JP7670309B2 - 有機廃棄物燃焼処理システム及び有機廃棄物の処理方法 - Google Patents
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Description
前記一次装置で生成された気体生成物を高温加熱下に滞留させて再度熱分解させることで、無害化(分解)させる二次装置と、
二次装置で無害化処理された高温のガスを冷却水で急速冷却し、ダイオキシン類を含む有害物の再生成を抑制する三次装置と、を備え、
前記三次装置で利用された前記冷却水は、濾過器によって前記冷却水の混入物が除去された後に再利用されるとともに、前記混入物を前記一次装置へ還流させて再処理されるように構成したことを特徴とするものである。
前記熱分解室で生成されたダイオキシンを高温環境下に晒して焼き切り、分解させて無害化させる焼成室を設けた、二次装置を構成する焼成装置と、
冷水が通水するらせん状の細管が設置され前記焼成室で発生する気化焼成物が送り込まれる冷却室と、この冷却室内から所定濃度以下となった前記気化焼成物を大気へ放出する放出口及び/又は前記熱分解室へ帰還させる帰還路とを設けた、三次装置を構成する冷却装置と、
を備えたことを特徴とするものである。
中央上部に有機廃棄物を内部に投入する開口を設けた燃焼(熱分解)炉本体と、
前記燃焼(熱分解)炉本体内部の下部側若しくは底部に設けた熱源と、
前記燃焼(熱分解)炉本体内部の前記有機廃棄物を均等に撹拌させる分散手段と、
前記燃焼(熱分解)炉本体にオゾンを供給するオゾン発生装置と、
を備えたことを特徴とするものである。
僅かな隙間を隔てて対をなすとともに、複数回連続的に折曲げて形成することで連続的に連なる細幅状の流路を長く形成し、かつ、前記流路に臨む板内に電熱体が張り巡らされる、平板状の金属で構成し、前記隙間で構成した前記流路に沿って移動する前記気体生成物を、ダイオキシンの生成温度を上回る850℃~1000℃の温度範囲に保持して曝す滞留手段を構成する板状体を備えた二次装置において、前記熱分解室で生成されたダイオキシンを高温環境下に晒して焼き切り、分解させて無害化させる第2工程と、
冷水が通水するらせん状の細管が設置され前記二次装置の焼成室で発生する気化焼成物が送り込まれる冷却室と、この冷却室内から所定濃度以下となった前記気化焼成物を大気へ放出する放出口及び/又は前記熱分解室へ帰還させる帰還路とを設け、前記第2工程で無害化処理された高温のガスを冷却水で急速冷却し、ダイオキシン類を含む有害物の再生成を抑制させる第3工程と
を備えたことを特徴とする。
以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図1及び図2は、本発明の第1の実施形態に係る有機廃棄物燃焼処理システムを示す
概略外観正面図及び概略外観平面図を示すものである。
本実施形態に係る有機廃棄物燃焼処理システムは、概略構成として、一次装置10と
、二次装置20と、三次装置30と、を備えており、一次装置10と二次装置20との間
、及び二次装置20と三次装置30との間が連通している。なお、本実施形態では、各次
装置で生成された気体生成物が元の装置側へ逆流するのを阻止するために、図1および図
2には図示していないが、逆止弁などの逆流防止手段が、各装置間を連通する通気管P1
及びP2(又は各装置の図示しない出口又は入口)に設置されている。また、本発明では
、これ以外の態様として、差圧の関係で逆流しないように各次装置内を圧力制御・調整す
るような構成としてもよい(例えば、1次装置内圧>2次装置内圧>3次装置内圧)。
[有機廃棄物燃焼処理システムの構成]
一次装置10は、投入する有機廃棄物に対して、これらを構成する各物質の沸点を超える温度まで上昇加熱させることで、有機物を熱分解させて、ダイオキシン類以外の不燃性ガスである気体生成物及び炭素を主体とした固形残渣を生成するものである。この一次装置10について、より具体的には、有機廃棄物が燃焼反応を生じる酸素濃度(限界酸素濃度)未満の低酸素濃度状態を生成するとともに、オゾン(O3)を供給し、かつ、焼却すべき有機廃棄物の気化或いは昇華による固形物の消滅温度以下の環境条件を保持する熱分解室を設けた、熱分解装置で一次装置(以下、一次装置10のことを「熱分解装置10」とよぶ)を構成する。また、この熱分解装置10は、上述したオゾンを供給させるために、オゾン発生装置40をそばに設置しており、供給管41を介して熱分解装置10内部へオゾンを供給させるように構成されている。なお、ここで、有機廃棄物とは、有機物を含んだ廃棄物のことを指すものであって、無機物、金属類を一切含まないという意味ではない。
って、例えば中央部が略円錐形状(若しくは四角錐形状などの多角錐形状)の中央体13
Aと、この中央体13Aから放射状に延びるとともに終端部が炉本体11内壁面に取り付
く放射状体13Bと、からなる。しかも、なお、この分散手段を構成する各部材は、投入落
下してくる有機廃棄物が係止することがないよう、平滑性の高い材料で形成されている。
二次装置20は、一次装置10で熱分解されずに残ったダイオキシンを含む気体、或いは生成された各種の気体生成物(例えばNH4,NO2など)を取り込み、高温加熱下に滞留させて再度熱分解させることで、無害化(分解)させるものである。別言すると、この二次装置20は、一次装置10である熱分解室21を構成する炉本体11で生成されたダイオキシン、或いは生成された気体生成物中に含むダイオキシンを、高温環境下に晒して焼き切るためのものであり、再度、熱分解させて無害化させる焼成室を設けている。
板状体22が配設されている。この板状体22は、僅かな隙間を隔てて対をなすとともに
、その板状体22間の隙間部には通気部材23が複数回連続的に断面視略Z状に折曲げて形成されることで、連続的に連なる細幅状の通気の為の流路が長く形成される。
張り巡らされる。なお、熱分解室21内の板状体22及び通気部材23の内部には、図示し
ない発熱体が埋設されている。この発熱体は、外部電源と電気的に接続されて通電されて
おり、これにより発生するジュール熱で熱分解室21内の温度が、ダイオキシンの生成温度
を上回る850-1000℃の高熱状態に維持されるようになっている。
体生成物が送り込まれると、多数設けた通路内を通過することにより高温加熱させ、再度
熱分解させる。即ち、互いに対をなす板状体22は、上記隙間で構成した流路に沿って移
動する気体生成物を、ダイオキシンの生成温度を上回る850℃~1000℃の温度範囲
に保持して曝す滞留手段を構成する。そのため、特に、本発明では、通気部材の小孔を設
けることで、各通路内を通過する上記気体の通路内での加熱に晒される時間をより長く稼
ぐことができ、その分、熱分解時間を延長させることができる。
解されて無毒化(無害化)されるとともに、この無毒化された分解生成物は、次の3次装
置30へ送り出される。
三次装置30は、二次装置20で無害化処理された高温のガスを冷却水で急速冷却し、ダイオキシン類を含む有害物の再生成を抑制・阻止するものである。
呼ぶ)の壁面内又は内部に冷水を通水するらせん状の細管32が周囲に設置されている。
この冷却室31には、二次装置20の燃焼室21で発生する気化焼成物が送り込まれると
、所定濃度以下となった気化焼成物をこの冷却室31内から大気へ放出する放出口33を
設けてある。なお、本発明では、この冷却室31で無害化されて放出口33から放出され
る無害化ガスと、これ以外の残渣が液化され、冷却室31の底部に溜まって残る汚染物を
含む液状の有害物(以下、“液状残渣物”とよぶ)と、が発生する場合もある。そこで、
この後者が発生する場合に備え、この冷却室31の底部と一次装置10との間に図示外の
帰還路を設けておいてもよい。このような構成とすれば、底部に残った残渣である有害物
が混入した液体を一次装置10へ戻し、再度同じ処理を行うようにしてもよい。
却し、ダイオキシン類を含む各種の有害物の再生成を抑制させる。特に、ダイオキシンが
再合成(denovo反応)する虞のない低温、即ち200℃未満に保持する。このとき、無害
化されたガスは、法的な規制濃度以下であるものを上部の細管32から廃棄させるとと
もに、液化された残渣は図示外の濾過機でろ過するなどの処理をする。
留する混入物は、上記液化した有害物を残渣として含む液体用の濾過機と同様の構成とし
て除去してもよい。即ち、ある程度混入物がフィルタ中に溜まったところで、そのフィル
タごと取り出し、一次装置10の炉本体11へ投入して再処理させるため、カセット式の
フィルタを取り付けた濾過機で構成してもよい。また、この三次装置30の内部で発生す
る水蒸気は、図示外のタービン側へ送り込んで、タービンによる発電への利用を行っても
よい。
以上、説明してきたように、本実施形態によれば、一次装置10及び二次装置20によって有機廃棄物は、有機廃棄物中に含める無機物以外の有機物については、理論上皆無となる。従って、例えば産業廃棄物処理センターなどへの採用を行えば、有機廃棄物処理に伴うダイオキシンの発生を飛躍的に抑えることができ、地球環境の保全に資すことができるなど、著しい効果が得られ便宜である。
例えば、オゾン発生装置の代替手段として、プラズマ発生装置、或いは電極間に交流電流を印加した際の空間放電での生成、その他、適宜手段が可能である。また、有機廃棄物を熱分館によって分解する際に、塩化ビニルなどの廃棄物に対しては、適宜薬剤を添加させておくことで、有害ガスなどの発生を抑えることができるので、上述した薬剤などを添加しておくのが好ましい。
10 1次装置
11 燃焼(熱分解)炉本体(炉本体)
11A 開口
11B 蓋体
12 熱源
13 分散手段
13A 中央体
13B 放射体
14 熱源装置
20 2次装置
21 熱分解室
22 板状体
23 通気部材
30 3次装置
31 冷却室
32 細管
33 放出口
34 濾過器
42 拡散籠
42A 開口
43 配管
43A 穴
P1、P2 通気管
Claims (2)
- 投入する有機廃棄物に対して、
一次装置に接続し不活性ガスを形成する低酸素状態形成機構と、
前記不活性ガスが充填されることにより形成される、前記有機廃棄物が燃焼反応を生じる酸素濃度の下限である限界酸素濃度未満の低酸素濃度状態下で、
熱源が配設される炉本体内部の底部に於いて850℃以上である、前記有機廃棄物を構成する各物質の沸点以上の温度まで上昇加熱させることによって、
前記有機廃棄物を熱分解させ、ダイオキシン類とダイオキシン類以外の不燃性ガスを含む気体生成物、及び炭素を主体とした固形残渣を生成する一次装置と、
前記一次装置で生成された前記気体生成物を高温加熱下に滞留させ再度熱分解させることにより、前記ダイオキシン類を熱分解させ無害化し高温ガスを発生させる二次装置と、
前記二次装置で前記無害化処理された前記高温ガスを冷却水で急速冷却し、前記ダイオキシン類を含む有害物の再生成を抑制する三次装置と、
からなり、
前記低酸素状態形成機構は、投入された前記有機廃棄物の側方より不活性ガスを噴霧する態様であり、
また、前記一次装置の前記上昇加熱は、投入された前記有機廃棄物の上部或いは下部の少なくともどちらか一方に配設された熱源により行われること
を特徴とする有機廃棄物燃焼処理システム。 - 投入する有機廃棄物に対して、
一次装置に接続し不活性ガスを形成する低酸素状態形成機構と、
前記不活性ガスが充填されることにより形成される、前記有機廃棄物が燃焼反応を生じる酸素濃度の下限である限界酸素濃度未満の低酸素濃度状態下で、
熱源が配設される炉本体内部の底部に於いて850℃以上である、前記有機廃棄物を構成する各物質の沸点以上の温度まで上昇加熱させることによって、
前記有機廃棄物を熱分解させ、ダイオキシン類とダイオキシン類以外の不燃性ガスを含む気体生成物、及び炭素を主体とした固形残渣を生成する一次装置と、
前記一次装置で生成された前記気体生成物を高温加熱下に滞留させ再度熱分解させることにより、前記ダイオキシン類を熱分解させ無害化し高温ガスを発生させる二次装置と、
前記二次装置で前記無害化処理された前記高温ガスを冷却水で急速冷却し、前記ダイオキシン類を含む有害物の再生成を抑制する三次装置と、
からなり、
前記低酸素状態形成機構は、
投入された前記有機廃棄物の側方周囲を囲む面全体の3/4の面より不活性ガスを噴霧する態様であり、
また前記一次装置の加熱機構は、前記有機廃棄物の上部に配設された熱源と、前記有機廃棄物の下部に配設された熱源装置と、より構成されること
を特徴とする有機廃棄物燃焼処理システム。
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