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JP7697456B2 - Biaxially oriented film - Google Patents
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Description

本発明は耐熱性、耐折性に優れた二軸延伸フィルムに関する。 The present invention relates to a biaxially stretched film with excellent heat resistance and folding resistance.

ポリエステルは、耐熱性、耐候性、機械的強度、透明性、耐薬品性、ガスバリア性などの性質に優れており、かつ、価格的にも入手し易いことから、汎用性が高く、現在、飲料・食品用容器や包装材、成形品、フィルムなどに広く利用されている樹脂である。ポリエステル樹脂の主なものはポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と記載することがある)であり、機械特性、電気特性、耐薬品性などに優れていて巾広い用途があるが、耐熱性、耐折性などに難点がある。 Polyester has excellent properties such as heat resistance, weather resistance, mechanical strength, transparency, chemical resistance, and gas barrier properties, and is also readily available at a reasonable price, making it a versatile resin that is currently widely used in beverage and food containers and packaging materials, molded products, films, etc. The main polyester resin is polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes written as "PET"), which has excellent mechanical properties, electrical properties, chemical resistance, etc. and a wide range of applications, but has drawbacks such as poor heat resistance and folding resistance.

また、酸成分としてナフタレンジカルボン酸を用いたものとしては、ナフタレンジカルボン酸と1,4-ブタンジオールを重合させたポリブチレンナフタレート(PBN)が知られているが、ガラス転移温度が75℃程度、融点が240℃程度と低いため、耐熱性に問題がある。
また、結晶化速度が速すぎるため押出成形によるフィルム製膜に不向きな点がある。
As a material using naphthalenedicarboxylic acid as an acid component, polybutylene naphthalate (PBN) obtained by polymerizing naphthalenedicarboxylic acid and 1,4-butanediol is known. However, since the glass transition temperature of PBN is low at about 75° C. and the melting point is low at about 240° C., there is a problem with heat resistance.
In addition, the crystallization speed is too fast, making it unsuitable for film formation by extrusion molding.

一方、近年、フレキシブルなディスプレイに対するニーズが高まってきている中で、耐熱性が高く、復元性に優れ、繰り返しの折り曲げ耐性に優れるフィルムが強く求められている。On the other hand, with the increasing need for flexible displays in recent years, there is a strong demand for films that are highly heat resistant, have excellent recovery properties, and are resistant to repeated bending.

例えば、特許文献1には、環状オレフィン樹脂フィルムによる、繰り返しの折り曲げ耐性のフィルムが検討されている。For example, Patent Document 1 considers a film made of a cyclic olefin resin that is resistant to repeated bending.

また、耐熱性や耐屈曲性の優れたフィルムとして、ポリイミドフィルムが提案されている(特許文献2)。In addition, polyimide film has been proposed as a film with excellent heat resistance and bending resistance (Patent Document 2).

また、特許文献3には全アルコール成分中にビスフェノール化合物又はその誘導体のエチレンオキサイド付加物を配合することによって、耐熱性を損なうことなく結晶性を向上させたポリエチレンナフタレート樹脂が提案されている。Furthermore, Patent Document 3 proposes a polyethylene naphthalate resin that has improved crystallinity without impairing heat resistance by blending an ethylene oxide adduct of a bisphenol compound or its derivative in the total alcohol component.

また、特許文献4には酸成分に2,6-ナフタレンジカルボン酸、グリコール成分にビスフェノール系化合物と1,4-シクロヘキサンジメタノールを配合することで、耐熱性、耐衝撃強度などを改良した改質ポリエステル樹脂が提案されている。Furthermore, Patent Document 4 proposes a modified polyester resin that has improved heat resistance, impact strength, etc., by blending 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as the acid component and a bisphenol compound and 1,4-cyclohexanedimethanol as the glycol component.

さらに、特許文献5には、全アルコール成分中にN,N-ビス-(2-ヒドロキシエチル)-4-4’-ビフタルイミドを配合することによって、高ガラス転移温度を有するポリエチレンナフタレート樹脂が開示されている。Furthermore, Patent Document 5 discloses a polyethylene naphthalate resin having a high glass transition temperature by blending N,N-bis-(2-hydroxyethyl)-4-4'-biphthalimide in the total alcohol component.

特開2014-104687号公報JP 2014-104687 A 国際公開第2016/060213号International Publication No. 2016/060213 特開平8-48759号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-48759 特開2004-107559号公報JP 2004-107559 A 特表2015-504105号公報Special table 2015-504105 publication

しかしながら、特許文献1に開示されているフィルムは、繰り返しの折り曲げ耐性のレベルとしては低く、市場の要求を満たすものではなかった。
また、環状オレフィン系樹脂は塗工性、接着性に乏しいため、フレキシブルディスプレイ用部材として他部材との積層が困難であると考えられる。
However, the film disclosed in Patent Document 1 has a low level of resistance to repeated folding, and does not satisfy market demands.
Furthermore, since cyclic olefin resins have poor coating properties and adhesive properties, it is believed that lamination with other materials when used as materials for flexible displays is difficult.

また、特許文献2に記載のポリイミドフィルムは耐屈曲性を有するものの、その製造プロセスにおいて、溶剤を使用した塗布による成形方法であるため、生産性が悪く、コストもかかる。Furthermore, although the polyimide film described in Patent Document 2 is flex-resistant, its manufacturing process involves a molding method using a coating of a solvent, which results in poor productivity and is costly.

特許文献3に記載のポリエチレンナフタレート樹脂は全アルコール成分中にビスフェノール化合物又はその誘導体のエチレンオキサイド付加物を配合することによって、結晶化速度を向上させ、原料乾燥時のトラブルを改善し、成形性を向上させたものであるが、結晶化速度が速すぎると押出成形によるフィルムの製膜性、延伸性が悪くなるため、延伸フィルムに適さない。The polyethylene naphthalate resin described in Patent Document 3 has an improved crystallization rate, improved problems that occur during drying of the raw material, and improved moldability by blending an ethylene oxide adduct of a bisphenol compound or its derivative into the total alcohol component. However, if the crystallization rate is too fast, the film formability and stretchability of the film produced by extrusion molding deteriorate, making it unsuitable for stretched film.

特許文献4に記載の改質ポリエステル樹脂は高い耐熱性を発現する反面、成形時の温度を高く設定しなくてはならず、熱分解性の懸念が顕在化し、成形性や成型後の材料の特性が低下する可能性がある。While the modified polyester resin described in Patent Document 4 exhibits high heat resistance, the temperature during molding must be set high, which may result in concerns about thermal decomposition and a decrease in moldability and the properties of the material after molding.

特許文献5に記載のポリエチレンナフタレート樹脂は、極めて優れた耐熱性を有するが、剛直なビフタルイミド骨格を有するジオール成分を配合しているため、耐折性が悪化する可能性がある。The polyethylene naphthalate resin described in Patent Document 5 has extremely excellent heat resistance, but because it contains a diol component with a rigid biphthalimide skeleton, there is a possibility that its folding resistance may deteriorate.

本発明で解決しようとする課題は、上記の問題点を解決し、耐折性、耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを提供することにある。The problem to be solved by this invention is to solve the above problems and provide a biaxially stretched film that has excellent folding resistance and heat resistance.

本発明者らは、上記課題を達成するために鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成するに至った。本発明は、以下の態様を有するものである。
[1]ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際のヒステリシスロス率の平均値が47.0%以下である、二軸延伸フィルム。
[2]ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際の残留ひずみの平均値が0.900%以下である、二軸延伸フィルム。
[3]前記ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)が、ジカルボン酸成分(a-1)として2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、ジオール成分(a-2)としてビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位と、を含む、上記[1]又は[2]に記載の二軸延伸フィルム。
[4]全ジカルボン酸成分中、前記(a-1)以外のその他のジカルボン酸成分としてのテレフタル酸単位が2モル%未満である、上記[3]に記載の二軸延伸フィルム。
[5]全ジオール成分中、前記(a-2)以外のその他のジオール成分としてのビフタルイミド骨格を有するジオール単位が1モル%未満である、上記[3]又は[4]に記載の二軸延伸フィルム。
[6]ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、ジカルボン酸成分(a-1)及びジオール成分(a-2)を含み、前記ジカルボン酸成分(a-1)は、少なくとも2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、前記ジオール成分(a-2)は、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位の2成分からなり、前記全ジカルボン酸成分中、前記(a-1)以外のその他のジカルボン酸成分としてのテレフタル酸単位は2モル%未満である、二軸延伸フィルム。
[7]前記ジオール成分(a-2)中に、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位を4モル%以上70モル%以下含有し、エチレングリコール単位を30モル%以上96モル%以下含有する上記[3]~[6]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルム。
[8]ガラス転移温度が75℃以上150℃以下である上記[1]~[7]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルム。
[9]結晶融解温度が220℃以上300℃以下である上記[1]~[8]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルム。
[10]厚みが1μm以上250μm以下である上記[1]~[9]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルム。
[11]ディスプレイ用である上記[1]~[10]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルム。
[12]上記[1]~[11]のいずれか1つに記載の二軸延伸フィルムを備えたフォルダブルディスプレイ。
The present inventors have conducted extensive research to achieve the above object, and as a result have completed the present invention. The present invention has the following aspects.
[1] A biaxially oriented film comprising a polyethylene naphthalate copolymer (A), the film having an average hysteresis loss rate of 47.0% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of MD and TD.
[2] A biaxially oriented film comprising a polyethylene naphthalate copolymer (A), the film having an average residual strain of 0.900% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions.
[3] The biaxially stretched film according to the above [1] or [2], wherein the polyethylene naphthalate-based copolymer (A) contains a 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit as the dicarboxylic acid component (a-1), and contains a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit as the diol component (a-2).
[4] The biaxially stretched film according to the above [3], wherein the content of terephthalic acid units as dicarboxylic acid components other than the (a-1) in all dicarboxylic acid components is less than 2 mol%.
[5] The biaxially stretched film according to the above [3] or [4], wherein the content of diol units having a biphthalimide skeleton as diol components other than the (a-2) in all diol components is less than 1 mol%.
[6] A biaxially stretched film comprising a polyethylene naphthalate copolymer (A), a dicarboxylic acid component (a-1) and a diol component (a-2), the dicarboxylic acid component (a-1) containing at least a 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit, the diol component (a-2) consisting of a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit, and the content of terephthalic acid units as dicarboxylic acid components other than the (a-1) in the total dicarboxylic acid components is less than 2 mol%.
[7] The biaxially stretched film according to any one of the above [3] to [6], wherein the diol component (a-2) contains 4 mol% or more and 70 mol% or less of bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol units and 30 mol% or more and 96 mol% or less of ethylene glycol units.
[8] The biaxially stretched film according to any one of the above [1] to [7], having a glass transition temperature of 75° C. or higher and 150° C. or lower.
[9] The biaxially stretched film according to any one of the above [1] to [8], having a crystalline melting temperature of 220° C. or higher and 300° C. or lower.
[10] The biaxially stretched film according to any one of [1] to [9] above, having a thickness of 1 μm or more and 250 μm or less.
[11] The biaxially stretched film according to any one of the above [1] to [10], which is for a display.
[12] A foldable display comprising the biaxially stretched film according to any one of [1] to [11] above.

本発明によれば、耐折性、耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを提案することができる。 According to the present invention, it is possible to propose a biaxially stretched film having excellent folding resistance and heat resistance.

応力-ひずみ曲線のプロファイルである。1 is a profile of a stress-strain curve.

以下、本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施形態に限定されるものではない。The present invention will be described in detail below. However, the present invention is not limited to the embodiments described below.

<二軸延伸フィルム>
本発明の実施形態において、第一の態様の二軸延伸フィルムは、ポリエチレンナフタレート(以下「PEN」と記載することがある)系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際のヒステリシスロス率の平均値が47.0%以下である。
<Biaxially stretched film>
In an embodiment of the present invention, the biaxially stretched film of the first aspect contains a polyethylene naphthalate (hereinafter sometimes referred to as "PEN")-based copolymer (A), and has an average hysteresis loss rate of 47.0% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions.

第二の態様の二軸延伸フィルムは、ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際の残留ひずみの平均値が0.900%以下である。 The biaxially stretched film of the second embodiment contains a polyethylene naphthalate-based copolymer (A) and has an average residual strain of 0.900% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions.

第三の態様の二軸延伸フィルムは、ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、ジカルボン酸成分(a-1)及びジオール成分(a-2)を含み、前記ジカルボン酸成分(a-1)は、少なくとも2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、前記ジオール成分(a-2)は、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位の2成分からなり、前記全ジカルボン酸成分中、前記(a-1)以外のその他のジカルボン酸成分としてのテレフタル酸単位は2モル%未満である。
本フィルムは、二軸延伸フィルムであるため、薄膜とすることができ、かつ、耐折性に優れる。
なお、MDはフィルムの流れ方向を意味し、TDはMDに対して垂直の方向を意味する。また、上記第一の態様~第三の態様の二軸延伸フィルムを「本フィルム」と称することがある。
The biaxially stretched film of the third embodiment contains a polyethylene naphthalate-based copolymer (A), a dicarboxylic acid component (a-1) and a diol component (a-2), the dicarboxylic acid component (a-1) contains at least a 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit, the diol component (a-2) is composed of two components, a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit, and the content of terephthalic acid units as dicarboxylic acid components other than the (a-1) in all the dicarboxylic acid components is less than 2 mol%.
Since the present film is a biaxially oriented film, it can be made thin and has excellent folding resistance.
In addition, MD means the machine direction of the film, and TD means the direction perpendicular to MD. The biaxially stretched films of the first to third embodiments may be referred to as "the film of the present invention."

本発明は、ヒステリシスロス率又は残留ひずみが特定の値以下であるPEN系共重合体を含む二軸延伸フィルムが、ディスプレイ用フィルムとして優れた耐折性、耐熱性を有し、特にフォルダブル用途に適することを見出し、完成したものである。
本フィルムは、ヒステリシスロス率又は残留ひずみが低いため、復元性に優れており、耐折性が発現しているものと考えている。
また、特定の組成を有するPEN系共重合体を含む二軸延伸フィルムも、ディスプレイ用フィルムとして優れた耐折性、耐熱性を有し、特にフォルダブル用途に適する。
The present invention was completed based on the discovery that a biaxially oriented film containing a PEN-based copolymer having a hysteresis loss rate or residual strain of a specific value or less has excellent folding resistance and heat resistance as a display film, and is particularly suitable for foldable applications.
This film has a low hysteresis loss rate or residual strain, which is believed to be why it has excellent recovery properties and folding resistance.
Furthermore, a biaxially stretched film containing a PEN-based copolymer having a specific composition also has excellent folding resistance and heat resistance as a display film, and is particularly suitable for foldable applications.

1.物性
まず、本フィルムの物性について説明する。
1. Physical Properties First, the physical properties of the present film will be described.

(1)ヒステリシスロス率
本フィルムの23℃におけるMD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際のヒステリシスロス率の平均値が47.0%以下であり、より好ましくは46.0%以下、更に好ましくは45.0%以下、より更に好ましくは44.0%以下である。下限は特に限定されるものではないが、0.100%以上である。
ヒステリシスロス率が47.0%以下であることで、フィルムの復元力が大きくなってフィルムの折り曲げ耐性(耐折性)が実用範囲内に保たれる。
また、ヒステリシスロス率をMDとTDそれぞれの方向の平均値とすることで、フィルム全体としての特性指標とすることができる。ヒステリシスロス率は延伸条件などによって調整することができる。
本フィルムのヒステリシスロス率はJIS K 7312:1996に準じて、実施例に記載の方法により測定することができる。
より具体的には、引張サイクル試験によって、図1に示すような応力-ひずみ曲線のグラフが得られた場合に、abcefで囲まれた面積の、全体(abcda)の面積に対する比率がヒステリシスロス率と定義される。
(1) Hysteresis loss rate When the present film is subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions at 23° C., the average hysteresis loss rate is 47.0% or less, more preferably 46.0% or less, even more preferably 45.0% or less, and even more preferably 44.0% or less. The lower limit is not particularly limited, but is 0.100% or more.
When the hysteresis loss rate is 47.0% or less, the restoring force of the film is increased, and the bending resistance (folding resistance) of the film is kept within a practical range.
In addition, the hysteresis loss rate can be used as an index of the overall properties of the film by averaging the hysteresis loss rate in both the MD and TD directions. The hysteresis loss rate can be adjusted by the stretching conditions, etc.
The hysteresis loss rate of the present film can be measured in accordance with JIS K 7312:1996 by the method described in the Examples.
More specifically, when a stress-strain curve such as that shown in FIG. 1 is obtained by a tensile cycle test, the ratio of the area enclosed by abcef to the total area (abcd) is defined as the hysteresis loss rate.

また、本フィルムの23℃におけるMD及びTD方向のヒステリシスロス率は、それぞれ47.0%以下であることが好ましく、より好ましくは46.0%以下、更に好ましくは45.0%以下、より更に好ましくは44.0%以下である。MD及びTDのうち一方のヒステリシスロス率が上記数値範囲内であることが好ましく、MD及びTDの両方のヒステリシスロス率が上記数値範囲内であることがより好ましい。 The hysteresis loss rate of the film in the MD and TD directions at 23°C is preferably 47.0% or less, more preferably 46.0% or less, even more preferably 45.0% or less, and even more preferably 44.0% or less. It is preferable that the hysteresis loss rate in one of the MD and TD is within the above numerical range, and it is more preferable that the hysteresis loss rates in both the MD and TD are within the above numerical range.

さらに、本フィルムの23℃におけるMD及びTD方向のヒステリシスロス率の差は20.0%以下であることが好ましく、より好ましくは15.0%以下であり、更に好ましくは10.0%以下である。
MD及びTD方向のヒステリシスロス率の差が上記数値範囲内であることにより、フィルムの折り曲げ耐性、ひいては各種フィルム特性の異方性が小さくなるため、フィルムを部材として使用する際や、二次加工時に特定の方向を選択する必要がなく、また異方性による特定方向のみの不具合が起こりにくいため、ハンドリング性にも優れるフィルムとなる。
なお、本発明の第一の態様に係る発明は、23℃におけるMD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際の上記ヒステリシスロス率の平均値が47.0%以下であることを要し、さらに次に記載する残留ひずみの要件を満足することが好ましい。
Furthermore, the difference in hysteresis loss rate between the MD and TD directions of the present film at 23° C. is preferably 20.0% or less, more preferably 15.0% or less, and even more preferably 10.0% or less.
When the difference in hysteresis loss rate between the MD and TD directions is within the above numerical range, the bending resistance of the film and, ultimately, the anisotropy of various film properties are reduced, so that there is no need to select a specific direction when using the film as a component or during secondary processing. In addition, since problems in only a specific direction due to anisotropy are unlikely to occur, the film has excellent handleability.
In addition, the invention related to the first aspect of the present invention requires that the average value of the above-mentioned hysteresis loss rate when a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions at 23°C is 47.0% or less, and further preferably satisfies the following residual strain requirement.

(2)残留ひずみ
本フィルムの23℃におけるMD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際の残留ひずみの平均値が0.900%以下であり、より好ましくは0.890%以下、さらに好ましくは0.880%以下、より更に好ましくは0.870%以下である。下限は特に限定されるものではないが、0.100%以上である。
残留ひずみが0.900%以下であることで、フィルムの復元力が大きくなって、フィルムの折り曲げ耐性(耐折性)が実用範囲内に保たれる。
また、残留ひずみをMDとTDそれぞれの方向の平均値とすることで、フィルム全体としての特性指標とすることができる。残留ひずみは延伸条件などによって調整することができる。
本フィルムの残留ひずみはJIS K 7312:1996に準じて、実施例に記載の方法により測定することができる。
より具体的には、引張サイクル試験によって、図1に示すような応力-ひずみ曲線のグラフが得られた場合に、fの値が残留ひずみと定義される。
(2) Residual Strain The average value of the residual strain when the present film is subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of the MD and TD directions at 23° C. is 0.900% or less, more preferably 0.890% or less, further preferably 0.880% or less, and further more preferably 0.870% or less. The lower limit is not particularly limited, but is 0.100% or more.
By keeping the residual strain at 0.900% or less, the restoring force of the film is increased, and the bending resistance (folding resistance) of the film is kept within a practical range.
In addition, the residual strain can be used as an index of the overall properties of the film by averaging the residual strain in both the MD and TD directions. The residual strain can be adjusted by adjusting the stretching conditions, etc.
The residual strain of the present film can be measured in accordance with JIS K 7312:1996 by the method described in the Examples.
More specifically, when a stress-strain curve such as that shown in FIG. 1 is obtained by a tensile cycle test, the value of f is defined as the residual strain.

また、本フィルムの23℃におけるMD及びTD方向の残留ひずみは、それぞれ0.900%以下であることが好ましく、より好ましくは0.890%以下、更に好ましくは0.880%以下、より更に好ましくは0.870%以下である。
MD及びTDのうち一方の残留ひずみが上記数値範囲内であることが好ましく、MD及びTDの両方の残留ひずみが上記数値範囲内であることがより好ましい。
The residual strain in the MD and TD directions of the present film at 23° C. is preferably 0.900% or less, more preferably 0.890% or less, even more preferably 0.880% or less, and still more preferably 0.870% or less.
It is preferable that the residual strain in one of MD and TD is within the above-mentioned numerical range, and it is more preferable that the residual strain in both MD and TD is within the above-mentioned numerical range.

さらに、本フィルムの23℃におけるMD及びTD方向の残留ひずみの差は0.900%以下であることが好ましく、より好ましくは0.500%以下であり、更に好ましくは0.200%以下であり、より更に好ましくは0.100%以下である。
MD及びTD方向の残留ひずみの差が上記数値範囲内であることにより、フィルムの折り曲げ耐性、ひいては各種フィルム特性の異方性が小さくなるため、フィルムを部材として使用する際や、二次加工時に特定の方向を選択する必要がなく、また、異方性による特定方向のみの不具合が起こりにくいため、ハンドリング性にも優れるフィルムとなる。
Furthermore, the difference in residual strain between the MD and TD directions of the present film at 23° C. is preferably 0.900% or less, more preferably 0.500% or less, even more preferably 0.200% or less, and still more preferably 0.100% or less.
When the difference in residual strain between the MD and TD directions is within the above numerical range, the bending resistance of the film and, ultimately, the anisotropy of various film properties is reduced, so that there is no need to select a specific direction when using the film as a component or during secondary processing.In addition, since problems in only a specific direction due to anisotropy are unlikely to occur, the film also has excellent handleability.

(3)ガラス転移温度
本フィルムのガラス転移温度(Tg)は、75℃以上150℃以下であることが好ましい。76℃以上140℃以下がより好ましく、77℃以上130℃以下が更に好ましい。Tgが75℃以上であれば、本フィルムはディスプレイ用途で用いた際に変形することがないため、耐熱性に優れたものといえる。
一方、Tgが150℃以下であれば、加工性にも適したものとなる。
本フィルムのガラス転移温度(Tg)は、JIS K7121(2012年)に準じて示差走査熱量計(DSC)を用いて加熱速度10℃/分で測定するものである。
(3) Glass Transition Temperature The glass transition temperature (Tg) of the present film is preferably from 75° C. to 150° C., more preferably from 76° C. to 140° C., and even more preferably from 77° C. to 130° C. If the Tg is 75° C. or higher, the present film will not deform when used for display purposes, and therefore can be said to have excellent heat resistance.
On the other hand, if the Tg is 150° C. or less, the material is suitable for processability.
The glass transition temperature (Tg) of the present film is measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10° C./min in accordance with JIS K7121 (2012).

(4)結晶融解温度
本フィルムの結晶融解温度(Tm)は220℃以上300℃以下であることが好ましい。特に221℃以上295℃以下であることがより好ましく、222℃以上290℃以下であることがさらに好ましく、223℃以上285℃以下であることがとりわけ好ましい。本フィルムの結晶融解温度Tmがかかる範囲であれば、本フィルムは耐熱性と溶融押出成形性のバランスに優れる。ここで、結晶融解温度TmはJIS K7121(2012年)に準じて、本フィルムについて示差走査熱量計(DSC)を用いて加熱速度10℃/分で測定するものである。
(4) Crystalline melting temperature The crystalline melting temperature (Tm) of the present film is preferably 220°C or higher and 300°C or lower. In particular, it is more preferably 221°C or higher and 295°C or lower, even more preferably 222°C or higher and 290°C or lower, and particularly preferably 223°C or higher and 285°C or lower. If the crystalline melting temperature Tm of the present film is within this range, the present film has an excellent balance between heat resistance and melt extrusion moldability. Here, the crystalline melting temperature Tm is measured for the present film using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10°C/min in accordance with JIS K7121 (2012).

(5)厚み
本フィルムの厚みは、1μm以上、250μm以下であることが好ましく、5μm以上、200μm以下であるのがより好ましい。1μm以上とすることでフィルム強度が実用範囲内に保たれる。250μm以下であることで、耐折性が発現しやすくなる。厚みは製膜及び延伸条件によって調整することができる。
本フィルムの厚みについては、1/1000mmのダイヤルゲージにて、面内を不特定に5箇所測定しその平均を厚みとした。
(5) Thickness The thickness of the present film is preferably 1 μm or more and 250 μm or less, more preferably 5 μm or more and 200 μm or less. By making the thickness 1 μm or more, the film strength is kept within a practical range. By making the thickness 250 μm or less, folding resistance is easily exhibited. The thickness can be adjusted by film formation and stretching conditions.
The thickness of this film was measured at five random locations on the surface with a 1/1000 mm dial gauge, and the average was taken as the thickness.

2.成分
次に、本フィルムを構成する成分について説明する。
2. Components Next, the components constituting the present film will be described.

本発明は、一般的にポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂よりも比較的高い降伏応力や弾性率を示すポリエステル系樹脂を含む二軸延伸フィルムが、耐折り曲げ性に優れることを見出し、成されたものである。降伏応力や弾性率が高い材料であるポリエステル系樹脂であっても、変形によって加えられた応力やひずみが大きい場合、変形が起こり、材料に解消されないひずみが残ってしまうという問題があった。
しかし、本発明においては、フィルムのヒステリシスロス率が特定の数値以下であれば、フィルムの復元力が大きくなってひずみが発生しにくくなることを見出した。
一般的に弾性変形領域内を超える変形が起こることで、材料に大きなひずみが生じるが、弾性変形領域内の変形であっても、材料にひずみが残留する場合があり、折れ跡やシワなどの変形跡が残る一因となり得、外観不良や材料特性そのものに影響が出てしまうと考えられる。
つまり、ヒステリシスロス率が小さければ小さいほど、変形に対する復元性が高く、また材料に残留するひずみが小さいため、弾性変形領域内の変形又は弾性変形領域を超える大きなひずみが印加された場合でも、変形跡が付きにくく、変形耐性に優れていると考えられる。
The present invention was made based on the discovery that a biaxially stretched film containing a polyester resin, which generally exhibits a relatively higher yield stress and elastic modulus than polyethylene resins and polypropylene resins, has excellent bending resistance. Even with polyester resin, which is a material with a high yield stress and elastic modulus, if the stress or strain applied by deformation is large, deformation occurs, and unresolved strain remains in the material.
However, in the present invention, it has been found that if the hysteresis loss rate of the film is equal to or less than a specific value, the restoring force of the film becomes large and distortion is less likely to occur.
Generally, deformation that exceeds the elastic deformation region causes large strain in the material, but even deformation within the elastic deformation region may leave residual strain in the material, which can be a cause of deformation marks such as folds and wrinkles, resulting in poor appearance and affecting the material properties themselves.
In other words, the smaller the hysteresis loss rate, the higher the recovery from deformation, and the smaller the strain remaining in the material. Therefore, even when a deformation within the elastic deformation region or a large strain exceeding the elastic deformation region is applied, the material is less likely to leave traces of deformation and is considered to have excellent deformation resistance.

<ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)>
本フィルムは、ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含む。
ここで、本発明においてPEN系共重合体(A)を「含む」とは、本発明の効果を奏する範囲で、PEN系共重合体(A)を含んでいることをいい、本フィルムにおけるPEN系共重合体(A)の含有量が好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、更に好ましくは70質量%以上、より更に好ましくは80質量%以上、最も好ましくは90質量%以上(100質量%を含む)である。
<Polyethylene naphthalate copolymer (A)>
The present film contains a polyethylene naphthalate-based copolymer (A).
Here, in the present invention, "containing" a PEN-based copolymer (A) means that the PEN-based copolymer (A) is contained to the extent that the effects of the present invention are achieved, and the content of the PEN-based copolymer (A) in the present film is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and most preferably 90% by mass or more (including 100% by mass).

一般的にポリエチレンテレフタレートに共重合成分を導入することで得られるグリコール変性ポリエチレンテレフタレートは、通常のポリエチレンテレフタレートと比較して耐衝撃性が向上することが知られている。
一方で、結晶性の低下による耐熱性の低下の懸念がある。
また、ガラス転移温度や融点の向上によって成形温度を上昇させる必要があるため、樹脂の熱分解への懸念が生じる場合もある。
本発明は、ポリエチレンナフタレートに共重合成分を導入することで耐衝撃性の向上、ひいては耐折り曲げ性に優れたものとすることができ、さらに耐熱性、成形加工性にも優れたPEN系共重合体(A)を含む二軸延伸フィルムを見出したものである。
Glycol-modified polyethylene terephthalate, which is generally obtained by introducing a copolymerization component into polyethylene terephthalate, is known to have improved impact resistance compared to ordinary polyethylene terephthalate.
On the other hand, there is a concern that the heat resistance may decrease due to the decrease in crystallinity.
Furthermore, since it is necessary to increase the molding temperature by improving the glass transition temperature or melting point, there may be cases where concerns arise about thermal decomposition of the resin.
The present invention relates to the discovery of a biaxially oriented film containing a PEN-based copolymer (A) which can improve impact resistance and hence has excellent bending resistance by introducing a copolymer component into polyethylene naphthalate, and which further has excellent heat resistance and moldability.

本発明におけるPEN系共重合体(A)は、ジカルボン酸成分(a-1)とジオール成分(a-2)とを含有する。
当該ジカルボン酸成分(a-1)としては、2,6-ナフタレンジカルボン酸が必須成分であり、これに必要に応じて、その他の共重合成分が加えられる。他の共重合成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、2,5-フランジカルボン酸、2,4-フランジカルボン酸、3,4-フランジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸、3,3’-ジフェニルジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸;シクロヘキサンジカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸;p-オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸等が挙げられるが、この中でも成形性の観点からイソフタル酸、2,5-フランジカルボン酸、2,4-フランジカルボン酸、3,4-フランジカルボン酸が好ましい。
これらの共重合成分は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
The PEN copolymer (A) in the present invention contains a dicarboxylic acid component (a-1) and a diol component (a-2).
As the dicarboxylic acid component (a-1), 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is an essential component, and other copolymerization components are added thereto as necessary. Examples of other copolymerization components include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5-furandicarboxylic acid, 2,4-furandicarboxylic acid, 3,4-furandicarboxylic acid, benzophenone dicarboxylic acid, 4,4'-diphenyl dicarboxylic acid, 3,3'-diphenyl dicarboxylic acid, and 4,4'-diphenyl ether dicarboxylic acid; aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexane dicarboxylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dimer acid; and oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid. Among these, isophthalic acid, 2,5-furandicarboxylic acid, 2,4-furandicarboxylic acid, and 3,4-furandicarboxylic acid are preferred from the viewpoint of moldability.
These copolymerization components may be used alone or in combination of two or more.

一方、ジオール成分(a-2)としては、エチレングリコールが必須成分であり、これに必要に応じ、その他の共重合成分として、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ダイマージオール、ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF若しくはビスフェノールSなどのビスフェノール化合物若しくはその誘導体又はそれらのエチレンオキサイド付加物)等が挙げられ、これらのうち1,4-シクロヘキサンジメタノール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ダイマージオール、ビスフェノール類が好ましい。特にフィルム強度の保持の観点から、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノール類を用いることが好ましい。
また、ビスフェノール類としてはビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物を用いることが好ましい。
これらの共重合成分は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
On the other hand, as the diol component (a-2), ethylene glycol is an essential component, and other copolymerization components, if necessary, include diethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, polytetramethylene ether glycol, dimer diol, bisphenols (bisphenol compounds such as bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S, or derivatives thereof, or ethylene oxide adducts thereof), and among these, 1,4-cyclohexanedimethanol, polytetramethylene ether glycol, dimer diol, and bisphenols are preferred. In particular, from the viewpoint of maintaining film strength, it is preferred to use 1,4-cyclohexanedimethanol and bisphenols.
As the bisphenol, it is preferable to use a bisphenol A-ethylene oxide adduct.
These copolymerization components may be used alone or in combination of two or more.

本発明のPEN系共重合体は、上述のように、2,6-ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールによって得られるPENに対して、ジカルボン酸成分(a-1)及びジオール成分(a-2)の少なくともいずれかに共重合成分を含有するものである。このような共重合成分を含むことで、PENに対して、さらに耐折り曲げ性、耐熱性、成形加工性を向上させることができる。As described above, the PEN-based copolymer of the present invention is a copolymer obtained from PEN obtained from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and contains a copolymer component in at least one of the dicarboxylic acid component (a-1) and the diol component (a-2). By including such a copolymer component, it is possible to further improve the bending resistance, heat resistance, and moldability of PEN.

本発明で用いるPEN系共重合体(A)はジカルボン酸成分(a-1)として2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、ジオール成分(a-2)としてビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位と、を含むポリエチレンナフタレート系共重合体であることが好ましい。
また、前記ジオール成分(a-2)は、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位の2成分からなることがより好ましい。
The PEN copolymer (A) used in the present invention is preferably a polyethylene naphthalate copolymer containing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid units as the dicarboxylic acid component (a-1) and a bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol units and ethylene glycol units as the diol component (a-2).
The diol component (a-2) is more preferably composed of two components, a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit.

前記PEN系共重合体(A)は、ジカルボン酸成分(a-1)中に2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を好ましくは90モル%以上、より好ましくは92モル%以上、更に好ましくは94モル%以上、より更に好ましくは96モル%以上、特に好ましくは98モル%以上含有し、ジカルボン酸成分(a-1)の全て(100モル%)が2,6-ナフタレンジカルボン酸であってもよい。
ジカルボン酸成分(a-1)中の2,6-ナフタレンジカルボン酸単位の含有量を上記数値範囲内とすることにより、ポリエチレンナフタレート系重合体のガラス転移温度及び融点が向上し、ひいては本フィルムの耐熱性が向上する。
ジカルボン酸成分(a-1)中の前記共重合成分は、成型性や耐熱性の向上を目的として10モル%未満共重合しても良い。
ただし、耐熱性及び耐折性の観点から、ポリエチレンテレフタレートのジカルボン酸成分であるテレフタル酸は、2モル%未満であることが好ましく、1モル%未満であることがより好ましく、0モル%であることが更に好ましい。
The PEN copolymer (A) contains 2,6-naphthalenedicarboxylic acid units in the dicarboxylic acid component (a-1) in an amount of preferably 90 mol % or more, more preferably 92 mol % or more, even more preferably 94 mol % or more, still more preferably 96 mol % or more, and particularly preferably 98 mol % or more. All of the dicarboxylic acid component (a-1) (100 mol %) may be 2,6-naphthalenedicarboxylic acid.
By adjusting the content of the 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit in the dicarboxylic acid component (a-1) to fall within the above numerical range, the glass transition temperature and melting point of the polyethylene naphthalate polymer are improved, and thus the heat resistance of the present film is improved.
The copolymerization component in the dicarboxylic acid component (a-1) may be copolymerized in an amount of less than 10 mol % for the purpose of improving moldability and heat resistance.
However, from the viewpoint of heat resistance and folding resistance, the content of terephthalic acid, which is a dicarboxylic acid component of polyethylene terephthalate, is preferably less than 2 mol %, more preferably less than 1 mol %, and even more preferably 0 mol %.

前記PEN系共重合体(A)は、ジオール成分(a-2)中にビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノールを好ましくは4モル%以上70モル%以下、より好ましくは4.2モル%以上60モル%以下、更に好ましくは4.4モル%以上50モル%以下、より更に好ましくは4.6モル%以上40モル%以下、特に好ましくは4.8モル%以上30モル%以下含有する。
ジオール成分(a-2)中のビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノールの含有量を上記数値範囲内とすることにより、PEN系共重合体(A)のガラス転移温度及び融点が向上し、ひいては本フィルムの耐熱性が向上する。
また、結晶性を制御することができるため、結晶化速度を遅くし、フィルムの押出成形性、延伸加工性の向上が可能となる。
また、当該含有量が70モル%以下であると、融点が高くなりすぎることがない。したがって、成形温度を高く設定する必要がなく、熱分解する懸念がない。
The PEN copolymer (A) contains a bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol in the diol component (a-2) in an amount of preferably 4 mol % to 70 mol %, more preferably 4.2 mol % to 60 mol %, even more preferably 4.4 mol % to 50 mol %, still more preferably 4.6 mol % to 40 mol %, and particularly preferably 4.8 mol % to 30 mol %.
By adjusting the content of bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol in the diol component (a-2) to fall within the above numerical range, the glass transition temperature and melting point of the PEN copolymer (A) are improved, and thus the heat resistance of the present film is improved.
Furthermore, since the crystallinity can be controlled, the crystallization rate can be slowed down, and the extrusion moldability and stretch processability of the film can be improved.
In addition, when the content is 70 mol % or less, the melting point does not become too high, so there is no need to set the molding temperature high, and there is no risk of thermal decomposition.

前記PEN系共重合体(A)は、ジオール成分(a-2)中にエチレングリコールを好ましくは30モル%以上96モル%以下、より好ましくは40モル%以上95.8モル%以下、更に好ましくは50モル%以上95.6モル%以下、より更に好ましくは60モル%以上95.4モル%以下、特に好ましくは70モル%以上95.2モル%以下含有する。
ジオール成分(a-2)中のエチレングリコールの含有量を上記数値範囲内とすることにより、PEN系共重合体(A)の結晶性が保持され、ひいては本フィルムの耐熱性が向上する。
なお、前記PEN系共重合体(A)は、成型性や耐熱性の向上を目的として、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノールとエチレングリコール以外のジオール成分を10モル%未満共重合しても良い。
ただし、剛直なビフタルイミド骨格を有するジオール成分は、耐折性を悪化させてしまうため、1モル%未満であることが好ましく、0.5モル%未満であることがより好ましく、0モル%であることが更に好ましい。
また、耐折性の観点から、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノールとエチレングリコール以外のジオール成分としては、具体的には、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、1,2-シクロヘキサンジメタノール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、ヒドロキノン、ビスフェノール、スピログリコール、2,2,4,4,-テトラメチルシクロブタン-1,3-ジオール、イソソルバイド等が挙げられるが、この中でも成形性の観点からジエチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,3-シクロヘキサンジメタノールが好ましい。
The PEN copolymer (A) contains ethylene glycol in the diol component (a-2) in an amount of preferably 30 mol % or more and 96 mol % or less, more preferably 40 mol % or more and 95.8 mol % or less, even more preferably 50 mol % or more and 95.6 mol % or less, still more preferably 60 mol % or more and 95.4 mol % or less, and particularly preferably 70 mol % or more and 95.2 mol % or less.
By controlling the content of ethylene glycol in the diol component (a-2) within the above numerical range, the crystallinity of the PEN copolymer (A) is maintained, and the heat resistance of the present film is improved.
For the purpose of improving moldability and heat resistance, the PEN copolymer (A) may be copolymerized with less than 10 mol % of a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a diol component other than 1,4-cyclohexanedimethanol and ethylene glycol.
However, since a diol component having a rigid biphthalimide skeleton deteriorates folding resistance, its content is preferably less than 1 mol %, more preferably less than 0.5 mol %, and even more preferably 0 mol %.
From the viewpoint of folding endurance, specific examples of diol components other than bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol and ethylene glycol include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyalkylene glycol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, hydroquinone, bisphenol, spiroglycol, 2,2,4,4-tetramethylcyclobutane-1,3-diol, and isosorbide. Among these, diethylene glycol, 1,3-propanediol, and 1,3-cyclohexanedimethanol are preferred from the viewpoint of moldability.

PEN系共重合体(A)の結晶融解熱量ΔHmは、15J/g以上60J/g以下であるのが好ましく、20J/g以上50J/g以下であることがより好ましい。ΔHm(A)がかかる範囲であれば、PEN系共重合体(A)は耐熱性、耐湿熱性、溶融成形性、及び、延伸加工性にも優れる適度な結晶性を有する。
PEN系共重合体(A)の結晶融解熱量ΔHm(A)は、JIS K7121(2012年)に準じて、示差走査熱量計(DSC)を用いて加熱速度10℃/分で測定することができる。
The crystalline melting heat ΔHm of the PEN copolymer (A) is preferably from 15 to 60 J/g, more preferably from 20 to 50 J/g. If ΔHm(A) is within this range, the PEN copolymer (A) has suitable crystallinity that is excellent in heat resistance, moist heat resistance, melt moldability, and stretch processability.
The crystalline heat of fusion ΔHm(A) of the PEN copolymer (A) can be measured at a heating rate of 10° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC) in accordance with JIS K7121 (2012).

PEN系共重合体(A)の結晶融解温度Tm(A)は結晶融解温度が220℃以上300℃以下であることが好ましく、225℃以上290℃以下であることがより好ましく、230℃以上280℃以下であることがさらに好ましく、235℃以上270℃以下であることが特に好ましい。PEN系共重合体(A)の結晶融解温度Tm(A)がかかる範囲であれば、PEN系共重合体(A)は耐熱性と溶融成形性のバランスに優れる。
PEN系共重合体(A)の結晶融解温度Tm(A)は、JIS K7121(2012年)に準じて、示差走査熱量計(DSC)を用いて加熱速度10℃/分で測定することができる。
The crystalline melting temperature Tm(A) of the PEN copolymer (A) is preferably from 220° C. to 300° C., more preferably from 225° C. to 290° C., further preferably from 230° C. to 280° C., and particularly preferably from 235° C. to 270° C. When the crystalline melting temperature Tm(A) of the PEN copolymer (A) is within this range, the PEN copolymer (A) has an excellent balance between heat resistance and melt moldability.
The crystalline melting temperature Tm(A) of the PEN copolymer (A) can be measured at a heating rate of 10° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC) in accordance with JIS K7121 (2012).

PEN系共重合体(A)のガラス転移温度Tg(A)は、75℃以上150℃以下であることが好ましく、77℃以上145℃以下であることがより好ましく、80℃以上或いは140℃以下であることが更に好ましい。前記PEN系共重合体(A)のガラス転移温度Tg(A)がかかる範囲にあれば、耐熱性と溶融成形性のバランスに優れる。The glass transition temperature Tg(A) of the PEN-based copolymer (A) is preferably 75° C. or higher and 150° C. or lower, more preferably 77° C. or higher and 145° C. or lower, and even more preferably 80° C. or higher or 140° C. or lower. When the glass transition temperature Tg(A) of the PEN-based copolymer (A) is within this range, the balance between heat resistance and melt moldability is excellent.

本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲において、本フィルムはPEN系共重合体(A)以外の他の樹脂を含むことを許容することができる。
他の樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩素化ポリエチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリメチルペンテン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、ポリブチレンサクシネート系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミドビスマレイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、アラミド系樹脂、及び、フッ素系樹脂等が挙げられる。
In the present invention, the film may contain resins other than the PEN copolymer (A) as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other resins include polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, chlorinated polyethylene resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyacetal resins, acrylic resins, ethylene vinyl acetate copolymers, polymethylpentene resins, polyvinyl alcohol resins, cyclic olefin resins, polylactic acid resins, polybutylene succinate resins, polyacrylonitrile resins, polyethylene oxide resins, cellulose resins, polyimide resins, polyurethane resins, polyphenylene sulfide resins, polyphenylene ether resins, polyvinyl acetal resins, polybutadiene resins, polybutene resins, polyamideimide resins, polyamide bismaleimide resins, polyetherimide resins, polyetheretherketone resins, polyetherketone resins, polyethersulfone resins, polyketone resins, polysulfone resins, aramid resins, and fluorine-based resins.

また、本発明においては、前述した成分のほか、本発明の効果を著しく阻害しない範囲内で、本フィルムは一般的に配合される添加剤を適宜含むことができる。前記添加剤としては、成形加工性、生産性及び多孔フィルムの諸物性を改良・調整する目的で添加される、耳などのトリミングロス等から発生するリサイクル樹脂や、シリカ、タルク、カオリン、炭酸カルシウム等の無機粒子、酸化チタン、カーボンブラック等の顔料、難燃剤、耐候性安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、溶融粘度改良剤、架橋剤、滑剤、核剤、可塑剤、老化防止剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、中和剤、防曇剤、アンチブロッキング剤、スリップ剤、及び、着色剤などの添加剤が挙げられる。In addition to the above-mentioned components, the film of the present invention may contain additives that are generally used as appropriate within the range that does not significantly impair the effects of the present invention. Examples of the additives include recycled resins generated from trimming losses such as selvages, inorganic particles such as silica, talc, kaolin, and calcium carbonate, pigments such as titanium oxide and carbon black, flame retardants, weathering stabilizers, heat stabilizers, antistatic agents, melt viscosity improvers, crosslinking agents, lubricants, nucleating agents, plasticizers, antioxidants, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, neutralizers, antifogging agents, antiblocking agents, slip agents, and colorants, which are added for the purpose of improving and adjusting the moldability, productivity, and various physical properties of the porous film.

また、本発明においては、前述した添加剤のほかに、本発明の効果を著しく阻害しない範囲内で、本フィルムに塗布層を設けることができる。前記塗布層の機能としては、ハードコート性、帯電防止性、剥離性、易接着性、印字適性、UVカット性、赤外線遮断性、ガスバリア性などが挙げられる。塗布層の形成については延伸行程中にフィルム表面を処理するインラインコーティングにより設けられてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、オフラインコーティングを採用してもよく、両者を併用してもよい。In addition, in the present invention, in addition to the additives described above, a coating layer can be provided on the film within a range that does not significantly impair the effects of the present invention. The functions of the coating layer include hard coat properties, antistatic properties, peelability, easy adhesion, printability, UV protection, infrared blocking properties, and gas barrier properties. The coating layer may be formed by in-line coating, which treats the film surface during the stretching process, or by offline coating, which applies a coating outside the system onto a film that has already been produced, or both may be used in combination.

<本フィルムの製造方法>
本発明の二軸延伸フィルムの製造方法について説明するが、以下の説明は本フィルムを製造する方法の一例であり、本フィルムはかかる製造方法により製造されるフィルムに限定されるものではない。
<Manufacturing method of the present film>
A method for producing the biaxially stretched film of the present invention will be described below. However, the following description is one example of the method for producing the present film, and the present film is not limited to films produced by this production method.

本発明の実施形態の一例に係る本フィルムの製造方法は、前記PEN系共重合体(A)を含む樹脂組成物をフィルム状に成形し、二軸延伸する製造方法である。The method for producing the film according to one embodiment of the present invention is a method for producing the film by forming a resin composition containing the PEN-based copolymer (A) into a film and biaxially stretching the film.

PEN系共重合体(A)及び、その他の樹脂、及び、添加剤を混練し、樹脂組成物を得る方法は特に限定されないが、なるべく簡便に樹脂組成物を得るために、押出機を用いて溶融混練することによって製造するのが好ましい。樹脂組成物を構成する原料を均一に混合するために、同方向二軸押出機を用いて溶融混練するのが好ましい。
混練温度は、用いる全ての重合体のガラス転移温度以上であり、かつ、結晶性樹脂に対しては、その重合体の結晶融解温度以上であることが必要である。使用する重合体のガラス転移温度や結晶融解温度に対して、なるべく混練温度が高い方が、重合体の一部のエステル交換反応が生じやすく、相溶性が向上しやすいものの、必要以上に混練温度が高くなると樹脂の分解が起こるため好ましくない。このことから、混練温度は255℃以上340℃以下が好ましく、260℃以上330℃以下がより好ましく、270℃以上320℃以下がさらに好ましく、280℃以上310℃以下が特に好ましい。混練温度がかかる範囲であれば、重合体の分解を生じることなく、相溶性や溶融成形性を向上させることができる。
The method for kneading the PEN copolymer (A), other resins, and additives to obtain a resin composition is not particularly limited, but in order to obtain the resin composition as simply as possible, it is preferable to produce the resin composition by melt kneading using an extruder. In order to uniformly mix the raw materials constituting the resin composition, it is preferable to melt knead using a co-rotating twin screw extruder.
The kneading temperature must be equal to or higher than the glass transition temperature of all polymers used, and for crystalline resins, equal to or higher than the crystalline melting temperature of the polymer. The higher the kneading temperature is, the easier it is for a part of the polymer to undergo an ester exchange reaction and the compatibility is improved, but if the kneading temperature is higher than necessary, the resin will decompose, which is not preferable. For this reason, the kneading temperature is preferably 255°C or higher and 340°C or lower, more preferably 260°C or higher and 330°C or lower, even more preferably 270°C or higher and 320°C or lower, and particularly preferably 280°C or higher and 310°C or lower. If the kneading temperature is within this range, the compatibility and melt moldability can be improved without causing the polymer to decompose.

得られた樹脂組成物を、一般の成形法、例えば、押出成形、射出成形、ブロー成形、真空成形、圧空成形、プレス成形等によって成形して二軸延伸フィルムを作製することができる。それぞれの成形方法において、装置及び加工条件は特に限定されない。
本フィルムは例えば、以下の方法により製造することが好ましい。
The obtained resin composition can be molded into a biaxially stretched film by a general molding method such as extrusion molding, injection molding, blow molding, vacuum molding, pressure molding, press molding, etc. In each molding method, the apparatus and processing conditions are not particularly limited.
The present film is preferably produced, for example, by the following method.

混合して得られた樹脂組成物より、実質的に無定型で配向していないフィルム(以下「未延伸フィルム」と称することがある)を押出法で製造する。この未延伸フィルムの製造は、例えば、上記原料を押出機により溶融し、フラットダイ、又は環状ダイから押出した後、急冷することによりフラット状、又は環状の未延伸フィルムとする押出法を採用することができる。この際、場合によって、複数の押出機を使用した積層構成としてもよい。From the resin composition obtained by mixing, a substantially amorphous and unoriented film (hereinafter sometimes referred to as "unstretched film") is produced by an extrusion method. This unstretched film can be produced, for example, by an extrusion method in which the above-mentioned raw materials are melted in an extruder, extruded from a flat die or annular die, and then quenched to form a flat or annular unstretched film. In this case, a laminated structure using multiple extruders may be used in some cases.

次に、上記の未延伸フィルムを、フィルムの流れ方向(縦方向、MD)、及びこれと直角な方向(横方向、TD)で、延伸効果、フィルム強度等の点から、少なくとも一方向に通常1.1~5.0倍、好ましくは縦横二軸方向に各々1.1~5.0倍の範囲で延伸する。Next, the unstretched film is stretched in the film flow direction (machine direction, MD) and in the direction perpendicular to the film flow direction (transverse direction, TD), usually by 1.1 to 5.0 times in at least one direction, and preferably by 1.1 to 5.0 times in each of the machine and transverse directions, in terms of the stretching effect, film strength, etc.

二軸延伸の方法としては、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等、従来公知の延伸方法がいずれも採用できる。例えば、テンター式逐次二軸延伸方法の場合には、未延伸フィルムを、前記樹脂組成物のガラス転移温度をTgとして、Tg~Tg+50℃の温度範囲に加熱し、ロール式縦延伸機によって縦方向に1.1~5.0倍に延伸し、続いてテンター式横延伸機によってTg~Tg+50℃の温度範囲内で横方向に1.1~5.0倍に延伸することにより製造できる。
また、テンター式同時二軸延伸やチューブラー式同時二軸延伸方法の場合は、例えば、Tg~Tg+50℃の温度範囲において、縦横同時に各軸方向に1.1~5.0倍に延伸することにより製造できる。
As the method of biaxial stretching, any of the conventionally known stretching methods can be used, such as tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, etc. For example, in the case of the tenter-type sequential biaxial stretching method, the unstretched film can be produced by heating the unstretched film to a temperature range of Tg to Tg+50° C., where Tg is the glass transition temperature of the resin composition, stretching the film in the longitudinal direction by 1.1 to 5.0 times using a roll-type longitudinal stretching machine, and subsequently stretching the film in the transverse direction by 1.1 to 5.0 times within a temperature range of Tg to Tg+50° C. using a tenter-type transverse stretching machine.
In the case of tenter-type simultaneous biaxial stretching or tubular-type simultaneous biaxial stretching, the film can be produced by stretching the film in the longitudinal and transverse directions simultaneously by 1.1 to 5.0 times in each axial direction, for example, in a temperature range of Tg to Tg+50°C.

上記方法により延伸された二軸延伸フィルムは、引き続き熱固定される。
熱固定をすることにより常温における寸法安定性を付与できる。この場合の処理温度は、好ましくは前記樹脂組成物の結晶融解温度Tm-1~Tm-80℃の範囲を選択する。熱固定温度が上記範囲内にあれば、熱固定が十分に行われ、延伸時の応力が緩和され、十分な耐熱性や機械特性が得られ、破断やフィルム表面の白化などのトラブルがない優れたフィルムが得られる。
The biaxially stretched film stretched by the above method is subsequently heat set.
Heat setting can impart dimensional stability at room temperature. In this case, the treatment temperature is preferably selected in the range of the crystalline melting temperature of the resin composition, Tm-1 to Tm-80°C. If the heat setting temperature is within the above range, heat setting is sufficiently performed, stress during stretching is alleviated, sufficient heat resistance and mechanical properties are obtained, and an excellent film is obtained without problems such as breakage or whitening of the film surface.

本発明においては、熱固定による結晶化収縮の応力を緩和させる為に、熱固定中に幅方向に0~15%、好ましくは3~10%の範囲で弛緩を行うことが好ましい。弛緩が十分に行われ、フィルムの幅方向に均一に弛緩する為、幅方向の収縮率が均一になり、常温寸法安定性に優れたフィルムが得られる。
また、フィルムの収縮に追従した弛緩が行われる為、フィルムのタルミ、テンター内でのバタツキがなく、フィルムの破断もない。
In the present invention, in order to alleviate the stress of crystallization shrinkage due to heat setting, it is preferable to perform relaxation in the width direction during heat setting by 0 to 15%, preferably 3 to 10%. Since sufficient relaxation is performed and the film is relaxed uniformly in the width direction, the shrinkage rate in the width direction becomes uniform, and a film with excellent dimensional stability at room temperature can be obtained.
In addition, since the relaxation follows the shrinkage of the film, there is no sagging of the film, no flapping in the tenter, and no breakage of the film.

<本フィルムの用途>
本発明の二軸延伸フィルムは、耐折性、耐熱性に優れており、かつ、透明性にも優れるため、ディスプレイ用フィルム、包装用フィルムや各種保護フィルムとして用いることができる。なかでも、耐折性の観点から、フォルダブルディスプレイ用に好適に用いることができる。
<Uses of this film>
The biaxially stretched film of the present invention has excellent folding resistance, heat resistance, and transparency, and can be used as a display film, a packaging film, or various protective films. In particular, from the viewpoint of folding resistance, it can be suitably used for a foldable display.

以下に実施例を示すが、これらにより本発明は何ら制限を受けるものではない。 The following examples are given, but the present invention is not limited by them in any way.

(1)ヒステリシスロス率
JIS K 7312:1996に準じて、以下の方法により23℃におけるヒステリシスロス率の平均値を求めた。
測定装置は、引張試験機(株式会社島津製作所製 引張試験機AG‐1kNXplus)を用いた。試験片は、本フィルムから測定方向の長さ100mm、幅10mmの長方形に切り出したものを用いた。試験片の長さ方向の両端部をチャック間距離50mmでチャックし、クロスヘッドスピード0.5mm/分にてひずみ5%まで上昇させた後、同様の速度で初期位置まで下降させる1サイクルの引張サイクル試験から得られた応力-ひずみ曲線を得た。応力-ひずみ曲線は、図1に示すようなプロファイルをとり、ヒステリシスロス率は得られた応力-ひずみ曲線から、上昇動作で得られた曲線の面積A1(abcda)と、面積A1と下降動作で得られた曲線の面積の差となる面積A2(abcef)を用いて、以下の式1にて算出した。試験は3回測定し、その平均値を求めた。上記引張サイクル試験はフィルムのMD及び、TDにてそれぞれ実施し、その平均値を求めた。
ヒステリシスロス率=(A2/A1)×100 (式1)
(1) Hysteresis Loss Rate According to JIS K 7312:1996, the average value of the hysteresis loss rate at 23° C. was determined by the following method.
The measuring device used was a tensile tester (tensile tester AG-1kNXplus manufactured by Shimadzu Corporation). The test piece was a rectangle cut from the film with a length of 100 mm in the measurement direction and a width of 10 mm. The test piece was chucked at both ends in the length direction with a chuck distance of 50 mm, raised to a strain of 5% at a crosshead speed of 0.5 mm/min, and then lowered to the initial position at the same speed to obtain a stress-strain curve obtained from a tensile cycle test of one cycle. The stress-strain curve had a profile as shown in FIG. 1, and the hysteresis loss rate was calculated from the obtained stress-strain curve using the area A1 (abcda) of the curve obtained by the rising operation and the area A2 (abcef) which is the difference between the area A1 and the area of the curve obtained by the lowering operation, according to the following formula 1. The test was performed three times, and the average value was calculated. The above tensile cycle test was performed in the MD and TD of the film, respectively, and the average value was calculated.
Hysteresis loss rate = (A2 / A1) × 100 (Formula 1)

(2)残留ひずみ
JIS K 7312:1996に準じて、以下の方法により23℃における残留ひずみの平均値を求めた。
測定装置は、引張試験機(株式会社島津製作所製 引張試験機AG‐1kNXplus)を用いた。試験片は、本フィルムから測定方向の長さ100mm、幅10mmの長方形に切り出したものを用いた。試験片の長さ方向の両端部をチャック間距離50mmでチャックし、クロスヘッドスピード0.5mm/分にてひずみ5%まで上昇させた後、同様の速度で初期位置まで下降させる1サイクルの引張サイクル試験から得られた応力-ひずみ曲線から、応力が無くなった点のひずみを残留歪とした。試験は3回測定し、その平均値を求めた。上記引張サイクル試験はフィルムのMD及び、TDにてそれぞれ実施し、その平均値を求めた。
(2) Residual Strain In accordance with JIS K 7312:1996, the average value of the residual strain at 23° C. was determined by the following method.
The measuring device used was a tensile tester (tensile tester AG-1kNXplus manufactured by Shimadzu Corporation). The test piece was a rectangle cut from the film with a length of 100 mm in the measurement direction and a width of 10 mm. The test piece was chucked at both ends in the length direction with a chuck distance of 50 mm, and the test piece was raised to a strain of 5% at a crosshead speed of 0.5 mm/min, and then lowered to the initial position at the same speed. From the stress-strain curve obtained from one cycle of tensile cycle test, the strain at the point where the stress disappeared was taken as the residual strain. The test was performed three times, and the average value was calculated. The above tensile cycle test was performed in the MD and TD of the film, respectively, and the average value was calculated.

(3)ガラス転移温度(Tg)
得られたフィルムについて、Diamond DSC(パーキンエルマージャパン社製)を用いて、JIS K7121(2012年)に準じて、加熱速度10℃/分にて一度融解温度まで昇温させたのちに加熱速度10℃/分にて降温させ、加熱速度10℃/分の昇温過程におけるガラス転移温度を測定した。
(3) Glass transition temperature (Tg)
The obtained film was heated once to the melting temperature at a heating rate of 10° C./min and then cooled at a heating rate of 10° C./min in accordance with JIS K7121 (2012) using a Diamond DSC (manufactured by PerkinElmer Japan), and the glass transition temperature during the heating process at a heating rate of 10° C./min was measured.

(4)結晶融解温度(Tm)
得られたフィルムについて、Diamond DSC(パーキンエルマージャパン社製)を用いて、JIS K7121(2012年)に準じて、加熱速度10℃/分の昇温過程における結晶融解温度を測定した。
(4) Crystal melting temperature (Tm)
The crystalline melting temperature of the obtained film was measured in a heating process at a heating rate of 10° C./min in accordance with JIS K7121 (2012) using a Diamond DSC (manufactured by PerkinElmer Japan).

[PEN系共重合体(A)]
PEN系共重合体(A)-1として、ジカルボン酸成分(a-1):2,6-ナフタレンジカルボン酸=100モル%、ジオール成分(a-2):エチレングリコール=90モル%、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物=10モル%を用いた。当該PEN系共重合体(A)-1のTgは119℃であった。
PEN系共重合体(A)-2として、ジカルボン酸成分(a-1):2,6-ナフタレンジカルボン酸=100モル%、ジオール成分(a-2):エチレングリコール=95モル%、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物=5モル%を用いた。当該PEN系共重合体(A)-2のTgは120℃であった。
PEN系共重合体(A)-3として、ジカルボン酸成分(a-1):2,6-ナフタレンジカルボン酸=100モル%、ジオール成分(a-2):エチレングリコール=90モル%、1,4-シクロヘキサンジメタノール=10モル%を用いた。当該PEN系共重合体(A)-3のTgは119℃であった。
PEN系共重合体(A)-4として、ジカルボン酸成分(a-1):2,6-ナフタレジカルボン酸=100モル%、ジオール成分(a-2):エチレングリコール=80モル%、1,4-シクロヘキサンジメタノール=20モル%を用いた。当該PEN系共重合体(A)-4のTgは119℃であった。
[PEN copolymer (A)]
The PEN copolymer (A)-1 used was a dicarboxylic acid component (a-1): 2,6-naphthalenedicarboxylic acid = 100 mol %, a diol component (a-2): ethylene glycol = 90 mol %, and a bisphenol A-ethylene oxide adduct = 10 mol %. The Tg of the PEN copolymer (A)-1 was 119°C.
The PEN copolymer (A)-2 used was a dicarboxylic acid component (a-1): 2,6-naphthalenedicarboxylic acid = 100 mol %, a diol component (a-2): ethylene glycol = 95 mol %, and a bisphenol A-ethylene oxide adduct = 5 mol %. The Tg of the PEN copolymer (A)-2 was 120°C.
The PEN copolymer (A)-3 used was a dicarboxylic acid component (a-1): 2,6-naphthalenedicarboxylic acid = 100 mol %, a diol component (a-2): ethylene glycol = 90 mol %, 1,4-cyclohexanedimethanol = 10 mol %. The Tg of the PEN copolymer (A)-3 was 119 ° C.
The PEN copolymer (A)-4 used was a dicarboxylic acid component (a-1): 2,6-naphthalenedicarboxylic acid = 100 mol %, a diol component (a-2): ethylene glycol = 80 mol %, 1,4-cyclohexanedimethanol = 20 mol %. The Tg of the PEN copolymer (A)-4 was 119 ° C.

[PETフィルム(B)]
PETフィルム(B)-1として、厚み50μmの二軸延伸PETフィルムを用いた。
[PET film (B)]
As the PET film (B)-1, a biaxially stretched PET film having a thickness of 50 μm was used.

[PENフィルム(C)]
PENフィルム(C)-1として、厚み50μmのPENフィルム(テオネックスQ51)を用いた。
[PEN film (C)]
As the PEN film (C)-1, a PEN film (Teonex Q51) having a thickness of 50 μm was used.

(実施例1)
ペレット状の(A)-1単体を285℃に設定したΦ25mm二軸押出機にて溶融混練し、ギャップ1.0mmのTダイ内からフィルムとして押出し、110℃のキャストロールで引き取り、冷却固化し、厚み約450μmの膜状物(キャストフィルム)を得た。
続いて、得られたキャストフィルムを縦延伸機に通し、132℃で縦方向(MD)に3.3倍延伸を行った。続いて、得られた縦延伸フィルムを横延伸機(テンター)に通し、予熱温度120~125℃、延伸温度130℃、熱固定温度180℃で横方向(TD)に3.1倍延伸を行い、その後テンター内にて熱固定しながら、幅方向(TD)にフィルムの弛緩処理を5%行った。得られたフィルムについて測定を行った結果を表1に示す。
Example 1
The pellet-like (A)-1 alone was melt-kneaded in a Φ25 mm twin-screw extruder set at 285°C, extruded as a film from a T-die with a gap of 1.0 mm, taken up by a cast roll at 110°C, and cooled and solidified to obtain a film-like material (cast film) with a thickness of about 450 μm.
The obtained cast film was then passed through a longitudinal stretching machine and stretched 3.3 times in the longitudinal direction (MD) at 132° C. The obtained longitudinally stretched film was then passed through a transverse stretching machine (tenter) and stretched 3.1 times in the transverse direction (TD) at a preheating temperature of 120 to 125° C., a stretching temperature of 130° C., and a heat setting temperature of 180° C. Thereafter, the film was subjected to a relaxation treatment of 5% in the width direction (TD) while being heat-set in the tenter. The results of measurements performed on the obtained film are shown in Table 1.

(実施例2)
ペレット状の(A)-2単体を用いて実施例1と同様の手法にて厚み約450μmの膜状物(キャストフィルム)を得た。
続いて、得られたキャストフィルムを縦延伸機に通し、135℃で縦方向(MD)に3.0倍延伸を行った。続いて、得られた縦延伸フィルムを横延伸機(テンター)に通し、予熱温度125~130℃、延伸温度135℃、熱固定温度180℃で横方向(TD)に3.1倍延伸を行い、その後テンター内にて熱固定しながら、幅方向(TD)にフィルムの弛緩処理を5%行った。得られたフィルムについて測定を行った結果を表1に示す。
Example 2
Using the pelletized (A)-2 alone, a film-like material (cast film) having a thickness of about 450 μm was obtained in the same manner as in Example 1.
The obtained cast film was then passed through a longitudinal stretching machine and stretched 3.0 times in the longitudinal direction (MD) at 135° C. The obtained longitudinally stretched film was then passed through a transverse stretching machine (tenter) and stretched 3.1 times in the transverse direction (TD) at a preheating temperature of 125 to 130° C., a stretching temperature of 135° C., and a heat setting temperature of 180° C. Thereafter, the film was subjected to a relaxation treatment of 5% in the width direction (TD) while being heat-set in the tenter. The results of measurements performed on the obtained film are shown in Table 1.

(実施例3)
ペレット状の(A)-3単体を285℃に設定したΦ25mm二軸押出機にて溶融混練し、ギャップ1.0mmのTダイ内からフィルムとして押出し、113℃のキャストロールで引き取り、冷却固化し、厚み約450μmの膜状物(キャストフィルム)を得た。
続いて、得られたキャストフィルムを縦延伸機に通し、135℃で縦方向(MD)に3.0倍延伸を行った。続いて、得られた縦延伸フィルムを横延伸機(テンター)に通し、予熱温度125~130℃、延伸温度135℃、熱固定温度180℃で横方向(TD)に3.1倍延伸を行い、その後テンター内にて熱固定しながら、幅方向(TD)にフィルムの弛緩処理を5%行った。得られたフィルムについて測定を行った結果を表1に示す。
Example 3
The pellet-like (A)-3 was melt-kneaded in a Φ25 mm twin-screw extruder set at 285°C, extruded as a film from a T-die with a gap of 1.0 mm, taken up by a cast roll at 113°C, and cooled and solidified to obtain a film-like material (cast film) with a thickness of about 450 μm.
The obtained cast film was then passed through a longitudinal stretching machine and stretched 3.0 times in the longitudinal direction (MD) at 135° C. The obtained longitudinally stretched film was then passed through a transverse stretching machine (tenter) and stretched 3.1 times in the transverse direction (TD) at a preheating temperature of 125 to 130° C., a stretching temperature of 135° C., and a heat setting temperature of 180° C. Thereafter, the film was subjected to a relaxation treatment of 5% in the width direction (TD) while being heat-set in the tenter. The results of measurements performed on the obtained film are shown in Table 1.

(実施例4)
ペレット状の(A)-4単体を用いて実施例3と同様の手法にて厚み約450μmの膜状物(キャストフィルム)を得た。
続いて、得られたキャストフィルムを縦延伸機に通し、137℃で縦方向(MD)に3.3倍延伸を行った。続いて、得られた縦延伸フィルムを横延伸機(テンター)に通し、予熱温度120~125℃、延伸温度130℃、熱固定温度150℃で横方向(TD)に3.3倍延伸を行い、その後テンター内にて熱固定しながら、幅方向(TD)にフィルムの弛緩処理を5%行った。得られたフィルムについて測定を行った結果を表1に示す。
Example 4
Using the pelletized (A)-4 alone, a film-like material (cast film) having a thickness of about 450 μm was obtained in the same manner as in Example 3.
The obtained cast film was then passed through a longitudinal stretching machine and stretched 3.3 times in the longitudinal direction (MD) at 137° C. The obtained longitudinally stretched film was then passed through a transverse stretching machine (tenter) and stretched 3.3 times in the transverse direction (TD) at a preheating temperature of 120 to 125° C., a stretching temperature of 130° C., and a heat setting temperature of 150° C. Thereafter, the film was subjected to a relaxation treatment of 5% in the width direction (TD) while being heat-set in the tenter. The results of measurements performed on the obtained film are shown in Table 1.

(比較例1)
二軸延伸PETフィルム(B)-1について評価を行った結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
The results of evaluation of the biaxially stretched PET film (B)-1 are shown in Table 1.

(比較例2)
PENフィルム(C)-1について評価を行った結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
The evaluation results for the PEN film (C)-1 are shown in Table 1.

Figure 0007697456000001
Figure 0007697456000001

実施例1~4のフィルムは結晶融解温度、ガラス転移温度は高く、耐熱性に優れている。
また、比較例1のPETフィルム及び比較例2のPENフィルムに比べて、ヒステリシスロス率や残留ひずみの値も明らかに低くなっており、実施例1~4のPEN系共重合体含有フィルムは、耐熱性だけでなく耐折性にも優れているといえる。
The films of Examples 1 to 4 have high crystal melting temperatures and glass transition temperatures, and are excellent in heat resistance.
In addition, the hysteresis loss rate and residual strain values are clearly lower than those of the PET film of Comparative Example 1 and the PEN film of Comparative Example 2, and it can be said that the PEN-based copolymer-containing films of Examples 1 to 4 are excellent not only in heat resistance but also in folding resistance.

Claims (11)

ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際のヒステリシスロス率の平均値が47.0%以下である、ディスプレイ用二軸延伸フィルム。 A biaxially oriented film for displays , comprising a polyethylene naphthalate copolymer (A), and having an average hysteresis loss rate of 47.0% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of MD and TD directions. ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、MD及びTDそれぞれの方向に5%引張ひずみまでの引張サイクル試験を行った際の残留ひずみの平均値が0.900%以下である、ディスプレイ用二軸延伸フィルム。 A biaxially stretched film for displays , comprising a polyethylene naphthalate copolymer (A), and having an average residual strain of 0.900% or less when subjected to a tensile cycle test up to 5% tensile strain in each of MD and TD directions. 前記ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)が、ジカルボン酸成分(a-1)として2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、ジオール成分(a-2)としてビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位と、を含む、請求項1又は2に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 The polyethylene naphthalate copolymer (A) contains a 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit as the dicarboxylic acid component (a-1), and contains a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit as the diol component (a-2). The biaxially stretched film for displays according to claim 1 or 2. 全ジカルボン酸成分中、前記(a-1)以外のその他のジカルボン酸成分としてのテレフタル酸単位が2モル%未満である、請求項3に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 4. The biaxially stretched film for displays according to claim 3, wherein the content of terephthalic acid units as dicarboxylic acid components other than the (a-1) is less than 2 mol % in all dicarboxylic acid components. 全ジオール成分中、前記(a-2)以外のその他のジオール成分としてのビフタルイミド骨格を有するジオール単位が1モル%未満である、請求項3又は4に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 5. The biaxially stretched film for displays according to claim 3 or 4, wherein the amount of diol units having a biphthalimide skeleton as diol components other than the (a-2) is less than 1 mol % in all diol components. ポリエチレンナフタレート系共重合体(A)を含み、
前記共重合体(A)は、ジカルボン酸成分(a-1)及びジオール成分(a-2)を含み、
前記ジカルボン酸成分(a-1)は、少なくとも2,6-ナフタレンジカルボン酸単位を含み、
前記ジオール成分(a-2)は、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位と、エチレングリコール単位の2成分からなり、
前記全ジカルボン酸成分中、前記(a-1)以外のその他のジカルボン酸成分としてのテレフタル酸単位は2モル%未満である、ディスプレイ用二軸延伸フィルム。
Contains a polyethylene naphthalate copolymer (A),
The copolymer (A) contains a dicarboxylic acid component (a-1) and a diol component (a-2),
The dicarboxylic acid component (a-1) contains at least a 2,6-naphthalenedicarboxylic acid unit,
The diol component (a-2) is composed of two components, namely, a bisphenol A-ethylene oxide adduct or a 1,4-cyclohexanedimethanol unit and an ethylene glycol unit.
In the biaxially stretched film for display, the content of terephthalic acid units as dicarboxylic acid components other than the (a-1) is less than 2 mol % in all the dicarboxylic acid components.
前記ジオール成分(a-2)中に、ビスフェノールA-エチレンオキサイド付加物又は1,4-シクロヘキサンジメタノール単位を4モル%以上70モル%以下含有し、エチレングリコール単位を30モル%以上96モル%以下含有する請求項3~6のいずれか1項に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 The diol component (a-2) contains 4 mol% or more and 70 mol% or less of bisphenol A-ethylene oxide adduct or 1,4-cyclohexanedimethanol unit, and 30 mol% or more and 96 mol% or less of ethylene glycol unit. The biaxially stretched film for display according to any one of claims 3 to 6. ガラス転移温度が75℃以上150℃以下である請求項1~7のいずれか1項に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 The biaxially stretched film for displays according to any one of claims 1 to 7, which has a glass transition temperature of 75°C or higher and 150°C or lower. 結晶融解温度が220℃以上300℃以下である請求項1~8のいずれか1項に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 9. The biaxially stretched film for displays according to any one of claims 1 to 8, which has a crystalline melting temperature of 220°C or higher and 300°C or lower. 厚みが1μm以上250μm以下である請求項1~9のいずれか1項に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルム。 The biaxially stretched film for displays according to any one of claims 1 to 9, having a thickness of 1 µm or more and 250 µm or less. 請求項1~10のいずれか1項に記載のディスプレイ用二軸延伸フィルムを備えたフォルダブルディスプレイ。 A foldable display comprising the biaxially stretched film for displays according to any one of claims 1 to 10 .
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