JP7665386B2 - Deoxyhalogenogluconic acid derivatives and their production method, and deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives and their production method - Google Patents
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Description
本発明は、新規な化合物であるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体及びその製造方法、並びに、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体の中間体として有用な、新規な化合物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a novel compound, a deoxyhalogenogluconic acid derivative, and a method for producing the same, as well as a novel compound, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, which is useful as an intermediate for deoxyhalogenogluconic acid derivatives, and a method for producing the same.
下記式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(以下、「AHM」とも称する。)は、例えば、糖尿病に代表される慢性疾患の治療に用いられるSGLT2阻害薬等の種々の医薬品の合成原料として用いられる有用な化合物である(非特許文献1)。 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (hereinafter also referred to as "AHM") represented by the following formula (3A) is a useful compound used as a raw material for the synthesis of various pharmaceuticals, such as SGLT2 inhibitors used in the treatment of chronic diseases such as diabetes (Non-Patent Document 1).
非特許文献1には、トリフルオロ酢酸(TFA)を含有する無水酢酸(Ac2O)中に下記式(1)で表されるD-グルコノ-1,5-ラクトン(以下、「GLC」とも称する。)を混合して、下記式(2A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1,5-ラクトン(以下、「ALC」とも称する。)を得た後、該ALCを、p-トルエンスルホン酸存在下でメタノールと反応させてAHMを得る方法が記載されている。 Non-Patent Document 1 describes a method in which D-glucono-1,5-lactone (hereinafter also referred to as "GLC") represented by the following formula (1) is mixed into acetic anhydride (Ac 2 O) containing trifluoroacetic acid (TFA) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone (hereinafter also referred to as "ALC") represented by the following formula (2A), and then the ALC is reacted with methanol in the presence of p-toluenesulfonic acid to obtain AHM.
本発明の目的は、新規な化合物であるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体及びその製造方法、並びに、新規な化合物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体及びその製造方法を提供することにある。 The object of the present invention is to provide a novel compound, a deoxyhalogenogluconic acid derivative, and a method for producing the same, as well as a novel compound, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, and a method for producing the same.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、塩基存在下、後述する式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体をスルホニル化及び臭素化することにより、後述する式(5)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体を高収率で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors discovered that a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by formula (5) described below can be produced in high yield by sulfonylation and bromination of a tetraacylgluconic acid derivative represented by formula (3) described below in the presence of a base, and thus completed the present invention.
すなわち、本発明の一実施の形態に係るデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、下記式(4)で表される化合物である。 That is, the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention is a compound represented by the following formula (4).
前記式(4)において、R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基である。 In the formula (4), R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent; R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
本発明の他の実施の形態に係るデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法は、塩基存在下、下記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体と下記式(6)で表されるスルホニル化剤とを接触させて、前記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を製造することを含む。 A method for producing a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative according to another embodiment of the present invention includes contacting a tetraacylgluconic acid derivative represented by the following formula (3) with a sulfonylating agent represented by the following formula (6) in the presence of a base to produce a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4).
前記式(3)において、R1及びR2は、前記式(4)で表されるものと同義である。 In the formula (3), R 1 and R 2 have the same meanings as those represented by the formula (4).
前記式(6)において、R3は、前記式(4)で表されるものと同義であり、X’は、ハロゲン原子である。 In the formula (6), R 3 has the same meaning as that represented by the formula (4), and X′ is a halogen atom.
前記塩基は、アルキルアミン系の塩基、及び環状アミン系の塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。また、前記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体1モルに対して、前記塩基を0.001モル以上5.0モル以下使用することが好ましい。 The base preferably includes at least one selected from the group consisting of alkylamine bases and cyclic amine bases. It is also preferable to use 0.001 moles or more and 5.0 moles or less of the base per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by formula (3).
前記式(6)で表されるスルホニル化剤は、アルキルスルホニルクロリド、ハロアルキルスルホニルクロリド、アリールスルホニルクロリド及びハロアリールスルホニルクロリドからなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。また、前記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体1モルに対して、前記式(6)で表されるスルホニル化剤を1.0モル以上5.0モル以下使用することが好ましい。 The sulfonylating agent represented by the formula (6) preferably contains at least one selected from the group consisting of alkylsulfonyl chloride, haloalkylsulfonyl chloride, arylsulfonyl chloride, and haloarylsulfonyl chloride. It is also preferable to use 1.0 mole or more and 5.0 moles or less of the sulfonylating agent represented by the formula (6) per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the formula (3).
前記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体と前記式(6)で表されるスルホニル化剤との接触は、塩化メチレン、酢酸エチル及びアセトニトリルからなる群から選ばれる少なくとも1種の溶媒を含む第1の反応溶媒中で実施することが好ましい。 The contact of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the formula (3) with the sulfonylating agent represented by the formula (6) is preferably carried out in a first reaction solvent containing at least one solvent selected from the group consisting of methylene chloride, ethyl acetate, and acetonitrile.
本発明の他の実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体は、下記式(5)で表される化合物である。 The deoxyhalogenogluconic acid derivative according to another embodiment of the present invention is a compound represented by the following formula (5).
前記式(5)において、R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、Xは、ハロゲン原子である。 In the formula (5), R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent; R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and X is a halogen atom.
本発明の他の実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法は、下記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させて、下記式(5’)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体を製造することを含む。 A method for producing a deoxyhalogenogluconic acid derivative according to another embodiment of the present invention includes contacting a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the following formula (4) with a halogenating agent to produce a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the following formula (5').
前記式(4)において、R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基である。 In the formula (4), R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
前記式(5’)において、R1及びR2は、前記式(4)で表されるものと同義であり、X’’は、前記ハロゲン化剤由来のハロゲン原子である。 In the formula (5'), R 1 and R 2 have the same meanings as those represented by the formula (4), and X'' is a halogen atom derived from the halogenating agent.
前記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体1モルに対して、前記ハロゲン化剤を1.0モル以上5.0モル以下使用することが好ましい。 It is preferable to use 1.0 mole or more and 5.0 moles or less of the halogenating agent per mole of the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4).
前記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体と前記ハロゲン化剤との接触は、非プロトン性極性溶媒を含む第2の反応溶媒中で実施することが好ましい。 The contact of the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by formula (4) with the halogenating agent is preferably carried out in a second reaction solvent containing an aprotic polar solvent.
本発明の他の実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法は、上述したデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘体の製造方法により前記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を製造した後、得られた該式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させて、下記式(5’)に示すデオキシハロゲノグルコン酸誘導体を製造することを含む。 A method for producing a deoxyhalogenogluconic acid derivative according to another embodiment of the present invention includes producing a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4) by the above-mentioned method for producing a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, and then contacting the obtained deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4) with a halogenating agent to produce a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the following formula (5').
前記式(5’)において、R1及びR2は、前記式(4)で表されるものと同義であり、X’’は、前記ハロゲン化剤由来のハロゲン原子である。 In the formula (5'), R 1 and R 2 have the same meanings as those represented by the formula (4), and X'' is a halogen atom derived from the halogenating agent.
本発明に係る実施形態によると、新規な化合物であるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体及びその製造方法、並びに、新規な化合物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体及びその製造方法が提供される。 According to an embodiment of the present invention, a novel compound, a deoxyhalogenogluconic acid derivative, and a method for producing the same, as well as a novel compound, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, and a method for producing the same, are provided.
以下、本発明に係る一実施の形態について詳細に説明する。
アザグルコース誘導体やチオグリコース誘導体等の出発原料として、下記式(5A-2)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体((5S)-2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステル、以下、「ABM」とも称する。)が有効な化合物と考えられている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail.
As a starting material for azaglucose derivatives, thioglycose derivatives, etc., a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the following formula (5A-2) ((5S)-2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester, hereinafter also referred to as "ABM") is considered to be an effective compound.
ABMの製造方法として、下記式(3’)で表されるグルコン酸誘導体から直接的に合成する方法が検討されている。 As a method for producing ABM, a method for directly synthesizing it from a gluconic acid derivative represented by the following formula (3') is being investigated.
上記式(3’)において、R5~R10は、アルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基であり、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。 In the above formula (3'), R 5 to R 10 are an alkyl group, an aralkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and may be the same group or different groups.
しかしながら、上記式(3’)で表されるグルコン酸誘導体への位置選択的、かつ立体選択的な臭素基の導入が困難であり、これまでに該グルコン酸誘導体から直接的にABMを合成する方法は実現されていなかった。 However, it is difficult to regioselectively and stereoselectively introduce bromine groups into the gluconic acid derivative represented by the above formula (3'), and thus far no method has been realized for synthesizing ABM directly from the gluconic acid derivative.
本発明の一実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法は、下記反応式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体から、下記式(4)で表される新規な化合物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を製造中間体として経由し、下記式(5)で表される新規な化合物であるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体を製造することを含む。 The method for producing a deoxyhalogenogluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention includes producing a deoxyhalogenogluconic acid derivative, which is a novel compound represented by the following formula (5), from a tetraacylgluconic acid derivative represented by the following reaction formula (3), via a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, which is a novel compound represented by the following formula (4), as a production intermediate.
以下、式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体及びその製造方法、並びに、式(5)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体及びその製造方法についてそれぞれ順に詳細を説明する。 The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by formula (4) and its production method, and the deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by formula (5) and its production method will be described in detail below.
[デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体]
本発明の一実施の形態に係るデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、下記式(4)で表される化合物(テトラアシルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル系化合物)である。このデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、例えば、糖尿病に代表される慢性疾患の治療に用いられるSGLT2阻害薬等の種々の医薬品の合成原料として用いることができる。
[Deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives]
The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention is a compound (tetraacyl deoxysulfonyloxygluconic acid ester compound) represented by the following formula (4). This deoxysulfonyloxygluconic acid derivative can be used as a raw material for synthesizing various pharmaceuticals such as SGLT2 inhibitors used in the treatment of chronic diseases such as diabetes.
式(4)において、R1は、アルキル基、アラルキル基、又はアリール基である。R2は、アルキル基である。R3は、アルキル基、ハロアルキル基、アラルキル基、又はアリール基である。R1は、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。中でも、R1は、それぞれ同一の基であることが好ましい。 In formula (4), R 1 is an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group. R 2 is an alkyl group. R 3 is an alkyl group, a haloalkyl group, an aralkyl group, or an aryl group. R 1 may be the same group or different groups. In particular, it is preferable that R 1 is the same group.
R1は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数7~20のアラルキル基、又は炭素数6~20のアリール基である。前記アラルキル基又は前記アリール基は、それぞれ置換基を有してもよい。この置換基としては、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれるハロゲン基、又はニトロ基が挙げられる。該置換基は、好ましくは、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基である。該置換基は、より好ましくは、メチル基、メトキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基である。 R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The aralkyl group or the aryl group may each have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, or a nitro group. The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a halogen group, or a nitro group. The substituent is more preferably a methyl group, a methoxy group, a halogen group, or a nitro group.
R1は、より好ましくは、炭素数1~3のアルキル基、炭素数6~8のアリール基であり、中でも、メチル基、フェニル基が好適である。なお、R1がメチル基のとき、アシル基(-C(=O)R1)は、アセチル基(Ac)であり、R1がフェニル基のとき、アシル基(-C(=O)R1)は、ベンゾイル基(Bz)である。 R 1 is more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an aryl group having 6 to 8 carbon atoms, and among these, a methyl group or a phenyl group is preferable. When R 1 is a methyl group, the acyl group (-C(=O)R 1 ) is an acetyl group (Ac), and when R 1 is a phenyl group, the acyl group (-C(=O)R 1 ) is a benzoyl group (Bz).
R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数1~3のアルキル基であり、中でもメチル基が好適である。 R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and among these, a methyl group is preferred.
R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のハロアルキル基、炭素数7~20のアラルキル基、又は炭素数6~20のアリール基である。前記アラルキル基又は前記アリール基は、それぞれ置換基を有してもよい。この置換基としては、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれるハロゲン基、又はニトロ基が挙げられる。該置換基は、好ましくは、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基である。該置換基は、より好ましくは、メチル基、メトキシ基、ハロゲン基、又はニトロ基であり、中でも、メチル基、ハロゲン基が特に好ましい。また、ハロゲン基は、反応性を考慮すると、塩素原子が好適である。また、R3は、より好ましくは、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数6~8のアリール基であり、具体的には、メチル基、ハロメチル基(特にクロロメチル基)、フェニル基、トリル基(特にp-トリル基)、トリクロロフェニル基(特に2,4,6-トリクロロフェニル基及び2,4,5-トリクロロフェニル基)が好適である。 R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The aralkyl group or the aryl group may each have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen group selected from a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, or a nitro group. The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a halogen group, or a nitro group. The substituent is more preferably a methyl group, a methoxy group, a halogen group, or a nitro group, and among these, a methyl group and a halogen group are particularly preferred. In addition, the halogen group is preferably a chlorine atom in consideration of reactivity. Furthermore, R3 is more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and specifically, a methyl group, a halomethyl group (particularly a chloromethyl group), a phenyl group, a tolyl group (particularly a p-tolyl group), or a trichlorophenyl group (particularly a 2,4,6-trichlorophenyl group and a 2,4,5-trichlorophenyl group) is preferred.
[デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法]
前記のデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、塩基存在下、上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体と上記式(6)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる。すなわち、本発明の一実施の形態に係るデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法は、塩基存在下、上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体と上記式(6)で表されるスルホニル化剤とを接触させて、上記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を製造することを含む。
[Method of producing deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives]
The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is obtained by contacting a tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3) with a sulfonylating agent represented by the above formula (6) in the presence of a base. That is, a method for producing a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention includes contacting a tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3) with a sulfonylating agent represented by the above formula (6) in the presence of a base to produce a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4).
<テトラアシルグルコン酸誘導体>
テトラアシルグルコン酸誘導体は、本製造方法の一目的物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法における一基質である。テトラアシルグルコン酸誘導体は、下記式(3)で表される化合物(テトラアシルグルコン酸エステル系化合物)である。
<Tetraacylgluconic acid derivatives>
The tetraacylgluconic acid derivative is a substrate in the method for producing a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, which is one of the objects of the present production method. The tetraacylgluconic acid derivative is a compound (tetraacylgluconic acid ester compound) represented by the following formula (3).
式(3)において、R1およびR2は、前記式(4)のものと同義である。 In formula (3), R 1 and R 2 have the same meanings as those in formula (4).
(好適なテトラアシルグルコン酸誘導体)
上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体としては、その有用性を考慮すると、R1がメチル基であるテトラアセチルグルコン酸エステル誘導体、R1がフェニル基であるテトラベンゾイルグルコン酸エステル誘導体が好ましい。中でも、下記式(3A)又は(3B)で表される化合物をより好ましいものとして挙げることができる。
(Suitable Tetraacylgluconic Acid Derivatives)
Considering the usefulness of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3), a tetraacetylgluconic acid ester derivative in which R 1 is a methyl group and a tetrabenzoylgluconic acid ester derivative in which R 1 is a phenyl group are preferred. Among them, the compounds represented by the following formula (3A) or (3B) are more preferred.
式(3A)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル)は、上記式(3)においてR1及びR2がともにメチル基である化合物である。式(3B)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステル)は、上記式(3)においてR1がフェニル基であり、R2がメチル基である化合物である。なお、式(3A)及び(3B)中の「Me」は、メチル基を表す。また、中でも、操作性が良い点で、式(3B)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体が特に好ましい。 The compound represented by formula (3A) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester) is a compound in which R 1 and R 2 are both methyl groups in the above formula (3). The compound represented by formula (3B) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester) is a compound in which R 1 is a phenyl group and R 2 is a methyl group in the above formula (3). In addition, "Me" in formulas (3A) and (3B) represents a methyl group. Among them, the tetraacylgluconic acid derivative represented by formula (3B) is particularly preferred in terms of good operability.
<スルホニル化剤>
スルホニル化剤は、テトラアシルグルコン酸誘導体の水酸基に作用して、スルホニル基(-(O=S=O)-)を結合する(すなわち、スルホニル化する)反応剤である。スルホニル化剤は、下記式(6)で表される化合物である。
<Sulfonylating Agent>
The sulfonylating agent is a reactant that acts on the hydroxyl group of a tetraacylgluconic acid derivative to bond a sulfonyl group (-(O=S=O)-) (i.e., sulfonylation). The sulfonylating agent is a compound represented by the following formula (6).
前記式(6)において、R3は、前記式(4)のものと同義である。 In the formula (6), R3 has the same meaning as in the formula (4).
X’は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、中でも、塩素原子が特に好ましい。 X' is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, of which a chlorine atom is particularly preferred.
すなわち、式(6)で表されるスルホニル化剤としては、好ましくは、以下の化合物が挙げられる。
メタンスルホニルクロリド(「メシルクロリド」とも称する。式(6)においてR3がメチル基であり、X’が塩素原子である化合物。)等のアルキルスルホニルクロリド;
クロロメタンスルホニルクロリド(「クロロメシルクロリド」とも称する。式(6)において、R3がクロロメチル基であり、Xが塩素原子である化合物。)等のハロアルキルスルホニルクロリド;
ベンゼンスルホニルクロリド(式(6)においてR3がフェニル基であり、X’が塩素原子である化合物。)、p-トルエンスルホニルクロリド(式(6)において、R3がp-トリル基であり、X’が塩素原子である化合物。)等のアリールスルホニルクロリド;
2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニルクロリド(「2,4,6-トリクロロベンゼンスルホン酸クロリド」とも称する。式(6)において、R3が2,4,6-トリクロロフェニル基であり、X’が塩素原子である化合物。)、2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニルクロリド(「2,4,5-トリクロロベンゼンスルホン酸クロリド」とも称する。式(6)において、R3が2,4,5-トリクロロフェニル基であり、X’が塩素原子である化合物。)等のハロアリールスルホニルクロリド等が挙げられる。以下、表1に、上述した好ましいスルホニル化剤をまとめる。
That is, preferred examples of the sulfonylating agent represented by formula (6) include the following compounds.
methanesulfonyl chloride (also called "mesyl chloride"; a compound represented by formula (6) in which R3 is a methyl group and X' is a chlorine atom), and other alkylsulfonyl chlorides;
haloalkylsulfonyl chlorides such as chloromethanesulfonyl chloride (also called "chloromesyl chloride"; a compound represented by formula (6) in which R3 is a chloromethyl group and X is a chlorine atom);
Arylsulfonyl chlorides such as benzenesulfonyl chloride (a compound in which R 3 is a phenyl group and X' is a chlorine atom in the formula (6)) and p-toluenesulfonyl chloride (a compound in which R 3 is a p-tolyl group and X' is a chlorine atom in the formula (6));
Examples of the sulfonylating agent include haloarylsulfonyl chlorides such as 2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl chloride (also referred to as "2,4,6-trichlorobenzenesulfonic acid chloride"; a compound in which R 3 is a 2,4,6-trichlorophenyl group and X' is a chlorine atom in the formula (6)), 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride (also referred to as "2,4,5-trichlorobenzenesulfonic acid chloride"; a compound in which R 3 is a 2,4,5-trichlorophenyl group and X' is a chlorine atom in the formula (6)), etc. The above-mentioned preferred sulfonylating agents are summarized in Table 1 below.
スルホニル化剤としては、より好ましくは、メタンスルホニルクロリド、2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニルクロリド、又は2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニルクロリドである。メタンスルホニルクロリドは、目的物であるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の収率を高め、また結晶性を向上させる点でより好ましい。2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニルクロリド及び2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニルクロリドは、目的物の収率向上、結晶性の向上に加え、生成物の高い脱離能に起因する臭素化に対する反応性向上の点でより好ましい。 As the sulfonylating agent, methanesulfonyl chloride, 2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl chloride, or 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride is more preferred. Methanesulfonyl chloride is more preferred in that it increases the yield of the target deoxysulfonyloxygluconic acid derivative and improves crystallinity. 2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl chloride and 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride are more preferred in that they not only increase the yield of the target product and improve crystallinity, but also improve reactivity to bromination due to the high elimination ability of the product.
スルホニル化剤の使用量は、特に限定されるものではないが、上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体1モルに対して、スルホニル化剤を1.0モル以上5.0モル以下使用すればよく、好ましくは、スルホニル化剤を1.0モル以上3.0モル以下使用する。 The amount of sulfonylating agent used is not particularly limited, but 1.0 mole or more and 5.0 moles or less of the sulfonylating agent may be used per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3), and preferably 1.0 mole or more and 3.0 moles or less of the sulfonylating agent is used.
なお、前記のスルホニル化剤は、1種類のみを使用してもよく、複数の種類のスルホニル化剤を混合して使用してもよい。複数のスルホニル化剤を混合して使用する場合は、使用する複数のスルホニル化剤の合計量が前記の範囲を満足すればよい。 The sulfonylating agent may be of only one type, or may be a mixture of multiple types of sulfonylating agents. When multiple sulfonylating agents are used in combination, the total amount of the multiple sulfonylating agents used should be within the above range.
<塩基>
テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とは、塩基存在下で接触させる。塩基は、スルホニル化剤がアシル基に作用してアシル基を外してしまう脱アシル反応を抑制するため、求核性が低く塩基性が高いものが好適である。塩基は、有機塩基が好ましく、中でも、アルキルアミン系の塩基、環状アミン系の塩基、又は芳香族アミン系の塩基等から選択すればよい。
<Base>
The tetraacylgluconic acid derivative and the sulfonylating agent are contacted in the presence of a base. The base is preferably one that has low nucleophilicity and high basicity in order to suppress the deacylation reaction in which the sulfonylating agent acts on the acyl group to remove the acyl group. The base is preferably an organic base, and may be selected from alkylamine bases, cyclic amine bases, aromatic amine bases, and the like.
アルキルアミン系の塩基は、好ましくは、炭素数1~5のアルキルアミン化合物であり、より好ましくは、トリエチルアミンである。環状アミン系の塩基は、環状構造中に窒素原子を含む化合物である。前記環状構造中に窒素原子を含む化合物としては、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、N-メチルイミダゾール等が挙げられる。また、芳香族アミン系の塩基としては、N,N-ジエチルアニリンが挙げられる。塩基は、上述の点で、N-メチルイミダゾールが好適である。 The alkylamine base is preferably an alkylamine compound having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably triethylamine. The cyclic amine base is a compound containing a nitrogen atom in a cyclic structure. Examples of the compound containing a nitrogen atom in the cyclic structure include pyridine, 4-dimethylaminopyridine, and N-methylimidazole. An example of an aromatic amine base is N,N-diethylaniline. For the above reasons, N-methylimidazole is a suitable base.
なお、塩基は、後述する第1の反応溶媒としても機能し得るものであってもよい。上述の塩基のうち、例えば、ピリジンは、塩基としての機能に加えて、第1の反応溶媒としても機能し得る。 The base may also function as a first reaction solvent, which will be described later. Among the above-mentioned bases, for example, pyridine can function as a first reaction solvent in addition to functioning as a base.
塩基の使用量は、特に限定されるものではないが、上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体1モルに対して、塩基を0.001モル以上5.0モル以下使用すればよく、好ましくは、塩基を0.05モル以上3.0モル以下使用する。 The amount of base used is not particularly limited, but 0.001 moles or more and 5.0 moles or less of base may be used per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3), and preferably 0.05 moles or more and 3.0 moles or less of base are used.
なお、前記の塩基は、1種類のみを使用してもよく、複数の種類の塩基を混合して使用してもよい。複数の塩基を混合して使用する場合は、使用する複数の塩基の合計量が前記の範囲を満足すればよい。 The base may be one type only, or a mixture of multiple types of bases may be used. When a mixture of multiple bases is used, the total amount of the multiple bases used should be within the above range.
<デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造法>
上述したように、本実施の形態に係る製造方法では、塩基存在下、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とを接触させて、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を得る。塩基存在下、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とを接触させる際は、これらを均一に反応させるために第1の反応溶媒中で実施することが好ましい。
<Method for producing deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives>
As described above, in the production method according to the present embodiment, a tetraacylgluconic acid derivative is contacted with a sulfonylating agent in the presence of a base to obtain a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative. When the tetraacylgluconic acid derivative is contacted with the sulfonylating agent in the presence of a base, the contact is preferably carried out in a first reaction solvent in order to react them uniformly.
(第1の反応溶媒)
第1の反応溶媒としては、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;テトラヒドロフラン(THF)、2-メチルテトラヒドロフラン(2-メチルTHF)、1,4-ジオキサン、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセロソルブ等のエ-テル類;アセトン等のケトン類;ジクロロメタン(塩化メチレン)、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル類;N,N-ジメチルホルムアミド(DMF),N,N-ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド類等の有機溶媒や水を挙げることができる。これら溶媒は、単独で、又はこれらの混合溶媒として用いることができる。
(First Reaction Solvent)
Examples of the first reaction solvent include organic solvents such as nitriles such as acetonitrile and propionitrile, ethers such as tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran (2-methylTHF), 1,4-dioxane, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, 1,2-dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, and methyl cellosolve, ketones such as acetone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane (methylene chloride), chloroform, and 1,2-dichloroethane, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, and amides such as N,N-dimethylformamide (DMF) and N,N-dimethylacetamide (DMA), and water. These solvents can be used alone or as a mixture of these solvents.
第1の反応溶媒は、好ましくは、塩化メチレン、酢酸エチル、アセトニトリル、又はこれらの混合溶媒である。 The first reaction solvent is preferably methylene chloride, ethyl acetate, acetonitrile, or a mixture thereof.
第1の反応溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、上記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体1gに対して、第1の反応溶媒を1mL以上50mL以下使用すればよく、好ましくは、第1の反応溶媒を2mL以上30mL以下使用する。なお、第1の反応溶媒として混合溶媒を使用する場合には、混合溶媒の全量が前記範囲を満足すればよい。 The amount of the first reaction solvent used is not particularly limited, but 1 mL to 50 mL of the first reaction solvent may be used per 1 g of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the above formula (3), and preferably 2 mL to 30 mL of the first reaction solvent is used. When a mixed solvent is used as the first reaction solvent, the total amount of the mixed solvent should be within the above range.
(各成分を接触させる(混合する)方法)
各成分を接触させる方法は、特に制限されるものではない。例えば、攪拌機構を備えた反応容器内に、各成分を投入して混合してよい。各成分を混合することにより、塩基存在下、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とを接触させることができる。各成分を反応容器内に投入する手順は、特に制限されるものではない。
(Method of Contacting (Mixing) Each Component)
The method for contacting each component is not particularly limited. For example, each component may be charged into a reaction vessel equipped with a stirring mechanism and mixed. By mixing each component, the tetraacylgluconic acid derivative and the sulfonylating agent can be contacted in the presence of a base. The procedure for charging each component into the reaction vessel is not particularly limited.
例えば、第1の反応溶媒中にテトラアシルグルコン酸誘導体を溶解させ、この溶解液と塩基と混合した後、これらの混合物とスルホニル化剤とを混合してもよい。この場合、溶解液と塩基との混合物にスルホニル化剤を滴下することにより、該混合物とスルホニル化剤とを混合してもよい。このとき、スルホニル化剤は、例えば、0.1時間以上1.0時間以内の時間をかけて滴下してもよい。スルホニル化剤を滴下するときの該混合物の温度は、0℃以上15℃以下としてよい。 For example, the tetraacylgluconic acid derivative may be dissolved in a first reaction solvent, the solution may be mixed with a base, and then the mixture may be mixed with a sulfonylating agent. In this case, the mixture of the solution and the base may be mixed with the sulfonylating agent by dropping the sulfonylating agent into the mixture. In this case, the sulfonylating agent may be dropped over a period of, for example, 0.1 to 1.0 hours. The temperature of the mixture when the sulfonylating agent is dropped may be 0°C to 15°C.
また、例えば、第1の反応溶媒中にテトラアシルグルコン酸誘導体を溶解させた溶解液とスルホニル化剤と混合した後、これらの混合物と塩基とを混合してもよい。この場合、溶解液とスルホニル化剤との混合物に塩基を滴下することにより、該混合物と塩基とを混合してもよい。このとき、塩基は、例えば、0.5分から3分以下の時間をかけて前記の混合物に滴下してよい。 For example, a solution in which a tetraacylgluconic acid derivative is dissolved in a first reaction solvent may be mixed with a sulfonylating agent, and then the mixture may be mixed with a base. In this case, the mixture of the solution and the sulfonylating agent may be mixed with the base by dropping the base into the mixture. In this case, the base may be dropped into the mixture over a period of, for example, 0.5 to 3 minutes.
なお、スルホニル化剤は、例えば、0.5分以上3分以下の時間をかけて前記の溶解液に加えてもよい。また、スルホニル化剤を加えるときの溶解液の温度は、例えば、0℃以上15℃以下としてよい。スルホニル化剤を比較的短い時間で加えることにより、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤との反応による急激な発熱を抑制することができる。 The sulfonylating agent may be added to the dissolving solution over a period of, for example, 0.5 to 3 minutes. The temperature of the dissolving solution when the sulfonylating agent is added may be, for example, 0°C to 15°C. By adding the sulfonylating agent in a relatively short period of time, it is possible to suppress the rapid heat generation caused by the reaction between the tetraacylgluconic acid derivative and the sulfonylating agent.
また、スルホニル化剤は、基質の消費量を見ながら段階的に加えてよい。また、スルホニル化剤と塩基とをともに、テトラアシルグルコン酸誘導体を溶解させた溶解液に加えてもよい。 The sulfonylating agent may be added stepwise while monitoring the consumption of the substrate. The sulfonylating agent and the base may also be added together to the solution in which the tetraacylgluconic acid derivative is dissolved.
上記の反応は、塩基存在下、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とを混合(接触)させることにより実施できる。このとき、これらの各成分を攪拌混合する際の反応温度は、例えば、-10℃以上50℃以下であればよく、好ましくは、0℃以上40℃以下である。 The above reaction can be carried out by mixing (contacting) the tetraacylgluconic acid derivative with the sulfonylating agent in the presence of a base. In this case, the reaction temperature when stirring and mixing these components may be, for example, from -10°C to 50°C, and preferably from 0°C to 40°C.
反応時間は、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体への転化率を確認し、反応が完結する時間に適宜決定すればよい。反応時間は、例えば、0.5時間以上10時間以下であればよく、好ましくは、1時間以上6時間以下とすることもできる。 The reaction time can be determined by checking the conversion rate to the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative and appropriately determining the time until the reaction is completed. The reaction time can be, for example, from 0.5 hours to 10 hours, and preferably from 1 hour to 6 hours.
反応終了後は、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を精製することが好ましい。精製は、例えば、以下の方法で行うことができる。すなわち、反応液に水や有機溶媒を加えて希釈及び抽出を行い、有機層を分離し、分離された有機層を洗浄し、乾燥、濃縮等の処理を行う。この有機溶媒としては、クロロホルム、酢酸エチル等を用いてよい。有機層の洗浄には、例えば、水、食塩水等を用いてよい。このとき、pHを調整するために、酸(塩酸等)やアルカリを適宜加えてよい。有機層の乾燥には、例えば、硫酸マグネシウムを用いてよい。濃縮は、減圧処理により行ってよい。 After the reaction is completed, it is preferable to purify the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative. The purification can be performed, for example, by the following method. That is, water or an organic solvent is added to the reaction solution to dilute and extract, the organic layer is separated, the separated organic layer is washed, and processing such as drying and concentration is performed. As the organic solvent, chloroform, ethyl acetate, etc. can be used. For example, water, saline, etc. can be used to wash the organic layer. At this time, an acid (hydrochloric acid, etc.) or an alkali can be appropriately added to adjust the pH. For example, magnesium sulfate can be used to dry the organic layer. Concentration can be performed by reduced pressure treatment.
反応液を濃縮することにより残渣が得られる。目的物が結晶化しやすいものである場合、残渣に酢酸エチル等を加えて結晶化し、濾過することにより目的物を精製してよい。また、目的物が結晶化しにくいものである場合、シリカゲルカラムを用いて目的物を精製してよい。 The reaction solution is concentrated to obtain a residue. If the target substance is easily crystallized, ethyl acetate or the like may be added to the residue to crystallize it, and the target substance may be purified by filtering. If the target substance is difficult to crystallize, the target substance may be purified using a silica gel column.
<デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体>
塩基存在下、テトラアシルグルコン酸誘導体とスルホニル化剤とを接触させると、下記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体が得られる。
<Deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives>
When a tetraacylgluconic acid derivative is contacted with a sulfonylating agent in the presence of a base, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the following formula (4) is obtained.
(好適なデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体)
好適な原料である式(3A)で表される化合物を基質として使用した場合、上記式(4’)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体として、下記式(4Aa)、(4Ab)、(4Ac)、(4Ad)、(4Ae)又は(4Af)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体(テトラアセチルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体)を得ることができる。また、好適な原料である式(3B)で表される化合物を基質として使用した場合、上記式(4’)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体として、下記式(4Ba)、(4Bb)、(4Bc)、(4Bd)、(4Be)又は(4Bf)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体(d)を得ることができる。なお、式(4Aa)及び(4Ba)中の「Ms」は、メシロキシ基(-(O=S=O)CH3)を示す。
(Suitable Deoxysulfonyloxygluconic Acid Derivatives)
When a compound represented by formula (3A), which is a suitable raw material, is used as a substrate, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative (tetraacetyl deoxysulfonyloxygluconic acid ester derivative) represented by the following formula (4Aa), (4Ab), (4Ac), (4Ad), (4Ae) or (4Af) can be obtained as the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4'). When a compound represented by formula (3B), which is a suitable raw material, is used as a substrate, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative (d) represented by the following formula (4Ba), (4Bb), (4Bc), (4Bd), (4Be) or (4Bf) can be obtained as the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4'). In addition, "Ms" in formulas (4Aa) and (4Ba) represents a mesyloxy group (-(O=S=O)CH 3 ).
式(4Aa)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-メシロキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6A)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Aa) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-mesyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6A) in the presence of a base.
式(4Ab)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-クロロメシロキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6B)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Ab) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-chloromesyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6B) in the presence of a base.
式(4Ac)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-ベンゼンスルホニルオキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6C)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Ac) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-benzenesulfonyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6C) in the presence of a base.
式(4Ad)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(p-トルエンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6D)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Ad) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(p-toluenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6D) in the presence of a base.
式(4Ae)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6E)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Ae) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6E) in the presence of a base.
式(4Af)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3A)で表される化合物と式(6F)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Af) (2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3A) with the sulfonylating agent represented by formula (6F) in the presence of a base.
式(4Ba)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-メシロキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6A)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Ba) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-mesyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6A) in the presence of a base.
式(4Bb)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-クロロメシロキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6B)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Bb) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-chloromesyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6B) in the presence of a base.
式(4Bc)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-ベンゼンスルホニルオキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6C)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Bc) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-benzenesulfonyloxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6C) in the presence of a base.
式(4Bd)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(p-トルエンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6D)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Bd) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(p-toluenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6D) in the presence of a base.
式(4Be)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6E)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Be) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6E) in the presence of a base.
式(4Bf)で表される化合物(2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル)は、塩基存在下、式(3B)で表される化合物と式(6F)で表されるスルホニル化剤とを接触させることにより得られる化合物である。 The compound represented by formula (4Bf) (2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester) is a compound obtained by contacting the compound represented by formula (3B) with the sulfonylating agent represented by formula (6F) in the presence of a base.
[デオキシハロゲノグルコン酸誘導体]
本発明の一実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体は、下記式(5)で表される化合物(テトラアシルデオキシハロゲノグルコン酸エステル系化合物)である。このデオキシハロゲノグルコン酸誘導体は、例えば、糖尿病に代表される慢性疾患の治療に用いられるSGLT2阻害薬等の種々の医薬品の合成原料として用いることができる。
[Deoxyhalogenogluconic acid derivatives]
The deoxyhalogenogluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention is a compound (tetraacyl deoxyhalogenogluconic acid ester compound) represented by the following formula (5). This deoxyhalogenogluconic acid derivative can be used as a raw material for synthesizing various pharmaceuticals such as SGLT2 inhibitors used in the treatment of chronic diseases such as diabetes.
式(5)において、R1は、前記式(4)のものと同義である。Xは、好ましくは、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、中でも、反応性や安定性を考慮すると、臭素原子であることがより好ましい。 In formula (5), R 1 has the same meaning as in formula (4). X is preferably a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and among them, in consideration of reactivity and stability, a bromine atom is more preferable.
[デオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法]
デオキシハロゲノグルコン酸誘導体は、上述したデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体をハロゲン化することにより得られる。すなわち、本発明の一実施の形態に係るデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法は、上記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させて、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体を製造することを含む。
[Method for producing deoxyhalogenogluconic acid derivatives]
The deoxyhalogenogluconic acid derivative can be obtained by halogenating the above-mentioned deoxysulfonyloxygluconic acid derivative. That is, the method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to one embodiment of the present invention includes contacting the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4) with a halogenating agent to produce the deoxyhalogenogluconic acid derivative.
<デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体>
デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法における基質である。デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、上記式(4)で表される化合物であり、詳細は、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体で述べたとおりである。
<Deoxysulfonyloxygluconic acid derivatives>
The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is a substrate in the method for producing a deoxyhalogenogluconic acid derivative. The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is a compound represented by the above formula (4), and the details are as described above for the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative.
なお、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体は、前記のデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法で製造したものを単離精製して使用してもよく、精製することなく第1の反応溶媒等を留去したものを使用してもよい。また、上述したデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体の製造方法以外の方法で合成されたものを使用してもよい。 The deoxysulfonyloxygluconic acid derivative may be prepared by isolating and purifying the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative prepared by the above-mentioned method for producing the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative, or may be prepared by distilling off the first reaction solvent without purification. Also, the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative synthesized by a method other than the above-mentioned method for producing the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative may be used.
<ハロゲン化剤>
ハロゲン化剤は、上記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体中の-O-(O=S=O)R3を該ハロゲン化剤由来のハロゲン原子に置換(以下、「ハロゲン化」とも称する。)する反応剤である。
<Halogenating Agent>
The halogenating agent is a reactant that replaces -O-(O=S=O) R3 in the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4) with a halogen atom derived from the halogenating agent (hereinafter, also referred to as "halogenation").
ハロゲン化剤のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。中でも、反応性を考慮すると、ハロゲン原子としては、臭素原子が好ましい。すなわち、ハロゲン化剤としては、塩素化剤、臭素化剤、又はヨウ素化剤が挙げられ、好ましくは、臭素化剤である。 Examples of the halogen atom of the halogenating agent include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, in consideration of reactivity, a bromine atom is preferred as the halogen atom. That is, examples of the halogenating agent include a chlorinating agent, a brominating agent, and an iodinating agent, and a brominating agent is preferred.
ハロゲン化剤は、ハロゲン原子を含む化合物であり、好ましくは、ハロゲン原子とアルカリ金属とを含むハロゲン化アルカリ金属、又は窒素原子を含む化合物である。 The halogenating agent is a compound containing a halogen atom, and is preferably an alkali metal halide containing a halogen atom and an alkali metal, or a compound containing a nitrogen atom.
ハロゲン化アルカリ金属におけるアルカリ金属としては、反応性の高い、リチウム、ナトリウム、カリウム又はセシウムが好ましく、中でもリチウムが特に好ましい。すなわち、ハロゲン化アルカリ金属は、好ましくは、ハロゲン化リチウム、ハロゲン化ナトリウム、ハロゲン化カリウム、又はハロゲン化セシウムであり、中でもハロゲン化リチウムが特に好ましい。ハロゲン化剤である、好適なハロゲン化アルカリ金属を具体的に例示すると、臭化リチウム(リチウムブロミド)、臭化ナトリウム(ナトリウムブロミド)、臭化カリウム(カリウムブロミド)、又は臭化セシウム(セシウムブロミド)であり、より好ましくは、臭化リチウム(リチウムブロミド)である。 As the alkali metal in the alkali metal halide, lithium, sodium, potassium or cesium, which have high reactivity, is preferred, and lithium is particularly preferred. That is, the alkali metal halide is preferably a lithium halide, a sodium halide, a potassium halide or a cesium halide, and lithium halide is particularly preferred. Specific examples of suitable alkali metal halides that are halogenating agents include lithium bromide (lithium bromide), sodium bromide (sodium bromide), potassium bromide (potassium bromide) or cesium bromide (cesium bromide), and more preferably lithium bromide (lithium bromide).
窒素原子を含むハロゲン化剤は、四級アンモニウム塩(四級アンモニウムハライド)が好ましく、テトラアルキルアンモニウムハライドがより好ましく、具体的には、テトラ-N-ブチルアンモニウムブロミドを含む。 The halogenating agent containing a nitrogen atom is preferably a quaternary ammonium salt (quaternary ammonium halide), more preferably a tetraalkylammonium halide, specifically including tetra-N-butylammonium bromide.
ハロゲン化剤の使用量は、特に限定されるものではないが、式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体1モルに対して、ハロゲン化剤を1.0モル以上5.0モル以下使用すればよく、好ましくは、ハロゲン化剤を1.0モル以上3.0モル以下使用する。 The amount of halogenating agent used is not particularly limited, but 1.0 mole or more and 5.0 moles or less of halogenating agent may be used per mole of the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by formula (4), and preferably 1.0 mole or more and 3.0 moles or less of halogenating agent are used.
<デオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造法>
上述したように、本実施の形態に係る製造方法では、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させて、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体を得る。デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させる際は、これらを均一に反応させるために第2の反応溶媒中で実施することが好ましい。
<Method for Producing Deoxyhalogenogluconic Acid Derivatives>
As described above, in the production method according to the present embodiment, a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is obtained by contacting a halogenating agent with a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative. When the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is contacted with a halogenating agent, the reaction is preferably carried out in a second reaction solvent in order to react them uniformly.
(第2の反応溶媒)
第2の反応溶媒としては、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;THF、2-メチルTHF、1,4-ジオキサン、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセロソルブ等のエ-テル類;アセトン等のケトン類;ジクロロメタン(塩化メチレン)、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル類;N、N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N、N-ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド類等の有機溶媒;1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(DMI)等の非プロトン性極性溶媒;水を挙げることができる。これら溶媒は、単独で、又はこれらの混合溶媒として用いることができる。
(Second Reaction Solvent)
Examples of the second reaction solvent include nitriles such as acetonitrile and propionitrile, ethers such as THF, 2-methyl THF, 1,4-dioxane, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, 1,2-dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, and methyl cellosolve, ketones such as acetone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane (methylene chloride), chloroform, and 1,2-dichloroethane, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, amides such as N,N-dimethylformamide (DMF) and N,N-dimethylacetamide, organic solvents such as sulfoxides such as dimethyl sulfoxide (DMSO), aprotic polar solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI), and water. These solvents can be used alone or as a mixture of these solvents.
第2の反応溶媒は、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンを含むことが好ましい。1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンのような非プロトン性極性溶媒は、ハロゲン化反応を促進させることができるためである。 The second reaction solvent preferably contains 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. This is because aprotic polar solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone can promote the halogenation reaction.
第2の反応溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、上記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体1gに対して、第2の反応溶媒を1mL以上30mL以下使用すればよく、好ましくは、第2の反応溶媒を2mL以上20mL以下使用する。なお、第2の反応溶媒として混合溶媒を使用する場合には、混合溶媒の全量が前記範囲を満足すればよい。 The amount of the second reaction solvent used is not particularly limited, but 1 mL to 30 mL of the second reaction solvent may be used per 1 g of the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the above formula (4), and preferably 2 mL to 20 mL of the second reaction solvent is used. When a mixed solvent is used as the second reaction solvent, the total amount of the mixed solvent should be within the above range.
(各成分を接触させる(混合する)方法)
各成分を接触させる方法は、特に制限されるものではない。例えば、攪拌機構を備えた反応容器内に、各成分を投入して混合してよい。各成分を混合することにより、デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させることができる。各成分を反応容器内に投入する手順は、特に制限されるものではない。例えば、第2の反応溶媒中にデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を溶解させ、この溶解液とハロゲン化剤とを混合してもよい。
(Method of Contacting (Mixing) Each Component)
The method of contacting each component is not particularly limited. For example, each component may be charged into a reaction vessel equipped with a stirring mechanism and mixed. By mixing each component, the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative and the halogenating agent can be contacted. The procedure of charging each component into the reaction vessel is not particularly limited. For example, the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative may be dissolved in the second reaction solvent, and the solution may be mixed with the halogenating agent.
デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤との反応は、これらを混合(接触)させることにより実施できる。これら成分を攪拌混合する際の反応温度は、例えば、10℃以上100℃以下であればよく、好ましくは、20℃以上60℃以下であればよい。 The reaction between the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative and the halogenating agent can be carried out by mixing (contacting) them. The reaction temperature when stirring and mixing these components may be, for example, 10°C or higher and 100°C or lower, and preferably 20°C or higher and 60°C or lower.
反応時間は、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体への転化率を確認し、反応が完結する時間に適宜決定すればよい。反応時間は、例えば、0.5時間以上10時間以下とすればよく、好ましくは、1時間以上8時間以下とすることもできる。 The reaction time can be determined by checking the conversion rate to the deoxyhalogenogluconic acid derivative and appropriately determining the time until the reaction is completed. The reaction time can be, for example, from 0.5 hours to 10 hours, and preferably from 1 hour to 8 hours.
反応終了後は、デオキシハロゲノグルコン酸誘導体を精製することが好ましい。精製は、例えば、反応液を有機溶媒等で希釈し、水層の抽出乃至有機層の分離を行い、分離された有機層を洗浄し、乾燥及び減圧濃縮によって残渣を得た後、この残渣をシリカゲルカラムに供することによって行うことができる。反応液の希釈には、例えば、飽和食塩水を用いてよい。有機溶媒には、例えば、酢酸エチルを用いてよい。洗浄には、例えば、水、飽和食塩水等を用いてよい。乾燥には、例えば、硫酸マグネシウムを用いてよい。また、精製されたものを有機溶媒に溶解させて攪拌及び濾過することによって不純物を除去した後、再結晶化して精製してもよい。 After the reaction is completed, it is preferable to purify the deoxyhalogenogluconic acid derivative. The purification can be performed, for example, by diluting the reaction solution with an organic solvent, extracting the aqueous layer or separating the organic layer, washing the separated organic layer, drying and concentrating under reduced pressure to obtain a residue, and then subjecting the residue to a silica gel column. For example, saturated saline may be used to dilute the reaction solution. For example, ethyl acetate may be used as the organic solvent. For example, water, saturated saline, etc. may be used for washing. For example, magnesium sulfate may be used for drying. The purified product may also be dissolved in an organic solvent, stirred and filtered to remove impurities, and then recrystallized for purification.
<デオキシハロゲノグルコン酸誘導体>
デオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させると、式(5’)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体が得られる。
<Deoxyhalogenogluconic acid derivatives>
When the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative is contacted with a halogenating agent, a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the formula (5') is obtained.
式(5’)において、R1及びR2は、式(4)で表されるものと同義である。X’’は、前記のハロゲン化剤由来のハロゲン原子である。 In formula (5'), R1 and R2 have the same meanings as those in formula (4), and X'' is a halogen atom derived from the halogenating agent.
(好適なデオキシハロゲノグルコン酸誘導体)
好適な原料として、上述した式(4Aa)乃至(4Af)で表されるテトラアセチルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体を使用した場合、上記(5’)式で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体として、下記式(5A-1)乃至(5A-3)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体(テトラアセチルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体)を得ることができる。
(Suitable Deoxyhalogenogluconic Acid Derivatives)
When the tetraacetyl deoxysulfonyloxy gluconic acid ester derivatives represented by the above formulas (4Aa) to (4Af) are used as suitable raw materials, deoxyhalogenogluconic acid derivatives (tetraacetyl deoxyhalogenogluconic acid ester derivatives) represented by the following formulas (5A-1) to (5A-3) can be obtained as the deoxyhalogenogluconic acid derivatives represented by the above formula (5').
また、上述した式(4Ba)乃至(4Bf)で表されるテトラベンゾイルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体を使用した場合、上記(5’)式で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体として、下記式(5B-1)乃至(5B-3)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体(テトラベンゾイルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体)を得ることができる。 In addition, when the tetrabenzoyl deoxysulfonyloxy gluconic acid ester derivatives represented by the above formulas (4Ba) to (4Bf) are used, the deoxyhalogenogluconic acid derivatives represented by the above formula (5') can be obtained as deoxyhalogenogluconic acid derivatives (tetrabenzoyl deoxyhalogenogluconic acid ester derivatives) represented by the following formulas (5B-1) to (5B-3).
これらの中でも、ハロゲン化剤として臭素化剤を使用することで得られる、式(5A-2)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体((5S)-2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステル)、及び式(5B-2)で表されるデオキシハロゲノグルコン酸誘導体((5S)-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステル)が特に好適である。 Among these, the deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by formula (5A-2) ((5S)-2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester) and the deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by formula (5B-2) ((5S)-2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester) obtained by using a brominating agent as a halogenating agent are particularly preferred.
以下に実施例を挙げて、本発明を詳細に説明する。以下では、(I)テトラアセチルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体の製造に係る例(製造例1~2及び実施例1~5)、及び(II)テトラベンゾイルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体の製造に係る例(製造例3~4及び実施例6~7)をそれぞれ説明する。なお、下記の実施例は、例示的に示す具体例であって、本発明は、この実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to the following examples. (I) Examples of the production of tetraacetyl deoxyhalogenogluconic acid ester derivatives (Production Examples 1-2 and Examples 1-5) and (II) Examples of the production of tetrabenzoyl deoxyhalogenogluconic acid ester derivatives (Production Examples 3-4 and Examples 6-7) will be described below. Note that the following examples are illustrative and are not intended to limit the present invention.
(I)テトラアセチルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体の合成
ここでは、(i)原料であるテトラアセチルグルコン酸エステル誘導体を製造し(製造例1及び2)、(ii)該原料から、目的物の製造中間体としてのテトラアセチルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体を合成し(実施例1~4)、(iii)該テトラアセチルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体から、目的物としてのテトラアセチルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体を合成した(実施例5)。それぞれを順に説明する。
(I) Synthesis of Tetraacetyldeoxyhalogenogluconic Acid Ester Derivatives Here, (i) a tetraacetylgluconic acid ester derivative was produced as a raw material (Production Examples 1 and 2), (ii) a tetraacetyldeoxysulfonyloxygluconic acid ester derivative was synthesized from the raw material as a production intermediate for the target product (Examples 1 to 4), and (iii) a tetraacetyldeoxyhalogenogluconic acid ester derivative as the target product was synthesized from the tetraacetyldeoxysulfonyloxygluconic acid ester derivative (Example 5). Each of these will be described in turn.
(i)原料の製造
<製造例1>
(テトラアセチルグルコノラクトン誘導体の合成)
以下の方法で、下記反応式(1)で表されるD-グルコノ-1,5-ラクトン(GLC)を使用して、下記反応式(2A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1,5-ラクトン(ALC)を合成した。
(i) Production of raw materials <Production Example 1>
(Synthesis of tetraacetylgluconolactone derivatives)
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone (ALC) represented by the following reaction formula (2A) was synthesized using D-glucono-1,5-lactone (GLC) represented by the following reaction formula (1) in the following manner.
D-グルコノ-1,5-ラクトン(100g、0.56mmol、1.0eq)の無水酢酸(600mL)懸濁液に16℃でトリフルオロ酢酸(50mL)を滴下した(15分/16→24℃)した。滴下終了後25℃で3時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、トルエンで置換濃縮することにより(3x400mL)することにより、2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1,5-ラクトンを得た(200g、quant.)。 Trifluoroacetic acid (50 mL) was added dropwise (15 min/16 → 24°C) to a suspension of D-glucono-1,5-lactone (100 g, 0.56 mmol, 1.0 eq) in acetic anhydride (600 mL) at 16°C. After the dropwise addition, the mixture was stirred at 25°C for 3 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and then substituted and concentrated with toluene (3 x 400 mL) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone (200 g, quant.).
式(2A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1,5-ラクトンのNMR分光の分析結果は、以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3)δ:2.08-2.17(m,12H)、4.28-4.40(m,2H)、4.60-4.65(m,1H)、5.10-5.12(m,1H)、5.35-5.40(m,1H)、5.54-5.58(m,1H)。
The NMR spectroscopic analysis results of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone represented by formula (2A) were as follows:
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.08-2.17 (m, 12H), 4.28-4.40 (m, 2H), 4.60-4.65 (m, 1H), 5.10-5.12 (m, 1H), 5.35-5.40 (m, 1H), 5.54-5.58 (m, 1H).
<製造例2>
(テトラアセチルグルコン酸エステル誘導体の合成)
以下の方法で、下記反応式(2A)に示す2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1,5-ラクトン(ALC)を使用して、下記式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(AHM)を合成した。
<Production Example 2>
(Synthesis of tetraacetyl gluconate derivatives)
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (AHM) represented by the following formula (3A) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone (ALC) represented by the following reaction formula (2A) in the following manner.
製造例1で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコノ-1、5-ラクトンのメタノール(2L)溶液に、p-トルエンスルホン酸1水和物(3g、15mmol、0.027eq)を加え室温で1時間攪拌後、減圧濃縮した。濃縮残渣にヘプタン(500mL)を加えた後、15分加熱還流した。その後、25℃で1時間し析出した結晶を濾過することにより、2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステルを得た(211g、99.4%)。 p-Toluenesulfonic acid monohydrate (3 g, 15 mmol, 0.027 eq) was added to a methanol (2 L) solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-glucono-1,5-lactone obtained in Production Example 1, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then concentrated under reduced pressure. Heptane (500 mL) was added to the concentrated residue, and the mixture was heated under reflux for 15 minutes. After that, the mixture was left at 25°C for 1 hour, and the precipitated crystals were filtered to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (211 g, 99.4%).
式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
融点(以下、単に「Mp」とも称する。) 114-116℃。
IR νmax(KBr)1730cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:5.71-5.73(m,1H),5.30-5.31(m,1H),5.18-5.21(m,1H),4.12-4.14(m,2H),3.86-3.92(m,1H),3.74(s,3H),3.13(brs,1H),2.17,2.16,2.14,2.10-2.16(m,12H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (3A) were as follows:
Melting point (hereinafter also simply referred to as "Mp"): 114-116°C.
IR νmax (KBr) 1730 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 5.71-5.73 (m, 1H), 5.30-5.31 (m, 1H), 5.18-5.21 (m, 1H), 4.12-4.14 (m, 2H), 3. 86-3.92 (m, 1H), 3.74 (s, 3H), 3.13 (brs, 1H), 2.17, 2.16, 2.14, 2.10-2.16 (m, 12H).
(ii)製造中間体の合成
<実施例1>
以下の方法で、下記反応式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(AHM)を使用して、下記式(4Aa)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-メシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
(ii) Synthesis of Production Intermediate Example 1
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-mesyloxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (4Aa) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (AHM) represented by the following reaction formula (3A) in the following manner.
製造例2で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(757mg、2mmol)の酢酸エチル(4mL)溶液にトリエチルアミン(328mg、3.24mmol,1.62eq)、及びN,N-ジメチルアミノピリジン(5.4mg、0.044mmol,0.022eq)を加え、メタンスルホニルクロリド(458mg、4mmol)を5℃で15分かけて滴下した。同温で2時間攪拌後、水(10ml)、及びクロロホルム(10mL)を加えた。有機層を水洗(10mL)、硫酸マグネシウム上乾燥、減圧濃縮後、濃縮残渣へ酢酸エチルを加えて結晶化、濾過することにより、2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-メシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(633mg、69.3%)。 Triethylamine (328 mg, 3.24 mmol, 1.62 eq) and N,N-dimethylaminopyridine (5.4 mg, 0.044 mmol, 0.022 eq) were added to a solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (757 mg, 2 mmol) obtained in Preparation Example 2 in ethyl acetate (4 mL), and methanesulfonyl chloride (458 mg, 4 mmol) was added dropwise at 5°C over 15 minutes. After stirring at the same temperature for 2 hours, water (10 ml) and chloroform (10 mL) were added. The organic layer was washed with water (10 mL), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was crystallized by adding ethyl acetate and filtered to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-mesyloxy-D-gluconic acid methyl ester (633 mg, 69.3%).
式(4Aa)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-メシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
Mp 132-133℃。
IR νmax(KBr)1758、1738cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:5.31-5.55(m,1H)、5.28(s,1H)、4.97-4.973(m,1H)、4.28-4.38(m,2H)、3.75(s,3H)、3.09(s,3H)、2.10-2.18(m,12H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-mesyloxy-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (4Aa) were as follows:
Mp 132-133°C.
IR νmax (KBr) 1758, 1738 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 5.31-5.55 (m, 1H), 5.28 (s, 1H), 4.97-4.973 (m, 1H), 4.28-4.38 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.09 (s, 3H), 2.10-2.18 (m, 12H).
<実施例2>
以下の方法で、下記反応式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(AHM)を使用して、下記式(4Ab)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-クロロメシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
Example 2
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-chloromesyloxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (4Ab) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (AHM) represented by the following reaction formula (3A) in the following manner.
製造例2で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(8.46g、22.37mmol、1.0eq)のピリジン(85mL)溶液に0℃以下でクロロメタンスルホニルクロリド(4.02g、26.8mmol、1.2eq)を加えた後25で1時間攪拌した。クロロメタンスルホニルクロリド(0.67g、4.47mmol、0.2eq、)を追加し、1時間攪拌した。反応液を酢酸エチル(170mL)、水(170mL)に希釈した後、有機層を水洗(170mL)、希塩酸(3x160mL)、及び飽和食塩水(160mL)で洗浄した。有機層を減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル)で精製することにより、2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-クロロメシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(9.93g、90%)。 To a pyridine (85 mL) solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (8.46 g, 22.37 mmol, 1.0 eq) obtained in Preparation Example 2, chloromethanesulfonyl chloride (4.02 g, 26.8 mmol, 1.2 eq) was added at 0°C or below, and the mixture was stirred at 25°C for 1 hour. Chloromethanesulfonyl chloride (0.67 g, 4.47 mmol, 0.2 eq) was added and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with ethyl acetate (170 mL) and water (170 mL), and the organic layer was washed with water (170 mL), dilute hydrochloric acid (3 x 160 mL), and saturated saline (160 mL). The organic layer was concentrated under reduced pressure, and the concentrated residue was purified using a silica gel column (ethyl acetate) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-chloromesyloxy-D-gluconic acid methyl ester (9.93 g, 90%).
式(4Ab)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-クロロメシロキシ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
Mp 61-64℃。
IR νmax(KBr)1750、1740cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:5.54-5.58(m,2H)、5.29-5.30(m,1H)、5.03-5.08(m,1H)、4.67(s,2H)、3.75(s,3H)、2.04-2.19(m,12H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-chloromesyloxy-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (4Ab) were as follows:
Mp 61-64°C.
IR νmax (KBr) 1750, 1740 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 5.54-5.58 (m, 2H), 5.29-5.30 (m, 1H), 5.03-5.08 (m, 1H), 4.67 (s, 2H), 3.75 (s, 3H), 2.04-2.19 (m, 12H).
<実施例3>
以下の方法で、下記反応式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(AHM)を使用して、下記式(4Ae)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
Example 3
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (4Ae) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (AHM) represented by the following reaction formula (3A) in the following manner.
製造例2で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(1.00g、2.64mmol、1.0eq)のアセトニトリル(10mL)溶液を5℃まで冷却し、2,4,6-トリクロロベンゼンスルホン酸クロリド(1.00g、3.57mmol、1.3eq)を1分で加えた(発熱無し)。次いで、N-メチルイミダゾール(0.48g、5.84mmol、2.2eq)を滴下した(1分、5→7℃)後、25℃で3時間攪拌した。反応液を水(40mL)に希釈した後、酢酸エチル(2x30mL)で抽出、食塩水(2x30mL)で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥後、減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(n-ヘキサン/酢酸エチル=4:1)することにより、2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(0.90g、55%)。 A solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (1.00 g, 2.64 mmol, 1.0 eq) obtained in Preparation Example 2 in acetonitrile (10 mL) was cooled to 5°C, and 2,4,6-trichlorobenzenesulfonic acid chloride (1.00 g, 3.57 mmol, 1.3 eq) was added in 1 minute (no heat generation). Next, N-methylimidazole (0.48 g, 5.84 mmol, 2.2 eq) was added dropwise (1 minute, 5 → 7°C), and the mixture was stirred at 25°C for 3 hours. The reaction solution was diluted with water (40 mL), extracted with ethyl acetate (2 x 30 mL), and washed with brine (2 x 30 mL). The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 4:1) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester (0.90 g, 55%).
式(4Ae)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,6-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
IR νmax(KBr)1748cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:7.51(s,2H)、5.51-5.55(m,2H)、5.25-5.26(m,1H)、5.00-5.02(m,1H)、4.18-4.34(m,2H)、3.74(s,3H)、1.92-2.14(m,12H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,6-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (4Ae) were as follows:
IR νmax (KBr) 1748 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.51 (s, 2H), 5.51-5.55 (m, 2H), 5.25-5.26 (m, 1H), 5.00-5.02 (m, 1H), 4.18-4.34 (m, 2H), 3.74 (s, 3H), 1.92-2.14 (m, 12H).
<実施例4>
以下の方法で、下記反応式(3A)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(AHM)を使用して、下記式(4Af)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
Example 4
2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (4Af) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (AHM) represented by the following reaction formula (3A) in the following manner.
製造例2で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-D-グルコン酸メチルエステル(1.00g、2.64mmol、1.0eq)のアセトニトリル(10mL)溶液を5℃まで冷却し、2,4,5-トリクロロベンゼンスルホン酸クロリド(1.00g、3.57mmol、1.3eq)を1分間で加えた。次いで、反応液に、N-メチルイミダゾール(0.48g、5.84mmol、2.2eq)を滴下した(1分、5→7℃)。添加終了後25℃で5時間攪拌した。反応液を水(40mL)で希釈した後、酢酸エチル(2x30mL)で抽出、食塩水(2x30mL)で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥後、減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(n-ヘキサン/酢酸エチル=4:1)することにより2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(0.85g、52%)。 A solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-D-gluconic acid methyl ester (1.00 g, 2.64 mmol, 1.0 eq) obtained in Preparation Example 2 in acetonitrile (10 mL) was cooled to 5°C, and 2,4,5-trichlorobenzenesulfonic acid chloride (1.00 g, 3.57 mmol, 1.3 eq) was added over 1 minute. Next, N-methylimidazole (0.48 g, 5.84 mmol, 2.2 eq) was added dropwise to the reaction solution (1 minute, 5 → 7°C). After the addition was completed, the mixture was stirred at 25°C for 5 hours. The reaction solution was diluted with water (40 mL), extracted with ethyl acetate (2 x 30 mL), and washed with brine (2 x 30 mL). The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 4:1) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester (0.85 g, 52%).
式(4Af)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
Mp 89-90℃。
IR νmax(KBr)1748cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:8.09(s,1H)、7.67(s,1H)、5.49-5.51(m,2H)、5.26-5.27(m,1H)、4.95-4.96(m,1H)、4.18-4.34(m,2H)、3.71(s,3H),1.93-2.18(m,12H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (4Af) were as follows:
Mp 89-90°C.
IR νmax (KBr) 1748 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.09 (s, 1H), 7.67 (s, 1H), 5.49-5.51 (m, 2H), 5.26-5.27 (m, 1H), 4.95-4.96 (m, 1H), 4.18-4.34 (m, 2H), 3.71 (s, 3H), 1.93-2.18 (m, 12H).
(iii)目的物の合成
<実施例5>
以下の方法で、下記反応式(4Af)で表される2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを使用して、下記式(5A-2)で表される(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
(iii) Synthesis of Target Product Example 5
(5S)-2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (5A-2) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following reaction formula (4Af) in the following manner.
実施例4で得た2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル(0.50g、0.8mmol、1.0eq)の1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(DMI、4mL)溶液に臭化リチウム(0.14g、1.6mmol、2.0eq)を加え、50℃で2時間攪拌した。反応液を飽和食塩水(30mL)に希釈した後、水層を酢酸エチル(2x20mL)抽出後、有機層を、飽和食塩水(3x20mL)洗浄、硫酸マグネシウム上乾燥後減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(n-ヘキサン/酢酸エチル=3:1)することにより無色オイル状の(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(307mg、87%)。 Lithium bromide (0.14 g, 1.6 mmol, 2.0 eq) was added to a 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI, 4 mL) solution of 2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester (0.50 g, 0.8 mmol, 1.0 eq) obtained in Example 4, and the mixture was stirred at 50°C for 2 hours. The reaction solution was diluted with saturated saline (30 mL), and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (2 x 20 mL). The organic layer was washed with saturated saline (3 x 20 mL), dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 3:1) to obtain a colorless oily (5S)-2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester (307 mg, 87%).
式(5A-2)で表される(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-アセチル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3)δ:5.71-5.74(m,1H)、5.40-5.41(m,1H)、5.29-5.30(m,1H)、4.10-4.29(m,3H)、3.73(s,3H)、2.04-2.21(m,12H)。
The analytical results obtained for (5S)-2,3,4,6-tetra-O-acetyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (5A-2) are as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 5.71-5.74 (m, 1H), 5.40-5.41 (m, 1H), 5.29-5.30 (m, 1H), 4.10-4.29 (m, 3H), 3.73 (s, 3H), 2.04-2.21 (m, 12H).
(II)テトラベンゾイルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体の合成
ここでは、(i)原料であるテトラベンゾイルグルコン酸エステル誘導体を製造し(製造例3及び4)、(ii)該原料から、目的物の製造中間体としてのテトラベンゾイルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体を合成し(実施例6)、(iii)該テトラベンゾイルデオキシスルホニルオキシグルコン酸エステル誘導体から、目的物としてのテトラベンゾイルデオキシハロゲノグルコン酸エステル誘導体を合成した(実施例7)。それぞれを順に説明する。
(II) Synthesis of Tetrabenzoyldeoxyhalogenogluconic Acid Ester Derivatives Here, (i) a tetrabenzoylgluconic acid ester derivative was produced as a raw material (Production Examples 3 and 4), (ii) a tetrabenzoyldeoxysulfonyloxygluconic acid ester derivative was synthesized from the raw material as a production intermediate for the target product (Example 6), and (iii) a tetrabenzoyldeoxyhalogenogluconic acid ester derivative was synthesized as the target product from the tetrabenzoyldeoxysulfonyloxygluconic acid ester derivative (Example 7). Each of these will be described in turn.
(i)原料の合成
<製造例3>
(テトラベンゾイルグルコノラクトン誘導体の合成)
以下の方法で、下記反応式(1)で表されるD-グルコノ-1,5-ラクトン(GLC)を使用して、下記反応式(2B)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコノ-1,5-ラクトンを合成した。
(i) Synthesis of raw materials <Production Example 3>
(Synthesis of tetrabenzoylgluconolactone derivatives)
2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-glucono-1,5-lactone represented by the following reaction formula (2B) was synthesized using D-glucono-1,5-lactone (GLC) represented by the following reaction formula (1) in the following manner.
D-グルコノ-1,5-ラクトン(50g、280mmol、1.0eq)のクロロホルム溶液(500mL)にピリジン(111g、1.40mol、5.0eq)を加え内温0℃まで冷却した。この溶液に、ベンゾイルクロライド(197g、1.40mol、5.0eq)を滴下した(1時間/0-9℃)。滴下途中攪拌困難になったため、クロロホルム(300mL)追加した。その後、25℃で5時間攪拌した。 Pyridine (111 g, 1.40 mol, 5.0 eq) was added to a chloroform solution (500 mL) of D-glucono-1,5-lactone (50 g, 280 mmol, 1.0 eq) and cooled to an internal temperature of 0°C. Benzoyl chloride (197 g, 1.40 mol, 5.0 eq) was added dropwise to this solution (1 hour/0-9°C). As stirring became difficult during the dropwise addition, additional chloroform (300 mL) was added. The mixture was then stirred at 25°C for 5 hours.
反応液を1N塩酸(1L)に希釈した後分液し、有機層を飽和重曹水(500mL)、飽和食塩水(500mL)で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、減圧濃縮した。濃縮残渣にトルエン(1L)を加え、固体を70~80℃で溶解させた。その後、25℃で1時間攪拌し、析出した固体を濾過した。ろ取した固体をトルエン(200mL)、及びヘキサン(200mL)で洗浄後、減圧乾燥(減圧、55℃、3hr)することにより、2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコノ-1,5-ラクトンを得た(93g、56%)。 The reaction solution was diluted with 1N hydrochloric acid (1 L) and then separated. The organic layer was washed with saturated sodium bicarbonate water (500 mL) and saturated saline (500 mL). The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. Toluene (1 L) was added to the concentrated residue, and the solid was dissolved at 70-80°C. The mixture was then stirred at 25°C for 1 hour, and the precipitated solid was filtered. The filtered solid was washed with toluene (200 mL) and hexane (200 mL), and then dried under reduced pressure (reduced pressure, 55°C, 3 hours) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-glucono-1,5-lactone (93 g, 56%).
一夜母液を室温で静置し析出した結晶を濾過、乾燥することにより、目的物の2番晶を得た(36g)。1番晶、2番晶の合計:129g(77%)。 The mother liquor was left to stand at room temperature overnight, and the precipitated crystals were filtered and dried to obtain the desired No. 2 crystals (36 g). Total of No. 1 and No. 2 crystals: 129 g (77%).
式(2B)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコノ-1,5-ラクトンについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
Mp 178-179oC。
IR νmax(Nujol)1755、1720cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:6.75-8.50(m,20H)、5.40-6.50(m,3H)、4.40-5.40(m,3H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-glucono-1,5-lactone of formula (2B) were as follows:
Mp 178-179 o C.
IR νmax (Nujol) 1755, 1720 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 6.75-8.50 (m, 20H), 5.40-6.50 (m, 3H), 4.40-5.40 (m, 3H).
<製造例4>
(テトラベンゾイルグルコン酸エステル誘導体の合成)
以下の方法で、下記反応式(2B)に示す2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコノ-1,5-ラクトンを使用して、下記式(3B)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
<Production Example 4>
(Synthesis of tetrabenzoyl gluconate derivatives)
2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (3B) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-glucono-1,5-lactone represented by the following reaction formula (2B) in the following manner.
製造例3で得た2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコノ-1,5-ラクトン(90g、151mmol)のメタノール(1.5L)溶液に室温で4N HCl-ジオキサン(20mL)を加えた。25oCで2時間攪拌後反応液を減圧濃縮した。濃縮残渣に酢酸エチル(200mL)に溶解後、飽和重曹水(200mL×2)、飽和食塩水(100mL)で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラム(n-ヘキサン/酢酸エチル=3:1)で精製することにより、2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステルを得た(71g、75%)。 To a solution of 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-glucono-1,5-lactone (90 g, 151 mmol) obtained in Production Example 3 in methanol (1.5 L) was added 4N HCl-dioxane (20 mL) at room temperature. After stirring at 25 ° C for 2 hours, the reaction solution was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was dissolved in ethyl acetate (200 mL) and washed with saturated sodium bicarbonate water (200 mL x 2) and saturated saline (100 mL). The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified with a silica gel column (n-hexane/ethyl acetate = 3:1) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester (71 g, 75%).
式(3B)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
IR νmax(Nujol)1750、1720cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:7.00-8.25(m,20H)、5.40-6.50(m,3H)、4.00-4.60(m,4H)、3.60(s,3H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (3B) were as follows:
IR νmax (Nujol) 1750, 1720 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.00-8.25 (m, 20H), 5.40-6.50 (m, 3H), 4.00-4.60 (m, 4H), 3.60 (s, 3H).
(ii)製造中間体の合成
<実施例6>
以下の方法で、下記反応式(3B)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステルを使用して、下記式(4Bf)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
(ii) Synthesis of Production Intermediate Example 6
2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (4Bf) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester represented by the following reaction formula (3B) in the following manner.
製造例4で得た2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-D-グルコン酸メチルエステル(30g、47.9mmol、1.0eq)のアセトニトリル(300mL)溶液に5℃で2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニルクロリド(17.4g、62.2mmol、1.3eq、)、及びN-メチルイミダゾール(8.6g、105.3mmol、2.2eq)を加えた後25℃で2時間攪拌した。 2,3,4,6-Tetra-O-benzoyl-D-gluconic acid methyl ester (30 g, 47.9 mmol, 1.0 eq) obtained in Preparation Example 4 was dissolved in acetonitrile (300 mL) and 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl chloride (17.4 g, 62.2 mmol, 1.3 eq) and N-methylimidazole (8.6 g, 105.3 mmol, 2.2 eq) were added at 5°C, followed by stirring at 25°C for 2 hours.
反応液を濾過後、母液を減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(n-ヘキサン/酢酸エチル=20:1→4:1)することにより、2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを得た(31.2g、75%)。 After filtering the reaction solution, the mother liquor was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 20:1 → 4:1) to obtain 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester (31.2 g, 75%).
式(4Bf)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
IR νmax(KBr)1724cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:7.00-8.25(m,22H)、5.20-6.30(m,4H)、4.50-4.80(m,2H)、3.60(s,3H)。
The analytical results obtained for 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (4Bf) were as follows.
IR νmax (KBr) 1724 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.00-8.25 (m, 22H), 5.20-6.30 (m, 4H), 4.50-4.80 (m, 2H), 3.60 (s, 3H).
(iii)目的物の合成
<実施例7>
以下の方法で、下記反応式(4Bf)で表される2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステルを使用して、下記式(5B-2)で表される(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルを合成した。
(iii) Synthesis of Target Product <Example 7>
(5S)-2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester represented by the following formula (5B-2) was synthesized using 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester represented by the following reaction formula (4Bf) in the following manner.
実施例6で得た2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-(2,4,5-トリクロロベンゼンスルホニル)オキシ-D-グルコン酸メチルエステル(30g、34.5mmol、1.0eq)の1,3-ジメチルイミダゾリジノン(180mL)溶液にLiBr(6.00g、69.0mmol、2.0eq)を加え50℃で4時間攪拌した。 LiBr (6.00 g, 69.0 mmol, 2.0 eq) was added to a solution of 2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-(2,4,5-trichlorobenzenesulfonyl)oxy-D-gluconic acid methyl ester (30 g, 34.5 mmol, 1.0 eq) obtained in Example 6 in 1,3-dimethylimidazolidinone (180 mL), and the mixture was stirred at 50°C for 4 hours.
反応液を飽和食塩水、酢酸エチル(各400mL)で希釈後、有機層を飽和食塩水で洗浄した(200mL×3)。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥後、減圧濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトで精製(n-ヘキサン/酢酸エチル=10:1→4:1)で精製することにより、(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルの粗体を得た(19.8g、77.3%)を得た。 After diluting the reaction solution with saturated saline and ethyl acetate (400 mL each), the organic layer was washed with saturated saline (200 mL x 3). The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 10:1 → 4:1) to obtain crude (5S)-2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester (19.8 g, 77.3%).
本品をヘキサン(50mL)で分散攪拌後、濾過、減圧乾燥(40℃/4hr)することにより固体を得た(16.2g、81.9%(精製収率))。得られた固体(15g)をメタノール(15mL)にて加熱還流溶解後、ゆっくり25℃まで冷却し1時間同温で攪拌した後、濾過、乾燥することにより、白色結晶の目的物の純品を得た(11.2g、75%(精製収率))。 This product was dispersed and stirred in hexane (50 mL), filtered, and dried under reduced pressure (40°C/4 hr) to obtain a solid (16.2 g, 81.9% (purification yield)). The obtained solid (15 g) was dissolved in methanol (15 mL) under heating under reflux, slowly cooled to 25°C, stirred at the same temperature for 1 hour, filtered, and dried to obtain the pure target product as white crystals (11.2 g, 75% (purification yield)).
式(5B-2)で表される(5S)-2,3,4,6-テトラ-O-ベンゾイル-5-デオキシ-5-ブロモ-D-グルコン酸メチルエステルについて得られた分析結果は、以下のとおりであった。
Mp 116-118℃。
IR νmax(KBr)1738、1727、1718cm-1。
1H-NMR(CDCl3)δ:6.70-8.30(m,20H)、5.50-6.50(m,3H)、3.80-5.00(m,3H)、3.60(s,3H)。
The analytical results obtained for (5S)-2,3,4,6-tetra-O-benzoyl-5-deoxy-5-bromo-D-gluconic acid methyl ester represented by formula (5B-2) are as follows.
Mp 116-118°C.
IR νmax (KBr) 1738, 1727, 1718 cm −1 .
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 6.70-8.30 (m, 20H), 5.50-6.50 (m, 3H), 3.80-5.00 (m, 3H), 3.60 (s, 3H).
実施例1~4及び6に係る製造条件及び測定結果を下記表2にまとめる。また、実施例5及び7に係る製造条件及び測定結果を下記表3にまとめる。 The manufacturing conditions and measurement results for Examples 1 to 4 and 6 are summarized in Table 2 below. The manufacturing conditions and measurement results for Examples 5 and 7 are summarized in Table 3 below.
Claims (10)
R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、
R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、
Xは、ハロゲン原子である。 A deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the following formula (5):
R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent;
R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
X is a halogen atom.
デオキシハロゲノシグルコン酸誘導体の製造方法:
R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、
R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、
R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、
R1及びR2は、前記式(4)で表されるものと同義であり、
X’’は、前記ハロゲン化剤由来のハロゲン原子である。 The method includes contacting a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the following formula (4) with a halogenating agent to produce a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by the following formula (5'):
Method for producing deoxyhalogenosigluconic acid derivatives:
R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent;
R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
R3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent;
R 1 and R 2 are the same as those represented by formula (4).
X'' is a halogen atom derived from the halogenating agent.
請求項2に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 The halogenating agent is used in an amount of 1.0 mole or more and 5.0 moles or less per mole of the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4).
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to claim 2 .
請求項2又は3に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 contacting the deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by formula (4) with the halogenating agent in a second reaction solvent containing an aprotic polar solvent;
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to claim 2 or 3 .
下記式(3)で表されるテトラアシルグルコン酸誘導体と下記式(6)で表されるスルホニル化剤とを接触させて、前記式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体を製造した後、
得られた該式(4)で表されるデオキシスルホニルオキシグルコン酸誘導体とハロゲン化剤とを接触させて、下記式(5’)に示すデオキシハロゲノグルコン酸誘導体を製造することを含む、
デオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法:
R 1 及びR 2 は、下記式(4)で表されるものと同義であり、
R 3 は、下記式(4)で表されるものと同義であり、
X’は、ハロゲン原子であり、
R1は、炭素数1~6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、
R2は、炭素数1~6のアルキル基であり、
R3は、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のハロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数7~20のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数6~20のアリール基であり、
R1及びR2は、前記式(4)で表されるものと同義であり、
X’’は、前記ハロゲン化剤由来のハロゲン原子である。 In the presence of a base,
A tetraacylgluconic acid derivative represented by the following formula (3) is contacted with a sulfonylating agent represented by the following formula (6) to produce a deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by the formula (4),
and contacting the obtained deoxysulfonyloxygluconic acid derivative represented by formula (4) with a halogenating agent to produce a deoxyhalogenogluconic acid derivative represented by formula (5'):
Method for producing deoxyhalogenogluconic acid derivatives:
R 1 and R 2 are defined as those represented by the following formula (4):
R3 has the same meaning as that represented by the following formula (4),
X' is a halogen atom;
R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent;
R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
R3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent;
R 1 and R 2 are the same as those represented by formula (4).
X'' is a halogen atom derived from the halogenating agent.
請求項5に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 The base includes at least one selected from the group consisting of an alkylamine base and a cyclic amine base.
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to claim 5 .
請求項5又は6に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 The base is used in an amount of 0.001 moles or more and 5.0 moles or less per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the formula (3).
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to claim 5 or 6 .
請求項5~7のいずれか1項に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 The sulfonylating agent represented by the formula (6) includes at least one selected from the group consisting of alkylsulfonyl chlorides, haloalkylsulfonyl chlorides, arylsulfonyl chlorides, and haloarylsulfonyl chlorides.
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to any one of claims 5 to 7 .
請求項5~8のいずれか1項に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 the sulfonylating agent represented by the formula (6) is used in an amount of 1.0 mole or more and 5.0 moles or less per mole of the tetraacylgluconic acid derivative represented by the formula (3);
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to any one of claims 5 to 8 .
請求項5~9のいずれか1項に記載のデオキシハロゲノグルコン酸誘導体の製造方法。 contacting the tetraacylgluconic acid derivative represented by the formula (3) with the sulfonylating agent represented by the formula (6) in a first reaction solvent containing at least one solvent selected from the group consisting of methylene chloride, ethyl acetate and acetonitrile;
A method for producing the deoxyhalogenogluconic acid derivative according to any one of claims 5 to 9 .
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