JP7703467B2 - Light-emitting device, display device, imaging device, and electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、発光装置、表示装置、撮像装置、及び、電子機器に関する。 The present invention relates to a light-emitting device, a display device, an imaging device, and an electronic device.
有機発光素子(有機EL素子、OLEDとも呼ばれる。)は、一対の電極とこれら電極間に配置される有機化合物層とを有する電子素子である。これら一対の電極から有機化合物層に電子及び正孔を注入することにより、有機化合物層中の発光性有機化合物の励起子が生成され、当該励起子が基底状態に戻る際に、有機発光素子は光を放出する。有機発光素子の最近の進歩は著しく、低駆動電圧、多様な発光波長、高速応答性、発光デバイスの薄型化・軽量化が進められている。一方、有機発光素子ではデバイス内に閉じ込められ、外部に取り出されない光が多いので、有機発光素子は光取り出し効率が低い。光取り出し効率を向上させることを目的として、マイクロレンズなどの光取り出し構造を有機発光素子に設けることがある。特許文献1には、OLEDから取り出す光量を増加させるために、アウトカップリングコンポーネントとしてマイクロレンズが設けられた有機発光デバイスが記載されている。特許文献1の有機発光デバイスは、光学的クロストーク、後方散乱による低コントラストの課題に対処するため、マイクロレンズの直径、及び、レンズと発光領域との距離が規定されている。
An organic light-emitting element (also called an organic EL element or OLED) is an electronic element having a pair of electrodes and an organic compound layer disposed between the electrodes. By injecting electrons and holes from the pair of electrodes into the organic compound layer, excitons of the light-emitting organic compound in the organic compound layer are generated, and when the excitons return to the ground state, the organic light-emitting element emits light. Recent progress in organic light-emitting elements has been remarkable, with advances being made in low driving voltages, diverse emission wavelengths, high-speed response, and thinner and lighter light-emitting devices. On the other hand, organic light-emitting elements have low light extraction efficiency because much of the light is trapped within the device and not extracted to the outside. In order to improve the light extraction efficiency, a light extraction structure such as a microlens may be provided in the organic light-emitting element.
しかしながら、特許文献1の有機発光デバイスは、干渉条件は規定されておらず、所望の光を基板法線方向(つまり、正面方向)に放射するには十分な構成ではなかった。
However, the organic light-emitting device in
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マイクロレンズなどの光取り出し構造を設け、光取り出し構造を考慮した光学干渉を用いることで、正面方向における放射輝度が高い有機発光素子を提供することである。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and its purpose is to provide an organic light-emitting element that has high radiance in the front direction by providing a light extraction structure such as a microlens and using optical interference that takes the light extraction structure into consideration.
本発明の一実施形態は、絶縁層と、前記絶縁層の主面上に配されている、発光物質を含み、共振器構造を有する発光素子と、前記発光素子の上に設けられている光取り出し構造とを有し、前記発光装置は、前記絶縁層の主面と、前記発光物質の間に、前記発光物質に電荷を供給する電極を有し、前記発光物質のPLスペクトルは、可視光領域内に波長がλplである第一ピークを有する発光装置であって、
前記共振器構造において、前記主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonと、前記光取り出し構造を介して放射されるEL発光のピーク波長λELと、前記λplと、が下記式(1)を満たすことを特徴とする発光装置を提供する。
|λEL-λpl| < |λon-λpl| (1)
One embodiment of the present invention is a light-emitting device comprising an insulating layer, a light-emitting element including a luminescent material and having a resonator structure disposed on a principal surface of the insulating layer, and a light extraction structure provided on the light-emitting element, the light-emitting device having an electrode between the principal surface of the insulating layer and the luminescent material for supplying electric charge to the luminescent material, the PL spectrum of the luminescent material having a first peak at a wavelength λ pl within a visible light region,
The light emitting device is characterized in that, in the resonator structure, a resonance peak wavelength λ on of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface, a peak wavelength λ EL of EL emission radiated via the light extraction structure, and the λ pl satisfy the following formula (1):
|λ EL -λ pl | < |λ on -λ pl | (1)
本発明によれば、光取り出し構造を設け、光取り出し構造を考慮した光学干渉を用いることで、正面方向における放射輝度が高い有機発光素子を提供できる。 According to the present invention, by providing a light extraction structure and using optical interference that takes the light extraction structure into consideration, it is possible to provide an organic light-emitting element that has high radiance in the front direction.
本発明の一実施形態に係る発光装置は、光取り出し構造の傾斜部に合わせた有機膜の干渉構造を有することで、光取り出し構造を有する有機EL素子の正面方向の放射強度を高めることができる。発光物質のPLピーク波長の光が効果的に強められ、光取り出し構造の傾斜部にて正面方向に屈折させているからである。発光装置は、前記絶縁層の主面と、前記発光物質の間に、前記発光物質に電荷を供給する電極を有し、前記電極の端部及び他端は画素分離層で覆われている。 The light-emitting device according to one embodiment of the present invention has an organic film interference structure that is aligned with the inclined portion of the light-extraction structure, thereby increasing the radiation intensity in the front direction of the organic EL element having the light-extraction structure. This is because the light of the PL peak wavelength of the light-emitting material is effectively intensified and refracted in the front direction at the inclined portion of the light-extraction structure. The light-emitting device has an electrode between the main surface of the insulating layer and the light-emitting material that supplies electric charge to the light-emitting material, and the end and other end of the electrode are covered with a pixel separation layer.
すなわち、本発明の一実施形態に係る発光装置は、絶縁層と、前記絶縁層の主面上に配されている、発光物質を含み、共振器構造を有する発光素子と、前記発光素子の上に設けられている光取り出し構造とを有し、
前記発光物質のPLスペクトルは、可視光領域内に波長がλPLである第一ピークを有する発光装置であって、前記共振器構造において、前記主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonと、前記光取り出し構造を介して放射されるEL発光のピーク波長λELと、前記λPLと、が下記式(1)を満たすことを特徴とする発光装置である。
|λEL-λPL| < |λon-λPL| (1)
That is, a light emitting device according to one embodiment of the present invention includes an insulating layer, a light emitting element including a light emitting substance and having a resonator structure, the light emitting element being disposed on a main surface of the insulating layer, and a light extraction structure being provided on the light emitting element,
The PL spectrum of the luminescent material has a first peak having a wavelength λ PL within the visible light region, and the resonator structure has a resonant peak wavelength λ on of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface, a peak wavelength λ EL of EL emission radiated via the light extraction structure, and the λ PL satisfy the following formula (1):
|λ EL -λ PL | < |λ on -λ PL | (1)
また、本発明の一実施形態に係る発光装置は、絶縁層と、前記絶縁層の主面上に配されている、発光物質を含み、共振器構造を有する発光素子と、前記発光素子の上に設けられている光取り出し構造とを有し、前記発光物質のPLスペクトルは、可視光領域内に波長がλPLである第一ピークを有する発光装置であって、前記共振器構造において、前記主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonと、前記光取り出し構造における屈折により前記主面に垂直な方向に出射される光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λoffと、前記λPLと、が下記式(2)を満たすことを特徴とする発光装置であってよい。
|λoff-λPL| < |λon-λPL| (2)
Furthermore, a light emitting device according to one embodiment of the present invention may be a light emitting device comprising an insulating layer, a light emitting element containing a luminescent material and having a resonator structure disposed on a principal surface of the insulating layer, and a light extraction structure provided on the light emitting element, wherein the PL spectrum of the luminescent material has a first peak having a wavelength λ PL within a visible light region, and wherein in the resonator structure, a resonant peak wavelength λ on of an interference spectrum that enhances light emitted in a direction perpendicular to the principal surface, a resonant peak wavelength λ off of an interference spectrum that enhances light emitted in a direction perpendicular to the principal surface due to refraction in the light extraction structure, and the λ PL satisfy the following formula (2):
|λ off -λ PL | < |λ on -λ PL | (2)
また、他の形態では、λoffを発光領域から光取り出し構造の曲面の方向への発光素子の上部電極の下端までの距離、λonを発光領域から絶縁層の垂直方向への発光素子の上部電極の下端までの距離とすることもできる。実距離を用いるため、設計が容易である。 In another embodiment, λ off can be the distance from the light emitting region to the bottom end of the upper electrode of the light emitting element in the direction of the curved surface of the light extraction structure, and λ on can be the distance from the light emitting region to the bottom end of the upper electrode of the light emitting element in the direction perpendicular to the insulating layer. Since the actual distance is used, the design is easy.
以下、本発明の一実施形態に係る発光装置について図面を参照しながら説明する。なお、本明細書で特に図示または記載されていない部分に関しては、当該技術分野の公知技術を適用できる。また、本発明は以下に説明する実施形態に限定されるものではない。 The following describes a light-emitting device according to one embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that publicly known techniques in the relevant technical field can be applied to parts not specifically illustrated or described in this specification. Furthermore, the present invention is not limited to the embodiment described below.
図1(a)は、本発明の一実施形態に係る発光装置の平面図である。本実施形態において、発光装置は、第一の発光素子、第二の発光素子を含む複数の発光素子が配列されており、それぞれ異なる色を発することで画像等を表示する表示装置である。表示装置は、基板等の絶縁層の主面上に発光素子3が2次元に配列され、画像等を表示する表示領域1を有する。図1の発光素子の配列はデルタ配列であるが、ストライプ配列、スクエア配列、ペンタイル配列またはベイヤー配列でもよい。表示領域の端部を破線で示し、端部2としている。
Figure 1(a) is a plan view of a light-emitting device according to one embodiment of the present invention. In this embodiment, the light-emitting device is a display device in which a plurality of light-emitting elements, including a first light-emitting element and a second light-emitting element, are arranged, each emitting a different color to display an image or the like. The display device has a
図1(b)は、図1(a)の端部2で示す破線部の拡大図である。絶縁層の主面上に配された発光素子3と、発光素子3の発光領域からの光が入射する光取り出し構造4と、を有する。図1(b)では、基板の主面に垂直な方向からの平面視において、発光領域の中心と光取り出し構造の中心が一致している。本実施形態において、発光領域は、六角形の形をしているが、形は限定されない。発光領域に中心は多角形の場合は、当該多角形の内接円の中心として見積もることができる。円形の場合には、当該円の中心を発光領域の中心として見積もることができる。
Figure 1(b) is an enlarged view of the dashed line portion shown at
図2は、本発明の一実施形態に係る発光装置の断面模式図である。ここで断面模式図とは、絶縁層の主面に対して垂直な方向(主面の法線方向)から発光素子を視た際の配置である。図2(a)は、発光装置の光取り出し構造が基板とは逆側に凸のマイクロレンズである例である。本実施形態に係る発光素子は、基板5の上に、反射層6、発光物質を有する有機層7、半透過電極8、保護層9、マイクロレンズ10を有する。反射層6及び半透過電極8は、その配置位置からそれぞれ下部電極及び上部電極とも呼ばれる。発光物質のPLスペクトルは、可視光領域内に波長がλPLである第一ピークを有する。発光素子は、反射層6と、半透過電極8との間の光学距離により、発光を強め合わせる共振器構造を有してよい。ここでは有機層7を用いて記載するが、発光素子であれば、有機、無機を問わない。発光物質が有機である場合は特に、本実施形態の発光装置は、有機発光装置と呼ぶことができ、発光素子は有機発光素子と呼ぶことができる。本実施形態においては、反射層は、電極を兼ねているので反射電極と呼ぶこともできる。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device according to one embodiment of the present invention. Here, the schematic cross-sectional view is the arrangement when the light-emitting device is viewed from a direction perpendicular to the main surface of the insulating layer (the normal direction of the main surface). FIG. 2(a) is an example in which the light-extraction structure of the light-emitting device is a microlens that is convex on the opposite side to the substrate. The light-emitting device according to this embodiment has a
共振器構造において、基板の主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonを有する。基板の主面に垂直な方向に発光するとは、光取り出し構造を有さない状態で基板の主面に垂直な方向に取り出される光と呼ぶこともできる。つまり、光取り出し構造による屈折に依らず、基板の正面方向に出射する光である。また共振器構造は、光取り出し構造を介して放射されるEL発光のピーク波長λELを有する。λELは、共振器構造による光学干渉、光取り出し構造による屈折を考慮して、基板正面に出射される光の波長である。ここで、PL発光、PLスペクトルは、発光素子の構造に依らず、発光物質の性質である。PLスペクトルは、例えば、有機発光素子の発光物質を含む発光層を基板上に形成し、光励起発光させることで得ることができる。発光層を再現することが好ましいが、発光物質の固体膜であればPL発光を測定できる。これに対してEL発光、ELスペクトルは、電極間の光学距離、光取り出し構造の影響を考慮した発光特性である。 In the resonator structure, the resonant peak wavelength λ on of the interference spectrum that intensifies the light emitted in a direction perpendicular to the main surface of the substrate is present. Emitting light in a direction perpendicular to the main surface of the substrate can also be referred to as light that is extracted in a direction perpendicular to the main surface of the substrate without a light extraction structure. In other words, the light is emitted in the front direction of the substrate, regardless of refraction due to the light extraction structure. The resonator structure also has a peak wavelength λ EL of the EL emission emitted through the light extraction structure. λ EL is the wavelength of the light emitted in front of the substrate, taking into account the optical interference due to the resonator structure and the refraction due to the light extraction structure. Here, the PL emission and the PL spectrum are properties of the light-emitting material, regardless of the structure of the light-emitting element. The PL spectrum can be obtained, for example, by forming a light-emitting layer containing a light-emitting material of an organic light-emitting element on a substrate and causing it to emit light by photoexcitation. It is preferable to reproduce the light-emitting layer, but the PL emission can be measured if it is a solid film of the light-emitting material. In contrast, the EL emission and the EL spectrum are light-emitting characteristics that take into account the optical distance between the electrodes and the influence of the light extraction structure.
本実施形態に係る発光装置は、発光物質の第一ピークであるλPLと、λEL、λonが下記式(1)を満たす発光装置であり、これを満たすことで基板正面の発光輝度が良好な発光装置を得ることができる。
|λEL-λPL| < |λon-λPL| (1)
The light emitting device according to this embodiment is a light emitting device in which λ PL , which is the first peak of the light emitting substance, λ EL , and λ on satisfy the following formula (1). By satisfying this formula, a light emitting device with good luminance emitted from the front of the substrate can be obtained.
|λ EL -λ PL | < |λ on -λ PL | (1)
式(1)を満たすことは、EL発光の波長と発光物質の第一ピーク波長との差が、干渉ピークλonと発光物質の第一ピーク波長との差よりも、小さいことを示す。 Satisfying formula (1) indicates that the difference between the wavelength of the EL emission and the first peak wavelength of the luminescent material is smaller than the difference between the interference peak λ on and the first peak wavelength of the luminescent material.
|λon-λPL|は、λPLの半値全幅よりも小さくてよい。 |λ on −λ PL | may be less than the full width at half maximum of λ PL .
本実施形態に係る発光装置は、共振器構造において、光取り出し構造における屈折により基板の主面に垂直な方向に出射される光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λoffを有する。光取り出し構造の屈折により基板の正面方向に出射される光は、発光物質からの発光方向、反射層における反射方向は、基板の主面に対して傾斜している光である。図2(a)において、発光物質が発光している点11から放射光12が発する。放射光はマイクロレンズ10の傾斜部13にて屈折され、基板正面方向に出射される。
The light emitting device according to this embodiment has a resonant peak wavelength λ off of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface of the substrate due to refraction in the light extraction structure in a resonator structure. The light emitted in the front direction of the substrate due to refraction in the light extraction structure is light that is inclined with respect to the main surface of the substrate in the light emission direction from the light emitting material and the reflection direction in the reflective layer. In Fig. 2(a), radiated
本実施形態に係る発光装置は、λPLと、λoffと、λonが下記式(2)を満たす発光装置であり、これを満たすことで基板正面の発光輝度が良好な発光装置を得ることができる。
|λoff-λPL| < |λon-λPL| (2)
The light emitting device according to this embodiment is a light emitting device in which λ PL , λ off , and λ on satisfy the following formula (2), and by satisfying this formula, a light emitting device with good luminance emitted from the front surface of the substrate can be obtained.
|λ off -λ PL | < |λ on -λ PL | (2)
式(2)は、干渉ピークλoffと発光物質の第一ピーク波長との差が、干渉ピークλonと発光物質の第一ピーク波長との差よりも小さいことを示す。つまり、発光物質の第一ピーク波長が、基板正面方向に発光する光を強める干渉ピークよりも、光取り出し構造を介して基板正面方向に出射される光を強める干渉ピークに近いことを示している。すなわち、基板に対して傾斜した角度に発光した光を強める干渉ピークが、発光物質の第一ピークに近い。ここで、第一ピークは、可視領域における発光物質のPLスペクトルにおいて最大強度ピークであってよい。当該PLスペクトルに第二ピークがある場合には、第二ピークは第一ピークの次に強度が大きいピークであってよい。発光物質は発光ドーパントとも呼ばれる。|λon-λPL|はλPLの半値全幅以下であってよい。 Formula (2) indicates that the difference between the interference peak λoff and the first peak wavelength of the luminescent material is smaller than the difference between the interference peak λon and the first peak wavelength of the luminescent material. In other words, it indicates that the first peak wavelength of the luminescent material is closer to the interference peak that strengthens the light emitted in the front direction of the substrate through the light extraction structure than the interference peak that strengthens the light emitted in the front direction of the substrate. In other words, the interference peak that strengthens the light emitted at an angle inclined to the substrate is closer to the first peak of the luminescent material. Here, the first peak may be the maximum intensity peak in the PL spectrum of the luminescent material in the visible range. If the PL spectrum has a second peak, the second peak may be the peak with the second highest intensity after the first peak. The luminescent material is also called a luminescent dopant. | λon - λPL | may be equal to or less than the full width at half maximum of λPL.
また、第二ピークがある場合には、第二ピークの波長をλPL2として、下記式(3)を満たすことが好ましい。
|λoff-λPL| ≦ |λon-λPL2| (3)
Furthermore, in the case where there is a second peak, it is preferable that the wavelength of the second peak is designated as λ PL2 and that the following formula (3) is satisfied.
|λ off −λ PL | ≦ |λ on −λ PL2 | (3)
式(3)は、干渉ピークλoffと第一ピークλPLとの差が、干渉ピークλonと第二ピークλPL2との差よりも小さいことを示している。つまり、第二ピークよりも第一ピークを優先して干渉ピークに合わせて設計してよい。なお、第一ピークがλoffに一致し、第二ピークがλonに一致してもよい。式(3)を満たす場合、さらに基板正面の輝度を向上できるので好ましい。|λon-λPL2|が第二ピークの半値全幅以下であってよい。 Formula (3) indicates that the difference between the interference peak λ off and the first peak λ PL is smaller than the difference between the interference peak λ on and the second peak λ PL2 . In other words, the first peak may be given priority over the second peak and designed to match the interference peak. Note that the first peak may coincide with λ off , and the second peak may coincide with λ on . When formula (3) is satisfied, it is preferable because the luminance on the front side of the substrate can be further improved. |λ on - λ PL2 | may be equal to or less than the full width at half maximum of the second peak.
これに対して、発光装置は、発光素子とは異なる第二の発光素子を有し、第二の発光素子は、式(1)を満たさない素子であってよい。第二の発光素子は、発光素子とは異なる色の光を発する素子であってよい。発光色が異なる発光素子であるため、正面輝度のバランスを考慮して、式(1)及び式(2)のいずれも満たさない発光素子を有してよい。式(1)、式(2)を満たさない第二の発光素子の発光色は、発光装置のRGBのバランスにより決定されてよく、青、緑、赤、これらの組み合わせであってよい。 In contrast, the light emitting device has a second light emitting element different from the light emitting element, and the second light emitting element may be an element that does not satisfy formula (1). The second light emitting element may be an element that emits light of a different color than the light emitting element. Since the light emitting element has a different light emitting color, the light emitting element may have a light emitting element that does not satisfy either formula (1) or formula (2), taking into consideration the balance of front luminance. The light emitting color of the second light emitting element that does not satisfy formula (1) or formula (2) may be determined by the balance of RGB of the light emitting device, and may be blue, green, red, or a combination thereof.
本発明の一実施形態に係る発光装置は、正面輝度を優先する素子は、(1)または(2)、及び(3)を満たし、色純度を優先する素子は(3)を満たさない素子であってよい。また色純度を優先する素子は(1)及び(2)を満たさなくてもよい。 In a light-emitting device according to one embodiment of the present invention, an element that prioritizes front luminance may be an element that satisfies (1) or (2) and (3), and an element that prioritizes color purity may be an element that does not satisfy (3). Also, an element that prioritizes color purity may not need to satisfy (1) and (2).
正面輝度を優先する素子が緑色を発する素子、色純度を優先する素子が青色を発する素子であってよい。また、他の実施形態では、正面輝度を優先する素子が青色を発する素子、色純度を優先する素子が緑色を発する素子であってよい。さらに他の実施形では、正面輝度を優先する素子が赤色を発する素子であり、色純度を優先する素子が緑素子または青色を発する素子であってよい。 The element that prioritizes front luminance may be an element that emits green, and the element that prioritizes color purity may be an element that emits blue. In another embodiment, the element that prioritizes front luminance may be an element that emits blue, and the element that prioritizes color purity may be an element that emits green. In yet another embodiment, the element that prioritizes front luminance may be an element that emits red, and the element that prioritizes color purity may be a green element or an element that emits blue.
第二の発光素子は、第一の発光素子が有する発光物質とは異なる第二の発光物質を有してよい。 The second light-emitting element may have a second light-emitting material that is different from the light-emitting material of the first light-emitting element.
第二の発光物質のPLスペクトルにおける半値全幅は、第一の発光素子が有する発光物質のPLスペクトルにおける半値全幅以上の幅を有してもよい。 The full width at half maximum of the PL spectrum of the second luminescent material may be equal to or greater than the full width at half maximum of the PL spectrum of the luminescent material possessed by the first light-emitting element.
ここでPLスペクトルの半値全幅とは、第1ピークのPL強度を1とした際の、強度0.5における第1ピークの幅を指す。発光物質の第一ピーク及び第二のスペクトル幅が大きい発光物質においては、第一ピークと第二ピークの境界領域のPL強度の極小値が0.5以上となることがある。その場合、第一ピークと第二のピークのスペクトル成分を足し合わせたスペクトルに対する強度0.5におけるスペクトル幅が半値全幅となる。また、第一ピークのスペクトル幅が非常に大きい場合、あたかも第二ピークが存在しないとみえる場合がある。この場合における半値全幅とは、強度0.5におけるPLスペクトル全体の幅のことを指す。 The full width at half maximum of the PL spectrum here refers to the width of the first peak at an intensity of 0.5 when the PL intensity of the first peak is taken as 1. In a light-emitting substance with large first and second spectral widths, the minimum value of the PL intensity in the boundary region between the first and second peaks may be 0.5 or more. In such cases, the spectral width at an intensity of 0.5 for the spectrum obtained by adding together the spectral components of the first and second peaks becomes the full width at half maximum. Also, if the spectral width of the first peak is very large, it may appear as if the second peak does not exist. In this case, the full width at half maximum refers to the width of the entire PL spectrum at an intensity of 0.5.
第一ピークと第二ピークを有する発光スペクトルの発光物質は、蛍光発光材料または遅延蛍光材料であってよい。遅延蛍光は熱活性型であってよい。これに対して、第二ピークが小さいまたは第二ピークがないとみなせる第二の発光物質は、燐光発光材料であってよい。 The luminescent material having an emission spectrum with a first peak and a second peak may be a fluorescent material or a delayed fluorescent material. The delayed fluorescent material may be of the thermally activated type. In contrast, the second luminescent material having a small second peak or no second peak may be a phosphorescent material.
すなわち、蛍光材料を有する発光素子は、本願明細書の式(1)または(2)を満たし、燐光材料を有する第二の発光素子は、本願明細書の式(1)及び(2)のいずれも満たさない形態であってよい。 In other words, the light-emitting element having a fluorescent material may satisfy formula (1) or (2) in the present specification, and the second light-emitting element having a phosphorescent material may be in a form that does not satisfy either formula (1) or (2) in the present specification.
第二の発光素子の発光色は、緑色であってよい。第二の発光物質のPLスペクトルの幅は他の発光素子よりも狭くてよい。緑色の波長は、青色と赤色に挟まれた領域であり、他色と重ならないようにするためである。 The emission color of the second light-emitting element may be green. The width of the PL spectrum of the second light-emitting material may be narrower than that of the other light-emitting elements. The green wavelength is in the region between blue and red, and is not to overlap with other colors.
本実施形態に係る発光装置のλoffは、基板主面に対する放射角度が15°の光が強められている傾向にあるので、λoffは、放射角度が15°の光を強め合わせる干渉ピーク共振波長としてもよい。 Since the λ off of the light emitting device according to this embodiment tends to intensify light having a radiation angle of 15° with respect to the main surface of the substrate, the λ off may be set to an interference peak resonance wavelength that intensifies light having a radiation angle of 15°.
本実施形態に係る発光装置を構成するためには、具体的には、発光素子の有機層の材料及び膜厚で決まる正面方向の干渉ピーク共振波長を発光物質のPLピーク波長よりも長波側とする。長波側にすることで、発光物質のPLスペクトルにおいて最も強度が高いPLピーク波長の付近の光を、光取り出し構造の傾斜部に向けて出射することができる。この傾斜部により基板の正面方向へ屈折させるので、正面方向の輝度が向上する。本発明に係る発光装置の構成は光取り出し構造を有する発光素子における独特の光学干渉条件といえる。光取り出し構造の傾斜部は、基板主面に対して0°以上90°未満が好ましく、9°以上60°以下であることがより好ましい。この範囲にすることで基板の正面方向への輝度を向上させることができる。 To configure the light-emitting device according to this embodiment, specifically, the interference peak resonance wavelength in the front direction, which is determined by the material and film thickness of the organic layer of the light-emitting element, is set to the longer wavelength side than the PL peak wavelength of the light-emitting substance. By setting it to the longer wavelength side, light near the PL peak wavelength with the highest intensity in the PL spectrum of the light-emitting substance can be emitted toward the inclined portion of the light extraction structure. This inclined portion refracts light toward the front direction of the substrate, improving the brightness in the front direction. The configuration of the light-emitting device according to the present invention can be said to be a unique optical interference condition in a light-emitting element having a light extraction structure. The inclined portion of the light extraction structure is preferably at least 0° and less than 90° with respect to the main surface of the substrate, and more preferably at least 9° and less than 60°. By setting it in this range, the brightness in the front direction of the substrate can be improved.
光学干渉条件を強めるとは、発光層の発光位置から光反射材料の反射面までの距離d0をd0=mλ/4n0(i=1,3,5,・・・)に調整することで強め合わせの干渉とすることである。その結果、波長λの光の放射分布に特定の方向の成分が多くなり、特定の角度の放射輝度が向上する。 Strengthening the optical interference condition means adjusting the distance d0 from the light-emitting position of the light-emitting layer to the reflecting surface of the light-reflecting material to d0 = mλ/ 4n0 (i = 1, 3, 5, ...) to achieve constructive interference. As a result, the radiation distribution of light with wavelength λ contains more components in a specific direction, improving the radiance at a specific angle.
発光位置から光反射層の反射面までの間の光学距離Lrが、波長λを強め合わせる場合、Lrは以下の式(4)で示される。
Lr=(2m-(φr/π))×(λ/4)×1/cos(θeml) (4)
When the optical distance Lr from the light emitting position to the reflecting surface of the light reflecting layer reinforces the wavelength λ, Lr is expressed by the following formula (4).
Lr=(2m-(φr/π))×(λ/4)×1/cos(θ eml ) (4)
上記式(4)中、mは発光点から反射層間の干渉次数であり、0以上の整数であり、n0は発光位置から反射面までの層の波長λにおける有効屈折率である。Φr=πとなる理想的な場合において、m=0及びm=1の場合をそれぞれλ/4の干渉条件および3λ/4の干渉条件と呼ぶ。φr[rad]は、反射面での波長λの光が反射する際の位相シフト量の和であり、θemlは発光層内の基板法線方向に対する放射角である。なお、光学距離Lrは、有機化合物層の各層の屈折率njと各層の厚さdjの積の総和である。つまり、Lrは、Σnj×djと表せ、またn0×d0とも表せられる。φは負の値である。 In the above formula (4), m is the order of interference between the light emitting point and the reflecting layer, and is an integer equal to or greater than 0, and n 0 is the effective refractive index at wavelength λ of the layer from the light emitting position to the reflecting surface. In the ideal case where Φr=π, the cases of m=0 and m=1 are called the λ/4 interference condition and the 3λ/4 interference condition, respectively. φr[rad] is the sum of the phase shift amounts when light of wavelength λ is reflected on the reflecting surface, and θ eml is the radiation angle with respect to the substrate normal direction in the light emitting layer. The optical distance Lr is the sum of the products of the refractive index nj of each layer of the organic compound layer and the thickness dj of each layer. That is, Lr can be expressed as Σn j ×d j , and can also be expressed as n 0 ×d 0. φ is a negative value.
また、発光位置から光取出し電極の反射面までの間の光学距離Lsとして、光取り出し電極の反射面での波長λの光が反射する際の位相シフトの和をφs[rad]とすると、全層干渉Lが波長λを強める場合、Lは以下の式(5)で示される。下記式(5)中のMは、m+m’であり、m’は発光点から光取り出し電極間の干渉次数であり、0以上の整数である。
L=(Lr+Ls)=(2M-Φ/π)×(λ/4)×1/cos(θeml) (5)
Furthermore, assuming that the optical distance Ls from the light emission position to the reflective surface of the light extraction electrode is the sum of the phase shifts when light of wavelength λ is reflected by the reflective surface of the light extraction electrode is φs [rad], when the total layer interference L intensifies the wavelength λ, L is expressed by the following formula (5): M in the following formula (5) is m+m', where m' is the order of interference between the light emission point and the light extraction electrode, and is an integer of 0 or more.
L=(Lr+Ls)=(2M−Φ/π)×(λ/4)×1/cos(θ eml ) (5)
ここで、Mは発光点から反射層間の干渉次数mと発光点から光取り出し電極間の干渉次数m’の和(M=m+m’)であり、0以上の整数である。また、Φは波長λの光が光反射層と該光取出し電極で反射する際の位相シフトの和(Φ=φr+φs)である。式(5)は有機化合物層の全層干渉と呼ばれる干渉である。 Here, M is the sum of the interference order m between the light emitting point and the reflective layer and the interference order m' between the light emitting point and the light extraction electrode (M = m + m'), and is an integer equal to or greater than 0. In addition, Φ is the sum of the phase shifts when light of wavelength λ is reflected by the light reflective layer and the light extraction electrode (Φ = φr + φs). Equation (5) is the interference called full-layer interference of the organic compound layer.
光取り出し構造の傾斜面を有さない有機発光素子の場合、正面方向つまりθeml=0°方向という条件で式(4)及び式(5)を満たすように、有機層の膜厚等を設計する。 In the case of an organic light-emitting element that does not have an inclined surface of the light extraction structure, the thickness of the organic layer and the like are designed so as to satisfy formulas (4) and (5) in the front direction, that is, the condition that θ eml =0° direction.
その時の正面方向の干渉ピーク共振波長をλon(on-axis)とすると、式(6)となる。
λon=4πL/(2πM-Φ) (6)
If the interference peak resonance wavelength in the front direction at this time is λ on (on-axis), then equation (6) is obtained.
λ on =4πL/(2πM−Φ) (6)
光取り出し構造の傾斜面を有さない有機発光素子においては、上記式(6)で表される正面方向のピーク共振波長λonが発光ドーパントのPLスペクトルのピーク波長λPLと概ね一致するように膜厚及び材料を設計する。 In an organic light-emitting element that does not have an inclined surface of a light extraction structure, the film thickness and material are designed so that the peak resonance wavelength λ on in the front direction expressed by the above formula (6) approximately coincides with the peak wavelength λ PL of the PL spectrum of the light-emitting dopant.
一方、光取り出し構造を有する場合、すなわち、本発明の一実施形態に係る場合には、画素発光領域内において、正面方向に放射される有機発光素子内の放射角が画素発光位置によって変わる。 On the other hand, when a light extraction structure is provided, i.e., in one embodiment of the present invention, the radiation angle within the organic light-emitting element that emits light in the front direction within the pixel emission region varies depending on the pixel emission position.
図2(a)及び(b)は、反射層6上のある発光点11から放射した放射光12が、マイクロレンズ10のある傾斜部13にて屈折し、基板法線方向に出射する様子を示した図である。ここでは、光取り出し構造4の例としてマイクロレンズ10を例示しているが、光取り出し構造の形状によらず、傾斜角と発光位置の関係で決定される。図2(a)のn0、n1、n2、およびnemlはそれぞれ、素子外部の屈折率、マイクロレンズの屈折率、保護層の屈折率及び有機膜発光層の屈折率であり、n0<n1の関係がある。ここでは簡単のため、n2=nemlとした。また、図2(b)のn3はマイクロレンズ10と保護層9との間を充填する充填層の屈折率であり、n3<n1の関係とした。図2(a)及び(b)には詳細を記載していないが、有機層7及び保護層9はそれぞれ積層構成でもよく、その場合の屈折率は膜厚の重みづけ平均値Σnj×dj/Σdjとしてもよい。
2(a) and (b) are diagrams showing how the emitted light 12 emitted from a
基板の主面に対してψの傾斜角を有するマイクロレンズ10の傾斜部13と画素中心との基板の主面に平行な方向における距離をRとし、傾斜部13と発光点11との基板の主面に平行な方向における距離rとする。この場合、傾斜部13にて正面方向に屈折する放射光12が放射される発光点11と画素中央との距離Xは、以下の式(7)で示される。また、放射光41の発光層内の放射角θemlは、以下の式(8)で示される。なお、画素中央とは、下部電極の、基板主面に対して垂直な断面における中点であってよい。または、下部電極の端部に絶縁層を有する場合には、下部電極上の絶縁層が有する開口の、基板主面に対して垂直な断面における中点であってよい。
The distance between the
di及びniはi番目の層の膜厚及び屈折率である。ここで、R(ψ)は光取り出し構造の位置と傾斜角の関係を示す構造パラーメータであり、図2(a)に例示した球面マイクロレンズの場合、R=A*sinψとなる。Aはマイクロレンズの曲率半径である。X及びθemlともに光取り出し構造の傾斜部の傾斜角ψの関数となる。つまり、光取り出し構造の傾斜部の傾斜角ごとで正面方向の放射輝度に寄与する画素発光領域が決まり、またその発光領域から放射され傾斜面で正面に屈折する光の発光層内での放射角が決まる。言い換えると、光取り出し構造を有する有機発光素子においては、光取り出し構造を構成する傾斜部の中で最も寄与率が高くなる傾斜角に合わせて干渉条件を最適化すればよいことになる。具体的には、最も寄与率が高くなる傾斜角に対応する放射角θeml方向の干渉ピーク共振波長とPLピーク波長との差を小さくすることである。 d i and n i are the film thickness and refractive index of the i-th layer. Here, R(ψ) is a structural parameter indicating the relationship between the position of the light extraction structure and the inclination angle, and in the case of the spherical microlens exemplified in FIG. 2(a), R=A*sinψ. A is the radius of curvature of the microlens. Both X and θ eml are functions of the inclination angle ψ of the inclined portion of the light extraction structure. That is, the pixel light-emitting area that contributes to the radiance in the front direction is determined for each inclination angle of the inclined portion of the light extraction structure, and the radiation angle in the light-emitting layer of the light emitted from the light-emitting area and refracted to the front at the inclined surface is determined. In other words, in an organic light-emitting element having a light extraction structure, it is sufficient to optimize the interference conditions according to the inclination angle at which the contribution rate is the highest among the inclined portions constituting the light extraction structure. Specifically, it is to reduce the difference between the interference peak resonance wavelength and the PL peak wavelength in the radiation angle θ eml direction corresponding to the inclination angle at which the contribution rate is the highest.
次に、最も寄与率が高くなる傾斜部の定義を行い、最も寄与率が高くなる傾斜角に対応する放射角θeml方向の干渉ピーク共振波長について説明する。最も寄与率が高くなる傾斜部とは、光取り出し構造の傾斜部で正面方向に屈折する光を放射できる画素発光範囲のうち発光面積が最大となる傾斜部のことを指す。 Next, the inclined portion having the highest contribution rate will be defined, and the interference peak resonance wavelength in the radiation angle θ eml direction corresponding to the inclination angle having the highest contribution rate will be described. The inclined portion having the highest contribution rate refers to the inclined portion having the largest light-emitting area among the pixel light-emitting ranges that can emit light refracted in the front direction at the inclined portion of the light extraction structure.
図3は、本実施形態に係る光取り出し構造が発光装置の正面方向に光を取り出している図である。図3(a)は発光点から発光装置の正面方向に発光する光を示す模式図である。図3(b)は、発光点から基板主面に対して傾斜した方向に発光した光を示す模式図である。図3(a)は、発光面積15aと光取り出し面16aの関係を示した立体図であり、下段は画素中央を含んだ基板主面に対して垂直な断面図である。図3(a)は有機発光素子の正面方向の光学干渉によって、基板主面の正面に放射される光取り出し面16a(傾斜角0°)とそれに対応する発光面積15a、断面における、正面方向に出射する光を放射する発光領域20aを示す。図3(b)は台形の傾斜部16b(傾斜角17b)にて正面方向に屈折する光を放射できる発光面積15b、断面における、正面方向に屈折する光を放射できる発光領域20bを示している。図3に示した台形上の光取り出し構造の場合、画素面積15bが最大面積となる。本実施形態においては、光取り出し構造は、傾斜部を有する構造を示しているが、基板主面に対して傾斜した方向の発光を基板正面の方向に屈折させることができれば、形状は問わない。
Figure 3 is a diagram showing the light extraction structure according to this embodiment extracting light in the front direction of the light emitting device. Figure 3(a) is a schematic diagram showing light emitted from a light emitting point in the front direction of the light emitting device. Figure 3(b) is a schematic diagram showing light emitted from a light emitting point in a direction inclined with respect to the main surface of the substrate. Figure 3(a) is a three-dimensional diagram showing the relationship between the
ここで、最も寄与率が高くなる傾斜部に対応する放射角θemlの方向とは、上に述べた最大発光面積から放射され、最も寄与率が高い傾斜部にて正面方向に屈折する光の発光点における放射角である。 Here, the direction of the radiation angle θ eml corresponding to the inclined portion with the highest contribution rate is the radiation angle at the light emission point of light that is emitted from the maximum light-emitting area described above and refracted in the front direction at the inclined portion with the highest contribution rate.
図3(b)において、Θemlは最大画素面積16aから放射され傾斜部16bを介して正面方向に屈折する光の放射角である。基板の主面に対して、Θeml方向の干渉ピーク共振波長λoff(off-axis)は下記式(9)で表される。λoffは以下においては斜め方向の干渉ピーク共振波長とも記載する。
λoff=4πL/(2πM-Φ)×1/cos(Θeml) (9)
3B, Θ eml is the radiation angle of light emitted from the
λ off =4πL/(2πM-Φ)×1/cos(Θ eml ) (9)
式(9)の干渉ピーク共振波長λoffと発光物質のPLピーク波長λPLとの差が、式(9)で定義される正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さくなるように有機発光素子の光学干渉条件を決定することが望ましい。また、実施例で例示するが、λoffは本実施形態の発光装置のELスペクトルのピーク波長λELと概ね一致してよい。つまり、λELとλPLとの差が、正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さくなるように有機発光素子の光学干渉条件を決定してもよい。 It is desirable to determine the optical interference conditions of the organic light-emitting element so that the difference between the interference peak resonance wavelength λ off of the formula (9) and the PL peak wavelength λ PL of the light-emitting material is smaller than the difference between the interference peak wavelengths λ on and λ PL in the front direction defined by the formula (9). Also, as illustrated in the examples, λ off may be approximately equal to the peak wavelength λ EL of the EL spectrum of the light-emitting device of this embodiment. In other words, the optical interference conditions of the organic light-emitting element may be determined so that the difference between λ EL and λ PL is smaller than the difference between the interference peak wavelengths λ on and λ PL in the front direction.
図4は、球面マイクロレンズを光取り出し構造の例とした、好ましい放射角Θemlの見積もり方法を示す模式図である。図4(a)乃至(d)では、基板主面に対する発光の角度が異なる。それぞれ上段は、発光面積18a乃至18dと光取り出し面19a、傾斜部19b乃至19dの関係を示した立体図であり、下段は画素中央を含む下段は画素中央を含んだ基板主面に対して垂直な断面図である。19aは傾斜していないので光取り出し面とした。19b乃至19dは、傾斜しているため傾斜部としているが光取り出し面と呼ぶこともできる。図4に示したようなマイクロレンズにおいても、最も寄与率が高くなる傾斜部は、光取り出し構造の傾斜部で正面方向に屈折する光を放射できる画素発光範囲のうち発光面積が最大となる傾斜部となる。つまり、球面マイクロレンズの場合、発光面積が最大となる位置は最外周領域に相当する。図4(c)は、球面マイクロレンズの傾斜面にて正面に屈折しうる発光領域のうち最大発光面積18cから放射された光が傾斜部19cにて正面に屈折している様子を表している。マイクロレンズの場合、Θeml方向は、図4(c)で示したように最外周領域18cから傾斜部19cへ向かう発光層における放射角度とすればよい。光線追跡のシミュレーションによれば、放射角Θemlは0°よりも大きく30°未満であることが好ましい。5°以上20°以下であることがさらに好ましい。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a method for estimating a preferred radiation angle Θ eml using a spherical microlens as an example of a light extraction structure. In FIG. 4(a) to (d), the angle of light emission with respect to the main surface of the substrate is different. The upper part is a three-dimensional diagram showing the relationship between the light-emitting
次に、式(9)の斜め方向の干渉ピーク共振波長λoffと発光物質のPLピーク波長λPLの差が、式(6)で定義される正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さくすることの効果について説明する。 Next, the effect of making the difference between the interference peak resonance wavelength λ off in the oblique direction and the PL peak wavelength λ PL of the luminescent material in formula (9) smaller than the difference between the interference peak wavelength λ on in the front direction defined by formula (6) and λ PL will be described.
図5は、発光物質のPLスペクトル、正面方向を強める干渉スペクトル、傾斜方向を強める干渉スペクトルを示すグラフである。図5(a)は、従来例であり、基板主面の正面方向に発光した光を強め合わせる構成の発光素子における、λoff、λon、λPLの関係である。図5(b)は、本発明に係る構成であり、基板主面に対して傾斜した方向に発光した光を強め合わせる発光素子である。図5(b)の構成は、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffと発光物質のPLピーク波長λPLとの差が、基板主面の正面方向の干渉ピークλonとλPLとの差よりも小さい場合である。図5(c)は、(a)の構成の発光素子のマイクロレンズを通した正面方向におけるスペクトルである。図5(d)は、(b)の構成の発光素子のマイクロレンズを通した正面方向におけるスペクトルである。なお、図5(a)及び(b)はそれぞれ(c)及び(d)のスペクトルのうち発光層内の放射角成分ごとに分解した図である。 5 is a graph showing the PL spectrum of the light-emitting substance, the interference spectrum strengthening the front direction, and the interference spectrum strengthening the tilt direction. FIG. 5(a) is a conventional example, showing the relationship between λ off , λ on , and λ PL in a light-emitting device having a configuration in which light emitted in a front direction of the main surface of the substrate is strengthened. FIG. 5(b) is a configuration according to the present invention, showing a light-emitting device in which light emitted in a direction tilted with respect to the main surface of the substrate is strengthened. The configuration of FIG. 5(b) is a case in which the difference between the interference peak resonance wavelength λ off in a direction tilted with respect to the main surface of the substrate and the PL peak wavelength λ PL of the light-emitting substance is smaller than the difference between the interference peak λ on and λ PL in the front direction of the main surface of the substrate. FIG. 5(c) is a spectrum in the front direction through a microlens of the light-emitting device having the configuration of (a). FIG. 5(d) is a spectrum in the front direction through a microlens of the light-emitting device having the configuration of (b). 5A and 5B are diagrams in which the spectra of (c) and (d) are resolved into components of radiation angles within the light-emitting layer.
図5は図4で示したようなマイクロレンズを想定しており、Θemlは概ね15°程度であるあることを仮定した。ただし、この効果はΘemlの値によらない。 5 assumes a microlens as shown in FIG 4, and it is assumed that Θ eml is approximately 15°, however, this effect does not depend on the value of Θ eml .
図5(a)及び(b)のθeml=0°は、それぞれの発光素子の構成において、光取り出し構造がない場合の発光素子の発光強度に相当する。先述したように光取り出し構造がない有機発光素子の場合、正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとを一致させる。それは図5(a)のθeml=0°の放射輝度が図5(b)のθeml=0°の放射輝度よりも大きくなることからも示される。一方、マイクロレンズを有する場合、正面方向の放射輝度に対するθemlの寄与率が変わる。つまり、正面方向に屈折する光が、角度によって異なる。 θ eml =0° in Figures 5(a) and (b) corresponds to the emission intensity of the light-emitting element when there is no light extraction structure in each light-emitting element configuration. As mentioned above, in the case of an organic light-emitting element without a light extraction structure, the interference peak wavelength λ on in the front direction is made to match λ PL . This is also shown by the fact that the radiance at θ eml =0° in Figure 5(a) is greater than the radiance at θ eml =0° in Figure 5(b). On the other hand, when a microlens is included, the contribution rate of θ eml to the radiance in the front direction changes. In other words, the light refracted in the front direction differs depending on the angle.
図5(a)で示した従来構成では、光取り出し構造により正面に取り出される効率(以下、正面取り出し効率)が最も高い干渉ピーク共振波長λoffがPLスペクトルλPLよりも短波側に位置することになる。PLスペクトルは、PLピークの短波側においては急峻にスペクトルが低下する。つまりは強度が大きく低下する。その結果、PLピーク波長の短波側のスペクトル面積(放射輝度)は小さくなる。そのため、図5(a)のλoffの波長領域では、λoffの強め合わせの効果が大きいものの、発光物質から放射される光量が小さいため、光取り出し構造による正面光取り出し効率の増加分は小さい。それは、図5(a)のθeml=15°、25°の発光強度が小さいことからも示される。 In the conventional configuration shown in FIG. 5(a), the interference peak resonance wavelength λ off at which the efficiency of light extraction to the front by the light extraction structure (hereinafter referred to as the front extraction efficiency) is the highest is located on the shorter wavelength side than the PL spectrum λ PL . The PL spectrum has a steep spectrum drop on the short wavelength side of the PL peak. In other words, the intensity is greatly reduced. As a result, the spectrum area (radiance) on the short wavelength side of the PL peak wavelength is small. Therefore, in the wavelength region of λ off in FIG. 5(a), although the effect of strengthening λ off is large, the amount of light emitted from the light-emitting material is small, so the increase in the front light extraction efficiency by the light extraction structure is small. This is also shown by the small emission intensity at θ eml =15° and 25° in FIG. 5(a).
これに対して、基板主面に傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffとPLピーク波長λPLとの差が基板主面の正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さい場合においては、光取り出し構造の正面光取り出し効率とPLスペクトルの発光強度が大きい領域が重なる。つまり、図5(b)に示したθeml=15°、25°の放射輝度を増加させることができる。図5(d)のスペクトル面積が図5(c)のスペクトル面積よりも大きいので、図5(d)の発光素子の方が光取り出し構造を有する有機発光素子の放射輝度が大きい。つまり、基板主面に傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffとPLピーク波長λPLとの差が基板主面の正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さい方が、正面方向の放射輝度が大きくなる。 On the other hand, when the difference between the interference peak resonance wavelength λ off and the PL peak wavelength λ PL in the direction inclined to the substrate main surface is smaller than the difference between the interference peak wavelength λ on and λ PL in the front direction of the substrate main surface, the front light extraction efficiency of the light extraction structure and the region with high emission intensity of the PL spectrum overlap. That is, the radiance at θ eml = 15 ° and 25 ° shown in FIG. 5 (b) can be increased. Since the spectrum area of FIG. 5 (d) is larger than the spectrum area of FIG. 5 (c), the radiance of the organic light emitting element having the light extraction structure is higher in the light emitting element of FIG. 5 (d). In other words, the radiance in the front direction is higher when the difference between the interference peak resonance wavelength λ off and the PL peak wavelength λ PL in the direction inclined to the substrate main surface is smaller than the difference between the interference peak wavelength λ on and λ PL in the front direction of the substrate main surface.
本発明は、光取り出し構造を有する有機発光素子の基板主面の正面の干渉ピーク波長λonを発光物質のPLピーク波長λPLに対して長波側になるよう構成しているので、正面の放射輝度が大きい。つまり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffとPLピーク波長λPLとの差が正面方向の干渉ピーク波長λonとλPLとの差よりも小さくすることで正面方向の放射輝度が飛躍的に増加する。なお、図5(b)及び(d)に示したように、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffとELスペクトルのピーク波長λELは概ね一致する。 In the present invention, the interference peak wavelength λ on in the front of the substrate main surface of the organic light-emitting element having a light extraction structure is configured to be on the long wavelength side relative to the PL peak wavelength λ PL of the light-emitting substance, so that the radiance in the front direction is large. In other words, the radiance in the front direction is dramatically increased by making the difference between the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted relative to the substrate main surface and the PL peak wavelength λ PL smaller than the difference between the interference peak wavelengths λ on and λ PL in the front direction. Note that, as shown in Figures 5(b) and (d), the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted relative to the substrate main surface and the peak wavelength λ EL of the EL spectrum are roughly the same.
基板主面の正面方向の放射輝度を増加させるために、λoffとλPLとが一致してよい。また、発光物質のスペクトルがλPLよりも強度が小さい第二ピークλPL2を有する場合、λPL2は、λonと一致させてよい。つまり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉スペクトルはλPLが近く、基板主面の正面方向の干渉スペクトルはλPL2が近い構成である。両者を比較する場合は、λPLとλoffが、λPL2とλonよりも近くてよい。 In order to increase the radiance in the front direction of the main surface of the substrate, λ off and λ PL may be the same. In addition, when the spectrum of the luminescent material has a second peak λ PL2 whose intensity is smaller than λ PL , λ PL2 may be made to match λ on . In other words, the interference spectrum in the direction inclined to the main surface of the substrate is close to λ PL , and the interference spectrum in the front direction of the main surface of the substrate is close to λ PL2 . When comparing the two, λ PL and λ off may be closer than λ PL2 and λ on .
図6は、マイクロレンズシフトさせた場合において、マイクロレンズにより屈折される発光を示した模式図である。基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffをPLピーク波長λPLに近くする構成なので、マイクロレンズシフトによりPLピーク波長の光をより広角側へ屈折させることもできる。マイクロレンズシフト(以下、ΔML)は、マイクロレンズの中心位置と画素開口の中心位置の基板主面に平行な方向において距離を設けることを指す。マイクロレンズの中心は、基板主面に垂直な断面におけるマイクロレンズの中点で見積もることができる。画素開口の中心は、基板主面に垂直な断面における下部電極の中点で見積もることができる。また下部電極の端部が画素分離層で覆われている場合には、当該断面図において画素分離層から画素分離層までの線分の中点で画素開口の中心を見積もることができる。これら断面図は、マイクロレンズの頂点を通るように選ばれてよい。 FIG. 6 is a schematic diagram showing light refracted by a microlens when the microlens is shifted. Since the interference peak resonance wavelength λ off in the direction inclined to the main surface of the substrate is made closer to the PL peak wavelength λ PL , the light of the PL peak wavelength can be refracted to the wider angle side by the microlens shift. The microlens shift (hereinafter, ΔML) refers to providing a distance between the center position of the microlens and the center position of the pixel opening in a direction parallel to the main surface of the substrate. The center of the microlens can be estimated at the midpoint of the microlens in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate. The center of the pixel opening can be estimated at the midpoint of the lower electrode in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate. In addition, when the end of the lower electrode is covered with a pixel separation layer, the center of the pixel opening can be estimated at the midpoint of the line segment from the pixel separation layer to the pixel separation layer in the cross section. These cross sections may be selected so as to pass through the apex of the microlens.
本実施形態において、光学距離は、有機層の屈折率を1.9とみなして、概算されてよい。この場合、発光物質の発光波長λPL、電極間距離D、発光が傾斜している角度θを用いて、以下の式(A)を満たす定数Aを有する。
1.9D < AλPL/4 < 1.9D/cosθ (A)
In this embodiment, the optical path length may be roughly calculated by considering the refractive index of the organic layer to be 1.9. In this case, the constant A satisfies the following formula (A) using the emission wavelength λ PL of the luminescent material, the distance D between the electrodes, and the angle θ at which the emission is tilted.
1.9D < Aλ PL /4 < 1.9D/cosθ (A)
そして、AλPL/4は1.9Dよりも、1.9D/cosθの値に近くてよい。すなわち、基板に対して正面方向の干渉スペクトルよりも、角度θ分、傾斜した干渉スペクトルの方が、発光物質の発光波長λPLの干渉に寄与することを示している。 In addition, Aλ PL /4 may be closer to the value of 1.9D/cos θ than 1.9 D. In other words, this indicates that an interference spectrum tilted by an angle θ contributes more to interference of the emission wavelength λ PL of the light-emitting substance than an interference spectrum in the front direction with respect to the substrate.
本実施形態に係る発光装置は、発光素子とは異なる第二の発光素子と、光取り出し構造と異なり、第二の発光素子の光が入射する第二の光取り出し構造を有し、基板主面に垂直な断面における、発光素子の発光領域の中点と、光取り出し構造の中点と、の基板主面に平行な方向における距離が、基板主面に垂直な断面における第二の発光素子の発光領域の中点と、第二の光取り出し構造の中点と、の基板主面に平行な方向における距離よりも小さくてよい。 The light emitting device according to this embodiment has a second light emitting element different from the light emitting element, and a second light extraction structure different from the light extraction structure and into which light from the second light emitting element is incident, and the distance between the midpoint of the light emitting region of the light emitting element and the midpoint of the light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate in a direction parallel to the main surface of the substrate may be smaller than the distance between the midpoint of the light emitting region of the second light emitting element and the midpoint of the second light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate in a direction parallel to the main surface of the substrate.
また、第二の発光素子と異なる第三の発光素子と、第二の光取り出し構造と異なり、第三の発光素子の光が入射する第三の光取り出し構造をさらに有し、基板主面に垂直な断面における第二の発光素子の発光領域の中点と、第二の光取り出し構造の中点と、の基板主面に平行な方向における距離が、基板主面に垂直な断面における第三の発光素子の発光領域の中点と、第三の光取り出し構造の中点と、の基板主面に平行な方向における距離よりも小さくてよい。 The device may further include a third light-emitting element different from the second light-emitting element, and a third light extraction structure different from the second light extraction structure and into which light from the third light-emitting element is incident, and the distance in a direction parallel to the main surface of the substrate between the midpoint of the light-emitting region of the second light-emitting element in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate and the midpoint of the second light extraction structure may be smaller than the distance in a direction parallel to the main surface of the substrate between the midpoint of the light-emitting region of the third light-emitting element in a cross section perpendicular to the main surface of the substrate and the midpoint of the third light extraction structure.
図6(a)は基板主面の正面方向の干渉ピーク共振波長λonとλPLを一致させた従来構成である。図6(b)は基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffとλPLと一致させた構成である。図6(a)の構成よりも、図6(b)の構成の方が、PLピーク波長λPLの光がマイクロレンズシフトによって広角側へ放射される様子が示されている。図6(b)は、基板主面に対して傾斜した方向の光を強める干渉が構成されているからである。ここでは簡単のため、n1=n2=nemlとし、n0<n1として図示した。各界面において屈折が行った場合であっても、図6(b)の方が図(a)よりもλPLの光をより広角へ出射される結果は同じである。 FIG. 6(a) shows a conventional configuration in which the interference peak resonance wavelength λ on in the front direction of the substrate main surface is matched with λ PL . FIG. 6(b) shows a configuration in which the interference peak resonance wavelength λ off in the direction inclined to the substrate main surface is matched with λ PL . The configuration of FIG. 6(b) shows how the light of the PL peak wavelength λ PL is emitted to the wide-angle side by the microlens shift, compared to the configuration of FIG. 6(a). This is because FIG. 6(b) shows interference that strengthens the light in the direction inclined to the substrate main surface. Here, for simplicity, n 1 =n 2 =n eml , and n 0 <n 1 are illustrated. Even if refraction occurs at each interface, the result is the same, that the light of λ PL is emitted to a wider angle in FIG. 6(b) than in FIG. 6(a).
図6(a)及び(b)では、発光領域から光が出射され、マイクロレンズの傾斜部によってθ0(図6(b)ではθ’0)の角度に光が曲げられている。このときのマイクロレンズの傾斜角をψ(図6(b)ではψ’)とすると、図6(a)の条件は以下の式(10)が成り立つ。
n0×sin(θ0+ψ)=neml×sin(θeml+ψ) (10)
6(a) and (b), light is emitted from the light-emitting region and is bent at an angle of θ 0 (θ' 0 in FIG. 6(b)) by the inclined portion of the microlens. If the inclination angle of the microlens at this time is ψ (ψ' in FIG. 6(b)), the condition in FIG. 6(a) satisfies the following formula (10).
n 0 × sin (θ 0 + ψ) = n eml × sin (θ eml + ψ) (10)
ここでθemlは、発光点での放射角である。λon=λPLである図6(a)ではθeml=0°となり、λoff=λPLである図6(b)ではθeml=Θemlとなる。図6及び式(10)からわかるように、本発明に係る発光装置では図6(b)に示したようにλPLの光が傾斜部に対して斜め方向に入射されるため、λPLの光をより広角側へ屈折させることができる。式(10)の全反射条件から導かれる屈折角の最大値は、λon=λPLの場合とλoff=λPLの場合においてそれぞれ式(11)及び式(12)で表される。
θ0=π/2-sin-1(n0/neml) (11)
θ0’=π/2+Θeml-sin-1(n0/neml)=θ0+Θeml (12)
Here, θ eml is the radiation angle at the light emitting point. In FIG. 6(a) where λ on =λ PL , θ eml =0°, and in FIG. 6(b) where λ off =λ PL , θ eml =Θ eml . As can be seen from FIG. 6 and formula (10), in the light emitting device according to the present invention, the light of λ PL is incident on the inclined portion in an oblique direction as shown in FIG. 6(b), so that the light of λ PL can be refracted to the wider angle side. The maximum value of the refraction angle derived from the total reflection condition of formula (10) is expressed by formula (11) and formula (12) when λ on =λ PL and when λ off =λ PL , respectively.
θ 0 = π/2-sin −1 (n 0 /n eml ) (11)
θ 0 '=π/2+Θ eml -sin -1 (n 0 /n eml )=θ 0 +Θ eml (12)
つまり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffをPLピーク波長λPLに近くにする有機発光素子の光学干渉条件にすることで、従来構成に比べ、屈折方向をΘeml分だけ広角側へシフトさせることが可能となる。実施構成では従来構成に比べ、マイクロレンズシフトによる角度調整範囲が広くすることができるともいえる。より広角側へ放射できるようになると、小さい表示装置で、FOVを大きくしつつ、より短焦点の光学系に適用できる。つまり、ヘッドマウントディスプレイ等を小型化させることが可能となる。 In other words, by setting the optical interference condition of the organic light-emitting element such that the interference peak resonance wavelength λ off in the direction inclined to the substrate main surface is close to the PL peak wavelength λ PL , it is possible to shift the refraction direction to the wide-angle side by Θ eml compared to the conventional configuration. In the embodiment configuration, it can be said that the angle adjustment range by microlens shift can be made wider compared to the conventional configuration. If it becomes possible to radiate to the wider angle side, a small display device can be applied to a shorter focal optical system while increasing the FOV. In other words, it is possible to miniaturize head-mounted displays, etc.
発光装置の少なくとも一部の領域において、光取り出し構造の中心位置と画素開口の中心位置の基板面内方向における距離を適宜調整してもよい。 In at least a portion of the light-emitting device, the distance between the center position of the light extraction structure and the center position of the pixel opening in the in-plane direction of the substrate may be adjusted as appropriate.
図7は、マイクロレンズと画素との相対位置が、表示領域の位置により異なることを示す平面図である。図7(a)は、表示領域の平面図である。図7(b)は、図7(a)におけるE-E’の断面模式図である。図7(b)は、マイクロレンズ10の中心と発光領域22の中心との相対位置と、表示領域における発光素子の位置と、の関係を示している。表示領域1の中心位置では、マイクロレンズの中心と、発光領域の中心とが一致している。すなわち、ΔML23は0である。図の左側に記載されるほどマイクロレンズの中心と発光領域の中心との距離が大きくなっている。すなわち、ΔML24は、デルタML23よりも大きく、ΔML25はΔML24より大きい。そして、図7(b)においては、ΔML26が最も大きいマイクロレンズの中心と発光領域の中心との距離になっている。図のマイクロレンズの中心と発光領域の中心との距離は一例であり、図のように表示領域の中心から端部へ向かってΔMLが大きくなっていく形態であっても、表示領域の中心から端部へ向かってΔMLが小さくなっていく形態であってもよい。ΔMLは表示領域の位置に対して巨視的に見て連続に変化するように形成されてよい。巨視的にみて連続であればよく、発光素子ごとにΔMLを変化させてよいし、複数の発光素子ごとに段階的にΔMLを変化させてもよい。または、発光素子ごとにΔMLを変化させる形態と複数の発光素子ごとに段階的にΔMLを変化させる形態とを組み合わせてもよい。本実施形態においては、表示領域の中央におけるΔML23を0としたが、0でなくてもよい。また、表示領域内のΔMLを一定にしてもよい。
Figure 7 is a plan view showing that the relative positions of the microlens and the pixel differ depending on the position of the display area. Figure 7(a) is a plan view of the display area. Figure 7(b) is a schematic cross-sectional view of E-E' in Figure 7(a). Figure 7(b) shows the relationship between the relative positions of the center of the
図8は、本発明の一実施形態に係る発光装置の他の構成例を示す図である。図8(a)は、本発明の一実施形態に係る発光装置の断面模式図である。本実施形態においては、光取り出し構造は、その一例としてマイクロレンズである。光取り出し構造は、絶縁層の主面に対してある傾斜角を有していればよく、マイクロレンズの他にも、非球面マイクロレンズ、円錐型、円柱型やデジタルマイクロレンズなどでもよい。 Figure 8 is a diagram showing another example of the configuration of a light-emitting device according to one embodiment of the present invention. Figure 8(a) is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device according to one embodiment of the present invention. In this embodiment, the light extraction structure is, for example, a microlens. The light extraction structure only needs to have a certain inclination angle with respect to the main surface of the insulating layer, and may be, in addition to a microlens, an aspherical microlens, a conical type, a cylindrical type, or a digital microlens.
図8(a)は、基板5の上の発光素子3は、反射層6、反射層の端部を覆う画素分離層21、発光物質を含む有機層7、半透過電極8、保護層9、マイクロレンズ10を有する発光装置である。反射層6の画素分離層21に覆われていない部分が、発光領域22である。反射層6の画素分離層21に覆われていない部分は、画素開口とも呼ばれる。画素分離層21は、いわゆるバンクと呼ばれる構成であり、絶縁層である。反射層6及び半透過電極8は、その配置位置からそれぞれ下部電極及び上部電極とも呼ばれる。また、最外周の発光素子の特性を維持するために、表示領域1の外側にダミー画素3’が配置されている。ダミー画素3’は複数列および行形成されてもよい。ダミー画素は、構成要素は発光素子と同じであってよい。ダミー画素は電流が供給されないことを除いて発光素子と同じ構成であってよい。
In FIG. 8(a), the light-emitting
基板5の上には、不図示の絶縁層が設けられてもよい。絶縁層は酸化物層、窒化物層、有機層等で形成されてよい。当該絶縁層はその機能から平坦化層とも呼ばれる。例えば、基板上に形成されたトランジスタの凹凸が電極に与える影響を低減する役割を有してよい。
An insulating layer (not shown) may be provided on the
有機層7は、複数の層から構成されてよい。複数の層の中には発光層が含まれ、当該発光層は発光物質を有する。単一の発光色を放射する発光層が発光素子、発光素子間の全面に形成されていてもよい。また、表示装置が少なくとも2色以上の色を表示できるよう、発光素子、発光素子間の全面に異なる色を発する発光層を積層した構成でもよいし、発光素子ごとに異なる色を発する発光層をパターニングした構成でもよい。有機層が白色光を発光する発光層で構成される場合、発光素子とマイクロレンズの間にカラーフィルタを設けてもよい。
The
保護層9は発光素子を保護する層であり、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の無機層、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の有機層で構成されてよい。
The
マイクロレンズ10には、発光素子から出射された光が入射する。マイクロレンズと保護層との間には不図示の平坦化層を有してもよい。平坦化層は接着層を兼ねてよい。平坦化層はマイクロレンズと同じ樹脂で構成されてもよい。
Light emitted from the light-emitting element is incident on the
図8(a)には、半透過電極8からマイクロレンズまでの距離L、マイクロレンズの高さh、マイクロレンズの半径φ、マイクロレンズの頂点と隣のマイクロレンズの頂点との距離D、保護層の屈折率n2、マイクロレンズの屈折率n1、外部屈折率n0が記載されている。距離Dは、一定でなくてもよい。より具体的には、表示領域の端部に近づくほどDが大きくなる形態であっても、表示領域の端部に近づくほどDが小さくなる形態であってもよい。ここで本実施形態において、高さは、紙面の上下方向における距離である。
8A shows the distance L from the
図8(b)は、カラーフィルタをさらに有する発光装置の断面模式図である。保護層9とマイクロレンズ10との間にカラーフィルタ27をさらに有する。カラーフィルタは特定の波長を透過するフィルタである。例えば、RGBのうちのRを透過するフィルタであってよい。図8(b)に記載の通り、RGBをそれぞれ透過する3種類のカラーフィルタを有してよい。
Figure 8 (b) is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device further having a color filter. A
図8(c)は、カラーフィルタ及びマイクロレンズの形態が異なる発光装置の断面模式図である。マイクロレンズ10’は、他の実施形態とは異なり、紙面下方向に凸の形状である。紙面下方向とは半透過電極から反射層へ向かう方向ということもできる。マイクロレンズ10’と保護層9との間は、空隙であっても、他の物質を充填してもよい。カラーフィルタ27とマイクロレンズ10’との間に樹脂層を有してよい。
Figure 8 (c) is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device having a different shape of color filter and microlens. Unlike the other embodiments, the microlens 10' has a convex shape that faces downward on the paper. The downward direction on the paper can also be said to be the direction from the semi-transparent electrode to the reflective layer. The space between the microlens 10' and the
カラーフィルタ27の上には、保護ガラス28が設けられている。保護ガラス28とカラーフィルタ27との間には接着層等の有機層を有してよい。保護ガラス28は、その配置位置から、基板5に対向する位置にあるので、対向基板とも呼ばれる。
A
図8(d)は、発光素子の光学干渉距離を発光色ごとに異ならせた発光装置の断面模式図である。反射層6の上には、光学調整層29、透明電極30、有機層7、半透過電極8、保護層9、充填層31、カラーフィルタ27、マイクロレンズ10が配されている。カラーフィルタ27は、その透過色に合わせて、27R、27G、27Bとなっており、それぞれ赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタである。光学調整層29の厚さにより、反射層6と半透過電極8との光学距離が異なる。図中の右から順に青色を強める発光素子、緑色を強める発光素子、赤色を強める発光素子である。第一の発光素子が有する光学調整層の層厚が、第二の発光素子の光学調整層の層厚よりも大きい形態である。この形態によれば、それぞれの発光色に最適な光学干渉距離を設けることができる。本実施形態においては、透明電極の下の光学調整層により光学干渉距離を色ごとに変える形態としたが、光学調整層は半透過電極の上に設けられてもよい。また、有機層の層厚を発光素子ごとに変化させて、発光素子ごとの光学干渉距離を最適化させることもできる。有機層の層厚を発光素子ごとに変化させる場合は、発光層よりも反射層側の有機層の層厚を変化させることが好ましい。
Figure 8 (d) is a cross-sectional schematic diagram of a light-emitting device in which the optical interference distance of the light-emitting element is different for each emission color. On the
カラーフィルタが透過する波長の領域は、発光物質のPLピーク波長を含んでよい。発光物質のPLピークが第一ピーク、第一ピークよりも小さい第二ピークを有する場合には、発光装置の輝度を優先する場合には、第一ピーク波長及び第二ピーク波長が、カラーフィルタが透過する波長の領域に含まれてよい。発光物質のPLピークが第一ピーク、第一ピークよりも小さい第二ピークを有する場合に、発光装置の色純度を優先する場合には、第一ピークのみがカラーフィルタが透過する波長の領域に含まれてよい。 The wavelength range transmitted by the color filter may include the PL peak wavelength of the luminescent material. When the PL peak of the luminescent material has a first peak and a second peak smaller than the first peak, if priority is given to the brightness of the light emitting device, the first peak wavelength and the second peak wavelength may be included in the wavelength range transmitted by the color filter. When the PL peak of the luminescent material has a first peak and a second peak smaller than the first peak, if priority is given to the color purity of the light emitting device, only the first peak may be included in the wavelength range transmitted by the color filter.
輝度を重視するデバイス、例えば、ヘッドマウントディスプレイ、ARグラスに用いる場合に好ましい。 Preferred for use in devices where brightness is important, such as head-mounted displays and AR glasses.
本実施形態において、発光素子において、発光物質に電荷を供給する電極を有し、電極の端及び他端を覆う画素分離層を有してよい。画素分離層は、下部電極上の絶縁層とも呼ばれる。ここでの絶縁層は、下部電極下の絶縁層とは別体を指す。画素分離層はバンクとも呼ばれる。 In this embodiment, the light-emitting element may have an electrode that supplies electric charge to the light-emitting material, and a pixel separation layer that covers one end of the electrode and the other end. The pixel separation layer is also called an insulating layer on the lower electrode. The insulating layer here refers to a layer separate from the insulating layer under the lower electrode. The pixel separation layer is also called a bank.
基板の主面に垂直な方向の断面において、絶縁層の主面と平行な方向における光取り出し構造の中点と、画素分離層の端と他端との中点と、が、平面視において重畳しない構成であってよい。 In a cross section perpendicular to the main surface of the substrate, the midpoint of the light extraction structure in a direction parallel to the main surface of the insulating layer and the midpoint between one end of the pixel separation layer and the other end may not overlap in a plan view.
発光装置は、表示領域を有する。表示領域が、表示領域の中央部を含む第一領域と、前記第一領域よりも平面視における外側に配される第二領域とを有する。 The light-emitting device has a display area. The display area has a first area including a central portion of the display area, and a second area that is disposed outside the first area in a plan view.
第一領域は第三の発光素子を含み、第二領域は第四の発光素子を含み、第四の発光素子における光取り出し構造の中点と画素分離層の端と他端との中点との距離が、第三の発光素子における光取り出し構造の中点と画素分離層の端と前記他端との中点との距離よりも大きい。すなわち、第四の発光素子の方が、光取り出し構造とバンク開口とのずれが大きい。 The first region includes a third light-emitting element, and the second region includes a fourth light-emitting element, and the distance between the midpoint of the light extraction structure in the fourth light-emitting element and the midpoint between the end and the other end of the pixel isolation layer is greater than the distance between the midpoint of the light extraction structure in the third light-emitting element and the midpoint between the end and the other end of the pixel isolation layer. In other words, the misalignment between the light extraction structure and the bank opening is greater in the fourth light-emitting element.
[発光素子の構成]
発光素子は、基板の上に、絶縁層、第一電極、有機化合物層、第二電極を形成して設けられる。陰極の上には、保護層、カラーフィルタ、マイクロレンズ等を設けてよい。カラーフィルタを設ける場合は、保護層との間に平坦化層を設けてよい。平坦化層はアクリル樹脂等で構成することができる。カラーフィルタとマイクロレンズとの間において、平坦化層を設ける場合も同様である。
[Configuration of Light-Emitting Device]
The light-emitting element is provided by forming an insulating layer, a first electrode, an organic compound layer, and a second electrode on a substrate. A protective layer, a color filter, a microlens, etc. may be provided on the cathode. When a color filter is provided, a planarizing layer may be provided between the protective layer. The planarizing layer may be made of acrylic resin, etc. The same applies when a planarizing layer is provided between the color filter and the microlens.
[基板]
基板は、石英、ガラス、シリコンウエハ、樹脂、金属等が挙げられる。また、基板上には、トランジスタなどのスイッチング素子や配線を備え、その上に絶縁層を備えてもよい。絶縁層としては、第一電極との間に配線が形成可能なように、コンタクトホールを形成可能で、かつ接続しない配線との絶縁を確保できれば、材料は問わない。例えば、ポリイミド等の樹脂、酸化シリコン、窒化シリコンなどを用いることができる。
[substrate]
Examples of the substrate include quartz, glass, silicon wafer, resin, and metal. In addition, a switching element such as a transistor and wiring may be provided on the substrate, and an insulating layer may be provided thereon. As the insulating layer, any material can be used as long as it can form a contact hole so that wiring can be formed between the first electrode and the insulating layer, and insulation from wiring that is not connected can be ensured. For example, resin such as polyimide, silicon oxide, silicon nitride, etc. can be used.
[発光素子]
発光素子は、第一電極、第二電極、第一電極と第二電極との間に配置され、発光物質を含む発光層を有する。発光層は有機化合物層であっても、無機化合物層であってもよい。電極は反射層を兼ねてもよい。発光物質は、蛍光発光であっても、燐光発光であってもよい。
[Light-emitting element]
The light-emitting element has a first electrode, a second electrode, and a light-emitting layer disposed between the first electrode and the second electrode and containing a light-emitting substance. The light-emitting layer may be an organic compound layer or an inorganic compound layer. The electrode may also serve as a reflective layer. The light-emitting substance may be fluorescent or phosphorescent.
[電極]
電極は、一対の電極を用いることができる。一対の電極は、陽極と陰極であってよい。有機発光素子が発光する方向に電界を印加する場合に、電位が高い電極が陽極であり、他方が陰極である。また、発光層にホールを供給する電極が陽極であり、電子を供給する電極が陰極であるということもできる。電極は、複数の発光素子にわたって形成されてもよいし、発光素子ごとに分離して形成されてもよい。例えば、陽極が発光素子ごとに分離して形成され、陰極が複数の発光素子にわたって形成されてよい。
[electrode]
A pair of electrodes can be used. The pair of electrodes may be an anode and a cathode. When an electric field is applied in the direction in which the organic light-emitting element emits light, the electrode with a higher potential is the anode, and the other is the cathode. It can also be said that the electrode that supplies holes to the light-emitting layer is the anode, and the electrode that supplies electrons is the cathode. The electrodes may be formed across a plurality of light-emitting elements, or may be formed separately for each light-emitting element. For example, the anode may be formed separately for each light-emitting element, and the cathode may be formed across a plurality of light-emitting elements.
陽極の構成材料としては仕事関数がなるべく大きいものが良い。例えば、金、白金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウム、タングステン、ケイ素、等の金属単体やこれらを含む混合物、あるいはこれらを組み合わせた合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)、酸化亜鉛インジウム等の金属酸化物が使用できる。またポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性ポリマーも使用できる。 The material that constitutes the anode should have as large a work function as possible. For example, metals such as gold, platinum, silver, copper, nickel, palladium, cobalt, selenium, vanadium, tungsten, silicon, and mixtures containing these metals, alloys combining these metals, and metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide can be used. Conductive polymers such as polyaniline, polypyrrole, and polythiophene can also be used.
これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また、陽極は一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。 One of these electrode materials may be used alone, or two or more may be used in combination. The anode may be composed of a single layer or multiple layers.
反射層として用いる場合には、例えばクロム、アルミニウム、銀、チタン、タングステン、モリブデン、又はこれらの合金、積層したものなどを用いることができる。上記の材料にて、電極としての役割を有さない、反射層として機能することも可能である。また、透明電極として用いる場合には、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛などの酸化物透明導電層などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。電極の形成には、フォトリソグラフィ技術を用いることができる。反射層は、発光波長における反射率が70%以上であることが好ましい。反射層は電極を兼ねてもよい。 When used as a reflective layer, for example, chromium, aluminum, silver, titanium, tungsten, molybdenum, or alloys or laminates thereof can be used. The above materials can also function as a reflective layer without acting as an electrode. When used as a transparent electrode, transparent conductive oxide layers such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide can be used, but are not limited to these. Photolithography techniques can be used to form the electrodes. The reflective layer preferably has a reflectance of 70% or more at the emission wavelength. The reflective layer may also serve as an electrode.
一方、陰極の構成材料としては仕事関数の小さなものがよい。例えばリチウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、アルミニウム、チタニウム、マンガン、銀、鉛、クロム等の金属単体またはこれらを含む混合物が挙げられる。あるいはこれら金属単体を組み合わせた合金も使用することができる。例えばマグネシウム-銀、アルミニウム-リチウム、アルミニウム-マグネシウム、銀-銅、亜鉛-銀等が使用できる。酸化錫インジウム(ITO)等の金属酸化物の利用も可能である。これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また陰極は一層構成でもよく、多層構成でもよい。中でも銀を用いることが好ましく、銀の凝集を低減するため、銀合金とすることがさらに好ましい。銀の凝集が低減できれば、合金の比率は問わない。例えば、銀:他の金属が、1:1、3:1等であってよい。 On the other hand, the material for the cathode should have a small work function. Examples of such materials include alkali metals such as lithium, alkaline earth metals such as calcium, aluminum, titanium, manganese, silver, lead, and chromium, or mixtures containing these metals. Alternatively, alloys combining these metals can be used. For example, magnesium-silver, aluminum-lithium, aluminum-magnesium, silver-copper, and zinc-silver can be used. Metal oxides such as indium tin oxide (ITO) can also be used. These electrode materials may be used alone or in combination of two or more types. The cathode may have a single layer or a multilayer structure. Among these, it is preferable to use silver, and it is even more preferable to use a silver alloy to reduce the aggregation of silver. As long as the aggregation of silver can be reduced, the ratio of the alloy is not important. For example, the ratio of silver to other metal may be 1:1, 3:1, etc.
陰極は、ITOなどの酸化物導電層を使用してトップエミッション素子としてもよいし、アルミニウム(Al)などの反射層を使用してボトムエミッション素子としてもよいし、特に限定されない。陰極の形成方法としては、特に限定されないが、直流及び交流スパッタリング法などを用いると、膜のカバレッジがよく、抵抗を下げやすいためより好ましい。 The cathode may be a top-emission element using an oxide conductive layer such as ITO, or a bottom-emission element using a reflective layer such as aluminum (Al), and is not particularly limited. The method for forming the cathode is not particularly limited, but DC and AC sputtering methods are more preferable because they provide good film coverage and make it easier to reduce resistance.
半透過電極として用いる場合には、入射した光の一部を透過し、一部を反射する金属を用いる。十分に薄い金属層を形成して、半透過電極とすることもできる。例えば、銀を10nm程度で形成することにより半透過電極とすることができる。 When used as a semi-transparent electrode, a metal that transmits part of the incident light and reflects part of it is used. A sufficiently thin metal layer can be formed to create a semi-transparent electrode. For example, a silver layer of about 10 nm can be formed to create a semi-transparent electrode.
[有機層]
有機層は、単層で形成されても、複数層で形成されてもよい。複数層を有する場合には、その機能によって、ホール注入層、ホール輸送層、電子ブロッキング層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層と呼ばれてよい。有機層は、主に有機化合物で構成されるが、無機原子、無機化合物を含んでいてもよい。例えば、銅、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、イリジウム、白金、モリブデン、亜鉛等を有してよい。
[Organic layer]
The organic layer may be formed as a single layer or as multiple layers. When multiple layers are included, they may be called hole injection layer, hole transport layer, electron blocking layer, light emitting layer, hole blocking layer, electron transport layer, electron injection layer, or charge generation layer depending on their functions. The organic layer is mainly composed of organic compounds, but may also contain inorganic atoms or inorganic compounds. For example, it may contain copper, lithium, magnesium, aluminum, iridium, platinum, molybdenum, zinc, or the like.
有機層は、発光層を複数有する有機層であってよい。各発光層のいずれかに赤色発光材料、緑色発光材料、青色発光材料を有することができ、各発光色を混合することで、白色光を得ることも可能である。また、各発光層のいずれかに、青色発光材料と黄色発光材料などの補色同士の関係の発光材料を有していてもよい。発光材料は蛍光材料や燐光材料や遅延蛍光材料などの材料でもよく、CdSやペロブスカイトなどの量子ドットでもよい。また、発光素子ごとに発光層に含まれる材料や構成を変更することで異なる色を発光してもよい。発光層を発光素子ごとに形成することもできる。有機化合物層は、第一電極と第二電極との間に配置されてよく、第一電極及び第二電極に接して配されてよい。 The organic layer may be an organic layer having a plurality of light-emitting layers. Any of the light-emitting layers may have a red light-emitting material, a green light-emitting material, or a blue light-emitting material, and it is also possible to obtain white light by mixing the respective light-emitting colors. Any of the light-emitting layers may have light-emitting materials of complementary colors, such as a blue light-emitting material and a yellow light-emitting material. The light-emitting material may be a material such as a fluorescent material, a phosphorescent material, or a delayed fluorescent material, or may be a quantum dot such as CdS or perovskite. Also, different colors may be emitted by changing the material or configuration contained in the light-emitting layer for each light-emitting element. A light-emitting layer may be formed for each light-emitting element. The organic compound layer may be disposed between the first electrode and the second electrode, or may be disposed in contact with the first electrode and the second electrode.
[保護層]
保護層は絶縁層であり、透光性を有し、外部からの酸素や水分の透過性が低い無機材料を含むことが好ましい。保護層は、シリコン窒化物(SiN)、シリコン酸窒化物(SiON)、シリコン酸化物(SiOx)、アルミニウム酸化物(Al2O3等)、チタン酸化物(TiO2)などの無機材料を用いて作成することができる。陰極の上に、直接設けられてもよいし、有機樹脂層を間に設けてもよい。有機樹脂層は、例えば、ポリアクリレート、ポリイミド、ポリエステル、エポキシ等で構成されてよい。
[Protective layer]
The protective layer is an insulating layer, and preferably contains an inorganic material that is transparent and has low permeability to oxygen and moisture from the outside. The protective layer can be made of inorganic materials such as silicon nitride (SiN), silicon oxynitride (SiON), silicon oxide (SiOx), aluminum oxide (Al 2 O 3 , etc.), and titanium oxide (TiO 2 ). It may be provided directly on the cathode, or an organic resin layer may be provided between the cathode and the protective layer. The organic resin layer may be made of, for example, polyacrylate, polyimide, polyester, epoxy, etc.
また、陰極上に吸湿剤を設けたガラスを接着することで、有機層に対する水等の浸入を低減し、表示不良の発生を低減することもできる。また、別の実施形態としては、陰極上に窒化ケイ素等のパッシベーション膜を設け、有機化合物層に対する水等の浸入を低減してもよい。例えば、陰極を形成後に真空を破らずに別のチャンバーに搬送し、CVD法で厚さ2μmの窒化ケイ素膜を形成することで、保護層としてもよい。CVD法の成膜の後で原子堆積法(ALD法)を用いた保護層を設けてもよい。ALD法による膜の材料は限定されないが、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等であってよい。ALD法で形成した膜の上に、さらにCVD法で窒化ケイ素を形成してよい。ALD法による膜は、CVD法で形成した膜よりも小さい膜厚であってよい。具体的には、50%以下、さらには、10%以下であってよい。 Also, by bonding glass with a moisture absorbent on the cathode, it is possible to reduce the intrusion of water into the organic layer and reduce the occurrence of display defects. In another embodiment, a passivation film such as silicon nitride may be provided on the cathode to reduce the intrusion of water into the organic compound layer. For example, after forming the cathode, the cathode may be transported to another chamber without breaking the vacuum, and a silicon nitride film having a thickness of 2 μm may be formed by the CVD method to serve as a protective layer. A protective layer may be provided using the atomic deposition method (ALD method) after the film is formed by the CVD method. The material of the film formed by the ALD method is not limited, and may be silicon nitride, silicon oxide, aluminum oxide, etc. Silicon nitride may be further formed by the CVD method on the film formed by the ALD method. The film formed by the ALD method may have a smaller thickness than the film formed by the CVD method. Specifically, it may be 50% or less, or even 10% or less.
[カラーフィルタ]
保護層の上にカラーフィルタを設けてもよい。例えば、有機発光素子のサイズを考慮したカラーフィルタを別の基板上に設け、それと有機発光素子を設けた基板と貼り合わせてもよいし、上記で示した保護層上にフォトリソグラフィ技術を用いて、カラーフィルタをパターニングしてもよい。カラーフィルタは、高分子で構成されてよい。
[Color filter]
A color filter may be provided on the protective layer. For example, a color filter taking into consideration the size of the organic light-emitting element may be provided on another substrate and then bonded to the substrate on which the organic light-emitting element is provided, or a color filter may be patterned on the protective layer described above using a photolithography technique. The color filter may be made of a polymer.
[平坦化層]
カラーフィルタと保護層との間に平坦化層を有してもよい。平坦化層は、下の層の凹凸を低減する目的で設けられる。目的を制限せずに、樹脂層と呼ばれる場合もある。平坦化層は有機化合物で構成されてよく、低分子であっても、高分子であってもよいが、高分子であることが好ましい。
[Planarization layer]
A planarization layer may be provided between the color filter and the protective layer. The planarization layer is provided for the purpose of reducing unevenness of the layer below. It may also be called a resin layer without limiting the purpose. The planarization layer may be composed of an organic compound, and may be a low molecular weight or a high molecular weight, but is preferably a high molecular weight.
平坦化層は、カラーフィルタの上下に設けられてもよく、その構成材料は同じであっても異なってもよい。具体的には、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等があげられる。 The planarization layer may be provided above and below the color filter, and may be made of the same or different materials. Specific examples include polyvinylcarbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, ABS resin, acrylic resin, polyimide resin, phenolic resin, epoxy resin, silicone resin, and urea resin.
[マイクロレンズ]
有機発光装置は、その光出射側にマイクロレンズ等の光学部材を有してよい。マイクロレンズは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等で構成されうる。マイクロレンズは、有機発光装置から取り出す光量の増加、取り出す光の方向の制御を目的としてよい。マイクロレンズは、半球の形状を有してよい。半球の形状を有する場合、当該半球に接する接線のうち、絶縁層と平行になる接線があり、その接線と半球との接点がマイクロレンズの頂点である。マイクロレンズの頂点は、任意の断面図においても同様に決定することができる。つまり、断面図におけるマイクロレンズの半円に接する接線のうち、絶縁層と平行になる接線があり、その接線と半円との接点がマイクロレンズの頂点である。
[Microlens]
The organic light-emitting device may have an optical member such as a microlens on its light-emitting side. The microlens may be made of acrylic resin, epoxy resin, or the like. The microlens may be intended to increase the amount of light extracted from the organic light-emitting device and control the direction of the extracted light. The microlens may have a hemispherical shape. When the microlens has a hemispherical shape, among the tangents to the hemisphere, there is a tangent that is parallel to the insulating layer, and the tangent and the hemisphere are the vertices of the microlens. The vertex of the microlens can be determined in the same manner in any cross-sectional view. In other words, among the tangents to the semicircle of the microlens in the cross-sectional view, there is a tangent that is parallel to the insulating layer, and the tangent and the semicircle are the vertices of the microlens.
また、マイクロレンズの中点を定義することもできる。マイクロレンズの断面において、円弧の形状が終了する点から別の円弧の形状が終了する点までの線分を仮想し、当該線分の中点がマイクロレンズの中点と呼ぶことができる。頂点、中点を判別する断面は、絶縁層に垂直な断面であってよい。 It is also possible to define the midpoint of a microlens. In the cross section of the microlens, a line segment can be imagined from the point where an arc shape ends to the point where another arc shape ends, and the midpoint of this line segment can be called the midpoint of the microlens. The cross section for determining the vertex and midpoint may be a cross section perpendicular to the insulating layer.
マイクロレンズは露光及び現像プロセスを調整することで形成することができる。具体的には、マイクロレンズを形成するための材料による膜(フォトレジスト膜)を形成し、連続的な階調変化を有するマスクを用いて、フォトレジスト膜に露光および現像を行う。このようなマスクとしては、グレーマスク、或いは、露光装置の解像度以下の遮光膜からなるドットの密度分布を変化させることで結像面に連続した階調を有する光照射を可能とする面積階調マスクを用いることが可能である。 Microlenses can be formed by adjusting the exposure and development processes. Specifically, a film (photoresist film) is formed from a material for forming the microlenses, and the photoresist film is exposed and developed using a mask with continuous gradation changes. As such a mask, it is possible to use a gray mask, or an area gradation mask that allows light irradiation with continuous gradations on the imaging surface by changing the density distribution of dots made of a light-shielding film that is below the resolution of the exposure device.
また、露光および現像プロセスで形成したマイクロレンズに対して、エッチバックを行うことにより、レンズ形状を調整することが可能である。マイクロレンズの形状は、放射光を屈折させることができる傾斜部を有すればよく、球面であっても、断面形状が非対称であってもよい。 In addition, it is possible to adjust the lens shape by performing an etch-back process on the microlenses formed by the exposure and development process. The shape of the microlens only needs to have an inclined portion capable of refracting the emitted light, and it may be spherical or have an asymmetric cross-sectional shape.
[対向基板]
平坦化層の上には、対向基板を有してよい。対向基板は、前述の基板と対応する位置に設けられるため、対向基板と呼ばれる。対向基板の構成材料は、前述の基板と同じであってよい。対向基板は、前述の基板を第一基板とした場合、第二基板であってよい。
[Counter substrate]
A counter substrate may be provided on the planarization layer. The counter substrate is called a counter substrate because it is provided at a position corresponding to the aforementioned substrate. The constituent material of the counter substrate may be the same as that of the aforementioned substrate. When the aforementioned substrate is a first substrate, the counter substrate may be a second substrate.
[有機層の形成]
本発明の一実施形態に係る有機発光素子を構成する有機化合物層(ホール注入層、ホール輸送層、電子ブロッキング層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層等)は、以下に示す方法により形成される。
[Formation of organic layer]
The organic compound layers (such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a charge generation layer) constituting the organic light emitting device according to one embodiment of the present invention are formed by the method described below.
本発明の一実施形態に係る有機発光素子を構成する有機化合物層は、真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマ等のドライプロセスを用いることができる。またドライプロセスに代えて、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法(例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、LB法、インクジェット法等)により層を形成するウェットプロセスを用いることもできる。 The organic compound layer constituting the organic light-emitting device according to one embodiment of the present invention can be formed using a dry process such as vacuum deposition, ionization deposition, sputtering, plasma, etc. Alternatively to the dry process, a wet process can be used in which the compound is dissolved in an appropriate solvent and a layer is formed using a known coating method (e.g., spin coating, dipping, casting, LB method, inkjet method, etc.).
ここで真空蒸着法や溶液塗布法等によって層を形成すると、結晶化等が起こりにくく経時安定性に優れる。また塗布法で成膜する場合は、適当なバインダー樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。 If a layer is formed by vacuum deposition or solution coating, crystallization is unlikely to occur and the layer has excellent stability over time. When forming a film by coating, the film can also be formed by combining with an appropriate binder resin.
上記バインダー樹脂としては、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the binder resin include, but are not limited to, polyvinylcarbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, ABS resin, acrylic resin, polyimide resin, phenol resin, epoxy resin, silicone resin, urea resin, etc.
また、これらバインダー樹脂は、ホモポリマー又は共重合体として一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。さらに必要に応じて、公知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を併用してもよい。 These binder resins may be used alone as homopolymers or copolymers, or two or more types may be mixed together. If necessary, known additives such as plasticizers, antioxidants, and ultraviolet absorbers may be used in combination.
[画素回路]
発光装置は、発光素子に接続されている画素回路を有してよい。画素回路は、第一の発光素子、第二の発光素子をそれぞれ独立に発光制御するアクティブマトリックス型であってよい。アクティブマトリックス型の回路は電圧プログラミングであっても、電流プログラミングであってもよい。駆動回路は、画素毎に画素回路を有する。画素回路は、発光素子、発光素子の発光輝度を制御するトランジスタ、発光タイミングを制御するトランジスタ、発光輝度を制御するトランジスタのゲート電圧を保持する容量、発光素子を介さずにGNDに接続するためのトランジスタを有してよい。
[Pixel circuit]
The light emitting device may have a pixel circuit connected to the light emitting element. The pixel circuit may be an active matrix type that controls the emission of the first light emitting element and the second light emitting element independently. The active matrix type circuit may be a voltage programming circuit or a current programming circuit. The drive circuit has a pixel circuit for each pixel. The pixel circuit may have a light emitting element, a transistor that controls the emission luminance of the light emitting element, a transistor that controls the emission timing, a capacitance that holds the gate voltage of the transistor that controls the emission luminance, and a transistor for connecting to GND without going through the light emitting element.
発光装置は、表示領域と、表示領域の周囲に配されている周辺領域とを有する。表示領域には画素回路を有し、周辺領域には表示制御回路を有する。画素回路を構成するトランジスタの移動度は、表示制御回路を構成するトランジスタの移動度よりも小さくてよい。 The light-emitting device has a display region and a peripheral region arranged around the display region. The display region has a pixel circuit, and the peripheral region has a display control circuit. The mobility of the transistors constituting the pixel circuit may be smaller than the mobility of the transistors constituting the display control circuit.
画素回路を構成するトランジスタの電流電圧特性の傾きは、表示制御回路を構成するトランジスタの電流電圧特性の傾きよりも小さくてよい。電流電圧特性の傾きは、いわゆるVg-Ig特性により測定できる。 The slope of the current-voltage characteristics of the transistors that make up the pixel circuit may be smaller than the slope of the current-voltage characteristics of the transistors that make up the display control circuit. The slope of the current-voltage characteristics can be measured by the so-called Vg-Ig characteristics.
画素回路を構成するトランジスタは、第一の発光素子など、発光素子に接続されているトランジスタである。 The transistors that make up the pixel circuit are transistors that are connected to a light-emitting element, such as the first light-emitting element.
[画素]
有機発光装置は、複数の画素を有する。画素は互いに他と異なる色を発光する副画素を有する。副画素は、例えば、それぞれRGBの発光色を有してよい。
[Pixels]
An organic light emitting device includes a plurality of pixels, each of which includes sub-pixels that emit different colors, for example, each of which may emit RGB colors.
画素は、画素開口とも呼ばれる領域が、発光する。この領域は第一領域と同じである。画素開口は15μm以下であってよく、5μm以上であってよい。より具体的には、11μm、9.5μm、7.4μm、6.4μm等であってよい。 A pixel emits light in an area also called the pixel aperture. This area is the same as the first area. The pixel aperture may be 15 μm or less, or 5 μm or more. More specifically, it may be 11 μm, 9.5 μm, 7.4 μm, 6.4 μm, etc.
副画素間は、10μm以下であってよく、具体的には、8μm、7.4μm、6.4μmであってよい。 The distance between subpixels may be 10 μm or less, specifically 8 μm, 7.4 μm, or 6.4 μm.
画素は、平面図において、公知の配置形態をとりうる。例えは、ストライプ配置、デルタ配置、ペンタイル配置、ベイヤー配置であってよい。副画素の平面図における形状は、公知のいずれの形状をとってもよい。例えば、長方形、ひし形等の四角形、六角形、等である。もちろん、正確な図形ではなく、長方形に近い形をしていれば、長方形に含まれる。副画素の形状と、画素配列と、を組み合わせて用いることができる。 The pixels may have a known arrangement in plan view. For example, they may be a stripe arrangement, a delta arrangement, a pentile arrangement, or a Bayer arrangement. The shape of the subpixels in plan view may be any known shape. For example, they may be rectangular, quadrilaterals such as diamonds, or hexagons. Of course, any shape close to a rectangle, rather than an exact shape, is included in the rectangle. The shape of the subpixels and the pixel arrangement may be used in combination.
<実施例1>
次に、本発明の具体的な効果について実施例を用いて説明する。本実施例では、単色の有機発光素子で実施した。表1は画素間ピッチDで規格化されたマイクロレンズ高さh/D、マイクロレンズ半径Φ/D及びカラーフィルタ上面の高さL2/Dである。
Example 1
Next, the specific effects of the present invention will be described using examples. In these examples, a monochromatic organic light-emitting device was used. Table 1 shows the microlens height h/D, the microlens radius Φ/D, and the height L2/D of the upper surface of the color filter normalized by the pixel pitch D.
先述したように、本発明の効果は、単色及び白色によらず、またカラーフィルタ等を別途配置してもよい。 As mentioned above, the effects of the present invention are not limited to monochrome or white, and color filters, etc. may also be provided separately.
図9は、光線追跡により求められた発光層での放射角と相対光量の関係図である。図の通り、表1の構成による光線追跡では、正面方向は10°~15°で最大相対光量となった。実施例1では反射層はAl電極をとし、半透過電極はMgAgを15nmとし、保護層はSiN膜で実施した。マイクロレンズは屈折率n=1.5の材料を用いて形成した。図10は、実施例1で用いた発光物質のPLスペクトルPL1である。PLスペクトルの最大ピーク波長は523nmであった。 Figure 9 is a diagram showing the relationship between the radiation angle and the relative light amount in the light-emitting layer, determined by ray tracing. As shown in the figure, in ray tracing for the configuration in Table 1, the maximum relative light amount was achieved at 10° to 15° in the front direction. In Example 1, the reflective layer was an Al electrode, the semi-transparent electrode was 15 nm thick MgAg, and the protective layer was a SiN film. The microlenses were formed using a material with a refractive index n = 1.5. Figure 10 shows the PL spectrum PL1 of the light-emitting material used in Example 1. The maximum peak wavelength of the PL spectrum was 523 nm.
表2に検討結果を示す。本実施例では式(4)で記した反射層と発光点間の干渉次数mを1とし、発光点から半透明電極の干渉次数m’を0の条件で検討を行った。比較例D001は上記条件で正面方向の干渉ピーク共振波長λonがλPLと一致し、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに対して短波側に位置する構成である。実施例のD101及びD102はそれぞれλonが545nm及び552nmなる条件で、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに近い構成である。表2の相対放射強度は、マイクロレンズなし及びマイクロレンズありの構成でそれぞれ比較例の放射輝度で規格化した値である。 The results of the study are shown in Table 2. In this example, the interference order m between the reflective layer and the light-emitting point described in formula (4) was set to 1, and the interference order m' from the light-emitting point to the semi-transparent electrode was set to 0. Comparative example D001 is configured such that under the above conditions, the interference peak resonance wavelength λ on in the front direction coincides with λ PL , and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction inclined with respect to the main surface of the substrate is located on the short wavelength side with respect to λ PL . Examples D101 and D102 are configured such that the interference peak resonance wavelength λ off in the direction inclined with respect to the main surface of the substrate is close to λ PL under the conditions that λ on is 545 nm and 552 nm, respectively. The relative radiant intensity in Table 2 is a value normalized by the radiance of the comparative example for the configurations without and with microlenses.
まず、マイクロレンズなしの有機発光素子の特性を比較する。D001に対してD101及びD102の干渉条件は、マイクロレンズなしにおける正面方向のELスペクトルピーク強度λEL(0)がλPLに対して長波側にずれ、相対放射強度も1もしくは0.99と同等または低下することがわかる。一方、マイクロレンズありの場合、D101及びD102ではそれぞれ1.36及び1.4と増加し、ELピーク波長λELは529nm及び530nmとλPL=523nmに近い値となる。これは、図5(b)で示したマイクロレンズの傾斜部にて正面方向に屈折する成分の最も寄与が高いΘeml周辺の成分に起因している。D101及びD102では、正面方向の干渉ピーク共振波長とPLピーク波長の差|λoff-λPL|はそれぞれ22nm及び29nmに対して、ELピーク波長とPLピーク波長の差|λEL-λPL|がそれぞれ6nm及び7nmとなる。このように、光取り出し構造を有する有機発光素子においては、|λoff-λPL|に対して|λEL-λPL|が小さくなるように有機EL素子の光学干渉を調整することで、正面方向の放射輝度を増加させることができる。 First, the characteristics of the organic light-emitting element without a microlens are compared. It can be seen that the interference conditions of D101 and D102, compared to D001, show that the EL spectrum peak intensity λ EL (0) in the front direction without a microlens is shifted to the long-wave side with respect to λ PL , and the relative radiant intensity is equal to or lower than 1 or 0.99. On the other hand, in the case of the microlens, D101 and D102 increase to 1.36 and 1.4, respectively, and the EL peak wavelength λ EL is 529 nm and 530 nm, which is close to λ PL = 523 nm. This is due to the components around Θeml, which have the highest contribution of the components refracted in the front direction at the inclined part of the microlens shown in FIG. 5(b). In D101 and D102, the difference between the interference peak resonance wavelength and the PL peak wavelength in the front direction, |λ off - λ PL |, is 22 nm and 29 nm, respectively, while the difference between the EL peak wavelength and the PL peak wavelength, |λ EL - λ PL |, is 6 nm and 7 nm, respectively. Thus, in an organic light-emitting element having a light extraction structure, the radiance in the front direction can be increased by adjusting the optical interference of the organic EL element so that |λ EL - λ PL | is smaller than |λ off - λ PL |.
<実施例2>
実施例2は、発光物質のスペクトル形状がダブルピークであること以外は、実施例1と同じである。ダブルピークとは、発光スペクトルが第一ピーク及び第二ピークを有することである。
Example 2
Example 2 is the same as Example 1, except that the spectral shape of the luminescent material is double-peaked, which means that the emission spectrum has a first peak and a second peak.
表3は、実施例2における、λPL、λon、λoff、正面の放射強度を記載している。それぞれの条件におけるλPL、λEL、λonの差を記載している。比較例D002は上記条件で、正面の干渉ピーク共振波長λonをλPLと一致させた構成であり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに対して短波側に位置する構成である。実施例D103及びD104はそれぞれλonが545nm及び552nmなる条件で、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに近い構成である。表3の相対放射強度はD002の放射輝度で規格化した値である。 Table 3 shows λ PL , λ on , λ off , and front radiation intensity in Example 2. The difference between λ PL , λ EL , and λ on under each condition is shown. Comparative Example D002 is configured under the above conditions such that the front interference peak resonance wavelength λ on is equal to λ PL , and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is located on the short wave side with respect to λ PL . Examples D103 and D104 are configured under the conditions of λ on being 545 nm and 552 nm, respectively, and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is close to λ PL . The relative radiation intensity in Table 3 is a value normalized by the radiance of D002.
まず、マイクロレンズなしの構成で比較する。D002に対してD103及びD104の干渉条件は、マイクロレンズなしにおける正面方向のELスペクトルピーク強度λEL(0)がλPL=523nmに対してそれぞれ542nm及び549nmと長波側にずれ、相対放射強度は1及び0.98と同等以下に低下する。一方、マイクロレンズありの場合、D103及びD104の相対放射輝度はそれぞれ1.4及び1.45と増加する。また、ELピーク波長λELはともに524nmとなり、λPL=523nmに近い値となる。これは、図5(b)で示したマイクロレンズの傾斜部にて正面方向に屈折する成分の最も寄与が高いΘeml周辺の成分に起因している。D103及びD104では、正面方向の干渉ピーク共振波長λonとPLピーク波長の差|λoff-λPL|はそれぞれ22nm及び29nmに対して、ELピーク波長とPLピーク波長の差|λEL-λPL|が共に1nmとなった。本発明においては、PL2のような第二ピークを有するPLスペクトル形状を持つ発光ドーパントに対しても有用であることが分かった。 First, a comparison is made with a configuration without a microlens. The interference conditions of D103 and D104 with respect to D002 are such that the EL spectrum peak intensity λ EL (0) in the front direction without a microlens is shifted to the long wavelength side of 542 nm and 549 nm, respectively, compared to λ PL = 523 nm, and the relative radiance is reduced to 1 and 0.98 or less. On the other hand, when a microlens is present, the relative radiance of D103 and D104 increases to 1.4 and 1.45, respectively. In addition, the EL peak wavelength λ EL is 524 nm for both, which is close to λ PL = 523 nm. This is due to the components around Θeml, which have the highest contribution of the components refracted in the front direction at the inclined part of the microlens shown in FIG. 5(b). In D103 and D104, the difference |λ off - λ PL | between the interference peak resonance wavelength λ on and the PL peak wavelength in the front direction was 22 nm and 29 nm, respectively, while the difference |λ EL - λ PL | between the EL peak wavelength and the PL peak wavelength was both 1 nm. It was found that the present invention is also useful for light-emitting dopants having a PL spectrum shape with a second peak such as PL2.
<実施例3>
実施例3においては、反射層と発光点間の干渉次数mを0とし、半透明電極を23nmとした以外、実施例2と同じである。表4に実施例3での検討結果について説明する。
Example 3
Example 3 is the same as Example 2, except that the interference order m between the reflective layer and the light emitting point is set to 0, and the semi-transparent electrode is set to 23 nm. Table 4 explains the results of the study on Example 3.
比較例D003は上記条件で、正面の干渉ピーク共振波長λonをλPLと一致させた構成であり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに対して短波側に位置する構成である。実施例D105はλonが539nmとなる条件で、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffが524nmとλPL=523nmに近い構成である。表4の相対放射強度は、D003の放射輝度で規格化した値である。 Comparative example D003 is configured under the above conditions to match the front interference peak resonance wavelength λ on with λ PL , and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is located on the short wavelength side with respect to λ PL . Example D105 is configured under the condition that λ on is 539 nm, and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is 524 nm, close to λ PL = 523 nm. The relative radiant intensity in Table 4 is a value normalized by the radiance of D003.
まず、マイクロレンズなしの構成で比較する。D003に対してD105の干渉条件は、マイクロレンズなしにおける正面方向のELスペクトルピーク強度λEL(0)がλPL=523nmに対してそれぞれ528nmと長波側にずれる。また、相対放射強度は0.9に低下する。一方、マイクロレンズありの場合、D105の相対放射輝度はそれぞれ1.36と増加する。また、ELピーク波長λELはともに524nmとなり、λPL=523nmに近い値となる。これは、図5(b)で示したマイクロレンズの傾斜部にて正面方向に屈折する成分の最も寄与が高いΘeml周辺の成分に起因している。D105では、正面方向の干渉ピーク共振波長λonとPLピーク波長の差|λoff-λPL|はそれぞれ16nmに対して、ELピーク波長とPLピーク波長の差|λEL-λPL|が1nmとなった。本発明は反射層と発光点間の干渉次数mを0とした場合においても効果を発現することができることが分かった。 First, a comparison is made with a configuration without a microlens. The interference conditions of D105 compared to D003 are such that the EL spectrum peak intensity λ EL (0) in the front direction without a microlens is shifted to the long wavelength side, 528 nm, compared to λ PL = 523 nm. The relative radiance is also reduced to 0.9. On the other hand, in the case of the microlens, the relative radiance of D105 increases to 1.36. The EL peak wavelength λ EL is 524 nm for both, which is close to λ PL = 523 nm. This is due to the components around Θeml, which have the highest contribution of the components refracted in the front direction at the inclined part of the microlens shown in FIG. 5(b). In D105, the difference |λ off -λ PL | between the interference peak resonance wavelength λ on and the PL peak wavelength in the front direction is 16 nm, while the difference |λ EL -λ PL | between the EL peak wavelength and the PL peak wavelength is 1 nm. It has been found that the present invention can be effective even when the order of interference m between the reflective layer and the light emitting point is set to zero.
<実施例4>
実施例4においては、半透明電極と発光点間の干渉次数m’を1とした以外、実施例2と同じである。表5に実施例4での検討結果について説明する。
Example 4
Example 4 is the same as Example 2, except that the interference order m' between the semitransparent electrode and the light emitting point is set to 1. Table 5 explains the results of the study on Example 4.
比較例D004は上記条件で、正面の干渉ピーク共振波長λonがλPLと一致させた構成であり、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffがλPLに対して短波側に位置する構成である。実施例D106はλonが538nmとなる条件で、基板主面に対して傾斜した方向の干渉ピーク共振波長λoffが520nmとλPL=523nmに近い構成である。表5の相対放射強度は、D004の放射輝度で規格化した値である。 Comparative example D004 is configured under the above conditions such that the interference peak resonance wavelength λ on in the front direction is equal to λ PL , and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is located on the short wavelength side with respect to λ PL . Example D106 is configured under the condition that λ on is 538 nm, and the interference peak resonance wavelength λ off in the direction tilted with respect to the substrate main surface is 520 nm, close to λ PL = 523 nm. The relative radiant intensity in Table 5 is a value normalized by the radiance of D004.
まず、マイクロレンズなしの構成で比較する。D004に対してD106の干渉条件は、マイクロレンズなしにおける正面方向のELスペクトルピーク強度λEL(0)がλPL=523nmに対してそれぞれ528nmと長波側にずれる。また、相対放射強度は0.84に低下する。一方、マイクロレンズありの場合、D105の相対放射輝度はそれぞれ1.13と増加する。また、ELピーク波長λELはともに524nmとなり、λPL=523nmに近い値となる。これは、図5(b)で示したマイクロレンズの傾斜面にて正面方向に屈折する成分の最も寄与が高いΘeml周辺の成分に起因している。D106では、正面方向の干渉ピーク共振波長λonとPLピーク波長の差|λoff-λPL|はそれぞれ15nmに対して、ELピーク波長とPLピーク波長の差|λEL-λPL|が1nmとなった。本発明は半透明電極と発光点間の干渉次数mを1とした場合においても効果を発現することができることが分かった。 First, a comparison is made with a configuration without a microlens. The interference conditions of D106 with respect to D004 are such that the EL spectrum peak intensity λ EL (0) in the front direction without a microlens is shifted to the long wavelength side, 528 nm, compared to λ PL = 523 nm. The relative radiance is also reduced to 0.84. On the other hand, in the case of the microlens, the relative radiance of D105 increases to 1.13. The EL peak wavelength λ EL is also 524 nm, which is close to λ PL = 523 nm. This is due to the components around Θeml, which have the highest contribution of the components refracted in the front direction at the inclined surface of the microlens shown in FIG. 5(b). In D106, the difference |λ off -λ PL | between the interference peak resonance wavelength λ on and the PL peak wavelength in the front direction is 15 nm, while the difference |λ EL -λ PL | between the EL peak wavelength and the PL peak wavelength is 1 nm. It has been found that the present invention can be effective even when the interference order m between the semi-transparent electrode and the light-emitting point is set to 1.
以上、本発明の効果は発光ドーパントのPLスペクトルの形状や干渉次数によらないことを示した。 The above shows that the effect of the present invention does not depend on the shape of the PL spectrum of the emitting dopant or the interference order.
[本発明の一実施形態に係る有機発光素子の用途]
本発明の一実施形態に係る有機発光素子は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルタを有する発光装置等の用途がある。
[Use of the organic light-emitting device according to one embodiment of the present invention]
The organic light-emitting device according to an embodiment of the present invention can be used as a component of a display device or a lighting device, and can also be used as an exposure light source for an electrophotographic image forming device, a backlight for a liquid crystal display device, a light-emitting device having a white light source and a color filter, etc.
表示装置は、エリアCCD、リニアCCD、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部を有し、入力された情報を処理する情報処理部を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。 The display device may be an image information processing device that has an image input unit that inputs image information from an area CCD, a linear CCD, a memory card, etc., has an information processing unit that processes the input information, and displays the input image on the display unit.
また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は、赤外線方式でも、静電容量方式でも、抵抗膜方式であっても、電磁誘導方式であってもよく、特に限定されない。また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。 The display unit of the imaging device or inkjet printer may have a touch panel function. The driving method of this touch panel function is not particularly limited and may be an infrared method, a capacitance method, a resistive film method, or an electromagnetic induction method. The display device may also be used in the display unit of a multifunction printer.
次に、図面を参照しながら本実施形態に係る表示装置について説明する。 Next, the display device according to this embodiment will be described with reference to the drawings.
本発明の一実施形態に係る発光素子は、画像形成装置に用いられてよい。画像形成装置は感光体、露光光源、現像部、帯電部、転写器、搬送ローラー、定着器を有する。 The light-emitting element according to one embodiment of the present invention may be used in an image forming apparatus. The image forming apparatus has a photoconductor, an exposure light source, a developing unit, a charging unit, a transfer unit, a transport roller, and a fixing unit.
露光光源から光が照射され、感光体の表面に静電潜像が形成される。この露光光源が本発明に係る有機発光素子を有する。現像部はトナー等を有する。帯電部は感光体を帯電させる。転写器は現像された画像を記録媒体に転写する。搬送部は記録媒体を搬送する。記録媒体は例えば紙である。定着部は記録媒体に形成された画像を定着させる。 Light is irradiated from the exposure light source, and an electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductor. This exposure light source has the organic light-emitting element according to the present invention. The developing unit has toner, etc. The charging unit charges the photoconductor. The transfer device transfers the developed image to a recording medium. The transport unit transports the recording medium. The recording medium is, for example, paper. The fixing unit fixes the image formed on the recording medium.
露光光源に発光部が長尺状の基板に複数配置されてよい。有機発光素子が配列されている列方向は、感光体の軸方向であってよい。この列方向は、感光体が回転する軸の方向と同じである。この方向は感光体の長軸方向と呼ぶこともできる。 The exposure light source may have multiple light-emitting sections arranged on a long substrate. The row direction in which the organic light-emitting elements are arranged may be the axial direction of the photoconductor. This row direction is the same as the direction of the axis about which the photoconductor rotates. This direction can also be called the long axis direction of the photoconductor.
発光部は、第一の列と第二の列のそれぞれにおいて発光部が列方向に交互に配置されている形態でよい。第一の列と第二の列は行方向に異なる位置に配置されている。 The light-emitting units may be arranged in a first column and a second column such that the light-emitting units are alternately arranged in the column direction. The first column and the second column are arranged at different positions in the row direction.
第一の列は、複数の発光部が間隔をあけて配置されてよい。第二の列は、第一の列の発光部同士の間隔に対応する位置に発光部を有する。すなわち、行方向にも、複数の発光部が間隔をあけて配置されてよい。発光素子は、例えば、格子状に配置されているよく、千鳥格子に配置されているよい、あるいは市松模様であってよい。 The first column may have multiple light-emitting units arranged at intervals. The second column has light-emitting units at positions corresponding to the intervals between the light-emitting units in the first column. That is, multiple light-emitting units may also be arranged at intervals in the row direction. The light-emitting elements may be arranged, for example, in a grid pattern, a houndstooth pattern, or a checkerboard pattern.
図11は、本実施形態に係る発光装置の一例を表す模式図である。表示装置1000は、上部カバー1001と、下部カバー1009と、の間に、タッチパネル1003、表示パネル1005、フレーム1006、回路基板1007、バッテリー1008、を有してよい。タッチパネル1003および表示パネル1005は、フレキシブルプリント回路FPC1002、1004が接続されている。回路基板1007には、トランジスタがプリントされている。バッテリー1008は、表示装置が携帯機器でなければ、設けなくてもよいし、携帯機器であっても、別の位置に設けてもよい。表示パネルに発光装置が含まれている。
Figure 11 is a schematic diagram showing an example of a light-emitting device according to this embodiment. The
本実施形態に係る表示装置は、赤色、緑色、青色を有するカラーフィルタを有してよい。カラーフィルタは、当該赤色、緑色、青色がデルタ配列で配置されてよい。 The display device according to this embodiment may have a color filter having red, green, and blue colors. The color filters may be arranged such that the red, green, and blue colors are arranged in a delta arrangement.
本実施形態に係る表示装置は、携帯端末の表示部に用いられてもよい。その際には、表示機能と操作機能との双方を有してもよい。携帯端末としては、スマートフォン等の携帯電話、タブレット、ヘッドマウントディスプレイ等が挙げられる。表示する画像を制御する表示制御部を有してよい。 The display device according to this embodiment may be used as a display unit of a mobile terminal. In this case, it may have both a display function and an operation function. Examples of the mobile terminal include mobile phones such as smartphones, tablets, and head-mounted displays. It may have a display control unit that controls the image to be displayed.
本実施形態に係る発光装置は、複数のレンズを有する光学部と、当該光学部を通過した光を受光する撮像素子とを有する撮像装置の表示部に用いられてよい。撮像装置は、撮像素子が取得した情報を表示する表示部を有してよい。また、表示部は、撮像装置の外部に露出した表示部であっても、ファインダ内に配置された表示部であってもよい。撮像装置は、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラであってよい。 The light emitting device according to this embodiment may be used in the display section of an imaging device having an optical section with multiple lenses and an imaging element that receives light that has passed through the optical section. The imaging device may have a display section that displays information acquired by the imaging element. The display section may be a display section exposed to the outside of the imaging device, or may be a display section disposed within the viewfinder. The imaging device may be a digital camera or a digital video camera.
図12(a)は、本実施形態に係る撮像装置の一例を表す模式図である。撮像装置1100は、ビューファインダ1101、背面ディスプレイ1102、操作部1103、筐体1104を有してよい。ビューファインダ1101は、本実施形態に係る発光装置を有してよい。その場合、表示装置は、撮像する画像のみならず、環境情報、撮像指示等を表示してよい。環境情報には、外光の強度、外光の向き、被写体の動く速度、被写体が遮蔽物に遮蔽される可能性等であってよい。
FIG. 12(a) is a schematic diagram showing an example of an imaging device according to this embodiment. The
撮像に好適なタイミングはわずかな時間なので、少しでも早く情報を表示した方がよい。したがって、本発明の有機発光装置を用いるのが好ましい。有機発光素子は応答速度が速いからである。有機発光装置は、表示速度が求められる、これらの装置、液晶表示装置よりも好適に用いることができる。 The optimal timing for capturing an image is very short, so it is better to display information as soon as possible. Therefore, it is preferable to use the organic light-emitting device of the present invention. This is because organic light-emitting elements have a fast response speed. Organic light-emitting devices can be used more preferably than liquid crystal display devices, which require high display speed.
撮像装置1100は、不図示の光学部を有する。光学部は複数のレンズを有し、筐体1104内に収容されている撮像素子に結像する。複数のレンズは、その相対位置を調整することで、焦点を調整することができる。この操作を自動で行うこともできる。撮像装置は光電変換装置と呼ばれてもよい。光電変換装置は逐次撮像するのではなく、前画像からの差分を検出する方法、常に記録されている画像から切り出す方法等を撮像の方法として含むことができる。
The
図12(b)は、本実施形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。電子機器1200は、表示部1201と、操作部1202と、筐体1203を有する。筐体1203には、回路、当該回路を有するプリント基板、バッテリー、通信部、を有してよい。操作部1202は、ボタンであってもよいし、タッチパネル方式の反応部であってもよい。操作部は、指紋を認識してロックの解除等を行う、生体認識部であってもよい。通信部を有する電子機器は通信機器ということもできる。電子機器は、レンズと、撮像素子とを備えることでカメラ機能をさらに有してよい。カメラ機能により撮像された画像が表示部に映される。電子機器としては、スマートフォン、ノートパソコン等があげられる。
FIG. 12(b) is a schematic diagram showing an example of an electronic device according to this embodiment. The
図13は、本実施形態に係る発光装置の一例を表す模式図である。図13(a)は、テレビモニタやPCモニタ等の表示装置である。表示装置1300は、額縁1301を有し表示部1302を有する。表示部1302には、本実施形態に係る発光装置が用いられてよい。
Figure 13 is a schematic diagram showing an example of a light-emitting device according to this embodiment. Figure 13(a) shows a display device such as a television monitor or a PC monitor. The
額縁1301と、表示部1302を支える土台1303を有している。土台1303は、図4(a)の形態に限られない。額縁1301の下辺が土台を兼ねてもよい。
It has a
また、額縁1301および表示部1302は、曲がっていてもよい。その曲率半径は、5000mm以上6000mm以下であってよい。
Furthermore, the
図13(b)は本実施形態に係る発光装置の他の例を表す模式図である。図13(b)の表示装置1310は、折り曲げ可能に構成されており、いわゆるフォルダブルな表示装置である。表示装置1310は、第一表示部1311、第二表示部1312、筐体1313、屈曲点1314を有する。第一表示部1311と第二表示部1312とは、本実施形態に係る発光装置を有してよい。第一表示部1311と第二表示部1312とは、つなぎ目のない1枚の表示装置であってよい。第一表示部1311と第二表示部1312とは、屈曲点で分けることができる。第一表示部1311、第二表示部1312は、それぞれ異なる画像を表示してもよいし、第一および第二表示部とで一つの画像を表示してもよい。
Figure 13 (b) is a schematic diagram showing another example of the light-emitting device according to this embodiment. The
本発明に係る発光装置は照明装置に用いられてみもよい。照明装置は、筐体と、光源と、回路基板と、光学フィルムと、光拡散部と、を有してよい。光源は、本実施形態に係る発光装置を有してよい。光学フィルタは光源の演色性を向上させるフィルタであってよい。光拡散部は、ライトアップ等、光源の光を効果的に拡散し、広い範囲に光を届けることができる。光学フィルタ、光拡散部は、照明の光出射側に設けられてよい。必要に応じて、最外部にカバーを設けてもよい。 The light-emitting device according to the present invention may be used in a lighting device. The lighting device may have a housing, a light source, a circuit board, an optical film, and a light diffusion section. The light source may have the light-emitting device according to this embodiment. The optical filter may be a filter that improves the color rendering of the light source. The light diffusion section can effectively diffuse the light of the light source, such as for lighting up, and deliver the light over a wide range. The optical filter and the light diffusion section may be provided on the light emission side of the lighting. If necessary, a cover may be provided on the outermost part.
照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色、昼白色、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってよい。それらを調光する調光回路を有してよい。照明装置は本発明の有機発光素子とそれに接続される電源回路を有してよい。電源回路は、交流電圧を直流電圧に変換する回路である。また、白とは色温度が4200Kで昼白色とは色温度が5000Kである。照明装置はカラーフィルタを有してもよい。 The lighting device is, for example, a device that illuminates a room. The lighting device may emit white light, daylight white light, or any other color from blue to red. It may have a dimming circuit that adjusts the light intensity. The lighting device may have an organic light-emitting element of the present invention and a power supply circuit connected thereto. The power supply circuit is a circuit that converts AC voltage into DC voltage. Furthermore, white has a color temperature of 4200K, and daylight white has a color temperature of 5000K. The lighting device may have a color filter.
また、本実施形態に係る照明装置は、放熱部を有していてもよい。放熱部は装置内の熱を装置外へ放出するものであり、比熱の高い金属、液体シリコン等が挙げられる。 The lighting device according to this embodiment may also have a heat dissipation section. The heat dissipation section dissipates heat from within the device to the outside, and examples of the heat dissipation section include metals with high specific heat, liquid silicon, etc.
本発明に係る発光装置は、自動車等の移動体に用いられてよい。当該自動車は灯具の一例であるテールランプを有する。自動車は、テールランプを有し、ブレーキ操作等を行った際に、テールランプを点灯する形態であってよい。 The light-emitting device according to the present invention may be used in a moving object such as an automobile. The automobile has tail lamps, which are an example of a lamp. The automobile may have tail lamps and may be configured to turn on the tail lamps when braking or the like is performed.
テールランプは、本実施形態に係る発光装置を有してよい。テールランプは、有機発光素子を保護する保護部材を有してよい。保護部材はある程度高い強度を有し、透明であれば材料は問わないが、ポリカーボネート等で構成されることが好ましい。ポリカーボネートにフランジカルボン酸誘導体、アクリロニトリル誘導体等を混ぜてよい。 The tail lamp may have the light-emitting device according to this embodiment. The tail lamp may have a protective member that protects the organic light-emitting element. The protective member may be made of any material as long as it has a relatively high strength and is transparent, but it is preferable that the protective member is made of polycarbonate or the like. Polycarbonate may be mixed with a furandicarboxylic acid derivative, an acrylonitrile derivative, or the like.
自動車は、車体、それに取り付けられている窓を有してよい。窓は、自動車の前後を確認するための窓でなければ、透明なディスプレイであってもよい。当該透明なディスプレイは、本実施形態に係る有機発光装置を有してよい。この場合、有機発光素子が有する電極等の構成材料は透明な部材で構成される。 The automobile may have a body and windows attached to it. The windows may be transparent displays, provided they are not windows for viewing the front and rear of the automobile. The transparent displays may have the organic light-emitting device according to this embodiment. In this case, the constituent materials of the electrodes and the like of the organic light-emitting element are made of transparent materials.
本実施形態に係る移動体は、船舶、航空機、ドローン等であってよい。移動体は、機体と当該機体に設けられた灯具を有してよい。灯具は、機体の位置を知らせるための発光をしてよい。灯具は本実施形態に係る有機発光素子を有する。 The moving body according to this embodiment may be a ship, an aircraft, a drone, or the like. The moving body may have a body and a lamp provided on the body. The lamp may emit light to indicate the position of the body. The lamp has an organic light-emitting element according to this embodiment.
図14を参照して、上述の各実施形態の表示装置の適用例について説明する。表示装置は、例えばスマートグラス、HMD、スマートコンタクトのようなウェアラブルデバイスとして装着可能なシステムに適用できる。このような適用例に使用される撮像表示装置は、可視光を光電変換可能な撮像装置と、可視光を発光可能な表示装置とを有する。 With reference to FIG. 14, an application example of the display device of each of the above-mentioned embodiments will be described. The display device can be applied to a system that can be attached as a wearable device such as smart glasses, HMD, or smart contacts. An imaging and display device used in such an application example has an imaging device capable of photoelectrically converting visible light, and a display device capable of emitting visible light.
図14(a)は、1つの適用例に係る眼鏡1600(スマートグラス)を説明する。眼鏡1600のレンズ1601の表面側に、CMOSセンサやSPADのような撮像装置1602が設けられている。また、レンズ1601の裏面側には、上述した各実施形態の表示装置が設けられている。
Figure 14 (a) illustrates glasses 1600 (smart glasses) according to one application example. An
眼鏡1600は、制御装置1603をさらに備える。制御装置1603は、撮像装置1602と各実施形態に係る表示装置に電力を供給する電源として機能する。また、制御装置1603は、撮像装置1602と表示装置の動作を制御する。レンズ1601には、撮像装置1602に光を集光するための光学系が形成されている。
The
図14(b)は、1つの適用例に係る眼鏡1610(スマートグラス)を説明する。眼鏡1610は、制御装置1612を有しており、制御装置1612に、撮像装置1602に相当する撮像装置と、表示装置が搭載される。レンズ1611には、制御装置1612内の撮像装置と、表示装置からの発光を投影するための光学系が形成されており、レンズ1611には画像が投影される。制御装置1612は、撮像装置および表示装置に電力を供給する電源として機能するとともに、撮像装置および表示装置の動作を制御する。制御装置は、装着者の視線を検知する視線検知部を有してもよい。視線の検知は赤外線を用いてよい。赤外発光部は、表示画像を注視しているユーザーの眼球に対して、赤外光を発する。発せられた赤外光の眼球からの反射光を、受光素子を有する撮像部が検出することで眼球の撮像画像が得られる。平面視における赤外発光部から表示部への光を低減する低減手段を有することで、画像品位の低下を低減する。
Figure 14 (b) illustrates glasses 1610 (smart glasses) according to one application example. The
赤外光の撮像により得られた眼球の撮像画像から表示画像に対するユーザーの視線を検出する。眼球の撮像画像を用いた視線検出には任意の公知の手法が適用できる。一例として、角膜での照射光の反射によるプルキニエ像に基づく視線検出方法を用いることができる。 The user's line of sight with respect to the displayed image is detected from an image of the eyeball obtained by capturing infrared light. Any known method can be used for line of sight detection using an image of the eyeball. As an example, a line of sight detection method based on the Purkinje image formed by reflection of irradiated light on the cornea can be used.
より具体的には、瞳孔角膜反射法に基づく視線検出処理が行われる。瞳孔角膜反射法を用いて、眼球の撮像画像に含まれる瞳孔の像とプルキニエ像とに基づいて、眼球の向き(回転角度)を表す視線ベクトルが算出されることにより、ユーザーの視線が検出される。 More specifically, gaze detection processing is performed based on the pupil-corneal reflex method. Using the pupil-corneal reflex method, a gaze vector that represents the direction (rotation angle) of the eyeball is calculated based on the pupil image and Purkinje image contained in the captured image of the eyeball, thereby detecting the user's gaze.
本発明の一実施形態に係る表示装置は、受光素子を有する撮像装置を有し、撮像装置からのユーザーの視線情報に基づいて表示装置の表示画像を制御してよい。 A display device according to one embodiment of the present invention may have an imaging device having a light receiving element, and may control the display image of the display device based on user line-of-sight information from the imaging device.
具体的には、表示装置は、視線情報に基づいて、ユーザーが注視する第一の視界領域と、第一の視界領域以外の第二の視界領域とを決定される。第一の視界領域、第二の視界領域は、表示装置の制御装置が決定してもよいし、外部の制御装置が決定したものを受信してもよい。表示装置の表示領域において、第一の視界領域の表示解像度を第二の視界領域の表示解像度よりも高く制御してよい。つまり、第二の視界領域の解像度を第一の視界領域よりも低くしてよい。 Specifically, the display device determines a first field of view area on which the user gazes and a second field of view area other than the first field of view area based on the line of sight information. The first field of view area and the second field of view area may be determined by a control device of the display device, or may be received from an external control device. In the display area of the display device, the display resolution of the first field of view area may be controlled to be higher than the display resolution of the second field of view area. In other words, the resolution of the second field of view area may be lower than the first field of view area.
また、表示領域は、第一の表示領域、第一の表示領域とは異なる第二の表示領域とを有し、視線情報に基づいて、第一の表示領域および第二の表示領域から優先度が高い領域を決定される。第一の視界領域、第二の視界領域は、表示装置の制御装置が決定してもよいし、外部の制御装置が決定したものを受信してもよい。優先度の高い領域の解像度を、優先度が高い領域以外の領域の解像度よりも高く制御してよい。つまり優先度が相対的に低い領域の解像度を低くしてよい。 The display area has a first display area and a second display area different from the first display area, and an area with a high priority is determined from the first display area and the second display area based on line-of-sight information. The first field of view area and the second field of view area may be determined by a control device of the display device, or may be received from an external control device. The resolution of the high priority area may be controlled to be higher than the resolution of areas other than the high priority area. In other words, the resolution of an area with a relatively low priority may be lowered.
なお、第一の視界領域や優先度が高い領域の決定には、AIを用いてもよい。AIは、眼球の画像と当該画像の眼球が実際に視ていた方向とを教師データとして、眼球の画像から視線の角度、視線の先の目的物までの距離を推定するよう構成されたモデルであってよい。AIプログラムは、表示装置が有しても、撮像装置が有しても、外部装置が有してもよい。外部装置が有する場合は、通信を介して、表示装置に伝えられる。 AI may be used to determine the first field of view area and areas with high priority. The AI may be a model configured to estimate the angle of gaze and the distance to an object in the line of sight from the image of the eyeball, using as training data an image of the eyeball and the direction in which the eyeball in the image was actually looking. The AI program may be possessed by the display device, the imaging device, or an external device. If possessed by an external device, it is transmitted to the display device via communication.
視認検知に基づいて表示制御する場合、外部を撮像する撮像装置を更に有するスマートグラスに好ましく適用できる。スマートグラスは、撮像した外部情報をリアルタイムで表示することができる。 When display control is based on visual detection, it is preferably applicable to smart glasses that further include an imaging device that captures images of the outside world. The smart glasses can display captured external information in real time.
以上説明した通り、本実施形態に係る有機発光素子を用いた装置を用いることにより、良好な画質で、長時間表示にも安定な表示が可能になる。 As explained above, by using a device using the organic light-emitting element according to this embodiment, it is possible to achieve a display with good image quality and stability even over long periods of time.
1 表示領域
2 表示領域の端部
3 発光素子
3’ ダミー画素
4 光学部材
5 基板
6 反射層
7 有機層
8 半透過電極
9 保護層
10 マイクロレンズ
11 発光点
12 放射光
13 傾斜部
14 発光位置の画素中央からの距離
15 発光面積
16 光取り出し面
17 傾斜角
18 発光面積
19 光取り出し面
20 正面方向に向かう光を発する発光領域
21 画素分離層
22 発光領域
23乃至26 ΔML
27 カラーフィルタ
28 保護ガラス
29 光学調整層
30 透明電極
31 充填層
1000 表示装置
1001 上部カバー
1002 フレキシブルプリント回路
1003 タッチパネル
1004 フレキシブルプリント回路
1005 表示パネル
1006 フレーム
1007 回路基板
1008 バッテリー
1009 下部カバー
1100 撮像装置
1101 ビューファインダ
1102 背面ディスプレイ
1103 操作部
1104 筐体
1200 電子機器
1201 表示部
1202 操作部
1203 筐体
1300 表示装置
1301 額縁
1302 表示部
1303 土台
1310 表示装置
1311 第一表示部
1312 第二表示部
1313 筐体
1314 屈曲点
1600 スマートグラス
1601 レンズ
1602 撮像装置
1603 制御装置
1610 スマートグラス
1611 レンズ
1612 制御装置
REFERENCE SIGNS
27
Claims (29)
前記共振器構造において、前記主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonと、前記光取り出し構造を介して放射されるEL発光のピーク波長λELと、前記λPLと、が下記式(1)を満たすことを特徴とする発光装置。
|λEL-λPL| < |λon-λPL| (1)
ただし、λ PL <λ EL <λ on である。 A light emitting device comprising: an insulating layer; a light emitting element including a light emitting material and having a resonator structure, the light emitting element being disposed on a main surface of the insulating layer; and a light extraction structure being provided on the light emitting element, the light emitting material having a first peak having a wavelength λ PL in a visible light region in a PL spectrum,
a resonant peak wavelength λ on of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface, a peak wavelength λ EL of EL emission emitted via the light extraction structure, and the λ PL satisfy the following formula (1):
|λ EL -λ PL | < |λ on -λ PL | (1)
However, λ PL < λ EL < λ on .
前記共振器構造において、前記主面に垂直な方向に発光する光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λonと、前記光取り出し構造における屈折により前記主面に垂直な方向に出射される光を強める干渉スペクトルの共振ピーク波長λoffと、前記λPLと、が下記式(2)を満たすことを特徴とする発光装置。
|λoff-λPL| < |λon-λPL| (2) A light emitting device comprising: an insulating layer; a light emitting element including a light emitting material and having a resonator structure, the light emitting element being disposed on a main surface of the insulating layer; and a light extraction structure being provided on the light emitting element, the light emitting material having a PL spectrum having a first peak having a wavelength λ PL in a visible light region,
a resonant peak wavelength λ on of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface in the resonator structure, a resonant peak wavelength λ off of an interference spectrum that intensifies light emitted in a direction perpendicular to the main surface due to refraction in the light extraction structure, and the λ PL satisfy the following formula (2):
|λ off -λ PL | < |λ on -λ PL | (2)
|λoff-λPL| ≦ |λon-λPL2| (3) The light emitting device according to claim 4 , wherein the PL spectrum of the luminescent substance has a second peak having a wavelength λ PL2 and a lower emission intensity than the first peak, and satisfies the following formula (3):
|λ off −λ PL | ≦ |λ on −λ PL2 | (3)
前記傾斜部は、前記主面に対して傾斜した方向に進む光を前記主面に垂直な方向に屈折させることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の発光装置。 the light extraction structure has an inclined portion inclined with respect to the main surface,
11. The light emitting device according to claim 1, wherein the inclined portion refracts light traveling in a direction inclined with respect to the main surface in a direction perpendicular to the main surface.
前記電極の端及び他端を覆う画素分離層を有し、
前記絶縁層の主面に垂直な方向の断面において、前記主面と平行な方向における前記光取り出し構造の中点と、前記画素分離層の端と前記他端との中点と、が、平面視において重畳しないことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項に記載の発光装置。 The light-emitting element has an electrode for supplying electric charge to the light-emitting material,
a pixel separation layer covering one end and the other end of the electrode;
15. The light-emitting device according to claim 1, wherein in a cross section perpendicular to the main surface of the insulating layer, a midpoint of the light extraction structure in a direction parallel to the main surface and a midpoint between an end of the pixel separation layer and the other end do not overlap in a planar view.
前記第一領域は第三の発光素子を含み、前記第二領域は第四の発光素子を含み、
前記第四の発光素子における前記光取り出し構造の前記中点と前記画素分離層の端と前記他端との中点との距離が、前記第三の発光素子における前記光取り出し構造の前記中点と前記画素分離層の端と前記他端との中点との距離よりも大きいことを特徴とする請求項15に記載の発光装置。 The display area includes a first area including a center portion of the display area and a second area disposed outside the first area,
the first region includes a third light emitting element, and the second region includes a fourth light emitting element;
The light-emitting device described in claim 15, characterized in that the distance between the midpoint of the light extraction structure in the fourth light-emitting element and the midpoint between the end of the pixel isolation layer and the other end is greater than the distance between the midpoint of the light extraction structure in the third light-emitting element and the midpoint between the end of the pixel isolation layer and the other end.
前記電極の端及び他端を覆う画素分離層を有し、
前記発光物質を有する発光部を有し、
前記絶縁層の主面に垂直な方向の断面において、前記主面と平行な方向における前記光取り出し構造の中点と、前記画素分離層の端と前記他端との中点と、が、平面視において重畳しない場合に、
前記λoffの光学距離は、前記断面において、前記光取り出し構造の曲面のうち、前記発光部から遠い曲面と、前記発光部との距離であることを特徴とする請求項4または5に記載の発光装置。 The light-emitting element has an electrode for supplying electric charge to the light-emitting material,
a pixel separation layer covering one end and the other end of the electrode;
a light-emitting portion having the light-emitting material,
In a cross section perpendicular to a principal surface of the insulating layer, when a midpoint of the light extraction structure in a direction parallel to the principal surface and a midpoint between an end of the pixel separation layer and the other end do not overlap in a plan view,
6. The light emitting device according to claim 4, wherein the optical path length of the λ off is a distance between the light emitting portion and a curved surface of the light extraction structure that is farther from the light emitting portion in the cross section.
前記第二の発光素子は、第二の発光物質を有し、
前記第二の発光物質の発光スペクトルは、第二半値全幅を有し、
前記第二の発光物質の前記第二半値全幅が、前記第一半値全幅よりも大きいことを特徴とする請求項18乃至21のいずれか一項に記載の発光装置。 the emission spectrum of the luminescent material has a first full width at half maximum;
the second light-emitting element has a second light-emitting material;
the emission spectrum of the second luminescent material has a second full width at half maximum;
22. The light emitting device according to any one of claims 18 to 21 , wherein the second full width at half maximum of the second luminescent material is greater than the first full width at half maximum.
前記主面に垂直な断面における前記発光素子の発光領域の中点と、前記光取り出し構造の中点と、の前記主面に平行な方向における距離が、前記主面に垂直な断面における前記第二の発光素子の発光領域の中点と、前記第二の光取り出し構造の中点と、の前記主面に平行な方向における距離よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至24のいずれか一項に記載の発光装置。 a second light-emitting element different from the light-emitting element, and a second light-extraction structure different from the light-extraction structure and into which light from the second light-emitting element is incident,
25. The light-emitting device according to claim 1, characterized in that the distance in a direction parallel to the main surface between the midpoint of the light-emitting region of the light-emitting element and the midpoint of the light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface is greater than the distance in a direction parallel to the main surface between the midpoint of the light-emitting region of the second light-emitting element and the midpoint of the second light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface.
前記主面に垂直な断面における前記第二の発光素子の発光領域の中点と、前記第二の光取り出し構造の中点と、の前記主面に平行な方向における距離が、前記主面に垂直な断面における前記第三の発光素子の発光領域の中点と、前記第三の光取り出し構造の中点と、の前記主面に平行な方向における距離よりも大きいことを特徴とする請求項25に記載の発光装置。 a third light-emitting element different from the second light-emitting element, and a third light-extraction structure different from the second light-extraction structure and into which light from the third light-emitting element is incident,
The light-emitting device described in claim 25, characterized in that the distance in a direction parallel to the main surface between the midpoint of the light-emitting region of the second light-emitting element and the midpoint of the second light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface is greater than the distance in a direction parallel to the main surface between the midpoint of the light-emitting region of the third light-emitting element and the midpoint of the third light extraction structure in a cross section perpendicular to the main surface.
前記表示部は請求項1乃至26のいずれか一項に記載の発光装置を有することを特徴とする撮像装置。 an optical unit having a plurality of lenses, an image sensor that receives light that has passed through the optical unit, and a display unit that displays an image captured by the image sensor;
An imaging device, comprising: the display unit comprising the light-emitting device according to claim 1 .
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