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JP7704619B2 - Fastening structure - Google Patents
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Description

本発明は、締結構造に関する。 The present invention relates to a fastening structure.

車体部品や航空部品等のように金属等で形成された複数の構成部品の締結に、ボルトの雄ネジを構成部品の貫通孔に貫通させてナットの雌ネジに螺合させた締結構造が採用されている。ボルト及びナットは、ステンレス、ニッケル及びニッケル合金等の金属製であるため、ボルトとナットとの摩擦により、ボルトとナットとの焼付きが生じ易い。そのため、ボルトとナットとの焼付きが生じることを抑制するため、ボルトとナットの表面には摩擦抵抗を低下させる処理が施されている。 When fastening multiple components made of metal, such as vehicle body parts and aircraft parts, a fastening structure is used in which the male thread of a bolt passes through a through hole in the component and is screwed into the female thread of a nut. Since the bolts and nuts are made of metals such as stainless steel, nickel, and nickel alloys, friction between the bolt and nut makes them prone to seizure. Therefore, to prevent seizure between the bolt and nut, the surfaces of the bolt and nut are treated to reduce frictional resistance.

摩擦抵抗を低下させる処理が施された締結構造として、例えば、締結部表面を、ポリオレフィンワックスエマルジョンと、ウレタン変性ポリオレフィンエマルジョン又はオレフィン・不飽和カルボン酸共重合体エマルジョンとを含有する水性液体からなる摩擦係数安定化剤により被覆した締結部材が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 As an example of a fastening structure that has been treated to reduce frictional resistance, a fastening member has been disclosed in which the surface of the fastening portion is coated with a friction coefficient stabilizer made of an aqueous liquid containing a polyolefin wax emulsion and a urethane-modified polyolefin emulsion or an olefin-unsaturated carboxylic acid copolymer emulsion (see, for example, Patent Document 1).

特開2006-206683号公報JP 2006-206683 A

しかしながら、特許文献1の締結部材では、摩擦係数安定剤が樹脂成分で構成されているため、摩擦係数安定剤の耐熱温度は高くない。そのため、締結部材が高温(例えば、100℃~150℃)に曝されると、摩擦係数安定剤の特性が変化することで摩擦係数が低下して、適切な摩擦係数を発揮できない、という問題があった。 However, in the fastening member of Patent Document 1, the friction coefficient stabilizer is composed of a resin component, so the heat resistance temperature of the friction coefficient stabilizer is not high. Therefore, when the fastening member is exposed to high temperatures (for example, 100°C to 150°C), the properties of the friction coefficient stabilizer change, causing the friction coefficient to decrease and preventing the fastening member from exhibiting an appropriate friction coefficient.

本発明の一態様は、摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる締結構造を提供することを目的とする。 One aspect of the present invention aims to provide a fastening structure that can suppress changes in the friction coefficient and maintain a stable low friction coefficient.

本発明に係る締結構造の一態様は、ボルトと、ナット又は構成部品とを螺合させることにより、複数の前記構成部品同士を締結する締結構造であって、前記ボルトと前記ナット若しくは前記構成部品との接触領域と、前記ナットと前記構成部品との接触領域との少なくとも一部の前記ボルト又は前記ナットが、原子層堆積法により形成されたアルミナ薄膜で被覆されている。 One aspect of the fastening structure according to the present invention is a fastening structure that fastens a plurality of components together by screwing the bolt and the nut or the component together, and at least a part of the bolt or the nut in the contact area between the bolt and the nut or the component and the contact area between the nut and the component is coated with an alumina thin film formed by atomic layer deposition.

本発明に係る締結構造の一態様は、摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。 One aspect of the fastening structure of the present invention is able to suppress changes in the friction coefficient and maintain a stable low friction coefficient.

本発明の実施形態に係る締結構造を模式的に示す側面図である。1 is a side view showing a schematic diagram of a fastening structure according to an embodiment of the present invention; 図1の締結構造を分解した状態を示す側面図である。FIG. 2 is an exploded side view of the fastening structure of FIG. 1 . 図1の締結構造を分解した状態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the fastening structure of FIG. 1 in an exploded state. アルミナ薄膜の膜厚を変化させて締結構造のすべり試験を実施した時の滑り距離と摩擦係数との関係を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the sliding distance and the friction coefficient when a sliding test of a fastening structure is carried out while changing the film thickness of an alumina thin film.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては同一の符号を付して、重複する説明は省略する。また、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。本明細書において数値範囲を示す「~」は、別段の断わりがない限り、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。 The following is a detailed description of an embodiment of the present invention. To facilitate understanding of the description, the same components in each drawing are given the same reference numerals, and duplicate descriptions are omitted. The scale of each member in the drawings may differ from the actual scale. In this specification, unless otherwise specified, "~" indicating a range of values means that the values before and after it are included as the lower and upper limits.

本発明の実施形態に係る締結構造について説明する。本実施形態に係る締結構造は、一方の締結部材であるボルト(ねじ)と、他方の締結部材であるナット又は1つ以上の構成部品とを螺合させることにより、複数の構成部品同士を締結する締結構造であり、ボルトと、ナット若しくは構成部品との接触領域と、ナットと構成部品との接触領域との少なくとも一部を原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition)法により形成されたアルミナ薄膜で被覆している。 A fastening structure according to an embodiment of the present invention will be described. The fastening structure according to this embodiment is a fastening structure that fastens multiple components together by screwing together a bolt (screw) as one fastening member and a nut or one or more components as the other fastening member, and at least a portion of the contact area between the bolt and the nut or component and the contact area between the nut and the component are coated with an alumina thin film formed by atomic layer deposition (ALD).

図1は、本発明の実施形態に係る締結構造を模式的に示す側面図であり、図2は、図1の締結構造を分解した状態を示す側面図であり、図3は、図1の締結構造を分解した状態を示す断面図である。図1~図3では、本実施形態に係る締結構造を構成するボルトとナットとを螺合させて、2つの構成部品を締結する形態について説明する。 Figure 1 is a side view showing a schematic diagram of a fastening structure according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a side view showing the fastening structure of Figure 1 in an exploded state, and Figure 3 is a cross-sectional view showing the fastening structure of Figure 1 in an exploded state. Figures 1 to 3 explain the form in which a bolt and a nut constituting the fastening structure according to this embodiment are screwed together to fasten two components.

図1及び図2に示すように、本実施形態に係る締結構造1は、ボルト10、ナット20及びアルミナ薄膜30を有し、ボルト10とナット20とを螺合させることにより、2つの構成部品2及び3を締結してよい。 As shown in Figures 1 and 2, the fastening structure 1 according to this embodiment has a bolt 10, a nut 20, and an alumina thin film 30, and two components 2 and 3 may be fastened together by screwing the bolt 10 and the nut 20 together.

なお、図1~図3中の一点鎖線は、締結構造1の中心軸Jを示す。中心軸Jとは、ボルト10とナット20を螺合した時の締結構造1の中心となる軸である。 The dashed and dotted lines in Figures 1 to 3 indicate the central axis J of the fastening structure 1. The central axis J is the axis that is the center of the fastening structure 1 when the bolt 10 and the nut 20 are screwed together.

図1及び図2に示すように、ボルト10は、構成部品2及び3のボルト孔2A及び3Aに挿入されるフランジ付き六角ボルトであり、頭部11及び軸部12を有する。 As shown in Figures 1 and 2, the bolt 10 is a flanged hexagonal bolt that is inserted into the bolt holes 2A and 3A of the components 2 and 3, and has a head 11 and a shaft 12.

頭部11は、基体111及びフランジ部112を有する。 The head 11 has a base 111 and a flange portion 112.

基体111は、柱状部材であり、平面視において略六角形に形成されている。基体111の平面視における形状は、特に限定されず、略三角形、略四角形等の多角形及び円形等でもよい。 The base 111 is a columnar member and is formed into a substantially hexagonal shape in a planar view. The shape of the base 111 in a planar view is not particularly limited, and may be a polygon such as a substantially triangular or substantially rectangular shape, or a circle, etc.

フランジ部112は、円盤状の部材であり、基体111の一方の端面(図1~図3では、下側の端面)に設けられる。フランジ部112は、基体111よりも大径に形成されている。 The flange portion 112 is a disk-shaped member and is provided on one end face of the base body 111 (the lower end face in Figs. 1 to 3). The flange portion 112 is formed with a larger diameter than the base body 111.

軸部12は、頭部11の裏面に対して略直角となるように、頭部11から延設されている。軸部12は、円柱状に形成されており、先端部12aからその途中にかけて、ナット20の雌ネジ(内ネジ)20aに螺合可能に形成された雄ネジ(外ネジ)121を有する。 The shaft 12 extends from the head 11 at a substantially right angle to the back surface of the head 11. The shaft 12 is formed in a cylindrical shape, and has a male thread (external thread) 121 formed midway from the tip 12a so that it can be screwed into the female thread (internal thread) 20a of the nut 20.

基体111、フランジ部112及び軸部12は、一体に形成されてもよいし、溶接、接着剤等により接合して形成されてもよい。 The base 111, flange portion 112, and shaft portion 12 may be formed integrally, or may be joined by welding, adhesive, etc.

図1及び図2に示すように、ナット20は、構成部品2及び3を挟んでボルト10の雄ネジ121に締め付けられるフランジ付き六角ナットであり、ナット基体21及びフランジ部22を有する。 As shown in Figures 1 and 2, the nut 20 is a flanged hexagonal nut that is fastened to the male threads 121 of the bolt 10 by sandwiching the components 2 and 3 between them, and has a nut base 21 and a flange portion 22.

ナット基体21は、頭部11の基体111と同様、柱状部材であり、平面視において略六角形に形成されている。ナット基体21の平面視における形状は、特に限定されず、略三角形、略四角形等の多角形及び円形等でもよい。 The nut base 21, like the base 111 of the head 11, is a columnar member and is formed into a substantially hexagonal shape in a plan view. The shape of the nut base 21 in a plan view is not particularly limited, and may be a polygon such as a substantially triangular or substantially rectangular shape, or a circle, etc.

フランジ部22は、ナット基体21の一方の端面(図1~図3では、上側の端面)に形成され、ナット基体21よりも大径に形成されている。 The flange portion 22 is formed on one end face of the nut base 21 (the upper end face in Figures 1 to 3) and is formed with a larger diameter than the nut base 21.

図3に示すように、ナット20は、その貫通孔の壁面に、ボルト10の雄ネジ121と螺合させる雌ネジ20aを有する。雌ネジ20aは、ナット基体21の貫通孔の壁面に設けられる雌ネジ21aと、フランジ部22の貫通孔の壁面に設けられる雌ネジ22aとを有する。 As shown in FIG. 3, the nut 20 has a female thread 20a on the wall surface of its through hole, which is screwed into the male thread 121 of the bolt 10. The female thread 20a has a female thread 21a provided on the wall surface of the through hole of the nut base 21 and a female thread 22a provided on the wall surface of the through hole of the flange portion 22.

ボルト10及びナット20を形成する材料としては、鋼鉄、ステンレス、チタン、ニッケル、ニッケル合金、アルミニウム、アルミニウム合金、真鍮等の金属を用いることができる。 The bolt 10 and nut 20 can be made from metals such as steel, stainless steel, titanium, nickel, nickel alloys, aluminum, aluminum alloys, and brass.

ボルト10及びナット20は、これらの一部又は全部が表面処理されていてもよい。表面処理として、例えば、めっき処理、リン酸処理、黒染処理、金属浸透処理、亜鉛-クロム処理、三価クロム化成皮膜処理(三価クロメート処理)等を用いることができる。 The bolt 10 and the nut 20 may be surface-treated in part or in whole. Examples of surface treatments that can be used include plating, phosphate treatment, blackening treatment, metal impregnation treatment, zinc-chromium treatment, and trivalent chromium conversion coating treatment (trivalent chromate treatment).

アルミナ薄膜30は、ボルト10とナット20とが互いに接触する接触領域と、ボルト10と構成部品2とが互いに接触する接触領域と、ナット20と構成部品3とが互いに接触する接触領域との少なくとも一部のボルト10又はナット20が被覆されるように設けられてよい。 The alumina thin film 30 may be provided so as to cover at least a portion of the bolt 10 or nut 20, including the contact area where the bolt 10 and nut 20 contact each other, the contact area where the bolt 10 and component 2 contact each other, and the contact area where the nut 20 and component 3 contact each other.

本実施形態では、接触領域は、フランジ部112の一方の端面(図1~図3では、下側の端面)112aと、軸部12の雄ネジ121と、ナット20の雌ネジ20aと、フランジ部22の一方の端面(図1~図3では、上側の端面)22bとの4つの領域である。図3に示すように、アルミナ薄膜30は、これらの4つの領域に設けてよい。なお、アルミナ薄膜30は、これらの4つの領域の何れかに設けられればよく、これらの4つの領域のうちの1つ~3つの領域に設けられてもよい。 In this embodiment, the contact areas are four areas: one end face (the lower end face in Figs. 1 to 3) 112a of the flange portion 112, the male thread 121 of the shaft portion 12, the female thread 20a of the nut 20, and one end face (the upper end face in Figs. 1 to 3) 22b of the flange portion 22. As shown in Fig. 3, the alumina thin film 30 may be provided in these four areas. Note that the alumina thin film 30 only needs to be provided in any of these four areas, and may be provided in one to three of these four areas.

アルミナ薄膜30は、ALD法により形成される。ALD法は、真空成膜技術の1つであり、原子の自己制御性を利用して、堆積対象である、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部に気相原料を暴露し、1原子層ごとに薄膜を製膜する手法である。ALD法は気相成長法(CVD)等の他の一般的な成膜方法よりも高い被覆率を有するように成膜できる。そのため、アルミナ薄膜30は、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部をこれらの形状に沿うように略均一な膜厚で被覆することができる。 The alumina thin film 30 is formed by the ALD method. The ALD method is a vacuum film formation technique that utilizes the self-controlling nature of atoms to expose a vapor phase source to at least a portion of the contact area of the bolt 10 or nut 20 to be deposited, and form a thin film one atomic layer at a time. The ALD method can form a film with a higher coverage rate than other general film formation methods such as chemical vapor deposition (CVD). Therefore, the alumina thin film 30 can cover at least a portion of the contact area of the bolt 10 or nut 20 with a substantially uniform film thickness so as to conform to the shape of the bolt 10 or nut 20.

また、ALD法は1原子層ごとに成膜できるため、ALD法により形成されるアルミナ薄膜30にクラックや欠陥が生じたり、アルミナ薄膜30の内部又は表面にパーティクル等の粒子が付着する等の不具合が生じ難いため、アルミナ薄膜30は、他の一般的な成膜方法に形成される場合に比べて膜欠陥を少なくできる。 In addition, because the ALD method can form a film one atomic layer at a time, the alumina thin film 30 formed by the ALD method is less likely to have cracks or defects, or particles such as those adhering to the inside or surface of the alumina thin film 30, so the alumina thin film 30 can have fewer film defects than films formed by other general film formation methods.

さらに、ALD法は表面反応を用いた成膜方法であるため、膜厚を例えば数nm~数十nmに制御して成膜することができる。そのため、アルミナ薄膜30が、例えば膜厚3.5nmの薄膜でも、アルミナ薄膜30は、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部を略均一な膜厚で確実に被覆することができる。 Furthermore, because the ALD method is a film formation method that uses a surface reaction, the film thickness can be controlled to, for example, several nm to several tens of nm. Therefore, even if the alumina thin film 30 is, for example, a 3.5 nm thick film, the alumina thin film 30 can reliably cover at least a portion of the above-mentioned contact area of the bolt 10 or nut 20 with a substantially uniform film thickness.

アルミナ薄膜30は、ALD法により形成されることで、ボルト10又はナット20の上記の接触領域に略均一な膜厚で被覆できるため、外部からの水分及び酸素の侵入を抑制でき、構成部品2及び3の劣化を抑制することができる。 The alumina thin film 30 is formed by the ALD method, and can coat the above-mentioned contact area of the bolt 10 or nut 20 with a substantially uniform film thickness, thereby preventing the intrusion of moisture and oxygen from the outside and suppressing deterioration of the components 2 and 3.

アルミナ薄膜30の膜厚は、100nm以下が好ましく、1nm~35nmがより好ましく、3.5nm~30nmがさらに好ましい。アルミナ薄膜30の膜厚が100nm以下であれば、アルミナ薄膜30はその表面の摩擦係数の低減効果を発揮することができる。アルミナ薄膜30の膜厚が1nm~35nmであれば、表面の摩擦係数を小さくすることができると共に、ボルト10及びナット20からの剥離を抑制することができる。 The thickness of the alumina thin film 30 is preferably 100 nm or less, more preferably 1 nm to 35 nm, and even more preferably 3.5 nm to 30 nm. If the thickness of the alumina thin film 30 is 100 nm or less, the alumina thin film 30 can reduce the coefficient of friction of its surface. If the thickness of the alumina thin film 30 is 1 nm to 35 nm, the coefficient of friction of the surface can be reduced and peeling from the bolt 10 and nut 20 can be suppressed.

なお、本明細書において、アルミナ薄膜30の膜厚とは、アルミナ薄膜30の主面に垂直な方向の長さをいう。アルミナ薄膜30の膜厚は、例えば、アルミナ薄膜30の断面において、任意の場所を測定した時の厚さである。アルミナ薄膜30の断面において、任意の場所で数カ所測定した場合は、これらの測定箇所の厚さの平均値としてもよい。 In this specification, the film thickness of the alumina thin film 30 refers to the length in the direction perpendicular to the main surface of the alumina thin film 30. The film thickness of the alumina thin film 30 is, for example, the thickness measured at any location on the cross section of the alumina thin film 30. When measurements are taken at several locations on the cross section of the alumina thin film 30, the average value of the thicknesses at these measurement locations may be used.

図4は、アルミナ薄膜の膜厚を変化させて締結構造のすべり試験を実施した時の滑り距離と摩擦係数との関係を示す図である。なお、アルミナ薄膜を形成する基材には、SUS304を用い、摩擦係数は、往復摺動試験機を用いて、アルミナ薄膜を形成する基材上に球体(ボール)を一方向に往復させながら測定した。球体の荷重は8.6Nであり、面圧は934MPaであり、球体の移動速度は33mm/秒であり、球体を一方向に往復させた時の最大の滑り距離は500mmであり、球体の滑り距離の測定時間は15秒であり、アルミナ薄膜を形成する基材上の状態は乾燥状態とした。図4中の滑り距離は、往復摺動試験機を用いて、プレート上に球体を往復させた時の長さの和を示す。図4中、例1は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が3.5nmであり、例2は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が35nmであり、例3は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が180nmであり、例4は、基材にアルミナ薄膜を形成しなかった。 Figure 4 shows the relationship between the sliding distance and the coefficient of friction when a sliding test of a fastening structure was carried out with the thickness of the alumina thin film changed. The substrate on which the alumina thin film was formed was SUS304, and the coefficient of friction was measured by moving a sphere (ball) back and forth in one direction on the substrate on which the alumina thin film was formed using a reciprocating sliding tester. The load of the sphere was 8.6 N, the surface pressure was 934 MPa, the moving speed of the sphere was 33 mm/sec, the maximum sliding distance when the sphere was moved back and forth in one direction was 500 mm, the measurement time for the sliding distance of the sphere was 15 seconds, and the state on the substrate on which the alumina thin film was formed was dry. The sliding distance in Figure 4 indicates the sum of the lengths when the sphere was moved back and forth on the plate using the reciprocating sliding tester. In FIG. 4, in Example 1, the alumina thin film formed on the substrate had a thickness of 3.5 nm, in Example 2, the alumina thin film formed on the substrate had a thickness of 35 nm, in Example 3, the alumina thin film formed on the substrate had a thickness of 180 nm, and in Example 4, no alumina thin film was formed on the substrate.

図4に示すように、アルミナ薄膜の膜厚が3.5nm~35nmでは、摩擦係数は、安定して約0.15以下に低く抑えられることが確認された。 As shown in Figure 4, it was confirmed that when the thickness of the alumina thin film was between 3.5 nm and 35 nm, the friction coefficient was stably kept low at approximately 0.15 or less.

アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきは、±30%以下であることが好ましく、±25%以下がより好ましく、±20%以下がさらに好ましい。アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきが上記の好ましい範囲内であれば、アルミナ薄膜30の表面の均一性が高められ、アルミナ薄膜30はその表面の摩擦係数の低減効果をより発揮することができる。 The variation in thickness of the alumina thin film 30 is preferably ±30% or less, more preferably ±25% or less, and even more preferably ±20% or less. If the variation in thickness of the alumina thin film 30 is within the above preferred range, the uniformity of the surface of the alumina thin film 30 is improved, and the alumina thin film 30 can better exert the effect of reducing the friction coefficient of its surface.

なお、本明細書において、アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきとは、アルミナ薄膜30の断面において、任意の場所で数カ所測定し、これらの測定箇所の厚さの最大値と最小値との差を上記測定箇所のアルミナ薄膜30の厚さの平均値で除した値に100を乗じた値(アルミナ薄膜30の膜厚のばらつき(%)=(アルミナ薄膜30の厚さの最大値-アルミナ薄膜30の厚さの最小値)/アルミナ薄膜30の厚さの平均値×100)としてもよい。また、アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきは、アルミナ薄膜30の上記測定箇所の厚さの平均値からの偏差を、アルミナ薄膜30の厚さの平均値で除した値に100を乗じた値(アルミナ薄膜30の膜厚のばらつき(%)=(アルミナ薄膜30の厚さの平均値からの偏差)/アルミナ薄膜30の厚さの平均値×100)としてもよい。 In this specification, the variation in the thickness of the alumina thin film 30 may be calculated by dividing the difference between the maximum and minimum thicknesses at the measurement points by the average thickness of the alumina thin film 30 at the measurement points, and multiplying the result by 100 (the variation in the thickness of the alumina thin film 30 (%) = (the maximum thickness of the alumina thin film 30 - the minimum thickness of the alumina thin film 30) / the average thickness of the alumina thin film 30 x 100). The variation in the thickness of the alumina thin film 30 may also be calculated by dividing the deviation from the average thickness of the alumina thin film 30 at the measurement points by the average thickness of the alumina thin film 30, and multiplying the result by 100 (the variation in the thickness of the alumina thin film 30 (%) = (the deviation from the average thickness of the alumina thin film 30) / the average thickness of the alumina thin film 30 x 100).

締結構造1の製造方法について説明する。図2に示すように、まず、ボルト10又はナット20の接触領域に、ALD法を用いて、アルミナ薄膜30を形成する(アルミナ薄膜の形成工程)。 The manufacturing method of the fastening structure 1 will now be described. As shown in FIG. 2, first, an alumina thin film 30 is formed on the contact area of the bolt 10 or the nut 20 using the ALD method (alumina thin film formation process).

接触領域は、上述の通り、フランジ部112の一方の端面112aと、軸部12の雄ネジ121と、ナット20の雌ネジ20aと、フランジ部22の一方の端面22bとの4つの領域である。 As described above, the contact areas are four areas: one end surface 112a of the flange portion 112, the male thread 121 of the shaft portion 12, the female thread 20a of the nut 20, and one end surface 22b of the flange portion 22.

ALD法の成膜条件について説明する。 The film formation conditions for the ALD method are explained.

ALD法を用いて、アルミナ薄膜30を形成する際、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部のみを露出させ、その他の部分は被覆し、反応装置内に設置する。そして、前駆体として、アルミナ薄膜30を形成する材料を反応装置内に供給して、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させる。 When forming the alumina thin film 30 using the ALD method, only at least a portion of the above-mentioned contact area of the bolt 10 or nut 20 is exposed, and the other portions are covered and placed in a reaction apparatus. Then, a material for forming the alumina thin film 30 is supplied as a precursor into the reaction apparatus and adhered to at least a portion of the above-mentioned contact area of the bolt 10 or nut 20.

アルミナ薄膜30を形成する材料には、アルミニウム化合物を用いることが好ましい。アルミニウム化合物は、アルミニウムを含み、気化できるガス成分であればよく、例えば、トリメチルアルミニウム(TMA)、トリエチルアルミニウム(TEA)、トリクロロアルミニウム及びジメチルアルミニウムハイドライド(DMAH)等を用いることができる。 It is preferable to use an aluminum compound as the material for forming the alumina thin film 30. The aluminum compound may be any gas component that contains aluminum and can be vaporized, and examples of the aluminum compound that can be used include trimethylaluminum (TMA), triethylaluminum (TEA), trichloroaluminum, and dimethylaluminum hydride (DMAH).

アルミナ薄膜30を形成する材料を、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させた後、残りのアルミナ薄膜30を形成する材料を反応装置内から排気する。その後、酸化剤を反応装置内に供給して、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させたアルミナ薄膜30を形成する材料と反応させてアルミナを形成する。 After the material forming the alumina thin film 30 is applied to at least a portion of the contact area of the bolt 10 or nut 20, the remaining material forming the alumina thin film 30 is exhausted from within the reactor. An oxidizing agent is then supplied into the reactor to react with the material forming the alumina thin film 30 applied to at least a portion of the contact area of the bolt 10 or nut 20 to form alumina.

酸化剤は、アルミニウム化合物を酸化できる材料であればよく、例えば、水蒸気、オゾン及びプラズマで励起された酸素ラジカル等を用いることができる。 The oxidizing agent may be any material capable of oxidizing aluminum compounds, such as water vapor, ozone, and oxygen radicals excited by plasma.

反応装置内の反応時間は、特に限定されず、適宜設計可能である。 The reaction time in the reactor is not particularly limited and can be designed as appropriate.

反応装置内の反応温度は、適宜設計可能であり、400℃以下であることが好ましい。 The reaction temperature in the reactor can be designed as appropriate, and is preferably 400°C or less.

ALD法の成膜条件によりアルミナ薄膜30を成膜することで、アルミナ薄膜30が軸部12の雄ネジ121及びナット20の雌ネジ20a等のようなネジ山等の凹凸部分に成膜されても、アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきは±30%以下に抑えることができる。 By forming the alumina thin film 30 under the deposition conditions of the ALD method, the variation in the thickness of the alumina thin film 30 can be suppressed to ±30% or less, even if the alumina thin film 30 is formed on uneven parts such as threads of the male thread 121 of the shaft portion 12 and the female thread 20a of the nut 20.

次に、ボルト10の軸部12を構成部品2及び3のボルト孔2A及び3Aに挿入して、軸部12の先端部12aからその途中にかけて形成した雄ネジ121をナット20の雌ネジ20aに螺合させることで、ボルト10とナット20とを締結する(締結工程)。 Next, the shaft 12 of the bolt 10 is inserted into the bolt holes 2A and 3A of the components 2 and 3, and the male thread 121 formed from the tip 12a of the shaft 12 to its middle is screwed into the female thread 20a of the nut 20, thereby fastening the bolt 10 and the nut 20 (fastening process).

これにより、構成部品2及び3をボルト10とナット20とで締結した締結構造1が得られる。 This results in a fastening structure 1 in which components 2 and 3 are fastened with bolts 10 and nuts 20.

このように、締結構造1は、上記の接触領域の少なくとも一部のボルト10又はナット20をALD法により形成されたアルミナ薄膜30で被覆している。アルミナ薄膜30は、ALD法により形成されるため、アルミナ薄膜30の表面は滑らかであり、凹凸のバラツキが小さくできるため、摩擦係数を小さく抑えることができる。また、締結構造1が、高温(例えば、100℃~150℃)の環境下に置かれても、アルミナ薄膜30の特性の変化を抑えることができるので、所望の摩擦係数を安定して維持することができる。よって、締結構造1は、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。摩擦係数は、例えば、0.2以下、より好ましくは0.15以下にできる。 In this way, the fastening structure 1 covers at least a part of the contact area of the bolt 10 or nut 20 with the alumina thin film 30 formed by the ALD method. Since the alumina thin film 30 is formed by the ALD method, the surface of the alumina thin film 30 is smooth and the unevenness can be reduced, so that the coefficient of friction can be kept small. In addition, even if the fastening structure 1 is placed in a high temperature environment (e.g., 100°C to 150°C), the change in the characteristics of the alumina thin film 30 can be suppressed, so that the desired coefficient of friction can be stably maintained. Therefore, the fastening structure 1 can suppress the change in the coefficient of friction of at least a part of the contact area of the bolt 10 or nut 20, and can stably maintain a small coefficient of friction. The coefficient of friction can be, for example, 0.2 or less, more preferably 0.15 or less.

締結構造1は、ボルト10及びナット20が締め付け易くなるので、より小さい力(トルク)で締め付ける際に要求される軸力を得ることができる。実際の締結作業では、一般に軸力の管理は、トルクの大きさで管理される。一定の軸力をより小さいトルクで得るためには、摩擦係数が安定してより小さく抑えられる必要がある。締結構造1は、構成部品2及び3同士を締結する際、ボルト10とナット20とを安定してより小さいトルクで螺合させることができるので、小さいトルクでも構成部品2及び3の締結を確実に行なうことができる。 The fastening structure 1 makes it easier to tighten the bolt 10 and nut 20, so that the axial force required for tightening can be obtained with a smaller force (torque). In actual fastening work, the axial force is generally controlled by the magnitude of the torque. In order to obtain a constant axial force with a smaller torque, the coefficient of friction needs to be kept stable and small. The fastening structure 1 allows the bolt 10 and nut 20 to be stably screwed together with a smaller torque when fastening the components 2 and 3 together, so that the components 2 and 3 can be reliably fastened together even with a small torque.

なお、摩擦係数とは、ボルト10及びナット20が締付けにより摺動した時の総合摩擦係数μをいう。摩擦係数は、ボルト10及びナット20の上記の接触領域で生じる様々な摩擦係数を総合した値である。なお、様々な摩擦係数を総合した値は、様々な摩擦係数を代表する値でもよいし、様々な摩擦係数を統合した値でもよい。なお、上記の、総合した値、代表した値及び統合した値は、いずれも、接触領域で生じる様々な摩擦係数を合わせた値ではなく、接触領域で生じる様々な摩擦係数を平均した値でもよい。 The friction coefficient refers to the overall friction coefficient μ when the bolt 10 and the nut 20 slide due to tightening. The friction coefficient is a value obtained by combining the various friction coefficients that occur in the above-mentioned contact area of the bolt 10 and the nut 20. The value obtained by combining the various friction coefficients may be a value that represents the various friction coefficients, or may be a value that integrates the various friction coefficients. The above-mentioned combined value, representative value, and integrated value may all be a value that averages the various friction coefficients that occur in the contact area, rather than a value that combines the various friction coefficients that occur in the contact area.

一般に、ボルト及びナットがステンレスを用いて形成される場合、ステンレスは熱伝導率が炭素鋼等よりも小さく、摩擦係数が大きいため、締結時にボルトとナットに特に焼き付けが生じ易い傾向にある。締結構造1は、ボルト10及びナット20がステンレスを用いて形成される場合でも、これらの接触領域の摩擦係数を安定して小さくすることができるので、締結時にボルト10及びナット20の接触領域での発熱を抑えることができる。これにより、ボルト10及びナット20を焼付き難くすることができる。 In general, when bolts and nuts are made of stainless steel, stainless steel has a lower thermal conductivity and a larger coefficient of friction than carbon steel and the like, making the bolt and nut particularly susceptible to seizure when fastened. Even when the bolt 10 and nut 20 are made of stainless steel, the fastening structure 1 can stably reduce the coefficient of friction in the contact area between them, thereby suppressing heat generation in the contact area between the bolt 10 and nut 20 when fastened. This makes it possible to make the bolt 10 and nut 20 less susceptible to seizure.

ボルト10及びナット20の表面には、防錆処理として三価クロメート処理を施して、三価クロムのクロメート(クロム酸塩)を含む防錆皮膜を形成することがある。ボルト10及びナット20がその表面に防錆皮膜を有していても、締結構造1は、ボルト10及びナット20の接触領域にアルミナ薄膜30を有することで、接触領域の摩擦係数は安定して小さい状態を維持することができるので、ボルト10及びナット20の締結時により小さいトルクで要求される軸力を得ることができる。 The surfaces of the bolt 10 and nut 20 may be subjected to trivalent chromate treatment as an anti-rust treatment to form an anti-rust coating containing trivalent chromium chromate (chromate salt). Even if the bolt 10 and nut 20 have an anti-rust coating on their surfaces, the fastening structure 1 has an alumina thin film 30 in the contact area of the bolt 10 and nut 20, so that the coefficient of friction in the contact area can be kept stable and small, and the required axial force can be obtained with a smaller torque when fastening the bolt 10 and nut 20.

締結構造1は、アルミナ薄膜30の膜厚を100nm以下にできる。アルミナ薄膜30の膜厚が100nm以下であれば、アルミナ薄膜30の摩擦係数を十分小さく抑えることができる。よって、締結構造1は、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を十分に抑えることができるため、小さい摩擦係数をより安定して有することができる。 In the fastening structure 1, the thickness of the alumina thin film 30 can be set to 100 nm or less. If the thickness of the alumina thin film 30 is 100 nm or less, the friction coefficient of the alumina thin film 30 can be kept sufficiently small. Therefore, the fastening structure 1 can sufficiently suppress the change in the friction coefficient of at least a part of the above-mentioned contact area of the bolt 10 or the nut 20, and can more stably maintain a small friction coefficient.

締結構造1は、アルミナ薄膜30の膜厚のばらつきを±30%以下にすることができる。これにより、アルミナ薄膜30の表面はより滑らかとし、凹凸のバラツキをより小さくできるため、アルミナ薄膜30の摩擦係数はさらに小さく抑えることができる。このため、締結構造1は、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化をさらに抑えることができるため、小さい摩擦係数を更に安定して有することができる。 The fastening structure 1 can reduce the variation in the thickness of the alumina thin film 30 to ±30% or less. This makes the surface of the alumina thin film 30 smoother and reduces the variation in unevenness, thereby further reducing the friction coefficient of the alumina thin film 30. Therefore, the fastening structure 1 can further reduce the change in the friction coefficient of at least a portion of the above-mentioned contact area of the bolt 10 or nut 20, and can therefore maintain a small and stable friction coefficient.

締結構造1は、上述の通り、高温の条件下に曝されても、ボルト10又はナット20の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。そのため、締結構造1は、車両、航空機、人工衛星等の宇宙関連構造物のように、高温条件下で用いる、車体部品、航空部品、宇宙用部品等の固定に好適に用いることができる。 As described above, the fastening structure 1 can suppress changes in the friction coefficient of at least a portion of the contact area of the bolt 10 or nut 20 even when exposed to high temperature conditions, and can maintain a stable low friction coefficient. Therefore, the fastening structure 1 can be suitably used for fixing vehicle body parts, aviation parts, space parts, etc. that are used under high temperature conditions, such as space-related structures such as vehicles, aircraft, and artificial satellites.

なお、本実施形態においては、ボルト10が構成部品2及び3のボルト孔2A及び3Aを貫通してナット20と螺合させる場合について説明したが、構成部品2及び3のボルト孔2A及び3Aに雌ねじを形成し、ボルト10をボルト孔2A及び3Aに螺合させてもよい。 In this embodiment, the bolt 10 is described as passing through the bolt holes 2A and 3A of the components 2 and 3 and screwed into the nut 20, but it is also possible to form a female thread in the bolt holes 2A and 3A of the components 2 and 3 and screw the bolt 10 into the bolt holes 2A and 3A.

本実施形態においては、一方の締結部材は、ボルト10に代えて、ねじ込みボルト、埋め込みボルト、タップねじ等を用いてもよい。この場合、構成部品2及び3のボルト孔2A及び3Aを雌ねじとしてよい。これにより、本実施形態に係る締結構造1は、ねじ込みボルト、埋め込みボルト、タップねじ等をボルト孔2A及び3Aと螺合させることで構成できる。 In this embodiment, one of the fastening members may be a threaded bolt, an embedded bolt, a tapped screw, or the like, instead of the bolt 10. In this case, the bolt holes 2A and 3A of the components 2 and 3 may be female threaded. As a result, the fastening structure 1 according to this embodiment can be constructed by screwing a threaded bolt, an embedded bolt, a tapped screw, or the like into the bolt holes 2A and 3A.

本実施形態においては、締結構造1は、2つの構成部品2及び3を締結しているが、構成部品は1つでもよいし、3つ以上でもよい。 In this embodiment, the fastening structure 1 fastens two components 2 and 3, but the number of components may be one or three or more.

以上の通り、実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の組み合わせ、省略、置き換え、変更などを行うことが可能である。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although the embodiments have been described above, they are presented as examples, and the present invention is not limited to the above embodiments. The above embodiments can be implemented in various other forms, and various combinations, omissions, substitutions, modifications, etc. can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their variations are included in the scope and gist of the invention, and are included in the scope of the invention and its equivalents described in the claims.

1 締結構造
2、3 構成部品
10 ボルト
11 頭部
111 基体
112、22 フランジ部
112a、22b 端面
12 軸部
121 雄ネジ(外ネジ)
20 ナット
20a、21a、22a 雌ネジ(内ネジ)
21 ナット基体
30 アルミナ薄膜
REFERENCE SIGNS LIST 1 Fastening structure 2, 3 Component 10 Bolt 11 Head 111 Base 112, 22 Flange 112a, 22b End surface 12 Shaft 121 Male thread (external thread)
20 Nut 20a, 21a, 22a Female thread (inner thread)
21 Nut base 30 Alumina thin film

Claims (1)

ボルトと、ナット又は構成部品とを螺合させることにより、複数の前記構成部品同士を締結する締結構造であって、
前記ボルトと前記ナット若しくは前記構成部品との接触領域と、前記ナットと前記構成部品との接触領域との少なくとも一部の前記ボルト又は前記ナットが、原子層堆積法により形成されたアルミナ薄膜で被覆され、
前記アルミナ薄膜の膜厚が、1.0nm~3.5nmであり、
前記アルミナ薄膜の膜厚のばらつきが、±25%以下であり、
前記アルミナ薄膜の摩擦係数が、0.15以下である締結構造。
A fastening structure for fastening a plurality of components together by screwing a bolt and a nut or a component,
At least a part of the bolt or the nut in the contact area between the bolt and the nut or the component and at least a part of the contact area between the nut and the component are coated with an alumina thin film formed by atomic layer deposition;
The alumina thin film has a thickness of 1.0 nm to 3.5 nm;
The variation in thickness of the alumina thin film is ±25% or less;
A fastening structure, wherein the alumina thin film has a friction coefficient of 0.15 or less.
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