JP7709924B2 - Microbubble generator - Google Patents
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Description
本明細書は、微細気泡発生装置に関する。 This specification relates to a microbubble generating device.
特許文献1には、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な2つの液位電極と、制御装置と、を備える微細気泡発生装置が開示されている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記2つの液位電極の一方によって検出される前記タンクの液位が下側液位以上であるか否かに係る情報と、前記2つの液位電極の他方によって検出される前記タンクの液位が上側液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 Patent Document 1 discloses a fine bubble generating device including a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank, a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved to generate fine bubbles, a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, a tank circulation pump provided in the tank circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, two liquid level electrodes capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, and a control device. The gas introduction mechanism includes a pressure reduction section for reducing the pressure of the liquid and passing it through, a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section, and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device can perform a fine bubble generating operation in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path. During the fine bubble generating operation, the control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path, thereby supplying the gas introduced from the gas inlet to the tank, and controls the opening and closing operation of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank detected by one of the two liquid level electrodes is equal to or higher than the lower liquid level and information regarding whether the liquid level in the tank detected by the other of the two liquid level electrodes is equal to or higher than the upper liquid level.
微細気泡発生装置では、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保すべく、タンクの液位に係る情報量を低減したい場合がある。特許文献1の微細気泡発生装置では、制御装置は、タンクの液位が下側液位以上であるか否かに係る情報とタンクの液位が上側液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、気体導入弁の開閉動作を制御するように構成されている。このような微細気泡発生装置では、タンクの液位に係る情報量が比較的大きく、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性に欠ける可能性がある。本明細書では、タンクの液位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することが可能な技術を提供する。なお、本明細書では、2つの液位電極を備える微細気泡発生装置について、2つの液位電極を「下側液位電極」と「上側液位電極」に区別して記載することがある。ここで、「下側液位」は「上側液位」よりも低い液位である。 In a fine bubble generator, it may be necessary to reduce the amount of information related to the liquid level in the tank in order to ensure rapidity in the judgment process related to the opening and closing of the gas introduction valve. In the fine bubble generator of Patent Document 1, the control device is configured to control the opening and closing operation of the gas introduction valve based on information related to whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the lower liquid level and information related to whether the liquid level in the tank is equal to or higher than the upper liquid level. In such a fine bubble generator, the amount of information related to the liquid level in the tank is relatively large, and the judgment process related to the opening and closing of the gas introduction valve may be lacking in rapidity. This specification provides a technology that can reduce the amount of information related to the liquid level in the tank and ensure rapidity in the judgment process related to the opening and closing of the gas introduction valve. In this specification, for a fine bubble generator equipped with two liquid level electrodes, the two liquid level electrodes may be described as "lower liquid level electrode" and "upper liquid level electrode". Here, the "lower liquid level" is a liquid level lower than the "upper liquid level".
本明細書が開示する微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な液位電極と、制御装置と、を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 The microbubble generating device disclosed in this specification includes a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank, a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge path for reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved to generate microbubbles, a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, a tank circulation pump provided in the tank circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, a liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, and a control device. The gas introduction mechanism includes a pressure reduction section for reducing the pressure of the liquid and passing it through, a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section, and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device can perform a fine bubble generating operation in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path. During the fine bubble generating operation, the control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path, thereby supplying the gas introduced from the gas inlet to the tank, and controls the opening and closing of the gas introduction valve based on information on whether the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
本明細書が開示する別の微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な単一の液位電極と、制御装置と、を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、前記単一の液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する。 Another fine bubble generating device disclosed in this specification includes a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank, a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved to generate fine bubbles, a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, a tank circulation pump provided in the tank circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, a single liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, and a control device. The gas introduction mechanism includes a pressure reduction section for reducing the pressure of the liquid and passing it through, a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section, and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device can perform a fine bubble generating operation in which the pressurized pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path. During the fine bubble generating operation, the control device drives the tank circulation pump to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path, thereby supplying the gas introduced from the gas inlet to the tank, and controls the opening and closing of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank detected by the single liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
上記の構成によれば、制御装置は、1つの液位電極によって検出される、タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、気体導入弁の開閉動作を制御するように構成されている。このため、タンクの液位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, the control device is configured to control the opening and closing operation of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level, which is detected by one liquid level electrode. This reduces the amount of information regarding the liquid level in the tank, and ensures rapid decision-making regarding the opening and closing of the gas introduction valve.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、前記気体導入弁を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、前記第1所定時間の経過後に、前記気体導入弁を開いてもよい。 In one or more embodiments, when the control device detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level with the gas introduction valve open during the execution of the fine bubble generating operation, the control device may close the gas introduction valve, maintain the gas introduction valve closed until a first predetermined time has elapsed since the gas introduction valve was closed, and open the gas introduction valve after the first predetermined time has elapsed.
微細気泡発生装置では、タンクの液面から飛散した液滴が液位電極に付着することで、液位電極にヌメリが生じる可能性がある。液位電極にヌメリが生じると、タンクの液位を誤検出するおそれがある。例えば、微細気泡発生装置が下側液位電極と上側液位電極を備えており、制御装置が、タンクの液位が下側液位と上側液位の間で推移するように気体導入弁の開閉動作の制御を実行する場合、上側液位電極は、ほぼ液体に浸されない。このため、上側液位電極においてヌメリの発生を抑制できず、タンクの液位を誤検出するおそれがある。上記の構成によれば、微細気泡発生運転の実行中、頻繁に液位電極を液体に浸すことで、液位電極におけるヌメリの発生を抑制することができる。このため、タンクの液位の誤検出を抑制できる。 In a micro-bubble generator, droplets scattered from the liquid surface of the tank may adhere to the level electrode, causing slime to form on the level electrode. If slime forms on the level electrode, the tank's liquid level may be erroneously detected. For example, if a micro-bubble generator has a lower level electrode and an upper level electrode, and the control device controls the opening and closing operation of the gas introduction valve so that the tank's liquid level fluctuates between the lower level and the upper level, the upper level electrode is hardly immersed in the liquid. As a result, the upper level electrode cannot suppress the generation of slime, and the tank's liquid level may be erroneously detected. With the above configuration, the level electrode can be frequently immersed in liquid during the micro-bubble generating operation, thereby suppressing the generation of slime on the level electrode. As a result, erroneous detection of the tank's liquid level can be suppressed.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの回転数を低減させてもよい。 In one or more embodiments, the control device may determine, during the execution of the fine bubble generating operation, the elapsed time from when the gas introduction valve, which is in the closed state, is opened until the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed as the intake time, and if the intake time exceeds an upper intake time limit, reduce the rotation speed of the pressure pump when the pressure pump is subsequently driven.
吸気時間が長すぎる場合、タンクに供給される液体の量が多すぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が少なすぎることが想定される。また、加圧ポンプの回転数が高いほどタンクに供給される液体の量は増加し、加圧ポンプの回転数が低いほどタンクに供給される液体の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、加圧ポンプの回転数を低減させることで、タンクに供給される液体の量を減少させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that either too much liquid is supplied to the tank or too little gas is introduced by the gas introduction mechanism. Furthermore, the higher the rotation speed of the pressurizing pump, the greater the amount of liquid supplied to the tank, and the lower the rotation speed of the pressurizing pump, the less the amount of liquid supplied to the tank. With the above configuration, if the intake time exceeds the upper intake time limit, i.e., if the intake time is too long, the rotation speed of the pressurizing pump can be reduced to reduce the amount of liquid supplied to the tank and shorten the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの前記回転数を増加させてもよい。 In one or more embodiments, the control device may, during the execution of the fine bubble generating operation, determine as an intake time the elapsed time from when the gas introduction valve, which is in the closed state, is opened until the liquid level in the tank is detected by the liquid level electrode to be lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed, and if the intake time falls below a lower limit intake time, increase the rotation speed of the pressure pump when driving the pressure pump thereafter.
吸気時間が短すぎる場合、タンクに供給される液体の量が少なすぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、加圧ポンプの回転数を増加させることで、タンクに供給される液体の量を増加させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that either the amount of liquid supplied to the tank is too small or the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism is too large. With the above configuration, if the intake time falls below the lower limit intake time, i.e., if the intake time is too short, the rotation speed of the pressurizing pump is increased to increase the amount of liquid supplied to the tank and extend the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの回転数を増加させてもよい。 In one or more embodiments, the control device, during the execution of the fine bubble generating operation, may determine as an intake time the elapsed time from when the gas introduction valve is opened from the closed state until the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and closes the gas introduction valve, and if the intake time exceeds an upper intake time limit, may increase the rotation speed of the tank circulation pump when driving the tank circulation pump thereafter with the gas introduction valve open.
吸気時間が長すぎる場合、タンクに供給される液体の量が多すぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が少なすぎることが想定される。また、気体導入弁が開いた状態では、タンク循環ポンプの回転数が高いほど気体導入機構で導入される気体の量は増加し、タンク循環ポンプの回転数が低いほど気体導入機構で導入される気体の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、タンク循環ポンプの回転数を増加させることで、気体導入機構で導入される気体の量を増加させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that either too much liquid is supplied to the tank or too little gas is introduced by the gas introduction mechanism. Furthermore, when the gas introduction valve is open, the higher the rotation speed of the tank circulation pump, the greater the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism, and the lower the rotation speed of the tank circulation pump, the less gas is introduced by the gas introduction mechanism. With the above configuration, if the intake time exceeds the upper intake time limit, i.e., if the intake time is too long, the rotation speed of the tank circulation pump can be increased to increase the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism and shorten the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの前記回転数を低減させてもよい。 In one or more embodiments, the control device, during the execution of the fine bubble generating operation, may determine as an intake time the elapsed time from when the gas introduction valve, which is in the closed state, is opened until the liquid level in the tank is detected by the liquid level electrode to be lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed, and if the intake time falls below a lower limit intake time, the rotation speed of the tank circulation pump may be reduced when the tank circulation pump is subsequently driven with the gas introduction valve open.
吸気時間が短すぎる場合、タンクに供給される液体の量が少なすぎるか、または気体導入機構で導入される気体の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、タンク循環ポンプの回転数を低減させることで、気体導入機構で導入される気体の量を減少させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that either the amount of liquid supplied to the tank is too small or the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism is too large. With the above configuration, if the intake time falls below the lower limit intake time, i.e., if the intake time is too short, the rotation speed of the tank circulation pump is reduced to reduce the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism and extend the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、前記停止条件が満たされる場合に、前記微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行してもよい。前記制御装置は、前記停止処理が実行されると、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを駆動した状態で前記気体導入弁を開き、前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、前記気体導入弁を閉じてから、前記第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、前記第2所定時間の経過後に、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを停止して前記微細気泡発生運転を停止してもよい。 In one or more embodiments, the control device may determine whether or not a stop condition for stopping the fine bubble generating operation is satisfied during the execution of the fine bubble generating operation, and may execute a stop process for stopping the fine bubble generating operation when the stop condition is satisfied. When the stop process is executed, the control device may open the gas introduction valve while driving the pressurizing pump and the tank circulation pump, and when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open, close the gas introduction valve, and maintain the gas introduction valve closed for a second predetermined time that is longer than the first predetermined time from when the gas introduction valve is closed, and after the second predetermined time has elapsed, stop the pressurizing pump and the tank circulation pump to stop the fine bubble generating operation.
上記の構成によれば、液位電極を液体に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。これにより、液位電極におけるヌメリの発生を抑制し、タンクの液位の誤検出を抑制できる。また、上記の構成によれば、微細気泡発生運転を停止する際、液位電極は、通常運転時に液体に浸される部分よりも上方の部分まで液体に浸されている。したがって、より適切に液位電極におけるヌメリの発生を抑制することができる。 According to the above configuration, the micro-bubble generating operation can be stopped while the level electrode is immersed in the liquid. This can suppress the generation of slime on the level electrode and prevent erroneous detection of the tank's liquid level. Furthermore, according to the above configuration, when the micro-bubble generating operation is stopped, the level electrode is immersed in the liquid up to a portion above the portion that is immersed in the liquid during normal operation. Therefore, the generation of slime on the level electrode can be more appropriately suppressed.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中、前記気体導入弁が閉じた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位以上であることを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を開き、前記気体導入弁を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が開いた状態を維持し、前記第3所定時間の経過後に、前記気体導入弁を閉じてもよい。 In one or more embodiments, when the control device detects that the liquid level in the tank is equal to or higher than the predetermined liquid level with the gas introduction valve closed during the execution of the fine bubble generating operation, the control device may open the gas introduction valve, maintain the gas introduction valve open for a period from when the gas introduction valve is opened until a third predetermined time has elapsed, and close the gas introduction valve after the third predetermined time has elapsed.
例えば、微細気泡発生装置が下側液位電極と上側液位電極を備えており、制御装置が、タンクの液位が下側液位と上側液位の間で推移するように気体導入弁の開閉動作の制御を実行する場合、下側液位電極の長さを比較的長くする必要がある。この場合、装置全体の重量化につながる可能性がある。上記の構成によれば、液位電極の長さを比較的短くすることができる。このため、装置全体の軽量化を図ることができる。 For example, if the micro-bubble generator is equipped with a lower liquid level electrode and an upper liquid level electrode, and the control device controls the opening and closing operation of the gas introduction valve so that the liquid level in the tank fluctuates between the lower liquid level and the upper liquid level, the length of the lower liquid level electrode needs to be relatively long. In this case, this may lead to an increase in the weight of the entire device. With the above configuration, the length of the liquid level electrode can be made relatively short. This allows the weight of the entire device to be reduced.
1つまたはそれ以上の実施形態において、前記液体は、水であってもよい。前記液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽であってもよい。 In one or more embodiments, the liquid may be water. The liquid tank may be a bathtub that a user uses to bathe.
上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽の水に微細気泡を発生させる微細気泡発生装置において、タンクの水位に係る情報量を低減し、気体導入弁の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 The above configuration allows a micro-bubble generator that generates micro-bubbles in the water in a bathtub used by a user for bathing to reduce the amount of information related to the tank's water level and ensure rapid decision-making regarding the opening and closing of the gas introduction valve.
(実施例1)
図1に示すように、本実施例の温水装置2は、熱源ユニット10と、空気加圧溶解ユニット50と、浴槽アダプタ132と、制御装置150と、を備える。温水装置2は、水道などの給水源200から供給される水を加熱して、所望の温度まで加熱された水を、台所等に設置されたカラン250や、浴室に設置された浴槽130に供給することができる。また、温水装置2は、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に、微細気泡を発生させることができる。
Example 1
1, the hot water device 2 of this embodiment includes a heat source unit 10, an air pressurized dissolution unit 50, a bathtub adapter 132, and a control device 150. The hot water device 2 heats water supplied from a water supply source 200 such as a tap, and can supply the water heated to a desired temperature to a faucet 250 installed in a kitchen or the like, or to a bathtub 130 installed in a bathroom. The hot water device 2 can also generate fine air bubbles in the water in the bathtub 130 that a user uses for bathing.
(熱源ユニット10の構成)
熱源ユニット10は、第1熱源機12と、第2熱源機14と、給水路16と、出湯路18と、バイパス路20と、バイパスサーボ22と、注湯路24と、湯はり弁26と、水量センサ28と、循環往路30と、循環復路32と、浴槽循環ポンプ34と、水流スイッチ36を備えている。
(Configuration of heat source unit 10)
The heat source unit 10 includes a first heat source unit 12, a second heat source unit 14, a water supply passage 16, a hot water outlet passage 18, a bypass passage 20, a bypass servo 22, a hot water inlet passage 24, a hot water filling valve 26, a water volume sensor 28, a forward circulation passage 30, a return circulation passage 32, a bathtub circulation pump 34, and a water flow switch 36.
給水路16の上流端は、給水源200に接続されており、給水路16の下流端は、第1熱源機12に接続されている。また、出湯路18の上流端は、第1熱源機12に接続されており、出湯路18の下流端は、カラン250に接続されている。第1熱源機12は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第1熱源機12は、給水路16から流れ込む水を加熱して、加熱された水を出湯路18に送り出す。 The upstream end of the water supply passage 16 is connected to the water supply source 200, and the downstream end of the water supply passage 16 is connected to the first heat source unit 12. The upstream end of the hot water outlet passage 18 is connected to the first heat source unit 12, and the downstream end of the hot water outlet passage 18 is connected to a faucet 250. The first heat source unit 12 is a combustion heat source unit that heats water, for example, by burning gas. The first heat source unit 12 heats the water flowing in from the water supply passage 16 and sends the heated water to the hot water outlet passage 18.
バイパス路20の上流端は、給水路16に接続されており、バイパス路20の下流端は、出湯路18に接続されている。バイパスサーボ22は、バイパス路20が給水路16に接続する箇所に設けられている。バイパスサーボ22は、内蔵された弁体の開度を調整することによって、給水路16から第1熱源機12を経由して出湯路18に流れる水の流量と、給水路16からバイパス路20を経由して出湯路18に流れる水の流量の割合を調整可能である。バイパスサーボ22の開度を調整することで、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、第1熱源機12から流れ込む高温の水と、バイパス路20から流れ込む低温の水が所望の割合で混合されて、所望の温度に調温された水が供給される。バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、出湯路18の水の温度を検出する出湯温度サーミスタ18aが設けられている。 The upstream end of the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16, and the downstream end of the bypass passage 20 is connected to the hot water outlet passage 18. The bypass servo 22 is provided at the point where the bypass passage 20 connects to the water supply passage 16. The bypass servo 22 can adjust the ratio of the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the hot water outlet passage 18 via the first heat source unit 12 and the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the hot water outlet passage 18 via the bypass passage 20 by adjusting the opening degree of the built-in valve body. By adjusting the opening degree of the bypass servo 22, the hot water outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 connects is supplied with water whose temperature has been adjusted to the desired temperature by mixing high-temperature water flowing from the first heat source unit 12 and low-temperature water flowing from the bypass passage 20 at a desired ratio. The hot water outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 connects is provided with an outlet hot water temperature thermistor 18a that detects the temperature of the water in the hot water outlet passage 18.
注湯路24の上流端は、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18に接続されており、注湯路24の下流端は、循環復路32に接続されている。湯はり弁26は、注湯路24に設けられており、注湯路24を開閉する。湯はり弁26は、通常時は閉状態とされている。水量センサ28は、注湯路24に設けられており、注湯路24を流れる水の水量を検出する。 The upstream end of the molten metal pouring passage 24 is connected to the molten metal outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 is connected, and the downstream end of the molten metal pouring passage 24 is connected to the circulation return passage 32. The molten metal filling valve 26 is provided in the molten metal pouring passage 24 and opens and closes the molten metal pouring passage 24. The molten metal filling valve 26 is normally kept in a closed state. The water volume sensor 28 is provided in the molten metal pouring passage 24 and detects the amount of water flowing through the molten metal pouring passage 24.
循環復路32の上流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源復路60(詳細は後述する)に接続されており、循環復路32の下流端は、第2熱源機14に接続されている。また、循環往路30の上流端は、第2熱源機14に接続されており、循環往路30の下流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源往路68(詳細は後述する)に接続されている。第2熱源機14は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第2熱源機14は、循環復路32から流れ込む水を加熱して、加熱された水を循環往路30に送り出す。循環復路32の上流端近傍には、循環復路32の水の温度を検出する循環復路サーミスタ32aが設けられている。循環往路30の下流端近傍には、循環往路30の水の温度を検出する循環往路サーミスタ30aが設けられている。 The upstream end of the circulation return path 32 is connected to the heat source return path 60 (details will be described later) of the air pressurized dissolution unit 50, and the downstream end of the circulation return path 32 is connected to the second heat source device 14. The upstream end of the circulation outward path 30 is connected to the second heat source device 14, and the downstream end of the circulation outward path 30 is connected to the heat source outward path 68 (details will be described later) of the air pressurized dissolution unit 50. The second heat source device 14 is a combustion heat source device that heats water by, for example, burning gas. The second heat source device 14 heats the water flowing in from the circulation return path 32 and sends the heated water to the circulation outward path 30. A circulation return path thermistor 32a that detects the temperature of the water in the circulation return path 32 is provided near the upstream end of the circulation return path 32. A circulation outward path thermistor 30a that detects the temperature of the water in the circulation outward path 30 is provided near the downstream end of the circulation outward path 30.
浴槽循環ポンプ34は、注湯路24の接続箇所よりも下流側の循環復路32に設けられており、循環復路32の水を第2熱源機14に向けて送り出す。水流スイッチ36は、循環復路32において浴槽循環ポンプ34と第2熱源機14の間に設けられており、循環復路32を水が流れているか否かを検出する。 The bathtub circulation pump 34 is provided in the circulation return path 32 downstream of the connection point of the hot water supply path 24, and sends water in the circulation return path 32 toward the second heat source unit 14. The water flow switch 36 is provided in the circulation return path 32 between the bathtub circulation pump 34 and the second heat source unit 14, and detects whether water is flowing in the circulation return path 32.
(空気加圧溶解ユニット50の構成)
空気加圧溶解ユニット50は、タンク52と、熱源復路60と、熱源往路68と、タンク復路74と、タンク往路64と、連通路66と、第1三方弁80と、第2三方弁82と、逆止弁84と、タンク給水弁86と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90と、タンク循環路92と、タンク循環ポンプ94と、気体導入機構96を備えている。
(Configuration of the air pressurized dissolving unit 50)
The air pressurization dissolution unit 50 includes a tank 52, a heat source return path 60, a heat source outward path 68, a tank return path 74, a tank outward path 64, a connecting passage 66, a first three-way valve 80, a second three-way valve 82, a check valve 84, a tank water supply valve 86, a first pressurization pump 88, a second pressurization pump 90, a tank circulation path 92, a tank circulation pump 94, and a gas introduction mechanism 96.
タンク52は、水に空気を加圧溶解して空気溶解水を生成するために利用される。タンク52は、内部に水を貯留することができる。タンク52の内部には、タンク52内の水位を検出するための水位電極54と、アース電極(図示せず)が設置されている。水位電極54は、タンク52内に貯留されている水の水面に接触すると、アース電極との間で電流が流れて、制御装置150にON信号を出力する。すなわち、水位電極54は、タンク52内の水位が所定水位以上であるか否かを検出可能に構成されている。以下では、水位電極54によって検出されるタンク52内の水位を「境界水位」と呼ぶことがある。 The tank 52 is used to generate air-dissolved water by pressurizing and dissolving air in water. The tank 52 can store water inside. Inside the tank 52, a water level electrode 54 for detecting the water level in the tank 52 and an earth electrode (not shown) are installed. When the water level electrode 54 comes into contact with the surface of the water stored in the tank 52, a current flows between the water level electrode 54 and the earth electrode, and an ON signal is output to the control device 150. In other words, the water level electrode 54 is configured to be able to detect whether the water level in the tank 52 is equal to or higher than a predetermined water level. Hereinafter, the water level in the tank 52 detected by the water level electrode 54 may be referred to as the "boundary water level."
熱源復路60の一端は、連通路66に接続されており、熱源復路60の他端は、熱源ユニット10の循環復路32に接続されている。連通路66は、第1三方弁80と第2三方弁82とを接続する。第1三方弁80には、連通路66、第1浴槽水路62、及び、タンク往路64が接続されている。第1三方弁80は、タンク往路64と第1浴槽水路62が連通している第1連通状態(図6参照)と、タンク往路64と連通路66が連通している第2連通状態(図1参照)と、第1浴槽水路62、タンク往路64、及び、連通路66が連通している第3連通状態(図4、図5参照)と、を切替えることができる。タンク往路64の上流端は、タンク52の下部に接続されており、タンク往路64の下流端は、第1三方弁80に接続されている。タンク往路64には、タンク52から第1三方弁80に向かって水が流れることを許容し、第1三方弁80からタンク52に向かって水が流れることを禁止する逆止弁84が設けられている。第1浴槽水路62の一端は、第1三方弁80に接続されており、第1浴槽水路62の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source return line 60 is connected to the communication passage 66, and the other end of the heat source return line 60 is connected to the circulation return line 32 of the heat source unit 10. The communication passage 66 connects the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82. The first three-way valve 80 is connected to the communication passage 66, the first bathtub water passage 62, and the tank forward line 64. The first three-way valve 80 can be switched between a first communication state (see FIG. 6) in which the tank forward line 64 and the first bathtub water passage 62 are connected, a second communication state (see FIG. 1) in which the tank forward line 64 and the communication passage 66 are connected, and a third communication state (see FIG. 4 and FIG. 5) in which the first bathtub water passage 62, the tank forward line 64, and the communication passage 66 are connected. The upstream end of the tank outgoing line 64 is connected to the bottom of the tank 52, and the downstream end of the tank outgoing line 64 is connected to the first three-way valve 80. The tank outgoing line 64 is provided with a check valve 84 that allows water to flow from the tank 52 to the first three-way valve 80 and prohibits water from flowing from the first three-way valve 80 to the tank 52. One end of the first bathtub water passage 62 is connected to the first three-way valve 80, and the other end of the first bathtub water passage 62 is connected to the bathtub adapter 132.
熱源往路68の一端は、熱源ユニット10の循環往路30に接続されており、熱源往路68の他端は、第2三方弁82に接続されている。第2三方弁82には、連通路66と、熱源往路68と、第2浴槽水路70と、が接続されている。第2三方弁82は、第2浴槽水路70と連通路66が連通する第4連通状態(図6参照)と、熱源往路68と第2浴槽水路70が連通する第5連通状態(図1、図4、図5参照)と、を切替えることができる。第2浴槽水路70の一端は、第2三方弁82に接続されており、第2浴槽水路70の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source outgoing line 68 is connected to the circulation outgoing line 30 of the heat source unit 10, and the other end of the heat source outgoing line 68 is connected to the second three-way valve 82. The second three-way valve 82 is connected to the communication passage 66, the heat source outgoing line 68, and the second bathtub water passage 70. The second three-way valve 82 can switch between a fourth communication state (see FIG. 6) in which the second bathtub water passage 70 and the communication passage 66 are connected, and a fifth communication state (see FIG. 1, FIG. 4, FIG. 5) in which the heat source outgoing line 68 and the second bathtub water passage 70 are connected. One end of the second bathtub water passage 70 is connected to the second three-way valve 82, and the other end of the second bathtub water passage 70 is connected to the bathtub adapter 132.
タンク復路74の上流端は、熱源往路68に接続されており、タンク復路74の下流端は、給水口74aを介してタンク52に接続されている。タンク給水弁86は、タンク復路74に設けられており、タンク復路74を開閉する。タンク給水弁86は、通常時は閉状態とされている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74において、タンク給水弁86とタンク52の間に設けられている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74の水を加圧してタンク52に向けて送り出す。タンク復路74において、第1加圧ポンプ88は第2加圧ポンプ90よりも上流側に配置されている。 The upstream end of the tank return line 74 is connected to the heat source outward line 68, and the downstream end of the tank return line 74 is connected to the tank 52 via the water supply port 74a. The tank water supply valve 86 is provided in the tank return line 74 and opens and closes the tank return line 74. The tank water supply valve 86 is normally closed. The first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 are provided in the tank return line 74 between the tank water supply valve 86 and the tank 52. The first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 pressurize the water in the tank return line 74 and send it toward the tank 52. In the tank return line 74, the first pressurizing pump 88 is located upstream of the second pressurizing pump 90.
タンク循環路92の上流端(以下では、流出口92aともいう)は、タンク52の底部に接続されており、タンク循環路92の下流端は、第2加圧ポンプ90よりも下流側のタンク復路74に接続されている。タンク循環路92の流出口92aがタンク52に接続されている箇所の水位は、境界水位よりも低い。タンク循環ポンプ94は、タンク循環路92に設けられている。タンク循環ポンプ94は、タンク52内の水を流出口92aを介してタンク循環路92に吸入するとともに、タンク循環路92の水をタンク復路74の下流端の給水口74aを介してタンク52内に吐出する。 The upstream end of the tank circulation path 92 (hereinafter also referred to as the outlet 92a) is connected to the bottom of the tank 52, and the downstream end of the tank circulation path 92 is connected to the tank return path 74 downstream of the second pressure pump 90. The water level at the point where the outlet 92a of the tank circulation path 92 is connected to the tank 52 is lower than the boundary water level. The tank circulation pump 94 is provided in the tank circulation path 92. The tank circulation pump 94 draws water from the tank 52 into the tank circulation path 92 through the outlet 92a, and discharges water from the tank circulation path 92 into the tank 52 through the water supply port 74a at the downstream end of the tank return path 74.
気体導入機構96は、タンク循環ポンプ94よりも上流側のタンク循環路92に設けられている。気体導入機構96は、入水管98と、出水管100と、ベンチュリ管102と、気体導入路104と、気体導入弁106を備えている。入水管98には、タンク循環路92の上流側から水が流入する。出水管100は、タンク循環路92の下流側へ水を流出させる。ベンチュリ管102は、入水管98と出水管100を連通している。ベンチュリ管102の径は、入水管98および出水管100の径よりも小さい。気体導入機構96を流れる水は、入水管98からベンチュリ管102へ流れる際に大気圧よりも低い圧力まで減圧され、ベンチュリ管102から出水管100へ流れる際に元の圧力まで増圧される。気体導入路104の上流端(以下では、気体導入口104aともいう)は、大気に開放されており、下流端はベンチュリ管102に接続されている。気体導入弁106は、気体導入路104に設けられており、気体導入路104を開閉する。気体導入機構96を水が流れる際に、気体導入弁106が開いている場合には、気体導入口104aから気体導入路104に空気が吸入され、ベンチュリ管102を流れる水に空気が混合される。気体導入路104で導入された空気は、タンク循環路92を流れる水とともに、タンク52へ流入する。気体導入弁106は、通常時は閉状態とされている。 The gas introduction mechanism 96 is provided in the tank circulation path 92 upstream of the tank circulation pump 94. The gas introduction mechanism 96 includes a water inlet pipe 98, a water outlet pipe 100, a Venturi tube 102, a gas introduction path 104, and a gas introduction valve 106. Water flows into the water inlet pipe 98 from the upstream side of the tank circulation path 92. The water outlet pipe 100 causes water to flow out to the downstream side of the tank circulation path 92. The Venturi tube 102 connects the water inlet pipe 98 and the water outlet pipe 100. The diameter of the Venturi tube 102 is smaller than the diameters of the water inlet pipe 98 and the water outlet pipe 100. The water flowing through the gas introduction mechanism 96 is reduced to a pressure lower than atmospheric pressure when it flows from the water inlet pipe 98 to the Venturi tube 102, and is increased to the original pressure when it flows from the Venturi tube 102 to the water outlet pipe 100. The upstream end of the gas introduction path 104 (hereinafter, also referred to as the gas introduction port 104a) is open to the atmosphere, and the downstream end is connected to the Venturi tube 102. The gas introduction valve 106 is provided in the gas introduction path 104 and opens and closes the gas introduction path 104. When water flows through the gas introduction mechanism 96, if the gas introduction valve 106 is open, air is sucked into the gas introduction path 104 from the gas introduction port 104a, and the air is mixed with the water flowing through the Venturi tube 102. The air introduced through the gas introduction path 104 flows into the tank 52 together with the water flowing through the tank circulation path 92. The gas introduction valve 106 is normally in a closed state.
(浴槽アダプタ132の構成)
続いて、図2、図3を参照して、浴槽130の壁部130aに設けられた浴槽アダプタ132について説明する。図2は、第1浴槽水路62から浴槽130に向けて水が流れ、浴槽130から第2浴槽水路70に向けて水が流れる状態(例えば、図6の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。図3は、浴槽130から第1浴槽水路62に向けて水が流れ、第2浴槽水路70から浴槽130に向けて水が流れる状態(例えば、図5の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。
(Configuration of bathtub adaptor 132)
Next, the bathtub adaptor 132 provided on the wall 130a of the bathtub 130 will be described with reference to Figures 2 and 3. Figure 2 shows the flow of water in the bathtub adaptor 132 when water flows from the first bathtub water channel 62 toward the bathtub 130 and from the bathtub 130 toward the second bathtub water channel 70 (for example, the state shown in Figure 6). Figure 3 shows the flow of water in the bathtub adaptor 132 when water flows from the bathtub 130 toward the first bathtub water channel 62 and from the second bathtub water channel 70 toward the bathtub 130 (for example, the state shown in Figure 5).
浴槽アダプタ132は、第1水路136と、第2水路138と、を備える。第1水路136は、第1浴槽水路62と連通しており、第2水路138は、第2浴槽水路70と連通している。第1水路136は、第1吐出路136aと、第1吸込路136bと、に分岐している。第1吐出路136aは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吐出口134aと連通している。第1吐出口134aから浴槽130に吐出される水は、浴槽130の壁部130aの前方、即ち、浴槽130の壁部130aに垂直な方向に吐出される。第1吐出路136aには、浴槽130から第1浴槽水路62に向かう水の流れを防止する逆止部140aと、逆止部140aよりも上流側(第1浴槽水路62側)に配置された微細気泡発生ノズル142と、が設けられている。微細気泡発生ノズル142は、微細気泡発生ノズル142を通過する水を減圧させる。第1吸込路136bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吸込口134bと連通している。第1吸込路136bには、第1浴槽水路62から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140bが設けられている。 The bathtub adapter 132 has a first water passage 136 and a second water passage 138. The first water passage 136 is connected to the first bathtub water passage 62, and the second water passage 138 is connected to the second bathtub water passage 70. The first water passage 136 branches into a first discharge passage 136a and a first suction passage 136b. The first discharge passage 136a is connected to a first discharge port 134a provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The water discharged from the first discharge port 134a into the bathtub 130 is discharged in front of the wall portion 130a of the bathtub 130, that is, in a direction perpendicular to the wall portion 130a of the bathtub 130. The first discharge passage 136a is provided with a backflow prevention portion 140a that prevents water from flowing from the bathtub 130 toward the first bathtub water passage 62, and a fine bubble generating nozzle 142 that is arranged upstream of the backflow prevention portion 140a (on the first bathtub water passage 62 side). The fine bubble generating nozzle 142 reduces the pressure of the water passing through the fine bubble generating nozzle 142. The first suction passage 136b is connected to a first suction port 134b provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The first suction passage 136b is provided with a backflow prevention portion 140b that prevents water from flowing from the first bathtub water passage 62 toward the bathtub 130.
第2水路138は、第2吐出路138aと、第2吸込路138bと、に分岐している。第2吸込路138bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第2吸込口134cと連通している。第2吸込路138bには、第2浴槽水路70から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140cが設けられている。第2吐出路138aは、浴槽アダプタ132の下面132bに設けられた第2吐出口134dと連通している。第2吐出口134dから吐出される水は、下方、即ち、浴槽130の壁部130aに平行な方向に吐出される。第2吐出路138aには、浴槽130から第2浴槽水路70に向かう水の流れを防止する逆止部140dが設けられている。 The second water passage 138 branches into a second discharge passage 138a and a second suction passage 138b. The second suction passage 138b is connected to a second suction port 134c provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The second suction passage 138b is provided with a check valve 140c that prevents water from flowing from the second bathtub water passage 70 toward the bathtub 130. The second discharge passage 138a is connected to a second discharge port 134d provided on the lower surface 132b of the bathtub adapter 132. The water discharged from the second discharge port 134d is discharged downward, that is, in a direction parallel to the wall portion 130a of the bathtub 130. The second discharge passage 138a is provided with a check valve 140d that prevents water from flowing from the bathtub 130 toward the second bathtub water passage 70.
(制御装置150の構成)
図1に示す制御装置150は、熱源ユニット10、空気加圧溶解ユニット50の各構成要素の動作を制御する。制御装置150は、ユーザによって操作可能なリモコン154と通信可能に構成されている。制御装置150は、メモリ152を備えており、ユーザが入力した湯はり運転における設定温度や設定水量、追い焚き運転における設定温度等の各種の設定を記憶可能である。ユーザは、リモコン154を介して、後述する湯はり運転や追い焚き運転、微細気泡発生運転の開始や終了を指示することができる。
(Configuration of the control device 150)
The control device 150 shown in Fig. 1 controls the operation of each component of the heat source unit 10 and the air pressurized dissolution unit 50. The control device 150 is configured to be able to communicate with a remote control 154 that can be operated by a user. The control device 150 includes a memory 152, and is capable of storing various settings input by the user, such as the set temperature and set water volume for the water filling operation, and the set temperature for the reheating operation. The user can use the remote control 154 to instruct the start and end of the water filling operation, reheating operation, and fine bubble generation operation, which will be described later.
(湯はり運転)
湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始時刻を設定しておき、制御装置150が湯はり運転の開始時刻が到来したと判断した場合に開始してもよい。制御装置150は、湯はり運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。制御装置150は、湯はり運転が開始されると、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による加熱を開始する。これによって、図4に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。制御装置150は、水量センサ28が検出する積算水量が、湯はり運転における設定水量に達するまで待機する。なお、ここでいう積算水量とは、湯はり運転が開始されてから水量センサ28が検出した積算水量を意味する。積算水量が設定水量に達すると制御装置150は、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、湯はり運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、湯はり運転を終了する。
(Bath filling operation)
The water filling operation starts when the user instructs the remote control 154 to start the water filling operation. Alternatively, the water filling operation may start when the user sets the start time of the water filling operation on the remote control 154 and the control device 150 determines that the start time of the water filling operation has arrived. When starting the water filling operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 to the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figs. 4 and 5). When the water filling operation starts, the control device 150 opens the water filling valve 26 and starts heating by the first heat source unit 12. As a result, as shown in Fig. 4, water adjusted to the set temperature flows from the hot water outlet path 18 through the hot water supply path 24 into the circulation return path 32. The water that flows into the circulation return path 32 branches into a flow toward the upstream side (i.e., the heat source return path 60) and a flow toward the downstream side (i.e., the second heat source unit 14). Water flowing from the circulation return line 32 to the heat source return line 60 flows into the bathtub 130 via the communication passage 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132. Water flowing from the circulation return line 32 to the second heat source unit 14 flows into the bathtub 130 via the circulation forward line 30, the heat source forward line 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. The control device 150 waits until the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28 reaches the set water volume for the bath filling operation. The accumulated water volume here means the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28 since the bath filling operation started. When the accumulated water volume reaches the set water volume, the control device 150 closes the bath filling valve 26 and ends the heating of water by the first heat source unit 12. Thereafter, the control device 150 notifies the user via the remote control 154 that the water filling operation has been completed, and ends the water filling operation.
(追い焚き運転)
追い焚き運転は、ユーザがリモコン154において追い焚き運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、追い焚き運転は、湯はり運転において第1熱源機12による水の加熱を終了した後に、制御装置150が循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度に満たないと判断する場合に開始してもよい。制御装置150は、追い焚き運転を開始する際に、第1三方弁80を第3連通状態とし、かつ、第2三方弁82を第5連通状態とする(図4、図5参照)。この状態から、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図5に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、追い焚き運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、追い焚き運転を終了する。
(Reheating operation)
The reheating operation starts when the user instructs the start of the reheating operation on the remote control 154. Alternatively, the reheating operation may start when the control device 150 determines that the temperature detected by the circulation return thermistor 32a does not reach the set temperature after the first heat source unit 12 has finished heating the water during the bath filling operation. When starting the reheating operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 to the third communication state and the second three-way valve 82 to the fifth communication state (see Figures 4 and 5). From this state, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating the water by the second heat source unit 14. As a result, as shown in Figure 5, the water in the bathtub 130 is sent to the second heat source unit 14 via the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, the heat source return path 60, and the circulation return path 32. The water heated by the second heat source unit 14 is returned to the bathtub 130 via the circulation outward path 30, the heat source outward path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. When the temperature detected by the circulation return thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the heating of water by the second heat source unit 14. The control device 150 then notifies the user via the remote control 154 that the reheating operation has been completed, and ends the reheating operation.
(微細気泡発生運転)
微細気泡発生運転は、ユーザがリモコン154において微細気泡発生運転の開始を指示した場合に開始する。また、本実施例の温水装置2では、上記した湯はり運転が完了した後に、自動的に微細気泡発生運転も開始する。すなわち、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転が実行される。制御装置150は、微細気泡発生運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。また、制御装置150は、タンク給水弁86を開状態とする。この状態から、制御装置150は、図7に示す処理を実行する。
(Fine bubble generation operation)
The fine bubble generating operation is started when the user instructs the start of the fine bubble generating operation on the remote control 154. In addition, in the hot water device 2 of this embodiment, the fine bubble generating operation is also automatically started after the above-mentioned water filling operation is completed. In other words, the fine bubble generating operation is executed in conjunction with the execution of the water filling operation. When starting the fine bubble generating operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 to the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figures 4 and 5). In addition, the control device 150 sets the tank water supply valve 86 to an open state. From this state, the control device 150 executes the process shown in Figure 7.
S2では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間で水が循環する。 In S2, the control device 150 drives the tank circulation pump 94. This causes water to circulate between the tank 52 and the tank circulation path 92.
S4では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水に、空気が導入される。 In S4, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This introduces air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S6では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。具体的には、図6に示すように、制御装置150は、第1三方弁80を第1連通状態とし、第2三方弁82を第4連通状態とした上で、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を駆動する。これによって、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第2浴槽水路70、第2三方弁82、連通路66、熱源復路60、循環復路32、第2熱源機14、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74を経由して、タンク52に供給される。この際に、タンク復路74からタンク52には、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によって加圧された水が供給される。これによって、タンク52の内部において、水に空気が加圧溶解される。そして、空気が加圧溶解された水は、タンク52から、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に供給される。この際に、空気が加圧溶解された水は、浴槽アダプタ132の第1吐出路136aの微細気泡発生ノズル142を通過する際に、大気圧以下まで減圧され、浴槽130に噴出される際に、大気圧まで増圧されて、浴槽130の水に微細気泡が発生する。 In S6, the control device 150 starts supplying water containing dissolved air from the tank 52 to the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 6, the control device 150 sets the first three-way valve 80 to the first communication state, sets the second three-way valve 82 to the fourth communication state, and drives the bathtub circulation pump 34, the first pressurizing pump 88, and the second pressurizing pump 90. As a result, water from the bathtub 130 is supplied to the tank 52 via the bathtub adapter 132, the second bathtub water passage 70, the second three-way valve 82, the communication passage 66, the heat source return path 60, the circulation return path 32, the second heat source unit 14, the circulation outward path 30, the heat source outward path 68, and the tank return path 74. At this time, water pressurized by the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 is supplied from the tank return path 74 to the tank 52. As a result, air is pressurized and dissolved in the water inside the tank 52. The water with the air dissolved under pressure is then supplied to the bathtub 130 from the tank 52 via the tank outflow path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water path 62, and the bathtub adapter 132. At this time, the water with the air dissolved under pressure is depressurized to below atmospheric pressure as it passes through the fine bubble generating nozzle 142 of the first discharge path 136a of the bathtub adapter 132, and is pressurized to atmospheric pressure as it is sprayed into the bathtub 130, generating fine bubbles in the water in the bathtub 130.
S8では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。本実施例では、気体導入機構96において、気体導入弁106を開いている時に導入される空気量は、浴槽130の水において発生する微細気泡の空気量よりも多い。このため、気体導入弁106を開いた状態では、タンク52内の空気量が増大していき、タンク52の水位は下降していく。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS8を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS10へ進む。 In S8, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 falls below the boundary water level based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54. In this embodiment, the amount of air introduced into the gas introduction mechanism 96 when the gas introduction valve 106 is open is greater than the amount of air in the fine bubbles generated in the water of the bathtub 130. Therefore, when the gas introduction valve 106 is open, the amount of air in the tank 52 increases and the water level of the tank 52 falls. If the water level of the tank 52 is equal to or greater than the boundary water level (NO), the process repeats S8. If the water level of the tank 52 falls below the boundary water level (YES), the process proceeds to S10.
S10では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。気体導入弁106を閉じた状態では、タンク52に空気が供給されないので、タンク52内の空気量が減少していき、タンク52の水位は上昇していく。なお、本実施例では、気体導入弁106を閉じている間も、タンク循環ポンプ94の駆動はそのまま継続する。これによって、タンク52内での水の流動が促進されて、タンク52における水への空気の加圧溶解が促進される。 In S10, the control device 150 closes the gas introduction valve 106. This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92. With the gas introduction valve 106 closed, no air is supplied to the tank 52, so the amount of air in the tank 52 decreases and the water level in the tank 52 rises. Note that in this embodiment, the tank circulation pump 94 continues to operate even while the gas introduction valve 106 is closed. This promotes the flow of water in the tank 52 and promotes the pressurized dissolution of air into the water in the tank 52.
S12では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位上昇時間の計時を開始する。 In S12, the control device 150 starts timing the water level rise time using a built-in timer (not shown).
S14では、制御装置150は、S12で計時を開始した水位上昇時間が、第1所定時間(例えば90秒)を上回るか否かを判断する。水位上昇時間が第1所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS14を繰り返す。水位上昇時間が第1所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS16へ進む。 In S14, the control device 150 determines whether the water level rise time, which began to be timed in S12, exceeds a first predetermined time (e.g., 90 seconds). If the water level rise time is equal to or less than the first predetermined time (NO), the process repeats S14. If the water level rise time exceeds the first predetermined time (YES), the process proceeds to S16.
S16では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位上昇時間の計時を終了する。 In S16, the control device 150 ends the measurement of the water level rise time using a built-in timer (not shown).
S18では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。 In S18, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This resumes the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S20では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、吸気時間の計時を開始する。 In S20, the control device 150 starts timing the inhalation time using a built-in timer (not shown).
S22では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS22を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS24へ進む。 In S22, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 falls below the boundary water level based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54. If the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (NO), the process repeats S22. If the water level of the tank 52 falls below the boundary water level (YES), the process proceeds to S24.
S24では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 In S24, the control device 150 closes the gas introduction valve 106. This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S26では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、吸気時間の計時を終了する。なお、制御装置150は、計時を終了したときの吸気時間をメモリ152に記憶する。 In S26, the control device 150 ends the measurement of the inhalation time using a built-in timer (not shown). The control device 150 stores the inhalation time when the measurement is ended in the memory 152.
S28では、制御装置150は、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が、所定の上限吸気時間(例えば120秒)を上回るか否かを判断する。吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS30へ進む。吸気時間が上限吸気時間以下である場合(NOの場合)、処理はS32へ進む。 In S28, the control device 150 determines whether the intake time stored in the memory 152 in S26 exceeds a predetermined upper intake time limit (e.g., 120 seconds). If the intake time exceeds the upper intake time limit (YES), the process proceeds to S30. If the intake time is equal to or less than the upper intake time limit (NO), the process proceeds to S32.
S30では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が減少する。S30の後、処理はS32へ進む。 In S30, the control device 150 reduces the rotational speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). This reduces the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S30, the process proceeds to S32.
S32では、制御装置150は、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が、所定の下限吸気時間(例えば60秒)を下回るか否かを判断する。吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(YESの場合)、処理はS34へ進む。吸気時間が下限吸気時間以上である場合(NOの場合)、処理はS36へ進む。 In S32, the control device 150 determines whether the intake time stored in the memory 152 in S26 is below a predetermined lower limit intake time (e.g., 60 seconds). If the intake time is below the lower limit intake time (YES), the process proceeds to S34. If the intake time is equal to or greater than the lower limit intake time (NO), the process proceeds to S36.
S34では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が増加する。S34の後、処理はS36へ進む。 In S34, the control device 150 increases the rotation speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). This increases the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S34, the process proceeds to S36.
S36では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断する。本実施例では、停止条件は、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることである。微細気泡発生運転の運転時間とは、微細気泡発生運転を開始してからの経過時間である。本実施例の温水装置2では、湯はり運転の実行と連動せずに、微細気泡発生運転が単独で実行される場合、設定時間は例えば10分間に設定されている。これとは異なり、湯はり運転の実行と連動して微細気泡発生運転が実行される場合、設定時間は例えば30分間に設定されている。停止条件が満たされない場合(NOの場合)、処理はS12に戻る。停止条件が満たされる場合(YESの場合)、処理はS38へ進む。 In S36, the control device 150 determines whether the stop condition for stopping the fine bubble generating operation is satisfied. In this embodiment, the stop condition is that the operation time of the fine bubble generating operation has reached the set time. The operation time of the fine bubble generating operation is the elapsed time since the start of the fine bubble generating operation. In the hot water device 2 of this embodiment, when the fine bubble generating operation is performed independently without being linked to the execution of the water filling operation, the set time is set to, for example, 10 minutes. In contrast, when the fine bubble generating operation is performed in conjunction with the execution of the water filling operation, the set time is set to, for example, 30 minutes. If the stop condition is not satisfied (NO), the process returns to S12. If the stop condition is satisfied (YES), the process proceeds to S38.
S38では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止処理(図8参照)を実行する。S38の後、図7の処理は終了する。 In S38, the control device 150 executes a stop process (see FIG. 8) to stop the microbubble generating operation. After S38, the process in FIG. 7 ends.
以上では、制御装置150は、S36の処理において、停止条件が満たされるか否かを判断するように説明した。しかしながら、制御装置150は、S2からS34の処理の実行中であっても、停止条件が満たされるか否かを判断することができる。そして、制御装置150は、S2からS34の処理の実行中であっても、停止条件が満たされると判断する場合には、実行中の処理を中止し、S38の処理(すなわち、停止処理)を実行するように構成されている。 In the above, it has been described that the control device 150 determines whether or not the stop condition is satisfied in the process of S36. However, the control device 150 can determine whether or not the stop condition is satisfied even during the execution of the processes from S2 to S34. Furthermore, the control device 150 is configured to stop the process being executed and execute the process of S38 (i.e., the stop process) if it determines that the stop condition is satisfied even during the execution of the processes from S2 to S34.
(停止処理)
図8に示すように、S52では、制御装置150は、気体導入弁106が閉じられている場合には、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。
(Stopping process)
8, in S52, if the gas introduction valve 106 is closed, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This restarts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S54では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位を下回るか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位以上の場合(NOの場合)、処理はS54を繰り返す。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS56へ進む。 In S54, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 falls below the boundary water level based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54. If the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (NO), the process repeats S54. If the water level of the tank 52 falls below the boundary water level (YES), the process proceeds to S56.
S56では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 In S56, the control device 150 closes the gas introduction valve 106. This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S58では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位上昇時間の計時を開始する。 In S58, the control device 150 starts timing the water level rise time using a built-in timer (not shown).
S60では、制御装置150は、S58で計時を開始した水位上昇時間が、第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間(例えば180秒)を上回るか否かを判断する。水位上昇時間が第2所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS60を繰り返す。水位上昇時間が第2所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS62へ進む。 In S60, the control device 150 determines whether the water level rise time, which began to be timed in S58, exceeds a second predetermined time (e.g., 180 seconds), which is longer than the first predetermined time. If the water level rise time is equal to or shorter than the second predetermined time (NO), the process repeats S60. If the water level rise time exceeds the second predetermined time (YES), the process proceeds to S62.
S62では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位上昇時間の計時を終了する。 In S62, the control device 150 ends the measurement of the water level rise time using a built-in timer (not shown).
S64では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を停止して、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を終了する。 In S64, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34, the first pressure pump 88, and the second pressure pump 90, and ends the supply of air-dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130.
S66では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を停止する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間での水の循環が終了する。S66の後、図8の処理は終了する。 In S66, the control device 150 stops the tank circulation pump 94. This ends the circulation of water between the tank 52 and the tank circulation path 92. After S66, the processing in FIG. 8 ends.
このように、停止処理において、制御装置150は、水位電極54を水に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。この際、図8の処理を終了した時点でのタンク52の水位は、図7のS18で気体導入弁106を開く時点でのタンク52の水位よりも高いので、水位電極54は、通常運転時に水に浸される部分よりも上方の部分まで水に浸されている。これにより、水位電極54におけるヌメリの発生を適切に抑制することができる。 In this way, in the stop process, the control device 150 can stop the fine bubble generating operation with the water level electrode 54 submerged in water. At this time, since the water level in the tank 52 at the time the process in FIG. 8 is completed is higher than the water level in the tank 52 at the time the gas introduction valve 106 is opened in S18 in FIG. 7, the water level electrode 54 is submerged in water up to a part above the part that is submerged in water during normal operation. This makes it possible to appropriately suppress the occurrence of slime on the water level electrode 54.
(実施例2)
本実施例の温水装置2は、実施例1の温水装置2と略同様の構成を備えている。本実施例の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図7に示す処理を実行する代わりに、図9に示す処理を実行する。以下では、図9に示す処理について、図7に示す処理と相違する点について説明する。
Example 2
The hot water device 2 of this embodiment has a configuration substantially similar to that of the hot water device 2 of embodiment 1. In the hot water device 2 of this embodiment, when performing the fine bubble generating operation, the control device 150 performs the process shown in Fig. 9 instead of the process shown in Fig. 7. The following describes the process shown in Fig. 9 in terms of differences from the process shown in Fig. 7.
図9に示す処理では、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(S28でYESの場合)、処理はS70へ進む。S70では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が増加する。S70の後、処理はS32へ進む。 In the process shown in FIG. 9, if the intake time stored in memory 152 in S26 exceeds the upper intake time limit (YES in S28), the process proceeds to S70. In S70, the control device 150 increases the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). This increases the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open. After S70, the process proceeds to S32.
一方、S26でメモリ152に記憶された吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(S32でYESの場合)、処理はS72へ進む。S72では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が減少する。S72の後、処理はS36へ進む。 On the other hand, if the intake time stored in memory 152 in S26 falls below the lower limit intake time (YES in S32), processing proceeds to S72. In S72, the control device 150 reduces the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 decreases. After S72, processing proceeds to S36.
なお、図9に示す処理のS70においては、制御装置150は、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させるものの、その後に気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させない構成としてもよい。同様に、図9に示す処理のS72においては、制御装置150は、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させるものの、その後に気体導入弁106を閉じた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する場合のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させない構成としてもよい。 In addition, in S70 of the process shown in FIG. 9, the control device 150 may be configured to increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, but not to increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 closed. Similarly, in S72 of the process shown in FIG. 9, the control device 150 may be configured to reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, but not to reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 closed.
(実施例3)
本実施例の温水装置2は、実施例1の温水装置2と略同様の構成を備えている。本実施例の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図7に示す処理を実行する代わりに、図10に示す処理を実行する。
Example 3
The hot water device 2 of this embodiment has a configuration substantially similar to that of the hot water device 2 of Example 1. In the hot water device 2 of this embodiment, when performing the fine bubble generating operation, the control device 150 executes the process shown in Fig. 10 instead of executing the process shown in Fig. 7 .
S82では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52とタンク循環路92の間で水が循環する。 In S82, the control device 150 drives the tank circulation pump 94. This causes water to circulate between the tank 52 and the tank circulation path 92.
S84では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。この際、制御装置150は、図7のS8と同様の処理を行う。 In S84, the control device 150 starts supplying the air-dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130. At this time, the control device 150 performs the same process as S8 in FIG. 7.
S86では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位以上であるか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(NOの場合)、処理はS86を繰り返す。タンク52の水位が境界水位以上の場合(YESの場合)、処理はS88へ進む。 In S86, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54. If the water level of the tank 52 is below the boundary water level (NO), the process repeats S86. If the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (YES), the process proceeds to S88.
S88では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が開始される。 In S88, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This starts the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S90では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、水位下降時間の計時を開始する。 In S90, the control device 150 starts timing the water level drop time using a built-in timer (not shown).
S92では、制御装置150は、S90で計時を開始した水位下降時間が、第3所定時間(例えば90秒)を上回るか否かを判断する。水位下降時間が第3所定時間以下の場合(NOの場合)、処理はS92を繰り返す。水位下降時間が第3所定時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS94へ進む。 In S92, the control device 150 determines whether the water level drop time, which began to be measured in S90, exceeds a third predetermined time (e.g., 90 seconds). If the water level drop time is equal to or less than the third predetermined time (NO), the process repeats S92. If the water level drop time exceeds the third predetermined time (YES), the process proceeds to S94.
S94では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、水位下降時間の計時を終了する。 In S94, the control device 150 ends the measurement of the water level drop time using a built-in timer (not shown).
S96では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。 In S96, the control device 150 closes the gas introduction valve 106. This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S98では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)を用いて、排気時間の計時を開始する。 In S98, the control device 150 starts timing the exhaust time using a built-in timer (not shown).
S100では、制御装置150は、水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、タンク52の水位が境界水位以上であるか否かを判断する。タンク52の水位が境界水位を下回る場合(NOの場合)、処理はS100を繰り返す。タンク52の水位が境界水位以上の場合(YESの場合)、処理はS102へ進む。 In S100, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54. If the water level of the tank 52 is below the boundary water level (NO), the process repeats S100. If the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level (YES), the process proceeds to S102.
S102では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク循環路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。 In S102, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This resumes the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank circulation path 92.
S104では、制御装置150は、内蔵されたタイマ(図示せず)による、排気時間の計時を終了する。なお、制御装置150は、計時を終了したときの排気時間をメモリ152に記憶する。 In S104, the control device 150 ends the measurement of the exhaust time using a built-in timer (not shown). The control device 150 stores the exhaust time when the measurement is ended in the memory 152.
S106では、制御装置150は、S104でメモリ152に記憶された排気時間が、所定の上限排気時間(例えば120秒)を上回るか否かを判断する。排気時間が上限排気時間を上回る場合(YESの場合)、処理はS108へ進む。排気時間が上限排気時間以下である場合(NOの場合)、処理はS110へ進む。 In S106, the control device 150 determines whether the exhaust time stored in the memory 152 in S104 exceeds a predetermined upper exhaust time limit (e.g., 120 seconds). If the exhaust time exceeds the upper exhaust time limit (YES), the process proceeds to S108. If the exhaust time is equal to or less than the upper exhaust time limit (NO), the process proceeds to S110.
S108では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が増加する。S108の後、処理はS110へ進む。 In S108, the control device 150 increases the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). This increases the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 are subsequently driven. After S108, the process proceeds to S110.
S110では、制御装置150は、S104でメモリ152に記憶された排気時間が、所定の下限排気時間(例えば60秒)を下回るか否かを判断する。排気時間が下限排気時間を下回る場合(YESの場合)、処理はS112へ進む。排気時間が下限排気時間以上である場合(NOの場合)、処理はS114へ進む。 In S110, the control device 150 determines whether the exhaust time stored in the memory 152 in S104 is below a predetermined lower limit exhaust time (e.g., 60 seconds). If the exhaust time is below the lower limit exhaust time (YES), the process proceeds to S112. If the exhaust time is equal to or greater than the lower limit exhaust time (NO), the process proceeds to S114.
S112では、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる。これによって、その後に第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90を駆動した場合に、タンク52に供給される水の量が減少する。S112の後、処理はS114へ進む。 In S112, the control device 150 reduces the rotational speeds of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 by a predetermined value (e.g., 10 Hz). This reduces the amount of water supplied to the tank 52 when the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are subsequently driven. After S112, the process proceeds to S114.
S114では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断する。停止条件が満たされない場合(NOの場合)、処理はS90に戻る。停止条件が満たされる場合(YESの場合)、処理はS116へ進む。 In S114, the control device 150 determines whether the stop condition for stopping the microbubble generating operation is satisfied. If the stop condition is not satisfied (NO), the process returns to S90. If the stop condition is satisfied (YES), the process proceeds to S116.
S116では、制御装置150は、微細気泡発生運転を停止するための停止処理(図8参照)を実行する。S116の後、図10の処理は終了する。 In S116, the control device 150 executes a stop process (see FIG. 8) to stop the microbubble generating operation. After S116, the process in FIG. 10 ends.
以上では、制御装置150は、S114の処理において、停止条件が満たされるか否かを判断するように説明した。しかしながら、制御装置150は、S82からS112の処理の実行中であっても、停止条件が満たされるか否かを判断することができる。そして、制御装置150は、S82からS112の処理の実行中であっても、停止条件が満たされると判断する場合には、実行中の処理を中止し、S116の処理(すなわち、停止処理)を実行するように構成されている。 In the above, it has been described that the control device 150 determines whether or not the stop condition is satisfied in the process of S114. However, the control device 150 can determine whether or not the stop condition is satisfied even during the execution of the processes from S82 to S112. Furthermore, the control device 150 is configured to stop the process being executed and execute the process of S116 (i.e., the stop process) if it determines that the stop condition is satisfied even during the execution of the processes from S82 to S112.
なお、図10に示す処理のS108においては、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させる代わりに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ低減させる構成としてもよい。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が減少する。同様に、図10に示す処理のS112においては、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させる代わりに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値(例えば10Hz)だけ増加させる構成としてもよい。これによって、その後に気体導入弁106を開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動した場合に、気体導入機構96で導入される空気の量が増加する。 10, the control device 150 may be configured to reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (e.g., 10 Hz) instead of increasing the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value. As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 decreases. Similarly, in S112 of the process shown in FIG. 10, the control device 150 may be configured to increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (e.g., 10 Hz) instead of reducing the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value. As a result, when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 increases.
(変形例)
上記の温水装置2では、タンク52に空気が導入されているが、空気に代えて、炭酸ガス、水素、酸素等の気体がタンク52に導入されてもよい。この場合、気体が充填されている気体充填タンク(図示せず)を気体導入路104の気体導入口104aに接続する構成とすればよい。
(Modification)
In the above-described hot water device 2, air is introduced into the tank 52, but instead of air, gas such as carbon dioxide gas, hydrogen, oxygen, etc. may be introduced into the tank 52. In this case, a gas-filled tank (not shown) filled with gas may be connected to the gas inlet 104a of the gas introduction path 104.
上記の温水装置2では、湯はり運転において、水量センサ28で検出される積算水量に基づいて、浴槽130に設定水量の水を溜めている。別の実施例では、温水装置2は、例えば浴槽130の水位を検出可能な水位センサを設けておいて、湯はり運転において、水位センサにより検出される浴槽130の水位に基づいて、浴槽130に設定水位の水を溜める構成としてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, during the bath filling operation, a set amount of water is stored in the bathtub 130 based on the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28. In another embodiment, the hot water device 2 may be configured to be provided with a water level sensor capable of detecting the water level of the bathtub 130, for example, and to store water at the set water level in the bathtub 130 based on the water level of the bathtub 130 detected by the water level sensor during the bath filling operation.
上記の温水装置2では、熱源ユニット10がカラン250に接続され、空気加圧溶解ユニット50が浴槽130に接続されている。別の実施例では、熱源ユニット10が他の温熱利用箇所に接続されていてもよいし、空気加圧溶解ユニット50が他の液槽に接続されていてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, the heat source unit 10 is connected to the faucet 250, and the air pressure dissolution unit 50 is connected to the bathtub 130. In another embodiment, the heat source unit 10 may be connected to another heat utilization location, and the air pressure dissolution unit 50 may be connected to another liquid tank.
上記の温水装置2では、タンク循環路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている。別の実施例では、タンク循環路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されていてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank circulation path 92. In another embodiment, the gas introduction mechanism 96 may be disposed downstream of the tank circulation pump 94 in the tank circulation path 92.
上記の温水装置2では、タンク循環路92の下流端が、第2加圧ポンプ90よりも下流側のタンク復路74に接続されている。別の実施例では、タンク循環路92の下流端は、タンク復路74に接続されていなくてもよく、タンク52に対してタンク復路74とは別個に設けられていてもよい。 In the hot water device 2 described above, the downstream end of the tank circulation path 92 is connected to the tank return path 74 downstream of the second pressure pump 90. In another embodiment, the downstream end of the tank circulation path 92 does not need to be connected to the tank return path 74, and may be provided separately from the tank return path 74 for the tank 52.
上記の温水装置2では、タンク52内の水位を検出するための水位電極が、水位電極54の1つのみ設けられている。別の実施例では、タンク52内の水位を検出するための水位電極は、複数設けられていてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, only one water level electrode, the water level electrode 54, is provided to detect the water level in the tank 52. In another embodiment, multiple water level electrodes may be provided to detect the water level in the tank 52.
上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して、微細気泡発生運転を実行するか否かを、ユーザがリモコン154を介して切り替え可能としてもよい。 In the hot water device 2 described above, the user may be able to switch via the remote control 154 whether or not to execute the fine bubble generating operation in conjunction with the execution of the hot water filling operation.
上記の温水装置2では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合(図7や図9のS28でYESの場合)、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させる(図7のS30)か、またはタンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ増加させる(図9のS70)ように構成されている。別の実施例では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ低減させるとともに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ増加させるように構成されていてもよい。さらに別の実施例では、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90、およびタンク循環ポンプ94の回転数を補正する代わりに、図7や図9のS14における第1所定時間を短縮するように構成されていてもよい。これによって、その後にタンク52の水位が境界水位を下回ることを検出してタンク52の水位を上昇させる場合(S8でYESの場合)に、タンク52の水位を上昇させる時間(S14を繰り返し実行する時間)が短縮される。 In the above hot water device 2, when the intake time exceeds the upper intake time limit (YES in S28 in FIG. 7 or FIG. 9), the control device 150 is configured to reduce the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value (S30 in FIG. 7) or increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (S70 in FIG. 9). In another embodiment, when the intake time exceeds the upper intake time limit, the control device 150 may be configured to reduce the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value and increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value. In yet another embodiment, when the intake time exceeds the upper intake time limit, the control device 150 may be configured to shorten the first predetermined time in S14 in FIG. 7 or FIG. 9 instead of correcting the rotation speeds of the first pressurizing pump 88, the second pressurizing pump 90, and the tank circulation pump 94. This reduces the time it takes to raise the water level in the tank 52 (the time it takes to repeatedly execute S14) when it is detected that the water level in the tank 52 has subsequently fallen below the boundary water level and the water level in the tank 52 is raised (YES in S8).
上記の温水装置2では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合(図7や図9のS32でYESの場合)、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させる(図7のS34)か、またはタンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ低減させる(図9のS72)ように構成されている。別の実施例では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数を所定値だけ増加させるとともに、タンク循環ポンプ94の回転数を所定値だけ低減させるように構成されていてもよい。さらに別の実施例では、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90、およびタンク循環ポンプ94の回転数を補正する代わりに、図7や図9のS14における第1所定時間を延長するように構成されていてもよい。これによって、その後にタンク52の水位が境界水位を下回ることを検出してタンク52の水位を上昇させる場合(S8でYESの場合)に、タンク52の水位を上昇させる時間(S14を繰り返し実行する時間)が延長される。 In the above hot water device 2, when the intake time is below the lower limit intake time (YES in S32 in FIG. 7 or FIG. 9), the control device 150 is configured to increase the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value (S34 in FIG. 7) or reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value (S72 in FIG. 9). In another embodiment, when the intake time is below the lower limit intake time, the control device 150 may be configured to increase the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 by a predetermined value and reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 by a predetermined value. In yet another embodiment, when the intake time is below the lower limit intake time, the control device 150 may be configured to extend the first predetermined time in S14 in FIG. 7 or FIG. 9 instead of correcting the rotation speeds of the first pressurizing pump 88, the second pressurizing pump 90, and the tank circulation pump 94. As a result, if it is subsequently detected that the water level in the tank 52 falls below the boundary water level and the water level in the tank 52 is raised (YES in S8), the time for which the water level in the tank 52 is raised (the time for which S14 is repeatedly executed) is extended.
上記の温水装置2では、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることである。別の実施例では、停止条件は、微細気泡発生運転の運転時間が設定時間に達していることでなくてもよい。例えば、停止条件は、リモコン154を介してユーザによって微細気泡発生運転の終了が指示されることであってもよい。 In the hot water device 2 described above, the stop condition for stopping the fine bubble generating operation is that the operating time of the fine bubble generating operation has reached a set time. In another embodiment, the stop condition does not have to be that the operating time of the fine bubble generating operation has reached a set time. For example, the stop condition may be that the user issues an instruction to end the fine bubble generating operation via the remote control 154.
上記の温水装置2における水位電極54の長さは、適宜変更されてもよい。すなわち、上記の温水装置2における境界水位は、適宜変更されてもよい。 The length of the water level electrode 54 in the above-mentioned hot water device 2 may be changed as appropriate. In other words, the boundary water level in the above-mentioned hot water device 2 may be changed as appropriate.
上記の温水装置2における、第1所定時間、第2所定時間、第3所定時間、上限吸気時間、下限吸気時間、第1加圧ポンプ88および第2加圧ポンプ90の回転数の補正値、タンク循環ポンプ94の回転数の補正値、および微細気泡運転を停止するための設定時間のそれぞれは、適宜変更されてもよい。 In the above hot water device 2, the first specified time, the second specified time, the third specified time, the upper limit intake time, the lower limit intake time, the correction value for the rotation speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90, the correction value for the rotation speed of the tank circulation pump 94, and the set time for stopping the fine bubble operation may each be changed as appropriate.
(対応関係)
以上のように、1つまたはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64および第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された給水口74a(流入口の例)に水を送るタンク循環路92と、タンク循環路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク循環路92に設けられた気体導入機構96と、タンク52の水位が境界水位(所定液位の例)以上であるか否かを検出可能な水位電極54(液位電極の例)と、制御装置150と、を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口104aと、気体導入口104aを開閉する気体導入弁106と、を備えている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動してタンク52の水をタンク循環路92で循環させることで、気体導入口104aから導入される空気をタンク52に供給し、水位電極54から出力されるON信号の有無(液位電極によって検出されるタンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報の例)に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御する。
(Correspondence)
As described above, in one or more embodiments, the hot water device 2 (an example of a fine bubble generating device) includes the tank 52 for pressurizing and dissolving air (an example of a gas) in water (an example of a liquid), the tank return path 74 (an example of a tank supply path) for supplying water to the tank 52, the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 (an example of a pressure pump) provided in the tank return path 74, the tank forward path 64 for discharging the water in which the air has been pressurized and dissolved from the tank 52 to the bathtub 130 (an example of a liquid tank), the first bathtub water path 62, the bathtub adaptor 132 (an example of a tank discharge path), and the bathtub adaptor 132. The apparatus includes a fine bubble generating nozzle 142 that generates fine bubbles by reducing the pressure of the water, a tank circulation path 92 that is provided separately from the tank outflow path 64, the first bath water path 62, and the bath adapter 132 and sends water from an outlet 92a connected to the tank 52 to a water supply port 74a (an example of an inlet) connected to the tank 52, a tank circulation pump 94 provided in the tank circulation path 92, a gas introduction mechanism 96 provided in the tank circulation path 92, a water level electrode 54 (an example of a liquid level electrode) that can detect whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than a boundary water level (an example of a predetermined liquid level), and a control device 150. The gas introduction mechanism 96 includes a Venturi tube 102 (an example of a pressure reducing section) that reduces the pressure of the water and passes it through, a gas introduction port 104a that introduces air by the negative pressure of the water in the Venturi tube 102, and a gas introduction valve 106 that opens and closes the gas introduction port 104a. The control device 150 can execute a fine bubble generating operation, in which water is pressurized and supplied from the tank return line 74 to the tank 52 by driving the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90, and water in which air is pressurized and dissolved is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 via the tank forward line 64, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132. The control device 150 supplies air introduced from the gas inlet 104a to the tank 52 by driving the tank circulation pump 94 to circulate the water in the tank 52 through the tank circulation line 92, and controls the opening and closing operation of the gas introduction valve 106 based on the presence or absence of an ON signal output from the water level electrode 54 (an example of information related to whether the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level).
1つまたはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64および第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された給水口74a(流入口の例)に水を送るタンク循環路92と、タンク循環路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク循環路92に設けられた気体導入機構96と、タンク52の水位が境界水位(所定液位の例)以上であるか否かを検出可能な単一の水位電極54(液位電極の例)と、制御装置150と、を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口104aと、気体導入口104aを開閉する気体導入弁106と、を備えている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動してタンク52の水をタンク循環路92で循環させることで、気体導入口104aから導入される空気をタンク52に供給し、単一の水位電極54から出力されるON信号の有無(液位電極によって検出されるタンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報の例)に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御する。 In one or more embodiments, the hot water device 2 (an example of a fine bubble generating device) includes a tank 52 that pressurizes and dissolves air (an example of a gas) in water (an example of a liquid), a tank return line 74 (an example of a tank supply line) that supplies water to the tank 52, a first pressure pump 88 and a second pressure pump 90 (an example of a pressure pump) provided in the tank return line 74, a tank forward line 64 that discharges water in which air has been pressurized and dissolved from the tank 52 to a bathtub 130 (an example of a liquid tank), a first bathtub water line 62, a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge line), and a bathtub adapter 132 that is provided with a tank outlet line 64 that discharges water in which air has been pressurized and dissolved from the tank 52 to a bathtub 130 (an example of a liquid tank). The device includes a fine bubble generating nozzle 142 that generates fine bubbles by applying pressure to the tank, a tank circulation path 92 that is provided separately from the tank outflow path 64, the first bathtub water path 62, and the bathtub adapter 132 and sends water from an outlet 92a connected to the tank 52 to a water supply port 74a (an example of an inlet) connected to the tank 52, a tank circulation pump 94 provided in the tank circulation path 92, a gas introduction mechanism 96 provided in the tank circulation path 92, a single water level electrode 54 (an example of a liquid level electrode) that can detect whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than a boundary water level (an example of a predetermined liquid level), and a control device 150. The gas introduction mechanism 96 includes a Venturi tube 102 (an example of a pressure reducing section) that reduces the pressure of the water and passes it through, a gas introduction port 104a that introduces air by the negative pressure of the water in the Venturi tube 102, and a gas introduction valve 106 that opens and closes the gas introduction port 104a. The control device 150 can perform a fine bubble generating operation by driving the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 to pressurize and supply water from the tank return line 74 to the tank 52, and supplying water with air pressurized and dissolved therein from the tank 52 to the bathtub 130 via the tank forward line 64, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132. The control device 150 drives the tank circulation pump 94 to circulate the water in the tank 52 through the tank circulation line 92, thereby supplying air introduced from the gas inlet 104a to the tank 52, and controlling the opening and closing of the gas introduction valve 106 based on the presence or absence of an ON signal output from a single water level electrode 54 (an example of information related to whether the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level).
上記の構成によれば、制御装置150は、1つの水位電極54から出力されるON信号の有無に基づいて、気体導入弁106の開閉動作を制御するように構成されている。このため、タンク52の水位に係る情報量を低減し、気体導入弁106の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 According to the above configuration, the control device 150 is configured to control the opening and closing operation of the gas introduction valve 106 based on the presence or absence of an ON signal output from one water level electrode 54. This reduces the amount of information related to the water level of the tank 52, and ensures rapid decision-making processing related to the opening and closing of the gas introduction valve 106.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、気体導入弁106が開いた状態で、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を閉じ、気体導入弁106を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が閉じた状態を維持し、第1所定時間の経過後に、気体導入弁106を開く。 In one or more embodiments, when the control device 150 detects via the water level electrode 54 that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level while the gas introduction valve 106 is open during the execution of the fine bubble generating operation, the control device 150 closes the gas introduction valve 106, keeps the gas introduction valve 106 closed until a first predetermined time has elapsed since the gas introduction valve 106 was closed, and opens the gas introduction valve 106 after the first predetermined time has elapsed.
温水装置2では、タンク52の水面から飛散した水滴が水位電極54に付着することで、水位電極54にヌメリが生じる可能性がある。水位電極54にヌメリが生じると、タンク52の水位を誤検出するおそれがある。例えば、温水装置2が下側水位電極と上側水位電極を備えており、制御装置150が、タンク52の水位が下側水位と上側水位の間で推移するように気体導入弁106の開閉動作の制御を実行する場合、上側水位電極は、ほぼ水に浸されない。このため、上側水位電極においてヌメリの発生を抑制できず、タンク52の水位を誤検出するおそれがある。上記の構成によれば、微細気泡発生運転の実行中、頻繁に水位電極54を水に浸すことで、水位電極54におけるヌメリの発生を抑制することができる。このため、タンク52の水位の誤検出を抑制できる。 In the hot water device 2, water droplets scattered from the water surface of the tank 52 may adhere to the water level electrode 54, which may cause slime to form on the water level electrode 54. If slime forms on the water level electrode 54, there is a risk of erroneous detection of the water level of the tank 52. For example, if the hot water device 2 has a lower water level electrode and an upper water level electrode, and the control device 150 controls the opening and closing operation of the gas introduction valve 106 so that the water level of the tank 52 transitions between the lower water level and the upper water level, the upper water level electrode is hardly immersed in water. For this reason, the occurrence of slime cannot be suppressed on the upper water level electrode, and there is a risk of erroneous detection of the water level of the tank 52. According to the above configuration, the occurrence of slime on the water level electrode 54 can be suppressed by frequently immersing the water level electrode 54 in water during the execution of the fine bubble generation operation. Therefore, erroneous detection of the water level of the tank 52 can be suppressed.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動する際の第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を低減させる。 In one or more embodiments, the control device 150, during the execution of the fine bubble generating operation, determines the elapsed time from when the gas introduction valve 106, which is in a closed state, is opened until the water level electrode 54 detects that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level and closes the gas introduction valve 106 as the intake time, and if the intake time exceeds the upper intake time limit, reduces the rotation speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when driving the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 thereafter.
吸気時間が長すぎる場合、タンク52に供給される水の量が多すぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が少なすぎることが想定される。また、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数が高いほどタンク52に供給される水の量は増加し、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数が低いほどタンク52に供給される水の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を低減させることで、タンク52に供給される水の量を減少させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that the amount of water supplied to the tank 52 is too large or the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is too small. In addition, the higher the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90, the more water is supplied to the tank 52, and the lower the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90, the less water is supplied to the tank 52. According to the above configuration, when the intake time exceeds the upper intake time limit, i.e., when the intake time is too long, the rotation speed of the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 is reduced to reduce the amount of water supplied to the tank 52 and shorten the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動する際の第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を増加させる。 In one or more embodiments, the control device 150, during the execution of the fine bubble generating operation, determines the elapsed time from when the gas introduction valve 106, which is in a closed state, is opened until the water level electrode 54 detects that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level and closes the gas introduction valve 106 as the intake time, and if the intake time falls below the lower limit intake time, increases the rotation speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 when driving them thereafter.
吸気時間が短すぎる場合、タンク52に供給される水の量が少なすぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の回転数を増加させることで、タンク52に供給される水の量を増加させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that the amount of water supplied to the tank 52 is too small, or the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is too large. With the above configuration, if the intake time falls below the lower limit intake time, i.e., if the intake time is too short, the rotation speed of the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 can be increased to increase the amount of water supplied to the tank 52 and extend the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に気体導入弁106が開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する際のタンク循環ポンプ94の回転数を増加させる。 In one or more embodiments, the control device 150, during the execution of the fine bubble generating operation, determines the elapsed time from when the gas introduction valve 106, which is in a closed state, is opened until the water level electrode 54 detects that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level and closes the gas introduction valve 106 as the intake time, and if the intake time exceeds the upper intake time limit, increases the rotation speed of the tank circulation pump 94 when driving the tank circulation pump 94 with the gas introduction valve 106 open thereafter.
吸気時間が長すぎる場合、タンク52に供給される水の量が多すぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が少なすぎることが想定される。また、気体導入弁106が開いた状態では、タンク循環ポンプ94の回転数が高いほど気体導入機構96で導入される空気の量は増加し、タンク循環ポンプ94の回転数が低いほど気体導入機構96で導入される空気の量は減少する。上記の構成によれば、吸気時間が上限吸気時間を上回る場合、すなわち、吸気時間が長すぎる場合に、タンク循環ポンプ94の回転数を増加させることで、気体導入機構96で導入される空気の量を増加させ、吸気時間の短縮を図ることができる。 If the intake time is too long, it is assumed that either too much water is being supplied to the tank 52 or too little air is being introduced by the gas introduction mechanism 96. Furthermore, when the gas introduction valve 106 is open, the higher the rotation speed of the tank circulation pump 94, the greater the amount of air being introduced by the gas introduction mechanism 96, and the lower the rotation speed of the tank circulation pump 94, the less the amount of air being introduced by the gas introduction mechanism 96. With the above configuration, if the intake time exceeds the upper intake time limit, i.e., if the intake time is too long, the rotation speed of the tank circulation pump 94 can be increased to increase the amount of air being introduced by the gas introduction mechanism 96 and shorten the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、閉じた状態にある気体導入弁106を開いてから、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出して気体導入弁106を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に気体導入弁106が開いた状態でタンク循環ポンプ94を駆動する際のタンク循環ポンプ94の回転数を低減させる。 In one or more embodiments, the control device 150, during execution of the fine bubble generating operation, determines the elapsed time from when the gas introduction valve 106, which is in a closed state, is opened until the water level electrode 54 detects that the water level in the tank 52 is lower than the boundary water level and closes the gas introduction valve 106 as the intake time, and if the intake time falls below the lower limit intake time, reduces the rotation speed of the tank circulation pump 94 when the tank circulation pump 94 is subsequently driven with the gas introduction valve 106 open.
吸気時間が短すぎる場合、タンク52に供給される水の量が少なすぎるか、または気体導入機構96で導入される空気の量が多すぎることが想定される。上記の構成によれば、吸気時間が下限吸気時間を下回る場合、すなわち、吸気時間が短すぎる場合に、タンク循環ポンプ94の回転数を低減させることで、気体導入機構96で導入される空気の量を減少させ、吸気時間の延長を図ることができる。 If the intake time is too short, it is assumed that either the amount of water supplied to the tank 52 is too small or the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is too large. With the above configuration, if the intake time falls below the lower limit intake time, i.e., if the intake time is too short, the rotation speed of the tank circulation pump 94 is reduced to reduce the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 and extend the intake time.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、停止条件が満たされる場合に、微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行する。制御装置150は、停止処理が実行されると、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90およびタンク循環ポンプ94を駆動した状態で気体導入弁106を開き、気体導入弁106が開いた状態で、タンク52の水位が境界水位より低いことを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を閉じ、気体導入弁106を閉じてから、第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が閉じた状態を維持し、第2所定時間の経過後に、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90およびタンク循環ポンプ94を停止して微細気泡発生運転を停止する。 In one or more embodiments, the control device 150 is capable of determining whether or not a stop condition for stopping the fine bubble generating operation is satisfied during the execution of the fine bubble generating operation, and executes a stop process for stopping the fine bubble generating operation when the stop condition is satisfied. When the stop process is executed, the control device 150 opens the gas introduction valve 106 while driving the first pressurizing pump 88, the second pressurizing pump 90, and the tank circulation pump 94, and when the water level electrode 54 detects that the water level of the tank 52 is lower than the boundary water level while the gas introduction valve 106 is open, closes the gas introduction valve 106, and maintains the gas introduction valve 106 closed until a second predetermined time, which is longer than the first predetermined time, has elapsed since the gas introduction valve 106 was closed, and after the second predetermined time has elapsed, stops the first pressurizing pump 88, the second pressurizing pump 90, and the tank circulation pump 94 to stop the fine bubble generating operation.
上記の構成によれば、水位電極54を水に浸した状態で、微細気泡発生運転を停止することができる。これにより、水位電極54におけるヌメリの発生を抑制し、タンク52の水位の誤検出を抑制できる。また、上記の構成によれば、微細気泡発生運転を停止する際、水位電極54は、通常運転時に水に浸される部分よりも上方の部分まで水に浸されている。したがって、より適切に水位電極54におけるヌメリの発生を抑制することができる。 According to the above configuration, the microbubble generating operation can be stopped while the water level electrode 54 is submerged in water. This can suppress the occurrence of slime on the water level electrode 54 and suppress erroneous detection of the water level of the tank 52. Furthermore, according to the above configuration, when the microbubble generating operation is stopped, the water level electrode 54 is submerged in water up to a portion above the portion that is submerged in water during normal operation. Therefore, the occurrence of slime on the water level electrode 54 can be more appropriately suppressed.
1つまたはそれ以上の実施形態において、制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中、気体導入弁106が閉じた状態で、タンク52の水位が境界水位以上であることを水位電極54によって検出した場合に、気体導入弁106を開き、気体導入弁106を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、気体導入弁106が開いた状態を維持し、第3所定時間の経過後に、気体導入弁106を閉じる。 In one or more embodiments, when the control device 150 detects via the water level electrode 54 that the water level of the tank 52 is equal to or higher than the boundary water level while the gas introduction valve 106 is closed during the execution of the fine bubble generating operation, the control device 150 opens the gas introduction valve 106, keeps the gas introduction valve 106 open until a third predetermined time has elapsed since the gas introduction valve 106 was opened, and closes the gas introduction valve 106 after the third predetermined time has elapsed.
例えば、温水装置2が下側水位電極と上側水位電極を備えており、制御装置150が、タンク52の水位が下側水位と上側水位の間で推移するように気体導入弁106の開閉動作の制御を実行する場合、下側水位電極の長さを比較的長くする必要がある。この場合、温水装置2全体の重量化につながる可能性がある。上記の構成によれば、水位電極54の長さを比較的短くすることができる。このため、温水装置2全体の軽量化を図ることができる。 For example, if the hot water device 2 is equipped with a lower water level electrode and an upper water level electrode, and the control device 150 controls the opening and closing operation of the gas introduction valve 106 so that the water level of the tank 52 fluctuates between the lower water level and the upper water level, the length of the lower water level electrode needs to be relatively long. In this case, this may lead to an increase in the weight of the entire hot water device 2. With the above configuration, the length of the water level electrode 54 can be made relatively short. This allows the entire hot water device 2 to be made lighter.
1つまたはそれ以上の実施形態において、液体は、水である。液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽130である。 In one or more embodiments, the liquid is water. The liquid reservoir is a bathtub 130 in which a user bathes.
上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に微細気泡を発生させる温水装置2において、タンク52の水位に係る情報量を低減し、気体導入弁106の開閉に係る判断処理の迅速性を確保することができる。 With the above configuration, in the hot water heater 2 that generates fine bubbles in the water of the bathtub 130 that the user uses for bathing, the amount of information related to the water level of the tank 52 can be reduced, and rapid decision-making processing related to opening and closing the gas introduction valve 106 can be ensured.
以上、実施例について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。 Although the embodiments have been described in detail above, they are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and variations of the specific examples given above. The technical elements described in this specification or drawings are technically useful either alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims at the time of filing. Furthermore, the technology illustrated in this specification or drawings can achieve multiple objectives simultaneously, and achieving one of these objectives is itself technically useful.
2 :温水装置
10 :熱源ユニット
12 :第1熱源機
14 :第2熱源機
16 :給水路
18 :出湯路
18a :出湯温度サーミスタ
20 :バイパス路
22 :バイパスサーボ
24 :注湯路
26 :弁
28 :水量センサ
30 :循環往路
30a :循環往路サーミスタ
32 :循環復路
32a :循環復路サーミスタ
34 :浴槽循環ポンプ
36 :水流スイッチ
50 :空気加圧溶解ユニット
52 :タンク
54 :水位電極
60 :熱源復路
62 :第1浴槽水路
64 :タンク往路
66 :連通路
68 :熱源往路
70 :第2浴槽水路
74 :タンク復路
74a :給水口
80 :第1三方弁
82 :第2三方弁
84 :逆止弁
86 :タンク給水弁
88 :第1加圧ポンプ
90 :第2加圧ポンプ
92 :タンク循環路
92a :流出口
94 :タンク循環ポンプ
96 :気体導入機構
98 :入水管
100 :出水管
102 :ベンチュリ管
104 :気体導入路
104a :気体導入口
106 :気体導入弁
130 :浴槽
130a :壁部
132 :浴槽アダプタ
132a :前面
132b :下面
134a :第1吐出口
134b :第1吸込口
134c :第2吸込口
134d :第2吐出口
136 :第1水路
136a :第1吐出路
136b :第1吸込路
138 :第2水路
138a :第2吐出路
138b :第2吸込路
140a、140b、140c、140d :逆止部
142 :微細気泡発生ノズル
150 :制御装置
152 :メモリ
154 :リモコン
200 :給水源
250 :カラン
2: Hot water device 10: Heat source unit 12: First heat source unit 14: Second heat source unit 16: Water supply line 18: Hot water outlet line 18a: Outlet water temperature thermistor 20: Bypass line 22: Bypass servo 24: Hot water supply line 26: Valve 28: Water volume sensor 30: Circulation forward line 30a: Circulation forward line thermistor 32: Circulation return line 32a: Circulation return line thermistor 34: Bathtub circulation pump 36: Water flow switch 50: Air pressure dissolving unit 52: Tank 54: Water level electrode 60: Heat source return line 62: First bathtub water line 64: Tank forward line 66: Communication passage 68: Heat source forward line 70: Second bathtub water line 74: Tank return line 74a: Water supply port 80: First three-way valve 82: Second three-way valve 84 : check valve 86 : tank water supply valve 88 : first pressure pump 90 : second pressure pump 92 : tank circulation path 92a : outlet 94 : tank circulation pump 96 : gas introduction mechanism 98 : water inlet pipe 100 : water outlet pipe 102 : venturi tube 104 : gas introduction path 104a : gas introduction port 106 : gas introduction valve 130 : bathtub 130a : wall 132 : bathtub adapter 132a : front surface 132b : bottom surface 134a : first outlet port 134b : first suction port 134c : second suction port 134d : second outlet port 136 : first water passage 136a : first outlet passage 136b : first suction passage 138 : second water passage 138a : second outlet passage 138b : Second suction passage 140a, 140b, 140c, 140d : Non-return section 142 : Micro-bubble generating nozzle 150 : Control device 152 : Memory 154 : Remote control 200 : Water supply source 250 : Faucet
Claims (10)
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な液位電極と、
制御装置と、を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えており、
前記制御装置は、
前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、
前記液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する、微細気泡発生装置。 A tank for dissolving gas under pressure in liquid;
a tank supply line for supplying the liquid to the tank;
a pressure pump provided in the tank supply line;
a tank discharge passage for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank;
a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for generating fine bubbles by reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path that is provided separately from the tank discharge path and that sends the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
a liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level;
A control device,
The gas introduction mechanism includes:
a pressure reducing section for reducing the pressure of the liquid and passing the liquid therethrough;
a gas inlet port that introduces the gas by negative pressure of the liquid in the pressure reducing section;
a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port,
The control device includes:
a fine bubble generating operation can be performed in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path,
During the execution of the fine bubble generating operation,
The tank circulation pump is driven to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path, thereby supplying the gas introduced through the gas inlet to the tank;
a control unit for controlling an opening and closing operation of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank detected by the liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、
前記気体導入弁を閉じてから第1所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、
前記第1所定時間の経過後に、前記気体導入弁を開く、請求項1の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open, the gas introduction valve is closed;
The gas introduction valve is maintained in a closed state until a first predetermined time has elapsed since the gas introduction valve was closed;
2. The fine bubble generating device according to claim 1, wherein the gas introduction valve is opened after the first predetermined time has elapsed.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの回転数を低減させる、請求項2の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
specifying an intake time as an elapsed time from when the gas introduction valve is opened from the closed state until when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed;
3. The fine-bubble generating device according to claim 2, wherein, when the intake time exceeds an upper intake time limit, the number of revolutions of the pressure pump when the pressure pump is subsequently driven is reduced.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記加圧ポンプを駆動する際の前記加圧ポンプの前記回転数を増加させる、請求項2または3の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
specifying an intake time as an elapsed time from when the gas introduction valve is opened from the closed state until when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed;
4. The fine-bubble generating device according to claim 2, wherein, when the intake time falls below a lower limit intake time, the rotational speed of the pressure pump is increased when the pressure pump is subsequently driven.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が上限吸気時間を上回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの回転数を増加させる、請求項2から4の何れか一項の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
specifying an intake time as an elapsed time from when the gas introduction valve is opened from the closed state until when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed;
5. The fine-bubble generating device according to claim 2, wherein, when the intake time exceeds an upper limit intake time, the rotation speed of the tank circulating pump is increased when the tank circulating pump is driven thereafter with the gas introduction valve open.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記閉じた状態にある前記気体導入弁を開いてから、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出して前記気体導入弁を閉じるまでの経過時間を吸気時間として特定し、
前記吸気時間が下限吸気時間を下回る場合に、その後に前記気体導入弁が開いた状態で前記タンク循環ポンプを駆動する際の前記タンク循環ポンプの前記回転数を低減させる、請求項2から5の何れか一項の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
specifying an intake time as an elapsed time from when the gas introduction valve is opened from the closed state until when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level and the gas introduction valve is closed;
6. The fine-bubble generating device according to claim 2, wherein, when the intake time falls below a lower limit intake time, the rotation speed of the tank circulating pump is reduced when the tank circulating pump is subsequently driven with the gas introduction valve open.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記微細気泡発生運転を停止するための停止条件が満たされるか否かを判断可能であり、
前記停止条件が満たされる場合に、前記微細気泡発生運転を停止するための停止処理を実行し、
前記停止処理が実行されると、
前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを駆動した状態で前記気体導入弁を開き、
前記気体導入弁が開いた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位より低いことを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を閉じ、
前記気体導入弁を閉じてから、前記第1所定時間よりも長い時間である第2所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が閉じた状態を維持し、
前記第2所定時間の経過後に、前記加圧ポンプおよび前記タンク循環ポンプを停止して前記微細気泡発生運転を停止する、請求項2から6の何れか一項の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
It is possible to determine whether a stop condition for stopping the fine bubble generating operation is satisfied,
When the stop condition is satisfied, a stop process is executed to stop the fine bubble generating operation.
When the stop process is executed,
opening the gas introduction valve while driving the pressure pump and the tank circulation pump;
when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is lower than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is open, the gas introduction valve is closed;
The gas introduction valve is maintained in a closed state until a second predetermined time, which is longer than the first predetermined time, has elapsed since the gas introduction valve was closed;
7. The fine-bubble generating device according to claim 2, wherein the pressurizing pump and the tank circulating pump are stopped to stop the fine-bubble generating operation after the second predetermined time has elapsed.
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記気体導入弁が閉じた状態で、前記タンクの液位が前記所定液位以上であることを前記液位電極によって検出した場合に、前記気体導入弁を開き、
前記気体導入弁を開いてから第3所定時間が経過するまでの間、前記気体導入弁が開いた状態を維持し、
前記第3所定時間の経過後に、前記気体導入弁を閉じる、請求項1の微細気泡発生装置。 The control device includes:
During the execution of the fine bubble generating operation,
when the liquid level electrode detects that the liquid level in the tank is equal to or higher than the predetermined liquid level while the gas introduction valve is closed, the gas introduction valve is opened;
The gas introduction valve is maintained in an open state until a third predetermined time has elapsed since the gas introduction valve was opened,
2. The fine bubble generating device according to claim 1, wherein the gas introduction valve is closed after the third predetermined time has elapsed.
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かを検出可能な単一の液位電極と、
制御装置を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記気体導入口を開閉する気体導入弁と、を備えており、
前記制御装置は、
前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記微細気泡発生運転の実行中、
前記タンク循環ポンプを駆動して前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させることで、前記気体導入口から導入される前記気体を前記タンクに供給し、
前記単一の液位電極によって検出される前記タンクの液位が所定液位以上であるか否かに係る情報に基づいて、前記気体導入弁の開閉動作を制御する、微細気泡発生装置。 A tank for dissolving gas under pressure in liquid;
a tank supply line for supplying the liquid to the tank;
a pressure pump provided in the tank supply line;
a tank discharge passage for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank;
a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for generating fine bubbles by reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path that is provided separately from the tank discharge path and that sends the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
a single level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a predetermined liquid level;
A control device is provided.
The gas introduction mechanism includes:
a pressure reducing section for reducing the pressure of the liquid and passing the liquid therethrough;
a gas inlet port that introduces the gas by negative pressure of the liquid in the pressure reducing section;
a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port,
The control device includes:
a fine bubble generating operation can be performed in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path,
During the execution of the fine bubble generating operation,
The tank circulation pump is driven to circulate the liquid in the tank through the tank circulation path, thereby supplying the gas introduced through the gas inlet to the tank;
a control unit for controlling an opening and closing operation of the gas introduction valve based on information regarding whether the liquid level in the tank detected by the single liquid level electrode is equal to or higher than a predetermined liquid level.
前記液槽が、ユーザが入浴に使用する浴槽である、請求項1から9の何れか一項の微細気泡発生装置。
the liquid is water,
The fine bubble generating device according to claim 1 , wherein the liquid tank is a bathtub used by a user for bathing.
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