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JP7655880B2 - Ink composition and its use - Google Patents
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JP7655880B2 - Ink composition and its use - Google Patents

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本発明は、各種の被加飾体をメタリック加飾するための金属光沢性インク組成物およびその用途に関する。 The present invention relates to a metallic luster ink composition for metallically decorating various objects to be decorated, and its uses.

メタリック加飾は、例えば、自動車の内装・外装部品、エンブレム、電子機器、化粧品の容器、ゴルフクラブのシャフトなどの幅広い分野で必要とされており、高級感を得るために、金属に匹敵する程の高度な金属光沢が求められている。特に、銀は光の反射率が高いことから美しい金属光沢(メタリック性、光輝性、鏡面性)を有し、高度な意匠性に好適な金属として期待されている。 Metallic decoration is needed in a wide range of fields, such as interior and exterior parts of automobiles, emblems, electronic devices, cosmetic containers, and golf club shafts, and a high level of metallic luster comparable to that of metal is required to achieve a sense of luxury. In particular, silver has a high light reflectance and therefore a beautiful metallic luster (metallicity, brilliance, and specularity), and is expected to be a metal suitable for advanced design.

被加飾体に金属光沢を付与するための手法としては、箔押し、蒸着、銀鏡反応を利用した銀鏡メッキ、クロムメッキのほか、光輝顔料としてアルミニウム顔料を用いたインクや、金属ナノ粒子を含むインクによる印刷や塗布によって、基材に金属光沢層を形成する方法が挙げられる。 Methods for imparting metallic luster to objects to be decorated include foil stamping, vapor deposition, silver mirror plating using the silver mirror reaction, chrome plating, as well as printing or coating with ink that uses aluminum pigment as a luster pigment or ink that contains metal nanoparticles to form a metallic luster layer on the base material.

箔押し、蒸着、銀鏡メッキ、クロムメッキは、金属に近い金属光沢を付与することができるが、製造工程が複雑であることや、専用の設備が必要であることから製造コストの面で不利な方法である。また、銀鏡メッキは、メッキ特有の白化、クラック、発色のムラの発生や、メッキを施す部分以外の部分がメッキされてしまうことによる不良率も高い。さらに、クロムメッキは環境に対する負荷が大きい。これらの手法に対して、インクを用いた印刷や塗布などの方法は、製造コストが安価で、適用できる基材も幅広く選択できる。 Foil stamping, vapor deposition, silver mirror plating, and chrome plating can impart a metallic luster close to that of metal, but the manufacturing process is complicated and specialized equipment is required, making these methods disadvantageous in terms of manufacturing costs. Silver mirror plating also suffers from the whitening, cracks, and uneven coloring that are typical of plating, and has a high defect rate due to areas other than the intended plated being plated. Furthermore, chrome plating places a heavy burden on the environment. In contrast to these techniques, methods such as printing and coating using ink are inexpensive to manufacture and can be applied to a wide range of substrates.

インクの中でも、アルミニウム顔料(光輝顔料)を用いたインクよりも、金属ナノ粒子を含むインクによる金属光沢層の方が、金属光沢性に優れている。 Among inks, the metallic luster layer made from ink containing metal nanoparticles has better metallic luster than ink using aluminum pigment (lustrous pigment).

特開2009-227736号公報(特許文献1)には、金属ナノ粒子と分散剤とで形成された金属コロイド粒子;および溶媒(B)を含み、前記分散剤がカルボキシル基を有する有機化合物および高分子分散剤を含むインクジェット印刷用インキ組成物が記載されている。この文献には、バインダー樹脂(ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性高分子など)などの添加剤を添加してもよいことも記載されている。 JP 2009-227736 A (Patent Document 1) describes an ink composition for inkjet printing that contains metal colloid particles formed of metal nanoparticles and a dispersant; and a solvent (B), the dispersant containing an organic compound having a carboxyl group and a polymer dispersant. This document also describes that additives such as binder resins (hydrophilic polymers such as polyvinyl alcohol and polyethylene glycol) may be added.

特開2017-149942号公報(特許文献2)には、銀ナノ粒子と、カルボキシル基又はその塩を有する分散剤と、水性溶媒とを含み、被印刷体に印字または印刷するためのインキ組成物であって、固形分換算で、銀ナノ粒子100質量部に対して、被膜形成能を有する水溶性または水分散性高分子を1~30質量部の割合で含むインキ組成物が開示されている。 JP 2017-149942 A (Patent Document 2) discloses an ink composition for printing or marking on a substrate, which contains silver nanoparticles, a dispersant having a carboxyl group or a salt thereof, and an aqueous solvent, and contains, in terms of solid content, 100 parts by mass of silver nanoparticles and 1 to 30 parts by mass of a water-soluble or water-dispersible polymer capable of forming a film.

特開2018-153965号公報(特許文献3)には、基材と、前記基材上に形成された金属光沢層とを有する画像形成物において、前記金属光沢層は、金属ナノ粒子と、前記金属ナノ粒子の表面に吸着した高分子分散剤と、バインダー樹脂と、を含み、前記高分子分散剤は、酸価が1以上80以下の化合物であり、前記バインダー樹脂は、SP値が23.0以上26.0以下の樹脂である画像形成物が開示されている。この文献には、前記バインダー樹脂、けん化度が72以上85以下のポリビニルアルコールが記載されている。 JP 2018-153965 A (Patent Document 3) discloses an image-formed product having a substrate and a metallic gloss layer formed on the substrate, the metallic gloss layer including metal nanoparticles, a polymeric dispersant adsorbed to the surfaces of the metal nanoparticles, and a binder resin, the polymeric dispersant being a compound having an acid value of 1 or more and 80 or less, and the binder resin being a resin having an SP value of 23.0 or more and 26.0 or less. This document discloses that the binder resin is polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 72 or more and 85 or less.

特開2018-145319号公報(特許文献4)には、水、沸点が250℃以下の水溶性有機溶剤、光輝性顔料、及びビニルポリマーを含む第一の樹脂粒子、ならびに第二の樹脂粒子を含有するインクが開示されている。この文献には、光輝性顔料として銀コロイド粒子分散液が記載されている。 JP 2018-145319 A (Patent Document 4) discloses an ink containing water, a water-soluble organic solvent having a boiling point of 250° C. or less, a glittering pigment, first resin particles containing a vinyl polymer, and second resin particles. This document describes a silver colloid particle dispersion as the glittering pigment.

特開2019-116522号公報(特許文献5)には、粒子径Dav90が45nm以下である銀粒子、ポリオール、シリコーン系界面活性剤、樹脂を含むインクが開示されている。この文献には、前記インクが水溶性樹脂または水分散性樹脂を含むことが記載されている。 JP 2019-116522 A (Patent Document 5) discloses an ink containing silver particles having a particle diameter Dav90 of 45 nm or less, a polyol, a silicone-based surfactant, and a resin. This document states that the ink contains a water-soluble resin or a water-dispersible resin.

特開2017-2219号公報(特許文献6)には、アルコール溶媒中に高分子分散剤を溶解させるとともに、酸化銀および炭酸銀から選択される少なくとも1種の銀化合物を分散させたアルコール溶液を用い、前記アルコール溶液中に超音波を照射することにより得られた、銀ナノ粒子の分散溶液からなる銀鏡膜層形成用組成液が開示されている。 JP 2017-2219 A (Patent Document 6) discloses a composition liquid for forming a silver mirror film layer, which is made of a dispersion solution of silver nanoparticles obtained by dissolving a polymer dispersant in an alcohol solvent and dispersing at least one silver compound selected from silver oxide and silver carbonate in the alcohol solution, and irradiating the alcohol solution with ultrasonic waves.

特開2009-227736号公報JP 2009-227736 A 特開2017-149942号公報JP 2017-149942 A 特開2018-153965号公報JP 2018-153965 A 特開2018-145319号公報JP 2018-145319 A 特開2019-116522号公報JP 2019-116522 A 特開2017-2219号公報JP 2017-2219 A

しかし、特許文献1~6に開示されている金属ナノ粒子を用いたインクでは、銀光沢が十分ではなかった。さらに、前記インクでは、バインダーなどの樹脂量を多くすると金属光沢(銀光沢)が得られなくなるため、高い金属光沢を得るためには樹脂量を極力少なくする必要があった。樹脂量を少なくすると、基材との密着性、耐擦過性が低下するため、上塗り層、下塗り層との併用が必要であった。すなわち、金属光沢性と密着性とはトレードオフの関係にあるため、簡便な方法で両特性を両立させるのは困難であった。 However, the inks using metal nanoparticles disclosed in Patent Documents 1 to 6 did not have sufficient silver luster. Furthermore, in these inks, if the amount of resin such as binder is increased, metallic luster (silver luster) cannot be obtained, so in order to obtain high metallic luster, it was necessary to reduce the amount of resin as much as possible. Reducing the amount of resin reduces adhesion to the substrate and abrasion resistance, so it was necessary to use it in combination with a topcoat layer and an undercoat layer. In other words, there is a trade-off between metallic luster and adhesion, so it was difficult to achieve both properties in a simple manner.

従って、本発明の目的は、銀光沢性などの金属光沢性に優れたインク組成物およびその用途を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to provide an ink composition having excellent metallic gloss, such as silver gloss, and uses thereof.

本発明者等は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子、ポリビニルアセタール系樹脂および溶剤を組み合わせることにより、銀光沢性などの金属光沢性を向上できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive research into achieving the above object, the inventors discovered that it is possible to improve metallic luster, such as silver luster, by combining composite nanoparticles of a metal (including silver) and a protective colloid, a polyvinyl acetal resin, and a solvent, and thus completed the present invention.

すなわち、本発明のインク組成物は、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)、ポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分(B)および溶剤(C)を含む。前記ポリビニルアセタール系樹脂はポリビニルブチラール系樹脂であってもよい。前記樹脂成分(B)は、第2樹脂をさらに含んでいてもよい。前記第2樹脂は、(メタ)アクリル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂およびセルロース系樹脂からなる群より選択された少なくとも1種であってもよい。前記ポリビニルアセタール系樹脂と前記第2樹脂との質量比は、前者/後者=99/1~5/95であってもよい。前記溶剤(C)は、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルからなる群より選択された少なくとも1種を含んでいてもよい。前記樹脂成分(B)の割合は、前記複合体ナノ粒子(A)の銀を含む金属100質量部に対して3~150質量部であってもよい。前記複合体ナノ粒子(A)は、銀を含む金属ナノ粒子の表面に保護コロイドが付着または配位した粒子であり、前記金属ナノ粒子の平均粒径が1~100nmであり、かつ前記保護コロイドは、カルボキシル基またはその塩を有する高分子分散剤を含んでいてもよい。 That is, the ink composition of the present invention includes a composite nanoparticle (A) of a metal containing silver and a protective colloid, a resin component (B) containing a polyvinyl acetal resin, and a solvent (C). The polyvinyl acetal resin may be a polyvinyl butyral resin. The resin component (B) may further include a second resin. The second resin may be at least one selected from the group consisting of a (meth)acrylic resin, an alkyd resin, an epoxy resin, and a cellulose resin. The mass ratio of the polyvinyl acetal resin to the second resin may be the former/latter = 99/1 to 5/95. The solvent (C) may include at least one selected from the group consisting of an alkylene glycol monoalkyl ether and a dialkylene glycol monoalkyl ether. The ratio of the resin component (B) may be 3 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the metal containing silver of the composite nanoparticle (A). The composite nanoparticles (A) are particles in which a protective colloid is attached or coordinated to the surface of metal nanoparticles containing silver, the average particle size of the metal nanoparticles is 1 to 100 nm, and the protective colloid may contain a polymer dispersant having a carboxyl group or a salt thereof.

本発明には、前記インク組成物を基材の上に塗布する塗布工程と、前記インク組成物で形成された塗膜を乾燥させて金属光沢膜を得る乾燥工程とを含む金属光沢膜の製造方法も含まれる。 The present invention also includes a method for producing a metallic gloss film, which includes a coating step of coating the ink composition on a substrate, and a drying step of drying the coating film formed from the ink composition to obtain a metallic gloss film.

本発明には、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)と、ポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分(B)とを含む金属光沢膜も含まれる。 The present invention also includes a metallic gloss film that contains composite nanoparticles (A) of a metal, including silver, and a protective colloid, and a resin component (B) that contains a polyvinyl acetal resin.

本発明では、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子、ポリビニルアセタール系樹脂および溶剤が組み合わされているため、金属光沢性(特に、銀光沢性)を向上できる。さらに、銀を含む金属を偏在させることにより、金属光沢性を維持しつつ、樹脂成分を増量できるため、金属光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できる。詳しくは、被加飾体に対して、上塗り層や下塗り層などを形成することなく、高い密着性で金属光沢膜を形成できるため、簡便な方法で密着性を向上でき、耐擦過性も向上できる。さらに、膜表面に銀を含むナノ粒子で密な層を形成できるため、光の遮蔽性(非透過性)も大きく、金属光沢(鏡面)を向上できる。 In the present invention, a composite nanoparticle of a metal containing silver and a protective colloid, a polyvinyl acetal resin, and a solvent are combined, so that the metallic luster (particularly the silver luster) can be improved. Furthermore, by distributing the metal containing silver unevenly, the amount of the resin component can be increased while maintaining the metallic luster, so that the metallic luster can be achieved simultaneously with adhesion and abrasion resistance. In detail, a metallic luster film can be formed with high adhesion on the object to be decorated without forming a topcoat layer or an undercoat layer, so that adhesion can be improved by a simple method, and abrasion resistance can also be improved. Furthermore, a dense layer can be formed on the film surface with nanoparticles containing silver, so that the light shielding property (non-transmittance) is high, and the metallic luster (mirror surface) can be improved.

図1は、実施例7で得られた銀光沢膜断面の透過型電子顕微鏡(TEM)像を示す。FIG. 1 shows a transmission electron microscope (TEM) image of a cross section of the silver gloss film obtained in Example 7. 図2は、図1のTEM像の拡大像である。FIG. 2 is an enlarged image of the TEM image of FIG. 図3は、比較例1で得られた銀光沢膜断面のTEM像を示す。FIG. 3 shows a TEM image of a cross section of the silver gloss film obtained in Comparative Example 1. 図4は、図3のTEM像における表面付近の拡大像である。FIG. 4 is an enlarged image of the surface area in the TEM image of FIG. 図5は、図3のTEM像における基材との界面付近の拡大像である。FIG. 5 is an enlarged image of the vicinity of the interface with the substrate in the TEM image of FIG. 図6は、図3のTEM像における膜厚みの中心付近の拡大像である。FIG. 6 is an enlarged image of the vicinity of the center of the film thickness in the TEM image of FIG.

[インク組成物]
本発明のインク(またはインキ)組成物(またはコーティング組成物)において、樹脂成分として、ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ポリビニルブチラール系樹脂)を含むことにより、高度な金属光沢、特に、銀光沢(鏡面)が発現するメカニズムは、以下のように推定できる。
[Ink composition]
The mechanism by which a high level of metallic luster, in particular a silver luster (mirror finish), is expressed by containing a polyvinyl acetal-based resin (in particular a polyvinyl butyral-based resin) as a resin component in the ink (or ink composition) of the present invention can be presumed to be as follows.

まず、樹脂成分がポリビニルアセタール系樹脂を単独で含む場合は、ポリビニルアセタール系樹脂の分子構造が影響していると推定できる。すなわち、ポリビニルアセタール系樹脂は分子鎖に疎水基(ブチラール基などのアセタール基、アセチル基)と親水基(水酸基)とを有する。樹脂成分がポリビニルアセタール系樹脂のみの場合、複合体ナノ粒子が疎水基または親水基のどちらかに偏在することで、ポリビニルアセタール系樹脂の分子鎖上で、相対的に複合体ナノ粒子を多く含む部分と、少ない部分とが生じる。すなわち、ポリビニルアセタール系樹脂の分子鎖上で、複合体ナノ粒子が密な相と疎な相との相分離構造に類似した構造が生じている。その結果、相対的に複合体ナノ粒子を多く含む相(遮蔽性の高い相)が光を遮蔽する(透過させない)役割を果たし、高度な金属光沢が発現していると推定できる。 First, when the resin component contains only polyvinyl acetal resin, it can be assumed that the molecular structure of the polyvinyl acetal resin has an effect. That is, the polyvinyl acetal resin has a hydrophobic group (acetal group such as butyral group, acetyl group) and a hydrophilic group (hydroxyl group) in the molecular chain. When the resin component is only polyvinyl acetal resin, the composite nanoparticles are unevenly distributed in either the hydrophobic group or the hydrophilic group, and thus, on the molecular chain of the polyvinyl acetal resin, there are parts that contain relatively many composite nanoparticles and parts that contain few. That is, on the molecular chain of the polyvinyl acetal resin, a structure similar to a phase separation structure between a dense phase and a sparse phase of composite nanoparticles is generated. As a result, it can be assumed that the phase that contains relatively many composite nanoparticles (highly shielding phase) plays a role of shielding (not transmitting) light, and a high level of metallic luster is expressed.

一方、樹脂成分が、第1樹脂としてのポリビニルアセタール系樹脂と第2樹脂とを含む場合は、樹脂同士の相分離構造が影響していると推定できる。すなわち、ポリビニルブチラール系樹脂などのポリビニルアセタール系樹脂と、(メタ)アクリル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂などの第2樹脂とを組み合わせた場合は、第1樹脂と第2樹脂とが相分離し、複合体ナノ粒子はそのいずれかの相に偏在する。ポリビニルアセタール系樹脂単独での分子鎖上での相分離に比べて、2種類の樹脂による相分離では、相対的に複合体ナノ粒子を多く含む各相のサイズが大きくなる。そのため、ポリビニルアセタール系樹脂を単独で使用した場合に比べて、銀を含む金属に対する樹脂量を増加しても光の遮蔽効果(非透過性)が得られ、高度な金属光沢が得られる。そのため、第1樹脂と第2樹脂とを組み合わせる場合は、樹脂量を多く配合でき、密着性、耐擦過性をより向上できる。 On the other hand, when the resin component contains a polyvinyl acetal resin as the first resin and a second resin, it can be assumed that the phase separation structure between the resins is influential. That is, when a polyvinyl acetal resin such as a polyvinyl butyral resin is combined with a second resin such as a (meth)acrylic resin, an alkyd resin, or an epoxy resin, the first resin and the second resin undergo phase separation, and the composite nanoparticles are unevenly distributed in one of the phases. Compared to phase separation on the molecular chain of a polyvinyl acetal resin alone, in phase separation by two types of resins, the size of each phase containing a relatively large amount of composite nanoparticles becomes larger. Therefore, compared to when a polyvinyl acetal resin is used alone, even if the amount of resin relative to metals including silver is increased, a light shielding effect (non-transmittance) is obtained, and a high level of metallic luster is obtained. Therefore, when a first resin and a second resin are combined, a large amount of resin can be blended, and adhesion and abrasion resistance can be further improved.

これに対して、特許文献1~6などに記載の従来のインク組成物で高度な金属光沢が発現できない原因は、バインダー成分が単独であり、銀粒子が均一に分布しているためであると推定できる。さらに、従来のインク組成物では、樹脂成分の割合が少ないと(銀を含む金属に対する樹脂成分の量が約10質量%以下になると)、光沢性は高いが、密着性、耐擦過性が低くなり、上塗り層および下塗り層が必要になる場合が多かった。一方、樹脂成分の割合が多いと(銀を含む金属に対する樹脂成分の量が約10質量%以上になると)、密着性および耐擦過性は向上するが、光沢性は低下した。そのため、従来の金属光沢性インクでは、銀を含む金属に対する樹脂量を少量に留める必要があり、銀を含む金属に対する樹脂成分の量は、多くても10質量%程度であり、シンプルな構造で密着性および耐擦過性を向上することはできなかった。 In contrast, the reason why the conventional ink compositions described in Patent Documents 1 to 6 cannot achieve a high level of metallic luster is presumably because the binder component is a single component and the silver particles are uniformly distributed. Furthermore, in conventional ink compositions, when the proportion of the resin component is small (when the amount of the resin component relative to the silver-containing metal is about 10% by mass or less), the gloss is high but the adhesion and abrasion resistance are low, and an overcoat layer and an undercoat layer are often required. On the other hand, when the proportion of the resin component is large (when the amount of the resin component relative to the silver-containing metal is about 10% by mass or more), the adhesion and abrasion resistance are improved but the gloss is reduced. Therefore, in conventional metallic luster inks, the amount of resin relative to the silver-containing metal needs to be kept small, and the amount of the resin component relative to the silver-containing metal is at most about 10% by mass, and it was not possible to improve adhesion and abrasion resistance with a simple structure.

(A)複合体ナノ粒子
本発明のインク組成物(メタリックインク組成物)は、銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)を含む。
(A) Composite Nanoparticles The ink composition (metallic ink composition) of the present invention contains composite nanoparticles (A) of a metal including silver and a protective colloid.

前記複合体ナノ粒子(A)において、銀を含む金属(銀含有金属)と保護コロイドとの複合形態は、特に限定されず、銀含有金属ナノ粒子の表面に付着または配位した複合体であってもよく、銀含有金属ナノ粒子の表面を被覆した複合体であってもよい。銀含有金属ナノ粒子は、保護コロイド(または分散剤)に対する配位性が高いため、保護コロイドが銀含有金属ナノ粒子の表面に配位することにより、銀含有金属ナノ粒子を被覆した複合体であってもよい。銀含有金属ナノ粒子は、保護コロイドで複合化されていると、銀含有金属ナノ粒子の分散安定性を向上できるとともに、樹脂成分との親和性を調整し易くなり、相分離構造を形成できる。 In the composite nanoparticles (A), the composite form of the silver-containing metal (silver-containing metal) and the protective colloid is not particularly limited, and may be a composite attached or coordinated to the surface of the silver-containing metal nanoparticles, or a composite that coats the surface of the silver-containing metal nanoparticles. Since the silver-containing metal nanoparticles have a high coordination property with the protective colloid (or dispersant), the protective colloid may be coordinated to the surface of the silver-containing metal nanoparticles to coat the silver-containing metal nanoparticles. When the silver-containing metal nanoparticles are composited with the protective colloid, the dispersion stability of the silver-containing metal nanoparticles can be improved, and the affinity with the resin component can be easily adjusted, forming a phase separation structure.

(銀含有金属ナノ粒子)
銀含有金属ナノ粒子はナノメーターサイズである。銀含有金属ナノ粒子の数平均粒径(数平均一次粒径)は、例えば1~100nm(例えば2~80nm)、好ましくは3~70nm(例えば4~50nm)、さらに好ましくは5~40nm(特に10~30nm)である。
(Silver-containing metal nanoparticles)
The silver-containing metal nanoparticles are nanometer-sized. The number average particle size (number average primary particle size) of the silver-containing metal nanoparticles is, for example, 1 to 100 nm (e.g., 2 to 80 nm), preferably 3 to 70 nm (e.g., 4 to 50 nm), and more preferably 5 to 40 nm (particularly 10 to 30 nm).

銀含有金属ナノ粒子は、前記平均粒径を有するとともに、200nm以下の範囲で広い粒度分布を示すが、200nmを超える粗大粒子を殆ど含んでいなくてもよい。そのため、前記銀含有金属ナノ粒子の最大一次粒径は、例えば、200nm以下、好ましくは150nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。 The silver-containing metal nanoparticles have the above average particle size and show a wide particle size distribution in the range of 200 nm or less, but may contain almost no coarse particles exceeding 200 nm. Therefore, the maximum primary particle size of the silver-containing metal nanoparticles is, for example, 200 nm or less, preferably 150 nm or less, and more preferably 100 nm or less.

銀含有金属ナノ粒子において、一次粒子径が100nm以上の粒子の割合は、質量基準で、例えば10質量%以下(例えば0~8質量%)、好ましくは5質量%以下(例えば0.01~3質量%)、さらに好ましくは1質量%以下(例えば0.02~0.5質量%)である。 In silver-containing metal nanoparticles, the proportion of particles with a primary particle diameter of 100 nm or more is, by mass, for example, 10% by mass or less (e.g., 0 to 8% by mass), preferably 5% by mass or less (e.g., 0.01 to 3% by mass), and more preferably 1% by mass or less (e.g., 0.02 to 0.5% by mass).

なお、本願において、銀含有金属ナノ粒子の粒径および粒度分布は、透過型電子顕微鏡を用いて測定でき、平均粒径は、任意の10個の平均値として示す。 In this application, the particle size and particle size distribution of silver-containing metal nanoparticles can be measured using a transmission electron microscope, and the average particle size is shown as the average value of any 10 particles.

(銀を含む金属)
銀を含む金属(銀含有金属)は、銀単体であってもよく、銀と他の金属との合金であってもよい。他の金属としては、銀と合金化できれば特に限定されないが、例えば、Cr、Mo、W、Ni、Pd、Pt、Cu、Au、Zn、In、Sn、Pbなどが挙げられる。これら他の金属は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これら他の金属のうち、Cuが好ましい。
(Metals including silver)
The metal containing silver (silver-containing metal) may be silver alone or an alloy of silver and other metals. The other metals are not particularly limited as long as they can be alloyed with silver, and examples thereof include Cr, Mo, W, Ni, Pd, Pt, Cu, Au, Zn, In, Sn, and Pb. These other metals can be used alone or in combination of two or more. Among these other metals, Cu is preferred.

銀含有金属のうち、銀の割合は、銀含有金属中50質量%以上であってもよく、例えば90質量%以上、好ましくは95質量%以上、さらに好ましくは97質量%以上、より好ましくは99質量%以上であり、最も好ましくは100質量%(銀単体)である。銀の割合が低すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The proportion of silver in the silver-containing metal may be 50% by mass or more, for example 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, even more preferably 97% by mass or more, even more preferably 99% by mass or more, and most preferably 100% by mass (silver alone). If the proportion of silver is too low, there is a risk of the metallic gloss decreasing.

銀含有金属が銀と他の金属(特に銅)との組み合わせである場合、他の金属の割合は、銀100質量部に対して、例えば0.01~10質量部、好ましくは0.03~5質量部、さらに好ましくは0.05~3質量部である。 When the silver-containing metal is a combination of silver and another metal (especially copper), the ratio of the other metal is, for example, 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.03 to 5 parts by mass, and more preferably 0.05 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of silver.

(保護コロイド)
保護コロイドは、分散剤であってもよく、非揮発性分散剤である場合が多い。特に、保護コロイドは、カルボキシル基またはその誘導体基を有する高分子分散剤を含むのが好ましい。なお、本願において、カルボキシル基には、酸無水物基の形態であるカルボキシル基も含まれる。
(Protective colloid)
The protective colloid may be a dispersant, and is often a non-volatile dispersant. In particular, the protective colloid preferably contains a polymer dispersant having a carboxyl group or a derivative group. In this application, the carboxyl group also includes a carboxyl group in the form of an acid anhydride group.

前記高分子分散剤(または高分子型分散剤)は、少なくともカルボキシル基を有し、銀含有金属ナノ粒子を分散可能であればよく、両親媒性の高分子分散剤(またはオリゴマー型分散剤)であってもよい。 The polymer dispersant (or polymer-type dispersant) may be an amphiphilic polymer dispersant (or oligomer-type dispersant) as long as it has at least a carboxyl group and is capable of dispersing silver-containing metal nanoparticles.

前記高分子分散剤としては、通常、塗料、インキ分野などで着色剤の分散に用いられている高分子分散剤が例示できる。代表的な高分子分散剤(両親媒性の高分子分散剤)としては、親水性モノマーで形成された親水性ユニット(または親水性ブロック)を含む水溶性または水分散性樹脂が含まれる。 Examples of the polymer dispersant include those that are typically used to disperse colorants in the fields of paints and inks. Representative polymer dispersants (amphiphilic polymer dispersants) include water-soluble or water-dispersible resins that contain hydrophilic units (or hydrophilic blocks) formed from hydrophilic monomers.

前記親水性モノマーとしては、例えば、カルボキシル基含有単量体((メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸などの不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物など)、スルホ基を有する単量体(スチレンスルホン酸など)、ヒドロキシル基含有単量体(2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ビニルフェノールなど)などの付加重合性モノマー;エチレンオキシドなどの縮合重合性モノマーなどが例示できる。前記縮合重合性モノマーは、ヒドロキシル基などの活性水素(例えば、前記ヒドロキシル基)との反応により、親水性ユニット(またはブロック)を形成していてもよい。親水性モノマーは、単独でまたは2種以上組み合わせて親水性ユニット(またはブロック)を形成していてもよい。好ましい親水性モノマーは、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、エチレンオキシドである。 Examples of the hydrophilic monomer include addition polymerizable monomers such as carboxyl group-containing monomers (unsaturated polyvalent carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, or the like, or their acid anhydrides), monomers having a sulfo group (styrene sulfonic acid, etc.), and hydroxyl group-containing monomers (hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, vinylphenol, etc.); and condensation polymerizable monomers such as ethylene oxide. The condensation polymerizable monomers may form hydrophilic units (or blocks) by reacting with active hydrogen such as a hydroxyl group (e.g., the hydroxyl group). The hydrophilic monomers may form hydrophilic units (or blocks) alone or in combination of two or more. Preferred hydrophilic monomers are (meth)acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, and ethylene oxide.

なお、前記高分子分散剤は、少なくともカルボキシル基を有していればよく、前記親水性モノマーの官能基、例えば、酸基(スルホ基)、ヒドロキシル基を有していてもよい。これらの官能基は、単独でまたは2種以上組み合わせて高分子分散剤に導入してもよい。 The polymer dispersant only needs to have at least a carboxyl group, and may have a functional group of the hydrophilic monomer, such as an acid group (sulfo group) or a hydroxyl group. These functional groups may be introduced into the polymer dispersant alone or in combination of two or more.

高分子分散剤は、少なくとも親水性ユニット(または親水性ブロック)を含んでいてもよく、親水性モノマーの単独または共重合体(例えば、ポリアクリル酸またはその塩など)であってもよく、親水性モノマーと疎水性モノマーとのコポリマーであってもよい。疎水性モノマー(非イオン性モノマー)としては、(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸シクロアルキル、(メタ)アクリル酸フェニルなどの(メタ)アクリル酸アリール、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2-フェニルエチルなどの(メタ)アクリル酸アラルキルなど]などの(メタ)アクリル系モノマー;スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンなどのスチレン系モノマー;α-C2-20オレフィン(エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-ドデセンなど)などのオレフィン系モノマー;酢酸ビニル、酪酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル系モノマーなどの付加重合性モノマー;プロピレンオキシドなどのC3-6アルキレンオキシドなどの縮合重合性モノマーが挙げられる。疎水性モノマーは、単独でまたは2種以上組み合わせて疎水性ユニットを構成していてもよい。 The polymeric dispersant may contain at least a hydrophilic unit (or a hydrophilic block) and may be a homo- or copolymer of a hydrophilic monomer (e.g., polyacrylic acid or a salt thereof) or a copolymer of a hydrophilic monomer and a hydrophobic monomer. Examples of hydrophobic monomers (nonionic monomers) include (meth)acrylic monomers such as (meth)acrylic esters [C 1-20 alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2 - ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate, cycloalkyl (meth)acrylates such as cyclohexyl (meth)acrylate, aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate, and aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate and 2-phenylethyl (meth)acrylate]; styrene-based monomers such as styrene, α-methylstyrene, and vinyltoluene; olefin-based monomers such as α-C 2-20 olefins (ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-hexene, 1-octene, and 1-dodecene); addition-polymerizable monomers such as vinyl carboxylate ester-based monomers such as vinyl acetate and vinyl butyrate; and C monomers such as propylene oxide. Examples of the hydrophobic monomer include condensation polymerizable monomers such as 3-6 alkylene oxide. The hydrophobic monomer may be used alone or in combination of two or more kinds to constitute the hydrophobic unit.

コポリマー(例えば、親水性モノマーと疎水性モノマーとのコポリマー)の高分子分散剤は、ランダムコポリマー、交互共重合体、ブロックコポリマー(例えば、親水性モノマーで構成された親水性ブロックと、疎水性モノマーで構成された疎水性ブロックとで構成されたコポリマー)、櫛型コポリマー(または櫛型グラフトコポリマー)などであってもよい。前記ブロックコポリマーの構造は、特に限定されず、ジブロック構造、トリブロック構造(ABA型、BAB型)などであってもよい。また、前記櫛型コポリマーにおいて、主鎖は、前記親水性ブロックまたは前記疎水性ブロックで形成してもよく、親水性ブロックおよび疎水性ブロックで形成してもよい。親水性ブロックおよび疎水性ブロックのブロック共重合体は、金属光沢性も向上できる。 The polymer dispersant of a copolymer (e.g., a copolymer of a hydrophilic monomer and a hydrophobic monomer) may be a random copolymer, an alternating copolymer, a block copolymer (e.g., a copolymer composed of a hydrophilic block composed of a hydrophilic monomer and a hydrophobic block composed of a hydrophobic monomer), a comb copolymer (or a comb graft copolymer), or the like. The structure of the block copolymer is not particularly limited, and may be a diblock structure, a triblock structure (ABA type, BAB type), or the like. In the comb copolymer, the main chain may be formed of the hydrophilic block or the hydrophobic block, or may be formed of a hydrophilic block and a hydrophobic block. A block copolymer of a hydrophilic block and a hydrophobic block can also improve metallic gloss.

なお、前記のように、親水性ユニットは、親水性ブロック(ポリエチレンオキシドなどのポリアルキレンオキシドなど)で形成することもできる。親水性ブロック(ポリアルキレンオキシドなど)と疎水性ブロック(ポリオレフィンブロックなど)とは、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合などの連結基を介して結合していてもよい。これらの結合は、例えば、疎水性ブロック(ポリオレフィンなど)を変性剤[不飽和カルボン酸またはその無水物((無水)マレイン酸など)、ラクタムまたはアミノカルボン酸、ヒドロキシルアミン、ジアミンなど]で変性した後、親水性ブロックを導入することにより形成してもよい。また、ヒドロキシル基やカルボキシル基などの親水性基を有するモノマー(前記ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなど)から得られるポリマーと、前記縮合系の親水性モノマー(エチレンオキシドなど)とを反応(または結合)させることにより、櫛型コポリマー(主鎖が疎水性ブロックで構成された櫛型コポリマー)を形成してもよい。 As described above, the hydrophilic unit can also be formed of a hydrophilic block (polyalkylene oxide such as polyethylene oxide, etc.). The hydrophilic block (polyalkylene oxide, etc.) and the hydrophobic block (polyolefin block, etc.) may be bonded via a linking group such as an ester bond, an amide bond, an ether bond, or a urethane bond. These bonds may be formed, for example, by modifying the hydrophobic block (polyolefin, etc.) with a modifying agent [unsaturated carboxylic acid or its anhydride (maleic anhydride, etc.), lactam or aminocarboxylic acid, hydroxylamine, diamine, etc.] and then introducing a hydrophilic block. In addition, a comb copolymer (a comb copolymer whose main chain is composed of a hydrophobic block) may be formed by reacting (or bonding) a polymer obtained from a monomer having a hydrophilic group such as a hydroxyl group or a carboxyl group (such as the hydroxyalkyl (meth)acrylate) with the condensation-type hydrophilic monomer (such as ethylene oxide).

さらに、共重合成分として、親水性の非イオン性モノマーを使用することにより、親水性と疎水性とのバランスを調整してもよい。このような成分としては、2-(2-メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート(例えば、数平均分子量200~1,000)などのエチレンオキシユニットを有するモノマーまたはオリゴマーなどを例示できる。また、親水性基(カルボキシル基など)を変性(例えば、エステル化)することにより親水性と疎水性とのバランスを調整してもよい。 Furthermore, the balance between hydrophilicity and hydrophobicity may be adjusted by using a hydrophilic nonionic monomer as a copolymerization component. Examples of such components include monomers or oligomers having an ethyleneoxy unit, such as 2-(2-methoxyethoxy)ethyl (meth)acrylate and polyethylene glycol mono(meth)acrylate (e.g., number average molecular weight 200 to 1,000). The balance between hydrophilicity and hydrophobicity may also be adjusted by modifying (e.g., esterifying) a hydrophilic group (such as a carboxyl group).

カルボキシル基を有する高分子分散剤において、カルボキシル基は塩や酸無水物基であってもよく、例えば、少なくとも一部のカルボキシル基は、塩(アミンとの塩、金属塩など)を形成していてもよいが、カルボキシル基などの酸基が塩を形成していない高分子分散剤[すなわち、遊離のカルボキシル基を有する高分子分散剤]を好適に使用できる。 In polymeric dispersants having carboxyl groups, the carboxyl groups may be salts or acid anhydride groups. For example, at least some of the carboxyl groups may form salts (salts with amines, metal salts, etc.), but polymeric dispersants in which acid groups such as carboxyl groups do not form salts [i.e., polymeric dispersants having free carboxyl groups] are preferably used.

カルボキシル基を有する高分子分散剤の酸価は、例えば1mgKOH/g以上(例えば2~100mgKOH/g)、好ましくは3mgKOH/g以上(例えば4~90mgKOH/g)、さらに好ましくは5mgKOH/g以上(例えば6~80mgKOH/g)、より好ましくは7mgKOH/g以上(例えば8~50mgKOH/g)であってもよく、通常3~30mgKOH/g(特に5~20mgKOH/g)である。なお、このような高分子分散剤において、アミン価は0(またはほぼ0)であってもよい。 The acid value of the polymer dispersant having a carboxyl group may be, for example, 1 mgKOH/g or more (e.g., 2 to 100 mgKOH/g), preferably 3 mgKOH/g or more (e.g., 4 to 90 mgKOH/g), more preferably 5 mgKOH/g or more (e.g., 6 to 80 mgKOH/g), and more preferably 7 mgKOH/g or more (e.g., 8 to 50 mgKOH/g), and is usually 3 to 30 mgKOH/g (particularly 5 to 20 mgKOH/g). In addition, in such a polymer dispersant, the amine value may be 0 (or almost 0).

なお、前記高分子分散剤において、官能基の位置は、特に限定されず、主鎖であってもよく、側鎖であってもよく、主鎖および側鎖に位置していてもよい。このような官能基は、例えば、親水性モノマーまたは親水性ユニット由来の官能基(例えば、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、エチレンオキサイドなどの共重合により導入された官能基)であってもよい。 In addition, in the polymer dispersant, the position of the functional group is not particularly limited, and it may be located in the main chain, the side chain, or both the main chain and the side chain. Such a functional group may be, for example, a functional group derived from a hydrophilic monomer or a hydrophilic unit (for example, a functional group introduced by copolymerization of (meth)acrylic acid, maleic anhydride, ethylene oxide, etc.).

カルボキシル基を有する高分子分散剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用してもよい。 The polymer dispersants having carboxyl groups may be used alone or in combination of two or more.

なお、高分子分散剤として、特開2004-207558号公報などに記載の高分子分散剤(高分子量顔料分散剤)を使用してもよい。また、高分子分散剤は、合成してもよく、市販品を用いてもよい。以下に、市販の高分子分散剤(または少なくとも両親媒性の分散剤で構成された分散剤)を具体的に例示すると、ソルスパース13240、ソルスパース13940、ソルスパース32550、ソルスパース31845、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース41090などのソルスパースシリーズ[アビシア(株)製];ディスパービック160、ディスパービック161、ディスパービック162、ディスパービック163、ディスパービック164、ディスパービック166、ディスパービック170、ディスパービック180、ディスパービック182、ディスパービック184、ディスパービック190、ディスパービック191、ディスパービック192、ディスパービック193、ディスパービック194、ディスパービック2001、ディスパービック2015、ディスパービック2050などのディスパービックシリーズ[ビックケミー(株)製];EFKA-46、EFKA-47、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-1501、EFKA-1502、EFKA-4540、EFKA-4550、ポリマー100、ポリマー120、ポリマー150、ポリマー400、ポリマー401、ポリマー402、ポリマー403、ポリマー450、ポリマー451、ポリマー452、ポリマー453[EFKAケミカル(株)製];アジスパーPB711、アジスパーPAl11、アジスパーPB811、アジスパーPB821、アジスパーPW911などのアジスパーシリーズ[味の素(株)製];フローレンDOPA-158、フローレンDOPA-22、フローレンDOPA-17、フローレンTG-700、フローレンTG-720W、フローレン-730W、フローレン-740W、フローレン-745Wなどのフローレンシリーズ[共栄社化学(株)製];ジョンクリル678、ジョンクリル679、ジョンクリル62などのジョンクリルシリーズ[ジョンソンポリマー(株)製]などが挙げられる。代表的な高分子分散剤には、ディスパービック190、ディスパービック194、ディスパービック2015などが挙げられる。 As the polymer dispersant, a polymer dispersant (high molecular weight pigment dispersant) described in JP-A-2004-207558 or the like may be used. The polymer dispersant may be synthesized or a commercially available product may be used. Specific examples of commercially available polymer dispersants (or dispersants composed of at least an amphipathic dispersant) include the Solsperse series (manufactured by Avecia Co., Ltd.) such as Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 32550, Solsperse 31845, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse 27000, Solsperse 28000, and Solsperse 41090; Disperbyk 160, Disperbyk 161, Disperbyk 16 2, Disperbyk series such as Disperbyk 163, Disperbyk 164, Disperbyk 166, Disperbyk 170, Disperbyk 180, Disperbyk 182, Disperbyk 184, Disperbyk 190, Disperbyk 191, Disperbyk 192, Disperbyk 193, Disperbyk 194, Disperbyk 2001, Disperbyk 2015, and Disperbyk 2050 [manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd.]; EFKA -46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-1501, EFKA-1502, EFKA-4540, EFKA-4550, Polymer 100, Polymer 120, Polymer 150, Polymer 400, Polymer 401, Polymer 402, Polymer 403, Polymer 450, Polymer 451, Polymer 452, Polymer 453 [manufactured by EFKA Chemical Co., Ltd.]; Ajisper PB711, Ajisper PAl11, Ajisper PB811, Ajisper PB821, Ajisper Examples of the Ajisper series, such as Spar PW911 (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.); the Floren series, such as Floren DOPA-158, Floren DOPA-22, Floren DOPA-17, Floren TG-700, Floren TG-720W, Floren-730W, Floren-740W, and Floren-745W (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); and the Joncryl series, such as Joncryl 678, Joncryl 679, and Joncryl 62 (manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd.). Representative polymer dispersants include Disperbyk 190, Disperbyk 194, and Disperbyk 2015.

前記高分子分散剤の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定したとき、ポリスチレン換算で、例えば1,500~100,000、好ましくは2,000~80,000(例えば2,000~60,000)、さらに好ましくは3,000~50,000(例えば5,000~30,000)、より好ましくは7,000~20,000である。 The number average molecular weight of the polymer dispersant, as measured by gel permeation chromatography (GPC), is, in terms of polystyrene, for example, 1,500 to 100,000, preferably 2,000 to 80,000 (e.g., 2,000 to 60,000), more preferably 3,000 to 50,000 (e.g., 5,000 to 30,000), and even more preferably 7,000 to 20,000.

カルボキシル基を有する高分子分散剤は、ヒドロキシル基を有さない高分子分散剤であってもよい。 The polymer dispersant having a carboxyl group may be a polymer dispersant that does not have a hydroxyl group.

保護コロイドの割合は、銀含有金属100質量部に対して、例えば0.1~100質量部(特に1~50質量部)である。カルボキシル基を有する高分子分散剤の割合は、銀含有金属100質量部に対して、例えば0.1~60質量部(例えば1~50質量部)程度の範囲から選択でき、通常2~40質量部(例えば2.5~30質量部)、さらに好ましくは3~25質量部(特に5~20質量部)である。 The proportion of protective colloid is, for example, 0.1 to 100 parts by weight (particularly 1 to 50 parts by weight) relative to 100 parts by weight of silver-containing metal. The proportion of polymer dispersant having carboxyl groups can be selected from the range of, for example, about 0.1 to 60 parts by weight (e.g., 1 to 50 parts by weight) relative to 100 parts by weight of silver-containing metal, and is usually 2 to 40 parts by weight (e.g., 2.5 to 30 parts by weight), more preferably 3 to 25 parts by weight (particularly 5 to 20 parts by weight).

なお、本願において、複合体ナノ粒子(A)中の保護コロイドの割合は、慣用の方法、例えば、熱分析(例えば、熱重量/示差熱同時分析など)により、測定することができる。 In this application, the proportion of protective colloid in the composite nanoparticle (A) can be measured by a conventional method, for example, thermal analysis (for example, simultaneous thermogravimetry/differential thermal analysis, etc.).

保護コロイドは、必要であれば、他の分散剤を含んでいてもよく、他の分散剤は、無機化合物であってもよいが、通常、有機化合物である。他の分散剤としては、例えば、アルカノール類(ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、オクタデカノールなどのC6-20アルカンモノオール)、アルデヒド類(カプリルアルデヒド、ラウリルアルデヒド、パルミトアルデヒドなどのC6-20脂肪族アルデヒド)、脂肪族ヒドロキシカルボン酸、高級脂肪酸またはその塩、スルホン酸類(アルカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸などのアレーンスルホン酸など)が挙げられる。これらの他の分散剤は、単独でまたは2種以上組み合わせてもよい。 The protective colloid may contain other dispersants, if necessary, which may be inorganic compounds, but are usually organic compounds. Examples of other dispersants include alkanols (C 6-20 alkane monools such as hexanol, octanol, decanol, dodecanol, and octadecanol), aldehydes (C 6-20 aliphatic aldehydes such as caprylaldehyde, laurylaldehyde, and palmitaldehyde), aliphatic hydroxycarboxylic acids, higher fatty acids or salts thereof, and sulfonic acids (arenesulfonic acids such as alkane sulfonic acid, benzene sulfonic acid, and toluene sulfonic acid). These other dispersants may be used alone or in combination of two or more.

他の分散剤の割合は、前記高分子分散剤100質量部に対して、例えば0.1~100質量部、好ましくは0.5~50質量部、さらに好ましくは1~30質量部である。 The proportion of the other dispersant is, for example, 0.1 to 100 parts by mass, preferably 0.5 to 50 parts by mass, and more preferably 1 to 30 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymer dispersant.

前記複合体ナノ粒子の製造方法は、特に限定されず、慣用の方法、例えば、銀含有金属が銀単体である場合、銀ナノ粒子に対応する銀化合物を、保護コロイドおよび還元剤の存在下、溶媒中で還元することにより調製できる。具体的な製造方法としては、例えば、特開2010-80442号公報や特開2010-229544号公報に記載の方法などが挙げられる。 The method for producing the composite nanoparticles is not particularly limited, and can be a conventional method. For example, when the silver-containing metal is simple silver, the silver nanoparticles can be prepared by reducing a silver compound corresponding to the silver nanoparticles in a solvent in the presence of a protective colloid and a reducing agent. Specific examples of the production method include the methods described in JP-A-2010-80442 and JP-A-2010-229544.

(B)樹脂成分
本開示のインク組成物は、第1樹脂としてのポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分を含む。樹脂成分(B)は、第1樹脂のみを含んでいてもよく、第1樹脂および第2樹脂を含んでいてもよい。
Resin Component (B) The ink composition of the present disclosure contains a resin component containing a polyvinyl acetal resin as a first resin. The resin component (B) may contain only the first resin, or may contain the first resin and the second resin.

(B1)第1樹脂
第1樹脂であるポリビニルアセタール系樹脂は、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリビニルアルコールと、アルデヒド(特に、n-ブチルアルデヒド)とを反応(アセタール化反応)させて得られる。アセタール化反応において、ポリビニルアルコールを完全にアセタール化(特に、ブチラール化)することはできないため、水酸基が残存し、またケン化の際にも少量のアセチル基が残存するため、ポリビニルアセタール系樹脂は、構成単位中にアセタール基、水酸基、アセチル基を有している。
(B1) First Resin The first resin, a polyvinyl acetal resin, is obtained by reacting (acetalization reaction) polyvinyl alcohol obtained by saponifying polyvinyl acetate with an aldehyde (particularly, n-butylaldehyde). In the acetalization reaction, polyvinyl alcohol cannot be completely acetalized (particularly butyralized), so hydroxyl groups remain, and a small amount of acetyl groups remain during saponification, so the polyvinyl acetal resin has acetal groups, hydroxyl groups, and acetyl groups in its constituent units.

すなわち、本発明のポリビニルアセタール系樹脂は、構成単位として、下記式(1)で表されるビニルアセタール単位、下記式(2)で表されるビニルアルコール単位、下記式(3)で表されるビニルエステル単位を含む。 That is, the polyvinyl acetal resin of the present invention contains, as constituent units, a vinyl acetal unit represented by the following formula (1), a vinyl alcohol unit represented by the following formula (2), and a vinyl ester unit represented by the following formula (3).

Figure 0007655880000001
Figure 0007655880000001

(式中、Rは水素原子または炭化水素基である)。 (wherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

前記式(1)において、Rで表される炭化水素基には、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基が含まれる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、ヘキシル基、2-エチル-ブチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基などの直鎖状または分岐鎖状C1-10アルキル基などが挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、ヘキシル基などのC5-10シクロアルキル基などが挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基などのC6-10アリール基などが挙げられる。Rとして、これらの炭化水素基および水素原子は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 In the formula (1), the hydrocarbon group represented by R includes an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group. Examples of the alkyl group include linear or branched C 1-10 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, a hexyl group, a 2-ethyl-butyl group, an octyl group, a 2 - ethylhexyl group, and a nonyl group. Examples of the cycloalkyl group include a C 5-10 cycloalkyl group such as a hexyl group. Examples of the aryl group include a C 6-10 aryl group such as a phenyl group. As R, these hydrocarbon groups and hydrogen atoms can be used alone or in combination of two or more kinds.

これらのうち、Rとしては、水素原子またはアルキル基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状C1-5アルキル基がさらに好ましく、直鎖状C2-4アルキル基がより好ましく、プロピル基が最も好ましい。すなわち、ポリビニルアセタール系樹脂としては、ポリビニルブチラール系樹脂(ブチラール系樹脂)が好ましい。 Of these, R is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a linear or branched C1-5 alkyl group, even more preferably a linear C2-4 alkyl group, and most preferably a propyl group. That is, the polyvinyl acetal resin is preferably a polyvinyl butyral resin (butyral resin).

ポリビニルアセタール系樹脂は、前記式(1)~(3)で表される構成単位に加えて、他の構成単位をさらに含んでいてもよい。他の構成単位としては、ラジカル重合性基を有する共重合性単量体由来の単位であればよい。 The polyvinyl acetal resin may further contain other structural units in addition to the structural units represented by the formulas (1) to (3). The other structural units may be units derived from copolymerizable monomers having a radical polymerizable group.

共重合性単量体としては、例えば、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニルなどのC3-8アルカン酸-ビニルエステル;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、i-プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテルなどのC1-6アルキル-ビニルエーテル;エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブテン、1-ヘキセンなどのα-C2-6オレフィン;(メタ)アクリル酸およびその塩;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピルなどの(メタ)アクリル酸C1-6アルキルエステル;(メタ)アクリルアミド;エチレンスルホン酸、アリルスルホン酸などの不飽和スルホン酸などが挙げられる。これらの共重合性単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the copolymerizable monomer include C 3-8 alkanoic acid vinyl esters such as vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, and vinyl caproate; C 1-6 alkyl vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, i-propyl vinyl ether, and n-butyl vinyl ether; α-C 2-6 olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, and 1 - hexene; (meth)acrylic acid and its salts; (meth)acrylic acid C 1-6 alkyl esters such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and propyl (meth)acrylate; (meth)acrylamide; and unsaturated sulfonic acids such as ethylenesulfonic acid and allylsulfonic acid. These copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

また、ポリビニルアセタール系樹脂は、慣用の方法で修飾または変性されたポリビニルアセタール系樹脂であってもよい。 The polyvinyl acetal resin may also be a polyvinyl acetal resin that has been modified or denatured by a conventional method.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(1)で表される単位の割合(アセタール化度)は5~95モル%(例えば10~90モル%)程度であり、用途に応じて、例えば20~90モル%、好ましくは30~85モル%であってもよく、また50モル%以上(例えば50~90モル%)、好ましくは60モル%以上(例えば60~85モル%)、さらに好ましくは70モル%以上(例えば70~80モル%)である。また、アセタール化度は、例えば9~98質量%、好ましくは25~95質量%、さらに好ましくは35~90質量%であってもよく、55質量%以上(例えば55~95質量%)、好ましくは65質量%以上(例えば65~90質量%)、さらに好ましくは70質量%以上(例えば70~80質量%)である。アセタール化度が小さすぎると、金属光沢性が低下する虞があり、逆に高すぎると、ポリビニルアセタール系樹脂の調製が困難となる虞がある。 The proportion of the units represented by the formula (1) in the polyvinyl acetal resin (acetalization degree) is about 5 to 95 mol% (e.g., 10 to 90 mol%), and may be, for example, 20 to 90 mol%, preferably 30 to 85 mol%, depending on the application, and may be 50 mol% or more (e.g., 50 to 90 mol%), preferably 60 mol% or more (e.g., 60 to 85 mol%), and more preferably 70 mol% or more (e.g., 70 to 80 mol%). The acetalization degree may be, for example, 9 to 98 mass%, preferably 25 to 95 mass%, and more preferably 35 to 90 mass%, and is 55 mass% or more (e.g., 55 to 95 mass%), preferably 65 mass% or more (e.g., 65 to 90 mass%), and more preferably 70 mass% or more (e.g., 70 to 80 mass%). If the degree of acetalization is too low, the metallic gloss may decrease, and if it is too high, it may become difficult to prepare the polyvinyl acetal resin.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(2)で表される単位(水酸基を有する単位)の割合は10~50モル%(例えば15~40モル%)であってもよく、好ましくは20~35モル%、さらに好ましくは23~27モル%である。また、ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(2)で表される単位の割合は5~40質量%(例えば12~30質量%)であってもよく、好ましくは15~25質量%、さらに好ましくは18~23質量%である。式(2)で表される単位の割合が少なすぎると、樹脂成分としてポリビニルアセタール系樹脂を単独で使用した場合、金属光沢性が低下する虞があり、逆に多すぎても同様である。 The proportion of the units represented by the formula (2) in the polyvinyl acetal resin (units having a hydroxyl group) may be 10 to 50 mol% (e.g., 15 to 40 mol%), preferably 20 to 35 mol%, and more preferably 23 to 27 mol%. The proportion of the units represented by the formula (2) in the polyvinyl acetal resin may be 5 to 40 mass% (e.g., 12 to 30 mass%), preferably 15 to 25 mass%, and more preferably 18 to 23 mass%. If the proportion of the units represented by the formula (2) is too small, there is a risk of a decrease in metallic gloss when the polyvinyl acetal resin is used alone as a resin component, and conversely, if the proportion is too large, the same applies.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(3)で表される単位(アセチル基を有する単位)の割合は、例えば15モル%以下、好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下である。また、ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(3)で表される単位の割合は、例えば20質量%以下、好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下である。式(3)で表される単位の割合が多すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The proportion of the units represented by the formula (3) (units having an acetyl group) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 15 mol% or less, preferably 10 mol% or less, and more preferably 5 mol% or less. The proportion of the units represented by the formula (3) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 20 mass% or less, preferably 10 mass% or less, and more preferably 5 mass% or less. If the proportion of the units represented by the formula (3) is too high, there is a risk of a decrease in metallic gloss.

ポリビニルアセタール系樹脂中における前記式(1)~(3)で表される構成単位の合計割合は、例えば80モル%以上、好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上であり、より好ましくは100モル%である。 The total proportion of the structural units represented by the formulas (1) to (3) in the polyvinyl acetal resin is, for example, 80 mol% or more, preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and even more preferably 100 mol%.

ポリビニルアセタール系樹脂中における共重合性単量体由来の割合は、例えば20モル%以下、好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下である。 The proportion of copolymerizable monomers in the polyvinyl acetal resin is, for example, 20 mol% or less, preferably 10 mol% or less, and more preferably 5 mol% or less.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度および各単位の割合は、慣用の方法を用いて測定でき、例えば、滴定法、IR元素分析、NMR法などを用いて測定できる。また、ブチラール系樹脂の場合は、JIS K 6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法で測定できる。 In this application, the degree of acetalization of polyvinyl acetal resins and the proportion of each unit can be measured using conventional methods, such as titration, IR elemental analysis, and NMR. In the case of butyral resins, the degree of acetalization can be measured using a method conforming to JIS K 6728 "Testing methods for polyvinyl butyral."

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)の重量平均分子量は、例えば3,000~300,000、好ましくは5,000~100,000、さらに好ましくは7,000~70,000、より好ましくは10,000~40,000、最も好ましくは12,000~20,000である。分子量が小さすぎると、金属光沢膜の金属光沢性や機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (particularly the butyral resin) is, for example, 3,000 to 300,000, preferably 5,000 to 100,000, further preferably 7,000 to 70,000, even more preferably 10,000 to 40,000, and most preferably 12,000 to 20,000. If the molecular weight is too small, the metallic luster and mechanical properties of the metallic luster film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂の重量平均分子量は、JIS K 0124-2011に記載の方法に準じ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In this application, the weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin is a value calculated based on the molecular weight of standard polystyrene from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC) in accordance with the method described in JIS K 0124-2011.

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)のガラス転移温度は50~130℃程度の範囲から選択でき、例えば60~125℃、好ましくは70~120℃、さらに好ましくは80~115℃、より好ましくは90~115℃、最も好ましくは100~110℃である。ガラス転移温度が低すぎると、金属光沢膜の金属光沢性や機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The glass transition temperature of polyvinyl acetal resins (particularly butyral resins) can be selected from the range of about 50 to 130°C, for example 60 to 125°C, preferably 70 to 120°C, further preferably 80 to 115°C, even more preferably 90 to 115°C, and most preferably 100 to 110°C. If the glass transition temperature is too low, the metallic luster and mechanical properties of the metallic luster film may be reduced, and conversely, if it is too high, film formability may be reduced.

なお、本願において、ポリビニルアセタール系樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定できる。 In this application, the glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).

ポリビニルアセタール系樹脂(特に、ブチラール系樹脂)の10質量%溶液粘度(溶媒:トルエン/エタノール(質量比)=50/50)は、温度20℃において、回転粘度型(BM型)で測定したとき、2~20,000mPa・s(特に10~10,000mPa・s)程度の範囲から選択でき、用途に応じて、例えば5~1,000mPa・s(例えば10~500mPa・s)、好ましくは20~400mPa・s(例えば25~300mPa・s)、さらに好ましくは50~250mPa・s(例えば70~200mPa・s)であってもよく、また例えば3~150mPa・s(例えば5~100mPa・s)、好ましくは10~50mPa・s(特に10~30mPa・s)である。粘度が低すぎると、金属光沢膜の金属光沢性や機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The viscosity of a 10% by weight solution of polyvinyl acetal resin (particularly butyral resin) (solvent: toluene/ethanol (mass ratio) = 50/50) when measured at a temperature of 20°C using a rotational viscosity type (BM type) can be selected from a range of about 2 to 20,000 mPa·s (particularly 10 to 10,000 mPa·s), and depending on the application, it may be, for example, 5 to 1,000 mPa·s (e.g. 10 to 500 mPa·s), preferably 20 to 400 mPa·s (e.g. 25 to 300 mPa·s), and more preferably 50 to 250 mPa·s (e.g. 70 to 200 mPa·s), or, for example, 3 to 150 mPa·s (e.g. 5 to 100 mPa·s), preferably 10 to 50 mPa·s (especially 10 to 30 mPa·s). If the viscosity is too low, the metallic luster and mechanical properties of the metallic luster film may be reduced, and conversely, if the viscosity is too high, the film-forming properties may be reduced.

(B2)第2樹脂
第2樹脂(B2)は、第1樹脂と相分離可能な樹脂であれば、特に限定されないが、(メタ)アクリル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂およびセルロース系樹脂からなる群より選択された少なくとも1種が好ましい。
(B2) Second Resin The second resin (B2) is not particularly limited as long as it is a resin that can be phase-separated from the first resin, but is preferably at least one selected from the group consisting of (meth)acrylic resins, alkyd resins, epoxy resins, and cellulose resins.

((メタ)アクリル系樹脂)
(メタ)アクリル系樹脂は、特に限定されないが、例えば(メタ)アクリル系単量体の単独または共重合体、(メタ)アクリルポリオール、変性(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。
((Meth)acrylic resin)
The (meth)acrylic resin is not particularly limited, and may be, for example, a homopolymer or copolymer of a (meth)acrylic monomer, a (meth)acrylic polyol, or a modified (meth)acrylic resin.

(メタ)アクリル系単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸シクロアルキル;(メタ)アクリル酸フェニルなどの(メタ)アクリル酸アリール;(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2-フェニルエチルなどの(メタ)アクリル酸アラルキル;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシC1-4アルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの(メタ)アクリル系単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどの(メタ)アクリル酸C1-4アルキル;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシC2-3アルキル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the (meth)acrylic monomer include (meth)acrylic acid, C 1-20 alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2 - ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate, cycloalkyl (meth)acrylates such as cyclohexyl (meth)acrylate, aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate, aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate and 2-phenylethyl (meth)acrylate, and hydroxy C 1-4 alkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate. These (meth)acrylic monomers can be used alone or in combination of two or more. Of these, preferred are C 1-4 alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate; and hydroxy C 2-3 alkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリル系樹脂は、これらの単量体の単独重合体であってもよいが、共重合体が好ましい。共重合体としては、2種以上の前記(メタ)アクリル系単量体の共重合体であってもよく、前記(メタ)アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体であってもよい。共重合性単量体としては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンなどのスチレン系単量体;α-C2-20オレフィン(エチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-ドデセンなど)などのオレフィン系単量体;酢酸ビニル、酪酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル系単量体などの付加重合性単量体などが挙げられる。これらの共重合性単量体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、スチレンなどのスチレン系単量体が好ましい。 The (meth)acrylic resin may be a homopolymer of these monomers, but a copolymer is preferred. The copolymer may be a copolymer of two or more of the (meth)acrylic monomers, or may be a copolymer of the (meth)acrylic monomer and a copolymerizable monomer. Examples of the copolymerizable monomer include styrene-based monomers such as styrene, α-methylstyrene, and vinyltoluene; olefin-based monomers such as α-C 2-20 olefins (ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-hexene, 1-octene, 1-dodecene, etc.); and addition-polymerizable monomers such as vinyl carboxylate ester-based monomers such as vinyl acetate and vinyl butyrate. These copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more. Of these, styrene-based monomers such as styrene are preferred.

(メタ)アクリル系樹脂が(メタ)アクリル系単量体とスチレン系単量体との共重合体(特に、メタクリル系単量体とスチレン系単量体との共重合体)である場合、(メタ)アクリル系単量体とスチレン系単量体とのモル比は、前者/後者=95/5~5/95、好ましくは90/10~10/90、さらに好ましくは80/20~20/80、より好ましくは70/30~30/70である。 When the (meth)acrylic resin is a copolymer of a (meth)acrylic monomer and a styrene monomer (particularly, a copolymer of a methacrylic monomer and a styrene monomer), the molar ratio of the (meth)acrylic monomer to the styrene monomer (former/latter) is 95/5 to 5/95, preferably 90/10 to 10/90, more preferably 80/20 to 20/80, and even more preferably 70/30 to 30/70.

(メタ)アクリルポリオールとしては、分子内に2以上の水酸基を有する(メタ)アクリル系ポリマーであれば、特に制限されず、例えば、前記(メタ)アクリル系樹脂の単量体としてヒドロキシC2-3アルキル(メタ)アクリレートを含む(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。 The (meth)acrylic polyol is not particularly limited as long as it is a (meth)acrylic polymer having two or more hydroxyl groups in the molecule, and may be, for example, a (meth)acrylic resin containing a hydroxy C 2-3 alkyl (meth)acrylate as a monomer of the (meth)acrylic resin.

変性(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのポリエステル変性(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン(メタ)アクリレートなどのポリウレタン変性(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ(メタ)アクリレートなどのエポキシ変性(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン(メタ)アクリレートなどのシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂などが挙げられる。これらの変性(メタ)アクリル系樹脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of modified (meth)acrylic resins include polyester-modified (meth)acrylic resins such as polyester (meth)acrylate, polyurethane-modified (meth)acrylic resins such as urethane (meth)acrylate, epoxy-modified (meth)acrylic resins such as epoxy (meth)acrylate, and silicone-modified (meth)acrylic resins such as silicone (meth)acrylate. These modified (meth)acrylic resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの(メタ)アクリル系樹脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、銀含有金属ナノ粒子(特に、複合体ナノ粒子(A))に対する親和性が高く、かつ用途に応じて硬化剤によって硬化し易い点から、水酸基を有する(メタ)アクリル系樹脂が好ましく、水酸基およびスチレン単位を有する(メタ)アクリル系樹脂(例えば、メチル(メタ)アクリレート-スチレン共重合体など)が特に好ましい。なお、水酸基の位置は、特に限定されず、主鎖であってもよく、側鎖であってもよく、主鎖および側鎖に位置していてもよい。 These (meth)acrylic resins can be used alone or in combination of two or more. Among these, (meth)acrylic resins having hydroxyl groups are preferred, and (meth)acrylic resins having hydroxyl groups and styrene units (e.g., methyl (meth)acrylate-styrene copolymers, etc.) are particularly preferred, because they have a high affinity for silver-containing metal nanoparticles (especially composite nanoparticles (A)) and are easily cured with a curing agent depending on the application. The position of the hydroxyl group is not particularly limited, and may be in the main chain, in the side chain, or in the main chain and in the side chain.

(メタ)アクリル系樹脂の水酸基価は、例えば1mgKOH/g以上(例えば2~400mgKOH/g)、好ましくは3mgKOH/g以上(例えば4~300mgKOH/g)、さらに好ましくは5mgKOH/g以上(例えば6~200mgKOH/g)、より好ましくは7mgKOH/g以上(例えば8~150mgKOH/g)であってもよく、通常10~150mgKOH/g(特に50~100mgKOH/g)である。水酸基価が小さすぎると、金属光沢性および金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The hydroxyl value of the (meth)acrylic resin may be, for example, 1 mgKOH/g or more (e.g., 2 to 400 mgKOH/g), preferably 3 mgKOH/g or more (e.g., 4 to 300 mgKOH/g), more preferably 5 mgKOH/g or more (e.g., 6 to 200 mgKOH/g), and more preferably 7 mgKOH/g or more (e.g., 8 to 150 mgKOH/g), and is usually 10 to 150 mgKOH/g (particularly 50 to 100 mgKOH/g). If the hydroxyl value is too low, the metallic gloss and the mechanical properties of the metallic gloss film may decrease, and conversely, if the hydroxyl value is too high, the metallic gloss may decrease.

なお、本願において、(メタ)アクリル系樹脂の水酸基価は、慣用の方法、例えば、中和滴定法で測定できる。 In this application, the hydroxyl value of the (meth)acrylic resin can be measured by a conventional method, for example, neutralization titration.

(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、例えば1,000~100,000、好ましくは2,000~80,000(例えば3,000~50,000)、さらに好ましくは5,000~30,000(例えば10,000~20,000)、より好ましくは12,000~16,000である。分子量が小さすぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The weight average molecular weight of the (meth)acrylic resin is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 80,000 (e.g., 3,000 to 50,000), more preferably 5,000 to 30,000 (e.g., 10,000 to 20,000), and even more preferably 12,000 to 16,000. If the molecular weight is too small, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In this application, the weight average molecular weight of the (meth)acrylic resin is a value calculated from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC) based on the molecular weight of standard polystyrene.

(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、例えば0~120℃、好ましくは40~110℃、より好ましくは50~100℃、最も好ましくは60~90℃である。ガラス転移温度が低すぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is, for example, 0 to 120°C, preferably 40 to 110°C, more preferably 50 to 100°C, and most preferably 60 to 90°C. If the glass transition temperature is too low, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計を用いて測定できる。 In this application, the glass transition temperature of the (meth)acrylic resin can be measured using a differential scanning calorimeter.

(メタ)アクリル系樹脂は、カルボキシル基またはその塩を有さない(メタ)アクリル系樹脂であってもよい。 The (meth)acrylic resin may be a (meth)acrylic resin that does not have a carboxyl group or a salt thereof.

(メタ)アクリル系樹脂の割合は、固形分換算で、前記複合体ナノ粒子(A)の銀含有金属100質量部に対して、例えば1~50質量部、好ましくは3~40質量部、さらに好ましくは5~30質量部、より好ましくは10~25質量部、最も好ましくは15~20質量部である。(メタ)アクリル系樹脂の割合が少なすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、多すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The proportion of the (meth)acrylic resin, calculated as solid content, is, for example, 1 to 50 parts by mass, preferably 3 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 30 parts by mass, even more preferably 10 to 25 parts by mass, and most preferably 15 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the silver-containing metal in the composite nanoparticle (A). If the proportion of the (meth)acrylic resin is too low, there is a risk of reduced adhesion and abrasion resistance, and if the proportion is too high, there is a risk of reduced metallic gloss.

(アルキド樹脂)
アルキド樹脂は、塗料分野などで利用される慣用のアルキド樹脂であり、例えば、短油アルキド樹脂、長油アルキド樹脂、変性アルキド樹脂、イソシアネート硬化型アルキド樹脂、エポキシエステル樹脂(エポキシ変性アルキド樹脂)、アルキドポリオール、オイルフリーアルキド樹脂などであってもよい。
(Alkyd resin)
The alkyd resin is a conventional alkyd resin used in the paint field and the like, and may be, for example, a short oil alkyd resin, a long oil alkyd resin, a modified alkyd resin, an isocyanate-cured alkyd resin, an epoxy ester resin (epoxy-modified alkyd resin), an alkyd polyol, an oil-free alkyd resin, or the like.

具体的なアルキド樹脂は、例えば、JIS K 5500「塗料用語」に定義されている合成樹脂、すなわち多塩基酸および油成分と、ポリオール(多価アルコール)との縮重合によって得られる合成樹脂であってもよい。 Specific alkyd resins may be, for example, synthetic resins as defined in JIS K 5500 "Paint Terminology", that is, synthetic resins obtained by condensation polymerization of polybasic acid and oil components with polyols (polyhydric alcohols).

多塩基酸としては、例えば、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイソフタル酸等の芳香族二塩基酸;テトラヒドロフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族二塩基酸;コハク酸、無水コハク酸、アルケニルコハク酸、アルケニル無水コハク酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ハイミック酸、無水ハイミック酸などの脂肪族二塩基酸;トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、無水メチルシクロヘキセントリカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの3官能以上のポリ塩基酸などが挙げられる。 Examples of polybasic acids include aromatic dibasic acids such as phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid; alicyclic dibasic acids such as tetrahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; aliphatic dibasic acids such as succinic acid, succinic anhydride, alkenylsuccinic acid, alkenylsuccinic anhydride, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, himic acid, and himic acid anhydride; and trifunctional or higher polybasic acids such as trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, methylcyclohexene tricarboxylic acid, methylcyclohexene tricarboxylic acid anhydride, and benzophenone tetracarboxylic acid.

これらの多塩基酸は、単独でまたは2種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、イソフタル酸やテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸などが汎用される。 These polybasic acids can be used alone or in combination of two or more. Among these, aromatic dicarboxylic acids such as isophthalic acid and terephthalic acid are commonly used.

油成分(油脂成分)には、脂肪油(油脂)および/または脂肪酸が含まれる。 The oil component (oil and fat component) includes fatty oils (oils and fats) and/or fatty acids.

脂肪油としては、例えば、綿実油、亜麻仁油、桐油、ひまし油、脱水ひまし油、サフラワー油(紅花油)、大豆油、米油、トウモロコシ油、ゴマ油、向日葵油、米糖油、アサミ油、菜種油、落花生油、やし油、パーム油、カポック油、扁桃油、オリーブ油、トール油、えの油などの植物油;牛脂、豚脂、羊脂、山羊脂、馬脂、鶏脂、七面鳥脂などの動物油;ニシン油、カレイ油、タラ油、シタビラメ油、ハリバ油、コイ油、マス油、ナマズ油などの魚油;これらの水添油などが挙げられる。これらの油脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of fatty oils include vegetable oils such as cottonseed oil, linseed oil, tung oil, castor oil, dehydrated castor oil, safflower oil, soybean oil, rice oil, corn oil, sesame oil, sunflower oil, rice sugar oil, asami oil, rapeseed oil, peanut oil, coconut oil, palm oil, kapok oil, almond oil, olive oil, tall oil, and oyster oil; animal oils such as beef tallow, lard, mutton tallow, goat tallow, horse tallow, chicken tallow, and turkey tallow; fish oils such as herring oil, flounder oil, cod oil, sole oil, halibut oil, carp oil, trout oil, and catfish oil; and hydrogenated oils of these. These oils and fats can be used alone or in combination of two or more.

脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ペラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸などの直鎖または分岐鎖飽和C8-24脂肪酸;ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、エレオステアリン酸、ガトレン酸、アラキドン酸、エルカ酸などの直鎖または分岐鎖不飽和C8-24脂肪酸などが挙げられる。これらの脂肪酸は、ヒドロキシル基などの置換基を有していてもよい。ヒドロキシル基を有する脂肪酸としては、例えば、ひまし油の主成分であるリシノレイン酸、サビニン酸、ジオキシステアリン酸などが挙げられる。脂肪酸は、前記脂肪油からケン化などにより得られる脂肪酸であってもよく、例えば、脱水ひまし油から得られるハイジエン脂肪酸や、亜麻仁油、桐油、脱水ひまし油、大豆油、サフラワー油などから得られる脂肪酸(例えば、亜麻仁油脂肪酸、桐油脂肪酸、脱水ひまし油脂肪酸、大豆油脂肪酸、サフラワー油脂肪酸など)などであってもよい。これらの脂肪酸は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of fatty acids include linear or branched saturated C 8-24 fatty acids such as caprylic acid, capric acid, pelargonic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, arachidic acid, and behenic acid; linear or branched unsaturated C 8-24 fatty acids such as myristoleic acid, palmitoleic acid, petroselinic acid, oleic acid, vaccenic acid, linoleic acid, linolenic acid, eleostearic acid, gadoleic acid, arachidonic acid, and erucic acid. These fatty acids may have a substituent such as a hydroxyl group. Examples of fatty acids having a hydroxyl group include ricinoleic acid, savinic acid, and dioxystearic acid, which are the main components of castor oil. The fatty acid may be a fatty acid obtained by saponification of the fatty oil, such as a hygienic fatty acid obtained from dehydrated castor oil, or a fatty acid obtained from linseed oil, tung oil, dehydrated castor oil, soybean oil, safflower oil, etc. (e.g., linseed oil fatty acid, tung oil fatty acid, dehydrated castor oil fatty acid, soybean oil fatty acid, safflower oil fatty acid, etc.) These fatty acids may be used alone or in combination of two or more.

これらの油成分のうち、亜麻仁油、桐油、脱水ひまし油、大豆油、サフラワー油などの植物油;これらの植物油由来の脂肪酸;ステアリン酸などの飽和C10-22脂肪酸;オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアリン酸、エレオステアリン酸またはリシノール酸などの不飽和C10-22脂肪酸が好ましい。 Of these oil components, preferred are vegetable oils such as linseed oil, tung oil, dehydrated castor oil, soybean oil, and safflower oil; fatty acids derived from these vegetable oils; saturated C10-22 fatty acids such as stearic acid; and unsaturated C10-22 fatty acids such as oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, stearic acid, eleostearic acid, and ricinoleic acid.

ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、水素添加ビスフェノールA、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールなどのジオール;グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタンなどのトリオール;ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、ジトリメチロールエタン、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールなどの四官能以上のポリオール;従来からアルキド樹脂に使用されてきた多価アルコールを挙げることができる。 Examples of polyols include diols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetramethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, and 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol; triols such as glycerin, trimethylolpropane, and trimethylolethane; polyols having tetrafunctional or more functional groups such as pentaerythritol, diglycerin, ditrimethylolpropane, ditrimethylolethane, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, and dipentaerythritol; and polyhydric alcohols that have been used in alkyd resins.

これらのポリオールは、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの脂肪族ポリオールなどが汎用される。 These polyols can be used alone or in combination. Among these, aliphatic polyols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and dipentaerythritol are commonly used.

アルキド樹脂は、油成分およびポリオールに加えて、安息香酸、p-t-ブチル安息香酸、アビエチン酸、水素添加アビエチン酸などの一塩基酸をさらに含んでいてもよい。 In addition to the oil component and polyol, the alkyd resin may further contain monobasic acids such as benzoic acid, p-t-butylbenzoic acid, abietic acid, and hydrogenated abietic acid.

アルキド樹脂の水酸基価は、例えば5~500mgKOH/g、好ましくは10~300mgKOH/g、さらに好ましくは20~200mgKOH/g、より好ましくは50~150mgKOH/gである。水酸基価が小さすぎると、金属光沢性および金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The hydroxyl value of the alkyd resin is, for example, 5 to 500 mgKOH/g, preferably 10 to 300 mgKOH/g, more preferably 20 to 200 mgKOH/g, and even more preferably 50 to 150 mgKOH/g. If the hydroxyl value is too small, the metallic gloss and the mechanical properties of the metallic gloss film may decrease, and conversely, if the hydroxyl value is too high, the metallic gloss may decrease.

なお、本願において、アルキド樹脂の水酸基価は、ISO 4629(2)に準拠して測定できる。 In this application, the hydroxyl value of the alkyd resin can be measured in accordance with ISO 4629 (2).

アルキド樹脂の酸価は、例えば0.5~30mgKOH/g、好ましくは1~20mgKOH/g、さらに好ましくは2~15mgKOH/g、より好ましくは3~8mgKOH/gである。酸価が小さすぎると、金属光沢性が低下する虞があり、逆に高すぎると、金属光沢性および金属光沢膜の機械的特性が低下する虞がある。 The acid value of the alkyd resin is, for example, 0.5 to 30 mgKOH/g, preferably 1 to 20 mgKOH/g, more preferably 2 to 15 mgKOH/g, and even more preferably 3 to 8 mgKOH/g. If the acid value is too low, the metallic gloss may decrease, and conversely, if it is too high, the metallic gloss and the mechanical properties of the metallic gloss film may decrease.

なお、本願において、アルキド樹脂の酸価は、JIS K 5601-1-2に準拠して測定できる。 In this application, the acid value of the alkyd resin can be measured in accordance with JIS K 5601-1-2.

アルキド樹脂の重量平均分子量は、例えば500~30,000、好ましくは1,000~20,000、さらに好ましくは2,000~10,000である。分子量が小さすぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The weight average molecular weight of the alkyd resin is, for example, 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, and more preferably 2,000 to 10,000. If the molecular weight is too small, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、アルキド樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In this application, the weight average molecular weight of the alkyd resin is a value calculated based on the molecular weight of standard polystyrene from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC).

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂は、分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物であってもよい。エポキシ樹脂には、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂などが含まれる。これらのうち、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂が汎用される。
(Epoxy resin)
The epoxy resin may be a compound having two or more epoxy groups in the molecule. The epoxy resin includes glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, etc. Among these, glycidyl ether type epoxy resin is widely used.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、アルコールエーテル型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂などが挙げられる。 Examples of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, bisphenol A novolac type epoxy resins, alcohol ether type epoxy resins, tetrabromobisphenol A type epoxy resins, and naphthalene type epoxy resins.

これらのエポキシ樹脂は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。 These epoxy resins can be used alone or in combination. Of these, bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resins are preferred.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、例えば100~5,000g/eq、好ましくは300~3,000g/eq、さらに好ましくは500~1,500g/eq、より好ましくは700~1,000g/eqである。エポキシ樹脂のエポキシ当量が小さすぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。 The epoxy equivalent of the epoxy resin is, for example, 100 to 5,000 g/eq, preferably 300 to 3,000 g/eq, more preferably 500 to 1,500 g/eq, and even more preferably 700 to 1,000 g/eq. If the epoxy equivalent of the epoxy resin is too small, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the metallic gloss may be reduced.

なお、本願において、エポキシ当量とは、「1当量のエポキシ基を含むエポキシ樹脂の質量」と定義され、JIS K 7236に準拠して測定できる。 In this application, epoxy equivalent is defined as "the mass of an epoxy resin containing one equivalent of epoxy groups" and can be measured in accordance with JIS K 7236.

エポキシ樹脂の数平均分子量は、例えば5,000~100,000、好ましくは7,000~70,000、さらに好ましくは10,000~40,000、より好ましくは12,000~20,000である。分子量が小さすぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The number average molecular weight of the epoxy resin is, for example, 5,000 to 100,000, preferably 7,000 to 70,000, more preferably 10,000 to 40,000, and even more preferably 12,000 to 20,000. If the molecular weight is too small, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、エポキシ樹脂の数平均分子量は、JIS K 0124-2011に記載の方法に準拠して測定でき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In this application, the number average molecular weight of the epoxy resin can be measured in accordance with the method described in JIS K 0124-2011, and is a value calculated based on the molecular weight of standard polystyrene from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC).

エポキシ樹脂の軟化点は、JIS K 7234に準拠した方法で測定された軟化点が30~150℃、好ましくは50~130℃、さらに好ましくは70~120℃、より好ましくは90~100℃である。軟化点が低すぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The softening point of the epoxy resin, measured according to a method in accordance with JIS K 7234, is 30 to 150°C, preferably 50 to 130°C, more preferably 70 to 120°C, and even more preferably 90 to 100°C. If the softening point is too low, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, film formability may be reduced.

なお、本願において、エポキシ樹脂の軟化点は、JIS K 7234の環球法に基づいて、規定の環に試料を充填し、水浴またはグリセリン浴中で水平に支え、試料の中央に規定の球を置いて浴温を毎分5℃の速さで上昇させ、球を包み込んだ試料が環台の底板に接触した時に読み取った温度である。 In this application, the softening point of the epoxy resin is the temperature measured when the sample encasing the sphere comes into contact with the bottom plate of the ring stand, based on the ring and ball method of JIS K 7234, by filling a specified ring with a sample, supporting it horizontally in a water bath or glycerin bath, placing a specified ball in the center of the sample, and raising the bath temperature at a rate of 5°C per minute.

(セルロース系樹脂)
セルロース系樹脂は、特に限定されないが、例えばセルロースエステルのようなセルロース誘導体であってもよい。
(Cellulosic resin)
The cellulose-based resin is not particularly limited, but may be, for example, a cellulose derivative such as a cellulose ester.

セルロース誘導体としては、例えば、セルロースエステル、セルロースエーテル、セルロースエーテルエステルなどが挙げられる。セルロースエステルとしては、例えば、ニトロセルロース、硫酸セルロース、リン酸セルロースなどのセルロース無機酸エステル;セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロース有機酸エステルなどが挙げられる。セルロースエーテルとしては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロースなどのセルロースアルキルエーテル;カルボキシメチルセルロースなどのカルボキシアルキルセルロース;ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのヒドロキシアルキルセルロースなどが挙げられる。セルロースエーテルエステルとしては、例えば、カルボキシメチルセルロースアセテート、カルボキシメチルセルロースプロピオネート、カルボキシメチルセルロースブチレートなどのセルロースエーテルエステルなどが挙げられる。 Examples of cellulose derivatives include cellulose esters, cellulose ethers, and cellulose ether esters. Examples of cellulose esters include inorganic cellulose esters such as nitrocellulose, cellulose sulfate, and cellulose phosphate; organic cellulose esters such as cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate butyrate. Examples of cellulose ethers include cellulose alkyl ethers such as methylcellulose and ethylcellulose; carboxyalkyl celluloses such as carboxymethylcellulose; and hydroxyalkyl celluloses such as hydroxymethylcellulose, hydroxyethyl cellulose, and hydroxypropylmethylcellulose. Examples of cellulose ether esters include cellulose ether esters such as carboxymethylcellulose acetate, carboxymethylcellulose propionate, and carboxymethylcellulose butyrate.

これらのセルロース誘導体は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、セルロース有機酸エステルが好ましく、セルロースアシレートがさらに好ましく、セルロースC2―4アシレートがより好ましく、セルロースアセテートC3-4アシレートが最も好ましい。セルロース有機酸エステルは、セルロースと、有機酸および/または酸無水物との反応によって製造してもよく、特に、セルロースを有機酸および/または酸無水物でトリエステル化した後に加水分解して製造してもよい。 These cellulose derivatives can be used alone or in combination. Among these, cellulose organic acid esters are preferred, cellulose acylate is more preferred, cellulose C2-4 acylate is even more preferred, and cellulose acetate C3-4 acylate is most preferred. The cellulose organic acid esters may be produced by reacting cellulose with an organic acid and/or an acid anhydride, and in particular, may be produced by triesterifying cellulose with an organic acid and/or an acid anhydride, followed by hydrolysis.

セルロースアシレートのエステル置換度は、例えば30~70質量%、好ましくは35~60質量%、さらに好ましくは40~55質量%、より好ましくは45~50質量%である。セルロースアセテートC3-4アシレートのアセチル置換度は、例えば0.5~30質量%、好ましくは1~10質量%であり、C3-4アシル置換度は、例えば15~60質量%、好ましくは30~50質量%である。 The ester substitution degree of the cellulose acylate is, for example, 30 to 70 mass%, preferably 35 to 60 mass%, further preferably 40 to 55 mass%, and even more preferably 45 to 50 mass%. The acetyl substitution degree of the cellulose acetate C 3-4 acylate is, for example, 0.5 to 30 mass%, preferably 1 to 10 mass%, and the C 3-4 acyl substitution degree is, for example, 15 to 60 mass%, preferably 30 to 50 mass%.

セルロース系樹脂の数平均分子量は、例えば1,000~100,000、好ましくは5,000~50,000、さらに好ましくは10,000~30,000、より好ましくは15,000~25,000である。分子量が小さすぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The number average molecular weight of the cellulose resin is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 5,000 to 50,000, more preferably 10,000 to 30,000, and even more preferably 15,000 to 25,000. If the molecular weight is too small, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、セルロース系樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したクロマトグラムから標準ポリスチレンの分子量を基準にして算出した値である。 In this application, the number average molecular weight of the cellulose-based resin is a value calculated based on the molecular weight of standard polystyrene from a chromatogram measured by gel permeation chromatography (GPC).

セルロース系樹脂のガラス転移温度は、例えば80~180℃、好ましくは100~160℃、より好ましくは120~150℃、最も好ましくは130~140℃である。ガラス転移温度が低すぎると、金属光沢膜の機械的特性が低下する虞があり、逆に高すぎると、製膜性が低下する虞がある。 The glass transition temperature of the cellulose-based resin is, for example, 80 to 180°C, preferably 100 to 160°C, more preferably 120 to 150°C, and most preferably 130 to 140°C. If the glass transition temperature is too low, the mechanical properties of the metallic gloss film may be reduced, and conversely, if it is too high, the film formability may be reduced.

なお、本願において、セルロース系樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量計を用いて測定できる。 In this application, the glass transition temperature of the cellulose-based resin can be measured using a differential scanning calorimeter.

(第2樹脂の特性および割合)
前記第2樹脂のうち、金属光沢性に優れる点から、(メタ)アクリル系樹脂、アルキド樹脂、セルロース系樹脂が好ましく、アルキド樹脂が特に好ましい。
(Characteristics and Proportions of Second Resin)
Of the second resins, (meth)acrylic resins, alkyd resins and cellulose resins are preferred, with alkyd resins being particularly preferred, in terms of excellent metallic gloss.

第1樹脂(ポリビニルアセタール系樹脂)と第2樹脂との質量比は、前者/後者=100/0~5/95(特に99/1~5/95)程度の範囲から選択でき、例えば95/5~5/95(例えば90/10~10/90)、好ましくは80/20~20/80、さらに好ましくは70/30~30/70、より好ましくは60/40~40/60である。第2樹脂の割合が多すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。金属光沢性が重要な用途では、第1樹脂/第2樹脂=99/1~50/50、好ましくは98/2~60/40、さらに好ましくは95/5~70/30、より好ましくは93/7~80/20、最も好ましくは92/8~85/15である。 The mass ratio of the first resin (polyvinyl acetal resin) to the second resin can be selected from the range of about 100/0 to 5/95 (particularly 99/1 to 5/95) of the former/latter, for example 95/5 to 5/95 (for example 90/10 to 10/90), preferably 80/20 to 20/80, more preferably 70/30 to 30/70, and more preferably 60/40 to 40/60. If the proportion of the second resin is too high, there is a risk of the metallic gloss being reduced. In applications where metallic gloss is important, the first resin/second resin is 99/1 to 50/50, preferably 98/2 to 60/40, more preferably 95/5 to 70/30, more preferably 93/7 to 80/20, and most preferably 92/8 to 85/15.

(樹脂成分(B)の割合)
樹脂成分(B)の割合は、複合体ナノ粒子(A)の銀を含む金属100質量部に対して3~150質量部(例えば5~100質量部)程度の範囲から選択でき、例えば5~120質量部(例えば10~80質量部)、好ましくは7~100質量部(例えば7~80質量部)、さらに好ましくは8~60質量部(例えば15~50質量部)、より好ましくは10~50質量部(例えば20~40質量部)、最も好ましくは10~30質量部である。金属光沢性が重要な用途では、樹脂成分(B)の割合は、複合体ナノ粒子(A)の銀を含む金属100質量部に対して、例えば6~50質量部、好ましくは7~30質量部、さらに好ましくは8~20質量部、より好ましくは9~15質量部である。樹脂成分(B)の割合が少なすぎると、密着性および耐擦過性が低下する虞があり、多すぎると、金属光沢性が低下する虞がある。
(Ratio of resin component (B))
The ratio of the resin component (B) can be selected from a range of about 3 to 150 parts by mass (e.g., 5 to 100 parts by mass) relative to 100 parts by mass of the silver-containing metal of the composite nanoparticle (A), for example, 5 to 120 parts by mass (e.g., 10 to 80 parts by mass), preferably 7 to 100 parts by mass (e.g., 7 to 80 parts by mass), more preferably 8 to 60 parts by mass (e.g., 15 to 50 parts by mass), more preferably 10 to 50 parts by mass (e.g., 20 to 40 parts by mass), and most preferably 10 to 30 parts by mass. In applications where metallic gloss is important, the ratio of the resin component (B) is, for example, 6 to 50 parts by mass, preferably 7 to 30 parts by mass, more preferably 8 to 20 parts by mass, and more preferably 9 to 15 parts by mass relative to 100 parts by mass of the silver-containing metal of the composite nanoparticle (A). If the ratio of the resin component (B) is too small, there is a risk that the adhesion and abrasion resistance will decrease, and if it is too large, there is a risk that the metallic gloss will decrease.

(C)溶剤
本発明のインク組成物は、溶剤(C)をさらに含む。樹脂成分(B)に対して溶剤(C)を配合することにより、製膜性も向上でき、樹脂成分(B)が第2樹脂を含む場合には、スピノーダル分解による相分離を促進できる。
The ink composition of the present invention further contains a solvent (C). By blending the solvent (C) with the resin component (B), the film-forming property can be improved, and when the resin component (B) contains a second resin, phase separation due to spinodal decomposition can be promoted.

溶剤(C)は、極性有機溶媒を含むのが好ましい。極性有機溶媒としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのC1-4アルカノールなど)、多価アルコール類(エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパンなどのアルカントリオール、ペンタエリスリトールなどのアルカンテトラオールなど)、アミド類(ホルムアミド、アセトアミドなどのアシルアミド類、N-メチルホルムアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのモノ又はジC1-4アシルアミド類など)、ピロリドン類(2-ピロリドン、3-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチル-3-ピロリドンなど)、ケトン類(アセトン、ジアセトンアルコール、メチルエチルケトン、イソホロンなど)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、有機カルボン酸類(酢酸など)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどの酢酸エステルなど)、アルキレングリコールモノアルキルエーテル(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテル、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノールなどのC2-6アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルなど)、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル(メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトールなどのジC2-6アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルなど)、セロソルブアセテート類(エチルセロソルブアセテートなどのC1-4アルキルセロソルブアセテート類)、カルビトールアセテート類(メチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテートなどのC1-4アルキルカルビトールアセテートなど)、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの極性有機溶媒は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。 The solvent (C) preferably contains a polar organic solvent. Examples of the polar organic solvent include alcohols (C 1-4 alkanols such as methanol, ethanol, propanol, and isopropanol), polyhydric alcohols (alkanediols such as ethylene glycol and propylene glycol, alkanetriols such as glycerin and trimethylolpropane, and alkanetetraols such as pentaerythritol), amides (acylamides such as formamide and acetamide, mono- or di-C alkyl amides such as N-methylformamide, N-methylacetamide, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide), and the like. 1-4 acylamides, etc.), pyrrolidones (2-pyrrolidone, 3-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-3-pyrrolidone, etc.), ketones (acetone, diacetone alcohol, methyl ethyl ketone, isophorone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), organic carboxylic acids (acetic acid, etc.), esters (acetic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, etc.), alkylene glycol monoalkyl ethers (C 2-6 alkylene glycol mono C 1-4 alkyl ethers such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol methyl ether, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, etc.), dialkylene glycol monoalkyl ethers (di-C 2-6 alkylene glycol mono C 1-4 alkyl ethers such as methyl carbitol, ethyl carbitol, propyl carbitol, butyl carbitol, etc. 1-4 alkyl ether, etc.), cellosolve acetates (C 1-4 alkyl cellosolve acetates such as ethyl cellosolve acetate, etc.), carbitol acetates (C 1-4 alkyl carbitol acetates such as methyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, etc.), dimethyl sulfoxide, etc. These polar organic solvents can be used alone or in combination of two or more kinds.

極性有機溶媒の割合は、溶剤中50質量%以上であってもよく、好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上であり、100質量%であってもよい。 The proportion of the polar organic solvent in the solvent may be 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, even more preferably 90% by mass or more, and may be 100% by mass.

溶剤(C)は、極性溶媒に加えて、無極性溶媒をさらに含んでいてもよい。無極性溶媒としては、例えば、ヘキサン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、テトラリンなどの脂環族炭化水素などが挙げられる。無極性有機溶媒の割合は、極性有機溶媒100質量部に対して50質量部以下(例えば0.1~50質量部程度)であってもよく、好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。 The solvent (C) may further contain a non-polar solvent in addition to the polar solvent. Examples of non-polar solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, and decane, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and tetralin. The ratio of the non-polar organic solvent may be 50 parts by mass or less (e.g., about 0.1 to 50 parts by mass) per 100 parts by mass of the polar organic solvent, preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less.

これらの溶剤のうち、アルコール類、エステル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルから選択される1種以上を含むのが好ましく、エステル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルから選択される1種以上を含むのがさらに好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルから選択される1種以上を含むのがより好ましい。なかでも、C2-6アルキレングリコールモノC1-6アルキルエーテルおよびジC2-6アルキレングリコールモノC1-6アルキルエーテルから選択される1種以上がさらに好ましく、C2-5アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルおよびジC2-5アルキレングリコールモノC1-4アルキルエーテルから選択される1種以上が最も好ましい。ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルは、原料としての銀コロイド粒子を分散させるための分散媒由来の極性溶媒であってもよい。 Among these solvents, it is preferable to include at least one selected from alcohols, esters, alkylene glycol monoalkyl ethers, and dialkylene glycol monoalkyl ethers, more preferably at least one selected from esters, alkylene glycol monoalkyl ethers, and dialkylene glycol monoalkyl ethers, and even more preferably at least one selected from alkylene glycol monoalkyl ethers and dialkylene glycol monoalkyl ethers. Among them, it is more preferable to include at least one selected from C 2-6 alkylene glycol mono C 1-6 alkyl ethers and di C 2-6 alkylene glycol mono C 1-6 alkyl ethers, and most preferably at least one selected from C 2-5 alkylene glycol mono C 1-4 alkyl ethers and di C 2-5 alkylene glycol mono C 1-4 alkyl ethers. The dialkylene glycol monoalkyl ether may be a polar solvent derived from a dispersion medium for dispersing silver colloidal particles as a raw material.

溶剤(C)の割合は、前記複合体ナノ粒子(A)の銀含有金属100質量部に対して、例えば50~1,000質量部、好ましくは100~500質量部、さらに好ましくは200~450質量部、より好ましくは250~400質量部、最も好ましくは300~350質量部である。溶剤の割合が少なすぎると、製膜性が低下し、第2樹脂を含む場合、相分離構造を形成するのが困難となる虞があり、逆に多すぎると、生産性や製膜性が低下する虞がある。 The proportion of the solvent (C) is, for example, 50 to 1,000 parts by mass, preferably 100 to 500 parts by mass, more preferably 200 to 450 parts by mass, even more preferably 250 to 400 parts by mass, and most preferably 300 to 350 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the silver-containing metal of the composite nanoparticle (A). If the proportion of the solvent is too low, the film-forming properties may decrease, and if a second resin is included, it may be difficult to form a phase-separated structure. Conversely, if the proportion of the solvent is too high, productivity and film-forming properties may decrease.

(D)硬化剤
本発明のインク組成物は、前記複合体ナノ粒子(A)、樹脂成分(B)および溶剤(C)に加えて、硬化剤(D)をさらに含んでいてもよい。硬化剤(D)としては、慣用の硬化剤、例えば、イソシアネート系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤などが挙げられる。これらのうち、イソシアネート系硬化剤が好ましく、ポリイソシアネートが特に好ましい。ポリイソシアネートなどのイソシアネート系硬化剤は、第1樹脂および第2樹脂が官能基(特に、水酸基)を有する場合に特に有効である。
(D) Curing Agent The ink composition of the present invention may further contain a curing agent (D) in addition to the composite nanoparticles (A), the resin component (B) and the solvent (C). The curing agent (D) may be a conventional curing agent, such as an isocyanate-based curing agent, an amine-based curing agent, an acid anhydride-based curing agent, or an imidazole-based curing agent. Among these, an isocyanate-based curing agent is preferred, and a polyisocyanate is particularly preferred. An isocyanate-based curing agent such as a polyisocyanate is particularly effective when the first resin and the second resin have a functional group (particularly a hydroxyl group).

ポリイソシアネートとしては、例えば、脂肪族ポリイソシアネート[プロピレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)、リジンジイソシアネート(LDI)などのジイソシアネート;1,6,11-ウンデカントリイソシアネートメチルオクタン、1,3,6-ヘキサメチレントリイソシアネートなどのトリ又はポリイソシアネート]、脂環族ポリイソシアネート[シクロヘキサン1,4-ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、水添キシリレンジイソシアネート、水添ビス(イソシアナトフェニル)メタンなどのジイソシアネート;ビシクロヘプタントリイソシアネートなどのトリ又はポリイソシアネートなど]、芳香族ポリイソシアネート[フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート(TDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、ナフタレンジイソシアネート(NDI)、ビス(イソシアナトフェニル)メタン(MDI)、トルイジンジイソシアネート(TODI)、1,3-ビス(イソシアナトフェニル)プロパンなどのジイソシアネート;トリ又はポリイソシアネート]などが挙げられる。 Examples of polyisocyanates include aliphatic polyisocyanates [diisocyanates such as propylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), lysine diisocyanate (LDI), etc.; triisocyanates or polyisocyanates such as 1,6,11-undecane triisocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate], alicyclic polyisocyanates [cyclohexane 1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, etc.], cyanate, diisocyanates such as hydrogenated bis(isocyanatophenyl)methane; tri- or polyisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate, etc.], aromatic polyisocyanates [diisocyanates such as phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI), xylylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), naphthalene diisocyanate (NDI), bis(isocyanatophenyl)methane (MDI), toluidine diisocyanate (TODI), 1,3-bis(isocyanatophenyl)propane, etc.; tri- or polyisocyanates], etc.

ポリイソシアネートは、多量体(二量体や三量体、四量体など)、アダクト体、変性体(ビウレット変性体、アロハネート変性体、ウレア変性体など)などの誘導体や、複数のイソシアネート基を有するウレタンオリゴマーなどであってもよい。ポリイソシアネートの変性体または誘導体としては、例えば、ポリイソシアネート(ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネートなど)と多価アルコール(トリメチロールプロパンやペンタエリスリトールなど)とのアダクト体、前記ポリイソシアネートのビウレット体、前記ポリイソシアネート(例えば、脂肪族ポリイソシアネート)の多量体(例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体などのイソシアヌレート環を有するポリイソシアネートなど)などが例示できる。 The polyisocyanate may be a polymer (dimer, trimer, tetramer, etc.), an adduct, a modified product (biuret modified product, allophanate modified product, urea modified product, etc.), or a urethane oligomer having multiple isocyanate groups. Examples of modified products or derivatives of polyisocyanate include an adduct of a polyisocyanate (such as an aliphatic polyisocyanate such as hexamethylene diisocyanate) and a polyhydric alcohol (such as trimethylolpropane or pentaerythritol), a biuret of the polyisocyanate, and a polymer of the polyisocyanate (such as an aliphatic polyisocyanate) (such as a polyisocyanate having an isocyanurate ring, such as a trimer of hexamethylene diisocyanate).

これらのポリイソシアネートは単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのポリイソシアネートのうち、脂肪族ポリイソシアネートまたはその誘導体(例えば、HDIまたはその三量体など)、芳香族ポリイソシアネート(TDI、MDIなど)などが汎用される。 These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more. Among these polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates or their derivatives (e.g., HDI or its trimer, etc.), aromatic polyisocyanates (TDI, MDI, etc.), etc. are widely used.

硬化剤(D)の割合は、樹脂成分(B)100質量部に対して、例えば10~200質量部、好ましくは20~150質量部、さらに好ましくは25~100質量部である。 The proportion of the curing agent (D) is, for example, 10 to 200 parts by mass, preferably 20 to 150 parts by mass, and more preferably 25 to 100 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component (B).

(E)他の金属ナノ粒子
本発明のインク組成物は、前記複合体ナノ粒子(A)、樹脂成分(B)および溶剤(C)に加えて、他の金属ナノ粒子(E)をさらに含んでいてもよい。他の金属ナノ粒子(E)としては、例えば、周期表第8族金属(鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、イリジウム、白金など)、周期表第1B族金属(銅、金など)、周期表第3B族金属(アルミニウム、ガリウム、インジウムなど)および周期表第4B族金属(ゲルマニウム、スズ、鉛など)などであってもよい。なお、金属(金属原子)は、保護コロイドに対する配位性の高い金属、例えば、周期表第8族金属、周期表第1B族金属などである場合が多い。他の金属ナノ粒子(E)の割合は、前記複合体ナノ粒子(A)の銀含有金属100質量部に対して100質量部以下であり、好ましくは50質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。
(E) Other Metal Nanoparticles The ink composition of the present invention may further contain other metal nanoparticles (E) in addition to the composite nanoparticles (A), the resin component (B) and the solvent (C). The other metal nanoparticles (E) may be, for example, metals of Group 8 of the periodic table (iron, nickel, cobalt, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, iridium, platinum, etc.), metals of Group 1B of the periodic table (copper, gold, etc.), metals of Group 3B of the periodic table (aluminum, gallium, indium, etc.) and metals of Group 4B of the periodic table (germanium, tin, lead, etc.). In addition, the metal (metal atom) is often a metal with high coordination with the protective colloid, such as a metal of Group 8 of the periodic table or a metal of Group 1B of the periodic table. The ratio of the other metal nanoparticles (E) is 100 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the silver-containing metal of the composite nanoparticles (A).

(F)他の成分
本発明のインク組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の成分(F)として、慣用の添加剤、例えば、可塑剤(または造膜助剤)、光沢付与剤、金属腐食防止剤(防錆剤)、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤など)、界面活性剤(アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特に、アニオン性界面活性剤および/またはノニオン性界面活性剤)、分散安定化剤、増粘剤または粘度調整剤、保湿剤、チクソトロピー性賦与剤、レベリング剤、浸透剤、消泡剤、pH調整剤、キレート剤、表面張力調整剤、着色剤(染顔料など)、色相改良剤、染料定着剤、殺菌剤、防カビ剤、防腐剤、酸素吸収剤などをさらに含んでいてもよい。なお、界面活性剤は、アセチレングリコール系界面活性剤、ポリシロキサン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などであってもよい。これらの添加剤は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。他の成分(F)の割合は、前記複合体ナノ粒子(A)の銀含有金属100質量部に対して50質量部以下であり、好ましくは30質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。
(F) Other Components The ink composition of the present invention may further contain, as other components (F), conventional additives such as plasticizers (or film-forming assistants), gloss-imparting agents, metal corrosion inhibitors (rust inhibitors), stabilizers (antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, etc.), surfactants (anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, particularly anionic surfactants and/or nonionic surfactants), dispersion stabilizers, thickeners or viscosity adjusters, moisturizers, thixotropic agents, leveling agents, penetrants, defoamers, pH adjusters, chelating agents, surface tension adjusters, colorants (dyes and pigments, etc.), hue improvers, dye fixing agents, bactericides, antifungal agents, preservatives, oxygen absorbers, etc., within the scope of not impairing the effects of the present invention. The surfactants may be acetylene glycol-based surfactants, polysiloxane-based surfactants, fluorine-based surfactants, etc. These additives may be used alone or in combination of two or more. The proportion of the other component (F) is 50 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the silver-containing metal of the composite nanoparticle (A).

[インク組成物の調製方法]
本発明のインク組成物は、前記複合体ナノ粒子(A)、樹脂成分(B)および溶剤(C)を慣用の方法で混合することにより調製できる。混合方法としては、慣用の攪拌装置を利用でき、例えば、攪拌脱泡装置を利用してもよい。前記複合体ナノ粒子(A)は、溶剤(C)としてのジアルキレングリコールモノアルキルエーテルに分散させた分散液の形態で、樹脂成分(B)および溶剤(C)としてのアルキレングリコールモノアルキルエーテルと混合してもよい。
[Method of preparing ink composition]
The ink composition of the present invention can be prepared by mixing the composite nanoparticles (A), the resin component (B) and the solvent (C) by a conventional method. A conventional stirring device can be used as the mixing method, for example, a stirring and defoaming device can be used. The composite nanoparticles (A) may be mixed with the resin component (B) and the alkylene glycol monoalkyl ether as the solvent (C) in the form of a dispersion in which the composite nanoparticles (A) are dispersed in the dialkylene glycol monoalkyl ether as the solvent (C).

[金属光沢膜の製造方法]
金属光沢膜は、被加飾体(基材)の上に前記インク組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程、塗膜を乾燥させて金属光沢膜を得る乾燥工程を経て得られる。
[Metallic gloss film manufacturing method]
The metallic gloss film is obtained through a coating step in which the ink composition is applied onto an object to be decorated (substrate) to form a coating film, and a drying step in which the coating film is dried to obtain the metallic gloss film.

塗布工程において、基材の種類は、特に制限はなく、用途に応じて樹脂基材(フィルム等)、金属基材、ガラス基材、セラミックス基材、紙などを利用できる。 There are no particular limitations on the type of substrate used in the coating process, and resin substrates (films, etc.), metal substrates, glass substrates, ceramic substrates, paper, etc. can be used depending on the application.

塗布方法としては、特に制限されず、慣用のコーティング方法、例えば、フローコーティング法、ディスペンサーコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、オフセット印刷法などを利用できる。 The coating method is not particularly limited, and conventional coating methods such as flow coating, dispenser coating, spin coating, spray coating, screen printing, flexographic printing, casting, bar coating, curtain coating, roll coating, gravure coating, dipping, slitting, photolithography, inkjet printing, and offset printing can be used.

塗膜の平均厚み(乾燥厚み)は、例えば0.05~100μm、好ましくは0.1~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、より好ましくは1~5μmである。 The average thickness (dry thickness) of the coating film is, for example, 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and even more preferably 1 to 5 μm.

なお、本発明では、下塗り層、上塗り層を形成することなく、金属光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できるが、用途に応じて、下塗り層および/または上塗り層を併用してもよい。 In the present invention, metallic luster, adhesion, and abrasion resistance can be achieved without forming an undercoat layer or a topcoat layer, but an undercoat layer and/or a topcoat layer may be used in combination depending on the application.

乾燥工程では、塗膜を乾燥させることにより、金属光沢膜を形成する。塗膜の乾燥方法としては、加熱して乾燥する方法が好ましく、相分離構造を形成し易い点から、予備加熱処理と本加熱処理とを組み合わせた二段階で加熱処理して乾燥する方法が好ましい。 In the drying process, the coating is dried to form a metallic gloss film. The coating is preferably dried by heating, and a two-stage heating and drying method that combines a preliminary heating treatment and a main heating treatment is preferred because it is easier to form a phase separation structure.

予備加熱処理において、予備加熱温度は、例えば40~80℃、好ましくは45~70℃、さらに好ましくは45~60℃、より好ましくは45~55℃である。予備加熱時間は、例えば1~100分、好ましくは3~60分、さらに好ましくは5~30分である。 In the preheating treatment, the preheating temperature is, for example, 40 to 80°C, preferably 45 to 70°C, more preferably 45 to 60°C, and even more preferably 45 to 55°C. The preheating time is, for example, 1 to 100 minutes, preferably 3 to 60 minutes, and even more preferably 5 to 30 minutes.

本加熱処理において、本加熱温度は、例えば60~150℃、好ましくは65~120℃、さらに好ましくは70~90℃、より好ましくは75~85℃である。本加熱時間は、例えば30~240分、好ましくは80~180分、さらに好ましくは100~150分である。 In this heat treatment, the heating temperature is, for example, 60 to 150°C, preferably 65 to 120°C, more preferably 70 to 90°C, and even more preferably 75 to 85°C. The heating time is, for example, 30 to 240 minutes, preferably 80 to 180 minutes, and even more preferably 100 to 150 minutes.

樹脂成分(B)が第2樹脂を含む場合、乾燥工程において、スピノーダル分解による相分離を形成して金属光沢膜を形成してもよい。第2樹脂を含む場合は、塗膜を乾燥させることにより、溶剤の揮発に伴って、スピノーダル分解によって、銀含有金属を多量に含む相と、銀含有金属を少量含む相とに相分離させることができる。 When the resin component (B) contains a second resin, a metallic gloss film may be formed by phase separation due to spinodal decomposition in the drying process. When the second resin is contained, by drying the coating film, phase separation can be caused by spinodal decomposition as the solvent evaporates into a phase containing a large amount of silver-containing metal and a phase containing a small amount of silver-containing metal.

前記方法で得られた金属光沢膜は、基材(被加飾体)の上に形成されており、前記基材の上に積層され、かつ銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)と、ポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分(B)とを含む。金属光沢膜の平均厚みは、例えば0.05~100μm、好ましくは0.1~30μm、さらに好ましくは0.3~10μm、より好ましくは0.5~5μm、最も好ましくは1~3μmである。 The metallic gloss film obtained by the above method is formed on a substrate (object to be decorated), and is laminated on the substrate, and contains composite nanoparticles (A) of a metal containing silver and a protective colloid, and a resin component (B) containing a polyvinyl acetal resin. The average thickness of the metallic gloss film is, for example, 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.3 to 10 μm, even more preferably 0.5 to 5 μm, and most preferably 1 to 3 μm.

特に、基材の上に形成され、かつ第2樹脂を含む金属光沢膜は、基材の上に、界面層、中間層、表面層が順次積層された構造を有していてもよい。 In particular, the metallic gloss film formed on the substrate and containing the second resin may have a structure in which an interface layer, an intermediate layer, and a surface layer are laminated in this order on the substrate.

前記界面層は、前記複合体ナノ粒子で形成されており、前記複合体ナノ粒子が基材との界面において配列または配向することにより、銀を含む金属が密な薄膜(銀含有金属薄膜)を形成している。基材との界面において、このような界面層が形成されることにより、透明基材などにおいては裏面からの金属光沢性を向上できる。 The interface layer is formed from the composite nanoparticles, and the composite nanoparticles are arranged or oriented at the interface with the substrate to form a dense thin film of metal containing silver (silver-containing metal thin film). The formation of such an interface layer at the interface with the substrate can improve the metallic luster from the back surface of a transparent substrate, etc.

界面層の平均厚みは、例えば5~300nm、好ましくは10~200nm、さらに好ましくは10~100nm、より好ましくは20~40nmである。 The average thickness of the interface layer is, for example, 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and even more preferably 20 to 40 nm.

なお、本願において、界面層の平均厚みは、銀光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In this application, the average thickness of the interface layer can be measured by observing the cross section of the silver gloss film with a transmission electron microscope (TEM), and in detail, can be measured by the method described in the examples below.

前記中間層は、前記複合体ナノ粒子および第1樹脂を含む第1相と、前記複合体ナノ粒子および第2樹脂を含み、銀含有金属の含有割合が異なる相として相分離した相分離構造を有している。銀含有金属の濃度が異なる相分離構造を有することにより、樹脂成分の割合を高めても、金属光沢性を向上でき、金属光沢性と密着性および耐擦過性とを両立できる。 The intermediate layer has a phase separation structure in which a first phase containing the composite nanoparticles and a first resin and a second phase containing the composite nanoparticles and a second resin are separated into phases with different contents of silver-containing metal. By having a phase separation structure with different concentrations of silver-containing metal, the metallic gloss can be improved even if the proportion of the resin component is increased, and metallic gloss can be achieved simultaneously with adhesion and abrasion resistance.

第1相と第2相との比率(断面における面積比率)は、第1相/第2相=90/10~10/90、好ましくは70/30~30/70、さらに好ましくは60/40~40/60、より好ましくは55/45~45/55である。 The ratio of the first phase to the second phase (area ratio in the cross section) is first phase/second phase = 90/10 to 10/90, preferably 70/30 to 30/70, more preferably 60/40 to 40/60, and even more preferably 55/45 to 45/55.

なお、本願において、前記比率は、銀光沢膜断面の透過型電子顕微鏡(TEM)像に基づいて測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In this application, the ratio can be measured based on a transmission electron microscope (TEM) image of a cross section of the silver gloss film, and in detail, can be measured by the method described in the examples below.

前記相分離構造は、海島構造であってもよく、共連続構造であってもよい。これらのうち、海島構造が好ましい。中間層が海島構造である場合、海部を構成する連続相(マトリックス相)は、第1相であってもよく、第2相であってもよい。 The phase separation structure may be a sea-island structure or a co-continuous structure. Of these, a sea-island structure is preferred. When the intermediate layer has a sea-island structure, the continuous phase (matrix phase) constituting the sea portion may be either a first phase or a second phase.

海島構造において、分散相の平均径は、例えば10~3,000nm、好ましくは100~1,000nm、さらに好ましくは150~500nm、より好ましくは200~300nmである。 In the sea-island structure, the average diameter of the dispersed phase is, for example, 10 to 3,000 nm, preferably 100 to 1,000 nm, more preferably 150 to 500 nm, and even more preferably 200 to 300 nm.

分散相の平均ピッチ(隣接する分散相の中心間の距離の平均値)は、例えば10~2,000nm、好ましくは100~1,000nm、さらに好ましくは200~700nm、より好ましくは300~500nmである。 The average pitch of the dispersed phase (the average value of the distance between the centers of adjacent dispersed phases) is, for example, 10 to 2,000 nm, preferably 100 to 1,000 nm, more preferably 200 to 700 nm, and even more preferably 300 to 500 nm.

金属光沢膜断面の観察方法としては、特に限定されず、通常の構造解析に用いられる手法を用いることができる。観察方法としては、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡(SEM)、電子線マイクロアナライザ(EPMA)、走査型プローブ顕微鏡(SPM)等による形態・構造観察;蛍光X線やエネルギー分散型X線分光法(EDX)、波長分散型X線分光法(WDX)、電子エネルギー損失分光法(Electron Energy-Loss Spectroscopy(EELS))等による構成元素の解析を行うことができる。これらのうち、特に微細構造まで観察できる点から、透過型電子顕微鏡(TEM)観察が好ましい。観察に供する試料は、観察や分析に適するように、適宜加工して用いることができ、例えば、ミクロトーム等を用いて薄片試料を作製してもよい。 The method of observing the cross section of the metallic gloss film is not particularly limited, and any method used in normal structural analysis can be used. Observation methods include morphological and structural observation using a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), an electron beam microanalyzer (EPMA), a scanning probe microscope (SPM), etc.; and analysis of the constituent elements using fluorescent X-rays, energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX), wavelength dispersive X-ray spectroscopy (WDX), electron energy-loss spectroscopy (EELS), etc. Among these, transmission electron microscope (TEM) observation is preferred because it allows observation of even the finest structures. The sample to be observed can be processed appropriately to be suitable for observation and analysis. For example, a thin section sample can be prepared using a microtome, etc.

そのため、本願において、金属光沢膜断面における島構造の構造、サイズおよび分布状態は、銀光沢膜断面のTEM像に基づいて、観察および測定でき、サイズについては、任意の10カ所の平均値である。詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。さらに、TEM像では、銀含有金属ナノ粒子は、濃色であるため、容易に確認でき、中間層においては、銀含有金属ナノ粒子の凝集部を分散相とする。 Therefore, in this application, the structure, size and distribution state of the island structure in the cross section of the metallic gloss film can be observed and measured based on a TEM image of the cross section of the silver gloss film, and the size is the average value of any 10 points. In detail, it can be measured by the method described in the examples below. Furthermore, in the TEM image, the silver-containing metal nanoparticles can be easily confirmed because of their dark color, and in the intermediate layer, the aggregated parts of the silver-containing metal nanoparticles are the dispersed phase.

中間層の平均厚みは、例えば0.01~100μm、好ましくは0.05~30μm、さらに好ましくは0.1~10μm、より好ましくは0.2~1μmである。 The average thickness of the intermediate layer is, for example, 0.01 to 100 μm, preferably 0.05 to 30 μm, more preferably 0.1 to 10 μm, and even more preferably 0.2 to 1 μm.

中間層の平均厚みは、表面層の平均厚みに対して2倍以上であってもよく、例えば2~1,000倍、好ましくは3~100倍、さらに好ましくは3.5~50倍、より好ましくは4~10倍である。 The average thickness of the intermediate layer may be at least twice the average thickness of the surface layer, for example 2 to 1,000 times, preferably 3 to 100 times, more preferably 3.5 to 50 times, and even more preferably 4 to 10 times.

なお、本願において、中間層の平均厚みは、金属光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、任意の3カ所の平均値である。 In this application, the average thickness of the intermediate layer can be measured by observing the cross section of the metallic gloss film with a transmission electron microscope (TEM) and is the average value of any three points.

表面層は、前記複合体ナノ粒子で形成されており、前記複合体ナノ粒子が金属光沢膜の表面部において配列または配向することにより、銀含有金属が密な薄膜(金属薄膜)を形成している。本発明では、金属光沢膜の表面において、このような表面層が形成されることにより、金属光沢性を向上できる。 The surface layer is formed from the composite nanoparticles, and the composite nanoparticles are arranged or oriented on the surface of the metallic gloss film, forming a dense thin film (metal thin film) of silver-containing metal. In the present invention, the metallic gloss can be improved by forming such a surface layer on the surface of the metallic gloss film.

表面層の平均厚みは、例えば3~300nm、好ましくは5~200nm、さらに好ましくは10~150nm、より好ましくは30~100nmである。 The average thickness of the surface layer is, for example, 3 to 300 nm, preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm, and even more preferably 30 to 100 nm.

なお、本願において、表面層の平均厚みは、銀光沢膜断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより測定でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。 In this application, the average thickness of the surface layer can be measured by observing the cross section of the silver gloss film with a transmission electron microscope (TEM), and more specifically, by the method described in the examples below.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下の例において、インク組成物の調製方法および評価試験の測定方法を以下に示す。 The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples, the preparation method of the ink composition and the measurement method of the evaluation test are shown below.

[使用した材料]
(第1樹脂)
ポリビニルブチラール樹脂A:積水化学工業(株)製「エスレックKS-10」、アセタール化度74モル%以上、アセチル基3モル%以下、水酸基25モル%、10質量%溶液粘度(温度20℃、回転粘度型(BM型)、溶媒=トルエン/エタノール=50/50(質量比))10~30mPa・s、ガラス転移温度106℃、重量平均分子量17,000
ポリビニルブチラール樹脂B:積水化学工業(株)製「エスレックSV-12」、水酸基22モル%、10質量%溶液粘度(温度20℃、回転粘度型(BM型)、溶媒=トルエン/エタノール=50/50(質量比))70mPa・s、ガラス転移温度76℃、重量平均分子量30,000
ポリビニルブチラール樹脂C:積水化学工業(株)製「エスレックSV-16」、水酸基22モル%、10質量%溶液粘度(温度20℃、回転粘度型(BM型)、溶媒=トルエン/エタノール=50/50(質量比))80mPa・s、ガラス転移温度80℃、重量平均分子量100,000。
[Materials used]
(First Resin)
Polyvinyl butyral resin A: "S-LEC KS-10" manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., degree of acetalization 74 mol% or more, acetyl group 3 mol% or less, hydroxyl group 25 mol%, 10 mass% solution viscosity (temperature 20°C, rotational viscosity type (BM type), solvent = toluene/ethanol = 50/50 (mass ratio)) 10 to 30 mPa·s, glass transition temperature 106°C, weight average molecular weight 17,000
Polyvinyl butyral resin B: "S-LEC SV-12" manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., hydroxyl group 22 mol%, 10 mass% solution viscosity (temperature 20°C, rotational viscosity type (BM type), solvent = toluene/ethanol = 50/50 (mass ratio)) 70 mPa·s, glass transition temperature 76°C, weight average molecular weight 30,000
Polyvinyl butyral resin C: "S-LEC SV-16" manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., hydroxyl group 22 mol %, 10 mass % solution viscosity (temperature 20°C, rotational viscosity type (BM type), solvent = toluene/ethanol = 50/50 (mass ratio)) 80 mPa s, glass transition temperature 80°C, weight average molecular weight 100,000.

(第2樹脂)
アクリル樹脂A:DIC(株)製「WXU-880」、イソシアネート硬化型アクリル樹脂、不揮発分50%、水酸基価10mgKOH/g、ガラス転移温度90℃
アクリル樹脂B:東亞合成(株)製「ARUFON UH2170」、スチレンアクリル系樹脂、不揮発分98%以上、水酸基価88mgKOH/g、ガラス転移温度60℃
アルキド樹脂:DIC(株)製「D-128-65BA」、イソシアネート硬化型アルキド樹脂、不揮発分65%、水酸基価90mgKOH/g、酸価5.0mgKOH/g
エポキシ樹脂:三菱ケミカル(株)製「jER1055」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量850、軟化点93℃、数平均分子量1600
シリコーン樹脂:信越化学工業(株)製「KR211」、メチルフェニル系シリコーンレジン
セルロース系樹脂:巴工業(株)製セルロースアセテートブチレート「CAB-553-0.4」、アセチル基2%、ブチリル基46%、水酸基4.8%、落球速度0.30秒、ガラス転移温度136℃、数平均分子量20000。
(Second Resin)
Acrylic resin A: "WXU-880" manufactured by DIC Corporation, isocyanate-curing acrylic resin, non-volatile content 50%, hydroxyl value 10 mgKOH/g, glass transition temperature 90°C
Acrylic resin B: "ARUFON UH2170" manufactured by Toagosei Co., Ltd., styrene acrylic resin, non-volatile content 98% or more, hydroxyl value 88 mg KOH/g, glass transition temperature 60°C
Alkyd resin: "D-128-65BA" manufactured by DIC Corporation, isocyanate-cured alkyd resin, non-volatile content 65%, hydroxyl value 90 mg KOH/g, acid value 5.0 mg KOH/g
Epoxy resin: "jER1055" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 850, softening point 93°C, number average molecular weight 1600
Silicone resin: "KR211" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., methylphenyl-based silicone resin. Cellulose-based resin: Cellulose acetate butyrate "CAB-553-0.4" manufactured by Tomoe Engineering Co., Ltd., acetyl group 2%, butyryl group 46%, hydroxyl group 4.8%, falling ball speed 0.30 seconds, glass transition temperature 136°C, number average molecular weight 20,000.

(溶剤)
3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノール:東京化成工業(株)製、沸点174℃
ブチルセロソルブ:富士フイルム和光純薬(株)製、沸点171℃
エチルカルビトール:富士フイルム和光純薬(株)製、沸点202℃。
(solvent)
3-Methoxy-3-methyl-1-butanol: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point 174°C
Butyl cellosolve: Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., boiling point 171°C
Ethyl carbitol: manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., boiling point 202°C.

(高分子分散剤)
カルボキシル基を有する高分子分散剤A:ビックケミー社製「ディスパービック190」、顔料親和性基を有する高分子量ブロック共重合物の溶液、溶媒:水、不揮発成分40%、酸価10mgKOH/g、アミン価0
カルボキシル基を有する高分子分散剤B:ビックケミー社製「ディスパービック2015」、顔料親和性基を有するアクリルコポリマーの溶液、溶媒:水、不揮発成分40%、酸価10mgKOH/g、アミン価0。
(Polymer Dispersant)
Polymer dispersant A having a carboxyl group: "Disperbyk 190" manufactured by BYK-Chemie, solution of a high molecular weight block copolymer having a pigment affinity group, solvent: water, non-volatile component 40%, acid value 10 mgKOH/g, amine value 0
Polymer dispersant B having a carboxyl group: "Disperbyk 2015" manufactured by BYK-Chemie, a solution of an acrylic copolymer having a pigment affinity group, solvent: water, non-volatile components 40%, acid value 10 mg KOH/g, amine value 0.

[光沢度]
アピアランスアナライザー(コニカミノルタジャパン(株)製「Rhopoint IQ-S」)を用い、20°光沢度を測定し、以下の基準に従いランク付け(A、B、C、D)した。なお、光沢度の値が400以上であると目視で金属光沢(鏡面)を確認することができるため、ランクA、B、Cを合格とした。
[Glossiness]
The 20° gloss was measured using an appearance analyzer ("Rhopoint IQ-S" manufactured by Konica Minolta Japan, Inc.) and ranked according to the following criteria (A, B, C, D). Note that if the gloss value is 400 or more, the metallic gloss (mirror surface) can be visually confirmed, and therefore ranks A, B, and C were deemed to be acceptable.

ランクA:光沢度が600以上(合格)
ランクB:光沢度が400以上600未満(合格)
ランクC:光沢度が300以上400未満(合格)
ランクD:光沢度が300未満(不合格)。
Rank A: Glossiness is 600 or more (passed)
Rank B: Glossiness is 400 or more and less than 600 (pass)
Rank C: Glossiness is 300 or more and less than 400 (pass)
Rank D: Glossiness is less than 300 (failure).

[光非透過性]
紫外可視近赤外分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」)、積分球ISR-3100を用い、380~780nmの波長域の可視光透過率を測定した。ブランク測定(大気)の積分値に対する透過率の積分値を、380~780nmの波長域における透過率を積分して求め、以下の基準に従い評価した。ブランク測定に対する透過率の積分値は、小さい方が膜の透過性が低く、優れている。
[Light non-transmittance]
The visible light transmittance in the wavelength range of 380 to 780 nm was measured using an ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer (Shimadzu Corporation, "UV-3100PC") and an integrating sphere ISR-3100. The integral value of the transmittance relative to the integral value of the blank measurement (air) was determined by integrating the transmittance in the wavelength range of 380 to 780 nm, and was evaluated according to the following criteria. The smaller the integral value of the transmittance relative to the blank measurement, the lower the transmittance of the film and the better it is.

○:透過率の積分値が1.0%以下(合格)
△:透過率の積分値が5.0%以下(合格)
×:透過率の積分値が5.0%より大きい(不合格)。
○: The integral value of the transmittance is 1.0% or less (passed)
△: The integral value of the transmittance is 5.0% or less (pass)
×: The integral value of the transmittance is greater than 5.0% (failure).

[密着性]
硬化膜に対し、セロテープ(登録商標)を貼り、勢いよく剥離し、以下の基準で評価した。
[Adhesion]
Cellotape (registered trademark) was applied to the cured film and then forcefully peeled off, and the film was evaluated according to the following criteria.

○:膜に剥離がない(合格)
△:膜の表面部にわずかな剥離があるが、基板は見えない程度(合格)
×:膜に剥離がある(不合格)。
○: No peeling of the film (passed)
△: There is slight peeling on the surface of the film, but the substrate is not visible (passed)
×: The film peeled off (failed).

[耐擦過性]
硬化膜に対し、摩擦摩耗試験機を用い、乾いた木綿で、荷重500gおよび10往復する摩擦試験を行った。摩擦試験後の硬化膜の20°光沢度を測定し、摩擦試験前後での光沢度の低下率を求め、以下の基準に従い耐擦過性を評価した。
[Abrasion resistance]
The cured film was subjected to a friction test using a friction and abrasion tester with dry cotton at a load of 500 g and 10 reciprocations. The 20° gloss of the cured film after the friction test was measured, and the reduction rate of gloss before and after the friction test was calculated, and the abrasion resistance was evaluated according to the following criteria.

〇:光沢度の低下率が20%未満(合格)
△:光沢度の低下率が20%以上50%未満(合格)
×:光沢度の低下率が50%以上(不合格)。
Good: Gloss reduction rate is less than 20% (passed)
△: The decrease in gloss level is 20% or more and less than 50% (pass)
×: The gloss reduction rate is 50% or more (failure).

[総合判定]
光沢度、光非透過性、密着性、耐擦過性の結果から、以下の基準に従い優劣判定を行い、A、B、C判定を合格とした。
[Overall Judgment]
From the results of glossiness, light impermeability, adhesion, and abrasion resistance, a rating of superiority or inferiority was made according to the following criteria, with ratings of A, B, and C being considered as passing.

A判定:光沢度がランクAで光非透過性、密着性、耐擦過性が全て〇の場合
B判定:光沢度がランクAで光非透過性、密着性、耐擦過性が全て合格(△を1つ含む)の場合、または、光沢度がランクBで光非透過性、密着性、耐擦過性が合格(○または△)の場合
C判定:光沢度がランクAで光非透過性、密着性、耐擦過性が全て合格(△を2つ以上含む)の場合、または、光沢度がランクCで光非透過性、密着性、耐擦過性が合格(○または△)の場合
D判定:光沢度がランクD、または光非透過性、密着性、耐擦過性のいずれかが不合格。
Grade A: When the gloss level is rank A and the light impermeability, adhesion and abrasion resistance are all good. Grade B: When the gloss level is rank A and the light impermeability, adhesion and abrasion resistance are all pass (including one △), or when the gloss level is rank B and the light impermeability, adhesion and abrasion resistance are pass (○ or △). Grade C: When the gloss level is rank A and the light impermeability, adhesion and abrasion resistance are all pass (including two or more △), or when the gloss level is rank C and the light impermeability, adhesion and abrasion resistance are pass (○ or △). Grade D: When the gloss level is rank D, or any of the light impermeability, adhesion and abrasion resistance is fail.

[膜の断面観察]
得られた銀光沢膜から試料を切り出し、汎用の包埋樹脂であるエポキシ樹脂で試料を包埋し、ミクロトームにて切削断面を露出させてSEM観察を行った。さらに、微細な構造観察を行うため、ミクロトームにて切削断面を露出した後、100nm以下程度の厚みで超薄切片を作製し、TEM観察を行なって、以下の方法により、分散相のサイズ(平均径および平均ピッチ)を測定した。
[Cross-section observation of film]
A sample was cut out from the obtained silver gloss film, embedded in epoxy resin, which is a general-purpose embedding resin, and the cut cross section was exposed with a microtome and observed with a SEM. Furthermore, in order to observe the fine structure, after exposing the cut cross section with a microtome, ultra-thin slices with a thickness of about 100 nm or less were prepared, and TEM observation was performed to measure the size (average diameter and average pitch) of the dispersed phase by the following method.

(表面層および界面層の平均厚み)
表面付近、界面付近のTEM拡大像において、銀ナノ粒子が配列している層の厚みを測定した。任意の3カ所について測定した層の厚みの平均値を平均厚みとした。
(Average thickness of surface layer and interface layer)
The thickness of the layer in which the silver nanoparticles were arranged was measured in the enlarged TEM images near the surface and near the interface. The average value of the layer thicknesses measured at three arbitrary points was taken as the average thickness.

(分散相の平均径)
銀ナノ粒子が凝集している分散相(島)について長径と短径を測定し、その平均値を分散相(島)の径とした。そして、任意の10個の分散相(島)について算出した径の平均値を分散相の平均径とした。
(Average diameter of dispersed phase)
The major and minor axes of the dispersed phase (islands) in which silver nanoparticles were aggregated were measured, and the average value was taken as the diameter of the dispersed phase (islands). The average value of the diameters calculated for any 10 dispersed phases (islands) was taken as the average diameter of the dispersed phase.

(分散相の平均ピッチ)
分散相の長径と短径との交点を分散相の中心とし、隣接する分散相の中心間の距離を測定した。任意の10カ所について測定した中心間の距離の平均値を、分散相の平均ピッチとした。
(Average pitch of dispersed phase)
The intersection of the major axis and minor axis of the dispersed phase was defined as the center of the dispersed phase, and the distance between the centers of adjacent dispersed phases was measured. The average value of the center-to-center distances measured at any 10 points was defined as the average pitch of the dispersed phase.

(第1相と第2相との比率)
断面のTEM像に対し、画像処理ソフト「ImageJ」(https://imagej.Nih.gov/ij/より入手可能)を用いて、第1相と第2相とを2値化した。2値化した前記画像処理像により、第1相および第2相の面積をそれぞれ求め、第1相と第2相との比率を算出した。なお、本実施例では、前記比率を算出するに当たり、表面層および界面層を除外せずに算出したため、第1相の比率には表面層および界面層の面積も含まれている。
(Ratio of first and second phases)
The first and second phases were binarized using the image processing software "ImageJ" (available from https://imagej.Nih.gov/ij/) for the cross-sectional TEM image. The areas of the first and second phases were determined from the binarized image processing image, and the ratio of the first and second phases was calculated. In this example, the ratio was calculated without excluding the surface layer and the interface layer, so the ratio of the first phase also includes the areas of the surface layer and the interface layer.

実施例1~31および比較例1~7
(銀ナノ粒子分散液Aの調製方法)
硝酸銀66.8g、カルボキシル基を有する高分子分散剤A 7.2gを、イオン交換水100gに投入し、激しく攪拌し、懸濁液を得た。この懸濁液に対して、ジメチルアミノエタノール(和光純薬工業(株)製)100gを水温が50℃を超えないように徐々に加えた後、水温50℃のウォーターバス中で4時間加熱撹拌した。
Examples 1 to 31 and Comparative Examples 1 to 7
(Method for preparing silver nanoparticle dispersion A)
66.8 g of silver nitrate and 7.2 g of polymer dispersant A having a carboxyl group were added to 100 g of ion-exchanged water and stirred vigorously to obtain a suspension. 100 g of dimethylaminoethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was gradually added to this suspension so that the water temperature did not exceed 50° C., and the mixture was heated and stirred in a water bath at 50° C. for 4 hours.

銀ナノ粒子分散液に過剰量のメタノールを入れて攪拌し、その後、遠心分離により銀ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。再度、メタノールを加えて攪拌し、その後、遠心分離により銀ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。得られた沈殿を含んだメタノール液にジエチレングリコールモノブチルエーテルを加え、エバポレータで混入したメタノールを除去することで銀含有量が70質量%の銀ナノ粒子(複合体ナノ粒子)分散液Aを得た。この分散液について、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製)で銀ナノ粒子の粒径を確認したところ、一次粒子の個数平均粒子径は約20nmであった。 An excess amount of methanol was added to the silver nanoparticle dispersion and stirred, then the silver nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant was removed. Methanol was added again and stirred, then the silver nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant was removed. Diethylene glycol monobutyl ether was added to the resulting methanol solution containing the precipitate, and the mixed methanol was removed using an evaporator to obtain a silver nanoparticle (composite nanoparticle) dispersion A with a silver content of 70 mass%. When the particle size of the silver nanoparticles in this dispersion was confirmed using a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.), the number average particle size of the primary particles was approximately 20 nm.

(銀ナノ粒子分散液Bの調製方法)
カルボキシル基を有する高分子分散剤Aの代わりにカルボキシル基を有する高分子分散剤Bを用いたこと以外は、銀ナノ粒子分散液Aと同様に銀ナノ粒子(複合体ナノ粒子)分散液Bを調製した。得られた銀ナノ粒子分散液Bについて、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製)で銀ナノ粒子の粒径を確認したところ、一次粒子の個数平均粒子径は約30nmであった。
(Method for preparing silver nanoparticle dispersion B)
A silver nanoparticle (composite nanoparticle) dispersion B was prepared in the same manner as silver nanoparticle dispersion A, except that polymer dispersant B having a carboxyl group was used instead of polymer dispersant A having a carboxyl group. When the particle size of the silver nanoparticles in the obtained silver nanoparticle dispersion B was confirmed with a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.), the number average particle size of the primary particles was about 30 nm.

(銀/銅合金ナノ粒子分散液の調製方法)
硝酸銀65.58g、カルボキシル基を有する高分子分散剤A 7.2gを、イオン交換水100gに投入し、激しく攪拌し、懸濁液Aを得た。
(Method for preparing silver/copper alloy nanoparticle dispersion)
65.58 g of silver nitrate and 7.2 g of polymeric dispersant A having a carboxyl group were added to 100 g of ion-exchanged water and vigorously stirred to obtain suspension A.

硝酸銅(II)3水和物1.40g、1mol/Lの硝酸水溶液2.93gを採り、50℃の湯浴中で攪拌し、硝酸銅(II)3水和物を溶解し、水溶液Bを得た。 1.40 g of copper (II) nitrate trihydrate and 2.93 g of 1 mol/L aqueous nitric acid solution were taken and stirred in a 50°C water bath to dissolve the copper (II) nitrate trihydrate, obtaining aqueous solution B.

前記懸濁液Aと前記水溶液Bとを攪拌しながら混合し、カルボキシル基を有する高分子分散剤、硝酸銀、硝酸銅の混合液を得た。 The suspension A and the aqueous solution B were mixed while stirring to obtain a mixture of a polymer dispersant having a carboxyl group, silver nitrate, and copper nitrate.

この混合液に対して、ジメチルアミノエタノール(富士フイルム和光純薬(株)製)100gを水温が50℃を超えないように徐々に加えた後、水温50℃のウォーターバス中で4時間加熱攪拌した。 100 g of dimethylaminoethanol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was gradually added to this mixture so that the water temperature did not exceed 50°C, and then the mixture was heated and stirred in a water bath at 50°C for 4 hours.

得られた銀/銅合金ナノ粒子含有分散体に過剰量のメタノールを入れて攪拌し、その後、遠心分離により銀/銅合金ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。再度、メタノールを加えて攪拌し、その後、遠心分離により銀/銅合金ナノ粒子を沈降させ、上澄み液を除去した。得られた沈殿を含んだメタノール液にジエチレングリコールモノブチルエーテルを加え、エバポレータで混入したメタノールを除去することで、銀100質量部に対する銅の割合が1質量部であり、銀/銅合金含有量が70質量%の銀/銅合金ナノ粒子(複合体ナノ粒子)分散液を得た。この分散液について、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製)で銀/銅合金ナノ粒子の粒径を確認したところ、一次粒子の個数平均粒子径は約20nmであった。 An excess amount of methanol was added to the obtained dispersion containing silver/copper alloy nanoparticles and stirred, and then the silver/copper alloy nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant was removed. Methanol was added again and stirred, and then the silver/copper alloy nanoparticles were precipitated by centrifugation, and the supernatant was removed. Diethylene glycol monobutyl ether was added to the methanol solution containing the obtained precipitate, and the mixed methanol was removed using an evaporator to obtain a silver/copper alloy nanoparticle (composite nanoparticle) dispersion with a ratio of copper to 100 parts by mass of silver and a silver/copper alloy content of 70% by mass. When the particle size of the silver/copper alloy nanoparticles in this dispersion was confirmed using a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.), the number average particle size of the primary particles was about 20 nm.

(メタリックインク組成物の調製方法)
表1~5に示す割合で、得られた金属ナノ粒子分散液、樹脂成分、溶剤を、攪拌脱泡装置(クラボウ(株)製「マゼルスター」)を用いて攪拌混合し、メタリックインク組成物を調製した。なお、表の樹脂の量は、固形分換算の含有量である。メタリックインク組成物をガラス基材(基板)に20μmの厚みにアプリケーターで塗布した。その後、50℃のホットプレートで10分間加熱後、80℃のホットプレートで120分間加熱した。得られた金属光沢膜の厚み(前記塗膜の乾燥厚み)は約2μmであった。
(Method of preparing metallic ink composition)
The obtained metal nanoparticle dispersion, resin component, and solvent were stirred and mixed in the proportions shown in Tables 1 to 5 using a stirring and degassing device ("Mazerustar" manufactured by Kurabo Industries, Ltd.) to prepare metallic ink compositions. The amount of resin in the tables is the content converted into solid content. The metallic ink composition was applied to a glass substrate (substrate) with an applicator to a thickness of 20 μm. Thereafter, the coating was heated on a hot plate at 50° C. for 10 minutes, and then heated on a hot plate at 80° C. for 120 minutes. The thickness of the obtained metallic gloss film (dry thickness of the coating film) was approximately 2 μm.

得られた金属光沢膜の評価結果を表1~5に示す。 The evaluation results of the obtained metallic gloss film are shown in Tables 1 to 5.

Figure 0007655880000002
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Figure 0007655880000003
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Figure 0007655880000004
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樹脂成分の量および種類の検証結果を表1に示した。 The results of verification of the amount and type of resin components are shown in Table 1.

樹脂成分としてポリビニルブチラール樹脂Aのみを用い、複合体ナノ粒子として銀ナノ粒子を用い、銀に対する樹脂量を10質量%、30質量%、50質量%と変量した実施例1~3では、光沢度、光非透過性、密着性および耐擦過性に優れた金属光沢膜(総合判定A)が得られた。さらに増量して、銀に対する樹脂量を100質量%とした実施例4では、光沢度や光非透過性が若干低下したものの、実用レベルであった(総合判定C)。 In Examples 1 to 3, in which only polyvinyl butyral resin A was used as the resin component and silver nanoparticles were used as the composite nanoparticles, and the amount of resin relative to the silver was varied to 10 mass%, 30 mass%, and 50 mass%, a metallic gloss film with excellent glossiness, light impermeability, adhesion, and abrasion resistance (overall rating A) was obtained. In Example 4, in which the amount of resin was further increased to 100 mass% relative to the silver, glossiness and light impermeability were slightly reduced, but were still at a practical level (overall rating C).

実施例2に対して、樹脂成分の種類をポリビニルブチラール樹脂Bに変更した実施例5、ポリビニルブチラール樹脂Cに変更した実施例6においても、実施例2と同等の金属光沢膜(総合判定A)が得られた。 In Example 5, in which the type of resin component was changed to polyvinyl butyral resin B compared to Example 2, and in Example 6, in which the type was changed to polyvinyl butyral resin C, a metallic gloss film equivalent to that of Example 2 (overall rating A) was obtained.

実施例2に対して、樹脂成分の種類をポリビニルブチラール樹脂以外の樹脂に変更した比較例1~5において、アクリル樹脂Aを用いた比較例1、シリコーン樹脂を用いた比較例5では、光沢度は不合格であった(総合判定D)。また、アクリル樹脂Bを用いた比較例2、アルキド樹脂を用いた比較例3、エポキシ樹脂を用いた比較例4では、光沢度は合格水準であったものの、光非透過性が不合格であった(総合判定D)。 In Comparative Examples 1 to 5, in which the type of resin component was changed to a resin other than polyvinyl butyral resin compared to Example 2, Comparative Example 1, which used acrylic resin A, and Comparative Example 5, which used silicone resin, failed the gloss level (overall judgement: D). In Comparative Example 2, which used acrylic resin B, Comparative Example 3, which used alkyd resin, and Comparative Example 4, which used epoxy resin, the gloss level was at an acceptable level, but the light impermeability was unacceptable (overall judgement: D).

なお、樹脂成分を全く含まない比較例6では、光沢度、光非透過性は合格水準であったものの、密着性、耐擦過性が不合格であった(総合判定D)。 In addition, in Comparative Example 6, which did not contain any resin components, the gloss and light impermeability were at acceptable levels, but the adhesion and abrasion resistance were unacceptable (overall rating: D).

樹脂成分として、ポリビニルブチラール樹脂と第2樹脂(アクリル樹脂A、アクリル樹脂B、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、セルロース系樹脂)とを組み合わせた場合の検証結果を表2に示した。 The verification results for the combination of polyvinyl butyral resin and a second resin (acrylic resin A, acrylic resin B, alkyd resin, epoxy resin, cellulose-based resin) as the resin component are shown in Table 2.

銀に対する樹脂量を30質量%、樹脂中のポリビニルブチラール樹脂と第2樹脂との質量比率を、ポリビニルブチラール樹脂:第2樹脂=50:50で一定にして、ポリビニルブチラール樹脂の種類を変えた場合を実施例7~9とした。その結果、実施例7~9では、光沢度、光非透過性、密着性および耐擦過性に優れた金属光沢膜(総合判定A)が得られた。 Examples 7 to 9 were prepared by keeping the amount of resin relative to silver at 30% by mass, the mass ratio of polyvinyl butyral resin to second resin in the resin constant at polyvinyl butyral resin:second resin = 50:50, and varying the type of polyvinyl butyral resin. As a result, in Examples 7 to 9, metallic gloss films with excellent gloss, light impermeability, adhesion, and abrasion resistance (overall rating A) were obtained.

実施例7に対して、第2樹脂を変更した実施例10~13では、光沢度、光非透過性、密着性および耐擦過性に優れた金属光沢膜(総合判定AまたはB)が得られた。 Compared to Example 7, Examples 10 to 13, which used a different second resin, produced a metallic gloss film (overall rating of A or B) with excellent gloss, light impermeability, adhesion, and abrasion resistance.

ポリビニルブチラール樹脂を含まない2種類の樹脂の組み合わせとして、アクリル樹脂Aとエポキシ樹脂とを組み合わせた比較例7では、光沢度、密着性および耐擦過性は合格水準であったが、光非透過性は不合格であった(総合判定D)。 In Comparative Example 7, which combined acrylic resin A with epoxy resin as a combination of two types of resin that did not contain polyvinyl butyral resin, the gloss, adhesion, and abrasion resistance were at acceptable levels, but the light impermeability was unacceptable (overall rating: D).

樹脂成分としてポリビニルブチラール樹脂Aのみを用いた実施例2に対して、銀ナノ粒子に対する樹脂量を等量(30質量%)にしたまま、ポリビニルブチラール樹脂Aと第2樹脂(アクリル樹脂A)との質量比率を変量した場合の検証結果を表3に示した。 Compared to Example 2, which used only polyvinyl butyral resin A as the resin component, Table 3 shows the verification results when the mass ratio of polyvinyl butyral resin A to the second resin (acrylic resin A) was changed while keeping the amount of resin to the silver nanoparticles the same (30 mass%).

アクリル樹脂Aを用いない実施例2(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=100:0)、第2樹脂を少量含む実施例14(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=90:10)、両者を等量とした実施例7(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=50:50)、実施例7よりも第2樹脂の比率を高めた実施例15(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=20:80)、および実施例16(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=10:90)の順に、合格水準(総合判定AまたはB)ではあるが光沢度が低下する傾向が見られた。さらに、第2樹脂の比率を高めた実施例17(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=5:95)では、光沢度や光非透過性がより低下したが、実用レベルであった(総合判定C)。ポリビニルブチラール樹脂Aを用いずアクリル樹脂Aのみとした、前述の比較例1(ポリビニルブチラール樹脂A:アクリル樹脂A=0:100)では光沢度および光非透過性が不合格となった(総合判定D)。 In the following order, the gloss level tended to decrease, although it was at the pass level (overall judgement A or B), in Example 2 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 100:0) which did not use acrylic resin A, Example 14 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 90:10) which contained a small amount of the second resin, Example 7 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 50:50) which contained equal amounts of both, Example 15 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 20:80) which had a higher ratio of the second resin than Example 7, and Example 16 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 10:90). Furthermore, in Example 17 (polyvinyl butyral resin A: acrylic resin A = 5:95) which had a higher ratio of the second resin, the gloss level and light impermeability were further decreased, but were still at a practical level (overall judgement C). In the aforementioned Comparative Example 1 (Polyvinyl butyral resin A: Acrylic resin A = 0:100), in which polyvinyl butyral resin A was not used and only acrylic resin A was used, the gloss and light impermeability were unsatisfactory (overall rating: D).

樹脂成分としてポリビニルブチラール樹脂Aとアクリル樹脂Aとを用い、その質量比率を等量とした実施例7に対して、銀ナノ粒子に対する樹脂量を変量した検証結果を表4に示した。なお「銀ナノ粒子に対する樹脂量(質量%)」は、銀ナノ粒子100質量部に対する樹脂成分の割合(質量部)と同義である。 Table 4 shows the results of the verification in which the amount of resin relative to the silver nanoparticles was varied in comparison with Example 7, in which polyvinyl butyral resin A and acrylic resin A were used as the resin components and their mass ratio was set to be equal. Note that "amount of resin relative to silver nanoparticles (mass %)" is synonymous with the ratio (parts by mass) of the resin component relative to 100 parts by mass of silver nanoparticles.

いずれの実施例も合格水準(総合判定A~C)であったが、銀ナノ粒子に対する樹脂量が多くなるにつれて、光沢度、光非透過性が低下する傾向が見られる反面、密着性、耐擦過性は向上する傾向が見られた。銀ナノ粒子に対する樹脂量が10~50質量%である実施例20(10質量%)、実施例7(30質量%)、実施例21(50質量%)が総合判定Aであったのに対して、7質量%である実施例19では密着性が低下し、5質量%である実施例18では密着性および耐擦過性が低下した。一方、100質量%である実施例22では、光沢度、光非透過性が低下し、120質量%である実施例23では、光沢度がさらに低下した。 All examples were passable (overall rating A to C), but as the amount of resin relative to silver nanoparticles increased, there was a tendency for gloss and light impermeability to decrease, while adhesion and abrasion resistance tended to improve. Example 20 (10% by mass), Example 7 (30% by mass), and Example 21 (50% by mass), in which the amount of resin relative to silver nanoparticles was 10 to 50% by mass, were given an overall rating of A, whereas Example 19, in which the amount of resin was 7% by mass, showed decreased adhesion, and Example 18, in which the amount of resin was 5% by mass, showed decreased adhesion and abrasion resistance. On the other hand, Example 22, in which the amount of resin was 100% by mass, showed decreased gloss and light impermeability, and Example 23, in which the amount of resin was 120% by mass, showed an even further decrease in gloss.

以上の結果から、銀ナノ粒子に対する樹脂量は、5~120質量%の範囲で実用的に使用でき、7~100質量%の範囲が好ましい範囲であり、10~50質量%の範囲が、光沢度、光非透過性、密着性および耐擦過性のバランスに優れる金属光沢膜が得られるより好適な範囲であると云える。 From the above results, it can be said that the amount of resin relative to silver nanoparticles can be practically used in the range of 5 to 120% by mass, with the range of 7 to 100% by mass being the preferred range, and that the range of 10 to 50% by mass is a more suitable range for obtaining a metallic gloss film with an excellent balance of gloss, light impermeability, adhesion, and abrasion resistance.

複合体ナノ粒子である銀ナノ粒子の保護コロイドを変更した場合、複合体ナノ粒子として銀/銅合金ナノ粒子を用いた場合、溶剤を変更した場合の検証結果を表5に示した。 Table 5 shows the results of the verification when the protective colloid of the silver nanoparticles (composite nanoparticles) was changed, when silver/copper alloy nanoparticles were used as the composite nanoparticles, and when the solvent was changed.

まず、樹脂成分としてポリビニルブチラール樹脂Aのみを用いた実施例2において上記の変更を行った。実施例2の組成における銀ナノ粒子分散液1を、保護コロイドの異なる銀ナノ粒子分散液2に変更した実施例24、銀/銅合金ナノ粒子分散液に変更した実施例25でも、実施例2と同等の金属光沢膜(総合判定A)が得られた。また、実施例2の組成における溶剤をブチルセロソルブに変更した実施例26、エチルカルビトールに変更した実施例27でも、実施例2と同等の金属光沢膜(総合判定A)が得られた。 First, the above changes were made to Example 2, which used only polyvinyl butyral resin A as the resin component. In Example 24, where silver nanoparticle dispersion 1 in the composition of Example 2 was changed to silver nanoparticle dispersion 2, which contains a different protective colloid, and in Example 25, where the silver nanoparticle dispersion was changed to a silver/copper alloy nanoparticle dispersion, a metallic gloss film equivalent to that of Example 2 (overall rating A) was obtained. In Example 26, where the solvent in the composition of Example 2 was changed to butyl cellosolve, and in Example 27, where the solvent was changed to ethyl carbitol, a metallic gloss film equivalent to that of Example 2 (overall rating A) was obtained.

次に、樹脂成分としてポリビニルブチラール樹脂Aとアクリル樹脂Aとを用いた実施例7(その質量比率は等量)において上記の変更を行った。実施例7の組成における銀ナノ粒子分散液1を、保護コロイドの異なる銀ナノ粒子分散液2に変更した実施例28、銀/銅合金ナノ粒子分散液に変更した実施例29でも、実施例7と同等の金属光沢膜(総合判定A)が得られた。また、実施例7の組成における溶剤をブチルセロソルブに変更した実施例30、エチルカルビトールに変更した実施例31でも、実施例7と同等の金属光沢膜(総合判定A)が得られた。 Next, the above changes were made to Example 7, which used polyvinyl butyral resin A and acrylic resin A as the resin components (the mass ratios were equal). In Example 28, in which silver nanoparticle dispersion 1 in the composition of Example 7 was changed to silver nanoparticle dispersion 2, which contains a different protective colloid, and in Example 29, in which it was changed to a silver/copper alloy nanoparticle dispersion, a metallic gloss film equivalent to that of Example 7 (overall rating A) was obtained. In Example 30, in which the solvent in the composition of Example 7 was changed to butyl cellosolve, and in Example 31, in which it was changed to ethyl carbitol, a metallic gloss film equivalent to that of Example 7 (overall rating A) was obtained.

実施例7得られた金属光沢膜の断面写真を図1および2に示す。図2は、図1のTEM像の拡大像である。なお、図1および2では、TEM像の上側が基材との界面層側であり、下側が表面層側である。 Cross-sectional photographs of the metallic gloss film obtained in Example 7 are shown in Figures 1 and 2. Figure 2 is an enlarged TEM image of Figure 1. Note that in Figures 1 and 2, the upper side of the TEM image is the interface layer side with the substrate, and the lower side is the surface layer side.

光沢度が高い実施例7の銀光沢膜では、膜内部(中間層)では、銀ナノ粒子が凝集した領域(分散相)と、銀ナノ粒子の凝集が少ない領域(連続相)とに相分離していた。すなわち、銀ナノ粒子は分散相に偏在した構造を有していた。さらに、図2の拡大像から明らかなように、表面および基材との界面では、銀ナノ粒子が整列して薄肉の連続層(薄肉層)を形成していた。 In the silver gloss film of Example 7, which had a high gloss, the inside of the film (middle layer) was phase-separated into an area where the silver nanoparticles were aggregated (dispersed phase) and an area where the silver nanoparticles were less aggregated (continuous phase). In other words, the silver nanoparticles had a structure in which they were unevenly distributed in the dispersed phase. Furthermore, as is clear from the enlarged image in Figure 2, the silver nanoparticles were aligned on the surface and at the interface with the substrate to form a thin continuous layer (thin layer).

実施例7における表面層および界面層の平均厚みを測定したところ、表面層の平均厚みは58nm、界面層の平均厚みは37nmであった。また、中間層の平均厚みを測定したところ、300nmであった。中間層の平均厚みは、表面層に対して5.2倍であった。 When the average thicknesses of the surface layer and interface layer in Example 7 were measured, the average thickness of the surface layer was 58 nm, and the average thickness of the interface layer was 37 nm. In addition, the average thickness of the intermediate layer was measured and found to be 300 nm. The average thickness of the intermediate layer was 5.2 times that of the surface layer.

さらに、中間層における分散相(銀ナノ粒子が凝集した領域)の平均径および平均ピッチを測定したところ、平均径は241nmであり、平均ピッチは313nmであった。前記分散相(第1相)と第2相との面積比を測定したところ、第1相/第2相=51/49であった。 Furthermore, the average diameter and average pitch of the dispersed phase (region where silver nanoparticles are aggregated) in the intermediate layer were measured, and the average diameter was 241 nm and the average pitch was 313 nm. The area ratio of the dispersed phase (first phase) to the second phase was measured, and the ratio was first phase/second phase = 51/49.

比較例1で得られた金属光沢膜の断面写真を図3~6に示す。全体像を示す図3ならびに膜内部の拡大像である図4~6から明らかなように、光沢度が低い比較例1の銀光沢膜では、膜全体において、銀ナノ粒子が均一に分散していた。 Cross-sectional photographs of the metallic gloss film obtained in Comparative Example 1 are shown in Figures 3 to 6. As is clear from Figure 3, which shows the overall image, and Figures 4 to 6, which show enlarged images of the inside of the film, in the silver gloss film of Comparative Example 1, which has low gloss, silver nanoparticles were uniformly dispersed throughout the film.

本発明のインク組成物は、各種の被加飾体(成形体)の装飾性を向上させるために利用でき、例えば、自動車の内装や外装部品、エンブレム、携帯電話、ノートパソコン、ゴルフクラブのシャフト、軟包装や化粧品の容器などの加飾、塗装用途、インクジェット印刷方式でのインキ用途などに利用できる。 The ink composition of the present invention can be used to improve the decorativeness of various objects (molded objects), for example, in the decoration of interior and exterior parts of automobiles, emblems, mobile phones, notebook computers, golf club shafts, soft packaging and cosmetic containers, as well as for painting and as an ink for inkjet printing.

Claims (10)

被加飾体の装飾性を向上させるためのインク組成物であって、
銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)、ポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分(B)および溶剤(C)を含み、かつ
前記保護コロイドが、カルボキシル基またはその塩を有する高分子分散剤を含むインク組成物。
An ink composition for improving the decorativeness of an object to be decorated, comprising:
A composite nanoparticle (A) of a metal including silver and a protective colloid, a resin component (B) including a polyvinyl acetal resin, and a solvent (C) ,
The ink composition , wherein the protective colloid contains a polymer dispersant having a carboxyl group or a salt thereof .
前記ポリビニルアセタール系樹脂がポリビニルブチラール系樹脂である請求項1記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 1, wherein the polyvinyl acetal resin is a polyvinyl butyral resin. 前記樹脂成分(B)が、第2樹脂をさらに含む請求項1または2記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 1 or 2, wherein the resin component (B) further contains a second resin. 前記第2樹脂が、(メタ)アクリル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂およびセルロース系樹脂からなる群より選択された少なくとも1種である請求項3記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 3, wherein the second resin is at least one selected from the group consisting of (meth)acrylic resins, alkyd resins, epoxy resins, and cellulose resins. 前記ポリビニルアセタール系樹脂と前記第2樹脂との質量比が、前者/後者=99/1~5/95である請求項3または4記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 3 or 4, wherein the mass ratio of the polyvinyl acetal resin to the second resin is the former/the latter = 99/1 to 5/95. 前記溶剤(C)が、アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびジアルキレングリコールモノアルキルエーテルからなる群より選択された少なくとも1種を含む請求項1~5のいずれか一項に記載のインク組成物。 The ink composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the solvent (C) contains at least one selected from the group consisting of alkylene glycol monoalkyl ethers and dialkylene glycol monoalkyl ethers. 前記樹脂成分(B)の割合が、前記複合体ナノ粒子(A)の銀を含む金属100質量部に対して3~150質量部である請求項1~6のいずれか一項に記載のインク組成物。 The ink composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the ratio of the resin component (B) is 3 to 150 parts by mass per 100 parts by mass of the metal containing silver in the composite nanoparticles (A). 前記複合体ナノ粒子(A)が、銀を含む金属ナノ粒子の表面に保護コロイドが付着または配位した粒子であり、かつ前記金属ナノ粒子の平均粒径が1~100nmである請求項1~7のいずれか一項に記載のインク組成物。 The ink composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the composite nanoparticles (A) are particles in which a protective colloid is attached to or coordinated to the surface of silver-containing metal nanoparticles, and the metal nanoparticles have an average particle size of 1 to 100 nm. 請求項1~8のいずれか一項に記載のインク組成物を基材の上に塗布する塗布工程と、前記インク組成物で形成された塗膜を乾燥させて金属光沢膜を得る乾燥工程とを含む金属光沢膜の製造方法。 A method for producing a metallic gloss film, comprising a coating step of coating a substrate with the ink composition according to any one of claims 1 to 8, and a drying step of drying the coating film formed with the ink composition to obtain a metallic gloss film. 被加飾体の装飾性を向上させるための金属光沢膜であって、
銀を含む金属と保護コロイドとの複合体ナノ粒子(A)と、ポリビニルアセタール系樹脂を含む樹脂成分(B)とを含み、かつ
前記保護コロイドが、カルボキシル基またはその塩を有する高分子分散剤を含む金属光沢膜。
A metallic gloss film for improving the decorativeness of a decorated object,
Comprising: (A) composite nanoparticles of a metal including silver and a protective colloid; and (B) a resin component including a polyvinyl acetal resin;
The metallic luster film , wherein the protective colloid contains a polymer dispersant having a carboxyl group or a salt thereof .
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