JP7679064B2 - Method for producing gallate-type epicatechin polymer or gallate-type epigallocatechin polymer - Google Patents
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Description
本発明は、ガレート型エピカテキン重合体又はガレート型エピガロカテキン重合体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a gallate-type epicatechin polymer or a gallate-type epigallocatechin polymer.
エピカテキンガレート及びエピガロカテキンガレートはそれぞれ、エピカテキンとエピガロカテキンのフラバン-3-オールの3位に没食子酸が結合したエステルであり、抗酸化作用をはじめとする広範な生理活性を有することが知られている。 Epicatechin gallate and epigallocatechin gallate are esters in which gallic acid is bound to the 3-position of the flavan-3-ol of epicatechin and epigallocatechin, respectively, and are known to have a wide range of physiological activities, including antioxidant effects.
エピカテキンガレートの2量体であるプロシアニジンガレートは、DNAポリメラーゼの阻害活性や抗腫瘍活性などの重要な生物活性を有することから注目を集めるようになっている(非特許文献1)。 Procyanidin gallate, a dimer of epicatechin gallate, has been attracting attention due to its important biological activities, such as DNA polymerase inhibitory activity and antitumor activity (Non-Patent Document 1).
従来、エピカテキンガレートの単量体からエピカテキンガレートの2量体を合成する場合、以下に示すように、エピカテキン(i)より調製したエピカテキンガレート求電子体(ii)とエピカテキンガレート求核剤(vi)をそれぞれ別々に合成していた。両者をイッテリビウムトリフラート(Yb(OTf)3)の存在下で縮合すると、2量体である化合物(iv)が得られたが、収率は22%に留まっていた(非特許文献1)。この化合物の全ての保護基を除去し、ガレート型エピカテキン2量体(v)を合成した。この方法の欠点は、求電子体(ii)と求核剤(vi)を別々に調製しなければならないことと、両者の縮合反応の収率が低いことである。従って効率的な合成とはいえなかった(下記スキームA)。 Conventionally, when synthesizing an epicatechin gallate dimer from an epicatechin gallate monomer, the epicatechin gallate electrophile (ii) and epicatechin gallate nucleophile (vi) prepared from epicatechin (i) were separately synthesized as shown below. When the two were condensed in the presence of ytterbium triflate (Yb(OTf) 3 ), a dimer compound (iv) was obtained, but the yield was only 22% (Non-Patent Document 1). All protecting groups of this compound were removed to synthesize a gallate-type epicatechin dimer (v). The disadvantage of this method is that the electrophile (ii) and the nucleophile (vi) must be prepared separately, and the yield of the condensation reaction between the two is low. Therefore, it was not an efficient synthesis (see Scheme A below).
エピガロカテキンガレートが2つ以上重合したガレート型エピガロカテキン重合体については、合成例が報告されていない。 There have been no reported synthesis examples of gallate-type epigallocatechin polymers in which two or more epigallocatechin gallates are polymerized.
本発明が解決すべき課題は、ガレート型エピカテキン重合体及びガレート型エピガロカテキン重合体をより効率的に製造する方法を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is to provide a method for more efficiently producing gallate-type epicatechin polymers and gallate-type epigallocatechin polymers.
本発明は、以下に記載の実施形態を包含する。 The present invention includes the following embodiments:
項1.2分子の一般式(II)で表される化合物を自己縮合させる工程を含む、一般式(III)で表される化合物の製造方法。 Item 1. A method for producing a compound represented by general formula (III), comprising a step of self-condensing two molecules of a compound represented by general formula (II).
(式(II)中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す) (In formula (II), X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group.)
(式(III)中、X1、R1~R8、及びAは式(II)で定義したのと同じ)
項2.一般式(III)で表される化合物の収率が70%以上である項1に記載の製造方法。
項3.前記自己縮合させる工程が、一般式(VI)で表される化合物の不在下で行われる、項1又は2に記載の製造方法。
(In formula (III), X 1 , R 1 to R 8 , and A are the same as defined in formula (II)).
Item 2. The method according to item 1, wherein the yield of the compound represented by formula (III) is 70% or more.
Item 3. The method according to item 1 or 2, wherein the self-condensation step is carried out in the absence of a compound represented by general formula (VI).
(式(VI)中、X11は水素又はOR18であり、R11~R18は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す)
項4.一般式(III)で表される化合物。
(In formula (VI), X 11 is hydrogen or OR 18 , and R 11 to R 18 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group.)
Item 4. A compound represented by general formula (III):
(式(III)中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す)
項5.一般式(III)で表される化合物を含む粗生成物であって、粗生成物中の一般式(III)で表される2量体化合物の量が70質量%以上である、粗生成物。
(In formula (III), X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group.)
Item 5. A crude product containing a compound represented by general formula (III), wherein the amount of the dimer compound represented by general formula (III) in the crude product is 70 mass% or more.
(式(III)中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す)
項6.項1~3のいずれかに記載の製造方法により、前記一般式(III)で表される化合物を製造する工程と、
一般式(III)で表される化合物の4位のアルコール性水酸基の保護基を除去して、一般式(IV)で表される化合物を得る工程と、
一般式(IV)で表される化合物のフェノール性水酸基の保護基を除去して、一般式(V)で表される化合物を得る工程とを含む、式(V)で表される化合物の製造方法。
(In formula (III), X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group.)
Item 6. A process for producing a compound represented by the general formula (III) by the process according to any one of items 1 to 3;
removing the protecting group of the alcoholic hydroxyl group at the 4-position of the compound represented by general formula (III) to obtain a compound represented by general formula (IV);
and removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group of the compound represented by general formula (IV) to obtain a compound represented by general formula (V).
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す) (wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , and R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group).
(式(V)中、Y1は水素又はOHである)
項7.式(V-2)で表される化合物。
(In formula (V), Y 1 is hydrogen or OH.)
Item 7. A compound represented by formula (V-2).
項8.項1~3のいずれかに記載の製造方法により、前記一般式(III)で表される化合物を製造する工程と、
一般式(III)で表される化合物と、一般式(VII)で表される化合物とをルイス酸の存在下で反応させ、一般式(VIII)で表される化合物を得る工程と、
Item 8. A process for producing a compound represented by the general formula (III) by the process according to any one of items 1 to 3;
A step of reacting a compound represented by general formula (III) with a compound represented by general formula (VII) in the presence of a Lewis acid to obtain a compound represented by general formula (VIII);
(式(VII)中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す) (In formula (VII), X 1 is hydrogen or OR 8 , and R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group.)
(式(VIII)中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、mは2~5である)
一般式(VIII)で表される化合物から保護基を脱保護する工程とをさらに含む、式(IX)で表される化合物の製造方法。
(In formula (VIII), X1 is hydrogen or OR8 , R1 to R8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and m is an integer of 2 to 5.)
A method for producing a compound represented by formula (IX), further comprising a step of deprotecting the protecting group from the compound represented by general formula (VIII).
(式(IX)中、Y2は水素又はOHであり、mは2~5である)
項9.式(IX-2)で表される化合物。
(In formula (IX), Y2 is hydrogen or OH, and m is 2 to 5.)
Item 9. A compound represented by formula (IX-2).
(式(IX-2)中、mは2~5である) (In formula (IX-2), m is 2 to 5)
本発明の製造方法によれば、ガレート型エピカテキン重合体及びガレート型エピガロカテキン重合体をより効率的に製造される。 The manufacturing method of the present invention allows for more efficient production of gallate-type epicatechin polymers and gallate-type epigallocatechin polymers.
以下、本発明を実施するための好適な形態について説明する。以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであって、本発明はそれらに限定されるものではない。
本発明のいくつかの態様によれば、2分子の一般式(II)で表される化合物を自己縮合させる工程を含む、一般式(III)で表される化合物の製造方法が提供される。
Preferred embodiments for carrying out the present invention will be described below. The embodiments described below are representative examples of the present invention, and the present invention is not limited thereto.
According to some aspects of the present invention, there is provided a method for producing a compound represented by general formula (III), comprising a step of self-condensing two molecules of a compound represented by general formula (II).
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す) (wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group).
(式中、X1、R1~R8、及びAは式(II)で定義したのと同じである。具体的には、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す)
R1~R8 は、互いに同一であっても異なっていてもよい、フェノール性水酸基の保護基であり、好ましくは芳香族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基である。芳香族炭化水素基は、好ましくはアリールアルキル、置換アリールアルキルなどであり、より好ましくはベンジルである。脂肪族炭化水素基は、好ましくはアルキルである。置換アリールアルキルの置換基は、例えばアルキル基であり、このアルキル置換基の炭素数は1~20であること好ましく、1~10であることがより好ましい。
(wherein X 1 , R 1 to R 8 , and A are the same as defined in formula (II). Specifically, X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group.)
R 1 to R 8 may be the same or different and are protective groups for phenolic hydroxyl groups, preferably aromatic hydrocarbon groups or aliphatic hydrocarbon groups. The aromatic hydrocarbon group is preferably an aryl alkyl, a substituted aryl alkyl, or the like, more preferably benzyl. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an alkyl. The substituent of the substituted aryl alkyl is, for example, an alkyl group, and the number of carbon atoms in this alkyl substituent is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10.
Aは、アルコール性水酸基の保護基であり、好ましくは、アシル、置換アシル、アルキル、アリールアルキル、置換アリールアルキルである。 A is a protecting group for an alcoholic hydroxyl group, preferably acyl, substituted acyl, alkyl, arylalkyl, or substituted arylalkyl.
「アシル」としては、脂肪族カルボン酸又は芳香族カルボン酸のアシルが挙げられる。 "Acyl" includes acyl of an aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic acid.
「置換アシル」としては、芳香族カルボン酸のアシルのアリールが置換されたアシルが挙げられ、具体的には、フェニルがアルキルで置換されたアシルが挙げられる。 "Substituted acyls" include acyls in which the aryl of the acyl of an aromatic carboxylic acid is substituted, specifically acyls in which the phenyl is substituted with an alkyl.
「アルキル」は、好ましくは炭素数が1~20であり、より好ましくは炭素数が1~10である。アルキルとしては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル及びその異性体、n-ヘキシル及びその異性体、n-ペンチル及びその異性体、n-オクチル及びその異性体、n-ノニル及びその異性体、n-デシル及びその異性体が挙げられ、好ましくはメチルである。 "Alkyl" preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms. Examples of alkyl include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl and its isomers, n-hexyl and its isomers, n-pentyl and its isomers, n-octyl and its isomers, n-nonyl and its isomers, and n-decyl and its isomers, and is preferably methyl.
「アリールアルキル」は、好ましくは炭素数が7~20である。アリールアルキルとしては、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミルなどが挙げられ、好ましくはベンジルである。 "Arylalkyl" preferably has 7 to 20 carbon atoms. Examples of arylalkyl include benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, and cinnamyl, and benzyl is preferred.
「置換アリールアルキル」は、フェノール性水酸基の保護基と同様に、「置換アリールアルキル」としては、それぞれ、例えばアルキルで置換されたアリールアルキルが挙げられる。このアルキル置換基は、炭素数1~20であることが好ましく、炭素数1~10であることがより好ましい。 As with the protecting group for a phenolic hydroxyl group, the "substituted arylalkyl" includes, for example, an arylalkyl substituted with an alkyl. The alkyl substituent preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably has 1 to 10 carbon atoms.
縮合はルイス酸の存在下で行うことが好ましい。本発明の方法において反応触媒として用いるルイス酸は、好ましくは亜鉛トリフラート(Zn(OTf)2 )又はイッテリビウムトリフラート(Yb(OTf)3 ) である。一般式(II)において、X1が水素である場合、ルイス酸はイッテリビウムトリフラートであることが好ましい。一般式(II)において、X1がOR8である場合、ルイス酸は亜鉛トリフラートであることが好ましい。これらの反応触媒は、市販されている試薬として入手できる。使用される反応触媒の形態は、特に限定されず、粉末状態のものでも結晶化したものでもよいが、粉末状態のものが好ましい。 The condensation is preferably carried out in the presence of a Lewis acid. The Lewis acid used as a reaction catalyst in the method of the present invention is preferably zinc triflate (Zn(OTf) 2 ) or ytterbium triflate (Yb(OTf) 3 ). In the general formula (II), when X1 is hydrogen, the Lewis acid is preferably ytterbium triflate. In the general formula (II), when X1 is OR8 , the Lewis acid is preferably zinc triflate. These reaction catalysts are available as commercially available reagents. The form of the reaction catalyst used is not particularly limited, and may be in a powdered state or a crystallized state, but is preferably in a powdered state.
反応触媒として用いるルイス酸の添加量は、特に限定されないが、ガレート型エピカテキン2量体及びガレート型エピガロカテキン2量体の製造においては、一般式(II)で表される化合物1当量に対して、亜鉛トリフラートの添加量は、約0.7~1.0当量程度が好ましく、イッテリビウムトリフラートの添加量は、約0.7~3.0当量程度が好ましい。 The amount of Lewis acid used as a reaction catalyst is not particularly limited, but in the production of gallate-type epicatechin dimer and gallate-type epigallocatechin dimer, the amount of zinc triflate added is preferably about 0.7 to 1.0 equivalents, and the amount of ytterbium triflate added is preferably about 0.7 to 3.0 equivalents, relative to 1 equivalent of the compound represented by general formula (II).
一般式(II)で表されるエピカテキンガレートから調製した求電子剤は公知であり(例えばSuda, M. et al., Bioorg. Med. Chem. Lett. 2013, 23, 4935-4939参照)、当業者には通常の有機合成化学的方法により合成することができる。 The electrophiles prepared from epicatechin gallate represented by general formula (II) are known (see, for example, Suda, M. et al., Bioorg. Med. Chem. Lett. 2013, 23, 4935-4939) and can be synthesized by those skilled in the art using conventional organic synthetic chemistry methods.
代わりに、一般式(II)で表されるエピカテキンガレート又はエピガロカテキンガレートから調製される求電子剤は、エピカテキン又はエピガロカテキンに置換基を導入することによって製造することもできる。この方法については、例えばBioorganic & Medicinal Chemistry 13(8), 2005, 2759-2771を参照されたい。具体的には、手順(1)エピカテキン又はエピガロカテキンと没食子酸のエステル結合、手順(2)フェノール性水酸基への保護基の導入、及び手順(3)4位へのOA基 (OEE)の導入からなる。 Alternatively, electrophiles prepared from epicatechin gallate or epigallocatechin gallate represented by general formula (II) can also be produced by introducing a substituent into epicatechin or epigallocatechin. For this method, see, for example, Bioorganic & Medicinal Chemistry 13(8), 2005, 2759-2771. Specifically, the method comprises step (1) ester bonding of epicatechin or epigallocatechin with gallic acid, step (2) introduction of a protecting group to the phenolic hydroxyl group, and step (3) introduction of an OA group (OEE) to the 4-position.
発明者らは以前に、ガレート型ではないエピカテキンの求電子剤の2分子の自己縮合と、それに続く保護基の除去により、エピカテキン2量体を合成することに成功した(Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355)。この自己縮合の際に、ルイス酸としてイッテリビウムトリフラート(Yb(OTf)3)と亜鉛トリフラート(Zn(OTf)2)を用いたが、同じエピカテキンを同じルイス酸の当量で重合した場合にはイッテリビウムトリフラートよりも亜鉛トリフラートの方が2量体の収率が高く、最高で、亜鉛トリフラート0.8等量で2量体の収率が58%であった。 The inventors previously succeeded in synthesizing an epicatechin dimer by the self-condensation of two molecules of an electrophilic epicatechin that is not a gallate type, followed by the removal of the protecting group (Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355). In this self-condensation, ytterbium triflate (Yb(OTf) 3 ) and zinc triflate (Zn(OTf) 2 ) were used as Lewis acids, and when the same epicatechin was polymerized with the same Lewis acid equivalent, the yield of the dimer was higher with zinc triflate than with ytterbium triflate, with the highest dimer yield being 58% with 0.8 equivalents of zinc triflate.
エピカテキンガレートやエピガロカテキンガレートは、エピカテキンやエピガロカテキンと比較すると、エピカテキンやエピガロカテキンのフラバン-3-オールの3位に没食子酸が結合しているため、分子がかさ高く、自己縮合がより困難であると予想された。 Compared to epicatechin and epigallocatechin, epicatechin gallate and epigallocatechin gallate are bulkier molecules because gallic acid is bonded to the 3-position of the flavan-3-ol of epicatechin and epigallocatechin, and it was predicted that self-condensation would be more difficult.
しかしながら、驚くべきことに、一般式(II)で表されるガレート型エピカテキン保護体のモノマーから、イッテリビウムトリフラートの存在下、自己縮合により、一般式(III)で表される化合物を74%という高い収率で調製することができた。予想外なことに、ガレート型エピカテキン保護体のモノマーの自己縮合では、ルイス酸として亜鉛トリフラートよりもイッテリビウムトリフラートを用いた方が収率が高かった(亜鉛トリフラートでは収率約51%)。 However, surprisingly, the compound represented by general formula (III) could be prepared in a high yield of 74% from the monomer of the protected epicatechin gallate represented by general formula (II) by self-condensation in the presence of ytterbium triflate. Unexpectedly, in the self-condensation of the monomer of the protected epicatechin gallate, the yield was higher when ytterbium triflate was used as the Lewis acid than when zinc triflate was used (the yield was about 51% with zinc triflate).
以下、一般式(III)で表される化合物の収率とは、一般式(II)で表されるガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体のモノマー全量に対する、該モノマーの自己縮合により製造される一般式(III)で表される化合物の量の割合である。 Hereinafter, the yield of the compound represented by general formula (III) is the ratio of the amount of the compound represented by general formula (III) produced by self-condensation of the monomer to the total amount of the monomer of the gallate-type epicatechin protected product or gallate-type epigallocatechin protected product represented by general formula (II).
いくつかの好ましい実施形態では、上記の一般式(III)で表される化合物の製造方法において、一般式(III)で表される化合物の収率が70%以上である。 In some preferred embodiments, the yield of the compound represented by general formula (III) in the method for producing the compound represented by general formula (III) is 70% or more.
いくつかの好ましい実施形態では、上記自己縮合させる工程が、一般式(VI)で表される化合物の不在下で行われる。 In some preferred embodiments, the self-condensation step is carried out in the absence of a compound represented by general formula (VI).
(式中、X11は水素又はOR18であり、R11~R18は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す)
R11~R18は、互いに同一であっても異なっていてもよい、フェノール性水酸基の保護基であり、好ましくは芳香族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基である。芳香族炭化水素基は、好ましくはアリールアルキル、置換アリールアルキルなどであり、より好ましくはベンジルである。脂肪族炭化水素基は、好ましくはアルキルである。置換アリールアルキルの置換基は、例えばアルキル基であり、このアルキル置換基の炭素数は1~20であること好ましく、1~10であることがより好ましい。
(wherein X 11 is hydrogen or OR 18 , and R 11 to R 18 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group).
R 11 to R 18 may be the same or different and are protective groups for phenolic hydroxyl groups, preferably aromatic hydrocarbon groups or aliphatic hydrocarbon groups. The aromatic hydrocarbon group is preferably an aryl alkyl, a substituted aryl alkyl, or the like, more preferably benzyl. The aliphatic hydrocarbon group is preferably an alkyl. The substituent of the substituted aryl alkyl is, for example, an alkyl group, and the number of carbon atoms in this alkyl substituent is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10.
一般式(II)で表される化合物中のX1と一般式(VI)で表される化合物中のX11、一般式(II)で表される化合物中のR1~R8と一般式(VI)で表される化合物中のR11~R18はそれぞれ一致していることが好ましい。つまり、一般式(II)で表される化合物を自己縮合させるときに、一般式(II)で表される化合物においてフラバン-3-オールの4位にOA基を有しない一般式(VI)で表される化合物が存在しないことが、一般式(II)で表される化合物の自己縮合を促進する上で好ましい。 It is preferable that X 1 in the compound represented by general formula (II) and X 11 in the compound represented by general formula (VI), and R 1 to R 8 in the compound represented by general formula (II) and R 11 to R 18 in the compound represented by general formula (VI) are the same. In other words, when the compound represented by general formula (II) is self-condensed, it is preferable that there is no compound represented by general formula (VI) that does not have an OA group at the 4-position of flavan-3-ol in the compound represented by general formula (II) in order to promote the self-condensation of the compound represented by general formula (II).
本発明のいくつかの態様によれば、一般式(III)で表される化合物が提供される。 According to some aspects of the present invention, there is provided a compound represented by general formula (III).
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す)
X1、R1~R8、及びAの詳細については一般式(III)で表される化合物に関して上記に説明した通りである。
(wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group).
The details of X 1 , R 1 to R 8 and A are as explained above with respect to the compound represented by formula (III).
式(III) で表される化合物は、一般式(II)で表されるガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体のモノマーの自己縮合により製造されるガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体の2量体である。この化合物を用いてガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキン2量体又はそれより大きなガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキンの多量体を効率的に製造することができる点で有利である。 The compound represented by formula (III) is a dimer of a protected epicatechin or a protected epigallocatechin of a gallate type produced by self-condensation of a monomer of a protected epicatechin or a protected epigallocatechin of a gallate type represented by general formula (II). This compound is advantageous in that it can be used to efficiently produce a gallate epicatechin or a gallate epigallocatechin dimer or a larger multimer of gallate epicatechin or gallate epigallocatechin.
本発明のいくつかの態様によれば、一般式(III)で表される化合物を含む粗生成物であって、粗生成物中の一般式(III)で表される2量体化合物の量が70質量%以上である、粗生成物が提供される。 According to some embodiments of the present invention, there is provided a crude product comprising a compound represented by general formula (III), in which the amount of the dimeric compound represented by general formula (III) in the crude product is 70 mass% or more.
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、Aはアルコール性水酸基の保護基を表す)
X1、R1~R8、及びAの詳細については一般式(III)で表される化合物に関して上記に説明した通りである。
(wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and A represents a protecting group for an alcoholic hydroxyl group).
The details of X 1 , R 1 to R 8 and A are as explained above with respect to the compound represented by formula (III).
上記の式(III)で表される化合物を含む粗生成物は、式(III)で表される化合物を高含有量で含んでいるため、これを精製して用いてガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキン2量体又はそれより大きなガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキンの多量体を効率的に製造することができる点で有利である。 The crude product containing the compound represented by formula (III) above is advantageous in that it contains a high content of the compound represented by formula (III) and can be purified and used to efficiently produce gallated epicatechin or gallated epigallocatechin dimers or larger gallated epicatechin or gallated epigallocatechin multimers.
2分子の一般式(II)で表される化合物を自己縮合させる工程の後で生じた式(III)で表される化合物を含む粗生成物からの、式(III) で表される化合物の精製は、クロマトグラフィーなどの公知の方法により、適切な固定相又は充填材と適切な溶媒とを用いて行うことができる。 The purification of the compound represented by formula (III) from the crude product containing the compound represented by formula (III) produced after the step of self-condensing two molecules of the compound represented by general formula (II) can be carried out by a known method such as chromatography using a suitable stationary phase or packing material and a suitable solvent.
いくつかの実施形態では、式(III)で表される化合物の精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは分取用薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより行われる。展開溶媒及び溶出溶媒としてはそれぞれヘキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒、ヘキサンとジクロロメタンの混合溶媒、ヘキサンと酢酸エチルとジクロロメタンの混合溶媒、クロロホルムとメタノールの混合溶媒、酢酸とアセトニトリルの混合溶媒などが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい実施形態では、精製は分取用薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより行い、展開溶媒はヘキサンと酢酸エチルとジクロロメタンの混合溶媒である。 In some embodiments, the compound represented by formula (III) is purified by silica gel column chromatography or preparative thin-layer silica gel chromatography. Examples of the developing solvent and elution solvent include, but are not limited to, hexane, ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, methanol, a mixture of hexane and ethyl acetate, a mixture of hexane and dichloromethane, a mixture of hexane, ethyl acetate and dichloromethane, a mixture of chloroform and methanol, a mixture of acetic acid and acetonitrile, and the like. In a preferred embodiment, the purification is performed by preparative thin-layer silica gel chromatography, and the developing solvent is a mixture of hexane, ethyl acetate and dichloromethane.
本発明のいくつかの態様によれば、上記いずれかに記載の製造方法により、一般式(III)で表される化合物を製造する工程と、一般式(III)で表される化合物の4位のアルコール性水酸基の保護基を除去して、一般式(IV)で表される化合物を得る工程と、一般式(IV)で表される化合物のフェノール性水酸基の保護基を除去して、一般式(V)で表される化合物を得る工程とを含む、式(V)で表される化合物の製造方法が提供される。 According to some aspects of the present invention, there is provided a method for producing a compound represented by formula (V), comprising the steps of producing a compound represented by formula (III) by any of the production methods described above, removing the protecting group of the alcoholic hydroxyl group at the 4-position of the compound represented by formula (III) to obtain a compound represented by formula (IV), and removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group of the compound represented by formula (IV) to obtain a compound represented by formula (V).
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す) (wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , and R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group).
(式中、Y1は水素又はOHである)
式(III)中のX1、R1~R8、及びAの詳細については一般式(III)で表される化合物に関して上記に説明した通りである。また、式(III)のX1が水素の場合、式(V)のY1は水素であり、式(III)のX1がOR8の場合、式(V)のY1はOHである。
(Wherein, Y1 is hydrogen or OH)
The details of X 1 , R 1 to R 8 , and A in formula (III) are as explained above for the compound represented by formula (III). When X 1 in formula (III) is hydrogen, Y 1 in formula (V) is hydrogen, and when X 1 in formula (III) is OR 8 , Y 1 in formula (V) is OH.
上記製造方法によれば、自己縮合により製造されたガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体の2量体を用いて、ガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキンの2量体を効率よく製造することができる。 According to the above-mentioned production method, a dimer of gallate-type epicatechin or gallate-type epigallocatechin can be efficiently produced using a dimer of gallate-type protected epicatechin or gallate-type protected epigallocatechin produced by self-condensation.
一般式(III)で表される化合物の4位のアルコール性水酸基の保護基を除去する工程と、一般式(IV)で表される化合物のフェノール性水酸基の保護基を除去する工程は、いずれも脱保護工程と呼ばれる。 The process of removing the protecting group of the alcoholic hydroxyl group at the 4-position of the compound represented by general formula (III) and the process of removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group of the compound represented by general formula (IV) are both called deprotection processes.
一般式(III)で表される化合物の脱保護工程及び一般式(IV)で表される化合物の脱保護工程における、脱保護の方法としては、公知の方法を用いることが可能である。 In the deprotection step of the compound represented by general formula (III) and the deprotection step of the compound represented by general formula (IV), a known method can be used as the deprotection method.
具体的には、例えば、アルコール性水酸基の保護基Aとしてアセチル基が存在する場合には、ナトリウムメトキシドを添加する方法などにより、アセチル基を脱離させることができる。この際の溶媒としては、例えば、メタノールを使用することができる。エトキシエチル基の除去についてはSynthesis 2016, 48, 1525-1532を参照されたい。 For example, when an acetyl group is present as the protecting group A of the alcoholic hydroxyl group, the acetyl group can be removed by adding sodium methoxide or the like. As the solvent, for example, methanol can be used. For the removal of the ethoxyethyl group, see Synthesis 2016, 48, 1525-1532.
また、例えば、フェノール性水酸基の保護基R1~R8 としてベンジル基が存在する場合には、水素雰囲気下、水酸化パラジウム(Pd(OH)2 )を添加する方法などにより、ベンジル基を脱離させることができる。この際の溶媒としては、例えば、例えば、テトラヒドロフラン(THF 、メタノール、水の混合溶媒を使用することができる。 For example, when a benzyl group is present as one of the protecting groups R 1 to R 8 of the phenolic hydroxyl group, the benzyl group can be eliminated by adding palladium hydroxide (Pd(OH) 2 ) under a hydrogen atmosphere. As the solvent in this case, for example, a mixed solvent of tetrahydrofuran (THF), methanol, and water can be used.
いくつかの実施形態では、一般式(IV)で表される化合物及び一般式(V)で表される化合物の精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは分取用薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより行われる。展開溶媒及び溶出溶媒としてはそれぞれヘキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒、ヘキサンとジクロロメタンの混合溶媒、ヘキサンと酢酸エチルとジクロロメタンの混合溶媒、クロロホルムとメタノールの混合溶媒などが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい実施形態では、精製は分取用薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより行い、展開溶媒はヘキサンと酢酸エチルとジクロロメタンの混合溶媒である。 In some embodiments, the compounds represented by general formula (IV) and the compounds represented by general formula (V) are purified by silica gel column chromatography or preparative thin-layer silica gel chromatography. Examples of the developing solvent and the eluting solvent include, but are not limited to, hexane, ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, methanol, a mixed solvent of hexane and ethyl acetate, a mixed solvent of hexane and dichloromethane, a mixed solvent of hexane, ethyl acetate and dichloromethane, and a mixed solvent of chloroform and methanol. In a preferred embodiment, the purification is performed by preparative thin-layer silica gel chromatography, and the developing solvent is a mixed solvent of hexane, ethyl acetate and dichloromethane.
本発明のいくつかの態様によれば、式(V-2)で表される化合物が提供される。 According to some aspects of the present invention, there is provided a compound represented by formula (V-2).
本開示のガレート型エピガロカテキン保護体のモノマーの自己縮合を用いれば、式(V-2)で表される化合物であるガレート型エピカロガテキン2量体を、効率良く製造することができる。 By using the self-condensation of the gallate-type epigallocatechin protected monomer of the present disclosure, the gallate-type epigallocatechin dimer, which is a compound represented by formula (V-2), can be efficiently produced.
ガレート型エピガテキン2量体は過剰なサイトカイン産生抑制活性及び抗ウイルス活性を有することが知られている。 Gallate-type epigatechin dimers are known to have inhibitory activity against excessive cytokine production and antiviral activity.
このガレート型エピカロガテキン2量体は、非ガレート型エピカロガテキン2量体や、ガレート型エピガテキン2量体のような他のプロアントシアニジンと同様、抗酸化作用を初めとする種々の生理作用を示すことが期待され、食品、医薬、化粧品などの分野において有用である。 This gallated epigatechin dimer, like other proanthocyanidins such as non-gallated epigatechin dimer and gallated epigatechin dimer, is expected to exhibit various physiological effects, including antioxidant effects, and is useful in the fields of food, medicine, cosmetics, etc.
本発明のいくつかの態様によれば、上記製造方法により、一般式(III)で表される化合物を製造する工程と、一般式(III)で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とを反応させ、一般式(VIII)で表される化合物を得る工程と、 According to some aspects of the present invention, the process includes the steps of producing a compound represented by general formula (III) by the above-mentioned production method, reacting the compound represented by general formula (III) with a compound represented by general formula (VII) to obtain a compound represented by general formula (VIII), and
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表す) (wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , and R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group).
(式中、X1は水素又はOR8であり、R1~R8は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基の保護基を表し、mは2~5である)
一般式(VIII)で表される化合物からフェノール性水酸基の保護基を除去する工程とをさらに含む、式(IX)で表される化合物の製造方法が提供される。
(wherein X 1 is hydrogen or OR 8 , R 1 to R 8 each independently represent a protecting group for a phenolic hydroxyl group, and m is an integer of 2 to 5.)
and removing the protecting group for the phenolic hydroxyl group from the compound represented by general formula (VIII).
(式中、Y2は水素又はOHであり、mは2~5である)
式(VII)及び(VIII)中のX1及びR1~R8の詳細については一般式(III)で表される化合物のX1、及びR1~R8に関して上記に説明した通りである。また、式(III)のX1が水素の場合、式(VII)及び(VIII)のX1は水素であり、式(IX)のY1は水素であり、式(III)のX1がOR8の場合、式(VII)及び8(VIII)のX1はOR8であり、式(IX)のY1はOHである。
(Wherein, Y2 is hydrogen or OH, and m is 2 to 5.)
Details of X1 and R1 to R8 in formulae (VII) and (VIII) are as explained above for X1 and R1 to R8 of the compound represented by general formula (III). When X1 in formula (III) is hydrogen, X1 in formulae (VII) and (VIII) is hydrogen and Y1 in formula (IX) is hydrogen, and when X1 in formula (III) is OR8 , X1 in formulae (VII) and (VIII) is OR8 and Y1 in formula (IX) is OH.
一般式(VII)で表される化合物は、一般式(II)で表される化合物と比較して、ガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキンのフラバン-3-オールの4位に保護基が付いていない化合物であり、求核剤として作用する。一般式(II)で表される化合物中のX1及びR1~R8と、一般式(VII)で表される化合物中のX1及びR1~R8は一致している。 The compound represented by the general formula (VII) is a compound that does not have a protecting group at the 4-position of the flavan-3-ol of the gallate-type epicatechin or gallate-type epigallocatechin, as compared with the compound represented by the general formula (II), and acts as a nucleophile. X 1 and R 1 to R 8 in the compound represented by the general formula (II) are the same as X 1 and R 1 to R 8 in the compound represented by the general formula (VII).
一般式(III)で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とを反応させる工程は、ルイス酸の存在下で行うことが好ましい。反応触媒として用いるルイス酸は、好ましくは亜鉛トリフラート(Zn(OTf)2 )又はイッテリビウムトリフラート(Yb(OTf)3 ) である。これらの反応触媒は、市販されている試薬として入手できる。 The step of reacting the compound represented by formula (III) with the compound represented by formula (VII) is preferably carried out in the presence of a Lewis acid. The Lewis acid used as a reaction catalyst is preferably zinc triflate (Zn(OTf) 2 ) or ytterbium triflate (Yb(OTf) 3 ). These reaction catalysts are available as commercially available reagents.
一般式(III)で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とを反応させる工程に用いる溶媒は、反応に影響を及ぼさない溶媒であればいずれであっても良い。例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、酢酸エチル、ジメチルスルホキシドなどの溶媒を、単独もしくは混合して使用することができる。 The solvent used in the step of reacting the compound represented by general formula (III) with the compound represented by general formula (VII) may be any solvent that does not affect the reaction. For example, solvents such as hexane, benzene, toluene, xylene, carbon tetrachloride, methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, diisopropyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, and dimethyl sulfoxide can be used alone or in combination.
一般式(III)で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とを反応させる工程の反応時間は特に制限されず、製造原料の種類及び目的物の種類に応じて、適宜、調整することができる。例えば、5~24時間が挙げられるがこれに限定されない。 The reaction time for the step of reacting the compound represented by general formula (III) with the compound represented by general formula (VII) is not particularly limited, and can be adjusted appropriately depending on the type of manufacturing raw material and the type of target product. For example, the reaction time can be 5 to 24 hours, but is not limited to this.
一般式(III)で表される化合物と一般式(VII)で表される化合物とを反応させる工程の反応温度は特に制限されず、製造原料の種類及び目的物の種類に応じて、適宜、調整することができる。例えば、室温以下(0 ℃以上23℃ 以下)であることが好ましいがこれに限定されない。 The reaction temperature in the step of reacting the compound represented by general formula (III) with the compound represented by general formula (VII) is not particularly limited, and can be adjusted appropriately depending on the type of raw material and the type of the target product. For example, it is preferably room temperature or lower (0°C or higher and 23°C or lower), but is not limited thereto.
一般式(VIII)で表される化合物からのフェノール性水酸基の保護基を除去する工程は、一般式(III)で表される化合物のフェノール性水酸基の保護基を除去する工程と同様に行うことができる。 The process for removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group from the compound represented by general formula (VIII) can be carried out in the same manner as the process for removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group from the compound represented by general formula (III).
例えば、フェノール性水酸基の保護基R1~R8 としてベンジル基が存在する場合には、水素雰囲気下、水酸化パラジウム(Pd(OH)2 )を添加する方法などにより、ベンジル基を脱離させることができる。この際の溶媒としては、例えば、例えば、テトラヒドロフラン(THF 、メタノール、水の混合溶媒を使用することができる。 For example, when benzyl groups are present as the protecting groups R 1 to R 8 of the phenolic hydroxyl group, the benzyl groups can be eliminated by a method such as adding palladium hydroxide (Pd(OH) 2 ) under a hydrogen atmosphere. As the solvent in this case, for example, a mixed solvent of tetrahydrofuran (THF), methanol, and water can be used.
式(III) で表される化合物は、一般式(II)で表されるガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体のモノマーの自己縮合により製造されるガレート型エピカテキン保護体又はガレート型エピガロカテキン保護体の2量体である。この化合物を用いて3量体以上のガレート型エピカテキン又はガレート型エピガロカテキン多量体を効率的に製造することができる点で有利である。 The compound represented by formula (III) is a dimer of a protected epicatechin or a protected epigallocatechin of a gallate type produced by self-condensation of a monomer of a protected epicatechin or a protected epigallocatechin of a gallate type represented by general formula (II). This compound is advantageous in that it can be used to efficiently produce a trimer or more of a gallate type epicatechin or a gallate type epigallocatechin multimer.
上記の製造方法により得られた式(XI)で表される中分子ガレート型エピカテキンor エピガロカテキン重合体は、非ガレート型のエピガテキン多量体やエピカロガテキン多量体と同様、抗酸化作用を初めとする抗腫瘍,抗ウイルス,炎症抑制活性などを示すことが期待され、食品、医薬、化粧品などの分野において有用である。 The medium molecular weight gallate epicatechin or epigallocatechin polymer represented by formula (XI) obtained by the above manufacturing method is expected to exhibit antioxidant, antitumor, antiviral, and anti-inflammatory activities, as well as non-gallate epigatechin and epigallocatechin polymers, and is useful in the fields of food, medicine, cosmetics, etc.
本発明のいくつかの態様によれば、式(IX-2)で表される化合物が提供される。 According to some aspects of the present invention, a compound represented by formula (IX-2) is provided.
(式中、mは2~5である)
式(IX-2)で表される化合物は、式(IX)で表される化合物のうち、モノマー単位がガレート型エピガロカテキンであるがレート型エピガロカテキン多量体である。
(Wherein, m is 2 to 5.)
The compound represented by formula (IX-2) is a compound represented by formula (IX) in which the monomer unit is a gallate-type epigallocatechin, but is a late-type epigallocatechin polymer.
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。 The present invention will be explained in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these.
実施例1 ガレート型エピカテキン2量体の合成
エピカテキン(1)より3工程で調製したエピカテキンガレート誘導体(2)をイッテリビウムトリフラートで処理すると、(2)の自己縮合(Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355)により、生成した2量体である(3)を74%の収率で調製することができた。この化合物(3)の4位のエトキシエチル(OEE)基をルイス酸存在下でトリエチルシランを用いて還元的に除去すると、化合物(4)が70%の収率で得られた。この化合物(4)の全ての保護基を除去し(Ichikawa, M. et al., Synthesis 2016, 48, 1525-1532)、ガレート型エピカテキン2量体(5)を合成した。化合物(3), (4), (5)の精製は分取用薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより行い、展開溶媒はヘキサンと酢酸エチルとジクロロメタンの混合溶媒(質量比 ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン=10:1:5)で行った。化合物(2)からの総収率は52%であり、効率的な新規合成経路を開発した(スキーム1)。
Example 1 Synthesis of gallate-type epicatechin dimer When epicatechin gallate derivative (2) prepared from epicatechin (1) in three steps was treated with ytterbium triflate, the self-condensation of (2) (Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355) produced the dimer (3) in 74% yield. The ethoxyethyl (OEE) group at the 4-position of compound (3) was reductively removed using triethylsilane in the presence of Lewis acid to obtain compound (4) in 70% yield. All protecting groups of compound (4) were removed (Ichikawa, M. et al., Synthesis 2016, 48, 1525-1532) to synthesize gallate-type epicatechin dimer (5). Compounds (3), (4), and (5) were purified by preparative thin-layer silica gel chromatography using a mixture of hexane, ethyl acetate, and dichloromethane (mass ratio: hexane:ethyl acetate:dichloromethane = 10:1:5) as the developing solvent. The total yield from compound (2) was 52%, and an efficient new synthetic route was developed (Scheme 1).
実施例2 中分子ガレート型エピカテキン重合体の合成
自己縮合により得られた化合物(3)は、ガレート型エピカテキン保護体(7)とルイス酸である反応触媒 Zn(OTf)2を用いて反応させることにより、3~5量体縮合物(8)となり、これを化合物を脱保護することにより、ガレート型エピカテキンの3~5量体化合物(9)が生成する。
Example 2 Synthesis of medium molecular weight gallate epicatechin polymer Compound (3) obtained by self-condensation is reacted with a protected gallate epicatechin (7) using a Lewis acid reaction catalyst Zn(OTf) 2 to form a trimer- to pentamer condensation product (8). By deprotecting this compound, trimer- to pentamer compounds (9) of gallate epicatechin are produced.
実施例3 ガレート型エピカロガテキン2量体の合成
エピガロカテキンガレート(11)より3工程で調製したエピガロカテキンガレート誘導体(12)を亜鉛トリフラートで処理すると、エピガロカテキンガレート誘導体(12)の自己縮合(Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355)により、生成した2量体である(13)を48%の収率で調製することができた。この化合物(13)の4位のエチレングリコール基の水酸基をメチル化した後にルイス酸存在下でトリエチルシランを用いて還元的に除去すると、化合物(14)が50%の収率で得られた。この化合物(14)の全ての保護基を除去し(Ichikawa, M. et al., Synthesis 2016, 48, 1525-1532)、ガレート型エピガロカテキン2量体(15)を合成した (スキーム3)。
Example 3: Synthesis of gallate-type epigallocatechin dimer When epigallocatechin gallate derivative (12), prepared in three steps from epigallocatechin gallate (11), was treated with zinc triflate, the epigallocatechin gallate derivative (12) was self-condensed (Suda, M. et al., Synthesis 2014, 46, 3351-3355) to produce the resulting dimer (13) in 48% yield. The hydroxyl group of the ethylene glycol group at the 4-position of compound (13) was methylated and then reductively removed using triethylsilane in the presence of Lewis acid to give compound (14) in 50% yield. All protecting groups of this compound (14) were removed (Ichikawa, M. et al., Synthesis 2016, 48, 1525-1532), and the gallate-type epigallocatechin dimer (15) was synthesized (Scheme 3).
Claims (8)
一般式(III)で表される化合物のエトキシエチル基またはエチレングリコール基を、ルイス酸存在下でトリエチルシランを用いて還元的に脱保護して、一般式(IV)で表される化合物を得る工程と、
一般式(IV)で表される化合物のフェノール性水酸基の保護基を除去して、一般式(V)で表される化合物を得る工程とを含む、式(V)で表される化合物の製造方法。
a step of reductively deprotecting the ethoxyethyl group or the ethylene glycol group of the compound represented by general formula (III) using triethylsilane in the presence of a Lewis acid to obtain a compound represented by general formula (IV);
and removing the protecting group of the phenolic hydroxyl group of the compound represented by general formula (IV) to obtain a compound represented by general formula (V).
一般式(III)で表される化合物と、一般式(VII)で表される化合物とをルイス酸の存在下で反応させ、一般式(VIII)で表される化合物を得る工程と、
一般式(VIII)で表される化合物から保護基を脱保護する工程とをさらに含む、式(IX)で表される化合物の製造方法。
A step of reacting a compound represented by general formula (III) with a compound represented by general formula (VII) in the presence of a Lewis acid to obtain a compound represented by general formula (VIII);
A method for producing a compound represented by formula (IX), further comprising a step of deprotecting the protecting group from the compound represented by general formula (VIII).
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