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JP7689838B2 - Defect inspection method and defect inspection device - Google Patents
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Description

本発明は、光学フィルムの欠陥検査方法及び欠陥検査装置に関する。 The present invention relates to a defect inspection method and defect inspection device for optical films.

液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置に用いられる偏光板は、一般的に偏光子が2枚の保護フィルムに挟まれて構成されている。偏光板は、表示装置に貼合するために一方の保護フィルムには粘着剤層が積層され、他方の保護フィルムには、流通時に当該保護フィルムの表面等に傷等が生じることを防止するためのプロテクトフィルムが積層されることがある。粘着剤層には、通常、剥離フィルムが積層される。偏光子の具体例としては、一軸延伸されたポリビニルアルコール系(PVA系)樹脂フィルムにヨウ素や二色性染料等の二色性色素が吸着配向したPVA系偏光フィルムや、重合性液晶化合物の重合体と二色性色素とを含む液晶硬化層からなる偏光子(以下、「液晶偏光子」ともいう)等が挙げられる。液晶偏光子は、通常、重合性液晶化合物を含む組成物を基材フィルム上に塗布して硬化させることにより形成され、薄い偏光子を製造できる利点がある。このようなPVA系偏光フィルムや液晶偏光子は後述のように、特定の振動面の直線偏光を通過する作用を有するものであり、「直線偏光子」と呼ばれる。また、この直線偏光子の片面又は両面に保護フィルムを有するものは、一般に「直線偏光板」と呼ばれる。 A polarizing plate used in a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device is generally constructed by sandwiching a polarizer between two protective films. In order to attach the polarizing plate to a display device, an adhesive layer is laminated on one protective film, and a protective film may be laminated on the other protective film to prevent scratches on the surface of the protective film during distribution. A release film is usually laminated on the adhesive layer. Specific examples of polarizers include a PVA-based polarizing film in which a dichroic dye such as iodine or a dichroic dye is adsorbed and oriented on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA-based) resin film, and a polarizer (hereinafter also referred to as a "liquid crystal polarizer") made of a liquid crystal cured layer containing a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye. A liquid crystal polarizer is usually formed by applying a composition containing a polymerizable liquid crystal compound on a substrate film and curing it, and has the advantage of being able to produce a thin polarizer. As described below, such a PVA-based polarizing film and liquid crystal polarizer have the effect of passing linearly polarized light of a specific vibration plane, and are called "linear polarizers". Furthermore, linear polarizers that have protective films on one or both sides are generally called "linear polarizing plates."

偏光板や偏光子にはその製造段階で欠陥が生じることがある。例えば、偏光子と保護フィルムとの間に異物が混入したり、気泡が残ったりする欠陥が生じることがある。また、液晶偏光子は、製造時の塗布ムラにより、偏光板の光学特性にムラが生じることがある。 Defects can occur in polarizing plates and polarizers during the manufacturing process. For example, defects can occur such as foreign matter being mixed in between the polarizer and the protective film, or air bubbles remaining. Furthermore, uneven coating during manufacturing can cause unevenness in the optical properties of liquid crystal polarizers.

そこで、偏光板を表示装置に組み込む前の段階で、偏光板の欠陥を検出するための検査が行われる。この欠陥の検査は、特開平9-229817号公報(特許文献1)に示されているように、被検査物である偏光板と光源との間に偏光フィルタを設けたうえで、この偏光板又は偏光フィルタを平面方向に回転させ、これらのそれぞれの偏光軸方向を特定の関係とする。偏光軸方向同士が互いに直交する場合(すなわちクロスニコルを構成する配置の場合)、偏光フィルタを通過した直線偏光は偏光板を透過しない。しかしながら、偏光板に欠陥が存在すると、当該箇所では直線偏光が透過してしまうので、その光が検出されることで欠陥の存在が判明する。 Therefore, before the polarizing plate is incorporated into the display device, an inspection is performed to detect defects in the polarizing plate. As shown in JP-A-9-229817 (Patent Document 1), this defect inspection involves placing a polarizing filter between the polarizing plate to be inspected and a light source, and then rotating the polarizing plate or polarizing filter in a planar direction to set the polarization axis directions of each of these in a specific relationship. When the polarization axis directions are perpendicular to each other (i.e., when they are arranged to form a crossed Nicol), linearly polarized light that passes through the polarizing filter does not pass through the polarizing plate. However, if there is a defect in the polarizing plate, linearly polarized light passes through that location, and the presence of the defect is revealed by detecting that light.

一方、偏光板と偏光フィルタとの偏光軸方向同士が平行である場合、偏光フィルタを通過した直線偏光は偏光板を透過する。しかしながら、偏光板に欠陥が存在すると、当該箇所では直線偏光が遮断されるので、その光が検出されないことで欠陥の存在が判明する。偏光板を透過してきた光を検査者が目視により検出するか、あるいはCCDカメラと画像処理装置とを組み合わせた画像解析処理値により自動的に検出することで、偏光板の欠陥の有無の検査を行うことができる。 On the other hand, when the polarization axes of the polarizing plate and the polarizing filter are parallel, the linearly polarized light that passes through the polarizing filter is transmitted through the polarizing plate. However, if there is a defect in the polarizing plate, the linearly polarized light is blocked at that location, and the presence of the defect becomes apparent because the light is not detected. The presence or absence of defects in the polarizing plate can be inspected by an inspector visually detecting the light that has passed through the polarizing plate, or by automatically detecting it using image analysis processing values that combine a CCD camera and image processing device.

特開平9-229817号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-229817

特許文献1に記載の方法によると、異物や気泡の混入のように、光学特性において周囲との違いが大きい局所的な欠陥の検出はできるものの、光学特性のムラを検出することは難しかった。 The method described in Patent Document 1 can detect localized defects with optical properties that differ greatly from the surrounding area, such as foreign matter or air bubbles, but it is difficult to detect unevenness in optical properties.

本発明は、光学特性のムラを検出することができる欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a defect inspection method and defect inspection device that can detect unevenness in optical characteristics.

本発明は、以下に示す欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。
〔1〕 被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査方法であって、
前記欠陥検査方法は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源、を用い、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置する配置工程と、
下記の工程b1又は工程b2:
(b1)前記光源から照射され、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過した光を検出する工程;又は
(b2)前記光源から照射され、前記第2フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第1フィルタを、この順で透過した光を検出する工程、
である検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記光学フィルムの欠陥を判断する判断工程と、を有する欠陥検査方法。
The present invention provides the following defect inspection method and defect inspection apparatus.
[1] A defect inspection method for an optical film having a polarizer to be inspected, comprising the steps of:
The defect inspection method includes using a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order, and the following conditions a1 and a2 are satisfied:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the absorption axis of the test polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
An arrangement step of arranging the
Step b1 or step b2 below:
(b1) detecting light emitted from the light source and transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order; or (b2) detecting light emitted from the light source and transmitted through the second filter, the optical film, and the first filter in this order;
a detection step,
and a determination step of determining a defect in the optical film based on a result of the detection step.

〔2〕 前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±30°の範囲内であり、
前記配置工程において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±5°の範囲内となるように、配置され、
前記検出工程は前記工程b1による、〔1〕に記載の欠陥検査方法。
[2] The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within the range of 0°±30°;
In the placing step,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 90°±5°,
The defect inspection method according to [1], wherein the detection step is performed by step b1.

〔3〕 前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±30°の範囲内であり、
前記配置工程において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±5°の範囲内となるように、配置され、
前記検出工程は、前記工程b1による、〔1〕に記載の欠陥検査方法。
[3] The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±30°;
In the placing step,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that an angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 0°±5°,
The defect inspection method according to [1], wherein the detection step is performed by the step b1.

〔4〕 前記被検査偏光子は、重合性液晶化合物の硬化物を含む、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。 [4] The defect inspection method according to any one of [1] to [3], wherein the polarizer to be inspected contains a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.

〔5〕 前記光学フィルムは、λ/4位相差層をさらに有し、
前記検査方法において、前記第1フィルタはλ/4位相差層を有するものを用い、
前記配置工程において、前記光学フィルムと前記第1フィルタを、互いのλ/4位相差層が、前記被検査偏光子及び前記第1偏光子を介さずに対向する向きで配置する、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。
[5] The optical film further has a λ/4 retardation layer,
In the inspection method, the first filter has a λ/4 phase difference layer,
The defect inspection method according to any one of [1] to [4], wherein in the positioning step, the optical film and the first filter are positioned such that their λ/4 retardation layers face each other without being sandwiched between the inspected polarizer and the first polarizer.

〔6〕 被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査装置であって、
前記欠陥検査装置は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源を有し、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタは、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の透過軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置され、
前記光源は、下記の条件b1又は条件b2:
(b1)前記光源から照射された光が、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過する;
(b2)前記光源から照射された光が、前記第2フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第1フィルタを、この順で透過する、
を満たすように配置されている、欠陥検査装置。
[6] A defect inspection apparatus for an optical film having a polarizer to be inspected, comprising:
the defect inspection apparatus includes a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order and satisfy the following conditions a1 and a2:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the transmission axis of the inspected polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
are arranged so as to satisfy
The light source satisfies the following condition b1 or condition b2:
(b1) light emitted from the light source is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
(b2) light emitted from the light source is transmitted through the second filter, the optical film, and the first filter in this order;
A defect inspection device arranged to satisfy the above requirements.

本発明の欠陥検査方法及び欠陥検査装置によれば、光学フィルムにおける光学特性のムラを検出することができる。 The defect inspection method and defect inspection device of the present invention can detect unevenness in the optical properties of optical films.

本実施形態の欠陥検査システムを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a defect inspection system according to an embodiment of the present invention. 本実施形態の欠陥検査装置の模式図である。1 is a schematic diagram of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. 光学フィルムにおける欠陥領域の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a defective area in an optical film. 第1応用例における検査対象のプロテクトフィルム付偏光板の層構成の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of a polarizing plate with a protection film to be inspected in a first application example. FIG. 第2応用例における検査対象の偏光板の層構成の一例を示す断面図である。13 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of a polarizing plate to be inspected in a second application example. FIG.

本発明は、被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査方法及び欠陥検査装置に関する。
本発明に係る欠陥検査方法は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源、を用い、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の透過軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置する配置工程と、
下記の工程b1又は工程b2:
(b1)前記光源から照射され、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過した光を検出する工程;
(b2)前記光源から照射され、前記第2フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第1フィルタを、この順で透過した光を検出する工程、
である検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記光学フィルムの欠陥を判断する判断工程と、を有する。
The present invention relates to a method and apparatus for inspecting defects in an optical film having a polarizer to be inspected.
The defect inspection method according to the present invention includes using a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source,
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order, and the following conditions a1 and a2 are satisfied:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the transmission axis of the inspected polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
An arrangement step of arranging the
Step b1 or step b2 below:
(b1) detecting light that is irradiated from the light source and that is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
(b2) detecting light that is irradiated from the light source and that is transmitted through the second filter, the optical film, and the first filter in this order;
a detection step,
and a determination step of determining whether or not the optical film has a defect based on the result of the detection step.

本発明に係る欠陥検査装置は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源を有し、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタは、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;及び
(a2)前記被検査偏光子の透過軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置され、
前記光源は、下記の条件b1又は条件b2:
(b1)前記光源から照射された光が、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過する;
(b2)前記光源から照射された光が、前記第2フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第1フィルタを、この順で透過する、
を満たすように配置されている。
A defect inspection apparatus according to the present invention includes a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order and satisfy the following conditions a1 and a2:
(a1) the angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°; and (a2) the angle θ2 between the transmission axis of the polarizer to be inspected and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 90°±35°.
are arranged so as to satisfy
The light source satisfies the following condition b1 or condition b2:
(b1) light emitted from the light source is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
(b2) light emitted from the light source is transmitted through the second filter, the optical film, and the first filter in this order;
are arranged to satisfy the following:

以下、本発明の欠陥検査装置及び欠陥検査方法の実施形態について図面を参照しながら説明する。同一の要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。 Embodiments of the defect inspection device and defect inspection method of the present invention will be described below with reference to the drawings. Identical elements are given the same reference numerals, and duplicate explanations will be omitted. The dimensional ratios in the drawings do not necessarily match those in the description.

図1は、一実施形態に係る欠陥検査装置を含む欠陥検査システムの模式図である。欠陥検査システム1は、搬送部2と、欠陥検査装置3Aとを備えており、帯状の光学フィルム100を、その長手方向に搬送部2で搬送しながら搬送経路に配置された欠陥検査装置3Aで、光学フィルム100の欠陥検査をする。光学フィルム100は、被検査偏光子を含む。 Figure 1 is a schematic diagram of a defect inspection system including a defect inspection device according to one embodiment. The defect inspection system 1 includes a transport section 2 and a defect inspection device 3A, and inspects the optical film 100 for defects using the defect inspection device 3A arranged on the transport path while transporting a strip-shaped optical film 100 in its longitudinal direction using the transport section 2. The optical film 100 includes a polarizer to be inspected.

搬送部2は搬送ローラRを有する。搬送部2は、搬送ローラRの他、搬送する光学フィルム100に張力を付与する張力付与装置を備えてもよい。図1には、説明の便宜のために使用するXYZ直交座標が示されている。X方向は光学フィルム100の幅方向を示し、Y方向は光学フィルム100の搬送方向を示す。Z方向は、X方向及びY方向のそれぞれに直交する方向を示す。他の図面の説明においても、同様のXYZ直交座標を利用して説明する場合もある。 The transport unit 2 has transport rollers R. In addition to the transport rollers R, the transport unit 2 may also be equipped with a tensioning device that applies tension to the transported optical film 100. FIG. 1 shows XYZ orthogonal coordinates used for convenience of explanation. The X direction indicates the width direction of the optical film 100, and the Y direction indicates the transport direction of the optical film 100. The Z direction indicates a direction perpendicular to both the X direction and the Y direction. Similar XYZ orthogonal coordinates may also be used in explanations of other drawings.

欠陥検査システム1は、図1に示したように、マーキング装置4を備えてもよい。マーキング装置4は、欠陥検査装置3Aから送られてくる欠陥情報を利用して、光学フィルム100上に目印Mを付す装置である。マーキング装置4は、例えば、光学フィルム100の幅方向Xに沿って延在するアームと、ペンなどを有するマーカヘッドとを有する。マーカヘッドがアーム上を幅方向Xに移動することにより、光学フィルム100上に目印Mが付される。マーキング装置4は、欠陥検査装置3Aにより制御されるように構成されていてもよいし、或いは、マーキング装置4自体がコンピュータといった制御部を有していてもよい。また、マーキング装置4は、欠陥検査装置3Aから送られてくる欠陥情報を2次元コード化し、光学フィルム100に印字してもよい。 As shown in FIG. 1, the defect inspection system 1 may include a marking device 4. The marking device 4 is a device that uses defect information sent from the defect inspection device 3A to mark the optical film 100 with a mark M. The marking device 4 has, for example, an arm that extends along the width direction X of the optical film 100 and a marker head having a pen or the like. The mark M is marked on the optical film 100 by the marker head moving on the arm in the width direction X. The marking device 4 may be configured to be controlled by the defect inspection device 3A, or the marking device 4 itself may have a control unit such as a computer. The marking device 4 may also convert the defect information sent from the defect inspection device 3A into a two-dimensional code and print it on the optical film 100.

欠陥検査装置3Aで行う欠陥検査とは、光学フィルム100の製造工程(搬送工程を含む)の際に発生し得る欠陥を検出する処理の他、検査した欠陥の光学フィルム100における位置を示す欠陥マップを作成する処理を含んでもよい。本実施形態で検出することができる光学フィルム100の欠陥として、光学特性のムラ、局所的に偏光軸の乱れが生じるなどの局所欠陥、等が挙げられる。光学フィルム100において、被検査偏光子が液晶偏光子である場合には、製造工程における塗布ムラに起因する光学特性のムラを有することがある。また、光学フィルム100において、製造工程で気泡や異物が混入したり、凹凸が生じたりすると、局所欠陥となる。 The defect inspection performed by the defect inspection device 3A may include a process of detecting defects that may occur during the manufacturing process (including the conveying process) of the optical film 100, as well as a process of creating a defect map showing the positions of the inspected defects in the optical film 100. Defects of the optical film 100 that can be detected in this embodiment include unevenness in optical characteristics, local defects such as localized disturbance of the polarization axis, etc. In the optical film 100, when the polarizer to be inspected is a liquid crystal polarizer, the optical film 100 may have unevenness in optical characteristics due to uneven coating during the manufacturing process. In addition, if air bubbles or foreign matter are mixed in the optical film 100 during the manufacturing process, or if unevenness occurs, this will result in a local defect.

図2を利用して欠陥検査装置3Aについて説明する。図2は、欠陥検査装置3Aの模式図である。 The defect inspection device 3A will be described using Figure 2. Figure 2 is a schematic diagram of the defect inspection device 3A.

図2では、欠陥検査装置3Aで検査する光学フィルム100として、偏光板100を例示している。偏光板100は、偏光子101と、保護フィルム102と、保護フィルム103との積層体である。偏光板100の偏光子101が被検査偏光子となる。 In FIG. 2, a polarizing plate 100 is shown as an example of the optical film 100 to be inspected by the defect inspection device 3A. The polarizing plate 100 is a laminate of a polarizer 101, a protective film 102, and a protective film 103. The polarizer 101 of the polarizing plate 100 is the polarizer to be inspected.

偏光子101は直線偏光特性を有する。本実施形態において、偏光子101の吸収軸PA0は、光学フィルム100の搬送方向であるY方向に平行である。以下では、光学フィルム100の搬送方向(偏光子101の吸収軸PA0方向)に偏光した光を第1偏光光と称し、第1偏光光と直交する方向に偏光した光を第2偏光光と称す。 The polarizer 101 has linear polarization characteristics. In this embodiment, the absorption axis PA0 of the polarizer 101 is parallel to the Y direction, which is the transport direction of the optical film 100. Hereinafter, light polarized in the transport direction of the optical film 100 (the absorption axis PA0 direction of the polarizer 101) is referred to as the first polarized light, and light polarized in a direction perpendicular to the first polarized light is referred to as the second polarized light.

欠陥検査装置3Aは、光源11を有する光照射部10Aと、第1偏光子41を有する第1フィルタ40と、第2偏光子51を有する第2フィルタ50と、カメラ21を有する検出部20Aとを備える。欠陥検査装置3Aは、検出部20Aを制御する制御装置30を備えてもよい。以下では、断らない限り、制御装置30を備えた形態を説明する。他の実施形態においても同様である。 The defect inspection device 3A includes a light irradiation unit 10A having a light source 11, a first filter 40 having a first polarizer 41, a second filter 50 having a second polarizer 51, and a detection unit 20A having a camera 21. The defect inspection device 3A may include a control device 30 that controls the detection unit 20A. In the following, unless otherwise specified, a form including the control device 30 will be described. The same applies to other embodiments.

第1フィルタ40及び第2フィルタ50は、光学フィルム100を挟むようにして配置されている。第1フィルタ40は、第1偏光子41の吸収軸PA1と光学フィルム100の偏光子101の吸収軸PA0とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内となるように(上記条件a1を満たすように)配置されている。第2フィルタ50は、第2偏光子51の吸収軸PA2と光学フィルム100の偏光子101の吸収軸PA0とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内となるように(上記条件a2を満たすように)配置されている。 The first filter 40 and the second filter 50 are arranged to sandwich the optical film 100. The first filter 40 is arranged so that the angle θ1 between the absorption axis PA1 of the first polarizer 41 and the absorption axis PA0 of the polarizer 101 of the optical film 100 is within the range of 90°±5° (satisfying the above condition a1). The second filter 50 is arranged so that the angle θ2 between the absorption axis PA2 of the second polarizer 51 and the absorption axis PA0 of the polarizer 101 of the optical film 100 is within the range of 90°±35° (satisfying the above condition a2).

図2では、偏光子101の吸収軸PA0を両矢印で示しており、吸収軸PA0と90°の方向を黒丸で示している。また、図2では、角度θ1が90°で角度θ2が90°である場合を示しているため、吸収軸PA1と吸収軸PA2は黒丸で示される。本発明においては、上述の通り、角度θ1は90°±5°の範囲内であればよく、角度θ2は90°±35°の範囲内であればよいが、以下では、特に断らない限り角度θ1が90°で角度θ2が90°である形態を説明する。 In FIG. 2, the absorption axis PA0 of the polarizer 101 is indicated by a double-headed arrow, and the direction at 90° to the absorption axis PA0 is indicated by a black circle. In addition, since FIG. 2 shows a case where the angle θ1 is 90° and the angle θ2 is 90°, the absorption axis PA1 and the absorption axis PA2 are indicated by black circles. As described above, in the present invention, the angle θ1 may be within the range of 90°±5°, and the angle θ2 may be within the range of 90°±35°, but hereinafter, unless otherwise specified, a form in which the angle θ1 is 90° and the angle θ2 is 90° will be described.

図2では、上記条件b1を満たす配置となっている。具体的には、光照射部10Aは、光学フィルム100からみて第1フィルタ40を介して配置され、検出部20Aは、光学フィルム100からみて第2フィルタ50を介して配置されている。光照射部10Aの光源11から出射された光は、第1フィルタ40を介して検査対象である光学フィルム100の検査領域A(図1参照)に入射する。検査領域Aから出射された光は、第2フィルタ50を介して検出部20Aに入射する。すなわち、検出工程は、上記工程b1により行われる。 In FIG. 2, the arrangement satisfies the above condition b1. Specifically, the light irradiation unit 10A is arranged via a first filter 40 when viewed from the optical film 100, and the detection unit 20A is arranged via a second filter 50 when viewed from the optical film 100. Light emitted from the light source 11 of the light irradiation unit 10A is incident on the inspection area A (see FIG. 1) of the optical film 100 to be inspected via the first filter 40. Light emitted from the inspection area A is incident on the detection unit 20A via the second filter 50. That is, the detection process is performed by the above process b1.

第1フィルタ40は、光源11から出射された無偏光の光L1を、所定の偏光状態を有する光L2として出射する。 The first filter 40 converts the unpolarized light L1 emitted from the light source 11 into light L2 having a predetermined polarization state.

光源11は、無偏光であり、光学フィルム100の組成および性質に影響を与えない光を出力できれば限定されない。光源11の例は、例えば、メタルハライドランプ、ハロゲン伝送ライト、蛍光灯などである。光源11は、図1に示したように、光学フィルム100の幅方向に延在し得る。或いは、光照射部10Aは、複数の光源11を備え、それらが光学フィルム100の幅方向に沿って離散的に配置されていてもよい。 The light source 11 is not limited as long as it is unpolarized and can output light that does not affect the composition and properties of the optical film 100. Examples of the light source 11 include a metal halide lamp, a halogen transmission light, and a fluorescent lamp. The light source 11 may extend in the width direction of the optical film 100 as shown in FIG. 1. Alternatively, the light irradiation unit 10A may include multiple light sources 11 that are discretely arranged along the width direction of the optical film 100.

本実施形態において、第1フィルタ40は、光源11から出射光に含まれる偏光光のうち第1偏光光を選択的に通す。 In this embodiment, the first filter 40 selectively passes the first polarized light among the polarized light contained in the light emitted from the light source 11.

検出部20Aは、光学フィルム100を撮像する少なくとも一つのカメラ21を有する。図1では、撮像部20Aが、光学フィルム100の幅方向に沿って配置された複数のカメラ21を有する形態を例示している。カメラ21は、CCDカメラといったエリアセンサカメラである。カメラ21は、ラインセンサカメラであってもよい。カメラ21がラインセンサカメラである場合、カメラ21と光学フィルム100とを相対的に移動させることで、光学フィルム100の検査領域Aを撮像可能である。検出部20A(具体的には、カメラ21)は、制御装置30に電気的に接続されており、撮像タイミングが制御されるとともに、得られた撮像データを制御装置30に入力する。 The detection unit 20A has at least one camera 21 that captures an image of the optical film 100. FIG. 1 illustrates an example in which the imaging unit 20A has multiple cameras 21 arranged along the width direction of the optical film 100. The camera 21 is an area sensor camera such as a CCD camera. The camera 21 may be a line sensor camera. When the camera 21 is a line sensor camera, the inspection area A of the optical film 100 can be captured by moving the camera 21 and the optical film 100 relative to each other. The detection unit 20A (specifically, the camera 21) is electrically connected to the control device 30, which controls the imaging timing and inputs the obtained imaging data to the control device 30.

図1及び図2には、検出部20Aとしてカメラ21を有し、カメラ21の撮像画像に基づいて欠陥を検出する形態を示しているが、検出部20Aは光学フィルム100を目視することにより欠陥を検出するものであってもよい。検出部20Aが目視にて欠陥を検出するものである場合、制御装置30は有さない形態が好適である。 FIGS. 1 and 2 show a configuration in which a camera 21 is provided as the detection unit 20A and defects are detected based on an image captured by the camera 21, but the detection unit 20A may also detect defects by visually inspecting the optical film 100. When the detection unit 20A detects defects visually, a configuration that does not include a control device 30 is preferable.

制御装置30は検出部20Aを制御する。制御装置30は、例えばコンピュータ(演算部)を有する。制御装置30は、検出部20Aから入力される撮像データに対して、欠陥部分を検出し、欠陥部分を強調表示するような画像処理を実施する機能、光学フィルム100の画像に対して欠陥位置を示す欠陥マップを作成する機能などを有してもよい。欠陥検査システム1が、図1に例示したように、マーキング装置4を備える形態では、制御装置30は、図1に示したようにマーキング装置4にも電気的に接続され、マーキング装置4を制御して、検出した欠陥情報に基づいた目印Mを光学フィルム100に付与してもよい。 The control device 30 controls the detection unit 20A. The control device 30 has, for example, a computer (calculation unit). The control device 30 may have a function of performing image processing on the imaging data input from the detection unit 20A to detect defective parts and highlight the defective parts, and a function of creating a defect map showing the defect positions in the image of the optical film 100. In a form in which the defect inspection system 1 includes a marking device 4 as illustrated in FIG. 1, the control device 30 may also be electrically connected to the marking device 4 as illustrated in FIG. 1, and may control the marking device 4 to apply a mark M based on the detected defect information to the optical film 100.

次に、欠陥検査装置3Aを利用して光学フィルム100を検査する検査工程について説明する。欠陥検査を実施する際には、光源11からの光L1を、第1フィルタ40を介して第1偏光光である光L2として光学フィルム100の検査領域Aに照射する。光L2の一部は光学フィルム100を透過する。光学フィルム100を透過する光L3は、第2フィルタ40にて光L4として出射されて検出部20Aに入射し、検出部20Aでは光L4を検出する。より具体的にはカメラ21で検査領域Aを撮像する、または目視にて検査領域Aを観察する。以上の検出工程である。その後、検出工程での検出結果に基づいて、光学フィルムの検査領域Aにおける欠陥を判断する(判断工程)。 Next, the inspection process for inspecting the optical film 100 using the defect inspection device 3A will be described. When performing defect inspection, light L1 from the light source 11 is irradiated onto the inspection area A of the optical film 100 as light L2, which is the first polarized light, via the first filter 40. A part of the light L2 is transmitted through the optical film 100. Light L3 transmitted through the optical film 100 is emitted as light L4 by the second filter 40 and enters the detection unit 20A, where the light L4 is detected. More specifically, the inspection area A is imaged by the camera 21, or the inspection area A is observed visually. This is the detection process. After that, based on the detection results from the detection process, defects in the inspection area A of the optical film are judged (judgment process).

上記欠陥検査方法では、第1フィルタ40を透過する第1偏光光である光L2が光学フィルム100に照射される。光L2と光学フィルム100の偏光子101とはクロスニコル状態、すなわち、光L2の偏光方向と偏光子101の吸収軸PA0方向とが実質的に平行な状態で光L2が光学フィルム100に入射するので吸収される。 In the above defect inspection method, the light L2, which is the first polarized light transmitted through the first filter 40, is irradiated onto the optical film 100. The light L2 and the polarizer 101 of the optical film 100 are in a crossed Nicol state, that is, the polarization direction of the light L2 and the absorption axis PA0 direction of the polarizer 101 are substantially parallel when the light L2 enters the optical film 100 and is absorbed.

ただし、光学フィルム100は、偏光子101の吸収軸が吸収軸PA0と一致しない欠陥領域を有する場合がある。図3は、光学フィルム100において、欠陥領域Bの一例を示し、欠陥領域Bにおける吸収軸を両端矢印で示す。欠陥領域Bでは、吸収軸PA0とは一致しない吸収軸(以下、「吸収軸PA3」と称する)を有する。欠陥領域Bにおける欠陥が光学特性のムラである場合、欠陥領域Bにおける吸収軸PA3として、図3に示すように吸収軸PA0とのなす角度が連続的に変化している状態を想定することができる。欠陥光学フィルム100において、吸収軸PA0を有する領域を正常領域A1とする。 However, the optical film 100 may have a defective region in which the absorption axis of the polarizer 101 does not coincide with the absorption axis PA0. FIG. 3 shows an example of a defective region B in the optical film 100, and the absorption axis in the defective region B is indicated by a double-headed arrow. The defective region B has an absorption axis (hereinafter referred to as "absorption axis PA3") that does not coincide with the absorption axis PA0. When the defect in the defective region B is an unevenness in the optical properties, it can be assumed that the angle between the absorption axis PA3 in the defective region B and the absorption axis PA0 changes continuously as shown in FIG. 3. In the defective optical film 100, the region having the absorption axis PA0 is called the normal region A1.

吸収軸PA0と一致しない吸収軸PA3を有する欠陥領域Bでは、光L2の偏光方向と偏光子101の吸収軸PA0の方向とが平行ではなく、光L2が光学フィルム100を透過する。光学フィルム100を透過した光L3は、偏光子101の欠陥領域Bの吸収軸に対応した方向の偏光光である。偏光子101の欠陥領域の吸収軸の方向が一方向でない場合、光L3は複数方向の偏光光を含む。以下、これらをまとめて第3偏光光とし、第3偏光光に含まれる複数の偏光光の一部を、第1偏光光とのなす角度が小さい順に、第3a偏光光、第3b偏光光、第3c偏光光、・・・、と称する。 In defect region B having absorption axis PA3 that does not coincide with absorption axis PA0, the polarization direction of light L2 is not parallel to the direction of absorption axis PA0 of polarizer 101, and light L2 passes through optical film 100. Light L3 that passes through optical film 100 is polarized light in a direction corresponding to the absorption axis of defect region B of polarizer 101. When the absorption axis of the defect region of polarizer 101 does not have one direction, light L3 contains polarized light in multiple directions. Hereinafter, these are collectively referred to as third polarized light, and some of the multiple polarized light contained in the third polarized light are referred to as 3a polarized light, 3b polarized light, 3c polarized light, ... in order of the angle they make with the first polarized light.

光L3は、第2フィルタ50を介して光L4として検出部20Aに入射される。第2フィルタ50において第2偏光子51の吸収軸PA2は、偏光子101の吸収軸PA0とはクロスニコル状態にあるので、光L3が第1偏光光であれば第2偏光子51に入射して吸収されるが、光L3は第1偏光光とは異なる第3偏光光であるために第2フィルタ50を透過する。光L3は、第2フィルタ50において、その偏光方向に応じた割合で光が吸収されて出射される。すなわち、第2フィルタ50で吸収される光の割合は、第3a偏光光、第3b偏光光、第3c偏光光、・・・の順に小さくなる。 Light L3 is incident on the detection unit 20A as light L4 via the second filter 50. In the second filter 50, the absorption axis PA2 of the second polarizer 51 is in a cross-Nicol state with the absorption axis PA0 of the polarizer 101, so if the light L3 is the first polarized light, it will be incident on the second polarizer 51 and absorbed, but since the light L3 is the third polarized light different from the first polarized light, it will be transmitted through the second filter 50. The light L3 is absorbed in the second filter 50 at a ratio according to its polarization direction and then emitted. That is, the ratio of light absorbed by the second filter 50 decreases in the order of 3a polarized light, 3b polarized light, 3c polarized light, ....

本発明者等は、第1フィルタと光学フィルムを透過した光の偏光度が実質的に低くなっていることに着目した。このような光を、さらに第2フィルタを通すことにより第1偏光光の領域と第3偏光光の領域とのコントラスト比を上げることができ検出感度を大きく上昇させることができることを見出した。 The inventors noticed that the degree of polarization of the light that passed through the first filter and the optical film was substantially low. They discovered that by passing such light through a second filter, the contrast ratio between the first polarized light region and the third polarized light region can be increased, and the detection sensitivity can be greatly improved.

以上のように、光学フィルム100における光L3の透過特性は、正常領域A1と欠陥領域Bとで異なり、また第2フィルタ50における光L4の透過特性は、欠陥領域Bにおける吸収軸方向に応じて異なる。検出部20Aではこれらの透過特性を反映した光L4を検出するため、光学フィルム100における欠陥の有無、欠陥領域における吸収軸方向のムラの有無、を検出することができる。光学フィルム100における吸収軸方向のムラは、光学特性のムラに対応する。 As described above, the transmission characteristics of light L3 in optical film 100 differ between normal area A1 and defective area B, and the transmission characteristics of light L4 in second filter 50 differ depending on the absorption axis direction in defective area B. Since detection unit 20A detects light L4 reflecting these transmission characteristics, it is possible to detect the presence or absence of defects in optical film 100 and the presence or absence of unevenness in the absorption axis direction in the defective area. Unevenness in the absorption axis direction in optical film 100 corresponds to unevenness in the optical characteristics.

上記においては、角度θ1が90°で角度θ2が90°である場合について説明したが、角度θ1と角度θ2の大きさによって光L4の光量が異なる。角度θ1が90°±5°で、角度θ2が90°±35°の範囲内である限りにおいては、光学フィルム100における光L3の透過特性は、正常領域A1と欠陥領域Bとで異なり、また第2フィルタ50における光L4の透過特性は、欠陥領域Bにおける吸収軸方向に応じて異なる。したがって、角度θ1と角度θ2が90°でない場合であっても、検出部20Aではこれらの透過特性を反映した光L4を検出するため、光学フィルム100における欠陥の有無、欠陥領域における吸収軸方向のムラの有無、を検出することができる。 In the above, the case where the angle θ1 is 90° and the angle θ2 is 90° has been described, but the amount of light L4 differs depending on the magnitude of the angles θ1 and θ2. As long as the angle θ1 is within the range of 90°±5° and the angle θ2 is within the range of 90°±35°, the transmission characteristics of the light L3 in the optical film 100 differ between the normal area A1 and the defective area B, and the transmission characteristics of the light L4 in the second filter 50 differ depending on the absorption axis direction in the defective area B. Therefore, even if the angles θ1 and θ2 are not 90°, the detection unit 20A detects the light L4 reflecting these transmission characteristics, so that it is possible to detect the presence or absence of defects in the optical film 100 and the presence or absence of unevenness in the absorption axis direction in the defective area.

欠陥検査装置3Aでは、第1フィルタ40と第2フィルタ50を有することにより、光学特性のムラを効率的に検出することができる。そのため、上記欠陥検査方法を含んだ光学フィルム100の製造方法では、欠陥を含まない製品としての光学フィルム100を効率的に生産できる。 The defect inspection device 3A has the first filter 40 and the second filter 50, so that unevenness in the optical characteristics can be efficiently detected. Therefore, the manufacturing method of the optical film 100 including the above-mentioned defect inspection method can efficiently produce the optical film 100 as a product that does not contain defects.

図1及び図2には、上記条件b1を満たす配置であって、検出工程において上記工程b1が行われる場合が示されているが、光照射部10A及び検出部20Aの配置位置が入れ替わった、上記条件b2を満たす配置であってもよい。この場合、光照射部10Aの光源11から出射された光は、第2フィルタ50を介して検査対象である光学フィルム100の検査領域Aに入射する。検査領域Aから出射された光は、第1フィルタ40を介して検出部20Aに入射する。すなわち、検出工程において上記工程b2が行われる。このような配置であっても、図1及び図2に示すような条件b1を満たす配置と同様の効果を得ることができる。 1 and 2 show an arrangement that satisfies the above condition b1 and in which the above step b1 is performed in the detection step, but the arrangement may also be one in which the positions of the light irradiation unit 10A and the detection unit 20A are swapped and the above step b2 is satisfied. In this case, the light emitted from the light source 11 of the light irradiation unit 10A is incident on the inspection area A of the optical film 100 to be inspected via the second filter 50. The light emitted from the inspection area A is incident on the detection unit 20A via the first filter 40. That is, the above step b2 is performed in the detection step. Even with such an arrangement, it is possible to obtain the same effect as the arrangement that satisfies the condition b1 as shown in FIG. 1 and FIG. 2.

<光学フィルムの製造方法>
図1及び図2に示した欠陥検査装置3Aを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム100の製造方法を説明する。ここでは、図2に示したように、保護フィルム102、フィルム本体101及び保護フィルム103の積層体である光学フィルム100を製造する場合を例にして説明する。
<Method of Manufacturing Optical Film>
A method for manufacturing an optical film 100 will be described, including a defect inspection method using the defect inspection apparatus 3A shown in Figures 1 and 2. Here, the manufacturing of an optical film 100, which is a laminate of a protective film 102, a film body 101, and a protective film 103 as shown in Figure 2, will be described as an example.

光学フィルム100を製造する際、帯状の偏光子101、帯状の保護フィルム102及び帯状の保護フィルム103をそれぞれ長手方向に搬送しながら、偏光子101の一方の片面に保護フィルム102を貼合し、他方の片面に保護フィルム103を貼合する(貼合工程)。偏光子101と、保護フィルム102及び保護フィルム103の貼合は、例えば一対の貼合ローラを用いて行い得る。貼合工程は、偏光子101に保護フィルム102及び保護フィルム103を同時に貼合してもよいし、偏光子101に、保護フィルム102及び保護フィルム103の一方を貼合した後、他方を貼合してもよい。 When manufacturing the optical film 100, the band-shaped polarizer 101, the band-shaped protective film 102, and the band-shaped protective film 103 are transported in the longitudinal direction, while the protective film 102 is laminated to one side of the polarizer 101 and the protective film 103 is laminated to the other side (lamination process). The lamination of the polarizer 101, the protective film 102, and the protective film 103 can be performed, for example, using a pair of lamination rollers. In the lamination process, the protective film 102 and the protective film 103 may be laminated to the polarizer 101 at the same time, or one of the protective film 102 and the protective film 103 may be laminated to the polarizer 101 and then the other may be laminated.

上記貼合工程の後に、保護フィルム103、偏光子101及び保護フィルム102の積層体としての光学フィルム100を欠陥検査装置3Aにおける光照射部10Aと検出部20Aとの間に搬送しながら欠陥検査装置3Aで光学フィルム100の欠陥検査を行う(欠陥検査工程)。欠陥検査工程では、上記で説明した欠陥検査方法で光学フィルム100の欠陥検査を行う。欠陥検査システム1が、マーキング装置4を備える形態では、欠陥検査工程の結果に応じて、マーキング装置4で目印Mを光学フィルム100に付与する工程(マーキング工程)を実施してもよい。 After the lamination process, the optical film 100 as a laminate of the protective film 103, the polarizer 101, and the protective film 102 is transported between the light irradiation unit 10A and the detection unit 20A in the defect inspection device 3A while being inspected for defects by the defect inspection device 3A (defect inspection process). In the defect inspection process, the optical film 100 is inspected for defects by the defect inspection method described above. In a form in which the defect inspection system 1 includes the marking device 4, a process of applying a mark M to the optical film 100 by the marking device 4 (marking process) may be performed depending on the results of the defect inspection process.

偏光子101は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する(透過軸と平行な)振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光子であることができる。代表的な偏光子としては、重合性液晶化合物の硬化物を含む液晶偏光子、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光フィルム、等が挙げられる。 The polarizer 101 can be an absorption-type polarizer that has the property of absorbing linearly polarized light with a vibration plane parallel to its absorption axis and transmitting linearly polarized light with a vibration plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis). Representative polarizers include a liquid crystal polarizer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound, a polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and aligned on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film, etc.

液晶偏光子の典型的な製造方法を簡単に説明する。まず、適当な支持体を準備する。次いで、当該支持体の表面上に配向膜を形成する。続いて、配向膜上に、重合性液晶化合物と二色性色素とを含む液状組成物を含む液状組成物を塗工し乾燥することで、配向膜上に重合性液晶化合物を含む塗工層を形成する。その後、塗工層を光照射により重合・硬化させて、液晶偏光子が支持体上に得られる。かかる支持体として、透明樹脂フィルムを用いれば、当該透明樹脂フィルムを保護フィルムとする偏光子を製造することができる。 A typical method for manufacturing a liquid crystal polarizer is briefly described below. First, a suitable support is prepared. Next, an alignment film is formed on the surface of the support. Next, a liquid composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye is applied onto the alignment film and dried to form a coating layer containing a polymerizable liquid crystal compound on the alignment film. The coating layer is then polymerized and cured by light irradiation to obtain a liquid crystal polarizer on the support. If a transparent resin film is used as the support, a polarizer can be manufactured using the transparent resin film as a protective film.

液晶偏光子としては例えば、特開2016-170368号公報に記載されるものであってもよい。二色性色素としては、波長380~800nmの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。液晶化合物は、配向したままの状態で重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。また、WO2011/024891に記載されるように、液晶性を有する二色性色素から偏光子を形成してもよい。なお、重合後(液晶硬化層からなる偏光子の形成後)は、液晶化合物はもはや液晶性を示す必要はない。 The liquid crystal polarizer may be, for example, one described in JP 2016-170368 A. The dichroic dye may have absorption in the wavelength range of 380 to 800 nm, and it is preferable to use an organic dye. The dichroic dye may be, for example, an azo compound. The liquid crystal compound is a liquid crystal compound that can be polymerized while remaining oriented, and may have a polymerizable group in the molecule. In addition, as described in WO 2011/024891, a polarizer may be formed from a dichroic dye having liquid crystallinity. Note that after polymerization (after the formation of a polarizer made of a liquid crystal cured layer), the liquid crystal compound no longer needs to exhibit liquid crystallinity.

液晶偏光子の厚みは、例えば、0.2μm~10μmである。液晶偏光子は、製造工程における液状組成物の塗布ムラにより光学特性にムラを生じさせることがある。本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置による欠陥検査では、このような光学特性のムラも検出することができる。 The thickness of the liquid crystal polarizer is, for example, 0.2 μm to 10 μm. Liquid crystal polarizers can have uneven optical properties due to uneven application of the liquid composition during the manufacturing process. The defect inspection method and defect inspection device of this embodiment can detect such uneven optical properties.

続いて、PVA系偏光フィルムについて簡単に説明する。PVA系偏光フィルムは、例えば、PVA系樹脂フィルムを一軸延伸する工程;PVA系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程(染色処理);二色性色素が吸着されたPVA系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋液で処理する工程(架橋処理);及び、架橋液による処理後に水洗する工程(洗浄処理)を含む方法等によって製造できる。 Next, a brief description of PVA-based polarizing films will be given. PVA-based polarizing films can be produced, for example, by a method including a step of uniaxially stretching a PVA-based resin film; a step of dyeing the PVA-based resin film with a dichroic dye to adsorb the dichroic dye (dyeing process); a step of treating the PVA-based resin film with the adsorbed dichroic dye with a crosslinking liquid such as an aqueous boric acid solution (crosslinking process); and a step of washing with water after the treatment with the crosslinking liquid (washing process).

PVA系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体の例は、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等を含む。 As the PVA-based resin, a saponified polyvinyl acetate-based resin can be used. Examples of polyvinyl acetate-based resins include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, as well as copolymers of vinyl acetate with other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate. Examples of other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth)acrylamides having an ammonium group.

本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及びメタクリルから選択される少なくとも一方を意味する。「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリレート」等においても同様である。 In this specification, "(meth)acrylic" means at least one selected from acrylic and methacrylic. The same applies to "(meth)acryloyl" and "(meth)acrylate", etc.

PVA系樹脂のケン化度は通常、85~100mol%であり、98mol%以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。PVA系樹脂の平均重合度は通常、1000~10000であり、1500~5000が好ましい。PVA系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726に準拠して求めることができる。 The saponification degree of the PVA-based resin is usually 85 to 100 mol%, and preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can be used. The average polymerization degree of the PVA-based resin is usually 1000 to 10000, and preferably 1500 to 5000. The average polymerization degree of the PVA-based resin can be determined in accordance with JIS K 6726.

このようなPVA系樹脂を製膜したものが、偏光子製造用の原反フィルム(PVA系樹脂フィルム)として用いられる。PVA系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。PVA系樹脂フィルムの厚みは特に制限されないが、偏光フィルムの厚みを15μm以下とするためには、5~35μmのものを用いることが好ましい。より好ましくは、20μm以下である。かかるPVA系樹脂フィルムの厚みは、最終的に得られるPVA系偏光フィルムが所望の厚みとなるようにして選択することができる。 A film made from such a PVA-based resin is used as the raw film (PVA-based resin film) for manufacturing a polarizer. The method for making the PVA-based resin film is not particularly limited, and any known method can be used. The thickness of the PVA-based resin film is not particularly limited, but in order to make the thickness of the polarizing film 15 μm or less, it is preferable to use one having a thickness of 5 to 35 μm. More preferably, it is 20 μm or less. The thickness of such a PVA-based resin film can be selected so that the final PVA-based polarizing film has the desired thickness.

PVA系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色処理前に行っても、当該染色処理と同時に行っても、染色処理の後に行ってもよい。一軸延伸を染色処理の後で行う場合、かかる一軸延伸は、架橋処理の前に行っても、架橋処理中に行ってもよい。また、これらの複数の処理の段階で一軸延伸を複数回に分けて行ってもよい。 The uniaxial stretching of the PVA-based resin film may be performed before, simultaneously with, or after the dyeing process with a dichroic dye. When the uniaxial stretching is performed after the dyeing process, the uniaxial stretching may be performed before or during the crosslinking process. Moreover, the uniaxial stretching may be performed multiple times at these multiple processing stages.

一軸延伸にあたっては、長尺状のPVA系樹脂フィルムを用いる場合には例えば、このPVA系樹脂フィルムをロールに掛け渡し、当該ロールの周速を異ならせることにより、ロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤や水を用いてPVA系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は通常、3~8倍である。複数回の一軸延伸により、PVA系樹脂フィルムを延伸する場合には、元長に比しての延伸倍率が通常、3~8倍になるようにする。なお、この延伸倍率も、最終的に得られるPVA系偏光フィルムが所望の厚みとなるようにして選択することができる。 In the case of uniaxial stretching, when a long PVA-based resin film is used, for example, the PVA-based resin film may be stretched uniaxially between rolls by varying the peripheral speed of the rolls, or may be stretched uniaxially using a heated roll. The uniaxial stretching may be dry stretching in which stretching is performed in the atmosphere, or wet stretching in which stretching is performed in a state in which the PVA-based resin film is swollen with a solvent or water. The stretching ratio is usually 3 to 8 times. When the PVA-based resin film is stretched by multiple uniaxial stretchings, the stretching ratio is usually set to 3 to 8 times the original length. This stretching ratio can also be selected so that the final PVA-based polarizing film has the desired thickness.

PVA系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法(染色処理)としては、典型的には、かかるPVA系樹脂フィルムを、二色性色素を含有した水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素としては、ヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、PVA系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。 A typical method for dyeing a PVA-based resin film with a dichroic dye (dyeing process) is to immerse the PVA-based resin film in an aqueous solution containing the dichroic dye. Iodine or a dichroic organic dye is used as the dichroic dye. It is preferable to immerse the PVA-based resin film in water before the dyeing process.

二色性色素による染色処理後の架橋処理としては通常、染色されたPVA系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法などが採用される。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液は、ヨウ化カリウムを含有することが好ましい。 As a crosslinking treatment after dyeing with a dichroic dye, a method such as immersing the dyed PVA-based resin film in an aqueous solution containing boric acid is usually adopted. When iodine is used as the dichroic dye, it is preferable that the aqueous solution containing boric acid contains potassium iodide.

かくして、PVA系偏光フィルムが得られる。PVA系偏光フィルムの厚みも液晶偏光子と同様に、より薄膜であると好ましく、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは13μm以下であり、さらに好ましくは10μm以下であり、特に好ましくは8μm以下である。偏光フィルムの厚みは、通常2μm以上であり、3μm以上であることが好ましい。 Thus, a PVA-based polarizing film is obtained. As with the liquid crystal polarizer, the thickness of the PVA-based polarizing film is preferably thinner, preferably 15 μm or less, more preferably 13 μm or less, even more preferably 10 μm or less, and particularly preferably 8 μm or less. The thickness of the polarizing film is usually 2 μm or more, and preferably 3 μm or more.

直線偏光子は、単独で偏光板(光学フィルム)とすることもできるし、上述のとおり、一般的には、直線偏光子の片面又は両面に保護フィルムを貼合した構成で偏光板(光学フィルム)とすることができる。保護フィルムとしては、例えば、透明な樹脂フィルムが用いられ、かかる樹脂フィルムを構成する透明樹脂としては、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースに代表されるアセチルセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレートに代表されるメタクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリスルホン樹脂等が挙げられる。これらのうち、複数種の透明樹脂からなる樹脂フィルムを保護フィルムとすることもできる。 A linear polarizer can be used as a polarizing plate (optical film) by itself, or as described above, a linear polarizer can generally be used as a polarizing plate (optical film) by laminating a protective film on one or both sides thereof. For example, a transparent resin film is used as the protective film, and examples of transparent resins constituting such a resin film include acetylcellulose-based resins such as triacetylcellulose and diacetylcellulose, methacrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyester resins, polyolefin-based resins, polycarbonate resins, polyether ether ketone resins, polysulfone resins, and the like. Of these, a resin film made of multiple types of transparent resins can also be used as the protective film.

<第1フィルタ、第2フィルタ>
第1フィルタ40は第1偏光子41を有し、第2フィルタ50は第2偏光子51を有する。第1偏光子41及び第2偏光子50は、上述の偏光子101と同様に、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する(透過軸と平行な)振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する吸収型の偏光子であることができる。代表的な偏光子として、一軸延伸されたPVA系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させた偏光フィルムが挙げられる。偏光フィルムの詳細な説明は、上述の偏光子101における偏光フィルムの説明が適用される。第1偏光子及び第2偏光子は、無欠陥のものである。
<First Filter, Second Filter>
The first filter 40 has a first polarizer 41, and the second filter 50 has a second polarizer 51. The first polarizer 41 and the second polarizer 50 can be absorption-type polarizers that absorb linearly polarized light having a vibration plane parallel to the absorption axis and transmit linearly polarized light having a vibration plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis) like the above-mentioned polarizer 101. A representative polarizer is a polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and aligned on a uniaxially stretched PVA-based resin film. The detailed description of the polarizing film is the same as that of the polarizing film in the above-mentioned polarizer 101. The first polarizer and the second polarizer are defect-free.

[第1応用例]
第1応用例では、欠陥検査装置3Aで検査する光学フィルムが、ポリエチレン系テレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムを有するプロテクトフィルム付偏光板である場合について、本実施形態の好適な応用例を説明する。
[First Application Example]
In the first application example, a suitable application example of this embodiment will be described in which the optical film inspected by the defect inspection device 3A is a polarizing plate with a protective film having a protective film made of a polyethylene terephthalate resin.

図4は、第1応用例において検査の対象となるプロテクトフィルム付偏光板の層構成の一例を示す断面図である。図4に示されるように、プロテクトフィルム付偏光板110は、偏光子101と、保護フィルム102と、保護フィルム103との積層体である偏光板100の保護フィルム102側の表面に積層されるプロテクトフィルム120を備える。偏光板100については、上述の説明が適用される。プロテクトフィルム120は、基材フィルムと、その上に積層される粘着剤層とで構成され、粘着剤層を介して偏光板100に貼合積層されている。 Figure 4 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of a polarizing plate with a protective film that is the subject of inspection in the first application example. As shown in Figure 4, the polarizing plate with a protective film 110 includes a protective film 120 laminated on the surface of the polarizing plate 100 on the protective film 102 side, which is a laminate of a polarizer 101, a protective film 102, and a protective film 103. The above description applies to the polarizing plate 100. The protective film 120 is composed of a base film and an adhesive layer laminated thereon, and is bonded to the polarizing plate 100 via the adhesive layer.

プロテクトフィルム120は、偏光板100の表面を保護するためのフィルムであり、例えば液晶セル等の画像表示素子や他の光学部材にプロテクトフィルム付偏光板が貼合された後にそれが有する粘着剤層ごと剥離除去される。 The protective film 120 is a film for protecting the surface of the polarizing plate 100, and is peeled off and removed together with its adhesive layer after the polarizing plate with protective film is attached to an image display element such as a liquid crystal cell or other optical components.

プロテクトフィルム120の基材フィルムは、一軸延伸されたポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるフィルムである。プロテクトフィルム120は、基材フィルムの一軸延伸方向に一致する配向軸を有し複屈折を示す。したがって、プロテクトフィルム120を透過する光には位相差が生じる。検出部20Aでは、入射する光が複屈折を有する場合、欠陥の検出精度が低下する。 The base film of the protection film 120 is a film made of uniaxially stretched polyethylene terephthalate resin. The protection film 120 has an orientation axis that coincides with the uniaxial stretching direction of the base film and exhibits birefringence. Therefore, a phase difference occurs in the light that passes through the protection film 120. In the detection unit 20A, if the incident light has birefringence, the detection accuracy of defects decreases.

図1及び図2に示す本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置により欠陥検査を行う対象がプロテクトフィルム付偏光板110である場合は、プロテクトフィルム付偏光板110のプロテクトフィルム120側が第2フィルタ50側に位置するように検査を行い、また検出工程における光源からの光の照射方向は第1フィルタ40側からとなる(上記の条件b1を満たす)ように光源が配置され、上記工程b1にて検出工程が行われることが好ましい。すなわち、図4に示す矢印の方向に光源11からの光を透過させることが好ましい。第2フィルタ50を、第2偏光子51の吸収軸が被検査偏光子である偏光子101の吸収軸とのなす角度θ2を90°±35°の範囲内において適宜調整して配置し、プロテクトフィルム120により生じる位相差を低減することができるからである。プロテクトフィルム120を透過した光に生じる位相差は、第2フィルタ50で低減されて検出部20Aに入射する。 When the target of defect inspection using the defect inspection method and defect inspection device of the present embodiment shown in Figures 1 and 2 is a polarizing plate with a protect film 110, the inspection is performed so that the protect film 120 side of the polarizing plate with a protect film 110 is located on the second filter 50 side, and the light source is arranged so that the direction of irradiation of light from the light source in the detection process is from the first filter 40 side (satisfying the above condition b1), and the detection process is preferably performed in the above step b1. That is, it is preferable to transmit light from the light source 11 in the direction of the arrow shown in Figure 4. This is because the second filter 50 can be arranged by appropriately adjusting the angle θ2 between the absorption axis of the second polarizer 51 and the absorption axis of the polarizer 101, which is the polarizer to be inspected, within the range of 90°±35°, thereby reducing the phase difference caused by the protect film 120. The phase difference generated in the light transmitted through the protect film 120 is reduced by the second filter 50 and enters the detection unit 20A.

本応用例においては、検査対象が、ポリエチレン系テレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムを有するプロテクトフィルム付偏光板であっても、検出部20Aでの欠陥の検出精度の低下を抑制することができる。 In this application example, even if the object to be inspected is a polarizing plate with a protective film having a protective film made of polyethylene terephthalate resin, it is possible to suppress a decrease in the accuracy of defect detection by the detection unit 20A.

本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置により欠陥検査を行うために、プロテクトフィルム付偏光板は、下記の条件c1又は条件c2を満たすように製造されることが好ましい。下記の条件c1又は条件c2を満たすように製造されることにより、プロテクトフィルム120により生じる位相差を、第2フィルタ50により効果的に低減することができる。
(c1)偏光子101の吸収軸とプロテクトフィルム120の配向軸とのなす角度θ3が0°±30°の範囲内である。
(c2)偏光子101の吸収軸とプロテクトフィルム120の配向軸とのなす角度θ3が90°±30°の範囲内である。
In order to perform defect inspection using the defect inspection method and defect inspection device of the present embodiment, the polarizing plate with a protect film is preferably manufactured so as to satisfy the following condition c1 or condition c2. By manufacturing the polarizing plate with a protect film so as to satisfy the following condition c1 or condition c2, the phase difference caused by the protect film 120 can be effectively reduced by the second filter 50.
(c1) The angle θ3 between the absorption axis of the polarizer 101 and the alignment axis of the protective film 120 is within the range of 0°±30°.
(c2) The angle θ3 between the absorption axis of the polarizer 101 and the alignment axis of the protective film 120 is within the range of 90°±30°.

上記条件c1を満たすように製造されたプロテクトフィルム付偏光板については、上記配置工程において、プロテクトフィルムの配向軸と第2フィルタ50の第2偏光子51の吸収軸とのなす角度が90°±5°となるように配置することが好ましい。このような配置により、第2フィルタ50によりプロテクトフィルム120により生じる位相差を、第2フィルタ50により効果的に低減することができる。 For a polarizing plate with a protective film manufactured to satisfy the above condition c1, it is preferable to arrange the protective film in the above arrangement step so that the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer 51 of the second filter 50 is 90°±5°. With this arrangement, the second filter 50 can effectively reduce the phase difference caused by the protective film 120.

上記条件c2を満たすように製造されたプロテクトフィルム付偏光板については、上記配置工程において、プロテクトフィルムの配向軸と第2フィルタの第2偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±5°となるように配置することが好ましい。このような配置により、第2フィルタ50によりプロテクトフィルム120により生じる位相差を、第2フィルタ50により効果的に低減することができる。 For a polarizing plate with a protective film manufactured to satisfy the above condition c2, it is preferable to arrange the protective film in the above arrangement step so that the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer of the second filter is 0°±5°. With this arrangement, the second filter 50 can effectively reduce the phase difference caused by the protective film 120.

本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置にて欠陥検査を行うために、プロテクトフィルム付偏光板のプロテクトフィルムの配向軸は、全領域において一致しているものが好ましいものの、通常、全領域において配向軸は一致しない。プロテクトフィルムは、異なる配向軸のなす角度の最大値が25°以下のものが好ましい。このようなプロテクトフィルムが用いられている偏光板については、本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置において行う欠陥検査の検出精度の低下の抑制効果を得やすいからである。 To perform defect inspection using the defect inspection method and defect inspection device of this embodiment, it is preferable that the orientation axis of the protect film of the polarizing plate with protect film is consistent throughout the entire region, but usually the orientation axes do not coincide throughout the entire region. It is preferable that the protect film has a maximum angle between the different orientation axes of 25° or less. This is because polarizing plates using such a protect film are more likely to suppress a decrease in the detection accuracy of the defect inspection performed using the defect inspection method and defect inspection device of this embodiment.

[第2応用例]
第2応用例では、欠陥検査装置3Aで検査する光学フィルムが、λ/4位相差層を有する偏光板である場合について、本実施形態の好適な応用例を説明する。
[Second Application Example]
In the second application example, a suitable application example of this embodiment will be described for the case where the optical film to be inspected by the defect inspection apparatus 3A is a polarizing plate having a λ/4 retardation layer.

第2応用例において、検査の対象となる偏光板の層構成の一例を、図5を用いて説明する。図5に示されるように、偏光板130は、偏光子101と、保護フィルム102と、保護フィルム103との積層体である偏光板100の保護フィルム103側の表面に積層される位相差体140を備える。偏光板100については、上述の説明が適用される。 In the second application example, an example of the layer structure of the polarizing plate to be inspected will be described with reference to FIG. 5. As shown in FIG. 5, the polarizing plate 130 includes a retarder 140 laminated on the surface of the polarizing plate 100 on the protective film 103 side, the polarizing plate 100 being a laminate of a polarizer 101, a protective film 102, and a protective film 103. The above description applies to the polarizing plate 100.

偏光板130は、位相差体140として、透過光に1/4波長分の位相差を付与するλ/4位相差層を含み、さらに、透過光に1/2波長分の位相差を付与するλ/2位相差層、ポジティブAプレート、およびポジティブCプレートを含んでいてもよい。図5に示す偏光板130の位相差体140は、第1位相差層141と第2位相差層142を含む。第1位相差層141と第2位相差層142の組合せとして、λ/2位相差層とλ/4位相差層の組合わせ、λ/4位相差層とポジティブC層の組合せ等が挙げられる。 The polarizing plate 130 includes, as the retardation body 140, a λ/4 retardation layer that imparts a phase difference of 1/4 wavelength to the transmitted light, and may further include a λ/2 retardation layer that imparts a phase difference of 1/2 wavelength to the transmitted light, a positive A plate, and a positive C plate. The retardation body 140 of the polarizing plate 130 shown in FIG. 5 includes a first retardation layer 141 and a second retardation layer 142. Examples of combinations of the first retardation layer 141 and the second retardation layer 142 include a combination of a λ/2 retardation layer and a λ/4 retardation layer, and a combination of a λ/4 retardation layer and a positive C layer.

第2応用例の偏光板130は、λ/4位相差層を有する円偏光板として構成してもよい。円偏光板は、反射防止用偏光板として用いることができる。 The polarizing plate 130 of the second application example may be configured as a circular polarizing plate having a λ/4 retardation layer. The circular polarizing plate can be used as an anti-reflection polarizing plate.

位相差層は、光学異方性を示す光学フィルムであることができる。光学異方性を示す光学フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド/ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン-酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを1.01~6倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。延伸フィルムの中でも、アセチルセルロース、ポリエステル、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。また、位相差層は、重合性液晶化合物を基材に塗布・配向によって光学異方性を発現させた、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層であってもよい。 The retardation layer can be an optical film exhibiting optical anisotropy. Examples of optical films exhibiting optical anisotropy include stretched films obtained by stretching polymer films made of polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyester, polyarylate, polyimide, polyolefin, polycycloolefin, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyvinylidene fluoride/polymethyl methacrylate, acetyl cellulose, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, etc., to about 1.01 to 6 times. Among the stretched films, polymer films obtained by uniaxially or biaxially stretching acetyl cellulose, polyester, polycarbonate film, or cycloolefin resin film are preferable. In addition, the retardation layer may be a retardation layer made of a cured product of a polymerizable liquid crystal compound that has been applied to a substrate and oriented to exhibit optical anisotropy.

図1及び図2に示す本実施形態の欠陥検査方法及び欠陥検査装置にて欠陥検査を行う対象が偏光板130である場合は、偏光板130の位相差体140側が第1フィルタ40側に位置するように配置して検査を行う。すなわち、図5に示す矢印の方向に光源11からの光を透過させる。また、第1フィルタ40として、第1偏光子41の偏光板130側に、λ/4位相差層を備えるものを用いる。偏光板130と第1フィルタ40とは、互いのλ/4位相差層が、偏光子103及び第1偏光子41を介さずに対向する向きで配置されている。第1フィルタ40がλ/4位相差層を備えることにより、光が円偏光として透過する区間は、第1フィルタ40のλ/4位相差層と、偏光板130のλ/4位相差層との間のみとなり、検査対象がλ/4位相差層を備える偏光板であっても、本実施形態の原理と同様の原理で欠陥を検出することが可能となる。 When the object to be inspected for defects using the defect inspection method and defect inspection device of this embodiment shown in Figures 1 and 2 is a polarizing plate 130, the polarizing plate 130 is arranged so that the retarder 140 side is located on the first filter 40 side and inspection is performed. That is, light from the light source 11 is transmitted in the direction of the arrow shown in Figure 5. In addition, as the first filter 40, one having a λ/4 retardation layer on the polarizing plate 130 side of the first polarizer 41 is used. The polarizing plate 130 and the first filter 40 are arranged so that their λ/4 retardation layers face each other without the polarizer 103 and the first polarizer 41. Since the first filter 40 has a λ/4 retardation layer, the section through which light transmits as circularly polarized light is only between the λ/4 retardation layer of the first filter 40 and the λ/4 retardation layer of the polarizing plate 130, and even if the object to be inspected is a polarizing plate having a λ/4 retardation layer, it is possible to detect defects using the same principle as the principle of this embodiment.

なお、検査対象が偏光板130の場合に限って(すなわち円偏光板の場合に限って)、第1フィルタの有する第1偏光子の吸収軸と偏光板130の有する偏光子の吸収軸、第1フィルタの有するλ/4位相差層の遅相軸と偏光板130の有するλ/4位相差層の遅相軸とをいずれも平行となるように配置してもクロスニコルの状態を得ることができる。 In addition, only when the object to be inspected is the polarizing plate 130 (i.e., only when it is a circular polarizing plate), the crossed Nicol state can be obtained even if the absorption axis of the first polarizer of the first filter and the absorption axis of the polarizer of the polarizing plate 130, and the slow axis of the λ/4 retardation layer of the first filter and the slow axis of the λ/4 retardation layer of the polarizing plate 130 are all arranged parallel to each other.

本応用例において、偏光板130の欠陥を検出する目的で欠陥検出を行う場合には、検出工程における光源からの光の照射は、第1フィルタ40側から(条件b1の配置、工程b1による検出工程)であっても、第2フィルタ50側から(条件b2の配置、工程b2による検出工程)であってもよい。偏光板130の偏光子101の光学特性のムラを検出するためには、光源からの光の照射は第1フィルタ側40からとすることが好ましい。第1フィルタ側40からの場合、検出部20Aに入射する検出光に位相差体140の欠陥は反映されないものの、第2フィルタ側50からの場合、検出部20Aに入射する検出光に位相差体140の欠陥が反映されて、偏光子101の光学特性のムラの検出精度が低下することがあるからである。 In this application example, when defect detection is performed to detect defects in the polarizing plate 130, the light source may be irradiated from the first filter 40 side (arrangement of condition b1, detection process by process b1) or from the second filter 50 side (arrangement of condition b2, detection process by process b2). In order to detect unevenness in the optical properties of the polarizer 101 of the polarizing plate 130, it is preferable to irradiate light from the light source from the first filter side 40. When irradiated from the first filter side 40, defects in the retarder 140 are not reflected in the detection light incident on the detection unit 20A, but when irradiated from the second filter side 50, defects in the retarder 140 are reflected in the detection light incident on the detection unit 20A, which may reduce the detection accuracy of unevenness in the optical properties of the polarizer 101.

1 欠陥検査システム、2 搬送部、3A 欠陥検査装置、4 マーキング装置、10A 光照射部、11 光源、20A 検出部、21 カメラ、30 制御装置、40 第1フィルタ、41 第1偏光子、50 第2フィルタ、51 第2偏光子、100 偏光板、101 偏光子、102,103 保護フィルム、110 プロテクトフィルム付偏光板、120 プロテクトフィルム、130 偏光板、140 位相差体、141 第1位相差層、142 第2位相差層。 1 Defect inspection system, 2 Conveyor section, 3A Defect inspection device, 4 Marking device, 10A Light irradiation section, 11 Light source, 20A Detection section, 21 Camera, 30 Control device, 40 First filter, 41 First polarizer, 50 Second filter, 51 Second polarizer, 100 Polarizing plate, 101 Polarizer, 102, 103 Protective film, 110 Polarizing plate with protective film, 120 Protective film, 130 Polarizing plate, 140 Retardation body, 141 First retardation layer, 142 Second retardation layer.

Claims (6)

被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査方法であって、
前記欠陥検査方法は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源、を用い、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置し、かつ前記第1偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とは平行ではないように配置する、配置工程と、
下記の工程b1:
(b1)前記光源から照射され、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過した光を検出する工程、
である検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記光学フィルムの欠陥を判断する判断工程と、を有し、
前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±30°の範囲内であり、
前記配向軸は、遅相軸であり、
前記配置工程において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±5°の範囲内となるように、配置される、
欠陥検査方法。
A defect inspection method for an optical film having a polarizer to be inspected, comprising the steps of:
The defect inspection method includes using a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order, and the following conditions a1 and a2 are satisfied:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the absorption axis of the test polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
and arranging the first polarizer and the second polarizer so that the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the second polarizer are not parallel to each other;
Step b1 below:
(b1) detecting light that is irradiated from the light source and that is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
a detection step,
a determination step of determining a defect in the optical film based on a detection result in the detection step,
The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within the range of 0°±30°;
The alignment axis is a slow axis,
In the placing step,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that an angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 90°±5°.
Defect inspection methods.
被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査方法であって、
前記欠陥検査方法は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源、を用い、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置し、かつ前記第1偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とは平行ではないように配置する、配置工程と、
下記の工程b1:
(b1)前記光源から照射され、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過した光を検出する工程、
である検出工程と、
前記検出工程での検出結果に基づいて、前記光学フィルムの欠陥を判断する判断工程と、を有し、
前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±30°の範囲内であり、
前記配向軸は、遅相軸であり、
前記配置工程において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±5°の範囲内となるように、配置される、
欠陥検査方法。
A defect inspection method for an optical film having a polarizer to be inspected, comprising the steps of:
The defect inspection method includes using a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order, and the following conditions a1 and a2 are satisfied:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the absorption axis of the test polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
and arranging the first polarizer and the second polarizer so that the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the second polarizer are not parallel to each other;
Step b1 below:
(b1) detecting light that is irradiated from the light source and that is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
a detection step,
a determination step of determining a defect in the optical film based on a detection result in the detection step,
The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±30°;
The alignment axis is a slow axis,
In the placing step,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that an angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 0°±5°.
Defect inspection methods.
前記被検査偏光子は、重合性液晶化合物の硬化物を含む、請求項1または2に記載の欠陥検査方法。 The defect inspection method according to claim 1 or 2, wherein the polarizer to be inspected includes a cured product of a polymerizable liquid crystal compound. 前記光学フィルムは、λ/4位相差層をさらに有し、
前記欠陥検査方法において、前記第1フィルタはλ/4位相差層を有するものを用い、
前記配置工程において、前記光学フィルムと前記第1フィルタを、互いのλ/4位相差層が、前記被検査偏光子及び前記第1偏光子を介さずに対向する向きで配置する、請求項1~3のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。
The optical film further comprises a λ/4 retardation layer,
In the defect inspection method, the first filter has a λ/4 phase difference layer,
4. The defect inspection method according to claim 1, wherein in the positioning step, the optical film and the first filter are positioned such that their λ/4 retardation layers face each other without being sandwiched between the inspected polarizer and the first polarizer.
被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査装置であって、
前記欠陥検査装置は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源を有し、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタは、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の透過軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置され、
前記光源は、下記の条件b1:
(b1)前記光源から照射された光が、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過する、
を満たすように配置し、かつ前記第1偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とは平行ではないように配置し
前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±30°の範囲内であり、
前記配向軸は、遅相軸であり、
前記欠陥検査装置において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±5°の範囲内となるように、配置する、
欠陥検査装置。
An apparatus for inspecting defects in an optical film having a polarizer to be inspected, comprising:
the defect inspection apparatus includes a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order and satisfy the following conditions a1 and a2:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the transmission axis of the inspected polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
are arranged so as to satisfy
The light source satisfies the following condition b1:
(b1) light emitted from the light source is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
and the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the second polarizer are not parallel to each other.
The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within the range of 0°±30°;
The alignment axis is a slow axis,
In the defect inspection apparatus,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 90°±5°.
Defect inspection equipment.
被検査偏光子を有する光学フィルムの欠陥検査装置であって、
前記欠陥検査装置は、第1偏光子を有する第1フィルタ、第2偏光子を有する第2フィルタ、及び光源を有し、
前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタは、この順で、かつ下記の条件a1及び条件a2:
(a1)前記第1偏光子の吸収軸と前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度θ1が90°±5°の範囲内である;
(a2)前記被検査偏光子の透過軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度θ2が90°±35°の範囲内である、
を満たすように配置され、
前記光源は、下記の条件b1:
(b1)前記光源から照射された光が、前記第1フィルタ、前記光学フィルム、及び前記第2フィルタを、この順で透過する、
を満たすように配置し、かつ前記第1偏光子の吸収軸と前記第2偏光子の吸収軸とは平行ではないように配置し
前記光学フィルムは、
ポリエチレンテレフタレート系樹脂からなるプロテクトフィルムをさらに有し、
前記プロテクトフィルムの配向軸と、前記被検査偏光子の吸収軸とのなす角度が90°±30°の範囲内であり、
前記配向軸は、遅相軸であり、
前記欠陥検査装置において、
前記光学フィルムを、前記プロテクトフィルムの前記被検査偏光子側とは反対側の表面が前記第2フィルタ側に位置する向きで、かつ、
前記プロテクトフィルムの配向軸と前記第2偏光子の吸収軸とのなす角度が0°±5°の範囲内となるように、配置する、
欠陥検査装置。
An apparatus for inspecting defects in an optical film having a polarizer to be inspected, comprising:
the defect inspection apparatus includes a first filter having a first polarizer, a second filter having a second polarizer, and a light source;
The first filter, the optical film, and the second filter are arranged in this order and satisfy the following conditions a1 and a2:
(a1) an angle θ1 between the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±5°;
(a2) the angle θ2 between the transmission axis of the inspected polarizer and the absorption axis of the second polarizer is within the range of 90°±35°;
are arranged so as to satisfy
The light source satisfies the following condition b1:
(b1) light emitted from the light source is transmitted through the first filter, the optical film, and the second filter in this order;
and the absorption axis of the first polarizer and the absorption axis of the second polarizer are not parallel to each other.
The optical film is
Further comprising a protective film made of a polyethylene terephthalate resin,
the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer to be inspected is within a range of 90°±30°;
The alignment axis is a slow axis,
In the defect inspection apparatus,
The optical film is oriented such that the surface of the protective film opposite to the polarizer to be inspected faces the second filter, and
The protective film is disposed so that the angle between the orientation axis of the protective film and the absorption axis of the second polarizer is within a range of 0°±5°.
Defect inspection equipment.
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