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JP7680909B2 - ウエーハの処理方法 - Google Patents
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Description

本発明は、ウエーハの処理方法に関する。
IC、LSI等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハは、研削装置によって裏面が研削され所望の厚みに形成された後、切削装置によって個々のデバイスチップに分割され、分割された各デバイスチップは携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
ウエーハの所望位置(たとえば、オリエンテーションフラットに隣接する外周余剰領域)には、ウエーハを管理するためのバーコード、品番、品名、ロットナンバーを含む文字またはIDマークがマーキングされ、各製造工程でIDマークを確認してウエーハに所望の加工を施すと共に、過去の情報を引き継ぎ、トレーサビリティを確保している(たとえば、特許文献1参照)。
特開平8-330196号公報
しかし、ウエーハが個々のデバイスチップに分割されると、デバイスチップ毎では、過去情報の引き継ぎができず、また、トレーサビリティが確保されなくなるという問題がある。
上記事実に鑑みてなされた本発明の課題は、デバイスチップ毎に過去情報の引き継ぎが可能であると共に、デバイスチップ毎のトレーサビリティが確保されるウエーハの処理方法を提供することである。
本発明によれば、上記課題を解決する以下のウエーハの処理方法が提供される。すなわち、ウエーハの処理方法であって、ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に備えた切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段と、該X軸方向に直交するY軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に割り出し送りするY軸送り手段と、該X軸方向および該Y軸方向に直交するZ軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に切り込み送りするZ軸送り手段と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、制御手段と、を少なくとも備えた切削装置を用意する切削装置用意工程と、マーキングすべき情報を該制御手段に登録する情報登録工程と、複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面を有するウエーハの表面側を該チャックテーブルに保持させウエーハの裏面側を露出させる保持工程と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを該撮像手段で撮像してマーキングすべきデバイス毎の位置をX座標Y座標で特定して該制御手段に登録する位置登録工程と、該位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて該X軸送り手段および該Y軸送り手段を作動させ該切削ブレードを所望位置に位置づけると共に該Z軸送り手段を作動させ、該情報登録工程で登録した情報を該切削ブレードで個々のデバイスの裏面にマーキングするマーキング工程と、を含むウエーハの処理方法が提供される。
好ましくは、ウエーハを個々のデバイスチップに分割する前に該マーキング工程を実施する。該保持工程の前に、ウエーハの表面に保護部材を配設する表面保護部材配設工程を実施するのが望ましい。
ウエーハの裏面にダイシングテープを貼着すると共にウエーハを収容する開口部を有するフレームでダイシングテープを介してウエーハを支持するウエーハ支持工程と、ウエーハの表面から該保護部材を剥離してウエーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程とを含むのが好適である。
ウエーハを個々のデバイスチップに分割した後に該マーキング工程を実施するのが好都合である。該保持工程の前に、個々のデバイスチップに分割されたウエーハの表面にウエーハの形態を維持する維持部材を配設する維持部材配設工程を含むのが好ましい。
本発明のウエーハの処理方法は、ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に備えた切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段と、該X軸方向に直交するY軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に割り出し送りするY軸送り手段と、該X軸方向および該Y軸方向に直交するZ軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に切り込み送りするZ軸送り手段と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、制御手段と、を少なくとも備えた切削装置を用意する切削装置用意工程と、マーキングすべき情報を該制御手段に登録する情報登録工程と、複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面を有するウエーハの表面側を該チャックテーブルに保持させウエーハの裏面側を露出させる保持工程と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを該撮像手段で撮像してマーキングすべきデバイス毎の位置をX座標Y座標で特定して該制御手段に登録する位置登録工程と、該位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて該X軸送り手段および該Y軸送り手段を作動させ該切削ブレードを所望位置に位置づけると共に該Z軸送り手段を作動させ、該情報登録工程で登録した情報を該切削ブレードで個々のデバイスの裏面にマーキングするマーキング工程と、を含むので、デバイスチップ毎に過去情報の引き継ぎが可能であると共に、デバイスチップ毎のトレーサビリティが確保される。
切削装置の斜視図。 表面保護部材配設工程を実施している状態を示す斜視図。 (a)チャックテーブルの上方にウエーハを位置づけた状態を示す斜視図、(b)チャックテーブルでウエーハを保持した状態を示す斜視図。 位置登録工程を実施している状態を示す斜視図。 (a)マーキング工程を実施している状態を示す斜視図、(b)マーキングが施されたウエーハの裏面側の部分平面図。 ウエーハ支持工程を実施している状態を示す斜視図。 分割工程を実施している状態を示す斜視図。 デバイスチップに分割されたウエーハの斜視図。
以下、本発明のウエーハの処理方法の好適実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
(切削装置用意工程)
図示の実施形態では、まず、所要の切削装置を用意する切削装置用意工程を実施する。本工程で用意するのは、たとえば、図1に示す切削装置2でよい。
切削装置2は、ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブル4と、チャックテーブル4に保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に備えた切削手段6と、チャックテーブル4と切削手段6とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段(図示していない。)と、X軸方向に直交するY軸方向にチャックテーブル4と切削手段6とを相対的に割り出し送りするY軸送り手段(図示していない。)と、X軸方向およびY軸方向に直交するZ軸方向にチャックテーブル4と切削手段6とを相対的に切り込み送りするZ軸送り手段(図示していない。)と、チャックテーブル4に保持されたウエーハを撮像する撮像手段8と、撮像手段8が撮像した画像を表示する表示手段10と、制御手段12と、を少なくとも備える。なお、X・Y・Z軸方向は、それぞれ図1に矢印X・Y・Zで示す方向である。X軸方向およびY軸方向が規定するXY平面は実質上水平であり、Z軸方向は上下方向である。
チャックテーブル4は、X軸方向に移動自在かつZ軸方向を軸心として回転自在に構成されている。チャックテーブル4の上端部分には、吸引手段(図示していない。)に接続された多孔質の円形状吸着チャック14が配置されている。チャックテーブル4は、吸引手段で吸着チャック14の上面に吸引力を生成することにより、吸着チャック14の上面に載せられたウエーハを吸引保持する。また、チャックテーブル4の周縁には、周方向に間隔をおいて複数のクランプ16が配置されている。
図1および図5を参照して説明すると、切削手段6は、Y軸方向およびZ軸方向のそれぞれに移動自在に構成されたスピンドルハウジング18(図5参照)と、スピンドルハウジング18に回転自在に支持されたスピンドル20と、スピンドル20の先端に固定された環状の切削ブレード22と、スピンドル20を回転させるモータ(図示していない。)とを含む。
X軸送り手段は、チャックテーブル4に連結されX軸方向に延びるボールねじと、このボールねじを回転させるモータとを有する。そして、X軸送り手段は、ボールねじによりモータの回転運動を直線運動に変換してチャックテーブル4に伝達し、切削手段6に対してチャックテーブル4をX軸方向に加工送りする。
Y軸送り手段は、切削手段6のスピンドルハウジング18に連結されY軸方向に延びるボールねじと、このボールねじを回転させるモータとを含む。Y軸送り手段は、ボールねじによりモータの回転運動を直線運動に変換してスピンドルハウジング18に伝達し、チャックテーブル4に対して切削手段6をY軸方向に割り出し送りする。
Z軸送り手段は、スピンドルハウジング18に連結されZ軸方向に延びるボールねじと、このボールねじを回転させるモータとを備える。Z軸送り手段においては、ボールねじによりモータの回転運動を直線運動に変換してスピンドルハウジング18に伝達し、チャックテーブル4に対して切削手段6をZ軸方向に切り込み送りするようになっている。
撮像手段8は、チャックテーブル4の軌道の上方に配置されている。撮像手段8は、可視光線によりウエーハを撮像する通常の撮像素子(CCD)と、ウエーハに赤外線を照射する赤外線照射手段と、赤外線照射手段により照射された赤外線を捕らえる光学系と、光学系が捕らえた赤外線に対応する電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)とを含む(いずれも図示していない。)。撮像手段8が撮像した画像は、表示手段10および制御手段12に送られる。
制御手段12は、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)と、制御プログラム等を格納するリードオンリメモリ(ROM)と、演算結果等を格納する読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)とを有するコンピュータから構成されている。
切削装置2は、さらに、ウエーハを複数枚収容したカセット24が置かれる昇降自在なカセット台26と、カセット24から加工前のウエーハを引き出して仮置きテーブル28まで搬出すると共に、仮置きテーブル28に位置づけられた加工済みのウエーハをカセット24に搬入する搬出入手段30と、カセット24から仮置きテーブル28に搬出された加工前のウエーハをチャックテーブル4に搬送する第一の搬送手段32と、加工済みのウエーハを洗浄する洗浄手段34と、加工済みのウエーハをチャックテーブル4から洗浄手段34に搬送する第二の搬送手段36とを備える。
(情報登録工程)
切削装置用意工程を実施した後、マーキングすべき情報を制御手段12に登録する情報登録工程を実施する。マーキングすべき情報とは、ウエーハに形成されている複数のデバイスのそれぞれを識別するための情報である。
(表面保護部材配設工程)
図示の実施形態では、情報登録工程を実施した後、ウエーハの表面に保護部材を配設する表面保護部材配設工程を実施する。
図2には、本実施形態のウエーハの処理方法によって処理可能なウエーハ38が示されている。ウエーハ38は、円板状であり、たとえば、シリコン等の適宜の半導体材料から形成され得る。ウエーハ38の表面38aは、格子状の分割予定ライン40によって複数の矩形領域に区画されており、複数の矩形領域のそれぞれにはIC、LSI等のデバイス42が形成されている。また、ウエーハ38の周縁には、結晶方位を示すノッチ44が形成されている。
表面保護部材配設工程では、図2に示すとおり、ウエーハ38の直径とほぼ同一の直径を有する円形の保護部材46をウエーハ38の表面38aに配設する。保護部材46は、粘着層を有するものでよく、この場合には、ウエーハ38の表面38aに保護部材46を貼り付けることにより、本工程を実施することができる。尚、ポリオレフィンの如く熱圧着シートを保護部材46とする場合は、粘着層は不要である。
(保持工程)
表面保護部材配設工程を実施した後、複数のデバイス42が分割予定ライン40によって区画された表面38aを有するウエーハ38の表面38a側をチャックテーブル4に保持させ、ウエーハ38の裏面38b側を露出させる保持工程を実施する。
図3に示すとおり、保持工程では、まず、ウエーハ38の表面38aを下に向けて、チャックテーブル4の上面にウエーハ38を載せる。次いで、吸着チャック14に接続されている吸引手段を作動させ、吸着チャック14の上面に吸引力を生成し、吸着チャック14の上面でウエーハ38を吸引保持する。
(位置登録工程)
保持工程を実施した後、チャックテーブル4に保持されたウエーハ38を撮像手段8で撮像してマーキングすべきデバイス42毎の位置をX座標Y座標で特定して制御手段12に登録する位置登録工程を実施する。
位置登録工程では、まず、X軸送り手段によってチャックテーブル4を移動させ、撮像手段8の下方にウエーハ38を位置づける。次いで、チャックテーブル4に保持されたウエーハ38を撮像手段8で撮像する。次いで、撮像手段8で撮像したウエーハ38の画像に基づいて、分割予定ライン40をX軸方向に整合させる。
このとき、ウエーハ38の裏面38bが上を向き、分割予定ライン40が形成されている表面38aは下を向いているが、上述のとおり、撮像手段8は、赤外線照射手段と、赤外線を捕らえる光学系と、赤外線に対応する電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)とを含むので、ウエーハ38の裏面38bから透かして表面38aの分割予定ライン40を撮像することができる。
次いで、マーキングすべきデバイス42毎の位置をX座標Y座標で特定する。この際は、たとえば、図4に示すように、分割予定ライン40の中心線L同士の各交点のXY座標を検出することにより、デバイス42の位置を特定することができる。具体的には、デバイス42aの周囲の4個の交点座標(X、Y)、(X、Y)、(X、Y)、(X、Y)を検出することにより、マーキングすべきデバイス42aの位置を特定することができる。このようにして、すべてのデバイス42の位置をX座標Y座標で特定する。
また、位置登録工程においては、デバイス42の周囲の交点座標に代えて、デバイス42上の特徴的なパターン(キーパターン)のX座標Y座標を検出することにより、デバイス42の位置を特定してもよい。なお、X座標Y座標の原点は、任意に設定することができる。たとえば、X座標Y座標の原点をノッチ44に設定することができる。
(マーキング工程)
位置登録工程を実施した後、位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて、X軸送り手段およびY軸送り手段を作動させ、切削ブレード22を所望位置に位置づけると共にZ軸送り手段を作動させ、情報登録工程で登録した情報を切削ブレード22で個々のデバイス42の裏面にマーキングするマーキング工程を実施する。
マーキング工程では、まず、X軸送り手段によってチャックテーブル4を移動させ、切削手段6の下方にウエーハ38を位置づける。次いで、位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて、X軸送り手段およびY軸送り手段を作動させ、マーキングすべきデバイス42の上方に切削ブレード22を位置づける。
次いで、Z軸送り手段によってスピンドルハウジング18を下降させ、高速回転させた切削ブレード22の刃先をウエーハ38の裏面38bから表面38aに至らない程度に切り込ませる共に、切削ブレード22の刃先を切り込ませる部分に切削水を供給する。そして、図5に示すとおり、X・Y・Z軸送り手段を適宜作動させながら、ウエーハ38の裏面38bに切削ブレード22の刃先を繰り返し切り込ませ、バーコードの形態によって構成され得るマーキング48をデバイス42の裏面に形成する。
1個のデバイス42にマーキング48を形成したら、分割予定ライン40のX軸方向の間隔の分だけ、チャックテーブル4をX軸方向に移動させながら、マーキング48を繰り返す。また、1列のデバイス42のすべてにマーキング48を形成した後、分割予定ライン40のY軸方向の間隔の分だけ、チャックテーブル4をY軸方向に移動させ、次の列のデバイス42群にマーキング48を形成する。このようにして、ウエーハ38上の全部のデバイス42にマーキング48を形成する。
(ウエーハ支持工程)
図示の実施形態では、マーキング工程を実施した後、図6に示すとおり、ウエーハ38の裏面38bにダイシングテープ50を貼着すると共に、ウエーハ38を収容する開口部52aを有するフレーム52でダイシングテープ50を介してウエーハ38を支持するウエーハ支持工程を実施する。なお、ウエーハ支持工程は、チャックテーブル4の吸引力を解除し、チャックテーブル4からウエーハ38を搬出してから行う。
(分割工程)
ウエーハ支持工程を実施した後、ウエーハ38の表面38aから保護部材46を剥離してウエーハ38を個々のデバイスチップに分割する分割工程を実施する。
分割工程では、まず、図6に示すように、ウエーハ38の表面38aから保護部材46を剥離する。次いで、ウエーハ38の表面38aを上に向けて、チャックテーブル4の上面でウエーハ38を吸引保持する。また、チャックテーブル4のクランプ16でフレーム52を固定する。次いで、撮像手段8でウエーハ38を撮像し、撮像手段8で撮像したウエーハ38の画像に基づいて、分割予定ライン40をX軸方向に整合させると共に、X軸方向に整合させた分割予定ライン40に対応する領域を切削ブレード22の下方に位置づける。
次いで、図7に示すとおり、高速回転させた切削ブレード22の刃先を表面38aから裏面38bに至るまで切り込ませると共に、切削ブレード22の刃先を切り込ませる部分に切削水を供給しながら、切削手段6に対してチャックテーブル4(図7では省略している。)をX軸方向に加工送りすることによって、分割予定ライン40に沿って分割溝54を形成する。
そして、分割予定ライン40のY軸方向の間隔の分だけ、チャックテーブル4に対して切削ブレード22をY軸方向に割り出し送りしながら分割溝54の形成を繰り返し、X軸方向に整合させた分割予定ライン40のすべてに沿って分割溝54を形成する。また、チャックテーブル4を90度回転させた上で、割り出し送りしながら分割溝54の形成を繰り返し、先に分割溝54を形成した分割予定ライン40と直交する分割予定ライン40のすべてに沿って分割溝54を形成する。このようにして、図8に示すとおり、個々のデバイスチップにウエーハ38を分割する。
以上のとおりであり、図示の実施形態では、切削加工によってデバイス42毎にマーキング48を形成するので、デバイスチップ毎に過去情報の引き継ぎが可能であると共に、デバイスチップ毎のトレーサビリティが確保される。
なお、図示の実施形態では、ウエーハ38を個々のデバイスチップに分割する前にマーキング工程を実施する例を説明したが、ウエーハ38を個々のデバイスチップに分割した後に、マーキング工程を実施してもよい。
分割後にマーキング工程を実施する場合には、ウエーハ支持工程および分割工程を実施し、次いで、個々のデバイスチップに分割されたウエーハ38の表面38aにウエーハ38の形態を維持する維持部材(たとえば、保護部材46と同様の円形の粘着テープでよい。)を配設する維持部材配設工程を実施した後、ダイシングテープ50からウエーハ38を剥離した上で、保持工程、位置登録工程およびマーキング工程を実施するのが好ましい。
2:切削装置
4:チャックテーブル
6:切削手段
8:撮像手段
10:表示手段
12:制御手段
22:切削ブレード
38:ウエーハ
38a:ウエーハの表面
38b:ウエーハの裏面
40:分割予定ライン
42:デバイス
46:保護部材
48:マーキング
50:ダイシングテープ
52:フレーム
52a:フレームの開口部

Claims (6)

  1. ウエーハの処理方法であって、
    ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に備えた切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段と、該X軸方向に直交するY軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に割り出し送りするY軸送り手段と、該X軸方向および該Y軸方向に直交するZ軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に切り込み送りするZ軸送り手段と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、制御手段と、を少なくとも備えた切削装置を用意する切削装置用意工程と、
    マーキングすべき情報を該制御手段に登録する情報登録工程と、
    複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面を有するウエーハの表面側を該チャックテーブルに保持させウエーハの裏面側を露出させる保持工程と、
    該チャックテーブルに保持されたウエーハを該撮像手段で撮像してマーキングすべきデバイス毎の位置をX座標Y座標で特定して該制御手段に登録する位置登録工程と、
    該位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて該X軸送り手段および該Y軸送り手段を作動させ該切削ブレードを所望位置に位置づけると共に該Z軸送り手段を作動させ、該情報登録工程で登録した情報を該切削ブレードで個々のデバイスの裏面にマーキングするマーキング工程と、
    を含むウエーハの処理方法。
  2. ウエーハを個々のデバイスチップに分割する前に該マーキング工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
  3. 該保持工程の前に、ウエーハの表面に保護部材を配設する表面保護部材配設工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
  4. ウエーハの裏面にダイシングテープを貼着すると共にウエーハを収容する開口部を有するフレームでダイシングテープを介してウエーハを支持するウエーハ支持工程と、ウエーハの表面から該保護部材を剥離してウエーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程とを含む請求項3のウエーハの処理方法。
  5. ウエーハを個々のデバイスチップに分割した後に該マーキング工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
  6. 該保持工程の前に、個々のデバイスチップに分割されたウエーハの表面にウエーハの形態を維持する維持部材を配設する維持部材配設工程を含む請求項5記載のウエーハの処理方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000228341A (ja) 1999-02-08 2000-08-15 Toshiba Corp 半導体集積回路
JP2002026045A (ja) 2000-07-03 2002-01-25 Fujitsu Ltd ウエハレベル半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2012209311A (ja) 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Epson Corp Idマーク形成方法、半導体チップ、半導体装置、半導体装置のx線検査方法
JP2015056510A (ja) 2013-09-12 2015-03-23 株式会社ディスコ デバイスウェーハの加工方法
JP2021089938A (ja) 2019-12-03 2021-06-10 株式会社ディスコ 加工装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60217624A (ja) * 1984-04-13 1985-10-31 Toshiba Corp 半導体ウエ−ハ製造方法
JPH02125412A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Yamaha Corp バーコード付き物品とその製法
JP3685837B2 (ja) 1995-05-30 2005-08-24 宮崎沖電気株式会社 半導体ウエハへのレーザマーキング方法及びその装置
JP6215666B2 (ja) 2013-11-19 2017-10-18 株式会社ディスコ 加工装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000228341A (ja) 1999-02-08 2000-08-15 Toshiba Corp 半導体集積回路
JP2002026045A (ja) 2000-07-03 2002-01-25 Fujitsu Ltd ウエハレベル半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2012209311A (ja) 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Epson Corp Idマーク形成方法、半導体チップ、半導体装置、半導体装置のx線検査方法
JP2015056510A (ja) 2013-09-12 2015-03-23 株式会社ディスコ デバイスウェーハの加工方法
JP2021089938A (ja) 2019-12-03 2021-06-10 株式会社ディスコ 加工装置

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