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JP7699480B2 - Method for producing sulfur-containing polymer - Google Patents
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

本発明は、硫黄含有重合体の製造方法に関する。より詳しくは、特定の化合物を用いて酸化する酸化工程を含む、硫黄含有重合体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a sulfur-containing polymer. More specifically, the present invention relates to a method for producing a sulfur-containing polymer, which includes an oxidation step in which the polymer is oxidized using a specific compound.

高屈折率材料として、芳香環を有するポリカーボネートやフルオレン骨格を有する高分子材料が知られている。LEDの光取り出し効率を向上する屈折率調整材料や撮像系のレンズ材料としては、アッベ数の大きい、すなわち光分散の小さい材料が求められている。このような高屈折率、かつ、光分散の小さい材料として、硫黄分子やハロゲン分子が導入された材料や金属酸化物ナノ粒子を含有した材料等が開発されている。 Polycarbonate with aromatic rings and polymeric materials with a fluorene skeleton are known as high refractive index materials. Refractive index adjusting materials that improve the light extraction efficiency of LEDs and lens materials for imaging systems require materials with a large Abbe number, i.e., low light dispersion. Materials with sulfur or halogen molecules incorporated and materials containing metal oxide nanoparticles have been developed as such materials with high refractive index and low light dispersion.

硫黄を含有した材料として、例えば、ポリアリーレンスルフィドが知られており、たとえば、ジフェニルジスルフィドおよび/またはチオフェノールをバナジウム化合物を酸化重合触媒として用いて重合するポリアリーレンスルフィドの製造方法が知られている(たとえば特許文献1参照)。 For example, polyarylene sulfide is known as a material containing sulfur, and a method for producing polyarylene sulfide is known in which diphenyl disulfide and/or thiophenol is polymerized using a vanadium compound as an oxidation polymerization catalyst (see, for example, Patent Document 1).

特開2015-048442号公報JP 2015-048442 A

本発明者らが検討したところ、バナジウム化合物を酸化重合触媒として用いた酸化重合により得られたポリアリーレンスルフィドは、加熱後の透過率に問題があることが判明した。よって本発明は、加熱後の透過率に優れる硫黄含有重合体の製造方法を提供することを目的とする。 The inventors have conducted research and found that polyarylene sulfide obtained by oxidative polymerization using a vanadium compound as an oxidative polymerization catalyst has a problem with transmittance after heating. Therefore, the present invention aims to provide a method for producing a sulfur-containing polymer that has excellent transmittance after heating.

本発明者は、ポリアリーレンスルフィドにおけるスルフィド基をスルフィニル基に酸化する方法について詳細に検討した結果、特定の化合物を用いた場合に、得られるポリマーの加熱後の透過率が改善されることを見出し、本発明に想到した。すなわち、本発明は、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体の製造方法であって、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩および次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を用いて、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を酸化する酸化工程を含むことを特徴とする硫黄含有重合体の製造方法である。 The present inventors conducted detailed studies on methods for oxidizing sulfide groups in polyarylene sulfide to sulfinyl groups, and discovered that when a specific compound is used, the transmittance of the resulting polymer after heating is improved, leading to the invention. That is, the present invention is a method for producing a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain, which is characterized by including an oxidation step of oxidizing a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain using at least one compound selected from the group consisting of hypochlorous acid, hypochlorites, and compounds capable of generating hypochlorous acid.

本発明の硫黄含有重合体の製造方法は、特定の化合物を用いて主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を酸化する工程を含むため、該製造方法で得られる、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体は、加熱後の透過率に優れるものとなる。その結果、該重合体を用いた材料は、加熱後の透過率に優れるものとなるため、レンズ等の光学材料として有用である。 The method for producing a sulfur-containing polymer of the present invention includes a step of oxidizing a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain using a specific compound, so that the sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain obtained by the production method has excellent transmittance after heating. As a result, materials using the polymer have excellent transmittance after heating, and are therefore useful as optical materials such as lenses.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、以下において記載する本発明の個々の好ましい形態を2つ以上組み合わせたものもまた、本発明の好ましい形態である。
また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を意味し、「(メタ)アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を意味し、「(メタ)アクリロイル」は「アクリロイル」または「メタクリロイル」を意味する。また(メタ)アクリレートを(メタ)アクリル酸エステルということもある。
The present invention will be described in detail below. It should be noted that a combination of two or more of the individual preferred embodiments of the present invention described below is also a preferred embodiment of the present invention.
In this specification, "(meth)acrylate" means "acrylate" or "methacrylate", "(meth)acrylic" means "acrylic" or "methacrylic", and "(meth)acryloyl" means "acryloyl" or "methacryloyl". (Meth)acrylate is also sometimes referred to as (meth)acrylic acid ester.

1.硫黄含有重合体の製造方法
本発明の硫黄含有重合体の製造方法は、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体の製造方法であって、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩および次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を用いて、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を酸化する酸化工程を含むことを特徴とする。
1. Method for Producing Sulfur-Containing Polymer The method for producing a sulfur-containing polymer of the present invention is a method for producing a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain, and is characterized by including an oxidation step of oxidizing a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain using at least one compound selected from the group consisting of hypochlorous acid, hypochlorites, and compounds capable of generating hypochlorous acid.

以下の説明において、本発明の硫黄含有重合体の製造方法を、単に本発明の製造方法とも称する。また本発明において主鎖にスルフィド骨格を有するとは、重合体の主鎖上に、少なくとも1つのスルフィド基(-S-)を含む構造を有することを意味し、主鎖にスルホキシド骨格を有するとは、重合体の主鎖上に、少なくとも1つのスルフィニル基(-S(=O)-)を含む構造を有することを意味する。 In the following description, the method for producing a sulfur-containing polymer of the present invention is also simply referred to as the production method of the present invention. In addition, in the present invention, "having a sulfide skeleton in the main chain" means that the main chain of the polymer has a structure containing at least one sulfide group (-S-), and "having a sulfoxide skeleton in the main chain" means that the main chain of the polymer has a structure containing at least one sulfinyl group (-S(=O)-).

本発明の製造方法は、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を酸化する酸化工程を含む。上記酸化工程により、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体における、スルフィド骨格の少なくとも1部が、スルホキシド骨格に酸化され、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体が得られる。なお、本発明において、酸化工程に供する、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体をスルフィド含有重合体、また、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体を、スルホキシド含有重合体と称することもある。 The manufacturing method of the present invention includes an oxidation step of oxidizing a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain. By the oxidation step, at least a part of the sulfide skeleton in the sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain is oxidized to a sulfoxide skeleton, and a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain is obtained. In the present invention, the sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain subjected to the oxidation step is sometimes called a sulfide-containing polymer, and the sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain is sometimes called a sulfoxide-containing polymer.

<スルフィド含有重合体>
上記主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体、すなわち、スルフィド含有重合体は、たとえば、下記一般式(1)で表される構成単位(A)を有する硫黄含有重合体であることが好ましい。
<Sulfide-Containing Polymer>
The sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain, that is, the sulfide-containing polymer, is preferably, for example, a sulfur-containing polymer having a structural unit (A) represented by the following general formula (1).

Figure 0007699480000001
Figure 0007699480000001

(式(1)中、Xは、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基を表す。)
上記2価の芳香族炭化水素基としては、上記2価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、トリフェニレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基等が挙げられる。なかでも、重合体の光分散がより小さくなる点で、上記2価の芳香族炭化水素基は、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ビフェニレン基、トリフェニレン基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。
(In formula (1), X1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a triphenylene group, a biphenylene group, a phenanthrylene group, etc. Among these, in terms of reducing the light dispersion of the polymer, the divalent aromatic hydrocarbon group is preferably a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a biphenylene group, or a triphenylene group, and more preferably a phenylene group.

上記2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基(「置換基A」とも称する。)としては、好ましくは、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基(「置換基B」とも称する。)を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基が挙げられる。 The substituent that the divalent aromatic hydrocarbon group may have (also referred to as "substituent A") is preferably a reactive functional group, a halogen atom, or an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, or a sulfur-containing substituent that may have a substituent (also referred to as "substituent B").

上記反応性官能基としては、例えば、カルボキシ基(-COOH)、リン酸基(-OPO(OH))、水酸基(-OH)、スルホ基(-SOH)、硫酸基(-OSOH)、ホスホン酸基(-PO(OH))、ホスフィン酸基(-PO(OH)-)、メルカプト基(-SH)等の酸性官能基;アミノ基、アンモニウム基、イミノ基、アミド基、イミド基、マレイミド基、シアノ基等の塩基性官能基;反応性不飽和結合を有する基(例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、メタリル基等の反応性二重結合を有する基があげられる)、反応性イオン結合を有する基(例えば、エポキシ基、オキセタン基等の反応性環状エーテル基を有する基があげられる)等の硬化性官能基;及び、これらの官能基を含む基等が挙げられる。 Examples of the reactive functional group include acidic functional groups such as a carboxy group (-COOH), a phosphate group (-OPO(OH) 3 ), a hydroxyl group (-OH), a sulfo group (-SO 3 H), a sulfate group (-OSO 3 H), a phosphonic acid group (-PO(OH) 3 ), a phosphinic acid group (-PO(OH)-), and a mercapto group (-SH); basic functional groups such as an amino group, an ammonium group, an imino group, an amide group, an imide group, a maleimide group, and a cyano group; curable functional groups such as groups having a reactive unsaturated bond (for example, groups having a reactive double bond such as a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an allyl group, and a methallyl group), and groups having a reactive ionic bond (for example, groups having a reactive cyclic ether group such as an epoxy group and an oxetane group); and groups containing these functional groups.

上記これらの官能基を含む基としては、例えば、上述した酸性官能基、塩基性官能基、又は硬化性官能基と、炭化水素鎖や結合基とを有する基等が挙げられる。すなわち、本発明においては、上記反応性官能基には、上述した酸性官能基、塩基性官能基や硬化性官能基だけでなく、これらの官能基と結合鎖を含む基も含まれる。上記結合鎖としては、アルキレン基、アリーレン基等の2価の炭化水素基や、エーテル、エステル、カルボニル、アミド等の結合基や、これらの組み合わせ等が挙げられる。例えば、上記反応性官能基としてカルボキシ基が好ましいという場合、上記反応性官能基として、カルボキシ基、及び/又は、カルボキシ基を含む基であることが好ましいことを意味する。 Examples of groups containing these functional groups include groups having the above-mentioned acidic functional group, basic functional group, or curable functional group, and a hydrocarbon chain or a bonding group. That is, in the present invention, the reactive functional group includes not only the above-mentioned acidic functional group, basic functional group, and curable functional group, but also groups containing these functional groups and a bonding chain. Examples of the bonding chain include divalent hydrocarbon groups such as alkylene groups and arylene groups, bonding groups such as ethers, esters, carbonyls, and amides, and combinations of these. For example, when it is said that the reactive functional group is preferably a carboxy group, it means that the reactive functional group is preferably a carboxy group and/or a group containing a carboxy group.

上記反応性官能基としては、本発明の製造方法により得られるスルホキシド含有重合体における各種物性の観点より、好ましい形態が異なる。
例えば、無機物粒子の分散性の向上の観点からは、酸性官能基、塩基性官能基、又はこれらの官能基を含む基が好ましく、カルボキシ基、リン酸基、ホスホン酸基、水酸基、又はこれらの官能基を含む基がより好ましい。低線膨張率の観点からは、カルボキシ基、リン酸基、ホスホン酸基、水酸基、又はこれらの官能基を含む基が好ましく、水酸基、又は水酸基を含む基がより好ましい。基材への密着性の向上の観点からは、カルボキシ基、リン酸基、ホスホン酸基、又はこれらの官能基を含む基が好ましく、リン酸基、ホスホン酸基、又はこれらの官能基を含む基がより好ましい。なお、密着性が向上しうる基材としては、無機粒子基板(被膜)、金属酸化物粒子基板(被膜)、ガラス基板、シリコーン基板、銅基板等の無機基材や、有機粒子基板(被膜)、高分子フィルム基板等の有機基材が挙げられる。耐熱性や機械強度、耐溶剤性の向上の観点からは、カルボキシ基、水酸基、アミノ基、マレイミド基、硬化性官能基、又はこれらの官能基を含む基が好ましく、カルボキシ基、水酸基、アミノ基、マレイミド基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、メタリル基、エポキシ基、オキセタン基、又はこれらの官能基を含む基がより好ましい。
The preferred form of the reactive functional group varies depending on the various physical properties of the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention.
For example, from the viewpoint of improving the dispersibility of inorganic particles, an acidic functional group, a basic functional group, or a group containing these functional groups is preferred, and a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a hydroxyl group, or a group containing these functional groups is more preferred. From the viewpoint of low linear expansion coefficient, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a hydroxyl group, or a group containing these functional groups is preferred, and a hydroxyl group or a group containing a hydroxyl group is more preferred. From the viewpoint of improving adhesion to the substrate, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, or a group containing these functional groups is preferred, and a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, or a group containing these functional groups is more preferred. In addition, examples of substrates that can improve adhesion include inorganic substrates such as inorganic particle substrates (coatings), metal oxide particle substrates (coatings), glass substrates, silicone substrates, and copper substrates, and organic substrates such as organic particle substrates (coatings), and polymer film substrates. From the viewpoint of improving heat resistance, mechanical strength, and solvent resistance, a carboxy group, a hydroxyl group, an amino group, a maleimide group, a curable functional group, or a group containing these functional groups is preferred, and a carboxy group, a hydroxyl group, an amino group, a maleimide group, a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an allyl group, a methallyl group, an epoxy group, an oxetane group, or a group containing these functional groups is more preferred.

なかでも、優れた物性とともに、より高い屈折率を与えることができる点で、上記反応性官能基は、カルボキシ基、リン酸基、ホスホン酸基、水酸基、硬化性官能基、又はこれらの官能基を含む基であることが好ましく、カルボキシ基、リン酸基、水酸基、ビニル基、エポキシ基、又はこれらの官能基を含む基であることがより好ましく、リン酸基、水酸基、ビニル基、又はこれらの官能基を含む基であることが更に好ましい。また、高屈折率に加えて更に、低線膨張率で、上記基材への密着性を向上することができる点では、上記反応性官能基は、カルボキシ基、リン酸基、又はこれらの官能基を含む基であることが好ましい。 Among them, the reactive functional group is preferably a carboxy group, a phosphate group, a phosphonic acid group, a hydroxyl group, a curable functional group, or a group containing these functional groups, in terms of being able to provide a higher refractive index along with excellent physical properties, more preferably a carboxy group, a phosphate group, a hydroxyl group, a vinyl group, an epoxy group, or a group containing these functional groups, and even more preferably a phosphate group, a hydroxyl group, a vinyl group, or a group containing these functional groups. Furthermore, in terms of being able to improve adhesion to the substrate with a low linear expansion coefficient in addition to a high refractive index, the reactive functional group is preferably a carboxy group, a phosphate group, or a group containing these functional groups.

上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、なかでも、臭素原子が好ましい。 The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, of which a bromine atom is preferred.

上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2,2-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、ヘプチル基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~6のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。 Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2,2-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, and heptyl. Of these, alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms are preferred, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and methyl groups are even more preferred.

上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、フェノキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1~18のアルコキシ基が好ましく、炭素数1~6のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。 Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a s-butoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, a phenoxy group, a cyclohexyloxy group, and a benzyloxy group. Of these, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms is preferred, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is more preferred, and a methoxy group is more preferred.

上記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、トリフェニル基等が挙げられる。なかでも、フェニル基が好ましい。上記アリール基の炭素数は、6~30であることが好ましく、6~18であることがより好ましく、6~12であることが更に好ましい。 The aryl group may be a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, a triphenyl group, or the like. Of these, a phenyl group is preferred. The number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 18, and even more preferably 6 to 12.

上記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニルオクチル基等が挙げられる。上記アラルキル基の炭素数は、7~14であることが好ましく、7~9であることが好ましい。 Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylpentyl group, a phenylhexyl group, and a phenyloctyl group. The number of carbon atoms in the aralkyl group is preferably 7 to 14, and more preferably 7 to 9.

上記硫黄含有置換基としては、例えば、チオアルキル基、チオアリール基等が挙げられる。なかでも、チオアルキル基が好ましい。上記硫黄含有置換基の炭素数は、1~8であることが好ましく、1~6であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましい。 Examples of the sulfur-containing substituent include a thioalkyl group and a thioaryl group. Of these, a thioalkyl group is preferred. The number of carbon atoms in the sulfur-containing substituent is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.

上記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、及び、硫黄含有置換基は、更に置換基(置換基B)を有してもよく、当該置換基(置換基B)としては、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、なかでも、上記重合体の溶解性の観点ではアルキル基が好ましく、無機物粒子の分散性の観点では水酸基が好ましく挙げられる。 The alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, and sulfur-containing substituent may further have a substituent (substituent B). Examples of the substituent (substituent B) include an alkyl group, a halogen atom, and a hydroxyl group. Among these, from the viewpoint of the solubility of the polymer, an alkyl group is preferred, and from the viewpoint of the dispersibility of the inorganic particles, a hydroxyl group is preferred.

なかでも、屈折率、アッベ数をより一層高くすることができる点で、上記2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基(置換基A)としては、上記炭素数1~18のアルキル基、硫黄含有置換基がより好ましく、メチル基、チオアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、無機物粒子の分散性を向上しうる点で、上記2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基としては、水酸基、硫黄含有置換基がより好ましく、水酸基、チオアルキル基、チオアリール基が更に好ましく、水酸基が特に好ましい。 Among these, the substituent (substituent A) that the divalent aromatic hydrocarbon group may have is preferably the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and a sulfur-containing substituent, more preferably a methyl group or a thioalkyl group, and particularly preferably a methyl group, in terms of being able to further increase the refractive index and Abbe number. Also, the substituent that the divalent aromatic hydrocarbon group may have is more preferably a hydroxyl group or a sulfur-containing substituent, more preferably a hydroxyl group, a thioalkyl group or a thioaryl group, and particularly preferably a hydroxyl group, in terms of being able to improve the dispersibility of inorganic particles.

上記2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基Aの数は、特に限定されないが、重合体の屈折率がより一層高くなる点で、少ない方が好ましく、具体的には、1~6であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 The number of substituents A that the divalent aromatic hydrocarbon group may have is not particularly limited, but a smaller number is preferable in that the refractive index of the polymer will be even higher. Specifically, the number is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1.

上記2価の芳香族炭化水素基において、上記置換基Aが結合する位置は特に制限されない。上記2価の芳香族炭化水素基がフェニレン基である場合においても同様であり、置換基Aがたとえばアルキル基である場合も結合位置は特に制限されないが、得られるスルホキシド含有重合体の溶剤への溶解性、耐光性の観点から、フェニレン基の4位の位置に結合していることが好ましい。 In the divalent aromatic hydrocarbon group, the position to which the substituent A is bonded is not particularly limited. The same applies when the divalent aromatic hydrocarbon group is a phenylene group, and when the substituent A is, for example, an alkyl group, the position to which it is bonded is not particularly limited, but from the viewpoint of the solubility in solvents and light resistance of the resulting sulfoxide-containing polymer, it is preferable that it is bonded to the 4-position of the phenylene group.

上記構成単位(A)は、屈折率がより高くなる点で、下記一般式(1-1)で表される構成単位(A-1)であることが好ましい。 The structural unit (A) is preferably a structural unit (A-1) represented by the following general formula (1-1), since this results in a higher refractive index.

Figure 0007699480000002
Figure 0007699480000002

(式中、Rは、同一又は異なって、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基を表す。aは、Rの数を表し、0~4の整数である。)
が複数ある場合は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(In the formula, R 1 may be the same or different and represents a reactive functional group, a halogen atom, or an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, or a sulfur-containing substituent, each of which may have a substituent. a represents the number of R 1 and is an integer of 0 to 4.)
When there are a plurality of R 1 's, they may be the same or different.

で表される、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基は、それぞれ、上記一般式(1)における2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基と同様のものであることが好ましい。なかでも、屈折率をより一層高くすることができる点で、上記Rとしては、メチル基、チオアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。上記一般式(1-1)中、aは、置換基Rの数を表し、0~4の整数である。aは、屈折率がより一層高くなる点で、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 The reactive functional group, halogen atom, or alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, or sulfur-containing substituent which may have a substituent represented by R 1 is preferably the same as the substituent which the divalent aromatic hydrocarbon group in the above general formula (1) may have. Among them, in terms of being able to further increase the refractive index, the above R 1 is more preferably a methyl group or a thioalkyl group, and particularly preferably a methyl group. In the above general formula (1-1), a represents the number of the substituents R 1 and is an integer of 0 to 4. In terms of being able to further increase the refractive index, a is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.

上記スルフィド含有重合体は、その好ましい実施形態において、上記構成単位(A)を有する硫黄含有重合体であれば、さらに限定されないが、下記一般式(2)で表される構成単位(B)および/または下記一般式(3)で表される構成単位(C)をさらに含んでいてもよい。 In a preferred embodiment, the sulfide-containing polymer is not limited to any particular sulfur-containing polymer having the structural unit (A), but may further contain a structural unit (B) represented by the following general formula (2) and/or a structural unit (C) represented by the following general formula (3).

Figure 0007699480000003
Figure 0007699480000003

Figure 0007699480000004
Figure 0007699480000004

(式(2)および(3)中、XおよびXは、同一または異なって、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基を表す。)
上記一般式(2)で表される構成単位(B)において、式中、Xは、置換基を有してもよい2価の芳香族炭化水素基を表す。Xで表される2価の芳香族炭化水素基としては、上述したXで表される2価の芳香族炭化水素基と同様の基が好ましく挙げられる。Xで表される2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基としては、上述したXで表される2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基と同様の基が好ましく挙げられる。Xで表される2価の芳香族炭化水素基やその置換基は、Xで表される2価の芳香族炭化化水素基やその置換基と同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(In formulas (2) and (3), X2 and X3 are the same or different and each represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)
In the structural unit (B) represented by the general formula (2), X2 represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The divalent aromatic hydrocarbon group represented by X2 is preferably the same as the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 . The substituent which the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X2 may have is preferably the same as the substituent which the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 may have. The divalent aromatic hydrocarbon group represented by X2 and its substituent may be the same as or different from the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 and its substituent.

上記構成単位(B)は、溶解性等に起因する高極性である点で、下記一般式(2-1)で表される構成単位(B-1)であることが好ましい。 The above structural unit (B) is preferably a structural unit (B-1) represented by the following general formula (2-1) because of its high polarity due to its solubility, etc.

Figure 0007699480000005
Figure 0007699480000005

(式中、Rは、同一又は異なって、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基を表す。bは、Rの数を表し、0~4の整数である。)
が複数ある場合は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
(In the formula, R 2 may be the same or different and represents a reactive functional group, a halogen atom, or an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, or a sulfur-containing substituent, each of which may have a substituent. b represents the number of R 2 and is an integer of 0 to 4.)
When there are a plurality of R2's , they may be the same or different.

で表される、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基としては、それぞれ上述したRで表されるものと同様の基が挙げられる。なかでも、屈折率をより一層高くすることができる点で、上記Rとしては、メチル基、チオアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。上記一般式(2-1)中、bは、置換基Rの数を表し、0~4の整数である。bは、屈折率がより一層高くなる点で、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 Examples of the reactive functional group, halogen atom, or alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, or sulfur-containing substituent that may have a substituent, represented by R 2 , include the same groups as those represented by R 1 described above. Among them, in terms of being able to further increase the refractive index, the above R 2 is more preferably a methyl group or a thioalkyl group, and particularly preferably a methyl group. In the above general formula (2-1), b represents the number of the substituents R 2 and is an integer of 0 to 4. In terms of being able to further increase the refractive index, b is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.

上記一般式(3)で表される構成単位(C)において、式中、Xは、置換基を有してもよい2価の芳香族炭化水素基を表す。Xで表される2価の芳香族炭化水素基としては、上述したXで表される2価の芳香族炭化水素基と同様の基が好ましく挙げられる。Xで表される2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基としては、上述したXで表される2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基と同様の基が好ましく挙げられる。Xで表される2価の芳香族炭化水素基やその置換基は、X又はXで表される2価の芳香族炭化水素基やその置換基と同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the structural unit (C) represented by the general formula (3), X3 represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The divalent aromatic hydrocarbon group represented by X3 is preferably the same as the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 . The substituent which the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X3 may have is preferably the same as the substituent which the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 may have. The divalent aromatic hydrocarbon group represented by X3 or its substituent may be the same as or different from the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 or X2 or its substituent.

上記構成単位(C)は、高透明性である点で、下記一般式(3-1)で表される構成単位(C-1)であることが好ましい。 The above structural unit (C) is preferably a structural unit (C-1) represented by the following general formula (3-1) in terms of high transparency.

Figure 0007699480000006
Figure 0007699480000006

(式中、Rは、同一又は異なって、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基を表す。cは、Rの数を表し、0~4の整数である。)
が複数ある場合は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。Rで表される、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基としては、それぞれ上述したRで表されるものと同様の基が挙げられる。なかでも、屈折率をより一層高くすることができる点で、上記Rとしては、メチル基、チオアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。上記一般式(3-1)中、cは、置換基Rの数を表し、0~4の整数である。cは、屈折率がより一層高くなる点で、1~3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
(In the formula, R 3 may be the same or different and represents a reactive functional group, a halogen atom, or an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, or a sulfur-containing substituent, each of which may have a substituent. c represents the number of R 3 and is an integer of 0 to 4.)
When there are a plurality of R 3 , they may be the same or different. The reactive functional group, halogen atom, or alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, or sulfur-containing substituent that may have a substituent, represented by R 3, may be the same as those represented by R 1 described above. Among them, in terms of being able to further increase the refractive index, the R 3 is more preferably a methyl group or a thioalkyl group, and particularly preferably a methyl group. In the above general formula (3-1), c represents the number of the substituents R 3 and is an integer of 0 to 4. c is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1, in terms of further increasing the refractive index.

上記スルフィド含有重合体は、上記構成単位(A)のみを含む重合体であってもよいし、構成単位(A)と、構成単位(B)および/または構成単位(C)を含む共重合体であってもよい。上記共重合体である場合、その形態は特に制限されず、たとえば、交互共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。上記スルフィド含有重合体は、1種又は2種以上の上記構成単位(A)、(B)、又は(C)をそれぞれ有してもよい。 The sulfide-containing polymer may be a polymer containing only the structural unit (A), or may be a copolymer containing the structural unit (A) and the structural unit (B) and/or the structural unit (C). When it is a copolymer, the form is not particularly limited, and may be, for example, an alternating copolymer, a block copolymer, or a random copolymer. The sulfide-containing polymer may have one or more of the structural units (A), (B), or (C).

上記スルフィド含有重合体において、上記構成単位(A)の含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、50~100モル%であることが好ましく、80~100モル%であることがより好ましく、95~100モル%であることが更に好ましい。上記構成単位(B)及び構成単位(C)の合計含有割合は、全構成単位100モル%に対して、0~50モル%であることが好ましく、0~20モル%であることがより好ましく、0~5モル%であることが更に好ましい。 In the sulfide-containing polymer, the content of the structural unit (A) is preferably 50 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, and even more preferably 95 to 100 mol%, based on 100 mol% of all structural units in the polymer. The total content of the structural units (B) and (C) is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, and even more preferably 0 to 5 mol%, based on 100 mol% of all structural units.

上記スルフィド含有重合体において、上記構成単位(A)、(B)及び(C)の合計含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、50モル%以上であることが好ましく、80モル%以上であることがより好ましく、90モル%以上であることが更に好ましく、95モル%以上であることが更により好ましく、100モル%であることが特に好ましい。 In the sulfide-containing polymer, the total content of the structural units (A), (B) and (C) is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, even more preferably 90 mol% or more, even more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 100 mol%, based on 100 mol% of all structural units in the polymer.

上記スルフィド含有重合体は、上記構成単位(A)と構成単位(B)と構成単位(C)以外の他の構成単位(D)を有していてもよい。上記構成単位(D)としては、例えば、少なくとも上述した反応性官能基を有する構成単位が挙げられる。 The sulfide-containing polymer may have a structural unit (D) other than the structural unit (A), the structural unit (B), and the structural unit (C). Examples of the structural unit (D) include a structural unit having at least the reactive functional group described above.

上記構成単位(D)を導入しうる単量体としては、例えば、重合性二重結合と上記反応性官能基を有する単量体が挙げられる。上記重合性二重結合としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、メタリル基等が挙げられ、なかでも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。上記重合性二重結合と上記反応性官能基を有する単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸2-カルボキシエチル、(メタ)アクリル酸2-カルボキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-カルボキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-カルボキシブチル等のカルボキシ基含有(メタ)アクリレート;2-(メタ)アクリロイルオキシエチルアシドホスフェート等のリン酸基含有(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル等のビニルエーテル基含有(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of monomers into which the structural unit (D) can be introduced include monomers having a polymerizable double bond and the reactive functional group. Examples of the polymerizable double bond include vinyl groups, (meth)acryloyl groups, allyl groups, and methallyl groups, with the (meth)acryloyl group being preferred. Examples of monomers having the polymerizable double bond and the reactive functional group include carboxy group-containing (meth)acrylates such as 2-carboxyethyl (meth)acrylate, 2-carboxypropyl (meth)acrylate, 3-carboxypropyl (meth)acrylate, and 4-carboxybutyl (meth)acrylate; phosphoric acid group-containing (meth)acrylates such as 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate; epoxy group-containing (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate; vinyl ether group-containing (meth)acrylates such as 2-(2-vinyloxyethoxy)ethyl (meth)acrylate.

上記構成単位(D)の含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、0~50モル%であることが好ましく、0~20モル%であることがより好ましく、0~5モル%であることが更に好ましい。 The content of the structural unit (D) is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, and even more preferably 0 to 5 mol%, relative to 100 mol% of all structural units in the polymer.

上記スルフィド含有重合体は、主鎖末端及び/又は側鎖に上述した反応性官能基を有することが好ましい。上記反応性官能基を少なくとも主鎖末端、又は、側鎖に有することで、酸化反応後に得られるスルホキシド含有重合体が、上記反応性官能基による優れた物性を発揮することができる。上記反応性官能基を側鎖に有する場合とは、上記スルフィド含有重合体の側鎖に上記反応性官能基がある場合だけでなく、上記一般式(1)~(3)で表される構成単位(A)~(C)における置換基が、上記反応性官能基である場合や上記反応性官能基を含む基である場合も含む。 The sulfide-containing polymer preferably has the reactive functional group at the end of the main chain and/or at the side chain. By having the reactive functional group at least at the end of the main chain or at the side chain, the sulfoxide-containing polymer obtained after the oxidation reaction can exhibit excellent physical properties due to the reactive functional group. The case where the reactive functional group is present at the side chain includes not only the case where the reactive functional group is present at the side chain of the sulfide-containing polymer, but also the case where the substituent in the structural units (A) to (C) represented by the general formulas (1) to (3) is the reactive functional group or a group containing the reactive functional group.

上記スルフィド含有重合体の重量平均分子量(Mw)は、特に制限されないが、500~10000000であることが好ましい。重量平均分子量が上述の範囲であると、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体を光学材料として好適に使用することができる。上記重量平均分子量は、1000以上であることがより好ましく、3000以上であることが更に好ましく、10000以上であることが更により好ましく、一方、1000000以下であることがより好ましく、100000以下であることが更に好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the sulfide-containing polymer is not particularly limited, but is preferably 500 to 10,000,000. When the weight average molecular weight is within the above range, the sulfoxide-containing polymer obtained by the manufacturing method of the present invention can be suitably used as an optical material. The weight average molecular weight is more preferably 1,000 or more, even more preferably 3,000 or more, and even more preferably 10,000 or more, while more preferably 1,000,000 or less, and even more preferably 100,000 or less.

上記スルフィド含有重合体の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1以上、10以下であることが好ましい。上記分散度が上述の範囲であると、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体の成形性が良好となる。成形性がより一層向上しうる点で、上記分散度は、5以下であることがより好ましく、3以下であることが更に好ましい。 The dispersity (weight average molecular weight/number average molecular weight) of the sulfide-containing polymer is preferably 1 or more and 10 or less. When the dispersity is within the above-mentioned range, the moldability of the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention is good. In terms of further improving the moldability, the dispersity is more preferably 5 or less, and even more preferably 3 or less.

上記重量平均分子量、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定して求めることができ、具体的には後述する実施例に記載の方法により求めることができる。分散度は、重量平均分子量を数平均分子量で除することにより求めることができる。 The weight average molecular weight and number average molecular weight can be determined by gel permeation chromatography (GPC), specifically by the method described in the examples below. The degree of dispersion can be determined by dividing the weight average molecular weight by the number average molecular weight.

上記スルフィド含有重合体は、ガラス転移温度(Tg)が80~250℃であることが好ましい。ガラス転移温度が上述の範囲であると、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体の成形加工を容易に行うことができる。上記ガラス転移温度は、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体の耐熱性を高くするという観点から、90℃以上であることがより好ましく、100℃以上であることが更に好ましく、成形加工を容易に行うという観点から、200℃以下であることがより好ましい。 The sulfide-containing polymer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 80 to 250°C. When the glass transition temperature is in the above-mentioned range, the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention can be easily molded. From the viewpoint of increasing the heat resistance of the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention, the glass transition temperature is more preferably 90°C or higher, and even more preferably 100°C or higher, and from the viewpoint of easy molding, it is more preferably 200°C or lower.

上記ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて、窒素ガス雰囲気下、室温から250℃まで昇温(昇温速度10℃/分)して得られたDSC曲線から、ベースラインと変曲点での接線の交点により評価する方法により求めることができる。 The glass transition temperature can be determined by a method in which a differential scanning calorimeter (DSC) is used to measure the intersection of the tangent line at the baseline and the inflection point on the DSC curve obtained by heating from room temperature to 250°C (heating rate 10°C/min) in a nitrogen gas atmosphere.

<化合物>
上記酸化工程においては、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩および次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を用いる。次亜塩素酸、次亜塩素酸塩および次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を総称して化合物(Z)とも称する。
<Compound>
In the oxidation step, at least one compound selected from the group consisting of hypochlorous acid, hypochlorite, and compounds capable of generating hypochlorous acid is used. At least one compound selected from the group consisting of hypochlorous acid, hypochlorite, and compounds capable of generating hypochlorous acid is collectively referred to as compound (Z).

上記次亜塩素酸塩としては、特に限定されないが、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム等のアルカリ金属塩;次亜塩素酸カルシウム等のアルカリ土類金属塩が好ましい。 The hypochlorite is not particularly limited, but is preferably an alkali metal salt such as potassium hypochlorite or sodium hypochlorite; or an alkaline earth metal salt such as calcium hypochlorite.

上記次亜塩素酸を発生し得る化合物としては、トリクロロイソシアヌル酸(TCCA)、トリクロロイソシアヌル酸ナトリウム等のトリクロロイソシアヌル酸塩、N-クロロスクシンイミド、N-クロロフタルイミド、次塩素ナトリウム等のアルカリ金属塩、次亜塩素酸カルシウム等のアルカリ土類金属塩、亜塩素酸、亜塩素ナトリウム等のアルカリ金属塩、亜塩素酸カルシウム等のアルカリ土類金属塩、二酸化塩素、塩素等があげられる。中でもトリクロロイソシアヌル酸(TCCA)が好ましい。
上記化合物(Z)は、1種のみ使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記化合物(Z)の中でも、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩、またはトリクロロイソシアヌル酸(TCCA)がより好ましく、トリクロロイソシアヌル酸(TCCA)がさらに好ましい。
Examples of the compound capable of generating hypochlorous acid include trichloroisocyanuric acid (TCCA), trichloroisocyanurates such as sodium trichloroisocyanurate, N-chlorosuccinimide, N-chlorophthalimide, alkali metal salts such as sodium hypochlorite, alkaline earth metal salts such as calcium hypochlorite, chlorous acid, alkali metal salts such as sodium chlorite, alkaline earth metal salts such as calcium chlorite, chlorine dioxide, chlorine, etc. Among these, trichloroisocyanuric acid (TCCA) is preferred.
The compound (Z) may be used alone or in combination of two or more kinds.
Among the above compounds (Z), hypochlorous acid, hypochlorites, and trichloroisocyanuric acid (TCCA) are more preferred, and trichloroisocyanuric acid (TCCA) is even more preferred.

<酸化反応>
上記酸化工程における酸化反応は、溶媒中で行われることが好ましい。酸化反応で用いる溶媒を酸化反応溶媒とも称する。
上記酸化反応溶媒としては、たとえば、クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤;酢酸エチル等のエステル等の有機溶剤、水が好ましく挙げられ、これらの1種または2種以上を用いることができる。これらの中でもエーテルがより好ましく、テトラヒドロフランがさらに好ましい。
<Oxidation reaction>
The oxidation reaction in the oxidation step is preferably carried out in a solvent. The solvent used in the oxidation reaction is also referred to as an oxidation reaction solvent.
Preferred examples of the oxidation reaction solvent include chlorinated hydrocarbons such as chloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, and 1,3-dichlorobenzene; ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, and cyclopentyl methyl ether; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylformamide; organic solvents such as esters such as ethyl acetate; and water, and one or more of these can be used. Among these, ethers are more preferred, and tetrahydrofuran is even more preferred.

一方、酸化反応は、水共存下で行うことが好ましい。水が存在することにより、酸化反応を促進し、低温でも短時間で酸化反応を完結することができる。
よって、上記酸化反応溶媒としては、有機溶媒と水との混合溶媒であることが好ましい。水の含有量は特に限定されないが、上記酸化反応溶媒(混合溶媒)全量100質量%に対する、水の含有量が1~30質量%であることが好ましい。2質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、15質量以下であることがさらに好ましい。
On the other hand, the oxidation reaction is preferably carried out in the presence of water, since the presence of water accelerates the oxidation reaction and enables the oxidation reaction to be completed in a short time even at a low temperature.
Therefore, the oxidation reaction solvent is preferably a mixed solvent of an organic solvent and water. The content of water is not particularly limited, but it is preferable that the content of water is 1 to 30 mass% relative to 100 mass% of the total amount of the oxidation reaction solvent (mixed solvent). It is more preferable that the content of water is 2 mass% or more, even more preferable that the content of water is 5 mass% or more, more preferably that the content of water is 20 mass% or less, and even more preferable that the content of water is 15 mass% or less.

上記酸化工程においては、上記化合物(Z)をスルフィド含有重合体と混合することが好ましい。混合するにあたり、上記化合物(Z)は、そのままの形態で用いてもよいし、溶媒に溶解または分散したものを用いてもよい。 In the oxidation step, it is preferable to mix the compound (Z) with the sulfide-containing polymer. When mixing, the compound (Z) may be used as is, or may be dissolved or dispersed in a solvent.

たとえば、化合物(Z)として次亜塩素酸、次亜塩素酸塩を用いる場合は、これらを含有する水溶液として用いることが好ましい。次亜塩素酸(塩)水溶液としては、塩化ナトリウム水溶液、塩酸水、あるいは塩酸と塩化ナトリウムの混合液を電気分解することにより得られる、次亜塩素酸を主成分とする次亜塩素酸水を用いることもできる。 For example, when hypochlorous acid or a hypochlorite is used as compound (Z), it is preferable to use an aqueous solution containing these. As the aqueous hypochlorous acid (salt) solution, an aqueous sodium chloride solution, hydrochloric acid water, or hypochlorous acid water containing hypochlorous acid as the main component, obtained by electrolyzing a mixture of hydrochloric acid and sodium chloride, can also be used.

また、上記次亜塩素酸を発生し得る化合物についても、スルフィド含有重合体と混合する際、該化合物をそのまま用いてもよいし、該化合物を溶媒に溶解または分散したものを用いてもよい。 In addition, when mixing the above-mentioned compound capable of generating hypochlorous acid with the sulfide-containing polymer, the compound may be used as is, or the compound may be dissolved or dispersed in a solvent.

上記化合物(Z)との混合にあたり、スルフィド含有重合体は、予め、該重合体を溶媒に分散または溶解した状態としておくことが好ましい。すなわち、上記スルフィド含有重合体を溶媒に溶解した溶液または分散した分散液と、上記化合物(Z)を混合することが好ましい。溶媒としては、上記酸化反応で用いる酸化反応溶媒と同様の溶媒を用いることができる。 When mixing with the compound (Z), it is preferable that the sulfide-containing polymer is dispersed or dissolved in a solvent in advance. That is, it is preferable to mix the compound (Z) with a solution in which the sulfide-containing polymer is dissolved in a solvent or a dispersion in which the sulfide-containing polymer is dispersed. As the solvent, a solvent similar to the oxidation reaction solvent used in the oxidation reaction can be used.

上記分散液における上記スルフィド含有重合体の平均粒径は100μm以下であることが、酸化度が均一なスルホキシド含有重合体が得られ易い点で好ましい。上記平均粒径は、より好ましくは10μm以下であり、さらに好ましくは1μm以下である。上限値が特に制限されないが、0.001μm以上が好ましく、より好ましくは、0.01μm以上である。上記平均粒径は、体積基準の粒度分布における50%粒子径であり、動的光散乱法、または、静的光散乱法により測定することができる。 The average particle size of the sulfide-containing polymer in the dispersion is preferably 100 μm or less, since it is easy to obtain a sulfoxide-containing polymer with a uniform degree of oxidation. The average particle size is more preferably 10 μm or less, and even more preferably 1 μm or less. There is no particular upper limit, but it is preferably 0.001 μm or more, and more preferably 0.01 μm or more. The average particle size is the 50% particle size in the volume-based particle size distribution, and can be measured by dynamic light scattering or static light scattering.

なお、上記酸化反応溶媒中に水を含有させる場合、スルフィド含有重合体を、有機溶媒と水との混合溶媒に上記スルフィド含有重合体を添加混合しスルフィド含有重合体を混合溶媒中に分散または溶解させてもよいし、有機溶媒に上記スルフィド含有重合体を添加混合し分散または溶解させた後、水を添加してもよい。 When water is contained in the oxidation reaction solvent, the sulfide-containing polymer may be added to a mixed solvent of an organic solvent and water and dispersed or dissolved in the mixed solvent, or the sulfide-containing polymer may be added to an organic solvent and dispersed or dissolved therein, and then water may be added.

上記溶液における、上記スルフィド含有重合体の濃度は特に限定されないが、上記溶液100質量%に対する上記スルフィド含有重合体の含有量が、0.01~99.9質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1~80質量%であり、さらに好ましくは1~50質量%である。
上記分散液における、上記スルフィド含有重合体の濃度についても、同様である。
The concentration of the sulfide-containing polymer in the solution is not particularly limited, but the content of the sulfide-containing polymer relative to 100% by mass of the solution is preferably 0.01 to 99.9% by mass, more preferably 0.1 to 80% by mass, and even more preferably 1 to 50% by mass.
The same applies to the concentration of the sulfide-containing polymer in the dispersion.

上記化合物(Z)の上記スルフィド含有重合体に対する混合比は、特に限定されないが、通常、スルフィド含有重合体中の硫黄原子1モルに対する化合物(Z)の量(モル)で表して、0.01~100モルであることが好ましく、0.1~10モルであることがより好ましく、0.1~3モルであることが更に好ましい。 The mixing ratio of the compound (Z) to the sulfide-containing polymer is not particularly limited, but is usually preferably 0.01 to 100 moles, more preferably 0.1 to 10 moles, and even more preferably 0.1 to 3 moles, expressed as the amount (mol) of compound (Z) per mole of sulfur atoms in the sulfide-containing polymer.

また、上記化合物(Z)より生成される次亜塩素酸はスルフィド含有重合体中の硫黄原子1モルに対する化合物(Z)より生成される次亜塩素酸の量(モル)で表して、0.01~100モルであることが好ましく、0.1~10モルであることがより好ましく、0.1~3モルであることが更に好ましい。 The amount of hypochlorous acid generated from the compound (Z) is preferably 0.01 to 100 moles, more preferably 0.1 to 10 moles, and even more preferably 0.1 to 3 moles, expressed as the amount (mol) of hypochlorous acid generated from the compound (Z) per mole of sulfur atoms in the sulfide-containing polymer.

上記酸化反応の反応温度は、所望の酸化反応が進行する温度であれば、特に限定されないが、上記酸化反応が進行しやすい点で、-20~200℃であることが好ましく、0℃以上がより好ましく、5℃以上が更に好ましく、また、副反応を抑制する点で、100℃以下がより好ましく、50℃以下が更に好ましい。上記酸化反応の反応時間は、特に限定されないが、通常、0.1~100時間であり、0.5~20時間であることが好ましく、1時間以上がより好ましく、また生産性に優れる観点から、10時間以下であることがより好ましく、5時間以下であることがさらに好ましい。 The reaction temperature of the above oxidation reaction is not particularly limited as long as it is a temperature at which the desired oxidation reaction proceeds, but from the viewpoint of facilitating the above oxidation reaction, it is preferably -20 to 200°C, more preferably 0°C or higher, and even more preferably 5°C or higher, and from the viewpoint of suppressing side reactions, it is more preferably 100°C or lower, and even more preferably 50°C or lower. The reaction time of the above oxidation reaction is not particularly limited, but is usually 0.1 to 100 hours, preferably 0.5 to 20 hours, more preferably 1 hour or more, and from the viewpoint of excellent productivity, it is more preferably 10 hours or less, and even more preferably 5 hours or less.

スルフィド含有重合体におけるスルフィド基(-S-)の一部をスルホニル基(-SO-)まで、酸化させる場合は、上述した反応時間よりも長時間で反応させればよい。また、この場合の化合物(Z)の使用量は、所望の硫黄原子の酸化反応が進行するのであれば特に限定されないが、通常、スルフィド含有重合体中の硫黄原子1モルに対し、1.5~100モルであることが好ましく、2~50モルであることがより好ましく、2~10モルであることが更に好ましい。 When a portion of the sulfide groups (-S-) in the sulfide-containing polymer are oxidized to sulfonyl groups (-SO 2 -), the reaction may be carried out for a longer time than the above-mentioned reaction time. In this case, the amount of compound (Z) used is not particularly limited as long as the oxidation reaction of the desired sulfur atoms proceeds, but is usually preferably 1.5 to 100 mol, more preferably 2 to 50 mol, and even more preferably 2 to 10 mol, per mol of sulfur atoms in the sulfide-containing polymer.

上記酸化工程により得られたスルホキシド含有重合体は、酸等が残存している可能があるため、洗浄することが好ましい。洗浄方法としては、特に限定されず、水、酸、塩基等を用いて洗浄する方法が挙げられる。また、未反応物を除去するために、フィルターを通したり、溶媒で重合体を洗浄したりしてもよい。上記溶媒としては特に限定されないが、反応溶媒と同じ溶媒を用いることができる。 The sulfoxide-containing polymer obtained by the oxidation step may contain residual acid, so it is preferable to wash it. The washing method is not particularly limited, and examples include washing methods using water, acid, base, etc. In addition, in order to remove unreacted substances, the polymer may be passed through a filter or washed with a solvent. The solvent is not particularly limited, but the same solvent as the reaction solvent can be used.

上記酸化工程において、上記化合物(Z)を酸化剤として用いることも本発明の製造方法における、好ましい実施形態の一つである。
また、上記酸化工程において、さらに、化合物(Z)以外の酸化剤を用いることもできる。該酸化剤としては、酸化性を有する物質であれば特に制限されないが、硝酸、四酸化二窒素、二酸化窒素、硫酸、過酸化水素、オゾン、あるいはこれらの混合物が好ましく例示され、1種または2種以上を適宜選択して用いることができる。
In the oxidation step, the use of the compound (Z) as an oxidizing agent is also one of the preferred embodiments of the production method of the present invention.
In the oxidation step, an oxidizing agent other than the compound (Z) can be used. The oxidizing agent is not particularly limited as long as it is a substance having oxidizing properties, and preferred examples thereof include nitric acid, dinitrogen tetroxide, nitrogen dioxide, sulfuric acid, hydrogen peroxide, ozone, and mixtures thereof, and one or more of them can be appropriately selected and used.

上記化合物(Z)以外の酸化剤を用いる場合、その使用量は、本発明の効果を損なわない範囲であることが好ましい。たとえば、上記酸化工程における化合物(Z)の使用量100質量%に対する、化合物(Z)以外の酸化剤の合計量が0~20質量%であることが好ましく、より好ましくは、0~5質量%であり、さらに好ましくは0~1質量%である。また化合物(Z)以外の酸化剤の使用する効果も発揮させたい場合は、化合物(Z)の使用量100質量%に対する、化合物(Z)以外の酸化剤の合計量が20質量%超であってもよい。 When an oxidizing agent other than the compound (Z) is used, it is preferable that the amount used is within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, the total amount of oxidizing agents other than the compound (Z) relative to 100% by mass of the amount of compound (Z) used in the oxidation step is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, and even more preferably 0 to 1% by mass. In addition, when it is desired to exert the effects of using an oxidizing agent other than the compound (Z), the total amount of oxidizing agents other than the compound (Z) relative to 100% by mass of the amount of compound (Z) used may be more than 20% by mass.

<重合体末端制御工程>
本発明の製造方法は、さらに、重合体末端を制御する反応を行う末端制御工程を含むことが好ましい。上記酸化工程により得られるスルホキシド含有重合体は、その末端が、たとえば、塩化スルホニル構造(-S(=O)-Cl)となる。該末端の構造を化学的に変性あるいは修飾することにより、溶解性や透過率を向上させたり、末端に新たな機能を付与することができる。
重合体末端を制御するとは、上記酸化反応で得られるスルホキシド含有重合体の末端を、任意の構造に制御することを意味する。重合体末端を制御する反応を末端制御反応ということがある。
<Polymer End Control Step>
The production method of the present invention preferably further includes a terminal control step in which a reaction is carried out to control the polymer terminals. The sulfoxide-containing polymer obtained by the oxidation step has terminals that have, for example, a sulfonyl chloride structure (-S(=O) 2 -Cl). By chemically modifying or altering the terminal structure, it is possible to improve the solubility or transmittance, or to impart new functions to the terminals.
Controlling the polymer terminals means controlling the terminals of the sulfoxide-containing polymer obtained by the oxidation reaction to have any structure. The reaction for controlling the polymer terminals is sometimes called a terminal control reaction.

上記末端制御工程は、上記スルフィド含有重合体に対し行ってもよいし、上記スルホキシド含有重合体に対し行ってもよいし、あるいは上記酸化工程中に行ってもよい。すなわち、上記酸化工程前に行ってもよいし、上記酸化工程後に行ってもよいし、上記酸化工程と同時に行ってもよい。 The terminal control step may be performed on the sulfide-containing polymer, on the sulfoxide-containing polymer, or during the oxidation step. That is, it may be performed before the oxidation step, after the oxidation step, or simultaneously with the oxidation step.

中でも、上記重合体末端制御工程は上記酸化工程後に行うか、上記酸化工程と同時に行うことが好ましく、上記酸化工程における酸化反応が開始した後に、重合体末端制御工程における末端制御反応を開始することが好ましい。すなわち、上記酸化反応を先に開始し、上記酸化反応が完了した後、あるいは上記酸化反応がある程度進んだ後に、末端制御反応を行うことが好ましい。
上記末端制御反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、上記酸化反応溶媒と同様の溶媒を用いることができる。
Among these, it is preferable to carry out the polymer end control step after the oxidation step or simultaneously with the oxidation step, and it is preferable to start the end control reaction in the polymer end control step after the oxidation reaction in the oxidation step has started. That is, it is preferable to start the oxidation reaction first and then carry out the end control reaction after the oxidation reaction is completed or after the oxidation reaction has progressed to a certain extent.
The above-mentioned terminal control reaction is preferably carried out in a solvent, and the solvent may be the same as that used in the above-mentioned oxidation reaction.

上記末端制御工程は、還元性物質を用いる工程であることが好ましい。
還元性物質を用いることにより、たとえば、スルホキシド含有重合体の少なくとも一方の末端をチオール基を有する構造に制御することができる。さらに末端をチオール基とすることにより、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物により修飾することができ種々の官能基を導入することができる。
The terminal control step is preferably a step using a reducing substance.
By using a reducing substance, for example, at least one end of the sulfoxide-containing polymer can be controlled to have a structure having a thiol group. Furthermore, by making the end a thiol group, it can be modified with a compound containing an ethylenically unsaturated double bond, and various functional groups can be introduced.

還元性物質としては、特に制限されないが、水素化ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ブチルリチウム、ジボラン、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素リチウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素カリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化トリブチルスズ、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド等の金属あるいは半金属の水素化物やその錯化合物(アート錯体);金属スズ、金属亜鉛等の金属;鉄の2価イオン、スズの2価イオン等の低原子価金属イオン含有化合物;ギ酸、シュウ酸等の酸系有機化合物;トリフェニルホスフィン等のホスフィン系有機化合物;ヒドラジン等の無機化合物が好ましく挙げられる。これらの1種または2種以上を用いることができる。これらの中でも金属が好ましく、亜鉛がより好ましい。亜鉛を用いた場合、スルホキシド含有重合体を製造する過程、たとえばスルフィド含有重合体を製造する過程で触媒等として用いた重金属が残存していた場合でも該重金属を除去することができ、着色の抑制されたスルホキシド含有重合体が得られ易い。
また還元性物質として金属を用いる場合、その形態は特に制限されないが、微粒子状であることが好ましい。
The reducing substance is not particularly limited, but preferred examples thereof include metal or semimetal hydrides and their complex compounds (ate complexes) such as sodium hydride, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, butyl lithium, diborane, sodium cyanoborohydride, lithium triethylborohydride, lithium tri(sec-butyl)borohydride, potassium tri(sec-butyl)borohydride, diisobutylaluminum hydride, sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride, tributyltin hydride, lithium hexamethyldisilazide, and lithium diisopropylamide; metals such as metallic tin and metallic zinc; compounds containing low-valent metal ions such as divalent iron ions and divalent tin ions; acid-based organic compounds such as formic acid and oxalic acid; phosphine-based organic compounds such as triphenylphosphine; and inorganic compounds such as hydrazine. One or more of these can be used. Among these, metals are preferred, and zinc is more preferred. When zinc is used, even if a heavy metal used as a catalyst or the like remains in the process of producing a sulfoxide-containing polymer, for example, in the process of producing a sulfide-containing polymer, the heavy metal can be removed, and a sulfoxide-containing polymer with reduced coloration can be easily obtained.
When a metal is used as the reducing substance, the form of the metal is not particularly limited, but it is preferably in the form of fine particles.

上記還元性物質を用いる末端制御反応は、酸の共存下で行うことが好ましい。酸の共存下で行うことにより、末端構造のチオールへの末端制御反応を促進することができる。該効果は、還元性物質として金属を用いたとき、特に亜鉛を用いたときに顕著となる。上記酸としては、塩化水素酸(塩酸)、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、安息香酸等のカルボン酸;p-トルエンスルホン酸等のスルホン酸等があげられる。中でも塩化水素酸が好ましい。 The terminal control reaction using the reducing substance is preferably carried out in the presence of an acid. By carrying out the reaction in the presence of an acid, the terminal control reaction to convert the terminal structure into a thiol can be promoted. This effect is more pronounced when a metal is used as the reducing substance, particularly when zinc is used. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrohalic acids such as hydrochloric acid (hydrochloric acid), hydrobromic acid, hydroiodic acid, and hydrofluoric acid, sulfuric acid, and nitric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, lauric acid, stearic acid, and benzoic acid; and sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid. Of these, hydrochloric acid is preferred.

上記還元性物質の使用量は、特に制限されないが、スルフィド含有重合体100質量%に対し、還元性物質を0.01~1000質量%で用いることが好ましい。より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは5質量%以上であり、また、より好ましくは100質量%以下、さらに好ましくは50質量%以下である。 The amount of the reducing substance used is not particularly limited, but it is preferable to use 0.01 to 1000% by mass of the reducing substance relative to 100% by mass of the sulfide-containing polymer. More preferably, it is 0.1% by mass or more, and even more preferably, it is 5% by mass or more, and more preferably, it is 100% by mass or less, and even more preferably, it is 50% by mass or less.

上記酸の使用量は、特に制限されないが、スルフィド含有重合体100質量%に対し、酸を0.01~5000質量%で用いることが好ましい。より好ましくは0.5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上であり、また、より好ましくは500質量%以下、さらに好ましくは100質量%以下である。 The amount of the acid used is not particularly limited, but it is preferable to use 0.01 to 5000% by mass of the acid relative to 100% by mass of the sulfide-containing polymer. More preferably, it is 0.5% by mass or more, even more preferably 10% by mass or more, and more preferably, it is 500% by mass or less, even more preferably, it is 100% by mass or less.

還元性物質を用いた末端制御反応により、たとえば、重合体末端にチオール基を有するスルホキシド含有重合体を得ることができるが、該重合体は、たとえば、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物とエンチオール反応することができる。該反応により、該化合物が有する官能基が導入された、スルホキシド含有重合体を得ることができる。 By using a reducing substance to perform an end-control reaction, it is possible to obtain, for example, a sulfoxide-containing polymer having a thiol group at the polymer end, and the polymer can be subjected to an enethiol reaction with, for example, a compound containing an ethylenically unsaturated double bond. By this reaction, it is possible to obtain a sulfoxide-containing polymer into which a functional group possessed by the compound has been introduced.

上記エチレン性不飽和二重結合を含む化合物は、特に制限されないが、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル等の(メタ)アクリル系モノマー;酢酸ビニル、塩化ビニル、フッ化ビニリデン等のビニル系モノマー;酢酸アリル、塩化アリル、アリルアルコール、アリルエーテル、アリルシアニド等のアリル系モノマー;エチレン、プロピレン、ペンテン、ヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、2-ノルボルネン、2-シクロヘキセン-1-オン等のオレフィン系モノマー;スチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマーを好ましく挙げることができる。これらの内、1種または2種以上を用いることができる。中でも、 (メタ)アクリル系モノマーが、種々の官能基を有する化合物の工業的入手性に優れる点で好ましい。 The above-mentioned compound containing an ethylenically unsaturated double bond is not particularly limited, but preferred examples include (meth)acrylic monomers such as (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid esters; vinyl monomers such as vinyl acetate, vinyl chloride, and vinylidene fluoride; allyl monomers such as allyl acetate, allyl chloride, allyl alcohol, allyl ether, and allyl cyanide; olefin monomers such as ethylene, propylene, pentene, hexene, cycloheptene, cyclohexene, 2-norbornene, and 2-cyclohexen-1-one; and styrene monomers such as styrene and divinylbenzene. Of these, one or more types can be used. Among them, (meth)acrylic monomers are preferred in that compounds having various functional groups are easily available industrially.

たとえば、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物 として、(メタ)アクリル酸を用いることにより、重合体末端にカルボキシ基を導入することができ、 (メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いることにより、重合体末端にアルキル基を導入することができ、多官能 (メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いることにより、重合体末端にエチレン性不飽和二重結合((メタ)アクリロイル基)を導入することができる。 For example, by using (meth)acrylic acid as a compound containing an ethylenically unsaturated double bond, a carboxy group can be introduced to the polymer end, by using an alkyl (meth)acrylate ester, an alkyl group can be introduced to the polymer end, and by using a polyfunctional alkyl (meth)acrylate ester, an ethylenically unsaturated double bond ((meth)acryloyl group) can be introduced to the polymer end.

上記末端制御工程は、アンモニア、第1級アミンまたは第2級アミンを用いる工程であることもまた、好ましい。アンモニア、第1級アミンまたは第2級アミンを用いることにより、スルホキシド含有重合体の少なくとも一方の末端を、「-S(=O)2-R」に制御することができる。ここで、Rは、アンモニアを用いた場合はNHであり、アミンを用いた場合は用いたアミン中のアミノ基の水素が脱離したアミン残基である。 It is also preferable that the terminal control step is a step using ammonia, a primary amine, or a secondary amine. By using ammonia, a primary amine, or a secondary amine, at least one terminal of the sulfoxide-containing polymer can be controlled to "-S(=O)2-R". Here, R is NH2 when ammonia is used, and is an amine residue resulting from the removal of hydrogen from the amino group in the amine used when an amine is used.

上記末端制御工程においては、塩基性物質を共存させることもまた好ましい。すなわち、上記末端制御工程は、塩基性物質の存在下で、スルホキシド含有重合体にアンモニア、第1級アミンまたは第2級アミンを反応させることが好ましい。 In the above terminal control step, it is also preferable to use a basic substance. That is, in the above terminal control step, it is preferable to react ammonia, a primary amine, or a secondary amine with the sulfoxide-containing polymer in the presence of a basic substance.

上記塩基性物質は、特に制限されない。たとえば、アンモニア、第1級アミンまたは第2級アミンであってもよいし、これら以外の塩基性物質であってもよい。たとえば、末端を修飾する当量を超えるアンモニア、第1級アミンまたは第2級アミンを塩基性物質として用いることもできる。しかし、副反応を抑制できる理由から、塩基性物質としては、アンモニア、第1級アミンまたは第2級アミン以外の物質が好ましい。たとえば、第3級アミン、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ金属炭酸塩等が好ましい。第3級アミンとしては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の脂肪族第3級アミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミンが好ましく挙げられる。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等が好ましく挙げられる。アルカリ金属炭酸塩としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等が好ましく挙げられる。 The basic substance is not particularly limited. For example, it may be ammonia, a primary amine, or a secondary amine, or it may be a basic substance other than these. For example, ammonia, a primary amine, or a secondary amine in an amount exceeding the equivalent amount for modifying the terminal may be used as the basic substance. However, because it is possible to suppress side reactions, a substance other than ammonia, a primary amine, or a secondary amine is preferable as the basic substance. For example, a tertiary amine, an alkali metal hydroxide, an alkali metal carbonate, etc. are preferable. As the tertiary amine, aliphatic tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, and diisopropylethylamine, and aromatic amines such as pyridine and dimethylaminopyridine are preferable. As the alkali metal hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, etc. are preferable. As the alkali metal carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate, etc. are preferable.

<重合工程>
本発明の製造方法は、さらに硫黄含有単量体を含む単量体成分を重合して主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体(スルフィド含有重合体)を得る重合工程を含むことが好ましい。すなわち本発明の製造方法において上記酸化工程で用いるスルフィド含有重合体としては、硫黄含有単量体を含む単量体成分を重合して得られるスルフィド含有重合体を用いることが好ましい。上記重合工程は、通常は、上記酸化工程の前に行うことが好ましい。
<Polymerization process>
The production method of the present invention preferably further includes a polymerization step of polymerizing a monomer component containing a sulfur-containing monomer to obtain a sulfur-containing polymer (sulfide-containing polymer) having a sulfide skeleton in the main chain. That is, in the production method of the present invention, it is preferable to use a sulfide-containing polymer obtained by polymerizing a monomer component containing a sulfur-containing monomer as the sulfide-containing polymer used in the oxidation step. The polymerization step is usually preferably carried out before the oxidation step.

上記硫黄含有単量体としては、重合して上記した主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を与えることができる単量体であれば特に限定されないが、ジスルフィド化合物、及び、チオール化合物が好ましく挙げられ、より好ましくは、下記一般式(4)で表されるジアリールジスルフィド化合物、及び、下記一般式(5)で表されるチオアリール化合物が挙げられる。 The sulfur-containing monomer is not particularly limited as long as it is a monomer that can be polymerized to give the sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain. Disulfide compounds and thiol compounds are preferred, and diaryl disulfide compounds represented by the following general formula (4) and thioaryl compounds represented by the following general formula (5) are more preferred.

Figure 0007699480000007
Figure 0007699480000007

Figure 0007699480000008
Figure 0007699480000008

(式(4)及び(5)中、A及びAは、同一又は異なって、置換基を有してもよい1価の芳香族炭化水素基を表す。)
及びAで表される上記1価の芳香族炭化水素基は、上記一般式(1)中のXで表される2価の芳香族炭化水素基を1価にした芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、トリフェニル基、ビフェニル基、フェナントリル基等が挙げられる。なかでも、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、又は、トリフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
(In formulas (4) and (5), A 1 and A 2 are the same or different and each represents a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.)
The monovalent aromatic hydrocarbon group represented by A1 and A2 may be an aromatic hydrocarbon group obtained by converting the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 in the general formula (1) into a monovalent group, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a triphenyl group, a biphenyl group, a phenanthryl group, etc. Among these, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, or a triphenyl group is preferred, and a phenyl group is more preferred.

及びAで表される上記1価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基及びその数は、上記一般式(1)中のXで表される2価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基の場合と同様である。 The substituents that the monovalent aromatic hydrocarbon groups represented by A1 and A2 may have and the number of the substituents are the same as those of the divalent aromatic hydrocarbon group represented by X1 in the general formula (1).

上記ジアリールジスルフィド化合物は、下記一般式(4-1)で表される化合物であることが好ましい。上記チオアリール化合物は、下記一般式(5-1)で表される化合物であることが好ましい。 The diaryl disulfide compound is preferably a compound represented by the following general formula (4-1). The thioaryl compound is preferably a compound represented by the following general formula (5-1).

Figure 0007699480000009
Figure 0007699480000009

Figure 0007699480000010
Figure 0007699480000010

(式(4-1)及び(5-1)中、R、R、R、R、R、R、R10及びR11は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、反応性官能基、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基を表す。)
上記ハロゲン原子、反応性官能基、又は、置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有置換基は、それぞれ、上述した一般式(1-1)においてRで表されるそれぞれの基と同様のものである。また、これらの基が有してもよい置換基としては、上述した置換基Bと同様のものが挙げられるが、なかでも、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基であることが好ましい。
(In formulas (4-1) and (5-1), R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a reactive functional group, or an alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, or sulfur-containing substituent group which may have a substituent.)
The halogen atom, reactive functional group, or optionally substituted alkyl group, alkoxy group, aryl group, aralkyl group, or sulfur-containing substituent is the same as each group represented by R 1 in the above-mentioned general formula (1-1). Examples of the substituent that these groups may have include the same as the above-mentioned substituent B, and among them, an alkyl group, a halogen atom, or a hydroxyl group is preferable.

上記ジフェニルスルフィド化合物の具体的としては、例えば、3,3’-ジメチルジフェニルジスルフィド、2,2’-ジメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’-テトラメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,5,5’-テトラメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,6,6’-テトラメチルジフェニルジスルフィド、3,3’,5,5’-テトラメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,6,6’-ヘキサメチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’,6,6’-オクタメチルジフェニルジスルフィド、2,2’-ジエチルジフェニルジスルフィド、3,3’-ジエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,6,6’-テトラエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’-テトラエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,5,5’-テトラエチルジフェニルジスルフィド、3,3’,5,5’-テトラエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,6,6’-ヘキサエチルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’,6,6’-オクタエチルジフェニルジスルフィド、2,2’-ジプロピルジフェニルジスルフィド、3,3’-ジプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,6,6’-テトラプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’-テトラプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,5,5’-テトラプロピルジフェニルジスルフィド、3,3’,5,5’-テトラプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,6,6’-ヘキサプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’,6,6’-オクタプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’-ジイソプロピルジフェニルジスルフィド、3,3’-ジイソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,6,6’-テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’-テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,5,5’-テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、3,3’,5,5’-テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサイソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,6,6’-ヘキサイソプロピルジフェニルジスルフィド、2,2’,3,3’,5,5’,6,6’-オクタイソプロピルジフェニルジスルフィド等が挙げられる。 Specific examples of the diphenyl sulfide compounds include 3,3'-dimethyldiphenyl disulfide, 2,2'-dimethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3'-tetramethyldiphenyl disulfide, 2,2',5,5'-tetramethyldiphenyl disulfide, 2,2',6,6'-tetramethyldiphenyl disulfide, 3,3',5,5'-tetramethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5'-hexamethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',6,6'-hexamethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5',6,6'-octamethyldiphenyl disulfide, Phenyl disulfide, 2,2'-diethyldiphenyl disulfide, 3,3'-diethyldiphenyl disulfide, 2,2',6,6'-tetraethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3'-tetraethyldiphenyl disulfide, 2,2',5,5'-tetraethyldiphenyl disulfide, 3,3',5,5'-tetraethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5'-hexaethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',6,6'-hexaethyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5',6,6'-octaethyldiphenyl disulfide, 2,2'-diphenyl propyldiphenyl disulfide, 3,3'-dipropyldiphenyl disulfide, 2,2',6,6'-tetrapropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3'-tetrapropyldiphenyl disulfide, 2,2',5,5'-tetrapropyldiphenyl disulfide, 3,3',5,5'-tetrapropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5'-hexapropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',6,6'-hexapropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5',6,6'-octapropyldiphenyl disulfide, 2,2'-diisopropyldiphenyl disulfide, 3,3'-diisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',6,6'-tetraisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3'-tetraisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',5,5'-tetraisopropyldiphenyl disulfide, 3,3',5,5'-tetraisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5'-hexaisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',6,6'-hexaisopropyldiphenyl disulfide, 2,2',3,3',5,5',6,6'-octaisopropyldiphenyl disulfide, etc.

上記チオール化合物の具体的としては、例えば、3-メチルベンゼンチオール、2-メチルベンゼンチオール、チオフェノール(ベンゼンチオール)、2,3-ジメチルベンゼンチオール、2,5-ジメチルベンゼンチオール、2,6-ジメチルベンゼンチオール、3,5-ジメチルベンゼンチオール等が挙げられる。 Specific examples of the thiol compounds include 3-methylbenzenethiol, 2-methylbenzenethiol, thiophenol (benzenethiol), 2,3-dimethylbenzenethiol, 2,5-dimethylbenzenethiol, 2,6-dimethylbenzenethiol, and 3,5-dimethylbenzenethiol.

上記ジスルフィド化合物は、チオール化合物の酸化によっても調製することができる。そのため、上記重合工程においては、上記ジスルフィド化合物の前駆体として、チオール化合物を使用することもできる。チオール化合物2分子を酸化的に結合させることにより、ジスルフィド化合物を得ることができる。上記酸化的に結合させる方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。 The disulfide compound can also be prepared by oxidation of a thiol compound. Therefore, in the polymerization step, a thiol compound can also be used as a precursor of the disulfide compound. A disulfide compound can be obtained by oxidatively bonding two molecules of a thiol compound. The method for oxidatively bonding is not particularly limited, and any known method can be used.

上記重合は酸化重合であることが好ましい。上記酸化重合は、特に限定されず、キノン系化合物を用いる酸化重合や、触媒を用いる酸化重合等を用いることができる。本発明の製造方法においては、廃液量が少なくて済む観点より、触媒を用いる酸化重合が好ましい。なお、キノン系化合物を用いる酸化重合を行った場合でも、触媒を用いる酸化重合を行った場合でも、得られたスルフィド含有重合体を、上記した本発明の製造方法に供することにより、得られるスルホキシド含有重合体は、加熱後の透過率に優れるものとなる。 The polymerization is preferably oxidative polymerization. The oxidative polymerization is not particularly limited, and oxidative polymerization using a quinone compound or oxidative polymerization using a catalyst can be used. In the production method of the present invention, oxidative polymerization using a catalyst is preferred from the viewpoint of reducing the amount of waste liquid. In addition, whether oxidative polymerization using a quinone compound or oxidative polymerization using a catalyst is performed, by subjecting the obtained sulfide-containing polymer to the production method of the present invention described above, the obtained sulfoxide-containing polymer has excellent transmittance after heating.

たとえば、上記一般式(4)で表されるジアリールジスルフィド化合物、または、上記一般式(5)で表されるチオアリール化合物を含む単量体組成物を原料として、キノン系化合物を用いて酸化重合を行った場合、得られるスルフィド含有重合体は、加熱後の透過率に問題がある。その原因は明らかではないが、上記キノン系化合物を用いる酸化重合により得られるスルフィド含有重合体は、その末端にジスルフィド結合を有しており、該ジスルフィド結合が、加熱によりラジカルを発生し、重合体の着色を引き起こす反応の原因となるためと考えられる。しかし、上記スルフィド含有重合体を、上記した本発明の製造方法(上記酸化工程)に供することにより、得られるスルホキシド含有重合体は、加熱後の透過率に優れるものとなる。上記酸化工程により重合体の末端の構造が変化したためではないかと考えらえる。 For example, when a monomer composition containing a diaryl disulfide compound represented by the above general formula (4) or a thioaryl compound represented by the above general formula (5) is used as a raw material and oxidative polymerization is performed using a quinone compound, the resulting sulfide-containing polymer has a problem with transmittance after heating. The reason for this is unclear, but it is thought that the sulfide-containing polymer obtained by oxidative polymerization using the above quinone compound has a disulfide bond at its end, and the disulfide bond generates radicals when heated, which causes a reaction that causes coloring of the polymer. However, by subjecting the sulfide-containing polymer to the manufacturing method of the present invention described above (the oxidation step), the resulting sulfoxide-containing polymer has excellent transmittance after heating. It is thought that this is because the structure of the terminal of the polymer changes due to the oxidation step.

また、上記一般式(4)で表されるジアリールジスルフィド化合物、または、上記一般式(5)で表されるチオアリール化合物を含む単量体組成物を原料として、触媒を用いる酸化重合を行った場合、用いる触媒の組成による差異はあるものの、得られるスルフィド含有重合体には加熱後の透過率に問題がある。再沈殿とろか等の方法で精製しても同様である。その原因は明らかではないが、触媒を用いる酸化重合により得られるスルフィド含有重合体は、その末端にジスルフィド結合を有しており、該ジスルフィド結合に、触媒由来の金属成分が強く結合(配位)しており、加熱による着色に寄与し易いためではないかと考えられる。 In addition, when a monomer composition containing a diaryl disulfide compound represented by the above general formula (4) or a thioaryl compound represented by the above general formula (5) is used as a raw material and oxidative polymerization using a catalyst is performed, the resulting sulfide-containing polymer has a problem with transmittance after heating, although there are differences depending on the composition of the catalyst used. The same is true even if the polymer is purified by a method such as reprecipitation or filtration. Although the cause is unclear, it is thought that this is because the sulfide-containing polymer obtained by oxidative polymerization using a catalyst has disulfide bonds at its terminals, and the metal components derived from the catalyst are strongly bonded (coordinated) to the disulfide bonds, which easily contribute to coloring due to heating.

しかし、上記スルフィド含有重合体を、上記した本発明の製造方法(上記酸化工程)に供することにより、得られるスルホキシド含有重合体は、加熱後の透過率に優れるものとなる。上記酸化工程により重合体の末端の構造が変化し、定かではないが、触媒由来の金属成分がスルホキシド含有重合体から遊離した状態となったり、加熱による着色に寄与し難い形態に変化したためではないかと考えらえる。 However, by subjecting the sulfide-containing polymer to the manufacturing method of the present invention (the oxidation step) described above, the resulting sulfoxide-containing polymer has excellent transmittance after heating. The oxidation step changes the structure of the polymer's terminals, and although it is not clear, it is thought that this is because the metal components derived from the catalyst are liberated from the sulfoxide-containing polymer or are changed to a form that is less likely to contribute to coloring by heating.

キノン系化合物を用いる酸化重合について説明する。キノン系化合物を用いる酸化重合で用いることができるキノン系化合物としては、特に制限されないが、例えば、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-パラベンゾキノン(DDQ)、2,3,5,6-テトラクロロパラベンゾキノン、2,3,5,6-テトラブロモベンゾキノン、2,3,5,6-テトラフルオロパラベンゾキノン、アントラキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノン、2,3-ジブロモ-1,4-ナフトキノン、2,3-ジシアノ-1,4-ナフトキノン、3,4,5,6-テトラクロロオルトベンゾキノン、3,4,5,6-テトラブロモオルトベンゾキノン、3,4,5,6-テトラフルオロベンゾキノン等が挙げられる。なかでも、酸化力が高い点や、入手しやすい点から、DDQが好ましい。上記キノン系化合物は、1種のみ使用してもよいし、2種以上使用してもよい。 Oxidative polymerization using a quinone compound will now be described. The quinone compound that can be used in oxidative polymerization using a quinone compound is not particularly limited, but examples include 2,3-dichloro-5,6-dicyano-parabenzoquinone (DDQ), 2,3,5,6-tetrachloroparabenzoquinone, 2,3,5,6-tetrabromobenzoquinone, 2,3,5,6-tetrafluoroparabenzoquinone, anthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloro-1,4-naphthoquinone, 2,3-dibromo-1,4-naphthoquinone, 2,3-dicyano-1,4-naphthoquinone, 3,4,5,6-tetrachloroorthobenzoquinone, 3,4,5,6-tetrabromoorthobenzoquinone, and 3,4,5,6-tetrafluorobenzoquinone. Among these, DDQ is preferred because of its high oxidative power and ease of availability. The above quinone compounds may be used alone or in combination.

また、上記キノン系化合物を用いる際、さらに酸を使用することも好ましい。酸をキノン系化合物と併用すると、キノン系化合物の酸化力を維持することができる。上記酸としては、特に限定されず、例えば、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、パーフルオロプロピオン酸、パーフルオロ酪酸等が挙げられる。なかでも、酸性度を高くする点で、1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホン酸が好ましい。上記酸は、1種のみ使用してもよいし、2種以上使用してもよい。 When using the quinone compound, it is also preferable to further use an acid. When an acid is used in combination with the quinone compound, the oxidizing power of the quinone compound can be maintained. The acid is not particularly limited, and examples thereof include sulfuric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, 1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, perfluoropropionic acid, and perfluorobutyric acid. Among these, 1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonic acid is preferable in terms of increasing the acidity. The above acids may be used alone or in combination of two or more.

上記キノン系化合物と酸を併用する場合の、酸の添加量は、添加する上記キノン系化合物の総量100モルに対して、10~1000モルであることが好ましく、50~500モルであることがより好ましく、80~120モルであることが更に好ましい。上記キノン系化合物の添加量は、使用する単量体成分1モルに対して、0.1~3モルであることが好ましく、0.8~1.5モルであることがより好ましく、0.9~1.1モルであることが更に好ましい。 When the quinone compound and the acid are used in combination, the amount of the acid added is preferably 10 to 1000 moles, more preferably 50 to 500 moles, and even more preferably 80 to 120 moles, per 100 moles of the total amount of the quinone compound added. The amount of the quinone compound added is preferably 0.1 to 3 moles, more preferably 0.8 to 1.5 moles, and even more preferably 0.9 to 1.1 moles, per 1 mole of the monomer component used.

上記重合工程において、重合温度は、酸化重合が進行する温度であれば、特に限定されないが、酸化重合が進行しやすい点で、0~200℃であることが好ましく、10℃以上がより好ましく、15℃以上が更に好ましく、また、副反応を抑制することができる点で、180℃以下がより好ましく、150℃以下が更に好ましい。重合時間は、特に限定されないが、通常、0.1~100時間であり、1~80時間であることが好ましく、5~50時間であることがより好ましく、10~24時間であることが更に好ましい。 In the above polymerization step, the polymerization temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which oxidative polymerization proceeds, but it is preferably 0 to 200°C in terms of facilitating the oxidative polymerization, more preferably 10°C or higher, and even more preferably 15°C or higher, and is more preferably 180°C or lower, and even more preferably 150°C or lower, in terms of being able to suppress side reactions. The polymerization time is not particularly limited, but is usually 0.1 to 100 hours, preferably 1 to 80 hours, more preferably 5 to 50 hours, and even more preferably 10 to 24 hours.

上記重合においては、溶媒を使用してもよい。好ましい溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、N-メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、シクロペンチルメチルエーテル等が挙げられる。 A solvent may be used in the above polymerization. Preferred solvents include, for example, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, nitromethane, nitrobenzene, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofuran, ethyl acetate, and cyclopentyl methyl ether.

上記溶媒として、環境有害性の高いクロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン、特に塩素、臭素を含むハロゲン系溶媒を低減することが好ましく、これらの溶媒の使用量は、重合体を合成する工程以降で、重合体に対して100質量%以下にすることが好ましく、50質量%以下にすることがより好ましく、10質量%以下にすることが更に好ましく、1質量%以下にすることが更により好ましい。 As the above-mentioned solvent, it is preferable to reduce halogen-based solvents such as chloroform and chlorobenzene, which are highly environmentally harmful, particularly those containing chlorine and bromine, and the amount of these solvents used after the step of synthesizing the polymer is preferably 100% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, based on the polymer.

触媒を用いる酸化重合について説明する。上記重合工程では、触媒の存在下で上記単量体成分を重合する。たとえば、上記単量体成分と触媒とを含む組成物を加熱することにより、重合反応を行うことがより好ましい。
単量体成分と触媒とを含む組成物を原料組成物とも称し、重合反応が開始してから重合反応が終了するまでの組成物を反応組成物とも称する。また重合反応により得られた組成物を重合体組成物とも称する。
The oxidation polymerization using a catalyst will be described. In the polymerization step, the monomer component is polymerized in the presence of a catalyst. For example, it is more preferable to carry out the polymerization reaction by heating a composition containing the monomer component and the catalyst.
A composition containing a monomer component and a catalyst is also called a raw material composition, a composition from the start of a polymerization reaction to the end of the polymerization reaction is also called a reaction composition, and a composition obtained by a polymerization reaction is also called a polymer composition.

上記触媒としては、上記ジスルフィド化合物および/またはチオール化合物を含む単量体成分に対する酸化重合活性を有する触媒(酸化重合触媒)が好ましい。上記触媒としては、特に限定されないが、バナジウム(V)、ジルコニウム(Zr)、チタニウム(Ti)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)等の金属元素を含む物質が好ましい。金属を含む物質としては、その形態は特に制限されないが、たとえば、該金属元素を含む金属、金属化合物、その他の形態があげられる。 The catalyst is preferably a catalyst (oxidative polymerization catalyst) that has oxidative polymerization activity for the monomer components containing the disulfide compound and/or thiol compound. The catalyst is not particularly limited, but is preferably a substance containing a metal element such as vanadium (V), zirconium (Zr), titanium (Ti), cobalt (Co), nickel (Ni), manganese (Mn), or iron (Fe). The form of the substance containing a metal is not particularly limited, but examples include metals, metal compounds, and other forms containing the metal element.

上記金属としては、該金属のみからなる金属(単体)、該金属を主成分とする合金があげられる。上記金属化合物としては、金属を含む化合物であれば特に制限されないが、無機化合物、有機酸塩、錯体(配位化合物)等があげられる。上記無機化合物としては、たとえば、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩、水酸化物、酸化物、硫化物、テルル化物、金属間化合物等があげられる。中でも、ハロゲン化物が好ましい。上記ハロゲン化物としては、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物が好ましく、塩化物がより好ましい。上記有機酸塩としては、金属元素を含む有機酸塩であれば、特に制限されないが、たとえば、カルボン酸塩、スルホン酸塩等があげられる。上記カルボン酸塩としては、たとえば、酢酸塩、シュウ酸塩等が好ましい。上記スルホン酸塩としては、たとえば、パラトルエンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩等が好ましい。上記錯体としては、金属元素を含む錯体であれば、特に制限されないが、たとえば、アンミン錯体、シアノ錯体、ハロゲノ錯体、ヒドロキシ錯体、フタロシアニン錯体、ポルフィリン錯体、カルボニル錯体、サレン錯体、エチレンジアミン錯体、β-ジケトン錯体、β-ジケトエステル錯体等があげられる。 The above metals include metals (simple substances) consisting of the metals alone, and alloys mainly composed of the metals. The above metal compounds are not particularly limited as long as they are compounds containing metals, and include inorganic compounds, organic acid salts, complexes (coordination compounds), and the like. The above inorganic compounds include, for example, halides, sulfates, nitrates, phosphates, silicates, carbonates, hydroxides, oxides, sulfides, tellurides, intermetallic compounds, and the like. Among these, halides are preferred. The above halides are preferably fluorides, chlorides, bromides, and iodides, and more preferably chlorides. The above organic acid salts are not particularly limited as long as they are organic acid salts containing metal elements, and include, for example, carboxylates, sulfonates, and the like. The above carboxylates are preferably, for example, acetates, oxalates, and the like. The above sulfonates are preferably, for example, paratoluenesulfonates, trifluoromethanesulfonates, and the like. The above complex is not particularly limited as long as it contains a metal element, but examples include ammine complexes, cyano complexes, halogeno complexes, hydroxy complexes, phthalocyanine complexes, porphyrin complexes, carbonyl complexes, salen complexes, ethylenediamine complexes, β-diketone complexes, and β-diketoester complexes.

上記金属元素を含む物質としての上記その他の形態としては、たとえば金属の1価イオンや3価イオン等の金属イオンが、ゼオライトや雲母等のカチオン交換体におけるカチオンとして含まれる形態があげられる。 Other examples of the above-mentioned forms of substances containing the above-mentioned metal elements include forms in which metal ions such as monovalent or trivalent metal ions are contained as cations in cation exchangers such as zeolite or mica.

上記金属元素を含む物質は、1種のみ使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記金属元素を含む物質は、上記原料組成物において、その存在形態は特に制限されない。たとえば、上記原料組成物中に粒子状等の形態で分散していてもよいし、単量体成分あるいは、溶媒を用いた場合はその溶媒に溶解した状態で存在していてもよい。溶媒については後述する。上記反応組成物における上記金属元素を含む物質の存在形態についても同様である。
The above-mentioned substances containing metal elements may be used alone or in combination of two or more kinds.
The substance containing the metal element is not particularly limited in its form in the raw material composition. For example, it may be dispersed in the raw material composition in a particulate form or the like, or may be present in a monomer component or in a solvent when a solvent is used. The solvent will be described later. The same applies to the form of the substance containing the metal element in the reaction composition.

上記金属元素を含む物質の中でも、酸化重合に対する触媒活性が高い点で、金属元素としてバナジウムを含む物質、鉄を含む物質(これらをそれぞれバナジウム含有物質、鉄含有物質とも称する)がそれぞれ好ましい。 Among the substances containing the above metal elements, substances containing vanadium as a metal element and substances containing iron (also referred to as vanadium-containing substances and iron-containing substances, respectively) are preferred because of their high catalytic activity for oxidative polymerization.

上記鉄含有物質としては、金属元素として鉄を主成分として含むことが好ましい。具体的には、鉄含有物質に含まれる金属元素の合計含有量100モル%に対する鉄の含有量が50モル%以上であることが好ましく、80モル%以上であることがより好ましく、95モル%以上であることがさらに好ましく、98モル%以上であることがよりさらに好ましく、100モル%であることが特に好ましい。 The iron-containing material preferably contains iron as a main component as a metal element. Specifically, the iron content relative to the total content of metal elements contained in the iron-containing material (100 mol%) is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, even more preferably 95 mol% or more, even more preferably 98 mol% or more, and particularly preferably 100 mol%.

上記バナジウム含有物質としては、金属元素としてバナジウムを主成分として含むことが好ましく、金属元素の合計量に対するバナジウムの好ましい含有量は、鉄含有物質における鉄の含有量の場合と同様である。
バナジウム含有物質、鉄含有物質における具体的な形態、好ましい形態は、上記金属元素を含む物質について上述した各形態に準じる。
The vanadium-containing material preferably contains vanadium as a main component as a metallic element, and the preferred content of vanadium relative to the total amount of metallic elements is the same as the preferred content of iron in the iron-containing material.
The specific and preferred forms of the vanadium-containing substance and the iron-containing substance are similar to the forms described above for the substances containing the above metal elements.

上記鉄含有物質としては、分子内に塩素を有する鉄化合物が好ましい。また酸化数が3以上の鉄を含む化合物が好ましい。そのような鉄含有物質としては、たとえば、塩化第二鉄(Fe(Cl))、5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィン塩化鉄(III)、トリフルオロメタンスルホン酸鉄(III)等があげられ、特に好ましい。 The iron-containing substance is preferably an iron compound having chlorine in the molecule. Also, a compound containing iron with an oxidation number of 3 or more is preferable. Particularly preferable examples of such iron-containing substances include ferric chloride (Fe(Cl) 3 ), 5,10,15,20-tetraphenyl-21H,23H-porphine iron chloride (III), and iron trifluoromethanesulfonate (III).

上記バナジウム含有物質としては、バナジウムを含む金属、バナジウム化合物分子内にV=O結合を有するオキソバナジウム化合物が好ましい。上記オキソバナジウム化合物としては、例えば、バナジルアセチルアセトナート、オキソバナジウムサレン錯体、N,N’-ビスサリチリデンエチレンジアミンオキソバナジウム、フタロシアニンオキソバナジウム、テトラフェニルポルフィリンオキソバナジウム等が挙げられる
上記重合において用いる上記触媒の量は、特に制限されないが、上記単量体成分100モル%に対する、上記触媒に含まれる金属元素の合計含有量が、0.001~50モル%の範囲であることが好ましく、分子量が高い硫黄含有重合体が得られ易い観点、及び/又は、触媒残差の除去が簡易な精製プロセスで達成し易い観点から、30モル%以下が好ましく、10モル%以下がより好ましく、5モル%以下がさらに好ましく、重合反応性を高めるという観点から0.01モル%以上がより好ましく、0.1モル%以上がさらに好ましく、1モル%以上が特に好ましい。
The vanadium-containing substance is preferably a metal containing vanadium, or an oxovanadium compound having a V=O bond in the vanadium compound molecule. Examples of the oxovanadium compound include vanadyl acetylacetonate, oxovanadium salen complex, N,N'-bissalicylideneethylenediamine oxovanadium, phthalocyanine oxovanadium, and tetraphenylporphyrin oxovanadium. The amount of the catalyst used in the polymerization is not particularly limited, but the total content of the metal elements contained in the catalyst relative to 100 mol% of the monomer component is preferably in the range of 0.001 to 50 mol%, and from the viewpoint of easily obtaining a sulfur-containing polymer with a high molecular weight and/or from the viewpoint of easily achieving removal of catalyst residues by a simple purification process, it is preferably 30 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, and even more preferably 5 mol% or less, and from the viewpoint of increasing the polymerization reactivity, it is more preferably 0.01 mol% or more, even more preferably 0.1 mol% or more, and particularly preferably 1 mol% or more.

上記重合は、酸素存在下で行うことが好ましい。酸素存在下で行うことにより、酸化重合反応がより促進される。具体的な実施形態としては、上記重合反応中に酸素含有ガスを供給する方法が好ましい。すなわち、上記重合は、酸素含有ガスの供給下で行うことが好ましい。たとえば、重合反応中、気相部分に酸素含有ガスを供給する方法、重合反応中の反応組成物に酸素含有ガスをバブリングする方法等が採用される。 The polymerization is preferably carried out in the presence of oxygen. By carrying out the polymerization in the presence of oxygen, the oxidative polymerization reaction is further promoted. As a specific embodiment, a method of supplying an oxygen-containing gas during the polymerization reaction is preferred. That is, the polymerization is preferably carried out under the supply of an oxygen-containing gas. For example, a method of supplying an oxygen-containing gas to the gas phase during the polymerization reaction, a method of bubbling an oxygen-containing gas into the reaction composition during the polymerization reaction, etc. are adopted.

上記重合反応を酸素ガス存在下で行うことにより、単量体成分に含まれる芳香環を構成する炭素からの水素脱離反応を促進することができると考えられる。また、上記重合工程においては、通常、触媒に含まれる金属の酸化数は変化し得るが、重合反応を酸素ガス存在下で行うことにより、上記触媒に含まれる金属の価数を高い酸化数に維持することができるため、酸化重合をより促進することができると考えられる。このような観点から、重合反応中の反応組成物に酸素含有ガスを連続的に供給する方法が好ましく、中でもバブリングする方法が好ましい。 It is believed that by carrying out the above polymerization reaction in the presence of oxygen gas, it is possible to promote the hydrogen elimination reaction from the carbon constituting the aromatic ring contained in the monomer component. In addition, in the above polymerization step, the oxidation number of the metal contained in the catalyst can usually change, but by carrying out the polymerization reaction in the presence of oxygen gas, it is possible to maintain the valence of the metal contained in the catalyst at a high oxidation number, and therefore it is believed that the oxidative polymerization can be further promoted. From this perspective, a method of continuously supplying an oxygen-containing gas to the reaction composition during the polymerization reaction is preferable, and among these, a bubbling method is preferable.

上記酸素含有ガスは酸素分子(O)を含有するガスであることが好ましい。酸素含有ガスは酸素分子(O)以外のガス成分を含んでいてもよい。酸素含有ガスに含まれる酸素分子(O)以外のガス成分としては、特に制限されないが、好ましくは、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、クリプトン(Kr)、キセノン(Xe)、ラドン(Rn)等の希ガス類;窒素(N)などの不活性ガスがあげられる。上記不活性ガス以外に炭酸ガス(CO)、水蒸気等が含まれていてもよい。 The oxygen-containing gas is preferably a gas containing oxygen molecules (O 2 ). The oxygen-containing gas may contain gas components other than oxygen molecules (O 2 ). The gas components other than oxygen molecules (O 2 ) contained in the oxygen-containing gas are not particularly limited, but preferably include rare gases such as helium (He), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), and radon (Rn); and inert gases such as nitrogen (N 2 ). In addition to the inert gases, carbon dioxide gas (CO 2 ), water vapor, etc. may be contained.

上記酸素含有ガスにおける酸素分子(O)の含有率は、特に制限されないが、常温(25℃)、1気圧下において、酸素含有ガスにおける酸素分子(O)の体積割合が酸素含有ガス100体積%に対し0.1~100体積%であることが好ましい。より好ましくは、1体積%以上であり、さらに好ましくは10体積%以上である。上限は60体積%以下がより好ましく、さらに好ましくは、30体積%以下でる。 The content of oxygen molecules (O 2 ) in the oxygen-containing gas is not particularly limited, but at room temperature (25° C.) and 1 atmospheric pressure, the volume ratio of oxygen molecules (O 2 ) in the oxygen-containing gas is preferably 0.1 to 100 volume % relative to 100 volume % of the oxygen-containing gas. More preferably, it is 1 volume % or more, and even more preferably, it is 10 volume % or more. The upper limit is more preferably 60 volume % or less, and even more preferably, it is 30 volume % or less.

上記酸素含有ガスにおける酸素分子(O)および不活性ガスの合計含有量は、特に制限されないが、常温(25℃)、1気圧下において、酸素含有ガスにおける酸素分子(O)および不活性ガスの合計体積割合が酸素含有ガス100体積%に対し80~100体積%であることが好ましい。より好ましくは、95体積%以上であり、さらに好ましくは98体積%以上である。 The total content of oxygen molecules (O 2 ) and inert gas in the oxygen-containing gas is not particularly limited, but at room temperature (25° C.) and 1 atmospheric pressure, the total volume ratio of oxygen molecules (O 2 ) and inert gas in the oxygen-containing gas is preferably 80 to 100% by volume relative to 100% by volume of the oxygen-containing gas, more preferably 95% by volume or more, and even more preferably 98% by volume or more.

上記酸素含有ガスとしては、特に制限されないが、たとえば、酸素ガス、酸素と窒素との混合ガス、空気等があげられる。経済性に優れる観点から、空気を用いることが好ましい。
上記酸素含有ガス中の水蒸気濃度は、特に制限されないが、1000g/m以下が好ましく、10g/m以下がより好ましく、1g/m以下が更に好ましく、0.1g/m以下が最も好ましく、乾燥空気が好ましい。
The oxygen-containing gas is not particularly limited, and examples thereof include oxygen gas, a mixed gas of oxygen and nitrogen, air, etc. From the viewpoint of excellent economy, it is preferable to use air.
The water vapor concentration in the oxygen-containing gas is not particularly limited, but is preferably 1000 g/m3 or less , more preferably 10 g/ m3 or less, even more preferably 1 g/ m3 or less, and most preferably 0.1 g/ m3 or less, and dry air is preferred.

上記酸素含有ガスの供給量は、特に制限されないが、反応組成物の総容積1mあたり、1分間当たりの供給量(供給速度)として、0.0001m/分~10m/分であることが好ましい。反応速度を高める観点から、より好ましくは、0.0005m/分以上であり、さらに好ましくは0.001m/分以上である。上限は、反応温度を制御し易い観点から、より好ましくは、1m/分以下であり、さらに好ましくは0.1m/分以下である。 The supply amount of the oxygen-containing gas is not particularly limited, but is preferably 0.0001 m 3 /min to 10 m 3 /min in terms of the supply amount per minute (supply rate) per m 3 of the total volume of the reaction composition. From the viewpoint of increasing the reaction rate, it is more preferably 0.0005 m 3 /min or more, and even more preferably 0.001 m 3 /min or more. From the viewpoint of easy control of the reaction temperature, the upper limit is more preferably 1 m 3 /min or less, and even more preferably 0.1 m 3 /min or less.

上記酸素含有ガスの供給量は、特に制限されないが、反応組成物の総容積1mあたり、1分間当たりの酸素(O)の供給量(供給速度)として、0.00002m/分~2m/分であることが好ましい。反応速度を高める観点から、より好ましくは、0.0001m/分以上であり、さらに好ましくは0.0002m/分以上である。上限は、反応温度を制御し易い観点から、より好ましくは、0.2m/分以下であり、さらに好ましくは0.02m/分以下である。 The supply amount of the oxygen-containing gas is not particularly limited, but is preferably 0.00002 m 3 / min to 2 m 3 /min in terms of the supply amount (supply rate) of oxygen (O 2 ) per minute per m 3 of total volume of the reaction composition. From the viewpoint of increasing the reaction rate, it is more preferably 0.0001 m 3 /min or more, and even more preferably 0.0002 m 3 / min or more. From the viewpoint of easy control of the reaction temperature, the upper limit is more preferably 0.2 m 3 /min or less, and even more preferably 0.02 m 3 /min or less.

上記重合工程において、さらに酸および/またはその塩を用いることが好ましい。上記触媒と共に酸および/またはその塩を併用することにより、重合反応により得られる重合体の分子量を高い範囲まで制御し易くなり、短時間でも、高分子量のスルフィド含有重合体が得られ易くなる。 In the above polymerization step, it is preferable to further use an acid and/or a salt thereof. By using an acid and/or a salt thereof in combination with the above catalyst, it becomes easier to control the molecular weight of the polymer obtained by the polymerization reaction to a high range, and it becomes easier to obtain a high molecular weight sulfide-containing polymer even in a short period of time.

上記酸としては、ブレンステッド酸が好ましい。たとえば、リン酸、ホスホン酸、硝酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過硫酸、亜硫酸等の無機酸;メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホン酸等のスルホン酸;酢酸、トリフルオロ酢酸、パーフルオロプロピオン酸、パーフルオロ酪酸、安息香酸等のカルボン酸等が挙げられる。 The above acid is preferably a Bronsted acid. Examples include inorganic acids such as phosphoric acid, phosphonic acid, nitric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, persulfuric acid, and sulfurous acid; sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, 10-camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and 1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonic acid; and carboxylic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, perfluoropropionic acid, perfluorobutyric acid, and benzoic acid.

上記酸としては、酸解離定数が-19~4である酸が好ましい。より好ましくは酸解離定数が3以下であり、また-8以上である。 The acid is preferably one having an acid dissociation constant of -19 to 4. More preferably, the acid dissociation constant is 3 or less and -8 or more.

上記酸の塩としては、上記酸の塩であれば特に制限されないが、たとえば、ナトリウム、カリウム等の周期律表第1族金属元素、マグネシウム、カルシウム等の周期律表第2族金属元素、アンモニウム等と上記酸との塩が好ましい。中でも、例えば、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム等が好ましい。上記酸との塩としては、純水に溶解させたときの25℃におけるpHが1~6.9が好ましく、2~6がより好ましい。 The salt of the above acid is not particularly limited as long as it is a salt of the above acid, but for example, salts of the above acid with metal elements of Group 1 of the periodic table such as sodium and potassium, metal elements of Group 2 of the periodic table such as magnesium and calcium, and ammonium are preferred. Among these, for example, sodium persulfate, ammonium persulfate, sodium toluenesulfonate, sodium trifluoromethanesulfonate, etc. are preferred. The salt of the above acid preferably has a pH of 1 to 6.9, more preferably 2 to 6, at 25°C when dissolved in pure water.

酸解離定数が-19~4の酸としては、たとえば、リン酸、硝酸、硫酸、過硫酸、亜硫酸、塩酸、臭化水素酸等の無機酸;メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、1,1,2,2-テトラフルオロエタンスルホン酸等のスルホン酸;クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等のクロロカルボン酸;フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸、パーフルオロプロピオン酸、パーフルオロ酪酸、4-フルオロ安息香酸等のフルオロカルボン酸等があげられる。なかでも、10-カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、過硫酸が好ましい。上記酸および/またはその塩は、1種のみ使用してもよいし、2種以上使用してもよい。 Examples of acids with an acid dissociation constant of -19 to 4 include inorganic acids such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, persulfuric acid, sulfurous acid, hydrochloric acid, and hydrobromic acid; sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, 10-camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and 1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonic acid; chlorocarboxylic acids such as chloroacetic acid, dichloroacetic acid, and trichloroacetic acid; and fluorocarboxylic acids such as fluoroacetic acid, difluoroacetic acid, trifluoroacetic acid, perfluoropropionic acid, perfluorobutyric acid, and 4-fluorobenzoic acid. Of these, 10-camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and persulfuric acid are preferred. The above acids and/or salts thereof may be used alone or in combination of two or more.

酸および/またはその塩の使用量は、単量体成分100モル%に対し、0.01~100モル%であることが好ましく、0.1~10モル%であることがより好ましく、0.5~5モル%であることが更に好ましい。
また酸および/またはその塩の使用量は、金属元素を含有する物質に含まれる金属元素の合計量100モル%に対して、0.1~1000モル%であることが好ましく、1~100モル%であることがより好ましく、5~50モル%であることが更に好ましい。
The amount of the acid and/or its salt used is preferably 0.01 to 100 mol %, more preferably 0.1 to 10 mol %, and even more preferably 0.5 to 5 mol %, based on 100 mol % of the monomer component.
The amount of the acid and/or its salt used is preferably 0.1 to 1000 mol %, more preferably 1 to 100 mol %, and even more preferably 5 to 50 mol %, relative to 100 mol % of the total amount of metal elements contained in the substance containing metal elements.

上記酸および/またはその塩を加えた反応系全体(酸および/またはその塩を含む原料組成物)のpHは、反応効率を向上する観点より、pH0.1~7が好ましく、1~6がさらに好ましく、2~5が最も好ましい。pHは反応系(酸および/またはその塩を含む原料組成物)をそのまま測定した時の値であり、pH試験紙、pH測定機により測定する。 The pH of the entire reaction system (raw material composition containing the acid and/or its salt) to which the above acid and/or its salt has been added is preferably 0.1 to 7, more preferably 1 to 6, and most preferably 2 to 5, from the viewpoint of improving reaction efficiency. The pH is the value measured when the reaction system (raw material composition containing the acid and/or its salt) is directly measured, and is measured using pH test paper and a pH measuring device.

上記重合工程において、重合温度は、重合、好ましくは酸化重合が進行する温度であれば、特に限定されないが、酸化重合が進行しやすい点で、0~300℃であることが好ましく、10℃以上がより好ましく、100℃以上が更に好ましく、また、副反応を抑制することができる点で、200℃以下がより好ましく、180℃以下が更に好ましい。重合時間は、特に限定されないが、通常、0.1~300時間であり、1~200時間であることが好ましく、5~100時間であることがより好ましく、10~50時間であることが更に好ましい。 In the above polymerization step, the polymerization temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which polymerization, preferably oxidative polymerization, proceeds, but is preferably 0 to 300°C in terms of facilitating the progression of oxidative polymerization, more preferably 10°C or higher, and even more preferably 100°C or higher, and is more preferably 200°C or lower, and even more preferably 180°C or lower, in terms of being able to suppress side reactions. The polymerization time is not particularly limited, but is usually 0.1 to 300 hours, preferably 1 to 200 hours, more preferably 5 to 100 hours, and even more preferably 10 to 50 hours.

上記重合反応は、単量体成分の溶融状態で行うこともできるし、単量体成分を溶媒に溶解または分散させた状態で行うこともできる。溶融状態で行う場合、重合温度を単量体成分の融点以上の温度に設定することが好ましい。その場合、上記原料組成物を加熱し、上記反応組成物の温度を、単量体成分の融点以上の温度に保持しながら重合反応を行うことが好ましい。 The polymerization reaction can be carried out with the monomer components in a molten state, or with the monomer components dissolved or dispersed in a solvent. When carried out in a molten state, it is preferable to set the polymerization temperature at a temperature equal to or higher than the melting point of the monomer components. In this case, it is preferable to heat the raw material composition and carry out the polymerization reaction while maintaining the temperature of the reaction composition at a temperature equal to or higher than the melting point of the monomer components.

また、単量体成分を溶媒に溶解または分散させた状態で行う場合、溶媒の沸点以下の温度で重合を行ってもよいし、リフラックス条件で重合を行ってもよいし、沸点以上の温度に加熱しながら加圧状態で重合を行ってもよい。 When the monomer components are dissolved or dispersed in a solvent, the polymerization may be carried out at a temperature below the boiling point of the solvent, under reflux conditions, or under pressure while being heated to a temperature above the boiling point.

上記溶媒は特に制限されないが、好ましい溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、N-メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、シクロペンチルメチルエーテル等が挙げられる。上記溶媒の使用量は特に制限されないが、原料である上記単量体成分100質量部に対し、1~10000質量部であることが好ましく、より好ましくは10~1000質量部である。 The above solvent is not particularly limited, but preferred solvents include, for example, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, nitromethane, nitrobenzene, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofuran, ethyl acetate, cyclopentyl methyl ether, etc. The amount of the above solvent used is not particularly limited, but is preferably 1 to 10,000 parts by mass, and more preferably 10 to 1,000 parts by mass, per 100 parts by mass of the above monomer component as the raw material.

上記重合においては、重合反応中に、単量体成分を逐次的に添加してもよい。上記重合工程においては、上述したチオール化合物を酸化重合してジスルフィド化合物を得た後に、得られたジスルフィド化合物を酸化重合する等の多段で重合を行ってもよい。 In the above polymerization, the monomer components may be added sequentially during the polymerization reaction. In the above polymerization step, the polymerization may be performed in multiple stages, such as by oxidatively polymerizing the above-mentioned thiol compound to obtain a disulfide compound, and then oxidatively polymerizing the obtained disulfide compound.

上記単量体成分と上記触媒とを含む組成物(原料組成物)を上記重合温度で上記重合時間保持することにより、上記単量体成分の重合反応が起こり、硫黄含有重合体(スルフィド含有重合体)が生成し、少なくとも該重合体(スルフィド含有重合体)と上記触媒とを含む重合体組成物が得られる。 By maintaining a composition (raw material composition) containing the monomer components and the catalyst at the polymerization temperature for the polymerization time, a polymerization reaction of the monomer components occurs, a sulfur-containing polymer (sulfide-containing polymer) is produced, and a polymer composition containing at least the polymer (sulfide-containing polymer) and the catalyst is obtained.

本発明の製造方法は、上記酸化工程を有することを特徴とするが、上述したように、上記重合体末端制御工程を有することが好ましく、また上記重合工程を有することが好ましい。本発明の製造方法の最も好ましい実施形態としては、上記重合工程、上記酸化工程、上記重合体末端制御工程よりなる製造方法があげられる。たとえば、下記工程(1)~(3)よりなる製造方法である。
(1)重合工程:硫黄含有単量体を含む単量体成分を重合して主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体(スルフィド含有重合体)を得る。
(2)酸化工程:スルフィド含有重合体を酸化してスルホキシド含有重合体を得る。
(3)重合体末端制御工程:重合体末端を制御する反応を行う。
The production method of the present invention is characterized by having the oxidation step, but as described above, it is preferable to have the polymer end control step, and it is also preferable to have the polymerization step. The most preferred embodiment of the production method of the present invention is a production method comprising the polymerization step, the oxidation step, and the polymer end control step. For example, it is a production method comprising the following steps (1) to (3).
(1) Polymerization step: A monomer component containing a sulfur-containing monomer is polymerized to obtain a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain (sulfide-containing polymer).
(2) Oxidation step: The sulfide-containing polymer is oxidized to obtain a sulfoxide-containing polymer.
(3) Polymer end control step: A reaction for controlling the polymer ends is carried out.

ここで、上述したように上記重合工程(1)は上記酸化工程(2)の前に行うことが好ましく、上記重合体末端制御工程(3)を行うタイミングは上述したとおりである。中でも、上記重合体末端制御工程(3)は上記酸化工程(2)後に行うか、上記酸化工程(2)と同時に行うことが好ましく、上記酸化工程における酸化反応が開始した後に、重合体末端制御工程における末端制御反応を開始することが好ましい。すなわち、上記酸化反応を先に開始し、上記酸化反応が完了した後、あるいは上記酸化反応がある程度進んだ後に、末端制御反応を行うことが好ましい。 Here, as described above, it is preferable that the polymerization step (1) is carried out before the oxidation step (2), and the timing of carrying out the polymer end control step (3) is as described above. In particular, it is preferable that the polymer end control step (3) is carried out after the oxidation step (2) or simultaneously with the oxidation step (2), and it is preferable to start the end control reaction in the polymer end control step after the oxidation reaction in the oxidation step has started. In other words, it is preferable to start the oxidation reaction first, and then carry out the end control reaction after the oxidation reaction has been completed or after the oxidation reaction has progressed to a certain extent.

<精製工程>
本発明の製造方法は、上記酸化工程以外に精製工程を有することが好ましく、上記酸化工程、上記重合体末端制御工程および上記重合工程の他に、精製工程を有することがさらに好ましい。上記重合工程において触媒を用いる酸化重合を行った場合、該触媒として用いた金属化合物に含まれる金属成分は、金属の種類にもよるが、着色の原因となり易く、除去することが望ましい。しかし、上記金属成分は重合体(スルフィド含有重合体)の末端に強く配位しているため除去が困難であった。
<Purification process>
The production method of the present invention preferably has a purification step in addition to the oxidation step, and more preferably has a purification step in addition to the oxidation step, the polymer end control step, and the polymerization step. When oxidative polymerization using a catalyst is performed in the polymerization step, the metal components contained in the metal compound used as the catalyst are likely to cause coloring, depending on the type of metal, and are therefore desirably removed. However, the metal components are strongly coordinated to the ends of the polymer (sulfide-containing polymer), making them difficult to remove.

重合体(スルフィド含有重合体)が、金属成分を含む重合体(スルフィド含有重合体)であっても、本発明における酸化工程に供することにより、重合体の主鎖骨格中の硫黄原子の酸化だけでなく末端構造も変化するため、重合体中の硫黄原子の金属成分への配位力が低下し、除去し易くなると考えられる。 Even if the polymer (sulfide-containing polymer) contains a metal component, by subjecting it to the oxidation process of the present invention, not only the sulfur atoms in the main chain of the polymer are oxidized but also the terminal structure is changed, so that the coordination force of the sulfur atoms in the polymer to the metal component is reduced, making it easier to remove.

よって、上記精製方法としては、従来公知の精製方法を用いることができる。たとえば、再沈殿法を用いることが好ましい。再沈殿法としては、特に限定されないが、例えば、スルフィド含有重合体、スルホキシド含有重合体等の重合体を含む組成物を塩酸酸性メタノール中に滴下して重合体を沈殿させ、これをろ過して沈殿物を得て、得られた沈殿物を水やメタノール等の低級アルコールで洗浄する方法等が挙げられる。上記精製方法により、上記酸化工程において用いた化合物(Z)に由来する成分等も除去することが好ましい。 Therefore, as the purification method, a conventionally known purification method can be used. For example, it is preferable to use a reprecipitation method. The reprecipitation method is not particularly limited, but for example, a method in which a composition containing a polymer such as a sulfide-containing polymer or a sulfoxide-containing polymer is dropped into hydrochloric acid acidified methanol to precipitate the polymer, which is then filtered to obtain a precipitate, and the obtained precipitate is washed with water or a lower alcohol such as methanol, etc. It is preferable to remove components derived from the compound (Z) used in the oxidation step by the above purification method.

上記精製工程としては、上記酸化工程で用いた化合物(Z)由来の成分や重合工程由来の不純物成分等を除去するために活性炭等の従来公知の吸着材を用いた方法を用いることもできる。上記再沈殿法と吸着材を用いる方法を併用することも好ましい。上記精製工程は、その行うタイミングは特に限定されず、上記酸化工程前に行ってもよいし、上記酸化工程後に行ってもよいし、上記重合体末端制御工程後に行ってもよい。すなわち、上記精製工程を行った後に得られたスルフィド含有重合体を上記酸化工程に供してもよいし、上記酸化工程または上記重合体末端制御工程で得られた重合体(スルホキシド含有重合体)を含む組成物に対し行ってもよい。 In the purification step, a method using a conventionally known adsorbent such as activated carbon can be used to remove components derived from the compound (Z) used in the oxidation step and impurity components derived from the polymerization step. It is also preferable to use the reprecipitation method and a method using an adsorbent in combination. The timing of the purification step is not particularly limited, and the purification step may be performed before the oxidation step, after the oxidation step, or after the polymer end control step. In other words, the sulfide-containing polymer obtained after the purification step may be subjected to the oxidation step, or the purification step may be performed on a composition containing the polymer (sulfoxide-containing polymer) obtained in the oxidation step or the polymer end control step.

中でも、上記重合工程、上記酸化工程、上記重合体末端制御工程のいずれも行った後に得られた重合体を含む組成物に対し上記精製工程を行うことが、各工程で用いた原料等に由来する不純物の少ない、スルホキシド含有重合体が得られる点で好ましい。たとえば、本発明の製造方法が重合体末端制御工程を有する場合は、上記酸化工程および上記重合体末端制御工程を行った後に得られる重合体(スルホキシド含有重合体)を含む組成物に対して精製を行うことが好ましく、本発明の製造方法が重合体末端制御工程を有しない場合は、上記酸化工程を行った後に得られる重合体(スルホキシド含有重合体)を含む組成物に対し精製を行うことが好ましい。 Among these, it is preferable to carry out the purification step on a composition containing a polymer obtained after carrying out any of the polymerization step, the oxidation step, and the polymer end control step, in that a sulfoxide-containing polymer having fewer impurities derived from the raw materials used in each step can be obtained. For example, when the production method of the present invention has a polymer end control step, it is preferable to carry out purification on a composition containing a polymer (sulfoxide-containing polymer) obtained after carrying out the oxidation step and the polymer end control step, and when the production method of the present invention does not have a polymer end control step, it is preferable to carry out purification on a composition containing a polymer (sulfoxide-containing polymer) obtained after carrying out the oxidation step.

本発明の製造方法は、上記重合工程、上記酸化工程、上記重合体末端制御工程および精製工程以外に、他の工程を有していてもよい。上記他の工程としては、例えば、熟成工程、中和工程、希釈工程、乾燥工程、濃縮工程、溶媒置換工程、溶解工程等が挙げられる。これらの工程は、公知の方法により行うことができる。 The manufacturing method of the present invention may include other steps in addition to the polymerization step, the oxidation step, the polymer end control step, and the purification step. Examples of the other steps include an aging step, a neutralization step, a dilution step, a drying step, a concentration step, a solvent replacement step, and a dissolution step. These steps can be carried out by known methods.

2.本発明の製造方法で得られる硫黄含有重合体について
上述した本発明の製造方法で得られる硫黄含有重合体は主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体(スルホキシド含有重合体)である。本発明の製造方法で得られる硫黄含有重合体の中でも、好ましいスルホキシド含有重合体について以下に説明する。
2. Regarding the sulfur-containing polymer obtained by the production method of the present invention The sulfur-containing polymer obtained by the production method of the present invention described above is a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain (sulfoxide-containing polymer). Among the sulfur-containing polymers obtained by the production method of the present invention, preferred sulfoxide-containing polymers are described below.

上記スルホキシド含有重合体は、加熱後の透過率に優れる。加熱後の透過率は、たとえば、260℃で加熱した後の可視光透過率により判定できる。具体的には、スルホキシド含有重合体を含む試料を、空気中、260℃で10分間加熱し、加熱後の透過率Ta(%)を測定する。 The sulfoxide-containing polymer has excellent transmittance after heating. The transmittance after heating can be determined, for example, by the visible light transmittance after heating at 260°C. Specifically, a sample containing the sulfoxide-containing polymer is heated in air at 260°C for 10 minutes, and the transmittance Ta (%) after heating is measured.

上記試料としては、無色透明なガラス基板とその片面上に形成した厚み1μmのスルホキシド含有重合体からなる薄膜との積層体を用いる。上記試料は、たとえば、スルホキシド含有重合体を溶媒に溶解した溶液を無色透明なガラス基板とその片面上に塗布し乾燥することにより調製できる。好ましい具体例としては、ヘキサフルオロ-2-プロパノールで5質量%の濃度になるようにスルホキシド含有重合体を溶解させた溶液を調製し、得られた溶液を、可視光透過性に優れるガラス基板(松波硝子工業社製、S1111)の片面に、500rpm程度×60sでスピンコートし、100℃で10分乾燥して薄膜(厚さ1μm)を形成するという方法があげられる。 The above sample is a laminate of a colorless transparent glass substrate and a thin film of a sulfoxide-containing polymer with a thickness of 1 μm formed on one side of the substrate. The above sample can be prepared, for example, by applying a solution of a sulfoxide-containing polymer dissolved in a solvent to a colorless transparent glass substrate and one side of the substrate, followed by drying. A preferred example is a method in which a solution of a sulfoxide-containing polymer dissolved in hexafluoro-2-propanol to a concentration of 5% by mass is prepared, and the resulting solution is spin-coated at about 500 rpm for 60 seconds onto one side of a glass substrate (S1111, manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) with excellent visible light transmittance, and then dried at 100°C for 10 minutes to form a thin film (thickness 1 μm).

可視光透過率の測定は、市販の分光光度計で測定すればよい。たとえば、分光光度計(日本分光製紫 外可視赤外分光光度計V-700 series)を用いることができる。加熱後の透過率を判定するための、可視光透過率としては、通常は、波長400nmにおける透過率を採用する。また透過率としては平行線透過率を採用する。 Visible light transmittance can be measured using a commercially available spectrophotometer. For example, a spectrophotometer (V-700 series ultraviolet, visible, and infrared spectrophotometer manufactured by JASCO) can be used. The visible light transmittance used to determine the transmittance after heating is usually the transmittance at a wavelength of 400 nm. Parallel line transmittance is also used as the transmittance.

上記スルホキシド含有重合体においては、上記評価方法により得られる、加熱後の透過率(Ta)が、81%以上であることが好ましく、82%以上であることがより好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。 For the above sulfoxide-containing polymer, the transmittance (Ta) after heating obtained by the above evaluation method is preferably 81% or more, more preferably 82% or more, and even more preferably 85% or more.

また、上記スルホキシド含有重合体においては、上記評価方法において、260℃加熱前の透過率(Tb)が、82%以上であることが好ましく、83%以上であることがより好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。
上記透過率(Tb)は、透過率(Ta)と同様の方法で測定することができる。
上記スルホキシド含有重合体は、透過率(Ta)と透過率(Tb)との差異の絶対値が5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが特に好ましい。
In addition, in the above sulfoxide-containing polymer, the transmittance (Tb) before heating at 260° C., in the above evaluation method, is preferably 82% or more, more preferably 83% or more, and even more preferably 85% or more.
The transmittance (Tb) can be measured in the same manner as the transmittance (Ta).
The above sulfoxide-containing polymer preferably has an absolute value of the difference between the transmittance (Ta) and the transmittance (Tb) of 5% or less, more preferably 3% or less, even more preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less.

上記スルホキシド含有重合体は、スルフィド含有重合体の説明において説明した、少なくとも上記一般式(2)で表される構成単位(B)を有する硫黄含有重合体であることが好ましく、XおよびXが有していてもよい置換基についてはこれらの好ましい態様も含めて、スルフィド含有重合体の説明において説明したとおりである。さらに上記スルホキシド含有重合体は、少なくとも上記一般式(2-1)で表される構成単位(B-1)を有する硫黄含有重合体であることが好ましく、RおよびRが有していてもよい置換基についてはこれらの好ましい態様も含めて、スルフィド含有重合体の説明において説明したとおりである。 The sulfoxide-containing polymer is preferably a sulfur-containing polymer having at least the structural unit (B) represented by the above general formula (2) as explained in the explanation of the sulfide-containing polymer, and the substituents that X2 and X2 may have are as explained in the explanation of the sulfide-containing polymer, including their preferred embodiments. Furthermore, the sulfoxide-containing polymer is preferably a sulfur-containing polymer having at least the structural unit (B-1) represented by the above general formula (2-1), and the substituents that R2 and R2 may have are as explained in the explanation of the sulfide-containing polymer, including their preferred embodiments.

上記スルホキシド含有重合体は、主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体、好ましくは上記構成単位(B)を有する硫黄含有重合体であれば、さらに限定されないが、他の構成単位を含んでいてもよい。たとえば、スルフィド含有重合体の説明において説明した、上記一般式(1)で表される構成単位(A)および/または上記一般式(3)で表される構成単位(C)をさらに含んでいてもよい。 The sulfoxide-containing polymer is a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in the main chain, preferably a sulfur-containing polymer having the above-mentioned structural unit (B), but is not limited thereto, and may contain other structural units. For example, it may further contain the structural unit (A) represented by the above general formula (1) and/or the structural unit (C) represented by the above general formula (3), which were described in the description of the sulfide-containing polymer.

上記スルホキシド含有重合体において、構成単位(A)は上記一般式(1-1)で表される構成単位(A-1)であることが好ましく、構成単位(C)は上記一般式(3-1)で表される構成単位(C-1)であることが好ましい。XおよびXが有していてもよい置換基、XおよびXが有していてもよい置換基、RおよびRが有していてもよい置換基、RおよびRが有していてもよい置換基については、これらの好ましい態様も含めて、スルフィド含有重合体の説明において説明したとおりである。 In the sulfoxide-containing polymer, the structural unit (A) is preferably the structural unit (A-1) represented by the above general formula (1-1), and the structural unit (C) is preferably the structural unit (C-1) represented by the above general formula (3-1). The substituents which X1 and X1 may have, the substituents which X3 and X3 may have, the substituents which R1 and R1 may have, and the substituents which R3 and R3 may have, including preferred embodiments thereof, are as explained in the explanation of the sulfide-containing polymer.

上記スルホキシド含有重合体は、上記構成単位(B)のみを含む重合体であってもよいし、さらに構成単位(A)および/または構成単位(C)を含む共重合体であってもよい。上記共重合体である場合、その形態は特に制限されず、たとえば、交互共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。上記スルホキシド含有重合体は、1種又は2種以上の上記構成単位(A)、(B)、又は(C)をそれぞれ有してもよい。 The sulfoxide-containing polymer may be a polymer containing only the structural unit (B), or may be a copolymer further containing the structural unit (A) and/or the structural unit (C). When it is a copolymer, the form is not particularly limited, and may be, for example, an alternating copolymer, a block copolymer, or a random copolymer. The sulfoxide-containing polymer may have one or more of the structural units (A), (B), or (C).

上記スルホキシド含有重合体における上記構成単位(B)の含有割合は、酸化工程に供したスルフィド含有重合体における構成単位(B)の含有割合よりも高いことが好ましい。上記スルホキシド含有重合体において、上記構成単位(B)の含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、10~99モル%であることが好ましく、30~97モル%であることがより好ましく、60~95モル%であることが更に好ましい。上記構成単位(A)及び構成単位(C)の合計含有割合は、全構成単位100モル%に対して、1~90モル%であることが好ましく、3~70モル%であることがより好ましく、5~40モル%であることが更に好ましい。上記構成単位(A)の含有割合は、全構成単位100モル%に対して、1~90モル%であることが好ましく、3~70モル%であることがより好ましく、5~40モル%であることが更に好ましい。 The content of the structural unit (B) in the sulfoxide-containing polymer is preferably higher than the content of the structural unit (B) in the sulfide-containing polymer subjected to the oxidation step. In the sulfoxide-containing polymer, the content of the structural unit (B) is preferably 10 to 99 mol%, more preferably 30 to 97 mol%, and even more preferably 60 to 95 mol%, based on 100 mol% of all structural units in the polymer. The total content of the structural units (A) and (C) is preferably 1 to 90 mol%, more preferably 3 to 70 mol%, and even more preferably 5 to 40 mol%, based on 100 mol% of all structural units. The content of the structural unit (A) is preferably 1 to 90 mol%, more preferably 3 to 70 mol%, and even more preferably 5 to 40 mol%, based on 100 mol% of all structural units.

上記スルホキシド含有重合体において、上記構成単位(A)、(B)及び(C)の合計含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、50モル%以上であることが好ましく、80モル%以上であることがより好ましく、90モル%以上であることが更に好ましく、95モル%以上であることが更により好ましく、100モル%であることが特に好ましい。 In the sulfoxide-containing polymer, the total content of the structural units (A), (B) and (C) is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, even more preferably 90 mol% or more, even more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 100 mol%, based on 100 mol% of all structural units in the polymer.

上記スルホキシド含有重合体は、上記構成単位(A)と構成単位(B)と構成単位(C)以外の他の構成単位(D)を有していてもよい。上記構成単位(D)としては、例えば、少なくとも上述した反応性官能基を有する構成単位が挙げられる。上記構成単位(D)を導入しうる単量体としては、スルフィド含有重合体の説明において説明したとおりである。上記構成単位(D)の含有割合は、重合体の全構成単位100モル%に対して、0~50モル%であることが好ましく、0~20モル%であることがより好ましく、0~5モル%であることが更に好ましい。 The sulfoxide-containing polymer may have a structural unit (D) other than the structural unit (A), structural unit (B), and structural unit (C). Examples of the structural unit (D) include structural units having at least the reactive functional group described above. Monomers into which the structural unit (D) can be introduced are as described in the description of the sulfide-containing polymer. The content of the structural unit (D) is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, and even more preferably 0 to 5 mol%, relative to 100 mol% of all structural units of the polymer.

上記スルホキシド含有重合体は、主鎖末端及び/又は側鎖に上述した反応性官能基を有することが好ましい。上記反応性官能基を少なくとも主鎖末端、又は、側鎖に有することで、酸化反応後に得られるスルホキシド含有重合体が、上記反応性官能基による優れた物性を発揮することができる。上記反応性官能基を側鎖に有する場合とは、上記スルホキシド含有重合体の側鎖に上記反応性官能基がある場合だけでなく、上記一般式(1)~(3)で表される構成単位(A)~(C)における置換基が、上記反応性官能基である場合や上記反応性官能基を含む基である場合も含む。 The sulfoxide-containing polymer preferably has the reactive functional group at the end of the main chain and/or at the side chain. By having the reactive functional group at least at the end of the main chain or at the side chain, the sulfoxide-containing polymer obtained after the oxidation reaction can exhibit excellent physical properties due to the reactive functional group. The case where the reactive functional group is present at the side chain includes not only the case where the reactive functional group is present at the side chain of the sulfoxide-containing polymer, but also the case where the substituent in the structural units (A) to (C) represented by the general formulas (1) to (3) is the reactive functional group or a group containing the reactive functional group.

上記スルホキシド含有重合体は、重金属量が硫黄含有重合体に対して0.0001ppm以上、1200ppm以下であることが好ましい。上記スルホキシド含有重合体は、高屈折率を有し、光透過性に優れる。また、加熱後の透過率にも優れる。上記重金属量は、重合体(固形分)に対して500ppm以下であることがより好ましく、200ppm以下であることが更に好ましく、100ppm以下であることが更により好ましい。また、上記重金属量は、スルホキシド含有重合体を用いた成形物がじん性に優れるものとなりやすい観点から、スルホキシド含有重合体(固形分)に対して0.001ppm以上であることがより好ましく、0.01ppm以上であることが更に好ましい。上記重金属量は、上述したICP発光分光分析により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer preferably has a heavy metal content of 0.0001 ppm or more and 1200 ppm or less relative to the sulfur-containing polymer. The sulfoxide-containing polymer has a high refractive index and excellent light transmittance. It also has excellent transmittance after heating. The heavy metal content is more preferably 500 ppm or less relative to the polymer (solid content), even more preferably 200 ppm or less, and even more preferably 100 ppm or less. In addition, from the viewpoint that a molded product using the sulfoxide-containing polymer is likely to have excellent toughness, the heavy metal content is more preferably 0.001 ppm or more relative to the sulfoxide-containing polymer (solid content), and even more preferably 0.01 ppm or more. The heavy metal content can be determined by the above-mentioned ICP emission spectroscopy.

上記スルホキシド含有重合体は、主鎖の硫黄原子Sに結合した酸素原子Oと上記主鎖の硫黄原子Sとの元素含有比率(O/S)が、0.1~1.5であることが好ましい。上記元素含有比率が上述の範囲であると、透明性や屈折率がより高くなる。
上記主鎖の硫黄原子Sとは、具体的には、例えば、上記一般式(2)で表される構成単位(B)では、主鎖にある-SO-の硫黄原子Sを意味する。上記一般式(1)で表される構成単位(A)においては、主鎖にある-S-の硫黄原子Sを意味し、上記一般式(3)で表される構成単位(C)では、主鎖にある-SO-の硫黄原子Sを意味する。上記主鎖の硫黄原子Sに結合した酸素原子とは、具体的には、例えば、上記一般式(2)で表される構成単位(B)において、主鎖にある-SO-の酸素原子Oを意味し、上記一般式(3)で表される構成単位(C)では、主鎖にある-SO-の酸素原子Oを意味する。
The sulfoxide-containing polymer preferably has an elemental ratio (O/S) of oxygen atoms O bonded to sulfur atoms S in the main chain to sulfur atoms S in the main chain of 0.1 to 1.5. When the elemental ratio is within the above range, the transparency and refractive index are further increased.
The sulfur atom S in the main chain specifically means, for example, in the structural unit (B) represented by the general formula (2), the sulfur atom S of -SO- in the main chain. In the structural unit (A) represented by the general formula (1), the sulfur atom S of -S- in the main chain, and in the structural unit (C) represented by the general formula (3), the sulfur atom S of -SO 2 - in the main chain. The oxygen atom bonded to the sulfur atom S in the main chain specifically means, for example, in the structural unit (B) represented by the general formula (2), the oxygen atom O of -SO- in the main chain, and in the structural unit (C) represented by the general formula (3), the oxygen atom O of -SO 2 - in the main chain.

上記元素含有比率(O/S)は、透明性をより一層高くすることができる点で、0.3以上であることがより好ましく、0.5以上であることが更に好ましく、屈折率をより一層高くすることができる点で、1.3以下であることがより好ましく、1.1以下であることが更に好ましい。上記元素含有比率は、X線光電子分光装置(XPS)を用いて、酸素原子の1s軌道(O1s)、炭素原子の1s軌道(C1s)、硫黄原子の2p軌道(S2p)のピーク強度を評価測定することにより求めることができる。 The element content ratio (O/S) is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, in order to further increase the transparency, and is preferably 1.3 or less, even more preferably 1.1 or less, in order to further increase the refractive index. The element content ratio can be determined by evaluating and measuring the peak intensities of the oxygen atom 1s orbital (O1s), carbon atom 1s orbital (C1s), and sulfur atom 2p orbital (S2p) using an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

上記スルホキシド含有重合体の重量平均分子量(Mw)は、500~10000000であることが好ましい。重量平均分子量が上述の範囲であると、光学材料として好適に使用することができる。上記重量平均分子量は、機械特性向上の観点で、1000以上であることがより好ましく、3000以上であることが更に好ましく、10000以上であることが更により好ましく、溶融粘度低減の観点で、1000000以下であることがより好ましく、100000以下であることが更に好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the sulfoxide-containing polymer is preferably 500 to 10,000,000. When the weight average molecular weight is within the above range, it can be suitably used as an optical material. From the viewpoint of improving mechanical properties, the weight average molecular weight is more preferably 1,000 or more, even more preferably 3,000 or more, and even more preferably 10,000 or more, and from the viewpoint of reducing melt viscosity, it is more preferably 1,000,000 or less, and even more preferably 100,000 or less.

上記スルホキシド含有重合体の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1以上、10以下であることが好ましい。上記分散度が上述の範囲であると、成形が容易となる。成形性がより一層向上しうる点で、上記分散度は、5以下であることがより好ましく、3以下であることが更に好ましい。上記重量平均分子量、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定して求めることができ、具体的には後述する実施例に記載の方法により求めることができる。分散度は、重量平均分子量を数平均分子量で除することにより求めることができる。 The dispersity (weight average molecular weight/number average molecular weight) of the sulfoxide-containing polymer is preferably 1 or more and 10 or less. When the dispersity is within the above range, molding becomes easy. In terms of further improving moldability, the dispersity is more preferably 5 or less, and even more preferably 3 or less. The weight average molecular weight and number average molecular weight can be determined by measurement using gel permeation chromatography (GPC), specifically, by the method described in the examples below. The dispersity can be determined by dividing the weight average molecular weight by the number average molecular weight.

上記スルホキシド含有重合体は、ガラス転移温度(Tg)が80~250℃であることが好ましい。ガラス転移温度が上述の範囲であると、成形加工を容易に行うことができる。上記ガラス転移温度は、耐熱性を高くするという観点で、90℃以上であることがより好ましく、100℃以上であることが更に好ましく、成形加工を容易に行うという観点で、200℃以下であることがより好ましい。上記ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて、窒素ガス雰囲気下、室温から250℃まで昇温(昇温速度10℃/分)して得られたDSC曲線から、ベースラインと変曲点での接線の交点により評価する方法により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 80 to 250°C. When the glass transition temperature is in the above range, molding can be easily performed. From the viewpoint of increasing heat resistance, the glass transition temperature is more preferably 90°C or higher, and even more preferably 100°C or higher, and from the viewpoint of easy molding, it is more preferably 200°C or lower. The glass transition temperature can be determined by a method of evaluating the intersection of the tangent at the baseline and the inflection point from the DSC curve obtained by heating from room temperature to 250°C (heating rate 10°C/min) in a nitrogen gas atmosphere using a differential scanning calorimeter (DSC).

上記スルホキシド含有重合体は、屈折率が1.69以上であることが好ましい。屈折率が上述の範囲であると、光学材料(部材)、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料、成形材料等の他、塗料や接着剤の材料等の各種用途に広く好適に使用することができる。上記屈折率は、1.7以上であることがより好ましく、1.71以上であることが更に好ましい。上記屈折率は、測定試料として、上記重合体を用いて厚み50nmの膜を製膜し、分光エリプソメーターUVISEL(HORIBA Scientific社製)を使用し、Na D線(589nm)を用いて測定することにより求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer preferably has a refractive index of 1.69 or more. When the refractive index is within the above range, the polymer can be widely and suitably used in a variety of applications, such as optical materials (members), mechanical parts materials, electrical and electronic parts materials, automobile parts materials, civil engineering and construction materials, molding materials, and also paints and adhesives. The refractive index is more preferably 1.7 or more, and even more preferably 1.71 or more. The refractive index can be determined by forming a film having a thickness of 50 nm using the polymer as a measurement sample, and measuring the film using a spectroscopic ellipsometer UVISEL (manufactured by HORIBA Scientific) with Na D line (589 nm).

上記スルホキシド含有重合体は、アッベ数が10以上であることが好ましい。アッベ数が上述の範囲であると、光分散が小さく、レンズに適した光学材料とすることができる。上記アッベ数は、15以上であることがより好ましく、18以上であることが更に好ましく、20以上であることが更により好ましい。上記アッベ数は、光分散性を調整するという観点で、60以下であることが好ましく、55以下であることがより好ましい。上記アッベ数は、上記屈折率の測定時と同様の方法で、上記重合体を用いて製膜し、上記分光エリプソメーターを使用してD線(589.3nm)、F線(486.1nm)、C線(656.3nm)における屈折率を測定し、下記の計算式を用いて求めることができる。
アッベ数(vD)=(nD-1)/(nF-nC)
式中、nD、nF、nCはそれぞれ、フラウンホーファーのD線(589.3nm)、F線(486.1nm)、C線(658.3nm)における屈折率を表す。
The sulfoxide-containing polymer preferably has an Abbe number of 10 or more. When the Abbe number is in the above range, the light dispersion is small, and the optical material can be suitable for lenses. The Abbe number is more preferably 15 or more, even more preferably 18 or more, and even more preferably 20 or more. From the viewpoint of adjusting the light dispersion, the Abbe number is preferably 60 or less, and more preferably 55 or less. The Abbe number can be calculated by forming a film using the polymer in the same manner as in the measurement of the refractive index, measuring the refractive index at the D line (589.3 nm), F line (486.1 nm), and C line (656.3 nm) using the spectroscopic ellipsometer, and using the following calculation formula.
Abbe number (vD)=(nD−1)/(nF−nC)
In the formula, nD, nF, and nC represent the refractive indices at the Fraunhofer D line (589.3 nm), F line (486.1 nm), and C line (658.3 nm), respectively.

本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体は、加熱後の透過率に優れる。また好ましい態様によれば、主鎖にスルホキシド骨格を有する重合体であるために、高屈折率を有し、光学的に可視光透過性に優れるものとなる。その好ましい態様によれば、溶解性や加工性にも優れるものとなる。しかも、本発明の製造方法における好ましい態様で得られた重合体は、重合工程等で用いた不純物等の少ないものとなり、該重合体を用いた材料は無色透明性に優れ、経時的着色等も抑制されたものとなる。
したがって、このような本発明の製造方法で得られる硫黄含有重合体(スルホキシド含有重合体)は、単独であるいは、他の成分を組み合わせた組成物として光学材料等の種々の用途に用いることができる。
The sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention has excellent transmittance after heating. Moreover, according to a preferred embodiment, since the polymer has a sulfoxide skeleton in the main chain, it has a high refractive index and is optically excellent in visible light transmittance. According to the preferred embodiment, it also has excellent solubility and processability. Moreover, the polymer obtained by the preferred embodiment of the production method of the present invention has a small amount of impurities used in the polymerization step, etc., and the material using the polymer has excellent colorless transparency and is suppressed from coloring over time.
Therefore, the sulfur-containing polymer (sulfoxide-containing polymer) obtained by the production method of the present invention can be used for various applications such as optical materials, either alone or as a composition in combination with other components.

3.本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体を含む組成物
本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体を含む組成物について説明する。該組成物をスルホキシド含有重合体組成物あるいは重合体組成物とも称する。
上記スルホキシド含有重合体組成物における上記スルホキシド含有重合体の含有量は、スルホキシド含有重合体組成物の固形分総量100質量%に対して1~100質量%であることが好ましく、10~50質量%であることがより好ましく、30~70質量%であることが更に好ましい。
3. Composition containing a sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention The composition containing a sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention will be described. The composition is also called a sulfoxide-containing polymer composition or a polymer composition.
The content of the sulfoxide-containing polymer in the sulfoxide-containing polymer composition is preferably 1 to 100% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and even more preferably 30 to 70% by mass, relative to 100% by mass of the total solid content of the sulfoxide-containing polymer composition.

上記他の成分としては、特に限定されず、スルホキシド含有重合体組成物の目的、用途に応じて公知の成分の中から適宜選択することができる。
たとえば、他の成分として無機物を選択することにより、透明性や屈折率を制御することができる。上記スルホキシド含有重合体、及び、無機物を含むスルホキシド含有重合体組成物もまた本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体の実施形態の一つである。
The other components are not particularly limited and can be appropriately selected from known components depending on the purpose and application of the sulfoxide-containing polymer composition.
For example, the transparency and refractive index can be controlled by selecting an inorganic substance as another component. The sulfoxide-containing polymer and the sulfoxide-containing polymer composition containing an inorganic substance are also embodiments of the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention.

上記無機物としては、例えば、金属、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物、無機硫化物、無機水酸化物等が挙げられる。上記無機物は、1種のみ使用してもよいし、2種以上組み合わせて使用してもよい。
上記金属としては、例えば、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ホウ素(B)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、マンガン(Mn)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、アルミニウム(Al)、錫(Sn)、ケイ素(Si)、セシウム(Ce)、インジウム(In)等が挙げられる。
Examples of the inorganic substances include metals, inorganic oxides, inorganic nitrides, inorganic carbides, inorganic sulfides, inorganic hydroxides, etc. The inorganic substances may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the metals include lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), boron (B), magnesium (Mg), calcium (Ca), manganese (Mn), strontium (Sr), barium (Ba), titanium (Ti), zirconium (Zr), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), zinc (Zn), aluminum (Al), tin (Sn), silicon (Si), cesium (Ce), and indium (In).

上記無機酸化物としては、金属元素を含む金属酸化物が好ましい。上記金属酸化物としては、1種の金属元素からなる単一金属酸化物、2種以上の金属元素からなる酸化物である複合酸化物、上記単一金属酸化物又は上記複合酸化物に異種元素が固溶した固溶体酸化物が挙げられる。上記異種元素は、金属元素であってもよいし、酸素以外の、窒素やフッ素等の非金属元素であってもよい。金属元素としては、上述した金属元素が挙げられる。上記単一金属酸化物としては、例えば、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化インジウム等が挙げられる。上記複合酸化物としては、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムジルコニウムストロンチウム、チタン酸バリウムジルコニウム、ジルコン酸チタン酸鉛等のペロブスカイト型複合酸化物;スピネル、チタン酸リチウム等のスピネル型複合酸化物;チタン酸アルミニウム等の複合酸化物が挙げられる。上記固溶体酸化物としては、上記単一金属酸化物又は複合酸化物に異種金属元素及び/又は酸素以外の非金属元素、例えば窒素、フッ素が固溶したものである固溶体酸化物等が挙げられる。 As the inorganic oxide, a metal oxide containing a metal element is preferable. Examples of the metal oxide include a single metal oxide consisting of one metal element, a composite oxide consisting of two or more metal elements, and a solid solution oxide in which a different element is dissolved in the single metal oxide or the composite oxide. The different element may be a metal element or a nonmetal element other than oxygen, such as nitrogen or fluorine. Examples of the metal element include the metal elements described above. Examples of the single metal oxide include magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, silicon oxide, tin oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, indium oxide, and the like. Examples of the composite oxide include perovskite-type composite oxides such as barium titanate, barium strontium titanate, strontium titanate, barium zirconium strontium titanate, barium zirconium titanate, and lead zirconate titanate; spinel-type composite oxides such as spinel and lithium titanate; and composite oxides such as aluminum titanate. The solid solution oxides include solid solution oxides in which a different metal element and/or a nonmetal element other than oxygen, such as nitrogen or fluorine, is dissolved in the single metal oxide or composite oxide.

上記無機窒化物としては、金属窒化物が好ましく、例えば、窒化ホウ素、窒化炭素、窒化アルミニウム等が挙げられる。上記無機炭化物としては、金属炭化物が好ましく、例えば、炭化ケイ素、炭化カルシウム、炭化チタン、炭化ホウ素等が挙げられる。上記無機硫化物としては、金属硫化物が好ましく、例えば、硫化銅、硫化亜鉛、硫化カドミウム等が挙げられる。上記無機水酸化物としては、金属水酸化物が好ましく、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム等が挙げられる。 The inorganic nitride is preferably a metal nitride, such as boron nitride, carbon nitride, aluminum nitride, etc. The inorganic carbide is preferably a metal carbide, such as silicon carbide, calcium carbide, titanium carbide, boron carbide, etc. The inorganic sulfide is preferably a metal sulfide, such as copper sulfide, zinc sulfide, cadmium sulfide, etc. The inorganic hydroxide is preferably a metal hydroxide, such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium hydroxide, etc.

なかでも、上記無機物は、ワイドバンドギャップ(可視光透明)である点で、無機酸化物であることが好ましく、金属酸化物であることがより好ましい。また、上記無機物のなかでも、可視光領域に吸収がない、又は、少ないために、無機物による着色が抑制された、無色透明な組成物が得られ易い点で、Ti、Zr、Ce、Zn、In、Al、Si、Snを金属元素の主成分とする酸化物がさらに好ましく、酸化チタン(TiO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化セリウム(CeO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム(In)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ケイ素(SiO)、酸化スズ(SnO)が特に好ましい。 Among them, the inorganic material is preferably an inorganic oxide, more preferably a metal oxide, in that it is wide band gap (visible light transparent).Furthermore, among the inorganic materials, oxides mainly composed of metal elements Ti, Zr, Ce, Zn, In, Al, Si, and Sn are more preferable, in that they have no or little absorption in the visible light region, and therefore coloring by the inorganic material is suppressed, and a colorless and transparent composition is easily obtained, and titanium oxide ( TiO2 ), zirconium oxide ( ZrO2 ), cerium oxide ( CeO2 ), zinc oxide ( ZnO ), indium oxide ( In2O3 ), aluminum oxide ( Al2O3 ), silicon oxide ( SiO2 ), and tin oxide ( SnO2 ) are particularly preferable.

上記無機物のなかでも、上記スルホキシド含有重合体組成物の透明性をより一層向上させることができる点や、上記組成物の低線膨張化ができる点では、酸化ジルコニウム、酸化チタン、二酸化ケイ素がより好ましく、上記スルホキシド含有重合体組成物の屈折率を向上させる観点では、酸化ジルコニウム、酸化チタンがより好ましい。また、高い比誘電率を有し、上記スルホキシド含有重合体組成物を強誘電体材料、圧電材料として好適に使用できる点では、ペロブスカイト型複合酸化物が好ましい。熱伝導率が高く、上記スルホキシド含有重合体組成物を放熱材料として好適に使用できる点では、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、チタン酸アルミニウムが好ましい。 Among the above inorganic substances, zirconium oxide, titanium oxide, and silicon dioxide are more preferable in terms of further improving the transparency of the sulfoxide-containing polymer composition and reducing the linear expansion of the composition, and zirconium oxide and titanium oxide are more preferable in terms of improving the refractive index of the sulfoxide-containing polymer composition. Perovskite-type complex oxides are preferable in terms of having a high relative dielectric constant and being suitable for use as a ferroelectric material or piezoelectric material. Boron nitride, aluminum hydroxide, and aluminum titanate are preferable in terms of having a high thermal conductivity and being suitable for use as a heat dissipation material.

上記スルホキシド含有重合体組成物に無機物の添加による着色を抑えながら、帯電防止性あるいは導電性を付与させる観点では、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム(In)又は酸化スズ(SnO)に、異種金属元素あるいはフッ素等の添加元素を固溶させた固溶体酸化物が好ましく、例えばIn、Al又はGaを固溶した酸化亜鉛、Sn、又はTiを固溶した酸化インジウム、Sb又はFを固溶した酸化スズ等がより好ましい。 From the viewpoint of imparting antistatic properties or electrical conductivity to the sulfoxide-containing polymer composition while suppressing coloration due to the addition of inorganic substances, solid solution oxides in which a different metal element or an additive element such as fluorine is solid-solved in zinc oxide (ZnO), indium oxide (In 2 O 3 ) or tin oxide (SnO 2 ) are preferred. For example, zinc oxide in which In, Al or Ga is solid-solved, indium oxide in which Sn or Ti is solid-solved, tin oxide in which Sb or F is solid-solved, etc. are more preferred.

上記無機物の形状は、特に限定されず、不定形、粒状、板状、繊維状、ブロック状等のいずれであってもよいが、粒状が好ましい。上記無機物は、表面処理が行われていてもよい。上記表面処理としては、本発明の効果に影響がない範囲であれば、特に限定されず、シランカップリング剤を用いる方法、リン酸基を有する化合物を反応させる方法、カルボン酸基を有する化合物を反応させる方法等、公知の方法が挙げられる。 The shape of the inorganic material is not particularly limited and may be any of amorphous, granular, plate-like, fibrous, block-like, etc., but granular is preferred. The inorganic material may be surface-treated. The surface treatment is not particularly limited as long as it does not affect the effects of the present invention, and examples of known methods include a method using a silane coupling agent, a method of reacting a compound having a phosphoric acid group, and a method of reacting a compound having a carboxylic acid group.

上記無機物の平均粒子径は、1nm以上、1000nm以下であることが好ましい。上記無機物の平均粒子径が上述の範囲であると、可視光領域、赤外線領域の光透過性を向上できる。上記無機物の平均粒子径は、5nm以上であることがより好ましく、10nm以上であることが更に好ましく、また、100nm以下であることがより好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。上記平均粒子径は、上記無機物をSEM(倍率1000~10万倍、好ましくは1万倍)で観察し、得られた画像を解析することにより、約10~1000個の個々の粒子(一次粒子)の粒子径(円面積相当径)を求め、個数基準の粒度分布による50%粒径を評価することにより求められる。画像解析には、公知の画像解析ソフト(例えば、マウンテック社製Mac-View)を用いることができる。 The average particle diameter of the inorganic substance is preferably 1 nm or more and 1000 nm or less. When the average particle diameter of the inorganic substance is in the above-mentioned range, the light transmittance in the visible light region and the infrared region can be improved. The average particle diameter of the inorganic substance is more preferably 5 nm or more, even more preferably 10 nm or more, and more preferably 100 nm or less, and even more preferably 50 nm or less. The average particle diameter is obtained by observing the inorganic substance with a SEM (magnification 1000 to 100,000 times, preferably 10,000 times), analyzing the obtained image, determining the particle diameter (circular area equivalent diameter) of about 10 to 1000 individual particles (primary particles), and evaluating the 50% particle diameter based on the particle size distribution based on the number. For the image analysis, a known image analysis software (for example, Mac-View manufactured by Mountec Co., Ltd.) can be used.

上記無機物の含有量は、特に限定されず、上記スルホキシド含有重合体組成物の目的、用途に応じて適宜設定することができる。例えば、上記無機物の含有量は、透明性をより一層向上させることができる点や、低線膨張化できる点で、上記スルホキシド含有重合体100質量部に対して、10質量部以上であることが好ましく、30質量部以上であることが更に好ましく、50質量部以上であることが更により好ましく、70質量部以上であることが特に好ましく、80質量部以上であることが最も好ましい。また、樹脂成型物の作製時の溶融粘度低減の観点では、上記無機物の含有量は、上記スルホキシド含有重合体100質量部に対して、90質量部以下であることが好ましく、80質量部以下であることがより好ましく、70質量部以下であることが更に好ましく、50質量部以下であることが更により好ましい。 The content of the inorganic substance is not particularly limited and can be appropriately set depending on the purpose and use of the sulfoxide-containing polymer composition. For example, the content of the inorganic substance is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, even more preferably 50 parts by mass or more, particularly preferably 70 parts by mass or more, and most preferably 80 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the sulfoxide-containing polymer, in terms of further improving transparency and reducing linear expansion. In addition, from the viewpoint of reducing the melt viscosity during the production of a resin molded product, the content of the inorganic substance is preferably 90 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or less, even more preferably 70 parts by mass or less, and even more preferably 50 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the sulfoxide-containing polymer.

上記スルホキシド含有重合体組成物は、上述したスルホキシド含有重合体と無機物の他に、例えば、顔料、染料、酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂、反応性希釈剤、光安定剤、可塑剤、非反応性化合物、連鎖移動剤、熱重合開始剤、嫌気重合開始剤、重合禁止剤、無機充填剤、有機充填剤、カップリング剤等の密着向上剤、熱安定剤、防菌・防カビ剤、難燃剤、艶消し剤、消泡剤、レベリング剤、湿潤・分散剤、沈降防止剤、増粘剤・タレ防止剤、色分かれ防止剤、乳化剤、スリップ・スリキズ防止剤、皮張り防止剤、乾燥剤、防汚剤、帯電防止剤、導電剤(静電助剤)、溶媒等の成分を含有してもよい。これらの成分は、1種のみ使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの成分は、公知のものから適宜選択して使用することができる。また、これらの配合量は、適宜設定することができる。 In addition to the sulfoxide-containing polymer and inorganic substance described above, the sulfoxide-containing polymer composition may contain, for example, pigments, dyes, antioxidants, ultraviolet absorbers, resins, reactive diluents, light stabilizers, plasticizers, non-reactive compounds, chain transfer agents, thermal polymerization initiators, anaerobic polymerization initiators, polymerization inhibitors, inorganic fillers, organic fillers, adhesion improvers such as coupling agents, heat stabilizers, antibacterial and antifungal agents, flame retardants, matting agents, defoamers, leveling agents, wetting and dispersing agents, anti-settling agents, thickeners and anti-sagging agents, color separation inhibitors, emulsifiers, slip and scratch inhibitors, anti-skinning agents, drying agents, antifouling agents, antistatic agents, conductive agents (electrostatic assistants), solvents, and other components. Only one of these components may be used, or two or more of them may be used in combination. These components can be appropriately selected from known ones and used. The blending amounts of these components can be appropriately set.

また、上記スルホキシド含有重合体組成物が光学材料用である場合は、光学材料の用途に応じて、適宜その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、具体的には、紫外線吸収剤、IRカット剤、反応性希釈剤、顔料、洗料、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、非反応性化合物、消泡剤等が好適に挙げられる。 When the sulfoxide-containing polymer composition is for use in an optical material, it may contain other components as appropriate depending on the application of the optical material. Specific examples of the other components include ultraviolet absorbers, IR cutters, reactive diluents, pigments, detergents, antioxidants, light stabilizers, plasticizers, non-reactive compounds, and defoamers.

上記スルホキシド含有重合体組成物は、ガラス転移温度(Tg)が80~250℃であることが好ましい。ガラス転移温度が上述の範囲であると、成形加工を容易に行うことができる。上記ガラス転移温度は、耐熱性を高くするという観点で、90℃以上であることがより好ましく、100℃以上であることが更に好ましく、成形加工を容易に行うという観点で、200℃以下であることがより好ましい。上記ガラス転移温度は、上述した重合体のガラス転移温度の測定方法と同様の方法により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer composition preferably has a glass transition temperature (Tg) of 80 to 250°C. When the glass transition temperature is in the above-mentioned range, molding processing can be easily performed. From the viewpoint of increasing heat resistance, the glass transition temperature is more preferably 90°C or higher, and even more preferably 100°C or higher, and from the viewpoint of easy molding processing, it is more preferably 200°C or lower. The glass transition temperature can be determined by the same method as the method for measuring the glass transition temperature of the polymer described above.

上記スルホキシド含有重合体組成物は、屈折率が1.69以上であることが好ましい。屈折率が上述の範囲であると、光学材料等として好適に適用できる。上記屈折率は、1.70以上であることがより好ましく、1.71以上であることが更に好ましい。上記屈折率は、上述した重合体の屈折率の測定方法と同様の方法により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer composition preferably has a refractive index of 1.69 or more. If the refractive index is within the above range, it can be suitably used as an optical material, etc. The refractive index is more preferably 1.70 or more, and even more preferably 1.71 or more. The refractive index can be determined by the same method as the method for measuring the refractive index of the polymer described above.

上記スルホキシド含有重合体組成物は、アッベ数が10以上であることが好ましい。アッベ数が上述の範囲であると、光分散が小さく、レンズに適した光学材料となりうる。上記アッベ数は、15以上であることがより好ましく、18以上であることが更に好ましく、20以上であることが更により好ましい。上記アッベ数は、光分散性を調整するという観点で、60以下であることがより好ましく、55以下であることが更に好ましい。上記アッベ数は、上述した重合体のアッベ数の測定方法と同様の方法により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer composition preferably has an Abbe number of 10 or more. When the Abbe number is in the above-mentioned range, the light dispersion is small, and the composition can be an optical material suitable for lenses. The Abbe number is more preferably 15 or more, even more preferably 18 or more, and even more preferably 20 or more. From the viewpoint of adjusting the light dispersion, the Abbe number is more preferably 60 or less, and even more preferably 55 or less. The Abbe number can be determined by the same method as the method for measuring the Abbe number of the polymer described above.

上記スルホキシド含有重合体組成物は、可視光透過率が70%以上であることが好ましい。上記可視光透過率が上述の範囲であると、光学材料に好適に使用できる。上記可視光透過率は80%以上であることがより好ましく、85%以上であることが更に好ましく、88%以上であることが更により好ましい。上記可視光透過率は、平行線透過率であり、上述したスルホキシド含有重合体の可視光透過率の測定方法と同様の方法により求めることができる。 The sulfoxide-containing polymer composition preferably has a visible light transmittance of 70% or more. If the visible light transmittance is within the above range, it can be suitably used as an optical material. The visible light transmittance is more preferably 80% or more, even more preferably 85% or more, and even more preferably 88% or more. The visible light transmittance is a parallel line transmittance, and can be determined by the same method as the above-mentioned method for measuring the visible light transmittance of the sulfoxide-containing polymer.

上記スルホキシド含有重合体組成物を製造する方法としては、特に限定されず、上記スルホキシド含有重合体と、上記無機物と、必要に応じて他の成分とを混合して調製することができる。上記混合としては、ビーズミル、ロールミル、ボールミル、ジェットミル、ニーダー、ブレンダー等の公知の手段が挙げられる。 The method for producing the sulfoxide-containing polymer composition is not particularly limited, and the composition can be prepared by mixing the sulfoxide-containing polymer, the inorganic substance, and other components as necessary. The mixing can be performed using known means such as a bead mill, a roll mill, a ball mill, a jet mill, a kneader, or a blender.

また、本発明のスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、熱可塑性であることが好ましい。熱可塑性であると、成形加工が容易で、生産性にも優れる。 The sulfoxide-containing polymer and sulfoxide-containing polymer composition of the present invention are preferably thermoplastic. If the polymer is thermoplastic, it can be easily molded and has excellent productivity.

本発明のスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、成形材料としても、好適に使用することができる。成形方法としては、特に限定されず、射出成形、押出成形、Tダイ法、インフレーション法等の、一般に熱可塑性樹脂の加工方法として公知の方法が挙げられる。また、キャスト法や塗布等の方法によって、所望の形状に成形してもよい。上記形状としては、特に限定されず、レンズ、シート、フィルム等の公知の種々の形状が挙げられる。 The sulfoxide-containing polymer and sulfoxide-containing polymer composition of the present invention can also be suitably used as a molding material. The molding method is not particularly limited, and examples thereof include injection molding, extrusion molding, the T-die method, the inflation method, and other methods generally known as methods for processing thermoplastic resins. In addition, the polymer may be molded into a desired shape by a casting method, coating method, or other method. The above-mentioned shape is not particularly limited, and examples thereof include various known shapes such as lenses, sheets, and films.

4.用途
本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、光学材料、オプトデバイス部材、表示デバイス部材等に好適に使用される。このような用途として具体的には、例えば、眼鏡レンズ、(デジタル)カメラや携帯電話用カメラや車載カメラ等のカメラ用撮像レンズ、光ビーム集光レンズ、光拡散用レンズ等のレンズ、LED用封止材、光学用接着剤、光学用粘接着材、光伝送用接合材料、フィルター、回折格子、回折光学素子、プリズム、光案内子、ウォッチガラス、表示装置用のカバーガラス等の透明ガラスやカバーガラス等の光学用途;フォトセンサー(光学センサー(CMOSセンサー、TOFセンサー等))、フォトスイッチ、LED、マイクロLED、発光素子、光導波管、合波器、分波器、断路器、光分割器、光ファイバー接着剤等のオプトデバイス用途;LCDや有機ELやPDP等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、タッチパネル等に使用するインデックスマッチング材、ディスプレイ保護膜、ディスプレイバックライト、導光板、反射防止フィルム、防曇フィルム、LED・有機EL等光取出し向上剤等の表示デバイス用途等が挙げられる。
4. Uses The sulfoxide-containing polymer and the sulfoxide-containing polymer composition obtained by the production method of the present invention are suitably used for optical materials, optical device members, display device members, etc. Specific examples of such applications include optical applications such as eyeglass lenses, imaging lenses for cameras such as (digital) cameras, mobile phone cameras, and vehicle-mounted cameras, light beam condensing lenses, and lenses for light diffusion, LED sealing materials, optical adhesives, optical pressure-sensitive adhesives, optical transmission bonding materials, filters, diffraction gratings, diffractive optical elements, prisms, light guides, watch glasses, and transparent glasses and cover glasses for display devices; optical device applications such as photosensors (optical sensors (CMOS sensors, TOF sensors, etc.)), photoswitches, LEDs, micro LEDs, light-emitting elements, optical waveguides, multiplexers, branchers, disconnectors, optical splitters, and optical fiber adhesives; display device applications such as substrates for display elements such as LCDs, organic ELs, and PDPs, substrates for color filters, substrates for touch panels, index matching materials used in touch panels, etc., display protective films, display backlights, light guide plates, anti-reflection films, anti-fogging films, and light extraction enhancers for LEDs and organic ELs.

これらの中でも撮像レンズ、フィルター、回折格子、回折光学素子、プリズム、光案内子、、LED、マイクロLED、発光素子、カラーフィルター、タッチパネルがより好ましい。また、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体は、通常、可視域、赤外域に吸収を持たない領域が広いものとなり易い。このような重合体は、可視域、赤外域の光学材料としても、好適に使用される。 Among these, imaging lenses, filters, diffraction gratings, diffractive optical elements, prisms, light guides, LEDs, micro LEDs, light emitting elements, color filters, and touch panels are more preferred. In addition, the sulfoxide-containing polymer obtained by the manufacturing method of the present invention is likely to have a wide range of no absorption in the visible and infrared regions. Such polymers are also suitable for use as optical materials in the visible and infrared regions.

本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、光学用途以外でも、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料、成形材料等の他、塗料や接着剤の材料等の各種用途に使用される。たとえば、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体は、通常、耐熱性に優れるものとなり易いが、このような耐熱性に優れる重合体は、耐熱材料、強誘電材料、放熱材料、電池材料のセパレータ、ガス分離膜や液分離膜等のフィルター、燃料電池、Li電池等の電極材料、電解質材料等の電池部材にも使用可能である。また、低誘電性を利用した絶縁材料、アンテナ材料等としても好適に使用することができる。 The sulfoxide-containing polymer and sulfoxide-containing polymer composition obtained by the manufacturing method of the present invention are used for various applications other than optical applications, such as mechanical part materials, electrical and electronic part materials, automobile part materials, civil engineering and construction materials, molding materials, and materials for paints and adhesives. For example, the sulfoxide-containing polymer obtained by the manufacturing method of the present invention is usually likely to have excellent heat resistance, and such polymers with excellent heat resistance can also be used as heat-resistant materials, ferroelectric materials, heat dissipation materials, separators for battery materials, filters such as gas separation membranes and liquid separation membranes, electrode materials for fuel cells and Li batteries, electrolyte materials, and other battery components. They can also be suitably used as insulating materials and antenna materials that utilize low dielectric properties.

本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、成形材料として、好適に使用することができる。成形方法としては、従来公知の射出成型、Tダイ法、インフレーション法、インプリント成型、ナノインプリント成型等の金型、樹脂型による成型等が挙げられる。キャスト法や塗布等の方法によって、所望の形状に成形してもよい。上記形状としては、特に限定されず、レンズ、シート、フィルム等の公知の種々の形状が挙げられる。 The sulfoxide-containing polymer and sulfoxide-containing polymer composition obtained by the manufacturing method of the present invention can be suitably used as a molding material. Examples of molding methods include conventionally known injection molding, T-die method, inflation method, imprint molding, nanoimprint molding, and molding using a mold or resin mold. The desired shape may be formed by a casting method, coating method, or other method. The above-mentioned shape is not particularly limited, and examples thereof include various known shapes such as lenses, sheets, and films.

また、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、従来公知のプラズマエッチング等のエッチング工程、従来公知の溶解性差を利用したレジスト工程による加工に好適に使用することができる。また、スピン塗布、バーコート塗布、スキージ塗布、インクジェット塗布等によるコーティングにも好適に使用することができる。本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体を含む組成物は、加工性が良好になる点で、熱可塑性樹脂組成物であることが好ましく、また、粘度が低くなり、成形時に、細かな金型や樹脂型への追従性が良好になるという点で、硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
以上のとおり、本発明の製造方法で得られるスルホキシド含有重合体、及び、スルホキシド含有重合体組成物は、光学用途を含め広範囲の用途に好適に使用することができる。
The sulfoxide-containing polymer and sulfoxide-containing polymer composition obtained by the production method of the present invention can be suitably used in etching processes such as plasma etching and resist processes utilizing solubility differences known in the art. They can also be suitably used in coating processes such as spin coating, bar coating, squeegee coating, and inkjet coating. The composition containing the sulfoxide-containing polymer obtained by the production method of the present invention is preferably a thermoplastic resin composition in terms of good processability, and is preferably a curable resin composition in terms of low viscosity and good conformability to fine metal molds and resin molds during molding.
As described above, the sulfoxide-containing polymer and the sulfoxide-containing polymer composition obtained by the production method of the present invention can be suitably used in a wide range of applications including optical applications.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。実施例、比較例で得られる各重合体、実施例で用いるスルフィド含有重合体等の評価は下記の方法に従い行った。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass". The polymers obtained in the examples and comparative examples, and the sulfide-containing polymers used in the examples were evaluated according to the following methods.

<重金属量の測定>
ICP発光分光分析装置ICP-8100(島津製作所製)を用い、適切なプラズマ条件(高周波出力1.4kW、クーラントガス20.0L/min、プラズマガス1.40L/min、キャリアガス0.60L/min、プラズマ光源)にて測定を行い、検量線を基に重合体中の重金属量(鉄量)を評価し、重合体に対する重金属量(ppm)を求めた。測定サンプルとして、重合体の濃度が0.1~10質量%となるよう、溶媒で適宜希釈したものを用いた。溶媒として、主鎖酸化していない重合体にはN-メチルピロリドンを用い、主鎖酸化した酸化率が90%以上の重合体にはジメチルホルムアミドを用いた。
<Measurement of heavy metal content>
Using an ICP emission spectrometer ICP-8100 (manufactured by Shimadzu Corporation), measurements were performed under appropriate plasma conditions (high frequency output 1.4 kW, coolant gas 20.0 L/min, plasma gas 1.40 L/min, carrier gas 0.60 L/min, plasma light source), and the amount of heavy metals (iron amount) in the polymer was evaluated based on the calibration curve, and the amount of heavy metals (ppm) relative to the polymer was determined. As a measurement sample, a sample appropriately diluted with a solvent so that the polymer concentration was 0.1 to 10 mass% was used. As a solvent, N-methylpyrrolidone was used for polymers with no main chain oxidation, and dimethylformamide was used for polymers with a main chain oxidation rate of 90% or more.

<重量平均分子量(Mw)>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により、下記の条件で測定して、重合体の重量平均分子量を求めた。
装置1:SHIMAZU、CBM-20A。
装置2:アジレント・テクノロジー 1260 Infinity。
検出器:示差屈折率検出器(RI)(SHIMAZU、SPD-20MA)、及び、紫外可視赤外分光光度計(SHIMAZU、SPD-20MA)。
カラム:TOSOH、TSKgel SuperHM-N。
カラム温度:40℃。
流速:0.3ml/min。
検量線:Polystyrene Standards。
溶離液:クロロホルム、テトラヒドロフラン。
<Weight average molecular weight (Mw)>
The weight average molecular weight of the polymer was determined by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
Equipment 1: SHIMAZU, CBM-20A.
Apparatus 2: Agilent Technologies 1260 Infinity.
Detector: refractive index detector (RI) (SHIMAZU, SPD-20MA), and ultraviolet-visible-infrared spectrophotometer (SHIMAZU, SPD-20MA).
Column: TOSOH, TSKgel Super HM-N.
Column temperature: 40°C.
Flow rate: 0.3ml/min.
Calibration curve: Polystyrene Standards.
Eluent: chloroform, tetrahydrofuran.

<MALDI(飛行時間型質量分析)>
得られた重合体について、下記の条件でMALDI測定を行った。
装置:飛行時間型質量分析装置(Bruker AutoflexIII)
サンプル調製:1.0gのテトラヒドロフランに約2mgの測定試料、マトリックス剤として、20mgの2,5-ジヒドロキシ安息香酸、イオン化剤として、2.0mgのヨウ化ナトリウムを溶解させ、調整した溶液を測定用ターゲットプレートに塗布後、室温で100分程乾燥した。
<MALDI (time-of-flight mass spectrometry)>
The resulting polymer was subjected to MALDI measurement under the following conditions.
Equipment: Time-of-flight mass spectrometer (Bruker Autoflex III)
Sample preparation: Approximately 2 mg of a measurement sample, 20 mg of 2,5-dihydroxybenzoic acid as a matrix agent, and 2.0 mg of sodium iodide as an ionization agent were dissolved in 1.0 g of tetrahydrofuran, and the prepared solution was applied to a measurement target plate and then dried at room temperature for about 100 minutes.

H-NMR>
得られた重合体について、下記の条件でH-NMR測定を行った。
装置:日本電子株式会社製核磁気共鳴装置(400MHz)。
測定溶媒:重ジクロロメタン、重クロロホルム。
サンプル調製:得られた重合体の数mg~数十mgを測定溶媒に溶解した。
<1H-NMR>
The resulting polymer was subjected to 1 H-NMR measurement under the following conditions.
Apparatus: Nuclear magnetic resonance apparatus (400 MHz) manufactured by JEOL Ltd.
Measurement solvent: deuterated dichloromethane, deuterated chloroform.
Sample preparation: Several mg to several tens of mg of the obtained polymer were dissolved in a measurement solvent.

<IR>
得られた重合体について、下記の条件でIR測定を行った。
装置:JASCO社製フーリエ変換赤外分光光度計(FT/IR-6100)
サンプル調製:約2mgのサンプルを約300mgの乾燥臭化カリウム(KBr)で希釈した。混合物を乳鉢および乳棒ですりつぶし、成型した。
<IR>
The obtained polymer was subjected to IR measurement under the following conditions.
Apparatus: JASCO Fourier transform infrared spectrophotometer (FT/IR-6100)
Sample preparation: Approximately 2 mg of sample was diluted with approximately 300 mg of dry potassium bromide (KBr). The mixture was ground in a mortar and pestle and molded.

<元素含有比率O/S比>
重合体溶液0.25mlを、シリコンウェハ上にスピンコートすることにより製膜した試料を用いて、JEOL社製光電子分光装置(JPS-9010TR、XPS装置、光源:Mg、X線出力:400W)を用い、硫黄原子の2p軌道由来のピーク強度と酸素原子の1s軌道由来のピーク強度を測定し、その積分比を計算することでO/S比を算出した。必要に応じて、炭素原子の1s軌道由来のピーク強度も測定、その結果も考慮してO/S比を算出した。なお、測定方法及び結合エネルギーの位置等は、Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy(JEOL社、1991年3月発行)を参考とした。
1H-NMR測定により、スルフィドとスルホキシドのピーク分離が可能であるものに関しては、それぞれの積分比を計算することでO/S比を算出した。
<Element content ratio O/S ratio>
A sample was prepared by spin-coating 0.25 ml of the polymer solution on a silicon wafer to form a film, and a photoelectron spectrometer (JPS-9010TR, XPS device, light source: Mg, X-ray output: 400 W) manufactured by JEOL was used to measure the peak intensity derived from the 2p orbital of sulfur atoms and the peak intensity derived from the 1s orbital of oxygen atoms, and the integral ratio was calculated to calculate the O/S ratio. If necessary, the peak intensity derived from the 1s orbital of carbon atoms was also measured, and the O/S ratio was calculated taking the results into consideration. The measurement method and the position of the bond energy were based on the Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy (JEOL, March 1991).
For those in which the sulfide and sulfoxide peaks could be separated by 1H-NMR measurement, the O/S ratio was calculated by calculating the integral ratio of each peak.

<結合エネルギー>
重合体溶液0.25mlを、シリコンウェハ上にスピンコートすることにより製膜した試料を用いて、JEOL社製光電子分光装置(JPS-9010TR、XPS装置)を用い、硫黄原子の2p3/2軌道のピーク位置より結合エネルギーを計測した。
<Binding Energy>
0.25 ml of the polymer solution was spin-coated on a silicon wafer to form a film, and the binding energy was measured from the peak position of the 2p3/2 orbital of the sulfur atom using a JEOL photoelectron spectrometer (JPS-9010TR, XPS device).

<有機元素分析>
得られた重合体について、下記の装置で元素分析測定を行った。
装置:ジェイ・サイエンス・ラボJM10。
<Organic elemental analysis>
The resulting polymer was subjected to elemental analysis using the following apparatus.
Apparatus: J Science Lab JM10.

<透過率>
(試料調製)
実施例において酸化反応に供する重合体(製造例で得られるスルフィド含有重合体)については、クロロホルムで5質量%の濃度となるように、実施例および比較例で得られた重合体(酸化反応後の重合体)については、ヘキサフルオロ-2-プロパノールで5質量%の濃度になるように、それぞれ重合体を溶解させた溶液を調製した。得られた溶液を、可視光に殆ど吸収を有さないガラス基板上(松波硝子工業社製、S1111)に、500rpm程度×60sでスピンコートし、100℃で10分乾燥して薄膜(厚さ1μm)を形成した。
(測定)
得られた薄膜の透過率を、分光光度計(日本分光製紫 外可視赤外分光光度計V-700series)により測定した。可視光透過率を評価するために、400nmの透過率で比較した。なお、空気を対照サンプルとした。上記透過率は平行線透過率である。
<Transmittance>
(Sample Preparation)
A solution was prepared by dissolving the polymer in chloroform to a concentration of 5% by mass for the polymer (sulfide-containing polymer obtained in the Production Examples) subjected to the oxidation reaction in the Examples, and a solution was prepared by dissolving the polymer in hexafluoro-2-propanol to a concentration of 5% by mass for the polymer (polymer after oxidation reaction) obtained in the Examples and Comparative Examples. The resulting solution was spin-coated at about 500 rpm for 60 seconds on a glass substrate (S1111, manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) that has almost no absorption of visible light, and dried at 100° C. for 10 minutes to form a thin film (1 μm thick).
(measurement)
The transmittance of the obtained thin film was measured by a spectrophotometer (V-700 series ultraviolet, visible, and infrared spectrophotometer manufactured by JASCO Corporation). To evaluate the visible light transmittance, the transmittance at 400 nm was compared. Air was used as a control sample. The above transmittance is a parallel line transmittance.

<加熱後の透過率>
上記薄膜の透過率の評価で用いた薄膜を260℃にて10分間加熱し、加熱後の薄膜を試料として、透過率を測定した。 測定方法および条件は、上記<薄膜の透過率>と同様である。
<Transmittance after heating>
The thin film used in the evaluation of the transmittance of the thin film was heated at 260° C. for 10 minutes, and the transmittance of the thin film after heating was measured using the same method and conditions as those in the above <Transmittance of thin film>.

(モノマーの合成)
[合成例1]
500mLの三口フラスコに、水(98mL)、o-トルエンチオール(2-メチルベンゼンチオール)(18.2g、0.147mol)、テトラブチルアンモニウムヨージド(54.3mg、0.147mmol)を加え、さらに、30%過酸化水素水(15.2mL、0.147mol)を1mL/分で滴下し、2時間60℃にて撹拌した。室温に冷却し、上澄み(水層)を除去し、ついでチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、2時間室温にて撹拌し、上澄み(水層)を除去した。反応固体を濾過し、純水、メタノールの順番で洗浄し、真空乾燥を経てビス(2-メチルフェニル)ジスルフィドを回収した。収率は98%であった。H-NMR、13C-NMR及びFAB-MSにより、ビス(2-メチルフェニル)ジスルフィド(2,2’-ジメチルジフェニルジスルフィド)であることを確認した。
(Synthesis of Monomer)
[Synthesis Example 1]
In a 500 mL three-neck flask, water (98 mL), o-toluenethiol (2-methylbenzenethiol) (18.2 g, 0.147 mol), and tetrabutylammonium iodide (54.3 mg, 0.147 mmol) were added, and 30% hydrogen peroxide solution (15.2 mL, 0.147 mol) was added dropwise at 1 mL/min, followed by stirring at 60° C. for 2 hours. The mixture was cooled to room temperature, the supernatant (aqueous layer) was removed, and then an aqueous sodium thiosulfate solution was added, followed by stirring at room temperature for 2 hours, followed by removing the supernatant (aqueous layer). The reaction solid was filtered, washed with pure water and methanol in that order, and vacuum dried to recover bis(2-methylphenyl)disulfide. The yield was 98%. It was confirmed to be bis(2-methylphenyl)disulfide (2,2'-dimethyldiphenyldisulfide) by 1 H-NMR, 13 C-NMR, and FAB-MS.

[合成例2]
合成例1における原料を、o-トルエンチオールの代わりにp-トルエンチオール(4-メチルベンゼンチオール)に変更した以外は、合成例1と同様の条件で合成反応を行い、ビス(4-メチルフェニル)ジスルフィドを98%の収率で得た。H-NMR、13C-NMR及びFAB-MSにより、ビス(4-メチルフェニル)ジスルフィド(4,4’-ジメチルジフェニルジスルフィド)であることを確認した。
[Synthesis Example 2]
A synthesis reaction was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 1, except that the raw material in Synthesis Example 1 was changed to p-toluenethiol (4-methylbenzenethiol) instead of o-toluenethiol, to obtain bis(4-methylphenyl)disulfide in a yield of 98%. The product was identified as bis(4-methylphenyl)disulfide (4,4'-dimethyldiphenyldisulfide) by 1H -NMR, 13C -NMR and FAB-MS.

(スルフィド含有重合体の合成)
[製造例1]
500mLの三口フラスコに、ジフェニルジスルフィド(131.00g、0.6mol)と、上記合成例1で得られた、ビス(2-メチルフェニル)ジスルフィド(36.01g、0.15mol)に、塩化鉄(III)(6.05g、37.30mmol)と、(+)-CSA(1.73g、7.46mmol)、Na(1.78g、7.46mmol)を加え、160℃で加熱しながら反応液をエアーバブリング(100mL/分)、40時間攪拌することで酸化重合を行った。室温に冷却後、黒色個体である重合体(Ps1)を92%収率で得た。得られた重合体(Ps1)の構造について、H-NMR、GPC、ICP、XPS、MALDIにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.18(m,23H),2.25(m,3H)、重量平均分子量(Mw)は2400であり、ICP分析より、鉄含有量は、21500ppmであった。XPS測定より、160.3-164.9eVにピークが見られ、ピーク分離により160.3-164.9eV(スルフィド)と163.5-164.9eV(ジスルフィド)にピークが分離でき、スルフィドとジスルフィドのピーク面積比は、93:7であった。また、MALDI測定によりm/z107.98、m/z122.04の繰り返しピークが認められ、構成要素(A)として、-CS-、-C(CH)S-を含む重合体であることが確認された。
(Synthesis of Sulfide-Containing Polymers)
[Production Example 1]
In a 500 mL three-neck flask, diphenyl disulfide (131.00 g, 0.6 mol) and bis(2-methylphenyl) disulfide (36.01 g, 0.15 mol) obtained in the above Synthesis Example 1 were added to iron (III) chloride (6.05 g, 37.30 mmol), (+)-CSA (1.73 g, 7.46 mmol), and Na 2 S 2 O 8 (1.78 g, 7.46 mmol), and the reaction solution was heated at 160° C. while air bubbling (100 mL/min) and stirred for 40 hours to carry out oxidative polymerization. After cooling to room temperature, a black solid polymer (Ps1) was obtained in 92% yield. The structure of the obtained polymer (Ps1) was identified by 1 H-NMR, GPC, ICP, XPS, and MALDI. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ=7.18 (m, 23H), 2.25 (m, 3H), weight average molecular weight (Mw) was 2400, and ICP analysis revealed that the iron content was 21500 ppm. XPS measurement revealed a peak at 160.3-164.9 eV, and peak separation revealed peaks at 160.3-164.9 eV (sulfide) and 163.5-164.9 eV (disulfide), with the peak area ratio of sulfide to disulfide being 93:7. Furthermore, repeating peaks at m/z 107.98 and m/z 122.04 were observed by MALDI measurement, and it was confirmed that the polymer contained -C 6 H 4 S- and -C 6 H 3 (CH 3 )S- as the constituent element (A).

[製造例2]
製造例1におけるモノマーを、ビス(2-メチルフェニル)ジスルフィドの代わりに上記合成例2で得られた、ビス(4-メチルフェニル)ジスルフィドに変更し、反応時間を60時間にした以外は、製造例1と同様の条件で重合反応を行い、重合体(Ps2)を94%収率で得た。得られた重合体(Ps2)の構造について、H-NMR、GPC、ICP、XPS、MALDIにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.20(m,23H),2.25(m,3H)、重量平均分子量3040であり、ICP分析より、鉄含有量は、22500ppmであった。XPS測定より、160.1-164.8eVにピークが認められ、ピーク分離により160.1-164.8eV(スルフィド)と163.5-164.8eV(ジスルフィド)にピークが分離でき、スルフィドとジスルフィドのピーク面積比は、95:5であった。また、MALDI測定によりm/z107.95、m/z122.02の繰り返しピークが見られ、構成要素(A)として、-CS-、-C(CH)S-を含む重合体であることが確認された。
[Production Example 2]
A polymerization reaction was carried out under the same conditions as in Production Example 1, except that the monomer in Production Example 1 was changed to bis(4-methylphenyl)disulfide obtained in Synthesis Example 2 instead of bis(2-methylphenyl)disulfide, and the reaction time was changed to 60 hours, to obtain a polymer (Ps2) in a yield of 94%. The structure of the obtained polymer (Ps2) was identified by 1 H-NMR, GPC, ICP, XPS, and MALDI. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ=7.20 (m, 23H), 2.25 (m, 3H), weight average molecular weight was 3040, and the iron content was 22500 ppm by ICP analysis. XPS measurement revealed a peak at 160.1-164.8 eV, and peak separation revealed peaks at 160.1-164.8 eV (sulfide) and 163.5-164.8 eV (disulfide), with the peak area ratio of sulfide to disulfide being 95: 5. MALDI measurement revealed repeating peaks at m/z 107.95 and m/z 122.02, confirming that the polymer contained -C6H4S- and -C6H3 ( CH3 ) S- as components (A).

[実施例1]
100mlナスフラスコに、製造例1で得られた重合体(Ps1)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、トリクロロイソシアヌル酸(TCCA)(0.369g)を添加し、2時間攪拌した。反応終了後、反応液にメタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po1)粉末を得た。得られた重合体(Po1)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、IR、元素分析により同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,15H)δ=7.56(m,8H),2.35(m,3H)、IRより1350cm-1付近と1170cm-1付近にスルホン由来のピークと1050cm-1付近にスルホキシド由来のピークが観測され、元素分析より重合体中に重量比で1.35%の塩素原子を含有し、末端構造が-S(=O)Clであると推定した。
[Example 1]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps1) (1.1 g) obtained in Production Example 1 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF:water = 10:1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, trichloroisocyanuric acid (TCCA) (0.369 g) was added and stirred for 2 hours. After the reaction was completed, methanol (40 mL) was gradually added to the reaction solution to precipitate the product, and the precipitate in the reaction solution was filtered using a Kiriyama filter and washed with methanol and pure water. The obtained powder was then vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po1) powder. The structure of the obtained polymer (Po1) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, IR, and elemental analysis. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 15H) δ = 7.56 (m, 8H), 2.35 (m, 3H), and IR showed peaks at around 1350 cm -1 and 1170 cm -1 derived from sulfone and a peak at around 1050 cm -1 derived from sulfoxide. Elemental analysis suggested that the polymer contained 1.35% by weight of chlorine atoms and had a terminal structure of -S(=O 2 )Cl.

[実施例2]
100mlナスフラスコに、製造例2で得られた重合体(Ps2)を1.1g、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、TCCA(0.369g)を添加し、2時間攪拌後、亜鉛粉末(0.131g)を加え、室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液にメタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po2)粉末を得た。得られた重合体(Po2)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、IR、元素分析により同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,9H)δ=7.56(m,14H),2.35(m,3H)、IRより、2570cm-1付近にメルカプト由来のピークが観測され、元素分析により重合体中の塩素原子含有量は検出限界以下であり、末端構造が-SHであることを確認した。
[Example 2]
In a 100 ml eggplant flask, 1.1 g of the polymer (Ps2) obtained in Production Example 2 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF:water = 10:1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, TCCA (0.369 g) was added, and after stirring for 2 hours, zinc powder (0.131 g) was added and stirred at room temperature for 16 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered using a Kiriyama filter and washed with methanol and pure water. The obtained powder was then vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po2) powder. The structure of the obtained polymer (Po2) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, IR, and elemental analysis. As a result, 1H -NMR ( CD2Cl2 , 400MHz , ppm): δ = 7.19 (m, 9H) δ = 7.56 (m, 14H), 2.35 (m, 3H), and IR showed a peak derived from mercapto at about 2570 cm -1 . Elemental analysis confirmed that the chlorine atom content in the polymer was below the detection limit and that the terminal structure was -SH.

[実施例3]
100mlナスフラスコに、製造例1で得られた重合体(Ps1)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を0.5mL加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、NaClO・5HO(0.987g)を加え、濃塩酸(0.5mL)を徐々に添加し、2時間攪拌後、亜鉛粉末(0.131g)を加え、室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液にメタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po3)粉末を得た。得られた重合体(Po3)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、IRにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,7H)δ=7.56(m,12H),2.35(m,3H)、IRより、2570cm-1付近にメルカプト由来のピークが観測され、末端構造が-SHであることを確認した。
[Example 3]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps1) (1.1 g) obtained in Production Example 1 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 0.5 mL of pure water was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, NaClO.5H 2 O (0.987 g) was added, concentrated hydrochloric acid (0.5 mL) was gradually added, and after stirring for 2 hours, zinc powder (0.131 g) was added and stirred at room temperature for 16 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered using a Kiriyama filter and washed with methanol and pure water. The obtained powder was then vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po3) powder. The structure of the obtained polymer (Po3) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, and IR. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ=7.19 (m, 7H) δ=7.56 (m, 12H), 2.35 (m, 3H), and IR showed a peak derived from mercapto at about 2570 cm −1 , confirming that the terminal structure was —SH.

[実施例4]
100mlナスフラスコに、製造例1で得られた重合体(Ps1)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、TCCA(0.369g)を添加し、2時間攪拌後、トリエチルアミン(TEA)(0.506g)を加え、室温で30分攪拌した。さらに、導入アミンとしてアンモニア水(25%)1mL加え、2時間攪拌した。反応終了後、反応液に5%塩酸酸性メタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po4)粉末を得た。得られた重合体(Po4)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、元素分析により同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,5H)δ=7.56(m,14H),2.35(m,3H)、XPS測定より、160.5-168.8eVにピークが見られ、ピーク分離により160.5-163.8eV(スルフィド)と160.9-168.8eV(スルホキシド)、166.0-168.8eV(スルホン)にピークが分離でき、スルフィドとスルホキシドとスルホンのピーク面積比は、22:72:6であり、元素分析により重合体中の塩素原子含有量は、検出限界以下かつ窒素原子含有量が0.77%であることを確認でき、末端構造が-S(=O)NHであることを確認した。
[Example 4]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps1) (1.1 g) obtained in Production Example 1 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF: water = 10: 1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, TCCA (0.369 g) was added, and after stirring for 2 hours, triethylamine (TEA) (0.506 g) was added and stirred at room temperature for 30 minutes. Furthermore, 1 mL of ammonia water (25%) was added as an introduced amine and stirred for 2 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding 5% hydrochloric acid acidic methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered by Kiriyama filtration and washed with methanol and pure water. Next, the obtained powder was vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po4) powder. The structure of the obtained polymer (Po4) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP and elemental analysis. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 5H) δ = 7.56 (m, 14H), 2.35 (m, 3H). XPS measurement showed a peak at 160.5-168.8 eV, with peak separation revealing peaks at 160.5-163.8 eV (sulfide), 160.9-168.8 eV (sulfoxide), and 166.0-168.8 eV (sulfone). The peak area ratio of sulfide, sulfoxide, and sulfone was 22:72:6. Elemental analysis confirmed that the chlorine atom content in the polymer was below the detection limit and the nitrogen atom content was 0.77%, and the terminal structure was -S(=O 2 )NH 2 .

[実施例5]
100mlナスフラスコに、製造例2で得られた重合体(Ps2)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、TCCA(0.369g)を添加し、2時間攪拌後、亜鉛粉末(0.131g)を加え、室温で30分攪拌した。更に、エンチオール反応のアルキン反応剤としてアクリル酸(AA)(0.144g)を滴下し、16時間攪拌した。反応終了後、反応液にメタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po5)粉末を得た。得られた重合体(Po5)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、IRにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,29H)δ=7.56(m,32H),2.35(m,8H),2.52(m,2H),3.11(m,2H)、IRより1690cm-1付近にカルボキシ基由来のピークが観測され、末端構造が-SCHCHCOOHであることを確認した。
[Example 5]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps2) (1.1 g) obtained in Production Example 2 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF: water = 10: 1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, TCCA (0.369 g) was added, and after stirring for 2 hours, zinc powder (0.131 g) was added and stirred at room temperature for 30 minutes. Furthermore, acrylic acid (AA) (0.144 g) was dropped as an alkyne reactant for the enethiol reaction, and stirred for 16 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered by Kiriyama filtration and washed with methanol and pure water. Next, the obtained powder was vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po5) powder. The structure of the obtained polymer (Po5) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, and IR. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 29H) δ = 7.56 (m, 32H), 2.35 (m, 8H), 2.52 (m, 2H), 3.11 (m, 2H), and IR showed a peak derived from a carboxyl group at about 1690 cm -1 , confirming that the terminal structure was -SCH 2 CH 2 COOH.

[実施例6]
100mlナスフラスコに、製造例1で得られた重合体(Ps1)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M,10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、TCCA(0.369g)を添加し、2時間攪拌後、溶媒としてNMPを10mL加えた後、KCO(0.691g)を加え、室温で30分攪拌した。攪拌後、アミンとしてジアリルアミン(DAA)を滴下し、室温で16時間攪拌した。反応終了後、反応液に5%塩酸酸性メタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po6)粉末を得た。得られた重合体(Po6)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、IR、元素分析により同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,35H)δ=7.56(m,26H),2.35(m,8H),3.81(m,4H),5.09(m,4H),5.57(m,2H)、IRより、990cm-1付近にアリル基由来のピーク、1350cm-1付近と1170cm-1付近にスルホン由来のピーク、1050cm-1付近にスルホキシド由来のピークが観測され、元素分析により重合体中の塩素原子含有量は検出限界以下かつ窒素原子含有量が0.48%であることと確認でき、末端構造の一部は-S(=O)N(CHCH=CH)であることを確認した。
[Example 6]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps1) (1.1 g) obtained in Production Example 1 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF: water = 10: 1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, TCCA (0.369 g) was added, and after stirring for 2 hours, 10 mL of NMP was added as a solvent, and then K 2 CO 3 (0.691 g) was added and stirred at room temperature for 30 minutes. After stirring, diallylamine (DAA) was dropped as an amine and stirred at room temperature for 16 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding 5% hydrochloric acid acidic methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered by Kiriyama filtration and washed with methanol and pure water. Next, the obtained powder was vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po6) powder. The structure of the obtained polymer (Po6) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, IR and elemental analysis. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 35H) δ = 7.56 (m, 26H), 2.35 (m, 8H), 3.81 (m, 4H), 5.09 (m, 4H), 5.57 (m, 2H). From IR, a peak derived from an allyl group was observed at about 990 cm -1 , peaks derived from sulfone at about 1350 cm -1 and 1170 cm -1 , and a peak derived from sulfoxide at about 1050 cm -1. From elemental analysis, it was confirmed that the chlorine atom content in the polymer was below the detection limit and the nitrogen atom content was 0.48%, and that part of the terminal structure was -S(=O 2 )N(CH 2 CH=CH 2 ) 2 .

[実施例7]
100mlナスフラスコに、製造例1で得られた重合体(Ps1)(1.1g)、溶媒としてTHF(1.0M, 10mL)を加え、10分攪拌後、純水を1.0mL(THF:水=10:1)加え、5分攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、TCCA(1.38g)を添加し、2時間攪拌した。さらに、アンモニア水(25%)1mL加え、2時間攪拌した。反応終了後、反応液に5%塩酸酸性メタノール(40mL)を徐々に加えることで生成物を析出させ、反応液中の沈殿を桐山濾過し、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行い、重合体(Po7)粉末を得た。得られた重合体(Po7)の構造について、H-NMR、XPS、ICP、元素分析により同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.56(m,19H),2.35(m,3H)、XPS測定より、160.8-168.9eVにピークが見られ、ピーク分離により160.8-163.6eV(スルフィド)と160.8-168.9eV(スルホキシド)、166.0-168.9eV(スルホン)にピークが分離でき、スルフィドとスルホキシドとスルホンのピーク面積比は、2:92:6であり、元素分析により重合体中の塩素原子含有量は、検出限界以下かつ窒素原子含有量が0.80%と確認でき、末端構造の一部は-S(=O)NHであることを確認した。
[Example 7]
In a 100 ml eggplant flask, the polymer (Ps1) (1.1 g) obtained in Production Example 1 and THF (1.0 M, 10 mL) as a solvent were added, and after stirring for 10 minutes, 1.0 mL of pure water (THF: water = 10: 1) was added and stirred for 5 minutes. Next, while cooling the eggplant flask in an ice-cooled bath, TCCA (1.38 g) was added and stirred for 2 hours. Furthermore, 1 mL of ammonia water (25%) was added and stirred for 2 hours. After the reaction was completed, the product was precipitated by gradually adding 5% hydrochloric acid acidified methanol (40 mL) to the reaction solution, and the precipitate in the reaction solution was filtered by Kiriyama filtration and washed with methanol and pure water. The obtained powder was then vacuum dried at room temperature to obtain a polymer (Po7) powder. The structure of the obtained polymer (Po7) was identified by 1 H-NMR, XPS, ICP, and elemental analysis. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.56 (m, 19H), 2.35 (m, 3H), and XPS measurement showed a peak at 160.8-168.9 eV, with peak separation revealing peaks at 160.8-163.6 eV (sulfide), 160.8-168.9 eV (sulfoxide), and 166.0-168.9 eV (sulfone). The peak area ratio of sulfide, sulfoxide, and sulfone was 2:92:6. Elemental analysis confirmed that the chlorine atom content in the polymer was below the detection limit and the nitrogen atom content was 0.80%, and that part of the terminal structure was -S(=O 2 )NH 2 .

[比較例1]
50mlナスフラスコ中で、製造例1で得られた重合体(Ps1)を0.33g加え、クロロホルム3.0mLに溶解させた。次いで、65%のメタクロロ過安息香酸(mCPBA)(0.796g)をナスフラスコへ徐々に添加し、室温で16時間攪拌した。その後、反応液を塩酸酸性メタノール溶液20mLへ滴下し、酸化体生成物を析出させた。析出物を桐山濾過した後、メタノール、水の順番で洗浄し、真空乾燥することにより、茶色の重合体(PoC1)を得た。得られた重合体(PoC1)の構造は、H-NMR、XPS、ICPにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.56(m,19H),2.35(m,3H)、XPS測定より161.8-168.5eVにピークが見られ、ピーク分離により161.8-168.5eV(スルホキシド)、161.8-163.5eV(スルフィド)にピークを分離でき、スルホキシドとスルフィドのピーク面積は97:3であった。
[Comparative Example 1]
In a 50 ml eggplant flask, 0.33 g of the polymer (Ps1) obtained in Production Example 1 was added and dissolved in 3.0 mL of chloroform. Next, 65% metachloroperbenzoic acid (mCPBA) (0.796 g) was gradually added to the eggplant flask and stirred at room temperature for 16 hours. The reaction solution was then dropped into 20 mL of a hydrochloric acid-acidified methanol solution to precipitate the oxidized product. The precipitate was filtered using a Kiriyama filter, washed in this order with methanol and water, and dried in vacuum to obtain a brown polymer (PoC1). The structure of the obtained polymer (PoC1) was identified by 1 H-NMR, XPS, and ICP. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.56 (m, 19H), 2.35 (m, 3H), and XPS measurement showed a peak at 161.8-168.5 eV, and peak separation yielded peaks at 161.8-168.5 eV (sulfoxide) and 161.8-163.5 eV (sulfide), with the peak areas of sulfoxide and sulfide being 97:3.

[比較例2]
300mlナスフラスコ中で、製造例1で得られた重合体(Ps1)を6.73g加え、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)60.9mLに添加し、70℃で溶解させた。得られた重合体溶液に、60%過酸化水素水6.12mLに1,1,1-トリフルオロアセトン66.7mgを添加した溶液を添加し、60℃で18時間撹拌した。
攪拌後の重合体溶液にメタノール122mLと水122mLの混合溶媒を添加し、固形物をろ過した後、水、メタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、茶色の重合体(PoC2)を得た。得られた重合体(PoC2)の構造は、H-NMR、XPS、ICPにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.56(m,19H),2.35(m,3H)、、161.2-168.9eVにピークが見られ、ピーク分離により161.2-168.9eV(スルホキシド)、161.2-163.8eV(スルフィド)にピークを分離でき、スルホキシドとスルフィドのピーク面積は96:4であった。
[Comparative Example 2]
In a 300 ml recovery flask, 6.73 g of the polymer (Ps1) obtained in Production Example 1 was added, and then 60.9 mL of cyclopentyl methyl ether (CPME) was added and dissolved at 70° C. To the obtained polymer solution, a solution of 66.7 mg of 1,1,1-trifluoroacetone added to 6.12 mL of 60% hydrogen peroxide water was added, and the mixture was stirred at 60° C. for 18 hours.
A mixed solvent of 122 mL of methanol and 122 mL of water was added to the stirred polymer solution, and the solid matter was filtered, washed with water and methanol, and dried under vacuum to obtain a brown polymer (PoC2). The structure of the obtained polymer (PoC2) was identified by 1 H-NMR, XPS, and ICP. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.56 (m, 19H), 2.35 (m, 3H), and peaks were observed at 161.2-168.9 eV, and peak separation allowed the peaks to be separated into 161.2-168.9 eV (sulfoxide) and 161.2-163.8 eV (sulfide), with the peak areas of sulfoxide and sulfide being 96:4.

[比較例3]
50mlナスフラスコ中で、製造例1で得られた重合体(Ps1)を1.10g加え、テトラヒドロフラン10mLとメタノール0.5mLの混合溶媒に溶かし、水素化ホウ素ナトリウム(0.151g)を添加し、室温で6時間攪拌した。攪拌後、減圧によって溶媒を除去した。次いで、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)10mL添加し、70℃で溶解させた。得られた重合体溶液に、60%過酸化水素水0.030mLに1,1,1-トリフルオロアセトン12.3mgを添加した溶液を添加し、60℃で18時間撹拌した。攪拌後の重合体溶液を3%塩酸酸性メタノール溶液400mLに滴下することで析出させ、固形物をろ過した後、水、メタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、重合体(PoC3)を得た。得られた重合体(PoC3)の構造は、H-NMR、XPS、ICPにより同定した。その結果、H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,13H)δ=7.56(m,6H),2.35(m,3H)、XPS測定より、160.3-168.1eVにピークが見られ、ピーク分離により160.3-167.8eV(スルフィド)と164.6-167.8eV(スルホキシド)にピークが分離でき、スルホキシドとスルフィドとのピーク面積比は、30:70であった。
[Comparative Example 3]
In a 50 ml eggplant flask, 1.10 g of the polymer (Ps1) obtained in Production Example 1 was added, dissolved in a mixed solvent of 10 mL of tetrahydrofuran and 0.5 mL of methanol, sodium borohydride (0.151 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After stirring, the solvent was removed by reducing pressure. Next, 10 mL of cyclopentyl methyl ether (CPME) was added and dissolved at 70°C. A solution of 12.3 mg of 1,1,1-trifluoroacetone in 0.030 mL of 60% hydrogen peroxide water was added to the obtained polymer solution, and the mixture was stirred at 60°C for 18 hours. The polymer solution after stirring was dropped into 400 mL of a 3% hydrochloric acid acidic methanol solution to precipitate, and the solid matter was filtered, washed with water and methanol, and dried in vacuum to obtain a polymer (PoC3). The structure of the obtained polymer (PoC3) was identified by 1 H-NMR, XPS, and ICP. As a result, 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 13H) δ = 7.56 (m, 6H), 2.35 (m, 3H), and XPS measurement showed a peak at 160.3-168.1 eV, and peak separation revealed peaks at 160.3-167.8 eV (sulfide) and 164.6-167.8 eV (sulfoxide), with the peak area ratio of sulfoxide to sulfide being 30:70.

[比較例4]
50mlナスフラスコ中で、製造例1で得られた重合体(Ps1)を1.10g加え、テトラヒドロフラン10mLとメタノール0.5mLの混合溶媒に溶かし、水素化ホウ素ナトリウム(0.151g)を添加し、室温で6時間攪拌した。攪拌後、塩酸酸性メタノール溶液を1mL滴下し、30分攪拌した。攪拌後の重合体溶液を3%塩酸酸性メタノール溶液400mLに滴下することで析出させ、固形物をろ過した後、水、メタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、重合体(PoC4)を得た。得られた重合体(PoC4)の構造は、1H-NMR、XPS、ICP、IRにより同定した。その結果、1H-NMR(CDCl,400MHz,ppm):δ=7.19(m,19H),2.35(m,3H)、XPS測定より、160.1-163.7eV(スルフィド)ピークのみが見られ、IRより、2570cm-1付近にメルカプト基由来のピークが観測され、末端構造は-SHであることを確認した。
[Comparative Example 4]
In a 50 ml eggplant flask, 1.10 g of the polymer (Ps1) obtained in Production Example 1 was added, dissolved in a mixed solvent of 10 mL of tetrahydrofuran and 0.5 mL of methanol, sodium borohydride (0.151 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After stirring, 1 mL of a hydrochloric acid acidic methanol solution was added dropwise, and the mixture was stirred for 30 minutes. The polymer solution after stirring was dropped into 400 mL of a 3% hydrochloric acid acidic methanol solution to precipitate, and the solid was filtered, washed with water and methanol, and dried in vacuum to obtain a polymer (PoC4). The structure of the obtained polymer (PoC4) was identified by 1H-NMR, XPS, ICP, and IR. As a result, 1H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz, ppm): δ = 7.19 (m, 19H), 2.35 (m, 3H), XPS measurement showed only a 160.1-163.7 eV (sulfide) peak, and IR showed a peak derived from a mercapto group near 2570 cm -1 , confirming that the terminal structure was -SH.

実施例1~7、比較例1~4においてそれぞれ得られた重合体(Po1)~(Po7)、(PoC1)~(PoC4)について、評価した結果を、表1に示す。表1より、比較例で得られた重合体は、加熱後の透過率が低いが、実施例で得られた重合体はいずれも、加熱後の透過率が高いものであった。 Table 1 shows the evaluation results for the polymers (Po1) to (Po7) and (PoC1) to (PoC4) obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, respectively. As can be seen from Table 1, the polymers obtained in the Comparative Examples had low transmittance after heating, but all of the polymers obtained in the Examples had high transmittance after heating.

Figure 0007699480000011
Figure 0007699480000011

Claims (4)

主鎖にスルホキシド骨格を有する硫黄含有重合体の製造方法であって、
次亜塩素酸、次亜塩素酸塩および次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を用いて、有機溶媒と水との混合溶媒中で、主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を酸化する酸化工程を含む
ことを特徴とする硫黄含有重合体の製造方法。
A method for producing a sulfur-containing polymer having a sulfoxide skeleton in its main chain, comprising the steps of:
A method for producing a sulfur-containing polymer, comprising an oxidation step of oxidizing a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in its main chain in a mixed solvent of an organic solvent and water, using at least one compound selected from the group consisting of hypochlorous acid, hypochlorites, and compounds capable of generating hypochlorous acid.
さらに重合体末端制御工程を含む、請求項1記載の硫黄含有重合体の製造方法。 The method for producing a sulfur-containing polymer according to claim 1, further comprising a polymer end control step. 上記重合体末端制御工程が、還元性物質または塩基性物質を用いるものである、請求項2記載の硫黄含有重合体の製造方法。 The method for producing a sulfur-containing polymer according to claim 2, wherein the polymer end control step uses a reducing substance or a basic substance. さらに硫黄含有単量体を含む単量体成分を重合して主鎖にスルフィド骨格を有する硫黄含有重合体を得る重合工程を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の硫黄含有重合体の製造方法。 The method for producing a sulfur-containing polymer according to any one of claims 1 to 3 further comprises a polymerization step of polymerizing a monomer component containing a sulfur-containing monomer to obtain a sulfur-containing polymer having a sulfide skeleton in the main chain.
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