JP7680909B2 - ウエーハの処理方法 - Google Patents
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Description
図示の実施形態では、まず、所要の切削装置を用意する切削装置用意工程を実施する。本工程で用意するのは、たとえば、図1に示す切削装置2でよい。
切削装置用意工程を実施した後、マーキングすべき情報を制御手段12に登録する情報登録工程を実施する。マーキングすべき情報とは、ウエーハに形成されている複数のデバイスのそれぞれを識別するための情報である。
図示の実施形態では、情報登録工程を実施した後、ウエーハの表面に保護部材を配設する表面保護部材配設工程を実施する。
表面保護部材配設工程を実施した後、複数のデバイス42が分割予定ライン40によって区画された表面38aを有するウエーハ38の表面38a側をチャックテーブル4に保持させ、ウエーハ38の裏面38b側を露出させる保持工程を実施する。
保持工程を実施した後、チャックテーブル4に保持されたウエーハ38を撮像手段8で撮像してマーキングすべきデバイス42毎の位置をX座標Y座標で特定して制御手段12に登録する位置登録工程を実施する。
位置登録工程を実施した後、位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて、X軸送り手段およびY軸送り手段を作動させ、切削ブレード22を所望位置に位置づけると共にZ軸送り手段を作動させ、情報登録工程で登録した情報を切削ブレード22で個々のデバイス42の裏面にマーキングするマーキング工程を実施する。
図示の実施形態では、マーキング工程を実施した後、図6に示すとおり、ウエーハ38の裏面38bにダイシングテープ50を貼着すると共に、ウエーハ38を収容する開口部52aを有するフレーム52でダイシングテープ50を介してウエーハ38を支持するウエーハ支持工程を実施する。なお、ウエーハ支持工程は、チャックテーブル4の吸引力を解除し、チャックテーブル4からウエーハ38を搬出してから行う。
ウエーハ支持工程を実施した後、ウエーハ38の表面38aから保護部材46を剥離してウエーハ38を個々のデバイスチップに分割する分割工程を実施する。
4:チャックテーブル
6:切削手段
8:撮像手段
10:表示手段
12:制御手段
22:切削ブレード
38:ウエーハ
38a:ウエーハの表面
38b:ウエーハの裏面
40:分割予定ライン
42:デバイス
46:保護部材
48:マーキング
50:ダイシングテープ
52:フレーム
52a:フレームの開口部
Claims (6)
- ウエーハの処理方法であって、
ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に備えた切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段と、該X軸方向に直交するY軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に割り出し送りするY軸送り手段と、該X軸方向および該Y軸方向に直交するZ軸方向に該チャックテーブルと該切削手段とを相対的に切り込み送りするZ軸送り手段と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、制御手段と、を少なくとも備えた切削装置を用意する切削装置用意工程と、
マーキングすべき情報を該制御手段に登録する情報登録工程と、
複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面を有するウエーハの表面側を該チャックテーブルに保持させウエーハの裏面側を露出させる保持工程と、
該チャックテーブルに保持されたウエーハを該撮像手段で撮像してマーキングすべきデバイス毎の位置をX座標Y座標で特定して該制御手段に登録する位置登録工程と、
該位置登録工程で登録したX座標Y座標に基づいて該X軸送り手段および該Y軸送り手段を作動させ該切削ブレードを所望位置に位置づけると共に該Z軸送り手段を作動させ、該情報登録工程で登録した情報を該切削ブレードで個々のデバイスの裏面にマーキングするマーキング工程と、
を含むウエーハの処理方法。 - ウエーハを個々のデバイスチップに分割する前に該マーキング工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
- 該保持工程の前に、ウエーハの表面に保護部材を配設する表面保護部材配設工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
- ウエーハの裏面にダイシングテープを貼着すると共にウエーハを収容する開口部を有するフレームでダイシングテープを介してウエーハを支持するウエーハ支持工程と、ウエーハの表面から該保護部材を剥離してウエーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程とを含む請求項3のウエーハの処理方法。
- ウエーハを個々のデバイスチップに分割した後に該マーキング工程を実施する請求項1記載のウエーハの処理方法。
- 該保持工程の前に、個々のデバイスチップに分割されたウエーハの表面にウエーハの形態を維持する維持部材を配設する維持部材配設工程を含む請求項5記載のウエーハの処理方法。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000228341A (ja) | 1999-02-08 | 2000-08-15 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
| JP2002026045A (ja) | 2000-07-03 | 2002-01-25 | Fujitsu Ltd | ウエハレベル半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
| JP2012209311A (ja) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Seiko Epson Corp | Idマーク形成方法、半導体チップ、半導体装置、半導体装置のx線検査方法 |
| JP2015056510A (ja) | 2013-09-12 | 2015-03-23 | 株式会社ディスコ | デバイスウェーハの加工方法 |
| JP2021089938A (ja) | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60217624A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-10-31 | Toshiba Corp | 半導体ウエ−ハ製造方法 |
| JPH02125412A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Yamaha Corp | バーコード付き物品とその製法 |
| JP3685837B2 (ja) | 1995-05-30 | 2005-08-24 | 宮崎沖電気株式会社 | 半導体ウエハへのレーザマーキング方法及びその装置 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000228341A (ja) | 1999-02-08 | 2000-08-15 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
| JP2002026045A (ja) | 2000-07-03 | 2002-01-25 | Fujitsu Ltd | ウエハレベル半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
| JP2012209311A (ja) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Seiko Epson Corp | Idマーク形成方法、半導体チップ、半導体装置、半導体装置のx線検査方法 |
| JP2015056510A (ja) | 2013-09-12 | 2015-03-23 | 株式会社ディスコ | デバイスウェーハの加工方法 |
| JP2021089938A (ja) | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
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