Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7670771B2 - Vacuum Sealing Valve - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7670771B2 - Vacuum Sealing Valve - Google Patents

Vacuum Sealing Valve Download PDF

Info

Publication number
JP7670771B2
JP7670771B2 JP2023159320A JP2023159320A JP7670771B2 JP 7670771 B2 JP7670771 B2 JP 7670771B2 JP 2023159320 A JP2023159320 A JP 2023159320A JP 2023159320 A JP2023159320 A JP 2023159320A JP 7670771 B2 JP7670771 B2 JP 7670771B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve body
opening
shaft
roller
shaft member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023159320A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2025050495A (en
Inventor
明夫 芳川
亮 市村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
A&D Holon Holdings Co Ltd
Original Assignee
A&D Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by A&D Co Ltd filed Critical A&D Co Ltd
Priority to JP2023159320A priority Critical patent/JP7670771B2/en
Publication of JP2025050495A publication Critical patent/JP2025050495A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7670771B2 publication Critical patent/JP7670771B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Lift Valve (AREA)
  • Mechanically-Actuated Valves (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)

Description

本発明は、真空室を仕切る仕切壁に設けられた開口部の開閉を行う真空封止弁に関するものである。 The present invention relates to a vacuum sealing valve that opens and closes an opening in a partition wall that separates a vacuum chamber.

電子顕微鏡等、真空室を有する装置には、真空室内を仕切るための仕切壁と、その仕切壁に設けられた開口部を封止する真空封止弁とが設けられている。 Devices that have a vacuum chamber, such as electron microscopes, are provided with a partition wall to separate the inside of the vacuum chamber and a vacuum sealing valve to seal the opening in the partition wall.

例えば特許文献1では、開口部を気密に封止するための弁体と、リンク機構を介してこの弁体を保持する基体と、この基体の一端に連結されて、前記基体を移動させるシャフト部材とを備えているゲートバルブ(真空封止弁)が公開されている。シャフトが移動すると、固定手段の受孔に基体の挿入部が係合され、弁体が開口部を気密に封止する。 For example, Patent Document 1 discloses a gate valve (vacuum sealing valve) that includes a valve body for airtightly sealing an opening, a base body that holds the valve body via a link mechanism, and a shaft member that is connected to one end of the base body and moves the base body. When the shaft moves, the insertion portion of the base body engages with the receiving hole of the fixing means, and the valve body airtightly seals the opening body.

特開2006-200709号JP 2006-200709 A

しかし、上記特許文献1では、受孔に挿入部が係合する際に、金属同士が摺動して、パーティクルが発生する。特に、特許文献1での係合方法は螺合であるため、雄螺子と雌螺子が摺動して摩擦によりパーティクルが多数発生しやすい。パーティクルは開口部近傍に落下すると、開口部の気密な封止を阻害する。
本発明は、前記問題に鑑みてなされたものであり、パーティクルの発生を抑制した真空封止弁を提供する。
However, in the above-mentioned Patent Document 1, when the insertion portion engages with the receiving hole, metals slide against each other, generating particles. In particular, since the engagement method in Patent Document 1 is screwing, the male and female screws slide against each other, and friction easily generates a large number of particles. If the particles fall near the opening, they will hinder the airtight sealing of the opening.
The present invention has been made in consideration of the above problems, and provides a vacuum seal valve that suppresses the generation of particles.

上記問題を解決するため、壁体に形成される開口部を封止/封止解除する弁体と、前記壁体に略平行に進退移動可能なシャフト部材と、前記弁体と前記シャフト部材とを互いに変位可能に接続するリンク機構と、前記シャフト部材または前記弁体に当接して、前記弁体を前記開口部へと移動させるローラと、を備え、前記ローラは、両端部が縮径した軸部を有する円柱状の回転体であり、前記軸部を軸孔に軸支されて回動可能に支持され、前記軸孔には前記軸部を押し返すように付勢された弾性部材が配置されているように構成した。 To solve the above problem, the device is provided with a valve body that seals/unseals an opening formed in a wall body, a shaft member that can move back and forth approximately parallel to the wall body, a link mechanism that displaceably connects the valve body and the shaft member to each other, and a roller that abuts against the shaft member or the valve body and moves the valve body toward the opening, the roller being a cylindrical rotating body having a shaft portion with a reduced diameter at both ends, the shaft portion being journaled in a shaft hole so as to be rotatable, and an elastic member that is biased to push back the shaft portion is disposed in the shaft hole.

また、ある態様においては、前記ローラの前記軸部の端面は、外側に突出する曲面であり、前記弾性部材は板バネであり、前記軸孔は貫通孔に構成され、前記貫通孔の外側開口部を塞いで配置されているものとした。 In one embodiment, the end surface of the shaft portion of the roller is a curved surface that protrudes outward, the elastic member is a leaf spring, the shaft hole is configured as a through hole, and is positioned to close the outer opening of the through hole.

また、ある態様においては、前記ローラには、当接する前記シャフト部材または前記弁体の移動を案内する案内溝が設けられているものとした。 In one embodiment, the roller is provided with a guide groove that guides the movement of the shaft member or the valve body that it contacts.

また、ある態様においては、前記開口部は、前記壁体に設けられた段差部に形成されており、前記軸孔が設けられ、前記ローラを支持する支持部材が、前記段差部とは離間して、前記壁体に取り付けられているものとした。 In one embodiment, the opening is formed in a step portion provided in the wall body, the shaft hole is provided, and a support member that supports the roller is attached to the wall body at a distance from the step portion.

また、ある態様においては、前記ローラは、前記弁体の前方に配置され、前記シャフト部材の進退移動により、前記弁体の前面に当接して、前記シャフト部材の進退移動を、前記リンク機構を介して、前記弁体の前記開口部への移動へと変換する下ローラ、または/および、前記開口部に対して前記シャフト部材を挟んで対向する位置に配置され、前記弁体の封止状態で前記シャフト部材と当接して、前記シャフト部材の変形を抑制する上ローラであるものとした。 In one embodiment, the roller is a lower roller that is disposed in front of the valve body and abuts against the front surface of the valve body as the shaft member moves back and forth, converting the back and forth movement of the shaft member into movement of the valve body toward the opening via the link mechanism, and/or an upper roller that is disposed in a position facing the opening across the shaft member and abuts against the shaft member when the valve body is sealed, suppressing deformation of the shaft member.

上記構成によれば、パーティクルの発生を抑制した真空封止弁を提供できる。 The above configuration provides a vacuum sealing valve that suppresses particle generation.

本発明の実施形態に係る真空封止弁を備えた電子顕微鏡の概略図である。1 is a schematic diagram of an electron microscope equipped with a vacuum sealing valve according to an embodiment of the present invention. 同真空封止弁の斜視図である。FIG. 同真空封止弁の側面図である(説明のため一部構成要素を不図示)。FIG. 2 is a side view of the vacuum seal valve (some components are not shown for the purpose of illustration). 同真空封止弁の縦断面図である。FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of the vacuum seal valve. 開閉機構の縦断面図である。開状態を示す。1 is a vertical cross-sectional view of the opening and closing mechanism, showing the open state. 開閉機構の開閉工程を示す説明図である。図6(A)が開状態(封止解除状態)、図(6D)が閉状態(封止状態)を示す。6A and 6B are explanatory diagrams showing the opening and closing process of the opening and closing mechanism, in which Fig. 6A shows the open state (unsealed state) and Fig. 6D shows the closed state (sealed state). 開閉機構の斜視図である。FIG. 開閉機構の平面図である。FIG. 図8に示すIX-IX線に沿った開閉機構の端面図である。9 is an end view of the opening/closing mechanism taken along line IX-IX shown in FIG. 8 . 従来の開閉機構の端面図である。図9に対応する。9 is an end view of a conventional opening and closing mechanism.

(電子顕微鏡100)
以下、本開示の構成に係る好ましい実施形態を図面に従って説明する。図1は、実施形態に係る真空封止弁1を備えた電子顕微鏡100の概略図である。
(Electron microscope 100)
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present disclosure will now be described with reference to the accompanying drawings. Fig. 1 is a schematic diagram of an electron microscope 100 including a vacuum seal valve 1 according to an embodiment.

図1に示すように、電子顕微鏡100は、電子銃101と、電子銃101から出射された電子線EBを試料Wの所定部位に収束させるレンズ機構および電子線EBを走査させるための走査機構などからなる電子線制御機構102と、電子銃101および電子線制御機構102を内部に有する鏡筒103を備える。 As shown in FIG. 1, the electron microscope 100 includes an electron gun 101, an electron beam control mechanism 102 including a lens mechanism for converging the electron beam EB emitted from the electron gun 101 onto a predetermined portion of the sample W and a scanning mechanism for scanning the electron beam EB, and a lens barrel 103 that houses the electron gun 101 and the electron beam control mechanism 102.

電子顕微鏡100は、電子銃101から出射した電子線EBによって試料Wを照射することにより発生した二次電子などを検出し、この検出信号に基づき試料W上の電子線EBの二次元走査に同期して、試料像を表示する走査型電子顕微鏡(SEM)である。本開示の構成は、電子顕微鏡100の適用に限られず、試料Wに電子線EBをあて、それを透過してきた電子を拡大して観察する透過型電子顕微鏡(TEM)や、電線描画装置、電子線露光装置などにも好適である。また、電子銃101の代わりにイオン銃を用いて、イオンビームを照射しても良い。 The electron microscope 100 is a scanning electron microscope (SEM) that detects secondary electrons and the like generated by irradiating a sample W with an electron beam EB emitted from an electron gun 101, and displays a sample image based on this detection signal in synchronization with two-dimensional scanning of the electron beam EB on the sample W. The configuration of the present disclosure is not limited to application to the electron microscope 100, but is also suitable for a transmission electron microscope (TEM) that irradiates the sample W with an electron beam EB and magnifies and observes the electrons that have passed through it, an electric wire drawing device, an electron beam exposure device, and the like. Also, an ion gun may be used instead of the electron gun 101 to irradiate an ion beam.

鏡筒103は、その内部に、電子銃101を収容する電子銃室104と、電子線制御機構102を収容する制御機構室105と、これを仕切る仕切壁106とを有する。仕切壁106には、電子銃室104と制御機構室105とを連通する開口部107が設けられている。電子顕微鏡100の特性上、電子銃室104は真空排気機構108Aにより真空(10-5Pa以下の超高真空、または10-8Pa以下の極高真空)にされている。また、制御機構室105も同様に、真空排気機構108Bにより真空にされている。 The column 103 has therein an electron gun chamber 104 that houses the electron gun 101, a control mechanism chamber 105 that houses the electron beam control mechanism 102, and a partition wall 106 that separates them. The partition wall 106 has an opening 107 that connects the electron gun chamber 104 and the control mechanism chamber 105. Due to the characteristics of the electron microscope 100, the electron gun chamber 104 is evacuated to a vacuum (ultra-high vacuum of 10 -5 Pa or less, or extremely high vacuum of 10 -8 Pa or less) by a vacuum exhaust mechanism 108A. Similarly, the control mechanism chamber 105 is evacuated to a vacuum by a vacuum exhaust mechanism 108B.

電子顕微鏡100は、開口部107を封止/封止解除(以下、開閉と表現)を行う機構として真空封止弁1を備えている。真空封止弁1は、仕切壁106とほぼ垂直な鏡筒103の側壁103aに設けられた貫通孔109に貫通して支持される。電子顕微鏡100の真空引きには時間を要することから、電子銃101の修理や試料Wの交換時には、真空封止弁1を用いて、電子銃室104または制御機構室105を真空に保った状態で作業が行われる。また、電子顕微鏡100輸送の際は、真空封止弁1にて開口部107を封止して輸送する。 The electron microscope 100 is equipped with a vacuum seal valve 1 as a mechanism for sealing/unsealing (hereinafter referred to as opening and closing) the opening 107. The vacuum seal valve 1 is supported by passing through a through hole 109 provided in the side wall 103a of the microscope tube 103, which is approximately perpendicular to the partition wall 106. Since it takes time to evacuate the electron microscope 100, when repairing the electron gun 101 or replacing the sample W, the vacuum seal valve 1 is used to maintain the electron gun chamber 104 or the control mechanism chamber 105 at a vacuum. In addition, when transporting the electron microscope 100, the opening 107 is sealed with the vacuum seal valve 1.

(真空封止弁1)
真空封止弁1を図2~図4を用いて詳細に説明する。図2は真空封止弁1の斜視図である。図3は真空封止弁1の側面図である。図4は真空封止弁1の縦断面図である。図3においては、説明のため、一部の構成を省略している。
(Vacuum sealing valve 1)
The vacuum seal valve 1 will be described in detail with reference to Figures 2 to 4. Figure 2 is a perspective view of the vacuum seal valve 1. Figure 3 is a side view of the vacuum seal valve 1. Figure 4 is a vertical cross-sectional view of the vacuum seal valve 1. In Figure 3, some components are omitted for ease of explanation.

図2~図4に示すように、真空封止弁1は、先端部に、開口部107を開閉する開閉機構2を備える。開閉機構2は、移動側機構7と仕切壁106に固定される固定側機構8から構成される。開閉機構2の移動側機構7は接続機構3を介して、ベローズ4に接続され、ベローズ4は固定部5を介してアクチュエータ6に接続される。 As shown in Figures 2 to 4, the vacuum sealing valve 1 is provided with an opening/closing mechanism 2 at the tip that opens and closes the opening 107. The opening/closing mechanism 2 is composed of a moving side mechanism 7 and a fixed side mechanism 8 that is fixed to the partition wall 106. The moving side mechanism 7 of the opening/closing mechanism 2 is connected to a bellows 4 via a connection mechanism 3, and the bellows 4 is connected to an actuator 6 via a fixed part 5.

アクチュエータ6は真空封止弁1の駆動源である。アクチュエータ6が仕切壁106と略平行に進退移動すると、この移動が開閉機構2に伝達され、開閉機構2はアクチュエータ6の進退移動を、開口部107を開閉するための運動に変換して、開口部107を開閉する。 The actuator 6 is the driving source of the vacuum sealing valve 1. When the actuator 6 moves back and forth approximately parallel to the partition wall 106, this movement is transmitted to the opening and closing mechanism 2, which converts the back and forth movement of the actuator 6 into a motion for opening and closing the opening 107, thereby opening and closing the opening 107.

本実施形態においては、アクチュエータ6には複動式エアシリンダが用いられている。引込型の単動式エアシリンダを用いて、電子銃101不使用時には、圧縮バネなどの付勢によりシリンダの前進状態を維持して開閉機構2の閉状態を保ち、電子銃101使用時にのみ、エア圧力によりシリンダを後進状態にして、開閉機構2を開状態とするように構成してもよい。圧縮バネの付勢により、開閉機構2の閉状態の維持が容易となる。アクチュエータ6は、これに限らず、既知の駆動機構を用いてもよい。 In this embodiment, a double-acting air cylinder is used for the actuator 6. A retractable single-acting air cylinder may be used, and when the electron gun 101 is not in use, the cylinder is maintained in a forward position by the bias of a compression spring or the like to keep the opening/closing mechanism 2 in a closed position, and only when the electron gun 101 is in use, the cylinder is moved backwards by air pressure to open the opening/closing mechanism 2. The bias of the compression spring makes it easy to maintain the opening/closing mechanism 2 in a closed position. The actuator 6 is not limited to this, and any known driving mechanism may be used.

図4に示すように、ベローズ4は、内部に配置される伝達シャフト41の周囲を覆うように設けられている。伝達シャフト41は、接続シャフト42を介してアクチュエータ6に接続される。ベローズ4の端部は固定部5の表面に固定され、ベローズ4の内部空間と固定部5に設けられた内部空間51が連通する。この連通した内部空間で、伝達シャフト41はアクチュエータ6と一体化して進退移動を行う。ベローズ4を用いることで、電子銃室104の真空雰囲気を保持したまま、電子銃室104外(大気側)にあるアクチュエータ6から動力を得て伝達シャフト41を進退移動させることができる。 As shown in FIG. 4, the bellows 4 is arranged to cover the periphery of the transmission shaft 41 arranged inside. The transmission shaft 41 is connected to the actuator 6 via a connection shaft 42. An end of the bellows 4 is fixed to the surface of the fixed part 5, and the internal space of the bellows 4 communicates with the internal space 51 provided in the fixed part 5. In this communicated internal space, the transmission shaft 41 moves forward and backward integrally with the actuator 6. By using the bellows 4, the transmission shaft 41 can be moved forward and backward by obtaining power from the actuator 6 located outside the electron gun chamber 104 (atmospheric side) while maintaining the vacuum atmosphere of the electron gun chamber 104.

伝達シャフト41は、接続機構3を介して開閉機構2の移動側機構7を構成するメインシャフト71と接続されており、これらが一体となって移動することにより、開閉機構2にアクチュエータ6の進退運動が伝達される。 The transmission shaft 41 is connected to the main shaft 71 that constitutes the moving mechanism 7 of the opening/closing mechanism 2 via the connection mechanism 3, and the forward and backward movement of the actuator 6 is transmitted to the opening/closing mechanism 2 as they move together.

(開閉機構2)
開閉機構2について、図5および図6を用いて詳しく説明する。図5は開状態の開閉機構2の断面図である。
(Opening and closing mechanism 2)
The opening/closing mechanism 2 will be described in detail with reference to Figures 5 and 6. Figure 5 is a cross-sectional view of the opening/closing mechanism 2 in an open state.

開閉機構2は、前述のように、仕切壁106に固定される固定側機構8および、アクチュエータ6の進退移動に伴って移動する移動側機構7から構成される。 As described above, the opening/closing mechanism 2 is composed of a fixed side mechanism 8 that is fixed to the partition wall 106, and a movable side mechanism 7 that moves in accordance with the forward and backward movement of the actuator 6.

固定側機構8は、支持部材81、第1上ローラ82、第2上ローラ83、下ローラ84を備える。移動側機構7は、メインシャフト71、補助部材72、スプリング73、二対のリンク74,74、弁体75、Oリング76、ボルト77を備える。 The fixed side mechanism 8 includes a support member 81, a first upper roller 82, a second upper roller 83, and a lower roller 84. The movable side mechanism 7 includes a main shaft 71, an auxiliary member 72, a spring 73, two pairs of links 74, 74, a valve body 75, an O-ring 76, and a bolt 77.

支持部材81は、一対のL型ブラケットであり、電子線EBや移動側機構7の動きを阻害しない位置で正対して、水平面で仕切壁106に固定され、垂直面で第1上ローラ82、第2上ローラ83、および下ローラ84を回動可能に支持する(図2参照)。なお、説明のため、図3および図6では紙面手前側に配置される一方の支持部材81を省略している。 The support members 81 are a pair of L-shaped brackets that face each other in a position that does not impede the movement of the electron beam EB or the moving mechanism 7, are fixed to the partition wall 106 on a horizontal plane, and rotatably support the first upper roller 82, the second upper roller 83, and the lower roller 84 on a vertical plane (see FIG. 2). For the sake of explanation, one of the support members 81 located on the front side of the paper is omitted in FIG. 3 and FIG. 6.

第1上ローラ82および第2上ローラ83は、メインシャフト71の変形を抑えるため、即ち、弁体75を開口部107に押し付けることによって生じる反力で、メインシャフト71が上方向に反り返ることを抑えるための回転体である。メインシャフト71の進退方向に平行して並列して配置されて、その回転軸はメインシャフト71の進退方向と直行する。メインシャフト71の進退移動を案内するコンベア的な役割ではないため、逆に開状態ではメインシャフト71とは至近接するも当接しないことが望ましい。 The first upper roller 82 and the second upper roller 83 are rotating bodies for preventing deformation of the main shaft 71, that is, for preventing the main shaft 71 from bending upward due to the reaction force generated by pressing the valve body 75 against the opening 107. They are arranged in parallel to the forward and backward movement direction of the main shaft 71, and their rotation axes are perpendicular to the forward and backward movement direction of the main shaft 71. Since they do not function as a conveyor to guide the forward and backward movement of the main shaft 71, it is preferable that they approach the main shaft 71 in the open state but do not come into contact with it.

第1上ローラ82および第2上ローラ83は、上下方向には、下方にある開口部107に対して、メインシャフト71を挟んで対向する位置として、メインシャフト71の上方に配置される。また、メインシャフト71の進退方向(前後方向)に対して、開口部107を基準として、第2上ローラ83がメインシャフト71の先端側、第1上ローラ82がメインシャフト71の基端側に配置される。第1上ローラ82および第2上ローラ83が開口部107を挟んで配置されることで、安定して強固にメインシャフト71の変形を抑えることができる。 The first upper roller 82 and the second upper roller 83 are arranged above the main shaft 71 in a position facing the opening 107 below with the main shaft 71 in between in the up-down direction. In addition, with respect to the forward and backward direction (front-to-back direction) of the main shaft 71, the second upper roller 83 is arranged at the tip side of the main shaft 71 and the first upper roller 82 is arranged at the base end side of the main shaft 71 with the opening 107 as the reference. By arranging the first upper roller 82 and the second upper roller 83 to sandwich the opening 107, deformation of the main shaft 71 can be stably and firmly suppressed.

弁体75は、略直方体形状で、二対のリンク74,74によりメインシャフト71とリンク接続され、メインシャフト71の進退移動に伴って上下方向へ移動することで開口部107を直接開閉する。二対のリンク74,74は、いわゆるデュアルリンク機構であり、それぞれ弁体75の両側面で対向して、弁体75とメインシャフト71をリンク接続している。同一構成の二対のリンク74,74は、水平状態の弁体75と接続され、軸同士が水平かつ平行で、さらに一対のリンク74同士が平行に配置されている。このため、弁体75は二対のリンク74,74に保持され、水平状態のままリンク74の回転軸を中心として上下方向に回動可動に支持される。 The valve body 75 has a roughly rectangular parallelepiped shape and is linked and connected to the main shaft 71 by two pairs of links 74, 74. It moves up and down in accordance with the forward and backward movement of the main shaft 71, thereby directly opening and closing the opening 107. The two pairs of links 74, 74 are what is called a dual link mechanism, and face each other on both sides of the valve body 75, linking and connecting the valve body 75 to the main shaft 71. The two pairs of links 74, 74 of the same configuration are connected to the valve body 75 in a horizontal state, with their axes horizontal and parallel to each other, and furthermore, the pair of links 74 are arranged parallel to each other. Therefore, the valve body 75 is held by the two pairs of links 74, 74, and is supported so as to be rotatable up and down around the rotation axis of the links 74 while remaining in a horizontal state.

スプリング73は、弁体75を開状態に維持する方向へ付勢するための弾性体である。スプリング73による前方への付勢は、リンク74,74により上方向へ変換され、開状態では、弁体75は仕切壁106とは離間した状態で保持される。 The spring 73 is an elastic body that biases the valve body 75 in a direction that maintains the valve body 75 in an open state. The forward bias of the spring 73 is converted to an upward bias by the links 74, 74, and in the open state, the valve body 75 is held apart from the partition wall 106.

下ローラ84は、メインシャフト71を挟んで、第2上ローラ83と略正対して、弁体75の前方に配置される。メインシャフト71の進退移動の際に、下ローラ84は弁体75の前面に当接して、弁体75を上下方向へ移動させる。 The lower roller 84 is disposed in front of the valve body 75, facing the second upper roller 83 across the main shaft 71. When the main shaft 71 moves back and forth, the lower roller 84 comes into contact with the front surface of the valve body 75, moving the valve body 75 in the up and down direction.

補助部材72は、スプリング73を保持するための補助部材であり、スプリング73を保持するための深く窪んだ凹部72aが形成されている。スプリング73が弁体75を効率良く付勢できるように、補助部材72は弁体75の背面に配置されて、メインシャフト71の底面にボルト77で固定されて一体化している。補助部材72を用いず、メインシャフト71でスプリング73を直接保持する構成であっても構わない。 The auxiliary member 72 is an auxiliary member for holding the spring 73, and is formed with a deep recess 72a for holding the spring 73. The auxiliary member 72 is disposed on the back surface of the valve body 75 and is fixed to the bottom surface of the main shaft 71 by bolts 77 so that the spring 73 can efficiently bias the valve body 75. It is also possible to have a configuration in which the spring 73 is held directly by the main shaft 71 without using the auxiliary member 72.

Oリング76は、開口部107を気密に封止するためのシール部材である。弁体75の下面には、アリ溝75aが環状に設けられており、Oリング76がここに嵌ることで、弁体75の下面に取り付けられる。 The O-ring 76 is a sealing member for airtightly sealing the opening 107. A dovetail groove 75a is provided in an annular shape on the underside of the valve body 75, and the O-ring 76 fits into this groove, thereby attaching it to the underside of the valve body 75.

また、弁体75は、リンク74との段差をなくしてリンク74と滑らかに接続されるように、側面が削られた薄肉部75bでリンク74と接続されている。これにより、移動側機構7の幅を小さくした。 The valve body 75 is connected to the link 74 at a thin-walled portion 75b with its side cut away so that there is no step between the valve body 75 and the link 74 and the link 74 is connected smoothly. This reduces the width of the moving mechanism 7.

弁体75およびメインシャフト71にはそれぞれ、電子線EBを通すための貫通孔としてビーム挿通孔75c,71cが設けられている。開閉機構2が組み立てられた状態で、ビーム挿通孔75c,71cは連通するように構成されている。開閉機構2の開状態においては、開口部107およびビーム挿通孔75c,71cが上下方向に直線状に並ぶよう、配置が調整されている。これにより電子線EBの行路が確保される。 The valve body 75 and the main shaft 71 are provided with beam insertion holes 75c and 71c, respectively, as through holes for passing the electron beam EB. When the opening/closing mechanism 2 is assembled, the beam insertion holes 75c and 71c are configured to communicate with each other. When the opening/closing mechanism 2 is in the open state, the positioning is adjusted so that the opening 107 and the beam insertion holes 75c and 71c are aligned in a straight line in the vertical direction. This ensures a path for the electron beam EB.

もちろん、電子線EBへ悪影響を与えぬよう、弁体75およびメインシャフト71は、非磁性体で構成されている。弁体75とメインシャフト71内に電子線EBの行路となる孔を設けることで、開状態でも弁体75を開口部107上方に配置でき、開口部107の開閉に必要なメインシャフト71の進退移動量を減少させて、金属摺動によるパーティクルの発生を極力抑制している。 Of course, the valve body 75 and the main shaft 71 are made of non-magnetic material so as not to adversely affect the electron beam EB. By providing holes in the valve body 75 and the main shaft 71 that serve as a path for the electron beam EB, the valve body 75 can be positioned above the opening 107 even in the open state, reducing the amount of forward and backward movement of the main shaft 71 required to open and close the opening 107, minimizing the generation of particles due to metal sliding.

(弁体の移動)
弁体75の形状と移動について、図を用いて詳しく説明する。図6は、メインシャフト71の前進移動に伴う弁体75の移動により、開閉機構2により開口部107が開閉される工程を示す。なお、図6中の黒色矢印はメインシャフト71の移動方向を示し、白色矢印は弁体75の移動方向を示す。図6(A)が開閉機構2の開状態を示す。図6(D)が開閉機構2の閉状態を示す。図6(B)と図(C)は開閉の途中の状態を示す。図6では、説明のため、紙面手前側の固定部材を表示せず、全ローラを断面表示している。なお、図6では理想状態としてメインシャフト71は上ローラ82,83と、下ローラ84との間に配置され、そのまま前進している。実際には自重により、メインシャフト71は下ローラ84に接触したまま前進し、弁体75が仕切壁106に当接した後は、メインシャフト71は押圧の反力で上方に反り、上ローラ82,83と接触する。
(Valve disc movement)
The shape and movement of the valve body 75 will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 6 shows the process in which the opening 107 is opened and closed by the opening/closing mechanism 2 as the valve body 75 moves with the forward movement of the main shaft 71. The black arrow in FIG. 6 indicates the direction of movement of the main shaft 71, and the white arrow indicates the direction of movement of the valve body 75. FIG. 6(A) shows the open state of the opening/closing mechanism 2. FIG. 6(D) shows the closed state of the opening/closing mechanism 2. FIG. 6(B) and FIG. 6(C) show the intermediate states of opening and closing. In FIG. 6, the fixing members on the front side of the page are not shown for the sake of explanation, and all the rollers are shown in cross section. In FIG. 6, the main shaft 71 is ideally disposed between the upper rollers 82 and 83 and the lower roller 84, and moves forward as it is. In reality, due to its own weight, the main shaft 71 advances while remaining in contact with the lower roller 84 , and after the valve body 75 abuts against the partition wall 106 , the main shaft 71 is warped upward due to the reaction force of the pressure and comes into contact with the upper rollers 82 , 83 .

弁体75の前面には、水平状態から前方が下方へ傾いた傾斜面75d、および傾斜面75dの上端部から連続する鉛直面75eが形成されている。メインシャフト71の前進移動の際に、下ローラ84は、まず傾斜面75dに当接し、ついで鉛直面75eに当接して、弁体を上下方向に移動させる。弁体75は、下ローラ84に当接しながら当接面の形状に沿って移動するため、弁体75の移動は弁体75の当接面である前面の形状に依存する。 The front surface of the valve body 75 is formed with an inclined surface 75d that is inclined downward from the horizontal state, and a vertical surface 75e that continues from the upper end of the inclined surface 75d. When the main shaft 71 moves forward, the lower roller 84 first abuts against the inclined surface 75d and then against the vertical surface 75e, moving the valve body in the vertical direction. Since the valve body 75 moves along the shape of the abutment surface while abutting against the lower roller 84, the movement of the valve body 75 depends on the shape of the front surface, which is the abutment surface of the valve body 75.

図6を用いて、弁体75の移動を詳細に説明する。図6(A)に示すように、開閉機構2が開状態のとき、スプリング73による前方の付勢がリンク74,74により上方に変換され、弁体75は上方に付勢されて、仕切壁106とは離間した状態で保持される。開状態で弁体75はリンク74,74により仕切壁106に水平状態に保持される。 The movement of the valve body 75 will be described in detail using Figure 6. As shown in Figure 6 (A), when the opening/closing mechanism 2 is in the open state, the forward bias of the spring 73 is converted upward by the links 74, 74, and the valve body 75 is biased upward and held in a spaced apart state from the partition wall 106. In the open state, the valve body 75 is held horizontally against the partition wall 106 by the links 74, 74.

開閉機構2の開状態から、開口部107を封止するためにメインシャフト71を前進させると、弁体75もメインシャフト71とともに前進し、弁体75の前面の傾斜面75dが下ローラ84に当接する(図6(B)参照)。 When the main shaft 71 is advanced to seal the opening 107 from the open state of the opening/closing mechanism 2, the valve body 75 also advances together with the main shaft 71, and the inclined surface 75d on the front side of the valve body 75 abuts against the lower roller 84 (see FIG. 6(B)).

弁体75が下ローラ84に当接した後、そのままメインシャフト71を前進させると、弁体75はリンク74,74に保持されながら、傾斜面75dの勾配方向に移動する。傾斜面75dは、前方に向かうほど下方に傾く傾斜面となっており、弁体75は傾斜面75dに沿って前方かつ下方へと斜めに移動する。弁体75は二対のリンク74,74に保持されて、水平状態を維持したまま下前方へ斜めに移動する(図6(C)参照)。 After the valve body 75 comes into contact with the lower roller 84, when the main shaft 71 is moved forward, the valve body 75 moves in the gradient direction of the inclined surface 75d while being held by the links 74, 74. The inclined surface 75d is an inclined surface that slopes downward as it approaches the front, and the valve body 75 moves diagonally forward and downward along the inclined surface 75d. The valve body 75 is held by two pairs of links 74, 74 and moves diagonally downward and forward while maintaining a horizontal state (see Figure 6 (C)).

さらにメインシャフト71を前進させると、弁体75が下ローラ84に当接したまま、傾斜面75dの勾配に沿って前下方に移動し、今度は鉛直面75eが下ローラ84に当接する。このとき、弁体75の底面に配置されたOリング76は、開口部107の真上で、かつ仕切壁106に近接して配置される。上面視して、Oリング76の内側のほぼ真ん中に開口部107が配置される。 When the main shaft 71 is further advanced, the valve body 75 moves forward and downward along the gradient of the inclined surface 75d while remaining in contact with the lower roller 84, and the vertical surface 75e then comes into contact with the lower roller 84. At this time, the O-ring 76, which is placed on the bottom surface of the valve body 75, is positioned directly above the opening 107 and close to the partition wall 106. When viewed from above, the opening 107 is located approximately in the center of the inside of the O-ring 76.

図6に示すように、開口部107周辺の仕切壁106は、周囲よりも盛り上がる、僅かに高い段差部106aが形成されている。これは、開閉機構2の動きによって、金属同士の摺動からパーティクルが発生した場合でも、シール箇所に少しでもパーティクルが落ちる可能性を減少させるためである。なおかつ、段差部106aから落ちたパーティクルは、再び段差部106a、即ちシール箇所に乗り上げにくくなるため、シール性能の減少を抑制できる。 As shown in FIG. 6, the partition wall 106 around the opening 107 has a slightly higher step 106a formed above the surrounding area. This is to reduce the possibility of particles falling into the sealed area even if they are generated by the sliding of metal parts due to the movement of the opening/closing mechanism 2. Furthermore, particles that fall from the step 106a are less likely to climb back up onto the step 106a, i.e., the sealed area, so a decrease in sealing performance can be suppressed.

弁体75は、当接面の勾配に沿って移動するため、メインシャフト71の前進に伴い、弁体75は、今度は鉛直下方に向かって移動する。弁体75は真下へ向かって移動して、弁体75の底面に設けられたOリング76が仕切壁106を押圧して、開口部107を封止する(図6(D)参照)。 The valve body 75 moves along the gradient of the contact surface, so as the main shaft 71 advances, the valve body 75 now moves vertically downward. The valve body 75 moves straight down, and the O-ring 76 attached to the bottom surface of the valve body 75 presses against the partition wall 106, sealing the opening 107 (see FIG. 6 (D)).

上記構成により弁体75を二段階移動させることができ、弁体75を開口部107の対向位置に配置したのち、弁体75を真下に移動させることで、開口部107を真上からOリング76で封止させることができる。メインシャフト71の前進運動が下ローラ84により弁体75の下方移動へと変換されると、弁体75は下方へ向かって移動する。Oリング76が仕切壁106を押圧すると、仕切壁106からは上方への反力をうける。この反力によりメインシャフト71は上方へ反ろうとするが、メインシャフト71の上方に配置された第1上ローラ82および第2上ローラ83がメインシャフト71に当接して、メインシャフト71の変形が抑制される。弁体75は力の効率良く、気密に封止することができる。 The above configuration allows the valve body 75 to move in two stages. After the valve body 75 is positioned opposite the opening 107, the valve body 75 is moved directly downward, and the opening 107 can be sealed from directly above by the O-ring 76. When the forward motion of the main shaft 71 is converted into the downward movement of the valve body 75 by the lower roller 84, the valve body 75 moves downward. When the O-ring 76 presses against the partition wall 106, the partition wall 106 exerts an upward reaction force on the valve body 75. This reaction force causes the main shaft 71 to warp upward, but the first upper roller 82 and the second upper roller 83 arranged above the main shaft 71 come into contact with the main shaft 71, suppressing deformation of the main shaft 71. The valve body 75 can provide an efficient force and provide an airtight seal.

(ローラ形態)
開閉機構2は、金属摺動によるパーティクルの発生を抑制した構成となっている。これを、図を用いて詳しく説明する。図7は、開閉機構2の斜視図である。図7(A)は開閉機構2の全体斜視図である。図7(B)は図7(A)から紙面手前側(シャフト前進方向の右手側)の支持部材81を省略した図である。図8は開閉機構2の平面図である。図9は図8のIX-IX線に沿った端面図である。
(Roller type)
The opening/closing mechanism 2 is configured to suppress the generation of particles due to metal sliding. This will be described in detail with reference to the drawings. Fig. 7 is a perspective view of the opening/closing mechanism 2. Fig. 7(A) is an overall perspective view of the opening/closing mechanism 2. Fig. 7(B) is a view of Fig. 7(A) with the support member 81 on the front side of the page (the right hand side in the forward direction of the shaft) omitted. Fig. 8 is a plan view of the opening/closing mechanism 2. Fig. 9 is an end view taken along line IX-IX in Fig. 8.

第1上ローラ82、第2上ローラ83、および下ローラ84は、同等の構成となっている。このため、代表して第2上ローラ83について詳しく説明する。図9に示すように、第2上ローラ83は、軸体と回転体が一体化した形態であり、略円柱状の外形を有し、両端部が縮径した軸部83aとなっている。両端の軸部83aが、支持部材81に設けられた軸孔81bで水平に軸支されることで、第2上ローラ83は水平軸に対して回動可能に支持される。 The first upper roller 82, the second upper roller 83, and the lower roller 84 have the same configuration. For this reason, the second upper roller 83 will be described in detail as a representative example. As shown in FIG. 9, the second upper roller 83 is an integrated shaft body and rotating body, has a roughly cylindrical outer shape, and has shaft portions 83a with reduced diameters at both ends. The shaft portions 83a at both ends are supported horizontally in shaft holes 81b provided in the support member 81, so that the second upper roller 83 is supported rotatably about a horizontal axis.

軸部83aの端面は、半円球状の曲面となっている。さらに、軸部83aが軸支される貫通孔の軸孔81bは、外側開口部を板バネ85で塞がれている。板バネ85は、金属薄板材で構成され、支持部材81の外側面に固定部材86で一点固定されることで、片持ち状態で取り付けれる。板バネ85は、軸孔81bから外側に突出しようとして当接する軸部83aを反力で内側に押し返すために配置される。 The end face of the shaft portion 83a is a semispherical curved surface. Furthermore, the shaft hole 81b, which is a through hole in which the shaft portion 83a is supported, has its outer opening blocked by a leaf spring 85. The leaf spring 85 is made of a thin metal plate and is attached in a cantilevered state by being fixed at one point to the outer surface of the support member 81 by a fixing member 86. The leaf spring 85 is positioned to push back inward with a reaction force the shaft portion 83a that abuts against the shaft hole 81b as it tries to protrude outward.

(作用効果)
上記構成のローラの作用効果を、従来品を比較しながら説明する。図10は、従来品の開閉機構902の端面図である。図9に対応する。図10に示すように、従来品の第2上ローラ983は、支持部材981の軸孔981bに固定される軸体983aと、軸体983aの軸孔に挿通した円柱状の回転体983bからなる。従来品の第2上ローラ983において、回動する回転体983bは、軸体983aと内側に設けられた軸孔の全表面で接するため、金属同士の接触面積が大きく、金属摺動によるパーティクルが多く発生してしまう。また、回転体983bは、二つの支持部材981の間に配置されるため、開口部907の近傍に配置されることとなる。このため、回転体983bの金属摺動により発生したパーティクルは、開口部907が設けられた段差部906aの上面のシール面に落下してシール性能を減少させる可能性がある。
(Action and Effect)
The effect of the roller having the above configuration will be described in comparison with a conventional product. FIG. 10 is an end view of the opening/closing mechanism 902 of the conventional product. It corresponds to FIG. 9. As shown in FIG. 10, the second upper roller 983 of the conventional product is composed of a shaft body 983a fixed to the shaft hole 981b of the support member 981 and a cylindrical rotating body 983b inserted into the shaft hole of the shaft body 983a. In the second upper roller 983 of the conventional product, the rotating rotating body 983b contacts the shaft body 983a on the entire surface of the shaft hole provided on the inside, so that the contact area between the metals is large, and a lot of particles are generated due to metal sliding. In addition, since the rotating body 983b is disposed between the two support members 981, it is disposed near the opening 907. Therefore, the particles generated by the metal sliding of the rotating body 983b may fall onto the sealing surface on the upper surface of the step portion 906a where the opening 907 is provided, thereby reducing the sealing performance.

これに対し、本実施形態においては、軸体と回転体とを一体化させた第2上ローラ83を用いて金属同士の接触面積を減少させ、金属摺動によるパーティクルの発生を減少させた。回動可能に支持する軸体と、移動するメインシャフト71に当接する部品とを同一の1部品にすることで、金属摺動面積を減少させた。さらに、軸部83aは、接している軸孔81bと金属摺動するが、摺動によるパーティクルは、支持部材81の近傍に落下する。パーティクルの発生を抑制するとともに、パーティクルが発生した際にも、パーティクルの発生位置を開口部107から遠ざけられる。 In contrast, in this embodiment, the second upper roller 83, which integrates the shaft body and the rotating body, is used to reduce the contact area between the metals, thereby reducing the generation of particles due to metal sliding. The rotatably supported shaft body and the part that abuts against the moving main shaft 71 are made into a single part, thereby reducing the metal sliding area. Furthermore, the shaft portion 83a slides against the shaft hole 81b that it contacts, but particles generated by the sliding fall near the support member 81. Not only is the generation of particles suppressed, but even if particles are generated, the position at which the particles are generated can be kept away from the opening 107.

さらに前述の通り、開口部107周辺の仕切壁106には段差部106aが形成されている。支持部材81は、段差部106aとは離間して取り付けられており、段差部106aと支持部材81の間には、隙間SPが形成されている。軸部83aの金属摺動によるパーティクルは隙間SPに落ち、再び段差部106aの上面、即ちシール面に乗りあげることはなく、パーティクルによるシール性能の減少が抑制される。 Furthermore, as mentioned above, a step 106a is formed in the partition wall 106 around the opening 107. The support member 81 is attached at a distance from the step 106a, and a gap SP is formed between the step 106a and the support member 81. Particles generated by the metal sliding of the shaft portion 83a fall into the gap SP and do not climb up again onto the upper surface of the step 106a, i.e., the sealing surface, thereby suppressing a decrease in sealing performance due to particles.

また、第2上ローラ83は、ベリリウム銅などの支持部材81およびメインシャフト71の構成部材よりも柔らかい金属で構成されている。異なる金属を使用することで、摺動面の摩擦を減らし、両者が滑りやすく(回動しやすく)なるようにしている。第2上ローラ83側を柔らかい金属で構成することで、接触時には第2上ローラ83が削られる構成として、接触時の摩擦を軽減させた。これにより、第2上ローラ83は回動しやすくなり、金属摺動してもパーティクルの発生が抑制される。 The second upper roller 83 is also made of a metal, such as beryllium copper, which is softer than the components of the support member 81 and main shaft 71. By using different metals, friction on the sliding surfaces is reduced, making it easier for the two to slide (rotate). By making the second upper roller 83 side out of a soft metal, the second upper roller 83 is scraped upon contact, reducing friction upon contact. This makes it easier for the second upper roller 83 to rotate, and suppresses the generation of particles even when the metal slides.

第1上ローラ82、第2上ローラ83、下ローラ84は、上記のように構成される。このうち、第2上ローラ83にのみ、メインシャフト71を案内するための案内溝83bが周設されている。開閉機構2は、鏡筒103から取り外すことができるように、進退方向に長く構成されているため、進退移動時に左右に振れることがある。この水平方向のメインシャフト71の摺動を、第2上ローラ83に案内溝83bを設けることで抑制した。ローラ回動に対する直交方向のメインシャフト71の不要な移動の抑制により、当接する各ローラとの摺動も抑制される。 The first upper roller 82, the second upper roller 83, and the lower roller 84 are configured as described above. Of these, only the second upper roller 83 has a guide groove 83b provided around its periphery for guiding the main shaft 71. The opening/closing mechanism 2 is configured to be long in the forward/backward direction so that it can be removed from the telescope tube 103, and so may swing left and right when moving forward and backward. This horizontal sliding of the main shaft 71 is suppressed by providing a guide groove 83b in the second upper roller 83. By suppressing unnecessary movement of the main shaft 71 in the direction perpendicular to the roller rotation, sliding with each abutting roller is also suppressed.

第2上ローラ83の軸部83aの支持される軸孔81bの外側開口部は、開口部よりも大きな板バネ85に覆われており、第2上ローラ83が左右方向に振れた場合、板バネ85が押し返し、第2上ローラ83を中央へ押し戻し、左右の振れを補正する構成となっている。これにより、左右方向の第2上ローラ83の振れ量が減少し、第2上ローラ83が軸孔81bおよびメインシャフト71と摺動する量が減少する。第2上ローラ83の金属摺動が抑制され、パーティクルの発生が抑制される。 The outer opening of the shaft hole 81b, where the shaft portion 83a of the second upper roller 83 is supported, is covered by a leaf spring 85 that is larger than the opening, and when the second upper roller 83 swings left or right, the leaf spring 85 pushes back, pushing the second upper roller 83 back to the center, correcting the left or right swing. This reduces the amount of swing of the second upper roller 83 left or right, and reduces the amount by which the second upper roller 83 slides against the shaft hole 81b and the main shaft 71. Metal sliding of the second upper roller 83 is suppressed, and particle generation is suppressed.

軸部83aの端面は半球状の曲面であるため、軸部83aと板バネ85との接触はほぼ一点となり、接触面積も小さく、板バネ85と軸部83aとの金属摺動も抑制される。板バネ85と半円球状の軸部83aとでは、例え軸部83aが板バネ85に当接しても、軸孔81b内に隙間となる空間が発生する。板バネ85と軸部83aとの金属摺動により発生したパーティクルはこの空間に落ち、支持部材81側へ落ちるパーティクルの量が抑制される。また、軸部83aの端面が半球状となることで、軸孔81bとの接触面積自体も減少し、金属摺動面積を減少させることができる。 Since the end face of the shaft portion 83a is a hemispherical curved surface, the contact between the shaft portion 83a and the leaf spring 85 is almost at one point, the contact area is small, and metal sliding between the leaf spring 85 and the shaft portion 83a is also suppressed. With the leaf spring 85 and the hemispherical shaft portion 83a, even if the shaft portion 83a abuts against the leaf spring 85, a space that becomes a gap is generated in the shaft hole 81b. Particles generated by the metal sliding between the leaf spring 85 and the shaft portion 83a fall into this space, and the amount of particles that fall toward the support member 81 side is suppressed. In addition, since the end face of the shaft portion 83a is hemispherical, the contact area with the shaft hole 81b itself is also reduced, and the metal sliding area can be reduced.

なお、本実施形態においては板バネ85を用いたが、軸孔81bに配置される弾性部材で、軸部83aを正位置に押し戻すように付勢されていればよい。弾性部材は、正位置では軸部83aとは当接せず、各ローラやメインシャフト71が水平摺動した際に当接して正位置へと補正するように配置されると好ましい。 In this embodiment, a leaf spring 85 is used, but it is sufficient if an elastic member arranged in the shaft hole 81b is used to bias the shaft portion 83a back to the correct position. It is preferable that the elastic member is arranged so that it does not come into contact with the shaft portion 83a in the correct position, but comes into contact with the rollers and main shaft 71 when they slide horizontally to correct the shaft portion 83a to the correct position.

本実施形態においては、第2上ローラ83にのみ案内溝83bが設けられたが、第1上ローラ82や下ローラ84に設けられてもよく、また複数のローラに案内溝が設けられてもよい。 In this embodiment, the guide groove 83b is provided only on the second upper roller 83, but it may also be provided on the first upper roller 82 or the lower roller 84, or guide grooves may be provided on multiple rollers.

以上、本発明の好ましい実施形態及を述べたが、当業者の知識に基づいて変形させることも可能であり、そのような形態は本発明の範囲に含まれる。 The above describes the preferred embodiment of the present invention, but modifications are possible based on the knowledge of those skilled in the art, and such modifications are within the scope of the present invention.

1 :真空封止弁
2 :開閉機構
71 :メインシャフト(シャフト部材)
74 :リンク
75 :弁体
81 :支持部材
81b :軸孔
82 :第1上ローラ
83 :第2上ローラ
83a :軸部
83b :案内溝
84 :下ローラ
85 :板バネ
106 :仕切壁(壁体)
106a :段差部
107 :開口部
1: Vacuum sealing valve 2: Opening and closing mechanism 71: Main shaft (shaft member)
74: Link 75: Valve body 81: Support member 81b: Shaft hole 82: First upper roller 83: Second upper roller 83a: Shaft portion 83b: Guide groove 84: Lower roller 85: Leaf spring 106: Partition wall (wall body)
106a: Step portion 107: Opening

Claims (5)

壁体に形成される開口部を封止/封止解除する弁体と、
前記壁体に略平行に進退移動可能なシャフト部材と、
前記弁体と前記シャフト部材とを互いに変位可能に接続するリンク機構と、
前記シャフト部材または前記弁体に当接して、前記弁体を前記開口部へと移動させるローラと、
を備え、
前記ローラは、両端部が縮径した軸部を有する円柱状の回転体であり、前記軸部を軸孔に軸支されて回動可能に支持され、
前記軸孔には前記軸部を押し返すように付勢された弾性部材が配置されている、
ことを特徴とする真空封止弁。
a valve body for sealing/unsealing an opening formed in the wall body;
A shaft member that is movable back and forth substantially parallel to the wall body;
a link mechanism that displaceably connects the valve body and the shaft member to each other;
a roller that contacts the shaft member or the valve body to move the valve body toward the opening;
Equipped with
The roller is a cylindrical rotating body having a shaft portion whose both ends are reduced in diameter, and the shaft portion is supported in a shaft hole so as to be rotatable.
An elastic member is disposed in the shaft hole and is biased so as to push back the shaft portion.
A vacuum seal valve characterized by:
前記ローラの前記軸部の端面は、外側に突出する曲面であり、
前記弾性部材は板バネであり、前記軸孔は貫通孔に構成され、前記貫通孔の外側開口部を塞いで配置されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空封止弁。
an end surface of the shaft portion of the roller is a curved surface that protrudes outward;
The elastic member is a leaf spring, the shaft hole is configured as a through hole, and is disposed to close an outer opening of the through hole.
2. The vacuum seal valve according to claim 1.
前記ローラには、当接する前記シャフト部材または前記弁体の移動を案内する案内溝が設けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空封止弁。
The roller is provided with a guide groove for guiding the movement of the shaft member or the valve body that comes into contact with the roller.
2. The vacuum seal valve according to claim 1.
前記開口部は、前記壁体に設けられた段差部に形成されており、
前記軸孔が設けられ、前記ローラを支持する支持部材が、前記段差部とは離間して、前記壁体に取り付けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空封止弁。
The opening is formed in a step portion provided in the wall,
a support member having the shaft hole and supporting the roller is attached to the wall body at a distance from the step portion;
2. The vacuum seal valve according to claim 1.
前記ローラは、前記弁体の前方に配置され、前記シャフト部材の進退移動により、前記弁体の前面に当接して、前記シャフト部材の進退移動を、前記リンク機構を介して、前記弁体の前記開口部への移動へと変換する下ローラ、または/および、前記開口部に対して前記シャフト部材を挟んで対向する位置に配置され、前記弁体の封止状態で前記シャフト部材と当接して、前記シャフト部材の変形を抑制する上ローラである、
ことを特徴とする請求項1に記載の真空封止弁。
The roller is a lower roller that is disposed in front of the valve body, comes into contact with the front surface of the valve body as the shaft member moves back and forth, and converts the back and forth movement of the shaft member into movement of the valve body toward the opening via the link mechanism, and/or an upper roller that is disposed at a position facing the opening across the shaft member, comes into contact with the shaft member when the valve body is sealed, and suppresses deformation of the shaft member.
2. The vacuum seal valve according to claim 1.
JP2023159320A 2023-09-25 2023-09-25 Vacuum Sealing Valve Active JP7670771B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023159320A JP7670771B2 (en) 2023-09-25 2023-09-25 Vacuum Sealing Valve

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023159320A JP7670771B2 (en) 2023-09-25 2023-09-25 Vacuum Sealing Valve

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2025050495A JP2025050495A (en) 2025-04-04
JP7670771B2 true JP7670771B2 (en) 2025-04-30

Family

ID=95213859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023159320A Active JP7670771B2 (en) 2023-09-25 2023-09-25 Vacuum Sealing Valve

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7670771B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007085460A (en) 2005-09-22 2007-04-05 Tdk Corp Gate valve and gate valve unit provided with the same
JP2022132826A (en) 2021-03-01 2022-09-13 株式会社エー・アンド・デイ Vacuum sealing valve connection mechanism
JP2022132825A (en) 2021-03-01 2022-09-13 株式会社エー・アンド・デイ vacuum sealing valve

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007085460A (en) 2005-09-22 2007-04-05 Tdk Corp Gate valve and gate valve unit provided with the same
JP2022132826A (en) 2021-03-01 2022-09-13 株式会社エー・アンド・デイ Vacuum sealing valve connection mechanism
JP2022132825A (en) 2021-03-01 2022-09-13 株式会社エー・アンド・デイ vacuum sealing valve

Also Published As

Publication number Publication date
JP2025050495A (en) 2025-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7598499B2 (en) Charged-particle exposure apparatus
JPH03234979A (en) gate valve
JP7670771B2 (en) Vacuum Sealing Valve
JP4063201B2 (en) Electron beam irradiation device
JP7638053B2 (en) Vacuum Sealing Valve
JPH0766768B2 (en) Surface analyzer using particle beam
JP5567088B2 (en) Vacuum holding valve and scanning electron microscope using the same
JP7670770B2 (en) Vacuum Sealing Valve
JP4980794B2 (en) Charged particle beam equipment
JP7584866B2 (en) Vacuum seal valve connection mechanism
JP2631594B2 (en) Gate valve
US20210053290A1 (en) Three-dimensional printing system with improved process chamber
WO2014069325A1 (en) Electron beam microscope apparatus
US5093578A (en) Valve device for a particle beam apparatus
JP2009016073A (en) Vacuum apparatus and its baking processing method
US8502163B2 (en) Charged particle beam device, vacuum valve therefor and operation thereof
GB2117495A (en) High speed vacuum gate valve
JP7505990B2 (en) Light source
JP2007287546A (en) Vacuum container and electron beam device
JP7137385B2 (en) gate valve
JP2002358920A (en) Charged particle beam device
JP7569461B1 (en) Alignment mechanism for electron gun and inspection method using said alignment mechanism
JP2001165333A (en) Gate valve
JP5716568B2 (en) Ion implanter
JP2000340153A (en) Charged particle beam equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250417

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7670771

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150