JP7675533B2 - Workpiece processing sheet - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウエハ等のワークの加工に使用されるワーク加工用シートに関するものである。 The present invention relates to a workpiece processing sheet used for processing workpieces such as semiconductor wafers.
シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハや各種パッケージ類は、大径の状態で製造され、チップに切断(ダイシング)され、剥離(ピックアップ)された後に、次の工程であるマウント工程に移される。この際、半導体ウエハ等のワークは、基材および粘着剤層を備える粘着シート(以下、「ワーク加工用シート」という場合がある。)上に積層された状態で、バックグラインド、ダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピックアップ、マウンティング等の加工が行われる。 Semiconductor wafers such as silicon and gallium arsenide and various packages are manufactured in a large diameter state, cut (diced) into chips, peeled off (picked up), and then moved to the next process, the mounting process. At this time, the workpieces such as semiconductor wafers are stacked on an adhesive sheet (hereinafter sometimes referred to as the "workpiece processing sheet") that has a base material and an adhesive layer, and are then processed, such as backgrinding, dicing, cleaning, drying, expanding, picking up, and mounting.
上述したピックアップの工程では、通常、ダイシングにより得られたチップが、吸引コレット等によって、ワーク加工用シートから個々に分離される。このとき、当該分離を行い易くするために、ピンやニードル等によって、ワーク加工用シートにおけるチップが積層された面とは反対の面からのチップの突き上げが行われる。 In the above-mentioned pick-up process, the chips obtained by dicing are usually individually separated from the workpiece processing sheet by a suction collet or the like. At this time, to facilitate this separation, the chips are pushed up by a pin or needle from the side of the workpiece processing sheet opposite the side on which the chips are stacked.
また、ワーク加工用シート上にてダイシングすることで得られたチップの集合体を、他のワーク加工用シート(ピックアップシート)に転写した後、当該ピックアップシートにてピックアップ工程が行われることもある。 In some cases, the collection of chips obtained by dicing on the workpiece processing sheet is transferred to another workpiece processing sheet (pickup sheet), and then the pick-up process is carried out on the pick-up sheet.
上記ピックアップや上記転写の際、ワーク加工用シートを構成する基材から粘着剤層が剥がれ、当該粘着剤層を構成する粘着剤がチップに付着する問題(糊残り)が生じることがある。このような糊残りは、基材が塩化ビニル系樹脂を主材とする場合に、特に生じ易い傾向がある。チップに粘着剤が付着したまま製品に組み込まれると、当該製品の性能に多大な悪影響を及ぼすため、糊残りの発生を抑制することが要求されている。 During the above pickup or transfer, the adhesive layer may peel off from the base material constituting the workpiece processing sheet, causing the adhesive constituting the adhesive layer to adhere to the chip (residual adhesive). This type of residual adhesive tends to occur particularly easily when the base material is primarily made of vinyl chloride resin. If the chip is incorporated into a product with the adhesive still attached, this has a significant adverse effect on the performance of the product, so there is a demand to suppress the occurrence of residual adhesive.
上述した糊残りの発生を抑制することを目的として、特許文献1には、塩化ビニルフィルム上に所定の粘着剤層を備える半導体加工用粘着テープが開示されている。また、特許文献2には、所定の軟質塩化ビニル樹脂フィルム基材上に所定の粘着剤を塗布してなる半導体ウエハ加工用粘着テープが開示されている。 With the aim of suppressing the occurrence of the above-mentioned adhesive residue, Patent Document 1 discloses an adhesive tape for semiconductor processing that has a specified adhesive layer on a polyvinyl chloride film. In addition, Patent Document 2 discloses an adhesive tape for semiconductor wafer processing that has a specified adhesive applied to a specified soft polyvinyl chloride resin film substrate.
しかしながら、特許文献1および2のような従来のワーク加工用シートを用いたとしても、糊残りの問題を十分に解決することはできない。そのため、糊残りの発生をさらに抑制することが可能なワーク加工用シートの開発が望まれている。 However, even if conventional workpiece processing sheets such as those disclosed in Patent Documents 1 and 2 are used, the problem of glue residue cannot be fully solved. Therefore, there is a need to develop a workpiece processing sheet that can further suppress the occurrence of glue residue.
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、糊残りの発生を良好に抑制することができるワーク加工用シートを提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a work processing sheet that effectively prevents glue residue from occurring.
上記目的を達成するために、第1に本発明は、基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、前記基材が、塩化ビニル系樹脂および安定剤を含有する樹脂組成物から形成された樹脂層を備え、前記安定剤が、炭素数が12以上且つ18未満の飽和脂肪酸金属塩および炭素数が12以上且つ20未満の不飽和脂肪酸金属塩の少なくとも1種を含むことを特徴とするワーク加工用シートを提供する(発明1)。 In order to achieve the above object, first, the present invention provides a work processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate, the substrate comprising a resin layer formed from a resin composition containing a vinyl chloride resin and a stabilizer, the stabilizer comprising at least one of a saturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 18 carbon atoms and an unsaturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 20 carbon atoms (Invention 1).
上記発明(発明1)に係るワーク加工用シートは、基材を形成するための樹脂組成物が、上述した炭素数を有する飽和脂肪酸金属塩または不飽和脂肪酸金属塩を安定剤として含有することにより、基材が塩化ビニル系樹脂を主材とするにもかかわらず、糊残りの発生を良好に抑制することができる。 The work processing sheet according to the above invention (Invention 1) contains a resin composition for forming the base material that contains a saturated fatty acid metal salt or an unsaturated fatty acid metal salt having the above-mentioned carbon number as a stabilizer, so that even though the base material is mainly made of vinyl chloride resin, the occurrence of residual glue can be effectively suppressed.
上記発明(発明1)において、前記樹脂組成物中における前記安定剤の含有量は、前記塩化ビニル系樹脂100質量部に対し、0.01質量部以上、8質量部以下であることが好ましい(発明2)。 In the above invention (Invention 1), the content of the stabilizer in the resin composition is preferably 0.01 parts by mass or more and 8 parts by mass or less per 100 parts by mass of the vinyl chloride resin (Invention 2).
上記発明(発明1,2)において、前記樹脂組成物は、可塑剤を含有することが好ましい(発明3)。 In the above inventions (Inventions 1 and 2), it is preferable that the resin composition contains a plasticizer (Invention 3).
上記発明(発明1~3)において、前記基材は、前記樹脂層単層からなることが好ましい(発明4)。 In the above inventions (Inventions 1 to 3), it is preferable that the substrate consists of a single resin layer (Invention 4).
上記発明(発明1~3)において、前記基材は複数層からなり、そのうちの少なくとも一層が前記樹脂層であることが好ましい(発明5)。 In the above inventions (Inventions 1 to 3), it is preferable that the substrate is made of multiple layers, at least one of which is the resin layer (Invention 5).
上記発明(発明1~5)において、前記粘着剤層は、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成されることが好ましい(発明6)。 In the above inventions (Inventions 1 to 5), it is preferable that the adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive (Invention 6).
上記発明(発明1~6)においては、ダイシングシートであることが好ましい(発明7)。 In the above inventions (Inventions 1 to 6), it is preferable that the sheet is a dicing sheet (Invention 7).
本発明に係るワーク加工用シートは、糊残りの発生を良好に抑制することができる。 The workpiece processing sheet of the present invention can effectively prevent glue residue from occurring.
以下、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態に係るワーク加工用シートは、基材と、当該基材における片面側に積層された粘着剤層とを備える。そして、当該基材は、塩化ビニル系樹脂および安定剤を含有する樹脂組成物から形成された樹脂層を備える。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
The workpiece processing sheet according to the present embodiment includes a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on one side of the substrate. The substrate includes a resin layer formed from a resin composition containing a vinyl chloride resin and a stabilizer.
ここで、本実施形態における基材は、上記樹脂層単層からなるものであってもよく、あるいは、複数層からなり、そのうちの少なくとも一層が上記樹脂層であってもよい。 Here, the substrate in this embodiment may be composed of a single layer of the resin layer, or may be composed of multiple layers, at least one of which is the resin layer.
本実施形態に係るワーク加工用シートにおいて、上記安定剤は、炭素数が12以上且つ18未満の飽和脂肪酸金属塩および炭素数が12以上且つ20未満の不飽和脂肪酸金属塩の少なくとも1種を含む。本実施形態に係るワーク加工用シートでは、安定剤として、これらの飽和脂肪酸金属塩および不飽和脂肪酸金属塩を使用することにより、ピックアップ時における糊残りの発生を効果的に抑制することができる。 In the workpiece processing sheet according to this embodiment, the stabilizer includes at least one of a saturated fatty acid metal salt having a carbon number of 12 or more and less than 18 and an unsaturated fatty acid metal salt having a carbon number of 12 or more and less than 20. In the workpiece processing sheet according to this embodiment, by using these saturated fatty acid metal salts and unsaturated fatty acid metal salts as stabilizers, the occurrence of glue residue during pick-up can be effectively suppressed.
このように糊残りの発生を抑制できる理由としては、限定されないものの、以下のことが考えられる。塩化ビニル系樹脂を主材として作製された基材では、その製膜時に必要となる加熱処理により、塩化ビニル系樹脂からの塩素の遊離が生じることがある。安定剤は、この遊離塩素を補足して、基材の劣化を抑制する目的で一般的に使用される。しかしながら、本発明者らは、従来の安定剤が基材内部から表面へ移行(ブリードアウト)し易く、このブリードアウトした安定剤が基材と粘着剤層との密着性を低下させ、糊残りを生じさせていることを発見した。一方、本実施形態における上述した飽和脂肪酸金属塩や不飽和脂肪酸金属塩はブリードアウトし難く、そのため、安定剤としての機能を十分に発揮しながら、基材と粘着剤層との密着性低下を生じさせず、糊残りの発生を良好に抑制することができる。 The reasons why the occurrence of adhesive residue can be suppressed in this way are thought to be, but are not limited to, the following. In a substrate made mainly of vinyl chloride resin, the heat treatment required for film formation can cause chlorine to be liberated from the vinyl chloride resin. Stabilizers are generally used to capture this free chlorine and suppress deterioration of the substrate. However, the inventors have discovered that conventional stabilizers tend to migrate (bleed out) from the inside of the substrate to the surface, and this bled-out stabilizer reduces the adhesion between the substrate and the adhesive layer, causing adhesive residue. On the other hand, the above-mentioned saturated fatty acid metal salt and unsaturated fatty acid metal salt in this embodiment are difficult to bleed out, and therefore, while fully exerting their function as stabilizers, they do not reduce the adhesion between the substrate and the adhesive layer, and can effectively suppress the occurrence of adhesive residue.
1.ワーク加工用シートの構成
(1)基材
本実施形態における基材は、前述の通り、塩化ビニル系樹脂および安定剤を含有する樹脂組成物から形成された樹脂層を備える。
1. Configuration of the Workpiece Processing Sheet (1) Substrate As described above, the substrate in this embodiment includes a resin layer formed from a resin composition containing a vinyl chloride resin and a stabilizer.
また、前述の通り、本実施形態における基材は、上記樹脂層単層からなるものであってもよく、あるいは、上記樹脂層を少なくとも一層備える複数層であってもよい。樹脂層単層からなる基材は、製造コストを抑える点で好ましい。一方、複数層からなる基材は、樹脂層に主に起因して得られる糊残り抑制効果と、樹脂層以外の層に起因して得られる所望の効果とを両立できる点で好ましい。 As described above, the substrate in this embodiment may be a single layer of the resin layer, or may be a multi-layer substrate having at least one of the resin layers. A substrate made of a single resin layer is preferable in terms of reducing manufacturing costs. On the other hand, a substrate made of multiple layers is preferable in terms of achieving both the adhesive transfer suppression effect mainly due to the resin layer and the desired effect due to layers other than the resin layer.
なお、基材が樹脂層以外の層を備える場合、当該層の材料は、当該層および基材の形成を可能するものである限り特に限定されない。 When the substrate has a layer other than the resin layer, the material of the layer is not particularly limited as long as it allows the formation of the layer and the substrate.
(1-1)塩化ビニル系樹脂
本実施形態における塩化ビニル系樹脂とは、-CH2-CHCl-で表される繰り返し単位を有するポリマー全てを意味し、塩化ビニルの単独重合体、エチレン-塩化ビニル共重合体等の塩化ビニルと重合性モノマーとの共重合体、塩素化塩化ビニル共重合体等の単独重合体または共重合体を改質したもの、さらには塩素化ポリエチレン等の構造上塩化ビニル樹脂と類似の塩素化ポリオレフィンを包含する。本実施形態における樹脂層を形成するための樹脂組成物中に含有される塩化ビニル系樹脂としては、特に限定されず、上述の樹脂のいずれを使用してもよい。上述した塩化ビニル系樹脂は、1種を単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
(1-1) Vinyl chloride resin In the present embodiment, the vinyl chloride resin means all polymers having a repeating unit represented by -CH 2 -CHCl-, and includes homopolymers of vinyl chloride, copolymers of vinyl chloride and polymerizable monomers such as ethylene-vinyl chloride copolymers, modified homopolymers or copolymers such as chlorinated vinyl chloride copolymers, and chlorinated polyolefins structurally similar to vinyl chloride resins such as chlorinated polyethylene. The vinyl chloride resin contained in the resin composition for forming the resin layer in the present embodiment is not particularly limited, and any of the above-mentioned resins may be used. The above-mentioned vinyl chloride resins may be used alone or in combination of two or more.
上記塩化ビニル系樹脂は、平均重合度の下限値が300以上であることが好ましく、800以上であることがより好ましい。また、上記塩化ビニル系樹脂は、平均重合度の上限値が2500以下であることが好ましく、2000以下であることがより好ましい。平均重合度が上記範囲にあることで、成形性、加工性に優れ、均一な薄層フイルムに加工し易くなる。ここで、塩化ビニル系樹脂の平均重合度とは、JISK6720-2:1999に準拠して測定される値である。 The vinyl chloride resin preferably has a lower limit of an average degree of polymerization of 300 or more, more preferably 800 or more. The vinyl chloride resin preferably has an upper limit of an average degree of polymerization of 2500 or less, more preferably 2000 or less. When the average degree of polymerization is within the above range, the resin has excellent moldability and processability, and can be easily processed into a uniform thin film. Here, the average degree of polymerization of the vinyl chloride resin is a value measured in accordance with JIS K6720-2:1999.
(1-2)安定剤
本実施形態における安定剤は、前述の通り、炭素数が12以上且つ18未満の飽和脂肪酸金属塩および炭素数が12以上且つ20未満の不飽和脂肪酸金属塩の少なくとも1種を含む。
(1-2) Stabilizer As described above, the stabilizer in this embodiment includes at least one of a saturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 18 carbon atoms and an unsaturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 20 carbon atoms.
炭素数が12以上且つ18未満の飽和脂肪酸金属塩を構成する飽和脂肪酸の例としては、ラウリル酸(炭素数12)、ミリスチン酸(炭素数14)、パルミチン酸(炭素数16)等が挙げられる。 Examples of saturated fatty acids that make up saturated fatty acid metal salts with 12 or more and less than 18 carbon atoms include lauric acid (12 carbon atoms), myristic acid (14 carbon atoms), palmitic acid (16 carbon atoms), etc.
炭素数が12以上且つ20未満の不飽和脂肪酸金属塩を構成する不飽和脂肪酸の例としては、ミリストレイン酸(炭素数14)、パルミトレイン酸(炭素数16)、オレイン酸(炭素数18)、エライジン酸(炭素数18)等が挙げられる。 Examples of unsaturated fatty acids that make up unsaturated fatty acid metal salts having 12 or more and less than 20 carbon atoms include myristoleic acid (14 carbon atoms), palmitoleic acid (16 carbon atoms), oleic acid (18 carbon atoms), and elaidic acid (18 carbon atoms).
上記飽和脂肪酸金属塩および上記不飽和脂肪酸金属塩を構成する金属の例としては、亜鉛、バリウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉛、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト等が挙げられる。 Examples of metals constituting the above-mentioned saturated fatty acid metal salts and the above-mentioned unsaturated fatty acid metal salts include zinc, barium, sodium, potassium, magnesium, calcium, aluminum, lead, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, cobalt, etc.
特に、本実施形態における上記飽和脂肪酸金属塩の好ましい例としては、ラウリル酸亜鉛およびパルミチン酸亜鉛が挙げられる。また、本実施形態における上記不飽和脂肪酸金属塩の好ましい例としては、オレイン酸亜鉛が挙げられる。 In particular, preferred examples of the saturated fatty acid metal salt in this embodiment include zinc laurate and zinc palmitate. In addition, preferred examples of the unsaturated fatty acid metal salt in this embodiment include zinc oleate.
なお、本実施形態における上記飽和脂肪酸金属塩および上記不飽和脂肪酸金属塩は、1種を単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。 In this embodiment, the saturated fatty acid metal salt and the unsaturated fatty acid metal salt may be used alone or in combination of two or more.
また、本実施形態における安定剤としては、上記飽和脂肪酸金属塩および上記不飽和脂肪酸金属塩とともに、その他の安定剤を使用してもよい。 In addition, in this embodiment, other stabilizers may be used in addition to the saturated fatty acid metal salt and the unsaturated fatty acid metal salt.
樹脂層を形成するための樹脂組成物中における安定剤の含有量は、塩化ビニル系樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上であることが好ましく、特に0.5質量部以上であることが好ましい。また、樹脂組成物中における安定剤の含有量は、塩化ビニル系樹脂100質量部に対して、8質量部以下であることが好ましく、特に5質量部以下であることが好ましい。安定剤の含有量が上記範囲であることにより、基材の劣化を十分に抑制しながら、糊残りの発生を効果的に抑制することができる。 The content of the stabilizer in the resin composition for forming the resin layer is preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.5 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the vinyl chloride resin. The content of the stabilizer in the resin composition is preferably 8 parts by mass or less, and more preferably 5 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the vinyl chloride resin. By keeping the content of the stabilizer within the above range, it is possible to effectively suppress the occurrence of adhesive residue while sufficiently suppressing deterioration of the substrate.
なお、あるワーク加工用シートを構成する基材が、上述したような飽和脂肪酸金属塩や不飽和脂肪酸金属塩を含有するか否かは、後述する試験例に記載の通り、基材を飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)により分析し、得られた質量スペクトルから確認することができる。特に、当該分析によれば、炭素数が16であるか18であるかといったことや、飽和脂肪酸であるか不飽和脂肪酸であるかといったことを明瞭に判断することができる。 Whether or not the base material constituting a certain work processing sheet contains the above-mentioned saturated fatty acid metal salt or unsaturated fatty acid metal salt can be confirmed from the mass spectrum obtained by analyzing the base material using time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) as described in the test example below. In particular, this analysis makes it possible to clearly determine whether the number of carbon atoms is 16 or 18, and whether the fatty acid is saturated or unsaturated.
(1-3)その他の成分
樹脂層を形成するための樹脂組成物は、上述した塩化ビニル系樹脂および安定剤以外のその他の成分を含有してもよい。特に、当該樹脂組成物には、一般的なワーク加工用シートの基材に用いられる成分を含有させてもよい。
(1-3) Other Components The resin composition for forming the resin layer may contain other components in addition to the vinyl chloride resin and stabilizer described above. In particular, the resin composition may contain components used in the base material of general workpiece processing sheets.
そのような成分の例としては、可塑剤、助剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、酸化防止剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤が挙げられる。これらの添加剤の含有量としては、特に限定されないものの、基材が所望の機能を発揮する範囲とすることが好ましい。 Examples of such components include various additives such as plasticizers, auxiliaries, pigments, antistatic agents, flame retardants, lubricants, antioxidants, infrared absorbers, and ultraviolet absorbers. The content of these additives is not particularly limited, but is preferably within a range in which the substrate exhibits the desired function.
中でも、樹脂層を形成するための樹脂組成物は、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤を含有することにより、基材が良好な柔軟性を有し易いものとなる。可塑剤の例としては、フタル酸、アジピン酸、ポリエステル等が挙げられる。 In particular, the resin composition for forming the resin layer preferably contains a plasticizer. By containing a plasticizer, the substrate is more likely to have good flexibility. Examples of plasticizers include phthalic acid, adipic acid, polyester, etc.
樹脂層を形成するための樹脂組成物が可塑剤を含有する場合、当該樹脂組成物中における可塑剤の含有量は、塩化ビニル系樹脂100質量部に対して、18質量部以上であることが好ましく、特に25質量部以上であることが好ましい。また、樹脂組成物中における可塑剤の含有量は、塩化ビニル系樹脂100質量部に対して、60質量部以下であることが好ましく、特に55質量部以下であることが好ましい。可塑剤の含有量が上記範囲であることにより、基材が良好な柔軟性を有し易いものとなる。 When the resin composition for forming the resin layer contains a plasticizer, the content of the plasticizer in the resin composition is preferably 18 parts by mass or more, and more preferably 25 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the vinyl chloride resin. The content of the plasticizer in the resin composition is preferably 60 parts by mass or less, and more preferably 55 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the vinyl chloride resin. By having the plasticizer content in the above range, the substrate tends to have good flexibility.
(1-4)基材の表面処理
基材における粘着剤層が積層される面には、当該粘着剤層との密着性を高めるために、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、粗面化処理(マット加工)等の表面処理が施されてもよい。粗面化処理としては、例えば、エンボス加工法、サンドブラスト加工法等が挙げられる。これらの中でも、エンボス加工を施すことが好ましい。
(1-4) Surface Treatment of Substrate The surface of the substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated may be subjected to a surface treatment such as a primer treatment, a corona treatment, a plasma treatment, a roughening treatment (matt processing), etc., in order to enhance adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the roughening treatment include an embossing method and a sandblasting method. Among these, embossing is preferred.
(1-5)基材の製法
本実施形態における基材の製造方法は、前述した樹脂組成物を用いる限り、特に限定されず、例えば、Tダイ法、丸ダイ法等の溶融押出法;カレンダー法;乾式法、湿式法等の溶液法などを使用することができる。これらの中でも、効率良く基材を製造する観点から、溶融押出法を採用することが好ましく、特にTダイ法を採用することが好ましい。
(1-5) Method for Producing Substrate The method for producing the substrate in this embodiment is not particularly limited as long as the above-mentioned resin composition is used, and for example, melt extrusion methods such as the T-die method and the round die method, calendar method, solution method such as the dry method and the wet method, etc. can be used. Among these, from the viewpoint of efficiently producing the substrate, it is preferable to adopt the melt extrusion method, and it is particularly preferable to adopt the T-die method.
単層の樹脂層のみからなる基材を溶融押出法により製造する場合、樹脂組成物を混練し、得られた混練物から直接、または一旦ペレットを製造したのち、公知の押出機を用いて製膜すればよい。この場合、押出機によって押し出した直後に、クーリングロール等を用いて直ちに室温に冷却することが、前述した結晶化度を達成し易いという観点から好ましい。 When a substrate consisting of only a single resin layer is manufactured by melt extrusion, the resin composition is kneaded, and the resulting kneaded product is either directly produced or pelletized and then formed into a film using a known extruder. In this case, it is preferable to immediately cool the film to room temperature using a cooling roll or the like immediately after extrusion using the extruder, from the viewpoint of making it easier to achieve the above-mentioned degree of crystallinity.
また、複数層からなる基材を溶融押出法により製造する場合、各層を構成する成分をそれぞれ混練し、得られた混練物から直接、または一旦ペレットを製造したのち、公知の押出機を用いて、複数層を同時に押し出して製膜すればよい。この場合も、上記と同様に、前述した結晶化度を達成し易いという観点から、押し出し直後に直ちに室温に冷却することが好ましい。 When a multi-layer substrate is manufactured by melt extrusion, the components constituting each layer are mixed and then the resulting mixture is extruded directly or after pellets are first produced, using a known extruder to simultaneously extrude the layers to form a film. In this case, too, it is preferable to immediately cool the extrusion to room temperature from the viewpoint of making it easier to achieve the above-mentioned degree of crystallinity.
(1-6)基材の厚さ
本実施形態における基材の厚さは、25μm以上であることが好ましく、特に50μm以上であることが好ましい。また、基材の厚さは、200μm以下であることが好ましく、特に150μm以下であることが好ましい。基材の厚さが25μm以上であることで、ワーク加工用シートが適度な強度を有し易いものとなり、ワーク加工用シート上に固定されるワークを良好に支持し易いものとなる。また、基材11の厚さが200μm以下であることで、ワーク加工用シートの厚さが良好な柔軟性を有するものとなり、例えばエキスパンドを良好に行い易いものとなる。
(1-6) Thickness of the substrate In this embodiment, the thickness of the substrate is preferably 25 μm or more, particularly preferably 50 μm or more. The thickness of the substrate is preferably 200 μm or less, particularly preferably 150 μm or less. By making the thickness of the substrate 25 μm or more, the workpiece processing sheet is likely to have a moderate strength, and the workpiece fixed on the workpiece processing sheet is likely to be well supported. In addition, by making the thickness of the substrate 11 200 μm or less, the thickness of the workpiece processing sheet is likely to have good flexibility, and for example, it is likely to be easily expanded.
(2)粘着剤層
本実施形態における粘着剤層を構成する粘着剤としては、被着体に対する十分な粘着力(特に、ワークの加工を行うために十分となるような対ワーク粘着力)を発揮することができる限り、特に限定されない。粘着剤層を構成する粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、所望の粘着力を発揮し易いという観点から、アクリル系粘着剤を使用することが好ましい。
(2) Adhesive Layer The adhesive constituting the adhesive layer in this embodiment is not particularly limited as long as it can exert sufficient adhesive strength to the adherend (particularly, sufficient adhesive strength to the workpiece for processing the workpiece). Examples of adhesives constituting the adhesive layer include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyester adhesives, polyvinyl ether adhesives, etc. Among these, it is preferable to use acrylic adhesives from the viewpoint of easily exerting the desired adhesive strength.
本実施形態における粘着剤層を構成する粘着剤は、活性エネルギー線硬化性を有しない粘着剤であってもよいものの、活性エネルギー線硬化性を有する粘着剤(以下、「活性エネルギー線硬化性粘着剤」という場合がある。)であることが好ましい。粘着剤層が活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成されていることで、活性エネルギー線の照射により粘着剤層を硬化させて、ワーク加工用シートの被着体に対する粘着力を容易に低下させることができる。特に、活性エネルギー線の照射によって、加工後のワークを当該ワーク加工用シートから容易に分離することが可能となる。 The adhesive constituting the adhesive layer in this embodiment may be an adhesive that does not have active energy ray curing properties, but is preferably an adhesive that has active energy ray curing properties (hereinafter, may be referred to as an "active energy ray curable adhesive"). Since the adhesive layer is composed of an active energy ray curable adhesive, the adhesive layer can be cured by irradiation with active energy rays, and the adhesive strength of the workpiece processing sheet to the adherend can be easily reduced. In particular, irradiation with active energy rays makes it possible to easily separate the processed workpiece from the workpiece processing sheet.
粘着剤層を構成する活性エネルギー線硬化性粘着剤としては、活性エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とするものであってもよいし、活性エネルギー線非硬化性ポリマー(活性エネルギー線硬化性を有しないポリマー)と少なくとも1つ以上の活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。また、活性エネルギー線硬化性粘着剤は、活性エネルギー線硬化性を有するポリマーと、少なくとも1つ以上の活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物であってもよい。 The active energy ray curable adhesive constituting the adhesive layer may be one whose main component is a polymer having active energy ray curability, or may be one whose main component is a mixture of a non-active energy ray curable polymer (a polymer not having active energy ray curability) and a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray curable group. The active energy ray curable adhesive may also be a mixture of a polymer having active energy ray curability and a monomer and/or oligomer having at least one active energy ray curable group.
上記活性エネルギー線硬化性を有するポリマーは、側鎖に活性エネルギー線硬化性を有する官能基(活性エネルギー線硬化性基)が導入された(メタ)アクリル酸エステル重合体(以下「活性エネルギー線硬化性重合体」という場合がある。)であることが好ましい。この活性エネルギー線硬化性重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系重合体と、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物とを反応させて得られるものであることが好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語も同様である。さらに、「重合体」には「共重合体」の概念も含まれるものとする。 The active energy ray curable polymer is preferably a (meth)acrylic acid ester polymer (hereinafter sometimes referred to as an "active energy ray curable polymer") having a functional group (active energy ray curable group) having active energy ray curability introduced into the side chain. This active energy ray curable polymer is preferably obtained by reacting an acrylic polymer having a functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound having a functional group bonded to the functional group. In this specification, (meth)acrylic acid means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms. Furthermore, the concept of "copolymer" is also included in "polymer".
上述した官能基含有モノマー単位を有するアクリル系重合体は、官能基含有モノマーとともに、その他のモノマーを重合させてなるものであってよい。このような官能基含有モノマーおよびその他のモノマー、ならびに上述した不飽和基含有化合物としては、公知のものを使用することができ、例えば国際公開第2018/084021号に開示されるものを使用することができる。 The acrylic polymer having the functional group-containing monomer unit described above may be obtained by polymerizing other monomers together with the functional group-containing monomer. As such functional group-containing monomers and other monomers, as well as the unsaturated group-containing compounds described above, known compounds can be used, and for example, those disclosed in WO 2018/084021 can be used.
上記活性エネルギー線硬化性重合体の重量平均分子量は、1万以上であることが好ましく、特に15万以上であることが好ましく、さらには20万以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は、150万以下であることが好ましく、特に100万以下であることが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The weight average molecular weight of the active energy radiation curable polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more. The weight average molecular weight is preferably 1,500,000 or less, and even more preferably 1,000,000 or less. In this specification, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of standard polystyrene.
上述した活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分としては、例えば、不飽和基含有化合物を反応させる前の上記アクリル系重合体を使用することができる。 As the above-mentioned active energy ray non-curable polymer component, for example, the above-mentioned acrylic polymer before reacting with the unsaturated group-containing compound can be used.
上記活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分としてのアクリル系重合体の重量平均分子量は、1万以上であることが好ましく、特に15万以上であることが好ましく、さらには20万以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は、150万以下であることが好ましく、特に100万以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer as the non-curable polymer component is preferably 10,000 or more, more preferably 150,000 or more, and even more preferably 200,000 or more. The weight average molecular weight is preferably 1,500,000 or less, and even more preferably 1,000,000 or less.
また、上述した少なくとも1つ以上の活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル等を使用することができる。 As the monomer and/or oligomer having at least one active energy ray-curable group, for example, an ester of a polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid can be used.
なお、活性エネルギー線硬化性粘着剤を硬化させるための活性エネルギー線として紫外線を用いる場合には、当該粘着剤に対して、光重合開始剤を添加することが好ましい。また、当該粘着剤には、活性エネルギー線非硬化性ポリマー成分またはオリゴマー成分や、架橋剤等を添加してもよい。 When ultraviolet light is used as the active energy ray for curing the active energy ray-curable adhesive, it is preferable to add a photopolymerization initiator to the adhesive. In addition, the adhesive may be added with an active energy ray non-curable polymer component or oligomer component, a crosslinking agent, etc.
本実施形態における粘着剤層の厚さは、1μm以上であることが好ましく、特に3μm以上であることが好ましく、さらには5μm以上であることが好ましい。また、粘着剤層の厚さは、70μm以下であることが好ましく、特に30μm以下であることが好ましく、さらには10μm以下であることが好ましい。粘着剤層の厚さが上述した範囲であることで、本実施形態に係るワーク加工用シートが所望の粘着性を発揮し易いものとなる。 In this embodiment, the thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and even more preferably 5 μm or more. In addition, the thickness of the adhesive layer is preferably 70 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. By having the thickness of the adhesive layer within the above-mentioned range, the work processing sheet according to this embodiment is more likely to exhibit the desired adhesiveness.
(3)剥離シート
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材とは反対側の面(以下、「粘着面」という場合がある。)をワークに貼付するまでの間、当該面を保護する目的で、当該面に剥離シートが積層されていてもよい。
(3) Release sheet In the workpiece processing sheet according to this embodiment, a release sheet may be laminated to the side of the adhesive layer opposite the substrate (hereinafter sometimes referred to as the "adhesive side") in order to protect said side until it is attached to the workpiece.
上記剥離シートの構成は任意であり、プラスチックフィルムを剥離剤等により剥離処理したものが例示される。当該プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。上記剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等を用いることができ、これらの中でも、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。 The release sheet may have any configuration, and may be, for example, a plastic film that has been subjected to a release treatment using a release agent or the like. Specific examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. The release agent may be silicone-based, fluorine-based, or long-chain alkyl-based, and among these, silicone-based agents are preferred because they are inexpensive and provide stable performance.
上記剥離シートの厚さについては特に制限はなく、例えば、20μm以上、250μm以下であってよい。 There are no particular limitations on the thickness of the release sheet, and it may be, for example, 20 μm or more and 250 μm or less.
(4)その他
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材とは反対側の面に接着剤層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。当該シートでは、接着剤層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに接着剤層をダイシングすることで、個片化された接着剤層が積層されたチップを得ることができる。当該チップは、この個片化された接着剤層によって、当該チップが搭載される対象に対して容易に固定することが可能となる。上述した接着剤層を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と低分子量の熱硬化性接着成分とを含有するものや、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分を含有するもの等を用いることが好ましい。
(4) Others In the workpiece processing sheet according to this embodiment, an adhesive layer may be laminated on the surface of the adhesive layer opposite to the substrate. In this case, the workpiece processing sheet according to this embodiment can be used as a dicing/die bonding sheet. In this sheet, a workpiece is attached to the surface of the adhesive layer opposite to the adhesive layer, and the adhesive layer is diced together with the workpiece to obtain a chip on which the individualized adhesive layer is laminated. The individualized adhesive layer makes it possible for the chip to be easily fixed to the object on which the chip is mounted. As the material constituting the above-mentioned adhesive layer, it is preferable to use one containing a thermoplastic resin and a low molecular weight thermosetting adhesive component, one containing a B-stage (semi-cured) thermosetting adhesive component, or the like.
また、本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における粘着面に保護膜形成層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。このようなシートでは、保護膜形成層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに保護膜形成層をダイシングすることで、個片化された保護膜形成層が積層されたチップを得ることができる。当該ワークとしては、片面に回路が形成されたものが使用されることが好ましく、この場合、通常、当該回路が形成された面とは反対側の面に保護膜形成層が積層される。個片化された保護膜形成層は、所定のタイミングで硬化させることで、十分な耐久性を有する保護膜をチップに形成することができる。保護膜形成層は、未硬化の硬化性接着剤からなることが好ましい。 In addition, in the workpiece processing sheet according to this embodiment, a protective film forming layer may be laminated on the adhesive surface of the adhesive layer. In this case, the workpiece processing sheet according to this embodiment can be used as a sheet for forming a protective film and dicing. In such a sheet, a workpiece is attached to the surface of the protective film forming layer opposite to the adhesive layer, and the protective film forming layer is diced together with the workpiece to obtain a chip on which an individualized protective film forming layer is laminated. As the workpiece, it is preferable to use one having a circuit formed on one side, and in this case, the protective film forming layer is usually laminated on the surface opposite to the surface on which the circuit is formed. The individualized protective film forming layer can be cured at a predetermined timing to form a protective film having sufficient durability on the chip. The protective film forming layer is preferably made of an uncured curable adhesive.
2.ワーク加工用シートの製造方法
本実施形態に係るワーク加工用シートの製造方法は特に限定されない。例えば、剥離シート上に粘着剤層を形成した後、当該粘着剤層における剥離シートとは反対側の面に基材の片面を積層することで、ワーク加工用シートを得ることが好ましい。
2. Manufacturing method of the workpiece processing sheet The manufacturing method of the workpiece processing sheet according to the present embodiment is not particularly limited. For example, it is preferable to obtain the workpiece processing sheet by forming an adhesive layer on a release sheet, and then laminating one side of a substrate on the side of the adhesive layer opposite to the release sheet.
上述した粘着剤層の形成は、公知の方法により行うことができる。例えば、粘着剤層を形成するための粘着性組成物、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗布液を調製する。そして、剥離シートの剥離性を有する面(以下、「剥離面」という場合がある。)に上記塗布液を塗布する。続いて、得られた塗膜を乾燥させることで、粘着剤層を形成することができる。 The above-mentioned adhesive layer can be formed by a known method. For example, a coating liquid containing an adhesive composition for forming the adhesive layer and, if desired, a solvent or dispersion medium is prepared. Then, the coating liquid is applied to the releasable surface of the release sheet (hereinafter, sometimes referred to as the "release surface"). The resulting coating film is then dried to form the adhesive layer.
上述した塗布液の塗布は公知の方法により行うことができ、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等により行うことができる。なお、塗布液は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。また、剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、被着体に貼付するまでの間、粘着剤層を保護していてもよい。 The coating of the coating liquid described above can be carried out by a known method, such as bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, gravure coating, etc. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as it can be applied, and the liquid may contain the components for forming the adhesive layer as a solute or as a dispersoid. The release sheet may be peeled off as a processing material, or may protect the adhesive layer until it is applied to the adherend.
粘着剤層を形成するための粘着性組成物が前述した架橋剤を含有する場合には、上記の乾燥の条件(温度、時間など)を変えることにより、または加熱処理を別途設けることにより、塗膜内のポリマー成分と架橋剤との架橋反応を進行させ、粘着剤層内に所望の存在密度で架橋構造を形成することが好ましい。さらに、上述した架橋反応を十分に進行させるために、粘着剤層と基材とを貼り合わせた後、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行ってもよい。 When the adhesive composition for forming the adhesive layer contains the above-mentioned crosslinking agent, it is preferable to advance the crosslinking reaction between the polymer component in the coating film and the crosslinking agent by changing the above-mentioned drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately providing a heat treatment, and form a crosslinked structure with the desired density in the adhesive layer. Furthermore, in order to advance the above-mentioned crosslinking reaction sufficiently, after laminating the adhesive layer and the substrate, curing may be performed, for example by leaving the adhesive layer to stand for several days in an environment of 23°C and a relative humidity of 50%.
3.ワーク加工用シートの使用方法
本実施形態に係るワーク加工用シートは、半導体ウエハ等のワークの加工のために使用することができる。すなわち、本実施形態に係るワーク加工用シートの粘着面をワークに貼付した後、ワーク加工用シート上にてワークの加工を行うことができる。当該加工に応じて、本実施形態に係るワーク加工用シートは、バックグラインドシート、ダイシングシート、エキスパンドシート、ピックアップシート等として使用されることとなる。ここで、ワークの例としては、半導体ウエハ、半導体パッケージ等の半導体部材、ガラス板等のガラス部材が挙げられる。
3. Method of using the workpiece processing sheet The workpiece processing sheet according to this embodiment can be used for processing a workpiece such as a semiconductor wafer. That is, after the adhesive surface of the workpiece processing sheet according to this embodiment is attached to the workpiece, the workpiece can be processed on the workpiece processing sheet. Depending on the processing, the workpiece processing sheet according to this embodiment can be used as a back grinding sheet, a dicing sheet, an expanding sheet, a pick-up sheet, or the like. Here, examples of the workpiece include semiconductor members such as semiconductor wafers and semiconductor packages, and glass members such as glass plates.
本実施形態に係るワーク加工用シートは、前述した通り、ダイシングによって個片化したワーク(チップ等)をピックアップする際に、糊残りの発生を良好に抑制することができる。そのため、本実施形態に係るワーク加工用シートは、上述したワーク加工用シートの中でも、特にダイシングシート、エキスパンドシートおよびピックアップシートとして使用することが好適である。 As described above, the workpiece processing sheet according to this embodiment can effectively prevent glue residue from occurring when picking up workpieces (chips, etc.) that have been diced into individual pieces. Therefore, the workpiece processing sheet according to this embodiment is particularly suitable for use as a dicing sheet, expand sheet, and pick-up sheet among the above-mentioned workpiece processing sheets.
なお、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した接着剤層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。さらに、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した保護膜形成層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。 When the workpiece processing sheet according to this embodiment has the adhesive layer described above, the workpiece processing sheet can be used as a dicing/die bonding sheet. Furthermore, when the workpiece processing sheet according to this embodiment has the protective film forming layer described above, the workpiece processing sheet can be used as a protective film forming/dicing sheet.
また、本実施形態に係るワーク加工用シートにおける粘着剤層が、前述した活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成される場合には、使用の際に、次のような活性エネルギー線の照射することも好ましい。すなわち、ワーク加工用シート上にてワークの加工が完了し、加工後のワークをワーク加工用シートから分離する場合に、当該分離の前に粘着剤層に対して活性エネルギー線を照射することが好ましい。これにより、粘着剤層が硬化して、加工後のワークに対する粘着シートの粘着力が良好に低下し、加工後のワークの分離が容易となる。 In addition, when the adhesive layer in the workpiece processing sheet according to this embodiment is composed of the above-mentioned active energy ray curable adhesive, it is also preferable to irradiate the adhesive layer with active energy rays during use as follows. That is, when the processing of the workpiece is completed on the workpiece processing sheet and the processed workpiece is to be separated from the workpiece processing sheet, it is preferable to irradiate the adhesive layer with active energy rays before the separation. This hardens the adhesive layer, effectively reducing the adhesive force of the adhesive sheet to the processed workpiece, making it easier to separate the processed workpiece.
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The above-described embodiments are described to facilitate understanding of the present invention, and are not described to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiments is intended to include all design modifications and equivalents that fall within the technical scope of the present invention.
例えば、本実施形態に係るワーク加工用シートにおける基材と粘着剤層との間、または基材における粘着剤層とは反対側の面には、他の層が積層されていてもよい。 For example, another layer may be laminated between the substrate and the adhesive layer in the workpiece processing sheet according to this embodiment, or on the surface of the substrate opposite the adhesive layer.
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.
〔実施例1〕
(1)基材の作製
塩化ビニル系樹脂(大洋塩ビ社製,製品名「TH-1000」,平均重合度:1000)100質量部(固形分換算値,以下同じ)と、可塑剤としてのテレフタル酸ジ(2-エチルヘキシル)(テレフタル酸エステル系可塑剤,ADEKA社製,製品名「アデカサイザーD-810」,分子量:391)30質量部と、安定剤としてのラウリル酸亜鉛(炭素数12の飽和脂肪酸金属塩,日東化成工業社製,製品名「ラウリル酸亜鉛」)2.5質量部と、その他の安定剤としてのバリウム系安定剤0.3質量部とを、180℃にてバンバリーミキサーを用いて混練した。得られた混錬物をカレンダーロールで圧延することにより、厚さ80μmのシート状の基材を得た。
Example 1
(1) Preparation of substrate 100 parts by mass (solid content equivalent, hereinafter the same) of vinyl chloride resin (manufactured by Taiyo Vinyl, product name "TH-1000", average polymerization degree: 1000), 30 parts by mass of di(2-ethylhexyl) terephthalate (terephthalic acid ester plasticizer, manufactured by ADEKA, product name "Adeka Cizer D-810", molecular weight: 391) as a plasticizer, 2.5 parts by mass of zinc laurate (saturated fatty acid metal salt having 12 carbon atoms, manufactured by Nitto Kasei Kogyo, product name "zinc laurate") as a stabilizer, and 0.3 parts by mass of barium stabilizer as other stabilizers were kneaded using a Banbury mixer at 180 ° C. The obtained kneaded product was rolled with a calendar roll to obtain a sheet-like substrate having a thickness of 80 μm.
(2)粘着性組成物の調製
アクリル酸2-エチルヘキシル19質量部と、酢酸ビニル75質量部と、アクリル酸1質量部と、メタクリル酸メチル5質量部と、アクリル酸2-ヒドロキシエチル19質量部とを、溶液重合法により重合させて、(メタ)アクリル酸エステル重合体(活性エネルギー線硬化性を有しないポリマー)を得た。この(メタ)アクリル酸エステル重合体の重量平均分子量(Mw)を後述の方法によって測定したところ、17万であった。
(2) Preparation of adhesive composition 19 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 75 parts by mass of vinyl acetate, 1 part by mass of acrylic acid, 5 parts by mass of methyl methacrylate, and 19 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were polymerized by solution polymerization to obtain a (meth)acrylic acid ester polymer (a polymer not curable with active energy rays). The weight average molecular weight (Mw) of this (meth)acrylic acid ester polymer was measured by the method described below and was found to be 170,000.
上記(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(TDI-TMP)を含む組成物(東ソー社製,製品名「コロネートL」)3質量部と、光重合開始剤としての2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(BASF社製,製品名「オムニラッド651」)5.1質量部と、活性エネルギー線硬化性基を有するモノマーとしての2官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量:11000)および6官能ウレタンアクリレート(重量平均分子量:1500)の混合物(混合質量比1:1)63.4質量部とを、溶媒としてのトルエン中で混合し、粘着性組成物の塗布液(固形分濃度:37質量%)を得た。 100 parts by mass of the above (meth)acrylic acid ester polymer, 3 parts by mass of a composition containing trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (TDI-TMP) as a crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, product name "Coronate L"), 5.1 parts by mass of 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (manufactured by BASF, product name "Omnirad 651") as a photopolymerization initiator, and 63.4 parts by mass of a mixture (mixed mass ratio 1:1) of a bifunctional urethane acrylate (weight average molecular weight: 11,000) and a hexafunctional urethane acrylate (weight average molecular weight: 1,500) as monomers having active energy ray-curable groups were mixed in toluene as a solvent to obtain a coating solution of an adhesive composition (solid concentration: 37% by mass).
(3)粘着剤層の形成
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる剥離シート(リンテック社製,製品名「SP-PET381031」)の剥離面に対して、上記工程(2)で得られた粘着性組成物の塗布液を塗布し、加熱により乾燥させることで、剥離シート上に、厚さ10μmの粘着剤層が形成されてなる積層体を得た。
(3) Formation of Adhesive Layer The coating solution of the adhesive composition obtained in the above step (2) was applied to the release surface of a release sheet (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031") consisting of a 38 μm-thick polyethylene terephthalate film having a silicone-based release agent layer formed on one side thereof, and the resulting mixture was dried by heating to obtain a laminate consisting of a 10 μm-thick adhesive layer formed on the release sheet.
(4)ワーク加工用シートの作製
上記工程(1)で得られた基材の片面に対してコロナ処理を行った。その後、基材のコロナ処理を行った面と、上記工程(3)で得られた積層体における粘着剤層側の面とを貼り合わせることで、ワーク加工用シートを得た。
(4) Preparation of workpiece processing sheet One side of the substrate obtained in the above step (1) was subjected to corona treatment. Then, the corona-treated side of the substrate and the side of the adhesive layer of the laminate obtained in the above step (3) were bonded together to obtain a workpiece processing sheet.
(5)重量平均分子量の測定方法の算出方法
前述した重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定(GPC測定)した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。
<測定条件>
・測定装置:東ソー社製,HLC-8320
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK gel superH-H
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
(5) Calculation method for measuring weight average molecular weight The weight average molecular weight (Mw) described above is a weight average molecular weight calculated in terms of standard polystyrene, measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions (GPC measurement).
<Measurement conditions>
Measuring device: Tosoh Corporation, HLC-8320
GPC columns (passed in the following order): TSK gel super H-H manufactured by Tosoh Corporation
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
Measurement solvent: tetrahydrofuran Measurement temperature: 40°C
〔実施例2~3,比較例1~3〕
基材作製時に使用した可塑剤および安定剤の種類および含有量を表1に記載の通りに変更した以外、実施例1と同様にしてワーク加工用シートを得た。
[Examples 2 to 3, Comparative Examples 1 to 3]
A workpiece processing sheet was obtained in the same manner as in Example 1, except that the types and contents of the plasticizer and stabilizer used in preparing the substrate were changed as shown in Table 1.
〔試験例1〕(基材のTOF-SIMS評価)
実施例および比較例で作製した基材について、飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)により、質量スペクトルを取得し、含有される脂肪酸金属塩の種類について確認した。
[Test Example 1] (TOF-SIMS evaluation of substrate)
For the substrates produced in the examples and comparative examples, mass spectra were obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) to confirm the types of fatty acid metal salts contained therein.
具体的には、測定装置としてION-TOF社製の製品名「TOF.SIMS5」を用い、1次イオンとしてBi3 ++を使用し、1次イオン加速電圧を30kVとし、ラスターサイズを300μmとし、2次イオン極性は正および負にて分析を行った。得られた質量スペクトルから、炭素数16の飽和脂肪酸金属塩、炭素数18の飽和脂肪酸金属塩、炭素数16の不飽和脂肪酸金属塩および炭素数18の不飽和脂肪酸金属塩のいずれかのピークが検出されるか確認した。。結果を表2に示す。 Specifically, the analysis was performed using a measuring device manufactured by ION-TOF, product name "TOF.SIMS5", using Bi3 ++ as the primary ion, a primary ion acceleration voltage of 30 kV, a raster size of 300 μm, and positive and negative secondary ion polarities. It was confirmed whether any peaks of a saturated fatty acid metal salt with 16 carbon atoms, a saturated fatty acid metal salt with 18 carbon atoms, an unsaturated fatty acid metal salt with 16 carbon atoms, or an unsaturated fatty acid metal salt with 18 carbon atoms were detected from the obtained mass spectrum. The results are shown in Table 2.
〔試験例2〕(切削片抑制の評価)
実施例および比較例で製造したワーク加工用シートから剥離シートを剥離した後、テープマウンター(リンテック社製,製品名「RAD2500m/12」)を用いて、露出した粘着剤層の露出面を、8インチのシリコンウエハの片面に貼付した。続いて、ワーク加工用シートにおける上記露出面の周縁部(シリコンウエハとは重ならない位置)に、ダイシング用リングフレームを付着させた。さらに、リングフレームの外径に合わせてワーク加工用シートを裁断した。
[Test Example 2] (Evaluation of Cutting Chip Suppression)
After peeling off the release sheet from the workpiece processing sheet produced in the examples and comparative examples, the exposed surface of the exposed adhesive layer was attached to one side of an 8-inch silicon wafer using a tape mounter (manufactured by Lintec Corporation, product name "RAD2500m/12"). Next, a dicing ring frame was attached to the periphery of the exposed surface of the workpiece processing sheet (at a position that does not overlap with the silicon wafer). Furthermore, the workpiece processing sheet was cut to fit the outer diameter of the ring frame.
その後、ダイシング装置(ディスコ社製,製品名「DFD6362」)を用いて、以下のダイシング条件でダイシングを行うことで、シリコンウエハを、1.mm×1.0mmのサイズを有するチップに個片化した。
ダイシング条件
ウエハの厚さ:350μm
ダイシング装置:ディスコ社製,製品名「DFD-6362」
ブレード:ディスコ社製,製品名「ZH05-SD2000-N1-90CC」
ブレード回転数:30000rpm
切削速度:100mm/sec
ブレードハイト:0.060mm
切削水量:1.0L/min
切削水温度:20℃
Thereafter, the silicon wafer was diced into individual chips having a size of 1.0 mm×1.0 mm by dicing under the following dicing conditions using a dicing device (manufactured by Disco Corporation, product name “DFD6362”).
Dicing conditions Wafer thickness: 350 μm
Dicing device: Disco Corporation, product name "DFD-6362"
Blade: Disco, product name "ZH05-SD2000-N1-90CC"
Blade rotation speed: 30,000 rpm
Cutting speed: 100mm/sec
Blade height: 0.060 mm
Cutting water amount: 1.0L/min
Cutting water temperature: 20℃
ダイシング後、ワーク加工用シートにおける基材側の面に対し、紫外線照射装置(リンテック社製,製品名「RAD-2000m12」)を用いて、紫外線(UV)を照射(照度:230mW/cm2,光量:190mJ/cm2)し、粘着剤層を硬化させた。 After dicing, the substrate side surface of the workpiece processing sheet was irradiated with ultraviolet light (UV) (illuminance: 230 mW/cm 2 , light quantity: 190 mJ/cm 2 ) using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Lintec Corporation, product name "RAD-2000m12") to harden the adhesive layer.
次いで、ピックアップ装置を用いて、常温下で、エキスパンド量3mmにてワーク加工用シートをエキスパンドさせながら、突き上げ高さ300μm、突き上げ速度20mm/秒にて、ニードルを用いてチップの突き上げを行った。そして、当該突き上げと同時に、10mm×10mmのサイズのコレットでワーク加工用シートからチップを分離した。これらの操作を10回繰り返し、分離した10個のチップにおける、ワーク加工用シートが貼付されていた面について、目視にて粘着剤の付着の有無を確認し、以下の基準について、糊残りの評価を行った。結果を表2に示す。
○:10個全てのチップについて、粘着剤が付着していなかった。
×:少なくとも1個のチップについて、粘着剤が付着していた。
Next, using a pickup device, the workpiece processing sheet was expanded at room temperature with an expansion amount of 3 mm, while the chip was pushed up using a needle at a push-up height of 300 μm and a push-up speed of 20 mm/sec. Then, simultaneously with the push-up, the chip was separated from the workpiece processing sheet with a collet of 10 mm x 10 mm in size. These operations were repeated 10 times, and the presence or absence of adhesive adhesion was visually confirmed for the surfaces of the separated 10 chips to which the workpiece processing sheet was attached, and the adhesive residue was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 2.
A: No adhesive was attached to any of the 10 chips.
x: Adhesive was found to be attached to at least one chip.
なお、表1に記載の化合物の詳細は以下の通りである。
〔可塑剤〕
テレフタル酸ジ(2-エチルヘキシル):ADEKA社製,製品名「アデカサイザーD-810」,分子量:391
アジピン酸ポリエステル:ADEKA社製,製品名「アデカサイザーPN―7160」,平均分子量:800,可塑化効率値:1.00
アジピン酸イソノニル:新日本理化社製,製品名「サンソサイザーDINA」,分子量:398
〔安定剤〕
ラウリル酸亜鉛:炭素数12の飽和脂肪酸金属塩,日東化成工業社製,製品名「ラウリル酸亜鉛」
オレイン酸亜鉛:炭素数18の不和脂肪酸金属塩,三津和化学薬品社製,製品名「オレイン酸亜鉛」
:パルミチン酸亜鉛:炭素数16の飽和脂肪酸金属塩,三津和化学薬品社製,製品名「パルミチン酸亜鉛」
ステアリン酸亜鉛:炭素数18の飽和脂肪酸金属塩,富士フイルム和光純薬社製,製品名「ステアリン酸亜鉛」
ベヘン酸亜鉛:炭素数22の飽和脂肪酸金属塩,日東化成工業社製,製品名「ベヘン酸亜鉛」
The details of the compounds shown in Table 1 are as follows.
[Plasticizer]
Di(2-ethylhexyl) terephthalate: manufactured by ADEKA Corporation, product name "ADEKA Cizer D-810", molecular weight: 391
Adipic acid polyester: manufactured by ADEKA Corporation, product name "ADEKA Cizer PN-7160", average molecular weight: 800, plasticization efficiency value: 1.00
Isononyl adipate: manufactured by Shin-Nippon Rika Co., Ltd., product name "Sanso Cizer DINA", molecular weight: 398
[Stabilizer]
Zinc laurate: Metal salt of saturated fatty acid with 12 carbon atoms, manufactured by Nitto Kasei Kogyo Co., Ltd., product name "Zinc laurate"
Zinc oleate: Metal salt of unsaturated fatty acid with 18 carbon atoms, manufactured by Mitsuwa Chemical Co., Ltd., product name "Zinc oleate"
Zinc palmitate: Metal salt of saturated fatty acid with 16 carbon atoms, manufactured by Mitsuwa Chemical Co., Ltd., product name "Zinc palmitate"
Zinc stearate: Saturated fatty acid metal salt with 18 carbon atoms, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name "Zinc stearate"
Zinc behenate: Metal salt of saturated fatty acid with 22 carbon atoms, manufactured by Nitto Kasei Kogyo Co., Ltd., product name "Zinc behenate"
表2から明らかなように、実施例で製造したワーク加工用シートは、糊残りの発生を効果的に抑制することができた。 As is clear from Table 2, the workpiece processing sheet produced in the embodiment was able to effectively suppress the occurrence of glue residue.
本発明のワーク加工用シートは、半導体ウエハ等のワークの加工に好適に使用することができる。 The workpiece processing sheet of the present invention can be suitably used for processing workpieces such as semiconductor wafers.
Claims (6)
前記粘着剤層は、活性エネルギー線硬化性粘着剤から構成され、且つ、活性エネルギー線の照射によりワークに対する粘着シートの粘着力が低下するものであり、
前記基材が、塩化ビニル系樹脂および安定剤を含有する樹脂組成物から形成された樹脂層を備え、
前記安定剤が、炭素数が12以上且つ18未満の飽和脂肪酸金属塩および炭素数が12以上且つ20未満の不飽和脂肪酸金属塩の少なくとも1種を含むこと
を特徴とするワーク加工用シート。 A workpiece processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate,
The pressure-sensitive adhesive layer is made of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet to the workpiece is reduced by irradiation with active energy rays,
the substrate is provided with a resin layer formed from a resin composition containing a vinyl chloride resin and a stabilizer,
A workpiece processing sheet, characterized in that the stabilizer contains at least one of a saturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 18 carbon atoms and an unsaturated fatty acid metal salt having 12 or more and less than 20 carbon atoms.
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