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JP7707912B2 - Polyolefin-based adhesive composition - Google Patents
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JP7707912B2 - Polyolefin-based adhesive composition - Google Patents

Polyolefin-based adhesive composition

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JP7707912B2 JP2021519670A JP2021519670A JP7707912B2 JP 7707912 B2 JP7707912 B2 JP 7707912B2 JP 2021519670 A JP2021519670 A JP 2021519670A JP 2021519670 A JP2021519670 A JP 2021519670A JP 7707912 B2 JP7707912 B2 JP 7707912B2
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Description

本発明は、ポリオレフィン系接着剤組成物に関する。より詳しくは、樹脂基材と樹脂基材または金属基材との接着に用いられるポリオレフィン系接着剤組成物に関する。特にフレキシブルプリント配線板(以下、FPCと略す)用接着剤組成物、並びにそれを含む、カバーフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに関する。The present invention relates to a polyolefin-based adhesive composition. More specifically, the present invention relates to a polyolefin-based adhesive composition used for bonding a resin substrate to a resin substrate or a metal substrate. In particular, the present invention relates to an adhesive composition for flexible printed wiring boards (hereinafter abbreviated as FPC), and a cover film, a laminate, a resin-coated copper foil, and a bonding sheet each containing the same.

フレキシブルプリント配線板(FPC)は、優れた屈曲性を有することから、パソコン(PC)やスマートフォンなどの多機能化、小型化に対応することができ、そのため狭く複雑な内部に電子回路基板を組み込むために多く使用されている。近年、電子機器の小型化、軽量化、高密度化、高出力化が進み、これらの流行から配線板(電子回路基板)の性能に対する要求がますます高度なものとなっている。特にFPCにおける伝送信号の高速化に伴い、信号の高周波化が進んでいる。これに伴い、FPCには、高周波領域での低誘電特性(低比誘電率、低誘電正接)の要求が高まっている。このような、低誘電特性を達成するため、FPCの基材や接着剤の誘電体損失を低減する方策がなされている。接着剤としてはダイマージアミンを使用したポリイミドとエポキシ樹脂の組み合わせなどが開発されている(特許文献1)。Flexible printed circuit boards (FPCs) have excellent flexibility and can accommodate the multi-functionality and miniaturization of personal computers (PCs) and smartphones, and are therefore widely used to incorporate electronic circuit boards into narrow and complex interiors. In recent years, electronic devices have become smaller, lighter, more dense, and more powerful, and these trends have led to increasingly higher requirements for the performance of wiring boards (electronic circuit boards). In particular, with the increase in the speed of transmission signals in FPCs, signals are becoming increasingly high frequency. Accordingly, there is an increasing demand for low dielectric properties (low relative dielectric constant, low dielectric loss tangent) in the high frequency range for FPCs. In order to achieve such low dielectric properties, measures have been taken to reduce the dielectric loss of FPC substrates and adhesives. As an adhesive, a combination of polyimide and epoxy resin using dimer diamine has been developed (Patent Document 1).

特開2018-44136号公報JP 2018-44136 A

しかしながら、スマートフォンなどの端末は、多湿な環境下で使用されるものであり、特許文献1のようなポリイミドを用いた接着剤では、ポリイミドが経時的に吸湿するため、吸湿した状態での誘電正接が悪化することがわかった。そのため、特許文献1のように、樹脂の吸湿性が高いと、その樹脂を含む接着剤の接着性、ハンダ耐熱性、誘電特性(比誘電率、誘電正接)および吸湿(以下、飽和吸水ともいう)後の誘電正接が不十分であることが分かった。However, terminals such as smartphones are used in humid environments, and it has been found that in an adhesive using polyimide as in Patent Document 1, polyimide absorbs moisture over time, and the dielectric tangent in a hygroscopic state deteriorates. Therefore, as in Patent Document 1, it has been found that if a resin has high hygroscopicity, the adhesive properties, solder heat resistance, dielectric properties (relative dielectric constant, dielectric tangent), and dielectric tangent after moisture absorption (hereinafter also referred to as saturated water absorption) of an adhesive containing that resin are insufficient.

本発明は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、酸変性ポリオレフィン(a)およびエポキシ樹脂(b)を含有する接着剤組成物が、樹脂基材と金属基材との、優れた接着性、ハンダ耐熱性、および低誘電特性(比誘電率、誘電正接)を示し、さらに吸湿(飽和吸水)後の誘電正接に優れることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。Means for Solving the Problems As a result of extensive research into solving the above problems, the present inventors have found that an adhesive composition containing an acid-modified polyolefin (a) and an epoxy resin (b) exhibits excellent adhesion between a resin substrate and a metal substrate, solder heat resistance, and low dielectric properties (dielectric constant, dielectric tangent), and further exhibits excellent dielectric tangent after moisture absorption (saturation water absorption), which has led to the completion of the present invention.

すなわち、本発明は、ポリイミド(PI)のみならず液晶ポリマー(LCP)などの様々な樹脂基材と金属基材双方への良好な接着性を有し、且つハンダ耐熱性、誘電特性、および吸湿(飽和吸水)後の誘電正接にも優れた接着剤組成物を提供することを目的とする。That is, an object of the present invention is to provide an adhesive composition that has good adhesion to both various resin substrates, such as not only polyimide (PI) but also liquid crystal polymer (LCP), and metal substrates, and that is also excellent in solder heat resistance, dielectric properties, and dielectric tangent after moisture absorption (saturated water absorption).

酸変性ポリオレフィン(a)およびエポキシ樹脂(b)を含有する接着剤組成物であって、下記(1)~(2)を満足する接着剤組成物。
(1)接着剤組成物の硬化物の硬化直後の1GHzでの比誘電率(εc1)が3.0以下、誘電正接(tanδ1)が0.02以下である
(2)接着剤組成物の硬化物の硬化直後の1GHzでの誘電正接(tanδ1)と、25℃の水に24時間浸漬した後の1GHzでの誘電正接(tanδ2)の変化量が0.01以下である
An adhesive composition comprising an acid-modified polyolefin (a) and an epoxy resin (b), the adhesive composition satisfying the following (1) and (2):
(1) The cured product of the adhesive composition has a relative dielectric constant (ε c 1) of 3.0 or less and a dielectric loss tangent (tan δ1) of 0.02 or less at 1 GHz immediately after curing. (2) The change in the dielectric loss tangent (tan δ1) at 1 GHz immediately after curing of the cured product of the adhesive composition and the dielectric loss tangent (tan δ2) at 1 GHz after immersion in water at 25° C. for 24 hours is 0.01 or less.

酸変性ポリオレフィン(a)の酸価は5~40mgKOH/gであることが好ましい。酸変性ポリオレフィン(a)100質量部に対し、エポキシ樹脂(b)を1~40質量部含有することが好ましく、さらにオリゴフェニレンエーテル(c)および/またはカルボジイミド化合物(d)を含有することが好ましい。The acid-modified polyolefin (a) preferably has an acid value of 5 to 40 mgKOH/g. The acid-modified polyolefin (a) preferably contains 1 to 40 parts by mass of an epoxy resin (b) relative to 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin (a), and further preferably contains an oligophenylene ether (c) and/or a carbodiimide compound (d).

前記の接着剤組成物を含有する層を有する接着シートまたは積層体。前記積層体を構成要素として含むプリント配線板。 An adhesive sheet or laminate having a layer containing the adhesive composition. A printed wiring board comprising the laminate as a component.

本発明にかかる接着剤組成物は、ポリイミドのみならず液晶ポリマーなどの様々な樹脂基材と金属基材双方への良好な接着性を有し、且つハンダ耐熱性、低誘電特性および吸湿(飽和吸水)後の誘電正接の変化が少なく、安定である。The adhesive composition of the present invention has good adhesion to both various resin substrates, such as not only polyimide but also liquid crystal polymers, and metal substrates, and is stable with solder heat resistance, low dielectric properties, and little change in dielectric tangent after moisture absorption (saturation water absorption).

<酸変性ポリオレフィン(a)>
本発明で用いる酸変性ポリオレフィン(a)(以下、単に(a)成分ともいう。)は限定的ではないが、ポリオレフィン樹脂にα,β-不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものであることが好ましい。ポリオレフィン樹脂とは、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン等に例示されるオレフィンモノマーの単独重合、もしくはその他のモノマーとの共重合、および得られた重合体の水素化物やハロゲン化物など、炭化水素骨格を主体とする重合体を指す。すわなち、酸変性ポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレン及びプロピレン-α-オレフィン共重合体の少なくとも1種に、α,β-不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種をグラフトすることにより得られるものが好ましい。
<Acid-modified polyolefin (a)>
The acid-modified polyolefin (a) (hereinafter also simply referred to as component (a)) used in the present invention is not limited, but is preferably one obtained by grafting at least one of α,β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride to a polyolefin resin. The polyolefin resin refers to a polymer mainly composed of a hydrocarbon skeleton, such as a homopolymer of an olefin monomer exemplified by ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene, etc., or a copolymer with other monomers, and a hydrogenated or halogenated product of the obtained polymer. In other words, the acid-modified polyolefin is preferably one obtained by grafting at least one of α,β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride to at least one of polyethylene, polypropylene, and propylene-α-olefin copolymer.

プロピレン-α-オレフィン共重合体は、プロピレンを主体としてこれにα-オレフィンを共重合したものである。α-オレフィンとしては、例えば、エチレン、1-ブテン、1-ヘプテン、1-オクテン、4-メチル-1-ペンテン、酢酸ビニルなどを1種又は数種用いるこができる。これらのα-オレフィンの中では、エチレン、1-ブテンが好ましい。プロピレン-α-オレフィン共重合体のプロピレン成分とα-オレフィン成分との比率は限定されないが、プロピレン成分が50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましい。A propylene-α-olefin copolymer is a copolymer of propylene as a main component with an α-olefin. As the α-olefin, for example, one or more of ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate, etc. can be used. Among these α-olefins, ethylene and 1-butene are preferred. The ratio of the propylene component to the α-olefin component in the propylene-α-olefin copolymer is not limited, but the propylene component is preferably 50 mol % or more, and more preferably 70 mol % or more.

α,β-不飽和カルボン酸及びその酸無水物の少なくとも1種としては、例えば、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びこれらの酸無水物が挙げられる。これらの中でも酸無水物が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。具体的には、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性プロピレン-エチレン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体、無水マレイン酸変性プロピレン-エチレン-ブテン共重合体等が挙げられ、これら酸変性ポリオレフィンを1種類又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。Examples of at least one of α,β-unsaturated carboxylic acids and their acid anhydrides include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, and their acid anhydrides. Among these, acid anhydrides are preferred, and maleic anhydride is more preferred. Specific examples include maleic anhydride-modified polypropylene, maleic anhydride-modified propylene-ethylene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-ethylene-butene copolymer, and the like. These acid-modified polyolefins can be used alone or in combination of two or more.

酸変性ポリオレフィン(a)の酸価は、耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は5mgKOH/g以上であることが好ましく、より好ましくは6mgKOH/g以上であり、さらに好ましくは7mgKOH/g以上である。前記下限値以上とすることでエポキシ樹脂(b)との相溶性が良好となり、優れた接着強度を発現することができる。また、架橋密度が高く耐熱性が良好となる。さらに、吸湿(飽和吸水)した後の誘電正接がほとんど上昇しなくなる。上限は40mgKOH/g以下であることが好ましく、より好ましくは35mgKOH/g以下であり、さらに好ましくは30mgKOH/g以下である。前記上限値以下とすることで接着性および飽和吸水後の誘電正接が良好となる。From the viewpoint of heat resistance and adhesion to resin substrates and metal substrates, the acid value of the acid-modified polyolefin (a) is preferably 5 mgKOH/g or more, more preferably 6 mgKOH/g or more, and even more preferably 7 mgKOH/g or more. By making it equal to or greater than the lower limit, compatibility with the epoxy resin (b) is improved, and excellent adhesive strength can be exhibited. In addition, the crosslinking density is high and heat resistance is good. Furthermore, the dielectric tangent after moisture absorption (saturation water absorption) hardly increases. The upper limit is preferably 40 mgKOH/g or less, more preferably 35 mgKOH/g or less, and even more preferably 30 mgKOH/g or less. By making it equal to or less than the upper limit, adhesion and dielectric tangent after saturated water absorption are improved.

酸変性ポリオレフィン(a)の数平均分子量(Mn)は、10,000~50,000の範囲であることが好ましい。より好ましくは15,000~45,000の範囲であり、さらに好ましくは20,000~40000の範囲であり、特に好ましくは22,000~38,000の範囲である。前記下限値以上とすることで凝集力が良好となり、優れた接着性を発現することができる。また、前記上限値以下とすることで流動性に優れ、操作性が良好となる。The number average molecular weight (Mn) of the acid-modified polyolefin (a) is preferably in the range of 10,000 to 50,000. More preferably, it is in the range of 15,000 to 45,000, even more preferably in the range of 20,000 to 40,000, and particularly preferably in the range of 22,000 to 38,000. By making it equal to or greater than the lower limit, the cohesive force is good and excellent adhesiveness can be exhibited. In addition, by making it equal to or less than the upper limit, excellent flowability and operability can be obtained.

酸変性ポリオレフィン(a)は、結晶性の酸変性ポリオレフィンであることが好ましい。本発明でいう結晶性とは、示差走査型熱量計(DSC)を用いて、-100℃~250℃ まで20℃/分で昇温し、該昇温過程に明確な融解ピークを示すものを指す。The acid-modified polyolefin (a) is preferably a crystalline acid-modified polyolefin. The term "crystalline" as used herein refers to a polyolefin that shows a clear melting peak during heating from -100°C to 250°C at a rate of 20°C/min using a differential scanning calorimeter (DSC).

酸変性ポリオレフィン(a)の融点(Tm)は、50℃~120℃の範囲であることが好ましい。より好ましくは60℃~100℃の範囲であり、最も好ましくは70℃~90℃の範囲である。前記下限値以上とすることで結晶由来の凝集力が良好となり、優れた接着性や耐熱性を発現することができる。また、前記上限値以下とすることで溶液安定性、流動性に優れ、接着時の操作性が良好となる。The melting point (Tm) of the acid-modified polyolefin (a) is preferably in the range of 50°C to 120°C. More preferably, it is in the range of 60°C to 100°C, and most preferably, it is in the range of 70°C to 90°C. By making it equal to or higher than the lower limit, the cohesive force derived from crystals becomes good, and excellent adhesiveness and heat resistance can be exhibited. In addition, by making it equal to or lower than the upper limit, excellent solution stability and flowability are obtained, and operability during adhesion is good.

酸変性ポリオレフィン(a)の融解熱量(ΔH)は、5J/g~60J/gの範囲であることが好ましい。より好ましくは10J/g~50J/gの範囲であり、最も好ましくは20J/g~40J/gの範囲である。前記下限値以上とすることで結晶由来の凝集力が良好となり、優れた接着性や耐熱性を発現することができる。また、前記上限値以下とすることで溶液安定性、流動性に優れ、接着時の操作性が良好となる。The heat of fusion (ΔH) of the acid-modified polyolefin (a) is preferably in the range of 5 J/g to 60 J/g. More preferably, it is in the range of 10 J/g to 50 J/g, and most preferably, it is in the range of 20 J/g to 40 J/g. By making it equal to or greater than the lower limit, the cohesive force derived from crystals becomes good, and excellent adhesiveness and heat resistance can be exhibited. In addition, by making it equal to or less than the upper limit, excellent solution stability and flowability are obtained, and operability during adhesion is good.

酸変性ポリオレフィン(a)の製造方法としては、特に限定されず、例えばラジカルグラフト反応(すなわち主鎖となるポリマーに対してラジカル種を生成し、そのラジカル種を重合開始点として不飽和カルボン酸および酸無水物をグラフト重合させる反応)、などが挙げられる。The method for producing the acid-modified polyolefin (a) is not particularly limited, and examples thereof include a radical graft reaction (i.e., a reaction in which radical species are generated on a polymer that is to become a main chain, and an unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride are graft polymerized using the radical species as a polymerization initiation point).

ラジカル発生剤としては、特に限定されないが、有機過酸化物を使用することが好ましい。有機過酸化物としては、特に限定されないが、ジ-tert-ブチルパーオキシフタレート、tert-ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソプロピオニトリル等のアゾニトリル類等が挙げられる。The radical generator is not particularly limited, but it is preferable to use an organic peroxide. Examples of the organic peroxide include, but are not particularly limited to, peroxides such as di-tert-butyl peroxyphthalate, tert-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, tert-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, tert-butyl peroxypivalate, methyl ethyl ketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, and lauroyl peroxide; and azonitriles such as azobisisobutyronitrile and azobisisopropionitrile.

<エポキシ樹脂(b)>
本発明で用いるエポキシ樹脂(b)(以下、単に(b)成分ともいう。)としては、分子中にエポキシ基を有するものであれば、特に限定されないが、好ましくは分子中に2個以上のグリシジル基を有するものである。具体的には、特に限定されないが、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、およびエポキシ変性ポリブタジエンからなる群から選択される少なくとも1つを用いることができる。好ましくは、ビフェニル型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂またはエポキシ変性ポリブタジエンである。より好ましくは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂である。
<Epoxy resin (b)>
The epoxy resin (b) (hereinafter, also simply referred to as component (b)) used in the present invention is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule, but preferably has two or more glycidyl groups in the molecule. Specifically, although not particularly limited, at least one selected from the group consisting of biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexanone, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, and epoxy-modified polybutadiene can be used. Preferably, it is a biphenyl type epoxy resin, a novolac type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, or an epoxy-modified polybutadiene. More preferably, it is a dicyclopentadiene type epoxy resin.

エポキシ樹脂(b)のエポキシ当量は、50g/eq以上であることが好ましく、より好ましくは100g/eq以上であり、さらに好ましくは150g/eq以上である。また、400g/eq以下であることが好ましく、より好ましくは350g/eq以下であり、さらに好ましくは300g/eq以下である。前記範囲内とすることで、優れたハンダ耐熱性を発現することができる。The epoxy equivalent of the epoxy resin (b) is preferably 50 g/eq or more, more preferably 100 g/eq or more, and even more preferably 150 g/eq or more. Also, it is preferably 400 g/eq or less, more preferably 350 g/eq or less, and even more preferably 300 g/eq or less. By keeping it within the above range, excellent solder heat resistance can be exhibited.

本発明の接着剤組成物において、エポキシ樹脂(b)の含有量は、酸変性ポリオレフィン(a)100質量部に対して、0.5質量部以上であることが好ましく、より好ましくは1質量部以上であり、さらに好ましくは5質量部以上であり、特に好ましくは10質量部以上である。前記下限値以上とすることで十分な硬化効果が得られ、優れた接着性およびハンダ耐熱性を発現することができる。また、60質量部以下であることが好ましく、より好ましくは50質量部以下であり、さらに好ましくは40質量部以下であり、特に好ましくは35質量部以下である。前記上限値以下とすることで接着剤組成物の誘電特性が良好となる。すなわち、前記範囲内とすることで、接着性、ハンダ耐熱性、低誘電特性に加え、飽和吸水後の誘電正接に優れる接着剤組成物を得ることができる。In the adhesive composition of the present invention, the content of the epoxy resin (b) is preferably 0.5 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, even more preferably 5 parts by mass or more, and particularly preferably 10 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin (a). By making it equal to or more than the lower limit, a sufficient curing effect can be obtained, and excellent adhesiveness and solder heat resistance can be expressed. In addition, it is preferably 60 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, even more preferably 40 parts by mass or less, and particularly preferably 35 parts by mass or less. By making it equal to or less than the upper limit, the dielectric properties of the adhesive composition become good. That is, by making it within the above range, an adhesive composition having excellent adhesiveness, solder heat resistance, low dielectric properties, and dielectric loss tangent after saturated water absorption can be obtained.

<接着剤組成物>
本発明の接着剤組成物は、酸変性ポリオレフィン(a)およびエポキシ樹脂(b)を少なくとも含有する組成物であり、さらにオリゴフェニレンエーテル(c)および/またはカルボジイミド化合物(d)を含有することが好ましい。本発明の接着剤組成物は、ポリイミドのみならず液晶ポリマーなどの低極性樹脂基材や金属基材との優れた接着性を有し、さらにハンダ耐熱性、電気特性(低誘電特性)および吸湿(飽和吸水)後の誘電正接に優れる。すなわち、接着剤組成物を基材に塗布、硬化後の接着剤塗膜(接着剤層)が優れた電気特性を発現することができる。
<Adhesive Composition>
The adhesive composition of the present invention is a composition containing at least an acid-modified polyolefin (a) and an epoxy resin (b), and preferably further contains an oligophenylene ether (c) and/or a carbodiimide compound (d). The adhesive composition of the present invention has excellent adhesion not only to polyimides but also to low-polarity resin substrates such as liquid crystal polymers and metal substrates, and is also excellent in solder heat resistance, electrical properties (low dielectric properties), and dielectric loss tangent after moisture absorption (saturated water absorption). That is, the adhesive composition is applied to a substrate, and the adhesive coating film (adhesive layer) after curing can exhibit excellent electrical properties.

本願発明に係る接着剤組成物は、硬化直後の周波数1GHzにおける比誘電率(εc1)が3.0以下である。好ましくは2.6以下であり、より好ましくは2.3以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1GHz~60GHzの全領域における比誘電率(εc1)が3.0以下であることが好ましく、2.6以下であることがより好ましく、2.3以下であることがさらに好ましい。 The adhesive composition according to the present invention has a relative dielectric constant (ε c 1) at a frequency of 1 GHz immediately after curing of 3.0 or less, preferably 2.6 or less, and more preferably 2.3 or less. There is no particular lower limit, but in practical use it is 2.0. Furthermore, the relative dielectric constant (ε c 1) over the entire frequency range from 1 GHz to 60 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and even more preferably 2.3 or less.

本願発明に係る接着剤組成物は、硬化直後の周波数1GHzにおける誘電正接(tanδ1)が0.02以下である。好ましくは0.01以下であり、より好ましくは0.008以下である。下限は特に限定されないが、実用上は0.0001である。また、周波数1GHz~60GHzの全領域における誘電正接(tanδ1)が0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましく、0.008以下であることがさらに好ましい。The adhesive composition according to the present invention has a dielectric loss tangent (tan δ1) at a frequency of 1 GHz immediately after curing of 0.02 or less. It is preferably 0.01 or less, and more preferably 0.008 or less. There is no particular lower limit, but in practical use it is 0.0001. Furthermore, the dielectric loss tangent (tan δ1) over the entire frequency range of 1 GHz to 60 GHz is preferably 0.02 or less, more preferably 0.01 or less, and even more preferably 0.008 or less.

本発明において、比誘電率(εc)および誘電正接(tanδ)は、以下のとおり測定することができる。すなわち、接着剤組成物を離型基材に乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、約130℃で約3分間乾燥する。次いで約140℃で約4時間熱処理して硬化させて、硬化後の接着剤組成物層(接着剤層)を離型フィルムから剥離する。剥離後の該接着剤組成物層の周波数1GHzにおける比誘電率(εc1)を測定する。具体的には、空洞共振器摂動法による測定から比誘電率(εc1)および誘電正接(tanδ1)を算出することができる。ここで、硬化直後とは、熱処理硬化後から30分以内のことをいう。 In the present invention, the dielectric constant (ε c ) and the dielectric loss tangent (tan δ) can be measured as follows. That is, the adhesive composition is applied to a release substrate so that the thickness after drying is 25 μm, and dried at about 130° C. for about 3 minutes. Then, the adhesive composition is cured by heat treatment at about 140° C. for about 4 hours, and the cured adhesive composition layer (adhesive layer) is peeled off from the release film. The dielectric constant (ε c 1) at a frequency of 1 GHz of the adhesive composition layer after peeling is measured. Specifically, the dielectric constant (ε c 1) and the dielectric loss tangent (tan δ1) can be calculated from the measurement by the cavity resonator perturbation method. Here, "immediately after curing" means within 30 minutes after heat treatment curing.

本発明に係る接着剤組成物は、接着剤組成物の硬化物を吸湿(飽和吸水)させた後でも誘電正接の上昇がほとんど見られない。具体的には、硬化直後の1GHzでの誘電正接(tanδ1)と、硬化後に25℃の水に24時間浸漬した後の硬化物の1GHzでの誘電正接(tanδ2)の変化量が0.01以下である。好ましくは、0.008以下であり、より好ましくは0.005以下である。下限は工業的には0.0001以上であればよく、0.001以上であっても差し支えない。前記変化量とは、(tanδ1)と(tanδ2)の差であり、変化量=|(tanδ1)-(tanδ2)|で求めることができる。The adhesive composition according to the present invention shows almost no increase in dielectric tangent even after the cured product of the adhesive composition is allowed to absorb moisture (saturated water absorption). Specifically, the change between the dielectric tangent (tan δ1) at 1 GHz immediately after curing and the dielectric tangent (tan δ2) at 1 GHz of the cured product after immersion in water at 25°C for 24 hours after curing is 0.01 or less. It is preferably 0.008 or less, and more preferably 0.005 or less. The lower limit may be industrially 0.0001 or more, and may be 0.001 or more. The change is the difference between (tan δ1) and (tan δ2), and can be calculated by the change=|(tan δ1)-(tan δ2)|.

本発明に係る接着剤組成物は、接着剤組成物の硬化物を吸湿(飽和吸水)させた後でも比誘電率の上昇がほとんど見られないことが好ましい。具体的には、接着剤組成物の硬化物を吸湿(飽和吸水)させた後の周波数1GHzにおける比誘電率(εc2)が3.0以下であることが好ましい。より好ましくは2.6以下であり、さらに好ましくは2.3以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1GHz~60GHzの全領域における比誘電率(εc2)が3.0以下であることが好ましく、2.6以下であることがより好ましく、2.3以下であることがさらに好ましい。 It is preferable that the adhesive composition according to the present invention shows almost no increase in the dielectric constant even after the cured product of the adhesive composition is allowed to absorb moisture (saturated water absorption). Specifically, it is preferable that the dielectric constant (ε c 2) at a frequency of 1 GHz after the cured product of the adhesive composition is allowed to absorb moisture (saturated water absorption) is 3.0 or less. It is more preferable that it is 2.6 or less, and even more preferable that it is 2.3 or less. There is no particular restriction on the lower limit, but in practical use it is 2.0. Moreover, it is preferable that the dielectric constant (ε c 2) in the entire frequency range of 1 GHz to 60 GHz is 3.0 or less, more preferably 2.6 or less, and even more preferably 2.3 or less.

接着剤組成物に含まれる、マレイン酸および無水マレイン酸の合計量は1質量%以下であることが好ましい。接着性、ハンダ耐熱性およびポットライフ性が良好となることから、0.8質量%以下であることがより好ましく、さらに好ましくは0.6質量%以下であり、特に好ましくは0.4質量%以下である。マレイン酸無水物およびマレイン酸の合計は少ないほど好ましいが、工業的には0.01質量%以上であれば良く、0.1質量%以上であっても差し支えない。The total amount of maleic acid and maleic anhydride contained in the adhesive composition is preferably 1 mass% or less. In order to improve adhesion, solder heat resistance, and pot life, it is more preferably 0.8 mass% or less, even more preferably 0.6 mass% or less, and particularly preferably 0.4 mass% or less. The smaller the total amount of maleic anhydride and maleic acid, the better, but from an industrial standpoint, it is sufficient to have it be 0.01 mass% or more, and it is acceptable to have it be 0.1 mass% or more.

<オリゴフェニレンエーテル(c)>
本発明の接着剤組成物にオリゴフェニレンエーテル(c)を含有させることで、さらに優れたハンダ耐熱性を発現することができる。また、オリゴフェニレンエーテル(c)を含有させることで、吸湿後の誘電正接の上昇を抑制できる。本発明で用いるオリゴフェニレンエーテル(c)(以下、単に(c)成分ともいう。)は特に限定されないが、下記一般式(c1)で表される構造単位および/または一般式(c2)の構造単位を有する化合物であることが好ましい。
<Oligophenylene ether (c)>
By including the oligophenylene ether (c) in the adhesive composition of the present invention, it is possible to achieve even better solder heat resistance. Furthermore, by including the oligophenylene ether (c), it is possible to suppress an increase in the dielectric tangent after moisture absorption. The oligophenylene ether (c) (hereinafter also simply referred to as component (c)) used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a compound having a structural unit represented by the following general formula (c1) and/or a structural unit represented by the general formula (c2).

一般式(c1)中、R,R,R,Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよいアルコキシ基であることが好ましい。置換されていてもよいアルキル基の「アルキル基」は、例えば、炭素数が1以上6以下、好ましくは炭素数が1以上3以下の、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、メチル基またはエチル基であることがより好ましい。置換されていてもよいアルケニル基の「アルケニル基」としては、例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、3-ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられ、エテニル基または1-プロペニル基であることがより好ましい。置換されていてもよいアルキニル基の「アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル(プロパルギル)基、3-ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基等が挙げられ、エチニル基、1-プロピニル基または2-プロピニル(プロパルギル)基であることがより好ましい。置換されていてもよいアリール基の「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニル基であることがより好ましい。置換されていてもよいアラルキル基の「アラルキル基」としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、2-メチルベンジル基、4-メチルベンジル基、α-メチルベンジル基、2-ビニルフェネチル基、4-ビニルフェネチル基等が挙げられ、ベンジル基であることがより好ましい。置換されていてもよいアルコキシ基の「アルコキシ基」は、例えば炭素数が1以上6以下、好ましくは炭素数が1以上3以下の、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基である。例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、メトキシ基またはエトキシ基であることがより好ましい。上記のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、及びアルコキシ基が置換されている場合、置換基を1または2以上有していてよい。このような置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、炭素数1~6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基)、アルケニル基(例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)等が挙げられる。なかでもRおよびRがメチル基であり、RおよびRが水素であることが好ましい。 In the general formula (c1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each preferably independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted alkoxy group. The "alkyl group" of the optionally substituted alkyl group is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. More specifically, examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group. Examples of the "alkenyl group" of the optionally substituted alkenyl group include, for example, an ethenyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 3-butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and the like, with an ethenyl group or a 1-propenyl group being more preferred. Examples of the "alkynyl group" of the optionally substituted alkynyl group include, for example, an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl (propargyl) group, a 3-butynyl group, a pentynyl group, a hexynyl group, and the like, with an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a 2-propynyl (propargyl) group being more preferred. Examples of the "aryl group" of the optionally substituted aryl group include, for example, a phenyl group, a naphthyl group, and the like, with a phenyl group being more preferred. Examples of the "aralkyl group" of the aralkyl group which may be substituted include a benzyl group, a phenethyl group, a 2-methylbenzyl group, a 4-methylbenzyl group, an α-methylbenzyl group, a 2-vinylphenethyl group, a 4-vinylphenethyl group, and the like, with a benzyl group being more preferred. The "alkoxy group" of the alkoxy group which may be substituted is, for example, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, and the like, with a methoxy group or an ethoxy group being more preferred. When the above alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, and alkoxy group are substituted, they may have one or more substituents. Examples of such a substituent include halogen atoms (e.g., fluorine, chlorine, and bromine atoms), alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl), aryl groups (e.g., phenyl and naphthyl), alkenyl groups (e.g., ethenyl, 1-propenyl, and 2-propenyl), alkynyl groups (e.g., ethynyl, 1-propynyl, and 2-propynyl), aralkyl groups (e.g., benzyl and phenethyl), and alkoxy groups (e.g., methoxy and ethoxy). Of these, it is preferable that R 1 and R 4 are methyl groups and R 2 and R 3 are hydrogen.

一般式(c2)中、R11,R12,R13,R14,R15,R16,R17,R は、それぞれ独立に、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよいアルコキシ基であることが好ましい。なお、各置換基の定義は、前記のとおりである。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、メチル基であることが好ましい。なかでもR13、R14、R17およびR18がメチル基であり、R 、R12、R15およびR16が水素であることが好ましい。また、-A-は、炭素数20以下の直鎖状、分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基、または酸素であることが好ましい。Aの炭素数は1以上15以下であることがより好ましく、さらに好ましくは2以上10以下である。また、Aの2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基等が挙げられ、なかでもフェニレン基であることが好ましい。特に好ましくは酸素である。 In the general formula (c2), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , and R 18 are each preferably independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or an optionally substituted alkoxy group. The definition of each substituent is as described above. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and a methyl group is preferable. Among them, it is preferable that R 13 , R 14 , R 17 , and R 18 are a methyl group, and R 11 , R 12 , R 15 , and R 16 are hydrogen. In addition, -A- is preferably a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, or oxygen. The number of carbon atoms in A is more preferably 1 to 15, and even more preferably 2 to 10. In addition, examples of the divalent hydrocarbon group in A include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, a cyclohexylene group, and a phenylene group, and among these, a phenylene group is preferable. Oxygen is particularly preferable.

オリゴフェニレンエーテル(c)は、一部又は全部を、ビニルベンジル基等のエチレン性不飽和基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、及びシリル基等で官能基化された変性ポリフェニレンエーテルとしてもよい。さらに両末端が、ヒドロキシ基、エポキシ基、またはエチレン性不飽和基を有することが好ましい。エチレン性不飽和基としては、エテニル基、アリル基、メタアクリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基、ビニルベンジル基、ビニルナフチル基等のアルケニルアリール基が挙げられる。また、両末端は、同一の官能基であってもよいし、異なる官能基であってもよい。低誘電正接及び樹脂残渣の低減のバランスを高度に制御する観点から、両末端が、ヒドロキシ基、またはビニルベンジル基であることが好ましく、両末端のいずれもが、ヒドロキシ基、またはビニルベンジル基であることがより好ましい。The oligophenylene ether (c) may be a modified polyphenylene ether in which a part or all of the oligophenylene ether is functionalized with an ethylenically unsaturated group such as a vinylbenzyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxy group, a mercapto group, a carboxyl group, or a silyl group. Furthermore, it is preferable that both ends have a hydroxy group, an epoxy group, or an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include alkenyl groups such as ethenyl groups, allyl groups, methacrylic groups, propenyl groups, butenyl groups, hexenyl groups, and octenyl groups, cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl groups and cyclohexenyl groups, and alkenylaryl groups such as vinylbenzyl groups and vinylnaphthyl groups. In addition, both ends may be the same functional group or different functional groups. From the viewpoint of highly controlling the balance between low dielectric tangent and reduction of resin residue, it is preferable that both ends are hydroxy groups or vinylbenzyl groups, and it is more preferable that both ends are hydroxy groups or vinylbenzyl groups.

一般式(c1)で表される構造単位を有する化合物としては、一般式(c3)の化合物であることが特に好ましい。
一般式(c3)において、nは3以上であることが好ましく、より好ましくは5以上であり、23以下であることが好ましく、より好ましくは21以下であり、さらに好ましくは19以下である。
As the compound having a structural unit represented by general formula (c1), a compound represented by general formula (c3) is particularly preferable.
In formula (c3), n is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and is preferably 23 or less, more preferably 21 or less, and even more preferably 19 or less.

また、一般式(c2)で表される構造単位を有する化合物としては、一般式(c4)の化合物であることが特に好ましい。
一般式(c4)において、nは2以上であることが好ましく、より好ましくは4以上であり、23以下であることが好ましく、より好ましくは20以下であり、さらに好ましくは18以下である。
Moreover, as the compound having a structural unit represented by general formula (c2), a compound represented by general formula (c4) is particularly preferable.
In formula (c4), n is preferably 2 or more, more preferably 4 or more, and is preferably 23 or less, more preferably 20 or less, and even more preferably 18 or less.

オリゴフェニレンエーテル(c)の数平均分子量は、3000以下であることが好ましく、2700以下であることがより好ましく、2500以下であることがさらに好ましい。またオリゴフェニレンエーテル(c)の数平均分子量は500以上であることが好ましく、700以上であることがより好ましい。オリゴフェニレンエーテル(c)の数平均分子量を下限値以上とすることにより、得られる接着剤層の可撓性を良好にできる。一方、オリゴフェニレンエーテル(c)の数平均分子量を上限値以下とすることにより、有機溶剤に対する溶解性を良好にできる。The number average molecular weight of the oligophenylene ether (c) is preferably 3000 or less, more preferably 2700 or less, and even more preferably 2500 or less. The number average molecular weight of the oligophenylene ether (c) is preferably 500 or more, and more preferably 700 or more. By setting the number average molecular weight of the oligophenylene ether (c) to the lower limit or more, the flexibility of the obtained adhesive layer can be improved. On the other hand, by setting the number average molecular weight of the oligophenylene ether (c) to the upper limit or less, the solubility in organic solvents can be improved.

オリゴフェニレンエーテル(c)を含有させる場合、その含有量は、酸変性ポリオレフィン(a)100質量部に対して、0.05質量部以上であることが好ましい。優れたハンダ耐熱性を発現することができることから、より好ましくは1質量部以上であり、さらに好ましくは5質量部以上である。また、200質量部以下であることが好ましい。優れた接着性およびハンダ耐熱性を発現することができることから、より好ましくは150質量部以下であり、さらに好ましくは100質量部以下であり、特に好ましくは50質量部以下である。When the oligophenylene ether (c) is contained, its content is preferably 0.05 parts by mass or more relative to 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin (a). Since excellent solder heat resistance can be exhibited, it is more preferably 1 part by mass or more, and even more preferably 5 parts by mass or more. In addition, it is preferably 200 parts by mass or less. Since excellent adhesiveness and solder heat resistance can be exhibited, it is more preferably 150 parts by mass or less, even more preferably 100 parts by mass or less, and particularly preferably 50 parts by mass or less.

<カルボジイミド化合物(d)>
本発明で用いるカルボジイミド化合物(d)(以下、単に(d)成分ともいう。)は、1分子中に2個以上のカルボジイミド基を有する多官能カルボジイミド化合物であることが好ましい。カルボジイミド化合物(d)を使用することによって、酸変性ポリオレフィンのカルボン酸無水物基とカルボジイミドとが反応し、接着剤組成物と基材との相互作用を高め、接着性およびハンダ耐熱性を向上することができる。
<Carbodiimide Compound (d)>
The carbodiimide compound (d) used in the present invention (hereinafter also simply referred to as component (d)) is preferably a polyfunctional carbodiimide compound having two or more carbodiimide groups in one molecule. By using the carbodiimide compound (d), the carboxylic anhydride group of the acid-modified polyolefin reacts with the carbodiimide, enhancing the interaction between the adhesive composition and the substrate, and improving the adhesiveness and solder heat resistance.

カルボジイミド化合物(d)を含有させる場合、その含有量は、酸変性ポリオレフィン(a)100質量部に対して、0.5質量部以上であることが好ましい。十分な硬化効果が得られ、優れた接着性およびハンダ耐熱性を発現することができることから、より好ましくは1質量部以上であり、さらに好ましくは1.5質量部以上であり、特に好ましくは2質量部以上である。また、接着性、ハンダ耐熱性に加え、優れた低誘電特性を有することから、20質量部以下であることが好ましく、より好ましくは15質量部以下であり、さらに好ましくは10質量部以下であり、特に好ましくは5質量部以下である。When the carbodiimide compound (d) is contained, its content is preferably 0.5 parts by mass or more relative to 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin (a). Since a sufficient curing effect can be obtained and excellent adhesiveness and solder heat resistance can be expressed, it is more preferably 1 part by mass or more, even more preferably 1.5 parts by mass or more, and particularly preferably 2 parts by mass or more. In addition to adhesiveness and solder heat resistance, it has excellent low dielectric properties, so it is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 15 parts by mass or less, even more preferably 10 parts by mass or less, and particularly preferably 5 parts by mass or less.

カルボジイミド化合物(d)は、芳香族カルボジイミド化合物、脂環族カルボジイミド化合物または脂肪族カルボジイミド化合物のいずれでも良く、これらを単独で使用することができるし、2種以上を併用することもできる。芳香族カルボジイミド化合物としては、ポリ-m-フェニレンカルボジイミド、ポリ-p-フェニレンカルボジイミド、ポリトリレンカルボジイミド、ポリ(ジイソプロピルフェニレンカルボジイミド)、ポリ(メチルジイソプロピルフェニレンカルボジイミド)、ポリ(4,4’-ジフェニルメタンカルボジイミド)などが挙げられる。脂環族カルボジイミド化合物としては、ポリ-m-シクロヘキシルカルボジイミド、ポリ-p-シクロヘキシルカルボジイミド、ポリ(4,4’-ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド、ポリ(3,3’-ジシクロヘキシルメタンカルボジイミドなどが挙げられる。脂肪族カルボジイミド化合物としては、直鎖状または分岐状の脂肪族カルボジイミド化合物のいずれであっても構わない。好ましくは直鎖状の脂肪族カルボジイミド化合物であり、具体的には、ポリメチレンカルボジイミド、ポリエチレンカルボジイミド、ポリプロピレンカルボジイミド、ポリブチレンカルボジイミド、ポリペンタメチレンカルボジイミド、ポリヘキサメチレンカルボジイミドなどが挙げられる。これらを単独で、または2種以上を併用して使用することができる。中でも芳香族カルボジイミド化合物または脂環族カルボジイミド化合物であることが好ましい。The carbodiimide compound (d) may be any of an aromatic carbodiimide compound, an alicyclic carbodiimide compound, and an aliphatic carbodiimide compound, which may be used alone or in combination of two or more. Examples of the aromatic carbodiimide compound include poly-m-phenylene carbodiimide, poly-p-phenylene carbodiimide, polytolylene carbodiimide, poly(diisopropylphenylene carbodiimide), poly(methyldiisopropylphenylene carbodiimide), and poly(4,4'-diphenylmethane carbodiimide). Examples of the alicyclic carbodiimide compound include poly-m-cyclohexylcarbodiimide, poly-p-cyclohexylcarbodiimide, poly(4,4'-dicyclohexylmethanecarbodiimide, poly(3,3'-dicyclohexylmethanecarbodiimide, etc. The aliphatic carbodiimide compound may be either a linear or branched aliphatic carbodiimide compound. A linear aliphatic carbodiimide compound is preferred, and specific examples thereof include polymethylenecarbodiimide, polyethylenecarbodiimide, polypropylenecarbodiimide, polybutylenecarbodiimide, polypentamethylenecarbodiimide, polyhexamethylenecarbodiimide, etc. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, an aromatic carbodiimide compound or an alicyclic carbodiimide compound is preferred.

<有機溶媒>
本発明の接着剤組成物は、さらに有機溶剤を含有することができる。本発明で用いる有機溶剤は、酸変性ポリオレフィン(a)、エポキシ樹脂(b)、オリゴフェニレンエーテル(c)およびカルボジイミド化合物(d)を溶解させるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素、トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶剤、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノn -ブチルエーテル、エチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、エチレングリコールモノt e r t - ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノi s o -ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノn -ブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノn -ブチルエーテ等のグリコールエーテル系溶剤等を使用することができ、これら1種または2種以上を併用することができる。特に作業環境性、乾燥性から、メチルシクロへキサンやトルエンが好ましい。
<Organic solvent>
The adhesive composition of the present invention may further contain an organic solvent. The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves the acid-modified polyolefin (a), the epoxy resin (b), the oligophenylene ether (c) and the carbodiimide compound (d). Specific examples of such solvents include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and decane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane; halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, and chloroform; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, and phenol; ketone-based solvents such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone, and acetophenone; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; ester-based solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, and butyl formate; ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol mono-iso-butyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-iso-butyl ether, triethylene glycol mono-n-butyl ether, tetraethylene glycol mono-n-butyl ether, One or more of these may be used in combination. Methylcyclohexane and toluene are particularly preferred from the viewpoints of work environment and drying properties.

有機溶剤は、酸変性オレフィン(a)100質量部に対して、100~1000質量部の範囲であることが好ましく、200~900質量部の範囲であることがより好ましく、300~800質量部の範囲であることが最も好ましい。前記下限値以上とすることで液状およびポットライフ性が良好となる。また、前記上限値以下とすることで製造コストや輸送コストの面から有利となる。The organic solvent is preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass, more preferably in the range of 200 to 900 parts by mass, and most preferably in the range of 300 to 800 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the acid-modified olefin (a). By setting it to the lower limit or more, the liquid state and pot life are improved. Also, by setting it to the upper limit or less, it is advantageous in terms of production costs and transportation costs.

有機溶剤は、接着剤組成物の溶液状態およびポットライフ性の観点から、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素およびハロゲン化炭化水素からなる群より選択された1種以上の溶剤(e1)、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤およびグリコールエーテル系溶剤からなる群より選択された1種以上の溶剤(e2)の混合液が好ましい。混合比としては、溶剤(e1)/溶剤(e2)=50~97/50~3(質量比)であることが好ましく、55~95/45~5(質量比)であることがより好ましく、60~90/40~10(質量比)であることがさらに好ましく、70~80/30~20(質量比)であることが特に好ましい。上記範囲内とすることで接着剤組成物の溶液状態およびポットライフ性が良好となる。また、溶剤(e1)が芳香族炭化水素または脂環族炭化水素であり、溶剤(e2)がケトン系溶媒であることが特に好ましい。From the viewpoint of the solution state and pot life of the adhesive composition, the organic solvent is preferably a mixture of one or more solvents (e1) selected from the group consisting of aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons, and one or more solvents (e2) selected from the group consisting of alcohol-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and glycol ether-based solvents. The mixing ratio is preferably solvent (e1)/solvent (e2)=50-97/50-3 (mass ratio), more preferably 55-95/45-5 (mass ratio), even more preferably 60-90/40-10 (mass ratio), and particularly preferably 70-80/30-20 (mass ratio). By keeping it within the above range, the solution state and pot life of the adhesive composition are improved. In addition, it is particularly preferable that the solvent (e1) is an aromatic hydrocarbon or an alicyclic hydrocarbon, and the solvent (e2) is a ketone-based solvent.

また、本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、さらに他の成分を必要に応じて含有してもよい。このような成分の具体例としては、難燃剤、粘着付与剤、フィラー、シランカップリング剤が挙げられる。The adhesive composition of the present invention may further contain other components as necessary within the range that does not impair the effects of the present invention. Specific examples of such components include a flame retardant, a tackifier, a filler, and a silane coupling agent.

<難燃剤>
本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、必要に応じて難燃剤を配合しても良い。難燃剤としては、臭素系、リン系、窒素系、水酸化金属化合物等が挙げられる。中でも、リン系難燃剤が好ましく、リン酸エステル、例えば、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等、リン酸塩、例えばホスフィン酸アルミニウム等、ホスファゼン等の公知のリン系難燃剤を使用できる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。難燃剤を含有させる場合、(a)~(d)成分の合計100質量部に対し、1~200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5~150質量部の範囲がより好ましく、10~100質量部の範囲が最も好ましい。前記下限値以上とすることで難燃性が良好となる。また、前記上限値以下とすることで接着性、ハンダ耐熱性、電気特性等が低下することがない。
<Flame retardants>
The adhesive composition of the present invention may contain a flame retardant as necessary within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of flame retardants include bromine-based, phosphorus-based, nitrogen-based, and metal hydroxide compounds. Among them, phosphorus-based flame retardants are preferred, and known phosphorus-based flame retardants such as phosphate esters, for example, trimethyl phosphate, triphenyl phosphate, and tricresyl phosphate, phosphate salts, for example, aluminum phosphinate, and phosphazenes can be used. These may be used alone, or two or more may be used in any combination. When a flame retardant is contained, it is preferably contained in a range of 1 to 200 parts by mass, more preferably in a range of 5 to 150 parts by mass, and most preferably in a range of 10 to 100 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total of components (a) to (d). By making it equal to or more than the lower limit, the flame retardancy is improved. Furthermore, by making it equal to or less than the upper limit, the adhesiveness, solder heat resistance, electrical properties, and the like are not reduced.

<粘着付与剤>
本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、必要に応じて粘着付与剤を配合しても良い。粘着付与剤としては、ポリテルペン樹脂、ロジン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、スチレン樹脂および水添石油樹脂等が挙げられ、接着強度を向上させる目的で用いられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。粘着付与剤を含有させる場合、(a)~(d)成分の合計100質量部に対し、1~200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5~150質量部の範囲がより好ましく、10~100質量部の範囲が最も好ましい。前記下限値以上とすることで粘着付与剤の効果を奏することができる。また、前記上限値以下とすることで接着性、ハンダ耐熱性、電気特性等が低下することがない。
<Tackifier>
The adhesive composition of the present invention may contain a tackifier as necessary within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of tackifiers include polyterpene resins, rosin resins, aliphatic petroleum resins, alicyclic petroleum resins, copolymerized petroleum resins, styrene resins, and hydrogenated petroleum resins, and are used for the purpose of improving adhesive strength. These may be used alone or in any combination of two or more. When a tackifier is contained, it is preferably contained in a range of 1 to 200 parts by mass, more preferably in a range of 5 to 150 parts by mass, and most preferably in a range of 10 to 100 parts by mass, relative to a total of 100 parts by mass of components (a) to (d). By making it equal to or greater than the lower limit, the effect of the tackifier can be achieved. In addition, by making it equal to or less than the upper limit, the adhesiveness, solder heat resistance, electrical properties, etc. are not reduced.

<フィラー>
本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、必要に応じてシリカなどのフィラーを配合しても良い。シリカを配合することによりハンダ耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シリカとしては一般に疎水性シリカと親水性シリカが知られているが、ここでは耐吸湿性を付与する上でジメチルジクロロシランやヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン等で処理を行った疎水性シリカの方が良い。シリカを含有させる場合、その含有量は、(a)~(d)成分の合計100質量部に対し、0.05~30質量部の範囲であることが好ましい。前記下限値以上とすることでハンダ耐熱性を向上させる効果を奏することができる。また、前記上限値以下とすることでシリカの分散不良が生じることがなく、溶液粘度が良好であり作業性が良好となる。また接着性も低下しない。
<Filler>
The adhesive composition of the present invention may contain a filler such as silica as necessary within a range that does not impair the effects of the present invention. The incorporation of silica is highly preferable because it improves the solder heat resistance properties. Hydrophobic silica and hydrophilic silica are generally known as silica, but here, hydrophobic silica treated with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, or the like is preferable in order to impart moisture absorption resistance. When silica is contained, the content is preferably in the range of 0.05 to 30 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total of components (a) to (d). By making the content equal to or greater than the lower limit, the effect of improving the solder heat resistance can be achieved. In addition, by making the content equal to or less than the upper limit, there is no poor dispersion of silica, and the solution viscosity is good, resulting in good workability. In addition, the adhesiveness is not reduced.

<シランカップリング剤>
本発明の接着剤組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、必要に応じてシランカップリング剤を配合しても良い。シランカップリング剤を配合することにより金属への接着性やハンダ耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されないが、不飽和基を有するもの、グリシジル基を有するもの、アミノ基を有するものなどが挙げられる。これらのうちハンダ耐熱性の観点からγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランやβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランやβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のグリシジル基を有したシランカップリング剤がさらに好ましい。シランカップリング剤を含有させる場合、その含有量は(a)~(d)成分の合計100質量部に対して0.5~20質量部の範囲であることが好ましい。0.5質量部以上とすることで優れたハンダ耐熱性が良好となる。一方、20質量部以下とすることでハンダ耐熱性や接着性が良好となる。
<Silane coupling agent>
The adhesive composition of the present invention may contain a silane coupling agent as necessary, as long as the effect of the present invention is not impaired. The incorporation of a silane coupling agent is highly preferred because it improves the adhesiveness to metals and solder heat resistance. The silane coupling agent is not particularly limited, but examples thereof include those having an unsaturated group, those having a glycidyl group, and those having an amino group. Among these, silane coupling agents having a glycidyl group, such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, are more preferred from the viewpoint of solder heat resistance. When a silane coupling agent is contained, the content is preferably in the range of 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the components (a) to (d). By making it 0.5 parts by mass or more, excellent solder heat resistance is obtained. On the other hand, by making it 20 parts by mass or less, solder heat resistance and adhesiveness are improved.

<積層体>
本発明の積層体は、基材に接着剤組成物を積層したもの(基材/接着剤層の2層積層体)、または、さらに基材を貼り合わせたもの(基材/接着剤層/基材の3層積層体)である。ここで、接着剤層とは、本発明の接着剤組成物を基材に塗布し、乾燥させた後の接着剤組成物の層をいう。本発明の接着剤組成物を、常法に従い、各種基材に塗布、乾燥すること、およびさらに他の基材を積層することにより、本発明の積層体を得ることができる。
<Laminate>
The laminate of the present invention is a laminate of an adhesive composition on a substrate (a two-layer laminate of substrate/adhesive layer), or a three-layer laminate of substrate/adhesive layer/substrate. Here, the adhesive layer refers to a layer of the adhesive composition after the adhesive composition of the present invention is applied to a substrate and dried. The adhesive composition of the present invention can be applied to various substrates according to a conventional method, dried, and then laminated with another substrate to obtain the laminate of the present invention.

<基材>
本発明において基材とは、本発明の接着剤組成物を塗布、乾燥し、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、フィルム状樹脂等の樹脂基材、金属板や金属箔等の金属基材、紙類等を挙げることができる。
<Base material>
In the present invention, the substrate is not particularly limited as long as it is capable of forming an adhesive layer by applying and drying the adhesive composition of the present invention. Examples of the substrate include resin substrates such as film-like resins, metal substrates such as metal plates and metal foils, and papers.

樹脂基材としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。好ましくはフィルム状樹脂(以下、基材フィルム層ともいう)である。Examples of the resin substrate include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, and fluorine resin. A film-like resin (hereinafter also referred to as a substrate film layer) is preferable.

金属基材としては、回路基板に使用可能な任意の従来公知の導電性材料が使用可能である。素材としては、SUS、銅、アルミニウム、鉄、スチール、亜鉛、ニッケル等の各種金属、及びそれぞれの合金、めっき品、亜鉛やクロム化合物など他の金属で処理した金属等を例示することができる。好ましくは金属箔であり、より好ましくは銅箔である。金属箔の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下ある。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。金属箔は、通常、ロール状の形態で提供されている。本発明のプリント配線板を製造する際に使用される金属箔の形態は特に限定されない。リボン状の形態の金属箔を用いる場合、その長さは特に限定されない。また、その幅も特に限定されないが、250~500cm程度であるのが好ましい。As the metal substrate, any conventionally known conductive material usable for a circuit board can be used. Examples of materials include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc, and nickel, as well as their alloys, plated products, and metals treated with other metals such as zinc and chromium compounds. Metal foil is preferred, and copper foil is more preferred. There is no particular limitation on the thickness of the metal foil, but it is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and even more preferably 10 μm or more. It is also preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 20 μm or less. If the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit, while if the thickness is too thick, the processing efficiency during circuit fabrication may decrease. Metal foil is usually provided in a rolled form. The form of the metal foil used in manufacturing the printed wiring board of the present invention is not particularly limited. When a ribbon-shaped metal foil is used, its length is not particularly limited. In addition, its width is also not particularly limited, but it is preferably about 250 to 500 cm.

紙類として上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙等を例示することができる。また複合素材として、ガラスエポキシ等を例示することができる。Examples of the paper include fine paper, craft paper, roll paper, glassine paper, etc. Examples of the composite material include glass epoxy, etc.

接着剤組成物との接着力、耐久性から、基材としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、SUS鋼板、銅箔、アルミ箔、またはガラスエポキシが好ましい。In terms of adhesion to the adhesive composition and durability, the substrate is preferably a polyester resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, a polyolefin resin, a fluorine-based resin, a SUS steel plate, a copper foil, an aluminum foil, or a glass epoxy.

<接着シート>
本発明において、接着シートとは、前記積層体と離型基材とを接着剤組成物を介して積層したものである。具体的な構成態様としては、積層体/接着剤層/離型基材、または離型基材/接着剤層/積層体/接着剤層/離型基材が挙げられる。離型基材を積層することで基材の保護層として機能する。また離型基材を使用することで、接着シートから離型基材を離型して、さらに別の基材に接着剤層を転写することができる。
<Adhesive sheet>
In the present invention, the adhesive sheet is a laminate of the laminate and a release substrate with an adhesive composition interposed therebetween. Specific configurations include laminate/adhesive layer/release substrate, or release substrate/adhesive layer/laminate/adhesive layer/release substrate. The release substrate functions as a protective layer for the substrate by being laminated. In addition, by using a release substrate, the release substrate can be released from the adhesive sheet and the adhesive layer can be transferred to another substrate.

本発明の接着剤組成物を、常法に従い、各種積層体に塗布、乾燥することにより、本発明の接着シートを得ることができる。また乾燥後、接着剤層に離型基材を貼付けると、基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり操業性に優れるとともに、接着剤層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易である。また離型基材に塗布、乾燥後、必要に応じて別の離型基材を貼付すれば、接着剤層そのものを他の基材に転写することも可能になる。The adhesive composition of the present invention can be applied to various laminates and dried in a conventional manner to obtain the adhesive sheet of the present invention. After drying, a release substrate is attached to the adhesive layer, which allows winding without causing offset onto the substrate, resulting in excellent operability, and the adhesive layer is protected, resulting in excellent storage stability and ease of use. After application to a release substrate and drying, the adhesive layer itself can be transferred to another substrate by attaching another release substrate as necessary.

<離型基材>
離型基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙などの紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたものが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-α-オレフィン共重合体、プロピレン-α-オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、及びポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものも挙げられる。離型基材と接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたもの、またはポリエチレンテレフタレート上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。
<Release base material>
The release substrate is not particularly limited, but examples thereof include those in which a coating layer of a filler such as clay, polyethylene, or polypropylene is provided on both sides of paper such as fine paper, craft paper, roll paper, or glassine paper, and a silicone-based, fluorine-based, or alkyd-based release agent is further applied on each coating layer. Other examples include various olefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin copolymer, and propylene-α-olefin copolymer alone, and films such as polyethylene terephthalate on which the release agent is applied. Due to the release force between the release substrate and the adhesive layer, and the adverse effect of silicone on electrical properties, it is preferable to use a polypropylene-filled coating on both sides of fine paper and an alkyd-based release agent thereon, or an alkyd-based release agent on polyethylene terephthalate.

なお、本発明において接着剤組成物を基材上にコーティングする方法としては、特に限定されないが、コンマコーター、リバースロールコーター等が挙げられる。もしくは、必要に応じて、プリント配線板構成材料である圧延銅箔、またはポリイミドフィルムに直接もしくは転写法で接着剤層を設けることもできる。乾燥後の接着剤層の厚みは、必要に応じて、適宜変更されるが、好ましくは5~200μmの範囲である。接着フィルム厚が5μm未満では、接着強度が不十分である。200μm以上では乾燥が不十分で、残留溶剤が多くなり、プリント配線板製造のプレス時にフクレを生じるという問題点が挙げられる。乾燥条件は特に限定されないが、乾燥後の残留溶剤率は1質量%以下が好ましい。1質量%超では、プリント配線板プレス時に残留溶剤が発泡して、フクレを生じるという問題点が挙げられる。In the present invention, the method of coating the adhesive composition on the substrate is not particularly limited, but includes a comma coater, a reverse roll coater, and the like. Alternatively, if necessary, the adhesive layer can be provided directly or by a transfer method on the rolled copper foil or polyimide film, which is a printed wiring board constituent material. The thickness of the adhesive layer after drying is appropriately changed as necessary, but is preferably in the range of 5 to 200 μm. If the adhesive film thickness is less than 5 μm, the adhesive strength is insufficient. If it is 200 μm or more, there is a problem that the drying is insufficient, the residual solvent increases, and blisters occur during pressing in the production of printed wiring boards. The drying conditions are not particularly limited, but the residual solvent rate after drying is preferably 1 mass % or less. If it exceeds 1 mass %, there is a problem that the residual solvent foams during pressing of the printed wiring board, causing blisters.

<プリント配線板>
本発明における「プリント配線板」は、導体回路を形成する金属箔と樹脂基材とから形成された積層体を構成要素として含むものである。プリント配線板は、例えば、金属張積層体を用いてサブトラクティブ法などの従来公知の方法により製造される。必要に応じて、金属箔によって形成された導体回路を部分的、或いは全面的にカバーフィルムやスクリーン印刷インキ等を用いて被覆した、いわゆるフレキシブル回路板(FPC)、フラットケーブル、テープオートメーティッドボンディング(TAB)用の回路板などを総称している。
<Printed Wiring Board>
The "printed wiring board" in the present invention includes, as a component, a laminate formed from a metal foil and a resin substrate that form a conductor circuit. The printed wiring board is manufactured, for example, by a conventionally known method such as a subtractive method using a metal-clad laminate. If necessary, the printed wiring board is a general term for so-called flexible circuit boards (FPCs), flat cables, circuit boards for tape automated bonding (TAB), etc., in which a conductor circuit formed from a metal foil is partially or entirely covered with a cover film, screen printing ink, etc.

本発明のプリント配線板は、プリント配線板として採用され得る任意の積層構成とすることができる。例えば、基材フィルム層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の4層から構成されるプリント配線板とすることができる。また例えば、基材フィルム層、接着剤層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の5層から構成されるプリント配線板とすることができる。The printed wiring board of the present invention can be any laminated structure that can be used as a printed wiring board.For example, it can be a printed wiring board composed of four layers of a base film layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.Also, it can be a printed wiring board composed of five layers of a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.

さらに、必要に応じて、上記のプリント配線板を2つもしくは3つ以上積層した構成とすることもできる。Furthermore, if necessary, two or more of the above printed wiring boards may be laminated.

本発明の接着剤組成物はプリント配線板の各接着剤層に好適に使用することが可能である。特に本発明の接着剤組成物を接着剤として使用すると、プリント配線板を構成する従来のポリイミド、ポリエステルフィルム、銅箔だけでなく、LCPなどの低極性の樹脂基材と高い接着性を有し、耐ハンダリフロー性を得ることができ、接着剤層自身が低誘電特性に優れる。そのため、カバーフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに用いる接着剤組成物として好適である。The adhesive composition of the present invention can be suitably used for each adhesive layer of a printed wiring board. In particular, when the adhesive composition of the present invention is used as an adhesive, it has high adhesion to not only conventional polyimide, polyester film, and copper foil constituting a printed wiring board, but also low polarity resin substrates such as LCP, and can obtain solder reflow resistance, and the adhesive layer itself has excellent low dielectric properties. Therefore, it is suitable as an adhesive composition used for cover films, laminates, resin-coated copper foils, and bonding sheets.

本発明のプリント配線板において、基材フィルムとしては、従来からプリント配線板の基材として使用されている任意の樹脂フィルムが使用可能である。基材フィルムの樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。特に、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の低極性基材に対しても、優れた接着性を有する。In the printed wiring board of the present invention, any resin film that has been conventionally used as a substrate for a printed wiring board can be used as the substrate film. Examples of the resin of the substrate film include polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, and fluorine resin. In particular, the substrate film has excellent adhesion to low polar substrates such as liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resin.

<カバーフィルム>
カバーフィルムとしては、プリント配線板用の絶縁フィルムとして従来公知の任意の絶縁フィルムが使用可能である。例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の各種ポリマーから製造されるフィルムが使用可能である。より好ましくは、ポリイミドフィルムまたは液晶ポリマーフィルムである。
<Cover film>
As the cover film, any insulating film conventionally known as an insulating film for printed wiring boards can be used. For example, films made of various polymers such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyethersulfone, polyetheretherketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, liquid crystal polymer, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resin can be used. More preferably, it is a polyimide film or a liquid crystal polymer film.

本発明のプリント配線板は、上述した各層の材料を用いる以外は、従来公知の任意のプロセスを用いて製造することができる。The printed wiring board of the present invention can be manufactured by any conventionally known process, except for using the materials for each layer described above.

好ましい実施態様では、カバーフィルム層に接着剤層を積層した半製品(以下、「カバーフィルム側半製品」という)を製造する。他方、基材フィルム層に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側2層半製品」という)または基材フィルム層に接着剤層を積層し、その上に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側3層半製品」という)を製造する(以下、基材フィルム側2層半製品と基材フィルム側3層半製品とを合わせて「基材フィルム側半製品」という)。このようにして得られたカバーフィルム側半製品と、基材フィルム側半製品とを貼り合わせることにより、4層または5層のプリント配線板を得ることができる。In a preferred embodiment, a semi-finished product is manufactured by laminating an adhesive layer on a cover film layer (hereinafter referred to as a "cover film side semi-finished product"). On the other hand, a semi-finished product is manufactured by laminating a metal foil layer on a base film layer to form a desired circuit pattern (hereinafter referred to as a "base film side two-layer semi-finished product"), or a semi-finished product is manufactured by laminating an adhesive layer on a base film layer and laminating a metal foil layer on it to form a desired circuit pattern (hereinafter referred to as a "base film side three-layer semi-finished product"). (Hereinafter, the base film side two-layer semi-finished product and the base film side three-layer semi-finished product are collectively referred to as "base film side semi-finished product"). By bonding the cover film side semi-finished product thus obtained and the base film side semi-finished product, a four-layer or five-layer printed wiring board can be obtained.

基材フィルム側半製品は、例えば、(A)前記金属箔に基材フィルムとなる樹脂の溶液を塗布し、塗膜を初期乾燥する工程、(B)(A)で得られた金属箔と初期乾燥塗膜との積層物を熱処理・乾燥する工程(以下、「熱処理・脱溶剤工程」という)を含む製造法により得られる。The base film semi-finished product can be obtained, for example, by a manufacturing method including: (A) a step of applying a solution of a resin that will become the base film to the metal foil and initially drying the coating film; and (B) a step of heat-treating and drying the laminate of the metal foil and the initially dried coating film obtained in (A) (hereinafter referred to as the "heat treatment/solvent removal step").

金属箔層における回路の形成は、従来公知の方法を用いることができる。アクティブ法を用いてもよく、サブトラクティブ法を用いてもよい。好ましくは、サブトラクティブ法である。The formation of the circuit in the metal foil layer can be performed by a conventionally known method. Either an active method or a subtractive method can be used. The subtractive method is preferable.

得られた基材フィルム側半製品は、そのままカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後にカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。The obtained semi-finished product on the base film side may be used as it is for bonding to the semi-finished product on the cover film side, or may be used for bonding to the semi-finished product on the cover film side after a release film has been bonded thereto and stored.

カバーフィルム側半製品は、例えば、カバーフィルムに接着剤を塗布して製造される。必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。The cover film side semi-finished product is produced, for example, by applying an adhesive to the cover film. If necessary, a crosslinking reaction in the applied adhesive can be carried out. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られたカバーフィルム側半製品は、そのまま基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。The obtained semi-finished product on the cover film side may be used as it is for bonding to the semi-finished product on the base film side, or may be used for bonding to the semi-finished product on the base film side after a release film has been bonded thereto and stored.

基材フィルム側半製品とカバーフィルム側半製品とは、それぞれ、例えば、ロールの形態で保管された後、貼り合わされて、プリント配線板が製造される。貼り合わせる方法としては、任意の方法が使用可能であり、例えば、プレスまたはロールなどを用いて貼り合わせることができる。また、加熱プレス、または加熱ロ-ル装置を使用するなどの方法により加熱を行いながら両者を貼り合わせることもできる。The substrate film-side semi-finished product and the cover film-side semi-finished product are stored, for example, in the form of a roll, and then laminated together to produce a printed wiring board. Any method can be used as a lamination method, and for example, they can be laminated together using a press or roll. In addition, they can be laminated together while heating them by a method using a hot press or a hot roll device.

補強材側半製品は、例えば、ポリイミドフィルムのように柔らかく巻き取り可能な補強材の場合、補強材に接着剤を塗布して製造されることが好適である。また、例えばSUS、アルミ等の金属板、ガラス繊維をエポキシ樹脂で硬化させた板等のように硬く巻き取りできない補強板の場合、予め離型基材に塗布した接着剤を転写塗布することによって製造されることが好適である。また、必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。In the case of a reinforcing material that is soft and can be wound up, such as a polyimide film, the reinforcing material semi-finished product is preferably produced by applying an adhesive to the reinforcing material. In the case of a reinforcing plate that is hard and cannot be wound up, such as a metal plate such as SUS or aluminum, or a plate made of glass fiber cured with epoxy resin, the reinforcing material semi-finished product is preferably produced by transfer-coating an adhesive that has been applied in advance to a release substrate. If necessary, a crosslinking reaction can be carried out in the applied adhesive. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.

得られた補強材側半製品は、そのままプリント配線板裏面との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。The obtained semi-finished product on the reinforcing material side may be used as it is for bonding to the rear surface of a printed wiring board, or may be used for bonding to a semi-finished product on the base film side after a release film has been attached and storage.

基材フィルム側半製品、カバーフィルム側半製品、補強材側半製品はいずれも、本発明におけるプリント配線板用積層体である。The base film side semi-finished product, the cover film side semi-finished product, and the reinforcing material side semi-finished product are all laminates for printed wiring boards according to the present invention.

<実施例>
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。実施例中および比較例中に単に部とあるのは質量部を示す。
<Example>
The present invention will be described in more detail below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples. In the examples and comparative examples, parts simply indicate parts by mass.

(物性評価方法)(Physical property evaluation method)

酸価(mgKOH/g)
本発明における酸価(mgKOH/g)は、酸変性ポリオレフィンをトルエンに溶解し、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液でフェノールフタレインを指示薬として滴定した。
Acid value (mgKOH/g)
The acid value (mg KOH/g) in the present invention was measured by dissolving the acid-modified polyolefin in toluene and titrating it with a methanol solution of sodium methoxide using phenolphthalein as an indicator.

数平均分子量(Mn)
本発明における数平均分子量は(株)島津製作所製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPC、標準物質:ポリスチレン樹脂、移動相:テトラヒドロフラン、カラム:Shodex KF-802 + KF-804L + KF-806L、カラム温度:30℃、流速:1.0ml/分、検出器:RI検出器)によって測定した値である。
Number average molecular weight (Mn)
The number average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (hereinafter, referred to as GPC, standard substance: polystyrene resin, mobile phase: tetrahydrofuran, column: Shodex KF-802 + KF-804L + KF-806L, column temperature: 30°C, flow rate: 1.0 ml/min, detector: RI detector) manufactured by Shimadzu Corporation.

融点(Tm)、融解熱量(ΔH)の測定
本発明における融点、融解熱量は示差走査熱量計(以下、DSC、ティー・エー・インスツルメント・ジャパン製、Q-2000)を用いて、20℃/分の速度で昇温融解、冷却樹脂化して、再度昇温融解した際の融解ピークのトップ温度および面積から測定した値である。
Measurement of Melting Point (Tm) and Heat of Fusion (ΔH) The melting point and heat of fusion in the present invention are values measured using a differential scanning calorimeter (hereinafter, abbreviated as DSC, manufactured by TA Instruments Japan, Q-2000) from the top temperature and area of the melting peak when the material is heated and melted at a rate of 20° C./min, cooled to form a resin, and then heated and melted again.

(1)剥離強度(接着性)
後述する接着剤組成物を厚さ12.5μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製、アピカル(登録商標))、または、厚さ25μmのLCPフィルム(クラレ株式会社製、ベクスター(登録商標))に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。この様にして得られた接着性フィルム(Bステージ品)を厚さ18μmの圧延銅箔(JX金属株式会社製、BHYシリーズ)と貼り合わせた。貼り合わせは、圧延銅箔の光沢面が接着剤層と接する様にして、160℃で40kgf/cmの加圧下に30秒間プレスし、接着した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させて、剥離強度評価用サンプルを得た。剥離強度は、25℃において、フィルム引き、引張速度50mm/minで90°剥離試験を行ない、剥離強度を測定した。この試験は常温での接着強度を示すものである。
<評価基準>
◎:1.0N/mm以上
○:0.8N/mm以上1.0N/mm未満
△:0.5N/mm以上0.8N/mm未満
×:0.5N/mm未満
(1) Peel strength (adhesion)
The adhesive composition described below was applied to a 12.5 μm thick polyimide film (Apical (registered trademark) manufactured by Kaneka Corporation) or a 25 μm thick LCP film (Vexstar (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd.) so that the thickness after drying was 25 μm, and dried at 130 ° C for 3 minutes. The adhesive film (B stage product) obtained in this way was laminated to a rolled copper foil (BHY series manufactured by JX Metals Corporation) having a thickness of 18 μm. The laminate was pressed for 30 seconds at 160 ° C under a pressure of 40 kgf / cm 2 so that the shiny surface of the rolled copper foil was in contact with the adhesive layer. The laminate was then heat-treated at 140 ° C for 4 hours to harden the film, and a sample for evaluating peel strength was obtained. The peel strength was measured by performing a 90 ° peel test at 25 ° C, pulling the film and pulling at a tensile speed of 50 mm / min. This test indicates the adhesive strength at room temperature.
<Evaluation criteria>
◎: 1.0 N/mm or more ○: 0.8 N/mm or more and less than 1.0 N/mm △: 0.5 N/mm or more and less than 0.8 N/mm ×: Less than 0.5 N/mm

(2)ハンダ耐熱性
上記と同じ方法でサンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を23℃で2日間エージング処理を行い、280℃で溶融したハンダ浴に10秒フロートし、膨れなどの外観変化の有無を確認した。
<評価基準>
◎:膨れ無し
○:一部膨れ有
△:多くの膨れ有
×:膨れ、かつ変色有
(2) Solder Heat Resistance Samples were prepared in the same manner as above, and a 2.0 cm × 2.0 cm sample piece was aged at 23° C. for 2 days and then floated in a molten solder bath at 280° C. for 10 seconds to check for any changes in appearance, such as blistering.
<Evaluation criteria>
◎: No blistering ○: Some blistering △: Many blistering ×: Blistering and discoloration

(3)硬化直後の比誘電率(εc1)及び誘電正接(tanδ1)
後述する接着剤組成物を厚さ100μmのテフロン(登録商標)シートに、乾燥硬化後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させた後、テフロン(登録商標)シートを剥離して試験用の接着剤樹脂シートを得た。得られた試験用接着剤樹脂シートを8cm×3mmの短冊状にサンプルを裁断し、試験用サンプルを得た。比誘電率(εc1)及び誘電正接(tanδ1)は、ネットワークアナライザー(アンリツ社製)を使用し、空洞共振器摂動法で、温度23℃、周波数1GHzの条件で測定した。測定は熱処理硬化後、1時間以内に行った。得られた比誘電率、誘電正接について、以下の通りに評価した。
<比誘電率の評価基準>
◎:2.3以下
○:2.3を超え2.6以下
△:2.6を超え3.0以下
×:3.0を超える
<誘電正接の評価基準>
◎:0.008以下
○:0.008を超え0.01以下
△:0.01を超え0.02以下
×:0.02を超える
(4)飽和吸水後の誘電正接(tanδ2)
後述する接着剤組成物を厚さ100μmのテフロン(登録商標)シートに、乾燥硬化後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した。次いで140℃で4時間熱処理して硬化させた後、テフロン(登録商標)シートを剥離して試験用の接着剤樹脂シートを得た。次に25℃の水中に試験用接着剤樹脂シートを浸漬し、24時間放置した。その後、表面の水分をふき取り、得られた試験用接着剤樹脂シートを8cm×3mmの短冊状にサンプルを裁断し、試験用サンプルを得た。比誘電率(εc2)及び誘電正接(tanδ2)は、ネットワークアナライザー(アンリツ社製)を使用し、空洞共振器摂動法で、温度23℃、周波数1GHzの条件で測定した。硬化直後の誘電正接(tanδ1)と飽和吸水後の誘電正接(tanδ2)の変化量は、以下の式で求め、評価した。
変化量=|(tanδ1)-(tanδ2)|
<(誘電正接変化量の評価基準>
◎:0.002以下
〇:0.002を超え0.005以下
△:0.005を超え0.01以下
×:0.01を超える
(3) Dielectric constant (ε c 1) and dielectric tangent (tan δ 1) immediately after curing
The adhesive composition described below was applied to a 100 μm thick Teflon (registered trademark) sheet so that the thickness after drying and curing was 25 μm, and dried at 130° C. for 3 minutes. Then, after curing by heat treatment at 140° C. for 4 hours, the Teflon (registered trademark) sheet was peeled off to obtain a test adhesive resin sheet. The obtained test adhesive resin sheet was cut into a rectangular sample of 8 cm x 3 mm to obtain a test sample. The relative dielectric constant (ε c 1) and dielectric loss tangent (tan δ1) were measured using a network analyzer (manufactured by Anritsu Corporation) by a cavity resonator perturbation method under conditions of a temperature of 23° C. and a frequency of 1 GHz. The measurement was performed within 1 hour after the heat treatment and curing. The obtained relative dielectric constant and dielectric loss tangent were evaluated as follows.
<Evaluation criteria for dielectric constant>
◎: 2.3 or less ○: More than 2.3 and less than 2.6 △: More than 2.6 and less than 3.0 ×: More than 3.0 <Evaluation criteria for dielectric loss tangent>
◎: 0.008 or less ○: More than 0.008 and 0.01 or less △: More than 0.01 and 0.02 or less ×: More than 0.02 (4) Dielectric tangent (tan δ2) after saturation water absorption
The adhesive composition described below was applied to a 100 μm thick Teflon (registered trademark) sheet so that the thickness after drying and curing was 25 μm, and dried at 130 ° C for 3 minutes. Then, after curing by heat treatment at 140 ° C for 4 hours, the Teflon (registered trademark) sheet was peeled off to obtain a test adhesive resin sheet. Next, the test adhesive resin sheet was immersed in water at 25 ° C and left for 24 hours. Thereafter, the moisture on the surface was wiped off, and the obtained test adhesive resin sheet was cut into a rectangular sample of 8 cm x 3 mm to obtain a test sample. The relative dielectric constant (ε c 2) and dielectric loss tangent (tan δ2) were measured using a network analyzer (manufactured by Anritsu Corporation) by a cavity resonator perturbation method at a temperature of 23 ° C and a frequency of 1 GHz. The change in the dielectric loss tangent (tan δ1) immediately after curing and the dielectric loss tangent (tan δ2) after saturated water absorption were calculated and evaluated by the following formula.
Amount of change=|(tan δ1)-(tan δ2)|
<(Evaluation Criteria for Dielectric Tangent Change)>
◎: 0.002 or less 〇: More than 0.002 and 0.005 or less △: More than 0.005 and 0.01 or less ×: More than 0.01

実施例1
CO-1を100質量部、エポキシ樹脂HP-7200Hを10質量部および有機溶媒(メチルシクロヘキサン/メチルエチルケトン/トルエン=72/8/20(v/v))を440質量部(固形分濃度で20質量%)配合し、混合溶液を得た。配合量、接着強度、ハンダ耐熱性、硬化直後の電気特性および飽和吸水後の誘電正接変化率を表1に示す。
Example 1
A mixed solution was obtained by mixing 100 parts by mass of CO-1, 10 parts by mass of epoxy resin HP-7200H, and 440 parts by mass (solid content concentration: 20% by mass) of an organic solvent (methylcyclohexane/methyl ethyl ketone/toluene=72/8/20 (v/v)). The mixing amounts, adhesive strength, solder heat resistance, electrical properties immediately after curing, and rate of change in dielectric tangent after saturated water absorption are shown in Table 1.

実施例2~16
(a)~(d)成分の配合量を表1に示すとおりに変更し、実施例1と同様な方法で実施例2~16を行った。接着強度、ハンダ耐熱性、硬化直後の電気特性および飽和吸水後の誘電正接変化量を表1に示す。なお、有機溶媒(メチルシクロヘキサン/メチルエチルケトン/トルエン=72/8/20(v/v))は固形分濃度が20質量%となるように調整した。
Examples 2 to 16
Examples 2 to 16 were carried out in the same manner as Example 1, except that the blending amounts of components (a) to (d) were changed as shown in Table 1. The adhesive strength, solder heat resistance, electrical properties immediately after curing, and change in dielectric tangent after saturated water absorption are shown in Table 1. The organic solvent (methylcyclohexane/methyl ethyl ketone/toluene=72/8/20 (v/v)) was adjusted so that the solids concentration was 20 mass %.

比較例1~3
(a)~(d)成分の配合量を表1に示すとおりに変更し、実施例1と同様な方法で比較例1~3を行った。接着強度、ハンダ耐熱性、硬化直後の電気特性および飽和吸水後の誘電正接変化率を表1に示す。
Comparative Examples 1 to 3
The amounts of components (a) to (d) were changed as shown in Table 1, and Comparative Examples 1 to 3 were carried out in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the adhesive strength, solder heat resistance, electrical properties immediately after curing, and rate of change in dielectric tangent after saturation water absorption.

表1で用いた酸変性ポリオレフィン(a)、エポキシ樹脂(b)、オリゴフェニレンエーテル(c)およびカルボジイミド化合物(d)は以下のものである。
(エポキシ樹脂(b))
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:HP-7200(DIC社製 エポキシ当量 259g/eq)
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:HP-7200H(DIC社製 エポキシ当量
278g/eq)
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂:jER-152(三菱化学製 エポキシ当量 177g/eq
エポキシ変性ポリブタジエン樹脂:JP-100(日本曹達社製 エポキシ当量 200g/eq)
(オリゴフェニレンエーテル(c))
オリゴフェニレンエーテルスチレン変性品:OPE-2St 1200(三菱ガス化学社製 Mn1000の一般式(c4)の構造を有する化合物)
オリゴフェニレンエーテルスチレン変性品:OPE-2St 2200(三菱ガス化学社製 Mn2000の一般式(c4)の構造を有する化合物)
オリゴフェニレンエーテル:SA90(SABIC社製 Mn1800の一般式(c3)の構造を有する化合物)
(カルボジイミド化合物(d))
カルボジイミド樹脂:V-09GB(日清紡ケミカル社製 カルボジイミド当量 216g/eq)
カルボジイミド樹脂:V-03(日清紡ケミカル社製 カルボジイミド当量 209g/eq)
The acid-modified polyolefin (a), epoxy resin (b), oligophenylene ether (c) and carbodiimide compound (d) used in Table 1 are as follows.
(Epoxy resin (b))
Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200 (manufactured by DIC Corporation, epoxy equivalent: 259 g/eq)
Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200H (manufactured by DIC Corporation, epoxy equivalent: 278 g/eq)
Cresol novolac epoxy resin: jER-152 (manufactured by Mitsubishi Chemical, epoxy equivalent: 177 g/eq.
Epoxy-modified polybutadiene resin: JP-100 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., epoxy equivalent: 200 g/eq)
(Oligophenylene ether (c))
Modified oligophenylene ether styrene: OPE-2St 1200 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., Mn1000, compound having the structure of general formula (c4))
Modified oligophenylene ether styrene: OPE-2St 2200 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., Mn2000, compound having the structure of general formula (c4))
Oligophenylene ether: SA90 (a compound having the structure of general formula (c3) of Mn1800 manufactured by SABIC Corporation)
(Carbodiimide Compound (d))
Carbodiimide resin: V-09GB (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd., carbodiimide equivalent: 216 g/eq)
Carbodiimide resin: V-03 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd., carbodiimide equivalent: 209 g/eq)

(酸変性ポリオレフィン(a))
製造例1
1Lオートクレーブに、プロピレン-ブテン共重合体(三井化学社製「タフマー(登録商標)XM7080」)100質量部、トルエン150質量部及び無水マレイン酸19質量部、ジ-tert-ブチルパーオキサイド6質量部を加え、140℃まで昇温した後、更に3時間撹拌した。その後、得られた反応液を冷却後、多量のメチルエチルケトンが入った容器に注ぎ、樹脂を析出させた。その後、当該樹脂を含有する液を遠心分離することにより、無水マレイン酸がグラフト重合した酸変性プロピレン-ブテン共重合体と(ポリ)無水マレイン酸および低分子量物とを分離、精製した。その後、減圧下70℃で5時間乾燥させることにより、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体(CO-1、酸価19mgKOH/g、数平均分子量25,000、Tm80℃、△H35J/g)を得た。
(Acid-modified polyolefin (a))
Production Example 1
In a 1L autoclave, 100 parts by mass of propylene-butene copolymer (Mitsui Chemicals "Tafmer (registered trademark) XM7080"), 150 parts by mass of toluene, 19 parts by mass of maleic anhydride, and 6 parts by mass of di-tert-butyl peroxide were added, and the temperature was raised to 140 ° C., and then the mixture was stirred for another 3 hours. Thereafter, the resulting reaction liquid was cooled and poured into a container containing a large amount of methyl ethyl ketone to precipitate a resin. Thereafter, the liquid containing the resin was centrifuged to separate and purify the acid-modified propylene-butene copolymer in which maleic anhydride was graft-polymerized, (poly)maleic anhydride, and low molecular weight substances. Thereafter, the mixture was dried under reduced pressure at 70 ° C. for 5 hours to obtain a maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-1, acid value 19 mg KOH / g, number average molecular weight 25,000, Tm 80 ° C., ΔH 35 J / g).

製造例2
無水マレイン酸の仕込み量を14質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体(CO-2、酸価14mgKOH/g、数平均分子量30,000、Tm78℃、△H25J/g)を得た。
Production Example 2
A maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-2, acid value 14 mgKOH/g, number average molecular weight 30,000, Tm 78°C, ΔH 25 J/g) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of maleic anhydride added was changed to 14 parts by mass.

製造例3
無水マレイン酸の仕込み量を11質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体(CO-3、酸価11mgKOH/g、数平均分子量33,000、Tm80℃、△H25J/g)を得た。
Production Example 3
A maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-3, acid value 11 mgKOH/g, number average molecular weight 33,000, Tm 80°C, ΔH 25 J/g) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of maleic anhydride added was changed to 11 parts by mass.

製造例4
無水マレイン酸の仕込み量を6質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体(CO-4、酸価7mgKOH/g、数平均分子量35,000、Tm82℃、△H25J/g)を得た。
Production Example 4
A maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-4, acid value 7 mgKOH/g, number average molecular weight 35,000, Tm 82°C, ΔH 25 J/g) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of maleic anhydride added was changed to 6 parts by mass.

製造例5
無水マレイン酸の仕込み量を3質量部に変更した以外は製造例1と同様にすることにより、無水マレイン酸変性プロピレン-ブテン共重合体(CO-5、酸価4mgKOH/g、数平均分子量37,000、Tm84℃、△H25J/g)を得た。
Production Example 5
A maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer (CO-5, acid value 4 mg KOH/g, number average molecular weight 37,000, Tm 84°C, ΔH 25 J/g) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount of maleic anhydride added was changed to 3 parts by mass.

表1から明らかなように、実施例1~16では、接着性、ハンダ耐熱性、硬化直後の電気特性および飽和吸水後の誘電正接変化量のいずれもが良好である。これに対し、比較例1では、硬化直後の誘電正接および飽和吸水後の誘電正接変化量が不良であった。これは、エポキシ樹脂(b)比率が高いためと考えられる。比較例2では、酸変性ポリオレフィン(a)を含有していないため、硬化直後の電気特性および飽和吸水後の誘電正接変化量が不良であった。比較例3では、エポキシ樹脂(b)を含有していないため、ハンダ耐熱性が低下した。As is clear from Table 1, in Examples 1 to 16, the adhesiveness, solder heat resistance, electrical properties immediately after curing, and the amount of change in dielectric tangent after saturation water absorption were all good. In contrast, in Comparative Example 1, the dielectric tangent immediately after curing and the amount of change in dielectric tangent after saturation water absorption were poor. This is thought to be due to the high ratio of epoxy resin (b). In Comparative Example 2, since it does not contain acid-modified polyolefin (a), the electrical properties immediately after curing and the amount of change in dielectric tangent after saturation water absorption were poor. In Comparative Example 3, since it does not contain epoxy resin (b), the solder heat resistance was reduced.

本発明の接着剤組成物は、ポリイミドだけでなく、液晶ポリマーのような非極性の樹脂基材と、銅箔などの金属基材との、優れた接着性を有する。さらに優れたハンダ耐熱性、および低誘電特性を有し、飽和吸水後の誘電正接にも優れる。本発明の接着剤組成物は、接着シート、およびこれを用いて接着した積層体を得ることができる。上記特性により、フレキシブルプリント配線板用途、特に高周波領域での低誘電特性(低比誘電率、低誘電正接)が求められるFPC用途において有用である。
The adhesive composition of the present invention has excellent adhesion not only to polyimide but also to non-polar resin substrates such as liquid crystal polymers and metal substrates such as copper foil. It also has excellent solder heat resistance and low dielectric properties, and is excellent in dielectric tangent after saturated water absorption. The adhesive composition of the present invention can be used to obtain an adhesive sheet and a laminate bonded therewith. Due to the above characteristics, it is useful for flexible printed wiring board applications, particularly FPC applications requiring low dielectric properties (low relative dielectric constant, low dielectric tangent) in the high frequency range.

Claims (5)

酸変性ポリオレフィン(a)およびエポキシ樹脂(b)を含有する接着剤組成物であって、
前記酸変性ポリオレフィン(a)の酸価が5~40mgKOH/gであり、
前記酸変性ポリオレフィン(a)100質量部に対して、エポキシ樹脂(b)を0.5質量部以上60質量部以下含有し、
さらにオリゴフェニレンエーテル(c)を含有し、
下記(1)~(2)を満足する接着剤組成物。
(1)接着剤組成物の硬化物の硬化直後の1GHzでの比誘電率(εc1)が3.0以下、誘電正接(tanδ1)が0.02以下である
(2)接着剤組成物の硬化物の硬化直後の1GHzでの誘電正接(tanδ1)と、25℃の水に24時間浸漬した後の1GHzでの誘電正接(tanδ2)の変化量が0.01以下である
An adhesive composition comprising an acid-modified polyolefin (a) and an epoxy resin (b),
The acid value of the acid-modified polyolefin (a) is 5 to 40 mgKOH/g;
The epoxy resin (b) is contained in an amount of 0.5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less relative to 100 parts by mass of the acid-modified polyolefin (a),
Further containing an oligophenylene ether (c),
An adhesive composition that satisfies the following (1) and (2):
(1) The cured product of the adhesive composition has a relative dielectric constant (εc1) of 3.0 or less and a dielectric loss tangent (tan δ1) of 0.02 or less at 1 GHz immediately after curing. (2) The change between the dielectric loss tangent (tan δ1) at 1 GHz immediately after curing of the cured product of the adhesive composition and the dielectric loss tangent (tan δ2) at 1 GHz after immersion in water at 25° C. for 24 hours is 0.01 or less.
さらにカルボジイミド化合物(d)を含有する請求項1に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1 , further comprising a carbodiimide compound (d) . 請求項1または2に記載の接着剤組成物を含有する層を有する接着シート。 An adhesive sheet having a layer containing the adhesive composition according to claim 1 or 2 . 請求項1または2に記載の接着剤組成物を含有する層を有する積層体。 A laminate having a layer containing the adhesive composition according to claim 1 or 2 . 請求項に記載の積層体を構成要素として含むプリント配線板。 A printed wiring board comprising the laminate according to claim 4 as a component.
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