JP7709953B2 - Modified Hydrogenated Block Copolymer - Google Patents
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Description
本発明は、有機溶媒に可溶であり、透明性を有すると共に、剛性及び耐熱性を有し、金属等の基材との接着性に優れた変性水素化ブロックコポリマーを提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a modified hydrogenated block copolymer that is soluble in organic solvents, has transparency, rigidity and heat resistance, and has excellent adhesion to substrates such as metals.
一般に、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン類は、軽量で耐水性や耐薬品性、絶縁性があり、取扱いも容易であるため、各種成形加工で形状が付与され、様々な工業材料に用いられている。
また、ポリオレフィン類は主に炭素-水素から成っているため、その他の素材、例えば金属やガラス等との複合化は一般的に困難であり、その接着性を改良するために様々な発明がなされてきた。
中でも、有機カルボン酸やその無水物による酸変性による改質により、金属類との熱接着性が飛躍的に改善している(特許文献1及び2)。
In general, polyolefins such as polyethylene and polypropylene are lightweight, water-resistant, chemical-resistant, insulating, and easy to handle, and therefore are given shapes through various molding processes and are used as various industrial materials.
In addition, since polyolefins are mainly composed of carbon and hydrogen, it is generally difficult to composite them with other materials, such as metals and glass, and various inventions have been made to improve their adhesive properties.
In particular, modification by acid modification with an organic carboxylic acid or an anhydride thereof has dramatically improved the thermal adhesiveness to metals (Patent Documents 1 and 2).
一方、ポリオレフィン類は、耐薬品性が高い故に各種有機溶媒への溶解は困難であり、溶液としての工業的利用は一般に困難である。このため、酸変性ポリオレフィン類の溶媒溶解性を改善させるためにも様々な発明がなされている(特許文献3~5)。On the other hand, polyolefins have high chemical resistance and are difficult to dissolve in various organic solvents, so industrial use of the solution is generally difficult. For this reason, various inventions have been made to improve the solvent solubility of acid-modified polyolefins (Patent Documents 3 to 5).
ポリオレフィン類又は酸変性ポリオレフィン類は結晶性樹脂であり、その結晶が有機溶媒への溶解性を低下させる要因である。さらに、かかる結晶性はポリオレフィン類の透明性を阻害することが通常であり、塗膜の透明性や発色性は好ましいものにはならない。このため、上記の各発明ではポリオレフィン類の結晶性を低下させ、溶解性を改良させる検討が行なわれている。
しかしながら、これら手法でも溶解性は不十分であるのに加え、得られるポリオレフィン類が柔らかくなる傾向があり、耐熱性が低下したり、塗膜表面がべたついたりする虞がある。
Polyolefins or acid-modified polyolefins are crystalline resins, and the crystals are the cause of the reduced solubility in organic solvents. Furthermore, such crystallinity usually impairs the transparency of polyolefins, and the transparency and color development of the coating film are not favorable. For this reason, the above-mentioned inventions have been conducted to reduce the crystallinity of polyolefins and improve their solubility.
However, even with these methods, the solubility is insufficient, and the polyolefins obtained tend to be soft, which may result in reduced heat resistance or sticky coating surfaces.
このポリオレフィン類が柔らかくなる傾向は、被着体と被着体に挟まれた状態の接着剤としては有用な場合もあるが、一般的な積層体や塗膜という観点では有用でない場合が多い。また、溶解性を向上させるために、ポリオレフィン類を塩素化する発明もなされているが、塩素化手法が簡単でない上、透明性の点や燃焼時の有害ガス発生の点で問題が生じる。This tendency of polyolefins to soften can be useful as an adhesive when sandwiched between two adherends, but is often not useful in terms of general laminates or coatings. Also, in order to improve solubility, inventions have been made to chlorinate polyolefins, but the chlorination method is not simple and problems arise in terms of transparency and the generation of harmful gases during combustion.
以上のように、透明性及び耐熱性を有し、表面がべたつかず、容易に被着材に塗工や積層でき、燃焼時に有毒ガスの発生が抑制される素材が求められている。
本発明は、このような課題を鑑みてなされたものである。即ち、本発明は、有機溶媒に可溶であり、透明性、剛性、及び耐熱性を有し、金属等の基材との接着性に優れ、燃焼時に有毒ガスの発生が抑制されたポリオレフィン類を提供することにある。
As described above, there is a demand for materials that are transparent and heat resistant, have a non-sticky surface, can be easily coated or laminated onto an adherend, and suppress the generation of toxic gases when burned.
The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide polyolefins which are soluble in organic solvents, have transparency, rigidity, and heat resistance, have excellent adhesion to substrates such as metals, and suppress the generation of toxic gases during combustion.
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討を行なった結果、ポリオレフィン類として、特定の水素化ブロックコポリマーを用い、これを不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物で変性することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。
即ち、本発明は以下の特徴を有する。
The present inventors have conducted intensive research to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that the above-mentioned problems can be solved by using a specific hydrogenated block copolymer as a polyolefin and modifying this with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride.
That is, the present invention has the following features.
[1]水素化ブロックコポリマーの不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物による変性体である、変性水素化ブロックコポリマーであって、該水素化ブロックコポリマーが、芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロック及び共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックを含むコポリマーの水素化体であり、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが90%以上の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位であり、前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが95%以上の水素化共役ジエンポリマーブロック単位である、変性水素化ブロックコポリマー。 [1] A modified hydrogenated block copolymer, which is a hydrogenated block copolymer modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride, the hydrogenated block copolymer being a hydrogenated copolymer comprising a polymer block consisting of aromatic vinyl monomer units and a polymer block consisting of conjugated diene monomer units, the hydrogenated polymer block consisting of aromatic vinyl monomer units being a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit having a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated polymer block consisting of conjugated diene monomer units being a hydrogenated conjugated diene polymer block unit having a hydrogenation level of 95% or more.
[2]前記水素化ブロックコポリマーが、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する、[1]に記載の変性水素化ブロックコポリマー。
[3]前記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物による変性率が0.1~2質量%である、[1]又は[2]に記載の変性水素化ブロックコポリマー。
[4]前記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物が、無水マレイン酸である、[1]~[3]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマー。
[2] The modified hydrogenated block copolymer according to [1], wherein the hydrogenated block copolymer has at least two of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units.
[3] The modified hydrogenated block copolymer according to [1] or [2], wherein the degree of modification with the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride is 0.1 to 2 mass%.
[4] The modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [3], wherein the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride is maleic anhydride.
[5]重量平均分子量(Mw)が5,000~100,000である、[1]~[4]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマー。
[6][1]~[5]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマーを、有機溶媒に1~30質量%の濃度で溶解又は懸濁させた、変性水素化ブロックコポリマー溶液又は変性水素化ブロックコポリマースラリー。
[7][1]~[5]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマーが、基材上に積層された、変性水素化ブロックコポリマー含有積層体。
[5] The modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [4], having a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 100,000.
[6] A modified hydrogenated block copolymer solution or a modified hydrogenated block copolymer slurry, in which the modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [5] is dissolved or suspended in an organic solvent at a concentration of 1 to 30 mass %.
[7] A modified hydrogenated block copolymer-containing laminate, comprising the modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [5] laminated on a substrate.
[8]前記変性水素化ブロックコポリマーを、1種又は2種以上の他の熱可塑性樹脂と溶融共押出成形した、[7]に記載の変性水素化ブロックコポリマー含有積層体。
[9]前記変性水素化ブロックコポリマーを、金属、紙、セラミックス、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂の上に熱ラミネート加工した、[7]に記載の変性水素化ブロックコポリマー含有積層体。
[10]前記変性水素化ブロックコポリマーを含む層の厚さが5~500μmである、[9]に記載の変性水素化ブロックコポリマー含有積層体。
[8] The modified hydrogenated block copolymer-containing laminate according to [7], which is obtained by melt co-extrusion molding the modified hydrogenated block copolymer with one or more other thermoplastic resins.
[9] The modified hydrogenated block copolymer-containing laminate according to [7], wherein the modified hydrogenated block copolymer is thermally laminated onto a metal, paper, ceramics, thermoplastic resin, or thermosetting resin.
[10] The modified hydrogenated block copolymer-containing laminate according to [9], wherein the layer containing the modified hydrogenated block copolymer has a thickness of 5 to 500 μm.
[11][1]~[5]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマーを製造する方法であって、前記水素化ブロックコポリマーを、溶融混練、溶液中反応、固相グラフトのいずれかの方法によりグラフト変性する、変性水素化ブロックコポリマーの製造方法。
[12][1]~[5]のいずれか一項に記載の変性水素化ブロックコポリマーを製造する方法であって、前記水素化ブロックコポリマーを、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物によりグラフト変性する、変性水素化ブロックコポリマーの製造方法。
[11] A method for producing the modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [5], comprising graft-modifying the hydrogenated block copolymer by any one of melt kneading, reaction in solution, and solid-phase grafting.
[12] A method for producing the modified hydrogenated block copolymer according to any one of [1] to [5], comprising graft-modifying the hydrogenated block copolymer with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride.
[13][6]に記載の変性水素化ブロックコポリマー溶液又は変性水素化ブロックコポリマースラリーを基材に塗工した後、溶媒を除去して積層体を得る、変性水素化ブロックコポリマー含有積層体の製造方法。
[14]前記変性水素化ブロックコポリマーを含む層の厚さが1~100μmである、[13]に記載の変性水素化ブロックコポリマー含有積層体の製造方法。
[13] A method for producing a modified hydrogenated block copolymer-containing laminate, comprising applying the modified hydrogenated block copolymer solution or modified hydrogenated block copolymer slurry according to [6] to a substrate, and then removing the solvent to obtain a laminate.
[14] The method for producing a modified hydrogenated block copolymer-containing laminate according to [13], wherein the layer containing the modified hydrogenated block copolymer has a thickness of 1 to 100 μm.
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、有機溶媒に可溶であり、金属、ガラス、プラスチック等の基材に塗工することにより、透明性、剛性、及び耐熱性を有し、且つ、良好な接着強度をもった塗膜となり、積層体を得ることができる。さらに、本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、塩素化等を行なわないので、燃焼時に有毒ガスが発生しない。
また、本発明の溶液又はスラリーは、金属、ガラス、プラスチック等の基材に塗工することができ、有機溶媒を除去することで、透明性、剛性、及び耐熱性を有し、且つ、良好な接着強度をもった塗膜となる。
さらに、本発明の積層体は、透明で剛性と耐熱性があり、基材に対して良好な接着強度を有する。
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention is soluble in an organic solvent, and when applied to a substrate such as metal, glass, plastic, etc., it becomes a coating film having transparency, rigidity, heat resistance, and good adhesive strength, and a laminate can be obtained. Furthermore, since the modified hydrogenated block copolymer of the present invention is not chlorinated, it does not generate toxic gases when burned.
In addition, the solution or slurry of the present invention can be applied to substrates such as metals, glass, and plastics, and by removing the organic solvent, a coating film having transparency, rigidity, heat resistance, and good adhesive strength is obtained.
Furthermore, the laminate of the present invention is transparent, rigid, heat resistant, and has good adhesive strength to substrates.
以下に本発明について詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。
以下において「~」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。
The present invention will be described in detail below. However, the following description is an example of an embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the contents of the following description as long as it does not deviate from the gist of the present invention.
In the following, when the expression "~" is used, it is used as an expression including the numerical values or physical property values before and after it.
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、水素化ブロックコポリマーの、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物による変性体である。The modified hydrogenated block copolymer of the present invention is a hydrogenated block copolymer modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride.
<水素化ブロックコポリマー>
本発明の変性水素化ブロックコポリマーの原料となる水素化ブロックコポリマーは、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロック、及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックを含むブロックコポリマーの水素化体である。即ち、該水素化ブロックコポリマーは、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び、水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有する。
<Hydrogenated Block Copolymer>
The hydrogenated block copolymer used as the raw material for the modified hydrogenated block copolymer of the present invention is a hydrogenated product of a block copolymer containing a polymer block consisting of at least one aromatic vinyl monomer unit and a polymer block consisting of at least one conjugated diene monomer unit, i.e., the hydrogenated block copolymer has hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and hydrogenated conjugated diene polymer block units.
該水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位は、芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体であり、その水素化レベルは後述の通りである。
また、該水素化共役ジエンポリマーブロック単位は、共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体であり、その水素化レベルは後述の通りである。
また、該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有するものである。
該水素化ブロックコポリマーは、透明性及び材料強度に優れる。
The hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is a hydrogenated polymer block consisting of aromatic vinyl monomer units, and the hydrogenation level thereof is as described below.
The hydrogenated conjugated diene polymer block unit is a hydrogenated product of a polymer block consisting of conjugated diene monomer units, and the hydrogenation level thereof is as described below.
The hydrogenated block copolymer has at least two of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units.
The hydrogenated block copolymer has excellent transparency and material strength.
尚、本明細書において「ブロック」とは、構造的又は組成的に異なった重合セグメントを有するコポリマーからミクロ層分離する重合セグメントをいう。このため、例えば「ブロック単位を少なくとも2個有する」とは、水素化ブロックコポリマーの中に、ミクロ層分離する重合セグメントを少なくとも2個有することをいう。In this specification, the term "block" refers to a polymerization segment that is separated into microlayers from a copolymer having structurally or compositionally different polymerization segments. For example, "having at least two block units" means that the hydrogenated block copolymer has at least two polymerization segments that are separated into microlayers.
前記の芳香族ビニルモノマー単位の原料となる芳香族ビニルモノマーは、一般式(1)で示されるモノマーである。The aromatic vinyl monomer used as the raw material for the aromatic vinyl monomer unit is a monomer represented by the general formula (1).
前記アルキル基は、ハロ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基及びカルボキシル基のような官能基で単置換若しくは多重置換されていてもよい。アルキル基の炭素数は1~6が好ましい。
前記のArは、フェニル基又はアルキルフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
The alkyl group may be mono- or polysubstituted with functional groups such as halo, nitro, amino, hydroxy, cyano, carbonyl and carboxyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms.
The above Ar is preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and more preferably a phenyl group.
芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン(全ての異性体を含み、特にp-ビニルトルエン)、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン(全ての異性体)、及びこれらの混合物が挙げられる。 Examples of aromatic vinyl monomers include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene (including all isomers, especially p-vinyltoluene), ethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, vinylbiphenyl, vinylnaphthalene, vinylanthracene (all isomers), and mixtures thereof.
前記の共役ジエンモノマー単位の原料となる共役ジエンモノマーは、2個の共役二重結合を持つモノマーであればよく、特に限定されるものではない。
共役ジエンモノマーとしては、例えば、1,3-ブタジエン、2-メチル-1,3-ブタジエン(イソプレン)、2-メチル-1,3ペンタジエンとその類似化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。
The conjugated diene monomer serving as the raw material for the conjugated diene monomer unit is not particularly limited as long as it is a monomer having two conjugated double bonds.
Conjugated diene monomers include, for example, 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2-methyl-1,3 pentadiene and the like, and mixtures thereof.
前記1,3-ブタジエンの重合体であるポリブタジエンは、水素化で1-ブテン繰り返し単位の等価物を与える1,2配置、又は水素化でエチレン繰り返し単位の等価物を与える1,4配置のいずれかを含むことができる。Polybutadiene, a polymer of 1,3-butadiene, can contain either a 1,2 configuration, which upon hydrogenation gives the equivalent of 1-butene repeat units, or a 1,4 configuration, which upon hydrogenation gives the equivalent of ethylene repeat units.
前記の芳香族ビニルモノマーや、1,3-ブタジエンを含む前記共役ジエンモノマーから構成される重合性ブロックの水素化体は、本発明で使用される水素化ブロックコポリマーに含まれる。好ましくは、水素化ブロックコポリマーは官能基のないブロックコポリマーである。
尚、「官能基のない」とはブロックコポリマー中に如何なる官能基、即ち、炭素と水素以外の元素を含む基が存在しないことを意味する。
The hydrogenated polymerizable block composed of the aromatic vinyl monomer or the conjugated diene monomer including 1,3-butadiene is included in the hydrogenated block copolymer used in the present invention. Preferably, the hydrogenated block copolymer is a block copolymer having no functional group.
The term "non-functional" means that the block copolymer does not contain any functional groups, i.e., groups containing elements other than carbon and hydrogen.
前記の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリスチレンからなる単位が挙げられ、前記の水素化共役ジエンポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリブタジエンからなる単位が挙げられる。
そして、水素化ブロックコポリマーの好ましい一態様としては、スチレンとブタジエンの水素化トリブロック又はペンタブロックコポリマーが挙げられ、他の如何なる官能基又は構造的変性剤も含まないことが好ましい。
A preferred example of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is a unit made of hydrogenated polystyrene, and a preferred example of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is a unit made of hydrogenated polybutadiene.
A preferred embodiment of the hydrogenated block copolymer is a hydrogenated triblock or pentablock copolymer of styrene and butadiene, which preferably does not contain any other functional groups or structural modifiers.
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の含有率は、前記水素化ブロックコポリマーに対して、好ましくは50~99モル%、より好ましくは60~90モル%である。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば剛性が低下することがなく、上記上限以下であれば脆性が悪化することがない。
The content of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is preferably 50 to 99 mol %, more preferably 60 to 90 mol %, based on the hydrogenated block copolymer.
When the ratio of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units is equal to or higher than the above lower limit, the rigidity does not decrease, and when it is equal to or lower than the above upper limit, the brittleness does not increase.
また、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の含有率は、前記水素化ブロックコポリマーに対して、好ましくは1~50モル%、より好ましくは10~40モル%である。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば脆性が悪化することがなく、上記上限以下であれば剛性が低下することがない。
The content of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is preferably 1 to 50 mol %, more preferably 10 to 40 mol %, based on the hydrogenated block copolymer.
When the ratio of the hydrogenated conjugated diene polymer block units is equal to or higher than the above lower limit, the brittleness does not deteriorate, and when it is equal to or lower than the above upper limit, the rigidity does not decrease.
本発明の水素化ブロックコポリマーはSBS、SBSBS、SIS、SISIS、及びSISBS(ここで、Sはポリスチレン、Bはポリブタジエン、Iはポリイソプレンを意味する。)のようなトリブロック、マルチブロック、テーパーブロック及びスターブロックコポリマーを含むブロックコポリマーの水素化によって製造される。The hydrogenated block copolymers of the present invention are produced by hydrogenation of block copolymers including triblock, multiblock, tapered block and star block copolymers such as SBS, SBSBS, SIS, SISIS, and SISBS (where S is polystyrene, B is polybutadiene, and I is polyisoprene).
本発明の水素化ブロックコポリマーはそれぞれの末端に芳香族ビニルポリマーからなるセグメントを含む。このため、本発明の水素化ブロックコポリマーは、少なくとも2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を有することとなる。そして、この2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の間には、少なくとも1つの水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有することとなる。The hydrogenated block copolymer of the present invention contains a segment made of an aromatic vinyl polymer at each end. Therefore, the hydrogenated block copolymer of the present invention has at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units. And, between these two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units, there is at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit.
水素化前のブロックコポリマーは、何個かの追加ブロックを含んでいてもよく、これらのブロックはトリブロックポリマー骨格のどの位置に結合していてもよい。このように、線状ブロックは例えばSBS、SBSB、SBSBS、そしてSBSBSBを含む。コポリマーは分岐していてもよく、重合連鎖はコポリマーの骨格に沿ってどの位置に結合していてもよい。The block copolymer before hydrogenation may contain several additional blocks, which may be attached at any position along the triblock polymer backbone. Thus, linear blocks include, for example, SBS, SBSB, SBSBS, and SBSBSB. The copolymer may be branched, and the polymer chains may be attached at any position along the backbone of the copolymer.
水素化ブロックコポリマーの重量平均分子量(以下、「Mw」と略する。)の下限は、好ましくは10,000以上、より好ましくは20,000以上である。また、Mwの上限は、好ましくは120,000以下、より好ましくは100,000以下、更に好ましくは95,000以下、特に好ましくは90,000以下、最も好ましくは85,000以下、極めて好ましくは80,000以下である。
Mwが上記下限以上であれば機械強度が低下せず、上記上限以下であれば得られる変性水素化ブロックコポリマーの溶剤溶解性が向上する。
水素化ブロックコポリマーのMwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定によって決定され、その具体的な測定方法は実施例の項に記載される通りである。
The lower limit of the weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as "Mw") of the hydrogenated block copolymer is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more. The upper limit of Mw is preferably 120,000 or less, more preferably 100,000 or less, even more preferably 95,000 or less, particularly preferably 90,000 or less, most preferably 85,000 or less, and extremely preferably 80,000 or less.
When the Mw is equal to or higher than the lower limit, the mechanical strength does not decrease, and when it is equal to or lower than the upper limit, the solvent solubility of the resulting modified hydrogenated block copolymer is improved.
The Mw of the hydrogenated block copolymer is determined by gel permeation chromatography (GPC), and the specific measurement method is as described in the Examples section.
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上、更に好ましくは98%以上、特に好ましくは99.5%以上である。
前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは95%以上、より好ましくは99%以上、更に好ましくは99.5%以上である。
このように高レベルの水素化は、剛性と耐熱性を発現させるために好ましい。
The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, further preferably 98% or more, and particularly preferably 99.5% or more.
The hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is preferably 95% or more, more preferably 99% or more, and even more preferably 99.5% or more.
Such a high level of hydrogenation is preferred for developing stiffness and heat resistance.
尚、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルとは、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示し、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルとは、共役ジエンポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。
前記水素化レベルは、プロトンNMRを用いて決定される。
The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit refers to the proportion of the aromatic vinyl polymer block unit saturated by hydrogenation, and the hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit refers to the proportion of the conjugated diene polymer block unit saturated by hydrogenation.
The hydrogenation level is determined using proton NMR.
本発明の水素化ブロックコポリマーのメルトフローレート(MFR)は通常0.1g/10分以上であり、成形方法や成形体の外観の観点から、好ましくは0.5g/10分以上である。また通常200g/10分以下であり、材料強度の観点から、好ましくは100g/10分以下、より好ましくは50g/10分以下である。
MFRは、ISO R1133に従って、測定温度230℃、測定荷重2.16kgの条件で測定した。
The melt flow rate (MFR) of the hydrogenated block copolymer of the present invention is usually 0.1 g/10 min or more, preferably 0.5 g/10 min or more from the viewpoint of the molding method and the appearance of the molded product, and usually 200 g/10 min or less, preferably 100 g/10 min or less, more preferably 50 g/10 min or less from the viewpoint of material strength.
The MFR was measured in accordance with ISO R1133 at a measurement temperature of 230° C. and a measurement load of 2.16 kg.
水素化ブロックコポリマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の水素化ブロックコポリマーとしては、市販のものを用いることができ、具体的には三菱ケミカル(株)製:ゼラス(商標登録)が挙げられる。
The hydrogenated block copolymers may be used alone or in combination of two or more kinds.
As the hydrogenated block copolymer of the present invention, commercially available products can be used, specifically, ZELAS (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation can be mentioned.
<水素化ブロックコポリマーの変性操作>
次に、水素化ブロックコポリマーの変性操作について説明する。この変性操作は、水素化ブロックコポリマーに、変性剤として不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物を添加して反応させることによって行なわれる。
<Modification of hydrogenated block copolymer>
Next, the modification of the hydrogenated block copolymer will be described. This modification is carried out by adding an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride as a modifier to the hydrogenated block copolymer and reacting the copolymer with the unsaturated carboxylic acid and/or anhydride.
上記変性剤としての不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアクリル酸、マレイン酸、フマール酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジック酸類等の不飽和カルボン酸、及びこれらの無水物が挙げられる。
また、不飽和カルボン酸無水物としては、具体的には、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水ナジック酸類が挙げられる。
尚、ナジック酸類又はその無水物としては、エンドシス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2,3-ジカルボン酸(ナジック酸(商標))、メチル-エンドシス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸(メチルナジック酸(商標))等及びその無水物が挙げられる。
Examples of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride used as the modifying agent include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, α-ethylacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and nadic acids, and their anhydrides.
Specific examples of the unsaturated carboxylic acid anhydride include maleic anhydride, citraconic anhydride, and nadic anhydrides.
Examples of nadic acids or their anhydrides include endo-cis-bicyclo[2.2.1]hept-2,3-dicarboxylic acid (nadic acid (trademark)), methyl-endo-cis-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid (methylnadic acid (trademark)), and their anhydrides.
これらの不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物の中では、アクリル酸、マレイン酸、ナジック酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸が好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。
不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Among these unsaturated carboxylic acids and/or unsaturated carboxylic acid anhydrides, acrylic acid, maleic acid, nadic acid, maleic anhydride, and nadic acid anhydride are preferred, with maleic anhydride being more preferred.
The unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride may be used alone or in combination of two or more kinds.
上記水素化ブロックコポリマーを上記の不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物で変性することにより、変性水素化ブロックコポリマーを得ることができる。変性の方法としては、溶液変性、溶融変性、電子線や電離放射線の照射による固相変性、超臨界流体中での変性等が好適に用いられる。
中でも設備やコスト競争力に優れた溶融変性が好ましく、連続生産性に優れた押出機を用いた溶融混練変性がより好ましい。
この時用いられる装置としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ロールミキサーが挙げられる。中でも連続生産性に優れた単軸押出機、二軸押出機が好ましい。
The hydrogenated block copolymer can be modified with the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride to obtain a modified hydrogenated block copolymer. Suitable methods for modification include solution modification, melt modification, solid-phase modification by irradiation with an electron beam or ionizing radiation, and modification in a supercritical fluid.
Among these, melt modification is preferred because of its excellent equipment and cost competitiveness, and melt kneading modification using an extruder because of its excellent continuous productivity is more preferred.
Examples of the apparatus that can be used in this case include a single screw extruder, a twin screw extruder, a Banbury mixer, and a roll mixer. Among these, a single screw extruder and a twin screw extruder that are excellent in continuous productivity are preferred.
一般に、水素化ブロックコポリマーへの不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物による変性は、水素化ブロックコポリマーを構成するブロック単位の1つである水素化共役ジエンポリマーブロック単位の炭素-水素結合を開裂させて炭素ラジカルを発生させ、これに不飽和官能基が付加するというグラフト反応によって行なわれる。
炭素ラジカルの発生源としては、上述した電子線や電離放射線の他、高温度とする方法や、アゾ化合物、無機過酸化物、有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いることもできる。ラジカル発生剤としては、コストや操作性の観点から有機過酸化物を用いることが好ましい。
In general, modification of a hydrogenated block copolymer with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride is carried out by a graft reaction in which a carbon-hydrogen bond of a hydrogenated conjugated diene polymer block unit, which is one of the block units constituting the hydrogenated block copolymer, is cleaved to generate a carbon radical to which an unsaturated functional group is added.
As a source of carbon radical generation, in addition to the above-mentioned electron beam and ionizing radiation, a method using high temperature and radical generators such as azo compounds, inorganic peroxides, organic peroxides, etc. are also usable. As the radical generator, it is preferable to use an organic peroxide from the viewpoint of cost and operability.
上記アゾ化合物としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、ジアゾニトロフェノールが挙げられる。
上記無機過酸化物としては、例えば、過酸化水素、過酸化カリウム、過酸化ナトリウム、過酸化カルシウム、過酸化マグネシウム、過酸化バリウムが挙げられる。
Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, azobisdimethylvaleronitrile, azobis(2-methylbutyronitrile), and diazonitrophenol.
Examples of the inorganic peroxides include hydrogen peroxide, potassium peroxide, sodium peroxide, calcium peroxide, magnesium peroxide, and barium peroxide.
上記有機過酸化物としては、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル及びケトンパーオキサイド群に含まれるものが挙げられる。
具体的には、キュメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド;ジクミルパーオキサイド、ジt-ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3等のジアルキルパーオキサイド;ラウリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエイト、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシエステル;シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイドが挙げられる。
これらのラジカル発生剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The organic peroxides include those belonging to the groups of hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxy esters, and ketone peroxides.
Specific examples of the peroxides include hydroperoxides such as cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide; dialkyl peroxides such as dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3; diacyl peroxides such as lauryl peroxide and benzoyl peroxide; peroxy esters such as t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxybenzoate and t-butylperoxyisopropyl carbonate; and ketone peroxides such as cyclohexanone peroxide.
These radical generators may be used alone or in combination of two or more kinds.
前記グラフト反応による変性としては、前記水素化ブロックコポリマーを、溶融混練、溶液中反応、固相グラフトのいずれかの方法によるグラフト変性や、前記した不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物によるグラフト変性が挙げられる。The modification by the graft reaction may be, for example, graft modification of the hydrogenated block copolymer by any of the methods of melt kneading, reaction in solution, and solid-phase grafting, or graft modification by the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride described above.
[溶融混練による変性]
一般的に用いられる溶融混練による変性は、水素化ブロックコポリマー、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、有機過酸化物を配合し、混練機、押出機に投入し、加熱溶融混練しながら押出を行ない、先端ダイスから出てくる溶融樹脂を水槽等で冷却して変性水素化ブロックコポリマーを得るものである。
[Modification by melt kneading]
The commonly used modification by melt kneading involves blending a hydrogenated block copolymer, an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride, and an organic peroxide, feeding the mixture into a kneader and extruder, and extruding the mixture while heating, melting and kneading it, and cooling the molten resin emerging from a die at the tip of the die in a water tank or the like to obtain a modified hydrogenated block copolymer.
上記水素化ブロックコポリマーと上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物との配合比率は、上記水素化ブロックコポリマー100質量部に対し、上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物が0.2~5質量部である。
上記水素化ブロックコポリマーに対する上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物の配合比率が上記下限以上であれば、本発明の効果を奏するために必要な所定の変性率が得られる。また、上記上限以下であれば、未反応の不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物が残留することがなく、接着強度に悪影響を生じることもない。
The blending ratio of the hydrogenated block copolymer to the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride is 0.2 to 5 parts by mass of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride per 100 parts by mass of the hydrogenated block copolymer.
When the blending ratio of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride to the hydrogenated block copolymer is equal to or higher than the lower limit, a predetermined modification rate required for achieving the effects of the present invention can be obtained, while when the blending ratio is equal to or lower than the upper limit, no unreacted unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride remains, and no adverse effect is caused on the adhesive strength.
上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物と上記有機過酸化物との配合比率は、上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物100質量部に対し、上記有機過酸化物が0.2~100質量部である。
上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物に対する上記有機過酸化物の配合比率が上記下限以上であれば、本発明の効果を奏するために必要な所定の変性率が得られる。また、上記上限以下であれば、水素化ブロックコポリマーの劣化が生じず、色相が悪化することがない。
The blending ratio of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride to the organic peroxide is 0.2 to 100 parts by mass of the organic peroxide per 100 parts by mass of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride.
When the blending ratio of the organic peroxide to the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride is equal to or higher than the lower limit, a desired modification rate required for achieving the effects of the present invention can be obtained, while when the blending ratio is equal to or lower than the upper limit, the hydrogenated block copolymer does not deteriorate and the color does not deteriorate.
また溶融混練変性条件としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機においては150~300℃の温度にて押出すことが好ましい。 As for the melt-kneading modification conditions, for example, it is preferable to extrude at a temperature of 150 to 300°C in a single-screw extruder or twin-screw extruder.
[溶液中反応による変性]
一般的に用いられる溶液中反応による変性は、有機溶媒中に水素化ブロックコポリマー、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、ラジカル発生剤を投入し、加熱することで変性水素化ブロックコポリマーを得るものである。
[Denaturation by reaction in solution]
A commonly used modification by reaction in solution involves adding a hydrogenated block copolymer, an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride, and a radical generator to an organic solvent and heating to obtain a modified hydrogenated block copolymer.
前記有機溶媒は、ラジカル発生剤と反応し得る活性水素等の官能基を持たず、且つ水素化ブロックコポリマーを溶解し得るものであれば特に制約はない。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、t-ブチルベンゼンが挙げられ、溶解度及び安定性の観点から、ジクロロベンゼンが好ましい。There are no particular restrictions on the organic solvent, so long as it does not have a functional group such as active hydrogen that can react with the radical generator and can dissolve the hydrogenated block copolymer. Examples include benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and t-butylbenzene, and dichlorobenzene is preferred from the standpoint of solubility and stability.
反応濃度は、有機溶媒中での水素化ブロックコポリマーの溶解度と、溶液の粘度にもよるが、5~20質量%が好ましい。反応濃度が前記下限以上であれば生産性が良好となり、前記上限以下であれば溶液粘度が上昇せず、攪拌や除熱が容易となる。
水素化ブロックコポリマーに対する、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、及びラジカル発生剤の配合比率は、溶融混練による変性と同様である。
The reaction concentration depends on the solubility of the hydrogenated block copolymer in the organic solvent and the viscosity of the solution, but is preferably 5 to 20% by mass. If the reaction concentration is equal to or higher than the lower limit, the productivity is good, and if it is equal to or lower than the upper limit, the solution viscosity does not increase, and stirring and heat removal are easy.
The blending ratio of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride, and the radical generator to the hydrogenated block copolymer is the same as in the modification by melt kneading.
反応温度は、有機溶媒の沸点や用いるラジカル発生剤の半減期温度にもよるが、80~150℃が好ましい。反応温度が前記下限以上であれば反応速度の低下がなく、前記上限以下であれば水素化ブロックコポリマーの分解がなく、反応が安定する。
反応時間は、グラフト率の目標値にもよるが、1~10時間が好ましい。反応終了後は、公知の方法に従って反応物を晶析、濾過、洗浄、乾燥して回収することができる。
The reaction temperature depends on the boiling point of the organic solvent and the half-life temperature of the radical generator used, but is preferably 80 to 150° C. If the reaction temperature is equal to or higher than the lower limit, the reaction rate does not decrease, and if the reaction temperature is equal to or lower than the upper limit, the hydrogenated block copolymer does not decompose, and the reaction is stable.
The reaction time depends on the target graft rate, but is preferably 1 to 10 hours. After the reaction is completed, the reaction product can be recovered by crystallization, filtration, washing, and drying according to known methods.
前記晶析は、反応溶液の温度を低下させる、減圧留去して溶液濃度を上昇させる、又は貧溶媒を投入することにより、固体を析出させることができる。
前記濾過は、濾紙、濾布等を組み合わせた濾過装置を用いて行なうことができる。また、遠心濾過器や加圧濾過器、ウォッシュアンドドライフィルター等の装置を用いることもできる。
The crystallization can be performed by lowering the temperature of the reaction solution, increasing the solution concentration by distillation under reduced pressure, or adding a poor solvent to precipitate a solid.
The filtration can be carried out using a filtering device that combines filter paper, filter cloth, etc. Also, a device such as a centrifugal filter, a pressure filter, or a wash and dry filter can be used.
前記洗浄には、変性水素化ブロックコポリマーは溶解しないが、未反応の不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物を溶解するものを用いることが好ましい。具体的にはメタノール、アセトンが好ましい。
前記乾燥は、熱風乾燥器や減圧乾燥器にて残留溶媒を除去することにより行なわれる。
これらの操作により、溶液中反応により得られた変性水素化ブロックコポリマーを、溶融混練による変性と同様に、本発明の目的に使用することができる。
For the washing, it is preferable to use a solvent that does not dissolve the modified hydrogenated block copolymer but dissolves the unreacted unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride, specifically, methanol or acetone.
The drying is carried out by removing the residual solvent using a hot air dryer or a reduced pressure dryer.
By these procedures, the modified hydrogenated block copolymer obtained by the reaction in solution can be used for the purpose of the present invention in the same manner as the modification by melt kneading.
[固相グラフトによる変性]
一般的に用いられる固相グラフトによる変性は、加熱ジャケット付きの撹拌機中で、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、及びラジカル発生剤を、水素化ブロックコポリマーに含浸させ、次いで水素化ブロックコポリマーが溶融しない程度の温度領域で、グラフト反応を行ない、変性水素化ブロックコポリマーを得るものである。
含浸を容易にするため、水素化ブロックコポリマーを粉体状態として投入することが好ましい。また、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物は液体状態であることが好ましく、粉体である場合には、融点程度まで加熱して液体として投入することが好ましい。
Modification by solid-phase grafting
The commonly used modification by solid-phase grafting involves impregnating a hydrogenated block copolymer with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride, and a radical generator in a stirrer equipped with a heating jacket, and then carrying out a graft reaction in a temperature range in which the hydrogenated block copolymer does not melt, to obtain a modified hydrogenated block copolymer.
In order to facilitate impregnation, the hydrogenated block copolymer is preferably introduced in a powder state, and the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride are preferably in a liquid state, and in the case of a powder, they are preferably heated to about the melting point and introduced as a liquid.
撹拌機の設定温度は、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物の融点以上、水素化ブロックコポリマーのガラス転移点未満となることが好ましい。従って選択されるラジカル発生剤は上記温度範囲で活性を示すものが好ましい。
反応は混合物を加熱しながら攪拌することで進行し、反応終了後、変性水素化ブロックコポリマーは固体状態で得られる。
The temperature of the stirrer is preferably set to a temperature equal to or higher than the melting point of the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride and lower than the glass transition point of the hydrogenated block copolymer. Therefore, the radical generator to be selected is preferably one that is active within the above temperature range.
The reaction proceeds by heating and stirring the mixture, and after completion of the reaction, the modified hydrogenated block copolymer is obtained in a solid state.
[変性水素化ブロックコポリマーの分子量低下]
上記変性水素化ブロックコポリマーの分子量低下を行なう場合、変性水素化ブロックコポリマーと有機過酸化物との配合比率は、上記変性水素化ブロックコポリマー100質量部に対し、上記有機過酸化物が0.01~2質量部である。
また溶融混練変性条件としては、例えば単軸押出機、二軸押出機においては150~300℃の温度にて押出すことが好ましい。
[Reduction in molecular weight of modified hydrogenated block copolymer]
When the molecular weight of the modified hydrogenated block copolymer is reduced, the compounding ratio of the modified hydrogenated block copolymer to the organic peroxide is 0.01 to 2 parts by mass of the organic peroxide per 100 parts by mass of the modified hydrogenated block copolymer.
As for the melt kneading and modification conditions, it is preferable to extrude the resin at a temperature of 150 to 300° C. in a single screw extruder or a twin screw extruder.
[変性率]
上記変性水素化ブロックコポリマーの、上記不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物による変性率は0.1~2質量%が好ましい。
変性率が上記下限以上であれば、十分な接着強度が得られる。また、上記上限以下であれば、臭気の発生や色の悪化がなく、有機溶媒への溶解性も良好となる。
上記変性水素化ブロックコポリマーの変性率は、上記変性水素化ブロックコポリマーをメチルエステル化処理した後、プロトンNMRを用いて決定される。
[Modification rate]
The degree of modification of the modified hydrogenated block copolymer with the unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic anhydride is preferably from 0.1 to 2% by mass.
If the modification rate is equal to or higher than the lower limit, sufficient adhesive strength can be obtained, whereas if the modification rate is equal to or lower than the upper limit, there is no odor or deterioration in color, and the solubility in organic solvents is good.
The modification ratio of the modified hydrogenated block copolymer is determined using proton NMR after the modified hydrogenated block copolymer is subjected to a methyl esterification treatment.
<変性水素化ブロックコポリマー>
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、水素化ブロックコポリマーの、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物による変性体である。
該水素化ブロックコポリマーは、芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロック及び共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックを含むコポリマーの水素化体である。
前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが90%以上の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位であり、前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが95%以上の水素化共役ジエンポリマーブロック単位である。
<Modified hydrogenated block copolymer>
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention is a hydrogenated block copolymer modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride.
The hydrogenated block copolymer is a hydrogenated product of a copolymer containing a polymer block composed of aromatic vinyl monomer units and a polymer block composed of conjugated diene monomer units.
The hydrogenated product of the polymer block composed of the aromatic vinyl monomer unit is a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit having a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated product of the polymer block composed of the conjugated diene monomer unit is a hydrogenated conjugated diene polymer block unit having a hydrogenation level of 95% or more.
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは95%以上、より好ましくは98%以上、更に好ましくは99.5%以上である。
また、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは99%以上、より好ましくは99.5%以上である。
このように高レベルの水素化は、剛性と耐熱性を発現させるために好ましい。
ここで、水素化レベルの意味と、水素化レベルの決定方法は、水素化ブロックコポリマーの項に記載した内容と同じである。
The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is preferably 95% or more, more preferably 98% or more, and even more preferably 99.5% or more.
The hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more.
Such a high level of hydrogenation is preferred for developing stiffness and heat resistance.
Here, the meaning of the hydrogenation level and the method for determining the hydrogenation level are the same as those described in the section on hydrogenated block copolymers.
前記水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の含有率は、変性水素化ブロックコポリマーに対して、好ましくは50~99モル%、より好ましくは60~90モル%である。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば剛性が低下することがなく、上記上限以下であれば脆性が悪化することがない。
The hydrogenated block copolymer has at least two of the hydrogenated vinyl aromatic polymer block units and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units.
The content of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is preferably 50 to 99 mol %, more preferably 60 to 90 mol %, based on the modified hydrogenated block copolymer.
When the ratio of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block units is equal to or higher than the above lower limit, the rigidity does not decrease, and when it is equal to or lower than the above upper limit, the brittleness does not increase.
また、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の含有率は、変性水素化ブロックコポリマーに対して、好ましくは1~50モル%、より好ましくは10~40モル%である。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位の比率が上記下限以上であれば脆性が悪化することがなく、上記上限以下であれば剛性が低下することがない。
The content of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is preferably 1 to 50 mol %, more preferably 10 to 40 mol %, based on the modified hydrogenated block copolymer.
When the ratio of the hydrogenated conjugated diene polymer block units is equal to or higher than the above lower limit, the brittleness does not deteriorate, and when it is equal to or lower than the above upper limit, the rigidity does not decrease.
変性水素化ブロックコポリマーのMwの下限は、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上である。また、Mwの上限は、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下である。具体的には、5,000以上100,000以下が好ましく、5,000以上80,000以下、又は10,000以上100,000以下がより好ましく、10,000以上80,000以下が更に好ましい。The lower limit of the Mw of the modified hydrogenated block copolymer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more. The upper limit of the Mw is preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less. Specifically, 5,000 or more and 100,000 or less is preferred, 5,000 or more and 80,000 or less, or 10,000 or more and 100,000 or less is more preferred, and 10,000 or more and 80,000 or less is even more preferred.
変性水素化ブロックコポリマーのMwが上記下限以上であれば、材料強度が低下せず、接着性及び耐熱性が低下しないので好ましい。また、Mwが上記上限以下であれば、有機溶媒への溶解性が低下しないので好ましい。
変性水素化ブロックコポリマーのMwは、GPCの測定によって決定される。
It is preferable that the Mw of the modified hydrogenated block copolymer is equal to or greater than the lower limit, since the material strength, adhesiveness, and heat resistance are not decreased, whereas it is preferable that the Mw is equal to or less than the upper limit, since the solubility in organic solvents is not decreased.
The Mw of the modified hydrogenated block copolymer is determined by GPC measurement.
前記変性水素化ブロックコポリマーのMwは、水素化ブロックコポリマーを変性する際に用いる有機過酸化物の量で制御することができる。
水素化ブロックコポリマーの変性操作については前記の通りである。また、水素化ブロックコポリマーの変性操作と同様に、変性水素化ブロックコポリマーに更に有機過酸化物を配合し、ブレンドして混練機、押出機に投入し加熱溶融混練しながら押出を行なうことにより、Mwを変化させた変性水素化ブロックコポリマーを得ることができる。
The Mw of the modified hydrogenated block copolymer can be controlled by the amount of organic peroxide used in modifying the hydrogenated block copolymer.
The modification procedure of the hydrogenated block copolymer is as described above. In addition, similarly to the modification procedure of the hydrogenated block copolymer, an organic peroxide may be further added to the modified hydrogenated block copolymer, the mixture may be blended, and the mixture may be charged into a kneader or an extruder, and extruded while being heated, melted, and kneaded, thereby obtaining a modified hydrogenated block copolymer with a changed Mw.
水素化ブロックコポリマーや変性水素化ブロックコポリマーは、有機過酸化物と処理することにより、水素化ブロックコポリマーや変性水素化ブロックコポリマーを構成するブロック単位の1つである、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の炭素-水素結合が一旦開裂し、生じた炭素ラジカル構造から、β水素脱離を伴う炭素-炭素結合開裂が生じて低分子量化を引き起こし、高い分子量の水素化ブロックコポリマー又は変性水素化ブロックコポリマーから、低い分子量の変性水素化ブロックコポリマーを得ることができる。
この操作は変性後に行なってもよいし、変性と同時に行なってもよい。即ち、分子量低下を変性と同時に行なうため、有機過酸化物を多く配合することで、変性と同時に低分子量化を生じさせることができる。
When the hydrogenated block copolymer or modified hydrogenated block copolymer is treated with an organic peroxide, the carbon-hydrogen bond of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit, which is one of the block units constituting the hydrogenated block copolymer or modified hydrogenated block copolymer, is temporarily cleaved, and the resulting carbon radical structure causes carbon-carbon bond cleavage accompanied by β-hydrogen elimination, resulting in a decrease in molecular weight, and a low molecular weight modified hydrogenated block copolymer can be obtained from a high molecular weight hydrogenated block copolymer or modified hydrogenated block copolymer.
This operation may be carried out after the modification or simultaneously with the modification. That is, in order to reduce the molecular weight simultaneously with the modification, by adding a large amount of organic peroxide, the molecular weight can be reduced simultaneously with the modification.
変性水素化ブロックコポリマーの誘電率は、低いことが好ましい。具体的には、3.0以下が好ましく、2.5以下がより好ましい。誘電率が3.0以下であれば信号伝達速度が低下しない。
変性水素化ブロックコポリマーの誘電正接は、低いことが好ましい。具体的には、0.003以下が好ましく、0.002以下がより好ましい。誘電正接が0.003以下であれば電気信号の信頼性が低下しない。
The modified hydrogenated block copolymer preferably has a low dielectric constant. Specifically, the dielectric constant is preferably 3.0 or less, and more preferably 2.5 or less. If the dielectric constant is 3.0 or less, the signal transmission speed does not decrease.
The dielectric loss tangent of the modified hydrogenated block copolymer is preferably low. Specifically, it is preferably 0.003 or less, and more preferably 0.002 or less. If the dielectric loss tangent is 0.003 or less, the reliability of the electric signal is not reduced.
これらの低誘電特性は、電気・電子回路用積層板等の電気・電子部品の材料と樹脂材料に要求される重要な性能である。
近年、情報伝達量、速度の向上のため、通信周波数の高周波化が進んでいる。例えば、電気信号の伝達速度は物質の(比)誘電率の平方根に反比例するため、電気信号の伝達速度を向上させるには誘電率は低い方が好ましい。また、電気信号は伝送によって損失が発生するが、伝送損失は物質の誘電正接に比例するため、電気信号の伝送損失を低下させるためには誘電正接は低い方が好ましい。
低い誘電率、低い誘電正接を有する物質を用いることで、高速で情報信号の減衰が少なく、通信の高い信頼性が確保できることを意味する。
These low dielectric properties are important performance requirements for materials for electric and electronic components, such as laminates for electric and electronic circuits, and resin materials.
In recent years, communication frequencies have become higher in order to increase the amount and speed of information transmission. For example, since the transmission speed of an electric signal is inversely proportional to the square root of the (specific) dielectric constant of a material, a lower dielectric constant is preferable to improve the transmission speed of an electric signal. In addition, electric signals generate losses during transmission, and since the transmission loss is proportional to the dielectric tangent of a material, a lower dielectric tangent is preferable to reduce the transmission loss of an electric signal.
The use of a material with a low dielectric constant and low dielectric loss tangent means that there is little attenuation of information signals at high speeds, ensuring high reliability of communications.
<変性水素化ブロックコポリマーの溶液又はスラリー>
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、有機溶媒に溶解又は懸濁させて、溶液又はスラリーとすることができる。
ここで溶液とは、上記変性水素化ブロックコポリマーが有機溶媒中に溶解した状態を表す。即ち、変性水素化ブロックコポリマーが有機溶媒中に分子分散した状態を表す。
また、スラリーとは、有機溶媒中に変性水素化ブロックコポリマーの粒子が混ざりこんだ懸濁体を表す。
一般にポリオレフィン類は有機溶媒への溶解性が悪く、仮に溶けてもゲル化して塗工に適さないものであるが、本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、この点で特異的な性質を示すものである。
<Solution or Slurry of Modified Hydrogenated Block Copolymer>
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention can be dissolved or suspended in an organic solvent to form a solution or slurry.
The term "solution" used herein refers to a state in which the modified hydrogenated block copolymer is dissolved in an organic solvent, that is, a state in which the modified hydrogenated block copolymer is molecularly dispersed in the organic solvent.
The term "slurry" refers to a suspension in which particles of the modified hydrogenated block copolymer are mixed in an organic solvent.
Generally, polyolefins have poor solubility in organic solvents, and even if they do dissolve, they gel and are not suitable for coating. However, the modified hydrogenated block copolymer of the present invention exhibits unique properties in this respect.
本発明の変性水素化ブロックコポリマーが溶解し得る有機溶媒としては、芳香族系の溶媒、脂肪族系の溶媒、脂環式の溶媒が挙げられる。
芳香族系の溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ブロモナフタレンが挙げられる。脂肪族系の溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンが挙げられる。脂環式の溶媒としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロデカンが挙げられる。
これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、取扱い性や留去の容易さの観点から、トルエン、シクロヘキサンが好ましい。
The organic solvents in which the modified hydrogenated block copolymer of the present invention can be dissolved include aromatic solvents, aliphatic solvents, and alicyclic solvents.
Examples of aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, chlorobenzene, and bromonaphthalene. Examples of aliphatic solvents include hexane, heptane, octane, nonane, and decane. Examples of alicyclic solvents include cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclodecane.
These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, toluene and cyclohexane are preferred from the viewpoints of ease of handling and distillation.
また、本発明の効果を阻害しない程度であれば上記以外の有機溶媒を添加することもできる。使用し得るその他の有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等のケトン類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類;フェノール、クレゾール、ナフトール等のフェノール類;エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類が挙げられる。In addition, organic solvents other than those mentioned above can be added to the extent that they do not impair the effects of the present invention. Examples of other organic solvents that can be used include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, acetophenone, and benzophenone; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and butanol; phenols such as phenol, cresol, and naphthol; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether; and amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide.
上記の溶液又はスラリー中の、変性水素化ブロックコポリマーの濃度としては1~30質量%が好ましい。
上記変性水素化ブロックコポリマーの濃度が上記下限以上であれば、溶液粘度が適切となり塗工作業に好適である。また上記上限以下であれば、溶液粘度が適切であり、ゲル化が生じることもない。
上記の溶液又はスラリー中の変性水素化ブロックコポリマーの濃度は、5~10質量%がより好ましい。
The concentration of the modified hydrogenated block copolymer in the above solution or slurry is preferably 1 to 30% by mass.
If the concentration of the modified hydrogenated block copolymer is equal to or higher than the lower limit, the solution viscosity is appropriate and suitable for coating operations, whereas if the concentration is equal to or lower than the upper limit, the solution viscosity is appropriate and gelation does not occur.
The concentration of the modified hydrogenated block copolymer in the above solution or slurry is more preferably 5 to 10% by mass.
<その他の成分>
本発明の溶液又はスラリーには、その機能性の更なる向上を目的として、以上で挙げたもの以外の成分を含んでいてもよい。
このようなその他の成分としては、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂、硬化促進剤、紫外線防止剤、酸化防止剤、カップリング剤、可塑剤、フラックス、難燃剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤、無機フィラー、有機フィラー等が挙げられる。
<Other ingredients>
The solution or slurry of the present invention may contain components other than those listed above in order to further improve its functionality.
Such other components include thermosetting resins, photocurable resins, curing accelerators, ultraviolet inhibitors, antioxidants, coupling agents, plasticizers, fluxes, flame retardants, colorants, dispersants, emulsifiers, elasticity reducing agents, diluents, antifoaming agents, ion trapping agents, inorganic fillers, and organic fillers.
<変性水素化ブロックコポリマーの積層体>
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、金属、ガラス及びプラスチック等の基材に対する接着強度が良好であり、べたつかない接着表面が得られ、金属、ガラス又はプラスチック等の基材との積層体を得ることができる。
積層の方法は特に決まっておらず、溶融共押出成形、熱ラミネート加工、インサートインジェクション成形等、公知の積層方法を用いることができる。
<Laminate of modified hydrogenated block copolymer>
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention has good adhesive strength to substrates such as metals, glass and plastics, provides a non-sticky adhesive surface, and can form laminates with substrates such as metals, glass or plastics.
There is no particular restriction on the lamination method, and any known lamination method such as melt coextrusion molding, heat lamination processing, or insert injection molding can be used.
上記の溶融共押出成形は、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを、1種又は2種以上の他の熱可塑性樹脂と溶融共押出成形する方法であり、これにより、変性水素化ブロックコポリマーを含有する積層体を製造することができる。The above-mentioned melt coextrusion molding is a method of melt coextrusion molding the modified hydrogenated block copolymer of the present invention with one or more other thermoplastic resins, thereby producing a laminate containing the modified hydrogenated block copolymer.
前記他の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のエチレン-α-オレフィン共重合体;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン-1樹脂等のポリオレフィン樹脂;ポリフェニレンエーテル系樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド系樹脂;アラミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の芳香族ポリエステル系樹脂;ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネート、ポリカプロラクトン等の脂肪族ポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリアリレート系樹脂;変性ポリフェニレンオキシド樹脂;ポリサルホン樹脂;ポリフェニレンサルファイド樹脂;ポリエーテルサルホン樹脂;ポリエーテルケトン樹脂;ポリエーテルエーテルケトン樹脂;ポリイミド樹脂;ポリオキシメチレンホモポリマー、ポリオキシメチレンコポリマー等のポリオキシメチレン系樹脂;ポリメチルメタクリレート系樹脂;ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、ジヒドロキシポリシロキサン等のケイ素含有軟質重合体;ポリスチレン等のビニル芳香族重合体;エチレン-プロピレン共重合ゴム(EPM)、エチレン-プロピレン-非共役ジエン共重合ゴム(EPDM)、エチレン-ブテン共重合ゴム(EBM)、エチレン-プロピレン-ブテン共重合ゴム等のエチレン系エラストマー;スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-エチレン/ブチレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-エチレン/プロピレン-スチレンブロック共重合体等のスチレン系エラストマー;ポリブタジエン;水素化ビニル芳香族重合体、水素化スチレン/ブタジエン又はスチレン/イソプレンブロック共重合体を含むその他の水素化ビニル芳香族ブロック共重合体;シクロオレフィン(共)重合体が挙げられる。
これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the other thermoplastic resins include ethylene-α-olefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, and ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer; polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutene-1 resin; polyamide resins such as polyphenylene ether resins, nylon 6, and nylon 66; aromatic polyester resins such as aramid resins, polyethylene terephthalate, and polybutylene terephthalate; aliphatic polyester resins such as polylactic acid, polybutylene succinate, and polycaprolactone; polycarbonate resins; polyarylate resins; modified polyphenylene oxide resins; polysulfone resins; polyphenylene sulfide resins; polyethersulfone resins; polyether ketone resins; polyether ether ketone resins; polyimide resins; polyoxymethylene homopolymers, polyoxymethylene copolymers, and the like. Examples of suitable elastomers include ethylene-based resins; polymethyl methacrylate-based resins; silicon-containing soft polymers such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and dihydroxypolysiloxane; vinyl aromatic polymers such as polystyrene; ethylene-propylene copolymer rubber (EPM), ethylene-propylene-non-conjugated diene copolymer rubber (EPDM), ethylene-butene copolymer rubber (EBM), and ethylene-propylene-butene copolymer rubber; styrene-based elastomers such as styrene-butadiene-styrene block copolymers, styrene-isoprene-styrene block copolymers, styrene-ethylene/butylene-styrene block copolymers, and styrene-ethylene/propylene-styrene block copolymers; polybutadiene; hydrogenated vinyl aromatic polymers, and other hydrogenated vinyl aromatic block copolymers including hydrogenated styrene/butadiene or styrene/isoprene block copolymers; and cycloolefin (co)polymers.
These may be used alone or in combination of two or more.
上記の熱ラミネート加工は、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを、金属、紙、セラミックス、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂等のラミネート基材の上に熱ラミネート加工する方法であり、これにより、変性水素化ブロックコポリマーを含有する積層体を製造することができる。
上記熱ラミネート加工は、予め製造しておいた変性水素化ブロックコポリマーからなるフィルムを、ラミネート基材となるフィルム又はシートの表面に接触させ、これらを加熱して融着させる方法である。具体的には、複数のフィルム又はシートを、重ねた状態で加熱ロールに通過させることにより熱融着させる方法である。
The above-mentioned thermal lamination process is a method of thermally laminating the modified hydrogenated block copolymer of the present invention onto a lamination substrate such as metal, paper, ceramics, thermoplastic resin, or thermosetting resin, thereby making it possible to produce a laminate containing the modified hydrogenated block copolymer.
The thermal lamination process is a method in which a film made of a modified hydrogenated block copolymer prepared in advance is brought into contact with the surface of a film or sheet to be a laminate substrate, and then the two are heated and fused together. Specifically, the method is a method in which a plurality of films or sheets are thermally fused together by passing them through a heated roll in a stacked state.
変性水素化ブロックコポリマーをフィルムとするには、公知の方法を用いることができる。具体的にはTダイ溶融押出キャストフィルム成形法、インフレーションフィルム成形法、カレンダーフィルム成形法、押出ラミネート成形法を用いることができる。この際、単層フィルムとして成形することもできるし、共押出成形法によって複層フィルムを成形することもできる。
中でも成形性に優れ、調整の容易なTダイ溶融押出キャストフィルム成形法が好ましい。
The modified hydrogenated block copolymer can be made into a film by a known method. Specifically, a T-die melt extrusion cast film molding method, an inflation film molding method, a calendar film molding method, or an extrusion lamination molding method can be used. In this case, it can be molded into a single layer film, or a multilayer film can be molded by a coextrusion molding method.
Among these, the T-die melt extrusion cast film molding method is preferred because it has excellent moldability and is easy to adjust.
Tダイ溶融押出キャストフィルム成形法においては、単軸又は二軸押出機の先端に装着した、スリット幅が0.1~2mm程度のT型スリットダイより、温度200~300℃で変性水素化ブロックコポリマーを溶融押出し、次いで20~80℃に設定した冷却用ロール表面に押出膜を接触させて冷却し、巻き取ることでフィルムが得られる。
必要に応じて、フィルム表面にコロナ処理を施すことも可能である。
In the T-die melt extrusion cast film molding method, the modified hydrogenated block copolymer is melt extruded at a temperature of 200 to 300°C through a T-type slit die having a slit width of about 0.1 to 2 mm attached to the tip of a single-screw or twin-screw extruder, and then the extruded film is brought into contact with the surface of a cooling roll set at 20 to 80°C to cool it, and then taken up to obtain a film.
If necessary, the film surface may be subjected to a corona treatment.
得られたフィルムを、金属、紙、セラミックス、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂等のラミネート基材と重ねる様に配置し、加熱金属ロール及びゴムロールにて圧力をかけながら挟み込み、熱圧着させることで、熱ラミネートによる積層が可能となる。
用いる変性水素化ブロックコポリマーからなるフィルムが複層構成である場合は、変性水素化ブロックコポリマーからなる層が、ラミネート基材と接触する様に配置する必要がある。
The obtained film is placed so as to overlap a laminate substrate such as metal, paper, ceramics, thermoplastic resin, or thermosetting resin, and is sandwiched between a heated metal roll and a rubber roll while applying pressure, thereby allowing lamination by thermal lamination.
When the film made of the modified hydrogenated block copolymer used has a multi-layer structure, it is necessary to arrange the layer made of the modified hydrogenated block copolymer so as to be in contact with the laminate substrate.
熱ラミネート加工時の加熱ロールの温度は、必要に応じて設定されるが、変性水素化ブロックコポリマーのガラス転移点以上であることが必要である。熱ラミネートの加工速度や、フィルム、ラミネート基材の厚さや圧着圧力にもよるが、変性水素化ブロックコポリマーのガラス転移点より10~50℃高く設定することが好ましい。
設定温度がガラス転移点の10℃以上であれば、熱ラミネート加工により十分な接着強度が得られる。また、ガラス転移点の50℃以下であれば、変性水素化ブロックコポリマーからなるフィルムが溶けたり、ロールに張り付くことがない。
The temperature of the heating roll during the thermal lamination process is set as necessary, but must be equal to or higher than the glass transition point of the modified hydrogenated block copolymer. Although it depends on the processing speed of the thermal lamination, the thickness of the film and the laminate substrate, and the pressure for pressing, it is preferable to set the temperature 10 to 50° C. higher than the glass transition point of the modified hydrogenated block copolymer.
If the set temperature is 10° C. or higher than the glass transition point, sufficient adhesive strength can be obtained by the thermal lamination process, and if the set temperature is 50° C. or lower than the glass transition point, the film made of the modified hydrogenated block copolymer will not melt or stick to the roll.
熱ラミネート加工時の圧着圧力は、ロール間線圧として、1~40kg/mが好ましい。圧着圧力が前記下限以上であれば、熱ラミネート加工により十分な接着強度が得られる。また、圧着圧力が前記上限以下であれば、シワが生じることなく、きれいな外観が得られる。
熱ラミネート加工時の加工速度は、接着強度と生産性のバランスの点で、0.5~50m/分が好ましい。加工速度が前記下限以上であれば、生産性が十分であり、経済的に好ましい。また、加工速度が前記上限以下であれば、十分な接着強度が得られる。
The pressure during the thermal lamination is preferably 1 to 40 kg/m as the linear pressure between the rolls. If the pressure is equal to or higher than the lower limit, sufficient adhesive strength can be obtained by the thermal lamination. If the pressure is equal to or lower than the upper limit, no wrinkles are generated and a beautiful appearance can be obtained.
The processing speed during the thermal lamination is preferably 0.5 to 50 m/min in terms of the balance between adhesive strength and productivity. If the processing speed is equal to or higher than the lower limit, the productivity is sufficient and it is economically preferable. On the other hand, if the processing speed is equal to or lower than the upper limit, sufficient adhesive strength is obtained.
また、本発明の変性水素化ブロックコポリマーの溶液又はスラリーを、金属、ガラス又はプラスチック等の基材に塗工し、その後に溶媒を除去することでも積層体を得ることができる。
塗工の方法としてはバーコーター、ブレードコーター、ダイコーター、グラビアロールコーター、スプレーコート等の他、刷毛で塗工することも可能である。
Alternatively, a laminate can be obtained by applying a solution or slurry of the modified hydrogenated block copolymer of the present invention to a substrate such as metal, glass, or plastic, and then removing the solvent.
The coating method may be by a bar coater, a blade coater, a die coater, a gravure roll coater, a spray coater, or by a brush.
塗工後に塗工表面より溶媒を留去することも可能である。通常はホットエアーの吹き付けによるものが好ましいが、減圧処理と加熱を組み合わせたり、同時に加圧プレスを行なうことも可能である。After coating, it is also possible to evaporate the solvent from the coated surface. This is usually done by blowing hot air, but it is also possible to combine reduced pressure treatment with heating, or to simultaneously apply pressure.
上記の積層体を得る被塗工素材である基材としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、ステンレス、ニッケル、亜鉛、チタン、タングステン等の金属類や合金類;ガラス板、ガラス繊維マット、ガラス繊維クロス、ガラスウール等のガラス類;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン-αオレフィン共重合体、プロピレン-αオレフィン共重合体、エチレン-アクリルエステル共重合体、エチレン-ビニルモノマー共重合体、ポリアミド、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVOH)等のプラスチックが挙げられる。
これらは板状、フィルム状であってもその他の形状が付与されたものでもよく、単一素材であっても複合化されていてもよく、また単層であっても積層化されたものでもよい。
Examples of substrates that are the coated materials from which the above laminates are obtained include metals and alloys such as copper, aluminum, iron, stainless steel, nickel, zinc, titanium, and tungsten; glasses such as glass plates, glass fiber mats, glass fiber cloths, and glass wool; and plastics such as polyethylene, polypropylene, polybutene, ethylene-α-olefin copolymers, propylene-α-olefin copolymers, ethylene-acrylic ester copolymers, ethylene-vinyl monomer copolymers, polyamides, and ethylene-vinyl acetate copolymers (EVOH).
These may be in the form of a plate, a film, or other shapes, may be made of a single material or may be composite, and may be single-layered or laminated.
これら基材の内では、回路基板等の電子部材向けであれば銅が電気伝導性や経済性の観点で好ましく、手すりや合板用途であれば鉄やステンレスが経済性、剛性の点で好ましく、電池包装等の用途であればアルミニウムが軽量性、加工性の観点で好ましく、食品包装用途であればポリアミドやEVOHがガスバリア性発現の観点で好ましい。Of these substrates, copper is preferred for electronic components such as circuit boards in terms of electrical conductivity and economy, iron and stainless steel are preferred for handrails and plywood in terms of economy and rigidity, aluminum is preferred for battery packaging and other applications in terms of light weight and processability, and polyamide and EVOH are preferred for food packaging in terms of gas barrier properties.
熱ラミネート加工により得られた積層体において、変性水素化ブロックコポリマーを含む層の厚さは、5~500μmが好ましい。
上記層の厚さが5μm以上であれば、層としての強度が十分となり、結果として積層体の接着強度が十分となる。
また、上記層の厚さが500μm以下であれば、熱ラミネート加工時の熱の伝達が十分となり、また変性水素化ブロックコポリマーを含む層の剛性が高くならず、結果として積層体の接着強度が十分となり、積層体としての柔軟性が失われることもない。
In the laminate obtained by the thermal lamination process, the layer containing the modified hydrogenated block copolymer preferably has a thickness of 5 to 500 μm.
If the thickness of the layer is 5 μm or more, the strength of the layer is sufficient, and as a result, the adhesive strength of the laminate is sufficient.
Furthermore, if the thickness of the above layer is 500 μm or less, heat transfer during thermal lamination is sufficient, and the rigidity of the layer containing the modified hydrogenated block copolymer is not high, resulting in a laminate having sufficient adhesive strength and not losing flexibility as a laminate.
塗工により得られた積層体において、変性水素化ブロックコポリマーを含む層の厚さは、1~100μmが好ましい。
上記層の厚さが1μm以上であれば、塗膜の密着強度が低下することがない。
また、上記層の厚さが100μm以下であれば、塗工時の厚さの制御が容易となり、生産性への影響がない。
In the laminate obtained by coating, the layer containing the modified hydrogenated block copolymer preferably has a thickness of 1 to 100 μm.
If the thickness of the layer is 1 μm or more, the adhesive strength of the coating film is not reduced.
Furthermore, if the thickness of the layer is 100 μm or less, the thickness can be easily controlled during coating, and there is no effect on productivity.
<用途>
本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、透明であり、耐熱性があって有機溶媒への溶解性に優れ、金属、ガラス及びプラスチック等の基材に対する接着性に優れるという効果を奏する。
また、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを含む溶液も、金属、ガラス及びプラスチック等の基材に対する接着性に優れる積層体を与えるという効果を奏する。
このため、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に、電気・電子分野における絶縁注型、積層材料、封止材料等として有用である。
<Application>
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention has the advantages of being transparent, heat resistant, excellent solubility in organic solvents, and excellent adhesion to substrates such as metals, glass, and plastics.
Furthermore, a solution containing the modified hydrogenated block copolymer of the present invention also has the effect of providing a laminate having excellent adhesion to substrates such as metals, glass, and plastics.
For this reason, it can be applied in various fields such as adhesives, paints, civil engineering and construction materials, and insulating materials for electric and electronic parts, and is particularly useful as insulating casting, laminating materials, sealing materials, etc. in the electric and electronic fields.
本発明の変性水素化ブロックコポリマー又はこれを用いた溶液又はスラリーの用途の一例としては、銅箔積層板、フレキシブルプリント基板、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板;フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤;半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D-LSI用インターチップフィル、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板が挙げられる。Examples of applications of the modified hydrogenated block copolymer of the present invention or a solution or slurry using the same include copper foil laminates, flexible printed circuit boards, multilayer printed wiring boards, capacitors and other laminates for electric and electronic circuits; adhesives such as film adhesives and liquid adhesives; semiconductor encapsulation materials, underfill materials, interchip fills for 3D-LSI, insulating sheets, prepregs, and heat dissipation substrates.
<導電性金属層を含有する積層体>
本発明の変性水素化ブロックコポリマー、これを用いた溶液又はスラリーは、前述の電気・電子回路用積層板等の導電性金属層を含有する積層体としても好適に用いることができる。
この導電性金属層を含有する積層体は、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを含む層と導電性金属層とを積層したものであり、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを含む層と導電性金属層とを積層したものであれば、上記電気・電子回路以外に、キャパシタを有する回路等の積層体を含む。
尚、導電性金属層を含有する積層体中には2種以上の変性水素化ブロックコポリマーからなる層が形成されていてもよく、少なくとも1つの層において本発明の変性水素化ブロックコポリマーが用いられていればよい。また、2種以上の導電性金属層が形成されていてもよい。
<Laminate containing conductive metal layer>
The modified hydrogenated block copolymer of the present invention and a solution or slurry using the same can also be suitably used as a laminate containing a conductive metal layer, such as the above-mentioned laminate for electric and electronic circuits.
This laminate containing a conductive metal layer is obtained by laminating a layer containing the modified hydrogenated block copolymer of the present invention and a conductive metal layer, and so long as it is a laminate of a layer containing the modified hydrogenated block copolymer of the present invention and a conductive metal layer, it includes laminates such as circuits having capacitors in addition to the above-mentioned electric/electronic circuits.
In addition, in the laminate containing the conductive metal layer, layers made of two or more kinds of modified hydrogenated block copolymers may be formed, and it is sufficient that the modified hydrogenated block copolymer of the present invention is used in at least one layer. Also, two or more kinds of conductive metal layers may be formed.
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は本実施例により何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例及び比較例においては、下記の方法により各種物性を測定した。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples and comparative examples, various physical properties were measured by the following methods.
<分子量>
・装置 :東ソー(株)製 GPC HLC-832GPC/HT
・検出器:MIRAN社製 1A赤外分光光度計(測定波長、3.42μm)
・カラム:昭和電工(株)製 AD806M/S 3本(カラムの較正は東ソー製単分散ポリスチレン(A500,A2500,F1,F2,F4,F10,F20,F40,F288の各0.5mg/ml溶液)の測定を行ない、溶出体積と分子量の対数値を3次式で近似した。
・測定温度:135℃
・濃度 :20mg/10mL
・注入量:0.2ml
・溶媒 :o-ジクロロベンゼン
・流速:1.0ml/分
<Molecular weight>
・Apparatus: Tosoh Corporation GPC HLC-832GPC/HT
Detector: MIRAN 1A infrared spectrophotometer (measurement wavelength: 3.42 μm)
Column: Showa Denko K.K. AD806M/S, 3 columns (the columns were calibrated with Tosoh monodisperse polystyrene (A500, A2500, F1, F2, F4, F10, F20, F40, F288, each 0.5 mg/ml solution), and the elution volume and the logarithm of the molecular weight were approximated by a cubic equation.
・Measurement temperature: 135℃
・Concentration: 20mg/10mL
・Injection amount: 0.2ml
Solvent: o-dichlorobenzene Flow rate: 1.0 ml/min
<ポリマーブロックの比率>
[カーボンNMRによる測定]
・装置:Bruker社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:o-ジクロロベンゼン-h4/p-ジクロロベンゼン-d4混合溶媒
・濃度:0.3g/2.5mL
・測定:13C-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・フリップ角:45度
・データ取得時間:1.5秒
・パルス繰り返し時間:15秒
・積算回数:3600
・測定温度:100℃
・1H照射:完全デカップリング
<Polymer block ratio>
[Measurement by Carbon NMR]
Apparatus: Bruker "AVANCE 400 Spectrometer"
Solvent: o-dichlorobenzene- h4 /p-dichlorobenzene- d4 mixed solvent Concentration: 0.3 g/2.5 mL
・Measurement: 13C -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
Flip angle: 45 degrees Data acquisition time: 1.5 seconds Pulse repetition time: 15 seconds Number of integrations: 3600
・Measurement temperature: 100℃
・1H irradiation: Complete decoupling
<水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベル、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル>
[プロトンNMRによる測定]
・装置:Bruker社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:テトラクロロエタン
・濃度:0.045g/1.0mL
・測定:1H-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・フリップ角:45度
・データ取得時間:4秒
・パルス繰り返し時間:10秒
・積算回数:64
・測定温度:80℃
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベル:6.8~7.5ppmの積分値低減率
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル:5.7~6.4ppmの積分値低減率
<Hydrogenation Level of Hydrogenated Vinyl Aromatic Polymer Block Unit, Hydrogenation Level of Hydrogenated Conjugated Diene Polymer Block Unit>
[Measurement by proton NMR]
Apparatus: Bruker "AVANCE 400 Spectrometer"
Solvent: Tetrachloroethane Concentration: 0.045 g/1.0 mL
・Measurement: 1H -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
Flip angle: 45 degrees Data acquisition time: 4 seconds Pulse repetition time: 10 seconds Number of integrations: 64
・Measurement temperature: 80℃
Hydrogenation level of hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit: integral value reduction rate of 6.8 to 7.5 ppm Hydrogenation level of hydrogenated conjugated diene polymer block unit: integral value reduction rate of 5.7 to 6.4 ppm
<変性水素化ブロックコポリマーの変性率>
[プロトンNMRによる測定]
・装置:BRUKER社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:重o-ジクロロベンゼン
・濃度:20mg/0.62mL
・測定:1H-NMR
・共鳴周波数:400MHz
・フリップ角:45度
・データ取得時間:4秒
・パルス繰り返し時間:10秒
・積算回数:64
・測定温度:120℃
・変性水素化ブロックコポリマーの変性率:変性水素化ブロックコポリマーをメチルエステル化処理した後、3.42~3.94ppmのシグナルをマレイン酸ジメチルとしてカウントし、その積分値の1/2から算出
<Modification ratio of modified hydrogenated block copolymer>
[Measurement by proton NMR]
Apparatus: BRUKER "AVANCE 400 Spectrometer"
Solvent: deuterated o-dichlorobenzene Concentration: 20 mg/0.62 mL
・Measurement: 1H -NMR
・Resonance frequency: 400MHz
Flip angle: 45 degrees Data acquisition time: 4 seconds Pulse repetition time: 10 seconds Number of integrations: 64
・Measurement temperature: 120℃
Modification ratio of modified hydrogenated block copolymer: After the modified hydrogenated block copolymer is subjected to methyl esterification treatment, the signal at 3.42 to 3.94 ppm is counted as dimethyl maleate, and the ratio is calculated from 1/2 of the integral value.
<透明性>
住友重機(株)製SE-18D射出成型機を用い、成形温度220℃、金型温度40℃にて2mm×40mm×80mmの平板を射出成型した。この板を用い、JIS K7105(1981)記載の測定法に準じてHAZE測定を行なった。
測定したHAZEの値をもって透明性の評価とした。評価結果を表に示す。尚、HAZE値は低いほど透明性が良好である。
<Transparency>
Using an SE-18D injection molding machine manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., a flat plate of 2 mm x 40 mm x 80 mm was injection molded at a molding temperature of 220° C. and a mold temperature of 40° C. Using this plate, haze measurement was carried out in accordance with the measurement method described in JIS K7105 (1981).
The measured haze value was used to evaluate transparency. The evaluation results are shown in Table 1. The lower the haze value, the better the transparency.
<耐熱性>
上記で得られた板を3枚重ね、JIS K7206(1999)記載の方法にてビカット軟化温度を測定した。測定したビカット軟化温度の値をもって耐熱性の評価とした。評価結果を表に示す。尚、ビカット軟化温度は高いほど耐熱性が高い。
<Heat resistance>
Three sheets of the above-obtained plates were stacked, and the Vicat softening temperature was measured according to the method described in JIS K7206 (1999). The measured Vicat softening temperature was used to evaluate heat resistance. The evaluation results are shown in the table. The higher the Vicat softening temperature, the higher the heat resistance.
<誘電特性(誘電率・誘電正接)>
成形温度240℃にて2mm×100mm×100mmのプレスシートを作成した。このシートを試験片とし、ベクトルネットワークアナライザ(KEYSIGHT PNA N5227A)を用いて、測定周波数50GHz、温度25℃、湿度40%にて誘電率(ε’)と誘電正接(tanδ)の測定を行なった。
<Dielectric properties (dielectric constant, dielectric tangent)>
A press sheet of 2 mm x 100 mm x 100 mm was prepared at a molding temperature of 240° C. This sheet was used as a test piece, and the dielectric constant (ε′) and dielectric loss tangent (tan δ) were measured using a vector network analyzer (KEYSIGHT PNA N5227A) at a measurement frequency of 50 GHz, a temperature of 25° C., and a humidity of 40%.
<接着性>
アルミニウム板として、JISH4000 A5052P 1mm×70mm×150mmのアルミ板を用いた。
ステンレス板として、JISG4305 SUS304 BA 0.5mm×70mm×150mmのステンレス板を用いた。
銅板として、JISH3100 C1100P 0.8mm×25mm×150mmの銅板を用いた。
ポリアミド板として、DSM社製ノバミッド1020Cを用い、住友重機(株)製SE-18D射出成型機を用い、成形温度240℃、金型温度40℃にて2mm×40mm×80mmの平板を射出成型したものを用いた。
EVOH板として、クラレ製エバールF101Bを用い、住友重機(株)製SE-18D射出成型機を用い、成形温度220℃、金型温度40℃にて2mm×40mm×80mmの平板を射出成型したものを用いた。
<Adhesiveness>
As the aluminum plate, a JIS H4000 A5052P aluminum plate of 1 mm x 70 mm x 150 mm was used.
As the stainless steel plate, a JIS G4305 SUS304 BA stainless steel plate of 0.5 mm x 70 mm x 150 mm was used.
The copper plate used was a JIS H3100 C1100P copper plate measuring 0.8 mm x 25 mm x 150 mm.
The polyamide plate used was Novamid 1020C manufactured by DSM, which was injection molded into a flat plate measuring 2 mm x 40 mm x 80 mm at a molding temperature of 240°C and a mold temperature of 40°C using an SE-18D injection molding machine manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.
The EVOH plate was EVAL F101B manufactured by Kuraray Co., Ltd., and injection molded into a flat plate of 2 mm x 40 mm x 80 mm at a molding temperature of 220°C and a mold temperature of 40°C using an SE-18D injection molding machine manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.
用いる金属板及び樹脂板は、表面をアセトンで拭いた後、溶液を厚さ50μmとなるようにワイヤーバーコーターで塗工し、80℃の温風を吹き付けて溶媒を除去し、減圧乾燥器にて50℃、2時間減圧処理を行なった。
その後、塗工面をNTカッターにて幅1mmの碁盤目を100個切り、そのうえでニチバン製布粘着テープLS NO.123を張り付けた後に剥がし、100個の碁盤目中何個残っているかを観察し、接着性評価とした。
評価結果を表1に示す。残っている碁盤目の数が多いほど接着性は良好である。
The surfaces of the metal plates and resin plates used were wiped with acetone, and then the solution was applied to a thickness of 50 μm using a wire bar coater. Hot air at 80° C. was then blown onto the plates to remove the solvent, and the plates were then subjected to reduced pressure treatment at 50° C. for 2 hours in a reduced pressure dryer.
Thereafter, 100 1 mm wide grids were cut into the coated surface using an NT cutter, and then Nichiban cloth adhesive tape LS No. 123 was attached and then peeled off, and the number of remaining grids out of the 100 was observed to evaluate adhesion.
The evaluation results are shown in Table 1. The more squares remaining, the better the adhesion.
<原材料>
[水素化ブロックコポリマー(a-1)]
三菱ケミカル(株)製 ゼラス(商標登録)MC930
・MFR(230℃、2.16kg):1g/10分
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位:含有率65モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリスチレン
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位:含有率35モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリブタジエン
・ブロック構造:ペンタブロック構造、合計水素化レベル:99.5%以上
水素化ブロックコポリマー(a-1)は、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン無水物による変性がされていない水素化ブロックコポリマーである。
<Ingredients>
[Hydrogenated block copolymer (a-1)]
Mitsubishi Chemical Corporation Zelas (registered trademark) MC930
MFR (230°C, 2.16 kg): 1 g/10 min; hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit: hydrogenated polystyrene having a content of 65 mol% and a hydrogenation level of 99.5% or more; hydrogenated conjugated diene polymer block unit: hydrogenated polybutadiene having a content of 35 mol% and a hydrogenation level of 99.5% or more; block structure: pentablock structure, total hydrogenation level: 99.5% or more. The hydrogenated block copolymer (a-1) is a hydrogenated block copolymer that has not been modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic anhydride.
[有機過酸化物]
日本油脂(株)製 パーヘキサ25B
・2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン
[Organic peroxide]
Perhexa 25B manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.
2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane
<実施例1>
[変性水素化ブロックコポリマー(A-1)]
水素化ブロックコポリマー(a-1) 100質量部に対して、無水マレイン酸 1.3質量部、有機過酸化物 0.0065質量部を配合し、十分に攪拌した。
その後、二軸押出機(日本製鋼(株)製、TEX25αIII)を使用し、シリンダー温度280℃、スクリュー回転数400rpm、吐出量10kg/hで溶融混練し、押出された溶融ストランドを水冷、カッティングすることにより、変性水素化ブロックコポリマー(A-1)を得た。
得られたA-1の物性は下記の通りであり、表1にも示す。
・MFR(230℃、2.16kg):3g/10分
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位:含有率65モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリスチレン
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位:含有率35モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリブタジエン
・ブロック構造:ペンタブロック構造、合計水素化レベル:99.5%以上
・無水マレイン酸変性率:1.2質量%
Example 1
[Modified hydrogenated block copolymer (A-1)]
100 parts by mass of the hydrogenated block copolymer (a-1) were mixed with 1.3 parts by mass of maleic anhydride and 0.0065 parts by mass of an organic peroxide, and the mixture was thoroughly stirred.
Thereafter, the mixture was melt-kneaded using a twin-screw extruder (TEX25αIII, manufactured by Japan Steel Works, Ltd.) at a cylinder temperature of 280° C., a screw rotation speed of 400 rpm, and a discharge rate of 10 kg/h, and the extruded molten strand was water-cooled and cut to obtain a modified hydrogenated block copolymer (A-1).
The physical properties of the obtained A-1 are as follows and are also shown in Table 1.
MFR (230°C, 2.16 kg): 3 g/10 min. Hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit: hydrogenated polystyrene with a content of 65 mol% and a hydrogenation level of 99.5% or more. Hydrogenated conjugated diene polymer block unit: hydrogenated polybutadiene with a content of 35 mol% and a hydrogenation level of 99.5% or more. Block structure: pentablock structure, total hydrogenation level: 99.5% or more. Maleic anhydride modification rate: 1.2 mass%.
200mLのセパラブルフラスコに、5gのA-1と、100ml(86.2g)のトルエンを投入し、60℃に加熱して1時間攪拌した。A-1は全て溶解し無色透明の溶液となった。
A-1及びA-1の溶液を用いて、上記の各評価を行なった。評価結果を表1に示す。
5 g of A-1 and 100 ml (86.2 g) of toluene were placed in a 200 mL separable flask, heated to 60° C., and stirred for 1 hour. All of A-1 was dissolved, resulting in a colorless, transparent solution.
The above-mentioned evaluations were carried out using solutions A-1 and A-1. The evaluation results are shown in Table 1.
<実施例2>
[変性水素化ブロックコポリマー(A-2)]
得られたA-1 100質量部に対して、有機過酸化物 1質量部を配合し、十分に攪拌した。
その後、実施例1と同様に溶融混練して、変性水素化ブロックコポリマー(A-2)を得た。得られたA-2の物性を表1に示す。
Example 2
[Modified hydrogenated block copolymer (A-2)]
100 parts by mass of the obtained A-1 was mixed with 1 part by mass of an organic peroxide and thoroughly stirred.
Thereafter, the mixture was melt-kneaded in the same manner as in Example 1 to obtain a modified hydrogenated block copolymer (A-2). The physical properties of the obtained A-2 are shown in Table 1.
A-1の代わりにA-2を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエン溶液を得た。A-2は全て溶解して無色透明の溶液となった。
A-2及びA-2の溶液を用いて、上記の各評価を行なった。評価結果を表1に示す。
A toluene solution was obtained in the same manner as in Example 1, except that A-2 was used instead of A-1. A-2 was completely dissolved, and a colorless, transparent solution was obtained.
The above-mentioned evaluations were carried out using solutions A-2 and A-2. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例1>
[水素化ブロックコポリマー(a-1)]
A-1の代わりにa-1を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエン溶液を得た。a-1は全て溶解して無色透明の溶液となった。
a-1及びa-1の溶液を用いて上記の各評価を行なった。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
[Hydrogenated block copolymer (a-1)]
A toluene solution was obtained in the same manner as in Example 1, except that a-1 was used instead of A-1. All of a-1 was dissolved, resulting in a colorless, transparent solution.
The above-mentioned evaluations were carried out using solutions a-1 and a-1. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例2>
[変性ブロックコポリマー(a-2)]
スチレン-ブタジエンブロック共重合体水素化物の無水マレイン酸変性体として、旭化成(株)製タフテックM1943を用いた。
a-2は、ブロックコポリマーの無水マレイン酸変性体であるが、原料となるブロックコポリマーの芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化されていないものである。
A-1の代わりにa-2を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエン溶液を得た。a-2は全て溶解して無色透明の溶液となった。
a-2及びa-2の溶液を用いて上記の各評価を行なった。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 2>
[Modified block copolymer (a-2)]
As the maleic anhydride modified product of the hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, Tuftec M1943 manufactured by Asahi Kasei Corporation was used.
a-2 is a maleic anhydride modified block copolymer, but the aromatic vinyl polymer block units of the raw material block copolymer are not hydrogenated.
A toluene solution was obtained in the same manner as in Example 1, except that a-2 was used instead of A-1. All of a-2 was dissolved, resulting in a colorless, transparent solution.
The above-mentioned evaluations were carried out using solutions a-2 and a-2. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例3>
[変性ポリオレフィン(a-3)]
プロピレン-ブテン共重合体として、三井化学(株)タフマーXM7070を用い、実施例1と同様に無水マレイン酸で変性し、酸変性プロピレン-ブテン共重合体(a-3)を得た。
A-1の代わりにa-3を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエン溶液を得た。a-3は全て溶解して無色透明の溶液となった。
a-3及びa-3の溶液を用いて上記の各評価を行なった。尚、a-3は透明性及び耐熱性が劣ることから、誘電特性は評価しなかった。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 3>
[Modified polyolefin (a-3)]
As the propylene-butene copolymer, Tafmer XM7070 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. was used, which was modified with maleic anhydride in the same manner as in Example 1 to obtain an acid-modified propylene-butene copolymer (a-3).
A toluene solution was obtained in the same manner as in Example 1, except that a-3 was used instead of A-1. All of a-3 was dissolved, resulting in a colorless, transparent solution.
The above evaluations were carried out using solutions a-3 and a-3. Since a-3 was inferior in transparency and heat resistance, the dielectric properties were not evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例4>
[変性ポリエチレン(a-4)]
酸変性ポリエチレンとして、三菱ケミカル(株)製モディックM704を用いた。
A-1の代わりにa-4を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエンに溶解しようとしたが、a-4の全量は溶解せず、濁ったゲル状となり、塗工に供することができなかった。このため接着性を評価することはできなかった。また、a-4は透明性及び耐熱性が劣ることから、誘電特性は評価しなかった。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 4>
[Modified polyethylene (a-4)]
As the acid-modified polyethylene, Modic M704 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used.
An attempt was made to dissolve a-4 in toluene in the same manner as in Example 1, except that a-4 was used instead of A-1. However, the entire amount of a-4 did not dissolve, and it became a cloudy gel, which could not be used for coating. Therefore, it was not possible to evaluate the adhesiveness. In addition, since a-4 was inferior in transparency and heat resistance, the dielectric properties were not evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例5>
[変性ポリプロピレン(a-5)]
酸変性ポリプロピレンとし、三菱ケミカル(株)製モディックP908を用いた。
A-1の代わりにa-5を用いること以外は実施例1と同様にして、トルエンに溶解しようとしたが、a-5は溶解せず、塗工に供することができなかった。このため接着性を評価することはできなかった。また、a-5は透明性が劣ることから、誘電特性は評価しなかった。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 5>
[Modified polypropylene (a-5)]
Modic P908 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used as the acid-modified polypropylene.
An attempt was made to dissolve a-5 in toluene in the same manner as in Example 1, except that a-5 was used instead of A-1, but a-5 did not dissolve and could not be used for coating. Therefore, it was not possible to evaluate the adhesiveness. In addition, since a-5 has poor transparency, the dielectric properties were not evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
<比較例6>
[ブロックコポリマー(a-6)]
スチレン-ブタンジエンブロック共重合体水素化物として、クレイトンポリマー社製クレイトンG1652を用いた。
a-6は、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化されていなく、酸変性もされていないブロックコポリマーである。
a-6は、従来品の耐熱性及び誘電特性のレベルを示すためのものであり、耐熱性及び誘電特性のみを評価した。評価結果を表1に示す。
<Comparative Example 6>
[Block copolymer (a-6)]
As the hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, Kraton G1652 manufactured by Kraton Polymers was used.
a-6 is a block copolymer in which the aromatic vinyl polymer block units are neither hydrogenated nor acid-modified.
The test piece a-6 was designed to show the level of heat resistance and dielectric properties of the conventional product, and only the heat resistance and dielectric properties were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
<実施例3>
Labtech Engineering社製多層フィルム成形機にて260℃、速度5m/分にて、表面層としてa-1 50μm、中間層としてa-1 10μm、シール層としてA-1 20μmを用い、3層フィルムを成形した。
テスター産業社製ラミネーターにて、ナイロン/アルミ箔 構成のフィルムと上記で得られた3層フィルムを用い、3層フィルムのシール層をアルミ面と接触する様に設定し、ロール温度200℃、速度0.75m/分、ニップ圧0.3MPa(線圧1.5kg/m)にて熱ラミネートを行なった。
その後、幅15mmの短冊に切り出して、下記の方法で90度剥離試験を行ない、アルミ接着強度を測定した。結果を表2に示す。
Example 3
A three-layer film was formed at 260° C. and a speed of 5 m/min in a Labtech Engineering multilayer film forming machine using a-1 50 μm for the surface layer, a-1 10 μm for the intermediate layer, and A-1 20 μm for the seal layer.
Using a laminator manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., a film having a nylon/aluminum foil configuration and the three-layer film obtained above were used, and heat lamination was performed at a roll temperature of 200° C., a speed of 0.75 m/min, and a nip pressure of 0.3 MPa (linear pressure of 1.5 kg/m) by setting the seal layer of the three-layer film to be in contact with the aluminum surface.
The adhesive strength to aluminum was measured by a 90 degree peel test using the method described below. The results are shown in Table 2.
[90度剥離試験]
90度剥離試験は、通常の引張試験機と、90度剥離試験用の治具を用いて測定する。治具により上記短冊試験片を水平に固定し、予め端部を少し剥がしておく。この剥がした部分を引張試験機の上部掴み部で掴み、上方へ引張ることで、短冊試験片の向きに対して90度の角度で剥離することができる。
剥離点は剥離の進行と共に水平に移動するので、短冊試験片を固定した治具を水平にスライドさせて、常に剥離点が上部掴み部の真下に位置するようにして剥離する。
引張速度は300mm/分、測定環境は温度23℃、湿度40%RHである。
[90 degree peel test]
The 90-degree peel test is performed using a normal tensile tester and a jig for a 90-degree peel test. The strip test piece is fixed horizontally using the jig, and the end is peeled off slightly in advance. The peeled off part is gripped by the upper grip of the tensile tester and pulled upward, so that the strip test piece can be peeled off at an angle of 90 degrees to the direction of the strip test piece.
Since the peel point moves horizontally as the peel progresses, the jig holding the rectangular test piece is slid horizontally to ensure that the peel point is always located directly below the upper gripping part.
The tensile speed was 300 mm/min, and the measurement environment was a temperature of 23° C. and a humidity of 40% RH.
<比較例7>
シール層にa-1を用いること以外は実施例3と同様にして、アルミ接着強度を測定した。結果を表2に示す。
<Comparative Example 7>
Except for using a-1 as the sealing layer, the aluminum adhesive strength was measured in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 2.
表1より、本発明の変性水素化ブロックコポリマー(実施例1,2)は、良好な透明性及び耐熱性を有すると共に、誘電特性に優れ、各種基材に対して良好な接着性を示すことがわかった。
これに対して、変性前の水素化ブロックコポリマー(比較例1)は、良好な透明性及び耐熱性を有し、誘電特性に優れるものの、基材との接着性が十分ではないことがわかった。
芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化されていない変性ブロックコポリマー(比較例2)は、透明性及び耐熱性が劣り、誘電特性は優れるものの、基材との接着性が殆ど得られないことがわかった。
From Table 1, it was found that the modified hydrogenated block copolymers of the present invention (Examples 1 and 2) have good transparency and heat resistance, as well as excellent dielectric properties and good adhesion to various substrates.
In contrast, it was found that the hydrogenated block copolymer before modification (Comparative Example 1) had good transparency and heat resistance, and was excellent in dielectric properties, but had insufficient adhesion to the substrate.
It was found that the modified block copolymer in which the aromatic vinyl polymer block units were not hydrogenated (Comparative Example 2) was inferior in transparency and heat resistance, and although it had excellent dielectric properties, it had almost no adhesion to the substrate.
変性ポリオレフィン(比較例3)は、透明性及び耐熱性が劣り、基材との接着性が十分ではないことがわかった。
変性ポリエチレン(比較例4)及び変性ポリプロピレン(比較例5)は、溶媒に溶解しないことから、塗工による接着性を評価することができなかった。
ブロックコポリマー(比較例6)は、従来技術を示すものである。比較例6との対比から、本発明の変性水素化ブロックコポリマーは、良好な耐熱性を有し、誘電特性は従来技術と同等以上であることがわかった。
It was found that the modified polyolefin (Comparative Example 3) was inferior in transparency and heat resistance, and had insufficient adhesion to the substrate.
The modified polyethylene (Comparative Example 4) and the modified polypropylene (Comparative Example 5) were not dissolved in the solvent, and therefore the adhesiveness by coating could not be evaluated.
The block copolymer (Comparative Example 6) represents the prior art. Comparison with Comparative Example 6 shows that the modified hydrogenated block copolymer of the present invention has good heat resistance and dielectric properties equal to or better than those of the prior art.
表2より、本発明の変性水素化ブロックコポリマーを用いた積層体(実施例3)は、アルミ箔に熱ラミネート加工することで、アルミ箔に対して良好な接着性を示すことがわかった。
これに対して、変性前の水素化ブロックコポリマーを用いた積層体(比較例7)は、アルミ箔に熱ラミネート加工しても、アルミ箔との接着性が殆ど得られないことがわかった。
From Table 2, it was found that the laminate using the modified hydrogenated block copolymer of the present invention (Example 3) exhibited good adhesion to the aluminum foil when thermally laminated to the aluminum foil.
In contrast, it was found that the laminate using the unmodified hydrogenated block copolymer (Comparative Example 7) had almost no adhesion to the aluminum foil even when thermally laminated to the aluminum foil.
Claims (13)
該水素化ブロックコポリマーが、芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロック及び共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックを含むコポリマーの水素化体であり、
前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが90%以上の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位であり、前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体は、水素化レベルが95%以上の水素化共役ジエンポリマーブロック単位であり、
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の含有率は、前記水素化ブロックコポリマーに対して50~99モル%であり、
重量平均分子量(Mw)が5,000~80,000である、電気・電子部品用変性水素化ブロックコポリマー。 A modified hydrogenated block copolymer, which is a hydrogenated block copolymer modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride,
the hydrogenated block copolymer is a hydrogenated product of a copolymer including a polymer block composed of an aromatic vinyl monomer unit and a polymer block composed of a conjugated diene monomer unit,
the hydrogenated product of the polymer block composed of the aromatic vinyl monomer unit is a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit having a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated product of the polymer block composed of the conjugated diene monomer unit is a hydrogenated conjugated diene polymer block unit having a hydrogenation level of 95% or more,
the content of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is 50 to 99 mol % based on the hydrogenated block copolymer;
A modified hydrogenated block copolymer for use in electric and electronic parts , having a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 80,000 .
前記水素化ブロックコポリマーを、溶融混練、溶液中反応、固相グラフトのいずれかの方法によりグラフト変性する、電気・電子部品用変性水素化ブロックコポリマーの製造方法。 A method for producing the modified hydrogenated block copolymer for electric/electronic parts according to any one of claims 1 to 4 , comprising the steps of:
The hydrogenated block copolymer is graft-modified by any one of melt kneading, reaction in solution, and solid-phase grafting.
前記水素化ブロックコポリマーを、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物によりグラフト変性する、電気・電子部品用変性水素化ブロックコポリマーの製造方法。 A method for producing the modified hydrogenated block copolymer for electric/electronic parts according to any one of claims 1 to 4 , comprising the steps of:
The hydrogenated block copolymer is graft-modified with an unsaturated carboxylic acid and/or an unsaturated carboxylic acid anhydride to produce a modified hydrogenated block copolymer for use in electric/electronic parts.
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