JP7703739B2 - 廃水処理方法及び廃水処理装置 - Google Patents
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Description
廃水をUV(ultraviolet)反応槽に通過させ、一次処理水を生成する段階(S10-1)と、
前記一次処理水をpH調整槽に通過させ、二次処理水を生成する段階(S10-2)と、
前記二次処理水を第1凝集槽に通過させ、三次処理水を生成する段階(S10-3)と、
前記三次処理水を第2凝集槽に通過させ、四次処理水を生成する段階(S10-4)と、
前記四次処理水を無機沈殿槽に通過させ、五次処理水及びスラッジを生成する段階(S10-5)と、
前記五次処理水を生物処理反応槽に通過させ、六次処理水を生成する段階(S10-6)と、
前記六次処理水を有機沈殿槽に通過させ、七次処理水を生成する段階(S10-7)と、を含む廃水処理方法を提供する。
廃水にUV(ultraviolet)を照射し、一次処理水を生成するように構成されたUV反応槽と、
前記一次処理水のpHを調整し、二次処理水を生成するように構成されたpH調整槽と、
前記二次処理水を部分的に凝集させ、三次処理水を生成するように構成された第1凝集槽と、
前記三次処理水を追加して部分的に凝集させ、四次処理水を生成するように構成された第2凝集槽と、
前記四次処理水を部分的に沈澱させ、五次処理水及びスラッジを生成するように構成された無機沈殿槽と、
前記五次処理水を追加して生物処理し、六次処理水を生成するように構成された生物処理反応槽と、
前記六次処理水を部分的に沈澱させ、七次処理水及びスラッジを生成するように構成された有機沈殿槽と、を含む廃水処理装置を提供する。
2NO3 -+10e-+12H+→N2+6H2O
図1の構成を有する廃水処理装置を作製した。
廃水においては、pHが2.5であり、フッ素イオン濃度(F)が568ppmであり、塩素イオン濃度(Cl)が50ppmであり、PO4-Pが200ppmであり、有機物の濃度が400ppmであり、総窒素(T-N)濃度が400ppmであり、BODが700ppmである半導体工程廃水を使用した。前記pH調整槽には、消石灰が投入され、前記第1凝集槽には、消石灰及び塩化アルミニウム(AlCl3)が投入され、前記第2凝集槽には、陰イオン性ポリアクリルアミドが投入される。前記pH調整槽に投入される消石灰の含量は、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が5.0に維持されるようにする量である。前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl3)の含量は、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl3)濃度(R3-C2)が1,200ppmになるようにする量である。前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量は、前記第1凝集槽のpH(R3-pH)が6.5に維持されるようにする量である。前記第2凝集槽に投入される陰イオン性ポリアクリルアミドの含量は、前記第2凝集槽の陰イオン性ポリアクリルアミド濃度(R4-C3)が3ppmになるようにする量である。
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が3.5に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が6.0に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl3)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl3)濃度(R3-C2)が800ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl3)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl3)濃度(R3-C2)が1,700ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が3.0に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が6.5に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl3)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl3)濃度(R3-C2)が700ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl3)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl3)濃度(R3-C2)が1、800ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例2と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例3と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例4と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例5と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
UV反応槽における、UV処理時の滞留時間による処理水内の残留過酸化水素の濃度変化を測定し、その結果を図3にグラフで示した。このとき、UV照射量は、45W/m2であり、UVランプは、1個のみ使用した。
図3を参照すれば、滞留時間が20分であるとき、過酸化水素除去率が約73%であることを示している。
UV反応槽で実施したUV処理時、及び生物処理反応槽で実施した生物処理時の難分解性有機物の除去率をLC-OCD(liquid chromatography-organic carbon detector)で測定し、その結果を図4に示した。
前述の実施例1~5、参考例1~4及び比較例1~5の廃水処理装置の運転による最終処理水(すなわち、有機沈殿槽から排出された処理水)の水質を評価し、その結果を下記表2に示した。下記表2において、「SS」は、「suspended solid」の略語であり、「NM」は、「not measured」の略語である。
110 UV反応槽
120 pH調整槽
130 第1凝集槽
140 第2凝集槽
150 無機沈殿槽
160 生物処理反応槽
170 有機沈殿槽
BPC 光触媒
C1,C2,C3 薬品
RTF 整流器
TW5,TW7 処理水
ULP UVランプ
WW 廃水
Claims (8)
- 廃水中の過酸化水素、難分解性有機物、フッ素、リン、浮遊物質(SS:suspended solid)、総窒素(T-N:total nitrogen)、BOD(biochemical oxygen demand)、粒子性物質及び塩素イオンを除去するように構成された廃水処理方法であって、前記廃水処理方法は、
前記廃水をUV反応槽に通過させ、一次処理水を生成する段階(S10-1)と、
前記一次処理水をpH調整槽に通過させ、二次処理水を生成する段階(S10-2)と、
前記二次処理水を第1凝集槽に通過させ、三次処理水を生成する段階(S10-3)と、
前記三次処理水を第2凝集槽に通過させ、四次処理水を生成する段階(S10-4)と、
前記四次処理水を無機沈殿槽に通過させ、五次処理水及びスラッジを生成する段階(S10-5)と、
前記五次処理水を生物処理反応槽に通過させ、六次処理水を生成する段階(S10-6)と、
前記六次処理水を有機沈殿槽に通過させ、七次処理水を生成する段階(S10-7)と、を含み、
前記段階(S10-1)において、前記UV反応槽のUVの照射強度は、前記廃水中の過酸化水素濃度、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された前記五次処理水中の難分解性有機物濃度のうちの少なくとも1つによって調節され、
前記UV反応槽は、UV照射時、廃水中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成された光触媒を含み、
前記pH調整槽には、第1薬品が投入され、前記第1凝集槽には、第1薬品及び第2薬品が投入され、前記第2凝集槽には、第3薬品が投入され、
前記第1薬品は、消石灰を含み、前記第2薬品は、フッ素除去剤を含み、前記第3薬品は、高分子凝集剤を含み、
前記pH調整槽のpHは、3.5~6.0の範囲に調節され、
前記第1凝集槽の前記第2薬品の濃度は、800~1,700ppmに調節される、廃水処理方法。 - 前記フッ素除去剤は、塩化アルミニウム(AlCl3)、アルミン酸ナトリウム(NaAlO2)、またはそれらの組み合わせを含み、前記高分子凝集剤は、陰イオン性ポリアクリルアミド、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸ナトリウム、マレイン酸コポリマー、ポリアクリルアミドの部分加水分解物、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の廃水処理方法。
- 前記UV反応槽のpHは、2.0~3.0である、請求項1に記載の廃水処理方法。
- 前記第1凝集槽のpHは、6.5±0.5の範囲に調節される、請求項1に記載の廃水処理方法。
- 前記第2凝集槽の前記第3薬品の濃度は、3.0±1.0ppmの範囲に調節される、請求項4に記載の廃水処理方法。
- 廃水中の過酸化水素、難分解性有機物、フッ素、リン、浮遊物質(SS:suspended solid)、総窒素(T-N:total nitrogen)、BOD(biochemical oxygen demand)、粒子性物質及び塩素イオンを除去するように構成された廃水処理装置であって、前記廃水処理装置は、
前記廃水にUVを照射し、一次処理水を生成するように構成されたUV反応槽と、
前記一次処理水のpHを調整し、二次処理水を生成するように構成されたpH調整槽と、
前記二次処理水を部分的に凝集させ、三次処理水を生成するように構成された第1凝集槽と、
前記三次処理水を追加的に部分的に凝集させ、四次処理水を生成するように構成された第2凝集槽と、
前記四次処理水を部分的に沈澱させ、五次処理水及びスラッジを生成するように構成された無機沈殿槽と、
前記五次処理水を追加して生物処理し、六次処理水を生成するように構成された生物処理反応槽と、
前記六次処理水を部分的に沈澱させ、七次処理水及びスラッジを生成するように構成された有機沈殿槽と、を含み、
前記pH調整槽は、3.5~6.0のpH範囲でもって運転されるように構成され、
前記第1凝集槽は、800~1,700ppmのフッ素除去剤濃度範囲でもって運転されるように構成され、
前記廃水処理装置は、UVランプ、第1センサ、第2センサ、整流器及び光触媒をさらに含み、前記UVランプは、前記UV反応槽にUVを照射するように構成され、前記第1センサは、前記廃水中の過酸化水素濃度を測定するように構成され、前記第2センサは、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された前記五次処理水中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも1つの濃度を測定するように構成され、前記整流器は、前記第1センサ及び前記第2センサのうち少なくとも1センサの信号により、前記UVランプのUVの照射強度を調節するように構成され、前記光触媒は、UV照射時、前記廃水中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成された、廃水処理装置。 - 前記第1凝集槽は、6.5±0.5のpH範囲でもって運転されるように構成される、請求項6に記載の廃水処理装置。
- 前記第2凝集槽は、3.0±1.0ppmの高分子凝集剤濃度範囲でもって運転されるように構成される、請求項7に記載の廃水処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230078213A KR102719421B1 (ko) | 2023-06-19 | 2023-06-19 | 폐수 처리 방법 및 폐수 처리 장치 |
| KR10-2023-0078213 | 2023-06-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2025000549A JP2025000549A (ja) | 2025-01-07 |
| JP7703739B2 true JP7703739B2 (ja) | 2025-07-07 |
Family
ID=93288088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024076033A Active JP7703739B2 (ja) | 2023-06-19 | 2024-05-08 | 廃水処理方法及び廃水処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12286372B2 (ja) |
| JP (1) | JP7703739B2 (ja) |
| KR (1) | KR102719421B1 (ja) |
| CN (1) | CN119161037A (ja) |
| TW (1) | TWI884814B (ja) |
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-
2023
- 2023-06-19 KR KR1020230078213A patent/KR102719421B1/ko active Active
-
2024
- 2024-05-08 JP JP2024076033A patent/JP7703739B2/ja active Active
- 2024-06-06 CN CN202410731747.8A patent/CN119161037A/zh active Pending
- 2024-06-12 US US18/740,954 patent/US12286372B2/en active Active
- 2024-06-18 TW TW113122568A patent/TWI884814B/zh active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004358373A (ja) | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Toray Ind Inc | 生物難分解性有機物含有液の処理装置および処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN119161037A (zh) | 2024-12-20 |
| JP2025000549A (ja) | 2025-01-07 |
| TWI884814B (zh) | 2025-05-21 |
| TW202500513A (zh) | 2025-01-01 |
| KR102719421B1 (ko) | 2024-10-21 |
| US12286372B2 (en) | 2025-04-29 |
| US20240417300A1 (en) | 2024-12-19 |
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|
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|
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|
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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