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JP7653448B2 - Method for producing polarizing film and polarizing film - Google Patents
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JP7653448B2 - Method for producing polarizing film and polarizing film - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルム製造用フィルム、光学フィルムの製造方法、及び光学フィルムに関する。 The present invention relates to a film for producing an optical film, a method for producing an optical film, and an optical film.

光の透過及び遮蔽機能を有する偏光板は、光の偏光状態を変化させる液晶と共に液晶ディスプレイ(LCD)の基本的な構成要素である。多くの偏光板は、偏光フィルムの表面に三酢酸セルロース(TAC)フィルムなどの保護フィルムが貼り合わされた構造を有している。偏光フィルムとしては、ポリビニルアルコールフィルム(以下、「ポリビニルアルコール」を「PVA」と略記することがある。)を一軸延伸してなるマトリクス(延伸フィルム)にヨウ素系色素(I やI 等)や二色性有機染料といった二色性色素が吸着しているものが主流となっている。 Polarizing plates, which have the function of transmitting and blocking light, are basic components of liquid crystal displays (LCDs) along with liquid crystals, which change the polarization state of light. Many polarizing plates have a structure in which a protective film, such as a triacetate cellulose (TAC) film, is laminated to the surface of a polarizing film. The mainstream polarizing film is one in which a dichroic dye, such as an iodine-based dye (I 3 - , I 5 - , etc.) or a dichroic organic dye, is adsorbed onto a matrix (stretched film) made by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol film (hereinafter, "polyvinyl alcohol" may be abbreviated as "PVA").

LCDは、電卓及び腕時計などの小型機器、スマートフォン、ノートパソコン、液晶モニター、液晶カラープロジェクター、液晶テレビ、車載用ナビゲーションシステム、携帯電話、屋内外で用いられる計測機器など広範囲で用いられている。近年のLCDの高性能化に対応して、LCDの構成要素である偏光板についても高性能化が求められている。具体的には、より優れた光学性能を有し、かつ高温においても寸法安定性に優れた偏光板が求められている。したがって、偏光板に用いる偏光フィルムについても、より優れた光学性能(偏光性能)を有し、かつ高温下における収縮応力が小さいことが求められている。 LCDs are used in a wide range of applications, including small devices such as calculators and watches, smartphones, laptops, LCD monitors, LCD color projectors, LCD televisions, in-car navigation systems, mobile phones, and measuring instruments used both indoors and outdoors. In response to the recent increase in performance of LCDs, there is a demand for improved performance in the polarizing plates, which are a component of LCDs. Specifically, there is a demand for polarizing plates that have better optical performance and excellent dimensional stability even at high temperatures. Therefore, there is a demand for polarizing films used in polarizing plates that have better optical performance (polarizing performance) and low shrinkage stress at high temperatures.

しかしながら、偏光フィルムにおいて、光学性能(偏光性能)を高めつつ、高温下における収縮応力を小さくすることは容易ではない。これは、一般に偏光フィルムの偏光性能と収縮応力にはトレード・オフの関係が成立するためである。すなわち、偏光フィルムの偏光性能を高くしようとすれば収縮応力が大きくなり、収縮応力を小さくしようとすれば偏光性能が低下する。However, it is not easy to reduce the shrinkage stress at high temperatures while improving the optical performance (polarization performance) of polarizing films. This is because there is generally a trade-off between the polarization performance and shrinkage stress of polarizing films. In other words, if you try to increase the polarization performance of a polarizing film, the shrinkage stress increases, and if you try to decrease the shrinkage stress, the polarization performance decreases.

特許文献1には、光学性能及び耐湿熱性等が改善された偏光フィルムとして、少なくとも2500の重合度を有するPVAが用いられた偏光フィルムが開示されている。この特許文献1においては、重合度が4980等の高重合度のPVAがジメチルスルホキシドを主成分とする溶媒に溶解されたPVA製膜溶液を用いて、製膜が行われている。 Patent Document 1 discloses a polarizing film with improved optical performance and moist heat resistance, which uses PVA having a degree of polymerization of at least 2500. In this patent document 1, a film is formed using a PVA film-forming solution in which PVA with a high degree of polymerization, such as 4980, is dissolved in a solvent mainly composed of dimethyl sulfoxide.

特開平1-105204号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-105204

工業的なPVAフィルムの製造には、環境面、経済性等を考慮し、溶媒として水が用いられたPVA水溶液を製膜溶液として使用することが一般的である。しかし、特許文献1のように重合度の高いPVAを用いた場合、PVA水溶液の粘度が上昇するため、PVAフィルムの製膜性が悪く、工業生産上好ましくない。したがって、PVAの重合度を高める方法以外によって、光学フィルムの光学性能を高める方法が望まれている。また、光学フィルムの製造条件(延伸条件)を同じとした場合、高重合度のPVAを有するPVAフィルムから得られる光学フィルムは、低重合度のPVAを有するPVAフィルムと比較して、収縮応力が高くなってしまう。そのため、高重合度のPVAを有するPVAフィルムを用いた場合、光学性能に優れ、かつ収縮応力の小さい光学フィルムを得るためには、光学フィルムを製造する際の延伸温度を高温化する必要があり、工業生産上好ましくない。したがって、高重合度のPVAを有するPVAフィルムを用いた場合でも、光学フィルムを製造する際の延伸温度を高温化させることなく、光学性能に優れた光学フィルムを得る手法が望まれている。In the industrial production of PVA films, it is common to use a PVA aqueous solution in which water is used as a solvent as a film-forming solution, taking into consideration environmental aspects, economics, etc. However, when a PVA with a high degree of polymerization is used as in Patent Document 1, the viscosity of the PVA aqueous solution increases, resulting in poor film-forming properties of the PVA film, which is undesirable for industrial production. Therefore, a method for improving the optical performance of an optical film by a method other than a method for increasing the polymerization degree of PVA is desired. In addition, when the production conditions (stretching conditions) of the optical film are the same, an optical film obtained from a PVA film having a PVA with a high degree of polymerization has a higher shrinkage stress than a PVA film having a PVA with a low degree of polymerization. Therefore, when a PVA film having a PVA with a high degree of polymerization is used, in order to obtain an optical film with excellent optical performance and small shrinkage stress, it is necessary to increase the stretching temperature when producing the optical film, which is undesirable for industrial production. Therefore, even when a PVA film having a PVA with a high degree of polymerization is used, a method for obtaining an optical film with excellent optical performance without increasing the stretching temperature when producing the optical film is desired.

本発明者らは、ケイ素含有基を有するPVAを含むPVAフィルムを用いると、PVA水溶液の粘度上昇を抑制しつつ、得られる光学フィルムの光学性能を大幅に向上できることを見出した。しかしながら、ケイ素含有基を有するPVAを含むPVAフィルムを用いた場合でも、依然として、光学フィルムを製造する際の延伸温度を高温化する必要があった。The present inventors have found that the use of a PVA film containing PVA having a silicon-containing group can significantly improve the optical performance of the resulting optical film while suppressing an increase in the viscosity of the PVA aqueous solution. However, even when a PVA film containing PVA having a silicon-containing group is used, it is still necessary to increase the stretching temperature when producing the optical film.

本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、収縮応力が同程度の光学フィルムを製造する場合、延伸温度の高温化が抑制され、かつ光学性能が優れた光学フィルムを得ることができる光学フィルム製造用フィルム、このような光学フィルム製造用フィルムを用いた光学フィルムの製造方法及び光学フィルムを提供することを目的とする。The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to provide a film for producing an optical film that, when producing an optical film with a similar shrinkage stress, can suppress the stretching temperature from being increased and produce an optical film with excellent optical performance, a method for producing an optical film using such a film for producing an optical film, and an optical film.

前記の目的は、
[1]ケイ素含有基及びエチレン単位を有するPVAを含み、前記ケイ素含有基が、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基であり、前記PVAにおける全構造単位に対する前記ケイ素含有基の含有量が0.01モル%以上1.0モル%以下であり、前記エチレン単位の含有量が0.5モル%以上10モル%以下である、光学フィルム製造用フィルム;
[2]前記PVAの粘度平均重合度が1,000以上6,000以下であり、けん化度が98.7モル%以上である、[1]の光学フィルム製造用フィルム;
[3]前記粘度平均重合度と前記ケイ素含有基の含有量との積が100モル%以上2,000モル%以下である、[2]の光学フィルム製造用フィルム;
[4]平均厚さが1μm以上75μm以下である、[1]~[3]のいずれかの光学フィルム製造用フィルム;
[5]膨潤度が140%以上400%以下である、[1]~[4]のいずれかの光学フィルム製造用フィルム;
[6]前記光学フィルムが偏光フィルムである、[1]~[5]のいずれかの光学フィルム製造用フィルム;
[7]非延伸フィルムである、[1]~[6]のいずれかの光学フィルム製造用フィルム;
[8][1]~[7]のいずれかの光学フィルム製造用フィルムを一軸延伸する工程を備える、光学フィルムの製造方法;
[9]前記光学フィルムが偏光フィルムである、[8]の光学フィルムの製造方法;
[10]ケイ素含有基及びエチレン単位を有するPVAを含み、前記ケイ素含有基が、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基であり、前記PVAにおける全構造単位に対する前記ケイ素含有基の含有量が0.01モル%以上1.0モル%以下であり、前記エチレン単位の含有量が0.5モル%以上10モル%以下である、光学フィルム;
[11]収縮応力が100N/m以下である、[10]の光学フィルム;
[12]偏光フィルムである、[10]又は[11]の光学フィルム;及び
[13]単層フィルムである、[10]~[12]のいずれかの光学フィルム;
のいずれかを提供することで達成される。
The above objectives are:
[1] A film for producing an optical film, comprising a PVA having a silicon-containing group and an ethylene unit, the silicon-containing group being a silanol group or a group that can be converted into a silanol group in the presence of water, the content of the silicon-containing group relative to all structural units in the PVA being 0.01 mol % or more and 1.0 mol % or less, and the content of the ethylene unit being 0.5 mol % or more and 10 mol % or less;
[2] The film for producing an optical film according to [1], wherein the PVA has a viscosity average degree of polymerization of 1,000 or more and 6,000 or less, and a degree of saponification of 98.7 mol% or more;
[3] The film for producing an optical film according to [2], wherein the product of the viscosity average degree of polymerization and the content of the silicon-containing group is 100 mol % or more and 2,000 mol % or less;
[4] The film for producing an optical film according to any one of [1] to [3], having an average thickness of 1 μm or more and 75 μm or less;
[5] The film for producing an optical film according to any one of [1] to [4], having a swelling degree of 140% or more and 400% or less;
[6] The film for producing an optical film according to any one of [1] to [5], wherein the optical film is a polarizing film;
[7] The film for producing an optical film according to any one of [1] to [6], which is a non-stretched film;
[8] A method for producing an optical film, comprising a step of uniaxially stretching the film for optical film production according to any one of [1] to [7];
[9] The method for producing an optical film according to [8], wherein the optical film is a polarizing film;
[10] An optical film comprising a PVA having a silicon-containing group and an ethylene unit, the silicon-containing group being a silanol group or a group that can be converted into a silanol group in the presence of water, the content of the silicon-containing group relative to all structural units in the PVA being 0.01 mol% or more and 1.0 mol% or less, and the content of the ethylene unit being 0.5 mol% or more and 10 mol% or less;
[11] The optical film according to [10], having a shrinkage stress of 100 N/m2 or less ;
[12] The optical film of [10] or [11], which is a polarizing film; and [13] the optical film of any one of [10] to [12], which is a single-layer film;
This is achieved by providing either

本発明によれば、収縮応力が同程度の光学フィルムを製造する場合、延伸温度の高温化が抑制され、且つ光学性能が優れた光学フィルムを得ることができる光学フィルム製造用フィルム、このような光学フィルム製造用フィルムを用いた光学フィルムの製造方法及び光学フィルムを提供することができる。換言すれば、本発明の光学フィルム製造用フィルム及び光学フィルムの製造方法によれば、得られる光学フィルムの光学性能を高めつつ、収縮応力の増大と延伸温度の高温化とを抑制することができる。According to the present invention, when producing optical films with the same degree of shrinkage stress, it is possible to provide a film for producing an optical film that can suppress an increase in the stretching temperature and obtain an optical film with excellent optical performance, a method for producing an optical film using such a film for producing an optical film, and an optical film. In other words, according to the film for producing an optical film and the method for producing an optical film of the present invention, it is possible to suppress an increase in shrinkage stress and an increase in the stretching temperature while improving the optical performance of the obtained optical film.

図1は、実施例1~3及び比較例1~5で得られた各偏光フィルムの収縮応力が75N/mmとなるときの延伸温度をそのときの二色性比に対してプロットしたグラフである。FIG. 1 is a graph in which the stretching temperature at which the shrinkage stress of each of the polarizing films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 becomes 75 N/mm2 is plotted against the dichroic ratio at that time. 図2は、実施例3及び比較例1、4、5で得られた各偏光フィルムの収縮応力が75N/mmとなるときの延伸温度をそのときの二色性比に対してプロットしたグラフである。FIG. 2 is a graph in which the stretching temperature at which the shrinkage stress of each of the polarizing films obtained in Example 3 and Comparative Examples 1, 4, and 5 becomes 75 N/mm2 is plotted against the dichroic ratio at that time.

<光学フィルム製造用フィルム>
本発明の光学フィルム製造用フィルムは、ケイ素含有基及びエチレン単位を有するポリビニルアルコール(以下、「変性PVA」と称することがある。)を含む。
<Film for optical film manufacturing>
The film for producing an optical film of the present invention contains polyvinyl alcohol having a silicon-containing group and an ethylene unit (hereinafter, sometimes referred to as "modified PVA").

(変性PVA)
変性PVAは、ビニルアルコール単位(-CH-CH(OH)-)を構造単位として有する重合体であって、かつケイ素含有基及びエチレン単位を有する。変性PVAは酢酸ビニル単位等のビニルエステル単位やその他の構造単位をさらに有していてもよい。
(Modified PVA)
Modified PVA is a polymer having vinyl alcohol units (-CH 2 -CH(OH)-) as structural units, and also has a silicon-containing group and an ethylene unit. The modified PVA may further contain vinyl ester units such as vinyl acetate units and other structural units.

変性PVAの粘度平均重合度の下限は1,000が好ましく、2,000がより好ましく、2,500がさらに好ましい。変性PVAの粘度平均重合度が前記下限以上であることにより、本発明の光学フィルム製造用フィルムは延伸加工性に優れたものとなり、光学性能がより高く、良好な耐湿熱性を有する光学フィルムを得ることができる。一方、前記粘度平均重合度の上限は、6,000が好ましく、5,000がより好ましく、4,000がさらに好ましい。変性PVAの粘度平均重合度が前記上限以下であることにより、良好な水溶性を発揮し、水溶液の粘度の上昇が抑制される。また、変性PVAの粘度平均重合度が前記上限以下であることにより、延伸温度の高温化がより抑制される。このため、変性PVAの粘度平均重合度が前記上限以下であることで、良好な製膜性が発揮され、本発明の光学フィルム製造用フィルムの生産性を高めることができる。さらに、変性PVAの粘度平均重合度が前記上限以下である場合、本発明の光学フィルム製造用フィルムから、収縮応力の増大が抑制された光学フィルムが得られやすくなる。The lower limit of the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is preferably 1,000, more preferably 2,000, and even more preferably 2,500. When the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is equal to or greater than the lower limit, the film for optical film production of the present invention has excellent stretching processability, and an optical film having higher optical performance and good moist heat resistance can be obtained. On the other hand, the upper limit of the viscosity average polymerization degree is preferably 6,000, more preferably 5,000, and even more preferably 4,000. When the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is equal to or less than the upper limit, good water solubility is exhibited and the increase in viscosity of the aqueous solution is suppressed. In addition, when the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is equal to or less than the upper limit, the stretching temperature is further suppressed from increasing. Therefore, when the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is equal to or less than the upper limit, good film formability is exhibited, and the productivity of the film for optical film production of the present invention can be increased. Furthermore, when the viscosity average polymerization degree of the modified PVA is equal to or less than the upper limit, an optical film in which an increase in shrinkage stress is suppressed can be easily obtained from the film for producing an optical film of the present invention.

粘度平均重合度とは、JIS K6726-1994の記載に準じて測定される平均重合度を意味する。すなわち、本明細書中において、粘度平均重合度は、PVAの残存ビニルエステル基を再けん化し、精製した後、30℃の水中で測定した極限粘度[η](単位:デシリットル/g)から、下記式により求められる。
粘度平均重合度Po=([η]×10/8.29)(1/0.62)
The viscosity average degree of polymerization means the average degree of polymerization measured in accordance with the description of JIS K6726-1994. That is, in this specification, the viscosity average degree of polymerization is calculated from the intrinsic viscosity [η] (unit: deciliter/g) measured in water at 30° C. after resaponifying the remaining vinyl ester groups of PVA and purifying it, according to the following formula:
Viscosity average degree of polymerization Po=([η]×10 4 /8.29) (1/0.62)

変性PVAのけん化度の下限は、98.7モル%が好ましく、99.0モル%がより好ましく、99.5モル%がさらに好ましく、99.8モル%がよりさらに好ましく、99.9モル%が特に好ましい。けん化度が前記下限以上であることにより、光学性能及び耐湿熱性等がより優れた光学フィルムが得られる。一方、けん化度の上限に特に制限はないが、変性PVAの生産性の観点から、99.99モル%以下が好ましい。The lower limit of the saponification degree of the modified PVA is preferably 98.7 mol%, more preferably 99.0 mol%, even more preferably 99.5 mol%, even more preferably 99.8 mol%, and particularly preferably 99.9 mol%. By having a saponification degree equal to or greater than the lower limit, an optical film having superior optical performance and moist heat resistance can be obtained. On the other hand, there is no particular limit to the upper limit of the saponification degree, but from the viewpoint of productivity of the modified PVA, 99.99 mol% or less is preferable.

PVAのけん化度とは、PVAが有する、けん化によってビニルアルコール単位に変換されうる構造単位(典型的にはビニルエステル単位)とビニルアルコール単位との合計モル数に対するビニルアルコール単位のモル数の割合(モル%)をいう。PVAのけん化度はJIS K6726-1994の記載に準じて測定することができる。The degree of saponification of PVA refers to the ratio (mol%) of the number of moles of vinyl alcohol units to the total number of moles of structural units (typically vinyl ester units) that can be converted to vinyl alcohol units by saponification and vinyl alcohol units that the PVA has. The degree of saponification of PVA can be measured in accordance with the description of JIS K6726-1994.

変性PVAは、ケイ素含有基を有する。このケイ素含有基は、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基である。シラノール基とは、ケイ素原子とこのケイ素原子に結合する少なくとも1つのヒドロキシ基とを有する基をいう。シラノール基が有するヒドロキシ基の数は、通常1~3のいずれかであり、3であることが好ましい。シラノール基が有するヒドロキシ基は、塩(例えば、-ONa、-OK等)の状態で存在していてもよい。The modified PVA has a silicon-containing group. This silicon-containing group is a silanol group or a group that can be converted to a silanol group in the presence of water. A silanol group is a group that has a silicon atom and at least one hydroxyl group bonded to the silicon atom. The number of hydroxyl groups in the silanol group is usually 1 to 3, and preferably 3. The hydroxyl group in the silanol group may be present in the form of a salt (e.g., -ONa, -OK, etc.).

水の存在下でシラノール基に転化し得る基とは、PVAを水中で、反応時間2時間、反応温度150℃の条件下で加熱した場合に、シラノール基に転化し得る基を意味する。このシラノール基への転化は、加水分解により生じるものであってよい。水の存在下でシラノール基に転化し得る基としては、ケイ素原子に少なくとも1つのアルコキシ基又はアシロキシ基が結合した基等を挙げることができ、具体的にはトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリイソプロポキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基、メトキシジメチルシリル基、エトキシジメチルシリル基、トリアセトキシシリル基等を挙げることができる。The group that can be converted to a silanol group in the presence of water means a group that can be converted to a silanol group when PVA is heated in water under conditions of a reaction time of 2 hours and a reaction temperature of 150°C. This conversion to a silanol group may occur by hydrolysis. Examples of groups that can be converted to a silanol group in the presence of water include groups in which at least one alkoxy group or acyloxy group is bonded to a silicon atom, and specific examples include trimethoxysilyl groups, triethoxysilyl groups, triisopropoxysilyl groups, dimethoxymethylsilyl groups, diethoxymethylsilyl groups, methoxydimethylsilyl groups, ethoxydimethylsilyl groups, and triacetoxysilyl groups.

ケイ素含有基、すなわちシラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基としては、下記式(1)~(3)のいずれかで表される基を挙げることができる。これらの中でも、下記式(1)で表される基が好ましい。Examples of silicon-containing groups, i.e., silanol groups or groups that can be converted to silanol groups in the presence of water, include groups represented by any of the following formulas (1) to (3). Among these, the group represented by the following formula (1) is preferred.

Figure 0007653448000001
Figure 0007653448000001

式(1)~(3)中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換若しくは非置換の炭素数1~20の炭化水素基、又は置換若しくは非置換の炭素数1~20のアシル基である。Rは、それぞれ独立して、置換又は非置換の炭素数1~20の炭化水素基である。 In formulas (1) to (3), each R 1 is independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted acyl group having 1 to 20 carbon atoms. Each R 2 is independently a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

及びRで表される炭素数1~20の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基(シクロヘキシル基等)、芳香族炭化水素基(フェニル基等)等を挙げることができ、脂肪族炭化水素基が好ましい。脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基等を挙げることができ、アルキル基が好ましい。R及びRで表される炭化水素基の炭素数としては、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。R及びRで表される炭化水素基が有する水素原子の少なくとも一部は、ハロゲン原子、カルボキシ基、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基等)等で置換されていてもよい。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R1 and R2 include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups (cyclohexyl group, etc.), and aromatic hydrocarbon groups (phenyl group, etc.), with aliphatic hydrocarbon groups being preferred. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl, ethyl, and propyl groups, alkenyl groups such as vinyl groups, and alkynyl groups such as ethynyl groups, with alkyl groups being preferred. The number of carbon atoms in the hydrocarbon group represented by R1 and R2 is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. At least a portion of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group represented by R1 and R2 may be substituted with a halogen atom, a carboxy group, an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), or the like.

で表される炭素数1~20のアシル基としては、水素原子又は炭素数1~19の炭化水素基にカルボニル基(-CO-)が結合した基を挙げることができる。炭素数1~19の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アシル基としては、具体的には、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等を挙げることができる。Rで表されるアシル基の炭素数としては、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。Rで表されるアシル基が有する水素原子の少なくとも一部は、ハロゲン原子、カルボキシ基、アルコキシ基(メトキシ基等)等で置換されていてもよい。 Examples of the acyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R1 include a hydrogen atom or a group in which a carbonyl group (-CO-) is bonded to a hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group. Specific examples of the acyl group include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group. The number of carbon atoms in the acyl group represented by R1 is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. At least a portion of the hydrogen atoms in the acyl group represented by R1 may be substituted with a halogen atom, a carboxy group, an alkoxy group (such as a methoxy group), or the like.

前記式(1)~(3)のいずれかで表される基において、Rの少なくとも一つが水素原子である場合、この基はシラノール基である。また、前記式(1)~(3)のいずれかで表される基において、全てのRが水素原子では無い場合、この基は水の存在下でシラノール基に転化し得る基である。Rとしては、水素原子、又は置換若しくは非置換の炭素数1~20の炭化水素基であることが好ましい。 In the group represented by any one of the formulas (1) to (3), when at least one R 1 is a hydrogen atom, the group is a silanol group. In addition, in the group represented by any one of the formulas (1) to (3), when all R 1 are not hydrogen atoms, the group is a group that can be converted to a silanol group in the presence of water. R 1 is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

得られる光学フィルムの光学性能の観点などから、ケイ素含有基はケイ素-炭素結合により、重合体主鎖中の炭素原子に直接結合していることが好ましい。From the viewpoint of the optical performance of the resulting optical film, it is preferable that the silicon-containing group is directly bonded to a carbon atom in the polymer main chain via a silicon-carbon bond.

変性PVAにおける全構造単位に対するケイ素含有基の含有量は、0.01モル%以上1.0モル%以下である。このように、所定量のケイ素含有基を有する変性PVAを用いることにより、得られる光学フィルムの光学性能が向上する。変性PVAのケイ素含有基の含有量の下限は、0.01モル%であり、0.05モル%が好ましく、0.1モル%がより好ましく、0.15モル%がさらに好ましい場合もある。ケイ素含有基の含有量を前記下限以上とすることで、得られる光学フィルムの光学性能を十分に高めることができる。一方、変性PVAにおける全構造単位に対するケイ素含有基の含有量の上限は、1.0モル%であり、0.8モル%が好ましく、0.6モル%がより好ましく、0.4モル%がさらに好ましい。ケイ素含有基の含有量を前記上限以下とすることで、変性PVAの水溶性及び水溶液の粘度安定性が良好となり、フィルム生産性(製膜性)を高めることができる。また、ケイ素含有基の含有量を前記上限以下とすることで、延伸温度の高温化を抑制することなどもできる。The content of silicon-containing groups relative to all structural units in the modified PVA is 0.01 mol% or more and 1.0 mol% or less. In this way, by using a modified PVA having a predetermined amount of silicon-containing groups, the optical performance of the obtained optical film is improved. The lower limit of the content of silicon-containing groups in the modified PVA is 0.01 mol%, preferably 0.05 mol%, more preferably 0.1 mol%, and even more preferably 0.15 mol%. By making the content of silicon-containing groups equal to or greater than the lower limit, the optical performance of the obtained optical film can be sufficiently improved. On the other hand, the upper limit of the content of silicon-containing groups relative to all structural units in the modified PVA is 1.0 mol%, preferably 0.8 mol%, more preferably 0.6 mol%, and even more preferably 0.4 mol%. By making the content of silicon-containing groups equal to or less than the upper limit, the water solubility of the modified PVA and the viscosity stability of the aqueous solution are improved, and film productivity (film formability) can be improved. Furthermore, by controlling the content of the silicon-containing group to be equal to or less than the upper limit, it is also possible to prevent the stretching temperature from becoming too high.

変性PVAにおいて、ケイ素含有基の含有量(モル%)は、例えば、けん化する前のビニルエステル重合体のプロトンNMRから求められる。ここで、けん化する前のビニルエステル重合体のプロトンNMRを測定するに際しては、ビニルエステル重合体をヘキサン-アセトンにより再沈精製して重合体中から未反応のモノマーを完全に取り除き、次いで90℃減圧乾燥を2日間行った後、CDCl溶媒に溶解して分析に供する。 In the modified PVA, the content (mol%) of the silicon-containing group can be determined, for example, from proton NMR of the vinyl ester polymer before saponification. In measuring the proton NMR of the vinyl ester polymer before saponification, the vinyl ester polymer is purified by reprecipitation with hexane-acetone to completely remove unreacted monomers from the polymer, then dried at 90° C. under reduced pressure for 2 days, and then dissolved in CDCl 3 solvent for analysis.

変性PVAの粘度平均重合度とケイ素含有基の含有量との積の下限は、100モル%が好ましく、200モル%がより好ましく、300モル%がさらに好ましく、400モル%がよりさらに好ましい場合もある。前記積が前記下限以上であることにより、得られる光学フィルムの光学性能がより優れたものとなる。一方、前記積の上限は、2,000モル%が好ましく、1,500モル%がより好ましく、1,200モル%がさらに好ましく、800モル%が特に好ましい。前記積が前記上限以下であることにより、変性PVAの水溶性がより高まり、延伸温度の高温化もより抑制されるため、当該光学フィルム製造用フィルムの生産性をより高めることなどができる。The lower limit of the product of the viscosity average polymerization degree of the modified PVA and the content of silicon-containing groups is preferably 100 mol%, more preferably 200 mol%, even more preferably 300 mol%, and even more preferably 400 mol%. When the product is equal to or greater than the lower limit, the optical performance of the resulting optical film is superior. On the other hand, the upper limit of the product is preferably 2,000 mol%, more preferably 1,500 mol%, even more preferably 1,200 mol%, and particularly preferably 800 mol%. When the product is equal to or less than the upper limit, the water solubility of the modified PVA is increased and the stretching temperature is further suppressed from increasing, thereby making it possible to further increase the productivity of the film for producing the optical film.

変性PVAは、ケイ素含有基を有する構造単位を有することが好ましい。ケイ素含有基を有する構造単位としては、下記式(4)で表される構造単位を挙げることができる。The modified PVA preferably has a structural unit having a silicon-containing group. An example of the structural unit having a silicon-containing group is a structural unit represented by the following formula (4).

Figure 0007653448000002
Figure 0007653448000002

式(4)中、Rは、水素原子又はメチル基である。Rは、単結合又は2価の連結基である。Rは、ケイ素含有基である。 In formula (4), R3 is a hydrogen atom or a methyl group, R4 is a single bond or a divalent linking group, and R5 is a silicon-containing group.

としては、水素原子が好ましい。 R3 is preferably a hydrogen atom.

で表される2価の連結基としては、-(CH-(nは、1~5の整数である。)又は-CONR-R-(Rは、水素原子又は炭素数1~5のアルキル基である。Rは、前記-(CH-で表される基、又は酸素原子及び窒素原子の少なくとも一方を含む2価の炭化水素基である。)で表される基を挙げることができる。 Examples of the divalent linking group represented by R4 include groups represented by -( CH2 ) n- (n is an integer of 1 to 5) or -CONR6 - R7- ( R6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R7 is the group represented by -( CH2 ) n- or a divalent hydrocarbon group containing at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom).

酸素原子及び窒素原子の少なくとも一方を含む2価の炭化水素基としては、-CHCHNHCHCHCH-、-CHCHNHCHCH-、-CHCHNHCH-、-CHCHN(CH)CHCH-、-CHCHN(CH)CH-、-CHCHOCHCHCH-、-CHCHOCHCH-、-CHCHOCH-等を挙げることができる。酸素原子及び窒素原子の少なくとも一方を含む2価の炭化水素基の炭素数としては、例えば2以上6以下とすることができる。 Examples of divalent hydrocarbon groups containing at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom include -CH2CH2NHCH2CH2CH2- , -CH2CH2NHCH2CH2- , -CH2CH2NHCH2CH2- , -CH2CH2NHCH2-, -CH2CH2N ( CH3 ) CH2CH2- , -CH2CH2N ( CH3) CH2-, -CH2CH2OCH2CH2CH2- , -CH2CH2OCH2CH2- , -CH2CH2OCH2CH2- , etc. The number of carbon atoms in the divalent hydrocarbon group containing at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom can be , for example , 2 or more and 6 or less.

は、単結合であることが好ましい。 R4 is preferably a single bond.

で表されるケイ素含有基の具体例としては、上述したとおりであり、前記式(1)~(3)のいずれかで表される基を挙げることができ、前記式(1)で表される基が好ましい。 Specific examples of the silicon-containing group represented by R5 are as described above, and include the groups represented by any one of the formulas (1) to (3), with the group represented by the formula (1) being preferred.

ケイ素含有基を有する構造単位に含まれるケイ素含有基の数は、特に限定されないが、1であってよい。変性PVAにおける全構造単位に対するケイ素含有基を有する構造単位の含有量の範囲は、上述したケイ素含有基の含有量の範囲であってよい。また、変性PVAの粘度平均重合度とケイ素含有基を有する構造単位の含有量との積の範囲は、上述した粘度平均重合度とケイ素含有基の含有量との積の範囲であってよい。The number of silicon-containing groups contained in the structural unit having a silicon-containing group is not particularly limited, but may be 1. The range of the content of the structural unit having a silicon-containing group relative to all structural units in the modified PVA may be the range of the content of the silicon-containing group described above. In addition, the range of the product of the viscosity average degree of polymerization of the modified PVA and the content of the structural unit having a silicon-containing group may be the range of the product of the viscosity average degree of polymerization and the content of the silicon-containing group described above.

変性PVAは、さらにエチレン単位(-CH-CH-)を有する。変性PVAにおける全構造単位に対するエチレン単位の含有量は0.5モル%以上10モル%以下である。このように、所定量のエチレン単位を有する変性PVAを用いることにより、延伸温度の高温化を抑制しつつ光学性能に優れる光学フィルムを得ることができる。エチレン単位の含有量の下限は1.0モル%が好ましく、2.0モル%がより好ましい。エチレン単位の含有量を前記下限以上とすることで、延伸温度の高温化をより抑制することができる。一方、エチレン単位の含有量の上限は6モル%が好ましく、5モルがより好ましく、4.5モル%がさらに好ましい。エチレン単位の含有量を前記上限以下とすることで、変性PVAの水溶性を高めることなどができる。 The modified PVA further has an ethylene unit (-CH 2 -CH 2 -). The content of the ethylene unit relative to all structural units in the modified PVA is 0.5 mol% or more and 10 mol% or less. In this way, by using a modified PVA having a predetermined amount of ethylene units, an optical film having excellent optical performance can be obtained while suppressing the increase in the stretching temperature. The lower limit of the content of the ethylene unit is preferably 1.0 mol%, more preferably 2.0 mol%. By making the content of the ethylene unit equal to or more than the lower limit, the increase in the stretching temperature can be further suppressed. On the other hand, the upper limit of the content of the ethylene unit is preferably 6 mol%, more preferably 5 mol, and even more preferably 4.5 mol%. By making the content of the ethylene unit equal to or less than the upper limit, the water solubility of the modified PVA can be increased.

変性PVAにおけるエチレン単位の含有量は、例えばプロトンNMRを用いて求めることができ、例えば上述のケイ素含有基の含有量と同様に、変性PVAの前駆体である変性ビニルエステル系重合体をプロトンNMRで測定することで、変性PVAのエチレン単位含有量を求めることが可能である。The ethylene unit content in the modified PVA can be determined, for example, using proton NMR. For example, in the same manner as the silicon-containing group content described above, the ethylene unit content of the modified PVA can be determined by measuring the modified vinyl ester polymer, which is the precursor of the modified PVA, using proton NMR.

変性PVAは、ビニルアルコール単位、ビニルエステル単位、ケイ素含有基を有する構造単位及びエチレン単位以外のその他の構造単位を有していてもよい。但し、変性PVAの全構造単位に対する前記その他の構造単位の含有量は、15モル%以下が好ましく、5モル%以下がより好ましく、1モル%以下がさらに好ましく、0.1モル%以下がよりさらに好ましい場合もある。変性PVAが、実質的にビニルアルコール単位、ビニルエステル単位、ケイ素含有を有する構造単位基及びエチレン単位を有する構造単位から構成されていることで、本発明の効果がより十分に奏される場合がある。The modified PVA may have other structural units other than vinyl alcohol units, vinyl ester units, structural units having silicon-containing groups, and ethylene units. However, the content of the other structural units relative to the total structural units of the modified PVA is preferably 15 mol% or less, more preferably 5 mol% or less, even more preferably 1 mol% or less, and even more preferably 0.1 mol% or less. When the modified PVA is substantially composed of vinyl alcohol units, vinyl ester units, structural unit groups having silicon content, and structural units having ethylene units, the effects of the present invention may be more fully achieved.

当該光学フィルム製造用フィルムは、1種の変性PVAを単独で含有してもよく、重合度、けん化度、ケイ素含有基の含有量及びエチレン単位含有量等が互いに異なる2種以上の変性PVAを含有してもよい。The film for producing optical films may contain one type of modified PVA alone, or may contain two or more types of modified PVA that differ from each other in degree of polymerization, degree of saponification, content of silicon-containing groups, content of ethylene units, etc.

当該光学フィルム製造用フィルムにおける変性PVAの含有量の下限は特に限定されないが、50質量%が好ましく、80質量%がより好ましく、85質量%がさらに好ましい。変性PVAの含有量を前記下限以上とすることで、本発明の効果をより高めることができる。一方、この含有量の上限は特に限定されず、100質量%であってよく、99質量%が好ましく、95質量%がより好ましい。なお、光学フィルム製造用フィルムにおける各成分の含有量(質量%)は、乾燥状態、すなわち水以外の全成分の合計含有量を基準とした値である。The lower limit of the content of modified PVA in the film for optical film production is not particularly limited, but is preferably 50% by mass, more preferably 80% by mass, and even more preferably 85% by mass. By making the content of modified PVA equal to or greater than the lower limit, the effect of the present invention can be further enhanced. On the other hand, the upper limit of this content is not particularly limited, and may be 100% by mass, preferably 99% by mass, and more preferably 95% by mass. The content (mass%) of each component in the film for optical film production is based on the dry state, i.e., the total content of all components other than water.

(変性PVAの製造方法)
変性PVAの製造方法は特に限定されない。例えば、ビニルエステルモノマーと、ケイ素含有基を有するモノマーと、エチレンとを共重合させ、得られるビニルエステル重合体をけん化することにより製造することができる。
(Method for producing modified PVA)
The method for producing the modified PVA is not particularly limited. For example, the modified PVA can be produced by copolymerizing a vinyl ester monomer, a monomer having a silicon-containing group, and ethylene, and saponifying the resulting vinyl ester polymer.

ビニルエステルモノマーとしては、例えばギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリアン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バーサティック酸ビニル等を挙げることができる。これらの中でも、酢酸ビニルが好ましい。Examples of vinyl ester monomers include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl valerate, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl benzoate, vinyl pivalate, and vinyl versatate. Of these, vinyl acetate is preferred.

ケイ素含有基を有するモノマーとしては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルジメチルメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルジメチルエトキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、ビニルイソブチルジメトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルメトキシジブトキシシラン、ビニルジメトキシブトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルメトキシジヘキシロキシシラン、ビニルジメトキシヘキシロキシシラン、ビニルトリヘキシロキシシラン、ビニルメトキシジオクチロキシシラン、ビニルジメトキシオクチロキシシラン、ビニルトリオクチロキシシラン、ビニルメトキシジラウリロキシシラン、ビニルジメトキシラウリロキシシラン、ビニルメトキシジオレイロキシシラン、ビニルジメトキシオレイロキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルトリ(β-メトキシエトキシ)シラン、2-(メタ)アクリルアミド-エチルトリメトキシシラン、1-(メタ)アクリルアミド-メチルトリメトキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロピルトリメトキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-イソプロピルトリメトキシシラン、N-(2-(メタ)アクリルアミド-エチル)-アミノプロピルトリメトキシシラン、(3-(メタ)アクリルアミド-プロピル)-オキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルトリアセトキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-エチルトリアセトキシシラン、4-(メタ)アクリルアミド-ブチルトリアセトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルトリプロピオニルオキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロピルトリアセトキシシラン、N-(2-(メタ)アクリルアミド-エチル)-アミノプロピルトリアセトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルイソブチルジメトキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-エチルジメチルメトキシシラン、3-(メタ)アクリルアミド-プロピルメチルジアセトキシシラン、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロピルハイドロジェンジメトキシシラン、3-(N-メチル-(メタ)アクリルアミド)-プロピルトリメトキシシラン、2-(N-エチル-(メタ)アクリルアミド)-エチルトリアセトキシシラン等を挙げることができる。Monomers having silicon-containing groups include vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyldimethylethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allylmethyldimethoxysilane, allyldimethylmethoxysilane, allyltriethoxysilane, allylmethyldiethoxysilane, allyldimethylethoxysilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinylisobutyldimethoxysilane, vinylethyldimethoxysilane, vinylmethoxydibutoxysilane, vinyldimethoxybutoxysilane, and vinyltributoxysilane. , vinyl methoxydihexyloxysilane, vinyl dimethoxyhexyloxysilane, vinyl trihexyloxysilane, vinyl methoxydioctyloxysilane, vinyl dimethoxyoctyloxysilane, vinyl trioctyloxysilane, vinyl methoxydilauryloxysilane, vinyl dimethoxylauryloxysilane, vinyl methoxydioleyloxysilane, vinyl dimethoxyoleyloxysilane, 3-(meth)acrylamide-propyl trimethoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propyl triethoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propyl tri(β-methoxyethoxy)silane, 2-(meth)acrylamide-ethyl trimethoxysilane Silane, 1-(meth)acrylamide-methyltrimethoxysilane, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropyltrimethoxysilane, 2-(meth)acrylamide-isopropyltrimethoxysilane, N-(2-(meth)acrylamide-ethyl)-aminopropyltrimethoxysilane, (3-(meth)acrylamide-propyl)-oxypropyltrimethoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propyltriacetoxysilane, 2-(meth)acrylamide-ethyltriacetoxysilane, 4-(meth)acrylamide-butyltriacetoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propyltripropionyloxysilane , 2-(meth)acrylamide-2-methylpropyltriacetoxysilane, N-(2-(meth)acrylamide-ethyl)-aminopropyltriacetoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propylisobutyldimethoxysilane, 2-(meth)acrylamide-ethyldimethylmethoxysilane, 3-(meth)acrylamide-propylmethyldiacetoxysilane, 2-(meth)acrylamide-2-methylpropylhydrogendimethoxysilane, 3-(N-methyl-(meth)acrylamide)-propyltrimethoxysilane, 2-(N-ethyl-(meth)acrylamide)-ethyltriacetoxysilane, and the like.

ビニルエステルモノマーとケイ素含有基を有するモノマーとエチレンとを共重合させる方法としては特に限定されず、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の公知の方法が挙げられる。これらの方法の中でも、無溶媒で行う塊状重合法、及びアルコール等の溶媒を用いて行う溶液重合法が好ましい。溶液重合時に溶媒として使用される溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール等の低級アルコール等が挙げられる。The method for copolymerizing the vinyl ester monomer, the monomer having a silicon-containing group, and ethylene is not particularly limited, and includes known methods such as bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization. Among these methods, bulk polymerization carried out without a solvent and solution polymerization carried out using a solvent such as alcohol are preferred. Solvents used as solvents during solution polymerization include esters such as methyl acetate and ethyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; and lower alcohols such as methanol and ethanol.

共重合反応に使用される開始剤としては、従来公知のアゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、レドックス系開始剤等が適宜選ばれる。アゾ系開始剤としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)等を挙げることができる。過酸化物系開始剤としては、ジノルマルプロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジエトキシエチルパーオキシジカーボネート等のパーカーボネート化合物;t-ブチルパーオキシネオデカネート、α-クミルパーオキシネオデカネート、t-ブチルパーオキシネオデカネート等のパーエステル化合物;アセチルシクロヘキシルスルホニルパーオキシド、ジイソブチリルパーオキシド;2,4,4-トリメチルペンチル-2-パーオキシフェノキシアセテート等が挙げられる。さらには、例示した前記過酸化物系開始剤に過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等を組み合わせて開始剤とすることができる。レドックス系開始剤としては、前記の過酸化物と亜硫酸水素ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酒石酸、L-アスコルビン酸、ロンガリット等の還元剤とを組み合わせたものが挙げられる。The initiator used in the copolymerization reaction is appropriately selected from conventionally known azo initiators, peroxide initiators, redox initiators, etc. Examples of azo initiators include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), etc. Examples of the peroxide initiator include percarbonate compounds such as di-normal propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, and diethoxyethyl peroxydicarbonate; perester compounds such as t-butyl peroxyneodecanate, α-cumyl peroxyneodecanate, and t-butyl peroxyneodecanate; acetylcyclohexylsulfonyl peroxide, diisobutyryl peroxide; and 2,4,4-trimethylpentyl-2-peroxyphenoxyacetate. Furthermore, the above-listed peroxide initiators can be combined with potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide, and the like to form an initiator. Examples of the redox initiator include combinations of the above-listed peroxides with reducing agents such as sodium hydrogen sulfite, sodium hydrogen carbonate, tartaric acid, L-ascorbic acid, and Rongalite.

共重合反応を行う際の重合温度については特に制限はないが、0℃以上180℃以下が好ましく、20℃以上160℃以下がより好ましく、30℃以上150℃以下がさらに好ましい。There are no particular restrictions on the polymerization temperature when carrying out the copolymerization reaction, but a temperature of 0°C or higher and 180°C or lower is preferred, a temperature of 20°C or higher and 160°C or lower is more preferred, and a temperature of 30°C or higher and 150°C or lower is even more preferred.

ビニルエステル重合体の製造方法としては、ビニルエステルモノマー及びケイ素含有基を有するモノマーの共存下でエチレンを加圧しながら共重合することが好ましい。その際の重合反応器内のエチレン圧力は特に限定されないが0.01~2.0MPaが好ましく、0.05~1.0MPaがより好ましく、0.1~0.65MPaがさらに好ましい場合もある。重合反応器の出口でのビニルエステル系単量体の重合率は特に限定されないが、5~90%が好ましく、15~85%がより好ましい場合もある。A preferred method for producing a vinyl ester polymer is copolymerization of ethylene under pressure in the presence of a vinyl ester monomer and a monomer having a silicon-containing group. The ethylene pressure in the polymerization reactor is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 2.0 MPa, more preferably 0.05 to 1.0 MPa, and in some cases even more preferably 0.1 to 0.65 MPa. The polymerization rate of the vinyl ester monomer at the outlet of the polymerization reactor is not particularly limited, but is preferably 5 to 90%, and in some cases even more preferably 15 to 85%.

ビニルエステルモノマーとケイ素含有基を有するモノマーとエチレンとを共重合させる際には、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、必要に応じて、共重合可能な他のモノマーを共重合させることができる。この他のモノマーとしては、例えば、プロピレン、1-ブテン、イソブテン等の炭素数3~30のオレフィン;アクリル酸又はその塩;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-プロピル、アクリル酸i-プロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸i-ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルへキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル等のアクリル酸エステル;メタクリル酸又はその塩;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸i-プロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸i-ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸2-エチルへキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル等のメタクリル酸エステル;アクリルアミド、N-メチルアクリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリルアミドプロパンスルホン酸又はその塩、アクリルアミドプロピルジメチルアミン又はその塩、N-メチロールアクリルアミド又はその誘導体等のアクリルアミド誘導体;メタクリルアミド、N-メチルメタクリルアミド、N-エチルメタクリルアミド、メタクリルアミドプロパンスルホン酸又はその塩、メタクリルアミドプロピルジメチルアミン又はその塩、N-メチロールメタクリルアミド又はその誘導体等のメタクリルアミド誘導体;N-ビニルホルムアミド、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルピロリドン等のN-ビニルアミド;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、i-プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、i-ブチルビニルエーテル、t-ブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル等のビニルエーテル;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル;塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のハロゲン化ビニル;酢酸アリル、塩化アリル等のアリル化合物;マレイン酸又はその塩、エステル若しくは酸無水物;イタコン酸又はその塩、エステル若しくは酸無水物;酢酸イソプロペニル等が挙げられる。ビニルエステル重合体は、上述の他のモノマーのうちの1種又は2種以上に由来する構造単位を有することができる。When copolymerizing a vinyl ester monomer, a monomer having a silicon-containing group, and ethylene, other copolymerizable monomers can be copolymerized as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such other monomers include olefins having 3 to 30 carbon atoms, such as propylene, 1-butene, and isobutene; acrylic acid or its salts; acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, and octadecyl acrylate; methacrylic acid or its salts; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and n-propyl methacrylate. methacrylic acid esters such as i-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, and octadecyl methacrylate; acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N,N-dimethylacrylamide, diacetone acrylamide, acrylamidopropanesulfonic acid or a salt thereof, acrylamidopropyldimethylamine or a salt thereof, N-methylolacrylamide or a salt thereof, methacrylamide derivatives such as methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, methacrylamide propanesulfonic acid or a salt thereof, methacrylamide propyl dimethylamine or a salt thereof, N-methylol methacrylamide or a derivative thereof; N-vinyl amides such as N-vinyl formamide, N-vinyl acetamide, and N-vinyl pyrrolidone; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, i-propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, i-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, and stearyl vinyl ether; vinyl cyanides such as acrylonitrile and methacrylonitrile; vinyl halides such as vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride; allyl compounds such as allyl acetate and allyl chloride; maleic acid or a salt, ester, or acid anhydride thereof; itaconic acid or a salt, ester, or acid anhydride thereof; and isopropenyl acetate. The vinyl ester polymer may have structural units derived from one or more of the other monomers mentioned above.

ビニルエステル重合体に占める前記他のモノマー(ビニルエステルモノマー、ケイ素含有基を有するモノマー及びエチレン以外のモノマー)に由来する構造単位の割合は、本発明の効果を妨げない限り必ずしも制限されないが、ビニルエステル重合体を構成する全構造単位のモル数に基づいて、15モル%以下が好ましく、5モル%以下がより好ましく、1モル%以下がさらに好ましく、0.1モル%以下がよりさらに好ましい場合もある。The proportion of structural units derived from the other monomers (vinyl ester monomers, monomers having a silicon-containing group, and monomers other than ethylene) in the vinyl ester polymer is not necessarily limited as long as it does not interfere with the effects of the present invention, but may be preferably 15 mol % or less, more preferably 5 mol % or less, even more preferably 1 mol % or less, and even more preferably 0.1 mol % or less, based on the number of moles of all structural units constituting the vinyl ester polymer.

ビニルエステル重合体は、次いで、公知の方法に従って溶媒中でけん化され、変性PVAへと導かれる。けん化反応に使用される溶媒としては、アルコールが好ましい。アルコールとしては、メタノール、エタノール等の低級アルコールが挙げられ、メタノールが特に好適に使用される。けん化反応に使用される溶媒には、アルコールの他、アセトン、酢酸メチルや酢酸エチル等のエステル、トルエン等の有機溶媒がさらに含有されていてもよい。けん化反応に用いられる触媒としては、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属の水酸化物、ナトリウムメチラート等のアルカリ触媒、鉱酸等の酸触媒等が挙げられる。けん化反応の温度としては、例えば20℃以上60℃以下とすることができる。けん化反応の進行に伴って、ゲル状生成物が析出してくる場合には、その時点で生成物を粉砕し、洗浄後、乾燥することにより、変性PVAが得られる。The vinyl ester polymer is then saponified in a solvent according to a known method to produce a modified PVA. The solvent used in the saponification reaction is preferably an alcohol. Examples of alcohol include lower alcohols such as methanol and ethanol, with methanol being particularly preferred. The solvent used in the saponification reaction may further contain, in addition to alcohol, acetone, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and organic solvents such as toluene. Examples of catalysts used in the saponification reaction include alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, alkali catalysts such as sodium methylate, and acid catalysts such as mineral acids. The temperature of the saponification reaction can be, for example, 20°C or higher and 60°C or lower. If a gel-like product precipitates as the saponification reaction proceeds, the product is crushed at that point, washed, and then dried to obtain a modified PVA.

(可塑剤)
本発明の光学フィルム製造用フィルムは、可塑剤を含むことが好ましい。光学フィルム製造用フィルムが可塑剤を含むことにより、延伸性を高めることなどができる。可塑剤としては多価アルコールが好ましい。多価アルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジグリセリン、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパンなどが挙げられる。これらの中でも、延伸性の向上効果の点からグリセリンが好ましい。可塑剤は、1種又は2種以上を用いることができる。
(Plasticizer)
The film for optical film production of the present invention preferably contains a plasticizer. When the film for optical film production contains a plasticizer, it is possible to improve the stretchability. The plasticizer is preferably a polyhydric alcohol. Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, diethylene glycol, diglycerin, triethylene glycol, tetraethylene glycol, and trimethylolpropane. Among these, glycerin is preferred from the viewpoint of the effect of improving the stretchability. One or more kinds of plasticizers can be used.

本発明の光学フィルム製造用フィルムにおける可塑剤の含有量の下限としては、変性PVA100質量部に対して、1質量部が好ましく、3質量部がより好ましく、5質量部がさらに好ましい。可塑剤の含有量が前記下限以上であることにより、フィルムの延伸性が向上し、得られる光学フィルムの光学性能をより高めることなどができる。一方、この可塑剤の含有量の上限としては、変性PVA100質量部に対して、20質量部が好ましく、17質量部がより好ましく、15質量部がさらに好ましい。可塑剤の含有量が前記上限以下であることにより、フィルムが柔軟になり過ぎて取り扱い性が低下するのを抑制することなどができる。The lower limit of the content of the plasticizer in the film for optical film production of the present invention is preferably 1 part by mass, more preferably 3 parts by mass, and even more preferably 5 parts by mass, per 100 parts by mass of modified PVA. By having the content of the plasticizer be equal to or greater than the lower limit, the stretchability of the film is improved, and the optical performance of the obtained optical film can be further improved. On the other hand, the upper limit of the content of the plasticizer is preferably 20 parts by mass, more preferably 17 parts by mass, and even more preferably 15 parts by mass, per 100 parts by mass of modified PVA. By having the content of the plasticizer be equal to or less than the upper limit, it is possible to prevent the film from becoming too flexible and reducing the handleability.

(界面活性剤)
当該光学フィルム製造用フィルムは、界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤を含む製膜原液を用いて製膜することにより、製膜性が向上してフィルムの厚み斑の発生が抑制されると共に、製膜に使用する金属ロールやベルトからのフィルムの剥離が容易になる。界面活性剤を含む製膜原液から光学フィルム製造用フィルムを製造した場合には、得られるフィルム中には界面活性剤が含有され得る。
(Surfactant)
The optical film-producing film preferably contains a surfactant. By forming a film using a film-forming solution containing a surfactant, the film-forming properties are improved, the occurrence of unevenness in the film thickness is suppressed, and the film is easily peeled off from a metal roll or belt used in film formation. When a film for optical film production is produced from a film-forming solution containing a surfactant, the resulting film may contain a surfactant.

界面活性剤の種類は特に限定されないが、金属ロールやベルトからの剥離性の観点などから、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤が好ましい。The type of surfactant is not particularly limited, but anionic surfactants and nonionic surfactants are preferred from the standpoint of releasability from metal rolls and belts.

アニオン性界面活性剤としては、例えばラウリン酸カリウム等のカルボン酸型;ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸塩、オクチルサルフェート等の硫酸エステル型;ドデシルベンゼンスルホネート等のスルホン酸型などを挙げることができる。Examples of anionic surfactants include carboxylic acid types such as potassium laurate; sulfate ester types such as polyoxyethylene lauryl ether sulfate and octyl sulfate; and sulfonic acid types such as dodecylbenzenesulfonate.

ノニオン性界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンオレイルエーテル等のアルキルエーテル型;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のアルキルフェニルエーテル型;ポリオキシエチレンラウレート等のアルキルエステル型;ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル等のアルキルアミン型;ポリオキシエチレンラウリン酸アミド等のアルキルアミド型;ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル等のポリプロピレングリコールエーテル型;ラウリン酸ジエタノールアミド、オレイン酸ジエタノールアミド等のアルカノールアミド型;ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテル等のアリルフェニルエーテル型などを挙げることができる。Examples of nonionic surfactants include alkyl ether types such as polyoxyethylene oleyl ether; alkyl phenyl ether types such as polyoxyethylene octylphenyl ether; alkyl ester types such as polyoxyethylene laurate; alkyl amine types such as polyoxyethylene lauryl amino ether; alkyl amide types such as polyoxyethylene lauric acid amide; polypropylene glycol ether types such as polyoxyethylene polyoxypropylene ether; alkanolamide types such as lauric acid diethanolamide and oleic acid diethanolamide; and allyl phenyl ether types such as polyoxyalkylene allyl phenyl ether.

界面活性剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Surfactants can be used alone or in combination of two or more.

当該光学フィルム製造用フィルムが界面活性剤を含む場合、その含有量の下限は、変性PVA100質量部に対して、0.01質量部が好ましく、0.02質量部がより好ましく、0.05質量部がさらに好ましい。界面活性剤の含有量を前記下限以上とすることで、製膜性及び剥離性がより向上する。一方、この含有量の上限は、変性PVA100質量部に対して、0.5質量部が好ましく、0.3質量部がより好ましく、0.1質量部がさらに好ましい。界面活性剤の含有量を前記上限以下とすることで、界面活性剤がフィルムの表面にブリードアウトしてブロッキングが生じ、取り扱い性が低下することを抑制することができる。When the optical film manufacturing film contains a surfactant, the lower limit of the content is preferably 0.01 parts by mass, more preferably 0.02 parts by mass, and even more preferably 0.05 parts by mass, relative to 100 parts by mass of modified PVA. By making the content of the surfactant equal to or greater than the lower limit, the film-forming property and peelability are further improved. On the other hand, the upper limit of the content is preferably 0.5 parts by mass, more preferably 0.3 parts by mass, and even more preferably 0.1 parts by mass, relative to 100 parts by mass of modified PVA. By making the content of the surfactant equal to or less than the upper limit, it is possible to prevent the surfactant from bleeding out onto the surface of the film, causing blocking and reducing handleability.

(他の添加剤等)
本発明の光学フィルム製造用フィルムには、さらに、充填剤、銅化合物などの加工安定剤、耐候性安定剤、着色剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、他の熱可塑性樹脂、潤滑剤、香料、消泡剤、消臭剤、増量剤、剥離剤、離型剤、補強剤、架橋剤、防かび剤、防腐剤、結晶化速度遅延剤などの添加剤が必要に応じて適宜含有されていてもよい。
(Other additives, etc.)
The film for producing an optical film of the present invention may further contain additives, such as a filler, a processing stabilizer such as a copper compound, a weather resistance stabilizer, a colorant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, a flame retardant, other thermoplastic resins, a lubricant, a fragrance, an antifoaming agent, a deodorant, an extender, a peeling agent, a releasing agent, a reinforcing agent, a crosslinking agent, a mildew inhibitor, a preservative, and a crystallization rate retarder, as necessary.

本発明の光学フィルム製造用フィルムには、上述した変性PVA以外のPVAが含まれていてもよい。本発明の光学フィルム製造用フィルムにおける、変性PVAを含む全てのPVA、可塑剤及び界面活性剤の合計含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、99質量%以上がよりさらに好ましい場合もある。本発明の光学フィルム製造用フィルムが、PVA、可塑剤及び界面活性剤から実質的に構成されていることで、本発明の効果がより十分に発揮できる。The film for optical film production of the present invention may contain a PVA other than the modified PVA described above. The total content of all PVAs including modified PVA, plasticizers and surfactants in the film for optical film production of the present invention is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, even more preferably 95% by mass or more, and even more preferably 99% by mass or more. When the film for optical film production of the present invention is substantially composed of PVA, plasticizer and surfactant, the effects of the present invention can be more fully exhibited.

本発明の光学フィルム製造用フィルムに含まれる全てのPVAに対する上述した変性PVAの含有量としては、50質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、99質量%以上がよりさらに好ましい。本発明の光学フィルム製造用フィルムにおいて、PVAとして変性PVAを主に用いることで、本発明の効果がより十分に発揮できる。The content of the above-mentioned modified PVA relative to all PVA contained in the film for producing an optical film of the present invention is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, even more preferably 95% by mass or more, and even more preferably 99% by mass or more. By mainly using modified PVA as the PVA in the film for producing an optical film of the present invention, the effects of the present invention can be more fully exhibited.

本発明の光学フィルム製造用フィルムにおける、変性PVA、可塑剤及び界面活性剤の合計含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、99質量%以上がよりさらに好ましい場合もある。本発明の光学フィルム製造用フィルムが、変性PVA、可塑剤及び界面活性剤から実質的に構成されていることで、本発明の効果がより十分に発揮できる。The total content of the modified PVA, plasticizer, and surfactant in the film for optical film production of the present invention is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, even more preferably 95% by mass or more, and in some cases even more preferably 99% by mass or more. When the film for optical film production of the present invention is substantially composed of modified PVA, plasticizer, and surfactant, the effects of the present invention can be more fully exhibited.

(形状・物性等)
本発明の光学フィルム製造用フィルムは、光学フィルムの材料として用いられる、いわゆる原反フィルムである。但し、本発明の光学フィルム製造用フィルムは、ロール状になっているものに限定されるものではない。
(shape, physical properties, etc.)
The film for producing an optical film of the present invention is a so-called original film used as a material for an optical film. However, the film for producing an optical film of the present invention is not limited to a roll-shaped film.

本発明の光学フィルム製造用フィルムの平均厚さは特に制限されないが、下限としては1μmが好ましく、5μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。平均厚さが前記下限以上であることで、光学フィルムを製造するときの一軸延伸処理の際の切れを抑制することができる。また、この平均厚さの上限としては、75μmが好ましく、60μmがより好ましく、45μmがさらに好ましく、35μmがよりさらに好ましい。平均厚さが前記上限以下であることで、一軸延伸処理の際の延伸斑を抑制することができる。なお、「平均厚さ」とは、任意の5点で測定した厚さの平均値をいう(以下、平均厚さについて同様である。)。The average thickness of the film for optical film production of the present invention is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1 μm, more preferably 5 μm, and even more preferably 10 μm. By having an average thickness equal to or greater than the lower limit, it is possible to suppress breakage during the uniaxial stretching process when producing the optical film. Furthermore, the upper limit of this average thickness is preferably 75 μm, more preferably 60 μm, even more preferably 45 μm, and even more preferably 35 μm. By having an average thickness equal to or less than the upper limit, it is possible to suppress stretching unevenness during the uniaxial stretching process. Note that the "average thickness" refers to the average value of thicknesses measured at any five points (the same applies to the average thickness below).

本発明の光学フィルム製造用フィルムは、1層のPVA層(変性PVAを含む層)からなる単層フィルムであってもよいし、1層のPVA層を含む多層フィルムであってもよい。但し、偏光フィルムの製造に用いる場合などは、単層フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルム製造用フィルムが有するPVA層の平均厚さの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。平均厚さが前記下限以上であることで、光学フィルムを製造するときの一軸延伸処理の際の切れを抑制することができる。また、この平均厚さの上限としては、75μmが好ましく、60μmがより好ましく、45μmがさらに好ましく、35μmがよりさらに好ましい。平均厚さが前記上限以下であることで、一軸延伸処理の際の延伸斑を抑制することができる。The film for optical film production of the present invention may be a single layer film consisting of one PVA layer (a layer containing modified PVA) or a multilayer film containing one PVA layer. However, when used for producing a polarizing film, it is preferable to use a single layer film. The lower limit of the average thickness of the PVA layer of the film for optical film production of the present invention is preferably 1 μm, more preferably 5 μm, and even more preferably 10 μm. By having the average thickness be equal to or greater than the lower limit, it is possible to suppress breakage during the uniaxial stretching process when producing an optical film. In addition, the upper limit of this average thickness is preferably 75 μm, more preferably 60 μm, even more preferably 45 μm, and even more preferably 35 μm. By having the average thickness be equal to or less than the upper limit, it is possible to suppress stretching unevenness during the uniaxial stretching process.

光学フィルム製造用フィルムにおけるPVA層の具体的組成及び好適組成は、上述した光学フィルム製造用フィルム自体の具体的組成及び好適組成の記載を引用することができる。The specific composition and preferred composition of the PVA layer in the film for producing optical films can be referenced from the description of the specific composition and preferred composition of the film for producing optical films itself described above.

本発明の光学フィルム製造用フィルムが単層フィルムである場合、ハンドリング性を確保するために、平均厚さは20μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましい。一方、本発明の光学フィルム製造用フィルムが多層フィルムの場合、PVA層の平均厚さを20μm以下にすることもできるし、15μm以下にすることもできる。When the film for optical film production of the present invention is a single layer film, the average thickness is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, in order to ensure handling properties. On the other hand, when the film for optical film production of the present invention is a multilayer film, the average thickness of the PVA layer can be 20 μm or less, or 15 μm or less.

多層フィルムとは、2層以上の層を有するフィルムをいう。多層フィルムの層数は、5層以下であってよく、3層以下であってよい。多層フィルムとしては、基材樹脂層とPVA層との積層構造を有する光学フィルム製造用フィルムが挙げられる。基材樹脂層の平均厚さは、例えば20μm以上500μm以下である。多層フィルムにおける基材樹脂層は、PVA層とともに一軸延伸できるものであることが好ましい。基材樹脂層を構成する樹脂としては、ポリエステル、ポリオレフィン等を用いることができる。なかでも、非晶質ポリエステル樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、及びポリエチレンテレフタレートにイソフタル酸、1,4-シクロヘキサンジメタノールなどの共重合成分を共重合させた非晶質ポリエステル樹脂が好適に用いられる。基材樹脂層とPVA層との間には、接着剤層が設けられていてもよい。A multilayer film refers to a film having two or more layers. The number of layers of a multilayer film may be five or less, or three or less. An example of a multilayer film is a film for manufacturing an optical film having a laminated structure of a base resin layer and a PVA layer. The average thickness of the base resin layer is, for example, 20 μm or more and 500 μm or less. It is preferable that the base resin layer in the multilayer film can be uniaxially stretched together with the PVA layer. As the resin constituting the base resin layer, polyester, polyolefin, etc. can be used. Among them, amorphous polyester resin is preferable, and amorphous polyester resin obtained by copolymerizing polyethylene terephthalate with a copolymerization component such as isophthalic acid or 1,4-cyclohexanedimethanol is preferably used. An adhesive layer may be provided between the base resin layer and the PVA layer.

本発明の光学フィルム製造用フィルムの幅は特に制限されず、その用途などに応じて決めることができる。例えば、光学フィルム製造用フィルムの幅の下限は3mが好ましい。近年、液晶テレビや液晶モニターの大画面化が進行している点から光学フィルム製造用フィルムの幅を3m以上にしておくと、これらを最終製品とする用途に好適である。一方、光学フィルム製造用フィルムの幅の上限は7mが好ましい。幅を7m以下とすることで、実用化されている装置で光学フィルムを製造する場合に、効率的に一軸延伸処理を行うことなどができる。The width of the film for optical film production of the present invention is not particularly limited and can be determined depending on the application. For example, the lower limit of the width of the film for optical film production is preferably 3 m. In recent years, the screen size of liquid crystal televisions and liquid crystal monitors has been increasing, so if the width of the film for optical film production is 3 m or more, it is suitable for applications in which these are used as final products. On the other hand, the upper limit of the width of the film for optical film production is preferably 7 m. By setting the width to 7 m or less, when producing optical films using practical equipment, it is possible to efficiently perform uniaxial stretching processing.

本発明の光学フィルム製造用フィルムの膨潤度は、光学フィルムの生産性や光学性能の観点などから、140%以上400%以下の範囲内であることが好ましい。この膨潤度の下限は、180%がより好ましく、190%がさらに好ましい。また、膨潤度の上限は、220%がより好ましく、210%がさらに好ましい。フィルムの膨潤度は、例えば、熱処理の条件を強くすることによって、より小さい値に調整することなどができる。From the viewpoint of the productivity and optical performance of the optical film, the swelling degree of the film for optical film production of the present invention is preferably in the range of 140% or more and 400% or less. The lower limit of the swelling degree is more preferably 180%, and even more preferably 190%. The upper limit of the swelling degree is more preferably 220%, and even more preferably 210%. The swelling degree of the film can be adjusted to a smaller value, for example, by strengthening the heat treatment conditions.

ここで、「フィルムの膨潤度」とは、次式により求めた値をいう。
膨潤度(%)=100×N/M
式中、Nはフィルムから採取したサンプルを30℃の蒸留水中に30分間浸漬後、表面の水を除去した後のサンプルの質量(g)を表す。Mはそのサンプルを105℃の乾燥機で16時間乾燥した後のサンプルの質量(g)を表す。
Here, the "degree of swelling of the film" refers to a value calculated by the following formula.
Swelling degree (%) = 100 x N/M
In the formula, N represents the mass (g) of a sample taken from the film after immersing the sample in distilled water at 30° C. for 30 minutes and removing the surface water, and M represents the mass (g) of the sample after drying the sample in a dryer at 105° C. for 16 hours.

本発明の光学フィルム製造用フィルムは、通常、実質的に延伸されていないフィルム(非延伸フィルム、未延伸フィルム)である。当該光学フィルム製造用フィルムの面内位相差は、好ましくは100nm以下であり、更に好ましくは50nm以下である。通常、本発明の光学フィルム製造用フィルムを延伸処理(一軸延伸処理又は二軸延伸処理)することなどにより、光学フィルムを得ることができる。The film for optical film production of the present invention is usually a film that is not substantially stretched (non-stretched film, unstretched film). The in-plane retardation of the film for optical film production is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. Usually, an optical film can be obtained by subjecting the film for optical film production of the present invention to a stretching process (uniaxial stretching process or biaxial stretching process).

本発明の光学フィルム製造用フィルムによれば、収縮応力が同程度の光学フィルムを製造する場合、延伸温度の高温化が抑制され、且つ光学性能が優れた光学フィルムを得ることができる。なお、光学性能とは、光透過性、偏光性等が挙げられる。当該光学フィルム製造用フィルムにより製造できる光学フィルムとしては、偏光フィルム、位相差フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム等が挙げられ、偏光フィルムであることが好ましい。 When an optical film having the same shrinkage stress is produced by the film for optical film production of the present invention, the stretching temperature is prevented from being raised, and an optical film having excellent optical performance can be obtained. The optical performance includes light transmittance, polarization property, etc. Examples of optical films that can be produced by the film for optical film production include polarizing films, retardation films, viewing angle improving films, brightness improving films, etc., and polarizing films are preferable.

<光学フィルム製造用フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルム製造用フィルムの製造方法は特に限定されないが、製膜後のフィルムの厚み及び幅がより均一になる製造方法を好ましく採用することができる。例えば、変性PVA、並びに必要に応じてさらに可塑剤、界面活性剤及びその他の添加剤などのうちの1種又は2種以上が液体媒体中に溶解した製膜原液を用いて製造することができる。製膜原液が可塑剤、界面活性剤及びその他の添加剤の少なくとも1種を含有する場合、それらの成分が均一に混合されていることが好ましい。
<Method of manufacturing film for producing optical film>
The method for producing the film for optical film production of the present invention is not particularly limited, but a method that makes the thickness and width of the film more uniform after film production can be preferably adopted. For example, the film can be produced using a film-forming solution in which modified PVA and, if necessary, one or more of a plasticizer, a surfactant, and other additives are dissolved in a liquid medium. When the film-forming solution contains at least one of a plasticizer, a surfactant, and other additives, it is preferable that these components are uniformly mixed.

製膜原液の調製に使用される液体媒体としては、例えば水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンなどを挙げることができ、これらのうちの1種又は2種以上を使用することができる。これらの中でも、環境に与える負荷や回収性の点から水が好ましい。また、上述した変性PVAは、水溶性も良好であり、また、比較的高温(例えば80℃)の水溶液とした場合の粘度上昇も抑制されている。この点からも、液体媒体として水を好適に用いることができる。 Examples of liquid media used in the preparation of the film-forming solution include water, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, trimethylolpropane, ethylenediamine, and diethylenetriamine, and one or more of these can be used. Among these, water is preferred in terms of environmental load and recyclability. In addition, the above-mentioned modified PVA has good water solubility, and the increase in viscosity when it is made into an aqueous solution at a relatively high temperature (e.g., 80°C) is also suppressed. From this point of view, water can be preferably used as the liquid medium.

製膜原液の揮発分率(製膜時に揮発や蒸発によって除去される液体媒体などの揮発性成分の製膜原液中における含有割合)は、例えば50質量%以上95質量%以下が好ましく、55質量%以上90質量%以下がより好ましく、60質量%以上85質量%以下がさらに好ましい。製膜原液の揮発分率が50質量%以上であることにより、製膜原液の粘度が高くなり過ぎず、製膜原液調製時の濾過や脱泡が円滑に行われ、異物や欠点の少ないフィルムの製造が容易になる。一方、製膜原液の揮発分率が95質量%以下であることにより、製膜原液の濃度が低くなり過ぎず、工業的なフィルムの製造が容易になる。The volatile fraction of the film-forming solution (the content in the film-forming solution of volatile components such as liquid media that are removed by volatilization or evaporation during film formation) is, for example, preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 55% by mass or more and 90% by mass or less, and even more preferably 60% by mass or more and 85% by mass or less. When the volatile fraction of the film-forming solution is 50% by mass or more, the viscosity of the film-forming solution does not become too high, and filtration and degassing during preparation of the film-forming solution are performed smoothly, making it easier to produce a film with fewer foreign matter and defects. On the other hand, when the volatile fraction of the film-forming solution is 95% by mass or less, the concentration of the film-forming solution does not become too low, making it easier to produce a film industrially.

製膜の際の製膜原液の温度としては、例えば60℃以上150℃以下とすることができ、70℃以上130℃以下とすることが好ましい。変性PVAを用い、かつこのような比較的高温で製膜を行うことで、製膜原液の粘度を比較的低く抑えられ、製膜性を高めることができる。The temperature of the film-forming solution during film formation can be, for example, from 60°C to 150°C, and preferably from 70°C to 130°C. By using modified PVA and forming the film at such a relatively high temperature, the viscosity of the film-forming solution can be kept relatively low, and film-forming properties can be improved.

製膜原液を用いて製膜する際の製膜方法としては、例えばキャスト製膜法、押出製膜法、湿式製膜法、ゲル製膜法などが挙げられる。これらの製膜方法は1種のみを採用しても2種以上を組み合わせて採用してもよい。これらの製膜方法の中でも、キャスト製膜法及び押出製膜法が、厚み及び幅が均一で物性の良好なフィルムが得られることから好ましい。製膜されたフィルムには必要に応じて乾燥や熱処理を行うことができる。 Examples of methods for producing a film using a film-forming solution include cast film-forming, extrusion film-forming, wet film-forming, and gel film-forming. These film-forming methods may be used alone or in combination of two or more. Among these film-forming methods, cast film-forming and extrusion film-forming are preferred because they can produce a film with uniform thickness and width and good physical properties. The produced film can be dried or heat-treated as necessary.

本発明の光学フィルム製造用フィルムの具体的な製造方法の例としては、例えば以下の例を挙げることができる。T型スリットダイ、ホッパープレート、I-ダイ、リップコーターダイ等を用いて、製膜原液を最上流側に位置する回転する加熱した第1ロール(あるいはベルト)の周面上に均一に吐出又は流延する。この第1ロール(あるいはベルト)の周面上に吐出又は流延された膜の一方の面から揮発性成分を蒸発させて乾燥させる。続いてその下流側に配置した1個又は複数個の回転する加熱したロールの周面上でさらに乾燥するか、又は熱風乾燥装置の中を通過させてさらに乾燥させる。その後、巻き取り装置により、フィルムを巻き取る。加熱したロールによる乾燥と熱風乾燥装置による乾燥とは、適宜組み合わせて実施してもよい。 Specific examples of the manufacturing method of the film for optical film manufacturing of the present invention include the following. Using a T-type slit die, a hopper plate, an I-die, a lip coater die, or the like, the film-forming solution is uniformly discharged or cast onto the peripheral surface of a heated first roll (or belt) located on the most upstream side. The volatile components are evaporated from one side of the film discharged or cast onto the peripheral surface of the first roll (or belt) to dry it. The film is then further dried on the peripheral surface of one or more heated rotating rolls located downstream, or further dried by passing through a hot air dryer. The film is then wound up by a winding device. Drying by a heated roll and drying by a hot air dryer may be performed in an appropriate combination.

なお、本発明の光学フィルム製造用フィルムが多層フィルムである場合、例えば基材樹脂フィルム(基材樹脂層)上に製膜原液を塗布することによって多層フィルムを製造することができる。このとき、PVA層と基材樹脂層との間の接着性を改善するために、基材樹脂フィルムの表面を改質したり、基材樹脂フィルムの表面に接着剤を塗布したりしてもよい。When the film for optical film production of the present invention is a multilayer film, the multilayer film can be produced, for example, by applying a film-forming solution onto a base resin film (base resin layer). At this time, in order to improve the adhesion between the PVA layer and the base resin layer, the surface of the base resin film may be modified or an adhesive may be applied to the surface of the base resin film.

<光学フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルムの製造方法は、上述した光学フィルム製造用フィルムを一軸延伸する工程を備える。以下には、光学フィルムの製造方法の一例として、偏光フィルムの製造方法を挙げて具体的に説明する。
<Method of Manufacturing Optical Film>
The method for producing an optical film of the present invention includes a step of uniaxially stretching the above-mentioned film for producing an optical film. Hereinafter, a method for producing a polarizing film will be specifically described as an example of the method for producing an optical film.

偏光フィルムの製造方法としては、光学フィルム製造用フィルム(以下、「PVAフィルム」とも称する。)をそれぞれ、染色する染色工程、一軸延伸する延伸工程、及び必要に応じてさらに、膨潤させる膨潤工程、架橋させる架橋工程、固定処理する固定処理工程、洗浄する洗浄工程、乾燥させる乾燥工程、熱処理する熱処理工程などを備える方法が挙げられる。この場合、各工程の順としては特に限定されないが、例えば、膨潤工程、染色工程、架橋工程、延伸工程、固定処理工程などの順に行うことができる。また、1つ又は2つ以上の工程を同時に行うこともでき、各工程を2回又はそれ以上行うこともできる。 Examples of methods for producing polarizing films include a dyeing process for dyeing a film for producing optical films (hereinafter also referred to as "PVA film"), a stretching process for uniaxial stretching, and, if necessary, a swelling process for swelling, a crosslinking process for crosslinking, a fixing process for fixing, a cleaning process for washing, a drying process for drying, a heat treatment process for heat treatment, etc. In this case, the order of each process is not particularly limited, but can be, for example, the swelling process, dyeing process, crosslinking process, stretching process, and fixing process. Also, one or more processes can be performed simultaneously, and each process can be performed twice or more times.

膨潤工程は、PVAフィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水に浸漬する際の水の温度としては、20℃以上55℃以下が好ましく、22℃以上50℃以下がより好ましく、25℃以上45℃以下がさらに好ましい。また、水に浸漬する時間としては、例えば0.1分以上5分以下が好ましく、0.5分以上3分以下がより好ましい。なお、水に浸漬する際の水は純水に限定されず、各種成分が溶解した水溶液であってもよいし、水と水性媒体との混合物であってもよい。The swelling process can be carried out by immersing the PVA film in water. The temperature of the water during immersion is preferably 20°C or more and 55°C or less, more preferably 22°C or more and 50°C or less, and even more preferably 25°C or more and 45°C or less. The time for immersion in water is preferably, for example, 0.1 minutes or more and 5 minutes or less, and more preferably 0.5 minutes or more and 3 minutes or less. The water used for immersion in water is not limited to pure water, and may be an aqueous solution in which various components are dissolved, or a mixture of water and an aqueous medium.

染色工程は、PVAフィルムに対して二色性色素を接触させることにより行うことができる。二色性色素としてはヨウ素系色素を用いるのが一般的である。染色のタイミングとしては、一軸延伸前、一軸延伸時及び一軸延伸後のいずれの段階であってもよい。染色はPVAフィルムを染色浴であるヨウ素-ヨウ化カリウムを含有する溶液(特に水溶液)中に浸漬させることにより行う方法が好適に採用される。染色浴におけるヨウ素の濃度は0.01質量%以上0.5質量%以下が好ましく、ヨウ化カリウムの濃度は0.01質量%以上10質量%以下が好ましい。また、染色浴の温度は20℃以上50℃以下、特に25℃以上40℃以下とすることが好ましい。好適な染色時間は0.2分以上5分以下である。The dyeing process can be carried out by contacting the PVA film with a dichroic dye. An iodine-based dye is generally used as the dichroic dye. The timing of dyeing may be any stage before, during, or after uniaxial stretching. A method of dyeing by immersing the PVA film in a dye bath containing iodine and potassium iodide (particularly an aqueous solution) is preferably used. The concentration of iodine in the dye bath is preferably 0.01% by mass to 0.5% by mass, and the concentration of potassium iodide is preferably 0.01% by mass to 10% by mass. The temperature of the dye bath is preferably 20°C to 50°C, particularly 25°C to 40°C. The preferred dyeing time is 0.2 minutes to 5 minutes.

PVAフィルム中の変性PVAを架橋させる架橋工程を行うことにより、高温で湿式延伸する際に変性PVAが水へ溶出するのを効果的に抑制することができる。この観点から架橋工程は染色工程の後であって延伸工程の前に行うのが好ましい。架橋工程は、架橋剤を含む水溶液にPVAフィルムを浸漬することにより行うことができる。架橋剤としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ酸塩などのホウ素化合物の1種又は2種以上を使用することができる。架橋剤を含む水溶液における架橋剤の濃度は1質量%以上15質量%以下が好ましく、1.5質量%以上7質量%以下がより好ましく、2質量%以上6質量%以下がさらに好ましい。架橋剤の濃度が前記範囲内にあることで十分な延伸性を維持することができる。架橋剤を含む水溶液はヨウ化カリウム等を含有してもよい。架橋剤を含む水溶液の温度は、20℃以上60℃以下、特に25℃以上55℃以下とすることが好ましい。温度を前記範囲内にすることで効率良く架橋することができる。By carrying out a crosslinking process to crosslink the modified PVA in the PVA film, it is possible to effectively prevent the modified PVA from dissolving into water during wet stretching at high temperatures. From this viewpoint, it is preferable to carry out the crosslinking process after the dyeing process and before the stretching process. The crosslinking process can be carried out by immersing the PVA film in an aqueous solution containing a crosslinking agent. As the crosslinking agent, one or more boron compounds such as boric acid and borax and other borates can be used. The concentration of the crosslinking agent in the aqueous solution containing the crosslinking agent is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or more and 7% by mass or less, and even more preferably 2% by mass or more and 6% by mass or less. By having the concentration of the crosslinking agent within the above range, sufficient stretchability can be maintained. The aqueous solution containing the crosslinking agent may contain potassium iodide, etc. The temperature of the aqueous solution containing the crosslinking agent is preferably 20°C or more and 60°C or less, particularly 25°C or more and 55°C or less. By setting the temperature within the above range, crosslinking can be carried out efficiently.

PVAフィルムを一軸延伸する延伸工程は、湿式延伸法又は乾式延伸法のいずれで行ってもよい。湿式延伸法の場合は、ホウ酸を含む水溶液中で行うこともできるし、上述した染色浴中や後述する固定処理浴中で行うこともできる。また、乾式延伸法の場合は、室温のまま延伸を行ってもよいし、加熱しながら延伸してもよいし、吸水後のPVAフィルムを用いて空気中で行うこともできる。これらの中でも、幅方向に均一性高く延伸することができることから湿式延伸法が好ましく、ホウ酸を含む水溶液中で一軸延伸するのがより好ましい。ホウ酸水溶液中におけるホウ酸の濃度は、0.5質量%以上6.0質量%以下が好ましく、1.0質量%以上5.0質量%以下がより好ましく、1.5質量%以上4.0質量%以下が特に好ましい。また、ホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有してもよく、ヨウ化カリウムの濃度は0.01質量%以上10質量%以下が好ましい。一軸延伸における延伸温度は、30℃以上90℃以下が好ましく、40℃以上80℃以下がより好ましく、50℃以上75℃以下がさらに好ましく、55℃以上68℃以下が特に好ましい。The stretching process for uniaxially stretching the PVA film may be performed by either a wet stretching method or a dry stretching method. In the case of the wet stretching method, it may be performed in an aqueous solution containing boric acid, or in the dyeing bath described above or in a fixing treatment bath described later. In the case of the dry stretching method, the stretching may be performed at room temperature, or may be performed while heating, or may be performed in air using the PVA film after absorbing water. Among these, the wet stretching method is preferred because it can be stretched with high uniformity in the width direction, and uniaxial stretching in an aqueous solution containing boric acid is more preferred. The concentration of boric acid in the aqueous solution of boric acid is preferably 0.5% by mass or more and 6.0% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or more and 5.0% by mass or less, and particularly preferably 1.5% by mass or more and 4.0% by mass or less. In addition, the aqueous solution of boric acid may contain potassium iodide, and the concentration of potassium iodide is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less. The stretching temperature in the uniaxial stretching is preferably 30°C or more and 90°C or less, more preferably 40°C or more and 80°C or less, further preferably 50°C or more and 75°C or less, and particularly preferably 55°C or more and 68°C or less.

一軸延伸における延伸倍率(非延伸のPVAフィルムからの全延伸倍率)は、得られる偏光フィルムの偏光性能の点から5倍以上であることが好ましく、5.5倍以上であることがより好ましい。延伸倍率の上限は特に制限されないが、延伸倍率は8倍以下であることが好ましい。The stretching ratio in uniaxial stretching (total stretching ratio from unstretched PVA film) is preferably 5 times or more, more preferably 5.5 times or more, from the viewpoint of the polarizing performance of the resulting polarizing film. There is no particular upper limit to the stretching ratio, but the stretching ratio is preferably 8 times or less.

長尺のPVAフィルムを一軸延伸する場合における一軸延伸の方向に特に制限はなく、長尺方向への一軸延伸や横一軸延伸を採用することができる。偏光性能に優れる偏光フィルムが得られることから、長尺方向への一軸延伸が好ましい。長尺方向への一軸延伸は、互いに平行な複数のロールを備える延伸装置を使用して、各ロール間の周速を変えることにより行うことができる。一方、横一軸延伸はテンター型延伸機を用いて行うことができる。There is no particular restriction on the direction of uniaxial stretching when uniaxially stretching a long PVA film, and uniaxial stretching in the long direction or uniaxial stretching in the transverse direction can be used. Uniaxial stretching in the long direction is preferred because it results in a polarizing film with excellent polarization performance. Uniaxial stretching in the long direction can be performed by using a stretching device equipped with multiple rolls parallel to each other and changing the peripheral speed between each roll. On the other hand, uniaxial stretching in the transverse direction can be performed using a tenter-type stretching machine.

延伸工程における最大延伸応力が30N/mm以下であることが好ましい。ここで、最大延伸応力とは、PVAフィルムにかかる最大引張力を原料のPVAフィルムの断面積で割った値である。最大延伸応力を小さくすることによって、収縮応力の小さい偏光フィルムを得ることができる。最大延伸応力はより好適には25N/mm以下である。また通常、最大延伸応力は1N/mm以上である。延伸工程における最大延伸応力は延伸温度を高くすることにより低下させることができる。 The maximum stretching stress in the stretching step is preferably 30 N/ mm2 or less. Here, the maximum stretching stress is the maximum tensile force applied to the PVA film divided by the cross-sectional area of the raw material PVA film. By reducing the maximum stretching stress, a polarized film with low shrinkage stress can be obtained. The maximum stretching stress is more preferably 25 N/ mm2 or less. In addition, the maximum stretching stress is usually 1 N/mm2 or more . The maximum stretching stress in the stretching step can be reduced by increasing the stretching temperature.

偏光フィルムの製造にあたっては、PVAフィルムへの二色性色素(ヨウ素系色素等)の吸着を強固にするために、延伸工程の後に固定処理工程を行うことができる。固定処理に使用する固定処理浴としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物の1種又は2種以上を含む水溶液を使用することができる。また、必要に応じて、固定処理浴中にヨウ素化合物や金属化合物を添加してもよい。固定処理浴におけるホウ素化合物の濃度は、2質量%以上15質量%以下、特に3質量%以上10質量%以下であることが好ましい。ホウ素化合物の濃度を前記範囲内にすることで二色性色素の吸着をより強固にすることができる。固定処理浴の温度は、15℃以上60℃以下、特に25℃以上40℃以下が好ましい。In the manufacture of polarizing films, a fixing process can be performed after the stretching process in order to strengthen the adsorption of the dichroic dye (iodine-based dye, etc.) to the PVA film. The fixing bath used for the fixing process can be an aqueous solution containing one or more boron compounds such as boric acid and borax. If necessary, an iodine compound or a metal compound may be added to the fixing bath. The concentration of the boron compound in the fixing bath is preferably 2% by mass or more and 15% by mass or less, particularly 3% by mass or more and 10% by mass or less. By setting the concentration of the boron compound within the above range, the adsorption of the dichroic dye can be made stronger. The temperature of the fixing bath is preferably 15°C or more and 60°C or less, particularly 25°C or more and 40°C or less.

洗浄工程は、蒸留水、純水、水溶液等にフィルムを浸漬して行われることが一般的である。このとき、偏光性能向上の点からヨウ化カリウム等のヨウ化物を助剤として含有する水溶液を用いることが好ましく、ヨウ化物の濃度は0.5質量%以上10質量%以下とすることが好ましい。また、洗浄処理における水溶液の温度は一般的に5℃以上50℃以下であり、10℃以上45℃以下が好ましく、15℃以上40℃以下がさらに好ましい。水溶液の温度を前記範囲とすることで、偏光性能をより高めることなどができる。The cleaning process is generally performed by immersing the film in distilled water, pure water, an aqueous solution, or the like. In this case, it is preferable to use an aqueous solution containing an iodide such as potassium iodide as an auxiliary agent from the viewpoint of improving the polarization performance, and the concentration of the iodide is preferably 0.5% by mass to 10% by mass. In addition, the temperature of the aqueous solution in the cleaning process is generally 5°C to 50°C, preferably 10°C to 45°C, and more preferably 15°C to 40°C. By setting the temperature of the aqueous solution within the above range, it is possible to further improve the polarization performance.

乾燥工程の条件は特に制限されないが、30℃以上150℃以下、特に50℃以上130℃以下の温度でPVAフィルムの乾燥を行うことが好ましい。前記範囲内の温度で乾燥することで寸法安定性に優れる偏光フィルムが得られやすい。There are no particular limitations on the conditions for the drying process, but it is preferable to dry the PVA film at a temperature of 30°C or higher and 150°C or lower, and particularly 50°C or higher and 130°C or lower. Drying at a temperature within the above range makes it easier to obtain a polarizing film with excellent dimensional stability.

なお、位相差フィルム等、偏光フィルム以外の光学フィルムも、本発明の光学フィルム製造用フィルムを一軸延伸する工程を備える方法により製造することができる。具体的な製造方法は、本発明の光学フィルム製造用フィルムを用いること以外は、従来公知の方法を採用することができる。In addition, optical films other than polarizing films, such as retardation films, can also be manufactured by a method that includes a step of uniaxially stretching the film for optical film manufacturing of the present invention. As for the specific manufacturing method, a conventionally known method can be adopted, except that the film for optical film manufacturing of the present invention is used.

<光学フィルム>
本発明の光学フィルムは、ケイ素含有基及びエチレン単位を有するPVA(変性PVA)を含み、前記ケイ素含有基が、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基であり、前記変性PVAにおける全構造単位に対する前記ケイ素含有基の含有量が0.01モル%以上1.0モル%以下であり、前記エチレン単位の含有量が0.5モル%以上10モル%以下である光学フィルムである。
<Optical film>
The optical film of the present invention comprises a PVA having a silicon-containing group and an ethylene unit (modified PVA), wherein the silicon-containing group is a silanol group or a group that can be converted into a silanol group in the presence of water, the content of the silicon-containing group relative to all structural units in the modified PVA is 0.01 mol % or more and 1.0 mol % or less, and the content of the ethylene unit is 0.5 mol % or more and 10 mol % or less.

本発明の光学フィルムは、本発明の光学フィルム製造用フィルムを用いて上述した製造方法により得られた光学フィルムであってよい。本発明の光学フィルムに含まれる変性PVAの具体的構造や含有量等の詳細は、本発明の光学フィルム製造用フィルムに含まれる変性PVAと同様である。また、本発明の光学フィルムには、本発明の光学フィルム製造用フィルムと同様の他の成分が含まれていてよい。The optical film of the present invention may be an optical film obtained by the above-mentioned manufacturing method using the film for optical film production of the present invention. Details such as the specific structure and content of the modified PVA contained in the optical film of the present invention are the same as those of the modified PVA contained in the film for optical film production of the present invention. In addition, the optical film of the present invention may contain other components similar to those of the film for optical film production of the present invention.

本発明の光学フィルムは、偏光フィルム、位相差フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム等であってよく、偏光フィルムであることが好ましい。この場合、偏光フィルムには、通常、二色性色素が含まれており、また、変性PVAは架橋されていてよい。The optical film of the present invention may be a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film, a brightness improving film, etc., and is preferably a polarizing film. In this case, the polarizing film usually contains a dichroic dye, and the modified PVA may be crosslinked.

本発明の光学フィルムは、延伸フィルムであることが好ましく、一軸延伸フィルムであることがより好ましい。また、本発明の光学フィルムは、単層フィルムであってもよく、多層フィルムであってもよいが、単層フィルムであることが好ましい。このようなフィルムである場合、本発明の光学フィルムは、偏光フィルムなどとしてより好適に用いることができる。The optical film of the present invention is preferably a stretched film, more preferably a uniaxially stretched film. The optical film of the present invention may be a single-layer film or a multi-layer film, but is preferably a single-layer film. When it is such a film, the optical film of the present invention can be more suitably used as a polarizing film, etc.

本発明の光学フィルムの収縮応力は100N/mm以下であることが好ましい。収縮応力が小さいことによって高温で使用した場合にも寸法安定性に優れたものとなる。収縮応力は、より好適には80N/mm以下である。本発明の光学フィルムの収縮応力の下限は、例えば10N/mmであってよく、20N/mm又は40N/mmであってもよい。ここで収縮応力は、試料となる偏光フィルムの延伸方向両端辺を固定し、80℃で4時間維持したときの張力を試料の断面積で割った値であり、具体的には、後述の実施例に記載された方法により求められた値をいう。 The shrinkage stress of the optical film of the present invention is preferably 100 N/ mm2 or less. The small shrinkage stress results in excellent dimensional stability even when used at high temperatures. The shrinkage stress is more preferably 80 N/mm2 or less . The lower limit of the shrinkage stress of the optical film of the present invention may be, for example, 10 N/mm2, 20 N/ mm2 , or 40 N/ mm2 . Here, the shrinkage stress is a value obtained by dividing the tension when both ends of a polarizing film sample in the stretching direction are fixed and the film is maintained at 80°C for 4 hours by the cross-sectional area of the sample, and specifically refers to a value obtained by the method described in the Examples below.

本発明の光学フィルムが偏光フィルムである場合、偏光フィルムの二色性比(R)が100以上であることが好ましい。上述した変性PVAを含むことにより、このような高い二色性比(R)を有する偏光フィルムを生産性良く製造することができる。二色性比(R)は150以上がより好ましく、190以上がさらに好ましく、200以上が特に好ましい。この二色性比(R)の上限としては、例えば350であってよく、300又は250であってもよい。When the optical film of the present invention is a polarizing film, it is preferable that the dichroic ratio (R) of the polarizing film is 100 or more. By including the above-mentioned modified PVA, a polarizing film having such a high dichroic ratio (R) can be produced with good productivity. The dichroic ratio (R) is more preferably 150 or more, even more preferably 190 or more, and particularly preferably 200 or more. The upper limit of this dichroic ratio (R) may be, for example, 350, or may be 300 or 250.

偏光フィルムの二色性比(R)の算出方法は以下のとおりである。まず、表面反射を排除した透過率(T’)と単体透過率(T)との関係は式(a)で示される。このとき、偏光フィルムの屈折率は1.5であるとし、表面での反射率は4%であるとする。透過率(T’)と偏光度(V)と二色性比(R)との関係は式(b)で示される。したがって、単体透過率(T)及び偏光度(V)を計測した上で、それらの値を用いて式(a)及び(b)を解くことで偏光フィルムの二色性比(R)を算出することができる。
T’=T/(1-0.04) ・・・(a)
R={-ln[T’(1-V)]}/{-ln[T’(1+V)]} ・・・(b)
The method for calculating the dichroic ratio (R) of a polarizing film is as follows. First, the relationship between the transmittance (T') excluding surface reflection and the single transmittance (T) is shown by formula (a). In this case, the refractive index of the polarizing film is assumed to be 1.5, and the reflectance at the surface is assumed to be 4%. The relationship between the transmittance (T'), the degree of polarization (V), and the dichroic ratio (R) is shown by formula (b). Therefore, the single transmittance (T) and the degree of polarization (V) are measured, and then the dichroic ratio (R) of the polarizing film can be calculated by solving formulas (a) and (b) using these values.
T'=T/(1-0.04) 2 ...(a)
R={-ln[T'(1-V)]}/{-ln[T'(1+V)]} ...(b)

偏光フィルムは、通常、その両面又は片面に、光学的に透明でかつ機械的強度を有する保護膜を貼り合わせて偏光板にして使用される。保護膜としては、三酢酸セルロース(TAC)フィルム、シクロオレフィンポリマー(COP)フィルム、酢酸・酪酸セルロース(CAB)フィルム、アクリル系フィルム、ポリエステル系フィルムなどが使用される。また、貼り合わせのための接着剤としては、PVA系接着剤、ウレタン系接着剤、アクリレート系紫外線硬化型接着剤などを挙げることができる。すなわち、偏光板は、偏光フィルムと、この偏光フィルムの片面又は両面に直接又は接着剤層を介して積層された保護膜とを有する。A polarizing film is usually used as a polarizing plate by laminating an optically transparent and mechanically strong protective film on one or both sides of the polarizing film. Examples of protective films that can be used include cellulose triacetate (TAC) film, cycloolefin polymer (COP) film, cellulose acetate butyrate (CAB) film, acrylic film, and polyester film. Examples of adhesives used for lamination include PVA adhesives, urethane adhesives, and acrylate UV-curable adhesives. In other words, a polarizing plate has a polarizing film and a protective film laminated directly or via an adhesive layer on one or both sides of the polarizing film.

偏光板は、例えば、アクリル系等の粘着剤をコートした後、ガラス基板に貼り合わせてLCDの部品として使用することができる。なお、偏光板には、さらに、位相差フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム等が貼り合わせられていてもよい。 The polarizing plate can be used as a part of an LCD by, for example, coating it with an acrylic or other adhesive and then bonding it to a glass substrate. In addition, the polarizing plate may also be bonded with a retardation film, a viewing angle improving film, a brightness improving film, etc.

以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されない。各測定及び評価の方法は以下のとおりである。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The methods of measurement and evaluation are as follows.

[PVAの重合度(粘度平均重合度)]
以下の合成例で合成された各PVAについて、JIS K6726-1994の記載に準じて、粘度平均重合度を測定した。
[Polymerization degree of PVA (viscosity average polymerization degree)]
For each PVA synthesized in the following synthesis examples, the viscosity average degree of polymerization was measured in accordance with the description of JIS K6726-1994.

[PVAのけん化度]
以下の合成例で合成された各PVAについて、JIS K6726-1994の記載に準じて、けん化度を測定した。
[Degree of saponification of PVA]
For each PVA synthesized in the following synthesis examples, the degree of saponification was measured according to the description of JIS K6726-1994.

[PVAにおけるケイ素含有基及びエチレン単位の含有量]
以下の合成例で合成された各PVAについて、ケイ素含有基及びエチレン単位の含有量をけん化する前のビニルエステル重合体のプロトンNMRから測定した。けん化する前のビニルエステル重合体のプロトンNMRを測定するに際しては、ビニルエステル重合体をヘキサン-アセトンにより再沈精製して重合体中から未反応のモノマーを完全に取り除き、次いで90℃減圧乾燥を2日間行った後、CDCl溶媒に溶解して分析に供した。
[Content of silicon-containing groups and ethylene units in PVA]
For each PVA synthesized in the following synthesis examples, the content of silicon-containing groups and ethylene units was measured from the proton NMR of the vinyl ester polymer before saponification. When measuring the proton NMR of the vinyl ester polymer before saponification, the vinyl ester polymer was purified by reprecipitation with hexane-acetone to completely remove unreacted monomers from the polymer, and then dried at 90°C under reduced pressure for 2 days, and then dissolved in CDCl3 solvent for analysis.

[フィルムの膨潤度]
以下の実施例及び比較例で得られた各フィルム(光学フィルム製造用フィルム)を1.5gとなるようにカットし、30℃の蒸留水1000g中に30分間浸漬した。30分間浸漬後にフィルムを取り出し、濾紙で表面の水を吸い取った後、その質量(N)を測定した。続いて、そのフィルムを105℃の乾燥機で16時間乾燥した後、乾燥後の質量(M)を測定した。得られた質量(N)及び質量(M)から、以下の式によって、フィルムの膨潤度を求めた。
膨潤度(%)=100×N/M
[Film swelling degree]
Each film (film for optical film production) obtained in the following Examples and Comparative Examples was cut to 1.5 g and immersed in 1000 g of distilled water at 30° C. for 30 minutes. After immersion for 30 minutes, the film was taken out, the water on the surface was absorbed with filter paper, and the mass (N) was measured. The film was then dried in a dryer at 105° C. for 16 hours, and the mass (M) after drying was measured. The swelling degree of the film was calculated from the obtained mass (N) and mass (M) according to the following formula.
Swelling degree (%) = 100 x N/M

[偏光フィルムの二色性比(光学性能)]
以下の実施例及び比較例で得られた各偏光フィルムの幅方向の中央部から、偏光フィルムの長さ方向に4cmの長方形のサンプルを採取した。このサンプルに対して、積分球付き分光光度計(日本分光株式会社製「V7100」)を用いて、JIS Z8722(物体色の測定方法)に準拠し、C光源、2°視野の可視光領域の視感度補正を行った上で、単体透過率(T)及び偏光度(V)を測定した。
[Dichroic ratio of polarizing film (optical performance)]
A rectangular sample of 4 cm in the length direction of the polarizing film was taken from the center of the width direction of each polarizing film obtained in the following Examples and Comparative Examples. The single transmittance (T) and polarization degree (V) of this sample were measured using an integrating sphere spectrophotometer ("V7100" manufactured by JASCO Corporation) in accordance with JIS Z8722 (measurement method for object color) after luminosity correction in the visible light region with a C light source and a 2° visual field.

得られた単体透過率(T)及び偏光度(V)の値から下記式(a)及び(b)を解くことで、偏光フィルムの二色性比(R)を算出した。ここで、偏光フィルムの屈折率は1.5であるとし、表面での反射率は4%であるとした。また、このようにして、実施例及び比較例の一軸延伸処理浴の温度条件で製造された偏光フィルムの二色性比(R)をRとした。
T’=T/(1-0.04) ・・・(a)
R={-ln[T’(1-V)]}/{-ln[T’(1+V)]} ・・・(b)
The dichroic ratio (R) of the polarizing film was calculated by solving the following formulas (a) and (b) from the obtained single transmittance (T) and polarization degree (V). Here, the refractive index of the polarizing film was set to 1.5, and the reflectance at the surface was set to 4%. The dichroic ratio (R) of the polarizing film thus produced under the temperature conditions of the uniaxial stretching treatment bath in the Examples and Comparative Examples was set to R 0 .
T'=T/(1-0.04) 2 ...(a)
R={-ln[T'(1-V)]}/{-ln[T'(1+V)]} ...(b)

[偏光フィルムの収縮応力]
以下の実施例及び比較例で得られた各偏光フィルムの収縮応力について、島津製作所製の恒温槽付きオートグラフ「AG-X」とビデオ式伸び計「TR ViewX120S」とを用いて測定した。測定には20℃/20%RHで18時間調湿した偏光フィルムを使用した。オートグラフ「AG-X」の恒温槽を20℃にした後、偏光フィルム(長さ方向15cm、幅方向1.5cm)をチャック(チャック間隔5cm)に取り付け、引張り開始と同時に、80℃へ恒温槽の昇温を開始した。なお、偏光フィルムの延伸方向を長さ方向とし、この方向に引っ張るようにした。偏光フィルムを1mm/minの速さで引っ張り、張力が2Nに到達した時点で引っ張りを停止し、その状態で4時間後までの張力を測定した。このとき、熱膨張によってチャック間の距離が変わるため、チャックに標線シールを貼り、ビデオ式伸び計「TR ViewX120S」を用いてチャックに貼り付けた標線シールが動いた分だけチャック間の距離を修正できるようにして測定を行った。なお、4時間後の張力の測定値から初期張力2Nを差し引いた値を偏光フィルムの収縮力とし、この収縮力をサンプルの断面積で除した値を収縮応力(N/mm)とした。また、このようにして、実施例及び比較例の一軸延伸処理浴の温度条件で製造された偏光フィルムの収縮応力(SF)をSFとした。
[Shrinkage stress of polarizing film]
The shrinkage stress of each polarizing film obtained in the following Examples and Comparative Examples was measured using Shimadzu Corporation's autograph "AG-X" with a thermostatic chamber and a video extensometer "TR ViewX120S". For the measurement, a polarizing film that had been conditioned at 20°C/20% RH for 18 hours was used. After the thermostatic chamber of the autograph "AG-X" was set to 20°C, the polarizing film (15 cm in the length direction, 1.5 cm in the width direction) was attached to a chuck (chuck interval 5 cm), and the temperature of the thermostatic chamber was raised to 80°C at the same time as the start of pulling. The stretching direction of the polarizing film was set to the length direction, and the film was pulled in this direction. The polarizing film was pulled at a speed of 1 mm/min, and the pulling was stopped when the tension reached 2 N, and the tension was measured in this state for up to 4 hours. At this time, since the distance between the chucks changes due to thermal expansion, a marking sticker was attached to the chuck and the measurement was performed using a video extensometer "TR ViewX120S" so that the distance between the chucks could be corrected by the amount of movement of the marking sticker attached to the chuck. The shrinkage force of the polarized film was determined by subtracting the initial tension of 2N from the tension measurement value after 4 hours, and the shrinkage stress (N/ mm2 ) was determined by dividing this shrinkage force by the cross-sectional area of the sample. The shrinkage stress (SF) of the polarized films produced in this manner under the temperature conditions of the uniaxial stretching treatment bath in the Examples and Comparative Examples was determined to be SF 0 .

[偏光フィルムの収縮応力75N/mmにおける二色性比及び延伸温度]
以下の実施例及び比較例において、一軸延伸処理浴の温度を2℃又は4℃低い温度とし、得られる偏光フィルムの透過度が44.0%となるように染色処理浴のヨウ素濃度を変更した以外は同様の方法で、一軸延伸処理浴の温度が異なる偏光フィルムを得た。得られた各偏光フィルムの単体透過率(T)および偏光度(V)を測定し、前記の方法で二色性比(R)を求めた。ここで、一軸延伸処理浴の温度が2℃低い条件で得られた偏光フィルムの二色性比(R)をR-2、一軸延伸処理浴の温度が4℃低い条件で得られた偏光フィルムの二色性比(R)をR-4とした。また、各偏光フィルムの収縮応力を前記の方法で測定した。ここで、一軸延伸処理浴の温度が2℃低い条件で得られた偏光フィルムの収縮力(SF)をSF-2、一軸延伸処理浴の温度が4℃低い条件で得られた偏光フィルムの収縮力(SF)をSF-4とした。
[Dichroic ratio and stretching temperature of polarizing film at shrinkage stress of 75 N/ mm2 ]
In the following examples and comparative examples, polarizing films with different temperatures of the uniaxial stretching bath were obtained in the same manner, except that the temperature of the uniaxial stretching bath was 2°C or 4°C lower, and the iodine concentration of the dyeing bath was changed so that the transmittance of the obtained polarizing film was 44.0%. The single transmittance (T) and polarization degree (V) of each obtained polarizing film were measured, and the dichroic ratio (R) was calculated by the above-mentioned method. Here, the dichroic ratio (R) of the polarizing film obtained under the condition of a uniaxial stretching bath temperature 2°C lower was R -2 , and the dichroic ratio (R) of the polarizing film obtained under the condition of a uniaxial stretching bath temperature 4°C lower was R -4 . In addition, the shrinkage stress of each polarizing film was measured by the above-mentioned method. Here, the shrinkage force (SF) of the polarizing film obtained under the condition of a uniaxial stretching bath temperature 2°C lower was SF -2 , and the shrinkage force (SF) of the polarizing film obtained under the condition of a uniaxial stretching bath temperature 4°C lower was SF -4 .

このようにして得られた一軸延伸処理浴の温度が異なる3種類の偏光フィルムの二色性比(R、R-2、R-4)及び収縮応力(SF、SF-2、SF-4)の値から、二色性比と収縮応力の関係をプロットし、直線近似することにより、収縮応力75N/mmにおける二色性比を算出した。また、収縮応力と一軸延伸処理浴の温度の関係をプロットし、直線近似することにより、収縮応力75N/mmにおける延伸温度を算出した。 From the dichroic ratio (R 0 , R -2 , R -4 ) and shrinkage stress (SF 0 , SF -2 , SF -4 ) values of the three types of polarizing films thus obtained with different uniaxial stretching bath temperatures, the relationship between the dichroic ratio and the shrinkage stress was plotted and linear approximation was performed to calculate the dichroic ratio at a shrinkage stress of 75 N/mm 2. In addition, the relationship between the shrinkage stress and the temperature of the uniaxial stretching bath was plotted and linear approximation was performed to calculate the stretching temperature at a shrinkage stress of 75 N/mm 2 .

[合成例1]PVA-1の合成
撹拌機、窒素導入口、エチレン導入口、開始剤添加口及びディレー溶液添加口を備えた5L加圧反応槽に酢酸ビニル3000g、ケイ素含有基を有するモノマーとしてビニルトリメトキシシラン3.6gを仕込み、60℃に昇温した後30分間窒素バブリングにより系中を窒素置換した。次いで反応槽圧力が0.26MPaとなるようにエチレンを導入した。前記の重合槽内温を60℃に調整した後、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1.0gを注入し重合を開始した。重合中はビニルトリメトキシシランの2質量%メタノール溶液を注入しながら、エチレンを導入して反応槽圧力を0.26MPaに、重合温度を60℃に維持し、3時間後に重合率が20%となったところで冷却して重合を停止した。重合終了までに添加したビニルトリメトキシシランのメタノール溶液は84mlであった。次いで、減圧下にて未反応の酢酸ビニルを除去し、変性ポリ酢酸ビニル(以下、変性PVAcと略記することがある)のメタノール溶液を得た。得られた変性PVAcのメタノール溶液の濃度を23.5質量%に調整し、アルカリモル比(NaOHのモル数/変性PVAc中のビニルエステル単位のモル数)が0.04になるようにNaOHメタノール溶液(10質量%濃度)を添加して、けん化した。得られたポリビニルアルコールはメタノールで洗浄した。以上の操作により得られたPVA-1の重合度(粘度平均重合度)は3,300、けん化度は99.9モル%、ケイ素含有基の含有量は0.2モル%、エチレン単位含有量は2.5モル%であった。
[Synthesis Example 1] Synthesis of PVA-1 3000 g of vinyl acetate and 3.6 g of vinyltrimethoxysilane as a monomer having a silicon-containing group were charged into a 5 L pressurized reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen inlet, an ethylene inlet, an initiator addition port, and a delay solution addition port, and the temperature was raised to 60°C, and the system was replaced with nitrogen by nitrogen bubbling for 30 minutes. Then, ethylene was introduced so that the reaction vessel pressure was 0.26 MPa. After adjusting the temperature inside the polymerization vessel to 60°C, 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was injected to start polymerization. During polymerization, ethylene was introduced to maintain the reaction vessel pressure at 0.26 MPa and the polymerization temperature at 60°C while injecting a 2 mass% methanol solution of vinyltrimethoxysilane, and the polymerization was stopped by cooling when the polymerization rate reached 20% after 3 hours. The amount of the methanol solution of vinyltrimethoxysilane added by the end of polymerization was 84 ml. Next, unreacted vinyl acetate was removed under reduced pressure to obtain a methanol solution of modified polyvinyl acetate (hereinafter sometimes abbreviated as modified PVAc). The concentration of the obtained methanol solution of modified PVAc was adjusted to 23.5% by mass, and NaOH methanol solution (10% by mass concentration) was added so that the alkali molar ratio (moles of NaOH/moles of vinyl ester units in modified PVAc) became 0.04, and saponification was performed. The obtained polyvinyl alcohol was washed with methanol. The degree of polymerization (viscosity average degree of polymerization) of PVA-1 obtained by the above operations was 3,300, the degree of saponification was 99.9 mol%, the content of silicon-containing groups was 0.2 mol%, and the content of ethylene units was 2.5 mol%.

[合成例2~9]PVA-2~PVA-9の合成
合成例1に準じ、かつ用いたモノマーの割合、重合条件及びけん化条件を適宜調整し、表1に記載の粘度平均重合度、けん化度、ケイ素含有基の含有量、及びエチレン単位の含有量を有するPVA-2~PVA-9を得た。
Synthesis Examples 2 to 9: Synthesis of PVA-2 to PVA-9 PVA-2 to PVA-9 having the viscosity average degree of polymerization, degree of saponification, silicon-containing group content, and ethylene unit content shown in Table 1 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the ratio of the monomers used, the polymerization conditions, and the saponification conditions were appropriately adjusted.

[実施例1]
PVA-1 100質量部、可塑剤としてグリセリン10質量部、及び界面活性剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム0.1質量部を含み、PVA含有率が9.5質量%である水溶液を製膜原液として調製した。この製膜原液を80℃の金属ロール上で乾燥し、得られたフィルムを熱風乾燥機中で105℃の温度で10分間熱処理をすることにより膨潤度を200%に調整して、平均厚さが30μmのPVAフィルム(光学フィルム製造用フィルム)を作製した。
[Example 1]
An aqueous solution containing 100 parts by mass of PVA-1, 10 parts by mass of glycerin as a plasticizer, and 0.1 parts by mass of sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate as a surfactant, and having a PVA content of 9.5% by mass, was prepared as a film-forming stock solution. This film-forming stock solution was dried on a metal roll at 80° C., and the resulting film was heat-treated in a hot air dryer at a temperature of 105° C. for 10 minutes to adjust the swelling degree to 200%, thereby producing a PVA film (film for producing optical films) with an average thickness of 30 μm.

得られたPVAフィルムの幅方向中央部から、幅5cm×長さ5cmの範囲が一軸延伸できるように幅5cm×長さ9cmのサンプルをカットした。このサンプルを30℃の純水に60秒間浸漬しつつ2.0倍に長さ方向に一軸延伸して、膨潤処理した。続いてヨウ素0.05質量%及びヨウ化カリウム1.15質量%を含有する水溶液(染色処理浴:温度32℃)に120秒間浸漬しつつ1.2倍(全体で2.4倍)に長さ方向に一軸延伸してヨウ素を吸着させた。次いで、ホウ酸2.6質量%を含有する水溶液(ホウ酸架橋処理浴:温度32℃)に120秒浸漬しつつ1.25倍(全体で3.0倍)に長さ方向に一軸延伸した。さらにホウ酸を2.8質量%及びヨウ化カリウムを5質量%の割合で含有する69℃の水溶液(一軸延伸処理浴)に浸漬しつつ、全体で6.0倍まで長さ方向に一軸延伸した。その後、ホウ酸を1.5質量%及びヨウ化カリウムを3.5質量%の濃度で含有する温度22℃のヨウ化カリウム水溶液(洗浄浴)中に5秒間浸漬することによりフィルムを洗浄した。最後に80℃で4分間乾燥して偏光フィルムを得た。A sample of 5 cm wide x 9 cm long was cut from the center of the width direction of the obtained PVA film so that a range of 5 cm wide x 5 cm long could be uniaxially stretched. This sample was immersed in pure water at 30 ° C for 60 seconds and uniaxially stretched 2.0 times in the length direction for swelling treatment. Next, it was immersed in an aqueous solution containing 0.05% by mass of iodine and 1.15% by mass of potassium iodide (dyeing treatment bath: temperature 32 ° C) for 120 seconds and uniaxially stretched 1.2 times (total 2.4 times) in the length direction to adsorb iodine. Next, it was immersed in an aqueous solution containing 2.6% by mass of boric acid (boric acid crosslinking treatment bath: temperature 32 ° C) for 120 seconds and uniaxially stretched 1.25 times (total 3.0 times) in the length direction. The film was then immersed in an aqueous solution (uniaxial stretching bath) containing 2.8% by mass of boric acid and 5% by mass of potassium iodide at 69° C., and uniaxially stretched to a total of 6.0 times in the length direction. The film was then washed by immersing for 5 seconds in an aqueous solution (washing bath) containing 1.5% by mass of boric acid and 3.5% by mass of potassium iodide at a temperature of 22° C. Finally, the film was dried at 80° C. for 4 minutes to obtain a polarizing film.

得られた偏光フィルムを用いて前記した方法により、偏光フィルムの収縮応力75N/mmにおける二色性比を求めた。また、前記した方法により、偏光フィルムの収縮応力75N/mmにおける延伸温度を求めた。結果を表1及び図1に示す。 The dichroic ratio of the obtained polarizing film at a shrinkage stress of 75 N/ mm2 was determined by the method described above. The stretching temperature of the polarizing film at a shrinkage stress of 75 N/ mm2 was also determined by the method described above. The results are shown in Table 1 and FIG.

[実施例2~3及び比較例1~5]
表1に記載されたPVA(PVA-2~PVA-8)を用い、PVAフィルムの平均厚さが30μm、膨潤度が200%になるように、製膜原液のPVA含有率及び熱処理温度を調整した以外は実施例1と同様にしてPVAフィルムの作製及び評価を行った。得られたPVAフィルムを用いて、得られる偏光フィルムの収縮応力が75N/mm前後かつ単体透過率が44.0%となるように一軸延伸処理浴の温度および染色処理浴のヨウ素濃度を変更した以外は実施例1と同様にして偏光フィルムの製造及び評価を行った。結果を表1及び図1、2に示す。
[Examples 2 to 3 and Comparative Examples 1 to 5]
Using the PVAs (PVA-2 to PVA-8) shown in Table 1, PVA films were produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the PVA content in the film-forming solution and the heat treatment temperature were adjusted so that the average thickness of the PVA film would be 30 μm and the swelling degree would be 200%. Using the obtained PVA films, polarized films were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 , except that the temperature of the uniaxial stretching treatment bath and the iodine concentration of the dyeing treatment bath were changed so that the shrinkage stress of the obtained polarized film would be around 75 N/mm2 and the single-piece transmittance would be 44.0%. The results are shown in Table 1 and Figures 1 and 2.

[比較例6]
PVAとしてPVA-9を用い、製膜原液を作成しようとしたが、PVAが溶解せず、製膜原液を作製することができなかった。そのため、PVAフィルム及び偏光フィルムを製造できず、偏光フィルムの収縮応力75N/mmにおける二色性比及び延伸温度も測定できなかった。
[Comparative Example 6]
An attempt was made to prepare a film-forming solution using PVA-9 as the PVA, but the PVA did not dissolve, and a film-forming solution could not be prepared. As a result, a PVA film and a polarizing film could not be produced, and the dichroic ratio and stretching temperature of the polarizing film at a shrinkage stress of 75 N/ mm2 could not be measured.

Figure 0007653448000003
Figure 0007653448000003

表1及び図1に示されるように、実施例1~3の光学フィルム製造用フィルム(PVAフィルム)によれば、収縮応力が75N/mmの光学フィルムを製造しようとする場合、68℃以下の延伸温度で、二色性比が200以上の光学フィルムを得ることができる。すなわち、実施例1~3の光学フィルム用製造フィルムによれば、収縮応力が同程度の光学フィルムを製造する場合、延伸温度の高温化が抑制され、かつ光学性能が優れた光学フィルムを得ることができる。換言すれば、実施例1~3の光学フィルム用製造フィルムによれば、得られる光学フィルムの光学性能を高めつつ、収縮応力の増大と延伸温度の高温化とを抑制することができる。 As shown in Table 1 and Figure 1, when an optical film having a shrinkage stress of 75 N/ mm2 is produced using the films for optical film production (PVA films) of Examples 1 to 3, an optical film having a dichroic ratio of 200 or more can be obtained at a stretching temperature of 68°C or less. That is, when an optical film having the same shrinkage stress is produced using the films for optical film production of Examples 1 to 3, the stretching temperature is prevented from increasing, and an optical film having excellent optical performance can be obtained. In other words, the films for optical film production of Examples 1 to 3 can prevent an increase in shrinkage stress and an increase in stretching temperature while improving the optical performance of the obtained optical film.

図2に示されるように、同じ重合度のPVAを用いた光学フィルム製造用フィルム(PVAフィルム)を比較すると、以下のことが分かる。重合度2400の無変性PVAを用いた比較例1と比較して、重合度2400かつケイ素含有基の含有量0.2モル%又は0.4モル%の変性PVAを用いた比較例4、5は収縮応力75N/mmにおける二色性比(光学性能)が格段に高まっているものの、延伸温度も大幅に上昇している。すなわち、無変性PVAを用いた場合と比較して、ケイ素含有基のみを有するPVAを用いたPVAフィルムによれば、得られる光学フィルムの光学性能を大幅に向上できるが、延伸温度の高温化を抑制できないことが分かる。一方、重合度2400、ケイ素含有基の含有量0.2モル%かつエチレン単位の含有量4.5モル%の変性PVAを用いた実施例3では、収縮応力75N/mmにおける二色性比(光学性能)を比較例4よりも高めつつ、延伸温度はほぼ同等で延伸温度の高温化を抑制できている。すなわち、ケイ素含有基のみを有するPVAを用いた場合と比較して、ケイ素含有基及びエチレン単位を有するPVAを用いた光学フィルム製造用フィルム(PVAフィルム)によれば、収縮応力が同程度の光学フィルムを製造する場合、延伸温度の高温化が抑制され、かつ光学性能が優れた光学フィルムを得ることができる。換言すれば、得られる光学フィルムの光学性能を高めつつ、収縮応力の増大と延伸温度の高温化とを抑制することができる。 As shown in Fig. 2, when comparing films for optical film production (PVA films) using PVA with the same polymerization degree, the following can be seen. Compared to Comparative Example 1 using unmodified PVA with a polymerization degree of 2400, Comparative Examples 4 and 5 using modified PVA with a polymerization degree of 2400 and a silicon-containing group content of 0.2 mol% or 0.4 mol% have a significantly higher dichroic ratio (optical performance) at a shrinkage stress of 75 N/ mm2 , but the stretching temperature is also significantly higher. That is, compared to the case where unmodified PVA is used, it can be seen that the PVA film using PVA having only silicon-containing groups can significantly improve the optical performance of the obtained optical film, but cannot suppress the increase in the stretching temperature. On the other hand, in Example 3, which uses a modified PVA with a degree of polymerization of 2400, a silicon-containing group content of 0.2 mol%, and an ethylene unit content of 4.5 mol%, the dichroic ratio (optical performance) at a shrinkage stress of 75 N/ mm2 is higher than that of Comparative Example 4, while the stretching temperature is almost the same and the stretching temperature can be suppressed from increasing. That is, compared to the case where a PVA having only a silicon-containing group is used, when an optical film with the same shrinkage stress is produced, the stretching temperature is suppressed from increasing and an optical film with excellent optical performance can be obtained by using a film for optical film production (PVA film) using a PVA having a silicon-containing group and an ethylene unit, and the stretching temperature is suppressed from increasing. In other words, the optical performance of the obtained optical film can be improved while suppressing an increase in shrinkage stress and an increase in the stretching temperature.

本発明の光学フィルム製造用フィルムは、LCDの構成材料である偏光フィルム等の材料として好適に用いることができる。The film for optical film manufacturing of the present invention can be suitably used as a material for polarizing films, which are constituent materials of LCDs.

Claims (9)

偏光フィルム製造用フィルムを一軸延伸する工程を備え、
上記偏光フィルム製造用フィルムが、
ケイ素含有基及びエチレン単位を有するポリビニルアルコールを含み、
前記ケイ素含有基が、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基であり、
前記ポリビニルアルコールにおける全構造単位に対する前記ケイ素含有基の含有量が0.01モル%以上1.0モル%以下であり、前記エチレン単位の含有量が0.5モル%以上10モル%以下である、偏光フィルムの製造方法
The method includes a step of uniaxially stretching a film for producing a polarizing film,
The film for producing a polarizing film is
It comprises a polyvinyl alcohol having a silicon-containing group and an ethylene unit,
the silicon-containing group is a silanol group or a group that can be converted to a silanol group in the presence of water;
the content of the silicon-containing group relative to all structural units in the polyvinyl alcohol is from 0.01 mol % to 1.0 mol %, and the content of the ethylene unit is from 0.5 mol % to 10 mol %.
前記ポリビニルアルコールの粘度平均重合度が1,000以上6,000以下であり、けん化度が98.7モル%以上である、請求項1に記載の偏光フィルムの製造方法 The method for producing a polarizing film according to claim 1 , wherein the polyvinyl alcohol has a viscosity average degree of polymerization of 1,000 or more and 6,000 or less and a degree of saponification of 98.7 mol % or more. 前記粘度平均重合度と前記ケイ素含有基の含有量との積が100モル%以上2,000モル%以下である、請求項2に記載の偏光フィルムの製造方法 The method for producing a polarizing film according to claim 2 , wherein the product of the viscosity average degree of polymerization and the content of the silicon-containing group is 100 mol % or more and 2,000 mol % or less. 前記偏光フィルム製造用フィルムの平均厚さが1μm以上75μm以下である、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の偏光フィルムの製造方法The method for producing a polarizing film according to any one of claims 1 to 3, wherein the film for producing a polarizing film has an average thickness of 1 µm or more and 75 µm or less. 前記偏光フィルム製造用フィルムの膨潤度が140%以上400%以下である、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の偏光フィルムの製造方法The method for producing a polarizing film according to any one of claims 1 to 4, wherein the film for producing a polarizing film has a degree of swelling of 140% or more and 400% or less. 前記偏光フィルム製造用フィルムが非延伸フィルムである、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の偏光フィルムの製造方法The method for producing a polarizing film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the film for producing a polarizing film is a non-stretched film. ケイ素含有基及びエチレン単位を有するポリビニルアルコールを含み、
前記ケイ素含有基が、シラノール基又は水の存在下でシラノール基に転化し得る基であり、
前記ポリビニルアルコールにおける全構造単位に対する前記ケイ素含有基の含有量が0.01モル%以上1.0モル%以下であり、前記エチレン単位の含有量が0.5モル%以上10モル%以下である、偏光フィルム。
It comprises a polyvinyl alcohol having a silicon-containing group and an ethylene unit,
the silicon-containing group is a silanol group or a group that can be converted to a silanol group in the presence of water;
the content of the silicon-containing group relative to all structural units in the polyvinyl alcohol is from 0.01 mol % to 1.0 mol %, and the content of the ethylene unit is from 0.5 mol % to 10 mol %.
収縮応力が100N/m以下である、請求項に記載の偏光フィルム。 The polarizing film according to claim 7 , having a shrinkage stress of 100 N/m 2 or less. 単層フィルムである、請求項7又は請求項8に記載の偏光フィルム。 The polarizing film according to claim 7 or 8 , which is a single layer film.
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000318034A (en) 1999-03-10 2000-11-21 Kuraray Co Ltd Method for producing gas barrier film
JP2001139750A (en) 1999-08-30 2001-05-22 Kuraray Co Ltd Water resistant composition
JP2007009056A (en) 2005-06-30 2007-01-18 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Polyvinyl alcohol film for optical film, production method thereof, and polarizing film and polarizing plate obtained using the same
WO2009088030A1 (en) 2008-01-11 2009-07-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Dye-based polarizer, polarizing plate and method for producing the dye-based polarizer
WO2013042744A1 (en) 2011-09-22 2013-03-28 株式会社クラレ Composition containing vinyl alcohol polymer
WO2014112625A1 (en) 2013-01-21 2014-07-24 日本合成化学工業株式会社 Silyl group-containing poly(vinyl alcohol)-based resin and use thereof
WO2018180729A1 (en) 2017-03-30 2018-10-04 日本ゼオン株式会社 Multilayer film for organic electroluminescent display devices, and polarizing plate, anti-reflection film and organic electroluminescent display device, each of which comprises same
WO2020004608A1 (en) 2018-06-29 2020-01-02 株式会社クラレ Polyvinyl alcohol film, film roll, and polarization film
WO2021070622A1 (en) 2019-10-08 2021-04-15 株式会社クラレ Film for production of optical film, method for producing optical film, and optical film

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2543748B2 (en) 1987-07-03 1996-10-16 株式会社クラレ Polarizing film and manufacturing method thereof
JPH08188624A (en) * 1995-01-11 1996-07-23 Kuraray Co Ltd Polyvinyl alcohol film
US6364987B1 (en) * 1999-03-10 2002-04-02 Kuraray Co., Ltd. Method for producing gas barrier film
US6346570B1 (en) * 1999-08-30 2002-02-12 Kuraray Co., Ltd. Water resistant composition, coating agent, and recording material
JP4397504B2 (en) * 2000-04-10 2010-01-13 株式会社クラレ Polarized film
CN1768280A (en) * 2003-03-28 2006-05-03 富士胶片株式会社 Polarizing plate and manufacturing method thereof, and image display device
JP2006259621A (en) * 2005-03-18 2006-09-28 Sekisui Chem Co Ltd Polarizer protective film and polarizing plate
TWI704203B (en) * 2017-08-07 2020-09-11 日商日東電工股份有限公司 Adhesive layer, optical film with adhesive layer, optical laminate and image display device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000318034A (en) 1999-03-10 2000-11-21 Kuraray Co Ltd Method for producing gas barrier film
JP2001139750A (en) 1999-08-30 2001-05-22 Kuraray Co Ltd Water resistant composition
JP2007009056A (en) 2005-06-30 2007-01-18 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Polyvinyl alcohol film for optical film, production method thereof, and polarizing film and polarizing plate obtained using the same
WO2009088030A1 (en) 2008-01-11 2009-07-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Dye-based polarizer, polarizing plate and method for producing the dye-based polarizer
WO2013042744A1 (en) 2011-09-22 2013-03-28 株式会社クラレ Composition containing vinyl alcohol polymer
WO2014112625A1 (en) 2013-01-21 2014-07-24 日本合成化学工業株式会社 Silyl group-containing poly(vinyl alcohol)-based resin and use thereof
WO2018180729A1 (en) 2017-03-30 2018-10-04 日本ゼオン株式会社 Multilayer film for organic electroluminescent display devices, and polarizing plate, anti-reflection film and organic electroluminescent display device, each of which comprises same
WO2020004608A1 (en) 2018-06-29 2020-01-02 株式会社クラレ Polyvinyl alcohol film, film roll, and polarization film
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