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JP7659541B2 - Method for producing amide bond-containing compound - Google Patents
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Description

本発明は、液相法によるアミド結合含有化合物の製造方法に関する。The present invention relates to a method for producing an amide bond-containing compound using a liquid phase method.

アミド結合反応による化合物の伸長は、固相法又は液相法で行われる。前記固相法では、化合物の末端を固体の支持体に結合した状態でアミド結合反応により化合物の伸長を繰り返し行い、目的の化合物となった段階で該化合物を支持体から切り離す。このため、未反応の活性エステルなどを洗浄により容易に淘汰することが可能である。しかし、固相法は反応性が低くいため大過剰量の原料が必要であり、スケールアップも困難であった。これに対して、液相法は反応性が高く、スケールアップも容易であるため工業的に有用な製造方法である。一方で、液相法ではアミド結合反応による化合物の伸長終了後に、残存した活性エステルや副生成物を除去するために、結晶化などの単離操作が必要であった。このため、製造工程が煩雑となり、製造に非常に時間が掛るという問題があった。
そこで、残存した活性エステルや副生成物を単離操作することなしに除去可能な液相法によるアミド結合含有化合物の製造方法が求められていた。
The extension of a compound by an amide bond reaction is carried out by a solid phase method or a liquid phase method. In the solid phase method, the extension of the compound is repeatedly carried out by an amide bond reaction in a state where the end of the compound is bound to a solid support, and the compound is cleaved from the support at the stage where the target compound is obtained. Therefore, it is possible to easily select unreacted active esters and the like by washing. However, the solid phase method requires a large excess of raw materials due to its low reactivity, and it is difficult to scale up. In contrast, the liquid phase method is highly reactive and easy to scale up, making it an industrially useful production method. On the other hand, in the liquid phase method, after the extension of the compound by the amide bond reaction is completed, an isolation operation such as crystallization is required to remove the remaining active esters and by-products. Therefore, there was a problem that the production process became complicated and the production took a very long time.
Therefore, there has been a demand for a method for producing an amide bond-containing compound by a liquid phase method that can remove the remaining active ester and by-products without an isolation procedure.

特許文献1には、過剰量の活性化カルボキシル成分を使用してアミノ成分をアシル化する結合の後に、ベンジルβ-アラニネートp-トルエンスルホネート塩などの捕捉剤を使用して残留する活性化カルボキシル官能基を除去し、水性抽出を行う溶液中でのペプチドの合成方法が記載されている。 Patent Document 1 describes a method for synthesizing peptides in solution, in which an excess of an activated carboxyl component is used to acylate an amino component, followed by removal of residual activated carboxyl functional groups using a scavenger such as benzyl β-alaninate p-toluenesulfonate salt, and aqueous extraction.

特開2003-55396号公報JP 2003-55396 A

ところで、捕捉剤は、アミノ基やスルファニル基などの活性エステルと反応する基と、水溶性基としてスルホ基、カルボキシ基などの酸性基又は塩基性基とを有する化合物である。この様な捕捉剤を用いると、活性エステルを分解でき、かつ分解物を水洗除去することが可能となる。しかし、カルボニル基が結合した芳香族複素環を有する活性エステルは、他の活性エステルに比べて、捕捉剤による分解物がエマルジョンとなりやすく、分解物の除去が容易ではないという課題があることがわかった。
本発明の目的は、アミド結合含有化合物の製造において、カルボニル基が結合した芳香族複素環を有する活性酸原料(活性エステル、酸ハロゲン化物、酸無水化物など)を容易に除去可能な方法を提供することにある。
By the way, a scavenger is a compound having a group that reacts with an active ester, such as an amino group or a sulfanyl group, and an acidic or basic group, such as a sulfo group or a carboxy group, as a water-soluble group. By using such a scavenger, it is possible to decompose the active ester and remove the decomposition product by washing with water. However, it has been found that an active ester having an aromatic heterocycle to which a carbonyl group is bonded is more likely to be emulsified by the scavenger than other active esters, and therefore the decomposition product is not easily removed.
An object of the present invention is to provide a method capable of easily removing an activated acid raw material (such as an activated ester, an acid halide, or an acid anhydride) having an aromatic heterocycle bonded to a carbonyl group in the production of an amide bond-containing compound.

前記課題を解決し得た本発明は、以下の通りである。
[1] 液相法によるアミド結合形成反応において、
式(1);

Figure 0007659541000001

[式中、nは1以上50以下の整数を示し、ProはC末端の保護基を示し、Raはアミノ酸残基を示す。nが2以上の場合、複数のRaは同一であってもよく、異なっていてもよい。]で表される化合物と、
式(2)又は式(3);
Figure 0007659541000002

[式中、mは1又は2の整数を示し、Rbはアミノ酸残基を示し、mが2の場合、2つのRbは同一であってもよく、異なっていてもよい。Rbの少なくとも1つは式(4)で表されるアミノ酸残基である。QはN末端の保護基を示し、Ar1及びAr2は、互いに独立に、カルボキシ基及びアミノ基を除く置換基を有していてもよい芳香族複素環を示す。式(2)で表される化合物が2つのAr2を有する場合、2つのAr2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。*は結合手を示す。]で表される化合物を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物とを反応させて、式(5)又は式(6);
Figure 0007659541000003

[式中、Ra、Rb、Ar1、Pro、Q、n、及びmは、前記と同じである。]で表されるアミド結合含有化合物を合成する工程A、
前記工程Aで得られた式(5)又は式(6)で表されるアミド結合含有化合物を含む反応混合物に、式(7);
Figure 0007659541000004

[式中、Aはアミノ基、又はスルファニル基を示し、Bは-SO3M、-CO2M、-PO32、又はジアルキルアミノ基を示し、R1は炭素数1~4のアルキレン基を示す。Mは水素原子、又はアルカリ金属原子を示し、Mが複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。]で表される化合物、及び
酸性基又は酸性基の塩を有さないモノアミン化合物を混合し、
前記式(2)又は式(3)で表される化合物を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物と前記式(7)で表される化合物とを反応させる工程B、及び
前記工程Bで得られた反応混合物を塩基性及び/又は酸性水溶液で洗浄する工程Cを含むことを特徴とするアミド結合含有化合物の製造方法。
[2] 前記酸性基又は酸性基の塩を有さないモノアミン化合物がトリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、又はN-メチルモルホリンである[1]に記載の製造方法。
[3] 前記式(7)中のR1が炭素数2~3のアルキレン基である[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4] 前記式(7)中のBが-SO3M、-CO2M、又は-PO32[Mは、前記と同じである。]である[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 前記式(7)で表される化合物がタウリンである[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 前記塩基性水溶液が炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液である[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 前記炭酸塩、炭酸水素塩がリチウム塩、ナトリウム塩、又はカリウム塩である[6]に記載の製造方法。
[8] 前記酸性水溶液が有機酸の水溶液である[1]~[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9] 前記有機酸がクエン酸である[8]に記載の製造方法。
[10] 前記式(5)又は式(6)で表されるアミド結合含有化合物がピロールイミダゾール(ポリ)アミド化合物である[1]~[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11] [1]~[10]のいずれかに記載の製造方法で前記式(5)で表されるアミド結合含有化合物を製造し、得られた前記式(5)で表されるアミド結合含有化合物を単離することなく、N末端を脱保護し、続いて、前記工程A、工程B、及び工程Cを行うことでアミド結合含有化合物の伸長を行うアミド結合含有化合物の製造方法。 The present invention, which has solved the above problems, is as follows.
[1] In a liquid phase amide bond formation reaction,
Formula (1);
Figure 0007659541000001

[wherein n is an integer of 1 to 50, Pro is a protecting group for the C-terminus, and Ra is an amino acid residue. When n is 2 or more, multiple Ra's may be the same or different.]
Formula (2) or Formula (3);
Figure 0007659541000002

[wherein m represents an integer of 1 or 2, Rb represents an amino acid residue, and when m is 2, the two Rb's may be the same or different. At least one of Rb's is an amino acid residue represented by formula (4). Q represents an N-terminal protecting group, and Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic heterocycle which may have a substituent other than a carboxy group and an amino group. When the compound represented by formula (2) has two Ar 2's , the two Ar 2 's may be the same or different. * represents a bond.] is reacted with a compound which has been converted into an active ester, an acid halide, or an acid anhydride to obtain a compound represented by formula (5) or formula (6);
Figure 0007659541000003

[wherein Ra, Rb, Ar 1 , Pro, Q, n, and m are the same as defined above],
The reaction mixture containing the amide bond-containing compound represented by formula (5) or formula (6) obtained in step A is treated with a compound represented by formula (7);
Figure 0007659541000004

[wherein A represents an amino group or a sulfanyl group, B represents --SO3M , --CO2M , --PO3M2 , or a dialkylamino group, and R1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, and when a plurality of M's are present, they may be the same or different.] and a monoamine compound having no acidic group or a salt of an acidic group are mixed,
A method for producing an amide bond-containing compound, comprising: a step B of reacting a compound obtained by converting a compound represented by formula (2) or (3) into an active ester, an acid halide, or an acid anhydride with a compound represented by formula (7); and a step C of washing the reaction mixture obtained in the step B with a basic and/or acidic aqueous solution.
[2] The method according to [1], wherein the monoamine compound having no acidic group or a salt of an acidic group is triethylamine, tributylamine, N,N-diisopropylethylamine, or N-methylmorpholine.
[3] The method according to [1] or [2], wherein R 1 in the formula (7) is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms.
[4] The method according to any one of [1] to [3], wherein B in the formula (7) is --SO 3 M, --CO 2 M, or --PO 3 M 2 [M is as defined above].
[5] The method according to any one of [1] to [4], wherein the compound represented by formula (7) is taurine.
[6] The method according to any one of [1] to [5], wherein the basic aqueous solution is an aqueous solution of a carbonate or a hydrogencarbonate.
[7] The method according to [6], wherein the carbonate or hydrogen carbonate is a lithium salt, a sodium salt, or a potassium salt.
[8] The method according to any one of [1] to [7], wherein the acidic aqueous solution is an aqueous solution of an organic acid.
[9] The method according to [8], wherein the organic acid is citric acid.
[10] The method according to any one of [1] to [9], wherein the amide bond-containing compound represented by the formula (5) or (6) is a pyrrole-imidazole (poly)amide compound.
[11] A method for producing an amide bond-containing compound represented by formula (5) by the production method according to any one of [1] to [10], and deprotecting the N-terminus of the obtained amide bond-containing compound represented by formula (5) without isolating it, and then carrying out the steps A, B, and C to elongate the amide bond-containing compound.

本発明によれば、アミド結合含有化合物の製造において、カルボニル基が結合した芳香族複素環を有する活性エステルなどの活性酸原料を容易に除去することができる。また、目的のアミド結合含有化合物を高収率で得ることも可能である。According to the present invention, in the production of an amide bond-containing compound, it is possible to easily remove an activated acid raw material such as an activated ester having an aromatic heterocycle to which a carbonyl group is bonded. It is also possible to obtain the desired amide bond-containing compound in high yield.

本発明のアミド結合含有化合物の製造方法は、液相法によるアミド結合形成反応であって、以下の工程A~Cを有する。
[工程A]C末端が保護されたアミノ酸またはアミド結合含有化合物(1)(以下、反応性アミン原料という場合もある)と、カルボニル基が結合した芳香族複素環を有するカルボン酸を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物(以下、活性酸原料という場合がある)を反応させて、アミド結合含有化合物を合成する;
[工程B]工程Aで得られたアミド結合含有化合物を含む反応混合物に、特定の誘導化剤(捕捉剤と称する場合もある)とモノアミン化合物を混合し、工程Aの反応で残存した活性酸原料と誘導化剤とを反応させる工程;
[工程C]工程Bで得られた反応混合物を塩基性及び/又は酸性水溶液で洗浄する。
前記活性酸原料は、芳香族複素環とカルボニル基とが結合しており、誘導化剤(捕捉剤)との反応物がエマルジョンになりやすいという課題を有する。特定の誘導化剤(捕捉剤)を使用すると、エマルジョンの問題を生じさせることなく、余分の活性酸原料を除去できる。
The method for producing an amide bond-containing compound of the present invention is an amide bond-forming reaction by a liquid phase method, and includes the following steps A to C.
[Step A] An amide bond-containing compound is synthesized by reacting a C-terminal protected amino acid or an amide bond-containing compound (1) (hereinafter, sometimes referred to as a reactive amine raw material) with a compound obtained by converting a carboxylic acid having an aromatic heterocycle to which a carbonyl group is bonded into an active ester, an acid halide, or an acid anhydride (hereinafter, sometimes referred to as an activated acid raw material);
[Step B] A step of mixing a specific derivatizing agent (sometimes referred to as a scavenger) and a monoamine compound with the reaction mixture containing the amide bond-containing compound obtained in Step A, and reacting the activated acid raw material remaining from the reaction in Step A with the derivatizing agent;
[Step C] The reaction mixture obtained in step B is washed with a basic and/or acidic aqueous solution.
The activated acid raw material has a problem that the reaction product with a derivatizing agent (scavenger) tends to become an emulsion because the aromatic heterocycle is bonded to a carbonyl group. By using a specific derivatizing agent (scavenger), the excess activated acid raw material can be removed without causing the emulsion problem.

<工程A>
<<反応性アミン原料>>
工程Aで用いる反応性アミン原料は、式(1)で表される。

Figure 0007659541000005

[式中、nは1以上50以下の整数を示し、ProはC末端の保護基を示し、Raはアミノ酸残基を示す。nが2以上の場合、複数のRaは同一であってもよく、異なっていてもよい。] <Step A>
<<Reactive amine raw material>>
The reactive amine starting material used in step A is represented by formula (1).
Figure 0007659541000005

[In the formula, n represents an integer of 1 to 50, Pro represents a protecting group at the C-terminus, and Ra represents an amino acid residue. When n is 2 or more, multiple Ra's may be the same or different.]

Raで示されるアミノ酸残基としては、-NH-、及び-C(=O)-を有する炭化水素基、芳香族複素環等が挙げられる。前記炭化水素基にはカルボキシ基及びアミノ基を除く置換基が結合していてもよい。なお本明細書において「カルボキシ基及びアミノ基を除く置換基」とは、フリーの(無置換及び無保護の)アミノ基及びカルボキシ基を除く置換基を意味し、置換基を有するカルボキシ基(保護基で保護されたカルボキシ基を含む)及び置換基を有するアミノ基(保護基で保護されたアミノ基を含む)は、置換基に含まれる。 Examples of amino acid residues represented by Ra include hydrocarbon groups having -NH- and -C(=O)-, and aromatic heterocycles. The hydrocarbon group may be bonded with a substituent other than a carboxy group and an amino group. In this specification, "substituents other than a carboxy group and an amino group" means a free (unsubstituted and unprotected) amino group and a substituent other than a carboxy group, and a carboxy group having a substituent (including a carboxy group protected by a protecting group) and an amino group having a substituent (including an amino group protected by a protecting group) are included in the substituent.

Raで示されるアミノ酸残基としては、例えば、グリシン残基、アラニン残基、バリン残基、ロイシン残基、イソロイシン残基、プロリン残基、フェニルアラニン残基、メチオニン残基、トリプトファン残基、アスパラギン酸残基、グルタミン酸残基、リジン残基、アルギニン残基、ヒスチジン残基、アスパラギン残基、グルタミン残基、セリン残基、スレオニン残基、システイン残基、チロシン残基などのα-アミノ酸残基;β-アラニン残基などのβ-アミノ酸残基;γ-アミノ酪酸残基、α,γ-ジアミノ酪酸残基などのγ-アミノ酸残基などの脂肪族型アミノ酸残基が挙げられる。Examples of amino acid residues represented by Ra include α-amino acid residues such as glycine residue, alanine residue, valine residue, leucine residue, isoleucine residue, proline residue, phenylalanine residue, methionine residue, tryptophan residue, aspartic acid residue, glutamic acid residue, lysine residue, arginine residue, histidine residue, asparagine residue, glutamine residue, serine residue, threonine residue, cysteine residue, and tyrosine residue; β-amino acid residues such as β-alanine residue; and aliphatic amino acid residues such as γ-amino acid residues, such as γ-amino acid residues and α,γ-diaminobutyric acid residues.

α-アミノ酸残基が側鎖に反応性官能基(例えば、水酸基、チオール基、カルボキシ基、アミノ基、グアニジノ基など)を有する場合、該反応性官能基は保護基により保護されているのが好ましい。またα,γ-ジアミノ酪酸などの様にアミノ基を有するγ-アミノ酸のアミノ基も保護基で保護されているのが好ましい。これらの反応性官能基を保護する保護基としては、N末端アミノ基(後述するQ)を脱保護する酸性条件で脱保護されないものが好ましく、例えば、水酸基の保護基としては、ベンジル(Bzl)、4-メチルベンジル(4-MeBzl)、4-メトキシベンジル(4-MeOBzl)などを挙げることができ、チオール基の保護基としては、ベンジル(Bzl)、4-メチルベンジル(4-MeBzl)、4-メトキシベンジル(4-MeOBzl)、t-ブチル(tBu)などを挙げることができ、カルボキシ基の保護基としては、ベンジルオキシ(OBzl)、シクロヘキシルオキシ(O-cHex)などを挙げることができ、アミノ基の保護基としては、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニル(Mts)、ベンジルオキシカルボニル(Z)、ニトロ(NO2)、p-トルエンスルホニル(Tos)、ベンジルオキシメチル(BOM)、2,4-ジニトロフェニル(Dnp)、p-クロロベンジルオキシカルボニル(Cl-Z)などを挙げることができ、グアニジノ基の保護基としては、2,2,5,7,8-ペンタメチルクロマン-6-スルホニル基(Pmc基)、2,2,4,6,7-ペンタメチルジヒドロベンゾフラン-5-スルホニル基(Pbf基)などを挙げることができる。 When the α-amino acid residue has a reactive functional group (e.g., a hydroxyl group, a thiol group, a carboxyl group, an amino group, a guanidino group, etc.) in the side chain, the reactive functional group is preferably protected with a protecting group. Also, the amino group of a γ-amino acid having an amino group such as α,γ-diaminobutyric acid is preferably protected with a protecting group. Protective groups for protecting these reactive functional groups are preferably those which are not deprotected under acidic conditions for deprotecting the N-terminal amino group (Q described later). For example, protective groups for hydroxyl groups include benzyl (Bzl), 4-methylbenzyl (4-MeBzl), 4-methoxybenzyl (4-MeOBzl), etc.; protective groups for thiol groups include benzyl (Bzl), 4-methylbenzyl (4-MeBzl), 4-methoxybenzyl (4-MeOBzl), t-butyl (tBu), etc.; protective groups for carboxy groups include benzyloxy (OBzl), cyclohexyloxy (O-cHex), etc.; protective groups for amino groups include 2,4,6-trimethylbenzenesulfonyl (Mts), benzyloxycarbonyl (Z), nitro (NO 2 ), p-toluenesulfonyl (Tos), benzyloxymethyl (BOM), 2,4-dinitrophenyl (Dnp), p-chlorobenzyloxycarbonyl (Cl-Z), and the like. Examples of the protecting group for the guanidino group include a 2,2,5,7,8-pentamethylchroman-6-sulfonyl group (Pmc group), and a 2,2,4,6,7-pentamethyldihydrobenzofuran-5-sulfonyl group (Pbf group).

またRaで示されるアミノ酸残基としては、下記式(4-1)で表される芳香族複素環含有アミノ酸残基(以下、芳香族複素環含有アミノ酸残基(4-1)という場合がある)も挙げられ、式(1)の反応性アミン原料は、少なくとも1つのRaが、芳香族複素環含有アミノ酸残基(4-1)であるものが好ましい。Further, examples of the amino acid residue represented by Ra include an aromatic heterocycle-containing amino acid residue represented by the following formula (4-1) (hereinafter, sometimes referred to as aromatic heterocycle-containing amino acid residue (4-1)). It is preferable that at least one Ra of the reactive amine raw material of formula (1) is an aromatic heterocycle-containing amino acid residue (4-1).

Figure 0007659541000006

[式中、Ar3はカルボキシ基及びアミノ基を除く置換基を有していてもよい芳香族複素環を示す。*は結合手を示す。]
化合物(1)が2つ以上の芳香族複素環含有アミノ酸残基(4-1)を有する場合、複数のAr3は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
なお後述する様に、Ar3の説明は、後述するAr1及びAr2の説明で共通の内容として参照される。Ar1、Ar2、Ar3とで説明が異なる場合には、以下、都度、説明を補足する。
Figure 0007659541000006

[In the formula, Ar3 represents an aromatic heterocycle which may have a substituent other than a carboxy group or an amino group. * represents a bond.]
When compound (1) has two or more aromatic heterocycle-containing amino acid residues (4-1), the multiple Ar 3s may be the same or different.
As described later, the explanation of Ar 3 is referred to as the common content in the explanation of Ar 1 and Ar 2. When the explanations of Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 differ, the explanation will be supplemented below each time.

Ar1~Ar3で示される芳香族複素環が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子などが挙げられる。芳香族複素環に含まれる芳香環数は特に制限されず、単環であっても、芳香環数が2以上である縮合環であってもよい。芳香族複素環の炭素数は、2以上10以下が好ましく、2以上8以下がより好ましく、2以上5以下がさらに好ましい。芳香族複素環としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、プリン、インドール、イソインドール、ベンゾイミダゾール、キノリン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インダゾール、ベンゾオキサゾール、及びベンゾチアゾールなどが挙げられ、チオフェン、ピロール、イミダゾール、チアゾール、インドールが好ましい。Ar1では、チオフェン、ピロール、イミダゾール、チアゾールが最も好ましく、Ar2、Ar3では、ピロール、イミダゾールが最も好ましい。 Examples of the heteroatom contained in the aromatic heterocycle represented by Ar 1 to Ar 3 include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. The number of aromatic rings contained in the aromatic heterocycle is not particularly limited, and may be a single ring or a condensed ring having two or more aromatic rings. The number of carbon atoms in the aromatic heterocycle is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 8, and even more preferably 2 to 5. Examples of the aromatic heterocycle include furan, thiophene, pyrrole, pyrazole, oxazole, thiazole, imidazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, purine, indole, isoindole, benzimidazole, quinoline, benzofuran, isobenzofuran, benzothiophene, indazole, benzoxazole, and benzothiazole, and thiophene, pyrrole, imidazole, thiazole, and indole are preferred. For Ar 1 , thiophene, pyrrole, imidazole and thiazole are most preferred, and for Ar 2 and Ar 3 , pyrrole and imidazole are most preferred.

Ar1~Ar3で示される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、例えば、置換基を有するアミノ基、ハロゲン原子、炭素数1~12の炭化水素基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリールオキシ基、及び炭素数7~12のアラルキルオキシ基が挙げられ、ハロゲン原子、炭化水素基などが好ましい。前記置換基を有するアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、フェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1~10のアルキル基及び炭素数6~10のアリール基から選ばれる1つ以上が置換しているアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent that the aromatic heterocycle represented by Ar 1 to Ar 3 may have include an amino group having a substituent, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyloxy group having 7 to 12 carbon atoms, with a halogen atom and a hydrocarbon group being preferred. Examples of the amino group having a substituent include an amino group substituted with one or more selected from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, such as a methylamino group, an ethylamino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, a phenylamino group, a methylphenylamino group, and a diphenylamino group.

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
前記炭化水素基としては、アルキル基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、(1-エチル)プロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。Ar3で示される芳香族複素環が置換基として有していてもよい炭化水素基としては、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is preferable.
The hydrocarbon group includes an alkyl group and an aromatic hydrocarbon group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a (1-ethyl)propyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group and a naphthyl group. The hydrocarbon group that may be substituted on the aromatic heterocycle represented by Ar3 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group.

前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、又は2-メトキシエトキシ基などが挙げられ、炭素数1~6のアルコキシ基が好ましい。
前記アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基などが挙げられる。
前記アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、1-フェネチルオキシ基などが挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, and a 2-methoxyethoxy group, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a naphthoxy group.
Examples of the aralkyloxy group include a benzyloxy group and a 1-phenethyloxy group.

Ar1~Ar3で示される置換基を有していてもよい芳香族複素環としては、下記式(A1-1)~式(A1-5)で表される基が好ましい。 As the aromatic heterocycles represented by Ar 1 to Ar 3 which may have a substituent, groups represented by the following formulae (A1-1) to (A1-5) are preferred.

Figure 0007659541000007

[式中、*1は-CO-との結合手を示す。*2は、Ar2又はAr3のとき、-NH-との結合手を示し、Ar1のとき、水素原子またはハロゲン原子(好ましくは塩素原子)を示す。R10は、炭素数1~3のアルキル基を示し、好ましくはメチル基を示す。X10はハロゲン原子を示し、好ましくは塩素原子を示す。]
Ar1では式(A1-1)、式(A1-2)、式(A1-3)、式(A1-4)が最も好ましく、Ar2又はAr3では、式(A1-1)、式(A1-2)が最も好ましい。
Figure 0007659541000007

[In the formula, *1 represents a bond to -CO-. *2 represents a bond to -NH- when it is Ar2 or Ar3 , and represents a hydrogen atom or a halogen atom (preferably a chlorine atom) when it is Ar1 . R10 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group. X10 represents a halogen atom, preferably a chlorine atom.]
For Ar 1 , the formula (A1-1), the formula (A1-2), the formula (A1-3) or the formula (A1-4) is most preferred, and for Ar 2 or Ar 3 , the formula (A1-1) or the formula (A1-2) is most preferred.

Raとしては、β-アラニン残基などのβ-アミノ酸残基;γ-アミノ酪酸残基、α,γ-ジアミノ酪酸残基などのγ-アミノ酸残基;及び芳香族複素環含有アミノ酸残基(4-1)が好ましく、式(1)の反応性アミン原料は、少なくとも1つのRaが芳香族複素環含有アミノ酸残基(4-1)であることが好ましい。As Ra, β-amino acid residues such as β-alanine residues; γ-amino acid residues such as γ-aminobutyric acid residues and α,γ-diaminobutyric acid residues; and aromatic heterocycle-containing amino acid residues (4-1) are preferred, and it is preferred that at least one Ra in the reactive amine raw material of formula (1) is an aromatic heterocycle-containing amino acid residue (4-1).

Proで示されるC末端の保護基としては、一般的な液相合成で用いられるカルボキシル基の保護基が適宜使用でき、Theodora W.Greene, Peter G.M.Wuts著 Protective Groups in Organic Chemistry(第4版、WILEY-INTERSCIENCE社出版)533~646頁に記載の保護基中、N末端アミノ基を脱保護する酸性条件で脱保護されないものが好ましい。-C(=O)-Proとしては、例えば、メチルエステル、エチルエステル、ベンジルエステル、4-ニトロベンジルエステル、4-メトキシベンジルエステルなどのエステル系保護基;アミド、N,N-ジメチルアミド、N,N-(3-ジメチルアミノ)プロピルアミド、ピロリジニルアミド、ピペリジニルアミド、o-ニトロアニリドなどのアミド系保護基などを挙げることができる。As the C-terminal protecting group represented by Pro, a protecting group for a carboxyl group used in general liquid phase synthesis can be appropriately used, and among the protecting groups described in Protective Groups in Organic Chemistry (4th Edition, published by Wiley-Interscience) pp. 533-646 by Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts, those that are not deprotected under acidic conditions for deprotecting the N-terminal amino group are preferred. Examples of -C(=O)-Pro include ester-based protecting groups such as methyl ester, ethyl ester, benzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, and 4-methoxybenzyl ester; amide-based protecting groups such as amide, N,N-dimethylamide, N,N-(3-dimethylamino)propylamide, pyrrolidinylamide, piperidinylamide, and o-nitroanilide.

nは、例えば、1~30でもよく、1~10でもよく、1~5でもよい。 n may be, for example, 1 to 30, 1 to 10, or 1 to 5.

なお反応性アミン原料は、式(1x)で表される化合物(以下、アミン原料と称する場合がある)を脱保護することによって製造できる。

Figure 0007659541000008

[式中、Qは、アミノ基の保護基を示し、後述する式(2)のQと同じである。Ra、n、Proは前記と同じである。] The reactive amine raw material can be produced by deprotecting a compound represented by formula (1x) (hereinafter, sometimes referred to as an amine raw material).
Figure 0007659541000008

[In the formula, Q represents a protecting group for an amino group and is the same as Q in formula (2) described below. Ra, n, and Pro are the same as those described above.]

脱保護は公知の方法で行うことができ、例えば、塩酸、スルホン酸などの酸性条件で行うことができる。Deprotection can be carried out by known methods, for example, under acidic conditions such as hydrochloric acid or sulfonic acid.

<<活性酸原料>>
活性酸原料は、式(2)又は式(3)で表される化合物(カルボン酸化合物)を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物である。

Figure 0007659541000009

[式中、mは1又は2の整数を示し、Rbはアミノ酸残基を示し、mが2の場合、2つのRbは同一であってもよく、異なっていてもよい。Rbの少なくとも1つは式(4)で表されるアミノ酸残基である。QはN末端の保護基を示し、Ar1及びAr2は、互いに独立に、カルボキシ基及びアミノ基を除く置換基を有していてもよい芳香族複素環を示す。式(2)で表される化合物が2つのAr2を有する場合、2つのAr2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。*は結合手を示す。] <<Activated acid raw material>>
The activated acid raw material is a compound obtained by converting a compound represented by formula (2) or (3) (carboxylic acid compound) into an active ester, an acid halide, or an acid anhydride.
Figure 0007659541000009

[In the formula, m represents an integer of 1 or 2, Rb represents an amino acid residue, and when m is 2, the two Rb's may be the same or different. At least one of Rb's is an amino acid residue represented by formula (4). Q represents an N-terminal protecting group, and Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic heterocycle which may have a substituent other than a carboxy group and an amino group. When the compound represented by formula (2) has two Ar 2's , the two Ar 2 's may be the same or different. * represents a bond.]

式(2)及び式(3)で表されるカルボン酸化合物から得られる活性酸原料は、反応性が高く、反応性アミン化合物と結合してアミド結合含有化合物を合成するのに有用である。しかし、該活性酸原料は、芳香族複素環(Ar1、Ar2)とカルボニル基とが結合しており、アミド結合含有化合物形成後に余っても比較的安定であって、簡単に分解除去することができない。そこで誘導化剤(捕捉剤)を用いて、残存した活性酸素原料は除去されるが、芳香族複素環(Ar1、Ar2)とカルボニル基とが結合している活性酸原料は、誘導化剤(捕捉剤)で分解除去しようとすると、エマルジョンの問題を生じやすいという課題を有する。本発明によれは、特定の誘導化剤(捕捉剤)を使用することで、このエマルジョン発生という課題を克服できる。 The activated acid raw material obtained from the carboxylic acid compound represented by formula (2) and formula (3) is highly reactive and is useful for synthesizing an amide bond-containing compound by combining with a reactive amine compound. However, the activated acid raw material is relatively stable even if it remains after the formation of the amide bond-containing compound because the aromatic heterocycle (Ar 1 , Ar 2 ) is combined with a carbonyl group, and cannot be easily decomposed and removed. Therefore, the remaining active oxygen raw material is removed using a derivatizing agent (scavenger), but the activated acid raw material having the aromatic heterocycle (Ar 1 , Ar 2 ) and a carbonyl group combined has a problem that it is prone to emulsion problems when decomposed and removed with a derivatizing agent (scavenger). According to the present invention, the problem of emulsion generation can be overcome by using a specific derivatizing agent (scavenger).

Rbで示されるアミノ酸残基の説明としては、前記式(1)のRaと同じ内容が繰り返され、Ar1及びAr2の説明は、前記式(4-1)のAr3と同じ内容が繰り返される。
mが2である時、1つのRbは、式(4)で表されるアミノ酸残基(以下、芳香族複素環含有アミノ酸残基(4)という場合がある)であり、もう1つのRbは、芳香族複素環含有アミノ酸残基(4)、又は脂肪族型アミノ酸残基(好ましくはβアミノ酸残基、又はγアミノ酸残基)であることが好ましい。
The amino acid residue represented by Rb is the same as that represented by Ra in the above formula (1), and the descriptions of Ar 1 and Ar 2 are the same as those of Ar 3 in the above formula (4-1).
When m is 2, it is preferable that one Rb is an amino acid residue represented by formula (4) (hereinafter, may be referred to as aromatic heterocycle-containing amino acid residue (4)), and the other Rb is an aromatic heterocycle-containing amino acid residue (4) or an aliphatic amino acid residue (preferably a β amino acid residue or a γ amino acid residue).

Qで示されるN末端の保護基としては、酸性条件で除去可能なアミノ基の保護基が好ましく、例えば、Theodora W.Greene, Peter G.M.Wuts著 Protective Groups in Organic Chemistry(第4版、WILEY-INTERSCIENCE社出版)696~926頁に記載の酸性条件で除去可能な保護基が挙げられ、スルホン酸で除去される保護基がより好ましい。
Qとしては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、9-フルオレニルメトキシカルボニル基(Fmoc)などのカルバメート型保護基;ホルミル、アセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、p-ニトロベンゾイルなどのアシル型保護基;メトキシメチル(MOM)、ベンジルオキシメチル、ピバロイルオキシなどのアルコキシメチル型保護基;トリフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)メチル、(p-メトキシフェニル)ジフェニルメチルなどのフェニルメチル型保護基などを挙げることができ、脱保護のし易さの観点からカルバメート型保護基が好ましく、Boc、Fmocが特に好ましい。
The N-terminal protecting group represented by Q is preferably an amino protecting group removable under acidic conditions, for example, a protecting group removable under acidic conditions described in Protective Groups in Organic Chemistry (4th Edition, published by Wiley-Interscience) pp. 696-926 by Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts, and more preferably a protecting group removable with sulfonic acid.
Examples of Q include carbamate-type protecting groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl (Boc), allyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, phenoxycarbonyl, and 9-fluorenylmethoxycarbonyl (Fmoc); acyl-type protecting groups such as formyl, acetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, and p-nitrobenzoyl; alkoxymethyl-type protecting groups such as methoxymethyl (MOM), benzyloxymethyl, and pivaloyloxy; and phenylmethyl-type protecting groups such as triphenylmethyl, di(p-methoxyphenyl)methyl, and (p-methoxyphenyl)diphenylmethyl. From the viewpoint of ease of deprotection, carbamate-type protecting groups are preferred, and Boc and Fmoc are particularly preferred.

活性エステル化は、例えば、式(2)又は式(3)のOH基を-ORX基(RXは、トリアゾリジノン環基、トリアゾール環基、スクシンイミド環基、ジメトキシトリアジル環基などの窒素原子含有複素環基;ハロゲン化アリール基;カルボン酸エステル基;スルホン酸エステル基;アシル基;などを示し、これらの基は置換基を有していてもよい。)にすることをいう。
Xとしては、下記式で表される基が好ましい。
The term "active esterification" refers to, for example, converting the OH group of formula (2) or formula (3) into a -OR X group (R X represents a nitrogen atom-containing heterocyclic group such as a triazolidinone ring group, a triazole ring group, a succinimide ring group, or a dimethoxytriazyl ring group; an aryl halide group; a carboxylate group; a sulfonate group; an acyl group; or the like, and these groups may have a substituent).
R X is preferably a group represented by the following formula:

Figure 0007659541000010

[式中、RX1は、炭素数1~5のアルキル基を示す。*は結合手を示す。]
Figure 0007659541000010

[In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. * represents a bond.]

活性エステル化は、式(2)又は式(3)で表されるカルボン酸化合物を、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)、3,4-ジヒドロ-3-ヒドロキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン(HOOBt)、1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール(HOAt)、N-ヒドロキシスクシンイミド(HOSu)、シアノ(ヒドロキシイミノ)酢酸エチル(Oxyma)、ペンタフルオロフェノール(HOPFP)などの活性化試薬と、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(EDC)などの公知の縮合剤の存在下で反応させることで行うことができる。The active esterification can be carried out by reacting a carboxylic acid compound represented by formula (2) or formula (3) with an activating agent such as 1-hydroxybenzotriazole (HOBt), 3,4-dihydro-3-hydroxy-4-oxo-1,2,3-benzotriazine (HOOBt), 1-hydroxy-7-azabenzotriazole (HOAt), N-hydroxysuccinimide (HOSu), ethyl cyano(hydroxyimino)acetate (Oxyma), or pentafluorophenol (HOPFP) in the presence of a known condensing agent such as 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide (EDC).

活性化試薬の量は、カルボン酸化合物1.00モルに対して、例えば、1.00モル以上、好ましくは1.05モル以上、より好ましくは1.10モル以上であり、例えば、1.5モル以下、好ましくは1.4モル以下、より好ましくは1.3モル以下である。
また縮合剤の量は、カルボン酸化合物1.00モルに対して、例えば、1.00モル以上、好ましくは1.05モル以上、より好ましくは1.10モル以上であり、例えば、1.5モル以下、好ましくは1.4モル以下、より好ましくは1.3モル以下である。
The amount of the activating reagent is, for example, 1.00 mol or more, preferably 1.05 mol or more, more preferably 1.10 mol or more, and for example, 1.5 mol or less, preferably 1.4 mol or less, more preferably 1.3 mol or less, relative to 1.00 mol of the carboxylic acid compound.
The amount of the condensing agent is, for example, 1.00 mol or more, preferably 1.05 mol or more, more preferably 1.10 mol or more, and for example, 1.5 mol or less, preferably 1.4 mol or less, more preferably 1.3 mol or less, relative to 1.00 mol of the carboxylic acid compound.

前記活性エステル化反応には、溶媒を適宜使用できる。また活性エステル化反応後、水溶液や水などで洗浄することで縮合剤を除去することが好ましい。活性エステル化反応により得られる活性エステルは必要に応じて、濃縮などしてから使用してもよい。A solvent can be used appropriately in the active esterification reaction. After the active esterification reaction, it is preferable to remove the condensing agent by washing with an aqueous solution or water. The active ester obtained by the active esterification reaction may be concentrated before use, if necessary.

酸ハロゲン化反応により得られる酸ハロゲン化物としては、酸フッ化物、酸塩化物、酸臭化物、酸ヨウ化物が挙げられ、酸塩化物が好ましい。酸塩化反応は、塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リンなどの求電子的ハロゲン化剤、好ましくは塩化チオニル、塩化スルフリルなどを用いることで行うことができる。酸臭化反応は、例えば、三臭化リンを用いることで行うことができる。Examples of acid halides obtained by the acid halogenation reaction include acid fluorides, acid chlorides, acid bromides, and acid iodides, with acid chlorides being preferred. The acid halogenation reaction can be carried out using an electrophilic halogenating agent such as thionyl chloride, oxalyl chloride, phosphoryl chloride, sulfuryl chloride, phosphorus trichloride, or phosphorus pentachloride, preferably thionyl chloride or sulfuryl chloride. The acid bromide reaction can be carried out, for example, using phosphorus tribromide.

酸無水物化反応により得られる酸無水化物は、式(2)又は式(3)で表されるカルボン酸化合物2分子の脱水縮合物(対称酸無水物)であってもよく、式(2)又は式(3)で表されるカルボン酸化合物と、他の酸又はそのエステル(炭酸エステルなど)との縮合物であってもよい。The acid anhydride obtained by the acid anhydridation reaction may be a dehydration condensation product (symmetric acid anhydride) of two molecules of a carboxylic acid compound represented by formula (2) or formula (3), or a condensation product of a carboxylic acid compound represented by formula (2) or formula (3) with another acid or its ester (such as a carbonate ester).

活性酸原料としては、式(2)又は式(3)で表されるカルボン酸化合物の活性エステル化反応により得られる活性エステルが好ましい。
また式(2)で表されるカルボン酸の活性酸原料は、反応性アミン原料とアミド結合含有化合物を形成し、工程B及び工程Cを行った後、得られたアミド結合含有化合物から酸性条件(特にスルホン酸条件など)下で保護基Qを除去することで新たな工程Aでの反応性アミン原料として使用できることで(すなわちアミド結合含有化合物の伸長を行える点で)好ましい。
一方、式(3)で表されるカルボン酸の活性酸原料は、アミド結合含有化合物の伸長を終端させるキャッピング剤として使用できる点で好ましい。
The activated acid raw material is preferably an activated ester obtained by an activated esterification reaction of a carboxylic acid compound represented by formula (2) or formula (3).
In addition, the activated acid raw material of the carboxylic acid represented by the formula (2) is preferable in that it can be used as a new reactive amine raw material in step A (i.e., in that the amide bond-containing compound can be elongated by forming an amide bond-containing compound together with a reactive amine raw material and performing steps B and C, and then removing the protecting group Q from the obtained amide bond-containing compound under acidic conditions (particularly, sulfonic acid conditions, etc.).
On the other hand, the activated acid raw material of the carboxylic acid represented by the formula (3) is preferable in that it can be used as a capping agent for terminating the elongation of the amide bond-containing compound.

活性酸原料は、反応性アミン原料1モルに対して、例えば、0.8モル以上、好ましくは0.9モル以上、より好ましくは1.0モル以上、より更に好ましくは1.1モル以上使用する。また活性酸原料は、反応性アミン原料1モルに対して、例えば、1.5モル以下、好ましくは1.4モル以下、より好ましくは1.3モル以下である。The amount of the activated acid raw material used is, for example, 0.8 moles or more, preferably 0.9 moles or more, more preferably 1.0 moles or more, and even more preferably 1.1 moles or more per mole of the reactive amine raw material. The amount of the activated acid raw material used is, for example, 1.5 moles or less, preferably 1.4 moles or less, and more preferably 1.3 moles or less per mole of the reactive amine raw material.

<<塩基>>
反応性アミン原料と活性酸原料との反応は、反応を加速する目的で塩基の存在下で行うことが好ましい。
<<Bases>>
The reaction between the reactive amine source and the activated acid source is preferably carried out in the presence of a base in order to accelerate the reaction.

塩基としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリドデシルアミン、N-ドデシルジメチルアミン、N-ヘキシルジブチルアミン、N,N-ジイソプロピルブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、N,N-ジメチルエチルアミン、N,N-ジシクロヘキシルメチルアミン、N,N-ジメチルベンジルアミン、N-メチルピロリジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、キヌクリジン、N-メチルモルホリン、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセンなどの第3級アミンが挙げられ、好ましくはトリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、又はN-メチルモルホリンである。尚、これらの塩基は、単独で用いても2種以上を併用しても良く、混合する場合は、その混合比率に制限はない。Examples of bases include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, triheptylamine, trioctylamine, tridodecylamine, N-dodecyldimethylamine, N-hexyldibutylamine, N,N-diisopropylbutylamine, N,N-diisopropylethylamine, N,N-dimethylethylamine, N,N-dicyclohexylmethylamine, N,N-dimethylbenzylamine, N-methylpyrrolidine, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, quinuclidine, N-methylmorpholine, 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, and 1,8-diazabicyclo[5,4,0]-7-undecene, and preferably triethylamine, tributylamine, N,N-diisopropylethylamine, or N-methylmorpholine. These bases may be used alone or in combination of two or more kinds, and when they are mixed, there is no limitation on the mixing ratio.

塩基の使用量は、活性酸原料1モルに対して、例えば、0.5モル以上、好ましくは1.0モル以上、より好ましくは2モル以上であり、例えば、30モル以下、好ましくは20モル以下、より好ましくは10モル以下である。The amount of base used is, for example, 0.5 moles or more, preferably 1.0 moles or more, more preferably 2 moles or more, and for example, 30 moles or less, preferably 20 moles or less, more preferably 10 moles or less, per mole of activated acid raw material.

<<溶媒>>
反応性アミン原料と活性酸原料との反応は、溶媒(反応溶媒)の存在下で行うことが好ましい。
<<Solvent>>
The reaction between the reactive amine raw material and the activated acid raw material is preferably carried out in the presence of a solvent (reaction solvent).

反応溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り特に制限されることなく使用でき、例えば、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどのエーテル系溶媒;塩化メチレン、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどの含窒素系溶媒;メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、ピリジンなどの芳香族系溶媒;ジメチルスルホキシド;水などを用いることができる。反応溶媒は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
反応溶媒の使用量は、活性酸原料1質量部に対して、例えば、0.1質量倍以上、20質量倍以下程度である。
The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and examples of the reaction solvent that can be used include ether solvents such as diethyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.; halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, dichloroethane, etc.; nitrogen-containing solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.; alcohol solvents such as methanol, ethanol, etc.; aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, pyridine, etc.; dimethyl sulfoxide; water, etc. The reaction solvent may be used alone or in combination of two or more kinds.
The amount of the reaction solvent used is, for example, about 0.1 to 20 parts by mass relative to 1 part by mass of the activated acid raw material.

なお前記反応溶媒は、本明細書で説明する他の反応(例えば、保護基Qの脱保護反応、工程Bでの反応など)での反応溶媒として使用することも可能であり、他の反応と本工程Aでの反応とで同じ反応溶媒を使用してもよい。The reaction solvent may also be used as a reaction solvent for other reactions described in this specification (e.g., the deprotection reaction of the protecting group Q, the reaction in step B, etc.), and the same reaction solvent may be used for the other reactions and the reaction in step A.

<工程B>
前記工程Aによって、式(5)又は式(6)で表されるアミド結合含有化合物が合成される。
<Step B>
In the step A, an amide bond-containing compound represented by formula (5) or (6) is synthesized.

Figure 0007659541000011

[式中、Ra、Rb、Ar1、Pro、Q、n、及びmは、前記と同じである。]
そして工程Bでは、前記アミド結合含有化合物と、未反応の活性酸原料とを含む反応混合物に、特定の誘導化剤とモノアミン化合物を混合し、残存した活性酸原料と誘導化剤とを反応させる。特定の誘導化剤を使用すれば、活性酸原料と誘導化剤との反応物を含む反応液がエマルジョンになるのを防止できる。
Figure 0007659541000011

[In the formula, Ra, Rb, Ar 1 , Pro, Q, n, and m are the same as defined above.]
In step B, a specific derivatizing agent and a monoamine compound are mixed into the reaction mixture containing the amide bond-containing compound and the unreacted active acid raw material, and the remaining active acid raw material is reacted with the derivatizing agent. The use of the specific derivatizing agent can prevent the reaction liquid containing the reaction product of the active acid raw material and the derivatizing agent from becoming an emulsion.

反応混合物中の未反応の活性酸原料は、アミド結合含有化合物1モルに対して、例えば、0.0005モル以上、好ましくは0.005モル以上、より好ましくは0.01モル以上であり、例えば、1.0モル以下、好ましくは0.5モル以下、より好ましくは0.3モル以下である。The amount of unreacted activated acid raw material in the reaction mixture is, for example, 0.0005 mol or more, preferably 0.005 mol or more, more preferably 0.01 mol or more, per 1 mol of the amide bond-containing compound, and is, for example, 1.0 mol or less, preferably 0.5 mol or less, more preferably 0.3 mol or less.

<<誘導化剤(捕捉剤)>>
前記特定の誘導化剤は、具体的には、式(7)で表すことができる。
<<Derivatizing agent (scavenging agent)>>
The specific inducer can be specifically represented by formula (7).

Figure 0007659541000012

[式中、Aはアミノ基(-NH2)、又はスルファニル基(-SH)を示し、Bは-SO3M、-CO2M、-PO32、又はジアルキルアミノ基を示し、R1は炭素数1~4のアルキレン基を示す。Mは水素原子、又はアルカリ金属原子を示し、Mが複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。]
前記ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基などのジC1-4アルキルアミノ基が挙げられる。なお「C1-4」と記載は、「炭素数1~4」を意味する。
前記Mとしては、リチウム、ナトリウム、カリウムなどが挙げられ、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウムがより好ましい。
1の炭素数は、誘導化剤(捕捉剤)の反応性と水溶性の観点から決定できる。炭素数は、好ましくは2~3である。
A、Bは、R1のアルキレン基の両末端(α位とω位)に結合していることが好ましい。
Bは、-SO3M、-CO2M、又は-PO32が好ましい。
Figure 0007659541000012

[In the formula, A represents an amino group ( -NH2 ) or a sulfanyl group (-SH), B represents -SO3M , -CO2M , -PO3M2 or a dialkylamino group, and R1 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, and when there are multiple M's, they may be the same or different.]
The dialkylamino group includes di-C 1-4 alkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, etc. Note that "C 1-4 " means "having 1 to 4 carbon atoms."
Examples of M include lithium, sodium, and potassium, with sodium and potassium being preferred, and sodium being more preferred.
The number of carbon atoms in R1 can be determined from the viewpoint of the reactivity and water solubility of the derivatizing agent (scavenger), and is preferably 2 to 3.
A and B are preferably bonded to both ends (α-position and ω-position) of the alkylene group of R 1 .
B is preferably --SO 3 M, --CO 2 M, or --PO 3 M 2 .

誘導化剤としては、例えば、グリシン、アラニン、β-アラニン、γ-アミノ酪酸などの脂肪族アミノ酸またはそのナトリウム塩;チオグリコール酸、2-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプトプロピオン酸などのメルカプトカルボン酸またはそのナトリウム塩;アミノメタンスルホン酸、アミノエタンスルホン酸(タウリンなど)、アミノプロパンスルホン酸などのアミノスルホン酸またはそのナトリウム塩;メルカプトメタンスルホン酸、2-メルカプトエタンスルホン酸、3-メルカプトプロパンスルホン酸などのメルカプトスルホン酸又はそのナトリウム塩;N,N-ジメチルエタンジアミン、N,N-ジメチルプロパンジアミンなどのジアミン類などが挙げられる。誘導化剤としては、より優れた収率を達成する観点から、脂肪族アミノ酸、アミノスルホン酸、メルカプトスルホン酸などが好ましく、アミノスルホン酸、メルカプトスルホン酸などがより好ましく、タウリンが最も好ましい。Examples of the derivatizing agent include aliphatic amino acids such as glycine, alanine, β-alanine, and γ-aminobutyric acid, or their sodium salts; mercaptocarboxylic acids such as thioglycolic acid, 2-mercaptopropionic acid, and 3-mercaptopropionic acid, or their sodium salts; aminosulfonic acids such as aminomethanesulfonic acid, aminoethanesulfonic acid (e.g., taurine), and aminopropanesulfonic acid, or their sodium salts; mercaptosulfonic acids such as mercaptomethanesulfonic acid, 2-mercaptoethanesulfonic acid, and 3-mercaptopropanesulfonic acid, or their sodium salts; and diamines such as N,N-dimethylethanediamine and N,N-dimethylpropanediamine. As the derivatizing agent, from the viewpoint of achieving a better yield, aliphatic amino acids, aminosulfonic acids, and mercaptosulfonic acids are preferred, aminosulfonic acids and mercaptosulfonic acids are more preferred, and taurine is the most preferred.

誘導化剤の使用量は、工程Aで使用した活性酸原料1モルに対して、例えば、0.1モル以上、好ましくは0.5モル以上、より好ましくは1モル以上であり、例えば、10モル以下、好ましくは7モル以下、より好ましくは5モル以下である。また誘導化剤の使用量は、工程Aの反応後に残存した活性酸原料1モルに対して、例えば、1モル以上、好ましくは5モル以上、より好ましくは10モル以上であり、例えば、100モル以下、好ましくは50モル以下、より好ましくは30モル以下である。The amount of the derivatizing agent used is, for example, 0.1 mol or more, preferably 0.5 mol or more, more preferably 1 mol or more, and, for example, 10 mol or less, preferably 7 mol or less, more preferably 5 mol or less, relative to 1 mol of the activated acid raw material used in step A. The amount of the derivatizing agent used is, for example, 1 mol or more, preferably 5 mol or more, more preferably 10 mol or more, relative to 1 mol of the activated acid raw material remaining after the reaction in step A, and, for example, 100 mol or less, preferably 50 mol or less, more preferably 30 mol or less.

前記誘導化剤は、モノアミン化合物の存在下、活性酸原料と反応する。モノアミン化合物は、酸性基又は酸性基の塩を有さない点で誘導化剤と区別され、具体的には、工程Aで塩基として例示されている第3級アミンと同様の化合物が挙げられる。好ましいモノアミン化合物は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリンなどである。
モノアミン化合物の使用量は、誘導化剤1モルに対して、例えば、0.1モル以上、好ましくは0.5モル以上、より好ましくは0.7モル以上であり、例えば、10モル以下、好ましくは2モル以下、より好ましくは1.5モル以下である。
誘導化剤で処理した後の未反応の活性酸原料の量(残存量)は、アミド結合含有化合物1モルに対して、例えば、0.05モル以下、好ましくは0.01モル以下、より好ましくは0.001モル以下である。なお活性酸原料を0モルにする必要はなく、例えば、0.000001モル以上であってもよい。
The derivatizing agent reacts with the activated acid raw material in the presence of a monoamine compound. The monoamine compound is distinguished from the derivatizing agent in that it does not have an acidic group or a salt of an acidic group, and specific examples thereof include compounds similar to the tertiary amines exemplified as the base in step A. Preferred monoamine compounds include triethylamine, tributylamine, N,N-diisopropylethylamine, and N-methylmorpholine.
The amount of the monoamine compound used is, for example, 0.1 mol or more, preferably 0.5 mol or more, more preferably 0.7 mol or more, and for example, 10 mol or less, preferably 2 mol or less, more preferably 1.5 mol or less, relative to 1 mol of the derivatizing agent.
The amount (residual amount) of the unreacted activated acid raw material after the treatment with the derivatizing agent is, for example, 0.05 mol or less, preferably 0.01 mol or less, more preferably 0.001 mol or less, relative to 1 mol of the amide bond-containing compound. Note that the amount of the activated acid raw material does not need to be 0 mol, and may be, for example, 0.000001 mol or more.

<工程C>
工程Cでは、工程Bで得られた反応混合物を塩基性水溶液及び/又は酸性水溶液で洗浄する。酸性水溶液としては、例えば塩酸、硫酸、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、リン酸、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウムなどの無機酸の水溶液、ギ酸、酢酸、クエン酸などの有機酸(カルボン酸)の水溶液などが挙げられる。酸性水溶液としては、有機酸の水溶液が好ましく、クエン酸の水溶液がより好ましい。
<Step C>
In step C, the reaction mixture obtained in step B is washed with a basic aqueous solution and/or an acidic aqueous solution. Examples of the acidic aqueous solution include aqueous solutions of inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, phosphoric acid, sodium hydrogen phosphate, and potassium hydrogen phosphate, and aqueous solutions of organic acids (carboxylic acids) such as formic acid, acetic acid, and citric acid. As the acidic aqueous solution, an aqueous solution of an organic acid is preferred, and an aqueous solution of citric acid is more preferred.

塩基性水溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液、炭酸塩又は炭酸水素塩などの水溶液が挙げられ、炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液が好ましい。前記炭酸塩及び炭酸水素塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、又はカリウム塩などが挙げられ、ナトリウム塩が好ましい。Examples of basic aqueous solutions include aqueous solutions of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and aqueous solutions of carbonates or hydrogen carbonates, with aqueous solutions of carbonates or hydrogen carbonates being preferred. Examples of the carbonates and hydrogen carbonates include lithium salts, sodium salts, and potassium salts, with sodium salts being preferred.

酸性水溶液の酸濃度及び塩基性水溶液の塩濃度は、例えば、1質量%以上、好ましくは3質量%以上であり、例えば、20質量%以下、好ましくは10質量%以下である。
誘導化剤の式(7)中のBが-SO3M、-CO2M、-PO32である場合、まず塩基性水溶液で洗浄することが好ましく、必要に応じて次いで酸性水溶液で洗浄することが好ましい。塩基性水溶液による洗浄は、例えば、1回以上、好ましくは2回以上である。また塩基性水溶液による洗浄は、例えば、5回以下、好ましくは4回以下、より好ましくは3回以下である。次いで行う酸性水溶液による洗浄は、例えば、1回以上であり、例えば、3回以下、好ましくは2回以下である。
The acid concentration of the acidic aqueous solution and the salt concentration of the basic aqueous solution are, for example, 1 mass % or more, preferably 3 mass % or more, and for example, 20 mass % or less, preferably 10 mass % or less.
When B in the formula (7) of the derivatizing agent is -SO3M , -CO2M , or -PO3M2 , it is preferable to first wash with a basic aqueous solution, and then, if necessary, wash with an acidic aqueous solution. The washing with the basic aqueous solution is, for example, once or more, preferably twice or more. The washing with the basic aqueous solution is, for example, five times or less, preferably four times or less, more preferably three times or less. The washing with the acidic aqueous solution that is then performed is, for example, once or more, for example, three times or less, preferably two times or less.

一方、誘導化剤の式(7)中のBがジアルキルアミノ基である場合、まず酸性水溶液で洗浄し、必要に応じて次いで塩基性水溶液で洗浄することが好ましい。酸性水溶液による洗浄は、例えば、1回以上、好ましくは2回以上である。また酸性水溶液による洗浄は、例えば、5回以下、好ましくは4回以下、より好ましくは3回以下である。次いで行う塩基性水溶液による洗浄は、例えば、1回以上であり、例えば、3回以下、好ましくは2回以下である。On the other hand, when B in formula (7) of the derivatizing agent is a dialkylamino group, it is preferable to first wash with an acidic aqueous solution, and then wash with a basic aqueous solution as necessary. The washing with the acidic aqueous solution is, for example, one or more times, preferably two or more times. The washing with the acidic aqueous solution is, for example, five or less times, preferably four or less times, more preferably three or less times. The washing with the basic aqueous solution is then, for example, one or more times, for example, three or less times, preferably two or less times.

塩基性水溶液又は酸性水溶液で洗浄した後は、有機層(好ましくは工程Aで使用した有機溶媒を含む層)と水層とに分液(液液分離)する。目的物は有機層側に分配され、活性酸原料の分解物は水層側に分配されるため、活性酸原料を除去できる。塩基性水溶液又は酸性水溶液による洗浄が終わった有機層は、必要により水で洗浄し、分液してもよい。また有機層は、硫酸ナトリウムなどの乾燥剤で乾燥してもよい。また溶媒留去、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの公知の手法によってさらに精製してもよいが、生成物(アミド結合含有化合物)からN末端保護基Qを除いて、工程Aの反応性アミン原料として用いる場合(すなわちアミド結合含有化合物の伸長を行う場合)、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの精製を行わない方が簡便で好ましい。After washing with the basic or acidic aqueous solution, the mixture is separated into an organic layer (preferably a layer containing the organic solvent used in step A) and an aqueous layer (liquid-liquid separation). The target product is distributed to the organic layer, and the decomposition product of the activated acid raw material is distributed to the aqueous layer, so that the activated acid raw material can be removed. The organic layer after washing with the basic or acidic aqueous solution may be washed with water and separated as necessary. The organic layer may also be dried with a drying agent such as sodium sulfate. The product may be further purified by known methods such as solvent distillation, crystallization, recrystallization, and column chromatography. However, when the N-terminal protecting group Q is removed from the product (amide bond-containing compound) and the product is used as a reactive amine raw material in step A (i.e., when the amide bond-containing compound is elongated), it is simpler and more preferable not to perform purification such as crystallization, recrystallization, and column chromatography.

また塩基性水溶液又は酸性水溶液で洗浄した後、反応混合物に含まれる有機溶媒を留去し、残った水系溶媒中で目的物(アミド結合含有化合物)を析出し、固液分離(濾過、遠心分離など)することによってもエマルジョンの課題を解決できる。固液分離によって回収した目的物は、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの公知の手法によってさらに精製してもよいが、生成物(アミド結合含有化合物)からN末端保護基Qを除いて、工程Aの反応性アミン原料として用いる場合(すなわちアミド結合含有化合物の伸長を行う場合)、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの精製を行わない方が簡便で好ましい。
なおこの固液分離を利用することでエマルジョンの課題を解決する場合、誘導化剤(捕捉剤)としては、アミノ基やスルファニル基などの活性エステルと反応する基と、水溶性基としてスルホ基、カルボキシ基などの酸性基又はジアルキルアミノ基などの塩基性基とを有する化合物である限り、上記式(7)で表される化合物以外の化合物(例えば、後述する比較例で使用されている誘導化剤)も使用可能である。
The emulsion problem can also be solved by distilling off the organic solvent contained in the reaction mixture after washing with a basic aqueous solution or an acidic aqueous solution, precipitating the target product (amide bond-containing compound) in the remaining aqueous solvent, and subjecting it to solid-liquid separation (filtration, centrifugation, etc.). The target product recovered by solid-liquid separation may be further purified by known techniques such as crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., but when the N-terminal protecting group Q is removed from the product (amide bond-containing compound) and the product is used as a reactive amine raw material in step A (i.e., when the amide bond-containing compound is elongated), it is simpler and more preferable not to perform purification such as crystallization, recrystallization, column chromatography, etc.
When the problems of the emulsion are solved by utilizing this solid-liquid separation, a compound other than the compound represented by the above formula (7) (for example, the derivatizing agent used in the Comparative Example described later) can also be used as the derivatizing agent (scavenger) as long as it is a compound having a group that reacts with an active ester, such as an amino group or a sulfanyl group, and an acidic group, such as a sulfo group or a carboxy group, or a basic group, such as a dialkylamino group, as a water-soluble group.

工程Cで得られる目的物(アミド結合含有化合物)の収率は、例えば、60モル%以上、好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上、特に好ましくは85モル%以上であり、例えば100モル%以下、又は99モル%以下である。The yield of the target product (amide bond-containing compound) obtained in step C is, for example, 60 mol% or more, preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, and particularly preferably 85 mol% or more, and is, for example, 100 mol% or less, or 99 mol% or less.

工程Cで得られる目的物(アミド結合含有化合物)の純度は、例えば、70%以上、好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上、より更に好ましくは85%以上、特に好ましくは90%以上であり、例えば、100%以下、又は98%以下である。The purity of the target product (amide bond-containing compound) obtained in step C is, for example, 70% or more, preferably 75% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more, and is, for example, 100% or less, or 98% or less.

工程Cで精製された目的物(アミド結合含有化合物)は、さらなる反応の原料として用いることも可能であり、例えば、N末端のアミノ保護基Qを除いた後、反応性アミン原料として工程Aに戻し、次いで工程B、工程Cを行うことでアミド結合含有化合物の伸長を行ってもよい。このとき、式(1)のnの値は、1つ大きくなっている。また前記目的物(アミド結合含有化合物)を原料として、前記工程A~工程Cとは異なる公知の方法でアミド結合含有化合物の伸長反応を行ってもよい。工程Cで精製された目的物(アミド結合含有化合物)をさらなる反応の原料として用いる場合、工程Cでは、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの単離処理は行わない方が好ましい。単離処理を行うことなく反応生成物(アミド結合含有化合物)を次工程の原料として使用することで、工程全体の効率を高めることができる。The target product (amide bond-containing compound) purified in step C can be used as a raw material for further reactions. For example, after removing the amino protecting group Q at the N-terminus, it can be returned to step A as a reactive amine raw material, and then steps B and C can be carried out to elongate the amide bond-containing compound. In this case, the value of n in formula (1) is increased by one. The target product (amide bond-containing compound) can also be used as a raw material to carry out an elongation reaction of the amide bond-containing compound by a known method different from steps A to C. When the target product (amide bond-containing compound) purified in step C is used as a raw material for further reactions, it is preferable not to carry out isolation treatments such as crystallization, recrystallization, and column chromatography in step C. By using the reaction product (amide bond-containing compound) as a raw material for the next step without carrying out isolation treatment, the efficiency of the entire process can be improved.

本発明のアミド結合含有化合物の製造方法や得られたアミド結合含有化合物は、ピロールイミダゾール(ポリ)アミド(PIPA)を製造するのに有用である。PIPAは、ピロールとイミダゾールを主構成ユニットとするアミド結合含有化合物を意味し、例えば、下記式(101)、(102)、(103)の様な化合物が知られている。PIPAは、2本鎖DNAのマイナーグルーブ(副溝)に配列特異的に結合して標的遺伝子の転写を阻害する働きを持つ、遺伝子発現制御化合物であり、核酸分解酵素耐性があり、核膜透過性を有するため、DNA配列を識別する診断用途への応用や分子プローブとしての使用が期待され、また転写因子と2本鎖DNAの結合相互作用を阻害する転写制御剤としての使用も期待されている。The method for producing an amide bond-containing compound of the present invention and the obtained amide bond-containing compound are useful for producing pyrrole imidazole (poly)amide (PIPA). PIPA means an amide bond-containing compound whose main constituent units are pyrrole and imidazole, and compounds such as those represented by the following formulae (101), (102), and (103) are known. PIPA is a gene expression control compound that binds in a sequence-specific manner to the minor groove of double-stranded DNA to inhibit the transcription of target genes. Since it is resistant to nucleases and has nuclear membrane permeability, it is expected to be used in diagnostic applications for identifying DNA sequences and as a molecular probe, and is also expected to be used as a transcription control agent that inhibits the binding interaction between transcription factors and double-stranded DNA.

Figure 0007659541000013
Figure 0007659541000013

本願は、2020年3月27日に出願された日本国特許出願第2020-058966号に基づく優先権の利益を主張するものである。2020年3月27日に出願された日本国特許出願第2020-058966号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2020-058966, filed on March 27, 2020. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2020-058966, filed on March 27, 2020, are incorporated by reference into this application.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。The present invention will be explained in more detail below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and it is of course possible to carry out the invention with appropriate modifications within the scope of the purpose described above and below, all of which are included in the technical scope of the present invention. In the following, unless otherwise specified, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass."

1.測定法
HPLCの実施条件は以下の通りである。
測定機器:Agilent 1220 Infinity
カラム:YMC Meteoric Core C18(150×4.6mm)
流速:1.5ml/ml
検出波長:210nm
注入量:10μl
移動相A:0.1wt%リン酸水溶液
移動相B:アセトニトリル
グラジエント条件(移動相B濃度、時間):15%(0分)→80%(8~15分)→15%(15.1~20分)
1. Measurement Method The HPLC conditions are as follows.
Measuring equipment: Agilent 1220 Infinity
Column: YMC Meteoric Core C18 (150 x 4.6 mm)
Flow rate: 1.5ml/ml
Detection wavelength: 210 nm
Injection volume: 10 μl
Mobile phase A: 0.1 wt% phosphoric acid aqueous solution Mobile phase B: acetonitrile Gradient conditions (mobile phase B concentration, time): 15% (0 min) → 80% (8 to 15 min) → 15% (15.1 to 20 min)

生成物のHPLC純度は上述のHPLC条件での測定結果から算出した。算出式は以下の通りである。
HPLC純度(%area)=生成物ピーク面積/トータルピーク面積×100
但し、トータルピーク面積は測定結果からブランク分析のピークを除いたものを使用した。
The HPLC purity of the product was calculated from the measurement results under the above-mentioned HPLC conditions using the following formula:
HPLC purity (% area) = product peak area / total peak area × 100
However, the total peak area was calculated by excluding the peaks from the blank analysis from the measurement results.

活性エステル及び該活性エステルと誘導化剤との反応物との合計を残存活性エステル量とし、前記残存活性エステル量は上述のHPLC条件での測定結果から算出した。算出式は以下の通りである。
残存活性エステル量(%area)=対象化合物のピーク面積/トータルピーク面積×100
但し、トータルピーク面積は測定結果からブランク分析のピークを除いたものを使用した。
The amount of the remaining active ester was calculated from the measurement results under the above-mentioned HPLC conditions by the following formula:
Amount of remaining active ester (% area) = peak area of target compound / total peak area × 100
However, the total peak area was calculated by excluding the peaks from the blank analysis from the measurement results.

生成物の取得量は合成した化合物の有姿量と上述の生成物のHPLC純度から算出した。算出式は以下の通りである。
生成物取得量=合成した化合物の有姿量×HPLC純度(%)/100
The amount of the product obtained was calculated from the amount of the synthesized compound and the HPLC purity of the product described above. The calculation formula is as follows.
Amount of product obtained = amount of synthesized compound × HPLC purity (%) / 100

2.記号
実施例の欄で使用する記号の意味は以下の通りである。
Boc:t-ブトキシカルボニル基
Bzl、Bn:ベンジル基
Py:N-メチルピロール環
Im:N-メチルイミダゾール環
HOOBt:3,4-ジヒドロ-3-ヒドロキシ-4-オキソ-1,2,3-ベンゾトリアジン
HOBt:1-ヒドロキシベンゾトリアゾール
HOAt:1-ヒドロキシ-7-アザベンゾトリアゾール
Oxyma pure:エチルシアノグリコシレート-2-オキシム
DMF:ジメチルホルムアミド
2. Symbols The symbols used in the Examples section have the following meanings:
Boc: t-butoxycarbonyl group Bzl, Bn: benzyl group Py: N-methylpyrrole ring Im: N-methylimidazole ring HOOBt: 3,4-dihydro-3-hydroxy-4-oxo-1,2,3-benzotriazine HOBt: 1-hydroxybenzotriazole HOAt: 1-hydroxy-7-azabenzotriazole Oxyma pure: ethyl cyanoglycosylate-2-oxime DMF: dimethylformamide

実施例で使用した活性エステル及びアミン原料は以下の通りである。
3.活性エステル
合成例1 [Boc-Py-OOBt(C-1)の製造]
The active ester and amine raw materials used in the examples are as follows.
3. Active esters
Synthesis Example 1 [Production of Boc-Py-OOBt (C-1)]

Figure 0007659541000014
Figure 0007659541000014

Boc-Py-OH(10.0g、41.6mmol)に、ジクロロメタン(125mL)とHOOBt(8.2g、50.0mmol)、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、EDC塩酸塩という)(9.6g、50.0mmol)を加えて室温で1.5時間攪拌した。次にH2O(200mL×3)で洗浄することでEDCを除去した。得られた有機層は硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過し、40℃で減圧留去することで濃縮物を16.6g取得した。次に酢酸エチル50.0gを添加し、70℃に加温させた後、攪拌しながら5℃まで冷却した。1時間後、析出物を濾取し、50℃で真空乾燥させることで化合物(C-1)を取得した(14.1g、36.6mmol、収率87.8%)。 To Boc-Py-OH (10.0 g, 41.6 mmol), dichloromethane (125 mL), HOOBt (8.2 g, 50.0 mmol), and 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride (hereinafter referred to as EDC hydrochloride) (9.6 g, 50.0 mmol) were added and stirred at room temperature for 1.5 hours. Next, EDC was removed by washing with H 2 O (200 mL x 3). The obtained organic layer was dried using sodium sulfate, filtered, and distilled under reduced pressure at 40°C to obtain 16.6 g of a concentrate. Next, 50.0 g of ethyl acetate was added, heated to 70°C, and then cooled to 5°C while stirring. After 1 hour, the precipitate was collected by filtration and dried under vacuum at 50°C to obtain compound (C-1) (14.1 g, 36.6 mmol, yield 87.8%).

合成例2~10
カルボン酸化合物(B-1)、(B-2)、(B-3)、(B-4)、(B-5)、(B-6)、(B-7)を表1に示す活性化剤と組み合わせる以外は合成例1と同様にして活性エステル(C-2)、(C-3)、(C-4)、(C-5)、(C-6)、(C-7)、(C-8)、(C-9)、(C-10)を製造した。結果を表1に示す。
Synthesis Examples 2 to 10
Active esters (C-2), (C-3), (C-4), (C-5), (C-6), (C-7), (C-8), (C-9), and (C-10) were produced in the same manner as in Synthesis Example 1, except that carboxylic acid compounds (B-1), (B-2), (B-3), (B-4), (B-5), (B-6), and (B-7) were combined with activators shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

Figure 0007659541000015
Figure 0007659541000015

Figure 0007659541000016
Figure 0007659541000016

4.アミン原料
合成例11 [Boc-Py-ONBn(A-1)の製造]
4. Amine raw materials
Synthesis Example 11 [Production of Boc-Py-ONBn (A-1)]

Figure 0007659541000017
Figure 0007659541000017

Boc-Py-OH(10.0g、41.5mmol)に、DMF(100mL)とH2O(17mL)、Cs2CO3(7.2g、22.0mmol)を加えて40℃で30分攪拌した。続いて4-ニトロベンジルブロミド(10.2g、47.3mmol)を加えて29時間攪拌した。次に氷浴下、H2O(50mL)中に反応液を添加し、続いて30分間攪拌した。得られた沈殿物を濾取し、50℃で真空乾燥させることで目的化合物(A-1)を取得した(11.3g、30.3mmol、収率73.0%)。 To Boc-Py-OH (10.0 g, 41.5 mmol), DMF (100 mL), H 2 O (17 mL), and Cs 2 CO 3 (7.2 g, 22.0 mmol) were added, and the mixture was stirred at 40° C. for 30 minutes. Then, 4-nitrobenzyl bromide (10.2 g, 47.3 mmol) was added, and the mixture was stirred for 29 hours. Next, the reaction solution was added to H 2 O (50 mL) in an ice bath, and the mixture was stirred for 30 minutes. The resulting precipitate was collected by filtration and dried in vacuum at 50° C. to obtain the target compound (A-1) (11.3 g, 30.3 mmol, yield 73.0%).

合成例12 [H-Im-ONBn HCl salt(A-2)の製造]Synthesis Example 12 [Production of H-Im-ONBn HCl salt (A-2)]

Figure 0007659541000018
Figure 0007659541000018

Boc-Im-OH(10.0g、41.5mmol)に、DMF(100mL)とH2O(17mL)、Cs2CO3(7.2g、22.0mmol)を加えて40℃で30分攪拌した。続いて4-ニトロベンジルブロミド(10.2g、47.3mmol)を加えて29時間攪拌した。次に氷浴下、H2O(500mL)中に反応液を添加し、続いて30分間攪拌した。得られた沈殿物を濾取し、50℃で真空乾燥させることでBoc-Im-ONBnを取得した(11.3g、30.3mmol、収率73.0%)。 To Boc-Im-OH (10.0 g, 41.5 mmol), DMF (100 mL), H 2 O (17 mL), and Cs 2 CO 3 (7.2 g, 22.0 mmol) were added, and the mixture was stirred at 40° C. for 30 minutes. Then, 4-nitrobenzyl bromide (10.2 g, 47.3 mmol) was added, and the mixture was stirred for 29 hours. Next, the reaction solution was added to H 2 O (500 mL) in an ice bath, and the mixture was stirred for 30 minutes. The resulting precipitate was collected by filtration and dried in vacuum at 50° C. to obtain Boc-Im-ONBn (11.3 g, 30.3 mmol, yield 73.0%).

次に14%HCl/ジオキサン(117.2g、450mmol)中に上記で得られたBoc-Im-ONBn(11.3g、30.0mmol)を加えて室温で22時間攪拌した。次にヘキサン(112.9g)を室温で滴下して混合した。氷浴下でさらに1時間攪拌後、析出物を濾取し、40℃で真空乾燥させることで目的化合物(A-2)を取得した(9.6g、30.0mmol、収率100%)。Next, the Boc-Im-ONBn (11.3 g, 30.0 mmol) obtained above was added to 14% HCl/dioxane (117.2 g, 450 mmol) and stirred at room temperature for 22 hours. Next, hexane (112.9 g) was added dropwise at room temperature and mixed. After stirring for an additional hour in an ice bath, the precipitate was filtered and dried in vacuum at 40°C to obtain the target compound (A-2) (9.6 g, 30.0 mmol, yield 100%).

5.アミド合成
比較例1
[Boc-Py-Py-ONBn(D-1)の製造]
5. Amide synthesis
Comparative Example 1
[Production of Boc-Py-Py-ONBn (D-1)]

Figure 0007659541000019
Figure 0007659541000019

Boc-Py-ONBn(A-1)(0.10g、0.27mmol)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、メタンスルホン酸(以下、MsOHという)(0.09g、0.95mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.15g、1.49mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いてBoc-Py-OOBt(C-1)(0.12g、0.32mmol)を添加して40℃で1時間攪拌した。次に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(1mL×3)、5%クエン酸水溶液(1mL×1)、H2O(1mL×1)で洗浄を行い、硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-1)の濃縮物を0.14g取得した(収率:76.9%、HPLC純度:71.4%、残存活性エステル:25.5%)。
[Boc-Py-Py-Py-ONBn(D-2)の製造]
Dichloromethane (0.8 mL) was added to Boc-Py-ONBn (A-1) (0.10 g, 0.27 mmol) to dissolve it, and then methanesulfonic acid (hereinafter referred to as MsOH) (0.09 g, 0.95 mmol) was added dropwise at 20° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.15 g, 1.49 mmol) was added dropwise in an ice bath, and the temperature was raised to 20° C. Next, Boc-Py-OOBt (C-1) (0.12 g, 0.32 mmol) was added, and the mixture was stirred at 40° C. for 1 hour. Next, the mixture was washed with 5% aqueous sodium bicarbonate solution (1 mL x 3), 5% aqueous citric acid solution (1 mL x 1), and H 2 O (1 mL x 1), dried over sodium sulfate, and filtered. The resulting solution was then distilled under reduced pressure at 30°C to obtain 0.14 g of a concentrated product of the desired product (D-1) (yield: 76.9%, HPLC purity: 71.4%, remaining active ester: 25.5%).
[Production of Boc-Py-Py-Py-ONBn (D-2)]

Figure 0007659541000020
Figure 0007659541000020

Boc-Py-Py-ONBn(D-1)(0.14g)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.12g、1.28mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.18g、1.81mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いてBoc-Py-OOBt(C-1)(0.12g、0.32mmol)を添加して40℃で16.5時間攪拌した。次に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(1mL×3)、5%クエン酸水溶液(1mL×1)、H2O(1mL×1)で洗浄を行い、硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-2)の濃縮物を0.17g取得した(化合物(A-1)からの収率:17.1%、HPLC純度:16.7%、残存活性エステル:42.0%)。 Dichloromethane (0.8 mL) was added to Boc-Py-Py-ONBn (D-1) (0.14 g) to dissolve it, and then MsOH (0.12 g, 1.28 mmol) was added dropwise at 20° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.18 g, 1.81 mmol) was added dropwise in an ice bath, and the temperature was raised to 20° C. Then, Boc-Py-OOBt (C-1) (0.12 g, 0.32 mmol) was added, and the mixture was stirred at 40° C. for 16.5 hours. Next, the mixture was washed with 5% aqueous sodium bicarbonate solution (1 mL x 3), 5% aqueous citric acid solution (1 mL x 1), and H 2 O (1 mL x 1), dried over sodium sulfate, and filtered. The resulting solution was then distilled under reduced pressure at 30°C to obtain 0.17 g of a concentrated product of the desired product (D-2) (yield from compound (A-1): 17.1%, HPLC purity: 16.7%, remaining active ester: 42.0%).

実施例1Example 1
[Boc-Py-Py-ONBn(D-1)の製造][Production of Boc-Py-Py-ONBn (D-1)]

Figure 0007659541000021
Figure 0007659541000021

Boc-Py-ONBn(A-1)(0.10g、0.27mmol)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.10g、1.03mmol)を20℃で滴下して混合した。60分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.16g、1.57mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いてBoc-Py-OOBt(C-1)(0.12g、0.32mmol)を添加して40℃で1時間攪拌した。次に、トリエチルアミン(0.08g、0.80mmol)、タウリン(0.10g、0.80mmol)を添加し、40℃で終夜攪拌した。続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液(1mL×3)、5%クエン酸水溶液(1mL×1)、H2O(1mL×1)で洗浄を行った。洗浄時の分液性は良好であった。洗浄後の有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-1)の濃縮物を0.14g取得した(収率:96.8%、HPLC純度:91.4%、残存活性エステル:0.1%)。
[Boc-Py-Py-Py-ONBn(D-2)の製造]
After adding dichloromethane (0.8 mL) to Boc-Py-ONBn (A-1) (0.10 g, 0.27 mmol) to dissolve it, MsOH (0.10 g, 1.03 mmol) was added dropwise at 20°C and mixed. After 60 minutes, triethylamine (0.16 g, 1.57 mmol) was added dropwise in an ice bath and the temperature was raised to 20°C. Then, Boc-Py-OOBt (C-1) (0.12 g, 0.32 mmol) was added and stirred at 40°C for 1 hour. Next, triethylamine (0.08 g, 0.80 mmol) and taurine (0.10 g, 0.80 mmol) were added and stirred overnight at 40°C. Then, washing was performed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution (1 mL x 3), 5% aqueous citric acid solution (1 mL x 1), and H 2 O (1 mL x 1). The organic layer after washing was dried over sodium sulfate and filtered, and the resulting solution was distilled under reduced pressure at 30° C. to obtain 0.14 g of a concentrate of the target product (D-1) (yield: 96.8%, HPLC purity: 91.4%, remaining active ester: 0.1%).
[Production of Boc-Py-Py-Py-ONBn (D-2)]

Figure 0007659541000022
Figure 0007659541000022

Boc-Py-Py-ONBn(D-1)(0.14g)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.12g、1.24mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.18g、1.81mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いてBoc-Py-OOBt(C-1)(0.12g、0.32mmol)を添加して40℃で1時間攪拌した。次に、トリエチルアミン(0.13g、1.33mmol)、タウリン(0.17g、1.33mmol)を添加し、40℃で終夜攪拌した。続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液(3mL×3)、5%クエン酸水溶液(3mL×1)、H2O(3mLx1)で洗浄を行った。洗浄時の分液性は良好であった。洗浄後の有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-2)の濃縮物を0.15g取得した(化合物(A-1)からの収率73.1%、HPLC純度79.5%、残存活性エステル:0.8%)。 After adding dichloromethane (0.8 mL) to Boc-Py-Py-ONBn (D-1) (0.14 g) to dissolve it, MsOH (0.12 g, 1.24 mmol) was added dropwise at 20 ° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.18 g, 1.81 mmol) was added dropwise in an ice bath, and the temperature was raised to 20 ° C. Then, Boc-Py-OOBt (C-1) (0.12 g, 0.32 mmol) was added and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Next, triethylamine (0.13 g, 1.33 mmol) and taurine (0.17 g, 1.33 mmol) were added, and the mixture was stirred overnight at 40 ° C. Then, washing was performed with 5% sodium bicarbonate aqueous solution (3 mL x 3), 5% citric acid aqueous solution (3 mL x 1), and H 2 O (3 mL x 1). The liquid separation property during washing was good. The washed organic layer was dried over sodium sulfate and filtered, and the resulting solution was distilled under reduced pressure at 30° C. to obtain 0.15 g of a concentrate of the target product (D-2) (yield from compound (A-1) 73.1%, HPLC purity 79.5%, remaining active ester: 0.8%).

比較例1及び実施例1で製造したBoc-Py-Py-ONBn(D-1)及びBoc-Py-Py-Py-ONBn(D-2)の収率と品質の結果を表2に示した。The yield and quality results of Boc-Py-Py-ONBn (D-1) and Boc-Py-Py-Py-ONBn (D-2) produced in Comparative Example 1 and Example 1 are shown in Table 2.

Figure 0007659541000023
Figure 0007659541000023

Figure 0007659541000024
Figure 0007659541000024

実施例2 [Boc-Py-Py-ONBn(D-1)の製造]Example 2 [Preparation of Boc-Py-Py-ONBn (D-1)]

Figure 0007659541000025
Figure 0007659541000025

Boc-Py-ONBn(A-1)(0.10g、0.27mmol)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.08g、0.88mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.14g、1.41mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いてBoc-Py-OOBt(C-1)(0.12g、0.32mmol)を添加して40℃で2時間攪拌した。次に、トリエチルアミン(0.08g、0.80mmol)、3-メルカプトプロパンスルホン酸ナトリウム(0.14g、0.80mmol)を添加し、40℃で終夜攪拌した。続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液(1mL×3)、5%クエン酸水溶液(1mL×1)、H2O(1mL×1)で洗浄を行った。洗浄時の分液性は良好であった。洗浄後の有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-1)の濃縮物を0.16g取得した(HPLC純度:86.9%、残存活性エステル:0.2%)。 Dichloromethane (0.8 mL) was added to Boc-Py-ONBn (A-1) (0.10 g, 0.27 mmol) to dissolve it, and then MsOH (0.08 g, 0.88 mmol) was added dropwise at 20° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.14 g, 1.41 mmol) was added dropwise in an ice bath, and the temperature was raised to 20° C. Then, Boc-Py-OOBt (C-1) (0.12 g, 0.32 mmol) was added and stirred at 40° C. for 2 hours. Next, triethylamine (0.08 g, 0.80 mmol) and sodium 3-mercaptopropanesulfonate (0.14 g, 0.80 mmol) were added, and the mixture was stirred at 40° C. overnight. Subsequently, washing was performed with a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution (1 mL x 3), a 5% aqueous citric acid solution (1 mL x 1), and H 2 O (1 mL x 1). Liquid separation during washing was good. The organic layer after washing was dried over sodium sulfate and filtered, and the resulting solution was distilled under reduced pressure at 30°C to obtain 0.16 g of a concentrate of the target product (D-1) (HPLC purity: 86.9%, remaining active ester: 0.2%).

実施例3~6、比較例2、3Examples 3 to 6, Comparative Examples 2 and 3

Figure 0007659541000026
Figure 0007659541000026

表3に示す誘導化剤を使用する以外は、実施例2と同様にした。結果を前記比較例1、実施例1、実施例2と共に表3に示す。The same procedure was followed as in Example 2, except that the inducer shown in Table 3 was used. The results are shown in Table 3 together with those of Comparative Example 1, Example 1, and Example 2.

Figure 0007659541000027
Figure 0007659541000027

実施例7~13Examples 7 to 13

Figure 0007659541000028
Figure 0007659541000028

表4に示す活性エステルと誘導化剤を使用する以外は、実施例2と同様にした。結果を表4に示す。The procedure was the same as in Example 2, except that the active esters and derivatizing agents shown in Table 4 were used. The results are shown in Table 4.

Figure 0007659541000029
Figure 0007659541000029

実施例14 [Boc-Py-Im-ONBn(D-6)の製造]Example 14 [Preparation of Boc-Py-Im-ONBn (D-6)]

Figure 0007659541000030

化合物(A-2)(12.5g、40.0mmol)にピリジン(120mL)、ジイソプロピルエチルアミン(以下、DIPEAという、15.5g、120mmol)を加えた。次に活性エステル(C-10)(13.1g、36.0mmol)を添加し、混合液を40℃で終夜攪拌した。次に、DIPEA(15.5g、120mmol)、タウリン(15.0g、120mmol)を添加し、室温で終夜攪拌した。次に30℃で減圧留去することでピリジンを除去し、ジクロロメタン(200mL)及びH2O(200mL)を加えて洗浄した。続いて5%炭酸ナトリウム水溶液(200mL×3)、5%KHSO4水溶液(200mLx2)、20%NaCl水溶液(200mL×1)で洗浄を行いった。洗浄時の分液性は良好であった。洗浄後の有機層を硫酸ナトリウムを用いて乾燥、ろ過後、得られた溶液を30℃で減圧留去することにより、目的生成物(D-6)の濃縮物を16.5g取得した(HPLC純度:95.4%、残存活性エステル:不検出)。
Figure 0007659541000030

Pyridine (120 mL) and diisopropylethylamine (hereinafter referred to as DIPEA, 15.5 g, 120 mmol) were added to compound (A-2) (12.5 g, 40.0 mmol). Next, active ester (C-10) (13.1 g, 36.0 mmol) was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. overnight. Next, DIPEA (15.5 g, 120 mmol) and taurine (15.0 g, 120 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature overnight. Next, pyridine was removed by distillation under reduced pressure at 30 ° C., and dichloromethane (200 mL) and H 2 O (200 mL) were added for washing. Next, washing was performed with a 5% sodium carbonate aqueous solution (200 mL × 3), a 5% KHSO 4 aqueous solution (200 mL × 2), and a 20% NaCl aqueous solution (200 mL × 1). The liquid separation property during washing was good. The washed organic layer was dried over sodium sulfate and filtered, and the resulting solution was distilled under reduced pressure at 30° C. to obtain 16.5 g of a concentrated product of the target product (D-6) (HPLC purity: 95.4%, residual active ester: not detected).

実施例15Example 15

Figure 0007659541000031
Figure 0007659541000031

Boc-Py-ONBn(A-1)(0.10g、0.27mmol)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.09g、0.97mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.15g、1.51mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いて活性エステル(C-3)(0.10g、0.32mmol)を添加して40℃で1時間攪拌した。次に、トリエチルアミン(0.08g、0.80mmol)、タウリン(0.10g、0.80mmol)を添加し、40℃で終夜攪拌した。続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液(12mL)を加えた後、30℃で減圧留去することでジクロロメタンを除去し、スラリー液を得た。得られたスラリー液を50℃まで昇温し、1時間熟成した後、20℃まで冷却し、ろ過、30℃で乾燥すること目的生成物(D-7)を0.10g取得した(HPLC純度:80.9%、残存活性エステル:0.9%)。 After adding dichloromethane (0.8 mL) to Boc-Py-ONBn (A-1) (0.10 g, 0.27 mmol) and dissolving it, MsOH (0.09 g, 0.97 mmol) was added dropwise at 20 ° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.15 g, 1.51 mmol) was added dropwise in an ice bath and the temperature was raised to 20 ° C. Then, active ester (C-3) (0.10 g, 0.32 mmol) was added and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Next, triethylamine (0.08 g, 0.80 mmol) and taurine (0.10 g, 0.80 mmol) were added and stirred overnight at 40 ° C. Then, 5% aqueous sodium bicarbonate solution (12 mL) was added, and dichloromethane was removed by distillation under reduced pressure at 30 ° C. to obtain a slurry liquid. The obtained slurry was heated to 50° C. and aged for 1 hour, then cooled to 20° C., filtered, and dried at 30° C. to obtain 0.10 g of the target product (D-7) (HPLC purity: 80.9%, residual active ester: 0.9%).

実施例16Example 16

Figure 0007659541000032
Figure 0007659541000032

Boc-Py-ONBn(A-1)(0.10g、0.27mmol)にジクロロメタン(0.8mL)を加えて溶解させた後、MsOH(0.09g、0.96mmol)を20℃で滴下して混合した。30分後、氷浴下でトリエチルアミン(0.15g、1.50mmol)を滴下し、20℃まで昇温した。続いて活性エステル(C-4)(0.11g、0.32mmol)を添加して40℃で1時間攪拌した。次に、トリエチルアミン(0.08g、0.80mmol)、タウリン(0.10g、0.80mmol)、DMF(0.5mL)を添加し、40℃で2.5時間攪拌した。続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液(12mL)及びDMF(1mL)を加えた後、30℃で減圧留去することでジクロロメタンを除去し、スラリー液を得た。得られたスラリー液を50℃まで昇温し、1時間熟成した後、20℃まで冷却し、ろ過、35℃で乾燥すること目的生成物(D-8)を0.12g取得した(HPLC純度:87.2%、残存活性エステル:不検出)。
Dichloromethane (0.8 mL) was added to Boc-Py-ONBn (A-1) (0.10 g, 0.27 mmol) to dissolve it, and then MsOH (0.09 g, 0.96 mmol) was added dropwise at 20 ° C. and mixed. After 30 minutes, triethylamine (0.15 g, 1.50 mmol) was added dropwise in an ice bath, and the temperature was raised to 20 ° C. Then, active ester (C-4) (0.11 g, 0.32 mmol) was added and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Next, triethylamine (0.08 g, 0.80 mmol), taurine (0.10 g, 0.80 mmol), and DMF (0.5 mL) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2.5 hours. Then, 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution (12 mL) and DMF (1 mL) were added, and dichloromethane was removed by distillation under reduced pressure at 30 ° C. to obtain a slurry liquid. The obtained slurry was heated to 50° C. and aged for 1 hour, then cooled to 20° C., filtered, and dried at 35° C. to obtain 0.12 g of the target product (D-8) (HPLC purity: 87.2%, residual active ester: not detected).

Claims (9)

液相法によるアミド結合形成反応において、
式(1);
Figure 0007659541000033

[式中、nは1以上30以下の整数を示し、ProはC末端の保護基を示し、該C末端の保護基はエステル系保護基又はアミド系保護基であり、Raはβ-アミノ酸残基、γ-アミノ酸残基、又は式(4-1)で表される芳香族複素環含有アミノ酸残基を示す。nが2以上の場合、複数のRaは同一であってもよく、異なっていてもよい。Ar 3 はカルボキシ基及びアミノ基を除く置換基を有していてもよい芳香族複素環を示す。*は結合手を示す。]で表される化合物と、
式(2)又は式(3);
Figure 0007659541000034

[式中、mは1又は2の整数を示し、Rbはアミノ酸残基を示し、mが2の場合、2つのRbは同一であってもよく、異なっていてもよい。Rbの少なくとも1つは式(4)で表されるアミノ酸残基である。QはN末端の保護基を示し、該N末端の保護基はカルバメート型保護基、アシル型保護基、アルコキシメチル型保護基、又はフェニルメチル型保護基であり、Ar1及びAr2は、互いに独立に、カルボキシ基及びアミノ基を除く置換基を有していてもよい芳香族複素環を示し、該芳香族複素環はチオフェン、ピロール、イミダゾール、チアゾール、又はインドールである。式(2)で表される化合物が2つのAr2を有する場合、2つのAr2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。*は結合手を示す。]で表される化合物を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物とを反応させて、式(5)又は式(6);
Figure 0007659541000035

[式中、Ra、Rb、Ar1、Pro、Q、n、及びmは、前記と同じである。]で表されるアミド結合含有化合物を合成する工程A、
前記工程Aで得られた式(5)又は式(6)で表されるアミド結合含有化合物を含む反応混合物に、式(7);
Figure 0007659541000036

[式中、Aはアミノ基、又はスルファニル基を示し、Bは-SO3M、又は-CO2 Mを示し、R1は炭素数のアルキレン基を示す。Mは水素原子、又はアルカリ金属原子を示し、Mが複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。]で表される化合物、及び
酸性基又は酸性基の塩を有さないモノアミン化合物を混合し、
前記式(2)又は式(3)で表される化合物を活性エステル化、酸ハロゲン化、又は酸無水物化した化合物と前記式(7)で表される化合物とを反応させる工程B、及び
前記工程Bで得られた反応混合物を塩基性及び/又は酸性水溶液で洗浄する工程Cを含むことを特徴とするアミド結合含有化合物の製造方法。
In the liquid phase amide bond formation reaction,
Formula (1);
Figure 0007659541000033

[wherein n is an integer of 1 or more and 30 or less, Pro is a protecting group for the C-terminus, the protecting group for the C-terminus being an ester-based protecting group or an amide-based protecting group, Ra is a β-amino acid residue, a γ-amino acid residue, or an aromatic heterocycle-containing amino acid residue represented by formula (4-1) . When n is 2 or more, multiple Ra's may be the same or different. Ar3 is an aromatic heterocycle which may have a substituent other than a carboxy group and an amino group. * represents a bond. ],
Formula (2) or Formula (3);
Figure 0007659541000034

[wherein m represents an integer of 1 or 2, Rb represents an amino acid residue, and when m is 2, the two Rb's may be the same or different. At least one of Rb's is an amino acid residue represented by formula (4). Q represents an N-terminal protecting group, and the N-terminal protecting group is a carbamate type protecting group, an acyl type protecting group, an alkoxymethyl type protecting group, or a phenylmethyl type protecting group; Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic heterocycle which may have a substituent other than a carboxy group and an amino group, and the aromatic heterocycle is thiophene, pyrrole, imidazole, thiazole, or indole . When the compound represented by formula (2) has two Ar 2's , the two Ar 2 's may be the same or different. * represents a bond. ] is reacted with a compound obtained by active esterification, acid halide, or acid anhydride conversion to obtain a compound represented by formula (5) or formula (6);
Figure 0007659541000035

[wherein Ra, Rb, Ar 1 , Pro, Q, n, and m are the same as defined above],
The reaction mixture containing the amide bond-containing compound represented by formula (5) or formula (6) obtained in step A is treated with a compound represented by formula (7);
Figure 0007659541000036

[wherein A represents an amino group or a sulfanyl group, B represents --SO3M or --CO2M , and R1 represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms. M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, and when there are a plurality of M's, they may be the same or different.] and a monoamine compound having no acidic group or a salt of an acidic group are mixed,
A method for producing an amide bond-containing compound, comprising: a step B of reacting a compound obtained by converting a compound represented by formula (2) or (3) into an active ester, an acid halide, or an acid anhydride with a compound represented by formula (7); and a step C of washing the reaction mixture obtained in the step B with a basic and/or acidic aqueous solution.
前記酸性基又は酸性基の塩を有さないモノアミン化合物がトリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、又はN-メチルモルホリンである請求項1に記載の製造方法。 The method according to claim 1, wherein the monoamine compound having no acidic group or no salt of an acidic group is triethylamine, tributylamine, N,N-diisopropylethylamine, or N-methylmorpholine. 前記式(7)で表される化合物がタウリンである請求項1又は2に記載の製造方法。 The method according to claim 1 or 2 , wherein the compound represented by formula (7) is taurine. 前記塩基性水溶液が炭酸塩又は炭酸水素塩の水溶液である請求項1~のいずれかに記載の製造方法。 4. The method according to claim 1, wherein the basic aqueous solution is an aqueous solution of a carbonate or a hydrogen carbonate. 前記炭酸塩、炭酸水素塩がリチウム塩、ナトリウム塩、又はカリウム塩である請求項に記載の製造方法。 The method according to claim 4 , wherein the carbonate or hydrogen carbonate is a lithium salt, a sodium salt, or a potassium salt. 前記酸性水溶液が有機酸の水溶液である請求項1~のいずれかに記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 5 , wherein the acidic aqueous solution is an aqueous solution of an organic acid. 前記有機酸がクエン酸である請求項に記載の製造方法。 The method according to claim 6 , wherein the organic acid is citric acid. 前記式(5)又は式(6)で表されるアミド結合含有化合物がピロールイミダゾール(ポリ)アミド化合物である請求項1~のいずれかに記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 7 , wherein the amide bond-containing compound represented by the formula (5) or (6) is a pyrrole-imidazole (poly)amide compound. 請求項1~のいずれかに記載の製造方法で前記式(5)で表されるアミド結合含有化合物を製造し、得られた前記式(5)で表されるアミド結合含有化合物を単離することなく、N末端を脱保護し、続いて、前記工程A、工程B、及び工程Cを行うことでアミド結合含有化合物の伸長を行うアミド結合含有化合物の製造方法。 A method for producing an amide bond-containing compound represented by formula (5) by the production method according to any one of claims 1 to 8 , and deprotecting the N-terminus of the obtained amide bond-containing compound represented by formula (5) without isolating it, and then carrying out the steps A, B, and C to elongate the amide bond-containing compound.
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