JP7694202B2 - Conductive composition for molded film, molded film and method for producing same, molded body and method for producing same - Google Patents
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Description
本発明は、成形フィルム用導電性組成物、成形フィルムおよびその製造方法、成形体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a conductive composition for molded films, a molded film and its manufacturing method, a molded body and its manufacturing method.
特許文献1には、樹脂成形体と、当該樹脂成形体の一面に対して面一になるように埋め込まれたベースフィルムと、前記樹脂成形体と前記ベースフィルムとの間に配置された導電回路とを有する特定の導電回路一体化成形品が開示されている。
特許文献1には、当該導電回路一体化成形品の製造方法として、特定の導電回路が形成されたベースフィルムを射出成形用金型のキャビティ面に配置した後、溶融樹脂を射出して、樹脂成形体を射出成形することが記載されている。
特許文献1において、導電回路は、特定の透明金属薄膜をエッチングすることにより形成されている。
Patent Document 1 discloses a specific conductive circuit integrated molded product having a resin molded body, a base film embedded flush with one surface of the resin molded body, and a conductive circuit disposed between the resin molded body and the base film.
Patent Document 1 describes a method for manufacturing the conductive circuit integrated molded product, in which a base film on which a specific conductive circuit is formed is placed on the cavity surface of an injection molding die, and then molten resin is injected to injection mold a resin molded body.
In Patent Document 1, the conductive circuit is formed by etching a specific transparent metal thin film.
エッチング法に代わる導電回路の形成方法として、導電性インキを用いた印刷方法が検討されている。導電性インキを印刷する手法によれば、エッチング法と比較して、煩雑な工程がなく、容易に導電回路を形成することができ、生産性が向上し、低コスト化を図ることができる。
例えば特許文献2には、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能な低温処理型の導電性インキとして、特定の導電性微粒子と、特定のエポキシ樹脂とを含有する特定の導電性インキが開示されている。スクリーン印刷によれば導電パターンの厚膜化が可能であり、導電パターン低抵抗化が実現できるとされている。
A printing method using conductive ink has been considered as a method for forming a conductive circuit to replace the etching method. The method of printing conductive ink does not require any complicated steps compared to the etching method, and can easily form a conductive circuit, improving productivity and reducing costs.
For example, Patent Document 2 discloses a specific conductive ink containing specific conductive fine particles and a specific epoxy resin as a low-temperature processing type conductive ink capable of forming a high-definition conductive pattern by screen printing. It is said that the screen printing makes it possible to form a thick conductive pattern and to realize a low resistance conductive pattern.
また、特許文献3には、3次元的な立体感を表現することが可能な加飾シートの製造方法として、透明樹脂層上にパターン状に印刷された印刷層を有する積層体と、ベースフィルム上に装飾層を有する積層シートとを熱圧着させることにより、前記装飾層を前記印刷層のパターンに沿った凹凸形状とする方法が開示されている。 Patent Document 3 also discloses a method for manufacturing a decorative sheet capable of expressing a three-dimensional effect, in which a laminate having a printed layer printed in a pattern on a transparent resin layer and a laminate sheet having a decorative layer on a base film are thermocompression-bonded to each other, thereby giving the decorative layer an uneven shape that follows the pattern of the printed layer.
特許文献1の手法によれば、成形体の表面に、容易に導電体を設けることができる。一方、凹凸面や曲面を有する基材など、様々な形状の基材表面に導電回路を形成したいという要望が高まっている。このような基材表面に導電層を有するフィルムを張り合わせて導電回路を形成する場合、当該フィルムは基材の表面形状に合わせて変形する必要がある。当該フィルムの変形時に、導電層には部分的に大きな引張力が生じることがある。当該引張力により導電層の破断などが生じ、導電性の低下が問題となった。さらにそのような凹凸面や曲面を有する基材上に導電回路を形成する際、前記の導電層を有するフィルムを変形させたのち、または変形させるのと同時にフィルムと前記基材とを一体化することが必要となるが、この一体化工程において高温下でプラスチック基材と摩擦されることによる応力ストレスが導電回路に加わる。当該高温下応力ストレスによっても導電層の破断などが生じ、導電性の低下が問題となった。 According to the method of Patent Document 1, a conductor can be easily provided on the surface of a molded body. On the other hand, there is an increasing demand for forming a conductive circuit on the surface of a substrate of various shapes, such as a substrate having an uneven surface or a curved surface. When a conductive circuit is formed by laminating a film having a conductive layer on the surface of such a substrate, the film needs to be deformed to match the surface shape of the substrate. When the film is deformed, a large tensile force may be generated in parts of the conductive layer. This tensile force causes breakage of the conductive layer, resulting in a problem of reduced conductivity. Furthermore, when forming a conductive circuit on such a substrate having an uneven surface or a curved surface, it is necessary to integrate the film and the substrate after or at the same time as deforming the film having the conductive layer, but during this integration process, stress is applied to the conductive circuit due to friction with the plastic substrate at high temperatures. This stress at high temperatures also causes breakage of the conductive layer, resulting in a problem of reduced conductivity.
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、引張力および高温下応力ストレスによる導電性の低下が抑制された成形フィルムを製造可能な成形フィルム用導電性組成物、引張力および高温下応力ストレスによる導電性の低下が抑制された成形フィルム、及び、導電性に優れた成形体及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a conductive composition for molded films capable of producing molded films in which the decrease in conductivity due to tensile force and high-temperature stress is suppressed, a molded film in which the decrease in conductivity due to tensile force and high-temperature stress is suppressed, and a molded body with excellent conductivity and a method for producing the same.
本実施に係る成形フィルム用導電性組成物は、
凹凸面や三次元曲面を有する基材表面に導電層を形成するための成形フィルムの製造用の導電性組成物であって、
樹脂(A)と、導電性微粒子(B)と、溶剤(C)と、を含有し、
前記溶剤(C)が、下記式(1)~(3)で示される溶剤(C1)を含む。
The conductive composition for molded films according to the present embodiment is
A conductive composition for producing a molded film for forming a conductive layer on a substrate surface having an uneven surface or a three-dimensional curved surface, comprising:
Contains a resin (A), conductive fine particles (B), and a solvent (C),
The solvent (C) includes a solvent (C1) represented by the following formulas (1) to (3).
式中、R1は炭素数2~5の2価のアルキレン基を示し、
R2~R6はそれぞれ水素原子またはメチル基を示す。
またR7~R11はそれぞれ水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基を示し、R7~R11のうち、少なくとも1つは、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基である。
In the formula, R 1 represents a divalent alkylene group having 2 to 5 carbon atoms,
R 2 to R 6 each represent a hydrogen atom or a methyl group.
Furthermore, R 7 to R 11 each represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group, and at least one of R 7 to R 11 is a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group.
本実施の成形フィルム用導電性組成物の一実施形態は、前記導電性微粒子(B)が、銀粉、銅粉、銀コート粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、およびカーボン微粒子より選択される1種以上の導電性微粒子を含む。 In one embodiment of the conductive composition for molded films, the conductive fine particles (B) include one or more types of conductive fine particles selected from silver powder, copper powder, silver-coated powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, and carbon fine particles.
本実施の成形フィルム用導電性組成物の一実施形態は、前記樹脂(A)が、主鎖中に環状構造を有する。 In one embodiment of the conductive composition for molded films, the resin (A) has a cyclic structure in the main chain.
本実施の成形フィルム用導電性組成物の一実施形態は、前記樹脂(A)が、主鎖中に芳香環構造およびエステル結合を有する。 In one embodiment of the conductive composition for molded films, the resin (A) has an aromatic ring structure and an ester bond in the main chain.
本実施の成形フィルム用導電性組成物の一実施形態は、前記溶剤(C1)の含有量が、前記溶剤(C)100質量部中に合計40質量部以上である。 In one embodiment of the conductive composition for molded films, the content of the solvent (C1) is 40 parts by mass or more in total per 100 parts by mass of the solvent (C).
本実施の成形フィルム用導電性組成物の一実施形態は、前記溶剤(C1)が前記式(1)で示される溶剤であり、かつ式中のR1が1,1-エチレン基、1,2-エチレン基、1,1-プロピレン基、1,2-プロピレン基、2,2-プロピレン基、または1,3-プロピレン基からなる群より選ばれる1種であるか、
または前記式(3)で示される溶剤であり、かつ式中のR7~R11のうち、1つまたは2つが、メチル基、エチル基またはメトキシ基である。
In one embodiment of the conductive composition for molded films, the solvent (C1) is a solvent represented by the formula (1), and R 1 in the formula is one selected from the group consisting of 1,1-ethylene group, 1,2-ethylene group, 1,1-propylene group, 1,2-propylene group, 2,2-propylene group, and 1,3-propylene group,
Alternatively, it is a solvent represented by the formula (3) in which one or two of R 7 to R 11 are a methyl group, an ethyl group or a methoxy group.
本実施に係る成形フィルムは、ベースフィルム上に導電層を備えた成形フィルムであって、
前記導電層が、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物の硬化物である。
The molded film according to the present embodiment is a molded film having a conductive layer on a base film,
The conductive layer is a cured product of the conductive composition for molded films of the present embodiment.
本実施の成形フィルムの一実施形態は、ベースフィルム上に、加飾層と、導電層とを有する成形フィルムであって、
前記導電層が、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物の硬化物である。
One embodiment of the molded film of the present invention is a molded film having a decorative layer and a conductive layer on a base film,
The conductive layer is a cured product of the conductive composition for molded films of the present embodiment.
本実施の成形フィルムの一実施形態は、前記ベースフィルムが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン及び、ポリエチレンテレフタレートより選択されるフィルム、又はこれらの積層フィルムである。 In one embodiment of the molded film of this embodiment, the base film is a film selected from polycarbonate, polymethyl methacrylate, polypropylene, and polyethylene terephthalate, or a laminate film of these.
本実施に係る成形体は、基材上に、導電層が積層した成形体であって、
前記導電層が、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物の硬化物である。
The molded article according to the present embodiment is a molded article in which a conductive layer is laminated on a substrate,
The conductive layer is a cured product of the conductive composition for molded films of the present embodiment.
本実施に係る成形体の第1の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物をベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
基材上に前記成形フィルムを配置する工程と、
オーバーレイ成形法により、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む。
The first method for producing a molded body according to the present embodiment includes the steps of: printing the conductive composition for a molded film according to the present embodiment on a base film and drying the composition to produce a molded film;
placing the formed film on a substrate;
and b) integrating the molded film and the substrate by an overlay molding process.
本実施に係る成形体の第2の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物をベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
前記成形フィルムを所定の形状に成形する工程と、
成形後の前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む。
The second method for producing a molded body according to the present embodiment includes the steps of: printing the conductive composition for a molded film according to the present embodiment on a base film and drying the composition to produce a molded film;
forming the formed film into a predetermined shape;
placing the formed film in an injection mold;
and forming a substrate by injection molding and integrating the formed film with the substrate.
本実施に係る成形体の第3の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物をベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルム中の導電層を基材側に転写する工程と、を含む。
A third method for producing a molded body according to the present embodiment includes the steps of: printing the conductive composition for a molded film according to the present embodiment on a base film and drying the composition to produce a molded film;
placing the formed film in an injection mold;
The method includes a step of molding a substrate by injection molding and transferring the conductive layer in the molded film to the substrate side.
本発明によれば、引張力および高温下応力ストレスによる導電性の低下が抑制された成形フィルムを製造可能な成形フィルム用導電性組成物、引張力および高温下応力ストレスによる導電性の低下が抑制された成形フィルム、及び、導電性に優れた成形体及びその製造方法を提供することができる。 The present invention provides a conductive composition for molded films capable of producing molded films in which the decrease in conductivity due to tensile force and high-temperature stress is suppressed, a molded film in which the decrease in conductivity due to tensile force and high-temperature stress is suppressed, and a molded body with excellent conductivity and a method for producing the same.
以下、本実施に係る成形フィルム用導電性組成物、成形フィルム、成形体及びその製造方法について順に詳細に説明する。
なお本実施において、硬化物とは、化学反応により硬化したもののみならず、例えば溶剤が揮発することにより硬くなったものなど、化学反応によらずに硬化したものを包含する。
The conductive composition for a molded film, the molded film, the molded article, and the method for producing the same according to the present embodiment will be described in detail below.
In the present embodiment, the term "cured product" refers not only to products that have been cured by chemical reaction, but also to products that have been cured without chemical reaction, such as products that have been hardened by evaporation of a solvent.
[成形フィルム用導電性組成物]
樹脂(A)と、導電性微粒子(B)と、溶剤(C)と、を含有し、
前記溶剤(C)が、下記式(1)~(3)で示される溶剤(C1)を含む。
[Conductive composition for molded films]
Contains a resin (A), conductive fine particles (B), and a solvent (C),
The solvent (C) includes a solvent (C1) represented by the following formulas (1) to (3).
式中、R1は炭素数2~5の2価のアルキレン基を示し、
R2~R6はそれぞれ水素原子またはメチル基を示す。
またR7~R11はそれぞれ水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基を示し、R7~R11のうち、少なくとも1つは、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基である。
In the formula, R 1 represents a divalent alkylene group having 2 to 5 carbon atoms,
R 2 to R 6 each represent a hydrogen atom or a methyl group.
Furthermore, R 7 to R 11 each represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group, and at least one of R 7 to R 11 is a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group.
本発明者らは、平坦でない基材表面に適用可能であり、かつプラスチック基材との一体化工程へのプロセス適性を有する成形フィルムを製造するために、スクリーン印刷可能な導電性組成物の検討を行った。成形フィルムの製造に適用するために、樹脂構造と導電性微粒子と溶剤とを各種調整し検討したところ、導電性組成物に含まれる溶剤の種類、とりわけ特定の芳香族アルコール構造を有する溶剤の使用によって、得られた成形フィルムを成形可能な高温下で引張変形させたときに生じるヒビの発生頻度異なり、更には上記混合溶剤と組み合わせる樹脂のガラス転移点や主鎖構造により、高速で印刷した際の欠けや掠れなどの印刷欠陥の発生頻度や、上記高温下での特に変形度が大きい場合の引張変形時の抵抗値変化の大きさが異なるという知見を得た。本発明者らはこのような知見に基づいて検討を行った結果、樹脂フィルム上に特定の芳香族アルコール構造を有する溶剤を全く含まない導電性組成物を印刷および加熱乾燥した場合、成形フィルムをその軟化点に当たる高温での引っ張りにより変形させた際に導電層パターンの著しい導電性劣化や導電層の亀裂発生が生じること、さらに上記導電性組成物を印刷する際の印刷速度を上げた際に欠けや掠れなどの印刷欠陥の発生頻度が大きく増大ことが明らかとなった。また、加飾層上に導電層を設ける場合も同様であった。 The present inventors have investigated screen-printable conductive compositions in order to produce molded films that can be applied to uneven substrate surfaces and have process suitability for integration with plastic substrates. In order to apply the compositions to the production of molded films, various adjustments were made to the resin structure, conductive fine particles, and solvent. As a result, it was discovered that the frequency of cracks occurring when the obtained molded film is tensile-deformed at a high temperature at which it can be molded varies depending on the type of solvent contained in the conductive composition, particularly the use of a solvent having a specific aromatic alcohol structure, and that the frequency of printing defects such as chipping and peeling when printed at high speed and the magnitude of change in resistance value during tensile deformation at the high temperature, especially when the degree of deformation is large, vary depending on the glass transition point and main chain structure of the resin combined with the mixed solvent. Based on this knowledge, the inventors conducted an investigation and found that when a conductive composition that does not contain any solvent having a specific aromatic alcohol structure is printed on a resin film and then dried by heating, significant deterioration in the conductivity of the conductive layer pattern and cracks in the conductive layer occur when the molded film is deformed by pulling at a high temperature that corresponds to its softening point, and further, when the printing speed is increased when printing the conductive composition, the frequency of occurrence of printing defects such as chipping and scratching increases significantly. The same was true when a conductive layer was provided on a decorative layer.
このような高温での引っ張りにより変形させた際に導電層の亀裂発生や大きな抵抗値変化が生じるような導電層を有する成形フィルムであっても、それ単体を平坦なフィルム回路基板などとして使用する場合、また二次元曲面上に曲げた状態で使用する場合には問題とならなった。しかしながら平坦でない基材表面の形状、例えば凹凸形状や三次元曲面形状に追従させ一体化させる成形フィルムとして使用する場合には、成形フィルムは変形を伴うことになる。そのため、樹脂フィルムの変形に対し導電層が追随できずベースフィルムからの剥離乃至断線が起こることにより、導電層の導電性が低下しているものと予測される。
なお、本発明における凹凸面や三次元曲面とは、なだらかな曲線断面を有する面のみでなく、鋭角状の角や矩形形状を有する立体面全般を示す。すなわち、平面を伸縮することなく変形させることのみでは、成立させることのできない立体形状を指し、例えば半球状、円錐状、円柱状、四角柱状等の立体形状を指すものである。なお、ある立体形状が、連続した立体面内に先述の平面または二次元曲面と、三次元曲面の両方の要素を有する場合、例えば平面形状に1か所以上の部分的な半球状形状が組み合わされた立体形状に関しては、全体として平面を伸縮することなく変形させることによって成立させることのできない立体形状であることから、これも三次元曲面であるものとする。即ち本発明における凹凸面や三次元曲面は、フレキシブル基板等を折り曲げることでは実現できないものであり、たとえば、成形性フィルムの加熱下での立体成形による賦形などによって実現可能となる形状である。
Even if the molded film has a conductive layer that cracks or a large change in resistance value occurs when deformed by pulling at such high temperatures, there is no problem when it is used alone as a flat film circuit board or when it is used in a bent state on a two-dimensional curved surface. However, when it is used as a molded film that is integrated with the shape of a non-flat substrate surface, such as an uneven shape or a three-dimensional curved shape, the molded film will be deformed. Therefore, it is predicted that the conductive layer cannot follow the deformation of the resin film and peels off or breaks from the base film, resulting in a decrease in the conductivity of the conductive layer.
In addition, the uneven surface and three-dimensional curved surface in the present invention refer not only to a surface having a gently curved cross section, but also to a three-dimensional surface having an acute angle or a rectangular shape in general. In other words, it refers to a three-dimensional shape that cannot be established only by deforming a plane without expanding or contracting, such as a hemispherical, conical, cylindrical, or rectangular prism. In addition, when a certain three-dimensional shape has elements of both the above-mentioned plane or two-dimensional curved surface and a three-dimensional curved surface in a continuous three-dimensional surface, for example, a three-dimensional shape in which one or more partial hemispherical shapes are combined with a plane shape, it is a three-dimensional shape that cannot be established by deforming a plane without expanding or contracting as a whole, so it is also considered to be a three-dimensional curved surface. In other words, the uneven surface and three-dimensional curved surface in the present invention cannot be realized by bending a flexible substrate or the like, and are shapes that can be realized, for example, by shaping a moldable film by three-dimensional molding under heating.
本発明者らはこれらの知見に基づいて鋭意検討を行った結果、特定の芳香族アルコール構造を有する溶剤を含有する際に成形フィルムを特に大きな変形度を伴って引っ張った際に生じる抵抗値の変化が小さくなり、また上記導電性組成物を印刷する際の印刷速度を上げ、生産性を上げた状態での印刷を行った際に欠けや掠れなどの印刷欠陥の発生が高度に抑制されることを見出して、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明の成形フィルム用導電性組成物は、樹脂と導電性微粒子と、特定の芳香族アルコール構造を有する溶剤とを併用することにより、スクリーン印刷等で、導電性に優れた厚膜の導電層を有する成形フィルムを容易に製造することができる。また、当該成形フィルム用導電性組成物を用いて製造された成形フィルムは、平坦でない基材表面に用いた場合であっても導電性の低下が抑制される。更に、当該成形フィルムを用いることで、実用的な強度をもつ立体形状プラスチックからなる基材上の凹凸面や曲面などの任意の面に導電回路が形成された成形体を得ることができる。
Based on these findings, the inventors conducted extensive research and discovered that when a solvent having a specific aromatic alcohol structure is contained, the change in resistance value that occurs when the molded film is pulled with a particularly large degree of deformation is small, and that when the printing speed is increased when printing the above-mentioned conductive composition and printing is performed in a state of increased productivity, the occurrence of printing defects such as chipping and scratching is highly suppressed, which led to the completion of the present invention.
That is, the conductive composition for molded films of the present invention can easily produce a molded film having a thick conductive layer with excellent conductivity by screen printing or the like by using a resin, conductive fine particles, and a solvent having a specific aromatic alcohol structure in combination. In addition, a molded film produced using the conductive composition for molded films can suppress a decrease in conductivity even when used on a non-flat substrate surface. Furthermore, by using the molded film, a molded product can be obtained in which a conductive circuit is formed on any surface, such as an uneven surface or a curved surface, on a substrate made of a three-dimensional plastic having practical strength.
本実施の成形フィルム用導電性組成物は、少なくとも、樹脂(A)と、導電性微粒子(B)と、溶剤(C)と、を含有するものであり、必要に応じて更に他の成分を含有してもよいものである。以下このような成形フィルム用導電性組成物の各成分について説明する。 The conductive composition for molded films in this embodiment contains at least a resin (A), conductive fine particles (B), and a solvent (C), and may further contain other components as necessary. Each component of such a conductive composition for molded films will be described below.
<樹脂(A)>
本実施の導電性組成物は、成膜性や、ベースフィルム乃至加飾層への密着性を付与するために、バインダー性の樹脂(A)を含有する。また、本実施においては、樹脂(A)を含有することにより、導電層に柔軟性を付与することができる。そのため、樹脂(A)を含有することにより延伸に対する導電層の断線が抑制される。
<Resin (A)>
The conductive composition of this embodiment contains a binder resin (A) to provide film-forming properties and adhesion to the base film or decorative layer. In addition, in this embodiment, the resin (A) is contained, so that the conductive layer can be given flexibility. Therefore, the conductive layer is prevented from breaking due to stretching by containing the resin (A).
前記樹脂(A)は、導電性組成物用途に用いられる樹脂の中から適宜選択して用いることができる。
樹脂(A)としては、例えば、アクリル系樹脂、ビニルエーテル樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレン系ブロック共重合樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂などが挙げられ、1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
The resin (A) can be appropriately selected from resins used in conductive compositions.
Examples of the resin (A) include acrylic resins, vinyl ether resins, polyether resins, polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenoxy resins, polycarbonate resins, polyvinyl chloride resins, polyolefin resins, styrene block copolymer resins, polyamide resins, and polyimide resins. These may be used alone or in combination of two or more.
樹脂(A)の主鎖構造としては、後述する溶剤(C)、特に(C1)との親和性の高さにより、導電性組成物中での樹脂(A)のより大きな分子鎖の広がりと絡み合いにより、成形引張時の導電性維持や印刷時の欠陥抑制性能が高まる点において、主鎖構造が環状構造を含むことが好ましく、主鎖構造が芳香環構造とエステル結合をともに有することが特に好ましい。
なお本発明における環状構造とは、一つの環が4員環~14員環の脂環式構造、芳香環構造またはヘテロ環構造を指す。
上記脂環式構造としては、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロデカン環、シクロテトラデカン環等の単環式構造や、ボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環、デカリン環、ステロイド骨格などの縮環構造などが挙げられる。
また上記芳香環構造としては、ベンゼン環、フラン環、1,4-ジオキシン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、チオフェン環、トリアゾール環、テトラゾール環等の単環式構造や、などのナフタレン環、テトラリン環、アズレン環、アントラセン環、ペリレン環、インダン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環などの縮環構造などが挙げられる。なお上記例のように、本発明においては芳香環構造が脂環式構造と縮環乃至直接結合している構造や、芳香族性を示すヘテロ環構造は、いずれも芳香環構造とする。
上記ヘテロ環構造としては、本発明においては上記芳香環構造以外の含ヘテロ原子(非炭素原子)環構造を示し、例えばテトラヒドロフラン環、ピラン環、テトラヒドロピラン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イソシアヌレート環などが挙げられる。
上記樹脂(A)の主鎖構造中における上記環状構造の連結部位としては特に制限されず、環状構造を構成する任意の1原子乃至2原子から計2つ以上の共有結合を介して主鎖中に連結されていればよい。
The main chain structure of the resin (A) preferably contains a cyclic structure, and it is particularly preferable that the main chain structure has both an aromatic ring structure and an ester bond, because the high affinity with the solvent (C), particularly (C1), described below leads to the spreading and entanglement of larger molecular chains of the resin (A) in the conductive composition, thereby improving the maintenance of conductivity during molding and tensioning and the defect suppression performance during printing.
In the present invention, the cyclic structure refers to an alicyclic structure, an aromatic ring structure, or a heterocyclic structure in which one ring is a 4- to 14-membered ring.
Examples of the alicyclic structure include monocyclic structures such as a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cyclohexene ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a cyclodecane ring, and a cyclotetradecane ring, and condensed ring structures such as a bornane ring, an isobornane ring, an adamantane ring, a decalin ring, and a steroid skeleton.
Examples of the aromatic ring structure include monocyclic structures such as a benzene ring, a furan ring, a 1,4-dioxine ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a thiophene ring, a triazole ring, and a tetrazole ring, and condensed ring structures such as a naphthalene ring, a tetralin ring, an azulene ring, an anthracene ring, a perylene ring, an indane ring, an indole ring, a benzofuran ring, a benzimidazole ring, and a benzoxazole ring. As in the above examples, in the present invention, a structure in which an aromatic ring structure is condensed or directly bonded to an alicyclic structure, and a heterocyclic structure exhibiting aromaticity are all considered to be aromatic ring structures.
In the present invention, the heterocyclic structure refers to a heteroatom-containing (non-carbon atom) ring structure other than the above-mentioned aromatic ring structures, and examples thereof include a tetrahydrofuran ring, a pyran ring, a tetrahydropyran ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, and an isocyanurate ring.
The linking site of the cyclic structure in the main chain structure of the resin (A) is not particularly limited, and it is sufficient that the cyclic structure is linked to the main chain via a total of two or more covalent bonds from any one or two atoms constituting the cyclic structure.
本実施において樹脂(A)は、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、酸無水物基より選択される置換基を1分子中に2つ以上有することも好ましい。この場合、後述する架橋剤(D)と組み合わせることにより樹脂(A)を3次元架橋することができ、導電層に硬度が求められる用途において好適に用いることができる。 In this embodiment, it is also preferable that the resin (A) has two or more substituents selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride group in one molecule. In this case, the resin (A) can be three-dimensionally crosslinked by combining it with a crosslinking agent (D) described later, and can be suitably used in applications where hardness is required for the conductive layer.
樹脂(A)が、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、及び酸無水物基より選択される官能基を有する場合、その官能基価は、1mgKOH/g以上400mgKOH/g以下であることが好ましく、2mgKOH/g以上350mgKOH/g以下であることが好ましい。なお、官能基価の算出方法の詳細は、後述する実施例で説明する。
なお樹脂(A)が複数種類の官能基を有する場合、官能基価はその合計とする。例えば、樹脂(A)がヒドロキシ基と、カルボキシル基とを有する場合には、官能基価は、樹脂(A)の水酸基価と、酸価との合計を表す。
When the resin (A) has a functional group selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride group, the functional group value is preferably 1 mgKOH/g or more and 400 mgKOH/g or less, and more preferably 2 mgKOH/g or more and 350 mgKOH/g or less. The details of the calculation method of the functional group value will be described in the examples described later.
When the resin (A) has multiple types of functional groups, the functional value is the sum of the functional groups. For example, when the resin (A) has a hydroxyl group and a carboxyl group, the functional value represents the sum of the hydroxyl value and the acid value of the resin (A).
樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)は、成形引張時の導電性維持とプラスチック基材との一体化工程における高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレス耐性の両立の観点から、樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)が0℃以上130℃以下であることが好ましく、5℃以上120℃以下であることがより好ましい。また同様の観点から、樹脂(A)が複数のガラス転移点を有する場合には、いずれのガラス転移点も0℃未満でないことが好ましい。 From the viewpoint of maintaining electrical conductivity during stretching during molding and resistance to frictional stress with the base plastic at high temperatures during the integration process with the plastic base material, the glass transition temperature (Tg) of resin (A) is preferably 0°C or higher and 130°C or lower, and more preferably 5°C or higher and 120°C or lower. From the same viewpoint, when resin (A) has multiple glass transition points, it is preferable that none of the glass transition points is below 0°C.
本実施において樹脂(A)は、後述の実施例、その他公知の方法により合成して用いてもよく、また、所望の物性を有する市販品を用いてもよい。本実施において樹脂(A)は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 In this embodiment, the resin (A) may be synthesized by the methods described in the Examples below or other known methods, or a commercially available product having the desired physical properties may be used. In this embodiment, the resin (A) may be used alone or in combination of two or more types.
本実施の導電性組成物中の樹脂(A)の含有割合は、用途等に応じて適宜調整すればよく特に限定されないが、導電性組成物に含まれる固形分全量に対し、5質量%以上50質量%以下であることが好ましく、8質量%以上40質量%以下であることがより好ましい。樹脂(A)の含有割合が上記下限値以上であれば、成膜性や、ベースフィルム等への密着性向上し、また、導電層に柔軟性を付与することができる。また、樹脂(A)の含有割合が上記上限値以下であれば、相対的に導電性微粒子(B)の含有割合を高めることができ、導電性に優れた導電層を形成することができる。 The content of resin (A) in the conductive composition of this embodiment may be adjusted appropriately according to the application, etc., and is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 8% by mass or more and 40% by mass or less, based on the total amount of solids contained in the conductive composition. If the content of resin (A) is equal to or more than the above lower limit, the film-forming property and adhesion to the base film, etc. are improved, and flexibility can be imparted to the conductive layer. If the content of resin (A) is equal to or less than the above upper limit, the content of conductive fine particles (B) can be relatively increased, and a conductive layer with excellent conductivity can be formed.
<導電性微粒子(B)>
導電性微粒子(B)は、導電層内で複数の導電性微粒子が接触して導電性を発現するものであり、本実施においては、高温で加熱することなく導電性が得られるものの中から適宜選択して用いられる。
本実施に用いられる導電性微粒子としては、金属微粒子、カーボン微粒子、導電性酸化物微粒子などが挙げられる。
金属微粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属単体粉のほか、銅-ニッケル合金、銀-パラジウム合金、銅-スズ合金、銀-銅合金、銅-マンガン合金などの合金粉、前記金属単体粉または合金粉の表面を、銀などで被覆した金属コート粉などが挙げられる。また、カーボン微粒子としては、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブなどが挙げられる。また、導電性酸化物微粒子としては、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウムなどが挙げられる。
<Conductive fine particles (B)>
The conductive fine particles (B) exhibit conductivity when multiple conductive fine particles come into contact with each other within the conductive layer, and in this embodiment, an appropriate selection is made from those that can obtain conductivity without being heated at high temperatures.
The conductive fine particles used in this embodiment include metal fine particles, carbon fine particles, conductive oxide fine particles, and the like.
Examples of metal fine particles include powders of simple metals such as gold, silver, copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, indium, aluminum, tungsten, malbutene, and platinum, as well as alloy powders such as copper-nickel alloys, silver-palladium alloys, copper-tin alloys, silver-copper alloys, and copper-manganese alloys, and metal-coated powders in which the surfaces of the simple metal powders or alloy powders are coated with silver or the like. Examples of carbon fine particles include carbon black, graphite, and carbon nanotubes. Examples of conductive oxide fine particles include silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, and ruthenium oxide.
本実施においては、中でも、銀粉、銅粉、銀コート粉、銅合金粉、導電性酸化物粉、およびカーボン微粒子より選択される1種以上の導電性微粒子を含むことが好ましい。これらの導電性微粒子(B)を用いることにより、焼結することなく、導電性に優れた導電層を形成することができ、さらに後述する成形フィルムとして立体形状に成形した際の延伸性や導電性の保持性能に優れた導電層を形成することができる。 In this embodiment, it is preferable to include one or more conductive fine particles selected from silver powder, copper powder, silver-coated powder, copper alloy powder, conductive oxide powder, and carbon fine particles. By using these conductive fine particles (B), a conductive layer with excellent conductivity can be formed without sintering, and a conductive layer with excellent extensibility and conductivity retention performance when molded into a three-dimensional shape as a molded film described later can be formed.
導電性微粒子(B)の形状は特に限定されず、球状、フレーク状、連鎖凝集状などのものを適宜使用することができるが、印刷性の保持と成形引張時の導電性維持の観点から特にフレーク状または連鎖凝集状のものが好ましい。
なお本発明における「球状」とは真球上、卵型、潰れた球状、礫状、多面体状のアスペクト比の低い、具体的にはアスペクト比1以上2以下程度の粒子全般を指す。また本発明における「フレーク状」とは、鱗片状、鱗状、板状、扁平状、シート状等と呼称される2次元平面状の扁平形状全般を指し、その中でもアスペクト比が3以上500以下のものが特に好ましい。さらに本発明における「連鎖凝集状」とは上記球状の導電性微粒子が複数個直接融合・結合した、不定形形状全般を指す。
The shape of the conductive fine particles (B) is not particularly limited, and spherical, flake-like, chain-aggregated, and other shapes can be used as appropriate. From the viewpoints of maintaining printability and maintaining conductivity during molding and stretching, flake-like or chain-aggregated shapes are particularly preferred.
In the present invention, "spherical" refers to particles in general that are spherical, egg-shaped, crushed spherical, pebble-shaped, or polyhedral and have a low aspect ratio, specifically, particles with an aspect ratio of about 1 or more and 2 or less. In addition, in the present invention, "flake-like" refers to two-dimensional flat shapes generally called scale-like, scale-like, plate-like, flat, sheet-like, etc., and among these, those with an aspect ratio of 3 or more and 500 or less are particularly preferred. Furthermore, in the present invention, "chain-aggregated" refers to amorphous shapes generally in which a plurality of the above-mentioned spherical conductive fine particles are directly fused and bonded together.
導電性微粒子(B)のD50粒子径は特に限定されないが、導電性組成物中での分散性や印刷性の保持、成形時の導電性維持および、溶融樹脂による射出成型プロセス耐性または成形済樹脂へ高温下摩擦耐性の観点から、0.2μm以上30μm未満が好ましく0.7μm以上15μm未満が特に好ましい。なお本実施において導電性微粒子(B)の平均粒子径は以下のように算出する。JISM8511(2014)記載のレーザ回折・散乱法に準拠し、レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置(日機装株式会社製:マイクロトラック9220FRA)を用い、分散剤として市販の界面活性剤ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(ロシュ・ダイアグノスティックス株式会社製:トリトンX-100)を0.5体積%含有する水溶液に導電性微粒子(B)を適量投入し、撹拌しながら40Wの超音波を180秒照射した後、測定を行った。求められたメディアン径(D50)の値を導電性微粒子(B)の平均粒径とした。 The D50 particle size of the conductive fine particles (B) is not particularly limited, but from the viewpoints of maintaining dispersibility and printability in the conductive composition, maintaining conductivity during molding, and resistance to injection molding processes using molten resin or high-temperature friction resistance of molded resin, it is preferably 0.2 μm or more and less than 30 μm, and particularly preferably 0.7 μm or more and less than 15 μm. In this embodiment, the average particle size of the conductive fine particles (B) is calculated as follows. In accordance with the laser diffraction/scattering method described in JIS M8511 (2014), a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device (Microtrack 9220FRA manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) was used to add an appropriate amount of conductive fine particles (B) to an aqueous solution containing 0.5 volume% of the commercially available surfactant polyoxyethylene octylphenyl ether (Triton X-100 manufactured by Roche Diagnostics Co., Ltd.) as a dispersant, and the solution was irradiated with 40 W ultrasonic waves for 180 seconds while stirring, and then measured. The determined median diameter (D50) was used as the average particle size of the conductive fine particles (B).
本実施において導電性微粒子(B)は、1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施の導電性組成物中の導電性微粒子(B)の含有割合は、用途等に応じて適宜調整すればよく特に限定されないが、導電性組成物に含まれる固形分全量に対し、50質量%以上90質量%以下であることが好ましく、55質量%以上85質量%以下であることが好ましい。導電性微粒子(B)の含有割合が上記下限値以上であれば、導電性に優れた導電層を形成することができる。また、導電性微粒子(B)の含有割合が上記上限値以下であれば、樹脂(A)の含有割合を高めることができ、成膜性や、ベースフィルム等への密着性が向上し、また、導電層に柔軟性を付与することができる。
In the present embodiment, the conductive fine particles (B) may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content ratio of the conductive fine particles (B) in the conductive composition of this embodiment is not particularly limited and may be appropriately adjusted according to the application, etc., but is preferably 50% by mass or more and 90% by mass or less, and preferably 55% by mass or more and 85% by mass or less, based on the total amount of solids contained in the conductive composition. If the content ratio of the conductive fine particles (B) is equal to or more than the above lower limit, a conductive layer with excellent conductivity can be formed. In addition, if the content ratio of the conductive fine particles (B) is equal to or less than the above upper limit, the content ratio of the resin (A) can be increased, improving film-forming properties and adhesion to the base film, etc., and imparting flexibility to the conductive layer.
<溶剤(C)>
本実施では、樹脂(A)を溶解し流動性を与え印刷性を付与したり、樹脂(A)の組成物中での分子鎖の広がりや絡まり合いを調製したりするために、溶剤(C)を含有する。また、本実施においては、溶剤(C)を含有することにより、上記分子鎖の広がりを調製し上記ベースフィルムへの印刷時の濡れ性を付与することで、印刷時のパターニング精度を向上することができる。
<Solvent (C)>
In this embodiment, the solvent (C) is contained in order to dissolve the resin (A) and impart fluidity to provide printability, and to adjust the spread and entanglement of the molecular chain in the composition of the resin (A). In addition, in this embodiment, the solvent (C) is contained, and the spread of the molecular chain is adjusted, and wettability is imparted to the base film during printing, thereby improving the patterning accuracy during printing.
本発明の溶剤(C)は、後述する特定の構造を有する高沸点溶剤(C1)を含む。溶剤(C1)を含むことにより、樹脂(A)の溶解性とベースフィルムへの浸潤抑制性に優れるのみならず、印刷時のベースフィルムに対する適度な濡れ性が付与されることで、特に高速での印刷時のパターニング精度を向上し、また樹脂(A)の高分子鎖が溶媒(C)中で広く展開し適度な流動性を発揮しかつ導電層形成時には高分子鎖同士がよく絡まり合うことで、導電層内で導電粒子間の繋がり(導電パス)の切断に繋がるような、ミクロスケールでの局所的応力集中を抑制する効果を得ることができる。 The solvent (C) of the present invention contains a high-boiling point solvent (C1) having a specific structure described below. By containing the solvent (C1), not only is the solubility of the resin (A) excellent and the infiltration suppression into the base film excellent, but also the appropriate wettability to the base film during printing is imparted, improving the patterning accuracy, particularly during high-speed printing. In addition, the polymer chains of the resin (A) are widely spread in the solvent (C) and exhibit appropriate fluidity, and the polymer chains are well entangled with each other during the formation of the conductive layer, thereby obtaining the effect of suppressing local stress concentration on a microscale that may lead to the disconnection of the connection (conductive path) between conductive particles in the conductive layer.
本発明の溶剤(C1)は、下記式(1)~(3)の構造を有する溶剤であれば、特に制限なく使用することができる。 The solvent (C1) of the present invention can be any solvent having the structure of the following formulas (1) to (3) without any particular restrictions.
式中、R1は炭素数2~5の2価のアルキレン基を示し、
R2~R6はそれぞれ水素原子またはメチル基を示す。
またR7~R11はそれぞれ水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基を示し、R7~R11のうち、少なくとも1つは、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基である。
In the formula, R 1 represents a divalent alkylene group having 2 to 5 carbon atoms,
R 2 to R 6 each represent a hydrogen atom or a methyl group.
Furthermore, R 7 to R 11 each represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group, and at least one of R 7 to R 11 is a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group.
溶剤(C1)は1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また溶剤(C1)単独としては常温で固体であっても、他の構造の溶剤(C1)や後述するその他溶剤(C2)との混合溶剤として液体となれば問題なく使用することができる。さらに溶剤(C1)としては、沸点180℃以上270℃以下であることが特に好ましい。 The solvent (C1) may be used alone or in combination of two or more. Even if the solvent (C1) is solid at room temperature, it can be used without any problems if it becomes liquid as a mixed solvent with a solvent (C1) of a different structure or with another solvent (C2) described later. Furthermore, it is particularly preferable that the solvent (C1) has a boiling point of 180°C or higher and 270°C or lower.
このような溶剤(C1)の具体例としては、下記に列挙する構造を有するものが挙げられる。 Specific examples of such solvents (C1) include those having the structures listed below.
また、溶剤(C1)のさらに好適なものとしては、
前記式(1)で示される溶剤であり、かつ式中のR1が1,1-エチレン基(エチリデン基)、1,2-エチレン基、1,1-プロピレン基(プロピリデン基)、1,2-プロピレン基(メチルエチレン基)、2,2-プロピレン基(ジメチルメチレン基)、または1,3-プロピレン基(プロパニレン基)からなる群より選ばれる1種であるか、
または前記式(3)で示される溶剤であり、かつ式中のR7~R11のうち、1つまたは2つが、メチル基、エチル基またはメトキシ基であるものが特に好ましい。これらを用いることで、印刷時のベースフィルムに対する濡れ性がさらに良好なバランスとなり、また樹脂(A)の高分子鎖が溶媒(C)中でより広く展開し適度な流動性を発揮しかつ導電層形成時には高分子鎖同士がよく絡まり合う点で特に好ましい。
このような特に好ましい溶剤(C1)の具体例としては、2-フェニルエタノール、1-フェニルエタノール、2-(2-メチルフェニル)エタノール、2-(3-メチルフェニル)エタノール、2-(4-メチルフェニル)エタノール、3-フェニル-1-プロパノール、1-フェニル-1-プロパノール、1-フェニル-2-プロパノール、2-フェニル-1-プロパノール、2-メチルベンジルアルコール、3-メチルベンジルアルコール、4-メチルベンジルアルコール、2-メトキシベンジルアルコール、3-メトキシベンジルアルコール、4-メトキシベンジルアルコール、3,4-ジメチルベンジルアルコールなどが挙げられる。
Further, the solvent (C1) is more preferably
The solvent is represented by the formula (1), and R 1 in the formula is one selected from the group consisting of a 1,1-ethylene group (ethylidene group), a 1,2-ethylene group, a 1,1-propylene group (propylidene group), a 1,2-propylene group (methylethylene group), a 2,2-propylene group (dimethylmethylene group), and a 1,3-propylene group (propanylene group),
Or a solvent represented by the formula (3) in which one or two of R 7 to R 11 are a methyl group, an ethyl group, or a methoxy group is particularly preferred. The use of these is particularly preferred in that the wettability to the base film during printing is further well balanced, the polymer chains of the resin (A) spread more widely in the solvent (C) to exhibit appropriate fluidity, and the polymer chains are well entangled with each other during the formation of the conductive layer.
Specific examples of such particularly preferred solvents (C1) include 2-phenylethanol, 1-phenylethanol, 2-(2-methylphenyl)ethanol, 2-(3-methylphenyl)ethanol, 2-(4-methylphenyl)ethanol, 3-phenyl-1-propanol, 1-phenyl-1-propanol, 1-phenyl-2-propanol, 2-phenyl-1-propanol, 2-methylbenzyl alcohol, 3-methylbenzyl alcohol, 4-methylbenzyl alcohol, 2-methoxybenzyl alcohol, 3-methoxybenzyl alcohol, 4-methoxybenzyl alcohol, and 3,4-dimethylbenzyl alcohol.
本発明の溶剤(C)は、溶剤(C1)以外の溶剤(C2)を含んでもよい。溶剤(C2)としては、沸点180℃以上270℃以下であることが好ましく、例えば酢酸2-エトキシ(2-エトキシ)エチルや酢酸2-エトキシ(2-エトキシ)ブチル等のグリコールエステル、2-エトキシ(2-エトキシ)エタノールや2-ブトキシ(2-エトキシ)エタノール、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのグリコールエーテルなどが挙げられるが、特に限定されない。 The solvent (C) of the present invention may contain a solvent (C2) other than the solvent (C1). The solvent (C2) preferably has a boiling point of 180°C or higher and 270°C or lower, and examples thereof include, but are not limited to, glycol esters such as 2-ethoxy(2-ethoxy)ethyl acetate and 2-ethoxy(2-ethoxy)butyl acetate, 2-ethoxy(2-ethoxy)ethanol, 2-butoxy(2-ethoxy)ethanol, and glycol ethers such as diethylene glycol diethyl ether.
本発明の前記溶剤(C)100質量部中に占める溶剤(C1)の含有量は、前記の高速印刷適性や導電パスの切断抑制特性を効果的に発揮する観点から、40質量部以上100質量部以下であることが好ましい。 The content of solvent (C1) in 100 parts by mass of the solvent (C) of the present invention is preferably 40 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, from the viewpoint of effectively exerting the above-mentioned high-speed printing suitability and conductive path breakage prevention properties.
<任意成分>
本発明の導電性組成物は、必要に応じてさらに他の成分を含有してもよい。このような他の成分としては、後述する架橋剤(D)のほか、分散剤、耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、シランカップリング剤、可塑剤、難燃剤、保湿剤等が挙げられる
<Optional ingredients>
The conductive composition of the present invention may further contain other components as necessary, such as the crosslinking agent (D) described later, dispersants, friction resistance improvers, infrared absorbing agents, ultraviolet absorbing agents, fragrances, antioxidants, organic pigments, inorganic pigments, defoamers, silane coupling agents, plasticizers, flame retardants, moisturizing agents, etc.
<架橋剤(D)> <Crosslinking agent (D)>
本実施において前記樹脂(A)を架橋するために架橋剤(D)を、追加で用いてもよい。架橋剤(D)としては、前記樹脂(A)が有する反応性官能基と架橋形成しうる反応性官能基を1分子中に2つ以上有するものの中から適宜選択して用いることができる。このような反応性官能基としては、たとえば、エポキシ基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、アルキルオキシアミノ基、アジリジニル基、オキセタニル基、カルボジイミド基、β-ヒドロキシアルキルアミド基などが挙げられる。
架橋剤(D)は樹脂(A)100質量部に対して、0.05質量部以上30質量部以下用いることが好ましく、0.3質量部以上25質量部以下用いることがより好ましい。
In this embodiment, a crosslinking agent (D) may be additionally used to crosslink the resin (A). The crosslinking agent (D) may be appropriately selected from those having two or more reactive functional groups in one molecule capable of forming a crosslink with the reactive functional group of the resin (A). Examples of such reactive functional groups include an epoxy group, an isocyanate group, a blocked isocyanate group, an alkyloxyamino group, an aziridinyl group, an oxetanyl group, a carbodiimide group, and a β-hydroxyalkylamide group.
The crosslinking agent (D) is preferably used in an amount of 0.05 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and more preferably 0.3 parts by mass or more and 25 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the resin (A).
更に本実施においては、前記樹脂(A)として、ヒドロキシ基またはアミノ基より選択される第1の反応性官能基を1分子中に2つ以上有し、架橋剤(D)として、ブロック化イソシアネートを選択し、組み合わせることが特に好ましい。
ブロック化イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の2官能イソシアネートまたはそれらのアロファネート体、ビウレット体、アダクト体、プレポリマー体、イソシアヌレート体等からなる2官能以上のイソシアネートのイソシアネート基が、ε-カプロラクタムやMEKオキシム等で保護(ブロック化)されたイソシアネート化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、上記イソシアネート化合物のイソシアネート基を、ε-カプロラクタム、MEKオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピラゾール、3,5-ジメチルピラゾール、ジイソプロピルアミン、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル、フェノール等でブロックしたものなどが挙げられる。
このような組合せで用いることにより、特に強靭性に優れかつ架橋により発生する架橋点構造により高温下での基材密着性に優れるため、引張力による導電性の低下が特に抑制された導電層を得ることができる。
Furthermore, in this embodiment, it is particularly preferable to combine the resin (A) having two or more first reactive functional groups selected from hydroxyl groups or amino groups in one molecule and the crosslinking agent (D) with a blocked isocyanate.
The blocked isocyanate is not particularly limited, and may be an isocyanate compound in which the isocyanate group of a bifunctional isocyanate such as hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, or a bifunctional or higher isocyanate such as an allophanate, biuret, adduct, prepolymer, isocyanurate, etc., is protected (blocked) with ε-caprolactam, MEK oxime, etc. Specific examples include those in which the isocyanate group of the above isocyanate compound is blocked with ε-caprolactam, MEK oxime, cyclohexanone oxime, pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, diisopropylamine, diethyl malonate, ethyl acetoacetate, phenol, etc.
By using such a combination, a conductive layer can be obtained which is particularly strong and has excellent adhesion to substrates at high temperatures due to the crosslinking point structure generated by crosslinking, and in which the decrease in conductivity due to tensile force is particularly suppressed.
<導電性組成物の製造方法>
本実施の導電性組成物の製造方法は、前記樹脂(A)と、導電性微粒子(B)と、ワイヤー状微粒子(C)と必要により用いられるその他の成分とを、溶解乃至分散する方法であればよく、公知の混合手段により混合することにより製造することができる。
<Method of producing conductive composition>
The method for producing the conductive composition of this embodiment may be any method for dissolving or dispersing the resin (A), the conductive fine particles (B), the wire-shaped fine particles (C), and other components used as necessary, and the conductive composition can be produced by mixing them by a known mixing means.
[成形フィルム]
本実施の成形フィルムは、ベースフィルム上に導電層を備えた成形フィルムであって、
前記導電層が、前記成形フィルム用導電性組成物の硬化物であることを特徴とする。
本実施の成形フィルムによれば、凹凸面や曲面など任意の基材面に導電回路が形成された成形体を得ることができる。
本実施の成形フィルムによれば、凹凸面や曲面など任意の基材面に導電回路が形成された成形体を得ることができる。
本実施の成形フィルムの層構成について図1及び図2を参照して説明する。図1及び図2は、本実施の成形フィルムの一例を示す、模式的な断面図である。
図1の例に示される成形フィルム10は、ベースフィルム1上に、導電層2を備えている。導電層2は、ベースフィルム1の全面に形成されていてもよく、図1の例のように所望のパターン状に形成されていてもよい。
図2の例に示される成形フィルム10は、ベースフィルム1上に、加飾層3を有し、当該加飾層3上に、導電層2を備えている。また図2の例に示されるように、成形フィルム10は、導電層2上に、電子部品4や、取り出し回路に接続するためのピン5を備えていてもよい。
また、図示はしないが、導電層2上、又は電子部品4上には、当該導電層や電子部品を保護するための樹脂層を備えていてもよく、当該樹脂層が、後述する基材との密着性を向上するための粘着層または接着層となっていてもよい。
また、図示はしないが、本実施の成形フィルム10が加飾層3を備える場合、図2の例のほか、ベースフィルム1の一方の面に加飾層3を有し、他方の面に導電層2を備える層構成であってもよい。
本実施の成形フィルムは、少なくともベースフィルムと、導電層を備えるものであり、必要に応じて他の層を有してもよいものである。以下このような成形フィルムの各層について説明する。
[Formed film]
The molded film of this embodiment is a molded film having a conductive layer on a base film,
The conductive layer is a cured product of the conductive composition for molded films.
According to the molded film of this embodiment, a molded article can be obtained in which a conductive circuit is formed on any substrate surface, such as an uneven surface or a curved surface.
According to the molded film of this embodiment, a molded article can be obtained in which a conductive circuit is formed on any substrate surface, such as an uneven surface or a curved surface.
The layer structure of the molded film of this embodiment will be described with reference to Figures 1 and 2. Figures 1 and 2 are schematic cross-sectional views showing an example of the molded film of this embodiment.
The molded film 10 shown in the example of Fig. 1 includes a conductive layer 2 on a base film 1. The conductive layer 2 may be formed on the entire surface of the base film 1, or may be formed in a desired pattern as in the example of Fig. 1.
The molded film 10 shown in the example of Fig. 2 has a decorative layer 3 on a base film 1, and a conductive layer 2 on the decorative layer 3. As shown in the example of Fig. 2, the molded film 10 may also have, on the conductive layer 2, an electronic component 4 and a pin 5 for connecting to an extraction circuit.
Although not shown, a resin layer for protecting the conductive layer or the electronic component 4 may be provided on the conductive layer 2 or the electronic component 4, and the resin layer may serve as an adhesive layer or bonding layer for improving adhesion to the substrate described below.
In addition, although not shown in the figure, when the molded film 10 of this embodiment has a decorative layer 3, in addition to the example of Figure 2, it may have a layer structure having a decorative layer 3 on one side of the base film 1 and a conductive layer 2 on the other side.
The molded film of the present embodiment comprises at least a base film and a conductive layer, and may have other layers as required. Each layer of such a molded film will be described below.
<ベースフィルム>
本実施においてベースフィルムは、基材形成時の成形温度条件下で基材表面の形状に追従可能な程度の柔軟性および延伸性を有するものの中から適宜選択することができ、成形体の用途や、成形体の製造方法などに応じて選択することが好ましい。
例えば、成形体の製造方法として、後述するオーバーレイ成形法や、フィルムインサート法を採用する場合には、ベースフィルムが成形体に残ることから、導電層の保護層としての機能を有することなどを考慮してベースフィルムを選択することができる。
一方、成形体の製造方法として後述するインモールド転写法などを採用する場合には、剥離性を有するベースフィルムを選択することが好ましい。
<Base film>
In this embodiment, the base film can be appropriately selected from those having flexibility and extensibility to such an extent that it can follow the shape of the substrate surface under the molding temperature conditions when the substrate is formed, and it is preferable to select the base film according to the use of the molded body and the manufacturing method of the molded body.
For example, when the overlay molding method or the film insert method described below is adopted as a method for producing a molded body, the base film remains in the molded body, so the base film can be selected taking into consideration its function as a protective layer for the conductive layer.
On the other hand, when an in-mold transfer method, which will be described later, is employed as a method for producing a molded article, it is preferable to select a base film having releasability.
ベースフィルムは上記の観点から適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ABS(アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合樹脂)、AES(アクリロニトリル-エチレン-スチレン共重合樹脂)、カイダック(アクリル変性塩ビ樹脂)、変性ポリフェニレンエーテル、及びこれら樹脂の2種以上からなるポリマーアロイ等のフィルムや、これらの積層フィルムであってもよい。中でも、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートより選択されるフィルム、又はこれらの積層フィルムであることが好ましい。積層フィルムとしては、中でも、ポリカーボネートとポリメチルメタクリレートの積層フィルムが好ましい。
ポリカーボネートとポリメチルメタクリレートの積層フィルムの製造方法は、特に限定されず、ポリカーボネートフィルムとポリメチルメタクリレートフィルムとを貼り合わせて積層してもよく、ポリカーボネートとポリメチルメタクリレートとを共押出しにより積層フィルムとしてもよい。
また、これらのベースフィルムの表面がコロナ処理等の改質処理が施されていることも好ましい。
The base film can be appropriately selected from the above viewpoints, and may be, for example, a film such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polystyrene, polyimide, polyamide, polyethersulfone, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymer, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin), AES (acrylonitrile-ethylene-styrene copolymer resin), Kaidac (acrylic modified vinyl chloride resin), modified polyphenylene ether, and a polymer alloy consisting of two or more of these resins, or a laminated film thereof. Among them, a film selected from polycarbonate, polymethyl methacrylate, polypropylene, and polyethylene terephthalate, or a laminated film thereof is preferable. As the laminated film, a laminated film of polycarbonate and polymethyl methacrylate is preferable.
The method for producing the laminated film of polycarbonate and polymethyl methacrylate is not particularly limited. A polycarbonate film and a polymethyl methacrylate film may be laminated together, or polycarbonate and polymethyl methacrylate may be co-extruded to form a laminated film.
It is also preferable that the surface of these base films is subjected to a modification treatment such as a corona treatment.
また、必要に応じ、導電性組成物の印刷性を向上させるなどの目的で、ベースフィルムにアンカーコート層を設け、当該アンカーコート層上に導電性組成物を印刷してもよい。アンカーコート層は、ベースフィルムとの密着性、更には導電性組成物との密着性が良好で成形時にフィルムに追従するものであれば、特に限定されず、また樹脂ビーズ等の有機フィラーや金属酸化物等の無機フィラーも必要に応じて添加してもよい。アンカーコート層を設ける方法は特に限定されず、従来公知の塗工方法にて塗布、乾燥、硬化して得ることができる。
また更に必要に応じ、成形体表面の傷つき防止のため、ベースフィルムにハードコート層を設け、その反対の面に導電性組成物および必要に応じて加飾層を印刷してもよい。ハードコート層は、ベースフィルムとの密着性、更には表面硬度が良好で成形時にフィルムに追従するものであれば、特に限定されず、また樹脂ビーズ等の有機フィラーや金属酸化物等の無機フィラーも必要に応じて添加してもよい。ハードコート層を設ける方法は特に限定されず、従来公知の塗工方法にて塗布、乾燥、硬化して得ることができる。
In addition, if necessary, an anchor coat layer may be provided on the base film and the conductive composition may be printed on the anchor coat layer for the purpose of improving the printability of the conductive composition. The anchor coat layer is not particularly limited as long as it has good adhesion to the base film and further to the conductive composition and follows the film during molding, and organic fillers such as resin beads and inorganic fillers such as metal oxides may also be added as necessary. The method of providing the anchor coat layer is not particularly limited, and it can be obtained by coating, drying, and curing using a conventionally known coating method.
Furthermore, if necessary, in order to prevent the surface of the molded body from being scratched, a hard coat layer may be provided on the base film, and a conductive composition and, if necessary, a decorative layer may be printed on the opposite side. The hard coat layer is not particularly limited as long as it has good adhesion to the base film and surface hardness and follows the film during molding, and organic fillers such as resin beads and inorganic fillers such as metal oxides may also be added as necessary. The method for providing the hard coat layer is not particularly limited, and it can be obtained by applying, drying, and curing using a conventionally known coating method.
また本実施の成形フィルムが加飾層を有する場合には、透明性を有するベースフィルムを選択することが好ましい。 In addition, if the molded film of this embodiment has a decorative layer, it is preferable to select a base film that has transparency.
ベースフィルムの厚みは特に限定されないが、例えば、10μm以上500μm以下とすることができ、20μm以上450μm以下が好ましい。 The thickness of the base film is not particularly limited, but can be, for example, 10 μm or more and 500 μm or less, and preferably 20 μm or more and 450 μm or less.
<導電層>
本実施の成形フィルムにおいて導電層は、前記導電性組成物の硬化物である。導電層は、パターニングされた導電層であっても、ベタ塗りされた導電層であっても良い。
導電層の形成方法は特に限定されないが、本実施においては、スクリーン印刷法、パッド印刷法、ステンシル印刷法、スクリーンオフセット印刷法、ディスペンサー印刷法、グラビアオフセット印刷法、反転オフセット印刷法、マイクロコンタクト印刷法により形成することが好ましく、スクリーン印刷法により形成することがより好ましい。
スクリーン印刷法においては、導電回路パターンの高精細化に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは300~650メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は約20~50%が好ましい。スクリーン線径は約10~70μmが好ましい。
スクリーン版の種類としては、ポリエステルスクリーン、コンビネーションスクリーン、メタルスクリーン、ナイロンスクリーン等が挙げられる。また、高粘度なペースト状態のものを印刷する場合は、高張力ステンレススクリーンを使用することができる。
スクリーン印刷のスキージは丸形、長方形、正方形いずれの形状であってもよく、またアタック角度(印刷時の版とスキージの角度)を小さくするために研磨スキージも使用することができる。その他の印刷条件等は従来公知の条件を適宜設計すればよい。
<Conductive Layer>
In the molded film of this embodiment, the conductive layer is a cured product of the conductive composition. The conductive layer may be a patterned conductive layer or a solid conductive layer.
The method for forming the conductive layer is not particularly limited, but in this embodiment, it is preferable to form it by screen printing, pad printing, stencil printing, screen offset printing, dispenser printing, gravure offset printing, reverse offset printing, or microcontact printing, and it is more preferable to form it by screen printing.
In the screen printing method, it is preferable to use a fine mesh screen, particularly a fine mesh screen of about 300 to 650 mesh, in order to meet the demands of high-definition conductive circuit patterns. In this case, the open area of the screen is preferably about 20 to 50%. The screen line diameter is preferably about 10 to 70 μm.
Types of screens include polyester screens, combination screens, metal screens, nylon screens, etc. When printing with a highly viscous paste, a high-tension stainless steel screen can be used.
The squeegee for screen printing may be round, rectangular, or square, and an abrasive squeegee may be used to reduce the attack angle (the angle between the plate and the squeegee during printing). Other printing conditions may be appropriately designed from conventionally known conditions.
導電性組成物をスクリーン印刷により印刷後、加熱して乾燥および架橋反応を行い硬化する。
溶剤の十分な揮発および架橋反応のために、加熱温度は80~230℃、加熱時間としては10~120分とすることが好ましい。これにより、パターン状の導電層を得ることができる。
導電層のパターンとしては特に限定されないが、例えば直線、曲線、メッシュや、部分的な四角、丸、ひし形形状等のベタパターンやベタ抜きパターンおよびそれらの任意の組合せ、または導電層全体が一面ベタパターンであってもよく、導電層が導電回路または導電回路の一部としての機能を発揮する限りにおいて限定されない。
パターン状導電層は、必要に応じて、導電パターンを被覆するように、絶縁層を設けてもよい。絶縁層としては、特に限定されず、公知の絶縁層を適用することができる。
The conductive composition is printed by screen printing, and then heated to dry and cause a crosslinking reaction and harden.
In order to sufficiently volatilize the solvent and promote the crosslinking reaction, the heating temperature is preferably 80 to 230° C. and the heating time is preferably 10 to 120 minutes, thereby making it possible to obtain a patterned conductive layer.
The pattern of the conductive layer is not particularly limited, and may be, for example, a straight line, a curve, a mesh, a solid pattern or a solid pattern having a partial square, circle, diamond shape, or any combination thereof, or the entire conductive layer may be a solid pattern on one side, and is not limited as long as the conductive layer functions as a conductive circuit or as a part of a conductive circuit.
The patterned conductive layer may be provided with an insulating layer, if necessary, so as to cover the conductive pattern. The insulating layer is not particularly limited, and any known insulating layer may be used.
導電層の膜厚は、求められる導電性等に応じて適宜調整すればよく、特に限定されないが、例えば、0.5μm以上20μm以下とすることができ、1μm以上15μm以下とすることが好ましい。 The thickness of the conductive layer can be adjusted appropriately according to the required conductivity, etc., and is not particularly limited, but can be, for example, 0.5 μm or more and 20 μm or less, and preferably 1 μm or more and 15 μm or less.
<加飾層>
本実施の成形フィルムは、得られる成形体の意匠性の点から、加飾層を有していてもよい。
加飾層は単色の色味を有する層であってもよく、任意の模様が付されたものであってもよい。
加飾層は、一例として、色材と、樹脂と、溶剤とを含有する加飾インキを調製した後、当該加飾インキを公知の印刷手段によりベースフィルムに塗布することにより形成することができる。
前記色材としては、公知の顔料や染料の中から適宜選択して用いることができる。また樹脂としては、前記本実施の導電性組成物における樹脂(A)と同様のものの中から適宜選択して用いることが好ましい。
加飾層の厚みは特に限定されないが、例えば0.5μm以上10μm以下とすることができ、1μm以上5μm以下とすることが好ましい。
<Decorative layer>
The molded film of the present embodiment may have a decorative layer from the viewpoint of the design of the resulting molded article.
The decorative layer may be a layer having a single color, or may have any pattern.
For example, the decorative layer can be formed by preparing a decorative ink containing a coloring material, a resin, and a solvent, and then applying the decorative ink to the base film by a known printing method.
The coloring material can be appropriately selected from known pigments and dyes, and the resin can be appropriately selected from the same resins as the resin (A) in the conductive composition of the present embodiment.
The thickness of the decorative layer is not particularly limited, but may be, for example, from 0.5 μm to 10 μm, and preferably from 1 μm to 5 μm.
[成形体]
本実施の成形体は、基材上に少なくとも導電層が積層した成形体であって、前記導電層が、請求項1~5のいずれか一項記載の成形フィルム用導電性組成物の硬化物であることを特徴とする。本実施の成形体は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物を用いた成形フィルムにより形成されるため、凹凸面や曲面など、任意の面に導電回路が形成された成形体となる。
以下、本実施の成形体の製造方法について、3つの実施形態を説明する。なお、本実施の成形体は、前記本実施の導電性組成物を用いて製造されたものであればよく、これらの方法に限定されるものではない。
[Molded body]
The molded article of this embodiment is a molded article having at least a conductive layer laminated on a substrate, the conductive layer being a cured product of the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 5. The molded article of this embodiment is formed from a molded film using the conductive composition for molded films of this embodiment, and therefore is a molded article having a conductive circuit formed on any surface, such as an uneven surface or a curved surface.
Hereinafter, three embodiments of the method for producing the molded body of the present embodiment will be described. Note that the molded body of the present embodiment may be produced by using the conductive composition of the present embodiment, and the method is not limited to these embodiments.
<第1の製造方法>
本実施に係る成形体の第1の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物を、ベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
基材上に前記成形フィルムを配置する工程と、
オーバーレイ成形法により、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む。
以下、図3を参照して説明するが、成形フィルムの製造方法は前述のとおりであるので、ここでの説明は省略する。
<First manufacturing method>
A first method for producing a molded body according to the present embodiment includes the steps of: printing the conductive composition for a molded film according to the present embodiment on a base film and drying the composition to produce a molded film;
placing the formed film on a substrate;
and b) integrating the molded film and the substrate by an overlay molding process.
The following description will be given with reference to FIG. 3, but the method for producing the molded film is as described above, so the description will be omitted here.
図3は、成形体の第1の製造方法の一例を示す、模式的な工程図である。図3(A)~(C)はそれぞれTOM(Three dimension Overlay Method)成形機のチャンバーボックス内に配置された成形フィルム10と基材20を図示するものであり、図3(B)および(C)ではチャンバーボックスを省略している。
第1の製造方法においては、まず、基材20を下側チャンバーボックス22のテーブル上に設置する。次いで、前記本実施の成形フィルム10を上側チャンバーボックス21と下側チャンバーボックス22との間を通し、基材20上に配置する。この際、成形フィルム10は導電層が基材20側、もしくは基材20とは反対側のどちらと面するように配置されていてもよく、最終的な成形体の用途によって選択される。次いで上側・下側チャンバーボックスを真空状態とした後、成形フィルムを加熱する。次いで、テーブルを上昇することにより基材20を上昇15する。次いで上側チャンバーボックス21内のみを大気開放する(図3(B))。この時、成形フィルムは基材側に加圧16され、成形フィルム10と基材20とが貼り合わされて一体化する(図3(C))。このようにして成形体30を得ることができる。
3 is a schematic process diagram showing an example of a first manufacturing method of a molded body. Each of (A) to (C) of FIG. 3 illustrates a molded film 10 and a substrate 20 arranged in a chamber box of a TOM (Three Dimension Overlay Method) molding machine, and the chamber box is omitted in (B) and (C) of FIG. 3.
In the first manufacturing method, first, the substrate 20 is placed on the table of the lower chamber box 22. Next, the molded film 10 of the present embodiment is passed between the upper chamber box 21 and the lower chamber box 22 and placed on the substrate 20. At this time, the molded film 10 may be placed so that the conductive layer faces either the substrate 20 side or the opposite side to the substrate 20, and is selected depending on the final use of the molded body. Next, the upper and lower chamber boxes are placed in a vacuum state, and the molded film is heated. Next, the table is raised to raise the substrate 20 15. Next, only the inside of the upper chamber box 21 is opened to the atmosphere (FIG. 3(B)). At this time, the molded film is pressed 16 against the substrate side, and the molded film 10 and the substrate 20 are bonded together to be integrated (FIG. 3(C)). In this manner, a molded body 30 can be obtained.
当該第1の製造方法において、基材20は予め任意の方法で準備することができる。当該第1の製造方法において、基材20の材質は特に限定されず、樹脂製であっても金属製であってもよい。 In the first manufacturing method, the substrate 20 can be prepared in advance by any method. In the first manufacturing method, the material of the substrate 20 is not particularly limited, and the substrate 20 may be made of resin or metal.
なお本第1の製造方法における、前述の基材との一体化工程における高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスとは、前記図3(C)での成形フィルムが基材側に加圧16され、成形フィルム10と基材20とが貼り合わされて一体化する際の、高温下で成形フィルムの導電回路と基材との間の摩擦応力に起因するものである。即ち本第1の製造方法においては、導電層は成形時の引張応力による負荷と、高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスを同時に受けることとなる。 Note that in this first manufacturing method, the frictional stress with the substrate plastic at high temperatures in the aforementioned integration process with the substrate is due to the frictional stress between the conductive circuit of the molded film and the substrate at high temperatures when the molded film in FIG. 3(C) is pressed 16 against the substrate side and the molded film 10 and substrate 20 are bonded together to be integrated. In other words, in this first manufacturing method, the conductive layer is simultaneously subjected to a load due to tensile stress during molding and frictional stress with the substrate plastic at high temperatures.
<第2の製造方法>
本実施に係る成形体の第2の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物を、ベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
前記成形フィルムを所定の形状に成形する工程と、
成形後の前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む。以下、図4を参照して説明する。なお、第2の製造方法をフィルムインサート法ということがある。
<Second manufacturing method>
A second method for producing a molded body according to the present embodiment includes the steps of: printing the conductive composition for a molded film according to the present embodiment on a base film and drying the composition to produce a molded film;
forming the formed film into a predetermined shape;
placing the formed film in an injection mold;
and forming a substrate by injection molding and integrating the formed film with the substrate. Hereinafter, the second manufacturing method will be described with reference to Fig. 4. The second manufacturing method is sometimes called a film insert method.
図4は、成形体の第2の製造方法の一例を示す、模式的な工程図である。第2の製造方法において、成形フィルム10は、金型11により予め所定の形状に成形する(図4(A))。成形フィルム10は加熱して軟化した後に、又は軟化させながら、真空による金型への吸引もしくは圧空による金型への押しつけ、またはその両方を併用して行い、金型11により成形する(図4(B))。この際、成形フィルム10は導電層が後述する基材20側、もしくは基材20とは反対側のどちらと面するように成形されていてもよく、最終的な成形体の用途によって選択される。次いで、成形後の成形フィルム10を射出成形用の金型12内に配置する(図4(C)~図4(D))。次いで、開口部13から樹脂を射出14して、基材20を形成すると共に、前記成形フィルム10と、前記基材20とを一体化して、成形体30が得られる(図4(E))。 Figure 4 is a schematic process diagram showing an example of the second manufacturing method of a molded body. In the second manufacturing method, the molded film 10 is molded into a predetermined shape in advance by a mold 11 (Figure 4 (A)). After the molded film 10 is heated and softened, or while being softened, it is sucked into the mold by vacuum or pressed against the mold by compressed air, or both, and molded by the mold 11 (Figure 4 (B)). At this time, the molded film 10 may be molded so that the conductive layer faces either the substrate 20 side described later or the side opposite the substrate 20, and this is selected depending on the final use of the molded body. Next, the molded molded film 10 is placed in a mold 12 for injection molding (Figures 4 (C) to 4 (D)). Next, resin is injected 14 from an opening 13 to form the substrate 20, and the molded film 10 and the substrate 20 are integrated to obtain a molded body 30 (Figure 4 (E)).
第2の製造方法において基材20は予め準備する必要はなく、基材の成形と、成形フィルムとの一体化を同時に行うことができる。基材20の材質は、射出成形用に用いられる公知の樹脂の中から適宜選択して用いることができる。 In the second manufacturing method, the substrate 20 does not need to be prepared in advance, and the molding of the substrate and the integration with the molded film can be performed simultaneously. The material of the substrate 20 can be appropriately selected from known resins used for injection molding.
なお本第2の製造方法における、前述の基材との一体化工程における高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスとは、図4(E)で開口部13から樹脂を射出14して、基材20を形成すると共に、前記成形フィルム10と、前記基材20とを一体化する際の、成形フィルム上の導電層が高温の溶融樹脂の型内への射出により受ける摩擦応力に起因するものである。即ち本第2の製造方法においては、導電層は成形時の引張応力による負荷を受けた後、別工程にて高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスを受けることとなる。 Note that in this second manufacturing method, the frictional stress with the base plastic at high temperatures in the aforementioned integration process with the substrate is due to the frictional stress that the conductive layer on the molded film receives when high-temperature molten resin is injected into the mold when resin is injected 14 from the opening 13 to form the substrate 20 and the molded film 10 and the substrate 20 are integrated in FIG. 4(E). In other words, in this second manufacturing method, the conductive layer is subjected to a load due to tensile stress during molding, and then in a separate process, it is subjected to frictional stress with the base plastic at high temperatures.
<第3の製造方法>
本実施に係る成形体の第3の製造方法は、前記本実施の成形フィルム用導電性組成物を、スクリーン印刷により、ベースフィルム上に印刷し、乾燥することにより成形フィルムを製造する工程と、
前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルム中の導電層を基材側に転写する工程と、を含む。
以下、図5を参照して説明する。なお、第3の製造方法をインモールド転写法ということがある。
<Third manufacturing method>
A third method for producing a molded body according to the present embodiment includes a step of printing the conductive composition for molded film of the present embodiment on a base film by screen printing and drying the composition to produce a molded film;
placing the formed film in an injection mold;
The method includes a step of molding a substrate by injection molding and transferring the conductive layer in the molded film to the substrate side.
The following description will be given with reference to Fig. 5. The third manufacturing method is sometimes called an in-mold transfer method.
図5は、成形体の第3の製造方法の一例を示す、模式的な工程図である。第3の製造方法において成形フィルム10は、ベースフィルムとして剥離性を有するものを選択して用いる。当該成形フィルム10を射出成形用の金型12内に、後述する基材20側に導電層が向くように配置する(図5(A))。次いで、開口部13から樹脂を射出14して、基材20を形成すると共に、前記成形フィルム10と基材20とが密着し、基材20側に、少なくとも導電層が転写され(図5(B))、成形体30が得られる(図5(C))。なお、成形フィルム10が加飾層を有する場合には、加飾層と導電層とが転写される。 Figure 5 is a schematic process diagram showing an example of the third manufacturing method of a molded body. In the third manufacturing method, a molded film 10 having peelability is selected as a base film and used. The molded film 10 is placed in an injection molding die 12 so that the conductive layer faces the substrate 20 side described later (Figure 5 (A)). Next, resin is injected 14 from an opening 13 to form the substrate 20, and the molded film 10 and substrate 20 are in close contact with each other, at least the conductive layer is transferred to the substrate 20 side (Figure 5 (B)), and a molded body 30 is obtained (Figure 5 (C)). In addition, if the molded film 10 has a decorative layer, the decorative layer and the conductive layer are transferred.
第3の製造方法においては、ベースフィルムを切断する必要がないため、図5の例に示されるように長尺状のベースフィルムを配置することができる。基材20の材質は、射出成形用に用いられる公知の樹脂の中から適宜選択して用いることができる。 In the third manufacturing method, since there is no need to cut the base film, a long base film can be arranged as shown in the example of Figure 5. The material of the substrate 20 can be appropriately selected from known resins used for injection molding.
なお本第3の製造方法における、前述の基材との一体化工程における高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスとは、図5(C)で開口部13から樹脂を射出14して、基材20を形成すると共に、前記成形フィルム10と基材20とが密着する際の、成形フィルム上の導電層が高温の溶融樹脂の型内への射出により受ける摩擦応力に起因するものである。即ち本第3の製造方法においては、導電層は成形時の引張応力による負荷と、高温下での基材プラスチックとの摩擦応力ストレスを同時に受けることとなる。 In addition, in this third manufacturing method, the frictional stress with the base plastic at high temperatures in the integration process with the substrate described above is due to the frictional stress that the conductive layer on the molded film receives when high-temperature molten resin is injected into the mold when resin is injected 14 from the opening 13 to form the substrate 20 in FIG. 5(C) and the molded film 10 and substrate 20 are brought into close contact with each other. In other words, in this third manufacturing method, the conductive layer is simultaneously subjected to a load due to tensile stress during molding and frictional stress with the base plastic at high temperatures.
このようにして得られた成形体は、家電製品、自動車用部品、ロボット、ドローンなどのプラスチック筐体などに、回路やタッチセンサー・各種電子部品の実装を行うことを可能にする。また、電子機器の軽薄短小化および設計自由度の向上、多機能化に極めて有用である。 The molded article obtained in this way makes it possible to mount circuits, touch sensors, and various electronic components on the plastic housings of home appliances, automobile parts, robots, drones, etc. It is also extremely useful for making electronic devices lighter, thinner, shorter, and smaller, improving design freedom, and increasing the functionality of these devices.
以下に、実施例により本発明をより詳細に説明するが、以下の実施例は本発明を何ら制限するものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を表す。
また、実施例中の重量平均分子量は、東ソー社製GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)「HLC-8320」を用いた測定におけるポリスチレン換算分子量である。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the following examples are not intended to limit the present invention in any way. In the examples, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass".
The weight average molecular weight in the examples is a polystyrene-equivalent molecular weight measured using a GPC (gel permeation chromatography) "HLC-8320" manufactured by Tosoh Corporation.
また実施例中の「官能基価」は各原料の官能基1つあたりの分子量(これを官能基当量とする)を基に、以下の計算式によって原料1gあたりの官能基量を等モル量の水酸化カリウム換算質量(mg)として表したものである。
(官能基価)[mgKOH/g]=(56.1×1000)/(官能基当量)
上記官能基価は、例えば官能基がカルボキシル基である場合は酸価、官能基がヒドロキシ基である場合は水酸基価、官能基がアミノ基である場合はアミン価などと表現される量の総称であり、互いに異なる官能基をもつ物質同士の官能基比率を比較する際には、上記官能基価が同じ値であれば同モル量の官能基を有すると考えてよい。
In the examples, the "functional group value" is calculated based on the molecular weight per functional group of each raw material (this is referred to as the functional group equivalent) and is expressed as the amount of functional groups per 1 g of raw material converted into an equimolar amount of potassium hydroxide (mg) using the following formula:
(Functional group value) [mg KOH/g] = (56.1 x 1000) / (functional group equivalent)
The above-mentioned functional group value is a general term for an amount expressed, for example, as an acid value when the functional group is a carboxyl group, a hydroxyl value when the functional group is a hydroxyl group, or an amine value when the functional group is an amino group. When comparing the functional group ratios of substances having different functional groups, those having the same value of the above-mentioned functional group value can be considered to have the same molar amount of functional groups.
上記官能基価は、官能基がカルボキシル基やヒドロキシ基などの定量に水酸化カリウムの滴定を用いる場合は、例えばJIS K 0070に定められた公知公用の測定法を用いて中和に用いた水酸化カリウムの適定量から測定値(酸価および水酸基価)を直接求めることもでき、上記の計算式による計算値と同様に扱うことができる。
また、イソシアネート基など、官能基価の定量に上記の水酸化カリウムによる滴定を使用しない場合にも、官能基量を表すそれぞれの測定値から導かれた上記官能基当量ならびに上記計算式を用いて、便宜的に水酸化カリウム換算量として算出することができる。以下に具体的な計算例を示す。
When titration with potassium hydroxide is used to quantify the functional groups such as carboxyl groups and hydroxyl groups, the functional group values (acid value and hydroxyl value) can be directly determined from an appropriate amount of potassium hydroxide used for neutralization using a known and commonly used measuring method specified in, for example, JIS K 0070, and can be treated in the same way as the values calculated by the above formula.
In addition, even when the titration with potassium hydroxide is not used to determine the functional group value, such as isocyanate groups, the functional group value can be calculated in terms of potassium hydroxide for convenience by using the functional group equivalent weight derived from each measured value representing the amount of functional group and the above calculation formula. A specific calculation example is shown below.
計算例:イソシアネート基を有する化合物として、JIS K 6806(イソシアネート基をn-ジブチルアミンと反応させ、残ったn-ジブチルアミンを塩酸水溶液で滴定する方法)に定められた方法で測定されたイソシアネート量が23%である3官能イソシアネート化合物「X」について計算する。3官能イソシアネート化合物「X」の官能基当量は、上記イソシアネート量(%)とイソシアネート基の分子量(NCO=44g/mоl)から以下のように導かれる。
(「X」の官能基当量)=1/(0.23/44)=191.3
この3官能イソシアネート化合物「X」の官能基当量と上記官能基価の計算式から、下記のように3官能イソシアネート化合物「X」の官能基価を算出することができる。
(3官能イソシアネート化合物「X」の官能基価)[mgKOH/g]
=(56.1×1000)/191.3=293.3
Calculation example: Calculation is performed for trifunctional isocyanate compound "X" having an isocyanate amount of 23% measured by the method specified in JIS K 6806 (a method in which an isocyanate group is reacted with n-dibutylamine and the remaining n-dibutylamine is titrated with an aqueous hydrochloric acid solution) as a compound having an isocyanate group. The functional group equivalent of trifunctional isocyanate compound "X" is derived as follows from the above isocyanate amount (%) and the molecular weight of the isocyanate group (NCO = 44 g/mol).
(functional group equivalent of "X") = 1/(0.23/44) = 191.3
From the functional group equivalent of this trifunctional isocyanate compound "X" and the above-mentioned formula for calculating the functional group value, the functional group value of the trifunctional isocyanate compound "X" can be calculated as follows.
(Functional value of trifunctional isocyanate compound "X") [mg KOH/g]
= (56.1 x 1000) / 191.3 = 293.3
<樹脂(A1)~(A3)>
樹脂(A1)~(A3)として以下の樹脂を用いた。
・樹脂(A1): 三菱ケミカル社製アクリル樹脂、ダイヤナールBR-106、重量平均分子量60,000、ガラス転移点50℃、主鎖中に環状構造およびエステル結合を有さない。
・樹脂(A2): イーストマンケミカル社製セルロースエステル樹脂、CAB551-0.2、重量平均分子量70,000、ガラス転移点100℃、ヒドロキシ基(官能基価54mgKOH/g)を有する、主鎖中に環状構造を有しエステル結合を有さない。
・樹脂(A3):InChem社製フェノキシ樹脂、PKHC、重量平均分子量43,000、ガラス転移点67℃、ヒドロキシ基(官能基価198mgKOH/g)を有する、主鎖中に環状構造(芳香環構造)を有しエステル結合を有さない。
<Resins (A1) to (A3)>
The following resins were used as resins (A1) to (A3).
Resin (A1): Acrylic resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Dianal BR-106, weight average molecular weight 60,000, glass transition point 50° C., having no cyclic structure or ester bond in the main chain.
Resin (A2): Cellulose ester resin manufactured by Eastman Chemical Company, CAB551-0.2, weight average molecular weight 70,000, glass transition point 100° C., having a hydroxy group (functional value 54 mgKOH/g), having a cyclic structure in the main chain and having no ester bond.
Resin (A3): Phenoxy resin manufactured by InChem, PKHC, weight average molecular weight 43,000, glass transition point 67°C, having a hydroxyl group (functional group value 198 mg KOH/g), having a cyclic structure (aromatic ring structure) in the main chain and having no ester bond.
<合成例1:樹脂(A4)の合成>
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置を備えた反応装置に、イソフタル酸ジメチル20.0部、テレフタル酸ジメチル9.0部、エチレングリコール12.0部、ネオペンチルグリコール18.0部、及びテトラブチルチタネート0.03部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら180℃まで徐々に加熱し、180℃で3時間エステル交換反応し、酸価を測定し、15以下になったら反応装置内を徐々に1~2トールまで減圧し、所定の粘度に達した時、反応を停止し取り出した後に表面がフッ素加工されたパレットに移して冷却することで、重量平均分子量40,000、ガラス転移点59℃、ヒドロキシ基(官能基価5mgKOH/g)を有し、主鎖中に芳香環構造およびエステル結合を有するポリエステル樹脂(A4)の固形物を得た。
<Synthesis Example 1: Synthesis of Resin (A4)>
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a rectifying tube, a nitrogen gas inlet tube, and a pressure reducing device was charged with 20.0 parts of dimethyl isophthalate, 9.0 parts of dimethyl terephthalate, 12.0 parts of ethylene glycol, 18.0 parts of neopentyl glycol, and 0.03 parts of tetrabutyl titanate, and gradually heated to 180 ° C. while stirring under a nitrogen stream, and an ester exchange reaction was carried out at 180 ° C. for 3 hours, the acid value was measured, and when it became 15 or less, the pressure in the reactor was gradually reduced to 1 to 2 torr, and when it reached a predetermined viscosity, the reaction was stopped and the mixture was removed, transferred to a fluorine-treated pallet, and cooled to obtain a polyester resin (A4) having a weight average molecular weight of 40,000, a glass transition point of 59 ° C., a hydroxyl group (functional group value 5 mg KOH / g), and an aromatic ring structure and an ester bond in the main chain.
<合成例2:樹脂(A5)の合成>
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と3-メチル-1,5ペンタンジオールとから得られるポリエステルポリオール(クラレ社製「クラレポリオールP-2030」)127.0部、イソホロンジイソシアネート19.0部、及びトルエン36.5部を仕込み、窒素気流下にて90℃で3時間反応させ、ついでイソホロンジアミン5.5部を加え更に90℃で2時間反応させたのち、冷却して反応を停止し、最後に取り出した後に表面がフッ素加工されたパレットに移して熱風乾燥オーブンで120℃で5時間、さらに24時間真空乾燥することで、重量平均分子量35,000、ガラス転移点5℃、アミノ基(官能基価4mgKOH/g)を有し、主鎖中に芳香環構造およびエステル結合を有するウレタン樹脂(A5)の固形物を得た。
<Synthesis Example 2: Synthesis of Resin (A5)>
A reaction apparatus equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube was charged with 127.0 parts of a polyester polyol obtained from isophthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol ("Kuraray Polyol P-2030" manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 19.0 parts of isophorone diisocyanate, and 36.5 parts of toluene, and reacted at 90°C for 3 hours under a nitrogen stream, and then 5.5 parts of isophorone diamine was added and reacted at 90°C for a further 2 hours, after which the reaction was stopped by cooling, and finally the mixture was taken out and transferred to a pallet with a fluorine-treated surface and dried in a hot air drying oven at 120°C for 5 hours and then vacuum dried for 24 hours to obtain a solid urethane resin (A5) having a weight average molecular weight of 35,000, a glass transition point of 5°C, an amino group (functional group value 4 mgKOH/g), and an aromatic ring structure and an ester bond in the main chain.
導電性微粒子、溶剤、及び架橋剤として以下のものを用いた。
<導電性微粒子(B1)~(B5)>
・導電性微粒子(B1):福田金属箔粉社製、フレーク状銀粉、平均粒子径5.2μm
・導電性微粒子(B2):福田金属箔粉社製、連鎖凝集銀粉、平均粒子径1.7μm
・導電性微粒子(B3):三井金属鉱業社製、銀コート銅粉、銀被覆量10%、平均粒子径2。0μm
・導電性微粒子(B4):石原産業社製、針状導電性Sbドープ酸化錫粉、平均粒子径2.9μm
・導電性微粒子(B5):伊藤黒鉛社製、膨張化黒鉛、平均粒子径15μm
The following conductive particles, solvent, and crosslinking agent were used.
<Conductive fine particles (B1) to (B5)>
Conductive fine particles (B1): Flake-shaped silver powder, average particle size 5.2 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Co., Ltd.
- Conductive fine particles (B2): manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Co., Ltd., chain agglomerated silver powder, average particle size 1.7 μm
Conductive fine particles (B3): Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., silver-coated copper powder, silver coating amount 10%, average particle size 2.0 μm
Conductive fine particles (B4): Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd., needle-shaped conductive Sb-doped tin oxide powder, average particle size 2.9 μm
Conductive fine particles (B5): Expanded graphite, manufactured by Ito Graphite Co., Ltd., average particle size 15 μm
<溶剤(C1-1)~(C1-10)>
溶剤(C1)として以下のものを用いた。なお式中の分子構造に関して、R2~R11は特に言及がない場合は水素である。
・溶剤(C1-1):2-フェニルエタノール、式(1)のR1が1,2-エチレン基のものに該当
・溶剤(C1-2):1-フェニルエタノール(DL体)、式(1)のR1が1,1-エチレン基のものに該当
・溶剤(C1-3):2-(2-メチルフェニル)エタノール、式(1)のR1が1,2-エチレン基、R2がメチル基のものに該当
・溶剤(C1-4):3-フェニル-1-プロパノール、式(1)のR1が1,3-プロピレン基のものに該当
・溶剤(C1-5):1-フェニル-1-プロパノール、式(1)のR1が1,1-プロピレン基のものに該当
・溶剤(C1-6):2-フェニル-2-プロパノール、式(1)のR1が2,2-プロピレン基のものに該当
・溶剤(C1-7): 4-フェニル-2―ブタノール、式(1)のR1が1,3-ブチレン基のものに該当
・溶剤(C1-8):2-フェノキシエタノール、式(2)のR1が1,2-エチレン基のものに該当
・溶剤(C1-9):2-フェノキシ-1―プロパノール、式(2)のR1が1,2-プロピレン基のものに該当
・溶剤(C1-10):3-メチルベンジルアルコール、式(3)のR8がメチル基のものに該当
・溶剤(C1-11):4-メトキシベンジルアルコール、式(3)のR9がメトキシ基のものに該当
・溶剤(C1-12):3,4-ジメチルベンジルアルコール、式(3)のR8およびR9がメチル基のものに該当
・溶剤(C1-13):4-イソプロピルベンジルアルコール、式(3)のR9がイソプロピル基のものに該当
<Solvents (C1-1) to (C1-10)>
The following was used as the solvent (C1): In the molecular structures in the formulas, R 2 to R 11 are hydrogen unless otherwise specified.
Solvent (C1-1): 2-phenylethanol, where R 1 in formula (1) is a 1,2-ethylene group. Solvent (C1-2): 1-phenylethanol (DL form), where R 1 in formula (1) is a 1,1-ethylene group. Solvent (C1-3): 2-(2-methylphenyl)ethanol, where R 1 in formula (1) is a 1,2-ethylene group and R 2 is a methyl group. Solvent (C1-4): 3-phenyl-1-propanol, where R 1 in formula (1) is a 1,3-propylene group. Solvent (C1-5): 1-phenyl-1-propanol, where R 1 in formula (1) is a 1,1-propylene group. Solvent (C1-6): 2-phenyl-2-propanol, where R 1 in formula (1) is a 2,2-propylene group. Solvent (C1-7): 4-phenyl-2-butanol, where R 1 in formula (1) is a 1,3-butylene group; Solvent (C1-8): 2-phenoxyethanol, where R 1 in formula (2) is a 1,2-ethylene group; Solvent (C1-9): 2-phenoxy-1-propanol, where R 1 in formula (2) is a 1,2-propylene group; Solvent (C1-10): 3-methylbenzyl alcohol, where R 8 in formula (3) is a methyl group; Solvent (C1-11): 4-methoxybenzyl alcohol, where R 9 in formula (3) is a methoxy group; Solvent (C1-12): 3,4-dimethylbenzyl alcohol, where R 8 and R 9 in formula (3) are methyl groups; Solvent (C1-13): 4-isopropylbenzyl alcohol, where R 9 in formula (3) is an isopropyl group.
<その他溶剤(C2-1)~(C2-4)>
溶剤(C1)に該当しない、その他溶剤(C2)として以下のものを用いた。
・溶剤(C2-1):ベンジルアルコール
・溶剤(C2-2):ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
・溶剤(C2-3):ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
・溶剤(C2-4):2-メトキシプロパノール
<Other solvents (C2-1) to (C2-4)>
The following solvents were used as other solvents (C2) not corresponding to the solvent (C1).
Solvent (C2-1): Benzyl alcohol Solvent (C2-2): Dipropylene glycol monomethyl ether Solvent (C2-3): Diethylene glycol monobutyl ether acetate Solvent (C2-4): 2-methoxypropanol
<架橋剤(D1)>
・架橋剤(D1):
Baxeneden Chemicals社製ブロックイソシアネート溶液、Trixene BI7982、ブロック化されているイソシアネート基を1分子中に3つ含有(官能基価195mgKOH/g)、不揮発分70%(溶剤(C2-4):2-メトキシプロパノール)
<Crosslinking agent (D1)>
Crosslinking agent (D1):
Blocked isocyanate solution manufactured by Baxeneden Chemicals, Trixene BI7982, containing three blocked isocyanate groups per molecule (functionality 195 mg KOH/g), non-volatile content 70% (solvent (C2-4): 2-methoxypropanol)
<製造例1:加飾インキ(E1)の作成>
樹脂(A1)80部、溶剤(C2-3)120部からなる樹脂溶液200部(樹脂(A6)のみとして)を準備し、これにフタロシアニンブルー顔料(トーヨーカラー社製LIONOL BLUE FG7351)20部、酸化チタン顔料(石原産業社製TIPAQUE CR-93)10質量部を撹拌混合し、3本ロールミル(小平製作所製)で混練したのち、イソシアネート架橋剤(住化コベストロウレタン社製デスモジュール N3300、不揮発分100%)5部と溶剤(C2-3)90部を加えて均一に撹拌混合することで加飾インキ(E1)を得た。
<Production Example 1: Preparation of Decorative Ink (E1)>
200 parts of a resin solution consisting of 80 parts of resin (A1) and 120 parts of solvent (C2-3) (resin (A6) only) was prepared, and 20 parts of a phthalocyanine blue pigment (LIONOL BLUE FG7351 manufactured by Toyo Color Co., Ltd.) and 10 parts by mass of a titanium oxide pigment (TIPAQUE CR-93 manufactured by Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd.) were stirred and mixed therein, and the mixture was kneaded with a three-roll mill (manufactured by Kodaira Seisakusho Co., Ltd.). After that, 5 parts of an isocyanate crosslinking agent (DESMODUR N3300 manufactured by Sumika Covestro Urethane Co., Ltd., non-volatile content 100%) and 90 parts of the solvent (C2-3) were added and stirred and mixed uniformly to obtain a decorative ink (E1).
<実施例1:成形フィルム用導電性組成物(F1)の作成>
樹脂(A1)20.0部を溶剤(C1-1)30.0部に溶解させ、導電性微粒子(B1)80.0部と撹拌混合し、3本ロールミル(小平製作所製)で混練したのち、プラネタリーミキサーにより均一に撹拌混合することで成形フィルム用導電性組成物(F1)を得た。
<Example 1: Preparation of conductive composition for molded film (F1)>
20.0 parts of resin (A1) was dissolved in 30.0 parts of solvent (C1-1), stirred and mixed with 80.0 parts of conductive fine particles (B1), kneaded with a three-roll mill (manufactured by Kodaira Seisakusho), and then stirred and mixed uniformly with a planetary mixer to obtain a conductive composition for molded films (F1).
<実施例2~69:成形フィルム用導電性組成物(F2)~(F69)の作成>
実施例1(導電性組成物(F1))において、樹脂、溶剤、導電性微粒子、架橋剤(架橋剤を用いる場合には、架橋剤はプラネタリーミキサーによる均一撹拌混合の直前に加えた)の種類及び配合量を表1~5のように変更した以外は、それぞれ実施例1(導電性組成物(F1))と同様にして、成形フィルム用導電性組成物(F2)~(F69)を得た。
なお、表1~表5中の各材料の数値はいずれも質量部である。
<Examples 2 to 69: Preparation of conductive compositions for molded films (F2) to (F69)>
Conductive compositions for molded films (F2) to (F69) were obtained in the same manner as in Example 1 (conductive composition (F1)), except that the types and amounts of the resin, solvent, conductive fine particles, and crosslinking agent (when a crosslinking agent was used, the crosslinking agent was added immediately before uniform stirring and mixing with a planetary mixer) in Example 1 (conductive composition (F1)) were changed as shown in Tables 1 to 5.
The numerical values for each material in Tables 1 to 5 are all in parts by mass.
<比較例1~6:成形フィルム用導電性組成物(F70)~(F75)の作成>
実施例1(導電性組成物(F1))において、樹脂、溶剤、導電性微粒子、架橋剤の種類及び配合量を表5のように変更した以外は、それぞれ実施例1(導電性組成物(F1))と同様にして、成形フィルム用導電性組成物(F70)~(F75)を得た。
<Comparative Examples 1 to 6: Preparation of Conductive Compositions for Molded Films (F70) to (F75)>
Conductive compositions for molded films (F70) to (F75) were obtained in the same manner as in Example 1 (conductive composition (F1)), except that the types and amounts of the resin, solvent, conductive fine particles, and crosslinking agent in Example 1 (conductive composition (F1)) were changed as shown in Table 5.
<実施例70~138、および比較例7~12>
ポリカーボネート(PC)ベースフィルム(帝人社製、パンライト2151、厚み300μm、300mm×210mm)上に、成形フィルム用導電性組成物(F1)~(F65)をそれぞれスクリーン印刷機(ミノスクリーン社製、ミノマットSR5575半自動スクリーン印刷機)によって印刷速度100mmで印刷した。次いで、熱風乾燥オーブンで120℃で30分加熱することで、幅15mm、長さ30mm、厚み10μmの四角形ベタ状パターン、線幅3mm、長さ60mm、厚み10μmの直線状のパターンおよび線幅150μm、線間距離150μm、長さ60mmのストライプパターンを有する導電層を備えた成形フィルムを得た。
<Examples 70 to 138 and Comparative Examples 7 to 12>
Conductive compositions for molded films (F1) to (F65) were each printed on a polycarbonate (PC) base film (Teijin, Panlite 2151, thickness 300 μm, 300 mm × 210 mm) using a screen printer (Minoscreen, Minomat SR5575 semi-automatic screen printer) at a printing speed of 100 mm. Then, the film was heated in a hot air drying oven at 120° C. for 30 minutes to obtain a molded film having a conductive layer having a square solid pattern with a width of 15 mm, a length of 30 mm, and a thickness of 10 μm, a linear pattern with a line width of 3 mm, a length of 60 mm, and a thickness of 10 μm, and a stripe pattern with a line width of 150 μm, a line spacing of 150 μm, and a length of 60 mm.
<実施例139>
ポリカーボネートベースフィルム(帝人社製、パンライト2151、厚み300μm、300mm×210mm)上に、加飾インキ(G1)を、ブレードコーターを用いて、乾燥膜厚が2μmとなるように塗工し、120℃で30分加熱して加飾層を形成した。
次いで、前記実施例73において、ポリカーボネートベースフィルムの代わりに上記加飾層付きフィルムを用い、加飾層上に導電層を形成した以外は、前記実施例73と同様にして、ポリカーボネートフィルム、加飾インキ層、導電体がこの順に積層された成形フィルムを得た。
<Example 139>
The decorative ink (G1) was applied to a polycarbonate base film (Teijin Limited, Panlite 2151, thickness 300 μm, 300 mm × 210 mm) using a blade coater so that the dry film thickness was 2 μm, and the film was heated at 120° C. for 30 minutes to form a decorative layer.
Next, in Example 73, the above-mentioned film with decorative layer was used instead of the polycarbonate base film, and a conductive layer was formed on the decorative layer, and a molded film having a polycarbonate film, a decorative ink layer, and a conductor laminated in that order was obtained in the same manner as in Example 73.
<実施例140>
前記実施例73において、ポリカーボネートベースフィルムの代わりに、ポリカーボネート樹脂/アクリル樹脂2種2層共押し出しフィルム(住友化学社製、テクノロイC001、厚み125μm、300mm×210mm)を用い、ポリカーボネート樹脂側に成形フィルム用導電性組成物の印刷を行ったこと以外は、前記実施例73と同様にして、成形フィルムを得た。
<Example 140>
In Example 73, a polycarbonate resin/acrylic resin two-layer co-extrusion film (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Technoloy C001, thickness 125 μm, 300 mm × 210 mm) was used instead of the polycarbonate base film, and a conductive composition for molded films was printed on the polycarbonate resin side. A molded film was obtained in the same manner as in Example 73.
<実施例141>
前記実施例73において、ポリカーボネートベースフィルムの代わりに、アクリル樹脂フィルム(住友化学社製、テクノロイS001G、厚み250μm、300mm×210mm)を用いたこと、及び、熱風乾燥オーブンでの乾燥条件を80℃で30分としたこと以外は、前記実施例73と同様にして、成形フィルムを得た。
<Example 141>
A molded film was obtained in the same manner as in Example 73, except that an acrylic resin film (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Technoloy S001G, thickness 250 μm, 300 mm × 210 mm) was used instead of the polycarbonate base film, and the drying conditions in the hot air drying oven were 80 ° C. and 30 minutes.
<実施例142>
前記実施例73において、ポリカーボネートベースフィルムの代わりに、易成形PET樹脂フィルム(森野加工社製、エムロンPETG樹脂シート、厚み250μm、300mm×210mm)を用いたこと、及び、熱風乾燥オーブンでの乾燥条件を70℃で30分としたこと以外は、前記実施例73と同様にして、成形フィルムを得た。
<Example 142>
In the above-mentioned Example 73, a moldable PET resin film (manufactured by Morino Kako Co., Ltd., Emron PETG resin sheet, thickness 250 μm, 300 mm × 210 mm) was used instead of the polycarbonate base film, and the drying conditions in the hot air drying oven were 70 ° C. and 30 minutes. A molded film was obtained in the same manner as in the above-mentioned Example 73.
<実施例143>
前記実施例73において、ポリカーボネートフィルムの代わりに、ポリプロピレンフィルム(出光ユニテック社製、ピュアサーモAG-306、厚み200μm、300mm×210mm)を用いたこと、及び、熱風乾燥オーブンでの乾燥条件を80℃で30分としたこと以外は、前記実施例73と同様にして、成形フィルムを得た。
<Example 143>
In the above-mentioned Example 73, a polypropylene film (Idemitsu Unitech Co., Ltd., Pure Thermo AG-306, thickness 200 μm, 300 mm × 210 mm) was used instead of the polycarbonate film, and the drying conditions in the hot air drying oven were 80 ° C. and 30 minutes. A molded film was obtained in the same manner as in the above-mentioned Example 73.
[(1)体積固有抵抗測定]
上記実施例70~143、および比較例7~12の成形フィルムに形成された、15mm×30mmの四角形ベタ状の導電層について、抵抗率計(三菱化学アナリテック社製、ロレスタGP MCP-T610型抵抗率計、JIS-K7194準拠、4端子4探針法定電流印加方式)(0.5cm間隔の4端子プローブ)を用いて体積固有抵抗(Ω・cm)を測定した。結果を表1~5に示す。
[(1) Volume resistivity measurement]
The volume resistivity (Ω cm) of the 15 mm×30 mm square solid conductive layers formed on the molded films of Examples 70 to 143 and Comparative Examples 7 to 12 was measured using a resistivity meter (Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., Loresta GP MCP-T610 resistivity meter, compliant with JIS-K7194, 4-terminal 4-probe constant current application method) (4-terminal probes spaced 0.5 cm apart). The results are shown in Tables 1 to 5.
[(2)剥離密着性評価]
上記実施例70~143、および比較例7~12の成形フィルムに形成された、15mm×30mmの四角形ベタ状の導電層に対し、ガードナー社製1mm間隔クロスカットガイドを使用してカッターナイフで当該導電層を貫通するように10x10マスの碁盤目状の切れ込みを入れ、ニチバン社製セロハンテープを貼り付け噛み込んだ空気を抜いてよく密着させたのち、垂直に引きはがした。塗膜の剥離度合いをASTM-D3519規格に従って下記のように評価した。結果を表1~5に示す。
(剥離密着性評価基準)
A:評価5B~4B、密着性に優れる
B:評価上は5B~4Bであるが、塗膜が凝集破壊し、表面側の塗膜の一部が脱離する
C:評価3B以下、密着性に劣る
[(2) Peel Adhesion Evaluation]
The conductive layer formed on the molded film of Examples 70 to 143 and Comparative Examples 7 to 12 was cut into a square solid shape of 15 mm x 30 mm with a cutter knife using a 1 mm interval cross-cut guide manufactured by Gardner Co., Ltd., and 10 x 10 grid-like cuts were made so as to penetrate the conductive layer. Cellophane tape manufactured by Nichiban Co., Ltd. was attached to the conductive layer, and after removing trapped air and ensuring good adhesion, the tape was peeled off vertically. The degree of peeling of the coating film was evaluated as follows according to the ASTM-D3519 standard. The results are shown in Tables 1 to 5.
(Evaluation Criteria for Peel Adhesion)
A: Rating 5B to 4B, excellent adhesion B: Rating 5B to 4B, but the coating film suffered cohesive failure and part of the coating film on the surface side was detached C: Rating 3B or lower, poor adhesion
[(3)高速印刷性評価]
上記実施例70~143、および比較例7~12の成形フィルムに形成された、線幅150μm、線間距離150μm、長さ60mmのストライプパターンを、デジタルマイクロスコープ(キーエンス社製VHX-6000)用いて観察し、下記のように評価した。結果を表1~5に示す。
(高速印刷性評価基準)
A:パターンの欠けや掠れが無く、直線性に優れる
B:パターンにやや括れが見られるものの、欠けや掠れが無いか非常に軽微である
C:パターンの欠けや掠れが顕著であり、精細印刷性に劣る
(3) Evaluation of high-speed printing
The stripe patterns formed on the molded films of Examples 70 to 143 and Comparative Examples 7 to 12, each having a line width of 150 μm, a line spacing of 150 μm, and a length of 60 mm, were observed using a digital microscope (Keyence VHX-6000) and evaluated as follows. The results are shown in Tables 1 to 5.
(High-speed printability evaluation criteria)
A: No chipping or scratching of the pattern, excellent linearity. B: Some constriction is observed in the pattern, but chipping or scratching is absent or very slight.
C: There is noticeable chipping or fading of the pattern, and the fine printability is poor.
[(4)配線抵抗評価]
上記実施例70~143、および比較例7~12の成形フィルムに形成された、3mm×60mmの直線状パターンの導電層が真ん中に来るように長手方向に70mm、幅方向に10mmに切り出し、測定用クーポンとした。この測定用クーポン上の導電層とは反対側の面に、長手方向端から当該導電層と垂直な線を目印として油性マジックで4cm間隔に2本書き加えた。この目印に従い、4cm間隔となる位置を、テスターを用いて抵抗値測定し、これを配線抵抗(Ω)とした。結果を表1~5に示す。
(4) Wiring Resistance Evaluation
The molded films of Examples 70 to 143 and Comparative Examples 7 to 12 were cut out to a length of 70 mm and a width of 10 mm so that the conductive layer of the 3 mm x 60 mm linear pattern formed thereon was in the center, and used as measurement coupons. On the surface of the measurement coupon opposite the conductive layer, two lines perpendicular to the conductive layer from the longitudinal end were added with oil-based marker at 4 cm intervals as markers. Following these markers, the resistance values of positions 4 cm apart were measured using a tester, and these were taken as wiring resistance (Ω). The results are shown in Tables 1 to 5.
[(5)熱延伸評価1]
上記実施例70~140、および比較例7~12の前記測定用クーポンを160℃の加熱オーブン中で、長手方向に引っ張り速度10mm/分で伸長率125%まで引き延ばした。オーブンから取出し、冷却後に光学顕微鏡を用いて断線の有無を評価した。また、上記配線抵抗の測定と同様の方法で、元の目印基準で4cm間隔に相当する位置の配線抵抗(Ω)を測定し、伸縮後の配線抵抗/伸縮前の配線抵抗を熱延伸時抵抗変動率(倍)とし、それぞれ以下の基準で評価した。結果を表1~4に示す。
(断線の有無)
A:断線は見られなかった。
B:1~2個の軽微なヒビが確認された
C:重度の断線または導電塗膜の剥離が確認された
(熱延伸時抵抗変動率)
A:5倍以上10倍未満
B:10倍以上100倍未満
C:100倍以上
[(5) Hot Stretching Evaluation 1]
The measurement coupons of Examples 70 to 140 and Comparative Examples 7 to 12 were stretched in the longitudinal direction in a heating oven at 160° C. at a pulling speed of 10 mm/min to an elongation rate of 125%. After removing from the oven and cooling, the presence or absence of disconnection was evaluated using an optical microscope. In addition, the wiring resistance (Ω) was measured at positions corresponding to 4 cm intervals based on the original mark in the same manner as in the measurement of the wiring resistance described above, and the wiring resistance after stretching/wiring resistance before stretching was defined as the resistance variation rate (times) during hot stretching, and each was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 to 4.
(Whether or not there is a break in the wire)
A: No breaks were observed.
B: 1 to 2 minor cracks were observed. C: Severe disconnection or peeling of the conductive coating was observed. (Resistance variation rate during hot stretching)
A: 5 times or more but less than 10 times B: 10 times or more but less than 100 times C: 100 times or more
なお、伸長率は以下のように算出される値である。
(伸長率)[%]={(延伸後の長さ-延伸前の長さ)/(延伸前の長さ)}×100
The elongation rate is a value calculated as follows.
(Elongation rate) [%] = {(length after stretching - length before stretching) / (length before stretching)} x 100
[(6)熱延伸評価2]
前記熱延伸評価1において、伸長率を150%に変更した以外は、前記熱延伸評価1と同様にして、以下の基準で評価した。結果を表1~4に示す。
(断線の有無)
A:断線は見られなかった。
B:1~2個の軽微なヒビが確認された
C:重度の断線または導電塗膜の剥離が確認された
(熱延伸時抵抗変動率)
A:10倍以上100倍未満
B:100倍以上1000倍未満
C:1000倍以上
[(6) Hot Stretching Evaluation 2]
The heat stretching evaluation was performed in the same manner as in the heat stretching evaluation 1, except that the elongation rate was changed to 150%, and the evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 to 4.
(Whether or not there is a break in the wire)
A: No breaks were observed.
B: 1 to 2 minor cracks were observed. C: Severe disconnection or peeling of the conductive coating was observed. (Resistance variation rate during hot stretching)
A: 10 times or more but less than 100 times B: 100 times or more but less than 1000 times C: 1000 times or more
[(7)熱延伸評価3]
上記実施例141~143の前記測定用クーポンを120℃の加熱オーブン中で、長手方向に引っ張り速度10mm/分で伸長率125%まで引き延ばした。オーブンから取出し、冷却後に光学顕微鏡を用いて断線の有無を評価した。また、上記配線抵抗の測定と同様の方法で、元の目印基準で4mm間隔に相当する位置の配線抵抗(Ω)を測定し、伸縮後の配線抵抗/伸縮前の配線抵抗を熱延伸時抵抗変動率(倍)とし、それぞれ以下の基準で評価した。結果を表4に示す。
(断線の有無)
A:断線は見られなかった。
B:1~2個の軽微なヒビが確認された
C:重度の断線または導電塗膜の剥離が確認された
(熱延伸時抵抗変動率)
A:5倍以上10倍未満
B:10倍以上100倍未満
C:100倍以上
[(7) Hot Stretching Evaluation 3]
The measurement coupons of Examples 141 to 143 were stretched in the longitudinal direction in a heating oven at 120° C. at a pulling speed of 10 mm/min to an elongation rate of 125%. After removing from the oven and cooling, the presence or absence of disconnection was evaluated using an optical microscope. In addition, the wiring resistance (Ω) was measured at positions corresponding to 4 mm intervals based on the original mark in the same manner as in the measurement of the wiring resistance described above, and the wiring resistance after stretching/wiring resistance before stretching was defined as the resistance variation rate (times) during hot stretching, and each was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 4.
(Whether or not there is a break in the wire)
A: No breaks were observed.
B: 1 to 2 minor cracks were observed. C: Severe disconnection or peeling of the conductive coating was observed. (Resistance variation rate during hot stretching)
A: 5 times or more but less than 10 times B: 10 times or more but less than 100 times C: 100 times or more
[(8)熱延伸評価4]
前記熱延伸評価3において、伸長率を150%に変更した以外は、前記熱延伸評価3と同様にして、以下の基準で評価した。結果を表4に示す。
(断線の有無)
A:断線は見られなかった。
B:1~2個の軽微なヒビが確認された
C:重度の断線または導電塗膜の剥離が確認された
(熱延伸時抵抗変動率)
A:10倍以上100倍未満
B:100倍以上1000倍未満
C:1000倍以上
[(8) Hot Stretching Evaluation 4]
The heat stretching evaluation was performed in the same manner as in the heat stretching evaluation 3, except that the elongation rate was changed to 150%, and the evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 4.
(Whether or not there is a break in the wire)
A: No breaks were observed.
B: 1 to 2 minor cracks were observed. C: Severe disconnection or peeling of the conductive coating was observed. (Resistance variation rate during hot stretching)
A: 10 times or more but less than 100 times B: 100 times or more but less than 1000 times C: 1000 times or more
[(9)オーバーレイ成形による成形体製造時の工程耐性評価1]
上記実施例70~140、および比較例7~12の成形フィルムの3mm×60mmの直線状パターンの位置と重なるように、高さ10mm、縦横30mmx30mmの直方体状のABS樹脂成形物を導電体側の面と向かい合うように合わせ、TOM成形機(布施真空社製)を用いて設定温度160℃でオーバーレイ成形を行うことで、直方体形状に成形された成形フィルムとABS樹脂成形物とが一体化した成形体を得た。この成形体の直線状パターン配線の削れおよび抵抗変動率を確認した。抵抗変動率は元の目印基準で6cm間隔に相当する位置の配線抵抗(Ω)を測定し、伸縮後の配線抵抗/伸縮前の配線抵抗を熱延伸時抵抗変動率(倍)とし、それぞれ以下の基準で評価した。結果を表1~4に示す。
(断線の有無と抵抗変動率)
A:配線の削れが見られず、かつ抵抗変動率が10倍以上50倍未満
B:1~2箇所の配線の削れによる端部欠けが確認される、または抵抗変動率が50倍以上500倍未満
C:配線の削れによる断線が1箇所以上確認される
[(9) Process resistance evaluation 1 during production of molded body by overlay molding]
A rectangular ABS resin molded product having a height of 10 mm and a length and width of 30 mm x width of 30 mm was placed so as to face the conductor side surface so as to overlap the position of the 3 mm x 60 mm linear pattern of the molded film of Examples 70 to 140 and Comparative Examples 7 to 12, and overlay molding was performed at a set temperature of 160 ° C. using a TOM molding machine (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) to obtain a molded product in which the molded film molded into a rectangular shape and the ABS resin molded product are integrated. The scraping and resistance variation rate of the linear pattern wiring of this molded product were confirmed. The resistance variation rate was evaluated by measuring the wiring resistance (Ω) at a position corresponding to a 6 cm interval based on the original mark, and the wiring resistance after stretching/wiring resistance before stretching was defined as the resistance variation rate (times) during hot stretching, and each was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 to 4.
(Presence or absence of disconnection and resistance fluctuation rate)
A: No scraping of the wiring was observed, and the resistance fluctuation rate was 10 times or more but less than 50 times. B: One or two chipped ends due to scraping of the wiring were observed, or the resistance fluctuation rate was 50 times or more but less than 500 times. C: One or more breaks due to scraping of the wiring were observed.
[(10)オーバーレイ成形による成形体製造時の工程耐性評価2]
上記実施例131~140の成形フィルムの3mm×60mmの直線状パターンを使用し、120℃でオーバーレイ成形を行った以外は、前記オーバーレイ成形による成形体製造時の工程耐性評価1と同様に成形体を得て、オーバーレイ成形時の直線状パターン配線の削れおよび抵抗変動率を評価した。結果を表4に示す。
[(10) Process resistance evaluation 2 during production of molded body by overlay molding]
Except for using the 3 mm×60 mm linear patterns of the molded films of Examples 131 to 140 and carrying out overlay molding at 120° C., molded bodies were obtained in the same manner as in Evaluation 1 of process resistance during production of molded bodies by overlay molding, and the scraping of the linear pattern wiring during overlay molding and the resistance variation rate were evaluated. The results are shown in Table 4.
[(11)フィルムインサート成形による成形体製造時の工程耐性評価1]
上記実施例70~140、および比較例7~12の成形フィルムの3mm×60mmの直線状パターンの位置と重なるように、段差10mm、縦横30mmx30mmの直方体状突起を中央に有するブロック状金属製モールドを導電体側の反対の面と向かい合うように合わせ、TOM成形機(布施真空社製)を用いて設定温度160℃でオーバーレイ成形を行うことで、直方体形状に成形された内側にパターン化導電体を有する成形用フィルムを得た。
次いで、当該直方体形状に成形された成形フィルムを、バルブゲートタイプのインモールド成形用テスト金型が取り付けられた射出成形機(IS170(i5)、東芝機械社製)にセットし、PC/ABS樹脂(LUPOYPC/ABSHI5002、LG化学社製)を射出成形することで、パターン化導電体付き成形用フィルムと一体化された成形体を得た(射出条件:スクリュー径40mm、シリンダー温度260℃ 、金型温度(固定側、可動側)60℃ 、射出圧力160MPa(80%)、保圧力100MPa、射出速度60mm/秒(28%)、射出時間4秒、冷却時間20秒)。この成形体の直線状パターンの溶融樹脂の射出によるウォッシュアウト(溶融熱可塑性樹脂の温度および射出圧による配線パターンの変形や断線)および抵抗変動率を確認した。抵抗変動率は元の目印基準で6cm間隔に相当する位置の配線抵抗(Ω)を測定し、伸縮後の配線抵抗/伸縮前の配線抵抗を熱延伸時抵抗変動率(倍)とし、それぞれ以下の基準で評価した。結果を表1~4に示す。
(断線の有無と抵抗変動率)
A:配線のウォッシュアウトが全く見られず、かつ抵抗変動率が10倍以上50倍未満
B:軽度のウォッシュアウトによる配線の歪みが確認される、または抵抗変動率が50倍以上500倍未満
C:配線のウォッシュアウトによる断線が1箇所以上確認される
[(11) Process resistance evaluation 1 during production of molded body by film insert molding]
A block-shaped metal mold having a rectangular parallelepiped protrusion in the center, measuring 30 mm x 30 mm x 10 mm in height and width, with a step of 10 mm, was placed facing the opposite side of the conductor side so as to overlap the position of the 3 mm x 60 mm linear pattern of the molded films of Examples 70 to 140 and Comparative Examples 7 to 12 above, and overlay molding was performed at a set temperature of 160°C using a TOM molding machine (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) to obtain a moldable film molded into a rectangular parallelepiped shape and having a patterned conductor on the inside.
Next, the molded film molded into the rectangular parallelepiped shape was set in an injection molding machine (IS170 (i5), manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) equipped with a valve gate type in-mold molding test mold, and a PC/ABS resin (LUPOYPC/ABSHI5002, manufactured by LG Chemical Co., Ltd.) was injection molded to obtain a molded body integrated with the molded film with a patterned conductor (injection conditions: screw diameter 40 mm, cylinder temperature 260 ° C., mold temperature (fixed side, movable side) 60 ° C., injection pressure 160 MPa (80%), holding pressure 100 MPa, injection speed 60 mm/sec (28%), injection time 4 seconds, cooling time 20 seconds). Washout due to injection of molten resin of the linear pattern of this molded body (deformation or disconnection of the wiring pattern due to the temperature and injection pressure of the molten thermoplastic resin) and resistance variation rate were confirmed. The resistance variation rate was evaluated by measuring the wiring resistance (Ω) at positions corresponding to 6 cm intervals based on the original mark, and the wiring resistance after stretching/wiring resistance before stretching was defined as the resistance variation rate (times) during thermal stretching. The results are shown in Tables 1 to 4.
(Disconnection and resistance fluctuation rate)
A: No washout of the wiring was observed at all, and the resistance fluctuation rate was 10 times or more but less than 50 times. B: Wiring distortion due to mild washout was observed, or the resistance fluctuation rate was 50 times or more but less than 500 times. C: One or more breaks due to washout of the wiring were observed.
[(12)フィルムインサート成形による成形体製造時の工程耐性評価2]
上記実施例141~143の成形フィルムの3mm×60mmの直線状パターンを使用し、120℃でオーバーレイ成形を行った以外は、前記オーバーレイ成形による成形体製造時の工程耐性評価1と同様に成形体を得て、フィルムインサート成形時の直線状パターンの溶融樹脂射出によるウォッシュアウトの程度および抵抗変動率を評価した。結果を表4に示す。
[(12) Process resistance evaluation 2 during production of molded body by film insert molding]
Except for using the 3 mm x 60 mm linear patterns of the molded films of Examples 141 to 143 and performing overlay molding at 120 ° C., molded bodies were obtained in the same manner as in the process resistance evaluation 1 during the manufacture of molded bodies by overlay molding, and the degree of washout and resistance variation rate due to molten resin injection of the linear pattern during film insert molding were evaluated. The results are shown in Table 4.
[結果のまとめ]
溶剤成分として溶剤(C1)を含有しない比較例1~6の導電性組成物を用いて形成された導電層は、成型フィルムの立体成型工程の際の高温での引き延ばし時に、特に引き延ばし伸度が大きい場合に破断を生じたり、抵抗値が上昇したりすることが明らかとなった。また、速い印刷速度での印刷の際にパターンの欠けや掠れを生じる傾向が見られた。
[Summary of results]
It was found that the conductive layers formed using the conductive compositions of Comparative Examples 1 to 6, which do not contain the solvent (C1) as a solvent component, break or have an increased resistance when stretched at high temperatures during the three-dimensional molding process of the molded film, especially when the stretching elongation is large. In addition, a tendency was observed for chipping or fading of the pattern to occur when printing at a high printing speed.
一方、実施例70~143の結果から、本実施の導電性組成物は、成型フィルムの立体成型工程の際の高温での引き延ばし時に、引き延ばし伸度が大きい場合においても断線が起きず、抵抗値の増大も良好に抑制されていた。これは本実施の導電性組成物の溶剤成分が特定の芳香族アルコール構造を有する溶剤(C1)を含むことにより、樹脂(A)成分の高分子鎖が溶媒(C)中で広く展開しかつ導電層形成時には高分子鎖同士がよく絡まりあうことで、成形時の高温下・大伸度での引き延ばしに耐える優れた導電層の高温時凝集力・導電保持特性を発揮し、かつ速い印刷速度での印刷性をも損なうことなく両立されたものと推定される。また同時に溶剤(C1)の含有により、導電層足場として重要なベースフィルムの導電層との界面近傍における溶剤浸潤が高度に抑制されたことも、成形時の高温下・大伸度での引き延ばしの際の破断抑制や、印刷欠陥の抑制(印刷時の基材接触の瞬間の溶剤吸収による導電性組成物の粘度上昇抑制によると推察される)に奏功したと推察される。このような成形時の高温下・大伸度での引き延ばしと速い印刷速度での印刷性の特性バランス両立は、さらに、主鎖中に環状構造を有する樹脂、とりわけ上記環状構造として芳香環構造とエステル結合とを同時に有する樹脂と併用した際に、特に抵抗値上昇や印刷時の欠陥が生じ難い点で特に優れていた。これは、成形温度における軟化時の樹脂(A)高分子鎖の絡まりあいの中から高分子鎖がよりすり抜けにくく、破断の切欠となるボイドが形成されにくくなることによると考えられる。このような特性を発現する機構には不明な点もあるが、樹脂(A)と溶剤(C1)との構造類似性からくる極性的親和性がより高いことにより、より樹脂(A)成分の高分子鎖が溶媒(C)中で広く展開し適度な流動性を発揮しかつ導電層形成時には高分子鎖同士がよく絡まりあい、導電層内で導電粒子間の繋がり(導電パス)の切断に繋がるような、ミクロスケールでの局所的応力集中を抑制可能な強靭性を発現するためと推察している。 On the other hand, from the results of Examples 70 to 143, the conductive composition of this embodiment did not break even when the stretching elongation was large when stretched at high temperatures during the three-dimensional molding process of the molded film, and the increase in resistance value was also well suppressed. This is presumably because the solvent component of the conductive composition of this embodiment contains a solvent (C1) having a specific aromatic alcohol structure, so that the polymer chains of the resin (A) component are widely spread in the solvent (C) and the polymer chains are well entangled when the conductive layer is formed, thereby exhibiting excellent cohesive force and conductivity retention properties at high temperatures of the conductive layer that can withstand stretching at high temperatures and large elongations during molding, and also achieving printability at high printing speeds without impairing both. At the same time, the inclusion of the solvent (C1) is believed to have been effective in suppressing the infiltration of the solvent near the interface between the base film and the conductive layer, which is important as the scaffolding for the conductive layer, and in suppressing breakage during stretching at high temperatures and large elongations during molding, and in suppressing printing defects (presumably due to suppression of the increase in viscosity of the conductive composition due to solvent absorption at the moment of contact with the substrate during printing). The balance of properties between stretching at high temperatures and large elongations during molding and printability at high printing speeds was particularly excellent in that resistance value increases and defects during printing are unlikely to occur when used in combination with a resin having a cyclic structure in the main chain, particularly a resin having an aromatic ring structure and an ester bond as the cyclic structure. This is believed to be due to the fact that the polymer chains are less likely to slip through the entanglement of the polymer chains of the resin (A) when softened at the molding temperature, making it less likely to form voids that become notches for breakage. Although the mechanism by which these properties are expressed remains unclear, it is speculated that the higher polar affinity resulting from the structural similarity between resin (A) and solvent (C1) allows the polymer chains of the resin (A) component to spread more widely in solvent (C) and exhibit moderate fluidity, and that the polymer chains become well entangled when the conductive layer is formed, resulting in the expression of toughness capable of suppressing localized stress concentrations on a microscale that could lead to the severing of connections (conductive paths) between conductive particles within the conductive layer.
また上記特性により、本発明の導電性組成物の導電層を備えた成形フィルムによれば、基材面が平坦でない立体形状、とりわけ急峻な段差等がある複雑な立体形状であっても、優れた配線一体型の成形体が得られた。 In addition, due to the above-mentioned characteristics, a molded film having a conductive layer of the conductive composition of the present invention can produce an excellent wiring-integrated molded product even when the substrate surface has an uneven three-dimensional shape, particularly a complex three-dimensional shape with steep steps.
このように、本実施の導電性組成物を用いた成形フィルムおよび配線一体型の成形体は、家電製品、自動車用部品、ロボット、ドローンなどのプラスチック筐体および立体形状部品へ直接、デザイン自由度を損なうことなく軽量かつ省スペースな回路の作り込みやタッチセンサー・アンテナ・発熱体(ヒーター)・電磁波シールド・インダクタ(コイル)・抵抗体の作り込みや、・各種電子部品の実装を行うことを可能にする。また、電子機器の軽薄短小化および設計自由度の向上、多機能化に極めて有用である。 In this way, the molded films and wiring-integrated molded bodies using the conductive composition of this embodiment can be directly applied to plastic housings and three-dimensional parts for home appliances, automobile parts, robots, drones, etc., making it possible to fabricate lightweight, space-saving circuits, touch sensors, antennas, heating elements (heaters), electromagnetic shields, inductors (coils), resistors, and mount various electronic components without compromising design freedom. They are also extremely useful for making electronic devices lighter, thinner, shorter, and smaller, improving design freedom, and increasing functionality.
1 ベースフィルム
2 導電層
3 加飾層
4 電子部品
5 ピン
10 成形フィルム
11 金型
12 射出成形用金型
13 開口部
14 射出
15 上昇
16 加圧
17 樹脂
20 基材
21 上側チャンバーボックス
22 下側チャンバーボックス
30 成形体
Reference Signs List 1 Base film 2 Conductive layer 3 Decorative layer 4 Electronic component 5 Pin 10 Molded film 11 Mold 12 Injection mold 13 Opening 14 Injection 15 Rising 16 Pressurizing 17 Resin 20 Substrate 21 Upper chamber box 22 Lower chamber box 30 Molded body
Claims (10)
樹脂(A)と、導電性微粒子(B)と、溶剤(C)と、を含有し、
前記溶剤(C)が、下記式(1)~(3)で示される溶剤(C1)を含み、
前記樹脂(A)が、主鎖中に芳香環構造およびエステル結合を有する樹脂を含み、
前記溶剤(C1)が、下記条件(A)および/または(B)を満たす、成形フィルム用導電性組成物。
R2~R6はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示す。
またR7~R11はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはメトキシ基を示し、R7~R11のうち、少なくとも1つは、メチル基、エチル基またはメトキシ基である。]
条件(A):前記溶剤(C1)が、前記式(1)で示される溶剤を含み、かつ式(1)中のR 1 が1,1-エチレン基、1,2-エチレン基、1,1-プロピレン基、1,2-プロピレン基、2,2-プロピレン基、または1,3-プロピレン基からなる群より選ばれる1種である。
条件(B):前記溶剤(C1)が、前記式(3)で示される溶剤を含み、かつ式(3)中のR 7 ~R 11 のうち、1つまたは2つが、メチル基、エチル基またはメトキシ基である。
A conductive composition for producing a molded film for forming a conductive layer on a substrate surface having an uneven surface or a three-dimensional curved surface, comprising:
Contains a resin (A), conductive fine particles (B), and a solvent (C),
The solvent (C) contains a solvent (C1) represented by the following formulas (1) to (3),
The resin (A) contains a resin having an aromatic ring structure and an ester bond in its main chain,
The conductive composition for a molded film , wherein the solvent (C1) satisfies the following condition (A) and/or (B) :
R 2 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R 7 to R 11 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a methoxy group, and at least one of R 7 to R 11 is a methyl group, an ethyl group, or a methoxy group.]
Condition (A): The solvent (C1) contains a solvent represented by the formula (1), and R 1 in the formula (1) is one selected from the group consisting of a 1,1-ethylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,1-propylene group, a 1,2-propylene group, a 2,2-propylene group, and a 1,3-propylene group.
Condition (B): The solvent (C1) contains a solvent represented by the formula (3), and one or two of R 7 to R 11 in the formula (3) are a methyl group, an ethyl group, or a methoxy group.
前記導電層が、請求項1~3のいずれか一項記載の成形フィルム用導電性組成物の硬化物からなる、成形フィルム。 A molded film having a conductive layer on a base film,
A molded film, wherein the conductive layer is made of a cured product of the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 .
前記導電層が、請求項1~3のいずれか一項記載の成形フィルム用導電性組成物の硬化物からなる、成形フィルム。 A molded film having a decorative layer and a conductive layer on a base film,
A molded film, wherein the conductive layer is made of a cured product of the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 .
前記導電層が、請求項1~3のいずれか一項記載の成形フィルム用導電性組成物の硬化物である、成形体。 A molded article having a conductive layer laminated on a substrate,
A molded article, wherein the conductive layer is a cured product of the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 .
基材上に前記成形フィルムを配置する工程と、
オーバーレイ成形法により、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む、成形体の製造方法。 A step of producing a molded film by printing the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 on a base film and drying it;
placing the formed film on a substrate;
and a step of integrating the molded film and the substrate by an overlay molding method.
前記成形フィルムを所定の形状に成形する工程と、
成形後の前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルムと前記基材とを一体化する工程と、を含む、成形体の製造方法。 A step of producing a molded film by printing the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 on a base film and drying it;
forming the formed film into a predetermined shape;
placing the formed film in an injection mold;
A method for producing a molded article, comprising the steps of: molding a substrate by injection molding; and integrating the molded film with the substrate.
前記成形フィルムを、射出成形用の型内に配置する工程と、
射出成形により基材を成形すると共に、前記成形フィルム中の導電層を基材側に転写する工程と、を含む、成形体の製造方法。 A step of producing a molded film by printing the conductive composition for molded films according to any one of claims 1 to 3 on a base film and drying it;
placing the formed film in an injection mold;
A method for producing a molded article, comprising the steps of: molding a substrate by injection molding; and transferring a conductive layer in the molded film to the substrate.
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