Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7709969B2 - Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7709969B2 - Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives - Google Patents

Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives

Info

Publication number
JP7709969B2
JP7709969B2 JP2022532426A JP2022532426A JP7709969B2 JP 7709969 B2 JP7709969 B2 JP 7709969B2 JP 2022532426 A JP2022532426 A JP 2022532426A JP 2022532426 A JP2022532426 A JP 2022532426A JP 7709969 B2 JP7709969 B2 JP 7709969B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
acid
derivative
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022532426A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2021256181A1 (en
Inventor
貴彦 村田
章 西山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Publication of JPWO2021256181A1 publication Critical patent/JPWO2021256181A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7709969B2 publication Critical patent/JP7709969B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33Heterocyclic compounds
    • A61K31/335Heterocyclic compounds having oxygen as the only ring hetero atom, e.g. fungichromin
    • A61K31/35Heterocyclic compounds having oxygen as the only ring hetero atom, e.g. fungichromin having six-membered rings with one oxygen as the only ring hetero atom
    • A61K31/351Heterocyclic compounds having oxygen as the only ring hetero atom, e.g. fungichromin having six-membered rings with one oxygen as the only ring hetero atom not condensed with another ring
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P25/00Drugs for disorders of the nervous system
    • A61P25/04Centrally acting analgesics, e.g. opioids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/06Radicals substituted by oxygen atoms

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Neurosurgery (AREA)
  • Neurology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Pain & Pain Management (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は、痛みの治療及び/又は予防に用いられるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体、その塩、又は、それらの水和物の製造法に関する。The present invention relates to a method for producing an aminoalkyltetrahydropyran derivative, its salt, or a hydrate thereof, which is used for the treatment and/or prevention of pain.

痛みの治療及び/又は予防に用いられるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体の製造方法としては、4-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチル及びアリールボロン酸によるカップリング反応で4-(3-メトキシフェニル)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチルに変換し、水素添加反応によってオレフィンを還元した後、塩基存在下でシス体からトランス体に異性化を行い、更にエステルの還元によるアルコール誘導体への変換、スルホニル化を経由したジメチルアミノ基への置換、次いで脱メチル化させることにより誘導する方法が知られている(特許文献1)。A known method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives used in the treatment and/or prevention of pain is to convert them to methyl 4-(3-methoxyphenyl)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate by a coupling reaction with methyl 4-(trifluoromethylsulfonyloxy)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate and an arylboronic acid, reduce the olefin by a hydrogenation reaction, and then isomerize the cis form to a trans form in the presence of a base. The ester is then reduced to convert the derivative to an alcohol derivative, which is then substituted with a dimethylamino group via sulfonylation, and then demethylated to derive the derivative (Patent Document 1).

国際公開第2019/156074号パンフレットInternational Publication No. 2019/156074

しかしながら、特許文献1に記載された方法は、メトキシフェノールの脱メチル化反応を工業規模での製造には適さない-78℃という低温条件で行っており、且つ収率が極端に低いため、工業規模でアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体を提供するには不適である。また、スルホニル基からジメチルアミノ基への置換効率も悪いため、効率的な製造方法とは言い難い。
本発明の第1の目的は、-78℃での反応のような工業規模で製造するには適さない製造条件を用いることなく、アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体を製造する方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、アミノアルキルテトラヒドロピランを高収率で製造する方法を提供することにある。
本発明は、第1の目的及び第2の目的の片方を達成できればよく、両方を達成できることが好ましい。
However, the method described in Patent Document 1 is not suitable for providing an aminoalkyltetrahydropyran derivative on an industrial scale because the demethylation reaction of methoxyphenol is carried out at a low temperature of −78° C., which is not suitable for industrial-scale production, and the yield is extremely low. In addition, the efficiency of the substitution of a sulfonyl group with a dimethylamino group is low, so that the method cannot be said to be an efficient production method.
A first object of the present invention is to provide a method for producing an aminoalkyltetrahydropyran derivative without using production conditions that are unsuitable for industrial-scale production, such as a reaction at -78°C.
A second object of the present invention is to provide a process for producing aminoalkyltetrahydropyrans in high yield.
It is sufficient for the present invention to achieve either the first object or the second object, and it is preferable for the present invention to achieve both of the first object and the second object.

本発明者らは鋭意検討の結果、スルホニル化されたフェノール骨格を有するアミン化合物を塩基と反応させることで-78℃のような低温条件を必要とせず、高収率で合成可能なアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体の製造法を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は以下のとおりである。
As a result of intensive investigations, the present inventors have found a method for producing an aminoalkyltetrahydropyran derivative that can be synthesized in high yield without requiring low temperature conditions such as −78° C. by reacting an amine compound having a sulfonylated phenol skeleton with a base, and have thus completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.

[1] 下記一般式(1);
(式中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表し、R~Rは、それぞれ独立して、炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表し、*1、*2は不斉炭素を表す。)で表されるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)(以下、化合物(1)という場合がある)、又はその薬学的に許容される塩の製造法であって、下記式(2);
(式中、R~R、*1、*2は前記に同じ。Qはスルホニル基を表す。)で表されるアミン化合物(2)(以下、化合物(2)という場合がある)、又はその塩と塩基とを反応させ、前記式(1)で表されるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体、又はその薬学的に許容される塩に変換する製造法。
[2] 前記アミン化合物(2)又はその塩と、塩基とを水溶媒下で反応させることを特徴とする[1]に記載の製造法。
[3] 前記Rが水素原子である[1]又は[2]に記載の製造法。
[4] 前記R及びRが水素原子である[1]~[3]のいずれかに記載の製造法。
[5] 前記R及びRがメチル基である[1]~[4]のいずれかに記載の製造法。
[6] 前記Qがメタンスルホニル基又はp-トルエンスルホニル基である[1]~[5]のいずれかに記載の製造法。
[7] 下記一般式(3);
(式中、R~R、*1、*2は前記に同じ。)で表されるフェノール誘導体(3)(以下、化合物(3)という場合がある)をジスルホニル化することにより、下記一般式(4);
(式中R~R、*1、*2、Qは前記に同じ。)で表されるジスルホニル化合物(4)(以下、化合物(4)という場合がある)に変換し、続いて前記ジスルホニル化合物(4)と第2級アミンとを反応させ、前記アミン化合物(2)又はその塩を製造する工程を有する[1]~[6]のいずれかに記載の製造法。
[8] 前記フェノール誘導体(3)が、下記一般式(5);
(式中R~R、*1、*2は前記に同じ。)で表されるアルコール誘導体(5)(以下、化合物(5)という場合がある)から製造される工程を有する特徴とする[7]に記載の製造法。
[9] 前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)が下式(6a);
で表される3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、又はそれら2つのエナンチオマーの混合物である[1]~[8]のいずれかに記載の製造法。
[10] 前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)が、痛みの治療及び/又は予防に使用される有効成分であることを特徴とする、[1]~[9]のいずれかに記載の製造法。
[1] The following general formula (1);
(wherein R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 4 to R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and *1 and *2 represent asymmetric carbons), or a pharma- ceutically acceptable salt thereof, comprising the steps of:
(wherein R 1 to R 5 , *1 and *2 are as defined above; Q represents a sulfonyl group), or a salt thereof, is reacted with a base to convert it into an aminoalkyltetrahydropyran derivative represented by formula (1) or a pharma- ceutically acceptable salt thereof.
[2] The process according to [1], wherein the amine compound (2) or a salt thereof is reacted with a base in an aqueous solvent.
[3] The production method according to [1] or [2], wherein R 1 is a hydrogen atom.
[4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein R 2 and R 3 are hydrogen atoms.
[5] The production method according to any one of [1] to [4], wherein R 4 and R 5 are methyl groups.
[6] The production method according to any one of [1] to [5], wherein Q is a methanesulfonyl group or a p-toluenesulfonyl group.
[7] The following general formula (3);
(wherein R 1 to R 3 , *1 and *2 are as defined above) is disulfonylated to give a phenol derivative (3) (hereinafter, sometimes referred to as compound (3)), represented by the following general formula (4):
(wherein R 1 to R 3 , *1, *2, and Q are as defined above), followed by reacting the disulfonyl compound (4) with a secondary amine to produce the amine compound (2) or a salt thereof.
[8] The phenol derivative (3) is represented by the following general formula (5);
The method according to [ 7 ] , characterized in that it comprises a step of producing the compound from an alcohol derivative (5) represented by the formula (5) (hereinafter, sometimes referred to as compound (5)):
[9] The aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) is represented by the following formula (6a):
The process according to any one of [1] to [8], which is 3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol, 3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol, or a mixture of the two enantiomers thereof.
[10] The method according to any one of [1] to [9], wherein the aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) is an active ingredient used for the treatment and/or prevention of pain.

本発明によれば、-78℃での反応のような工業規模で製造するには適さない製造条件を用いることなく、アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体を製造できる。
本発明によれば、アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体を高収率で製造できる。
According to the present invention, an aminoalkyltetrahydropyran derivative can be produced without using production conditions that are not suitable for industrial-scale production, such as a reaction at -78°C.
According to the present invention, an aminoalkyltetrahydropyran derivative can be produced in high yield.

以下、本発明に係るアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体の製造方法について詳細に述べる。The method for producing the aminoalkyltetrahydropyran derivative according to the present invention is described in detail below.

本発明の生成物であるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)は、下記式(1a);
(式中、*1及び*2′は不斉炭素を表し、主生成物はトランス体のエナンチオマー又はその混合物であり、R、R、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(1a)という場合がある。)
又は下記式(1b);
(式中、*1及び*2′′は不斉炭素を表し、主生成物はシス体のエナンチオマー或いはその混合物であり、R、R、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(1b)という場合がある。)で表されるものが好ましい。
前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)として好ましくはトランス体のエナンチオマー又はその混合物である。
前記トランス及びシスは、*1の炭素に結合するフェニル基と*2の炭素に結合する環外メチレン基(化合物(1a)、化合物(1b)の例ではアミノメチル基が有するメチレン基)の関係に基づいて定める。また前記「その混合物」は、例えば、エナンチオマー同士の混合物を意味し、エナンチオマー同士の等量混合物(ラセミ体)及び非等量混合物のいずれでもよい。
The product of the present invention, the aminoalkyltetrahydropyran derivative (1), is represented by the following formula (1a):
(In the formula, *1 and *2' represent asymmetric carbons, the main product is a trans enantiomer or a mixture thereof, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are the same as above. Hereinafter, this compound may be referred to as compound (1a).)
Or the following formula (1b):
(wherein *1 and *2" represent asymmetric carbons, the main product is a cis enantiomer or a mixture thereof, and R1 , R2 , R3 , R4 , and R5 are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (1b)).
The aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) is preferably a trans enantiomer or a mixture thereof.
The trans and cis are determined based on the relationship between the phenyl group bonded to the carbon of *1 and the exocyclic methylene group bonded to the carbon of *2 (the methylene group of the aminomethyl group in the examples of compounds (1a) and (1b)). The "mixture thereof" means, for example, a mixture of enantiomers, and may be either an equal mixture (racemic mixture) or an unequal mixture of enantiomers.

ここで、Rは水素原子、炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表す。無置換のアルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。置換のアルキル基の置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、ヒドロキシアミノ基、炭素数1~12のアルキルアミノ基、炭素数1~12のジアルキルアミノ基、炭素数7~12のアラルキルアミノ基、炭素数7~12のジアラルキルアミノ基、炭素数1~12のアルキルスルホニルアミノ基、スルホン酸基、スルホンアミド基、アジド基、トリフルオロメチル基、カルボキシ基、炭素数1~12のアシル基、炭素数7~12のアロイル基、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルキルオキシ基、炭素数1~12のアシルオキシ基、炭素数7~12のアロイルオキシ基、炭素数1~12のシリルオキシ基、炭素数1~12のアルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1~12のアルキルチオ基等が挙げられ、置換基の数は1~5個が挙げられる。
として好ましくは水素原子又は無置換のアルキル基が好ましく、更に好ましくは水素原子、又はメチル基である。
Here, R1 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the substituent of the substituted alkyl group include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom, nitro group, nitroso group, cyano group, hydroxyamino group, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, aralkylamino group having 7 to 12 carbon atoms, diaralkylamino group having 7 to 12 carbon atoms, alkylsulfonylamino group having 1 to 12 carbon atoms, sulfonic acid group, sulfonamide group, azide group, trifluoromethyl group, carboxy group, acyl group having 1 to 12 carbon atoms, aroyl group having 7 to 12 carbon atoms, hydroxy group, alkyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, acyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, aroyloxy group having 7 to 12 carbon atoms, silyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, alkylcarbonyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, and alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms. The number of the substituents is 1 to 5.
R 1 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ここで、R、Rは独立して炭素数1~12の置換、又は無置換のアルキル基を表す。これらの基の具体例は前記Rの説明における例示と同様である。また、アルキル基が有してもよい置換基の例及び数も前記Rの場合と同様である。
、Rとして好ましくは水素原子又は無置換のアルキル基が好ましく、更に好ましくは水素原子、又はメチル基である。RとRは同じであることが好ましい。
Here, R 2 and R 3 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples of these groups are the same as those exemplified in the description of R 1. In addition, examples and the number of substituents that the alkyl group may have are also the same as those in the case of R 1 .
R 2 and R 3 are preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is preferable that R 2 and R 3 are the same.

ここで、R、Rは独立して炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表す。R、Rで示されるアルキル基の具体例としては、前記Rの説明における例示と同様である。また、アルキル基が有してもよい置換基の例及び数もRの場合と同様である。R、Rとして好ましくは無置換のアルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基である。 Here, R 4 and R 5 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group represented by R 4 and R 5 are the same as those exemplified in the description of R 1 above. In addition, examples and the number of substituents that the alkyl group may have are also the same as those in the case of R 1. R 4 and R 5 are preferably an unsubstituted alkyl group, and more preferably a methyl group.

また、本発明における前駆体であるアミン化合物(2)は、下記式(2a);
(式中、*1及び*2′、R、R、R、R、R、Qは前記に同じである。以下、化合物(2a)という場合がある。化合物(2a)はトランス体のエナンチオマー又はその混合物である。)
又は下記式(2b);
(式中、*1及び*2′′、R、R、R、R、R、Qは前記に同じである。以下、化合物(2b)という場合がある。化合物(2b)はシス体のエナンチオマー又はその混合物である。)で表されるものが好ましい。
トランス、シスの区別及び「その混合物」の意味は、化合物(1a)、化合物(1b)と同じである。
前記アミン化合物(2)としてより好ましくはトランス体のエナンチオマー又はその混合物(化合物(2a))である。
The amine compound (2) which is a precursor in the present invention is represented by the following formula (2a):
(In the formula, *1 and *2', R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Q are the same as above. Hereinafter, this compound may be referred to as compound (2a). Compound (2a) is a trans enantiomer or a mixture thereof.)
Or the following formula (2b):
(wherein *1 and *2'', R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Q are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (2b). Compound (2b) is a cis enantiomer or a mixture thereof.) is preferred.
The distinction between trans and cis and the meaning of "a mixture thereof" are the same as for compound (1a) and compound (1b).
The amine compound (2) is more preferably a trans enantiomer or a mixture thereof (compound (2a)).

ここで、Qはスルホニル基を示し、アシル基の-C(=O)-が-S(=O)-に置き換えられた形の基が好ましい。スルホニル基としては、例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの、アルカン部位にハロゲン原子が結合していてもよい炭素数1~4のアルカンスルホニル基;ベンゼンスルホニル基、p-トルエンスルホニル基、o-クロロベンゼンスルホニル基、m-クロロベンゼンスルホニル基、p-クロロベンゼンスルホニル基、o-ニトロベンゼンスルホニル基、m-ニトロベンゼンスルホニル基、p-ニトロベンゼンスルホニル基などの、ベンゼン環に炭素数1~4のアルキル基、ハロゲン原子などが結合していてもよいベンゼンスルホニル基;(+)-10-カンファースルホニル基等が挙げられる。スルホニル基として好ましくは、メタンスルホニル基、又はp-トルエンスルホニル基であり、更に好ましくはメタンスルホニル基である。 Here, Q represents a sulfonyl group, and a group in which -C(=O)- of an acyl group is replaced with -S(=O) 2 - is preferable. Examples of the sulfonyl group include alkanesulfonyl groups having 1 to 4 carbon atoms, which may have a halogen atom bonded to the alkane moiety, such as a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group; benzenesulfonyl groups having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or the like, which may be bonded to the benzene ring, such as a benzenesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, an o-chlorobenzenesulfonyl group, an m-chlorobenzenesulfonyl group, a p-chlorobenzenesulfonyl group, an o-nitrobenzenesulfonyl group, an m-nitrobenzenesulfonyl group, or a p-nitrobenzenesulfonyl group; and a (+)-10-camphorsulfonyl group. The sulfonyl group is preferably a methanesulfonyl group or a p-toluenesulfonyl group, and more preferably a methanesulfonyl group.

前記アミン化合物(2)、又はその塩を前駆体とし、塩基を用いてスルホニル基を加水分解することで、-78℃での反応のような工業規模で製造するには適さない低温条件の脱メチル化反応を回避し、かつ高収率で前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)、又はその薬学的に許容される塩を製造することができる。By using the amine compound (2) or a salt thereof as a precursor and hydrolyzing the sulfonyl group using a base, it is possible to avoid the demethylation reaction under low-temperature conditions that are not suitable for industrial-scale production, such as a reaction at -78°C, and to produce the aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) or a pharma- ceutically acceptable salt thereof in high yield.

また、前記アミン化合物(2)又はその塩は、フェノール誘導体(3)をジスルホニル化して得られるジスルホニル化合物(4)をアミノ化することで(例えば、第2級アミンとの反応によってアミノ化することで)製造できる。The amine compound (2) or a salt thereof can be produced by aminating the disulfonyl compound (4) obtained by disulfonylation of a phenol derivative (3) (e.g., by aminating by reaction with a secondary amine).

前記フェノール誘導体(3)は、下記式(3a);
(式中、*1及び*2′、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(3a)という場合がある。化合物(3a)はトランス体のエナンチオマー又はその混合物である。)
又は下記式(3b);
(式中、*1及び*2′′、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(3b)という場合がある。化合物(3b)はシス体のエナンチオマー又はその混合物である)で表されるものが好ましい。
トランス、シスの区別及び「その混合物」の意味は、化合物(1a)、化合物(1b)と同じである。
フェノール誘導体としてより好ましくはトランス体のエナンチオマー又はその混合物(化合物(3a))である。
The phenol derivative (3) is represented by the following formula (3a):
(In the formula, *1 and *2', R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (3a). Compound (3a) is a trans enantiomer or a mixture thereof.)
Or the following formula (3b):
(wherein *1 and *2″, R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (3b). Compound (3b) is a cis enantiomer or a mixture thereof).
The distinction between trans and cis and the meaning of "a mixture thereof" are the same as for compound (1a) and compound (1b).
The phenol derivative is more preferably a trans enantiomer or a mixture thereof (compound (3a)).

また、前記ジスルホニル化合物(4)は、下記式(4a);
(式中、*1及び*2′、R、R、R、Qは前記に同じである。以下、化合物(4a)という場合がある。化合物(4a)はトランス体のエナンチオマー又はその混合物である。)
又は下記式(4b);
(式中、*1及び*2′′、R、R、R、Qは前記に同じである。以下、化合物(4b)という場合がある。化合物(4b)はシス体のエナンチオマー又はその混合物である。)で表されるものが好ましい。
トランス、シスの区別及び「その混合物」の意味は、化合物(1a)、化合物(1b)と同じである。
ジスルホニル化合物として好ましくはトランス体のエナンチオマー又はその混合物(化合物(4a))である。
The disulfonyl compound (4) is represented by the following formula (4a):
(In the formula, *1 and *2', R 1 , R 2 , R 3 and Q are the same as above. Hereinafter, the compound may be referred to as compound (4a). Compound (4a) is a trans enantiomer or a mixture thereof.)
Or the following formula (4b):
(wherein *1 and *2'', R 1 , R 2 , R 3 and Q are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (4b). Compound (4b) is a cis enantiomer or a mixture thereof.) is preferred.
The distinction between trans and cis and the meaning of "a mixture thereof" are the same as for compound (1a) and compound (1b).
The disulfonyl compound is preferably a trans enantiomer or a mixture thereof (compound (4a)).

本発明における前記フェノール誘導体(3)から得られる前記ジスルホニル化合物(4)をアミノ化することで前記アミン化合物が収率よく製造できる。In the present invention, the amine compound can be produced in good yield by aminating the disulfonyl compound (4) obtained from the phenol derivative (3).

さらに、前記フェノール誘導体(3)は例えば、アルコール誘導体(5)を脱メチル化することで製造することができる。 Furthermore, the phenol derivative (3) can be produced, for example, by demethylating the alcohol derivative (5).

前記アルコール誘導体(5)は、下記式(5a);
(式中、*1及び*2′、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(5a)という場合がある。化合物(5a)はトランス体のエナンチオマー又はその混合物である。)
又は下記式(5b);
(式中、*1及び*2′′、R、R、Rは前記に同じである。以下、化合物(5b)という場合がある。化合物(5b)はシス体のエナンチオマー又はその混合物である。)で表されるものが好ましい。
トランス、シスの区別及び「その混合物」の意味は、化合物(1a)、化合物(1b)と同じである。
前記アルコール誘導体(5)として好ましくはトランス体のエナンチオマー又はその混合物(化合物(5a))である。
The alcohol derivative (5) is represented by the following formula (5a):
(In the formula, *1 and *2', R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (5a). Compound (5a) is a trans enantiomer or a mixture thereof.)
Or the following formula (5b):
(wherein *1 and *2″, R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. Hereinafter, this may be referred to as compound (5b). Compound (5b) is a cis enantiomer or a mixture thereof.) is preferred.
The distinction between trans and cis and the meaning of "a mixture thereof" are the same as for compound (1a) and compound (1b).
The alcohol derivative (5) is preferably a trans enantiomer or a mixture thereof (compound (5a)).

前記アルコール誘導体(6)としてより好ましくは下式(6a);
で表される3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、又はそれら2つのエナンチオマーの混合物である。
The alcohol derivative (6) is more preferably represented by the following formula (6a):
The compound is 3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol, 3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol, or a mixture of the two enantiomers thereof.

本発明における前記アルコール化合物(5)からの脱メチル化反応では-78℃での反応のような工業規模で製造するには適さない低温条件を必要とせず、かつ高収率で前記フェノール誘導体を製造できる。In the present invention, the demethylation reaction from the alcohol compound (5) does not require low-temperature conditions that are unsuitable for industrial-scale production, such as a reaction at −78° C., and can produce the phenol derivative in high yield.

次に、上記のアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体等の製造法について説明する。Next, the production method of the above aminoalkyltetrahydropyran derivatives will be described.

工程1:アミン化合物(2)又はその塩からアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)、又はその薬学的に許容される塩を製造する工程
(式中、*1及び*2、R、R、R、R、R、Qは前記に同じである。)
本工程は、溶媒中、化合物(2)又はその塩に対し、塩基を作用させて、化合物(1)を製造する工程である。
Step 1: A step of producing an aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) or a pharma- ceutically acceptable salt thereof from an amine compound (2) or a salt thereof.
(In the formula, *1 and *2, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Q are the same as above.)
This step is a step of producing compound (1) by reacting compound (2) or a salt thereof with a base in a solvent.

本工程の反応溶媒としては、反応に影響を与えない限りにおいて特に制限はなく、例えば、水;メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、tert-ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸tert-ブチル等のエステル系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒;ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒を用いることができる。好ましくは水、tert-ブタノール、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフランであり、更に好ましくは水である。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。2種類以上を併用する場合、水と水以外の溶媒との混合溶媒であることが好ましい。The reaction solvent in this step is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples of the reaction solvent include water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, tert-butanol, and ethylene glycol; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and methylcyclohexane; halogen-based solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, and chlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and tert-butyl acetate; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; urea solvents such as dimethylpropyleneurea; phosphonic acid triamide solvents such as hexamethylphosphonic acid triamide; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; and nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile. Water, tert-butanol, tetrahydrofuran, and 2-methyltetrahydrofuran are preferred, and water is even more preferred. These may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited. When two or more types are used in combination, a mixed solvent of water and a solvent other than water is preferable.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、上限としては、前記化合物(2)又はその塩に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(2)又はその塩に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times by weight or less, more preferably 20 times by weight or less, relative to the compound (2) or a salt thereof, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times by weight or more, more preferably 0.5 times by weight or more, relative to the compound (2) or a salt thereof. If the amount is within this range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

本工程の加水分解に使用する塩基としては、トリエチルアミン、トリn-ブチルアミン、N-メチルモルホリン、N-メチルピペリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアミノピリジン、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン等の第3級アミン類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド等の金属アルコキシド;水素化ナトリウム等の金属ヒドリドが挙げられる。好ましくは金属水酸化物、金属アルコキシドであり、より好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムであり、更に好ましくは水酸化ナトリウム、又は水酸化カリウムであり、特に好ましくは水酸化ナトリウムである。 Examples of bases used for hydrolysis in this step include tertiary amines such as triethylamine, tri-n-butylamine, N-methylmorpholine, N-methylpiperidine, diisopropylethylamine, pyridine, N,N-dimethylaminopyridine, and 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane; metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, barium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, magnesium hydroxide, and calcium hydroxide; metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, and potassium carbonate; metal hydrogen carbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate; metal alkoxides such as lithium methoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium ethoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, and potassium tert-butoxide; and metal hydrides such as sodium hydride. Preferred are metal hydroxides and metal alkoxides, more preferred are lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide, further preferred are sodium hydroxide and potassium hydroxide, and particularly preferred is sodium hydroxide.

前記塩基の使用量としては、好ましくは前記化合物(2)又はその塩に対して0.1~50倍モル量であり、更に好ましくは1~20倍モル量である。The amount of the base used is preferably 0.1 to 50 times the molar amount of compound (2) or a salt thereof, and more preferably 1 to 20 times the molar amount.

本工程の反応温度は反応時間を短縮する一方で、副反応を抑制する目的で、好ましくは-40~150℃であり、より好ましくは-20~100℃であり、さらに好ましくは40~100℃である。The reaction temperature in this process is preferably -40 to 150°C, more preferably -20 to 100°C, and even more preferably 40 to 100°C, in order to shorten the reaction time while suppressing side reactions.

本工程の反応時間について特に制限はなく、適宜設定すればよいが、好ましくは0.001~72時間であり、更に好ましくは0.1~48時間である。There is no particular restriction on the reaction time of this step and it may be set appropriately, but it is preferably 0.001 to 72 hours, and more preferably 0.1 to 48 hours.

本工程において、前記化合物(2)又はその塩、前記塩基、反応溶媒の混合順序や混合方法は特に制限されない。In this process, the order and method of mixing the compound (2) or a salt thereof, the base, and the reaction solvent are not particularly limited.

反応終了後の処理としては、反応液から目的物を取得するための一般的な処理を行ってもよい。例えば、反応終了後の反応液に水を必要に応じて加えるなどして目的物を含む塩基性水溶液とし、一般的な有機溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を用いて目的物を水層側に回収する洗浄操作を行うとよい。 As a treatment after the reaction is completed, a general treatment for obtaining the target substance from the reaction solution may be performed. For example, water may be added to the reaction solution after the reaction is completed as necessary to obtain a basic aqueous solution containing the target substance, and a washing operation may be performed to recover the target substance in the aqueous layer using a general organic solvent such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc.

目的物を含む塩基性水溶液(水を含む反応混合物、前記有機溶媒による洗浄で回収される水層など)から目的物を取得する方法として、目的物を含む塩基性水溶液に一般的な抽出溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を加え、かつ酸を加える。酸を加えることにより、目的物を含む塩基性水溶液が塩基性、中性、又は酸性水溶液となり、目的物が抽出溶媒側に抽出されることで抽出液が得られる。As a method for obtaining a target substance from a basic aqueous solution containing the target substance (such as a reaction mixture containing water or the aqueous layer recovered by washing with the organic solvent), a common extraction solvent, such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc., is added to the basic aqueous solution containing the target substance, and an acid is also added. By adding an acid, the basic aqueous solution containing the target substance becomes a basic, neutral, or acidic aqueous solution, and the target substance is extracted into the extraction solvent, thereby obtaining an extract.

前記酸としては、例えば、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム等の硫酸水素塩;リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム等のリン酸二水素塩;フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバル酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、L-酒石酸、D-酒石酸、マンデル酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、又はカンファ―スルホン酸であり、より好ましくはリン酸二水素カリウム、塩化水素である。なお、塩化水素は気体で取り扱いにくいため、代わりに塩酸を用いてもよい。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。 The acid may be, for example, hydrogen sulfates such as sodium hydrogen sulfate and potassium hydrogen sulfate; dihydrogen phosphates such as sodium dihydrogen phosphate and potassium dihydrogen phosphate; inorganic acids such as hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and boric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pivalic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, L-tartaric acid, D-tartaric acid, and mandelic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, or camphorsulfonic acid, and more preferably potassium dihydrogen phosphate and hydrogen chloride. Hydrogen chloride is a gas and difficult to handle, so hydrochloric acid may be used instead. These may be used alone or in combination of two or more. When using two or more, the mixing ratio is not particularly limited.

前記塩基性、中性、又は酸性水溶液としては、好ましくはpH5~11であり、更に好ましくはpH6~9.5以下であり、特に好ましくはpH6.5~10である。The basic, neutral, or acidic aqueous solution preferably has a pH of 5 to 11, more preferably a pH of 6 to 9.5 or less, and particularly preferably a pH of 6.5 to 10.

前記酸と抽出溶媒(有機溶媒)を加えた抽出処理によって有機層を回収し、一旦除去された水層に再び前記抽出溶媒を加えて目的物を再抽出してもよい。前記一旦除去した水層は、塩基性、中性、酸性のいずれでもよいが、酸性(特にpHが5以下の酸性)(すなわち目的物を含む酸性水溶液)である場合には、該酸性水溶液から目的物を取得する方法として、該目的物を含む酸性水溶液に前記一般的な抽出溶媒(前記塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等)のみならず、塩基(例えば、加水分解に使用する上述の塩基と同様の塩基。好ましくは水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物)を加えることが好ましい。酸性水溶液に塩基を加えることでpHが前記好ましい範囲に調整でき(より好ましくは塩基性水溶液とすることができ)、層分離することで目的物が抽出溶媒(有機溶媒)に溶解した液(抽出液)が得られる。The organic layer may be recovered by an extraction process in which the acid and an extraction solvent (organic solvent) are added, and the target substance may be re-extracted by adding the extraction solvent to the aqueous layer from which the acid has been removed. The aqueous layer from which the acid has been removed may be basic, neutral, or acidic. However, when the aqueous layer is acidic (particularly an acidic aqueous solution having a pH of 5 or less) (i.e., an acidic aqueous solution containing the target substance), it is preferable to add not only the general extraction solvent (methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc.) but also a base (for example, a base similar to the base used in hydrolysis, preferably an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide) to the acidic aqueous solution containing the target substance, as a method of obtaining the target substance from the acidic aqueous solution. By adding a base to the acidic aqueous solution, the pH can be adjusted to the preferred range (more preferably, a basic aqueous solution can be obtained), and a liquid (extracted liquid) in which the target substance is dissolved in the extraction solvent (organic solvent) can be obtained by layer separation.

得られた抽出液(有機層)は減圧加熱等の操作により、抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程で使用できる十分な純度を有しているが、純度を高める目的で、晶析、カラムクロマトグラフィー、活性炭処理等の一般的な精製手法により更に純度を高めてもよい。The resulting extract (organic layer) is subjected to reduced pressure heating or other procedures to distill off the extraction solvent, yielding the target product. The target product thus obtained is of sufficient purity to be used in subsequent processes, but may be further purified by common purification techniques such as crystallization, column chromatography, and activated carbon treatment to increase its purity.

前記化合物(1)又はその薬学的に許容される塩(以下、化合物(1)又はその塩という)の晶析に用いる溶媒(以下、晶析溶媒という)としては特に制限はなく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒が挙げられる。これらの具体例としては、前記反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくはアルコール系溶媒、ニトリル系溶媒であり、更に好ましくはエタノール、イソプロパノール、アセトニトリルであり、特に好ましくはアセトニトリルである。これらは単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。2種類以上を併用する場合は、その混合比は特に制限されない。The solvent (hereinafter referred to as the crystallization solvent) used for crystallization of the compound (1) or a pharma- ceutically acceptable salt thereof (hereinafter referred to as the compound (1) or a salt thereof) is not particularly limited, and examples thereof include alcohol-based solvents, ether-based solvents, aliphatic hydrocarbon-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and nitrile-based solvents. Specific examples of these include the solvents exemplified as the reaction solvent. Preferred are alcohol-based solvents and nitrile-based solvents, more preferably ethanol, isopropanol, and acetonitrile, and particularly preferably acetonitrile. These may be used alone or in combination of two or more kinds. When two or more kinds are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

晶析溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(1)又はその塩に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(1)又はその塩に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the crystallization solvent used is preferably 50 times or less by weight, more preferably 20 times or less by weight, relative to the compound (1) or a salt thereof, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight, more preferably 0.5 times or more by weight, relative to the compound (1) or a salt thereof. If the amount is within this range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

晶析を行う方法としては、特に限定されないが、例えば以下のような方法が挙げられ、有機溶媒の組み合わせにより、適切に選択すればよい。
(a)前記化合物(1)又はその塩を有機溶媒に溶解させた後、冷却して結晶化させる方法。
(b)前記化合物(1)又はその塩を有機溶媒に溶解させた後、品溶媒を添加、又は貧溶媒に濃縮置換することにより結晶化させる方法。
(c)前記化合物(1)又はその塩を有機溶媒中で混合し、リスラリーさせる方法。
The method for crystallization is not particularly limited, but examples thereof include the following methods, which may be appropriately selected depending on the combination of organic solvents.
(a) A method in which the compound (1) or a salt thereof is dissolved in an organic solvent and then cooled to cause crystallization.
(b) A method in which the compound (1) or a salt thereof is dissolved in an organic solvent, and then a good solvent is added or the solution is concentrated and replaced with a poor solvent to cause crystallization.
(c) A method in which the compound (1) or a salt thereof is mixed in an organic solvent and reslurried.

(a)、(b)、又は(c)の方法は、適宜組み合わせて結晶化を行ってもよい。また、結晶化の際には種晶を加えてもよい。 Methods (a), (b), and (c) may be combined as appropriate to perform crystallization. Seed crystals may also be added during crystallization.

上記(a)~(c)の晶析方法における実施温度は、特に限定されないが、使用する溶媒の種類により適宜選択すればよく、好ましくは使用する溶媒又は混合溶媒種に、前記化合物(1)又はその塩が溶解する温度未満で、目標とする析出量と結晶の品質に応じて設定すればよい。The temperature at which the crystallization methods (a) to (c) are carried out is not particularly limited, but may be appropriately selected depending on the type of solvent used, and may be set according to the target amount of precipitation and quality of crystals, preferably below the temperature at which compound (1) or a salt thereof dissolves in the solvent or mixed solvent used.

上記(a)~(c)の晶析方法により析出した前記化合物(1)又はその塩は、減圧濾過、加圧ろ過、又は遠心分離等の方法により分離、取得することができる。また、所得した結晶中に母液が残存して結晶の純度が低下する場合は必要に応じて、更に有機溶媒で洗浄することにより、品質を高めることもできる。The compound (1) or a salt thereof precipitated by the above crystallization methods (a) to (c) can be separated and obtained by methods such as vacuum filtration, pressure filtration, or centrifugation. In addition, if the mother liquor remains in the obtained crystals and the purity of the crystals decreases, the quality can be improved by further washing with an organic solvent, if necessary.

結晶の乾燥方法としては、熱分解や溶融を避けて約60℃以下で、減圧乾燥(真空乾燥)するのが好ましい。The preferred method for drying the crystals is reduced pressure (vacuum drying) at temperatures below approximately 60°C to avoid thermal decomposition or melting.

工程2:フェノール誘導体(3)からジスルホニル化合物(4)に変換し、続いて前記化合物(2)又はその塩を製造する工程
(式中、*1及び*2、R、R、R、R、R、Qは前記に同じである。)
Step 2: A step of converting the phenol derivative (3) into a disulfonyl compound (4), followed by producing the compound (2) or a salt thereof.
(In the formula, *1 and *2, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Q are the same as above.)

ジスルホニル化工程
本工程は、溶媒中、前記式(3)で表されるフェノール誘導体に対し、塩基存在下にスルホニル化剤で処理し、前記式(4)で表されるジスルホニル化合物を製造する工程である。
Disulfonylation Step This step is a step in which a phenol derivative represented by the formula (3) is treated with a sulfonylating agent in the presence of a base in a solvent to produce a disulfonyl compound represented by the formula (4).

本工程の反応溶媒としては、反応に影響を与えない限りにおいて特に制限はなく、例えば、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒等が挙げられる。これらの具体例としては、工程1に反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒であり、特に好ましくはトルエン、又は塩化メチレンである。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。The reaction solvent in this step is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents, halogenated solvents, ether solvents, etc. Specific examples of these include the solvents exemplified as reaction solvents in step 1. Aromatic hydrocarbon solvents and halogenated solvents are preferred, and toluene or methylene chloride is particularly preferred. These may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(3)に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(3)に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times or less by weight relative to the compound (3), more preferably 20 times or less by weight, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight relative to the compound (3), more preferably 0.5 times or more by weight. Within such a range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

本工程のジスルホニル化に使用する塩基としては、第3級アミン類、金属水酸化物、金属炭酸水素塩、金属アルコキシド、金属ヒドリド等が挙げられる。これらの具体例としては、工程1で加水分解に使用する塩基として例示した塩基が挙げられる。好ましくは第3級アミン類であり、更に好ましくはトリエチルアミン、トリn-ブチルアミン、N-メチルモルホリン、N-メチルピペリジン、ジイソプロピルエチルアミンであり、特に好ましくはトリエチルアミンである。 Examples of bases used in the disulfonylation in this step include tertiary amines, metal hydroxides, metal hydrogen carbonates, metal alkoxides, metal hydrides, etc. Specific examples of these include the bases exemplified as bases used in the hydrolysis in step 1. Preferred are tertiary amines, more preferred are triethylamine, tri-n-butylamine, N-methylmorpholine, N-methylpiperidine, and diisopropylethylamine, and particularly preferred is triethylamine.

前記塩基の使用量としては、好ましくは前記化合物(3)に対して0.1~50倍モル量であり、更に好ましくは1~20倍モル量である。The amount of the base used is preferably 0.1 to 50 times the molar amount of compound (3), and more preferably 1 to 20 times the molar amount of compound (3).

本工程のスルホニル化剤としては、前記Qで表されるスルホニル基のハロゲン化物(塩化物、臭化物など)、酸無水物などが挙げられる。好ましくは、塩化メタンスルホニル、フッ化メタンスルホニル、臭化メタンスルホニル、メタンスルホン酸無水物、塩化エタンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p-トルエンスルホニル、塩化o-クロロベンゼンスルホニル、塩化m-クロロベンゼンスルホニル、塩化p-クロロベンゼンスルホニル、塩化o-ニトロベンゼンスルホニル、塩化m-ニトロベンゼンスルホニル、塩化p-ニトロベンゼンスルホニル、無水トリフルオロメタンスルホニル、塩化(+)-10-カンファースルホニル等が挙げられる。より好ましくは塩化メタンスルホニル、又は塩化p-トルエンスルホニルであり、更に好ましくは塩化メタンスルホニルである。Examples of the sulfonylating agent used in this step include halides (chlorides, bromides, etc.) of the sulfonyl group represented by Q, and acid anhydrides. Preferred are methanesulfonyl chloride, methanesulfonyl fluoride, methanesulfonyl bromide, methanesulfonic anhydride, ethanesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, o-chlorobenzenesulfonyl chloride, m-chlorobenzenesulfonyl chloride, p-chlorobenzenesulfonyl chloride, o-nitrobenzenesulfonyl chloride, m-nitrobenzenesulfonyl chloride, p-nitrobenzenesulfonyl chloride, trifluoromethanesulfonyl anhydride, (+)-10-camphorsulfonyl chloride, etc. More preferred are methanesulfonyl chloride or p-toluenesulfonyl chloride, and even more preferred is methanesulfonyl chloride.

前記スルホニル化剤の使用量としては、好ましくは前記化合物(3)に対して0.1~50倍モル量であり、更に好ましくは2~10倍モル量である。The amount of the sulfonylating agent used is preferably 0.1 to 50 times the molar amount of compound (3), and more preferably 2 to 10 times the molar amount.

本工程のジスルホニル化の反応温度は反応時間を短縮する一方で、副反応を抑制する目的で、好ましくは-40~80℃であり、更に好ましくは-20~50℃である。The reaction temperature for the disulfonylation in this process is preferably -40 to 80°C, more preferably -20 to 50°C, in order to shorten the reaction time while suppressing side reactions.

本工程のジスルホニル化の反応時間について特に制限はなく、適宜設定すればよいが、好ましくは0.001~24時間であり、更に好ましくは0.1~12時間である。There is no particular restriction on the reaction time for disulfonylation in this process and it may be set appropriately, but it is preferably 0.001 to 24 hours, and more preferably 0.1 to 12 hours.

本工程のジスルホニル化において、前記化合物(3)、塩基、スルホニル化剤、反応溶媒の混合順序や混合方法は特に制限されない。In the disulfonylation process of this step, the mixing order and method of compound (3), base, sulfonylating agent, and reaction solvent are not particularly limited.

反応終了後の処理としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば反応終了後の反応液に水を加えて洗浄、又は必要に応じて塩酸水溶液、硫酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液等の酸水溶液を加えて洗浄を行う。また、一般的な抽出溶媒、例えばトルエン、塩化メチレン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ヘキサン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を用いて抽出を行ってもよい。得られた抽出液から減圧、加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。 Treatment after the reaction can be carried out in the usual manner to obtain the product from the reaction solution. For example, water can be added to the reaction solution after the reaction is completed to wash it, or, if necessary, an acidic solution such as an aqueous hydrochloric acid solution, an aqueous sulfuric acid solution, or an aqueous ammonium chloride solution can be added to wash it. Extraction can also be carried out using a common extraction solvent, such as toluene, methylene chloride, diethyl ether, ethyl acetate, hexane, tetrahydrofuran, or 2-methyltetrahydrofuran. The reaction solvent and extraction solvent can be distilled off from the resulting extract by reducing pressure, heating, or other operations to obtain the target product.

このようにして得られた目的物は、後続工程に使用できる十分な純度を有しているが、後続工程の収率、もしくは後続工程で得られる化合物の純度を更に高める目的で分別蒸留やカラムクロマトグラフィー、活性炭処理、晶析等の一般的な精製手法により、更に純度を高めてもよい。The target product obtained in this manner has sufficient purity for use in subsequent steps, but the purity may be further increased by common purification techniques such as fractional distillation, column chromatography, activated carbon treatment, and crystallization in order to further increase the yield of the subsequent steps or the purity of the compound obtained in the subsequent steps.

アミノ化工程
本工程は、溶媒中、前記化合物(4)に対し、第2級アミンを作用させて、前記化合物(2)又はその塩を製造する工程である。
Amination Step This step is a step in which a secondary amine is allowed to act on the compound (4) in a solvent to produce the compound (2) or a salt thereof.

反応溶媒としては、反応に影響を与えない限りにおいて特に制限はなく、例えば、水、アミド系溶媒、エーテル系溶媒等が挙げられる。これらの具体例としては、工程1に反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくは水、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミドであり、更に好ましくは水である。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。There are no particular limitations on the reaction solvent as long as it does not affect the reaction, and examples include water, amide solvents, and ether solvents. Specific examples of these include the solvents exemplified as reaction solvents in step 1. Preferred are water, tetrahydrofuran, and N,N-dimethylformamide, and more preferably water. These may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(4)に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(4)に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times or less by weight relative to the compound (4), and more preferably 20 times or less by weight, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight relative to the compound (4), and more preferably 0.5 times or more by weight. Within such a range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

本工程のアミノ化に用いる第2級アミンとしては、NHR(式中、R、Rは前記と同じ)が挙げられ、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリンであり、好ましくはジメチルアミンである。なお、ジメチルアミンは気体で取り扱いにくいため、代わりにジメチルアミン塩酸塩、或いはジメチルアミン水溶液を用いてもよい。特に好ましくはジメチルアミン水溶液である。 The secondary amine used in the amination in this step includes NHR 4 R 5 (wherein R 4 and R 5 are the same as above), for example, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, dibutylamine, pyrrolidine, piperidine, and morpholine, and preferably dimethylamine. Since dimethylamine is a gas and difficult to handle, dimethylamine hydrochloride or an aqueous dimethylamine solution may be used instead. An aqueous dimethylamine solution is particularly preferred.

前記第2級アミンの使用量としては、好ましくは前記化合物(4)に対して0.1~100倍モル量であり、更に好ましくは1~50倍モル量であり、特に好ましくは20倍モル量である。The amount of the secondary amine used is preferably 0.1 to 100 times the molar amount of compound (4), more preferably 1 to 50 times the molar amount, and particularly preferably 20 times the molar amount.

本工程の反応温度は反応時間を短縮する一方で、副反応を抑制する目的で、好ましくは-40~150℃であり、より好ましくは-20~120℃、更に好ましくは40~100℃である。The reaction temperature in this process is preferably -40 to 150°C, more preferably -20 to 120°C, and even more preferably 40 to 100°C, in order to shorten the reaction time while suppressing side reactions.

本工程の反応時間について特に制限はなく、適宜設定すればよいが、好ましくは0.001~72時間であり、更に好ましくは0.1~48時間である。There is no particular restriction on the reaction time of this step and it may be set appropriately, but it is preferably 0.001 to 72 hours, and more preferably 0.1 to 48 hours.

本工程において、前記化合物(4)、第2級アミン、反応溶媒の混合順序や混合方法は特に制限されない。In this process, the mixing order and mixing method of the compound (4), secondary amine, and reaction solvent are not particularly limited.

反応終了後の処理としては、特に何も行わず、後続工程に進めてもよく、反応液から目的物を取得するための一般的な処理を行ってもよい。例えば、反応終了後の反応液に一般的な抽出溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を用いて抽出操作を行うとよい。 After the reaction is complete, the reaction solution may be subjected to a general extraction process using a general extraction solvent such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, or 2-methyltetrahydrofuran.

このようにして得られた目的物を含む抽出液(有機層)は、後続工程の収率、もしくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、抽出液に対し、水及び酸を加えて酸性とすることで、目的物を含む酸性水溶液(水層)として取得してもよい。目的物を水層側に転溶することで、有機不純物を低減できる。 The extract (organic layer) containing the target substance thus obtained may be acidified by adding water and an acid to the extract to obtain an acidic aqueous solution (aqueous layer) containing the target substance, in order to further increase the yield in the subsequent step or the purity of the compound obtained in the subsequent step. By transferring the target substance to the aqueous layer, organic impurities can be reduced.

前記目的物である化合物(2)を含む抽出液に加える酸としては、例えば、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム等の硫酸水素塩;リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム等のリン酸二水素塩;フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバル酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、L-酒石酸、D-酒石酸、マンデル酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、又はカンファ―スルホン酸であり、より好ましくは硫酸水素カリウム、塩化水素である。なお、塩化水素は気体で取り扱いにくいため、代わりに塩酸を用いてもよい。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。 Examples of acids to be added to the extract containing the target compound (2) include hydrogen sulfates such as sodium hydrogen sulfate and potassium hydrogen sulfate; dihydrogen phosphates such as sodium dihydrogen phosphate and potassium dihydrogen phosphate; inorganic acids such as hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and boric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pivalic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, L-tartaric acid, D-tartaric acid, and mandelic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and camphorsulfonic acid, and more preferably potassium hydrogen sulfate and hydrogen chloride. Hydrogen chloride is difficult to handle as a gas, so hydrochloric acid may be used instead. These may be used alone or in combination of two or more. When two or more are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

前記酸性水溶液としては、好ましくはpH7以下であり、更に好ましくはpH6以下であり、特に好ましくはpH5以下である。The acidic aqueous solution preferably has a pH of 7 or less, more preferably a pH of 6 or less, and particularly preferably a pH of 5 or less.

次いで、目的物を含む酸性水溶液から有機層側に目的物を取得する方法として、目的物を含む酸性水溶液に一般的な抽出溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を加え、塩基を加えることで塩基性水溶液とすることで抽出液(有機層)が得られる。Next, as a method for obtaining the target substance from the acidic aqueous solution containing the target substance in the organic layer, a common extraction solvent, such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc., is added to the acidic aqueous solution containing the target substance, and a base is added to make it a basic aqueous solution, thereby obtaining an extract (organic layer).

前記目的物を含む酸性水溶液に加える塩基としては、第3級アミン類、金属水酸化物、金属炭酸水素塩、金属アルコキシド、等が挙げられる。これらの具体例としては、工程1で加水分解に使用する塩基として例示した塩基が挙げられる。好ましくは金属水酸化物であり、更に好ましくは水酸化ナトリウムである。なお、固体の水酸化ナトリウムは固体で潮解性があり、取り扱いにくいため、代わりに水酸化ナトリウム水溶液を用いてもよい。Examples of the base to be added to the acidic aqueous solution containing the target substance include tertiary amines, metal hydroxides, metal hydrogen carbonates, metal alkoxides, etc. Specific examples of these include the bases exemplified as the base to be used for hydrolysis in step 1. Metal hydroxides are preferred, and sodium hydroxide is more preferred. Note that solid sodium hydroxide is deliquescent and difficult to handle, so an aqueous sodium hydroxide solution may be used instead.

前記塩基性水溶液としては、好ましくはpH7以上であり、更に好ましくはpH8以上であり、特に好ましくはpH9以上である。The basic aqueous solution preferably has a pH of 7 or higher, more preferably a pH of 8 or higher, and particularly preferably a pH of 9 or higher.

得られた抽出液は減圧加熱等の操作により、抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。また有機層側に目的物を取得せず、前記の目的物を含む酸性水溶液から水を除去することで化合物(2)の塩を得てもよい。このようにして得られた目的物(化合物(2)又はその塩)は、後続工程使用できる十分な純度を有しているが、純度を高める目的で、晶析、カラムクロマトグラフィー、活性炭処理等の一般的な精製手法により更に純度を高めてもよい。The target product is obtained by distilling off the extraction solvent from the obtained extract by heating under reduced pressure or the like. Alternatively, the target product may not be obtained in the organic layer, but a salt of compound (2) may be obtained by removing water from the acidic aqueous solution containing the target product. The target product thus obtained (compound (2) or a salt thereof) has a sufficient purity for use in the subsequent steps, but may be further purified by common purification techniques such as crystallization, column chromatography, and activated carbon treatment in order to increase the purity.

前記化合物(2)の晶析に用いる溶媒としては特に制限はなく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒が挙げられる。これらの具体例としては、工程1に反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくはアルコール系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒であり、更に好ましくはエタノールである。これらは単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。2種類以上を併用する場合は、その混合比は特に制限されない。The solvent used for the crystallization of the compound (2) is not particularly limited, and examples thereof include alcohol-based solvents, ether-based solvents, aliphatic hydrocarbon-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and nitrile-based solvents. Specific examples of these include the solvents exemplified as reaction solvents in step 1. Preferred are alcohol-based solvents and aliphatic hydrocarbon-based solvents, and more preferred is ethanol. These may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(2)に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(2)に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times or less by weight relative to the compound (2), and more preferably 20 times or less by weight, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight relative to the compound (2), and more preferably 0.5 times or more by weight. Within such a range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

晶析を行う方法としては、前記化合物(1)の晶析方法と同様の方法で行うことができる。The crystallization method can be the same as the crystallization method for compound (1) described above.

結晶の乾燥方法は、前記化合物(1)の乾燥方法と同様の方法で行うことができる。The drying method for the crystals can be carried out in the same manner as the drying method for compound (1) described above.

工程3:アルコール誘導体(5)から前記化合物(3)を製造する工程
(式中、*1及び*2、R、R、Rは前記に同じである。)
本工程は、溶媒中、前記式(5)で表されるアルコール誘導体(5)に対し、酸及び捕捉剤を作用させることで前記化合物(3)を製造する工程である。
Step 3: A step of producing the compound (3) from the alcohol derivative (5)
(In the formula, *1 and *2, R 1 , R 2 , and R 3 are the same as above.)
This step is a step of producing the compound (3) by reacting an acid and a scavenger with the alcohol derivative (5) represented by the formula (5) in a solvent.

反応溶媒としては、反応に影響を与えない限りにおいて特に制限はなく、芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、エステル系溶媒、スルホキシド溶媒、アミド系溶媒、ウレア系溶媒、ホスホン酸トリアミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶等を用いることができる。これらの具体例としては、工程1に反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒であり、特に好ましくはトルエン、又は塩化メチレンである。これらは単独で用いても良く、2種類以上を併用しても良い。2種類以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。There are no particular limitations on the reaction solvent as long as it does not affect the reaction, and aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, halogenated solvents, ester solvents, sulfoxide solvents, amide solvents, urea solvents, phosphonic acid triamide solvents, ketone solvents, nitrile solvents, etc. can be used. Specific examples of these include the solvents exemplified as reaction solvents in step 1. Aromatic hydrocarbon solvents and halogenated solvents are preferred, and toluene or methylene chloride is particularly preferred. These may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(5)に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(5)に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times or less by weight relative to the compound (5), more preferably 20 times or less by weight, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight relative to the compound (5), more preferably 0.5 times or more by weight. Within such a range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

本工程に使用する酸としては、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素、塩化アルミニウム(III)、臭化アルミニウム(III)等のハロゲン化アルミニウムなどのルイス酸及びこれらの溶媒和物が挙げられ、好ましくは塩化アルミニウム(III)である。なお、三フッ化ホウ素については、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を用いてもよい。 The acid used in this step includes Lewis acids such as boron halides, such as boron trifluoride, boron trichloride, and boron tribromide, and aluminum halides, such as aluminum chloride (III) and aluminum bromide (III), and solvates thereof, with aluminum chloride (III) being preferred. For boron trifluoride, boron trifluoride diethyl ether complex may be used.

前記酸の使用量としては、好ましくは前記化合物(5)に対して0.01~20倍モル量であり、更に好ましくは0.1~10倍モル量である。The amount of the acid used is preferably 0.01 to 20 times the molar amount of compound (5), and more preferably 0.1 to 10 times the molar amount.

本工程に使用する捕捉剤としては、メタンチオール、エタンチオール、ブタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、チオグリコール酸等のチオール類;ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、チオアニソール等のチオエーテル類が挙げられ、好ましくはチオール類であり、更に好ましくは1-ドデカンチオールなどの炭素数が6~15程度のチオールである。 Examples of scavengers used in this process include thiols such as methanethiol, ethanethiol, butanethiol, octanethiol, dodecanethiol, and thioglycolic acid; and thioethers such as dimethyl sulfide, diethyl sulfide, tetrahydrothiophene, and thioanisole. Thiols are preferred, and thiols having approximately 6 to 15 carbon atoms, such as 1-dodecanethiol, are even more preferred.

前記捕捉剤の使用量としては、好ましくは前記化合物(5)に対して0.01~20倍モル量であり、更に好ましくは0.1~10倍モル量である。The amount of the capture agent used is preferably 0.01 to 20 times the molar amount of compound (5), and more preferably 0.1 to 10 times the molar amount.

本工程は-78℃の極低温で行うことも可能であるが、該極低温を必要としない点に利点がある。本工程の反応温度は反応時間を短縮する一方で、副反応を抑制する目的で、好ましくは-40~200℃であり、更に好ましくは-20~150℃であり、特に好ましくは-10~50℃である。This process can be carried out at an extremely low temperature of -78°C, but has the advantage that such extremely low temperatures are not required. The reaction temperature in this process is preferably -40 to 200°C, more preferably -20 to 150°C, and particularly preferably -10 to 50°C, in order to shorten the reaction time while suppressing side reactions.

本工程の反応時間について特に制限はなく、適宜設定すればよいが、好ましくは0.001~72時間であり、更に好ましくは0.1~48時間である。There is no particular restriction on the reaction time of this step and it may be set appropriately, but it is preferably 0.001 to 72 hours, and more preferably 0.1 to 48 hours.

本工程の反応において、前記化合物(5)、酸、捕捉剤、反応溶媒の混合順序や混合方法は特に制限されない。In the reaction of this process, the mixing order and mixing method of the compound (5), acid, scavenger, and reaction solvent are not particularly limited.

反応終了後の処理としては、反応液から目的物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水を加え、一般的な抽出溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を用いて抽出操作を行うとよい。また、必要に応じて目的物の抽出効率を改善する目的で塩化ナトリウム等の無機塩を加えてもよい。無機塩は固体でもよく、特に濃度が制限されない無機塩の水溶液を用いてもよい。 As a treatment after the reaction is completed, a general treatment for obtaining the target substance from the reaction solution may be carried out. For example, water may be added to the reaction solution after the reaction is completed, and an extraction operation may be carried out using a general extraction solvent such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc. If necessary, an inorganic salt such as sodium chloride may be added to improve the extraction efficiency of the target substance. The inorganic salt may be a solid, or an aqueous solution of an inorganic salt with no particular concentration restriction may be used.

このようにして得られた目的物を含む抽出液は、後続工程の収率、もしくは後続工程で得られる化合物の純度をさらに高める目的で、抽出液に対し、水及び塩基又は塩基の水溶液を加えて塩基性とすることで、目的物を含む塩基性水溶液として取得してもよい。The extract thus obtained containing the target substance may be made basic by adding water and a base or an aqueous solution of a base to the extract in order to further increase the yield in the subsequent step or the purity of the compound obtained in the subsequent step, thereby obtaining a basic aqueous solution containing the target substance.

前記抽出液に加える塩基としては、第3級アミン類、金属水酸化物、金属炭酸水素塩、金属アルコキシド、等が挙げられる。これらの具体例としては、工程1で加水分解に使用する塩基として例示した塩基が挙げられる。好ましくは金属水酸化物であり、更に好ましくは水酸化ナトリウムである。なお、固体の水酸化ナトリウムは固体で潮解性があり、取り扱いにくいため、代わりに水酸化ナトリウム水溶液を用いてもよい。 Examples of bases to be added to the extract include tertiary amines, metal hydroxides, metal bicarbonates, metal alkoxides, etc. Specific examples of these include the bases exemplified as the base used for hydrolysis in step 1. Metal hydroxides are preferred, and sodium hydroxide is more preferred. Note that solid sodium hydroxide is deliquescent and difficult to handle, so an aqueous solution of sodium hydroxide may be used instead.

前記塩基性水溶液としては、好ましくはpH7以上であり、更に好ましくはpH8以上であり、特に好ましくはpH9以上である。The basic aqueous solution preferably has a pH of 7 or higher, more preferably a pH of 8 or higher, and particularly preferably a pH of 9 or higher.

次いで、目的物を含む塩基性水溶液から目的物を取得する方法として、目的物を含む塩基性水溶液に一般的な抽出溶媒、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン等を加え、酸を加えることで酸性水溶液とすることで抽出液が得られる。Next, as a method for obtaining the target substance from a basic aqueous solution containing the target substance, a common extraction solvent, such as methylene chloride, diethyl ether, toluene, ethyl acetate, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, etc., is added to the basic aqueous solution containing the target substance, and an acid is added to make it an acidic aqueous solution, thereby obtaining an extract.

前記酸としては、例えば、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバル酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、L-酒石酸、D-酒石酸、マンデル酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、又はカンファ―スルホン酸であり、より好ましくは塩化水素である。なお、塩化水素は気体で取り扱いにくいため、代わりに塩酸を用いてもよい。 Examples of the acid include inorganic acids such as hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and boric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pivalic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, L-tartaric acid, D-tartaric acid, and mandelic acid; and more preferably, hydrogen chloride. Note that hydrogen chloride is a gas and difficult to handle, so hydrochloric acid may be used instead.

前記酸性水溶液としては、好ましくはpH7以下であり、更に好ましくはpH6以下であり、特に好ましくはpH5以下である。The acidic aqueous solution preferably has a pH of 7 or less, more preferably a pH of 6 or less, and particularly preferably a pH of 5 or less.

得られた抽出液は水、或いは塩化ナトリウム水溶液等の水溶液を加えて洗浄を行ってもよい。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続工程使用できる十分な純度を有しているが、純度を高める目的で、晶析、カラムクロマトグラフィー、活性炭処理等の一般的な精製手法により更に純度を高めてもよい。The resulting extract may be washed by adding water or an aqueous solution such as an aqueous sodium chloride solution. The reaction solvent and extraction solvent are distilled off from the resulting extract by procedures such as heating under reduced pressure to obtain the target product. The target product thus obtained is of sufficient purity for use in subsequent processes, but may be further purified by common purification techniques such as crystallization, column chromatography, and activated carbon treatment to increase the purity.

前記化合物(3)の晶析に用いる溶媒としては特に制限はなく、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、tert-ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;アルコール系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒が挙げられる。これらの具体例としては、工程1に反応溶媒として例示した溶媒が挙げられる。好ましくはアルコール系溶媒、ニトリル系溶媒であり、更に好ましくはアセトニトリルである。これらは単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。2種類以上を併用する場合は、その混合比は特に制限されない。The solvent used for crystallization of the compound (3) is not particularly limited, and examples thereof include ether-based solvents such as tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, and diethyl ether; alcohol-based solvents, aliphatic hydrocarbon-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and nitrile-based solvents. Specific examples of these include the solvents exemplified as reaction solvents in step 1. Preferred are alcohol-based solvents and nitrile-based solvents, and more preferred is acetonitrile. These may be used alone or in combination of two or more types. When two or more types are used in combination, the mixing ratio is not particularly limited.

溶媒の使用量としては、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、前記化合物(3)に対して好ましくは50倍重量以下であり、更に好ましくは20倍重量以下である。下限としては、前記化合物(2)に対して好ましくは0.1倍重量以上であり、更に好ましくは0.5倍重量以上である。このような範囲であればコストも掛かり過ぎず、後処理も簡便である。The amount of the solvent used is preferably 50 times or less by weight relative to the compound (3), more preferably 20 times or less by weight, since too much is undesirable in terms of cost and post-treatment. The lower limit is preferably 0.1 times or more by weight relative to the compound (2), more preferably 0.5 times or more by weight. Within such a range, the cost is not too high and post-treatment is easy.

晶析を行う方法としては、前記化合物(1)の晶析方法と同様の方法で行うことができる。The crystallization method can be the same as the crystallization method for compound (1) described above.

結晶の乾燥方法も前記化合物(1)の乾燥方法と同様の方法で行うことができる。The drying method for the crystals can be carried out in the same manner as the drying method for compound (1) described above.

本願は、2020年6月19日に出願された日本国特許出願第2020-106516号に基づく優先権の利益を主張するものである。2020年6月19日に出願された日本国特許出願第2020-106516号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2020-106516, filed on June 19, 2020. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2020-106516, filed on June 19, 2020, are incorporated by reference into this application.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「%」は「質量%」を意味し、「area%」は面積百分率を意味している。The present invention will be explained in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples, and it is of course possible to carry out the invention with appropriate modifications within the scope of the above and below-mentioned aims, all of which are included in the technical scope of the present invention. In the following, unless otherwise specified, "%" means "mass %" and "area %" means area percentage.

以下の実施例において、使用したHPLC分析条件は下記の通りである。 In the following examples, the HPLC analysis conditions used are as follows:

分析条件1
測定機器:Agilent 1220 Infinity
カラム:YMC Meteoric Core C18(150×4.6mm)
流速:1.5ml/min
検出波長:210nm
注入量:10μl
カラム温度:40℃
移動相A:0.1%リン酸水溶液
移動相B:アセトニトリル
グラジエント条件(移動相B濃度、時間):15%(0分)→80%(8~15分)→15%(15.1~20分)
Analysis conditions 1
Measuring equipment: Agilent 1220 Infinity
Column: YMC Meteoric Core C18 (150 x 4.6 mm)
Flow rate: 1.5ml/min
Detection wavelength: 210 nm
Injection volume: 10μl
Column temperature: 40°C
Mobile phase A: 0.1% phosphoric acid aqueous solution Mobile phase B: acetonitrile Gradient conditions (mobile phase B concentration, time): 15% (0 min) → 80% (8 to 15 min) → 15% (15.1 to 20 min)

分析条件2
測定機器:Agilent 1220 Infinity
カラム:YMC Meteoric Core C18(150×4.6mm)
流速:1.5ml/min
検出波長:210nm
注入量:10μl
カラム温度:40℃
移動相A:10mMラウリル硫酸ナトリウム水溶液(pH2)
移動相B:アセトニトリル
グラジエント条件(移動相B濃度、時間):30%(0分)→70%(8~15分)→30%(15.1~20分)
Analysis conditions 2
Measuring equipment: Agilent 1220 Infinity
Column: YMC Meteoric Core C18 (150 x 4.6 mm)
Flow rate: 1.5ml/min
Detection wavelength: 210 nm
Injection volume: 10μl
Column temperature: 40°C
Mobile phase A: 10 mM sodium lauryl sulfate aqueous solution (pH 2)
Mobile phase B: acetonitrile Gradient conditions (mobile phase B concentration, time): 30% (0 min) → 70% (8 to 15 min) → 30% (15.1 to 20 min)

以下の実施例において、使用した質量分析測定条件は下記の通りである。 In the following examples, the mass spectrometry measurement conditions used are as follows:

測定機器:Waters ACQUITY UPLC H-Class
カラム:BEH(50×2.1mm,1.7μm)
流速:0.74ml/min
検出波長:190-400nm
注入量:10μl
カラム温度:40℃
移動相A:0.1%ギ酸/H
移動相B:0.1%ギ酸/アセトニトリル
グラジエント条件(移動相B濃度、時間):10%(0分)→90%(4.5分)→10%(4.5-5.0分)
質量分析法:ESI(Electron Spray Ionization)
Measurement equipment: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: BEH (50 x 2.1 mm, 1.7 μm)
Flow rate: 0.74ml/min
Detection wavelength: 190-400 nm
Injection volume: 10μl
Column temperature: 40°C
Mobile phase A: 0.1% formic acid/ H2O
Mobile phase B: 0.1% formic acid / acetonitrile Gradient conditions (mobile phase B concentration, time): 10% (0 min) → 90% (4.5 min) → 10% (4.5-5.0 min)
Mass spectrometry: ESI (Electron Spray Ionization)

以下の実施例において、核磁気共鳴スペクトル(以下H NMRとする)はテトラメチルシランを標準物質に用い、δ値(ppm)で表記した。また、測定溶媒には重クロロホルム(以下CDClとする)を用いた。 In the following examples, nuclear magnetic resonance spectra (hereinafter referred to as 1 H NMR) were measured using tetramethylsilane as a standard substance and expressed as δ values (ppm). Deuterated chloroform (hereinafter referred to as CDCl 3 ) was used as the measurement solvent.

実施例の欄で使用する記号の意味は以下の通りである。
DIPEA:N,N-ジイソプロピルエチルアミン
(TfO)O:トリフルオロメタンスルホン酸無水物
NaOMe:ナトリウムメトキシド
THF:テトラヒドロフラン
LiAlH:水素化リチウムアルミニウム
The symbols used in the Examples section have the following meanings.
DIPEA: N,N-diisopropylethylamine (TfO) 2 O: trifluoromethanesulfonic anhydride NaOMe: sodium methoxide THF: tetrahydrofuran LiAlH 4 : lithium aluminum hydride

(参考例)[(3R,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノール及び[(3S,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノールの混合物(7a)の製造(Reference Example) Preparation of a mixture (7a) of [(3R,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol and [(3S,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol

4-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチル(8)の製造Preparation of methyl 4-(trifluoromethylsulfonyloxy)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate (8)

4-オキソテトラヒドロピラン-3-カルボン酸メチル(40.0g、252.9mmol)をジクロロメタン(400g)に溶解し、DIPEA(65.4g、505.8mmol)を加えた後、0℃に冷却した。(TfO)O(78.5g、278.2mmol)を滴下し、0℃で10分間攪拌した。分析条件1で反応の終了を確認後、反応混合物を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(200g)で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層を減圧下で濃縮することで化合物(8)を油状物として得た(124.8g、純分量73.4g、252.9mmol、収率100%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ4.45-4.46(t,2H,J=2.5Hz)、3.88-3.91(t,2H,J=5.5Hz)、3.82(s,3H)、2.52-2.56(m,2H).
Methyl 4-oxotetrahydropyran-3-carboxylate (40.0 g, 252.9 mmol) was dissolved in dichloromethane (400 g), DIPEA (65.4 g, 505.8 mmol) was added, and the mixture was cooled to 0° C. (TfO) 2 O (78.5 g, 278.2 mmol) was added dropwise, and the mixture was stirred at 0° C. for 10 minutes. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 1, the reaction mixture was washed twice with a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution (200 g) and dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain compound (8) as an oil (124.8 g, pure amount 73.4 g, 252.9 mmol, yield 100%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ4.45-4.46 (t, 2H, J=2.5Hz), 3.88-3.91 (t, 2H, J=5.5Hz), 3.82 (s, 3H), 2.52-2.56 (m, 2H).

4-(3-メトキシフェニル)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチル(9)の製造Preparation of methyl 4-(3-methoxyphenyl)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate (9)

4-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチル(8)(124.8g、純分量73.4g、252.9mmo)を1,4-ジオキサン(400g)に溶解し、3-メトキシフェニルボロン酸(40.4g、265.5mmol)、炭酸カリウム(52.4g、379.4mmol)を加えて懸濁させた。窒素置換後、[1,1´-ビス(ジフェニルホスフィノフェロセン)]ジクロロパラジウム(II)(1.9g、2.5mmol)を加え、110℃に加熱し、還流下で終夜攪拌した。分析条件1にて反応終了を確認後、反応混合物を室温まで冷却し、減圧下で濃縮した。濃縮物に水(300g)及び酢酸エチル(100g)を加えて混合した後、層分離して有機層(有機層A)を回収した。層分離後の水層を酢酸エチル(200g)で2回洗浄し、得られた洗浄液(有機層)を前記有機層(有機層A)と混合後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/n-ヘキサン)で精製することで化合物(9)を油状化合物として取得した(57.3g、純分56.0g、225.6mmol、収率89.2%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.25-7.28(t,1H,J=7.8Hz)、6.83-6.86(dd,1H,J=2.5Hz,8.5Hz)、6.74-6.75(m,1H)、6.70(m,1H)、4.44-4.46(t,2H,J=2.8Hz)、3.88-3.91(t,2H,J=5.8Hz)、3.80(s,3H)、3.51(s,3H)、2.49-2.52(m,2H).
Methyl 4-(trifluoromethylsulfonyloxy)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate (8) (124.8 g, pure amount 73.4 g, 252.9 mmol) was dissolved in 1,4-dioxane (400 g), and 3-methoxyphenylboronic acid (40.4 g, 265.5 mmol) and potassium carbonate (52.4 g, 379.4 mmol) were added and suspended. After nitrogen replacement, [1,1'-bis(diphenylphosphinoferrocene)]dichloropalladium(II) (1.9 g, 2.5 mmol) was added, heated to 110°C, and stirred overnight under reflux. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 1, the reaction mixture was cooled to room temperature and concentrated under reduced pressure. Water (300 g) and ethyl acetate (100 g) were added to the concentrate and mixed, and the layers were separated to recover the organic layer (organic layer A). The aqueous layer after layer separation was washed twice with ethyl acetate (200 g), and the resulting washing liquid (organic layer) was mixed with the organic layer (organic layer A) and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (ethyl acetate/n-hexane) to obtain compound (9) as an oily compound (57.3 g, pure content 56.0 g, 225.6 mmol, yield 89.2%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.25-7.28 (t, 1H, J = 7.8Hz), 6.83-6.86 (dd, 1H, J = 2.5Hz, 8.5Hz), 6.74-6.75 (m, 1H), 6.70 (m, 1H), 4.44-4.46 (t, 2H, J=2.8Hz), 3.88-3.91 (t, 2H, J=5.8Hz), 3.80 (s, 3H), 3.51 (s, 3H), 2.49-2.52 (m, 2H).

(3R,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-カルボン酸メチル及び(3S,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-カルボン酸メチルの混合物(10b)の製造Preparation of mixture of methyl (3R,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-carboxylate and methyl (3S,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-carboxylate (10b)

4-(3-メトキシフェニル)-3,6-ジヒドロ-2H-ピラン-5-カルボン酸メチル(9)(108.3g、純分105.7g、425.9mmol)に酢酸エチル(161.5g)、エタノール(713.0g)を加えて溶解した。窒素雰囲気下、約50%水湿潤品の10%パラジウム炭素(32.5g)を加えて混合した後、雰囲気を水素置換し、室温で2.5時間攪拌した。分析条件1にて反応終了を確認後、反応混合物をセライトろ過し、ろ過ケーキを酢酸エチル(200ml)で洗浄して洗浄液とろ液を合わせた。洗浄液とろ液の混合液を減圧下で濃縮することで、化合物(10b)を油状化合物として取得した(106.0g、純分90.6g、362.0mmol、収率85.0%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.22-7.25(t,1H,J=8.0Hz)、6.86-6.88(d,1H,J=8.5Hz)、6.83(m,1H)、6.75-6.78(dd,1H,J=2.5Hz,8.0Hz)、4.28-4.31(dd,1H,J=1.0Hz,12.0Hz)、4.18-4.22(m,1H)、3.80(s,3H)、3.74-3.79(m,1H)、3.55-3.60(m,1H)、3.53(s,3H)、3.05-3.08(m、1H)、2.92(s,1H)、2.70-2.79(m,1H)、1.72-1.75(m、1H).
Methyl 4-(3-methoxyphenyl)-3,6-dihydro-2H-pyran-5-carboxylate (9) (108.3 g, pure content 105.7 g, 425.9 mmol) was dissolved in ethyl acetate (161.5 g) and ethanol (713.0 g). After adding and mixing 10% palladium carbon (32.5 g) wet with about 50% water under a nitrogen atmosphere, the atmosphere was replaced with hydrogen and the mixture was stirred at room temperature for 2.5 hours. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 1, the reaction mixture was filtered through Celite, and the filter cake was washed with ethyl acetate (200 ml), and the washing liquid and the filtrate were combined. The mixture of the washing liquid and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain compound (10b) as an oily compound (106.0 g, pure content 90.6 g, 362.0 mmol, yield 85.0%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.22-7.25 (t, 1H, J = 8.0Hz), 6.86-6.88 (d, 1H, J = 8.5Hz), 6.83 (m, 1H), 6 75-6.78 (dd, 1H, J=2.5Hz, 8.0Hz), 4.28-4.31 (dd, 1H, J=1.0Hz, 12.0Hz), 4. 18-4.22 (m, 1H), 3.80 (s, 3H), 3.74-3.79 (m, 1H), 3.55-3.60 (m, 1H), 3.53 (s , 3H), 3.05-3.08 (m, 1H), 2.92 (s, 1H), 2.70-2.79 (m, 1H), 1.72-1.75 (m, 1H).

(3S,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-5-カルボン酸メチル及び(3R,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-5-カルボン酸メチルの混合物(10a)の製造Preparation of mixture of methyl (3S,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-5-carboxylate and methyl (3R,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-5-carboxylate (10a)

(3R,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-カルボン酸メチル及び(3S,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-カルボン酸メチルの混合物(10b)(104.9g、純分89.7g、358.2mmol)にメタノール(525.1g)を加えて溶解し、28%NaOMe/メタノール溶液(82.6g、純分23.1g、428.4mmol)を加えた後、70℃で1時間攪拌した。分析条件1にて反応終了を確認後、反応混合物を室温まで冷却し、10%塩化アンモニウム水溶液(419.4g)中に添加した。減圧下で濃縮後、酢酸エチル(419.4g)を加えて混合し、層分離して有機層(有機層A)を得た。層分離後の水層を酢酸エチル(419.4g)にて洗浄した。得られた洗浄液(有機層)を前記有機層(有機層A)と混合した。混合液を10%塩化ナトリウム水溶液(104.9g)で洗浄して水層を除去した後、有機層を減圧下で濃縮することで化合物(10a)を油状化合物として取得した(104.5g、純分90.7g、362.1mmol、収率101.2%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.20-7.24(m,1H)、6.80-6.81(d、1H,J=8.0Hz)、6.75-6.77(m,2H)、4.16-4.19(dd,1H,J=4.5Hz,11.5Hz)、4.06-4.09(dd,1H,J=4.0Hz,11.5Hz)、3.80(s,3H)、3.52-3.58(m,2H)、3.48(s,3H)、3.01-3.06(m,1H)、2.90-2.95(m,1H)、1.77-1.90(m,2H).
Methanol (525.1 g) was added to a mixture (10b) (104.9 g, pure content 89.7 g, 358.2 mmol) of (3R,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-methyl carboxylate and (3S,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-methyl carboxylate, and the mixture was dissolved. A 28% NaOMe/methanol solution (82.6 g, pure content 23.1 g, 428.4 mmol) was added, and the mixture was stirred at 70° C. for 1 hour. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 1, the reaction mixture was cooled to room temperature and added to a 10% aqueous ammonium chloride solution (419.4 g). After concentrating under reduced pressure, ethyl acetate (419.4 g) was added and mixed, and the layers were separated to obtain an organic layer (organic layer A). The aqueous layer after layer separation was washed with ethyl acetate (419.4 g). The obtained washing liquid (organic layer) was mixed with the organic layer (organic layer A). The mixture was washed with a 10% aqueous sodium chloride solution (104.9 g) to remove the aqueous layer, and the organic layer was then concentrated under reduced pressure to obtain compound (10a) as an oily compound (104.5 g, pure content 90.7 g, 362.1 mmol, yield 101.2%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.20-7.24 (m, 1H), 6.80-6.81 (d, 1H, J = 8.0Hz), 6.75-6.77 (m, 2H), 4.16-4.19 (dd, 1H, J = 4.5Hz, 11.5Hz), 4.06-4.09 (dd, 1H, J=4.0Hz, 11.5Hz), 3.80 (s, 3H), 3.52-3.58 (m, 2H), 3.48 (s, 3H), 3.01-3.06 (m, 1H), 2.90-2.95 (m, 1H), 1.77-1.90 (m, 2H).

[(3R,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノール及び[(3S,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノールの混合物(7a)の製造Preparation of a mixture of [(3R,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol and [(3S,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol (7a)

(3S,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-5-カルボン酸メチル及び(3R,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-5-カルボン酸メチルの混合物(10a)(87.5g、純分76.0g、303.8mmol)にTHF(612.5g)を加えて溶解し、-5℃に冷却後、LiAlH(8.6g、227.2mmol)を分割して添加した。-5℃で1時間攪拌し、分析条件1にて反応終了を確認後、10%塩化アンモニウム水溶液(612.5g)を滴下した。ジクロロメタン(612.5g)を添加後、反応混合物をセライトろ過し、ろ液を層分離して有機層(有機層A)を回収した。層分離後の水層をジクロロメタン(612.5g)で2回洗浄した。得られた洗浄液(有機層)を前記有機層(有機層A)と混合した。混合液を水(175.0g)で洗浄して水層を除去した後、有機層を減圧下で濃縮し、トルエン(262.5g)を追加して再度減圧下で濃縮することで化合物(7a)を油状化合物として取得した(73.5g、純分63.9g、287.4mmol、収率94.6%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.23-7.26(m,1H),6.81-6.83(d、1H,J=7.0Hz)、6.76-6.78(m,2H)、4.20-4.23(dd,1H,J=4.0Hz,11.0Hz)、4.04-4.07(dd,1H,J=4.0Hz,11.5Hz),3.81(s,3H)、3.47-3.52(m,1H)、3.42-3.45(m,1H)、3.35-3.39(t,1H,J=11.0Hz)、3.26-3.31(m,1H)、2.54-2.60(m,1H)、2.01-2.06(m,1H)、1.85-1.91(m,1H)、1.72-1.75(m,1H).
A mixture (10a) (87.5 g, pure content 76.0 g, 303.8 mmol) of methyl (3S,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-5-carboxylate and methyl (3R,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-5-carboxylate was dissolved in THF (612.5 g) and cooled to −5° C., and LiAlH 4 (8.6 g, 227.2 mmol) was added in portions. The mixture was stirred at −5° C. for 1 hour, and the completion of the reaction was confirmed under analysis condition 1, after which a 10% aqueous ammonium chloride solution (612.5 g) was added dropwise. Dichloromethane (612.5 g) was added, and the reaction mixture was filtered through Celite, and the filtrate was separated into layers to recover an organic layer (organic layer A). The aqueous layer after layer separation was washed twice with dichloromethane (612.5 g). The obtained washing liquid (organic layer) was mixed with the organic layer (organic layer A). The mixed liquid was washed with water (175.0 g) to remove the aqueous layer, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. Toluene (262.5 g) was added and the mixture was concentrated again under reduced pressure to obtain compound (7a) as an oily compound (73.5 g, pure content 63.9 g, 287.4 mmol, yield 94.6%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.23-7.26 (m, 1H), 6.81-6.83 (d, 1H, J=7.0Hz), 6.76-6.78 (m, 2H), 4.20-4.2 3 (dd, 1H, J = 4.0Hz, 11.0Hz), 4.04-4.07 (dd, 1H, J = 4.0Hz, 11.5Hz), 3.81 (s, 3H), 3 .. 47-3.52 (m, 1H), 3.42-3.45 (m, 1H), 3.35-3.39 (t, 1H, J = 11.0Hz), 3.26-3.31 (m, 1H), 2.54-2.60 (m, 1H), 2.01-2.06 (m, 1H), 1.85-1.91 (m, 1H), 1.72-1.75 (m, 1H).

(実施例1)3-[(3R,4R)-3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール及び3-[(3S,4S)-3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノールの混合物(11a)の製造(Example 1) Preparation of a mixture of 3-[(3R,4R)-3-(hydroxymethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol and 3-[(3S,4S)-3-(hydroxymethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol (11a)

[(3R,4R)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノール及び[(3S,4S)-4-(3-メトキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]-メタノールの混合物(7a)(36.0g、純分31.3g、140.7mmol)にジクロロメタン(541.1g)を加えて溶解し、ドデカンチオール(71.2g、351.7mmol)を加えて0℃に冷却した。塩化アルミニウム(III)(46.9g、351.7mmol)を分割して添加し、室温で20時間攪拌した。分析条件1にて反応終了を確認後、反応混合物に水(312.7g)を加えて攪拌し、層分離して有機層(有機層A)を回収した。前記層分離で得られた水層にジクロロメタン(180.0g)、塩化ナトリウム(80.0g)を加え混合し、層分離することで得られた有機層を前記有機層(有機層A)と混合後、減圧下で濃縮し、トルエン(180.0g)を用いて溶媒置換後、THF(50.0g)を加えて混合した。水(93.8g)を添加し、30%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH13に調整した。有機層を除去することで得られた水層に濃塩酸を滴下し、pH7に調整後、酢酸エチル(180.0g)を加えて混合し、濃塩酸でpH1に調整し、層分離して有機層(有機層B)を回収した。層分離後の水層を酢酸エチル(180.0g)で洗浄し、得られた洗浄液(有機層)を前記有機層(有機層B)と混合後、混合液を20%食塩水(31.3g)で洗浄して水層を除去した後、有機層を減圧下で濃縮することで化合物(11a)を固体として取得した(25.2g、純分23.1g、110.7mmol、収率78.7%)。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.16-7.19(t,1H,J=7.8Hz)、6.70-6.76(m,3H)、6.16(s,1H)、4.26-4.30(dd,1H,J=4.5Hz,12.0Hz)、4.10-4.11(dd,1H,J=4.0Hz,11.5Hz)、3.51-3.55(m,1H)、3.44-3.47(dd,1H,J=3.5Hz,11.0Hz)、3.35-3.40(t,1H,J=11.3Hz)、3.24-3.28(dd,1H,J=7.5Hz,11.0Hz)、2.50-2.55(m,1H)、2.10-2.11(m,1H)、1.85-1.90(m,1H)、1.75-1.78(m,1H).
Dichloromethane (541.1 g) was added to a mixture (7a) (36.0 g, pure content 31.3 g, 140.7 mmol) of [(3R,4R)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol and [(3S,4S)-4-(3-methoxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]-methanol, and the mixture was dissolved in dodecanethiol (71.2 g, 351.7 mmol) and cooled to 0° C. Aluminum chloride (III) (46.9 g, 351.7 mmol) was added in portions and stirred at room temperature for 20 hours. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 1, water (312.7 g) was added to the reaction mixture, the mixture was stirred, and the layers were separated to recover the organic layer (organic layer A). Dichloromethane (180.0 g) and sodium chloride (80.0 g) were added to the aqueous layer obtained by the layer separation, and the organic layer obtained by layer separation was mixed with the organic layer (organic layer A), concentrated under reduced pressure, and the solvent was replaced with toluene (180.0 g), and then THF (50.0 g) was added and mixed. Water (93.8 g) was added, and the pH was adjusted to 13 using a 30% aqueous sodium hydroxide solution. Concentrated hydrochloric acid was added dropwise to the aqueous layer obtained by removing the organic layer, and the pH was adjusted to 7. Ethyl acetate (180.0 g) was added and mixed, and the pH was adjusted to 1 with concentrated hydrochloric acid, and the organic layer (organic layer B) was recovered by layer separation. After layer separation, the aqueous layer was washed with ethyl acetate (180.0 g), and the obtained washing liquid (organic layer) was mixed with the organic layer (organic layer B). The mixed liquid was then washed with 20% saline (31.3 g) to remove the aqueous layer. The organic layer was then concentrated under reduced pressure to obtain compound (11a) as a solid (25.2 g, pure content 23.1 g, 110.7 mmol, yield 78.7%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.16-7.19 (t, 1H, J = 7.8Hz), 6.70-6.76 (m, 3H), 6.16 (s, 1H), 4.26-4.30 (dd, 1H, J =4.5Hz, 12.0Hz), 4.10-4.11 (dd, 1H, J = 4.0Hz, 11.5Hz), 3.51-3.55 (m, 1H), 3.44-3.47 (dd, 1H, J=3.5Hz, 11.0Hz), 3.35-3.40 (t, 1H, J=11.3Hz), 3.24-3.28 (dd, 1H, J=7.5Hz, 11.0Hz), 2.50-2.55 (m, 1H), 2.10-2.11 (m, 1H), 1.85-1.90 (m, 1H), 1.75-1.78 (m, 1H).

(実施例2)3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール及び3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール(6a)の混合物の製造Example 2: Preparation of a mixture of 3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol and 3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol (6a)

(実施例2-1)メタンスルホン酸[[(3R,4R)-4-(3-メチルスルホニルオキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]メチル]及びメタンスルホン酸[[(3S,4S)-4-(3-メチルスルホニルオキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]メチル]の混合物(12a)の製造(Example 2-1) Preparation of a mixture (12a) of [[(3R,4R)-4-(3-methylsulfonyloxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]methyl] methanesulfonate and [[(3S,4S)-4-(3-methylsulfonyloxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]methyl] methanesulfonate

3-[(3R,4R)-3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール及び3-[(3S,4S)-3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノールの混合物(11a)(21.4g、102.5mmol)をジクロロメタン(680.0g)に溶解し、トリエチルアミン(31.1g、307.6mmol)を加えて0℃に冷却した。塩化メタンスルホニル(35.2g、307.6mmol)を滴下し、0℃で10分間攪拌後、分析条件1にて反応終了を確認した。反応混合液を10%塩化アンモニウム水溶液(310.0g)で2回洗浄して水層を除去した後、有機層を水(310.0g)で2回洗浄して水層を除去し、得られた有機層を減圧下で濃縮することですることで化合物(12a)を油状物として取得した(43.4g)。 A mixture of 3-[(3R,4R)-3-(hydroxymethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol and 3-[(3S,4S)-3-(hydroxymethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol (11a) (21.4 g, 102.5 mmol) was dissolved in dichloromethane (680.0 g), triethylamine (31.1 g, 307.6 mmol) was added, and the mixture was cooled to 0°C. Methanesulfonyl chloride (35.2 g, 307.6 mmol) was added dropwise, and the mixture was stirred at 0°C for 10 minutes, after which the completion of the reaction was confirmed under analysis condition 1. The reaction mixture was washed twice with a 10% aqueous ammonium chloride solution (310.0 g) to remove the aqueous layer, and the organic layer was washed twice with water (310.0 g) to remove the aqueous layer, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain compound (12a) as an oil (43.4 g).

(実施例2-2)メタンスルホン酸[3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェニル]及びメタンスルホン酸[3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェニル]の混合物(13a)の製造(Example 2-2) Preparation of a mixture (13a) of [3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenyl] methanesulfonate and [3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenyl] methanesulfonate

メタンスルホン酸[[(3R,4R)-4-(3-メチルスルホニルオキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]メチル]及びメタンスルホン酸[[(3S,4S)-4-(3-メチルスルホニルオキシフェニル)テトラヒドロピラン-3-イル]メチル]の混合物(12a)(43.4g)に50%ジメチルアミン水溶液(74.0g、純分37.0g、820.1mmol)を加えて80℃で終夜攪拌した。分析条件2にて反応終了を確認後、反応混合物を20℃に冷却し、2-メチルテトラヒドロフラン(164.5g)を用いて2回抽出した。2回の抽出で得られたそれぞれの有機層を混合し、混合液に5%硫酸水素カリウム水溶液(85.5g)を加えた後、濃塩酸を用いてpH2に調整し、層分離して水層(水層A)を得た。層分離で得られた有機層に水(42.7g)を加えて洗浄した。得られた洗浄液(水層)を前記水層(水層A)と混合した。混合液に30%水酸化ナトリウム水溶液を添加してpH11に調整し、2-メチルテトラヒドロフラン(85.5g)で抽出した。抽出液を減圧下で濃縮することで化合物(13a)の2-メチルテトラヒドロフラン溶液(55.8g)を取得した。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.37-7.40(t,1H,J=7.8Hz)、7.14-7.18(m,3H)、4.40(m,1H)、4.05-4.08(dd,1H,J=3.5Hz,11.0Hz)、3.46-3.51(m,1H)、3.17-3.21(m,4H)、2.42-2.44(m,1H)、2.15(m,7H)、1.81-1.89(m,2H)、1.74-1.77(m,1H)、1.61(m,1H).
A 50% aqueous dimethylamine solution (74.0 g, pure content 37.0 g, 820.1 mmol) was added to a mixture (12a) (43.4 g) of methanesulfonate [[(3R,4R)-4-(3-methylsulfonyloxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]methyl] and methanesulfonate [[(3S,4S)-4-(3-methylsulfonyloxyphenyl)tetrahydropyran-3-yl]methyl], and the mixture was stirred at 80° C. overnight. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 2, the reaction mixture was cooled to 20° C. and extracted twice with 2-methyltetrahydrofuran (164.5 g). The organic layers obtained by the two extractions were mixed, and a 5% aqueous potassium hydrogen sulfate solution (85.5 g) was added to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 2 with concentrated hydrochloric acid, followed by layer separation to obtain an aqueous layer (aqueous layer A). Water (42.7 g) was added to the organic layer obtained by layer separation to wash it. The obtained washing liquid (aqueous layer) was mixed with the above-mentioned aqueous layer (aqueous layer A). The mixed liquid was adjusted to pH 11 by adding a 30% aqueous sodium hydroxide solution, and extracted with 2-methyltetrahydrofuran (85.5 g). The extract was concentrated under reduced pressure to obtain a 2-methyltetrahydrofuran solution (55.8 g) of compound (13a).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.37-7.40 (t, 1H, J = 7.8Hz), 7.14-7.18 (m, 3H), 4.40 (m, 1H), 4.05-4.08 (dd, 1H, J = 3.5Hz, 11.0Hz), 3.46-3.5 1 (m, 1H), 3.17-3.21 (m, 4H), 2.42-2.44 (m, 1H), 2.15 (m, 7H), 1.81-1.89 (m, 2H), 1.74-1.77 (m, 1H), 1.61 (m, 1H).

(実施例2-3)3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール及び3-[(3S, 4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノールの混合物(6a)の製造(Example 2-3) Preparation of a mixture of 3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol and 3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol (6a)

メタンスルホン酸[3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェニル]及びメタンスルホン酸[3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェニル]の混合物(13a)の2-メチルテトラヒドロフラン溶液(55.8g)に水(50.0g)を加えて混合し、30%水酸化ナトリウム(41.0g、純分12.3g、307.6mmol)を添加して80℃で22.5時間攪拌した。分析条件2にて反応終了を確認後、反応混合物を20℃に冷却し、水(85.4g)、ジクロロメタン(85.4g)を加えて洗浄及び層分離して、水層側に目的物を回収した。得られた水層をジクロロメタン(85.4g)で洗浄後、層分離して再び水層側に目的物を回収した。層分離した後の水層にジクロロメタン(85.4g)を加え、リン酸二水素カリウムを用いてpH8に調整し、水層(水層A)を分離除去して有機層側(有機層A)に目的物を抽出した。次いで水層Aにジクロロメタン(85.4g)を加えて有機層側(有機層B)に目的物を再抽出した。得られた有機層A、及び有機層Bを混合後、フィルターろ過(孔径1μm)を行い、ろ液を減圧下で濃縮した。濃縮物にアセトニトリル(82.9g)を添加し、65℃で2時間攪拌後、0℃まで冷却し、フィルターろ過により固体と母液を分離し、冷アセトニトリルを用いて固体を洗浄した。得られた湿結晶を40℃で減圧乾燥することにより、化合物(6a)(19.0g、80.6mmol、収率78.6%、化学純度100area%)を取得した。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.16-7.19(t,1H,J=8.3Hz)、6.73-6.75(d,1H,J=8.0Hz)、6.68-6.69(m,2H)、4.32-4.35(dd,1H,J=11.5Hz,2.5Hz)、4.04-4.07(dd,1H,J=11.0Hz,4.5Hz)、3.46-3.51(t,1H,J=12.0Hz)、3.15-3.20(t,1H,J=10.8Hz)、2.30-2.35(m,1H)、2.01-2.08(m,8H)、1.82-1.90(m,2H)、1.71-1.74(m,1H).MS(ESI)m/z:236.4(M+H)
Water (50.0 g) was added to a 2-methyltetrahydrofuran solution (55.8 g) of a mixture (13a) of methanesulfonic acid [3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenyl] and mixed, and 30% sodium hydroxide (41.0 g, pure content 12.3 g, 307.6 mmol) was added and stirred at 80° C. for 22.5 hours. After confirming the completion of the reaction under analysis condition 2, the reaction mixture was cooled to 20° C., and water (85.4 g) and dichloromethane (85.4 g) were added for washing and layer separation, and the target product was recovered in the aqueous layer. The obtained aqueous layer was washed with dichloromethane (85.4 g), and then the layers were separated and the target product was recovered in the aqueous layer again. Dichloromethane (85.4 g) was added to the aqueous layer after layer separation, and the pH was adjusted to 8 using potassium dihydrogen phosphate. The aqueous layer (aqueous layer A) was separated and removed, and the target substance was extracted into the organic layer side (organic layer A). Dichloromethane (85.4 g) was then added to the aqueous layer A to re-extract the target substance into the organic layer side (organic layer B). The obtained organic layer A and organic layer B were mixed, filtered (pore size 1 μm), and the filtrate was concentrated under reduced pressure. Acetonitrile (82.9 g) was added to the concentrate, stirred at 65 ° C. for 2 hours, cooled to 0 ° C., and the solid and mother liquor were separated by filter filtration, and the solid was washed with cold acetonitrile. The obtained wet crystals were dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain compound (6a) (19.0 g, 80.6 mmol, yield 78.6%, chemical purity 100 area%).
1H NMR (500MHz, CDCl3 ): δ7.16-7.19 (t, 1H, J = 8.3Hz), 6.73-6.75 (d, 1H, J = 8.0Hz), 6.68-6.69 ( m, 2H), 4.32-4.35 (dd, 1H, J = 11.5Hz, 2.5Hz), 4.04-4.07 (dd, 1H, J = 11.0H z, 4.5Hz), 3.46-3.51 (t, 1H, J=12.0Hz), 3.15-3.20 (t, 1H, J=10.8Hz), 2. 30-2.35 (m, 1H), 2.01-2.08 (m, 8H), 1.82-1.90 (m, 2H), 1.71-1.74 (m, 1H). MS (ESI) m/z: 236.4 (M+H) + .

本発明によって製造されるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)は、痛みの治療及び/又は予防に用いるための有効成分として利用できる。The aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) produced by the present invention can be used as an active ingredient for the treatment and/or prevention of pain.

Claims (10)

下記一般式(1);

(式中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表し、R~Rは、それぞれ独立して、炭素数1~12の置換又は無置換のアルキル基を表し、*1、*2は不斉炭素を表す。)で表されるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)、又はその薬学的に許容される塩の製造法であって、下記一般式(2);

(式中、R~R、*1、*2は前記に同じ。Qは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、p-トルエンスルホニル基、o-クロロベンゼンスルホニル基、m-クロロベンゼンスルホニル基、p-クロロベンゼンスルホニル基、o-ニトロベンゼンスルホニル基、m-ニトロベンゼンスルホニル基、p-ニトロベンゼンスルホニル基または(+)-10-カンファースルホニル基を表す。)で表されるアミン化合物(2)、又はその塩と塩基とを反応させ、前記式(1)で表されるアミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体、又はその薬学的に許容される塩に変換する製造法。
The following general formula (1):

(wherein R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 4 to R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and *1 and *2 represent asymmetric carbons), or a method for producing a pharma- ceutical acceptable salt thereof, comprising the steps of:

(wherein R 1 to R 5 , *1 and *2 are as defined above; Q represents a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a benzenesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, an o-chlorobenzenesulfonyl group, a m-chlorobenzenesulfonyl group, a p-chlorobenzenesulfonyl group, an o-nitrobenzenesulfonyl group, a m-nitrobenzenesulfonyl group, a p-nitrobenzenesulfonyl group or a (+)-10-camphorsulfonyl group ) is reacted with a base to convert the compound into an aminoalkyltetrahydropyran derivative represented by formula (1) or a pharma- ceutical acceptable salt thereof.
前記アミン化合物(2)又はその塩と、塩基とを水溶媒下で反応させることを特徴とする請求項1に記載の製造法。 The method according to claim 1, characterized in that the amine compound (2) or a salt thereof is reacted with a base in an aqueous solvent. 前記Rが水素原子である請求項1又は2に記載の製造法。 The method according to claim 1 or 2, wherein R 1 is a hydrogen atom. 前記R及びRが水素原子である請求項1~3のいずれかに記載の製造法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein R 2 and R 3 are hydrogen atoms. 前記R及びRがメチル基である請求項1~4のいずれかに記載の製造法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein R 4 and R 5 are methyl groups. 前記Qがメタンスルホニル基又はp-トルエンスルホニル基である請求項1~5のいずれかに記載の製造法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein Q is a methanesulfonyl group or a p-toluenesulfonyl group. 下記一般式(3);

(式中、R~R、*1、*2は前記に同じ。)で表されるフェノール誘導体(3)をジスルホニル化することにより、下記一般式(4);

(式中R~R、*1、*2、Qは前記に同じ。)で表されるジスルホニル化合物(4)に変換し、続いて前記ジスルホニル化合物(4)と第2級アミンとを反応させ、前記アミン化合物(2)又はその塩を製造する工程を有する請求項1~6のいずれかに記載の製造法。
The following general formula (3):

(wherein R 1 to R 3 , *1 and *2 are the same as above) is disulfonylated to give a phenol derivative (3) represented by the following general formula (4):

(wherein R 1 to R 3 , *1, *2 and Q are as defined above), followed by reacting the disulfonyl compound (4) with a secondary amine to produce the amine compound (2) or a salt thereof.
前記フェノール誘導体(3)が、下記一般式(5);

(式中R~R、*1、*2は前記に同じ。)で表されるアルコール誘導体(5)から製造される工程を有する請求項7に記載の製造法。
The phenol derivative (3) is represented by the following general formula (5):

8. The process according to claim 7, comprising a step of producing the compound from an alcohol derivative (5) represented by the formula (wherein R 1 to R 3 , *1 and *2 are as defined above).
前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)が下式(6a);

で表される3-[(3R,4R)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、3-[(3S,4S)-3-(ジメチルアミノメチル)テトラヒドロピラン-4-イル]フェノール、又はそれら2つのエナンチオマーの混合物である請求項1~8のいずれかに記載の製造法。
The aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) is represented by the following formula (6a):

The process according to any one of claims 1 to 8, wherein the phenol is 3-[(3R,4R)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol represented by the formula (I), 3-[(3S,4S)-3-(dimethylaminomethyl)tetrahydropyran-4-yl]phenol represented by the formula (I), or a mixture of the two enantiomers thereof.
前記アミノアルキルテトラヒドロピラン誘導体(1)が、痛みの治療及び/又は予防に使用される有効成分であることを特徴とする、請求項1~9のいずれかに記載の製造法。 The method according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the aminoalkyltetrahydropyran derivative (1) is an active ingredient used for the treatment and/or prevention of pain.
JP2022532426A 2020-06-19 2021-05-24 Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives Active JP7709969B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020106516 2020-06-19
JP2020106516 2020-06-19
PCT/JP2021/019651 WO2021256181A1 (en) 2020-06-19 2021-05-24 Method for producing aminoalkyl tetrahydropyran derivative

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021256181A1 JPWO2021256181A1 (en) 2021-12-23
JP7709969B2 true JP7709969B2 (en) 2025-07-17

Family

ID=79267857

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022532426A Active JP7709969B2 (en) 2020-06-19 2021-05-24 Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7709969B2 (en)
WO (1) WO2021256181A1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019156074A1 (en) 2018-02-06 2019-08-15 第一三共株式会社 Aminoalkyl compound

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019156074A1 (en) 2018-02-06 2019-08-15 第一三共株式会社 Aminoalkyl compound

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
MOHACSI,E. et al,Synthesis and stereochemistry of tetrahydro-4-aryl-3- [(dimethylamino)methyl]-2H-pyranols as potenti,Journal of Heterocyclic Chemistry,1990年,Vol.27, No.6,pp.1623-1628

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2021256181A1 (en) 2021-12-23
WO2021256181A1 (en) 2021-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI454471B (en) Processes to make apoptosis promoters
CA2152089C (en) Asymmetric process for preparing florfenicol, thiamphenicol, chloramphenicol, and oxazoline intermediates
Melloni et al. Configurational studies on 2-[∝-(2-ethoxyphenoxy) benzyl] morpholine fce 20124
KR900001509B1 (en) (Threo) -1-aryl-2-acylamido-3-fluoro-1-propanol and preparation method thereof
JP7516245B2 (en) Method for preparing antihelminthic 4-amino-quinoline-3-carboxamide derivatives
CN115108927A (en) Crystal forms and synthesis methods of (2R,6R) -hydroxynorketamine and (2S,6S) -hydroxynorketamine
KR20050019764A (en) Processes for producing epoxytriazole derivative and intermediate therefor
TWI635093B (en) Processes and intermediates for preparing anti-hiv agents
TWI825323B (en) Processes and intermediates for the preparation of 2-(2,6-dichlorophenyl)-1-[(1s,3r)-3-(hydroxymethyl)-5-(3-hydroxy-3-methylbutyl)-1-methyl-3,4-dihydroisoquinolin-2(1h)-yl]ethanone
JP7225379B2 (en) Process for stereoselective preparation of chiral 2-[(hetero)arylalkylsulfanyl]pyrimidines and products obtained therefrom
JP7709969B2 (en) Method for producing aminoalkyltetrahydropyran derivatives
WO2016121777A1 (en) Method for producing pyrazine carboxamide compound, and synthetic intermediate thereof
Paramanik et al. Catalytic nucleophilic fluorination by an imidazolium ionic liquid possessing trialkylphosphine oxide functionality
JPH09509929A (en) Epoxide synthesis method
WO2014068341A2 (en) Chiral fluorinating reagents
KR20190036705A (en) Novel process for preparing (2r)-2-(2-methoxyphenyl)-2-(oxan-4-yloxy)ethan-1-ol compound and intermediates used therein
RU2436773C2 (en) Method of producing sodium salt of 1-[[[(r)-m-[(e)-2-(7-chloro-2-quinolyl)vinyl]-alpha-[o-(1-hydroxy-1-methylethyl)phenetyl]benzyl]thio]methyl]cyclopropane acetic acid
WO2018108954A1 (en) Process for the preparation of 2-(3-(fluoromethyl)azetidin-1-yl)ethan-1-ol
HUE028730T2 (en) A process for the preparation of etoricoxib
JP2011057665A (en) Method for producing optically active 1-amino-2-vinylcyclopropanecarboxylic acid ester
MX2009002361A (en) Phenyloxyaniline derivatives.
EP3181545B1 (en) Process for the preparation of ospemifene
WO2001004092A1 (en) Process for the preparation of tricyclic amino alcohol derivatives
JP6961595B2 (en) Method for producing 4-alkoxy-3-trifluoromethylbenzyl alcohol
JP2769174B2 (en) Production method of condensed oxazine

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240315

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250404

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250610

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250707

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7709969

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150