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JP7699524B2 - Nickel powder, conductive composition containing same, and conductive film - Google Patents
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JP7699524B2 - Nickel powder, conductive composition containing same, and conductive film - Google Patents

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Description

本発明はニッケル粉に関する。また本発明は該ニッケル粉を含む導電性組成物及び導電膜に関する。 The present invention relates to nickel powder. The present invention also relates to a conductive composition and a conductive film that contain the nickel powder.

ニッケル粉は、例えば積層セラミックコンデンサの内部電極の形成に用いられる。そのようなニッケル粉は、微粒で且つ粒度分布がシャープであることが要求される。例えば特許文献1には、走査型電子顕微鏡(以下「SEM」ともいう。)観察による平均粒子径の1.2倍以上の粒子径を持つ粒子個数が全粒子個数の5%以下であり、該平均粒子径の0.8倍以下の粒子径を持つ粒子個数が全粒子個数の5%以下であり、且つタップ密度が2.5g/cm以上であるニッケル粉が記載されている。このニッケル粉は、一般に球形ないしそれに近い形状のものである。 Nickel powder is used, for example, to form internal electrodes of multilayer ceramic capacitors. Such nickel powder is required to be fine and have a sharp particle size distribution. For example, Patent Document 1 describes nickel powder in which the number of particles having a particle diameter of 1.2 times or more of the average particle diameter observed with a scanning electron microscope (hereinafter also referred to as "SEM") is 5% or less of the total number of particles, the number of particles having a particle diameter of 0.8 times or less of the average particle diameter is 5% or less of the total number of particles, and the tap density is 2.5 g/cm3 or more . This nickel powder is generally spherical or nearly spherical.

一方、デンドライト形状の粒子からなるニッケル粉も知られている(例えば特許文献2参照)。デンドライトニッケル粉は、これを例えば樹脂に練り込んで導電性フィルムを製造するために用いられる。デンドライトニッケル粉は、その粒子の大きさが一般に十数μないし数十μm程度である場合が多い。
このように、これまで知られているニッケル粉は、サブミクロンオーダーのものであるか、あるいは数十μmオーダーのものが多い。
On the other hand, nickel powder consisting of dendrite-shaped particles is also known (see, for example, Patent Document 2). Dendrite nickel powder is used to manufacture a conductive film by kneading it into, for example, a resin. Dendrite nickel powder generally has a particle size of about 10-odd μm to several tens of μm.
Thus, most of the nickel powders known so far are on the submicron order or on the order of several tens of μm.

特開2001-200301号公報JP 2001-200301 A 中国特許出願公開第102392270号明細書China Patent Publication No. 102392270

ところで、ニッケル粉を用いて導電膜を製造する場合、上述したサブミクロンオーダーのニッケル粉を用いると、粒子間の凝集が生じやすいことに起因して膜の抵抗が高まることがある。一方、デンドライト粉を用いると、導電膜の薄膜化が容易でなく、また導電膜の表面に凹凸が生じやすくなる。 When using nickel powder to manufacture a conductive film, if the above-mentioned submicron-order nickel powder is used, the resistance of the film may increase due to the tendency for aggregation between particles to occur. On the other hand, if dendritic powder is used, it is not easy to make the conductive film thin, and the surface of the conductive film is prone to becoming uneven.

したがって本発明の課題は、薄膜化が容易で且つ導電性の高い導電膜の形成に適したニッケル粒子を提供することにある。 Therefore, the objective of the present invention is to provide nickel particles suitable for forming a conductive film that is easily thinned and has high conductivity.

本発明は、残留磁化が7.0A・m/kg以上であり、
レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50(μm)が1.0μm以上5.0μm以下であり、
JIS Z2512に準拠して測定されたタップ密度TD(g/cm)が1.5g/cm以上3.5g/cm以下であり、
BET比表面積をSSA(m/g)としたとき、SSA×TD/D50で定義される値が0.5以上である、ニッケル粉を提供するものである。
The present invention relates to a magnet having a residual magnetization of 7.0 A·m 2 /kg or more,
a volume cumulative particle size D 50 (μm) at a cumulative volume of 50% by volume as measured by a laser diffraction/scattering particle size distribution measurement method is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less;
The tap density TD (g/cm 3 ) measured in accordance with JIS Z2512 is 1.5 g/cm 3 or more and 3.5 g/cm 3 or less,
The present invention provides a nickel powder having a BET specific surface area of at least 0.5 as defined by SSA×TD/ D50 , where SSA is m 2 /g.

本発明によれば、薄膜化が容易で且つ導電性の高い導電膜の形成に適したニッケル粒子が提供される。 The present invention provides nickel particles suitable for forming conductive films that are easily thinned and have high electrical conductivity.

図1(a)は、本発明のニッケル粉の原料となるニッケル粉を示す模式図であり、図1(b)は、原料のニッケル粉から本発明のニッケル粉が製造される過程を示す模式図である。FIG. 1(a) is a schematic diagram showing the nickel powder that is the raw material for the nickel powder of the present invention, and FIG. 1(b) is a schematic diagram showing the process by which the nickel powder of the present invention is produced from the raw material nickel powder. 図2は、実施例1で得られたニッケル粉の走査型電子顕微鏡像である。FIG. 2 is a scanning electron microscope image of the nickel powder obtained in Example 1. 図3は、実施例2で得られたニッケル粉の走査型電子顕微鏡像である。FIG. 3 is a scanning electron microscope image of the nickel powder obtained in Example 2.

以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき説明する。本発明のニッケル粉はニッケル粒子の集合体から構成されている。ニッケル粒子はニッケルのみからなることが望ましいが、本発明の効果を損なわない限りにおいて微量の不可避不純物元素が含まれることは許容される。 The present invention will be described below based on its preferred embodiments. The nickel powder of the present invention is composed of an aggregate of nickel particles. It is preferable that the nickel particles consist only of nickel, but it is acceptable for the nickel particles to contain trace amounts of unavoidable impurity elements as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明のニッケル粉は、磁性の異方性が強いものであることが好ましい。磁性の異方性が強い本発明のニッケル粉は、これを樹脂や有機溶媒に添加して導電性組成物となした場合に、該導電性組成物から形成される導電膜に高い導電性を付与できることが本発明者の検討の結果判明した。特に、本発明のニッケル粉のタップ密度が後述する範囲であり、且つ磁性の異方性が強い場合には、導電膜の導電性が一層向上するので好ましい。ニッケル粉の磁性の異方性を高めるには、ニッケル粒子として、例えば後述する方法で製造されたものを用いることが好ましい。 The nickel powder of the present invention preferably has strong magnetic anisotropy. The inventors have found through their research that when the nickel powder of the present invention, which has strong magnetic anisotropy, is added to a resin or organic solvent to form a conductive composition, it can impart high conductivity to the conductive film formed from the conductive composition. In particular, when the tap density of the nickel powder of the present invention is within the range described below and the magnetic anisotropy is strong, this is preferable because the conductivity of the conductive film is further improved. To increase the magnetic anisotropy of the nickel powder, it is preferable to use nickel particles manufactured by, for example, the method described below.

本発明のニッケル粉の磁気特性について詳述すると、残留磁化が7.0A・m/kg以上であることが、導電性組成物の導電性を高め得る点から好ましく、この利点を一層顕著なものとする観点から、残留磁化は7A・m/kg以上20A・m/kg以下であることが好ましく、8A・m/kg以上18A・m/kg以下であることが更に好ましく、9A・m/kg以上15A・m/kg以下であることが一層好ましい。
飽和磁化については、10A・m/kg以上であることが、導電性組成物の導電性を高め得る点から好ましく、この利点を一層顕著なものとする観点から、飽和磁化は10A・m/kg以上100A・m/kg以下であることが好ましく、20A・m/kg以上90A・m/kg以下であることが更に好ましく、30A・m/kg以上80A・m/kg以下であることが一層好ましい。
一方、保磁力については、10kA/m以上30kA/m以下であることが、導電性組成物の導電性を高め得る点から好ましい。この利点を一層顕著なものとする観点から、保磁力は12kA/m以上25kA/m以下であることが好ましく、12kA/m以上20kA/m以下であることが更に好ましく、12kA/m以上18kA/m以下であることが一層好ましい。
本発明のニッケル粉の各種磁気特性の測定方法の詳細は、後述する実施例において説明する。
Describing in more detail the magnetic properties of the nickel powder of the present invention, a residual magnetization of 7.0 A· m2 /kg or more is preferable in order to increase the conductivity of the conductive composition, and from the viewpoint of making this advantage even more pronounced, the residual magnetization is preferably 7 A· m2 /kg or more and 20 A· m2 /kg or less, more preferably 8 A· m2 /kg or more and 18 A· m2 /kg or less, and even more preferably 9 A· m2 /kg or more and 15 A· m2 /kg or less.
With regard to the saturation magnetization, a value of 10 A·m 2 /kg or more is preferable in terms of increasing the conductivity of the conductive composition, and from the viewpoint of making this advantage even more pronounced, the saturation magnetization is preferably 10 A·m 2 /kg or more and 100 A·m 2 /kg or less, more preferably 20 A·m 2 /kg or more and 90 A·m 2 /kg or less, and even more preferably 30 A·m 2 /kg or more and 80 A·m 2 /kg or less.
On the other hand, the coercive force is preferably 10 kA/m or more and 30 kA/m or less in terms of increasing the electrical conductivity of the conductive composition. From the viewpoint of making this advantage more prominent, the coercive force is preferably 12 kA/m or more and 25 kA/m or less, more preferably 12 kA/m or more and 20 kA/m or less, and even more preferably 12 kA/m or more and 18 kA/m or less.
Details of the methods for measuring the various magnetic properties of the nickel powder of the present invention will be described in the examples below.

本発明のニッケル粉は、磁性の配向性が高いことに加えて、所定の範囲の嵩密度を有することが好ましい。換言すれば粒子の充填性の高いものであることが好ましい。その結果、本発明のニッケル粉は、これを樹脂や有機溶媒に添加して導電性組成物となした場合に、該導電性組成物から形成される導電膜に高い導電性を付与できる。この利点を一層顕著なものとする観点から、本発明のニッケル粉は、そのタップ密度TDが1.5g/cm以上3.5g/cm以下であることが好ましい。このようなタップ密度TDを有するニッケル粉は、タップ密度TDが3.5g/cmよりも大きなニッケル粉と比較して、これを比較的少ない添加量で用いても、高い導電性を樹脂等に付与することができる。この観点から、タップ密度TDは1.6g/cm以上3.0g/cm以下であることが更に好ましく、1.7g/cm以上2.5g/cm以下であることが一層好ましい。このようなタップ密度TDを有するニッケル粉は、後述する製造方法によって好適に製造される。
本明細書においてタップ密度TDとはJIS Z2512に準拠して測定された値のことである。
In addition to having high magnetic orientation, the nickel powder of the present invention preferably has a bulk density within a predetermined range. In other words, it is preferable that the nickel powder of the present invention has high particle packing. As a result, when the nickel powder of the present invention is added to a resin or an organic solvent to form a conductive composition, the conductive film formed from the conductive composition can be given high conductivity. From the viewpoint of making this advantage more prominent, the nickel powder of the present invention preferably has a tap density TD of 1.5 g/cm 3 or more and 3.5 g/cm 3 or less. Compared with nickel powder having a tap density TD of more than 3.5 g/cm 3 , nickel powder having such a tap density TD can give high conductivity to a resin or the like even when used in a relatively small amount. From this viewpoint, the tap density TD is more preferably 1.6 g/cm 3 or more and 3.0 g/cm 3 or less, and even more preferably 1.7 g/cm 3 or more and 2.5 g/cm 3 or less. Nickel powder having such a tap density TD is suitably manufactured by a manufacturing method described later.
In this specification, the tap density TD is a value measured in accordance with JIS Z2512.

本発明のニッケル粉が上述した磁気特性及びタップ密度TDを有するようにするためには、該ニッケル粉を構成するニッケル粒子の粒子サイズを適切に制御することが有利である。また、導電膜を薄膜化し且つ導電膜の表面を平滑にする観点からもニッケル粒子の粒子サイズを適切に制御することが有利である。これらの観点から、ニッケル粒子は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50が1.0μm以上5.0μm以下であることが好ましく、1.5μm以上5.0μm以下であることが更に好ましく、2.0μm以上4.5μm以下であることが一層好ましい。 In order to make the nickel powder of the present invention have the above-mentioned magnetic properties and tap density TD, it is advantageous to appropriately control the particle size of the nickel particles constituting the nickel powder. Also, from the viewpoint of making the conductive film thinner and smoothing the surface of the conductive film, it is advantageous to appropriately control the particle size of the nickel particles. From these viewpoints, the nickel particles preferably have a volume cumulative particle size D50 at 50% cumulative volume measured by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method of 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, more preferably 1.5 μm or more and 5.0 μm or less, and even more preferably 2.0 μm or more and 4.5 μm or less.

また本発明のニッケル粉においては、該ニッケル粉を構成するニッケル粒子形状が、球形よりもむしろ、幅Wに対して長さLが大きい異方性を有することが、導電性組成物に高い導電性を付与できる点から好ましい。例えば、ニッケル粒子は、一方向に長い棒状、葉巻状、回転楕円体状等の形状をしていることが好ましい。
ニッケル粒子の異方性の程度は、アスペクト比の値で評価できる。アスペクト比は、対象とする粒子の横断長のうち、長さが最も長い横断長をLと定義し、横断長Lの垂直二等分線が該粒子を横切る長さをWと定義し、L/Wから算出される。
アスペクト比の算出方法は、具体的にはまず測定対象となる粒子が50個以上含まれる倍率でSEMにて2視野以上撮影する。次いで各画像データから各粒子の輪郭が確認できるものを無作為に50個以上抽出し、抽出した粒子のそれぞれについてL/Wの値を求める。このように算出された平均値を本明細書におけるアスペクト比とする。
本発明のニッケル粉においては、導電性組成物に高い導電性を付与できる点から、前記の方法で測定されるアスペクト比が、1.2以上3.0以下であることが好ましく、1.3以上2.7以下であることが更に好ましく、1.4以上2.4以下であることが一層好ましい。
In the nickel powder of the present invention, it is preferable that the nickel particles constituting the nickel powder have an anisotropic shape, in which the length L is large relative to the width W, rather than a spherical shape, in order to impart high conductivity to the conductive composition. For example, it is preferable that the nickel particles have a shape such as a rod, cigar, or spheroid that is long in one direction.
The degree of anisotropy of nickel particles can be evaluated by the aspect ratio, which is calculated by L/W, where L is the longest transverse length of the particle and W is the length of the perpendicular bisector of L across the particle.
Specifically, the aspect ratio is calculated by first photographing at least two fields of view with a SEM at a magnification that includes at least 50 particles to be measured. Next, at least 50 particles whose outlines can be confirmed are randomly selected from each image data, and the L/W value is calculated for each of the selected particles. The average value thus calculated is the aspect ratio in this specification.
In the nickel powder of the present invention, in order to impart high conductivity to the conductive composition, the aspect ratio measured by the above method is preferably 1.2 or more and 3.0 or less, more preferably 1.3 or more and 2.7 or less, and even more preferably 1.4 or more and 2.4 or less.

本発明のニッケル粉においては、Lそのものの値は、アスペクト比が上述した範囲を満たすことを条件として、1.4μm以上8.0μm以下であることが好ましく、1.5μm以上7.4μm以下であることが更に好ましく、1.6μm以上7.0μm以下であることが一層好ましい。
Wそのものの値は、アスペクト比が上述した範囲を満たすことを条件として、0.7μm以上6.5μm以下であることが好ましく、0.9μm以上5.5μm以下であることが更に好ましく、1.1μm以上4.5μm以下であることが一層好ましい。
In the nickel powder of the present invention, the value of L itself is preferably 1.4 μm or more and 8.0 μm or less, more preferably 1.5 μm or more and 7.4 μm or less, and even more preferably 1.6 μm or more and 7.0 μm or less, provided that the aspect ratio satisfies the above-mentioned range.
The value of W itself is preferably 0.7 μm or more and 6.5 μm or less, more preferably 0.9 μm or more and 5.5 μm or less, and even more preferably 1.1 μm or more and 4.5 μm or less, provided that the aspect ratio satisfies the above-mentioned range.

本発明においては、ニッケル粒子が異方性を有する形状である場合、該ニッケル粒子はその表面が平滑であるよりも微細な凹凸を有していることも、導電性組成物に高い導電性を付与できる点から有利である。 In the present invention, when the nickel particles have an anisotropic shape, it is advantageous for the nickel particles to have a surface that is finely uneven rather than smooth, since this can impart high conductivity to the conductive composition.

本発明のニッケル粉を用いて導電性の高い導電膜を得るためには、ニッケル粉のBET比表面積SSAが大きいことが有利である。具体的には、本発明のニッケル粉のSSAは1.0m/g以上であることが好ましく、1.5m/g以上であることが更に好ましく、1.8m/g以上であることが一層好ましい。ニッケル粉のSSAはその値が高ければ高いほど望ましい。しかし、SSAの値が高いことは、ニッケル粒子の粒径D50が小さくなることを意味し、粒径D50が過度に小さいことは本発明において望ましいとは言えない。この観点から、本発明のニッケル粉のSSAは3.0m/g以下であることが好ましく、2.7m/g以下であることが更に好ましく、2.5m/g以下であることが一層好ましい。
BET比表面積SSAの測定方法は、後述する実施例において詳述する。
In order to obtain a conductive film with high conductivity using the nickel powder of the present invention, it is advantageous for the nickel powder to have a large BET specific surface area SSA. Specifically, the SSA of the nickel powder of the present invention is preferably 1.0 m 2 /g or more, more preferably 1.5 m 2 /g or more, and even more preferably 1.8 m 2 /g or more. The higher the SSA of the nickel powder, the more desirable it is. However, a high SSA value means that the particle diameter D 50 of the nickel particles becomes small, and an excessively small particle diameter D 50 is not desirable in the present invention. From this viewpoint, the SSA of the nickel powder of the present invention is preferably 3.0 m 2 /g or less, more preferably 2.7 m 2 /g or less, and even more preferably 2.5 m 2 /g or less.
The method for measuring the BET specific surface area SSA will be described in detail in the Examples below.

本発明のニッケル粉においては、上述のSSAと、タップ密度TDと、粒径D50とが特定の関係を満たすと、導電膜に一層高い導電性を付与できるので好ましい。具体的には、SSA×TD/D50で定義される値が0.5以上であることが好ましく、0.7以上であることが更に好ましく、0.9以上であることが一層好ましい。また、SSA×TD/D50の上限は、同じく導電膜に一層高い導電性を付与する観点から10.0以下であることが好ましく、3.0以下であることが更に好ましく、2.0以下であることが一層好ましい。 In the nickel powder of the present invention, it is preferable that the above-mentioned SSA, tap density TD, and particle size D50 satisfy a specific relationship, since this can impart higher electrical conductivity to the conductive film. Specifically, the value defined by SSA×TD/ D50 is preferably 0.5 or more, more preferably 0.7 or more, and even more preferably 0.9 or more. Also, from the viewpoint of imparting higher electrical conductivity to the conductive film, the upper limit of SSA×TD/ D50 is preferably 10.0 or less, more preferably 3.0 or less, and even more preferably 2.0 or less.

SSA×TD/D50の値の技術的な意味合いは次のとおりである。本発明のニッケル粉を用いて得られる導電膜の導電性を高めるためには、上述のとおりSSAの値は大きいことが望ましく、またTDの値は所定の範囲にあることが望ましい。この観点から、SSAとTDとの積も所定の範囲にあることが望ましい。一方、D50については、所望の導電膜を形成する観点からそれに適した範囲の値が存在する。この観点から、SSAとTDとの積をD50で除した値を指標とすることが、本発明の目的を達成する上で有利であると本発明者は考えた。 The technical meaning of the value of SSA×TD/ D50 is as follows. In order to increase the conductivity of the conductive film obtained by using the nickel powder of the present invention, it is desirable that the SSA value is large as described above, and it is desirable that the TD value is within a predetermined range. From this viewpoint, it is desirable that the product of SSA and TD is also within a predetermined range. On the other hand, with regard to D50 , there is a value within a range suitable for forming a desired conductive film. From this viewpoint, the present inventors considered that it would be advantageous to use the value obtained by dividing the product of SSA and TD by D50 as an index in order to achieve the object of the present invention.

本発明のニッケル粉は、タップ密度TDが所定の範囲にあることに加えて見掛密度ADも所定の範囲にあることが好ましい。特に、タップ密度TDの値と、見掛密度ADの値との間に大きな差がないことが、ニッケル粉の使用量が少量であっても、ニッケル粒子間の導電性を十分に確保することができる点から好ましい。この観点から、タップ密度TDに対する見掛密度ADの比であるAD/TDの値が0.73以上であることが好ましく、0.77以上であることが更に好ましく、0.80以上であることが一層好ましい。
本明細書において見掛密度ADとはJIS Z2504に準拠して測定された値のことである。
The nickel powder of the present invention preferably has a tap density TD in a predetermined range and also has an apparent density AD in a predetermined range. In particular, it is preferable that there is no large difference between the tap density TD value and the apparent density AD value, because even if the amount of nickel powder used is small, the conductivity between nickel particles can be sufficiently ensured. From this point of view, the value of AD/TD, which is the ratio of the apparent density AD to the tap density TD, is preferably 0.73 or more, more preferably 0.77 or more, and even more preferably 0.80 or more.
In this specification, the apparent density AD is a value measured in accordance with JIS Z2504.

本発明のニッケル粉においては、見掛密度ADそのものの値は、AD/TDの値が上述した範囲を満たすことを条件として、1.0g/cm以上2.5g/cm以下であることが好ましく、1.2g/cm以上2.3g/cm以下であることが更に好ましく、1.3g/cm以上2.1g/cm以下であることが一層好ましい。 In the nickel powder of the present invention, the value of the apparent density AD itself is preferably 1.0 g/cm3 or more and 2.5 g/cm3 or less , more preferably 1.2 g/ cm3 or more and 2.3 g/ cm3 or less, and even more preferably 1.3 g/ cm3 or more and 2.1 g/cm3 or less, provided that the value AD/ TD satisfies the above- mentioned range.

本発明のニッケル粉では、これを構成するニッケル粒子におけるニッケルの結晶子サイズが特定の範囲を満たすことが、導電性の向上の点から好ましい。詳細には、本発明のニッケル粉についてX線回折測定を行って得られた回折ピークのうち、(111)のピークの半値幅から算出される結晶子サイズが10nm以上100nm以下であることが導電性の向上の点から好ましく、更に好ましくは20nm以上70nm以下、一層好ましくは30nm以上50nm以下である。このような結晶子サイズを有するニッケル粉は、後述する製造方法によって好適に製造される。 In the nickel powder of the present invention, it is preferable from the viewpoint of improving electrical conductivity that the crystallite size of the nickel in the nickel particles constituting the nickel powder satisfies a specific range. In particular, from the viewpoint of improving electrical conductivity, it is preferable that the crystallite size calculated from the half-width of the (111) peak among the diffraction peaks obtained by performing X-ray diffraction measurement on the nickel powder of the present invention is 10 nm or more and 100 nm or less, more preferably 20 nm or more and 70 nm or less, and even more preferably 30 nm or more and 50 nm or less. Nickel powder having such a crystallite size is suitably manufactured by the manufacturing method described below.

本発明のニッケル粉は酸素の濃度が低いことが導電性を一層高め得る点から好ましい。この観点から、本発明のニッケル粉の酸素濃度は1.5質量%以下であることが好ましく、導電性を更に一層高め得る点から1.0質量%以下であることが更に好ましく、0.8質量%以下であることが一層好ましい。酸素濃度は低ければ低いほど好ましい。
酸素濃度の測定は、後述する実施例において説明する。
The nickel powder of the present invention is preferably low in oxygen concentration from the viewpoint of further increasing the electrical conductivity. From this viewpoint, the oxygen concentration of the nickel powder of the present invention is preferably 1.5 mass% or less, more preferably 1.0 mass% or less from the viewpoint of further increasing the electrical conductivity, and even more preferably 0.8 mass% or less. The lower the oxygen concentration, the better.
The measurement of the oxygen concentration will be explained in the Examples below.

本発明のニッケル粒子は、BET比表面積あたりの酸素含有量が低いことも導電性を一層高め得る点から好ましい。この観点から、BET比表面積あたりの酸素含有量は0.5質量%/(m/g)以下であることが好ましく、0.45質量%/(m/g)以下であることが更に好ましく、0.4質量%/(m/g)以下であることが一層好ましい。BET比表面積あたりの酸素含有量はその値が小さければ小さいほど好ましい。このようなニッケル粉は、後述する製造方法によって好適に製造される。
BET比表面積あたりの酸素含有量の算出方法は、後述する実施例において説明する。
The nickel particles of the present invention are also preferred in that the oxygen content per BET specific surface area is low, which can further increase the electrical conductivity. From this viewpoint, the oxygen content per BET specific surface area is preferably 0.5 mass%/( m2 /g) or less, more preferably 0.45 mass%/( m2 /g) or less, and even more preferably 0.4 mass%/( m2 /g) or less. The smaller the oxygen content per BET specific surface area, the more preferable it is. Such nickel powder is preferably produced by the production method described below.
The method for calculating the oxygen content per BET specific surface area will be explained in the examples described later.

次に、本発明のニッケル粉の好適な製造方法について説明する。本発明のニッケル粉は、好適にはデンドライト形状を有するニッケル粒子の集合体であるニッケル粉(以下、このニッケル粉のことを便宜的に「デンドライト粉」ともいう。)を粉砕することで製造される。 Next, a preferred method for producing the nickel powder of the present invention will be described. The nickel powder of the present invention is preferably produced by pulverizing nickel powder, which is an aggregate of nickel particles having a dendritic shape (hereinafter, this nickel powder will also be referred to as "dendrite powder" for convenience).

デンドライト粉の粉砕は、目的とするニッケル粉が得られる限りのその方法に特に制限はなく、乾式法及び湿式法のいずれを採用してもよい。いずれの方法を採用する場合であっても、図1(a)及び1(b)に示すとおり、主軸2及び該主軸2から分岐する枝部3を有するデンドライト粒子1を切断し、且つ、切断によって生じた切断片4に極力変形を生じさせないような粉砕方法を採用することが、所望の形状を有するニッケル粉が得られやすい点から好ましい。
そのような粉砕方法としては、粉砕メディアを用いない方法であって且つ乾式の方法を用いることが有利である。そのような粉砕方法の一例として、回転する切断刃によって乾式でデンドライト粉を粉砕する方法が挙げられる。この粉砕方法によれば、図1(a)に示すデンドライト粒子1は、回転する切断刃によって切断されて図1(b)に示す切断片4となる。この場合、切断刃の回転数を適切に制御することで、切断片4に過度の外力が加わることが抑制されて、該切断片4に生じる変形が極力抑制される。
回転する切断刃によって乾式でデンドライト粉を粉砕するためには、例えばフォースミル(大阪ケミカル株式会社製)を用いることができるが、これに限られない。
The method for pulverizing the dendrite powder is not particularly limited as long as the desired nickel powder can be obtained, and either a dry method or a wet method may be adopted. Regardless of which method is adopted, it is preferable to adopt a pulverization method in which a dendrite particle 1 having a main axis 2 and branches 3 branching from the main axis 2 is cut as shown in Figures 1 (a) and 1 (b), and the cut pieces 4 generated by the cutting are not deformed as much as possible, from the viewpoint of easily obtaining nickel powder having a desired shape.
As such a crushing method, it is advantageous to use a method that does not use crushing media and is a dry method. One example of such a crushing method is a method of crushing dendritic powder in a dry manner using a rotating cutting blade. According to this crushing method, the dendritic particle 1 shown in FIG. 1(a) is cut by the rotating cutting blade to become the cut piece 4 shown in FIG. 1(b). In this case, by appropriately controlling the rotation speed of the cutting blade, the application of excessive external force to the cut piece 4 is suppressed, and deformation of the cut piece 4 is suppressed as much as possible.
In order to pulverize the dendrite powder in a dry manner using a rotating cutting blade, for example, a Force Mill (manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd.) can be used, but is not limited to this.

回転する切断刃によって乾式でデンドライト粉を粉砕するとき、切断刃の枚数、形状、大きさ及び回転数等の各種条件は、上述のとおり、デンドライト粒子1を切断し、且つ、切断によって生じた切断片4に極力変形を生じさせないものとすればよい。そのような条件を設定することは、当業者の通常の能力の範囲内である。少なくとも、後述する実施例に記載の条件を採用することで、満足すべき結果を得ることができる。 When dendritic powder is crushed dry using rotating cutting blades, the various conditions such as the number, shape, size and rotation speed of the cutting blades should be such that the dendritic particles 1 are cut while causing minimal deformation of the cut pieces 4 produced by the cutting, as described above. Setting such conditions is within the ordinary skill of a person skilled in the art. Satisfactory results can be obtained by adopting at least the conditions described in the examples below.

本発明のニッケル粉を得るための原料であるデンドライト粉は、デンドライト形状を有するニッケル粒子の集合体である。デンドライト粉としては、そのタップ密度TDが0.2g/cm以上3.0g/cm以下、特に0.2g/cm以上2.5g/cm以下、とりわけ0.2g/cm以上1.7g/cm以下、中でも0.25g/cm以上0.8g/cm以下であるものを用いることが好ましい。このようなタップ密度を有するデンドライト粉を原料とすることで、所望のタップ密度を有するニッケル粉を容易に得ることができる。 The dendrite powder, which is the raw material for obtaining the nickel powder of the present invention, is an aggregate of nickel particles having a dendritic shape. As the dendrite powder, it is preferable to use one having a tap density TD of 0.2 g/cm 3 or more and 3.0 g/cm 3 or less, particularly 0.2 g/cm 3 or more and 2.5 g/cm 3 or less, particularly 0.2 g/cm 3 or more and 1.7 g/cm 3 or less, and among them, 0.25 g/cm 3 or more and 0.8 g/cm 3 or less. By using the dendrite powder having such a tap density as the raw material, nickel powder having a desired tap density can be easily obtained.

タップ密度との関係で、デンドライト粉は、見掛密度ADが、0.2g/cm以上2.0g/cm以下であることが好ましく、0.25g/cm以上1.5g/cm以下であることが更に好ましく、0.3g/cm以上1.5g/cm以下であることが一層好ましい。このような見掛密度を有するデンドライト粉を原料とすることで、所望のタップ密度及び/又は見掛密度を有するニッケル粉を容易に得ることができる。 In relation to the tap density, the dendritic powder preferably has an apparent density AD of 0.2 g/cm 3 or more and 2.0 g/cm 3 or less, more preferably 0.25 g/cm 3 or more and 1.5 g/cm 3 or less, and even more preferably 0.3 g/cm 3 or more and 1.5 g/cm 3 or less. By using a dendritic powder having such an apparent density as a raw material, nickel powder having a desired tap density and/or apparent density can be easily obtained.

また、デンドライト粉は、タップ密度TDに対する見掛密度ADの比であるAD/TDの値が0.5以上であることが好ましく、0.55以上であることが更に好ましく、0.6以上であることが一層好ましい。AD/TDの上限が0.8程度であることが好ましい。 In addition, the dendritic powder preferably has a ratio of apparent density AD to tap density TD, AD/TD, of 0.5 or more, more preferably 0.55 or more, and even more preferably 0.6 or more. The upper limit of AD/TD is preferably about 0.8.

デンドライト粉は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50が2.0μm以上20.0μm以下であることが好ましく、2.0μm以上15.0μm以下であることが更に好ましく、4.0μm以上15.0μm以下であることが一層好ましい。このような粒径を有するデンドライト粉を原料とすることで、所望の粒径を有するニッケル粉を容易に得ることができる。 The dendrite powder has a volume cumulative particle size D50 at 50% cumulative volume as measured by a laser diffraction scattering particle size distribution measurement method of preferably 2.0 μm to 20.0 μm, more preferably 2.0 μm to 15.0 μm, and even more preferably 4.0 μm to 15.0 μm. By using a dendrite powder having such a particle size as a raw material, nickel powder having a desired particle size can be easily obtained.

デンドライト粉は、その磁気特性が、目的とするニッケル粉の磁気特性と同様であることが好ましい。本発明者の検討の結果、デンドライト粒子を切断し、且つ、切断によって生じた切断片に極力変形を生じさせないような粉砕方法を採用することによって、粉砕前のデンドライト粉と、粉砕後のニッケル粉とで、磁気特性に大きな変化が生じないことが判明した。この観点から、デンドライト粉の残留磁化は、10A・m/kg以上であることが好ましく、10A・m/kg以上20A・m/kg以下であることが更に好ましく、10.5A・m/kg以上18A・m/kg以下であることが一層好ましく、10.5A・m/kg以上16A・m/kg以下であることが更に一層好ましい。 The dendrite powder preferably has magnetic properties similar to those of the target nickel powder. As a result of the inventor's investigation, it was found that by adopting a crushing method in which the dendrite particles are cut and the cut pieces are not deformed as much as possible, the magnetic properties of the dendrite powder before crushing and the nickel powder after crushing do not change significantly. From this viewpoint, the residual magnetization of the dendrite powder is preferably 10 A·m 2 /kg or more, more preferably 10 A·m 2 /kg or more and 20 A·m 2 /kg or less, even more preferably 10.5 A·m 2 /kg or more and 18 A·m 2 /kg or less, and even more preferably 10.5 A·m 2 /kg or more and 16 A·m 2 /kg or less.

飽和磁化については、10A・m/kg以上であることが好ましく、10A・m/kg以上100A・m/kg以下であることが更に好ましく、20A・m/kg以上90A・m/kg以下であることが一層好ましく、30A・m/kg以上80A・m/kg以下であることが更に一層好ましい。
保磁力については、10kA/m以上30kA/m以下であることが好ましく、12kA/m以上25kA/m以下であることが更に好ましく、14kA/m以上20kA/m以下であることが一層好ましく、16kA/m以上20kA/m以下であることが更に一層好ましい。
The saturation magnetization is preferably 10 A·m 2 /kg or more, more preferably 10 A·m 2 /kg or more and 100 A·m 2 /kg or less, even more preferably 20 A·m 2 /kg or more and 90 A·m 2 /kg or less, and even more preferably 30 A·m 2 /kg or more and 80 A·m 2 /kg or less.
The coercive force is preferably 10 kA/m or more and 30 kA/m or less, more preferably 12 kA/m or more and 25 kA/m or less, even more preferably 14 kA/m or more and 20 kA/m or less, and even more preferably 16 kA/m or more and 20 kA/m or less.

本発明のニッケル粉は、上述のとおりBET比表面積が大きいことが望ましいところ、このことに対応して、デンドライト粉もそのBET比表面積が大きいことが好ましい。具体的には、デンドライト粉はそのBET比表面積が0.5m/g以上5.0m/g以下であることが好ましく、0.5m/g以上4.5m/g以下であることが更に好ましく、0.5m/g以上4.0m/g以下であることが一層好ましい。 As described above, it is desirable for the nickel powder of the present invention to have a large BET specific surface area, and correspondingly, it is desirable for the dendritic powder to also have a large BET specific surface area. Specifically, the dendritic powder preferably has a BET specific surface area of 0.5 m2 /g or more and 5.0 m2 /g or less, more preferably 0.5 m2 /g or more and 4.5 m2 /g or less, and even more preferably 0.5 m2 /g or more and 4.0 m2 /g or less.

上述した諸元を有するデンドライト粉は、好適には電解法によって製造される。電解法でデンドライト粉を製造する工程では、ニッケルイオンを含む電解液を用い、該電解液中にアノード極及びカソード極を浸漬させ、両極間に直流電圧を印加して電解を行う。電解によって還元されたデンドライト粒子はカソードに析出する。
カソードは、電解に影響を及ぼさない導電性材料から構成されていればよい。カソードは例えばステンレス又はチタンから構成されていることが好ましい。ステンレスとしては、オーステナイト系ステンレスが好ましく、特にSUS304L及びSUS316が好ましい。
一方、アノードとしては、電解に対して不溶性のものであることが好ましい。この理由は次のとおりである。アノードとして例えばニッケルを用いた場合、ニッケルからなるアノードは、電解中にニッケルが電解液へ溶出してしまう。カソードにおけるニッケル電析量はガス発生を伴うことに起因して、アノードにおけるニッケルの溶出量よりも少ない。その結果、電解液中でのニッケルの濃度が経時的に上昇し、デンドライト粉の生成に支障を来す。この不都合は、電解時間が長くなるほど顕著になる。
不溶性アノードとしては、例えばDSE(登録商標、デノラ・ペルメレック社製)などを用いることができる。
The dendritic powder having the above-mentioned specifications is preferably produced by an electrolytic method. In the process of producing the dendritic powder by the electrolytic method, an electrolytic solution containing nickel ions is used, an anode and a cathode are immersed in the electrolytic solution, and a direct current voltage is applied between the electrodes to perform electrolysis. Dendritic particles reduced by electrolysis are precipitated on the cathode.
The cathode may be made of any conductive material that does not affect electrolysis. The cathode is preferably made of, for example, stainless steel or titanium. As the stainless steel, austenitic stainless steel is preferable, and SUS304L and SUS316 are particularly preferable.
On the other hand, it is preferable that the anode is insoluble in electrolysis. The reason is as follows. For example, when nickel is used as the anode, the nickel dissolves into the electrolyte during electrolysis. The amount of nickel electrolytically deposited at the cathode is smaller than the amount of nickel dissolved at the anode due to gas generation. As a result, the concentration of nickel in the electrolyte increases over time, which hinders the generation of dendrite powder. This problem becomes more pronounced as the electrolysis time becomes longer.
As the insoluble anode, for example, DSE (registered trademark, manufactured by De Nora Permelec) can be used.

ニッケルイオン源としては、水溶性ニッケル化合物が好適に用いられる。例えば、陽イオンと陰イオンが電荷を中和する形で生じた化合物であるニッケル塩が挙げられる。そのようなニッケル塩としては、硫酸ニッケル、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、炭酸ニッケル、硝酸ニッケルなどが挙げられる。これらのニッケル化合物は1種を単独で用いてもよく、あるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、アノード極に金属ニッケルを使用することで、ニッケルイオン源として利用できる。特に、ニッケル塩として塩化ニッケル又は硫酸ニッケルを用いることが好ましい。 As the nickel ion source, a water-soluble nickel compound is preferably used. For example, nickel salts, which are compounds formed by neutralizing the electric charge of cations and anions, can be used. Examples of such nickel salts include nickel sulfate, nickel chloride, nickel acetate, nickel carbonate, and nickel nitrate. These nickel compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition, by using metallic nickel for the anode electrode, it can be used as a nickel ion source. In particular, it is preferable to use nickel chloride or nickel sulfate as the nickel salt.

ニッケル塩として塩化ニッケルを用いる場合、デンドライト粉を電解によって首尾よく析出させるためには、電解時の電流密度を好ましくは500A/m以上2800A/m以下、更に好ましくは1000A/m以上2500A/m以下、一層好ましくは1200A/m以上2000A/m以下に設定することが有利である。
一方、ニッケル塩として硫酸ニッケルを用いる場合、デンドライト粉を電解によって首尾よく析出させるためには、電解時の電流密度を好ましくは2200A/m以上9000A/m以下、更に好ましくは2500A/m以上5000A/m以下、一層好ましくは2500A/m以上3500A/m以下に設定することが有利である。
When nickel chloride is used as the nickel salt, in order to successfully precipitate the dendrite powder by electrolysis, it is advantageous to set the current density during electrolysis to preferably 500 A/m 2 or more and 2800 A/m 2 or less, more preferably 1000 A/m 2 or more and 2500 A/m 2 or less, and even more preferably 1200 A/m 2 or more and 2000 A/m 2 or less.
On the other hand, when nickel sulfate is used as the nickel salt, in order to successfully precipitate the dendrite powder by electrolysis, it is advantageous to set the current density during electrolysis to preferably 2200 A/m 2 or more and 9000 A/m 2 or less, more preferably 2500 A/m 2 or more and 5000 A/m 2 or less, and even more preferably 2500 A/m 2 or more and 3500 A/m 2 or less.

デンドライト粉を電解によって首尾よく析出させるためには、電解時の電流密度を比較的高くすることに加え、電解液中のニッケルイオンの濃度を調整することも有利である。
具体的には、ニッケル塩として塩化ニッケルを用いる場合、電解液中のニッケルイオンの濃度を好ましくは0.01mol/L以上0.5mol/L以下、更に好ましくは0.03mol/L以上0.3mol/L以下、一層好ましくは0.03mol/L以上0.2mol/L以下に設定することが有利である。
一方、ニッケル塩として硫酸ニッケルを用いる場合、電解液中のニッケルイオンの濃度を好ましくは0.08mol/L以上0.3mol/L以下、更に好ましくは0.08mol/L以上0.25mol/L以下、一層好ましくは0.08mol/L以上0.2mol/L以下に設定することが有利である。
電解中は電解液におけるニッケルイオンの濃度を上述の範囲内に保つことが、デンドライト粉を安定的に生成させる点から好ましい。この目的のために、電解液におけるニッケルイオンの濃度が大きく低下する場合には、適量の塩化ニッケルや硫酸ニッケルを電解液に添加することが好ましい。
In order to successfully deposit the dendrite powder by electrolysis, in addition to using a relatively high current density during electrolysis, it is also advantageous to adjust the concentration of nickel ions in the electrolyte.
Specifically, when nickel chloride is used as the nickel salt, it is advantageous to set the concentration of nickel ions in the electrolytic solution to preferably 0.01 mol/L or more and 0.5 mol/L or less, more preferably 0.03 mol/L or more and 0.3 mol/L or less, and even more preferably 0.03 mol/L or more and 0.2 mol/L or less.
On the other hand, when nickel sulfate is used as the nickel salt, it is advantageous to set the concentration of nickel ions in the electrolytic solution to preferably 0.08 mol/L or more and 0.3 mol/L or less, more preferably 0.08 mol/L or more and 0.25 mol/L or less, and even more preferably 0.08 mol/L or more and 0.2 mol/L or less.
During electrolysis, it is preferable to maintain the nickel ion concentration in the electrolyte within the above range in order to stably generate dendrite powder. For this purpose, when the nickel ion concentration in the electrolyte is significantly reduced, it is preferable to add an appropriate amount of nickel chloride or nickel sulfate to the electrolyte.

電解時の電解液のpHは弱酸性域ないし中性域に設定することが、デンドライト粉を電解によって首尾よく析出させる観点から好ましい。pHが低下すると、ニッケルイオンの還元よりも水素ガスの発生が生じやすくなり、デンドライト粉を得にくくなる。この観点から、ニッケル塩として塩化ニッケルを用いる場合、電解中は電解液のpHを好ましくは3以上10以下に維持することが好ましく、4以上8以下に維持することが更に好ましく、5以上7以下に維持することが一層好ましい。一方、ニッケル塩として硫酸ニッケルを用いる場合、電解中は電解液のpHを好ましくは5.5以上10以下に維持することが好ましく、5.5以上8以下に維持することが更に好ましく、5.5以上7以下に維持することが一層好ましい。pHの調整には例えばアンモニアなどの塩基性物質を用いることができる。また、以下に述べる支持塩をpHの調整に用いることもできる。
電解中は電解液のpHを上述の範囲内に保つことが、デンドライト粉を安定的に生成させる点から好ましい。この目的のために、電解中に、適量のpH調整剤を電解液に適宜添加することが好ましい。
The pH of the electrolyte during electrolysis is preferably set to a weakly acidic or neutral range from the viewpoint of successfully precipitating dendrite powder by electrolysis. If the pH is lowered, hydrogen gas is more likely to be generated than nickel ion reduction, making it difficult to obtain dendrite powder. From this viewpoint, when nickel chloride is used as the nickel salt, the pH of the electrolyte is preferably maintained between 3 and 10 during electrolysis, more preferably between 4 and 8, and even more preferably between 5 and 7. On the other hand, when nickel sulfate is used as the nickel salt, the pH of the electrolyte is preferably maintained between 5.5 and 10 during electrolysis, more preferably between 5.5 and 8, and even more preferably between 5.5 and 7. A basic substance such as ammonia can be used to adjust the pH. In addition, a supporting salt described below can also be used to adjust the pH.
It is preferable to maintain the pH of the electrolyte within the above range during electrolysis in order to stably produce dendrite powder. For this purpose, it is preferable to appropriately add a suitable amount of a pH adjuster to the electrolyte during electrolysis.

電解液には支持塩を添加しておくことが、デンドライト形状を有し且つ微粒であるニッケル粒子を首尾よく得る観点から好ましい。支持塩としては、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、塩化ルビジウム及び塩化セシウムなどの中性の塩化物、過塩素酸リチウム及び過塩素酸ナトリウムなどの過塩素酸のアルカリ金属塩、塩化アンモニウムなどのアンモニウム塩、硫酸ナトリウム及び硫酸カリウムなどの硫酸のアルカリ金属塩が挙げられる。 It is preferable to add a supporting salt to the electrolyte in order to successfully obtain nickel particles that have a dendritic shape and are fine particles. Examples of supporting salts include neutral chlorides such as sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, rubidium chloride, and cesium chloride, alkali metal salts of perchloric acid such as lithium perchlorate and sodium perchlorate, ammonium salts such as ammonium chloride, and alkali metal salts of sulfate such as sodium sulfate and potassium sulfate.

電解液中における支持塩の濃度は、電解液に十分な導電性を付与する観点から、0.1mol/L以上1.0mol/L以下に設定することが好ましく、0.2mol/L以上0.8mol/L以下に設定することが更に好ましく、0.3mol/L以上0.5mol/L以下に設定することが一層好ましい。 From the viewpoint of imparting sufficient conductivity to the electrolyte, the concentration of the supporting salt in the electrolyte is preferably set to 0.1 mol/L or more and 1.0 mol/L or less, more preferably set to 0.2 mol/L or more and 0.8 mol/L or less, and even more preferably set to 0.3 mol/L or more and 0.5 mol/L or less.

電解中は電解液を加熱して該電解液を所定温度に保つことが、ニッケルイオンの還元を促進させて、デンドライト形状を有し且つ微粒であるニッケル粒子を首尾よく得る観点から好ましい。この観点から、ニッケル塩として塩化ニッケル及び硫酸ニッケルのいずれを用いる場合であっても、電解中の電解液の温度を好ましくは50℃超90℃以下に保つことが有利であり、更に好ましくは50℃超85℃以下、一層好ましくは55℃以上85℃以下に保つことが有利である。 During electrolysis, it is preferable to heat the electrolyte and maintain the electrolyte at a predetermined temperature, from the viewpoint of accelerating the reduction of nickel ions and successfully obtaining nickel particles that are fine and have a dendritic shape. From this viewpoint, whether nickel chloride or nickel sulfate is used as the nickel salt, it is advantageous to maintain the temperature of the electrolyte during electrolysis preferably between more than 50°C and less than 90°C, more preferably between more than 50°C and less than 85°C, and even more preferably between 55°C and 85°C.

以上の条件で所定時間電解を行うことで、デンドライト粒子がカソード極に析出する。析出したデンドライト粒子はこれをカソード極から掻き落とすことで回収され、ニッケル粉の原料となるデンドライト粉が得られる。 By carrying out electrolysis under the above conditions for a specified period of time, dendritic particles are precipitated on the cathode. The precipitated dendritic particles are collected by scraping them off the cathode, and dendritic powder, which is the raw material for nickel powder, is obtained.

本発明のニッケル粉は、非導電性物質と混合されて該非導電性物質に導電性を付与する用途に好適に用いられる。例えば本発明のニッケル粉を有機溶媒と混合することで、導電性インクや導電性ペーストなどの導電性組成物となすことができる。かかる導電性組成物から塗膜を形成し、該塗膜から有機溶媒を除去して乾燥体とすることで、該乾燥体を導電膜として用いることができる。
また、本発明のニッケル粉を樹脂に練り込むことで導電性組成物を得ることもできる。この導電性組成物は、例えば導電性フィルムや導電性シートとして好適に使用される。
本発明のニッケル粉を用いて導電膜を形成すると、デンドライトニッケル粉を用いて導電膜を形成した従来の技術に比べ、薄膜化が容易であり且つ導電膜の表面を平滑にしやすい。また、導電膜を薄膜化する場合には一般に、該導電膜を形成するための導電性組成物中に多量のニッケル粉を配合する必要があるところ、本発明のニッケル粉を用いれば、導電性組成物に配合するニッケル粉の量を従来よりも減じても、十分な導電性が発現する。
The nickel powder of the present invention is preferably used for applications in which it is mixed with a non-conductive substance to impart conductivity to the non-conductive substance. For example, by mixing the nickel powder of the present invention with an organic solvent, a conductive composition such as a conductive ink or a conductive paste can be obtained. A coating film is formed from such a conductive composition, and the organic solvent is removed from the coating film to obtain a dried body, which can be used as a conductive film.
Moreover, a conductive composition can be obtained by kneading the nickel powder of the present invention into a resin. This conductive composition is suitably used, for example, as a conductive film or a conductive sheet.
When a conductive film is formed using the nickel powder of the present invention, it is easier to make the film thinner and the surface of the conductive film smoother than in the conventional technology in which a conductive film is formed using dendritic nickel powder. In addition, when making a conductive film thinner, it is generally necessary to mix a large amount of nickel powder into the conductive composition for forming the conductive film, but when the nickel powder of the present invention is used, sufficient conductivity is achieved even if the amount of nickel powder mixed into the conductive composition is reduced compared to the conventional technology.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「%」は「質量%」を意味する。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to such examples. Unless otherwise specified, "%" means "% by mass."

〔実施例1〕
(1)デンドライト粉の製造
3Lのビーカー内に、SUS316製陰極板及び不溶性電極板DSE(登録商標、デノラ・ペルメレック株式会社製)を電極板間の距離が50mmとなるように配置した。電極板の寸法はいずれも120mm×70mmとした。
21.0gの塩化ニッケル、60.0gの塩化アンモニウム、及び30.0gの塩化ナトリウムを純水に溶解し、全量で3Lの電解液を調製した。この電解液を前記のビーカーに充填した。
前記の電極板間に直流電圧を印加して電解を3分間行った。電解中、電解液を加熱して液温を60℃に維持した。電流密度は1500A/mを維持した。また、電解液のpHを6に維持した。
電解によって陰極板の表面に析出したデンドライト粒子を掻き落としてデンドライト粉を回収した。回収されたデンドライト粉をヌッチェで濾過した後、純水及びアルコールで順次洗浄した。次いで大気雰囲気下、80℃で8時間にわたり乾燥させた。
得られたデンドライト粉のタップ密度TDは0.8g/cmであり、見掛密度ADは0.6g/cmであり、粒径D50は8.0μmであり、残留磁化は11.0A・m/kgであり、飽和磁化は52.2A・m/kgであり、保磁力は17.2kA/mであった。
(2)デンドライト粉の粉砕
デンドライト粉を、回転する切断刃を有する粉砕装置(フォースミル、大阪ケミカル株式会社製、回転数22000rpm)を用い、乾式で10分間粉砕し、粉砕ニッケル粉を得た。得られた粉砕ニッケル粉のSEM像を図2に示す。
Example 1
(1) Production of dendritic powder In a 3 L beaker, a SUS316 cathode plate and an insoluble electrode plate DSE (registered trademark, manufactured by De Nora Permelec Co., Ltd.) were placed so that the distance between the electrode plates was 50 mm. The dimensions of the electrode plates were both 120 mm x 70 mm.
21.0 g of nickel chloride, 60.0 g of ammonium chloride, and 30.0 g of sodium chloride were dissolved in pure water to prepare an electrolyte solution with a total volume of 3 L. This electrolyte solution was filled into the beaker.
A DC voltage was applied between the electrodes to perform electrolysis for 3 minutes. During electrolysis, the electrolyte was heated to maintain the temperature at 60° C. The current density was maintained at 1500 A/m 2. The pH of the electrolyte was maintained at 6.
The dendrite particles precipitated on the surface of the cathode plate by electrolysis were scraped off to recover the dendrite powder. The recovered dendrite powder was filtered through a Nutsche filter, washed with pure water and then with alcohol. It was then dried in the air at 80° C. for 8 hours.
The obtained dendritic powder had a tap density TD of 0.8 g/ cm3 , an apparent density AD of 0.6 g/ cm3 , a particle size D50 of 8.0 μm, a residual magnetization of 11.0 A· m2 /kg, a saturation magnetization of 52.2 A· m2 /kg, and a coercive force of 17.2 kA/m.
(2) Pulverization of Dendrite Powder The dendritic powder was pulverized in a dry state for 10 minutes using a pulverizer having a rotating cutting blade (Force Mill, manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd., rotation speed 22000 rpm) to obtain pulverized nickel powder. An SEM image of the obtained pulverized nickel powder is shown in FIG.

〔実施例2〕
実施例1において、デンドライト粉を5分間粉砕した。これ以外は実施例1と同様にして粉砕ニッケル粉を得た。得られた粉砕ニッケル粉のSEM像を図3に示す。
Example 2
In Example 1, the dendrite powder was pulverized for 5 minutes. Except for this, pulverized nickel powder was obtained in the same manner as in Example 1. An SEM image of the pulverized nickel powder obtained is shown in FIG.

〔比較例1〕
略球状のニッケル粒子からなるニッケル粉(米国ストレム・ケミカルズ社製)を本比較例のニッケル粉とした。
Comparative Example 1
Nickel powder (manufactured by Strem Chemicals, USA) consisting of roughly spherical nickel particles was used as the nickel powder of this comparative example.

〔比較例2〕
本比較例では以下のようにしてニッケル粉を得た。
まず445.28gのエチレングリコールを反応容器に投入した。次いで31.31gの水酸化ニッケル、2.15gのポリビニルピロリドン及び0.13mLの100g/L硝酸パラジウム溶液を前記の反応容器に投入し、混合液を調製した。この混合液を190℃で10時間加熱、撹拌し、ニッケル粉を合成した。このニッケル粉を含むスラリーをヌッチェで濾過した後、純水及びアルコールで順次洗浄した。次いで棚段真空乾燥機にて、80℃で8時間にわたり乾燥させた。
Comparative Example 2
In this comparative example, nickel powder was obtained as follows.
First, 445.28 g of ethylene glycol was put into the reaction vessel. Then, 31.31 g of nickel hydroxide, 2.15 g of polyvinylpyrrolidone, and 0.13 mL of 100 g/L palladium nitrate solution were put into the reaction vessel to prepare a mixed solution. This mixed solution was heated and stirred at 190° C. for 10 hours to synthesize nickel powder. The slurry containing this nickel powder was filtered through a Nutsche filter and then washed with pure water and alcohol in that order. Then, it was dried at 80° C. for 8 hours in a shelf vacuum dryer.

〔評価1〕
実施例及び比較例で得られたニッケル粉について、タップ密度TD及び見掛密度ADを上述の方法で測定した。また、アスペクト比L/Wを上述の方法で測定した。更に、粒径D50及びBET比表面積SSAを以下に述べる方法で測定した。更に、ニッケル粉の磁気特性を以下に述べる方法で測定した。更に、SSA×TD/D50の値を以下に述べる方法で算出した。更に、ニッケルの結晶子サイズ及びニッケル粉の酸素濃度を以下に述べる方法で測定した。また、BET比表面積あたりの酸素含有量を以下に述べる方法で算出した。それらの結果を以下の表1に示す。
[Evaluation 1]
For the nickel powders obtained in the examples and comparative examples, the tap density TD and apparent density AD were measured by the above-mentioned method. The aspect ratio L/W was also measured by the above-mentioned method. Furthermore, the particle size D50 and BET specific surface area SSA were measured by the method described below. Furthermore, the magnetic properties of the nickel powders were measured by the method described below. Furthermore, the value of SSA x TD/ D50 was calculated by the method described below. Furthermore, the crystallite size of the nickel and the oxygen concentration of the nickel powder were measured by the method described below. Furthermore, the oxygen content per BET specific surface area was calculated by the method described below. The results are shown in Table 1 below.

〔粒径D50
ニッケル粉を少量ビーカーに取り、3%トリトンX溶液(関東化学株式会社製)を2、3滴添加し、粉末になじませてから、0.1%SNディスパーサント41溶液(サンノプコ株式会社製)50mLを添加した。その後、超音波分散器TIPφ20(株式会社日本精機製作所製、OUTPUT:8、TUNING:5)を用いて2分間分散処理して測定用サンプルを調製した。この測定用サンプルを、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置MT3300(日機装株式会社製)を用いて、粒径D50を測定した。
[Particle size D50 ]
A small amount of nickel powder was placed in a beaker, and a few drops of 3% Triton X solution (Kanto Chemical Co., Ltd.) were added and mixed with the powder, followed by adding 50 mL of 0.1% SN Dispersant 41 solution (San Nopco Co., Ltd.). The mixture was then dispersed for 2 minutes using an ultrasonic disperser TIPφ20 (Nihon Seiki Seisakusho Co., Ltd., OUTPUT: 8, TUNING: 5) to prepare a measurement sample. The particle size D 50 of this measurement sample was measured using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring device MT3300 (Nikkiso Co., Ltd.).

〔BET比表面積SSA〕
ユアサアイオニクス株式会社製モノソーブを用い、BET1点法で測定した。
[BET specific surface area SSA]
The measurement was performed by a BET single point method using a Monosorb manufactured by Yuasa Ionics Co., Ltd.

〔磁気特性〕
振動試料型磁気測定装置(型式:VSM-5、東英工業(株)製)を用いた。実施例及び比較例で得られたニッケル粉を、内径6mm、高さ2mmのセルに詰めて前記装置にセットした。±795.8kA/m(=±10kOe)の範囲で磁場を掃引しながら測定を行い、ヒステリシスカーブを作成した。このヒステリシスカーブに基づき飽和磁化、残留磁化及び保磁力を求めた。
[Magnetic properties]
A vibrating sample magnetic measuring device (model: VSM-5, manufactured by Toei Kogyo Co., Ltd.) was used. The nickel powder obtained in the examples and comparative examples was packed into a cell with an inner diameter of 6 mm and a height of 2 mm, and set in the device. Measurements were performed while sweeping the magnetic field in the range of ±795.8 kA/m (=±10 kOe), and a hysteresis curve was created. The saturation magnetization, residual magnetization, and coercivity were determined based on this hysteresis curve.

〔SSA×TD/D50
上述の方法により測定したBET比表面積の値、タップ密度TD、及び粒径D50の値から、SSA×TD/D50の値をそれぞれ算出した。
[SSA×TD/D 50 ]
The value of SSA×TD/D 50 was calculated from the values of the BET specific surface area, the tap density TD, and the particle size D 50 measured by the above-mentioned methods.

〔結晶子サイズ〕
実施例及び比較例で得られたニッケル粉について、理学電機株式会社製RINT2000X線回折装置を用いてX線回折測定を行った。得られた回折ピークを用い、シェラー法によって結晶子サイズを算出した。X線回折条件は、2θ/θ=5~80deg、ステップ幅=0.01deg、スキャン速度=0.2deg/min、特性X線=Cu-Kα1線、1D検出器とした。結晶子サイズは、シェラー定数として0.94を採用し、Ni(111)のピークの半値幅から算出した。
[Crystallite size]
The nickel powder obtained in the examples and comparative examples was subjected to X-ray diffraction measurement using a RINT2000 X-ray diffractometer manufactured by Rigaku Corporation. The obtained diffraction peaks were used to calculate the crystallite size by the Scherrer method. The X-ray diffraction conditions were 2θ/θ=5-80 deg, step width=0.01 deg, scan speed=0.2 deg/min, characteristic X-ray=Cu-Kα1 ray, and 1D detector. The crystallite size was calculated from the half-width of the Ni(111) peak using a Scherrer constant of 0.94.

〔酸素濃度〕
実施例及び比較例で得られたニッケル粉を黒鉛るつぼに入れ、株式会社堀場製作所製EMGA-820STを用いて、He雰囲気中で加熱溶融させた。それによって発生した一酸化炭素(二酸化炭素)を非分散型赤外吸収法によって計測し酸素濃度(質量%)を測定した。
[Oxygen Concentration]
The nickel powder obtained in the examples and comparative examples was placed in a graphite crucible and heated and melted in a He atmosphere using an EMGA-820ST manufactured by Horiba, Ltd. The carbon monoxide (carbon dioxide) generated by the crucible was measured by a non-dispersive infrared absorption method to measure the oxygen concentration (mass%).

〔BET比表面積あたりの酸素量〕
上述の方法により測定した酸素濃度、及び上述の方法により測定したBET比表面積の値から、BET比表面積あたりの酸素含有量を算出した。
[Oxygen content per BET specific surface area]
The oxygen content per BET specific surface area was calculated from the oxygen concentration measured by the above-mentioned method and the value of the BET specific surface area measured by the above-mentioned method.

〔評価2〕
実施例及び比較例で得られたニッケル粉とシリコーンシーラント(株式会社スリーボンド製、型番5211)とを混合した。混合の比率は、シリコーンシーラントに対してニッケル粉が80%となるようにした。
更にニッケル粉の質量と同じ質量のトルエンを添加して得られた混合物を、株式会社シンキー製ミキサー(あわとり練太郎(登録商標)、型番AR-100)を用いて十分に混合してペーストを調製した。
このペーストをガラス板上に塗工し、大気中、180℃で3時間乾燥させて導電膜を得た。この導電膜について、抵抗率測定器(三菱ケミカル株式会社製、MCP-T600)を用い、4探針法によって電気抵抗を測定した。また、マイクロメーターを用いて導電膜の厚さを測定し、比抵抗(Ω・cm)=幅(cm)×厚さ(μm)×電気抵抗(Ω)/(長さ(cm)×10)の式から導電膜の比抵抗を算出した。その結果を以下の表1に示す。同表には、導電膜の厚さも併記した。
[Evaluation 2]
The nickel powder obtained in the examples and comparative examples was mixed with a silicone sealant (manufactured by ThreeBond Co., Ltd., model number 5211) in a mixing ratio of 80% nickel powder to silicone sealant.
Further, toluene in an amount equal to the mass of the nickel powder was added, and the resulting mixture was thoroughly mixed using a mixer manufactured by Thinky Corporation (Awatori Rentaro (registered trademark), model number AR-100) to prepare a paste.
This paste was applied onto a glass plate and dried in air at 180°C for 3 hours to obtain a conductive film. The electrical resistance of this conductive film was measured by a four-probe method using a resistivity meter (MCP-T600, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The thickness of the conductive film was measured using a micrometer, and the resistivity of the conductive film was calculated from the formula: resistivity (Ω·cm) = width (cm) × thickness (μm) × electrical resistance (Ω) / (length (cm) × 10 4 ). The results are shown in Table 1 below. The thickness of the conductive film is also shown in the table.

Figure 0007699524000001
Figure 0007699524000001

表1に示すとおり、各実施例で得られた導電膜は、ニッケル粉の配合量が80%という比較的少ない量であっても、十分な導電性を示すことが分かる。これに対して比較例1及び2で得られた導電膜では、ニッケル粉の配合量が少ないことに起因して、十分な導電性が発現しなかった。 As shown in Table 1, the conductive films obtained in each example exhibit sufficient conductivity even when the amount of nickel powder mixed is a relatively small amount of 80%. In contrast, the conductive films obtained in Comparative Examples 1 and 2 did not exhibit sufficient conductivity due to the small amount of nickel powder mixed.

Claims (10)

残留磁化が7.0A・m/kg以上であり、
レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50(μm)が1.0μm以上5.0μm以下であり、
JIS Z2512に準拠して測定されたタップ密度TD(g/cm)が1.5g/cm以上3.5g/cm以下であり、
BET比表面積をSSA(m/g)としたとき、SSA×TD/D50で定義される値が0.5以上である、ニッケル粉。
The residual magnetization is 7.0 A·m 2 /kg or more,
a volume cumulative particle size D 50 (μm) at a cumulative volume of 50% by volume as measured by a laser diffraction/scattering particle size distribution measurement method is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less;
The tap density TD (g/cm 3 ) measured in accordance with JIS Z2512 is 1.5 g/cm 3 or more and 3.5 g/cm 3 or less,
A nickel powder having a BET specific surface area of 0.5 or more as defined by SSA×TD/ D50 , where SSA is m 2 /g.
残留磁化が10A・m/kg以上である、請求項1に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to claim 1, having a residual magnetization of 10 A·m 2 /kg or more. 飽和磁化が10A・m/kg以上である、請求項1又は2に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to claim 1 or 2, having a saturation magnetization of 10 A·m 2 /kg or more. 保磁力が10kA/m以上30kA/m以下である、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to any one of claims 1 to 3, having a coercive force of 10 kA/m or more and 30 kA/m or less. 前記D50が1.5μm以上5.0μm以下である、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to any one of claims 1 to 4, wherein the D50 is 1.5 µm or more and 5.0 µm or less. 前記SSAが1.0m/g以上3.0m/g以下である、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to any one of claims 1 to 5, wherein the SSA is 1.0 m 2 /g or more and 3.0 m 2 /g or less. 前記SSAあたりの酸素含有量が0.5質量%/(m/g)以下である、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のニッケル粉。 The nickel powder according to claim 1 , wherein the oxygen content per SSA is 0.5 mass%/(m 2 /g) or less. JIS Z2504に準拠して測定された見掛密度ADが1.0g/cm以上2.5g/cm以下であり、
前記TDに対する、前記ADの比であるAD/TDの値が0.73以上0.93以下である、請求項1ないし7のいずれか一項に記載のニッケル粉。
The apparent density AD measured in accordance with JIS Z2504 is 1.0 g/cm 3 or more and 2.5 g/cm 3 or less,
The nickel powder according to any one of claims 1 to 7, wherein the ratio of the AD to the TD, that is, the value of AD/TD, is 0.73 or more and 0.93 or less.
請求項1ないし8のいずれか一項に記載のニッケル粉及び有機溶媒を含む導電性組成物。 A conductive composition comprising the nickel powder according to any one of claims 1 to 8 and an organic solvent. 請求項9に記載の導電性組成物の乾燥体からなる導電膜。 A conductive film comprising a dried body of the conductive composition according to claim 9.
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