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JP7679677B2 - Phenoxy resin, thermosetting resin composition, thermally conductive sheet, resin substrate, laminate, and electronic device - Google Patents
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JP7679677B2 - Phenoxy resin, thermosetting resin composition, thermally conductive sheet, resin substrate, laminate, and electronic device - Google Patents

Phenoxy resin, thermosetting resin composition, thermally conductive sheet, resin substrate, laminate, and electronic device Download PDF

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JP7679677B2 JP2021071013A JP2021071013A JP7679677B2 JP 7679677 B2 JP7679677 B2 JP 7679677B2 JP 2021071013 A JP2021071013 A JP 2021071013A JP 2021071013 A JP2021071013 A JP 2021071013A JP 7679677 B2 JP7679677 B2 JP 7679677B2
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Description

本発明は、フェノキシ樹脂、およびこれを含む熱硬化性樹脂組成物、ならびに当該熱硬化性樹脂組成物より製造される樹脂シート、樹脂基板および回路基板に関する。より詳細には、高熱伝導性材料として使用可能なフェノキシ樹脂およびその用途に関する。 The present invention relates to a phenoxy resin, a thermosetting resin composition containing the same, and a resin sheet, a resin substrate, and a circuit board produced from the thermosetting resin composition. More specifically, the present invention relates to a phenoxy resin that can be used as a highly thermally conductive material and its uses.

半導体の高集積化や電子機器の処理能力の急速な向上に伴い、処理能力の高い電子部品からは多くの熱が発生する。そのため電子部品から熱を効果的に外部へ放散させる熱対策が非常に重要な課題になっている。このような放熱対策として、プリント配線基板、半導体パッケージ、筐体、ヒートパイプ、放熱板、熱拡散板等の放熱部材には、金属、セラミックス、高分子組成物等の放熱材料からなる熱伝導性部材が適用されている。 As semiconductors become more highly integrated and the processing power of electronic devices rapidly improves, electronic components with high processing power generate a lot of heat. For this reason, heat countermeasures that effectively dissipate heat from electronic components to the outside have become a very important issue. As a countermeasure for such heat dissipation, thermally conductive members made of heat dissipating materials such as metals, ceramics, and polymer compositions are used for heat dissipation components such as printed wiring boards, semiconductor packages, housings, heat pipes, heat sinks, and heat diffusion plates.

これらの放熱部材の中でも、エポキシ樹脂組成物から成形される熱伝導性エポキシ樹脂成形体は、電気絶縁性、機械的性質、耐熱性、耐薬品性、接着性等に優れているため、注型品、積層板、封止材、熱伝導性シート、接着剤等として電気電子分野を中心に広く使用されている。 Among these heat dissipation components, thermally conductive epoxy resin molded products made from epoxy resin compositions have excellent electrical insulation, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, adhesive properties, etc., and are therefore widely used primarily in the electrical and electronics fields as castings, laminates, sealing materials, thermally conductive sheets, adhesives, etc.

熱伝導性エポキシ樹脂成形体を構成するエポキシ樹脂組成物は、樹脂、ゴム等の高分子マトリックス材料中に、熱伝導率の高い熱伝導性充填剤を配合したものが知られている。熱伝導性充填剤としては、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、石英等の金属酸化物、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物、炭化ケイ素等の金属炭化物、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、金、銀、銅等の金属、炭素繊維、黒鉛等が用いられている。 The epoxy resin composition that constitutes the thermally conductive epoxy resin molding is known to be a mixture of a polymer matrix material such as resin or rubber with a thermally conductive filler having high thermal conductivity. Thermally conductive fillers that can be used include metal oxides such as aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, and quartz, metal nitrides such as boron nitride and aluminum nitride, metal carbides such as silicon carbide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide, metals such as gold, silver, and copper, carbon fiber, and graphite.

さらに高い熱伝導性が要求される場合には、エポキシ樹脂に特殊な熱伝導性充填剤を配合した熱伝導性エポキシ樹脂組成物や熱伝導性エポキシ樹脂成形体が提案されている(たとえば、特許文献1)。また、エポキシ樹脂自体の熱伝導率や耐熱性を向上させることも提案されている(たとえば、特許文献2)。特許文献2では、メソゲン基を有する液晶性エポキシ樹脂等を重合することにより、熱伝導性を向上させた絶縁組成物を得ている。 When even higher thermal conductivity is required, thermally conductive epoxy resin compositions and thermally conductive epoxy resin molded bodies in which special thermally conductive fillers are blended with epoxy resin have been proposed (for example, Patent Document 1). It has also been proposed to improve the thermal conductivity and heat resistance of the epoxy resin itself (for example, Patent Document 2). In Patent Document 2, an insulating composition with improved thermal conductivity is obtained by polymerizing a liquid crystal epoxy resin having a mesogenic group.

特開2015-193504号公報JP 2015-193504 A 特願2004-331811号公報Patent Application No. 2004-331811

しかしながら、本発明者が検討した結果、特許文献2に記載の樹脂組成物は、熱伝導性の点においてさらなる改善の余地を有することが判明した。 However, as a result of the inventor's investigations, it was found that the resin composition described in Patent Document 2 has room for further improvement in terms of thermal conductivity.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、特定の構造を有する新規なフェノキシ樹脂が高熱伝導性を有することを見出し、本発明を完成させた。 The present invention was made in consideration of the above problems, and the inventors discovered that a new phenoxy resin with a specific structure has high thermal conductivity, leading to the completion of the present invention.

本発明によれば、
2つのエポキシ基を有する2官能エポキシ化合物(A)と、
少なくとも2つのフェノール性水酸基を有する多官能フェノール化合物(B)と、を反応させて得られるフェノキシ樹脂であって、
前記2官能エポキシ化合物(A)は、式(d-EP)で表される化合物を含み、
According to the present invention,
A bifunctional epoxy compound (A) having two epoxy groups;
A phenoxy resin obtained by reacting a polyfunctional phenol compound (B) having at least two phenolic hydroxyl groups with
The bifunctional epoxy compound (A) includes a compound represented by the formula (d-EP),

Figure 0007679677000001
Figure 0007679677000001

前記式(d-EP)中のXは、メソゲン骨格を有する2価の基であり、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つであり、
In the formula (d-EP), X represents a divalent group having a mesogenic skeleton,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8),

Figure 0007679677000002
Figure 0007679677000002

Figure 0007679677000003
Figure 0007679677000003

前記式(p1)~(p8)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す、フェノキシ樹脂が提供される。 In the formulas (p1) to (p8), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

また本発明によれば、上記フェノキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物が提供される。 The present invention also provides a thermosetting resin composition containing the above-mentioned phenoxy resin.

また本発明によれば、
式(d-EP)で表される、2つのエポキシ基を有する2官能エポキシ化合物(A)と、
少なくとも2つのフェノール性水酸基を有する多官能フェノール化合物(B)と、を含み、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つである、熱硬化性樹脂組成物が提供される:
Further, according to the present invention,
A bifunctional epoxy compound (A) having two epoxy groups, represented by the formula (d-EP),
and (B) a polyfunctional phenol compound having at least two phenolic hydroxyl groups,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8):

Figure 0007679677000004
Figure 0007679677000004

前記式(d-EP)中のXは、メソゲン骨格を有する2価の基であり、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つであり、
In the formula (d-EP), X represents a divalent group having a mesogenic skeleton,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8),

Figure 0007679677000005
Figure 0007679677000005

Figure 0007679677000006
Figure 0007679677000006

前記式(p1)~(p8)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。 In the formulas (p1) to (p8), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

また本発明によれば、
基板と、
前記基板上に設けられた電子部品と、
前記電子部品を封止する封止材と、を備え、
前記封止材が、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物よりなる、電子装置が提供される。
Further, according to the present invention,
A substrate;
An electronic component provided on the substrate;
and a sealant for sealing the electronic component.
The electronic device is provided, wherein the sealing material is made of a cured product of the above thermosetting resin composition.

また本発明によれば、上記熱硬化性樹脂組成物より形成される、熱伝導性シートが提供される。 The present invention also provides a thermally conductive sheet formed from the above-mentioned thermosetting resin composition.

また本発明によれば、上記熱伝導性シートの硬化物からなる樹脂基板が提供される。 The present invention also provides a resin substrate made of the cured product of the above-mentioned thermally conductive sheet.

また本発明によれば、上記樹脂基板を備える電子装置が提供される。 The present invention also provides an electronic device that includes the above-mentioned resin substrate.

さらにまた本発明によれば、
金属層と、
前記金属層の少なくとも一方の面に積層された樹脂層と、を備え、
前記樹脂層が、上記熱伝導性シートの硬化物からなる、積層板が提供される。
Furthermore, according to the present invention,
A metal layer;
A resin layer laminated on at least one surface of the metal layer,
There is provided a laminate, wherein the resin layer is made of a cured product of the thermally conductive sheet.

本発明によれば、高い熱伝導性を有するフェノキシ樹脂、およびこれを用いた樹脂組成物が提供される。 The present invention provides a phenoxy resin with high thermal conductivity and a resin composition using the same.

本実施形態に係る金属ベース基板の構造を示す断面模式図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a structure of a metal base substrate according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。なお、本明細書中、「~」との記載は、特に断りがなければ「以上から以下」を表す。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. In all drawings, similar components are given similar reference numerals and descriptions are omitted where appropriate. In this specification, the notation "~" means "above and below" unless otherwise specified.

[フェノキシ樹脂]
本実施形態のフェノキシ樹脂は、
2つのエポキシ基を有する式(d-EP)(A)と、
少なくとも2つのフェノール性水酸基を有する多官能フェノール化合物(B)と、を反応させて得られる樹脂である。
より詳細には、本実施形態のフェノキシ樹脂は、2官能エポキシ化合物(A)が有するエポキシ基および多官能フェノール化合物(B)が有するフェノール性水酸基とが反応して架橋構造が生成することにより得られる重合体である。すなわち、本実施形態のフェノキシ樹脂は、2官能エポキシ化合物(A)由来の構造単位と、多官能フェノール化合物(B)由来の構造単位とを含む、フェノキシ樹脂である。
[Phenoxy resin]
The phenoxy resin of this embodiment is
Formula (d-EP)(A) having two epoxy groups;
and a polyfunctional phenol compound (B) having at least two phenolic hydroxyl groups.
More specifically, the phenoxy resin of the present embodiment is a polymer obtained by reacting an epoxy group of a bifunctional epoxy compound (A) with a phenolic hydroxyl group of a polyfunctional phenol compound (B) to generate a crosslinked structure. That is, the phenoxy resin of the present embodiment is a phenoxy resin containing a structural unit derived from the bifunctional epoxy compound (A) and a structural unit derived from the polyfunctional phenol compound (B).

本実施形態のフェノキシ樹脂の架橋構造を構成する2官能エポキシ化合物(A)は、式(d-EP)で表される化合物を含み、 The bifunctional epoxy compound (A) that constitutes the crosslinked structure of the phenoxy resin of this embodiment contains a compound represented by the formula (d-EP),

Figure 0007679677000007
Figure 0007679677000007

前記式(d-EP)中のXは、メソゲン骨格を有する2価の基である。
本実施形態のフェノキシ樹脂は、メソゲン骨格を有するエポキシ化合物(A)由来の構造単位を含むことにより、その硬化物が高い熱伝導性および高い耐熱性を有する。
In the formula (d-EP), X is a divalent group having a mesogenic skeleton.
The phenoxy resin of the present embodiment contains a structural unit derived from the epoxy compound (A) having a mesogenic skeleton, and thus the cured product thereof has high thermal conductivity and high heat resistance.

式(d-EP)中のX基が有するメソゲン骨格としては、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、フェニルベンゾエート骨格、アゾベンゼン骨格、スチルベン骨格、シクロヘキシルベンゼン骨格、およびそれらの誘導体が挙げられる。X基が上記のメソゲン骨格を有することにより、本実施形態のフェノキシ樹脂は、高い熱伝導性を有し得る。 The mesogenic skeleton of the X group in formula (d-EP) includes a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, a phenylbenzoate skeleton, an azobenzene skeleton, a stilbene skeleton, a cyclohexylbenzene skeleton, and derivatives thereof. Since the X group has the above-mentioned mesogenic skeleton, the phenoxy resin of this embodiment can have high thermal conductivity.

一実施形態において、式(d-EP)のX基の少なくとも1つは、式(2)で表される基である。式(2)で表されるメソゲン骨格を有する構造を含むことにより、本実施形態のフェノキシ樹脂は高い熱伝導性を有するとともに、優れた耐熱性を有する。 In one embodiment, at least one of the X groups in formula (d-EP) is a group represented by formula (2). By including a structure having a mesogenic skeleton represented by formula (2), the phenoxy resin of this embodiment has high thermal conductivity and excellent heat resistance.

Figure 0007679677000008
Figure 0007679677000008

一実施形態において、式(2)で表される基は、好ましくは、R、R、R、およびRが炭素数1~4のアルキル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である基である。中でも、式(2)においてR、R、R、およびRが炭素数1のアルキル基であり、かつR、R、R、およびRが水素原子である基(「テトラメチルビフェニル基」と称する)が、得られるフェノキシ樹脂の熱伝導性と耐熱性とを優れたバランスで両立できる点で好ましい。 In one embodiment, the group represented by formula (2) is preferably a group in which R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms. Among these, a group in which R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are alkyl groups having 1 carbon atom, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms in formula (2) (referred to as a "tetramethylbiphenyl group") is preferred in that the thermal conductivity and heat resistance of the resulting phenoxy resin can be well balanced.

一実施形態において、式(2)で表される基は、R、R、R、およびRが炭素数1のアルキル基であり、かつR、R、R、およびRが水素原子である基(「ビフェニル基」と称する)であってもよい。このような基を有することにより、フェノキシ樹脂は優れた熱伝導性と耐熱性とを有する。 In one embodiment, the group represented by formula (2) may be a group in which R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are alkyl groups having one carbon atom, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms (referred to as a "biphenyl group"). By having such a group, the phenoxy resin has excellent thermal conductivity and heat resistance.

一実施形態において、式(d-EP)は、X基として、テトラメチルビフェニル基とビフェニル基とを含むことが好ましい。これらの基を組み合わせて含むフェノキシ樹脂は、熱伝導性と耐熱性とを優れたバランスで有し得る。 In one embodiment, the formula (d-EP) preferably contains a tetramethylbiphenyl group and a biphenyl group as the X group. A phenoxy resin containing a combination of these groups can have an excellent balance of thermal conductivity and heat resistance.

本実施形態のフェノキシ樹脂の架橋構造を構成する多官能フェノール化合物(B)は、少なくとも2つのフェノール性水酸基を有するフェノール化合物であり、好ましくは、2つのフェノール性水酸基を有する2官能のフェノール化合物、または3つのフェノール性水酸基を有する3官能のフェノール性化合物であり、具体的には、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つである。 The polyfunctional phenol compound (B) constituting the crosslinked structure of the phenoxy resin of this embodiment is a phenol compound having at least two phenolic hydroxyl groups, preferably a bifunctional phenol compound having two phenolic hydroxyl groups, or a trifunctional phenol compound having three phenolic hydroxyl groups, and specifically, at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8).

Figure 0007679677000009
Figure 0007679677000009

Figure 0007679677000010
Figure 0007679677000010

前記式(p1)~(p8)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。
本実施形態のフェノキシ樹脂は、式(p1)~(p8)で表される化合物由来の構造単位を含むことにより、その硬化物が高い熱伝導性を有する。
なお、本実施形態において、式(P3)、(p4)、(p7)および(p8)で表されるフラバノン骨格を有する多官能フェノール化合物は、立体異性体を含む。具体的には、式(p3)および式(p7)のイソフラバノン化合物は、そのC2炭素が不斉炭素原子である立体異性体を含み、式(p4)および式(p8)のイソフラバノン化合物は、そのC3原子が不斉炭素原子である立体異性体を含む。
In the formulas (p1) to (p8), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
The phenoxy resin of the present embodiment contains structural units derived from the compounds represented by formulas (p1) to (p8), and thus the cured product thereof has high thermal conductivity.
In this embodiment, the polyfunctional phenol compounds having a flavanone skeleton represented by formulae (P3), (p4), (p7) and (p8) include stereoisomers. Specifically, the isoflavanone compounds of formulae (p3) and (p7) include stereoisomers in which the C2 carbon is an asymmetric carbon atom, and the isoflavanone compounds of formulae (p4) and (p8) include stereoisomers in which the C3 atom is an asymmetric carbon atom.

一実施形態において、式(p1)~(p8)で表される化合物中のR11およびR12のすべてが水素原子である。このような構造を有する多官能フェノール化合物由来の構造単位を有するフェノキシ樹脂は、高い熱伝導性と耐熱性とを有し得る。 In one embodiment, all of R 11 and R 12 in the compounds represented by formulae (p1) to (p8) are hydrogen atoms. A phenoxy resin having a structural unit derived from a polyfunctional phenol compound having such a structure can have high thermal conductivity and heat resistance.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、当該フェノキシ樹脂の有する特性に影響を与えない範囲で、上記2官能エポキシ化合物(A)および多官能フェノール化合物(B)に加え、他の成分(C)由来の構造単位を含んでもよい。成分(C)としては、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、Bis-A型エポキシ化合物、Bis-E型エポキシ化合物、Bis-F型エポキシ化合物、Bis-S型エポキシ化合物、およびこれらの前駆体であるビスフェノール化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。本実施形態のフェノキシ樹脂が、成分(C)由来の構造単位を含む場合、その含有量は、フェノキシ樹脂を構成する全構造単位に対して、例えば、10モル%以下であり、好ましくは、5モル%以下である。 The phenoxy resin of this embodiment may contain structural units derived from other component (C) in addition to the bifunctional epoxy compound (A) and polyfunctional phenol compound (B) as long as the properties of the phenoxy resin are not affected. Examples of component (C) include, but are not limited to, glycidyl ester type epoxy compounds, glycidyl amine type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, Bis-A type epoxy compounds, Bis-E type epoxy compounds, Bis-F type epoxy compounds, Bis-S type epoxy compounds, and bisphenol compounds that are precursors of these. When the phenoxy resin of this embodiment contains structural units derived from component (C), the content of the structural units is, for example, 10 mol% or less, and preferably 5 mol% or less, based on the total structural units constituting the phenoxy resin.

一実施形態において、本発明のフェノキシ樹脂は、上記式(d-EP)で表される2官能エポキシ化合物と、上記式(p1)~(p4)で表される2官能フェノール化合物から選択される少なくとも1つとを反応させて得られる、以下の(1)で表される構造を有する樹脂である。

Figure 0007679677000011
In one embodiment, the phenoxy resin of the present invention is a resin having a structure represented by the following (1), which is obtained by reacting a bifunctional epoxy compound represented by the above formula (d-EP) with at least one selected from the bifunctional phenol compounds represented by the above formulas (p1) to (p4).
Figure 0007679677000011

式(1)中、
nは繰り返し単位を表す数であり、2~50の整数を表し、好ましくは、5~40の整数であり、より好ましくは、6~30の整数であり、さらにより好ましくは、8~20の整数であり、
Xは、前記式(d-EP)中のXと同義であり、
Yは、独立して、以下式(y1)~(y4)から選択される少なくとも1つの2価の基であり、
In formula (1),
n is a number representing a repeating unit, and represents an integer of 2 to 50, preferably an integer of 5 to 40, more preferably an integer of 6 to 30, and even more preferably an integer of 8 to 20;
X has the same meaning as X in formula (d-EP).
Y is independently at least one divalent group selected from the following formulas (y1) to (y4):

Figure 0007679677000012
Figure 0007679677000012

Figure 0007679677000013
Figure 0007679677000013

式(y1)~式(y4)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表し、*は連結位置を表す。なお、式(y1)~式(y4)の基は、それぞれ、式(p1)~式(p4)の多官能フェノール化合物からから誘導される基である。 In formulae (y1) to (y4), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and * represents a linking position. The groups of formulae (y1) to (y4) are groups derived from polyfunctional phenol compounds of formulae (p1) to (p4), respectively.

本実施形態の式(1)で表される構造を有するフェノキシ樹脂は、その構造中に、式(1)中「X」として表されるメソゲン骨格を有する2価の有機基と、式(1)中「Y」として表される、イソフラボノイド骨格を有する式(y1)、フラボノイド骨格を有する式(y2)、フラバノン骨格を有する式(y3)、および式(y4)から選択される少なくとも1つの2価の基とを有する。このような構造を有することにより、フェノキシ樹脂の硬化物は高い熱伝導性を有する。 The phenoxy resin having a structure represented by formula (1) of this embodiment has in its structure a divalent organic group having a mesogen skeleton represented by "X" in formula (1) and at least one divalent group selected from formula (y1) having an isoflavonoid skeleton, formula (y2) having a flavonoid skeleton, formula (y3) having a flavanone skeleton, and formula (y4) represented by "Y" in formula (1). By having such a structure, the cured product of the phenoxy resin has high thermal conductivity.

式(1)で表されるフェノキシ樹脂は、上述のX基およびY基に加えて、当該フェノキシ樹脂の有する特性に影響を与えない範囲で、他の基を含んでもよい。 The phenoxy resin represented by formula (1) may contain, in addition to the above-mentioned X and Y groups, other groups as long as they do not affect the properties of the phenoxy resin.

本実施形態のフェノキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、たとえば、1,000~10,000であり、好ましくは、2,000~8,000であり、より好ましくは、3,000~7,000であり、さらにより好ましくは、3,500~6,500である。Mwはゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値を示す。Mwを上記範囲とすることで、フェノキシ樹脂の熱伝導性をより向上することができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the phenoxy resin of this embodiment is, for example, 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 8,000, more preferably 3,000 to 7,000, and even more preferably 3,500 to 6,500. Mw is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve. By setting Mw in the above range, the thermal conductivity of the phenoxy resin can be further improved.

本実施形態において、フェノキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、GPC(Gel Permeation Chromatography)を用いて分子量分布曲線を得ることにより測定できる。フェノキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、および分散度(PDI:Mw/Mn)は、GPC測定により得られる標準ポリスチレン(PS)の検量線から求めたポリスチレン換算値を用いて、算出する。 In this embodiment, the weight average molecular weight (Mw) of the phenoxy resin can be measured by obtaining a molecular weight distribution curve using GPC (Gel Permeation Chromatography). The weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and polydispersity (PDI: Mw/Mn) of the phenoxy resin are calculated using polystyrene equivalent values obtained from the calibration curve of standard polystyrene (PS) obtained by GPC measurement.

GPCの測定条件は、たとえば以下の通りである。
東ソー(株)社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置HLC-8320GPC
カラム:東ソー(株)社製TSK-GEL GMH、G2000H、SuperHM-M
検出器:液体クロマトグラム用RI検出器
測定温度:40℃
溶媒:THF
試料濃度:2.0mg/ミリリットル
The measurement conditions for GPC are, for example, as follows.
Gel permeation chromatography device HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSK-GEL GMH, G2000H, Super HM-M manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI detector for liquid chromatography Measurement temperature: 40°C
Solvent: THF
Sample concentration: 2.0 mg/ml

フェノキシ樹脂の分散度(Mw/Mn)は、例えば、1.00~5.00であり、好ましくは1.20~4.00であり、より好ましくは1.30~3.50である。分散度を上記範囲とすることで、フェノキシ樹脂の熱伝導性および流動性をより向上させることができる。 The dispersity (Mw/Mn) of the phenoxy resin is, for example, 1.00 to 5.00, preferably 1.20 to 4.00, and more preferably 1.30 to 3.50. By setting the dispersity within the above range, the thermal conductivity and fluidity of the phenoxy resin can be further improved.

フェノキシ樹脂は、重量平均分子量(Mw)が1000以下の低分子量フェノキシ樹脂を含んでもよい。フェノキシ樹脂が低分子量フェノキシ樹脂を含む場合、低分子量フェノキシ樹脂は、GPC測定により得られた分子量分布全体の全面積100%に占める、重量平均分子量Mwが1,000以下に該当する成分の面積総和の割合として、例えば、5%以上60%以下、好ましくは、5%以上50%以下の量である。上記範囲の量で、低分子量フェノキシ樹脂を含むフェノキシ樹脂は、流動性が改善され、取り扱い性に優れる。よって、たとえば、フェノキシ樹脂をシートまたはフィルムの形態に加工する場合の加工安定性が改善される。 The phenoxy resin may contain a low molecular weight phenoxy resin having a weight average molecular weight (Mw) of 1000 or less. When the phenoxy resin contains a low molecular weight phenoxy resin, the low molecular weight phenoxy resin is, for example, 5% to 60% and preferably 5% to 50% in terms of the total area of components corresponding to a weight average molecular weight Mw of 1,000 or less, relative to the total area of 100% of the entire molecular weight distribution obtained by GPC measurement. Phenoxy resins containing low molecular weight phenoxy resins in the above range have improved fluidity and excellent handleability. Therefore, for example, the processing stability is improved when the phenoxy resin is processed into the form of a sheet or film.

フェノキシ樹脂のエポキシ当量は、本発明の効果の観点から、例えば、300~6,000g/eqであり、好ましくは、350~5,000g/eqであり、より好ましくは、400~4,500g/eqである。 From the viewpoint of the effects of the present invention, the epoxy equivalent of the phenoxy resin is, for example, 300 to 6,000 g/eq, preferably 350 to 5,000 g/eq, and more preferably 400 to 4,500 g/eq.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、上述の特定の構成を備えることにより、その硬化物の熱伝導性を向上することができる。本実施形態のフェノキシ樹脂の硬化物の熱伝導率は、例えば、0.3W/(m・K)以上であり、好ましくは、0.35W/(m・K)以上であり、より好ましくは、0.4W/(m・K)以上である。 The phenoxy resin of this embodiment has the specific configuration described above, which allows the thermal conductivity of the cured product to be improved. The thermal conductivity of the cured product of the phenoxy resin of this embodiment is, for example, 0.3 W/(m·K) or more, preferably 0.35 W/(m·K) or more, and more preferably 0.4 W/(m·K) or more.

本実施形態のフェノキシ樹脂は、上述の特定の構造を有することにより、その硬化物が高い1%重量減少温度を有する。本実施形態のフェノキシ樹脂の硬化物の1%重量減少温度は、300℃以上であり、好ましくは、310℃以上であり、より好ましくは、320℃以上であり、さらにより好ましくは、330℃以上である。本実施形態のフェノキシ樹脂の硬化物の1%重量減少温度の上限値は、例えば、400℃以下である。 The phenoxy resin of this embodiment has the specific structure described above, and thus the cured product has a high 1% weight loss temperature. The 1% weight loss temperature of the cured product of the phenoxy resin of this embodiment is 300°C or higher, preferably 310°C or higher, more preferably 320°C or higher, and even more preferably 330°C or higher. The upper limit of the 1% weight loss temperature of the cured product of the phenoxy resin of this embodiment is, for example, 400°C or lower.

[フェノキシ樹脂の製造]
本実施形態のフェノキシ樹脂は、上記式(d-EP)で表される2官能エポキシ化合物(A)と、上記式(p1)~(p8)で表される多官能フェノール化(B)の少なくとも1つとを反応させることで合成することができる。本実施形態のフェノキシ樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、これらの2官能エポキシ化合物(A)および多官能フェノール化合物(B)に加え、上述の成分(C)を用いて合成してもよい。
[Production of phenoxy resin]
The phenoxy resin of this embodiment can be synthesized by reacting the bifunctional epoxy compound (A) represented by the above formula (d-EP) with at least one of the polyfunctional phenol compounds (B) represented by the above formulas (p1) to (p8). The phenoxy resin of this embodiment may be synthesized using the above-mentioned component (C) in addition to the bifunctional epoxy compound (A) and the polyfunctional phenol compound (B) within a range that does not impair the effects of the present invention.

上記の反応は、無溶媒下または反応溶媒の存在下で、反応触媒を用いて行うことができる。 The above reaction can be carried out without a solvent or in the presence of a reaction solvent using a reaction catalyst.

使用できる反応溶媒としては、非プロトン性有機溶媒、例えば、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトフェノン、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルアセトアミド、スルホラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノンなどを好適に用いることができる。反応溶媒を用いることで初期の粘度を低減させることができ、モノマーの反応性が向上する。 Suitable reaction solvents include aprotic organic solvents such as methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, acetophenone, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylacetamide, sulfolane, propylene glycol monomethyl ether, and cyclohexanone. The use of a reaction solvent can reduce the initial viscosity and improve the reactivity of the monomer.

上記反応触媒としては、従来公知の重合触媒を用いることができ、アルカリ金属水酸化物、第三アミン化合物、第四アンモニウム化合物、第三ホスフィン化合物、および第四ホスホニウム化合物、イミダゾール化合物が好適に使用される。 As the reaction catalyst, a conventionally known polymerization catalyst can be used, and alkali metal hydroxides, tertiary amine compounds, quaternary ammonium compounds, tertiary phosphine compounds, quaternary phosphonium compounds, and imidazole compounds are preferably used.

具体的には、2官能エポキシ化合物(A)と、多官能フェノール化合物(B)と、反応触媒と、必要に応じて反応溶媒とを添加し、攪拌下に溶融混合する。溶融混合する際の加熱温度は90~120℃程度、混合時間は30分間~2時間程度、反応圧力は常圧で行われる。溶融混合後、混合溶液を昇温し、所定の反応温度において減圧または常圧下で重合反応を行う。反応温度は140~180℃程度、反応時間は2時間~10時間程度、反応圧力は1~760Torr程度で行われる。 Specifically, a bifunctional epoxy compound (A), a polyfunctional phenol compound (B), a reaction catalyst, and, if necessary, a reaction solvent are added and melt-mixed under stirring. The heating temperature during melt-mixing is about 90-120°C, the mixing time is about 30 minutes to 2 hours, and the reaction pressure is normal pressure. After melt-mixing, the mixed solution is heated and a polymerization reaction is carried out at a predetermined reaction temperature under reduced pressure or normal pressure. The reaction temperature is about 140-180°C, the reaction time is about 2 hours to 10 hours, and the reaction pressure is about 1-760 Torr.

反応終了後に溶媒置換などを行なうことで好適な溶媒に溶解した樹脂として得ることが可能である。また、溶媒反応で得られたフェノキシ樹脂は、蒸発器等を用いた脱溶媒処理をすることにより、溶媒を含まない固形状の樹脂として得ることもできる。 After the reaction is complete, it is possible to obtain the resin dissolved in a suitable solvent by performing solvent replacement or the like. In addition, the phenoxy resin obtained in the solvent reaction can be obtained as a solid resin that does not contain the solvent by performing a solvent removal process using an evaporator or the like.

上記の合成方法における、出発物質の使用量、反応温度、反応時間等の反応条件を適宜選択して重合度を調整することにより、所望の重量平均分子量を有するフェノキシ樹脂を得ることができる。 In the above synthesis method, a phenoxy resin having the desired weight average molecular weight can be obtained by appropriately selecting reaction conditions such as the amount of starting material used, reaction temperature, and reaction time to adjust the degree of polymerization.

本実施形態のフェノキシ樹脂の合成に用いられる2官能エポキシ化合物(A)としては、4,4'-ジグリシジルビフェニル、又は4,4'-ジグリシジル-3,3',5,5'-テトラメチルビフェニル等が挙げられる。 The bifunctional epoxy compound (A) used in the synthesis of the phenoxy resin of this embodiment includes 4,4'-diglycidylbiphenyl, 4,4'-diglycidyl-3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl, and the like.

本実施形態のフェノキシ樹脂の合成に用いられる多官能フェノール化合物(B)としては、ルテオリン、アピゲニン、バイカレイン、スクテラレイン、トリセチン、ジオスメチン、ノビレチン等のフラボン;ダイゼイン、ゲニステイン等のイソフラボノイド;ナリンゲニン、ブチン、エリオジクチオール、ヘスペレチン、ホモエリオジクチオール、イソサクラネチン、ピノセムブリン、サクラネチン、ステルビン等のフラバノンが挙げられる。中でも、取扱い性が良好であり、また得られるフェノキシ樹脂が高い熱伝導性を有することから、ダイゼイン、ゲニステイン、ナリンゲニンを用いることが好ましい。 The polyfunctional phenol compound (B) used in the synthesis of the phenoxy resin of this embodiment includes flavones such as luteolin, apigenin, baicalein, scutellarein, tricetin, diosmetin, and nobiletin; isoflavonoids such as daidzein and genistein; and flavanones such as naringenin, butin, eriodictyol, hesperetin, homoeriodictyol, isosakuranetin, pinocembrin, sakuranetin, and sterubin. Among these, it is preferable to use daidzein, genistein, and naringenin because they are easy to handle and the resulting phenoxy resin has high thermal conductivity.

[熱硬化性樹脂組成物]
(第一の実施形態)
第一の実施形態において、熱硬化性樹脂組成物は、上述のフェノキシ樹脂を含み、その用途に応じて、その他の成分を含む。以下、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を構成し得る成分について説明する。
[Thermosetting resin composition]
First Embodiment
In the first embodiment, the thermosetting resin composition contains the above-mentioned phenoxy resin and other components depending on the application. Hereinafter, components that can constitute the thermosetting resin composition of this embodiment will be described.

(フェノキシ樹脂)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上述のフェノキシ樹脂を含む。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を、例えば、放熱絶縁材料に用いる場合、フェノキシ樹脂の含有量は、以下で説明する無機充填材を含まない熱硬化性樹脂組成物の固形分(不揮発分)全体に対して、例えば、1質量%~70質量%、好ましくは2質量%~50質量%、より好ましくは3質量%~45質量%である。
(Phenoxy resin)
The thermosetting resin composition of the present embodiment contains the above-mentioned phenoxy resin. When the thermosetting resin composition of the present embodiment is used, for example, in a heat dissipation insulating material, the content of the phenoxy resin is, for example, 1 mass % to 70 mass %, preferably 2 mass % to 50 mass %, and more preferably 3 mass % to 45 mass %, based on the total solid content (non-volatile content) of the thermosetting resin composition not including the inorganic filler described below.

(熱伝導性フィラー)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、熱伝導性フィラーを含んでもよい。熱伝導性フィラーを配合することにより、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を、放熱部材を作製するための材料として使用することができる。熱伝導性フィラーは、たとえば、20W/m・K以上の熱伝導率を有する高熱伝導性無機粒子を含むことができる。高熱伝導性無機粒子としては、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、および酸化マグネシウムが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Thermal conductive filler)
The thermosetting resin composition of the present embodiment may contain a thermally conductive filler. By blending the thermally conductive filler, the thermosetting resin composition of the present embodiment can be used as a material for producing a heat dissipation member. The thermally conductive filler may contain, for example, highly thermally conductive inorganic particles having a thermal conductivity of 20 W/m·K or more. Examples of highly thermally conductive inorganic particles include alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, silicon carbide, and magnesium oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

上記熱伝導性フィラーとして、窒化ホウ素を用いる場合、窒化ホウ素は、鱗片状窒化ホウ素の、単分散粒子、凝集粒子またはこれらの混合物を含むことができる。鱗片状窒化ホウ素は顆粒状に造粒されていてもよい。鱗片状窒化ホウ素の凝集粒子を用いることによって、得られる熱硬化性樹脂組成物の熱伝導性をより一層高めることができる。凝集粒子は、焼結粒子であっても、非焼結粒子であってもよい。 When boron nitride is used as the thermally conductive filler, the boron nitride may contain monodisperse particles, agglomerated particles, or a mixture thereof, of scaly boron nitride. The scaly boron nitride may be granulated. By using agglomerated particles of scaly boron nitride, the thermal conductivity of the resulting thermosetting resin composition can be further increased. The agglomerated particles may be sintered or non-sintered particles.

(熱硬化性樹脂)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、上述のフェノキシ樹脂以外の他の熱硬化性樹脂を含んでもよい。上記の他の熱硬化性樹脂としては、例えば、本実施形態の式(1)の構造を有するフェノキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、アクリル樹脂、フェノール誘導体またはこれらの誘導体等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、1分子内に反応性官能基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を用いることができ、その分子量や分子構造は特に限定されない。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(thermosetting resin)
The thermosetting resin composition of the present embodiment may contain other thermosetting resins other than the above-mentioned phenoxy resin, as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the other thermosetting resins include epoxy resins other than the phenoxy resin having the structure of formula (1) of the present embodiment, polyimide resins, benzoxazine resins, unsaturated polyester resins, phenolic resins, melamine resins, silicone resins, cyanate resins, bismaleimide resins, acrylic resins, phenol derivatives, and derivatives thereof. As these thermosetting resins, monomers, oligomers, and polymers having two or more reactive functional groups in one molecule can be used in general, and the molecular weight and molecular structure are not particularly limited. These may be used alone or in combination of two or more.

(硬化剤)
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、硬化剤を含んでもよい。上記硬化剤としては、熱硬化性樹脂の種類に応じて選択され、これと反応するものであれば特に限定されない。上記硬化剤としては、フェノール樹脂系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、メルカプタン系硬化剤等を挙げることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Hardening agent)
The thermosetting resin composition of the present embodiment may contain a curing agent as necessary. The curing agent is selected according to the type of thermosetting resin, and is not particularly limited as long as it reacts with the thermosetting resin. Examples of the curing agent include phenol resin curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, and mercaptan curing agents. These may be used alone or in combination of two or more.

(硬化促進剤)
上記熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、硬化促進剤を含むことができる。
上記硬化促進剤の種類や配合量は特に限定されないが、反応速度や反応温度、保管性などの観点から、適切なものを選択することができる。
(Cure Accelerator)
The thermosetting resin composition may contain a curing accelerator as necessary.
The type and amount of the curing accelerator are not particularly limited, but an appropriate one can be selected from the viewpoints of reaction rate, reaction temperature, storage property, and the like.

上記硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール類、有機リン化合物、3級アミン類、フェノール化合物、有機酸等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。この中でも、耐熱性を高める観点から、イミダゾール類などの窒素原子含有化合物を用いることが好ましい。 Examples of the curing accelerator include imidazoles, organic phosphorus compounds, tertiary amines, phenolic compounds, organic acids, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of improving heat resistance, it is preferable to use nitrogen atom-containing compounds such as imidazoles.

(シランカップリング剤)
上記熱硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。これにより、熱硬化性樹脂組成物中における熱伝導性フィラーの相溶性を向上させることができる。カップリング剤は、熱硬化性樹脂組成物に添加してもよいし、熱伝導性フィラー表面に処理して使用してもよい。
(Silane coupling agent)
The thermosetting resin composition may contain a silane coupling agent. This can improve the compatibility of the thermally conductive filler in the thermosetting resin composition. The coupling agent may be added to the thermosetting resin composition, or may be used by treating the surface of the thermally conductive filler.

本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上述した成分以外の他の成分を含むことができる。この他の成分としては、例えば、酸化防止剤、レベリング剤が挙げられる。 The thermosetting resin composition of this embodiment may contain other components in addition to the components described above. Examples of such other components include an antioxidant and a leveling agent.

(第二の実施形態)
第二の実施形態における熱硬化性樹脂組成物は、上記式(d-EP)で表される2官能エポキシ化合物(A)と、上記式(p1)~(p8)で表される多官能フェノール化(B)の少なくとも1つと、を含む。
Second Embodiment
The thermosetting resin composition in the second embodiment contains a difunctional epoxy compound (A) represented by the above formula (d-EP) and at least one of the polyfunctional phenol compounds (B) represented by the above formulas (p1) to (p8).

第二の実施形態における熱硬化性樹脂組成物は、第一の実施形態における熱硬化性樹脂組成物と同様に、その用途に応じて、その他の成分を含み得る。その他の成分としては、第一の実施形態における熱硬化性樹脂組成物に配合され得るものと同様の、熱伝導性フィラー、熱硬化性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、シランカップリグ剤が挙げられる。 The thermosetting resin composition in the second embodiment, like the thermosetting resin composition in the first embodiment, may contain other components depending on the application. The other components include thermally conductive fillers, thermosetting resins, curing agents, curing accelerators, and silane coupling agents, which are the same as those that may be blended into the thermosetting resin composition in the first embodiment.

[熱硬化性樹脂組成物の製造方法]
第一の実施形態および第二の実施形態における熱硬化性樹脂組成物は、上記の各成分を、溶剤中に溶解、混合、撹拌することにより樹脂ワニス(ワニス状の熱硬化性樹脂組成物)を調製することができる。この混合は、超音波分散方式、高圧衝突式分散方式、高速回転分散方式、ビーズミル方式、高速せん断分散方式、および自転公転式分散方式などの各種混合機を用いることができる。あるいは、第一の実施形態および第二の実施形態における熱硬化性樹脂組成物は、、上記の各成分を、タンブラーミキサーやヘンシェルミキサー等のミキサーやブレンダー等で均一に混合した後、ニーダー、ロール、ディスパー、アジホモミキサー、及びプラネタリーミキサー等で加熱しながら混練することにより製造できる。なお、混練時の温度としては、硬化反応が生じない温度範囲である必要があり、例えば、70~150℃程度で溶融混練することが好ましい。混練後に冷却固化し、混練物を、粉粒状、顆粒状、タブレット状、またはシート状に加工してもよい。
[Method for producing thermosetting resin composition]
The thermosetting resin composition in the first and second embodiments can be prepared by dissolving, mixing, and stirring the above-mentioned components in a solvent to prepare a resin varnish (a varnish-like thermosetting resin composition). This mixing can be performed using various mixers such as an ultrasonic dispersion method, a high-pressure collision dispersion method, a high-speed rotation dispersion method, a bead mill method, a high-speed shear dispersion method, and a rotation-revolution dispersion method. Alternatively, the thermosetting resin composition in the first and second embodiments can be produced by uniformly mixing the above-mentioned components with a mixer or blender such as a tumbler mixer or a Henschel mixer, and then kneading them while heating with a kneader, roll, disperser, azihomobister, planetary mixer, or the like. The temperature during kneading must be within a temperature range in which a curing reaction does not occur, and it is preferable to melt-knead the mixture at about 70 to 150 ° C. after kneading. The mixture may be cooled and solidified after kneading, and the kneaded product may be processed into a powder, granule, tablet, or sheet shape.

上記溶剤としては特に限定されないが、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、およびN-メチルピロリドン等が挙げられる。 The above solvents are not particularly limited, but include acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, ethyl acetate, cyclohexane, heptane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, ethylene glycol, cellosolve-based solvents, carbitol-based solvents, anisole, and N-methylpyrrolidone.

[熱硬化性樹脂組成物の用途]
(樹脂シート)
本実施形態の樹脂シートは、キャリア基材と、キャリア基材上に設けられた、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層と、を備える。本実施形態の樹脂シートは、放熱部材を作製するための熱伝導性樹脂シートとして使用することができる。本実施形態の熱伝導性シートは、たとえば、半導体チップ等の発熱体と当該発熱体を搭載するリードフレーム、配線基板(インターポーザ)等の基板との間、あるいは、当該基板とヒートシンク等の放熱部材との間に設けられる。
[Uses of thermosetting resin composition]
(Resin sheet)
The resin sheet of this embodiment includes a carrier substrate and a resin layer made of the thermosetting resin composition of this embodiment provided on the carrier substrate. The resin sheet of this embodiment can be used as a thermally conductive resin sheet for producing a heat dissipation member. The thermally conductive sheet of this embodiment is provided, for example, between a heat generating body such as a semiconductor chip and a substrate such as a lead frame or wiring substrate (interposer) on which the heat generating body is mounted, or between the substrate and a heat dissipation member such as a heat sink.

上記樹脂シートは、たとえばワニス状の熱硬化性樹脂組成物をキャリア基材上に塗布して得られた塗布膜(樹脂層)に対して、溶剤除去処理を行うことにより得ることができる。上記樹脂シート中の溶剤含有率が、熱硬化性樹脂組成物全体に対して10重量%以下とすることができる。たとえば80℃~200℃、1分間~30分間の条件で溶剤除去処理を行うことができる。 The resin sheet can be obtained, for example, by applying a varnish-like thermosetting resin composition onto a carrier substrate to obtain a coating film (resin layer) and then carrying out a solvent removal process. The solvent content in the resin sheet can be 10% by weight or less based on the entire thermosetting resin composition. For example, the solvent removal process can be carried out under conditions of 80°C to 200°C and 1 minute to 30 minutes.

また、本実施形態において、上記キャリア基材としては、例えば、高分子フィルムや金属箔などを用いることができる。当該高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリカーボネート、シリコーンシート等の離型紙、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性を有した熱可塑性樹脂シート等が挙げられる。当該金属箔としては、特に限定されないが、例えば、銅および/または銅系合金、アルミおよび/またはアルミ系合金、鉄および/または鉄系合金、銀および/または銀系合金、金および金系合金、亜鉛および亜鉛系合金、ニッケルおよびニッケル系合金、錫および錫系合金などが挙げられる。 In this embodiment, the carrier substrate may be, for example, a polymer film or a metal foil. Examples of the polymer film include, but are not limited to, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polycarbonates, release papers such as silicone sheets, and heat-resistant thermoplastic resin sheets such as fluorine-based resins and polyimide resins. Examples of the metal foil include, but are not limited to, copper and/or copper-based alloys, aluminum and/or aluminum-based alloys, iron and/or iron-based alloys, silver and/or silver-based alloys, gold and gold-based alloys, zinc and zinc-based alloys, nickel and nickel-based alloys, and tin and tin-based alloys.

(樹脂基板)
本実施形態の樹脂基板は、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物で構成された絶縁層を備える。この樹脂基板は、例えば、LED、パワーモジュールなどの電子部品を搭載するためのプリント基板の材料として用いることができる。
(Resin substrate)
The resin substrate of the present embodiment includes an insulating layer made of the cured product of the thermosetting resin composition. The resin substrate can be used as a material for a printed circuit board on which electronic components such as LEDs and power modules are mounted.

(積層板)
本実施形態の樹脂基板の用途の一例として、積層板について図1に基づいて説明する。
図1は、樹脂シートの硬化物を備える金属ベース基板100の構成の一例を示す断面図である。
(Laminated plate)
As an example of the use of the resin substrate of this embodiment, a laminate will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a metal base substrate 100 including a cured resin sheet.

上記金属ベース基板100は、図1に示すように、金属基板101と、金属基板101上に設けられた絶縁層102と、絶縁層102上に設けられた金属層103と、を備えることができる。この絶縁層102は、上記の熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂層、熱硬化性樹脂組成物の硬化物および積層板からなる群から選択される一種で構成することが可能である。これらの樹脂層、積層板のそれぞれは、金属層103の回路加工の前では、Bステージ状態の熱硬化性樹脂組成物で構成されていてもよく、回路加工の後では、それを硬化処理されてなる硬化体であってもよい。 As shown in FIG. 1, the metal base substrate 100 can include a metal substrate 101, an insulating layer 102 provided on the metal substrate 101, and a metal layer 103 provided on the insulating layer 102. The insulating layer 102 can be made of one selected from the group consisting of a resin layer made of the above-mentioned thermosetting resin composition, a cured product of the thermosetting resin composition, and a laminate. Each of these resin layers and laminates may be made of a thermosetting resin composition in a B-stage state before the circuit processing of the metal layer 103, and may be a cured product obtained by curing the resin composition after the circuit processing.

金属層103は絶縁層102上に設けられ、回路加工されるものである。この金属層103を構成する金属としては、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、鉄、錫等から選択される一種または二種以上が挙げられる。これらの中でも、金属層103は、好ましくは銅層またはアルミニウム層であり、特に好ましくは銅層である。銅またはアルミニウムを用いることで、金属層103の回路加工性を良好なものとすることができる。金属層103は、板状で入手できる金属箔を用いてもよいし、ロール状で入手できる金属箔を用いてもよい。 The metal layer 103 is provided on the insulating layer 102 and is processed into a circuit. Examples of metals constituting the metal layer 103 include one or more selected from copper, copper alloys, aluminum, aluminum alloys, nickel, iron, tin, and the like. Among these, the metal layer 103 is preferably a copper layer or an aluminum layer, and is particularly preferably a copper layer. By using copper or aluminum, the circuit processability of the metal layer 103 can be improved. The metal layer 103 may be a metal foil available in a plate form, or a metal foil available in a roll form.

金属層103の厚みの下限は、例えば、0.01mm以上であり、好ましくは0.035mm以上であれば、高電流を要する用途に適用できる。
また、金属層103の厚みの上限は、例えば、10.0mm以下であり、好ましくは5mm以下である。このような数値以下であれば、回路加工性を向上させることができ、また、基板全体としての薄型化を図ることができる。
The lower limit of the thickness of the metal layer 103 is, for example, 0.01 mm or more, and preferably 0.035 mm or more, so that the metal layer 103 can be applied to applications requiring a high current.
The upper limit of the thickness of the metal layer 103 is, for example, 10.0 mm or less, and preferably 5 mm or less. If the thickness is less than this value, the circuit processability can be improved, and the substrate as a whole can be made thinner.

金属基板101は、金属ベース基板100に蓄積された熱を放熱する役割を有する。金属基板101は、放熱性の金属基板であれば特に限定されないが、例えば、銅基板、銅合金基板、アルミニウム基板、アルミニウム合金基板であり、銅基板またはアルミニウム基板が好ましく、銅基板がより好ましい。銅基板またはアルミニウム基板を用いることで、金属基板101の放熱性を良好なものとすることができる。 The metal substrate 101 has the role of dissipating heat accumulated in the metal base substrate 100. The metal substrate 101 is not particularly limited as long as it is a heat-dissipating metal substrate, but may be, for example, a copper substrate, a copper alloy substrate, an aluminum substrate, or an aluminum alloy substrate, with a copper substrate or an aluminum substrate being preferred, and a copper substrate being more preferred. By using a copper substrate or an aluminum substrate, the heat dissipation properties of the metal substrate 101 can be improved.

金属基板101の厚さは、本発明の目的が損なわれない限り、適宜設定できる。
金属基板101の厚さの上限は、例えば、20.0mm以下であり、好ましくは5.0mm以下である。この数値以下の金属基板101を用いることで、金属ベース基板100の外形加工や切り出し加工等における加工性を向上させることができる。
The thickness of the metal substrate 101 can be appropriately set as long as the object of the present invention is not impaired.
The upper limit of the thickness of the metal substrate 101 is, for example, 20.0 mm or less, and preferably 5.0 mm or less. By using a metal substrate 101 having a thickness of this value or less, the workability of the metal base substrate 100 in the outer shaping, cutting, and the like can be improved.

また、金属基板101の厚さの下限は、例えば、0.01mm以上であり、好ましくは0.6mm以上である。この数値以上の金属基板101を用いることで、金属ベース基板100全体としての放熱性を向上させることができる。 The lower limit of the thickness of the metal substrate 101 is, for example, 0.01 mm or more, and preferably 0.6 mm or more. By using a metal substrate 101 with a thickness of this value or more, the heat dissipation properties of the metal base substrate 100 as a whole can be improved.

本実施形態において、金属ベース基板100は、各種の基板用途に用いることが可能であるが、熱伝導性及び耐熱性に優れることから、LEDやパワーモジュールを用いるプリント基板として用いることが可能である。 In this embodiment, the metal base substrate 100 can be used for various substrate applications, but because it has excellent thermal conductivity and heat resistance, it can be used as a printed circuit board that uses LEDs and power modules.

金属ベース基板100は、パターンにエッチング等することによって回路加工された金属層103を有することができる。この金属ベース基板100において、最外層に不図示のソルダーレジストを形成し、露光・現像により電子部品が実装できるよう接続用電極部が露出されていてもよい。 The metal base substrate 100 can have a metal layer 103 that has been circuitized by etching or the like into a pattern. In this metal base substrate 100, a solder resist (not shown) may be formed on the outermost layer, and connection electrodes may be exposed so that electronic components can be mounted by exposure and development.

(電子装置)
上述の本実施形態の樹脂シート、樹脂基板および積層体は、その上に電子部品を搭載するための基板として用いて電子装置を製造するために用いられる。あるいは、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、電子部品を封止するための封止材として用いることができる。
(Electronic equipment)
The resin sheet, resin substrate, and laminate of the present embodiment described above can be used as a substrate for mounting electronic components thereon to manufacture an electronic device. Alternatively, the thermosetting resin composition of the present embodiment can be used as an encapsulant for encapsulating electronic components.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の様々な構成を採用することができる。 The above describes embodiments of the present invention, but these are merely examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted as long as they do not impair the effects of the present invention.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these.

・エポキシ化合物1:下記式(3)で表されるテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂(三菱ケミカル(株)社製の「YX4000」)

Figure 0007679677000014
Epoxy compound 1: a tetramethylbiphenyl type epoxy resin represented by the following formula (3) ("YX4000" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Figure 0007679677000014

・エポキシ化合物2:下記式(3)で表されるテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂と下記式(4)で表されるビフェニル型エポキシ樹脂との1:1混合物(三菱ケミカル(株)社製の「YL-6121」)

Figure 0007679677000015
Figure 0007679677000016
Epoxy compound 2: a 1:1 mixture of a tetramethylbiphenyl type epoxy resin represented by the following formula (3) and a biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (4) ("YL-6121" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Figure 0007679677000015
Figure 0007679677000016

(多官能フェノール化合物)
・フェノール化合物1:ダイゼイン(下記式(5)で表される2官能フェノール化合物)

Figure 0007679677000017
(Polyfunctional phenol compounds)
Phenolic compound 1: daidzein (a bifunctional phenolic compound represented by the following formula (5))
Figure 0007679677000017

・フェノール化合物2:ナリンゲニン(下記式(6)で表される3官能フェノール化合物)

Figure 0007679677000018
Phenolic compound 2: Naringenin (a trifunctional phenolic compound represented by the following formula (6))
Figure 0007679677000018

(実施例1)
エポキシ化合物1を62重量部、フェノール化合物1を31重量部、トリフェニルホスフィン(TPP)0.05重量部、及び溶剤(シクロヘキサノン)7重量部を反応器に投下し、100℃~110℃で1時間溶融混合した。そして、混合液を180℃に昇温し、当該温度で減圧下にて溶剤を除去しながら反応させ、GPCで目的の分子量となることを確認し、反応を停止させ、下記式(1-1)で表されるフェノキシ樹脂を得た。反応は6時間行った。反応後、ジメチルホルムアミドを樹脂に対して100重量部添加して樹脂を溶解し室温まで冷却した。冷却後、メタノールを用いた再沈殿法により精製して、以下の式(1-1)で表されるフェノキシ樹脂(式(1-1)中の繰り返し単位数nの平均値は11であり、Xは式(3)のエポキシ化合物1由来の構造単位であり、Yはフェノール化合物1であるダイゼイン由来の構造単位である)を100重量部得た。
Example 1
62 parts by weight of epoxy compound 1, 31 parts by weight of phenol compound 1, 0.05 parts by weight of triphenylphosphine (TPP), and 7 parts by weight of a solvent (cyclohexanone) were added to a reactor and melt-mixed at 100°C to 110°C for 1 hour. The mixture was then heated to 180°C, and reacted while removing the solvent under reduced pressure at that temperature. It was confirmed by GPC that the desired molecular weight was reached, and the reaction was stopped to obtain a phenoxy resin represented by the following formula (1-1). The reaction was carried out for 6 hours. After the reaction, 100 parts by weight of dimethylformamide was added to the resin to dissolve the resin, and the resin was cooled to room temperature. After cooling, the resin was purified by a reprecipitation method using methanol to obtain 100 parts by weight of a phenoxy resin represented by the following formula (1-1) (the average value of the number of repeating units n in formula (1-1) is 11, X is a structural unit derived from epoxy compound 1 in formula (3), and Y is a structural unit derived from daidzein, which is phenol compound 1).

Figure 0007679677000019
Figure 0007679677000019

(実施例2)
エポキシ化合物2を62重量部、フェノール化合物1を31重量部、トリフェニルホスフィン(TPP)0.05重量部、及び溶剤(シクロヘキサノン)7重量部を反応器に投下し、100℃~110℃で1時間溶融混合した。そして、混合液を180℃に昇温し、当該温度で減圧下にて溶剤を除去しながら反応させ、GPCで目的の分子量となることを確認し、反応を停止させ、下記式(1-2)で表されるフェノキシ樹脂を得た。反応は6時間行った。反応後、ジメチルホルムアミドを樹脂に対して100重量部添加して樹脂を溶解し室温まで冷却した。冷却後、メタノールを用いた再沈殿法により精製して、以下の式(1-2)で表されるフェノキシ樹脂(式(1-2)中の繰り返し単位数nの平均値は11であり、Xは式(3)のエポキシ化合物由来の構造単位および式4)のエポキシ化合物由来の構造単位であり、Yはフェノール化合物1であるダイゼイン由来の構造単位である)を100重量部得た。
Example 2
62 parts by weight of epoxy compound 2, 31 parts by weight of phenol compound 1, 0.05 parts by weight of triphenylphosphine (TPP), and 7 parts by weight of a solvent (cyclohexanone) were added to a reactor and melt-mixed at 100°C to 110°C for 1 hour. The mixture was then heated to 180°C and reacted at that temperature while removing the solvent under reduced pressure. It was confirmed by GPC that the desired molecular weight was reached, and the reaction was stopped to obtain a phenoxy resin represented by the following formula (1-2). The reaction was carried out for 6 hours. After the reaction, 100 parts by weight of dimethylformamide was added to the resin to dissolve the resin, and the resin was cooled to room temperature. After cooling, the mixture was purified by a reprecipitation method using methanol to obtain 100 parts by weight of a phenoxy resin represented by the following formula (1-2) (the average value of the number of repeating units n in formula (1-2) is 11, X is a structural unit derived from an epoxy compound of formula (3) and a structural unit derived from an epoxy compound of formula (4), and Y is a structural unit derived from daidzein, which is a phenol compound 1).

Figure 0007679677000020
Figure 0007679677000020

(比較例1)
フェノキシ樹脂として、直鎖型フェノキシ樹脂1:下記の式(7)で表されるビスフェノールA型フェノキシ樹脂(メソゲン構造なし、三菱ケミカル社製、YP-55)を使用した。
(Comparative Example 1)
As the phenoxy resin, linear phenoxy resin 1: bisphenol A type phenoxy resin represented by the following formula (7) (no mesogen structure, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YP-55) was used.

Figure 0007679677000021
Figure 0007679677000021

(実施例3)
エポキシ化合物1を50重量部、フェノール化合物1を50重量部アルミカップに量り取り、150℃のホットプレート上で溶融し、触媒(2-メチルイミダゾール)2重量部を加え1分間混合し、樹脂組成物を得た。
Example 3
50 parts by weight of epoxy compound 1 and 50 parts by weight of phenol compound 1 were weighed into an aluminum cup and melted on a hot plate at 150° C., and 2 parts by weight of catalyst (2-methylimidazole) was added and mixed for 1 minute to obtain a resin composition.

(実施例4)
エポキシ化合物1を50重量部、フェノール化合物2を50重量部アルミカップに量り取り、150℃のホットプレート上で溶融し、触媒(2-メチルイミダゾール)2重量部を加え1分間混合し、樹脂組成物を得た。
Example 4
50 parts by weight of epoxy compound 1 and 50 parts by weight of phenol compound 2 were weighed into an aluminum cup and melted on a hot plate at 150° C., and 2 parts by weight of catalyst (2-methylimidazole) was added and mixed for 1 minute to obtain a resin composition.

(比較例2)
エポキシ化合物1を50重量部、フェノールノボラック樹脂(住友ベークライト社製、PR-55617)を50重量部アルミカップに量り取り、150℃のホットプレート上で溶融し、触媒(2-メチルイミダゾール)2重量部を加え1分間混合し、樹脂組成物を得た。
(Comparative Example 2)
50 parts by weight of epoxy compound 1 and 50 parts by weight of phenol novolak resin (PR-55617, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) were weighed into an aluminum cup, melted on a hot plate at 150° C., and 2 parts by weight of a catalyst (2-methylimidazole) was added and mixed for 1 minute to obtain a resin composition.

実施例1、2および比較例1のフェノキシ樹脂の物性値を以下の方法で測定した。
(分子量、分散度、およびピーク面積)
GPCの測定条件は、以下の通りである。
・東ソー(株)社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置HLC-8320GPC
・カラム:東ソー(株)社製TSK-GEL GMH、G2000H、SuperHM-M
・検出器:液体クロマトグラム用RI検出器
・測定温度:40℃
・溶媒:THF
・試料濃度:2.0mg/ミリリットル
重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、および分散度(PDI:Mw/Mn)は、GPC測定により得られる標準ポリスチレン(PS)の検量線から求めたポリスチレン換算値を用いて、算出した。
上記GPC測定により得られた分子量に関するデータに基づき、GPC測定により得られた分子量分布の全面積を100%としたとき、測定対象のフェノキシ樹脂全体に含まれるMwが1k以下の低分子量フェノキシ樹脂に対応するピークについて、そのピーク面積の面積割合(%)を算出した。結果を表1に示す。
The physical properties of the phenoxy resins of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were measured by the following methods.
(Molecular weight, dispersity, and peak area)
The measurement conditions for GPC are as follows.
- Gel permeation chromatography device HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSK-GEL GMH, G2000H, Super HM-M manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI detector for liquid chromatography Measurement temperature: 40°C
Solvent: THF
Sample concentration: 2.0 mg/mL Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and polydispersity index (PDI: Mw/Mn) were calculated using polystyrene-equivalent values obtained from a calibration curve of standard polystyrene (PS) obtained by GPC measurement.
Based on the data on molecular weight obtained by the above GPC measurement, the area ratio (%) of the peak area corresponding to the low molecular weight phenoxy resin having Mw of 1k or less contained in the entire phenoxy resin to be measured was calculated when the total area of the molecular weight distribution obtained by the GPC measurement was taken as 100%. The results are shown in Table 1.

(熱伝導率)
・フェノキシ樹脂成形体の作製
実施例1、2または比較例1の各フェノキシ樹脂100重量部に触媒(2-メチルイミダゾール)2重量部を混合した混合物を、離型剤を塗布した金型にセットし、コンプレッション成形を180℃、30min行い、直径10mm×厚み1mmの樹脂成形物を得た。その後、オーブンにて180℃、180minの硬化を行い、樹脂成形体(熱伝導率測定用サンプル)を得た。
・樹脂組成物成形体の作成
実施例3、4または比較例2の樹脂組成物を、離型剤を塗布した金型にセットし、コンプレッション成形を180℃、30min行い、直径10mm×厚み1mmの樹脂成形物を得た。その後、オーブンにて180℃、180minの硬化を行い、樹脂組成物成形体(熱伝導率測定用サンプル)を得た。
(Thermal Conductivity)
- Preparation of phenoxy resin molded body 100 parts by weight of each phenoxy resin of Examples 1, 2, or Comparative Example 1 was mixed with 2 parts by weight of a catalyst (2-methylimidazole), and the mixture was set in a mold coated with a release agent, and compression molding was performed at 180°C for 30 minutes to obtain a resin molded body with a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm. Then, curing was performed in an oven at 180°C for 180 minutes to obtain a resin molded body (a sample for measuring thermal conductivity).
Preparation of resin composition molded body The resin composition of Examples 3 and 4 or Comparative Example 2 was set in a mold coated with a release agent, and compression molded at 180° C. for 30 minutes to obtain a resin molded body having a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm. Then, the resin composition was cured in an oven at 180° C. for 180 minutes to obtain a resin composition molded body (a sample for measuring thermal conductivity).

・成形体の熱伝導率の測定
得られた樹脂成形体から、厚み方向測定用として、直径10mm×厚み1mmに加工したものを試験片とした。次に、ULVAC社製のXeフラッシュアナライザーTD-1RTVを用いて、レーザーフラッシュ法により板状の試験片の厚み方向の熱拡散係数(α)の測定を行った。測定は、大気雰囲気下、25℃の条件下で行った。
樹脂成形体について、得られた熱拡散係数(α)、比熱(Cp)、密度(ρ)の測定値から、下記式に基づいて熱伝導率を算出した。結果を表1に示す。
熱伝導率[W/m・K]=α[m/s]×Cp[J/kg・K]×ρ[g/cm
Measurement of thermal conductivity of molded product From the obtained resin molded product, a test piece was prepared by processing it into a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm for thickness direction measurement. Next, the thermal diffusion coefficient (α) of the plate-shaped test piece in the thickness direction was measured by the laser flash method using a Xe flash analyzer TD-1RTV manufactured by ULVAC. The measurement was performed under the condition of air atmosphere and 25°C.
The thermal conductivity of the resin molded body was calculated from the measured values of the thermal diffusion coefficient (α), specific heat (Cp), and density (ρ) according to the following formula. The results are shown in Table 1.
Thermal conductivity [W/m・K] = α [m 2 /s] × Cp [J/kg・K] × ρ [g/cm 3 ]

Figure 0007679677000022
Figure 0007679677000022

実施例の樹脂組成物の硬化物はいずれも、比較例1のものと比べ、高い熱伝導率を有していた。 The cured products of the resin compositions in the Examples all had higher thermal conductivity than those in Comparative Example 1.

100 金属ベース基板
101 金属基板
102 絶縁層
103 金属層
100 Metal base substrate 101 Metal substrate 102 Insulating layer 103 Metal layer

Claims (29)

2つのエポキシ基を有する2官能エポキシ化合物(A)と、
少なくとも2つのフェノール性水酸基を有する多官能フェノール化合物(B)と、を反応させて得られるフェノキシ樹脂であって、
前記2官能エポキシ化合物(A)は、式(d-EP)で表される化合物を含み、
Figure 0007679677000023
前記式(d-EP)中のXは、メソゲン骨格を有する2価の基であり、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つであり、
Figure 0007679677000024
Figure 0007679677000025
前記式(p1)~(p8)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す、
フェノキシ樹脂。
A bifunctional epoxy compound (A) having two epoxy groups;
A phenoxy resin obtained by reacting a polyfunctional phenol compound (B) having at least two phenolic hydroxyl groups with
The bifunctional epoxy compound (A) includes a compound represented by the formula (d-EP),
Figure 0007679677000023
In the formula (d-EP), X represents a divalent group having a mesogenic skeleton,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8),
Figure 0007679677000024
Figure 0007679677000025
In the formulas (p1) to (p8), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Phenoxy resin.
前記式(p1)~(p8)で表される多官能フェノール化合物(B)において、R11およびR12のすべてが水素原子である、請求項1に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to claim 1, wherein in the polyfunctional phenol compound (B) represented by the formulas (p1) to (p8), all of R 11 and R 12 are hydrogen atoms. 前記式(d-EP)におけるXが、式(2)で表される2価の基を含む、請求項1または2に記載のフェノキシ樹脂:
Figure 0007679677000026
式(2)において、R~Rは、独立して、水素原子または炭素数1~4の直鎖または分枝鎖のアルキル基を表し、*は連結位置を表す。
The phenoxy resin according to claim 1 or 2, wherein X in the formula (d-EP) contains a divalent group represented by formula (2):
Figure 0007679677000026
In formula (2), R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and * represents a linking position.
前記式(2)で表される基において、R、R、R、およびRが炭素数1~4のアルキル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である、請求項3に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to claim 3, wherein in the group represented by formula (2), R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms. 前記式(2)で表される基において、R、R、R、およびRがメチル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である、請求項3に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to claim 3, wherein in the group represented by formula (2), R 1 , R 4 , R 5 and R 8 are methyl groups, and R 2 , R 3 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms. 前記式(2)で表される基において、R~Rのすべてが水素原子である、請求項3に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to claim 3, wherein in the group represented by formula (2), all of R 1 to R 8 are hydrogen atoms. 前記式(d-EP)におけるXの少なくとも1つが、R、R、R、およびRがメチル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である前記式(2)で表される2価の基であり、かつ
前記式(d-EP)におけるXの少なくとも1つが、R~Rのすべてが水素原子である前記式(2)で表される2価の基である、請求項に記載のフェノキシ樹脂。
The phenoxy resin according to claim 3, wherein at least one of X in the formula (d-EP) is a divalent group represented by the formula (2) in which R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are methyl groups, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms, and at least one of X in the formula (d-EP ) is a divalent group represented by the formula (2) in which R 1 to R 8 are all hydrogen atoms.
前記多官能フェノール化合物(B)が、前記式(p1)~(p4)で表される化合物から選択される少なくとも1つであり、
当該フェノキシ樹脂が、式(1)で表される構造を有する、請求項1乃至7のいずれかに記載のフェノキシ樹脂:
Figure 0007679677000027
式(1)中、
nは繰り返し単位を表す数であり、2~50の整数を表し、
Xは、前記式(d-EP)中のXと同義であり、
Yは、独立して、以下式(y1)~(y4)から選択される少なくとも1つの2価の基であり、
Figure 0007679677000028
Figure 0007679677000029
式(y1)~式(y4)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表し、*は連結位置を表す。
the polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p4),
The phenoxy resin according to any one of claims 1 to 7, wherein the phenoxy resin has a structure represented by formula (1):
Figure 0007679677000027
In formula (1),
n is a number representing a repeating unit and is an integer of 2 to 50;
X has the same meaning as X in formula (d-EP).
Y is independently at least one divalent group selected from the following formulas (y1) to (y4):
Figure 0007679677000028
Figure 0007679677000029
In formulae (y1) to (y4), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and * represents a linking position.
重量平均分子量が、1,000以上10,000以下である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to any one of claims 1 to 8, having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less. 当該フェノキシ樹脂の硬化物の熱伝導率が、0.3W/(m・K)以上である、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂。 The phenoxy resin according to any one of claims 1 to 9, wherein the thermal conductivity of the cured product of the phenoxy resin is 0.3 W/(m·K) or more. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載のフェノキシ樹脂を含む、熱硬化性樹脂組成物。 A thermosetting resin composition comprising the phenoxy resin according to any one of claims 1 to 10 . 熱伝導性フィラーをさらに含む、請求項11に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition of claim 11 , further comprising a thermally conductive filler. 溶剤をさらに含む、請求項11または請求項12に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 11 or 12 , further comprising a solvent. 式(d-EP)で表される、2つのエポキシ基を有する2官能エポキシ化合物(A)と、
少なくとも2つのフェノール性水酸基を有する多官能フェノール化合物(B)と、を含み、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つである、熱硬化性樹脂組成物:
Figure 0007679677000030
前記式(d-EP)中のXは、メソゲン骨格を有する2価の基であり、
前記多官能フェノール化合物(B)は、式(p1)~(p8)で表される化合物から選択される少なくとも1つであり、
Figure 0007679677000031
Figure 0007679677000032
前記式(p1)~(p8)において、R11およびR12は、独立して、水素原子、炭素数1~4のアルコキシ基、または炭素数1~4の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。
A bifunctional epoxy compound (A) having two epoxy groups, represented by the formula (d-EP),
and (B) a polyfunctional phenol compound having at least two phenolic hydroxyl groups,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8):
Figure 0007679677000030
In the formula (d-EP), X represents a divalent group having a mesogenic skeleton,
The polyfunctional phenol compound (B) is at least one selected from the compounds represented by formulas (p1) to (p8),
Figure 0007679677000031
Figure 0007679677000032
In the formulas (p1) to (p8), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
前記式(p1)~(p8)で表される多官能フェノール化合物(B)において、R11およびR12のすべてが水素原子である、請求項14に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 14 , wherein in the polyfunctional phenol compound (B) represented by the formulas (p1) to (p8), all of R 11 and R 12 are hydrogen atoms. 前記式(d-EP)におけるXが、式(2)で表される2価の基を含む、請求項14または15に記載の熱硬化性樹脂組成物:
Figure 0007679677000033
式(2)において、R~Rは、独立して、水素原子または炭素数1~4の直鎖または分枝鎖のアルキル基を表し、*は連結位置を表す。
The thermosetting resin composition according to claim 14 or 15 , wherein X in the formula (d-EP) contains a divalent group represented by formula (2):
Figure 0007679677000033
In formula (2), R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and * represents a linking position.
前記式(2)で表される基において、R、R、R、およびRが炭素数1~4のアルキル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である、請求項16に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 16, wherein in the group represented by formula (2), R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms. 前記式(2)で表される基において、R、R、R、およびRがメチル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である、請求項16に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 16 , wherein in the group represented by formula (2), R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are methyl groups, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms. 前記式(2)で表される基において、R~Rのすべてが水素原子である、請求項16に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 16 , wherein in the group represented by formula (2), all of R 1 to R 8 are hydrogen atoms. 式(d-EP)で表される前記2官能エポキシ化合物が、
、R、R、およびRがメチル基であり、R、R、R、およびRが水素原子である式(2)で表される2官能エポキシ化合物と、
~Rのすべてが水素原子である式(2)で表される官能エポキシ化合物と、を含む、請求項16に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The bifunctional epoxy compound represented by the formula (d-EP) is
a bifunctional epoxy compound represented by formula (2) in which R 1 , R 4 , R 5 , and R 8 are methyl groups, and R 2 , R 3 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms;
and a difunctional epoxy compound represented by formula ( 2 ) in which all of R 1 to R 8 are hydrogen atoms.
熱伝導性フィラーをさらに含む、請求項14乃至20のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 14 , further comprising a thermally conductive filler. 顆粒状またはタブレット状である、請求項14乃至21のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 22. The thermosetting resin composition according to any one of claims 14 to 21 , which is in the form of granules or tablets. 電子部品を封止するための封止材を形成するために用いる、請求項14乃至22のいずれか一項の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 14 , which is used to form an encapsulant for encapsulating electronic components. 基板と、
前記基板上に設けられた電子部品と、
前記電子部品を封止する封止材と、を備え、
前記封止材が、請求項14乃至23のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物よりなる、
電子装置。
A substrate;
An electronic component provided on the substrate;
and a sealant for sealing the electronic component.
The sealing material is made of a cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 14 to 23 .
electronic equipment.
請求項11乃至21のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物より形成される、熱伝導性シート。 A thermally conductive sheet formed from the thermosetting resin composition according to any one of claims 11 to 21 . 請求項25に記載の熱伝導性シートの硬化物からなる樹脂基板。 A resin substrate comprising a cured product of the thermally conductive sheet according to claim 25 . 請求項26に記載の樹脂基板を備える電子装置。 An electronic device comprising the resin substrate according to claim 26 . 金属層と、
前記金属層の少なくとも一方の面に積層された樹脂層と、を備え、
前記樹脂層が、請求項25に記載の熱伝導性シートの硬化物からなる、積層板。
A metal layer;
A resin layer laminated on at least one surface of the metal layer,
A laminate comprising the resin layer formed from a cured product of the thermally conductive sheet according to claim 25 .
請求項28に記載の積層板を備える電子装置。 29. An electronic device comprising the laminate of claim 28 .
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