JP7687066B2 - 光反応性基を含む重合体の組成物、光学薄膜 - Google Patents
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Description
溶融製膜する方法は、具体的にはTダイを用いた溶融押出法、カレンダ-成形法、熱プレス法、共押出法、共溶融法、多層押出、インフレ-ション成形法等があり、特に限定されない。
溶液キャスト法は、組成物を溶媒に溶解した溶液(以下、「キャスト用ド-プ」という。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去して薄膜を得る方法である。その際、キャスト用ド-プを支持基板上に流延する方法としては、スピンコート法、Tダイ法、ドクタ-ブレ-ド法、バ-コ-タ-法、ロ-ルコ-タ-法、リップコ-タ-法等が用いられる。特に工業的にはダイからキャスト用ド-プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ-ト、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド等のフィルム等がある。
本発明の薄膜は、膜厚むらを低減させるために界面活性剤を少なくとも1種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。
Re=(ny-nx)×d (A)
(式中、nxは面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyは面内の遅相軸方向の屈折率を示し、dは厚みを示す。)
核磁気共鳴装置(日本電子製、商品名:ECZ 400S)を用いて、1H-NMRスペクトルを測定した。
バンドパスフィルター(248nm)を組み込んだ水銀光源(朝日分光製、商品名:REX-250)を用いて紫外線を照射した。偏光紫外線を照射する場合は、対応する波長の偏光ビームスプリッターにてP偏光のみを照射した。
無酸化雰囲気恒温器イナートオーブン(ESPEC製、商品名:IPHH-202)のいずれかを用いて、加熱処理を行った。
試料傾斜型自動複屈折計(AXOMETRICS社製、商品名:AxoScan)を用いて、波長589nmの光を用いて位相差膜の位相差特性を測定した。
分光エリプソメーター(J.A. Woollam社製、商品名:RC2-U)を用いて、薄膜の膜厚を測定した。
顕微鏡(オリンパス製、商品名:BX53)、偏光用コンデンサ(オリンパス製、商品名:U-POC-2)、アナライザ(オリンパス製、商品名:U-AN360P-2)を用いて、薄膜上の低分子液晶を観察し、液晶配向性を観察した。
Chinese Journal of chemistry, 23, 1523, 2005. に記載の方法で、フェノール部位を保護したテトラヒドロピラニル-クマル酸(10g、40.3mmmol)とtrans-シクロヘキサンジオール(2.29g、19.7mmol)、塩基触媒として4-ジメチルアミノピリジン(2.5g)を脱水ジクロロメタン(100ml)に窒素気流下0℃にて溶解させた。これに1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド(8.49g、44.3mmmol)を加え、室温へ戻して一晩反応させた。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧留去した。
残滓をテトラヒドロフラン(200ml)に再溶解し、2N 塩化水素(40ml)を加え、室温にて二時間撹拌した。沈殿物をろ過して化合物1 6.74gを得た。1H-NMRスペクトルの結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz,(CD3)2SO):δ7.53-7.49(m,6H),6.76-6.73(m,4H),6.38-6.31(m,2H),4.79(brs,2H),1.94(brs,4H),1.54(brs,4H).
(化合物1)
窒素気流下、4-メトキシ-N-メチルアニリン(3.00g, 21.9mmol)、テトラヒドロフラン(20mL)、水(20mL)の混合物を氷冷した後、炭酸水素ナトリウム(11g)を加えた。混合物を撹拌しながら、テレフタル酸クロリド(2.17g,10.7mmol)のテトラヒドロフラン(20mL)溶液をゆっくりと加え、3時間氷冷下で撹拌した。反応混合物に水(500mL)を加え、生じた固体をろ取した後、2N塩酸(200mL)、メタノール(300mL)にて洗浄することでN,N’-ビス(4-メトキシフェニル)-N,N’-ジメチル-1,4-ベンゼンジカルボキシアミド(3.91g,収率:90%)を得た。1H-NMRスペクトルの結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz,(CD3)2SO):δ7.07(s,4H),6.83(d,J=8.0Hz,4H),6.67(d,J=8.0Hz,4H),3.73(s,6H),3.38(s,6H).
上記にて得たN,N’-ビス(4-メトキシフェニル)-N,N’-ジメチル-1,4-ベンゼンジカルボキシアミド(1.00g,2.47mmol)をジクロロメタン(25mL)に溶解した後、氷冷下にて1mol/L三臭化ほう素ジクロロメタン溶液(7.4mL)を5分かけて加えた。反応系を室温まで昇温させた後、15時間撹拌し、反応混合物を氷冷した水(300mL)に加えた。系中に生じた固体をろ取し、水(500mL)で洗浄することで化合物2の褐色固体(776mg,83%)を得た。1H-NMRスペクトルの結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz,(CD3)2SO):δ9.55-9.28(br,2H),6.98(s,4H),6.87-6.67(m,4H),6.58-6.49(m,4H),3.20(s,6H).
(化合物2)
滴下漏斗を具備した三口フラスコに、イオン交換水(18.5mL)を取り、化合物1(0.160g、0.392mmol)と化合物2(1.24g、3.29mmol)と水酸化ナトリウム(0.300g、7.50mmol)を溶解させ撹拌した。触媒として臭化テトラn-ブチルアンモニウムの2.0重量%水溶液(1.5mL)を加え、装置内を窒素置換した。クロロホルム(18.5mL)に化合物3(0.773g、3.70mmol)を溶解させた溶液を滴下漏斗に取り、滴下した後、常温で三時間撹拌した。反応後の溶液をメタノールへ投入し、沈殿物をろ別した後、真空乾燥して重合体1を得た(収率88%)。
(化合物3)
4.5重量%の重合体1と熱再配向促進剤としてフタル酸ジブチル(分子量:278)0.5重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して6000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.847μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、150℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
5.0重量%の重合体1と熱再配向促進剤としてフタル酸ジトリデシル(分子量:531)0.56重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール94.44重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して6000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.941μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてイソフタル酸ビス(2-エチルヘキシル)(分子量:391)を用いたこと以外は実施例2と同様にして薄膜(膜厚0.916μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてトリメリット酸トリブチル(分子量:378)を用いたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.714μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、150℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてトリメリット酸トリス(2-エチルヘキシル)(分子量:547)を用いたこと以外は実施例2と同様にして薄膜(膜厚0.955μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてクエン酸トリエチル(分子量:276)を用いたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.851μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、150℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてO-ブチリルクエン酸トリヘキシル(分子量:514)を用いたこと以外は実施例2と同様にして薄膜(膜厚0.879μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸トリブチル(分子量:266)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.881μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸トリス(2-クロロエチル)(分子量:285)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.867μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸トリアミル(分子量:308)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.902μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸トリフェニル(分子量:326)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.899μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸2-エチルヘキシルジフェニル(分子量:362)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.945μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進剤としてリン酸トリ-о-クレジル(分子量:368)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.879μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4.95重量%の重合体1と熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリクレジル(分子量:368)0.05重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して4000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚1.022μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリクレジル(分子量:368)を用いて、6000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例2と同様にして薄膜(膜厚0.911μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4重量%の重合体1と熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリクレジル(分子量:368)1重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して5000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.752μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリス(2-ブトキシエチル)(分子量:398)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.881μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリス(1,3-ジクロロ-2-プロピル)(分子量:431)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.901μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてリン酸トリス(2-エチルヘキシル)(分子量:435)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.967μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤として4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジオクチル(分子量:451)を用いたこと以外は実施例2と同様にして薄膜(膜厚0.945μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてアデカサイザー P-300(分子量:3000、アジピン酸系ポリエステル)を用いて、2000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚1.113μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてIrganox(登録商標) 245(ビス[3―(3-tert―ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)])(分子量:587)を用いたこと以外は実施例14と同様にして薄膜(膜厚0.952μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてIrganox(登録商標) 245(ビス[3―(3-tert―ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)])(分子量:587)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.915μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4.25重量%の重合体1と熱再配向促進可塑剤としてIrganox(登録商標) 245(ビス[3―(3-tert―ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)])(分子量:587)0.75重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して4000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.936μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4.5重量%の重合体1と熱再配向促進可塑剤として4,4‘-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン(分子量:406)0.5重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール/クロロホルム=4/1(重量比)溶液95重量%へ溶解し、2000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚1.337μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤として亜リン酸イソデシル(分子量:503)を用いて、2000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚1.127μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤として3,3‘-チオジプロピオン酸ジドデシル(分子量:515)を用いて、2000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚1.054μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてセバシン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)(分子量:509)を用いたこと以外は実施例14と同様にして薄膜(膜厚0.963μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてセバシン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)(分子量:509)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例1と同様にして薄膜(膜厚0.937μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
熱再配向促進可塑剤としてセバシン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)(分子量:509)を用いて、4000rpmでスピンコートしたこと以外は実施例24と同様にして薄膜(膜厚1.009μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差が発現した。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
1.8重量%の重合体1と熱再配向促進剤としてリン酸トリクレジル(分子量:368)0.2重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール98重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して6000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.2μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、130℃にて加熱し液晶配向膜を作成した。
1.5mm×20mmに切り取った厚さ25μmのPETフィルム(東レ製、製品名:ルミラー(R)T60)2枚をスペーサーとして、本液晶配向膜が積層された石英ガラス板2枚を薄膜が内側に、かつ偏光紫外光が照射された方向が平行になるように重ね合わせ、液晶注入口エリアとなる部分を除く石英ガラス板の周辺に瞬間接着剤(東亞合成製、アロンアルフア201)で接着して液晶空セルとした。接着後、液晶空セルに50℃で加熱した4-シアノ-4‘-ペンチルビフェニルを注入し、液晶セルとした。得られた液晶セルについて、偏光顕微鏡を用いて薄膜に偏光紫外光が照射された方向に対して偏光子の角度が0°、45°、90°となるように3方向観察したところ、顕微鏡像は暗、明、暗と変化し、液晶ダイレクタが均一に整って配向していることを確認した。200℃以下の加熱処理による液晶配向膜の製造可否を表2に示す。
[本明細書において、液晶ダイレクタとは液晶性分子の長軸が配向している方向(配向主軸)のベクトルを意図する。]
5重量%の重合体1を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して6000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.954μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、140℃にて加熱したところ、高位相差は発現しなかった。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4.5重量%の重合体1とフタル酸ジメチル(分子量:194)0.5重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して6000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.856μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、150℃にて加熱したところ、高位相差は発現しなかった。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
4.5重量%の重合体1とリン酸トリメチル(分子量:140)0.5重量%を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール95重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して4000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.867μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、150℃にて加熱したところ、高位相差は発現しなかった。膜厚10μm換算の位相差量を表1に示す。
2重量%の重合体1を、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール98重量%へ溶解した。これを石英ガラス基板上に流延して7000rpmで60秒間スピンコートし、オーブン中60℃で60分乾燥させ薄膜(膜厚0.2μm)を得た。得られた薄膜に248nmの偏光紫外光を500mJ/cm2照射した後、130℃にて加熱し薄膜を作成した。
1.5mm×20mmに切り取った厚さ25μmのPETフィルム(東レ製、製品名:ルミラー(R)T60)2枚をスペーサーとして、本薄膜が積層された石英ガラス板2枚を薄膜が内側に、かつ偏光紫外光が照射された方向が平行になるように重ね合わせ、液晶注入口エリアとなる部分を除く石英ガラス板の周辺に瞬間接着剤(東亞合成製、アロンアルフア201)で接着して液晶空セルとした。接着後、液晶空セルに50℃で加熱した4-シアノ-4‘-ペンチルビフェニルを注入し、液晶セルとした。得られた液晶セルについて、偏光顕微鏡を用いて薄膜に偏光紫外光が照射された方向に対して偏光子の角度が0°、45°、90°となるように3方向観察したところ、顕微鏡像は常に明るいままであり、液晶ダイレクタが均一に整って配向していないことを確認した。200℃以下の加熱処理による液晶配向膜の製造可否を表2に示す。
Claims (12)
- 以下の式(1)で表される構成単位Aを有し、以下の式(2)で表される構成単位B及び以下の式(3)で表される構成単位Cを有する重合体を80~99.99重量%、分子量が200以上10000以下の熱再配向促進剤を0.01~20重量%を含有する樹脂組成物。
(式(1)中、X1~X3は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数5~7の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基中の任意の炭素原子は窒素原子、酸素原子、硫黄原子に置換されてもよい。ここでX1~X3における置換基は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のアルコキシ基からなる群の1種を表し、X1~X3が置換基を有さない場合、水素原子である。Y1およびY2は、-O-を表す。Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数5~7の芳香環を表し、該芳香環中の任意の炭素原子は窒素原子、酸素原子、硫黄原子に置換されてもよい。ここでAr1およびAr2における置換基は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のアルコキシ基からなる群の1種を表し、Ar1およびAr2が置換基を有さない場合、水素原子である。
R1~R4は、水素原子を表す。L1およびL4は、-O-を表す。L2およびL3は、単結合を表す。
aおよびbは、0を表す。)
(式(2)中、Y3およびY4は、-O-を表す。X4~X6は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数5~7の芳香環を表し、該芳香環中の任意の炭素原子は窒素原子、酸素原子、硫黄原子に置換されてもよい。R11およびR12は、炭素数1~5のアルキル基を表す。cは、0または1を表す。)
(式(3)中、Y5およびY6は、-CO-を表す。Zは、炭素数5~7の脂環式炭化水素基を表す。) - 式(1)中のAr1およびAr2が置換基を有していてもよいベンゼン環である請求項1に記載の樹脂組成物。
- 熱再配向促進剤が可塑剤である請求項1~2のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 熱再配向促進剤が酸化防止剤である請求項1~2のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 熱再配向促進剤が光安定剤である請求項1~2のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含む光学薄膜。
- 請求項6に記載の光学薄膜に紫外線を照射して得られる光学薄膜。
- 請求項7に記載の光学薄膜に、偏光紫外線または斜め入射紫外線を照射して得られる光学薄膜。
- 光反応性基の光反応率が50%以下である請求項7または請求項8に記載の光学薄膜。
- 請求項7~9のいずれか一項に記載の光学薄膜に該樹脂組成物が液晶性を発現する範囲内の温度で加熱してなることを特徴とする光学薄膜。
- 請求項6~10のいずれか一項に記載の薄膜を備えた位相差膜。
- 請求項6~10のいずれか一項に記載の薄膜を備えた液晶配向膜。
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| Poerschke RALF et al.,Semiflexible main-chain liquid crystal polymers - the influence of the chemical structure on liquid,Macromolecular Chemistry and Physics,195(11),PP.3643-3654 |
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