JP7651153B2

JP7651153B2 - Composition for preventing skin aging

Info

Publication number: JP7651153B2
Application number: JP2020118576A
Authority: JP
Inventors: 憲己岡田
Original assignee: 株式会社Ａｐａコーポレーション
Priority date: 2020-07-09
Filing date: 2020-07-09
Publication date: 2025-03-26
Anticipated expiration: 2040-07-09
Also published as: JP2025074320A; JP2022015622A

Description

特許法第３０条第２項適用株式会社ＡＰＡコーポレーションは、京急第２ビルで令和１年９月２９日に開催されたＡＰＡコーポレーション販社会議において、本願発明に係る皮膚の老化防止用組成物を公開した。Application of Article 30, Paragraph 2 of the Patent Act APA Corporation unveiled the composition for preventing skin aging of the present invention at the APA Corporation Sales Conference held at Keikyu 2nd Building on September 29, 2019.

本発明は、皮膚の老化防止用組成物に関する。 The present invention relates to a composition for preventing skin aging.

現代における美容意識の高まりに伴い、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を改善する老化防止化粧料が、種々提案されている。
このような老化防止化粧料として、例えば特許文献１に、ハイビスカス抽出物が開示されている。ハイビスカス抽出物は、線維芽細胞の増殖を活性化させ、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を改善する可能性があると考えられている。 2. Description of the Related Art With the increasing awareness of beauty in modern times, various anti-aging cosmetics that improve wrinkles, skin firmness, and the like have been proposed.
As such an anti-aging cosmetic, for example, hibiscus extract is disclosed in Patent Document 1. It is believed that hibiscus extract may activate the proliferation of fibroblasts and improve wrinkles, firmness, and the like of the skin.

特開平９－２９５９２８号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-295928

単に線維芽細胞の増殖を活性化させるのみでは、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を十分に改善することができない虞がある。 There is a risk that simply activating the proliferation of fibroblasts may not be enough to sufficiently improve skin wrinkles and skin firmness.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、従来よりも、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を改善することが可能な、皮膚の老化防止用組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and aims to provide a composition for preventing skin aging that can improve skin wrinkles, skin firmness, etc. more than ever before.

上記目的を達成するため、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、
珪素と、ｐＨ調整剤と、を含有しており、
前記珪素の含有量が、０．０５質量％以上１００質量％未満であり、
前記珪素は、水晶から抽出された水溶性の珪素であり、
皮膚のシワ及び皮膚のハリを改善する為に使用され、
皮膚に塗布して使用される。 In order to achieve the above object, the composition for preventing skin aging of the present invention comprises:
Contains silicon and a pH adjuster,
The silicon content is 0.05% by mass or more and less than 100% by mass,
The silicon is water-soluble silicon extracted from quartz,
It is used to improve skin wrinkles and skin firmness.
It is used by applying it to the skin.

例えば、前記珪素の含有量が、０．０５質量％以上５．０質量％未満であってもよい。
For example, the silicon content may be 0.05 mass % or more and less than 5.0 mass %.

本発明によれば、従来よりも、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を改善することが可能な、皮膚の老化防止用組成物を提供することが可能になる。 The present invention makes it possible to provide a composition for preventing skin aging that can improve skin wrinkles, skin firmness, and other skin problems more effectively than ever before.

珪素のエラスターゼ阻害活性を示すグラフである。1 is a graph showing the elastase inhibitory activity of silicon. （ａ）は、珪素がシワに及ぼす影響を示すグラフであり、（ｂ）は、レプリカのシワの画像である。(a) is a graph showing the effect of silicon on wrinkles, and (b) is an image of wrinkles on a replica. 皮膚の水分蒸散に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on water loss from the skin. ヒアルロン酸産生に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on hyaluronic acid production. コラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of collagen degrading enzyme 1 gene (MMP1). ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of hyaluronic acid synthase 2 gene (HAS2). ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of hyaluronic acid synthase 3 gene (HAS3). β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of the β-glucocerebrosidase gene (GBA). プロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of the profilaggrin gene (FLG). トラングルタミナーゼ１遺伝子（ＴＧＭ１）の発現に珪素が及ぼす影響を示すグラフである。1 is a graph showing the effect of silicon on the expression of tranglutaminase 1 gene (TGM1).

以下、本発明の実施の形態に係る皮膚の老化防止用組成物について説明する。 The following describes the composition for preventing skin aging according to an embodiment of the present invention.

本発明の皮膚の老化防止用組成物は、珪素を含有している。 The composition for preventing skin aging of the present invention contains silicon.

珪素は、非晶質珪素であり、例えば、食物由来の珪素や、鉱物由来の珪素が挙げられる。
食物由来の珪素としては、穀類、野菜類、海藻類などに含まれる珪素が挙げられる。
穀類としては、例えば、麦、玄米、白米、トウモロコシである。
野菜類としては、例えば、ゴボウ、大根、人参である。
海藻類としては、例えば、昆布、ワカメである。
穀類、野菜類、海藻類などの食物は、粉砕された状態で、本発明の皮膚の老化防止用組成物に含有されていてもよい。 The silicon is amorphous silicon, and examples of the silicon include silicon derived from food and silicon derived from minerals.
Examples of dietary silicon include silicon contained in grains, vegetables, seaweed, etc.
Examples of grains include wheat, brown rice, white rice, and corn.
Examples of vegetables include burdock, radish, and carrot.
Examples of seaweed include kelp and wakame.
Foods such as grains, vegetables, and seaweed may be contained in a pulverized state in the composition for preventing skin aging of the present invention.

鉱物由来の珪素としては、水晶から抽出した珪素が挙げられる。 Examples of silicon derived from minerals include silicon extracted from quartz.

また、珪素は、市販の珪素であってもよく、例えば、株式会社ＡＰＡコーポレーションから販売されている水溶性珪素「ｕｍｏ（登録商標）」に含まれている珪素が挙げられる。 The silicon may be commercially available silicon, for example, silicon contained in the water-soluble silicon "umo (registered trademark)" sold by APA Corporation.

また、珪素は、単体の珪素であってもよいし、例えば二酸化珪素のように化合物中の珪素であってもよい。 The silicon may be elemental silicon or may be silicon in a compound such as silicon dioxide.

そして、本発明の皮膚の老化防止用組成物の総重量に基づく珪素の含有量は、０．００５質量％以上１００質量％未満である。
そして、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、ヒトの皮膚に塗布又はヒトに飲用されると、皮膚や腸管から吸収されて、皮膚のシワやハリ等を改善すると考えられる。 The content of silicon based on the total weight of the composition for preventing skin aging of the present invention is 0.005% by mass or more and less than 100% by mass.
Furthermore, it is believed that when the composition for preventing skin aging of the present invention is applied to human skin or ingested by humans, it is absorbed through the skin and intestinal tract, improving wrinkles, firmness, and the like of the skin.

具体的には、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、皮膚や腸管から吸収されると、以下の実施例で説明する通り、エラスターゼ活性率の低下作用、ヒアルロン酸の産出率の増加作用、及びコラーゲン分解の抑制作用などを生じさせると考えられる。
ここで、これらの作用は皮膚のシワやハリ等を改善する作用であるが、従来のハイビスカス抽出物が単に繊維芽細胞の増殖を活性化させる作用は、皮膚のシワやハリ等を改善する可能性を単に示唆するものであると考えられる。
その為、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、従来のハイビスカス抽出物よりも、皮膚のシワや、皮膚のハリ等を改善することが可能であると考えられる。
なお、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、ヒトの皮膚のシワやハリ等を改善するとともに、以下の実施例で説明する通り、大腸菌やレジオネラ菌を静菌させる。 Specifically, when absorbed through the skin or intestinal tract, the skin anti-aging composition of the present invention is believed to have the effect of reducing elastase activity, increasing hyaluronic acid production, and inhibiting collagen degradation, as described in the examples below.
Here, these actions are actions to improve wrinkles, firmness, etc. of the skin, but the action of conventional hibiscus extracts to simply activate the proliferation of fibroblasts is thought to merely suggest the possibility of improving wrinkles, firmness, etc. of the skin.
Therefore, it is believed that the composition for preventing skin aging of the present invention is more capable of improving skin wrinkles and skin firmness than conventional hibiscus extracts.
The composition for preventing skin aging of the present invention improves wrinkles and firmness of human skin, and also has bacteriostatic properties against Escherichia coli and Legionella pneumophila, as will be described in the following examples.

また、本発明の皮膚の老化防止用組成物の総質量に基づく珪素の含有量は、０．０５質量％以上１００質量％未満であることが好ましい。
これにより、本発明の皮膚の老化防止用組成物をヒトの皮膚に塗布又はヒトが飲用した際に、皮膚のシワやハリを一層改善することが可能になると考えられる。
なお、本発明の皮膚の老化防止用組成物の総質量に基づく珪素の含有量について、好ましいのは０．０５質量％以上１００質量％未満であるから、例えば０．１質量％、０．５質量％、１．０質量％、５．０質量％、１０質量％、１５質量％、２０質量％、２５質量％、３０質量％、３５質量％、４０質量％、４５質量％、５０質量％、５５質量％、６０質量％、６５質量％、７０質量％、７５質量％、８０質量％、８５質量％、９０質量％、及び９５質量％が含まれる。 The content of silicon based on the total mass of the composition for preventing skin aging of the present invention is preferably 0.05 mass % or more and less than 100 mass %.
This is believed to make it possible to further improve wrinkles and firmness of the skin when the composition for preventing skin aging of the present invention is applied to human skin or ingested by a human.
The content of silicon based on the total mass of the composition for preventing skin aging of the present invention is preferably 0.05 mass% or more and less than 100 mass%, and includes, for example, 0.1 mass%, 0.5 mass%, 1.0 mass%, 5.0 mass%, 10 mass%, 15 mass%, 20 mass%, 25 mass%, 30 mass%, 35 mass%, 40 mass%, 45 mass%, 50 mass%, 55 mass%, 60 mass%, 65 mass%, 70 mass%, 75 mass%, 80 mass%, 85 mass%, 90 mass%, and 95 mass%.

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and applications are possible.

例えば、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、必要に応じて、皮膚のシワやハリ等を改善する抗酸化作用を奏する成分を含んでいてもよい。
このような抗酸化作用を奏する成分としては、特に限定されないが、例えば、γ－オリザノール、アルファリポ酸、カテキン類、フラボノイド、コエンザイムＱ１０、ビタミンＣ、ビタミンＥ、アルファカロテン、ベータカロテン、エンゾジノール、ローヤルゼリー、尿酸、クエン酸等を挙げることができる。
本発明の皮膚の老化防止用組成物は、必要に応じて、これらの抗酸化作用を奏する成分の少なくとも１つ以上を含有してもよい。 For example, the composition for preventing skin aging of the present invention may contain a component that exhibits an antioxidant effect for improving wrinkles, firmness, and the like of the skin, if necessary.
Examples of components that have such antioxidant effects include, but are not limited to, gamma-oryzanol, alpha-lipoic acid, catechins, flavonoids, coenzyme Q10, vitamin C, vitamin E, alpha-carotene, beta-carotene, Enzogenol, royal jelly, uric acid, and citric acid.
The composition for preventing skin aging of the present invention may contain at least one of these components exhibiting antioxidant activity, if necessary.

そして、本発明の皮膚の老化防止用組成物に、上記のγ－オリザノール、アルファリポ酸、カテキン類、フラボノイド、コエンザイムＱ１０、ビタミンＣ、ビタミンＥ、アルファカロテン、ベータカロテン、エンゾジノール、ローヤルゼリー、尿酸、クエン酸等を含有させる場合、それらの含有量は、特に限定されない。 When the anti-aging composition for skin of the present invention contains the above-mentioned gamma-oryzanol, alpha lipoic acid, catechins, flavonoids, coenzyme Q10, vitamin C, vitamin E, alpha carotene, beta carotene, Enzogenol, royal jelly, uric acid, citric acid, etc., the amount of these ingredients contained is not particularly limited.

また、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、必要に応じて、賦形剤、ｐＨ調整剤、清涼化剤、懸濁化剤、コーティング剤、着色剤、結合剤、滑沢剤、界面活性剤等を含有してもよい。 The composition for preventing skin aging of the present invention may also contain excipients, pH adjusters, cooling agents, suspending agents, coating agents, colorants, binders, lubricants, surfactants, etc., as necessary.

また、本発明の皮膚の老化防止用組成物は、医薬品又は飲食品に含まれていてもよい。 The composition for preventing skin aging of the present invention may also be contained in medicines or food and beverages.

医薬品に含まれる場合は、特に限定されないが、例えば、薬学的に許容される担体とともに、錠剤、カプセル剤、液剤、粉末剤、ペースト状剤、ゲル状剤等の形態で人体に投与される。 When contained in a pharmaceutical product, it is administered to the human body in the form of, but not limited to, a tablet, capsule, liquid, powder, paste, gel, etc. together with a pharma- ceutically acceptable carrier.

飲食品は、飲料品又は食料品を意味し、特に限定されないが、例えば、果汁飲料、清涼飲料、コーヒー、野菜ジュース、茶、コーヒー、シロップ、食酢、味噌、果物、野菜、穀物、肉、乳製品、菓子、麺、ゼリー、栄養補助食品、機能性食品、健康食品等が挙げられる。 Food and drink refers to beverages or foodstuffs, and includes, but is not limited to, fruit juice drinks, soft drinks, coffee, vegetable juice, tea, coffee, syrup, vinegar, miso, fruits, vegetables, grains, meat, dairy products, sweets, noodles, jellies, nutritional supplements, functional foods, health foods, etc.

次に、本発明の皮膚の老化防止用組成物について、実施例により説明する。
なお、以下の実施例では、本発明の皮膚の老化防止用組成物に含有される珪素として、株式会社ＡＰＡコーポレーションから販売されている水溶性珪素「ｕｍｏ（登録商標）」に含まれている珪素を使用した。 Next, the composition for preventing skin aging of the present invention will be described with reference to examples.
In the following examples, the silicon contained in the skin aging prevention composition of the present invention was that contained in the water-soluble silicon "umo (registered trademark)" sold by APA Corporation.

［珪素のエラスターゼ阻害活性］
（実施例１）
まず、水溶性珪素「ｕｍｏ」に超純水（ＣＡＳＮｏ．７７３２－１８－５，Ｗａｋｏ，Ｊａｐａｎ）を添加して混合し、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である被験物質を用時調製した。
次に、５０μＬの当該被験物質が入った９６ウェルプレートに、５０μＬの１．２５μｇ／ｍＬエラスターゼ酵素（ＣＡＳＮｏ．３９４４５－２１－１，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ，ＵＳＡ）溶液及び１００μＬのＮ－Ｓｕｃｃｉｎｙｌ－Ａｌａ－Ａｌａ－Ａｌａ－ｐ－Ｎｉｔｒｏａｎｉｌｉｄｅ（ＣＡＳＮｏ．５２２９９－１４－６，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ，ＵＳＡ）溶液を添加し、２７０ｒｐｍで３０秒間振とうして、その後３７℃で１５分間培養した。
その後、この９６ウェルプレートを２７０ｒｐｍで１０秒間振とうし、ウェル内の色素を均一に分散させて、マイクロプレートリーダーにより４１５ｎｍの吸光度（ＯＤ_４１５）を測定した。
なお、この吸光度（ＯＤ_４１５）を用いた、珪素のエラスターゼ阻害活性の算出方法は、後述する。 [Elastase inhibitory activity of silicon]
Example 1
First, ultrapure water (CAS No. 7732-18-5, Wako, Japan) was added to and mixed with the water-soluble silicon "umo" to prepare a test substance having a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass % just before use.
Next, 50 μL of a 1.25 μg/mL elastase enzyme (CAS No. 39445-21-1, Sigma-Aldrich, USA) solution and 100 μL of an N-Succinyl-Ala-Ala-Ala-p-Nitroanilide (CAS No. 52299-14-6, Sigma-Aldrich, USA) solution were added to the 96-well plate containing 50 μL of the test substance, and the plate was shaken at 270 rpm for 30 seconds, and then incubated at 37° C. for 15 minutes.
Thereafter, the 96-well plate was shaken at 270 rpm for 10 seconds to uniformly disperse the dye in the wells, and the optical density at 415 nm (OD ₄₁₅ ) was measured using a microplate reader.
The method for calculating the elastase inhibitory activity of silicon using this absorbance (OD ₄₁₅ ) will be described later.

（実施例２）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３０質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例１と同様にして、吸光度（ＯＤ_４１５）を測定した。 Example 2
The absorbance (OD ₄₁₅ ) was measured in the same manner as in Example 1, except that the test substance, in which the concentration of water-soluble silicon "umo" was 30% by mass, was prepared just before use.

（実施例３）
水溶性珪素「ｕｍｏ」に超純水を添加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして、吸光度（ＯＤ_４１５）を測定した。なお、この実施例での被験物質は、濃度が１００％である水溶性珪素「ｕｍｏ」である。 Example 3
Except for not adding ultrapure water to the water-soluble silicon "umo", the absorbance (OD ₄₁₅ ) was measured in the same manner as in Example 1. The test substance in this Example was the water-soluble silicon "umo" with a concentration of 100%.

（比較例１）
水溶性珪素「ｕｍｏ」を使用せず、超純水をそのまま用いたこと以外は、実施例１と同様にして、吸光度（ＯＤ_４１５）を測定した。なお、この比較例は対照実験であり、対照として超純水が用いられた。 (Comparative Example 1)
Except for using ultrapure water as is, without using the water-soluble silicon "umo", the absorbance (OD ₄₁₅ ) was measured in the same manner as in Example 1. Note that this comparative example is a control experiment, and ultrapure water was used as the control.

そして、実施例１～３及び比較例１で測定された吸光度（ＯＤ_４１５）を用いて、実施例１～３の各々の珪素のエラスターゼ活性率を、次式で算出した。
エラスターゼ活性率（％）＝（Ｓ－ＳＢ）×１００／（Ｃ－ＣＢ）
ここで、Ｓは実施例１～３で測定された被験物質の吸光度、ＳＢは実施例１～３における被験物質のブランクの吸光度、Ｃは比較例１で測定された対照の吸光度、ＣＢは比較例１における対照のブランクの吸光度である。なお、ブランクでは、エラスターゼ酵素の代わりに０．０５ＭＴｒｉｓ－ＨＣｌｂｕｆｆｅｒを用いた。 Then, using the absorbance (OD ₄₁₅ ) measured in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, the elastase activity of each of the silicon in Examples 1 to 3 was calculated according to the following formula.
Elastase activity rate (%) = (S - SB) x 100 / (C - CB)
Here, S is the absorbance of the test substance measured in Examples 1 to 3, SB is the absorbance of the blank of the test substance in Examples 1 to 3, C is the absorbance of the control measured in Comparative Example 1, and CB is the absorbance of the blank of the control in Comparative Example 1. In the blank, 0.05 M Tris-HCl buffer was used instead of elastase enzyme.

［珪素がシワに及ぼす影響］
（実施例４）
皮膚のレプリカに水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布した後における、皮膚のレプリカのシワの面積を測定した。 [The effect of silicon on wrinkles]
Example 4
After applying the water-soluble silicon "umo" to the skin replica, the wrinkle area of the skin replica was measured.

（比較例２）
皮膚のレプリカに水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布する前における、皮膚のレプリカのシワの面積を測定した。 (Comparative Example 2)
The wrinkle area of the skin replica was measured before applying the water-soluble silicon "umo" to the skin replica.

［皮膚の水分蒸散に珪素が及ぼす影響］
（実施例５）
まず、ヒトの皮膚の水分蒸散量を測定した。
次に、ヒトの皮膚に水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布し、３０分後、１時間後及び２時間後における皮膚の水分蒸散量を測定した。 [Effect of silicon on water evaporation from the skin]
Example 5
First, the amount of water lost from human skin was measured.
Next, the water-soluble silicon "umo" was applied to human skin, and the amount of water lost from the skin was measured 30 minutes, 1 hour, and 2 hours later.

（比較例３）
まず、ヒトの皮膚の水分蒸散量を測定した。
次に、ヒトの皮膚に水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布することなく、３０分後、１時間後及び２時間後における皮膚の水分蒸散量を測定した。 (Comparative Example 3)
First, the amount of water lost from human skin was measured.
Next, without applying the water-soluble silicon "umo" to human skin, the amount of water evaporation from the skin was measured 30 minutes, 1 hour, and 2 hours later.

［ヒアルロン酸産生に珪素が及ぼす影響］
（実施例６）
水溶性珪素「ｕｍｏ」を蒸留水に添加して混合し、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％である水溶液を作製した。そして、この水溶液を、線維芽細胞を含む培地に添加し、ヒアルロン酸の産生率を測定した。この測定は、３回行った。 [The effect of silicon on hyaluronic acid production]
Example 6
Water-soluble silicon "umo" is added to distilled water and mixed to prepare an aqueous solution with a concentration of water-soluble silicon "umo" of 0.01% by mass. Then, this aqueous solution is added to the medium containing fibroblasts, and the production rate of hyaluronic acid is measured. This measurement is carried out three times.

（実施例７）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％である水溶液を作製したこと以外は、実施例６と同様にして、ヒアルロン酸の産生率を測定した。 (Example 7)
The production rate of hyaluronic acid was measured in the same manner as in Example 6, except that an aqueous solution containing the water-soluble silicon "umo" at a concentration of 0.1% by mass was prepared.

（実施例８）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％である水溶液を作製したこと以外は、実施例６と同様にして、ヒアルロン酸の産生率を測定した。 (Example 8)
The production rate of hyaluronic acid was measured in the same manner as in Example 6, except that an aqueous solution containing the water-soluble silicon "umo" at a concentration of 1% by mass was prepared.

（比較例４）
蒸留水を、水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されることなく、線維芽細胞を含む培地に添加したこと以外は、実施例６と同様にして、ヒアルロン酸の産生率を測定した。なお、この測定値を対照とした。 (Comparative Example 4)
The production rate of hyaluronic acid was measured in the same manner as in Example 6, except that distilled water was added to the medium containing fibroblasts without adding water-soluble silicon "umo". This measurement was used as control.

［コラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例９）
まず、水溶性珪素「ｕｍｏ」を精製水に添加して混合し、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％である被験物質を用時調製した。
次に、３５ｍｍディッシュに５．０×１０^５ｃｅｌｌｓ／２ｍＬのＮＢ１ＲＧＢ細胞（ＲＩＫＥＮＢＲＣ，Ｊａｐａｎ）を播種し、ＣＯ_２インキュベータ（ＣＯ_２濃度５％、３７℃）内で２４時間培養した。その後、培地を除去し、上記用時調製した被験物質を含有する培地を加え、ＣＯ_２インキュベータ内で２４時間培養した。 [Effect of silicon on the expression of collagen decomposition enzyme 1 gene (MMP1)]
Example 9
First, the water-soluble silicon "umo" was added to purified water and mixed to prepare a test substance having a concentration of water-soluble silicon "umo" of 1 mass % just before use.
Next, 5.0×10 ⁵ cells/2 mL of NB1RGB cells (RIKEN BRC, Japan) were seeded on a 35 mm dish and cultured for 24 hours in a CO ₂ incubator (CO ₂ concentration 5%, 37° C.). Then, the medium was removed, and the medium containing the test substance prepared just before use was added, followed by culture for 24 hours in a CO ₂ incubator.

そして、ＰｕｒｅＬｉｎｋ（登録商標）ＲＮＡＭｉｎｉＫｉｔ（ＣａｔＮｏ．１２１８３０１８Ａ，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）を用いて、以下で述べるＲＮＡ抽出・精製を行った。
具体的には、２４時間培養後の培地を除去し、３５ｍｍディッシュを、３７℃に加温した２ｍＬのＰＢＳで２回洗浄した。そして、さらに６００μＬの２ＭＤｉｔｈｉｏｔｈｒｅｉｔｏｌ（ＣＡＳＮｏ．２７５６５－４１－９，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）含有ＬｙｓｉｓＢｕｆｆｅｒを添加して細胞を溶解させて、ライセートを回収した。
そして、そのライセート中に存在する細胞を、Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ（ＣａｔＮｏ．１２１８３－０２６，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）により破砕した。
そして、その細胞破砕液に、６００μＬの７０％エタノール（ＣＡＳＮｏ．６４－１７－５，Ｊａｐａｎａｌｃｏｈｏｌ，Ｊａｐａｎ）溶液を加え、シリカメンブレン付きカラムに移した。そして、１２０００×ｇ及び室温で、１秒間遠心した。そして、ろ液を廃棄した。
そして、シリカメンブレンに、７００μＬのグアニジンイソチオシアネート含有ＷａｓｈＢｕｆｆｅｒＩ及び５００μＬのエタノール含有ＷａｓｈＢｕｆｆｅｒＩＩを添加し、洗浄した。
そして、１２０００×ｇ及び室温で、１５秒間遠心した後、乾燥させた。
そして、ＲＮａｓｅ－ＦｒｅｅＷａｔｅｒを３０μＬ添加し、室温で１分間静置し、１２０００×ｇ及び室温において１５秒間遠心した。この操作を２回行い、シリカメンブレンからＲＮＡを溶出させた。
そして、そのＲＮＡの一部を、ＵＶ透過性９６ウェルプレート (ＣａｔＮｏ．８４０４，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）に分取し、Ｔｒｉｓ－ＥＤＴＡＢｕｆｆｅｒ (ＴＥ (ｐＨ８．０)，ＣａｔＮｏ．３１０－９００２３，ＮＩＰＰＯＮＧＥＮＥ，Ｊａｐａｎ) により２５倍希釈し、マイクロプレートリーダー (ＳＰＡＲＫ（登録商標）１０ＭＴＥＣＡＮ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ) を用いて２３０ｎｍ、２６０ｎｍ及び２８０ｎｍの吸光度（ＯＤ_２３０，ＯＤ_２６０及びＯＤ_２８０）を測定した。
そして、被験物質のＲＮＡ濃度を次式により計算し、ＴＥＢｕｆｆｅｒにより希釈し、ＲＮＡの濃度を１０μｇ／ｍＬに調製した。
ＲＮＡ濃度(μｇ／ｍＬ) ＝Ａ×Ｋ×０．３×１０（希釈倍率）
ここで、Ａは被験物質のＯＤ_２６０であり、Ｋ＝４０（ＲＮＡの吸光係数）であり、ｌ＝０．３（光路長（ｃｍ））である。 Then, RNA extraction and purification was carried out as described below using PureLink (registered trademark) RNA Mini Kit (Cat No. 12183018A, Invitrogen, USA).
Specifically, the medium after 24 hours of culture was removed, and the 35 mm dish was washed twice with 2 mL of PBS heated to 37° C. Then, 600 μL of lysis buffer containing 2 M dithiothreitol (CAS No. 27565-41-9, Invitrogen, USA) was added to lyse the cells, and the lysate was collected.
Then, the cells present in the lysate were disrupted using a Homogenizer (Cat No. 12183-026, Invitrogen, USA).
Then, 600 μL of 70% ethanol (CAS No. 64-17-5, Japan alcohol, Japan) solution was added to the cell lysate, which was then transferred to a column with a silica membrane, and centrifuged at 12,000×g and room temperature for 1 second. The filtrate was then discarded.
Then, 700 μL of guanidine isothiocyanate-containing Wash Buffer I and 500 μL of ethanol-containing Wash Buffer II were added to the silica membrane for washing.
Then, the mixture was centrifuged at 12,000×g at room temperature for 15 seconds and then dried.
Then, 30 μL of RNase-Free Water was added, the mixture was left to stand at room temperature for 1 minute, and centrifuged at 12,000×g and room temperature for 15 seconds. This operation was repeated twice to elute RNA from the silica membrane.
A portion of the RNA was then dispensed into a UV-transparent 96-well plate (Cat No. 8404, Thermo Scientific, USA) and diluted 25-fold with Tris-EDTA Buffer (TE (pH 8.0), Cat No. 310-90023, NIPPON GENE, Japan), and the absorbance at 230 nm, 260 nm, and 280 nm (OD ₂₃₀ , OD ₂₆₀ , and OD ₂₈₀ ) was measured using a microplate reader (SPARK® 10M TECAN, Switzerland).
The RNA concentration of the test substance was then calculated using the following formula, and diluted with TE buffer to adjust the RNA concentration to 10 μg/mL.
RNA concentration (μg/mL) = A x K x 0.3 x 10 (dilution ratio)
where A is the OD ₂₆₀ of the test substance, K=40 (extinction coefficient of RNA), and 1=0.3 (path length (cm)).

次に、ＳｕｐｅｒＳｃｒｉｐｔＴＭＩＶＶＩＬＯＴＭＭａｓｔｅｒＭｉｘｗｉｔｈｅｚＤＮａｓｅ (ＣａｔＮＯ．１１７６６０５０，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ) により、ＲＮＡの逆転写を行った。
具体的には、８連チューブ (ＡＢ１１８２, Ｔｈｅｒｍｏ Sｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ) に、１ウェルあたり１μＬの１０×ｅｚＤＮａｓｅＢｕｆｆｅｒ、１μＬのｅｚＤＮａｓｅｅｎｚｙｍｅ、６μＬのＮｕｃｌｅａｓｅ－ｆｒｅｅＷａｔｅｒ及び２μＬの１０μｇ／ｍＬＲＮＡを加え、それを３７℃で２分間培養した。
そして、２分後、８連チューブに、１ウェルあたり４μＬのＳｕｐｅｒＳｃｒｉｐｔＴＭＩＶＶＩＬＯＴＭＭａｓｔｅｒＭｉｘ及び６μＬＮｕｃｌｅａｓｅ－ｆｒｅｅＷａｔｅｒを添加し、リアルタイムＰＣＲ (ＱｕａｎｔＳｔｕｄｉｏ（登録商標）３, ＡｐｐｌｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅｍｓ，ＵＳＡ) を用いて、２５℃で１０分間、５０℃で１０分間、及び８５℃で５分間加熱し、ｃＤＮＡを合成した。
そして、ＰＣＲプレート (ＣａｔＮｏ．８０１０５６０，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）に、１ウェルあたり１０μＬＴａｑＭａｎ（登録商標）ＦａｓｔＡｄｖａｎｃｅｄＭａｓｔｅｒＭｉｘ（ＣａｔＮｏ．４４４４５５７，ＡｐｐｌｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅｍｓ，ＵＳＡ）、１μＬのＴａｑｍａｎＧｅｎｅＥｘｐｒｅｓｓｉｏｒ、７μＬのＵｌｔｒａＰｕｒｅＴＭＤｉｓｔｉｌｌｅｄＷａｔｅｒ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＣａｔＮｏ．１０９７７－１５，ＵＳＡ）及び２μＬのｃＤＮＡを加え、プレートシール(ＣａｔＮｏ．４３６０９５４，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）で密封した。
そして、プレート遠心機で溶液をスピンダウンし、起泡を除去した。
そして、リアルタイムＰＣＲシステムによりＲｅａｌ－ＴｉｍｅｑＰＣＲを行い、被験物質における各遺伝子の蛍光シグナルが任意の閾値に達する時のサイクル数であるＴｈｒｅｓｈｏｌｄＣｙｃｌｅ（Ｃｔ）値を算出した。そして、内部標準遺伝子によりＣｔ値を補正し、ΔＣｔ値とした。そして、後述する対照のΔＣｔ値の平均によりΔＣｔ値を補正し、これをΔΔＣｔ値とした。ΔΔＣｔによって１サイクルあたりの検出の差で２倍量の差となると仮定し、２^{－ΔΔＣｔ}に代入して対照の遺伝子発現量を１とした場合の被験物質の遺伝子（ＭＭＰ１）発現量を求めた。被験物質の遺伝子（ＭＭＰ１）発現量を、対応のあるｔ検定で有意差検定を行った。検定はいずれも両側で有意水準を５％未満とした（Ｐ＜０．０５、Ｐ＜０．０１、Ｐ＜０．００１）。 Next, reverse transcription of RNA was performed using SuperScript™ IV VILO™ Master Mix with ezDNase (Cat No. 11766050, Invitrogen, USA).
Specifically, 1 μL of 10×ezDNase Buffer, 1 μL of ezDNase enzyme, 6 μL of Nuclease-free Water, and 2 μL of 10 μg/mL RNA were added per well to an 8-tube array (AB1182, Thermo Scientific, USA), and the tubes were incubated at 37° C. for 2 minutes.
After 2 minutes, 4 μL of SuperScript™ IV VILO™ Master Mix and 6 μL of Nuclease-free Water were added per well to the 8-tube tubes, and the mixture was heated at 25° C. for 10 minutes, at 50° C. for 10 minutes, and at 85° C. for 5 minutes using a real-time PCR system (QuantStudio (registered trademark) 3, Applied Biosystems, USA) to synthesize cDNA.
Then, 10 μL of TaqMan® Fast Advanced Master Mix (Cat No. 4444557, Applied Biosystems, USA), 1 μL of Taqman Gene Expressior, 7 μL of UltraPure™ Distilled Water (Invitrogen, Cat No. 10977-15, USA), and 2 μL of cDNA were added per well to a PCR plate (Cat No. 8010560, Thermo Scientific, USA), and the plate was sealed with a plate seal (Cat No. 4360954, Thermo Scientific, USA).
The solution was then spun down in a plate centrifuge to remove any bubbles.
Then, Real-Time qPCR was performed using a real-time PCR system, and the threshold cycle (Ct) value, which is the number of cycles when the fluorescent signal of each gene in the test substance reaches an arbitrary threshold, was calculated. Then, the Ct value was corrected using an internal standard gene to obtain a ΔCt value. Then, the ΔCt value was corrected using the average ΔCt value of the control described below to obtain a ΔΔCt value. Assuming that the difference in detection per cycle due to ΔΔCt is a difference of two times the amount, the expression level of the gene (MMP1) of the test substance was obtained when the gene expression level of the control was set to 1 by substituting 2 ^−ΔΔCt . The expression level of the gene (MMP1) of the test substance was tested for significance using a paired t-test. The significance level of the test was set to less than 5% on both sides (P<0.05, P<0.01, P<0.001).

（実施例１０）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例９と同様にして、ＭＭＰ１の発現量を測定した。 Example 10
The expression level of MMP1 was measured in the same manner as in Example 9, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass%, was prepared immediately before use.

（比較例５）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例９と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照には精製水が用いられた。 (Comparative Example 5)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 9, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as the control.

［ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例１１）
実施例９と同一の操作を行い、ＨＡＳ２の発現量を測定した。 [Effect of silicon on the expression of hyaluronic acid synthase 2 gene (HAS2)]
(Example 11)
The same procedure as in Example 9 was carried out to measure the expression level of HAS2.

（実施例１２）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である水溶液を用時調製したこと以外は、実施例１１と同様にして、ＨＡＳ２の発現量を測定した。 Example 12
The expression level of HAS2 was measured in the same manner as in Example 11, except that an aqueous solution containing water-soluble silicon "umo" at a concentration of 3% by mass was prepared just before use.

（実施例１３）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１０質量％である水溶液を用時調製したこと以外は、実施例１１と同様にして、ＨＡＳ２の発現量を測定した。 (Example 13)
The expression level of HAS2 was measured in the same manner as in Example 11, except that an aqueous solution containing the water-soluble silicon "umo" at a concentration of 10% by mass was prepared just before use.

（比較例６）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例１１と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照に精製水が用いられた。 (Comparative Example 6)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 11, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as a control.

［ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例１４）
まず、水溶性珪素「ｕｍｏ」を精製水に添加して混合し、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％である被験物質を用時調製した。
次に、３５ｍｍディッシュに１．５×１０^５ｃｅｌｌｓ／２ｍＬのＨａＣａＴ細胞を播種し、ＣＯ_２インキュベータ（ＣＯ_２濃度５％、３７℃）内で２４時間培養した。その後、培地を除去し、上記用時調製した被験物質を含有する培地を加え、ＣＯ_２インキュベータ内で２４時間培養した。 [Effect of silicon on the expression of hyaluronic acid synthase 3 gene (HAS3)]
(Example 14)
First, the water-soluble silicon "umo" was added to purified water and mixed to prepare a test substance having a concentration of water-soluble silicon "umo" of 1 mass % just before use.
Next, 1.5×10 ⁵ cells/2 mL of HaCaT cells were seeded on a 35 mm dish and cultured for 24 hours in a CO ₂ incubator (CO ₂ concentration 5%, 37° C.) After that, the medium was removed, and the medium containing the test substance prepared just before use was added, followed by culture for 24 hours in a CO ₂ incubator.

そして、ＰｕｒｅＬｉｎｋ（登録商標）ＲＮＡＭｉｎｉＫｉｔ（ＣａｔＮｏ．１２１８３０１８Ａ，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）を用いて、ＲＮＡ抽出・精製を行った。
具体的には、２４時間培養後の培地を除去し、３５ｍｍディッシュを、３７℃に加温した２ｍＬのＰＢＳで３回洗浄した。そして、さらに６００μＬの２ＭＤｉｔｈｉｏｔｈｒｅｉｔｏｌ（ＣＡＳＮｏ．２７５６５－４１－９，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）含有ＬｙｓｉｓＢｕｆｆｅｒを添加して細胞を溶解させて、ライセートを回収した。
そして、そのライセート中に存在する細胞を、Ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ（ＣａｔＮｏ．１２１８３－０２６，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ）により破砕した。
そして、その細胞破砕液に、６００μＬの７０％エタノール（ＣＡＳＮｏ．６４－１７－５，Ｊａｐａｎａｌｃｏｈｏｌ，Ｊａｐａｎ）溶液を加え、シリカメンブレン付きカラムに移した。そして、１２０００×ｇ及び室温で、１５秒間遠心した。そして、ろ液を廃棄した。
そして、シリカメンブレンに７００μＬのグアニジンイソチオシアネート含有ＷａｓｈＢｕｆｆｅｒＩ及び５００μＬのエタノール含有ＷａｓｈＢｕｆｆｅｒＩＩを添加し、洗浄した。
そして、１２０００×ｇ及び室温で、１５秒間遠心した後、乾燥させた。
そして、ＲＮａｓｅ－ＦｒｅｅＷａｔｅｒを３０μＬ添加し、室温で１分間静置した後、１２０００×ｇ及び室温で、１５秒間遠心した。この操作を２回行い、シリカメンブレンからＲＮＡを溶出させた。
そして、そのＲＮＡの一部を、ＵＶ透過性９６ウェルプレート (ＣａｔＮｏ．８４０４，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）に分取し、Ｔｒｉｓ－ＥＤＴＡＢｕｆｆｅｒ (ＴＥ (ｐＨ８．０)，ＣａｔＮｏ．３１０－９００２３，ＮＩＰＰＯＮＧＥＮＥ，Ｊａｐａｎ) で１０倍希釈し、マイクロプレートリーダー (ＳＰＡＲＫ（登録商標）１０ＭＴＥＣＡＮ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ) で２３０ｎｍ、２６０ｎｍ及び２８０ｎｍの吸光度（ＯＤ_２３０，ＯＤ_２６０及びＯＤ_２８０）を測定した。
ＯＤ_２６０を用いて被験物質のＲＮＡ濃度を次式により計算し、ＴＥＢｕｆｆｅｒにより希釈し、ＲＮＡ濃度を１０μｇ／ｍＬに調製した。
ＲＮＡ濃度(μｇ／ｍＬ) ＝Ａ×Ｋ×０．３×１０（希釈倍率）
ここで、Ａは被験物質のＯＤ_２６０であり、Ｋ＝４０（ＲＮＡの吸光係数）であり、ｌ＝０．３（光路長（ｃｍ））である。 Then, RNA was extracted and purified using PureLink (registered trademark) RNA Mini Kit (Cat No. 12183018A, Invitrogen, USA).
Specifically, the medium after 24 hours of culture was removed, and the 35 mm dish was washed three times with 2 mL of PBS heated to 37° C. Then, 600 μL of lysis buffer containing 2 M dithiothreitol (CAS No. 27565-41-9, Invitrogen, USA) was further added to lyse the cells, and the lysate was collected.
Then, the cells present in the lysate were disrupted using a Homogenizer (Cat No. 12183-026, Invitrogen, USA).
Then, 600 μL of 70% ethanol (CAS No. 64-17-5, Japan alcohol, Japan) solution was added to the cell lysate, which was then transferred to a column with a silica membrane, and centrifuged at 12,000×g and room temperature for 15 seconds. The filtrate was then discarded.
Then, 700 μL of guanidine isothiocyanate-containing Wash Buffer I and 500 μL of ethanol-containing Wash Buffer II were added to the silica membrane for washing.
Then, the mixture was centrifuged at 12,000×g at room temperature for 15 seconds and then dried.
Then, 30 μL of RNase-Free Water was added, and the mixture was left to stand at room temperature for 1 minute, and then centrifuged at 12,000×g at room temperature for 15 seconds. This operation was repeated twice to elute RNA from the silica membrane.
A portion of the RNA was then dispensed into a UV-transparent 96-well plate (Cat No. 8404, Thermo Scientific, USA) and diluted 10-fold with Tris-EDTA Buffer (TE (pH 8.0), Cat No. 310-90023, NIPPON GENE, Japan), and the absorbance at 230 nm, 260 nm, and 280 nm (OD ₂₃₀ , OD ₂₆₀ , and OD ₂₈₀ ) was measured using a microplate reader (SPARK® 10M TECAN, Switzerland).
The RNA concentration of the test substance was calculated using OD ₂₆₀ according to the following formula, and the test substance was diluted with TE buffer to adjust the RNA concentration to 10 μg/mL.
RNA concentration (μg/mL) = A x K x 0.3 x 10 (dilution ratio)
where A is the OD ₂₆₀ of the test substance, K=40 (extinction coefficient of RNA), and 1=0.3 (path length (cm)).

次に、ＳｕｐｅｒＳｃｒｉｐｔＴＭＩＶＶＩＬＯＴＭＭａｓｔｅｒＭｉｘｗｉｔｈｅｚＤＮａｓｅ (ＣａｔＮＯ．１１７６６０５０，Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＵＳＡ) により、ＲＮＡの逆転写を行った。
具体的には、８連チューブ (ＡＢ１１８２, Ｔｈｅｒｍｏ Sｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ) に、１ウェルあたり１μＬの１０×ｅｚＤＮａｓｅＢｕｆｆｅｒ、１μＬのｅｚＤＮａｓｅｅｎｚｙｍｅ、６μＬのＮｕｃｌｅａｓｅ－ｆｒｅｅＷａｔｅｒ及び２μＬの１０μｇ／ｍＬＲＮＡを加えた。そして、３７℃で２分間培養した。
そして、２分後、８連チューブに、１ウェルあたり４μＬのＳｕｐｅｒＳｃｒｉｐｔＴＭＩＶＶＩＬＯＴＭＭａｓｔｅｒＭｉｘ及び６μＬＮｕｃｌｅａｓｅ－ｆｒｅｅＷａｔｅｒを添加し、リアルタイムＰＣＲ (ＱｕａｎｔＳｔｕｄｉｏ（登録商標）３, ＡｐｐｌｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅｍｓ，ＵＳＡ) で、２５℃で１０分間、５０℃で１０分間、及び８５℃で５分間加熱し、ｃＤＮＡを合成した。
そして、ＰＣＲプレート (ＣａｔＮｏ．８０１０５６０，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）に、１ウェルあたり１０μＬＴａｑＭａｎ（登録商標）ＦａｓｔＡｄｖａｎｃｅｄＭａｓｔｅｒＭｉｘ（ＣａｔＮｏ．４４４４５５７，ＡｐｐｌｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅｍｓ，ＵＳＡ）、１μＬのＴａｑｍａｎＧｅｎｅＥｘｐｒｅｓｓｉｏｒ、７μＬのＵｌｔｒａＰｕｒｅＴＭＤｉｓｔｉｌｌｅｄＷａｔｅｒ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ，ＣａｔＮｏ．１０９７７－１５，ＵＳＡ）及び２μＬのｃＤＮＡを加え、プレートシール(ＣａｔＮｏ．４３６０９５４，ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，ＵＳＡ）で密封した。
そして、プレート遠心機で溶液をスピンダウンし、起泡を除去した。
そして、リアルタイムＰＣＲシステムでＲｅａｌ－ＴｉｍｅｑＰＣＲを行って、被験物質における各遺伝子の蛍光シグナルが任意の閾値に達する時のサイクル数であるＴｈｒｅｓｈｏｌｄＣｙｃｌｅ（Ｃｔ）値を算出した。そして、内部標準遺伝子によりＣｔ値を補正して、これをΔＣｔ値とした。後述する対照のΔＣｔ値の平均によりΔＣｔ値を補正し、これをΔΔＣｔ値とした。そして、ΔΔＣｔによって１サイクルあたりの検出の差で２倍量の差となると仮定して、２^{－ΔΔＣｔ}に代入し、対照の遺伝子発現量を１とした場合の被験物質の遺伝子（ＨＡＳ３）発現量を求めた。被験物質の遺伝子（ＨＡＳ３）発現量を、対応のあるｔ検定で有意差検定を行った。検定はいずれも両側で有意水準を５％未満とした（Ｐ＜０．０５、Ｐ＜０．０１、Ｐ＜０．００１）。 Next, reverse transcription of RNA was performed using SuperScript™ IV VILO™ Master Mix with ezDNase (Cat No. 11766050, Invitrogen, USA).
Specifically, 1 μL of 10×ezDNase Buffer, 1 μL of ezDNase enzyme, 6 μL of Nuclease-free Water, and 2 μL of 10 μg/mL RNA were added per well to an 8-tube strip (AB1182, Thermo Scientific, USA), and then incubated at 37° C. for 2 minutes.
After 2 minutes, 4 μL of SuperScript™ IV VILO™ Master Mix and 6 μL of Nuclease-free Water were added per well to the 8-tube tubes, and the mixture was heated at 25° C. for 10 minutes, at 50° C. for 10 minutes, and at 85° C. for 5 minutes in a real-time PCR system (QuantStudio (registered trademark) 3, Applied Biosystems, USA) to synthesize cDNA.
Then, 10 μL of TaqMan® Fast Advanced Master Mix (Cat No. 4444557, Applied Biosystems, USA), 1 μL of Taqman Gene Expressior, 7 μL of UltraPure™ Distilled Water (Invitrogen, Cat No. 10977-15, USA), and 2 μL of cDNA were added per well to a PCR plate (Cat No. 8010560, Thermo Scientific, USA), and the plate was sealed with a plate seal (Cat No. 4360954, Thermo Scientific, USA).
The solution was then spun down in a plate centrifuge to remove any bubbles.
Then, Real-Time qPCR was performed using a real-time PCR system, and the threshold cycle (Ct) value, which is the cycle number when the fluorescent signal of each gene in the test substance reaches an arbitrary threshold, was calculated. Then, the Ct value was corrected using an internal standard gene, and this was taken as the ΔCt value. The ΔCt value was corrected using the average ΔCt value of the control described below, and this was taken as the ΔΔCt value. Then, assuming that the difference in detection per cycle due to ΔΔCt is a difference of two times the amount, this was substituted into 2 ^−ΔΔCt , and the gene (HAS3) expression level of the test substance was calculated when the gene expression level of the control was set to 1. The gene (HAS3) expression level of the test substance was tested for significance using a paired t-test. In all tests, the significance level was set to less than 5% on both sides (P<0.05, P<0.01, P<0.001).

（実施例１５）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例１４と同様にして、ＨＡＳ３の発現量を測定した。 (Example 15)
The expression level of HAS3 was measured in the same manner as in Example 14, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass %, was prepared immediately before use.

（実施例１６）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１０質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例１４と同様にして、ＨＡＳ３の発現量を測定した。 (Example 16)
The expression level of HAS3 was measured in the same manner as in Example 14, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 10% by mass, was prepared immediately before use.

（比較例７）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例１４と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照として精製水が用いられた。 (Comparative Example 7)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 14, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as the control.

［β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例１７）
実施例１４と同様の操作を行い、ＧＢＡの発現量を測定した。 [Effect of silicon on the expression of the β-glucocerebrosidase gene (GBA)]
(Example 17)
The same procedure as in Example 14 was carried out to measure the expression level of GBA.

（実施例１８）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例１７と同様にして、ＧＢＡの発現量を測定した。 (Example 18)
The expression level of GBA was measured in the same manner as in Example 17, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass%, was prepared immediately before use.

（実施例１９）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１０質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例１７と同様にして、ＧＢＡの発現量を測定した。 (Example 19)
The expression level of GBA was measured in the same manner as in Example 17, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 10 mass%, was prepared immediately before use.

（比較例８）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例１７と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照に精製水が用いられた。 (Comparative Example 8)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 17, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as a control.

［プロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例２０）
実施例１４と同様の操作を行い、ＦＬＧの発現量を測定した。 [Effect of silicon on profilaggrin gene (FLG) expression]
(Example 20)
The same procedure as in Example 14 was carried out to measure the expression level of FLG.

（実施例２１）
水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３質量％である被験物質を用時調製したこと以外は、実施例２０と同様にして、ＦＬＧの発現量を測定した。 (Example 21)
The expression level of FLG was measured in the same manner as in Example 20, except that the test substance, which had a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass%, was prepared just before use.

（比較例９）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例２０と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照に精製水が用いられた。 (Comparative Example 9)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 20, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as a control.

［トラングルタミナーゼ１遺伝子（ＴＧＭ１）の発現に珪素が及ぼす影響］
（実施例２２）
実施例１４と同様の操作を行い、ＴＧＭ１の発現量を測定した。 [Effect of silicon on the expression of the tranglutaminase 1 gene (TGM1)]
(Example 22)
The same procedure as in Example 14 was carried out to measure the expression level of TGM1.

（比較例１０）
水溶性珪素「ｕｍｏ」が添加されなかったこと以外は、実施例２２と同様にして、ΔＣｔ値を測定した。なお、この測定値を対照とした。つまり、この比較例は対照実験であり、対照に精製水が用いられた。 (Comparative Example 10)
The ΔCt value was measured in the same manner as in Example 22, except that the water-soluble silicon "umo" was not added. This measurement value was used as a control. In other words, this comparative example was a control experiment, and purified water was used as a control.

［珪素の静菌作用］
（実施例２３）
水溶性珪素「ｕｍｏ」を蒸留水に添加して混合し、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％の水溶液を作製した。そして、この水溶液に、６．０×１０^５個の大腸菌を接種し、６０分後に大腸菌の数を確認した。 [Bacteriostatic effect of silicon]
(Example 23)
Water-soluble silicon "umo" was added to distilled water and mixed to prepare an aqueous solution with a concentration of water-soluble silicon "umo" of 1% by mass. Then, 6.0 x ¹⁰⁵ Escherichia coli were inoculated into this aqueous solution, and the number of Escherichia coli was confirmed after 60 minutes.

（比較例１１）
蒸留水に、６．０×１０^５個の大腸菌を接種し、６０分後に大腸菌の数を確認した。 (Comparative Example 11)
Distilled water was inoculated with 6.0×10 ⁵ Escherichia coli cells, and the number of Escherichia coli cells was confirmed 60 minutes later.

（実施例２４）
水溶性珪素「ｕｍｏ」にｐＨ調整剤を添加し、水溶性珪素「ｕｍｏ」のｐＨを３．５とした。そして、この水溶性珪素「ｕｍｏ」に５．６×１０^５個の大腸菌を接種し、６０分後に大腸菌の数を確認した。 (Example 24)
A pH adjuster was added to the water-soluble silicon "umo" to adjust the pH of the water-soluble silicon "umo" to 3.5. Then, 5.6 x ¹⁰⁵ Escherichia coli were inoculated into the water-soluble silicon "umo", and the number of Escherichia coli was confirmed after 60 minutes.

（比較例１２）
蒸留水に、５．６×１０^５個の大腸菌を接種し、６０分後に大腸菌の数を確認した。 (Comparative Example 12)
Distilled water was inoculated with 5.6 x ¹⁰⁵ Escherichia coli cells, and the number of Escherichia coli cells was confirmed 60 minutes later.

（実施例２５）
水溶性珪素「ｕｍｏ」にｐＨ調整剤を添加し、水溶性珪素「ｕｍｏ」のｐＨを３．５とした。そして、この水溶性珪素「ｕｍｏ」に３．０×１０^６個のレジオネラ菌を接種し、６０分後にレジオネラ菌の数を確認した。 (Example 25)
A pH adjuster was added to the water-soluble silicon "umo" to adjust the pH of the water-soluble silicon "umo" to 3.5. Then, 3.0 x ¹⁰⁶ Legionella bacteria were inoculated into the water-soluble silicon "umo", and the number of Legionella bacteria was confirmed after 60 minutes.

（比較例１３）
蒸留水に、３．０×１０^６個のレジオネラ菌を接種し、６０分後にレジオネラ菌の数を確認した。 (Comparative Example 13)
Distilled water was inoculated with 3.0×10 ⁶ Legionella bacteria, and the number of Legionella bacteria was confirmed 60 minutes later.

得られた結果について、以下で説明する。 The results obtained are explained below.

表１及び図１は、実施例１～３及び比較例１の実験結果を示し、珪素のエラスターゼ活性率の測定結果を示す。
具体的には、表１及び図１は、対照のエラスターゼ活性率を１００％とした場合の被験物質のエラスターゼ活性率の平均及び標準偏差を示す。 Table 1 and FIG. 1 show the experimental results of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, and also show the measurement results of the elastase activity rate of silicon.
Specifically, Table 1 and FIG. 1 show the average and standard deviation of the elastase activity rate of the test substances when the elastase activity rate of the control is set to 100%.

表１及び図１に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ（ウモ）」の濃度が３質量％となる被験物質を用いた場合（実施例１に対応）、エラスターゼ活性率の平均値は５７．８％であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が３０質量％となる被験物質を用いた場合（実施例２に対応）、エラスターゼ活性率の平均値は４６．０％であった。さらに、水溶性珪素「ｕｍｏ」に超純水を添加せず、濃度が１００％である水溶性珪素「ｕｍｏ」を用いた場合（実施例３に対応）、エラスターゼ活性率の平均値は４１．３％であった。
この結果から、珪素がエラスターゼの活性を阻害することが確認された。 As shown in Table 1 and Figure 1, when a test substance with a concentration of water-soluble silicon "umo" of 3 mass% was used (corresponding to Example 1), the average elastase activity rate was 57.8%. When a test substance with a concentration of water-soluble silicon "umo" of 30 mass% was used (corresponding to Example 2), the average elastase activity rate was 46.0%. Furthermore, when ultrapure water was not added to the water-soluble silicon "umo" and water-soluble silicon "umo" with a concentration of 100% was used (corresponding to Example 3), the average elastase activity rate was 41.3%.
These results confirmed that silicon inhibits the activity of elastase.

表２及び図２は、実施例４及び比較例２の実験結果を示し、水溶性珪素「ｕｍｏ」を皮膚のレプリカに塗布した場合の、皮膚のシワの面積の変化を示す。 Table 2 and Figure 2 show the experimental results of Example 4 and Comparative Example 2, and show the change in the area of wrinkles on the skin when the water-soluble silicon "umo" was applied to a skin replica.

※原液にて試験 * Tested with undiluted solution

表２及び図２に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布した後の方が、水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布する前と比較して、皮膚におけるシワの面積が減少した。 As shown in Table 2 and Figure 2, the area of wrinkles on the skin was reduced after application of the water-soluble silicon "umo" compared to before application of the water-soluble silicon "umo".

表３及び図３は、実施例５及び比較例３の実験結果を示し、ヒトの皮膚に水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布した場合の、皮膚の水分蒸散量の変化を示す。 Table 3 and Figure 3 show the experimental results of Example 5 and Comparative Example 3, and show the change in the amount of water evaporation from the skin when the water-soluble silicon "umo" was applied to human skin.

※原液にて試験 * Tested with undiluted solution

表３及び図３に示す通り、皮膚に水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布した場合の方が、皮膚に水溶性珪素「ｕｍｏ」を塗布しなかった場合と比較して、全ての時間において皮膚からの水分蒸散量が減少した。 As shown in Table 3 and Figure 3, when the water-soluble silicon "umo" was applied to the skin, the amount of water evaporation from the skin was reduced at all times compared to when the water-soluble silicon "umo" was not applied to the skin.

表４及び図４は、実施例６～８及び比較例４の実験結果を示し、水溶性珪素「ｕｍｏ」が線維芽細胞を含む培地に添加された場合の、ヒアルロン酸の産生率の変化を示す。
具体的には、表４及び図４は、比較例４で測定された対照のヒアルロン酸の産生率を１００％とした場合の、珪素のエラスターゼ活性率の平均及び標準偏差を示す。 Table 4 and FIG. 4 show the experimental results of Examples 6 to 8 and Comparative Example 4, and show the change in the production rate of hyaluronic acid when the water-soluble silicon "umo" was added to a culture medium containing fibroblasts.
Specifically, Table 4 and FIG. 4 show the average and standard deviation of the elastase activity rate of silicon when the control hyaluronic acid production rate measured in Comparative Example 4 is taken as 100%.

表４及び図４に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％である水溶液を培地に添加した場合（実施例６に対応）、ヒアルロン酸の産生率の平均値は、１２４．３％であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％の水溶液を培地に添加した場合（実施例７に対応）、ヒアルロン酸の産生率の平均値は、１１３．６％であった。さらに、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％の水溶液を培地に添加した場合（実施例８に対応）、ヒアルロン酸の産生率の平均値は、１０７．０％であった。
この結果から、珪素がヒアルロン酸の産生率を増加させることが確認された。 As shown in Table 4 and Figure 4, when an aqueous solution containing 0.01% by mass of water-soluble silicon "umo" was added to the culture medium (corresponding to Example 6), the average production rate of hyaluronic acid was 124.3%. When an aqueous solution containing 0.1% by mass of water-soluble silicon "umo" was added to the culture medium (corresponding to Example 7), the average production rate of hyaluronic acid was 113.6%. When an aqueous solution containing 1% by mass of water-soluble silicon "umo" was added to the culture medium (corresponding to Example 8), the average production rate of hyaluronic acid was 107.0%.
These results confirmed that silicon increases the production rate of hyaluronic acid.

表５及び図５は、実施例９及び１０並びに比較例５の実験結果を示し、コラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現量の変化を示す。
具体的には、表５及び図５は、比較例５で測定された対照のコラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現量を１．００±０．０４とした場合の、実施例９及び１０で測定されたＭＭＰ１の発現量の平均及び標準偏差を示す。 Table 5 and FIG. 5 show the experimental results of Examples 9 and 10 and Comparative Example 5, and show the change in the expression level of collagen decomposition enzyme 1 gene (MMP1).
Specifically, Table 5 and Figure 5 show the average and standard deviation of the expression levels of MMP1 measured in Examples 9 and 10 when the expression level of the control collagen degrading enzyme 1 gene (MMP1) measured in Comparison Example 5 was set to 1.00 ± 0.04.

表５及び図５に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％となる場合（実施例９に対応）、コラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現量の平均値は、０．９２±０．０４であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０３質量％となる場合（実施例１０に対応）、コラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現量の平均値は、０．８９±０．０４であった。この結果から、珪素がコラーゲン分解酵素１遺伝子（ＭＭＰ１）の発現量を減少させることが確認された。 As shown in Table 5 and Figure 5, when the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.01% by mass (corresponding to Example 9), the average expression level of collagen decomposition enzyme 1 gene (MMP1) was 0.92 ± 0.04. When the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.03% by mass (corresponding to Example 10), the average expression level of collagen decomposition enzyme 1 gene (MMP1) was 0.89 ± 0.04. From these results, it was confirmed that silicon reduces the expression level of collagen decomposition enzyme 1 gene (MMP1).

表６及び図６は、実施例１１～１３及び比較例６の実験結果を示し、ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量の変化を示す。
具体的には、表６及び図６は、比較例６で測定された対照のヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量を１．００±０．０３とした場合の、実施例１１～１３で測定されたＨＡＳ２の平均及び標準偏差を示す。 Table 6 and FIG. 6 show the experimental results of Examples 11 to 13 and Comparative Example 6, and show the changes in the expression level of the hyaluronic acid synthase 2 gene (HAS2).
Specifically, Table 6 and Figure 6 show the average and standard deviation of HAS2 measured in Examples 11 to 13, when the expression level of the control hyaluronic acid synthase 2 gene (HAS2) measured in Comparative Example 6 was set to 1.00 ± 0.03.

表６及び図６に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％となる場合（実施例１１に対応）、ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量の平均値は、１．１２±０．０６であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０３質量％となる場合（実施例１２に対応）、ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量の平均値は、１．１１±０．０２であった。さらに、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％となる場合（実施例１３に対応）、ヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量の平均値は、１．３３±０．０６であった。
この結果から、珪素がヒアルロン酸産生酵素２遺伝子（ＨＡＳ２）の発現量を増加させることが確認された。 As shown in Table 6 and Figure 6, when the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.01 mass% (corresponding to Example 11), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 2 gene (HAS2) is 1.12 ± 0.06. When the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.03 mass% (corresponding to Example 12), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 2 gene (HAS2) is 1.11 ± 0.02. When the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.1 mass% (corresponding to Example 13), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 2 gene (HAS2) is 1.33 ± 0.06.
These results confirmed that silicon increases the expression level of the hyaluronic acid synthase 2 gene (HAS2).

表７及び図７は、実施例１４～１６及び比較例７の実験結果を示し、ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量の変化を示す。
具体的には、表７及び図７は、比較例７で測定された対照のヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量を１．００±０．１０とした場合の、実施例１４～１６で測定されたＨＡＳ３の平均及び標準偏差を示す。 Table 7 and FIG. 7 show the experimental results of Examples 14 to 16 and Comparative Example 7, and show the changes in the expression level of the hyaluronic acid synthase 3 gene (HAS3).
Specifically, Table 7 and Figure 7 show the average and standard deviation of HAS3 measured in Examples 14 to 16, when the expression level of the control hyaluronic acid synthase 3 gene (HAS3) measured in Comparative Example 7 was set to 1.00 ± 0.10.

表７及び図７に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％となる場合（実施例１４に対応）、ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量の平均値は、１．０９±０．０８であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０３質量％となる場合（実施例１５に対応）、ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量の平均値は、１．０６±０．０８であった。さらに、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％となる場合（実施例１６に対応）、ヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量の平均値は、１．３６±０．２２であった。
この結果から、珪素がヒアルロン酸産生酵素３遺伝子（ＨＡＳ３）の発現量を増加させることが確認された。 As shown in Table 7 and Figure 7, when the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.01 mass% (corresponding to Example 14), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 3 gene (HAS3) is 1.09 ± 0.08. When the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.03 mass% (corresponding to Example 15), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 3 gene (HAS3) is 1.06 ± 0.08. When the concentration of water-soluble silicon "umo" is 0.1 mass% (corresponding to Example 16), the average expression level of hyaluronic acid-producing enzyme 3 gene (HAS3) is 1.36 ± 0.22.
These results confirmed that silicon increases the expression level of the hyaluronic acid synthase 3 gene (HAS3).

表８及び図８は、実施例１７～１９及び比較例８の実験結果を示し、β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現量の変化を示す。
具体的には、表８及び図８は、比較例８で測定された対照のＧＢＡの発現量を１．００±０．０６とした場合の、実施例１７～１９で測定されたＧＢＡの平均及び標準偏差を示す。 Table 8 and FIG. 8 show the experimental results of Examples 17 to 19 and Comparative Example 8, and show the changes in the expression level of the β-glucocerebrosidase gene (GBA).
Specifically, Table 8 and Figure 8 show the average and standard deviation of GBA measured in Examples 17 to 19, when the expression level of control GBA measured in Comparative Example 8 was set to 1.00 ± 0.06.

表８及び図８に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％となる場合（実施例１７に対応）、β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現量の平均値は、１．０９±０．１３であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０３質量％の水溶液となる場合（実施例１８に対応）、β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現量の平均値は、１．１７±０．０４であった。さらに、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％となる場合（実施例１９に対応）、β－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現量の平均値は、１．２７±０．１１であった。
この結果から、珪素がβ－グルコセレブロシダーゼ遺伝子（ＧＢＡ）の発現量を増加させることが確認された。 As shown in Table 8 and Figure 8, when the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.01 mass% (corresponding to Example 17), the average expression level of the β-glucocerebrosidase gene (GBA) was 1.09 ± 0.13. When the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.03 mass% in an aqueous solution (corresponding to Example 18), the average expression level of the β-glucocerebrosidase gene (GBA) was 1.17 ± 0.04. When the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.1 mass% (corresponding to Example 19), the average expression level of the β-glucocerebrosidase gene (GBA) was 1.27 ± 0.11.
These results confirmed that silicon increases the expression level of the β-glucocerebrosidase gene (GBA).

表９及び図９は、実施例２０及び２１並びに比較例９の実験結果を示し、プロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）の発現量の変化を示す。
具体的には、表９及び図９は、比較例９で測定された対照のＦＬＧの発現量を１．００±０．０４とした場合の、実施例２０及び実施例２１で測定されたＦＬＧの平均及び標準偏差を示す。 Table 9 and FIG. 9 show the experimental results of Examples 20 and 21 and Comparative Example 9, and show the changes in the expression level of the profilaggrin gene (FLG).
Specifically, Table 9 and Figure 9 show the average and standard deviation of FLG measured in Examples 20 and 21 when the expression level of control FLG measured in Comparative Example 9 was set to 1.00 ± 0.04.

表９及び図９に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０１質量％となる場合（実施例２０に対応）、プロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）発現量の平均値は、１．２０±０．０５であった。また、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．０３質量％となる場合（実施例２１に対応）、プロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）発現量の平均値は、１．０２±０．１２であった。
この結果から、珪素がプロフィラグリン遺伝子（ＦＬＧ）発現量を増加させることが確認された。 9, when the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.01% by mass (corresponding to Example 20), the average expression level of the profilaggrin gene (FLG) was 1.20±0.05. When the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.03% by mass (corresponding to Example 21), the average expression level of the profilaggrin gene (FLG) was 1.02±0.12.
These results confirmed that silicon increases the expression level of the profilaggrin gene (FLG).

表１０及び図１０は、実施例２２及び比較例１０の実験結果を示し、トランスグルタミナーゼ１遺伝子（ＴＧＭ１）の発現量の変化を示す。
具体的には、表１０及び図１０は、比較例１０で測定された対照のＴＧＭ１の発現量を１．００±０．１０とした場合の、実施例２２で測定されたＴＧＭ１の平均及び標準偏差を示す。 Table 10 and FIG. 10 show the experimental results of Example 22 and Comparative Example 10, and show the change in the expression level of transglutaminase 1 gene (TGM1).
Specifically, Table 10 and FIG. 10 show the average and standard deviation of TGM1 measured in Example 22 when the expression level of control TGM1 measured in Comparative Example 10 was set to 1.00±0.10.

表１０及び図１０に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が０．１質量％となる場合（実施例２２に対応）、トランスグルタミナーゼ１遺伝子（ＴＧＭ１）発現量の平均値は、１．１６±０．０６であった。
この結果から、珪素がトランスグルタミナーゼ１遺伝子（ＴＧＭ１）発現量を増加させることが確認された。 As shown in Table 10 and Figure 10, when the concentration of water-soluble silicon "umo" was 0.1 mass% (corresponding to Example 22), the average expression level of transglutaminase 1 gene (TGM1) was 1.16 ± 0.06.
These results confirmed that silicon increases the expression level of transglutaminase 1 gene (TGM1).

表１１は、珪素の静菌作用に関する測定結果を示す。 Table 11 shows the measurement results regarding the bacteriostatic effect of silicon.

表１１に示す通り、水溶性珪素「ｕｍｏ」の濃度が１質量％の水溶液に、６．０×１０^５個の大腸菌を接種した場合（実施例２３に対応）、６０分後における大腸菌数は６．７×１０^５であった。
一方で、蒸留水に、６．０×１０^５個の大腸菌を接種した場合（比較例１１に対応）、６０分後における大腸菌数は７．３×１０^５であった。 As shown in Table 11, when 6.0 x ¹⁰⁵ Escherichia coli were inoculated into an aqueous solution containing 1% by mass of water-soluble silicon "umo" (corresponding to Example 23), the number of Escherichia coli after 60 minutes was 6.7 x ¹⁰⁵ .
On the other hand, when 6.0×10 ⁵ Escherichia coli cells were inoculated into distilled water (corresponding to Comparative Example 11), the number of Escherichia coli cells after 60 minutes was 7.3×10 ⁵ .

また、ｐＨが３．５である酸性の水溶性珪素「ｕｍｏ」に、５．６×１０^５個の大腸菌を接種した場合（実施例２４に対応）、６０分後における大腸菌数は２．５×１０^３であった。
一方で、蒸留水に、５．６×１０^５個の大腸菌を接種した場合（比較例１２に対応）、６０分後における大腸菌数は５．４×１０^５であった。 In addition, when 5.6 x ¹⁰⁵ Escherichia coli were inoculated into the acidic water-soluble silicon "umo" having a pH of 3.5 (corresponding to Example 24), the number of Escherichia coli after 60 minutes was 2.5 x ¹⁰³ .
On the other hand, when 5.6×10 ⁵ Escherichia coli cells were inoculated into distilled water (corresponding to Comparative Example 12), the number of Escherichia coli cells after 60 minutes was 5.4×10 ⁵ .

さらに、ｐＨが３．５である酸性の水溶性珪素「ｕｍｏ」に、３．０×１０^６個のレジオネラ菌を接種した場合（実施例２５に対応）、６０分後におけるレジオネラ菌数は１００未満であった。
一方で、蒸留水に、３．０×１０^６個のレジオネラ菌を接種した場合（比較例１３に対応）、６０分後におけるレジオネラ菌数は３．２×１０^６であった。 Furthermore, when 3.0 x 10 ⁶ Legionella bacteria were inoculated onto the acidic water-soluble silicon “umo” having a pH of 3.5 (corresponding to Example 25), the number of Legionella bacteria was less than 100 after 60 minutes.
On the other hand, when 3.0×10 ⁶ Legionella bacteria were inoculated into distilled water (corresponding to Comparative Example 13), the number of Legionella bacteria after 60 minutes was 3.2×10 ⁶ .

この結果から、大腸菌及びレジオネラ菌に対する珪素による静菌作用が確認された。 These results confirmed that silicon has a bacteriostatic effect against E. coli and Legionella.

Claims

Contains silicon and a pH adjuster,
The silicon content is 0.05% by mass or more and less than 100% by mass,
The silicon is water-soluble silicon extracted from quartz,
It is used to improve skin wrinkles and skin firmness.
It is used by applying it to the skin,
A composition for preventing skin aging.

The silicon content is 0.05% by mass or more and less than 5.0% by mass.
The composition for preventing skin aging according to claim 1.