Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7703739B2 - 廃水処理方法及び廃水処理装置 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7703739B2 - 廃水処理方法及び廃水処理装置 - Google Patents

廃水処理方法及び廃水処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7703739B2
JP7703739B2 JP2024076033A JP2024076033A JP7703739B2 JP 7703739 B2 JP7703739 B2 JP 7703739B2 JP 2024076033 A JP2024076033 A JP 2024076033A JP 2024076033 A JP2024076033 A JP 2024076033A JP 7703739 B2 JP7703739 B2 JP 7703739B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
effluent
wastewater
concentration
wastewater treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2024076033A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2025000549A (ja
Inventor
スン ジュン チャン,
ハン ウク イ,
Original Assignee
サムスン イーアンドエー カンパニー リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サムスン イーアンドエー カンパニー リミテッド filed Critical サムスン イーアンドエー カンパニー リミテッド
Publication of JP2025000549A publication Critical patent/JP2025000549A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7703739B2 publication Critical patent/JP7703739B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C02F1/5209Regulation methods for flocculation or precipitation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C02F1/5236Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C02F1/5236Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
    • C02F1/5245Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents using basic salts, e.g. of aluminium and iron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C02F1/54Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using organic material
    • C02F1/56Macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/66Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/722Oxidation by peroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/725Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F3/00Biological treatment of water, waste water, or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F3/00Biological treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F3/02Aerobic processes
    • C02F3/12Activated sludge processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/008Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F2001/007Processes including a sedimentation step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/105Phosphorus compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/12Halogens or halogen-containing compounds
    • C02F2101/14Fluorine or fluorine-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/16Nitrogen compounds, e.g. ammonia
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/30Organic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/34Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
    • C02F2103/346Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326Lamp control systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/001Upstream control, i.e. monitoring for predictive control
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/06Controlling or monitoring parameters in water treatment pH
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/08Chemical Oxygen Demand [COD]; Biological Oxygen Demand [BOD]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2301/00General aspects of water treatment
    • C02F2301/08Multistage treatments, e.g. repetition of the same process step under different conditions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2305/00Use of specific compounds during water treatment
    • C02F2305/10Photocatalysts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
  • Activated Sludge Processes (AREA)

Description

本発明は、廃水処理方法及び廃水処理装置に係り、さらに詳細には、無機物処理の安定性、及び有機物処理時の硝酸化速度を向上させうる廃水処理方法及び廃水処理装置に関する。
電子産業においては、湿式エッチング工程において、過酸化水素、有機溶媒及び無機酸(フッ酸など)を含む廃水が生じる。そのような成分を含む電子産業において排出された廃水を処理するために、従来技術は、凝集沈澱工程と生物反応工程とを結合した工程を使用した。しかしながら、過酸化水素除去剤を使用して過酸化水素を除去する場合には、酸素気泡が生じることになり、廃水内に過量の酸素気泡が残留する場合には、沈殿槽において、スラッジが浮上する問題点がある。また、廃水内に、難分解性有機物が存在するために、微生物の活動が阻害され、生物反応工程においては、硝酸化速度が阻害される問題点がある。
なお、放流水中のフッ素濃度規制強化が、2025年ごろ、環境汚染施設の統合管理に係わる法律によって規定され、法制化されると予想されている。それにより、フッ素除去剤の注入量を最小化させ、副作用を最小化させる高効率フッ素除去工程の必要性が大きくなっている。フッ素除去剤を増量して投入する場合には、スラッジ発生量が増大し、スラッジ処理設備及びその処理容量が増大するだけではなく、沈殿物の沈澱速度が低下され、沈澱地の敷地面積が増大することになり、塩素(Cl)濃度が上昇するために、塩素による腐食を防止するために、配管/ポンプの材質を変更するか、あるいは環境に及ぼす否定的な影響を最小化させるための対策が要求される。
本発明が解決しようとする課題は、無機物処理の安定性、及び有機物処理時の硝酸化速度を向上させうる廃水処理方法を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、また無機物処理の安定性、及び有機物処理時の硝酸化速度を向上させうる廃水処理装置を提供することである。
本発明の一側面は、
廃水をUV(ultraviolet)反応槽に通過させ、一次処理水を生成する段階(S10-1)と、
前記一次処理水をpH調整槽に通過させ、二次処理水を生成する段階(S10-2)と、
前記二次処理水を第1凝集槽に通過させ、三次処理水を生成する段階(S10-3)と、
前記三次処理水を第2凝集槽に通過させ、四次処理水を生成する段階(S10-4)と、
前記四次処理水を無機沈殿槽に通過させ、五次処理水及びスラッジを生成する段階(S10-5)と、
前記五次処理水を生物処理反応槽に通過させ、六次処理水を生成する段階(S10-6)と、
前記六次処理水を有機沈殿槽に通過させ、七次処理水を生成する段階(S10-7)と、を含む廃水処理方法を提供する。
前記段階(S10-1)において、前記UV反応槽のUVの照射強度は、前記廃水中の過酸化水素濃度、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された処理水中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも一つの濃度によって調節されうる。
前記pH調整槽には、第1薬品が投入され、前記第1凝集槽には、第1薬品及び第2薬品が投入され、前記第2凝集槽には、第3薬品が投入されうる。
前記第1薬品は、消石灰を含み、前記第2薬品は、フッ素除去剤を含み、前記第3薬品は、高分子凝集剤を含むものでもある。
前記フッ素除去剤は、塩化アルミニウム(AlCl)、アルミン酸ナトリウム(NaAlO)、またはそれらの組み合わせを含み、前記高分子凝集剤は、陰イオン性ポリアクリルアミド、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸ナトリウム、マレイン酸コポリマー、ポリアクリルアミドの部分加水分解物、またはそれらの組み合わせを含むものでもある。
前記UV反応槽のpHは、2.0~3.0でもある。
前記pH調整槽のpHは、3.5~6.0の範囲に調節されうる。
前記第1凝集槽の前記第2薬品濃度は、800~1,700ppmに調節されうる。
前記第1凝集槽のpHは、6.5±0.5の範囲に調節されうる。
前記第2凝集槽の前記第3薬品の濃度は、3.0±1.0ppmの範囲に調節されうる。
本発明の他の側面は、
廃水にUV(ultraviolet)を照射し、一次処理水を生成するように構成されたUV反応槽と、
前記一次処理水のpHを調整し、二次処理水を生成するように構成されたpH調整槽と、
前記二次処理水を部分的に凝集させ、三次処理水を生成するように構成された第1凝集槽と、
前記三次処理水を追加して部分的に凝集させ、四次処理水を生成するように構成された第2凝集槽と、
前記四次処理水を部分的に沈澱させ、五次処理水及びスラッジを生成するように構成された無機沈殿槽と、
前記五次処理水を追加して生物処理し、六次処理水を生成するように構成された生物処理反応槽と、
前記六次処理水を部分的に沈澱させ、七次処理水及びスラッジを生成するように構成された有機沈殿槽と、を含む廃水処理装置を提供する。
前記pH調整槽は、3.5~6.0のpH範囲でもって運転されるように構成されうる。
前記第1凝集槽は、800~1,700ppmのフッ素除去剤濃度範囲でもって運転されるように構成されうる。
前記第1凝集槽は、6.5±0.5のpH範囲でもって運転されるように構成されうる。
前記第2凝集槽は、3.0±1.0ppmの高分子凝集剤濃度範囲でもって運転されるように構成されうる。
前記廃水処理装置は、UVランプ、第1センサ、第2センサ、整流器、光触媒、またはそれらの組み合わせをさらに含み、前記UVランプは、前記UV反応槽にUVを照射するように構成され、前記第1センサは、前記廃水中の過酸化水素濃度を測定するように構成され、前記第2センサは、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された処理水中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも一つの濃度を測定するように構成され、前記整流器は、前記第1センサ及び前記第2センサのうち少なくとも1つのセンサの信号により、前記UVランプのUVの照射強度を調節するように構成され、前記光触媒は、UV照射時、前記廃水中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成されうる。
本発明の一具現例による廃水処理方法及び装置によれば、無機廃水処理設備及び有機廃水処理設備の安定性が向上されるだけではなく、敷地節減のための高速処理が可能であり(硝酸化速度が最大25%向上される)、自動制御システムを利用し、過酸化水素除去及び難分解性有機物除去に必ず必要なほどの適正運転でもって、運転費用を最小化させうる。
一具現例による廃水処理方法及び装置を概略的に示した図である。 図1の廃水処理装置に設けられた光分解ユニットを示した図である。 UV処理時の滞留時間による処理水内の残留過酸化水素の濃度変化を示したグラフである。 UV処理時及び生物処理時、難分解性有機物の除去率を示したグラフである。
以下、本発明の一具現例による廃水処理方法について詳細に説明する。
本明細書において、「廃水」とは、未処理廃水(すなわち、原水または流入水)を意味する。
また本明細書において、「UV(ultraviolet)」とは、100nmないし400nmの波長領域の電磁波を意味する。
また本明細書において、「処理水」とは、未処理廃水中の不純物が除去され、前記未処理廃水より少量の不純物を含む全段階の処理された廃水を意味する。
また本明細書において、「被処理水」とは、ある段階において、処理対象になる水を意味し、各段階の被処理水は、それぞれ異なる処理率を有する。
また本明細書において、単位「ppm(parts per million)」は、mg/Lを意味する。
また本明細書において、「前端または前端部」は、相対的に廃水の流れ方向の逆方向に位置した部分または端部を意味し、「後端または後端部」は、相対的に廃水の流れ方向の順方向に位置した部分または端部を意味する。
本発明の一具現例による廃水処理方法及び装置は、廃水中の過酸化水素、難分解性有機物、フッ素、リン、浮遊物質(SS:suspended solid)、総窒素(T-N:total nitrogen)、BOD(biochemical oxygen demand)、粒子性物質及びイオン性物質を除去しうる。
本発明の一具現例による廃水処理方法は、廃水をUV反応槽に通過させ、一次処理水を生成する段階(S10-1)、前記一次処理水をpH調整槽に通過させ、二次処理水を生成する段階(S10-2)、前記二次処理水を第1凝集槽に通過させ、三次処理水を生成する段階(S10-3)、前記三次処理水を第2凝集槽に通過させ、四次処理水を生成する段階(S10-4)、前記四次処理水を無機沈殿槽に通過させ、五次処理水及びスラッジを生成する段階(S10-5)、前記五次処理水を生物処理反応槽に通過させ、六次処理水を生成する段階(S10-6)、及び前記六次処理水を有機沈殿槽に通過させ、七次処理水を生成する段階(S10-7)を含む。
前記段階(S10-1)は、UVの照射により、廃水中の過酸化水素を分解し、OHラジカルを生成し、前記生成されたOHラジカルを利用し、廃水中の難分解性有機物を除去し、従来技術のように、過酸化水素除去剤を利用し、過酸化水素を分解する場合に生じる酸素気泡によるスラッジ浮上憂慮を解消する役割を行いうる。
また、前記段階(S10-1)は、低いpHでもって運営され、消石灰が投入されず、スケール発生憂慮を低減させうる。
また前記段階(S10-1)において、前記UV反応槽のUVの照射強度は、前記廃水中の過酸化水素濃度、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された処理水中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも1つの濃度によって調節されうる。
前記UV反応槽のpHは、2.0~3.0でもある。そのようなUV反応槽のpHは、廃水のpHによって定められうる。
前記段階(S10-2)は、廃水中のフッ素を95%以上除去し、リンを50%未満除去する役割を行いうる。
前記pH調整槽には、第1薬品が投入されうる。
前記第1薬品は、消石灰を含むものでもある。
前記pH調整槽のpHは、3.5~6.0の範囲に調節されうる。前記pH調整槽のpHが、前記範囲以内であるならば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
前記段階(S10-3)及び前記段階(S10-4)は、被処理水中のフッ素を3%以上追加して除去し(累積98%以上除去)、リンを45%以上追加して除去し(累積95%以上除去)、薬品投入量及びスラッジ発生量を最小化させる役割を行いうる。
前記第1凝集槽には、前記第1薬品及び前記第2薬品が投入されうる。
前記第1凝集槽の前記第2薬品濃度は、800~1,700ppmに調節されうる。前記第1凝集槽の前記第2薬品濃度が、前記範囲以内であるならば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
前記第1凝集槽のpHは、6.5±0.5の範囲に調節されうる。前記第1凝集槽のpHが、前記範囲以内であるならば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
前記第2薬品は、フッ素除去剤を含むものでもある。
前記フッ素除去剤は、塩化アルミニウム(AlCl)、アルミン酸ナトリウム(NaAlO)、またはそれらの組み合わせを含むものでもある。
前記第2凝集槽には、第3薬品が投入されうる。
前記第2凝集槽の前記第3薬品の濃度は、3.0±1.0ppmの範囲に調節されうる。前記第2凝集槽の前記第3薬品の濃度が、前記範囲以内であるならば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
前記第3薬品は、高分子凝集剤を含むものでもある。
前記高分子凝集剤は、陰イオン性ポリアクリルアミド、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸ナトリウム、マレイン酸コポリマー、ポリアクリルアミドの部分加水分解物、またはそれらの組み合わせを含むものでもある。
前記段階(S10-5)は、被処理水中の有機物を処理し、固液分離が起こるようにする役割を行う。
前記段階(S10-6)は、微生物を利用し、被処理水中の総窒素(T-N)及びBODを除去する役割を行う。
前記生物処理反応槽は、生物学的廃水処理工程である活性スラッジ工程を具現した反応器でもあり、微細濾過または限外濾過のような分離膜工程と、活性スラッジ工程とを結合した工程を具現した反応器でもある。
また、前記段階(S10-6)の前記生物処理反応槽においては、脱窒微生物により、下記反応式1のような脱窒反応が起こりうる。
2NO +10e+12H→N+6H
前記脱窒微生物は、シュードモナス(Pseudomonas)、バシラス(Bacillus)、スピリルム(Spirillum)、ヒフォミクロビウム(Hyphomicrobium)、アグロバクテリウム(Agrobacterium)、アシネトバクタ(Acinetobacter)、プロピオニバクテリウム(Propionibacterium)、リゾビウム(Rhizobium)、コリネバクテリウム(Corynebacterium)、サイトファガ(Cytophaga)、チオバシラス(Thiobacillus)、アルカリゲネス(Alcaligenes)、シュードモナスフルオレッセンス(Pseudomonas fluorescens)、緑膿菌(P. Aeruginosa)、P.デニトリフィカンス(P. denitrificans)、アルカリゲネス属(Alcaligenes sp.)、Curvibacter delicatus、Acidovorax defluvii、Dokdonella koreensis、Dokdonella koreensis、Flavobacterium limicola、Terrimonas ferruginea、Terrimonas lutea、またはそれらの組み合わせを含むものでもある。
以下、図1及び図2を参照し、本発明の一具現例による廃水処理装置100について詳細に説明する。図1は、本発明の一具現例による廃水処理方法及び装置100を概略的に示した図であり、図2は、図1の廃水処理装置100に設けられた光分解ユニットを示した図である。
図1を参照すれば、本発明の一具現例による廃水処理装置100は、UV反応槽110、pH調整槽120、第1凝集槽130、第2凝集槽140、無機沈殿槽150、生物処理反応槽160及び有機沈殿槽170を含むものでもある。
UV反応槽110は、廃水WWにUVを照射し、一次処理水を生成するように構成されうる。
また、図1と共に図2を参照すれば、廃水処理装置100は、UVランプULP、第1センサS1、第2センサS2、整流器RTF、光触媒BPC、またはそれらの組み合わせのような光分解ユニットをさらに含むものでもある。
UVランプULPは、UV反応槽110に、UVを照射するように構成されうる。
第1センサS1は、廃水WW中の過酸化水素濃度を測定するように構成されうる。
第2センサS2は、廃水WW中の難分解性有機物濃度及び無機沈殿槽150から排出された処理水TW5中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも1つの濃度を測定するように構成されうる。
整流器RTFは、第1センサS1及び第2センサS2のうち少なくとも1つのセンサの信号により、UVランプULPのUVの照射強度を調節するように構成されうる。
光触媒BPCは、UV照射時、廃水WW中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成されうる。例えば、光触媒BPCは、廃水WW中に過酸化水素が存在しないか、あるいは無視する程度の微量に存在する場合に使用されうる。そのような光触媒BPCは、バッフル形態に作製されたものでもある。
pH調整槽120は、3.5~6.0のpH範囲でもって運転されるように構成されうる。pH調整槽120が、前記pH範囲でもって運転されるように構成されれば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
第1凝集槽130は、800~1,700ppmのフッ素除去剤濃度範囲でもって運転されるように構成されうる。第1凝集槽130が、前記フッ素除去剤濃度範囲でもって運転されるように構成されれば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
また、第1凝集槽130は、6.5±0.5のpH範囲でもって運転されるように構成されうる。第1凝集槽130が、前記pH範囲でもって運転されるように構成されれば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
第2凝集槽140は、3.0±1.0ppmの高分子凝集剤濃度範囲でもって運転されるように構成されうる。第2凝集槽140が、前記高分子凝集剤濃度範囲でもって運転されるように構成されれば、フッ素濃度、リン濃度、塩素イオン濃度、有機物濃度、総窒素(T-N)及びBODが低い高品質の処理水を得ることができるだけではなく、スラッジ発生量を少なくしうる。
前述のような構成を有する本発明の一具現例による廃水処理方法及び装置は、従来技術対比で、薬品の総使用量75重量%節減、塩素イオン濃度28%低減、窒素除去速度25%増大、敷地面積9.7%節減、及びスラッジ発生量低減の効果を提供しうる。
以下、実施例を挙げ、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明は、そのような実施例に限定されるものではない。
製作例:装置の作製
図1の構成を有する廃水処理装置を作製した。
前述の作製された廃水処理装置は、UV反応槽、pH調整槽、第1凝集槽、第2凝集槽、無機沈殿槽、生物処理反応槽及び有機沈殿槽によって構成される。
実施例1:廃水処理装置の運転
廃水においては、pHが2.5であり、フッ素イオン濃度(F)が568ppmであり、塩素イオン濃度(Cl)が50ppmであり、PO-Pが200ppmであり、有機物の濃度が400ppmであり、総窒素(T-N)濃度が400ppmであり、BODが700ppmである半導体工程廃水を使用した。前記pH調整槽には、消石灰が投入され、前記第1凝集槽には、消石灰及び塩化アルミニウム(AlCl)が投入され、前記第2凝集槽には、陰イオン性ポリアクリルアミドが投入される。前記pH調整槽に投入される消石灰の含量は、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が5.0に維持されるようにする量である。前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl)の含量は、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl)濃度(R3-C2)が1,200ppmになるようにする量である。前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量は、前記第1凝集槽のpH(R3-pH)が6.5に維持されるようにする量である。前記第2凝集槽に投入される陰イオン性ポリアクリルアミドの含量は、前記第2凝集槽の陰イオン性ポリアクリルアミド濃度(R4-C3)が3ppmになるようにする量である。
実施例2:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が3.5に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
実施例3:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が6.0に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
実施例4:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl)濃度(R3-C2)が800ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
実施例5:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl)濃度(R3-C2)が1,700ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
参考例1:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が3.0に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
参考例2:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される消石灰の含量を、前記pH調整槽のpH(R2-pH)が6.5に維持されるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
参考例3:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl)濃度(R3-C2)が700ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
参考例4:廃水処理装置の運転
前記第1凝集槽に投入される塩化アルミニウム(AlCl)の含量を、前記第1凝集槽の塩化アルミニウム(AlCl)濃度(R3-C2)が1、800ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
比較例1:廃水処理装置の運転
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例1と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
比較例2:廃水処理装置の運転
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例2と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
比較例3:廃水処理装置の運転
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例3と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
比較例4:廃水処理装置の運転
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例4と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
比較例5:廃水処理装置の運転
前記UV反応槽を過酸化水素除去槽で代替し、前記過酸化水素除去槽に投入される過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の含量を、前記過酸化水素除去槽の過酸化水素除去剤(カタラーゼ)の濃度が500ppmになるようにする量に変更したことを除いては、前記実施例5と同一方法により、廃水処理装置を運転した。
前記実施例1~5、参考例1~4及び比較例1~5の廃水処理装置の運転条件(pH、薬品投入量、及び薬品の種類)を整理し、下記表1に示した。
Figure 0007703739000001
評価例1:UV処理時の滞留時間による処理水内の残留過酸化水素の濃度変化測定
UV反応槽における、UV処理時の滞留時間による処理水内の残留過酸化水素の濃度変化を測定し、その結果を図3にグラフで示した。このとき、UV照射量は、45W/m2であり、UVランプは、1個のみ使用した。
図3を参照すれば、滞留時間が20分であるとき、過酸化水素除去率が約73%であることを示している。
評価例2:UV処理時及び生物処理時の難分解性有機物の除去率
UV反応槽で実施したUV処理時、及び生物処理反応槽で実施した生物処理時の難分解性有機物の除去率をLC-OCD(liquid chromatography-organic carbon detector)で測定し、その結果を図4に示した。
図4の(a)は、廃水(すなわち、原水)のピークであり、(b)は、初日UV処理水のピークであり、(c)は、初日生物学的処理水のピークであり、(d)は、2日目UV処理水のピークであり、(e)は、2日目生物学的処理水のピークである。
図4を参照すれば、生物学的処理時には、難分解性有機物がほとんど除去されなかったが、UV処理時には、滞留時間が20分であるとき、硝酸化を阻害する難分解性有機物が100%除去されたと示された。
評価例3:廃水処理装置の性能評価
前述の実施例1~5、参考例1~4及び比較例1~5の廃水処理装置の運転による最終処理水(すなわち、有機沈殿槽から排出された処理水)の水質を評価し、その結果を下記表2に示した。下記表2において、「SS」は、「suspended solid」の略語であり、「NM」は、「not measured」の略語である。
Figure 0007703739000002
前記表2を参照すれば、実施例1~5の廃水処理装置は、参考例1~4及び比較例1~5の廃水処理装置に比べ、最終処理水の水質にすぐれると示された。
本発明は、図面及び実施例を参照して説明されたが、それらは、例示的なものに過ぎず、本技術分野の通常の知識を有する者であるならば、それらから、多様な変形、及び均等な他の具現例が可能であるという点を理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められるものである。
100 廃水処理装置
110 UV反応槽
120 pH調整槽
130 第1凝集槽
140 第2凝集槽
150 無機沈殿槽
160 生物処理反応槽
170 有機沈殿槽
BPC 光触媒
C1,C2,C3 薬品
RTF 整流器
TW5,TW7 処理水
ULP UVランプ
WW 廃水

Claims (8)

  1. 廃水中の過酸化水素、難分解性有機物、フッ素、リン、浮遊物質(SS:suspended solid)、総窒素(T-N:total nitrogen)、BOD(biochemical oxygen demand)、粒子性物質及び塩素イオンを除去するように構成された廃水処理方法であって、前記廃水処理方法は、
    前記廃水をUV反応槽に通過させ、一次処理水を生成する段階(S10-1)と、
    前記一次処理水をpH調整槽に通過させ、二次処理水を生成する段階(S10-2)と、
    前記二次処理水を第1凝集槽に通過させ、三次処理水を生成する段階(S10-3)と、
    前記三次処理水を第2凝集槽に通過させ、四次処理水を生成する段階(S10-4)と、
    前記四次処理水を無機沈殿槽に通過させ、五次処理水及びスラッジを生成する段階(S10-5)と、
    前記五次処理水を生物処理反応槽に通過させ、六次処理水を生成する段階(S10-6)と、
    前記六次処理水を有機沈殿槽に通過させ、七次処理水を生成する段階(S10-7)と、を含み、
    前記段階(S10-1)において、前記UV反応槽のUVの照射強度は、前記廃水中の過酸化水素濃度、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された前記五次処理水中の難分解性有機物濃度のうちの少なくとも1つによって調節され、
    前記UV反応槽は、UV照射時、廃水中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成された光触媒を含み、
    前記pH調整槽には、第1薬品が投入され、前記第1凝集槽には、第1薬品及び第2薬品が投入され、前記第2凝集槽には、第3薬品が投入され、
    前記第1薬品は、消石灰を含み、前記第2薬品は、フッ素除去剤を含み、前記第3薬品は、高分子凝集剤を含み、
    前記pH調整槽のpHは、3.5~6.0の範囲に調節され、
    前記第1凝集槽の前記第2薬品の濃度は、800~1,700ppmに調節される、廃水処理方法。
  2. 前記フッ素除去剤は、塩化アルミニウム(AlCl)、アルミン酸ナトリウム(NaAlO)、またはそれらの組み合わせを含み、前記高分子凝集剤は、陰イオン性ポリアクリルアミド、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸ナトリウム、マレイン酸コポリマー、ポリアクリルアミドの部分加水分解物、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の廃水処理方法。
  3. 前記UV反応槽のpHは、2.0~3.0である、請求項1に記載の廃水処理方法。
  4. 前記第1凝集槽のpHは、6.5±0.5の範囲に調節される、請求項1に記載の廃水処理方法。
  5. 前記第2凝集槽の前記第3薬品の濃度は、3.0±1.0ppmの範囲に調節される、請求項4に記載の廃水処理方法。
  6. 廃水中の過酸化水素、難分解性有機物、フッ素、リン、浮遊物質(SS:suspended solid)、総窒素(T-N:total nitrogen)、BOD(biochemical oxygen demand)、粒子性物質及び塩素イオンを除去するように構成された廃水処理装置であって、前記廃水処理装置は、
    前記廃水にUVを照射し、一次処理水を生成するように構成されたUV反応槽と、
    前記一次処理水のpHを調整し、二次処理水を生成するように構成されたpH調整槽と、
    前記二次処理水を部分的に凝集させ、三次処理水を生成するように構成された第1凝集槽と、
    前記三次処理水を追加的に部分的に凝集させ、四次処理水を生成するように構成された第2凝集槽と、
    前記四次処理水を部分的に沈澱させ、五次処理水及びスラッジを生成するように構成された無機沈殿槽と、
    前記五次処理水を追加して生物処理し、六次処理水を生成するように構成された生物処理反応槽と、
    前記六次処理水を部分的に沈澱させ、七次処理水及びスラッジを生成するように構成された有機沈殿槽と、を含み
    前記pH調整槽は、3.5~6.0のpH範囲でもって運転されるように構成され、
    前記第1凝集槽は、800~1,700ppmのフッ素除去剤濃度範囲でもって運転されるように構成され、
    前記廃水処理装置は、UVランプ、第1センサ、第2センサ、整流器及び光触媒をさらに含み、前記UVランプは、前記UV反応槽にUVを照射するように構成され、前記第1センサは、前記廃水中の過酸化水素濃度を測定するように構成され、前記第2センサは、前記廃水中の難分解性有機物濃度、及び前記無機沈殿槽から排出された前記五次処理水中の難分解性有機物濃度のうち少なくとも1つの濃度を測定するように構成され、前記整流器は、前記第1センサ及び前記第2センサのうち少なくとも1センサの信号により、前記UVランプのUVの照射強度を調節するように構成され、前記光触媒は、UV照射時、前記廃水中の難分解性有機物の分解を促進させるように構成された、廃水処理装置。
  7. 前記第1凝集槽は、6.5±0.5のpH範囲でもって運転されるように構成される、請求項6に記載の廃水処理装置。
  8. 前記第2凝集槽は、3.0±1.0ppmの高分子凝集剤濃度範囲でもって運転されるように構成される、請求項7に記載の廃水処理装置。
JP2024076033A 2023-06-19 2024-05-08 廃水処理方法及び廃水処理装置 Active JP7703739B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020230078213A KR102719421B1 (ko) 2023-06-19 2023-06-19 폐수 처리 방법 및 폐수 처리 장치
KR10-2023-0078213 2023-06-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2025000549A JP2025000549A (ja) 2025-01-07
JP7703739B2 true JP7703739B2 (ja) 2025-07-07

Family

ID=93288088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024076033A Active JP7703739B2 (ja) 2023-06-19 2024-05-08 廃水処理方法及び廃水処理装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US12286372B2 (ja)
JP (1) JP7703739B2 (ja)
KR (1) KR102719421B1 (ja)
CN (1) CN119161037A (ja)
TW (1) TWI884814B (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004358373A (ja) 2003-06-05 2004-12-24 Toray Ind Inc 生物難分解性有機物含有液の処理装置および処理方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0975993A (ja) * 1995-09-19 1997-03-25 Taiyo Kagaku Kogyo Kk 有機物含有廃水の処理方法及びその装置
JPH11347592A (ja) * 1998-06-09 1999-12-21 Ebara Corp 難分解性有機物含有排水の処理方法
JP3697361B2 (ja) * 1999-01-28 2005-09-21 シャープ株式会社 排水処理方法および排水処理装置
JP2000288560A (ja) * 1999-04-02 2000-10-17 Hitachi Ltd 水の浄化処理装置及びその方法
JP2001334275A (ja) 2000-05-26 2001-12-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd ウェーハ加工工程排水の処理方法
JP2004188274A (ja) 2002-12-09 2004-07-08 Japan Organo Co Ltd 紫外線ランプを含む水処理設備
JP2006026194A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Yaskawa Electric Corp 有機物除去装置
KR100660943B1 (ko) 2005-04-26 2006-12-27 대원과학대학 산학협력단 석회석과 염화칼슘을 이용한 고농도의 인을 함유한 폐수처리방법
KR20080050316A (ko) * 2006-12-01 2008-06-05 일진방사선 엔지니어링 (주) 각종 산업 폐수 중 난분해성 유기물의 처리방법 및 이를위한 처리장치
JP5581090B2 (ja) 2010-03-29 2014-08-27 パナソニック株式会社 酸または塩基と過酸化水素とを含む廃液の処理方法および処理装置
CN103864245B (zh) * 2014-03-19 2015-06-24 陕西延长石油集团氟硅化工有限公司 一种处理含无机氟-有机氟工业废水的工艺
ES2954081T3 (es) * 2015-01-29 2023-11-20 Eupharma Pty Ltd Composiciones que contienen arsénico para el uso en métodos de tratamiento
KR102067164B1 (ko) 2018-05-11 2020-01-16 삼성엔지니어링 주식회사 불산폐수 재이용 방법 및 불산폐수 재이용장치
CN110526493B (zh) * 2019-08-06 2021-12-07 南京大学 一种含氟废水的组合处理工艺及设备
KR20210088799A (ko) * 2020-01-06 2021-07-15 삼성전자주식회사 불소 폐수 처리 방법 및 장치
KR102432087B1 (ko) * 2020-01-30 2022-08-12 한국건설기술연구원 자외선 고도처리와 저전력 교반장치를 이용한 유기물 및 질소 처리 시스템
CN112939352B (zh) * 2021-02-04 2021-10-29 山东珺宜环保科技有限公司 一种工业园区综合污水的处理方法
CN114644436B (zh) * 2022-04-28 2023-11-03 山东美泉环保科技有限公司 一种丙烯酸及酯污水的处理方法
CN115650502A (zh) * 2022-10-28 2023-01-31 苏州苏沃特环境科技有限公司 一种拉晶酸洗污水处理方法
CN115650522A (zh) * 2022-11-10 2023-01-31 苏州苏沃特环境科技有限公司 一种TOPCon光伏电池废水处理及回用系统与处理方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004358373A (ja) 2003-06-05 2004-12-24 Toray Ind Inc 生物難分解性有機物含有液の処理装置および処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN119161037A (zh) 2024-12-20
JP2025000549A (ja) 2025-01-07
TWI884814B (zh) 2025-05-21
TW202500513A (zh) 2025-01-01
KR102719421B1 (ko) 2024-10-21
US12286372B2 (en) 2025-04-29
US20240417300A1 (en) 2024-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3883445B2 (ja) 汚水処理装置
RU2342330C2 (ru) Система и способ обработки кислотных сточных вод
CN1450978A (zh) 同时从水溶液中除去砷和氟化物的系统和方法
CN111943447B (zh) 一种印染废水的处理工艺
US7332079B2 (en) Floatation process for removal of heavy metal waste and associated apparatus
JP2000237772A (ja) 水の高度処理方法
JP2002011498A (ja) 浸出水の処理装置
JP2001054792A (ja) 排水処理方法および排水処理装置
JP2002316173A (ja) 砒素及び過酸化水素を含有する排水の処理方法
KR102589925B1 (ko) 폐수 재이용 방법 및 장치
JP7703739B2 (ja) 廃水処理方法及び廃水処理装置
JP2002059173A (ja) 原水の処理方法
CN100422092C (zh) 处理酸性废水的系统和方法
KR100514073B1 (ko) 알카리 탈지폐수 처리방법
JP2002059194A (ja) 原水の処理方法
JPH0686988A (ja) フッ素イオン及び過酸化水素を含有する排水の処理方法
US11834358B2 (en) Process for treating frac flowback and produced water including naturally occurring radioactive material
JP3400630B2 (ja) 粉末状光触媒による水の浄化方法
KR960014026A (ko) 중수처리방법
JP7784474B2 (ja) 廃水処理方法及び廃水処理装置
CN100431979C (zh) 综合处理氧化铝厂碱性废水和生活污水的方法
JP7680947B2 (ja) 有機性排水の色度除去方法及び色度除去装置
JPH05277492A (ja) 埋立排水の処理方法
Muhaba et al. Improving the Quality of Petrochemical Wastewater via a Medium-Sized Industrial-Scale Treatment Plant
KR20240022064A (ko) 폐수 처리 장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240925

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20240925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20241224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250321

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250530

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250625

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7703739

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150