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JP7703219B2 - Compression molding device and compression molding method - Google Patents
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JP7703219B2 - Compression molding device and compression molding method - Google Patents

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Description

本発明は、圧縮成形装置及び圧縮成形方法に関する。 The present invention relates to a compression molding device and a compression molding method.

半導体素子等の部品が樹脂封止されたパッケージを製造する方法として、キャリアに部品が搭載されたワークに対して樹脂を成形し、部品が樹脂封止されたパッケージを製造する方法が知られている。そのような樹脂封止方式の一つに、圧縮成形方式がある。 A known method for manufacturing a package in which components such as semiconductor elements are resin-sealed is to mold resin onto a workpiece in which components are mounted on a carrier, and to manufacture a package in which the components are resin-sealed. One such resin-sealing method is the compression molding method.

特許文献1には、基材に電子部品が搭載されたワークを保持する上型と、フィルムを介してモールド樹脂が供給される凹部が形成された下型を備えるモールド金型を用いて、ワークを樹脂モールドして成形品に加工する樹脂モールド装置が開示されている。 Patent Document 1 discloses a resin molding device that uses a molding die that includes an upper die that holds a workpiece having electronic components mounted on a substrate, and a lower die that has a recess formed therein into which molding resin is supplied via a film, to resin-mold the workpiece and process it into a molded product.

特開2019-145548号公報JP 2019-145548 A

しかしながら、従来の技術においては、凹部にモールド樹脂を供給する際、モールド樹脂が装置内に飛散するおそれがあった。 However, with conventional technology, there was a risk of the molding resin scattering inside the device when it was supplied to the recess.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、装置内に樹脂が飛散することを抑制できる圧縮成形装置及び圧縮成形方法を提供するものである。 The present invention has been made to solve these problems, and provides a compression molding device and a compression molding method that can prevent resin from scattering within the device.

本発明の一態様に係る圧縮成形装置は、顆粒状の樹脂を半溶融状態に加熱する加熱部と、吸着部を有し、加熱された半溶融状態の樹脂を吸着部に静電吸着した状態で供給する樹脂供給部と、樹脂供給部により樹脂が供給される凹部が設けられた一方の金型と、基材に電子部品が搭載されたワークを保持する他方の金型とを備え、ワークを樹脂封止する金型と、を備える。 The compression molding device according to one aspect of the present invention includes a heating section that heats granular resin to a semi-molten state, a resin supply section that has an adsorption section and supplies the heated semi-molten resin in a state where it is electrostatically adsorbed to the adsorption section, one die having a recess into which resin is supplied by the resin supply section, and the other die that holds a workpiece having electronic components mounted on a substrate, and a die that seals the workpiece with resin.

本発明により、装置内に樹脂が飛散することを抑制できる。 This invention can prevent resin from scattering inside the device.

一実施形態に係る樹脂封止装置の概略的な構成を示す側面図である。1 is a side view showing a schematic configuration of a resin sealing apparatus according to an embodiment; 加振機構の要部を拡大して示す断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of a vibration mechanism. 一実施形態に係る樹脂封止方法の一例を模式的に示す図である。1A to 1C are diagrams illustrating an example of a resin sealing method according to an embodiment of the present invention. (a)~(d)は、一実施形態に係る樹脂封止方法の一例を模式的に示す図である。1A to 1D are diagrams illustrating an example of a resin sealing method according to an embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して、樹脂封止装置1の一実施形態について説明する。 Below, one embodiment of the resin sealing device 1 is described with reference to the drawings.

図1に示すように、樹脂封止装置1は、樹脂供給ユニット10と、金型30とを備える。樹脂供給ユニット10は、樹脂供給部の一例である。 As shown in FIG. 1, the resin sealing device 1 includes a resin supply unit 10 and a mold 30. The resin supply unit 10 is an example of a resin supply section.

樹脂供給ユニット10は、ステージ11と、レジンガード12と、ヒータ13と、搬送ヘッド14と、加振機構20とを備える。 The resin supply unit 10 includes a stage 11, a resin guard 12, a heater 13, a transport head 14, and a vibration mechanism 20.

ステージ11は、平板状をなしており、その上面に枠体状のレジンガード12が設けられている。ステージ11の上面のうち、レジンガード12により囲まれた領域は、樹脂Rが供給される供給エリア12Aとして機能する。レジンガード12は、樹脂Rが供給エリア12A外へ飛散することを規制して供給エリア12Aの外形を区画する。供給エリア12Aは、金型30のキャビティの大きさより少し小さいサイズとなっている。 The stage 11 is flat and has a frame-shaped resin guard 12 on its upper surface. The area of the upper surface of the stage 11 that is surrounded by the resin guard 12 functions as a supply area 12A to which resin R is supplied. The resin guard 12 defines the outer shape of the supply area 12A by restricting the resin R from scattering outside the supply area 12A. The supply area 12A is slightly smaller in size than the cavity of the mold 30.

樹脂Rは、例えば0.5mm~数mmの粒径の顆粒状(紛粒を含む)の熱硬化性樹脂である。熱硬化性樹脂として、例えば、フィラー含有のエポキシ系樹脂等が挙げられるが、エポキシ系樹脂には限定されない。顆粒状樹脂は、例えば成形用の樹脂やフィラーを混錬して所定形状に押し固めた後に破砕する破砕状のものや、混錬後に円形の孔を有する型を使って押し出しながら一定長で切断して成形し円柱状のものが用いられる。これらの円柱状や破砕状の顆粒状樹脂は、レジンガード12内への落下時に無作為な方向に飛散しやすい。 The resin R is a granular (including powder) thermosetting resin with a particle size of, for example, 0.5 mm to several mm. Examples of thermosetting resins include, but are not limited to, epoxy-based resins containing fillers. Granular resins include, for example, crushed resins made by kneading molding resin and fillers, compressing them into a predetermined shape, and then crushing them, and cylindrical resins made by kneading the resin and extruding it using a mold with a circular hole, cutting it to a certain length, and molding it into a cylindrical shape. These cylindrical and crushed granular resins tend to scatter in random directions when they fall into the resin guard 12.

加振機構20は、ステージ11の下方に設けられている。加振機構20は、ステージ11を立体的に加振することで、供給エリア12Aに供給された樹脂Rを広げる。加振機構20は、ステージ11を立体的に加振する。 The vibration mechanism 20 is provided below the stage 11. The vibration mechanism 20 spreads the resin R supplied to the supply area 12A by vibrating the stage 11 three-dimensionally. The vibration mechanism 20 vibrates the stage 11 three-dimensionally.

ヒータ13は、ステージ11の上面に設けられ、供給エリア12Aに供給された樹脂Rを半溶融状態となるように加熱する。半溶融状態とは、顆粒状樹脂の少なくとも一部を互いに融着状態とすることで、融着された顆粒状樹脂の粒子間に空孔を残す場合もあるものの、予備的融着樹脂における顆粒状樹脂の粒子間の断熱層となる空孔が減った状態を示している。半溶融状態では、樹脂の熱伝導率を向上させることができる。また、ヒータ13は、飛散しやすい顆粒状の樹脂Rを半溶融状態となるように加熱して、少なくとも一部の粒子が繋がった状態とすることで、樹脂Rが飛散することを抑えている。加熱温度は、60℃から80℃が好適だが樹脂の性質により半溶融状態になる温度が変わるため限定されない。ヒータ13はステージ11の上面に設け樹脂Rの下から加熱する。また、顆粒状樹脂をレジンガード12に蒔いた後に樹脂Rの上空間にヒータを搬送して、上側より加熱させてもよい。さらに樹脂Rの上側及び下側の双方から加熱してもよい。なお、樹脂Rの加熱後にレジンガード12を外してもよい。 The heater 13 is provided on the upper surface of the stage 11 and heats the resin R supplied to the supply area 12A to a semi-molten state. The semi-molten state refers to a state in which at least a portion of the granular resin is fused to each other, and the number of pores that serve as an insulating layer between the particles of the granular resin in the preliminary fused resin is reduced, although pores may remain between the particles of the fused granular resin. In the semi-molten state, the thermal conductivity of the resin can be improved. In addition, the heater 13 heats the granular resin R, which is prone to scattering, to a semi-molten state, and keeps at least a portion of the particles connected, thereby preventing the resin R from scattering. The heating temperature is preferably 60°C to 80°C, but is not limited because the temperature at which the resin becomes semi-molten varies depending on the properties of the resin. The heater 13 is provided on the upper surface of the stage 11 and heats the resin R from below. In addition, after the granular resin is spread on the resin guard 12, the heater may be transported to the space above the resin R to heat it from above. Furthermore, the resin R may be heated from both the upper and lower sides. The resin guard 12 may be removed after the resin R is heated.

搬送ヘッド14は、ステージ11と金型30との間を移動可能に構成されている。搬送ヘッド14の下面には、静電チャック16が設けられている。搬送ヘッド14は、静電チャック16を供給エリア12Aに位置する樹脂Rに対して接触させた状態で、静電チャック16の電極に電圧を印加して電極と樹脂Rとの間にクーロン力を発生させることで、半溶融状態の樹脂Rを吸着する。樹脂Rの搬送時には、レジンガード12を樹脂Rから外した後に樹脂Rを移動させる方が、樹脂Rの上方への移動量が少なくて済むためよりよい。一例として、供給エリア12Aに対して相対移動が可能に構成されたヒータ13、または、ステージ11内に設置された平板を用いて、樹脂Rを押し上げて上方へ移動させてもよい。図1に破線で示すように、搬送ヘッド14は、静電チャック16に対して半溶融状態の樹脂Rを吸着させた状態で金型30の位置まで移動し、その後、静電チャック16の電極への電圧の印加を解除して半溶融状態の樹脂Rを静電チャック16から脱離させることで、樹脂Rを金型30に供給する。 The transport head 14 is configured to be movable between the stage 11 and the mold 30. An electrostatic chuck 16 is provided on the underside of the transport head 14. The transport head 14 applies a voltage to the electrode of the electrostatic chuck 16 while the electrostatic chuck 16 is in contact with the resin R located in the supply area 12A, generating a Coulomb force between the electrode and the resin R, thereby adsorbing the semi-molten resin R. When transporting the resin R, it is better to move the resin R after removing the resin guard 12 from the resin R, because the amount of upward movement of the resin R is small. As an example, the resin R may be pushed up and moved upward by using a heater 13 configured to be movable relative to the supply area 12A, or a flat plate installed in the stage 11. As shown by the dashed line in FIG. 1, the transport head 14 moves to the position of the mold 30 while the semi-molten resin R is adsorbed to the electrostatic chuck 16, and then the voltage applied to the electrode of the electrostatic chuck 16 is released to detach the semi-molten resin R from the electrostatic chuck 16, thereby supplying the resin R to the mold 30.

金型30は、上型31及び下型32により構成されている。図示した例では、下型32にキャビティ凹部32A(以下、凹部32Aと略す)が形成されている。具体的には、下型32は、平板状に形成された下型プレート33と、下型プレート33に固定されたキャビティ駒34と、キャビティ駒34を囲むように複数配置されたばね35を介して下型プレート33に接続されたクランパ36と、を含んでいる。クランパ36は、ばね35の弾性力に基づいて、上型31に接近する方向に付勢されている。 The mold 30 is composed of an upper mold 31 and a lower mold 32. In the illustrated example, a cavity recess 32A (hereinafter, abbreviated as recess 32A) is formed in the lower mold 32. Specifically, the lower mold 32 includes a lower mold plate 33 formed in a flat plate shape, a cavity piece 34 fixed to the lower mold plate 33, and a clamper 36 connected to the lower mold plate 33 via a plurality of springs 35 arranged to surround the cavity piece 34. The clamper 36 is biased in a direction approaching the upper mold 31 based on the elastic force of the spring 35.

クランパ36は、キャビティ駒34に対して摺動可能に構成されているが、部分的に凹部32Aから空気を吸引する吸引孔(不図示)が設けられている。クランパ36は、キャビティ駒34よりも上型31に向かって突出し、キャビティ駒34とともに樹脂Rを成形する空間である凹部32Aを構成している。下型32には、凹部32Aの内面に沿うようにリリースフィルムFが被覆されている。リリースフィルムFは、前出の凹部32Aを吸引する吸引孔およびクランパ36の上面に設けられた吸引孔(不図示)により、下型32のパーティングライン面を被覆する。 The clamper 36 is configured to be slidable relative to the cavity piece 34, but is partially provided with suction holes (not shown) that suck air from the recess 32A. The clamper 36 protrudes further toward the upper mold 31 than the cavity piece 34, and together with the cavity piece 34 forms the recess 32A, which is a space for molding the resin R. The lower mold 32 is covered with a release film F that fits along the inner surface of the recess 32A. The release film F covers the parting line surface of the lower mold 32 through the suction holes that suck the recess 32A and suction holes (not shown) provided on the upper surface of the clamper 36.

リリースフィルムFは、例えば、耐熱性、剥離容易性、柔軟性、伸展性に優れたフィルム材である。そのようなフィルム材として、例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、ETFE(ポリテトラフルオロエチレン重合体)、PET、FEP、フッ素含浸ガラスクロス、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリジン等が挙げられる。 The release film F is, for example, a film material that has excellent heat resistance, ease of peeling, flexibility, and extensibility. Examples of such film materials include PTFE (polytetrafluoroethylene), ETFE (polytetrafluoroethylene polymer), PET, FEP, fluorine-impregnated glass cloth, polypropylene, and polyvinylidine chloride.

下型32の凹部32Aには、リリースフィルムFが被覆された状態で、搬送ヘッド14により搬送された半溶融状態の樹脂Rが供給される。 Semi-molten resin R transported by the transport head 14 is supplied to the recess 32A of the lower mold 32 while covered with a release film F.

上型31の下面には、ワークWが配置されている。ワークWは、例えば、基材に複数の電子部品がマトリクス状に搭載された構成を有している。基材として、例えば、樹脂基板、セラミックス基板、金属基板、キャリアプレート、リードフレーム、ウエハ等が挙げられる。電子部品として、例えば、半導体チップ、MEMSチップ、受動素子、放熱板、導電部材、スペーサ等が挙げられる。 The workpiece W is placed on the lower surface of the upper mold 31. The workpiece W has a configuration in which, for example, multiple electronic components are mounted in a matrix on a substrate. Examples of the substrate include a resin substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a carrier plate, a lead frame, a wafer, etc. Examples of the electronic components include a semiconductor chip, a MEMS chip, a passive element, a heat sink, a conductive member, a spacer, etc.

そして、金型の上型および下型にはヒータが設けられ、金型は100℃から200℃程度に加熱されている。樹脂Rを凹部32A内に供給した後、上型31と下型32とが型締めを開始し、クランパ36の上面と上型31の下面が当接した後、樹脂の溶融と共にばね35が撓み、所定の厚さの樹脂RによりワークWが樹脂封止される。 The upper and lower dies of the mold are equipped with heaters, and the mold is heated to approximately 100°C to 200°C. After resin R is supplied into recess 32A, upper die 31 and lower die 32 begin to clamp together, and after the upper surface of clamper 36 and the lower surface of upper die 31 come into contact, spring 35 bends as the resin melts, and the workpiece W is sealed with a specified thickness of resin R.

図2は、樹脂供給ユニット10が備える加振機構20の要部を拡大して示す断面図である。図2に示すように、加振機構20は、上方に開口したボックス状に形成されたフレーム21と、平板状に形成され、フレーム21の開口に蓋をするプレート22と、プレート22の下面に固定された少なくとも一つの振動サポート23と、各々の振動サポート23に配置された少なくとも一つのアクチュエータ24と、を備えている。 Figure 2 is an enlarged cross-sectional view showing the main parts of the vibration mechanism 20 provided in the resin supply unit 10. As shown in Figure 2, the vibration mechanism 20 includes a frame 21 formed in a box shape with an opening at the top, a plate 22 formed in a flat shape and covering the opening of the frame 21, at least one vibration support 23 fixed to the underside of the plate 22, and at least one actuator 24 arranged on each vibration support 23.

図示した例では、プレート22が略矩形の平板状に形成され、プレート22の四隅に振動サポート23が配置されている。各々のアクチュエータ24は、いずれかの振動サポート23とフレーム21との間に配置されて両者を接続している。アクチュエータ24は、例えばボイスコイルモータであり、内蔵されたコイルボビン及びヨークのいずれか一方が他方に対して微小移動する。各モータに固有の移動方向においてコイルボビン等が往復運動することにより振動サポート23に振動を加えることができる。 In the illustrated example, the plate 22 is formed in a roughly rectangular flat plate shape, and vibration supports 23 are arranged at the four corners of the plate 22. Each actuator 24 is arranged between one of the vibration supports 23 and the frame 21, connecting the two. The actuator 24 is, for example, a voice coil motor, and one of the built-in coil bobbin and yoke moves slightly relative to the other. Vibrations can be applied to the vibration support 23 by the reciprocating motion of the coil bobbin etc. in the movement direction specific to each motor.

アクチュエータ24は、ボイスコイルモータに限定されず、他種の振動子であってもよい。各々の振動サポート23には、当該振動サポート23を鉛直方向であるZ方向に加振するアクチュエータ24が配置されている。図示した例では、振動サポート23が略直方体に形成され、当該振動サポート23の一端がプレート22の下面に接続され、一端とは反対側の他端がアクチュエータ24に接続されている。 The actuator 24 is not limited to a voice coil motor, and may be another type of vibrator. An actuator 24 is disposed on each vibration support 23 to vibrate the vibration support 23 in the vertical Z direction. In the illustrated example, the vibration support 23 is formed into a substantially rectangular parallelepiped, one end of the vibration support 23 is connected to the underside of the plate 22, and the other end opposite the one end is connected to the actuator 24.

図示した例では、鉛直方向Zのアクチュエータ24Zに加えて、水平方向であるX方向及びY方向に振動サポート23を加振するアクチュエータ24X,24Yが更に配置されている。X方向の一例は、樹脂封止装置1のオペレータから見て左右方向であり、Y方向の一例は、オペレータから見て前後方向である。加振機構20は、振動サポート23の設置箇所において、互いに直交するX軸、Y軸、Z軸の三軸の振動を発生させることができるため、プレート22に載置された供給エリア12Aを立体的に加振することができる。本構造ではステージ11の下に加振機構20を別に設けたが、ステージ11が加振機構20を兼ねてもよい。一例として、加振機構20のプレート22がヒータ13を兼ねてもよいし、プレート22の上にヒータ13を重ねて設けてもよい。 In the illustrated example, in addition to the actuator 24Z in the vertical direction Z, actuators 24X and 24Y are further arranged to vibrate the vibration support 23 in the horizontal directions X and Y. An example of the X direction is the left-right direction as seen by the operator of the resin sealing device 1, and an example of the Y direction is the front-back direction as seen by the operator. The vibration mechanism 20 can generate vibrations in three axes, the X axis, the Y axis, and the Z axis, which are perpendicular to each other, at the installation location of the vibration support 23, so that the supply area 12A placed on the plate 22 can be vibrated three-dimensionally. In this structure, the vibration mechanism 20 is separately provided under the stage 11, but the stage 11 may also serve as the vibration mechanism 20. As an example, the plate 22 of the vibration mechanism 20 may also serve as the heater 13, or the heater 13 may be provided on top of the plate 22.

図3は、樹脂封止装置1を用いた樹脂封止方法の一例を模式的に示す図である。 Figure 3 is a diagram showing a schematic diagram of an example of a resin sealing method using the resin sealing device 1.

図3に示すように、本実施形態に係る樹脂封止方法では、例えば、加振機構20のプレート22の上面に矩形枠状の金属部材であるレジンガード12を配置する(工程S1)。 As shown in FIG. 3, in the resin sealing method according to this embodiment, for example, a resin guard 12, which is a rectangular frame-shaped metal member, is placed on the upper surface of the plate 22 of the vibration mechanism 20 (step S1).

レジンガード12の枠内である供給エリア12Aの所定の位置に所定量の顆粒状等の樹脂Rを供給する(工程S2)。加振機構20を用いて加振すると、樹脂Rは供給エリア12A内を転がり速やかに広がる。 A predetermined amount of granular or other resin R is supplied to a predetermined position in the supply area 12A within the frame of the resin guard 12 (step S2). When vibration is applied using the vibration mechanism 20, the resin R rolls and spreads quickly within the supply area 12A.

また、広がった樹脂Rを鉛直方向の振動で供給エリア12Aの隅々まで均一に広げることで、供給された樹脂Rが平滑化される(工程S3)。また、平滑化された樹脂Rを加熱して樹脂Rを半溶融状態とする(工程S4)。そして、樹脂Rの加熱後にレジンガード12を樹脂Rから外す。その後、半溶融状態となった樹脂Rを金型30に供給し、金型30内で樹脂Rを成形してワークWを樹脂封止する。 The spread resin R is then evenly spread to every corner of the supply area 12A by vertical vibration, smoothing the supplied resin R (step S3). The smoothed resin R is then heated to make the resin R semi-molten (step S4). After the resin R is heated, the resin guard 12 is removed from the resin R. The semi-molten resin R is then supplied to the mold 30, and the resin R is molded within the mold 30 to resin-seal the workpiece W.

次に、本実施形態に係る樹脂封止装置1による樹脂封止の処理の流れについて説明する。 Next, we will explain the flow of the resin sealing process using the resin sealing device 1 according to this embodiment.

まず、図4(a)に示すように、樹脂封止装置1は、図3(d)において、ステージ11の供給エリア12Aにおいて半溶融状態となった樹脂Rに対し、搬送ヘッド14を接近させる。 First, as shown in FIG. 4(a), the resin sealing device 1 brings the transport head 14 close to the resin R that is in a semi-molten state in the supply area 12A of the stage 11 in FIG. 3(d).

次に、図4(b)に示すように、樹脂封止装置1は、静電チャック16を供給エリア12Aに供給された樹脂Rに接触させた状態で、静電チャック16の電極に電圧を印加して半溶融状態の樹脂Rを静電チャック16に静電吸着させる。 Next, as shown in FIG. 4(b), the resin sealing device 1 applies a voltage to the electrodes of the electrostatic chuck 16 while the electrostatic chuck 16 is in contact with the resin R supplied to the supply area 12A, thereby electrostatically adsorbing the semi-molten resin R to the electrostatic chuck 16.

次に、図4(c)に示すように、樹脂封止装置1は、静電チャック16に半溶融状態の樹脂Rを静電吸着させた状態で、搬送ヘッド14を金型30に搬送する。そして、樹脂封止装置1は、静電チャック16が下型32の凹部32Aに対して上下方向において対向する位置まで搬送ヘッド14を移動させる。 Next, as shown in FIG. 4(c), the resin sealing device 1 transports the transport head 14 to the mold 30 while the semi-molten resin R is electrostatically adsorbed to the electrostatic chuck 16. Then, the resin sealing device 1 moves the transport head 14 to a position where the electrostatic chuck 16 faces the recess 32A of the lower mold 32 in the vertical direction.

次に、図4(d)に示すように、樹脂封止装置1は、下型32の凹部32AにリリースフィルムFを供給した状態で、静電チャック16の電極への電圧の印加を解除することで、静電チャック16から脱離させた樹脂Rを下型32の凹部32Aに供給する。下型32の凹部32Aに対するリリースフィルムFの供給タイミングは、静電チャック16から樹脂Rを脱離させるタイミングよりも前のタイミングであればよい。なお、リリースフィルムFは前出の様にクランパ36上面の吸引孔とクランパ36とキャビティ駒34間の吸引孔により凹部形状に被覆されている。 Next, as shown in FIG. 4(d), the resin sealing device 1 supplies the resin R detached from the electrostatic chuck 16 to the recess 32A of the lower die 32 by removing the voltage applied to the electrode of the electrostatic chuck 16 while supplying the release film F to the recess 32A of the lower die 32. The timing of supplying the release film F to the recess 32A of the lower die 32 may be any timing prior to the timing of detaching the resin R from the electrostatic chuck 16. As described above, the release film F is covered in the shape of the recess by the suction holes on the top surface of the clamper 36 and the suction holes between the clamper 36 and the cavity piece 34.

その後、樹脂封止装置1は、上型31と下型32とを型締めし、金型30の内部において樹脂Rを成形することで、樹脂RによりワークWが樹脂封止される。 Then, the resin sealing device 1 clamps the upper die 31 and the lower die 32 together and molds the resin R inside the die 30, thereby sealing the workpiece W with the resin R.

以上説明したように、本実施形態によれば、搬送ヘッド14が静電チャック16を有し、加熱された半溶融状態の樹脂Rを静電チャック16に静電吸着させた状態で金型30に供給する。これにより、搬送ヘッド14が樹脂Rを事前に加熱することなく金型30に供給する場合に比して、樹脂Rが樹脂封止装置1の装置内部において飛散することを抑制できる。 As described above, according to this embodiment, the transport head 14 has an electrostatic chuck 16, and supplies the heated semi-molten resin R to the mold 30 while it is electrostatically adsorbed to the electrostatic chuck 16. This makes it possible to prevent the resin R from scattering inside the resin sealing device 1, compared to when the transport head 14 supplies the resin R to the mold 30 without heating it in advance.

なお、上記実施形態は、以下のような別の形態にて実施することもできる。
・上記実施形態において、樹脂封止装置1は、加熱前の顆粒状の樹脂Rを上方からプレート等で押圧することにより、顆粒状の樹脂Rを平滑化してもよい。
The above embodiment can also be embodied in the following different forms.
In the above embodiment, the resin sealing apparatus 1 may smooth the granular resin R by pressing the granular resin R from above with a plate or the like before heating.

・上記実施形態において、樹脂封止装置1は、加熱前の顆粒状の樹脂Rを平滑化する樹脂処理部を省略してもよい。 - In the above embodiment, the resin sealing device 1 may omit the resin processing section that smoothes the granular resin R before heating.

・上記実施形態においては、キャビティ凹部が設けられた下型が可動に構成された圧縮成形装置のキャビティ凹部に半溶融状態の樹脂を静電チャックの下側に吸着して搬送するために使用したが、キャビティ凹部が設けられた上型が可動に構成された圧縮成形装置のキャビティ凹部において位置ずれ防止のために樹脂の加熱を実施し、静電チャックの上に半溶融状態の樹脂を載せて搬送を実施してもよい。 - In the above embodiment, the electrostatic chuck was used to adsorb semi-molten resin to the underside of the cavity recess of a compression molding device that has a movable lower mold with a cavity recess, and transport the resin therein. However, the electrostatic chuck may be used to heat the resin in the cavity recess of a compression molding device that has a movable upper mold with a cavity recess to prevent misalignment, and the semi-molten resin may be placed on the electrostatic chuck for transport.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。実施形態が備える各要素並びにその配置、材料、条件、形状及びサイズ等は、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、異なる実施形態で示した構成同士を部分的に置換し又は組み合わせることが可能である。 The above-described embodiments are intended to facilitate understanding of the present invention, and are not intended to limit the present invention. The elements of the embodiments, as well as their arrangements, materials, conditions, shapes, sizes, etc., are not limited to those exemplified, and may be modified as appropriate. Furthermore, configurations shown in different embodiments may be partially substituted or combined.

1…樹脂封止装置、10…樹脂供給ユニット、11…ステージ、12…レジンガード、13…ヒータ、14…搬送ヘッド、16…静電チャック、20…加振機構、30…金型、31…上型、32…下型、32A…キャビティ凹部、33…下型プレート、34…キャビティ駒、ばね…35、36…クランパ、R…樹脂、W…ワーク。 1...resin sealing device, 10...resin supply unit, 11...stage, 12...resin guard, 13...heater, 14...transport head, 16...electrostatic chuck, 20...vibration mechanism, 30...mold, 31...upper mold, 32...lower mold, 32A...cavity recess, 33...lower mold plate, 34...cavity piece, spring...35, 36...clamper, R...resin, W...workpiece.

Claims (4)

ステージに供給された顆粒状の樹脂を保持するレジンガードと、
前記レジンガードに保持された前記顆粒状の樹脂を加振して平滑化する加振部と、
前記レジンガードに保持され、平滑化された前記顆粒状の樹脂を加熱して、前記顆粒状の樹脂の少なくとも一部を互いに融着状態とし、かつ、前記顆粒状の樹脂の粒子間に空孔を残す半溶融状態にする加熱部と、
吸着部を有し、加熱された前記半溶融状態の樹脂を吸着部に静電吸着した状態で搬送する樹脂搬送部と、
前記樹脂搬送部により前記半溶融状態の樹脂が搬入される凹部が設けられた一方の金型と、基材に電子部品が搭載されたワークを保持する他方の金型とを備え、前記ワークを樹脂封止する金型と、
を備える、
圧縮成形装置。
a resin guard for holding the granular resin supplied to the stage;
a vibration unit that vibrates the granular resin held by the resin guard to smooth it ;
a heating section that heats the granular resin held by the resin guard and smoothed to bring at least a portion of the granular resin into a semi-molten state in which voids remain between particles of the granular resin;
a resin conveying section having an adsorption section and conveying the heated semi-molten resin in a state where the resin is electrostatically adsorbed to the adsorption section;
a mold including one mold having a recess into which the semi-molten resin is carried by the resin transport unit, and a mold including another mold for holding a workpiece having an electronic component mounted on a substrate, the mold being configured to resin-seal the workpiece;
Equipped with
Compression molding equipment.
前記凹部にフィルムを供給するフィルム供給部をさらに備え、
前記樹脂搬送部は、前記フィルム供給部によりフィルムが供給された前記一方の金型の凹部に前記半溶融状態の樹脂を搬送して供給する、
請求項1に記載の圧縮成形装置。
A film supply unit that supplies a film to the recess,
The resin conveying unit conveys and supplies the semi -molten resin to the recess of the one of the molds to which the film has been supplied by the film supplying unit.
The compression molding apparatus of claim 1 .
前記レジンガードは取り外しが可能であり、
前記半溶融状態の樹脂の搬送時に前記レジンガードは前記ステージから取り外される、
請求項1または2のいずれか1項に記載の圧縮成形装置。
The resin guard is removable,
The resin guard is removed from the stage when the semi-molten resin is being transported.
The compression molding apparatus according to claim 1 or 2.
ステージに供給された顆粒状の樹脂をレジンガードで保持することと、
前記レジンガードに保持された前記顆粒状の樹脂を加振して平滑化することと、
前記レジンガードに保持され、平滑化された前記顆粒状の樹脂を加熱して、前記顆粒状の樹脂の少なくとも一部を互いに融着状態とし、かつ、前記顆粒状の樹脂の粒子間に空孔を残す半溶融状態にすることと、
加熱された前記半溶融状態の樹脂を静電吸着によって搬送することと、
前記半溶融状態の樹脂が供給される凹部が設けられた一方の金型と、基材に電子部品が搭載されたワークを保持する他方の金型とを備える金型を用いて、前記ワークを樹脂封止することと、
を有する、
圧縮成形方法。
Holding the granular resin supplied to the stage with a resin guard;
vibrating the granular resin held by the resin guard to smooth it ;
heating the granular resin held by the resin guard and smoothed to a semi-molten state in which at least a portion of the granular resin is fused to each other and voids are left between the particles of the granular resin;
transporting the heated semi-molten resin by electrostatic adsorption;
sealing the workpiece with resin using a mold including one mold having a recess into which the semi-molten resin is supplied and another mold for holding a workpiece having an electronic component mounted on a substrate;
having
Compression molding method.
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