46に送らずに低温経路31の入口側に戻す低温循環経路34と、が設けられている。In addition, the low-
具体的には、例えば、低温経路31の入口側に低温タンク32が設けられ、低温タンク32の下流に低温ポンプ33が設けられ、低温ポンプ33の下流に蒸発器15が設けられている。そして、低温循環経路34は、低温経路31の蒸発器15の下流に設けられた系統分岐管36と、低温経路31の入口側に設けられた低温タンク32と、を接続するよう設けられても良い。Specifically, for example, a low-
低温タンク32には、低温タンク32内の循環液の温度を計測する低温センサ37が設けられている。低温ポンプ33及び低温センサ37は、制御装置43に接続されている。制御装置43は、低温センサ37で計測された循環液の温度情報を演算に利用して、循環ポンプ25及び低温ポンプ33の運転並びに混合弁30の開度調整等を制御しても良い。The low-
上述の如く低温経路31には、低温タンク32と、循環液を送る低温ポンプ33と、循環液を低温経路31の出口側から入口側に戻す低温循環経路34と、が設けられている。そのため、低温経路31の循環液を制御対象46に供給する循環液として利用していない場合であっても、低温経路31の循環液を循環させて、蒸発器15を流れる冷媒で冷却することができる。As described above, the low-
そして、冷媒に冷却された循環液を低温タンク32に貯留し、貯留された低温の循環液を必要に応じて循環液回路20に供給することができる。例えば、加工工程等の変更により制御対象46の設定温度を変更して循環液の温度を大幅に低下させる場合、低温タンク32に貯留された低温の循環液を循環液回路20に供給することができる。
The circulating fluid cooled by the refrigerant is stored in the low-
これにより、循環液回路20を循環する循環液の温度を短時間で急速に所定の温度まで低下させることができる。よって、設定温度の変更に要する時間を大幅に短縮して、加工工程、計測工程等を開始するまでの温度変更に伴うタイムロスを減らすことができる。This allows the temperature of the circulating fluid circulating through the circulating
また、前述のとおり、低温経路31には、低温タンク32、低温ポンプ33及び低温循環経路34が設けられている。よって、低温経路31の循環液を制御対象46に供給していない場合であっても、冷凍サイクル回路10を運転して、ガスクーラ12の冷媒で高温経路38の循環液を加熱することができる。As described above, the low-
高温経路38は、冷凍サイクル回路10によって循環液を加熱するための経路である。高温経路38は、基本循環経路22に循環液のバイパス経路を形成するよう、入口側が回路モジュール21の戻り経路24側に接続され、出口側が回路モジュール21の送り経路23側に接続されている。The high-
具体的には、循環液回路20の基本循環経路22には、低温経路31への分岐点よりも上流に三方弁29が設けられている。三方弁29は、制御対象46から戻る循環液を高温経路38に送るか否かを切り替える弁である。即ち、高温経路38は、三方弁29によって開閉自在である。Specifically, a three-
詳しくは、高温経路38の入口は、三方弁29に接続されている。高温経路38の出口は、基本循環経路22の三方弁29よりも下流であって低温経路31への分岐点よりも上流に接続されている。More specifically, the inlet of the high-
このような構成により、三方弁29を切り替えることにより、冷凍サイクル回路10のガスクーラ12で加熱された循環液を制御対象46に供給する運転と、供給しない運転と、を切り替えて実行することができる。
With this configuration, by switching the three-
高温経路38には、高温に加熱された循環液を貯留する高温タンク39と、高温タンク39内の循環液の温度を計測する高温センサ42と、が設けられている。そして、高温タンク39の内部には、冷凍サイクル回路10のガスクーラ12が、冷媒によって循環液を加熱することができるように設けられている。The high-
高温タンク39は、循環液の入口が下部に形成され、循環液の出口が上部に形成されている。これにより、高温タンク39内に貯留された高温の循環液を効率良く制御対象46に供給することができる。The high-
即ち、制御対象46から戻る低温の循環液は、三方弁29を介して高温経路38に流入し、高温タンク39の下部に形成された入口から高温タンク39の内部に流れ込む。そして、高温タンク39に貯留されていた高温の循環液は、高温タンク39の上部に形成された出口から基本循環経路22に送られ、制御対象46に供給される。That is, the low-temperature circulating fluid returning from the controlled
このように冷却加熱装置1は、高温タンク39を備え、高温タンク39に貯留された高温の循環液を基本循環経路22に送ることができる。よって、例えば、加工工程等の変更により制御対象46の設定温度を変更して循環液の温度を大幅に上昇させる場合に高効率な温度変更が可能となる。In this way, the cooling and
即ち、高温タンク39に貯留された高温の循環液を循環液回路20に供給し、循環液回路20を循環する循環液の温度を短時間で急速に所定の温度まで上昇させることができる。よって、冷却加熱装置1は、設定温度の変更に要する時間を大幅に短縮して、加工工程、計測工程等を開始するまでの温度変更に伴うタイムロスを減らすことができる。That is, the high-temperature circulating fluid stored in the high-
なお、制御装置43は、三方弁29の開閉制御を行う演算に、高温センサ42で計測された高温タンク39内の循環液の温度情報を利用しても良い。これにより、高温タンク39に貯留されている高温の循環液の量に応じて、高温経路38の流れを制御することができる。よって、高温タンク39に貯留された高温の循環液が不足している場合、温度の低い循環液が基本循環経路22に送られて温度変更にタイムロスが生ずることを抑制することができる。The
また、低温経路31及び高温経路38には、複数の回路モジュール21を接続する系統合流管35、40及び系統分岐管36、41が設けられている。具体的には、低温経路31には、入口側に系統合流管35、出口側に系統分岐管36が設けられている。高温経路38には、入口側に系統合流管40、出口側に系統分岐管41が設けられている。In addition, the low-
これにより、系統合流管35、40及び系統分岐管36、41を介して、複数の回路モジュール21、例えば、2から8個またはそれ以上の回路モジュール21を、低温経路31及び高温経路38に接続することができる。This allows
複数の回路モジュール21は、それぞれが循環ポンプ25及び加熱器26を有し、それぞれ別の制御対象46に循環液を循環させることができる。これにより、1つの冷凍サイクル回路10を利用して、複数の加工箇所、計測箇所等の制御対象46を高効率に冷却、加熱して、それぞれの制御対象46を好適な温度に調整することができる。Each of the
図2は、冷却加熱装置1の制御系統を示すブロック図である。図2に示すように、冷却加熱装置1は、各構成機器を制御する制御装置43を備えている。制御装置43は、マイクロプロセッサを備えた制御手段であり、所定の演算を実行して制御対象46(図1参照)の温度を制御する。
Figure 2 is a block diagram showing the control system of the cooling and
制御装置43の入力には、冷媒の温度を検出する冷媒温度センサ18、冷媒の圧力を検出する圧力センサ19、制御対象46に供給される循環液の温度を検出する温度センサ27、低温経路31の循環液の温度を検出する低温センサ37、高温経路38の循環液の温度を検出する高温センサ42、制御対象46の温度を検出する温度センサ47等のセンサ類が接続されている。
Connected to the input of the
制御装置43の出力には、冷凍サイクル回路10の圧縮機11、膨張弁14及び送風ファン16、並びに循環液回路20の循環ポンプ25、加熱器26、電磁弁28、三方弁29、混合弁30及び低温ポンプ33等が接続されている。The output of the
また、制御装置43には、制御対象46の設定温度その他の運転情報を入力する入力装置44、各部の温度情報その他の制御情報を表示する表示装置45が設けられている。
なお、制御装置43には、その他の図示しないセンサ類、情報入力機器、表示装置、制御対象機器、記録装置等が接続されても良い。
The
The
制御装置43は、冷媒温度センサ18、圧力センサ19、温度センサ27、低温センサ37、高温センサ42、温度センサ47及び入力装置44等の入力に基づき所定の演算を実行し、圧縮機11、膨張弁14、送風ファン16、循環ポンプ25、加熱器26、電磁弁28、三方弁29、混合弁30及び低温ポンプ33等を制御する。The
次に、図3から図6を参照して、冷却加熱装置1による温度調整方法について詳細に説明する。
図3は、循環液の流れ経路を示す図であり、冷凍サイクル回路10で冷却または加熱された循環液を利用しない例を示している。なお、図3において、循環液が流れる経路を太線で示し、流れ方向を矢印で示している。
Next, a temperature adjustment method using the cooling/
Fig. 3 is a diagram showing the flow path of the circulating fluid, and shows an example in which the circulating fluid cooled or heated in the
図3に示すように、三方弁29で高温経路38を閉じ、混合弁30で低温経路31を閉じることにより、蒸発器15で冷却された循環液及びガスクーラ12で加熱された循環液を制御対象46に供給しないこともできる。即ち、循環液は、低温経路31及び高温経路38を経由せず、基本循環経路22を循環する。このように、低温経路31若しくは高温経路38を流れる循環液を送り経路23に送らず、制御対象46から戻ってきた循環液のみを直接的に送り経路23に送り、加熱器26で加熱し制御対象46に送って循環させる温度調整運転を行うこともできる。3, by closing the
図4は、冷凍サイクル回路10で冷却された循環液を利用して温度調整運転を行う場合の循環液の流れ経路を示す図である。図4において、循環液が流れる経路を太線で示し、流れ方向を矢印で示している。図4に示すように、制御対象46の冷却が必要な場合には、制御装置43(図2参照)によって混合弁30が制御され循環液が低温経路31を流れるように循環液回路20の低温経路31が開かれる。
Figure 4 is a diagram showing the flow path of the circulating fluid when performing temperature adjustment operation using the circulating fluid cooled in the
そうすると、制御対象46から戻った循環液の一部は、低温経路31を流れ、冷凍サイクル回路10の蒸発器15で蒸発する冷媒の潜熱を利用して冷却される。そして、冷凍サイクル回路10で冷却された循環液は、低温経路31を流れなかった基本循環経路22の循環液と合流し、加熱器26によって所定の温度に加熱され、制御対象46が設定温度になるよう好適な温度で制御対象46に供給される。Then, a portion of the circulating fluid returning from the controlled
図5は、冷凍サイクル回路10で冷却された循環液を利用する他の例を示す図である。図5において、循環液が流れる経路を太線で示し、流れ方向を矢印で示している。図5に示すように、混合弁30は、低温経路31を100%開くよう制御されても良い。即ち、制御対象46から戻る循環液は、直接的には混合弁30を通過せず、全てが低温経路31を経由する。そして、冷凍サイクル回路10で冷媒に冷却された循環液のみが混合弁30通過して送り経路23に送られる。
Figure 5 is a diagram showing another example of using circulating fluid cooled in the
このような流れ経路により、冷凍サイクル回路10で低温に冷却され低温タンク32に貯留されている大量の循環液を循環液回路20に送り、制御対象46に供給される循環液の温度を急速に低下させることができる。よって、設定温度を変更する工程等におけるタイムロスを減らすことができ、半導体装置等の生産性を向上させることができる。
By using such a flow path, a large amount of circulating fluid that has been cooled to a low temperature in the
図6は、冷凍サイクル回路10で加熱された循環液を利用して温度調整運転を行う場合の循環液の流れ経路を示す図である。図5において、循環液が流れる経路を太線で示し、流れ方向を矢印で示している。
Figure 6 is a diagram showing the flow path of the circulating fluid when performing temperature adjustment operation using the circulating fluid heated in the
図6を参照して、制御対象46から戻る循環液の温度が低く、循環液を大きく温度上昇させる必要がある場合には、制御装置43(図2参照)によって三方弁29が制御され循環液回路20の高温経路38が開かれる。これにより制御対象46から戻る循環液は、高温経路38を流れる。そして、冷凍サイクル回路10のガスクーラ12を流れる冷媒の放熱を利用して高温になった高温タンク39内の循環液は、基本循環経路22に送られる。
With reference to Figure 6, when the temperature of the circulating fluid returning from the
そして、冷凍サイクル回路10で加熱された循環液は、混合弁30を介して送り経路23に送られ、加熱器26によって所定の温度に加熱され、制御対象46が正確な設定温度になるよう好適な温度で制御対象46に供給される。The circulating liquid heated in the
このように、冷凍サイクル回路10のガスクーラ12による放熱を利用して循環液を加熱して高温タンク39に貯留し、高温タンク39に貯留された高温の循環液を基本循環経路22に供給して、基本循環経路22を流れる循環液を短時間で高温に変更することができる。よって、循環液回路20の加熱器26で消費されるエネルギーを少なく抑えて、高効率な温度調整を行うことができる。In this way, the circulating fluid is heated by utilizing the heat dissipated by the
制御装置43が三方弁29を開くと、高温タンク39に貯留されていた高温の循環液が基本循環経路22に送られる。そして、基本循環経路22を循環する循環液の温度が短時間で所定の温度まで上昇した後には、図3、図4及び図5に示すように、制御装置43によって三方弁29が閉じられ循環液が高温経路38を流れない通常の温度調整運転が行われても良い。When the
即ち、図3に示すように、冷凍サイクル回路10を利用せず、基本循環経路22を循環する循環液を加熱器26のみで加熱して温度を調整する運転が行われても良い。また、図4に示すように、基本循環経路22を循環する循環液に低温経路31を流れる低温の循環液を混合して温度を調整する運転が行われても良い。また、図5に示すように、混合弁30で低温経路31が100%開かれ、基本循環経路22を循環する全ての循環液が低温経路31を経由して送り経路23に送られる温度調整運転が行われても良い。
That is, as shown in Fig. 3, an operation may be performed in which the circulating fluid circulating through the
つまり、図6に示すように、加工プロセス等の変更による高温度差の温度変更が行われた後には、図3、図4及び図5に示すように、制御対象46における放熱量、吸熱量に対応する程度の小さい冷却能力、加熱能力を利用して温度調整を行うことができる。In other words, as shown in Figure 6, after a temperature change with a large temperature difference is made due to a change in the processing process, etc., temperature adjustment can be performed by utilizing a small cooling capacity and heating capacity corresponding to the amount of heat dissipation and absorption in the
このように冷却加熱装置1は、制御対象46の状況に応じて好適な経路に循環液を循環させて、短時間で効率良く設定温度を変更することができ、制御対象46の温度を効率良く少ないエネルギー消費量で調整することができる。In this way, the cooling and
以上説明の如く、本実施形態に係る冷却加熱装置1は、半導体製造装置等の制御対象46に対して、冷凍サイクル回路10で発生する冷熱及び温熱の双方を利用して、排熱損失の少ない高効率な温度調整を行うことができる。As described above, the cooling and
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更実施が可能である。The present invention is not limited to the above-described embodiment. Various modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the present invention.
1 冷却加熱装置
10 冷凍サイクル回路
11 圧縮機
12 ガスクーラ
13 放熱器
14 膨張弁
15 蒸発器
16 送風ファン
17 冷媒配管
18 冷媒温度センサ
19 圧力センサ
20 循環液回路
21 回路モジュール
22 基本循環経路
23 送り経路
24 戻り経路
25 循環ポンプ
26 加熱器
27 温度センサ
28 電磁弁
29 三方弁
30 混合弁
31 低温経路
32 低温タンク
33 低温ポンプ
34 低温循環経路
35 系統合流管
36 系統分岐管
37 低温センサ
38 高温経路
39 高温タンク
40 系統合流管
41 系統分岐管
42 高温センサ
43 制御装置
44 入力装置
45 表示装置
46 制御対象
47 温度センサ
Claims (7)
循環ポンプ及び加熱器が設けられ制御対象の温度を調整する循環液が循環する循環液回路と、を具備し、
前記循環液回路は、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記蒸発器を流れる開閉自在な低温経路と、前記循環液が前記冷媒と熱交換可能に前記ガスクーラを流れる開閉自在な高温経路と、を有し、
前記高温経路には、前記ガスクーラで前記冷媒に加熱された前記循環液を貯留する高温タンクが設けられていることを特徴とする冷却加熱装置。 a refrigeration cycle circuit in which a compression means, a gas cooler, a throttling means and an evaporator are connected in sequence and a refrigerant circulates;
a circulating fluid circuit in which a circulating pump and a heater are provided and through which a circulating fluid for adjusting the temperature of the controlled object circulates;
the circulating fluid circuit includes a freely openable/closable low-temperature path through which the circulating fluid flows through the evaporator so as to be able to exchange heat with the refrigerant, and a freely openable/closable high-temperature path through which the circulating fluid flows through the gas cooler so as to be able to exchange heat with the refrigerant,
The cooling and heating device is characterized in that a high-temperature tank for storing the circulating fluid heated to the refrigerant in the gas cooler is provided in the high-temperature path.
前記ガスクーラを流れる前記冷媒は、前記高温タンク内の前記循環液を加熱することを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか1項に記載の冷却加熱装置。 the gas cooler is provided inside the high-temperature tank so that the refrigerant flows from top to bottom;
4. The cooling and heating device according to claim 1, wherein the refrigerant flowing through the gas cooler heats the circulating liquid in the high-temperature tank.
前記循環液回路には、系統分岐管を介して前記低温経路及び前記高温経路に接続される複数の回路モジュールが設けられ、
前記回路モジュールは、それぞれが前記循環ポンプ及び前記加熱器を有し、それぞれ別の前記制御対象に前記循環液を送ることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか1項に記載の冷却加熱装置。
There are a plurality of control targets,
the circulating fluid circuit is provided with a plurality of circuit modules connected to the low-temperature path and the high-temperature path via branch pipes;
4. The cooling and heating device according to claim 1, wherein each of the circuit modules has the circulation pump and the heater, and sends the circulating fluid to a different controlled object.
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