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JP7652378B2 - Particle analysis method and particle manufacturing method - Google Patents
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特許法第30条第2項適用 ▲1▼発行日:令和1年8月28日 刊行物:日本分析化学会 第68年会 Web版講演要旨集 公開者:立松 綾子、阿部 竜典、河野 誠、及び、伏見 善也 ▲2▼開催日:令和1年9月11日 集会名、開催場所: 日本分析化学会 第68年会 千葉大学西千葉キャンパス(千葉県千葉市稲毛区弥生町1-33) 公開者:立松 綾子、阿部 竜典、河野 誠、及び、伏見 善也Article 30, paragraph 2 of the Patent Act applies ▲1▼ Publication date: August 28, 2019 Publication: Web version of abstracts from the 68th Annual Meeting of the Japan Society for Analytical Chemistry Disclosed by: Ayako Tatematsu, Ryusuke Abe, Makoto Kono, and Yoshiya Fushimi ▲2▼ Date held: September 11, 2019 Meeting name and location: 68th Annual Meeting of the Japan Society for Analytical Chemistry Chiba University Nishi-Chiba Campus (1-33 Yayoi-cho, Inage-ku, Chiba City, Chiba Prefecture) Disclosed by: Ayako Tatematsu, Ryusuke Abe, Makoto Kono, and Yoshiya Fushimi

本発明は、粒子分析方法、及び粒子製造方法に関する。 The present invention relates to a particle analysis method and a particle manufacturing method.

マイクロカプセルは、液体又は固体の成分を内包する粒子である。マイクロカプセルの粒子径は、1mmよりも小さい。マイクロカプセルは、内包された成分を覆う皮膜(カプセル基材)を有する。例えば、医薬品、農薬、香料、又は食品素材のような有効成分を内包するマイクロカプセルを工業的に生産する技術が種々提案されている。マイクロカプセルの製法には、例えば、化学的手法と、物理的手法と、生物学的手法とがある。化学的手法には、例えば、界面重合法、液中効果皮膜法、及びシクロデキストリンによる分子包接法がある。物理的手法には、例えば、噴霧乾燥法、噴霧冷却法、及び気中懸濁皮膜法がある。生物学的手法には、例えば、酵母等が有する細胞骨格内に成分を包括する方法がある。 Microcapsules are particles that encapsulate liquid or solid ingredients. The particle diameter of microcapsules is less than 1 mm. Microcapsules have a membrane (capsule base material) that covers the encapsulated ingredients. For example, various techniques have been proposed for industrially producing microcapsules that encapsulate active ingredients such as medicines, pesticides, fragrances, or food ingredients. Methods for manufacturing microcapsules include, for example, chemical methods, physical methods, and biological methods. Chemical methods include, for example, interfacial polymerization, liquid-based effective coating, and molecular inclusion methods using cyclodextrin. Physical methods include, for example, spray drying, spray cooling, and air-suspended coating. Biological methods include, for example, a method of encapsulating ingredients within the cytoskeleton of yeast, etc.

生物学的手法では主に、酵母由来のカプセル基材が用いられる。酵母由来のカプセル基材は、酵母から可溶性の内容物を除去した後に残った酵母の細胞骨格からなる。細胞骨格は、細胞壁、細胞膜、その他の固形成分を含む。具体的には、酵母由来のカプセル基材は、洗浄処理及び酵素処理等によって酵母から菌体内の可溶成分を除去した後に残存する酵母の固形成分からなる。酵母の細胞壁等の細胞骨格がカプセル基材として用いられる。例えば、特許文献1に、酵母を酵素処理することにより、菌体内成分を菌体外へ放出させる技術が開示されている。 In biological techniques, yeast-derived capsule substrates are mainly used. Yeast-derived capsule substrates are made of the yeast cytoskeleton remaining after soluble contents are removed from yeast. The cytoskeleton includes cell walls, cell membranes, and other solid components. Specifically, yeast-derived capsule substrates are made of the solid components of yeast remaining after soluble components within the yeast cell are removed from the yeast cell by washing and enzyme treatments. The cytoskeleton of the yeast cell wall, etc. is used as the capsule substrate. For example, Patent Document 1 discloses a technology for releasing intracellular components outside the yeast cell by enzyme treatment of the yeast.

特許文献1には、酵母由来のカプセル基材内に、疎水性物質、又は親水性物質を内包させることが開示されている。特許文献1には、疎水性物質が、長鎖炭化水素、長鎖アルコール、長鎖アミノアルコール、長鎖アルデヒド、長鎖ケトン、長鎖酸及びその塩、テルペノイド、ステロイド、並びにカロテノイドからなる群より選択される少なくとも一種の誘導脂質であることが開示されている。また、親水性物質が、アミノ酸、水溶性ビタミン、ヌクレオチド、及び糖からなる群より選択される少なくとも一種の物質であることが開示されている。 Patent Document 1 discloses that a hydrophobic or hydrophilic substance is encapsulated in a capsule base material derived from yeast. Patent Document 1 discloses that the hydrophobic substance is at least one type of derived lipid selected from the group consisting of long-chain hydrocarbons, long-chain alcohols, long-chain amino alcohols, long-chain aldehydes, long-chain ketones, long-chain acids and their salts, terpenoids, steroids, and carotenoids. It also discloses that the hydrophilic substance is at least one type of substance selected from the group consisting of amino acids, water-soluble vitamins, nucleotides, and sugars.

また、特許文献1には、酵母が、サッカロマイセス・セレビッシェ(Saccharomyces cerevisiae)、サッカロマイセス・ルーキシ(Saccharomyces rouxii)、サッカロマイセス・カールスバーゲンシス(Saccharomyces carlsbergensisi)、キャンディダ・ウティリス(Candida utilis)、キャンディダ・トロピカリス(Candida tropicalis)、キャンディダ・リポリティカ(Candida lipolytica)、及びキャンディダ・フレーベリ(Candida flaveri)からなる群より選択される少なくとも一種の微生物であることが開示されている。 Patent Document 1 also discloses that the yeast is at least one type of microorganism selected from the group consisting of Saccharomyces cerevisiae, Saccharomyces rouxii, Saccharomyces carlsbergensis, Candida utilis, Candida tropicalis, Candida lipolytica, and Candida flavori.

ところで、マイクロカプセルに内包対象の成分が内包されているか否かを定量的に分析するには、例えば、高速液体クロマトグラフ(HPLC)が一般的に用いられる。具体的には、マイクロカプセルから内包成分を抽出し、高速液体クロマトグラフを用いてその内包成分を定量し、測定結果に基づいてマイクロカプセル1g当たりの内包成分の量を算定することによって、マイクロカプセルに内包対象の成分が内包されているか否かを分析(評価)している。 Incidentally, to quantitatively analyze whether or not the component to be encapsulated is encapsulated in the microcapsule, for example, high performance liquid chromatography (HPLC) is generally used. Specifically, the encapsulated component is extracted from the microcapsule, the encapsulated component is quantified using high performance liquid chromatography, and the amount of the encapsulated component per gram of microcapsule is calculated based on the measurement results, thereby analyzing (evaluating) whether or not the component to be encapsulated is encapsulated in the microcapsule.

特開平8-243378号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-243378

しかしながら、高速液体クロマトグラフを用いた定量分析では、マイクロカプセル(分析対象の粒子)に内包対象の成分が内包されているか否かを推定しているに過ぎない。 However, quantitative analysis using high performance liquid chromatography only estimates whether or not the target component is contained in the microcapsules (the particles being analyzed).

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、分析対象の粒子に内包対象の成分が内包されているか否かを、分析対象ごとに分析できる粒子分析方法、及び粒子製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide a particle analysis method and a particle manufacturing method that can analyze for each analysis target whether or not the analysis target particle contains a target component.

本発明の粒子分析方法は、第1粒子を磁気泳動させて観察する第1観察工程と、前記第1観察工程による観察の結果から、前記第1粒子の磁気泳動速度を測定する第1泳動速度測定工程と、前記第1泳動速度測定工程による測定の結果に基づいて、前記第1粒子の体積磁化率を測定する第1磁化率測定工程と、前記第1粒子に、前記第1粒子よりも小さい内包対象の成分を内包させる内包処理を実行する内包処理工程と、前記内包処理後の前記第1粒子である分析対象の第2粒子を磁気泳動させて観察する第2観察工程と、前記第2観察工程による観察の結果から、前記第2粒子の磁気泳動速度を測定する第2泳動速度測定工程と、前記第2泳動速度測定工程による測定の結果に基づいて、前記第2粒子の体積磁化率を測定する第2磁化率測定工程と、前記第1磁化率測定工程による測定の結果と、前記第2磁化率測定工程による測定の結果とに基づいて、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程とを含む。 The particle analysis method of the present invention includes a first observation step of magnetically migrating a first particle and observing it; a first migration velocity measurement step of measuring the magnetic migration velocity of the first particle from the result of the observation by the first observation step; a first magnetic susceptibility measurement step of measuring the volume magnetic susceptibility of the first particle based on the result of the measurement by the first migration velocity measurement step; an inclusion processing step of performing an inclusion processing to make the first particle include a component to be included that is smaller than the first particle; a second observation step of magnetically migrating a second particle to be analyzed, which is the first particle after the inclusion processing, and observing it; a second migration velocity measurement step of measuring the magnetic migration velocity of the second particle from the result of the observation by the second observation step; a second magnetic susceptibility measurement step of measuring the volume magnetic susceptibility of the second particle based on the result of the measurement by the second migration velocity measurement step; and a step of analyzing whether the component to be included is included in the second particle based on the result of the measurement by the first magnetic susceptibility measurement step and the result of the measurement by the second magnetic susceptibility measurement step.

ある実施形態において、上記粒子分析方法は、前記第2粒子を分光学的に観察して、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程を更に含む。 In one embodiment, the particle analysis method further includes a step of spectroscopically observing the second particles to analyze whether the component to be included is included in the second particles.

ある実施形態において、上記粒子分析方法は、前記第1粒子のゼータ電位を測定する第1ゼータ電位測定工程と、前記第2粒子のゼータ電位を測定する第2ゼータ電位測定工程と、前記第1ゼータ電位測定工程による測定の結果と、前記第2ゼータ電位測定工程による測定の結果とに基づいて、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程とを更に含む。 In one embodiment, the particle analysis method further includes a first zeta potential measurement step of measuring the zeta potential of the first particle, a second zeta potential measurement step of measuring the zeta potential of the second particle, and a step of analyzing whether the component to be encapsulated is encapsulated in the second particle based on the measurement results of the first zeta potential measurement step and the measurement results of the second zeta potential measurement step.

本発明の粒子製造方法は、上記粒子分析方法を含む。 The particle manufacturing method of the present invention includes the particle analysis method described above.

ある実施形態において、前記第1粒子は、酵母から菌体内成分を放出させた後に残留する前記酵母の固形成分を含む。 In one embodiment, the first particles contain solid components of the yeast that remain after intracellular components are released from the yeast.

ある実施形態において、上記の粒子製造方法は、前記第1粒子を製造する第1粒子製造工程を更に含む。前記第1粒子製造工程は、前記酵母から前記菌体内成分を放出させる工程を含む。 In one embodiment, the particle production method further includes a first particle production step of producing the first particles. The first particle production step includes a step of releasing the intracellular components from the yeast.

ある実施形態において、前記内包処理工程は、前記第1粒子及び前記内包対象の成分を溶媒中で混合する工程を含む。 In one embodiment, the encapsulation process includes mixing the first particles and the component to be encapsulated in a solvent.

本発明の粒子分析方法及び粒子製造方法によれば、分析対象の粒子に内包対象の成分が内包されているか否かを、分析対象ごとに分析することができる。 The particle analysis method and particle production method of the present invention make it possible to analyze whether or not the particles to be analyzed contain the components to be contained therein for each of the particles to be analyzed.

本発明の実施形態1に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。1 is a flowchart showing a particle manufacturing method according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施形態1に係る分析装置の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an analysis device according to a first embodiment of the present invention. (a)及び(b)は粒子の動きを示す図である。1A and 1B are diagrams illustrating the movement of particles. 本発明の実施形態1に係る分析装置の構成を示す図である。1 is a diagram showing a configuration of an analysis device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施形態2に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a particle manufacturing method according to a second embodiment of the present invention. 本発明の実施形態3に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a particle manufacturing method according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施例1に係る測定結果を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing measurement results according to Example 1 of the present invention. 本発明の実施例2に係る測定結果を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing measurement results according to Example 2 of the present invention. 本発明の実施例3に係る測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing measurement results according to Example 3 of the present invention. 本発明の実施例4に係る第1測定結果を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a first measurement result according to Example 4 of the present invention. 本発明の実施例4に係る第2測定結果を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a second measurement result according to Example 4 of the present invention. 本発明の実施例4に係る第3測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a third measurement result according to Example 4 of the present invention. 本発明の実施例4に係る第4測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a fourth measurement result according to Example 4 of the present invention. 本発明の実施例5に係る第1測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a first measurement result according to Example 5 of the present invention. 本発明の実施例5に係る第2測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a second measurement result according to Example 5 of the present invention. 本発明の実施例6に係る測定結果を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing measurement results according to Example 6 of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されない。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合がある。また、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiment. Note that where the explanation overlaps, the explanation may be omitted as appropriate. In addition, in the drawings, the same or equivalent parts are given the same reference symbols and the explanation will not be repeated.

[実施形態1]
まず図1を参照して、本実施形態の粒子分析方法及び粒子製造方法を説明する。図1は、本実施形態に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。図1に示すように、本実施形態の粒子製造方法は、第1粒子準備工程S1と、第1観察工程S2と、第1泳動速度測定工程S3と、第1磁化率測定工程S4と、内包処理工程S5と、第2観察工程S6と、第2泳動速度測定工程S7と、第2磁化率測定工程S8と、磁化率分析工程S9とを含む。これらの工程S1~S9のうち、第1観察工程S2、第1泳動速度測定工程S3、第1磁化率測定工程S4、内包処理工程S5、第2観察工程S6、第2泳動速度測定工程S7、第2磁化率測定工程S8、及び磁化率分析工程S9は、本実施形態の粒子分析方法を示す。
[Embodiment 1]
First, the particle analysis method and the particle manufacturing method of this embodiment will be described with reference to Fig. 1. Fig. 1 is a flow chart showing the particle manufacturing method according to this embodiment. As shown in Fig. 1, the particle manufacturing method of this embodiment includes a first particle preparation step S1, a first observation step S2, a first migration speed measurement step S3, a first magnetic susceptibility measurement step S4, an encapsulation process step S5, a second observation step S6, a second migration speed measurement step S7, a second magnetic susceptibility measurement step S8, and a magnetic susceptibility analysis step S9. Among these steps S1 to S9, the first observation step S2, the first migration speed measurement step S3, the first magnetic susceptibility measurement step S4, the encapsulation process step S5, the second observation step S6, the second migration speed measurement step S7, the second magnetic susceptibility measurement step S8, and the magnetic susceptibility analysis step S9 represent the particle analysis method of this embodiment.

<第1粒子準備工程S1>
第1粒子準備工程S1では、第1粒子p1を準備する。第1粒子p1は、例えば、1nm以上数百μm以下の粒子径を有する。第1粒子p1は、例えば、マイクロカプセルの基材(カプセル基材)である。カプセル基材は、その外部と内部とを隔てる膜成分を有する。但し、第1粒子p1は、カプセル基材に限定されない。第1粒子p1は、内包対象の成分ptを内包可能な粒子であればよい。
<First particle preparation step S1>
In the first particle preparation step S1, the first particle p1 is prepared. The first particle p1 has a particle diameter of, for example, 1 nm or more and several hundred μm or less. The first particle p1 is, for example, a base material of a microcapsule (capsule base material). The capsule base material has a membrane component that separates the outside from the inside. However, the first particle p1 is not limited to a capsule base material. The first particle p1 may be any particle that can encapsulate the component pt to be encapsulated.

第1粒子p1は、例えば、酵母由来のカプセル基材であり得る。例えば、酵母由来のカプセル基材は、酵母から菌体内成分を放出させた後に残存する酵母の固形成分からなる。この場合、酵母由来のカプセル基材は、主に酵母の骨格部分からなる。詳しくは、酵母由来のカプセル基材は、酵母の細胞壁及び細胞膜を有する。菌体内成分は、主成分としてアミノ酸、核酸関連物質、ミネラル、及びビタミン類を含む。 The first particle p1 may be, for example, a capsule substrate derived from yeast. For example, the yeast-derived capsule substrate is made of the solid components of yeast that remain after the intracellular components are released from the yeast. In this case, the yeast-derived capsule substrate is mainly made of the skeletal portion of the yeast. More specifically, the yeast-derived capsule substrate has a yeast cell wall and cell membrane. The intracellular components mainly include amino acids, nucleic acid-related substances, minerals, and vitamins.

酵母由来のカプセル基材は、例えば、トルラ酵母、パン酵母、ビール酵母、又は清酒酵母から製造される。酵母由来のカプセル基材の形態は特に限定されず、例えば、圧搾酵母の形態、乾燥酵母の形態、活性乾燥酵母の形態、死滅酵母の形態、及び殺菌乾燥酵母の形態のいずれかの形態であり得る。 The yeast-derived capsule substrate is produced, for example, from torula yeast, baker's yeast, brewer's yeast, or sake yeast. The form of the yeast-derived capsule substrate is not particularly limited, and may be, for example, in the form of compressed yeast, dried yeast, active dry yeast, dead yeast, or pasteurized dry yeast.

なお、酵母由来のカプセル基材は、酵母の固形成分に由来する物質であってもよい。酵母の固形成分に由来する物質は、酵母の固形成分と実質的に同じ組成からなる。具体的には、酵母由来のカプセル基材は、酵母の固形成分の粉砕物又は粉体であり得る。 The yeast-derived capsule base material may be a substance derived from the solid components of yeast. The substance derived from the solid components of yeast has substantially the same composition as the solid components of yeast. Specifically, the yeast-derived capsule base material may be a pulverized or powdered form of the solid components of yeast.

酵母由来のカプセル基材の製造に用いられる酵母は特に限定されず、例えば、サッカロマイセス属に属する酵母であってもよく、キャンディダ属に属する酵母であってもよい。例えば、酵母は、サッカロマイセス・セレビッシェであり得る。あるいは、酵母は、キャンディダ・ウティリスであり得る。 The yeast used in the production of the yeast-derived capsule base material is not particularly limited, and may be, for example, a yeast belonging to the genus Saccharomyces or a yeast belonging to the genus Candida. For example, the yeast may be Saccharomyces cerevisiae. Alternatively, the yeast may be Candida utilis.

なお、第1粒子p1は酵母由来のカプセル基材に限定されない。第1粒子p1は、例えば、酵母、ユーグレナ等の藻類、乳酸菌、酢酸菌、枯草菌、又は細胞膜フラグメントであり得る。酵母、ユーグレナ、乳酸菌、酢酸菌、及び枯草菌は生きていてもよく、死んでいてもよい。例えば、酵母、ユーグレナ等の藻類、乳酸菌、酢酸菌、及び枯草菌は、殺菌する前、あるいは殺菌した後に乾燥させてもよい。また、第1粒子p1は微生物に限定されるものではなく、動物細胞又は植物細胞であってもよい。 The first particles p1 are not limited to capsule substrates derived from yeast. The first particles p1 may be, for example, yeast, algae such as Euglena, lactic acid bacteria, acetic bacteria, Bacillus subtilis, or cell membrane fragments. The yeast, Euglena, lactic acid bacteria, acetic bacteria, and Bacillus subtilis may be alive or dead. For example, the yeast, algae such as Euglena, lactic acid bacteria, acetic bacteria, and Bacillus subtilis may be dried before or after sterilization. Furthermore, the first particles p1 are not limited to microorganisms, and may be animal cells or plant cells.

あるいは、第1粒子p1は、ベシクルであってもよい。より詳しくは、第1粒子p1は、例えば、リポソームであり得る。ベシクルの表面膜は、脂質からなる。より具体的には、ベシクルの表面膜は、脂質二重層を有する。リポソームは、表面膜がリン脂質からなるベシクルである。リポソームは、カプセル性材料として、DDS(ドラッグデリバリーシステム)に用いられる。DDSに用いられるカプセル性材料は、内包対象の成分ptとして、例えば生理活性物質を内部に封入する。 Alternatively, the first particle p1 may be a vesicle. More specifically, the first particle p1 may be, for example, a liposome. The surface membrane of the vesicle is made of lipids. More specifically, the surface membrane of the vesicle has a lipid bilayer. A liposome is a vesicle whose surface membrane is made of phospholipids. Liposomes are used as encapsulating materials in DDS (drug delivery systems). The encapsulating materials used in DDS encapsulate, for example, a physiologically active substance as the component pt to be encapsulated.

<第1粒子製造工程>
第1粒子準備工程S1は、第1粒子p1を製造する第1粒子製造工程を含んでもよい。第1粒子p1が酵母由来のカプセル基材である場合、第1粒子製造工程は、酵母から菌体内成分を放出させる工程を含む。酵母から菌体内成分を放出させる処理は特に限定されず、例えば、熱水処理法、自己消化法、及び酵素分解法のいずれかであり得る。
<First particle manufacturing process>
The first particle preparation step S1 may include a first particle production step of producing the first particles p1. When the first particles p1 are capsule base materials derived from yeast, the first particle production step includes a step of releasing intracellular components from the yeast. The treatment for releasing intracellular components from the yeast is not particularly limited, and may be, for example, any of a hot water treatment method, an autolysis method, and an enzymatic decomposition method.

例えば、熱水処理法は、高温の溶液を所定時間撹拌する処理である。溶液には、溶質として、酵母が添加される。なお、溶媒は、例えば蒸留水である。但し、溶媒は、蒸留水に限定されない。溶媒は、酵母から菌体内成分を放出させることができる液体であればよい。例えば、溶媒として、緩衝液、又は乳化剤を使用してもよい。 For example, the hot water treatment method is a process in which a high-temperature solution is stirred for a predetermined period of time. Yeast is added to the solution as a solute. The solvent is, for example, distilled water. However, the solvent is not limited to distilled water. The solvent may be any liquid that can release intracellular components from the yeast. For example, a buffer solution or an emulsifier may be used as the solvent.

熱水処理法により酵母から菌体内成分を放出させる場合、酵母から菌体内成分を放出させた後に残存する固形成分に対し、プロテアーゼ及び/又はセルラーゼを添加する酵素処理を施してもよい。更に、固形成分に対し、乳化剤を添加してもよい。乳化剤を添加するタイミングは、酵素処理の前であってもよく、酵素処理の後であってもよい。あるいは、乳化剤を添加するタイミングは、酵素処理と同時であってもよい。 When intracellular components are released from yeast by hot water treatment, the solid components remaining after the intracellular components are released from the yeast may be subjected to an enzyme treatment in which protease and/or cellulase is added. Furthermore, an emulsifier may be added to the solid components. The timing of adding the emulsifier may be before or after the enzyme treatment. Alternatively, the timing of adding the emulsifier may be simultaneous with the enzyme treatment.

酵母から菌体内成分を放出させた後に残存する固形成分は、殺菌されてもよい。つまり、酵母由来のカプセル基材は、殺菌されてもよい。また、第1粒子製造工程の最終段階で、固形成分を乾燥させてもよい。つまり、酵母由来のカプセル基材は、乾燥した状態であってもよい。但し、第1粒子p1は、乾燥状態に限定されない。第1粒子p1は、適量の水分を含むペースト状であってもよい。 The solid components remaining after the intracellular components are released from the yeast may be sterilized. That is, the yeast-derived capsule base material may be sterilized. In addition, the solid components may be dried in the final stage of the first particle manufacturing process. That is, the yeast-derived capsule base material may be in a dry state. However, the first particles p1 are not limited to being in a dry state. The first particles p1 may be in a paste form containing an appropriate amount of moisture.

<第1観察工程S2>
第1観察工程S2では、第1粒子p1を磁気泳動させて観察する。具体的には、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、磁気泳動する第1粒子p1を観察する。
<First observation step S2>
In the first observation step S2, the first particles p1 are magnetophoretically moved and observed. Specifically, the magnetophoretically moving first particles p1 are observed using an analysis device 10 described with reference to FIG.

<第1泳動速度測定工程S3>
第1泳動速度測定工程S3では、第1観察工程S2による観察の結果から、第1粒子p1の磁気泳動速度v1を測定する。具体的には、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、第1粒子p1の磁気泳動速度v1を測定する。なお、本実施形態では、第1粒子p1の磁気泳動速度v1と共に、第1観察工程S2による観察の結果から第1粒子p1の粒子径d1が測定される。
<First migration speed measurement step S3>
In the first migration velocity measurement step S3, the magnetophoretic velocity v1 of the first particle p1 is measured from the results of the observation in the first observation step S2. Specifically, the magnetophoretic velocity v1 of the first particle p1 is measured using an analysis device 10 described with reference to Fig. 2. In this embodiment, the particle diameter d1 of the first particle p1 is measured from the results of the observation in the first observation step S2 together with the magnetophoretic velocity v1 of the first particle p1.

<第1磁化率測定工程S4>
第1磁化率測定工程S4では、第1泳動速度測定工程S3による測定の結果に基づいて、第1粒子p1の体積磁化率χs1を測定する。具体的には、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、第1粒子p1の体積磁化率χs1を測定する。
<First magnetic susceptibility measurement step S4>
In the first magnetic susceptibility measurement step S4, the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 is measured based on the result of the measurement in the first migration velocity measurement step S3. Specifically, the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 is measured using an analysis device 10 described with reference to FIG.

<内包処理工程S5>
内包処理工程S5では、第1粒子p1に対し、第1粒子p1よりも小さい内包対象の成分ptを内包させる内包処理を実行して、第2粒子p2を得る。第2粒子p2は、内包処理後の第1粒子p1である。より具体的には、内包処理工程S5では、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを混合して、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを接触させる。ここで、内包処理が実行される第1粒子p1には、体積磁化率χs1を測定した第1粒子p1が使用されてもよいし、体積磁化率χs1を測定していない第1粒子p1が使用されてよい。第2粒子p2は、例えばマイクロカプセルあり得る。例えば、第1粒子p1が酵母由来のカプセル基材である場合、第2粒子p2は、マイクロカプセルである。
<Encapsulating processing step S5>
In the encapsulation process S5, an encapsulation process is performed to encapsulate a component pt to be encapsulated, which is smaller than the first particle p1, in the first particle p1, to obtain a second particle p2. The second particle p2 is the first particle p1 after the encapsulation process. More specifically, in the encapsulation process S5, the first particle p1 and the component pt to be encapsulated are mixed to contact the first particle p1 and the component pt to be encapsulated. Here, the first particle p1 to be encapsulated may be a first particle p1 whose volume magnetic susceptibility χs1 has been measured, or a first particle p1 whose volume magnetic susceptibility χs1 has not been measured. The second particle p2 may be, for example, a microcapsule. For example, when the first particle p1 is a capsule base material derived from yeast, the second particle p2 is a microcapsule.

内包対象の成分ptは、第1粒子p1に内包することができる限り、特に限定されない。内包対象の成分ptは、液体であってもよく、固体であってもよい。内包対象の成分ptは、例えば、医薬品、農薬、香料、又は食品素材であり得る。 The component pt to be encapsulated is not particularly limited as long as it can be encapsulated in the first particle p1. The component pt to be encapsulated may be a liquid or a solid. The component pt to be encapsulated may be, for example, a pharmaceutical, a pesticide, a flavoring, or a food ingredient.

具体的には、内包対象の成分ptは、生理活性物質、ミネラル、香料、香辛料抽出物、香味油、動物性油脂、又は植物性油脂であり得る。例えば、香料にはd-リモネン、カルボン、カプロン酸エチル、チリフレーバー、バニラフレーバー、グリルフレーバー、ワサビフレーバー、コーヒーフレーバー、コショウ、ブラックペッパー、マスタード、カレー用スパイス、及び畜肉フレーバーが含まれる。 Specifically, the component pt to be encapsulated may be a physiologically active substance, a mineral, a flavoring, a spice extract, a flavor oil, an animal fat, or a vegetable fat. For example, flavorings include d-limonene, carvone, ethyl caproate, chili flavor, vanilla flavor, grill flavor, wasabi flavor, coffee flavor, pepper, black pepper, mustard, curry spice, and meat flavor.

詳しくは、内包対象の成分ptは、疎水性物質であってもよく、親水性物質であってもよい。また、内包対象の成分ptは、脂溶性物質であってもよく、非脂溶性物質であってもよい。なお、第1粒子p1が、その内部に疎水性の領域を有する場合、親水性物質と比べて疎水性物質がより安定的に第1粒子p1内に内包される。同様に、第1粒子p1が、その内部に親水性の領域を有する場合、疎水性物質と比べて親水性物質がより安定的に第1粒子p1内に内包される。 More specifically, the component pt to be encapsulated may be a hydrophobic substance or a hydrophilic substance. Furthermore, the component pt to be encapsulated may be a fat-soluble substance or a non-fat-soluble substance. When the first particle p1 has a hydrophobic region therein, the hydrophobic substance is encapsulated in the first particle p1 more stably than the hydrophilic substance. Similarly, when the first particle p1 has a hydrophilic region therein, the hydrophilic substance is encapsulated in the first particle p1 more stably than the hydrophobic substance.

疎水性物質は、例えば、長鎖炭化水素、長鎖アルコール、長鎖アミノアルコール、長鎖アルデヒド、長鎖ケトン、長鎖酸及びその塩、テルペノイド、ステロイド、並びにカロテノイドからなる群より選択される少なくとも一種の誘導脂質であり得る。あるいは、疎水性物質は、例えば、ワックス、グリセリド、エーテルグリセリド、及びセラミドからなる群より選択される少なくとも一種の単純脂質であり得る。あるいは、疎水性物質は、例えば、リン脂質、糖脂質、リン糖脂質、硫脂質、及びアミノ酸脂質からなる群より選択される少なくとも一種の複合脂質であり得る。親水性物質は、例えば、アミノ酸、水溶性ビタミン、ヌクレオチド、及び糖からなる群より選択される少なくとも一種の物質であり得る。 The hydrophobic substance may be, for example, at least one derived lipid selected from the group consisting of long-chain hydrocarbons, long-chain alcohols, long-chain amino alcohols, long-chain aldehydes, long-chain ketones, long-chain acids and their salts, terpenoids, steroids, and carotenoids. Alternatively, the hydrophobic substance may be, for example, at least one simple lipid selected from the group consisting of waxes, glycerides, ether glycerides, and ceramides. Alternatively, the hydrophobic substance may be, for example, at least one complex lipid selected from the group consisting of phospholipids, glycolipids, phosphoglycolipids, sulfolipids, and amino acid lipids. The hydrophilic substance may be, for example, at least one substance selected from the group consisting of amino acids, water-soluble vitamins, nucleotides, and sugars.

内包処理は、第1粒子p1に内包対象の成分ptを内包させる処理である限り、特に限定されない。例えば、内包処理は、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを溶媒中で混合して撹拌する処理であり得る。溶媒は、例えば蒸留水である。但し、溶媒は蒸留水に限定されない。溶媒は、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを混合し、分散できる液体であればよい。例えば、溶媒は、緩衝液、糖液、食塩水、調味料溶液又は出汁であってもよい。溶媒が塩を含む場合、溶媒が塩を含まない場合と比べて、第1粒子p1中に内包される内包対象の成分ptの量を増加させることができる。 The encapsulation process is not particularly limited as long as it is a process for encapsulating the component pt to be encapsulated in the first particle p1. For example, the encapsulation process may be a process for mixing and stirring the first particle p1 and the component pt to be encapsulated in a solvent. The solvent is, for example, distilled water. However, the solvent is not limited to distilled water. The solvent may be any liquid that can mix and disperse the first particle p1 and the component pt to be encapsulated. For example, the solvent may be a buffer solution, sugar solution, salt solution, seasoning solution, or soup stock. When the solvent contains salt, the amount of the component pt to be encapsulated in the first particle p1 can be increased compared to when the solvent does not contain salt.

内包処理は、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを溶媒中で混合して得られた分散液を乾燥させる処理を含んでもよい。分散液を乾燥させることにより、乾燥状態の第2粒子p2が得られる。分散液を乾燥させる処理は、乾燥状態の第2粒子p2を得ることができる限り、特に限定されない。例えば、噴霧乾燥、加熱乾燥、凍結乾燥、又は真空乾燥により、分散液を乾燥させることができる。 The encapsulation process may include a process of drying a dispersion liquid obtained by mixing the first particles p1 and the component pt to be encapsulated in a solvent. By drying the dispersion liquid, the second particles p2 in a dry state are obtained. The process of drying the dispersion liquid is not particularly limited as long as the second particles p2 in a dry state can be obtained. For example, the dispersion liquid can be dried by spray drying, heat drying, freeze drying, or vacuum drying.

なお、内包処理は、第1粒子p1と内包対象の成分ptとを溶媒中で混合して撹拌する処理に限定されない。例えば、内包処理は、第1粒子p1と内包対象の成分ptとが分散している系の環境因子を調整する処理であり得る。環境因子には、熱、圧力、イオン濃度、及びpH値等が含まれる。例えば、イオン濃度を調整することで、共存イオン効果により、内包対象の成分ptを第1粒子p1内へ移動させることができる。具体的には、内包対象の成分ptは、熱力学第二法則により、第1粒子p1内へ移動する。第1粒子p1が、生きている酵母であり、内包対象の成分ptが亜鉛(ミネラル)である場合、内包処理は、例えば、亜鉛を添加した培地又は培養液中で酵母を培養する処理であり得る。 The encapsulation process is not limited to a process of mixing and stirring the first particles p1 and the component pt to be encapsulated in a solvent. For example, the encapsulation process may be a process of adjusting the environmental factors of the system in which the first particles p1 and the component pt to be encapsulated are dispersed. The environmental factors include heat, pressure, ion concentration, pH value, and the like. For example, by adjusting the ion concentration, the component pt to be encapsulated can be moved into the first particles p1 by the effect of coexisting ions. Specifically, the component pt to be encapsulated moves into the first particles p1 according to the second law of thermodynamics. When the first particles p1 are living yeast and the component pt to be encapsulated is zinc (a mineral), the encapsulation process may be, for example, a process of culturing the yeast in a medium or culture solution to which zinc has been added.

<第2観察工程S6>
第2観察工程S6では、内包処理後の第1粒子p1である分析対象の第2粒子p2を磁気泳動させて観察する。具体的には、第1観察工程S2と同様に、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、磁気泳動する第2粒子p2を観察する。
<Second observation step S6>
In the second observation step S6, the second particles p2 to be analyzed, which are the first particles p1 after the encapsulation process, are magnetophoresed and observed. Specifically, similarly to the first observation step S2, the magnetophoresed second particles p2 are observed using the analysis device 10 described with reference to FIG.

<第2泳動速度測定工程S7>
第2泳動速度測定工程S7では、第2観察工程S6による観察の結果から、第2粒子p2の磁気泳動速度v2を測定する。具体的には、第1泳動速度測定工程S3と同様に、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、第2粒子p2の磁気泳動速度v2を測定する。なお、本実施形態では、第2粒子p2の磁気泳動速度v2と共に、第2観察工程S6による観察の結果から第2粒子p2の粒子径d2が測定される。
<Second migration speed measurement step S7>
In the second migration velocity measurement step S7, the magnetophoretic velocity v2 of the second particle p2 is measured from the results of the observation in the second observation step S6. Specifically, similar to the first migration velocity measurement step S3, the magnetophoretic velocity v2 of the second particle p2 is measured using the analysis device 10 described with reference to Fig. 2. In this embodiment, the particle diameter d2 of the second particle p2 is measured from the results of the observation in the second observation step S6 together with the magnetophoretic velocity v2 of the second particle p2.

<第2磁化率測定工程S8>
第2磁化率測定工程S8では、第2泳動速度測定工程S7による測定の結果に基づいて、第2粒子p2の体積磁化率χs2を測定する。具体的には、第1磁化率測定工程S4と同様に、図2を参照して説明する分析装置10を用いて、第2粒子p2の体積磁化率χs2を測定する。
<Second magnetic susceptibility measurement step S8>
In the second magnetic susceptibility measurement step S8, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particles p2 is measured based on the result of the measurement in the second migration velocity measurement step S7. Specifically, similar to the first magnetic susceptibility measurement step S4, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particles p2 is measured using the analysis device 10 described with reference to FIG.

<磁化率分析工程S9>
磁化率分析工程S9では、第1磁化率測定工程S4による測定の結果と、第2磁化率測定工程S8による測定の結果とに基づいて、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。具体的には、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2との異同を分析する。第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とが異なる値を示す場合、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されていると判定される。
<Magnetic susceptibility analysis step S9>
In the magnetic susceptibility analysis step S9, it is analyzed whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2 based on the result of the measurement in the first magnetic susceptibility measurement step S4 and the result of the measurement in the second magnetic susceptibility measurement step S8. Specifically, the difference between the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 is analyzed. When the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 show different values, it is determined that the component pt to be included is included in the second particle p2.

詳しくは、第2粒子p2の体積磁化率χs2は、第2粒子p2の成分によって異なる。したがって、第2粒子p2の体積磁化率χs2は、第2粒子p2が内包対象の成分ptを内包しているか否かによって異なる。換言すると、内包対象の成分ptを内包している第2粒子p2の体積磁化率χs2は、内包対象の成分ptを内包していない第2粒子p2の体積磁化率χs2と異なる。具体的には、内包対象の成分ptを内包することにより、第2粒子p2の体積磁化率χs2は、内包対象の成分ptを内包していない第2粒子p2の体積磁化率χs2と比べて、内包対象の成分ptの体積磁化率χstに近い値になる。 More specifically, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 differs depending on the components of the second particle p2. Therefore, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 differs depending on whether the second particle p2 contains the component pt to be contained. In other words, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 containing the component pt to be contained differs from the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 not containing the component pt to be contained. Specifically, by containing the component pt to be contained, the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 becomes closer to the volume magnetic susceptibility χst of the component pt to be contained compared to the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 not containing the component pt to be contained.

したがって、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とを比較することにより、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを判定することができる。より具体的には、第2粒子p2の体積磁化率χs2が、第1粒子p1の体積磁化率χs1と比べて、内包対象の成分ptの体積磁化率χstに近い値であれば、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されていると判定される。 Therefore, by comparing the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 with the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2, it is possible to determine whether or not the component pt to be encapsulated is contained in the second particle p2. More specifically, if the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 is closer to the volume magnetic susceptibility χst of the component pt to be encapsulated than the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1, it is determined that the component pt to be encapsulated is contained in the second particle p2.

なお、第2粒子p2は、体積磁化率χs2の測定後、乾燥させてもよい。例えば、第2観察工程S6後に、溶質(分散質)である第2粒子p2が分散している溶液(分散液)を乾燥させることにより、乾燥状態の第2粒子p2が得られる。分散液を乾燥させる処理は、乾燥状態の第2粒子p2を得ることができる限り、特に限定されない。例えば、噴霧乾燥、加熱乾燥、凍結乾燥、又は真空乾燥により、分散液を乾燥させることができる。 The second particles p2 may be dried after the measurement of the volume magnetic susceptibility χs2. For example, after the second observation step S6, the solution (dispersion liquid) in which the second particles p2, which are the solute (dispersoid), are dispersed is dried to obtain the second particles p2 in a dry state. The process for drying the dispersion liquid is not particularly limited as long as the second particles p2 in a dry state can be obtained. For example, the dispersion liquid can be dried by spray drying, heat drying, freeze drying, or vacuum drying.

<分析装置10>
続いて図1及び図2を参照して、本実施形態の分析装置10を説明する。図2は、本実施形態に係る分析装置10の模式図である。分析装置10は、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。
<Analysis device 10>
Next, an analysis device 10 according to the present embodiment will be described with reference to Fig. 1 and Fig. 2. Fig. 2 is a schematic diagram of the analysis device 10 according to the present embodiment. The analysis device 10 analyzes whether or not a component pt to be included is included in the second particle p2.

図2に示すように、分析装置10は、磁場生成部20と、観察部30と、演算部40とを備える。磁場生成部20の近傍にセル21が配置される。磁場生成部20は、磁場を生成してセル21内の粒子pを磁気泳動させる。観察部30は、セル21内の粒子pを観察する。演算部40は、観察部30による観察の結果から、粒子pの粒子径d及び磁気泳動速度vを測定する。また、演算部40は、粒子pの粒子径d及び磁気泳動速度vに基づいて、粒子pの体積磁化率χsを測定する。 As shown in FIG. 2, the analysis device 10 includes a magnetic field generating unit 20, an observation unit 30, and a calculation unit 40. A cell 21 is disposed near the magnetic field generating unit 20. The magnetic field generating unit 20 generates a magnetic field to magnetophoretically migrate particles p in the cell 21. The observation unit 30 observes the particles p in the cell 21. The calculation unit 40 measures the particle diameter d and magnetophoretic velocity v of the particles p from the results of observation by the observation unit 30. The calculation unit 40 also measures the volume magnetic susceptibility χs of the particles p based on the particle diameter d and magnetophoretic velocity v of the particles p.

詳しくは、第1観察工程S2において、磁場生成部20は、セル21内の第1粒子p1を磁気泳動させ、観察部30は、セル21内の第1粒子p1を観察する。第1泳動速度測定工程S3において、演算部40は、観察部30による観察の結果から、第1粒子p1の磁気泳動速度v1を測定する。本実施形態では、演算部40は、観察部30による観察の結果から、第1粒子p1の磁気泳動速度v1と共に、第1粒子p1の粒子径d1を測定する。また、第1磁化率測定工程S4において、演算部40は、第1粒子p1の磁気泳動速度v1及び粒子径d1に基づいて、第1粒子p1の体積磁化率χs1を測定する。 In more detail, in the first observation step S2, the magnetic field generating unit 20 magnetophores the first particle p1 in the cell 21, and the observation unit 30 observes the first particle p1 in the cell 21. In the first migration velocity measurement step S3, the calculation unit 40 measures the magnetophoretic velocity v1 of the first particle p1 from the result of observation by the observation unit 30. In this embodiment, the calculation unit 40 measures the particle diameter d1 of the first particle p1 as well as the magnetophoretic velocity v1 of the first particle p1 from the result of observation by the observation unit 30. In addition, in the first magnetic susceptibility measurement step S4, the calculation unit 40 measures the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 based on the magnetophoretic velocity v1 and particle diameter d1 of the first particle p1.

更に、磁場生成部20は、第2観察工程S6において、セル21内の第2粒子p2を磁気泳動させ、観察部30は、セル21内の第2粒子p2を観察する。第2泳動速度測定工程S7において、演算部40は、観察部30による観察の結果から、第2粒子p2の磁気泳動速度v2を測定する。本実施形態では、演算部40は、観察部30による観察の結果から、第2粒子p2の磁気泳動速度v2と共に、第2粒子p2の粒子径d2を測定する。また、第2磁化率測定工程S8において、演算部40は、第2粒子p2の磁気泳動速度v2及び粒子径d2に基づいて、第2粒子p2の体積磁化率χs2を測定する。 Furthermore, in the second observation step S6, the magnetic field generating unit 20 magnetophores the second particle p2 in the cell 21, and the observation unit 30 observes the second particle p2 in the cell 21. In the second migration velocity measurement step S7, the calculation unit 40 measures the magnetophoretic velocity v2 of the second particle p2 from the results of the observation by the observation unit 30. In this embodiment, the calculation unit 40 measures the particle diameter d2 of the second particle p2 as well as the magnetophoretic velocity v2 of the second particle p2 from the results of the observation by the observation unit 30. In addition, in the second magnetic susceptibility measurement step S8, the calculation unit 40 measures the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 based on the magnetophoretic velocity v2 and particle diameter d2 of the second particle p2.

更に、演算部40は、磁化率分析工程S9において、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とに基づいて、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。 Furthermore, in the magnetic susceptibility analysis step S9, the calculation unit 40 analyzes whether or not the component pt to be contained is contained in the second particle p2 based on the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2.

以下、分析装置10について更に詳細に説明する。磁場生成部20は、磁場勾配(磁束密度の勾配)を生成して、セル21内の粒子pに磁気力を作用させる。この結果、粒子pが磁気泳動する。本実施形態において、磁場生成部20は、磁場勾配を生成する2つの永久磁石20a、20b(図3参照)を備える。2つの永久磁石20a、20bは、例えば100μm以上500μm以下の一定距離の空隙を空けて配置される。セル21は、2つの永久磁石20a、20bの間の空隙に配置される。 The analysis device 10 will be described in more detail below. The magnetic field generating unit 20 generates a magnetic field gradient (magnetic flux density gradient) and applies a magnetic force to the particles p in the cell 21. As a result, the particles p undergo magnetic migration. In this embodiment, the magnetic field generating unit 20 includes two permanent magnets 20a, 20b (see FIG. 3) that generate a magnetic field gradient. The two permanent magnets 20a, 20b are arranged with a gap of a fixed distance, for example, 100 μm or more and 500 μm or less. The cell 21 is arranged in the gap between the two permanent magnets 20a, 20b.

本実施形態において、セル21はキャピラリー管である。キャピラリー管は管状部材の一例である。セル21の材質は、可視光あるいはレーザー光を透過し得る材質であれば特に限定されない。例えば、セル21は、ガラス製あるいはプラスチック製であり得る。 In this embodiment, the cell 21 is a capillary tube. A capillary tube is an example of a tubular member. The material of the cell 21 is not particularly limited as long as it is a material that can transmit visible light or laser light. For example, the cell 21 can be made of glass or plastic.

粒子pは、例えばマイクロシリンジ、マイクロポンプ、又はオートサンプラーにより、媒体mと共にセル21に導入される。あるいは、粒子pは、サイフォンの原理に基づいて、媒体mと共にセル21に導入され得る。あるいは、粒子pを含む液滴を毛細管現象によってセル21(キャピラリー管)に導入してもよい。粒子pを含む液滴がキャピラリー管の一方端に滴下されると、毛細管現象によって液滴がキャピラリー管を流れる。 Particles p are introduced into cell 21 together with medium m, for example, by a microsyringe, a micropump, or an autosampler. Alternatively, particles p may be introduced into cell 21 together with medium m based on the siphon principle. Alternatively, droplets containing particles p may be introduced into cell 21 (capillary tube) by capillary action. When droplets containing particles p are dripped onto one end of the capillary tube, the droplets flow through the capillary tube by capillary action.

粒子pは、媒体m中に存在する。媒体m中に1つの粒子pが存在してもよいし、媒体m中に複数の粒子pが存在してもよい。媒体m中に複数の粒子pが存在する場合、複数の粒子pは、媒体m中で分散していてもよいし、媒体m中で偏在していてもよい。媒体mは、例えば蒸留水である。分析装置10は、媒体m中に存在する複数の粒子pの個々の体積磁化率χsを測定する。 Particle p is present in medium m. There may be one particle p in medium m, or multiple particles p in medium m. When multiple particles p are present in medium m, the multiple particles p may be dispersed in medium m, or may be unevenly distributed in medium m. Medium m is, for example, distilled water. The analysis device 10 measures the volume magnetic susceptibility χs of each of the multiple particles p present in medium m.

観察部30は、セル21内の粒子pを観察して、観察結果を示す信号を生成する。演算部40は、観察部30が生成する信号に基づいて、粒子pの磁気泳動速度v及び粒子径dを測定する。演算部40は、記憶部41と、処理部42と、出力部43とを備える。 The observation unit 30 observes the particles p in the cell 21 and generates a signal indicating the observation result. The calculation unit 40 measures the magnetophoretic velocity v and particle diameter d of the particles p based on the signal generated by the observation unit 30. The calculation unit 40 includes a memory unit 41, a processing unit 42, and an output unit 43.

記憶部41は、プログラム及び設定情報などを記憶する。記憶部41は、例えば、ストレージデバイス及び半導体メモリーによって構成され得る。ストレージデバイスは、例えば、HDD(Hard Disk Drive)である。記憶部41は、半導体メモリーとして、例えば、RAM(Random Access Memory)及びROM(Read Only Memory)を有し得る。 The memory unit 41 stores programs, setting information, and the like. The memory unit 41 may be configured, for example, with a storage device and a semiconductor memory. The storage device is, for example, a HDD (Hard Disk Drive). The memory unit 41 may have, as the semiconductor memory, for example, a RAM (Random Access Memory) and a ROM (Read Only Memory).

処理部42は、記憶部41に記憶されたプログラムを実行することによって、数値計算や情報処理、機器制御のような様々な処理を行う。処理部42は、例えばCPU(Central Processing Unit)又はマイクロコンピュータのようなプロセッサーによって構成される。あるいは、処理部42は、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)のような集積回路によって構成される。集積回路は、論理回路を有する。処理部42は、プロセッサー及び集積回路によって構成されてもよい。なお、演算部40として、例えばパーソナルコンピューターのような汎用コンピューターが用いられてもよい。 The processing unit 42 executes the programs stored in the memory unit 41 to perform various processes such as numerical calculations, information processing, and device control. The processing unit 42 is configured with a processor such as a CPU (Central Processing Unit) or a microcomputer. Alternatively, the processing unit 42 is configured with an integrated circuit such as an ASIC (Application Specific Integrated Circuit). The integrated circuit has a logic circuit. The processing unit 42 may be configured with a processor and an integrated circuit. Note that a general-purpose computer such as a personal computer may be used as the calculation unit 40.

処理部42は、観察部30の観察結果(観察部30が生成する信号)から、セル21内における粒子pの位置の時間的な変化を測定する。例えば、処理部42は、所定の時間間隔ごとに、セル21内における粒子pの位置を測定する。換言すると、異なる時刻の粒子pの位置を測定する。処理部42は、粒子pの位置の時間的な変化から、粒子pの磁気泳動速度vを測定する。 The processing unit 42 measures the change over time of the position of the particle p in the cell 21 from the observation results of the observation unit 30 (the signal generated by the observation unit 30). For example, the processing unit 42 measures the position of the particle p in the cell 21 at each predetermined time interval. In other words, it measures the position of the particle p at different times. The processing unit 42 measures the magnetophoretic velocity v of the particle p from the change over time of the position of the particle p.

また、処理部42は、観察部30が生成する信号から、粒子pの粒子径dを測定する。処理部42は、更に、粒子pの磁気泳動速度v及び粒子径dに基づいて、粒子pの体積磁化率χsを測定する。 The processing unit 42 also measures the particle diameter d of the particle p from the signal generated by the observation unit 30. The processing unit 42 further measures the volume magnetic susceptibility χs of the particle p based on the magnetophoretic velocity v and particle diameter d of the particle p.

例えば、処理部42は、以下の式(1)に基づいて、粒子pの体積磁化率χsを算出する。
v={2(χs-χm)r2/9ημo}B(dB/dx)・・・(1)
For example, the processing unit 42 calculates the volume magnetic susceptibility χs of the particle p based on the following formula (1).
v={2(χs-χm)r 2 /9ημ o }B(dB/dx)...(1)

式(1)において、vは粒子pの磁気泳動速度であり、χsは粒子pの体積磁化率であり、χmは媒体mの体積磁化率であり、rは粒子pの半径であり、ηは媒体mの粘性率であり、μoは真空の透磁率であり、Bは磁束密度であり、dB/dxは磁場勾配(磁束密度の勾配)である。式(1)は、セル21(キャピラリー管)の軸方向(x方向)において粒子p及び媒体mが受ける磁気力の差と、粘性抵抗力とがほぼ等しいことから導かれる。 In formula (1), v is the magnetophoretic velocity of particle p, χs is the volume magnetic susceptibility of particle p, χm is the volume magnetic susceptibility of medium m, r is the radius of particle p, η is the viscosity of medium m, μo is the permeability of a vacuum, B is the magnetic flux density, and dB/dx is the magnetic field gradient (gradient of magnetic flux density). Formula (1) is derived from the fact that the difference in magnetic force acting on particle p and medium m in the axial direction (x direction) of cell 21 (capillary tube) is approximately equal to the viscous resistance force.

なお、磁気泳動速度v及び体積磁化率χsは、処理部42が測定した測定値である。粒子pの半径rは、例えば、処理部42が、測定した粒子pの粒子径dから算出する。媒体mの体積磁化率χm、媒体mの粘性率η、真空の透磁率μo、磁束密度B、及び磁場勾配dB/dxは、記憶部41に予め記憶されている。例えば、分析者は、キーボード、マウス又はタッチディスプレイのような入力装置を操作して、媒体mの体積磁化率χm、媒体mの粘性率η、真空の透磁率μo、磁束密度B、及び磁場勾配dB/dxを記憶部41に記憶させることができる。媒体mの体積磁化率χm、媒体mの粘性率η、真空の透磁率μoは、例えば文献値である。磁束密度B、及び磁場勾配dB/dxは、例えば測定値である。 The magnetophoretic velocity v and the volume magnetic susceptibility χs are measured values measured by the processing unit 42. The radius r of the particle p is calculated, for example, by the processing unit 42 from the particle diameter d of the particle p measured. The volume magnetic susceptibility χm of the medium m, the viscosity η of the medium m, the magnetic permeability μ o of the vacuum, the magnetic flux density B, and the magnetic field gradient dB/dx are stored in advance in the storage unit 41. For example, an analyst can operate an input device such as a keyboard, a mouse, or a touch display to store the volume magnetic susceptibility χm of the medium m, the viscosity η of the medium m, the magnetic permeability μ o of the vacuum, the magnetic flux density B, and the magnetic field gradient dB/dx in the storage unit 41. The volume magnetic susceptibility χm of the medium m, the viscosity η of the medium m, and the magnetic permeability μ o of the vacuum are, for example, literature values. The magnetic flux density B and the magnetic field gradient dB/dx are, for example, measured values.

記憶部41は、第1磁化率測定工程S4において測定された第1粒子p1の体積磁化率χs1を記憶する。また、記憶部41は、第2磁化率測定工程S8において測定された第2粒子p2の体積磁化率χs2を記憶する。処理部42は、記憶部41にアクセスして、第1粒子p1の体積磁化率χs1及び第2粒子p2の体積磁化率χs2を記憶部41から取得する。そして、処理部42は、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とを比較することにより、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。より具体的には、処理部42は、第2粒子p2の体積磁化率χs2が、第1粒子p1の体積磁化率χs1と比べて、内包対象の成分ptの体積磁化率χstに近い値であれば、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されていると判定する。 The memory unit 41 stores the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 measured in the first magnetic susceptibility measurement process S4. The memory unit 41 also stores the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 measured in the second magnetic susceptibility measurement process S8. The processing unit 42 accesses the memory unit 41 and acquires the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 from the memory unit 41. The processing unit 42 then compares the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 with the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2. More specifically, if the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 is closer to the volume magnetic susceptibility χst of the component pt to be encapsulated than the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1, the processing unit 42 determines that the component pt to be encapsulated is encapsulated in the second particle p2.

なお、内包対象の成分ptの体積磁化率χstは、予め記憶部41に記憶されている。例えば、内包対象の成分ptの体積磁化率χstは文献値であり得る。この場合、分析者は、入力装置を操作して、内包対象の成分ptの体積磁化率χst(文献値)を記憶部41に記憶させる。あるいは、分析者は、分析装置10を用いて、内包対象の成分ptの体積磁化率χstを測定してもよい。この場合、処理部42によって測定された内包対象の成分ptの体積磁化率χstが、記憶部41に記憶される。 The volume magnetic susceptibility χst of the inclusion target component pt is stored in advance in the storage unit 41. For example, the volume magnetic susceptibility χst of the inclusion target component pt can be a literature value. In this case, the analyst operates the input device to store the volume magnetic susceptibility χst (literature value) of the inclusion target component pt in the storage unit 41. Alternatively, the analyst may use the analysis device 10 to measure the volume magnetic susceptibility χst of the inclusion target component pt. In this case, the volume magnetic susceptibility χst of the inclusion target component pt measured by the processing unit 42 is stored in the storage unit 41.

出力部43は、処理部42による分析結果(判定結果)を出力する。具体的には、出力部43は、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを示す情報を出力する。出力部43は、例えば、ディスプレイを含む。この場合、処理部42は、分析結果を示す情報をディスプレイに表示させる。出力部43は、ディスプレイに加えて、又はディスプレイに代えて、通信インターフェイスを含み得る。通信インターフェイスは、例えば、USB(Universal Serial Bus)コネクタである。この場合、処理部42は、分析結果を示す信号を、通信インターフェイス及びUSBケーブを介して外部装置へ出力する。外部装置は、例えば、ディスプレイ又はプリンターである。外部装置がディスプレイである場合、外部装置に、分析結果を示す情報が表示される。外部装置がプリンターである場合、分析結果を示す画像が印刷される。あるいは、外部装置は、USBメモリーであり得る。この場合、処理部42は、分析結果を示す信号を、通信インターフェイスを介してUSBメモリーへ出力する。この結果、分析結果を示す情報がUSBメモリーに記憶される。 The output unit 43 outputs the analysis result (determination result) by the processing unit 42. Specifically, the output unit 43 outputs information indicating whether or not the component pt to be encapsulated is encapsulated in the second particle p2. The output unit 43 includes, for example, a display. In this case, the processing unit 42 displays information indicating the analysis result on the display. The output unit 43 may include a communication interface in addition to the display or instead of the display. The communication interface is, for example, a USB (Universal Serial Bus) connector. In this case, the processing unit 42 outputs a signal indicating the analysis result to an external device via the communication interface and a USB cable. The external device is, for example, a display or a printer. When the external device is a display, information indicating the analysis result is displayed on the external device. When the external device is a printer, an image indicating the analysis result is printed. Alternatively, the external device may be a USB memory. In this case, the processing unit 42 outputs a signal indicating the analysis result to the USB memory via the communication interface. As a result, information showing the analysis results is stored in the USB memory.

続いて図3(a)及び図3(b)を参照して、粒子pの動きを説明する。図3(a)及び図3(b)は、粒子pの動きを示す図である。図3(a)及び図3(b)に示すように、磁場生成部20は、磁極がN極の永久磁石20aと、磁極がS極の永久磁石20bとを備える。2つの永久磁石20a、20bは、セル21を挟んで対向する。 Next, the movement of particle p will be described with reference to Figures 3(a) and 3(b). Figures 3(a) and 3(b) are diagrams showing the movement of particle p. As shown in Figures 3(a) and 3(b), the magnetic field generating unit 20 includes a permanent magnet 20a with a north magnetic pole and a permanent magnet 20b with a south magnetic pole. The two permanent magnets 20a and 20b face each other with the cell 21 in between.

図3(a)に示すように、粒子pの体積磁化率χsが媒体mの体積磁化率χmよりも小さい場合、粒子pは磁場(磁場生成部20)から遠ざかる方向に移動する。一方、図3(b)に示すように、粒子pの体積磁化率χsが媒体mの体積磁化率χmよりも大きい場合、粒子pは磁場(磁場生成部20)に近づく方向に移動する。 As shown in FIG. 3(a), when the volume magnetic susceptibility χs of particle p is smaller than the volume magnetic susceptibility χm of medium m, particle p moves in a direction away from the magnetic field (magnetic field generating unit 20). On the other hand, as shown in FIG. 3(b), when the volume magnetic susceptibility χs of particle p is larger than the volume magnetic susceptibility χm of medium m, particle p moves in a direction toward the magnetic field (magnetic field generating unit 20).

図3(a)及び図3(b)に示すように、粒子pの動きは、粒子pの体積磁化率χsと、媒体mの体積磁化率χmとの関係に応じて決定される。なお、粒子pは永久磁石20a、20bの端部の近傍において力を受ける。例えば、粒子pは永久磁石20a、20bの端部の近傍から±200μm程度の範囲で力を受ける。 As shown in Figures 3(a) and 3(b), the movement of particle p is determined according to the relationship between the volume magnetic susceptibility χs of particle p and the volume magnetic susceptibility χm of medium m. Note that particle p is subjected to force in the vicinity of the ends of permanent magnets 20a and 20b. For example, particle p is subjected to force within a range of about ±200 μm from the vicinity of the ends of permanent magnets 20a and 20b.

続いて図4を参照して、分析装置10について更に説明する。図4は、分析装置10の構成を示す図である。図4に示すように、分析装置10は、光源50を更に備える。また、観察部30は、拡大部32及び撮像部34を備える。 Next, the analysis device 10 will be further described with reference to FIG. 4. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the analysis device 10. As shown in FIG. 4, the analysis device 10 further includes a light source 50. In addition, the observation unit 30 includes a magnification unit 32 and an imaging unit 34.

光源50は、可視光成分を含む比較的高い強度の光を出射する。光源50は、セル21に光を照射する。この結果、粒子pに光が照射される。光源50から出射される光の波長スペクトルは比較的ブロードであってもよい。光源50として、例えば、ハロゲンランプが好適に用いられる。 The light source 50 emits light of a relatively high intensity that includes a visible light component. The light source 50 irradiates the cell 21 with light. As a result, the particle p is irradiated with light. The wavelength spectrum of the light emitted from the light source 50 may be relatively broad. For example, a halogen lamp is preferably used as the light source 50.

セル21に導入された粒子pは、拡大部32によって適当な倍率で拡大されて、撮像部34で撮像される。撮像部34の撮像結果(撮像部34が撮像した画像)から、粒子pの位置を特定できる。例えば、拡大部32は対物レンズを含み、撮像部34は電荷結合素子(Charge Coupled Device:CCD)を含む。あるいは、撮像部34の各画素は、フォトダイオード又は光電子倍増管で構成されてもよい。撮像部34は、例えば、所定の時間間隔ごとに粒子pを撮像する。なお、撮像部34は、光源50から出射されてセル21を透過した光を撮像してもよいし、光源50から出射されて粒子pによって散乱された光を撮像してもよい。 The particle p introduced into the cell 21 is magnified at an appropriate magnification by the magnifying unit 32 and imaged by the imaging unit 34. The position of the particle p can be identified from the imaging result of the imaging unit 34 (the image captured by the imaging unit 34). For example, the magnifying unit 32 includes an objective lens, and the imaging unit 34 includes a charge coupled device (CCD). Alternatively, each pixel of the imaging unit 34 may be composed of a photodiode or a photomultiplier tube. The imaging unit 34 images the particle p at, for example, a predetermined time interval. The imaging unit 34 may image the light emitted from the light source 50 and transmitted through the cell 21, or may image the light emitted from the light source 50 and scattered by the particle p.

演算部40(処理部42)は、撮像部34の撮像結果から、粒子pの位置の時間的な変化を測定し、粒子pの位置の時間的な変化から粒子pの磁気泳動速度vを測定する。 The calculation unit 40 (processing unit 42) measures the change in the position of the particle p over time from the imaging results of the imaging unit 34, and measures the magnetic migration velocity v of the particle p from the change in the position of the particle p over time.

また、演算部40(処理部42)は、粒子pの撮像結果から粒子pの粒子径dを測定する。例えば、演算部40(処理部42)は、以下の処理を実行する。即ち、まず、撮像部34によって撮像された画像をモノクロ化し、その輝度を数値化する。次に、輝度値の微分値をしきい値と比較して粒子pの境界を設定する。次に、設定した境界から粒子pの面積を検出し、その面積に対応する円の半径から粒子径dを算出する。あるいは、粒子pの中心を規定し、粒子pの中心を通過する複数の直線を引き、各直線において粒子pの境界と交わる2つの点の間の距離の平均を算出する。 The calculation unit 40 (processing unit 42) also measures the particle diameter d of the particle p from the imaging result of the particle p. For example, the calculation unit 40 (processing unit 42) executes the following process. That is, first, the image captured by the imaging unit 34 is converted to monochrome and its brightness is quantified. Next, the differential value of the brightness value is compared with a threshold value to set the boundary of the particle p. Next, the area of the particle p is detected from the set boundary, and the particle diameter d is calculated from the radius of the circle corresponding to that area. Alternatively, the center of the particle p is specified, multiple straight lines are drawn that pass through the center of the particle p, and the average distance between two points where each straight line intersects with the boundary of the particle p is calculated.

以上、図1~図4を参照して、本発明の実施形態1を説明した。本実施形態によれば、分析対象の粒子(第2粒子p2)に内包対象の成分ptが内包されているか否かを、分析対象ごとに分析することができる。 The first embodiment of the present invention has been described above with reference to Figs. 1 to 4. According to this embodiment, it is possible to analyze whether or not the component pt to be included is included in the particle to be analyzed (second particle p2) for each analysis target.

なお、体積磁化率χs1の測定対象の粒子pは、第1粒子準備工程S1において準備した第1粒子p1の全部であってもよいし、一部であってもよい。同様に、体積磁化率χs2の測定対象の粒子pは、内包処理工程S5において得た第2粒子p2の全部であってもよいし、一部であってもよい。 The particles p for which the volume magnetic susceptibility χs1 is measured may be all or a part of the first particles p1 prepared in the first particle preparation process S1. Similarly, the particles p for which the volume magnetic susceptibility χs2 is measured may be all or a part of the second particles p2 obtained in the encapsulation process S5.

[実施形態2]
続いて図5を参照して、本発明の実施形態2を説明する。但し、実施形態1と異なる事項を説明し、実施形態1と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態2は、分光学的に第2粒子p2を分析する点で、実施形態1と異なる。
[Embodiment 2]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. 5. However, differences from the first embodiment will be described, and a description of the same matters as in the first embodiment will be omitted. The second embodiment differs from the first embodiment in that the second particles p2 are spectroscopically analyzed.

図5は、本実施形態に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。本実施形態の粒子製造方法は、分光光学的分析工程S10を更に含む。 Figure 5 is a flowchart showing the particle manufacturing method according to this embodiment. The particle manufacturing method according to this embodiment further includes a spectroscopic analysis step S10.

<分光光学的分析工程S10>
分光光学的分析工程S10では、第2粒子p2を分光学的に観察して、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。詳しくは、第2粒子p2にレーザー光を照射して、第2粒子p2から散乱した散乱光を検出し、散乱光のスペクトルを解析する。試料から散乱した散乱光のスペクトルを解析することにより、試料の分子構造を同定することができるため、第2粒子p2から散乱した散乱光から、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析することができる。詳しくは、散乱光のスペクトルに、内包対象の成分ptを示すスペクトルが含まれているか否かを分析する。
<Spectroscopic analysis step S10>
In the spectroscopic analysis step S10, the second particle p2 is observed spectroscopically to analyze whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2. Specifically, the second particle p2 is irradiated with laser light, the scattered light scattered from the second particle p2 is detected, and the spectrum of the scattered light is analyzed. By analyzing the spectrum of the scattered light scattered from the sample, the molecular structure of the sample can be identified, and therefore, it is possible to analyze whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2 from the scattered light scattered from the second particle p2. Specifically, it is analyzed whether or not the spectrum of the scattered light includes a spectrum indicating the component pt to be included.

例えば、ラマン分光装置を用いてラマンスペクトルを解析することにより、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析することができる。ラマン分光装置は、顕微鏡を備えてもよい。換言すると、ラマン分光装置は、共焦点ラマン顕微鏡であり得る。 For example, by analyzing the Raman spectrum using a Raman spectrometer, it is possible to analyze whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2. The Raman spectrometer may include a microscope. In other words, the Raman spectrometer may be a confocal Raman microscope.

具体的には、ラマン分光装置は、レーザー光源と、検出器と、演算部とを備える。レーザー光源は、第2粒子p2にレーザー光を照射して、第2粒子p2から散乱光を発生させる。検出器は、散乱光を検出する。ラマン分光装置の演算部は、検出器の出力に基づいて、散乱光のスペクトルを解析する。詳しくは、演算部は、散乱光のスペクトルを解析することにより、第2粒子p2の分子構造を同定する。演算部は、例えば、マイクロコンピュータ、又はASICを含む。 Specifically, the Raman spectroscopy device includes a laser light source, a detector, and a calculation unit. The laser light source irradiates the second particle p2 with laser light to generate scattered light from the second particle p2. The detector detects the scattered light. The calculation unit of the Raman spectroscopy device analyzes the spectrum of the scattered light based on the output of the detector. In detail, the calculation unit identifies the molecular structure of the second particle p2 by analyzing the spectrum of the scattered light. The calculation unit includes, for example, a microcomputer or an ASIC.

なお、散乱光のスペクトルの解析に、図2を参照して説明した演算部40が使用されてもよい。詳しくは、ラマン分光装置の検出器からの出力を演算部40に入力する。演算部40の処理部42は、検出器の出力に基づいて散乱光のスペクトルを解析し、解析結果から、散乱光のスペクトルに内包対象の成分ptを示すスペクトルが含まれているか否かを分析する。 The calculation unit 40 described with reference to FIG. 2 may be used to analyze the spectrum of the scattered light. In particular, the output from the detector of the Raman spectrometer is input to the calculation unit 40. The processing unit 42 of the calculation unit 40 analyzes the spectrum of the scattered light based on the output of the detector, and analyzes from the analysis results whether the spectrum of the scattered light contains a spectrum indicating the component pt to be included.

以上、図5を参照して、本発明の実施形態2を説明した。本実施形態によれば、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とに基づく分析に加えて、分光光学的に、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析することができる。したがって、分析対象の粒子(第2粒子p2)に内包対象の成分ptが内包されているか否かを、分析対象ごとに、より確実に分析することができる。 Above, the second embodiment of the present invention has been described with reference to FIG. 5. According to this embodiment, in addition to the analysis based on the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2, it is possible to spectroscopically analyze whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2. Therefore, it is possible to more reliably analyze for each analysis target whether or not the component pt to be included is included in the particle to be analyzed (second particle p2).

なお、分光光学的に分析する対象の粒子pは、内包処理工程S5において得た第2粒子p2の全部であってもよいし、一部であってもよい。 The particles p to be analyzed spectroscopically may be all or a portion of the second particles p2 obtained in the encapsulation process S5.

また、図5に示すフローチャートにおいて、分光光学的分析工程S10は、磁化率分析工程S9の次に実行されたが、分光光学的分析工程S10の実行順序は、磁化率分析工程S9の次に限定されない。分光光学的分析工程S10は、例えば、第2観察工程S6の前に実行されてもよい。 In the flowchart shown in FIG. 5, the spectroscopic analysis step S10 is performed after the magnetic susceptibility analysis step S9, but the order in which the spectroscopic analysis step S10 is performed is not limited to after the magnetic susceptibility analysis step S9. The spectroscopic analysis step S10 may be performed, for example, before the second observation step S6.

また、本実施形態では、ラマン分光装置を用いたが、分光装置はラマン分光装置に限定されない。例えば、紫外可視分光装置、又は赤外分光装置を用いてもよい。紫外可視分光装置を用いる場合、紫外可視吸収スペクトルを解析して、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。赤外分光装置を用いる場合、赤外吸収スペクトルを解析して、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。あるいは、赤外分光装置を用いて近赤外スペクトルを取得し、統計的処理によって近赤外スペクトルを解析することにより、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析してもよい。換言すると、近赤外スペクトルをケモメトリックス的に解析して、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析してもよい。 In addition, in this embodiment, a Raman spectrometer is used, but the spectrometer is not limited to a Raman spectrometer. For example, an ultraviolet-visible spectrometer or an infrared spectrometer may be used. When an ultraviolet-visible spectrometer is used, the ultraviolet-visible absorption spectrum is analyzed to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2. When an infrared spectrometer is used, the infrared absorption spectrum is analyzed to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2. Alternatively, a near-infrared spectrum may be obtained using an infrared spectrometer, and the near-infrared spectrum may be analyzed by statistical processing to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2. In other words, the near-infrared spectrum may be analyzed chemometrically to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2.

[実施形態3]
続いて図6を参照して、本発明の実施形態3を説明する。但し、実施形態1、2と異なる事項を説明し、実施形態1、2と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態3は、第1粒子p1及び第2粒子p2のゼータ電位を分析する点で、実施形態1、2と異なる。
[Embodiment 3]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. 6. However, differences from the first and second embodiments will be described, and a description of the same aspects as the first and second embodiments will be omitted. The third embodiment differs from the first and second embodiments in that the zeta potentials of the first particle p1 and the second particle p2 are analyzed.

図6は、本実施形態に係る粒子製造方法を示すフローチャートである。本実施形態の粒子製造方法は、第1ゼータ電位測定工程S11、第2ゼータ電位測定工程S12、及びゼータ電位分析工程S13を更に含む。 Figure 6 is a flowchart showing the particle manufacturing method according to this embodiment. The particle manufacturing method according to this embodiment further includes a first zeta potential measurement step S11, a second zeta potential measurement step S12, and a zeta potential analysis step S13.

<第1ゼータ電位測定工程S11>
第1ゼータ電位測定工程S11では、第1粒子p1のゼータ電位を測定する。詳しくは、媒体m中で第1粒子p1を電気泳動させて、第1粒子p1の電気泳動速度を測定する。そして、電気泳動速度に基づいて、第1粒子p1のゼータ電位を測定する。
<First zeta potential measurement step S11>
In the first zeta potential measurement step S11, the zeta potential of the first particles p1 is measured. More specifically, the first particles p1 are electrophoresed in a medium m, and the electrophoretic velocity of the first particles p1 is measured. Then, the zeta potential of the first particles p1 is measured based on the electrophoretic velocity.

具体的には、ゼータ電位測定装置を用いてゼータ電位を測定する。ゼータ電位測定装置は、正極の電極と、負極の電極とを備える。正極の電極と負極の電極との間にセルが配置される。セルに、溶質(分散質)である第1粒子p1が分散している溶液を封入する。ゼータ電位測定装置は、正極の電極に電圧を印加して、正極の電極と負極の電極との間に電場を発生させる。この結果、第1粒子p1が電気泳動する。ゼータ電位測定装置には、セル内で分散している粒子p全体のゼータ電位の平均値を測定する装置と、セル内で分散している粒子pの個々のゼータ電位を測定する装置とがある。 Specifically, the zeta potential is measured using a zeta potential measuring device. The zeta potential measuring device has a positive electrode and a negative electrode. A cell is placed between the positive electrode and the negative electrode. A solution in which the first particles p1, which are solutes (dispersoids), are dispersed is enclosed in the cell. The zeta potential measuring device applies a voltage to the positive electrode to generate an electric field between the positive electrode and the negative electrode. As a result, the first particles p1 electrophoretically migrate. Zeta potential measuring devices include devices that measure the average value of the zeta potential of all the particles p dispersed in the cell, and devices that measure the individual zeta potentials of the particles p dispersed in the cell.

ゼータ電位の平均値を測定する装置は、レーザー光源と、検出器と、演算部とを更に備える。レーザー光源は、電気泳動する第1粒子p1全体にレーザー光を照射して、第1粒子p1全体から散乱光を発生させる。検出器は、散乱光を検出する。詳しくは、電気泳動する第1粒子p1全体から発生する散乱光の周波数は、ドップラー効果によりシフト(変化)する。検出器は、ドップラー効果によりシフト(変化)する散乱光の周波数を検出する。 The device for measuring the average value of the zeta potential further includes a laser light source, a detector, and a calculation unit. The laser light source irradiates the entire electrophoretic first particle p1 with laser light to generate scattered light from the entire first particle p1. The detector detects the scattered light. More specifically, the frequency of the scattered light generated from the entire electrophoretic first particle p1 shifts (changes) due to the Doppler effect. The detector detects the frequency of the scattered light that shifts (changes) due to the Doppler effect.

ゼータ電位の平均値を測定する装置の演算部は、検出器の出力に基づいて、電気泳動速度の平均値を測定する。詳しくは、散乱光の周波数のシフト量(変化量)は電気泳動速度の平均値に比例する。演算部は、散乱光の周波数のシフト量を測定することにより、第1粒子p1全体の電気泳動速度の平均値を測定する。そして、演算部は、電気泳動速度の平均値に基づいて、ゼータ電位の平均値を測定する。演算部は、例えば、マイクロコンピュータ、又はASICを含む。なお、演算部として、図2を参照して説明した演算部40が使用されてもよい。 The calculation unit of the device for measuring the average value of the zeta potential measures the average value of the electrophoretic velocity based on the output of the detector. In particular, the amount of shift (change) in the frequency of the scattered light is proportional to the average value of the electrophoretic velocity. The calculation unit measures the average value of the electrophoretic velocity of the entire first particle p1 by measuring the amount of shift in the frequency of the scattered light. Then, the calculation unit measures the average value of the zeta potential based on the average value of the electrophoretic velocity. The calculation unit includes, for example, a microcomputer or an ASIC. Note that the calculation unit 40 described with reference to FIG. 2 may be used as the calculation unit.

粒子pの個々のゼータ電位を測定する装置は、ゼータ電位の平均値を測定する装置と同様に、レーザー光源と、検出器と、演算部とを更に備える。レーザー光源は、電気泳動する第1粒子p1全体にレーザー光を照射して、第1粒子p1全体から散乱光を発生させる。検出器は、対物レンズと、撮像素子とを備える。撮像素子は、例えばCCDイメージセンサ又はCMOSイメージセンサのような半導体センサであり得る。検出器は、対物レンズによって拡大された光を撮像素子によって撮像する。この結果、第1粒子p1の個々の移動の様子が撮像される。 The device for measuring the individual zeta potentials of particles p further includes a laser light source, a detector, and a calculation unit, similar to the device for measuring the average value of the zeta potential. The laser light source irradiates the entire electrophoretic first particle p1 with laser light to generate scattered light from the entire first particle p1. The detector includes an objective lens and an image sensor. The image sensor may be a semiconductor sensor such as a CCD image sensor or a CMOS image sensor. The detector captures the light magnified by the objective lens using the image sensor. As a result, the movement of each of the first particles p1 is captured.

粒子pの個々のゼータ電位を測定する装置の演算部は、検出器から出力される撮像信号に基づいて、第1粒子p1の個々の電気泳動速度を測定する。そして、演算部は、電気泳動速度に基づいて、第1粒子p1の個々のゼータ電位を測定する。演算部は、例えば、マイクロコンピュータ、又はASICを含む。なお、演算部として、図2を参照して説明した演算部40が使用されてもよい。 The calculation unit of the device that measures the individual zeta potentials of the particles p measures the individual electrophoretic velocities of the first particles p1 based on the image signals output from the detector. The calculation unit then measures the individual zeta potentials of the first particles p1 based on the electrophoretic velocities. The calculation unit includes, for example, a microcomputer or an ASIC. Note that the calculation unit 40 described with reference to FIG. 2 may be used as the calculation unit.

<第2ゼータ電位測定工程S12>
第2ゼータ電位測定工程S12では、第2粒子p2のゼータ電位を測定する。第2ゼータ電位測定工程S12は、測定対象が第2粒子p2であることを除いて、第1ゼータ電位測定工程S11と同様である。
<Second zeta potential measurement step S12>
In the second zeta potential measurement step S12, the zeta potential of the second particles p2 is measured. The second zeta potential measurement step S12 is similar to the first zeta potential measurement step S11, except that the measurement target is the second particles p2.

<ゼータ電位分析工程S13>
ゼータ電位分析工程S13では、第1ゼータ電位測定工程S11による測定の結果と、第2ゼータ電位測定工程S12による測定の結果とに基づいて、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。具体的には、第1粒子p1のゼータ電位と第2粒子p2のゼータ電位とを比較して、第1粒子p1のゼータ電位と第2粒子p2のゼータ電位との異同を分析する。第1粒子p1のゼータ電位と第2粒子p2のゼータ電位とが同じ値を示す場合、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されていると判定される。
<Zeta potential analysis step S13>
In the zeta potential analysis step S13, it is analyzed whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2 based on the result of the measurement in the first zeta potential measurement step S11 and the result of the measurement in the second zeta potential measurement step S12. Specifically, the zeta potential of the first particle p1 is compared with the zeta potential of the second particle p2 to analyze the difference between the zeta potential of the first particle p1 and the zeta potential of the second particle p2. When the zeta potential of the first particle p1 and the zeta potential of the second particle p2 show the same value, it is determined that the component pt to be included is included in the second particle p2.

詳しくは、内包対象の成分ptが、第2粒子p2に内部に進入せずに、第2粒子p2の表面に付着している場合、第2粒子p2のゼータ電位は、第1粒子p1のゼータ電位と異なる値を示す。換言すると、内包対象の成分ptが、第2粒子p2の表面に付着せず、第2粒子p2に内部に進入した場合、第2粒子p2のゼータ電位は、第1粒子p1のゼータ電位と同じ値を示す。したがって、第1粒子p1のゼータ電位と第2粒子p2のゼータ電位とを比較することにより、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析することができる。 In more detail, if the component pt to be encapsulated does not enter the second particle p2 but adheres to the surface of the second particle p2, the zeta potential of the second particle p2 will have a different value from the zeta potential of the first particle p1. In other words, if the component pt to be encapsulated does not adhere to the surface of the second particle p2 but enters the second particle p2, the zeta potential of the second particle p2 will have the same value as the zeta potential of the first particle p1. Therefore, by comparing the zeta potential of the first particle p1 with the zeta potential of the second particle p2, it is possible to analyze whether the component pt to be encapsulated is encapsulated in the second particle p2.

なお、第1粒子p1及び第2粒子p2のゼータ電位の分析に、図2を参照して説明した演算部40が使用されてもよい。詳しくは、分析者は、入力装置を操作して、第1粒子p1のゼータ電位を示すデータと、第2粒子p2のゼータ電位を示すデータとを記憶部41に記憶させる。あるいは、ゼータ電位測定装置と演算部40とを、例えばUSBケーブルのような伝送ケーブルを介して接続して、ゼータ電位測定装置から演算部40に、第1粒子p1のゼータ電位を示すデータと、第2粒子p2のゼータ電位を示すデータとを伝送させる。演算部40の処理部42は、第1粒子p1のゼータ電位と第2粒子p2のゼータ電位とを比較して、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析する。 The calculation unit 40 described with reference to FIG. 2 may be used to analyze the zeta potentials of the first particle p1 and the second particle p2. In more detail, the analyst operates the input device to store data indicating the zeta potential of the first particle p1 and data indicating the zeta potential of the second particle p2 in the memory unit 41. Alternatively, the zeta potential measuring device and the calculation unit 40 are connected via a transmission cable such as a USB cable, and the data indicating the zeta potential of the first particle p1 and data indicating the zeta potential of the second particle p2 are transmitted from the zeta potential measuring device to the calculation unit 40. The processing unit 42 of the calculation unit 40 compares the zeta potential of the first particle p1 with the zeta potential of the second particle p2 to analyze whether the component pt to be included is included in the second particle p2.

以上、図6を参照して、本発明の実施形態3を説明した。本実施形態によれば、第1粒子p1の体積磁化率χs1と第2粒子p2の体積磁化率χs2とに基づく分析と、分光光学的分析とに加えて、第1粒子p1及び第2粒子p2のゼータ電位から、第2粒子p2に内包対象の成分ptが内包されているか否かを分析することができる。したがって、分析対象の粒子(第2粒子p2)に内包対象の成分ptが内包されているか否かを、分析対象ごとに、より確実に分析することができる。 Above, the third embodiment of the present invention has been described with reference to FIG. 6. According to this embodiment, in addition to the analysis based on the volume magnetic susceptibility χs1 of the first particle p1 and the volume magnetic susceptibility χs2 of the second particle p2 and the spectroscopic analysis, it is possible to analyze whether or not the component pt to be included is included in the second particle p2 from the zeta potentials of the first particle p1 and the second particle p2. Therefore, it is possible to more reliably analyze for each analysis target whether or not the component pt to be included is included in the particle to be analyzed (second particle p2).

なお、第1ゼータ電位測定工程S11におけるゼータ電位の測定対象の粒子pは、第1粒子準備工程S1において準備した第1粒子p1の全部であってもよいし、一部であってもよい。同様に、第2ゼータ電位測定工程S12におけるゼータ電位の測定対象の粒子pは、内包処理工程S5において得た第2粒子p2の全部であってもよいし、一部であってもよい。 The particles p whose zeta potential is to be measured in the first zeta potential measurement step S11 may be all or a part of the first particles p1 prepared in the first particle preparation step S1. Similarly, the particles p whose zeta potential is to be measured in the second zeta potential measurement step S12 may be all or a part of the second particles p2 obtained in the encapsulation process S5.

また、図6に示すフローチャートにおいて、第1ゼータ電位測定工程S11は、第1磁化率測定工程S4の次に実行されたが、第1ゼータ電位測定工程S11の実行順序は、第1磁化率測定工程S4の次に限定されない。第1ゼータ電位測定工程S11は、例えば、第1観察工程S2の前に実行されてもよい。 In the flowchart shown in FIG. 6, the first zeta potential measurement step S11 is performed after the first magnetic susceptibility measurement step S4, but the order in which the first zeta potential measurement step S11 is performed is not limited to after the first magnetic susceptibility measurement step S4. The first zeta potential measurement step S11 may be performed, for example, before the first observation step S2.

同様に、図6に示すフローチャートにおいて、第2ゼータ電位測定工程S12は、第2磁化率測定工程S8の次に実行されたが、第2ゼータ電位測定工程S12の実行順序は、第2磁化率測定工程S8の次に限定されない。第2ゼータ電位測定工程S12は、例えば、第2観察工程S6の前に実行されてもよい。 Similarly, in the flowchart shown in FIG. 6, the second zeta potential measurement step S12 is performed after the second magnetic susceptibility measurement step S8, but the order in which the second zeta potential measurement step S12 is performed is not limited to after the second magnetic susceptibility measurement step S8. The second zeta potential measurement step S12 may be performed, for example, before the second observation step S6.

また、図6に示すフローチャートにおいて、ゼータ電位分析工程S13は、分光光学的分析工程S10の次に実行されるが、ゼータ電位分析工程S13の実行順序は、分光光学的分析工程S10の次に限定されない。ゼータ電位分析工程S13は、第2ゼータ電位測定工程S12よりも後に実行されればよい。例えば、ゼータ電位分析工程S13は、磁化率分析工程S9の前に実行されてもよい。 In the flowchart shown in FIG. 6, the zeta potential analysis step S13 is performed after the spectroscopic analysis step S10, but the order in which the zeta potential analysis step S13 is performed is not limited to after the spectroscopic analysis step S10. The zeta potential analysis step S13 may be performed after the second zeta potential measurement step S12. For example, the zeta potential analysis step S13 may be performed before the magnetic susceptibility analysis step S9.

また、本実施形態では、分光光学的分析工程S10が実行されるが、分光光学的分析工程S10は省略されてもよい。 In addition, in this embodiment, the spectroscopic analysis process S10 is performed, but the spectroscopic analysis process S10 may be omitted.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について説明した。なお、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。 The above describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented in various aspects without departing from the spirit of the present invention.

例えば、本発明による実施形態では、画像解析によって粒子pの粒子径dを測定したが、粒子pのブラウン運動を解析して、粒子pの粒子径dを測定してもよい。 For example, in the embodiment of the present invention, the particle diameter d of the particle p is measured by image analysis, but the particle diameter d of the particle p may also be measured by analyzing the Brownian motion of the particle p.

具体的には、セル21(キャピラリー管)の軸方向(x方向)に直交する方向(y方向)における粒子pの位置の変化(変位)の分散から拡散係数を算出し、この拡散係数から粒子pの粒子径dを測定することができる。詳しくは、粒子pは、セル21(キャピラリー管)の軸方向(x方向)に磁場勾配の影響を受けるが、セル21の軸方向に直交する方向(y方向)には磁場勾配の影響をほとんど受けない。したがって、y方向における粒子pの位置の変位の分散から拡散係数Dを算出することができる。具体的には、拡散係数Dは、ブラウン運動を行う粒子pのy方向の移動距離の2乗を2倍の時間で除算して、算出することができる。 Specifically, the diffusion coefficient is calculated from the variance of the change (displacement) in the position of particle p in the direction (y direction) perpendicular to the axial direction (x direction) of cell 21 (capillary tube), and the particle diameter d of particle p can be measured from this diffusion coefficient. In more detail, particle p is affected by the magnetic field gradient in the axial direction (x direction) of cell 21 (capillary tube), but is hardly affected by the magnetic field gradient in the direction (y direction) perpendicular to the axial direction of cell 21. Therefore, the diffusion coefficient D can be calculated from the variance of the displacement of the position of particle p in the y direction. Specifically, the diffusion coefficient D can be calculated by dividing the square of the movement distance in the y direction of particle p performing Brownian motion by twice the time.

処理部42は、以下の式(2)に基づいて、拡散係数Dから粒子pの粒子径dを測定する。式(2)において、dは粒子pの粒子径であり、kはボルツマン定数であり、Tは絶対温度であり、ηは媒体mの粘性率である。
d=kT/(3πηD)・・・(2)
The processing unit 42 measures the particle diameter d of the particle p from the diffusion coefficient D based on the following formula (2): In formula (2), d is the particle diameter of the particle p, k is the Boltzmann constant, T is the absolute temperature, and η is the viscosity of the medium m.
d=kT/(3πηD)...(2)

また、本発明の実施形態では、分析装置10が光源50を備えたが、分析装置10は、光源50に替えてレーザー光源を備えてもよいし、光源50に加えてレーザー光源を更に備えてもよい。分析装置10が光源50とレーザー光源とを備える場合、光源50から光を出射する際には、レーザー光源からのレーザー光の出射を停止させ、レーザー光源からレーザー光を出射する際には、光源50からの光の出射を停止させる。レーザー光源を使用する場合、セル21に導入された粒子pにレーザー光を照射する。観察部30は、セル21内の粒子pによって散乱されたレーザー光(散乱光)によって粒子pを観察する。例えば、図3を参照して説明した撮像部34が、拡大部32を介して、粒子pによって散乱されたレーザー光を撮像する。 In the embodiment of the present invention, the analysis device 10 includes the light source 50, but the analysis device 10 may include a laser light source instead of the light source 50, or may further include a laser light source in addition to the light source 50. When the analysis device 10 includes the light source 50 and the laser light source, when the light source 50 emits light, the laser light emission from the laser light source is stopped, and when the laser light source emits laser light, the light emission from the light source 50 is stopped. When the laser light source is used, the laser light is irradiated onto the particle p introduced into the cell 21. The observation unit 30 observes the particle p by the laser light (scattered light) scattered by the particle p in the cell 21. For example, the imaging unit 34 described with reference to FIG. 3 images the laser light scattered by the particle p via the magnification unit 32.

なお、レーザー光源を使用する場合、例えば動的光散乱法又は静的光散乱法に基づいて粒子pの粒子径dを測定してもよい。また、レーザー光を粒子pに照射する場合、キャピラリー管は、その軸方向に直交する断面形状が正方形の正方形型キャピラリーであることが好ましい。正方形型キャピラリーを使用することにより、セル21の側面のうちレーザー光が照射される面を鏡面仕上げにすることが容易になる。 When a laser light source is used, the particle diameter d of the particle p may be measured, for example, based on dynamic light scattering or static light scattering. When the particle p is irradiated with laser light, the capillary tube is preferably a square capillary with a square cross-sectional shape perpendicular to the axial direction. By using a square capillary, it becomes easier to give a mirror finish to the side surface of the cell 21 that is irradiated with the laser light.

また、本発明の実施形態では、演算部40(処理部42)が粒子pの粒子径dを測定したが、撮像部34が撮像した画像をディスプレイに表示させ、ディスプレイに表示された画像から、分析者が粒子pの粒子径dを測定してもよい。あるいは、撮像部34が撮像した画像を印刷して、印刷した画像から、分析者が粒子pの粒子径dを測定してもよい。この場合、分析者は、入力装置を操作して、粒子径dを示すデータを記憶部41に記憶させる。 In addition, in the embodiment of the present invention, the calculation unit 40 (processing unit 42) measures the particle diameter d of the particle p, but the image captured by the imaging unit 34 may be displayed on a display, and the analyst may measure the particle diameter d of the particle p from the image displayed on the display. Alternatively, the image captured by the imaging unit 34 may be printed, and the analyst may measure the particle diameter d of the particle p from the printed image. In this case, the analyst operates the input device to store data indicating the particle diameter d in the memory unit 41.

また、本発明の実施形態では、粒子径dが測定されたが、粒子径dとして文献値が用いられてもよい。この場合、分析者は、入力装置を操作して、粒子径を示すデータを記憶部41に記憶させる。 In the embodiment of the present invention, the particle diameter d is measured, but a literature value may be used as the particle diameter d. In this case, the analyst operates the input device to store data indicating the particle diameter in the memory unit 41.

また、本発明の実施形態では、撮像部34が所定の時間間隔ごとに粒子pを撮像することにより、粒子pの磁気泳動速度vを測定したが、レーザー光源を使用して、例えばレーザードップラー法に基づいて粒子pの磁気泳動速度vを測定してもよい。 In addition, in the embodiment of the present invention, the imaging unit 34 measures the magnetophoretic velocity v of the particle p by capturing an image of the particle p at a predetermined time interval, but the magnetophoretic velocity v of the particle p may also be measured using a laser light source, for example, based on the laser Doppler method.

以下、実施例を用いて本発明を更に具体的に説明する。なお、本発明は実施例の範囲に何ら限定されない。 The present invention will be described in more detail below using examples. Note that the present invention is not limited to the scope of the examples.

[実施例1]
<酵母由来のカプセル基材の製造>
まず、酵母由来のカプセル基材D11を製造した。以下、酵母由来のカプセル基材を、「酵母カプセル基材」と記載する場合がある。実施例1では、熱水処理法により、パン酵母から可溶性成分を除去して、ペースト状の固形成分を得た後、その固形成分を殺菌、乾燥して酵母カプセル基材D11を得た。酵母カプセル基材D11は、乾燥した状態であった。その後、酵母カプセル基材D11をペースト状にした。具体的には、乾燥状態の酵母カプセル基材D11を蒸留水に添加して溶液L1を調製し、溶液L1を加熱して殺菌した。その後、溶液L1を室温まで冷却して、酵母カプセル基材D11をペースト状にした。
[Example 1]
<Production of yeast-derived capsule base material>
First, a capsule substrate D11 derived from yeast was produced. Hereinafter, the capsule substrate derived from yeast may be referred to as a "yeast capsule substrate". In Example 1, soluble components were removed from baker's yeast by hot water treatment to obtain a paste-like solid component, and the solid component was sterilized and dried to obtain the yeast capsule substrate D11. The yeast capsule substrate D11 was in a dry state. Then, the yeast capsule substrate D11 was made into a paste. Specifically, the dried yeast capsule substrate D11 was added to distilled water to prepare a solution L1, and the solution L1 was heated and sterilized. Then, the solution L1 was cooled to room temperature to make the yeast capsule substrate D11 into a paste.

<洗浄処理>
洗浄処理を2回行った。具体的には、ペースト状の酵母カプセル基材D11を蒸留水に添加して撹拌し、溶液L2を調製した。その後、遠心分離機を用いて溶液L2から蒸留水を遠心分離して、第1回洗浄処理後の酵母カプセル基材D11を得た。そして、再度、第1回洗浄処理後の酵母カプセル基材D11を蒸留水に添加して撹拌し、溶液L3を調製した。そして、遠心分離機を用いて溶液L3から蒸留水を遠心分離して、第2回洗浄処理後の酵母カプセル基材D11を得た。以下、「第2回洗浄処理後の酵母カプセル基材D11」等を、「洗浄後の酵母カプセル基材D11」等と記載する場合がある。なお、洗浄後の酵母カプセル基材D11は、ペースト状であった。
<Cleaning treatment>
The washing process was performed twice. Specifically, the yeast capsule substrate D11 in the form of a paste was added to distilled water and stirred to prepare a solution L2. Then, the distilled water was centrifuged from the solution L2 using a centrifuge to obtain the yeast capsule substrate D11 after the first washing process. Then, the yeast capsule substrate D11 after the first washing process was added to distilled water again and stirred to prepare a solution L3. Then, the distilled water was centrifuged from the solution L3 using a centrifuge to obtain the yeast capsule substrate D11 after the second washing process. Hereinafter, the "yeast capsule substrate D11 after the second washing process" and the like may be described as "yeast capsule substrate D11 after washing" and the like. The yeast capsule substrate D11 after washing was in the form of a paste.

<酵母由来のカプセル基材の体積磁化率測定>
第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の個々の体積磁化率を測定した。具体的には、第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)を蒸留水に添加し、その蒸留水に超音波を照射して(超音波処理)、溶液L4を調製した。超音波処理後、溶液L4をセルに封入し、第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の個々の体積磁化率を測定した。また、体積磁化率の測定後、血球計数盤に溶液L4を封入し、顕微鏡を用いて第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の数を計数した。
<Volume magnetic susceptibility measurement of yeast-derived capsule base material>
The individual volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing) was measured. Specifically, the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing) was added to distilled water, and the distilled water was irradiated with ultrasonic waves (ultrasonic treatment) to prepare a solution L4. After ultrasonic treatment, the solution L4 was sealed in a cell, and the individual volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing) was measured. In addition, after measuring the volume magnetic susceptibility, the solution L4 was sealed in a hemocytometer, and the number of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing) was counted using a microscope.

<内包処理>
ペースト状の酵母カプセル基材D11と、d-リモネンと、蒸留水とを用いて、内包処理を行った。ペースト状の酵母カプセル基材D11、d-リモネン、及び蒸留水の配合割合は、重量比で2:1:7とした。ここで、d-リモネンの配合割合は、酵母カプセル基材D11の重量を「2」としたときのd-リモネンの重量を示す。同様に、蒸留水の配合割合は、酵母カプセル基材D11の重量を「2」としたときの蒸留水の重量を示す。
<Encapsulation treatment>
The encapsulation process was carried out using the yeast capsule substrate D11 in the form of a paste, d-limonene, and distilled water. The mixing ratio of the yeast capsule substrate D11 in the form of a paste, d-limonene, and distilled water was 2:1:7 by weight. Here, the mixing ratio of d-limonene indicates the weight of d-limonene when the weight of the yeast capsule substrate D11 is set to "2". Similarly, the mixing ratio of distilled water indicates the weight of distilled water when the weight of the yeast capsule substrate D11 is set to "2".

具体的には、蒸留水にd-リモネンを添加した後、昇温した。その後、蒸留水にペースト状の酵母カプセル基材D11を添加して撹拌し、溶液L5を調製した。撹拌後、溶液L5を加熱して殺菌した。その後、溶液L5を室温まで冷却して、ペースト状のマイクロカプセルD12を調製した。マイクロカプセルD12は、内包処理後の酵母カプセル基材D11である。なお、d-リモネンは疎水性物質であり、酵母カプセル基材D11は、その内部に疎水性の領域を有する。 Specifically, d-limonene was added to distilled water, and the temperature was then raised. Then, paste-like yeast capsule substrate D11 was added to the distilled water and stirred to prepare solution L5. After stirring, solution L5 was heated and sterilized. Then, solution L5 was cooled to room temperature to prepare paste-like microcapsules D12. Microcapsules D12 are yeast capsule substrate D11 after encapsulation treatment. Note that d-limonene is a hydrophobic substance, and yeast capsule substrate D11 has a hydrophobic region inside.

<洗浄処理>
洗浄処理を2回行った。具体的には、ペースト状のマイクロカプセルD12を蒸留水に添加して撹拌し、溶液L6を調製した。その後、遠心分離機を用いて溶液L6から蒸留水を遠心分離して、第1回洗浄処理後のマイクロカプセルD12を得た。そして、再度、第1回洗浄処理後のマイクロカプセルD12を蒸留水に添加して撹拌し、溶液L7を調製した。その後、遠心分離機を用いて溶液L7から蒸留水を遠心分離して、第2回洗浄処理後のマイクロカプセルD12を調製した。以下、「第2回洗浄処理後のマイクロカプセルD12」等を、「洗浄後のマイクロカプセルD12」等と記載する場合がある。なお、洗浄後のマイクロカプセルD12は、ペースト状であった。
<Cleaning treatment>
The washing process was performed twice. Specifically, the paste-like microcapsules D12 were added to distilled water and stirred to prepare a solution L6. Then, the distilled water was centrifuged from the solution L6 using a centrifuge to obtain the microcapsules D12 after the first washing process. Then, the microcapsules D12 after the first washing process were added to distilled water again and stirred to prepare a solution L7. Then, the distilled water was centrifuged from the solution L7 using a centrifuge to prepare the microcapsules D12 after the second washing process. Hereinafter, the "microcapsules D12 after the second washing process" and the like may be described as the "microcapsules D12 after washing" and the like. The microcapsules D12 after washing were in a paste form.

<マイクロカプセルの体積磁化率測定>
第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の個々の体積磁化率を測定した。具体的には、第2試料SP2を蒸留水に添加し、その蒸留水に超音波を照射して(超音波処理)、溶液L8を調製した。超音波処理後、溶液L8をセルに封入し、第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の個々の体積磁化率を測定した。また、体積磁化率の測定後、血球計数盤に溶液L8を封入し、顕微鏡を用いて第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の数を計数した。
<Volume magnetic susceptibility measurement of microcapsules>
The volume magnetic susceptibility of each of the second sample SP2 (microcapsules D12 after washing) was measured. Specifically, the second sample SP2 was added to distilled water, and the distilled water was irradiated with ultrasonic waves (ultrasonic treatment) to prepare solution L8. After ultrasonic treatment, solution L8 was sealed in a cell, and the volume magnetic susceptibility of each of the second sample SP2 (microcapsules D12 after washing) was measured. In addition, after measuring the volume magnetic susceptibility, solution L8 was sealed in a hemocytometer, and the number of the second sample SP2 (microcapsules D12 after washing) was counted using a microscope.

表1に、実施例1の測定結果を示す。

Figure 0007652378000001
Table 1 shows the measurement results of Example 1.
Figure 0007652378000001

図7は、実施例1に係る測定結果を示す図である。詳しくは、図7は、第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)及び第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の体積磁化率の測定結果を示す。第1試料SP1及び第2試料SP2はそれぞれ、上記実施形態の第1粒子p1及び第2粒子p2に相当する。図7において、横軸は体積磁化率を示し、縦軸は粒子数の割合(%)を示す。また、図7において、実線のグラフは第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の体積磁化率の測定結果を示し、破線のグラフは第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の体積磁化率の測定結果を示す。 Figure 7 is a diagram showing the measurement results of Example 1. In detail, Figure 7 shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing) and the second sample SP2 (microcapsule D12 after washing). The first sample SP1 and the second sample SP2 correspond to the first particle p1 and the second particle p2, respectively, in the above embodiment. In Figure 7, the horizontal axis shows the volume magnetic susceptibility, and the vertical axis shows the percentage (%) of the number of particles. Also, in Figure 7, the solid line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing), and the dashed line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP2 (microcapsule D12 after washing).

具体的には、実線のグラフは、第1試料SP1の個々の体積磁化率を測定し、測定した体積磁化率ごとに第1試料SP1の数の割合を算出することによって作成した。同様に、破線のグラフは、第2試料SP2の個々の体積磁化率を測定し、測定した体積磁化率ごとに第2試料SP2の数の割合を算出することによって作成した。 Specifically, the solid line graph was created by measuring the individual volume magnetic susceptibilities of the first sample SP1 and calculating the proportion of the number of first samples SP1 for each measured volume magnetic susceptibility. Similarly, the dashed line graph was created by measuring the individual volume magnetic susceptibilities of the second sample SP2 and calculating the proportion of the number of second samples SP2 for each measured volume magnetic susceptibility.

表1及び図7に示すように、第1試料SP1と第2試料SP2とでは、体積磁化率が異なる。体積磁化率が異なるのは、マイクロカプセルD12にd-リモネンが内包されているためである。具体的には、d-リモネンの体積磁化率は、「-8.48×10-6」である。表1に示すように、第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の体積磁化率の平均値は、第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の体積磁化率の平均値と比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。また、図7に示すように、第2試料SP2(洗浄後のマイクロカプセルD12)の体積磁化率のピークは、第1試料SP1(洗浄後の酵母カプセル基材D11)の体積磁化率のピークと比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。したがって、マイクロカプセルD12にd-リモネンが内包されていることを定量的に分析することができた。 As shown in Table 1 and FIG. 7, the volume magnetic susceptibility is different between the first sample SP1 and the second sample SP2. The difference in volume magnetic susceptibility is due to the encapsulation of d-limonene in the microcapsules D12. Specifically, the volume magnetic susceptibility of d-limonene is "-8.48 x 10 -6 ". As shown in Table 1, the average value of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP2 (microcapsules D12 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the average value of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing). Also, as shown in FIG. 7, the peak of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP2 (microcapsules D12 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the peak of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP1 (yeast capsule substrate D11 after washing). Therefore, it was possible to quantitatively analyze that d-limonene is encapsulated in the microcapsules D12.

[実施例2]
実施例2では、実施例1と同様に、第1試料SP11(洗浄後の酵母カプセル基材D21)の体積磁化率と、第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率とを測定した。実施例2は、酵母カプセル基材の種類が異なる以外、実施例1と同様である。詳しくは、実施例2では、熱水処理法により、パン酵母からペースト状の固形成分を得た後、ペースト状の固形成分に乳化剤を添加した。その後、更にプロテアーゼをペースト状の固形成分に添加した。乳化剤には、グリセリン脂肪酸エステルを用いた。プロテアーゼには、エンド型プロテアーゼを用いた。なお、酵母カプセル基材D21は、その内部に疎水性の領域を有する。
[Example 2]
In Example 2, similarly to Example 1, the volume magnetic susceptibility of the first sample SP11 (yeast capsule substrate D21 after washing) and the volume magnetic susceptibility of the second sample SP12 (microcapsule D22 after washing) were measured. Example 2 is similar to Example 1 except that the type of yeast capsule substrate is different. In detail, in Example 2, after obtaining a paste-like solid component from baker's yeast by hot water treatment, an emulsifier was added to the paste-like solid component. Then, protease was further added to the paste-like solid component. Glycerol fatty acid ester was used as the emulsifier. An endo-type protease was used as the protease. The yeast capsule substrate D21 has a hydrophobic region inside.

表2に、実施例2の測定結果を示す。

Figure 0007652378000002
Table 2 shows the measurement results of Example 2.
Figure 0007652378000002

図8は、実施例2に係る測定結果を示す図である。詳しくは、図8は、第1試料SP11及び第2試料SP12の体積磁化率の測定結果を示す。図8において、横軸は体積磁化率を示し、縦軸は粒子数の割合(%)を示す。また、図8において、実線のグラフは第1試料SP11(洗浄後の酵母カプセル基材D21)の体積磁化率の測定結果を示し、破線のグラフは第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率の測定結果を示す。 Figure 8 is a diagram showing the measurement results for Example 2. In detail, Figure 8 shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP11 and the second sample SP12. In Figure 8, the horizontal axis shows the volume magnetic susceptibility, and the vertical axis shows the percentage (%) of the particle number. In addition, in Figure 8, the solid line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP11 (yeast capsule substrate D21 after washing), and the dashed line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP12 (microcapsules D22 after washing).

表2及び図8に示すように、第1試料SP11と第2試料SP12とでは、体積磁化率が異なる。具体的には、表2に示すように、第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率の平均値は、第1試料SP11(洗浄後の酵母カプセル基材D21)の体積磁化率の平均値と比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。また、図8に示すように、第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率のピークは、第1試料SP11(洗浄後の酵母カプセル基材D21)の体積磁化率のピークと比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。したがって、マイクロカプセルD22にd-リモネンが内包されていることを定量的に分析することができた。 As shown in Table 2 and FIG. 8, the first sample SP11 and the second sample SP12 have different volume magnetic susceptibilities. Specifically, as shown in Table 2, the average value of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP12 (microcapsules D22 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the average value of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP11 (yeast capsule substrate D21 after washing). Also, as shown in FIG. 8, the peak of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP12 (microcapsules D22 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the peak of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP11 (yeast capsule substrate D21 after washing). Therefore, it was possible to quantitatively analyze that d-limonene is encapsulated in the microcapsules D22.

[実施例3]
実施例3では、実施例1と同様に、第1試料SP21(洗浄後の酵母カプセル基材D31)の体積磁化率と、第2試料SP22(洗浄後のマイクロカプセルD32)の体積磁化率とを測定した。実施例3は、酵母の種類と、酵母から菌体内成分を放出させる処理とが異なる以外、実施例1と同様である。詳しくは、実施例3では、トルラ酵母を用いた。また、酵素分解法により、トルラ酵母から菌体内成分を放出させた。なお、酵母カプセル基材D31は、その内部に疎水性の領域を有する。
[Example 3]
In Example 3, similarly to Example 1, the volume magnetic susceptibility of the first sample SP21 (yeast capsule substrate D31 after washing) and the volume magnetic susceptibility of the second sample SP22 (microcapsule D32 after washing) were measured. Example 3 is similar to Example 1, except for the type of yeast and the process for releasing intracellular components from the yeast. More specifically, in Example 3, torula yeast was used. In addition, intracellular components were released from torula yeast by an enzymatic decomposition method. The yeast capsule substrate D31 has a hydrophobic region inside.

表3に、実施例3の測定結果を示す。

Figure 0007652378000003
Table 3 shows the measurement results of Example 3.
Figure 0007652378000003

図9は、実施例3に係る測定結果を示す図である。詳しくは、図9は、第1試料SP21及び第2試料SP22の体積磁化率の測定結果を示す。図9において、横軸は体積磁化率を示し、縦軸は粒子数の割合(%)を示す。また、図9において、実線のグラフは第1試料SP21(洗浄後の酵母カプセル基材D31)の体積磁化率の測定結果を示し、破線のグラフは第2試料SP22(洗浄後のマイクロカプセルD32)の体積磁化率の測定結果を示す。 Figure 9 shows the measurement results for Example 3. In detail, Figure 9 shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP21 and the second sample SP22. In Figure 9, the horizontal axis shows the volume magnetic susceptibility, and the vertical axis shows the percentage (%) of the particle number. In addition, in Figure 9, the solid line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP21 (yeast capsule substrate D31 after washing), and the dashed line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP22 (microcapsules D32 after washing).

表3及び図9に示すように、第1試料SP21と第2試料SP22とでは、体積磁化率が異なる。具体的には、表3に示すように、第2試料SP22(洗浄後のマイクロカプセルD32)の体積磁化率の平均値は、第1試料SP21(洗浄後の酵母カプセル基材D31)の体積磁化率の平均値と比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。また、図9に示すように、第2試料SP22(洗浄後のマイクロカプセルD32)の体積磁化率のピークは、第1試料SP21(洗浄後の酵母カプセル基材D31)の体積磁化率のピークと比べて、d-リモネンの体積磁化率に近い値を示す。したがって、マイクロカプセルD32にd-リモネンが内包されていることを定量的に分析することができた。 As shown in Table 3 and FIG. 9, the first sample SP21 and the second sample SP22 have different volume magnetic susceptibilities. Specifically, as shown in Table 3, the average value of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP22 (microcapsules D32 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the average value of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP21 (yeast capsule substrate D31 after washing). Also, as shown in FIG. 9, the peak of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP22 (microcapsules D32 after washing) is closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene than the peak of the volume magnetic susceptibility of the first sample SP21 (yeast capsule substrate D31 after washing). Therefore, it was possible to quantitatively analyze that d-limonene is encapsulated in the microcapsules D32.

[実施例4]
実施例4では、ペースト状の酵母カプセル基材D21、d-リモネン、及び蒸留水の配合割合を振って内包処理を行い、配合割合ごとに、洗浄後のマイクロカプセルD22(試料SP3)の体積磁化率を測定した。具体的には、ペースト状の酵母カプセル基材D21、d-リモネン、及び蒸留水の配合割合を、重量比で「2:0:8」から「2:2.8:5.2」の範囲で振った。具体的には、酵母カプセル基材D21、d-リモネン、及び蒸留水の配合割合を、重量比で「2:0:8」、「2:0.125:7.875」、「2:0.25:7.75」、「2:0.5:7.5」、「2:1:7」、「2:2:6」、「2:2.5:5.5」、「2:2.8:5.2」とした。
[Example 4]
In Example 4, the mixing ratio of the yeast capsule substrate D21 in the form of a paste, d-limonene, and distilled water was varied to carry out the encapsulation process, and the volume magnetic susceptibility of the microcapsule D22 (sample SP3) after washing was measured for each mixing ratio. Specifically, the mixing ratio of the yeast capsule substrate D21 in the form of a paste, d-limonene, and distilled water was varied in the range of "2:0:8" to "2:2.8:5.2" by weight ratio. Specifically, the mixing ratio of the yeast capsule substrate D21, d-limonene, and distilled water was set to "2:0:8", "2:0.125:7.875", "2:0.25:7.75", "2:0.5:7.5", "2:1:7", "2:2:6", "2:2.5:5.5", and "2:2.8:5.2" by weight ratio.

図10は、実施例4に係る第1測定結果を示す図である。詳しくは、図10は、試料SP3(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率の測定結果を示す。図10において、横軸はd-リモネンの配合割合(重量比)を示し、縦軸は体積磁化率(平均値)を示す。 Figure 10 shows the first measurement results for Example 4. In detail, Figure 10 shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of sample SP3 (microcapsules D22 after washing). In Figure 10, the horizontal axis shows the blending ratio (weight ratio) of d-limonene, and the vertical axis shows the volume magnetic susceptibility (average value).

図10に示すように、d-リモネンの配合割合が増えるに従い、試料SP3(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率が、d-リモネンの体積磁化率に近づいた。この結果は、内包対象の成分の配合割合が増えるに従い、マイクロカプセル内に内包される内包対象の成分が増えて、マイクロカプセルの体積磁化率が変化したことを示唆している。 As shown in Figure 10, as the blending ratio of d-limonene increased, the volume magnetic susceptibility of sample SP3 (microcapsule D22 after washing) approached that of d-limonene. This result suggests that as the blending ratio of the component to be encapsulated increased, the amount of the component to be encapsulated in the microcapsules increased, causing a change in the volume magnetic susceptibility of the microcapsules.

実施例4では更に、試料SP3(洗浄後のマイクロカプセルD22)に含まれるd-リモネンの量を、高速液体クロマトグラフ(HPLC)を用いて測定した。具体的には、試料SP3をエタノールに加えて、ボルテックスミキサーによって30分間撹拌し、溶液L9を調製した。撹拌後、溶液L9を遠心分離した。その後、高速液体クロマトグラフ(HPLC)を用いて、上清を測定した。以下にHPLC条件を示す。 In Example 4, the amount of d-limonene contained in sample SP3 (microcapsules D22 after washing) was further measured using high performance liquid chromatography (HPLC). Specifically, sample SP3 was added to ethanol and stirred for 30 minutes using a vortex mixer to prepare solution L9. After stirring, solution L9 was centrifuged. The supernatant was then measured using high performance liquid chromatography (HPLC). The HPLC conditions are shown below.

<HPLC条件>
・高速液体クロマトグラフ:株式会社日立ハイテクノロジーズ製
・カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製のPoroshell 120 EC-C18(粒子径;2.7μm、寸法;4.6mm×100mm)
・カラム温度:40℃
・溶離液:アセトニトリルと水との混合液(アセトニトリル及び水の配合割合は、50重量%:50重量%)
・流速:1mL/分
・検出器:波長210nmの紫外線
・注入量:10μL
<HPLC conditions>
High-performance liquid chromatograph: Hitachi High-Technologies Corporation Column: Poroshell 120 EC-C18 (particle size: 2.7 μm, dimensions: 4.6 mm × 100 mm) manufactured by Agilent Technologies, Inc.
Column temperature: 40°C
Eluent: A mixture of acetonitrile and water (the mixing ratio of acetonitrile and water is 50% by weight:50% by weight)
Flow rate: 1 mL/min Detector: UV light with a wavelength of 210 nm Injection volume: 10 μL

図11は、実施例4に係る第2測定結果を示す図である。詳しくは、図11は、試料SP3に含まれるd-リモネンの量の測定結果を示す。図11において、横軸はd-リモネンの配合割合(重量比)を示し、縦軸は試料SP3に含まれるd-リモネンの量を示す。詳しくは、縦軸は、マイクロカプセル1gあたりのd-リモネンの量の割合を百分率で示す。 Figure 11 shows the second measurement results for Example 4. Specifically, Figure 11 shows the measurement results for the amount of d-limonene contained in sample SP3. In Figure 11, the horizontal axis shows the blending ratio (weight ratio) of d-limonene, and the vertical axis shows the amount of d-limonene contained in sample SP3. Specifically, the vertical axis shows the ratio of the amount of d-limonene per 1 gram of microcapsules as a percentage.

図11に示すように、d-リモネンの配合割合が増えるに従い、試料SP3(洗浄後のマイクロカプセルD22)に含まれるd-リモネンの量が増加した。したがって、d-リモネンの配合割合を増やすことで、内包処理によってマイクロカプセルに内包されるd-リモネンの量を増やすことができた。 As shown in Figure 11, the amount of d-limonene contained in sample SP3 (microcapsules D22 after washing) increased as the blending ratio of d-limonene increased. Therefore, by increasing the blending ratio of d-limonene, it was possible to increase the amount of d-limonene encapsulated in the microcapsules by the encapsulation process.

図12は、実施例4に係る第3測定結果を示す図である。詳しくは、図12は、試料SP3に含まれるd-リモネンの量と、試料SP3の体積磁化率との関係を示す。図12において、横軸は試料SP3に含まれるd-リモネンの量を示す。詳しくは、横軸は、マイクロカプセル1g(単位重量)あたりのd-リモネンの量の割合を百分率で示す。縦軸は体積磁化率(平均値)を示す。 Figure 12 shows the third measurement result for Example 4. Specifically, Figure 12 shows the relationship between the amount of d-limonene contained in sample SP3 and the volume magnetic susceptibility of sample SP3. In Figure 12, the horizontal axis shows the amount of d-limonene contained in sample SP3. Specifically, the horizontal axis shows the ratio of the amount of d-limonene per 1 g (unit weight) of microcapsules as a percentage. The vertical axis shows the volume magnetic susceptibility (average value).

図12に示すように、単位重量あたりのd-リモネンの量の割合が9%以下の範囲では、単位重量あたりのd-リモネンの量が増えるに従い、試料SP3の体積磁化率がd-リモネンの体積磁化率に近づいた。一方、単位重量あたりのd-リモネンの量の割合が9%を超える範囲では、単位重量あたりのd-リモネンの量が増えるに従い、試料SP3の体積磁化率が低下した。換言すると、体積磁化率は飽和した。この結果から、体積磁化率が飽和するまでは、マイクロカプセルに内包されているd-リモネンの量を、体積磁化率を用いて定量的に分析できることを確認できた。以下、マイクロカプセルに内包されているd-リモネンの量を、「リモネン内包量」と記載する。 As shown in FIG. 12, in the range where the proportion of d-limonene per unit weight was 9% or less, the volume magnetic susceptibility of sample SP3 approached that of d-limonene as the amount of d-limonene per unit weight increased. On the other hand, in the range where the proportion of d-limonene per unit weight was more than 9%, the volume magnetic susceptibility of sample SP3 decreased as the amount of d-limonene per unit weight increased. In other words, the volume magnetic susceptibility was saturated. From this result, it was confirmed that the amount of d-limonene encapsulated in the microcapsules can be quantitatively analyzed using the volume magnetic susceptibility until the volume magnetic susceptibility is saturated. Hereinafter, the amount of d-limonene encapsulated in the microcapsules will be referred to as the "amount of limonene encapsulated."

図13は、実施例4に係る第4測定結果を示す図である。詳しくは、図13は、d-リモネンの配合割合と、内包処理に用いたd-リモネンの全体量に対するリモネン内包量の割合との関係を示す。以下、内包処理に用いたd-リモネンの全体量に対するリモネン内包量の割合を、「リモネン内包量の割合」と記載する。図13において、横軸はd-リモネンの配合割合(重量比)を示し、縦軸はリモネン内包量の割合(%)を示す。 Figure 13 shows the fourth measurement result for Example 4. In detail, Figure 13 shows the relationship between the blending ratio of d-limonene and the ratio of the amount of limonene encapsulated to the total amount of d-limonene used in the encapsulation process. Hereinafter, the ratio of the amount of limonene encapsulated to the total amount of d-limonene used in the encapsulation process will be referred to as the "ratio of the amount of limonene encapsulated." In Figure 13, the horizontal axis shows the blending ratio (weight ratio) of d-limonene, and the vertical axis shows the ratio (%) of the amount of limonene encapsulated.

図13に示すように、d-リモネンの配合割合が増えるに従い、試料SP3(洗浄後のマイクロカプセルD22)に含まれるd-リモネンの量が増加した。その一方で、d-リモネンの配合割合が増えると、リモネン内包量の割合が低下した。この結果は、内包対象の成分の配合割合が増えると、マイクロカプセルに内包されない内包対象の成分の量が増えることを示唆している。また、d-リモネンの配合割合が、理論上、マイクロカプセルD22内に全て内包される割合であっても、リモネン内包量の割合は100%にならなかった。この結果は、マイクロカプセル内に内包対象の成分を内包させる処理は、化学平衡の理論に従うことを示唆している。 As shown in Figure 13, the amount of d-limonene contained in sample SP3 (microcapsules D22 after washing) increased as the proportion of d-limonene increased. On the other hand, as the proportion of d-limonene increased, the proportion of limonene encapsulated decreased. This result suggests that as the proportion of the component to be encapsulated increases, the amount of the component to be encapsulated that is not encapsulated in the microcapsules increases. Furthermore, even when the proportion of d-limonene was such that, in theory, all of it would be encapsulated in microcapsules D22, the proportion of limonene encapsulated did not reach 100%. This result suggests that the process of encapsulating the component to be encapsulated in microcapsules follows the theory of chemical equilibrium.

[実施例5]
実施例5では、蒸留水に食塩を添加して内包処理を行い、洗浄後のマイクロカプセルD22(試料SP4)の体積磁化率を測定した。換言すると、溶媒に食塩水を用いて内包処理を行った。ペースト状の酵母カプセル基材D21、d-リモネン、蒸留水、及び食塩の配合割合は、重量比で2:1:7:1とした。
[Example 5]
In Example 5, salt was added to distilled water to carry out the encapsulation process, and the volume magnetic susceptibility of the microcapsules D22 (sample SP4) after washing was measured. In other words, the encapsulation process was carried out using saline as a solvent. The mixing ratio of the paste-like yeast capsule base material D21, d-limonene, distilled water, and salt was 2:1:7:1 by weight.

図14は、実施例5に係る第1測定結果を示す図である。詳しくは、図14は、試料SP4の体積磁化率の測定結果を示す。図14において、横軸は体積磁化率を示し、縦軸は粒子数の割合(%)を示す。図14において、実線のグラフが、試料SP4の体積磁化率の測定結果を示す。なお、図14には、参考例として、実施例2で説明した第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率の測定結果を破線のグラフで示している。 Figure 14 is a diagram showing the first measurement results according to Example 5. In detail, Figure 14 shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of sample SP4. In Figure 14, the horizontal axis shows the volume magnetic susceptibility, and the vertical axis shows the percentage (%) of the particle number. In Figure 14, the solid line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of sample SP4. Note that in Figure 14, as a reference example, the dashed line graph shows the measurement results of the volume magnetic susceptibility of the second sample SP12 (microcapsules D22 after cleaning) described in Example 2.

図14に示すように、塩を添加することによって、洗浄後のマイクロカプセルD22の体積磁化率が、d-リモネンの体積磁化率により近い値となった。 As shown in Figure 14, by adding salt, the volume magnetic susceptibility of microcapsule D22 after washing became closer to the volume magnetic susceptibility of d-limonene.

実施例5では更に、実施例4と同様に、高速液体クロマトグラフを用いて試料SP4に含まれるd-リモネンの量(マイクロカプセル1gあたりのd-リモネンの量)を測定した。 In Example 5, the amount of d-limonene contained in sample SP4 (amount of d-limonene per 1 g of microcapsules) was measured using high performance liquid chromatography in the same manner as in Example 4.

図15は、実施例5に係る第2測定結果を示す図である。詳しくは、図15は、試料SP4のリモネン内包量の割合を示す。なお、図15には、参考例として、実施例2で説明した第2試料SP12(洗浄後のマイクロカプセルD22)のリモネン内包量の割合も示している。 Figure 15 shows the second measurement results for Example 5. In detail, Figure 15 shows the ratio of limonene encapsulation in sample SP4. Note that Figure 15 also shows, as a reference example, the ratio of limonene encapsulation in the second sample SP12 (microcapsules D22 after washing) described in Example 2.

図15に示すように、塩を添加することによって、洗浄後のマイクロカプセルD22に内包されるd-リモネンの量が増加した。したがって、溶媒に塩を添加して、溶媒に対するd-リモネンの溶解度を低下させることで、洗浄後のマイクロカプセルD22に内包される内包対象の成分が増加した。この結果は、マイクロカプセルに内包される内包対象の成分の量が、溶媒に対する内包対象の成分の溶解度の影響を受けることを示唆している。 As shown in Figure 15, the amount of d-limonene encapsulated in microcapsules D22 after washing increased by adding salt. Therefore, by adding salt to the solvent to reduce the solubility of d-limonene in the solvent, the amount of the target component encapsulated in microcapsules D22 after washing increased. This result suggests that the amount of the target component encapsulated in the microcapsules is affected by the solubility of the target component in the solvent.

[実施例6]
実施例6では、酵母カプセル基材D21内に、内包対象の成分としてヘキサン酸エチルを内包させて、試料SP5(洗浄後のマイクロカプセルD22)を調製し、試料SP5の体積磁化率を測定した。また、実施例6では、ペースト状の酵母カプセル基材D21、ヘキサン酸エチル、及び蒸留水の配合割合を、重量比で「2:0:8」から「2:2:6」の範囲で振って内包処理を行った。具体的には、酵母カプセル基材D21、ヘキサン酸エチル、及び蒸留水の配合割合を、重量比で「2:0:8」、「2:0.125:7.875」、「2:0.25:7.75」、「2:0.5:7.5」、「2:1:7」、「2:2:6」とした。ここで、ヘキサン酸エチル及び蒸留水のそれぞれの配合割合は、酵母カプセル基材D11の重量を「2」としたときのヘキサン酸エチル及び蒸留水のそれぞれの重量を示す。なお、ヘキサン酸エチルは、疎水性物質である。
[Example 6]
In Example 6, ethyl hexanoate was encapsulated in the yeast capsule substrate D21 as a component to be encapsulated, to prepare sample SP5 (microcapsules D22 after washing), and the volume magnetic susceptibility of sample SP5 was measured. In Example 6, the mixing ratio of the yeast capsule substrate D21 in the form of a paste, ethyl hexanoate, and distilled water was varied in the range of "2:0:8" to "2:2:6" by weight ratio to perform the encapsulation process. Specifically, the mixing ratio of the yeast capsule substrate D21, ethyl hexanoate, and distilled water was set to "2:0:8", "2:0.125:7.875", "2:0.25:7.75", "2:0.5:7.5", "2:1:7", and "2:2:6" by weight ratio. Here, the mixing ratios of ethyl hexanoate and distilled water respectively indicate the weights of ethyl hexanoate and distilled water when the weight of the yeast capsule substrate D11 is "2". Ethyl hexanoate is a hydrophobic substance.

図16は、実施例6に係る測定結果を示す図である。詳しくは、図16は、試料SP5の体積磁化率の測定結果を示す。図16において、横軸はヘキサン酸エチルの配合割合(重量比)を示し、縦軸は体積磁化率(平均値)を示す。 Figure 16 shows the measurement results for Example 6. In detail, Figure 16 shows the measurement results for the volume magnetic susceptibility of sample SP5. In Figure 16, the horizontal axis shows the blend ratio (weight ratio) of ethyl hexanoate, and the vertical axis shows the volume magnetic susceptibility (average value).

図16に示すように、ヘキサン酸エチルの配合割合が増えるに従い、試料SP5(洗浄後のマイクロカプセルD22)の体積磁化率が、ヘキサン酸エチルの体積磁化率に近づいた。ヘキサン酸エチルの体積磁化率は、-6.94×10-6である。この結果は、内包対象の成分の配合割合が増えるに従い、マイクロカプセル内に内包される内包対象の成分が増えて、マイクロカプセルの体積磁化率が変化したことを示唆している。 16, as the blending ratio of ethyl hexanoate increased, the volume magnetic susceptibility of sample SP5 (microcapsule D22 after washing) approached the volume magnetic susceptibility of ethyl hexanoate, which is −6.94×10 −6 . This result suggests that as the blending ratio of the component to be encapsulated increased, the amount of the component to be encapsulated in the microcapsules increased, causing a change in the volume magnetic susceptibility of the microcapsules.

本発明は、例えば、DDSに用いられるカプセル性材料の評価に有用である。 The present invention is useful, for example, for evaluating encapsulating materials used in DDS.

10 分析装置
20 磁場生成部
21 セル
30 観察部
40 演算部
41 記憶部
42 処理部
10 Analysis device 20 Magnetic field generating unit 21 Cell 30 Observation unit 40 Calculation unit 41 Storage unit 42 Processing unit

Claims (6)

第1粒子を磁気泳動させて観察する第1観察工程と、
前記第1観察工程による観察の結果から、前記第1粒子の磁気泳動速度を測定する第1泳動速度測定工程と、
前記第1泳動速度測定工程による測定の結果に基づいて、前記第1粒子の体積磁化率を測定する第1磁化率測定工程と、
前記第1粒子に、前記第1粒子よりも小さい内包対象の成分を内包させる内包処理を実行する内包処理工程と、
前記内包処理後の前記第1粒子である分析対象の第2粒子を磁気泳動させて観察する第2観察工程と、
前記第2観察工程による観察の結果から、前記第2粒子の磁気泳動速度を測定する第2泳動速度測定工程と、
前記第2泳動速度測定工程による測定の結果に基づいて、前記第2粒子の体積磁化率を測定する第2磁化率測定工程と、
前記第1磁化率測定工程による測定の結果と、前記第2磁化率測定工程による測定の結果とに基づいて、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程とを含み、
前記第1粒子のゼータ電位を測定する第1ゼータ電位測定工程と、
前記第2粒子のゼータ電位を測定する第2ゼータ電位測定工程と、
前記第1ゼータ電位測定工程による測定の結果と、前記第2ゼータ電位測定工程による測定の結果とに基づいて、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程とを更に含み、
前記第2粒子の体積磁化率が、前記第1粒子の体積磁化率と比べて、前記内包対象の成分の体積磁化率に近い値であった場合に、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されていると判定し、
前記内包対象の成分の体積磁化率は、分析装置が備える記憶部に予め記憶されている、粒子分析方法。
a first observation step of magnetophoretically observing the first particles;
a first migration velocity measurement step of measuring a magnetophoretic velocity of the first particles from a result of the observation in the first observation step;
a first magnetic susceptibility measurement step of measuring a volume magnetic susceptibility of the first particles based on a result of the measurement in the first migration velocity measurement step;
an inclusion process for performing an inclusion process to cause the first particles to include a component to be included that is smaller than the first particles;
a second observation step of magnetically phoresing the second particles to be analyzed, which are the first particles after the encapsulation treatment, and observing the second particles;
a second migration velocity measuring step of measuring a magnetophoretic velocity of the second particles from a result of the observation in the second observation step;
a second magnetic susceptibility measurement step of measuring the volume magnetic susceptibility of the second particles based on a result of the measurement in the second migration velocity measurement step;
and analyzing whether or not the component to be included is included in the second particle based on a result of the measurement in the first magnetic susceptibility measurement step and a result of the measurement in the second magnetic susceptibility measurement step,
a first zeta potential measurement step of measuring the zeta potential of the first particles;
a second zeta potential measurement step of measuring the zeta potential of the second particles;
and analyzing whether or not the component to be included is included in the second particle based on a result of the measurement in the first zeta potential measurement step and a result of the measurement in the second zeta potential measurement step.
determining that the component to be encapsulated is encapsulated in the second particle when the volume magnetic susceptibility of the second particle is closer to the volume magnetic susceptibility of the component to be encapsulated compared to the volume magnetic susceptibility of the first particle;
A particle analysis method , wherein the volume magnetic susceptibility of the component to be encapsulated is stored in advance in a memory unit provided in the analysis device .
前記第2粒子を分光学的に観察して、前記第2粒子に前記内包対象の成分が内包されているか否かを分析する工程を更に含む、請求項1に記載の粒子分析方法。 The particle analysis method according to claim 1, further comprising a step of spectroscopically observing the second particles to analyze whether the component to be included is included in the second particles. 請求項1又は請求項2に記載の粒子分析方法を含む、粒子製造方法。 A particle manufacturing method including the particle analysis method according to claim 1 or 2. 前記第1粒子は、酵母から菌体内成分を放出させた後に残留する前記酵母の固形成分を含む、請求項3に記載の粒子製造方法。 The particle manufacturing method according to claim 3, wherein the first particles contain solid components of the yeast that remain after intracellular components are released from the yeast. 前記第1粒子を製造する第1粒子製造工程を更に含み、
前記第1粒子製造工程は、前記酵母から前記菌体内成分を放出させる工程を含む、請求項4に記載の粒子製造方法。
The method further includes a first particle production step of producing the first particles,
The particle production method according to claim 4 , wherein the first particle production step includes a step of releasing the intracellular components from the yeast.
前記内包処理工程は、前記第1粒子及び前記内包対象の成分を溶媒中で混合する工程を含む、請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の粒子製造方法。 The particle manufacturing method according to any one of claims 3 to 5, wherein the encapsulation process includes a process of mixing the first particles and the component to be encapsulated in a solvent.
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