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JP7703980B2 - Manufacturing method for double-sided mounting board - Google Patents
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Description

本発明は、両面実装基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a double-sided mounting board.

従来から、基板の両面に部品実装を行い、両面実装基板を製造する方法が種々検討されている(例えば、特許文献1)。 Various methods have been considered for manufacturing double-sided mounted boards by mounting components on both sides of the board (for example, Patent Document 1).

特開平9-223856号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-223856

本発明は、新規な両面実装基板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a new method for manufacturing double-sided mounting boards.

本発明の一側面は、第一の主面及び第二の主面を有する基板の上記第一の主面上に、第一の電子部品を実装する第一の実装工程と、上記第一の電子部品を上記第一の主面上に保持する保持部材を配置する保持工程と、上記第二の主面上に第二の電子部品を実装する第二の実装工程と、を備え、上記第二の実装工程の前に、上記第一の主面上に実装された上記第一の電子部品を囲うように断熱材を配置する、両面実装基板の製造方法に関する。 One aspect of the present invention relates to a method for manufacturing a double-sided mounted board, comprising a first mounting step of mounting a first electronic component on the first main surface of a board having a first main surface and a second main surface, a holding step of arranging a holding member that holds the first electronic component on the first main surface, and a second mounting step of mounting a second electronic component on the second main surface, in which, prior to the second mounting step, a heat insulating material is arranged to surround the first electronic component mounted on the first main surface.

一態様に係る製造方法は、上記第一の実装工程の後に、上記第一の電子部品を断熱材で覆う被覆工程を更に備えていてよく、上記保持部材は、上記断熱材で覆われた上記第一の電子部品を上記第一の主面上に保持する部材であってよい。 The manufacturing method according to one embodiment may further include a covering step of covering the first electronic component with a thermal insulating material after the first mounting step, and the holding member may be a member that holds the first electronic component covered with the thermal insulating material on the first main surface.

一態様において、上記保持工程は、基体と、前記基体上に配置された断熱材を含有する断熱層と、を備える保持部材を配置する工程であってよい。 In one embodiment, the holding step may be a step of placing a holding member that includes a base and an insulating layer that contains an insulating material and is placed on the base.

一態様において、上記断熱材は、エアロゲル粒子を含有していてよく、疎水性基を有する水溶性高分子を更に含有していてもよい。 In one embodiment, the insulating material may contain aerogel particles and may further contain a water-soluble polymer having a hydrophobic group.

一態様において、上記断熱材は、下記式(A)を満たす断熱材であってよい。
F1>F2 …(A)
[式中、F1は、上記断熱材を220℃で120秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表し、F2は、上記断熱材を260℃で30秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表す。]
In one embodiment, the insulating material may be an insulating material that satisfies the following formula (A).
F1>F2 ... (A)
[In the formula, F1 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 220° C. for 120 seconds, and F2 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 260° C. for 30 seconds.]

一態様において、上記断熱材は、熱膨張性の中空粒子である第一の中空粒子と、第一の中空粒子以外の中空粒子である第二の中空粒子と、マトリックスポリマーと、を含有していてよい。 In one embodiment, the insulating material may contain first hollow particles that are thermally expandable hollow particles, second hollow particles that are hollow particles other than the first hollow particles, and a matrix polymer.

本発明の他の一側面は、第一の主面及び第二の主面を有する基板の上記第一の主面上に実装された第一の電子部品を、上記第二の主面上への第二の電子部品の実装時に、上記第一の主面上に保持する保持部材であって、基体と、上記基体上に配置された断熱材を含有する断熱層と、を備える、保持部材に関する。 Another aspect of the present invention relates to a holding member that holds a first electronic component mounted on a first main surface of a substrate having a first main surface and a second main surface, on the first main surface when a second electronic component is mounted on the second main surface, the holding member comprising a base and a thermal insulation layer containing a thermal insulation material disposed on the base.

本発明によれば、新規な両面実装基板の製造方法が提供される。 The present invention provides a novel method for manufacturing double-sided mounting boards.

両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board. 両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board. 両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board. 両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board. 両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board. 両面実装基板の製造方法の一例を説明するための図である。1A to 1C are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。 A preferred embodiment of the present invention is described in detail below.

本実施形態の両面実装基板の製造方法は、第一の主面及び第二の主面を有する基板の第一の主面上に、第一の電子部品を実装する第一の実装工程と、第一の電子部品を第一の主面上に保持する保持部材を配置する保持工程と、第二の主面上に第二の電子部品を実装する第二の実装工程と、を備える。本実施形態の製造方法では、第二の実装工程の前に、第一の主面上に実装された第一の電子部品を囲うように断熱材を配置する。 The manufacturing method of the double-sided mounted board of this embodiment includes a first mounting step of mounting a first electronic component on the first main surface of a board having a first main surface and a second main surface, a holding step of arranging a holding member that holds the first electronic component on the first main surface, and a second mounting step of mounting a second electronic component on the second main surface. In the manufacturing method of this embodiment, prior to the second mounting step, a heat insulating material is arranged to surround the first electronic component mounted on the first main surface.

本実施形態の製造方法では、第二の実装工程の際に、実装済みの第一の電子部品が断熱材で保護されている。このため、第二の実装工程でリフロー等の高温処理を行った場合でも、第一の電子部品と基板との接続部の再溶融による接続不良、繰り返しの加熱による第一の電子部品の劣化等が避けられ、信頼性に優れる両面実装基板が得られると考えられる。 In the manufacturing method of this embodiment, the mounted first electronic component is protected by a heat insulating material during the second mounting process. Therefore, even if a high-temperature process such as reflow is performed in the second mounting process, poor connection due to remelting of the connection between the first electronic component and the board, deterioration of the first electronic component due to repeated heating, etc. can be avoided, and it is believed that a highly reliable double-sided mounted board can be obtained.

近年、電子部品と基板との接続に鉛フリーはんだが多く利用され、プロセスの高温化が進んでいる。このような高温化されたプロセスでは、実装済みの電子部品の再加熱による不具合がより生じやすいため、本実施形態の製造方法による効果がより顕著に得られると考えられる。 In recent years, lead-free solder has come to be widely used to connect electronic components to substrates, and the process temperatures are becoming higher. In such high-temperature processes, problems caused by reheating of mounted electronic components are more likely to occur, so it is believed that the effects of the manufacturing method of this embodiment will be more pronounced.

第一の電子部品は、はんだバンプを備えていてよく、当該はんだバンプは鉛フリーはんだを含有していてよい。第一の実装工程は、例えば、第一の電子部品と基板とをはんだバンプを介して接続する工程であってよい。 The first electronic component may have solder bumps, and the solder bumps may contain lead-free solder. The first mounting process may be, for example, a process of connecting the first electronic component and a substrate via the solder bumps.

第一の実装工程は、リフローによりはんだバンプを溶融させて基板と第一の電子部品とを接続する第一のリフロー工程を含んでいてよい。第一のリフロー工程では、基板と第一の電子部品とがはんだを含有する接続部によって接続される。 The first mounting process may include a first reflow process in which the solder bumps are melted by reflow to connect the substrate and the first electronic component. In the first reflow process, the substrate and the first electronic component are connected by a connection portion containing solder.

リフロー温度は、例えば、はんだバンプを構成するはんだの融点以上の温度であればよい。リフロー温度は、例えば220℃以上であってよく、225℃以上であってもよく、例えば270℃以下であってよく、260℃以下であってもよい。はんだバンプを構成するはんだが鉛フリーはんだである場合、リフロー温度は、例えば240℃以上であってよく、245℃以上であってもよく、例えば260℃以下であってよく、255℃以下であってもよい。 The reflow temperature may be, for example, a temperature equal to or higher than the melting point of the solder that constitutes the solder bump. The reflow temperature may be, for example, 220°C or higher, or 225°C or higher, or, for example, 270°C or lower, or 260°C or lower. When the solder that constitutes the solder bump is lead-free solder, the reflow temperature may be, for example, 240°C or higher, or 245°C or higher, or, for example, 260°C or lower, or 255°C or lower.

第一の実装工程はまた、基板と第一の電子部品との間隙をアンダーフィル材により封止する第一の封止工程を更に含んでいてよい。第一の封止工程では、基板と第一の電子部品との間隙に、アンダーフィル材又はその硬化物からなる封止材が充填される。 The first mounting step may further include a first sealing step of sealing the gap between the substrate and the first electronic component with an underfill material. In the first sealing step, the gap between the substrate and the first electronic component is filled with a sealing material made of an underfill material or a cured product thereof.

アンダーフィル材は特に限定されず、公知のアンダーフィル材を特に制限無く用いることができる。 The underfill material is not particularly limited, and any known underfill material can be used without any particular restrictions.

保持部材は、実装後の第一の電子部品が基板上から脱落することを防止するために、第一の電子部品を第一の主面上に保持する部材である。 The holding member is a member that holds the first electronic component on the first main surface to prevent the first electronic component from falling off the substrate after mounting.

本実施形態の製造方法は、例えば、第一の主面が上側となる配置で第一の実装工程を行った後、基板を裏返して、第二の主面が上側となる配置で第二の実装工程を行うことができる。保持部材は、例えば、第二の実装工程において、第一の主面から第一の電子部品が脱落することを防止するために、基板と反対側で第一の電子部品を支持する部材であってよい。 In the manufacturing method of this embodiment, for example, after performing a first mounting step with the first main surface on the top, the substrate can be flipped over and a second mounting step can be performed with the second main surface on the top. The holding member can be a member that supports the first electronic component on the side opposite the substrate to prevent the first electronic component from falling off the first main surface during the second mounting step.

第二の電子部品は、はんだバンプを備えていてよく、当該はんだバンプは鉛フリーはんだを含有していてよい。第二の実装工程は、例えば、第二の電子部品と基板とをはんだバンプを介して接続する工程であってよい。 The second electronic component may have solder bumps, and the solder bumps may contain lead-free solder. The second mounting process may be, for example, a process of connecting the second electronic component and the substrate via the solder bumps.

第二の実装工程は、リフローによりはんだバンプを溶融させて基板と第二の電子部品とを接続する第二のリフロー工程を含んでいてよい。第二のリフロー工程では、基板と第二の電子部品とがはんだを含有する接続部によって接続される。 The second mounting process may include a second reflow process in which the solder bumps are melted by reflow to connect the substrate and the second electronic component. In the second reflow process, the substrate and the second electronic component are connected by a connection portion containing solder.

リフロー温度は、例えば、はんだバンプを構成するはんだの融点以上の温度であればよい。リフロー温度は、例えば220℃以上であってよく、225℃以上であってもよく、例えば270℃以下であってよく、260℃以下であってもよい。はんだバンプを構成するはんだが鉛フリーはんだである場合、リフロー温度は、例えば240℃以上であってよく、245℃以上であってもよく、例えば260℃以下であってよく、255℃以下であってもよい。 The reflow temperature may be, for example, a temperature equal to or higher than the melting point of the solder that constitutes the solder bump. The reflow temperature may be, for example, 220°C or higher, or 225°C or higher, or, for example, 270°C or lower, or 260°C or lower. When the solder that constitutes the solder bump is lead-free solder, the reflow temperature may be, for example, 240°C or higher, or 245°C or higher, or, for example, 260°C or lower, or 255°C or lower.

第二の実装工程はまた、基板と第二の電子部品との間隙をアンダーフィル材により封止する第二の封止工程を更に含んでいてよい。第二の封止工程では、基板と第二の電子部品との間隙に、アンダーフィル材又はその硬化物からなる封止材が充填される。 The second mounting step may further include a second sealing step of sealing the gap between the substrate and the second electronic component with an underfill material. In the second sealing step, the gap between the substrate and the second electronic component is filled with a sealing material made of an underfill material or a cured product thereof.

アンダーフィル材は特に限定されず、公知のアンダーフィル材を特に制限無く用いることができる。 The underfill material is not particularly limited, and any known underfill material can be used without any particular restrictions.

本実施形態の製造方法では、第二の実装工程の前に、第一の主面上に実装された第一の電子部品を囲うように断熱材を配置する。 In the manufacturing method of this embodiment, before the second mounting step, a thermal insulator is placed to surround the first electronic component mounted on the first main surface.

断熱材の配置は、例えば、実装後の第一の電子部品を断熱材で覆うことで実施してよい。すなわち、本実施形態の製造方法は、実装後の第一の電子部品を断熱材で覆う被覆工程を更に備えていてよい。 The placement of the insulating material may be performed, for example, by covering the first electronic component after mounting with the insulating material. In other words, the manufacturing method of this embodiment may further include a covering step of covering the first electronic component after mounting with the insulating material.

また、断熱材の配置は、例えば、断熱材を含有する保持部材の使用により実施してもよい。すなわち、本実施形態の製造方法において、保持工程は、断熱材を含有する保持工程を配置する工程であってよい。 The placement of the insulating material may also be performed, for example, by using a holding member containing the insulating material. That is, in the manufacturing method of this embodiment, the holding step may be a step of placing a holding member containing the insulating material.

断熱材を含有する保持部材は、例えば、基体と、基体上に配置された断熱材を含有する断熱層と、を備える保持部材であってよい。このような保持部材は、例えば、公知の保持部材の少なくとも一方面上に断熱材を含有する断熱層を配置したものであってよい。 The retaining member containing the insulating material may be, for example, a retaining member having a base and an insulating layer containing the insulating material disposed on the base. Such a retaining member may be, for example, a known retaining member having an insulating layer containing the insulating material disposed on at least one surface of the retaining member.

断熱材としては、公知の断熱材を特に制限無く用いることができる。 Any known insulating material can be used as the insulating material without any particular restrictions.

本実施形態において好適な断熱材としては、例えば以下の断熱材が挙げられる。 Suitable insulating materials for this embodiment include, for example, the following insulating materials:

[断熱材(1)]
断熱材は、例えば、エアロゲル粒子を含有する断熱材(以下、断熱材(1))であってよい。エアロゲル粒子を含む断熱材(1)は、例えば、エアロゲル粒子を含有する塗液の塗膜であってよい。
[Thermal insulation material (1)]
The heat insulating material may be, for example, a heat insulating material containing aerogel particles (hereinafter, heat insulating material (1)). The heat insulating material (1) containing aerogel particles may be, for example, a coating film of a coating liquid containing aerogel particles.

エアロゲル粒子を含有する塗液は、エアロゲル粒子及び液状媒体を含む。塗液中のエアロゲル粒子は、細孔内が液状媒体で満たされていてもよい。 The coating liquid containing aerogel particles includes aerogel particles and a liquid medium. The pores of the aerogel particles in the coating liquid may be filled with the liquid medium.

<エアロゲル>
狭義には、湿潤ゲルに対して超臨界乾燥法を用いて得られた乾燥ゲルをエアロゲル、大気圧下での乾燥により得られた乾燥ゲルをキセロゲル、凍結乾燥により得られた乾燥ゲルをクライオゲルと称するが、本実施形態においては、湿潤ゲルのこれらの乾燥手法によらず、得られた低密度の乾燥ゲルを「エアロゲル」と称する。すなわち、本実施形態において、「エアロゲル」とは、広義のエアロゲルである「Gelcomprised of amicroporous solid inwhich the dispersedphase is a gas(分散相が気体である微多孔性固体から構成されるゲル)」を意味する。一般的に、エアロゲルの内部は、網目状の微細構造を有しており、2~20nm程度の粒子状のエアロゲル成分が結合したクラスター構造を有している。このクラスターにより形成される骨格間には、100nmに満たない細孔がある。これにより、エアロゲルは、三次元的に微細な多孔性の構造が形成されている。なお、本実施形態に係るエアロゲルは、例えば、シリカを主成分とするシリカエアロゲルである。シリカエアロゲルとしては、例えば、有機基(メチル基等)又は有機鎖を導入した、いわゆる有機-無機ハイブリッド化されたシリカエアロゲルが挙げられる。
<Aerogel>
In the narrow sense, a dry gel obtained by using a supercritical drying method on a wet gel is called an aerogel, a dry gel obtained by drying under atmospheric pressure is called a xerogel, and a dry gel obtained by freeze-drying is called a cryogel. In this embodiment, however, a low-density dry gel obtained regardless of these drying methods of a wet gel is called an "aerogel". That is, in this embodiment, "aerogel" means "gel composed of a microporous solid in which the dispersed phase is a gas (gel composed of a microporous solid in which the dispersed phase is a gas)" which is an aerogel in the broad sense. In general, the inside of an aerogel has a mesh-like fine structure and has a cluster structure in which particulate aerogel components of about 2 to 20 nm are bonded. Between the skeletons formed by these clusters, there are pores of less than 100 nm. As a result, the aerogel has a three-dimensional fine porous structure. The aerogel according to this embodiment is, for example, a silica aerogel containing silica as a main component. Examples of silica aerogel include so-called organic-inorganic hybrid silica aerogels in which an organic group (such as a methyl group) or an organic chain is introduced.

本実施形態に係るエアロゲルとしては、以下の態様が挙げられる。これらの態様を採用することにより、断熱性、難燃性、耐熱性及び柔軟性に優れるエアロゲルを得ることが容易となる。各々の態様を採用することで、各々の態様に応じた断熱性、難燃性、耐熱性及び柔軟性を有するエアロゲルを得ることができる。 The aerogel according to this embodiment can be exemplified by the following aspects. By adopting these aspects, it becomes easy to obtain an aerogel that is excellent in heat insulation, flame retardancy, heat resistance, and flexibility. By adopting each aspect, it is possible to obtain an aerogel that has heat insulation, flame retardancy, heat resistance, and flexibility according to each aspect.

(第一の態様)
本実施形態に係るエアロゲルは、下記一般式(1)で表される構造を有することができる。本実施形態に係るエアロゲルは、式(1)で表される構造を含む構造として、下記一般式(1a)で表される構造を有することができる。

(First Aspect)
The aerogel according to this embodiment may have a structure represented by the following general formula (1): The aerogel according to this embodiment may have a structure represented by the following general formula (1a) as a structure including the structure represented by formula (1).

式(1)及び式(1a)中、R及びRはそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、R及びRはそれぞれ独立にアルキレン基を示す。ここで、アリール基としてはフェニル基、置換フェニル基等が挙げられる。なお、置換フェニル基の置換基としては、アルキル基、ビニル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。pは1~50の整数を示す。式(1a)中、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよい。式(1a)中、2個のRは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に、2個のRは各々同一であっても異なっていてもよい。 In formula (1) and formula (1a), R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and R 3 and R 4 each independently represent an alkylene group. Here, examples of the aryl group include a phenyl group and a substituted phenyl group. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include an alkyl group, a vinyl group, a mercapto group, an amino group, a nitro group, and a cyano group. p represents an integer of 1 to 50. In formula (1a), two or more R 1s may be the same or different from each other, and similarly, two or more R 2s may be the same or different from each other. In formula (1a), two R 3s may be the same or different from each other, and similarly, two R 4s may be the same or different from each other.

上記式(1)又は式(1a)で表される構造をエアロゲル成分としてエアロゲルの骨格中に導入することにより、低熱伝導率かつ柔軟なエアロゲルとなる。このような観点から、式(1)及び式(1a)中、R及びRとしてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルキル基、フェニル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。また、式(1)及び式(1a)中、R及びRとしてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルキレン基等が挙げられ、当該アルキレン基としてはエチレン基、プロピレン基等が挙げられる。式(1a)中、pは2~30とすることができ、5~20であってもよい。 By introducing the structure represented by the above formula (1) or formula (1a) into the skeleton of the aerogel as an aerogel component, an aerogel with low thermal conductivity and flexibility is obtained. From this viewpoint, in formula (1) and formula (1a), R 1 and R 2 each independently include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, etc., and the alkyl group includes a methyl group, etc. In addition, in formula (1) and formula (1a), R 3 and R 4 each independently include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, etc., and the alkylene group includes an ethylene group, a propylene group, etc. In formula (1a), p can be 2 to 30, or may be 5 to 20.

(第二の態様)
本実施形態に係るエアロゲルは、支柱部及び橋かけ部を備えるラダー型構造を有し、かつ橋かけ部が下記一般式(2)で表される構造を有することができる。このようなラダー型構造をエアロゲル成分としてエアロゲルの骨格中に導入することにより、耐熱性と機械的強度を向上させることができる。なお、本実施形態において「ラダー型構造」とは、2本の支柱部(struts)と支柱部同士を連結する橋かけ部(bridges)とを有するもの(いわゆる「梯子」の形態を有するもの)である。本態様において、エアロゲルの骨格がラダー型構造からなっていてもよいが、エアロゲルが部分的にラダー型構造を有していてもよい。
(Second Aspect)
The aerogel according to this embodiment has a ladder structure including struts and bridges, and the bridges can have a structure represented by the following general formula (2). By introducing such a ladder structure into the skeleton of the aerogel as an aerogel component, the heat resistance and mechanical strength can be improved. In this embodiment, the "ladder structure" refers to a structure having two struts and bridges connecting the struts (having a so-called "ladder" shape). In this embodiment, the skeleton of the aerogel may have a ladder structure, but the aerogel may also have a ladder structure partially.

式(2)中、R及びRはそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、bは1~50の整数を示す。ここで、アリール基としてはフェニル基、置換フェニル基等が挙げられる。また、置換フェニル基の置換基としては、アルキル基、ビニル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。なお、式(2)中、bが2以上の整数の場合、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個以上のRも各々同一であっても異なっていてもよい。 In formula (2), R5 and R6 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and b represents an integer of 1 to 50. Here, examples of the aryl group include a phenyl group and a substituted phenyl group. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include an alkyl group, a vinyl group, a mercapto group, an amino group, a nitro group, and a cyano group. In addition, in formula (2), when b is an integer of 2 or more, two or more R5s may be the same or different from each other, and similarly, two or more R6s may be the same or different from each other.

上記の構造をエアロゲル成分としてエアロゲルの骨格中に導入することにより、例えば、従来のラダー型シルセスキオキサンに由来する構造を有する(すなわち、下記一般式(X)で表される構造を有する)エアロゲルよりも優れた柔軟性を有するエアロゲルとなる。シルセスキオキサンは、組成式:(RSiO1.5を有するポリシロキサンであり、カゴ型、ラダー型、ランダム型等の種々の骨格構造を有することができる。なお、下記一般式(X)にて示すように、従来のラダー型シルセスキオキサンに由来する構造を有するエアロゲルでは、橋かけ部の構造が-O-であるが、本実施形態に係るエアロゲルでは、橋かけ部の構造が上記一般式(2)で表される構造(ポリシロキサン構造)である。ただし、本態様のエアロゲルは、一般式(2)で表される構造に加え、さらにシルセスキオキサンに由来する構造を有していてもよい。
By introducing the above structure into the skeleton of the aerogel as an aerogel component, for example, an aerogel having a structure derived from a conventional ladder-type silsesquioxane (i.e., a structure represented by the following general formula (X)) can be obtained that has superior flexibility to aerogels. Silsesquioxane is a polysiloxane having a composition formula: (RSiO 1.5 ) n , and can have various skeleton structures such as a cage type, a ladder type, and a random type. As shown in the following general formula (X), in an aerogel having a structure derived from a conventional ladder-type silsesquioxane, the structure of the bridge portion is -O-, but in the aerogel according to this embodiment, the structure of the bridge portion is the structure represented by the above general formula (2) (polysiloxane structure). However, the aerogel of this embodiment may have a structure derived from a silsesquioxane in addition to the structure represented by the general formula (2).

式(X)中、Rはヒドロキシ基、アルキル基又はアリール基を示す。 In formula (X), R represents a hydroxy group, an alkyl group, or an aryl group.

支柱部となる構造及びその鎖長、並びに橋かけ部となる構造の間隔は特に限定されないが、耐熱性と機械的強度とをより向上させるという観点から、ラダー型構造としては、下記一般式(3)で表されるラダー型構造を有していてもよい。
The structure that serves as the support portion and its chain length, as well as the spacing between the structures that serve as the bridging portions are not particularly limited. From the viewpoint of further improving heat resistance and mechanical strength, the ladder structure may have a ladder structure represented by the following general formula (3).

式(3)中、R、R、R及びRはそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、a及びcはそれぞれ独立に1~3000の整数を示し、bは1~50の整数を示す。ここで、アリール基としてはフェニル基、置換フェニル基等が挙げられる。また、置換フェニル基の置換基としては、アルキル基、ビニル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。なお、式(3)中、bが2以上の整数の場合、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個以上のRも各々同一であっても異なっていてもよい。また、式(3)中、aが2以上の整数の場合、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよく、同様にcが2以上の整数の場合、2個以上のRは各々同一であっても異なっていてもよい。 In formula (3), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent an alkyl group or an aryl group, a and c each independently represent an integer of 1 to 3000, and b represents an integer of 1 to 50. Here, examples of the aryl group include a phenyl group and a substituted phenyl group. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include an alkyl group, a vinyl group, a mercapto group, an amino group, a nitro group, and a cyano group. In addition, in formula (3), when b is an integer of 2 or more, two or more R 5s may be the same or different from each other, and similarly, two or more R 6s may be the same or different from each other. In addition, in formula (3), when a is an integer of 2 or more, two or more R 7s may be the same or different from each other, and similarly, when c is an integer of 2 or more, two or more R 8s may be the same or different from each other.

なお、より優れた柔軟性を得る観点から、式(2)及び(3)中、R、R、R及びR(ただし、R及びRは式(3)中のみ)としてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルキル基、フェニル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。また、式(3)中、a及びcは、それぞれ独立に6~2000とすることができるが、10~1000であってもよい。また、式(2)及び(3)中、bは、2~30とすることができるが、5~20であってもよい。 From the viewpoint of obtaining better flexibility, in formulas (2) and (3), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 (wherein R 7 and R 8 are only in formula (3)) each independently include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, etc., and examples of the alkyl group include a methyl group, etc. In formula (3), a and c each independently can be 6 to 2000, but may be 10 to 1000. In formulas (2) and (3), b can be 2 to 30, but may be 5 to 20.

(第三の態様)
本実施形態に係るエアロゲルは、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物、及び、加水分解性の官能基を有するケイ素化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種、を含有するゾルの縮合物である湿潤ゲルの乾燥物(ゾルから生成された湿潤ゲルを乾燥して得られるもの:ゾル由来の湿潤ゲルの乾燥物)であってもよい。なお、これまで述べてきたエアロゲルも、このように、ケイ素化合物等を含有するゾルから生成された湿潤ゲルを乾燥することで得られるものであってもよい。
(Third Aspect)
The aerogel according to this embodiment may be a dried product of a wet gel which is a condensate of a sol containing at least one selected from the group consisting of a silicon compound having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group, and a hydrolysis product of a silicon compound having a hydrolyzable functional group (obtained by drying a wet gel generated from a sol: dried product of a wet gel derived from a sol). The aerogel described above may also be obtained by drying a wet gel generated from a sol containing a silicon compound or the like in this way.

加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物としては、ポリシロキサン化合物を用いることができる。すなわち、上記ゾルは、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物(以下、場合により「ポリシロキサン化合物群」という)を含有することができる。 A polysiloxane compound can be used as the silicon compound having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group. That is, the above sol can contain at least one compound selected from the group consisting of polysiloxane compounds having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group, and hydrolysis products of polysiloxane compounds having a hydrolyzable functional group (hereinafter sometimes referred to as the "polysiloxane compound group").

ポリシロキサン化合物における官能基は、特に限定されないが、同じ官能基同士で反応するか、あるいは他の官能基と反応する基とすることができる。加水分解性の官能基としては、アルコキシ基が挙げられる。縮合性の官能基としては、水酸基、シラノール基、カルボキシル基、フェノール性水酸基等が挙げられる。水酸基は、ヒドロキシアルキル基等の水酸基含有基に含まれていてもよい。なお、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物は、加水分解性の官能基及び縮合性の官能基とは異なる反応性基(加水分解性の官能基及び縮合性の官能基に該当しない官能基)をさらに有していてもよい。反応性基としては、エポキシ基、メルカプト基、グリシドキシ基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アミノ基等が挙げられる。エポキシ基は、グリシドキシ基等のエポキシ基含有基に含まれていてもよい。これらの官能基及び反応性基を有するポリシロキサン化合物は単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。これらの官能基及び反応性基のうち、例えば、エアロゲルの柔軟性を向上する基としては、アルコキシ基、シラノール基、ヒドロキシアルキル基等が挙げられ、これらのうち、アルコキシ基及びヒドロキシアルキル基は、ゾルの相溶性をより向上することができる。また、ポリシロキサン化合物の反応性の向上とエアロゲルの熱伝導率の低減の観点から、アルコキシ基及びヒドロキシアルキル基の炭素数は1~6とすることができるが、エアロゲルの柔軟性をより向上する観点から2~4であってもよい。 The functional groups in the polysiloxane compound are not particularly limited, but may be groups that react with the same functional groups or with other functional groups. Examples of hydrolyzable functional groups include alkoxy groups. Examples of condensable functional groups include hydroxyl groups, silanol groups, carboxyl groups, and phenolic hydroxyl groups. The hydroxyl groups may be contained in hydroxyl-containing groups such as hydroxyalkyl groups. In addition, polysiloxane compounds having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups may further have reactive groups (functional groups that do not fall under the category of hydrolyzable functional groups and condensable functional groups) different from the hydrolyzable functional groups and condensable functional groups. Examples of reactive groups include epoxy groups, mercapto groups, glycidoxy groups, vinyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and amino groups. The epoxy groups may be contained in epoxy-containing groups such as glycidoxy groups. Polysiloxane compounds having these functional groups and reactive groups may be used alone or in combination of two or more types. Among these functional groups and reactive groups, for example, groups that improve the flexibility of the aerogel include alkoxy groups, silanol groups, hydroxyalkyl groups, etc., and among these, alkoxy groups and hydroxyalkyl groups can further improve the compatibility of the sol. In addition, from the viewpoint of improving the reactivity of the polysiloxane compound and reducing the thermal conductivity of the aerogel, the number of carbon atoms of the alkoxy groups and hydroxyalkyl groups can be 1 to 6, but from the viewpoint of further improving the flexibility of the aerogel, they may be 2 to 4.

分子内にヒドロキシアルキル基を有するポリシロキサン化合物としては、下記一般式(A)で表される構造を有するものが挙げられる。下記一般式(A)で表される構造を有するポリシロキサン化合物を使用することにより、一般式(1)及び式(1a)で表される構造をエアロゲルの骨格中に導入することができる。
Examples of polysiloxane compounds having a hydroxyalkyl group in the molecule include those having a structure represented by the following general formula (A): By using a polysiloxane compound having a structure represented by the following general formula (A), the structures represented by the general formulas (1) and (1a) can be introduced into the skeleton of an aerogel.

式(A)中、R1aはヒドロキシアルキル基を示し、R2aはアルキレン基を示し、R3a及びR4aはそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、nは1~50の整数を示す。ここで、アリール基としてはフェニル基、置換フェニル基等が挙げられる。また、置換フェニル基の置換基としては、アルキル基、ビニル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。なお、式(A)中、2個のR1aは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個のR2aは各々同一であっても異なっていてもよい。また、式(A)中、2個以上のR3aは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個以上のR4aは各々同一であっても異なっていてもよい。 In formula (A), R 1a represents a hydroxyalkyl group, R 2a represents an alkylene group, R 3a and R 4a each independently represent an alkyl group or an aryl group, and n represents an integer of 1 to 50. Here, examples of the aryl group include a phenyl group and a substituted phenyl group. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include an alkyl group, a vinyl group, a mercapto group, an amino group, a nitro group, and a cyano group. In formula (A), two R 1a may be the same or different, and similarly, two R 2a may be the same or different. In formula (A), two or more R 3a may be the same or different, and similarly, two or more R 4a may be the same or different.

上記構造のポリシロキサン化合物を含有するゾルの縮合物である(ゾルから生成された)湿潤ゲルを用いることにより、低熱伝導率かつ柔軟なエアロゲルをさらに得易くなる。このような観点から、式(A)中、R1aとしては炭素数が1~6のヒドロキシアルキル基等が挙げられ、当該ヒドロキシアルキル基としてはヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。また、式(A)中、R2aとしては炭素数が1~6のアルキレン基等が挙げられ、当該アルキレン基としてはエチレン基、プロピレン基等が挙げられる。また、式(A)中、R3a及びR4aとしてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルキル基、フェニル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。また、式(A)中、nは2~30とすることができるが、5~20であってもよい。 By using a wet gel (produced from a sol) that is a condensate of a sol containing a polysiloxane compound of the above structure, it becomes easier to obtain an aerogel that has low thermal conductivity and is flexible. From this viewpoint, in formula (A), R 1a may be a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples of the hydroxyalkyl group include a hydroxyethyl group and a hydroxypropyl group. In addition, in formula (A), R 2a may be an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and examples of the alkylene group include an ethylene group and a propylene group. In addition, in formula (A), R 3a and R 4a each independently include an alkyl group, a phenyl group, and the like having 1 to 6 carbon atoms, and examples of the alkyl group include a methyl group. In addition, in formula (A), n can be 2 to 30, but may also be 5 to 20.

上記一般式(A)で表される構造を有するポリシロキサン化合物としては、市販品を用いることができ、X-22-160AS、KF-6001、KF-6002、KF-6003等の化合物(いずれも、信越化学工業株式会社製)、XF42-B0970、FluidOFOH 702-4%等の化合物(いずれも、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)などが挙げられる。 Commercially available polysiloxane compounds having the structure represented by the above general formula (A) can be used, such as X-22-160AS, KF-6001, KF-6002, KF-6003, and other compounds (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF42-B0970, FluidOFOH 702-4%, and other compounds (all manufactured by Momentive Performance Materials Japan, LLC).

分子内にアルコキシ基を有するポリシロキサン化合物としては、下記一般式(B)で表される構造を有するものが挙げられる。下記一般式(B)で表される構造を有するポリシロキサン化合物を使用することにより、一般式(2)又は(3)で表される橋かけ部を有するラダー型構造をエアロゲルの骨格中に導入することができる。
Examples of polysiloxane compounds having an alkoxy group in the molecule include those having a structure represented by the following general formula (B): By using a polysiloxane compound having a structure represented by the following general formula (B), a ladder structure having a bridge portion represented by the general formula (2) or (3) can be introduced into the skeleton of an aerogel.

式(B)中、R1bはアルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、R2b及びR3bはそれぞれ独立にアルコキシ基を示し、R4b及びR5bはそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、mは1~50の整数を示す。ここで、アリール基としてはフェニル基、置換フェニル基等が挙げられる。また、置換フェニル基の置換基としては、アルキル基、ビニル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。なお、式(B)中、2個のR1bは各々同一であっても異なっていてもよく、2個のR2bは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個のR3bは各々同一であっても異なっていてもよい。また、式(B)中、mが2以上の整数の場合、2個以上のR4bは各々同一であっても異なっていてもよく、同様に2個以上のR5bも各々同一であっても異なっていてもよい。 In formula (B), R 1b represents an alkyl group, an alkoxy group, or an aryl group, R 2b and R 3b each independently represent an alkoxy group, R 4b and R 5b each independently represent an alkyl group or an aryl group, and m represents an integer of 1 to 50. Here, examples of the aryl group include a phenyl group and a substituted phenyl group. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include an alkyl group, a vinyl group, a mercapto group, an amino group, a nitro group, and a cyano group. In addition, in formula (B), two R 1b may be the same or different, two R 2b may be the same or different, and similarly, two R 3b may be the same or different. In addition, in formula (B), when m is an integer of 2 or more, two or more R 4b may be the same or different, and similarly, two or more R 5b may be the same or different.

上記構造のポリシロキサン化合物又はその加水分解生成物を含有するゾルの縮合物である(ゾルから生成された)湿潤ゲルを用いることにより、低熱伝導率かつ柔軟なエアロゲルをさらに得易くなる。このような観点から、式(B)中、R1bとしては炭素数が1~6のアルキル基、炭素数が1~6のアルコキシ基等が挙げられ、当該アルキル基又はアルコキシ基としてはメチル基、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。また、式(B)中、R2b及びR3bとしてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルコキシ基等が挙げられ、当該アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。また、式(B)中、R4b及びR5bとしてはそれぞれ独立に炭素数が1~6のアルキル基、フェニル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。また、式(B)中、mは2~30とすることができるが、5~20であってもよい。 By using a wet gel (produced from a sol) that is a condensate of a sol containing a polysiloxane compound having the above structure or a hydrolysis product thereof, it becomes easier to obtain an aerogel that has low thermal conductivity and is flexible. From this perspective, in formula (B), R1b can be an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, etc., and examples of the alkyl group or alkoxy group include a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, etc. In formula (B), R2b and R3b each independently include an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, etc., and examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, etc. In formula (B), R4b and R5b each independently include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, etc., and examples of the alkyl group include a methyl group, etc. In formula (B), m can be 2 to 30, but may also be 5 to 20.

上記一般式(B)で表される構造を有するポリシロキサン化合物は、特開2000-26609号公報、特開2012-233110号公報等にて報告される製造方法を適宜参照して得ることができる。また、当該ポリシロキサン化合物としてXR31-B1410(モメンティブ社製)を用いることもできる。 The polysiloxane compound having the structure represented by the above general formula (B) can be obtained by appropriately referring to the manufacturing methods reported in JP-A-2000-26609, JP-A-2012-233110, etc. In addition, XR31-B1410 (manufactured by Momentive Corporation) can also be used as the polysiloxane compound.

なお、アルコキシ基は加水分解するため、アルコキシ基を有するポリシロキサン化合物はゾル中にて加水分解生成物として存在する可能性があり、アルコキシ基を有するポリシロキサン化合物とその加水分解生成物は混在していてもよい。また、アルコキシ基を有するポリシロキサン化合物において、分子中のアルコキシ基の全てが加水分解されていてもよいし、部分的に加水分解されていてもよい。 Since alkoxy groups are hydrolyzed, polysiloxane compounds having alkoxy groups may exist as hydrolysis products in the sol, and the polysiloxane compounds having alkoxy groups and their hydrolysis products may be mixed. In addition, in polysiloxane compounds having alkoxy groups, all of the alkoxy groups in the molecule may be hydrolyzed, or may be partially hydrolyzed.

これら、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物は、単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 These polysiloxane compounds having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups, and hydrolysis products of polysiloxane compounds having hydrolyzable functional groups, may be used alone or in combination of two or more kinds.

本実施形態に係るエアロゲルを作製するにあたり、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物としては、上述のポリシロキサン化合物以外のケイ素化合物を用いることができる。すなわち、上記のケイ素化合物を含有するゾルは、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物(ポリシロキサン化合物を除く)、及び、加水分解性の官能基を有する当該ケイ素化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種(以下、場合により「ケイ素化合物群」という)を、上述のポリシロキサン化合物群に加えて、あるいは上述のポリシロキサン化合物群に代えて、含有することができる。ケイ素化合物における分子内のケイ素数は1又は2とすることができる。 When preparing the aerogel according to this embodiment, silicon compounds having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups can be silicon compounds other than the polysiloxane compounds described above. That is, the sol containing the silicon compounds described above can contain at least one selected from the group consisting of silicon compounds (excluding polysiloxane compounds) having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups, and hydrolysis products of the silicon compounds having hydrolyzable functional groups (hereinafter sometimes referred to as "silicon compound group") in addition to the polysiloxane compounds described above, or instead of the polysiloxane compounds described above. The number of silicon atoms in the molecule of the silicon compound can be 1 or 2.

分子内に加水分解性の官能基を有するケイ素化合物としては、特に限定されないが、アルキルケイ素アルコキシド等が挙げられる。アルキルケイ素アルコキシドは、耐水性を向上する観点から、加水分解性の官能基の数を3個以下とすることができる。このようなアルキルケイ素アルコキシドとしては、モノアルキルトリアルコキシシラン、モノアルキルジアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、モノアルキルモノアルコキシシラン、ジアルキルモノアルコキシシラン、トリアルキルモノアルコキシシラン等が挙げられ、具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。ここで、加水分解性の官能基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。 Silicon compounds having hydrolyzable functional groups in the molecule include, but are not limited to, alkyl silicon alkoxides. From the viewpoint of improving water resistance, the number of hydrolyzable functional groups in the alkyl silicon alkoxide can be three or less. Examples of such alkyl silicon alkoxides include monoalkyltrialkoxysilanes, monoalkyl dialkoxysilanes, dialkyl dialkoxysilanes, monoalkyl monoalkoxysilanes, dialkyl monoalkoxysilanes, trialkyl monoalkoxysilanes, and the like. Specific examples of such alkyl silicon alkoxides include methyl trimethoxysilane, methyl dimethoxysilane, dimethyl diethoxysilane, dimethyl dimethoxysilane, ethyl trimethoxysilane, and hexyl trimethoxysilane. Here, examples of the hydrolyzable functional groups include alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups.

縮合性の官能基を有するケイ素化合物としては、特に限定されないが、シランテトラオール、メチルシラントリオール、ジメチルシランジオール、フェニルシラントリオール、フェニルメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、n-プロピルシラントリオール、ヘキシルシラントリオール、オクチルシラントリオール、デシルシラントリオール、トリフルオロプロピルシラントリオール等が挙げられる。 Examples of silicon compounds having a condensable functional group include, but are not limited to, silanetetraol, methylsilanetriol, dimethylsilanediol, phenylsilanetriol, phenylmethylsilanediol, diphenylsilanediol, n-propylsilanetriol, hexylsilanetriol, octylsilanetriol, decylsilanetriol, trifluoropropylsilanetriol, etc.

加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物は、加水分解性の官能基及び縮合性の官能基とは異なる上述の反応性基(加水分解性の官能基及び縮合性の官能基に該当しない官能基)をさらに有していてもよい。 The silicon compound having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group may further have the above-mentioned reactive group different from the hydrolyzable functional group and the condensable functional group (a functional group that does not fall under the category of a hydrolyzable functional group or a condensable functional group).

加水分解性の官能基の数が3個以下であり、反応性基を有するケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン等も用いることができる。 As silicon compounds having three or less hydrolyzable functional groups and reactive groups, vinyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, etc. can also be used.

また、縮合性の官能基を有し、反応性基を有するケイ素化合物として、ビニルシラントリオール、3-グリシドキシプロピルシラントリオール、3-グリシドキシプロピルメチルシランジオール、3-メタクリロキシプロピルシラントリオール、3-メタクリロキシプロピルメチルシランジオール、3-アクリロキシプロピルシラントリオール、3-メルカプトプロピルシラントリオール、3-メルカプトプロピルメチルシランジオール、N-フェニル-3-アミノプロピルシラントリオール、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルシランジオール等も用いることができる。 Also, examples of silicon compounds having a condensable functional group and a reactive group include vinyl silanetriol, 3-glycidoxypropyl silanetriol, 3-glycidoxypropyl methyl silanediol, 3-methacryloxypropyl silanetriol, 3-methacryloxypropyl methyl silanediol, 3-acryloxypropyl silanetriol, 3-mercaptopropyl silanetriol, 3-mercaptopropyl methyl silanediol, N-phenyl-3-aminopropyl silanetriol, and N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl methyl silanediol.

さらに、分子末端の加水分解性の官能基が3個以下のケイ素化合物であるビストリメトキシシリルメタン、ビストリメトキシシリルエタン、ビストリメトキシシリルヘキサン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等も用いることができる。 In addition, silicon compounds having three or less hydrolyzable functional groups at the molecular end, such as bistrimethoxysilylmethane, bistrimethoxysilylethane, bistrimethoxysilylhexane, ethyltrimethoxysilane, and vinyltrimethoxysilane, can also be used.

加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物(ポリシロキサン化合物を除く)、及び、加水分解性の官能基を有する当該ケイ素化合物の加水分解生成物は、単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 Silicon compounds (excluding polysiloxane compounds) having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups, and hydrolysis products of the silicon compounds having hydrolyzable functional groups, may be used alone or in combination of two or more types.

上記のケイ素化合物(ポリシロキサン化合物を除く)を使用することにより、下記一般式(4)~(6)で表される構造をエアロゲルの骨格中に導入することができる。本実施形態に係るエアロゲルは、これらの構造をのうちいずれかを単独で、又は2種以上有することができる。 By using the above silicon compounds (excluding polysiloxane compounds), structures represented by the following general formulas (4) to (6) can be introduced into the skeleton of the aerogel. The aerogel according to this embodiment can have any one of these structures alone, or two or more of them.

式(4)中、Rはアルキル基を示す。ここで、アルキル基としては炭素数が1~6のアルキル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。 In formula (4), R9 represents an alkyl group, and examples of the alkyl group include those having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group.

式(5)中、R10及びR11はそれぞれ独立にアルキル基を示す。ここで、アルキル基としては炭素数が1~6のアルキル基等が挙げられ、当該アルキル基としてはメチル基等が挙げられる。 In formula (5), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group, and examples of the alkyl group include those having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group.

式(6)中、R12はアルキレン基を示す。ここで、アルキレン基としては炭素数が1~10のアルキレン基等が挙げられ、当該アルキレン基としてはエチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。 In formula (6), R 12 represents an alkylene group. Here, the alkylene group may be an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and examples of the alkylene group include an ethylene group and a hexylene group.

(第四の態様)
本実施形態に係るエアロゲルは、さらに強靱化する観点並びにさらに優れた断熱性及び柔軟性を達成する観点から、エアロゲル成分に加え、さらにシリカ粒子を含有していてもよい。エアロゲル成分及びシリカ粒子を含有するエアロゲルを、エアロゲル複合体ということもできる。エアロゲル複合体は、エアロゲル成分とシリカ粒子とが複合化されていながらも、エアロゲルの特徴であるクラスター構造を有しており、三次元的に微細な多孔性の構造を有していると考えられる。
(Fourth aspect)
The aerogel according to the present embodiment may further contain silica particles in addition to the aerogel component in order to further increase toughness and to achieve even better heat insulation and flexibility. An aerogel containing an aerogel component and silica particles can also be called an aerogel composite. Although the aerogel composite is a composite of the aerogel component and the silica particles, it has a cluster structure that is characteristic of aerogel and is considered to have a three-dimensional fine porous structure.

エアロゲル成分及びシリカ粒子を含有するエアロゲルは、上述の、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物、及び、加水分解性の官能基を有するケイ素化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種と、シリカ粒子と、を含有するゾルの縮合物である湿潤ゲルの乾燥物ということができる。したがって、第一の態様~第三の態様に関する記載は、本実施形態に係るエアロゲルに対しても適宜準用することができる。 The aerogel containing the aerogel component and silica particles can be said to be a dried product of a wet gel that is a condensation product of a sol containing silica particles and at least one selected from the group consisting of silicon compounds having hydrolyzable functional groups or condensable functional groups and hydrolysis products of silicon compounds having hydrolyzable functional groups. Therefore, the descriptions regarding the first to third aspects can be appropriately applied mutatis mutandis to the aerogel according to this embodiment.

シリカ粒子としては、特に制限なく用いることができ、非晶質シリカ粒子等が挙げられる。非晶質シリカ粒子としては、溶融シリカ粒子、ヒュームドシリカ粒子、コロイダルシリカ粒子等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカ粒子は単分散性が高く、ゾル中での凝集を抑制し易い。なお、シリカ粒子としては、中空構造、多孔質構造等を有するシリカ粒子であってもよい。 As the silica particles, there are no particular limitations and examples thereof include amorphous silica particles. Examples of amorphous silica particles include fused silica particles, fumed silica particles, colloidal silica particles, etc. Among these, colloidal silica particles have high monodispersity and are easy to suppress aggregation in the sol. The silica particles may be silica particles having a hollow structure, a porous structure, etc.

シリカ粒子の形状は特に制限されず、球状、繭型、会合型等が挙げられる。これらのうち、シリカ粒子として球状の粒子を用いることにより、ゾル中での凝集を抑制し易くなる。シリカ粒子の平均一次粒子径は、適度な強度及び柔軟性をエアロゲルに付与し易く、乾燥時の耐収縮性に優れるエアロゲルが得易い観点から、1nm以上であってもよく、5nm以上であってもよく、20nm以上であってもよい。シリカ粒子の平均一次粒子径は、シリカ粒子の固体熱伝導を抑制し易くなり、断熱性に優れるエアロゲルが得易くなる観点から、500nm以下であってもよく、300nm以下であってもよく、100nm以下であってもよい。これらの観点から、シリカ粒子の平均一次粒子径は、1~500nmであってもよく、5~300nmであってもよく、20~100nmであってもよい。 The shape of the silica particles is not particularly limited, and examples thereof include spherical, cocoon-shaped, and association-shaped. Among these, the use of spherical silica particles as silica particles makes it easier to suppress aggregation in the sol. The average primary particle diameter of the silica particles may be 1 nm or more, 5 nm or more, or 20 nm or more, from the viewpoint of easily imparting appropriate strength and flexibility to the aerogel and easily obtaining an aerogel with excellent shrinkage resistance when dried. The average primary particle diameter of the silica particles may be 500 nm or less, 300 nm or less, or 100 nm or less, from the viewpoint of easily suppressing the solid thermal conductivity of the silica particles and easily obtaining an aerogel with excellent heat insulation. From these viewpoints, the average primary particle diameter of the silica particles may be 1 to 500 nm, 5 to 300 nm, or 20 to 100 nm.

本実施形態において、エアロゲル成分の平均粒子径及びシリカ粒子の平均一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(以下「SEM」と略記する。)を用いてエアロゲルを直接観察することにより得ることができる。ここでいう「直径」とは、エアロゲルの断面に露出した粒子の断面を円とみなした場合の直径を意味する。また、「断面を円とみなした場合の直径」とは、断面の面積を同じ面積の真円に置き換えたときの当該真円の直径のことである。なお、平均粒子径の算出に当たっては、100個の粒子について円の直径を求め、その平均を取るものとする。 In this embodiment, the average particle size of the aerogel components and the average primary particle size of the silica particles can be obtained by directly observing the aerogel using a scanning electron microscope (hereinafter abbreviated as "SEM"). The "diameter" here means the diameter when the cross section of the particle exposed on the cross section of the aerogel is regarded as a circle. In addition, the "diameter when the cross section is regarded as a circle" means the diameter of the perfect circle when the area of the cross section is replaced with a perfect circle of the same area. In addition, when calculating the average particle size, the diameters of the circles are obtained for 100 particles and the average is taken.

なお、シリカ粒子の平均粒子径は、原料からも測定することができる。例えば、二軸平均一次粒子径は、任意の粒子20個をSEMにより観察した結果から、次のようにして算出される。すなわち、通常固形分濃度が5~40質量%程度で、水中に分散しているコロイダルシリカ粒子を例にすると、コロイダルシリカ粒子の分散液に、パターン配線付きウエハを2cm角に切って得られたチップを約30秒浸した後、当該チップを純水にて約30秒間すすぎ、窒素ブロー乾燥する。その後、チップをSEM観察用の試料台に載せ、加速電圧10kVを掛け、10万倍の倍率にてシリカ粒子を観察し、画像を撮影する。得られた画像から20個のシリカ粒子を任意に選択し、それらの粒子の粒子径の平均を平均粒子径とする。 The average particle size of silica particles can also be measured from the raw material. For example, the biaxial average primary particle size is calculated as follows from the results of observing 20 random particles by SEM. That is, taking colloidal silica particles dispersed in water, which usually have a solid content concentration of about 5 to 40% by mass, as an example, a chip obtained by cutting a wafer with pattern wiring into 2 cm squares is immersed in a dispersion of colloidal silica particles for about 30 seconds, and then the chip is rinsed with pure water for about 30 seconds and dried by nitrogen blow. The chip is then placed on a sample stage for SEM observation, an accelerating voltage of 10 kV is applied, and the silica particles are observed at a magnification of 100,000 times, and an image is taken. 20 silica particles are arbitrarily selected from the obtained image, and the average particle size of those particles is taken as the average particle size.

シリカ粒子の1g当たりのシラノール基数は、耐収縮性に優れるエアロゲルを得易くなる観点から、10×1018個/g以上であってもよく、50×1018個/g以上であってもよく、100×1018個/g以上であってもよい。シリカ粒子の1g当たりのシラノール基数は、均質なエアロゲルが得易くなる観点から、1000×1018個/g以下であってもよく、800×1018個/g以下であってもよく、700×1018個/g以下であってもよい。これらの観点から、シリカ粒子の1g当たりのシラノール基数は、10×1018~1000×1018個/gであってもよく、50×1018~800×1018個/gであってもよく、100×1018~700×1018個/gであってもよい。 The number of silanol groups per 1 g of silica particles may be 10×10 18 / g or more, 50×10 18 / g or more, or 100×10 18 / g or more, from the viewpoint of facilitating the production of an aerogel having excellent shrinkage resistance. The number of silanol groups per 1 g of silica particles may be 1000×10 18 / g or less, 800× 10 18 / g or less, or 700×10 18 / g or less, from the viewpoint of facilitating the production of a homogeneous aerogel. From these viewpoints, the number of silanol groups per 1 g of silica particles may be 10×10 18 to 1000×10 18 / g, 50×10 18 to 800×10 18 / g, or 100×10 18 to 700×10 18 / g.

上記ゾルに含まれるポリシロキサン化合物群の含有量(加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物の含有量、及び、加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物の含有量の総和)は、良好な反応性をさらに得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、5質量部以上であってもよく、10質量部以上であってもよい。上記ゾルに含まれるポリシロキサン化合物群の含有量は、良好な相溶性をさらに得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、50質量部以下であってもよく、30質量部以下であってもよい。これらの観点から、上記ゾルに含まれるポリシロキサン化合物群の含有量は、ゾルの総量100質量部に対し、5~50質量部であってもよく、10~30質量部であってもよい。 The content of the polysiloxane compound group contained in the sol (the total content of the polysiloxane compound having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group and the content of the hydrolysis product of the polysiloxane compound having a hydrolyzable functional group) may be 5 parts by mass or more, or 10 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the total amount of the sol, from the viewpoint of further facilitating obtaining good reactivity. The content of the polysiloxane compound group contained in the sol may be 50 parts by mass or less, or 30 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total amount of the sol, from the viewpoint of further facilitating obtaining good compatibility. From these viewpoints, the content of the polysiloxane compound group contained in the sol may be 5 to 50 parts by mass, or 10 to 30 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the sol.

上記ゾルがケイ素化合物(ポリシロキサン化合物を除く)を含有する場合、ケイ素化合物群(加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するケイ素化合物の含有量、及び、加水分解性の官能基を有するケイ素化合物の加水分解生成物の含有量の総和)は、良好な反応性をさらに得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、5質量部以上であってもよく、10質量部以上であってもよい。上記ゾルに含まれるケイ素化合物群の含有量は、良好な相溶性をさらに得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、50質量部以下であってもよく、30質量部以下であってもよい。これらの観点から、上記ゾルに含まれるケイ素化合物群の含有量は、5~50質量部であってもよく、10~30質量部であってもよい。 When the sol contains a silicon compound (excluding polysiloxane compounds), the silicon compound group (the content of the silicon compound having a hydrolyzable functional group or a condensable functional group, and the total content of the hydrolysis product of the silicon compound having a hydrolyzable functional group) may be 5 parts by mass or more, or 10 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the total amount of the sol, from the viewpoint of further facilitating obtaining good reactivity. The content of the silicon compound group contained in the sol may be 50 parts by mass or less, or 30 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total amount of the sol, from the viewpoint of further facilitating obtaining good compatibility. From these viewpoints, the content of the silicon compound group contained in the sol may be 5 to 50 parts by mass, or 10 to 30 parts by mass.

ゾルが、ポリシロキサン化合物群及びケイ素化合物群を共に含む場合、ポリシロキサン化合物群の含有量と、ケイ素化合物群の含有量との比は、良好な相溶性がさらに得易くなる観点から、1:0.5以上であってもよく、1:1以上であってもよい。ポリシロキサン化合物群の含有量と、ケイ素化合物群の含有量との比は、ゲルの収縮がさらに抑制し易くなる観点から、1:4以下であってもよく、1:2以下であってもよい。これらの観点から、ポリシロキサン化合物群の含有量と、ケイ素化合物群の含有量との比は、1:0.5~1:4であってもよく、1:1~1:2であってもよい。 When the sol contains both a polysiloxane compound group and a silicon compound group, the ratio of the content of the polysiloxane compound group to the content of the silicon compound group may be 1:0.5 or more, or may be 1:1 or more, from the viewpoint of making it easier to obtain good compatibility. The ratio of the content of the polysiloxane compound group to the content of the silicon compound group may be 1:4 or less, or may be 1:2 or less, from the viewpoint of making it easier to suppress shrinkage of the gel. From these viewpoints, the ratio of the content of the polysiloxane compound group to the content of the silicon compound group may be 1:0.5 to 1:4, or may be 1:1 to 1:2.

上記ゾルにシリカ粒子が含まれる場合、シリカ粒子の含有量は、適度な強度をエアロゲルに付与し易くなり、乾燥時の耐収縮性に優れるエアロゲルが得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、1質量部以上であってもよく、4質量部以上であってもよい。シリカ粒子の含有量は、シリカ粒子の固体熱伝導を抑制し易くなり、断熱性に優れるエアロゲルが得易くなる観点から、ゾルの総量100質量部に対し、20質量部以下であってもよく、15質量部以下であってもよい。これらの観点から、シリカ粒子の含有量は、ゾルの総量100質量部に対し、1~20質量部であってもよく、4~15質量部であってもよい。 When the sol contains silica particles, the content of the silica particles may be 1 part by mass or more, or 4 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the total sol, from the viewpoint of easily imparting an appropriate strength to the aerogel and easily obtaining an aerogel having excellent shrinkage resistance when dried. The content of the silica particles may be 20 parts by mass or less, or 15 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total sol, from the viewpoint of easily suppressing the solid thermal conductivity of the silica particles and easily obtaining an aerogel having excellent heat insulation. From these viewpoints, the content of the silica particles may be 1 to 20 parts by mass, or 4 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total sol.

<エアロゲル粒子>
本実施形態におけるエアロゲル粒子は、例えば後述のとおりバルクのエアロゲルを粉砕することにより得ることができる。
<Aerogel particles>
The aerogel particles in this embodiment can be obtained, for example, by pulverizing a bulk aerogel as described later.

エアロゲル粒子の比表面積は350m/g以下とすることができるが、300m/g以下であってもよく、250m/g以下であってもよく、150m/g以下であってもよい。これにより、成膜性に優れる塗液を調製し易い。エアロゲル粒子の比表面積の下限は特に限定されないが、塗液中での凝集抑制及び充填率の向上という観点から、30m/g程度とすることができる。エアロゲル粒子の比表面積を調整する方法としては様々考えられるが、例えば、一般式(2)で表される橋架け部構造を有するエアロゲル成分の量を調整すること、シリカ粒子の量を調整すること等が挙げられる。 The specific surface area of the aerogel particles can be 350 m 2 /g or less, but may be 300 m 2 /g or less, 250 m 2 /g or less, or 150 m 2 /g or less. This makes it easy to prepare a coating liquid with excellent film-forming properties. The lower limit of the specific surface area of the aerogel particles is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing aggregation in the coating liquid and improving the filling rate, it can be about 30 m 2 /g. There are various methods for adjusting the specific surface area of the aerogel particles, and examples of such methods include adjusting the amount of an aerogel component having a bridge structure represented by general formula (2) and adjusting the amount of silica particles.

比表面積はBET法により測定することができる。測定装置としては、ガス吸着量測定装置(カンタクローム・インスツルメンツ・ジャパン合同会社製、Autosorb-iQ(Autosorbは登録商標))を用いることができる。 The specific surface area can be measured by the BET method. A gas adsorption measurement device (Autosorb-iQ (Autosorb is a registered trademark) manufactured by Quantachrome Instruments Japan, LLC) can be used as the measurement device.

エアロゲル粒子の平均粒子径D50は1~1000μmとすることができるが、3~700μmであってもよく、5~500μmであってもよく、10~100μmであってもよく、10~50μmであってもよい。エアロゲル粒子の平均粒子径D50が1μm以上であることにより、分散性、取り扱い性等に優れるエアロゲル粒子が得易くなる。一方、平均粒子径D50が1000μm以下であることにより、分散性に優れるエアロゲル粒子が得易くなる。エアロゲル粒子の平均粒子径は、粉砕方法及び粉砕条件、ふるい、分級の仕方等により適宜調整することができる。 The average particle diameter D50 of the aerogel particles can be 1 to 1000 μm, but may also be 3 to 700 μm, 5 to 500 μm, 10 to 100 μm, or 10 to 50 μm. When the average particle diameter D50 of the aerogel particles is 1 μm or more, it becomes easier to obtain aerogel particles with excellent dispersibility, ease of handling, etc. On the other hand, when the average particle diameter D50 is 1000 μm or less, it becomes easier to obtain aerogel particles with excellent dispersibility. The average particle diameter of the aerogel particles can be appropriately adjusted by the grinding method and grinding conditions, sieves, classification method, etc.

エアロゲル粒子の平均粒子径D50はレーザー回折・散乱法により測定することができる。例えば、溶媒(エタノール)に、エアロゲル粒子の含有量が0.05~5質量%となるように添加し、50Wの超音波ホモジナイザーで15~30分振動することによって、エアロゲル粒子の分散を行う。その後、分散液の約10mL程度をレーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置に注入して、25℃で、屈折率1.3、吸収0として粒子径を測定する。そして、この粒子径分布における積算値50%(体積基準)での粒径を平均粒子径D50とする。測定装置としては、例えばMicrotrac MT3000(日機装株式会社製、製品名)を用いることができる。 The average particle diameter D50 of aerogel particles can be measured by a laser diffraction/scattering method. For example, aerogel particles are added to a solvent (ethanol) so that the content of the particles is 0.05 to 5% by mass, and the aerogel particles are dispersed by vibrating a 50W ultrasonic homogenizer for 15 to 30 minutes. After that, about 10 mL of the dispersion is injected into a laser diffraction/scattering type particle size distribution measuring device, and the particle size is measured at 25°C, with a refractive index of 1.3 and an absorption of 0. The particle diameter at an integrated value of 50% (volume basis) in this particle size distribution is taken as the average particle diameter D50. For example, a Microtrac MT3000 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., product name) can be used as a measuring device.

また、エアロゲル粒子としては、市販品を用いることもできる。エアロゲル粒子の市販品としては、例えば、ENOVA IC3100(CABOT社製)、AeroVa(JIOS AEROGEL CORPORATION社製)等が挙げられる。 In addition, commercially available products can be used as the aerogel particles. Examples of commercially available aerogel particles include ENOVA IC3100 (manufactured by CABOT Corporation) and AeroVa (manufactured by JIS AEROGEL CORPORATION).

<エアロゲル粒子の製造方法>
エアロゲル粒子の製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の方法により製造することができる。
<Method of manufacturing aerogel particles>
The method for producing the aerogel particles is not particularly limited, but for example, the aerogel particles can be produced by the following method.

本実施形態のエアロゲル粒子は、ゾル生成工程と、ゾル生成工程で得られたゾルをゲル化し、その後熟成して湿潤ゲルを得る湿潤ゲル生成工程と、湿潤ゲル生成工程で得られた湿潤ゲルを洗浄及び(必要に応じ)溶媒置換する洗浄及び溶媒置換工程と、洗浄及び溶媒置換した湿潤ゲルを乾燥する乾燥工程と、乾燥により得られたエアロゲルを粉砕する粉砕工程とを主に備える製造方法により製造することができる。 The aerogel particles of this embodiment can be produced by a production method that mainly includes a sol production process, a wet gel production process in which the sol obtained in the sol production process is gelled and then aged to obtain a wet gel, a washing and solvent replacement process in which the wet gel obtained in the wet gel production process is washed and (if necessary) solvent-replaced, a drying process in which the washed and solvent-replaced wet gel is dried, and a crushing process in which the aerogel obtained by drying is crushed.

また、ゾル生成工程と、湿潤ゲル生成工程と、湿潤ゲル生成工程で得られた湿潤ゲルを粉砕する湿潤ゲル粉砕工程と、洗浄及び溶媒置換工程と、乾燥工程とを主に備える製造方法により製造してもよい。 It may also be produced by a production method that mainly includes a sol production process, a wet gel production process, a wet gel crushing process for crushing the wet gel obtained in the wet gel production process, a cleaning and solvent replacement process, and a drying process.

得られたエアロゲル粒子は、ふるい、分級等によって大きさをさらに揃えることができる。粒子の大きさを整えることで分散性を高めることができる。なお、「ゾル」とは、ゲル化反応が生じる前の状態であって、本実施形態においては上記ケイ素化合物と、場合によりシリカ粒子と、が溶媒中に溶解又は分散している状態を意味する。また、湿潤ゲルとは、液体媒体を含んでいながらも、流動性を有しない湿潤状態のゲル固形物を意味する。 The size of the obtained aerogel particles can be further uniformed by sieving, classification, etc. By adjusting the particle size, the dispersibility can be improved. Note that "sol" refers to the state before the gelation reaction occurs, and in this embodiment, refers to the state in which the silicon compound and, in some cases, silica particles are dissolved or dispersed in a solvent. Also, a wet gel refers to a gel solid in a wet state that does not have fluidity even though it contains a liquid medium.

(ゾル生成工程)
ゾル生成工程は、ケイ素化合物と、場合によりシリカ粒子(シリカ粒子を含む溶媒であってもよい)と、を混合して加水分解反応を行った後、ゾルを生成する工程である。本工程においては、加水分解反応を促進させるため、溶媒中にさらに酸触媒を添加してもよい。また、特許第5250900号公報に示されるように、溶媒中に界面活性剤、熱加水分解性化合物等を添加することもできる。さらに、熱線輻射抑制等を目的として、溶媒中にカーボングラファイト、アルミニウム化合物、マグネシウム化合物、銀化合物、チタン化合物等の成分を添加してもよい。
(Sol generation process)
The sol generation process is a process of mixing a silicon compound and, optionally, silica particles (or a solvent containing silica particles) to carry out a hydrolysis reaction, and then generating a sol. In this process, an acid catalyst may be further added to the solvent to promote the hydrolysis reaction. In addition, as shown in Japanese Patent No. 5250900, a surfactant, a thermally hydrolyzable compound, etc. may be added to the solvent. Furthermore, for the purpose of suppressing heat radiation, etc., components such as carbon graphite, an aluminum compound, a magnesium compound, a silver compound, and a titanium compound may be added to the solvent.

溶媒としては、例えば、水、又は、水及びアルコールの混合液を用いることができる。アルコールとしては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール、2-ブタノール、t-ブタノール等が挙げられる。これらの中でも、ゲル壁との界面張力を低減させる点で、表面張力が低くかつ沸点の低いアルコールとしては、メタノール、エタノール、2-プロパノール等が挙げられる。これらは単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 As the solvent, for example, water or a mixture of water and alcohol can be used. Examples of alcohol include methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, 2-butanol, and t-butanol. Among these, examples of alcohols that have low surface tension and low boiling points in terms of reducing the interfacial tension with the gel wall include methanol, ethanol, and 2-propanol. These may be used alone or in a mixture of two or more types.

例えば溶媒としてアルコールを用いる場合、アルコールの量は、ケイ素化合物群及びポリシロキサン化合物群の総量1モルに対し、4~8モルとすることができるが、4~6.5であってもよく、又は4.5~6モルであってもよい。アルコールの量を4モル以上にすることにより良好な相溶性をさらに得易くなり、また、8モル以下にすることによりゲルの収縮をさらに抑制し易くなる。 For example, when alcohol is used as the solvent, the amount of alcohol can be 4 to 8 moles per mole of the total amount of the silicon compound group and the polysiloxane compound group, but it may also be 4 to 6.5, or 4.5 to 6 moles. By making the amount of alcohol 4 moles or more, it becomes easier to obtain good compatibility, and by making it 8 moles or less, it becomes easier to suppress the shrinkage of the gel.

酸触媒としては、フッ酸、塩酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、臭素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸等の無機酸;酸性リン酸アルミニウム、酸性リン酸マグネシウム、酸性リン酸亜鉛等の酸性リン酸塩;酢酸、ギ酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、クエン酸、リンゴ酸、アジピン酸、アゼライン酸等の有機カルボン酸などが挙げられる。これらの中でも、得られるエアロゲルの耐水性をより向上する酸触媒としては有機カルボン酸が挙げられる。当該有機カルボン酸としては酢酸が挙げられるが、ギ酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸等であってもよい。これらは単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 Examples of acid catalysts include inorganic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, bromic acid, chloric acid, chlorous acid, hypochlorous acid, etc.; acid phosphates such as acid aluminum phosphate, acid magnesium phosphate, and acid zinc phosphate; and organic carboxylic acids such as acetic acid, formic acid, propionic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, citric acid, malic acid, adipic acid, and azelaic acid. Among these, examples of acid catalysts that further improve the water resistance of the resulting aerogel include organic carboxylic acids. Examples of the organic carboxylic acid include acetic acid, but may also be formic acid, propionic acid, oxalic acid, malonic acid, etc. These may be used alone or in a mixture of two or more types.

酸触媒を用いることで、ケイ素化合物の加水分解反応を促進させて、より短時間でゾルを得ることができる。 By using an acid catalyst, the hydrolysis reaction of the silicon compound can be accelerated, allowing the sol to be obtained in a shorter time.

酸触媒の添加量は、ポリシロキサン化合物群及びケイ素化合物群の総量100質量部に対し、0.001~0.1質量部とすることができる。 The amount of acid catalyst added can be 0.001 to 0.1 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the polysiloxane compound group and the silicon compound group.

界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤等を用いることができる。これらは単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 As the surfactant, a nonionic surfactant, an ionic surfactant, etc. can be used. These may be used alone or in combination of two or more types.

非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレン等の親水部と主にアルキル基からなる疎水部とを含む化合物、ポリオキシプロピレン等の親水部を含む化合物などを使用できる。ポリオキシエチレン等の親水部と主にアルキル基からなる疎水部とを含む化合物としては、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等が挙げられる。ポリオキシプロピレン等の親水部を含む化合物としては、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンのブロック共重合体等が挙げられる。 As the nonionic surfactant, for example, a compound containing a hydrophilic part such as polyoxyethylene and a hydrophobic part mainly composed of an alkyl group, or a compound containing a hydrophilic part such as polyoxypropylene can be used. Examples of compounds containing a hydrophilic part such as polyoxyethylene and a hydrophobic part mainly composed of an alkyl group include polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, and polyoxyethylene alkyl ether. Examples of compounds containing a hydrophilic part such as polyoxypropylene include polyoxypropylene alkyl ether and block copolymers of polyoxyethylene and polyoxypropylene.

イオン性界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤等が挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、臭化セチルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム等が挙げられ、アニオン性界面活性剤としては、ドデシルスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。また、両イオン性界面活性剤としては、アミノ酸系界面活性剤、ベタイン系界面活性剤、アミンオキシド系界面活性剤等が挙げられる。アミノ酸系界面活性剤としては、例えば、アシルグルタミン酸等が挙げられる。ベタイン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ステアリルジメチルアミノ酢酸ベタイン等が挙げられる。アミンオキシド系界面活性剤としては、例えばラウリルジメチルアミンオキシドが挙げられる。 Examples of ionic surfactants include cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants. Examples of cationic surfactants include cetyltrimethylammonium bromide and cetyltrimethylammonium chloride, and examples of anionic surfactants include sodium dodecylsulfonate. Examples of amphoteric surfactants include amino acid surfactants, betaine surfactants, and amine oxide surfactants. Examples of amino acid surfactants include acyl glutamic acid. Examples of betaine surfactants include lauryl dimethyl amino acetate betaine and stearyl dimethyl amino acetate betaine. Examples of amine oxide surfactants include lauryl dimethyl amine oxide.

これらの界面活性剤は、後述する湿潤ゲル生成工程において、反応系中の溶媒と、成長していくシロキサン重合体との間の化学的親和性の差異を小さくし、相分離を抑制する作用をすると考えられている。 These surfactants are thought to act to reduce the difference in chemical affinity between the solvent in the reaction system and the growing siloxane polymer in the wet gel formation process described below, thereby suppressing phase separation.

界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、あるいはケイ素化合物の種類及び量にも左右されるが、例えばポリシロキサン化合物群及びケイ素化合物群の総量100質量部に対し、1~100質量部とすることができる。なお、同添加量は5~60質量部であってもよい。 The amount of surfactant added depends on the type of surfactant or the type and amount of silicon compound, but can be, for example, 1 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of polysiloxane compounds and silicon compounds. The amount may be 5 to 60 parts by mass.

熱加水分解性化合物は、熱加水分解により塩基触媒を発生して、反応溶液を塩基性とし、後述する湿潤ゲル生成工程でのゾルゲル反応を促進すると考えられている。よって、この熱加水分解性化合物としては、加水分解後に反応溶液を塩基性にできる化合物であれば、特に限定されず、尿素;ホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等の酸アミド;ヘキサメチレンテトラミン等の環状窒素化合物などを挙げることができる。これらの中でも、特に尿素は上記促進効果を得られ易い。 Thermohydrolyzable compounds generate a base catalyst by thermal hydrolysis, which makes the reaction solution basic and is thought to promote the sol-gel reaction in the wet gel production process described below. Therefore, the thermohydrolyzable compound is not particularly limited as long as it is a compound that can make the reaction solution basic after hydrolysis, and examples of the compound include urea; acid amides such as formamide, N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide; and cyclic nitrogen compounds such as hexamethylenetetramine. Among these, urea is particularly likely to achieve the above-mentioned promoting effect.

熱加水分解性化合物の添加量は、後述する湿潤ゲル生成工程でのゾルゲル反応を十分に促進することができる量であれば、特に限定されない。例えば、熱加水分解性化合物として尿素を用いた場合、その添加量は、ポリシロキサン化合物群及びケイ素化合物群の総量100質量部に対して、1~200質量部とすることができる。なお、同添加量は2~150質量部であってもよい。添加量を1質量部以上とすることにより、良好な反応性をさらに得易くなり、また、200質量部以下とすることにより、結晶の析出及びゲル密度の低下をさらに抑制し易くなる。 The amount of the thermohydrolyzable compound added is not particularly limited as long as it is an amount that can sufficiently promote the sol-gel reaction in the wet gel generation process described below. For example, when urea is used as the thermohydrolyzable compound, the amount added can be 1 to 200 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the polysiloxane compound group and the silicon compound group. The amount added may be 2 to 150 parts by mass. By adding an amount of 1 part by mass or more, it becomes easier to obtain good reactivity, and by adding an amount of 200 parts by mass or less, it becomes easier to suppress crystal precipitation and a decrease in gel density.

ゾル生成工程の加水分解は、混合液中のケイ素化合物、シリカ粒子、酸触媒、界面活性剤等の種類及び量にも左右されるが、例えば20~60℃の温度環境下で10分~24時間行ってもよく、50~60℃の温度環境下で5分~8時間行ってもよい。これにより、ケイ素化合物中の加水分解性官能基が十分に加水分解され、ケイ素化合物の加水分解生成物をより確実に得ることができる。 The hydrolysis in the sol production process depends on the type and amount of silicon compound, silica particles, acid catalyst, surfactant, etc. in the mixed liquid, but may be carried out, for example, in a temperature environment of 20 to 60°C for 10 minutes to 24 hours, or in a temperature environment of 50 to 60°C for 5 minutes to 8 hours. This allows the hydrolyzable functional groups in the silicon compound to be sufficiently hydrolyzed, making it possible to more reliably obtain a hydrolysis product of the silicon compound.

ただし、溶媒中に熱加水分解性化合物を添加する場合は、ゾル生成工程の温度環境を、熱加水分解性化合物の加水分解を抑制してゾルのゲル化を抑制する温度に調節してもよい。この時の温度は、熱加水分解性化合物の加水分解を抑制できる温度であれば、いずれの温度であってもよい。例えば、熱加水分解性化合物として尿素を用いた場合は、ゾル生成工程の温度環境は0~40℃とすることができるが、10~30℃であってもよい。 However, when a thermohydrolyzable compound is added to the solvent, the temperature environment of the sol generation process may be adjusted to a temperature that suppresses hydrolysis of the thermohydrolyzable compound and suppresses gelation of the sol. The temperature at this time may be any temperature that can suppress hydrolysis of the thermohydrolyzable compound. For example, when urea is used as the thermohydrolyzable compound, the temperature environment of the sol generation process may be 0 to 40°C, but may also be 10 to 30°C.

(湿潤ゲル生成工程)
湿潤ゲル生成工程は、ゾル生成工程で得られたゾルをゲル化し、その後熟成して湿潤ゲルを得る工程である。本工程では、ゲル化を促進させるため塩基触媒を用いることができる。
(Wet gel production process)
The wet gel forming step is a step of gelling the sol obtained in the sol forming step, followed by aging to obtain a wet gel. In this step, a base catalyst can be used to promote gelling.

塩基触媒としては、炭酸カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸アンモニウム、炭酸銅(II)、炭酸鉄(II)、炭酸銀(I)等の炭酸塩類;炭酸水素カルシウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム等の炭酸水素塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物;水酸化アンモニウム、フッ化アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム等のアンモニウム化合物;メタ燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリウム、ポリ燐酸ナトリウム等の塩基性燐酸ナトリウム塩;アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、3-エトキシプロピルアミン、ジイソブチルアミン、3-(ジエチルアミノ)プロピルアミン、ジ-2-エチルヘキシルアミン、3-(ジブチルアミノ)プロピルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、t-ブチルアミン、sec-ブチルアミン、プロピルアミン、3-(メチルアミノ)プロピルアミン、3-(ジメチルアミノ)プロピルアミン、3-メトキシアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の脂肪族アミン類;モルホリン、N-メチルモルホリン、2-メチルモルホリン、ピペラジン及びその誘導体、ピペリジン及びその誘導体、イミダゾール及びその誘導体等の含窒素複素環状化合物類などが挙げられる。これらの中でも、水酸化アンモニウム(アンモニア水)は、揮発性が高く、乾燥後のエアロゲル粒子中に残存し難いため耐水性を損ない難いという点、さらには経済性の点で優れている。上記の塩基触媒は単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 Examples of base catalysts include carbonates such as calcium carbonate, potassium carbonate, sodium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, lithium carbonate, ammonium carbonate, copper (II) carbonate, iron (II) carbonate, and silver (I) carbonate; hydrogen carbonates such as calcium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, and ammonium hydrogen carbonate; alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide; ammonium compounds such as ammonium hydroxide, ammonium fluoride, ammonium chloride, and ammonium bromide; basic sodium phosphates such as sodium metaphosphate, sodium pyrophosphate, and sodium polyphosphate; allylamine, diallylamine, triallylamine, isopropylamine, diisopropylamine, ethylamine, diethylamine, Aliphatic amines such as amine, triethylamine, 2-ethylhexylamine, 3-ethoxypropylamine, diisobutylamine, 3-(diethylamino)propylamine, di-2-ethylhexylamine, 3-(dibutylamino)propylamine, tetramethylethylenediamine, t-butylamine, sec-butylamine, propylamine, 3-(methylamino)propylamine, 3-(dimethylamino)propylamine, 3-methoxyamine, dimethylethanolamine, methyldiethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine; nitrogen-containing heterocyclic compounds such as morpholine, N-methylmorpholine, 2-methylmorpholine, piperazine and its derivatives, piperidine and its derivatives, and imidazole and its derivatives. Among these, ammonium hydroxide (aqueous ammonia) is highly volatile and does not easily remain in the aerogel particles after drying, so it is not likely to impair water resistance, and is also excellent in terms of economy. The above-mentioned base catalysts may be used alone or in a mixture of two or more types.

塩基触媒を用いることで、ゾル中のケイ素化合物、及びシリカ粒子の、脱水縮合反応又は脱アルコール縮合反応を促進することができ、ゾルのゲル化をより短時間で行うことができる。また、これにより、強度(剛性)のより高い湿潤ゲルを得ることができる。特に、アンモニアは揮発性が高く、エアロゲル粒子中に残留し難いので、塩基触媒としてアンモニアを用いることで、より耐水性の優れたエアロゲル粒子を得ることができる。 By using a base catalyst, it is possible to promote the dehydration condensation reaction or the dealcoholization condensation reaction of the silicon compound and silica particles in the sol, and the gelation of the sol can be carried out in a shorter time. This also makes it possible to obtain a wet gel with greater strength (rigidity). In particular, since ammonia is highly volatile and does not easily remain in the aerogel particles, it is possible to obtain aerogel particles with better water resistance by using ammonia as a base catalyst.

塩基触媒の添加量は、ポリシロキサン化合物群及びケイ素化合物群の総量100質量部に対し、0.5~5質量部とすることができるが、1~4質量部であってもよい。0.5質量部以上とすることにより、ゲル化をより短時間で行うことができ、5質量部以下とすることにより、耐水性の低下をより抑制することができる。 The amount of base catalyst added can be 0.5 to 5 parts by mass, but may be 1 to 4 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the polysiloxane compound group and the silicon compound group. By using an amount of 0.5 parts by mass or more, gelation can be performed in a shorter time, and by using an amount of 5 parts by mass or less, the decrease in water resistance can be further suppressed.

湿潤ゲル生成工程におけるゾルのゲル化は、溶媒及び塩基触媒が揮発しないように密閉容器内で行ってもよい。ゲル化温度は、30~90℃とすることができるが、40~80℃であってもよい。ゲル化温度を30℃以上とすることにより、ゲル化をより短時間に行うことができ、強度(剛性)のより高い湿潤ゲルを得ることができる。また、ゲル化温度を90℃以下にすることにより、溶媒(特にアルコール)の揮発を抑制し易くなるため、体積収縮を抑えながらゲル化することができる。 The gelation of the sol in the wet gel production process may be carried out in a sealed container so that the solvent and base catalyst do not volatilize. The gelation temperature may be 30 to 90°C, but may be 40 to 80°C. By setting the gelation temperature at 30°C or higher, gelation can be carried out in a shorter time, and a wet gel with higher strength (rigidity) can be obtained. In addition, by setting the gelation temperature at 90°C or lower, it becomes easier to suppress the volatilization of the solvent (especially alcohol), so gelation can be carried out while suppressing volumetric shrinkage.

湿潤ゲル生成工程における熟成は、溶媒及び塩基触媒が揮発しないように密閉容器内で行ってもよい。熟成により、湿潤ゲルを構成する成分の結合が強くなり、その結果、乾燥時の収縮を抑制するのに十分な強度(剛性)の高い湿潤ゲルを得ることができる。熟成温度は、30~90℃とすることができるが、40~80℃であってもよい。熟成温度を30℃以上とすることにより、強度(剛性)のより高い湿潤ゲルを得ることができ、熟成温度を90℃以下にすることにより、溶媒(特にアルコール)の揮発を抑制し易くなるため、体積収縮を抑えながらゲル化することができる。 The maturation in the wet gel production process may be carried out in a sealed container so that the solvent and base catalyst do not volatilize. The maturation strengthens the bonds between the components that make up the wet gel, resulting in a wet gel with sufficient strength (rigidity) to suppress shrinkage during drying. The maturation temperature may be 30 to 90°C, but may also be 40 to 80°C. By setting the maturation temperature at 30°C or higher, a wet gel with higher strength (rigidity) can be obtained, and by setting the maturation temperature at 90°C or lower, it becomes easier to suppress the evaporation of the solvent (especially alcohol), making it possible to gel while suppressing volumetric shrinkage.

なお、ゾルのゲル化終了時点を判別することは困難な場合が多いため、ゾルのゲル化とその後の熟成とは、連続して一連の操作で行ってもよい。 In addition, since it is often difficult to determine the end point of the sol gelation, the sol gelation and the subsequent aging may be carried out in a continuous series of operations.

ゲル化時間と熟成時間は、ゲル化温度及び熟成温度により適宜設定することができる。ゾル中にシリカ粒子が含まれている場合は、含まれていない場合と比較して、特にゲル化時間を短縮することができる。この理由は、ゾル中のケイ素化合物が有するシラノール基又は反応性基が、シリカ粒子のシラノール基と水素結合又は化学結合を形成するためであると推察する。なお、ゲル化時間は10~120分間とすることができるが、20~90分間であってもよい。ゲル化時間を10分間以上とすることにより均質な湿潤ゲルを得易くなり、120分間以下とすることにより後述する洗浄及び溶媒置換工程から乾燥工程の簡略化が可能となる。なお、ゲル化及び熟成の工程全体として、ゲル化時間と熟成時間との合計時間は、4~480時間とすることができるが、6~120時間であってもよい。ゲル化時間と熟成時間の合計を4時間以上とすることにより、強度(剛性)のより高い湿潤ゲルを得ることができ、480時間以下にすることにより熟成の効果をより維持し易くなる。 The gelation time and aging time can be appropriately set depending on the gelation temperature and aging temperature. When silica particles are contained in the sol, the gelation time can be particularly shortened compared to when silica particles are not contained. This is presumably because the silanol groups or reactive groups of the silicon compound in the sol form hydrogen bonds or chemical bonds with the silanol groups of the silica particles. The gelation time can be 10 to 120 minutes, but may be 20 to 90 minutes. By setting the gelation time to 10 minutes or more, it becomes easier to obtain a homogeneous wet gel, and by setting it to 120 minutes or less, it becomes possible to simplify the washing and solvent replacement process to the drying process described below. The total time of the gelation time and aging time as a whole process of gelation and aging can be 4 to 480 hours, but may be 6 to 120 hours. By setting the total of the gelation time and aging time to 4 hours or more, a wet gel with higher strength (rigidity) can be obtained, and by setting it to 480 hours or less, it becomes easier to maintain the effect of aging.

得られるエアロゲル粒子の密度を下げたり、平均細孔径を大きくするために、ゲル化温度及び熟成温度を上記範囲内で高めたり、ゲル化時間と熟成時間の合計時間を上記範囲内で長くしてもよい。また、得られるエアロゲル粒子の密度を上げたり、平均細孔径を小さくするために、ゲル化温度及び熟成温度を上記範囲内で低くしたり、ゲル化時間と熟成時間の合計時間を上記範囲内で短くしてもよい。 In order to reduce the density of the resulting aerogel particles or to increase the average pore size, the gelation temperature and aging temperature may be increased within the above ranges, or the total time of the gelation time and aging time may be increased within the above ranges. Also, in order to increase the density of the resulting aerogel particles or to decrease the average pore size, the gelation temperature and aging temperature may be decreased within the above ranges, or the total time of the gelation time and aging time may be decreased within the above ranges.

(湿潤ゲル粉砕工程)
湿潤ゲル粉砕工程を行う場合、湿潤ゲル生成工程で得られた湿潤ゲルを粉砕する。粉砕は、例えば、ヘンシャル型ミキサーに湿潤ゲルを入れるか、又はミキサー内で湿潤ゲル生成工程を行い、ミキサーを適度な条件(回転数及び時間)で運転することにより行うことができる。また、より簡易的には密閉可能な容器に湿潤ゲルを入れるか、又は密閉可能な容器内で湿潤ゲル生成工程を行い、シェイカー等の振盪装置を用いて、適度な時間振盪することにより行うことができる。なお、必要に応じて、ジェットミル、ローラーミル、ビーズミル等を用いて、湿潤ゲルの粒子径を調整することもできる。
(Wet gel crushing process)
When the wet gel crushing step is performed, the wet gel obtained in the wet gel generation step is crushed. The crushing can be performed, for example, by putting the wet gel into a Henshall mixer, or by performing the wet gel generation step in a mixer and operating the mixer under appropriate conditions (rotation speed and time). More simply, the wet gel can be placed in a sealable container, or by performing the wet gel generation step in a sealable container, and shaking for an appropriate time using a shaking device such as a shaker. If necessary, the particle size of the wet gel can also be adjusted using a jet mill, a roller mill, a bead mill, or the like.

(洗浄及び溶媒置換工程)
洗浄及び溶媒置換工程は、湿潤ゲル生成工程又は湿潤ゲル粉砕工程により得られた湿潤ゲルを洗浄する工程(洗浄工程)と、湿潤ゲル中の洗浄液を乾燥条件(後述の乾燥工程)に適した溶媒に置換する工程(溶媒置換工程)を有する工程である。洗浄及び溶媒置換工程は、湿潤ゲルを洗浄する工程を行わず、溶媒置換工程のみを行う形態でも実施可能であるが、湿潤ゲル中の未反応物、副生成物等の不純物を低減し、より純度の高いエアロゲル粒子の製造を可能にする観点からは、湿潤ゲルを洗浄してもよい。
(Washing and solvent replacement process)
The washing and solvent replacement process includes a process of washing the wet gel obtained by the wet gel production process or the wet gel crushing process (washing process) and a process of replacing the washing liquid in the wet gel with a solvent suitable for drying conditions (drying process described later) (solvent replacement process). The washing and solvent replacement process can be carried out in a form in which only the solvent replacement process is performed without performing the process of washing the wet gel, but from the viewpoint of reducing impurities such as unreacted substances and by-products in the wet gel and enabling the production of aerogel particles with higher purity, the wet gel may be washed.

洗浄工程では、湿潤ゲル生成工程又は湿潤ゲル粉砕工程により得られた湿潤ゲルを洗浄する。当該洗浄は、例えば水又は有機溶媒を用いて繰り返し行うことができる。この際、加温することにより洗浄効率を向上させることができる。 In the washing step, the wet gel obtained in the wet gel generating step or the wet gel crushing step is washed. This washing can be carried out repeatedly using, for example, water or an organic solvent. In this case, the washing efficiency can be improved by heating.

有機溶媒としては、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、1,2-ジメトキシエタン、アセトニトリル、ヘキサン、トルエン、ジエチルエーテル、クロロホルム、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、N、N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、ギ酸等の各種の有機溶媒を使用することができる。上記の有機溶媒は単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 As the organic solvent, various organic solvents such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, 1,2-dimethoxyethane, acetonitrile, hexane, toluene, diethyl ether, chloroform, ethyl acetate, tetrahydrofuran, methylene chloride, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetic acid, and formic acid can be used. The above organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

後述する溶媒置換工程では、乾燥によるゲルの収縮を抑制するため、低表面張力の溶媒を用いることができる。しかし、低表面張力の溶媒は、一般的に水との相互溶解度が極めて低い。そのため、溶媒置換工程において低表面張力の溶媒を用いる場合、洗浄工程で用いる有機溶媒としては、水及び低表面張力の溶媒の双方に対して高い相互溶解性を有する親水性有機溶媒が挙げられる。なお、洗浄工程において用いられる親水性有機溶媒は、溶媒置換工程のための予備置換の役割を果たすことができる。上記の有機溶媒の中で、親水性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、2-プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。なお、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン等は経済性の点で優れている。 In the solvent replacement step described below, a solvent with low surface tension can be used to suppress the shrinkage of the gel due to drying. However, low surface tension solvents generally have extremely low mutual solubility with water. Therefore, when a low surface tension solvent is used in the solvent replacement step, the organic solvent used in the washing step can be a hydrophilic organic solvent that has high mutual solubility with both water and the low surface tension solvent. The hydrophilic organic solvent used in the washing step can serve as a preliminary replacement for the solvent replacement step. Among the above organic solvents, examples of hydrophilic organic solvents include methanol, ethanol, 2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, etc. Methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. are economically advantageous.

洗浄工程に使用される水又は有機溶媒の量としては、湿潤ゲル中の溶媒を十分に置換し、洗浄できる量とすることができる。当該量は、湿潤ゲルの容量に対して3~10倍の量とすることができる。洗浄は、洗浄後の湿潤ゲル中の含水率が、シリカ質量に対し、10質量%以下となるまで繰り返すことができる。 The amount of water or organic solvent used in the washing step can be an amount that can sufficiently replace the solvent in the wet gel and wash it. The amount can be 3 to 10 times the volume of the wet gel. Washing can be repeated until the water content in the wet gel after washing is 10 mass% or less relative to the mass of silica.

洗浄工程における温度環境は、洗浄に用いる溶媒の沸点以下の温度とすることができ、例えば、メタノールを用いる場合は、30~60℃程度の加温とすることができる。 The temperature environment in the cleaning process can be below the boiling point of the solvent used for cleaning. For example, if methanol is used, the temperature can be around 30 to 60°C.

溶媒置換工程では、乾燥工程におけるエアロゲルの収縮を抑制するため、洗浄した湿潤ゲルの溶媒を所定の置換用溶媒に置き換える。この際、加温することにより置換効率を向上させることができる。置換用溶媒としては、具体的には、乾燥工程において、乾燥に用いられる溶媒の臨界点未満の温度にて、大気圧下で乾燥する場合は、後述の低表面張力の溶媒が挙げられる。一方、超臨界乾燥をする場合は、置換用溶媒としては、例えば、エタノール、メタノール、2-プロパノール、ジクロロジフルオロメタン、二酸化炭素等、又はこれらを2種以上混合した溶媒が挙げられる。 In the solvent replacement process, the solvent of the washed wet gel is replaced with a specified replacement solvent in order to suppress the shrinkage of the aerogel in the drying process. In this case, the replacement efficiency can be improved by heating. Specifically, the replacement solvent may be a low surface tension solvent as described below when drying is performed at a temperature below the critical point of the solvent used in the drying process under atmospheric pressure. On the other hand, when supercritical drying is performed, the replacement solvent may be, for example, ethanol, methanol, 2-propanol, dichlorodifluoromethane, carbon dioxide, etc., or a mixture of two or more of these.

低表面張力の溶媒としては、20℃における表面張力が30mN/m以下の溶媒が挙げられる。なお、当該表面張力は25mN/m以下であっても、又は20mN/m以下であってもよい。低表面張力の溶媒としては、例えば、ペンタン(15.5)、ヘキサン(18.4)、ヘプタン(20.2)、オクタン(21.7)、2-メチルペンタン(17.4)、3-メチルペンタン(18.1)、2-メチルヘキサン(19.3)、シクロペンタン(22.6)、シクロヘキサン(25.2)、1-ペンテン(16.0)等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン(28.9)、トルエン(28.5)、m-キシレン(28.7)、p-キシレン(28.3)等の芳香族炭化水素類;ジクロロメタン(27.9)、クロロホルム(27.2)、四塩化炭素(26.9)、1-クロロプロパン(21.8)、2-クロロプロパン(18.1)等のハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル(17.1)、プロピルエーテル(20.5)、イソプロピルエーテル(17.7)、ブチルエチルエーテル(20.8)、1,2-ジメトキシエタン(24.6)等のエーテル類;アセトン(23.3)、メチルエチルケトン(24.6)、メチルプロピルケトン(25.1)、ジエチルケトン(25.3)等のケトン類;酢酸メチル(24.8)、酢酸エチル(23.8)、酢酸プロピル(24.3)、酢酸イソプロピル(21.2)、酢酸イソブチル(23.7)、エチルブチレート(24.6)等のエステル類などが挙げられる(かっこ内は20℃での表面張力を示し、単位は[mN/m]である)。これらの中で、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン等)は低表面張力でありかつ作業環境性に優れている。また、これらの中でも、アセトン、メチルエチルケトン、1,2-ジメトキシエタン等の親水性有機溶媒を用いることで、上記洗浄工程の有機溶媒と兼用することができる。なお、これらの中でも、さらに後述する乾燥工程における乾燥が容易な点で、常圧での沸点が100℃以下の溶媒を用いてもよい。上記の溶媒は単独で、又は2種類以上を混合して用いてもよい。 An example of a low surface tension solvent is a solvent having a surface tension of 30 mN/m or less at 20°C. The surface tension may be 25 mN/m or less, or 20 mN/m or less. Examples of low surface tension solvents include aliphatic hydrocarbons such as pentane (15.5), hexane (18.4), heptane (20.2), octane (21.7), 2-methylpentane (17.4), 3-methylpentane (18.1), 2-methylhexane (19.3), cyclopentane (22.6), cyclohexane (25.2), and 1-pentene (16.0); aromatic hydrocarbons such as benzene (28.9), toluene (28.5), m-xylene (28.7), and p-xylene (28.3); and halides such as dichloromethane (27.9), chloroform (27.2), carbon tetrachloride (26.9), 1-chloropropane (21.8), and 2-chloropropane (18.1). halogenated hydrocarbons; ethers such as ethyl ether (17.1), propyl ether (20.5), isopropyl ether (17.7), butyl ethyl ether (20.8), 1,2-dimethoxyethane (24.6); ketones such as acetone (23.3), methyl ethyl ketone (24.6), methyl propyl ketone (25.1), diethyl ketone (25.3); esters such as methyl acetate (24.8), ethyl acetate (23.8), propyl acetate (24.3), isopropyl acetate (21.2), isobutyl acetate (23.7), ethyl butyrate (24.6) (the values in parentheses indicate the surface tension at 20°C, in units of [mN/m]). Among these, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, etc.) have low surface tension and are excellent in the working environment. Furthermore, among these, hydrophilic organic solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and 1,2-dimethoxyethane can be used as the organic solvent in the above-mentioned cleaning step. Among these, solvents having a boiling point of 100° C. or less at normal pressure may be used because they are easy to dry in the drying step described below. The above solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒置換工程に使用される溶媒の量としては、洗浄後の湿潤ゲル中の溶媒を十分に置換できる量とすることができる。当該量は、湿潤ゲルの容量に対して3~10倍の量とすることができる。 The amount of solvent used in the solvent replacement step can be an amount that can fully replace the solvent in the wet gel after washing. This amount can be 3 to 10 times the volume of the wet gel.

溶媒置換工程における温度環境は、置換に用いる溶媒の沸点以下の温度とすることができ、例えば、ヘプタンを用いる場合は、30~60℃程度の加温とすることができる。 The temperature environment in the solvent replacement process can be a temperature below the boiling point of the solvent used for replacement. For example, when heptane is used, the temperature can be around 30 to 60°C.

なお、ゲル中にシリカ粒子が含まれている場合、溶媒置換工程は必須ではない。推察されるメカニズムとしては次のとおりである。すなわち、シリカ粒子が三次元網目状の骨格の支持体として機能することにより、当該骨格が支持され、乾燥工程におけるゲルの収縮が抑制される。そのため、洗浄に用いた溶媒を置換せずに、ゲルをそのまま乾燥工程に付すことができると考えられる。このように、シリカ粒子を用いることで、洗浄及び溶媒置換工程から乾燥工程の簡略化が可能である。 When silica particles are contained in the gel, the solvent replacement process is not essential. The presumed mechanism is as follows. That is, the silica particles function as a support for the three-dimensional mesh-like skeleton, supporting the skeleton and suppressing the shrinkage of the gel during the drying process. Therefore, it is considered that the gel can be directly subjected to the drying process without replacing the solvent used for washing. In this way, the use of silica particles makes it possible to simplify the washing and solvent replacement processes to the drying process.

(乾燥工程)
乾燥工程では、上記のとおり洗浄及び(必要に応じ)溶媒置換した湿潤ゲルを乾燥させる。これにより、エアロゲル(エアロゲルブロック又はエアロゲル粒子)を得ることができる。すなわち、上記ゾルから生成された湿潤ゲルを乾燥してなるエアロゲルを得ることができる。
(drying process)
In the drying step, the wet gel that has been washed and (if necessary) subjected to solvent replacement as described above is dried. This allows an aerogel (aerogel block or aerogel particles) to be obtained. That is, an aerogel can be obtained by drying the wet gel produced from the sol.

乾燥の手法としては特に制限されず、公知の常圧乾燥、超臨界乾燥又は凍結乾燥を用いることができる。これらの中で、低密度のエアロゲルを製造し易いという観点からは、常圧乾燥又は超臨界乾燥を用いることができる。また、低コストで生産可能という観点からは、常圧乾燥を用いることができる。なお、本実施形態において、常圧とは0.1MPa(大気圧)を意味する。 The drying method is not particularly limited, and known methods such as normal pressure drying, supercritical drying, or freeze drying can be used. Among these, normal pressure drying or supercritical drying can be used from the viewpoint of ease of producing low-density aerogel. Furthermore, normal pressure drying can be used from the viewpoint of low-cost production. In this embodiment, normal pressure means 0.1 MPa (atmospheric pressure).

エアロゲルは、洗浄及び(必要に応じ)溶媒置換した湿潤ゲルを、乾燥に用いられる溶媒の臨界点未満の温度にて、大気圧下で乾燥することにより得ることができる。乾燥温度は、置換された溶媒(溶媒置換を行わない場合は洗浄に用いられた溶媒)の種類により異なるが、特に高温での乾燥が溶媒の蒸発速度を速め、ゲルに大きな亀裂を生じさせる場合があるという点に鑑み、20~150℃とすることができる。なお、当該乾燥温度は60~120℃であってもよい。また、乾燥時間は、湿潤ゲルの容量及び乾燥温度により異なるが、4~120時間とすることができる。なお、生産性を阻害しない範囲内において臨界点未満の圧力をかけて乾燥を早めることも、常圧乾燥に包含されるものとする。 The aerogel can be obtained by drying the washed and (if necessary) solvent-substituted wet gel at atmospheric pressure at a temperature below the critical point of the solvent used for drying. The drying temperature varies depending on the type of substituted solvent (or the solvent used for washing if solvent substitution is not performed), but can be set to 20 to 150°C, taking into consideration that drying at high temperatures may accelerate the evaporation rate of the solvent and cause large cracks in the gel. The drying temperature may be 60 to 120°C. The drying time varies depending on the volume of the wet gel and the drying temperature, but can be set to 4 to 120 hours. It should be noted that applying a pressure below the critical point to accelerate the drying within a range that does not impede productivity is also included in normal pressure drying.

エアロゲルは、また、洗浄及び(必要に応じ)溶媒置換した湿潤ゲルを、超臨界乾燥することによっても得ることができる。超臨界乾燥は、公知の手法にて行うことができる。超臨界乾燥する方法としては、例えば、湿潤ゲルに含まれる溶媒の臨界点以上の温度及び圧力にて溶媒を除去する方法が挙げられる。あるいは、超臨界乾燥する方法としては、湿潤ゲルを、液化二酸化炭素中に、例えば、20~25℃、5~20MPa程度の条件で浸漬することで、湿潤ゲルに含まれる溶媒の全部又は一部を当該溶媒より臨界点の低い二酸化炭素に置換した後、二酸化炭素を単独で、又は二酸化炭素及び溶媒の混合物を除去する方法が挙げられる。 Aerogel can also be obtained by supercritical drying of a wet gel that has been washed and (if necessary) solvent-substituted. Supercritical drying can be performed by known techniques. Examples of methods for supercritical drying include a method in which the solvent is removed at a temperature and pressure equal to or higher than the critical point of the solvent contained in the wet gel. Alternatively, examples of methods for supercritical drying include a method in which the wet gel is immersed in liquefied carbon dioxide under conditions of, for example, 20 to 25°C and about 5 to 20 MPa, to replace all or part of the solvent contained in the wet gel with carbon dioxide that has a lower critical point than the solvent, and then the carbon dioxide alone or a mixture of carbon dioxide and the solvent is removed.

このような常圧乾燥又は超臨界乾燥により得られたエアロゲルは、さらに常圧下にて、105~200℃で0.5~2時間程度追加乾燥してもよい。これにより、密度が低く、小さな細孔を有するエアロゲルをさらに得易くなる。追加乾燥は、常圧下にて、150~200℃で行ってもよい。 The aerogel obtained by such normal pressure drying or supercritical drying may be further dried at normal pressure at 105 to 200°C for about 0.5 to 2 hours. This makes it easier to obtain an aerogel with low density and small pores. The additional drying may be performed at normal pressure at 150 to 200°C.

(粉砕工程)
湿潤ゲル粉砕工程を行わない場合は、乾燥により得られたエアロゲル(エアロゲルブロック)を粉砕することによりエアロゲル粒子を得る。例えば、ジェットミル、ローラーミル、ビーズミル、ハンマーミル等にエアロゲルを入れ、適度な回転数と時間で運転することにより行うことができる。
(Crushing process)
When the wet gel crushing step is not performed, the aerogel (aerogel block) obtained by drying is crushed to obtain aerogel particles. For example, the aerogel can be placed in a jet mill, roller mill, bead mill, hammer mill, etc., and operated at an appropriate rotation speed for an appropriate time.

<塗液>
塗液としては、より具体的には以下に示す第一~第四の塗液が挙げられる。なお、塗液のうち高粘度(例えば、1000mPa・s以上)のものをペーストと言うことができる。
<Coating Fluid>
More specifically, the coating liquid may be the first to fourth coating liquids shown below. Among the coating liquids, those with high viscosity (for example, 1000 mPa·s or more) may be called pastes.

(第一の塗液)
第一の塗液は、上述の比表面積が350m/g以下であるエアロゲル粒子、バインダ樹脂、及び液状媒体を含む。第一の塗液は、上述のエアロゲル粒子、バインダ樹脂及び液状媒体の混合物であるということもできる。
(First Coating Fluid)
The first coating liquid contains the above-mentioned aerogel particles having a specific surface area of 350 m 2 /g or less, a binder resin, and a liquid medium. It can also be said that the first coating liquid is a mixture of the above-mentioned aerogel particles, binder resin, and liquid medium.

第一の塗液において、エアロゲル粒子の比表面積は350m/g以下である。これにより、成膜性に優れる塗液を調製することができる。この理由は必ずしも定かではないが、発明者らは次のように推察している。エアロゲル粒子の比表面積は、バインダ樹脂に対する吸着力(吸着量)を左右すると考えられる。したがって、当該比表面積が大き過ぎる場合は、多孔質構造を有するエアロゲル粒子内に、液状媒体と共にバインダ樹脂が取り込まれてしまい、塗液の状態で適切な量のバインダ樹脂をエアロゲル粒子表面に存在させることが難しい。これにより、塗液を乾燥させる際に、バインダ樹脂によるエアロゲル粒子の結着が十分に行われず、良好な膜質を有する塗膜を得ることができない。これに対し、エアロゲル粒子の比表面積が上記範囲内であると、適切な量のバインダ樹脂をエアロゲル粒子表面に存在させることができるため、エアロゲル粒子がバインダ樹脂により好適に結着された塗膜を形成することが可能となると考える。 In the first coating liquid, the specific surface area of the aerogel particles is 350 m 2 /g or less. This allows the preparation of a coating liquid with excellent film-forming properties. The reason for this is not entirely clear, but the inventors speculate as follows. It is believed that the specific surface area of the aerogel particles determines the adsorption force (adsorption amount) to the binder resin. Therefore, if the specific surface area is too large, the binder resin is taken into the aerogel particles having a porous structure together with the liquid medium, and it is difficult to make an appropriate amount of the binder resin present on the surface of the aerogel particles in the coating liquid state. As a result, when the coating liquid is dried, the binding of the aerogel particles by the binder resin is not sufficiently performed, and a coating film having good film quality cannot be obtained. On the other hand, if the specific surface area of the aerogel particles is within the above range, it is believed that an appropriate amount of the binder resin can be present on the surface of the aerogel particles, making it possible to form a coating film in which the aerogel particles are suitably bound by the binder resin.

バインダ樹脂は、塗膜形成後にエアロゲル粒子同士を結着する機能を有する。バインダ樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂(アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを主たる構造単位として含む重合体)、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニル系樹脂等が挙げられる。また、バインダ樹脂として、アクリル酸系樹脂(アクリル酸、アクリル酸塩、メタクリル酸、メタクリル酸塩を構造単位として含む重合体)、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール等を用いることもできる。これらの中でも、耐熱性及び強靭性という観点から、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂及びポリエステル樹脂を好適に用いることができる。 The binder resin has the function of binding the aerogel particles together after the coating film is formed. Examples of the binder resin include epoxy resin, silicone resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, polyurethane resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polyester resin, acrylic resin (polymer containing acrylic acid ester or methacrylic acid ester as the main structural unit), polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose-based resin, polyvinyl resin, etc. In addition, acrylic acid-based resin (polymer containing acrylic acid, acrylate, methacrylic acid, methacrylate as structural units), polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, polyethylene glycol, etc. can also be used as the binder resin. Among these, silicone resin, acrylic resin, phenol resin, and polyester resin can be preferably used from the viewpoint of heat resistance and toughness.

なお、セルロース系樹脂としては、例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースアンモニウム、ヒドロキシエチルメチルセルロース等が挙げられる。また、ポリビニル系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。 Examples of cellulose-based resins include hydroxypropylmethylcellulose, ammonium carboxymethylcellulose, and hydroxyethylmethylcellulose. Examples of polyvinyl-based resins include polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone.

アクリル酸系樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸共重合ポリマー、ポリアクリル酸塩、アクリル酸塩共重合ポリマー等が挙げられる。 Examples of acrylic acid-based resins include polyacrylic acid, acrylic acid copolymers, polyacrylates, and acrylate copolymers.

バインダ樹脂が熱硬化性樹脂であるとき、塗液は、硬化剤をさらに含有していてよい。硬化剤は特に限定されず、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜変更してよい。例えば、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であるとき、硬化剤としては、公知のエポキシ樹脂硬化剤を用いることができる。エポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリアミド系硬化剤等が例示でき、反応性の観点からはアミン系硬化剤及びポリアミド系硬化剤を好適に用いることができる。 When the binder resin is a thermosetting resin, the coating liquid may further contain a curing agent. The curing agent is not particularly limited and may be changed appropriately depending on the type of thermosetting resin. For example, when the thermosetting resin is an epoxy resin, a known epoxy resin curing agent can be used as the curing agent. Examples of epoxy resin curing agents include amine-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and polyamide-based curing agents, and from the viewpoint of reactivity, amine-based curing agents and polyamide-based curing agents can be preferably used.

液状媒体としては水及び有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、該エアロゲル粒子を分散し得るものであれば特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p-シメン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、ペンタン等の脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類などが挙げられる。これらの中でも、揮発性、沸点等の観点から、アルコール類及びケトン類を用いることができ、特にアルコール類を好適に用いることができる。アルコール類及びケトン類は、水、水系樹脂等との混合が容易であるため、それらの成分との併用時にも好適である。 Examples of liquid media include water and organic solvents. The organic solvent is not particularly limited as long as it can disperse the aerogel particles, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, and p-cymene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and pentane; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, and propylene glycol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; and amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Among these, alcohols and ketones can be used from the viewpoints of volatility, boiling point, and the like, and alcohols can be used in particular. Alcohols and ketones are easily mixed with water, water-based resins, and the like, and are therefore also suitable when used in combination with these components.

塗液は、他の成分として増粘剤、繊維状物質、顔料、レベリング剤、成膜助剤等を含んでいてもよい。 The coating liquid may contain other ingredients such as thickeners, fibrous substances, pigments, leveling agents, film-forming aids, etc.

増粘剤は塗液の粘性を向上させ、対象に対する塗工性をより良好にすることができる。増粘剤としては、例えば、有機系ポリマー、フュームドシリカ、層状無機添加剤、粘土鉱物等の微粒子が挙げられる。 Thickeners can improve the viscosity of the coating liquid and improve the applicability to the target. Examples of thickeners include fine particles of organic polymers, fumed silica, layered inorganic additives, clay minerals, etc.

繊維状物質は塗膜形成後にエアロゲル粒子間のアンカー機能を発現することができ、塗膜強度をより向上することができる。繊維状物質としては特に制限されず、有機繊維及び無機繊維が挙げられる。有機繊維としては、例えば、ポリアミド系繊維、ポリイミド系繊維、ポリビニルアルコール系繊維、ポリ塩化ビニリデン系繊維、ポリ塩化ビニル系繊維、ポリエステル系繊維、ポリアクリロニトリル系繊維、ポリエチレン系繊維、ポリプロピレン系繊維、ポリウレタン系繊維、フェノール系繊維、ポリエーテルエステル系繊維、ポリ乳酸系繊維、ポリカーボネート系繊維等が挙げられる。無機繊維としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、金属繊維等が挙げられる。 The fibrous material can exert an anchoring function between the aerogel particles after the coating film is formed, and can further improve the strength of the coating film. The fibrous material is not particularly limited, and examples thereof include organic fibers and inorganic fibers. Examples of organic fibers include polyamide fibers, polyimide fibers, polyvinyl alcohol fibers, polyvinylidene chloride fibers, polyvinyl chloride fibers, polyester fibers, polyacrylonitrile fibers, polyethylene fibers, polypropylene fibers, polyurethane fibers, phenolic fibers, polyether ester fibers, polylactic acid fibers, and polycarbonate fibers. Examples of inorganic fibers include glass fibers, carbon fibers, ceramic fibers, and metal fibers.

塗液中のエアロゲル粒子の含有量は、分散性、エアロゲル粒子の充填量、塗液の粘度等の観点から、0.1~30質量%とすることができるが、1~25質量%であってもよい。また、鏝等を用いた塗布に好適であるという観点からは、塗液中のエアロゲル粒子の含有量は2質量%以上であってもよく、3質量%以上であってもよい。 The content of aerogel particles in the coating liquid can be 0.1 to 30% by mass, but may be 1 to 25% by mass, from the viewpoint of dispersibility, the amount of aerogel particles filled, the viscosity of the coating liquid, etc. Furthermore, from the viewpoint of suitability for application using a trowel or the like, the content of aerogel particles in the coating liquid may be 2% by mass or more, or may be 3% by mass or more.

塗液中のバインダ樹脂の含有量は、エアロゲル粒子同士の結着性、塗膜の断熱性等の観点から、1~40質量%とすることができるが、1~30質量%であってもよい。 The content of the binder resin in the coating liquid can be 1 to 40% by mass, but may also be 1 to 30% by mass, from the viewpoints of the adhesiveness between the aerogel particles and the heat insulating properties of the coating film.

塗液中のバインダ樹脂の含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、5質量部以上とすることができるが、10質量部以上であってもよく、15質量部以上であってもよく、20質量部以上であってもよい。これにより、エアロゲル粒子がバインダ樹脂によって強固に結着され易くなり、塗膜の強度が一層向上する。 The content of the binder resin in the coating liquid can be, for example, 5 parts by mass or more per 100 parts by mass of the aerogel particles, but it may also be 10 parts by mass or more, 15 parts by mass or more, or 20 parts by mass or more. This makes it easier for the aerogel particles to be firmly bound by the binder resin, further improving the strength of the coating film.

また、バインダ樹脂の含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、150質量部以下とすることができるが、130質量部以下であってもよく、100質量部以下であってもよく、90質量部以下であってもよい。これにより、塗膜中のエアロゲル粒子の比率が高くなり、塗膜の断熱性が一層向上する。 The content of the binder resin can be, for example, 150 parts by mass or less per 100 parts by mass of the aerogel particles, but it may also be 130 parts by mass or less, 100 parts by mass or less, or 90 parts by mass or less. This increases the ratio of aerogel particles in the coating film, further improving the heat insulating properties of the coating film.

塗液中の繊維状物質の含有量は、塗液中での分散性、良好なアンカー機能の発現性等の観点から、1~50質量%とすることができるが、1~30質量%であってもよい。 The content of the fibrous material in the coating liquid can be 1 to 50% by mass, but may also be 1 to 30% by mass, from the viewpoints of dispersibility in the coating liquid, expression of good anchoring function, etc.

塗液中の繊維状物質の含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、5質量部以上とすることができるが、7質量部以上であってもよく、9質量部以上であってもよい。これにより、繊維状物質によるアンカー効果が得られ易くなり、塗膜強度が一層向上する。 The content of the fibrous material in the coating liquid can be, for example, 5 parts by mass or more per 100 parts by mass of aerogel particles, but it may also be 7 parts by mass or more, or 9 parts by mass or more. This makes it easier to obtain the anchor effect of the fibrous material, and further improves the strength of the coating film.

また、繊維状物質の含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、50質量部以下とすることができるが、35質量部以下であってもよく、25質量部以下であってもよく、20質量部以下であってもよく、15質量部以下であってもよい。これにより、塗膜中のエアロゲル粒子の比率が高くなり、塗膜の断熱性が一層向上する。 The content of the fibrous material can be, for example, 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of aerogel particles, but it may also be 35 parts by mass or less, 25 parts by mass or less, 20 parts by mass or less, or 15 parts by mass or less. This increases the ratio of aerogel particles in the coating film, further improving the heat insulating properties of the coating film.

増粘剤の含有量は、所望の塗液粘度(例えば、1000mPa・s以上)となるように適宜調整することができる。塗液の粘度はバインダ樹脂を配合することにより向上させることもできるため、その場合は必ずしも増粘剤を配合する必要はない。 The amount of thickener contained can be adjusted appropriately to obtain the desired coating liquid viscosity (e.g., 1000 mPa·s or more). The viscosity of the coating liquid can also be improved by adding a binder resin, in which case it is not necessarily necessary to add a thickener.

(第二の塗液)
第二の塗液は、エアロゲル粒子、バインダ樹脂、繊維長が1.5mm以上である繊維状物質、及び液状媒体を含む。第二の塗液は、上述のエアロゲル粒子、バインダ樹脂、繊維長が1.5mm以上である繊維状物質、及び液状媒体の混合物であるということもできる。以下、第二の塗液について説明をするが、第一の塗液の記載と重複する内容については適宜省略する。
(Second Coating Fluid)
The second coating liquid includes aerogel particles, a binder resin, a fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more, and a liquid medium. The second coating liquid can be said to be a mixture of the above-mentioned aerogel particles, a binder resin, a fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more, and a liquid medium. The second coating liquid will be described below, but the contents that overlap with the description of the first coating liquid will be omitted as appropriate.

第二の塗液は、繊維長が1.5mm以上である繊維状物質を含む。これにより、塗膜強度を向上しつつ、塗膜の断熱性を確保することができる。この理由は必ずしも定かではないが、発明者らは次のように推察している。一般に、特許文献2のようなプレス成型体を作製するのであれば、成型体のさらなる強度確保のため、成型体内で繊維がランダムに配向していることが好ましい。特許文献2において短繊維が用いられているのは、長繊維に比べて短繊維がランダムに配向し易いためであると考える。しかしながら、厚みの薄い膜状の成型体を作製した場合、繊維をランダムに配向させることは、厚み方向(断熱したい方向)において繊維による熱パスが生じやすく、厚み方向の断熱性を損なうことにもつながる。これに対し、本実施形態の塗液は長繊維を含むものである。塗液を用いて対象表面に薄い塗膜を形成する場合においては、長繊維(繊維長が1.5mm以上である繊維状物質)を敢えて用いることで繊維が面内に配向し易くなることが推測される。これによって、面方向における強度を向上させつつ、厚み方向における高い断熱性を維持することが可能になると考える。 The second coating liquid contains a fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more. This improves the strength of the coating film while ensuring the heat insulating properties of the coating film. The reason for this is not necessarily clear, but the inventors speculate as follows. In general, if a press molded body such as that of Patent Document 2 is to be produced, it is preferable that the fibers are randomly oriented in the molded body in order to further ensure the strength of the molded body. It is believed that the reason why short fibers are used in Patent Document 2 is that short fibers are more likely to be randomly oriented than long fibers. However, when a thin membrane-like molded body is produced, randomly orienting the fibers tends to cause a heat path through the fibers in the thickness direction (the direction in which insulation is desired), which also leads to a loss of heat insulating properties in the thickness direction. In contrast, the coating liquid of this embodiment contains long fibers. When a thin coating film is formed on a target surface using the coating liquid, it is speculated that the fibers are more likely to be oriented in the plane by deliberately using long fibers (fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more). It is believed that this makes it possible to maintain high heat insulating properties in the thickness direction while improving the strength in the plane direction.

この観点から、当該繊維長は2mm以上とすることができ、2.5mm以上であってもよく、3mm以上であってもよい。一方、繊維長の上限は特に制限されないが、塗液中での分散性の観点から、20mmとすることができる。 From this viewpoint, the fiber length can be 2 mm or more, or 2.5 mm or more, or 3 mm or more. On the other hand, the upper limit of the fiber length is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility in the coating liquid, it can be 20 mm.

繊維状物質の繊維径は、塗液中での分散性、良好なアンカー機能等の観点から、0.01~100μmとすることができる。 The fiber diameter of the fibrous material can be 0.01 to 100 μm from the viewpoints of dispersibility in the coating liquid, good anchor function, etc.

塗液中の繊維状物質の含有量は、上記のとおりである。また、繊維状物質の全質量を基準として、繊維長が1.5mm以上である繊維の含有量は、30質量%以上とすることができるが、50質量%以上であってもよい。当該含有量の上限は、100質量%(すなわち、実質的に塗液中の全繊維状物質の繊維長が1.5mm以上)とすることができる。 The content of the fibrous material in the coating liquid is as described above. Furthermore, based on the total mass of the fibrous material, the content of fibers having a fiber length of 1.5 mm or more can be 30 mass% or more, but may be 50 mass% or more. The upper limit of the content can be 100 mass% (i.e., substantially all of the fibrous material in the coating liquid has a fiber length of 1.5 mm or more).

(第三の塗液)
第三の塗液は、エアロゲル粒子、液状媒体、第一のバインダ樹脂、及び第二のバインダ樹脂を含む。第三の塗液は、エアロゲル粒子、液状媒体、第一のバインダ樹脂、及び第二のバインダ樹脂の混合物であるということもできる。以下、第三の塗液について説明をするが、第一及び第二の塗液の記載と重複する内容については適宜省略する。
(Third Coating Fluid)
The third coating liquid includes aerogel particles, a liquid medium, a first binder resin, and a second binder resin. It can also be said that the third coating liquid is a mixture of aerogel particles, a liquid medium, a first binder resin, and a second binder resin. The third coating liquid will be described below, but the contents that overlap with the descriptions of the first and second coating liquids will be omitted as appropriate.

第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂は、塗膜形成後にエアロゲル粒子同士を結着する機能を有する。第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂は、いずれも液状媒体に溶解し、第一のバインダ樹脂の液状媒体に対する溶解度は、第二のバインダ樹脂の液状媒体に対する溶解度より高い。 The first binder resin and the second binder resin have the function of binding the aerogel particles together after the coating film is formed. Both the first binder resin and the second binder resin are soluble in a liquid medium, and the solubility of the first binder resin in the liquid medium is higher than the solubility of the second binder resin in the liquid medium.

このような第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂を塗液に含ませることで、塗膜強度及び接着性に優れた塗膜が得られる。この理由は必ずしも定かではないが、発明者らは次のように推察している。第一のバインダ樹脂と第二のバインダ樹脂は液状媒体に対する溶解度が異なるため、塗膜形成時の乾燥工程(液状媒体を除去する工程)において、液状媒体に対して第二のバインダ樹脂が第一のバインダ樹脂より先に飽和し、第二のバインダ樹脂が先に析出しやすくなる。このような溶解度の差異により、塗膜形成時に特徴的なバインダ構造が形成され、優れた塗膜強度及び接着性が得られると考えられる。 By including such a first binder resin and a second binder resin in the coating liquid, a coating film with excellent coating strength and adhesion can be obtained. The reason for this is not entirely clear, but the inventors speculate as follows. Since the first binder resin and the second binder resin have different solubilities in the liquid medium, in the drying process (process for removing the liquid medium) during coating film formation, the second binder resin saturates in the liquid medium before the first binder resin, making it easier for the second binder resin to precipitate first. It is believed that this difference in solubility leads to the formation of a characteristic binder structure during coating film formation, resulting in excellent coating film strength and adhesion.

上述の特徴的なバインダ構造については必ずしも定かではないが、例えば、第二のバインダ樹脂が先にエアロゲル粒子(及び後述の繊維状物質)上に結着し、第一のバインダ樹脂が第二のバインダ樹脂を介してエアロゲル粒子間(又は、エアロゲル粒子と繊維状物質との間若しくは繊維状物質間)を結着することで、優れた塗膜強度及び接着性が得られていることが推測される。また、第二のバインダ樹脂が粒状となってエアロゲル粒子間を埋め、その後、第一のバインダ樹脂で結着されることで、エアロゲル粒子同士が強固に結着しているとも考えられる。 Although the characteristic binder structure described above is not entirely clear, it is speculated that, for example, the second binder resin first binds onto the aerogel particles (and the fibrous material described below), and then the first binder resin binds between the aerogel particles (or between the aerogel particles and the fibrous material, or between the fibrous material) via the second binder resin, thereby obtaining excellent coating strength and adhesion. It is also thought that the second binder resin becomes granular, filling the spaces between the aerogel particles, and then is bound by the first binder resin, thereby firmly binding the aerogel particles together.

バインダ樹脂としては上記の樹脂が挙げられる。第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂はこれらの中から選択してよく、より具体的には後述の樹脂から選択してもよい。 Examples of binder resins include the resins listed above. The first binder resin and the second binder resin may be selected from among these, and more specifically, may be selected from the resins described below.

本実施形態では、第二のバインダ樹脂の含有量が、第一のバインダ樹脂の含有量より多いことが好ましい。これにより、上述の効果がより顕著に奏される。第二のバインダ樹脂の含有量は、第一のバインダ樹脂100質量部に対して100質量部を超えることが好ましく、150質量部以上がより好ましく、200質量部以上であってよく、300質量部以上であってもよく、400質量部以上であってもよく、600質量部以上であってもよい。 In this embodiment, it is preferable that the content of the second binder resin is greater than the content of the first binder resin. This makes the above-mentioned effects more pronounced. The content of the second binder resin is preferably more than 100 parts by mass relative to 100 parts by mass of the first binder resin, more preferably 150 parts by mass or more, may be 200 parts by mass or more, may be 300 parts by mass or more, may be 400 parts by mass or more, or may be 600 parts by mass or more.

また、第二のバインダ樹脂の含有量は、断熱性能に優れる観点からは、第一のバインダ樹脂100質量部に対して、800質量部以下であってよく、700質量部以下が好ましく、600質量部以下であってよく、500質量部以下であってもよく、400質量部以下であってもよい。 In addition, from the viewpoint of excellent heat insulating performance, the content of the second binder resin may be 800 parts by mass or less, preferably 700 parts by mass or less, may be 600 parts by mass or less, may be 500 parts by mass or less, or may be 400 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the first binder resin.

塗液中の第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂の合計含有量は、エアロゲル粒子同士の結着性、塗膜の断熱性等の観点から、1~40質量%とすることができるが、1~30質量%であってもよい。 The total content of the first binder resin and the second binder resin in the coating liquid can be 1 to 40% by mass, but may also be 1 to 30% by mass, from the viewpoints of the adhesiveness between the aerogel particles and the heat insulating properties of the coating film.

第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂の合計含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、5質量部以上であってよく、10質量部以上であることが好ましく、15質量部以上がより好ましく、20質量部以上が更に好ましい。これにより、エアロゲル粒子がバインダ樹脂によって強固に結着されやすくなり、塗膜の強度が一層向上する。 The total content of the first binder resin and the second binder resin may be, for example, 5 parts by mass or more per 100 parts by mass of the aerogel particles, preferably 10 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more, and even more preferably 20 parts by mass or more. This makes it easier for the aerogel particles to be firmly bound by the binder resin, further improving the strength of the coating film.

また、第一のバインダ樹脂及び第二のバインダ樹脂の合計含有量は、例えば、エアロゲル粒子100質量部に対して、150質量部以下であってよく、130質量部以下であることが好ましく、100質量部以下がより好ましく、90質量部以下が更に好ましい。これにより、塗膜中のエアロゲル粒子の比率が高くなり、塗膜の断熱性が一層向上する。 The total content of the first binder resin and the second binder resin may be, for example, 150 parts by mass or less, preferably 130 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less, and even more preferably 90 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the aerogel particles. This increases the ratio of aerogel particles in the coating film, further improving the heat insulating properties of the coating film.

第一のバインダ樹脂は、塗膜形成後にエアロゲル粒子同士を結着する機能を有し、液状媒体に溶解可能な樹脂であればよい。例えば、液状媒体が水系溶媒であるとき、第一のバインダ樹脂としては、例えば、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリル酸系樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール等が挙げられる。これらのうち、増粘性に優れる観点からは、セルロース系樹脂、ポリビニルピロリドン、アクリル酸系樹脂を好適に用いることができる。 The first binder resin may be any resin that has the function of binding aerogel particles together after the coating film is formed and is soluble in the liquid medium. For example, when the liquid medium is an aqueous solvent, examples of the first binder resin include cellulose-based resins, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acrylic acid-based resins, polyethylene oxide, and polyethylene glycol. Of these, cellulose-based resins, polyvinylpyrrolidone, and acrylic acid-based resins are preferably used from the viewpoint of excellent thickening properties.

第二のバインダ樹脂は、液状媒体に溶解可能であり、液状媒体に対する溶解度が第一のバインダ樹脂より低い樹脂であればよい。第二のバインダ樹脂は、熱可塑性樹脂であってよく、熱硬化性樹脂であってもよい。 The second binder resin may be any resin that is soluble in a liquid medium and has a lower solubility in the liquid medium than the first binder resin. The second binder resin may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin.

熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等が挙げられる。これらのうち、取り扱い性の観点からは、アクリル樹脂、ポリビニルアルコールを好適に用いることができる。 Examples of thermoplastic resins include acrylic resins, polyvinyl alcohol, polypropylene, polyvinyl chloride, etc. Among these, acrylic resins and polyvinyl alcohol are preferably used from the viewpoint of ease of handling.

熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン等が挙げられる。これらのうち、耐熱性に優れる観点からは、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂を好適に用いることができる。 Examples of thermosetting resins include epoxy resins, silicone resins, polyurethanes, etc. Among these, epoxy resins and silicone resins are preferably used because of their excellent heat resistance.

第二のバインダ樹脂が熱硬化性樹脂であるとき、塗膜は、硬化剤を更に含有していてよい。硬化剤は特に限定されず、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜変更してよい。例えば、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であるとき、硬化剤としては、公知のエポキシ樹脂硬化剤を用いることができる。エポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリアミド系硬化剤等が例示でき、反応性の観点からはアミン系、ポリアミド系を好適に用いることができる。 When the second binder resin is a thermosetting resin, the coating film may further contain a curing agent. The curing agent is not particularly limited and may be changed appropriately depending on the type of thermosetting resin. For example, when the thermosetting resin is an epoxy resin, a known epoxy resin curing agent can be used as the curing agent. Examples of epoxy resin curing agents include amine-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and polyamide-based curing agents, and from the viewpoint of reactivity, amine-based and polyamide-based curing agents can be preferably used.

液状媒体としては上記の水及び有機溶媒が挙げられる。好適な一態様において、液状媒体は、水を含む水系溶媒であることが好ましい。水系溶媒は、水であってよく、水及び有機溶媒を含む混合溶媒であってもよい。このような液状媒体によれば、エアロゲル粒子の分散性が向上して、均一な塗膜が得られやすくなる。 Examples of the liquid medium include water and organic solvents as described above. In a preferred embodiment, the liquid medium is preferably an aqueous solvent containing water. The aqueous solvent may be water or a mixed solvent containing water and an organic solvent. Such a liquid medium improves the dispersibility of the aerogel particles, making it easier to obtain a uniform coating film.

(第四の塗液)
第四の塗液は、エアロゲル粒子と、疎水性基を有する水溶性高分子と、液状媒体と、を含有する。第四の塗液は、疎水性基を有する水溶性高分子によってエアロゲル粒子の分散性が向上しているため、エアロゲル粒子の偏在が少なく、且つ、十分な膜強度を有する塗膜を形成できる。以下、第四の塗液について説明をするが、第一~第三の塗液の記載と重複する内容については適宜省略する。
(Fourth Coating Fluid)
The fourth coating liquid contains aerogel particles, a water-soluble polymer having a hydrophobic group, and a liquid medium. In the fourth coating liquid, the dispersibility of the aerogel particles is improved by the water-soluble polymer having a hydrophobic group, so that the aerogel particles are less unevenly distributed and a coating film having sufficient film strength can be formed. The fourth coating liquid will be described below, but the contents that overlap with the descriptions of the first to third coating liquids will be omitted as appropriate.

第四の塗液中のエアロゲル粒子の含有量は、塗液中の固形分の全体積基準で、例えば70体積%以上であってよく、好ましくは72体積%以上、より好ましくは74体積%以上である。また、第四の塗液中のエアロゲル粒子の含有量は、第四の塗液中の固形分の全体積基準で、例えば99体積%以下であってよく、好ましくは97体積%以下である。 The content of the aerogel particles in the fourth coating liquid may be, for example, 70 vol. % or more, preferably 72 vol. % or more, and more preferably 74 vol. % or more, based on the total volume of the solids in the coating liquid. The content of the aerogel particles in the fourth coating liquid may be, for example, 99 vol. % or less, and preferably 97 vol. % or less, based on the total volume of the solids in the fourth coating liquid.

<水溶性高分子>
本実施形態において、水溶性高分子は、疎水性基を有し、且つ、水溶性を有していればよい。
<Water-soluble polymer>
In this embodiment, the water-soluble polymer may have a hydrophobic group and be water-soluble.

疎水性基としては、例えば、アルキル基(好ましくは、炭素数6~26の長鎖のアルキル基)、エステル基、アルコキシ基、ハロゲン等が挙げられる。これらのうち、疎水性基としては、アルキル基が好ましく、炭素数8~26の長鎖のアルキル基がより好ましく、炭素数10~26の長鎖のアルキル基が更に好ましく、炭素数12~26の長鎖のアルキル基が一層好ましく、炭素数15~26の長鎖のアルキル基であってもよい。 Examples of hydrophobic groups include alkyl groups (preferably long-chain alkyl groups having 6 to 26 carbon atoms), ester groups, alkoxy groups, halogens, etc. Of these, the hydrophobic group is preferably an alkyl group, more preferably a long-chain alkyl group having 8 to 26 carbon atoms, even more preferably a long-chain alkyl group having 10 to 26 carbon atoms, still more preferably a long-chain alkyl group having 12 to 26 carbon atoms, and may be a long-chain alkyl group having 15 to 26 carbon atoms.

水溶性高分子としては、例えば、変性カルボキシルビニルポリマー、変性ポリエーテルウレタン、セルロース系樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸塩、ポリビニルピロリドン、デキストリン系樹脂、キチン系樹脂、キトサン系樹脂等が挙げられる。 Examples of water-soluble polymers include modified carboxyl vinyl polymers, modified polyether urethane, cellulose-based resins, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, polyacrylates, polyvinylpyrrolidone, dextrin-based resins, chitin-based resins, and chitosan-based resins.

水溶性高分子としては、セルロース系樹脂を好適に用いることができる。セルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及び、これらを更に変性(例えば、疎水化)した変性体、等が挙げられる。 As the water-soluble polymer, a cellulose-based resin can be preferably used. Examples of the cellulose-based resin include methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, and modified products obtained by further modifying these (e.g., hydrophobizing them).

セルロース系樹脂としては、アルキル基を有するセルロース系樹脂が好ましく、炭素数6~26の長鎖アルキル基を有するセルロース系樹脂がより好ましい。このようなセルロース系樹脂によれば、本発明の効果がより顕著に奏される。長鎖アルキル基の炭素数は、好ましくは8~26であり、より好ましくは10~26、更に好ましくは12~26、一層好ましくは15~26である。 As the cellulose-based resin, a cellulose-based resin having an alkyl group is preferable, and a cellulose-based resin having a long-chain alkyl group with 6 to 26 carbon atoms is more preferable. With such a cellulose-based resin, the effects of the present invention are more pronounced. The number of carbon atoms in the long-chain alkyl group is preferably 8 to 26, more preferably 10 to 26, even more preferably 12 to 26, and even more preferably 15 to 26.

セルロース系樹脂としては、例えば、下記式(A-1)で表される構造単位を有するセルロース系樹脂が好ましい。 As the cellulose-based resin, for example, a cellulose-based resin having a structural unit represented by the following formula (A-1) is preferred.

式(A-1)中、Rは、水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、-RA1-O-RA2で表される基(RA1はアルカンジイル基又はヒドロキシアルカンジイル基を示し、RA2はアルキル基を示す。)を示す。3個のRは、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、3個のRのうち、少なくとも一つは、アルキル基又は-RA1-O-RA2で表される基である。 In formula (A-1), R A represents a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl group, or a group represented by -R A1 -O-R A2 (R A1 represents an alkanediyl group or a hydroxyalkanediyl group, and R A2 represents an alkyl group). The three R A may be the same or different. However, of the three R A , at least one is an alkyl group or a group represented by -R A1 -O-R A2 .

式(A-1)中、Rにおけるアルキル基としては、炭素数1~26のアルキル基が好ましい。また、Rにおけるアルキル基は、炭素数1~3の短鎖アルキル基、又は、炭素数6~26の長鎖アルキル基であることがより好ましい。長鎖アルキル基の炭素数は、好ましくは8~26、より好ましくは10~26、更に好ましくは12~26、一層好ましくは15~26である。 In formula (A-1), the alkyl group in R A is preferably an alkyl group having 1 to 26 carbon atoms. Moreover, the alkyl group in R A is more preferably a short-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a long-chain alkyl group having 6 to 26 carbon atoms. The number of carbon atoms in the long-chain alkyl group is preferably 8 to 26, more preferably 10 to 26, even more preferably 12 to 26, and even more preferably 15 to 26.

式(A-1)中、Rにおけるヒドロキシアルキル基としては、炭素数1~26のヒドロキシアルキル基が好ましく、炭素数1~10のヒドロキシアルキル基がより好ましく、炭素数1~5のヒドロキシアルキル基が更に好ましい。 In formula (A-1), the hydroxyalkyl group for R 1 A is preferably a hydroxyalkyl group having 1 to 26 carbon atoms, more preferably a hydroxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably a hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

式(A-1)中、RA1におけるアルカンジイル基は、好ましくは炭素数1~26のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1~10のアルカンジイル基であり、更に好ましくは炭素数1~5のアルカンジイル基である。また、RA1におけるヒドロキシアルカンジイル基は、好ましくは炭素数1~26のヒドロキシアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1~10のヒドロキシアルカンジイル基であり、更に好ましくは炭素数1~5のヒドロキシアルカンジイル基である。 In formula (A-1), the alkanediyl group in R A1 is preferably an alkanediyl group having 1 to 26 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms. In addition, the hydroxyalkanediyl group in R A1 is preferably a hydroxyalkanediyl group having 1 to 26 carbon atoms, more preferably a hydroxyalkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably a hydroxyalkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms.

式(A-1)中、RA2としては、炭素数1~26のアルキル基が好ましい。また、RA2におけるアルキル基は、炭素数1~3の短鎖アルキル基、又は、炭素数6~26の長鎖アルキル基であることがより好ましく、長鎖アルキル基であることがより好ましい。長鎖アルキル基の炭素数は、好ましくは8~26、より好ましくは10~26、更に好ましくは12~26、一層好ましくは15~26である。 In formula (A-1), R A2 is preferably an alkyl group having 1 to 26 carbon atoms. The alkyl group in R A2 is more preferably a short-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a long-chain alkyl group having 6 to 26 carbon atoms, and more preferably a long-chain alkyl group. The number of carbon atoms in the long-chain alkyl group is preferably 8 to 26, more preferably 10 to 26, even more preferably 12 to 26, and even more preferably 15 to 26.

式(A-1)において、3個のRのうち少なくとも一つが長鎖アルキル基であるか、3個のRのうち少なくとも一つが-RA1-O-RA2で表される基であり且つRA2が長鎖アルキル基であることが好ましい。 In formula (A-1), it is preferable that at least one of the three R A is a long-chain alkyl group, or at least one of the three R A is a group represented by -R A1 -O-R A2 and R A2 is a long-chain alkyl group.

セルロース系樹脂において、炭素数6~26の長鎖アルキル基の含有量が、セルロース系樹脂の全量基準で0.01~5質量%であることが好ましく、0.01~3質量%であることがより好ましい。 In the cellulose-based resin, the content of long-chain alkyl groups having 6 to 26 carbon atoms is preferably 0.01 to 5 mass% based on the total amount of the cellulose-based resin, and more preferably 0.01 to 3 mass%.

第四の塗液において、水溶性高分子の含有量は、塗液中の固形分の全体積基準で、例えば0.01体積%以上であってよく、0.1体積%以上が好ましく、0.3体積%以上がより好ましい。また、水溶性高分子の含有量は、塗液中の固形分の全体積基準で、例えば10体積%以下であってよく、好ましくは5体積%以下であり、より好ましくは3体積%以下である。 In the fourth coating liquid, the content of the water-soluble polymer may be, for example, 0.01 vol.% or more, preferably 0.1 vol.% or more, and more preferably 0.3 vol.% or more, based on the total volume of the solids in the coating liquid. The content of the water-soluble polymer may be, for example, 10 vol.% or less, preferably 5 vol.% or less, and more preferably 3 vol.% or less, based on the total volume of the solids in the coating liquid.

<液状媒体>
第四の塗液において、液状媒体としては、水を含む水系溶媒が好ましい。水系溶媒には、水以外に有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒は、水との相溶性を有するものであればよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン等の窒素含有化合物等が挙げられる。
<Liquid medium>
In the fourth coating liquid, the liquid medium is preferably an aqueous solvent containing water. The aqueous solvent may contain an organic solvent other than water. The organic solvent may be any organic solvent that is compatible with water, and examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, and propylene glycol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; and nitrogen-containing compounds such as acetonitrile, dimethylformamide, and triethylamine.

第四の塗液において、液状媒体の含有量は特に限定されず、所望の塗液の粘度等に応じて適宜変更してよい。例えば、液状媒体の含有量は、塗液の固形分濃度が後述の好適な範囲となる量であってよい。 In the fourth coating liquid, the content of the liquid medium is not particularly limited and may be changed as appropriate depending on the desired viscosity of the coating liquid. For example, the content of the liquid medium may be an amount that brings the solids concentration of the coating liquid into a suitable range described below.

第四の塗液の固形分濃度は、例えば、10質量%以上であってよく、好ましくは15質量%以上、より好ましくは20質量%以上である。また、第四の塗液の固形分濃度は、例えば、70質量%以下であってよく、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下である。 The solids concentration of the fourth coating liquid may be, for example, 10% by mass or more, preferably 15% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more. The solids concentration of the fourth coating liquid may be, for example, 70% by mass or less, preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.

<その他の成分>
第四の塗液は、エアロゲル粒子、水溶性高分子及び液状媒体以外の成分を更に含有していてもよい。
<Other ingredients>
The fourth coating liquid may further contain components other than the aerogel particles, the water-soluble polymer, and the liquid medium.

第四の塗液は、例えば、バインダ樹脂を更に含有していてもよい。バインダ樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性及び強靭性という観点から、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂等を好適に用いることができる。 The fourth coating liquid may further contain, for example, a binder resin. Examples of binder resins include epoxy resins, silicone resins, phenolic resins, urea resins, melamine resins, polyurethane resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polyester resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyvinyl resins, and the like. Among these, silicone resins, acrylic resins, phenolic resins, polyester resins, and the like can be preferably used from the viewpoints of heat resistance and toughness.

第四の塗液がバインダ樹脂を含有する場合、バインダ樹脂の含有量は、固形分の全体積基準で、例えば30体積%以下であってよく、好ましくは28体積%以下、より好ましくは25体積%以下である。また、バインダ樹脂の含有量は、固形分の全体積基準で、例えば0.1体積%以上であってよく、1体積%以上であってもよい。 When the fourth coating liquid contains a binder resin, the content of the binder resin may be, for example, 30 vol. % or less, preferably 28 vol. % or less, and more preferably 25 vol. % or less, based on the total volume of the solids. The content of the binder resin may be, for example, 0.1 vol. % or more, or 1 vol. % or more, based on the total volume of the solids.

<塗膜の製造方法及び塗膜>
塗膜の製造方法(塗膜形成方法)は、エアロゲル粒子及び液状媒体を含む塗液から、液状媒体を除去する工程を備える。より具体的には、塗膜の製造方法は、上述の塗液を対象物上に塗布する工程と、対象物上に塗布された塗液から液状媒体を除去する工程と、を備えることができる。
<Method of producing coating film and coating film>
The method for producing a coating film (method for forming a coating film) includes a step of removing the liquid medium from a coating liquid containing aerogel particles and a liquid medium. More specifically, the method for producing a coating film can include a step of applying the above-mentioned coating liquid onto an object, and a step of removing the liquid medium from the coating liquid applied onto the object.

塗液を対象物上に塗布する方法としては特に制限されず、例えばディップコート、スプレーコート、スピンコート、ロールコート等が挙げられる。塗膜の形成に際しては、塗布された塗液を0~40℃の環境に放置してもよく、あるいは塗布された塗液に対し、加熱(例えば、40~150℃)処理、減圧(例えば、10000Pa以下)処理、又はそれらの両処理を行ってもよい。 The method of applying the coating liquid to the object is not particularly limited, and examples include dip coating, spray coating, spin coating, roll coating, etc. When forming a coating film, the applied coating liquid may be left in an environment of 0 to 40°C, or the applied coating liquid may be subjected to a heating treatment (e.g., 40 to 150°C), a decompression treatment (e.g., 10,000 Pa or less), or both of these treatments.

なお、本実施形態の塗液は高粘度(ペースト状)であってもよいため、図1に示すように鏝(金属へら)等を用いて塗液を対象物上に塗布することができる。図1では、鏝を用いて塗液を配管の屈曲部に塗布している。本実施形態の塗液であれば、従来の断熱塗料では実現困難な厚みの塗膜を短時間で形成することができる。具体的には、そのような塗液であれば、一度の塗布により少なくとも2mm程度の厚さの塗膜を形成することができ、0.5mm程度の厚さの塗膜しか得られなかった従来の塗料に比して極めて高い作業効率を実現することができる。なお、塗液はエアロゲル粒子を含むため、従来の断熱塗料よりも断熱性能に優れる塗膜を得ることができる。 The coating liquid of this embodiment may be highly viscous (paste-like), and therefore, as shown in FIG. 1, the coating liquid can be applied to an object using a trowel (metal spatula) or the like. In FIG. 1, the coating liquid is applied to a bent portion of a pipe using a trowel. With the coating liquid of this embodiment, a coating film of a thickness that is difficult to achieve with conventional heat insulating paints can be formed in a short time. Specifically, such a coating liquid can form a coating film of at least about 2 mm in thickness with one application, and can achieve extremely high work efficiency compared to conventional paints that could only obtain a coating film of about 0.5 mm in thickness. Since the coating liquid contains aerogel particles, a coating film with superior heat insulating performance can be obtained.

第一の塗液を用いる場合、これにより、比表面積が350m/g以下であるエアロゲル粒子及びバインダ樹脂(又はその硬化体)を含む第一の塗膜を得ることができる。第一の塗膜は、エアロゲル粒子を40~95質量%含むことができ、バインダ樹脂(又はその硬化体)を1~50質量%含むことができる。 When the first coating liquid is used, a first coating film containing aerogel particles having a specific surface area of 350 m 2 /g or less and a binder resin (or a cured product thereof) can be obtained. The first coating film can contain 40 to 95 mass % of aerogel particles and 1 to 50 mass % of binder resin (or a cured product thereof).

第二の塗液を用いる場合、これにより、エアロゲル粒子、バインダ樹脂(又はその硬化体)、及び繊維長が1.5mm以上である繊維状物質を含む第二の塗膜を得ることができる。第二の塗膜は、エアロゲル粒子を40~95質量%含むことができ、バインダ樹脂(又はその硬化体)を1~40質量%含むことができ、繊維長が1.5mm以上である繊維状物質を1~50質量%含むことができる。 When the second coating liquid is used, a second coating film containing aerogel particles, binder resin (or its cured product), and a fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more can be obtained. The second coating film can contain 40 to 95 mass% aerogel particles, 1 to 40 mass% binder resin (or its cured product), and 1 to 50 mass% fibrous material having a fiber length of 1.5 mm or more.

第三の塗液を用いる場合、これにより、エアロゲル粒子、第一のバインダ樹脂、及び、第二のバインダ樹脂(又はその硬化体)を含む第三の塗膜を得ることができる。 When the third coating liquid is used, a third coating film containing aerogel particles, the first binder resin, and the second binder resin (or its cured product) can be obtained.

第四の塗液を用いる場合、これにより、エアロゲル粒子と、疎水性基を有する水溶性高分子とを含む第四の塗膜を得ることができる。 When the fourth coating liquid is used, a fourth coating film containing aerogel particles and a water-soluble polymer having a hydrophobic group can be obtained.

塗膜中のエアロゲル粒子の含有量は、例えば、40質量%以上とすることができるが、50質量%以上であってもよく、60質量%以上であってもよく、70質量%以上であってもよい。これにより、塗膜の断熱性が一層向上する。また、塗膜中のエアロゲル粒子の含有量は、例えば、95質量%以下とすることができるが、90質量%以下であってもよい。これにより、塗膜が形成し易くなる傾向がある。 The content of aerogel particles in the coating film can be, for example, 40% by mass or more, but may also be 50% by mass or more, 60% by mass or more, or 70% by mass or more. This further improves the heat insulating properties of the coating film. In addition, the content of aerogel particles in the coating film can be, for example, 95% by mass or less, but may also be 90% by mass or less. This tends to make it easier to form the coating film.

特に第三の塗膜について、塗膜中の第一のバインダ樹脂の含有量は、エアロゲル粒子100質量部に対して、例えば2質量部以上であってよく、5質量部以上が好ましく、8質量部以上がより好ましい。また、塗膜中の第一のバインダ樹脂の含有量は、エアロゲル粒子100質量部に対して、例えば20質量部以下であってよく、17質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。 In particular, for the third coating film, the content of the first binder resin in the coating film may be, for example, 2 parts by mass or more, preferably 5 parts by mass or more, and more preferably 8 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the aerogel particles. Also, the content of the first binder resin in the coating film may be, for example, 20 parts by mass or less, preferably 17 parts by mass or less, and more preferably 15 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the aerogel particles.

特に第三の塗膜について、塗膜中の第二のバインダ樹脂(又はその硬化体)の含有量は、エアロゲル粒子100質量部に対して、例えば10質量部以上であってよく、15質量部以上が好ましく、20質量部以上であってもよい。また、塗膜中の第二のバインダ樹脂(又はその硬化体)の含有量は、エアロゲル粒子100質量部に対して、例えば100質量部以下であってよく、80質量部以下が好ましく、60質量部以下であってよく、40質量部以下であってもよい。 In particular, for the third coating film, the content of the second binder resin (or its cured product) in the coating film may be, for example, 10 parts by mass or more, preferably 15 parts by mass or more, or may be 20 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the aerogel particles. Also, the content of the second binder resin (or its cured product) in the coating film may be, for example, 100 parts by mass or less, preferably 80 parts by mass or less, may be 60 parts by mass or less, or may be 40 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the aerogel particles.

塗膜の厚さは特に限定されず、例えば0.01~30mm、0.1~20mm、又は0.01~5mmであってもよい。 The thickness of the coating is not particularly limited and may be, for example, 0.01 to 30 mm, 0.1 to 20 mm, or 0.01 to 5 mm.

[断熱材(2)] [Insulation material (2)]

断熱材は、例えば、下記式(A)を満たす断熱材(以下、断熱材(2))であってもよい。
F1>F2 …(A)
式中、F1は、断熱材を220℃で120秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表し、F2は、断熱材を260℃で30秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表す。
The heat insulating material may be, for example, a heat insulating material satisfying the following formula (A) (hereinafter, heat insulating material (2)).
F1>F2 ... (A)
In the formula, F1 represents the adhesive strength of the insulating material after it is heated at 220° C. for 120 seconds, and F2 represents the adhesive strength of the insulating material after it is heated at 260° C. for 30 seconds.

F1は、25℃において、非加熱の断熱材をスライドガラスに貼り付けて15分間静置し、続いて、220℃で120秒間加熱した後に25℃まで冷却した状態の断熱材について、引張試験機(例えば(株)島津製作所製「EZ Test EZ-S」)を用いて、90°剥離、引張速度:50mm/分の条件で測定された粘着力を意味する。F2は、25℃において、非加熱の断熱材をスライドガラスに貼り付けて15分間静置し、続いて、260℃で30秒間加熱した後に25℃まで冷却した状態の断熱材について、上記と同様に測定された粘着力を意味する。 F1 means the adhesive strength of the insulating material, which is attached to a slide glass at 25°C and left to stand for 15 minutes, then heated at 220°C for 120 seconds and cooled to 25°C, measured using a tensile tester (e.g., Shimadzu Corporation's "EZ Test EZ-S") under conditions of 90° peeling and tensile speed: 50 mm/min. F2 means the adhesive strength of the insulating material, which is attached to a slide glass at 25°C and left to stand for 15 minutes, then heated at 260°C for 30 seconds and cooled to 25°C, measured in the same manner as above.

式(A)におけるF1及びF2は、それぞれリフロー工程中及びリフロー工程後の断熱材の粘着力に相当するとみることができる。すなわち、断熱材が式(A)を満たす場合、リフロー工程中には、断熱材の粘着力が相対的に大きいため、断熱材が第一の電子部品及び/又は保持部材に対して付着しやすく、第一の電子部品を熱からより好適に保護できると共に、リフロー工程後には、断熱材の粘着力が相対的に小さいため、断熱材を第一の電子部品及び/又は保持部材から容易に剥離できる。 F1 and F2 in formula (A) can be considered to correspond to the adhesive strength of the insulating material during and after the reflow process, respectively. In other words, when the insulating material satisfies formula (A), the adhesive strength of the insulating material is relatively large during the reflow process, so that the insulating material easily adheres to the first electronic component and/or the holding member, and the first electronic component can be more effectively protected from heat, and at the same time, the adhesive strength of the insulating material is relatively small after the reflow process, so that the insulating material can be easily peeled off from the first electronic component and/or the holding member.

断熱材(2)は、好ましくは、下記式(B)を満たす断熱材である。
F0≦F1 …(B)
式中、F0は、25℃における断熱材の粘着力を表し、F1は、断熱材を220℃で120秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表す。
The heat insulating material (2) is preferably a heat insulating material that satisfies the following formula (B).
F0≦F1 ... (B)
In the formula, F0 represents the adhesive strength of the insulating material at 25° C., and F1 represents the adhesive strength of the insulating material after it has been heated at 220° C. for 120 seconds.

F0は、25℃において、非加熱の断熱材をスライドガラスに貼り付けて15分間静置し、続いて、上記と同様に測定された粘着力を意味する。なお、断熱材が粘着性を有するとは、このF0が10N/m以上であることを意味する。 F0 refers to the adhesive strength measured in the same manner as above after attaching an unheated insulating material to a glass slide at 25°C and leaving it to stand for 15 minutes. Note that an insulating material having adhesiveness means that this F0 is 10 N/m or more.

式(B)におけるF0及びF1は、それぞれリフロー工程前(例えば断熱材を第一の電子部品及び/又は保持部材上に配置する工程)及びリフロー工程中の断熱材の粘着力に相当するとみることができる。すなわち、断熱材が式(B)を満たす場合、リフロー工程前においては、断熱材の粘着力が比較的小さいため、断熱材の取扱いが容易であると共に、リフロー工程中には、断熱材の粘着力が比較的大きいため、断熱材が第一の電子部品及び/又は保持部材に対して付着しやすく、第一の電子部品を熱からより好適に保護できる。 F0 and F1 in formula (B) can be considered to correspond to the adhesive strength of the insulating material before the reflow process (e.g., the process of placing the insulating material on the first electronic component and/or the holding member) and during the reflow process, respectively. In other words, when the insulating material satisfies formula (B), the adhesive strength of the insulating material is relatively small before the reflow process, making it easy to handle the insulating material, and the adhesive strength of the insulating material is relatively large during the reflow process, making it easy for the insulating material to adhere to the first electronic component and/or the holding member, and thus better protecting the first electronic component from heat.

上述したのと同様の観点から、断熱材(2)は、より好ましくは、上記式(A)及び式(B)の両方を満たす断熱材である。 From the same viewpoint as described above, the insulating material (2) is more preferably an insulating material that satisfies both the above formula (A) and formula (B).

上記のような粘着特性を有する断熱材は、例えば、マトリックスポリマーと、中空粒子とを含有する。断熱材は、例えば、上記マトリックスポリマーのモノマー単位を構成するモノマー成分と、中空粒子とを含有する断熱材前駆体を硬化(当該前駆体中のモノマーを重合)させることにより得られる硬化物であってよい。 The heat insulating material having the above-mentioned adhesive properties contains, for example, a matrix polymer and hollow particles. The heat insulating material may be, for example, a cured product obtained by curing (polymerizing the monomer in the precursor) a heat insulating material precursor containing a monomer component constituting the monomer unit of the matrix polymer and hollow particles.

一実施形態において、断熱材(2)は、予めシート状に成形された(断熱材前駆体を予め硬化させた)断熱材であってよい。他の一実施形態において、断熱材(2)は、液状の断熱材前駆体を第一の電子部品及び/又は保持部材上に配置した後、断熱材前駆体を硬化させることにより形成されたものであってもよい。 In one embodiment, the insulating material (2) may be an insulating material that has been preformed into a sheet (an insulating material precursor that has been pre-cured). In another embodiment, the insulating material (2) may be formed by placing a liquid insulating material precursor on the first electronic component and/or the holding member, and then curing the insulating material precursor.

モノマー成分は、断熱材が低弾性で伸びに優れ、追従性を高めることができる観点から、下記式(1)で表される化合物を含んでよい。

式(1)中、R11及びR12はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R13はポリオキシアルキレン鎖を有する2価の基を表す。
The monomer component may contain a compound represented by the following formula (1) from the viewpoint of providing a thermal insulating material with low elasticity, excellent elongation, and improved conformability.

In formula (1), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 13 represents a divalent group having a polyoxyalkylene chain.

一実施形態において、R11及びR12の一方が水素原子であり、かつ他方がメチル基であってよく、他の一実施形態において、R11及びR12の両方が水素原子であってよく、他の実施形態において、R11及びR12の両方がメチル基であってよい。 In one embodiment, one of R 11 and R 12 may be a hydrogen atom and the other may be a methyl group; in another embodiment, both R 11 and R 12 may be hydrogen atoms; in another embodiment, both R 11 and R 12 may be methyl groups.

一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、下記式(2)で表される構造単位を含む。これにより、断熱材前駆体の粘度の過度な上昇を抑制しつつ、断熱材の強度を高めることができる。
In one embodiment, the polyoxyalkylene chain contains a structural unit represented by the following formula (2): This makes it possible to increase the strength of the insulating material while suppressing an excessive increase in the viscosity of the insulating material precursor.

この場合、R13はポリオキシエチレン鎖を有する2価の基であってよく、式(1)で表される化合物は、好ましくは下記式(1-2)で表される化合物(ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート)である。

式(1-2)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、mは2以上の整数である。
In this case, R 13 may be a divalent group having a polyoxyethylene chain, and the compound represented by formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (1-2) (polyethylene glycol di(meth)acrylate).

In formula (1-2), R 11 and R 12 have the same meanings as R 11 and R 12 in formula (1), respectively, and m is an integer of 2 or more.

他の一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、下記式(3)で表される構造単位を含む。これにより、断熱材前駆体の取扱いを容易にすることができる。
In another embodiment, the polyoxyalkylene chain contains a structural unit represented by the following formula (3): This makes it possible to easily handle the heat insulating material precursor.

この場合、R13はポリオキシプロピレン鎖を有する2価の基であってよく、式(1)で表される化合物は、好ましくは下記式(1-3)で表される化合物(ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート)である。

式(1-3)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、nは2以上の整数である。
In this case, R 13 may be a divalent group having a polyoxypropylene chain, and the compound represented by formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (1-3) (polypropylene glycol di(meth)acrylate).

In formula (1-3), R 11 and R 12 have the same meanings as R 11 and R 12 in formula (1), respectively, and n is an integer of 2 or more.

他の一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、式(1)で表される化合物の断熱材の強度と、断熱材前駆体の取扱い性を両立させやすくする観点から、好ましくは、上述した、式(2)で表される構造単位、及び式(3)で表される構造単位を含む共重合鎖である。共重合鎖は、交互共重合鎖、ブロック共重合鎖、又はランダム共重合鎖のいずれであってもよい。共重合鎖は、式(1)で表される化合物の結晶性を更に低くし、断熱材前駆体の取扱いを更に容易にできる観点から、好ましくはランダム共重合鎖である。 In another embodiment, the polyoxyalkylene chain is preferably a copolymer chain containing the structural unit represented by formula (2) and the structural unit represented by formula (3) described above, from the viewpoint of easily achieving both the strength of the insulating material of the compound represented by formula (1) and the ease of handling of the insulating material precursor. The copolymer chain may be any of an alternating copolymer chain, a block copolymer chain, and a random copolymer chain. The copolymer chain is preferably a random copolymer chain, from the viewpoint of further reducing the crystallinity of the compound represented by formula (1) and further facilitating the handling of the insulating material precursor.

上述した各実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、式(2)で表される構造単位及び式(3)で表される構造単位以外に、オキシテトラメチレン基、オキシブチレン基、オキシペンチレン基等の、炭素数4~5のオキシアルキレン基を構造単位として有していてもよい。 In each of the above-described embodiments, the polyoxyalkylene chain may have an oxyalkylene group having 4 to 5 carbon atoms, such as an oxytetramethylene group, an oxybutylene group, or an oxypentylene group, as a structural unit in addition to the structural unit represented by formula (2) and the structural unit represented by formula (3).

13は、上述したポリオキシアルキレン鎖に加えて、その他の有機基を更に有する2価の基であってもよい。その他の有機基は、ポリオキシアルキレン鎖以外の鎖状の基であってよく、例えば、メチレン鎖(-CH-を構造単位とする鎖)、ポリエステル鎖(-COO-を構造単位中に含む鎖)、ポリウレタン鎖(-OCON-を構造単位中に含む鎖)等であってよい。 R 13 may be a divalent group having, in addition to the above-mentioned polyoxyalkylene chain, another organic group. The other organic group may be a chain-like group other than a polyoxyalkylene chain, such as a methylene chain (a chain having -CH 2 - as a structural unit), a polyester chain (a chain containing -COO- in a structural unit), a polyurethane chain (a chain containing -OCON- in a structural unit), etc.

例えば、式(1)で表される化合物は、下記式(1-4)で表される化合物であってもよい。

式(1-4)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、R14及びR15は、それぞれ独立に炭素数2~5のアルキレン基であり、k1、k2及びk3はそれぞれ独立に2以上の整数である。k2は、例えば16以下の整数であってよい。
For example, the compound represented by formula (1) may be a compound represented by the following formula (1-4).

In formula (1-4), R 11 and R 12 are the same as R 11 and R 12 in formula (1), R 14 and R 15 are each independently an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and k1, k2 and k3 are each independently an integer of 2 or more. k2 may be, for example, an integer of 16 or less.

複数存在するR14及びR15は、それぞれ、互いに同一であってよく、互いに異なっていてもよい。複数存在するR14及びR15は、それぞれ、好ましくは、エチレン基及びプロピレン基を含む。すなわち、(R14O)k1で表されるポリオキシアルキレン鎖、及び(R15O)k3で表されるポリオキシアルキレン鎖は、それぞれ、好ましくは、オキシエチレン基(上記式(2)で表される構造単位)、及びオキシプロピレン基(上記式(3)で表される構造単位)を含む共重合鎖である。 A plurality of R 14 and R 15 may be the same or different from each other. A plurality of R 14 and R 15 each preferably contains an ethylene group and a propylene group. That is, the polyoxyalkylene chain represented by (R 14 O) k1 and the polyoxyalkylene chain represented by (R 15 O) k3 are each preferably a copolymer chain containing an oxyethylene group (structural unit represented by the above formula (2)) and an oxypropylene group (structural unit represented by the above formula (3)).

上述した各実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、好ましくは100以上である。ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数が100以上であると、式(1)で表される化合物の主鎖が長くなることにより、断熱材の伸びが更に優れ、断熱材の強度も高めることができる。オキシアルキレン基の数は、式(1-2)におけるm、式(1-3)におけるn、式(1-4)におけるk1及びk3のそれぞれに相当する。 In each of the above-described embodiments, the number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is preferably 100 or more. When the number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is 100 or more, the main chain of the compound represented by formula (1) becomes longer, so that the elongation of the insulating material is further improved and the strength of the insulating material can also be increased. The number of oxyalkylene groups corresponds to m in formula (1-2), n in formula (1-3), and k1 and k3 in formula (1-4).

ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、より好ましくは、130以上、180以上、200以上、220以上、250以上、270以上、300以上、又は320以上である。ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、600以下、570以下、又は530以下であってよい。 The number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is more preferably 130 or more, 180 or more, 200 or more, 220 or more, 250 or more, 270 or more, 300 or more, or 320 or more. The number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain may be 600 or less, 570 or less, or 530 or less.

式(1)で表される化合物の重量平均分子量は、断熱材がより低弾性で伸びに優れる観点から、好ましくは、5000以上、6000以上、7000以上、8000以上、9000以上、10000以上、11000以上、12000以上、13000以上、14000以上、又は15000以上である。式(1)で表される化合物の重量平均分子量は、断熱材前駆体の粘度を調整しやすくする観点から、好ましくは、100000以下、80000以下、60000以下、34000以下、31000以下、又は28000以下である。 The weight average molecular weight of the compound represented by formula (1) is preferably 5000 or more, 6000 or more, 7000 or more, 8000 or more, 9000 or more, 10000 or more, 11000 or more, 12000 or more, 13000 or more, 14000 or more, or 15000 or more, from the viewpoint of the insulation material having lower elasticity and excellent elongation. The weight average molecular weight of the compound represented by formula (1) is preferably 100000 or less, 80000 or less, 60000 or less, 34000 or less, 31000 or less, or 28000 or less, from the viewpoint of making it easier to adjust the viscosity of the insulation material precursor.

式(1)で表される化合物は、25℃で液状であってよい。この場合、式(1)で表される化合物の25℃における粘度は、塗布面に対して塗布しやすくする観点、断熱材の塗布面に対する密着性を高める観点から、好ましくは、1000Pa・s以下、800Pa・s以下、600Pa・s以下、500Pa・s以下、350Pa・s以下、300Pa・s以下、又は200Pa・s以下である。式(1)で表される化合物の25℃における粘度は、0.1Pa・s以上、0.2Pa・s以上、0.3Pa・s以上、1Pa・s以上、2Pa・s以上、又は3Pa・s以上であってよい。 The compound represented by formula (1) may be liquid at 25°C. In this case, the viscosity of the compound represented by formula (1) at 25°C is preferably 1000 Pa·s or less, 800 Pa·s or less, 600 Pa·s or less, 500 Pa·s or less, 350 Pa·s or less, 300 Pa·s or less, or 200 Pa·s or less, from the viewpoint of facilitating application to the application surface and from the viewpoint of increasing adhesion of the insulating material to the application surface. The viscosity of the compound represented by formula (1) at 25°C may be 0.1 Pa·s or more, 0.2 Pa·s or more, 0.3 Pa·s or more, 1 Pa·s or more, 2 Pa·s or more, or 3 Pa·s or more.

式(1)で表される化合物は、25℃で固体状であってもよい。この場合、断熱材前駆体の取扱い性を更に向上させる観点から、式(1)で表される化合物は、好ましくは、50℃で液状である。また、この場合、式(1)で表される化合物の50℃における粘度は、断熱材前駆体の取扱い性を更に向上させる観点から、好ましくは100Pa・s以下、より好ましくは50Pa・s以下、更に好ましくは30Pa・s以下、特に好ましくは20Pa・s以下である。式(1)で表される化合物の50℃における粘度は、0.1Pa・s以上、0.2Pa・s以上、又は0.3Pa・s以上であってよい。 The compound represented by formula (1) may be solid at 25°C. In this case, from the viewpoint of further improving the handleability of the insulating material precursor, the compound represented by formula (1) is preferably liquid at 50°C. In this case, from the viewpoint of further improving the handleability of the insulating material precursor, the viscosity of the compound represented by formula (1) at 50°C is preferably 100 Pa·s or less, more preferably 50 Pa·s or less, even more preferably 30 Pa·s or less, and particularly preferably 20 Pa·s or less. The viscosity of the compound represented by formula (1) at 50°C may be 0.1 Pa·s or more, 0.2 Pa·s or more, or 0.3 Pa·s or more.

粘度は、JIS Z 8803に基づいて測定された値を意味し、具体的には、E型粘度計(例えば、東機産業(株)製、PE-80L)により測定された値を意味する。なお、粘度計の校正は、JIS Z 8809-JS14000に基づいて行うことができる。式(1)で表される化合物の粘度は、当該化合物の重量平均分子量を調整することにより調整することができる。 The viscosity refers to a value measured based on JIS Z 8803, specifically, a value measured using an E-type viscometer (for example, PE-80L, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). The viscometer can be calibrated based on JIS Z 8809-JS14000. The viscosity of the compound represented by formula (1) can be adjusted by adjusting the weight average molecular weight of the compound.

式(1)で表される化合物の含有量は、断熱材がより低弾性で伸びに優れる観点から、断熱材前駆体全量を基準として、好ましくは、10質量%以上、20質量%以上、30質量%以上、又は40質量%以上である。式(1)で表される化合物の含有量は、断熱材前駆体全量を基準として、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、又は50質量%以下であってよい。 From the viewpoint of the insulating material having lower elasticity and excellent elongation, the content of the compound represented by formula (1) is preferably 10 mass% or more, 20 mass% or more, 30 mass% or more, or 40 mass% or more based on the total amount of the insulating material precursor. The content of the compound represented by formula (1) may be 90 mass% or less, 80 mass% or less, 70 mass% or less, 60 mass% or less, or 50 mass% or less based on the total amount of the insulating material precursor.

式(1)で表される化合物の含有量は、断熱材がより低弾性で伸びに優れる観点から、モノマー成分の合計100質量部に対して、好ましくは、20質量部以上、30質量部以上、又は40質量部以上である。式(1)で表される化合物の含有量は、モノマー成分の合計100質量部に対して、80質量部以下、70質量部以下、又は60質量部以下であってよい。 From the viewpoint of providing a thermal insulating material with lower elasticity and excellent elongation, the content of the compound represented by formula (1) is preferably 20 parts by mass or more, 30 parts by mass or more, or 40 parts by mass or more per 100 parts by mass of the total of the monomer components. The content of the compound represented by formula (1) may be 80 parts by mass or less, 70 parts by mass or less, or 60 parts by mass or less per 100 parts by mass of the total of the monomer components.

モノマー成分は、断熱材前駆体の物性を調整すること等を目的として、上述した式(1)で表される化合物と共重合可能な他のモノマーを更に含有してもよい。 The monomer component may further contain other monomers that are copolymerizable with the compound represented by formula (1) described above for the purpose of adjusting the physical properties of the insulating material precursor, etc.

他のモノマーは、例えば、(メタ)アクリロイル基を一つ有する化合物であってよい。
当該化合物は、例えば、アルキル(メタ)アクリレートであってよい。他のモノマーは、一つの(メタ)アクリロイル基に加えて、芳香族炭化水素基、ポリオキシアルキレン鎖を含む基、ヘテロ環を含む基、アルコキシ基、フェノキシ基、シラン基を含む基、シロキサン結合を含む基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、又はエポキシ基を有する化合物であってもよい。特に、断熱材前駆体がアルキル(メタ)アクリレートを含有することにより、断熱材前駆体の粘度を調整することができる。また、断熱材前駆体が、(メタ)アクリロイル基に加えて、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、又はエポキシ基を有する化合物を含有することにより、断熱材前駆体及び断熱材の部材に対する密着性を更に向上できる。
The other monomer may be, for example, a compound having one (meth)acryloyl group.
The compound may be, for example, an alkyl (meth)acrylate. The other monomer may be a compound having, in addition to one (meth)acryloyl group, an aromatic hydrocarbon group, a group containing a polyoxyalkylene chain, a group containing a heterocycle, an alkoxy group, a phenoxy group, a group containing a silane group, a group containing a siloxane bond, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an epoxy group. In particular, the heat insulating material precursor contains an alkyl (meth)acrylate, so that the viscosity of the heat insulating material precursor can be adjusted. In addition, the heat insulating material precursor contains a compound having, in addition to a (meth)acryloyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an epoxy group, so that the adhesion of the heat insulating material precursor and the heat insulating material to the member can be further improved.

アルキル(メタ)アクリレートにおけるアルキル基((メタ)アクリロイル基以外のアルキル基部分)は、直鎖状であっても分岐状であっても脂環式であってもよい。アルキル基の炭素数は、例えば、1~30であってよい。アルキル基の炭素数は、1~11、1~8、1~6、又は1~4であってよく、12~30、12~28、12~24、12~22、12~18、又は12~14であってもよい。 The alkyl group in the alkyl (meth)acrylate (the alkyl group portion other than the (meth)acryloyl group) may be linear, branched, or alicyclic. The number of carbon atoms in the alkyl group may be, for example, 1 to 30. The number of carbon atoms in the alkyl group may be 1 to 11, 1 to 8, 1 to 6, or 1 to 4, or may be 12 to 30, 12 to 28, 12 to 24, 12 to 22, 12 to 18, or 12 to 14.

直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、n-へプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、又はウンデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1~11の直鎖状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、テトラデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート(セチル(メタ)アクリレート)、オクタデシル(メタ)アクリレート(ステアリル(メタ)アクリレート)、ドコシル(メタ)アクリレート(ベヘニル(メタ)アクリレート)、テトラコシル(メタ)アクリレート、ヘキサコシル(メタ)アクリレート、オクタコシル(メタ)アクリレート等の炭素数12~30の直鎖状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group include alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, and undecyl (meth)acrylate. Examples of such alkyl (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group having 12 to 30 carbon atoms, such as sil (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate), tetradecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate (cetyl (meth)acrylate), octadecyl (meth)acrylate (stearyl (meth)acrylate), docosyl (meth)acrylate (behenyl (meth)acrylate), tetracosyl (meth)acrylate, hexacosyl (meth)acrylate, and octacosyl (meth)acrylate.

分岐状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1~11の分岐状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2-プロピルヘプチル(メタ)アクリレート、イソウンデシル(メタ)アクリレート、イソドデシル(メタ)アクリレート、イソトリデシル(メタ)アクリレート、イソペンタデシル(メタ)アクリレート、イソヘキサデシル(メタ)アクリレート、イソヘプタデシル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、デシルテトラデカニル(メタ)アクリレート等の炭素数12~30の分岐状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group include s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, and isodecyl (meth)acrylate, and other alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group with 1 to 11 carbon atoms, isomyristyl (meth)acrylate, and the like. Examples of the alkyl (meth)acrylate include alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group having 12 to 30 carbon atoms, such as isoundecyl (meth)acrylate, 2-propylheptyl (meth)acrylate, isoundecyl (meth)acrylate, isododecyl (meth)acrylate, isotridecyl (meth)acrylate, isopentadecyl (meth)acrylate, isohexadecyl (meth)acrylate, isoheptadecyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, and decyltetradecanyl (meth)acrylate.

脂環式であるアルキル基(シクロアルキル基)を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テルペン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having an alicyclic alkyl group (cycloalkyl group) include cyclohexyl (meth)acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, terpene (meth)acrylate, and dicyclopentanyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及び芳香族炭化水素基を有する化合物としては、ベンジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and an aromatic hydrocarbon group is benzyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びポリオキシアルキレン鎖を含む基を有する化合物としては、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a polyoxyalkylene chain include polyethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate, polybutylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolybutylene glycol (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びヘテロ環を含む基を有する化合物としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and a group containing a heterocycle is tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びアルコキシ基を有する化合物としては、2-メトキシエチルアクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an alkoxy group include 2-methoxyethyl acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びフェノキシ基を有する化合物としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and a phenoxy group is phenoxyethyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びシラン基を含む基を有する化合物としては、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、10-メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10-アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10-メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、10-アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a silane group include 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-acryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltriethoxysilane, and 10-acryloyloxydecyltriethoxysilane.

(メタ)アクリロイル基、及びシロキサン結合を含む基を有する化合物としては、シリコーン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a siloxane bond include silicone (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びハロゲン原子を有する化合物としては、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロプロピルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロペンチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘプチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロノニルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロウンデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロドデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロトリデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロテトラデシルメチル(メタ)アクリレート、2-(トリフルオロメチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロエチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロプロピル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロペンチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘプチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロノニル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロトリデシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロテトラデシル)エチル(メタ)アクリレート等のフッ素原子を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Compounds having a (meth)acryloyl group and a halogen atom include trifluoromethyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl (meth)acrylate, perfluoroethyl methyl (meth)acrylate, perfluoropropyl methyl (meth)acrylate, perfluorobutyl methyl (meth)acrylate, perfluoropentyl methyl (meth)acrylate, perfluorohexyl methyl (meth)acrylate, perfluoroheptyl methyl (meth)acrylate, perfluorooctyl methyl (meth)acrylate, perfluorononyl methyl (meth)acrylate, perfluorodecyl methyl (meth)acrylate, perfluoroundecyl methyl (meth)acrylate, perfluorododecyl methyl (meth)acrylate, perfluoro Examples of (meth)acrylates having fluorine atoms include tridecylmethyl (meth)acrylate, perfluorotetradecylmethyl (meth)acrylate, 2-(trifluoromethyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoroethyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoropropyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorobutyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoropentyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorohexyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoroheptyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorooctyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorononyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorotridecyl)ethyl (meth)acrylate, and 2-(perfluorotetradecyl)ethyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びヒドロキシル基を有する化合物としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10-ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12-ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;(4-ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキルシクロアルカン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth)acrylate; and hydroxyalkyl cycloalkane (meth)acrylates such as (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びカルボキシル基を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート(例えば、東亞合成(株)製「アロニックスM5400」)、及び2-アクリロイルオキシエチルサクシネート(例えば、新中村化学株式会社製「NKエステル A-SA」)等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a carboxyl group include (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, monohydroxyethyl phthalate acrylate (e.g., "Aronix M5400" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and 2-acryloyloxyethyl succinate (e.g., "NK Ester A-SA" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

(メタ)アクリロイル基及びアミノ基を有する化合物としては、例えば、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an amino group include N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, and N,N-diethylaminopropyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びエポキシ基を有する化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、α-エチル(メタ)アクリル酸グリシジル、α-n-プロピル(メタ)アクリル酸グリシジル、α-n-ブチル(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸-3,4-エポキシブチル、(メタ)アクリル酸-4,5-エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチル(メタ)アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、(メタ)アクリル酸-3-メチル-3,4-エポキシブチル、(メタ)アクリル酸-4-メチル-4,5-エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸-5-メチル-5,6-エポキシヘキシル、(メタ)アクリル酸-β-メチルグリシジル、α-エチル(メタ)アクリル酸-β-メチルグリシジル等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, α-ethyl glycidyl (meth)acrylate, α-n-propyl glycidyl (meth)acrylate, α-n-butyl glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, 4,5-epoxypentyl (meth)acrylate, 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate, α-ethyl 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate, 3-methyl-3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, 4-methyl-4,5-epoxypentyl (meth)acrylate, 5-methyl-5,6-epoxyhexyl (meth)acrylate, β-methylglycidyl (meth)acrylate, and α-ethyl β-methylglycidyl (meth)acrylate.

モノマー成分は、上記他のモノマーのうちの1種を含有してもよく、2種以上を含有してもよい。 The monomer component may contain one of the other monomers listed above, or may contain two or more of them.

他のモノマーの含有量は、断熱材前駆体全量を基準として、例えば、1質量%以上、5質量%以上、10質量%以上、20質量%以上、又は30質量%以上であってよく、60質量%以下、50質量%以下、又は40質量%以下であってよい。 The content of other monomers may be, for example, 1 mass% or more, 5 mass% or more, 10 mass% or more, 20 mass% or more, or 30 mass% or more, and 60 mass% or less, 50 mass% or less, or 40 mass% or less, based on the total amount of the insulation precursor.

断熱材及び断熱材前駆体は、中空粒子として、好ましくは熱膨張性の中空粒子(以下「第一の中空粒子」ともいう)を含む。第一の中空粒子は、外殻と中空部とを有している。
本明細書における熱膨張性の中空粒子とは、25℃における体積に対する最大体積膨張倍率が10倍以上である中空粒子である。第一の中空粒子を用いると、リフロー工程において、第一の中空粒子が熱によって膨張することにより、断熱材と第一の電子部品及び/又は保持部材との界面の接着面積が減少し、リフロー工程後に断熱材を容易に除去することができる。
The insulating material and the insulating material precursor preferably contain thermally expandable hollow particles (hereinafter also referred to as "first hollow particles") as hollow particles. The first hollow particles have an outer shell and a hollow portion.
In this specification, the thermally expandable hollow particles are hollow particles having a maximum volume expansion ratio of 10 times or more relative to the volume at 25° C. When the first hollow particles are used, the first hollow particles expand due to heat in the reflow process, thereby reducing the adhesive area at the interface between the insulating material and the first electronic component and/or the holding member, and the insulating material can be easily removed after the reflow process.

第一の中空粒子の最大体積膨張倍率は、熱機械分析(TMA)にて、昇温速度10℃/分で昇温したときの、第一の中空粒子の最大体積と25℃における体積との比(最大体積/25℃における体積)として測定される。第一の中空粒子の最大体積膨張倍率は、例えば、20倍以上、30倍以上、又は40倍以上であってもよく、120倍以下であってもよい。 The maximum volume expansion ratio of the first hollow particles is measured by thermomechanical analysis (TMA) as the ratio of the maximum volume of the first hollow particles when heated at a heating rate of 10°C/min to the volume at 25°C (maximum volume/volume at 25°C). The maximum volume expansion ratio of the first hollow particles may be, for example, 20 times or more, 30 times or more, or 40 times or more, or may be 120 times or less.

外殻は、好ましくは熱可塑性ポリマーで構成されている。この場合、外殻が加熱により軟らかくなるため、中空部に内包されている液体が気化して内圧が上がっても、中空粒子は割れにくく、容易に膨張する。熱可塑性ポリマーは、例えば、アクリロニトリル、塩化ビニリデン等をモノマー単位として含むポリマーであってよい。外殻の厚さは、2μm以上であってよく、15μm以下であってよい。 The shell is preferably made of a thermoplastic polymer. In this case, since the shell becomes soft when heated, the hollow particles are less likely to break and expand easily even if the liquid contained in the hollow portion vaporizes and the internal pressure increases. The thermoplastic polymer may be, for example, a polymer containing acrylonitrile, vinylidene chloride, or the like as a monomer unit. The thickness of the shell may be 2 μm or more and 15 μm or less.

第一の中空粒子の中空部には、例えば液体が内包されている。第一の中空粒子は、常温常圧下(例えば、少なくとも大気圧下かつ30℃)においてこのような状態をとっている。当該液体は、例えば、リフロー工程における加熱温度に応じて適宜選択される。当該液体は、例えば、リフロー工程における最高加熱温度以下の温度で気化する液体である。当該液体は、例えば、沸点(大気圧下)が、50℃以上、100℃以上、150℃以上、又は200℃以上の炭化水素であってよい。第一の中空粒子の中空部には、上記の液体に加えて、気体が更に内包されていてもよい。 The hollow portion of the first hollow particle contains, for example, a liquid. The first hollow particle is in this state at room temperature and pressure (for example, at least atmospheric pressure and 30°C). The liquid is appropriately selected, for example, depending on the heating temperature in the reflow process. The liquid is, for example, a liquid that vaporizes at a temperature equal to or lower than the maximum heating temperature in the reflow process. The liquid may be, for example, a hydrocarbon having a boiling point (at atmospheric pressure) of 50°C or higher, 100°C or higher, 150°C or higher, or 200°C or higher. In addition to the above liquid, the hollow portion of the first hollow particle may further contain a gas.

第一の中空粒子の中空部に内包されている成分としては、例えば、プロパン、プロピレン、ブテン、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ネオペンタン、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ノルマルオクタン、イソアルカン(炭素数:10~13)、石油エーテル等の炭化水素;メタンのハロゲン化物、テトラアルキルシラン等の低沸点化合物;アゾジカルボンアミド等の熱分解によりガス化する化合物が挙げられる。 Examples of components contained within the hollow portion of the first hollow particles include hydrocarbons such as propane, propylene, butene, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, neopentane, normal hexane, isohexane, heptane, isooctane, normal octane, isoalkane (carbon number: 10 to 13), and petroleum ether; low-boiling compounds such as methane halides and tetraalkylsilanes; and compounds that gasify by thermal decomposition, such as azodicarbonamide.

第一の中空粒子の平均粒子径は、5μm以上、10μm以上、又は20μm以上であってよく、50μm以下、40μm以下、又は30μm以下であってよい。第一の中空粒子の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法により(例えば、(株)島津製作所製「SALD-7500nano」を用いて)測定される。 The average particle size of the first hollow particles may be 5 μm or more, 10 μm or more, or 20 μm or more, and may be 50 μm or less, 40 μm or less, or 30 μm or less. The average particle size of the first hollow particles is measured by a laser diffraction/scattering method (for example, using a "SALD-7500 nano" manufactured by Shimadzu Corporation).

組成物がリフロー工程(一般的に260℃まで加熱される)における断熱材としてより好適に用いられる観点から、第一の中空粒子の膨張開始温度は、好ましくは、70℃以上、100℃以上、130℃以上、又は160℃以上であり、好ましくは、260℃以下である。第一の中空粒子の膨張開始温度は、熱機械分析(TMA)にて、昇温速度10℃/分で昇温したときの温度(横軸)-体積変化(縦軸)のプロファイルにおいて、3倍以上/5℃の体積変化が生じる点の接線と、体積変化がゼロ(初期体積)の直線(横軸)との交点の温度を意味する。 From the viewpoint of more suitably using the composition as an insulating material in the reflow process (generally heated to 260°C), the expansion start temperature of the first hollow particles is preferably 70°C or more, 100°C or more, 130°C or more, or 160°C or more, and preferably 260°C or less. The expansion start temperature of the first hollow particles means the temperature of the intersection between the tangent to the point where a volume change of 3 times or more/5°C occurs and the straight line (horizontal axis) where the volume change is zero (initial volume) in the profile of temperature (horizontal axis) vs. volume change (vertical axis) when the temperature is increased at a heating rate of 10°C/min in thermomechanical analysis (TMA).

第一の中空粒子の最大膨張温度は、好ましくは、100℃以上、150℃以上、200℃以上、又は220℃以上であり、好ましくは、290℃以下、280℃以下、又は270℃以下である。第一の中空粒子の最大膨張温度は、第一の中空粒子が上述した最大体積膨張倍率を示すときの温度を意味する。 The maximum expansion temperature of the first hollow particles is preferably 100°C or more, 150°C or more, 200°C or more, or 220°C or more, and is preferably 290°C or less, 280°C or less, or 270°C or less. The maximum expansion temperature of the first hollow particles means the temperature at which the first hollow particles exhibit the above-mentioned maximum volume expansion ratio.

第一の中空粒子の含有量は、剥離工程における剥離が更に容易になる観点から、断熱材(断熱材前駆体)全質量を基準として、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは8質量%以上であってよく、20質量%以下、又は15質量%以下であってよい。 From the viewpoint of making peeling in the peeling step easier, the content of the first hollow particles may be preferably 1 mass% or more, more preferably 5 mass% or more, and even more preferably 8 mass% or more, based on the total mass of the insulating material (insulating material precursor), and may be 20 mass% or less, or 15 mass% or less.

第一の中空粒子の含有量は、剥離工程における剥離が更に容易になる観点から、断熱材(断熱材前駆体)全体積を基準として、好ましくは1体積%以上、より好ましくは2体積%以上、更に好ましくは3体積%以上、特に好ましくは4体積%以上であり、例えば、10体積%以下、7体積%以下、又は5体積%以下であってよい。 From the viewpoint of making peeling in the peeling step even easier, the content of the first hollow particles is preferably 1 vol. % or more, more preferably 2 vol. % or more, even more preferably 3 vol. % or more, and particularly preferably 4 vol. % or more, based on the total volume of the insulating material (insulating material precursor), and may be, for example, 10 vol. % or less, 7 vol. % or less, or 5 vol. % or less.

断熱材(断熱材前駆体)は、断熱性の更なる向上の観点から、第一の中空粒子以外の中空粒子(以下「第二の中空粒子」ともいう)を更に含有してもよい。第二の中空粒子は、外殻と中空部とを有している。すなわち、第二の中空粒子は、25℃における体積に対する最大体積膨張倍率が10倍未満である中空粒子である。第二の中空粒子の最大体積膨張倍率は、第一の中空粒子の最大体積膨張倍率と同じ方法で測定される。 The insulating material (insulating material precursor) may further contain hollow particles other than the first hollow particles (hereinafter also referred to as "second hollow particles") from the viewpoint of further improving the insulating properties. The second hollow particles have an outer shell and a hollow portion. That is, the second hollow particles are hollow particles whose maximum volume expansion ratio with respect to the volume at 25°C is less than 10 times. The maximum volume expansion ratio of the second hollow particles is measured in the same manner as the maximum volume expansion ratio of the first hollow particles.

外殻は、好ましくは熱可塑性ポリマーで構成されている。この場合、中空粒子は加圧されても割れにくく、中空構造を保持し、断熱性を維持することができる。熱可塑性ポリマーは、例えば、アクリロニトリル、塩化ビニリデン等をモノマー単位として含むポリマーであってよい。外殻の厚さは、0.005μm以上であってよく、15μm以下であってよい。 The shell is preferably made of a thermoplastic polymer. In this case, the hollow particles are less likely to break even when pressurized, and can maintain their hollow structure and heat insulation. The thermoplastic polymer may be, for example, a polymer containing acrylonitrile, vinylidene chloride, or the like as a monomer unit. The thickness of the shell may be 0.005 μm or more and 15 μm or less.

第二の中空粒子の中空部には、例えば気体が内包されている。第二の中空粒子は、常温常圧下(例えば、少なくとも大気圧下かつ30℃)においてこのような状態をとっている。第二の中空粒子の中空部には、気体に加えて、液体が更に内包されていてもよい。 The hollow portion of the second hollow particle contains, for example, a gas. The second hollow particle is in this state at room temperature and pressure (for example, at least atmospheric pressure and 30°C). In addition to the gas, the hollow portion of the second hollow particle may further contain a liquid.

第二の中空粒子の中空部に内包されている成分としては、例えば、プロパン、プロピレン、ブテン、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ネオペンタン、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ノルマルオクタン、イソアルカン(炭素数:10~13)、石油エーテル等の炭化水素;メタンのハロゲン化物、テトラアルキルシラン等の低沸点化合物;アゾジカルボンアミド等の熱分解によりガス化する化合物の分解生成物が挙げられる。 Examples of components contained within the hollow portion of the second hollow particles include hydrocarbons such as propane, propylene, butene, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, neopentane, normal hexane, isohexane, heptane, isooctane, normal octane, isoalkane (carbon number: 10 to 13), and petroleum ether; low-boiling compounds such as methane halides and tetraalkylsilanes; and decomposition products of compounds that gasify by thermal decomposition, such as azodicarbonamide.

第二の中空粒子の平均粒子径は、断熱性を高める観点から、好ましくは150μm以下であり、より好ましくは120μm以下であり、更に好ましくは100μm以下であり、例えば、10μm以上、20μm以上、又は30μm以上であってよい。第二の中空粒子の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法により(例えば、(株)島津製作所製「SALD-7500nano」を用いて)測定される。 From the viewpoint of improving the heat insulating properties, the average particle diameter of the second hollow particles is preferably 150 μm or less, more preferably 120 μm or less, and even more preferably 100 μm or less, and may be, for example, 10 μm or more, 20 μm or more, or 30 μm or more. The average particle diameter of the second hollow particles is measured by a laser diffraction/scattering method (for example, using "SALD-7500 nano" manufactured by Shimadzu Corporation).

第二の中空粒子の密度は、50kg/m以下、又は40kg/m以下であってよく、10kg/m以上、又は20kg/m以上であってよい。本明細書における第二の中空粒子の密度は、タップ密度法にて測定される密度を意味する。すなわち、10mLのメスシリンダーに第二の中空粒子(約5g)を投入し、50回タッピングし、最上面が安定した時の体積を安定時体積として、以下の式により求められる密度である。
密度=初期投入量(kg)/安定時体積(m
The density of the second hollow particles may be 50 kg/m3 or less , or 40 kg/ m3 or less, and may be 10 kg/ m3 or more, or 20 kg/ m3 or more. The density of the second hollow particles in this specification means a density measured by a tap density method. That is, the density is calculated by the following formula, in which the second hollow particles (about 5 g) are put into a 10 mL graduated cylinder, tapped 50 times, and the volume when the uppermost surface becomes stable is defined as the stable volume.
Density = initial charge (kg) / stable volume (m 3 )

第二の中空粒子の含有量は、断熱性を更に高める観点から、断熱材(断熱材前駆体)全質量を基準として、好ましくは1質量%以上であり、より好ましくは3質量%以上であり、更に好ましくは5質量%以上であり、例えば20質量%以下であってよい。 From the viewpoint of further improving the thermal insulation, the content of the second hollow particles is preferably 1 mass% or more, more preferably 3 mass% or more, and even more preferably 5 mass% or more, based on the total mass of the thermal insulation material (thermal insulation material precursor), and may be, for example, 20 mass% or less.

第二の中空粒子の含有量は、断熱性を更に高める観点から、断熱材(断熱材前駆体)全体積を基準として、好ましくは50体積%以上であり、より好ましくは60体積%以上であり、例えば95体積%以下であってよい。 From the viewpoint of further improving the thermal insulation, the content of the second hollow particles is preferably 50% by volume or more, more preferably 60% by volume or more, and may be, for example, 95% by volume or less, based on the total volume of the insulation material (insulation material precursor).

中空粒子の合計含有量(第一の中空粒子及び第二の中空粒子を含む含有量)は、断熱材(断熱材前駆体)全量を基準として、例えば、5質量%以上、10質量%以上、又は15質量%以上であってよく、40質量%以下、30質量%以下、又は20質量%以下であってよい。 The total content of hollow particles (including the content of the first hollow particles and the second hollow particles) may be, for example, 5 mass% or more, 10 mass% or more, or 15 mass% or more based on the total amount of the insulating material (insulating material precursor), and may be 40 mass% or less, 30 mass% or less, or 20 mass% or less.

中空粒子の合計含有量(第一の中空粒子及び第二の中空粒子を含む含有量)は、断熱材(断熱材前駆体)全体積を基準として、例えば、50体積%以上、60体積%以上、又は70体積%以上であってよく、95体積%以下であってよい。 The total content of hollow particles (including the content of the first hollow particles and the second hollow particles) may be, for example, 50 vol. % or more, 60 vol. % or more, or 70 vol. % or more, and may be 95 vol. % or less, based on the total volume of the insulating material (insulating material precursor).

断熱材前駆体は、重合開始剤を更に含有してもよい。重合開始剤は、例えば、熱によりラジカルを発生させる熱重合開始剤、光によりラジカルを発生させる光重合開始剤等であってよい。重合開始剤は、好ましくは熱重合開始剤である。 The heat insulating material precursor may further contain a polymerization initiator. The polymerization initiator may be, for example, a thermal polymerization initiator that generates radicals by heat, or a photopolymerization initiator that generates radicals by light. The polymerization initiator is preferably a thermal polymerization initiator.

断熱材前駆体が熱重合開始剤を含有する場合、断熱材前駆体に熱を加えることにより、当該前駆体を硬化させ断熱材を得ることができる。この場合、断熱材前駆体は、好ましくは105℃以上、より好ましくは110℃以上、更に好ましくは115℃以上での加熱によって硬化させる断熱材前駆体であってよく、例えば、200℃以下、190℃以下、又は180℃以下での加熱によって硬化させる断熱材前駆体であってもよい。断熱材前駆体を加熱する際の加熱時間は、断熱材前駆体が好適に硬化するように、断熱材前駆体の組成に応じて適宜選択されてよい。 When the insulating material precursor contains a thermal polymerization initiator, the insulating material can be obtained by applying heat to the insulating material precursor to harden the precursor. In this case, the insulating material precursor may be an insulating material precursor that is hardened by heating at preferably 105°C or higher, more preferably 110°C or higher, and even more preferably 115°C or higher, and may be an insulating material precursor that is hardened by heating at, for example, 200°C or lower, 190°C or lower, or 180°C or lower. The heating time when heating the insulating material precursor may be appropriately selected depending on the composition of the insulating material precursor so that the insulating material precursor is hardened appropriately.

熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン-1-カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジ-t-へキシルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1-t-ブチルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート等の有機過酸化物などが挙げられる。熱重合開始剤は、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いられてよい。 Thermal polymerization initiators include azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, and azodibenzoyl, as well as organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, and t-butylperoxyisopropyl carbonate. These thermal polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

断熱材前駆体が光重合開始剤を含有する場合、例えば、光(例えば200~400nmの少なくとも一部の波長を含む光(紫外光))を断熱材前駆体に照射することにより、当該前駆体を硬化させ断熱材を得ることができる。光照射の条件は、光重合開始剤の種類により適宜設定されてよい。 When the insulating material precursor contains a photopolymerization initiator, for example, the insulating material can be obtained by irradiating the insulating material precursor with light (e.g., light having at least a portion of the wavelength of 200 to 400 nm (ultraviolet light)) to harden the precursor. The conditions for light irradiation may be set appropriately depending on the type of photopolymerization initiator.

光重合開始剤は、例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α-ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等であってよい。 The photopolymerization initiator may be, for example, a benzoin ether-based photopolymerization initiator, an acetophenone-based photopolymerization initiator, an α-ketol-based photopolymerization initiator, an aromatic sulfonyl chloride-based photopolymerization initiator, a photoactive oxime-based photopolymerization initiator, a benzoin-based photopolymerization initiator, a benzyl-based photopolymerization initiator, a benzophenone-based photopolymerization initiator, a ketal-based photopolymerization initiator, a thioxanthone-based photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator, etc.

ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア651」)、アニソールメチルエーテル等が挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(例えば、BASF社製「イルガキュア184」)、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア2959」)、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア1173」)、メトキシアセトフェノン等が挙げられる。 Benzoin ether photopolymerization initiators include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 651"), anisole methyl ether, etc. Acetophenone photopolymerization initiators include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (e.g., BASF's "Irgacure 184"), 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 2959"), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 1173"), methoxyacetophenone, etc.

α-ケトール系光重合開始剤としては、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-[4-(2-ヒドロキシエチル)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン等が挙げられる。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、2-ナフタレンスルホニルクロライド等が挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、1-フェニル-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)-オキシム等が挙げられる。 Examples of α-ketol photopolymerization initiators include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1-[4-(2-hydroxyethyl)-phenyl]-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one. Examples of aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators include 2-naphthalenesulfonyl chloride. Examples of photoactive oxime photopolymerization initiators include 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime.

ベンゾイン系光重合開始剤としては、ベンゾイン等が挙げられる。ベンジル系光重合開始剤としては、ベンジル等が挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ケタール系光重合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。チオキサントン系光重合開始剤としては、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が挙げられる。 Benzoin-based photopolymerization initiators include benzoin, etc. Benzil-based photopolymerization initiators include benzil, etc. Benzophenone-based photopolymerization initiators include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinyl benzophenone, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc. Ketal-based photopolymerization initiators include benzil dimethyl ketal, etc. Thioxanthone-based photopolymerization initiators include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, dodecylthioxanthone, etc.

アシルフォスフィン系光重合開始剤としては、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)(2,4,4-トリメチルペンチル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-n-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-t-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)シクロヘキシルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)オクチルホスフィンオキサイド、ビス(2-メトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2-メトキシベンゾイル)(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジエトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジエトキシベンゾイル)(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジブトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,4-ジメトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)(2,4-ジペントキシフェニル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)ベンジルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2-フェニルプロピルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2-フェニルエチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイルベンジルブチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイルベンジルオクチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,5-ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2-メチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-4-メチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,5-ジエチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,3,5,6-テトラメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジ-n-ブトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)イソブチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメチトキシベンゾイル-2,4,6-トリメチルベンゾイル-n-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジブトキシフェニルホスフィンオキサイド、1,10-ビス[ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド]デカン、トリ(2-メチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド等が挙げられる。 Acylphosphine photopolymerization initiators include bis(2,6-dimethoxybenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-n-butylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-t-butylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)cyclohexylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)octylphosphine oxide, and bis(2-methoxybenzoyl)(2-methyl bis(2-methoxybenzoyl)(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-diethoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-diethoxybenzoyl)(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dibutoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,4-dimethoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)(2,4-dipentoxyphenyl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)benzylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2-phenylpropionyl phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2-phenylethylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzylbutylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzyloctylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,5-diisopropylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2-methylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-4-methylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,5-diethylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,3,5,6-tetramethylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl) bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)isobutylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl-n-butylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dibutoxyphenylphosphine oxide, 1,10-bis[bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide]decane, tri(2-methylbenzoyl)phosphine oxide, etc.

上述した光重合開始剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられてよい。 The above-mentioned photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤の含有量は、重合を好適に進行させる観点から、モノマー成分の合計100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.02質量部以上、更に好ましくは0.05質量部以上である。重合開始剤の含有量は、断熱材における重合体の分子量が好適な範囲になると共に、分解生成物を抑制する観点から、モノマー成分の合計100質量部に対して、好ましくは10質量部以下、より好ましくは5質量部以下、更に好ましくは3質量部以下、特に好ましくは1質量部以下である。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.02 parts by mass or more, and even more preferably 0.05 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the total monomer components, from the viewpoint of allowing the polymerization to proceed smoothly. The content of the polymerization initiator is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, even more preferably 3 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or less, per 100 parts by mass of the total monomer components, from the viewpoint of allowing the molecular weight of the polymer in the insulation material to fall within a suitable range and suppressing decomposition products.

断熱材及び断熱材前駆体は、添加剤として可塑剤を含有することができる。可塑剤を用いることにより、断熱材前駆体の密着性、及び断熱材の伸びを更に高めることができる。
可塑剤としては、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、シリコンゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴム、アクリル樹脂、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂等のタッキファイヤー、又はポリアルキレングリコールなどが挙げられる。可塑剤の含有量は、モノマー成分の合計100質量部に対して、0.1質量部以上、1質量部以上、又は3質量部以上であってよく、20質量部以下、15質量部以下、12質量部以下、又は10質量部以下であってよい。
The insulating material and the insulating material precursor may contain a plasticizer as an additive. By using a plasticizer, the adhesion of the insulating material precursor and the elongation of the insulating material can be further improved.
Examples of the plasticizer include tackifiers such as butadiene rubber, isoprene rubber, silicone rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, urethane rubber, acrylic resin, rosin resin, terpene resin, etc., or polyalkylene glycol, etc. The content of the plasticizer may be 0.1 parts by mass or more, 1 part by mass or more, or 3 parts by mass or more, and may be 20 parts by mass or less, 15 parts by mass or less, 12 parts by mass or less, or 10 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total of the monomer components.

断熱材及び断熱材前駆体は、必要に応じて、その他の添加剤を更に含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、表面処理剤(例えばシランカップリング剤)、分散剤、着色剤、結晶核剤、熱安定剤、発泡剤、難燃剤、制振剤、脱水剤、難燃助剤(例えば金属酸化物)等が挙げられる。その他の添加剤の含有量は、断熱材(断熱材前駆体)全量基準で、0.1質量%以上であってよく、30質量%以下であってよい。 The insulating material and the insulating material precursor may further contain other additives as necessary. Examples of the other additives include antioxidants, surface treatment agents (e.g., silane coupling agents), dispersants, colorants, crystal nucleating agents, heat stabilizers, foaming agents, flame retardants, vibration dampers, dehydrating agents, and flame retardant assistants (e.g., metal oxides). The content of the other additives may be 0.1% by mass or more and 30% by mass or less based on the total amount of the insulating material (insulating material precursor).

断熱材前駆体は、好ましくは25℃で液状である。これにより、第一の電子部品及び/又は保持部材置の表面に好適に塗布することができ、塗布面への密着性も高めることができる。断熱材前駆体は25℃で固体状であってもよく、その場合、加熱によって(例えば50℃以上で)液状になることが好ましい。断熱材前駆体は、液状の状態で塗布しその後硬化すればよく、これにより断熱材前駆体が液だれ及びポンプアウト現象を引き起こすことを抑制し得る。 The insulating material precursor is preferably liquid at 25°C. This allows it to be applied appropriately to the surface of the first electronic component and/or the holding member, and also increases adhesion to the applied surface. The insulating material precursor may be solid at 25°C, in which case it is preferable for it to become liquid upon heating (e.g., at 50°C or higher). The insulating material precursor may be applied in a liquid state and then cured, which can prevent the insulating material precursor from causing dripping and pump-out phenomena.

[断熱材(3)]
断熱材は、例えば、熱膨張性の中空粒子である第一の中空粒子と、第一の中空粒子以外の中空粒子である第二の中空粒子と、マトリックスポリマーと、を含有する断熱材(以下、断熱材(3))であってもよい。
[Thermal insulation material (3)]
The heat insulating material may be, for example, a heat insulating material containing first hollow particles which are thermally expandable hollow particles, second hollow particles which are hollow particles other than the first hollow particles, and a matrix polymer (hereinafter, heat insulating material (3)).

断熱材(3)は、例えば、第一の中空粒子と、第二の中空粒子と、重合性化合物とを含有する組成物の硬化物であってよい。 The insulating material (3) may be, for example, a cured product of a composition containing first hollow particles, second hollow particles, and a polymerizable compound.

断熱材(3)はシート状であってよい。 The insulating material (3) may be in sheet form.

断熱材(3)が含有する第一及び第二の中空粒子の種類及び含有量は、後述の組成物又は組成物セットが含有する第一及び第二の中空粒子のものとそれぞれ同様であってよい。なお、含有量については、「組成物全質量を基準として」を「断熱材(3)の全質量を基準として」に、「組成物全体積を基準として」を「断熱材(3)の全体積を基準として」に読み替えるものとする。 The type and content of the first and second hollow particles contained in the heat insulating material (3) may be the same as those of the first and second hollow particles contained in the composition or composition set described below. With regard to the content, "based on the total mass of the composition" should be read as "based on the total mass of the heat insulating material (3)" and "based on the total volume of the composition" should be read as "based on the total volume of the heat insulating material (3)."

断熱材(3)が含有するマトリクスポリマーは、断熱材(3)に含まれる他の材料を保持するための母体となる(連続相を形成する)ポリマー(バインダーポリマー)である。マトリクスポリマーは、後述の組成物又は組成物セットが含有する重合性化合物の重合体である。 The matrix polymer contained in the insulating material (3) is a polymer (binder polymer) that serves as a base (forms a continuous phase) to hold other materials contained in the insulating material (3). The matrix polymer is a polymer of a polymerizable compound contained in the composition or composition set described below.

マトリックスポリマーの含有量は、断熱材(3)の全質量を基準として、例えば、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、又は70質量%以上であってよく、95質量%以下、又は90質量%以下であってよい。 The content of the matrix polymer may be, for example, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 60% by mass or more, or 70% by mass or more, and 95% by mass or less, or 90% by mass or less, based on the total mass of the insulating material (3).

断熱材(3)がシートであるとき、シートの厚みは、特に制限されず、例えば、200μm以上であってよく、2000μm以下であってよい。 When the insulating material (3) is a sheet, the thickness of the sheet is not particularly limited and may be, for example, 200 μm or more and 2000 μm or less.

断熱材(3)は、後述した組成物又は組成物セットが含有し得る添加剤を更に含有してもよい。その場合、シートが含有する添加剤の含有量は、後述の組成物又は組成物セットが含有する添加剤の含有量と同様であってよい(含有量の読み替えについては上述したのと同様である)。 The heat insulating material (3) may further contain additives that may be contained in the composition or composition set described below. In that case, the content of the additives contained in the sheet may be the same as the content of the additives contained in the composition or composition set described below (the content can be read in the same way as described above).

組成物は、第一の中空粒子と、第二の中空粒子と、重合性化合物とを含有する組成物である。 The composition contains first hollow particles, second hollow particles, and a polymerizable compound.

(第一の中空粒子)
第一の中空粒子は、外殻と中空部とを有している。第一の中空粒子は、熱により膨張する(熱膨張性の)中空粒子である。本明細書における熱膨張性の中空粒子とは、25℃における体積に対する最大体積膨張倍率が10倍以上である中空粒子である。第一の中空粒子を用いると、リフロー工程において、第一の中空粒子が熱によって膨張することにより、断熱材と装置との界面の接着面積が減少し、リフロー工程後に断熱材(3)を容易に除去することができる。
(First hollow particle)
The first hollow particles have an outer shell and a hollow portion. The first hollow particles are heat-expandable (thermally expandable) hollow particles. In this specification, the thermally expandable hollow particles are hollow particles having a maximum volume expansion ratio of 10 times or more relative to the volume at 25°C. When the first hollow particles are used, the first hollow particles expand due to heat in the reflow process, thereby reducing the adhesive area at the interface between the insulating material and the device, and the insulating material (3) can be easily removed after the reflow process.

第一の中空粒子の最大体積膨張倍率は、熱機械分析(TMA)にて、昇温速度10℃/分で昇温したときの、第一の中空粒子の最大体積と25℃における体積との比(最大体積/25℃における体積)として測定される。第一の中空粒子の最大体積膨張倍率は、例えば、20倍以上、30倍以上、又は40倍以上であってもよく、120倍以下であってもよい。 The maximum volume expansion ratio of the first hollow particles is measured by thermomechanical analysis (TMA) as the ratio of the maximum volume of the first hollow particles when heated at a heating rate of 10°C/min to the volume at 25°C (maximum volume/volume at 25°C). The maximum volume expansion ratio of the first hollow particles may be, for example, 20 times or more, 30 times or more, or 40 times or more, or may be 120 times or less.

外殻は、好ましくは熱可塑性ポリマーで構成されている。この場合、外殻が加熱により軟らかくなるため、中空部に内包されている液体が気化して内圧が上がっても、中空粒子は割れにくく、容易に膨張する。熱可塑性ポリマーは、例えば、アクリロニトリル、塩化ビニリデン等をモノマー単位として含むポリマーであってよい。外殻の厚さは、2μm以上であってよく、15μm以下であってよい。 The shell is preferably made of a thermoplastic polymer. In this case, since the shell becomes soft when heated, the hollow particles are less likely to break and expand easily even if the liquid contained in the hollow portion vaporizes and the internal pressure increases. The thermoplastic polymer may be, for example, a polymer containing acrylonitrile, vinylidene chloride, or the like as a monomer unit. The thickness of the shell may be 2 μm or more and 15 μm or less.

第一の中空粒子の中空部には、例えば液体が内包されている。第一の中空粒子は、常温常圧下(例えば、少なくとも大気圧下かつ30℃)においてこのような状態をとっている。当該液体は、例えば、リフロー工程における加熱温度に応じて適宜選択される。当該液体は、例えば、リフロー工程における最高加熱温度以下の温度で気化する液体である。当該液体は、例えば、沸点(大気圧下)が、50℃以上、100℃以上、150℃以上、又は200℃以上の炭化水素であってよい。第一の中空粒子の中空部には、上記の液体に加えて、気体が更に内包されていてもよい。 The hollow portion of the first hollow particle contains, for example, a liquid. The first hollow particle is in this state at room temperature and pressure (for example, at least atmospheric pressure and 30°C). The liquid is appropriately selected, for example, depending on the heating temperature in the reflow process. The liquid is, for example, a liquid that vaporizes at a temperature equal to or lower than the maximum heating temperature in the reflow process. The liquid may be, for example, a hydrocarbon having a boiling point (at atmospheric pressure) of 50°C or higher, 100°C or higher, 150°C or higher, or 200°C or higher. In addition to the above liquid, the hollow portion of the first hollow particle may further contain a gas.

第一の中空粒子の中空部に内包されている成分としては、例えば、プロパン、プロピレン、ブテン、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ネオペンタン、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ノルマルオクタン、イソアルカン(炭素数:10~13)、石油エーテル等の炭化水素;メタンのハロゲン化物、テトラアルキルシラン等の低沸点化合物;アゾジカルボンアミド等の熱分解によりガス化する化合物が挙げられる。 Examples of components contained within the hollow portion of the first hollow particles include hydrocarbons such as propane, propylene, butene, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, neopentane, normal hexane, isohexane, heptane, isooctane, normal octane, isoalkane (carbon number: 10 to 13), and petroleum ether; low-boiling compounds such as methane halides and tetraalkylsilanes; and compounds that gasify by thermal decomposition, such as azodicarbonamide.

第一の中空粒子の平均粒子径は、5μm以上、10μm以上、又は20μm以上であってよく、50μm以下、40μm以下、又は30μm以下であってよい。第一の中空粒子の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法により(例えば、(株)島津製作所製「SALD-7500nano」を用いて)測定される。 The average particle size of the first hollow particles may be 5 μm or more, 10 μm or more, or 20 μm or more, and may be 50 μm or less, 40 μm or less, or 30 μm or less. The average particle size of the first hollow particles is measured by a laser diffraction/scattering method (for example, using a "SALD-7500 nano" manufactured by Shimadzu Corporation).

断熱材(3)がリフロー工程(一般的に260℃まで加熱される)における断熱材としてより好適に用いられる観点から、第一の中空粒子の膨張開始温度は、好ましくは、70℃以上、100℃以上、130℃以上、又は160℃以上であり、好ましくは、260℃以下である。第一の中空粒子の膨張開始温度は、熱機械分析(TMA)にて、昇温速度10℃/分で昇温したときの温度(横軸)-体積変化(縦軸)のプロファイルにおいて、3倍以上/5℃の体積変化が生じる点の接線と、体積変化がゼロ(初期体積)の直線(横軸)との交点の温度を意味する。 From the viewpoint that the insulating material (3) is more suitably used as an insulating material in the reflow process (which is generally heated to 260°C), the expansion start temperature of the first hollow particles is preferably 70°C or more, 100°C or more, 130°C or more, or 160°C or more, and preferably 260°C or less. The expansion start temperature of the first hollow particles means the temperature at the intersection of the tangent to the point where a volume change of 3 times or more/5°C occurs and the straight line (horizontal axis) where the volume change is zero (initial volume) in the profile of temperature (horizontal axis) vs. volume change (vertical axis) when the temperature is increased at a heating rate of 10°C/min in thermomechanical analysis (TMA).

断熱材(3)がリフロー工程における断熱材としてより好適に用いられる観点から、第一の中空粒子の最大膨張温度は、好ましくは、100℃以上、150℃以上、200℃以上、又は220℃以上であり、好ましくは、290℃以下、280℃以下、又は270℃以下である。第一の中空粒子の最大膨張温度は、第一の中空粒子が上述した最大体積膨張倍率を示すときの温度を意味する。 From the viewpoint of more suitably using the insulating material (3) as an insulating material in the reflow process, the maximum expansion temperature of the first hollow particles is preferably 100°C or more, 150°C or more, 200°C or more, or 220°C or more, and preferably 290°C or less, 280°C or less, or 270°C or less. The maximum expansion temperature of the first hollow particles means the temperature at which the first hollow particles exhibit the above-mentioned maximum volume expansion ratio.

第一の中空粒子の含有量は、断熱材(3)のリフロー工程後の除去が更に容易になる観点から、組成物全質量を基準として、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは8質量%以上であってよく、20質量%以下、又は15質量%以下であってよい。 From the viewpoint of making it easier to remove the insulating material (3) after the reflow process, the content of the first hollow particles may be preferably 1 mass % or more, more preferably 5 mass % or more, and even more preferably 8 mass % or more, based on the total mass of the composition, and may be 20 mass % or less, or 15 mass % or less.

第一の中空粒子の含有量は、断熱材(3)のリフロー工程後の除去が更に容易になる観点から、組成物体積を基準として、好ましくは1体積%以上、より好ましくは2体積%以上、更に好ましくは3体積%以上、特に好ましくは4体積%以上であり、例えば、10体積%以下、7体積%以下、又は5体積%以下であってよい。 From the viewpoint of making it easier to remove the insulating material (3) after the reflow process, the content of the first hollow particles is preferably 1 vol% or more, more preferably 2 vol% or more, even more preferably 3 vol% or more, and particularly preferably 4 vol% or more, based on the volume of the composition, and may be, for example, 10 vol% or less, 7 vol% or less, or 5 vol% or less.

(第二の中空粒子)
第二の中空粒子は、外殻と中空部とを有している。第二の中空粒子は、第一の中空粒子以外の中空粒子である。すなわち、第二の中空粒子は、25℃における体積に対する最大体積膨張倍率が10倍未満である中空粒子である。第二の中空粒子を用いることにより、断熱材(3)の断熱性がより向上する。第二の中空粒子の最大体積膨張倍率は、第一の中空粒子の最大体積膨張倍率と同じ方法で測定される。
(Second hollow particle)
The second hollow particles have an outer shell and a hollow portion. The second hollow particles are hollow particles other than the first hollow particles. That is, the second hollow particles are hollow particles having a maximum volume expansion ratio of less than 10 times the volume at 25°C. By using the second hollow particles, the heat insulating property of the heat insulating material (3) is further improved. The maximum volume expansion ratio of the second hollow particles is measured by the same method as the maximum volume expansion ratio of the first hollow particles.

外殻は、好ましくは熱可塑性ポリマーで構成されている。この場合、中空粒子は加圧されても割れにくく、中空構造を保持し、断熱性を維持することができる。熱可塑性ポリマーは、例えば、アクリロニトリル、塩化ビニリデン等をモノマー単位として含むポリマーであってよい。外殻の厚さは、0.005μm以上であってよく、15μm以下であってよい。 The shell is preferably made of a thermoplastic polymer. In this case, the hollow particles are less likely to break even when pressurized, and can maintain their hollow structure and heat insulation. The thermoplastic polymer may be, for example, a polymer containing acrylonitrile, vinylidene chloride, or the like as a monomer unit. The thickness of the shell may be 0.005 μm or more and 15 μm or less.

第二の中空粒子の中空部には、例えば気体が内包されている。第二の中空粒子は、常温常圧下(例えば、少なくとも大気圧下かつ30℃)においてこのような状態をとっている。第二の中空粒子の中空部には、気体に加えて、液体が更に内包されていてもよい。 The hollow portion of the second hollow particle contains, for example, a gas. The second hollow particle is in this state at room temperature and pressure (for example, at least atmospheric pressure and 30°C). In addition to the gas, the hollow portion of the second hollow particle may further contain a liquid.

第二の中空粒子の中空部に内包されている成分としては、例えば、プロパン、プロピレン、ブテン、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ネオペンタン、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ノルマルオクタン、イソアルカン(炭素数:10~13)、石油エーテル等の炭化水素;メタンのハロゲン化物、テトラアルキルシラン等の低沸点化合物;アゾジカルボンアミド等の熱分解によりガス化する化合物の分解生成物が挙げられる。 Examples of components contained within the hollow portion of the second hollow particles include hydrocarbons such as propane, propylene, butene, normal butane, isobutane, normal pentane, isopentane, neopentane, normal hexane, isohexane, heptane, isooctane, normal octane, isoalkane (carbon number: 10 to 13), and petroleum ether; low-boiling compounds such as methane halides and tetraalkylsilanes; and decomposition products of compounds that gasify by thermal decomposition, such as azodicarbonamide.

第二の中空粒子の平均粒子径は、断熱性を高める観点から、好ましくは150μm以下であり、より好ましくは120μm以下であり、更に好ましくは100μm以下であり、例えば、10μm以上、20μm以上、又は30μm以上であってよい。第二の中空粒子の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法により(例えば、(株)島津製作所製「SALD-7500nano」を用いて)測定される。 From the viewpoint of improving the heat insulating properties, the average particle diameter of the second hollow particles is preferably 150 μm or less, more preferably 120 μm or less, and even more preferably 100 μm or less, and may be, for example, 10 μm or more, 20 μm or more, or 30 μm or more. The average particle diameter of the second hollow particles is measured by a laser diffraction/scattering method (for example, using "SALD-7500 nano" manufactured by Shimadzu Corporation).

第二の中空粒子の密度は、50kg/m以下、又は40kg/m以下であってよく、10kg/m以上、又は20kg/m以上であってよい。本明細書における第二の中空粒子の密度は、タップ密度法にて測定される密度を意味する。すなわち、10mLのメスシリンダーに第二の中空粒子(約5g)を投入し、50回タッピングし、最上面が安定した時の体積を安定時体積として、以下の式により求められる密度である。
密度=初期投入量(kg)/安定時体積(m
The density of the second hollow particles may be 50 kg/m3 or less , or 40 kg/ m3 or less, and may be 10 kg/ m3 or more, or 20 kg/ m3 or more. The density of the second hollow particles in this specification means a density measured by a tap density method. That is, the density is calculated by the following formula, in which the second hollow particles (about 5 g) are put into a 10 mL graduated cylinder, tapped 50 times, and the volume when the uppermost surface becomes stable is defined as the stable volume.
Density = initial charge (kg) / stable volume (m 3 )

第二の中空粒子の含有量は、断熱材(3)の断熱性を高める観点から、組成物全質量を基準として、好ましくは1質量%以上であり、より好ましくは3質量%以上であり、更に好ましくは5質量%以上であり、例えば20質量%以下であってよい。 From the viewpoint of improving the thermal insulation properties of the insulating material (3), the content of the second hollow particles is preferably 1 mass % or more, more preferably 3 mass % or more, and even more preferably 5 mass % or more, based on the total mass of the composition, and may be, for example, 20 mass % or less.

第二の中空粒子の含有量は、断熱材(3)の断熱性を高める観点から、組成物全体積を基準として、好ましくは50体積%以上であり、より好ましくは60体積%以上であり、例えば95体積%以下であってよい。 From the viewpoint of improving the insulating properties of the insulating material (3), the content of the second hollow particles is preferably 50% by volume or more, more preferably 60% by volume or more, and may be, for example, 95% by volume or less, based on the total volume of the composition.

中空粒子の合計含有量(第一の中空粒子及び第二の中空粒子を含む含有量)は、組成物全質量を基準として、例えば、5質量%以上、10質量%以上、又は15質量%以上であってよく、40質量%以下、30質量%以下、又は20質量%以下であってよい。 The total content of hollow particles (including the content of the first hollow particles and the second hollow particles) may be, for example, 5% by mass or more, 10% by mass or more, or 15% by mass or more, and 40% by mass or less, 30% by mass or less, or 20% by mass or less, based on the total mass of the composition.

中空粒子の合計含有量(第一の中空粒子及び第二の中空粒子を含む含有量)は、組成物全体積を基準として、例えば、50体積%以上、60体積%以上、又は70体積%以上であってよく、95体積%以下であってよい。 The total content of hollow particles (including the content of the first hollow particles and the second hollow particles) may be, for example, 50 vol. % or more, 60 vol. % or more, or 70 vol. % or more, and may be 95 vol. % or less, based on the total volume of the composition.

(重合性化合物)
重合性化合物は、特に制限されないが、例えば、下記式(1)で表される化合物を含んでよい。

式(1)中、R11及びR12はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R13はポリオキシアルキレン鎖を有する2価の基を表す。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound is not particularly limited, but may include, for example, a compound represented by the following formula (1).

In formula (1), R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 13 represents a divalent group having a polyoxyalkylene chain.

重合性化合物が、上記式(1)で表される化合物である場合、組成物の硬化物は低弾性で伸びに優れ、被着体への追従性を高めることができる。 When the polymerizable compound is a compound represented by the above formula (1), the cured product of the composition has low elasticity and excellent elongation, and can improve conformability to the adherend.

一実施形態において、R11及びR12の一方が水素原子であり、かつ他方がメチル基であってよく、他の一実施形態において、R11及びR12の両方が水素原子であってよく、他の実施形態において、R11及びR12の両方がメチル基であってよい。 In one embodiment, one of R 11 and R 12 may be a hydrogen atom and the other may be a methyl group; in another embodiment, both R 11 and R 12 may be hydrogen atoms; in another embodiment, both R 11 and R 12 may be methyl groups.

一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、下記式(2)で表される構造単位を含む。これにより、組成物の粘度の過度な上昇を抑制しつつ、硬化物の強度を高めることができる。
In one embodiment, the polyoxyalkylene chain contains a structural unit represented by the following formula (2): This makes it possible to increase the strength of the cured product while suppressing an excessive increase in the viscosity of the composition.

この場合、R13はポリオキシエチレン鎖を有する2価の基であってよく、式(1)で表される化合物は、好ましくは下記式(1-2)で表される化合物(ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート)である。

式(1-2)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、mは2以上の整数である。
In this case, R 13 may be a divalent group having a polyoxyethylene chain, and the compound represented by formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (1-2) (polyethylene glycol di(meth)acrylate).

In formula (1-2), R 11 and R 12 have the same meanings as R 11 and R 12 in formula (1), respectively, and m is an integer of 2 or more.

他の一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、下記式(3)で表される構造単位を含む。これにより、組成物の取扱いを容易にすることができる。
In another embodiment, the polyoxyalkylene chain contains a structural unit represented by the following formula (3): This can facilitate handling of the composition.

この場合、R13はポリオキシプロピレン鎖を有する2価の基であってよく、式(1)で表される化合物は、好ましくは下記式(1-3)で表される化合物(ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート)である。

式(1-3)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、nは2以上の整数である。
In this case, R 13 may be a divalent group having a polyoxypropylene chain, and the compound represented by formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (1-3) (polypropylene glycol di(meth)acrylate).

In formula (1-3), R 11 and R 12 have the same meanings as R 11 and R 12 in formula (1), respectively, and n is an integer of 2 or more.

他の一実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、式(1)で表される化合物の硬化物の強度と、組成物の取扱い性を両立させやすくする観点から、好ましくは、上述した、式(2)で表される構造単位、及び式(3)で表される構造単位を含む共重合鎖である。共重合鎖は、交互共重合鎖、ブロック共重合鎖、又はランダム共重合鎖のいずれであってもよい。共重合鎖は、式(1)で表される化合物の結晶性を更に低くし、組成物の取扱いを更に容易にできる観点から、好ましくはランダム共重合鎖である。 In another embodiment, the polyoxyalkylene chain is preferably a copolymer chain containing the structural unit represented by formula (2) and the structural unit represented by formula (3) described above, from the viewpoint of easily achieving both the strength of the cured product of the compound represented by formula (1) and the ease of handling of the composition. The copolymer chain may be any of an alternating copolymer chain, a block copolymer chain, and a random copolymer chain. The copolymer chain is preferably a random copolymer chain, from the viewpoint of further reducing the crystallinity of the compound represented by formula (1) and further facilitating the handling of the composition.

上述した各実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖は、式(2)で表される構造単位及び式(3)で表される構造単位以外に、オキシテトラメチレン基、オキシブチレン基、オキシペンチレン基等の、炭素数4~5のオキシアルキレン基を構造単位として有していてもよい。 In each of the above-described embodiments, the polyoxyalkylene chain may have an oxyalkylene group having 4 to 5 carbon atoms, such as an oxytetramethylene group, an oxybutylene group, or an oxypentylene group, as a structural unit in addition to the structural unit represented by formula (2) and the structural unit represented by formula (3).

13は、上述したポリオキシアルキレン鎖に加えて、その他の有機基を更に有する2価の基であってもよい。その他の有機基は、ポリオキシアルキレン鎖以外の鎖状の基であってよく、例えば、メチレン鎖(-CH-を構造単位とする鎖)、ポリエステル鎖(-COO-を構造単位中に含む鎖)、ポリウレタン鎖(-OCON-を構造単位中に含む鎖)等であってよい。 R 13 may be a divalent group having, in addition to the above-mentioned polyoxyalkylene chain, another organic group. The other organic group may be a chain-like group other than a polyoxyalkylene chain, such as a methylene chain (a chain having -CH 2 - as a structural unit), a polyester chain (a chain containing -COO- in a structural unit), a polyurethane chain (a chain containing -OCON- in a structural unit), etc.

例えば、式(1)で表される化合物は、下記式(1-4)で表される化合物であってもよい。

式(1-4)中、R11及びR12は式(1)におけるR11及びR12とそれぞれ同義であり、R14及びR15は、それぞれ独立に炭素数2~5のアルキレン基であり、k1、k2及びk3はそれぞれ独立に2以上の整数である。k2は、例えば16以下の整数であってよい。
For example, the compound represented by formula (1) may be a compound represented by the following formula (1-4).

In formula (1-4), R 11 and R 12 are the same as R 11 and R 12 in formula (1), R 14 and R 15 are each independently an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and k1, k2 and k3 are each independently an integer of 2 or more. k2 may be, for example, an integer of 16 or less.

複数存在するR14及びR15は、それぞれ、互いに同一であってよく、互いに異なっていてもよい。複数存在するR14及びR15は、それぞれ、好ましくは、エチレン基及びプロピレン基を含む。すなわち、(R14O)k1で表されるポリオキシアルキレン鎖、及び(R15O)k3で表されるポリオキシアルキレン鎖は、それぞれ、好ましくは、オキシエチレン基(上記式(2)で表される構造単位)、及びオキシプロピレン基(上記式(3)で表される構造単位)を含む共重合鎖である。 A plurality of R 14 and R 15 may be the same or different from each other. A plurality of R 14 and R 15 each preferably contains an ethylene group and a propylene group. That is, the polyoxyalkylene chain represented by (R 14 O) k1 and the polyoxyalkylene chain represented by (R 15 O) k3 are each preferably a copolymer chain containing an oxyethylene group (structural unit represented by the above formula (2)) and an oxypropylene group (structural unit represented by the above formula (3)).

上述した各実施形態において、ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、好ましくは100以上である。ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数が100以上であると、式(1)で表される化合物の主鎖が長くなることにより、硬化物の伸びが更に優れ、硬化物の強度も高めることができる。オキシアルキレン基の数は、式(1-2)におけるm、式(1-3)におけるn、式(1-4)におけるk1及びk3のそれぞれに相当する。 In each of the above-described embodiments, the number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is preferably 100 or more. When the number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is 100 or more, the main chain of the compound represented by formula (1) becomes longer, so that the elongation of the cured product is more excellent and the strength of the cured product can be increased. The number of oxyalkylene groups corresponds to m in formula (1-2), n in formula (1-3), and k1 and k3 in formula (1-4).

ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、より好ましくは、130以上、180以上、200以上、220以上、250以上、270以上、300以上、又は320以上である。ポリオキシアルキレン鎖におけるオキシアルキレン基の数は、600以下、570以下、又は530以下であってよい。 The number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain is more preferably 130 or more, 180 or more, 200 or more, 220 or more, 250 or more, 270 or more, 300 or more, or 320 or more. The number of oxyalkylene groups in the polyoxyalkylene chain may be 600 or less, 570 or less, or 530 or less.

式(1)で表される化合物の重量平均分子量は、硬化物がより低弾性で伸びに優れる観点から、好ましくは、5000以上、6000以上、7000以上、8000以上、9000以上、10000以上、11000以上、12000以上、13000以上、14000以上、又は15000以上である。式(1)で表される化合物の重量平均分子量は、組成物の粘度を調整しやすくする観点から、好ましくは、100000以下、80000以下、60000以下、34000以下、31000以下、又は28000以下である。 The weight average molecular weight of the compound represented by formula (1) is preferably 5000 or more, 6000 or more, 7000 or more, 8000 or more, 9000 or more, 10000 or more, 11000 or more, 12000 or more, 13000 or more, 14000 or more, or 15000 or more, from the viewpoint of a cured product having lower elasticity and excellent elongation. The weight average molecular weight of the compound represented by formula (1) is preferably 100000 or less, 80000 or less, 60000 or less, 34000 or less, 31000 or less, or 28000 or less, from the viewpoint of making it easier to adjust the viscosity of the composition.

式(1)で表される化合物は、25℃で液状であってよい。この場合、式(1)で表される化合物の25℃における粘度は、塗布面に対して塗布しやすくする観点、硬化物の塗布面に対する密着性を高める観点から、好ましくは、1000Pa・s以下、800Pa・s以下、600Pa・s以下、500Pa・s以下、350Pa・s以下、300Pa・s以下、又は200Pa・s以下である。式(1)で表される化合物の25℃における粘度は、0.1Pa・s以上、0.2Pa・s以上、0.3Pa・s以上、1Pa・s以上、2Pa・s以上、又は3Pa・s以上であってよい。 The compound represented by formula (1) may be liquid at 25°C. In this case, the viscosity of the compound represented by formula (1) at 25°C is preferably 1000 Pa·s or less, 800 Pa·s or less, 600 Pa·s or less, 500 Pa·s or less, 350 Pa·s or less, 300 Pa·s or less, or 200 Pa·s or less, from the viewpoint of facilitating application to the coating surface and from the viewpoint of increasing the adhesion of the cured product to the coating surface. The viscosity of the compound represented by formula (1) at 25°C may be 0.1 Pa·s or more, 0.2 Pa·s or more, 0.3 Pa·s or more, 1 Pa·s or more, 2 Pa·s or more, or 3 Pa·s or more.

式(1)で表される化合物は、25℃で固体状であってもよい。この場合、組成物の取扱い性を更に向上させる観点から、式(1)で表される化合物は、好ましくは、50℃で液状である。また、この場合、式(1)で表される化合物の50℃における粘度は、組成物の取扱い性を更に向上させる観点から、好ましくは100Pa・s以下、より好ましくは50Pa・s以下、更に好ましくは30Pa・s以下、特に好ましくは20Pa・s以下である。式(1)で表される化合物の50℃における粘度は、0.1Pa・s以上、0.2Pa・s以上、又は0.3Pa・s以上であってよい。 The compound represented by formula (1) may be solid at 25°C. In this case, from the viewpoint of further improving the handleability of the composition, the compound represented by formula (1) is preferably liquid at 50°C. In addition, in this case, from the viewpoint of further improving the handleability of the composition, the viscosity of the compound represented by formula (1) at 50°C is preferably 100 Pa·s or less, more preferably 50 Pa·s or less, even more preferably 30 Pa·s or less, and particularly preferably 20 Pa·s or less. The viscosity of the compound represented by formula (1) at 50°C may be 0.1 Pa·s or more, 0.2 Pa·s or more, or 0.3 Pa·s or more.

粘度は、JIS Z 8803に基づいて測定された値を意味し、具体的には、E型粘度計(例えば、東機産業(株)製、PE-80L)により測定された値を意味する。なお、粘度計の校正は、JIS Z 8809-JS14000に基づいて行うことができる。式(1)で表される化合物の粘度は、当該化合物の重量平均分子量を調整することにより調整することができる。 The viscosity refers to a value measured based on JIS Z 8803, specifically, a value measured using an E-type viscometer (for example, PE-80L, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). The viscometer can be calibrated based on JIS Z 8809-JS14000. The viscosity of the compound represented by formula (1) can be adjusted by adjusting the weight average molecular weight of the compound.

式(1)で表される化合物の含有量は、硬化物がより低弾性で伸びに優れる観点から、組成物全質量を基準として、好ましくは、10質量%以上、20質量%以上、30質量%以上、又は40質量%以上である。式(1)で表される化合物の含有量は、組成物全質量を基準として、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、又は50質量%以下であってよい。 From the viewpoint of providing a cured product with lower elasticity and excellent elongation, the content of the compound represented by formula (1) is preferably 10% by mass or more, 20% by mass or more, 30% by mass or more, or 40% by mass or more based on the total mass of the composition. The content of the compound represented by formula (1) may be 90% by mass or less, 80% by mass or less, 70% by mass or less, 60% by mass or less, or 50% by mass or less based on the total mass of the composition.

組成物は、重合性化合物として、式(1)で表される化合物のみを含有してよい。組成物は、式(1)で表される化合物以外の他の重合性化合物(詳細は後述する)を更に含有してもよい。この場合、式(1)で表される化合物の含有量は、硬化物がより低弾性で伸びに優れる観点から、式(1)で表される化合物及び他の重合性化合物の合計(以下、「重合性成分の含有量の合計」という)100質量部に対して、好ましくは、20質量部以上、30質量部以上、又は40質量部以上である。式(1)で表される化合物の含有量は、重合性成分の含有量の合計100質量部に対して、80質量部以下、70質量部以下、又は60質量部以下であってよい。 The composition may contain only the compound represented by formula (1) as the polymerizable compound. The composition may further contain other polymerizable compounds (details will be described later) other than the compound represented by formula (1). In this case, the content of the compound represented by formula (1) is preferably 20 parts by mass or more, 30 parts by mass or more, or 40 parts by mass or more per 100 parts by mass of the total of the compound represented by formula (1) and the other polymerizable compounds (hereinafter referred to as the "total content of polymerizable components"), from the viewpoint of a cured product having lower elasticity and excellent elongation. The content of the compound represented by formula (1) may be 80 parts by mass or less, 70 parts by mass or less, or 60 parts by mass or less per 100 parts by mass of the total content of polymerizable components.

重合性化合物は、式(1)で表される化合物以外の他の重合性化合物を含んでよい。 The polymerizable compound may include a polymerizable compound other than the compound represented by formula (1).

他の重合性化合物は、例えば、(メタ)アクリロイル基を一つ有する化合物であってよい。当該化合物は、例えば、アルキル(メタ)アクリレートであってよい。他の重合性化合物は、一つの(メタ)アクリロイル基に加えて、芳香族炭化水素基、ポリオキシアルキレン鎖を含む基、ヘテロ環を含む基、アルコキシ基、フェノキシ基、シラン基を含む基、シロキサン結合を含む基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、又はエポキシ基を有する化合物であってもよい。特に、組成物がアルキル(メタ)アクリレートを含有することにより、組成物の粘度を調整することができる。また、組成物が、(メタ)アクリロイル基に加えて、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、又はエポキシ基を有する化合物を含有することにより、組成物及び断熱材の部材に対する密着性を更に向上できる。 The other polymerizable compound may be, for example, a compound having one (meth)acryloyl group. The compound may be, for example, an alkyl (meth)acrylate. The other polymerizable compound may be a compound having, in addition to one (meth)acryloyl group, an aromatic hydrocarbon group, a group containing a polyoxyalkylene chain, a group containing a heterocycle, an alkoxy group, a phenoxy group, a group containing a silane group, a group containing a siloxane bond, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an epoxy group. In particular, the viscosity of the composition can be adjusted by the composition containing an alkyl (meth)acrylate. In addition, the composition can further improve the adhesion of the composition and the heat insulating material to the member by containing a compound having a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an epoxy group in addition to a (meth)acryloyl group.

アルキル(メタ)アクリレートにおけるアルキル基((メタ)アクリロイル基以外のアルキル基部分)は、直鎖状であっても分岐状であっても脂環式であってもよい。アルキル基の炭素数は、例えば、1~30であってよい。アルキル基の炭素数は、1~11、1~8、1~6、又は1~4であってよく、12~30、12~28、12~24、12~22、12~18、又は12~14であってもよい。 The alkyl group in the alkyl (meth)acrylate (the alkyl group portion other than the (meth)acryloyl group) may be linear, branched, or alicyclic. The number of carbon atoms in the alkyl group may be, for example, 1 to 30. The number of carbon atoms in the alkyl group may be 1 to 11, 1 to 8, 1 to 6, or 1 to 4, or may be 12 to 30, 12 to 28, 12 to 24, 12 to 22, 12 to 18, or 12 to 14.

直鎖状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、n-へプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、又はウンデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1~11の直鎖状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、テトラデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート(セチル(メタ)アクリレート)、オクタデシル(メタ)アクリレート(ステアリル(メタ)アクリレート)、ドコシル(メタ)アクリレート(ベヘニル(メタ)アクリレート)、テトラコシル(メタ)アクリレート、ヘキサコシル(メタ)アクリレート、オクタコシル(メタ)アクリレート等の炭素数12~30の直鎖状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group include alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, and undecyl (meth)acrylate. Examples of such alkyl (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates having a linear alkyl group having 12 to 30 carbon atoms, such as sil (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate), tetradecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate (cetyl (meth)acrylate), octadecyl (meth)acrylate (stearyl (meth)acrylate), docosyl (meth)acrylate (behenyl (meth)acrylate), tetracosyl (meth)acrylate, hexacosyl (meth)acrylate, and octacosyl (meth)acrylate.

分岐状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1~11の分岐状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2-プロピルヘプチル(メタ)アクリレート、イソウンデシル(メタ)アクリレート、イソドデシル(メタ)アクリレート、イソトリデシル(メタ)アクリレート、イソペンタデシル(メタ)アクリレート、イソヘキサデシル(メタ)アクリレート、イソヘプタデシル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、デシルテトラデカニル(メタ)アクリレート等の炭素数12~30の分岐状アルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group include s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, and isodecyl (meth)acrylate, and other alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group with 1 to 11 carbon atoms, isomyristyl (meth)acrylate, and the like. Examples of the alkyl (meth)acrylate include alkyl (meth)acrylates having a branched alkyl group having 12 to 30 carbon atoms, such as isoundecyl (meth)acrylate, 2-propylheptyl (meth)acrylate, isoundecyl (meth)acrylate, isododecyl (meth)acrylate, isotridecyl (meth)acrylate, isopentadecyl (meth)acrylate, isohexadecyl (meth)acrylate, isoheptadecyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, and decyltetradecanyl (meth)acrylate.

脂環式であるアルキル基(シクロアルキル基)を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テルペン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of alkyl (meth)acrylates having an alicyclic alkyl group (cycloalkyl group) include cyclohexyl (meth)acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, terpene (meth)acrylate, and dicyclopentanyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及び芳香族炭化水素基を有する化合物としては、ベンジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and an aromatic hydrocarbon group is benzyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びポリオキシアルキレン鎖を含む基を有する化合物としては、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a polyoxyalkylene chain include polyethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate, polybutylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolybutylene glycol (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びヘテロ環を含む基を有する化合物としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and a group containing a heterocycle is tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びアルコキシ基を有する化合物としては、2-メトキシエチルアクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an alkoxy group include 2-methoxyethyl acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びフェノキシ基を有する化合物としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 An example of a compound having a (meth)acryloyl group and a phenoxy group is phenoxyethyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基、及びシラン基を含む基を有する化合物としては、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、10-メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10-アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10-メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、10-アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a silane group include 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-acryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltriethoxysilane, and 10-acryloyloxydecyltriethoxysilane.

(メタ)アクリロイル基、及びシロキサン結合を含む基を有する化合物としては、シリコーン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a group containing a siloxane bond include silicone (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びハロゲン原子を有する化合物としては、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロプロピルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロペンチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘプチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロノニルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロウンデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロドデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロトリデシルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロテトラデシルメチル(メタ)アクリレート、2-(トリフルオロメチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロエチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロプロピル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロペンチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘプチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロノニル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロトリデシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロテトラデシル)エチル(メタ)アクリレート等のフッ素原子を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Compounds having a (meth)acryloyl group and a halogen atom include trifluoromethyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl (meth)acrylate, perfluoroethyl methyl (meth)acrylate, perfluoropropyl methyl (meth)acrylate, perfluorobutyl methyl (meth)acrylate, perfluoropentyl methyl (meth)acrylate, perfluorohexyl methyl (meth)acrylate, perfluoroheptyl methyl (meth)acrylate, perfluorooctyl methyl (meth)acrylate, perfluorononyl methyl (meth)acrylate, perfluorodecyl methyl (meth)acrylate, perfluoroundecyl methyl (meth)acrylate, perfluorododecyl methyl (meth)acrylate, perfluoro Examples of (meth)acrylates having fluorine atoms include tridecylmethyl (meth)acrylate, perfluorotetradecylmethyl (meth)acrylate, 2-(trifluoromethyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoroethyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoropropyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorobutyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoropentyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorohexyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluoroheptyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorooctyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorononyl)ethyl (meth)acrylate, 2-(perfluorotridecyl)ethyl (meth)acrylate, and 2-(perfluorotetradecyl)ethyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びヒドロキシル基を有する化合物としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10-ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12-ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;(4-ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキルシクロアルカン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a hydroxyl group include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, and 12-hydroxylauryl (meth)acrylate; and hydroxyalkyl cycloalkane (meth)acrylates such as (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びカルボキシル基を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート(例えば、東亞合成(株)製「アロニックスM5400」)、及び2-アクリロイルオキシエチルサクシネート(例えば、新中村化学株式会社製「NKエステル A-SA」)等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and a carboxyl group include (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, monohydroxyethyl phthalate acrylate (e.g., "Aronix M5400" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and 2-acryloyloxyethyl succinate (e.g., "NK Ester A-SA" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

(メタ)アクリロイル基及びアミノ基を有する化合物としては、例えば、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an amino group include N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, and N,N-diethylaminopropyl (meth)acrylate.

(メタ)アクリロイル基及びエポキシ基を有する化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、α-エチル(メタ)アクリル酸グリシジル、α-n-プロピル(メタ)アクリル酸グリシジル、α-n-ブチル(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸-3,4-エポキシブチル、(メタ)アクリル酸-4,5-エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチル(メタ)アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、(メタ)アクリル酸-3-メチル-3,4-エポキシブチル、(メタ)アクリル酸-4-メチル-4,5-エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸-5-メチル-5,6-エポキシヘキシル、(メタ)アクリル酸-β-メチルグリシジル、α-エチル(メタ)アクリル酸-β-メチルグリシジル等が挙げられる。 Examples of compounds having a (meth)acryloyl group and an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, α-ethyl glycidyl (meth)acrylate, α-n-propyl glycidyl (meth)acrylate, α-n-butyl glycidyl (meth)acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, 4,5-epoxypentyl (meth)acrylate, 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate, α-ethyl 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate, 3-methyl-3,4-epoxybutyl (meth)acrylate, 4-methyl-4,5-epoxypentyl (meth)acrylate, 5-methyl-5,6-epoxyhexyl (meth)acrylate, β-methylglycidyl (meth)acrylate, and α-ethyl β-methylglycidyl (meth)acrylate.

組成物は、重合性化合物として、上記他の重合性化合物のうちの1種を含有してもよく、2種以上を含有してもよい。また、式(1)で表される化合物を更に含有してもよく、含有しなくてもよい。 The composition may contain one or more of the above-mentioned other polymerizable compounds as the polymerizable compound. In addition, the composition may or may not further contain a compound represented by formula (1).

式(1)で表される化合物以外の他の重合性化合物の含有量は、組成物全質量を基準として、例えば、1質量%以上、5質量%以上、10質量%以上、20質量%以上、又は30質量%以上であってよく、60質量%以下、50質量%以下、又は40質量%以下であってよい。 The content of the polymerizable compound other than the compound represented by formula (1) may be, for example, 1 mass% or more, 5 mass% or more, 10 mass% or more, 20 mass% or more, or 30 mass% or more, and 60 mass% or less, 50 mass% or less, or 40 mass% or less, based on the total mass of the composition.

重合性化合物の含有量(式(1)で表される化合物及び他の重合性化合物の合計含有量)は、組成物全質量を基準として、例えば、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、又は70質量%以上であってよく、95質量%以下、又は90質量%以下であってよい。 The content of the polymerizable compound (the total content of the compound represented by formula (1) and other polymerizable compounds) may be, for example, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 60% by mass or more, or 70% by mass or more, and 95% by mass or less, or 90% by mass or less, based on the total mass of the composition.

組成物は、重合開始剤を更に含有してもよい。重合開始剤は、例えば、熱によりラジカルを発生させる熱重合開始剤、光によりラジカルを発生させる光重合開始剤等であってよい。重合開始剤は、好ましくは熱重合開始剤である。 The composition may further contain a polymerization initiator. The polymerization initiator may be, for example, a thermal polymerization initiator that generates radicals by heat, a photopolymerization initiator that generates radicals by light, etc. The polymerization initiator is preferably a thermal polymerization initiator.

組成物が熱重合開始剤を含有する場合、組成物に熱を加えることにより、組成物の硬化物を得ることができる。この場合、組成物は、好ましくは105℃以上、より好ましくは110℃以上、更に好ましくは115℃以上での加熱によって硬化させる組成物であってよく、例えば、200℃以下、190℃以下、又は180℃以下での加熱によって硬化させる組成物であってもよい。組成物を加熱する際の加熱時間は、組成物が好適に硬化するように、組成物の組成に応じて適宜選択されてよい。 When the composition contains a thermal polymerization initiator, a cured product of the composition can be obtained by applying heat to the composition. In this case, the composition may be a composition that is cured by heating at preferably 105°C or higher, more preferably 110°C or higher, and even more preferably 115°C or higher, and may be a composition that is cured by heating at, for example, 200°C or lower, 190°C or lower, or 180°C or lower. The heating time when the composition is heated may be appropriately selected according to the composition of the composition so that the composition is suitably cured.

熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン-1-カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジ-t-へキシルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1-t-ブチルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート等の有機過酸化物などが挙げられる。熱重合開始剤は、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いられてよい。 Thermal polymerization initiators include azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, and azodibenzoyl, as well as organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, and t-butylperoxyisopropyl carbonate. These thermal polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

組成物が光重合開始剤を含有する場合、例えば、光(例えば200~400nmの少なくとも一部の波長を含む光(紫外光))を組成物に照射することにより、組成物の硬化物を得ることができる。光照射の条件は、光重合開始剤の種類により適宜設定されてよい。 When the composition contains a photopolymerization initiator, for example, a cured product of the composition can be obtained by irradiating the composition with light (e.g., light having at least a portion of the wavelength of 200 to 400 nm (ultraviolet light)). The conditions for light irradiation may be appropriately set depending on the type of photopolymerization initiator.

光重合開始剤は、例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α-ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等であってよい。 The photopolymerization initiator may be, for example, a benzoin ether-based photopolymerization initiator, an acetophenone-based photopolymerization initiator, an α-ketol-based photopolymerization initiator, an aromatic sulfonyl chloride-based photopolymerization initiator, a photoactive oxime-based photopolymerization initiator, a benzoin-based photopolymerization initiator, a benzyl-based photopolymerization initiator, a benzophenone-based photopolymerization initiator, a ketal-based photopolymerization initiator, a thioxanthone-based photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator, etc.

ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア651」)、アニソールメチルエーテル等が挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(例えば、BASF社製「イルガキュア184」)、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア2959」)、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン(例えば、BASF社製「イルガキュア1173」)、メトキシアセトフェノン等が挙げられる。 Benzoin ether photopolymerization initiators include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 651"), anisole methyl ether, etc. Acetophenone photopolymerization initiators include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (e.g., BASF's "Irgacure 184"), 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 2959"), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (e.g., BASF's "Irgacure 1173"), methoxyacetophenone, etc.

α-ケトール系光重合開始剤としては、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-[4-(2-ヒドロキシエチル)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン等が挙げられる。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、2-ナフタレンスルホニルクロライド等が挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、1-フェニル-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)-オキシム等が挙げられる。 Examples of α-ketol photopolymerization initiators include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1-[4-(2-hydroxyethyl)-phenyl]-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one. Examples of aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators include 2-naphthalenesulfonyl chloride. Examples of photoactive oxime photopolymerization initiators include 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime.

ベンゾイン系光重合開始剤としては、ベンゾイン等が挙げられる。ベンジル系光重合開始剤としては、ベンジル等が挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ケタール系光重合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。チオキサントン系光重合開始剤としては、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が挙げられる。 Benzoin-based photopolymerization initiators include benzoin, etc. Benzil-based photopolymerization initiators include benzil, etc. Benzophenone-based photopolymerization initiators include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinyl benzophenone, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc. Ketal-based photopolymerization initiators include benzil dimethyl ketal, etc. Thioxanthone-based photopolymerization initiators include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, dodecylthioxanthone, etc.

アシルフォスフィン系光重合開始剤としては、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)(2,4,4-トリメチルペンチル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-n-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-t-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)シクロヘキシルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)オクチルホスフィンオキサイド、ビス(2-メトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2-メトキシベンゾイル)(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジエトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジエトキシベンゾイル)(1-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジブトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,4-ジメトキシベンゾイル)(2-メチルプロパン-1-イル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)(2,4-ジペントキシフェニル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)ベンジルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2-フェニルプロピルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2-フェニルエチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイルベンジルブチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイルベンジルオクチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,5-ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2-メチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-4-メチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,5-ジエチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,3,5,6-テトラメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジ-n-ブトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)イソブチルホスフィンオキサイド、2,6-ジメチトキシベンゾイル-2,4,6-トリメチルベンゾイル-n-ブチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-2,4-ジブトキシフェニルホスフィンオキサイド、1,10-ビス[ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド]デカン、トリ(2-メチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド等が挙げられる。 Acylphosphine photopolymerization initiators include bis(2,6-dimethoxybenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-n-butylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-t-butylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)cyclohexylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)octylphosphine oxide, and bis(2-methoxybenzoyl)(2-methyl bis(2-methoxybenzoyl)(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-diethoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-diethoxybenzoyl)(1-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,6-dibutoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,4-dimethoxybenzoyl)(2-methylpropan-1-yl)phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)(2,4-dipentoxyphenyl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)benzylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2-phenylpropionyl phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2-phenylethylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzylbutylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzyloctylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,5-diisopropylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2-methylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-4-methylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,5-diethylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,3,5,6-tetramethylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl) bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)isobutylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl-n-butylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dibutoxyphenylphosphine oxide, 1,10-bis[bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide]decane, tri(2-methylbenzoyl)phosphine oxide, etc.

上述した光重合開始剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられてよい。 The above-mentioned photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤の含有量は、重合を好適に進行させる観点から、重合性成分の含有量の合計100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.02質量部以上、更に好ましくは0.05質量部以上である。重合開始剤の含有量は、組成物の硬化物における重合体の分子量が好適な範囲になると共に、分解生成物を抑制する観点から、重合性成分の含有量の合計100質量部に対して、好ましくは10質量部以下、より好ましくは5質量部以下、更に好ましくは3質量部以下、特に好ましくは1質量部以下である。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.02 parts by mass or more, and even more preferably 0.05 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the total content of the polymerizable components, from the viewpoint of allowing the polymerization to proceed smoothly. The content of the polymerization initiator is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, even more preferably 3 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or less, per 100 parts by mass of the total content of the polymerizable components, from the viewpoint of allowing the molecular weight of the polymer in the cured product of the composition to be in a suitable range and suppressing decomposition products.

組成物は、添加剤として可塑剤を含有することができる。組成物が可塑剤を含有することにより、組成物の密着性、及び硬化物の伸びを更に高めることができる。可塑剤としては、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、シリコーンゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴム、アクリル樹脂、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂等のタッキファイヤー、又はポリアルキレングリコールなどが挙げられる。可塑剤の含有量は、重合性成分の含有量の合計100質量部に対して、0.1質量部以上、1質量部以上、又は3質量部以上であってよく、20質量部以下、15質量部以下、12質量部以下、又は10質量部以下であってよい。 The composition may contain a plasticizer as an additive. The inclusion of a plasticizer in the composition can further increase the adhesion of the composition and the elongation of the cured product. Examples of plasticizers include tackifiers such as butadiene rubber, isoprene rubber, silicone rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, urethane rubber, acrylic resin, rosin resin, and terpene resin, and polyalkylene glycol. The content of the plasticizer may be 0.1 parts by mass or more, 1 part by mass or more, or 3 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the total content of the polymerizable components, and may be 20 parts by mass or less, 15 parts by mass or less, 12 parts by mass or less, or 10 parts by mass or less.

組成物は、必要に応じて、その他の添加剤を更に含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、表面処理剤(例えばシランカップリング剤)、分散剤、硬化促進剤、着色剤、結晶核剤、熱安定剤、発泡剤、難燃剤、制振剤、脱水剤、難燃助剤(例えば金属酸化物)等が挙げられる。その他の添加剤の含有量は、組成物全質量を基準として、0.1質量%以上であってよく、30質量%以下であってよい。 The composition may further contain other additives as necessary. Examples of the other additives include antioxidants, surface treatment agents (e.g., silane coupling agents), dispersants, curing accelerators, colorants, crystal nucleating agents, heat stabilizers, foaming agents, flame retardants, vibration dampers, dehydrating agents, and flame retardant assistants (e.g., metal oxides). The content of the other additives may be 0.1% by mass or more and 30% by mass or less based on the total mass of the composition.

組成物は、好ましくは25℃で液状である。これにより、対象物の表面に好適に塗布することができ、塗布面への密着性も高めることができる。組成物は25℃で固体状であってもよく、その場合、加熱によって(例えば50℃以上で)液状になることが好ましい。組成物は、液状の状態で塗布しその後硬化すればよく、これにより組成物が液だれ及びポンプアウト現象を引き起こすことを抑制し得る。 The composition is preferably liquid at 25°C. This allows it to be applied to the surface of an object in an appropriate manner and also enhances adhesion to the applied surface. The composition may be solid at 25°C, in which case it is preferable for it to become liquid upon heating (e.g., at 50°C or higher). The composition may be applied in a liquid state and then cured, which can prevent the composition from causing dripping and pumping out.

上述した組成物は、複数液型の組成物(組成物セット)の状態であってもよい。一実施形態に係る組成物セットは、酸化剤を含有する第一液と、還元剤を含有する第二液とを備える組成物セットである。上述した第一の中空粒子、第二の中空粒子、及び重合性化合物は、それぞれ第一液及び第二液の少なくとも一方に含まれる。第一液と第二液を混合することにより、酸化剤及び還元剤が反応して遊離ラジカルが発生し、重合性化合物の重合が進行する。本実施形態に係る組成物セットによれば、第一液と第二液を混合することにより、直ちに第一液と第二液との混合物の硬化物が得られる。すなわち、組成物セットによれば、速い速度で組成物の硬化物が得られる。 The above-mentioned composition may be in the form of a multi-liquid composition (composition set). The composition set according to one embodiment is a composition set including a first liquid containing an oxidizing agent and a second liquid containing a reducing agent. The above-mentioned first hollow particles, second hollow particles, and polymerizable compound are each contained in at least one of the first liquid and the second liquid. By mixing the first liquid and the second liquid, the oxidizing agent and the reducing agent react to generate free radicals, and polymerization of the polymerizable compound proceeds. According to the composition set according to this embodiment, by mixing the first liquid and the second liquid, a cured product of the mixture of the first liquid and the second liquid is immediately obtained. In other words, according to the composition set, a cured product of the composition is obtained at a high speed.

組成物セットにおいては、好ましくは、第一液が、酸化剤、重合性化合物、第一の中空粒子、及び第二の中空粒子を含有し、第二液が、還元剤、重合性化合物、第一の中空粒子、及び第二の中空粒子を含有し、より好ましくは、第一液が、酸化剤、式(1)で表される重合性化合物、第一の中空粒子、及び第二の中空粒子を含有し、第二液が、還元剤、式(1)で表される重合性化合物、第一の中空粒子、及び第二の中空粒子を含有する。 In the composition set, the first liquid preferably contains an oxidizing agent, a polymerizable compound, a first hollow particle, and a second hollow particle, and the second liquid preferably contains a reducing agent, a polymerizable compound, a first hollow particle, and a second hollow particle, and more preferably, the first liquid contains an oxidizing agent, a polymerizable compound represented by formula (1), a first hollow particle, and a second hollow particle, and the second liquid contains a reducing agent, a polymerizable compound represented by formula (1), a first hollow particle, and a second hollow particle.

組成物セットを構成する液全質量(例えば、二液型の組成物セットであれば、第一液及び第二液の合計量)を基準とした、式(1)で表される化合物の含有量は、上述した組成物の全質量を基準とした式(1)で表される化合物の含有量の範囲と同様であってよい。
組成物セットに含まれる中空粒子の含有量においても同様である。
The content of the compound represented by formula (1) based on the total mass of the liquids constituting the composition set (for example, in the case of a two-liquid composition set, the total amount of the first liquid and the second liquid) may be the same as the range of the content of the compound represented by formula (1) based on the total mass of the composition described above.
The same applies to the content of hollow particles contained in the composition set.

第一液に含まれる酸化剤は、重合開始剤(ラジカル重合開始剤)としての役割を有する。酸化剤は、例えば、有機過酸化物又はアゾ化合物であってよい。有機過酸化物は、例えば、ハイドロパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド等であってよい。アゾ化合物は、AIBN(2、2’-アゾビスイソブチロニトリル)、V-65(アゾビスジメチルバレロニトリル)等であってよい。酸化剤は、1種類を単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。 The oxidizing agent contained in the first liquid acts as a polymerization initiator (radical polymerization initiator). The oxidizing agent may be, for example, an organic peroxide or an azo compound. The organic peroxide may be, for example, a hydroperoxide, a peroxydicarbonate, a peroxyester, a peroxyketal, a dialkyl peroxide, a diacyl peroxide, etc. The azo compound may be, for example, AIBN (2,2'-azobisisobutyronitrile), V-65 (azobisdimethylvaleronitrile), etc. The oxidizing agent may be used alone or in combination of two or more types.

ハイドロパーオキサイドとしては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of hydroperoxides include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

パーオキシジカーボネートとしては、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4-t-ブチルシクロへキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2-エチルへキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3-メチル-3メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。 Examples of peroxydicarbonates include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis(4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di(2-ethylhexylperoxy)dicarbonate, dimethoxybutyl peroxydicarbonate, and di(3-methyl-3-methoxybutylperoxy)dicarbonate.

パーオキシエステルとしては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1-シクロへキシル-1-メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t-へキシルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルへキサノネート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1-シクロへキシル-1-メチルエチルパーオキシ-2-エチルヘキサノネート、t-へキシルパーオキシ-2-エチルへキサノネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルへキサノネート、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)シクロへキサン、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルへキサノネート、t-ブチルパーオキシラウレート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(m-トルオイルパーオキシ)へキサン、t-へキシルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシアセテート等が挙げられる。 Peroxy esters include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-butyl peroxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy t-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis(t-butylperoxy)cyclohexane, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di(m-toluoylperoxy)hexane, t-hexylperoxybenzoate, t-butylperoxyacetate, etc.

パーオキシケタールとしては、1,1-ビス(t-へキシルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロへキサン、1,1-ビス(t-へキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロへキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2-ビス(t-ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。 Examples of peroxyketals include 1,1-bis(t-hexylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(t-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t-butylperoxy)cyclododecane, and 2,2-bis(t-butylperoxy)decane.

ジアルキルパーオキサイドとしては、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)へキサン、t-ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of dialkyl peroxides include α,α'-bis(t-butylperoxy)diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, and t-butylcumyl peroxide.

ジアシルパーオキサイドとしては、イソブチルパーオキサイド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5-トリメチルへキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニツクパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoylperoxytoluene, and benzoyl peroxide.

酸化剤は、貯蔵安定性の観点から、好ましくは過酸化物であり、より好ましくはハイドロパーオキサイドであり、更に好ましくはクメンハイドロパーオキサイドである。 From the viewpoint of storage stability, the oxidizing agent is preferably a peroxide, more preferably a hydroperoxide, and even more preferably cumene hydroperoxide.

酸化剤の含有量は、組成物セットを構成する液全質量を基準として、0.1質量%以上、0.5質量%以上、又は1質量%以上であってよく、10質量%以下、5質量%以下、又は3質量%以下であってよい。 The content of the oxidizing agent may be 0.1% by mass or more, 0.5% by mass or more, or 1% by mass or more, and may be 10% by mass or less, 5% by mass or less, or 3% by mass or less, based on the total mass of the liquid constituting the composition set.

第二液に含まれる還元剤は、例えば、第3級アミン、チオ尿素誘導体、遷移金属塩等であってよい。第3級アミンとしては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルパラトルイジン等が挙げられる。チオ尿素誘導体としては、2-メルカプトベンズイミダゾール、メチルチオ尿素、ジブチルチオ尿素、テトラメチルチオ尿素、エチレンチオ尿素等が挙げられる。遷移金属塩としては、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、バナジルアセチルアセトネート等が挙げられる。還元剤は、1種類を単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。 The reducing agent contained in the second liquid may be, for example, a tertiary amine, a thiourea derivative, a transition metal salt, etc. Examples of tertiary amines include triethylamine, tripropylamine, tributylamine, and N,N-dimethyl-p-toluidine. Examples of thiourea derivatives include 2-mercaptobenzimidazole, methylthiourea, dibutylthiourea, tetramethylthiourea, and ethylenethiourea. Examples of transition metal salts include cobalt naphthenate, copper naphthenate, and vanadyl acetylacetonate. The reducing agents can be used alone or in combination of two or more.

還元剤は、硬化速度に優れる観点から、好ましくは、チオ尿素誘導体又は遷移金属塩である。チオ尿素誘導体は、例えば、エチレンチオ尿素であってよい。同様の観点から、遷移金属塩は、好ましくはバナジルアセチルアセトネートである。 From the viewpoint of excellent curing speed, the reducing agent is preferably a thiourea derivative or a transition metal salt. The thiourea derivative may be, for example, ethylene thiourea. From the same viewpoint, the transition metal salt is preferably vanadyl acetylacetonate.

還元剤の含有量は、組成物セットを構成する液全質量を基準として、0.05質量%以上、0.1質量%以上、又は0.3質量%以上であってよく、5質量%以下、3質量%以下、又は1質量%以下であってよい。 The content of the reducing agent may be 0.05% by mass or more, 0.1% by mass or more, or 0.3% by mass or more, and may be 5% by mass or less, 3% by mass or less, or 1% by mass or less, based on the total mass of the liquid constituting the composition set.

組成物セットは、上述した添加剤を更に含有してもよい。添加剤は、第一液及び第二液の一方又は両方に含まれていてもよく、第一液及び第二液とは異なる第三液に含まれていてもよい。組成物セットを構成する液全質量を基準とした添加剤の含有量は、上述した組成物の全質量を基準とした添加剤の含有量の範囲と同様であってよい。 The composition set may further contain the additives described above. The additives may be contained in one or both of the first and second liquids, or may be contained in a third liquid that is different from the first and second liquids. The content of the additives based on the total mass of the liquids constituting the composition set may be the same as the range of the content of the additives based on the total mass of the composition described above.

図1~5は、両面実装基板の製造方法の一例(以下、製造方法(1))を説明するための図である。 Figures 1 to 5 are diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a double-sided mounted board (hereinafter, manufacturing method (1)).

製造方法(1)では、図1に示すとおり、第一の主面10A及び第二の主面10Bを有する基板10と、接続面にはんだバンプ22が配置された第一の電子部品21と、を準備し、基板10の第一の主面10A上に第一の電子部品21を配置する。 In manufacturing method (1), as shown in FIG. 1, a substrate 10 having a first main surface 10A and a second main surface 10B and a first electronic component 21 having solder bumps 22 arranged on a connection surface are prepared, and the first electronic component 21 is arranged on the first main surface 10A of the substrate 10.

次いで、第一の電子部品21を基板10上に実装する。具体的には、リフローによりはんだバンプ22を溶融させ、基板10と第一の電子部品21とを接続する。次いで、基板10と第一の電子部品21との間隙をアンダーフィル材により封止する。図2に示すように、実装後の第一の電子部品21は、はんだからなる接続部23により基板10と接続されており、第一の電子部品21と基板10との間隙は、アンダーフィル材又はその硬化物からなる封止材24により封止されている。 Then, the first electronic component 21 is mounted on the substrate 10. Specifically, the solder bumps 22 are melted by reflow to connect the substrate 10 and the first electronic component 21. Next, the gap between the substrate 10 and the first electronic component 21 is sealed with an underfill material. As shown in FIG. 2, the first electronic component 21 after mounting is connected to the substrate 10 by a connection portion 23 made of solder, and the gap between the first electronic component 21 and the substrate 10 is sealed with a sealant 24 made of an underfill material or its hardened product.

次いで、図3に示すように、実装後の第一の電子部品21を断熱材30で被覆し、保持部材40で保持し、全体を裏返し、第二の主面10B上に第二の電子部品51を配置する。 Next, as shown in FIG. 3, the first electronic component 21 after mounting is covered with a heat insulating material 30 and held by a holding member 40, and the whole is turned over, and a second electronic component 51 is placed on the second main surface 10B.

次いで、第二の電子部品51を基板10上に実装する。具体的には、リフローによりはんだバンプ52を溶融させ、基板10と第二の電子部品51とを接続する。次いで、基板10と第二の電子部品51との間隙をアンダーフィル材により封止する。図4に示すように、実装後の第二の電子部品51は、はんだからなる接続部53により基板10と接続されており、第二の電子部品51と基板10との間隙は、アンダーフィル材又はその硬化物からなる封止材54により封止されている。 Then, the second electronic component 51 is mounted on the substrate 10. Specifically, the solder bumps 52 are melted by reflow to connect the substrate 10 and the second electronic component 51. Next, the gap between the substrate 10 and the second electronic component 51 is sealed with an underfill material. As shown in FIG. 4, the second electronic component 51 after mounting is connected to the substrate 10 by a connection portion 53 made of solder, and the gap between the second electronic component 51 and the substrate 10 is sealed with a sealant 54 made of an underfill material or its hardened product.

その後、保持部材40及び断熱材30を除去することで、図5に示す両面実装基板が得られる。 Then, the holding member 40 and the insulating material 30 are removed to obtain the double-sided mounting board shown in Figure 5.

製造方法(1)において、断熱材30は第一の電子部品21上に直接接するように配置されているが、本実施形態において、断熱材の配置はこれに限定されない。例えば、図6に示すように、断熱材は、保持部材40の一方面上に配置され、断熱層31を形成していてもよい。換言すると、本実施形態の製造方法では、保持部材として、基体40と断熱層31とを備える保持部材を用いて保持工程を実施してもよい。 In manufacturing method (1), the insulating material 30 is arranged so as to be in direct contact with the first electronic component 21, but in this embodiment, the arrangement of the insulating material is not limited to this. For example, as shown in FIG. 6, the insulating material may be arranged on one side of the holding member 40 to form an insulating layer 31. In other words, in the manufacturing method of this embodiment, the holding step may be performed using a holding member that includes a base body 40 and an insulating layer 31 as the holding member.

10…基板、21…第一の電子部品、22,52…はんだバンプ、23,53…接続部、24,54…封止材、30…断熱材、31…断熱層、40…保持部材、51…第二の電子部品。 10...substrate, 21...first electronic component, 22, 52...solder bumps, 23, 53...connection portion, 24, 54...sealing material, 30...insulating material, 31...insulating layer, 40...holding member, 51...second electronic component.

Claims (7)

第一の主面及び第二の主面を有する基板の前記第一の主面上に、第一の電子部品を実装する第一の実装工程と、
前記第一の電子部品を前記第一の主面上に保持する保持部材を配置する保持工程と、
前記第二の主面上に第二の電子部品を実装する第二の実装工程と、
を備え、
前記第二の実装工程の前に、前記第一の主面上に実装された前記第一の電子部品を囲うように下記式(A)を満たす断熱材を配置する、両面実装基板の製造方法。
F1>F2 …(A)
[式中、F1は、前記断熱材を220℃で120秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表し、F2は、前記断熱材を260℃で30秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表す。]
a first mounting step of mounting a first electronic component on the first main surface of a substrate having a first main surface and a second main surface;
a holding step of disposing a holding member that holds the first electronic component on the first main surface;
a second mounting step of mounting a second electronic component on the second main surface;
Equipped with
A method for manufacturing a double-sided mounted board, comprising: prior to the second mounting step, arranging a heat insulating material that satisfies the following formula (A) so as to surround the first electronic component mounted on the first main surface:
F1>F2 ... (A)
[In the formula, F1 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 220° C. for 120 seconds, and F2 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 260° C. for 30 seconds.]
前記第一の実装工程の後に、前記第一の電子部品を断熱材で覆う被覆工程を更に備え、
前記保持部材が、前記断熱材で覆われた前記第一の電子部品を前記第一の主面上に保持する部材である、請求項1に記載の製造方法。
The method further includes a covering step of covering the first electronic component with a heat insulating material after the first mounting step,
The manufacturing method according to claim 1 , wherein the holding member holds the first electronic component covered with the thermal insulating material on the first main surface.
前記保持工程が、基体と、前記基体上に配置された断熱材を含有する断熱層と、を備える保持部材を配置する工程である、請求項1に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 1, wherein the holding step is a step of placing a holding member having a base and an insulating layer containing an insulating material placed on the base. 前記断熱材が、エアロゲル粒子を含有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the insulating material contains aerogel particles. 前記断熱材が、疎水性基を有する水溶性高分子を更に含有する、請求項4に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 4, wherein the heat insulating material further contains a water-soluble polymer having a hydrophobic group. 前記断熱材が、熱膨張性の中空粒子である第一の中空粒子と、第一の中空粒子以外の中空粒子である第二の中空粒子と、マトリックスポリマーと、を含有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat insulating material contains first hollow particles that are thermally expandable hollow particles, second hollow particles that are hollow particles other than the first hollow particles, and a matrix polymer. 第一の主面及び第二の主面を有する基板の前記第一の主面上に実装された第一の電子部品を、前記第二の主面上への第二の電子部品の実装時に、前記第一の主面上に保持する保持部材であって、
基体と、
前記基体上に配置された断熱材を含有する断熱層と、
を備え
前記断熱材が、下記式(A)を満たす、保持部材。
F1>F2 …(A)
[式中、F1は、前記断熱材を220℃で120秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表し、F2は、前記断熱材を260℃で30秒間加熱した後の断熱材の粘着力を表す。]
A holding member that holds a first electronic component mounted on a first main surface of a substrate having a first main surface and a second main surface, on the first main surface when a second electronic component is mounted on the second main surface,
A substrate;
a thermal insulation layer comprising a thermal insulation material disposed on the substrate;
Equipped with
The retaining member , wherein the insulating material satisfies the following formula (A) :
F1>F2 ... (A)
[In the formula, F1 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 220° C. for 120 seconds, and F2 represents the adhesive strength of the insulating material after heating the insulating material at 260° C. for 30 seconds.]
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