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JP7701202B2 - Optical film with release film - Google Patents
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JP7701202B2 - Optical film with release film - Google Patents

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Description

本発明は、剥離フィルム付き光学フィルムに関する。 The present invention relates to an optical film with a release film.

ディスプレイパネルは、例えば、画素パネル、タッチパネル、および透明カバーフィルムなどを含む積層構造を有する。ディスプレイパネルの積層構造中には、所定の光学機能を有する光学フィルムが設けられる。光学フィルムとしては、例えば、フィルム状の偏光板、および位相差フィルムが挙げられる。当該光学フィルムは、例えば、光学フィルムの両面のそれぞれに粘着剤層と剥離フィルムとが設けられた剥離フィルム付き光学フィルムとして、製造される。剥離フィルム付き光学フィルムについては、例えば下記の特許文献1に記載されている。 The display panel has a laminated structure including, for example, a pixel panel, a touch panel, and a transparent cover film. An optical film having a predetermined optical function is provided in the laminated structure of the display panel. Examples of the optical film include a film-like polarizing plate and a retardation film. The optical film is manufactured, for example, as an optical film with a release film, in which an adhesive layer and a release film are provided on each of both sides of the optical film. The optical film with a release film is described, for example, in Patent Document 1 below.

特開2020-190754号公報JP 2020-190754 A

図6は、従来の剥離フィルム付き光学フィルムの一例としてのフィルムZの断面模式図である。フィルムZは、剥離フィルム91と、粘着剤層92と、光学フィルム93と、粘着剤層94と、剥離フィルム95とを厚さ方向Tに順に備える。粘着剤層92は、光学フィルム93の一方面に貼着している。粘着剤層94は、光学フィルム93の他方面に貼着している。剥離フィルム91は、粘着剤層92に剥離可能に貼着している。剥離フィルム95は、粘着剤層94に剥離可能に貼着している。フィルムZの端部E’では、剥離フィルム91の端縁91eと、粘着剤層92の端縁92eと、光学フィルム93の端縁93eと、粘着剤層94の端縁94eと、剥離フィルム95の端縁95eとが、互いに面一である。 Figure 6 is a schematic cross-sectional view of film Z as an example of a conventional optical film with a release film. Film Z includes a release film 91, an adhesive layer 92, an optical film 93, an adhesive layer 94, and a release film 95, arranged in that order in the thickness direction T. The adhesive layer 92 is attached to one side of the optical film 93. The adhesive layer 94 is attached to the other side of the optical film 93. The release film 91 is releasably attached to the adhesive layer 92. The release film 95 is releasably attached to the adhesive layer 94. At the end E' of film Z, the edge 91e of the release film 91, the edge 92e of the adhesive layer 92, the edge 93e of the optical film 93, the edge 94e of the adhesive layer 94, and the edge 95e of the release film 95 are flush with each other.

このようなフィルムZがディスプレイパネルの製造過程で用いられる場合、まず、粘着剤層92から剥離フィルム91が剥離される(第1剥離工程)。この工程では、まず、フィルムZの端部E’において、剥離フィルム91を粘着剤層92からめくり上げるための力が剥離開始用の負荷として、剥離フィルム91に与えられる。この負荷には、端部E’において剥離フィルム91を充分に変形させるのに要する力と、剥離フィルム91の変形に追随して弾性変形する粘着剤層92から剥離フィルム91を引き離すために要する力とが、共に含まれる。端部E’においては、このような負荷の付与により、剥離フィルム91の端部が、粘着剤層92の端縁92eから引き離されるように変形される。これに続いて、剥離フィルム91と粘着剤層92との間の引き離しが進行するように、剥離フィルム91の端部が端縁92eから離れる方向に引っ張られ、粘着剤層92から剥離フィルム91が外される。この後、露出した粘着剤層92を介して、光学フィルム93と画素パネルなどの第1の被着体(図示略)とが接合される。次に、粘着剤層94から剥離フィルム95が剥離される(第2剥離工程)。次に、当該剥離によって露出した粘着剤層94を介して、光学フィルム93と第2の被着体(図示略)とが接合される。 When such a film Z is used in the manufacturing process of a display panel, first, the release film 91 is peeled off from the adhesive layer 92 (first peeling process). In this process, first, at the end E' of the film Z, a force for lifting the release film 91 from the adhesive layer 92 is applied to the release film 91 as a load for starting peeling. This load includes both the force required to sufficiently deform the release film 91 at the end E' and the force required to pull the release film 91 away from the adhesive layer 92 that elastically deforms following the deformation of the release film 91. At the end E', the application of such a load causes the end of the release film 91 to deform so as to be pulled away from the edge 92e of the adhesive layer 92. Following this, the end of the release film 91 is pulled in a direction away from the edge 92e so that the peeling between the release film 91 and the adhesive layer 92 progresses, and the release film 91 is removed from the adhesive layer 92. After this, the optical film 93 is bonded to a first adherend (not shown) such as a pixel panel through the exposed adhesive layer 92. Next, the release film 95 is peeled off from the adhesive layer 94 (second peeling process). Next, the optical film 93 is bonded to a second adherend (not shown) through the adhesive layer 94 exposed by this peeling.

一方、例えばスマートフォン用およびタブレット端末用に、繰り返し折り曲げ可能(フォルダブル)なディスプレイパネルの開発が進んでいる。フォルダブルなディスプレイパネルでは、積層構造中の各要素が薄くてフレキシブルであることが求められる。 Meanwhile, progress is being made in the development of foldable display panels that can be repeatedly folded, for example for use in smartphones and tablet devices. In foldable display panels, each element in the laminated structure is required to be thin and flexible.

しかしながら、従来のフィルムZでは、光学フィルム93が薄いほど、上述の第1剥離工程での剥離開始用の負荷が、フィルムZの端部E’において光学フィルム93の有意な変形を引き起こしやすい。そのような光学フィルム93の変形は、光学フィルム93に貼着している粘着剤層94の変形を引き起こし、粘着剤層94の端縁94eを剥離フィルム95から引き離す。端縁94eが剥離フィルム95から一旦離れると、粘着剤層94と剥離フィルム95との間の分離が進行しやすい。第1剥離工程において、粘着剤層94と剥離フィルム95との間の分離が進行すると、次工程を実施できない。 However, in the conventional film Z, the thinner the optical film 93, the more likely it is that the load for initiating peeling in the first peeling step described above will cause significant deformation of the optical film 93 at the end E' of the film Z. Such deformation of the optical film 93 causes deformation of the adhesive layer 94 attached to the optical film 93, and pulls the edge 94e of the adhesive layer 94 away from the release film 95. Once the edge 94e is separated from the release film 95, separation between the adhesive layer 94 and the release film 95 is likely to progress. If separation between the adhesive layer 94 and the release film 95 progresses in the first peeling step, the next step cannot be carried out.

本発明は、両面粘着剤層付きの薄い光学フィルムから、重剥離フィルムの剥離を抑制しつつ軽剥離フィルムを剥離するのに適した、剥離フィルム付き光学フィルムを提供する。 The present invention provides an optical film with a release film that is suitable for peeling a light release film from a thin optical film with double-sided adhesive layers while suppressing peeling of the heavy release film.

本発明[1]は、第1面および当該第1面とは反対側の第2面を有する光学フィルムと、前記第1面に貼着し、且つ前記光学フィルムとは反対側に第1粘着面を有する、第1粘着剤層と、前記第2面に貼着し、且つ前記光学フィルムとは反対側に第2粘着面を有する、第2粘着剤層と、を備える粘着剤層付き光学フィルムと、前記第1粘着面上に配置された軽剥離フィルムと、前記第2粘着面上に配置された重剥離フィルムと、を備え、前記光学フィルムが100μm以下の厚さを有し、前記光学フィルムの前記厚さの方向と直交する面内方向において、前記光学フィルム、前記軽剥離フィルム、および前記重剥離フィルムの各端縁よりも、前記第1粘着剤層の第1端縁および前記第2粘着剤層の第2端縁が退避している、側面凹凸端部を有し、前記側面凹凸端部では、前記軽剥離フィルムの端縁からの前記第1端縁の第1退避長さが、前記重剥離フィルムの端縁からの前記第2端縁の第2退避長さより小さい、剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [1] includes an optical film with an adhesive layer, the optical film including an optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, a first adhesive layer attached to the first surface and having a first adhesive surface opposite to the optical film, and a second adhesive layer attached to the second surface and having a second adhesive surface opposite to the optical film, a light release film arranged on the first adhesive surface, and a heavy release film arranged on the second adhesive surface, the optical film having a thickness of 100 μm or less, a side uneven end portion in which the first edge of the first adhesive layer and the second edge of the second adhesive layer are recessed from the respective edges of the optical film, the light release film, and the heavy release film in an in-plane direction perpendicular to the thickness direction of the optical film, and the side uneven end portion has a first recession length of the first edge from the edge of the light release film smaller than a second recession length of the second edge from the edge of the heavy release film.

本発明の剥離フィルム付き光学フィルムの側面凹凸端部では、上記のように、光学フィルムの面内方向において、当該光学フィルム、軽剥離フィルム、および重剥離フィルムの各端縁よりも、第1粘着剤層の第1端縁が退避している。このような側面凹凸端部では、軽剥離フィルムが、第1粘着剤層が貼着していないフリーな部分を有する。そのため、側面凹凸端部では、第1粘着剤層から軽剥離フィルムを剥離するにあたり、まず、軽剥離フィルムのフリー部分をめくり上げて変形させ、その後に、既にめくり上げ変形している軽剥離フィルムの端部を引っ張って、軽剥離フィルムを第1粘着剤層の第1端縁から引き離すことができる。すなわち、剥離開始過程において、軽剥離フィルムの端部を充分に変形させるための力(第1の力)と、軽剥離フィルムの変形に追随して弾性変形する第1粘着剤層の第1端縁から軽剥離フィルムを引き離すための力(第2の力)とが、同時には必要ない(これに対し、上述のフィルムZでは、第1の力と第2の力とが同時に必要であり、従って、剥離開始過程に要する力が大きい)。このような剥離フィルム付き光学フィルムは、剥離開始過程に要する力を低減するのに適する。この力が小さいほど、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、厚さ100μm以下と薄い光学フィルムの変形が抑制されて第2粘着剤層の変形も抑制され、従って、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることが抑制される。 At the uneven side end of the optical film with release film of the present invention, as described above, the first edge of the first adhesive layer is retracted from the edges of the optical film, the light release film, and the heavy release film in the in-plane direction of the optical film. At such an uneven side end, the light release film has a free portion to which the first adhesive layer is not attached. Therefore, at the uneven side end, when peeling the light release film from the first adhesive layer, the free portion of the light release film is first turned up and deformed, and then the end of the light release film that has already been turned up and deformed is pulled to separate the light release film from the first edge of the first adhesive layer. That is, in the peeling start process, the force (first force) for sufficiently deforming the end of the light release film and the force (second force) for pulling the light release film away from the first edge of the first adhesive layer, which elastically deforms following the deformation of the light release film, are not required at the same time (in contrast, in the above-mentioned film Z, the first force and the second force are required at the same time, and therefore the force required in the peeling start process is large). Such an optical film with a release film is suitable for reducing the force required in the peeling start process. The smaller this force is, the more the deformation of the thin optical film with a thickness of 100 μm or less is suppressed in the peeling start process of the light release film, and the deformation of the second adhesive layer is also suppressed, and therefore the second edge of the second adhesive layer is suppressed from separating from the heavy release film.

また、本剥離フィルム付き光学フィルムの側面凹凸端部では、上記のように、第1退避長さ(フィルム面内方向における軽剥離フィルムの端縁から第1粘着剤層の第1端縁までの距離)が、第2退避長さ(フィルム面内方向における、重剥離フィルムの端縁から第2粘着剤層の第2端縁までの距離)より、小さい。すなわち、側面凹凸端部では、フィルム面内方向において、第2粘着剤層の第2端縁は、第1粘着剤層の第1端縁よりも退避している。このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第1粘着剤層の第1端縁から軽剥離フィルムを引き離すための上記第2の力が本剥離フィルム付き光学フィルムに対して作用する時に、第2粘着剤層の変形を抑制するのに適し、従って、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制するのに適する。 In addition, as described above, at the side unevenness end of the optical film with the release film, the first retraction length (the distance from the edge of the light release film in the in-plane direction of the film to the first edge of the first adhesive layer) is smaller than the second retraction length (the distance from the edge of the heavy release film to the second edge of the second adhesive layer in the in-plane direction of the film). That is, at the side unevenness end, the second edge of the second adhesive layer is retracted from the first edge of the first adhesive layer in the in-plane direction of the film. This configuration is suitable for suppressing deformation of the second adhesive layer when the second force for pulling the light release film away from the first edge of the first adhesive layer acts on the optical film with the release film during the process of starting to release the light release film, and therefore is suitable for suppressing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film.

本発明[2]は、前記面内方向における前記第1端縁と前記第2端縁との間の距離が1μm以上である、上記[1]に記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [2] includes the optical film with a release film described in [1] above, in which the distance between the first edge and the second edge in the in-plane direction is 1 μm or more.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第2粘着剤層の上述の変形を抑制するのに好ましく、従って、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制するのに好ましい。 This configuration is preferable for suppressing the above-mentioned deformation of the second adhesive layer during the initiation of peeling of the light release film, and is therefore preferable for suppressing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film.

本発明[3]は、前記第1退避長さが20μm以上である、上記[1]または[2]に記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [3] includes the optical film with release film described in [1] or [2] above, in which the first retraction length is 20 μm or more.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第1粘着剤層の第1端縁からの軽剥離フィルムの引き離しの前に、軽剥離フィルムの端部(上記フリー部分)を充分にめくり上げて変形させるのに適し、従って、軽剥離フィルムの剥離開始に要する正味の力を低減するのに好ましい。 This configuration is suitable for sufficiently turning up and deforming the end portion (the free portion) of the light release film before the light release film is pulled away from the first edge of the first adhesive layer during the process of initiating peeling of the light release film, and is therefore preferable for reducing the net force required to initiate peeling of the light release film.

本発明[4]は、前記第1粘着剤層の厚さに対する前記第1退避長さの比率が0.4以上8以下である、上記[1]から[3]のいずれか一つに記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [4] includes an optical film with a release film according to any one of [1] to [3] above, in which the ratio of the first retraction length to the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer is 0.4 or more and 8 or less.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第1粘着剤層の第1端縁からの軽剥離フィルムの引き離しの前に、軽剥離フィルムの端部(上記フリー部分)を充分にめくり上げて変形させるのに適し、従って、軽剥離フィルムの剥離開始に要する正味の力を低減するのに好ましい。 This configuration is suitable for sufficiently turning up and deforming the end portion (the free portion) of the light release film before the light release film is pulled away from the first edge of the first adhesive layer during the process of initiating peeling of the light release film, and is therefore preferable for reducing the net force required to initiate peeling of the light release film.

本発明[5]は、前記第1粘着面からの前記軽剥離フィルムの剥離を開始するための第1剥離開始力が、前記第2粘着面からの前記重剥離フィルムの剥離を開始するための第2剥離開始力より小さい、上記[1]から[4]のいずれか一つに記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [5] includes an optical film with a release film according to any one of [1] to [4] above, in which a first peel initiation force for initiating peeling of the light release film from the first adhesive surface is smaller than a second peel initiation force for initiating peeling of the heavy release film from the second adhesive surface.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第2粘着剤層の上述の変形を抑制するのに好ましく、従って、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制するのに好ましい。 This configuration is preferable for suppressing the above-mentioned deformation of the second adhesive layer during the initiation of peeling of the light release film, and is therefore preferable for suppressing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film.

本発明[6]は、前記第2剥離開始力に対する前記第1剥離開始力の比率が0.8以下である、上記[5]に記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [6] includes the optical film with a release film described in [5] above, in which the ratio of the first peel initiation force to the second peel initiation force is 0.8 or less.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第2粘着剤層の上述の変形を抑制するのに好ましく、従って、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制するのに好ましい。 This configuration is preferable for suppressing the above-mentioned deformation of the second adhesive layer during the initiation of peeling of the light release film, and is therefore preferable for suppressing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film.

本発明[7]は、前記第1剥離開始力が800gf/25mm未満である、上記[6]に記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [7] includes the optical film with a release film described in [6] above, in which the first peel initiation force is less than 800 gf/25 mm.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制するとともに、光学フィルムへの負荷を低減するのに好ましい。 This configuration is preferable for preventing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film during the start of peeling of the light release film, and for reducing the load on the optical film.

本発明[8]は、前記第2剥離開始力が800gf/25mm以下である、上記[6]または[7]に記載の剥離フィルム付き光学フィルムを含む。 The present invention [8] includes an optical film with a release film according to the above [6] or [7], in which the second peel initiation force is 800 gf/25 mm or less.

このような構成は、軽剥離フィルムの剥離開始過程において、第2粘着剤層の第2端縁が重剥離フィルムから離れることを抑制する一方で、第2粘着剤層からの重剥離フィルムの剥離開始過程において、光学フィルムへの負荷を低減するのに好ましい。 This configuration is preferable for preventing the second edge of the second adhesive layer from separating from the heavy release film during the process of initiating peeling of the light release film, while reducing the load on the optical film during the process of initiating peeling of the heavy release film from the second adhesive layer.

本発明の剥離フィルム付き光学フィルムの一実施形態の断面模式図である。1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of an optical film with a release film of the present invention. 図1に示す剥離フィルム付き光学フィルムの部分拡大断面模式図である。2 is a partially enlarged schematic cross-sectional view of the optical film with a release film shown in FIG. 1. 本発明の剥離フィルム付き光学フィルムの使用方法の一例を表す。図3Aは、軽剥離フィルムを剥離する第1剥離工程を表し、図3Bは、第1粘着剤層を介して光学フィルムと第1被着体とを接合する第1接合工程を表し、図3Cは、重剥離フィルムを剥離する第2剥離工程を表し、図3Dは、第2粘着剤層を介して光学フィルムと第2被着体とを接合する第2接合工程を表す。An example of a method of using the optical film with a release film of the present invention is shown in Fig. 3A, which shows a first peeling step of peeling off a light release film, Fig. 3B, which shows a first bonding step of bonding an optical film to a first adherend via a first pressure-sensitive adhesive layer, Fig. 3C, which shows a second peeling step of peeling off a heavy release film, and Fig. 3D, which shows a second bonding step of bonding an optical film to a second adherend via a second pressure-sensitive adhesive layer. 実施例および比較例における外形加工工程で使用した回転刃における刃角度を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the blade angle of the rotary blade used in the external shaping process in the examples and comparative examples. 粘着剤層上の剥離フィルムを粘着剤層から剥離する剥離試験によって得られるグラフの一例を表す。1 shows an example of a graph obtained by a peel test in which a release film on a pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer. 従来の剥離フィルム付き光学フィルムの断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional optical film with a release film.

本発明の剥離フィルム付き光学フィルムの一実施形態としての光学フィルムXは、図1に示すように、軽剥離フィルム40と、粘着剤層付き光学フィルムYと、重剥離フィルム50とを厚さ方向Tに順に備える。光学フィルムXは、厚さ方向Tと直交する面内方向Dに延びる。粘着剤層付き光学フィルムYは、フォルダブルデバイスにおける光通過箇所に配置される要素である。フォルダブルデバイスとしては、例えば、フォルダブルディスプレイパネルが挙げられる。フォルダブルディスプレイパネルは、例えば、画素パネル、タッチパネル、およびカバーフィルムなどを含む積層構造を有する。フォルダブルディスプレイパネルの積層構造中には、所定の光学機能を有する光学フィルムが設けられる場合がある。光学フィルムとしては、例えば、フィルム状の偏光板、および位相差フィルムが挙げられる。粘着剤層付き光学フィルムYは、フォルダブルディスプレイパネルの製造過程において、上記積層構造に含まれる光学フィルムの供給材として用いられる。 As shown in FIG. 1, the optical film X as an embodiment of the optical film with a release film of the present invention includes a light release film 40, an optical film Y with an adhesive layer, and a heavy release film 50 in this order in the thickness direction T. The optical film X extends in an in-plane direction D perpendicular to the thickness direction T. The optical film Y with an adhesive layer is an element disposed at a light passing portion in a foldable device. An example of a foldable device is a foldable display panel. The foldable display panel has a layered structure including, for example, a pixel panel, a touch panel, and a cover film. An optical film having a predetermined optical function may be provided in the layered structure of the foldable display panel. Examples of the optical film include a film-like polarizing plate and a retardation film. The optical film Y with an adhesive layer is used as a supply material for the optical film included in the layered structure in the manufacturing process of the foldable display panel.

粘着剤層付き光学フィルムYは、厚さ100μm以下の光学フィルム10と、粘着剤層20(第1粘着剤層)と、粘着剤層30(第2粘着剤層)とを備える。光学フィルム10は、第1面11と、当該第1面11とは反対側の第2面12とを有する。粘着剤層20は、第1面11に貼着し、且つ、光学フィルム10とは反対側に粘着面21(第1粘着面)を有する。軽剥離フィルム40は、粘着面21上に配置されている。粘着剤層30は、第2面12に貼着し、且つ、光学フィルム10とは反対側に粘着面31(第2粘着面)を有する。重剥離フィルム50は、粘着面31上に配置されている。また、平面視外郭形状を規定する端縁として、光学フィルム10は端縁13を有し、粘着剤層20は端縁22(第1端縁)を有し、粘着剤層30は端縁32(第2端縁)を有し、軽剥離フィルム40は端縁42を有し、重剥離フィルム50は端縁52を有する。 The optical film Y with adhesive layer comprises an optical film 10 having a thickness of 100 μm or less, an adhesive layer 20 (first adhesive layer), and an adhesive layer 30 (second adhesive layer). The optical film 10 has a first surface 11 and a second surface 12 opposite to the first surface 11. The adhesive layer 20 is attached to the first surface 11 and has an adhesive surface 21 (first adhesive surface) opposite to the optical film 10. The light release film 40 is disposed on the adhesive surface 21. The adhesive layer 30 is attached to the second surface 12 and has an adhesive surface 31 (second adhesive surface) opposite to the optical film 10. The heavy release film 50 is disposed on the adhesive surface 31. In addition, as edges that define the planar outer shape, the optical film 10 has edge 13, the adhesive layer 20 has edge 22 (first edge), the adhesive layer 30 has edge 32 (second edge), the light release film 40 has edge 42, and the heavy release film 50 has edge 52.

光学フィルムXは、同フィルムの外周端の全部または一部に、図2に示すように、側面凹凸端部Eを有する。側面凹凸端部Eでは、面内方向Dにおいて、光学フィルム10、軽剥離フィルム40、および重剥離フィルム50の端縁13,42,52よりも、粘着剤層20,30の端縁22,32は退避している。また、側面凹凸端部Eでは、軽剥離フィルム40の端縁42からの粘着剤層20の端縁22の第1退避長さd1は、重剥離フィルム50の端縁52からの粘着剤層30の端縁32の第2退避長さd2より小さい。第1退避長さd1は、面内方向Dにおける端縁22,42間の距離である。第2退避長さd2は、面内方向Dにおける端縁32,52間の距離である。第1退避長さd1の調整方法としては、例えば、粘着剤層20の厚さの調整および弾性率の調整が挙げられる。第2退避長さd2の調整方法としては、例えば、粘着剤層30の厚さの調整および弾性率の調整が挙げられる。また、面内方向Dにおける端縁22,32間の距離(即ち、第1退避長さd1と第2退避長さd2との差)の調整方法としては、例えば、側面凹凸端部Eを形成するために回転刃を用いて実施される後述の切断工程における切断条件の調整が、挙げられる。当該切断条件としては、例えば、回転刃の刃先のテーパ角度、回転刃の回転数、後述する光学フィルム積層体の表面に対する回転刃の入射方向、および、光学フィルム積層体を切削する回転刃の変位速度が挙げられる。 As shown in FIG. 2, the optical film X has a side uneven end E at all or part of the outer periphery of the film. At the side uneven end E, the edges 22, 32 of the adhesive layer 20, 30 are retracted from the edges 13, 42, 52 of the optical film 10, the light release film 40, and the heavy release film 50 in the in-plane direction D. Also, at the side uneven end E, the first retraction length d1 of the edge 22 of the adhesive layer 20 from the edge 42 of the light release film 40 is smaller than the second retraction length d2 of the edge 32 of the adhesive layer 30 from the edge 52 of the heavy release film 50. The first retraction length d1 is the distance between the edges 22, 42 in the in-plane direction D. The second retraction length d2 is the distance between the edges 32, 52 in the in-plane direction D. Examples of methods for adjusting the first retraction length d1 include adjusting the thickness of the adhesive layer 20 and adjusting the elastic modulus. Examples of methods for adjusting the second retraction length d2 include adjusting the thickness and elastic modulus of the adhesive layer 30. Examples of methods for adjusting the distance between the edges 22, 32 in the in-plane direction D (i.e., the difference between the first retraction length d1 and the second retraction length d2) include adjusting the cutting conditions in the cutting process described below, which is performed using a rotary blade to form the side uneven end E. Examples of the cutting conditions include the taper angle of the blade tip of the rotary blade, the rotation speed of the rotary blade, the incidence direction of the rotary blade with respect to the surface of the optical film laminate described below, and the displacement speed of the rotary blade that cuts the optical film laminate.

光学フィルムXの側面凹凸端部Eでは、上述のように、面内方向Dにおいて、光学フィルム10、軽剥離フィルム40、および重剥離フィルム50の端縁13,42,52よりも、粘着剤層20の端縁22が退避している。このような側面凹凸端部Eでは、軽剥離フィルム40が、粘着剤層20が貼着していないフリー部分40aを有する。そのため、側面凹凸端部Eでは、粘着剤層20から軽剥離フィルム40を剥離するにあたり、まず、軽剥離フィルム40のフリー部分40aを、図2において仮想線で示すように、めくり上げて変形させ、その後に、既にめくり上げ変形しているフリー部分40aを引っ張って、軽剥離フィルム40を粘着剤層20の端縁22から引き離すことができる。すなわち、剥離開始過程において、軽剥離フィルム40のフリー部分40aを充分に変形させるための力(第1の力)と、軽剥離フィルム40の変形に追随して弾性変形する粘着剤層20の端縁22から軽剥離フィルム40を引き離すための力(第2の力)とが、同時には必要ない。このような光学フィルムXは、剥離開始過程に要する力を低減するのに適する。この力が小さいほど、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、厚さ100μm以下と薄い光学フィルム10の変形が抑制されて粘着剤層30の変形も抑制され、従って、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることが抑制される。 At the side uneven end E of the optical film X, as described above, the edge 22 of the adhesive layer 20 is retracted from the edges 13, 42, 52 of the optical film 10, the light release film 40, and the heavy release film 50 in the in-plane direction D. At such a side uneven end E, the light release film 40 has a free portion 40a to which the adhesive layer 20 is not attached. Therefore, at the side uneven end E, when peeling the light release film 40 from the adhesive layer 20, first, the free portion 40a of the light release film 40 is turned up and deformed as shown by the imaginary line in FIG. 2, and then the free portion 40a that has already been turned up and deformed is pulled to separate the light release film 40 from the edge 22 of the adhesive layer 20. That is, in the peeling start process, a force (first force) for sufficiently deforming the free portion 40a of the light release film 40 and a force (second force) for pulling the light release film 40 away from the edge 22 of the adhesive layer 20 that elastically deforms following the deformation of the light release film 40 are not required at the same time. Such an optical film X is suitable for reducing the force required in the peeling start process. The smaller this force is, the more the deformation of the thin optical film 10 with a thickness of 100 μm or less is suppressed in the peeling start process of the light release film 40, and the deformation of the adhesive layer 30 is also suppressed, and therefore the edge 32 of the adhesive layer 30 is suppressed from separating from the heavy release film 50.

また、光学フィルムXの側面凹凸端部Eでは、上述のように、第1退避長さd1が、第2退避長さd2より小さい。すなわち、側面凹凸端部Eでは、面内方向Dにおいて、粘着剤層30の端縁32は、粘着剤層20の端縁22よりも退避している。このような構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層20の端縁22から軽剥離フィルム40を引き離すための上記第2の力が光学フィルムXに対して作用する時に、粘着剤層30の変形を抑制するのに適し、従って、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることを抑制するのに適する。 In addition, at the side unevenness end E of the optical film X, as described above, the first retraction length d1 is smaller than the second retraction length d2. That is, at the side unevenness end E, the edge 32 of the adhesive layer 30 is retracted from the edge 22 of the adhesive layer 20 in the in-plane direction D. This configuration is suitable for suppressing deformation of the adhesive layer 30 when the second force for pulling the light release film 40 away from the edge 22 of the adhesive layer 20 acts on the optical film X during the process of starting to release the light release film 40, and is therefore suitable for suppressing the edge 32 of the adhesive layer 30 from separating from the heavy release film 50.

以上のように、光学フィルムXは、粘着剤層20,30付きの薄い光学フィルム10から、重剥離フィルム50の剥離を抑制しつつ軽剥離フィルム40を剥離するのに適する。 As described above, the optical film X is suitable for peeling the light release film 40 from the thin optical film 10 with the pressure-sensitive adhesive layers 20, 30 while suppressing peeling of the heavy release film 50.

光学フィルムXにおいて、面内方向Dの端縁22,32間の距離は、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上、更に好ましくは10μm以上である。このような構成は、軽剥離フィルム40の上述の剥離開始過程において、粘着剤層20の上述の変形を抑制するのに好ましく、従って、粘着剤層40の端縁42が重剥離フィルム50から離れることを抑制するのに好ましい。また、面内方向Dの端縁22,32間の距離は、好ましくは300μm以下、より好ましくは250μm以下、更に好ましくは220μm以下である。このような構成は、光学フィルム10の端部のダメージを抑制するのに好ましく、また、光学フィルム10と粘着剤層20,30との間の接着面積の低下による光学フィルム10の端部の耐久性低下を、抑制するのに好ましい。 In the optical film X, the distance between the edges 22, 32 in the in-plane direction D is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and even more preferably 10 μm or more. Such a configuration is preferable for suppressing the above-mentioned deformation of the adhesive layer 20 during the above-mentioned peeling start process of the light release film 40, and therefore is preferable for suppressing the edge 42 of the adhesive layer 40 from separating from the heavy release film 50. In addition, the distance between the edges 22, 32 in the in-plane direction D is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, and even more preferably 220 μm or less. Such a configuration is preferable for suppressing damage to the edge of the optical film 10, and is also preferable for suppressing a decrease in durability of the edge of the optical film 10 due to a decrease in the adhesion area between the optical film 10 and the adhesive layers 20, 30.

第1退避長さd1は、好ましくは20μm以上、より好ましくは40μm以上、更に好ましくは60μm以上である。このような構成は、軽剥離フィルム40の上述の剥離開始過程において、粘着剤層20の端縁22からの軽剥離フィルム40の引き離しの前に、軽剥離フィルム40のフリー部分40aを充分にめくり上げて変形させるのに適し、従って、軽剥離フィルム40の剥離開始に要する正味の力を低減するのに好ましい。また、第1退避長さd1は、好ましくは500μm以下、より好ましくは400μm以下、更に好ましくは300μm以下である。第2退避長さd2は、第1退避長さd1より大きい限りにおいて、好ましくは21μm以上、より好ましくは41μm以上、更に好ましくは61μm以上である。第2退避長さd2は、第1退避長さd1より大きい限りにおいて、好ましくは550μm以下、より好ましくは450μm以下、更に好ましくは350μm以下である。第1退避長さd1に対する第2退避長さd2の比率(d2/d1)は、好ましくは1.1以上、より好ましくは1.2以上である。比率(d2/d1)は、好ましくは5以下、より好ましくは4以下である。 The first retraction length d1 is preferably 20 μm or more, more preferably 40 μm or more, and even more preferably 60 μm or more. Such a configuration is suitable for sufficiently turning up and deforming the free portion 40a of the light release film 40 before the light release film 40 is pulled away from the edge 22 of the adhesive layer 20 during the above-mentioned peeling start process of the light release film 40, and is therefore preferable for reducing the net force required to start peeling of the light release film 40. In addition, the first retraction length d1 is preferably 500 μm or less, more preferably 400 μm or less, and even more preferably 300 μm or less. The second retraction length d2 is preferably 21 μm or more, more preferably 41 μm or more, and even more preferably 61 μm or more, as long as it is greater than the first retraction length d1. The second retraction length d2 is preferably 550 μm or less, more preferably 450 μm or less, and even more preferably 350 μm or less, as long as it is greater than the first retraction length d1. The ratio (d2/d1) of the second retraction length d2 to the first retraction length d1 is preferably 1.1 or more, and more preferably 1.2 or more. The ratio (d2/d1) is preferably 5 or less, and more preferably 4 or less.

粘着剤層20の粘着面21からの軽剥離フィルム40の剥離を開始するための第1剥離開始力F1は、好ましくは、粘着剤層30の粘着面31からの重剥離フィルム50の剥離を開始するための第2剥離開始力F2より小さい。第2剥離開始力F2に対する第1剥離開始力F1の比率(F1/F2)は、好ましくは0.8以下、より好ましくは0.78以下である。比率(F1/F2)は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.15以上である。これら構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層20の上述の変形を抑制するのに好ましく、従って、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることを抑制するのに好ましい。 The first peel initiation force F1 for initiating peeling of the light release film 40 from the adhesive surface 21 of the adhesive layer 20 is preferably smaller than the second peel initiation force F2 for initiating peeling of the heavy release film 50 from the adhesive surface 31 of the adhesive layer 30. The ratio (F1/F2) of the first peel initiation force F1 to the second peel initiation force F2 is preferably 0.8 or less, more preferably 0.78 or less. The ratio (F1/F2) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.15 or more. These configurations are preferable for suppressing the above-mentioned deformation of the adhesive layer 20 during the peel initiation process of the light release film 40, and therefore are preferable for suppressing the edge 32 of the adhesive layer 30 from separating from the heavy release film 50.

剥離開始力とは、本実施形態においては、粘着剤層に剥離可能に貼着している剥離フィルムを当該粘着剤層から剥離するときの剥離開始過程で要する力である。剥離開始過程では、粘着剤層から離れる方向に剥離フィルムが変形するように、当該剥離フィルムに力が作用される。これにより、当該剥離フィルムに貼着している粘着剤層の端縁およびその近傍が、剥離フィルムの変形に追随するように、一旦、弾性変形する。そして、このように弾性変形した粘着剤層端部から剥離フィルムが引き離される程度に大きな力で剥離フィルムが引っ張られた場合に、粘着剤層の端縁およびその近傍と剥離フィルムとの間に開裂が生じ、剥離が開始する。すなわち、剥離開始力とは、剥離開始過程において、弾性変形した粘着剤層端部から剥離フィルムを引き離して粘着剤層からの剥離フィルムの剥離を開始させるのに要する力である。このような剥離開始力は、後記の実施例に関して後述する方法によって測定できる。このような剥離開始力の調整方法としては、例えば、剥離フィルムの厚さの調整、および、剥離フィルムの粘着剤層側表面における剥離処理剤の種類の選択が、挙げられる。 In this embodiment, the peeling initiation force is the force required in the peeling initiation process when the release film releasably attached to the adhesive layer is peeled off from the adhesive layer. In the peeling initiation process, a force is applied to the release film so that the release film deforms in a direction away from the adhesive layer. As a result, the edge of the adhesive layer attached to the release film and its vicinity are elastically deformed once so as to follow the deformation of the release film. Then, when the release film is pulled with a force large enough to pull the release film away from the elastically deformed end of the adhesive layer, a cleavage occurs between the edge of the adhesive layer and its vicinity and the release film, and peeling begins. That is, the peeling initiation force is the force required in the peeling initiation process to pull the release film away from the elastically deformed end of the adhesive layer to start peeling the release film from the adhesive layer. Such a peeling initiation force can be measured by the method described later in the examples below. Examples of methods for adjusting such a peeling initiation force include, for example, adjusting the thickness of the release film and selecting the type of release treatment agent on the adhesive layer side surface of the release film.

第1剥離開始力F1は、好ましくは800gf/25mm未満、より好ましくは500gf/25mm以下、更に好ましくは400gf/25mm以下である。このような構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることを抑制するとともに、光学フィルム10への負荷を低減するのに好ましい。また、第1剥離開始力F1は、好ましくは5gf/25mm以上、より好ましくは10gf/25mm以上、更に好ましくは20gf/25mm以上である。このような構成は、光学フィルムXの例えば輸送中およびハンドリング時において、粘着剤層20からの軽剥離フィルム40の浮き(部分的剥離)を抑制するのに好ましい。 The first peel initiation force F1 is preferably less than 800 gf/25 mm, more preferably 500 gf/25 mm or less, and even more preferably 400 gf/25 mm or less. This configuration is preferable for preventing the edge 32 of the adhesive layer 30 from separating from the heavy release film 50 during the peel initiation process of the light release film 40, and for reducing the load on the optical film 10. In addition, the first peel initiation force F1 is preferably 5 gf/25 mm or more, more preferably 10 gf/25 mm or more, and even more preferably 20 gf/25 mm or more. This configuration is preferable for preventing the light release film 40 from floating (partial peeling) from the adhesive layer 20, for example, during transportation and handling of the optical film X.

軽剥離フィルム40の粘着剤層20からの剥離開始後に当該軽剥離フィルム40を粘着剤層20の粘着面21から剥離するための剥離力f1は、好ましくは0.1gf/25mm以上、より好ましくは0.3gf/25mm以上、更に好ましくは0.5gf/25mm以上である。第1剥離力f1は、好ましくは5gf/25mm以下、より好ましくは4gf/25mm以下、更に好ましくは3gf/25mm以下である。 The peeling force f1 for peeling the light peeling film 40 from the adhesive surface 21 of the adhesive layer 20 after the start of peeling of the light peeling film 40 from the adhesive layer 20 is preferably 0.1 gf/25 mm or more, more preferably 0.3 gf/25 mm or more, and even more preferably 0.5 gf/25 mm or more. The first peeling force f1 is preferably 5 gf/25 mm or less, more preferably 4 gf/25 mm or less, and even more preferably 3 gf/25 mm or less.

第2剥離開始力F2は、好ましくは800gf/25mm以下、より好ましくは700gf/25mm以下、更に好ましくは600gf/25mm以下である。このような構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層20の端縁22が重剥離フィルム50から離れることを抑制する一方で、粘着剤層20からの重剥離フィルム50の剥離開始過程において、光学フィルム10への負荷を低減するのに好ましい。また、第2剥離開始力F2は、好ましくは10gf/25mm以上、より好ましくは20gf/25mm以上、更に好ましくは30gf/25mm以上である。このような構成は、光学フィルムXの例えば輸送中およびハンドリング時において、粘着剤層30からの重剥離フィルム50の浮き(部分的剥離)を抑制するのに好ましい。 The second peel initiation force F2 is preferably 800 gf/25 mm or less, more preferably 700 gf/25 mm or less, and even more preferably 600 gf/25 mm or less. This configuration is preferable for suppressing the edge 22 of the adhesive layer 20 from separating from the heavy release film 50 during the peel initiation process of the light release film 40, while reducing the load on the optical film 10 during the peel initiation process of the heavy release film 50 from the adhesive layer 20. In addition, the second peel initiation force F2 is preferably 10 gf/25 mm or more, more preferably 20 gf/25 mm or more, and even more preferably 30 gf/25 mm or more. This configuration is preferable for suppressing the lifting (partial peeling) of the heavy release film 50 from the adhesive layer 30, for example, during transportation and handling of the optical film X.

重剥離フィルム50の粘着剤層30からの剥離開始後に当該重剥離フィルム50を粘着剤層30の粘着面31から剥離するための剥離力f2は、好ましくは0.1gf/25mm以上、より好ましくは0.3gf/25mm以上、更に好ましくは0.5gf/25mm以上である。第2剥離力f2は、好ましくは5gf/25mm以下、より好ましくは4gf/25mm以下、更に好ましくは3gf/25mm以下である。また、第2剥離力f2に対する上述の第1剥離力f1の比率(f1/f2)は、好ましくは0.8以下、より好ましくは0.7以下である。比率(f1/f2)は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上である。 The peeling force f2 for peeling the heavy release film 50 from the adhesive surface 31 of the adhesive layer 30 after the start of peeling of the heavy release film 50 from the adhesive layer 30 is preferably 0.1 gf/25 mm or more, more preferably 0.3 gf/25 mm or more, and even more preferably 0.5 gf/25 mm or more. The second peeling force f2 is preferably 5 gf/25 mm or less, more preferably 4 gf/25 mm or less, and even more preferably 3 gf/25 mm or less. The ratio (f1/f2) of the first peeling force f1 to the second peeling force f2 is preferably 0.8 or less, and more preferably 0.7 or less. The ratio (f1/f2) is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more.

光学フィルム10が偏光板である場合、当該偏光板は、例えば、偏光子と、当該偏光子の片面または両面に貼り合わされた透明保護フィルムとを備える偏光板が挙げられる。偏光子としては、例えば、二色性物質を吸着させた一軸延伸の親水性高分子フィルム、および、ポリエン配向フィルムが挙げられる。親水性高分子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコールフィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコールフィルム、および、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化フィルムが挙げられる。二色性物質としては、例えば、ヨウ素および二色性染料が挙げられる。ポリエン配向フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコールの脱水処理物、および、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物が挙げられる。 When the optical film 10 is a polarizing plate, the polarizing plate may be, for example, a polarizing plate including a polarizer and a transparent protective film attached to one or both sides of the polarizer. Examples of polarizers include uniaxially stretched hydrophilic polymer films with a dichroic substance adsorbed thereon, and polyene-oriented films. Examples of hydrophilic polymer films include polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, and partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films. Examples of dichroic substances include iodine and dichroic dyes. Examples of polyene-oriented films include dehydrated polyvinyl alcohol and dehydrochlorinated polyvinyl chloride.

偏光子としては、厚さ10μm以下の薄型偏光子を用いてもよい。薄型偏光子としては、例えば、特開昭51-069644号公報、特開2000-338329号公報、WO2010/100917号、特許第4691205号、および特許第4751481号に記載されている偏光子が挙げられる。 As the polarizer, a thin polarizer having a thickness of 10 μm or less may be used. Examples of thin polarizers include the polarizers described in JP-A-51-069644, JP-A-2000-338329, WO2010/100917, Japanese Patent No. 4691205, and Japanese Patent No. 4751481.

透明保護フィルムとしては、透明性、機械強度、熱安定性、水分遮断性、および光学等方性に優れるフィルムが好ましい。そのような透明保護フィルムの材料としては、例えば、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、フェニルマレイミド樹脂、およびポリカーボネート樹脂が挙げられる。 The transparent protective film is preferably a film that is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, and optical isotropy. Examples of materials for such transparent protective films include cellulose resins, cyclic polyolefin resins, acrylic resins, phenylmaleimide resins, and polycarbonate resins.

偏光板の厚さは、フレキシブル性の観点から、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、更に好ましくは70μm以下である。 From the viewpoint of flexibility, the thickness of the polarizing plate is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and even more preferably 70 μm or less.

粘着剤層20は、第1粘着剤組成物から形成された感圧接着剤層である。粘着剤層20は、透明性(可視光透過性)を有する。第1粘着剤組成物は、少なくともベースポリマーを含有する。 The adhesive layer 20 is a pressure-sensitive adhesive layer formed from a first adhesive composition. The adhesive layer 20 has transparency (visible light transmittance). The first adhesive composition contains at least a base polymer.

ベースポリマーは、粘着剤層20において粘着性を発現させる粘着成分である。ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、シリコーンポリマー、ポリエステルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリアミドポリマー、ポリビニルエーテルポリマー、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィンポリマー、エポキシポリマー、フッ素ポリマー、およびゴムポリマーが挙げられる。ベースポリマーは、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。粘着剤層20における良好な透明性および粘着性を確保する観点から、ベースポリマーとしては、好ましくはアクリルポリマーが用いられる。 The base polymer is an adhesive component that exerts adhesiveness in the adhesive layer 20. Examples of base polymers include acrylic polymers, silicone polymers, polyester polymers, polyurethane polymers, polyamide polymers, polyvinyl ether polymers, vinyl acetate/vinyl chloride copolymers, modified polyolefin polymers, epoxy polymers, fluoropolymers, and rubber polymers. The base polymers may be used alone or in combination of two or more types. From the viewpoint of ensuring good transparency and adhesiveness in the adhesive layer 20, an acrylic polymer is preferably used as the base polymer.

アクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを50質量%以上の割合で含むモノマー成分の共重合体である。「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸および/またはメタクリル酸を意味する。 An acrylic polymer is a copolymer of monomer components containing 50% or more by weight of (meth)acrylic acid alkyl ester. "(Meth)acrylic acid" means acrylic acid and/or methacrylic acid.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が1~20である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが、好適に用いられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、直鎖状または分岐状のアルキル基を有してもよく、脂環式アルキル基など環状のアルキル基を有してもよい。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms is preferably used. The (meth)acrylic acid alkyl ester may have a linear or branched alkyl group, or may have a cyclic alkyl group such as an alicyclic alkyl group.

直鎖状または分岐状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル(即ちラウリルアクリレート)、(メタ)アクリル酸イソトリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸イソテトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸イソオクタデシル、および(メタ)アクリル酸ノナデシルが挙げられる。 Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, neopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, Examples of such acrylates include nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate (i.e., lauryl acrylate), isotridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, isotetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, isooctadecyl (meth)acrylate, and nonadecyl (meth)acrylate.

脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、二環式の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステル、および、三環以上の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘプチル、および(メタ)アクリル酸シクロオクチルが挙げられる。二環式の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸イソボルニルが挙げられる。三環以上の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、および、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group include (meth)acrylic acid cycloalkyl esters, (meth)acrylic acid esters having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring, and (meth)acrylic acid esters having a tricyclic or higher aliphatic hydrocarbon ring. Examples of (meth)acrylic acid cycloalkyl esters include cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, cycloheptyl (meth)acrylate, and cyclooctyl (meth)acrylate. Examples of (meth)acrylic acid esters having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring include isobornyl (meth)acrylate. Examples of (meth)acrylic acid esters having three or more aliphatic hydrocarbon rings include dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, tricyclopentanyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, and 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、好ましくは、炭素数3~15のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステルが用いられ、より好ましくは、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、およびアクリル酸ドデシルからなる群より選択される少なくとも一つが用いられる。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester, preferably, an acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms is used, and more preferably, at least one selected from the group consisting of n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and dodecyl acrylate is used.

モノマー成分における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの割合は、粘着剤層20において粘着性等の基本特性を適切に発現させる観点から、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、更に好ましくは70質量%以上である。同割合は、例えば99質量%以下である。 The proportion of (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomer component is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 70% by mass or more, from the viewpoint of adequately expressing basic properties such as adhesiveness in the adhesive layer 20. The proportion is, for example, 99% by mass or less.

モノマー成分は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な共重合性モノマーを含んでもよい。共重合性モノマーとしては、例えば、極性基を有するモノマーが挙げられる。極性基含有モノマーとしては、例えば、窒素原子含有環を有するモノマー、ヒドロキシ基含有モノマー、およびカルボキシ基含有モノマーが挙げられる。極性基含有モノマーは、アクリルポリマーへの架橋点の導入、アクリルポリマーの凝集力の確保など、アクリルポリマーの改質に役立つ。 The monomer component may include a copolymerizable monomer that is copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester. Examples of the copolymerizable monomer include a monomer having a polar group. Examples of the polar group-containing monomer include a monomer having a nitrogen atom-containing ring, a hydroxy group-containing monomer, and a carboxy group-containing monomer. The polar group-containing monomer is useful for modifying the acrylic polymer, such as introducing crosslinking points into the acrylic polymer and ensuring the cohesive force of the acrylic polymer.

窒素原子含有環を有するモノマーとしては、例えば、N-ビニル-2-ピロリドン、N-メチルビニルピロリドン、N-ビニルピリジン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピリミジン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルオキサゾール、N-(メタ)アクリロイル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-ビニルモルホリン、N-ビニル-3-モルホリノン、N-ビニル-2-カプロラクタム、N-ビニル-1,3-オキサジン-2-オン、N-ビニル-3,5-モルホリンジオン、N-ビニルピラゾール、N-ビニルイソオキサゾール、N-ビニルチアゾール、およびN-ビニルイソチアゾールが挙げられる。窒素原子含有環を有するモノマーとしては、好ましくはN-ビニル-2-ピロリドンが用いられる。 Examples of monomers having a nitrogen atom-containing ring include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-(meth)acryloyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperidine, N-(meth)acryloylpyrrolidine, N-vinylmorpholine, N-vinyl-3-morpholinone, N-vinyl-2-caprolactam, N-vinyl-1,3-oxazin-2-one, N-vinyl-3,5-morpholinedione, N-vinylpyrazole, N-vinylisoxazole, N-vinylthiazole, and N-vinylisothiazole. As a monomer having a nitrogen atom-containing ring, N-vinyl-2-pyrrolidone is preferably used.

モノマー成分における、窒素原子含有環を有するモノマーの割合は、粘着剤層20における凝集力の確保、および、粘着剤層20における対被着体密着力の確保の観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.3質量%以上、更に好ましくは0.55質量%以上である。同割合は、アクリルポリマーのガラス転移温度の調整、および、アクリルポリマーの極性(粘着剤層20における各種添加剤成分とアクリルポリマーとの相溶性に関わる)の調整の観点から、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下である。 The proportion of the monomer having a nitrogen atom-containing ring in the monomer components is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.3% by mass or more, and even more preferably 0.55% by mass or more, from the viewpoints of ensuring the cohesive strength of the adhesive layer 20 and ensuring the adhesive strength of the adhesive layer 20 to the adherend. The proportion is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, from the viewpoints of adjusting the glass transition temperature of the acrylic polymer and adjusting the polarity of the acrylic polymer (related to the compatibility of the various additive components in the adhesive layer 20 with the acrylic polymer).

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル、および(4-ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチル(メタ)アクリレートが挙げられる。ヒドロキシ基含有モノマーとしては、好ましくは(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルが用いられ、より好ましくはアクリル酸4-ヒドロキシブチルが用いられる。 Examples of hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate. As the hydroxy group-containing monomer, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate is preferably used, and 4-hydroxybutyl acrylate is more preferably used.

モノマー成分におけるヒドロキシ基含有モノマーの割合は、アクリルポリマーへの架橋構造の導入、および、粘着剤層20における凝集力の確保の観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.5質量%以上、更に好ましくは0.8質量%以上である。同割合は、アクリルポリマーの極性(粘着剤層20における各種添加剤成分とアクリルポリマーとの相溶性に関わる)の調整の観点から、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下である。 The proportion of the hydroxyl group-containing monomer in the monomer components is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 0.8% by mass or more, from the viewpoint of introducing a crosslinked structure into the acrylic polymer and ensuring the cohesive strength in the adhesive layer 20. From the viewpoint of adjusting the polarity of the acrylic polymer (related to the compatibility between the various additive components in the adhesive layer 20 and the acrylic polymer), the proportion is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、およびイソクロトン酸が挙げられる。 Examples of carboxyl group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and isocrotonic acid.

モノマー成分におけるカルボキシ基含有モノマーの割合は、アクリルポリマーへの架橋構造の導入、粘着剤層20における凝集力の確保、および、粘着剤層20における対被着体密着力の確保の観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.5質量%以上、更に好ましくは0.8質量%以上である。同割合は、アクリルポリマーのガラス転移温度の調整、および、酸による被着体の腐食リスクの回避の観点から、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下である。 The proportion of the carboxyl group-containing monomer in the monomer component is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 0.8% by mass or more, from the viewpoints of introducing a crosslinked structure into the acrylic polymer, ensuring the cohesive strength of the adhesive layer 20, and ensuring the adhesive strength of the adhesive layer 20 to the adherend. The proportion is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, from the viewpoints of adjusting the glass transition temperature of the acrylic polymer and avoiding the risk of corrosion of the adherend by acid.

フォルダブルデバイスにおける電極など金属要素が酸成分によって腐食することを防止するには、粘着剤層20は、酸の含有量が小さいことが好ましい。また、粘着剤層20が偏光板の接着に用いられる場合、酸成分によるポリビニルアルコール偏光子のポリエン化を抑制するために、粘着剤層20は、酸の含有量が小さいことが好ましい。このような酸フリーの粘着剤層20における有機酸モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸およびカルボキシル基含有モノマー)の含有量は、好ましくは100ppm以下、より好ましくは70ppm以下、更に好ましくは50ppm以下である。粘着剤層20の有機酸モノマー含有量は、粘着剤層20を純水中に浸漬して100℃で45分加温することによって水中に抽出された酸モノマーを、イオンクロマトグラフで定量することにより、求められる。 In order to prevent metal elements such as electrodes in a foldable device from being corroded by acid components, it is preferable that the adhesive layer 20 has a small acid content. In addition, when the adhesive layer 20 is used to adhere a polarizing plate, it is preferable that the adhesive layer 20 has a small acid content in order to suppress polyenization of the polyvinyl alcohol polarizer by acid components. The content of organic acid monomers (e.g., (meth)acrylic acid and carboxyl group-containing monomers) in such an acid-free adhesive layer 20 is preferably 100 ppm or less, more preferably 70 ppm or less, and even more preferably 50 ppm or less. The organic acid monomer content of the adhesive layer 20 is determined by immersing the adhesive layer 20 in pure water and heating it at 100°C for 45 minutes, and quantifying the acid monomers extracted into the water using ion chromatography.

酸フリーの観点からは、粘着剤層20中のベースポリマーがモノマー成分として有機酸モノマーを実質的に含有しないことが好ましい。酸フリーの観点からは、モノマー成分における有機酸モノマーの割合は、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、更に好ましくは0.05質量%であり、理想的には0質量%である。 From the viewpoint of being acid-free, it is preferable that the base polymer in the adhesive layer 20 does not substantially contain an organic acid monomer as a monomer component. From the viewpoint of being acid-free, the ratio of the organic acid monomer in the monomer component is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, even more preferably 0.05% by mass, and ideally 0% by mass.

モノマー成分は、他の共重合性モノマーを含んでいてもよい。他の共重合性モノマーとしては、例えば、酸無水物モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、アルコキシ基含有モノマー、および芳香族ビニル化合物が挙げられる。これら他の共重合性モノマーは、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。 The monomer component may contain other copolymerizable monomers. Examples of other copolymerizable monomers include acid anhydride monomers, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, epoxy group-containing monomers, cyano group-containing monomers, alkoxy group-containing monomers, and aromatic vinyl compounds. These other copolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

ベースポリマーは、本実施形態では、架橋構造を有する。ベースポリマーへの架橋構造の導入方法としては、架橋剤と反応可能な官能基を有するベースポリマーと架橋剤とを第1粘着剤組成物に配合し、ベースポリマーと架橋剤とを粘着剤層20中で反応させる方法(第1の方法)、および、ベースポリマーを形成するモノマー成分に多官能モノマーを含め、当該モノマー成分の重合により、ポリマー鎖に分枝構造(架橋構造)が導入されたベースポリマーを形成する方法(第2の方法)が、挙げられる。これら方法は、併用されてもよい。 In this embodiment, the base polymer has a crosslinked structure. Methods for introducing a crosslinked structure into the base polymer include a method (first method) in which a base polymer having a functional group capable of reacting with a crosslinking agent and the crosslinking agent are mixed into a first adhesive composition, and the base polymer and the crosslinking agent are reacted in the adhesive layer 20, and a method (second method) in which a polyfunctional monomer is included in the monomer components forming the base polymer, and a base polymer having a branched structure (crosslinked structure) introduced into the polymer chain is formed by polymerization of the monomer components. These methods may be used in combination.

上記第1の方法で用いられる架橋剤としては、例えば、ベースポリマーに含まれる官能基(ヒドロキシ基およびカルボキシ基など)と反応する化合物が挙げられる。そのような架橋剤としては、例えば、イソシアネート架橋剤、過酸化物架橋剤、エポキシ架橋剤、オキサゾリン架橋剤、アジリジン架橋剤、カルボジイミド架橋剤、および金属キレート架橋剤が挙げられる。架橋剤は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。架橋剤としては、ベースポリマーにおけるヒドロキシ基およびカルボキシ基との反応性が高くて架橋構造の導入が容易であることから、好ましくは、イソシアネート架橋剤、過酸化物架橋剤、およびエポキシ架橋剤が用いられる。 The crosslinking agent used in the first method includes, for example, a compound that reacts with functional groups (such as hydroxyl groups and carboxyl groups) contained in the base polymer. Examples of such crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents. The crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. As the crosslinking agent, isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, and epoxy crosslinking agents are preferably used because they are highly reactive with the hydroxyl groups and carboxyl groups in the base polymer and can easily introduce a crosslinked structure.

イソシアネート架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、およびポリメチレンポリフェニルイソシアネートが挙げられる。また、イソシアネート架橋剤としては、これらイソシアネートの誘導体も挙げられる。当該イソシアネート誘導体としては、例えば、イソシアヌレート変性体およびポリオール変性体が挙げられる。イソシアネート架橋剤の市販品としては、例えば、コロネートL(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,東ソー製)、コロネートHL(へキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,東ソー製)、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体,東ソー製)、およびタケネートD110N(キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体,三井化学製)が挙げられる。 Examples of isocyanate crosslinking agents include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, and polymethylene polyphenylisocyanate. In addition, examples of isocyanate crosslinking agents include derivatives of these isocyanates. Examples of the isocyanate derivatives include isocyanurate modified products and polyol modified products. Commercially available isocyanate crosslinking agents include, for example, Coronate L (a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), Coronate HL (a trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), Coronate HX (an isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, manufactured by Tosoh), and Takenate D110N (a trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals).

過酸化物架橋剤としては、ジベンゾイルパーオキシド、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、およびt-ブチルパーオキシピバレートが挙げられる。 Peroxide crosslinking agents include dibenzoyl peroxide, di(2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxypivalate, and t-butyl peroxypivalate.

エポキシ架橋剤としては、ビスフェノールA、エピクロルヒドリン型のエポキシ樹脂、エチレングリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジアミングリシジルアミン、N,N,N',N'-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、および1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンが挙げられる。 Epoxy crosslinkers include bisphenol A, epichlorohydrin type epoxy resins, ethylene glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol glycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, diglycidyl aniline, diamine glycidylamine, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, and 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane.

イソシアネート架橋剤(特に、二官能のイソシアネート架橋剤)および過酸化物架橋剤は、粘着剤層20の適度な柔軟性(従って屈曲性)の確保の観点から好ましい。イソシアネート架橋剤(特に、三官能のイソシアネート架橋剤)は、粘着剤層20の耐久性確保の観点から好ましい。ベースポリマーにおいて、二官能イソシアネート架橋剤および過酸化物架橋剤は、より柔軟な二次元架橋を形成するのに対し、三官能イソシアネート架橋剤は、より強固な三次元架橋を形成する。粘着剤層20の耐久性と柔軟性との両立の観点からは、三官能イソシアネート架橋剤と、過酸化物架橋剤および/または二官能イソシアネート架橋剤との併用が、好ましい。 Isocyanate crosslinking agents (particularly bifunctional isocyanate crosslinking agents) and peroxide crosslinking agents are preferred from the viewpoint of ensuring the appropriate flexibility (hence the flexibility) of the adhesive layer 20. Isocyanate crosslinking agents (particularly trifunctional isocyanate crosslinking agents) are preferred from the viewpoint of ensuring the durability of the adhesive layer 20. In the base polymer, bifunctional isocyanate crosslinking agents and peroxide crosslinking agents form more flexible two-dimensional crosslinks, whereas trifunctional isocyanate crosslinking agents form stronger three-dimensional crosslinks. From the viewpoint of achieving both durability and flexibility of the adhesive layer 20, it is preferred to use a trifunctional isocyanate crosslinking agent in combination with a peroxide crosslinking agent and/or a bifunctional isocyanate crosslinking agent.

架橋剤の配合量は、粘着剤層20の凝集力を確保する観点から、ベースポリマー100質量部に対して、例えば0.01質量部以上であり、好ましくは0.05質量部以上、より好ましくは0.07質量部以上である。粘着剤層20において良好なタック性を確保する観点から、ベースポリマー100質量部に対する架橋剤の配合量は、例えば10質量部以下であり、好ましくは5質量部以下、より好ましくは3質量部以下である。 The amount of the crosslinking agent to be blended is, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.05 parts by mass or more, and more preferably 0.07 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the base polymer, from the viewpoint of ensuring the cohesive strength of the adhesive layer 20. From the viewpoint of ensuring good tackiness in the adhesive layer 20, the amount of the crosslinking agent to be blended is, for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the base polymer.

上記第2の方法では、モノマー成分(架橋構造を導入するための多官能モノマーと他のモノマーとを含む)は、一度で重合させてもよいし、多段階で重合させてもよい。多段階重合の方法では、まず、ベースポリマーを形成するための単官能モノマーを重合させ(予備重合)、これによって部分重合物(低重合度の重合物と未反応のモノマーとの混合物)を含有するプレポリマー組成物を調製する。次に、プレポリマー組成物に多官能モノマーを添加した後、部分重合物と多官能モノマーとを重合させる(本重合)。 In the second method, the monomer components (including a multifunctional monomer for introducing a crosslinked structure and other monomers) may be polymerized in one step or in multiple steps. In the multistep polymerization method, first, a monofunctional monomer for forming a base polymer is polymerized (preliminary polymerization), thereby preparing a prepolymer composition containing a partial polymer (a mixture of a polymer with a low degree of polymerization and unreacted monomer). Next, a multifunctional monomer is added to the prepolymer composition, and then the partial polymer and the multifunctional monomer are polymerized (main polymerization).

多官能モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和二重結合を1分子中に2個以上含有する多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能モノマーとしては、活性エネルギー線重合(光重合)によって架橋構造を導入可能な観点から、多官能アクリレートが好ましい。 An example of a polyfunctional monomer is a polyfunctional (meth)acrylate that contains two or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule. As a polyfunctional monomer, a polyfunctional acrylate is preferred from the viewpoint of being able to introduce a crosslinked structure by active energy ray polymerization (photopolymerization).

多官能(メタ)アクリレートとしては、二官能(メタ)アクリレート、三官能(メタ)アクリレート、および、四官能以上の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of polyfunctional (meth)acrylates include difunctional (meth)acrylates, trifunctional (meth)acrylates, and tetrafunctional or higher polyfunctional (meth)acrylates.

二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチエレングルコールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、ジ(メタ)アクリロイルイソシアヌレート、およびアルキレンオキサイド変性ビスフェノールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of bifunctional (meth)acrylates include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, stearic acid modified pentaerythritol di(meth)acrylate, dicyclopentenyl diacrylate, di(meth)acryloyl isocyanurate, and alkylene oxide modified bisphenol di(meth)acrylate.

三官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、およびトリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレートが挙げられる。 Examples of trifunctional (meth)acrylates include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate.

四官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、およびジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of tetrafunctional or higher polyfunctional (meth)acrylates include ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta(meth)acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

多官能モノマーの分子量は、好ましくは1500以下、より好ましくは1000以下である。また、多官能モノマーの官能基当量(g/eq)は、好ましくは50以上、より好ましくは70以上、更に好ましくは80以上である。同官能基当量は、好ましくは500以下、より好ましくは300以下、更に好ましくは200以下である。これら構成は、ベースポリマーにおいて架橋構造の導入により粘弾性(例えば、貯蔵弾性率G’および損失正接tanδ)を適切に調整する観点から好ましい。 The molecular weight of the polyfunctional monomer is preferably 1500 or less, more preferably 1000 or less. The functional group equivalent (g/eq) of the polyfunctional monomer is preferably 50 or more, more preferably 70 or more, and even more preferably 80 or more. The functional group equivalent is preferably 500 or less, more preferably 300 or less, and even more preferably 200 or less. These configurations are preferred from the viewpoint of appropriately adjusting the viscoelasticity (e.g., storage modulus G' and loss tangent tan δ) by introducing a crosslinked structure in the base polymer.

アクリルポリマーは、上述のモノマー成分を重合させることによって形成できる。重合方法としては、例えば、溶液重合、活性エネルギー線重合(例えばUV重合)、塊状重合、および乳化重合が挙げられる。粘着剤層20の透明性、耐水性、およびコストの観点から、溶液重合およびUV重合が好ましい。溶液重合の溶媒としては、例えば、酢酸エチルおよびトルエンが用いられる。また、重合の開始剤としては、例えば、熱重合開始剤および光重合開始剤が用いられる。重合開始剤の使用量は、モノマー成分100質量部に対して、例えば0.05質量部以上であり、また、例えば1質量部以下である。 The acrylic polymer can be formed by polymerizing the above-mentioned monomer components. Examples of the polymerization method include solution polymerization, active energy ray polymerization (e.g., UV polymerization), bulk polymerization, and emulsion polymerization. From the viewpoints of transparency, water resistance, and cost of the adhesive layer 20, solution polymerization and UV polymerization are preferred. For example, ethyl acetate and toluene are used as the solvent for solution polymerization. For example, a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator are used as the polymerization initiator. The amount of the polymerization initiator used is, for example, 0.05 parts by mass or more and, for example, 1 part by mass or less, per 100 parts by mass of the monomer components.

熱重合開始剤としては、例えば、アゾ重合開始剤および過酸化物重合開始剤が挙げられる。アゾ重合開始剤としては、例えば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス-2-メチルブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル、4,4'-アゾビス-4-シアノバレリアン酸、アゾビスイソバレロニトリル、2,2'-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス[2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、および、2,2'-アゾビス(N,N'-ジメチレンイソブチルアミジン)ジヒドロクロライドが挙げられる。過酸化物重合開始剤としては、例えば、ジベンゾイルペルオキシド、t-ブチルペルマレエ-ト、および過酸化ラウロイルが挙げられる。 Examples of the thermal polymerization initiator include azo polymerization initiators and peroxide polymerization initiators. Examples of the azo polymerization initiator include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylpropionic acid)dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane)dihydrochloride, 2,2'-azobis[2-(5-methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine)disulfate, and 2,2'-azobis(N,N'-dimethyleneisobutylamidine)dihydrochloride. Examples of peroxide polymerization initiators include dibenzoyl peroxide, t-butyl permaleate, and lauroyl peroxide.

光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル光重合開始剤、アセトフェノン光重合開始剤、α-ケトール光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド光重合開始剤、光活性オキシム光重合開始剤、ベンゾイン光重合開始剤、ベンジル光重合開始剤、ベンゾフェノン光重合開始剤、ケタール光重合開始剤、チオキサントン光重合開始剤、およびアシルフォスフィンオキサイド光重合開始剤が挙げられる。 Examples of photopolymerization initiators include benzoin ether photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, α-ketol photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators, photoactive oxime photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, benzyl photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, ketal photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, and acylphosphine oxide photopolymerization initiators.

重合においては、分子量調整等を目的として、連鎖移動剤および/または重合禁止剤(重合遅延剤)を用いてもよい。連鎖移動剤としては、α-チオグリセロール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、およびα-メチルスチレン二量体が挙げられる。 In the polymerization, a chain transfer agent and/or a polymerization inhibitor (polymerization retarder) may be used for the purpose of adjusting the molecular weight, etc. Examples of chain transfer agents include α-thioglycerol, lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, 2,3-dimercapto-1-propanol, and α-methylstyrene dimer.

重合開始剤の種類および/または量の調整により、ベースポリマーの分子量を調整できる。例えば、ラジカル重合では、重合開始剤の量が多いほど、反応系のラジカル濃度が高いため、反応開始点の密度が高く、形成されるベースポリマーの分子量が小さくなる傾向がある。これに対し、重合開始剤の量が少ないほど、反応開始点の密度が低いためにポリマー鎖が伸長しやすく、形成されるベースポリマー分子量が大きくなる傾向がある。 The molecular weight of the base polymer can be adjusted by adjusting the type and/or amount of the polymerization initiator. For example, in radical polymerization, the greater the amount of polymerization initiator, the higher the radical concentration in the reaction system, so the higher the density of reaction initiation points, and the smaller the molecular weight of the base polymer formed tends to be. In contrast, the smaller the amount of polymerization initiator, the lower the density of reaction initiation points, so the easier it is for the polymer chains to extend, and the larger the molecular weight of the base polymer formed tends to be.

アクリルポリマーの重量平均分子量は、粘着剤層20における凝集力の確保の観点から、好ましくは10万以上、より好ましくは30万以上、更に好ましくは50万以上である。同重量平均分子量は、好ましくは500万以下、より好ましくは300万以下、更に好ましくは200万以下である。アクリルポリマーの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ(GPC)によって測定してポリスチレン換算により算出される。 From the viewpoint of ensuring the cohesive force in the adhesive layer 20, the weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 100,000 or more, more preferably 300,000 or more, and even more preferably 500,000 or more. The weight average molecular weight is preferably 5 million or less, more preferably 3 million or less, and even more preferably 2 million or less. The weight average molecular weight of the acrylic polymer is measured by gel permeation chromatography (GPC) and calculated in terms of polystyrene.

ベースポリマーのガラス転移温度(Tg)は、好ましくは0℃以下、より好ましくは-10℃以下、更に好ましくは-20℃以下である。同ガラス転移温度は、例えば-80℃以上である。 The glass transition temperature (Tg) of the base polymer is preferably 0°C or lower, more preferably -10°C or lower, and even more preferably -20°C or lower. The glass transition temperature is, for example, -80°C or higher.

ベースポリマーのガラス転移温度(Tg)については、下記のFoxの式に基づき求められるガラス転移温度(理論値)を用いることができる。Foxの式は、ポリマーのガラス転移温度Tgと、当該ポリマーを構成するモノマーのホモポリマーのガラス転移温度Tgiとの関係式である。下記のFoxの式において、Tgはポリマーのガラス転移温度(℃)を表し、Wiは当該ポリマーを構成するモノマーiの重量分率を表し、Tgiは、モノマーiから形成されるホモポリマーのガラス転移温度(℃)を示す。ホモポリマーのガラス転移温度については文献値を用いることができる。例えば、「Polymer Handbook」(第4版,John Wiley & Sons, Inc., 1999年)および「新高分子文庫7 塗料用合成樹脂入門」(北岡協三著,高分子刊行会,1995年)には、各種のホモポリマーのガラス転移温度が挙げられている。一方、モノマーのホモポリマーのガラス転移温度については、特開2007-51271号公報に具体的に記載されている方法によって求めることも可能である。 For the glass transition temperature (Tg) of the base polymer, the glass transition temperature (theoretical value) calculated based on the Fox formula below can be used. The Fox formula is a relational expression between the glass transition temperature Tg of a polymer and the glass transition temperature Tgi of a homopolymer of the monomer that constitutes the polymer. In the Fox formula below, Tg represents the glass transition temperature (°C) of the polymer, Wi represents the weight fraction of the monomer i that constitutes the polymer, and Tgi represents the glass transition temperature (°C) of the homopolymer formed from the monomer i. For the glass transition temperature of the homopolymer, literature values can be used. For example, the glass transition temperatures of various homopolymers are listed in "Polymer Handbook" (4th edition, John Wiley & Sons, Inc., 1999) and "New Polymer Library 7: Introduction to Synthetic Resins for Paints" (Kyozo Kitaoka, Polymer Publishing Association, 1995). On the other hand, the glass transition temperature of a homopolymer of a monomer can also be determined by the method specifically described in JP 2007-51271 A.

Foxの式 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)] Fox formula 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)]

第1粘着剤組成物は、ベースポリマーに加えて、一種類または二種類以上のオリゴマーを含んでいてもよい。ベースポリマーとしてアクリルポリマーが用いられる場合、好ましくは、オリゴマーとしてアクリルオリゴマーが用いられる。アクリルオリゴマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを50質量%以上の割合で含むモノマー成分の共重合体であり、重量平均分子量が例えば1000以上30000以下である。 The first adhesive composition may contain one or more oligomers in addition to the base polymer. When an acrylic polymer is used as the base polymer, an acrylic oligomer is preferably used as the oligomer. The acrylic oligomer is a copolymer of monomer components containing 50% or more by mass of (meth)acrylic acid alkyl ester, and has a weight average molecular weight of, for example, 1,000 or more and 30,000 or less.

アクリルオリゴマーのガラス転移温度は、好ましくは60℃以上、より好ましくは80℃以上、更に好ましくは100℃以上、特に好ましくは110℃以上である。アクリルオリゴマーのガラス転移温度は、例えば200℃以下であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは160℃以下である。架橋構造が導入された低Tgのアクリルポリマー(ベースポリマー)と高Tgのアクリルオリゴマーとの併用により、粘着剤層20の接着力、特に高温での接着力を高められる。アクリルオリゴマーのガラス転移温度は、上記のFoxの式により算出される。 The glass transition temperature of the acrylic oligomer is preferably 60°C or higher, more preferably 80°C or higher, even more preferably 100°C or higher, and particularly preferably 110°C or higher. The glass transition temperature of the acrylic oligomer is, for example, 200°C or lower, preferably 180°C or lower, and more preferably 160°C or lower. The combined use of a low Tg acrylic polymer (base polymer) into which a crosslinked structure has been introduced and a high Tg acrylic oligomer can increase the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 20, particularly at high temperatures. The glass transition temperature of the acrylic oligomer is calculated using the above Fox formula.

ガラス転移温度が60℃以上のアクリルオリゴマーは、好ましくは、鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(鎖状アルキル(メタ)アクリレート)と、脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(脂環式アルキル(メタ)アクリレート)とを含むモノマー成分の重合体である。これら(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、例えば、アクリルポリマーのモノマー成分として上記した(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。 The acrylic oligomer having a glass transition temperature of 60°C or higher is preferably a polymer of monomer components including an alkyl (meth)acrylate ester having a chain alkyl group (chain alkyl (meth)acrylate) and an alkyl (meth)acrylate ester having an alicyclic alkyl group (alicyclic alkyl (meth)acrylate). Specific examples of these alkyl (meth)acrylate esters include the alkyl (meth)acrylate esters listed above as monomer components of the acrylic polymer.

鎖状アルキル(メタ)アクリレートとしては、ガラス転移温度が高く、ベースポリマーとの相溶性に優れることから、メタクリル酸メチルが好ましい。脂環式アルキル(メタ)アクリレートとしては、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、アクリル酸シクロヘキシル、およびメタクリル酸シクロヘキシルが好ましい。すなわち、アクリルオリゴマーは、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、アクリル酸シクロヘキシル、およびメタクリル酸シクロヘキシルからなる群より選択される1種以上と、メタクリル酸メチルとを含むモノマー成分の重合体であるのが好ましい。 As the linear alkyl (meth)acrylate, methyl methacrylate is preferred because it has a high glass transition temperature and excellent compatibility with the base polymer. As the alicyclic alkyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, and cyclohexyl methacrylate are preferred. In other words, the acrylic oligomer is preferably a polymer of monomer components containing methyl methacrylate and one or more selected from the group consisting of dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, and cyclohexyl methacrylate.

アクリルオリゴマーのモノマー成分における脂環式アルキル(メタ)アクリレートの割合は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%以上、更に好ましくは30重量%以上である。同割合は、好ましくは90重量%以下、より好ましくは80重量%以下、更に好ましくは70重量%以下である。アクリルオリゴマーのモノマー成分における鎖状アルキル(メタ)アクリレートの割合は、好ましくは90重量%以下、より好ましくは80重量%以下、更に好ましくは70重量%以下である。同割合は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%以上、更に好ましくは30重量%以上である。 The proportion of alicyclic alkyl (meth)acrylate in the monomer component of the acrylic oligomer is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and even more preferably 30% by weight or more. The proportion is preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, and even more preferably 70% by weight or less. The proportion of chain alkyl (meth)acrylate in the monomer component of the acrylic oligomer is preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, and even more preferably 70% by weight or less. The proportion is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and even more preferably 30% by weight or more.

アクリルオリゴマーの重量平均分子量は、好ましくは1000以上、より好ましくは1500以上、更に好ましくは2000以上である。同分子量は、好ましくは30000以下、より好ましくは10000以下、更に好ましくは8000以下である。このようなアクリルオリゴマーの分子量範囲は、粘着剤層20の接着力および接着保持力を確保するのに好ましい。 The weight average molecular weight of the acrylic oligomer is preferably 1000 or more, more preferably 1500 or more, and even more preferably 2000 or more. The molecular weight is preferably 30000 or less, more preferably 10000 or less, and even more preferably 8000 or less. Such a molecular weight range of the acrylic oligomer is preferable for ensuring the adhesive strength and adhesive retention strength of the pressure-sensitive adhesive layer 20.

アクリルオリゴマーは、当該アクリルオリゴマーのモノマー成分を重合することによって得られる。重合方法としては、例えば、溶液重合、活性エネルギー線重合(例えばUV重合)、塊状重合、および乳化重合が挙げられる。アクリルオリゴマーの重合においては、重合開始剤を用いてもよく、分子量の調整を目的として連鎖移動剤を用いてもよい。 The acrylic oligomer is obtained by polymerizing the monomer components of the acrylic oligomer. Examples of the polymerization method include solution polymerization, active energy ray polymerization (e.g., UV polymerization), bulk polymerization, and emulsion polymerization. In the polymerization of the acrylic oligomer, a polymerization initiator may be used, and a chain transfer agent may be used for the purpose of adjusting the molecular weight.

粘着剤層20におけるアクリルオリゴマーの含有量は、粘着剤層20の接着力を充分に高めるためには、ベースポリマー100質量部に対して、好ましくは0.5質量部以上、より好ましくは0.8質量部以上、更に好ましくは1質量部以上である。一方、粘着剤層20の透明性の確保の観点からは、粘着剤層20におけるアクリルオリゴマーの含有量は、ベースポリマー100質量部に対して、好ましくは5質量部以下、より好ましくは4質量部以下、更に好ましくは3質量部以下である。粘着剤層20においては、アクリルオリゴマーの含有量が大きすぎる場合、当該アクリルオリゴマーの相溶性の低下に起因して、ヘイズが上昇して透明性が低下する傾向がある。 In order to sufficiently increase the adhesive strength of the adhesive layer 20, the content of the acrylic oligomer in the adhesive layer 20 is preferably 0.5 parts by mass or more, more preferably 0.8 parts by mass or more, and even more preferably 1 part by mass or more, relative to 100 parts by mass of the base polymer. On the other hand, from the viewpoint of ensuring the transparency of the adhesive layer 20, the content of the acrylic oligomer in the adhesive layer 20 is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or less, and even more preferably 3 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the base polymer. If the content of the acrylic oligomer in the adhesive layer 20 is too large, the haze tends to increase and the transparency tends to decrease due to a decrease in the compatibility of the acrylic oligomer.

第1粘着剤組成物は、シランカップリング剤を含有してもよい。第1粘着剤組成物におけるシランカップリング剤の含有量は、ベースポリマー100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上、より好ましくは0.2質量部以上である。同含有量は、好ましくは5質量部以下、より好ましくは3質量部以下である。 The first adhesive composition may contain a silane coupling agent. The content of the silane coupling agent in the first adhesive composition is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.2 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the base polymer. The content is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or less.

第1粘着剤組成物は、必要に応じて他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、粘着付与剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤、および帯電防止剤が挙げられる。 The first adhesive composition may contain other components as necessary. Examples of other components include tackifiers, plasticizers, softeners, anti-degradants, fillers, colorants, UV absorbers, antioxidants, surfactants, and antistatic agents.

粘着剤層20の厚さHは、被着体に対する充分な粘着性を確保する観点から、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上である。厚さHは、ハンドリング性の観点から、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。 The thickness H of the adhesive layer 20 is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, from the viewpoint of ensuring sufficient adhesion to the adherend. From the viewpoint of handling, the thickness H is preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, even more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less.

厚さHに対する上述の第1退避長さd1の比率(d1/H)は、好ましくは0.4以上、より好ましくは0.6以上である。比率(d1/H)は、好ましくは8以下、より好ましくは6以下である。これら構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層20の端縁22からの軽剥離フィルム40の引き離しの前に、軽剥離フィルム40の端部(上記のフリー部分40a)を充分にめくり上げて変形させるのに適し、従って、軽剥離フィルム40の剥離開始に要する正味の力を低減するのに好ましい。 The ratio (d1/H) of the first retraction length d1 to the thickness H is preferably 0.4 or more, more preferably 0.6 or more. The ratio (d1/H) is preferably 8 or less, more preferably 6 or less. These configurations are suitable for sufficiently turning up and deforming the end portion (the above-mentioned free portion 40a) of the light release film 40 before the light release film 40 is pulled away from the edge 22 of the adhesive layer 20 during the process of starting the peeling of the light release film 40, and are therefore suitable for reducing the net force required to start the peeling of the light release film 40.

粘着剤層20のヘイズは、好ましくは3%以下、より好ましくは2%以下、より好ましくは1%以下である。粘着剤層20のヘイズは、JIS K7136(2000年)に準拠して、ヘイズメーターを使用して測定できる。ヘイズメーターとしては、例えば、日本電色工業社製の「NDH2000」、および、村上色彩技術研究所社製の「HM-150型」が挙げられる。 The haze of the adhesive layer 20 is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and more preferably 1% or less. The haze of the adhesive layer 20 can be measured using a haze meter in accordance with JIS K7136 (2000). Examples of haze meters include the "NDH2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. and the "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.

粘着剤層20の全光線透過率は、好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上、更に好ましくは85%以上である。粘着剤層20の全光線透過率は、例えば100%以下である。粘着剤層20の全光線透過率は、JIS K 7375(2008年)に準拠して、測定できる。 The total light transmittance of the adhesive layer 20 is preferably 60% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more. The total light transmittance of the adhesive layer 20 is, for example, 100% or less. The total light transmittance of the adhesive layer 20 can be measured in accordance with JIS K 7375 (2008).

粘着剤層30は、第2粘着剤組成物から形成された感圧接着剤層である。粘着剤層30は、透明性を有する。第2粘着剤組成物は、少なくともベースポリマーを含有する。第2粘着剤組成物に含有されるベースポリマーとしては、例えば、第1粘着剤組成物に関して上記したベースポリマーが挙げられる。第1粘着剤組成物中のベースポリマーと、第2粘着剤組成物中のベースポリマーとは、同じであってもよいし、異なってもよい。第2粘着剤組成物は、ベースポリマー以外の成分を含有してもよい。第2粘着剤組成物に含有される同成分としては、例えば、第1粘着剤組成物に関して上記した、ベースポリマー以外の成分が挙げられる。第1粘着剤組成物の組成と第2粘着剤組成物の組成は、同じであってもよいし、異なってもよい。上述の剥離開始力F1,F2および剥離力f1,f2の調整の観点からは、第1粘着剤組成物の組成と第2粘着剤組成物の組成とは異なるのが好ましい。 The adhesive layer 30 is a pressure-sensitive adhesive layer formed from the second adhesive composition. The adhesive layer 30 has transparency. The second adhesive composition contains at least a base polymer. Examples of the base polymer contained in the second adhesive composition include the base polymers described above for the first adhesive composition. The base polymer in the first adhesive composition and the base polymer in the second adhesive composition may be the same or different. The second adhesive composition may contain a component other than the base polymer. Examples of the same component contained in the second adhesive composition include the components other than the base polymer described above for the first adhesive composition. The composition of the first adhesive composition and the composition of the second adhesive composition may be the same or different. From the viewpoint of adjusting the above-mentioned peel initiation forces F1, F2 and peel forces f1, f2, it is preferable that the composition of the first adhesive composition and the composition of the second adhesive composition are different.

粘着剤層30の厚さは、粘着剤層20の厚さと同じであってもよいし、異なってもよい。粘着剤層30の厚さは、被着体に対する充分な粘着性を確保する観点から、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上である。粘着剤層30の厚さは、ハンドリング性の観点から、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。また、粘着剤層20の厚さに対する粘着剤層30の厚さの比率は、例えば0.2以上であり、また、例えば5以下である。 The thickness of the adhesive layer 30 may be the same as or different from the thickness of the adhesive layer 20. From the viewpoint of ensuring sufficient adhesion to the adherend, the thickness of the adhesive layer 30 is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more. From the viewpoint of handleability, the thickness of the adhesive layer 30 is preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, even more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less. In addition, the ratio of the thickness of the adhesive layer 30 to the thickness of the adhesive layer 20 is, for example, 0.2 or more, and, for example, 5 or less.

粘着剤層30のヘイズは、好ましくは3%以下、より好ましくは2%以下、より好ましくは1%以下である。粘着剤層30のヘイズは、JIS K7136(2000年)に準拠して、ヘイズメーターを使用して測定できる。 The haze of the adhesive layer 30 is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and more preferably 1% or less. The haze of the adhesive layer 30 can be measured using a haze meter in accordance with JIS K7136 (2000).

粘着剤層30の全光線透過率は、好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上、更に好ましくは85%以上である。粘着剤層30の全光線透過率は、例えば100%以下である。粘着剤層30の全光線透過率は、JIS K 7375(2008年)に準拠して、測定できる。 The total light transmittance of the adhesive layer 30 is preferably 60% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more. The total light transmittance of the adhesive layer 30 is, for example, 100% or less. The total light transmittance of the adhesive layer 30 can be measured in accordance with JIS K 7375 (2008).

軽剥離フィルム40としては、例えば、可撓性を有するプラスチックフィルムが挙げられる。当該プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、およびポリエステルフィルムが挙げられる。軽剥離フィルム40の厚さは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下である。軽剥離フィルム40の表面は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理としては、例えば、シリコーン剥離処理およびフッ素剥離処理が挙げられる(後記の剥離処理についても同様である)。剥離処理の有無、種類の選択、および条件の調整により、粘着剤層20からの軽剥離フィルム40の剥離に関する上述の第1剥離開始力F1および剥離力f1を、調整できる。 The light release film 40 may be, for example, a plastic film having flexibility. Examples of the plastic film include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyester film. The thickness of the light release film 40 is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and is preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less. The surface of the light release film 40 is preferably subjected to a release treatment. Examples of the release treatment include a silicone release treatment and a fluorine release treatment (the same applies to the release treatment described below). The above-mentioned first release initiation force F1 and release force f1 for the release of the light release film 40 from the adhesive layer 20 can be adjusted by selecting the presence or absence of a release treatment, the type of treatment, and adjusting the conditions.

重剥離フィルム50としては、例えば、軽剥離フィルム40に関して上記のプラスチックフィルムが挙げられる。重剥離フィルム50の厚さは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下である。重剥離フィルム50の表面は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理の有無、種類の選択、および条件の調整により、粘着剤層30からの重剥離フィルム50の剥離に関する上述の第2剥離開始力F2および剥離力f2を、調整できる。 The heavy release film 50 may, for example, be the plastic film described above with respect to the light release film 40. The thickness of the heavy release film 50 is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and is preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less. The surface of the heavy release film 50 is preferably subjected to a release treatment. The above-mentioned second release initiation force F2 and release force f2 for the peeling of the heavy release film 50 from the adhesive layer 30 can be adjusted by selecting the presence or absence of release treatment, the type of treatment, and adjusting the conditions.

光学フィルムXは、例えば、次のようにして製造できる。 Optical film X can be produced, for example, as follows:

まず、光学フィルム10と、軽剥離フィルム40付きの粘着剤層20と、重剥離フィルム50付き粘着剤層30とを用意する(用意工程)。 First, prepare an optical film 10, an adhesive layer 20 with a light release film 40, and an adhesive layer 30 with a heavy release film 50 (preparation process).

軽剥離フィルム40付き粘着剤層20は、軽剥離フィルム40上に第1粘着剤組成物(ワニス)を塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜を乾燥することによって形成できる。第1粘着剤組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、およびダイコートが挙げられる(第2粘着剤組成物の後記の塗布の方法についても同様である)。軽剥離フィルム40上の粘着剤層20の上に更に別の剥離フィルムを積層してもよい。この剥離フィルムは、光学フィルム10と粘着剤層20との貼り合わせの前に剥離される。 The adhesive layer 20 with the light release film 40 can be formed by applying a first adhesive composition (varnish) onto the light release film 40 to form a coating film, and then drying the coating film. Examples of methods for applying the first adhesive composition include roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coating (the same applies to the application method of the second adhesive composition described below). Another release film may be laminated on the adhesive layer 20 on the light release film 40. This release film is peeled off before the optical film 10 and the adhesive layer 20 are bonded together.

重剥離フィルム50付き粘着剤層30は、重剥離フィルム50上に第2粘着剤組成物(ワニス)を塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜を乾燥することによって形成できる。重剥離フィルム50上の粘着剤層30の上に更に別の剥離フィルムを積層してもよい。この剥離フィルムは、光学フィルム10と粘着剤層30との貼り合わせの前に剥離される。 The adhesive layer 30 with the heavy release film 50 can be formed by applying a second adhesive composition (varnish) onto the heavy release film 50 to form a coating film, and then drying the coating film. Another release film may be laminated on the adhesive layer 30 on the heavy release film 50. This release film is peeled off before bonding the optical film 10 and the adhesive layer 30 together.

次に、光学フィルム10の第1面11と、軽剥離フィルム40付き粘着剤層20の粘着剤層20側とを、貼り合わせる(第1貼合せ工程)。次に、光学フィルム10の第2面12と、重剥離フィルム50付き粘着剤層30の粘着剤層30側とを、貼り合わせる(第2貼合せ工程)。これにより、外周端が未加工の光学フィルムXとしての積層体が得られる。好ましくは、これら貼り合わせの前に、光学フィルム10の第1面11および第2面12と、軽剥離フィルム40付き粘着剤層20の露出面と、重剥離フィルム50付き粘着剤層30の露出面とは、プラズマ処理される。 Next, the first surface 11 of the optical film 10 is bonded to the adhesive layer 20 side of the adhesive layer 20 with the light release film 40 (first bonding process). Next, the second surface 12 of the optical film 10 is bonded to the adhesive layer 30 side of the adhesive layer 30 with the heavy release film 50 (second bonding process). This results in a laminate as the optical film X with an unprocessed outer edge. Preferably, prior to bonding, the first surface 11 and the second surface 12 of the optical film 10, the exposed surface of the adhesive layer 20 with the light release film 40, and the exposed surface of the adhesive layer 30 with the heavy release film 50 are plasma treated.

次に、積層体を厚さ方向に挟む治具によって保持し、治具によって積層体に対して厚さ方向に付与される加圧力を、各粘着剤層20,30が弾性変形して積層体の側端面から所定程度にはみ出るように、調整する(加圧保持工程)。加圧力の調整により、粘着剤層20,30の弾性変形の程度を調整でき、従って、積層体側端面からはみ出る長さを調整できる。 Next, the laminate is held by a jig that clamps it in the thickness direction, and the pressure applied by the jig to the laminate in the thickness direction is adjusted so that each adhesive layer 20, 30 elastically deforms and protrudes a predetermined amount from the side end face of the laminate (pressure holding process). By adjusting the pressure, the degree of elastic deformation of the adhesive layers 20, 30 can be adjusted, and therefore the length that protrudes from the side end face of the laminate can be adjusted.

次に、粘着剤層20,30が積層体側端面からはみ出るように弾性変形している状態で、積層体側端面から所定長さ内側を、当該積層体の外周端の全部または一部が新たに形成されるように、回転刃によって厚さ方向に切断する(切断工程)。前記所定長さは、例えば0.1mm以上であり、また、例えば1mm以下である。その後、治具による積層体の加圧状態を解放する。これにより、粘着剤層20,30が弾性復帰して、粘着剤層20,30の端縁22,32が、光学フィルム10、軽剥離フィルム40、および重剥離フィルム50の端縁13,42,52よりも、面内方向Dにおいて内方に退避する。このようにして側面凹凸端部Eが形成される。 Next, while the adhesive layers 20, 30 are elastically deformed so as to protrude from the laminate side end face, a predetermined length inward from the laminate side end face is cut in the thickness direction with a rotary blade so that all or part of the outer peripheral edge of the laminate is newly formed (cutting process). The predetermined length is, for example, 0.1 mm or more and, for example, 1 mm or less. Thereafter, the pressure applied to the laminate by the jig is released. This causes the adhesive layers 20, 30 to elastically return to their original state, and the edges 22, 32 of the adhesive layers 20, 30 retreat inward in the in-plane direction D from the edges 13, 42, 52 of the optical film 10, the light release film 40, and the heavy release film 50. In this way, the side uneven end E is formed.

このような切断工程では、積層体に対して厚さ方向に付与される上述の加圧力を調整することにより、積層体の側端面から粘着剤層20,30がはみ出る長さを調整でき、加圧状態解放後の端縁22,32の退避長さd1,d2を調整できる。また、第1退避長さd1の調整方法としては、上述のように、粘着剤層20の厚さの調整および弾性率の調整も挙げられる。第2退避長さd2の調整方法としては、上述のように、粘着剤層30の厚さの調整および弾性率の調整も挙げられる。また、面内方向Dにおける端縁22,32間の距離(即ち、第1退避長さd1と第2退避長さd2との差)の調整方法としては、上述のように、側面凹凸端部Eを形成するために回転刃を用いて実施される後述の切断工程における切断条件の調整が、挙げられる。当該切断条件としては、例えば、回転刃の刃先のテーパ角度、回転刃の回転数、後述する光学フィルム積層体の表面に対する回転刃の入射方向、および、光学フィルム積層体を切削する回転刃の変位速度が挙げられる。 In such a cutting process, the length of the adhesive layer 20, 30 protruding from the side end surface of the laminate can be adjusted by adjusting the pressure applied to the laminate in the thickness direction, and the retracted length d1, d2 of the edge 22, 32 after the pressure is released can be adjusted. In addition, as described above, the adjustment of the thickness and elastic modulus of the adhesive layer 20 can be used as a method for adjusting the first retracted length d1. As described above, the adjustment of the thickness and elastic modulus of the adhesive layer 30 can be used as a method for adjusting the second retracted length d2. In addition, as described above, the adjustment of the distance between the edge 22, 32 in the in-plane direction D (i.e., the difference between the first retracted length d1 and the second retracted length d2) can be used as a method for adjusting the cutting conditions in the cutting process described below, which is performed using a rotary blade to form the side uneven end E. The cutting conditions include, for example, the taper angle of the cutting edge of the rotary blade, the rotation speed of the rotary blade, the incidence direction of the rotary blade with respect to the surface of the optical film laminate described below, and the displacement speed of the rotary blade that cuts the optical film laminate.

以上のようにして、上述の光学フィルムX(剥離フィルム付き光学フィルム)を製造できる。 In this manner, the above-mentioned optical film X (optical film with release film) can be produced.

上述の用意工程では、軽剥離フィルム40に代えて第1の工程用剥離フィルムを用いて第1の工程用剥離フィルム付き粘着剤層20を用意し、重剥離フィルム50に代えて第2の工程用剥離フィルムを用いて第2の工程用剥離フィルム付き粘着剤層30を用意してもよい。この場合、上述の第1貼合せ工程では、光学フィルム10の第1面11と、第1の工程用剥離フィルム付き粘着剤層20の粘着剤層20側とを、貼り合わせる。また、第2貼合せ工程では、光学フィルム10の第2面12と、第2の工程用剥離フィルム付き粘着剤層30の粘着剤層30側とを、貼り合わせる(貼合せせの前に、好ましくは、上述のプラズマ処理を実施する)。これにより、第1の工程用剥離フィルム、粘着剤層20、光学フィルム10、粘着剤層30、および第2の工程用剥離フィルムを厚さ方向に順に備える積層体が得られる。そして、当該積層体において、第1の工程用剥離フィルムを粘着剤層20から剥がした後に、粘着剤層20の露出面に軽剥離フィルム40を貼り合わせ、第2の工程用剥離フィルムを粘着剤層30から剥がした後に、粘着剤層30の露出面に重剥離フィルム50を貼り合わせる。以上のようにして、外周端が未加工の光学フィルムXとしての積層体を得てもよい。この後、当該積層体に対して上述の加圧保持工程および切断工程を実施することにより、光学フィルムX(剥離フィルム付き光学フィルム)を製造できる。 In the above-mentioned preparation step, the first adhesive layer 20 with a release film for process may be prepared using a first release film instead of the light release film 40, and the second adhesive layer 30 with a release film for process may be prepared using a second release film instead of the heavy release film 50. In this case, in the above-mentioned first bonding step, the first surface 11 of the optical film 10 and the adhesive layer 20 side of the adhesive layer 20 with the first release film for process are bonded together. In addition, in the second bonding step, the second surface 12 of the optical film 10 and the adhesive layer 30 side of the adhesive layer 30 with the second release film for process are bonded together (preferably, the above-mentioned plasma treatment is performed before bonding). This results in a laminate having the first release film for process, the adhesive layer 20, the optical film 10, the adhesive layer 30, and the second release film for process in order in the thickness direction. Then, in the laminate, after the first process release film is peeled off from the adhesive layer 20, a light release film 40 is attached to the exposed surface of the adhesive layer 20, and after the second process release film is peeled off from the adhesive layer 30, a heavy release film 50 is attached to the exposed surface of the adhesive layer 30. In this manner, a laminate may be obtained as the optical film X whose outer peripheral edge is unprocessed. Thereafter, the optical film X (optical film with a release film) can be manufactured by carrying out the above-mentioned pressurizing and holding process and cutting process on the laminate.

光学フィルムXの製造過程では、第1貼合せ工程において、第1の工程用剥離フィルム付き粘着剤層20を光学フィルム10の第1面11に貼り合わせる一方で、第2貼合せ工程において、重剥離フィルム50付き粘着剤層30を光学フィルム10の第2面12に貼り合わせてもよい(貼合せせの前に、好ましくは、上述のプラズマ処理を実施する)。これにより、第1の工程用剥離フィルム、粘着剤層20、光学フィルム10、粘着剤層30、および重剥離フィルム50を厚さ方向に順に備える積層体が得られる。そして、当該積層体において、第1の工程用剥離フィルムを粘着剤層20から剥がした後に、粘着剤層20の露出面に軽剥離フィルム40を貼り合わせる。以上のようにして、外周端が未加工の光学フィルムXとしての積層体を得てもよい。この後、当該積層体に対して上述の加圧保持工程および切断工程を実施することにより、光学フィルムX(剥離フィルム付き光学フィルム)を製造できる。 In the manufacturing process of the optical film X, the first adhesive layer 20 with the first release film for process may be attached to the first surface 11 of the optical film 10 in the first lamination step, while the adhesive layer 30 with the heavy release film 50 may be attached to the second surface 12 of the optical film 10 in the second lamination step (preferably, the above-mentioned plasma treatment is performed before lamination). This results in a laminate having the first release film for process, the adhesive layer 20, the optical film 10, the adhesive layer 30, and the heavy release film 50 in order in the thickness direction. Then, in the laminate, after peeling the first release film for process from the adhesive layer 20, the light release film 40 is attached to the exposed surface of the adhesive layer 20. In this manner, a laminate as the optical film X with an unprocessed outer edge may be obtained. Thereafter, the above-mentioned pressurizing and holding step and cutting step are performed on the laminate to produce the optical film X (optical film with a release film).

光学フィルムXの製造過程では、第1貼合せ工程において、軽剥離フィルム40付き粘着剤層20を光学フィルム10の第1面11に貼り合わせる一方で、第2貼合せ工程において、第2の工程用剥離フィルム付き粘着剤層30を光学フィルム10の第2面12に貼り合わせてもよい(貼合せせの前に、好ましくは、上述のプラズマ処理を実施する)。これにより、軽剥離フィルム40、粘着剤層20、光学フィルム10、粘着剤層30、および第2の工程用剥離フィルムを厚さ方向に順に備える積層体が得られる。そして、当該積層体において、第2の工程用剥離フィルムを粘着剤層30から剥がした後に、粘着剤層30の露出面に重剥離フィルム50を貼り合わせる。以上のようにして、外周端が未加工の光学フィルムXとしての積層体を得てもよい。この後、当該積層体に対して上述の加圧保持工程および切断工程を実施することにより、光学フィルムX(剥離フィルム付き光学フィルム)を製造できる。 In the manufacturing process of the optical film X, in the first lamination step, the adhesive layer 20 with the light release film 40 is laminated to the first surface 11 of the optical film 10, while in the second lamination step, the adhesive layer 30 with the second release film for process may be laminated to the second surface 12 of the optical film 10 (preferably, the above-mentioned plasma treatment is performed before lamination). This results in a laminate having the light release film 40, the adhesive layer 20, the optical film 10, the adhesive layer 30, and the second release film for process in that order in the thickness direction. Then, in the laminate, after the second release film for process is peeled off from the adhesive layer 30, the heavy release film 50 is laminated to the exposed surface of the adhesive layer 30. In this manner, a laminate as the optical film X with an unprocessed outer edge may be obtained. Thereafter, the above-mentioned pressurizing and holding step and cutting step are performed on the laminate to produce the optical film X (optical film with release film).

光学フィルムXの製造過程では、粘着剤組成物として光硬化性の粘着剤組成物を用いて、粘着剤層20,30を形成してもよい。光硬化性の粘着剤組成物としては、例えば、紫外線照射を受けて含有モノマー成分の重合反応が進行する紫外線硬化タイプの粘着剤組成物が挙げられる。例えば、第2粘着剤組成物として光硬化性の粘着剤組成物を用いる場合、まず、第2の工程用剥離フィルム上に当該第2粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、第2の工程用剥離フィルム上の塗膜の上に重剥離フィルム50を積層する。次に、剥離フィルム間の塗膜に対する所定波長の光(紫外線など)の照射により、当該塗膜を光硬化させる。これにより、剥離フィルム間に粘着剤層30が形成される。次に、重剥離フィルム50上の粘着剤層30から、第2の工程用剥離フィルムを剥離する。こうして得られた重剥離フィルム50付き粘着剤層30を用いて、上述の第2貼合せ工程を実施してもよい。互する In the manufacturing process of the optical film X, the adhesive layers 20, 30 may be formed using a photocurable adhesive composition as the adhesive composition. An example of a photocurable adhesive composition is an ultraviolet-curable adhesive composition in which a polymerization reaction of the monomer components contained therein proceeds upon irradiation with ultraviolet light. For example, when a photocurable adhesive composition is used as the second adhesive composition, the second adhesive composition is first applied onto a second release film for process to form a coating film. Next, a double release film 50 is laminated onto the coating film on the second release film for process. Next, the coating film between the release films is photocured by irradiating the coating film with light of a predetermined wavelength (such as ultraviolet light). This forms an adhesive layer 30 between the release films. Next, the second release film for process is peeled off from the adhesive layer 30 on the double release film 50. The adhesive layer 30 with the double release film 50 thus obtained may be used to carry out the second lamination process described above.

図3Aから図3Dは、光学フィルムXの使用方法の一例を表す。 Figures 3A to 3D show an example of how optical film X can be used.

本方法では、まず、図3Aに示すように、光学フィルムXの粘着剤層20から軽剥離フィルム40を剥離する。例えば、光学フィルムXの重剥離フィルム50側をワークテーブル上に固定した状態で、側面凹凸端部Eにおける軽剥離フィルム40の端部に力を作用させて、粘着剤層20から軽剥離フィルム40を剥離する。これにより、粘着剤層20の粘着面21が露出する。 In this method, first, as shown in FIG. 3A, the light release film 40 is peeled off from the adhesive layer 20 of the optical film X. For example, with the heavy release film 50 side of the optical film X fixed on a work table, a force is applied to the end of the light release film 40 at the side uneven end E to peel off the light release film 40 from the adhesive layer 20. This exposes the adhesive surface 21 of the adhesive layer 20.

側面凹凸端部Eでは、上述のように、面内方向Dにおいて、光学フィルム10、軽剥離フィルム40、および重剥離フィルム50の端縁13,42,52よりも、粘着剤層20の端縁22が退避している。このような側面凹凸端部Eでは、図2を参照して上述したように、軽剥離フィルム40が、粘着剤層20が貼着していないフリー部分40aを有する。そのため、側面凹凸端部Eでは、粘着剤層20から軽剥離フィルム40を剥離するにあたり、まず、軽剥離フィルム40のフリー部分40aを、図2において仮想線で示すように、めくり上げて変形させ、その後に、既にめくり上げ変形しているフリー部分40aを引っ張って、軽剥離フィルム40を粘着剤層20の端縁22から引き離すことができる。すなわち、剥離開始過程において、軽剥離フィルム40のフリー部分40aを充分に変形させるための力(第1の力)と、軽剥離フィルム40の変形に追随して弾性変形する粘着剤層20の端縁22から軽剥離フィルム40を引き離すための力(第2の力)とが、同時には必要ない。このような光学フィルムXは、剥離開始過程に要する力を低減するのに適する。この力が小さいほど、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、厚さ100μm以下と薄い光学フィルム10の変形が抑制されて粘着剤層30の変形も抑制され、従って、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることが抑制される。 At the side uneven end E, as described above, the edge 22 of the adhesive layer 20 is retracted from the edges 13, 42, 52 of the optical film 10, the light release film 40, and the heavy release film 50 in the in-plane direction D. At such a side uneven end E, as described above with reference to FIG. 2, the light release film 40 has a free portion 40a to which the adhesive layer 20 is not attached. Therefore, at the side uneven end E, when peeling the light release film 40 from the adhesive layer 20, first, the free portion 40a of the light release film 40 is turned up and deformed as shown by the imaginary line in FIG. 2, and then the free portion 40a that has already been turned up and deformed is pulled to pull the light release film 40 away from the edge 22 of the adhesive layer 20. That is, in the peeling start process, a force (first force) for sufficiently deforming the free portion 40a of the light release film 40 and a force (second force) for pulling the light release film 40 away from the edge 22 of the adhesive layer 20 that elastically deforms following the deformation of the light release film 40 are not required at the same time. Such an optical film X is suitable for reducing the force required in the peeling start process. The smaller this force is, the more the deformation of the thin optical film 10 with a thickness of 100 μm or less is suppressed in the peeling start process of the light release film 40, and the deformation of the adhesive layer 30 is also suppressed, and therefore the edge 32 of the adhesive layer 30 is suppressed from separating from the heavy release film 50.

また、側面凹凸端部Eでは、図2に示すように、第1退避長さd1が、第2退避長さd2より小さい。すなわち、側面凹凸端部Eでは、面内方向Dにおいて、粘着剤層30の端縁32は、粘着剤層20の端縁22よりも退避している。このような構成は、軽剥離フィルム40の剥離開始過程において、粘着剤層20の端縁22から軽剥離フィルム40を引き離すための上記第2の力が光学フィルムXに対して作用する時に、粘着剤層30の変形を抑制するのに適し、従って、粘着剤層30の端縁32が重剥離フィルム50から離れることを抑制するのに適する。 In addition, at the side unevenness end E, as shown in FIG. 2, the first retraction length d1 is smaller than the second retraction length d2. That is, at the side unevenness end E, the edge 32 of the adhesive layer 30 is retracted from the edge 22 of the adhesive layer 20 in the in-plane direction D. This configuration is suitable for suppressing deformation of the adhesive layer 30 when the second force for pulling the light release film 40 away from the edge 22 of the adhesive layer 20 acts on the optical film X during the process of starting to release the light release film 40, and is therefore suitable for suppressing the edge 32 of the adhesive layer 30 from separating from the heavy release film 50.

次に、図3Bに示すように、粘着剤層20を介して光学フィルム10と第1部材M1(第1被着体)とを接合する。第1部材M1は、例えば、フレキシブルパネルが有する積層構造中の一要素である。当該要素としては、例えば、画素パネル、タッチパネル、および透明カバーフィルムが挙げられる(後記の第2部材M2についても同様である)。 Next, as shown in FIG. 3B, the optical film 10 and the first member M1 (first adherend) are bonded via the adhesive layer 20. The first member M1 is, for example, one element in the laminated structure of the flexible panel. Examples of such elements include a pixel panel, a touch panel, and a transparent cover film (the same applies to the second member M2 described below).

次に、図3Cに示すように、粘着剤層30から重剥離フィルム50を剥離する。これにより、粘着剤層30の粘着面31が露出する。 Next, as shown in FIG. 3C, the heavy release film 50 is peeled off from the adhesive layer 30. This exposes the adhesive surface 31 of the adhesive layer 30.

次に、図3Dに示すように、粘着剤層30を介して光学フィルム10と第2部材M2(第2被着体)とを接合する。 Next, as shown in FIG. 3D, the optical film 10 and the second member M2 (second adherend) are bonded via the pressure-sensitive adhesive layer 30.

例えばフレキシブルパネルの製造過程において、光学フィルムXは以上のように使用される。 For example, in the manufacturing process of a flexible panel, optical film X is used as described above.

本発明について、以下に実施例を示して具体的に説明する。本発明は、実施例に限定されない。また、以下に記載されている配合量(含有量)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上述の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合量(含有量)、物性値、パラメータなどの上限(「以下」または「未満」として定義されている数値)または下限(「以上」または「超える」として定義されている数値)に代替できる。 The present invention will be specifically described below with reference to examples. The present invention is not limited to the examples. In addition, the specific numerical values of the compounding amounts (contents), physical property values, parameters, etc. described below can be replaced with the upper limit (a numerical value defined as "equal to or less than") or lower limit (a numerical value defined as "equal to or more than") of the corresponding compounding amounts (contents), physical property values, parameters, etc. described in the above-mentioned "Form for carrying out the invention."

〔実施例1〕
<第1粘着シートの作製>
以下のようにして、実施例1における第1粘着シートを作製した。
Example 1
<Preparation of first adhesive sheet>
The first pressure-sensitive adhesive sheet in Example 1 was produced as follows.

〈アクリルオリゴマーの調製〉
撹拌機、温度計、還流冷却器、および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、メタクリル酸シクロヘキシル(CHMA)95質量部と、アクリル酸(AA)5質量部と、連鎖移動剤としてのα-メチルスチレンダイマー 10質量部と、溶媒としてのトルエン120質量部とを含む混合物を、室温で1時間、窒素雰囲気下にて撹拌した。その後、混合物に、熱重合開始剤としての2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)10質量部を加えて反応溶液を調製し、窒素雰囲気下において、85℃で5時間、反応させた(アクリルオリゴマーの形成)。これにより、アクリルオリゴマーを含有するオリゴマー溶液(固形分濃度50質量%)得た。アクリルオリゴマーの重量平均分子量は4300であった。また、アクリルオリゴマーのガラス転移温度(Tg)は84℃であった。
Preparation of Acrylic Oligomer
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 95 parts by mass of cyclohexyl methacrylate (CHMA), 5 parts by mass of acrylic acid (AA), 10 parts by mass of α-methylstyrene dimer as a chain transfer agent, and 120 parts by mass of toluene as a solvent was stirred at room temperature for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Thereafter, 10 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator was added to the mixture to prepare a reaction solution, which was reacted at 85°C for 5 hours under a nitrogen atmosphere (formation of acrylic oligomer). As a result, an oligomer solution containing acrylic oligomer (solid concentration 50% by mass) was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic oligomer was 4300. The glass transition temperature (Tg) of the acrylic oligomer was 84°C.

〈第1アクリルベースポリマーの調製〉
撹拌機、温度計、還流冷却器、および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、アクリル酸2-エチルヘキシル(2EHA)70質量部と、アクリル酸n-ブチル(BA)20質量部と、ラウリルアクリレート(LA)8質量部と、アクリル酸4-ヒドロキシブチル(4HBA)1質量部と、N-ビニル-2-ピロリドン(NVP)0.6質量部と、熱重合開始剤としての2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.1質量部と、溶媒としての酢酸エチルとを含む混合物(固形分濃度47質量%)を、56℃で6時間、窒素雰囲気下で撹拌した(重合反応)。これにより、第1アクリルベースポリマーを含有する第1ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液中の第1アクリルベースポリマーの重量平均分子量は約200万であった。
Preparation of First Acrylic-Based Polymer
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 70 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 20 parts by mass of n-butyl acrylate (BA), 8 parts by mass of lauryl acrylate (LA), 1 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), 0.6 parts by mass of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), 0.1 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and ethyl acetate as a solvent (solid concentration 47% by mass) was stirred under a nitrogen atmosphere at 56°C for 6 hours (polymerization reaction). As a result, a first polymer solution containing a first acrylic base polymer was obtained. The weight average molecular weight of the first acrylic base polymer in this polymer solution was about 2 million.

〈第1粘着剤組成物の調製〉
第1ポリマー溶液に、当該ポリマー溶液の固形分100質量部あたり、アクリルオリゴマー 1.5質量部と、第1架橋剤(品名「ナイパーBMT-40SV」,ジベンゾイルパーオキシド,日本油脂製)0.26質量部と、第2架橋剤(品名「コロネートL」,トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物,東ソー製)0.02質量部と、シランカップリング剤(品名「KBM403」,信越化学工業製)0.3質量部とを加えて混合し、第1粘着剤組成物を調製した。
Preparation of First Pressure-Sensitive Adhesive Composition
To the first polymer solution, 1.5 parts by mass of an acrylic oligomer, 0.26 parts by mass of a first crosslinking agent (trade name "Niper BMT-40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Oil & Fats), 0.02 parts by mass of a second crosslinking agent (trade name "Coronate L", trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct, manufactured by Tosoh), and 0.3 parts by mass of a silane coupling agent (trade name "KBM403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added and mixed per 100 parts by mass of the solid content of the polymer solution to prepare a first pressure-sensitive adhesive composition.

〈第1粘着シートの形成〉
片面がシリコーン剥離処理された剥離フィルムL1の剥離処理面上に、第1粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成した。剥離フィルムL1は、片面がシリコーン剥離処理されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(品名「ダイアホイル MRF50」,厚さ50μm,三菱ケミカル製)である。次に、剥離フィルムL1上の塗膜に、片面がシリコーン剥離処理された剥離フィルムL2の剥離処理面を貼り合わせた。剥離フィルムL2は、片面がシリコーン剥離処理されたPETフィルム(品名「ダイアホイル MRV75」,厚さ75μm,三菱ケミカル製)である。次に、剥離フィルムL1と剥離フィルムL2とに挟まれた塗膜を、100℃で1分間の加熱とその後の150℃で3分間の加熱とによって乾燥し、厚さ50μmの透明な第1粘着剤層よりなる第1粘着シートを形成した。以上のようにして、剥離フィルムL1,L2付きの第1粘着シートを作製した。
<Formation of the first adhesive sheet>
A first adhesive composition was applied onto the release-treated surface of a release film L1, one side of which had been treated with silicone release, to form a coating film. The release film L1 was a polyethylene terephthalate (PET) film (product name "Diafoil MRF50", thickness 50 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical) with one side treated with silicone release. Next, the release-treated surface of a release film L2, one side of which had been treated with silicone release, was attached to the coating film on the release film L1. The release film L2 was a PET film (product name "Diafoil MRV75", thickness 75 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical) with one side treated with silicone release. Next, the coating film sandwiched between the release film L1 and the release film L2 was dried by heating at 100° C. for 1 minute and then heating at 150° C. for 3 minutes to form a first adhesive sheet consisting of a transparent first adhesive layer having a thickness of 50 μm. In this manner, a first adhesive sheet with release films L1 and L2 was produced.

<第2粘着シートの作製>
以下のようにして、実施例1における第2粘着シートを作製した。
<Preparation of second adhesive sheet>
The second adhesive sheet in Example 1 was produced as follows.

〈第2アクリルベースポリマーの調製〉
撹拌機、温度計、還流冷却器、および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、アクリル酸ブチル(BA)99質量部と、アクリル酸4-ヒドロキシブチル(4HBA)1質量部と、熱重合開始剤としての2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.3質量部と、溶媒としての酢酸エチルとを含む混合物を、60℃で4時間、窒素雰囲気下で撹拌した(重合反応)。これにより、第2アクリルベースポリマーを含有する第2ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液中の第2アクリルベースポリマーの重量平均分子量は165万であった。
Preparation of the Second Acrylic-Based Polymer
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 99 parts by mass of butyl acrylate (BA), 1 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA), 0.3 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and ethyl acetate as a solvent was stirred under a nitrogen atmosphere at 60°C for 4 hours (polymerization reaction). This resulted in a second polymer solution containing a second acrylic-based polymer. The weight average molecular weight of the second acrylic-based polymer in this polymer solution was 1.65 million.

〈第2粘着剤組成物の調製〉
第2ポリマー溶液に、当該ポリマー溶液の固形分100質量部あたり、第1架橋剤(品名「ナイパーBMT-40SV」,ジベンゾイルパーオキシド,日本油脂製)0.3質量部と、第3架橋剤(品名「タケネートD110N」,トリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート,三井化学製)0.1質量部と、シランカップリング剤(品名「KBM403」,信越化学工業製)0.3質量部とを加えて混合し、第2粘着剤組成物を調製した。
Preparation of second pressure-sensitive adhesive composition
To the second polymer solution, 0.3 parts by mass of a first crosslinking agent (product name "Niper BMT-40SV", dibenzoyl peroxide, manufactured by Nippon Oil & Fats), 0.1 parts by mass of a third crosslinking agent (product name "Takenate D110N", trimethylolpropane xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals), and 0.3 parts by mass of a silane coupling agent (product name "KBM403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added and mixed per 100 parts by mass of the solid content of the polymer solution to prepare a second pressure-sensitive adhesive composition.

〈第2粘着シートの形成〉
片面がシリコーン剥離処理された剥離フィルムL3の剥離処理面上に、第2粘着剤組成物を塗布して塗膜を形成した。剥離フィルムL3は、片面がシリコーン剥離処理されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(品名「ダイアホイル MRF50」,厚さ50μm,三菱ケミカル製)である。次に、剥離フィルムL3上の塗膜に、片面がシリコーン剥離処理された剥離フィルムL4の剥離処理面を貼り合わせた。剥離フィルムL4は、片面がシリコーン剥離処理されたPETフィルム(品名「ダイアホイル MRV75」,厚さ75μm,三菱ケミカル製)である。次に、剥離フィルムL3と剥離フィルムL4とに挟まれた塗膜を、100℃で1分間の加熱とその後の150℃で3分間の加熱とによって乾燥し、厚さ50μmの透明な第2粘着剤層よりなる第2粘着シートを形成した。以上のようにして、剥離フィルムL3,L4付きの第2粘着シートを作製した。
<Formation of second adhesive sheet>
A second adhesive composition was applied to the release-treated surface of the release film L3, one side of which was treated with silicone release, to form a coating film. The release film L3 was a polyethylene terephthalate (PET) film (product name "Diafoil MRF50", thickness 50 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical) with one side treated with silicone release. Next, the release-treated surface of the release film L4, one side of which was treated with silicone release, was attached to the coating film on the release film L3. The release film L4 was a PET film (product name "Diafoil MRV75", thickness 75 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical) with one side treated with silicone release. Next, the coating film sandwiched between the release film L3 and the release film L4 was dried by heating at 100 ° C for 1 minute and then heating at 150 ° C for 3 minutes, to form a second adhesive sheet consisting of a transparent second adhesive layer with a thickness of 50 μm. In this manner, a second adhesive sheet with release films L3 and L4 was produced.

<剥離フィルム付き光学フィルムの作製>
まず、両面剥離フィルム付き第1粘着シートから剥離フィルムL2を剥離し、これによって露出した露出面をプラズマ処理した。一方、厚さ31μmの偏光板の両面(第1面,第2面)も、プラズマ処理した。各プラズマ処理では、プラズマ照射装置(品名「AP-TO5」,積水工業社製)を使用し、電圧を160Vとし、周波数を10kHzとし、処理速度を5000mm/分とした(後記のプラズマ処理においても同様である)。そして、第1粘着シートの上記露出面と、偏光板の第1面とを、貼り合わせた。この貼り合わせでは、25℃の環境下において、2kgのローラーを1往復させる作業により、剥離フィルムL1付き第1粘着シートと偏光板とを圧着させた。
<Preparation of Optical Film with Release Film>
First, the release film L2 was peeled off from the first pressure-sensitive adhesive sheet with double-sided release film, and the exposed surface was plasma-treated. Meanwhile, both sides (first surface, second surface) of a polarizing plate with a thickness of 31 μm were also plasma-treated. In each plasma treatment, a plasma irradiation device (name "AP-TO5", manufactured by Sekisui Kogyo Co., Ltd.) was used, and the voltage was set to 160 V, the frequency was set to 10 kHz, and the treatment speed was set to 5000 mm/min (the same applies to the plasma treatment described below). Then, the above-mentioned exposed surface of the first pressure-sensitive adhesive sheet and the first surface of the polarizing plate were bonded together. In this bonding, the first pressure-sensitive adhesive sheet with the release film L1 and the polarizing plate were pressure-bonded together by moving a 2 kg roller back and forth once in an environment of 25°C.

次に、剥離フィルムL3,L4付き第2粘着シートから剥離フィルムL3を剥離し、これによって露出した露出面をプラズマ処理した。そして、第2粘着シートの露出面と、偏光板の第2面とを、貼り合わせた。この貼り合わせでは、25℃の環境下において、2kgのローラーを1往復させる作業により、剥離フィルムL4付き第2粘着シートと偏光板とを圧着させた。これにより、剥離フィルムL1(厚さ50μm)付き第1粘着シートと、偏光板と、剥離フィルムL4(厚さ75μm)付き第2粘着シートとの積層構成の積層フィルムを得た。 Next, release film L3 was peeled off from the second adhesive sheet with release films L3 and L4, and the surface thus exposed was subjected to plasma treatment. The exposed surface of the second adhesive sheet was then bonded to the second surface of the polarizing plate. In this bonding, the second adhesive sheet with release film L4 and the polarizing plate were pressed together by moving a 2 kg roller back and forth once in an environment of 25°C. This resulted in a laminated film having a laminated configuration of the first adhesive sheet with release film L1 (thickness 50 μm), the polarizing plate, and the second adhesive sheet with release film L4 (thickness 75 μm).

次に、打抜き加工機およびトムソン刃を使用して、積層フィルムを150mm×120mmのサイズに打ち抜いた(打抜き加工工程)。 Next, the laminated film was punched out to a size of 150 mm x 120 mm using a punching machine and a Thompson blade (punching process).

次に、以下のようにして外形加工を実施した(外形加工工程)。まず、同一サイズに打ち抜かれた50枚の積層フィルムを積み重ねて積層体を得た。具体的には、隣り合う積層フィルムにおいては一方の積層フィルムの剥離フィルムL1(第1剥離フィルム)と他方の積層フィルムの剥離フィルムL4(第2剥離フィルム)とが接するように、50枚の積層フィルムを積み重ねて積層体を得た。この積層体は、表面に第1剥離フィルムが配置されている厚さ方向一方面(第1表層面)と、表面に第2剥離フィルムが配置されている厚さ方向他方面(第2表層面)とを有する。次に、この積層体を厚さ方向に挟む治具によって保持した。次に、治具によって積層体に対して厚さ方向に付与される加圧力を、積層体の端面から各粘着剤層が所定程度にはみ出るように、調整した。この状態で、積層体の端面から0.5mm内側を、当該積層体の外周端が新たに形成されるように、厚さ方向に切断した。切断には、所定の切断加工機と、当該加工機に取り付けられた第1の回転刃を使用した。この回転刃は、ディスク部と、当該ディスク部の周端からディスク径方向に突出する複数の突出刃を有する。図4に示すように、突出刃70は、回転刃回転時における前方側の縁端に、切断対象物80の切断を担う直線状のナイフエッジ71(長さ6mm)を有する。外形加工工程では、各突出刃70が積層体(切断対象物80)に対してその第1表層面側から切り込むように積層体に対して回転刃を回転させ、回転刃の回転速度を4500rpmとし、積層体に対する回転刃の変位速度を1000mm/分とし、積層体に対して切断直前に対向するナイフエッジ71の、積層体表面(第1表層面)に対する仰角(刃角度θ)を-5°(図4B)とした(刃角度θが図4Aに示すようにディスク径方向外側に開く場合を正の刃角度θとし、刃角度θが図4Bに示すようにディスク径方向内側に開く場合を負の刃角度θとする)。そして、外形加工後に、治具による積層体の加圧状態を解放した。 Next, the outer shape processing was carried out as follows (outer shape processing step). First, 50 sheets of laminated film punched to the same size were stacked to obtain a laminate. Specifically, 50 sheets of laminated film were stacked so that the release film L1 (first release film) of one laminated film and the release film L4 (second release film) of the other laminated film were in contact with each other in adjacent laminated films to obtain a laminate. This laminate has one surface in the thickness direction (first surface) on which the first release film is disposed, and the other surface in the thickness direction (second surface) on which the second release film is disposed. Next, this laminate was held by a jig that sandwiched it in the thickness direction. Next, the pressure applied to the laminate in the thickness direction by the jig was adjusted so that each adhesive layer protruded from the end face of the laminate to a predetermined extent. In this state, the laminate was cut in the thickness direction 0.5 mm inward from the end face so that the outer peripheral edge of the laminate was newly formed. A specified cutting machine and a first rotary blade attached to the machine were used for cutting. This rotary blade has a disk portion and a plurality of protruding blades protruding from the peripheral edge of the disk portion in the disk radial direction. As shown in FIG. 4, the protruding blade 70 has a linear knife edge 71 (length 6 mm) for cutting the cutting object 80 at the edge on the front side when the rotary blade rotates. In the external shape processing step, the rotary blade is rotated relative to the laminate so that each protruding blade 70 cuts into the laminate (cutting object 80) from its first surface side, the rotation speed of the rotary blade is 4500 rpm, the displacement speed of the rotary blade relative to the laminate is 1000 mm/min, and the elevation angle (blade angle θ) of the knife edge 71 facing the laminate immediately before cutting is set to −5° (FIG. 4B) with respect to the laminate surface (first surface) (the blade angle θ is positive when the blade angle θ opens outward in the disk radial direction as shown in FIG. 4A, and is negative when the blade angle θ opens inward in the disk radial direction as shown in FIG. 4B). After the outer shape was processed, the pressure applied to the laminate by the jig was released.

以上のようにして、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。この剥離フィルム付き光学フィルムは、第1剥離フィルム(剥離フィルムL1)と、第1粘着剤層(第1粘着シート)と、光学フィルムとしての偏光板と、第2粘着剤層(第2粘着シート)と、第2剥離フィルム(剥離フィルムL4)とを厚さ方向に順に備え、外周端の全体にわたって側面凹凸端部を有する。この側面凹凸端部では、フィルム面内方向において、各フィルムの端縁よりも第1および第2粘着剤層の各端縁が退避している。また、上述のようにして作製された当該剥離フィルム付き光学フィルムでは、フィルム面内方向において、第1剥離フィルム、光学フィルム、および第2剥離フィルムの各端縁は、実質的に同じ位置にある。すなわち、当該剥離フィルム付き光学フィルムの側面凹凸端部では、第1剥離フィルムの端縁からの第1粘着剤層の第1端縁の第1退避長さd1は、光学フィルムの端縁からの第1粘着剤層の第1端縁の退避長さd1’と実質的に等しく、第2剥離フィルムの端縁からの第2粘着剤層の第2端縁の第2退避長さd2は、光学フィルムの端縁からの第2粘着剤層の第2端縁の退避長さd2’と実質的に等しい。 In this manner, the optical film with a release film of Example 1 was prepared. This optical film with a release film includes a first release film (release film L1), a first adhesive layer (first adhesive sheet), a polarizing plate as an optical film, a second adhesive layer (second adhesive sheet), and a second release film (release film L4) in that order in the thickness direction, and has an uneven side end over the entire outer periphery. At this uneven side end, the edges of the first and second adhesive layers are retracted from the edges of each film in the in-plane direction of the film. In addition, in the optical film with a release film prepared as described above, the edges of the first release film, the optical film, and the second release film are substantially at the same position in the in-plane direction of the film. That is, at the side uneven end of the optical film with the release film, the first retraction length d1 of the first edge of the first adhesive layer from the edge of the first release film is substantially equal to the retraction length d1' of the first edge of the first adhesive layer from the edge of the optical film, and the second retraction length d2 of the second edge of the second adhesive layer from the edge of the second release film is substantially equal to the retraction length d2' of the second edge of the second adhesive layer from the edge of the optical film.

〔実施例2~6〕
以下のこと以外は、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムと同様にして、実施例2~6の各剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。
[Examples 2 to 6]
Each of the optical films with a release film of Examples 2 to 6 was produced in the same manner as the optical film with a release film of Example 1, except for the following.

外形加工時の上述の刃角度θについて、実施例3,4では実施例1よりもマイナス側に絶対値が大きくなるように調整し、実施例2では実施例3,4よりも更にマイナス側に絶対値が大きくなるように調整し、実施例6では実施例2よりも更にマイナス側に絶対値が大きくなるように調整した。また、実施例5では、外形加工時の上述の刃角度θを、実施例1よりもプラス側に変化するように調整し、且つ、同加工時の上述の回転刃変位速度を、実施例1よりも遅くなるように調整した。 The blade angle θ during external processing was adjusted in Examples 3 and 4 so that its absolute value was greater on the negative side than in Example 1, in Example 2 so that its absolute value was even greater on the negative side than in Examples 3 and 4, and in Example 6 so that its absolute value was even greater on the negative side than in Example 2. In Example 5, the blade angle θ during external processing was adjusted so that it was greater on the positive side than in Example 1, and the rotary blade displacement speed during the same processing was adjusted to be slower than in Example 1.

〔実施例7〕
厚さ31μmの偏光板に代えて厚さ80μmの偏光板を用いたこと以外は、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムと同様にして、実施例7の剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。
Example 7
An optical film with a release film of Example 7 was produced in the same manner as the optical film with a release film of Example 1, except that a polarizing plate with a thickness of 80 μm was used instead of the polarizing plate with a thickness of 31 μm.

〔実施例8〕
厚さ31μmの偏光板に代えて厚さ100μmの偏光板を用いたこと以外は、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムと同様にして、実施例7の剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。
Example 8
An optical film with a release film of Example 7 was produced in the same manner as the optical film with a release film of Example 1, except that a polarizing plate with a thickness of 100 μm was used instead of the polarizing plate with a thickness of 31 μm.

〔比較例1〕
上述の打抜き加工より後の作業を実施しなかったこと以外は、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムと同様にして、比較例1の剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。
Comparative Example 1
An optical film with a release film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as the optical film with a release film of Example 1, except that the operations subsequent to the above-mentioned punching process were not carried out.

〔比較例2〕
以下のこと以外は、実施例1の剥離フィルム付き光学フィルムと同様にして、比較例2の剥離フィルム付き光学フィルムを作製した。
Comparative Example 2
An optical film with a release film of Comparative Example 2 was produced in the same manner as the optical film with a release film of Example 1, except for the following.

第1の回転刃に代えて第2の回転刃を使用した。この回転刃は、ディスク部と、当該ディスク部の周端からディスク径方向に突出する複数の突出刃を有する。外形加工工程では、各突出刃70が積層体(切断対象物80)に対してその第2表層面側から切り込むように積層体に対して回転刃を回転させ(即ち、回転刃に対する積層体の配置態様を、実施例1とは表裏反対とした)、回転刃の回転速度を4500rpmとし、積層体に対する回転刃の変位速度を1000mm/分とし、積層体に対して切断直前に対向するナイフエッジ71(長さ6mm)の、積層体表面(第2表層面)に対する仰角(刃角度θ)を+5°(図4A)とした。 A second rotary blade was used instead of the first rotary blade. This rotary blade has a disk portion and a number of protruding blades protruding from the peripheral edge of the disk portion in the disk radial direction. In the external processing step, the rotary blade was rotated relative to the laminate so that each protruding blade 70 cuts into the laminate (object to be cut 80) from its second surface side (i.e., the arrangement of the laminate relative to the rotary blade was reversed from that in Example 1), the rotation speed of the rotary blade was 4500 rpm, the displacement speed of the rotary blade relative to the laminate was 1000 mm/min, and the elevation angle (blade angle θ) of the knife edge 71 (length 6 mm) facing the laminate immediately before cutting with respect to the laminate surface (second surface) was +5° (Figure 4A).

〈退避長さ〉
実施例1~8および比較例1,2における各剥離フィルム付き光学フィルム(両面剥離フィルム付き光学フィルム)について、第1粘着剤層の第1端縁の第1退避長さd1と、第2粘着剤層の第2端縁の第2退避長さd2とを、次のようにして調べた。
<Retraction length>
For each optical film with a release film (optical film with double-sided release film) in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2, the first retraction length d1 of the first edge of the first adhesive layer and the second retraction length d2 of the second edge of the second adhesive layer were examined as follows.

まず、両面剥離フィルム付き光学フィルムから第1剥離フィルムを剥離した後、当該剥離によって露出した第1粘着剤層を介して、片面剥離フィルム付き光学フィルムをガラスプレートに貼り付けた。次に、ガラスプレート上の光学フィルム(両面粘着剤層付き光学フィルム)から第2剥離フィルムを剥離した。ガラスプレート上の両面粘着剤層付き光学フィルムの外周端から選択した所定箇所を、光学顕微鏡によって観察した。具体的には、両面粘着剤層付き光学フィルムに対し、ガラスプレートとは反対の側から、両面粘着剤層付き光学フィルムの厚さ方向に、光学顕微鏡によって観察し、撮影した。そして、撮影された画像において、光学フィルムの端縁からの第1粘着剤層の第1端縁の退避長さd1’と、光学フィルムの同端縁からの第2粘着剤層の第2端縁の退避長さd2’とを測定した。測定結果を、退避長さd1(μm)および退避長さd2(μm)として、表1に示す(上述のように、退避長さd1’は退避長さd1と実質的に等しく、退避長さd2’は退避長さd2と実質的に等しい)。 First, the first release film was peeled off from the optical film with double-sided release film, and then the optical film with one-sided release film was attached to a glass plate via the first adhesive layer exposed by the peeling. Next, the second release film was peeled off from the optical film on the glass plate (optical film with double-sided adhesive layer). A predetermined portion selected from the outer peripheral edge of the optical film with double-sided adhesive layer on the glass plate was observed with an optical microscope. Specifically, the optical film with double-sided adhesive layer was observed and photographed with an optical microscope from the side opposite to the glass plate in the thickness direction of the optical film with double-sided adhesive layer. Then, in the photographed image, the retraction length d1' of the first edge of the first adhesive layer from the edge of the optical film and the retraction length d2' of the second edge of the second adhesive layer from the same edge of the optical film were measured. The measurement results are shown in Table 1 as retraction length d1 (μm) and retraction length d2 (μm) (as described above, retraction length d1' is substantially equal to retraction length d1, and retraction length d2' is substantially equal to retraction length d2).

〈剥離開始力と剥離力〉
実施例1~8および比較例1,2における各剥離フィルム付き光学フィルムについて、各剥離フィルムの剥離に要する力(剥離開始力とその後の剥離力)を、調べた。
<Peel initiation force and peel force>
For each of the optical films with a release film in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2, the force required to peel each release film (the peel initiation force and the subsequent peel force) was examined.

まず、剥離フィルム付き光学フィルムから、測定用の試験片(短辺25mm×長辺150mm程度)を切り出した。具体的には、剥離フィルム付き光学フィルムの側面凹凸端部から150mm程度の長さを有し且つ25mmの幅を有する試験片を、同フィルムから切り出した。 First, a test piece for measurement (approximately 25 mm short side x 150 mm long side) was cut out from the optical film with a release film. Specifically, a test piece having a length of approximately 150 mm from the uneven side end of the optical film with a release film and a width of 25 mm was cut out from the same film.

次に、引張試験機(品名「オートグラフ」,島津製作所製)の固定用テーブルに試験片を固定した。具体的には、試験片から一方の剥離フィルム(第1剥離フィルムまたは第2剥離フィルム)を剥離して外した後、当該剥離によって露出した粘着剤層を介して、当該試験片を固定用テーブルに貼り付けた。 Next, the test specimen was fixed to the fixing table of a tensile testing machine (product name "Autograph", manufactured by Shimadzu Corporation). Specifically, one of the release films (the first release film or the second release film) was peeled off from the test specimen, and then the test specimen was attached to the fixing table via the adhesive layer exposed by the peeling.

次に、試験片の露出面側に位置する他方の剥離フィルム(第2剥離フィルムまたは第1剥離フィルム)における側面凹凸端部側の短辺に、把持用テープを貼り付けた。この把持用テープは強粘着面を有し、当該強粘着面を介して把持用テープを試験片の剥離フィルムに貼り付けた。 Next, a gripping tape was attached to the short side of the other release film (the second release film or the first release film) located on the exposed surface side of the test piece, on the side of the uneven side end. This gripping tape has a strong adhesive surface, and the gripping tape was attached to the release film of the test piece via this strong adhesive surface.

次に、引張試験機により、試験片における粘着剤層の剥離フィルムを当該粘着剤層から剥離する剥離試験を実施し、剥離に要する力を剥離強度として測定した。本測定では、測定温度を25℃とし、把持用テープを引っ張ることによって剥離フィルムを剥離し、剥離角度を180°とし、引張速度を300mm/分とし、剥離長さを100mmとした。このような剥離試験によって得られるグラフの一例を図5に示す。図5のグラフにおいて、横軸は剥離長さ(mm)を表し、縦軸は剥離強度(gf)を表し、Fmは、剥離強度の最大値を表す。 Next, a peel test was conducted using a tensile tester to peel the release film of the adhesive layer of the test piece from the adhesive layer, and the force required for peeling was measured as the peel strength. In this measurement, the measurement temperature was 25°C, the release film was peeled off by pulling the gripping tape, the peel angle was 180°, the tensile speed was 300 mm/min, and the peel length was 100 mm. An example of a graph obtained by such a peel test is shown in Figure 5. In the graph of Figure 5, the horizontal axis represents the peel length (mm), the vertical axis represents the peel strength (gf), and Fm represents the maximum peel strength.

以上のような剥離試験によって求められた剥離開始力F1,F2(gf/25mm)および剥離力f1,f2(gf/25mm)を表1に示す(但し、実施例7,8につき、剥離開始力F1,F2は未測定である)。剥離開始力F1は、第1剥離フィルムを第1粘着剤層から剥離したときの、剥離長さ20mm以内における剥離強度の最大値であり、剥離力f1は、剥離長さ20~100mm(剥離強度が、剥離開始時の剥離開始力F1を経た後に安定している)における剥離強度の平均値である。剥離開始力F2は、第2剥離フィルムを第2粘着剤層から剥離したときの、剥離長さ20mm以内における剥離強度の最大値であり、剥離力f2は、剥離長さ20~100mm(剥離強度が、剥離開始時の剥離開始力F2を経た後に安定している)における剥離強度の平均値である。 The peel initiation forces F1, F2 (gf/25 mm) and peel forces f1, f2 (gf/25 mm) obtained by the above peel test are shown in Table 1 (however, peel initiation forces F1, F2 were not measured for Examples 7 and 8). Peel initiation force F1 is the maximum peel strength within a peel length of 20 mm when the first release film is peeled from the first adhesive layer, and peel force f1 is the average peel strength within a peel length of 20 to 100 mm (where the peel strength is stable after passing the peel initiation force F1 at the start of peeling). Peel initiation force F2 is the maximum peel strength within a peel length of 20 mm when the second release film is peeled from the second adhesive layer, and peel force f2 is the average peel strength within a peel length of 20 to 100 mm (where the peel strength is stable after passing the peel initiation force F2 at the start of peeling).

〈軽剥離フィルム剥離時の重剥離フィルムの剥離抑制〉
実施例1~8および比較例1,2における各剥離フィルム付き光学フィルムについて、軽剥離フィルム剥離時の重剥離フィルムの剥離のしにくさを調べた。具体的には、まず、剥離フィルム付き光学フィルムごとに10枚の評価サンプルを作製した。次に、各評価サンプルの軽剥離フィルムを剥離した。剥離には、引張試験機(品名「オートグラフ」,島津製作所製)を使用した。剥離においては、剥離角度を180°とし、引張速度を300mm/分とした。そして、重剥離フィルムの剥離を生じずに軽剥離フィルムだけを適切に剥離できた評価サンプルの数が10である場合を“優”と評価し、7~9である場合を“良”と評価し、0~6である場合を“不良”と評価した。評価結果を表1に示す。
(Prevention of peeling of heavy release film when peeling off light release film)
The optical films with release films in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 were examined for the difficulty of peeling the heavy release film when the light release film was peeled off. Specifically, first, 10 evaluation samples were prepared for each optical film with release film. Next, the light release film of each evaluation sample was peeled off. A tensile tester (product name "Autograph", manufactured by Shimadzu Corporation) was used for peeling. In the peeling, the peeling angle was 180° and the tensile speed was 300 mm/min. Then, when the number of evaluation samples in which only the light release film could be properly peeled off without peeling off the heavy release film was 10, it was evaluated as "excellent", when it was 7 to 9, it was evaluated as "good", and when it was 0 to 6, it was evaluated as "poor". The evaluation results are shown in Table 1.

〈光学フィルムの端部クラックの抑制〉
実施例1~8および比較例1,2における各剥離フィルム付き光学フィルムについて、軽剥離フィルムの剥離を経た場合の、光学フィルム端部でのクラックの発生のしにくさを調べた。具体的には、まず、剥離フィルム付き光学フィルムごとに評価サンプルを作製した。次に、評価サンプルの軽剥離フィルムを、手作業によって剥離した。次に、光学フィルムの外周部(端縁から1mmの領域)を光学顕微鏡によって観察した。そして、軽剥離フィルムの剥離後に光学フィルムの前記外周部に長さ200μm以上のクラックが発生していない場合を“優”と評価し、長さ200μm以上のクラックが発生している場合を“不良”と評価した。
(Suppression of edge cracks in optical films)
The optical films with release films in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 were examined for the resistance to cracking at the edge of the optical film after the light release film was peeled off. Specifically, an evaluation sample was prepared for each optical film with a release film. Next, the light release film of the evaluation sample was peeled off manually. Next, the outer periphery of the optical film (a region 1 mm from the edge) was observed with an optical microscope. Then, the optical film was evaluated as "excellent" when no cracks of 200 μm or more were generated in the outer periphery of the optical film after the light release film was peeled off, and was evaluated as "poor" when cracks of 200 μm or more were generated in the outer periphery.

〈端部のブロッキング〉
実施例1~8および比較例1,2における各剥離フィルム付き光学フィルムについて、端部のブロッキングのしにくさを調べた。具体的には、まず、剥離フィルム付き光学フィルムごとに10枚の評価サンプルを作製し、10枚の評価サンプルを積み重ねてフィルムパイルを形成した(第1工程)。次に、フィルムパイルにおいて一番上に位置する剥離フィルム付き光学フィルムに対し、先端に粘着面を有する円柱のロッド(直径10mm)の先端粘着面を上方から押し付けた後、当該ロッドを上方に引き上げて、ロッドに伴って持ち上がった剥離フィルム付き光学フィルムの枚数を数えた(第2工程)。第1工程とその後の第2工程とからなる試行を、剥離フィルム付き光学フィルムごとに10回行った。10回の試行において、ロッドに伴って持ち上がった剥離フィルム付き光学フィルムが1枚のみであった試行の数が10である場合を“優”と評価し、6~9である場合を“良”と評価し、5以下である場合を“不良”と評価した。その評価結果を表1に示す。
<End Blocking>
The resistance to blocking at the end of each of the optical films with a release film in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 was examined. Specifically, first, 10 evaluation samples were prepared for each optical film with a release film, and the 10 evaluation samples were stacked to form a film pile (first step). Next, the adhesive surface at the tip of a cylindrical rod (diameter 10 mm) having an adhesive surface at the tip was pressed from above against the optical film with a release film located at the top of the film pile, and the rod was then pulled up, and the number of optical films with a release film that were lifted up with the rod was counted (second step). A trial consisting of the first step and the subsequent second step was performed 10 times for each optical film with a release film. In the 10 trials, if the number of trials in which only one optical film with a release film was lifted up with the rod was 10, it was evaluated as "excellent", if it was 6 to 9, it was evaluated as "good", and if it was 5 or less, it was evaluated as "poor". The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0007701202000001
Figure 0007701202000001

X 光学フィルム(剥離フィルム付き光学フィルム)
Y 粘着剤層付き光学フィルム
E 側面凹凸端部
T 厚さ方向
10 光学フィルム
11 第1面
12 第2面
13 端縁
20,30 粘着剤層
21,31 粘着面
22 端縁(第1端縁)
32 端縁(第2端縁)
40 軽剥離フィルム
42 端縁
50 重剥離フィルム
52 端縁
X Optical film (optical film with release film)
Y: Optical film with pressure-sensitive adhesive layer E: Side uneven end T: Thickness direction 10: Optical film 11: First surface 12: Second surface 13: Edge 20, 30: Pressure-sensitive adhesive layer 21, 31: Adhesive surface 22: Edge (first edge)
32 Edge (second edge)
40 Light release film 42 Edge 50 Heavy release film 52 Edge

Claims (8)

第1面および当該第1面とは反対側の第2面を有する光学フィルムと、
前記第1面に貼着し、且つ前記光学フィルムとは反対側に第1粘着面を有する、第1粘着剤層と、
前記第2面に貼着し、且つ前記光学フィルムとは反対側に第2粘着面を有する、第2粘着剤層と、を備える粘着剤層付き光学フィルムと、
前記第1粘着面上に配置された軽剥離フィルムと、
前記第2粘着面上に配置された重剥離フィルムと、を備え、
前記光学フィルムが100μm以下の厚さを有し、
前記光学フィルムの前記厚さの方向と直交する面内方向において、前記光学フィルム、前記軽剥離フィルム、および前記重剥離フィルムの各端縁よりも、前記第1粘着剤層の第1端縁および前記第2粘着剤層の第2端縁が退避している、側面凹凸端部を有し、
前記側面凹凸端部では、前記軽剥離フィルムの端縁からの前記第1端縁の第1退避長さが、前記重剥離フィルムの端縁からの前記第2端縁の第2退避長さより小さい、剥離フィルム付き光学フィルム。
an optical film having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
a first pressure-sensitive adhesive layer attached to the first surface and having a first pressure-sensitive adhesive surface on an opposite side to the optical film;
a second pressure-sensitive adhesive layer attached to the second surface and having a second pressure-sensitive adhesive surface on the opposite side to the optical film; and
A light release film disposed on the first adhesive surface;
a heavy release film disposed on the second adhesive surface,
The optical film has a thickness of 100 μm or less,
a side uneven end portion in which a first edge of the first pressure-sensitive adhesive layer and a second edge of the second pressure-sensitive adhesive layer are recessed from respective edges of the optical film, the light release film, and the heavy release film in an in-plane direction perpendicular to the thickness direction of the optical film,
An optical film with a release film, wherein at the side uneven end, a first retraction length of the first edge from the edge of the light release film is smaller than a second retraction length of the second edge from the edge of the heavy release film.
前記面内方向における前記第1端縁と前記第2端縁との間の距離が1μm以上である、請求項1に記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to claim 1, wherein the distance between the first edge and the second edge in the in-plane direction is 1 μm or more. 前記第1退避長さが20μm以上である、請求項1または2に記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to claim 1 or 2, wherein the first retraction length is 20 μm or more. 前記第1粘着剤層の厚さに対する前記第1退避長さの比率が0.4以上8以下である、請求項1から3のいずれか一つに記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to any one of claims 1 to 3, wherein the ratio of the first retraction length to the thickness of the first adhesive layer is 0.4 or more and 8 or less. 前記第1粘着面からの前記軽剥離フィルムの剥離を開始するための第1剥離開始力が、前記第2粘着面からの前記重剥離フィルムの剥離を開始するための第2剥離開始力より小さい、請求項1から4のいずれか一つに記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 An optical film with a release film according to any one of claims 1 to 4, wherein a first peel initiation force for initiating peeling of the light release film from the first adhesive surface is smaller than a second peel initiation force for initiating peeling of the heavy release film from the second adhesive surface. 前記第2剥離開始力に対する前記第1剥離開始力の比率が0.8以下である、請求項5に記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to claim 5, wherein the ratio of the first peel initiation force to the second peel initiation force is 0.8 or less. 前記第1剥離開始力が800gf/25mm未満である、請求項6に記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to claim 6, wherein the first peel initiation force is less than 800 gf/25 mm. 前記第2剥離開始力が800gf/25mm以下である、請求項6または7に記載の剥離フィルム付き光学フィルム。 The optical film with release film according to claim 6 or 7, wherein the second peel initiation force is 800 gf/25 mm or less.
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