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JP7689846B2 - Optical laminate and display device - Google Patents
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JP7689846B2 - Optical laminate and display device - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体、表示装置及び光学積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to an optical laminate, a display device, and a method for manufacturing an optical laminate.

液晶表示装置(LCD)は、液晶テレビだけでなく、パソコン、携帯電話等のモバイル、カーナビ等の車載用途などで広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に粘着剤で偏光板を貼合した液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。また、有機EL表示装置も近年、液晶表示装置と同様に、テレビ、携帯電話等のモバイル、カーナビ等の車載用途で広く用いられて来ている。液晶表示装置や有機EL表示装置では、視野角の拡大や外光の反射防止などの機能を付与するために位相差フィルムが用いられる。 Liquid crystal display devices (LCDs) are widely used not only in LCD televisions, but also in personal computers, mobile devices such as mobile phones, and in-vehicle applications such as car navigation systems. Typically, LCD displays have a liquid crystal panel member in which polarizing plates are attached to both sides of a liquid crystal cell with an adhesive, and display is achieved by controlling the light from a backlight member with the liquid crystal panel member. In recent years, organic electroluminescence (EL) display devices have also come to be widely used in TVs, mobile devices such as mobile phones, and in-vehicle applications such as car navigation systems, just like LCD displays. In LCD displays and organic EL displays, retardation films are used to provide functions such as expanding the viewing angle and preventing reflection of external light.

偏光板は上記のように、液晶表示装置や有機EL表示装置の部材として、車に搭載される機会が増えて来ている。車載用の画像表示装置に用いられる偏光板は、それ以外のテレビや携帯電話等のモバイル用途に比較して、高温環境下に曝されることが多く、より高温での特性変化が小さいこと(高温耐久性)が求められる。 As mentioned above, polarizing plates are increasingly being installed in vehicles as components of liquid crystal display devices and organic EL display devices. Polarizing plates used in in-vehicle image display devices are more often exposed to high-temperature environments than those used in other mobile applications such as televisions and mobile phones, and are therefore required to have minimal change in properties at high temperatures (high-temperature durability).

一方、車載用の表示装置は、カーナビ用途等で用いられる場合、タッチパネル機能が必要である。タッチパネルの中でも近年、オンセルやインセルの比率が上がってきており、この用途では、視認側の偏光板は最外に配置されるため、上記の耐久性に加え、映り込み防止機能も必要である。 On the other hand, when used for car navigation systems and other applications, in-vehicle display devices need to have touch panel functionality. In recent years, the proportion of on-cell and in-cell touch panels has been increasing, and in these applications, the polarizing plate on the viewing side is positioned on the outermost side, so in addition to the durability mentioned above, anti-glare functionality is also required.

特開2011-081219号公報(特許文献1)には、外光の映り込みを防止する目的で防眩層上にスパッタリング方式の多層構成の反射防止層を積層した防眩性ハードコートフィルムを用いることが開示されている(実施例1等)。 JP 2011-081219 A (Patent Document 1) discloses the use of an antiglare hard coat film in which a multi-layered antireflection layer formed by sputtering is laminated on an antiglare layer to prevent reflections of external light (Example 1, etc.).

特許文献2には、視野角を拡大する目的で環状オレフィン系樹脂を用いた位相差フィルムを含む偏光板が記載されている。また、特許文献3には、外光の映り込みを防止する目的でλ/4板として環状オレフィン系樹脂を用いた位相差フィルムを含む偏光板が記載されている。 Patent Document 2 describes a polarizing plate including a retardation film using a cyclic olefin resin for the purpose of expanding the viewing angle. In addition, Patent Document 3 describes a polarizing plate including a retardation film using a cyclic olefin resin as a λ/4 plate for the purpose of preventing reflection of external light.

このような偏光板は、表示装置に積層した後の視認性は良好であり、加熱耐久試験(105℃で500時間)後にはクラック(割れ)が発生していなくても、さらに温度23℃相対湿度55%の環境に1か月程度保管すると位相差フィルムにクラックが発生する場合があることがわかった。 It was found that such polarizing plates have good visibility after being laminated to a display device, and even though no cracks were observed after a heat durability test (105°C for 500 hours), cracks may occur in the retardation film if the plate is stored in an environment at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55% for about a month.

特開2011-081219号公報JP 2011-081219 A 特許5383594号公報Patent No. 5383594 特開2014-194483号公報JP 2014-194483 A

本発明の目的は、上記課題を解決することであり、画像表示装置に機能を付加する位相差フィルムを含む光学積層体を用いた場合でも、映り込み防止機能が良好であり、加熱耐久性試験後に温度23℃相対湿度55%の環境に1か月保管しても位相差フィルムにクラックが発生しない光学積層体を提供することである。 The object of the present invention is to solve the above problems and to provide an optical laminate that has good anti-glare function even when using an optical laminate containing a retardation film that adds functions to an image display device, and that does not develop cracks in the retardation film even when stored for one month in an environment at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55% after a heat durability test.

本発明は、以下の光学積層体、表示装置及び光学積層体の製造方法を提供する。
[1] 位相差フィルムと偏光素子と反射防止フィルムとをこの順に有する光学積層体であって、
前記位相差フィルムは、23℃における引張弾性率が3000MPa以下であり、
前記偏光素子は、含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であり、
下記要件(i)及び下記要件(ii):
(i)前記反射防止フィルムは、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である、
(ii)前記偏光素子と前記反射防止フィルムとの間に、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを有する、
の少なくとも一方を満たす、光学積層体。
[2] 位相差フィルムと偏光素子と反射防止フィルムとをこの順に有する光学積層体であって、
前記位相差フィルムは、23℃における引張弾性率が3000MPa以下であり、
前記光学積層体は、含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であり、
下記要件(i)及び下記要件(ii):
(i)前記反射防止フィルムは、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である、
(ii)前記偏光素子と前記反射防止フィルムとの間に、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを有する、
の少なくとも一方を満たす、光学積層体。
[3] 前記偏光素子と前記反射防止フィルムとの間に、保護フィルムを有する、[1]または[2]に記載の光学積層体。
[4] 前記位相差フィルムが、環状オレフィン系樹脂からなる[1]~[3]のいずれか1項に記載の偏光板。
[5] 前記位相差フィルムの波長550nmにおける面内位相差値が80nm以上である[1]~[4]のいずれか1項に記載の偏光板。
[6] 前記反射防止フィルムは、基材フィルムと前記基材フィルムの表面に設けられた反射防止層とを含み、
前記反射防止層は屈折率が異なる複数の薄膜からなる、[1]~[5]のいずれか1項に記載の光学積層体。
[7] 前記反射防止層は、二酸化ケイ素(SiO)を主成分とする薄膜を含む、[6]に記載の光学積層体。
[8] 前記反射防止層は、五酸化ニオブ(Nb)または二酸化チタン(TiO)を主成分とする薄膜を含む、[6]または[7]に記載の光学積層体。
[9] 前記反射防止層は、厚みが100nm~350nmである、[6]~[8]のいずれか1項に記載の光学積層体。
[10] 前記反射防止フィルムは、前記基材フィルムと前記反射防止層との間に設けられたハードコート層をさらに有する、[6]~[9]のいずれか1項に記載の光学積層体。
[11] 表示セルと、[1]~[10]のいずれか1項に記載の光学積層体とを有し、
前記光学積層体は、前記表示セルの視認側表面に、前記表示セル側から、前記偏光素子、前記反射防止フィルムの順に配置される向きで積層されている、表示装置。
[12] [1]に記載の光学積層体の製造方法であって、
前記偏光素子の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように調整する含水率調整工程を有する、光学積層体の製造方法。
[13] [2]に記載の光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように調整する含水率調整工程を有する、光学積層体の製造方法。
The present invention provides the following optical laminate, display device, and method for producing the optical laminate.
[1] An optical laminate having a retardation film, a polarizing element, and an antireflection film in this order,
The retardation film has a tensile modulus of elasticity at 23° C. of 3000 MPa or less,
The polarizing element has a moisture content equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%,
The following requirement (i) and the following requirement (ii):
(i) The anti-reflection film has a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%;
(ii) a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% is provided between the polarizing element and the antireflection film;
An optical laminate that satisfies at least one of the above.
[2] An optical laminate having a retardation film, a polarizing element, and an antireflection film in this order,
The retardation film has a tensile modulus of elasticity at 23° C. of 3000 MPa or less,
The optical laminate has a moisture content equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%,
The following requirement (i) and the following requirement (ii):
(i) The anti-reflection film has a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%;
(ii) a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% is provided between the polarizing element and the antireflection film;
An optical laminate that satisfies at least one of the above.
[3] The optical laminate according to [1] or [2], further comprising a protective film between the polarizing element and the antireflection film.
[4] The polarizing plate according to any one of [1] to [3], wherein the retardation film is made of a cyclic olefin resin.
[5] The polarizing plate according to any one of [1] to [4], wherein the retardation film has an in-plane retardation value of 80 nm or more at a wavelength of 550 nm.
[6] The antireflection film includes a base film and an antireflection layer provided on a surface of the base film,
The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the antireflection layer is made of a plurality of thin films having different refractive indices.
[7] The optical laminate according to [6], wherein the antireflection layer includes a thin film containing silicon dioxide (SiO 2 ) as a main component.
[8] The optical laminate according to [6] or [7], wherein the antireflection layer includes a thin film containing niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ) or titanium dioxide (TiO 2 ) as a main component.
[9] The optical laminate according to any one of [6] to [8], wherein the antireflection layer has a thickness of 100 nm to 350 nm.
[10] The optical laminate according to any one of [6] to [9], wherein the antireflection film further has a hard coat layer provided between the base film and the antireflection layer.
[11] A display cell and the optical laminate according to any one of [1] to [10],
A display device, wherein the optical laminate is laminated on a viewing side surface of the display cell in an orientation in which the polarizing element and the anti-reflection film are disposed in this order from the display cell side.
[12] A method for producing the optical laminate according to [1],
A method for producing an optical laminate, comprising a moisture content adjusting step of adjusting the moisture content of the polarizing element so that it is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48%.
[13] A method for producing the optical laminate according to [2],
A method for producing an optical laminate, comprising a moisture content adjusting step of adjusting the moisture content of the optical laminate to be equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48%.

本発明によれば、画像表示装置に機能を付加する位相差フィルムを含む光学積層体を用いた場合でも、映り込み防止機能が良好であり、加熱耐久性試験後に温度23℃相対湿度55%の環境に1か月保管しても位相差フィルムにクラックが発生しない光学積層体を提供することである。 The present invention provides an optical laminate that has good anti-glare function even when using an optical laminate containing a retardation film that adds functionality to an image display device, and that does not develop cracks in the retardation film even when stored for one month in an environment at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55% after a heat durability test.

光学積層体の層構成を示す概略断面図の一例である。FIG. 2 is an example of a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an optical laminate.

[光学積層体]
本発明の実施形態に係る光学積層体は、位相差フィルムと偏光素子と反射防止フィルムとをこの順に有する。反射防止フィルムは、偏光素子の視認側表面に配置されている。位相差フィルムは、偏光素子の視認側表面とは反対側の表面に配置されている。光学積層体は、偏光素子の反射防止フィルム側の表面に積層された保護フィルム(以下、「第1保護フィルム」ともいう)を有していてもよく、偏光素子の反射防止フィルム側とは反対側の表面に積層された保護フィルム(以下、「第2保護フィルム」ともいう)を有していてもよい。本明細書において、第1保護フィルムは、偏光素子と反射防止フィルムとの間に積層されている保護フィルムとし、第2保護フィルムは、偏光素子と位相差フィルムとの間に積層されている保護フィルムとする。また、本明細書において、偏光板は、偏光素子を含み、偏光素子に貼合されている第1保護フィルム及び/又は第2保護フィルムを有する場合には、これらをも含む積層体のことをいう。
[Optical laminate]
The optical laminate according to the embodiment of the present invention has a retardation film, a polarizing element, and an anti-reflection film in this order. The anti-reflection film is disposed on the viewing side surface of the polarizing element. The retardation film is disposed on the surface opposite to the viewing side surface of the polarizing element. The optical laminate may have a protective film (hereinafter also referred to as "first protective film") laminated on the anti-reflection film side surface of the polarizing element, or may have a protective film (hereinafter also referred to as "second protective film") laminated on the surface opposite to the anti-reflection film side of the polarizing element. In this specification, the first protective film is a protective film laminated between the polarizing element and the anti-reflection film, and the second protective film is a protective film laminated between the polarizing element and the retardation film. In addition, in this specification, the polarizing plate refers to a laminate including a polarizing element and, in the case where the first protective film and/or the second protective film are bonded to the polarizing element, also including these.

図1は、本実施形態に係る光学積層体の層構成を示す概略断面図の一例である。光学積層体100は、位相差フィルム30と、偏光素子10と、反射防止フィルム20とを備え、偏光素子10の反射防止フィルム20側の表面に積層された第1保護フィルム11をさらに備える。 Figure 1 is an example of a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the optical laminate according to this embodiment. The optical laminate 100 includes a retardation film 30, a polarizing element 10, and an anti-reflection film 20, and further includes a first protective film 11 laminated on the surface of the polarizing element 10 on the anti-reflection film 20 side.

本実施形態に係る光学積層体は、下記の(a)及び(b)の少なくとも一方の特徴を有する。
(a)偏光素子の含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である。
(b)光学積層体の含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である。
上記(a)について、偏光素子の含水率は、好ましくは温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度45%の平衡含水率以下である。偏光素子の含水率は、より好ましくは、温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度40%の平衡含水率以下である。
上記(b)について、光学積層体の含水率は、好ましくは温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度45%の平衡含水率以下である。光学積層体の含水率は、より好ましくは、温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度40%の平衡含水率以下である。
The optical laminate according to this embodiment has at least one of the following characteristics (a) and (b).
(a) The moisture content of the polarizing element is equal to or greater than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and is equal to or less than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%.
(b) The moisture content of the optical laminate is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%.
Regarding (a) above, the moisture content of the polarizing element is preferably equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 45%. The moisture content of the polarizing element is more preferably equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 40%.
Regarding (b) above, the moisture content of the optical laminate is preferably equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30%, and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 45%. The moisture content of the optical laminate is more preferably equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30%, and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 40%.

光学積層体は、下記要件(i)及び下記要件(ii)の少なくとも一方を満たす。
(i)反射防止フィルムは、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である。
(ii)偏光素子と反射防止フィルムとの間に、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを有する。
上記要件(ii)を満たすことは、下記要件(iia)を満たすことと同じことを意味する。
(iia)偏光素子の反射防止フィルム側の表面に積層された、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である第1保護フィルムを有する。
The optical laminate satisfies at least one of the following requirement (i) and the following requirement (ii).
(i) The anti-reflection film has a moisture permeability of 300 g/m 2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%.
(ii) Between the polarizing element and the antireflection film, there is a protective film having a moisture permeability of 300 g/m 2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%.
Satisfying the above requirement (ii) is equivalent to satisfying the following requirement (iia).
(iia) A first protective film having a moisture permeability of 300 g/m 2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% is laminated on the surface of the polarizing element on the antireflection film side.

本実施形態の光学積層体は、偏光素子の含水率が上記の範囲内であり、かつ上記要件(i)及び上記要件(ii)の少なくとも一方を満たすことにより、加熱耐久試験(105℃で500時間)後に位相差フィルムにクラック(割れ)は発生せず、さらに温度23℃相対湿度55%の環境に1か月程度保管した場合にも位相差フィルムにクラックが発生するのを抑制することができる。詳細なメカニズムは不明であるが、反射防止フィルムや第1保護フィルムの透湿度を所定の範囲にすることにより偏光素子への水分移行を抑制し、保管時の寸法変化を抑制できるため、位相差フィルムにクラックが発生するのを抑制できているためであると考えられる。 In the optical laminate of this embodiment, the moisture content of the polarizing element is within the above range, and at least one of the above requirements (i) and (ii) is satisfied, so that no cracks (cracks) occur in the retardation film after a heat durability test (105°C for 500 hours), and furthermore, even when stored for about one month in an environment at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55%, the occurrence of cracks in the retardation film can be suppressed. Although the detailed mechanism is unknown, it is believed that this is because the moisture permeability of the anti-reflection film and the first protective film is set within a predetermined range, which suppresses moisture transfer to the polarizing element and suppresses dimensional changes during storage, thereby suppressing the occurrence of cracks in the retardation film.

<偏光素子>
偏光素子は、ポリビニルアルコール(以下、「PVA」とも称す。)系樹脂を含む層(本明細書において、「PVA系樹脂層」とも称す。)に二色性色素を吸着配向させてなる偏光素子を用いることができる。このような偏光素子としては、PVA系樹脂フィルムを用いて、このPVA系樹脂フィルムを二色性色素で染色し、一軸延伸することによって形成したものや、PVA系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布して得られた積層フィルムを用いて、この積層フィルムの塗布層であるPVA系樹脂層を二色性色素で染色し、積層フィルムを一軸延伸することによって形成したものが挙げられる。
<Polarizing element>
The polarizing element may be a polarizing element formed by adsorbing and orienting a dichroic dye in a layer containing a polyvinyl alcohol (hereinafter also referred to as "PVA")-based resin (also referred to as a "PVA-based resin layer" in this specification). Examples of such polarizing elements include a polarizing element formed by using a PVA-based resin film, dyeing the PVA-based resin film with a dichroic dye, and uniaxially stretching the film, and a polarizing element formed by using a laminated film obtained by applying a coating liquid containing a PVA-based resin onto a base film, dyeing the PVA-based resin layer, which is a coating layer of the laminated film, with a dichroic dye, and uniaxially stretching the laminated film.

偏光素子は、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化して得られるPVA系樹脂から形成される。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体が挙げられる。共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸類、エチレン等のオレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類などが挙げられる。 The polarizing element is made of a PVA-based resin obtained by saponifying a polyvinyl acetate-based resin. Examples of polyvinyl acetate-based resins include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, as well as copolymers of vinyl acetate and other monomers that can be copolymerized with it. Examples of other copolymerizable monomers include unsaturated carboxylic acids, olefins such as ethylene, vinyl ethers, and unsaturated sulfonic acids.

PVA系樹脂の鹸化度は、好ましくは約85モル%以上、より好ましくは約90モル%以上、さらに好ましくは約99モル%~100モル%である。PVA系樹脂の重合度としては、1000~10000、好ましくは1500~5000である。このPVA系樹脂は変性されていてもよく、たとえば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどでもよい。 The degree of saponification of the PVA-based resin is preferably about 85 mol% or more, more preferably about 90 mol% or more, and even more preferably about 99 mol% to 100 mol%. The degree of polymerization of the PVA-based resin is 1000 to 10000, preferably 1500 to 5000. This PVA-based resin may be modified, for example, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, etc. modified with aldehydes.

本実施形態の偏光素子の厚みは5~50μmが好ましく、5~30μmがより好ましく、8~25μmがさらに好ましい。偏光素子の厚みが50μm以下であることにより、高温環境下でPVA系樹脂のポリエン化が光学特性の低下に与える影響を抑制することができ、また偏光素子の厚みが5μm以上であることにより所望の光学特性を達成する構成とすることが容易となる。 The thickness of the polarizing element in this embodiment is preferably 5 to 50 μm, more preferably 5 to 30 μm, and even more preferably 8 to 25 μm. By making the thickness of the polarizing element 50 μm or less, it is possible to suppress the effect of polyenation of the PVA-based resin on the deterioration of optical properties in a high-temperature environment, and by making the thickness of the polarizing element 5 μm or more, it is easy to configure it to achieve the desired optical properties.

偏光素子の視感度補正単体透過率は、好ましくは38.8%~44.8%、より好ましくは40.4%~43.2%であり、さらに好ましくは40.7%~43.0%である。視感度補正単体透過率が44.8%を超えると高温環境下で赤変するなど光学特性の劣化が大きくなる場合があり、視感度補正単体透過率が38.8%未満では高温環境下でポリエン化が進行しやすく光学特性の劣化が大きくなる場合がある。 The luminosity-corrected single transmittance of the polarizing element is preferably 38.8% to 44.8%, more preferably 40.4% to 43.2%, and even more preferably 40.7% to 43.0%. If the luminosity-corrected single transmittance exceeds 44.8%, the optical properties may deteriorate significantly, such as turning red in a high-temperature environment, while if the luminosity-corrected single transmittance is less than 38.8%, polyenization may easily progress in a high-temperature environment, resulting in significant deterioration of the optical properties.

視感度補正単体透過率は、JIS Z8701-1982に規定されている2度視野(C光源)により、視感度補正を行ったY値を測定することによって求めることができる。視感度補正単体透過率は、例えば、日本分光(株)製の分光光度計(型番:V7100)などで簡便に測定することができる。 The luminosity-corrected single transmittance can be determined by measuring the luminosity-corrected Y value using a 2-degree visual field (C light source) as specified in JIS Z8701-1982. The luminosity-corrected single transmittance can be easily measured using, for example, a spectrophotometer (model number: V7100) manufactured by JASCO Corporation.

(特徴(a))
特徴(a)を有する場合、偏光素子の含水率は、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である。好ましくは温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度45%の平衡含水率以下である。より好ましくは、温度20℃相対湿度42%の平衡含水率以下であり、さらに好ましくは、温度20℃相対湿度40%の平衡含水率以下であり、最も好ましくは、温度20℃相対湿度38%の平衡含水率以下である。温度20℃相対湿度20%の平衡含水率を下回ると、偏光素子のハンドリング性が低下し、割れやすくなる。温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であることにより、湿熱耐久性と高温耐久性に優れた光学積層体を提供することができる。偏光素子の含水率が高いと、偏光素子に含まれるPVA系樹脂のポリエン化が進みやすくなるためと推定される。偏光素子の上記含水率は、光学積層体中における偏光素子の含水率である。
(Feature (a))
In the case of having the characteristic (a), the moisture content of the polarizing element is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%. Preferably, the moisture content is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 45%. More preferably, the moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 42%, even more preferably, the equilibrium moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 40%, and most preferably, the equilibrium moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 38%. If the moisture content is lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20%, the handling property of the polarizing element is reduced and it becomes easy to crack. By being equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%, it is possible to provide an optical laminate having excellent wet heat durability and high temperature durability. It is presumed that if the moisture content of the polarizing element is high, the PVA-based resin contained in the polarizing element is easily polyenated. The moisture content of the polarizing element is the moisture content of the polarizing element in the optical laminate.

偏光素子の含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であるかを確認する方法として、上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境で偏光素子を一定時間保管し、質量の変化がないことを確認する方法、又は上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境の偏光素子の平衡含水率を予め計算し、偏光素子の含水率と予め計算した平衡含水率とを対比する方法が挙げられる。一定時間偏光素子を保管し、その質量に変化がない場合は、保管環境において含水率が平衡に達したとみなすことができる。 Methods for checking whether the moisture content of a polarizing element is equal to or greater than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or less than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48% include storing the polarizing element for a certain period of time in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges and checking that there is no change in mass, or calculating in advance the equilibrium moisture content of the polarizing element in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges and comparing the moisture content of the polarizing element with the pre-calculated equilibrium moisture content. If there is no change in the mass of a polarizing element after storing it for a certain period of time, it can be considered that the moisture content has reached equilibrium in the storage environment.

含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である偏光素子を製造する方法としては、特に限定されないが、例えば上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境に偏光素子を10分以上3時間以下保管する方法、又は30℃以上90℃以下で加熱処理する方法が挙げられる。 Methods for producing a polarizing element having a moisture content equal to or greater than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or less than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48% are not particularly limited, but examples include a method in which the polarizing element is stored in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity range for 10 minutes to 3 hours, or a method in which the polarizing element is heat-treated at 30°C to 90°C.

上記含水率である偏光素子を製造する別の好ましい方法としては、偏光素子の少なくとも片面に保護フィルムを積層した積層体を、又は偏光素子を用いて構成した積層体を、上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境に、10分以上120時間以下保管する方法、又は30℃以上90℃以下で加熱処理する方法が挙げられる。画像表示装置の作製時において、光学積層体を画像表示セルに積層した画像表示パネルを、上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境に10分以上3時間以下保管又は30℃以上90℃以下で加熱処理する方法も挙げられる。 Another preferred method for producing a polarizing element having the above moisture content is to store a laminate in which a protective film is laminated on at least one side of a polarizing element, or a laminate constructed using a polarizing element, in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges for 10 minutes to 120 hours, or to heat treat the laminate at 30°C to 90°C. When producing an image display device, an image display panel in which an optical laminate is laminated on an image display cell can be stored in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges for 10 minutes to 3 hours, or to heat treat the image display panel at 30°C to 90°C.

偏光素子の含水率は、偏光素子単独又は偏光素子と保護フィルムとの積層体であって光学積層体を構成するために用いられる材料段階で含水率が上記数値範囲となるように調整されていることが好ましい。光学積層体を構成した後に含水率を調整した場合には、カールが大きくなりすぎ、画像表示セルへの貼合時に不具合が生じやすくなることがある。光学積層体を構成する前の材料段階で上記含水率となるように調整されている偏光素子を用いて光学積層体を構成することにより、含水率が上記数値範囲を満たす偏光素子を備える光学積層体を容易に構成することができる。光学積層体を画像表示セルに貼合した状態で、光学積層体中における偏光素子の含水率が上記数値範囲となるように調整してもよい。この場合、光学積層体は、画像表示セルに貼合されているのでカールが生じにくい。 The moisture content of the polarizing element is preferably adjusted to be within the above numerical range at the material stage used to construct the optical laminate, which is a polarizing element alone or a laminate of a polarizing element and a protective film. If the moisture content is adjusted after the optical laminate is constructed, curling may become too large, which may lead to problems when the optical laminate is attached to an image display cell. By constructing the optical laminate using a polarizing element that has been adjusted to have the above moisture content at the material stage before the optical laminate is constructed, an optical laminate including a polarizing element whose moisture content satisfies the above numerical range can be easily constructed. The moisture content of the polarizing element in the optical laminate may be adjusted to be within the above numerical range when the optical laminate is attached to the image display cell. In this case, the optical laminate is less likely to curl because it is attached to the image display cell.

(特徴(b))
特徴(b)を有する場合、光学積層体の含水率は、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である。好ましくは温度20℃相対湿度30%の平衡含水率以上であり、かつ温度20℃相対湿度45%の平衡含水率以下である。より好ましくは、温度20℃相対湿度42%の平衡含水率以下であり、さらに好ましくは、温度20℃相対湿度40%の平衡含水率以下であり、最も好ましくは、温度20℃相対湿度38%の平衡含水率以下である。光学積層体の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率を下回ると、光学積層体のハンドリング性が低下し、割れやすくなる。光学積層体の含水率が、温度20℃相対湿度48%の平衡含水率を上回ると、偏光素子の透過率が低下しやすくなる。光学積層体の含水率が高いと、PVA系樹脂のポリエン化が進みやすくなるためと推定される。
(Feature (b))
In the case of having the characteristic (b), the moisture content of the optical laminate is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%. Preferably, the moisture content is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 45%. More preferably, the moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 42%, even more preferably, the equilibrium moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 40%, and most preferably, the equilibrium moisture content is equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 38%. If the moisture content of the optical laminate is lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20%, the optical laminate is less easy to handle and is more likely to crack. If the moisture content of the optical laminate is higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%, the transmittance of the polarizing element is more likely to decrease. It is presumed that if the moisture content of the optical laminate is high, the polyenation of the PVA-based resin is more likely to proceed.

光学積層体の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下の範囲内であるかを確認する方法として、上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境で光学積層体を一定時間保管し、質量の変化がないことを確認する方法、又は上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境の光学積層体の平衡含水率を予め計算し、光学積層体の含水率と予め計算した平衡含水率とを対比する方法が挙げられる。一定時間光学積層体を保管し、その質量に変化がない場合は、保管環境において含水率が平衡に達したとみなすことができる。 Methods for checking whether the moisture content of the optical laminate is equal to or greater than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or less than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48% include storing the optical laminate for a certain period of time in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges and checking that there is no change in mass, or calculating in advance the equilibrium moisture content of the optical laminate in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity ranges and comparing the moisture content of the optical laminate with the pre-calculated equilibrium moisture content. If there is no change in mass after storing the optical laminate for a certain period of time, it can be considered that the moisture content has reached equilibrium in the storage environment.

含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下である光学積層体を製造する方法としては、特に限定されないが、例えば上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境に光学積層体を10分以上3時間以下保管する方法、又は30℃以上90℃以下で加熱処理する方法が挙げられる。 Methods for producing an optical laminate having a moisture content equal to or greater than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or less than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48% are not particularly limited, but examples include a method in which the optical laminate is stored in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity range for 10 minutes to 3 hours, or a method in which the optical laminate is heated at 30°C to 90°C.

画像表示装置の作製時において、光学積層体を画像表示セルに積層した画像表示パネルを、上記温度と上記相対湿度の範囲に調整された環境に10分以上3時間以下保管又は30℃以上90℃以下で加熱処理する方法も挙げられる。 When producing an image display device, an image display panel in which the optical laminate is laminated on an image display cell may be stored in an environment adjusted to the above temperature and relative humidity range for 10 minutes to 3 hours or may be heat-treated at 30°C to 90°C.

(偏光素子の製造方法)
偏光素子の製造方法は特に限定されないが、予めロール状に巻かれたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを送り出して延伸、染色、架橋などを行って作製する方法(以下、「製造方法1」とする。)やポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布して塗布層であるポリビニルアルコール系樹脂層を形成して得られた積層体を延伸する工程を含む方法(以下、「製造方法2」とする。)が典型的である。
(Method of manufacturing polarizing element)
The method for producing the polarizing element is not particularly limited, but typical methods include a method in which a polyvinyl alcohol-based resin film that has been previously wound into a roll is sent out and stretched, dyed, crosslinked, and the like to produce the polarizing element (hereinafter referred to as "production method 1"), and a method including a step of applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin onto a substrate film to form a polyvinyl alcohol-based resin layer as a coating layer, and stretching the resulting laminate (hereinafter referred to as "production method 2").

製造方法1は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。 Manufacturing method 1 can be achieved by carrying out the steps of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based resin film, dyeing the polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye such as iodine to adsorb the dichroic dye, treating the polyvinyl alcohol-based resin film with the adsorbed dichroic dye with an aqueous boric acid solution, and rinsing the film with water after the treatment with the aqueous boric acid solution.

膨潤工程は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、膨潤浴中に浸漬する処理工程であり、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの表面の汚れやブロッキング剤等を除去でき、また、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させることで染色ムラを抑制できる。膨潤浴は、通常、水、蒸留水、純水等の水を主成分とする媒体が用いられる。膨潤浴は、常法に従って、界面活性剤、アルコール等が適宜に添加されていてもよい。 The swelling process is a treatment process in which the polyvinyl alcohol-based resin film is immersed in a swelling bath. This process can remove dirt and blocking agents from the surface of the polyvinyl alcohol-based resin film, and can also suppress uneven dyeing by swelling the polyvinyl alcohol-based resin film. The swelling bath usually uses a medium whose main component is water, distilled water, pure water, or other water. The swelling bath may contain surfactants, alcohol, and the like, as appropriate, according to conventional methods.

膨潤浴の温度は、10~60℃程度であることが好ましく、15~45℃程度であることがより好ましく、18~30℃程度であることがさらに好ましい。また、膨潤浴への浸漬時間は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの膨潤の程度が膨潤浴の温度の影響を受けるため一概に決定できないが、5~300秒間程度であることが好ましく、10~200秒間程度であることがより好ましく、20~100秒間程度であることがさらに好ましい。膨潤工程は1回だけ実施されてもよく、必要に応じて複数回実施されてもよい。 The temperature of the swelling bath is preferably about 10 to 60°C, more preferably about 15 to 45°C, and even more preferably about 18 to 30°C. The immersion time in the swelling bath cannot be determined in general because the degree of swelling of the polyvinyl alcohol resin film is affected by the temperature of the swelling bath, but is preferably about 5 to 300 seconds, more preferably about 10 to 200 seconds, and even more preferably about 20 to 100 seconds. The swelling process may be carried out only once, or may be carried out multiple times as necessary.

染色工程は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、染色浴(ヨウ素溶液)に浸漬する処理工程であり、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、ヨウ素または二色性染料等の二色性物質を吸着・配向させることができる。ヨウ素溶液は、通常、ヨウ素水溶液であることが好ましく、ヨウ素および溶解助剤としてヨウ化物を含有する。なお、ヨウ化物としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらの中でも、偏光素子中のカリウムの含有率を制御する観点から、ヨウ化カリウムが好適である。 The dyeing process is a process in which the polyvinyl alcohol resin film is immersed in a dye bath (iodine solution), and dichroic substances such as iodine or dichroic dyes can be adsorbed and oriented in the polyvinyl alcohol resin film. The iodine solution is usually preferably an aqueous iodine solution, and contains iodine and an iodide as a dissolving aid. Examples of iodides include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, and titanium iodide. Among these, potassium iodide is preferred from the viewpoint of controlling the potassium content in the polarizing element.

染色浴中、ヨウ素の濃度は、0.01~1重量%程度であることが好ましく、0.02~0.5重量%程度であることがより好ましい。染色浴中、ヨウ化物の濃度は、0.01~10重量%程度であることが好ましく、0.05~5重量%程度であることがより好ましく、0.1~3重量%程度であることがさらに好ましい。 In the dye bath, the concentration of iodine is preferably about 0.01 to 1% by weight, and more preferably about 0.02 to 0.5% by weight. In the dye bath, the concentration of iodide is preferably about 0.01 to 10% by weight, and more preferably about 0.05 to 5% by weight, and even more preferably about 0.1 to 3% by weight.

染色浴の温度は、10~50℃程度であることが好ましく、15~45℃程度であることがより好ましく、18~30℃程度であることがさらに好ましい。また、染色浴への浸漬時間は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの染色の程度が染色浴の温度の影響を受けるため一概に決定できないが、10~300秒間程度であることが好ましく、20~240秒間程度であることがより好ましい。染色工程は1回だけ実施されてもよく、必要に応じて複数回実施されてもよい。 The temperature of the dye bath is preferably about 10 to 50°C, more preferably about 15 to 45°C, and even more preferably about 18 to 30°C. The immersion time in the dye bath cannot be determined in general because the degree of dyeing of the polyvinyl alcohol resin film is affected by the temperature of the dye bath, but is preferably about 10 to 300 seconds, and more preferably about 20 to 240 seconds. The dyeing process may be carried out only once, or may be carried out multiple times as necessary.

架橋工程は、染色工程にて染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、ホウ素化合物を含む処理浴(架橋浴)中に浸漬する処理工程であり、ホウ素化合物によりポリビニルアルコール系樹脂フィルムが架橋して、ヨウ素分子または染料分子が当該架橋構造に吸着できる。ホウ素化合物としては、例えば、ホウ酸、ホウ酸塩、ホウ砂等が挙げられる。架橋浴は、水溶液が一般的であるが、例えば、水との混和性のある有機溶媒および水の混合溶液であってもよい。また、架橋浴は、偏光素子中のカリウムの含有率を制御する観点から、ヨウ化カリウムを含むことが好ましい。 The crosslinking step is a process in which the polyvinyl alcohol resin film dyed in the dyeing step is immersed in a treatment bath (crosslinking bath) containing a boron compound. The boron compound crosslinks the polyvinyl alcohol resin film, allowing iodine molecules or dye molecules to be adsorbed to the crosslinked structure. Examples of boron compounds include boric acid, borate salts, and borax. The crosslinking bath is generally an aqueous solution, but may also be, for example, a mixed solution of water and an organic solvent that is miscible with water. In addition, the crosslinking bath preferably contains potassium iodide from the viewpoint of controlling the potassium content in the polarizing element.

架橋浴中、ホウ素化合物の濃度は、1~15重量%程度であることが好ましく、1.5~10重量%程度であることがより好ましく、2~5重量%程度であることがより好ましい。また、架橋浴にヨウ化カリウムを使用する場合、架橋浴中、ヨウ化カリウムの濃度は、1~15重量%程度であることが好ましく、1.5~10重量%程度であることがより好ましく、2~5重量%程度であることがより好ましい。 In the crosslinking bath, the concentration of the boron compound is preferably about 1 to 15% by weight, more preferably about 1.5 to 10% by weight, and even more preferably about 2 to 5% by weight. In addition, when potassium iodide is used in the crosslinking bath, the concentration of potassium iodide in the crosslinking bath is preferably about 1 to 15% by weight, more preferably about 1.5 to 10% by weight, and even more preferably about 2 to 5% by weight.

架橋浴の温度は、20~70℃程度であることが好ましく、30~60℃程度であることがより好ましい。また、架橋浴への浸漬時間は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの架橋の程度が架橋浴の温度の影響を受けるため一概に決定できないが、5~300秒間程度であることが好ましく、10~200秒間程度であることがより好ましい。架橋工程は1回だけ実施されてもよく、必要に応じて複数回実施されてもよい。 The temperature of the crosslinking bath is preferably about 20 to 70°C, and more preferably about 30 to 60°C. The immersion time in the crosslinking bath cannot be determined in general because the degree of crosslinking of the polyvinyl alcohol resin film is affected by the temperature of the crosslinking bath, but is preferably about 5 to 300 seconds, and more preferably about 10 to 200 seconds. The crosslinking process may be carried out only once, or may be carried out multiple times as necessary.

延伸工程は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、少なくとも一方向に所定の倍率に延伸する処理工程である。一般には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、搬送方向(長手方向)に1軸延伸する。延伸の方法は特に制限されず、湿潤延伸法と乾式延伸法のいずれも採用できる。延伸工程は1回だけ実施されてもよく、必要に応じて複数回実施されてもよい。延伸工程は、偏光素子の製造において、いずれの段階で行われてもよい。 The stretching process is a process in which the polyvinyl alcohol-based resin film is stretched to a predetermined ratio in at least one direction. In general, the polyvinyl alcohol-based resin film is uniaxially stretched in the conveying direction (longitudinal direction). There are no particular limitations on the stretching method, and either a wet stretching method or a dry stretching method can be used. The stretching process may be carried out only once, or may be carried out multiple times as necessary. The stretching process may be carried out at any stage in the production of the polarizing element.

湿潤延伸法における処理浴(延伸浴)は、通常、水、または水との混和性のある有機溶媒および水の混合溶液等の溶媒を用いることができる。延伸浴は、偏光素子中のカリウムの含有率を制御する観点から、ヨウ化カリウムを含むことが好ましい。延伸浴にヨウ化カリウムを使用する場合、当該延伸浴中、ヨウ化カリウムの濃度は、1~15重量%程度であることが好ましく、2~10重量%程度であることがより好ましく、3~6重量%程度であることがより好ましい。また、処理浴(延伸浴)には、延伸中のフィルム破断を抑制する観点から、ホウ素化合物を含むことができ、この場合、当該延伸浴中、ホウ素化合物の濃度は、1~15重量%程度であることが好ましく、1.5~10重量%程度であることがより好ましく、2~5重量%程度であることがより好ましい。 In the wet stretching method, the treatment bath (stretching bath) can usually use water or a solvent such as a mixed solution of water and an organic solvent miscible with water. The stretching bath preferably contains potassium iodide from the viewpoint of controlling the potassium content in the polarizing element. When potassium iodide is used in the stretching bath, the concentration of potassium iodide in the stretching bath is preferably about 1 to 15% by weight, more preferably about 2 to 10% by weight, and more preferably about 3 to 6% by weight. In addition, the treatment bath (stretching bath) can contain a boron compound from the viewpoint of suppressing film breakage during stretching. In this case, the concentration of the boron compound in the stretching bath is preferably about 1 to 15% by weight, more preferably about 1.5 to 10% by weight, and more preferably about 2 to 5% by weight.

延伸浴の温度は、25~80℃程度であることが好ましく、40~75℃程度であることがより好ましく、50~70℃程度であることがさらに好ましい。また、延伸浴への浸漬時間は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸の程度が延伸浴の温度の影響を受けるため一概に決定できないが、10~800秒間程度であることが好ましく、30~500秒間程度であることがより好ましい。なお、湿潤延伸法における延伸処理は、膨潤工程、染色工程、架橋工程、および洗浄工程のいずれか1つ以上の処理工程とともに施してもよい。 The temperature of the stretching bath is preferably about 25 to 80°C, more preferably about 40 to 75°C, and even more preferably about 50 to 70°C. The immersion time in the stretching bath cannot be determined in general because the degree of stretching of the polyvinyl alcohol resin film is affected by the temperature of the stretching bath, but is preferably about 10 to 800 seconds, and more preferably about 30 to 500 seconds. The stretching process in the wet stretching method may be performed together with one or more of the following processing steps: swelling, dyeing, crosslinking, and washing.

乾式延伸法としては、例えば、ロール間延伸方法、加熱ロール延伸方法、圧縮延伸方法等が挙げられる。なお、乾式延伸法は、乾燥工程とともに施してもよい。 Examples of dry stretching methods include roll-to-roll stretching, heated roll stretching, and compression stretching. The dry stretching method may be carried out together with a drying process.

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに施される総延伸倍率(累積の延伸倍率)は、目的に応じ適宜設定できるが、2~7倍程度であることが好ましく、3~6.8倍程度であることがより好ましく、3.5~6.5倍程度であることがさらに好ましい。 The total stretching ratio (cumulative stretching ratio) applied to the polyvinyl alcohol resin film can be set appropriately depending on the purpose, but is preferably about 2 to 7 times, more preferably about 3 to 6.8 times, and even more preferably about 3.5 to 6.5 times.

洗浄工程は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、洗浄浴中に浸漬する処理工程であり、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの表面等に残存する異物を除去できる。洗浄浴は、通常、水、蒸留水、純水等の水を主成分とする媒体が用いられる。また、偏光素子中のカリウムの含有率を制御する観点から、洗浄浴にヨウ化カリウムを使用することが好ましく、この場合、洗浄浴中、ヨウ化カリウムの濃度は、1~10重量%程度であることが好ましく、1.5~4重量%程度であることがより好ましく、1.8~3.8重量%程度であることがさらに好ましい。 The cleaning process is a process in which the polyvinyl alcohol-based resin film is immersed in a cleaning bath, and foreign matter remaining on the surface of the polyvinyl alcohol-based resin film can be removed. The cleaning bath usually uses a medium whose main component is water, such as distilled water or pure water. In addition, from the viewpoint of controlling the potassium content in the polarizing element, it is preferable to use potassium iodide in the cleaning bath. In this case, the concentration of potassium iodide in the cleaning bath is preferably about 1 to 10% by weight, more preferably about 1.5 to 4% by weight, and even more preferably about 1.8 to 3.8% by weight.

洗浄浴の温度は、5~50℃程度であることが好ましく、10~40℃程度であることがより好ましく、15~30℃程度であることがさらに好ましい。また、洗浄浴への浸漬時間は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの洗浄の程度が洗浄浴の温度の影響を受けるため一概に決定できないが、1~100秒間程度であることが好ましく、2~50秒間程度であることがより好ましく、3~20秒間程度であることがさらに好ましい。洗浄工程は1回だけ実施されてもよく、必要に応じて複数回実施されてもよい。 The temperature of the cleaning bath is preferably about 5 to 50°C, more preferably about 10 to 40°C, and even more preferably about 15 to 30°C. The immersion time in the cleaning bath cannot be determined in general because the degree of cleaning of the polyvinyl alcohol resin film is affected by the temperature of the cleaning bath, but is preferably about 1 to 100 seconds, more preferably about 2 to 50 seconds, and even more preferably about 3 to 20 seconds. The cleaning process may be carried out only once, or may be carried out multiple times as necessary.

乾燥工程は、洗浄工程にて洗浄されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、乾燥して偏光素子を得る工程である。乾燥は、任意の適切な方法で行われ、例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥が挙げられる。 The drying process is a process in which the polyvinyl alcohol-based resin film cleaned in the cleaning process is dried to obtain a polarizing element. The drying process can be carried out by any suitable method, such as natural drying, air drying, or heat drying.

製造方法2は、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させて偏光素子とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光素子を形成するために用いる基材フィルムは、偏光素子の保護層として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光素子から剥離除去してもよい。 The manufacturing method 2 can be produced through the steps of applying a coating liquid containing the polyvinyl alcohol resin onto a substrate film, uniaxially stretching the resulting laminated film, dyeing the polyvinyl alcohol resin layer of the uniaxially stretched laminated film with a dichroic dye to adsorb the dichroic dye to form a polarizing element, treating the film with the adsorbed dichroic dye with an aqueous boric acid solution, and washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution. The substrate film used to form the polarizing element may be used as a protective layer for the polarizing element. If necessary, the substrate film may be peeled off and removed from the polarizing element.

(位相差フィルム)
位相差フィルムとしては、23℃における引張弾性率が3000MPa以下であるものを用いる。このような引張弾性率を有する位相差フィルムであっても、本発明によればクラックを防止することができる。23℃における引張弾性率の下限値は特に限定されないが、例えば1000MPa以上であることができる。このような位相差フィルムの材料としては、例えば、オレフィン系樹脂からなるものを用いることができる。オレフィン系樹脂とは、エチレンおよびプロピレン等の鎖状脂肪族オレフィン、またはノルボルネンやその置換体(以下、これらを総称してノルボルネン系モノマーとも称する)等の脂環式オレフィンから誘導される構成単位からなる樹脂である。オレフィン系樹脂は、2種以上のモノマーを用いた共重合体であってもよい。
(Retardation film)
The retardation film used has a tensile modulus of elasticity of 3000 MPa or less at 23° C. Even with a retardation film having such a tensile modulus, cracks can be prevented according to the present invention. The lower limit of the tensile modulus of elasticity at 23° C. is not particularly limited, but can be, for example, 1000 MPa or more. For example, an olefin resin can be used as the material for such a retardation film. The olefin resin is a resin consisting of structural units derived from chain aliphatic olefins such as ethylene and propylene, or alicyclic olefins such as norbornene and its substitutes (hereinafter, these are also collectively referred to as norbornene monomers). The olefin resin may be a copolymer using two or more monomers.

中でも、オレフィン系樹脂としては、脂環式オレフィンから誘導される構成単位を主に含む樹脂である環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。環状オレフィン系樹脂を構成する脂環式オレフィンの典型的な例としては、ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。ノルボルネンとは、ノルボルナンの1つの炭素-炭素結合が二重結合となった化合物であって、IUPAC命名法によれば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エンと命名されるものである。ノルボルネンの置換体の例としては、ノルボルネンの二重結合位置を1,2-位として、3-置換体、4-置換体、および4,5-ジ置換体等を挙げることができ、さらにはジシクロペンタジエンやジメタノオクタヒドロナフタレン等も挙げることができる。 Among them, olefin resins are preferably cyclic olefin resins, which are resins mainly containing structural units derived from alicyclic olefins. A typical example of an alicyclic olefin constituting a cyclic olefin resin is a norbornene monomer. Norbornene is a compound in which one carbon-carbon bond of norbornane becomes a double bond, and is named bicyclo[2,2,1]hept-2-ene according to the IUPAC nomenclature system. Examples of norbornene substitutions include 3-substitutions, 4-substitutions, and 4,5-disubstitutions, with the double bond positions of norbornene at the 1,2-positions, and further include dicyclopentadiene and dimethanooctahydronaphthalene.

環状オレフィン系樹脂は、その構成単位にノルボルナン環を有していてもよいし、有していなくてもよい。構成単位にノルボルナン環を有さない環状オレフィン系樹脂を形成するノルボルネン系モノマーとしては、たとえば、開環により5員環となるもの、代表的には、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、1-または4-メチルノルボルネン、および4-フェニルノルボルネン等が挙げられる。環状オレフィン系樹脂が共重合体である場合、その分子の配列状態は特に限定されるものではなく、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、グラフト共重合体であってもよい。 The cyclic olefin resin may or may not have a norbornane ring in its constituent units. Norbornene monomers forming cyclic olefin resins that do not have a norbornane ring in their constituent units include, for example, those that become five-membered rings by ring opening, typically norbornene, dicyclopentadiene, 1- or 4-methylnorbornene, and 4-phenylnorbornene. When the cyclic olefin resin is a copolymer, the molecular arrangement is not particularly limited, and it may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

環状オレフィン系樹脂のより具体的な例としては、たとえば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと他のモノマーとの開環共重合体、それらにマレイン酸付加やシクロペンタジエン付加等がなされたポリマー変性物、およびこれらを水素添加した重合体または共重合体;ノルボルネン系モノマーの付加重合体、およびノルボルネン系モノマーと他のモノマーとの付加共重合体等が挙げられる。共重合体とする場合における他のモノマーとしては、α-オレフィン類、シクロアルケン類、および非共役ジエン類等が挙げられる。また、環状オレフィン系樹脂は、ノルボルネン系モノマーおよび他の脂環式オレフィンの1種または2種以上を用いた共重合体であってもよい。 More specific examples of cyclic olefin resins include ring-opening polymers of norbornene monomers, ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers, polymer modifications obtained by adding maleic acid or cyclopentadiene to these, and polymers or copolymers obtained by hydrogenating these; addition polymers of norbornene monomers, and addition copolymers of norbornene monomers and other monomers. Examples of other monomers used in copolymerization include α-olefins, cycloalkenes, and non-conjugated dienes. The cyclic olefin resin may also be a copolymer using one or more of norbornene monomers and other alicyclic olefins.

上記具体例の中でも、環状オレフィン系樹脂としては、ノルボルネン系モノマーを用いた開環重合体または開環共重合体に水素添加した樹脂が好ましく用いられる。このような環状オレフィン系樹脂は、あらかじめ延伸処理が施されたフィルム状物とし、これに所定の収縮率を有する収縮性フィルムを貼り合わせて加熱収縮させることにより、均一性が高く、大きな位相差値を有する位相差フィルムを与えることができる。 Among the above specific examples, the cyclic olefin resin is preferably a resin obtained by hydrogenating a ring-opening polymer or ring-opening copolymer using a norbornene monomer. Such a cyclic olefin resin is made into a film-like material that has been subjected to a stretching process in advance, and a shrinkable film having a predetermined shrinkage rate is laminated to this and heat-shrunk, thereby providing a retardation film with high uniformity and a large retardation value.

このようなノルボルネン系モノマーを用いた環状オレフィン系樹脂の市販品としては、いずれも商品名で、日本ゼオン(株)から販売されている「ゼオネックス」、「ゼオノア」、JSR(株)から販売されている「アートン」等がある。これらの環状オレフィン系樹脂のフィルムやその延伸フィルムも市販品を入手することができ、たとえば、いずれも商品名で、(株)オプテスから「ゼオノアフィルム」、JSR(株)から「アートンフィルム」、および積水化学工業(株)から「エスシーナ」等がある。 Commercially available cyclic olefin resins using such norbornene monomers include "Zeonex" and "Zeonor" sold by Zeon Corporation, and "Arton" sold by JSR Corporation. Films and stretched films of these cyclic olefin resins are also available commercially, such as "Zeonor Film" from Optes Corporation, "Arton Film" from JSR Corporation, and "S-Cina" from Sekisui Chemical Co., Ltd.

また、本発明で用いられる位相差フィルムには、オレフィン系樹脂を2種類以上含む混合樹脂からなるフィルムや、オレフィン系樹脂と他の熱可塑性樹脂との混合樹脂からなるフィルムを用いることもできる。たとえば、オレフィン系樹脂を2種類以上含む混合樹脂としては、上記したような環状オレフィン系樹脂と鎖状脂肪族オレフィン系樹脂との混合物を挙げることができる。オレフィン系樹脂と他の熱可塑性樹脂との混合樹脂を用いる場合、他の熱可塑性樹脂は、目的に応じて適宜適切なものが選択される。具体例としては、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル/スチレン共重合樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、変性ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、液晶性樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、およびポリテトラフルオロエチレン系樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、それぞれ単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。また、上記熱可塑性樹脂は、任意の適切なポリマー変性を行ってから用いることもできる。ポリマー変性の例としては、共重合、架橋、分子末端変性、および立体規則性付与等が挙げられる。 In addition, the retardation film used in the present invention may be a film made of a mixed resin containing two or more types of olefin resins, or a film made of a mixed resin of an olefin resin and another thermoplastic resin. For example, a mixed resin containing two or more types of olefin resins may be a mixture of a cyclic olefin resin and a chain aliphatic olefin resin as described above. When using a mixed resin of an olefin resin and another thermoplastic resin, the other thermoplastic resin is appropriately selected depending on the purpose. Specific examples include polyvinyl chloride resins, cellulose resins, polystyrene resins, acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer resins, acrylonitrile/styrene copolymer resins, (meth)acrylic resins, polyvinyl acetate resins, polyvinylidene chloride resins, polyamide resins, polyacetal resins, polycarbonate resins, modified polyphenylene ether resins, polybutylene terephthalate resins, polyethylene terephthalate resins, polyphenylene sulfide resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyetheretherketone resins, polyarylate resins, liquid crystal resins, polyamideimide resins, polyimide resins, and polytetrafluoroethylene resins. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more. The thermoplastic resins can also be used after any suitable polymer modification. Examples of polymer modification include copolymerization, crosslinking, molecular end modification, and stereoregularity impartation.

オレフィン系樹脂と他の熱可塑性樹脂との混合樹脂を用いる場合、他の熱可塑性樹脂の含有量は、通常、樹脂全体に対して50重量%程度以下であり、40重量%程度以下が好ましい。他の熱可塑性樹脂の含有量をこの範囲内とすることによって、光弾性係数の絶対値が小さく、良好な波長分散特性を示し、かつ、耐久性や機械的強度、透明性に優れる位相差フィルムを得ることができる。 When a mixed resin of an olefin resin and another thermoplastic resin is used, the content of the other thermoplastic resin is usually about 50% by weight or less, and preferably about 40% by weight or less, based on the total resin. By keeping the content of the other thermoplastic resin within this range, it is possible to obtain a retardation film that has a small absolute value of the photoelastic coefficient, exhibits good wavelength dispersion characteristics, and is excellent in durability, mechanical strength, and transparency.

このようなオレフィン系樹脂は、溶液からのキャスティング法や溶融押出法等により、フィルムに製膜することができる。2種以上の混合樹脂からフィルムを製膜する場合、その製膜方法については特に限定されるものではなく、たとえば、樹脂成分を所定の割合で溶媒とともに撹拌混合して得られる均一溶液を用いてキャスティング法によりフィルムを作製する方法、および樹脂成分を所定の割合で溶融混合し溶融押出法によりフィルムを作製する方法等が採用される。 Such olefin resins can be formed into films by casting from a solution or melt extrusion. When forming a film from a mixture of two or more resins, the film formation method is not particularly limited, and examples of methods that can be used include a method in which a film is formed by casting a homogeneous solution obtained by stirring and mixing the resin components with a solvent in a specified ratio, and a method in which the resin components are melt mixed in a specified ratio and then melt extrusion is used to form a film.

上記位相差フィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、残存溶媒、安定剤、可塑剤、老化防止剤、帯電防止剤、および紫外線吸収剤等、その他の成分を必要に応じて含有していてもよい。また、表面粗さを小さくするためレベリング剤を含有することもできる。 The retardation film may contain other components such as residual solvents, stabilizers, plasticizers, antioxidants, antistatic agents, and ultraviolet absorbers as necessary, within the scope of the present invention. It may also contain a leveling agent to reduce surface roughness.

本発明で用いられる位相差フィルムは、波長550nmにおける面内の位相差値が80nm以上であるものに適用することが好ましい。波長550nmにおける面内の位相差値は、例えば300nm以下であってもよいし、200nm以下であってもよい。このような高い位相差値を持つ場合でも、加熱耐久性試験後に温度23℃相対湿度55%の環境に1か月保管しても位相差フィルムにクラックが発生しない。一般的に、位相差値が高いほど、位相差フィルムの分子配向が揃っており、外力に対してクラックが生じやすい傾向がある。 The retardation film used in the present invention is preferably applied to one having an in-plane retardation value of 80 nm or more at a wavelength of 550 nm. The in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm may be, for example, 300 nm or less, or 200 nm or less. Even if it has such a high retardation value, the retardation film does not crack even if it is stored for one month in an environment at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55% after a heat durability test. In general, the higher the retardation value, the more aligned the molecular orientation of the retardation film is, and the more likely it is that cracks will occur when subjected to external forces.

上記のような位相差フィルムは、公知の縦一軸延伸やテンター横一軸延伸、同時二軸延伸、逐次二軸延伸等で行うことで得ることができ、所望とするレターデーション値が得られるように延伸倍率と延伸速度とを適切に調整する他に、延伸時の予熱温度、延伸温度、ヒートセット温度、冷却温度等の各種温度、およびそのパターンを適宜選択すればよい。 The above-mentioned retardation film can be obtained by known methods such as longitudinal uniaxial stretching, tenter transverse uniaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and sequential biaxial stretching. In addition to appropriately adjusting the stretching ratio and stretching speed so as to obtain the desired retardation value, various temperatures during stretching, such as the preheating temperature, stretching temperature, heat setting temperature, and cooling temperature, and their patterns can be appropriately selected.

なお、位相差フィルムは、その厚みについては特に制限されないが、15~80μmの範囲内であることが好ましく、18~45μmの範囲内であることがより好ましく、20~30μmの範囲内であることが最も好ましい。ノルボルネン系樹脂フィルムの厚みが15μm未満である場合には、フィルムの取り扱いが難しく、また所定の位相差値が発現し難くなる傾向にあるためであり、一方、ノルボルネン系樹脂フィルムの厚みが80μmを超える場合には、加工性に劣るものとなり、また、透明性が低下したり、得られた偏光板の重量が大きくなったりする等の場合がある。 The thickness of the retardation film is not particularly limited, but is preferably within the range of 15 to 80 μm, more preferably within the range of 18 to 45 μm, and most preferably within the range of 20 to 30 μm. If the thickness of the norbornene-based resin film is less than 15 μm, the film tends to be difficult to handle and to exhibit a predetermined retardation value, while if the thickness of the norbornene-based resin film exceeds 80 μm, the film may be poor in processability, the transparency may decrease, and the weight of the obtained polarizing plate may increase.

(その他の機能層)
本発明の偏光板には、帯電防止層や第2の位相差層などのその他の機能性層を持っていてもよい。例えば、IPSモードの液晶表示装置に用いる場合には、第2の位相差層としてポジティブCプレートを用いることがある。ポジティブCプレートは、偏光素子と位相差フィルムとの間に積層されてもよく、または位相差フィルムの偏光素子側とは反対側の面に積層されてもよい。
(Other functional layers)
The polarizing plate of the present invention may have other functional layers such as an antistatic layer or a second retardation layer. For example, when used in an IPS mode liquid crystal display device, a positive C plate may be used as the second retardation layer. The positive C plate may be laminated between the polarizing element and the retardation film, or may be laminated on the surface of the retardation film opposite to the polarizing element side.

<反射防止フィルム>
反射防止フィルムは、光学積層体の視認側表面から入射する光の反射率を低下させる反射防止機能を有する。光学積層体は、外光の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、反射防止フィルムを有する。反射防止フィルムとして、上記要件(i)を満たすために、温度40%相対湿度90%での透湿度が300g/m・day以下、好ましくは100g/m・day以下である反射防止フィルムを用いることができる。反射防止フィルムの透湿度は、後述の実施例に記載の方法にしたがって測定した値とする。このような透湿度の低い反射防止フィルムを用いることで、湿熱耐久性及び高温耐久性も向上させることができる。反射防止フィルムの透湿度は、反射防止層の材料、厚み、基材フィルムの材料、厚み等により調整することができる。反射防止フィルムの温度40%相対湿度90%での透湿度は、通常、1g/m・day以上である。
<Anti-reflection film>
The anti-reflective film has an anti-reflective function of reducing the reflectance of light incident from the viewing side surface of the optical laminate. The optical laminate has an anti-reflective film to prevent contrast reduction due to reflection of external light. In order to satisfy the above requirement (i), an anti-reflective film having a moisture permeability of 300 g/m 2 ·day or less, preferably 100 g/m 2 ·day or less at a temperature of 40% and a relative humidity of 90% can be used as the anti-reflective film. The moisture permeability of the anti-reflective film is a value measured according to the method described in the examples below. By using such an anti-reflective film with low moisture permeability, it is possible to improve the durability against moist heat and high temperature. The moisture permeability of the anti-reflective film can be adjusted by the material and thickness of the anti-reflective layer, the material and thickness of the substrate film, etc. The moisture permeability of the anti-reflective film at a temperature of 40% and a relative humidity of 90% is usually 1 g/m 2 ·day or more.

反射防止フィルムは、例えば、基材フィルムの片側に反射防止層を有している構成のものを用いることができる。基材フィルムとしては、特に制限されないが、後述する保護フィルムに用いる材料と同等のものが使用できる。 The anti-reflection film may be, for example, a film having an anti-reflection layer on one side of a substrate film. There are no particular limitations on the substrate film, but it may be made of the same material as that used for the protective film described below.

反射防止フィルムとしては、公知の反射防止フィルムであったり、市販の反射防止フィルムを用いたりすることができ、例えば以下のものが例示される。 The anti-reflective film may be a known anti-reflective film or a commercially available anti-reflective film, for example, the following:

(a)凹凸の周期が可視光の波長以下に制御された凹凸パターンからなる、いわゆるモスアイ構造の原理を使用した反射防止フィルム(特開2010-122599号公報、特表2001-517319号公報、特開2004-205990号公報、特開2004-287238号公報、特開2001-27505号公報、特開2002-286906号公報、国際公開第2006/059686号等に記載されている反射防止フィルム)。市販品としては、例えば、モスマイト(登録商標、三菱化学株式会社製)を使用することができる。
(b)光学機能を発揮する微細凹凸パターンからなる反射防止フィルム(特開2004-59822号公報、特公平5-46064号公報、特公平6-85103号公報等に記載されている反射防止フィルム)。
(c)光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸で構成された凹凸パターンからなる反射防止フィルム(特開2001-264520号公報、特開平9-80205号公報等に記載されている反射防止フィルム)。
(d)屈折率が調整された層を単層または多層で有する反射防止フィルム(特開2000-187102号公報、特開平6-186401号公報、特開2004-345333号公報等に記載されている反射防止フィルム)。市販品としては、例えば、MTAR、MTAGAR(美舘社製)を使用することができる。
反射防止フィルムの厚みは、例えば10μm以上100μm以下である。
(a) An anti-reflection film using the principle of the so-called moth-eye structure, which is made of an uneven pattern in which the period of the unevenness is controlled to be equal to or less than the wavelength of visible light (anti-reflection films described in JP 2010-122599 A, JP 2001-517319 A, JP 2004-205990 A, JP 2004-287238 A, JP 2001-27505 A, JP 2002-286906 A, WO 2006/059686, etc.). As a commercially available product, for example, Mosmite (registered trademark, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) can be used.
(b) Antireflection films consisting of fine concave-convex patterns that exhibit optical functions (antireflection films described in JP-A-2004-59822, JP-B-5-46064, JP-B-6-85103, etc.).
(c) An anti-reflection film having an uneven pattern composed of countless minute unevennesses with a pitch equal to or less than the wavelength of light (anti-reflection films described in JP-A-2001-264520, JP-A-9-80205, etc.).
(d) Antireflection films having a single layer or multiple layers with an adjusted refractive index (antireflection films described in JP-A-2000-187102, JP-A-6-186401, JP-A-2004-345333, etc.). Commercially available products include, for example, MTAR and MTAGAR (manufactured by Mitate Co., Ltd.).
The thickness of the anti-reflection film is, for example, not less than 10 μm and not more than 100 μm.

反射防止フィルムとしては、厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜若しくは薄膜を2層以上積層した反射防止層を有するものが好適である。なお、本明細書において、薄膜とは厚みが1μm以下である膜のことをいう。反射防止層は、光の干渉効果を利用して入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現する構成とすることができる。反射防止機能を発現させる可視光線の波長領域は、例えば、380~780nmであり、特に視感度が高い波長領域は450~650nmの範囲であり、その中心波長である550nmの反射率を最小にするように反射防止層を設計することが好ましい。反射防止層の厚みは、100nm~350nmであることが好ましく、150nm~300nmであることがより好ましい。 An anti-reflection film is preferably a thin film with a strictly controlled thickness and refractive index, or an anti-reflection layer consisting of two or more thin films stacked together. In this specification, a thin film refers to a film with a thickness of 1 μm or less. The anti-reflection layer can be configured to exhibit an anti-reflection function by canceling out the inverted phases of incident light and reflected light using the interference effect of light. The wavelength region of visible light that exhibits the anti-reflection function is, for example, 380 to 780 nm, and the wavelength region with particularly high visibility is the range of 450 to 650 nm. It is preferable to design the anti-reflection layer so that the reflectance at the center wavelength of 550 nm is minimized. The thickness of the anti-reflection layer is preferably 100 nm to 350 nm, and more preferably 150 nm to 300 nm.

光の干渉効果に基づく反射防止層の設計において、その干渉効果を向上させる手段としては、例えば、反射防止層と後述する防眩性ハードコート層との屈折率差を大きくする方法がある。一般的に、2~15層の薄膜(厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜)を積層した構造の多層反射防止層では、屈折率の異なる成分を所定の厚さだけ複数層形成することで、反射防止層の光学設計の自由度が上がり、より反射防止効果を向上させることができ、分光反射特性も可視光領域で均一(フラット)にすることが可能になる。薄膜は高い厚み精度が要求されるため、一般的に、各層の形成は、ドライ方式である真空蒸着、スパッタリング、CVD等で実施される。透湿度を所定の範囲にすることから、スパッタリングを用いることが好ましい。また、スパッタリングにより各層が形成された反射防止フィルムを用いることにより、耐擦傷性の高い光学積層体を構成することができる。 In designing an anti-reflection layer based on the interference effect of light, a method for improving the interference effect is, for example, to increase the difference in refractive index between the anti-reflection layer and the anti-glare hard coat layer described later. In general, in a multi-layer anti-reflection layer having a structure in which 2 to 15 thin films (thin films with strictly controlled thickness and refractive index) are laminated, the degree of freedom in the optical design of the anti-reflection layer is increased by forming multiple layers of components with different refractive indexes to a predetermined thickness, and the anti-reflection effect can be improved and the spectral reflection characteristics can be made uniform (flat) in the visible light range. Since high thickness accuracy is required for thin films, each layer is generally formed by a dry method such as vacuum deposition, sputtering, or CVD. Since the moisture permeability is set within a predetermined range, it is preferable to use sputtering. In addition, by using an anti-reflection film in which each layer is formed by sputtering, an optical laminate with high scratch resistance can be constructed.

反射防止層としては、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなるものが好ましく用いられる。高屈折率層同士、または低屈折率層同士は、同一の屈折率でなくても構わないが、同一材料で同一屈折率とすれば、材料コストおよび成膜コスト等を抑制する観点から好ましい。 As the anti-reflection layer, a layer in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated is preferably used. The high refractive index layers or the low refractive index layers do not have to have the same refractive index, but it is preferable from the viewpoint of reducing material costs and film formation costs to use the same material and have the same refractive index.

低屈折率層を構成する材料(又は低屈折率層の主成分となる材料)としては、二酸化ケイ素(SiO)、酸窒化シリコン(SiON)、酸化ガリウム(Ga)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ランタン(La)、フッ化ランタン(LaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化ナトリウムアルミニウム(NaAlF)などが挙げられる。中でも屈折率の低さ、可視光域に吸収がないこと、膜強度の高さなどから二酸化ケイ素(SiO)が最も好ましい。 Examples of materials constituting the low refractive index layer (or materials that are the main components of the low refractive index layer) include silicon dioxide (SiO 2 ), silicon oxynitride (SiON), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), sodium aluminum fluoride (Na 3 AlF 6 ), etc. Among these, silicon dioxide (SiO 2 ) is the most preferable because of its low refractive index, lack of absorption in the visible light range, high film strength, etc.

高屈折率層を構成する材料(又は高屈折率層の主成分となる材料)としては、五酸化ニオブ(Nb)、二酸化チタン(TiO)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、五酸化タンタル(Ta)、酸窒化シリコン(SiON)、窒化シリコン(Si)および酸化シリコンニオブ(SiNbO)などが挙げられる。中でも屈折率の高さ、膜強度の高さから五酸化ニオブ(Nb)または二酸化チタン(TiO)がより好ましく、更に可視光域に吸収がないことから五酸化ニオブ(Nb)が最も好ましい。 Examples of materials constituting the high refractive index layer (or materials that are the main components of the high refractive index layer) include niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ), titanium dioxide (TiO 2 ), zirconium dioxide (ZrO 2 ), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), silicon oxynitride (SiON), silicon nitride (Si 3 N 4 ), and niobium silicon oxide (SiNbO). Among these, niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ) or titanium dioxide (TiO 2 ) is more preferred due to its high refractive index and high film strength, and niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ) is most preferred due to its lack of absorption in the visible light region.

いずれの化合物も化学量論比の組成比からずれた構成元素比となるように制御したり、成膜密度を制御したりして成膜することにより、屈折率をある程度変化させることができる。なお、低反射率層および高反射率層を構成する材料としては、上述の屈折率の条件を満たすものであれば、上記化合物に限らない。また、不可避不純物が含まれていてもよい。 The refractive index of any compound can be changed to some extent by controlling the composition ratio of the constituent elements so that it deviates from the stoichiometric composition ratio, or by controlling the film formation density. Note that the materials constituting the low reflectance layer and the high reflectance layer are not limited to the above compounds, as long as they satisfy the above-mentioned refractive index conditions. In addition, unavoidable impurities may be included.

反射防止フィルムは、基材フィルムと反射防止層との間にハードコート層を備えていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、反射防止層の硬度や弾性率等の機械特性を向上できる。ハードコート層は、表面の硬度が高く、耐擦傷性に優れるものが好ましい。ハードコート層は、例えば、基材フィルム上に、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布することにより形成できる。 The anti-reflection film may have a hard coat layer between the substrate film and the anti-reflection layer. The provision of the hard coat layer can improve the mechanical properties of the anti-reflection layer, such as hardness and elastic modulus. The hard coat layer preferably has high surface hardness and excellent scratch resistance. The hard coat layer can be formed, for example, by applying a solution containing a curable resin onto the substrate film.

硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、アミド系樹脂、シリコーン系樹脂、シリケート系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、オキセタン系樹脂、アクリルウレタン系樹脂等の各種の樹脂があげられる。これらの硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。 Examples of curable resins include thermosetting resins, ultraviolet curing resins, and electron beam curing resins. Types of curable resins include polyester resins, acrylic resins, urethane resins, acrylic urethane resins, amide resins, silicone resins, silicate resins, epoxy resins, melamine resins, oxetane resins, and acrylic urethane resins. One or more of these curable resins can be appropriately selected and used.

これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、およびエポキシ系樹脂が好ましく、中でもアクリルウレタン系樹脂が好ましい。紫外線硬化型樹脂には、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、中でも当該官能基を2個以上、特に3~6個有するアクリル系のモノマーやオリゴマーを成分として含むものが挙げられる。 Among these, acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferred because they have high hardness, can be cured with ultraviolet light, and have excellent productivity, and among these, acrylic urethane resins are preferred. UV-curable resins include UV-curable monomers, oligomers, polymers, and the like. Preferred UV-curable resins include those that have a UV-polymerizable functional group, and in particular those that contain an acrylic monomer or oligomer having two or more, particularly 3 to 6, functional groups as a component.

反射防止フィルムに、防眩性およびギラツキ防止性を持たせるために、基材フィルムの表面に設けられるハードコート層は防眩性を有していることが好ましい。防眩性ハードコート層としては、例えば、上記の硬化性樹脂マトリクス中に、微粒子を分散させたものが挙げられる。樹脂マトリクス中に分散させる微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の各種金属酸化物微粒子、ガラス微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル-スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種透明ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子、シリコーン系微粒子等の透明性を有するものを特に制限なく使用できる。これら微粒子は、1種または2種以上を適宜に選択して用いることができる。中でも、マトリックス樹脂よりも屈折率の高い微粒子が好ましく、例えばスチレンビーズ(屈折率1.59)等の屈折率1.5以上の有機系微粒子が好ましい。微粒子の平均粒子径は好ましくは1~10μm、より好ましくは2~5μmである。微粒子の割合は特に制限されないが、マトリックス樹脂100重量部に対して6~20重量部が好ましい。 In order to provide the anti-reflective film with anti-glare and anti-glare properties, it is preferable that the hard coat layer provided on the surface of the substrate film has anti-glare properties. Examples of anti-glare hard coat layers include those in which fine particles are dispersed in the above-mentioned curable resin matrix. As fine particles to be dispersed in the resin matrix, there are no particular limitations on the types of fine particles that can be used, such as various metal oxide fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide, glass fine particles, crosslinked or uncrosslinked organic fine particles made of various transparent polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, and polycarbonate, and silicone fine particles, which have transparency. These fine particles can be used by appropriately selecting one or more types. Among them, fine particles with a higher refractive index than the matrix resin are preferable, and for example, organic fine particles with a refractive index of 1.5 or more such as styrene beads (refractive index 1.59) are preferable. The average particle size of the fine particles is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm. There are no particular restrictions on the proportion of microparticles, but a ratio of 6 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of matrix resin is preferred.

ハードコート層は、例えば、基材フィルム上に、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布することにより形成できる。ハードコート層を形成するための溶液には、紫外線重合開始剤が配合されていることが好ましい。微粒子を含む防眩性ハードコート層を形成するためには、硬化性樹脂に加えて上記の微粒子を含有する溶液を透明フィルム上に塗布することが好ましい。溶液中には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよい。防眩性ハードコート層の形成においては、溶液中にチクソトロピー剤(粒子径0.1μm以下のシリカ、マイカ等)を含有させることにより、ハードコート層の表面において、突出粒子による微細凹凸構造を容易に形成できる。 The hard coat layer can be formed, for example, by applying a solution containing a curable resin onto a substrate film. The solution for forming the hard coat layer preferably contains an ultraviolet polymerization initiator. To form an anti-glare hard coat layer containing fine particles, it is preferable to apply a solution containing the above-mentioned fine particles in addition to the curable resin onto a transparent film. The solution may contain additives such as a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent. In forming the anti-glare hard coat layer, by adding a thixotropic agent (silica, mica, etc. with a particle diameter of 0.1 μm or less) to the solution, a fine uneven structure due to protruding particles can be easily formed on the surface of the hard coat layer.

ハードコート層の厚みは特に限定されないが、高い硬度を実現するためには、0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましい。塗布による形成の容易性を考慮すると、ハードコート層の厚みは15μm以下が好ましく、12μm以下がより好ましく、10μm以下がさらに好ましい。また、偏光素子からの水分の外部への放出を妨げないように、フィルム基材の透湿度を高く維持するためにも、ハードコート層の厚みは上記範囲であることが好ましい。 The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but in order to achieve high hardness, it is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1 μm or more. In consideration of ease of formation by coating, the thickness of the hard coat layer is preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. In addition, in order to maintain high moisture permeability of the film substrate so as not to prevent the release of moisture from the polarizing element to the outside, it is preferable that the thickness of the hard coat layer is within the above range.

基材フィルムの反射防止層の形成面側の表面の算術平均粗さRaは、1.5nm以下が好ましく、1.0nm以下がより好ましい。算術平均粗さRaは、0.00nm以上であってよく、0.05nm以上であってよい。基材フィルム上にハードコート層が形成されている場合は、ハードコート層の算術平均粗さが、基材フィルムの反射防止層の形成面側の表面の算術平均粗さとなる。算術平均粗さRaは、原子間力顕微鏡(AFM)を用いた1μm四方の観察像から求められる。 The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the substrate film on the side on which the anti-reflection layer is formed is preferably 1.5 nm or less, more preferably 1.0 nm or less. The arithmetic mean roughness Ra may be 0.00 nm or more, or may be 0.05 nm or more. When a hard coat layer is formed on the substrate film, the arithmetic mean roughness of the hard coat layer is the arithmetic mean roughness of the surface of the substrate film on the side on which the anti-reflection layer is formed. The arithmetic mean roughness Ra is determined from an observation image of 1 μm square using an atomic force microscope (AFM).

上記のように、塗布によりハードコート層を形成すれば、基材フィルムの表面の算術平均粗さを小さくできる。基材フィルムの表面が平滑であれば、その上に形成される反射防止層の表面の算術平均粗さも小さくなり、反射防止フィルムの耐擦傷性が向上する傾向がある。 As described above, by forming a hard coat layer by coating, the arithmetic mean roughness of the surface of the substrate film can be reduced. If the surface of the substrate film is smooth, the arithmetic mean roughness of the surface of the antireflection layer formed thereon will also be small, and the scratch resistance of the antireflection film will tend to improve.

<保護フィルム>
保護フィルムとしては、特に制限されないが、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および位相差値の安定性等に優れる材料からなることが好ましい。保護フィルムの材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタクリル酸メチル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン系樹脂、アクリロニトリル・スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、変性ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリエチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、およびポリイミド系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。
<Protective film>
The protective film is not particularly limited, but is preferably made of a material excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, and phase difference value stability, etc. The material of the protective film is not particularly limited, but examples thereof include films made of methyl methacrylate resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, styrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene resin, acrylonitrile-styrene resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, polyamide resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, modified polyphenylene ether resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, polyamideimide resin, and polyimide resin.

これらの樹脂は、単独で、または2種類以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの樹脂は、任意の適切なポリマー変性を行ってから用いることもでき、このポリマー変性としては、例えば、共重合、架橋、分子末端変性、立体規則性制御、および異種ポリマー同士の反応を伴う場合を含む混合等の変性が挙げられる。 These resins can be used alone or in combination of two or more kinds. These resins can also be used after any suitable polymer modification. Examples of such polymer modifications include copolymerization, crosslinking, molecular end modification, stereoregularity control, and mixing, including cases involving reactions between different polymers.

セルロース系樹脂は、セルロースの水酸基における水素原子の一部又は全部が、アセチル基、プロピオニル基及び/又はブチリル基で置換された、セルロースの有機酸エステル又は混合有機酸エステルでありうる。例えば、セルロースの酢酸エステル、プロピオン酸エステル、酪酸エステル、それらの混合エステルなどからなるものが挙げられる。なかでも、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが好ましい。 The cellulose-based resin may be an organic acid ester or mixed organic acid ester of cellulose in which some or all of the hydrogen atoms in the hydroxyl groups of cellulose are replaced with acetyl groups, propionyl groups, and/or butyryl groups. Examples include cellulose acetate, propionate, butyrate, and mixed esters thereof. Among these, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and the like are preferred.

これらの樹脂は、透明性を損なわない範囲で、適宜の添加物が配合されていてもよい。添加物として例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、造核剤、防曇剤、アンチブロッキング剤、位相差低減剤、安定剤、加工助剤、可塑剤、耐衝撃助剤、艶消し剤、抗菌剤、防かび剤などを挙げることができる。これらの添加物は、複数種が併用されてもよい。 These resins may contain suitable additives as long as the transparency is not impaired. Examples of additives include antioxidants, UV absorbers, antistatic agents, lubricants, nucleating agents, antifogging agents, antiblocking agents, retardation reducing agents, stabilizers, processing aids, plasticizers, impact resistance aids, matting agents, antibacterial agents, and fungicides. A combination of these additives may be used.

保護フィルムの厚みは通常1~100μmであるが、強度や取扱性等の観点から5~60μmであることが好ましく、10~55μmであることがより好ましく、15~50μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the protective film is usually 1 to 100 μm, but from the viewpoints of strength, ease of handling, etc., it is preferably 5 to 60 μm, more preferably 10 to 55 μm, and even more preferably 15 to 50 μm.

保護フィルムは、同時に他の光学的機能を有していてもよく、複数の層が積層された積層構造に形成されていてもよい。保護フィルムの膜厚は光学特性の観点から薄いものが好ましいが、薄すぎると強度が低下し加工性に劣るものとなる。適切な膜厚としては、5~100μmであり、好ましくは10~80μm、より好ましくは15~70μmである。 The protective film may also have other optical functions, and may be formed into a laminated structure in which multiple layers are laminated. From the viewpoint of optical properties, it is preferable that the thickness of the protective film is thin, but if it is too thin, the strength decreases and the processability becomes poor. The appropriate thickness is 5 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm, and more preferably 15 to 70 μm.

偏光素子の両面に保護フィルムを有する構成の場合、PVA接着剤などの水系接着剤を用いて貼合する場合は透湿度の点で少なくとも片側の保護フィルムはセルロースアシレート系フィルムまたは(メタ)アクリル系重合体フィルムの何れかであることが好ましく、中でもセルロースアシレートフィルムが好ましい。 In the case of a configuration in which protective films are provided on both sides of a polarizing element, when bonding is performed using a water-based adhesive such as a PVA adhesive, it is preferable that the protective film on at least one side is either a cellulose acylate film or a (meth)acrylic polymer film in terms of moisture permeability, and of these, a cellulose acylate film is preferred.

第1保護フィルムと第2保護フィルムとは、同じであってもよいし異なっていてもよい。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムは、その外面(偏光素子とは反対側の面)に、帯電防止層のような表面処理層(コーティング層)を備えるものであってもよい。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの厚みは、表面処理層の厚みを含んだものである。 The first protective film and the second protective film may be the same or different. The first protective film and the second protective film may have a surface treatment layer (coating layer) such as an antistatic layer on their outer surfaces (the surfaces opposite the polarizing element). The thickness of the first protective film and the second protective film includes the thickness of the surface treatment layer.

第1保護フィルムとして、上記要件(ii)を満たすために、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを用いることができる。保護フィルムの透湿度は、材料、厚み等により調整することができる。温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムとしては、環状オレフィン系樹脂フィルム、ドライ方式で水蒸気バリア層を積層したフィルム等が好ましく用いられる。 In order to satisfy the above requirement (ii), a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% can be used as the first protective film. The moisture permeability of the protective film can be adjusted by the material, thickness, etc. As a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%, a cyclic olefin resin film, a film laminated with a water vapor barrier layer by a dry method, etc. are preferably used.

一方、反射防止フィルムが、上記要件(i)を満たし、且つ温度40℃相対湿度90%の透湿度が100g/m・day以下である場合は、第2保護フィルムの温度40℃相対湿度90%の透湿度が200g/m・day以上であることが好ましい。
光学積層体を製造する場合、後述するように、偏光素子10に水系接着剤等の貼合剤(接着剤又は粘着剤)を用いて第2保護フィルムを貼合した後、乾燥処理によって貼合層を形成し、次いで第1保護フィルムを貼合することがある。この場合、偏光素子の位相差フィルム側に積層される保護フィルムの透湿度を上記の範囲とすることにより、乾燥処理によって貼合剤に含まれる水分を除去しやすい。
On the other hand, when the anti-reflection film satisfies the above requirement (i) and has a moisture permeability of 100 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40°C and a relative humidity of 90%, it is preferable that the second protective film has a moisture permeability of 200 g/ m2 ·day or more at a temperature of 40°C and a relative humidity of 90%.
In producing an optical laminate, as described below, the second protective film may be laminated to the polarizing element 10 using a laminating agent (adhesive or pressure sensitive adhesive) such as a water-based adhesive, and then a laminating layer may be formed by a drying process, and then the first protective film may be laminated. In this case, by setting the moisture permeability of the protective film laminated on the retardation film side of the polarizing element to the above range, moisture contained in the laminating agent can be easily removed by the drying process.

少なくとも一方の保護フィルムとしては、視野角補償などの目的で位相差機能を備えていても良く、その場合、フィルム自身が位相差機能を有していても良く、位相差層を別に有していてもよく、両者の組み合わせであってもよい。
なお、位相差機能を備えるフィルムは、偏光素子に貼合された別の保護フィルムを介して粘着剤層または接着剤層を介して貼合された構成であっても構わない。
At least one of the protective films may have a retardation function for the purpose of compensating for viewing angle, etc. In that case, the film itself may have a retardation function, may have a separate retardation layer, or may have a combination of both.
The film having a retardation function may be attached to the polarizing element via a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer via another protective film that is attached to the polarizing element.

<貼合層>
光学積層体において、各層を貼合するために貼合層が用いられる。貼合層としては、接着剤層または粘着剤層が挙げられる。
<Laminating layer>
In the optical laminate, a bonding layer is used to bond the layers together. Examples of the bonding layer include an adhesive layer and a pressure-sensitive adhesive layer.

(接着剤層)
接着剤層は、例えば、偏光素子への保護フィルムの貼合に用いることができる。接着剤層を構成する接着剤は、任意の適切な接着剤を用いることができる。接着剤は、水系接着剤、溶剤系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤などを用いることができるが、水系接着剤であることが好ましい。
(adhesive layer)
The adhesive layer can be used, for example, to attach a protective film to a polarizing element. Any appropriate adhesive can be used as the adhesive constituting the adhesive layer. The adhesive can be a water-based adhesive, a solvent-based adhesive, an active energy ray curing adhesive, or the like, but a water-based adhesive is preferred.

接着剤の塗布時の厚みは、任意の適切な値に設定され得る。例えば、硬化後または加熱(乾燥)後に、所望の厚みを有する接着剤層が得られるように設定する。接着剤層の厚みは、好ましくは0.01μm以上7μm以下であり、より好ましくは0.01μm以上5μm以下であり、さらに好ましくは0.01μm以上2μm以下であり、最も好ましくは0.01μm以上1μm以下である。 The thickness of the adhesive when applied can be set to any appropriate value. For example, it is set so that an adhesive layer having the desired thickness is obtained after curing or heating (drying). The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 μm or more and 7 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less, even more preferably 0.01 μm or more and 2 μm or less, and most preferably 0.01 μm or more and 1 μm or less.

(水系接着剤)
水系接着剤としては、任意の適切な水系接着剤が採用され得る。中でも、PVA系樹脂を含む水系接着剤(PVA系接着剤)が好ましく用いられる。水系接着剤に含まれるPVA系樹脂の平均重合度は、接着性の点から、好ましくは100~5500程度、さらに好ましくは1000~4500である。平均鹸化度は、接着性の点から、好ましくは85モル%~100モル%程度であり、さらに好ましくは90モル%~100モル%である。
(Water-based adhesive)
Any suitable aqueous adhesive may be used as the aqueous adhesive. Among them, an aqueous adhesive containing a PVA-based resin (PVA-based adhesive) is preferably used. The average polymerization degree of the PVA-based resin contained in the aqueous adhesive is preferably about 100 to 5500, more preferably 1000 to 4500, from the viewpoint of adhesiveness. The average saponification degree is preferably about 85 mol% to 100 mol%, more preferably 90 mol% to 100 mol%, from the viewpoint of adhesiveness.

上記水系接着剤に含まれるPVA系樹脂としては、アセトアセチル基を含有するものが好ましく、その理由は、PVA系樹脂層と保護フィルムとの密着性に優れ、耐久性に優れているからである。アセトアセチル基含有PVA系樹脂は、例えば、PVA系樹脂とジケテンとを任意の方法で反応させることにより得られる。アセトアセチル基含有PVA系樹脂のアセトアセチル基変性度は、代表的には0.1モル%以上であり、好ましくは0.1モル%~20モル%程度である。
上記水系接着剤の樹脂濃度は、好ましくは0.1質量%~15質量%であり、さらに好ましくは0.5質量%~10質量%である。
The PVA-based resin contained in the aqueous adhesive is preferably one containing an acetoacetyl group, because it has excellent adhesion between the PVA-based resin layer and the protective film and excellent durability. The acetoacetyl-containing PVA-based resin can be obtained, for example, by reacting a PVA-based resin with diketene by any method. The degree of modification of the acetoacetyl-containing PVA-based resin with an acetoacetyl group is typically 0.1 mol% or more, and preferably about 0.1 mol% to 20 mol%.
The resin concentration of the water-based adhesive is preferably 0.1% by mass to 15% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 10% by mass.

水系接着剤には架橋剤を含有させることもできる。架橋剤としては公知の架橋剤を用いることができる。例えば、水溶性エポキシ化合物、ジアルデヒド、イソシアネートなどが挙げられる。 Water-based adhesives can also contain crosslinking agents. Any known crosslinking agent can be used. Examples include water-soluble epoxy compounds, dialdehydes, and isocyanates.

PVA系樹脂がアセトアセチル基含有PVA系樹脂である場合は、架橋剤としてグリオキサール、グリオキシル酸塩、メチロールメラミンのうちの何れかであることが好ましく、グリオキサール、グリオキシル酸塩の何れかであることが好ましく、グリオキサールであることが特に好ましい。 When the PVA-based resin is an acetoacetyl group-containing PVA-based resin, the crosslinking agent is preferably any one of glyoxal, glyoxylate, and methylolmelamine, more preferably any one of glyoxal and glyoxylate, and particularly preferably glyoxal.

水系接着剤は有機溶剤を含有することもできる。有機溶剤は、水と混和性を有する点でアルコール類が好ましく、アルコール類の中でもメタノールまたはエタノールであることがより好ましい。尿素系化合物の一部は水に対する溶解度が低い反面、アルコールに対する溶解度は十分なものがある。その場合は、尿素系化合物をアルコールに溶解し、尿素系化合物のアルコール溶液を調製した後、尿素系化合物のアルコール溶液をPVA水溶液に添加し、接着剤を調製することも好ましい態様の一つである。 The water-based adhesive may also contain an organic solvent. The organic solvent is preferably an alcohol because it is miscible with water, and among alcohols, methanol or ethanol is more preferable. Some urea compounds have low solubility in water, but some have sufficient solubility in alcohol. In that case, one preferred embodiment is to dissolve the urea compound in alcohol to prepare an alcohol solution of the urea compound, and then add the alcohol solution of the urea compound to the aqueous PVA solution to prepare the adhesive.

水系接着剤のメタノールの濃度は、好ましくは10質量%以上70質量%以下、より好ましくは15質量%以上60質量%以下、さらに好ましくは20質量%以上60質量%以下である。メタノールの濃度が10質量%以上であることにより、高温環境下でのポリエン化をより抑制しやすくなる。また、メタノールの含有率が70質量%以下であることにより、色相の悪化を抑制することができる。 The methanol concentration of the water-based adhesive is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 60% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less. By having a methanol concentration of 10% by mass or more, it becomes easier to suppress polyenation in a high-temperature environment. In addition, by having a methanol content of 70% by mass or less, deterioration of the hue can be suppressed.

(活性エネルギー線硬化型接着剤)
活性エネルギー線硬化型接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含む接着剤、光反応性樹脂を含む接着剤、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む接着剤等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマー、及びこれらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含む化合物を挙げることができる。
(Active energy ray curing adhesive)
The active energy ray curable adhesive is an adhesive that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, and examples thereof include an adhesive containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, an adhesive containing a photoreactive resin, and an adhesive containing a binder resin and a photoreactive crosslinking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as photocurable epoxy monomers, photocurable acrylic monomers, and photocurable urethane monomers, and oligomers derived from these monomers. Examples of the photopolymerization initiator include a compound containing a substance that generates active species such as neutral radicals, anion radicals, and cation radicals when irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays.

(粘着剤層)
粘着剤層は、例えば、第1保護フィルムへの反射防止フィルムの貼合に使用することができる。
(Adhesive Layer)
The pressure-sensitive adhesive layer can be used, for example, to attach an anti-reflection film to the first protective film.

粘着剤層は、(メタ)アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚みは、通常3~30μmであり、好ましくは3~25μmである。 The adhesive layer can be composed of an adhesive composition mainly composed of a resin such as a (meth)acrylic resin, a rubber resin, a urethane resin, an ester resin, a silicone resin, or a polyvinyl ether resin. Among them, an adhesive composition having a (meth)acrylic resin as a base polymer, which has excellent transparency, weather resistance, heat resistance, etc., is preferable. The adhesive composition may be of an active energy ray curing type or a heat curing type. The thickness of the adhesive layer is usually 3 to 30 μm, and preferably 3 to 25 μm.

粘着剤組成物に用いられる(メタ)アクリル系樹脂(ベースポリマー)としては、例えば、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステルの1種又は2種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。 As the (meth)acrylic resin (base polymer) used in the adhesive composition, for example, a polymer or copolymer containing one or more (meth)acrylic acid esters as monomers, such as butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate, is preferably used. It is preferable to copolymerize a polar monomer into the base polymer. Examples of polar monomers include monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an epoxy group, etc., such as (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and glycidyl (meth)acrylate.

粘着剤組成物は、上記ベースポリマーのみを含むものであってもよいが、通常は架橋剤をさらに含有する。架橋剤としては、2価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの;ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの;ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの;ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。中でも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。 The adhesive composition may contain only the base polymer, but usually further contains a crosslinking agent. Examples of crosslinking agents include divalent or higher metal ions that form metal carboxylates with carboxyl groups; polyamine compounds that form amide bonds with carboxyl groups; polyepoxy compounds or polyols that form ester bonds with carboxyl groups; and polyisocyanate compounds that form amide bonds with carboxyl groups. Of these, polyisocyanate compounds are preferred.

粘着剤層の貯蔵弾性率は、周波数1Hz、温度23℃において、0.001~0.350MPaが好ましく、0.001~0.200MPaがより好ましく、0.001~0.180MPaが更に好ましく、0.010~0.170MPaが特に好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率は、後述する実施例に記載の方法に従って測定することができる。 The storage modulus of the adhesive layer is preferably 0.001 to 0.350 MPa, more preferably 0.001 to 0.200 MPa, even more preferably 0.001 to 0.180 MPa, and particularly preferably 0.010 to 0.170 MPa, at a frequency of 1 Hz and a temperature of 23°C. The storage modulus of the adhesive layer can be measured according to the method described in the Examples below.

粘着剤層の厚みは、1~200μmが好ましく、2~100μmがより好ましく、2~80μmが更に好ましく、3~50μmが特に好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 200 μm, more preferably 2 to 100 μm, even more preferably 2 to 80 μm, and particularly preferably 3 to 50 μm.

本発明では前記のように、スパッタリングにより各層が形成された反射防止フィルムを用いることにより、耐擦傷性の高い光学積層体を構成することができる。
この場合、第1保護フィルムへの反射防止フィルムの貼合に使用する粘着剤層の貯蔵弾性率と粘着剤層の厚みを以下の範囲に制御することで、鉛筆硬度に代表される、押し込み硬度が高く、反射防止層が割れ難い光学積層体を形成することができ、特に好ましい。
As described above, in the present invention, by using an antireflection film in which each layer is formed by sputtering, an optical laminate having high scratch resistance can be formed.
In this case, by controlling the storage modulus and thickness of the adhesive layer used to attach the antireflection film to the first protective film within the following ranges, an optical laminate having high indentation hardness, represented by pencil hardness, and an antireflection layer that is less likely to crack can be formed, which is particularly preferred.

特に、第1保護フィルムと反射防止フィルムとを貼合するための粘着剤層の貯蔵弾性率は、0.050~0.170MPaが好ましく、0.080~0.170MPaがより好ましく、0.100~0.170Mが更に好ましく、0.120~0.160MPaが特に好ましい。 In particular, the storage modulus of the pressure-sensitive adhesive layer for bonding the first protective film and the anti-reflection film is preferably 0.050 to 0.170 MPa, more preferably 0.080 to 0.170 MPa, even more preferably 0.100 to 0.170 MPa, and particularly preferably 0.120 to 0.160 MPa.

粘着剤層の厚みは、3~30μmが好ましく、3~20μmがより好ましく、3~10μmが更に好ましく、3~8μmが特に好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 20 μm, even more preferably 3 to 10 μm, and particularly preferably 3 to 8 μm.

[光学積層体の製造方法]
本実施形態の光学積層体の製造方法は、含水率調整工程を有する。含水率調整工程では、特徴(a)を有する光学積層体を製造する場合は、偏光素子の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように偏光素子の含水率を調整する。偏光素子の含水率の調整方法は上述の通りである。含水率調整工程では、特徴(b)を有する光学積層体を製造する場合は、光学積層体の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上、かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように光学積層体の含水率を調整する。光学積層体の含水率の調整方法は上述の通りである。
[Method of manufacturing optical laminate]
The method for producing an optical laminate of this embodiment includes a moisture content adjusting step. In the moisture content adjusting step, when an optical laminate having the characteristic (a) is produced, the moisture content of the polarizing element is adjusted so that the moisture content of the polarizing element is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20%, and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%. The moisture content adjusting method of the polarizing element is as described above. In the moisture content adjusting step, when an optical laminate having the characteristic (b) is produced, the moisture content of the optical laminate is adjusted so that the moisture content of the optical laminate is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20%, and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%. The moisture content adjusting method of the optical laminate is as described above.

含水率調整工程以外の工程として、偏光素子と保護フィルムとを積層して偏光板を得る工程、偏光板と反射防止フィルムとを積層する工程、偏光板と位相差フィルムとを積層する工程、等の各層を積層する積層工程を有していてもよい。含水率調整工程及び各積層工程の順番は限定されることはなく、また含水率調整工程と積層工程とが並行して行われてもよい。 As a step other than the moisture content adjustment step, a lamination step of laminating each layer may be included, such as a step of laminating a polarizing element and a protective film to obtain a polarizing plate, a step of laminating a polarizing plate and an anti-reflection film, a step of laminating a polarizing plate and a retardation film, etc. The order of the moisture content adjustment step and each lamination step is not limited, and the moisture content adjustment step and the lamination step may be performed in parallel.

[表示装置]
上記の光学積層体は、液晶表示装置や有機EL表示装置等の各種表示装置に用いることができる。本実施形態の光学積層体を用いた表示装置は、湿熱耐久性及び高温耐久性に優れたものとすることができる。本実施形態の光学積層体を用いた表示装置は、湿熱耐久性及び高温耐久性に優れることから、車載用の表示装置として好適に用いることができる。
[Display device]
The optical laminate can be used in various display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices. A display device using the optical laminate of this embodiment can be excellent in wet heat durability and high temperature durability. Since the display device using the optical laminate of this embodiment has excellent wet heat durability and high temperature durability, it can be suitably used as a display device for vehicle mounting.

表示装置としては、表示セルと、表示セルの視認側表面に積層された光学積層体とを有し、光学積層体は、表示セルの視認側表面に、表示セル側から、位相差フィルム、偏光素子、反射防止フィルムの順に配置される向きで積層されている。表示セルと、光学積層体との積層には、例えば上述の粘着剤層が使用される。 The display device has a display cell and an optical laminate laminated on the viewing side surface of the display cell, and the optical laminate is laminated on the viewing side surface of the display cell in an orientation in which the retardation film, the polarizing element, and the anti-reflection film are arranged in this order from the display cell side. The display cell and the optical laminate are laminated, for example, using the above-mentioned adhesive layer.

<表示セル>
表示セルとしては、液晶セルや有機ELセルが挙げられる。液晶セルとしては、外光を利用する反射型液晶セル、バックライト等の光源からの光を利用する透過型液晶セル、外部からの光と光源からの光の両者を利用する半透過半反射型液晶セルのいずれを用いてもよい。液晶セルが光源からの光を利用するものである場合、表示装置(液晶表示装置)は、表示セル(液晶セル)の視認側と反対側にも偏光板が配置され、さらに光源が配置される。光源側の偏光板と液晶セルとは、適宜の粘着剤層を介して貼り合せられていることが好ましい。液晶セルの駆動方式としては、例えばVAモード、IPSモード、TNモード、STNモードやベンド配向(π型)等の任意なタイプのものを用いうる。
<Display cell>
Examples of the display cell include a liquid crystal cell and an organic EL cell. The liquid crystal cell may be a reflective liquid crystal cell that uses external light, a transmissive liquid crystal cell that uses light from a light source such as a backlight, or a semi-transmissive semi-reflective liquid crystal cell that uses both external light and light from a light source. When the liquid crystal cell uses light from a light source, the display device (liquid crystal display device) has a polarizing plate disposed on the opposite side to the viewing side of the display cell (liquid crystal cell), and further has a light source disposed thereon. The polarizing plate on the light source side and the liquid crystal cell are preferably bonded together via an appropriate adhesive layer. The driving method of the liquid crystal cell may be any type, such as VA mode, IPS mode, TN mode, STN mode, or bend orientation (π type).

有機ELセルとしては、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体(有機エレクトロルミネセンス発光体)を形成したもの等が好適に用いられる。有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、これらの発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体、あるいは正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の層構成が採用され得る。 As an organic EL cell, a light-emitting body (organic electroluminescence light-emitting body) is preferably formed by sequentially laminating a transparent electrode, an organic light-emitting layer, and a metal electrode on a transparent substrate. The organic light-emitting layer is a laminate of various organic thin films, and various layer configurations can be adopted, such as a laminate of a hole injection layer made of a triphenylamine derivative or the like and a light-emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, a laminate of such a light-emitting layer and an electron injection layer made of a perylene derivative or the like, or a laminate of a hole injection layer, a light-emitting layer, and an electron injection layer.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び%は、特記ないかぎり質量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。 The present invention will be explained in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts and percentages indicating the content or amount used are based on mass unless otherwise specified. In the following examples, the physical properties were measured by the following methods.

[測定方法]
(1)フィルム厚みの測定方法
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーターであるMH-15Mを用いて測定した。
[Measurement method]
(1) Method for Measuring Film Thickness Measurement was performed using a digital micrometer MH-15M manufactured by Nikon Corporation.

(2)反射防止フィルムの透湿度
JIS K 7129:2008 附属書Bに準じて、温度40℃相対湿度90%の雰囲気中で反射防止フィルムの透湿度を測定した。
(2) Moisture Permeability of Antireflection Film In accordance with JIS K 7129:2008, Appendix B, the moisture permeability of the antireflection film was measured in an atmosphere having a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%.

(3)反射防止層の各層の厚み測定
大塚電子株式会社製の反射分光膜厚計FE3000を用いて測定した。
(3) Measurement of Thickness of Each Layer of the Antireflection Layer The thickness was measured using a reflection spectroscopic film thickness meter FE3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.

(4)23℃における引張弾性率(JIS K 7161に準拠して測定)
フィルムから遅相軸及び進相軸に平行にそれぞれ幅15mm×長さ150mmの試験片を切り出した。次いで、引張試験機〔株式会社島津製作所製 AUTOGRAPH(登録商標) AG-1S試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が100mmとなるように、上記試験片の長辺方向両端を挟み、23℃の環境下で引張速度50mm/分で引張り、応力-ひずみ曲線を作成し、23℃における遅相軸及び進相軸に平行な方向の引張弾性率を算出した。こうして算出した遅相軸及び進相軸に平行な方向の引張弾性率のうち、値が大きいものを本発明における23℃における引張弾性率の値とした。
(4) Tensile modulus at 23°C (measured in accordance with JIS K 7161)
A test piece having a width of 15 mm and a length of 150 mm was cut out from the film parallel to the slow axis and the fast axis. Then, the test piece was clamped at both ends in the long side direction with the upper and lower grips of a tensile tester [AUTOGRAPH (registered trademark) AG-1S tester manufactured by Shimadzu Corporation] so that the distance between the grips was 100 mm, and pulled at a pulling speed of 50 mm/min in an environment of 23°C, and a stress-strain curve was created, and the tensile modulus in the direction parallel to the slow axis and the fast axis at 23°C was calculated. Among the tensile moduli in the direction parallel to the slow axis and the fast axis thus calculated, the larger value was taken as the tensile modulus at 23°C in the present invention.

(5)貯蔵弾性率
粘着剤層の貯蔵弾性率G’は、以下の(I)~(III)に従って測定した。
(I)粘着剤層から試料を25±1mgずつ2つ取り出し、それぞれ略玉状に成形する。(II)得られる略玉状の試料をI型冶具の上下面に貼り付け、上下面ともL型冶具で挟み込む。測定試料の構成は、L型治具/粘着剤層/I型治具/粘着剤層/L型冶具となる。(III)こうして作製された試料の貯蔵弾性率G’を、アイティー計測制御(株)製の動的粘弾性測定装置「DVA-220」を用いて、温度23℃、周波数1Hz、初期歪み1Nの条件下で測定した。
(5) Storage Modulus The storage modulus G' of the pressure-sensitive adhesive layer was measured according to the following (I) to (III).
(I) Two samples of 25±1 mg each were taken out of the adhesive layer, and each was molded into an approximately ball-like shape. (II) The obtained approximately ball-like samples were attached to the top and bottom surfaces of an I-shaped jig, and both the top and bottom surfaces were sandwiched between L-shaped jigs. The measurement sample was structured as follows: L-shaped jig/adhesive layer/I-shaped jig/adhesive layer/L-shaped jig. (III) The storage modulus G' of the sample thus prepared was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device "DVA-220" manufactured by IT Measurement and Control Co., Ltd. under the conditions of a temperature of 23°C, a frequency of 1 Hz, and an initial strain of 1 N.

(A)偏光素子の作製
平均重合度約2,400、ケン化度99.9モル%以上であるポリビニルアルコールからなる厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを準備した。このポリビニルアルコールフィルムを乾式で約5倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、60℃の純水に1分間浸漬した。その後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の重量比が0.05/5/100の水溶液に28℃で60秒間、ポリビニルアルコールフィルムを浸漬した。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の重量比が8.5/8.5/100の水溶液に72℃で300秒間、ポリビニルアルコールフィルムを浸漬した。引き続きポリビニルアルコールフィルムを26℃の純水で20秒間洗浄した後、65℃で乾燥した。このようにしてポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向した厚み28μmの偏光素子を得た。
(A) Preparation of Polarizing Element A 75 μm thick polyvinyl alcohol film made of polyvinyl alcohol with an average degree of polymerization of about 2,400 and a degree of saponification of 99.9 mol% or more was prepared. This polyvinyl alcohol film was uniaxially stretched by about 5 times in a dry state, and further immersed in pure water at 60° C. for 1 minute while maintaining a tension state. Then, the polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution of iodine/potassium iodide/water with a weight ratio of 0.05/5/100 at 28° C. for 60 seconds. Then, the polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution of potassium iodide/boric acid/water with a weight ratio of 8.5/8.5/100 at 72° C. for 300 seconds. The polyvinyl alcohol film was subsequently washed with pure water at 26° C. for 20 seconds, and then dried at 65° C. In this way, a polarizing element with a thickness of 28 μm in which iodine was adsorbed and aligned in the polyvinyl alcohol was obtained.

(B)接着剤の調製
アセトアセチル基を含有する変性PVA系樹脂(三菱ケミカル(株)製:ゴーセネックスZ-410)50gを950gの純水に溶解し、90℃で2時間加熱後常温に冷却し、PVA溶液を得た。
(B) Preparation of Adhesive 50 g of a modified PVA-based resin containing an acetoacetyl group (GOSENEX Z-410, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was dissolved in 950 g of pure water, heated at 90° C. for 2 hours, and then cooled to room temperature to obtain a PVA solution.

夫々の化合物が下記の濃度になるように前記PVA溶液、マレイン酸、グリオキサール、純水を配合しPVA系接着剤を調製した。 The PVA solution, maleic acid, glyoxal, and pure water were mixed together to prepare a PVA-based adhesive with the following concentrations for each compound:

PVA濃度 3.0 重量%
マレイン酸 0.01重量%
グリオキサール 0.15重量%
PVA concentration 3.0% by weight
Maleic acid 0.01% by weight
Glyoxal 0.15% by weight

(C)セルロースアシレートフィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルムTD40(富士フイルム(株)製:膜厚40μm)を、55℃に保った1.5mol/LのNaOH水溶液(鹸化液)に2分間浸漬した後、フィルムを水洗した。その後、25℃の0.05mol/Lの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、更に水洗浴を30秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを3回繰り返して水を落とした後に、70℃の乾燥ゾーンに15秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
鹸化処理したフィルムの温度40℃相対湿度90%での透湿度は850g/m・dayだった。
(C) Saponification of cellulose acylate film A commercially available cellulose acylate film TD40 (manufactured by Fujifilm Corporation: film thickness 40 μm) was immersed in a 1.5 mol/L NaOH aqueous solution (saponification solution) kept at 55° C. for 2 minutes, and then washed with water. Thereafter, the film was immersed in a 0.05 mol/L sulfuric acid aqueous solution at 25° C. for 30 seconds, and then passed through a water washing bath under running water for 30 seconds to neutralize the film. Then, the film was drained three times with an air knife to remove water, and then was allowed to stay in a drying zone at 70° C. for 15 seconds to dry, and a saponified film was produced.
The saponified film had a moisture permeability of 850 g/m 2 ·day at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%.

(D)位相差フィルムと位相差層の積層体の作製
国際公開第2018/207798号の[0106]~[0109]に準じて、作製した。未延伸のシクロオレフィンポリマーフィルム(JSR(株)製、商品名アートンフィルム)を一軸延伸してシクロオレフィンポリマーフィルム(23℃における引張弾性率=2742MPa、波長550nmにおける面内位相差値Re=110nm、波長550nmにおける厚み方向の位相差値Rth=55nm、膜厚24μm)を作製した。このシクロオレフィンポリマーフィルム(位相差フィルム)上に、棒状液晶性化合物を含有する組成物を塗布し、ポジティブC層である位相差層(波長550nmにおける面内位相差値Re=0nm、波長550nmにおける厚み方向の位相差値Rth=-100nm)を形成した。
(D) Preparation of a laminate of a retardation film and a retardation layer It was prepared according to [0106] to [0109] of International Publication No. 2018/207798. An unstretched cycloolefin polymer film (manufactured by JSR Corporation, trade name Arton Film) was uniaxially stretched to prepare a cycloolefin polymer film (tensile modulus at 23 ° C. = 2742 MPa, in-plane retardation value Re = 110 nm at a wavelength of 550 nm, retardation value Rth = 55 nm in the thickness direction at a wavelength of 550 nm, film thickness 24 μm). A composition containing a rod-shaped liquid crystal compound was applied onto this cycloolefin polymer film (retardation film), and a retardation layer which is a positive C layer (in-plane retardation value Re = 0 nm at a wavelength of 550 nm, retardation value Rth = -100 nm in the thickness direction at a wavelength of 550 nm) was formed.

(E)光学積層体の作製
(偏光板1の作製)
上記で作製した位相差フィルムと位相差層の積層体、偏光素子、鹸化処理したセルロースアシレートフィルム(第1保護フィルム)を、偏光素子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とが平行な方向になるように、PVA系接着剤を用いて貼り合わせた。この時、位相差フィルムと位相差層(ポジティブC層)の積層体について、位相差層(ポジティブC層)側が偏光素子側になるように貼り合わせた。位相差フィルムと偏光素子との接着性および、セルロースアシレートフィルムと偏光素子との接着力は実用上充分なものであった。
(E) Preparation of Optical Laminate (Preparation of Polarizing Plate 1)
The laminate of the retardation film and the retardation layer prepared above, the polarizing element, and the saponified cellulose acylate film (first protective film) are laminated together using a PVA-based adhesive so that the absorption axis of the polarizing element and the slow axis of the retardation film are parallel to each other. At this time, the laminate of the retardation film and the retardation layer (positive C layer) is laminated so that the retardation layer (positive C layer) side is on the polarizing element side. The adhesiveness between the retardation film and the polarizing element and the adhesive strength between the cellulose acylate film and the polarizing element are sufficient for practical use.

(平衡含水率の測定)
上記で得られた偏光板1を温度20℃で、相対湿度30%、35%、40%、45%、又は50%の条件で、72時間保管し、保管66時間、69時間、及び72時間でカールフィッシャー法を用いて、含水率を測定した。何れの湿度条件でも、保管66時間、69時間、72時間で含水率の値が変わらなかった。したがって、偏光板1の含水率は、保管環境の平衡含水率と同じになっているとみなすことができる。偏光板の含水率が、ある保管温度で平衡に達したときは、偏光板中の偏光素子の含水率も同様に、その保管温度で平衡に達しているとみなすことができる。また、偏光板中の偏光素子の含水率が、ある保管環境で平衡に達したときは、偏光板の含水率も同様に、その保管環境で平衡に達したとみなすことができる。
(Measurement of Equilibrium Moisture Content)
The polarizing plate 1 obtained above was stored for 72 hours at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 30%, 35%, 40%, 45%, or 50%, and the moisture content was measured using the Karl Fischer method after storage for 66, 69, and 72 hours. The moisture content did not change after storage for 66, 69, and 72 hours under any humidity condition. Therefore, the moisture content of the polarizing plate 1 can be considered to be the same as the equilibrium moisture content of the storage environment. When the moisture content of the polarizing plate reaches equilibrium at a certain storage temperature, the moisture content of the polarizing element in the polarizing plate can also be considered to have reached equilibrium at that storage temperature. In addition, when the moisture content of the polarizing element in the polarizing plate reaches equilibrium in a certain storage environment, the moisture content of the polarizing plate can also be considered to have reached equilibrium in that storage environment.

上記で得られた偏光板1の乾燥直後の含水率をカールフィッシャー法で測定し、上記の平衡含水率と比較した。偏光板1の含水率は、温度20℃相対湿度40%の含水率と同等であった。偏光板1について、さらに温度20℃相対湿度40%の条件で72時間保管した。 The moisture content of the polarizing plate 1 obtained above immediately after drying was measured by the Karl Fischer method and compared with the above equilibrium moisture content. The moisture content of polarizing plate 1 was equivalent to the moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 40%. Polarizing plate 1 was further stored for 72 hours under conditions of a temperature of 20°C and a relative humidity of 40%.

(F)反射防止フィルムの作製
(防眩性ハードコートフィルムの作製)
紫外線硬化型のウレタンアクリレート系モノマー(屈折率1.51)50重量部、紫外線硬化型のアクリレート系モノマー(屈折率1.51)50重量部、平均粒子径3.5μmのメチルメタクリレート-スチレン共重合体ビーズ(屈折率1.55)14重量部、ベンゾフェノン系光重合開始剤5重量部、およびトルエンを混合した固形分濃度40重量%の溶液を、厚み40μmのトリアセチルセルロースフィフィルム(屈折率1.49)上に塗布し、120℃で5分間乾燥した。その後、紫外線照射により硬化処理を行い、表面に凹凸構造を有する厚み約4μmの防眩性ハードコート層を形成し、防眩性ハードコートフィルムを作製した。この防眩性ハードコート層の算術平均粗さRaは0.43nmであった。
(F) Preparation of Anti-Reflection Film (Preparation of Anti-Glare Hard Coat Film)
A solution of 40% by weight of solid content obtained by mixing 50 parts by weight of ultraviolet-curing urethane acrylate monomer (refractive index 1.51), 50 parts by weight of ultraviolet-curing acrylate monomer (refractive index 1.51), 14 parts by weight of methyl methacrylate-styrene copolymer beads (refractive index 1.55) having an average particle size of 3.5 μm, 5 parts by weight of benzophenone-based photopolymerization initiator, and toluene was applied onto a 40 μm-thick triacetyl cellulose film (refractive index 1.49) and dried at 120° C. for 5 minutes. Then, a curing treatment was performed by ultraviolet irradiation to form an anti-glare hard coat layer having a thickness of about 4 μm and an uneven structure on the surface, and an anti-glare hard coat film was produced. The arithmetic mean roughness Ra of this anti-glare hard coat layer was 0.43 nm.

(反射防止フィルム1の作製)
特開2019-035969号公報の実施例に準じて、上述の防眩性ハードコートフィルムを、ロールトゥートール方式のスパッタ成膜装置に導入し、フィルムを走行させながら、防眩性ハードコート層形成面にボンバード処理(Arガスによるプラズマ処理)を行った。その後、密着性向上層として5nmのSiOx層(x<2)を成膜し、その上に、20nmのNb層、35nmのSiO層、35nmのNb層および100nmのSiO層を順に成膜し、4層構成の厚み190nmの反射防止層を形成した。反射防止層上に、防汚層としてフッ素系の樹脂を厚み5nmとなるように形成して、反射防止フィルム1を作製した。反射防止フィルム1の温度40℃相対湿度90%での透湿度は5g/m・dayだった。
(Preparation of Antireflection Film 1)
According to the embodiment of JP 2019-035969 A, the above-mentioned antiglare hard-coated film was introduced into a roll-to-toll sputtering film-forming apparatus, and the antiglare hard-coated layer-forming surface was bombarded (plasma treatment with Ar gas) while the film was running. Then, a 5 nm SiOx layer (x<2) was formed as an adhesion improving layer, and a 20 nm Nb 2 O 5 layer, a 35 nm SiO 2 layer, a 35 nm Nb 2 O 5 layer, and a 100 nm SiO 2 layer were sequentially formed thereon to form a 4-layer antireflection layer having a thickness of 190 nm. A fluorine-based resin was formed as an antifouling layer on the antireflection layer to a thickness of 5 nm to produce an antireflection film 1. The moisture permeability of the antireflection film 1 at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% was 5 g / m 2 · day.

(反射防止フィルム2と3の作製)
特開2017-227898号公報の実施例を参考に製膜条件を変更し、反射防止フィルム1とは透湿度が異なる反射防止フィルム2と3を作製した。反射防止フィルム2と3の反射防止フィルム2と3の温度40℃相対湿度90%での透湿度は夫々10g/m・dayと60g/m・dayだった。
(Preparation of Anti-Reflection Films 2 and 3)
The film formation conditions were changed with reference to the examples in JP 2017-227898 A, and antireflection films 2 and 3, which have different moisture permeabilities from antireflection film 1, were produced. The moisture permeabilities of antireflection films 2 and 3 at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% were 10 g/ m2 ·day and 60 g/ m2 ·day, respectively.

(反射防止フィルム4の作製)
反射防止層をスパッタ方式から塗布型に代えた点、及び反射防止層の層構成を以下のようにした点以外は、反射防止フィルム1と同様にして、反射防止フィルム4を作製した。反射防止フィルム4の温度40℃相対湿度90%での透湿度は300g/m・dayだった。
(Preparation of Antireflection Film 4)
Antireflection film 4 was produced in the same manner as antireflection film 1, except that the antireflection layer was formed by a coating type rather than a sputtering type and that the layer structure of the antireflection layer was as follows. Antireflection film 4 had a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%.

反射防止層は特開2004-126220号公報、段落[0105]を参考にして、以下の3層構成の反射防止層とした。
1層目 中屈折率層(屈折率:1.63、膜厚:67nm)
2層目 高屈折率層(屈折率:1.90、膜厚:107nm)
3層目 低屈折率層(屈折率:1.43、膜厚:86nm)
The antireflection layer was formed with the following three-layer structure by referring to paragraph [0105] of JP-A-2004-126220.
1st layer: Medium refractive index layer (refractive index: 1.63, film thickness: 67 nm)
2nd layer: High refractive index layer (refractive index: 1.90, film thickness: 107 nm)
3rd layer: low refractive index layer (refractive index: 1.43, film thickness: 86 nm)

(G)粘着剤層の準備
粘着剤層A:離型剤付き38μmPETフィルムが両面に付いた、市販のシート状アクリル系粘着剤層。粘着剤層の厚みは5μmであり、貯蔵弾性率は0.14MPaである。
粘着剤層B:離型剤付き38μmPETフィルムが両面に付いた、市販のシート状アクリル系粘着剤層。粘着剤層の厚みは25μmであり、貯蔵弾性率は0.06MPaである。
(G) Preparation of Adhesive Layers Adhesive layer A: A commercially available sheet-like acrylic adhesive layer with a 38 μm PET film with a release agent attached to both sides. The adhesive layer had a thickness of 5 μm and a storage modulus of 0.14 MPa.
Adhesive layer B: a commercially available sheet-like acrylic adhesive layer having a 38 μm PET film with a release agent on both sides. The adhesive layer had a thickness of 25 μm and a storage modulus of 0.06 MPa.

[実施例1]
上記で作製した反射防止フィルム1の反射防止層を積層していない面に、粘着剤層Aを貼合した。なお、これらの材料の貼り合わせの際には、各材料の貼合面にコロナ処理を実施した。
[Example 1]
An adhesive layer A was attached to the surface of the antireflection film 1 prepared above, on which no antireflection layer was laminated. When these materials were attached to each other, a corona treatment was performed on the surface to be attached of each material.

上記で作製した偏光板1のセルロースアシレートフィルム(第1保護フィルム)の面に粘着剤層Aを介して反射防止フィルム1を積層し、位相差フィルムの面に粘着剤層Bを積層して実施例1の光学積層体を作製した。なお、これらの材料の貼りあわせの際には、各材料の貼合面にコロナ処理を実施した。得られた光学積層体は、「反射防止フィルム1/粘着剤層A/偏光板1/粘着剤層B/離型剤付きPET」の層構成であった。 Anti-reflection film 1 was laminated on the surface of the cellulose acylate film (first protective film) of polarizing plate 1 prepared above via adhesive layer A, and adhesive layer B was laminated on the surface of the retardation film to prepare the optical laminate of Example 1. When these materials were laminated together, corona treatment was performed on the lamination surface of each material. The obtained optical laminate had a layer structure of "anti-reflection film 1/adhesive layer A/polarizing plate 1/adhesive layer B/PET with release agent."

得られた光学積層体について、これを構成するために用いた偏光板の含水率と同等となるように、偏光板を72時間保管した条件と同じ条件で72時間保管して光学積層体の含水率を調整した。光学積層体についても72時間保管することにより、その保管環境で平衡に達しているとみなすことができ、光学積層体中の偏光板及び偏光素子の含水率も同様に、その保管環境で平衡に達しているとみなすことができる。また、光学積層体中の偏光板または偏光素子の含水率が、ある保管環境で平衡に達したときは、光学積層体の含水率も同様に、その保管環境で平衡に達したとみなすことができる。したがって、光学積層体の含水率は、温度20℃相対湿度40%の平衡含水率である。 The moisture content of the obtained optical laminate was adjusted by storing it for 72 hours under the same conditions as the polarizing plate used to construct it, so that the moisture content of the optical laminate was equivalent to that of the polarizing plate used to construct it. By storing the optical laminate for 72 hours, it can be considered that it has reached equilibrium in that storage environment, and the moisture content of the polarizing plate and polarizing element in the optical laminate can also be considered to have reached equilibrium in that storage environment. Furthermore, when the moisture content of the polarizing plate or polarizing element in the optical laminate reaches equilibrium in a certain storage environment, the moisture content of the optical laminate can also be considered to have reached equilibrium in that storage environment. Therefore, the moisture content of the optical laminate is the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 40%.

[実施例2~4]
実施例1の光学積層体の作製において、反射防止フィルムを2~4に変更したこと以外は実施例1と同様にして実施例2~4の光学積層体を作製した。その後、用いた偏光板の含水率と同等となるように、偏光板を72時間保管した条件と同じ条件で、さらに72時間保管して光学積層体の含水率を調整した。
[Examples 2 to 4]
The optical laminates of Examples 2 to 4 were produced in the same manner as in Example 1, except that in the production of the optical laminate of Example 1, the antireflection films were changed to 2 to 4. Thereafter, the moisture content of the optical laminate was adjusted to be equivalent to that of the polarizing plate used by storing it for an additional 72 hours under the same conditions as those for storing the polarizing plate for 72 hours.

[比較例1]
偏光板1の位相差フィルム面に粘着剤層Bを貼合し、比較例1の光学積層体を作製した。なお、これらの材料の貼り合わせの際には、各材料の貼合面にコロナ処理を実施した。得られた光学積層体は、「偏光板1/粘着剤層B/離型剤付きPET」の層構成であった。
[Comparative Example 1]
The pressure-sensitive adhesive layer B was attached to the retardation film surface of the polarizing plate 1 to prepare an optical laminate of Comparative Example 1. When these materials were attached to each other, a corona treatment was performed on the attachment surface of each material. The obtained optical laminate had a layer structure of "polarizing plate 1/pressure-sensitive adhesive layer B/PET with release agent".

[評価]
(映り込み)
得られた光学積層体を、200mm×200mmの大きさに裁断し、厚さ0.7mm、300mm×300mmの大きさの無アルカリガラスに粘着剤層Bを介して貼合した。偏光板1に粘着剤層Bを積層し、200mm×200mmの大きさに裁断し、上記無アルカリガラスの光学積層体を貼合していない側に、偏光板の吸収軸が互いにクロスニコルになるように、偏光板1を、粘着剤層Bを介して貼合し、評価用サンプルを作製した。
[evaluation]
(Reflection)
The obtained optical laminate was cut to a size of 200 mm × 200 mm, and was attached to an alkali-free glass having a thickness of 0.7 mm and a size of 300 mm × 300 mm via the pressure-sensitive adhesive layer B. The pressure-sensitive adhesive layer B was laminated on the polarizing plate 1, and the plate was cut to a size of 200 mm × 200 mm, and the polarizing plate 1 was attached to the side of the alkali-free glass to which the optical laminate was not attached via the pressure-sensitive adhesive layer B so that the absorption axes of the polarizing plates were in a crossed Nicol state, thereby preparing an evaluation sample.

上記で作製した評価用サンプルを反射防止フィルムが視認側になるように観察台の上に置き、斜めから卓上蛍光灯を照射し、照射方向に対し、鏡面方向で映り込みを以下の基準で評価した。評価結果を表1に示す。
A:蛍光灯の映り込みが全く見えない。
B:蛍光灯の映り込みが殆ど見えない。
C:蛍光灯の映り込みが僅かに見える。
D:蛍光灯の映り込みがはっきり見える。
The evaluation sample prepared above was placed on an observation table with the anti-reflection film facing the viewing side, and was irradiated obliquely with a tabletop fluorescent lamp. The reflection in the mirror surface direction relative to the irradiation direction was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
A: There is no fluorescent light reflection at all.
B: The fluorescent light reflection is barely visible.
C: Fluorescent light reflections are slightly visible.
D: Fluorescent light reflections are clearly visible.

(クラックの評価)
上記で作製した評価用サンプルを、温度105℃の加熱環境下に500時間保管後、23℃(常温)まで冷却した。その後、温度23℃相対湿度55%の環境に30日間(1か月間)保存し、位相差フィルムを目視で観察し、クラックが発生しているか確認した。更に、30日毎に通算360日まで同様に位相差フィルムを目視で観察し、クラックの有無を確認した。結果を表1に示す。
(Crack evaluation)
The evaluation sample prepared above was stored in a heating environment at a temperature of 105 ° C for 500 hours, and then cooled to 23 ° C (normal temperature). After that, it was stored in an environment at a temperature of 23 ° C and a relative humidity of 55% for 30 days (1 month), and the retardation film was visually observed to confirm whether cracks occurred. Furthermore, the retardation film was visually observed in the same manner every 30 days for a total of 360 days to confirm the presence or absence of cracks. The results are shown in Table 1.

Figure 0007689846000001
Figure 0007689846000001

10 偏光素子、11 第1保護フィルム、20 反射防止フィルム、30 位相差フィルム、100 光学積層体。 10 Polarizing element, 11 First protective film, 20 Anti-reflection film, 30 Retardation film, 100 Optical laminate.

Claims (2)

位相差フィルムと偏光素子と反射防止フィルムとをこの順に有する光学積層体の製造方法であって、
前記位相差フィルムは、23℃における引張弾性率が3000MPa以下であり、
前記位相差フィルムは、厚みが18~45μmであり、
前記偏光素子は、含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であり、
下記要件(i)及び下記要件(ii):
(i)前記反射防止フィルムは、温度40℃相対湿度90%の透湿度が10g/m・day以下である、
(ii)前記偏光素子と前記反射防止フィルムとの間に、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを有する、
の少なくとも一方を満た
前記偏光素子の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように調整する含水率調整工程を有する、光学積層体の製造方法
A method for producing an optical laminate having a retardation film, a polarizing element, and an antireflection film in this order, comprising:
The retardation film has a tensile modulus of elasticity at 23° C. of 3000 MPa or less,
The retardation film has a thickness of 18 to 45 μm,
The polarizing element has a moisture content equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%,
The following requirement (i) and the following requirement (ii):
(i) The anti-reflection film has a moisture permeability of 10 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%;
(ii) a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% is provided between the polarizing element and the antireflection film;
At least one of the following is satisfied :
A method for producing an optical laminate, comprising a moisture content adjusting step of adjusting the moisture content of the polarizing element so that it is equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48% .
位相差フィルムと偏光素子と反射防止フィルムとをこの順に有する光学積層体の製造方法であって、
前記位相差フィルムは、23℃における引張弾性率が3000MPa以下であり、
前記位相差フィルムは、厚みが18~45μmであり、
前記光学積層体は、含水率が、温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下であり、
下記要件(i)及び下記要件(ii):
(i)前記反射防止フィルムは、温度40℃相対湿度90%の透湿度が10g/m・day以下である、
(ii)前記偏光素子と前記反射防止フィルムとの間に、温度40℃相対湿度90%の透湿度が300g/m・day以下である保護フィルムを有する、
の少なくとも一方を満た
前記光学積層体の含水率が温度20℃相対湿度20%の平衡含水率以上かつ温度20℃相対湿度48%の平衡含水率以下となるように調整する含水率調整工程を有する、光学積層体の製造方法
A method for producing an optical laminate having a retardation film, a polarizing element, and an antireflection film in this order, comprising:
The retardation film has a tensile modulus of elasticity at 23° C. of 3000 MPa or less,
The retardation film has a thickness of 18 to 45 μm,
The optical laminate has a moisture content equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20° C. and a relative humidity of 48%,
The following requirement (i) and the following requirement (ii):
(i) The anti-reflection film has a moisture permeability of 10 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90%;
(ii) a protective film having a moisture permeability of 300 g/ m2 ·day or less at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 90% is provided between the polarizing element and the antireflection film;
At least one of the following is satisfied :
A method for producing an optical laminate, comprising a moisture content adjusting step of adjusting the moisture content of the optical laminate to be equal to or higher than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 20% and equal to or lower than the equilibrium moisture content at a temperature of 20°C and a relative humidity of 48%.
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