JP7659249B2 - Compound - Google Patents
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Description
本発明は、紫外線吸収剤として使用可能な化合物、該化合物を含む光学フィルタ及び紫外線吸収剤に関する。 The present invention relates to a compound that can be used as an ultraviolet absorber, an optical filter containing the compound, and an ultraviolet absorber.
紫外線は強いエネルギーをもっており、例えば網膜にダメージを与えて眼疾患の原因となる場合がある。また紫外線は、皮膚にもダメージを与えることが知られている。このため紫外線吸収剤として使用可能な化合物が求められている。特許文献1には紫外~紫色領域に吸収ピークを示すエチレン化合物が記載されている。 Ultraviolet rays have strong energy and can, for example, damage the retina and cause eye diseases. Ultraviolet rays are also known to damage the skin. For this reason, compounds that can be used as ultraviolet absorbents are in demand. Patent Document 1 describes an ethylene compound that shows an absorption peak in the ultraviolet to purple region.
照明装置、ディスプレイ装置等から発せられる光や、自然光から特定の波長の光をカットするために光学フィルタが使用されている。光学フィルタやこれを用いた各種器具、装置などは、温度が高い環境下で使用されることがある。また、光学フィルタ等の製造においては、高温での混錬や、熱処理等が行われる場合がある。このため、耐熱性が良好な紫外線吸収剤の開発が望まれている。また、光学フィルタ等に紫外線吸収剤を配合する場合、着色を抑制するために、可視光領域の吸収が少ない紫外線吸収剤が望まれる。また、紫外線吸収剤の紫外線の吸光度が小さいと、紫外線を効果的に低減するためにその添加量を多くする必要があることから、紫外線領域において吸光度が大きい化合物が望まれる。特許文献1の化合物は紫外~紫色領域に吸収ピークを示すが、紫外線領域の光をより効率的に吸収でき、かつ、可視光領域の吸収がより少ないものとするための改善の余地があった。 Optical filters are used to cut light of specific wavelengths from light emitted from lighting devices, display devices, etc., and from natural light. Optical filters and various instruments and devices using them may be used in high-temperature environments. In addition, in the manufacture of optical filters, etc., kneading at high temperatures and heat treatment may be performed. For this reason, the development of an ultraviolet absorber with good heat resistance is desired. In addition, when an ultraviolet absorber is mixed into an optical filter, etc., an ultraviolet absorber with low absorption in the visible light region is desired to suppress coloring. In addition, if the ultraviolet absorber has low ultraviolet absorbance, it is necessary to add a large amount to effectively reduce ultraviolet light, so a compound with high absorbance in the ultraviolet region is desired. The compound of Patent Document 1 shows an absorption peak in the ultraviolet to purple region, but there is room for improvement to more efficiently absorb light in the ultraviolet region and to absorb less in the visible light region.
本発明は、耐熱性が良好であり、紫外線、特に370~380nmの波長領域の光を効率的に吸収し、かつ、可視光領域の吸収が少ない化合物を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a compound that has good heat resistance, efficiently absorbs ultraviolet light, particularly light in the wavelength range of 370 to 380 nm, and has low absorption in the visible light range.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究したところ、下記一般式(1)で示される化合物が、耐熱性が良好であるうえに、370~380nmの波長領域に吸収極大を有し、吸光度が大きいためこの波長の光を効率的に吸収することができ、かつ、可視光領域の吸収が少ないことを見出した。 The present inventors conducted extensive research to solve the above problems and discovered that the compound represented by the following general formula (1) has good heat resistance, has an absorption maximum in the wavelength region of 370 to 380 nm, and has high absorbance, making it possible to efficiently absorb light of this wavelength, while also exhibiting low absorption in the visible light region.
すなわち、本発明の化合物は、下記一般式(1)で示される化合物である。 That is, the compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (1):
(一般式(1)中、R1a及びR2aは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
R3aは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基、前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6a-、-CONR6a-、-NR6aCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基又は一般式(2)で示される基を示し、
R4aは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7a基、-CO2R7a基、-CONR7aR7aa基又は-SO2R7a基を示し、
R5aは、置換基を有していてもよい環状アルキル基又は一般式(3)で示される基を示し、
R6aは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
R7a及びR7aaは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
In general formula (1), R 1a and R 2a each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
R 3a represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, the alkyl group in which one or more of -CH 2 - constituting the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6a -, -CONR 6a -, -NR 6a CO- and an arylene group, or a group represented by general formula (2),
R 4a represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7a group, a -CO 2 R 7a group, a -CONR 7a R 7aa group or a -SO 2 R 7a group;
R 5a represents a cyclic alkyl group which may have a substituent or a group represented by general formula (3),
R 6a represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
R 7a and R 7aa each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted linear, branched or cyclic alkyl group, or an optionally substituted aryl group.
(一般式(2)中、L1aは、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基から1個の水素原子が脱離した基又は前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6b-、-CONR6b-、-NR6bCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基から1個の水素原子が脱離した基を示し、R6bは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
T1aは、一般式(4)で示される基を示す。
*は、一般式(1)中の窒素原子との結合部位を示す。)
(In general formula (2), L 1a represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or a group in which one or more of the -CH 2 - constituting the alkyl group in the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6b -, -CONR 6b -, -NR 6b CO- and an arylene group, and one hydrogen atom has been removed from the group; R 6b represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
T 1a represents a group represented by general formula (4).
* indicates the bonding site with the nitrogen atom in general formula (1).
(一般式(4)中、R1b及びR2bは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
R4bは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7b基、-CO2R7b基、-CONR7bR7bb基又は-SO2R7b基を示し、
R5bは、置換基を有していてもよい環状アルキル基を示し、
R7b及びR7bbは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
*は、一般式(2)中のL1aとの結合部位を示す。)
In general formula (4), R 1b and R 2b each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
R 4b represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7b group, a -CO 2 R 7b group, a -CONR 7b R 7bb group or a -SO 2 R 7b group;
R 5b represents a cyclic alkyl group which may have a substituent;
R 7b and R 7bb each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
* indicates the bonding site with L 1a in general formula (2).
(一般式(3)中、L2aは、置換基を有していてもよい環状アルキル基から1個の水素原子が脱離した基又は上記環状アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6c、-CONR6c-、-NR6cCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基から1個の水素原子が脱離した基を示し、R6cは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
T2aは、水素原子又は一般式(5)で示される基を示す。
*は、一般式(1)中の酸素原子との結合部位を示す。)
(In general formula (3), L 2a represents a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a cyclic alkyl group which may have a substituent, or a group in which one or more of the -CH 2 - constituting the alkyl group in the cyclic alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6c , -CONR 6c -, -NR 6c CO- and an arylene group, and one hydrogen atom has been eliminated from the group; R 6c represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
T2a represents a hydrogen atom or a group represented by formula (5).
* indicates the bonding site with the oxygen atom in general formula (1).
(一般式(5)中、R1c及びR2cは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
R3cは、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6d-、-CONR6d-、-NR6dCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基を示し、
R4cは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7c基、-CO2R7c基、-CONR7cR7cc基又はSO2R7c基を示し、
R6dは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、
R7c及びR7ccは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
*は、一般式(3)中のL2aとの結合部位を示す。))
In general formula (5), R 1c and R 2c each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
R 3c represents a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or the alkyl group in which one or more of -CH 2 - constituting the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6d -, -CONR 6d - , -NR 6d CO- and an arylene group;
R 4c represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7c group, a -CO 2 R 7c group, a -CONR 7c R 7cc group, or a SO 2 R 7c group;
R 6d represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent;
R 7c and R 7cc each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
* indicates the bonding site with L2a in general formula (3).
本発明においては、一般式(1)におけるR4aがシアノ基を示すことが好ましい。
本発明においては、一般式(1)におけるR1a及びR2aが、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示し、R5aが、置換基を有していてもよいシクロヘキシル基、置換基を有していてもよいノルボルニル基、置換基を有していてもよいアダマンチル基又は一般式(3)で示される基を示し、一般式(3)において、L2aが、置換基を有していてもよい環状アルキル基から1個の水素原子が脱離した基を示し、T2aが一般式(5)で示される基を示し、一般式(5)においてR1c及びR2cが、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示し、R4cがシアノ基を示し、R3cが水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示すことが好ましい。
In the present invention, it is preferable that R 4a in general formula (1) represents a cyano group.
In the present invention, it is preferred that R 1a and R 2a in general formula (1) each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 5a represents a cyclohexyl group which may have a substituent, a norbornyl group which may have a substituent, an adamantyl group which may have a substituent, or a group represented by general formula (3), L 2a in general formula (3) represents a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a cyclic alkyl group which may have a substituent, T 2a represents a group represented by general formula (5), and R 1c and R 2c in general formula (5) each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 4c represents a cyano group, and R 3c represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
本発明の光学フィルタは、本発明の化合物を含むことを特徴とする。
本発明の紫外線吸収剤は、本発明の化合物を含むことを特徴とする。
The optical filter of the present invention is characterized by containing the compound of the present invention.
The ultraviolet absorbent of the present invention is characterized by containing the compound of the present invention.
本発明によれば、耐熱性が良好であり、紫外線、特に370~380nmの波長領域の光を効率的に吸収し、かつ、可視光領域の吸収が少ない化合物を提供することができる。本発明の化合物は、紫外線吸収剤等として好適に使用することができるものである。 The present invention provides a compound that has good heat resistance, efficiently absorbs ultraviolet light, particularly light in the wavelength range of 370 to 380 nm, and has low absorption in the visible light range. The compound of the present invention can be suitably used as an ultraviolet absorber, etc.
本発明の化合物は、下記一般式(1)で示される化合物である。下記一般式(1)で示される化合物を、本明細書中、化合物(1)ともいう。 The compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (1). The compound represented by the following general formula (1) is also referred to as compound (1) in this specification.
(一般式(1)中、R1a及びR2aは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R3aは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基、前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6a-、-CONR6a-、-NR6aCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基又は一般式(2)で示される基を示し、R4aは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7a基、-CO2R7a基、-CONR7aR7aa基又は-SO2R7a基を示し、R5aは、置換基を有していてもよい環状アルキル基又は一般式(3)で示される基を示し、R6aは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R7a及びR7aaは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。 (In general formula (1), R 1a and R 2a each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; R 3a represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, a group in which one or more of -CH 2 - constituting the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6a -, -CONR 6a -, -NR 6a CO- and an arylene group, or a group represented by general formula (2); R 4a represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7a group, a -CO 2 R 7a group, a -CONR 7a R 7aa group or a -SO 2 R 7a group; R R 5a represents a cyclic alkyl group which may have a substituent or a group represented by general formula (3); R 6a represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; and R 7a and R 7aa each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
(一般式(2)中、L1aは、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基から1個の水素原子が脱離した基又は前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6b-、-CONR6b-、-NR6bCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基から1個の水素原子が脱離した基を示し、R6bは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、T1aは、一般式(4)で示される基を示す。*は、一般式(1)中の窒素原子との結合部位を示す。) (In general formula (2), L 1a represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or a group in which one hydrogen atom has been removed from a group in which one or more of the -CH 2 - constituting the alkyl group in the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6b -, -CONR 6b -, -NR 6b CO- and an arylene group; R 6b represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; T 1a represents a group represented by general formula (4). * represents a bonding site with the nitrogen atom in general formula (1).)
(一般式(4)中、R1b及びR2bは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R4bは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7b基、-CO2R7b基、-CONR7bR7bb基又は-SO2R7b基を示し、R5bは、置換基を有していてもよい環状アルキル基を示し、R7b及びR7bbは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。*は、一般式(2)中のL1aとの結合部位を示す。) (In general formula (4), R 1b and R 2b each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; R 4b represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7b group, a -CO 2 R 7b group, a -CONR 7b R 7bb group, or a -SO 2 R 7b group; R 5b represents a cyclic alkyl group which may have a substituent; R 7b and R 7bb each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. * represents a bonding site with L 1a in general formula (2).)
(一般式(3)中、L2aは、置換基を有していてもよい環状アルキル基から1個の水素原子が脱離した基又は上記環状アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6c、-CONR6c-、-NR6cCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基から1個の水素原子が脱離した基を示し、R6cは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、T2aは、水素原子又は一般式(5)で示される基を示す。*は、一般式(1)中の酸素原子との結合部位を示す。) (In general formula (3), L 2a represents a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a cyclic alkyl group which may have a substituent, or a group in which one or more of the -CH 2 - constituting the alkyl group in the cyclic alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6c , -CONR 6c -, -NR 6c CO- and an arylene group and one hydrogen atom has been eliminated from the group; R 6c represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; T 2a represents a hydrogen atom or a group represented by general formula (5). * represents a bonding site with the oxygen atom in general formula (1).)
(一般式(5)中、R1c及びR2cは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R3cは、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6d-、-CONR6d-、-NR6dCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基を示し、R4cは、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、-COR7c基、-CO2R7c基、-CONR7cR7cc基又はSO2R7c基を示し、R6dは、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R7c及びR7ccは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。*は、一般式(3)中のL2aとの結合部位を示す。)) (In general formula (5), R 1c and R 2c each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; R 3c represents a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or the alkyl group in which one or more of -CH 2 - constituting the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO-, -CO 2 -, -OCO-, -NR 6d -, -CONR 6d -, -NR 6d CO- and an arylene group; R 4c represents a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a -COR 7c group, a -CO 2 R 7c group, a -CONR 7c R 7cc group or a SO 2 R 7c group; R 6d represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and R 7c and R 7cc each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. * represents the bonding site with L 2a in general formula (3).
本発明において、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数1~20の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が挙げられる。本明細書中、置換基を有していてもよい基の炭素数は、置換基を含めた基全体の炭素数である。
直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-へプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基等の直鎖アルキル基;
イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、ネオペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,1,2-トリメチルプロピル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、1-エチルペンチル基、2,4-ジメチルペンチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、1,1-ジメチルヘキシル基、1,1,3,3-テトラメチルブチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-ジメチルヘキシル基、1,3,5,7-テトラメチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、3,5-ジメチルヘプタデシル基、2,6-ジメチルヘプタデシル基、2,4-ジメチルヘプタデシル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基等の分岐鎖アルキル基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の環状アルキル基等が挙げられる。
In the present invention, examples of the linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent include linear, branched or cyclic alkyl groups which may have a substituent and have 1 to 20 carbon atoms. In this specification, the number of carbon atoms of a group which may have a substituent refers to the number of carbon atoms of the entire group including the substituent.
Examples of the linear, branched or cyclic alkyl group include linear alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, an n-undecyl group, an n-dodecyl group, an n-tridecyl group, an n-tetradecyl group, and an n-pentadecyl group;
Isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group branched-chain alkyl groups such as 1-ethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 1,1-dimethylhexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-dimethylhexyl group, 1,3,5,7-tetramethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, 3,5-dimethylheptadecyl group, 2,6-dimethylheptadecyl group, 2,4-dimethylheptadecyl group, and 2,2,5,5-tetramethylhexyl group;
Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.
置換基を有していてもよい、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数6~10の単環又は多環の芳香環基(フェニル基、ナフチル基等)、炭素数1~8の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基、アミノ基、モノ-又はジ-アルキルアミノ基(アルキルの炭素数は1~8)、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数1~8のアルコキシカルボニル基、炭素数2~10のアシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、シンナモイル基、アニソイル基、ナフトイル基等)、炭素数2~10のアシルオキシ基、炭素数2~10のアルケニル基(例えば、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、ブテニル基、スチリル基等)等が挙げられる。
置換基を有していてもよい、環状のアルキル基における置換基として、例えば、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、ネオペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基等)も挙げられる。
アルキル基が置換基を有する場合において、置換基が2以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
The substituent in the linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent is not particularly limited, and examples thereof include a monocyclic or polycyclic aromatic ring group having 6 to 10 carbon atoms (e.g., a phenyl group, a naphthyl group, etc.), a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, a mono- or di-alkylamino group (the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, a cyano group, a hydroxy group, a nitro group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, an acyl group having 2 to 10 carbon atoms (e.g., an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, a pivaloyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a benzoyl group, a toluoyl group, a cinnamoyl group, anisoyl group, a naphthoyl group, etc.), an acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (e.g., a vinyl group, a 1-propenyl group, an allyl group, a butenyl group, a styryl group, etc.).
Examples of the substituent in the cyclic alkyl group which may have a substituent include linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, etc.).
When the alkyl group has two or more substituents, the respective substituents may be the same or different.
本発明において、置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基が挙げられる。アリール基としては特に限定されず、例えば、フェニル基等の単環の芳香族炭化水素基;ナフチル基、アントラセニル基、ナフタセニル基、ペンタセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基等の多環の芳香族炭化水素基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数1~8の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、アミノ基、モノ-又はジ-アルキルアミノ基(アルキルの炭素数は1~8)、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数1~8のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数1~8のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数1~8の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基、ハロゲン原子である。
置換基を有していてもよい炭素数6~20のアリール基として、例えば、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基(例えば、フェニル基、3-メチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基等)等が好ましい。
アリール基が置換基を有する場合において、置換基が2以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
In the present invention, examples of the aryl group which may have a substituent include an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. The aryl group is not particularly limited, and examples thereof include monocyclic aromatic hydrocarbon groups such as a phenyl group, and polycyclic aromatic hydrocarbon groups such as a naphthyl group, anthracenyl group, naphthacenyl group, pentacenyl group, phenanthrenyl group, and pyrenyl group.
The substituent in the aryl group which may have a substituent is not particularly limited, and examples thereof include a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, a mono- or di-alkylamino group (wherein the alkyl group has 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, a cyano group, a hydroxy group, a nitro group, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, etc. A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a halogen atom is preferred.
As the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, for example, a phenyl group which may be substituted with an alkyl group (for example, a phenyl group, a 3-methylphenyl group, a 2,6-dimethylphenyl group, etc.) is preferable.
When the aryl group has two or more substituents, the respective substituents may be the same or different.
一般式(1)において、R1a及びR2aは、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 In general formula (1), R 1a and R 2a each independently represent preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, further preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
R3aは、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~8の直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基又は一般式(2)で示される基であることが好ましい。
R3aにおける置換基を有していてもよい、炭素数1~8の直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数1~8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ましく、置換基を有していてもよいメチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、フェニルメチル基又はフェニルエチル基がさらに好ましく、メチル基又はフェニルメチル基が特に好ましい。R6aは、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~10のアルキル基、置換基を有していてもよい、炭素数6~20のアリール基を示すことが好ましい。
R 3a is preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, or a group represented by the general formula (2).
As the linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent in R 3a , a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent is preferable, a methyl group or an ethyl group which may have a substituent is more preferable, a methyl group, an ethyl group, a phenylmethyl group or a phenylethyl group is further preferable, and a methyl group or a phenylmethyl group is particularly preferable. R 6a preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
一般式(2)において、L1aは、置換基を有していてもよい、炭素数1~10の直鎖、分岐鎖若しくは環状のアルキル基から1個の水素原子が脱離した基又は前記アルキル基において、アルキル基を構成する-CH2-の1以上が、不飽和結合、-O-、-S-、-CO-、-CO2-、-OCO-、-NR6b-、-CONR6b-、-NR6bCO-及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種で置換された基から1個の水素原子が脱離した基を示すことが好ましい。R6bは、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~10のアルキル基、置換基を有していてもよい、炭素数6~20のアリール基を示すことが好ましい。L1aは、炭素数1~10(好ましくは炭素数1~8)の直鎖又は分岐鎖のアルキル基から1個の水素原子が脱離した基であることがより好ましく、炭素数1~10の直鎖アルキル基から1個の水素原子が脱離した基であることがさらに好ましい。 In general formula (2), L 1a preferably represents a group in which one hydrogen atom has been removed from a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, or a group in which one hydrogen atom has been removed from a group in which one or more of the -CH 2 - constituting the alkyl group are substituted with at least one selected from the group consisting of an unsaturated bond, -O-, -S-, -CO- , -CO 2 -, -OCO-, -NR 6b -, -CONR 6b -, -NR 6b CO- and an arylene group. R 6b preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. L 1a is more preferably a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms), and even more preferably a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
一般式(4)で示される基において、R1b及びR2bは、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
R7b及びR7bbは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~10のアルキル基、置換基を有していてもよい、炭素数6~20のアリール基を示すことが好ましい。
一般式(4)で示される基において、R4bは、シアノ基を示すことが好ましい。
In the group represented by general formula (4), R 1b and R 2b each independently represent preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, further preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
It is preferable that R 7b and R 7bb each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
In the group represented by formula (4), R 4b preferably represents a cyano group.
一般式(4)で示される基において、R5bは、置換基を有していてもよい炭素数6~20の環状アルキル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいシクロへキシル基、置換基を有していてもよいノルボルニル基、置換基を有していてもよいアダマンチル基等であることがより好ましく、シクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基等であることがさらに好ましい。 In the group represented by general formula (4), R 5b is preferably a cyclic alkyl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, more preferably a cyclohexyl group which may have a substituent, a norbornyl group which may have a substituent, an adamantyl group which may have a substituent, or the like, and even more preferably a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group, or the like.
一態様において、一般式(4)で示される基の一例として、下記式(4-1)又は式(4-2)で示される基が挙げられる。式(4-1)及び(4-2)中、*は、一般式(2)中のL1aとの結合部位を示す。一態様において、一般式(4)で示される基として、下記式(4-1)で示される基、下記式(4-2)で示される基が好ましい。 In one embodiment, an example of the group represented by general formula (4) includes a group represented by the following formula (4-1) or formula (4-2). In formulas (4-1) and (4-2), * indicates a bonding site with L 1a in general formula (2). In one embodiment, the group represented by general formula (4) is preferably a group represented by the following formula (4-1) or a group represented by the following formula (4-2).
一般式(1)中、R4aは、シアノ基を示すことが好ましい。R7a及びR7aaは、互いに独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~10のアルキル基、置換基を有していてもよい、炭素数6~20のアリール基を示すことが好ましい。 In general formula (1), R 4a preferably represents a cyano group. R 7a and R 7aa each preferably represent, independently, a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
一般式(1)において、R5aにおける置換基を有していてもよい環状アルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数6~20の環状アルキル基が好ましく、置換基を有していてもよいシクロへキシル基、置換基を有していてもよいノルボルニル基又は置換基を有していてもよいアダマンチル基であることがより好ましい。
一態様において、R5aは、置換基を有していてもよいシクロヘキシル基、置換基を有していてもよいノルボルニル基、置換基を有していてもよいアダマンチル基又は一般式(3)で示される基を示すことが好ましい。R5aにおける置換基を有していてもよい環状アルキル基として、シクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基、1-若しくは2-アダマンチル基、イソボルニル基がさらに好ましい。
In general formula (1), the optionally substituted cyclic alkyl group for R 5a is preferably a optionally substituted cyclic alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a cyclohexyl group optionally having a substituent, a norbornyl group optionally having a substituent, or an adamantyl group optionally having a substituent.
In one embodiment, R 5a preferably represents a cyclohexyl group which may have a substituent, a norbornyl group which may have a substituent, an adamantyl group which may have a substituent, or a group represented by general formula (3). The cyclic alkyl group which may have a substituent in R 5a is more preferably a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group, a 1- or 2-adamantyl group, or an isobornyl group.
一般式(3)においては、L2aが、置換基を有していてもよい環状アルキル基から1個の水素原子が脱離した基を示すことが好ましい。一態様において、T2aは水素原子であることが好ましい。L2aにおける置換基を有していてもよい環状アルキル基は、より好ましくは、置換基を有していてもよいシクロペンチル基、置換基を有していてもよいシクロヘキシル基、置換基を有していてもよいシクロへプチル基、置換基を有していてもよいシクロオクチル基であり、さらに好ましくはシクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基である。R6cは、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1~10のアルキル基、置換基を有していてもよい、炭素数6~20のアリール基を示すことが好ましい。 In the general formula (3), it is preferable that L 2a represents a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a cyclic alkyl group which may have a substituent. In one embodiment, it is preferable that T 2a is a hydrogen atom. The cyclic alkyl group which may have a substituent in L 2a is more preferably a cyclopentyl group which may have a substituent, a cyclohexyl group which may have a substituent, a cycloheptyl group which may have a substituent, or a cyclooctyl group which may have a substituent, and more preferably a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, or a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group. It is preferable that R 6c represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
一般式(5)においては、R1c及びR2cが、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示すことが好ましく、水素原子又は炭素数1~6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
R3cは、水素原子又は炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示すことが好ましく、水素原子又は炭素数1~6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示すことがより好ましく、メチル基又はエチル基を示すことがさらに好ましい。R4cはシアノ基を示すことが好ましい。R6dは、水素原子、炭素数1~10の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示すことが好ましい。
In general formula (5), R 1c and R 2c each independently represent preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, further preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
R 3c preferably represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and even more preferably a methyl group or an ethyl group. R 4c preferably represents a cyano group. R 6d preferably represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
一態様において、一般式(5)で示される基として、下記式(5-1)で示される基が好ましい。式(5-1)中、*は、一般式(3)中のL2aとの結合部位を示す。 In one embodiment, the group represented by formula (5) is preferably a group represented by the following formula (5-1): In formula (5-1), * indicates the bonding site with L 2a in formula (3).
本明細書中、一般式(1)、(4)、(5)等の式中の波線 In this specification, the wavy lines in general formulas (1), (4), (5), etc.
は、単結合であって、それが結合している二重結合についての立体配置が、E配置若しくはZ配置又はそれらの混合であることを示す。 indicates that the configuration of a single bond about the double bond to which it is attached is E or Z, or a mixture of both.
本発明の化合物の好ましい態様の一例として、一般式(1)において、R1及びR2がメチル基であり、R3がメチル基、フェニルメチル基、上記式(4-1)で示される基又は式(4-2)で示される基であり、R4がシアノ基であり、R5がシクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基、1-若しくは2-アダマンチル基、イソボルニル基又は上記式(5-1)で示される基である化合物が挙げられる。このような化合物として、例えば、実施例に記載の化合物(1-1)~(1-10)等が挙げられる。中でも、耐熱性及び耐光性に優れることから、R3がメチル基又は上記式(4-2)で示される基であり、R5が2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基である化合物がより好ましい。 As an example of a preferred embodiment of the compound of the present invention, there is a compound in which, in the general formula (1), R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 is a methyl group, a phenylmethyl group, a group represented by the above formula (4-1) or a group represented by the formula (4-2), R 4 is a cyano group, and R 5 is a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group, a 1- or 2-adamantyl group, an isobornyl group, or a group represented by the above formula (5-1). Examples of such compounds include compounds (1-1) to (1-10) described in the examples. Among them, a compound in which R 3 is a methyl group or a group represented by the above formula (4-2) and R 5 is a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group is more preferred because of its excellent heat resistance and light resistance.
本発明の化合物において幾何異性が存在する場合、本発明はその幾何異性体のいずれも包含する。また、本発明の化合物において1つ以上の不斉炭素原子が存在する場合、本発明は各々の不斉炭素原子がR配置の化合物、S配置の化合物及びそれらの任意の組み合せの化合物のいずれも包含する。またそれらのラセミ化合物、ラセミ混合物、単一のエナンチオマー、ジアステレオマー混合物のいずれも本発明に包含される。 When the compound of the present invention has geometric isomerism, the present invention includes all of the geometric isomers. In addition, when the compound of the present invention has one or more asymmetric carbon atoms, the present invention includes compounds in which each asymmetric carbon atom has the R configuration, the S configuration, and any combination thereof. In addition, the present invention includes all of the racemic compounds, racemic mixtures, single enantiomers, and diastereomeric mixtures thereof.
本発明の化合物の製造方法について、以下に合成方法の一例を挙げて説明するが、本発明の化合物の製造方法は下記方法に限定されるものではない。また、後述の反応を行う際に、当該部位以外の官能基については、必要に応じてあらかじめ適当な保護基により保護しておき、適当な段階においてこれを脱保護してもよい。 The method for producing the compound of the present invention will be described below with an example of a synthesis method, but the method for producing the compound of the present invention is not limited to the method described below. In addition, when carrying out the reaction described below, functional groups other than the relevant site may be protected in advance with an appropriate protecting group as necessary, and the functional groups may be deprotected at an appropriate stage.
一般式(1)で示される化合物の製造方法は特に限定されず、周知一般の方法を利用した方法で得ることができる。例えば、下記に示す反応により、一般式(6a)で示される化合物(化合物(6a))及び一般式(7a)で示される化合物(化合物(7a))から化合物(1)を合成することができる。 The method for producing the compound represented by general formula (1) is not particularly limited, and the compound can be obtained by a method utilizing a well-known general method. For example, compound (1) can be synthesized from a compound represented by general formula (6a) (compound (6a)) and a compound represented by general formula (7a) (compound (7a)) by the reaction shown below.
上記式中のR1a、R2a、R3a、R4a及びR5a並びにこれらの好ましい態様は、一般式(1)と同じである。Xaは、1価のアニオンを示す。N(Ac)Phはアセトアニリド基を示す。以下も同じである。 In the above formula, R 1a , R 2a , R 3a , R 4a and R 5a and preferred embodiments thereof are the same as those in the general formula (1). Xa represents a monovalent anion. N(Ac)Ph represents an acetanilide group. The same applies below.
一般式(1)において、R3aが一般式(2)で示される基である化合物は、例えば、次に示す反応により、一般式(6b)で示される化合物(化合物(6b))、化合物(7a)及び一般式(7b)で示される化合物(化合物(7b))から合成することができる。下記一般式(1b)で示される化合物は、一般式(1)において、R3aが一般式(2)で示される基である化合物である。 The compound represented by the general formula (1) in which R 3a is a group represented by the general formula (2) can be synthesized from the compound represented by the general formula (6b) (compound (6b)), compound (7a) and compound represented by the general formula (7b) (compound (7b)) by the reaction shown below. The compound represented by the following general formula (1b) is a compound represented by the general formula (1) in which R 3a is a group represented by the general formula (2).
上記式中、R1a、R2a、R4a及びR5a並びにこれらの好ましい態様は、一般式(1)と同じである。L1a及びその好ましい態様は、一般式(2)と同じである。R1b、R2b、R4b及びR5b並びにこれらの好ましい態様は、一般式(4)と同じである。
Xa及びXbは、それぞれ独立して、1価のアニオンを示す。
In the above formula, R 1a , R 2a , R 4a and R 5a and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (1). L 1a and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (2). R 1b , R 2b , R 4b and R 5b and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (4).
Xa and Xb each independently represent a monovalent anion.
一般式(1)において、R5aが一般式(3)で示される基である化合物(下記一般式(1c)で示される化合物)は、例えば、次に示す反応により、化合物(6a)、一般式(6c)で示される化合物(化合物(6c))及び一般式(7c)で示される化合物(化合物(7c))から合成することができる。下記一般式(1c)で示される化合物は、一般式(1)において、R5aが一般式(3)で示される基である化合物の一例である。 A compound in which R 5a in general formula (1) is a group represented by general formula (3) (a compound represented by general formula (1c) below) can be synthesized from compound (6a), a compound represented by general formula (6c) (compound (6c)), and a compound represented by general formula (7c) (compound (7c)) by, for example, the reaction shown below. The compound represented by general formula (1c) below is an example of a compound in which R 5a in general formula (1) is a group represented by general formula (3).
上記式中、R1a、R2a、R3a及びR4a並びにこれらの好ましい態様は、一般式(1)と同じである。L2a及びその好ましい態様は、一般式(3)と同じである。R1c、R2c、R3c及びR4c並びにこれらの好ましい態様は、一般式(5)と同じである。
Xa及びXcは、それぞれ独立して、1価のアニオンを示す。
In the above formula, R 1a , R 2a , R 3a and R 4a and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (1). L 2a and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (3). R 1c , R 2c , R 3c and R 4c and preferred embodiments thereof are the same as those in formula (5).
Xa and Xc each independently represent a monovalent anion.
Xa、Xb及びXcにおける1価のアニオンとして、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物イオン;トシラートイオン等が挙げられる。 Examples of the monovalent anion in X a , X b and X c include halide ions such as a fluoride ion, a chloride ion, a bromide ion and an iodide ion; a tosylate ion; and the like.
上記の化合物(6a)、(6b)及び(6c)は、アルキルハライドと2,4,4-トリアルキルオキサゾリンを反応させてアルキル化した化合物を、ジフェニルホルムアミジンと反応させることにより得ることができる。化合物(7a)及び(7b)は、例えば、US6271410B1等に記載の方法で得ることができる。化合物(7c)は、例えば、Macromolecules,1992,25(22),pp6055-6058.等に記載の方法で得ることができる。 The above compounds (6a), (6b) and (6c) can be obtained by reacting an alkyl halide with 2,4,4-trialkyloxazoline to form an alkylated compound, and then reacting the resulting compound with diphenylformamidine. Compounds (7a) and (7b) can be obtained, for example, by the method described in US Pat. No. 6,271,410 B1. Compound (7c) can be obtained, for example, by the method described in Macromolecules, 1992, 25 (22), pp. 6055-6058.
化合物(6a)及び(7a)を反応させる条件、化合物(6b)、(7a)及び(7b)を反応させる条件、化合物(6a)、(6c)及び(7c)を反応させる条件などは特に限定されない。反応は、通常、塩基存在下で、溶媒中で行われる。塩基は特に限定されず、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩等の無機塩基;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DBU(ジアザビシクロウンデセン)等の有機塩基等が挙げられる。
溶媒としては、該反応に対して不活性な溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、アセトン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、N-メチルモルホリン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
反応の際の温度は、5~100℃とすることができ、10~50℃が好ましい。反応時間は、0.5~48時間とすることができ、1~24時間が好ましい。
The conditions for reacting the compounds (6a) and (7a), the conditions for reacting the compounds (6b), (7a) and (7b), and the conditions for reacting the compounds (6a), (6c) and (7c) are not particularly limited. The reaction is usually carried out in a solvent in the presence of a base. The base is not particularly limited, and examples thereof include inorganic bases such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; and organic bases such as triethylamine, diisopropylethylamine, and DBU (diazabicycloundecene).
The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, acetone, toluene, xylene, dimethylformamide, N-methylmorpholine, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, pyridine, and tetrahydrofuran.
The reaction temperature may be from 5 to 100° C., and preferably from 10 to 50° C. The reaction time may be from 0.5 to 48 hours, and preferably from 1 to 24 hours.
上記の製造方法における各生成物の単離や精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、特に精製せずに次の反応に供することも可能である。 The isolation and purification of each product in the above manufacturing method can be carried out by appropriately combining methods used in ordinary organic synthesis, such as filtration, extraction, washing, drying, concentration, crystallization, various types of chromatography, etc. In addition, intermediates can be used in the next reaction without any particular purification.
本発明の化合物は、通常370~380nmに吸収極大波長(λmax)を有するものである。このため紫外線を効果的に吸収することができる。本発明の化合物の吸収極大波長は、例えば、上記化合物のクロロホルム溶液の吸収スペクトルを紫外可視分光光度計で測定することで得られる吸収極大ピークの波長として求めることができる。本発明の化合物は、吸収極大波長が375~380nmであることが好ましい。 The compounds of the present invention usually have a maximum absorption wavelength (λmax) of 370 to 380 nm. This allows them to effectively absorb ultraviolet light. The maximum absorption wavelength of the compounds of the present invention can be determined, for example, as the wavelength of the maximum absorption peak obtained by measuring the absorption spectrum of a chloroform solution of the compound using a UV-visible spectrophotometer. The compounds of the present invention preferably have a maximum absorption wavelength of 375 to 380 nm.
本発明の化合物は、クロロホルム溶液で測定したときの吸収極大波長におけるグラム吸光係数が100以上であることが好ましく、120以上であることがより好ましい。吸収極大波長におけるグラム吸光係数が100以上であると、吸収極大波長付近の波長の光をより効果的に吸収することができる。グラム吸光係数は、実施例に記載の方法で求めることができる。 The compound of the present invention preferably has a gram absorption coefficient of 100 or more, more preferably 120 or more, at the absorption maximum wavelength when measured in a chloroform solution. If the gram absorption coefficient at the absorption maximum wavelength is 100 or more, light of a wavelength near the absorption maximum wavelength can be absorbed more effectively. The gram absorption coefficient can be determined by the method described in the Examples.
本発明の化合物は、半値幅が20nm未満であることが好ましい。
本明細書中、半値幅とは、下記式で表される吸収スペクトルの急峻性を示す数値である。
半値幅=λ1/2-λmax
上記式中、λmaxは、クロロホルム溶液中の350~800nmにおける吸収極大波長を表し、λ1/2は、その波長における吸光度がλmaxにおける吸光度の1/2となり、かつ、λ1/2>λmaxである波長を表す。
上記の半値幅が小さいほど、吸収スペクトルが可視光線側で急峻となり、着色を抑制することができる。
上記半値幅が20nm未満であると、吸収極大波長付近の波長の光を選択的に吸収することができる。また、可視光領域の吸収が少ないことから、着色を効果的に抑制することができる。本発明の化合物は、上記半値幅が17nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることがさらに好ましく、15nm未満であることが特に好ましい。
上記半値幅は、例えば、上記化合物のクロロホルム溶液の吸収スペクトルを紫外可視分光光度計で測定することで得られる吸収極大ピークから求めることができる。
The compound of the present invention preferably has a half-width of less than 20 nm.
In this specification, the half-width is a value indicating the steepness of the absorption spectrum represented by the following formula.
Half width = λ 1/2 - λ max
In the above formula, λ max represents the maximum absorption wavelength in the range of 350 to 800 nm in a chloroform solution, and λ 1/2 represents the wavelength at which the absorbance at that wavelength is half that at λ max and λ 1/2 >λ max .
The smaller the half-width, the steeper the absorption spectrum becomes on the visible light side, and coloring can be suppressed.
When the half-width is less than 20 nm, light having a wavelength near the maximum absorption wavelength can be selectively absorbed. Also, since the absorption in the visible light region is small, coloration can be effectively suppressed. The compound of the present invention more preferably has a half-width of 17 nm or less, even more preferably 15 nm or less, and particularly preferably less than 15 nm.
The half-width can be determined, for example, from the maximum absorption peak obtained by measuring the absorption spectrum of a chloroform solution of the compound using an ultraviolet-visible spectrophotometer.
本発明の化合物は、有機溶媒に溶解する化合物であることが好ましい。
有機溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、ケトン類(メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等)、エーテル類(例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、エステル類(例えば、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル等)及びこれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。
本発明の化合物は、上記有機溶媒の少なくとも1種に対し、0.1重量%以上溶解することが好ましく、例えば、0.1重量%以上50重量%以下溶解することが好ましく、1重量%以上40重量%以下溶解することがより好ましく、3重量%以上30重量%以下溶解することが更に好ましい。より好ましくは、20℃における有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあることである。有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあると、本発明の化合物を、例えば、光学フィルタ等の製造に使用する際に、製造性が良好であるため好ましい。
The compound of the present invention is preferably a compound that is soluble in an organic solvent.
Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons (e.g., toluene, xylene, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc.), ethers (e.g., propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, etc.), esters (e.g., methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, etc.), and mixed solvents of two or more of these.
The compound of the present invention is preferably dissolved in at least one of the organic solvents at 0.1% by weight or more, for example, preferably dissolved at 0.1% by weight or more and 50% by weight or less, more preferably dissolved at 1% by weight or more and 40% by weight or less, and even more preferably dissolved at 3% by weight or more and 30% by weight or less. More preferably, the solubility in the organic solvent at 20° C. is in such a range. When the solubility in the organic solvent is in such a range, the compound of the present invention is preferably used for, for example, the production of an optical filter, because the manufacturability is good.
本発明の化合物は、耐熱性が良好である。本発明の化合物は、その熱分解温度が205℃以上であることが好ましく、210℃以上がより好ましく、例えば、250~400℃であることが好ましい。熱分解温度は、熱重量測定装置により測定することができる。 The compound of the present invention has good heat resistance. The compound of the present invention preferably has a thermal decomposition temperature of 205°C or higher, more preferably 210°C or higher, for example, 250 to 400°C. The thermal decomposition temperature can be measured using a thermogravimetric measuring device.
本発明の化合物は、370~380nmに吸収波長を持ち、この波長の光を効率よく吸収することができ、かつ、耐熱性が良好である。このため本発明の化合物は、例えば、光学フィルタ等に好適に使用される。本発明の化合物は、1種のみ使用してもよく、2種以上を使用してもよい。例えば本発明の化合物を光学フィルタに使用すると、紫外線を選択的かつ効果的に低減することができる。 The compound of the present invention has an absorption wavelength of 370 to 380 nm, can efficiently absorb light of this wavelength, and has good heat resistance. Therefore, the compound of the present invention is suitable for use in, for example, optical filters. Only one type of compound of the present invention may be used, or two or more types may be used. For example, when the compound of the present invention is used in an optical filter, ultraviolet rays can be selectively and effectively reduced.
本発明の化合物は、例えば樹脂と混合することにより、樹脂組成物とすることができる。
上記樹脂は特に限定されず、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等を、樹脂組成物の用途等に応じて適宜選択すればよい。例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の樹脂が挙げられる。これらは1種のみ使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
The compound of the present invention can be made into a resin composition, for example, by mixing with a resin.
The resin is not particularly limited, and may be appropriately selected from thermoplastic resins, photocurable resins, thermosetting resins, etc., depending on the application of the resin composition. For example, acrylic resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, low-density polyethylene resins, polypropylene resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyacetal resins, polyphenylene sulfide resins, polyethylene terephthalate resins, polybutylene terephthalate resins, polycycloolefin resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, fluororesins, silicone resins, polyester resins, epoxy resins, phenolic resins, melamine resins, and other resins. These may be used alone or in combination of two or more.
樹脂組成物における本発明の化合物の配合量は、例えば、樹脂組成物の総固形分に対して当該化合物が0.001~50重量%であることが好ましく、0.01~40重量%であることがより好ましい。 The amount of the compound of the present invention in the resin composition is, for example, preferably 0.001 to 50% by weight, and more preferably 0.01 to 40% by weight, of the total solid content of the resin composition.
樹脂組成物は、その用途等に応じて、本発明の化合物及び樹脂以外の任意成分を含んでもよい。任意成分として、例えば、酸化防止剤、消泡剤、色素(染料、顔料等)、赤外線吸収剤、重合性単量体、重合開始剤、増感剤等が挙げられる。また、本発明の化合物以外の紫外線吸収剤を含んでもよい。
樹脂組成物の製造方法は特に限定されず、例えば、本発明の化合物及び樹脂、並びに、所望により配合される任意成分を混合すればよい。
本発明の化合物、及び、本発明の化合物を含む樹脂組成物は、例えば、光学フィルタの製造に好適に用いられる。本発明の化合物を含む光学フィルタも、本発明の1つである。
The resin composition may contain optional components other than the compound of the present invention and the resin, depending on the application, etc. Examples of optional components include antioxidants, defoamers, colorants (dyes, pigments, etc.), infrared absorbers, polymerizable monomers, polymerization initiators, sensitizers, etc. In addition, the resin composition may contain an ultraviolet absorber other than the compound of the present invention.
The method for producing the resin composition is not particularly limited, and for example, the compound of the present invention and the resin, as well as any optional components that are added as desired, may be mixed together.
The compound of the present invention and a resin composition containing the compound of the present invention are suitably used for producing an optical filter, for example. The optical filter containing the compound of the present invention also constitutes the present invention.
光学フィルタは、本発明の化合物を含むものであればよく、光学フィルタの構成は特に限定されない。例えば、従来のものと同様に、少なくとも支持体を有し、必要に応じて、粘着層、光学機能層、反射防止層、ハードコート層等の各種機能層を有することができる。光学フィルタにおいて、本発明の化合物は、支持体及び各種機能層のいずれかに含まれていればよく、例えば、支持体又は光学機能層に含有されていることが好ましい。また、光学フィルタの大きさ及び形状は、特に限定されず、用途等に応じて適宜選択すればよい。 The optical filter may contain the compound of the present invention, and the configuration of the optical filter is not particularly limited. For example, like conventional optical filters, the optical filter may have at least a support, and may have various functional layers such as an adhesive layer, an optical functional layer, an anti-reflection layer, and a hard coat layer, as necessary. In the optical filter, the compound of the present invention may be contained in either the support or the various functional layers, and is preferably contained in the support or the optical functional layer, for example. The size and shape of the optical filter are not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the application, etc.
支持体及び各種機能層の構成も特に限定されない。例えば支持体は、通常、透明樹脂を用いて形成される。透明樹脂としては、例えば、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。 The configuration of the support and the various functional layers is not particularly limited. For example, the support is usually formed using a transparent resin. Examples of transparent resins include cyclic olefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide (aramid) resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyparaphenylene resins, polyamideimide resins, polyethylene naphthalate (PEN) resins, fluorinated aromatic polymer resins, (modified) acrylic resins, and epoxy resins.
光学フィルタの製造方法は特に限定されない。例えば、支持体上に本発明の化合物を含む光学機能層を形成する方法として、溶媒中に本発明の化合物及びバインダー樹脂等を溶解又は分散させた後、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗工方法によって支持体上に塗膜形成する方法が挙げられる。上記溶媒としては、特に制限されず、有機溶媒等を使用することができる。 The method for producing an optical filter is not particularly limited. For example, a method for forming an optical functional layer containing the compound of the present invention on a support includes dissolving or dispersing the compound of the present invention and a binder resin in a solvent, and then forming a coating film on the support by a coating method such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, spin coating, or extrusion coating. The above-mentioned solvent is not particularly limited, and an organic solvent, etc. can be used.
また、本発明の化合物を含む光学機能層又は支持体の製造方法として、本発明の化合物と、光硬化性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂並びに光重合開始剤及び/又は熱重合開始剤とを混合した後、光照射及び/又は加熱処理により硬化膜を形成し、これを光学機能層又は支持体とすることもできる。 In addition, as a method for producing an optical functional layer or support containing the compound of the present invention, the compound of the present invention can be mixed with a photocurable resin and/or a thermosetting resin, and a photopolymerization initiator and/or a thermal polymerization initiator, and then a cured film is formed by light irradiation and/or heat treatment, and this can be used as the optical functional layer or support.
光学フィルタは、例えば、紫外線遮蔽用フィルタ、カラーフィルタ、色変換フィルタ、光吸収フィルタ等の光学フィルタとして、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、撮像装置、照明用具や窓ガラス等の防虫(走光性を持つ飛翔昆虫の飛来抑制)材料等に好適に使用することができる。 The optical filters can be suitably used as, for example, ultraviolet shielding filters, color filters, color conversion filters, light absorption filters, and other optical filters in liquid crystal displays, organic electroluminescence displays, imaging devices, lighting equipment, window glass, and other insect repellent materials (to prevent the arrival of phototactic flying insects).
本発明の化合物、及び、本発明の化合物を含む樹脂組成物は、例えば、紫外線遮蔽材料、紫外線吸収剤、記録材料、化粧品の製造にも好適に用いられる。本発明の化合物を含む紫外線吸収剤も本発明の1つである。
紫外線遮蔽材料、紫外線吸収剤、記録材料、化粧品は、本発明の化合物を含むものであればよく、その構成は特に限定されない。本発明の化合物は、1種のみ使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
紫外線遮蔽材料は特に限定されず、例えば、紫外線カットフィルム;紫外線カット用眼鏡のレンズ又はコンタクトレンズ等の紫外線遮断レンズ等が挙げられる。紫外線遮蔽材料の一例であるレンズを製造する方法としては、例えば、透明樹脂に本発明の化合物を混練し、射出成形法、圧縮成形法、押出成形法等により成形する方法や、前述の支持体上に本発明の化合物を含む光学機能層を形成する方法等の各種の方法を採ることができる。紫外線吸収剤は、ガラス、プラスチック、繊維、紙、塗料、インク、化粧品等の様々な材料に使用することができる。紫外線吸収剤は、種々の材料に混合して用いることができ、該材料中に分散していてもよく、溶解していてもよい。また、紫外線吸収剤は、種々の材料に化学的又は物理的に担持されていてもよい。
本発明の化合物を含む記録材料としては、光学ディスク等が挙げられる。
The compound of the present invention and the resin composition containing the compound of the present invention are also suitable for use in the manufacture of, for example, ultraviolet shielding materials, ultraviolet absorbers, recording materials, and cosmetics. The ultraviolet absorbers containing the compound of the present invention are also part of the present invention.
The ultraviolet shielding material, ultraviolet absorbing agent, recording material, and cosmetic are not particularly limited as long as they contain the compound of the present invention. The compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more kinds.
The ultraviolet shielding material is not particularly limited, and examples thereof include ultraviolet cut films; ultraviolet shielding lenses such as ultraviolet cut eyeglass lenses or contact lenses. As a method for producing a lens, which is an example of an ultraviolet shielding material, various methods can be adopted, such as a method of kneading the compound of the present invention into a transparent resin and molding it by injection molding, compression molding, extrusion molding, etc., or a method of forming an optical functional layer containing the compound of the present invention on the above-mentioned support. The ultraviolet absorber can be used in various materials such as glass, plastic, fiber, paper, paint, ink, and cosmetics. The ultraviolet absorber can be used by mixing it with various materials, and may be dispersed or dissolved in the materials. In addition, the ultraviolet absorber may be chemically or physically supported on various materials.
Recording materials containing the compounds of the present invention include optical disks and the like.
以下に本発明をより具体的に説明する実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The following examples are provided to more specifically explain the present invention, but the present invention is not limited to these examples.
以下で、得られた化合物の物性を測定する際に使用した機器は次の通りである。
(LC/MS)
(株)島津製作所製 高速液体クロマトグラフ質量分析計LCMS-2010EV(ESI法)
(NMR)
日本電子(株)製 核磁気共鳴装置JNM-ECZ400S
The following instruments were used to measure the physical properties of the compounds obtained.
(LC/MS)
Shimadzu Corporation High Performance Liquid Chromatograph Mass Spectrometer LCMS-2010EV (ESI method)
(NMR)
Nuclear magnetic resonance apparatus JNM-ECZ400S manufactured by JEOL Ltd.
<実施例1>
中間体(6-1)の合成
2,4,4-トリメチルオキサゾリン(東京化成工業(株)製、70.8g)と、ヨウ化メチル(118g)、テトラヒドロフラン(THF)(80ml)を300mL反応フラスコに入れ、15時間撹拌した。反応溶液から析出した結晶を濾取した。この結晶を50℃で乾燥することで、2,3,4,4-テトラメチルオキサゾリニウムヨージドを126g得た。
50mL反応フラスコに、2,3,4,4-テトラメチルオキサゾリニウムヨージド(5.0g)、N,N’-ジフェニルホルムアミジン(東京化成工業(株)製、4.0g)、無水酢酸(20mL)を混合し、95~100℃で6.5時間撹拌した。反応後、酢酸エチルを用いて結晶を析出させ、ろ集し、下記式(6-1)で示される化合物(中間体(6-1))を3.0g得た。式中、N(Ac)Phはアセトアニリド基を示す。以下も同様である。
Example 1
Synthesis of intermediate (6-1) 2,4,4-trimethyloxazoline (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 70.8 g), methyl iodide (118 g), and tetrahydrofuran (THF) (80 ml) were placed in a 300 mL reaction flask and stirred for 15 hours. The crystals precipitated from the reaction solution were collected by filtration. The crystals were dried at 50° C. to obtain 126 g of 2,3,4,4-tetramethyloxazolinium iodide.
2,3,4,4-Tetramethyloxazolinium iodide (5.0 g), N,N'-diphenylformamidine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 4.0 g), and acetic anhydride (20 mL) were mixed in a 50 mL reaction flask and stirred at 95 to 100°C for 6.5 hours. After the reaction, crystals were precipitated using ethyl acetate and collected by filtration to obtain 3.0 g of a compound represented by the following formula (6-1) (intermediate (6-1)). In the formula, N(Ac)Ph represents an acetanilide group. The same applies below.
中間体(7-1)の合成
特開2000-310841号公報に記載の方法で、下記式(7-1)で示される化合物(中間体(7-1))を合成した。式中、t-Buはtert-ブチル基を示す。以下も同様である。
Synthesis of Intermediate (7-1) A compound represented by the following formula (7-1) (intermediate (7-1)) was synthesized by the method described in JP-A-2000-310841. In the formula, t-Bu represents a tert-butyl group. The same applies below.
化合物(1-1)の合成
50mL反応フラスコ中の中間体(6-1)(3.0g)、中間体(7-1)(2.2g)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)(15mL)の混合液に、トリエチルアミン(1.0g)を25℃前後で滴下した。室温下で19時間撹拌後、水に排出してしばらく撹拌して析出した結晶をろ集した。イソプロピルアルコール(IPA)で洗浄し、得られた結晶を80℃で乾燥させることで化合物(1-1)を2.1g得た。
MS:m/z=431[M+H]+
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ8.24(d,1H),5.73(s,1H),4.93(d,1H),4.18(s,2H),2.85(s,3H),1.64(s,1H),1.56(d,2H),1.41(t,2H),1.33(s,6H),1.13(d,2H),1.02(d,3H),0.87(s,18H)
Synthesis of Compound (1-1) In a 50 mL reaction flask, triethylamine (1.0 g) was added dropwise to a mixture of intermediate (6-1) (3.0 g), intermediate (7-1) (2.2 g), and N,N-dimethylformamide (DMF) (15 mL) at about 25° C. After stirring at room temperature for 19 hours, the mixture was poured into water and stirred for a while, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were washed with isopropyl alcohol (IPA), and the obtained crystals were dried at 80° C. to obtain 2.1 g of compound (1-1).
MS: m/z=431 [M+H] +
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ8.24 (d, 1H), 5.73 (s, 1H), 4.93 (d, 1H), 4.18 (s, 2H), 2.85 (s, 3H), 1.64 (s, 1H) ), 1.56 (d, 2H), 1.41 (t, 2H), 1.33 (s, 6H), 1.13 (d, 2H), 1.02 (d, 3H), 0.87 (s, 18H)
<実施例2>
中間体(6-2)の合成
特開平07-126314号公報に記載の方法で得たN-ベンジル-2,4,4-トリメチルオキサゾリニウムブロマイド(7.2g)、N,N’-ジフェニルホルムアミジン(東京化成工業(株)製、5.0g)、IPA(25mL)の混合液を、100mLナスフラスコ中、80℃で4.5時間反応させ、減圧濃縮してオイル状物を得た。
50mLナスフラスコ中に、上記オイル状物(8.5g)と無水酢酸(22mL)の混合液を90~95℃で5.5時間反応させ、減圧濃縮して下記式(6-2)で示される化合物(中間体(6-2))を5.8g得た。
Example 2
Synthesis of Intermediate (6-2) A mixture of N-benzyl-2,4,4-trimethyloxazolinium bromide (7.2 g) obtained by the method described in JP-A-07-126314, N,N'-diphenylformamidine (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 5.0 g), and IPA (25 mL) was reacted in a 100 mL recovery flask at 80°C for 4.5 hours and concentrated under reduced pressure to obtain an oily product.
In a 50 mL recovery flask, a mixture of the above oil (8.5 g) and acetic anhydride (22 mL) was reacted at 90 to 95° C. for 5.5 hours, and concentrated under reduced pressure to obtain 5.8 g of a compound represented by the following formula (6-2) (intermediate (6-2)).
化合物(1-2)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(6-1)を中間体(6-2)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-2)を得た。
MS:m/z=507[M+H]+
Synthesis of Compound (1-2) Compound (1-2) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (6-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (6-2).
MS: m/z=507 [M+H] +
<実施例3>
中間体(7-2)の合成
US6271410B1に記載の方法と同様にして、下記式(7-2)で示される化合物(中間体(7-2))を得た。
Example 3
Synthesis of Intermediate (7-2) A compound represented by the following formula (7-2) (intermediate (7-2)) was obtained in the same manner as described in US Pat. No. 6,271,410 B1.
化合物(1-3)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-2)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-3)を得た。
MS:m/z=361[M+H]+
Synthesis of Compound (1-3) Compound (1-3) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-2).
MS: m/z=361 [M+H] +
<実施例4>
中間体(7-3)の合成
US6271410B1に記載の方法で、下記式(7-3)で示される化合物(中間体(7-3))を得た。
Example 4
Synthesis of Intermediate (7-3) A compound represented by the following formula (7-3) (intermediate (7-3)) was obtained by the method described in US Pat. No. 6,271,410 B1.
化合物(1-4)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-3)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-4)を得た。
MS:m/z=305[M+H]+
Synthesis of Compound (1-4) Compound (1-4) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-3).
MS: m/z=305 [M+H] +
<実施例5>
中間体(7-4)の合成
US6271410B1に記載の方法と同様にして、下記式(7-4)で示される化合物(中間体(7-4))を得た。
Example 5
Synthesis of Intermediate (7-4) A compound represented by the following formula (7-4) (intermediate (7-4)) was obtained in the same manner as described in US Pat. No. 6,271,410 B1.
化合物(1-5)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-4)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-5)を得た。
MS:m/z=357[M+H]+
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ8.14(d,1H),4.89(d,1H),4.18(s,2H),2.83(s,3H),2.17(s,9H),1.69-1.61(m,6H),1.33(s,6H)
Synthesis of Compound (1-5) Compound (1-5) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-4).
MS: m/z=357 [M+H] +
1H -NMR (400MHz, CDCl 3 ): δ8.14 (d, 1H), 4.89 (d, 1H), 4.18 (s, 2H), 2.83 (s, 3H), 2.17 (s, 9H), 1.69-1.61 (m, 6H), 1.33 (s, 6H)
<実施例6>
中間体(7-5)の合成
US6271410B1に記載の方法と同様にして、下記式(7-5)で示される化合物(中間体(7-5))を得た。
Example 6
Synthesis of Intermediate (7-5) A compound represented by the following formula (7-5) (intermediate (7-5)) was obtained in the same manner as described in US Pat. No. 6,271,410 B1.
化合物(1-6)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-5)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-6)を得た。
MS:m/z=357[M+H]+
Synthesis of Compound (1-6) Compound (1-6) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-5).
MS: m/z=357 [M+H] +
<実施例7>
中間体(7-6)の合成
Macromolecules,1992,25(22),pp6055-6058.に記載の方法と同様にして、下記式(7-6)で示される化合物(中間体(7-6))を合成した。
Example 7
Synthesis of Intermediate (7-6) A compound represented by the following formula (7-6) (intermediate (7-6)) was synthesized in the same manner as described in Macromolecules, 1992, 25(22), pp. 6055-6058.
化合物(1-7)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-6)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-7)を得た。
MS:m/z=525[M+H]+
Synthesis of Compound (1-7) Compound (1-7) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-6).
MS: m/z=525 [M+H] +
<実施例8>
中間体(7-7)の合成
US6271410B1に記載の方法と同様にして、下記式(7-7)で示される化合物(中間体(7-7))を得た。
Example 8
Synthesis of Intermediate (7-7) A compound represented by the following formula (7-7) (intermediate (7-7)) was obtained in the same manner as described in US Pat. No. 6,271,410 B1.
化合物(1-8)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)を中間体(7-7)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1-8)を得た。
MS:m/z=359[M+H]+
Synthesis of Compound (1-8) Compound (1-8) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to intermediate (7-7).
MS: m/z=359 [M+H] +
<実施例9>
中間体(6-3)の合成
25mL反応フラスコ中の2,4,4-トリメチルオキサゾリン(東京化成工業(株)製、3.4g)、1,6-ジヨードヘキサン(東京化成工業(株)製、3.4g)、アセトニトリル(10mL)の混合液を、約75℃で18.5時間、さらに約90℃で2.5時間反応させた。結晶をろ集し、酢酸エチルで洗浄して、中間物を結晶として4.8g得た。
50mL反応フラスコ中に、上記結晶(4.8g)、N,N’-ジフェニルホルムアミジン(3.5g)、アセトニトリル(20mL)の混合液を入れ、約75℃で15時間反応させた。析出した結晶をろ集し、中間物を結晶として3.9g得た。
50mLナスフラスコ中に、上記結晶(3.9g)と無水酢酸(20mL)を入れ、約130℃で2時間撹拌した。反応後、酢酸エチルで結晶を析出させ、ろ集し、下記式(6-3)で示される化合物(中間体(6-3))を4.2g得た。
<Example 9>
Synthesis of intermediate (6-3) A mixture of 2,4,4-trimethyloxazoline (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 3.4 g), 1,6-diiodohexane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 3.4 g), and acetonitrile (10 mL) in a 25 mL reaction flask was reacted at about 75° C. for 18.5 hours and then at about 90° C. for 2.5 hours. The crystals were collected by filtration and washed with ethyl acetate to obtain 4.8 g of the intermediate as crystals.
A mixture of the above crystals (4.8 g), N,N'-diphenylformamidine (3.5 g), and acetonitrile (20 mL) was placed in a 50 mL reaction flask and reacted for 15 hours at about 75° C. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 3.9 g of an intermediate product as crystals.
The above crystals (3.9 g) and acetic anhydride (20 mL) were placed in a 50 mL recovery flask and stirred for 2 hours at about 130° C. After the reaction, the crystals were precipitated with ethyl acetate and collected by filtration to obtain 4.2 g of a compound represented by the following formula (6-3) (intermediate (6-3)).
化合物(1-9)の合成
50mL反応フラスコ中に、中間体(6-3)(3.0g)、中間体(7-3)(1.3g)、DMF(13mL)を入れ、トリエチルアミン(0.80g)とDMF(2mL)の混合液を約20℃で滴下した。室温下で14時間撹拌し、反応液を水に排出した。析出した結晶をろ集し、メタノールで洗浄して化合物(1-9)を1.2g得た。
MS:m/z=663[M+H]+
Synthesis of Compound (1-9) In a 50 mL reaction flask, intermediate (6-3) (3.0 g), intermediate (7-3) (1.3 g), and DMF (13 mL) were placed, and a mixture of triethylamine (0.80 g) and DMF (2 mL) was added dropwise at about 20° C. The mixture was stirred at room temperature for 14 hours, and the reaction solution was poured into water. The precipitated crystals were collected by filtration and washed with methanol to obtain 1.2 g of compound (1-9).
MS: m/z=663 [M+H] +
<実施例10>
化合物(1-10)の合成
実施例9の化合物(1-9)の合成における中間体(7-3)を中間体(7-1)に変更した以外は、化合物(1-9)の合成と同様にして、化合物(1-10)を得た。
MS:m/z=916[M+H]+
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ8.22(d,2H),5.73(s,2H),4.90(d,2H),4.17(s,4H),3.20(t,4H),1.72-1.40(m,8H),1.60(s,2H),1.56(d,4H),1.50-40(m,4H),1.35(s,12H),1.12(d,4H),1.01(d,6H),0.88(s,36H)
Example 10
Synthesis of Compound (1-10) Compound (1-10) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-9) in Example 9, except that intermediate (7-3) in the synthesis of compound (1-9) in Example 9 was changed to intermediate (7-1).
MS: m/z=916 [M+H] +
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ8.22 (d, 2H), 5.73 (s, 2H), 4.90 (d, 2H), 4.17 (s, 4H), 3.20 (t, 4H), 1.72-1.40 (m, 8H), 1.6 0 (s, 2H), 1.56 (d, 4H), 1.50-40 (m, 4H), 1.35 (s, 12H), 1.12 (d, 4H), 1.01 (d, 6H), 0.88 (s, 36H)
<比較例1>
化合物(1’-1)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)をシアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1’-1)を得た。
<Comparative Example 1>
Synthesis of Compound (1'-1) Compound (1'-1) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).
<比較例2>
化合物(1’-2)の合成
実施例1の化合物(1-1)の合成における中間体(7-1)をシアノ酢酸tert-ブチル(東京化成工業(株)製)に変更した以外は、化合物(1-1)の合成と同様にして、化合物(1’-2)を得た。
<Comparative Example 2>
Synthesis of Compound (1'-2) Compound (1'-2) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound (1-1) in Example 1, except that intermediate (7-1) in the synthesis of compound (1-1) in Example 1 was changed to tert-butyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).
<比較例3>
化合物(1’-3)の合成
WO2019/004046に記載の方法で、化合物(1’-3)を得た。
<Comparative Example 3>
Synthesis of Compound (1'-3) Compound (1'-3) was obtained by the method described in WO2019/004046.
実施例1~10で得られた化合物(1-1)~(1-10)は、下記一般式(11)において、R3及びR5がそれぞれ表1に示す基である化合物である。下記式中、Meはメチル基を示す。 The compounds (1-1) to (1-10) obtained in Examples 1 to 10 are compounds represented by the following general formula (11), in which R3 and R5 are each a group shown in Table 1. In the following formula, Me represents a methyl group.
比較例1~3で得られた化合物(1’-1)~(1’-2)は、上記一般式(11)において、R3及びR5がそれぞれ表2に示す基である化合物である。化合物(1’-3)は、表2に示す構造の化合物である。 Compounds (1'-1) to (1'-2) obtained in Comparative Examples 1 to 3 are compounds represented by the above general formula (11), in which R3 and R5 are groups shown in Table 2. Compound (1'-3) is a compound having a structure shown in Table 2.
実施例及び比較例で得られた化合物について、以下の評価を行った。結果を表1及び表2に示す。 The following evaluations were carried out on the compounds obtained in the Examples and Comparative Examples. The results are shown in Tables 1 and 2.
<吸収波長測定試験>
実施例及び比較例で得た各化合物について、クロロホルム中での吸収スペクトルを測定し、波長300~800nmにおける吸収極大波長(λmax)、半値幅及び極大吸収波長におけるグラム吸光係数を求めた。
測定機器:日本分光社(株)製、紫外可視分光光度計V-560
<Absorption wavelength measurement test>
For each compound obtained in the Examples and Comparative Examples, the absorption spectrum in chloroform was measured, and the maximum absorption wavelength (λmax) in the wavelength range of 300 to 800 nm, the half-width, and the gram absorption coefficient at the maximum absorption wavelength were determined.
Measuring equipment: JASCO Corporation, UV-visible spectrophotometer V-560
半値幅は、下記式(I)で表される吸収スペクトルの急峻性を示す数値である。
半値幅=λ1/2-λmax (I)
上記式中、λmaxは、350~800nmにおける吸収極大波長を表し、λ1/2は、その波長における吸光度がλmaxにおける吸光度の1/2となり、かつ、λ1/2>λmaxである波長を表す。半値幅は、下記基準により評価した。
A:半値幅が15未満
B:半値幅が15以上、20未満
C:半値幅が20以上
The half-width is a value indicating the steepness of the absorption spectrum represented by the following formula (I).
Half width = λ 1/2 - λ max (I)
In the above formula, λ max represents the maximum absorption wavelength in the range of 350 to 800 nm, and λ 1/2 represents the wavelength at which the absorbance at that wavelength is half that at λ max and λ 1/2 > λ max . The half width was evaluated according to the following criteria.
A: Half-value width is less than 15 B: Half-value width is 15 or more and less than 20 C: Half-value width is 20 or more
グラム吸光係数は、下記基準により評価した。
A:グラム吸光係数が120より大きい
B:グラム吸光係数が90より大きく、120以下
C:グラム吸光係数が90以下
The gram absorption coefficient was evaluated according to the following criteria.
A: Gram absorptivity coefficient is greater than 120 B: Gram absorptivity coefficient is greater than 90 and is 120 or less C: Gram absorptivity coefficient is 90 or less
<耐熱性試験>
実施例及び比較例で得た化合物について、(株)島津製作所製の熱重量測定装置TGA-50を使用して下記の測定条件で熱分解による重量減少を測定し、初期重量の1%の減量が観測された温度を分解開始温度とした。
(測定条件)
試料量10mg、昇温速度10℃/分(最高到達温度500℃)、窒素雰囲気中、流量20mL/分の条件で測定した。
耐熱性は、分解開始温度から下記基準により評価した。
A:分解開始温度が240℃より高い
B:分解開始温度が200℃より高く、240℃以下
C:分解開始温度が200℃以下
<Heat resistance test>
For the compounds obtained in the Examples and Comparative Examples, the weight loss due to thermal decomposition was measured under the following measurement conditions using a thermogravimetric analyzer TGA-50 manufactured by Shimadzu Corporation, and the temperature at which a weight loss of 1% of the initial weight was observed was defined as the decomposition onset temperature.
(Measurement conditions)
The measurement was performed under the conditions of a sample weight of 10 mg, a temperature rise rate of 10° C./min (maximum temperature reached: 500° C.), in a nitrogen atmosphere, and a flow rate of 20 mL/min.
The heat resistance was evaluated based on the decomposition starting temperature according to the following criteria.
A: Decomposition starting temperature is higher than 240°C. B: Decomposition starting temperature is higher than 200°C and 240°C or lower C: Decomposition starting temperature is 200°C or lower
<耐光性試験>
実施例及び比較例で得た一部の化合物について、耐光性試験を行った。
各化合物10mgを、ポリメタクリレート8重量%トルエン溶液5mLに溶融し、ガラス基板上にスピンコート法により塗布し、乾燥させることで膜厚1.5μmの薄膜を作製した。
作製した薄膜にキセノンランプ(142klux)の光を連続的に24時間照射し、照射前(0時間)、照射後の薄膜の透過率を分光光度計で測定し、下記式(II)に従って化合物の残存率を測定した。
化合物の残存率(%)={(1-T1)/(1-T0)}×100 (II)
[ただし、T0はキセノンランプ照射前の透過率、T1はキセノンランプ照射後の透過率であり、T0及びT1は0~1である。]
なお、「透過率」とは、各化合物の吸収極大波長における透過率を表しており、上記の残存率が高い程、化合物が光によって分解されにくく、耐光性が高いことを示す。耐光性は、下記基準により評価した。
A:化合物の残存率が65%より大きい
B:化合物の残存率が50%より大きく、65%以下
C:化合物の残存率が50%以下
<Light resistance test>
Some of the compounds obtained in the Examples and Comparative Examples were subjected to a light resistance test.
10 mg of each compound was dissolved in 5 mL of an 8 wt % polymethacrylate toluene solution, applied onto a glass substrate by spin coating, and dried to prepare a thin film with a thickness of 1.5 μm.
The prepared thin film was continuously irradiated with light from a xenon lamp (142 klux) for 24 hours, and the transmittance of the thin film before (0 hour) and after irradiation was measured with a spectrophotometer to determine the residual rate of the compound according to the following formula (II).
Compound residual rate (%) = {(1-T 1 )/(1-T 0 )}×100 (II)
[where T0 is the transmittance before irradiation with the xenon lamp, T1 is the transmittance after irradiation with the xenon lamp, and T0 and T1 are between 0 and 1.]
The term "transmittance" refers to the transmittance at the absorption maximum wavelength of each compound, and the higher the residual rate, the more difficult the compound is to be decomposed by light, and the higher the light resistance. The light resistance was evaluated according to the following criteria.
A: Residual compound rate is greater than 65%. B: Residual compound rate is greater than 50% and 65% or less. C: Residual compound rate is 50% or less.
表1に示す置換基において、*は一般式(11)との結合部位を表す。Meはメチル基、Etはエチル基、Cyはシクロヘキシル基、t-Buはtert-ブチル基、Phはフェニル基を示す。 In the substituents shown in Table 1, * indicates the bonding site with general formula (11). Me is a methyl group, Et is an ethyl group, Cy is a cyclohexyl group, t-Bu is a tert-butyl group, and Ph is a phenyl group.
化合物(1-1)~(1-10)は耐熱性が良好であった。化合物(1-1)~(1-10)は、370~380nmに吸収極大波長を有し、半値幅が15nm未満であった。また、化合物(1-1)~(1-10)は、グラム吸光係数が120以上であった。これらの化合物は、半値幅が狭く、グラム吸光係数が高く、370~380nmの光を選択的にかつ効果的に吸収できる。また、これらの化合物は半値幅が狭いことから、可視光領域の吸収が少ないものである。化合物(1-1)及び(1-10)は、耐光性も良好であった。比較例1~2の化合物(1’-1)及び(1’-2)は、実施例の化合物と比較して耐熱性が劣っていた。比較例3の化合物(1’-3)は、吸収極大が380nmよりも長波長側にあった。比較例3の化合物(1’-3)は、半値幅が広く、グラム吸光係数も小さかった。
The compounds (1-1) to (1-10) had good heat resistance. The compounds (1-1) to (1-10) had an absorption maximum wavelength at 370 to 380 nm, and the half width was less than 15 nm. The compounds (1-1) to (1-10) also had a gram absorption coefficient of 120 or more. These compounds have a narrow half width and a high gram absorption coefficient, and can selectively and effectively absorb light of 370 to 380 nm. In addition, since these compounds have a narrow half width, they have little absorption in the visible light region. The compounds (1-1) and (1-10) also had good light resistance. The compounds (1'-1) and (1'-2) of Comparative Examples 1 and 2 had inferior heat resistance compared to the compounds of the Examples. The compound (1'-3) of Comparative Example 3 had an absorption maximum at a wavelength longer than 380 nm. The compound (1'-3) of Comparative Example 3 had a wide half-value width and a small gram extinction coefficient.
Claims (5)
R3aは、水素原子、フェニル基を有していてもよい、炭素数1~8の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は一般式(2)で示される基を示し、
R4aは、シアノ基を示し、
R5aは、炭素数1~10の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を有していてもよい、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基、又は一般式(3)で示される基を示す。
T1aは、一般式(4)で示される基を示す。
*は、一般式(1)中の窒素原子との結合部位を示す。)
R4bは、シアノ基を示し、
R5bは、炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有していてもよい、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基を示す。
*は、一般式(2)中のL1aとの結合部位を示す。)
T2aは、一般式(5)で示される基を示す。
*は、一般式(1)中の酸素原子との結合部位を示す。)
R3cは、炭素数1~8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、
R4cは、シアノ基を示す。
*は、一般式(3)中のL2aとの結合部位を示す。)) A compound represented by the following general formula (1):
R 3a represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a phenyl group, or a group represented by general formula (2):
R 4a represents a cyano group ;
R 5a represents a cyclohexyl group, a norbornyl group or an adamantyl group which may have a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms , or a group represented by the general formula (3).
T 1a represents a group represented by general formula (4).
* indicates the bonding site with the nitrogen atom in general formula (1).
R 4b represents a cyano group ;
R 5b represents a cyclohexyl group, a norbornyl group or an adamantyl group, which may have a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms .
* indicates the bonding site with L 1a in general formula (2).
T2a represents a group represented by formula (5) .
* indicates the bonding site with the oxygen atom in general formula (1).
R 3c represents a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms ;
R 4c represents a cyano group .
* indicates the bonding site with L2a in general formula (3).
R 3a は、メチル基、エチル基、フェニルメチル基、フェニルエチル基又は一般式(2)で示される基を示し、
R5aが、メチル基若しくはtert-ブチル基を有していてもよい、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基、又は一般式(3)で示される基を示し、
一般式(2)において、L 1a は、炭素数1~8の直鎖又は分岐鎖アルキル基から1個の水素原子が脱離した基を表し、
一般式(4)において、R 1b 及びR 2b は、互いに独立に、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、R 5b は、メチル基若しくはtert-ブチル基を有していてもよい、シクロヘキシル基、ノルボルニル基又はアダマンチル基を示し、
一般式(5)においてR1c及びR2cが、互いに独立に、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、R3c が炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す請求項1に記載の化合物。 In general formula (1), R 1a and R 2a each independently represent a hydrogen atom , a methyl group, or an ethyl group ;
R3a represents a methyl group, an ethyl group, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, or a group represented by general formula (2).
R 5a represents a cyclohexyl group , a norbornyl group or an adamantyl group , each of which may have a methyl group or a tert-butyl group , or a group represented by general formula (3):
In formula (2), L 1a represents a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
In general formula (4), R 1b and R 2b each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group; R 5b represents a cyclohexyl group, a norbornyl group, or an adamantyl group, which may have a methyl group or a tert-butyl group;
The compound according to claim 1 , wherein in general formula (5), R 1c and R 2c each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group , and R 3c represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RR 3a3a は、メチル基、フェニルメチル基又は一般式(2)で示される基を示し、represents a methyl group, a phenylmethyl group, or a group represented by general formula (2),
RR 5a5a が、シクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基、1-若しくは2-アダマンチル基、イソボルニル基又は一般式(3)で示される基を示し、represents a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group, a 1- or 2-adamantyl group, an isobornyl group, or a group represented by general formula (3):
一般式(2)において、LIn the general formula (2), L 1a1a は、炭素数1~8の直鎖アルキル基から1個の水素原子が脱離した基を表し、represents a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms from which one hydrogen atom has been eliminated,
一般式(4)において、RIn the general formula (4), R 1b1b 及びRand R 2b2b は、メチル基を示し、Rrepresents a methyl group, R 5b5b は、シクロヘキシル基、4-tert-ブチルシクロヘキシル基又は2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルシクロヘキシル基を示し、represents a cyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, or a 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl group,
一般式(5)においてRIn the general formula (5), R 1c1c 及びRand R 2c2c が、メチル基を示し、Rrepresents a methyl group, R 3c3c がメチル基又はエチル基を示す、請求項1又は2に記載の化合物。3. The compound according to claim 1 or 2, wherein represents a methyl group or an ethyl group.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020154466A JP7659249B2 (en) | 2020-09-15 | 2020-09-15 | Compound |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2020154466A JP7659249B2 (en) | 2020-09-15 | 2020-09-15 | Compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022048579A JP2022048579A (en) | 2022-03-28 |
| JP7659249B2 true JP7659249B2 (en) | 2025-04-09 |
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ID=80844189
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2020154466A Active JP7659249B2 (en) | 2020-09-15 | 2020-09-15 | Compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7659249B2 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008509906A (en) | 2004-08-11 | 2008-04-03 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | Aminobutadiene UV screen |
| WO2011030927A1 (en) | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 住友化学株式会社 | Compound for inhibiting type-3 17β-hydroxysteroid dehydrogenase |
| JP2013522259A (en) | 2010-03-15 | 2013-06-13 | ロレアル | Composition containing dibenzoylmethane-based blocking agent and hydrophilic or water-soluble merocyanine-based UV blocking agent, and method for photostabilizing dibenzoylmethane-based blocking agent |
| JP2014194508A (en) | 2013-03-29 | 2014-10-09 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition, cured film, image forming method, solid-state imaging element, color filter and ultraviolet absorbent |
-
2020
- 2020-09-15 JP JP2020154466A patent/JP7659249B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008509906A (en) | 2004-08-11 | 2008-04-03 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | Aminobutadiene UV screen |
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| JP2013522259A (en) | 2010-03-15 | 2013-06-13 | ロレアル | Composition containing dibenzoylmethane-based blocking agent and hydrophilic or water-soluble merocyanine-based UV blocking agent, and method for photostabilizing dibenzoylmethane-based blocking agent |
| JP2014194508A (en) | 2013-03-29 | 2014-10-09 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition, cured film, image forming method, solid-state imaging element, color filter and ultraviolet absorbent |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022048579A (en) | 2022-03-28 |
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