JP7692385B2 - Electromagnetic wave shielding laminate, covering material or exterior material, electric/electronic device, and method for producing electromagnetic wave shielding laminate - Google Patents
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Description
本発明は、電磁波シールド積層体、被覆材又は外装材、電気・電子機器及び電磁波シールド積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding laminate, a covering material or exterior material, an electric/electronic device, and a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding laminate.
電気自動車やハイブリッド自動車といった二次電池を搭載した環境配慮型自動車では、搭載した二次電池から発生する直流電流を、インバータを介して交流電流に変換した後、必要な電力を交流モータに供給し、駆動力を得る方式を採用するものが多く、インバータのスイッチング動作などに起因して電磁波が発生する。電磁波は、車載の音響機器や無線機器等の受信障害となることから、インバータなどを金属製の筐体内に収容して、電磁波シールドするという対策が行われている。 In environmentally friendly automobiles equipped with secondary batteries, such as electric vehicles and hybrid vehicles, the DC current generated by the secondary batteries is converted to AC current via an inverter, and the necessary power is then supplied to an AC motor to obtain driving force. This generates electromagnetic waves due to the switching operation of the inverter. Since electromagnetic waves can cause reception interference for on-board audio equipment and wireless devices, measures are taken to house the inverter and other components in a metal casing to shield them from electromagnetic waves.
しかしながら、金属製の筐体は、電磁波シールド特性が良好であるものの、重いため燃費が低下するとともに、コストも増大する。そこで、金属製の筐体に代わる電磁波シールド筐体の開発が望まれている。 However, although metal housings have good electromagnetic wave shielding properties, they are heavy, which reduces fuel efficiency and increases costs. Therefore, there is a need to develop electromagnetic wave shielding housings that can replace metal housings.
また、自動車に限らず、通信機器、ディスプレイ及び医療機器を含め多くの電気・電子機器から電磁波が放射される。電磁波は精密機器の誤作動を引き起こす可能性があり、更には、人体に対する影響も懸念される。このため、電磁波シールド材を用いて電磁波の影響を軽減する各種の技術が開発されてきた。例えば、特許文献1には、銅箔と樹脂フィルムとを積層してなる銅箔複合体を電磁波シールド材として用いることが記載されている。また、特許文献2には、少なくとも二枚の金属箔が固体状の絶縁層を介して積層された構造を有する電磁波シールド材であって、絶縁層を介して積層された二枚以上の金属箔のうち、少なくとも二枚が電気的に接続されている電磁波シールド材が記載されている。 Electromagnetic waves are emitted not only from automobiles, but also from many electric and electronic devices, including communication devices, displays, and medical devices. Electromagnetic waves can cause precision devices to malfunction, and there are also concerns about their effects on the human body. For this reason, various technologies have been developed to reduce the effects of electromagnetic waves using electromagnetic shielding materials. For example, Patent Document 1 describes the use of a copper foil composite formed by laminating copper foil and a resin film as an electromagnetic shielding material. Patent Document 2 describes an electromagnetic shielding material having a structure in which at least two metal foils are laminated with a solid insulating layer interposed therebetween, and at least two of the two or more metal foils laminated with the insulating layer interposed therebetween are electrically connected.
しかしながら、特許文献1では、優れたシールド特性を得るのに必要な電磁波シールド材の厚みをかなり大きくする必要があり、自動車における燃費向上の観点から十分な軽量化が達成できない。 However, in Patent Document 1, the thickness of the electromagnetic shielding material required to obtain excellent shielding properties must be significantly increased, and sufficient weight reduction cannot be achieved from the perspective of improving fuel efficiency in automobiles.
また、特許文献2では、電気的に接続されている形態として、例えば金属箔間の絶縁層の長さより金属箔の長さを長くし、金属箔同士を接触させることが記載されている(特許文献2の段落0073、図4参照)。これにより、電磁波シールド材自体の軽量化を図るだけでなく、シールド特性が良好に改善されている。しかしながら、電磁波シールド材の製造において、金属箔間の絶縁層の長さより金属箔の長さを長くすることが必要となるので、ロール状の金属箔と絶縁層をラミネート加工等により貼り合わせて積層した電磁波シールド材をスリットして所望のサイズの電磁波シールド材を大量生産することに不向きであるというのが実情である。
したがって、特許文献1、2に記載の電磁波シールド材には未だ改善の余地がある。
In addition, Patent Document 2 describes an electrically connected form in which the length of the metal foil is longer than the length of the insulating layer between the metal foils, and the metal foils are in contact with each other (see paragraph 0073 and FIG. 4 of Patent Document 2). This not only reduces the weight of the electromagnetic shielding material itself, but also improves the shielding properties. However, in the production of the electromagnetic shielding material, it is necessary to make the length of the metal foil longer than the length of the insulating layer between the metal foils, so that the electromagnetic shielding material is not suitable for mass production of electromagnetic shielding materials of desired sizes by slitting a roll-shaped electromagnetic shielding material in which a metal foil and an insulating layer are laminated together by lamination or the like.
Therefore, there is still room for improvement in the electromagnetic shielding materials described in Patent Documents 1 and 2.
そこで、本発明の一実施形態において、シールド特性が良好な電磁波シールド積層体を提供することを目的とする。また、本発明の更なる実施形態において、比較的容易に製造することが可能な電磁波シールド積層体の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, in one embodiment of the present invention, it is an object of the present invention to provide an electromagnetic wave shielding laminate with good shielding properties. In a further embodiment of the present invention, it is an object of the present invention to provide a method for producing an electromagnetic wave shielding laminate that can be produced relatively easily.
すなわち、本発明は一側面において、少なくとも2層の金属層と絶縁層とを備え、該金属層と該絶縁層とが交互に積層された電磁波シールド積層体であって、当該電磁波シールド積層体の端部の厚みが変化するテーパ部を有し、厚み方向において各テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していない、電磁波シールド積層体である。 That is, in one aspect, the present invention provides an electromagnetic shielding laminate that includes at least two metal layers and an insulating layer, the metal layers and the insulating layers being alternately stacked, the electromagnetic shielding laminate has tapered portions at the ends of which the thickness varies, the distance A between adjacent metal layers at the tip of each tapered portion in the thickness direction, with the insulating layer interposed between them, is shorter than the distance B between adjacent metal layers at the center of the flat portion other than the tapered portion, and none of the metal layers are in contact with each other.
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態においては、当該電磁波シールド積層体の平坦部の厚みTに対する各テーパ部の長さL1の割合L1/Tが2000%以下である。 In one embodiment of the electromagnetic shielding laminate of the present invention, the ratio L1/T of the length L1 of each tapered portion to the thickness T of the flat portion of the electromagnetic shielding laminate is 2000% or less.
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態においては、前記距離Bに対する前記距離Aの割合A/Bが75%以下である。 In one embodiment of the electromagnetic wave shielding laminate according to the present invention, the ratio A/B of the distance A to the distance B is 75% or less.
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態においては、当該電磁波シールド積層体の最上層及び最下層が、金属層である。 In one embodiment of the electromagnetic shielding laminate of the present invention, the top and bottom layers of the electromagnetic shielding laminate are metal layers.
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態においては、隣接し合う金属層間に介する絶縁層が、該金属層の先端よりも外側にはみ出したはみ出し部を有する。 In one embodiment of the electromagnetic shielding laminate according to the present invention, the insulating layer between adjacent metal layers has a protruding portion that protrudes outward beyond the tip of the metal layer.
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態においては、金属層同士が、いずれも電気的に接続されていない。 In one embodiment of the electromagnetic shielding laminate of the present invention, none of the metal layers are electrically connected to each other.
また、本発明は別の側面において、上記いずれかに記載の電磁波シールド積層体を備えた電気・電子機器用の被覆材又は外装材である。 In another aspect, the present invention is a covering or exterior material for electrical/electronic devices that includes any one of the electromagnetic shielding laminates described above.
また、本発明は別の側面において、上記の被覆材又は外装材を備えた電気・電子機器である。 In another aspect, the present invention is an electric/electronic device equipped with the above-mentioned covering material or exterior material.
さらに、本発明は別の側面において、上記いずれかに記載の電磁波シールド積層体の製造方法であって、少なくとも2層の金属層と絶縁層とを用いて、該金属層と該絶縁層とを交互に積層された中間積層体の最外層側から凸部を有するノッチ加工パンチで該中間積層体にノッチを形成する工程と、前記ノッチを形成後、前記ノッチの一部を切断するように厚み方向に前記中間積層体を打ち抜くことで電磁波シールド積層体を得る工程とを含む、電磁波シールド積層体の製造方法である。 Furthermore, in another aspect, the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding laminate described above, which includes the steps of forming a notch in an intermediate laminate in which at least two metal layers and insulating layers are alternately laminated, from the outermost layer side of the intermediate laminate using a notch processing punch having a protruding portion, and, after forming the notch, punching the intermediate laminate in the thickness direction so as to cut a part of the notch to obtain an electromagnetic wave shielding laminate.
本発明の一実施形態によれば、シールド特性が良好な電磁波シールド積層体を提供できる。また、本発明の更なる実施形態によれば、比較的容易に製造することが可能な電磁波シールド積層体の製造方法を提供できる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding laminate having good shielding properties. Furthermore, according to a further embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for producing an electromagnetic wave shielding laminate that can be produced relatively easily.
以下、本発明は各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。
なお、本明細書において、「テーパ部」は、金属層の先端eから重心cまでの水平長さL0に対する各テーパ部の水平長さL1の割合L1/L0が20%以内である(図4参照)。また、「テーパ部以外」は、電磁波シールド積層体の厚みが実質的に変化しない平坦部である。
The present invention is not limited to the following embodiments, and the components can be modified without departing from the spirit of the invention. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining the components disclosed in the embodiments.
In this specification, the "tapered portion" has a ratio L1/L0 of the horizontal length L1 of each tapered portion to the horizontal length L0 from the tip e of the metal layer to the center of gravity c of the metal layer (see FIG. 4 ). Also, the "non-tapered portion" refers to a flat portion where the thickness of the electromagnetic shielding laminate does not change substantially.
[1.電磁波シールド積層体]
本発明に係る電磁波シールド積層体の一実施形態では、少なくとも2層の金属層と絶縁層とを備え、該金属層と該絶縁層とが交互に積層される。そして、一実施形態においては、電磁波シールド積層体の端部の厚みが変化するテーパ部を有し、各テーパ部の先端(先端面)における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していないことが肝要である。一実施形態においては、シールド特性が良好である。
なお、本発明においては、金属層同士がいずれも接触していないので、金属層同士がいずれも電気的に接続されていない。
[1. Electromagnetic wave shielding laminate]
One embodiment of the electromagnetic shielding laminate according to the present invention includes at least two metal layers and an insulating layer, and the metal layers and the insulating layers are alternately laminated. In one embodiment, the electromagnetic shielding laminate has a tapered portion whose thickness changes at the end, and it is essential that the distance A between adjacent metal layers with an insulating layer interposed therebetween at the tip (tip surface) of each tapered portion is shorter than the distance B between adjacent metal layers with an insulating layer interposed therebetween at the central portion of the flat portion other than the tapered portion, and none of the metal layers are in contact with each other. In one embodiment, the shielding characteristics are good.
In the present invention, the metal layers are not in contact with each other, and therefore are not electrically connected to each other.
従来、特許文献1に記載の積層体のように、電磁波シールド材として金属箔と絶縁層とが交互に積層されていた。シールド特性の向上を図るため、1層の絶縁層を介して隣接し合う金属箔間の距離を狭めるために、該絶縁層の全体厚みを薄くすることを検討した。しかしながら、1MHzにおいてのシールド特性が向上せず、低下することがあった。この理由としては、絶縁層の全体厚みを薄くしたことで、電磁波の減衰効果が低下したと推察される。 Conventionally, metal foils and insulating layers have been laminated alternately as electromagnetic wave shielding materials, as in the laminate described in Patent Document 1. In order to improve the shielding properties, efforts were made to reduce the overall thickness of the insulating layer in order to narrow the distance between adjacent metal foils separated by one insulating layer. However, the shielding properties at 1 MHz did not improve, and sometimes even decreased. The reason for this is believed to be that the electromagnetic wave attenuation effect decreased as a result of the reduction in the overall thickness of the insulating layer.
そこで、本発明者は上記事情を考慮し鋭意検討を重ねたところ、少なくとも2層の金属層と、絶縁層とを備え、該金属層と該絶縁層とが交互に積層され、かかる積層体の端部の厚みが変化するテーパ部を有し、厚み方向においてテーパ部の先端における絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、厚み方向において平坦部の中央部位における絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していないことで、電磁波シールド特性が良好になることを見出した。また、このような電磁波シールド積層体については、特許文献2と異なり、厚み方向に垂直な方向における絶縁層の長さより金属層の長さを長くせず、比較的容易に製造することが可能である。
以下、本発明の好適な態様を説明する。
Therefore, the present inventors have conducted intensive studies in consideration of the above circumstances, and have found that an electromagnetic wave shielding property is good by providing at least two metal layers and an insulating layer, the metal layers and the insulating layers being alternately stacked, the laminate having a tapered portion whose thickness changes at the end thereof, the distance A between adjacent metal layers at the end of the tapered portion in the thickness direction via an insulating layer being shorter than the distance B between adjacent metal layers at the center of the flat portion in the thickness direction via an insulating layer, and the metal layers not being in contact with each other. Moreover, unlike Patent Document 2, such an electromagnetic wave shielding laminate can be manufactured relatively easily without making the length of the metal layers longer than the length of the insulating layers in the direction perpendicular to the thickness direction.
Preferred embodiments of the present invention will now be described.
一実施形態では、金属層と絶縁層とを交互に積層することで製造可能であり、少なくとも2層の金属層が絶縁層を介して積層された構造を有する。電磁波シールド特性の観点からは、本発明に係る電磁波シールド積層体は、一例としては、以下が挙げられる。括弧で表された層は適宜加えてもよいことを表す。電磁波シールド特性の観点からは、電磁波シールド積層体の最外層として、最上層と最下層の少なくとも一方は金属層であることが好ましく、電磁波シールド積層体の最上層と最下層の両方が金属層であることが好ましい。
(1)(絶縁層)/金属層/絶縁層/金属層/(絶縁層)
(2)(絶縁層)/金属層/絶縁層/金属層/絶縁層/金属層/(絶縁層)
(3)(絶縁層)/金属層/絶縁層/金属層/絶縁層/金属層/絶縁層/金属層/(絶縁層)
(1)~(3)においては、一つの「金属層」は絶縁層を介することなく複数の金属層を積層して構成することができ、一つの「絶縁層」も金属層を介することなく複数の絶縁層を積層して構成することができる。つまり、絶縁層を介することなく積層された複数の金属層は1層の金属層として捉えることができ、金属層を介することなく積層された複数の絶縁層は1層の絶縁層として捉えることができる。また、絶縁層や金属層以外の層を設けることもできる。
In one embodiment, it can be manufactured by alternately laminating metal layers and insulating layers, and has a structure in which at least two metal layers are laminated via an insulating layer. From the viewpoint of electromagnetic shielding properties, the electromagnetic shielding laminate according to the present invention may be, for example, as follows. Layers in parentheses indicate that they may be added as appropriate. From the viewpoint of electromagnetic shielding properties, it is preferable that at least one of the uppermost layer and the lowermost layer as the outermost layer of the electromagnetic shielding laminate is a metal layer, and it is preferable that both the uppermost layer and the lowermost layer of the electromagnetic shielding laminate are metal layers.
(1) (insulating layer)/metal layer/insulating layer/metal layer/(insulating layer)
(2) (insulating layer)/metal layer/insulating layer/metal layer/insulating layer/metal layer/(insulating layer)
(3) (insulating layer)/metal layer/insulating layer/metal layer/insulating layer/metal layer/insulating layer/metal layer/(insulating layer)
In (1) to (3), one "metal layer" can be formed by stacking multiple metal layers without an insulating layer therebetween, and one "insulating layer" can be formed by stacking multiple insulating layers without an insulating layer therebetween. In other words, multiple metal layers stacked without an insulating layer can be regarded as one metal layer, and multiple insulating layers stacked without a metal layer can be regarded as one insulating layer. In addition, layers other than insulating layers and metal layers can be provided.
このように、金属層と絶縁層を交互に積層することで、電磁波シールド特性の顕著な改善が見られるが、電磁波シールド積層体の端部の厚みが変化するテーパ部を有し、厚み方向において各テーパ部の先端(先端面)における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外の平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していないことで更なる電磁波シールド特性の改善を図ることができる。理論によって本発明が制限されることを意図しないが、これは以下の理由によると考えられる。すなわち、金属層間の距離が短くなることにより、絶縁層から外部に漏れる電磁波の量が少なくなり、受信アンテナに回りこむ電磁波の強度が弱まることでシールド効果が上昇すると考えられる。 In this way, by alternately stacking metal layers and insulating layers, a significant improvement in the electromagnetic shielding properties is observed, but the electromagnetic shielding laminate has tapered portions where the thickness of the ends changes, and the distance A between adjacent metal layers with an insulating layer at the tip (tip surface) of each tapered portion in the thickness direction is shorter than the distance B between adjacent metal layers with an insulating layer at the center of the flat portion other than the tapered portion, and none of the metal layers are in contact with each other, which can further improve the electromagnetic shielding properties. Although it is not intended to limit the present invention by theory, this is believed to be due to the following reasons. That is, it is believed that the shielding effect is improved by shortening the distance between the metal layers, which reduces the amount of electromagnetic waves leaking out from the insulating layer and weakens the strength of the electromagnetic waves that wrap around the receiving antenna.
(距離A、距離B)
一実施形態においては、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離を短くする観点から、距離Bに対する距離Aの割合A/Bが、上限側として75%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましく、40%以下であることが更により好ましい。一方、上記割合A/Bが、下限側として、典型的に8%以上、より典型的に10%以上である。
より具体的に、距離Aが、上限側として例えば250μm以下であり、また例えば150μm以下である一方で、下限側として例えば1.5μm以上であり、また例えば2.0μm以上である。また、距離Bが、下限側として例えば20μm以上であり、また例えば25μm以上である一方で、上限側として例えば300μm以下であり、また例えば250μm以下である。
なお、距離A、距離Bの測定方法の一例を以下に説明する。
電磁波シールド積層体を厚み方向に切断し、その切断面をマイクロスコープ(光学顕微鏡)等で観察することにより測定することができる。すなわち、距離A、距離Bは各々厚み方向における金属層間の垂直距離を意味する。
(Distance A, Distance B)
In one embodiment, from the viewpoint of shortening the distance between adjacent metal layers with an insulating layer interposed therebetween, the ratio A/B of the distance A to the distance B is preferably 75% or less as an upper limit, more preferably 50% or less, and even more preferably 40% or less as an upper limit, while the ratio A/B is typically 8% or more, and more typically 10% or more as a lower limit.
More specifically, the upper limit of the distance A is, for example, 250 μm or less, or, for example, 150 μm or less, while the lower limit is, for example, 1.5 μm or more, or, for example, 2.0 μm or more. The lower limit of the distance B is, for example, 20 μm or more, or, for example, 25 μm or more, while the upper limit is, for example, 300 μm or less, or, for example, 250 μm or less.
An example of a method for measuring the distances A and B will be described below.
The distances can be measured by cutting the electromagnetic shielding laminate in the thickness direction and observing the cut surface with a microscope (optical microscope), etc. That is, distance A and distance B each mean the perpendicular distance between the metal layers in the thickness direction.
(テーパ部長さ)
加工容易性の観点から、当該電磁波シールド積層体の平坦部の厚みTに対する各テーパ部の水平長さL1の割合L1/Tが2000%以下であることが好適である(図4参照)。上記割合を超える場合、打ち抜き加工後にテーパ加工の工程を追加する必要が生じる。一方、上記割合L1/Tは、下限側として、典型的に30%以上、より典型的には50%以上である。
なお、テーパ部の長さについては、先述した距離A、距離Bの測定方法と同様に、マイクロスコープで測定可能である。
(Tapered section length)
From the viewpoint of ease of processing, it is preferable that the ratio L1/T of the horizontal length L1 of each tapered portion to the thickness T of the flat portion of the electromagnetic shielding laminate is 2000% or less (see FIG. 4). If the ratio exceeds this ratio, an additional taper processing step will be required after punching. On the other hand, the lower limit of the ratio L1/T is typically 30% or more, and more typically 50% or more.
The length of the tapered portion can be measured using a microscope, similar to the method for measuring the distances A and B described above.
(金属層)
一実施形態において、使用する金属層の材料としては特に制限はないが、交流磁界や交流電界に対するシールド特性を高める観点からは、導電性に優れた金属材料とすることが好ましい。具体的には、導電率が1.0×106S/m(20℃の値。以下同じ。)以上の金属によって形成することが好ましく、金属の導電率が10.0×106S/m以上であるとより好ましく、30.0×106S/m以上であると更により好ましく、50.0×106S/m以上であると最も好ましい。このような金属としては、導電率が約9.9×106S/mのFe、導電率が約14.5×106S/mのNi、導電率が約39.6×106S/mのAl、導電率が約58.0×106S/mのCu、及び導電率が約61.4×106S/mのAgが挙げられる。導電率とコストの双方を考慮すると、Al又はCuを採用することが実用性上好ましい。本発明に係る電磁波シールド積層体中に使用する金属層はすべて同一の金属であってもよいし、層毎に異なる金属を使用してもよい。また、上述した金属の合金を使用することもできる。金属層表面には接着促進、耐環境性、耐熱及び防錆などを目的とした各種の表面処理層が形成されていてもよい。
(metal layer)
In one embodiment, the material of the metal layer to be used is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the shielding properties against AC magnetic fields and AC electric fields, it is preferable to use a metal material with excellent conductivity. Specifically, it is preferable to form it with a metal having a conductivity of 1.0×10 6 S/m (value at 20° C.; the same applies below), and it is more preferable that the metal has a conductivity of 10.0×10 6 S/m or more, even more preferable that the metal has a conductivity of 30.0×10 6 S/m or more, and most preferable that the metal has a conductivity of 50.0×10 6 S/m or more. Examples of such metals include Fe with a conductivity of about 9.9×10 6 S/m, Ni with a conductivity of about 14.5×10 6 S/m, Al with a conductivity of about 39.6×10 6 S/m, Cu with a conductivity of about 58.0×10 6 S/m, and Ag with a conductivity of about 61.4×10 6 S/m. Considering both the electrical conductivity and the cost, it is practically preferable to use Al or Cu. All the metal layers used in the electromagnetic shielding laminate according to the present invention may be made of the same metal, or different metals may be used for each layer. Alloys of the above-mentioned metals may also be used. Various surface treatment layers may be formed on the surface of the metal layer for the purposes of adhesion promotion, environmental resistance, heat resistance, rust prevention, etc.
例えば、金属層が最外層となる場合に必要とされる耐環境性、耐熱性を高めることを目的として、Auめっき、Agめっき、Snめっき、Niめっき、Znめっき、Sn合金めっき(Sn-Ag、Sn-Ni、Sn-Cuなど)、クロメート処理などを施すことができる。これらの処理を組み合わせてもよい。コストの観点からSnめっきあるいはSn合金めっきが好ましい。 For example, in order to improve the environmental resistance and heat resistance required when the metal layer is the outermost layer, Au plating, Ag plating, Sn plating, Ni plating, Zn plating, Sn alloy plating (Sn-Ag, Sn-Ni, Sn-Cu, etc.), chromate treatment, etc. may be applied. These treatments may also be combined. From the viewpoint of cost, Sn plating or Sn alloy plating is preferred.
また、金属層と絶縁層との密着性を高めることを目的として、クロメート処理、粗化処理、Niめっきなどを施すことができる。これらの処理を組み合わせてもよい。粗化処理が密着性を得られやすく好ましい。 In order to improve the adhesion between the metal layer and the insulating layer, chromate treatment, roughening treatment, Ni plating, etc. can be performed. These treatments may also be combined. Roughening treatment is preferred as it is easier to obtain adhesion.
また、直流磁界に対するシールド特性を高めることを目的として、比透磁率の高い金属層を設けることができる。比透磁率の高い金属層としてはFe-Ni合金めっき、Niめっきなどが挙げられる。 In addition, a metal layer with high relative magnetic permeability can be provided to improve the shielding properties against DC magnetic fields. Examples of metal layers with high relative magnetic permeability include Fe-Ni alloy plating and Ni plating.
金属層として銅箔を使用する場合、シールド特性が向上することから、純度が高いものが好ましく、純度は好ましくは99.5質量%以上、より好ましくは99.8質量%以上である。銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔、メタライズによる銅箔等を用いることができるが、屈曲性及び成形加工性に優れた圧延銅箔が好ましい。銅箔中に合金元素を添加して銅合金箔とする場合、これらの元素と不可避的不純物との合計含有量が0.5質量%未満であればよい。特に、銅箔中に、Sn、Mn、Cr、Zn、Zr、Mg、Ni、Si、及びAgから選ばれる少なくとも1種以上を合計で50~2000質量ppm、及び/又はPを10~50質量ppm含有すると、同じ厚みの純銅箔より伸びが向上するので好ましい。 When using copper foil as the metal layer, it is preferable to use one with high purity, since it improves shielding properties, and the purity is preferably 99.5% by mass or more, more preferably 99.8% by mass or more. As the copper foil, rolled copper foil, electrolytic copper foil, metallized copper foil, etc. can be used, but rolled copper foil, which has excellent flexibility and formability, is preferable. When alloy elements are added to the copper foil to make a copper alloy foil, the total content of these elements and unavoidable impurities should be less than 0.5% by mass. In particular, it is preferable to contain at least one selected from Sn, Mn, Cr, Zn, Zr, Mg, Ni, Si, and Ag in a total of 50 to 2000 ppm by mass, and/or P in a total of 10 to 50 ppm by mass, since this improves elongation compared to pure copper foil of the same thickness.
一実施形態において使用する金属層の厚みは、1層当たり4μm以上であることが好ましい。4μm未満だと金属層の延性が著しく低下し、電磁波シールド積層体の成形加工性が不十分となる場合がある。また、1層当たりの層の厚みが4μm未満だと優れた電磁波シールド特性を得るために多数の金属層を積層する必要が出てくるため、製造コストが上昇するという問題も生じる。このような観点から、金属層の厚みは1層当たり10μm以上であることがより好ましく、15μm以上であることが更により好ましく、20μm以上であることが更により好ましく、25μm以上であることが更により好ましく、30μm以上であることが更により好ましい。一方で、1層当たりの金属層の厚みが100μmを超えても成形加工性を悪化させることから、金属層の厚みは1層当たり100μm以下であることが好ましく、50μm以下であることがより好ましく、45μm以下であることが更により好ましく、40μm以下であることが特に好ましい。 In one embodiment, the thickness of the metal layer used is preferably 4 μm or more per layer. If it is less than 4 μm, the ductility of the metal layer may be significantly reduced, and the moldability of the electromagnetic wave shielding laminate may be insufficient. In addition, if the thickness of each layer is less than 4 μm, it becomes necessary to stack a large number of metal layers in order to obtain excellent electromagnetic wave shielding properties, which causes a problem of increased manufacturing costs. From this perspective, the thickness of the metal layer is more preferably 10 μm or more per layer, even more preferably 15 μm or more, even more preferably 20 μm or more, even more preferably 25 μm or more, and even more preferably 30 μm or more. On the other hand, even if the thickness of the metal layer per layer exceeds 100 μm, the moldability is deteriorated, so the thickness of the metal layer is preferably 100 μm or less per layer, more preferably 50 μm or less, even more preferably 45 μm or less, and particularly preferably 40 μm or less.
金属層と金属層との間には絶縁層が介されるため、金属層が少なくとも2層存在すれば、本発明の効果を奏することができる。ただし、金属層の積層数は多い方がシールド特性は向上するものの、積層数を多くすると積層工程が増えるので製造コストの増大を招き、また、シールド特性の向上効果も飽和する傾向にあるため、電磁波シールド積層体中の金属層は5層以下であればよく、4層以下であればよい。金属層が3層以上の場合には、少なくとも一方の最外層の金属層または最外層に隣接する金属層と、絶縁層を介して隣接し合う金属層との間の距離Bに対する距離Aの割合A/Bが、75%以下であればよい。 Since an insulating layer is interposed between the metal layers, the effect of the present invention can be achieved as long as there are at least two metal layers. However, although the shielding properties improve with a larger number of metal layers, increasing the number of layers increases the number of stacking steps, leading to increased manufacturing costs, and the effect of improving the shielding properties tends to saturate, so the number of metal layers in the electromagnetic shielding laminate may be five or less, and may be four or less. When there are three or more metal layers, the ratio A/B of the distance A to the distance B between at least one of the outermost metal layers or the metal layer adjacent to the outermost layer and the metal layer adjacent to the outermost layer via an insulating layer may be 75% or less.
すなわち、一実施形態においては、金属層の合計厚みを15~150μmとすることができ、100μm以下とすることもでき、80μm以下とすることもでき、60μm以下とすることもできる。 That is, in one embodiment, the total thickness of the metal layers can be 15 to 150 μm, or can be 100 μm or less, 80 μm or less, or 60 μm or less.
(絶縁層)
複数の金属層を積層することによる電磁波シールド特性の顕著な改善は、金属層と金属層の間に絶縁層を介することで得られる。金属層同士を直接重ねても、金属層の合計厚みが増えることでシールド特性が向上するものの、顕著な向上効果は得られない。これは、金属層間に絶縁層が存在することで電磁波の反射回数が増えて、電磁波が減衰されることによると考えられる。
(Insulating layer)
A significant improvement in the electromagnetic shielding properties of laminated metal layers can be achieved by placing an insulating layer between the metal layers. Directly stacking metal layers on top of each other does not result in a significant improvement, although the shielding properties improve as the total thickness of the metal layers increases. This is thought to be because the presence of an insulating layer between the metal layers increases the number of times that electromagnetic waves are reflected, resulting in the attenuation of the electromagnetic waves.
絶縁層としては、金属層とのインピーダンスの差が大きいものの方が、優れた電磁波シールド特性を得る上では好ましい。大きなインピーダンスの差を生じさせるには、絶縁層の比誘電率が小さいことが必要であり、具体的には10(20℃の値。以下同じ。)以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましく、3.5以下であることが更により好ましい。比誘電率は原理的には1.0より小さくなることはない。一般的に手に入る材料では低くても2.0程度であり、これ以上低くして1.0に近づけてもシールド特性の上昇は限られている一方、材料自体が特殊なものになり高価となる。コストと作用との兼ね合いを考えると、比誘電率は2.0以上であることが好ましく、2.2以上であることがより好ましい。 For the insulating layer, a layer with a large impedance difference from the metal layer is preferable in terms of obtaining excellent electromagnetic shielding properties. To produce a large impedance difference, the dielectric constant of the insulating layer must be small, and specifically, it is preferably 10 (value at 20°C; the same applies below) or less, more preferably 5.0 or less, and even more preferably 3.5 or less. In principle, the dielectric constant cannot be smaller than 1.0. For commonly available materials, the dielectric constant is at most about 2.0, and even if it is lowered further to approach 1.0, the increase in shielding properties is limited, while the material itself becomes specialized and expensive. Considering the balance between cost and function, the dielectric constant is preferably 2.0 or more, and more preferably 2.2 or more.
具体的には、絶縁層を構成する材料としてはガラス、金属酸化物、紙、天然樹脂、合成樹脂が挙げられ、加工性の観点から合成樹脂が好ましい。これらの材料には炭素繊維、ガラス繊維及びアラミド繊維などの繊維強化材を混入させることも可能である。合成樹脂としては、入手のしやすさや加工性の観点から、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)及びPBT(ポリブチレンテレフタレート)等のポリエステル、ポリエチレン及びポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリアセタール、フッ素樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ABS樹脂、ポリビニルアルコール、尿素樹脂、ポリ塩化ビニル、PC(ポリカーボネート)、ポリスチレン、スチレンブタジエンゴム等が挙げられ、これらの中でも加工性、コストの理由によりPET、PEN、ポリアミド、ポリイミドが好ましい。合成樹脂はウレタンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン系、オレフィン系、塩ビ系、ウレタン系、アミド系などのエラストマーとすることもできる。更には、合成樹脂自体が接着剤の役割を担ってもよく、この場合は金属層が接着剤を介して積層された構造となる。接着剤としては特に制限はないが、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、ウレタン系、ポリエステル系、シリコーン樹脂系、酢酸ビニル系、スチレンブタジエンゴム系、ニトリルゴム系、フェノール樹脂系、シアノアクリレート系などが挙げられ、製造しやすさとコストの理由により、ウレタン系、ポリエステル系、酢酸ビニル系が好ましい。 Specifically, the materials constituting the insulating layer include glass, metal oxides, paper, natural resins, and synthetic resins, with synthetic resins being preferred from the viewpoint of processability. These materials can also be mixed with fiber reinforcements such as carbon fiber, glass fiber, and aramid fiber. Synthetic resins include polyesters such as PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), and PBT (polybutylene terephthalate), olefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyamides, polyimides, liquid crystal polymers, polyacetal, fluororesins, polyurethanes, acrylic resins, epoxy resins, silicone resins, phenolic resins, melamine resins, ABS resins, polyvinyl alcohol, urea resins, polyvinyl chloride, PC (polycarbonate), polystyrene, and styrene butadiene rubber, and among these, PET, PEN, polyamides, and polyimides are preferred for reasons of processability and cost. Synthetic resins can also be elastomers such as urethane rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, fluororubber, styrene-based, olefin-based, PVC-based, urethane-based, and amide-based. Furthermore, the synthetic resin itself may act as an adhesive, in which case the metal layer is laminated via the adhesive. There are no particular limitations on the adhesive, but examples include acrylic resins, epoxy resins, urethanes, polyesters, silicone resins, vinyl acetates, styrene butadiene rubbers, nitrile rubbers, phenolic resins, and cyanoacrylates. For reasons of ease of manufacture and cost, urethanes, polyesters, and vinyl acetates are preferred.
樹脂材料はフィルム状や繊維状の形態で積層することができる。また、金属層に未硬化の樹脂組成物を塗布後に硬化させることで樹脂層を形成してもよいが、金属層に貼付可能な樹脂フィルムとするのが製造しやすさの理由により好ましい。特にPETフィルムを好適に用いることができる。特に、PETフィルムとして2軸延伸フィルムを用いることに
より、シールド材の強度を高めることができる。
The resin material can be laminated in the form of a film or fiber. The resin layer may be formed by applying an uncured resin composition to the metal layer and then curing it, but it is preferable to use a resin film that can be attached to the metal layer for the reason of ease of production. In particular, a PET film can be preferably used. In particular, by using a biaxially stretched film as the PET film, the strength of the shielding material can be increased.
絶縁層の厚みは特に制限されないが、テーパ部における1層の絶縁層の厚みが、平坦部の中央部位における1層の絶縁層の厚みよりも薄いことが好適である。テーパ部における1層の絶縁層の厚みは、上限側として例えば250μm以下であり、また例えば150μm以下である。一方、上記テーパ部における1層の絶縁層の厚みは、下限側として例えば1.5μm以上であり、また例えば2.0μm以上である。
また、平坦部の中央部位における1層の絶縁層の厚みは、下限側として例えば20μm以上であり、また例えば25μm以上である。一方、上記平坦部の中央部位の1層の絶縁層の厚みは、上限側として例えば300μm以下であり、また例えば250μm以下である。なお、最外層が絶縁層である電磁波シールド積層体においては、該最外層の絶縁層の厚みは、平坦部の中央部位における1層の絶縁層の厚みと同等であってもよい。
The thickness of the insulating layer is not particularly limited, but it is preferable that the thickness of one insulating layer in the tapered portion is thinner than the thickness of one insulating layer in the central portion of the flat portion. The upper limit of the thickness of one insulating layer in the tapered portion is, for example, 250 μm or less, and, for example, 150 μm or less. On the other hand, the lower limit of the thickness of one insulating layer in the tapered portion is, for example, 1.5 μm or more, and, for example, 2.0 μm or more.
The lower limit of the thickness of the single insulating layer in the central portion of the flat portion is, for example, 20 μm or more, and for example, 25 μm or more. Meanwhile, the upper limit of the thickness of the single insulating layer in the central portion of the flat portion is, for example, 300 μm or less, and for example, 250 μm or less. In an electromagnetic wave shielding laminate in which the outermost layer is an insulating layer, the thickness of the outermost insulating layer may be equal to the thickness of the single insulating layer in the central portion of the flat portion.
(はみ出し部)
一実施形態においては、隣接し合う金属層間に介する絶縁層が、該金属層の先端よりも外側にはみ出したはみ出し部を有してもよい。
(Protruding part)
In one embodiment, an insulating layer interposed between adjacent metal layers may have a protruding portion that protrudes outward beyond the tip of the metal layer.
絶縁層と金属層とを積層する積層方法としては、絶縁層と金属層の間に接着剤を用いてもよく、接着剤を用いずに絶縁層を金属層に熱圧着してもよい。接着剤を用いずに単に重ねる方法でもよいが、電磁波シールド積層体の一体性を考慮すれば、少なくとも端部(例えばシールド材が四角形の場合は各辺)は接着剤により又は熱圧着により接合することが好ましい。但し、絶縁層に余分な熱を加えないという点からは、接着剤を用いることが好ましい。接着剤としては先述したものと同様であり、特に制限はないが、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、ウレタン系、ポリエステル系、シリコーン樹脂系、酢酸ビニル系、スチレンブタジエンゴム系、ニトリルゴム系、フェノール樹脂系、シアノアクリレート系などが挙げられ、製造しやすさとコストの理由により、ウレタン系、ポリエステル系、酢酸ビニル系が好ましい。 The lamination method for laminating the insulating layer and the metal layer may be to use an adhesive between the insulating layer and the metal layer, or to thermocompress the insulating layer to the metal layer without using an adhesive. Although a method of simply stacking without using an adhesive is also acceptable, in consideration of the integrity of the electromagnetic wave shielding laminate, it is preferable to bond at least the ends (for example, each side when the shielding material is rectangular) with an adhesive or by thermocompression. However, it is preferable to use an adhesive from the viewpoint of not applying excess heat to the insulating layer. The adhesive is the same as that described above and is not particularly limited, but examples include acrylic resin, epoxy resin, urethane, polyester, silicone resin, vinyl acetate, styrene butadiene rubber, nitrile rubber, phenolic resin, and cyanoacrylate, and urethane, polyester, and vinyl acetate are preferred for ease of manufacture and cost reasons.
接着剤層の厚みは6μm以下であることが好ましい。接着剤層の厚みが6μmを超えると、金属層に絶縁層を積層した後に金属層のみが破断しやすくなる。ただし、先述したような接着剤層が絶縁層の役割を兼ねる場合は、この限りではなく、絶縁層の説明で述べた厚みとすることができる。 The thickness of the adhesive layer is preferably 6 μm or less. If the thickness of the adhesive layer exceeds 6 μm, the metal layer alone will be prone to breakage after the insulating layer is laminated onto the metal layer. However, in cases where the adhesive layer also serves as the insulating layer as described above, this is not the case, and the thickness can be as described in the explanation of the insulating layer.
一実施形態においては、テーパ部の先端における電磁波シールド積層体の厚みは、上限側として例えば400μm以下、例えば300μm以下である。一方、テーパ部の先端における上記電磁波シールド積層体の厚みは、下限側として例えば8μm以上、例えば10μm以上である。
なお、平坦部の中央部位における電磁波シールド積層体の厚みは、上限側として例えば500μm以下、例えば400μm以下である。一方、上記電磁波シールド積層体の厚みは、下限側として例えば100μm以上、例えば150μm以上である。
In one embodiment, the thickness of the electromagnetic shielding laminate at the tip of the tapered portion is, as an upper limit, for example, 400 μm or less, for example, 300 μm or less, while the thickness of the electromagnetic shielding laminate at the tip of the tapered portion is, as a lower limit, for example, 8 μm or more, for example, 10 μm or more.
The upper limit of the thickness of the electromagnetic shielding laminate at the center of the flat portion is, for example, 500 μm or less, e.g., 400 μm or less, whereas the lower limit of the thickness of the electromagnetic shielding laminate is, for example, 100 μm or more, e.g., 150 μm or more.
一実施形態によれば、1MHzにおいて36dB以上の磁界シールド特性(受信側でどれだけ信号が減衰したか)をもつことができ、好ましくは40dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、より好ましくは50dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、更により好ましくは60dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、特に好ましくは70dB以上の磁界シールド特性をもつことができ、例えば36~90dBの磁界シールド特性をもつことができる。本発明においては、磁界シールド特性はKEC法によって測定することとする。KEC法とは、関西電子工業振興センターにおける「電磁波シールド特性測定法」を指す。 According to one embodiment, the magnetic shielding characteristic (how much the signal is attenuated on the receiving side) can be 36 dB or more at 1 MHz, preferably 40 dB or more, more preferably 50 dB or more, even more preferably 60 dB or more, and particularly preferably 70 dB or more, for example, 36 to 90 dB. In the present invention, the magnetic shielding characteristic is measured by the KEC method. The KEC method refers to the "electromagnetic shielding characteristic measurement method" of the Kansai Electronics Industry Development Center.
(用途)
一実施形態において、当該電磁波シールド積層体は、特に電気・電子機器(例えば、インバータ、通信機、共振器、電子管・放電ランプ、電気加熱機器、電動機、発電機、電子部品、印刷回路、医療機器等)用の被覆材又は外装材、電気・電子機器に接続されたハーネスや通信ケーブルの被覆材、電磁波シールドシート、電磁波シールドパネル、電磁波シールド袋、電磁波シールド箱、電磁波シールド室など各種の電磁波シールド用途に利用することが可能である。
(Application)
In one embodiment, the electromagnetic wave shielding laminate can be used for various electromagnetic wave shielding applications, particularly as a covering or exterior material for electric/electronic devices (e.g., inverters, communication devices, resonators, electron tubes/discharge lamps, electric heating devices, electric motors, generators, electronic components, printed circuits, medical devices, etc.), a covering material for harnesses and communication cables connected to electric/electronic devices, an electromagnetic wave shielding sheet, an electromagnetic wave shielding panel, an electromagnetic wave shielding bag, an electromagnetic wave shielding box, an electromagnetic wave shielding room, and the like.
[2.電磁波シールド積層体の製造方法]
本発明に係る電磁波シールド積層体の製造方法の一実施形態においては、前述した電磁波シールド積層体の製造方法であって、一例としてノッチ形成、打ち抜きの順に行う。なお、先述した説明と重複する説明については割愛する。
[2. Manufacturing method of electromagnetic wave shielding laminate]
In one embodiment of the method for producing an electromagnetic wave shielding laminate according to the present invention, the above-mentioned electromagnetic wave shielding laminate is produced by, for example, forming a notch and punching in this order. Note that any explanation that overlaps with the above-mentioned explanation will be omitted.
(ノッチ形成)
図1(A)及び(B)に示すように、少なくとも2層の金属層と絶縁層とを用いて、該金属層と該絶縁層とを交互に積層された中間積層体(下記ノッチ加工を施す前の積層体を中間積層体と呼ぶ)の最外層側(例えば、最下層側)から凸部を有するノッチ加工パンチで該中間積層体にノッチを形成する。各金属層は、同種又は異種の材料でもよく、同一の又は異なる厚みでもよい。また、各絶縁層は、同種又は異種の材料でもよく、同一の又は異なる厚みでもよい。ノッチの先端の角度や曲率半径R、ノッチの押し付け荷重(または押し込み量)等は各金属層、各絶縁層の厚みや材質により種々設定することができる。
なお、ノッチを形成する中間積層体の最外層は、加工後の変形量が少なく、スプリングバックの戻りも少ないことから、金属層であることが好ましい。
(Notch formation)
As shown in Figures 1 (A) and (B), at least two metal layers and insulating layers are used, and a notch is formed in the intermediate laminate (hereinafter, the laminate before notching is called the intermediate laminate) in which the metal layers and the insulating layers are alternately stacked, from the outermost layer side (e.g., the bottom layer side) of the intermediate laminate using a notch processing punch having a convex portion. Each metal layer may be made of the same or different materials and may have the same or different thicknesses. Also, each insulating layer may be made of the same or different materials and may have the same or different thicknesses. The angle of the tip of the notch, the radius of curvature R, the pressing load (or pressing amount) of the notch, etc. can be set variously depending on the thickness and material of each metal layer and each insulating layer.
The outermost layer of the intermediate laminate in which the notch is formed is preferably a metal layer, since this layer has a small amount of deformation after processing and is less susceptible to springback.
中間積層体の最上層の外表面をノッチ加工ダイで押さえ、ノッチ加工パンチの凸部が中間積層体の最下層の外表面に当接するように押すと、中間積層体の最下層の外表面にノッチが形成される。 When the outer surface of the top layer of the intermediate laminate is pressed with a notch processing die and the convex part of the notch processing punch is pressed against the outer surface of the bottom layer of the intermediate laminate, a notch is formed in the outer surface of the bottom layer of the intermediate laminate.
(打ち抜き)
ノッチを形成後、図1(C)に示すように、前記ノッチの一部を切断するように厚み方向に前記中間積層体を打ち抜くことで電磁波シールド積層体を得る。より具体的には、中間積層体をダイの上に載置し、パンチがノッチの頂点に当たるように厚み方向に中間積層体を該パンチで打ち抜く。これにより、絶縁層を介して隣接し合う金属層の端部がそれぞれ、先端に向けて幅が狭くなるテーパ部が形成され、各テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していない電磁波シールド積層体が得られる。また、パンチ後の破面(先端)全体にダレ等も生じない。
仮に先述の埋め込む工程において、図2(A)及び(B)に示すように、中間積層体にノッチを形成せずにパンチで積層体を打ち抜いた場合、切断後の中間積層体は金属層同士が接触していないが、打ち抜き時に金属層及び絶縁層が引っ張られることで破面全体にダレが発生することがある。このようなダレが、電磁波シールド積層体のシールド特性を低下させると推察される。
(Punching)
After forming the notch, as shown in Fig. 1(C), the intermediate laminate is punched in the thickness direction so as to cut a part of the notch, to obtain an electromagnetic shielding laminate. More specifically, the intermediate laminate is placed on a die, and the intermediate laminate is punched in the thickness direction with the punch so that the punch hits the apex of the notch. As a result, a tapered portion is formed in which the width of each end of the metal layers adjacent to each other through an insulating layer narrows toward the tip, and the distance A between the metal layers adjacent to each other through an insulating layer at the tip of each tapered portion is shorter than the distance B between the metal layers adjacent to each other through an insulating layer at the central portion of the flat portion other than the tapered portion, thereby obtaining an electromagnetic shielding laminate in which none of the metal layers are in contact with each other. In addition, no sagging or the like occurs on the entire fracture surface (tip) after punching.
2A and 2B, if the intermediate laminate is punched out without forming a notch in the intermediate laminate in the above-mentioned embedding step, the metal layers of the intermediate laminate after cutting are not in contact with each other, but the metal layers and insulating layers are pulled during punching, which may cause sagging across the entire fracture surface. It is presumed that such sagging reduces the shielding properties of the electromagnetic shielding laminate.
なお、パンチとダイとのクリアランスは、破面のダレの発生の抑制の観点から、例えば電磁波シールド積層体の総厚みの2~8%が適正である。 The appropriate clearance between the punch and die is, for example, 2 to 8% of the total thickness of the electromagnetic shielding laminate in order to prevent sagging of the fracture surface.
また、本発明に係る電磁波シールド積層体の製造方法の一実施形態においては、中間積層体の作製時に、金属層と絶縁層とを接着剤や熱圧着等で接合していない場合、位置ずれが起きないように、上述の打ち抜き後の電磁波シールド積層体の端部(例えば、上面視で方形状ならば、端部4辺)をテープで固定する工程を含んでもよい。 In addition, in one embodiment of the method for producing an electromagnetic shielding laminate according to the present invention, if the metal layer and the insulating layer are not bonded with an adhesive, thermocompression bonding, or the like during the production of the intermediate laminate, the method may include a step of fixing the ends of the above-mentioned punched electromagnetic shielding laminate (for example, if the laminate has a rectangular shape when viewed from above, the four ends) with tape to prevent misalignment.
本発明を試験例、実施例、比較例に基づいて具体的に説明する。以下の実施例、比較例の記載は、あくまで本発明の技術的内容の理解を容易とするための具体例であり、本発明の技術的範囲はこれらの具体例によって制限されるものではない。 The present invention will be specifically explained based on test examples, examples, and comparative examples. The following examples and comparative examples are merely specific examples intended to facilitate understanding of the technical content of the present invention, and the technical scope of the present invention is not limited by these specific examples.
[電磁波シールド積層体の作製検討]
(試験例1~2)
表1に示すように、試験例1として銅箔(幅:50mm、奥行き:40mm、厚み:18~21μm)及びPETフィルム(幅:50mm、奥行き:40mm、厚み:99~100μm)を準備し、試験例2として銅箔(幅:50mm、奥行き:40mm、厚み:35~36μm)及びPCフィルム(幅:50mm、奥行き:40mm、厚み:100μm)を準備した。表1に示す構成に従って、PETフィルム又はPCフィルムと銅箔とを接着剤で接合させて中間積層体を作製した(図1(A)参照)。
次に、中間積層体の最下層側から凸部を有するノッチ加工パンチで、中間積層体にノッチを形成した(図1(B)参照)。次に、中間積層体をダイの上に載置し、パンチがノッチの頂点に当たるように厚み方向に中間積層体を該パンチで打ち抜くことで、テーパ部及び該テーパ部以外である平坦部が形成された電磁波シールド積層体を得た(図1(C)参照)。この時、ダイとパンチとのクリアランスは、0.01mmに設定していた。
[Study on the production of electromagnetic wave shielding laminate]
(Test Examples 1 and 2)
As shown in Table 1, a copper foil (width: 50 mm, depth: 40 mm, thickness: 18 to 21 μm) and a PET film (width: 50 mm, depth: 40 mm, thickness: 99 to 100 μm) were prepared as Test Example 1, and a copper foil (width: 50 mm, depth: 40 mm, thickness: 35 to 36 μm) and a PC film (width: 50 mm, depth: 40 mm, thickness: 100 μm) were prepared as Test Example 2. According to the configuration shown in Table 1, an intermediate laminate was produced by bonding the PET film or PC film and the copper foil with an adhesive (see FIG. 1(A)).
Next, a notch was formed in the intermediate laminate using a notch processing punch having a protruding portion from the bottom layer side of the intermediate laminate (see FIG. 1(B)). Next, the intermediate laminate was placed on a die, and the intermediate laminate was punched in the thickness direction with the punch so that the punch hit the apex of the notch, thereby obtaining an electromagnetic wave shielding laminate having a tapered portion and a flat portion other than the tapered portion (see FIG. 1(C)). At this time, the clearance between the die and the punch was set to 0.01 mm.
<評価方法>
(打ち抜き後の観察)
電磁波シールド積層体を下記観察条件で観察し、下記判断基準に基づき評価した。この結果を表1及び図3A(試験例1)及び図3B(試験例2)に示す。
・観察条件
測定機器:マイクロスコープ(キーエンス製 VHX-6000)
測定箇所:積層体の端部の断面形状(積層体を切断し、樹脂に埋めた後、該積層体の切断後の断面形状に研磨加工を施した。)
観察倍率:20倍
・判断基準:得られた電磁波シールド積層体において、各テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bに対する、該テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aの割合A/Bが、75%以下であった場合、「〇」と示す。なお、試験例1における距離A及び距離Bは、ノッチが形成された最下層の金属層と絶縁層を介して隣接し合う金属層との間の、厚み方向における垂直距離を意味する。
<Evaluation method>
(Observation after punching)
The electromagnetic wave shielding laminate was observed under the following observation conditions and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1 and Figure 3A (Test Example 1) and Figure 3B (Test Example 2).
Observation conditions Measurement equipment: Microscope (Keyence VHX-6000)
Measurement location: Cross-sectional shape of the end of the laminate (The laminate was cut and embedded in resin, and the cross-sectional shape of the cut laminate was then polished.)
Observation magnification: 20x Evaluation criteria: In the obtained electromagnetic shielding laminate, if the ratio A/B of the distance A between adjacent metal layers at the tip of the tapered portion with an insulating layer interposed therebetween to the distance B between adjacent metal layers at the central part of the flat portion other than each tapered portion, was 75% or less, it was indicated as "good." Note that the distances A and B in Test Example 1 mean the vertical distances in the thickness direction between the lowermost metal layer in which the notch is formed and the adjacent metal layer with an insulating layer interposed therebetween.
(考察1)
試験例1~2では、少なくとも2層の金属層としての銅箔と絶縁層とを用いて、該金属層と該絶縁層とが交互に積層された中間積層体の最下層側から凸部を有するノッチ加工パンチで該中間積層体にノッチを形成した後、該ノッチの一部を切断するように厚み方向に中間積層体を打ち抜いた。その結果、端部の厚みが変化するテーパ部を有し、厚み方向において各テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していない電磁波シールド積層体を得ることができた(図3A及びB参照)。
(Consideration 1)
In Test Examples 1 and 2, at least two metal layers, copper foil and an insulating layer, were used, and a notch was formed in the intermediate laminate in which the metal layers and the insulating layers were alternately laminated, from the bottom layer side of the intermediate laminate with a notch processing punch having a convex portion, and the intermediate laminate was then punched in the thickness direction so as to cut off a part of the notch. As a result, an electromagnetic shielding laminate was obtained in which the thickness of the end portion changes, and the distance A between adjacent metal layers at the tip of each tapered portion in the thickness direction, with an insulating layer interposed therebetween, is shorter than the distance B between adjacent metal layers at the central portion of the flat portion other than the tapered portion, and none of the metal layers are in contact with each other (see Figures 3A and B).
[電磁波シールド積層体]
<実施例1>
実施例1では、図4に示す電磁波シールド積層体100を以下のように作製した。まず、金属層として銅箔110、112(幅:60mm、奥行き:60mm、厚み:17μm)を2枚、絶縁層としてPETフィルム120、124(幅:50mm、奥行き:50mm、厚み:100μm)を2枚、PETフィルム122(幅:70mm、奥行き:70mm、厚み:25μm)を1枚それぞれ準備した。銅箔110の上にPETフィルム120、PETフィルム122、PETフィルム124、銅箔112の順に積層し、接着剤を介することなく中間積層体を得た。
[Electromagnetic wave shielding laminate]
Example 1
In Example 1, the electromagnetic shielding laminate 100 shown in Fig. 4 was produced as follows. First, two sheets of copper foil 110, 112 (width: 60 mm, depth: 60 mm, thickness: 17 µm) were prepared as metal layers, and two sheets of PET film 120, 124 (width: 50 mm, depth: 50 mm, thickness: 100 µm) and one sheet of PET film 122 (width: 70 mm, depth: 70 mm, thickness: 25 µm) were prepared as insulating layers. The PET film 120, the PET film 122, the PET film 124, and the copper foil 112 were laminated in this order on the copper foil 110 to obtain an intermediate laminate without using any adhesive.
中間積層体について、テーパ部と、該テーパ部以外である平坦部とを形成するため、PETフィルム120、124の端辺とPETフィルム122との間の段差では、該段差に沿って銅箔110、112を折り曲げた。次に各部材の位置を固定するため積層体の四辺をテープ止めし、図4に示す電磁波シールド積層体100を得た。なお、PETフィルム122の幅及び奥行きが銅箔110、112よりもいずれも長かったので、得られた電磁波シールド積層体100は、はみ出し部123を有していた。 In order to form a tapered portion and a flat portion other than the tapered portion of the intermediate laminate, the copper foils 110, 112 were folded along the step between the edge of the PET film 120, 124 and the PET film 122. Next, the four sides of the laminate were taped to fix the position of each component, and the electromagnetic shielding laminate 100 shown in Figure 4 was obtained. Note that the width and depth of the PET film 122 were both greater than the copper foils 110, 112, so the obtained electromagnetic shielding laminate 100 had a protruding portion 123.
(電磁波シールド特性評価)
電磁波シールド積層体100を構成する銅箔110、112とPETフィルム120、122、124とが測定中、位置ずれが起きないように、電磁波シールド積層体100の外周部をテープで固定することで、該電磁波シールド積層体100を磁界シールド特性評価装置(テクノサイエンスジャパン製 型式T SES-KEC)に設置して、室温(25℃)条件下で、KEC法により磁界シールド特性を評価した。そして、周波数を0.1MHzから10MHzまで変化させて、周波数の変化に対する磁界シールド特性の推移を調査した。なお、表2には、1MHzにおける磁界シールド特性を示す。
(Electromagnetic wave shielding characteristic evaluation)
In order to prevent the copper foils 110, 112 and the PET films 120, 122, 124 constituting the electromagnetic shielding laminate 100 from shifting during measurement, the outer periphery of the electromagnetic shielding laminate 100 was fixed with tape, and the electromagnetic shielding laminate 100 was placed in a magnetic field shielding property evaluation device (Model T SES-KEC, manufactured by Techno Science Japan) and the magnetic field shielding property was evaluated by the KEC method under room temperature (25°C) conditions. The frequency was then changed from 0.1 MHz to 10 MHz to investigate the transition of the magnetic field shielding property with respect to the change in frequency. Table 2 shows the magnetic field shielding property at 1 MHz.
(距離A、距離B、テーパ部長さ)
テーパ部115の先端におけるPETフィルム122を介して隣接し合う銅箔110、112の距離Aについては、ハイトゲージ(東洋精機製作所製)で測定したPETフィルム122の厚みがこれに相当し、これを表2に示す。また、平坦部116の中央部位におけるPETフィルム120、122、124を介して隣接し合う銅箔110、112の距離Bについては、ハイトゲージで測定したPETフィルム120、122、124の厚みの合計値がこれに相当し、これを表2に示す。
各テーパ部の水平長さL1は約5mm、銅箔110、112の先端eから重心cまでの水平長さL0に対するテーパ部の水平長さL1の割合L1/L0は各々20%以下、電磁波シールド積層体100の平坦部の中央部位の厚みTに対する各テーパ部の水平長さL1の割合L1/Tは各々2000%以下に確実に収まっている。
(Distance A, distance B, tapered section length)
The distance A between the adjacent copper foils 110, 112 at the tip of the tapered portion 115 with the PET film 122 interposed therebetween corresponds to the thickness of the PET film 122 measured with a height gauge (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho), which is shown in Table 2. The distance B between the adjacent copper foils 110, 112 at the center of the flat portion 116 with the PET films 120, 122, 124 interposed therebetween corresponds to the total value of the thicknesses of the PET films 120, 122, 124 measured with a height gauge, which is shown in Table 2.
The horizontal length L1 of each tapered portion is approximately 5 mm, the ratios L1/L0 of the horizontal length L1 of the tapered portion to the horizontal length L0 from the tip e of the copper foils 110, 112 to the center of gravity c are each 20% or less, and the ratios L1/T of the horizontal length L1 of each tapered portion to the thickness T of the central portion of the flat portion of the electromagnetic shielding laminate 100 are each reliably kept to 2000% or less.
<比較例1>
比較例1では、図5に示す電磁波シールド積層体200を以下のように作製した。まず、金属層として銅箔210、212(幅:60mm、奥行き:60mm、厚み:17μm)を2枚、絶縁層としてPETフィルム220、224(幅:50mm、奥行き:50mm、厚み:100μm)を2枚、PETフィルム222(幅:70mm、奥行き:70mm、厚み:25μm)を1枚それぞれ準備した。銅箔210の上にPETフィルム220、PETフィルム222、PETフィルム224、銅箔212の順に積層し、中間積層体を得た。金属層の各端部にテーパ加工をそれぞれ施さなかったこと以外、実施例1と同じように、電磁波シールド積層体200を作製した。PETフィルム220、222、224を介して隣接し合う銅箔210、212の距離Cについては、PETフィルム220、222、224の厚みの合計値を表3に示す。
なお、得られた電磁波シールド積層体200については、KEC法により磁界シールド特性を評価した。この結果を表3に示す。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, the electromagnetic shielding laminate 200 shown in Fig. 5 was produced as follows. First, two sheets of copper foil 210, 212 (width: 60 mm, depth: 60 mm, thickness: 17 μm) were prepared as metal layers, and two sheets of PET film 220, 224 (width: 50 mm, depth: 50 mm, thickness: 100 μm) and one sheet of PET film 222 (width: 70 mm, depth: 70 mm, thickness: 25 μm) were prepared as insulating layers. The PET film 220, the PET film 222, the PET film 224, and the copper foil 212 were laminated in this order on the copper foil 210 to obtain an intermediate laminate. The electromagnetic shielding laminate 200 was produced in the same manner as in Example 1, except that the ends of the metal layers were not tapered. As for the distance C between the adjacent copper foils 210, 212 with the PET films 220, 222, 224 interposed therebetween, the total value of the thicknesses of the PET films 220, 222, 224 is shown in Table 3.
The magnetic field shielding properties of the obtained electromagnetic wave shielding laminate 200 were evaluated by the KEC method. The results are shown in Table 3.
<比較例2>
比較例2では、図6に示す電磁波シールド積層体300を以下のように作製した。金属層として銅箔310、312(幅:60mm、奥行き:60mm、厚み:17μm)を2枚、絶縁層としてPETフィルム322(幅:60mm、奥行き:60mm、厚み:25μm)を1枚それぞれ準備した。銅箔310の上にPETフィルム322、銅箔312の順に積層し、中間積層体を得た。金属層の各端部にテーパ加工をそれぞれ施さなかったこと以外、実施例1と同じように、電磁波シールド積層体300を作製した。PETフィルム322を介して隣接し合う銅箔310、312の距離Dについては、PETフィルム322の厚みを表3に示す。
なお、得られた電磁波シールド積層体300については、KEC法により磁界シールド特性を評価した。この結果を表3に示す。
<Comparative Example 2>
In Comparative Example 2, the electromagnetic shielding laminate 300 shown in FIG. 6 was prepared as follows. Two sheets of copper foil 310, 312 (width: 60 mm, depth: 60 mm, thickness: 17 μm) were prepared as metal layers, and one sheet of PET film 322 (width: 60 mm, depth: 60 mm, thickness: 25 μm) was prepared as an insulating layer. The PET film 322 and the copper foil 312 were laminated in this order on the copper foil 310 to obtain an intermediate laminate. The electromagnetic shielding laminate 300 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the ends of the metal layers were not tapered. As for the distance D between the copper foils 310, 312 adjacent to each other via the PET film 322, the thickness of the PET film 322 is shown in Table 3.
The magnetic field shielding characteristics of the obtained electromagnetic wave shielding laminate 300 were evaluated by the KEC method. The results are shown in Table 3.
(考察2)
実施例1では、端部の厚みが変化するテーパ部を有し、厚み方向において各テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、金属層同士が、いずれも接触していなかったことで、シールド特性が良好な電磁波シールド積層体が得られた。
一方、比較例1~2では、テーパ加工されていないため、先端における絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離C、Dと、中央部位における絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離C、Dとが同等であったことで、実施例1よりもシールド特性が劣っていた。特に、比較例2では、実施例1と比べ、上記距離Dが、上記距離Aと同等であっても、上記距離Bより短かったことから、シールド特性が劣っていた。
なお、実施例1を考慮すれば、試験例1~2では、シールド特性が良好な電磁波シールド積層体が得られていたと推察される。
(Consideration 2)
In Example 1, there was a tapered portion with a varying thickness at the end, and the distance A between adjacent metal layers, interposing an insulating layer, at the tip of each tapered portion in the thickness direction was shorter than the distance B between adjacent metal layers, interposing an insulating layer, at the central portion of the flat portion other than the tapered portion, and none of the metal layers were in contact with each other, resulting in an electromagnetic wave shielding laminate with good shielding properties.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since no tapered processing was performed, the distances C and D between adjacent metal layers at the tip with an insulating layer interposed therebetween were equivalent to the distances C and D between adjacent metal layers at the center with an insulating layer interposed therebetween, and therefore the shielding characteristics were inferior to Example 1. In particular, in Comparative Example 2, the distance D was shorter than the distance B, even though it was equivalent to the distance A, compared to Example 1, and therefore the shielding characteristics were inferior.
In addition, taking Example 1 into consideration, it is presumed that in Test Examples 1 and 2, electromagnetic shielding laminates with good shielding properties were obtained.
100、200、300 電磁波シールド積層体
110、112、210、212、310、312 銅箔
115 テーパ部
120、122、124、220、222、224、320 PETフィルム
123 はみ出し部
A~D 距離
L0、L1 水平長さ
T 厚み
c 重心
e 先端
100, 200, 300 Electromagnetic wave shielding laminate 110, 112, 210, 212, 310, 312 Copper foil 115 Tapered portion 120, 122, 124, 220, 222, 224, 320 PET film 123 Protruding portions A to D Distance L0, L1 Horizontal length T Thickness c Center of gravity e Tip
Claims (9)
当該電磁波シールド積層体の端部の厚みが変化するテーパ部を有し、
厚み方向において各テーパ部の先端における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Aが、該テーパ部以外である平坦部の中央部位における、絶縁層を介して隣接し合う金属層間の距離Bよりも短く、
金属層同士が、いずれも接触していない、電磁波シールド積層体。 An electromagnetic wave shielding laminate comprising at least two metal layers and an insulating layer, the metal layers and the insulating layers being alternately laminated,
The electromagnetic wave shielding laminate has a tapered portion at an end thereof where the thickness changes,
a distance A between adjacent metal layers with an insulating layer interposed therebetween at the tip of each tapered portion in the thickness direction is shorter than a distance B between adjacent metal layers with an insulating layer interposed therebetween at a central portion of a flat portion other than the tapered portion;
An electromagnetic wave shielding laminate in which none of the metal layers are in contact with each other.
少なくとも2層の金属層と絶縁層とを用いて、該金属層と該絶縁層とを交互に積層された中間積層体の最外層側から凸部を有するノッチ加工パンチで該中間積層体にノッチを形成する工程と、
前記ノッチを形成後、前記ノッチの一部を切断するように厚み方向に前記中間積層体を打ち抜くことで電磁波シールド積層体を得る工程とを含む、電磁波シールド積層体の製造方法。 A method for producing the electromagnetic shielding laminate according to claim 1 or 2, comprising the steps of:
a step of forming a notch in an intermediate laminate, in which at least two metal layers and an insulating layer are alternately laminated, from the outermost layer side of the intermediate laminate by using a notch processing punch having a protruding portion;
and after forming the notch, punching out the intermediate laminate in a thickness direction so as to cut a portion of the notch to obtain an electromagnetic wave shielding laminate.
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