Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7657290B2 - Spherical inorganic powder and liquid sealing material - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7657290B2 - Spherical inorganic powder and liquid sealing material - Google Patents

Spherical inorganic powder and liquid sealing material Download PDF

Info

Publication number
JP7657290B2
JP7657290B2 JP2023511121A JP2023511121A JP7657290B2 JP 7657290 B2 JP7657290 B2 JP 7657290B2 JP 2023511121 A JP2023511121 A JP 2023511121A JP 2023511121 A JP2023511121 A JP 2023511121A JP 7657290 B2 JP7657290 B2 JP 7657290B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
peak
particle size
inorganic powder
maximum value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023511121A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2022210260A1 (en
Inventor
孝明 南川
昭彦 山本
貴史 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denka Co Ltd
Original Assignee
Denka Co Ltd
Denki Kagaku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denka Co Ltd, Denki Kagaku Kogyo KK filed Critical Denka Co Ltd
Publication of JPWO2022210260A1 publication Critical patent/JPWO2022210260A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7657290B2 publication Critical patent/JP7657290B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/10Materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/40Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/40Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
    • H10W74/47Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials comprising organic materials, e.g. plastics or resins
    • H10W74/473Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials comprising organic materials, e.g. plastics or resins containing a filler
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/51Particles with a specific particle size distribution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/51Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/53Particles with a specific particle size distribution bimodal size distribution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2206Oxides; Hydroxides of metals of calcium, strontium or barium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2217Oxides; Hydroxides of metals of magnesium
    • C08K2003/222Magnesia, i.e. magnesium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241Titanium dioxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2265Oxides; Hydroxides of metals of iron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/003Additives being defined by their diameter
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2200/00Chemical nature of materials in mouldable or extrudable form for sealing or packing joints or covers
    • C09K2200/02Inorganic compounds
    • C09K2200/0243Silica-rich compounds, e.g. silicates, cement, glass
    • C09K2200/0247Silica
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W42/00Arrangements for protection of devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W42/00Arrangements for protection of devices
    • H10W42/121Arrangements for protection of devices protecting against mechanical damage
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/01Manufacture or treatment
    • H10W74/016Manufacture or treatment using moulds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

本発明は、球状無機質粉末及び液状封止材に関する。 The present invention relates to a spherical inorganic powder and a liquid sealing material.

近年、電子機器の小型軽量化、高性能化の動向に対応して、半導体パッケージの小型化、薄型化、高密度化が益々加速している。またその実装方法も配線基板などへの高密度実装に好適な表面実装が主流になりつつある。このように半導体パッケージおよびその実装方法が進展する中、半導体封止材料にも高性能化、特に半田耐熱性、耐湿性、低熱膨張性、機械的特性、電気絶縁性などの機能向上が要求されている。これらの要求を満たすため樹脂に金属酸化物等の無機質粉末、特に非晶質シリカ粉末を充填した樹脂組成物が用いられている。半導体封止材料に充填される無機質粉末は、半田耐熱性、耐湿性、低熱膨張性、機械的強度向上の観点から、樹脂に高充填させることが望ましい。In recent years, in response to the trend toward smaller, lighter, and more powerful electronic devices, the miniaturization, thinning, and high density of semiconductor packages are accelerating. In addition, surface mounting, which is suitable for high-density mounting on wiring boards, is becoming the mainstream mounting method. As semiconductor packages and mounting methods develop in this way, semiconductor encapsulation materials are also required to have higher performance, especially improved functions such as solder heat resistance, moisture resistance, low thermal expansion, mechanical properties, and electrical insulation. In order to meet these requirements, resin compositions are used in which inorganic powders such as metal oxides, especially amorphous silica powder, are filled into the resin. It is desirable to fill the inorganic powder filled into the semiconductor encapsulation material with a high amount of the resin from the viewpoint of improving solder heat resistance, moisture resistance, low thermal expansion, and mechanical strength.

しかしながら、無機質粉末を高充填した半導体封止材料は、充填率の上昇に従って流動性が低下し、チップと基板との間隙に浸透しにくくなり生産性が非常に悪くなるという問題点がある。流動性の低下を抑制するため、粒径が数十μm程度の大粒径の粉末や粒径が数μm程度の中粒径の粉末に、粒径が1μm未満の微粉又は超微粉を少量添加する方法が知られている。特許文献1には、最大粒径が6μm以下であり、少なくとも1~3μmの粒度域に極大径を示す頻度粒度分布を有し、モード径とメジアン径との比及び頻度粒度分布の変動係数がそれぞれ所定の範囲にある球状無機質粉末が記載されている。However, semiconductor encapsulation materials highly filled with inorganic powder have a problem in that the fluidity decreases as the filling rate increases, making it difficult for the material to penetrate into the gap between the chip and the substrate, resulting in extremely poor productivity. To suppress the decrease in fluidity, a method is known in which a small amount of fine or ultrafine powder with a particle size of less than 1 μm is added to a large powder with a particle size of about several tens of μm or a medium powder with a particle size of about several μm. Patent Document 1 describes a spherical inorganic powder with a maximum particle size of 6 μm or less, a frequency particle size distribution with a maximum diameter at least in the particle size range of 1 to 3 μm, and the ratio of the mode diameter to the median diameter and the coefficient of variation of the frequency particle size distribution each falling within a specified range.

特開2003-221224号公報JP 2003-221224 A

微粉や超微粉の粒子は、粒径が非常に小さいため半導体封止材料を調整する際に凝集しやすい。凝集粒子が増大すると分散不良を引き起こすことがある。そのような場合は、半導体封止材料の歩留まりが悪くなったり最終製品において半導体不良又はショートなどの原因となったりする。 Because fine and ultrafine particles have a very small particle size, they tend to agglomerate when preparing semiconductor encapsulation materials. If the agglomerated particles increase, it can cause poor dispersion. In such cases, the yield of the semiconductor encapsulation material can decrease and it can cause semiconductor defects or short circuits in the final product.

本発明は、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができる無機質粉末を提供することを課題とする。 The objective of the present invention is to provide an inorganic powder that can prevent the increase of agglomerated particles in a resin composition.

本発明者は、頻度粒度分布図におけるピークの数や高さをコントロールすることで流動性の低下を防ぎつつ凝集粒子の増大を防ぐことができるのではないかと考え、鋭意研究を進めた。そして、驚くべきことに、頻度粒度分布図において所定の粒度域に少なくとも二つのピークを有し、かつ当該二つのピークの極大値における頻度の比の値が所定の範囲にある無機質粉末が、樹脂組成物の優れた流動性を維持しつつ樹脂組成物中での凝集性を低減させることができることを見出した。このように設計された無機質粉末は、従来にない新規な粉末である。
本発明は以下の実施形態を有する。
[1]頻度粒度分布において、0.1μm以上0.6μm以下の粒度域に極大値を有する第1ピークと、1.5μm以上5.0μm以下の粒度域に極大値を有する第2ピークとを有し、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値が1.5以上10.0未満である球状無機質粉末。
[2]頻度粒度分布において、0.4μm以上1.0μm以下の粒度域に極小値を有する、[1]に記載の球状無機質粉末。
[3]前記第1ピークの極大値における頻度に対する前記極小値における頻度の比が0.9以下である、[2]に記載の球状無機質粉末。
[4]前記第1ピークの累積頻度に対する前記第2ピークの累積頻度の比が1.2以上である[1]から[3]のいずれかに記載の球状無機質粉末。
[5]頻度粒度分布において、粒径が5.0μm以上である粒子の累積頻度が1.2%以下である、[1]から[4]のいずれかに記載の球状無機質粉末。
[6]前記球状無機質粉末がシリカであり、酸化鉄、酸化ナトリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化カリウムからなる群から選択される少なくとも1種の含有量が、それぞれ、50ppm以下である、[1]から[5]のいずれかに記載の球状無機質粉末。
[7]前記球状無機質粉末がシリカであり、アルミナの含有量が200ppm以上1300ppm以下である、[1]から[5]のいずれかに記載の球状無機質粉末。
[8][1]から[7]のいずれかに記載の球状無機質粉末と樹脂とを含む、液状封止材。
The present inventors have conducted intensive research, thinking that it may be possible to prevent an increase in aggregated particles while preventing a decrease in fluidity by controlling the number and height of peaks in a frequency particle size distribution diagram. Surprisingly, they have found that an inorganic powder having at least two peaks in a predetermined particle size range in a frequency particle size distribution diagram and having a frequency ratio value at the maximum values of the two peaks within a predetermined range can reduce the aggregation in a resin composition while maintaining the excellent fluidity of the resin composition. The inorganic powder designed in this way is a novel powder that has never been seen before.
The present invention has the following embodiments.
[1] A spherical inorganic powder having, in a frequency particle size distribution, a first peak having a maximum value in a particle size range of 0.1 μm or more and 0.6 μm or less, and a second peak having a maximum value in a particle size range of 1.5 μm or more and 5.0 μm or less, and the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak is 1.5 or more and less than 10.0.
[2] The spherical inorganic powder according to [1], which has a minimum value in the particle size range of 0.4 μm or more and 1.0 μm or less in the frequency particle size distribution.
[3] The spherical inorganic powder according to [2], wherein the ratio of the frequency at the minimum value of the first peak to the frequency at the maximum value is 0.9 or less.
[4] A spherical inorganic powder according to any one of [1] to [3], wherein the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak is 1.2 or more.
[5] A spherical inorganic powder according to any one of [1] to [4], in which in a frequency particle size distribution, the cumulative frequency of particles having a particle size of 5.0 μm or more is 1.2% or less.
[6] The spherical inorganic powder according to any one of [1] to [5], wherein the spherical inorganic powder is silica, and the content of at least one selected from the group consisting of iron oxide, sodium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, and potassium oxide is 50 ppm or less.
[7] The spherical inorganic powder according to any one of [1] to [5], wherein the spherical inorganic powder is silica and the alumina content is 200 ppm or more and 1,300 ppm or less.
[8] A liquid sealing material comprising the spherical inorganic powder according to any one of [1] to [7] and a resin.

本発明によれば、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができる無機質粉末を提供することができる。According to the present invention, an inorganic powder can be provided that can prevent an increase in agglomerated particles in a resin composition.

以下、本発明の一実施形態について詳細に説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜変更を加えて実施することができる。本明細書において、数値範囲に関する「X~Y」との記載は、X以上Y以下であることを意味している。 One embodiment of the present invention is described in detail below. The present invention is not limited to the following embodiment, and can be implemented by making appropriate modifications within the scope that does not impair the effects of the present invention. In this specification, the expression "X to Y" regarding a numerical range means greater than or equal to X and less than or equal to Y.

[球状無機質粉末]
本実施形態に係る球状無機質粉末(以下、単に「無機質粉末」ともいう。)は、頻度粒度分布において、0.1μm以上0.6μm以下の粒度域に極大値を有する第1ピークと、1.5μm以上5.0μm以下の粒度域に極大値を有する第2ピークとを有し、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値が1.5以上10.0未満である。頻度粒度分布において上記所定の粒度域に少なくとも二つのピークを有し、かつ当該二つのピークの極大値における頻度の比の値が上記所定の範囲にあることにより、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができる。また、粒径が数十μm程度の大粒径の無機質粉末や粒径が数μm程度の中粒径の無機質粉末に混合した場合に、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができる。このように設計された無機質粉末はこれまでにない新規な無機質粉末であり、所定の粒度域に少なくとも二つのピークを有することと当該二つのピークの極大値における頻度の比の値の特徴は、樹脂組成物の高流動性と樹脂組成物中での無機質粉末の低凝集性とを両立する上で非常に重要な因子である。
[Spherical inorganic powder]
The spherical inorganic powder according to this embodiment (hereinafter, also simply referred to as "inorganic powder") has a first peak having a maximum value in a particle size range of 0.1 μm to 0.6 μm in the frequency particle size distribution, and a second peak having a maximum value in a particle size range of 1.5 μm to 5.0 μm in the frequency particle size distribution, and the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak is 1.5 or more and less than 10.0. By having at least two peaks in the above-mentioned predetermined particle size range in the frequency particle size distribution, and the ratio of the frequency at the maximum values of the two peaks being within the above-mentioned predetermined range, it is possible to prevent an increase in aggregated particles in the resin composition. In addition, when mixed with an inorganic powder having a large particle size of about several tens of μm or an inorganic powder having a medium particle size of about several μm, it is possible to prevent an increase in aggregated particles in the resin composition. The inorganic powder designed in this manner is a novel inorganic powder that has never been seen before, and the characteristics of having at least two peaks in a specified particle size range and the ratio of the frequencies at the maximum values of the two peaks are very important factors in achieving both high fluidity of the resin composition and low coagulation of the inorganic powder in the resin composition.

球状無機質粉末は、粒子像分析装置を用いて定量的に自動計測された個々の粒子の円形度から算出される平均球形度((円形度))が0.85以上であることが好ましい。
「頻度粒度分布」は、体積基準の頻度粒度分布のことである。「体積基準の頻度粒度分布」は、レーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定され、横軸を粒子径(μm)、縦軸を体積基準の頻度(%)とする分布曲線で表される。レーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定される体積基準の頻度粒度分布は、レーザー回折散乱式粒度分布測定機(ベックマンコールター社製、「LS-230」)を用いて、溶媒に水(屈折率:1.33)を用い、前処理として2分間、トミー精工社製「超音波発生器UD-200(超微量チップTP-040装着)」を用いて200Wの出力をかけて分散処理して測定する。
The spherical inorganic powder preferably has an average sphericity ((circularity) 2 ) of 0.85 or more, calculated from the circularity of each particle quantitatively and automatically measured using a particle image analyzer.
The "frequency particle size distribution" refers to the volume-based frequency particle size distribution. The "volume-based frequency particle size distribution" is measured by a laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50) and is represented by a distribution curve with the horizontal axis being the particle diameter (μm) and the vertical axis being the volume-based frequency (%). The volume-based frequency particle size distribution measured by the laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50) is measured by using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring instrument (manufactured by Beckman Coulter, "LS-230"), using water (refractive index: 1.33) as the solvent, and dispersing the particles for 2 minutes as a pretreatment by applying an output of 200 W using an "ultrasonic generator UD-200 (with ultra-micro tip TP-040)" manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd.

無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において所定の粒度域に極大値を有する第1ピーク及び第2ピークを有している。すなわち、無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において、第1ピーク及び第2ピークを含む少なくとも二つのピークを有している。ピークが一つであると、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができない。The inorganic powder has a first peak and a second peak that have maximum values in a predetermined particle size range in the volume-based frequency particle size distribution. That is, the inorganic powder has at least two peaks including the first peak and the second peak in the volume-based frequency particle size distribution. If there is only one peak, it is not possible to prevent an increase in agglomerated particles in the resin composition.

「ピーク」とは、ここでは、体積基準の頻度粒度分布において曲線の傾きが正から負へと変わる境界を有している山型の曲線を意味している。当該境界における粒度を「極大値」(μm)という。本明細書において、「ピーク」が意味するものには、ショルダー(一つのピークを構成する曲線の傾斜の途中に膨らみ又は段差が形成されている部分)は含めない。各ピークは、それぞれショルダーを有していてもよいが、粒子間への樹脂の充填の観点から、好ましくは、各ピークはショルダーを有しない。
一つのピークは、曲線の立ち上がり部分を始点として、極大値(山型曲線の頂点)を経て、頻度が0となる点、又は曲線の傾きが負から0又は正へ変わる境界を終点とする。
The term "peak" here means a mountain-shaped curve having a boundary where the slope of the curve changes from positive to negative in the volume-based frequency particle size distribution. The particle size at the boundary is called the "maximum value" (μm). In this specification, the term "peak" does not include a shoulder (a portion where a bulge or step is formed in the middle of the slope of the curve constituting one peak). Each peak may have a shoulder, but from the viewpoint of filling the resin between the particles, each peak preferably does not have a shoulder.
A peak begins at the rising part of the curve, passes through the maximum value (the apex of the mountain-shaped curve), and ends at the point where the frequency becomes 0, or the boundary where the slope of the curve changes from negative to 0 or positive.

「第1ピーク」は、体積基準の頻度粒度分布において0.1μm以上0.6μm以下の粒度域に極大値を有するピークのことである。第1ピークは、体積基準の頻度粒度分布において、好ましくは0.1μm以上0.5μm以下、より好ましくは0.2μm以上0.5μm以下、さらに好ましくは0.2μm以上0.4μm以下の粒度域に、極大値を有する。 The "first peak" is a peak having a maximum value in the particle size range of 0.1 μm to 0.6 μm in the volume-based frequency particle size distribution. The first peak has a maximum value in the particle size range of preferably 0.1 μm to 0.5 μm, more preferably 0.2 μm to 0.5 μm, and even more preferably 0.2 μm to 0.4 μm in the volume-based frequency particle size distribution.

「第2ピーク」は、体積基準の頻度粒度分布において1.5μm以上5.0μm以下の粒度域に極大値を有するピークのことである。第2ピークは、体積基準の頻度粒度分布において、好ましくは1.5μm以上4.0μm以下、より好ましくは1.8μm以上3.5μm以下、さらに好ましくは1.8μm以上3.0μm以下、特に好ましくは2.0μm以上2.7μm以下の粒度域に、極大値を有する。 The "second peak" is a peak having a maximum value in the particle size range of 1.5 μm to 5.0 μm in the volume-based frequency particle size distribution. The second peak has a maximum value in the particle size range of preferably 1.5 μm to 4.0 μm, more preferably 1.8 μm to 3.5 μm, even more preferably 1.8 μm to 3.0 μm, and particularly preferably 2.0 μm to 2.7 μm in the volume-based frequency particle size distribution.

第1ピークの極大値における頻度は、好ましくは0.5~5.0%であり、より好ましくは0.5~3.0%であり、さらに好ましくは、0.5~2.8%であり、よりさらに好ましくは0.7~2.7%であり、特に好ましくは0.9~2.5%である。第1ピークの極大値における頻度を0.5~5.0%にすることで、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値を容易に所定の範囲に調整することができる。The frequency at the maximum value of the first peak is preferably 0.5 to 5.0%, more preferably 0.5 to 3.0%, even more preferably 0.5 to 2.8%, even more preferably 0.7 to 2.7%, and particularly preferably 0.9 to 2.5%. By setting the frequency at the maximum value of the first peak to 0.5 to 5.0%, the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak can be easily adjusted to a predetermined range.

第2ピークの極大値における頻度は、好ましくは3.5~9.0%であり、より好ましくは4.0~8.5%であり、さらに好ましくは、4.5~8.0%であり、特に好ましくは4.8~7.6%である。第2ピークの極大値における頻度を3.5~9.0%にすることで、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値を容易に所定の範囲に調整することができる。The frequency at the maximum value of the second peak is preferably 3.5 to 9.0%, more preferably 4.0 to 8.5%, even more preferably 4.5 to 8.0%, and particularly preferably 4.8 to 7.6%. By setting the frequency at the maximum value of the second peak to 3.5 to 9.0%, the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak can be easily adjusted to a predetermined range.

第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値(第2ピークの極大値における頻度/第1ピークの極大値における頻度)は、1.5以上10.0未満である。第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値が1.5未満又は10.0以上である場合は、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことが難しい。また、樹脂組成物の流動性が低下することがある。 The ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak (frequency at the maximum value of the second peak/frequency at the maximum value of the first peak) is 1.5 or more and less than 10.0. If the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak is less than 1.5 or 10.0 or more, it is difficult to prevent an increase in aggregated particles in the resin composition. In addition, the fluidity of the resin composition may decrease.

第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値は、好ましくは1.7~9.5であり、より好ましくは1.8~9.0であり、さらに好ましくは1.9~8.4である。The ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak is preferably 1.7 to 9.5, more preferably 1.8 to 9.0, and even more preferably 1.9 to 8.4.

第1ピークの累積頻度は、好ましくは5.0~50.0%であり、より好ましくは10.0~45.0%であり、さらに好ましくは14.0~39.9%である。第1ピークの累積頻度を5.0~50.0%にすることで、後述する第1ピークの累積頻度に対する第2ピークの累積頻度の比を容易に調整することができる。「第1ピークの累積頻度」は、第1ピークの始点から終点までの頻度の累積値である。 The cumulative frequency of the first peak is preferably 5.0 to 50.0%, more preferably 10.0 to 45.0%, and even more preferably 14.0 to 39.9%. By setting the cumulative frequency of the first peak to 5.0 to 50.0%, it is possible to easily adjust the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak, which will be described later. The "cumulative frequency of the first peak" is the cumulative value of the frequency from the start point to the end point of the first peak.

第2ピークの累積頻度は、好ましくは50.0~95.0%であり、より好ましくは55~90%であり、さらに好ましくは60.1~86.0%である。第2ピークの累積頻度を50.0~95.0%にすることで、後述する第1ピークの累積頻度に対する第2ピークの累積頻度の比を容易に調整することができる。「第2ピークの累積頻度」は、第2ピークの始点から終点までの頻度の累積値である。 The cumulative frequency of the second peak is preferably 50.0 to 95.0%, more preferably 55 to 90%, and even more preferably 60.1 to 86.0%. By setting the cumulative frequency of the second peak to 50.0 to 95.0%, it is possible to easily adjust the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak described below. The "cumulative frequency of the second peak" is the cumulative value of the frequency from the start point to the end point of the second peak.

第1ピークの累積頻度に対する前記第2ピークの累積頻度の比(第2ピークの累積頻度/第1ピークの累積頻度)は、好ましくは1.2以上であり、より好ましくは1.3~7.0であり、さらに好ましくは1.5~6.1である。第1ピークの累積頻度に対する前記第2ピークの累積頻度の比を1.2以上にすることで、樹脂組成物の高流動性と樹脂組成物中での無機質粉末の低凝集性とを容易に両立することができる。The ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak (cumulative frequency of the second peak/cumulative frequency of the first peak) is preferably 1.2 or more, more preferably 1.3 to 7.0, and even more preferably 1.5 to 6.1. By making the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak 1.2 or more, it is possible to easily achieve both high fluidity of the resin composition and low coagulation of the inorganic powder in the resin composition.

無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において、0.4μm以上1.0μm以下の粒度域に極小値を有することが好ましい。
無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において、好ましくは、0.5μm以上0.9μmの粒度域、より好ましくは、0.6μm以上0.8μm以下の粒度域に、極小値を有し得る。
「極小値」とは、体積基準の頻度粒度分布において隣り合うピークの谷間部分の粒度のことである。極小値は、曲線の傾きが負からゼロ又は正へ変わる境界であり得る。よって、体積基準の頻度粒度分布においてピークが一つのみである場合は極小値を有しない。
The inorganic powder preferably has a minimum value in the particle size range of 0.4 μm or more and 1.0 μm or less in the volume-based frequency particle size distribution.
The inorganic powder may have a minimum value in the volume-based frequency particle size distribution, preferably in the particle size range of 0.5 μm or more and 0.9 μm or less, and more preferably in the particle size range of 0.6 μm or more and 0.8 μm or less.
A "minimum value" refers to the particle size of the valley between adjacent peaks in a volume-based frequency particle size distribution. A minimum value can be a boundary where the slope of the curve changes from negative to zero or positive. Therefore, if there is only one peak in a volume-based frequency particle size distribution, there is no minimum value.

極小値における頻度は、好ましくは3.0%以下であり、より好ましくは0~2.5%であり、さらに好ましくは0~2.0%であり、特に好ましくは0~1.7%である。 The frequency of the minimum value is preferably 3.0% or less, more preferably 0 to 2.5%, even more preferably 0 to 2.0%, and particularly preferably 0 to 1.7%.

無機質粉末は、第1ピークの極大値における頻度に対する前記極小値における頻度の比(極小値における頻度/第1ピークの極大値における頻度)が、好ましくは0.9以下であり、より好ましくは0~0.9である。The inorganic powder preferably has a ratio of the frequency at the minimum value of the first peak to the frequency at the maximum value of the first peak (frequency at the minimum value/frequency at the maximum value of the first peak) of 0.9 or less, and more preferably 0 to 0.9.

無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において、粒径が5.0μm以上である粒子の累積頻度が、好ましくは1.2%以下であり、より好ましくは1.0%以下である。In the volume-based frequency particle size distribution of the inorganic powder, the cumulative frequency of particles having a particle size of 5.0 μm or more is preferably 1.2% or less, and more preferably 1.0% or less.

無機質粉末は、体積基準の頻度粒度分布において第1ピーク及び第2ピークのみを有していてもよいし、他のピークを1以上有していてもよい。他の1以上のピークは、第1ピークと第2ピークとの間に存在してもよく、第1ピークよりも粒径が低い側に存在してもよく、第2ピークよりも粒径が大きい側に存在してもよい。ピークが3以上存在する場合、いずれか2つのピークが本実施形態に規定する範囲にあればよい。
一実施形態において、第1ピークと第2ピークとは、隣り合っていてもよい(つまり、第1ピークと第2ピークとの間に他のピークがない)。一実施形態において、第1ピークと第2ピークとの間に1以上のピークが存在してもよい。
The inorganic powder may have only the first and second peaks in the volume-based frequency particle size distribution, or may have one or more other peaks. The other one or more peaks may be present between the first and second peaks, may be present on the side with a smaller particle size than the first peak, or may be present on the side with a larger particle size than the second peak. When three or more peaks are present, any two of the peaks may be within the range specified in this embodiment.
In one embodiment, the first peak and the second peak may be adjacent to each other (i.e., there are no other peaks between the first peak and the second peak). In one embodiment, there may be one or more peaks between the first peak and the second peak.

頻度粒度分布図において、上記した所定の粒度域に少なくとも二つのピークを有し、かつ当該二つのピークの極大値における頻度の比の値が所定の範囲になるように調整する方法は、原料粉末の大きさや分級によることの他、製造時の火炎温度や捕集温度を調整することにより調整できる。In the frequency particle size distribution diagram, the method of adjusting the frequency ratio at the maximum values of the two peaks so that it has at least two peaks in the specified particle size range described above and is within a specified range can be done by adjusting the size and classification of the raw material powder, as well as by adjusting the flame temperature and collection temperature during production.

(無機質粉末)
無機質粉末としては、金属酸化物粉末が挙げられる。金属酸化物粉末としては、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、チタニア(TiO)、マグネシア(MgO)、カルシア(CaO)等の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末は、これらから選択される1以上の金属酸化物粉末を含むことが好ましく、シリカを含むことがより好ましい。無機質粉末は、球状の無機質粉末であることが好ましく、球状シリカであることがより好ましい。半導体チップと液状封止材との熱膨張率を近づけるという点、半田耐熱性、耐湿性、金型の低摩耗性という観点において、結晶質シリカを高温で溶融する方法で製造された非晶質シリカが好ましい。
(Inorganic powder)
Examples of inorganic powders include metal oxide powders. Examples of metal oxide powders include inorganic powders such as silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), magnesia (MgO), and calcia (CaO). The inorganic powder preferably contains one or more metal oxide powders selected from these, and more preferably contains silica. The inorganic powder is preferably a spherical inorganic powder, and more preferably spherical silica. In terms of bringing the thermal expansion coefficients of the semiconductor chip and the liquid encapsulant closer to each other, solder heat resistance, moisture resistance, and low wear of the mold, amorphous silica produced by a method of melting crystalline silica at high temperatures is preferred.

無機質粉末は、無機質粉末がシリカであり、酸化鉄、酸化ナトリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化カリウムからなる群から選択される少なくとも1種の含有量が、それぞれ、好ましくは50ppm以下であり、より好ましくは40ppm以下であり、5~40ppmとすることもできる。The inorganic powder is silica, and the content of at least one selected from the group consisting of iron oxide, sodium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, and potassium oxide is preferably 50 ppm or less, more preferably 40 ppm or less, and can be 5 to 40 ppm.

無機質粉末は、無機質粉末がシリカであり、アルミナの含有量が、好ましくは200ppm以上1300ppm以下であり、より好ましくは300ppm以上1000ppm以下であり、さらに好ましくは400ppm以上700ppm以下である。アルミナの含有量が200ppm以上1300ppm以下である球状シリカ粉末は、鉱石由来の原料を用いて製造することができるのでコスト面で有利である。The inorganic powder is silica, and the alumina content is preferably 200 ppm or more and 1300 ppm or less, more preferably 300 ppm or more and 1000 ppm or less, and even more preferably 400 ppm or more and 700 ppm or less. Spherical silica powder with an alumina content of 200 ppm or more and 1300 ppm or less can be produced using raw materials derived from ores, which is advantageous in terms of cost.

無機質粉末は、凝集性をより低減する観点から、BET法により測定した比表面積が15~24m/gであることが好ましい。BET法により測定した比表面積は、17~22m/g、20~22m/gでとすることもできる。BET法による比表面積の測定は、比表面積測定器により測定できる。例えば「Macsorb HM model-1208」(マウンテック社製)により行うことができる。 From the viewpoint of further reducing agglomeration, the inorganic powder preferably has a specific surface area measured by the BET method of 15 to 24 m 2 /g. The specific surface area measured by the BET method can also be 17 to 22 m 2 /g, or 20 to 22 m 2 /g. The specific surface area measured by the BET method can be measured using a specific surface area measuring device. For example, it can be measured using a "Macsorb HM model-1208" (manufactured by Mountec Co., Ltd.).

(体積基準累積径)
無機質粉末は、体積基準累積50%径D50が1.2~2.8μmであることが好ましい。「体積基準累積50%径D50」(「メジアン径」ともいう。)は、レーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定される体積基準の累積粒度分布において、累積値が50%に相当する粒子径のことである。累積粒度分布は、横軸を粒子径(μm)、縦軸を累積値(%)とする分布曲線で表される。レーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定される体積基準の累積粒度分布は、レーザー回折散乱式粒度分布測定機(ベックマンコールター社製、「LS-230」)を用いて、溶媒に水(屈折率:1.33)を用い、前処理として2分間、トミー精工社製「超音波発生器UD-200(超微量チップTP-040装着)」を用いて200Wの出力をかけて分散処理して測定する。
(Volume-based cumulative diameter)
The inorganic powder preferably has a volume-based cumulative 50% diameter D 50 of 1.2 to 2.8 μm. The "volume-based cumulative 50% diameter D 50 " (also referred to as "median diameter") is a particle diameter at which the cumulative value corresponds to 50% in a volume-based cumulative particle size distribution measured by a laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50). The cumulative particle size distribution is expressed by a distribution curve with the particle diameter (μm) on the horizontal axis and the cumulative value (%) on the vertical axis. The volume-based cumulative particle size distribution measured by a laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50) is measured by using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring instrument (manufactured by Beckman Coulter, "LS-230"), using water (refractive index: 1.33) as a solvent, and dispersing the particles for 2 minutes as a pretreatment by applying an output of 200 W using an ultrasonic generator UD-200 (with ultra-trace tip TP-040) manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd.

体積基準累積50%径D50は、1.2~2.8μmであり、より好ましくは1.3~2.7μmであり、さらに好ましくは1.3~2.6μmであり、特に好ましくは1.4~2.5μmである。一実施形態において、体積基準累積50%径D50は、1.5~2.5μmである。
体積基準累積50%径D50の調整は、例えば、原料粉末の大きさや分級により調整できる。例えば、原料粉末の粒径を調整することの他、球状化後に分級(篩分級や風力分級機による)を行うことで所定の体積基準累積50%径D50に調整することができる。
The volume-based cumulative 50% diameter D 50 is 1.2 to 2.8 μm, more preferably 1.3 to 2.7 μm, even more preferably 1.3 to 2.6 μm, and particularly preferably 1.4 to 2.5 μm. In one embodiment, the volume-based cumulative 50% diameter D 50 is 1.5 to 2.5 μm.
The volume-based cumulative 50% diameter D50 can be adjusted, for example, by adjusting the size or classification of the raw material powder. For example, in addition to adjusting the particle size of the raw material powder, the predetermined volume-based cumulative 50% diameter D50 can be adjusted by performing classification (with a sieve classification or an air classifier) after spheroidization.

無機質粉末は、体積基準累積10%径D10が、0.1~0.3μmであることが好ましく、0.2~0.3μmであることがより好ましい。体積基準累積10%径D10を0.1~0.3μmにすることで大粒径および中粒径の粒子の間隙に入りやすく、粒子をより密に充填することができる。また、凝集物をより少なくすることができる。逆にD10が小さすぎると流動性、成型性が損なわれやすくなる。
無機質粉末は、体積基準累積25%径D25が、0.1~2.0μmであることが好ましく、0.1~1.0μmであることがより好ましく、0.1~0.8μmであることがさらに好ましい。D25が調整されることで、第1ピークに含まれる粒子数がより最適化され本発明の効果がより高まる。一実施形態において、体積基準累積25%径D25は、0.4~1.7であり得る。
無機質粉末は、体積基準累積90%径D90が、2.8~4.5μmであることが好ましく、2.8~4.0μmであることがより好ましく、3.2~4.0μmであることがさらに好ましい。体積基準累積90%径D90を2.8~4.5μmにすることで充填性が向上し流動性を著しく向上することができる。一実施形態において、体積基準累積90%径D90は、3.1~1.3であり得る。
無機質粉末は、体積基準累積100%径D100が、6.0~8.5μmであることが好ましく、6.0μmを超え8.0μm以下であることがより好ましく、6.2~8.0μmであることがさらに好ましい。体積基準累積100%径D100を6.0~8.5μmにすることで粒子の間隙を充填しつつ、適切な流動性を得ることができる。一実施形態において、体積基準累積100%径D100は、6.8~8.1であり得る。
体積基準累積10%径D10、体積基準累積25%径D25、体積基準累積90%径D90及び体積基準累積100%径D100は、レーザー回折散乱式粒度分布測定機により測定される体積基準の累積粒度分布において、累積値がそれぞれ10%、25%、90%又は100%の粒子径のことである。測定方法は、体積基準累積50%径D50と同じである。調整方法についても体積基準累積50%径D50と同じである。すなわち、原料粉末の粒径を調整することの他、球状化後に分級(篩分級や風力分級機による)を行うことで所定の体積基準累積10%径D10、体積基準累積25%径D25、体積基準累積90%径D90及び体積基準累積100%径D100に調整することができる。
The inorganic powder preferably has a volume-based cumulative 10% diameter D10 of 0.1 to 0.3 μm, more preferably 0.2 to 0.3 μm. By setting the volume-based cumulative 10% diameter D10 to 0.1 to 0.3 μm, the particles can easily enter between the gaps between large and medium-sized particles, allowing the particles to be packed more densely. In addition, the amount of agglomerates can be reduced. Conversely, if D10 is too small, the flowability and moldability are easily impaired.
The inorganic powder preferably has a volume-based cumulative 25% diameter D 25 of 0.1 to 2.0 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm, and even more preferably 0.1 to 0.8 μm. By adjusting D 25 , the number of particles contained in the first peak is further optimized, and the effect of the present invention is further enhanced. In one embodiment, the volume-based cumulative 25% diameter D 25 may be 0.4 to 1.7.
The inorganic powder preferably has a volume-based cumulative 90% diameter D 90 of 2.8 to 4.5 μm, more preferably 2.8 to 4.0 μm, and even more preferably 3.2 to 4.0 μm. By setting the volume-based cumulative 90% diameter D 90 to 2.8 to 4.5 μm, the filling property can be improved and the flowability can be significantly improved. In one embodiment, the volume-based cumulative 90% diameter D 90 can be 3.1 to 1.3.
The inorganic powder preferably has a volume-based cumulative 100% diameter D 100 of 6.0 to 8.5 μm, more preferably more than 6.0 μm and not more than 8.0 μm, and even more preferably 6.2 to 8.0 μm. By setting the volume-based cumulative 100% diameter D 100 to 6.0 to 8.5 μm, it is possible to obtain appropriate fluidity while filling the gaps between particles. In one embodiment, the volume-based cumulative 100% diameter D 100 may be 6.8 to 8.1.
The volume-based cumulative 10% diameter D 10 , the volume-based cumulative 25% diameter D 25 , the volume-based cumulative 90% diameter D 90 and the volume-based cumulative 100% diameter D 100 are particle diameters at which the cumulative values are 10%, 25%, 90% and 100%, respectively, in a volume-based cumulative particle size distribution measured by a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring instrument. The measurement method is the same as the volume-based cumulative 50% diameter D 50. The adjustment method is also the same as the volume-based cumulative 50% diameter D 50. That is, in addition to adjusting the particle size of the raw material powder, the predetermined volume-based cumulative 10% diameter D 10 , volume-based cumulative 25% diameter D 25 , volume-based cumulative 90% diameter D 90 and volume-based cumulative 100% diameter D 100 can be adjusted by performing classification (by sieve classification or air classifier) after spheroidization.

(無機質粉末の製造方法)
上記所定の物性を有する無機質粉末の製造は、例えば、市販の鉱石を必要に応じて粉砕及び分級した後、高温火炎中に供給して微細球状粉末とする方法で行うことができる。この製造方法は、例えば、以下の工程を有する。
(i)必要に応じて、鉱石を粉砕及び分級して鉱石粉末(原料粉末の一例に相当)を得る工程;
(ii)鉱石粉末を反応容器内の高温火炎中に供給して微細球状粉末(溶融粉)とする工程;及び
(iii)必要に応じて、微細球状粉末を分級及び捕集する工程
(Method of producing inorganic powder)
The inorganic powder having the above-mentioned predetermined physical properties can be produced, for example, by crushing and classifying a commercially available ore as necessary, and then feeding it into a high-temperature flame to convert it into a fine spherical powder. This production method, for example, has the following steps.
(i) optionally crushing and classifying the ore to obtain an ore powder (corresponding to an example of a raw material powder);
(ii) feeding the ore powder into a high-temperature flame in a reaction vessel to form a fine spherical powder (molten powder); and (iii) optionally classifying and collecting the fine spherical powder.

工程(i)
工程(i)において用いる鉱石は、高純度(例えば、95%以上)の鉱石であることが好ましい。鉱石としては、珪砂、珪石、チタン鉱石、マグネシウム鉱石、カルシウム鉱石等が挙げられ、これらから選択される1以上を用いることが好ましく、珪石を含むことがより好ましい。粉砕は、振動ミル、ボールミル等の粉砕機で粉砕することで所望の平均粒子径の鉱石粉末を適宜選択することができる。
原料粉末は粒径(体積基準累積50%径D50)が、好ましくは3.0~7.0μmであり、より好ましくは4.5~5.5μmである。粒径が異なる複数種類の原料粉末を混合して用いることもできる。
Step (i)
The ore used in step (i) is preferably a high-purity ore (e.g., 95% or more). Examples of the ore include silica sand, silica stone, titanium ore, magnesium ore, calcium ore, etc., and it is preferable to use one or more selected from these, and it is more preferable to use silica stone. The ore is pulverized with a pulverizer such as a vibration mill or a ball mill, so that an ore powder having a desired average particle size can be appropriately selected.
The particle size (volume-based cumulative 50% diameter D 50 ) of the raw material powder is preferably 3.0 to 7.0 μm, and more preferably 4.5 to 5.5 μm. A mixture of multiple types of raw material powders with different particle sizes can also be used.

工程(ii)
工程(ii)では、工程(i)で得られた鉱石粉末を、バーナーを用いて可燃ガスと助燃ガスとによって形成される高温火炎中に噴射して鉱石粉末の融点以上の温度(例えば、シリカ(珪石)の場合は、1800℃以上の温度)で溶融球状化し、冷却しながら分級及び捕集し、球状化された粉末(微細球状粉末)を得る。可燃ガスとしては、アセチレン、エチレン、メタン、エタン、プロパン、ブタン等の炭化水素系ガス;水素;LPG、LNG等の気体燃料;灯油、重油等の液体燃料;が使用できる。助燃ガスとしては、酸素、酸素リッチ冷却ガス、空気が使用できる。
Step (ii)
In step (ii), the ore powder obtained in step (i) is injected into a high-temperature flame formed by a combustible gas and a combustion supporting gas using a burner, melted and spheroidized at a temperature equal to or higher than the melting point of the ore powder (for example, a temperature equal to or higher than 1800°C in the case of silica), and classified and collected while cooling to obtain a spheroidized powder (fine spherical powder). As the combustible gas, hydrocarbon gases such as acetylene, ethylene, methane, ethane, propane, and butane; hydrogen; gaseous fuels such as LPG and LNG; and liquid fuels such as kerosene and heavy oil can be used. As the combustion supporting gas, oxygen, oxygen-rich cooling gas, and air can be used.

また、溶融温度を調整することにより、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値を調整することができる。例えば、溶融温度を低くすると第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値の値が小さくなる。溶融温度(火炎温度)は、1800~2200℃であり、より好ましくは1900~2100℃であり、さらに好ましくは1950~2100℃である。
溶融温度は、例えば、ガス量と酸素量で調整できる。
In addition, the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak can be adjusted by adjusting the melting temperature. For example, lowering the melting temperature reduces the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak. The melting temperature (flame temperature) is 1800 to 2200°C, more preferably 1900 to 2100°C, and even more preferably 1950 to 2100°C.
The melting temperature can be adjusted, for example, by the amount of gas and the amount of oxygen.

工程(iii)
工程(iii)では、工程(ii)で得られた微細球状粉末を、必要に応じてさらにサイクロン、篩分け操作等により分級し捕集する。この際の粉体捕集温度(粉体を捕集する際のバグフィルターの温度)を調整することにより、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値を調整することができる。例えば、粉体捕集温度を低くすると第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値の値が大きくなる。
粉体捕集温度を調整することにより、BET比表面積を調整することができる。例えば、粉体捕集温度を低くするとBET比表面積が大きくなる。
粉体捕集温度は、好ましくは100℃を超え300℃未満であり、より好ましくは120~290℃であり、さらに好ましくは150~280℃であり、よりさらに好ましくは170~250℃である。
Step (iii)
In step (iii), the fine spherical powder obtained in step (ii) is further classified and collected by a cyclone, sieving operation, etc., if necessary. By adjusting the powder collection temperature (the temperature of the bag filter when collecting the powder), the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak can be adjusted. For example, lowering the powder collection temperature increases the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak.
The BET specific surface area can be adjusted by adjusting the powder collection temperature. For example, lowering the powder collection temperature increases the BET specific surface area.
The powder collection temperature is preferably more than 100°C and less than 300°C, more preferably 120 to 290°C, even more preferably 150 to 280°C, and still more preferably 170 to 250°C.

(用途)
本実施形態に係る無機質粉末は、種々の用途に使用することができる。例えば、半導体封止材等の材料の製造に用いることができる。特に、流動性に優れる樹脂組成物を与えることができ、かつ樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができるので、電子機器用の半導体封止材の製造に好ましく用いることができる。
(Application)
The inorganic powder according to the present embodiment can be used for various applications. For example, it can be used for manufacturing materials such as semiconductor encapsulants. In particular, it can provide a resin composition with excellent flowability and prevent an increase in aggregated particles in the resin composition, so it can be preferably used for manufacturing semiconductor encapsulants for electronic devices.

[無機質組成物]
本実施形態に係る無機質組成物は、上記実施形態に係る無機質粉末を含む。以下では、上記実施形態に係る無機質粉末を「無機質粉末(P1)」ともいう。無機質粉末(P1)の種類及び物性については、上記のとおりであるからここでは記載を省略する。無機質粉末(P1)は、非常に細かい粒子で構成されているので、粒径が数十μm程度の大粒径の粉末や粒径が数μm程度の中粒径の粉末にこの無機質粉末(P1)を少量添加した無機質組成物とすることで、樹脂中に無機物質を高充填する(高い含有量で充填する)する場合でも、優れた流動性を有する樹脂組成物を与えることができる。また、無機質粉末(P1)は、頻度粒度分布図において所定の粒度域に少なくとも二つのピークを有し、かつ当該二つのピークの極大値における頻度の比の値が所定の範囲にあるので、樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができる。
[Inorganic composition]
The inorganic composition according to this embodiment includes the inorganic powder according to the above embodiment. Hereinafter, the inorganic powder according to the above embodiment is also referred to as "inorganic powder (P1)". The type and physical properties of the inorganic powder (P1) are as described above, so they will not be described here. Since the inorganic powder (P1) is composed of very fine particles, a small amount of this inorganic powder (P1) can be added to a large powder having a particle size of about several tens of μm or a medium powder having a particle size of about several μm to form an inorganic composition, so that even when the inorganic substance is highly filled (filled at a high content) in the resin, a resin composition having excellent fluidity can be obtained. In addition, the inorganic powder (P1) has at least two peaks in a predetermined particle size range in a frequency particle size distribution diagram, and the frequency ratio value at the maximum value of the two peaks is within a predetermined range, so that an increase in aggregated particles in the resin composition can be prevented.

一実施形態において、無機質組成物は、さらに、体積基準累積50%径D50が10μm以上100μm以下(好ましくは20~80μm、より好ましくは30~70μm)の無機質粉末(P2)、及び/又は、体積基準累積50%径D50が3μm以上10μm未満(好ましくは3μm以上8μm以下、より好ましくは4μm以上6μm以下)の無機質粉末(P3)を含み得る。このような大粒径の無機質粉末(P2)及び/又は中粒径の無機質粉末(P3)を含むことにより、樹脂組成物の半田耐熱性、耐湿性、低熱膨張性、及び機械的強度を向上させることができる。 In one embodiment, the inorganic composition may further include an inorganic powder (P2) having a volume-based cumulative 50% diameter D 50 of 10 μm or more and 100 μm or less (preferably 20 to 80 μm, more preferably 30 to 70 μm), and/or an inorganic powder (P3) having a volume-based cumulative 50% diameter D 50 of 3 μm or more and less than 10 μm (preferably 3 μm or more and 8 μm or less, more preferably 4 μm or more and 6 μm or less). By including such a large particle size inorganic powder (P2) and/or a medium particle size inorganic powder (P3), the solder heat resistance, moisture resistance, low thermal expansion, and mechanical strength of the resin composition can be improved.

無機質粉末(P2)及び無機質粉末(P3)の種類(化合物種)は特に限定されず、上記実施形態に係る無機質粉末(P1)で例示したものから選択することができる。無機質粉末(P2)及び無機質粉末(P3)の種類は、それぞれ独立に、無機質粉末(P1)と同じであってもよく、異なっていてもよい。The types (compound types) of the inorganic powder (P2) and the inorganic powder (P3) are not particularly limited and can be selected from those exemplified as the inorganic powder (P1) in the above embodiment. The types of the inorganic powder (P2) and the inorganic powder (P3) may be the same as or different from the inorganic powder (P1), independently of each other.

無機質粉末(P1)の含有量は、無機質組成物中に0.1~30質量%であることが好ましく、1~20質量%であることがより好ましく、3~20質量%であることがさらに好ましい。無機質粉末の含有量を無機質組成物中に0.1~30質量%にすることで、無機質組成物を樹脂に高充填した場合でも優れた流動性を有する樹脂組成物を与えることができる。The content of the inorganic powder (P1) in the inorganic composition is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, and even more preferably 3 to 20% by mass. By making the content of the inorganic powder in the inorganic composition 0.1 to 30% by mass, it is possible to obtain a resin composition that has excellent fluidity even when the inorganic composition is highly filled in the resin.

無機質粉末(P2)及び/又は無機質粉末(P3)の含有量は、無機質組成物中に合計70~99.9質量%であることが好ましく、80~99質量%であることがより好ましく、80~97質量%であることがさらに好ましい。The content of inorganic powder (P2) and/or inorganic powder (P3) in the inorganic composition is preferably 70 to 99.9 mass% in total, more preferably 80 to 99 mass%, and even more preferably 80 to 97 mass%.

(製造方法)
無機質組成物の製造方法は、特に限定されず、各無機質粉末を、公知の装置を用いてドライブレンド等により混合して無機質組成物を得ることができる。
(Production method)
The method for producing the inorganic composition is not particularly limited, and the inorganic composition can be obtained by mixing the inorganic powders by dry blending or the like using a known device.

(用途)
本実施形態に係る無機質組成物は、種々の用途に使用することができる。例えば、半導体封止材等の材料の製造に用いることができる。特に、流動性に優れる樹脂組成物を与えることができ、かつ樹脂組成物中での凝集粒子の増大を防ぐことができるので、電子機器用の半導体封止材の製造に好ましく用いることができる。
(Application)
The inorganic composition according to the present embodiment can be used for various applications. For example, it can be used for manufacturing materials such as semiconductor encapsulants. In particular, it can provide a resin composition with excellent flowability and prevent an increase in aggregated particles in the resin composition, so it can be preferably used for manufacturing semiconductor encapsulants for electronic devices.

[樹脂組成物(液状封止材)]
本実施形態に係る樹脂組成物は、樹脂と、上記した無機質粉末(P1)と、を含む。無機質粉末(P1)を含むので、樹脂中に無機物質が高充填される場合でも、優れた流動性を有する。無機質粉末(P1)の種類及び物性については上記のとおりであるからここでは記載を省略する。
[Resin composition (liquid encapsulant)]
The resin composition according to the present embodiment contains a resin and the above-mentioned inorganic powder (P1). Since the resin composition contains the inorganic powder (P1), it has excellent fluidity even when the resin is highly filled with inorganic substances. The type and physical properties of the inorganic powder (P1) are as described above, so they will not be described here.

無機質粉末(P1)の含有量は、樹脂組成物中に0.1~30質量%であることが好ましく、1~20質量%であることがより好ましく、3~17質量%であることがさらに好ましい。無機質粉末の含有量を樹脂組成物中に0.1~30質量%にすることで、無機物質を樹脂に高充填した場合でも優れた流動性を実現することができる。The content of the inorganic powder (P1) in the resin composition is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, and even more preferably 3 to 17% by mass. By making the content of the inorganic powder in the resin composition 0.1 to 30% by mass, it is possible to achieve excellent fluidity even when the resin is highly filled with inorganic substances.

一実施形態において、樹脂組成物は、さらに上記した無機質粉末(P2)及び/又は無機質粉末(P3)を含む。無機質粉末(P2)及び無機質粉末(P3)の種類及び物性は、上記のとおりであるからここでは記載を省略する。In one embodiment, the resin composition further contains the inorganic powder (P2) and/or the inorganic powder (P3) described above. The types and physical properties of the inorganic powder (P2) and the inorganic powder (P3) are as described above, and therefore will not be described here.

無機質粉末(P2)及び/又は無機質粉末(P3)の含有量は、樹脂組成物中に合計65~95質量%であることが好ましく、70~90質量%であることがより好ましく、70~87質量%であることがさらに好ましい。無機質粉末(P1)~(P3)の総含有量を樹脂組成物中に65~95質量%にすることで、樹脂に高充填されるので、樹脂組成物の半田耐熱性、耐湿性、低熱膨張性、及び機械的強度を向上することができる。The content of inorganic powder (P2) and/or inorganic powder (P3) in the resin composition is preferably 65 to 95% by mass in total, more preferably 70 to 90% by mass, and even more preferably 70 to 87% by mass. By making the total content of inorganic powders (P1) to (P3) in the resin composition 65 to 95% by mass, the resin is highly filled, and the solder heat resistance, moisture resistance, low thermal expansion, and mechanical strength of the resin composition can be improved.

(樹脂)
樹脂としては、例えばエポキシ樹脂;シリコーン樹脂;フェノール樹;メラミン樹脂;ユリア樹脂;不飽和ポリエステル;フッ素樹脂;ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド;ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリフェニレンスルフィド;全芳香族ポリエステル;ポリスルホン;液晶ポリマー;ポリエーテルスルホン;ポリカーボネイト;マレイミド変成樹脂;ABS樹脂、AAS(アクリロニトリルーアクリルゴム・スチレン)樹脂、AES(アクリロニトリル・エチレン・プロピレン・ジエンゴム-スチレン)樹脂等;を挙げることができる。樹脂としては、これらから選択される1以上を含むことが好ましく、エポキシ樹脂を含むことがより好ましい。
(resin)
Examples of the resin include epoxy resin, silicone resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester, fluororesin, polyimide such as polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyester such as polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, wholly aromatic polyester, polysulfone, liquid crystal polymer, polyethersulfone, polycarbonate, maleimide modified resin, ABS resin, AAS (acrylonitrile-acrylic rubber-styrene) resin, AES (acrylonitrile-ethylene-propylene-diene rubber-styrene) resin, etc. The resin preferably contains one or more selected from these, and more preferably contains an epoxy resin.

エポキシ樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とアルデヒド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF及びビスフェノールSなどのグリシジルエーテル、フタル酸やダイマー酸などの多塩基酸とエポクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル酸エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、アルキル変性多官能エポキシ樹脂、β-ナフトールノボラック型エオキシ樹脂、1,6-ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、2,7-ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビスヒドロキシビフェニル型エポキシ樹脂、更には難燃性を付与するために臭素などのハロゲンを導入したエポキシ樹脂等が挙げられる。 Epoxy resins are not particularly limited, and examples include phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins, epoxidized novolac resins of phenols and aldehydes, glycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc., glycidyl ester acid epoxy resins obtained by reacting polybasic acids such as phthalic acid and dimer acid with epochlorohydrin, linear aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, alkyl-modified polyfunctional epoxy resins, β-naphthol novolac type epoxy resins, 1,6-dihydroxynaphthalene type epoxy resins, 2,7-dihydroxynaphthalene type epoxy resins, bishydroxybiphenyl type epoxy resins, and epoxy resins into which halogens such as bromine have been introduced to impart flame retardancy.

樹脂としては、これらから選択される1以上のエポキシ樹脂を含むことが好ましく、常温で液状のエポキシ樹脂を含むことがより好ましい。中でも、樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂から選択される1以上のエポキシ樹脂を含むことが特に好ましい。The resin preferably contains one or more epoxy resins selected from these, and more preferably contains an epoxy resin that is liquid at room temperature. In particular, the resin preferably contains one or more epoxy resins selected from bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resins and bisphenol F-type epoxy resins, and alicyclic epoxy resins.

樹脂の含有量は、樹脂組成物中に1~10質量%であることが好ましく、2~9質量%であることがより好ましく、3~8質量%であることがさらに好ましく、4~6質量%であることが特に好ましい。The resin content in the resin composition is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 9% by mass, even more preferably 3 to 8% by mass, and particularly preferably 4 to 6% by mass.

(硬化剤)
樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含む場合、さらに硬化剤を含むことが好ましい。硬化剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシノール、クロロフェノール、t-ブチルフェノール、ノニルフェノール、イソプロピルフェノール、オクチルフェノール等の群から選ばれた1種又は2種以上の混合物をホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド又はパラキシレンとともに酸化触媒下で反応させて得られるノボラック型樹脂、ポリパラヒドロキシスチレン樹脂、ビスフェノールAやビスフェノールS等のビスフェノール化合物、ピロガロールやフロログルシノール等の3官能フェノール類、無水マレイン酸、無水フタル酸や無水ピロメリット酸等の酸無水物、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミン等を挙げることができる。
(Hardening agent)
When the resin composition contains an epoxy resin, it is preferable that the resin composition further contains a curing agent. Examples of the curing agent include a novolak type resin obtained by reacting one or a mixture of two or more selected from the group consisting of phenol, cresol, xylenol, resorcinol, chlorophenol, t-butylphenol, nonylphenol, isopropylphenol, octylphenol, and the like, with formaldehyde, paraformaldehyde, or paraxylene under an oxidation catalyst, a polyparahydroxystyrene resin, a bisphenol compound such as bisphenol A or bisphenol S, a trifunctional phenol such as pyrogallol or phloroglucinol, an acid anhydride such as maleic anhydride, phthalic anhydride, or pyromellitic anhydride, and an aromatic amine such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, or diaminodiphenylsulfone.

硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して、硬化剤の水酸基当量(又は酸無水物当量)が0.5~1.25になるように配合することが好ましい。It is preferable to mix the hardener so that the hydroxyl equivalent (or acid anhydride equivalent) of the hardener is 0.5 to 1.25 per 1 epoxy equivalent of the epoxy resin.

(その他の添加剤)
樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、硬化促進剤、離型剤、カップリング剤、着色剤等を配合することができる。
硬化促進剤としては、特に限定されず、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7,トリフェニルホスフィン、ベンジルジメチルアミン、2-メチルイミダゾール等が挙げられる。
離型剤としては、天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン等が挙げられる。
カップリング剤としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等の疎水性シラン化合物やメルカプトシラン等が挙げられる。
(Other additives)
The resin composition may contain a curing accelerator, a release agent, a coupling agent, a colorant, etc., within the range not impairing the effects of the present invention.
The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7, triphenylphosphine, benzyldimethylamine, and 2-methylimidazole.
Examples of the release agent include natural waxes, synthetic waxes, metal salts of straight-chain fatty acids, acid amides, esters, and paraffin.
Examples of the coupling agent include silane coupling agents, such as epoxy silanes (e.g., γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc.), amino silanes (e.g., aminopropyltriethoxysilane, ureidopropyltriethoxysilane, N-phenylaminopropyltrimethoxysilane, etc.), hydrophobic silane compounds (e.g., phenyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, etc.), and mercaptosilanes.

(製造方法)
樹脂組成物の製造方法は、特に限定されず、各材料の所定量を撹拌、溶解、混合、分散させることにより製造することができる。これらの混合物の混合、撹拌、分散等の装置は特に限定されないが、撹拌、加熱装置を備えたライカイ機、3本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。またこれらの装置を適宜組み合わせて使用してもよい。
(Production method)
The method for producing the resin composition is not particularly limited, and the resin composition can be produced by stirring, dissolving, mixing, and dispersing a predetermined amount of each material. The apparatus for mixing, stirring, dispersing, etc. of the mixture is not particularly limited, but a mortar and pestle machine equipped with a stirring and heating device, a three-roll mill, a ball mill, a planetary mixer, etc. can be used. These apparatuses may also be used in appropriate combination.

(用途)
本実施形態に係る樹脂組成物は、半導体封止材の製造に用いることができる。特に、流動性に優れ、かつ無機質粉末が凝集しにくいので、電子機器用の半導体封止材(液状封止材)として好ましく用いることができる。
(Application)
The resin composition according to the present embodiment can be used for manufacturing a semiconductor encapsulant. In particular, since the resin composition has excellent flowability and the inorganic powder is less likely to aggregate, the resin composition can be preferably used as a semiconductor encapsulant (liquid encapsulant) for electronic devices.

以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、これらの実施例により本発明の解釈が限定されるものではない。The present invention will be explained in more detail below with reference to examples, but the interpretation of the present invention is not limited to these examples.

[製造例1]
炉頂部にバーナーが設置された縦型炉と捕集系(サイクロンとバグフィルター)で構成されている装置を用いて純度が90%以上の天然珪石を粉砕・分級されたシリカ原料粉末(体積基準累積50%径D50:4.8μm)をLPGと酸素との燃焼により形成される高温火炎中に供給し、溶融・球状化処理を行って、球状非晶質シリカ粉末を得た。篩分級や空気分級機を用いて分級し、表1に示す体積基準累積径及び頻度粒度分布におけるピークの極大値を有する球状非晶質シリカ粉末を得た。その際の粉体捕集温度を230℃とした。
[Production Example 1]
Using an apparatus consisting of a vertical furnace with a burner installed at the top of the furnace and a collection system (cyclone and bag filter), natural silica stone with a purity of 90% or more was crushed and classified into a silica raw material powder (volume-based cumulative 50% diameter D50 : 4.8 μm) and fed into a high-temperature flame formed by the combustion of LPG and oxygen, where it was melted and spheroidized to obtain a spherical amorphous silica powder. It was classified using a sieve classification or an air classifier to obtain a spherical amorphous silica powder having the volume-based cumulative diameter and the maximum value of the peak in the frequency particle size distribution shown in Table 1. The powder collection temperature was set to 230° C.

[製造例2~5]
粉体捕集温度を、表1に記載のとおりとした以外は実施例1と同じ方法で球状非晶質シリカ粉末を得た。
[Production Examples 2 to 5]
A spherical amorphous silica powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that the powder collection temperature was set as shown in Table 1.

[比較製造例1、3~5,7~8]
火炎温度及び粉体捕集温度を表1に記載のとおりとした以外は実施例1と同じ方法で球状非晶質シリカ粉末を得た。
[Comparative Production Examples 1, 3-5, 7-8]
A spherical amorphous silica powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that the flame temperature and powder collection temperature were as shown in Table 1.

[比較製造例2]
シリカ原料粉末(体積基準累積50%径D50:3.0μm)を用い、粉体捕集温度を表1に記載のとおりとした以外は製造例1と同様にして製造した。
[Comparative Production Example 2]
Production was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that a silica raw material powder (volume-based cumulative 50% diameter D 50 : 3.0 μm) was used and the powder collection temperature was as shown in Table 1.

[比較製造例6]
体積基準累積50%径D50が1.0μmのシリカ粉末と、体積基準累積50%径D50が0.1μmのシリカ粉末とを、縦型混合機を用いて8:2の質量比で混合して、シリカ粉末(混合粉末)を得た。
[Comparative Production Example 6]
A silica powder having a volume-based cumulative 50% diameter D 50 of 1.0 μm and a silica powder having a volume-based cumulative 50% diameter D 50 of 0.1 μm were mixed in a mass ratio of 8:2 using a vertical mixer to obtain a silica powder (mixed powder).

[測定]
(体積基準累積)
製造例1~5及び比較製造例1~9のシリカ粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定機(ベックマンコールター社製、「LS-230」)を用いて、溶媒に水(屈折率:1.33)を用い、前処理として2分間、トミー精工社製「超音波発生器UD-200(超微量チップTP-040装着)」を用いて200Wの出力をかけて分散処理してレーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定される累積粒度分布を測定し、体積基準累積10%径D10、体積基準累積25%径D25、体積基準累積50%径D50、体積基準累積90%径D90、及び体積基準累積100%径D100を求めた。第1ピークの累積頻度及び2ピークの累積頻度についても求めた。
結果を表1に示した。
[measurement]
(Volume-based cumulative)
The silica powders of Production Examples 1 to 5 and Comparative Production Examples 1 to 9 were dispersed using a laser diffraction scattering particle size distribution analyzer (manufactured by Beckman Coulter, Inc., "LS-230") in water (refractive index: 1.33) as a solvent for 2 minutes as a pretreatment, with an output of 200 W using an "ultrasonic generator UD-200 (with ultra-micro tip TP-040 attached)" manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd., to measure the cumulative particle size distribution measured by a laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50), and the volume-based cumulative 10% diameter D 10 , volume-based cumulative 25% diameter D 25 , volume-based cumulative 50% diameter D 50 , volume-based cumulative 90% diameter D 90 , and volume-based cumulative 100% diameter D 100 were determined. The cumulative frequency of the first peak and the cumulative frequency of the second peak were also determined.
The results are shown in Table 1.

(頻度粒度分布)
製造例1~5及び比較製造例1~9のシリカ粉末について、レーザー回折散乱式粒度分布測定機(ベックマンコールター社製、「LS-230」)を用いて、溶媒に水(屈折率:1.33)を用い、前処理として2分間、トミー精工社製「超音波発生器UD-200(超微量チップTP-040装着)」を用いて200Wの出力をかけて分散処理して、レーザー回折散乱法(屈折率:1.50)により測定される体積基準の頻度粒度分布を測定し、極大値、極大値における頻度、極小値、及び極小値における頻度を求め、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値、第1ピークの極大値における頻度に対する前記極小値における頻度の比、第1ピークの累積頻度に対する前記第2ピークの累積頻度の比を算出した。結果を表1に示した。
(Frequency particle size distribution)
The silica powders of Production Examples 1 to 5 and Comparative Production Examples 1 to 9 were dispersed using a laser diffraction scattering particle size distribution analyzer (manufactured by Beckman Coulter, "LS-230") with water (refractive index: 1.33) as a solvent for 2 minutes as a pretreatment, with an output of 200 W using an "ultrasonic generator UD-200 (with ultra-micro tip TP-040)" manufactured by Tommy Seiko Co., Ltd., and the volume-based frequency particle size distribution measured by a laser diffraction scattering method (refractive index: 1.50) was measured, and the maximum value, the frequency at the maximum value, the minimum value, and the frequency at the minimum value were obtained, and the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak, the ratio of the frequency at the minimum value to the frequency at the maximum value of the first peak, and the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak were calculated. The results are shown in Table 1.

製造例1~5の球状非晶質シリカ粉末は、粒径が3.0μm以下の範囲に極大値を有する二つのピークを有している。二つのピークは、0.1~0.5μmの領域付近に極大値を有するピーク(第1ピーク)と、2.0~3.0μmの領域付近に極大値を有するピーク(第2ピーク)で構成されている。第1ピーク及び第2ピークは隣り合っており、いずれもショルダーを有していない。第2ピークの極大値における頻度は、第1ピークの極大値における頻度よりも値が大きい。製造例1~5の球状非晶質シリカ粉末は、粒径が3.0μmを超える領域に極大値を有しておらず、粒径が7.0μm以上の領域に頻度粒度分布を有していない。The spherical amorphous silica powders of Production Examples 1 to 5 have two peaks with maximum values in the particle size range of 3.0 μm or less. The two peaks are composed of a peak (first peak) with a maximum value near the 0.1 to 0.5 μm region and a peak (second peak) with a maximum value near the 2.0 to 3.0 μm region. The first and second peaks are adjacent to each other and neither has a shoulder. The frequency at the maximum value of the second peak is greater than the frequency at the maximum value of the first peak. The spherical amorphous silica powders of Production Examples 1 to 5 do not have a maximum value in the particle size range exceeding 3.0 μm, and do not have a frequency particle size distribution in the particle size range of 7.0 μm or more.

第1ピークと第2ピークとの間には、0.5~1μmの領域付近に、曲線の傾きが負から正へ変わる境界(極小値)が存在している。詳しくは、製造例1の球状非晶質シリカ粉末は、粒径0.7μm、頻度0.4%の極小値を有している。製造例2の球状非晶質シリカ粉末は、粒径0.8μm、頻度1.6%の極小値を有している。製造例3の球状非晶質シリカ粉末は、粒径0.6μm、頻度1.7%の極小値を有している。製造例4の球状非晶質シリカ粉末は、粒径0.7μm、頻度0%の極小値を有している。Between the first and second peaks, there is a boundary (minimum value) where the slope of the curve changes from negative to positive near the 0.5 to 1 μm region. In detail, the spherical amorphous silica powder of Production Example 1 has a particle size of 0.7 μm and a minimum value of frequency of 0.4%. The spherical amorphous silica powder of Production Example 2 has a particle size of 0.8 μm and a minimum value of frequency of 1.6%. The spherical amorphous silica powder of Production Example 3 has a particle size of 0.6 μm and a minimum value of frequency of 1.7%. The spherical amorphous silica powder of Production Example 4 has a particle size of 0.7 μm and a minimum value of frequency of 0%.

(不純物の測定)
以下の方法で、Al,Fe,CaO,NaO,MgO,KOの含有量を測定した。
試料1.0gを白金皿に秤り取り、フッ化水素20mL、過塩素酸1mLを加え砂浴上で加熱分解し、過塩素酸の白煙が発生するまで濃縮する。室温まで放冷後、25mLメスフラスコに移し水で標線まで希釈しそれぞれの分析供試液とする。これとは別に前記操作の試料を除いた全操作を行って空試験用供試液とする。その後、ICP発光分析法にてそれぞれの含有量を測定した。
(Measurement of impurities)
The contents of Al2O3 , Fe2O3 , CaO , Na2O , MgO and K2O were measured by the following method.
1.0 g of sample was weighed onto a platinum dish, 20 mL of hydrogen fluoride and 1 mL of perchloric acid were added, and the mixture was heated and decomposed on a sand bath, concentrating until white smoke of perchloric acid was generated. After cooling to room temperature, the mixture was transferred to a 25 mL measuring flask and diluted to the mark with water to prepare the respective analytical test solutions. Separately, the blank test solution was prepared by carrying out all the above-mentioned operations except for the sample. Then, the respective contents were measured by ICP emission spectrometry.

Figure 0007657290000001
Figure 0007657290000001

[実施例1~11、比較例1~10]
製造例1~5及び比較製造例1~8のシリカ粉末を含む樹脂組成物の特性を評価するため、以下の材料を用いて樹脂組成物を製造した。
樹脂:ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社製、「YH-4000HK」)
硬化剤:フェノール樹脂(明和化成株式会社製)
硬化促進剤:トリフェニルホスフィン
離型剤
シランカップリング剤:エポキシシラン(信越化学工業株式会社製、「KBM-403」)
[Examples 1 to 11, Comparative Examples 1 to 10]
In order to evaluate the properties of the resin compositions containing silica powder of Production Examples 1 to 5 and Comparative Production Examples 1 to 8, resin compositions were produced using the following materials.
Resin: Biphenyl type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "YH-4000HK")
Hardener: Phenolic resin (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)
Curing accelerator: triphenylphosphine Release agent Silane coupling agent: epoxy silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "KBM-403")

樹脂組成物の製造は、以下のようにして行った。実施例1~5及び比較例1~13のシリカ粉末と上記材料を、表2に記載の成分及び割合で、自転-公転式のプラネタリーミキサー(あわとり練太郎AR-360M;シンキー社製)を用いて、自転2000rpm、公転600rpmの条件で10分間混合した後、真空脱泡することにより樹脂組成物を得た。The resin compositions were produced as follows. The silica powders of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 13 and the above materials were mixed in the components and proportions shown in Table 2 using a rotation-revolution type planetary mixer (Thinky Mixer AR-360M; manufactured by Thinky Corporation) at a rotation speed of 2000 rpm and a revolution speed of 600 rpm for 10 minutes, and then vacuum degassed to obtain resin compositions.

得られた樹脂組成物の流動性及び樹脂組成物中のシリカ粉末の凝集状態を以下の方法で測定及び評価した。結果を表2に示した。
(流動性評価)
EMMI-I-66(Epoxy Molding Material Institute;Society of Plastic Industry)に準拠したスパイラルフロー測定用金型を取り付けたトランスファー成形機を用い、各樹脂組成物のスパイラルフロー値を測定した。
なお、トランスファー成形条件は、金型温度175℃、成形圧力7.4MPa、保圧時間120秒とした。
この値が大きいほど(好ましくは115cm以上)、流動性が良好であることを示す。
The flowability of the resulting resin composition and the state of aggregation of the silica powder in the resin composition were measured and evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.
(Liquidity assessment)
The spiral flow value of each resin composition was measured using a transfer molding machine equipped with a spiral flow measurement mold conforming to EMMI-I-66 (Epoxy Molding Material Institute; Society of Plastics Industry).
The transfer molding conditions were a mold temperature of 175° C., a molding pressure of 7.4 MPa, and a pressure holding time of 120 seconds.
A larger value (preferably 115 cm or more) indicates better fluidity.

(凝集状態の評価:目開き75μm以上の凝集含有量の測定)
シリカを100g秤量し、目開き75μmの篩に投入した。純水1000mLをシャワー状のノズルより30秒かけてふるい分けた。篩上に残ったシリカを蒸発皿に回収して乾燥機で乾燥後、秤量して残留物の割合を算出した。「〇」の場合、樹脂組成物中での凝集を抑制できる。
以下の基準で評価した。
〇(合格):0.0%~2.0%
△(不合格):2.0%~10%
×(不合格):10%~100%
(Evaluation of the agglomeration state: measurement of the agglomeration content with mesh size of 75 μm or more)
100 g of silica was weighed and put into a sieve with 75 μm mesh. 1000 mL of pure water was sieved from a shower-like nozzle for 30 seconds. The silica remaining on the sieve was collected in an evaporating dish and dried in a dryer, and then weighed to calculate the proportion of the residue. In the case of "◯", aggregation in the resin composition can be suppressed.
The evaluation was based on the following criteria.
○ (Pass): 0.0% to 2.0%
△ (fail): 2.0% to 10%
× (fail): 10% to 100%

Figure 0007657290000002
Figure 0007657290000002

Claims (7)

横軸を粒子径(μm)、縦軸を体積基準の頻度(%)とする分布曲線で表される頻度粒度分布において、0.1μm以上0.6μm以下の粒度域に極大値を有する第1ピークと、1.5μm以上5.0μm以下の粒度域に極大値を有する第2ピークとを有し、第1ピークの極大値における頻度に対する第2ピークの極大値における頻度の比の値が1.5以上10.0未満であり、
頻度粒度分布において、粒径が5.0μm以上である粒子の累積頻度が1.2%以下である、球状無機質粉末。
In a frequency particle size distribution represented by a distribution curve with the horizontal axis being the particle diameter (μm) and the vertical axis being the volume-based frequency (%), the particle size distribution has a first peak having a maximum value in a particle size range of 0.1 μm or more and 0.6 μm or less and a second peak having a maximum value in a particle size range of 1.5 μm or more and 5.0 μm or less, and the ratio of the frequency at the maximum value of the second peak to the frequency at the maximum value of the first peak is 1.5 or more and less than 10.0,
A spherical inorganic powder in which the cumulative frequency of particles having a particle size of 5.0 μm or more is 1.2% or less in a frequency particle size distribution.
頻度粒度分布において、0.4μm以上1.0μm以下の粒度域に極小値を有する、請求項1に記載の球状無機質粉末。 The spherical inorganic powder according to claim 1, which has a minimum value in the particle size range of 0.4 μm or more and 1.0 μm or less in the frequency particle size distribution. 前記第1ピークの極大値における頻度に対する前記極小値における頻度の比が0.9以下である、請求項2に記載の球状無機質粉末。 The spherical inorganic powder according to claim 2, wherein the ratio of the frequency at the minimum value of the first peak to the frequency at the maximum value of the first peak is 0.9 or less. 前記第1ピークの累積頻度に対する前記第2ピークの累積頻度の比が1.2以上である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の球状無機質粉末。 The spherical inorganic powder according to any one of claims 1 to 3, wherein the ratio of the cumulative frequency of the second peak to the cumulative frequency of the first peak is 1.2 or more. 前記球状無機質粉末がシリカであり、酸化鉄、酸化ナトリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化カリウムからなる群から選択される少なくとも1種の含有量が、それぞれ、50ppm以下である、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の球状無機質粉末。 The spherical inorganic powder according to any one of claims 1 to 4, wherein the spherical inorganic powder is silica, and the content of at least one selected from the group consisting of iron oxide, sodium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, and potassium oxide is 50 ppm or less. 前記球状無機質粉末がシリカであり、アルミナの含有量が200ppm以上1300ppm以下である、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の球状無機質粉末。 The spherical inorganic powder according to any one of claims 1 to 4, wherein the spherical inorganic powder is silica and the alumina content is 200 ppm or more and 1300 ppm or less. 請求項1から6のいずれか一項に記載の球状無機質粉末と、体積基準累積50%径D50が3μm以上10μm未満の無機質粉末と、樹脂とを含む、液状封止材であって、
前記球状無機質粉末の含有量が、前記液状封止材中に0.1~30質量%である液状封止材
A liquid sealing material comprising the spherical inorganic powder according to any one of claims 1 to 6 , an inorganic powder having a volume-based cumulative 50% diameter D50 of 3 μm or more and less than 10 μm, and a resin,
The content of the spherical inorganic powder in the liquid sealing material is 0.1 to 30 mass % .
JP2023511121A 2021-03-30 2022-03-24 Spherical inorganic powder and liquid sealing material Active JP7657290B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021057562 2021-03-30
JP2021057562 2021-03-30
PCT/JP2022/013954 WO2022210260A1 (en) 2021-03-30 2022-03-24 Spherical inorganic powder and liquid sealing material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2022210260A1 JPWO2022210260A1 (en) 2022-10-06
JP7657290B2 true JP7657290B2 (en) 2025-04-04

Family

ID=83458844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023511121A Active JP7657290B2 (en) 2021-03-30 2022-03-24 Spherical inorganic powder and liquid sealing material

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20240174520A1 (en)
EP (1) EP4317068A4 (en)
JP (1) JP7657290B2 (en)
KR (1) KR20230159601A (en)
CN (1) CN117083242B (en)
WO (1) WO2022210260A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102775269B1 (en) 2021-12-16 2025-02-28 가부시키가이샤 아도마텍쿠스 Filler for electronic materials and method for producing the same, slurry for electronic materials, and resin composition for electronic materials

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003003074A (en) 2001-06-20 2003-01-08 Mitsui Chemicals Inc Silica-containing resin composition and its precision molding
JP2005239892A (en) 2004-02-26 2005-09-08 Nitto Denko Corp Semiconductor sealing resin composition and semiconductor device using the same
JP2007119662A (en) 2005-10-31 2007-05-17 Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd Adhesive composition
JP2007132704A (en) 2005-11-08 2007-05-31 Tosoh Quartz Corp Microchip base plate made of glass, its manufacturing method and microchip
JP2014197649A (en) 2013-03-29 2014-10-16 株式会社アドマテックス Three-dimensional mount type semiconductor device, resin composition and method for manufacturing the same
JP2019044006A (en) 2017-08-30 2019-03-22 京セラ株式会社 Resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19740440A1 (en) * 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Easily dispersible precipitated silica
JP3721285B2 (en) * 1999-07-16 2005-11-30 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and its use
JP2003137529A (en) * 2001-10-25 2003-05-14 Denki Kagaku Kogyo Kk Spherical inorganic powder and applications
JP3865641B2 (en) 2002-01-29 2007-01-10 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and use thereof
JP4112470B2 (en) * 2003-10-20 2008-07-02 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and liquid sealing material
JP2005306923A (en) * 2004-04-19 2005-11-04 Denki Kagaku Kogyo Kk INORGANIC POWDER AND COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP4890770B2 (en) * 2005-02-14 2012-03-07 リンテック株式会社 Method for producing antiglare hard coat film
WO2007108437A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-27 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Silica powder and use thereof
FR2970605B1 (en) * 2011-01-14 2013-02-08 Radiall Sa SLEEVE FOR ELECTRICAL CONNECTOR AND METHOD FOR ASSEMBLING SAME.
WO2019245026A1 (en) * 2018-06-21 2019-12-26 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, laminated sheet, printed-wiring board and semiconductor package, and method for producing thermosetting resin composition
WO2020117896A1 (en) * 2018-12-04 2020-06-11 HNU Photonics LLC Full spectrum color holographic quick response code

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003003074A (en) 2001-06-20 2003-01-08 Mitsui Chemicals Inc Silica-containing resin composition and its precision molding
JP2005239892A (en) 2004-02-26 2005-09-08 Nitto Denko Corp Semiconductor sealing resin composition and semiconductor device using the same
JP2007119662A (en) 2005-10-31 2007-05-17 Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd Adhesive composition
JP2007132704A (en) 2005-11-08 2007-05-31 Tosoh Quartz Corp Microchip base plate made of glass, its manufacturing method and microchip
JP2014197649A (en) 2013-03-29 2014-10-16 株式会社アドマテックス Three-dimensional mount type semiconductor device, resin composition and method for manufacturing the same
JP2019044006A (en) 2017-08-30 2019-03-22 京セラ株式会社 Resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2022210260A1 (en) 2022-10-06
KR20230159601A (en) 2023-11-21
CN117083242B (en) 2026-01-30
US20240174520A1 (en) 2024-05-30
WO2022210260A1 (en) 2022-10-06
EP4317068A4 (en) 2024-10-23
CN117083242A (en) 2023-11-17
EP4317068A1 (en) 2024-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5380290B2 (en) Method for producing silica powder
JP2001048521A (en) Fine spherical silica powder and its production method and use
JP5526027B2 (en) Amorphous siliceous powder, method for producing the same, resin composition, and semiconductor sealing material
JP7599556B2 (en) Silica powder with reduced aggregation, resin composition, and semiconductor encapsulant
JP4192073B2 (en) Method for producing silica powder
JP7657290B2 (en) Spherical inorganic powder and liquid sealing material
CN101563291B (en) Amorphous silica powder, method for producing same, and sealing material for semiconductor
JP6612919B2 (en) Amorphous silica powder, resin composition, and semiconductor encapsulant
WO2022202583A1 (en) Inorganic oxide powder, resin composition, and compression molded article
JP7637761B2 (en) Inorganic powder, inorganic composition, and resin composition
WO2022202584A1 (en) Inorganic oxide powder, resin composition, and compression-molded article
JP4131620B2 (en) Silica powder and its use
JP4342036B2 (en) Method for producing auxiliary for siliceous filler
JP3571009B2 (en) Spherical inorganic powder and resin composition filled with the same
WO2022202592A1 (en) Inorganic oxide powder, resin composition, and compression molded product
JP5345787B2 (en) Method for producing silica-alumina composite oxide ultrafine powder for semiconductor encapsulant
JP7616929B2 (en) Inorganic metal oxide powder with less magnetized foreign matter and its manufacturing method
JP7611365B2 (en) Inorganic Oxide Powder
KR20230150345A (en) silicon dioxide powder

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230725

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240806

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250114

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250318

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250325

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7657290

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150