JP7650182B2 - 変性ジエン系ポリマーの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、架橋形態を制御し得る変性ジエン系ポリマーの製造方法を提供することを目的とする。
Zが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロシクリル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロシクリルオキシ基、アルカノイル基、アロイル基、ヘテロシクリルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロシクリルオキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基、ヘテロシクリルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、カルボキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シアノ基、ジアルキルホスホネート基、ジアリールホスホネート基、ジアルキルホスフィネート基、ジアリールホスフィネート基、もしくは、これらの有機基の一部の水素原子が置換された有機基、または、水素原子、ハロゲン原子である。]
本発明の製造方法で製造される変性ジエン系ポリマーについて説明する。前記変性ジエン系ポリマーは、式(1)で表される構造を有することを特徴とする。式(1)で表される構造は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。
Zが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロシクリル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロシクリルオキシ基、アルカノイル基、アロイル基、ヘテロシクリルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロシクリルオキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基、ヘテロシクリルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、カルボキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シアノ基、ジアルキルホスホネート基、ジアリールホスホネート基、ジアルキルホスフィネート基、ジアリールホスフィネート基、もしくは、これらの有機基の一部の水素原子が置換された有機基、または、水素原子、ハロゲン原子である。]
前記アルキル基には、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基が含まれる。前記アルキル基の炭素数は18以下が好ましい。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記アルケニル基には、直鎖状アルケニル基、分岐鎖状アルケニル基、環状アルケニル基が含まれる。前記アルケニル基の炭素数は18以下が好ましい。前記アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等が挙げられる。
前記アルキニル基には、直鎖状アルキニル基、分岐鎖状アルキニル基、環状アルキニル基が含まれる。前記アルキニル基の炭素数は18以下が好ましい。前記アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基等が挙げられる。
前記アラルキル基に含まれるアリール基は、単環状アリール基、多環状アリール基が含まれる。前記アラルキル基の炭素数は20以下が好ましい。前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、α-クミル基、1-フェニルエチル基等が挙げられる。
前記アリールオキシ基の炭素数は20以下が好ましい。前記アリールオキシ基としては、フェノキシ基等が挙げられる。
前記アラルキルオキシ基の炭素数は20以下が好ましい。前記アラルキルオキシ基としては、α-クミルオキシ基等が挙げられる。
前記ヘテロシクリルオキシ基としては、ピロリルオキシ基、ピリジルオキシ基、ピリミジニルオキシ基等が挙げられる。
前記アロイル基の炭素数は20以下が好ましい。前記アロイル基としては、ベンゾイル基、ナフトイル基等が挙げられる。
前記ヘテロシクリルカルボニル基としては、ピロリルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、ピリミジルカルボニル基等が挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基の炭素数は、21以下が好ましい。前記アリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ヘテロシクリルオキシカルボニル基としては、ピロリルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、ピリミジニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
前記アロイルオキシ基の炭素数は20以下が好ましい。前記アロイルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基、1-ナフトイルオキシ基等が挙げられる。
前記ヘテロシクリルカルボニルオキシ基としては、ピロリルカルボニルオキシ基、ピリジルカルボニルオキシ基、ピリミジニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
前記アリールチオ基の炭素数は20以下が好ましい。前記アリールチオ基としては、フェニルチオ基等が挙げられる。
X1、X2およびX3は、炭素数1以上のアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数6以上のアラルキル基、水素原子、ハロゲン原子を表す。]
前記変性ジエン系ポリマーは、式(2)で表される構造を有することが好ましい。式(2)で表される構造は、1種でもよいし、2種以上でもよい。
本発明の変性ジエン系ポリマーの製造方法は、ジエン系ポリマーとジチオエステル化合物とを混合し、混合物を調製する第1工程;不活性雰囲気下で、前記混合物に光線を照射する第2工程を有する。光線を用いてジエン系ポリマーとジチオエステル化合物との反応を行うことで、得られる変性ジエン系ポリマーにおいて、分子鎖間に架橋が形成されることを抑制できる。
前記第1工程では、ジエン系ポリマーとジチオエステル化合物とを混合し、ジチオエステル化合物をジエン系ポリマー中に均一に分散させて、これらの混合物を調整する。
R7は、置換基を有していてもよい1価の炭化水素基を表す。]
前記アルケニル基には、直鎖状アルケニル基、分岐鎖状アルケニル基、環状アルケニル基が含まれる。前記アルケニル基の炭素数は18以下が好ましい。前記アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等が挙げられる。
前記アルキニル基には、直鎖状アルキニル基、分岐鎖状アルキニル基、環状アルキニル基が含まれる。前記アルキニル基の炭素数は18以下が好ましい。前記アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
R7は、置換基を有していてもよい1価の炭化水素基を表す。]
前記第2工程では、不活性雰囲気下で、混合物に光線を照射し、ジエン系ポリマーとジチオエステル化合物とを反応させ、ジエン系ポリマーの分子鎖にジチオエステル構造を有する官能基を導入する。
1.1HNMR(核磁気共鳴)測定
核磁気共鳴(NMR)測定装置(周波数400MHz)を用いて、1HNMRを測定行った。溶媒にはCDCl3を用いた。
フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)を用いて、IR測定を行った。測定手法には全反射測定法(ATR法)を用いて測定を行った。
紫外可視光分光光度計(UV-VIS)を用いて、UV-VIS拡散透過率測定を行った。測定は積分球を使用して行った。
バイアル瓶に試料約100mgとクロロホルム約5mlを加えて1日放置し、試料の溶解を目視で評価した。
バイアル瓶に試料約100mgとトルエン約5mlを加えて、40℃で2日間放置した。試料が溶解せず膨潤した場合、バイアル瓶から試料を取り出して質量を測定し、膨潤前後の試料質量からFlory-Rehnerの式を用いて網目鎖密度を算出した。試料が全て溶解した場合、網目鎖密度が0.01mmol/cm3未満とみなした。
(ジチオエステル化合物No.1)
撹拌子を備えた100mL一口フラスコに、3,5-ジメチルピラゾール 1.86g(20.0mmol)を量り取り、テトラヒドロフラン 30.0mLを加え、さらに粉末状水酸化カリウム 1.16g(20.6mmol)を加え、撹拌し、淡黄色溶液を得た。
ジチオエステル化合物No.2は、式(9)で表される化合物(シグマアルドリッチ社製)を使用した。
(変性ジエン系ポリマーNo.1)
(第1工程)
2軸ロールを用いて、ポリブタジエンゴム(JSR社製、BR730)40.36gと、上記で得たジチオエステル化合物No.1 1.23gとを混合し、ロール排出時の厚みが2mm以下となるように、混合物をシート状に排出した。排出されたシート状の混合物を長さ75mm、幅15mm程度に切り分けシート片を得た。
次に、アルゴンパージしたグローブボックス内に、2本の支柱を設置し、ここに地面と水平となるように横棒を架け渡した。この横棒に糸を用いてシート片を吊るした。また、シート片の両面に光を照射できるように、シート片を挟むように2つの光源(Kessil社製、「A 160 WE Tuna Blue」、光線の波長380nm~500nm)を設置した。なお、シート片と光源は、15cm~20cm程度離した。光源を使用して、シート片に光を480分間照射し、ポリブタジエンゴムとジチオエステル化合物No.1とを反応させた。反応後、シート片を有機溶媒(アセトン:テトラヒドロフラン=1:2の混合溶媒)で洗浄し、未反応物を除去して、変性ジエン系ポリマーNo.1を作製した。
(第1工程)
2軸ロールを用いて、ポリブタジエンゴム(JSR社製、BR730)40.36gと、前記ジチオエステル化合物No.2 1.72gとを混合し、ロール排出時の厚みが2mm以下となるように、混合物をシート状に排出した。排出されたシート状の混合物を長さ75mm、幅15mm程度に切り分けシート片を得た。
次に、アルゴンパージしたグローブボックス内に、2本の支柱を設置し、ここに地面と水平となるように横棒を架け渡した。この横棒に糸を用いてシート片を吊るした。また、シート片の両面に光を照射できるように、シート片を挟むように2つの光源(Kessil社製、「A 160 WE Tuna Blue」、光線の波長380nm~500nm)を設置した。なお、シート片と光源は、15cm~20cm程度離した。光源を使用して、シート片に光を480分間照射し、ポリブタジエンゴムとジチオエステル化合物No.2とを反応させた。反応後、シート片を有機溶媒(アセトン:テトラヒドロフラン=1:2の混合溶媒)で洗浄し、未反応物を除去して、変性ジエン系ポリマーNo.2を作製した。
上記で得た変性ジエン系ポリマーNo.1および2、ならびに、変性していないポリブタジエンゴムについて、1HNMR測定、IR測定、UV-VIS測定、クロロホルム溶解試験、および、網目鎖密度測定を行った。表1にクロロホルム溶解試験、網目鎖密度測定の結果を示した。図1に、変性ジエン系ポリマーの1HNMR測定の結果を示し、図2、3にIR測定の結果を示した。図4にUV-VIS測定の結果を示した。
これらの結果より、変性ジエン系ポリマーNo.1および2は、式(1)で表される構造を有することが確認された。
変性ジエン系ポリマーNo.2は、クロロホルムに溶解せず、試料が膨潤した。なお、変性ジエン系ポリマーNo.2の網目鎖密度は、0.051mmоl/cm3であり、架橋の形成は抑制されていた。
Claims (5)
- 式(1)で表される構造を有する変性ジエン系ポリマーの製造方法であって、
ジエン系ポリマーとジチオエステル化合物とを混合し、混合物を調製する第1工程;
不活性雰囲気下で、前記混合物に光線を照射する第2工程を有することを特徴とする変性ジエン系ポリマーの製造方法。
[式(1)において、R1およびR2は、炭素数1以上のアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数6以上のアラルキル基、水素原子、または、ハロゲン原子を表す。
Zが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロシクリル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロシクリルオキシ基、アルカノイル基、アロイル基、ヘテロシクリルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロシクリルオキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基、ヘテロシクリルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、カルボキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シアノ基、ジアルキルホスホネート基、ジアリールホスホネート基、ジアルキルホスフィネート基、ジアリールホスフィネート基、水素原子、ハロゲン原子、または、式(11)~(16)で表される構造である。]
[式(11)~(16)において、R 11 ~R 16 は、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数6~20のアラルキル基、水素原子、または、ハロゲン原子を表す。] - 前記光線の波長が、250nm~600nmの範囲である請求項1~3のいずれか一項に記載の変性ジエン系ポリマーの製造方法。
- 前記ジチオエステル化合物が、式(4)で表される化合物、または、式(5)で表される化合物である請求項1~4のいずれか一項に記載の変性ジエン系ポリマーの製造方法。
[式(4)および(5)において、Zが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロシクリル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロシクリルオキシ基、アルカノイル基、アロイル基、ヘテロシクリルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロシクリルオキシカルボニル基、アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基、ヘテロシクリルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、カルボキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シアノ基、ジアルキルホスホネート基、ジアリールホスホネート基、ジアルキルホスフィネート基、ジアリールホスフィネート基、水素原子、ハロゲン原子、または、式(11)~(16)で表される構造である。
R7は、置換基を有していてもよい1価の炭化水素基を表す。]
[式(11)~(16)において、R 11 ~R 16 は、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数6~20のアラルキル基、水素原子、または、ハロゲン原子を表す。]
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