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Description

本発明は、感光性樹脂組成物、硬化膜、有機ＥＬディスプレイ、及び表示装置、並びに、硬化膜の製造方法に関する。
近年、スマートフォン、タブレットＰＣ、及びテレビなど、薄型ディスプレイを有する表示装置において、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」）ディスプレイを用いた製品が多く開発されている。
有機ＥＬディスプレイの発光特性向上、及び信頼性向上のために、有機ＥＬディスプレイの画素分割層、薄層トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」）平坦化層、若しくはＴＦＴ保護層、又は、ＴＦＴアレイ形成における層間絶縁層若しくはゲート絶縁層には高耐熱性の感光性組成物が用いられる。特に画素分割層では、フォトリソグラフィーによってアノード（陽極）となる第１電極を露出させる必要があり、開口部となるアノード表面における現像残渣抑制、及び現像時のパターン密着性の両立も求められる。
感光性組成物としては、四級アンモニウム塩基及び三級アミノ基を有する分散剤と、末端に吸着基としてリン酸基を有する分散剤とを含有するネガ型感光性組成物（特許文献１参照）、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸を含有するネガ型感光性組成物（特許文献２参照）、及びポリイミドなどの第１の樹脂と、ポリイミド前駆体などの第２の樹脂とを含有するネガ型感光性組成物（特許文献３参照）などが挙げられる。
特に、有機ＥＬディスプレイの発光特性向上としては、低電圧駆動化すれば、所望の電圧によって高電流が流れるため、高輝度化・省電力化を実現できる。また、発光素子を高信頼性化すれば、有機ＥＬディスプレイの耐久性向上を実現できる。そのため、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性に加え、発光素子の優れた信頼性との両立が求められる。
有機ＥＬディスプレイとしては、画素分割層及び／又は平坦化層中の、金属元素及び／又はハロゲン元素の含有量の総和を特定範囲内とする有機ＥＬディスプレイ（特許文献４参照）などが挙げられる。
特開２０１８－２０５６０５号公報 特開１９９９－０５２５６３号公報 国際公開第２０１７／０５７２８１号 国際公開第２０１８／１２３８５３号
上述した開口部となるアノード表面における現像残渣は、感光性組成物の塗膜形成プロセスにおいて、プリベーク時の熱反応により塗膜中の成分のアルカリ溶解性が低下することで支配的に発生する場合がある。特に、感光性組成物がネガ型の感光性を有する場合、開口部は未露光部に相当するため、プリベーク時のアルカリ溶解性低下は顕著な現像残渣悪化の要因となる。従って、有機ＥＬディスプレイの発光特性向上、及び信頼性向上のために、感光性組成物に求められる特性としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能な特性を有する材料が要求される。加えて、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の信頼性に優れる有機ＥＬディスプレイに好適に具備される硬化膜を提供可能な特性を有する材料も要求される。しかし、上記の文献に記載の感光性組成物は、いずれも、有機ＥＬディスプレイに用いる材料としては上記いずれかの特性が不十分であった。
また、上記の文献に記載の表示装置は、上記いずれかの特性が不十分であった。本発明は、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の信頼性に優れる表示装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決するために、本発明の第一の態様である感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）感光剤を含有し、さらに、（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物、及び／又は、（ＦＢ）リン原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物、を含有する感光性樹脂組成物である。
また、本発明の第二の態様である表示装置は、
基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、発光層を含む有機ＥＬ層を有する有機ＥＬディスプレイであって、該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、該発光層を含む有機ＥＬ層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成され、該第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、該透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－１）を満たす表示装置である。
４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
本発明の第一の態様である感光性樹脂組成物によれば、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。加えて、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の信頼性に優れる有機ＥＬディスプレイに好適に具備される硬化膜を提供可能である。
本発明の第二の態様である表示装置によれば、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の信頼性に優れる有機ＥＬディスプレイを提供可能である。
図１は、感光性樹脂組成物の硬化膜を用いた有機ＥＬディスプレイにおける工程１～工程７の製造プロセスを模式的断面で例示する工程図である。 図２は、発光特性評価に用いた有機ＥＬディスプレイの基板における工程１～工程４の製造プロセスを平面図で例示する概略図である。 図３は、偏光層を有しないフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイの模式的断面を例示する概略図である。
＜第一の態様の感光性樹脂組成物＞
以下、本発明の第一の態様である感光性樹脂組成物について説明する。
本発明の第一の態様である感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）感光剤を含有し、さらに、（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物、及び／又は、（ＦＢ）リン原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物、を含有する感光性樹脂組成物である。
＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ現像液に対する溶解性を有する樹脂をいう。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、後述する（Ｃ）感光剤によって、組成物にポジ型又はネガ型の感光性が付与され、アルカリ現像液で現像することでポジ型又はネガ型のパターンを形成可能な溶解性を有する樹脂が好ましい。
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成することで、後述する表示装置又は有機ＥＬディスプレイにおいて、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成することができる。また、感光性樹脂組成物としては、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、後述する窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び後述する窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂及び（Ａ２－４）アクリル樹脂などが挙げられる。
前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドからなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドからなる群より選ばれる一種類以上を含有することが特に好ましい。一方、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
本発明において、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有比率は、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、２５質量％以上がさらにより好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、８５質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、６５質量％以下がさらに好ましく、５５質量％以下がさらにより好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２５質量部以上が好ましく、３５質量部以上がより好ましく、４５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、８５質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましく、６５質量部以下がさらに好ましい。
＜（Ａ１－１）ポリイミド、及び（Ａ１－２）ポリイミド前駆体＞
（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、例えば、テトラカルボン酸、対応するテトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸二塩化物、又はテトラカルボン酸活性ジエステルなどと、ジアミン、ジアミンとホスゲンとを反応させて得られるジイソシアネート化合物、又はトリメチルシリル化ジアミンなどとを反応させることによって得られるものが挙げられ、テトラカルボン酸残基及び／又はテトラカルボン酸誘導体残基と、ジアミン残基及び／又はジアミン誘導体残基を有する。（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、例えば、ポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリアミド酸アミド、又はポリイソイミドが挙げられる。
（Ａ１－１）ポリイミドとしては、例えば、上述したポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリアミド酸アミド、又はポリイソイミドを、加熱、又は酸若しくは塩基などを用いた反応により、脱水閉環させることによって得られるものが挙げられる。
本発明に用いられる（Ａ１－１）ポリイミドとしては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１）で表される構造単位を含有することが好ましい。
Figure 0007676778000001
一般式（１）において、Ｒ１は、４～１０価の有機基を表し、Ｒ２は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｐは、０～６の整数を表し、ｑは、０～８の整数を表す。ただし、Ｒ３またはＲ４がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ１またはＲ２は芳香族構造を表す。
一般式（１）のＲ１は、テトラカルボン酸残基及び／又はテトラカルボン酸誘導体残基を表し、Ｒ２は、ジアミン残基及び／又はジアミン誘導体残基を表す。テトラカルボン酸誘導体としては、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸二塩化物、又はテトラカルボン酸活性ジエステルが挙げられる。ジアミン誘導体としては、ジイソシアネート化合物又はトリメチルシリル化ジアミンが挙げられる。一般式（１）において、Ｒ１は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する４～１０価の有機基が好ましい。また、Ｒ２は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する２～１０価の有機基が好ましい。ｑは、１～８が好ましい。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
Figure 0007676778000002
一般式（５）及び（６）において、Ｒ１９～Ｒ２１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～６のアシル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。一般式（５）及び（６）において、Ｒ１９～Ｒ２１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～４のアシル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましい。上述したアルキル基、アシル基、及びアリール基は、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－１）ポリイミドとしては、一般式（１）で表される構造単位を含有することが好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド中の全構造単位に占める、一般式（１）で表される構造単位の含有比率は、現像後の低テーパー形状のパターン形成、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
本発明に用いられる（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（３）で表される構造単位を含有することが好ましい。
Figure 0007676778000003
一般式（３）において、Ｒ９は、４～１０価の有機基を表し、Ｒ１０は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ１１は、上述した一般式（５）又は一般式（６）で表される置換基を表し、Ｒ１２は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、又はメルカプト基を表し、Ｒ１３は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｔは、２～８の整数を表し、ｕは、０～６の整数を表し、ｖは、０～８の整数を表し、２≦ｔ＋ｕ≦８である。ただし、Ｒ１２またはＲ１３がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ９またはＲ１０は芳香族構造を表す。
一般式（３）のＲ９は、テトラカルボン酸残基及び／又はテトラカルボン酸誘導体残基を表し、Ｒ１０は、ジアミン残基及び／又はジアミン誘導体残基を表す。テトラカルボン酸誘導体としては、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸二塩化物、又はテトラカルボン酸活性ジエステルが挙げられる。ジアミン誘導体としては、ジイソシアネート化合物又はトリメチルシリル化ジアミンが挙げられる。一般式（３）において、Ｒ９は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する４～１０価の有機基が好ましい。また、Ｒ１０は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する２～１０価の有機基が好ましい。ｖは、１～８が好ましい。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、一般式（３）で表される構造単位を含有することが好ましく、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体中の全構造単位に占める、一般式（３）で表される構造単位の含有比率は、露光時の感度向上、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、一般式（３）で表される構造単位におけるＲ１１が、一般式（５）で表される置換基である場合において、Ｒ１９が水素原子である構造単位を、アミド酸構造単位という。（Ａ１－２）ポリイミド前駆体におけるアミド酸構造単位は、テトラカルボン酸残基及び／又はテトラカルボン酸誘導体残基としてカルボキシ基を有する。（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、一般式（３）で表される構造単位におけるＲ１１が、一般式（５）で表される置換基である場合において、Ｒ１９が炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～６のアシル基又は炭素数６～１５のアリール基である構造単位を、アミド酸エステル構造単位という。（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、一般式（３）で表される構造単位におけるＲ１１が、一般式（６）で表される置換基である場合の構造単位を、アミド酸アミド構造単位という。
現像後の解像度向上及び現像後の低テーパー形状のパターン形成の観点から、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、前記アミド酸構造単位、並びに、前記アミド酸エステル構造単位及び／又は前記アミド酸アミド構造単位を含有することが好ましい。発光特性の低電圧駆動化の観点から、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体としては、前記アミド酸エステル構造単位及び／又は前記アミド酸アミド構造単位を含有することが好ましい。また、後述する（Ｄ）着色剤として、特に（Ｄ１）顔料を含有させる場合、前記アミド酸エステル構造単位及び／又は前記アミド酸アミド構造単位によって（Ｄ１）顔料の分散安定性を向上でき、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となる。アミド酸構造単位、並びに、アミド酸エステル構造単位及び／又はアミド酸アミド構造単位を含有する（Ａ１－２）ポリイミド前駆体は、アミド酸構造単位としての、テトラカルボン酸残基及び／又はテトラカルボン酸誘導体残基であるカルボキシ基の一部を、エステル化及び／又はアミド化させることで合成できる。
＜（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、及び（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体＞
（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、例えば、ジカルボン酸、ジカルボン酸と塩化チオニルとを反応させて得られるジカルボン酸二塩化物、又はジカルボン酸活性ジエステルなどと、ジアミンとしてビスアミノフェノール化合物などとを反応させることによって得られるものが挙げられ、ジカルボン酸残基及び／又はジカルボン酸誘導体残基と、ビスアミノフェノール化合物残基及び／又はビスアミノフェノール化合物誘導体残基を有する。（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、例えば、ポリヒドロキシアミドが挙げられる。
（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾールとしては、例えば、ジカルボン酸と、ジアミンとしてビスアミノフェノール化合物とを、ポリリン酸を用いた反応により、脱水閉環させることによって得られるものや、上述したポリヒドロキシアミドを、加熱、又は無水リン酸、塩基、若しくはカルボジイミド化合物などを用いた反応により、脱水閉環させることによって得られるものが挙げられ、ジカルボン酸残基及び／又はジカルボン酸誘導体残基と、ビスアミノフェノール化合物残基及び／又はビスアミノフェノール化合物誘導体残基を有する。
本発明に用いられる（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾールとしては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（２）で表される構造単位を含有することが好ましい。
Figure 0007676778000004
一般式（２）において、Ｒ５は、２～１０価の有機基を表し、Ｒ６は、芳香族構造を有する４～１０価の有機基を表す。Ｒ７は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。Ｒ８は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｒは、０～８の整数を表し、ｓは、０～６の整数を表す。ただし、Ｒ７がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ５は芳香族構造を表す。
一般式（２）のＲ５は、ジカルボン酸残基及び／又はジカルボン酸誘導体残基を表し、Ｒ６は、ビスアミノフェノール化合物残基及び／又はビスアミノフェノール化合物誘導体残基を表す。ジカルボン酸誘導体としては、ジカルボン酸無水物、ジカルボン酸塩化物、ジカルボン酸活性エステル、トリカルボン酸無水物、トリカルボン酸塩化物、トリカルボン酸活性エステル、ジホルミル化合物が挙げられる。一般式（２）において、Ｒ５は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する２～１０価の有機基が好ましい。また、Ｒ６は、炭素数６～３０の芳香族構造を有する４～１０価の有機基が好ましい。ｓは、１～６が好ましい。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾールとしては、一般式（２）で表される構造単位を含有することが好ましく、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール中の全構造単位に占める、一般式（２）で表される構造単位の含有比率は、現像後の低テーパー形状のパターン形成、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
本発明に用いられる（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（４）で表される構造単位を含有することが好ましい。
Figure 0007676778000005
一般式（４）において、Ｒ１４は、２～１０価の有機基を表し、Ｒ１５は、芳香族構造を有する４～１０価の有機基を表す。Ｒ１６は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表し、Ｒ１７は、フェノール性水酸基を表し、Ｒ１８は、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｗは、０～８の整数を表し、ｘは、２～８の整数を表し、ｙは、０～６の整数を表し、２≦ｘ＋ｙ≦８である。ただし、Ｒ１６がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ１４は芳香族構造を表す。
一般式（４）のＲ１４は、ジカルボン酸残基及び／又はジカルボン酸誘導体残基を表し、Ｒ１５は、ビスアミノフェノール化合物残基及び／又はビスアミノフェノール化合物誘導体残基を表す。ジカルボン酸誘導体としては、ジカルボン酸無水物、ジカルボン酸塩化物、ジカルボン酸活性エステル、トリカルボン酸無水物、トリカルボン酸塩化物、トリカルボン酸活性エステル、ジホルミル化合物が挙げられる。一般式（４）において、Ｒ１４は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する２～１０価の有機基が好ましい。また、Ｒ１５は、炭素数６～３０の芳香族構造を有する４～１０価の有機基が好ましい。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、一般式（４）で表される構造単位を含有することが好ましく、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体中の全構造単位に占める、一般式（４）で表される構造単位の含有比率は、露光時の感度向上、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
上記の（Ａ１）第１の樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸、ジカルボン酸、及びカルボン酸誘導体、並びに、ジアミン、及びジアミン誘導体としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の化合物が挙げられる。
＜（Ａ１－５）ポリアミドイミド＞
（Ａ１－５）ポリアミドイミドとしては、例えば、トリカルボン酸又は対応するトリカルボン酸無水物などと、ジアミン又はジイソシアネート化合物などとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。得られた樹脂を、さらに加熱又は触媒を用いた反応により、脱水閉環させることで得られる樹脂も挙げられる。
本発明に用いられる（Ａ１－５）ポリアミドイミドとしては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（９）で表される構造単位を有することが好ましい。
Figure 0007676778000006
一般式（９）において、Ｒ２３は、３～１０価の有機基を表す。Ｒ２４は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ２５及びＲ２６は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｍは０～７の整数を表す。ｎは０～８の整数を表す。ただし、Ｒ２５又はＲ２６がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ２３又はＲ２４は芳香族構造を表す。
一般式（９）において、Ｒ２３は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、又は炭素数６～３０の芳香族構造を有する３～１０価の有機基が好ましい。Ｒ２４は、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、又は炭素数６～３０の芳香族構造を有する２～１０価の有機基が好ましい。ｎは１～８の整数が好ましい。Ｒ２３は、トリカルボン酸残基又はトリカルボン酸誘導体残基を表す。Ｒ２４は、ジアミン残基又はジアミン誘導体残基を表す。トリカルボン酸誘導体としては、トリカルボン酸無水物、トリカルボン酸塩化物、又はトリカルボン酸活性エステルが挙げられる。ジアミン誘導体としては、ジイソシアネート化合物又はトリメチルシリル化ジアミンが挙げられる。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－５）ポリアミドイミドとしては、一般式（９）で表される構造単位を含有することが好ましく、（Ａ１－５）ポリアミドイミド中の全構造単位に占める、一般式（９）で表される構造単位の含有比率は、現像後の低テーパー形状のパターン形成、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
＜フッ素原子を有する構造単位＞
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドは、露光時の感度向上、現像後のパターン剥がれ抑制、及び発光素子の信頼性向上の観点から、フッ素原子を有する構造単位を含有することが好ましい。また、後述する（Ｃ１）光重合開始剤として、ハロゲン原子で置換された基を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させる場合、これらの樹脂と光重合開始剤との相溶性向上によって、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。ここでいう露光とは、活性化学線（放射線）の照射のことであり、例えば、可視光線、紫外線、電子線、又はＸ線などの照射が挙げられる。一般的に使用されている光源であるという観点から、例えば、可視光線や紫外線の照射が可能な超高圧水銀灯光源が好ましく、ｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、又はｇ線（波長４３６ｎｍ）の照射がより好ましい。以降、露光とは、活性化学線（放射線）の照射をいう。
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドにおいて、それぞれの樹脂における全構造単位のうち、全カルボン酸に由来する構造単位、及び全カルボン酸誘導体に由来する構造単位にフッ素原子を有し、かつ全アミンに由来する構造単位、及び全アミン誘導体に由来する構造単位にフッ素原子を有する場合、それぞれの樹脂における全構造単位に占める、フッ素原子を有する構造単位の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドにおいて、それぞれの樹脂における全構造単位のうち、全カルボン酸に由来する構造単位、及び全カルボン酸誘導体に由来する構造単位のみにフッ素原子を有する場合、その合計に占める、フッ素原子を有するテトラカルボン酸に由来する構造単位、フッ素原子を有するテトラカルボン酸誘導体に由来する構造単位、フッ素原子を有するジカルボン酸に由来する構造単位、及びフッ素原子を有するジカルボン酸誘導体に由来する構造単位の合計は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドにおいて、それぞれの樹脂における全構造単位のうち、全アミンに由来する構造単位、及び全アミン誘導体に由来する構造単位のみにフッ素原子を有する場合、その合計に占める、フッ素原子を有するジアミンに由来する構造単位、フッ素原子を有するジアミン誘導体に由来する構造単位、フッ素原子を有するビスアミノフェノール化合物に由来する構造単位、及びフッ素原子を有するビスアミノフェノール化合物誘導体に由来する構造単位の合計は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
＜その他の構造単位＞
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドは、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜の耐熱性向上の観点から、芳香族カルボン酸に由来する構造単位、及び／又は芳香族カルボン酸誘導体に由来する構造単位を含有することが好ましい。同様に、芳香族アミンに由来する構造単位、及び／又は芳香族アミン誘導体に由来する構造単位を含有することも好ましい。また、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜と下地の基板との密着性向上の観点から、シリル基又はシロキサン結合を有するジアミンに由来する構造単位、及び／又は、シリル基又はシロキサン結合を有するジアミン誘導体に由来する構造単位を含有することも好ましい。なお、硬化膜の機械特性向上の観点から、オキシアルキレン構造を有するアミンに由来する構造単位、及び／又はオキシアルキレン構造を有するアミン誘導体に由来する構造単位を含有することも好ましい。
＜末端封止剤＞
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドは、組成物の塗液の保管安定性向上の観点から、樹脂の末端が、モノアミン、ジカルボン酸無水物、モノカルボン酸、モノカルボン酸塩化物、又はモノカルボン酸活性エステルなどの末端封止剤で封止されていることが好ましい。
＜エチレン性不飽和二重結合基の導入＞
本発明の感光性樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドは、露光時の感度向上の観点から、エチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。エチレン性不飽和二重結合基を導入する反応により、これらの樹脂の側鎖に、エチレン性不飽和二重結合基を導入した樹脂も好ましい。また、これらの樹脂が有する一部のフェノール性水酸基及び／又はカルボキシ基を、エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物と反応させて得られる樹脂も好ましい。上述した反応により、樹脂の側鎖に、エチレン性不飽和二重結合基を導入することが可能となる。
エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物としては、反応性の観点から、エチレン性不飽和二重結合基を有する求電子性化合物が好ましい。求電子性化合物としては、反応性及び化合物の利用性の観点から、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アルコール化合物、アルデヒド化合物、ケトン化合物、又はカルボン酸無水物が好ましく、イソシアネート化合物、又はエポキシ化合物がより好ましい。
＜（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドの物性＞
（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドの重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」）としては、現像後の解像度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」）で測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましく、５，０００以上がさらに好ましい。一方、Ｍｗとしては、熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成、及びアルカリ現像液でのパターン加工性向上の観点から、１００，０００以下が好ましく、５０，０００以下がより好ましく、３０，０００以下がさらに好ましく、２０，０００以下が特に好ましい。（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドは、公知の方法で合成できる。
＜（Ａ２－１）ポリシロキサン＞
（Ａ２－１）ポリシロキサンとしては、例えば、三官能オルガノシラン、四官能オルガノシラン、二官能オルガノシラン、及び一官能オルガノシランからなる群より選ばれる一種類以上を加水分解し、脱水縮合させて得られるポリシロキサンが挙げられる。硬化膜の耐熱性向上の観点から、三官能オルガノシランを含有することが好ましい。また、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、四官能オルガノシラン単位を含有することが好ましい。また、硬化膜の機械特性向上の観点から、二官能オルガノシラン単位を含有しても構わない。一方、組成物の塗液の保管安定性向上の観点から、一官能オルガノシラン単位を含有しても構わない。
＜三官能オルガノシラン単位、及び四官能オルガノシラン単位＞
本発明に用いられる（Ａ２－１）ポリシロキサンとしては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、三官能オルガノシラン単位及び／又は四官能オルガノシラン単位を含有することが好ましい。三官能オルガノシランとしては、一般式（７）で表されるオルガノシラン単位が好ましく、四官能オルガノシラン単位としては、一般式（８）で表されるオルガノシラン単位が好ましい。
Figure 0007676778000007
一般式（７）及び（８）において、Ｒ２２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。一般式（７）及び（８）において、Ｒ２２は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、又は炭素数６～１５のアリール基が好ましい。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
上記の各オルガノシランとしては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の化合物が挙げられる。
（Ａ２－１）ポリシロキサンに占める、一般式（７）で表されるオルガノシラン単位の含有比率は、硬化膜の耐熱性向上の観点から、Ｓｉ原子ｍｏｌ比で５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。一般式（７）で表されるオルガノシラン単位としては、エポキシ基を有するオルガノシラン単位が好ましい。（Ａ２－１）ポリシロキサンがエポキシ基を有するオルガノシラン単位を含有することで、アルカリ現像液でのパターン加工性向上が可能となる。
（Ａ２－１）ポリシロキサンに占める、一般式（８）で表されるオルガノシラン単位の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、Ｓｉ原子ｍｏｌ比で０～４０ｍｏｌ％が好ましく、０～３０ｍｏｌ％がより好ましく、０～２０ｍｏｌ％がさらに好ましい。
＜（Ａ２－１）ポリシロキサンの物性＞
（Ａ２－１）ポリシロキサンにおいて、上記の各オルガノシラン単位は、規則的な配列又は不規則的な配列のいずれであっても構わない。規則的な配列としては、例えば、交互共重合、周期的共重合、ブロック共重合、又はグラフト共重合などが挙げられる。不規則的な配列としては、例えば、ランダム共重合などが挙げられる。また、上記の各オルガノシラン単位は、二次元的な配列又は三次元的な配列のいずれであっても構わない。二次元的な配列としては、例えば、直鎖状が挙げられる。三次元的な配列としては、例えば、梯子状、籠状、又は網目状などが挙げられる。
（Ａ２－１）ポリシロキサンとしては、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜の耐熱性向上の観点から、芳香族基を有するオルガノシラン単位を含有することが好ましい。（Ａ２－１）ポリシロキサンのＭｗとしては、現像後の解像度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましい。一方、Ｍｗとしては、熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成、及びアルカリ現像液でのパターン加工性向上の観点から、５０，０００以下が好ましい。（Ａ２－１）ポリシロキサンは、公知の方法で合成できる。
＜（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂＞
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、例えば、以下の（Ｉ）～（ＩＶ）の多環側鎖含有樹脂が挙げられる。
（Ｉ）多官能フェノール化合物と多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる多環側鎖含有樹脂。
（ＩＩ）多官能フェノール化合物とエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる多環側鎖含有樹脂。
（ＩＩＩ）多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる多環側鎖含有樹脂。
（ＩＶ）多官能エポキシ化合物とカルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる多環側鎖含有樹脂。
フェノール化合物、エポキシ化合物、カルボン酸無水物、及びカルボン酸化合物としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の化合物が挙げられる。
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂は熱硬化性樹脂であり、主鎖と嵩高い側鎖が１つの原子で繋がれた構造を有する。嵩高い側鎖として環状構造を有し、硬化膜の耐熱性向上の観点から、高耐熱性かつ剛直なフルオレン環などの縮合多環式骨格が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、露光時の感度向上の観点から、エチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。
本発明に用いられる（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（４７）で表される構造単位、一般式（４８）で表される構造単位、一般式（４９）で表される構造単位、及び一般式（５０）で表される構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、露光時の感度向上の観点から、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖、及び樹脂の末端からなる群より選ばれる一ヶ所以上に、エチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000008
一般式（４７）～（５０）において、Ｘ６９、Ｘ７０、Ｘ７２、Ｘ７３、Ｘ７５、Ｘ７６、Ｘ７８、及びＸ７９は、それぞれ独立して、単環式又は縮合多環式の炭化水素環を表す。Ｘ７１、Ｘ７４、Ｘ７７、及びＸ８０は、それぞれ独立して、カルボン酸残基及び／又はカルボン酸誘導体残基の２～１０価の有機基を表す。Ｗ１～Ｗ４は、それぞれ独立して、芳香族基を２つ以上有する有機基を表す。Ｒ１６０～Ｒ１６７は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ１７０～Ｒ１７５、Ｒ１７７、及びＲ１７８は、それぞれ独立して、水素原子又はエチレン性不飽和二重結合基を有する有機基を表す。Ｒ１７６は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、及びｈは、それぞれ独立して、０～１０の整数を表し、α、β、γ、及びδは、それぞれ独立して、０又は１を表す。
一般式（４７）～（５０）において、Ｘ６９、Ｘ７０、Ｘ７２、Ｘ７３、Ｘ７５、Ｘ７６、Ｘ７８、及びＸ７９は、それぞれ独立して、炭素数６～１５及び２～１０価の、単環式又は縮合多環式の炭化水素環が好ましい。また、Ｘ７１、Ｘ７４、Ｘ７７、及びＸ８０は、それぞれ独立して、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、及び炭素数６～３０の芳香族構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する２～１０価の有機基が好ましい。また、現像後のパターン剥がれ抑制、及び発光素子の信頼性向上の観点から、Ｗ１～Ｗ４は、それぞれ独立して、一般式（５１）～（５６）のいずれかで表される置換基が好ましい。また、Ｒ１７０～Ｒ１７５、Ｒ１７７、及びＲ１７８は、それぞれ独立して、一般式（５７）で表される置換基が好ましい。上述したアルキル基、脂肪族構造、脂環式構造、芳香族構造、単環式、若しくは縮合多環式の芳香族炭化水素環、及びエチレン性不飽和二重結合基を有する有機基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
Figure 0007676778000009
一般式（５１）～（５６）において、Ｒ１７９～Ｒ１８２、Ｒ１８５、及びＲ１８８は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ１８３、Ｒ１８４、Ｒ１８６、Ｒ１８７、Ｒ１８９、Ｒ１９１、及びＲ１９３～Ｒ１９６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ１９０及びＲ１９２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表し、Ｒ１９０及びＲ１９２で環を形成しても構わない。Ｒ１９０及びＲ１９２で形成する環としては、例えば、ベンゼン環又はシクロヘキサン環が挙げられる。Ｒ１８３及びＲ１８４の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基である。Ｒ１８６及びＲ１８７の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基である。Ｒ１８９及びＲ１９０の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基であり、Ｒ１９１及びＲ１９２の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基であり、Ｒ１９０及びＲ１９２で環を形成しても構わない。Ｒ１９３及びＲ１９４の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基であり、Ｒ１９５及びＲ１９６の少なくとも１つは、炭素数６～１５のアリール基である。ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。一般式（５１）～（５６）において、Ｒ１９０及びＲ１９２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～７のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましく、Ｒ１９０及びＲ１９２で形成する環としては、ベンゼン環が好ましい。上述したアルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
Figure 0007676778000010
一般式（５７）において、Ｘ８１は、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン鎖、炭素数４～１０のシクロアルキレン鎖、又は炭素数６～１５のアリーレン鎖を表し、Ｘ８２は、直接結合又は炭素数６～１５のアリーレン鎖を表す。Ｒ１９７は、ビニル基、アリル基、又は（メタ）アクリル基を表す。一般式（５７）において、Ｘ８１は、直接結合、炭素数１～６のアルキレン鎖、炭素数４～７のシクロアルキレン鎖、又は炭素数６～１０のアリーレン鎖が好ましい。また、Ｘ８２は、直接結合又は炭素数６～１０のアリーレン鎖が好ましい。上述したアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、アリーレン鎖、ビニル基、アリル基、及び（メタ）アクリル基は、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式骨格を有する構造単位を含むことが好ましい。縮合多環式骨格を有する構造単位としては、フルオレン骨格を有する構造単位、及び／又はインダン骨格を有する構造単位が好ましい。上述した一般式（４７）～（５０）において、Ｗ１～Ｗ４が、一般式（５１）又は一般式（５３）であると、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂が、フルオレン骨格を有する構造単位、又はインダン骨格を有する構造単位を含有する。
＜カルボン酸に由来する酸性基、及びカルボン酸誘導体に由来する酸性基＞
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、アルカリ現像液でのパターン加工性向上、及び現像後の解像度向上の観点から、カルボン酸に由来する構造単位、及び／又はカルボン酸誘導体に由来する構造単位を含有し、アルカリ可溶性基として酸性基を有することが好ましい。酸性基としては、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、又はヒドロキシイミド基が好ましく、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はフェノール性水酸基がより好ましく、カルボキシ基又はカルボン酸無水物基がさらに好ましい。
＜末端封止剤、及び（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂の物性＞
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、組成物の塗液の保管安定性向上の観点から、樹脂の末端が、トリカルボン酸無水物、ジカルボン酸無水物、又はモノカルボン酸などの末端封止剤で封止されていることが好ましい。（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜の耐熱性向上の観点から、芳香族カルボン酸に由来する構造単位、及び／又は芳香族カルボン酸誘導体に由来する構造単位を含有することが好ましい。（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂のＭｗとしては、現像後の解像度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましい。一方、Ｍｗとしては、熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成、及びアルカリ現像液でのパターン加工性向上の観点から、５０，０００以下が好ましい。（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂は、公知の方法で合成できる。
＜（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂の具体例＞
（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂としては、例えば、“ＡＤＥＫＡ ＡＲＫＬＳ”（登録商標） ＷＲ－１０１若しくは同 ＷＲ－３０１（以上、いずれもＡＤＥＫＡ社製）、ＯＧＳＯＬ（登録商標） ＣＲ－１０３０（大阪ガスケミカル社製）、又はＴＲ－Ｂ２０１若しくはＴＲ－Ｂ２０２（以上、いずれもＴＲＯＮＬＹ社製）が挙げられる。
＜（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂＞
（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、以下の（Ｉ）～（ＶＩ）の酸変性エポキシ樹脂が挙げられる。
（Ｉ）多官能フェノール化合物と多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
（ＩＩ）多官能フェノール化合物とエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
（ＩＩＩ）多官能アルコール化合物と多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
（ＩＶ）多官能アルコール化合物とエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
（Ｖ）多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
（ＶＩ）多官能エポキシ化合物とカルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる酸変性エポキシ樹脂。
フェノール化合物、アルコール化合物、エポキシ化合物、カルボン酸無水物、及びカルボン酸化合物としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の化合物が挙げられる。
（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂は熱硬化性樹脂であり、主鎖に環状骨格として、芳香族基を有する構造単位、及び／又は脂環式基を有する構造単位を有し、硬化膜の耐熱性向上の観点から、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン環、ナフタレン環、アントラセン環、又はフルオレン環などの縮合多環式骨格が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、露光時の感度向上の観点から、エチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。
本発明に用いられる（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（３５）で表される構造単位、一般式（３６）で表される構造単位、一般式（３７）で表される構造単位、一般式（３８）で表される構造単位、一般式（４１）で表される構造単位、一般式（４２）で表される構造単位、及び一般式（４３）で表される構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、露光時の感度向上の観点から、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖、及び樹脂の末端からなる群より選ばれる一ヶ所以上に、エチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000011
一般式（３５）～（３８）において、Ｘ５１～Ｘ５４は、それぞれ独立して、炭素数１～６の脂肪族構造を表す。Ｚ５３は、炭素数１０～２５及び３～１６価の、芳香族構造を表す。Ｒ７１～Ｒ７５は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表し、Ｒ７６は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ７８～Ｒ８１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又は一般式（５９）で表される置換基を表す。Ｒ８２は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、一般式（５８）で表される置換基、又は一般式（５９）で表される置換基を表す。Ｒ８３～Ｒ８８は、それぞれ独立して、一般式（３９）で表される置換基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０～１０の整数を表し、ｆは、０～１４の整数を表し、ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、ｌは、０～４の整数を表す。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、脂肪族構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
一般式（３８）のＺ５３の芳香族構造としては、ターフェニル骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、及びフルオレン骨格からなる群より選ばれる一種類以上を含有する。また、一般式（３８）のＺ５３のその他の芳香族構造としては、例えば、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン骨格、２，２－ジフェニルプロパン骨格、ジフェニルエーテル骨格、ジフェニルケトン骨格又はジフェニルスルホン骨格が挙げられる。
Figure 0007676778000012
一般式（５８）において、Ｒ１６８及びＲ１６９は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ１９８は、炭素数１～１０のアルキル基、又は一般式（５９）で表される置換基を表す。ｚは、０～５の整数を表す。一般式（５９）において、Ｒ１９９は、一般式（３９）で表される置換基を表す。一般式（３９）において、Ｘ５５は、炭素数１～６のアルキレン鎖又は炭素数４～１０のシクロアルキレン鎖を表す。Ｒ８９～Ｒ９１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ９２は、水素原子又は一般式（４０）で表される置換基を表す。一般式（３９）において、Ｒ８９及びＲ９０は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。Ｒ９１は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。一般式（４０）において、Ｘ５６は、炭素数１～６のアルキレン鎖、炭素数１～６のアルケニレン鎖、炭素数４～１０のシクロアルキレン鎖、又は炭素数４～１０のシクロアルケニレン鎖を表す。一般式（４０）において、Ｘ５６は、炭素数１～４のアルキレン鎖、炭素数１～４のアルケニレン鎖、炭素数４～７のシクロアルキレン鎖、炭素数４～７のシクロアルケニレン鎖が好ましい。上述したアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、アルキル基、及びアリール基は、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
Figure 0007676778000013
一般式（４１）～（４３）において、Ｘ５７～Ｘ６１は、それぞれ独立して、炭素数１～６の脂肪族構造を表し、Ｘ６２及びＸ６３は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキレン鎖又は炭素数４～１０のシクロアルキレン鎖を表す。Ｒ９３～Ｒ９７は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表し、Ｒ９８～Ｒ１０４は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又は一般式（５９）で表される置換基を表す。を表し、Ｒ１０５は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｒ１０６及びＲ１０７は、それぞれ独立して、一般式（３９）で表される置換基を表し、Ｒ１０８は、水素原子、一般式（３９）で表される置換基、又は一般式（４０）で表される置換基を表す。ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、及びｑは、それぞれ独立して、０～１０の整数を表し、ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～３の整数を表し、ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、及びｘは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。上述したアルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及び脂肪族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
本発明に用いられる（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂のうち、一般式（４３）で表される構造単位を有する（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、末端が、一般式（４４）で表される置換基及び／又は一般式（４５）で表される置換基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000014
一般式（４４）において、Ｒ１０９は、一般式（３９）で表される置換基を表す。一般式（４５）において、Ｘ６４は、炭素数１～６の脂肪族構造を表す。Ｒ１１０は、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表し、Ｒ１１１及びＲ１１２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ１１３は、一般式（３９）で表される置換基を表す。αは、０～１０の整数を表す。β及びγは、０～４の整数を表す。一般式（４５）において、Ｘ６４は、炭素数１～４の脂肪族構造が好ましい。Ｒ１１０は、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～７のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましく、Ｒ１１１及びＲ１１２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～７のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましい。
（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式骨格を有する構造単位を含むことが好ましい。縮合多環式骨格を有する構造単位としては、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン骨格を有する構造単位、ナフタレン骨格を有する構造単位、アントラセン骨格を有する構造単位、及びフルオレン骨格を有する構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましい。上述した一般式（３７）で表される構造単位を含む場合、又は、上述した一般式（３８）において、Ｚ５３が、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、若しくはフルオレン骨格を含む場合、（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂が、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン骨格を有する構造単位、ナフタレン骨格を有する構造単位、アントラセン骨格を有する構造単位、又はフルオレン骨格を有する構造単位を含有する。
＜カルボン酸に由来する酸性基、及びカルボン酸誘導体に由来する酸性基＞
（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂は、カルボン酸に由来する構造単位、及び／又はカルボン酸誘導体に由来する構造単位を含有し、アルカリ可溶性基としてカルボキシ基、及び／又はカルボン酸無水物基を有する。カルボキシ基、及び／又はカルボン酸無水物基を有することで、アルカリ現像液でのパターン加工性向上、及び現像後の解像度向上が可能となる。また、その他の酸性基を有しても構わない。酸性基としては、スルホン酸基、フェノール性水酸基、又はヒドロキシイミド基が好ましく、フェノール性水酸基がより好ましい。
＜末端封止剤、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂の物性＞
（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、組成物の塗液の保管安定性向上の観点から、樹脂の末端が、トリカルボン酸無水物、ジカルボン酸無水物、又はモノカルボン酸などの末端封止剤で封止されていることが好ましい。（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜の耐熱性向上の観点から、芳香族カルボン酸に由来する構造単位、及び／又は芳香族カルボン酸誘導体に由来する構造単位を含有することが好ましい。（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂のＭｗとしては、現像後の解像度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましい。一方、Ｍｗとしては、熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成、及びアルカリ現像液でのパターン加工性向上の観点から、５０，０００以下が好ましい。（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂は、公知の方法で合成できる。
＜（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂の具体例＞
本発明に用いられる（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＣＲ－１２２２Ｈ、同 ＣＣＲ－１１７１Ｈ、同 ＴＣＲ－１３４８Ｈ、同 ＺＡＲ－１４９４Ｈ、同 ＺＦＲ－１４０１Ｈ、同 ＺＣＲ－１７９８Ｈ、同 ＺＸＲ－１８０７Ｈ、同 ＺＣＲ－６００２Ｈ、若しくは同 ＺＣＲ－８００１Ｈ（以上、いずれも日本化薬社製）、又は“ＮＫ ＯＬＩＧＯ”（登録商標） ＥＡ－６３４０、同 ＥＡ－７１４０、若しくは同 ＥＡ－７３４０（以上、いずれも新中村化学工業社製）が挙げられる。
＜（Ａ２－４）アクリル樹脂＞
（Ａ２－４）アクリル樹脂としては、例えば、酸性基を有する共重合成分、（メタ）アクリル酸エステルに由来する共重合成分、及びその他の共重合成分からなる群より選ばれる一種類以上の共重合成分をラジカル共重合させて得られるアクリル樹脂が挙げられる。
酸性基を有する共重合成分、（メタ）アクリル酸エステルに由来する共重合成分、及びその他の共重合成分としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の化合物が挙げられる。
本発明に用いられる（Ａ２－４）アクリル樹脂としては、露光時の感度向上、及び硬化膜の機械特性向上の観点から、一般式（６１）で表される構造単位及び／又は一般式（６２）で表される構造単位を含有することが好ましい。
Figure 0007676778000015
一般式（６１）及び（６２）において、Ｒｄ１及びＲｄ２は、それぞれ独立して、エチレン性不飽和二重結合基を有する、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１５のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ２００～Ｒ２０５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｘ９０及びＸ９１は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン鎖、炭素数４～１０のシクロアルキレン鎖、又は炭素数６～１５のアリーレン鎖を表す。
一般式（６１）及び（６２）において、Ｒｄ１及びＲｄ２は、それぞれ独立して、エチレン性不飽和二重結合基を有する、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましい。また、Ｒ２００～Ｒ２０５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～７のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましい。また、Ｘ９０及びＸ９１は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～６のアルキレン鎖、炭素数４～７のシクロアルキレン鎖、又は炭素数６～１０のアリーレン鎖が好ましい。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキレン鎖、シクロアルキレン鎖、及びアリーレン鎖は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
＜酸性基を有する共重合成分に由来する構造単位＞
（Ａ２－４）アクリル樹脂としては、アルカリ現像液でのパターン加工性向上、及び現像後の解像度向上の観点から、酸性基を有する共重合成分に由来する構造単位を含有し、アルカリ可溶性基として酸性基を有することが好ましい。酸性基としては、例えば、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、又はヒドロキシイミド基が好ましく、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はフェノール性水酸基がより好ましく、カルボキシ基又はカルボン酸無水物基がさらに好ましい。
＜（Ａ２－４）アクリル樹脂の物性＞
（Ａ２－４）アクリル樹脂としては、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜の耐熱性向上の観点から、芳香族基を有する共重合成分に由来する構造単位を含有することが好ましい。また、硬化膜の耐熱性向上、及び露光時の感度向上の観点から、脂環式基を有する共重合成分に由来する構造単位を含有することも好ましい。（Ａ２－４）アクリル樹脂のＭｗとしては、現像後の解像度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上が好ましい。一方、Ｍｗとしては、熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成、及びアルカリ現像液でのパターン加工性向上の観点から、５０，０００以下が好ましい。（Ａ２－４）アクリル樹脂は、公知の方法で合成できる。
＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有することが好ましい。（Ｂ）ラジカル重合性化合物とは、分子中に複数のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物をいう。露光時、後述する（Ｃ１）光重合開始剤から発生するラジカルによって、（Ｂ）ラジカル重合性化合物のラジカル重合が進行し、組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して不溶化することで、ネガ型のパターンを形成できる。また、露光時のＵＶ硬化が促進され、露光時の感度向上が可能となる。
（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。（Ｂ）ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合の進行しやすい、（メタ）アクリル基を有する化合物が好ましい。露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（メタ）アクリル基を分子中に２つ以上有する化合物がより好ましい。また、二重結合当量としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、８０ｇ／ｍｏl以上が好ましく、９０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量としては、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、８００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、６００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、（Ｂ）ラジカル重合性化合物に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、（Ｂ）ラジカル重合性化合物として、後述する（Ｂ１）フルオレン骨格含有ラジカル重合性化合物、後述する（Ｂ２）インダン骨格含有ラジカル重合性化合物、及び後述する（Ｂ３）柔軟鎖含有ラジカル重合性化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、これらのラジカル重合性化合物に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。後述する（Ｆ）化合物としては、後述する特定の（Ｆ１）化合物、後述する特定の（ＦＢ－１）化合物、及び後述する特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上が特に好ましい。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ｂ）ラジカル重合性化合物の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、２５質量％以上がさらにより好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｂ）ラジカル重合性化合物の含有比率は、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、８５質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、６５質量％以下がさらに好ましく、５５質量％以下がさらにより好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｂ）ラジカル重合性化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１５質量部以上が好ましく、２５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ）ラジカル重合性化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７５質量部以下が好ましく、６５質量部以下がより好ましい。
＜（Ｂ１）疎水性骨格含有ラジカル重合性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｂ１）疎水性骨格含有ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ１）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｂ１）化合物とは、（Ｉ－ｂ１）フルオレン構造、インダン構造、縮合多環脂環式構造、インドリノン構造、及びイソインドリノン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造（以下、「（Ｉ－ｂ１）（Ｂ１）化合物の特定の疎水性骨格を含む構造」）、及び（ＩＩ－ｂ１）エチレン性不飽和二重結合基を有する少なくとも２つの有機基を有する化合物をいう。（Ｉ－ｂ１）（Ｂ１）化合物の特定の疎水性骨格を含む構造としては、フルオレン構造、及び／又はインダン構造が好ましい。エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
（Ｂ１）化合物を含有させることで、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。（Ｂ１）化合物が有するエチレン性不飽和二重結合基数としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、エチレン性不飽和二重結合基数としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、１０個以下が好ましく、８個以下がより好ましく、６個以下がさらに好ましい。また、二重結合当量としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１５０ｇ／ｍｏl以上が好ましく、１９０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｂ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ１）化合物の含有量は、露光時の感度向上の観点から、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。
＜（Ｂ２）柔軟骨格含有ラジカル重合性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｂ２）柔軟骨格含有ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ２）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｂ２）化合物とは、（Ｉ－ｂ２）少なくとも２つのヒドロキシ基を有する化合物に由来する構造、（ＩＩ－ｂ２）エチレン性不飽和二重結合基を有する少なくとも２つの有機基、及び（ＩＩＩ－ｂ２）アルキレン基、オキシアルキレン基、及びアルキレンカルボニル基からなる群より選ばれる一種類以上（以下、「（ＩＩＩ－ｂ２）（Ｂ２）化合物の柔軟骨格」）を有する化合物をいう。
（Ｂ２）化合物において、少なくとも２つのヒドロキシ基を有する化合物に由来する構造としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（Ｉ－ｂ２ｘ）脂肪族多官能アルコールに由来する構造、脂環式構造、及びヘテロ脂環式構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造（以下、「（Ｉ－ｂ２ｘ）特定の脂肪族骨格を含む構造」）がより好ましい。エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
（Ｂ２）化合物としては、露光時の感度向上、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）アルキレンカルボニル基、オキシアルキレンカルボニル基、及びアミノアルキレンカルボニル基からなる群より選ばれる一種類以上（以下、「（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）（Ｂ２）化合物の特定の柔軟骨格」）を有することがより好ましい。（Ｂ２）化合物が有する（ＩＩＩ－ｂ２）（Ｂ２）化合物の柔軟骨格又は（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）（Ｂ２）化合物の特定の柔軟骨格などの柔軟骨格数としては、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、柔軟骨格数としては、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。アルキレン基及びオキシアルキレン基は、エポキシ化合物に由来する構造又はアルキレングリコールに由来する構造が好ましい。（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）（Ｂ２）化合物の特定の柔軟骨格としては、ラクトン化合物に由来する構造又はラクタム化合物に由来する構造が好ましい。
（Ｂ２）化合物を含有させることで、現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、分子中のエチレン性不飽和二重結合基数としては、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、分子中のエチレン性不飽和二重結合基数としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。また、二重結合当量としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１００ｇ／ｍｏl以上が好ましく、１２０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量としては、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｂ２）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ２）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、４０質量部以下が好ましく、３５質量部以下がより好ましい。
＜（Ｃ）感光剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤を含有する。（Ｃ）感光剤とは、露光によって結合開裂、反応、又は構造変化して別の化合物を発生させることで、組成物にポジ型又はネガ型の感光性を付与する化合物という。（Ｃ）感光剤としては、（Ｃ１）光重合開始剤、（Ｃ２）光酸発生剤、及び（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物にネガ型の感光性を付与する場合、（Ｃ１）光重合開始剤、又は、（Ｃ１）光重合開始剤及び（Ｃ２）光酸発生剤を含有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物にポジ型の感光性を付与する場合、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物、又は、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物及び（Ｃ２）光酸発生剤を含有することが好ましい。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ｃ）感光剤の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、０．１質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましく、２．５質量％以上がさらにより好ましく、３．０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｃ）感光剤の含有比率は、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、２７質量％以下が好ましく、２２質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がさらにより好ましく、１２質量％以下が特に好ましい。
＜（Ｃ１）光重合開始剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ１）光重合開始剤を含有することが好ましい。（Ｃ１）光重合開始剤とは、露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する化合物をいう。本発明の感光性樹脂組成物は、ネガ型のパターン形成の観点から、（Ｃ）感光剤が、（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含み、さらに、（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有することが好ましい。（Ｃ１）光重合開始剤を含有させることで、上述した（Ｂ）ラジカル重合性化合物のラジカル重合が進行し、組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して不溶化することで、ネガ型のパターンを形成できる。また、露光時のＵＶ硬化が促進され、露光時の感度向上が可能となる。
（Ｃ１）光重合開始剤としては、ベンジルケタール系光重合開始剤、α－ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α－アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ビイミダゾール系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、芳香族ケトエステル系光重合開始剤、又は安息香酸エステル系光重合開始剤が好ましく、露光時の感度向上の観点から、α－ヒドロキシケトン系光重合開始剤、α－アミノケトン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ビイミダゾール系光重合開始剤、又はオキシムエステル系光重合開始剤がより好ましく、露光時の感度向上、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、オキシムエステル系光重合開始剤がさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ１）光重合開始剤を含有する場合、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、（Ｃ１）光重合開始剤に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、（Ｃ１）光重合開始剤として、後述する（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有する場合、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。後述する（Ｆ）化合物としては、後述する特定の（Ｆ１）化合物、後述する特定の（ＦＢ－１）化合物、及び後述する特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｃ１）光重合開始剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上の観点から、０．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｃ１）光重合開始剤の含有量は、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、３０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。
＜（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤が、（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有することが好ましい。（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤とは、分子中に露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する骨格として、オキシムエステル構造を有する化合物をいう。（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。
（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤としては、露光時の感度向上、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式骨格、縮合多環式ヘテロ環骨格、又はジフェニルスルフィド骨格を有することが好ましい。さらに、縮合多環式骨格、縮合多環式へテロ環骨格、又はジフェニルスルフィド骨格に、少なくとも１つのオキシムエステル構造が結合した構造、又は少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を有することが好ましく、少なくとも１つのオキシムエステル構造が結合した構造を有することがより好ましい。また、縮合多環式骨格、縮合多環式へテロ環骨格、又はジフェニルスルフィド骨格に、２つ以上のオキシムエステル構造が結合した構造、又は２つ以上のオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を有することも好ましい。また、縮合多環式骨格、縮合多環式ヘテロ環骨格、又はジフェニルスルフィド骨格に、少なくとも１つのオキシムエステル構造が結合した構造、又は少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を、分子中に２つ以上有することも好ましい。
縮合多環式骨格としては、フルオレン骨格、ベンゾフルオレン骨格、ジベンゾフルオレン骨格、インデン骨格、インダン骨格、ベンゾインデン骨格、又はベンゾインダン骨格が好ましく、フルオレン骨格、ベンゾフルオレン骨格、又はジベンゾフルオレン骨格がより好ましい。縮合多環式ヘテロ環骨格としては、カルバゾール骨格、ジベンゾフラン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、ベンゾカルバゾール骨格、インドール骨格、インドリン骨格、ベンゾインドール骨格又はベンゾインドリン骨格が好ましく、カルバゾール骨格、ベンゾカルバゾール骨格、インドール骨格、又はベンゾインドール骨格がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｃ）感光剤が、（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有し、
該（Ｃ１－１）化合物が、ニトロ基、ナフチルカルボニル構造、トリメチルベンゾイル構造、チオフェニルカルボニル構造、フリルカルボニル構造、及び少なくとも２つのオキシムエステル構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。
（Ｃ）感光剤として、（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有することが好ましく、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、上記（Ｃ１－１）化合物を含有することが好ましい。中でも、縮合多環式骨格、又は縮合多環式へテロ環骨格に、ニトロ基、ナフチルカルボニル構造、トリメチルベンゾイル構造、チオフェニルカルボニル構造、フリルカルボニル構造、及び少なくとも２つのオキシムエステル構造からなる群より選ばれる一種類以上が結合した構造を有することが好ましい。
（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤としては、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、ハロゲン原子で置換された基を有することが好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素が好ましい。また、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドが、フッ素原子を有する構造単位を含有する場合、これらの樹脂と光重合開始剤との相溶性向上によって、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。ハロゲン原子で置換された基としては、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロプロピル基、トリクロロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロプロポキシ基、テトラフルオロプロポキシ基、又はペンタフルオロフェノキシ基が挙げられる。
（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤としては、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、以下に示す構造の化合物が好ましい。
Figure 0007676778000016
Figure 0007676778000017
Figure 0007676778000018
（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤は、後述する表示装置の製造方法における、（３）該感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、（４）アルカリ溶液を用いて現像して、該感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、及び（５）該パターンを加熱して硬化させ、該感光性樹脂組成物の硬化パターンを得る工程からなる群より選ばれる一種類以上において、光分解及び／又は熱分解をすることで、後述する一般式（７５）で表される構造、後述する一般式（７６）で表される構造、後述する一般式（７７）で表される構造、又は後述する一般式（７８）で表される構造を有する化合物へと構造変化する化合物であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、０．５質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤の含有量は、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。
＜（Ｃ２）光酸発生剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ２）光酸発生剤を含有しても構わない。（Ｃ２）光酸発生剤とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して酸を発生する化合物をいう。（Ｃ２）光酸発生剤を含有させることで、後述する架橋剤などの酸反応性化合物と樹脂との架橋、及び／又は、カチオン重合性化合物のカチオン重合が進行し、組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して不溶化することで、ネガ型のパターンを形成できる。また、露光時のＵＶ硬化が促進され、露光時の感度向上が可能となる。本発明の感光性樹脂組成物に、上述した（Ｃ１）光重合開始剤及び（Ｃ２）光酸発生剤を含有させることで、露光時のＵＶ硬化が促進され、露光時の感度向上が可能となる。
一方、本発明の感光性樹脂組成物に、後述する（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物及び（Ｃ２）光酸発生剤を含有させる場合、アルカリ現像後、かつ熱硬化前の露光することで酸を発生させることができる。そのため、その後の熱硬化時における、後述する架橋剤などの熱反応性化合物と樹脂との熱架橋を促進できるため、硬化膜の耐熱性向上、及び硬化膜の耐薬品性向上が可能となる。
（Ｃ２）光酸発生剤としては、例えば、イオン性化合物、又は非イオン性化合物が挙げられる。イオン性化合物としては、トリオルガノスルホニウム塩系化合物が好ましい。非イオン性化合物としては、例えば、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、リン酸エステル化合物、又はスルホンベンゾトリアゾール化合物が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｃ２）光酸発生剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上の観点から、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。一方、（Ｃ２）光酸発生剤の含有量は、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、２５質量部以下が好ましく、１５質量部以下がより好ましい。
＜（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物を含有しても構わない。（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物とは、露光によって構造変化して、インデンカルボン酸及び／又はスルホインデンカルボン酸を発生する化合物をいう。（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物を含有させることで、組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して可溶化することで、ポジ型のパターンを形成できる。また、露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が選択的に向上し、現像後の解像度を向上できる。
（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物に、ナフトキノンジアジドスルホン酸がエステル結合した化合物が好ましい。フェノール性水酸基を有する化合物を、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとエステル化反応させて得られる化合物も好ましい。ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、５－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリド、又は４－ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、及び現像後の解像度向上の観点から、２質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物の含有量は、露光時の感度向上の観点から、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、後述する（Ｆ１）化合物として、一般式（１２ｂ）で表される化合物を含む場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上のアルカリ可溶性樹脂を含み、さらに、後述する（Ｆ１）化合物を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
また同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、後述する（Ｆ１）化合物として、一般式（１２ｂ）で表される化合物を含む場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤、並びに、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上のアルカリ可溶性樹脂を含み、さらに、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
また同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
さらに同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物、並びに、後述する（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
また同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、さらに、後述する（Ｆ１）化合物を含む場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
さらに同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、さらに、後述する（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質を含有し、前記（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質が、分子中に少なくとも、（ＩＩ）リン原子を含む酸性基、及び／又は、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造、並びに、（ＩＩＩ）炭素数６～３０の脂肪酸化合物に由来する脂肪酸エステル構造、及び／又は、炭素数６～３０の脂肪族アルコールに由来する脂肪族エーテル構造を有し、前記（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造が、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む場合、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有させることで、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。
感光性樹脂組成物としては、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｂ）ラジカル重合性化合物として、（Ｂ１）フルオレン骨格含有ラジカル重合性化合物、（Ｂ２）インダン骨格含有ラジカル重合性化合物、及び（Ｂ３）柔軟鎖含有ラジカル重合性化合物からなる群より選ばれる一種類以上、並びに、（Ｃ１）光重合開始剤として、（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有することが好ましい。
＜（Ｄ）着色剤、（Ｄａ）黒色剤、及び（Ｄｂ）黒色以外の着色剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｄ）着色剤を含有することが好ましい。（Ｄ）着色剤とは、可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の光を吸収することで着色する化合物をいう。（Ｄ）着色剤を含有させることで、組成物の膜を透過する光、又は組成物の膜から反射する光を所望の色に着色できる。また、組成物の膜に遮光性を付与できる。
（Ｄ）着色剤としては、（Ｄ１）顔料及び（Ｄ２）染料などを使用でき、特に可視光に遮光性が必要な場合、本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄａ）黒色剤を含有することが好ましい。（Ｄａ）黒色剤とは、可視光線の波長の光を吸収することで、黒色化させる化合物をいう。（Ｄａ）黒色剤を含有させることで、組成物の膜が黒色化するため、組成物の膜の遮光性向上、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。そのため、画素分割層、電極絶縁層、配線絶縁層、ＴＦＴ平坦化層、電極平坦化層、配線平坦化層、ＴＦＴ保護層、電極保護層、配線保護層、層間絶縁層、ゲート絶縁層、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、又はブラックカラムスペーサーなどの用途に好適である。特に、外光反射の抑制によって高コントラスト化が要求される用途に好適であり、表示装置である有機ＥＬディスプレイの遮光性を有する画素分割層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、層間絶縁層、又はゲート絶縁層として好ましい。また、（Ｄａ）黒色剤を必ず含有し、さらに、（Ｄｂ）黒色以外の着色剤を含有しても構わない。（Ｄｂ）黒色以外の着色剤とは、可視光線の波長の光を吸収することで着色する化合物をいう。（Ｄｂ）黒色以外の着色剤を含有させることで、組成物の膜を所望の色座標へと調整する調色が可能となる。
（Ｄ）着色剤における黒色とは、Ｃｏｌｏｕｒ Ｉｎｄｅｘ Ｇｅｎｅｒｉｃ Ｎａｍｅ（以下、「Ｃ．Ｉ．ナンバー」）に“ＢＬＡＣＫ”が含まれるものをいう。Ｃ．Ｉ．ナンバーが付与されていないものを含有するときは、硬化膜とした場合に黒色であるものをいう。硬化膜とした場合における黒色とは、（Ｄ）着色剤を含有する組成物の硬化膜の透過スペクトルにおいて、波長５５０ｎｍにおける膜厚１．０μｍあたりの透過率を、ランベルト・ベールの式に基づいて、波長５５０ｎｍにおける透過率が１０％となるように膜厚を０．１～１．５μｍの範囲内で換算した場合に、換算後の透過スペクトルにおける、波長４５０～６５０ｎｍにおける透過率が、２５％以下であることをいう。硬化膜の透過スペクトルは、国際公開第２０１９／０８７９８５号に記載の方法に基づき、求めることができる。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ｄ）着色剤の含有比率は、遮光性向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｄ）着色剤の含有比率は、露光時の感度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄａ）黒色剤の好ましい含有比率は、遮光性向上、発光素子の信頼性向上、露光時の感度向上の観点から、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。
（Ｄ２）染料とは、対象物の表面構造に化学吸着等をして対象物を着色させる化合物をいい、一般的に溶剤等に可溶である。（Ｄ２）染料としては、例えば、アントラキノン系染料、アゾ系染料、アジン系染料、フタロシアニン系染料、メチン系染料、オキサジン系染料、キノリン系染料、インジゴ系染料、インジゴイド系染料、カルボニウム系染料、スレン系染料、ペリノン系染料、ペリレン系染料、トリアリールメタン系染料、又はキサンテン系染料が挙げられる。
＜（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び（Ｄ１ｂ）黒色以外の顔料＞
本発明の感光性樹脂組成物は、上述した（Ｄａ）黒色剤が、（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有することが好ましい。（Ｄ１ａ）黒色顔料とは、可視光線の波長の光を吸収することで、黒色化させる顔料をいう。また、対象物の表面に物理吸着、又は、対象物の表面と相互作用等をして対象物を黒色化させる顔料であり、一般的に溶剤等に不溶である。（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有させることで、組成物の膜の遮光性向上、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。
（Ｄ１ａ）黒色顔料としては、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有することが好ましい。窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成することで、後述する表示装置又は有機ＥＬディスプレイにおいて、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成することができる。
本発明の感光性樹脂組成物としては、上述した（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、この（Ｄ１ａ）黒色顔料が、後述する（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料、及び（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であることがより好ましい。本発明の感光性樹脂組成物としては、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、後述する（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料である場合において、さらに、（Ｄ１ｂ）黒色以外の顔料を含有しても構わない。（Ｄ１ｂ）黒色以外の顔料とは、可視光線の波長の光を吸収することで着色する顔料をいう。（Ｄ１ｂ）黒色以外の顔料を含有させることで、組成物の膜を所望の色座標へと調整する調色が可能となる。本発明の感光性樹脂組成物としては、（Ｄ１ｂ）黒色以外の顔料が、後述する青色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、橙色顔料、及び緑色顔料からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄ１ａ）黒色顔料の好ましい含有比率は、遮光性向上、発光素子の信頼性向上、露光時の感度向上の観点から、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。
＜（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料、及び（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、上述した（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料、及び（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であることがより好ましく、露光時の感度向上の観点から、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料がさらに好ましい。
（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料としては、例えば、アントラキノン系黒色顔料、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、アニリン系黒色顔料、アゾ系黒色顔料、アゾメチン系黒色顔料、又はカーボンブラックが挙げられる。カーボンブラックとしては、例えば、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、又はランプブラックが挙げられる。
（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料としては、例えば、グラファイト若しくは銀スズ合金、又は、チタン、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、若しくは銀などの金属における、微粒子、酸化物、複合酸化物、硫化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、窒化物、炭化物、若しくは酸窒化物が挙げられる。
（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物とは、赤、橙、黄、緑、青、及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を組み合わせることで、擬似的に黒色化させる、着色顔料混合物をいう。二色以上の顔料を混合するため、組成物の膜を所望の色座標へと調整する調色が可能となる。本発明の感光性樹脂組成物としては、露光時の感度向上の観点から、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、（Ｄ１ａ－３ａ）青色顔料、赤色顔料、及び黄色顔料を含む着色顔料混合物、（Ｄ１ａ－３ｂ）紫色顔料、及び黄色顔料を含む着色顔料混合物、（Ｄ１ａ－３ｃ）青色顔料、赤色顔料、及び橙色顔料を含む着色顔料混合物、又は（Ｄ１ａ－３ｄ）青色顔料、紫色顔料、及び橙色顔料を含む着色顔料混合物であることが好ましい。
青色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、又は６４が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。赤色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントレッド９、４８、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９０、１９２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、又は２５０が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。黄色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントイエロー１２、１３、１７、２０、２４、８３、８６、９３、９５、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１６６、１６８、１７５、１８０、１８１、１８５、１９２、又は１９４が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。紫色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３２、３７、４０、又は５０が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。橙色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントオレンジ１２、３６、３８、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１、又は７２が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。緑色に着色する顔料としては、例えば、ピグメントグリーン７、１０、３６、又は５８が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。
本発明の感光性樹脂組成物としては、上述した（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物において、露光時の感度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した青色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、上述した赤色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド１９０からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、上述した黄色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２、及びＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９４からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、上述した紫色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、上述した橙色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、及びＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ７２からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、（Ｄ１ａ－２）黒色無機顔料、及び（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物からなる群より選ばれる一種類以上の好ましい含有比率は、遮光性向上、発光素子の信頼性向上、露光時の感度向上の観点から、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。
＜（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料を含有し、
該（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含有することがより好ましい。また、露光時の感度向上、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含有することが好ましい。（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料は、一般的な有機顔料と比較して組成物中の顔料の単位含有比率当たりの遮光性に優れるため、膜の遮光性向上、及び露光時の感度向上が可能となる。加えて、膜の遮光性向上により、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の効果が顕著となる。また、一般的な有機顔料及び無機顔料と比較して絶縁性及び低誘電性に優れるため、発光素子の信頼性向上に効果があると考えられる。特に、表示装置である有機ＥＬディスプレイの遮光性を有する画素分割層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、層間絶縁層、又はゲート絶縁層などに好適であり、発光素子の信頼性を向上できる。
本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、後述する（Ｆ１）化合物として、一般式（１２ｂ）で表される化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上のアルカリ可溶性樹脂を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、さらに、後述する（Ｆ１）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
また同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、後述する（Ｆ１）化合物として、一般式（１２ｂ）で表される化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
さらに同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ１）光重合開始剤として（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、さらに、後述する（Ｆ１）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有する場合、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、さらに、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
また、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含む場合、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上のアルカリ可溶性樹脂を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料、及び／又は（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ｄ１ａ－３）二色以上の着色顔料混合物が、赤、橙、黄、緑、青及び紫色の顔料からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む場合、さらに、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
また同様に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述したＡ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上のアルカリ可溶性樹脂を含有し、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有し、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料であり、（Ｄ１ａ）黒色顔料が、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料であり、（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含む場合、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
感光性樹脂組成物としては、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含有する場合、後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。後述する（Ｆ）化合物として、後述する（Ｆ１）化合物、後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、（Ｄ）着色剤としては、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含有することがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）着色剤として、特に、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含有する場合、この顔料のアルカリ耐性不足に起因した顔料由来の現像残渣が高温プリベーク条件で顕著に発生する場合がある。本発明の感光性樹脂組成物は、後述する（ＦＢ－１）化合物及び／又は後述する（ＦＢ－２）化合物を含有することで、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。後述する（ＦＢ－１）化合物、及び後述する（ＦＢ－２）化合物としては、後述する特定の（ＦＢ－１）化合物、及び後述する特定の（ＦＢ－２）化合物が特に好ましい。
（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料としては、分子中にベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有し、一般式（６３）又は一般式（６４）で表されるベンゾフラノン化合物、その幾何異性体、その塩、又はその幾何異性体の塩が好ましい。
Figure 0007676778000019
一般式（６３）及び一般式（６４）において、Ｒ２０６、Ｒ２０７、Ｒ２１４、及びＲ２１５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、又はフッ素原子を１～２０個有する炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ２０８、Ｒ２０９、Ｒ２１６、及びＲ２１７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ２１２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ２１２、ＣＯＯ－、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＲ２１２、ＣＯＮＲ２１２Ｒ２１３、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ２１２、ＯＣＯＲ２１２、ＯＣＯＮＨ２、ＯＣＯＮＨＲ２１２、ＯＣＯＮＲ２１２Ｒ２１３、ＮＯ２、ＮＨ２、ＮＨＲ２１２、ＮＲ２１２Ｒ２１３、ＮＨＣＯＲ２１２、ＮＲ２１２ＣＯＲ２１３、Ｎ＝ＣＨ２、Ｎ＝ＣＨＲ２１２、Ｎ＝ＣＲ２１２Ｒ２１３、ＳＨ、ＳＲ２１２、ＳＯＲ２１２、ＳＯ２Ｒ２１２、ＳＯ３Ｒ２１２、ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３ －、ＳＯ２ＮＨ２、ＳＯ２ＮＨＲ２１２、又はＳＯ２ＮＲ２１２Ｒ２１３を表し、Ｒ２１２及びＲ２１３は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数４～１０のシクロアルケニル基、又は炭素数２～１０のアルキニル基を表す。複数のＲ２０８、Ｒ２０９、Ｒ２１６、又はＲ２１７で、直接結合、又は、酸素原子ブリッジ、硫黄原子ブリッジ、ＮＨブリッジ、若しくはＮＲ２１２ブリッジで環を形成しても構わない。Ｒ２１０、Ｒ２１１、Ｒ２１８、及びＲ２１９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料としては、例えば、“ＩＲＧＡＰＨＯＲ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ｓ０１００ＣＦ（ＢＡＳＦ社製）、国際公開第２０１０／０８１６２４号記載の黒色顔料、又は国際公開第２０１０／０８１７５６号記載の黒色顔料が挙げられる。
（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料とは、分子中にペリレン構造を有し、一般式（６９）で表されるペリレン化合物が好ましい。
Figure 0007676778000020
一般式（６９）において、Ｘ９２、及びＸ９３は、それぞれ独立して、直接結合、又は炭素数１～１０のアルキレン鎖を表す。Ｙ９２、及びＹ９３は、それぞれ独立して、直接結合、又は炭素数６～１５のアリーレン鎖を表す。Ｒ２２４及びＲ２２５は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数２～６のアシル基を表す。Ｒ２２６は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、又はフッ素原子を１～２０個有する炭素数１～１０のアルキル基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。ｃは、０～８の整数を表す。Ｘ９２、及びＸ９３が、直接結合であって、Ｙ９２、及びＹ９３が、直接結合の場合、Ｒ２２４及びＲ２２５は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、ａ及びｂは、１である。Ｘ９２、及びＸ９３が、炭素数１～１０のアルキレン鎖であって、Ｙ９２、及びＹ９３が、直接結合の場合、Ｒ２２４及びＲ２２５は、ヒドロキシ基が好ましく、ａ及びｂは、１である。Ｘ９２、及びＸ９３が、炭素数１～１０のアルキレン鎖であって、Ｙ９２、及びＹ９３が、炭素数６～１５のアリーレン鎖の場合、Ｒ２２４及びＲ２２５は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数２～６のアシル基が好ましい。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。上述したアルキレン鎖、アリーレン鎖、アルコキシ基、アシル基、及びアルキル基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料としては、例えば、ピグメントブラック３１又は３２が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。上述した以外に、“ＰＡＬＩＯＧＥＮ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ｓ００８４、同 Ｋ００８４、同 Ｌ００８６、同 Ｋ００８６、同 ＥＨ０７８８、又は同 ＦＫ４２８１（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料とは、分子内にアゾ基を有し、一般式（７２）で表されるアゾ化合物が好ましい。
Figure 0007676778000021
一般式（７２）において、Ｘ９６は、炭素数６～１５のアリーレン鎖を表す。Ｙ９６は、炭素数６～１５のアリーレン鎖を表す。Ｒ２７５、Ｒ２７６、及びＲ２７７は、それぞれ独立して、ハロゲン原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ２７８は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又はニトロ基を表す。Ｒ２７９は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～１０のアシルアミノ基、又はニトロ基を表す。Ｒ２８０、Ｒ２８１、Ｒ２８２、及びＲ２８３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。ａは、０～４の整数を表し、ｂは、０～２の整数を表し、ｃは、０～４の整数を表し、ｄ及びｅは、それぞれ独立して、０～８の整数を表し、ｎは、１～４の整数を表す。上述したアリーレン鎖、アルキル基、アルコキシ基、及びアシルアミノ基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料としては、例えば、“ＣＨＲＯＭＯＦＩＮＥ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ａ１１０３（大日精化工業社製）、特開平０１－１７０６０１号公報に記載された黒色顔料、又は特開平０２－０３４６６４号公報に記載された黒色顔料が挙げられる。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上の含有比率は、遮光性向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料、（Ｄ１ａ－１ｂ）ペリレン系黒色顔料、及び（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上の含有比率は、露光時の感度向上の観点から、７０質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましい。
＜（ＤＣ）被覆層＞
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料が、さらに、（ＤＣ）被覆層を含有することが好ましい。（ＤＣ）被覆層とは、例えば、シランカップリング剤による表面処理、ケイ酸塩による表面処理、金属アルコキシドによる表面処理又は樹脂による被覆処理などの処理で形成される、顔料表面を被覆する層をいう。（ＤＣ）被覆層を含有させることで、前記（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料の粒子表面の酸性化、塩基性化、親水性化又は疎水性化などによって、粒子の表面状態を改質でき、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、分散安定性、又は耐熱性などを向上できる。それにより、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生の抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、粒子表面に絶縁性の被覆層を形成させることで、硬化膜の絶縁性向上によるリーク電流低減により、発光素子の信頼性向上が可能となる。本発明の感光性樹脂組成物は、上述した（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料として、特に（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料を含有する場合、（ＤＣ）被覆層を含有させることで、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生の抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
前記（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料に対する、（ＤＣ）被覆層による平均被覆率は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、５０％以上が好ましく、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。前記（Ｄ１ａ－１）黒色有機顔料に対する、（ＤＣ）被覆層による平均被覆率は、国際公開第２０１９／０８７９８５号に記載の方法に基づき、求めることができる。
＜（ＤＣ－１）シリカ被覆層、（ＤＣ－２）金属酸化物被覆層、及び（ＤＣ－３）金属水酸化物被覆層＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（ＤＣ）被覆層として、（ＤＣ－１）シリカ被覆層、（ＤＣ－２）金属酸化物被覆層、及び（ＤＣ－３）金属水酸化物被覆層からなる群より選ばれる一種類を含有することが好ましい。シリカ、金属酸化物、及び金属水酸化物は、顔料に耐アルカリ性を付与することができ、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を抑制できる。シリカとしては、二酸化ケイ素又はその含水物が挙げられる。金属酸化物としては、金属酸化物又はその水和物が挙げられる。金属酸化物としてはアルミナが挙げられ、例えば、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）又はアルミナ水和物（Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ）が挙げられる。金属水酸化物としては、例えば、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）が挙げられる。シリカは誘電率が低いため、（ＤＣ）被覆層の含有量を増加した場合においても誘電率の上昇を抑制でき、発光素子の信頼性向上が可能となる。
（ＤＣ）被覆層が、（ＤＣ－１）シリカ被覆層を含有する場合、シリカの含有量は、顔料の粒子を１００質量部とした場合において、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生抑制の観点から、１質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、シリカの含有量は、現像後の解像度向上の観点から、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
（ＤＣ）被覆層が、（ＤＣ－２）金属酸化物被覆層及び／又は（ＤＣ－３）金属水酸化物被覆層を含有する場合、金属酸化物及び金属水酸化物の含有量の合計は、顔料の粒子を１００質量部とした場合において、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生抑制の観点から、０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましい。一方、金属酸化物及び金属水酸化物の含有量の合計は、塗液の保管安定性向上の観点から、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
＜（Ｅ）分散剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｅ）分散剤を含有することが好ましい。（Ｅ）分散剤とは、上述した（Ｄ１）顔料などの表面と相互作用する表面親和性基と、（Ｄ１）顔料などの分散安定性を向上させる分散安定化構造を有する化合物をいう。（Ｅ）分散剤の分散安定化構造としては、立体障害によって分散安定化に寄与するポリマー鎖、又は、静電反発によって分散安定化に寄与するイオン性置換基若しくは極性置換基などが挙げられる。特に、（Ｄ１）顔料の数平均粒子径が５００ｎｍ以下である場合、数平均粒子径が小さくなるほど表面積の増大によって粒子が凝集しやすくなるため、顔料由来の現像残渣が高温プリベーク条件で顕著に発生する場合がある。本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｅ）分散剤を含有させることで、（Ｄ１）顔料の分散安定性向上が可能となり、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生の抑制、現像後の解像度向上、及び塗液の保管安定性向上が可能となる。加えて、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
（Ｅ）分散剤としては、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、窒素原子を含む（Ｅ）分散剤を含有することが好ましい。窒素原子を含む（Ｅ）分散剤を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を形成することで、後述する表示装置又は有機ＥＬディスプレイにおいてシアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成することができる。
（Ｅ）分散剤としては、例えば、塩基性基のみを有する分散剤、塩基性基及び酸性基を有する分散剤、酸性基のみを有する分散剤、塩基性基が酸と塩形成した構造を有する分散剤、酸性基が塩基と塩形成した構造を有する分散剤、又は塩基性基及び酸性基のいずれも有しない分散剤が挙げられる。分散安定性向上、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後の解像度向上の観点、並びに、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、塩基性基のみを有する分散剤、塩基性基及び酸性基を有する分散剤、塩基性基が酸と塩形成した構造を有する分散剤、又は酸性基が塩基と塩形成した構造を有する分散剤が好ましく、塩基性基のみを有する分散剤、又は塩基性基及び酸性基を有する分散剤がより好ましい。
（Ｅ）分散剤が有する塩基性基としては、三級アミノ基、ピロリジン骨格、ピロール骨格、イミダゾール骨格、ピラゾール骨格、イミダゾリン骨格、ピペリジン骨格、ピペラジン骨格、モルホリン骨格、又はピリジン骨格などの含窒素環骨格が好ましく、三級アミノ基がより好ましい。（Ｅ）分散剤が有する酸性基としては、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、又はヒドロキシイミド基が好ましく、カルボキシ基、又はカルボン酸無水物基がより好ましい。（Ｅ）分散剤が有する塩基性基が酸と塩形成した構造としては、四級アンモニウム塩構造、又は上述した含窒素環骨格が塩形成した構造が好ましく、四級アンモニウム塩構造がより好ましい。塩基性基が酸と塩形成した構造において、カウンターアニオンとしては、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、フェノキシアニオン、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、又はハロゲンアニオンが好ましく、カルボン酸アニオンがより好ましい。
（Ｅ）分散剤のアミン価としては、分散安定性向上の観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、アミン価としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。ここでいうアミン価とは、（Ｅ）分散剤１ｇ当たりと反応する酸と当量の水酸化カリウムの質量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。（Ｅ）分散剤１ｇを酸で中和させた後、水酸化カリウム水溶液で滴定することで求めることができる。アミン価の値から、アミノ基などの塩基性基１ｍｏｌ当たりの樹脂質量であるアミン当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出することができ、（Ｅ）分散剤中のアミノ基などの塩基性基の数を求めることができる。
（Ｅ）分散剤の酸価としては、分散安定性向上の観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、酸価としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。ここでいう酸価とは、（Ｅ）分散剤１ｇ当たりと反応する水酸化カリウムの質量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。（Ｅ）分散剤１ｇを水酸化カリウム水溶液で滴定することで求めることができる。酸価の値から、酸性基１ｍｏｌ当たりの樹脂質量である酸当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出することができ、（Ｅ）分散剤中の酸性基の数を求めることができる。
ポリマー鎖を有する（Ｅ）分散剤としては、アクリル樹脂系分散剤、ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリオール系分散剤、ポリオキシアルキレンアミン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、又はポリアリルアミン系分散剤が好ましく、分散安定性向上、及び高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点、並びに、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、アクリル樹脂系分散剤、ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリオキシアルキレンアミン系分散剤、又はポリエチレンイミン系分散剤が好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤を含有し、該（Ｅ１）化合物が、一般式（３２）～（３４）で表される構造からなる群より選ばれる一種類以上、及びポリオキシアルキレン構造を有することがより好ましい。（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤としては、顔料分散液の保管時の粘度上昇抑制、硬化膜の平坦性向上、及び高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点、並びに、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（３２）で表される構造、及びポリオキシアルキレン構造を有することがさらに好ましい。
Figure 0007676778000022
一般式（３２）～（３４）において、Ｒ２７～Ｒ３０は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｎは１～９の整数を表す。＊１～＊６は、それぞれ独立して、ポリオキシアルキレン構造との結合点を表す。
本発明の感光性樹脂組成物が（Ｄ１）顔料を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｅ）分散剤の含有量は、（Ｄ１）顔料を１００質量部とした場合において、分散安定性向上、及び高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、５質量部以上が好ましく、１５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｅ）分散剤の含有比率は、現像後のパターン剥がれ抑制、及び高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、５０質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましい。
＜（Ｆ）リン原子を有する化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物（以下、「（Ｆ１）化合物」）、及び／又は、（ＦＢ）リン原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物（以下、「（ＦＢ）化合物」）を含有する。（Ｆ１）化合物及び／又は（ＦＢ）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。
ベタイン（ｂｅｔａｉｎｅ）とは、正電荷と負電荷を同一分子内の隣り合わない位置に持ち、正電荷を持つ原子には解離しうる水素が結合しておらず（四級アンモニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどのカチオン構造をとる）、分子全体としては電荷を持たない化合物（分子内塩）の総称である。
なお、本発明の感光性樹脂組成物が含有する（Ｆ）リン原子を有する化合物（以下、「（Ｆ）化合物」）としては、上述した（Ｆ１）化合物及び／又は（ＦＢ）化合物を含有する。また、（Ｆ）化合物としては、（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物、（ＦＢ－１）ベタイン型リン脂質（以下、「（ＦＢ－１）化合物」）、（ＦＢ－２）脂肪族基含有ベタイン化合物（以下、「（ＦＢ－２）化合物」）、（ＦＢ－３）反応性基含有ベタイン化合物（以下、「（ＦＢ－３）化合物」）、（ＦＢ－４）ベタイン型樹脂（以下、「（ＦＢ－４）化合物」）、（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質（以下、「（ＦＣ－１）化合物」）、（Ｆ２）リン原子、及び芳香族基を有する化合物（以下、「（Ｆ２）化合物」）、及び（Ｆ３）リン原子、及び反応性基を有する化合物（以下、「（Ｆ３）化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｆ１）化合物が、リン原子を含む酸性基、及びリン原子を含む酸性基が塩形成した構造からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、前記（ＦＢ）化合物が、リン原子を含むアニオン構造を有するベタイン化合物を含み、該（Ｆ１）化合物及び該（ＦＢ）化合物が、リン原子に結合する置換基及び／又はＰ－Ｏ結合上の酸素原子に結合する置換基として、炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基及び／又はベタイン構造を有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｆ１）化合物、及び、前記（ＦＢ）化合物を含有し、該（Ｆ１）化合物が、リン原子を含む酸性基、及びリン原子を含む酸性基が塩形成した構造からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、該（ＦＢ）化合物が、リン原子を含むアニオン構造を有するベタイン化合物を含むことがより好ましい。
リン原子を含む酸性基が塩形成した構造としては、リン原子を含む酸性基のアニオン構造と、カチオン構造を有する化合物とが、塩形成した構造が挙げられる。カチオン構造を有する化合物としては、金属原子のカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、及びスルホニウムカチオンからなる群より選ばれる一種類以上を有する化合物が挙げられ、アンモニウムカチオン、及びホスホニウムカチオンからなる群より選ばれる一種類以上を有する化合物が好ましく、アンモニウムカチオンを有する化合物がより好ましい。アンモニウムカチオンとしては、モノアルキルアンモニウムカチオン、ジアルキルアンモニウムカチオン、又はトリアルキル四級アンモニウムカチオンが好ましく、トリアルキル四級アンモニウムカチオンがより好ましい。アンモニウムカチオンとしては、少なくとも１つの炭素数１～３０の脂肪族基を有することが好ましく、炭素数１～１５の脂肪族基を有することがより好ましく、炭素数１～１０の脂肪族基を有することがさらに好ましく、炭素数１～６の脂肪族基を有することが特に好ましい。脂肪族基としては、１～２価の直鎖構造及び／又は分岐構造の脂肪族基が好ましく、直鎖構造のアルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基がさらに好ましい。
（ＦＢ）化合物は、分子中に少なくとも、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造を有することが好ましい。（ＦＢ）化合物としては、例えば、α－グリセリルホスホリルコリン、α－グリセリルホスホリルエタノールアミン、α－グリセリルホスホリルセリン、ホスホリルコリン、ホスホリルエタノールアミン、又はホスホリルセリンが好ましい。
なお、（ＦＢ）リン原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物としては、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（ＦＢ－１）化合物、及び／又は（ＦＢ－２）化合物を含有することがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｆ１）化合物が、リン原子を含む酸性基、及びリン原子を含む酸性基が塩形成した構造からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、かつ該（Ｆ１）化合物が、一般式（１１ａ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含み、
前記（ＦＢ）化合物が、リン原子を含むアニオン構造を有するベタイン化合物を含み、かつ該（ＦＢ）化合物が、（ＦＢ－１）ベタイン型リン脂質、（ＦＢ－２）脂肪族基含有ベタイン化合物、（ＦＢ－３）反応性基含有ベタイン化合物、及び（ＦＢ－４）ベタイン型樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
該（ＦＢ－１）化合物が、リン原子を含むアニオン構造、アンモニウムカチオン構造、並びに、炭素数６～３０の脂肪族エステル構造及び／又は炭素数６～３０の脂肪族エーテル構造、を有する化合物を含み、
該（ＦＢ－２）化合物が、一般式（２５ａ）で表される化合物を含み、
該（ＦＢ－３）化合物が、リン原子を含むアニオン構造、アンモニウムカチオン構造、並びに、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、
該（ＦＢ－４）化合物が、リン原子を含むアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造、を含む構造単位、を有する樹脂を含むことがより好ましい。
Figure 0007676778000023
一般式（１１ａ）において、Ｘ１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙ１及びＹ５は、それぞれ独立して、直接結合又は酸素原子を表す。Ｚ１及びＺ５は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～３０の２価の脂肪族基を表す。Ｚ１が直接結合の場合、対応するＲ３１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。Ｚ５が直接結合の場合、対応するＲ３５は、水素原子、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。なおＲ３１が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するＲ３５は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。Ｚ１とＺ５の少なくともいずれかが、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３１及び／又はＲ３５は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。ａは０又は１を表す。Ｚ１及びＺ５における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ３１及びＲ３５における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（２５ａ）において、Ｘ２１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙ２１及びＹ２４は、それぞれ独立して、直接結合又は酸素原子を表す。Ｚ２１は、直接結合、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、又は一般式（１０）で表される基を表す。Ｚ２１が直接結合又は一般式（１０）で表される基の場合、対応するＲ１２１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。Ｚ２１が炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ１２１は、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。Ｚ２４は、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１２４は、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１２７～Ｒ１２９は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ａは０又は１を表す。ｃは０～４の整数を表す。Ｚ２１における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ１２１における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１０）において、Ｙ２７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１３６は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２５ａ）中のリン原子又はＹ２１との結合点を表す。＊２は、一般式（２５ａ）中のＲ１２１との結合点を表す。
一般式（１１ａ）において、Ｘ１は、酸素原子であることが好ましい。Ｚ１は、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ５は、直接結合が好ましい。ａは、１が好ましい。Ｚ１及びＺ５における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ３１及びＲ３５における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基が好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
一般式（２５ａ）において、Ｘ２１は、酸素原子であることが好ましい。Ｚ２１は、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ２４は、炭素数１～４の２～６価の脂肪族基が好ましい。Ｒ１２４は、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基が好ましい。Ｒ１２７～Ｒ１２９は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基が好ましい。Ｚ２１における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ１２１における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
＜（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｆ１）リン原子、及び炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有する化合物（以下、「（Ｆ１）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｆ１）化合物としては、上述した一般式（１１ａ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含有することが好ましい。また、（Ｆ１）化合物としては、一般式（１１）～（１３）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選択される１種以上、を含有することがより好ましい。（Ｆ１）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１１）～（１３）で表される化合物、及びそれらの塩のうち、２つ以上の化合物を含有することも好ましい。
（Ｆ１）化合物は、（Ｉ）炭素数６～３０の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、及び／又は、（ＩＩ）炭素数６～３０の２価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基を有する。
Figure 0007676778000024
一般式（１１）～（１３）において、Ｘ１～Ｘ３は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ１～Ｚ３、及びＺ５～Ｚ７は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～３０の２価の脂肪族基を表す。一般式（１１）におけるＺ１が、直接結合の場合、対応するＲ３１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（１２）及び（１３）における、Ｚ２及び対応するＲ３２、並びに、Ｚ３及び対応するＲ３３においても一般式（１１）におけるＺ１及び対応するＲ３１の関係と同様である。一般式（１１）におけるＺ５が、直接結合の場合、対応するＲ３５は、水素原子、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（１２）及び（１３）における、Ｚ６及び対応するＲ３６、並びに、Ｚ７及び対応するＲ３７においても一般式（１１）におけるＺ５及び対応するＲ３５の関係と同様である。なお、一般式（１１）におけるＲ３１が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するＲ３５は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（１２）及び（１３）における、Ｒ３２及び対応するＲ３６、並びに、Ｒ３３及び対応するＲ３７においても一般式（１１）におけるＲ３１及び対応するＲ３５の関係と同様である。一般式（１１）におけるＺ１とＺ５の少なくともいずれかが、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３１及び／又はＲ３５は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。一般式（１２）～（１３）における、Ｚ２とＺ６及び対応するＲ３２とＲ３６、並びに、Ｚ３とＺ７及び対応するＲ３３とＲ３７においても一般式（１１）におけるＺ１とＺ５及び対応するＲ３１とＲ３５の関係と同様である。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。Ｚ１～Ｚ３、及びＺ５～Ｚ７における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ３１～Ｒ３３、及びＲ３５～Ｒ３７における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１１）～（１３）において、Ｘ１～Ｘ３は、酸素原子であることが好ましい。Ｚ１～Ｚ３は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ５～Ｚ７は、それぞれ独立して、直接結合が好ましい。一般式（１１）におけるＺ１が、直接結合の場合、対応するＲ３１は、炭素数６～１５の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基が好ましい。一般式（１２）及び（１３）における、Ｚ２及び対応するＲ３２、並びに、Ｚ３及び対応するＲ３３においても一般式（１１）におけるＺ１及び対応するＲ３１の関係と同様である。一般式（１１）におけるＺ５が、直接結合の場合、対応するＲ３５は、水素原子、炭素数６～１５の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基が好ましく、水素原子がより好ましい。一般式（１２）及び（１３）における、Ｚ６及び対応するＲ３６、並びに、Ｚ７及び対応するＲ３７においても一般式（１１）におけるＺ５及び対応するＲ３５の関係と同様である。一般式（１１）におけるＺ１とＺ５の少なくともいずれかが、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３１及び／又はＲ３５は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数６～１５のアリールオキシ基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキルオキシ基、炭素数６～１５のハロゲン化アリール基、炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基、炭素数２～１０のアルコキシポリアルキレンオキシ基、炭素数２～１０のヒドロキシポリアルキレンオキシ基、又はフタルイミド基が好ましく、水素原子、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基がより好ましい。一般式（１２）～（１３）における、Ｚ２とＺ６及び対応するＲ３２とＲ３６、並びに、Ｚ３とＺ７及び対応するＲ３３とＲ３７においても一般式（１１）におけるＺ１とＺ５及び対応するＲ３１とＲ３５の関係と同様である。ａ及びｂは、それぞれ独立して、１が好ましい。Ｚ１～Ｚ３、及びＺ５～Ｚ７における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ３１～Ｒ３３、及びＲ３５～Ｒ３７における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基が好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（Ｆ１）化合物が、脂肪族基含有ホスホン酸、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル、脂肪族基含有亜リン酸モノエステル、及び脂肪族基含有亜リン酸ジエステルからなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましい。
（Ｆ１）化合物が、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、脂肪族基含有リン酸モノエステル、脂肪族基含有リン酸ジエステル、脂肪族基含有亜リン酸モノエステル、脂肪族基含有亜リン酸ジエステル、脂肪族基含有ホスホン酸、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル、脂肪族基含有次亜リン酸、脂肪族基含有次亜リン酸モノエステル、脂肪族基含有ホスフィン酸、脂肪族基含有チオリン酸モノエステル、及び脂肪族基含有チオリン酸ジエステルからなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、脂肪族基含有リン酸モノエステル、脂肪族基含有亜リン酸モノエステル、脂肪族基含有ホスホン酸、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル、脂肪族基含有次亜リン酸、及び脂肪族基含有ホスフィン酸からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、脂肪族基含有ホスホン酸、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル、脂肪族基含有亜リン酸モノエステル、及び脂肪族基含有亜リン酸ジエステルからなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを含有し、前記（Ｆ１）化合物が、炭素数６～１０の１～２価の脂肪族基を有することが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、後述するアセテート結合を有する溶剤として、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを含有し、かつ（Ｆ１）化合物としては、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３が、直接結合の場合、Ｒ３１～Ｒ３３における炭素数６～３０の１価の脂肪族基が、それぞれ独立して炭素数６～１０の１価の脂肪族基であり、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ５～Ｚ７が、直接結合の場合、Ｒ３５～Ｒ３７は、水素原子、又は炭素数６～３０の１価の脂肪族基であって、Ｒ３５～Ｒ３７における炭素数６～３０の１価の脂肪族基が、それぞれ独立して炭素数６～１０の１価の脂肪族基であり、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３が、それぞれ独立して炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、Ｚ１～Ｚ３が、それぞれ独立して炭素数６～１０の２価の脂肪族基であり、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ５～Ｚ７が、それぞれ独立して炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、Ｚ５～Ｚ７が、それぞれ独立して炭素数６～１０の２価の脂肪族基であることが好ましい。なお、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。
（Ｆ１）化合物が、上述した特定の炭素数の１価の脂肪族基、又は特定の炭素数の２価の脂肪族基を有することで、特異的に（Ｆ１）化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解性を顕著に向上できる。それにより、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。従って、本発明の感光性樹脂組成物が、後述するアセテート結合を有する溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有する場合、特に好適である。特に、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物が、上述した特定の炭素数の１価の脂肪族基、又は特定の炭素数の２価の脂肪族基を有する場合、溶剤に占めるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有比率は、３０～１００質量％がより好ましく、５０～１００質量％がさらに好ましく、７０～１００質量％が特に好ましい。
（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１１）～（１３）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選択される１種以上、を含み、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３及びＺ５～Ｚ７が、直接結合であり、Ｒ３１～Ｒ３３及びＲ３５～Ｒ３７が、それぞれ独立して炭素数６～３０の１価の脂肪族基であることが好ましい。（Ｆ１）化合物としては、同様の観点から、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３及びＺ５～Ｚ７が、直接結合であり、Ｒ３１～Ｒ３３が、それぞれ独立して炭素数６～３０の１価の脂肪族基であって、Ｒ３５～Ｒ３７が、水素原子であることがより好ましい。
（Ｆ１）化合物において、一般式（１１）～（１３）で表される化合物としては、例えば、リン酸ヘキシル、リン酸２－エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸デシル、リン酸ドデシル、リン酸オクタデシル、リン酸ステアリル、リン酸テトラコシル、リン酸ジヘキシル、リン酸ビス（２－エチルヘキシル）、リン酸ジオクチル、リン酸ジデシル、リン酸ジドデシル、リン酸ジオクタデシル、リン酸ジステアリル、ヘキシルホスホン酸、（２－エチルヘキシル）ホスホン酸、オクチルホスホン酸、デシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、ステアリルホスホン酸、テトラコシルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸ヘキシル、（２－エチルヘキシル）ホスホン酸２－エチルヘキシル、オクチルホスホン酸オクチル、デシルホスホン酸デシル、ドデシルホスホン酸ドデシル、オクタデシルホスホン酸オクタデシル、ステアリルホスホン酸ステアリル、ヘキシルホスフィン酸、（２－エチルヘキシル）ホスフィン酸、（トリメチルペンチル）ホスフィン酸、オクチルホスフィン酸、デシルホスフィン酸、ドデシルホスフィン酸、オクタデシルホスフィン酸、ステアリルホスフィン酸、テトラコシルホスフィン酸、ジヘキシルホスフィン酸、ビス（２－エチルヘキシル）ホスフィン酸、ビス（トリメチルペンチル）ホスフィン酸、ジオクチルホスフィン酸、ジデシルホスフィン酸、ジドデシルホスフィン酸、ジオクタデシルホスフィン酸、又はジステアリルホスフィン酸が挙げられる。
（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上（以下、「特定の（Ｆ１）化合物」）を含むことが好ましい。（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含み、さらに、一般式（１１）～（１３）で表される化合物、及びそれらの塩のうち、一種類以上の化合物を含有することも好ましい。
Figure 0007676778000025
一般式（１２ｂ）において、Ｚ２及びＺ６は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～３０の２価の脂肪族基を表す。一般式（１２ｂ）におけるＺ２が、直接結合の場合、対応するＲ３２は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（１２ｂ）におけるＺ６が、直接結合の場合、対応するＲ３６は、水素原子、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。なお、一般式（１２ｂ）におけるＲ３２が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するＲ３６は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（１２ｂ）におけるＺ２とＺ６の少なくともいずれかが、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３２及び／又はＲ３６は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。Ｚ２及びＺ６における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ３２及びＲ３６における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１２ｂ）において、Ｚ２及びＺ６は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ２及びＺ６における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ３２及びＲ３６における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基が好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含むことが好ましい。（Ｆ１）化合物として、特定構造の脂肪族基を有する化合物を含有させることで、これらの樹脂に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、下地の基板との密着性向上の効果が顕著となる。一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、と組み合わされる（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、及び（Ａ２－１）ポリシロキサンからなる群より選ばれる一種類以上を含有することよりが好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドからなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましく、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドからなる群より選ばれる一種類以上を含有することが特に好ましい。
（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含み、さらに、一般式（１１ｂ）で表される化合物、一般式（１３ｂ）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含むことがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１－５）ポリアミドイミド、（Ａ２－１）ポリシロキサン、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂、及び（Ａ２－３）酸変性エポキシ樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合、（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１２ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含み、さらに、一般式（１１ｂ）で表される化合物、一般式（１３ｂ）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含むことがより好ましい。
Figure 0007676778000026
一般式（１１ｂ）及び（１３ｂ）において、Ｚ１、Ｚ３、Ｚ５及びＺ７は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～３０の２価の脂肪族基を表す。一般式（１１ｂ）におけるＺ１が、直接結合の場合、対応するＲ３１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（１３ｂ）における、Ｚ３及び対応するＲ３３においても一般式（１１ｂ）におけるＺ１及び対応するＲ３１の関係と同様である。一般式（１１ｂ）におけるＺ５が、直接結合の場合、対応するＲ３５は、水素原子、炭素数６～３０の１価の脂肪族基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（１３ｂ）における、Ｚ７及び対応するＲ３７においても一般式（１１ｂ）におけるＺ５及び対応するＲ３５の関係と同様である。なお、一般式（１１ｂ）におけるＲ３１が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するＲ３５は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（１３ｂ）における、Ｒ３３及び対応するＲ３７においても一般式（１１ｂ）におけるＲ３１及び対応するＲ３５の関係と同様である。一般式（１１ｂ）におけるＺ１とＺ５の少なくともいずれかが、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３１及び／又はＲ３５は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。一般式（１３ｂ）における、Ｚ３とＺ７及び対応するＲ３３とＲ３７においても一般式（１１ｂ）におけるＺ１とＺ５及び対応するＲ３１及び／又はＲ３５の関係と同様である。Ｚ１、Ｚ３、Ｚ５及びＺ７における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ３１、Ｒ３３、Ｒ３５及びＲ３７における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１１ｂ）及び（１３ｂ）において、Ｚ１、Ｚ３、Ｚ５及びＺ７は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ１、Ｚ３、Ｚ５及びＺ７における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ３１、Ｒ３３、Ｒ３５及びＲ３７における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、フッ素原子で置換された基を有することが好ましい。また、上述した（Ａ１－１）ポリイミド、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体、及び（Ａ１－５）ポリアミドイミドが、フッ素原子を有する構造単位を含有する場合、これらの樹脂に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生を顕著に抑制できる。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
（Ｆ１）化合物が、フッ素原子で置換された基を有する態様としては、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３、及びＺ５～Ｚ７が、それぞれ独立して直接結合の場合、Ｒ３１～Ｒ３３、及びＲ３５～Ｒ３７が、それぞれ独立して、フッ素原子を置換された炭素数６～１５の１価の脂肪族基であることが好ましい。同様に、上述した一般式（１１）～（１３）中、Ｚ１～Ｚ３、及びＺ５～Ｚ７が、それぞれ独立して炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、Ｒ３１～Ｒ３３、及びＲ３５～Ｒ３７が、それぞれ独立して、フッ素原子で置換された炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、又はフッ素原子で置換された炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基であることが好ましい。
フッ素原子で置換された基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロプロピル基、ペンタフルオロペンチル基、ノナフルオロヘキシル基、トリデカフルオロオクチル基、ヘプタフルオロデシル基、ヘプタデカフルオロデシル基、ヘンエイコサフルオロドデシル基、フルオロシクロペンチル基、テトラフルオロシクロペンチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロプロポキシ基、テトラフルオロプロポキシ基、ノナフルオロヘキシルオキシ基、テトラフルオロシクロペンチルオキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、又はトリフルオロメチルフェノキシ基が挙げられる。
上述した光反応性基としては、（メタ）アクリル基、スチリル基、シンナミル基、又はマレイミド基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましい。上述した熱反応性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、カルボキシ基、アミノ基、又はメルカプト基が好ましく、エポキシ基がより好ましい。上述した炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基としては、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、２－ブテニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基、又はアリル基がより好ましく、ビニル基がさらに好ましい。
（Ｆ１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｉ）炭素数６～１０の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、及び（ＩＩ）光反応性基又は炭素数２～５のアルケニル基を有する化合物（以下、「反応性基含有（Ｆ１）化合物」）も好ましい。反応性基含有（Ｆ１）化合物としては、例えば、リン酸ヘキシル・ビニル、リン酸オクチル・ビニル、リン酸デシル・ビニル、リン酸オクチル・アリル、リン酸オクチル・スチリル、ヘキシルホスホン酸ビニル、オクチルホスホン酸ビニル、デシルホスホン酸ビニル、オクチルホスホン酸アリル、オクチルホスホン酸スチリル、ビニルホスホン酸ヘキシル、ビニルホスホン酸オクチル、ビニルホスホン酸デシル、アリルホスホン酸オクチル、スチリルホスホン酸オクチル、ヘキシル・ビニルホスフィン酸、オクチル・ビニルホスフィン酸、デシル・ビニルホスフィン酸、オクチル・アリルホスフィン酸、オクチル・スチリルホスフィン酸ＥＯ変性リン酸オクチル・（メタ）アクリル、ＥＯ変性リン酸オクチル・ビニル、ＥＯ変性リン酸オクチル・アリル、ＰＯ変性リン酸オクチル・（メタ）アクリル、ＰＯ変性リン酸オクチル・ビニル、ＰＯ変性リン酸オクチル・アリル、ＢＯ変性リン酸オクチル・（メタ）アクリル、ＢＯ変性リン酸オクチル・ビニル、又はＢＯ変性リン酸オクチル・アリルが挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ１）光重合開始剤を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｆ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましく、０．３質量部以上がさらに好ましく、０．５質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１．５質量部以下がより好ましく、１．２質量部以下がさらに好ましく、１質量部以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｆ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．１質量部以上が好ましく、０．２質量部以上がより好ましく、０．５質量部以上がさらに好ましく、１質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、４質量部以下が好ましく、３質量部以下がより好ましく、２．５質量部以下がさらに好ましく、２質量部以下が特に好ましい。
＜（ＦＢ－１）ベタイン型リン脂質、及び（ＦＢ－２）脂肪族基含有ベタイン化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（ＦＢ－１）ベタイン型リン脂質（以下、「（ＦＢ－１）化合物」）、及び／又は（ＦＢ－２）脂肪族基含有ベタイン化合物（以下、「（ＦＢ－２）化合物」）を含有することが好ましい。（ＦＢ－１）化合物としては、上述したリン原子を含むアニオン構造、アンモニウムカチオン構造、並びに、炭素数６～３０の脂肪族エステル構造及び／又は炭素数６～３０の脂肪族エーテル構造を有する化合物を含有することが好ましい。（ＦＢ－２）化合物としては、上述した一般式（２５ａ）で表される化合物を含有することが好ましい。また、（ＦＢ－２）化合物としては、一般式（２５）～（２７）で表される化合物からなる群より選択される１種以上、を含有することがより好ましい。（ＦＢ－１）化合物、及び／又は（ＦＢ－２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２つ以上の（ＦＢ－１）ベタイン型リン脂質を含有することも好ましく、（ＦＢ－２）一般式（２５）～（２７）で表される化合物のうち、２つ以上の化合物を含有することも好ましく、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含有することも好ましい。
（ＦＢ－１）化合物は、分子中に少なくとも、（Ｉ）リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造を有する。さらに、（ＩＩＩ）炭素数６～３０の脂肪酸化合物に由来する脂肪酸エステル構造、及び／又は、炭素数６～３０の脂肪族アルコールに由来する脂肪族エーテル構造を有することが好ましい。（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物を含み、さらに、特定の（ＦＢ－１）化合物及び／又は特定の（ＦＢ－２）化合物を含有することが特に好ましい。
（ＦＢ－２）化合物は、分子中に少なくとも、（Ｉ）リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造を有する。さらに、（ＩＶ）炭素数６～３０の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、及び／又は、（Ｖ）炭素数６～３０の２価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000027
一般式（２５）～（２７）において、Ｘ２１～Ｘ２３は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ２１～Ｚ２３は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、又は一般式（１０）で表される基を表す。一般式（２５）におけるＺ２１が、直接結合又は一般式（１０）で表される基の場合、対応するＲ１２１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（２６）及び（２７）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２、並びに、Ｚ２３及び対応するＲ１２３においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。一般式（２５）におけるＺ２１が、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ１２１は、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。一般式（２６）～（２７）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２、並びに、Ｚ２３及び対応するＲ１２３においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。Ｚ２４～Ｚ２６は、それぞれ独立して、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１２４～Ｒ１２６は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１２７～Ｒ１３５は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｘ及びｙは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｘ＋ｙ＝１である。Ｚ２１～Ｚ２３における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ１２１～Ｒ１２３における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１０）において、Ｙ２７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１３６は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２５）中の酸素原子との結合点、一般式（２６）中の酸素原子若しくはリン原子との結合点、又は一般式（２７）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２５）中のＲ１２１との結合点、一般式（２６）中のＲ１２２との結合点、又は一般式（２７）中のＲ１２３との結合点を表す。
一般式（２５）～（２７）において、Ｘ２１～Ｘ２３は、酸素原子であることが好ましい。Ｚ２１～Ｚ２３は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。一般式（２５）におけるＺ２１が、直接結合の場合、対応するＲ１２１は、炭素数６～１５の１価の脂肪族基が好ましい。一般式（２６）及び（２７）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２、並びに、Ｚ２３及び対応するＲ１２３においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。一般式（２５）におけるＺ２１が、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ１２１は、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数６～１５のアリールオキシ基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキルオキシ基、炭素数６～１５のハロゲン化アリール基、炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基、炭素数２～１０のアルコキシポリアルキレンオキシ基、炭素数２～１０のヒドロキシポリアルキレンオキシ基、又はフタルイミド基が好ましい。一般式（２６）～（２７）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２、並びに、Ｚ２３及び対応するＲ１２３においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。Ｚ２４～Ｚ２６は、それぞれ独立して、炭素数１～４の２～６価の脂肪族基が好ましい。Ｒ１２４～Ｒ１２６は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基が好ましい。Ｒ１２７～Ｒ１３５は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基が好ましい。Ｚ２１～Ｚ２３における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ１２１～Ｒ１２３における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した（Ｉ）ベタイン構造における、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造としては、脂肪族基含有リン酸ジエステル型アニオン、脂肪族基含有亜リン酸ジエステル型アニオン、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アニオン、脂肪族基含有次亜リン酸モノエステル型アニオン、脂肪族基含有ホスフィン酸アニオン、及び脂肪族基含有チオリン酸ジエステル型アニオンからなる群より選ばれる構造であることが好ましく、脂肪族基含有リン酸ジエステル型アニオン、及び／又は脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アニオンであることがより好ましく、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アニオンであることがさらに好ましい。
同様の観点から、上述した（Ｉ）ベタイン構造における、アンモニウムカチオン構造としては、アンモニウムカチオン、モノアルキルアンモニウムカチオン、ジアルキルアンモニウムカチオン、又はトリアルキル四級アンモニウムカチオンが好ましく、トリアルキル四級アンモニウムカチオンがより好ましい。
なお、アンモニウムカチオン構造中のアルキル基とは別に、アンモニウムカチオン構造と、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造とを連結する構造として、炭素数１～６の２価の脂肪族基を有する。アンモニウムカチオン構造と、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造とを連結する構造としては、炭素数１～４の２価の脂肪族基が好ましい。炭素数１～６の２価の脂肪族基は、置換基として、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を有しても構わない。
上述した（Ｉ）ベタイン構造における、アンモニウムカチオン構造、並びに、上述したアンモニウムカチオン構造と、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造とを連結する構造、の両方を包含する構造としては、少なくとも１つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアンモニウム基又はアミノ基を有する炭素数１～６の窒素含有脂肪族アルコール化合物に由来する構造がより好ましい。少なくとも１つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアンモニウム基又はアミノ基を有する炭素数１～６の窒素含有脂肪族アルコール化合物としては、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ペンタノールアミン、セリン、トレオニン、チオシン、又はコリンが好ましく、エタノールアミン、セリン、又はコリンがより好ましく、コリンがさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを少なくとも含み、さらに、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、及び／又は、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、ヒドロキシ酢酸アルキル、及び酢酸ヒドロキシアルキルからなる群より選ばれる一種類以上、を含有し、前記（ＦＢ）化合物が、リン原子を含むアニオン構造、及びトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、後述するアセテート結合を有する溶剤として、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを少なくとも含み、さらに、後述するエーテル結合を分子中に３つ以上有する溶剤として、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、及び／又は、後述するアルコール性水酸基を有する溶剤として、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、ヒドロキシ酢酸アルキル、及び酢酸ヒドロキシアルキルからなる群より選ばれる一種類以上を含有する場合（以下、「特定の溶剤を含有する場合」）において、（ＦＢ－１）化合物を含む場合、（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した（Ｉ）ベタイン構造として、トリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する化合物を少なくとも含むことが好ましい。トリアルキル四級アンモニウムカチオン構造としては、炭素数１～６のアルキル基を３つ有することが好ましく、炭素数１～４のアルキル基を３つ有することがより好ましい。（ＦＢ－１）化合物としては、上述した（Ｉ）ベタイン構造として、トリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する化合物であることがより好ましい。同様に、上述した特定の溶剤を含有する場合において、（ＦＢ－２）化合物を含む場合（ＦＢ－２）化合物としては、上述した一般式（２５）～（２７）中、Ｒ１２７～Ｒ１３５が、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましい。（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が、上述したトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有することで、特異的に（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の溶剤への溶解性を顕著に向上できる。それにより、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。従って、本発明の感光性樹脂組成物が、特定の溶剤を含有する場合、特に好適である。なお、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。また、ジエチレングリコールジアルキルエーテルとしては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテルが好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルがより好ましい。また、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、ヒドロキシ酢酸アルキル、又は酢酸ヒドロキシアルキルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、酢酸２－ヒドロキシメチル、及び酢酸２－ヒドロキシエチルが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、又は酢酸２－ヒドロキシエチルがより好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が、上述したトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する場合、溶剤に占めるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有比率は、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましい。一方、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有比率は、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が、上述したトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する場合、溶剤に占めるジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、及び酢酸２－ヒドロキシエチルの含有比率の合計は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。一方、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、及び酢酸２－ヒドロキシエチルの含有比率の合計は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物を含む場合、（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した（ＩＩＩ）炭素数６～３０の脂肪酸化合物に由来する脂肪酸エステル構造、及び／又は、炭素数６～３０の脂肪族アルコールに由来する脂肪族エーテル構造として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含むことが好ましい。上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造が含む、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基としては、炭素数１０～２０であることが好ましく、炭素数１５～２０であることがより好ましい。
上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造における、炭素数６～３０の脂肪酸化合物としては、同様に、炭素数１０～２０の脂肪酸化合物であることがより好ましく、炭素数１５～２０の脂肪酸化合物であることがより好ましい。炭素数６～３０の脂肪酸化合物としては、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、α－リノレン酸、γ－リノレン酸、エライジン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、ベヘン酸、ドコサヘキサエン酸、又はエルカ酸が好ましく、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、α－リノレン酸、γ－リノレン酸、エライジン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、又はエイコサペンタエン酸がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－２）化合物を含む場合、（ＦＢ－２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した一般式（２５）～（２７）中、Ｚ２１～Ｚ２３が、直接結合であり、Ｒ１２１～Ｒ１２３が、炭素数６～１５の１価の脂肪族基であることが好ましく、炭素数６～１０の１価の脂肪族基であることがより好ましい。
（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（ＶＩ）少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～６の脂肪族多官能アルコール化合物に由来するエステル構造、又は、（ＶＩＩ）少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１５～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物に由来するエステル構造、を有する化合物（以下、「特定の（ＦＢ－１）化合物」）を含むことが特に好ましい。（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（ＦＢ－１）化合物を含み、さらに、一種類以上の（ＦＢ－１）化合物を含有することも好ましい。
上述した（ＶＩ）脂肪族多官能アルコールエステル構造としては、少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～４の脂肪族多官能アルコール化合物に由来するエステル構造がより好ましい。少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～６の脂肪族多官能アルコール化合物としては、１，１，２－エタントリオール、グリセリン、１，２，４－ブタントリオール、１，２，５－ペンタントリオール、１，３，５－ペンタントリオール、１，２，６－ヘキサントリオール、１，３，６－ヘキサントリオール、エリスリトール、トレイトール、ペンタエリスリトール、トリメチロールメタン、トリメチロールエタン、又はトリメチロールプロパンが好ましく、グリセリンがより好ましい。
上述した（ＶＩＩ）窒素含有脂肪族アルコールエステル構造としては、少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１７～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物に由来するエステル構造がより好ましい。
少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１５～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物としては、スフィンゴシン、ジヒドロスフィンゴシン、フィトスフィンゴシン、セラミド、ジヒドロセラミド、又はフィトセラミドが好ましく、スフィンゴシン、又はセラミドがより好ましい。
上述した特定の（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、グリセロリン脂質及び／又はスフィンゴリン脂質を含むことが特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記（ＦＢ）化合物が、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルセリン、スフィンゴミエリン、水添ホスファチジルコリン、水添ホスファチジルエタノールアミン、水添ホスファチジルセリン、水添スフィンゴミエリン、レシチン、水添レシチン、セファリン、水添セファリン、プラズマローゲン、及び血小板活性化因子からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
（ＦＢ）化合物が、上述した特定の（ＦＢ－１）化合物を含むことがより好ましい。上述した特定の（ＦＢ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルセリン、スフィンゴミエリン、水添ホスファチジルコリン、水添ホスファチジルエタノールアミン、水添ホスファチジルセリン、水添スフィンゴミエリン、リゾホスファチジルコリン、リゾホスファチジルエタノールアミン、リゾホスファチジルセリン、リゾスフィンゴミエリン、レシチン、水添レシチン、リゾレシチン、セファリン、水添セファリン、リゾセファリン、プラズマローゲン、血小板活性化因子、及び（トリメチルアンモニオ）エチルホスホン酸セラミドからなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましく、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルセリン、スフィンゴミエリン、水添ホスファチジルコリン、水添ホスファチジルエタノールアミン、水添ホスファチジルセリン、水添スフィンゴミエリン、レシチン、水添レシチン、セファリン、水添セファリン、プラズマローゲン、及び血小板活性化因子からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが特に好ましい。特定の（ＦＢ－１）化合物としては、例えば、以下に示す構造の化合物が挙げられる。
Figure 0007676778000028
（ＦＢ－２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、脂肪族基含有リン酸ジエステル型アンモニウムベタイン、脂肪族基含有亜リン酸ジエステル型アンモニウムベタイン、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アンモニウムベタイン、脂肪族基含有次亜リン酸モノエステル型アンモニウムベタイン、脂肪族基含有ホスフィン酸アンモニウムベタイン、及び脂肪族基含有チオリン酸ジエステル型アンモニウムベタインからなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、脂肪族基含有リン酸ジエステル型アンモニウムベタイン、及び／又は脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アンモニウムベタインを含有することがより好ましく、脂肪族基含有ホスホン酸モノエステル型アンモニウムベタインを含有することがさらに好ましい。
（ＦＢ－２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（２５ｂ）～（２６ｂ）で表される化合物（以下、「特定の（ＦＢ－２）化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが特に好ましい。（ＦＢ－２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（ＦＢ－２）化合物を含み、さらに、一般式（２５）～（２７）で表される化合物のうち、一種類以上の化合物を含有することも好ましい。
Figure 0007676778000029
一般式（２５ｂ）及び（２６ｂ）において、Ｚ２１及びＺ２２は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、又は一般式（１０）で表される基を表す。一般式（２５）におけるＺ２１が、直接結合又は一般式（１０）で表される基の場合、対応するＲ１２１は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（２６）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。一般式（２５）におけるＺ２１が、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ１２１は、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。一般式（２６）における、Ｚ２２及び対応するＲ１２２においても一般式（２５）におけるＺ２１及び対応するＲ１２１の関係と同様である。Ｚ２４及びＺ２５は、それぞれ独立して、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１２７～Ｒ１３２は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｘ及びｙは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｘ＋ｙ＝１である。Ｚ２１及びＺ２２における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ１２１及びＲ１２２における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１０）において、Ｙ２７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１３６は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２５ｂ）中の酸素原子との結合点、又は一般式（２６ｂ）中の酸素原子若しくはリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２５ｂ）中のＲ１２１との結合点、又は一般式（２６ｂ）中のＲ１２２との結合点を表す。
一般式（２５ｂ）及び（２６ｂ）において、Ｚ２１及びＺ２２は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。Ｚ２４及びＺ２５は、それぞれ独立して、炭素数１～４の２～６価の脂肪族基が好ましい。Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基が好ましい。Ｒ１２７～Ｒ１３２は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基が好ましい。Ｚ２１及びＺ２２における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ１２１及びＲ１２２における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．００３質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上がさらに好ましく、０．０４質量％以上がさらにより好ましく、０．０８質量％以上が特に好ましい。一方、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有比率の合計は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１．３質量％以下が好ましく、１．１質量％以下がより好ましく、０．９質量％以下がさらに好ましく、０．７質量％以下がさらにより好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合において、本発明の感光性樹脂組成物が、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ１）光重合開始剤を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０１質量部以上が好ましく、０．０３質量部以上がより好ましく、０．０５質量部以上がさらに好ましく、０．１質量部以上が特に好ましい。一方、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有量の合計は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１．５質量部以下が好ましく、１．２質量部以下がより好ましく、１質量部以下がさらに好ましく、０．５質量部以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ｃ）感光剤として、（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０３質量部以上が好ましく、０．０５質量部以上がより好ましく、０．１質量部以上がさらに好ましく、０．３質量部以上が特に好ましい。一方、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有量の合計は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、３質量部以下が好ましく、２．５質量部以下がより好ましく、２質量部以下がさらに好ましく、１質量部以下が特に好ましい。
＜（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質（以下、「（ＦＣ－１）化合物」）を含有することが好ましい。（ＦＣ－１）化合物としては、リン原子を含む酸性基及び／又はリン原子を含むアニオン構造、並びに、炭素数６～３０の脂肪族エステル構造及び／又は炭素数６～３０の脂肪族エーテル構造、を有する化合物を含有することが好ましい。また、（ＦＣ－１）化合物としては、リン原子を含む酸性基、及びリン原子を含む酸性基が塩形成した構造からなる群より選ばれる一種類以上、並びに、炭素数６～３０の脂肪族エステル構造及び／又は炭素数６～３０の脂肪族エーテル構造、を有する化合物を含有することも好ましい。（ＦＣ－１）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（ＦＣ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２つ以上の（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質を含有することも好ましい。
（ＦＣ－１）化合物は、分子中に少なくとも、（ＩＩ）リン原子を含む酸性基、及び／又は、リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造を有する。さらに、（ＩＩＩ）炭素数６～３０の脂肪酸化合物に由来する脂肪酸エステル構造、及び／又は、炭素数６～３０の脂肪族アルコールに由来する脂肪族エーテル構造を有することが好ましい。前記（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（ＦＣ－１）非ベタイン型リン脂質を含み、該（ＦＣ－１）化合物が、リン原子を含む酸性基及び／又はリン原子を含むアニオン構造を、並びに、炭素数６～３０の脂肪族エステル構造及び／又は炭素数６～３０の脂肪族エーテル構造、を有する化合物を含むことが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含有することも好ましい。同様の観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、特定の（Ｆ１）化合物を含み、さらに、特定の（ＦＢ－１）化合物及び／又は特定の（ＦＢ－２）化合物をを含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物をを含有することがさらに好ましい。
（ＦＣ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含むことが好ましい。上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造が含む、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基としては、炭素数６～３０であることが好ましく、炭素数１０～２０であることがより好ましく、炭素数１５～２０であることがさらに好ましい。上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び／又は、脂肪族エーテル構造における、炭素数６～３０の脂肪酸化合物としては、同様に、炭素数１０～２０の脂肪酸化合物であることがより好ましく、炭素数１５～２０の脂肪酸化合物であることがより好ましい。炭素数６～３０の脂肪酸化合物としては、上述した化合物が挙げられる。
（ＦＣ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（ＶＩ）少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～６の脂肪族多官能アルコール化合物に由来するエステル構造、又は、（ＶＩＩ）少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１５～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物に由来するエステル構造、を有する化合物を含むことが特に好ましい。
上述した（ＶＩ）脂肪族多官能アルコールエステル構造としては、少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～４の脂肪族多官能アルコール化合物に由来するエステル構造がより好ましい。少なくとも３つのヒドロキシ基を有する炭素数２～６の脂肪族多官能アルコール化合物としては、上述した化合物が好ましい。
上述した（ＶＩＩ）窒素含有脂肪族アルコールエステル構造としては、少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１７～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物に由来するエステル構造がより好ましい。
少なくとも２つのヒドロキシ基、及び、少なくとも１つのアミノ基又はアルキルアミド基を有する炭素数１５～２０の窒素含有脂肪族アルコール化合物としては、上述した化合物が好ましい。
（ＦＣ－１）化合物としては、上述した（ＶＩ）脂肪族多官能アルコールエステル構造及び（ＶＩＩ）窒素含有脂肪族アルコールエステル構造とは別に、さらに、（ＶＩＩＩ）少なくとも２つのヒドロキシ基を有する炭素数２～８の脂肪族多官能アルコール化合物に由来するエステル構造、を有する化合物も好ましい。（ＶＩＩＩ）別の脂肪族多官能アルコールエステル構造は、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、及びシクロアルケニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む。
上述した（ＶＩＩＩ）別の脂肪族多官能アルコールエステル構造における、少なくとも２つのヒドロキシ基を有する炭素数２～８の脂肪族多官能アルコール化合物としては、グリセリン、１，２，４－ブタントリオール、１，２，５－ペンタントリオール、１，２，６－ヘキサントリオール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、グルコース、マンノース、ガラクトース、ボルネシトール、イノシトール、オノニトール、ピニトール、ピンポリトール、バリエノール、クエルシトール、キナ酸、又はシキミ酸が好ましく、グリセリン、又はイノシトールがより好ましい。
（ＦＣ－１）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ホスファチジン酸、ホスファチジルグリセロール、リゾホスファチジン酸、リゾホスファチジルグリセロール、ホスファチジルイノシトール、リゾホスファチジルイノシトール、ジホスファチジルグリセロール、カルジオリピン、スフィンゴシン－１－リン酸、及びホスファチジル－シチジン一リン酸からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが特に好ましい。（ＦＣ－１）化合物としては、例えば、以下に示す構造の化合物が挙げられる。
Figure 0007676778000030
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（ＦＣ－１）化合物の含有比率は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．００３質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上がさらに好ましく、０．０４質量％以上がさらにより好ましく、０．０８質量％以上が特に好ましい。一方、（ＦＣ－１）化合物の含有比率は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１．３質量％以下が好ましく、１．１質量％以下がより好ましく、０．９質量％以下がさらに好ましく、０．７質量％以下がさらにより好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（ＦＣ－１）の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０１質量部以上が好ましく、０．０３質量部以上がより好ましく、０．０５質量部以上がさらに好ましく、０．１質量部以上が特に好ましい。一方、（ＦＣ－１）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１．５質量部以下が好ましく、１．２質量部以下がより好ましく、１質量部以下がさらに好ましく、０．５質量部以下が特に好ましい。
＜（Ｆ２）リン原子、及び芳香族基を有する化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｆ２）リン原子、及び芳香族基を有する化合物（以下、「（Ｆ２）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｆ２）化合物としては、（Ｆ２）一般式（１５）～（１７）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選択される１種以上、を含有することが好ましい。（Ｆ２）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ｆ２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１５）～（１７）で表される化合物、及びそれらの塩のうち、２つ以上の化合物を含有することも好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｆ２）化合物を含有することも好ましい。同様の観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含み、加えて、（Ｆ２）化合物を含有することも好ましい。
（Ｆ２）化合物は、（Ｉ）炭素数６～１５及び１～４価の芳香族基、（ＩＩ）炭素数６～１５のアリーレン基、（ＩＩＩ）一般式（１８）で表される基、及び（ＩＶ）一般式（１９）で表される基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有する。
Figure 0007676778000031
一般式（１５）～（１７）において、Ｘ８～Ｘ１０は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ８～Ｚ１０は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（１８）で表される基を表す。Ｚ１１～Ｚ１３は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（１９）で表される基を表す。一般式（１５）におけるＺ８が、直接結合の場合、対応するＲ３８は、炭素数６～１５及び１～４価の芳香族基を表す。一般式（１６）及び（１７）における、Ｚ９及び対応するＲ３９、並びに、Ｚ１０及び対応するＲ４０においても一般式（１５）におけるＺ８及び対応するＲ３８の関係と同様である。一般式（１５）におけるＺ１１が、直接結合の場合、対応するＲ４１は、水素原子、又は、炭素数６～１５及び１～４価の芳香族基を表す。一般式（１６）及び（１７）における、Ｚ１２及び対応するＲ４２、並びに、Ｚ１３及び対応するＲ４３においても一般式（１５）におけるＺ１１及び対応するＲ４１の関係と同様である。一般式（１５）におけるＺ８とＺ１１の少なくともいずれかが、炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ３８及び／又はＲ４１は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。一般式（１６）及び（１７）における、Ｚ９とＺ１２及び対応するＲ３９とＲ４２、並びに、Ｚ１０とＺ１３及び対応するＲ４０とＲ４３においても一般式（１５）におけるＺ８とＺ１１及び対応するＲ３８とＲ４１の関係と同様である。一般式（１５）におけるＺ８が、一般式（１８）で表される基の場合、対応するＲ３８は、炭素数６～１５及び１～４価の芳香族基、又は、炭素数６～１５及び１～４価の脂肪族基を表す。一般式（１６）及び（１７）における、Ｚ９及び対応するＲ３９、並びに、Ｚ１０及び対応するＲ４０においても一般式（１５）におけるＺ８及び対応するＲ３８の関係と同様である。一般式（１５）におけるＺ１１が、一般式（１９）で表される基の場合、対応するＲ４１は、水素原子、炭素数６～１５及び１～４価の芳香族基、又は、炭素数６～１５及び１～４価の脂肪族基を表す。一般式（１６）及び（１７）における、Ｚ１２及び対応するＲ４２、並びに、Ｚ１３及び対応するＲ４３においても一般式（１５）におけるＺ１１及び対応するＲ４１の関係と同様である。なお、一般式（１５）におけるＲ３８とＲ４１の少なくともいずれかが、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数６～１５の１価の芳香族基、炭素数１～１５の１価の有機基、又は炭素数６～１５の１価の脂肪族基の場合、対応するｃ及び／又はｆは、０である。一般式（１６）及び（１７）における、Ｒ３９とＲ４２及び対応するｄとｇ、並びに、Ｒ４０とＲ４３及び対応するｅとｈにおいても一般式（１５）におけるＲ３８とＲ４１及び対応するｃとｆの関係と同様である。Ｒ４８～Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭素数６～１５の１価の脂肪族基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、及びｈは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。
一般式（１８）～（１９）において、Ｙ８及びＹ１１は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１１５～Ｒ１１６は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立して、１～１５の整数を表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（１５）中の酸素原子との結合点、一般式（１６）中のリン原子との結合点、又は一般式（１７）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（１５）中のＲ３８との結合点、一般式（１６）中のＲ３９との結合点、又は一般式（１７）中のＲ４０との結合点を表す。＊３は、一般式（１５）中の酸素原子との結合点、一般式（１６）中の酸素原子との結合点、又は一般式（１７）中のリン原子との結合点を表す。＊４は、一般式（１５）中のＲ４１との結合点、一般式（１６）中のＲ４２との結合点、又は一般式（１７）中のＲ４３との結合点を表す。
一般式（１５）～（１７）において、Ｒ３８～Ｒ４３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数６～１５のアリールオキシ基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１～１２のハロゲン化アルキルオキシ基、炭素数６～１５のハロゲン化アリール基、炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基、炭素数２～１０のアルコキシポリアルキレンオキシ基、炭素数２～１０のヒドロキシポリアルキレンオキシ基、ヒドロキシ基、又はフタルイミド基が好ましく、水素原子、炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基がより好ましい。
上述した炭素数６～１５の芳香族基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、又はナフチレン基、フェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基が好ましい。上述した炭素数６～１５のアリーレン基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、又はナフチレン基が好ましい。上述した炭素数６～１５のアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基が好ましい。
（Ｆ２）化合物において、一般式（１５）～（１７）で表される化合物としては、例えば、リン酸フェニル、リン酸ビフェニル、リン酸ナフチル、リン酸ジフェニル、リン酸ビス（ビフェニル）、リン酸ジナフチル、フェニルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、フェニルホスホン酸フェニル、ビフェニルホスホン酸ビフェニル、ナフチルホスホン酸ナフチル、フェニルホスフィン酸、ビフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ビス（ビフェニル）ホスフィン酸、ジナフチルホスフィン酸、エチレンオキシド変性（以下、「ＥＯ変性」）リン酸（ヘキシル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（オクチル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ノニル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（デシル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ドデシル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ジヘキシル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ジオクチル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ジノニル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ジデシル）フェニル、ＥＯ変性リン酸（ジドデシル）フェニル、プロピレンオキシド変性（以下、「ＰＯ変性」）リン酸（ヘキシル）フェニル、ＰＯ変性リン酸（オクチル）フェニル、ＰＯ変性リン酸（デシル）フェニル、ＰＯ変性リン酸（ジオクチル）フェニル、ＰＯ変性リン酸（ジノニル）フェニル、ブチレンオキシド変性（以下、「ＢＯ変性」）リン酸（ヘキシル）フェニル、ＢＯ変性リン酸（オクチル）フェニル、ＢＯ変性リン酸（デシル）フェニル、ＢＯ変性リン酸（ジオクチル）フェニル、又はＢＯ変性リン酸（ジノニル）フェニルが挙げられる。
（Ｆ２）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、フッ素原子で置換された基を有することが好ましい。（Ｆ２）化合物が、フッ素原子で置換された基を有する態様としては、上述した一般式（１５）～（１７）中、Ｚ８～Ｚ１３が、それぞれ独立して直接結合の場合、Ｒ３８～Ｒ４３が、それぞれ独立して、フッ素原子を置換された炭素数６～１５の１価の芳香族基であることが好ましい。同様に、上述した一般式（１５）～（１７）中、Ｚ８～Ｚ１３が、それぞれ独立して炭素数６～１５のアリーレン基の場合、Ｒ３８～Ｒ４３が、それぞれ独立して、フッ素原子で置換された炭素数１～１２のハロゲン化アルキル基、又はフッ素原子で置換された炭素数６～１５のハロゲン化アリールオキシ基であることが好ましい。また同様に、上述した一般式（１５）～（１７）中、Ｚ８～Ｚ１０が、それぞれ独立して一般式（１８）で表される基の場合、Ｒ３８～Ｒ４０が、それぞれ独立して、フッ素原子を置換された炭素数６～１５の１価の芳香族基、又はフッ素原子で置換された炭素数６～１５の１価の脂肪族基であることが好ましい。さらに同様に、上述した一般式（１５）～（１７）中、Ｚ１１～Ｚ１３が、それぞれ独立して一般式（１９）で表される基の場合、Ｒ４１～Ｒ４３が、それぞれ独立して、フッ素原子を置換された炭素数６～１５の１価の芳香族基、又はフッ素原子で置換された炭素数６～１５の１価の脂肪族基であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｆ２）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましく、０．３質量部以上がさらに好ましく、０．５質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ２）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１．５質量部以下がより好ましく、１．２質量部以下がさらに好ましく、１質量部以下が特に好ましい。
＜（Ｆ３）リン原子、及び反応性基を有する化合物、（ＦＢ－３）反応性基含有ベタイン化合物、及び（ＦＴ）反応性基を有する、リン原子を含む酸性基のエステル化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｆ３）リン原子、及び反応性基を有する化合物（以下、「（Ｆ３）化合物」）、（ＦＢ－３）反応性基含有ベタイン化合物（以下、「（ＦＢ－３）化合物」）、及び（ＦＴ）反応性基を有する、リン原子を含む酸性基のエステル化合物（以下、「（ＦＴ）化合物」）、からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ｆ３）化合物としては、（Ｆ３）一般式（２０）～（２２）で表される化合物、及びそれらの塩からなる群より選択される１種以上、を含有することが好ましい。（ＦＢ－３）化合物としては、上述したリン原子を含むアニオン構造、アンモニウムカチオン構造、並びに、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上を有する化合物を含有することが好ましい。また、（ＦＢ－３）化合物としては、一般式（２８）～（３０）で表される化合物からなる群より選択される１種以上、を含有することがより好ましい。（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、（Ｆ３）一般式（２０）～（２２）で表される化合物、及びそれらの塩のうち、２つ以上の化合物を含有することも好ましく、（ＦＢ－３）一般式（２８）～（３０）で表される化合物のうち、２つ以上の化合物を含有することも好ましく、（ＦＴ）化合物として２つ以上の化合物を含有することも好ましい。また、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物からなる群より選ばれる二種類以上の化合物を含有することも好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｆ３）リン原子、及び反応性基を有する化合物、前記（ＦＢ）化合物として少なくとも（ＦＢ－３）反応性基含有ベタイン化合物、及び、（ＦＴ）反応性基を有する、リン原子を含む酸性基のエステル化合物、からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
該（Ｆ３）化合物が、リン原子を含む酸性基、及びリン原子を含む酸性基が塩形成した構造からなる群より選ばれる一種類以上、
並びに、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、
該（ＦＢ－３）化合物が、リン原子を含むアニオン構造、アンモニウムカチオン構造、並びに、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、
該（ＦＴ）化合物が、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上、を有する化合物を含み、
該（ＦＴ）化合物が有する、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の数を（Ｘ）とし、
該（ＦＴ）化合物が有する、１～２価の脂肪族基、１～２価の脂環式基、１～２価の芳香族基、及び置換基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の数を（Ｙ）とするとき、該（Ｘ）及び該（Ｙ）が、一般式（α）～（γ）を満たすことが好ましい。
Ｘ＋Ｙ＝３ （α）
１≦Ｘ≦３ （β）
０≦Ｙ≦２ （γ）
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。同様の観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含み、加えて、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。また、同様の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｆ２）化合物を含み、加えて、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。
（Ｆ３）化合物は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000032
一般式（２０）～（２２）において、Ｘ１４～Ｘ１６は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ１４～Ｚ１６は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（２３）で表される基を表す。Ｚ１７～Ｚ１９は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（２４）で表される基を表す。一般式（２０）におけるＺ１４が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ５４は、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２１）及び（２２）における、Ｚ１５及び対応するＲ５５、並びに、Ｚ１６及び対応するＲ５６においても一般式（２０）におけるＺ１４及び対応するＲ５４の関係と同様である。一般式（２０）におけるＺ１７が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ５７は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２１）及び（２２）における、Ｚ１８及び対応するＲ５８、並びに、Ｚ１９及び対応するＲ５９においても一般式（２０）におけるＺ１７及び対応するＲ５７の関係と同様である。一般式（２０）におけるＺ１４が、一般式（２３）で表される基の場合、対応するＲ５４は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（２１）及び（２２）における、Ｚ１５及び対応するＲ５５、並びに、Ｚ１６及び対応するＲ５６においても一般式（２０）におけるＺ１４が、一般式（２３）で表される基の場合のＺ１４及び対応するＲ５４の関係と同様である。一般式（２０）におけるＺ１７が、一般式（２４）で表される基の場合、対応するＲ５７は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（２１）及び（２２）における、Ｚ１８及び対応するＲ５８、並びに、Ｚ１９及び対応するＲ５９においても一般式（２０）における一般式（２４）で表される基の場合のＺ１７及び対応するＲ５７の関係と同様である。なお、一般式（２０）におけるＲ５４が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｃは０である。一般式（２１）及び（２２）における、Ｒ５５及び対応するｄ、並びに、Ｒ５６及び対応するｅにおいても一般式（２０）におけるＲ５４及び対応するｃの関係と同様である。また、一般式（２０）におけるＲ５７が、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｆは０である。一般式（２１）及び（２２）における、Ｒ５８及び対応するｇ、並びに、Ｒ５９及び対応するｈにおいても一般式（２０）におけるＲ５７及び対応するｆの関係と同様である。Ｒ６４～Ｒ６９は、それぞれ独立して、炭素数１～５のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、及びｈは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。
一般式（２３）～（２４）において、Ｙ１４及びＹ１７は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１１７～Ｒ１１８は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立して、１～１５の整数を表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２０）中の酸素原子との結合点、一般式（２１）中のリン原子との結合点、又は一般式（２２）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２０）中のＲ５４との結合点、一般式（２１）中のＲ５５との結合点、又は一般式（２２）中のＲ５６との結合点を表す。＊３は、一般式（２０）中の酸素原子との結合点、一般式（２１）中の酸素原子との結合点、又は一般式（２２）中のリン原子との結合点を表す。＊４は、一般式（２０）中のＲ５７との結合点、一般式（２１）中のＲ５８との結合点、又は一般式（２２）中のＲ５９との結合点を表す。
（ＦＢ－３）化合物は、分子中に少なくとも、（Ｉ）リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造を有する。さらに、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましい。
Figure 0007676778000033
一般式（２８）～（３０）において、Ｘ３７～Ｘ３９は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ３７～Ｚ３９は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（３１）で表される基を表す。一般式（２８）におけるＺ３７が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ１３７は、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２９）及び（３０）における、Ｚ３８及び対応するＲ１３８、並びに、Ｚ３９及び対応するＲ１３９においても一般式（２８）におけるＺ３７及び対応するＲ１３７の関係と同様である。一般式（２８）におけるＺ３７が、一般式（３１）で表される基の場合、対応するＲ１３７は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（２９）及び（３０）における、Ｚ３８及び対応するＲ１３８、並びに、Ｚ３９及び対応するＲ１３９においても一般式（２８）におけるＺ３７及び対応するＲ１３７の関係と同様である。なお、一般式（２８）におけるＲ１３７が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｆは０である。一般式（２９）及び（３０）における、Ｒ１３８及び対応するｇ、並びに、Ｒ１３９及び対応するｈにおいても一般式（２８）におけるＲ１３７及び対応するｆの関係と同様である。Ｒ１４７～Ｒ１４９は、それぞれ独立して、炭素数１～５のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。Ｚ４０～Ｚ４２は、それぞれ独立して、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１４０～Ｒ１４２は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１５１～Ｒ１５９は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｆ、ｇ、及びｈは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｘ及びｙは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｘ＋ｙ＝１である。
一般式（３１）において、Ｙ３７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１４４は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２８）中の酸素原子との結合点、一般式（２９）中のリン原子若しくは酸素原子との結合点、又は一般式（３０）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２８）中のＲ１３７との結合点、一般式（２９）中のＲ１３８との結合点、又は一般式（３０）中のＲ１３９との結合点を表す。
（ＦＴ）化合物は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましく、光反応性基、及び炭素数２～５のアルケニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することがより好ましい。（ＦＴ）化合物としては、リン原子に結合する置換基及び／又はＰ－Ｏ結合上の酸素原子に結合する二種類以上の置換基を有し、前記置換基が、（Ｉ）光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上、並びに、（ＩＩ）１～２価の脂肪族基、１～２価の脂環式基、１～２価の芳香族基、及び置換基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましい。
（ＦＴ）化合物が有する、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上の数である（Ｘ）は、１～３の整数が好ましく、２又は３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。また、（ＦＴ）化合物が有する、１～２価の脂肪族基、１～２価の脂環式基、１～２価の芳香族基、及び置換基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の数である（Ｙ）は、０～２の整数が好ましく、０又は１であることがより好ましい。
１～２価の脂肪族基としては、炭素数１～６が好ましく、炭素数１～４がより好ましい。また、脂肪族基としては、アルキル基、又はアルキレン基が好ましい。１～２価の脂環式基としては、炭素数４～１０が好ましく、炭素数４～７がより好ましい。また、脂環式基としては、シクロアルキル基、又はシクロアルキレン基が好ましい。１～２価の芳香族基としては、炭素数６～１５のアリール基、炭素数７～２５のアリールアルキル基、炭素数７～２５のアルキルアリール基、又は炭素数６～１５のアリーレン基が好ましく、炭素数６～１０のアリール基、炭素数７～１５のアリールアルキル基、炭素数７～１５のアルキルアリール基、又は炭素数６～１０のアリーレン基がより好ましい。置換基が結合したオキシアルキレン基において、置換基としては、水素、若しくはヒドロキシ基、又は、上述したアルキル基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、アリール基、若しくはシクロアルキル基が好ましい。置換基が結合したオキシアルキレン基において、オキシアルキレン基としては、炭素数１～６のオキシアルキレン基が好ましく、炭素数１～４のオキシアルキレン基がより好ましい。
また、（ＦＴ）化合物としては、上述した光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上を有する、リン酸トリエステル化合物、亜リン酸トリエステル化合物、ホスホン酸ジエステル化合物、次亜リン酸ジエステル化合物、及びホスフィン酸モノエステル化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。
上述した光反応性基としては、（メタ）アクリル基、スチリル基、シンナミル基、又はマレイミド基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましい。上述した熱反応性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、カルボキシ基、アミノ基、又はメルカプト基が好ましく、エポキシ基がより好ましい。上述した炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基としては、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、２－ブテニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基、又はアリル基がより好ましく、ビニル基がさらに好ましい。
（Ｆ３）化合物において、一般式（２０）～（２２）で表される化合物としては、例えば、リン酸ビニル、リン酸アリル、リン酸３－メチル－２－ブテニル、リン酸（メタ）アクリル、リン酸スチリル、リン酸シンナミル、リン酸ジビニル、ビニルホスホン酸、アリルホスホン酸、（３－メチル－２－ブテニル）ホスホン酸、（メタ）アクリルホスホン酸、スチリルホスホン酸、シンナミルホスホン酸、ビニルホスホン酸ビニル、ビニルホスフィン酸、アリルホスフィン酸、（３－メチル－２－ブテニル）ホスフィン酸、（メタ）アクリルホスフィン酸、スチリルホスフィン酸、シンナミルホスフィン酸、ジビニルホスフィン酸、ＥＯ変性リン酸（メタ）アクリル、ＥＯ変性リン酸ビニル、ＥＯ変性リン酸アリル、ＥＯ変性リン酸ジ［（メタ）アクリル］、ＥＯ変性リン酸ジビニル、ＥＯ変性リン酸ジアリル、ＰＯ変性リン酸（メタ）アクリル、ＰＯ変性リン酸ビニル、ＰＯ変性リン酸アリル、ＰＯ変性リン酸ジ［（メタ）アクリル］、ＰＯ変性リン酸ジビニル、ＰＯ変性リン酸ジアリル、ＢＯ変性リン酸（メタ）アクリル、ＢＯ変性リン酸ビニル、ＢＯ変性リン酸アリル、ＢＯ変性リン酸ジ［（メタ）アクリル］、ＢＯ変性リン酸ジビニル、又はＢＯ変性リン酸ジアリルが挙げられる。
（ＦＴ）化合物としては、例えば、リン酸トリ（メタ）アクリル、リン酸トリビニル、リン酸トリアリル、リン酸ジ（メタ）アクリル・エチル、リン酸ジビニル・エチル、リン酸ジアリル・エチル、リン酸ビニル・ジエチル、亜リン酸トリ（メタ）アクリル、亜リン酸トリビニル、亜リン酸トリアリル、亜リン酸ビニル・ジエチル、（メタ）アクリルホスホン酸ジ（メタ）アクリル、ビニルホスホン酸ジビニル、アリルホスホン酸ジアリル、（メタ）アクリルホスホン酸ジエチル、ビニルホスホン酸ジメチル、ビニルホスホン酸ジエチル、ビニルホスホン酸ジフェニル、アリルホスホン酸ジエチル、ビニル次亜リン酸ジビニル、（メタ）アクリル次亜リン酸ジエチル、ビニル次亜リン酸ジエチル、アリル次亜リン酸ジエチル、ジビニルホスフィン酸ビニル、（メタ）アクリル・エチルホスフィン酸エチル、ビニル・エチルホスフィン酸エチル、ビニル・フェニルホスフィン酸エチル、アリル・エチルホスフィン酸エチル、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリル、ＥＯ変性リン酸トリビニル、ＥＯ変性リン酸トリアリル、ＥＯ変性リン酸ジ（メタ）アクリル・エチル、ＰＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリル、又はＢＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリルが挙げられる。
（Ｆ３）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、一般式（２１ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含むことが特に好ましい。一般式（２１ｂ）において、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、Ｒ５５、Ｒ５８、Ｒ６５及びＲ６８からなる群より選ばれる一種類以上の基が、光反応性基又は炭素数２～５のアルケニル基であることが好ましい。（Ｆ３）化合物としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、一般式（２１ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含み、さらに、一般式（２０）～（２２）で表される化合物、及びそれらの塩のうち、一種類以上の化合物を含有することも好ましい。
（ＦＢ－３）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、一般式（２８ｂ）で表される化合物を含むことが特に好ましい。一般式（２８ｂ）において、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、Ｒ１３７及びＲ１４７からなる群より選ばれる一種類以上の基が、光反応性基又は炭素数２～５のアルケニル基であることが好ましい。（ＦＢ－３）化合物としては、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、一般式（２８ｂ）で表される化合物を含み、さらに、一般式（２８）～（３０）で表される化合物のうち、一種類以上の化合物を含有することも好ましい。
上述した光反応性基としては、（メタ）アクリル基が好ましい。上述した炭素数２～５のアルケニル基としては、ビニル基、又はアリル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｆ３）化合物として、一般式（２１ｂ）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、及び／又は（ＦＢ－３）化合物として、一般式（２８ｂ）で表される化合物を含むことが特に好ましい。
Figure 0007676778000034
一般式（２１ｂ）において、Ｚ１５は、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（２３）で表される基を表す。Ｚ１８は、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（２４）で表される基を表す。一般式（２１ｂ）におけるＺ１５が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ５５は、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２１ｂ）におけるＺ１８が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ５８は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２１ｂ）におけるＺ１５が、一般式（２３）で表される基の場合、対応するＲ５５は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（２１ｂ）におけるＺ１８が、一般式（２４）で表される基の場合、対応するＲ５８は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。なお、一般式（２１ｂ）におけるＲ５５が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｄは０である。また、一般式（２１ｂ）におけるＲ５８が、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｇは０である。Ｒ６５は、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。Ｒ６８は、炭素数１～５のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。ｄ及びｇは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。
一般式（２３）～（２４）において、Ｙ１４及びＹ１７は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１１７～Ｒ１１８は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立して、１～１５の整数を表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２１ｂ）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２１ｂ）中のＲ５５との結合点を表す。＊３は、一般式（２１ｂ）中の酸素原子との結合点を表す。＊４は、一般式（２１ｂ）中のＲ５８との結合点を表す。
Figure 0007676778000035
一般式（２８ｂ）において、Ｚ３７は、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（３１）で表される基を表す。一般式（２８ｂ）におけるＺ３７が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ１３７は、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。一般式（２８ｂ）におけるＺ３７が、一般式（３１）で表される基の場合、対応するＲ１３７は、光反応性基、熱反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。なお、一般式（２８ｂ）におけるＲ１３７が、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基の場合、対応するｆは０である。Ｒ１４７は、炭素数１～５のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、光反応性基、熱反応性基、又は炭素数２～５のアルケニル基を表す。Ｚ４０は、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１４０は、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１５１～Ｒ１５３は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｃは、０～４の整数を表す。ｆは、０～４の整数を表す。
一般式（３１）において、Ｙ３７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１４４は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２８ｂ）中の酸素原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２８ｂ）中のＲ１３７との結合点を表す。
（Ｆ３）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｉ）炭素数１～５の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、及び（ＩＩ）光反応性基又は炭素数２～５のアルケニル基を有する化合物（以下、「特定の（Ｆ３）化合物」）も好ましい。特定の（Ｆ３）化合物としては、例えば、リン酸ブチル・ビニル、リン酸ブチル・アリル、リン酸ブチル・スチリル、ブチルホスホン酸ビニル、ブチルホスホン酸アリル、ブチルホスホン酸スチリル、ビニルホスホン酸ブチル、アリルホスホン酸ブチル、スチリルホスホン酸ブチル、ブチル・ビニルホスフィン酸、ブチル・アリルホスフィン酸、ブチル・スチリルホスフィン酸ＥＯ変性リン酸ブチル・（メタ）アクリル、ＥＯ変性リン酸ブチル・ビニル、ＥＯ変性リン酸ブチル・アリル、ＰＯ変性リン酸ブチル・（メタ）アクリル、ＰＯ変性リン酸ブチル・ビニル、ＰＯ変性リン酸ブチル・アリル、ＢＯ変性リン酸ブチル・（メタ）アクリル、ＢＯ変性リン酸ブチル・ビニル、又はＢＯ変性リン酸ブチル・アリルが挙げられる。
溶剤を除く、本発明の感光性樹脂組成物の全固形分中に占める（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、０．００３質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上がさらに好ましく、０．０４質量％以上がさらにより好ましく、０．０８質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、２．１質量％以下が好ましく、１．７質量％以下がより好ましく、１．３質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下がさらにより好ましく、０．７質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、０．０１質量部以上が好ましく、０．０３質量部以上がより好ましく、０．０５質量部以上がさらに好ましく、０．１質量部以上がさらにより好ましく、０．３質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ３）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＴ）化合物の含有量の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、２．５質量部以下が好ましく、２質量部以下がより好ましく、１．５質量部以下がさらに好ましく、１質量部以下がさらにより好ましく、０．５質量部以下が特に好ましい。
＜（ＦＢ－４）ベタイン型樹脂＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（ＦＢ－４）ベタイン型樹脂（以下、「（ＦＢ－４）化合物」）を含有することが好ましい。（ＦＢ－４）化合物としては、上述したリン原子を含むアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含む構造単位を有する樹脂を含有することが好ましい。また、（ＦＢ－４）化合物としては、一般式（２８ｐ）～（３０ｐ）のいずれかで表される構造単位を有する樹脂からなる群より選択される１種以上、を含有することがより好ましい。（ＦＢ－４）化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の効果が顕著となる。（ＦＢ－４）化合物としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、（ＦＢ－４）一般式（２８ｐ）～（３０ｐ）のいずれかで表される構造単位を有する樹脂のうち、２つ以上の樹脂を含有することも好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＢ－４）化合物を含有することも好ましい。同様の観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含み、加えて、（ＦＢ－４）化合物を含有することも好ましい。また、同様の観点から、特定の（Ｆ１）化合物、特定の（ＦＢ－１）化合物、及び特定の（ＦＢ－２）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（Ｆ２）化合物を含み、加えて、（ＦＢ－４）化合物を含有することも好ましい。
（ＦＢ－４）化合物は、分子中に少なくとも、（Ｉ）リン原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造、を有する構造単位を含有する。
Figure 0007676778000036
一般式（２８ｐ）～（３０ｐ）において、Ｘ３７～Ｘ３９は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｚ３７～Ｚ３９は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は一般式（３１）で表される基を表す。一般式（２８ｐ）におけるＺ３７が、直接結合、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基の場合、対応するＲ１３７は直接結合を表す。一般式（２９ｐ）及び（３０ｐ）における、Ｚ３８及び対応するＲ１３８、並びに、Ｚ３９及び対応するＲ１３９においても一般式（２８ｐ）におけるＺ３７及び対応するＲ１３７の関係と同様である。一般式（２８ｐ）におけるＺ３７が、一般式（３１）で表される基の場合、対応するＲ１３７は、炭素数１～５のアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（２９ｐ）及び（３０ｐ）における、Ｚ３８及び対応するＲ１３８、並びに、Ｚ３９及び対応するＲ１３９においても一般式（２８ｐ）におけるＺ３７及び対応するＲ１３７の関係と同様である。Ｚ４０～Ｚ４２は、それぞれ独立して、炭素数１～６の２～６価の脂肪族基を表す。Ｒ１４０～Ｒ１４２は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ１５１～Ｒ１５９は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。Ｒ３４７～Ｒ３５５は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｘ及びｙは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｘ＋ｙ＝１である。
一般式（３１）において、Ｙ３７は、炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ１４４は、炭素数１～６のアルキル基を表す。ｍは、１～１５の整数を表す。ｐは、０～４の整数を表す。＊１は、一般式（２８ｐ）中の酸素原子との結合点、一般式（２９ｐ）中のリン原子若しくは酸素原子との結合点、又は一般式（３０ｐ）中のリン原子との結合点を表す。＊２は、一般式（２８ｐ）中のＲ１３７との結合点、一般式（２９ｐ）中のＲ１３８との結合点、又は一般式（３０ｐ）中のＲ１３９との結合点を表す。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（ＦＢ－４）の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０１質量部以上が好ましく、０．０３質量部以上がより好ましく、０．０５質量部以上がさらに好ましく、０．１質量部以上が特に好ましい。一方、（ＦＢ－４）化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１．５質量部以下が好ましく、１．２質量部以下がより好ましく、１質量部以下がさらに好ましく、０．５質量部以下が特に好ましい。
＜（Ｆ）化合物、（Ｆ１）化合物、及び（ＦＢ）化合物の併用＞
本発明の感光性樹脂組成物は、少なくとも（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選択される１種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物は、少なくとも（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選択される１種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含み、加えて、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。なお、本発明の感光性樹脂組成物は、少なくとも（Ｆ１）化合物、並びに、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物は、少なくとも（Ｆ１）化合物、並びに、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、さらに、（ＦＣ－１）化合物を含み、加えて、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、（ＦＢ－４）化合物、（ＦＣ－１）化合物、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、現像後のパターン剥がれ抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０７質量部以上が好ましく、０．１６質量部以上がより好ましく、０．４質量部以上がさらに好ましく、０．７質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、（ＦＢ－４）化合物、（ＦＣ－１）化合物、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物の含有量の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、６質量部以下が好ましく、４．７質量部以下がより好ましく、３．７質量部以下がさらに好ましく、２．５質量部以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、（ＦＢ－４）化合物、及び（ＦＣ－１）化合物の合計１００質量％に占める（Ｆ１）化合物の含有比率、又は、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらにより好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物の含有比率、又は、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の含有比率の合計は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、８０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５２質量％以下がさらに好ましく、４８質量％以下がさらにより好ましく、４０質量％以下が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物、（ＦＢ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、（ＦＢ－４）化合物、（ＦＣ－１）化合物、及び（Ｆ３）化合物の合計１００質量％に占める（Ｆ３）化合物及び（ＦＢ－３）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましく、４５質量％以上がさらに好ましく、５５質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｆ３）化合物及び（ＦＢ－３）化合物の含有比率の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、９２質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下がさらに好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
＜その他のリン酸系化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、その他のリン酸系化合物として、ポリリン酸エステル、脂肪族ジホスホン酸、ホスホン酸無水物、ホスフィン酸無水物、及びそれらの塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。ポリリン酸エステル、脂肪族ジホスホン酸、ホスホン酸無水物、ホスフィン酸無水物、及びそれらの塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
ポリリン酸エステルとしては、例えば、二リン酸ジブチルが挙げられる。脂肪族ジホスホン酸としては、例えば、ヘキシレンジホスホン酸、オクチレンジホスホン酸、又はデシレンジホスホン酸が挙げられる。ホスホン酸無水物としては、例えば、プロピルホスホン酸無水物環状トリマーが挙げられる。ホスフィン酸無水物としては、例えば、ジフェニルホスフィン酸無水物が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物に占めるその他のリン酸系化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．３質量部以上がより好ましい。一方、その他のリン酸系化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
＜スルホン酸系化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、スルホン酸系化合物として、一般式（１４）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含有することも好ましい。一般式（１４）で表される化合物、及びその塩からなる群より選ばれる一種類以上、を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
スルホン酸系化合物は、（Ｉ）炭素数６～３０の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、及び／又は、（ＩＩ）炭素数６～３０の２価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基を有する。
Figure 0007676778000037
一般式（１４）において、Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙ４は、炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｚ４は、直接結合又は炭素数６～３０の２価の脂肪族基を表す。一般式（１４）におけるＺ４が、直接結合の場合、対応するＲ３４は、炭素数６～３０の１価の脂肪族基を表す。一般式（１４）におけるＺ４が、炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、対応するＲ３４は、水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１～１５の１価の有機基を表す。ｃは、０又は１を表す。Ｚ４における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基である。Ｒ３４における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基である。
一般式（１４）において、Ｘ４は、酸素原子であることが好ましい。Ｙ４は、炭素数６～１０のアリーレン基が好ましい。Ｚ４は、直接結合又は炭素数６～１５の２価の脂肪族基が好ましい。一般式（１４）におけるＺ４が、直接結合の場合、対応するＲ３４は、炭素数６～１５の１価の脂肪族基が好ましい。ｃは、１が好ましい。Ｚ４における該炭素数６～３０の２価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキレン基がより好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキレン基がさらに好ましい。Ｒ３４における該炭素数６～３０の１価の脂肪族基は、直鎖構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基が好ましく、直鎖構造のアルキル基が好ましく、直鎖構造の炭素数６～１０のアルキル基がさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、後述するアセテート結合を有する溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有し、かつ（Ｆ１）化合物としては、上述した一般式（１４）中、Ｚ４が直接結合の場合、Ｒ３４における炭素数６～３０の１価の脂肪族基が、炭素数６～１２の１価の脂肪族基であり、上述した一般式（１４）中、Ｚ４が炭素数６～３０の２価の脂肪族基の場合、Ｚ４が炭素数６～１２の２価の脂肪族基であることが好ましい。
スルホン酸系化合物において、一般式（１４）で表される化合物としては、例えば、ヘキシルベンゼンスルホン酸、（２－エチルヘキシル）ベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸、ステアリルベンゼンスルホン酸、又はテトラコシルベンゼンスルホン酸が好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に占めるスルホン酸系化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．３質量部以上がより好ましい。一方、スルホン酸系化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
＜その他の脂質化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、その他の脂質化合物を含有することも好ましい。その他の脂質化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
その他の脂質化合物は、（１）炭素数６～３０の１価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基からなる群より選ばれる基、（２）炭素数６～３０の２価の脂肪族基として、直鎖構造及び／又は分岐構造の、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基からなる群より選ばれる基、又は（３）ステロイド骨格を有する。
その他の脂質化合物としては、トリアシルグリセロール類、又はステロイド類が好ましい。その他の脂質化合物としては、例えば、トリカプロイン、トリカプリリン、トリカプリン、トリラウリン、トリミリスチン、トリパルミチン、トリステアリン、トリオレイン、トリエライジン、トリリノレイン、トリアラキジン、トリベヘニン、コレステロール、コレステロールラウリレート、コレステロールミリステート、コレステロールパルミテート、コレステロールステアレート、又はコレステロールオレエートが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に占めるその他の脂質化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．３質量部以上がより好ましい。一方、その他の脂質化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
＜その他のベタイン化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、その他のベタイン化合物を含有することも好ましい。その他のベタイン化合物を含有させることで、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。その他のベタイン化合物としては、（１）炭素原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物、又は、（２）硫黄原子、及びベタイン構造を有するベタイン化合物が好ましい。
その他のベタイン化合物は、分子中に少なくとも、（１）炭素原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造、又は、（２）硫黄原子を含む酸性基に由来するアニオン構造及びアンモニウムカチオン構造を含むベタイン構造を有することが好ましい。
その他のベタイン化合物としては、例えば、ドデシルジメチルグリシン、ラウリル酸アミドプロピルベタイン、パーム核脂肪酸アミドプロピルベタイン、コカミドプロピルベタイン、トリメチルグリシン、Ｌ－カルニチン、３－［［３－（アクリルアミド）プロピル］ジメチルアンモニオ］プロパノエート、３－［［２－（メタクリルオキシ）エチル］ジメチルアンモニオ］プロパノエート、オクチルスルホベタイン、カプリリルスルホベタイン、ラウリルスルホベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウリル酸アミドプロピルスルホベタイン、ミリスチルスルホベタイン、パルミチルスルホベタイン、ステアリルスルホベタイン、３－［（３－コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］プロパン－１－スルホネート、３－［（２－ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニオ］プロパン－１－スルホネート、３－（１－ピリジノ）プロパン－１－スルホネート、３－（４－ｔ－ブチル－１－ピリジノ）プロパン－１－スルホネート、又は３－［［２－（メタクリルオキシ）エチル］ジメチルアンモニオ］プロパン－１－スルホネートが好ましく、ドデシルジメチルグリシン、ラウリル酸アミドプロピルベタイン、オクチルスルホベタイン、カプリリルスルホベタイン、ラウリルスルホベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウリル酸アミドプロピルスルホベタイン、ミリスチルスルホベタイン、又は３－［（３－コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］プロパン－１－スルホネートがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に占めるその他のベタイン化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５質量部以上が好ましく、０．３質量部以上がより好ましい。一方、その他のベタイン化合物の含有量は、現像後のパターン剥がれ抑制の観点から、２質量部以下が好ましく、１質量部以下がより好ましい。
＜（Ｇ）架橋剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｇ）架橋剤を含有することも好ましい。（Ｇ）架橋剤とは、樹脂と結合可能な架橋性基を有する化合物をいう。（Ｇ）架橋剤を含有させることで、硬化膜の耐熱性向上、及び熱硬化後の低テーパー形状のパターン形成が可能となる。（Ｇ）架橋剤としては、エポキシ基、アルコキシメチル基、メチロール基、及びオキセタニル基からなる群より選ばれる一種類以上の基を、分子中に２つ以上有する化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｇ）架橋剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、１質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、架橋剤の含有量は、５０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。
＜（Ｇ１）疎水性骨格含有エポキシ架橋剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、（Ｇ１）疎水性骨格含有エポキシ架橋剤（以下、「（Ｇ１）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｇ１）化合物とは、（Ｉ－ｇ１）縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、並びに少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造（以下、「（Ｉ－ｇ１）（Ｇ１）化合物の特定の疎水性骨格を含む構造」）、及び（ＩＩ－ｇ１）エポキシ基を有する少なくとも２つの有機基を有する化合物をいう。（Ｉ－ｇ１）（Ｇ１）化合物の特定の疎水性骨格を含む構造としては、縮合多環式構造が好ましく、フルオレン構造、及び／又はインダン構造がより好ましい。（Ｇ１）化合物を含有させることで、現像後のパターン剥がれ抑制、及び現像後の低テーパー形状のパターン形成が可能となる。加えて、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
フルオレン構造を有する（Ｇ１）化合物としては、例えば、９，９－ビス［４－（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス（４－グリシドキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス［４－（２－グリシドキシエトキシ）－１－ナフチル］フルオレン、又は９，９－ビス［３，４－ビス（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］フルオレンが挙げられる。
インダン構造を有する（Ｇ１）化合物としては、例えば、１，１－ビス［４－（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］インダン、１，１－ビス（４－グリシドキシフェニル）インダン、１，１－ビス［４－（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］－３－フェニルインダン、２，２－ビス［４－（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］インダン、又は２，２－ビス［３，４－ビス（２－グリシドキシエトキシ）フェニル］インダンが挙げられる。
（Ｇ１）化合物のエポキシ基当量としては、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、１５０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、１７０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１９０ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、エポキシ基当量としては、パターン形状の低テーパー化の観点から、８００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、６００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、５００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める（Ｇ１）フルオレン骨格含有エポキシ架橋剤、及び（Ｇ２）インダン骨格含有エポキシ架橋剤物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後のパターン剥がれ抑制、及び現像後の低テーパー形状のパターン形成の観点から、１質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｇ１）フルオレン骨格含有エポキシ架橋剤、及び（Ｇ２）インダン骨格含有エポキシ架橋剤の含有量の合計は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、３０質量部以下が好ましく、１５質量部以下がより好ましい。
＜撥インク剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、撥インク剤を含有することが好ましい。撥インク剤とは、撥水性の構造、及び／又は撥油性の構造を有する化合物をいう。撥インク剤を含有させることで、膜の撥液性を向上できるため、膜の純水に対する接触角、及び／又は、膜の有機溶剤に対する接触角を高めることができる。
撥インク剤としては、光重合性基、及び／又は熱架橋性基を有することが好ましく、分子中に２つ以上の光重合性基、及び／又は、分子中に２つ以上の熱架橋性基を有することが好ましい。光重合性基としては、エチレン性不飽和二重結合基を有する基が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基、シンナミル基、又はマレイミド基がより好ましく、（メタ）アクリル基がさらに好ましい。熱架橋性基としては、エポキシ基、アルコキシメチル基、メチロール基、オキセタニル基、又はブロックイソシアネート基が好ましい。
撥インク剤としては、ポリマー鎖を有することも好ましく、ポリマー鎖の繰り返し単位の側鎖に撥水性の構造、及び／又は撥油性の構造を有することも好ましい。また、撥インク剤としては、ポリマー鎖の繰り返し単位の側鎖に光重合性、及び／又は熱架橋性基を有することで、分子中に２つ以上の光重合性基、及び／又は分子中に２つ以上の熱架橋性基を有することも好ましい。ポリマー鎖を有する撥インク剤としては、アクリル樹脂系撥インク剤、ポリオキシアルキレンエーテル系撥インク剤、ポリエステル系撥インク剤、ポリウレタン系撥インク剤、ポリオール系撥インク剤、ポリエチレンイミン系撥インク剤、又はポリアリルアミン系撥インク剤が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める撥インク剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．５質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましい。撥インク剤の含有量が０．５質量部以上であると、膜の撥液性を向上でき、インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する場合における、インク同士の混色を防止できるとともに、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。一方、撥インク剤の含有量は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び有機ＥＬ層の成膜不良抑制の観点から、２０質量部以下が好ましく、１５質量部以下がより好ましい。
＜増感剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、増感剤を含有することも好ましい。増感剤とは、露光時のＵＶ光のエネルギーを吸収して励起三重項の電子を生じ、上述した（Ｃ１）光重合開始剤などへのエネルギー移動を介することが可能な、増感作用を有する化合物をいう。増感剤を含有させることで、露光時の感度向上が可能となる。増感剤としては、フルオレン骨格、ベンゾフルオレン骨格、フルオレノン骨格、又はチオキサントン骨格を分子中に少なくとも１つ有する化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める増感剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。一方、増感剤の含有量は、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
＜連鎖移動剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、連鎖移動剤を含有することも好ましい。連鎖移動剤を含有させることで、露光時の感度向上が可能となる。連鎖移動剤としては、メルカプト基を分子中に２つ以上有する化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める連鎖移動剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．０１質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましい。一方、連鎖移動剤の含有量は、１５質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
＜重合禁止剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、重合禁止剤を含有することも好ましい。重合禁止剤を含有させることで、現像後の解像度向上が可能となる。重合禁止剤としては、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、又はベンゾイミダゾール化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占める重合禁止剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．０１質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましい。一方、重合禁止剤の含有量は、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましい。
＜シランカップリング剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、シランカップリング剤を含有することも好ましい。シランカップリング剤を含有させることで、現像後のパターン剥がれ抑制、及び硬化膜と下地の基板との密着性向上が可能となる。シランカップリング剤としては、三官能オルガノシラン、四官能オルガノシラン、又はシリケート化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の感光性樹脂組成物に占めるシランカップリング剤の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましい。一方、シランカップリング剤の含有量は、１５質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
＜界面活性剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、界面活性剤を含有することも好ましい。界面活性剤を含有させることで、塗布時のレベリング性向上、及び塗膜の膜厚均一性向上が可能となる。界面活性剤としては、フッ素樹脂系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ポリオキシアルキレンエーテル系界面活性剤、又はアクリル樹脂系界面活性剤が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に占める界面活性剤の含有比率は、感光性樹脂組成物全体の、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましい。一方、界面活性剤の含有比率は、１質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましい。
＜溶剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、溶剤を含有することも好ましい。溶剤を含有させることで、組成物の膜を基板上に所望の膜厚で成膜でき、塗布時のレベリング性向上、及び塗膜の膜厚均一性向上が可能となる。溶剤としては、各種樹脂及び各種添加剤の溶解性の観点から、アルコール性水酸基を有する化合物、カルボニル基を有する化合物、エステル結合を有する化合物、又はエーテル結合を分子中に３つ以上有する化合物が好ましい。溶剤としては、塗膜の膜厚均一性向上の観点から、大気圧下の沸点が１１０℃以上である化合物が好ましい。一方、熱硬化時の膜収縮抑制による平坦性向上、及び膜厚均一性向上の観点から、大気圧下の沸点が２５０℃以下である化合物が好ましい。本発明の感光性樹脂組成物に占める溶剤の含有比率は、塗布方法などに応じて適宜調整可能である。例えば、スピンコーティングにより塗膜を形成する場合、感光性樹脂組成物全体の、５０～９５質量％とすることが一般的である。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）着色剤として（Ｄ１）顔料を含有する場合、溶剤として、カルボニル基を有する溶剤、又はエステル結合を有する溶剤を含有することで、（Ｄ１）顔料の分散安定性向上が可能となり、顔料に起因する高温プリベーク条件での現像後の残渣発生の抑制、現像後の解像度向上、及び塗液の保管安定性向上が可能となる。カルボニル基としては、アルキルカルボニル基、ジアルキルカルボニル基、ホルミル基、カルボキシ基、アミド基、イミド基、ウレア結合、又はウレタン結合が好ましく、アルキルカルボニル基又はジアルキルカルボニル基がより好ましい。エステル結合としては、カルボン酸エステル結合、炭酸エステル結合、又はギ酸エステル結合が好ましく、カルボン酸エステル結合がより好ましい。カルボン酸エステル結合の中でも、アセテート結合、プロピオネート結合、又はブチレート結合がより好ましく、アセテート結合がさらに好ましい。
アセテート結合を有する溶剤としては、分散安定性向上、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後の解像度向上の観点から、３－メトキシ－ｎ－ブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシ－ｎ－ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、又は１，４－ブタンジオールジアセテートが好ましく、３－メトキシ－ｎ－ブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシ－ｎ－ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２－メトキシプロピオン酸エチル、又は２－エトキシプロピオン酸エチルがより好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがさらに好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、溶剤に占めるカルボニル基を有する溶剤、又はエステル結合を有する溶剤の含有比率の合計は、分散安定性向上、及び高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制の観点から、３０～１００質量％が好ましく、５０～１００質量％がより好ましく、７０～１００質量％がさらに好ましい。
エーテル結合としては、脂肪族エーテル結合が好ましい。エーテル結合を分子中に３つ以上有する溶剤としては、３－メトキシ－ｎ－ブチルアルコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシ－ｎ－ブチルアルコールメチルエーテル、エチレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、又は１，４－ブタンジオールジメチルエーテルが好ましく、エチレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、又はジエチレングリコールエチルメチルエーテルが好ましく、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、又はジエチレングリコールエチルメチルエーテルがさらに好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル特に好ましい。
アルコール性水酸基としては、脂肪族アルコール性水酸基が好ましい。アルコール性水酸基を有する溶剤としては、３－メトキシ－ｎ－ブチルアルコール、３－メチル－３－メトキシ－ｎ－ブチルアルコール、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、酢酸２－ヒドロキシエチル、又は１，４－ブタンジオールが好ましく、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、又は酢酸２－ヒドロキシエチルが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、又は酢酸２－ヒドロキシエチルがさらに好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が、上述したトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する場合、溶剤に占めるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有比率は、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましい。一方、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの含有比率は、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が、上述したトリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有する場合、溶剤に占めるジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルの含有比率の合計は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。一方、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルの含有比率の合計は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。
＜本発明の感光性樹脂組成物の製造方法＞
本発明の感光性樹脂組成物の代表的な製造方法について説明する。（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含み、（Ｄａ）黒色剤が（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の溶液に必要に応じて（Ｅ）分散剤を加え、分散機を用いて、この混合溶液に（Ｄ１ａ）黒色顔料を分散させ、顔料分散液を調製する。次に、この顔料分散液に、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、（ＦＢ－１）化合物及び／又は（ＦＢ－２）化合物、その他の添加剤、及び任意の溶剤を加え、２０分～３時間攪拌して均一な溶液とする。攪拌後、得られた溶液を濾過することで、本発明の感光性樹脂組成物が得られる。分散効率化及び微分散化の観点から、分散機としては、ビーズミルが好ましい。ビーズとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ、又はジルコンビーズが挙げられる。ビーズ径としては、０．０１～６ｍｍが好ましく、０．０１５～５ｍｍがより好ましく、０．０３～３ｍｍがさらに好ましい。
＜硬化膜の光学濃度、テーパー角、及び段差形状＞
本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を硬化した硬化膜である。硬化とは加熱によって架橋構造が形成され、膜の流動性が無くなった状態をいう。硬化条件としては、１５０～５００℃で、５～３００分間加熱するなどの条件である。加熱する方法としては、例えば、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置を用いて加熱する方法が挙げられる。加熱する処理雰囲気としては、空気、酸素、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン若しくはキセノン雰囲気下、酸素を１～１０，０００ｐｐｍ（０．０００１～１質量％）含有するガス雰囲気下、又は、真空下が挙げられる。
本発明の硬化膜において、膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度は、外光反射抑制、及び表示装置のコントラスト向上の観点から、１．０～５．０が好ましい。可視光領域は、波長が４００～７００ｎｍ程度である。膜厚１μｍ当たりの光学濃度は、上述した（Ｄ）着色剤の組成及び含有比率により調節できる。本発明の硬化膜が含む、硬化パターンの断面における傾斜辺のテーパー角は、電極断線防止、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２０°～４５°が好ましい。本発明の硬化膜が含む段差形状を有するパターンにおける、最も大きい厚さを有する領域（厚膜部）の膜厚と、最も小さい厚さを有する領域（薄膜部）の膜厚との膜厚差は、発光素子の信頼性向上の観点から、１．０μｍ～５μｍが好ましい。
＜画素分割層の段差形状を有するパターン表面における接触角＞
本発明の硬化膜が、表示装置である有機ＥＬディスプレイの画素分割層である場合において、上述した段差形状を有するパターンを含む硬化膜における、厚膜部の純水に対する接触角を（ＣＡｗＦＴ）°、及び、薄膜部の純水に対する接触角を（ＣＡｗＨＴ）°とするとき、前記（ＣＡｗＦＴ）°と前記（ＣＡｗＨＴ）°との接触角差（ΔＣＡｗＦＴ－ＨＴ）°は、２０°以上が好ましく、３０°以上がより好ましく、４０°以上がさらに好ましく、５０°以上が特に好ましい。純水に対する接触角差が２０°以上であると、インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する場合における、インク同士の混色を防止できるとともに、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。一方、有機ＥＬ層の成膜不良抑制の観点から、純水に対する接触角差（ΔＣＡｗＦＴ－ＨＴ）°は、９０°以下が好ましく、８０°以下がより好ましく、７０°以下がさらに好ましい。
本発明の硬化膜が、表示装置である有機ＥＬディスプレイの画素分割層である場合において、上述した段差形状を有するパターンを含む硬化膜における、厚膜部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角を（ＣＡｐＦＴ）°、及び、薄膜部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角を（ＣＡｐＨＴ）°とするとき、前記（ＣＡｐＦＴ）°と前記（ＣＡｐＨＴ）°との接触角差（ΔＣＡｐＦＴ－ＨＴ）°は、１０°以上が好ましく、２０°以上がより好ましく、３０°以上がさらに好ましい。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角差が１０°以上であると、インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する場合における、インク同士の混色を防止できるとともに、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。一方、有機ＥＬ層の成膜不良抑制の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角差（ΔＣＡｐＦＴ－ＨＴ）°は、７０°以下が好ましく、６０°以下がより好ましく、５０°以下がさらに好ましい。
＜本発明の硬化膜を具備する表示装置＞
以下、本発明の硬化膜を具備する表示装置、本発明の第二の態様である表示装置、及び本発明の第三の態様である表示装置について述べる。なお本発明の表示装置としては、例えば、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、又は電界放出ディスプレイが挙げられる。本発明の表示装置としては、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイが好ましく、有機ＥＬディスプレイがより好ましい。
絶縁層、平坦化層、及び保護層からなる群より選ばれる一種類以上を形成するために用いられる感光性樹脂組成物であって、
該絶縁層、該平坦化層、及び該保護層が、金属、金属酸化物、金属窒化物、及び半導体からなる群より選ばれる一種類以上に接することが好ましい。また、本発明の感光性樹脂組成物は、有機ＥＬディスプレイの画素分割層を形成するために好適に用いられる。本発明の感光性樹脂組成物は、高温プリベーク条件での現像後の残渣抑制、及び現像後のパターン剥がれ抑制が可能となる。そのため、画素分割層、電極絶縁層、配線絶縁層、ＴＦＴ平坦化層、電極平坦化層、配線平坦化層、ＴＦＴ保護層、電極保護層、配線保護層、層間絶縁層、ゲート絶縁層、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、又はブラックカラムスペーサーなどの用途に好適である。本発明の感光性樹脂組成物が奏する効果は、上述した（Ｆ）化合物のうち、特に（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ）化合物を含有することが顕著に作用しており、リン原子による基板表面改質作用によるものと推測される。基板表面改質作用は、金属、金属酸化物、金属窒化物、及び半導体の表面において効果的であり、金属及び金属酸化物の表面においてさらに顕著に作用し、金属酸化物の表面において特に顕著に作用する。従って、本発明の感光性樹脂組成物は、これらを下地層としたパターン形成の用途である絶縁層、平坦化層、及び保護層の用途に特に好適である。加えて、本発明の硬化膜は表示装置に好適にさせることができ、特に有機ＥＬディスプレイに好適に具備させることができる。その結果、低電圧駆動によって高電流が流れることで高輝度化・省電力化を実現できるとともに、発光素子の高信頼性によって有機ＥＬディスプレイの耐久性向上を実現可能となる。従って、本発明の感光性樹脂組成物は、画素部に相当する開口部の残渣抑制、現像時のパターン密着性、低電圧駆動の発光特性、及び発光素子の信頼性を兼ね備えることが要求される有機ＥＬディスプレイの画素分割層の用途に特に好適である。
本発明の感光性樹脂組成物が、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含む場合、上述した通り硬化膜の遮光性向上による外光反射抑制、及び表示装置のコントラスト向上が可能となる。そのため、本発明の硬化膜を具備する表示装置である有機ＥＬディスプレイとしては、発光素子の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、又は円偏光板などの偏光フィルムを有しなくても、外光反射抑制、及び表示装置のコントラスト向上が可能である。従って、有機ＥＬディスプレイが、偏光フィルムを有さず、かつ硬化膜がフレキシブル基板上に積層されている構造を有する場合に好適であり、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイの製造が可能となる。
フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイとしては、折り曲げ性向上の観点から、硬化膜がフレキシブル基板上に積層されている構造を有することが好ましい。フレキシブル基板としては、硬化膜との基板との密着性向上、及び折り曲げ性向上の観点から、炭素原子を主成分として含有する基板が好ましい。フレキシブル基板としては、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板、シクロオレフィンポリマー基板、ポリカーボネート基板、又はセルローストリアセテート基板が好ましく、折り曲げ性向上の観点から、ポリイミド基板がより好ましい。フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイとしては、曲面の表示部を有することが好ましい。曲面の曲率半径は、表示不良抑制の観点から、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．３ｍｍ以上がより好ましい。一方、曲面の曲率半径は、表示装置の解像度向上の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。
本発明の有機ＥＬディスプレイは、本発明の硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。本発明の硬化膜を具備する表示装置である有機ＥＬディスプレイとしては、基板、第１電極、第２電極、画素分割層、及び発光層を少なくとも有し、画素分割層及び発光層は第１電極上に形成され、発光層は第１電極及び第２電極の間に形成された積層構造を有する。
＜第二の態様の表示装置＞
本発明の第二の態様である表示装置は、
基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、発光層を含む有機ＥＬ層を有する有機ＥＬディスプレイであって、
該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、
該発光層を含む有機ＥＬ層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成され、
該第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、
該透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－１）を満たす表示装置である。
４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
＜第三の態様の表示装置＞
本発明の第三の態様である表示装置は、
基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、
該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、
該発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は該発光層を含む光取り出し層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成され、
該第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は該第１電極上の発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、該発光層と接する側の該第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－１）を満たす表示装置である。
４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
なお、本発明の第三の態様である表示装置によれば、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の信頼性に優れる表示装置を提供可能である。
＜基板＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、基板を有する。基板としては、表示装置の耐衝撃性向上の観点から、ガラス基板が好ましい。基板としては、例えば、ガラス上に、電極又は配線として、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、及びガリウムから選ばれる一種類以上を有する酸化物、金属（モリブデン、銀、銅、アルミニウム、クロム、若しくはチタンなど）、又はＣＮＴ（Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏ Ｔｕｂｅ）が形成された基板が挙げられる。インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、及びガリウムから選ばれる一種類以上を有する酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ）、酸化アルミニウムスズ（ＡＴＯ）、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ）、又は酸化亜鉛（ＺｎＯ）が挙げられる。
基板としては、表示装置の折り曲げ性向上の観点から、フレキシブル基板が好ましい。フレキシブル基板としては、本発明の硬化膜と基板との密着性向上、及び折り曲げ性向上の観点から、炭素原子を主成分として含有する基板が好ましい。フレキシブル基板としては、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板、シクロオレフィンポリマー基板、ポリカーボネート基板、又はセルローストリアセテート基板が好ましく、折り曲げ性向上の観点から、ポリイミド基板がより好ましい。
フレキシブル性を有する表示装置としては、折り曲げ性向上の観点から、フレキシブル基板上に積層されている構造を有することが好ましい。フレキシブル性を有する表示装置としては、曲面の表示部を有することが好ましい。曲面の曲率半径は、表示不良抑制の観点から、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．３ｍｍ以上がより好ましい。一方、曲面の曲率半径は、表示装置の解像度向上の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。フレキシブル性を有する表示装置としては、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイが好ましい。
＜第１電極及び第２電極＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、第１電極及び第２電極を有する。第１電極と第２電極として、透明電極と非透明電極とを組み合わせることにより、後述する発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層における発光を片側に取り出すことができる。本発明の表示装置における、透明電極及び非透明電極には、電気特性に優れること、陽極として用いる場合には効率良く正孔を注入できること、陰極として用いる場合には効率良く電子を注入できることなどの複合的な特性が求められる。
ボトムエミッション型の有機ＥＬディスプレイは、第１電極として透明電極を、第２電極として非透明電極を有する。トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイは、第１電極として非透明電極を、第２電極として透明電極を有する。透明電極とは、波長５５０ｎｍにおける透過率が、３０％以上である電極をいう。非透明電極とは、波長５５０ｎｍにおける透過率が、３０％未満である電極をいう。複合的な特性を両立するために、非透明電極の第１電極を多層構造とすることも好ましい。例えば、非透明電極の第１電極を多層構造とし、第１電極の基板側に、密着性や耐腐食性を向上させる下地層や、反射率を調整する反射調整層を有することもできる。
＜透明導電性酸化膜層、非透明導電性層、及び非透明導電性金属層＞
本発明の第二の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有する。また、本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、及びガリウムからなる群より選ばれる一種類以上を含む透明導電性酸化膜層を有することが好ましく、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有することがより好ましい。本発明の表示装置において、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層としては、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、ＩＴＯ、又はＩＺＯが好ましく、ＩＴＯがより好ましく、少なくともインジウムを含むアモルファス性の透明導電性酸化膜層もより好ましい。
第１電極としては、単層構造又は多層構造である。第１電極が単層構造の場合、第１電極は透明電極である。本発明の第二の態様である表示装置において、第１電極が単層構造の場合、第１電極はインジウムを含む透明導電性酸化膜層である。第１電極が多層構造の場合、第１電極は透明電極又は非透明電極である。本発明の第二の態様である表示装置において、第１電極が多層構造の場合、第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有する。
第１電極が単層構造の透明電極であり、陽極として用いる場合には、インジウムを含む透明導電性酸化膜層としては、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、ＩＴＯ、又はＩＺＯが好ましく、ＩＴＯがより好ましい。
第１電極が多層構造の透明電極の場合、発光層側の最表層以外の層は、透明導電性酸化膜層であり、高透過率及び低抵抗率の観点から、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、又はＡＴＯが好ましい。さらに、発光層側の最表層と同じ、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有することも好ましい。
第１電極が多層構造の非透明電極の場合、発光層側の最表層以外の層として、少なくとも一層の非透明導電性層を有する。非透明導電性層としては、金属元素を含む非透明導電性金属層が好ましい。非透明導電性層としては、耐腐食性向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、銀、アルミニウム、炭素、クロム、銅、モリブデン、ニッケル、又はチタンを主成分として含むことが好ましく、銀、アルミニウム、又は銅を主成分として含むことがより好ましい。これらを主成分として含む非透明導電性層としては、ＡｇＰｄＣｕ合金、ＡｇＩｎ合金、ＡｇＺｎ合金、ＡｇＺｎＢｉ合金、Ａｌグラフェン合金、ＡｌＭｎ合金、ＡｌＮｄ合金、ＡｌＧａＮｉ合金、ＣｕＺｎ合金、若しくはＣｕＺｎＭｇ合金などの合金、又は、Ａｇナノフィラー、Ａｇナノワイヤー、若しくはＡｇナノ粒子が好ましい。非透明導電性層における主成分とは、非透明導電性層を形成する材料中に最も多く含まれる成分をいう。さらに、上述した透明導電性酸化膜層を有することも好ましく、上述した発光層側の最表層と同じ、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有することも好ましい。
第２電極としては、単層構造の透明電極、多層構造の透明電極、単層構造の非透明電極、又は多層構造の非透明電極である。上述した第１電極が透明電極の場合、第２電極は非透明電極である。一方、第１電極が非透明電極の場合、第２電極は透明電極である。
第２電極が単層構造の透明電極であり、陰極として用いる場合には、リチウム、マグネシウム、銀、又はアルミニウムを主成分として含むことが好ましい。第２電極を透明電極とするにあたり、膜厚を調整して波長５５０ｎｍにおける透過率を調整することが好ましい。第２電極としては、これらを主成分として含む層を積層した、多層構造の透明電極であっても構わない。
第２電極が単層構造の非透明電極であり、陰極として用いる場合には、リチウム、マグネシウム、銀、又はアルミニウムを主成分として含むことが好ましい。第２電極を非透明電極とするにあたり、膜厚を調整して波長５５０ｎｍにおける透過率を調整することが好ましい。第２電極としては、これらを主成分として含む層を積層した、多層構造の非透明電極であっても構わない。
＜アモルファス性の透明導電性酸化膜層、及び銀を含む非透明導電性金属層＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、上述した第１電極が、透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を少なくとも含む多層構造を有し、第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含むアモルファス性の導電性酸化膜層を有し、非透明導電性金属層が、少なくとも銀を含む合金層を有し、トップエミッション型の構成であることが好ましい。最表層にアモルファス性の導電性酸化膜層を有することで、表面におけるリン原子による表面改質が進行しやすく、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、銀を含む合金層を有することで、銀が有する高反射率の特性により光取り出し効率が向上するため、高輝度化が可能となり、発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となる。また、銀が有する低抵抗率の特性により、第１電極の導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となる。第１電極の発光層側の最表層におけるアモルファス性の透明導電性酸化膜層、及び／又は、第１電極の非透明導電性金属層における銀を含む合金層を有することで、発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となり、高輝度化及び光取り出し効率向上が可能となるため、トップエミッション型の構成とするにあたり、特に好適である。
第１電極における非透明導電性金属層が有する、銀を含む合金層に占める銀の含有比率は、高反射率及び低抵抗率による発光特性の低電圧駆動化の観点から、９５質量％以上が好ましく、９６質量％以上がより好ましく、９７質量％以上がさらに好ましい。一方、銀の含有比率は、９９．５質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９８．５質量％以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、上述した第１電極における非透明導電性金属層が、少なくとも銀を含む合金層を有し、銀を含む合金層が、さらに、パラジウム及び／又は銅を含むことが好ましい。これらの元素を含むことで、第１電極の導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となる。また、第１電極の耐熱性向上、及び耐酸化性向上を顕著に向上できるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
第１電極における非透明導電性金属層が有する、銀を含む合金層に占める、パラジウム及び銅の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上がさらに好ましい。一方、パラジウム及び銅の含有比率の合計は、５質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、３質量％以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、上述した第１電極における非透明導電性金属層が、少なくとも銀を含む合金層を有し、銀を含む合金層が、さらに、インジウム、スズ、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、及びケイ素からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましく、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、及びカルシウムからなる群より選ばれる一種類以上を含むことがより好ましい。これらの元素を含むことで、第１電極の導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化の効果が顕著となる。
第１電極における非透明導電性金属層が有する、銀を含む合金層に占める、インジウム、スズ、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、及びケイ素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。一方、インジウム、スズ、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、及びケイ素の含有比率の合計は、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。
＜画素分割層＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、画素分割層を有する。画素分割層としては、本発明の硬化膜が好ましい。本発明の表示装置において、画素分割層は、上述した第１電極上の一部と重なるように形成されている。画素分割層が第１電極上の一部で重なるように形成されることで、任意の画素の第１電極と、その画素の後述する第２電極とを絶縁することができ、第１電極と第２電極との短絡に起因する画素非点灯を抑制できる。また、任意の画素の第１電極と、その画素と隣接する画素の第１電極とを絶縁することができ、第１電極同士の短絡に起因する画素非点灯を抑制できる。
＜画素分割層が含有する構造＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層が、ホスホン酸構造、ホスホン酸モノエステル構造、ホスホン酸ジエステル構造、亜リン酸モノエステル構造、亜リン酸ジエステル構造、又は亜リン酸トリエステル構造を有する化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、ホスホン酸構造、ホスホン酸モノエステル構造、亜リン酸モノエステル構造、又は亜リン酸ジエステル構造を有する化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、ホスホン酸構造を有する化合物及び／又はホスホン酸モノエステル構造を有する化合物を含有することがさらに好ましい。画素分割層がこれらの構造を有することで、画素分割層の開口部に相当する、導電性酸化膜層の表面における導電性向上の効果が顕著になると推定される。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層が、上述した一般式（１）で表される構造を有する樹脂、一般式（３）で表される構造を有する樹脂、一般式（２）で表される構造を有する樹脂、一般式（４）で表される構造を有する樹脂、一般式（９）で表される構造を有する樹脂、一般式（７）で表される構造を有する樹脂、一般式（８）で表される構造を有する樹脂、一般式（４７）で表される構造を有する樹脂、一般式（４８）で表される構造を有する樹脂、一般式（４９）で表される構造を有する樹脂、一般式（５０）で表される構造を有する樹脂、一般式（３５）で表される構造を有する樹脂、一般式（３６）で表される構造を有する樹脂、一般式（３７）で表される構造を有する樹脂、一般式（３８）で表される構造を有する樹脂、一般式（４１）で表される構造を有する樹脂、一般式（４２）で表される構造を有する樹脂、及び一般式（４３）で表される構造を有する樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。また、画素分割層が、上述した一般式（１）で表される構造を有する樹脂、一般式（３）で表される構造を有する樹脂、一般式（２）で表される構造を有する樹脂、一般式（４）で表される構造を有する樹脂、一般式（９）で表される構造を有する樹脂、一般式（７）で表される構造を有する樹脂、及び一般式（８）で表される構造を有する樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。また、、画素分割層が、上述した一般式（１）で表される構造を有する樹脂、一般式（３）で表される構造を有する樹脂、一般式（２）で表される構造を有する樹脂、一般式（４）で表される構造を有する樹脂、及び一般式（９）で表される構造を有する樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。画素分割層がこれらの構造を有する樹脂を含有することで、画素分割層の開口部に相当する、導電性酸化膜層の表面における導電性向上の効果が顕著になると推定される。また、これらの樹脂構造の耐熱性により、低アウトガス化に効果があると考えられる。
一般式（１）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－１）ポリイミド及び／又は（Ａ１－２）ポリイミド前駆体に由来する構造である。一般式（３）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－２）ポリイミド前駆体に由来する構造である。一般式（２）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－３）ポリベンゾオキサゾール及び／又は（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体に由来する構造である。一般式（４）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－４）ポリベンゾオキサゾール前駆体に由来する構造である。一般式（９）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ１－５）ポリアミドイミドに由来する構造である。一般式（７）で表される構造、及び一般式（８）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ２－１）ポリシロキサンに由来する構造である。一般式（４７）で表される構造、一般式（４８）で表される構造、一般式（４９）で表される構造、及び一般式（５０）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ２－２）多環側鎖含有樹脂に由来する構造である。一般式（３５）で表される構造、一般式（３６）で表される構造、一般式（３７）で表される構造、一般式（３８）で表される構造、一般式（４１）で表される構造、一般式（４２）で表される構造、及び一般式（４３）で表される構造は、上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（Ａ２－２）酸変性エポキシ樹脂に由来する構造である。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層が、一般式（７５）で表される構造を有する化合物、一般式（７６）で表される構造を有する化合物、一般式（７７）で表される構造を有する化合物、及び一般式（７８）で表される構造を有する化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、一般式（７６）で表される構造を有する化合物、及び／又は、一般式（７８）で表される構造を有する化合物を含有することがより好ましい。画素分割層がこれらの構造を有する化合物を含有することで、画素分割層の開口部に相当する、導電性酸化膜層の表面における導電性向上の効果が顕著になると推定される。また、これらの構造の耐熱性によって低アウトガス化することで、発光素子の信頼性向上に効果があると考えられる。
一般式（７５）で表される構造、及び一般式（７６）で表される構造は、フルオレン骨格、カルバゾール骨格、ジベンゾフラン骨格、又はジベンゾチオフェン骨格を少なくとも部分構造として有する、上述した（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤に由来する構造である。
Figure 0007676778000038
一般式（７５）及び一般式（７６）において、Ｘ３１、Ｘ３２、及びＸ３３は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｙ３１及びＹ３２は、それぞれ独立して、炭素原子、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表す。Ｒ２３１～Ｒ２３４は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基を表す。Ｒ２３９及びＲ２４０は、それぞれ独立して、一般式（７９）で表される基、一般式（８０）で表される基、一般式（８１）で表される基、一般式（８２）で表される基、又はニトロ基を表す。Ｒ２４３～Ｒ２５０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基、又は、炭素数４～１０の環を形成する基を表す。Ｒ２５９及びＲ２６０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のハロアルキル基、炭素数１～１０のハロアルコキシ基、又は炭素数２～１５のアシル基を表す。＊１及び＊２は、それぞれ独立して、結合点を表す。ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。ｖ及びｗは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。
一般式（７６）において、Ｒ２６１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のハロアルキル基、炭素数１～１０のハロアルコキシ基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数２～１０のアシル基、又はニトロ基を表す。ｍは、１～１０の整数を表す。
一般式（７５）及び一般式（７６）において、Ｙ３１が、炭素原子の場合、ｉは２である。Ｙ３１が、窒素原子の場合、ｉは１である。Ｙ３１が、酸素原子又は硫黄原子の場合、ｉは０である。Ｙ３２が、炭素原子の場合、ｊは２である。Ｙ３２が、窒素原子の場合、ｊは１である。Ｙ３２が、酸素原子又は硫黄原子の場合、ｊは０である。
Figure 0007676778000039
一般式（７９）～（８２）において、Ｒ２６３～Ｒ２６６は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基、又は環を形成する基を表す。ａは０～７の整数であり、ｂは０～２の整数であり、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３の整数である。
一般式（７７）で表される構造、及び一般式（７８）で表される構造は、ジフェニルスルフィド骨格を少なくとも部分構造として有する、上述した（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤に由来する構造である。
Figure 0007676778000040
一般式（７７）及び一般式（７８）において、Ｒ２３５～Ｒ２３８は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基を表す。Ｒ２４１及びＲ２４２は、それぞれ独立して、一般式（７９）で表される基、一般式（８０）で表される基、一般式（８１）で表される基、一般式（８２）で表される基、又はニトロ基を表す。Ｒ２５１～Ｒ２５８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のヒドロキシアルキル基、又は、炭素数４～１０の環を形成する基を表す。＊３及び＊４は、それぞれ独立して、結合点を表す。ｅ、ｆ、ｇ、及びｈは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｒ及びｓは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。ｘ及びｙは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。
一般式（７８）において、Ｘ３４は、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｒ２６２は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のハロアルキル基、炭素数１～１０のハロアルコキシ基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数２～１０のアシル基、又はニトロ基を表す。ｎは、１～１０の整数を表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層が、一般式（８４）で表される構造を有する化合物、一般式（８５）で表される構造を有する化合物、一般式（８６）で表される構造を有する化合物、一般式（８７）で表される構造を有する化合物、一般式（８８）で表される構造を有する化合物、及び一般式（８９）で表される構造を有する化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、一般式（８４）で表される構造を有する化合物、及び／又は、一般式（８７）で表される構造を有する化合物を含有することがより好ましい。画素分割層がこれらの構造を有する化合物を含有することで、画素分割層の開口部に相当する、導電性酸化膜層の表面における導電性向上の効果が顕著になると推定される。また、これらの構造の耐熱性によって低アウトガス化することで、発光素子の信頼性向上に効果があると考えられる。
一般式（８４）で表される構造、一般式（８５）で表される構造、及び一般式（８６）で表される構造は、フルオレン骨格、又はインダン骨格を少なくとも部分構造として有する、上述した（Ｂ１）フルオレン骨格含有ラジカル重合性化合物、又は上述した（Ｂ２）インダン骨格含有ラジカル重合性化合物に由来する構造である。
Figure 0007676778000041
一般式（８４）～（８６）において、Ｘ４４～Ｘ４９は、それぞれ独立して、炭素数６～１５及び２～１０価の、単環式若しくは縮合多環式の芳香族炭化水素環、又は、炭素数４～１０及び２～８価の、単環式若しくは縮合多環式の脂肪族炭化水素環を表す。Ｙ４４～Ｙ４９は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。一般式（８４）におけるＹ４４及びＹ４５が、直接結合の場合、対応するＺ４４及びＺ４５は、直接結合を表し、ｋ及びｌは、０である。一般式（８５）及び（８６）における、Ｙ４６及びＹ４７、対応するＺ４６、Ｚ４７、ｍ、及びｎ、並びに、Ｙ４８及びＹ４９、対応するＺ４８、Ｚ４９、ｏ、及びｐにおいても同様である。一般式（８４）におけるＹ４４及びＹ４５が、直接結合でない場合、対応するＺ４４及びＺ４５は、酸素原子を表し、ｋ及びｌは、それぞれ独立して、０～８の整数を表す。一般式（８５）における、Ｙ４６及びＹ４７、対応するＺ４６、Ｚ４７、ｍ、及びｎ、並びに、一般式（８６）における、Ｙ４８及びＹ４９、対応するＺ４８、Ｚ４９、ｏ、及びｐにおいても同様である。Ｒ２９１～Ｒ３００は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ３０１～Ｒ３０４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ３０５～Ｒ３１０は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。Ｒ３１１～Ｒ３１６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。＊１～＊１２は、それぞれ独立して、結合点を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは、それぞれ独立して、０～８の整数を表す。ｇ、ｈ、ｉ、及びｊは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。上述した単環式若しくは縮合多環式の芳香族炭化水素環、単環式若しくは縮合多環式の脂肪族炭化水素環、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれでもよい。
一般式（８７）で表される構造、一般式（８８）で表される構造、及び一般式（８９）で表される構造は、フルオレン骨格、又はインダン骨格を少なくとも部分構造として有する、上述した（Ｇ１）フルオレン骨格含有エポキシ架橋剤、又は上述した（Ｂ２）インダン骨格含有エポキシ架橋剤に由来する構造である。
Figure 0007676778000042
一般式（８７）～（８９）において、Ｘ８４～Ｘ８９は、それぞれ独立して、炭素数６～１５及び２～１０価の、単環式若しくは縮合多環式の芳香族炭化水素環、又は、炭素数４～１０及び２～８価の、単環式若しくは縮合多環式の脂肪族炭化水素環を表す。Ｙ８４～Ｙ８９は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｒ３２１～Ｒ３３０は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ３３１～Ｒ３３４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ３３５～Ｒ３４０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又はヒドロキシ基を表す。Ｒ３４１～Ｒ３４６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。＊１～＊６は、それぞれ独立して、結合点を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは、それぞれ独立して、０～８の整数を表す。ｇ、ｈ、ｉ、及びｊは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。上述した単環式若しくは縮合多環式の芳香族炭化水素環、単環式若しくは縮合多環式の脂肪族炭化水素環、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれでもよい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の観点から、上述した画素分割層が、（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有することが好ましい。画素分割層が（Ｄ１ａ）を含有することで、画素分割層の遮光性向上により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。加えて、画素分割層の遮光性向上により、電極配線の可視化防止、及び外光反射抑制が可能となり、それにより表示装置のコントラスト向上の効果が顕著となる。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の観点から、上述した画素分割層が、（Ｄ１ａ）黒色顔料として、上述した一般式（６３）又は上述した一般式（６４）で表される化合物、これらの幾何異性体、これらの塩、及びこれらの幾何異性体の塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。画素分割層がこれらの構造の（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有することで、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の効果が顕著となる。画素分割層がこれらの構造の（Ｄ１ａ）黒色顔料を有することで、画素分割層の開口部に相当する、導電性酸化膜層の表面における導電性向上の効果が顕著になると推定される。また、これらの構造の（Ｄ１ａ）黒色顔料は、一般的な有機顔料と比較して樹脂組成物中の顔料の単位含有比率当たりの遮光性に優れるため、画素分割層の遮光性向上により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。加えて、画素分割層の遮光性向上により、電極配線の可視化防止、及び外光反射抑制が可能となり、それにより表示装置のコントラスト向上が可能となる。また、一般的な有機顔料及び無機顔料と比較して絶縁性及び低誘電性に優れるため、発光素子の信頼性向上に効果があると考えられる。
一般式（６３）又は一般式（６４）で表される化合物、該化合物の幾何異性体、該化合物の塩、及び該化合物の幾何異性体の塩は、上述した（Ｄ１ａ－１ａ）ベンゾフラノン系黒色顔料である。
＜画素分割層の光学濃度、及びフレキシブル性を有する表示装置＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、上述した画素分割層が黒色、かつ上述した画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が１．０～５．０であって、上述した基板がフレキシブル基板であって、前記画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、かつ偏光フィルムを有しないことが好ましい。画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度は、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の観点から、１．０以上が好ましく、１．５以上がより好ましい。可視光領域は、波長が４００～７００ｎｍ程度である。一方、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５．０以下が好ましく、３．０以下がより好ましい。画素分割層が黒色、かつ画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が１．０～５．０であることで、画素分割層の遮光性向上により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。加えて、画素分割層の遮光性向上により、電極配線の可視化防止、及び外光反射抑制が可能となり、それにより表示装置のコントラスト向上が可能となる。従って、本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上などを兼ね備えることが可能となる。
特に、本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した画素分割層が、（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有し、（Ｄ１ａ）黒色顔料として、上述した一般式（６３）又は上述した一般式（６４）で表される化合物、該化合物の幾何異性体、該化合物の塩、及び該化合物の幾何異性体の塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、さらに、画素分割層が黒色、かつ上述した画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が１．０～５．０であることがより好ましい。そのような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及び表示装置のコントラスト向上の効果が顕著となる。また、基板がフレキシブル基板であって、前記画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有することで、折り曲げ性向上が可能となる。また、フレキシブル性に乏しい偏光フィルムを有しないことで、さらに折り曲げ性を向上できる。従って、基板がフレキシブル基板であって、フレキシブル基板上に積層されている構造を有し、かつ偏光フィルムを有しないことで、折り曲げ性向上の効果が顕著となる。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、上述した画素分割層が黒色、かつ上述した画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が１．０～５．０であることで、画素分割層の遮光性向上により、外光反射抑制、及び表示装置のコントラスト向上が可能となる。そのため、発光素子の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、又は円偏光板などの偏光フィルムを有しなくても、外光反射抑制、及び表示装置のコントラスト向上が可能である。従って、本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、表示装置のコントラスト向上、及び折り曲げ性向上などを兼ね備えることが可能であるため、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイとして、特に好適である。
＜画素分割層の表面における算術平均粗さ＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した画素分割層の表面における算術平均粗さは、画素分割層と上述した第２電極との密着性向上の観点から、０．１ｎｍ以上が好ましく、０．２以上がより好ましい。一方、画素分割層の表面における算術平均粗さは、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．１ｎｍ以上が好ましく、１０．０ｎｍ以下が好ましく、５．０ｎｍ以下がより好ましく、１．０ｎｍ以下がさらに好ましく、０．５ｎｍ以下が特に好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した画素分割層として、本発明の硬化膜を形成することが一般的である。また、画素分割層を形成した後、画素分割層の開口部に相当する、上述した第１電極の発光層が形成される領域における、第１電極の表面上の僅かに残存する残渣等を分解・除去するため、プラズマ処理によって第１電極の表面上を洗浄することが一般的である。しかしながら、第１電極の表面上の残渣等を分解・除去するため、プラズマ処理の出力を強化、又は、プラズマ処理を長時間化すると、画素分割層の表面も分解・除去されてしまい、プラズマ処理後に画素分割層の表面に残存する低分子成分や画素分割層の表面の分解・変質部位が、発光素子の信頼性低下の要因となる場合がある。プラズマ処理による画素分割層の表面の分解・変質の度合いは、画素分割層の表面における算術平均粗さを測定することで求めることができる。算術平均粗さが大きいほど、画素分割層の表面の分解・変質の度合いが大きいことを表す。そのような観点から、算術平均粗さは上述した範囲内であることが好ましい。
また、第１電極の表面上の残渣等を残存させることなく、画素分割層を形成することで、プラズマ処理の出力強化、及び、プラズマ処理の長時間化は不要となるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。第１電極の表面上の残渣等の残存度合いは、発光素子の電流密度－電圧特性を測定することで求めることができる。第１電極の表面上に残渣等が残存すると、第１電極における抵抗値が増加し、電流が流れにくくなる。従って、電流密度－電圧特性が大きいほど、すなわち発光特性が高電圧駆動であるほど、第１電極の表面上に残渣等が多いことを表す。本発明の第二の態様である表示装置は、後述する第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度を特定強度とすることによって、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の両立が可能である。また、本発明の第三の態様である表示装置は、後述する発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度を特定強度とすることによって、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の両立が可能である。
＜画素分割層の段差形状を有するパターン＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した画素分割層は、厚膜部と薄膜部とで十分な膜厚差がある段差形状を有するパターンを含むことが好ましい。画素分割層が含む段差形状を有するパターンにおける、最も大きい厚さを有する領域（厚膜部）の膜厚と、最も小さい厚さを有する領域（薄膜部）の膜厚との膜厚差は、発光素子の信頼性向上の観点から、１．０μｍ以上が好ましく、１．５μｍ以上がより好ましい。一方、段差形状を有するパターンにおける厚膜部と薄膜部との膜厚差は、タクトタイム短縮の観点から、５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がより好ましい。
＜画素分割層の段差形状を有するパターン表面における接触角＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した段差形状を有するパターンを含む画素分割層における、厚膜部の純水に対する接触角を（ＣＡｗＦＴ）°、及び、薄膜部の純水に対する接触角を（ＣＡｗＨＴ）°とするとき、前記（ＣＡｗＦＴ）°と前記（ＣＡｗＨＴ）°との接触角差（ΔＣＡｗＦＴ－ＨＴ）°は、２０°以上が好ましく、３０°以上がより好ましく、４０°以上がさらに好ましく、５０°以上が特に好ましい。純水に対する接触角差が２０°以上であると、後述する（４－１）インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程における、インク同士の混色を防止できるとともに、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。一方、有機ＥＬ層の成膜不良抑制の観点から、純水に対する接触角差（ΔＣＡｗＦＴ－ＨＴ）°は、９０°以下が好ましく、８０°以下がより好ましく、７０°以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、上述した段差形状を有するパターンを含む画素分割層における、厚膜部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角を（ＣＡｐＦＴ）°、及び、薄膜部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角を（ＣＡｐＨＴ）°とするとき、前記（ＣＡｐＦＴ）°と前記（ＣＡｐＨＴ）°との接触角差（ΔＣＡｐＦＴ－ＨＴ）°は、１０°以上が好ましく、２０°以上がより好ましく、３０°以上がさらに好ましい。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角差が１０°以上であると、後述する（４－１）インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程における、インク同士の混色を防止できるとともに、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。一方、有機ＥＬ層の成膜不良抑制の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する接触角差（ΔＣＡｐＦＴ－ＨＴ）°は、７０°以下が好ましく、６０°以下がより好ましく、５０°以下がさらに好ましい。
＜発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層＞
本発明の第二の態様である表示装置は、発光層を含む有機ＥＬ層を有する。本発明の表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層は、上述した第１電極上、かつ上述した第１電極及び上述した第２電極の間に形成されている。このような構成とすることで、発光画素部に相当する領域を形成することができる。
また、本発明の第三の態様である表示装置は、発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層を有する。本発明の表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層は、上述した第１電極上、かつ上述した第１電極及び上述した第２電極の間に形成されている。このような構成とすることで、発光画素部に相当する領域を形成することができる。
有機ＥＬ層は、さらに、正孔輸送層及び／又は電子輸送層を有することが好ましく、発光層との積層構造とすることで、有機ＥＬ層を形成することが好ましい。有機ＥＬ層の構成としては、例えば、（１）正孔輸送層／発光層、（２）正孔輸送層／発光層／電子輸送層、又は、（３）発光層／電子輸送層などが挙げられる。有機ＥＬ層の構成については、正孔と電子の注入や輸送、発光層における発光効率などを総合的に高めるために種々検討されており、好ましい構成としては、特開平８－１０９３７３号公報に記載された有機ＥＬ素子などが挙げられる。
なお、本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層を用いた積層構造とすることで、表示装置である有機ＥＬディスプレイを製造することが可能となる。一方、本発明の第三の態様である表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層の代わりに、発光層を含む光取り出し層を用いた積層構造とすることで、表示装置である量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイを製造することが可能となる。
本発明の第三の態様である表示装置は、発光層を含む光取り出し層が量子ドットを含み、表示装置が量子ドットディスプレイであることが好ましい。本発明の表示装置である量子ドットディスプレイは、基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、少なくとも発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、該発光層を含む光取り出し層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成された構成を有し、該発光層を含む光取り出し層が、量子ドットを含む構成を有する表示装置である。
本発明の第三の態様である表示装置は、発光層を含む光取り出し層が無機半導体を含み、表示装置がマイクロＬＥＤディスプレイであることが好ましい。本発明の表示装置であるマイクロＬＥＤディスプレイは、基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、少なくとも発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、該発光層を含む光取り出し層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成された構成を有し、該発光層を含む光取り出し層が、無機半導体を含む構成を有する表示装置である。
本発明の第三の態様である表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層の両方を用いた積層構造とした表示装置を製造することも可能である。例えば、以下の（１）～（２）の表示装置が挙げられる。
（１）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層（例えば、自発光型の量子ドットを含む層）の両方を光源とする発光素子を有する表示装置。
（２）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、発光層を含む有機ＥＬ層上の、発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光を発光する、発光素子を有する表示装置。
本発明の第三の態様である表示装置は、発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、該発光層を含む光取り出し層が量子ドットを含むことが好ましく、該発光層を含む有機ＥＬ層、及び該発光層を含む光取り出し層が、第１電極上に、該発光層を含む有機ＥＬ層、該発光層を含む光取り出し層の順に形成されていることが好ましい。
一方、本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層の両方を用いた積層構造として、発光層を含む光取り出し層を第１電極上ではなく、別の位置に有する表示装置を製造することも可能である。例えば、以下の（３）～（５）の表示装置が挙げられる。
（３）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光１、及び、ＬＥＤなどのバックライトからの光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光２、の両方を光源とする表示装置。
（４）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光、を光源とする表示装置。
（５）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光１、及び、第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光２、の両方を光源とする表示装置。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、さらに、量子ドットを含むカラーフィルタを有することが好ましい。本発明の表示装置において、量子ドットを含むカラーフィルタを有する構成を有する場合、発光素子の光取り出し側から見て、量子ドットを含むカラーフィルタと垂直方向に重畳し、かつ量子ドットを含むカラーフィルタよりも下層に位置する発光素子は、青色光を発光する有機ＥＬ発光素子、白色光を発光する有機ＥＬ発光素子、青色光を発光するＬＥＤ素子、又は白色光を発光するＬＥＤ素子が好ましい。
＜第１電極上における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度＞
本発明の第二の態様である表示装置は、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－１）を満たす。
４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－１）を満たす。
４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
一般式（ＰＡ－１）は、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、リン原子で表面改質された比率が多いことを表す。
透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、上記式を満たすことで、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。また、第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、上記式を満たすことで、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上が可能となる。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。一方、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、８０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、４０以下がさらに好ましく、３０以下がさらにより好ましく、２５以下が特に好ましい。
なお、本発明の第二の態様である表示装置における、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面とは、飛行時間型二次イオン質量分析におけるデプス測定によって求めることができる。まず、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域に対して、バイアスを印加して加速させたエッチングイオン種を発光層側から衝突させ、第１電極側に向かって深さ方向にエッチングしながら、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を、発光層側から衝突させる。その際に放出された二次イオンを測定し、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを測定する。デプスプロファイルにおいて、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が１００以上となった点を、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面とする。また、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置とは、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルにおいて、３０ｃｙｃｌｅｓとなる点を、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置とする。同様に、本発明の第三の態様である表示装置における、第１電極の表面とは、飛行時間型二次イオン質量分析におけるデプス測定によって求めることができる。上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域に対して、同様の方法で発光層側から二次イオンを測定し、深さ方向のデプスプロファイルを測定する。デプスプロファイルにおいて、第１電極の発光層側の最表層が含む元素のうち、少なくとも１つのイオンの検出強度が１００以上となった点を、第１電極の表面とする。また、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置とは、深さ方向のデプスプロファイルにおいて、３０ｃｙｃｌｅｓとなる点を、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置とする。
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－２）及び（ＰＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．００４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦０．１ （ＰＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＰＡ－３）
本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有する場合、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＰＡ－２）及び（ＰＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．００４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦０．１ （ＰＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＰＡ－３）
一般式（ＰＡ－２）は、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定強度比であることを示す式である。（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、リン原子で表面改質された比率が多いことを表す。一般式（ＰＡ－３）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面が露出した比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．００６以上が好ましく、０．００８以上がより好ましく、０．０１以上がさらに好ましい。一方、（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０８以下が好ましく、０．０６以下がより好ましく、０．０４以下がさらに好ましく、０．０３以下がさらにより好ましく、０．０２５以下が特に好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、１，２００以上が好ましく、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。
＜第１電極上における、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度＞
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される炭素イオン（Ｃ－）の検出強度を（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ））が、一般式（ＣＡ－１）を満たすことが好ましい。
２０≦（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４，０００ （ＣＡ－１）
本発明の第三の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される炭素イオン（Ｃ－）の検出強度を（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ））が、一般式（ＣＡ－１）を満たすことが好ましい。
２０≦（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４，０００ （ＣＡ－１）
一般式（ＣＡ－１）は、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、炭素原子の存在比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０以上が好ましく、７５以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましい。一方、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３，０００以下が好ましく、２，０００以下がより好ましく、１，０００以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＡ－２）及び（ＣＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．０２≦（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４ （ＣＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＣＡ－３）
本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有する場合、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＡ－２）及び（ＣＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．０２≦（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４ （ＣＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＣＡ－３）
一般式（ＣＡ－２）は、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定強度比であることを示す式である。（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、炭素原子の存在比率が多いことを表す。一般式（ＣＡ－３）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面が露出した比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５以上が好ましく、０．０７５以上がより好ましく、０．１以上がさらに好ましい。一方、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、１，２００以上が好ましく、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。
＜第１電極上における、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度＞
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるシアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度を（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＮＡ－１）を満たすことが好ましい。
２０≦（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４，０００ （ＣＮＡ－１）
本発明の第三の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるシアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度を（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＮＡ－１）を満たすことが好ましい。
２０≦（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４，０００ （ＣＮＡ－１）
一般式（ＣＮＡ－１）は、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、窒素原子に結合した炭素原子の存在比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０以上が好ましく、７５以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましい。一方、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３，０００以下が好ましく、２，０００以下がより好ましく、１，０００以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＮＡ－２）及び（ＣＮＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．０２≦（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４ （ＣＮＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＣＮＡ－３）
本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有する場合、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度を（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、さらに、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）、及び（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＮＡ－２）及び（ＣＮＡ－３）を満たすことが好ましい。
０．０２≦（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４ （ＣＮＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１０，０００ （ＣＮＡ－３）
一般式（ＣＮＡ－２）は、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定強度比であることを示す式である。（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、窒素原子に結合した炭素原子の存在比率が多いことを表す。一般式（ＣＮＡ－３）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定範囲であることを示す式である。（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面が露出した比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０５以上が好ましく、０．０７５以上がより好ましく、０．１以上がさらに好ましい。一方、（ＣＮＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）／（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、１，２００以上が好ましく、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。
＜画素分割層及び第１電極上における、酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比＞
本発明の第二の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域と重畳しない領域において、第２電極と接する側の表面又は第２電極の開口部において露出する側の表面における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比を（ＰＰＤＬ）とし、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域において、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比を（ＰＡｎｏｄｅ）とするとき、（ＰＡｎｏｄｅ）及び（ＰＰＤＬ）が、一般式（ＰＤ－１）を満たすことが好ましい。
３０≦（ＰＡｎｏｄｅ）／（ＰＰＤＬ）≦５，０００ （ＰＤ－１）
本発明の第三の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上述した画素分割層上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域と重畳しない領域において、第２電極と接する側の表面又は第２電極の開口部において露出する側の表面における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比を（ＰＰＤＬ）とし、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域において、発光層と接する側の第１電極の表面における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比を（ＰＡｎｏｄｅ）とするとき、（ＰＡｎｏｄｅ）及び（ＰＰＤＬ）が、一般式（ＰＤ－１）を満たすことが好ましい。
３０≦（ＰＡｎｏｄｅ）／（ＰＰＤＬ）≦５，０００ （ＰＤ－１）
一般式（ＰＤ－１）は、画素分割層上及び第１電極上における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比が、特定強度比であることを示す式である。（ＰＡｎｏｄｅ）／（ＰＰＤＬ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、リン原子で表面改質された比率が多く、画素分割層の表面よりも多くのリン原子が存在することを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＰＡｎｏｄｅ）／（ＰＰＤＬ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０以上が好ましく、７０以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましい。一方、（ＰＡｎｏｄｅ）／（ＰＰＤＬ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、４，０００以下が好ましく、３，０００以下がより好ましく、２，０００以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、（ＰＡｎｏｄｅ）及び（ＰＰＤＬ）が、一般式（ＰＤ－２）及び（ＰＤ－３）を満たすことが好ましい。
０．００３≦（ＰＡｎｏｄｅ）≦０．５ （ＰＤ－２）
０．０００１≦（ＰＰＤＬ）≦０．０１ （ＰＤ－３）
一般式（ＰＤ－２）は、第１電極上における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比が、特定範囲であることを示す式である。（ＰＡｎｏｄｅ）が大きいほど、上述した透明導電性酸化膜層の表面及び上述した第１電極の表面において、リン原子で表面改質された比率が多いことを表す。一般式（ＰＤ－３）は、画素分割層上における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度の比が、特定範囲であることを示す式である。（ＰＰＤＬ）が大きいほど、上述した画素分割層の表面において、リン原子の存在比率が多いことを表す。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＰＡｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．００５以上が好ましく、０．００７以上がより好ましく、０．０１以上がさらに好ましい。一方、（ＰＡｎｏｄｅ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．４以下が好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２以下がさらに好ましい。
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置において、（ＰＰＤＬ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化の観点から、０．０００２以上が好ましく、０．０００３以上がより好ましく、０．０００５以上がさらに好ましい。一方、（ＰＰＤＬ）は、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．００７以下が好ましく、０．００５以下がより好ましく、０．００３以下がさらに好ましい。
＜リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法＞
本発明のリンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法について説明する。本発明の第二の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、前記透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である。また、本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である。本発明の表示装置における上述した第１電極としては、例えば、以下の（Ｉ）～（Ｖ）の方法により得られる。なお、上述した通り（Ｆ）リン原子、並びに、炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基及び／又はベタイン構造を有する化合物を、以下、「（Ｆ）化合物」という。
（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を形成した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩＩ）（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させる方法。
（ＩＶ）リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法。
（Ｖ）リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法。
＜（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出する方法＞
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出することで、上述した透明導電性酸化膜層の表面又は上述した第１電極の表面がリン原子で表面改質され、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。本方法によって形成した感光性樹脂組成物のパターンが、上述した画素分割層に相当する。
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、上述した樹脂が挙げられる。（Ｃ）感光剤としては、上述した化合物が挙げられる。（Ｆ）化合物としては、上述した化合物が挙げられる。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物は、さらに、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、上述した化合物が挙げられる。
感光性樹脂組成物に占める（Ｆ）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、０．１質量部以上である。（Ｆ）化合物の含有量は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．２質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、１質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｆ）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、４質量部以下である。（Ｆ）化合物の含有量は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３質量部以下が好ましく、２．５質量部以下がより好ましく、２質量部以下がさらに好ましい。
第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出する工程としては、後述する表示装置の製造方法における、（２）基板上に、感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程、（３）該感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、及び、（４）アルカリ溶液を用いて現像して、該感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、と同様である。
第１電極上に感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましい。一方、第１電極上に感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２５０℃以下が好ましく、２００℃以下がより好ましく、１５０℃以下がさらに好ましく、１３０℃以下が特に好ましい。
第１電極上に感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク時間は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、第１電極上に感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク時間は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及びタクトタイム短縮の観点から、６０分以下が好ましく、３０分以下がより好ましく、１０分以下がさらに好ましく、５分以下が特に好ましい。
第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出する工程としては、フォトリソグラフィーにより直接パターン加工する方法であり、露光した後、現像液により感光性樹脂組成物のパターンを形成する。
現像液としては、アルカリ溶液が好ましく、有機系のアルカリ溶液、又はアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。アルカリ溶液としては、ジエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、又は水酸化テトラエチルアンモニウムが好ましく、水酸化テトラメチルアンモニウム、又は水酸化テトラエチルアンモニウムがより好ましい。アルカリ溶液のアルカリ濃度としては、０．０１～５質量％が好ましい。現像液としては、有機溶媒を用いても構わない。現像液としては、有機溶媒と感光性樹脂組成物に対する貧溶媒の、両方を含有する混合溶液を用いても構わない。
現像液によりパターン形成する方法としては、例えば、（１）感光性樹脂組成物の塗膜を露光した後、現像液を塗布する方法、（２）感光性樹脂組成物の塗膜を露光した後、現像液を霧状にして放射する方法、（３）感光性樹脂組成物の塗膜を露光した後、現像液中に浸漬する方法、又は（４）感光性樹脂組成物の塗膜を露光した後、現像液中に浸漬して超音波を照射する方法が挙げられる。現像液によりパターン形成する方法としては、自動現像機を用いても構わない。
現像液によりパターン形成する方法において、現像温度は、タクトタイム短縮の観点から、１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましく、４０℃以上がさらに好ましい。一方、現像温度は、パターン寸法制御の観点から、１００℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましく、６０℃以下がさらに好ましい。なお、現像温度は、現像液中の成分の沸点以下の温度が好ましい。
現像液によりパターン形成する方法において、現像時間は、パターン寸法制御の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、現像時間は、タクトタイム短縮の観点から、３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。
現像後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。
＜（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出する方法＞
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出することで、上述した透明導電性酸化膜層の表面又は上述した第１電極の表面がリン原子で表面改質され、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。本方法によって形成した樹脂組成物のパターンが、上述した画素分割層に相当する。
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、上述した樹脂が挙げられる。（Ｆ）化合物としては、上述した化合物が挙げられる。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物は、さらに、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、上述した化合物が挙げられる。
樹脂組成物に占める（Ｆ）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、０．１質量部以上である。（Ｆ）化合物の含有量は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．２質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、１質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｆ）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計を１００質量部とした場合において、４質量部以下である。（Ｆ）化合物の含有量は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３質量部以下が好ましく、２．５質量部以下がより好ましく、２質量部以下がさらに好ましい。
（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜する工程としては、後述する表示装置の製造方法における、（２）基板上に、感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程と同様である。
第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましい。一方、第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２５０℃以下が好ましく、２００℃以下がより好ましく、１５０℃以下がさらに好ましく、１３０℃以下が特に好ましい。
第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク時間は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、第１電極上に樹脂組成物の塗膜を成膜する際のベーク時間は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及びタクトタイム短縮の観点から、６０分以下が好ましく、３０分以下がより好ましく、１０分以下がさらに好ましく、５分以下が特に好ましい。
（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出する工程において、樹脂組成物のパターンを形成する方法としては、（１）上層にフォトレジストを成膜し、ウェットエッチングによりパターン加工する方法、（２）上層にフォトレジストを成膜し、ドライエッチングによりパターン加工する方法、又は（３）上層に成膜したフォトレジスト層の現像時、現像液により一括開口してパターン加工する方法が挙げられる。
（１）ウェットエッチングによりパターン加工する方法としては、まず樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成し、フォトリソグラフィーによってフォトレジストのパターンを形成することで、フォトレジスト層を成膜する。その後、フォトレジスト層をエッチングマスクとして、下層の樹脂組成物の塗膜をウェットエッチングによってパターン加工する。エッチング液としては、酸性溶液、アルカリ溶液、又は有機溶媒を用いることができる。
ウェットエッチングする方法としては、例えば、（１）フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜に、エッチング液を塗布する方法、（２）フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜に、エッチング液を霧状にして放射する方法、（３）フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜を、エッチング液中に浸漬する方法、又は（４）フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜を、エッチング液中に浸漬して超音波を照射する方法が挙げられる。ウェットエッチングする方法としては、自動現像機を用いても構わない。
（２）ドライエッチングによりパターン加工する方法としては、まず樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成し、フォトリソグラフィーによってフォトレジストのパターンを形成することで、フォトレジスト層を成膜する。その後、フォトレジスト層をエッチングマスクとして、下層の樹脂組成物の塗膜をドライエッチングによってパターン加工する。エッチングガスとしては、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化硫黄、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化希ガス、ハロゲン、酸素、オゾン、又は希ガスを用いることができる。
ドライエッチングする方法としては、例えば、（１）容器内にエッチングガスを充填し、フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜にエッチングガスを接触させる反応性ガスエッチング、（２）容器内にエッチングガスを充填し、電磁波によってイオン化及び／又はラジカル化させ、フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜に接触させるプラズマエッチング、又は（３）容器内にエッチングガスを充填し、電磁波によってイオン化及び／又はラジカル化させ、バイアスを印加して加速させて、フォトレジスト層を成膜した樹脂組成物の塗膜に衝突させる反応性イオンエッチングが挙げられる。
ウェットエッチング及びドライエッチングにおいて、エッチング温度は、タクトタイム短縮の観点から、２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましい。一方、エッチング温度は、パターン寸法制御の観点から、２００℃以下が好ましく、１５０℃以下がより好ましく、１３０℃以下がさらに好ましい。なお、ウェットエッチングにおいては、エッチング温度は、エッチング液中の成分の沸点以下の温度が好ましい。
ウェットエッチング及びドライエッチングにおいて、エッチング時間は、パターン寸法制御の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、エッチング時間は、タクトタイム短縮の観点から、３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。
なお、ウェットエッチングにおいては、ウェットエッチングの後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。
（３）現像液により一括開口してパターン加工する方法としては、まず樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成する。その後、フォトリソグラフィーによってフォトレジストのパターンを形成する際、現像液により下層の樹脂組成物の塗膜を一括開口してパターン加工する。
現像液としては、アルカリ溶液が好ましく、有機系のアルカリ溶液、又はアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。アルカリ溶液としては、ジエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、又は水酸化テトラエチルアンモニウムが好ましく、水酸化テトラメチルアンモニウム、又は水酸化テトラエチルアンモニウムがより好ましい。アルカリ溶液のアルカリ濃度としては、０．０１～５質量％が好ましい。現像液としては、有機溶媒を用いても構わない。現像液としては、有機溶媒と樹脂組成物に対する貧溶媒の、両方を含有する混合溶液を用いても構わない。
現像液により一括開口する方法としては、例えば、（１）樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成して露光した後、現像液を塗布する方法、（２）樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成して露光した後、現像液を霧状にして放射する方法、（３）樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成して露光した後、現像液中に浸漬する方法、又は（４）樹脂組成物の塗膜上に、フォトレジストの塗膜を形成して露光した後、現像液中に浸漬して超音波を照射する方法が挙げられる。現像液により一括開口する方法としては、自動現像機を用いても構わない。
現像液により一括開口する方法において、現像温度は、タクトタイム短縮の観点から、１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましく、４０℃以上がさらに好ましい。一方、現像温度は、パターン寸法制御の観点から、１００℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましく、６０℃以下がさらに好ましい。なお、現像温度は、現像液中の成分の沸点以下の温度が好ましい。
現像液により一括開口する方法において、現像時間は、パターン寸法制御の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、現像時間は、タクトタイム短縮の観点から、３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。
現像後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。
＜（ＩＩＩ）（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させる方法＞
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させることで、上述した透明導電性酸化膜層の表面又は上述した第１電極の表面がリン原子で表面改質され、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。本方法によって形成した第１電極上に、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することができる。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液において、（Ｆ）化合物としては、上述した化合物が挙げられる。（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液は、さらに、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、上述した化合物が挙げられる。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液に占める（Ｆ）化合物の含有比率は、溶液全体の０．００１質量％以上である。（Ｆ）化合物の含有比率は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、溶液全体の０．００５質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０１５質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｆ）化合物の含有比率は、溶液全体の０．３質量％以下である。（Ｆ）化合物の含有比率は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、溶液全体の０．２５質量％以下が好ましく、０．２質量％以下がより好ましく、０．１５質量％以下がさらに好ましい。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、（１）（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に塗布する方法、（２）（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に霧状にして放射する方法、又は（３）（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液中に、第１電極を浸漬させる方法が挙げられる。（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させる方法としては、自動現像機を用いても構わない。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、８０℃以上がさらに好ましい。一方、（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２００℃以下が好ましく、１５０℃以下がより好ましく、１３０℃以下がさらに好ましい。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上がさらに好ましい。一方、（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及びタクトタイム短縮の観点から、３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。
（Ｆ）化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させた後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。
＜（ＩＶ）リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法＞
リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させることで、上述した透明導電性酸化膜層の表面又は上述した第１電極の表面がリン原子で表面改質され、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。本方法によって形成した第１電極上に、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することができる。
リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、（１）容器内にリン原子を含む化合物をガス化させて充填し、第１電極上に接触させる方法、（２）リン原子を含む化合物をガス化させ、第１電極上に噴射して接触させる方法、又は（３）容器内にリン原子を含む化合物をガス化させて充填し、化学気相成長法により、第１電極上に成膜させる方法が挙げられる。
リン原子を含む化合物としては、例えば、ホスフィン、三フッ化リン、五フッ化リン、塩化ホスホリル、五酸化二リン、又はリン酸が挙げられる。
ガス化させた化合物を第１電極上に接触させる温度は、２０℃以上である。第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０℃以上が好ましく、８０℃以上がより好ましい。一方、ガス化させた化合物を第１電極上に接触させる温度は、２００℃以下である。第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
ガス化させた化合物を第１電極上に接触させる時間は、１０秒以上である。第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３０秒以上が好ましく、１分以上がより好ましい。一方、ガス化させた化合物を第１電極上に接触させる時間は、３０分以下である。第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及びタクトタイム短縮の観点から、１０分以下が好ましく、５分以下がより好ましい。
＜（Ｖ）リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法＞
リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させることで、上述した透明導電性酸化膜層の表面又は上述した第１電極の表面がリン原子で表面改質され、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。本方法によって形成した第１電極上に、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することができる。
リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、（１）容器内にリン原子を含む化合物をガス化させて充填し、電磁波によってイオン化させ、第１電極上に接触させる方法、又は（２）ガス化させたリン原子を含む化合物を電磁波によってイオン化させ、バイアスを印加して加速させて第１電極上に衝突させる方法が挙げられる。
リン原子を含む化合物としては、例えば、ホスフィン、三フッ化リン、五フッ化リン、塩化ホスホリル、五酸化二リン、又はリン酸が挙げられる。
イオン化させた化合物を第１電極上に接触させる温度は、２０℃以上である。第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０℃以上が好ましく、８０℃以上がより好ましい。一方、イオン化させた化合物を第１電極上に接触させる温度は、２００℃以下である。第１電極上に接触させる温度は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
イオン化させた化合物を第１電極上に接触させる時間は、１０秒以上である。第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３０秒以上が好ましく、１分以上がより好ましい。一方、イオン化させた化合物を第１電極上に接触させる時間は、３０分以下である。第１電極上に接触させる時間は、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、及びタクトタイム短縮の観点から、１０分以下が好ましく、５分以下がより好ましい。
＜炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法＞
炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法について説明する。本発明の第二の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、前記透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度であることが好ましい。また、本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度であることが好ましい。本発明の表示装置における上述した第１電極としては、以下の（Ｉ）～（Ｖ）の方法により得られる。すなわち、第１電極の表面をリン原子によって表面改質することで、表面改質された第１電極上に、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物を用いて画素分割層を形成する際における有機成分の付着を抑制できる。それにより、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。
なお、以下の（ＩＩＩ）～（Ｖ）の方法の場合、第１電極上に、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物、又は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することで、炭素イオン（Ｃ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。
（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を形成した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩＩ）（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＶ）リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（Ｖ）リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
＜シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法＞
本発明のシアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法について説明する。本発明の第二の態様である表示装置は、上述した第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、前記透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度であることが好ましい。また、本発明の第三の態様である表示装置は、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、発光層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置における、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度であることが好ましい。本発明の表示装置における上述した第１電極としては、以下の（Ｉ）～（Ｖ）の方法により得られる。すなわち、第１電極の表面をリン原子によって表面改質することで、表面改質された第１電極上に、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物を用いて画素分割層を形成する際における窒素原子を含む有機成分の付着を抑制できる。それにより、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。
なお、以下の（ＩＩＩ）～（Ｖ）の方法の場合、第１電極上に、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含み、かつ窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する感光性樹脂組成物、又は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含み、かつ窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することで、シアン化物イオン（ＣＮ－）の検出強度が、特定強度である第１電極を形成できる。
（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含み、かつ窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含み、かつ窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を形成した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩＩ）（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＶ）リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（Ｖ）リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に、窒素原子を含む（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、窒素原子を含む（Ｄ１ａ）黒色顔料、及び窒素原子を含む（Ｅ）分散剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
＜画素分割層の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度、及び透明導電性酸化膜層の表面又は第１電極の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度が特定強度比である、画素分割層、及び第１電極の形成方法＞
画素分割層の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度が特定強度比である、画素分割層、及び第１電極の形成方法について説明する。本発明の第二の態様である表示装置は、上述した画素分割層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域と重畳しない領域において、第２電極に隣接する側の表面又は第２電極と接する側の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度と、上述した透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域において、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度とが、特定強度比であることが好ましい。本発明の第三の態様である表示装置は、上述した画素分割層上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域と重畳しない領域において、第２電極に隣接する側の表面又は第２電極と接する側の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度と、上述した第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層が形成された領域において、発光層と接する側の第１電極の表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度とが、特定強度比であることが好ましい。本発明の表示装置における上述した画素分割層、及び第１電極としては、以下の（Ｉ）～（Ｖ）の方法により得られる。すなわち、第１電極の表面をリン原子によって表面改質することで、表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度が特定強度比である、画素分割層、及び第１電極を形成できる。
なお、以下の（ＩＩＩ）～（Ｖ）の方法の場合、第１電極上に、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物、又は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて画素分割層を形成することで、表面における酸化リンイオン（ＰＯ３ －）の検出強度が特定強度比である画素分割層、及び第１電極を形成できる。
（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む感光性樹脂組成物を用いて、第１電極上に感光性樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む樹脂組成物を用いて、（ＩＩ－１）第１電極上に樹脂組成物の塗膜を形成した後、（ＩＩ－２）樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＩＩ）（Ｆ）リン原子を含む酸性基を有する特定構造の化合物を少なくとも含む溶液を、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（ＩＶ）リン原子を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
（Ｖ）リン原子を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させた後、上述した（Ｉ）又は（ＩＩ）の方法で、第１電極上に感光性樹脂組成物又は樹脂組成物のパターンを形成し、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層又は第１電極の最表層を露出させる方法。
＜画素分割層を形成するための感光性樹脂組成物＞
本発明の第二の態様である表示装置及び第三の態様である表示装置は、画素分割層として、本発明の硬化膜を有することが好ましい。感光性樹脂組成物としては、上述した各構成成分を含有することが好ましい。
＜有機ＥＬディスプレイの製造プロセスの模式的断面図＞
感光性樹脂組成物が、（Ｄ）着色剤として（Ｄａ）黒色剤を含む場合において、該組成物を硬化した硬化膜を、遮光性を有する画素分割層として具備する有機ＥＬディスプレイの製造プロセスを例に、図１に模式的断面図を示して説明する。まず、（工程１）ガラス基板１上に、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」）２を形成し、ＴＦＴ平坦化膜用の感光性材料を成膜し、フォトリソグラフィーによってパターン加工した後、熱硬化させてＴＦＴ平坦化用の硬化膜３を形成する。次に、（工程２）銀‐パラジウム‐銅合金（以下、「ＡＰＣ」）をスパッタにより成膜し、フォトレジストを用いてエッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成し、さらに、ＡＰＣ層の上層に酸化インジウムスズ（以下、「ＩＴＯ」）をスパッタにより成膜し、フォトレジストを用いたエッチングによりパターン加工し、第１電極として反射電極４を形成する。その後、（工程３）感光性樹脂組成物を塗布及びプリベークして、プリベーク膜５ａを形成する。次いで、（工程４）所望のパターンを有するマスク６を介して、活性化学線７を照射する。次に、（工程５）現像してパターン加工をした後、必要に応じてブリーチング露光及びミドルベークする。さらに、熱硬化させることで、遮光性を有する画素分割層として、所望のパターンを有する硬化パターン５ｂを形成する。その後、（工程６）ＥＬ発光材料を、マスクを介した蒸着によって成膜して有機ＥＬ層８を形成し、マグネシウム‐銀合金（以下、「ＭｇＡｇ」）を蒸着により成膜し、フォトレジストを用いてエッチングによりパターン加工し、第２電極として透明電極９を形成する。次に（工程７）平坦化膜用の感光性材料を成膜し、フォトリソグラフィーによってパターン加工した後、熱硬化させて平坦化用の硬化膜１０を形成し、その後、カバーガラス１１を接合させることで、感光性樹脂組成物の硬化膜を、遮光性を有する画素分割層として具備する有機ＥＬディスプレイを得る。
＜硬化膜の製造方法、及び表示装置の製造方法＞
本発明の硬化膜の製造方法は、以下の（１）～（４）の工程を有する。
（１）基板上に、本発明の感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程、
（２）前記感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、
（３）アルカリ溶液を用いて現像して、前記感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、及び、
（４）前記パターンを加熱して硬化させ、前記感光性樹脂組成物の硬化パターンを得る工程。
なお、硬化膜の製造方法としては、国際公開第２０１９／０８７９８５号に記載の方法を適用しても構わない。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、以下の（１）～（７）の工程を有する。なお、表示装置の製造方法としては、国際公開第２０１９／０８７９８５号に記載の方法を適用しても構わない。
（１）第１電極を形成する工程、
（２）基板上に、本発明の感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程、
（３）前記感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、
（４）アルカリ溶液を用いて現像して、前記感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、
（５）前記パターンを加熱して硬化させ、前記感光性樹脂組成物の硬化パターンを得る工程、
（６）有機ＥＬ層を形成する工程、及び、
（７）第２電極を形成する工程。
＜第１電極を形成する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、（１）第１電極を形成する工程、を有する。第１電極を形成する基板としては、上述した基板が挙げられる。第１電極としては、上述した第１電極が挙げられる。
第１電極の形成方法としては、例えば、第１電極を形成する材料を成膜した後、パターン加工する方法が挙げられる。成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、化学気相蒸着（ＣＶＤ）法、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、スプレーコート法、又は印刷法などが挙げられる。パターン加工方法としては、シャドーマスクやフォトマスクなどを用いたエッチング法などが挙げられる。スパッタ法により成膜し、フォトレジストを用いたエッチング法によりパターン加工を行うことが一般的である。
＜塗膜を成膜する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法は、（１）基板上に、感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程、を有する。また、感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（１）第１電極を形成する工程の後、（２）基板上に、感光性樹脂組成物の塗膜を成膜する工程、を有する。感光性樹脂組成物を成膜する方法としては、例えば、基板上に、感光性樹脂組成物を塗布する方法、又は、基板上に、感光性樹脂組成物をパターン状に塗布する方法が挙げられる。
基板としては、例えば、ガラス上に、電極又は配線として、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、及びガリウムから選ばれる一種類以上を含む酸化物、金属（モリブデン、銀、銅、アルミニウム、クロム、若しくはチタンなど）、又はＣＮＴ（Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏ Ｔｕｂｅ）が形成された基板などが用いられる。インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、及びガリウムから選ばれる一種類以上を含む酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が挙げられる。
＜基板上に、感光性樹脂組成物を塗布する方法＞
基板上に、感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコーティング、カーテンフローコーティング、スプレーコーティング、又はスリットコーティングが挙げられる。塗布膜厚は、塗布方法、感光性樹脂組成物の固形分濃度や粘度などによって異なるが、通常は、塗布及びプリベーク後の膜厚が０．１～３０μｍである。
基板上に、感光性樹脂組成物を塗布した後、プリベークして成膜することが好ましい。プリベークは、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置などを使用することができる。プリベーク温度としては、５０～１５０℃が好ましい。プリベーク時間としては、３０秒～１０分が好ましい。また、８０℃で２分間プリベークした後、１２０℃で２分間プリベークするなど、二段又はそれ以上の多段でプリベークしても構わない。
＜基板上に成膜した塗膜をパターン加工する方法＞
基板上に成膜した、感光性樹脂組成物の塗膜をパターン加工する方法としては、例えば、フォトリソグラフィーにより直接パターン加工する方法、又はエッチングによりパターン加工する方法が挙げられる。工程数削減、及びプロセスタイム短縮の観点から、フォトリソグラフィーにより直接パターン加工する方法が好ましい。
＜フォトマスクを介して活性化学線を照射する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法は、前記（１）塗膜を成膜する工程の後、（２）上述した感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、を有する。また、感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（２）塗膜を成膜する工程の後、（３）上述した感光性樹脂組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、を有する。フォトマスクを介して活性化学線を照射する方法としては、例えば、ステッパー、スキャナー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、又はパラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などの露光機を用いてパターニング露光する方法が挙げられる。
活性化学線の露光波長としては、１５０ｎｍ以上が好ましく、３００ｎｍ以上がより好ましい。一方、露光波長としては、４５０ｎｍ以下が好ましく、４２０ｎｍ以下がより好ましい。活性化学線としては、水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、若しくはｇ線（波長４３６ｎｍ）、又は、ｉ線、ｈ線及びｇ線の混合線が特に好ましい。活性化学線として、ＸｅＦ（波長３５１ｎｍ）レーザー、ＸｅＣｌ（波長３０８ｎｍ）レーザー、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー、又はＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーなどを用いても構わない。活性化学線の露光量としては、ｉ線照度値で、１００Ｊ／ｍ２（１０ｍＪ／ｃｍ２）～３０，０００Ｊ／ｍ２（３，０００ｍＪ／ｃｍ２）以下が好ましい。
フォトマスクとしては、透光部及び遮光部を含むパターンを有するフォトマスクであって、該透光部と該遮光部の間に、透過率が該透光部の値より低く、かつ透過率が該遮光部の値より高い、半透光部を有するハーフトーンフォトマスクを用いることが好ましい。ハーフトーンフォトマスクを用いて露光することで、現像後に段差形状を有するパターンを形成することができる。なお、段差形状を有するパターンにおいて、該透光部を介して活性化学線を照射した露光部から形成した箇所は、厚膜部に相当し、該半透光部を介して活性化学線を照射したハーフトーン露光部から形成した箇所は、薄膜部に相当する。
露光後、露光後ベークをしても構わない。露光後ベークをすることで、現像後の解像度向上、又は現像条件の許容幅拡大が可能である。
＜アルカリ溶液を用いて現像して、パターンを形成する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法は、前記（２）活性化学線を照射する工程の後、（３）アルカリ溶液を用いて現像して、上述した感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、を有する。また、感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（３）活性化学線を照射する工程の後、（４）アルカリ溶液を用いて現像して、上述した感光性樹脂組成物のパターンを形成する工程、を有する。フォトマスクを介して活性化学線を照射した後、アルカリ溶液を用いて現像する方法としては、例えば、自動現像機を用いて現像する方法が挙げられる。現像方法としては、例えば、パドル現像、スプレー現像、又はディップ現像が挙げられる。ネガ型の感光性を有する場合、未露光部が現像液で除去されたパターンを形成でき、ポジ型の感光性を有する場合、露光部が現像液で除去されたパターンを形成できる。
現像液としては、アルカリ溶液が好ましく、有機系のアルカリ溶液、又はアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。アルカリ溶液としては、例えば、ジエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、又は水酸化テトラエチルアンモニウムが挙げられる。現像液としては、有機溶媒を用いても構わない。現像液としては、有機溶媒と感光性樹脂組成物に対する貧溶媒の、両方を含有する混合溶液を用いても構わない。アルカリ溶液のアルカリ濃度としては、０．０１～５質量％が好ましい。現像時間としては、３０秒～１０分が好ましい。
現像後、得られたパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、現像液としてアルカリ水溶液を用いた場合、水が好ましい。リンス液としては、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒を用いても構わない。
現像後、現像後露光をしても構わない。現像後露光をすることで、熱硬化後の解像度向上、熱硬化後のパターン形状制御、及び熱硬化後の段差形状を有するパターン形成が可能である。また、現像後、ミドルベークをしても構わない。ミドルベークをすることで、熱硬化後の解像度向上、及び熱硬化後のパターン形状制御が可能である。
＜パターンを光硬化させる工程＞
感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法は、前記（３）現像してパターンを得る工程の後、さらに、該パターンを光硬化させる工程、を有することが好ましい。また、感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（４）現像してパターンを得る工程の後、さらに、該パターンを光硬化させる工程、を有することが好ましい。パターンを光硬化させる工程としては、パターンに活性化学線を照射することが好ましい。活性化学線を照射する方法、及び活性化学線としては、前記（３）活性化学線を照射する工程と同様である。
パターンを光硬化させることで、熱硬化後の解像度向上、及び熱硬化後のパターン形状制御が可能である。また、上述した感光性樹脂組成物のパターンが段差形状を有するパターンの場合、パターンを光硬化させることで、熱硬化時のパターンリフローを抑制でき、熱硬化後においても厚膜部と薄膜部とで十分な膜厚差がある段差形状を有するパターンを形成できる。
感光性樹脂組成物のパターンを得た後、ミドルベークをしても構わない。ミドルベークをすることで、熱硬化後の解像度向上、及び熱硬化後のパターン形状制御が可能である。
＜パターンを加熱して硬化させ、硬化パターンを得る工程＞
感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法は、前記（３）現像してパターンを得る工程の後、（４）上述した感光性樹脂組成物のパターンを加熱して硬化させ、上述した感光性樹脂組成物の硬化パターンを得る工程、を有する。また、感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（４）現像してパターンを得る工程の後、（５）上述した感光性樹脂組成物のパターンを加熱して硬化させ、上述した感光性樹脂組成物の硬化パターンを得る工程、を有する。感光性樹脂組成物のパターンを加熱する方法としては、例えば、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置を用いて加熱する方法が挙げられる。感光性樹脂組成物のパターンを加熱して熱硬化させることで、硬化膜の耐熱性を向上できるとともに、低テーパー形状のパターンを形成できる。
熱硬化させる温度としては、１５０～５００℃が好ましい。熱硬化させる時間としては、５～３００分が好ましい。また、１５０℃で３０分間熱硬化させた後、２５０℃で３０分間熱硬化させるなど、二段又はそれ以上の多段で熱硬化させても構わない。熱硬化させる処理雰囲気としては、例えば、空気、酸素、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン若しくはキセノン雰囲気下、酸素を１～１０，０００ｐｐｍ（０．０００１～１質量％）含有するガス雰囲気下、又は、真空下が挙げられる。
＜有機ＥＬ層を形成する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（５）硬化パターンを得る工程の後、（６）有機ＥＬ層を形成する工程、を有する。有機ＥＬ層としては、上述した発光層を含む有機ＥＬ層が挙げられる。画素分割層の開口部に相当する領域に有機ＥＬ層が形成されることで、発光画素部に相当する領域を形成することができる。
有機ＥＬ層を形成する方法としては、マスク蒸着法やインクジェット法が挙げられる。マスク蒸着法としては、蒸着マスクを用いて有機化合物を蒸着してパターニングする方法が挙げられ、所望のパターンを開口部とした蒸着マスクを、基板の蒸着源側に配置して蒸着を行う方法が挙げられる。高精度の蒸着パターンを形成するためには、平坦性の高い蒸着マスクを基板に密着させることが好ましく、一般的に、蒸着マスクに張力をかける技術や、基板背面に配置した磁石によって蒸着マスクを基板に密着させる技術などが用いられる。蒸着マスクの製造方法としては、エッチング法、機械的研磨法、サンドブラスト法、焼結法、レーザー加工法又は感光性樹脂の利用などが挙げられるが、微細パターン形成が必要な場合、加工精度に優れるエッチング法や電鋳法を用いることが多い。
＜インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（６）有機ＥＬ層を形成する工程として、（６－１）インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程、を有することが好ましい。画素分割層の開口部に相当する領域に有機ＥＬ層を形成する化合物を含むインクを、インクジェット塗布によって成膜することで、発光画素部に相当する領域を形成できる。（６）有機ＥＬ層を形成する工程として、（６－１）インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程を有することで、一般的な蒸着マスクを使用した、有機化合物を蒸着によってパターニングして有機ＥＬ層を形成する方法と比較して、タクトタイムを短縮できる。インクに含まれる有機ＥＬ層を形成する化合物としては、低分子化合物、又は高分子化合物が挙げられる。
（６－１）インクジェット塗布で有機ＥＬ層を形成する工程において、画素分割層における発光画素部として機能する開口部に隣接する領域は、親液性を有することが好ましく、特に、インクに含まれる溶剤に対する親液性を有することがより好ましい。親液性を有することで、インクジェット塗布でインクを成膜する際における、インクの膜厚均一性を向上できるため、有機ＥＬ層の成膜不良を抑制できる。また、画素分割層としては、段差形状を有し、薄膜部は、発光画素部として機能する開口部に隣接する領域のため、親液性を有することが好ましい。一方、厚膜部は、開口部に隣接する領域の薄膜部同士を分割する仕切りとして機能するため、撥液性を有することが好ましく、特に、インクに含まれる溶剤に対する撥液性を有することがより好ましい。撥液性を有することで、インクジェット塗布でインクを成膜する際における、インクの過剰な濡れ広がりによる隣接画素領域へのインク流出を抑制可能となるため、インク同士の混色を防止できる。
インクの塗布膜厚は、インクの固形分濃度や粘度などによって異なるが、通常は塗布及びベーク後の膜厚が０．０１～１０μｍになるように塗布する。基板上に、インクをインクジェット塗布によってパターン状に塗布した後、ベークして成膜することが好ましい。ベークは、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置などを使用することができる。ベーク温度としては、５０～２００℃が好ましい。ベーク時間としては、３０秒～１０分が好ましい。また、８０℃で２分間ベークした後、１２０℃で２分間ベークするなど、二段又はそれ以上の多段でベークしても構わない。
＜第２電極を形成する工程＞
感光性樹脂組成物を用いた表示装置の製造方法は、前記（６）有機ＥＬ層を形成する工程の後、（７）第２電極を形成する工程、を有する。第２電極としては、上述した第２電極が挙げられる。第２電極の形成方法としては、上述した第１電極の形成方法が挙げられる。第２電極の形成方法としては、有機ＥＬ層へのダメージ低減の観点から、蒸着マスクを用いたマスク蒸着法が好ましい。
以上の方法により、第１電極と第２電極が交差し、かつ画素分割層が存在しない部分が発光する表示装置として、有機ＥＬディスプレイを製造可能である。表示装置における、発光画素と呼ばれる領域は、対向配置された第１電極と第２電極とが交差して重なる部分であって、さらに、第１電極上の画素分割層によって区画される領域である。アクティブマトリックス型ディスプレイにおいては、スイッチング手段が形成される部分が発光画素の一部を占有するように配置されることがあり、発光画素の形状は矩形状ではなく、一部分が欠落したような形でも構わない。しかしながら、発光画素の形状はこれらに限定されるものではなく、例えば円形であっても構わず、画素分割層の形状によって変化させても構わない。
その後、有機ＥＬ層を保護する目的で封止を行うことが好ましい。有機ＥＬ層を、酸素及び水分に接触させないように封止することが好ましく、真空中又は絶乾雰囲気中にて、ガラス、金属の封止缶、又はガスバリアフィルムを接着することが好ましい。同時に、乾燥剤や吸湿剤を封入しても構わない。
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されない。なお、以下実施例の説明または表で用いた化合物のうち略語を使用しているものについて、名称を以下に示す。
６ＦＤＡ：２，２－（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物；４，４’－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル－ビス（１，２－フタル酸無水物）
ＡＤＰ：ポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤（塩基性基：三級アミノ基、アミン価：２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ポリマー鎖：ポリアルキレンアミン構造、及びポリオキシアルキレンエーテル構造を有する；一般式（３２）で表される構造、及びポリオキシアルキレン構造を有する（固形分濃度：１００質量％））
ＡＰＣ：Ａｒｇｅｎｔｕｍ‐Ｐａｌｌａｄｉｕｍ‐Ｃｕｐｐｅｒ（銀‐パラジウム‐銅合金）
ＢＡＨＦ：２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
ＢＡＰＦ：９，９－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）フルオレン
ＢＦＥ：１，２－ビス（４－ホルミルフェニル）エタン
ＢＧＰＦ：９，９－ビス（４－グリシドキシフェニル）フルオレン
Ｂｋ－Ａ１１０３：“ＣＨＲＯＭＯＦＩＮＥ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ａ１１０３（大日精化工業社製；一次粒子径５０～１００ｎｍのアゾ系黒色顔料）
Ｂｋ－ＣＢＦ１：表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料
Ｂｋ－Ｓ００８４：“ＰＡＬＩＯＧＥＮ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ｓ００８４（ＢＡＳＦ社製；一次粒子径５０～１００ｎｍのペリレン系黒色顔料）
Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦ：“ＩＲＧＡＰＨＯＲ”（登録商標） ＢＬＡＣＫ Ｓ０１００ＣＦ（ＢＡＳＦ社製；一次粒子径４０～８０ｎｍのベンゾフラノン系黒色顔料）
ｃｙＥｐｏＴＭＳ：２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
Ｄ．ＢＹＫ－１６７：“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）－１６７（ビックケミー・ジャパン社製；アミン価が１３ｍｇＫＯＨ／ｇ（固形分濃度：５２質量％）の三級アミノ基を有するポリウレタン系分散剤）
ＤＥＭ：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
ＥＬＴ：乳酸エチル
ＧＭＡ：メタクリル酸グリシジル
ＨＡ：Ｎ，Ｎ’－ビス［５，５’－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル－ビス（２－ヒドロキシフェニル）］ビス（３－アミノ安息香酸アミド）（下記式で表されるヒドロキシ基含有ジアミン化合物）
ＩＧＺＯ：酸化インジウムガリウム亜鉛
ＩＴＯ：酸化インジウムスズ
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＭＡＰ：３－アミノフェノール；メタアミノフェノール
ＭＢＡ：３－メトキシ－ｎ－ブチルアセテート
ＭｅＴＭＳ：メチルトリメトキシシラン
ＭｇＡｇ：Ｍａｇｎｅｓｉｕｍ‐Ａｒｇｅｎｔｕｍ（マグネシウム‐銀合金）
ＮＡ：５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物；ナジック酸無水物
ＮＣ－３５００：ビフェニル骨格、ベンゼン骨格、及び２つのエポキシ基を含む構造単位を有するエポキシ樹脂（日本化薬社製）
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＯＤＢ－ＨＢＴ：ビス（４－カルボキシフェニル）エーテルと、１－ヒドロキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾールとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体の混合物
ＯＤＰＡ：ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物；オキシジフタル酸二無水物
Ｐ．Ｂ．６０：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０
Ｐ．Ｒ．１７９：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９
Ｐ．Ｙ．１３９：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
Ｐ．Ｙ．１９２：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＨＡ：フタル酸無水物
ＰｈＴＭＳ：フェニルトリメトキシシラン
Ｓ－２００００：“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ”（登録商標） ２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社製；アミン価が３２ｍｇＫＯＨ／ｇ（固形分濃度：１００質量％）の三級アミノ基を有するポリオキシアルキレンエーテル系分散剤）
ＳｉＤＡ：１，３－ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン
ＳＴＲ：スチレン
ＴＣＤＭ：メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イル；ジメチロール－トリシクロデカンジメタアクリレート
ＴＨＰＨＡ：１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物
ＴＭＡＣ：無水トリメリット酸クロリド
ＴＭＡＨ：水酸化テトラメチルアンモニウム
ＴＭＯＳ：テトラメトキシシラン
ＴＰＫ－１２２７：スルホン酸基を導入する表面処理がされたカーボンブラック（ＣＡＢＯＴ社製）
ＴＳＲ：トリステアリン（その他の脂質化合物であるトリアシルグリセロール類；グリセロールのトリステアリン酸エステル）
なお、合成例３で使用した下記構造のヒドロキシ基含有ジアミン化合物（ＨＡ）は、公知の方法により合成した。
Figure 0007676778000043
合成例１～１０ アルカリ可溶性樹脂の合成
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、合成例１～１０で得られた各樹脂の組成を、まとめて表１に示す。なお、合成例１～４、６、７、及び９は、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の方法、合成例５は、国際公開第２０１７／０５７１４３号に記載の方法、合成例８は、国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の方法、及び合成例１０は、国際公開第２０１８／１５９３８４号に記載の方法に基づき、各樹脂は公知の方法により合成した。合成例９において、ＭＡＡに由来する樹脂中のカルボキシ基に対して、エポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
Figure 0007676778000044
被覆例１ 表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＢＦ１）の合成
黒色顔料として、ベンゾフラノン系黒色顔料であるＢｋ－Ｓ０１００ＣＦ（表面未処理品）１５０ｇを、２，８５０ｇの脱イオン水を入れたガラス容器に投入して攪拌し、水性顔料懸濁液を得た。これを、０．４ｍｍφジルコニアビーズが充填された横型ビーズミル内に送液して分散処理を行った後、元のガラス容器内に全量を吐出させ、再び攪拌しながら水性顔料懸濁液の液温を６０℃に上げ、３０分間攪拌した。
水性顔料懸濁液に対して、シリカの被覆量が黒色顔料１００質量部に対してＳｉＯ２換算値で１０．０質量部になるように、ケイ酸ナトリウム水溶液（Ｎａ２Ｏ・ｎＳｉＯ２・ｍＨ２Ｏ；酸化ナトリウムとして３０質量％、二酸化ケイ素として１０質量％）を脱イオン水で１００倍希釈した液と、０．００１ｍｏｌ／Ｌの硫酸とを添加し、黒色顔料の粒子表面にシリカを析出させて被覆した。次いで、水性顔料懸濁液に対して、アルミナの被覆量が黒色顔料１００質量部に対してＡｌ２Ｏ３換算値で２．０質量部になるように、アルミン酸ナトリウム水溶液（Ｎａ２Ｏ・ｎＡｌ２Ｏ３・ｍＨ２Ｏ；酸化ナトリウムとして４０質量％、アルミナとして５０質量％）を脱イオン水で１００倍希釈した液と、０．００１ｍｏｌ／Ｌの硫酸とを添加し、シリカ被覆層の表面にアルミナを析出させて被覆した。続いて、濾過及び水洗作業を３回繰り返し、０．４ｍｍφジルコニアビーズが充填された横型ビーズミル内に送液して分散処理し、濾過して黒色濾物を得た。これを乾燥オーブン内で乾燥した後、乾式粉砕処理により整粒し、表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＢＦ１）を得た。
飛行時間型二次イオン質量分析及びＸ線回折法による分析の結果、得られた表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＢＦ１）のシリカ及びアルミナの被覆量は、それぞれ、黒色顔料１００質量部に対して、ＳｉＯ２換算値で１０．０質量部、Ａｌ２Ｏ３換算値で２．０質量部であり、顔料に対する被覆層の平均被覆率は９７．５％であった。
調製例１ 顔料分散液（Ｂｋ－１）の調製
分散剤として、Ｓ－２００００を３４．５ｇ、溶剤として、ＰＧＭＥＡを７８２．０ｇ秤量して混合し、１０分間攪拌して拡散した後、着色剤として、Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦを１０３．５ｇ秤量して混合して３０分間攪拌し、０．４０ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルを用いて、数平均粒子径が１００ｎｍとなるように湿式メディア分散処理を行い、固形分濃度１５質量％、着色剤／分散剤＝７５／２５（質量比）の顔料分散液（Ｂｋ－１）を得た。得られた顔料分散液中の顔料の数平均粒子径は１００ｎｍであった。
調製例２ 顔料分散液（Ｂｋ－２）の調製
樹脂として、合成例１で得られた、ポリイミド（ＰＩ－１）の３０質量％のＰＧＭＥＡ溶液を９２．０ｇ、分散剤として、Ｓ－２００００を２７．６ｇ、溶剤として、ＰＧＭＥＡを７１７．６ｇ秤量して混合し、１０分間攪拌して拡散した後、着色剤として、Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦを８２．８ｇ秤量して混合して３０分間攪拌し、０．４０ｍｍφのジルコニアビーズが充填された横型ビーズミルを用いて、数平均粒子径が１００ｎｍとなるように湿式メディア分散処理を行い、固形分濃度１５質量％、着色剤／樹脂／分散剤＝６０／２０／２０（質量比）の顔料分散液（Ｂｋ－２）を得た。得られた顔料分散液中の顔料の数平均粒子径は１００ｎｍであった。
調製例３～９ 顔料分散液（Ｂｋ－３）～顔料分散液（Ｂｋ－９）の調製
表２－１に記載の（Ｄ）着色剤、（Ａ１）第１の樹脂、及び（Ｅ）分散剤の種類、並びに、これらの比率にて、調製例２と同様に顔料分散をして、顔料分散液（Ｂｋ－３）～顔料分散液（Ｂｋ－９）を得た。また、調整例９で使用したポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤（ＡＤＰ）は、一般式（３２）で表される構造、及びポリオキシアルキレン構造を有する（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤であり、特開２０２０－０７０３５２号公報に記載の方法に基づき、公知の方法により合成した。調製例１～９の組成を、まとめて表２－１に示す。
Figure 0007676778000045
各実施例及び比較例における評価方法を以下に示す。
（１）樹脂の重量平均分子量
ＧＰＣ分析装置（ＨＬＣ－８２２０；東ソー社製）を用い、流動層としてテトラヒドロフラン又はＮＭＰを用いて、「ＪＩＳ Ｋ７２５２－３（２００８）」に基づき、常温付近での方法により、ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。
（２）酸価、酸当量
電位差自動滴定装置（ＡＴ－５１０；京都電子工業社製）を用い、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム／エタノール溶液、滴定溶剤としてキシレン／Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド＝１／１（質量比）を用いて、「ＪＩＳ Ｋ２５０１（２００３）」に基づき、電位差滴定法により、酸価（単位はｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定して求めた。測定した酸価の値から、酸当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出した。
（３）二重結合当量
電位差自動滴定装置（ＡＴ－５１０；京都電子工業社製）を用い、ヨウ素供給源として一塩化ヨウ素溶液（三塩化ヨウ素＝７．９ｇ、ヨウ素＝８．９ｇ、酢酸＝１，０００ｍＬの混合溶液）、未反応ヨウ素の捕捉水溶液として１００ｇ／Ｌのヨウ化カリウム水溶液、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／Ｌのチオ硫酸ナトリウム水溶液を用いて、ＪＩＳ Ｋ００７０：１９９２「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価、及び不けん化物の試験方法」の「第６項よう素価」に記載の方法に基づき、ウィイス法により、樹脂のヨウ素価を測定した。測定したヨウ素価（単位はｇＩ／１００ｇ）の値から、二重結合当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出した。
（４）顔料の数平均粒子径
動的光散乱法粒度分布測定装置（ＳＺ－１００；ＨＯＲＩＢＡ社製）を用い、希釈溶媒としてＰＧＭＥＡを用いて、希釈溶媒の屈折率をＰＧＭＥＡの屈折率に、測定対象の屈折率を１．６に設定し、顔料分散液中の顔料の数平均粒子径を測定した。
（５）基板の前処理
ガラス上に、ＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、さらに、ＡＰＣ層の上層に、ＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜したガラス基板（ジオマテック社製；以下、「ＩＴＯ／Ａｇ基板」）は、卓上型光表面処理装置（ＰＬ１６－１１０；セン特殊光源社製）を用いて、１００秒間ＵＶ－Ｏ３洗浄処理をして使用した。テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）は、前処理をせずに使用した。
（６）現像残渣
下記、実施例１記載の方法で、組成物の硬化膜を作製した。ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した硬化膜の解像パターンを観察した。現像残渣の指標として、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンの残渣の有無を観察した。下記のように判定し、開口部における残渣の存在面積が１０％以下となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、開口部における残渣の存在面積が５％以下となる、Ａ＋及びＡを残渣良好とし、開口部における残渣の存在面積が無い、Ａ＋を残渣優秀とした。
Ａ＋：開口部における残渣無し、又は開口部における残渣の存在面積が１％以下
Ａ：開口部における残渣の存在面積が１％を超え、かつ５％以下
Ｂ：開口部における残渣の存在面積が５％を超え、かつ１０％以下
Ｃ：開口部における残渣の存在面積が１０％を超え、かつ３０％以下
Ｄ：開口部における残渣の存在面積が３０％を超え、かつ５０％以下
Ｅ：開口部における残渣の存在面積が５０％を超え、かつ１００％以下。
（７）現像密着性
下記、実施例１記載の方法で、組成物の現像後膜を作製した。なお、作製条件としては、プリベーク条件を１１０℃で１２０秒間に、現像時間をＢＰ＋４０秒に変更した。ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した現像後膜の解像パターンを観察した。現像密着性の指標として、１０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、残膜部に相当するラインパターンのうちの１０本を観察した。下記のように判定し、観察したラインパターン１０本のうちパターンの欠けや剥がれが発生した本数が２本以下となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、パターンの欠けや剥がれが発生した本数が１本以下となる、Ａ＋及びＡを現像密着性良好とし、パターンの欠けや剥がれの発生が無い、Ａ＋を現像密着性優秀とした。
Ａ＋：パターンの欠けや剥がれの発生無し
Ａ：パターンの欠けや剥がれが発生した本数が１本
Ｂ：パターンの欠けや剥がれが発生した本数が２～３本
Ｃ：パターンの欠けや剥がれが発生した本数が４～５本
Ｄ：パターンの欠けや剥がれが発生した本数が６～９本
Ｅ：パターンの欠けや剥がれが発生した本数が１０本、又はパターンの残存無し。
（８）遮光性（光学濃度（以下、「ＯＤ」）値）
下記、実施例１記載の方法で、テンパックスガラス基板上にプリベーク膜を作製し、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）で露光した後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－２０００；滝沢産業社製）を用いて現像した後、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて、組成物の硬化膜を作製した。透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ ３６１Ｔ（Ｖ）；Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて、作製した硬化膜の入射光強度（Ｉ０）及び透過光強度（Ｉ）をそれぞれ測定した。遮光性の指標として、膜厚１μｍ当たりのＯＤ値を下記式により算出した。
ＯＤ値＝ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）。
（９）発光素子の発光特性（電流密度－電圧特性、及び信頼性）
（有機ＥＬディスプレイの作製方法）
図２に、使用した基板の概略図を示す。まず、３８×４６ｍｍの無アルカリガラス基板４７に、非透明導電性金属層としてＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、エッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成した。さらに、ＡＰＣ層の上層に透明導電性酸化膜層としてアモルファス性のＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第１電極４８として反射電極を形成した。また、第２電極を取り出すため補助電極４９も同時に形成した（図２（工程１））。得られた基板を“セミコクリーン”（登録商標）５６（フルウチ化学社製）で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄した。次に、この基板上に、感光性樹脂組成物を実施例１に記載された方法で塗布及びプリベークし、所定のパターンを有するフォトマスクを介してパターンニング露光、現像及びリンスした後、加熱し熱硬化させた。以上の方法で、幅７０μｍ及び長さ２６０μｍの開口部が、幅方向にピッチ１５５μｍ及び長さ方向にピッチ４６５μｍで配置され、それぞれの開口部が第１電極を露出せしめる形状の画素分割層５０を、基板有効エリアに限定して形成した（図２（工程２））。なお、この開口部が、最終的に有機ＥＬディスプレイの発光画素となる。また、基板有効エリアは、１６ｍｍ四方であり、画素分割層５０の厚さは、約１．０μｍで形成した。
次に、第１電極４８、補助電極４９及び画素分割層５０を形成した基板を用いて、有機ＥＬディスプレイの作製を行った。前処理として、窒素プラズマ処理を行った後、真空蒸着法により、発光層を含む有機ＥＬ層５１を形成した（図２（工程３））。なお、蒸着時の真空度は、１×１０－３Ｐａ以下であり、蒸着中は蒸着源に対して基板を回転させた。まず、正孔注入層として、化合物（ＨＴ－１）を１０ｎｍ、正孔輸送層として、化合物（ＨＴ－２）を５０ｎｍ蒸着した。次に、発光層に、ホスト材料として、化合物（ＧＨ－１）とドーパント材料として、化合物（ＧＤ－１）を、ドープ濃度が１０％になるように４０ｎｍの厚さに蒸着した。その後、電子輸送材料として、化合物（ＥＴ－１）と化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さに積層した。なお、有機ＥＬ層で用いた化合物は、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載のものと同一化合物を用いた。
次に、化合物（ＬｉＱ）を２ｎｍ蒸着した後、ＭｇＡｇ（マグネシウム／銀＝１０／１（体積比））を１０ｎｍ蒸着して第２電極５２とし、透明電極を形成した（図２（工程４））。その後、低湿窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することで封止をし、１枚の基板上に５ｍｍ四方のボトムエミッション型有機ＥＬディスプレイを４つ作製した。なお、ここでいう膜厚は、水晶発振式膜厚モニター表示値である。
（電流密度－電圧特性評価）
上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、低電圧側から順次電圧値を変え、電流密度が３０ｍＡ／ｃｍ２となるまで直流駆動にて発光させた。低電圧側から順次電圧値を変えた場合における、電圧値及び電流密度を測定してプロットした。電流密度－電圧特性の指標として、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値を求めた。下記のように判定し、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．２Ｖ以下である、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．７Ｖ以下である、Ａ＋及びＡを電流密度－電圧特性良好とし、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖ以下である、Ａ＋を電流密度－電圧特性優秀とした。
Ａ＋：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖ以下
Ａ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖを超え、かつ３．７Ｖ以下
Ｂ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．７Ｖを超え、かつ４．２Ｖ以下
Ｃ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．２Ｖを超え、かつ４．７Ｖ以下
Ｄ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．７Ｖを超え、かつ５．７Ｖ以下
Ｅ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が５．７Ｖを超える、又は測定不能。
（信頼性評価）
上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、非発光領域や輝度ムラなどの発光不良がないかを観察した。作製した有機ＥＬディスプレイを、耐久性試験として、８０℃で５００時間保持した。耐久性試験後、有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、発光領域や輝度ムラなどの発光特性に変化がないかを観察した。下記のように判定し、耐久試験前の発光領域面積を１００％とした場合の、耐久試験後の発光領域面積が８０％以上となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、発光領域面積が９０％以上となる、Ａ＋及びＡを信頼性良好とし、発光領域面積が９５％以上となる、Ａ＋を信頼性優秀とした。
Ａ＋：耐久試験後の発光領域面積が９５％以上
Ａ：耐久試験後の発光領域面積が９０％以上かつ９５％未満
Ｂ：耐久試験後の発光領域面積が８０％以上かつ９０％未満
Ｃ：耐久試験後の発光領域面積が７０％以上かつ８０％未満
Ｄ：耐久試験後の発光領域面積が５０％以上かつ７０％未満
Ｅ：耐久試験後の発光領域面積が５０％未満。
表３－１～表８－１の各実施例及び比較例で使用した（Ｆ１）化合物、（Ｆ２）化合物、（Ｆ３）化合物、（ＦＴ）化合物、及びスルホン酸系化合物、並びに、比較化合物の一覧及び物性値をまとめて、表２－２－１、及び表２－３－１に示す。なお、（ｓ－１４）及び（ｓ－１５）はスルホン酸系化合物である。
Figure 0007676778000046
Figure 0007676778000047
また、合成例８で得られた酸変性エポキシ樹脂（ＡＥ－１）が有する構造単位を以下に示す。酸変性エポキシ樹脂（ＡＥ－１）は、一般式（３８ａ）で表される構造単位を有する。
Figure 0007676778000048
［表３－１の実施例１］
表３－１に記載の組成にて、組成物１を調製した。組成物１の調製に使用した各構成成分の秤量値は、下記の通りである。まず、（Ｄ）着色剤を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して、組成物を調製した。なお、得られた組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。
＜調合液の調製＞
ポリイミド（ＰＩ－１）の３０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：３．７３６ｇ
（ｂ－１）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：０．７９１ｇ
（ｂ－２）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：１．５８３ｇ
ＯＸＬ－２：０．２６４ｇ
（ｆ－１）の１質量％のＰＧＭＥＡ溶液：１．３１９ｇ
ＦＬＥ－１：０．２６４ｇ
ＰＧＭＥＡ：５．９３５ｇ
ＭＢＡ：５．１００ｇ
＜組成物の調製＞
顔料分散液（Ｂｋ－２）：９．１７３ｇ
調合液：１５．８２７ｇ
＜組成物の硬化膜の作製＞
調製した組成物１を、ＩＴＯ／Ａｇ基板上にスピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて任意の回転数でスピンコーティングにより塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１３０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚約１．８μｍのプリベーク膜を作製した。
作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－２０００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液でスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。
上述と同様にプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。露光量は、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる露光量（ｉ線照度計の値）とした。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスした。現像時間は、ＢＰ＋２０秒とした。
現像後、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて、２５０℃で熱硬化させ、膜厚約１．２μｍの硬化膜を作製した。熱硬化条件は、窒素雰囲気下、２５０℃で６０分間熱硬化させた。
［表３－１～８－１の実施例２～６２、及び６４～６９、及び比較例１～１９］
実施例１と同様に、組成物２～８７を表３－１～８－１に記載の組成にて調製した。得られた各組成物を用いて、実施例１と同様に、基板上に組成物を成膜し、感光特性、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果をまとめて、表３－１～８－１に示す。なお、比較しやすくするため、表４－１、表５－１、及び表８－１には実施例６の組成及び評価結果を、表６－１には実施例１及び実施例６の組成及び評価結果を記載した。また、本発明における上述した（Ｆ１）化合物の効果を比較しやすくするため、表７－１には実施例６及び比較例１５、実施例２６及び比較例１６、実施例２９及び比較例１７、実施例３０及び比較例１８、並びに、実施例３１及び比較例１９、それぞれの組成及び評価結果を対比して記載した。
なお、表３－１～８－１において、略語に対応する名称を以下に示す。
ＦＬＥ－１：下記構造で表される、フルオレン構造を有する（Ｇ１）化合物
ＮＱＤ－１：下記構造で表される（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物
ＯＸＬ－２：下記構造で表される、ベンゾカルバゾール骨格を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤
（ｂ－１）：下記構造で表される、フルオレン構造を有する（Ｂ１）化合物
（ｂ－２）：下記構造で表される、ε－カプロラクトンに由来するペンチレンカルボニル基を分子中に２個有する（Ｂ２）化合物
（ｄ－１）：Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦ
（ｄ－２）：Ｂｋ－Ｓ００８４
（ｄ－３）：Ｂｋ－Ａ１１０３
（ｄ－４）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１９２／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－５）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１３９／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－６）：Ｂｋ－ＣＢＦ１
（ｄ－７）：ＴＰＫ－１２２７
（ｅ－１）：Ｓ－２００００
（ｅ－２）：Ｄ．ＢＹＫ－１６７
（ｅ－３）：ＡＤＰ
Figure 0007676778000049
Figure 0007676778000050
表３－１において、実施例１～２０は、（Ｆ１）化合物として、（ｆ－１）～（ｆ－２０）のいずれかを含有する組成物である。（ｆ－１）～（ｆ－５）、（ｆ－１６）、及び（ｆ－２０）は、一般式（１１）で表される化合物であり、（ｆ－６）～（ｆ－１３）、及び（ｆ－１７）は、一般式（１２）で表される化合物であり、（ｆ－１８）及び（ｆ－１９）は、一般式（１３）で表される化合物であり、（ｆ－１４）及び（ｆ－１５）は、一般式（１４）で表される化合物である。これらの各実施例において、現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性を高い水準で両立している。
（ｆ－４）、（ｆ－５）、及び（ｆ－９）～（ｆ－１１）は、一般式（１１）又は一般式（１２）における、炭素数６～１０の１価の脂肪族基を有さず、（ｆ－１５）は、一般式（１４）における、炭素数６～１２の１価の脂肪族基を有しない。また、（ｆ－１６）、及び（ｆ－１８）～（ｆ－２０）は、一般式（１１）又は一般式（１３）におけるＲ３５又はＲ３７として、水素原子を有しない。これらの各実施例において、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。
（ｆ－６）～（ｆ－８）、（ｆ－１２）、（ｆ－１３）、及び（ｆ－１７）は、一般式（１２ｂ）で表される化合物である。特に、（ｆ－６）～（ｆ－８）、及び（ｆ－１２）は、好ましい化合物である。そのため、これらの各実施例において、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に向上している。なお、（ｆ－１３）は、好ましい化合物であって、フッ素原子で置換された基を有する化合物である。そのため、各実施例と比較して、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性向上が確認できる。また、（ｆ－１７）は、好ましい化合物であって、一般式（１２ｂ）で表される化合物である。そのため、各実施例と比較して、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性向上が確認できる。
Figure 0007676778000051
表４－１において、実施例６を基準とすると、実施例２１～２８は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の種類を変えた組成物である。実施例２９及び３０は、（Ｄ）着色剤を含まない組成物である。実施例３１は、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｃ）感光剤の種類を変えたポジ型感光性の組成物である。実施例３２～３７は、（Ｄ）着色剤の種類を変えた組成物である。実施例３８～４２は、二種類の（Ｆ１）化合物を含有する組成物、並びに、（Ｆ１）化合物及び（Ｆ２）化合物を含有する組成物である。
実施例２１～２８、及び実施例６を比較すると、各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。中でも、実施例２１～２４、及び実施例６は、現像残渣、及び電流密度－電圧特性に優れている。実施例２５は、現像残渣、及び現像密着性に優れている。実施例２６及び２７は、現像密着性に優れている。実施例２８は、各実施例と比較して、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。（Ｄ）着色剤を含まない実施例２９及び３０は、実施例６及び２６と比較すると、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、ポジ型感光性の組成物である実施例３１は、実施例２９と比較すると、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。実施例３２～３７、及び実施例６を比較すると、実施例３７は、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。一方、実施例３６、及び実施例６は、各特性が顕著に向上しており、中でも、実施例３６が非常に優れた特性を有している。二種類の（Ｆ１）化合物を含有する実施例３８～４０、及び４２、並びに、（Ｆ１）化合物及び（Ｆ２）化合物を含有する実施例４１は、実施例６と比較すると、現像残渣、及び電流密度－電圧特性の特性向上が確認できる。
Figure 0007676778000052
表５－１において、実施例６を基準とすると、実施例４３～４６、及び実施例４９は、（Ｆ１）化合物及び（Ｆ３）化合物を含有する組成物であって、（Ｆ３）化合物の種類を変えた組成物である。実施例４７～５４は、（Ｆ３）化合物の含有量を変えた組成物である。実施例５５は、（Ｆ１）化合物として、光反応性基を有する（ｆ－２７）を含有する組成物である。実施例５６～６２は、（Ｆ１）化合物の含有量を変えた組成物である。
（Ｆ１）化合物及び（Ｆ３）化合物を含有する実施例４３～４６、及び実施例４９は、現像密着性の特性向上が確認できる。中でも、実施例４５、及び実施例４９は、現像残渣の特性悪化を伴わずに現像密着性の向上が可能である。実施例４７～５４、及び実施例６を比較すると、実施例４７～５４は、現像密着性の特性向上が確認できる。中でも、実施例４９～５２は、現像密着性が顕著に向上しており、実施例５０及び５１は、現像残渣の特性向上という相乗効果も確認できる。（Ｆ１）化合物として、光反応性基を有する（ｆ－２７）を含有する実施例５５は、実施例６と比較すると、現像残渣、及び現像密着性の特性向上が確認できる。実施例５６～６２、及び実施例６を比較すると、各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。中でも、実施例５８～６０は、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性に優れている。
Figure 0007676778000053
表６－１において、実施例１及び実施例６を基準とすると、比較例１～３は、酸性基を有しない比較化合物を含有する組成物である。比較例４～７は、炭素数６～３０の脂肪族基を有しない比較化合物を含有する組成物である。比較例８～１１は、（Ｆ１）化合物を含まず、（Ｆ２）化合物のみを含有する組成物である。比較例１２～１４は、（Ｆ１）化合物を含まず、（Ｆ３）化合物のみを含有する組成物である。
比較化合物を含有する比較例１～７、及び（Ｆ２）化合物のみを含有する比較例８～１１は、いずれも現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。（Ｆ３）化合物のみを含有する比較例１２～１４は、いずれも現像密着性は向上しているが、現像残渣、及び電流密度－電圧特性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物が顕著な効果を奏することが確認できる。
Figure 0007676778000054
表７－１において、実施例６及び実施例２６を基準とすると、比較例１５及び比較例１６は、（Ｆ１）化合物を含まない組成物である。実施例２９及び実施例３０を基準とすると、比較例１７及び比較例１８は、（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｆ１）化合物を含まない組成物である。実施例３１を基準とすると、比較例１９は、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｆ１）化合物を含まないポジ型感光性の組成物である。
（Ｆ１）化合物を含まない比較例１５～１９は、いずれも現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｆ１）化合物が顕著な効果を奏することが確認できる。なお、各比較例１５～１９を基準とすると、（Ｆ１）化合物による各特性の向上効果は、ポジ型感光性の組成物である実施例３１よりも、ネガ型感光性の組成物である実施例２９及び実施例３０の方が顕著である。さらに、（Ｆ１）化合物の効果は、（Ｄ）着色剤を含有する実施例６及び実施例２６の方がより顕著である。これらの結果より、（Ｆ１）化合物は、ネガ型感光性の組成物における（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｃ１）光重合開始剤との相互作用、並びに、（Ｄ）着色剤との相互作用によって、各特性向上に寄与していると推測される。
Figure 0007676778000055
表８－１において、実施例６４は、（Ａ１－５）ポリアミドイミドである（ＰＡＩ－１）を含有する組成物である。実施例６５は、（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤であるＡＤＰを含む組成物である。実施例６６は、（Ｆ－１）化合物である（ｆ－３２）を含有する組成物である。実施例６７～６９は、（Ｆ－１）化合物、及び（ＦＴ）化合物である（ｆｔ－１）～（ｆｔ－３）を含有する組成物である。これらの実施例においても、感光性樹脂組成物が優れた特性を示すことが分かる。
また、表３－２～表８－２の各実施例及び比較例で使用した（ＦＢ－１）化合物、（ＦＣ－１）化合物、（ＦＢ－２）化合物、（ＦＢ－３）化合物、（ＦＢ－４）化合物、（Ｆ１）化合物、（Ｆ２）化合物、（Ｆ３）化合物、（ＦＴ）化合物、スルホン酸系化合物、（ＦＢ）化合物、及びその他のベタイン化合物、並びに、比較化合物の一覧及び物性値をまとめて、表２－２－２、表２－３－２、表２－４、及び表２－５に示す。また、（ＦＢ－１）化合物として、（ｆｂ－１）、（ｆｂ－２）、及び（ｆｂ－３）の組成比についても、まとめて表２－２に示す。なお、（ｓ－５）はスルホン酸系化合物である。また、（ｆｂ－１５）及び（ｆｂ－１６）は（ＦＢ）化合物である。また、（ｂ－８）～（ｂ－１１）はその他のベタイン化合物である。
Figure 0007676778000056
Figure 0007676778000057
Figure 0007676778000058
Figure 0007676778000059
表８－２の実施例６６Ａで使用した（ＦＢ－４）化合物である（ｆｂ－１４）は、（ＦＢ－３）化合物である（ｆｂ－１３）をポリマー化したベタイン型樹脂である。また、表８－２の実施例６７Ａで使用したその他の脂質化合物であるＴＳＲは、トリステアリン（トリアシルグリセロール類）である。
［表３－２の実施例１Ａ］
表３－２に記載の組成にて、組成物１Ａを調製した。組成物１Ａの調製に使用した各構成成分の秤量値は、下記の通りである。まず、（Ｄ）着色剤を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して、組成物を調製した。なお、得られた組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。
＜調合液の調製＞
ポリイミド（ＰＩ－１）の３０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：３．７４３ｇ
（ｂ－１）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：０．７９３ｇ
（ｂ－２）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：１．５８６ｇ
ＯＸＬ－２：０．２６４ｇ
（ｆｂ－１）の１質量％のＥＤＭ溶液：０．５２９ｇ
ＦＬＥ－１：０．２６４ｇ
ＰＧＭＥＡ：２．１１８ｇ
ＭＢＡ：５．１００ｇ
ＥＤＭ：４．５７７ｇ
＜組成物の調製＞
顔料分散液（Ｂｋ－２）：９．１８９ｇ
調合液：１５．８１１ｇ
＜組成物の硬化膜の作製＞
調製した組成物１Ａを、ＩＴＯ／Ａｇ基板上にスピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて任意の回転数でスピンコーティングにより塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１３０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚約１．８μｍのプリベーク膜を作製した。
作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－２０００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液でスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。
上述と同様にプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。露光量は、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる露光量（ｉ線照度計の値）とした。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスした。現像時間は、ＢＰ＋２０秒とした。
現像後、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて、２５０℃で熱硬化させ、膜厚約１．２μｍの硬化膜を作製した。熱硬化条件は、窒素雰囲気下、２５０℃で６０分間熱硬化させた。
［表３－２～８－２の実施例２Ａ～６２Ａ、及び６４Ａ～７７Ａ、並びに、比較例１Ａ～１７Ａ］
実施例１Ａと同様に、組成物２Ａ～９３Ａを表３－２～８－２に記載の組成にて調製した。得られた各組成物を用いて、実施例１Ａと同様に、基板上に組成物を成膜し、感光特性、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果をまとめて、表３－２～８－２に示す。なお、比較しやすくするため、表４－２、表５－２、及び表８－２には実施例１Ａ及び実施例４Ａの組成及び評価結果を、表６－２には実施例１Ａの組成及び評価結果を記載した。また、本発明における上述した（ＦＢ－１）化合物、及び上述した（ＦＢ－２）化合物の効果を比較しやすくするため、表７－２には実施例１Ａ及び比較例１３Ａ、実施例２６Ａ及び比較例１４Ａ、実施例２９Ａ及び比較例１５Ａ、実施例３０Ａ及び比較例１６Ａ、並びに、実施例３１Ａ及び比較例１７Ａ、それぞれの組成及び評価結果を対比して記載した。
なお、表３－２～８－２において、略語に対応する名称は上述した通りである。また、表８－２の実施例で使用したその他のベタイン化合物、及び表６－２の比較例で使用した比較化合物の構造を以下に示す。
ＦＬＥ－１：下記構造で表される、フルオレン構造を有する（Ｇ１）化合物
ＮＱＤ－１：下記構造で表される（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物
ＯＸＬ－２：下記構造で表される、ベンゾカルバゾール骨格を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤
（ｂ－１）：下記構造で表される、フルオレン構造を有する（Ｂ１）化合物
（ｂ－２）：下記構造で表される、ε－カプロラクトンに由来するペンチレンカルボニル基を分子中に２個有する（Ｂ２）化合物
（ｄ－１）：Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦ
（ｄ－２）：Ｂｋ－Ｓ００８４
（ｄ－３）：Ｂｋ－Ａ１１０３
（ｄ－４）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１９２／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－５）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１３９／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－６）：Ｂｋ－ＣＢＦ１
（ｄ－７）：ＴＰＫ－１２２７
（ｅ－１）：Ｓ－２００００
（ｅ－２）：Ｄ．ＢＹＫ－１６７
（ｅ－３）：ＡＤＰ
Figure 0007676778000060
Figure 0007676778000061
表３－２において、実施例１Ａ～１２Ａは、（ＦＢ－１）化合物又は（ＦＢ－２）化合物として、（ｆｂ－１）～（ｆｂ－１２）のいずれかを含有する組成物である。（ｆｂ－１）及び（ｆｂ－２）は、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＣ－１）化合物の混合物であり、（ｆｂ－３）は、二種類の（ＦＢ－１）化合物の混合物であり、（ｆｂ－４）～（ｆｂ－７）は、（ＦＢ－１）化合物であり、（ｆｂ－８）及び（ｆｂ－９）は、一般式（２６）で表される化合物であり、（ｆｂ－１０）～（ｆｂ－１２）は、一般式（２５）で表される化合物である。これらの各実施例において、現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性を高い水準で両立している。
（ｆｂ－５）及び（ｆｂ－６）は、トリアルキル四級アンモニウムカチオン構造を有さず、（ｆｂ－９）は、一般式（２６）における、炭素数１～６のアルキル基を有しない。また、（ｆｂ－１１）は、一般式（２５）における、炭素数６～１５の１価の脂肪族基を有しない。これらの各実施例において、現像残渣、現像密着性、及び電流密度－電圧特性が確認できる。さらに、（ｆｂ－１２）は、一般式（２５）における、炭素数１～６のアルキル基を有さず、かつ炭素数６～１５の１価の脂肪族基も有しない。本実施例において、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。
実施例１Ａ、及び実施例１５Ａ～２２Ａは、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の種類を変えた組成物である。各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。中でも、実施例１Ａ、及び実施例１５Ａ～１８Ａは、現像残渣、及び電流密度－電圧特性に優れている。実施例１９Ａは、現像残渣、及び現像密着性に優れている。実施例２０Ａ及び２１Ａは、現像密着性に優れている。実施例２２Ａは、各実施例と比較して、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。
（ｆｂ－１）～（ｆｂ－６）は、上述した（ＶＩ）脂肪族多官能アルコールエステル構造として、グリセリン構造を有し、（ｆｂ－２）及び（ｆｂ－７）は、上述した（ＶＩＩ）窒素含有脂肪族アルコールエステル構造として、スフィンゴシン構造を有するため、上述した特定の（ＦＢ－１）化合物である。各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。（ｆｂ－１）及び（ｆｂ－２）は、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＣ－１）化合物の混合物である。（ｆｂ－１）～（ｆｂ－３）は、レシチンの組成比が異なり、（ＦＢ－１）化合物の含有比率が異なる。中でも、現像残渣、及び電流密度－電圧特性の各特性が、（ｆｂ－２）を含有する実施例２Ａが優れており、（ｆｂ－１）を含有する実施例１Ａが最も優れている。また、実施例１Ａ、実施例１３Ａ、及び１４Ａは、溶剤の種類を変えた組成物である。各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性を非常に高い水準で両立している。
Figure 0007676778000062
表４－２において、実施例１Ａを基準とすると、実施例２３Ａ及び２４Ａは、（Ｄ）着色剤を含まない組成物である。実施例２５Ａは、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｃ）感光剤の種類を変えたポジ型感光性の組成物である。実施例２６Ａ～３１Ａは、（Ｄ）着色剤の種類を変えた組成物である。実施例３２Ａ～３６Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（Ｆ１）化合物を含有する組成物である。実施例３７Ａ～３９Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＣ－１）化合物を含有する組成物である。実施例４０Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含有する組成物である。
（Ｄ）着色剤を含まない実施例２３Ａ及び２４Ａは、実施例１Ａ及び２０Ａと比較すると、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、ポジ型感光性の組成物である実施例２５Ａは、実施例２３Ａと比較すると、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。実施例２６Ａ～３１Ａ、及び実施例１Ａを比較すると、実施例３１Ａは、現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。一方、実施例３０Ａ、及び実施例１Ａは、各特性が顕著に向上しており、中でも、実施例３０Ａが非常に優れた特性を有している。（ＦＢ－１）化合物及び（Ｆ１）化合物を含有する実施例３２Ａ～３６Ａは、実施例１Ａと比較すると、現像残渣、及び電流密度－電圧特性の特性向上が確認できる。特に、実施例３２Ａは、各特性が顕著に向上している。（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＣ－１）化合物を含有する実施例３７Ａ～３９Ａは、実施例１Ａと比較すると、現像残渣、及び電流密度－電圧特性の特性向上が確認できる。（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含有する実施例４０Ａは、現像残渣、及び電流密度－電圧特性の各特性の顕著な向上が確認できる。
Figure 0007676778000063
表５－２において、実施例１Ａを基準とすると、実施例４１Ａ～４５Ａ、及び実施例４９Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（Ｆ３）化合物を含有する組成物、並びに、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－３）化合物を含有する組成物であって、（Ｆ３）化合物又は（ＦＢ－３）化合物の種類を変えた組成物である。実施例４６Ａ～５３Ａは、（Ｆ３）化合物の含有量を変えた組成物である。実施例５４Ａは、（ＦＢ－１）化合物、（Ｆ１）化合物、及び（Ｆ３）化合物を含有する組成物である。実施例５５Ａ～６２Ａは、（ＦＢ－１）化合物の含有量を変えた組成物である。
（ＦＢ－１）化合物及び（Ｆ３）化合物を含有する実施例４１Ａ～４４Ａ、及び実施例４９Ａ、並びに、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－３）化合物を含有する実施例４５Ａは、現像密着性の特性向上が確認できる。中でも、実施例４３Ａ、及び実施例４９Ａは、現像残渣の特性悪化を伴わずに現像密着性の向上が可能である。実施例４６Ａ～５３Ａ、及び実施例６Ａを比較すると、実施例４６Ａ～５３Ａは、現像密着性の特性向上が確認できる。中でも、実施例４８Ａ～５１Ａは、現像密着性が顕著に向上しており、実施例４９Ａ及び５０Ａは、現像残渣の特性向上という相乗効果も確認できる。（ＦＢ－１）化合物、（Ｆ１）化合物、及び（Ｆ３）化合物を含有する実施例５４Ａは、実施例１Ａと比較すると、現像残渣、現像密着性、及び電流密度－電圧特性の各特性の顕著に向上し、非常に優れた特性を有している。実施例５５Ａ～６２Ａ、及び実施例１Ａを比較すると、各実施例ともに現像残渣、現像密着性、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。中でも、実施例５７Ａ～６０Ａは、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性に優れている。
Figure 0007676778000064
表６－２において、実施例１Ａを基準とすると、比較例１Ａ～３Ａは、酸性基を有しない比較化合物を含有する組成物である。比較例４Ａ～７Ａは、炭素数６～３０の脂肪族基を有しない比較化合物を含有する組成物である。比較例８Ａ及び９Ａは、上述した（ＩＩＩ）脂肪酸エステル構造、及び炭素数６～３０の脂肪族基を有しない比較化合物を含有する組成物である。比較例１０Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含まず、（ＦＢ－３）化合物のみを含有する組成物である。比較例１１Ａ及び１２Ａは、リン原子を含まない比較化合物としてカルボン酸ベタイン化合物を含有する組成物である。比較例１３Ａ及び１４Ａは、ベタイン化合物を含まず、比較化合物としてアンモニウム塩化合物を含有する組成物である。
比較化合物を含有する比較例１Ａ～９Ａ、及び１１Ａ～１４Ａは、いずれも現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。（ＦＢ－３）化合物のみを含有する比較例１０Ａは、いずれも現像密着性は向上しているが、現像残渣、電流密度－電圧特性、及び信頼性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が顕著な効果を奏することが確認できる。
Figure 0007676778000065
表７－２において、実施例１Ａ及び実施例２０Ａを基準とすると、比較例１５Ａ及び比較例１６Ａは、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含まない組成物である。実施例２３Ａ及び実施例２４Ａを基準とすると、比較例１７Ａ及び比較例１８Ａは、（Ｄ）着色剤を含まず、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含まない組成物である。実施例２５Ａを基準とすると、比較例１９Ａは、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含まないポジ型感光性の組成物である。
（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物を含まない比較例１５Ａ～１９Ａは、いずれも現像残渣、現像密着性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の感光性樹脂組成物において、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物が顕著な効果を奏することが確認できる。なお、比較例１５Ａ～１９Ａを基準とすると、（Ｆ１）化合物による各特性の向上効果は、ポジ型感光性の組成物である実施例２５Ａよりも、ネガ型感光性の組成物である実施例２３Ａ及び実施例２４Ａの方が顕著である。さらに、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物の効果は、（Ｄ）着色剤を含有する実施例１Ａ及び実施例２０Ａの方がより顕著である。これらの結果より、（ＦＢ－１）化合物及び（ＦＢ－２）化合物は、ネガ型感光性の組成物における（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｃ１）光重合開始剤との相互作用、並びに、（Ｄ）着色剤との相互作用によって、各特性向上に寄与していると推測される。
Figure 0007676778000066
表８－２において、実施例６４Ａは、（Ａ１－５）ポリアミドイミドである（ＰＡＩ－１）を含有する組成物である。実施例６５Ａは、（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤であるＡＤＰを含む組成物である。実施例６６Ａは、（ＦＢ－１）化合物、及び（Ｆ－１）化合物である（ｆ－１１）を含有する組成物である。実施例６７Ａは、（ＦＢ－１）化合物、及び（ＦＢ－４）化合物である（ｆｂ－１４）を含有する組成物である。実施例６８Ａ～７０Ａは、（ＦＢ－１）化合物、及び（ＦＴ）化合物である（ｆｔ－１）～（ｆｔ－３）を含有する組成物である。実施例７１Ａは、（ＦＢ－１）化合物、及びその他の脂質化合物であるＴＳＲを含む組成物である。実施例７２Ａ～７７Ａは、（ＦＢ－１）化合物、及びその他のベタイン化合物として、カルボン酸ベタイン化合物又はスルホン酸ベタイン化合物を含有する組成物である。これらの実施例においても、感光性樹脂組成物が優れた特性を示すことが分かる。
［実施例６３Ａ］
（偏光層を有しないフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法）
作製する有機ＥＬディスプレイの概略を図３に示す。まず、３８×４６ｍｍの無アルカリガラス基板上に、ポリイミドフィルム基板（“Ｋａｐｔｏｎ”（登録商標）－１５０－ＥＮ－Ｃ（東レ・デュポン社製））６７を粘着層で仮固定し、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１３０℃で１２０秒間プリベークした。次に、ポリイミドフィルム基板６７上に、ＣＶＤ法により、ガスバリア層としてＳｉＯ２膜７３を形成した。ガスバリア層の上に、電子ビーム蒸着法により、クロムと金の積層膜を成膜し、エッチングによりソース電極７４とドレイン電極７５を形成した。次に、非透明導電性金属層としてＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、エッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成した。さらに、ＡＰＣ層の上層に透明導電性酸化膜層としてアモルファス性のＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第１電極として反射電極７６を形成した。電極表面を酸素プラズマで洗浄した後、スパッタ法により、アモルファスＩＧＺＯを成膜し、エッチングによりソース・ドレイン電極間に酸化物半導体層７７を形成した。次に、スピンコート法により、ポジ型感光性ポリシロキサン系材料（ＳＰ－Ｐ２３０１（東レ社製））を成膜し、フォトリソグラフィーにより、ビアホール７８と画素領域７９を開口した後、熱硬化させてゲート絶縁層８０を形成した。その後、電子ビーム蒸着法により、金を成膜し、エッチングによりゲート電極８１を形成することで、酸化物ＴＦＴアレイとした。
上述した実施例１Ａ記載の方法によって、組成物１Ａを、酸化物ＴＦＴアレイ上に塗布及びプリベークして成膜し、所定のパターンを有するフォトマスクを介してパターニング露光、現像及びリンスして画素領域を開口した後、熱硬化させて、遮光性を有するＴＦＴ保護層／画素分割層８２を形成した。以上の方法で、幅７０μｍ及び長さ２６０μｍの開口部が、幅方向にピッチ１５５μｍ及び長さ方向にピッチ４６５μｍで配置され、それぞれの開口部が反射電極を露出せしめる形状の画素分割層を、基板有効エリアに限定して形成した。なお、この開口部が、最終的に有機ＥＬディスプレイの発光画素となる。また、基板有効エリアは、１６ｍｍ四方であり、画素分割層の厚さは、約１．０μｍで形成した。
次に、上述の方法で、正孔注入層として化合物（ＨＴ－１）、正孔輸送層として化合物（ＨＴ－２）、ホスト材料として化合物（ＧＨ－１）、ドーパント材料として化合物（ＧＤ－１）、電子輸送材料として化合物（ＥＴ－１）と化合物（ＬｉＱ）を用いて、有機ＥＬ層８３を形成した。その後、蒸着法により、透明電極としてＭｇＡｇ（マグネシウム／銀＝１０／１（体積比））を１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第２電極として透明電極８４を形成した。次いで、低湿窒素雰囲気下、有機ＥＬシール材（“ストラクトボンド”（登録商標）ＸＭＦ－Ｔ（三井化学社製））を用いて封止膜８５を形成した。さらに、ガスバリア層としてＳｉＯ２膜８６を形成したポリエチレンテレフタレートフィルム基板（“ルミラー”（登録商標）Ｕ３４（東レ社製））８７を、封止膜上に貼り合わせた後、ポリイミドフィルム基板６７から無アルカリガラス基板を剥離し、１枚の基板上に５ｍｍ四方の、偏光層を有しないトップエミッション型のフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイを４つ作製した。なお、ここでいう膜厚は、水晶発振式膜厚モニター表示値である。
（発光特性評価）
上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、外光を画素分割層部に照射した場合の輝度（Ｙ’）、外光を照射しない場合の輝度（Ｙ０）を測定した。外光反射抑制の指標として、コントラストを下記式により算出した。
コントラスト＝Ｙ０／Ｙ’。
下記のように判定し、コントラストが０．８０以上となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、コントラストが０．９０以上となる、Ａ＋及びＡを外光反射抑制効果良好とし、コントラストが０．９５以上となる、Ａ＋を外光反射抑制効果優秀とした。上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイは、コントラストが０．９０であり、外光反射抑制が可能であることを確認した。
Ａ＋：コントラストが０．９５以上
Ａ：コントラストが０．９０以上かつ０．９５未満
Ｂ：コントラストが０．８０以上かつ０．９０未満
Ｃ：コントラストが０．７０以上かつ０．８０未満
Ｄ：コントラストが０．５０以上かつ０．７０未満
Ｅ：コントラストが０．５０未満。
以下に別の実施例及び別の比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されない。なお、以下実施例の説明または表で用いた化合物のうち略語を使用しているものについて、名称は上述した通りである。
なお、合成例３Ｂで使用した下記構造のヒドロキシ基含有ジアミン化合物（ＨＡ）は、公知の方法により合成した。
Figure 0007676778000067
合成例１Ｂ～１０Ｂ アルカリ可溶性樹脂の合成
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、合成例１Ｂ～１０Ｂで得られた各樹脂の組成を、まとめて表１Ｂに示す。なお、合成例１Ｂ～４Ｂ、６Ｂ、７Ｂ、及び９Ｂは、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載の方法、合成例５Ｂは、国際公開第２０１７／０５７１４３号に記載の方法、合成例８Ｂは、国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の方法、及び合成例１０Ｂは、国際公開第２０１８／１５９３８４号に記載の方法に基づき、各樹脂は公知の方法により合成した。合成例９Ｂにおいて、ＭＡＡに由来する樹脂中のカルボキシ基に対して、エポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
Figure 0007676778000068
調製例１Ｂ～６Ｂ 顔料分散液（Ｂｋ－１）～顔料分散液（Ｂｋ－６）の調製
表２Ｂ－１に記載の（Ｄ）着色剤、（Ａ１）第１の樹脂、及び（Ｅ）分散剤の種類、並びに、これらの比率にて、顔料分散液（Ｂｋ－１）～顔料分散液（Ｂｋ－６）を得た。調製例１Ｂ～６Ｂの組成を、まとめて表２Ｂ－１に示す。なお、表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＢＦ１）は、上述した被覆例１と同様の方法により合成した。また、顔料分散液（Ｂｋ－１）、及び顔料分散液（Ｂｋ－２）は、上述した調製例１、及び調製例２と同様の方法により調製した。また、顔料分散液（Ｂｋ－３）～（Ｂｋ－６）は、上述した調製例２と同様に顔料分散をして調製した。また、調整例６Ｂで使用したポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤（ＡＤＰ）は、一般式（３２）で表される構造、及びポリオキシアルキレン構造を有する（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤であり、特開２０２０－０７０３５２号公報に記載の方法に基づき、公知の方法により合成した。
Figure 0007676778000069
各実施例及び比較例における評価方法を以下に示す。
（１）樹脂の重量平均分子量、（２）酸価、酸当量、（３）二重結合当量、（４）顔料の数平均粒子径、及び（５）基板の前処理は、上述した方法によって評価した。
（６）透明導電性酸化膜の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるイオン検出強度
下記、実施例１Ｂ記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイにおいて、飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）を用いて、透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域に対して、バイアスを印加して加速させたエッチングイオン種を発光層側から衝突させ、第１電極側に向かって深さ方向にエッチングしながら、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を、発光層側から衝突させた。その際に放出された二次イオンを測定し、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを測定した。デプスプロファイルにおいて、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が１００以上となった点を、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面とした。また、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置とは、発光層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面を起点として、第１電極の透明導電性酸化膜層を有しない側（第１電極の内部方向）に向かう深さ方向のデプスプロファイルにおいて、３０ｃｙｃｌｅｓとなる点を、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置とした。測定条件は下記の通りである。
エッチングイオン種：Ｃｓ＋
エッチングイオン加速エネルギー：０．２５ｋｅＶ
エッチング領域：１５０μｍ□
測定面積：３０μｍ□
一次イオン種：Ｂｉ＋
一次イオンエネルギー：２５ｋｅＶ
二次イオン極性：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
質量分解能：Ｈｉｇｈ
帯電補償：Ｅ－ｇｕｎ。
（７）画素分割層の表面における負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオンの検出強度の比、及び、透明導電性酸化膜層の表面における負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオンの検出強度の比
下記、実施例１Ｂ記載の方法で、第１電極上に有機ＥＬディスプレイの画素分割層を形成した。飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）を用いて、画素分割層の表面に対して、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を衝突させ、その際に放出された二次イオンを測定した。同様に、画素分割層の開口部によって区画された第１電極の発光層側の最表層である、透明導電性酸化膜層の表面に対して、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を衝突させ、その際に放出された二次イオンを測定した。測定条件は下記の通りである。
画素分割層の表面の測定面積：１００μｍ□
透明導電性酸化膜層の表面の測定面積：５０μｍ□
一次イオン種：Ｂｉ３ ＋＋
一次イオン加速電圧：２５ｋＶ
パルス幅：１３．３ｎｓ
バンチング：あり（高質量分解能）
帯電中和：なし
後段加速：１０ｋＶ。
（８）遮光性（光学濃度（以下、「ＯＤ」）値）は、上述した方法によって評価した。
（９）発光素子の発光特性（電流密度－電圧特性、及び信頼性）
（電流密度－電圧特性評価）
下記、実施例１Ｂ記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、低電圧側から順次電圧値を変え、電流密度が３０ｍＡ／ｃｍ２となるまで直流駆動にて発光させた。低電圧側から順次電圧値を変えた場合における、電圧値及び電流密度を測定してプロットした。電流密度－電圧特性の指標として、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値を求めた。下記のように判定し、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．２Ｖ以下である、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．７Ｖ以下である、Ａ＋及びＡを電流密度－電圧特性良好とし、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖ以下である、Ａ＋を電流密度－電圧特性優秀とした。
Ａ＋：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖ以下
Ａ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．２Ｖを超え、かつ３．７Ｖ以下
Ｂ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が３．７Ｖを超え、かつ４．２Ｖ以下
Ｃ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．２Ｖを超え、かつ４．７Ｖ以下
Ｄ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が４．７Ｖを超え、かつ５．７Ｖ以下
Ｅ：電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値が５．７Ｖを超える、又は測定不能。
（信頼性評価）
下記、実施例１Ｂ記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、非発光領域や輝度ムラなどの発光不良がないかを観察した。作製した有機ＥＬディスプレイを、耐久性試験として、８０℃で５００時間保持した。耐久性試験後、有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、発光領域や輝度ムラなどの発光特性に変化がないかを観察した。下記のように判定し、耐久試験前の発光領域面積を１００％とした場合の、耐久試験後の発光領域面積が８０％以上となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、発光領域面積が９０％以上となる、Ａ＋及びＡを信頼性良好とし、発光領域面積が９５％以上となる、Ａ＋を信頼性優秀とした。
Ａ＋：耐久試験後の発光領域面積が９５％以上
Ａ：耐久試験後の発光領域面積が９０％以上かつ９５％未満
Ｂ：耐久試験後の発光領域面積が８０％以上かつ９０％未満
Ｃ：耐久試験後の発光領域面積が７０％以上かつ８０％未満
Ｄ：耐久試験後の発光領域面積が５０％以上かつ７０％未満
Ｅ：耐久試験後の発光領域面積が５０％未満。
各実施例及び比較例で使用した（Ｆ１）化合物、（Ｆ２）化合物、及び（Ｆ３）化合物、並びに、比較化合物の一覧及び物性値をまとめて、表２Ｂ－２、及び表２Ｂ－３に示す。
Figure 0007676778000070
Figure 0007676778000071
また、合成例８Ｂで得られた酸変性エポキシ樹脂（ＡＥ－１）が有する構造単位を以下に示す。酸変性エポキシ樹脂（ＡＥ－１）は、一般式（３８ａ）で表される構造単位を有する。
Figure 0007676778000072
［表３Ｂの実施例１Ｂ］
表３Ｂに記載の組成にて、組成物１Ｂを調製した。組成物１Ｂの調製に使用した各構成成分の秤量値は、下記の通りである。まず、（Ｄ）着色剤を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して、組成物を調製した。なお、得られた組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。
＜調合液の調製＞
ポリイミド（ＰＩ－１）の３０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：３．７３６ｇ
（ｂ－１）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：０．７９１ｇ
（ｂ－２）の５０質量％のＰＧＭＥＡ溶液：１．５８３ｇ
ＯＸＬ－２：０．２６４ｇ
（ｆ－１）の１質量％のＰＧＭＥＡ溶液：１．３１９ｇ
ＦＬＥ－１：０．２６４ｇ
ＰＧＭＥＡ：５．９３５ｇ
ＭＢＡ：５．１００ｇ
＜組成物の調製＞
顔料分散液（Ｂｋ－２）：９．１７３ｇ
調合液：１５．８２７ｇ
＜有機ＥＬディスプレイの作製＞
最初に、現像時間を決定するための条件出しについて記載する。まず、調製した組成物１Ｂを、ＩＴＯ／Ａｇ基板上にスピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて任意の回転数でスピンコーティングにより塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１１０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚１．５μｍのプリベーク膜を作製した。作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－２０００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液でスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。以降、現像時間は、測定したＢＰの１．５倍とした。
上記と同様にプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。以降、露光量は、この方法で求めた最適露光量とした。
次に、有機ＥＬディスプレイの作製方法について記載する。図２に、使用した基板の概略図を示す。まず、３８×４６ｍｍの無アルカリガラス基板４７に、非透明導電性金属層としてＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、エッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成した。さらに、ＡＰＣ層の上層に透明導電性酸化膜層としてアモルファス性のＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第１電極４８として反射電極を形成した。また、第２電極を取り出すため補助電極４９も同時に形成した（図２（工程１））。得られた基板を“セミコクリーン”（登録商標）５６（フルウチ化学社製）で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄した。次に、この基板上に、調製した組成物１Ｂを、スピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて上記と同じ任意の回転数でスピンコーティングにより塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１１０℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を作製した。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、所定のパターンを有するフォトマスクを介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。露光量は、最適露光量とした。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスした。現像時間は、ＢＰの１．５倍とした。現像後、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて、２５０℃で熱硬化させ、画素分割層５０を作製した。熱硬化条件は、窒素雰囲気下、２５０℃で６０分間熱硬化させた。以上の方法で、幅７０μｍ及び長さ２６０μｍの開口部が、幅方向にピッチ１５５μｍ及び長さ方向にピッチ４６５μｍで配置され、それぞれの開口部が第１電極を露出せしめる形状の画素分割層５０を、基板有効エリアに限定して形成した（図２（工程２））。なお、この開口部が、最終的に有機ＥＬディスプレイの発光画素となる。また、基板有効エリアは、１６ｍｍ四方であり、画素分割層５０の厚さは、約１．０μｍで形成した。
次に、第１電極４８、補助電極４９及び画素分割層５０を形成した基板を用いて、有機ＥＬディスプレイの作製を行った。前処理として、窒素プラズマ処理を行った後、真空蒸着法により、発光層を含む有機ＥＬ層５１を形成した（図２（工程３））。なお、蒸着時の真空度は、１×１０－３Ｐａ以下であり、蒸着中は蒸着源に対して基板を回転させた。まず、正孔注入層として、化合物（ＨＴ－１）を１０ｎｍ、正孔輸送層として、化合物（ＨＴ－２）を５０ｎｍ蒸着した。次に、発光層に、ホスト材料として、化合物（ＧＨ－１）とドーパント材料として、化合物（ＧＤ－１）を、ドープ濃度が１０％になるように４０ｎｍの厚さに蒸着した。その後、電子輸送材料として、化合物（ＥＴ－１）と化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さに積層した。なお、有機ＥＬ層で用いた化合物は、国際公開第２０１７／０５７２８１号に記載のものと同一化合物を用いた。
次に、化合物（ＬｉＱ）を２ｎｍ蒸着した後、透明電極としてＭｇＡｇ（マグネシウム／銀＝１０／１（体積比））を１０ｎｍ蒸着して第２電極５２とし、透明電極を形成した（図２（工程４））。その後、低湿窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することで封止をし、１枚の基板上に５ｍｍ四方のトップエミッション型有機ＥＬディスプレイを４つ作製した。なお、ここでいう膜厚は、水晶発振式膜厚モニター表示値である。
［表３Ｂ～６Ｂの実施例２Ｂ～２４Ｂ、及び比較例１Ｂ～１０Ｂ］
実施例１Ｂと同様に、組成物２Ｂ～３４Ｂを表３Ｂ～６Ｂに記載の組成にて調製した。得られた各組成物を用いて、実施例１Ｂと同様に、基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果をまとめて、表３Ｂ～６Ｂに示す。なお、比較しやすくするため、表４Ｂ及び表５Ｂには実施例１Ｂの組成及び評価結果を記載した。また、本発明における、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が、特定強度であることによる効果を比較しやすくするため、表６Ｂには実施例１Ｂ及び比較例６Ｂ、実施例１３Ｂ及び比較例７Ｂ、実施例１６Ｂ及び比較例８Ｂ、実施例１７Ｂ及び比較例９Ｂ、並びに、実施例１８Ｂ及び比較例１０Ｂ、それぞれの組成及び評価結果を対比して記載した。
なお、表３Ｂ～６Ｂにおいて、略語に対応する名称を以下に示す。
ＦＬＥ－１：下記構造で表される（Ｇ１）フルオレン骨格含有エポキシ架橋剤
ＮＱＤ－１：下記構造で表される（Ｃ３）ナフトキノンジアジド化合物
ＯＸＬ－２：下記構造で表される、ベンゾカルバゾール骨格を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系光重合開始剤
（ｂ－１）：下記構造で表される（Ｂ１）フルオレン骨格含有ラジカル重合性化合物
（ｂ－２）：下記構造で表される、ε－カプロラクトンに由来するペンチレンカルボニル基を分子中に２個有する（Ｂ３）柔軟鎖含有ラジカル重合性化合物
（ｄ－１）：Ｂｋ－Ｓ０１００ＣＦ
（ｄ－２）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１９２／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－３）：Ｐ．Ｒ．１７９／Ｐ．Ｙ．１３９／Ｐ．Ｂ．６０の混合物（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９／Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０の混合物）
（ｄ－４）：Ｂｋ－ＣＢＦ１
（ｅ－１）：Ｓ－２００００
（ｅ－２）：Ｄ．ＢＹＫ－１６７
Figure 0007676778000073
Figure 0007676778000074
表３Ｂにおいて、実施例１Ｂ～７Ｂは、（Ｆ１）化合物として、（ｆ－１）～（ｆ－７）のいずれかを含有する組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイであり、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が特定強度である。中でも、実施例１Ｂ～３Ｂ、及び実施例６Ｂは、ホスホン酸構造、ホスホン酸エステル構造等を含有する。これらの実施例において、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性を高い水準で両立している。特に、実施例１Ｂ～３Ｂ、及び実施例６Ｂは、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が高く、電流密度－電圧特性、及び信頼性が顕著に向上している。一方、実施例４Ｂ及び５Ｂは、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が低く、実施例４Ｂでは電流密度－電圧特性、及び信頼性の低下が確認でき、実施例５Ｂはさらに特性が低下している。
実施例１Ｂ、及び実施例８Ｂ～１５Ｂは、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の種類を変えた組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイであり、遮光性、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が良好である。中でも、実施例１Ｂ、及び実施例８Ｂ～１２Ｂは、特定の樹脂構造を含有する。これらの実施例において、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性向上が確認できる。
Figure 0007676778000075
表４Ｂにおいて、実施例１Ｂを基準とすると、実施例１６Ｂ及び１７Ｂは、（Ｄ）着色剤を含まない組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。実施例１８Ｂは、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｃ）感光剤の種類を変えたポジ型感光性の組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。実施例１９Ｂ～２１Ｂは、（Ｄ）着色剤の種類を変えた組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。実施例２２Ｂ～２４Ｂは、二種類の（Ｆ１）化合物、（Ｆ１）化合物及び（Ｆ２）化合物、又は、（Ｆ１）化合物及び（Ｆ３）化合物を含有する組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。
実施例１６Ｂ及び１７Ｂは、実施例１Ｂ及び１３Ｂと比較すると、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。実施例１８Ｂは、実施例１６Ｂと比較すると、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。実施例１９Ｂ～２１Ｂ、及び実施例１Ｂを比較すると、実施例２０Ｂは、電流密度－電圧特性、及び信頼性の特性低下が確認できる。一方、実施例２１Ｂ及び実施例１Ｂは、各特性が顕著に向上しており、中でも、実施例２１Ｂが非常に優れた特性を有している。実施例２２Ｂ～２４Ｂは、実施例１Ｂと比較すると、電流密度－電圧特性の向上が確認できる。特に、実施例２２Ｂは、電流密度－電圧特性が顕著に向上している。
Figure 0007676778000076
表５Ｂにおいて、実施例１Ｂを基準とすると、比較例１Ｂ～３Ｂは、酸性基を有しない比較化合物を含有する組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。比較例４Ｂ及び５Ｂは、（Ｆ２）化合物のみ、又は（Ｆ３）化合物のみを含有する組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。
これらの比較例は、いずれも上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が低く、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいて、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が顕著な効果を奏することが確認できる。
Figure 0007676778000077
表６Ｂにおいて、実施例１Ｂ及び実施例１３Ｂを基準とすると、比較例６Ｂ及び比較例７Ｂは、（Ｆ１）化合物を含まない組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。実施例１６Ｂ及び実施例１７Ｂを基準とすると、比較例８Ｂ及び比較例９Ｂは、（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｆ１）化合物を含まない組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。実施例１８Ｂを基準とすると、比較例１０Ｂは、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｄ）着色剤を含まず、（Ｆ１）化合物を含まないポジ型感光性の組成物を硬化した硬化膜を具備する有機ＥＬディスプレイである。
これらの比較例は、いずれも上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が低く、電流密度－電圧特性、及び信頼性の各特性が顕著に悪化している。これらの結果より、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいて、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が顕著な効果を奏することが確認できる。なお、比較例６Ｂ～１０Ｂを基準とすると、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度による各特性の向上効果は、ポジ型感光性の組成物を硬化した硬化膜を具備する実施例１８Ｂよりも、ネガ型感光性の組成物を硬化した硬化膜を具備する実施例１６Ｂ及び実施例１７Ｂの方が顕著である。さらに、各特性の向上効果は、（Ｄ）着色剤を含有する組成物を硬化した硬化膜を具備する実施例１Ｂ及び実施例２０Ｂの方がより顕著である。これらの結果より、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度は、硬化膜中における（Ｂ）ラジカル重合性化合物に由来する構造及び（Ｃ１）光重合開始剤に由来する構造との相互作用、並びに、（Ｄ）着色剤との相互作用によって、各特性向上に寄与していると推測される。
［実施例２５Ｂ］
（偏光層を有しないフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法）
作製する有機ＥＬディスプレイの概略を図３に示す。まず、３８×４６ｍｍの無アルカリガラス基板上に、ポリイミドフィルム基板（“Ｋａｐｔｏｎ”（登録商標）－１５０－ＥＮ－Ｃ（東レ・デュポン社製））６７を粘着層で仮固定し、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１３０℃で１２０秒間プリベークした。次に、ポリイミドフィルム基板６７上に、ＣＶＤ法により、ガスバリア層としてＳｉＯ２膜７３を形成した。ガスバリア層の上に、電子ビーム蒸着法により、クロムと金の積層膜を成膜し、エッチングによりソース電極７４とドレイン電極７５を形成した。次に、非透明導電性金属層としてＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、エッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成した。さらに、ＡＰＣ層の上層に透明導電性酸化膜層としてアモルファス性のＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第１電極として反射電極７６を形成した。電極表面を酸素プラズマで洗浄した後、スパッタ法により、アモルファスＩＧＺＯを成膜し、エッチングによりソース・ドレイン電極間に酸化物半導体層７７を形成した。次に、スピンコート法により、ポジ型感光性ポリシロキサン系材料（ＳＰ－Ｐ２３０１（東レ社製））を成膜し、フォトリソグラフィーにより、ビアホール７８と画素領域７９を開口した後、熱硬化させてゲート絶縁層８０を形成した。その後、電子ビーム蒸着法により、金を成膜し、エッチングによりゲート電極８１を形成することで、酸化物ＴＦＴアレイとした。
上述した実施例１Ｂ記載の方法によって、組成物１Ｂを、酸化物ＴＦＴアレイ上に塗布及びプリベークして成膜し、所定のパターンを有するフォトマスクを介してパターニング露光、現像及びリンスして画素領域を開口した後、熱硬化させて、遮光性を有するＴＦＴ保護層／画素分割層８２を形成した。以上の方法で、幅７０μｍ及び長さ２６０μｍの開口部が、幅方向にピッチ１５５μｍ及び長さ方向にピッチ４６５μｍで配置され、それぞれの開口部が反射電極を露出せしめる形状の画素分割層を、基板有効エリアに限定して形成した。なお、この開口部が、最終的に有機ＥＬディスプレイの発光画素となる。また、基板有効エリアは、１６ｍｍ四方であり、画素分割層の厚さは、約１．０μｍで形成した。
次に、上述の方法で、正孔注入層として化合物（ＨＴ－１）、正孔輸送層として化合物（ＨＴ－２）、ホスト材料として化合物（ＧＨ－１）、ドーパント材料として化合物（ＧＤ－１）、電子輸送材料として化合物（ＥＴ－１）と化合物（ＬｉＱ）を用いて、有機ＥＬ層８３を形成した。その後、蒸着法により、透明電極としてＭｇＡｇ（マグネシウム／銀＝１０／１（体積比））を１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第２電極として透明電極８４を形成した。次いで、低湿窒素雰囲気下、有機ＥＬシール材（“ストラクトボンド”（登録商標）ＸＭＦ－Ｔ（三井化学社製））を用いて封止膜８５を形成した。さらに、ガスバリア層としてＳｉＯ２膜８６を形成したポリエチレンテレフタレートフィルム基板（“ルミラー”（登録商標）Ｕ３４（東レ社製））８７を、封止膜上に貼り合わせた後、ポリイミドフィルム基板６７から無アルカリガラス基板を剥離し、１枚の基板上に５ｍｍ四方の、偏光層を有しないトップエミッション型のフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイを４つ作製した。なお、ここでいう膜厚は、水晶発振式膜厚モニター表示値である。
（コントラスト評価）
上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ２で直流駆動にて発光させ、外光を画素分割層部に照射した場合の輝度（Ｙ’）、外光を照射しない場合の輝度（Ｙ０）を測定した。外光反射抑制の指標として、コントラストを下記式により算出した。
コントラスト＝Ｙ０／Ｙ’。
下記のように判定し、コントラストが０．８０以上となる、Ａ＋、Ａ、及びＢを合格とし、コントラストが０．９０以上となる、Ａ＋及びＡを外光反射抑制効果良好とし、コントラストが０．９５以上となる、Ａ＋を外光反射抑制効果優秀とした。上述した方法で作製した有機ＥＬディスプレイは、コントラストが０．９０であり、外光反射抑制が可能であることを確認した。
Ａ＋：コントラストが０．９５以上
Ａ：コントラストが０．９０以上かつ０．９５未満
Ｂ：コントラストが０．８０以上かつ０．９０未満
Ｃ：コントラストが０．７０以上かつ０．８０未満
Ｄ：コントラストが０．５０以上かつ０．７０未満
Ｅ：コントラストが０．５０未満。
（電流密度－電圧特性評価）
上記（９）記載の方法で、有機ＥＬディスプレイの電流密度－電圧特性の指標として、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となる電圧値を求め、上記（９）記載の方法で判定した。
（信頼性評価）
上記（９）記載の方法で、有機ＥＬディスプレイの耐久性試験を実施し、上記（９）記載の方法で判定した。
［実施例２５Ｂ、実施例２６Ｂ、及び比較例１１Ｂ］
実施例２６Ｂ及び比較例１１Ｂとして、実施例２５Ｂと同様に、組成物３５Ｂ及び３０Ｂを表７Ｂに記載の組成にて調製した。得られた各組成物を用いて、実施例２５Ｂと同様に、基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果をまとめて、表７Ｂに示す。なお、比較しやすくするため、表７Ｂには実施例２５Ｂ、実施例２６Ｂ、及び比較例１１Ｂ、それぞれの組成及び評価結果を記載した。
表７Ｂにおいて、実施例２５Ｂは、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が特定強度である。また、画素分割層が黒色、かつ画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が１．０であって、フレキシブル基板上に積層されている構造を有し、かつ偏光フィルムを有しない、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイである。それらにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となっている。
一方、実施例２６Ｂを実施例２５Ｂと比較すると、リンイオン（Ｐ－）の検出強度が異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから３．７Ｖに高電圧化している。また、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光領域における光学濃度が０．５である点でも相違する。それにより、実施例２５Ｂと比較して、発光素子の信頼性が１００％から９０％に低下している。これは、光学濃度が０．５に低下したことで外界から入射する光の遮光性が低下し、入射した光による発光素子の劣化に起因すると推定される。さらに、比較例１１Ｂは実施例２５Ｂと比較すると、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が特定強度ではない点で異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから５．０Ｖまで顕著に高電圧化しており、発光素子の信頼性も１００％から９０％に低下している。以上より、偏光フィルムを有しないフレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイにおいて、上述した透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度の特定強度、並びに、画素分割層の光学濃度が顕著な効果を奏することが分かる。
Figure 0007676778000078
［実施例２５Ｂ、実施例２７Ｂ、実施例２８Ｂ、比較例１１Ｂ、及び比較例１２Ｂ］
実施例２７Ｂ、及び実施例２８Ｂとして、組成物１Ｂを用いて、実施例２５Ｂと同様に基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。なお、実施例２７Ｂ、及び実施例２８Ｂでは、画素分割層を形成した後、かつ正孔注入層を形成する前に、プラズマ処理によって第１電極の表面上を洗浄した。プラズマ処理は、プラズマ洗浄装置（ＳＰＣ－１００Ｂ＋Ｈ；日立ハイテクインスツルメンツ社製）を用いて、酸素ガス気流下、１，２００Ｗの高周波電力、及び２３℃の処理温度にて、５０ｓｃｃｍのガス流量、及び２０Ｐａの処理圧力の条件下、プラズマを発生させて処理した。実施例２７Ｂでは、プラズマ処理の処理時間を３０秒とし、実施例２８Ｂでは、プラズマ処理の処理時間を１２０秒とした。なお、実施例２５Ｂは、プラズマ処理無しである。
また、上述した比較例１１Ｂ、及び比較例１２Ｂとして、実施例２５Ｂと同様に、組成物３０Ｂを表８Ｂに記載の組成にて調製した。得られた各組成物を用いて、実施例２５Ｂと同様に、基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。なお、比較例１２Ｂでは、同様に、画素分割層を形成した後、かつ正孔注入層を形成する前に、プラズマ処理によって第１電極の表面上を洗浄した。比較例１２Ｂでは、プラズマ処理の処理時間を１２０秒とした。なお、比較例１１Ｂは、プラズマ処理無しである。
これらの評価結果をまとめて、表８Ｂに示す。なお、比較しやすくするため、表８Ｂには実施例２５Ｂ、実施例２７Ｂ、実施例２８Ｂ、比較例１１Ｂ、及び比較例１２Ｂ、それぞれの組成及び評価結果を記載した。なお、原子間力顕微鏡を用いて測定した、画素分割層の表面における算術平均粗さの結果もまとめて、表８Ｂに示す。実施例２５Ｂ、及び比較例１１Ｂは、画素分割層を形成後の、画素分割層の表面における算術平均粗さである。実施例２７Ｂ、実施例２８Ｂ、及び比較例１２Ｂは、プラズマ処理後の画素分割層の表面における算術平均粗さである。測定条件は、カンチレバーのバネ定数４０Ｎ／ｍ、タッピングモード、スキャンサイズ３μｍ、スキャンレート１．００Ｈｚとした。
表８Ｂにおいて、実施例２５Ｂは、画素分割層が（Ｄ１ａ）黒色顔料として、一般式（６３）又は一般式（６４）で表される化合物、該化合物の幾何異性体、該化合物の塩、及び該化合物の幾何異性体の塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、画素分割層の表面における算術平均粗さが特定範囲内の有機ＥＬディスプレイである。それらにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となっている。
一方、実施例２７Ｂを実施例２５Ｂと比較すると、プラズマ処理によって画素分割層の表面における算術平均粗さが異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して電流密度－電圧特性は変わらないものの、発光素子の信頼性が１００％から９０％に低下している。これは、プラズマ処理による画素分割層の表面の分解・変質部位が、信頼性低下の要因と推定される。さらに、実施例２８Ｂを実施例２５Ｂと比較すると、プラズマ処理によって画素分割層の表面における算術平均粗さが特定範囲内ではない点で異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、発光素子の信頼性が１００％から７５％まで顕著に低下している。
また、比較例１１Ｂを実施例２５Ｂと比較すると、リンイオン（Ｐ－）の検出強度、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ２ －）の検出強度が特定強度ではない点で異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから５．０Ｖまで顕著に高電圧化しており、発光素子の信頼性も１００％から９０％に低下している。一方、比較例１２Ｂを比較例１１Ｂと比較すると、プラズマ処理によって画素分割層の表面における算術平均粗さが特定範囲内ではない点で異なる。それにより、比較例１１Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が５．０Ｖから４．０Ｖまで顕著に低電圧化している一方、発光素子の信頼性が９０％から７０％まで顕著に低下している。これは、プラズマ処理によって第１電極の表面上の残渣等が除去された一方で、画素分割層の表面も分解されたためと推定される。以上より、有機ＥＬディスプレイにおいて、画素分割層が黒色顔料を含有すること、及び画素分割層の表面における算術平均粗さが顕著な効果を奏することが分かる。
Figure 0007676778000079
［実施例２５Ｂ、及び実施例２９Ｂ～３２Ｂ］
実施例２９Ｂ～３２Ｂとして、組成物１Ｂを用いて、実施例２５Ｂと同様に基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。なお、実施例２９Ｂでは、銀／パラジウム／銅／インジウム＝９７．０７／０．８７／１．０６／１．００（質量比）を第１電極の非透明導電性層とした。実施例３０Ｂでは、銀／パラジウム／銅／ナトリウム＝９７．０７／０．８７／１．０６／１．００（質量比）を、実施例３１Ｂでは、銀／パラジウム／銅／カルシウム＝９７．０７／０．８７／１．０６／１．００（質量比）を、実施例３２Ｂでは、銀／パラジウム／銅／ケイ素＝９７．０７／０．８７／１．０６／１．００（質量比）を、それぞれ、第１電極の非透明導電性層とした。これらの評価結果をまとめて、表９Ｂに示す。なお、比較しやすくするため、表９Ｂには実施例２５Ｂ、及び実施例２９Ｂ～３２Ｂ、それぞれの組成及び評価結果を記載した。
表９Ｂにおいて、実施例２５Ｂは、第１電極の非透明導電性金属層がＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））であり、第１電極の発光層側の最表層にアモルファス性のＩＴＯを有し、トップエミッション型の構成の有機ＥＬディスプレイである。
一方、実施例２９Ｂ～３２Ｂは、第１電極の非透明導電性金属層として、銀、パラジウム、及び銅に加え、それぞれ、インジウム、ナトリウム、カルシウム、又はケイ素を有する。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから３．０Ｖに低電圧化している。これは、非透明導電性金属層として、特定の異種元素をさらに含むことで、第１電極の導電性が向上したためと推定される。以上より、トップエミッション型の構成の有機ＥＬディスプレイにおいて、第１電極の非透明導電性金属層である銀を含む合金層が、特定の異種元素をさらに含むことが顕著な効果を奏することが分かる。
Figure 0007676778000080
［実施例２５Ｂ、実施例３３Ｂ、比較例１１Ｂ、比較例１３Ｂ、及び比較例１４Ｂ］
実施例３３Ｂ、比較例１１Ｂ、比較例１３Ｂ、及び比較例１４Ｂとして、組成物４Ｂ、組成物３０Ｂ、組成物２６Ｂ、及び組成物２９Ｂを用いて、実施例２５Ｂと同様に基板上に組成物を成膜するとともに、有機ＥＬディスプレイを作製し、硬化膜の特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果をまとめて、表１０Ｂに示す。なお、比較しやすくするため、表１０Ｂには実施例２５Ｂ、実施例３３Ｂ、比較例１１Ｂ、比較例１３Ｂ、及び比較例１４Ｂ、それぞれの組成及び評価結果を記載した。
表１０Ｂにおいて、実施例２５Ｂは、画素分割層の表面における負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオンの検出強度の比、及び、透明導電性酸化膜層の表面における負イオン検出強度の総和に占める、酸化リンイオンの検出強度の比（以下、「酸化リンイオンの強度比」）が、特定強度比である。それにより、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となっている。
一方、実施例３３Ｂを実施例２５Ｂと比較すると、酸化リンイオンの強度比が異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから４．０Ｖに高電圧化しており、発光素子の信頼性も１００％から９５％に低下している。さらに、比較例１１Ｂ、比較例１３Ｂ、及び比較例１４Ｂを、実施例２５Ｂと比較すると、酸化リンイオンの強度比が、特定強度比ではない点で異なる。それにより、実施例２５Ｂと比較して、電流密度－電圧特性が３．２Ｖから、それぞれ５．０Ｖ、５．３Ｖ、及び５．０Ｖまで顕著に高電圧化している。また、発光素子の信頼性も１００％から、それぞれ９０％、９０％、及び９５％に低下している。以上より、有機ＥＬディスプレイにおいて、酸化リンイオンの強度比の特定強度比が、顕著な効果を奏することが分かる。
Figure 0007676778000081
［実施例３４Ｂ、及び実施例３５Ｂ］
表１１Ｂにおいて、実施例３４Ｂは、（Ａ１－５）ポリアミドイミドである（ＰＡＩ－１）を含有する組成物である。実施例３５Ｂは、（Ｅ１）塩基性基を有する顔料分散剤であるＡＤＰを含む組成物である。なお、比較しやすくするため、表１１Ｂには実施例１Ｂの組成及び評価結果を記載した。これらの実施例においても、有機ＥＬディスプレイとして優れた特性を示すことが分かる。
Figure 0007676778000082
１ ガラス基板
２ ＴＦＴ
３ ＴＦＴ平坦化用の硬化膜
４，７６ 反射電極
５ａ プリベーク膜
５ｂ 硬化パターン
６ マスク
７ 活性化学線
８，５１，８３ 有機ＥＬ層
９，８４ 透明電極
１０ 平坦化用の硬化膜
１１ カバーガラス
４７ 無アルカリガラス基板
４８ 第１電極
４９ 補助電極
５０ 画素分割層
５２ 第２電極
６７ ポリイミドフィルム基板
７３，８６ ＳｉＯ２膜
７４ ソース電極
７５ ドレイン電極
７７ 酸化物半導体層
７８ ビアホール
７９ 画素領域
８０ ゲート絶縁層
８１ ゲート電極
８２ ＴＦＴ保護層／画素分割層
８５ 封止膜
８７ ポリエチレンテレフタレートフィルム基板

Claims (12)

  1. 基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、発光層を含む有機ＥＬ層を有する表示装置であって、
    該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、
    該発光層を含む有機ＥＬ層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成され、
    該第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、
    該透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、以下の測定条件で飛行時間型二次イオン質量分析により測定される発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルにおいて、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ ２ － ）の検出強度が１００以上となった点を少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面としたとき、
    該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓ、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ ２ － ）の検出強度を（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、
    （ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）及び（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）が、一般式（ＰＡ－１）、一般式（ＰＡ－２）及び（ＰＡ－３）を満たす表示装置。
    ４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
    ０．００４≦（Ｐ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）／（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）≦０．１ （ＰＡ－２）
    １，０００≦（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）≦１０，０００ （ＰＡ－３）
    ［測定条件］
    飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
    エッチングイオン種：Ｃｓ ＋
    エッチングイオン加速エネルギー：０．２５ｋｅＶ
    エッチング領域：１５０μｍ□
    測定面積：３０μｍ□
    一次イオン種：Ｂｉ ＋
    一次イオンエネルギー：２５ｋｅＶ
    二次イオン極性：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
    質量分解能：Ｈｉｇｈ
    帯電補償：Ｅ－ｇｕｎ
  2. 基板、第１電極、第２電極、及び画素分割層を少なくとも有し、さらに、発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、
    該画素分割層は、該第１電極上の一部と重なるように形成され、
    該発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は該発光層を含む光取り出し層は、該第１電極上、かつ該第１電極及び該第２電極の間に形成され、
    該第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、
    該第１電極上の発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は該第１電極上の発光層を含む光取り出し層が形成された領域における、以下の測定条件で飛行時間型二次イオン質量分析により測定される発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルにおいて、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ ２ － ）の検出強度が１００以上となった点を少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層の表面としたとき、
    該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるリンイオン（Ｐ－）の検出強度を（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓ、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ ２ － ）の検出強度を（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、
    （ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）及び（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）が、一般式（ＰＡ－１）、一般式（ＰＡ－２）及び（ＰＡ－３）を満たす表示装置。
    ４≦（ＰＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦１００ （ＰＡ－１）
    ０．００４≦（Ｐ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）／（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）≦０．１ （ＰＡ－２）
    １，０００≦（ＩｎＯ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）≦１０，０００ （ＰＡ－３）
    ［測定条件］
    飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
    エッチングイオン種：Ｃｓ ＋
    エッチングイオン加速エネルギー：０．２５ｋｅＶ
    エッチング領域：１５０μｍ□
    測定面積：３０μｍ□
    一次イオン種：Ｂｉ ＋
    一次イオンエネルギー：２５ｋｅＶ
    二次イオン極性：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
    質量分解能：Ｈｉｇｈ
    帯電補償：Ｅ－ｇｕｎ
  3. 前記画素分割層が、ホスホン酸構造、ホスホン酸モノエステル構造、ホスホン酸ジエステル構造、亜リン酸モノエステル構造、亜リン酸ジエステル構造、又は亜リン酸トリエステル構造からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項１または２に記載の表示装置。
  4. 前記第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、
    該透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される炭素イオン（Ｃ－）の検出強度を（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）が、一般式（ＣＡ－１）を満たす、請求項１～３のいずれかに記載の表示装置。
    ２０≦（ＣＤｅｐ／Ａｎｏｄｅ）≦４，０００ （ＣＡ－１）
  5. 前記第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含む透明導電性酸化膜層を有し、
    該透明導電性酸化膜層上の発光層を含む有機ＥＬ層が形成された領域における、該発光層と接する側の該透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置における、飛行時間型二次イオン質量分析により測定されるシアン化物イオン（ＣＮ － ）の検出強度を（ＣＮ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）ｃｏｕｎｔｓとするとき、（ＣＮ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）が、一般式（ＣＮＡ－１）を満たす、請求項１～４のいずれかに記載の表示装置。
    ２０≦（ＣＮ Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ ）≦４，０００ （ＣＮＡ－１）
  6. 前記画素分割層が、（Ｄ１ａ）黒色顔料を含有する、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
  7. 前記画素分割層が、（Ｄ１ａ）黒色顔料として、一般式（６３）又は一般式（６４）で表される化合物、これらの幾何異性体、これらの塩、及びこれらの幾何異性体の塩からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項６に記載の表示装置。
    Figure 0007676778000083
     一般式（６３）及び一般式（６４）において、Ｒ２０６、Ｒ２０７、Ｒ２１４、及びＲ２１５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、又はフッ素原子を１～２０個有する炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ２０８、Ｒ２０９、Ｒ２１６、及びＲ２１７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ２１２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ２１２、ＣＯＯ－、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＲ２１２、ＣＯＮＲ２１２Ｒ２１３、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ２１２、ＯＣＯＲ２１２、ＯＣＯＮＨ２、ＯＣＯＮＨＲ２１２、ＯＣＯＮＲ２１２Ｒ２１３、ＮＯ２、ＮＨ２、ＮＨＲ２１２、ＮＲ２１２Ｒ２１３、ＮＨＣＯＲ２１２、ＮＲ２１２ＣＯＲ２１３、Ｎ＝ＣＨ２、Ｎ＝ＣＨＲ２１２、Ｎ＝ＣＲ２１２Ｒ２１３、ＳＨ、ＳＲ２１２、ＳＯＲ２１２、ＳＯ２Ｒ２１２、ＳＯ３Ｒ２１２、ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３ －、ＳＯ２ＮＨ２、ＳＯ２ＮＨＲ２１２、又はＳＯ２ＮＲ２１２Ｒ２１３を表し、Ｒ２１２及びＲ２１３は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数４～１０のシクロアルケニル基、又は炭素数２～１０のアルキニル基を表す。複数のＲ２０８、Ｒ２０９、Ｒ２１６、又はＲ２１７で、直接結合、又は、酸素原子ブリッジ、硫黄原子ブリッジ、ＮＨブリッジ、若しくはＮＲ２１２ブリッジで環を形成しても構わない。Ｒ２１０、Ｒ２１１、Ｒ２１８、及びＲ２１９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。
  8. 前記画素分割層の表面における算術平均粗さが０．１～１０．０ｎｍである、請求項６または７に記載の表示装置。
  9. 前記画素分割層が、一般式（１）で表される構造を有する樹脂、一般式（３）で表される構造を有する樹脂、一般式（２）で表される構造を有する樹脂、一般式（４）で表される構造を有する樹脂、一般式（９）で表される構造を有する樹脂、一般式（７）で表される構造を有する樹脂、及び一般式（８）で表される構造を有する樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項１～８のいずれかに記載の表示装置。
    Figure 0007676778000084
     （一般式（１）において、Ｒ １ は、４～１０価の有機基を表し、Ｒ ２ は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ ３ 及びＲ ４ は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｐは、０～６の整数を表し、ｑは、０～８の整数を表す。ただし、Ｒ ３ またはＲ ４ がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ １ またはＲ ２ は芳香族構造を表す。）
    Figure 0007676778000085
     （一般式（５）及び（６）において、Ｒ １９ ～Ｒ ２１ は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～６のアシル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。）
    Figure 0007676778000086
     （一般式（３）において、Ｒ ９ は、４～１０価の有機基を表し、Ｒ １０ は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ １１ は、上述した一般式（５）又は一般式（６）で表される置換基を表し、Ｒ １２ は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、又はメルカプト基を表し、Ｒ １３ は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｔは、２～８の整数を表し、ｕは、０～６の整数を表し、ｖは、０～８の整数を表し、２≦ｔ＋ｕ≦８である。ただし、Ｒ １２ またはＲ １３ がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ ９ またはＲ １０ は芳香族構造を表す。）
    Figure 0007676778000087
     （一般式（２）において、Ｒ ５ は、２～１０価の有機基を表し、Ｒ ６ は、芳香族構造を有する４～１０価の有機基を表す。Ｒ ７ は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。Ｒ ８ は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｒは、０～８の整数を表し、ｓは、０～６の整数を表す。ただし、Ｒ ７ がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ ５ は芳香族構造を表す。）
    Figure 0007676778000088
     （一般式（４）において、Ｒ １４ は、２～１０価の有機基を表し、Ｒ １５ は、芳香族構造を有する４～１０価の有機基を表す。Ｒ １６ は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表し、Ｒ １７ は、フェノール性水酸基を表し、Ｒ １８ は、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｗは、０～８の整数を表し、ｘは、２～８の整数を表し、ｙは、０～６の整数を表し、２≦ｘ＋ｙ≦８である。ただし、Ｒ １６ がフェノール性水酸基を表すときは、フェノール性水酸基と結合するＲ １４ は芳香族構造を表す。）
    Figure 0007676778000089
     （一般式（９）において、Ｒ ２３ は、３～１０価の有機基を表す。Ｒ ２４ は、２～１０価の有機基を表す。Ｒ ２５ 及びＲ ２６ は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（５）若しくは一般式（６）で表される置換基を表す。ｍは０～７の整数を表す。ｎは０～８の整数を表す。ただし、Ｒ ２５ 又はＲ ２６ がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ ２３ 又はＲ ２４ は芳香族構造を表す。）
    Figure 0007676778000090
     （一般式（７）及び（８）において、Ｒ ２２ は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。）
  10. 前記第１電極が、前記透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を少なくとも含む多層構造を有し、
    該第１電極の発光層側の最表層に、少なくともインジウムを含むアモルファス性の導電性酸化膜層を有し、
    該非透明導電性金属層が、少なくとも銀を含む合金層を有し、
    トップエミッション型の構成である、請求項１～９のいずれかに記載の表示装置。
  11. 前記非透明導電性金属層における銀を含む合金層が、さらに、インジウム、スズ、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、及びケイ素からなる群より選ばれる一種類以上を含む、請求項１０に記載の表示装置。
  12. さらに、量子ドットを含むカラーフィルタを有する、請求項１～１１のいずれかに記載の表示装置。
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