JP7710914B2 - Substrate rotation device for film forming equipment - Google Patents
Substrate rotation device for film forming equipmentInfo
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Description
本発明は、成膜装置用の基体回転装置に関する。 The present invention relates to a substrate rotation device for a film forming apparatus.
対象物の表面に被膜を形成するための成膜装置が従来から知られている。例えば特許文献1には、熱フィラメントCVD法によって基体の表面にダイヤモンド被膜を成膜する熱フィラメントCVD装置が開示されている。また、例えば特許文献2には、熱フィラメントCVD法(特許文献1では、ホットワイヤーCVD法と呼ばれている)によって基体にシリコン系の層を成膜する熱フィラメントCVD装置が開示されている。 Film deposition devices for forming a coating on the surface of an object have been known for some time. For example, Patent Document 1 discloses a hot filament CVD device that deposits a diamond coating on the surface of a substrate by the hot filament CVD method. Also, for example, Patent Document 2 discloses a hot filament CVD device that deposits a silicon-based layer on a substrate by the hot filament CVD method (called the hot wire CVD method in Patent Document 1).
引用文献1の熱フィラメントCVD装置は、成膜が行われるチャンバ内で複数の切削工具を保持できる機構を有している。引用文献1の熱フィラメントCVD装置に見られるように、公知の成膜装置では、複数の基体に対して一度に成膜を行っている。 The hot filament CVD apparatus in Reference 1 has a mechanism that can hold multiple cutting tools in the chamber where the film is formed. As seen in the hot filament CVD apparatus in Reference 1, known film formation apparatuses form films on multiple substrates at once.
また、成膜においては、基体の周方向に均一に成膜を行うために、各基体を自転(本明細書では、基体を通る回転軸周りにされる回転のことを言う)させることが行われている。特許文献2の熱フィラメントCVD装置においては、複数の基体はそれぞれ支持体に支持され、各支持体は回転モータによって回転される。これにより、各基体が、支持体とともに自転する。 In addition, in order to deposit the film uniformly in the circumferential direction of the substrate, each substrate is rotated (in this specification, this refers to rotation around a rotation axis passing through the substrate). In the hot filament CVD device of Patent Document 2, each of the substrates is supported by a support, and each support is rotated by a rotary motor. This causes each substrate to rotate together with the support.
特許文献2の熱フィラメントCVD装置においては、回転モータの数量は支持体の数量と同数である。かかる熱フィラメントCVD装置のように、複数の基体を自転させるために基体の保持部材と同数の回転アクチュエータを設けると、基体の回転装置が大掛かりなものとなる。 In the hot filament CVD apparatus of Patent Document 2, the number of rotary motors is the same as the number of supports. If, as in this hot filament CVD apparatus, the same number of rotary actuators as the number of substrate holding members are provided in order to rotate multiple substrates, the substrate rotation device becomes large-scale.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、成膜装置用の基体回転装置であって、簡易な構成で複数の基体を自転させることができる基体回転装置を提供することである。 The present invention has been made in consideration of these points, and its purpose is to provide a substrate rotation device for a film forming apparatus that is capable of rotating multiple substrates with a simple configuration.
本発明に係る成膜装置用の基体回転装置は、成膜対象物である基体をそれぞれ保持する複数の保持部材と、互いに平行な複数の回転軸周りにそれぞれ回転させることが可能なように前記複数の保持部材を支持する複数の軸受部と、前記複数の保持部材にそれぞれ接続される複数の接続部を備えた旋回体と、前記複数の回転軸と平行な旋回軸周りに前記旋回体を旋回させる駆動部と、を備える。前記駆動部は、前記旋回軸の軸方向視における前記旋回体の向きを維持しながら前記旋回体を旋回させるように構成されている。前記各接続部は、前記駆動部によって前記旋回体が旋回されると、前記各接続部に対応する前記保持部材の回転軸の周りを旋回するように配置されている。 The substrate rotation device for a film formation apparatus according to the present invention includes a plurality of holding members each holding a substrate as a film formation target, a plurality of bearings supporting the plurality of holding members so that the holding members can be rotated about a plurality of rotation axes parallel to each other, a rotating body having a plurality of connection parts respectively connected to the plurality of holding members, and a drive unit for rotating the rotating body about a rotation axis parallel to the plurality of rotation axes. The drive unit is configured to rotate the rotating body while maintaining the orientation of the rotating body when viewed in the axial direction of the rotation axis. Each of the connection parts is arranged to rotate around the rotation axis of the holding member corresponding to each of the connection parts when the rotating body is rotated by the drive unit.
上記基体回転装置によれば、旋回体が旋回軸の軸方向視における向きを維持しながら旋回することにより、旋回体に設けられた複数の接続部がそれぞれ、対応する保持部材の回転軸の周りを旋回する。これにより、各接続部に接続されるとともに軸受部に支持された保持部材が自転する。よって、上記基体回転装置によれば、1つの旋回体と旋回体を旋回させる駆動部という簡易な構成で、複数の基体を自転させることが可能である。 According to the base rotation device, the rotating body rotates while maintaining the orientation of the rotating shaft when viewed in the axial direction, and each of the multiple connection parts provided on the rotating body rotates around the rotation axis of the corresponding holding member. This causes the holding members connected to each connection part and supported by the bearing part to rotate on their own axes. Therefore, according to the base rotation device, it is possible to rotate multiple bases on their own axes with a simple configuration of one rotating body and a drive part that rotates the rotating body.
本発明の好ましい一態様によれば、前記駆動部は、第1駆動部と、第2駆動部と、を備えている。前記第1駆動部は、前記旋回体に対して摺動可能に連結された第1連結部材を備え、前記第1連結部材を前記複数の回転軸に平行な第1旋回軸周りに旋回させる。前記第2駆動部は、前記旋回体に対して摺動可能に連結された第2連結部材を備え、前記第2連結部材を、前記複数の回転軸と平行な第2旋回軸周りに、前記第1連結部材の旋回と同期させて旋回させる。 According to a preferred embodiment of the present invention, the drive unit includes a first drive unit and a second drive unit. The first drive unit includes a first connecting member slidably connected to the rotating body and rotates the first connecting member around a first pivot axis parallel to the multiple rotation axes. The second drive unit includes a second connecting member slidably connected to the rotating body and rotates the second connecting member around a second pivot axis parallel to the multiple rotation axes in synchronization with the rotation of the first connecting member.
上記基体回転装置によれば、いずれも旋回体に摺動可能に連結された第1連結部材と第2連結部材とが、保持部材の回転軸に平行な各々の旋回軸周りに同期して旋回する。これにより、旋回軸の軸方向視における旋回体の向きを変化させることなく、旋回体を旋回させることができる。 According to the base rotation device, the first connecting member and the second connecting member, both of which are slidably connected to the rotating body, rotate in synchronization around their respective rotation axes parallel to the rotation axis of the holding member. This allows the rotating body to rotate without changing the orientation of the rotating body when viewed in the axial direction of the rotation axis.
上記態様のうちの好ましい一態様によれば、前記駆動部は、回転する主軸を備えたアクチュエータと、前記アクチュエータの前記主軸と前記第1駆動部および前記第2駆動部とを接続する伝動機構を備えている。前記伝動機構は、前記第1駆動部および前記第2駆動部に前記主軸の回転を伝達する。 According to a preferred embodiment of the above aspects, the drive unit includes an actuator having a rotating main shaft, and a transmission mechanism that connects the main shaft of the actuator to the first drive unit and the second drive unit. The transmission mechanism transmits the rotation of the main shaft to the first drive unit and the second drive unit.
上記基体回転装置によれば、第1駆動部および第2駆動部は、伝動機構を介して1つのアクチュエータにより駆動される。そのため、第1連結部材と第2連結部材とを同期して旋回させることが容易にできる。 According to the base rotation device, the first drive unit and the second drive unit are driven by a single actuator via a transmission mechanism. Therefore, it is easy to rotate the first connecting member and the second connecting member in synchronization.
本発明の好ましい一態様によれば、前記旋回体は、水平面に沿って広がる板状に構成されている。基体回転装置は、前記旋回体の下方に設けられ旋回体を支持する複数の支持部をさらに備えている。前記複数の支持部は、前記旋回体の下面に当接するとともに前記旋回体を支持する回転自在なボールをそれぞれ備えている。 According to a preferred embodiment of the present invention, the rotating body is configured in a plate shape extending along a horizontal plane. The base body rotation device further includes a plurality of support parts that are provided below the rotating body and support the rotating body. Each of the plurality of support parts includes a rotatable ball that abuts against the underside of the rotating body and supports the rotating body.
上記基体回転装置によれば、複数の支持部の各ボールが回転自在であるため、ボールにより、旋回体を旋回可能に支持することができる。 With the base rotation device, each ball of the multiple support parts is rotatable, so the balls can support the rotating body so that it can rotate.
本発明の好ましい一態様によれば、前記各接続部は、ピンを備えている。前記各保持部材は、前記ピンが前記回転軸の周りを旋回する際に前記ピンが当接する受力部を備えている。 According to a preferred embodiment of the present invention, each of the connection parts includes a pin. Each of the holding members includes a force-receiving part against which the pin abuts when the pin rotates around the rotation axis.
上記基体回転装置によれば、ピンが受力部に当接し、受力部を押すというシンプルな構成によって保持部材が回転する。そのため、例えば、ギアによる接続などと比べて、接続部と保持部材とが齧るおそれを低減できる。 The base rotation device described above rotates the holding member with a simple structure in which the pin abuts against the force receiving part and pushes against it. Therefore, compared to connections using gears, for example, the risk of the connection part and the holding member becoming galled can be reduced.
上記態様のうちの好ましい一態様によれば、前記ピンは、前記駆動部が前記旋回体を旋回させている状態で前記保持部材の回転が停止されると、前記受力部に当接不能なように折れるか、または曲がるように構成されている。 According to a preferred embodiment of the above aspects, the pin is configured to break or bend so as not to be able to contact the force receiving portion when the rotation of the holding member is stopped while the drive unit is rotating the rotating body.
上記基体回転装置によれば、駆動部が旋回体を旋回させている状態で保持部材の回転が停止されると、ピンが受力部に当接しなくなる。つまり、回転が阻害されている保持部材と旋回体との接続が切れる。そのため、何らかの理由で保持部材の回転が阻害されても、保持部材の回転抵抗が旋回体の旋回および他の保持部材の回転に影響しにくい。 According to the base rotation device described above, when the rotation of the holding member is stopped while the drive unit is rotating the rotating body, the pin no longer abuts against the force receiving part. In other words, the connection between the holding member, whose rotation is hindered, and the rotating body is severed. Therefore, even if the rotation of the holding member is hindered for some reason, the rotational resistance of the holding member is unlikely to affect the rotation of the rotating body and the rotation of other holding members.
他の好ましい一態様によれば、前記受力部は、前記駆動部が前記旋回体を旋回させている状態で前記保持部材の回転が停止されると、前記ピンに当接不能なように折れるか、または曲がるように構成されている。上記基体回転装置によれば、ピンが折れるか、または曲がる構成と同じ作用効果を奏することができる。 According to another preferred embodiment, the force receiving portion is configured to break or bend so as not to be able to abut against the pin when the rotation of the holding member is stopped while the drive portion is rotating the rotating body. The base body rotation device described above can achieve the same effect as a configuration in which the pin breaks or bends.
本発明の好ましい一態様によれば、基体回転装置は、前記複数の軸受部が設けられるとともに水平面に沿って広がるプレートをさらに備えている。前記各保持部材は、前記プレートの上面に露出している。前記旋回体および前記駆動部は、前記プレートよりも下方に配置されている。 According to a preferred embodiment of the present invention, the base rotating device further includes a plate on which the plurality of bearings are provided and which extends along a horizontal plane. The holding members are exposed on an upper surface of the plate. The rotating body and the driving unit are disposed below the plate.
上記基体回転装置によれば、複数の保持部材が露出し、基体を保持部材に保持させるプレートの上面側ではなく、プレートの下方側に旋回体および駆動部が配置されている。そのため、多数の保持部材をプレートに設けることができる。 According to the above-mentioned base rotation device, the rotating body and the drive unit are arranged on the lower side of the plate, not on the upper side of the plate where the multiple holding members are exposed and the base is held by the holding members. Therefore, multiple holding members can be provided on the plate.
本発明に係る成膜装置用の基体回転装置によれば、簡易な構成で複数の基体を自転させることができる。 The substrate rotation device for a film forming apparatus according to the present invention can rotate multiple substrates with a simple configuration.
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。図1は、一実施形態に係る成膜装置100の模式的な斜視図である。以下の説明において、前方とは、成膜装置100の前面側にいる作業者が成膜装置100から遠ざかる方向を意味する。後方とは、成膜装置100の前面側にいる作業者が成膜装置100に近づく方向を意味する。左、右、上、下は、成膜装置100を前面側から見たときの左、右、上、下をそれぞれ意味する。図面中の符号F、Rr、L、R、U、Dは、それぞれ前、後、左、右、上、下を表している。ただし、上記方向は説明の便宜上定めた方向に過ぎず、成膜装置100の設置態様を何ら限定するものではなく、本発明を何ら限定するものでもない。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic perspective view of a film forming apparatus 100 according to one embodiment. In the following description, "front" means the direction in which an operator on the front side of the film forming apparatus 100 moves away from the film forming apparatus 100. "Rear" means the direction in which an operator on the front side of the film forming apparatus 100 approaches the film forming apparatus 100. "Left," "right," "upper," and "lower" mean the left, right, upper, and lower sides when the film forming apparatus 100 is viewed from the front side. The symbols F, Rr, L, R, U, and D in the drawings represent the front, rear, left, right, upper, and lower sides, respectively. However, the above directions are merely defined for the convenience of explanation, and do not limit the installation mode of the film forming apparatus 100, nor do they limit the present invention.
本実施形態に係る成膜装置100は、熱フィラメントCVD装置である。熱フィラメントCVD装置は、チャンバ内に導入した原料ガスを熱フィラメントによって加熱し、原料ガスから生成される生成物を基体に析出させる。成膜装置100は、ここでは、炭化水素のガスと水素ガスを熱フィラメント102で高温に加熱することにより、ダイヤモンドを生成する。生成したダイヤモンドは、基体の表面にダイヤモンド被膜を形成する。本実施形態に係る成膜装置100は、切削工具5にダイヤモンドコーティングを行う装置である。切削工具5は、例えば、ドリルやエンドミル等である。ただし、成膜対象物である基体は、切削工具5に限定されるわけではない。切削工具5にダイヤモンドコーティングを行うことにより、切削工具5の耐久性を向上させることができる。 The film forming apparatus 100 according to this embodiment is a hot filament CVD apparatus. In a hot filament CVD apparatus, a raw material gas introduced into a chamber is heated by a hot filament, and a product generated from the raw material gas is deposited on a substrate. In this embodiment, the film forming apparatus 100 generates diamond by heating a hydrocarbon gas and a hydrogen gas to a high temperature by a hot filament 102. The generated diamond forms a diamond film on the surface of the substrate. The film forming apparatus 100 according to this embodiment is an apparatus that performs diamond coating on a cutting tool 5. The cutting tool 5 is, for example, a drill or an end mill. However, the substrate, which is the object of film formation, is not limited to the cutting tool 5. By performing diamond coating on the cutting tool 5, the durability of the cutting tool 5 can be improved.
図1に示すように、成膜装置100は、チャンバ101と、複数の熱フィラメント102と、を備えている。チャンバ101は、密閉型の炉体である。ただし、図1では、一部の壁部を取り払った状態のチャンバ101を図示している。ダイヤモンドは、チャンバ101内において生成され、切削工具5に被覆される。チャンバ101には、図示しない真空ポンプが接続されている。また、チャンバ101には、図示しない原料ガスの導入口が設けられている。チャンバ101は、真空ポンプにより内部が減圧できるよう、高気密に構成されている。 As shown in FIG. 1, the film forming apparatus 100 includes a chamber 101 and a plurality of thermal filaments 102. The chamber 101 is a closed furnace body. However, FIG. 1 illustrates the chamber 101 with some of the walls removed. Diamond is produced in the chamber 101 and is coated on the cutting tool 5. A vacuum pump (not shown) is connected to the chamber 101. The chamber 101 is also provided with an inlet for a raw material gas (not shown). The chamber 101 is configured to be highly airtight so that the pressure inside can be reduced by the vacuum pump.
熱フィラメント102は、通電することにより発熱するワイヤである。熱フィラメント102は、例えば、タングステンによって形成されている。複数の熱フィラメント102は、それぞれ、チャンバ101内で略水平に張られている。複数の熱フィラメント102は、前後方向および上下方向に並んで設けられ、それぞれ左右方向に延びている。 The thermal filament 102 is a wire that generates heat when electricity is passed through it. The thermal filament 102 is made of, for example, tungsten. The multiple thermal filaments 102 are each stretched approximately horizontally within the chamber 101. The multiple thermal filaments 102 are arranged side by side in the front-to-back and up-to-down directions, and each extends in the left-to-right direction.
チャンバ101内には、複数の切削工具5を保持して、それぞれ自転させることが可能な基体回転装置10が設けられている。図1に示すように、基体回転装置10は、複数の熱フィラメント102よりも下方に設けられている。図2は、基体回転装置10の一部破断平面図である。図3は、基体回転装置10の断面図である。図2および図3に示すように、基体回転装置10は、ベースプレート20と、スイングプレート30と、スイングプレート30を支持する複数の支持部40と、スイングプレート30を旋回させる駆動部50と、上部プレート60と、上部プレート60に設けられた複数の軸受70と、複数の軸受70にそれぞれ支持された複数のホルダ80と、を備えている。複数のホルダ80は、それぞれ1つの切削工具5を保持可能に構成されている。 A substrate rotation device 10 capable of holding and rotating a plurality of cutting tools 5 is provided within the chamber 101. As shown in FIG. 1, the substrate rotation device 10 is provided below the plurality of thermal filaments 102. FIG. 2 is a partially cutaway plan view of the substrate rotation device 10. FIG. 3 is a cross-sectional view of the substrate rotation device 10. As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate rotation device 10 includes a base plate 20, a swing plate 30, a plurality of support parts 40 that support the swing plate 30, a drive part 50 that rotates the swing plate 30, an upper plate 60, a plurality of bearings 70 provided on the upper plate 60, and a plurality of holders 80 that are supported by the plurality of bearings 70, respectively. Each of the plurality of holders 80 is configured to be capable of holding one cutting tool 5.
ベースプレート20は、平面視において矩形の平板状に構成されている。ベースプレート20は、チャンバ101の底面に載置されている。ベースプレート20上には、駆動部50の一部と、複数の支持部40と、が設けられている。複数の支持部40は、スイングプレート30の下方に設けられ、スイングプレート30を支持している。図2に示すように、ここでは、支持部40の数は4つである。4つの支持部40は、それぞれベースプレート20の隅の付近に設けられている。ただし、複数の支持部40は、水平面に沿って旋回可能なようにスイングプレート30を支持していればよく、その数量や位置は限定されない。例えば、支持部40の数は、3つであってもよい。複数の支持部40は、回転自在なボール41をそれぞれ備えている。ボール41は、ここでは、金属製の球体である。ボール41は、スイングプレート30の下面に当接し、スイングプレート30を旋回可能に支持している。各支持部40は、ボール41を回転自在に保持するボール保持体42を備えている。 The base plate 20 is configured in a rectangular flat plate shape in a plan view. The base plate 20 is placed on the bottom surface of the chamber 101. A part of the drive unit 50 and a plurality of support parts 40 are provided on the base plate 20. The plurality of support parts 40 are provided below the swing plate 30 and support the swing plate 30. As shown in FIG. 2, the number of support parts 40 is four here. The four support parts 40 are each provided near the corners of the base plate 20. However, the number and positions of the plurality of support parts 40 are not limited as long as they support the swing plate 30 so as to be rotatable along a horizontal plane. For example, the number of support parts 40 may be three. Each of the plurality of support parts 40 has a rotatable ball 41. Here, the ball 41 is a metal sphere. The ball 41 abuts against the lower surface of the swing plate 30 and supports the swing plate 30 so as to be rotatable. Each support portion 40 has a ball holder 42 that rotatably holds the ball 41.
駆動部50は、上下方向に延びる旋回軸Ax0周りにスイングプレート30を旋回させる。スイングプレート30の旋回軸Ax0については後述する。図3に示すように、駆動部50は、第1駆動部51と、第2駆動部52と、駆動モータ53と、伝動機構54と、を備えている。伝動機構54は、ここでは、主動ギア54aと、連結ギア54bと、を備えている。 The drive unit 50 rotates the swing plate 30 around a rotation axis Ax0 that extends in the vertical direction. The rotation axis Ax0 of the swing plate 30 will be described later. As shown in FIG. 3, the drive unit 50 includes a first drive unit 51, a second drive unit 52, a drive motor 53, and a transmission mechanism 54. Here, the transmission mechanism 54 includes a main drive gear 54a and a connecting gear 54b.
駆動モータ53は、ここでは、電動モータである。図3に示すように、駆動モータ53は、主軸53aを備えている。主軸53aは、ここでは、上下方向に延びており、鉛直線周りに回転する。駆動モータ53は、チャンバ101の外部に設けられている。主動ギア54aは、主軸53aの先端部に設けられている。駆動モータ53が主軸53aを回転させると、主動ギア54aは、水平面に沿って回転する。 Here, the drive motor 53 is an electric motor. As shown in FIG. 3, the drive motor 53 has a main shaft 53a. Here, the main shaft 53a extends in the vertical direction and rotates around a vertical line. The drive motor 53 is provided outside the chamber 101. The main gear 54a is provided at the tip of the main shaft 53a. When the drive motor 53 rotates the main shaft 53a, the main gear 54a rotates along a horizontal plane.
図3に示すように、第1駆動部51は、第1従動ギア51aと、第1連結ピン51bと、を備えている。第1従動ギア51aは、主動ギア54aの前方に設けられ、主動ギア54aと噛み合っている。駆動モータ53が駆動し、主動ギア54aが回転すると、第1従動ギア51aも水平面に沿って回転する。第1連結ピン51bは、第1従動ギア51aから上方に向かって延びている。第1連結ピン51bは、円柱状の部材である。図3に示すように、第1連結ピン51bは、第1従動ギア51aの回転中心Ax1から径方向にずれた位置に設けられている。第1従動ギア51aの回転中心Ax1と第1連結ピン51bとの間の距離(ずれ量)は、距離R1である。第1従動ギア51aが回転中心Ax1周りに回転すると、第1連結ピン51bは、旋回半径R1の円を描いて第1従動ギア51aの回転中心Ax1の周りを旋回する。以下では、第1従動ギア51aの回転中心Ax1のことを、第1旋回軸Ax1とも呼ぶ。第1旋回軸Ax1は、上下方向に延びている。第1駆動部51は、第1連結ピン51bを第1旋回軸Ax1周りに旋回させる。 As shown in FIG. 3, the first drive unit 51 includes a first driven gear 51a and a first connecting pin 51b. The first driven gear 51a is provided in front of the driving gear 54a and meshes with the driving gear 54a. When the driving motor 53 is driven and the driving gear 54a rotates, the first driven gear 51a also rotates along a horizontal plane. The first connecting pin 51b extends upward from the first driven gear 51a. The first connecting pin 51b is a cylindrical member. As shown in FIG. 3, the first connecting pin 51b is provided at a position radially shifted from the rotation center Ax1 of the first driven gear 51a. The distance (shift amount) between the rotation center Ax1 of the first driven gear 51a and the first connecting pin 51b is a distance R1. When the first driven gear 51a rotates around the rotation center Ax1, the first connecting pin 51b revolves around the rotation center Ax1 of the first driven gear 51a, tracing a circle with a rotation radius R1. Hereinafter, the rotation center Ax1 of the first driven gear 51a is also referred to as the first rotation axis Ax1. The first rotation axis Ax1 extends in the vertical direction. The first driving unit 51 revolves the first connecting pin 51b around the first rotation axis Ax1.
連結ギア54bは、第1従動ギア51aの前方に設けられ、第1従動ギア51aと噛み合っている。第1従動ギア51aが回転すると、連結ギア54bも水平面に沿って回転する。第2駆動部52は、連結ギア54bのさらに前方に設けられ、第1駆動部51と同様の構成を有している。第2駆動部52は、第2従動ギア52aと、第2連結ピン52bと、を備えている。第2従動ギア52aは、連結ギア54bの前方に設けられ、連結ギア54bと噛み合っている。連結ギア54bが回転すると、第2従動ギア52aも水平面に沿って回転する。第2従動ギア52aの半径は、第1従動ギア51aの半径と同じに設定されている。そのため、第2従動ギア52aは、第1従動ギア51aと同期して回転する。 The connecting gear 54b is provided in front of the first driven gear 51a and meshes with the first driven gear 51a. When the first driven gear 51a rotates, the connecting gear 54b also rotates along a horizontal plane. The second driving unit 52 is provided further forward of the connecting gear 54b and has a configuration similar to that of the first driving unit 51. The second driving unit 52 includes a second driven gear 52a and a second connecting pin 52b. The second driven gear 52a is provided in front of the connecting gear 54b and meshes with the connecting gear 54b. When the connecting gear 54b rotates, the second driven gear 52a also rotates along a horizontal plane. The radius of the second driven gear 52a is set to be the same as the radius of the first driven gear 51a. Therefore, the second driven gear 52a rotates in synchronization with the first driven gear 51a.
第2連結ピン52bは、第2従動ギア52aから上方に向かって延びている。第2連結ピン52bは、円柱状の部材である。図3に示すように、第2連結ピン52bは、第2従動ギア52aの回転中心Ax2から、径方向に距離R1だけずれた位置に設けられている。第2従動ギア52aが回転中心Ax2周りに回転すると、第2連結ピン52bは、旋回半径R1の円を描いて第2従動ギア52aの回転中心Ax2の周りを旋回する。以下では、第2従動ギア52aの回転中心Ax2のことを、第2旋回軸Ax2とも呼ぶ。第2旋回軸Ax2は、第1旋回軸Ax1と平行である。第2旋回軸Ax2は、ここでは、上下方向に延びている。かかる構成によって、第2駆動部52は、第2連結ピン52bを、第1旋回軸Ax1と平行な第2旋回軸Ax2周りに、第1連結ピン51bの旋回と同期させて旋回させる。 The second connecting pin 52b extends upward from the second driven gear 52a. The second connecting pin 52b is a cylindrical member. As shown in FIG. 3, the second connecting pin 52b is provided at a position radially shifted by a distance R1 from the rotation center Ax2 of the second driven gear 52a. When the second driven gear 52a rotates around the rotation center Ax2, the second connecting pin 52b revolves around the rotation center Ax2 of the second driven gear 52a, drawing a circle with a turning radius R1. Hereinafter, the rotation center Ax2 of the second driven gear 52a is also referred to as the second turning axis Ax2. The second turning axis Ax2 is parallel to the first turning axis Ax1. Here, the second turning axis Ax2 extends in the vertical direction. With this configuration, the second drive unit 52 rotates the second connecting pin 52b around the second pivot axis Ax2, which is parallel to the first pivot axis Ax1, in synchronization with the rotation of the first connecting pin 51b.
主動ギア54aおよび連結ギア54bは、駆動モータ53の主軸53aと第1駆動部51および第2駆動部52とを接続する伝動機構54を構成している。伝動機構54は、第1駆動部51および第2駆動部52に駆動モータ53の主軸53aの回転を伝達している。第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bは、伝動機構54、第1駆動部51、および第2駆動部52を介して、駆動モータ53により旋回される。伝動機構54が駆動モータ53の主軸53aと第2駆動部52とを接続することは、本実施形態のように、駆動モータ53の主軸53aと第2駆動部52との間に第1駆動部51が介在することも含む。ただし、伝動機構54は、第1駆動部51の介在なしに、駆動モータ53と第2駆動部52とを接続してもよい。伝動機構54の構成は、特に限定されない。伝動機構54は、他のギアをさらに含んでいてもよい。伝動機構54は、例えば、チェーンやカムを含んでいてもよい。第1駆動部51および第2駆動部52を駆動するアクチュエータは、電動モータには限定されない。第1駆動部51および第2駆動部52を駆動するアクチュエータは、例えば、エア駆動のロータリーアクチュエータであってもよい。 The main gear 54a and the connecting gear 54b constitute a transmission mechanism 54 that connects the main shaft 53a of the drive motor 53 to the first drive unit 51 and the second drive unit 52. The transmission mechanism 54 transmits the rotation of the main shaft 53a of the drive motor 53 to the first drive unit 51 and the second drive unit 52. The first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b are rotated by the drive motor 53 via the transmission mechanism 54, the first drive unit 51, and the second drive unit 52. The transmission mechanism 54 connecting the main shaft 53a of the drive motor 53 to the second drive unit 52 also includes the first drive unit 51 being interposed between the main shaft 53a of the drive motor 53 and the second drive unit 52, as in this embodiment. However, the transmission mechanism 54 may connect the drive motor 53 and the second drive unit 52 without the first drive unit 51 being interposed. The configuration of the transmission mechanism 54 is not particularly limited. The transmission mechanism 54 may further include other gears. The transmission mechanism 54 may include, for example, a chain or a cam. The actuators that drive the first drive unit 51 and the second drive unit 52 are not limited to electric motors. The actuators that drive the first drive unit 51 and the second drive unit 52 may be, for example, air-driven rotary actuators.
スイングプレート30は、複数の支持部40に支持されるとともに、第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bと連結されている。図3に示すように、スイングプレート30の下面には、第1連結ピン51bが挿入される第1挿入孔31と、第2連結ピン52bが挿入される第2挿入孔32と、が設けられている。第1連結ピン51bと第1挿入孔31とは、両者の間が滑るように連結されている。第1連結ピン51bは、スイングプレート30に対して摺動可能に連結されている。同じく、第2連結ピン52bと第2挿入孔32とは、両者の間が滑るように連結されている。第2連結ピン52bは、スイングプレート30に対して摺動可能に連結されている。ただし、スイングプレート30に対して摺動可能に連結された連結部材は、第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bには限定されない。例えば、スイングプレート30が凸部を有し、第1駆動部51および第2駆動部52が凸部に対応する凹部をそれぞれ有する場合には、スイングプレート30に対して摺動可能に連結された連結部材は、凸部に対して滑るように構成された上記凹部であってもよい。 The swing plate 30 is supported by a plurality of support parts 40 and is connected to the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b. As shown in FIG. 3, the lower surface of the swing plate 30 is provided with a first insertion hole 31 into which the first connecting pin 51b is inserted and a second insertion hole 32 into which the second connecting pin 52b is inserted. The first connecting pin 51b and the first insertion hole 31 are connected so as to slide between them. The first connecting pin 51b is connected to the swing plate 30 so as to be slidable. Similarly, the second connecting pin 52b and the second insertion hole 32 are connected so as to slide between them. The second connecting pin 52b is connected to the swing plate 30 so as to be slidable. However, the connecting member slidably connected to the swing plate 30 is not limited to the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b. For example, if the swing plate 30 has a convex portion, and the first drive unit 51 and the second drive unit 52 each have a concave portion corresponding to the convex portion, the connecting member slidably connected to the swing plate 30 may be the concave portion configured to slide relative to the convex portion.
図2に示すように、スイングプレート30は、平面視において矩形の平板状の部材である。スイングプレート30は、水平面に沿って広がっている。ただし、スイングプレート30の形状は特に限定されない。スイングプレート30は、例えば、平板状でなくてもよい。第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bが旋回半径R1の円を描いて旋回すると、スイングプレート30も、第1旋回軸Ax1および第2旋回軸Ax2に平行な旋回軸Ax0の周りを、旋回半径R1の円を描いて旋回する。スイングプレート30の旋回軸Ax0は、上下方向に延びている。スイングプレート30は、ここでは、水平面に沿って旋回する。このとき、スイングプレート30は、同期して回転する第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bにともに係合することによって、回転を規制されている。そのため、旋回軸Ax0の軸方向視(ここでは平面視)におけるスイングプレート30の向きは、スイングプレート30が旋回中も維持される。その結果、スイングプレート30上の全ての地点が、旋回半径R1の円を描いて水平面上を旋回する。スイングプレート30の旋回軸Ax0は、便宜的に図2の位置に図示されている。しかし、スイングプレート30の旋回軸Ax0は、平面視においてスイングプレート30上にある全ての点を通り得る。 As shown in FIG. 2, the swing plate 30 is a rectangular flat plate-like member in a plan view. The swing plate 30 spreads along a horizontal plane. However, the shape of the swing plate 30 is not particularly limited. The swing plate 30 does not have to be flat, for example. When the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b rotate in a circle with a rotation radius R1, the swing plate 30 also rotates in a circle with a rotation radius R1 around the rotation axis Ax0 parallel to the first rotation axis Ax1 and the second rotation axis Ax2. The rotation axis Ax0 of the swing plate 30 extends in the vertical direction. Here, the swing plate 30 rotates along a horizontal plane. At this time, the swing plate 30 is restricted from rotating by engaging with both the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b, which rotate synchronously. Therefore, the orientation of the swing plate 30 in the axial view of the pivot axis Ax0 (here, in plan view) is maintained even while the swing plate 30 is pivoting. As a result, all points on the swing plate 30 pivot on a horizontal plane, tracing a circle with a pivot radius R1. For convenience, the pivot axis Ax0 of the swing plate 30 is illustrated in the position shown in FIG. 2. However, the pivot axis Ax0 of the swing plate 30 can pass through all points on the swing plate 30 in plan view.
図3に示すように、スイングプレート30は、複数のホルダ80にそれぞれ接続される複数の接続部33を備えている。各接続部33は、駆動部50によってスイングプレート30が旋回されると、対応するホルダ80の回転軸Axの周りを旋回するように配置されている。複数のホルダ80の回転軸Axは、それぞれ上下方向に延びている。複数のホルダ80の回転軸Axは互いに平行である。また、各ホルダ80の回転軸Ax、スイングプレート30の旋回軸Ax0、第1旋回軸Ax1、および第2旋回軸Ax2も互いに平行である。接続部33は、ここでは、旋回ピン33aを備えている。各旋回ピン33aは、駆動部50によってスイングプレート30が旋回されると、旋回半径R1の円を描いて、対応するホルダ80の回転軸Axの周りを旋回する。旋回ピン33aの旋回軸は、対応するホルダ80の回転軸Axと略一致している。各旋回ピン33aは、棒状に構成され、スイングプレート30の上面から上方に向かって延びている。各旋回ピン33aは、ここでは円柱状に構成されている。ただし、旋回ピン33aの形状は、円柱状に限定されない。例えば、各旋回ピン33aは、角柱状に構成されていてもよい。 As shown in FIG. 3, the swing plate 30 has a plurality of connection parts 33 that are respectively connected to a plurality of holders 80. Each connection part 33 is arranged to rotate around the rotation axis Ax of the corresponding holder 80 when the swing plate 30 is rotated by the drive unit 50. The rotation axes Ax of the plurality of holders 80 extend in the vertical direction. The rotation axes Ax of the plurality of holders 80 are parallel to each other. In addition, the rotation axis Ax of each holder 80, the rotation axis Ax0 of the swing plate 30, the first rotation axis Ax1, and the second rotation axis Ax2 are also parallel to each other. Here, the connection part 33 has a rotation pin 33a. When the swing plate 30 is rotated by the drive unit 50, each rotation pin 33a rotates around the rotation axis Ax of the corresponding holder 80, drawing a circle with a rotation radius R1. The rotation axis of the rotation pin 33a approximately coincides with the rotation axis Ax of the corresponding holder 80. Each of the pivot pins 33a is configured in a rod shape and extends upward from the upper surface of the swing plate 30. Here, each of the pivot pins 33a is configured in a cylindrical shape. However, the shape of the pivot pins 33a is not limited to a cylindrical shape. For example, each of the pivot pins 33a may be configured in a rectangular column shape.
スイングプレート30の上方には、上部プレート60が配置されている。スイングプレート30および駆動部50は、上部プレート60よりも下方に配置されている。本実施形態では、上部プレート60も、平面視において矩形の平板状に構成されている。ただし、上部プレート60の形状も特に限定されない。上部プレート60は、移動不能にベースプレート20に固定されている。上部プレート60は、水平面に沿って広がっている。上部プレート60には、複数の軸受70が設けられている。軸受70は、ここでは、前後方向および左右方向にマトリクス状に設けられている。上部プレート60の上面には、それぞれ軸受70が挿入される複数の軸受挿入孔61がマトリクス状に形成されている。軸受挿入孔61は、上部プレート60を上下方向に貫通している。 The upper plate 60 is disposed above the swing plate 30. The swing plate 30 and the drive unit 50 are disposed below the upper plate 60. In this embodiment, the upper plate 60 is also configured as a rectangular flat plate in a plan view. However, the shape of the upper plate 60 is not particularly limited. The upper plate 60 is fixed to the base plate 20 so as not to move. The upper plate 60 spreads along a horizontal plane. The upper plate 60 is provided with a plurality of bearings 70. The bearings 70 are provided in a matrix in the front-rear and left-right directions. A plurality of bearing insertion holes 61 into which the bearings 70 are respectively inserted are formed in a matrix on the upper surface of the upper plate 60. The bearing insertion holes 61 penetrate the upper plate 60 in the up-down direction.
図4は、ホルダ80の下部および軸受70の一部破断側面図である。図4に示すように、各軸受70は、ホルダ80が挿入される貫通孔71を備えている。貫通孔71は、平面視において略円形に構成され、軸受70を上下方向に貫通している。回転軸Axは、貫通孔71の中心を通っている。複数の軸受70は、回転軸Ax周りにそれぞれ回転可能なように、複数のホルダ80を支持している。軸受70は、例えば、ブッシュである。ただし、ホルダ80を回転可能に支持する軸受部の構成は、ホルダ80を回転可能に支持できる限りにおいて限定されない。軸受部は、例えば、上部プレート60に形成された貫通孔であってもよい。 Figure 4 is a partially cutaway side view of the lower part of the holder 80 and the bearing 70. As shown in Figure 4, each bearing 70 has a through hole 71 into which the holder 80 is inserted. The through hole 71 is configured to be approximately circular in a plan view and penetrates the bearing 70 in the vertical direction. The rotation axis Ax passes through the center of the through hole 71. The multiple bearings 70 support the multiple holders 80 so that they can each rotate around the rotation axis Ax. The bearings 70 are, for example, bushes. However, the configuration of the bearing part that rotatably supports the holder 80 is not limited as long as it can rotatably support the holder 80. The bearing part may be, for example, a through hole formed in the upper plate 60.
図4に示すように、ホルダ80は、基体としての切削工具5を保持するワークホルダ81と、貫通孔71に挿通された軸部82と、スイングプレート30の接続部33に接続される受力レバー83と、を備えている。軸部82は、軸受70の貫通孔71に対応する断面形状を有し、貫通孔71に挿通されている。軸部82と軸受70とが摺動することにより、ホルダ80は、軸受70の貫通孔71に沿って回転可能である。ワークホルダ81は、軸部82の上部に接続されている。図3に示すように、ワークホルダ81は、上部プレート60の上面よりも上方に突出している。ワークホルダ81は、ここでは、上面が開口した筒状に構成されている。ワークホルダ81の筒の内部には、棒状の切削工具5が挿入される。ただし、ワークホルダ81の形状は、切削工具5の形状に対応していればよく、筒状に限定されるわけではない。切削工具5の刃部5aは、ワークホルダ81よりも上方に突出し、チャンバ101内に露出している。切削工具5がホルダ80に保持された状態では、刃部5aは、前後方向に並ぶ熱フィラメント102の間に位置する。図3に示すように、上下方向に関して、刃部5aは、熱フィラメント102と同等の位置に位置する。 As shown in FIG. 4, the holder 80 includes a work holder 81 that holds the cutting tool 5 as a base, a shaft portion 82 inserted into the through hole 71, and a force receiving lever 83 connected to the connection portion 33 of the swing plate 30. The shaft portion 82 has a cross-sectional shape corresponding to the through hole 71 of the bearing 70 and is inserted into the through hole 71. The shaft portion 82 and the bearing 70 slide against each other, so that the holder 80 can rotate along the through hole 71 of the bearing 70. The work holder 81 is connected to the upper portion of the shaft portion 82. As shown in FIG. 3, the work holder 81 protrudes above the upper surface of the upper plate 60. Here, the work holder 81 is configured in a cylindrical shape with an open upper surface. A rod-shaped cutting tool 5 is inserted inside the cylinder of the work holder 81. However, the shape of the work holder 81 only needs to correspond to the shape of the cutting tool 5, and is not limited to a cylindrical shape. The blade portion 5a of the cutting tool 5 protrudes above the work holder 81 and is exposed inside the chamber 101. When the cutting tool 5 is held by the holder 80, the blade portion 5a is located between the heat filaments 102 arranged in the front-rear direction. As shown in FIG. 3, the blade portion 5a is located at the same position as the heat filaments 102 in the vertical direction.
本実施形態では、ホルダ80は、上部プレート60よりも上方に突出している。しかし、ホルダ80は、上部プレート60の上面から凹むように上部プレート60に埋設されていてもよい。ホルダ80は、少なくとも上部プレート60の上面に露出していればよい。 In this embodiment, the holder 80 protrudes upward from the upper plate 60. However, the holder 80 may be embedded in the upper plate 60 so as to be recessed from the upper surface of the upper plate 60. It is sufficient that the holder 80 is exposed at least from the upper surface of the upper plate 60.
図4に示すように、ホルダ80の受力レバー83は、軸部82の下方に設けられている。受力レバー83は、旋回ピン33aがホルダ80の回転軸Axの周りを旋回する際に旋回ピン33aが当接する部材である。図4に示すように、受力レバー83は、軸部82よりも径方向の外方に突出している。受力レバー83は、ここでは、水平方向に延びる棒状の部材である。ただし、受力レバー83の形状は特に限定されない。受力レバー83は、旋回ピン33aがホルダ80の回転軸Axの周りを旋回しているときに旋回ピン33aに当接するように、旋回ピン33aの旋回軌道よりも径方向外方まで延びている。受力レバー83は、ホルダ80の回転軸Axから水平方向に距離R1以上離れた位置に先端部を有する。 As shown in FIG. 4, the force receiving lever 83 of the holder 80 is provided below the shaft portion 82. The force receiving lever 83 is a member against which the pivot pin 33a abuts when the pivot pin 33a pivots around the rotation axis Ax of the holder 80. As shown in FIG. 4, the force receiving lever 83 protrudes radially outward from the shaft portion 82. Here, the force receiving lever 83 is a rod-shaped member extending horizontally. However, the shape of the force receiving lever 83 is not particularly limited. The force receiving lever 83 extends radially outward from the rotation path of the pivot pin 33a so that the force receiving lever 83 abuts against the pivot pin 33a when the pivot pin 33a pivots around the rotation axis Ax of the holder 80. The force receiving lever 83 has a tip at a position horizontally spaced a distance R1 or more from the rotation axis Ax of the holder 80.
駆動モータ53が駆動され、複数の旋回ピン33aがそれぞれの旋回軸(対応するホルダ80の回転軸Ax)の周りを旋回すると、旋回ピン33aと受力レバー83とが当接する。これにより、旋回ピン33aの旋回力がホルダ80に伝わる。その結果、各ホルダ80は、回転軸Ax周りに自転する。切削工具5は、ホルダ80とともに回転する。 When the drive motor 53 is driven and the multiple pivot pins 33a rotate around their respective pivot axes (the rotation axis Ax of the corresponding holder 80), the pivot pins 33a come into contact with the force-receiving lever 83. This transmits the pivot force of the pivot pins 33a to the holder 80. As a result, each holder 80 rotates around the rotation axis Ax. The cutting tool 5 rotates together with the holder 80.
本実施形態では、複数のホルダ80は、極めてゆっくりした回転速度で回転される。ただし、ホルダ80の回転速度は限定されるわけではない。複数のホルダ80は、成膜中、連続的に回転されてもよい。あるいは、複数のホルダ80は、断続的に(例えば90度ずつ)回転されてもよい。切削工具5がホルダ80とともに自転することにより、切削工具5の周方向の位置による、熱フィラメント102との距離のばらつきが解消される。これにより、各切削工具5の刃部5aに均等にダイヤモンドが成膜される。 In this embodiment, the multiple holders 80 are rotated at an extremely slow rotation speed. However, the rotation speed of the holders 80 is not limited. The multiple holders 80 may be rotated continuously during deposition. Alternatively, the multiple holders 80 may be rotated intermittently (for example, 90 degrees at a time). By rotating the cutting tool 5 together with the holder 80, the variation in the distance from the thermal filament 102 due to the circumferential position of the cutting tool 5 is eliminated. This allows diamond to be deposited evenly on the blade portion 5a of each cutting tool 5.
本実施形態では、各旋回ピン33aは、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、曲がって受力レバー83に当接不能となるように構成されている。駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止される状況は、例えば、ホルダ80と軸受70とが齧ったような状況である。旋回ピン33aは、例えば、力が加わると容易に曲がるように、例えば、一部または全部が細く構成されていてもよい。旋回ピン33aは、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、折れて受力レバー83に当接不能となるように構成されていてもよい。旋回ピン33aは、力が加わると容易に折れるように、例えば、超硬合金やセラミックスのような脆性材料で構成されるか、または脆性処理(例えば、焼き入れ)されていてもよい。 In this embodiment, each of the pivot pins 33a is configured to bend and become unable to abut against the force-receiving lever 83 when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30. The situation in which the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30 is, for example, a situation in which the holder 80 and the bearing 70 are scraped together. The pivot pins 33a may be configured, for example, to be thin in part or in whole so that they bend easily when a force is applied. The pivot pins 33a may be configured to break and become unable to abut against the force-receiving lever 83 when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30. The pivot pins 33a may be configured, for example, of a brittle material such as cemented carbide or ceramics, or may be subjected to a brittle treatment (for example, quenching) so that they break easily when a force is applied.
ただし、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると折れるか、または曲がるのは、受力レバー83であってもよい。受力レバー83は、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、旋回ピン33aに当接不能なように折れるか、または曲がるように構成されていてもよい。 However, it may be the force receiving lever 83 that breaks or bends when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30. The force receiving lever 83 may be configured to break or bend so as not to come into contact with the pivot pin 33a when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30.
[本実施形態の作用効果]
以下に、本実施形態に係る基体回転装置10が奏する作用効果を説明する。本実施形態に係る成膜装置用の基体回転装置10は、成膜対象物である基体(例えば、切削工具5)をそれぞれ保持する複数のホルダ80と、互いに平行な複数の回転軸Ax周りにそれぞれ回転させることが可能なように複数のホルダ80を支持する複数の軸受70と、複数のホルダ80にそれぞれ接続される複数の接続部33を備えたスイングプレート30と、複数の回転軸Axと平行な旋回軸Ax0周りにスイングプレート30を旋回させる駆動部50と、を備えている。駆動部50は、旋回軸Ax0の軸方向視におけるスイングプレート30の向きを維持しながら、スイングプレート30を旋回させる。各接続部33は、駆動部50によってスイングプレート30が旋回されると、各接続部33に対応するホルダ80の回転軸Axの周りを旋回するように配置されている。かかる基体回転装置10によれば、スイングプレート30が旋回軸Ax0の軸方向視における向きを維持しながら旋回することにより、スイングプレート30に設けられた複数の接続部33がそれぞれ、対応するホルダ80の回転軸Axの周りを旋回する。これにより、各接続部33に接続されるとともに軸受70に支持されたホルダ80が自転する。よって、かかる基体回転装置10によれば、1つのスイングプレート30とスイングプレート30を旋回させる駆動部50という簡易な構成で、複数の基体を自転させることが可能である。
[Effects of this embodiment]
The effects of the substrate rotation device 10 according to this embodiment will be described below. The substrate rotation device 10 for a film forming apparatus according to this embodiment includes a plurality of holders 80 each holding a substrate (e.g., a cutting tool 5) that is a film forming target, a plurality of bearings 70 supporting the plurality of holders 80 so that the holders 80 can be rotated about a plurality of rotation axes Ax parallel to each other, a swing plate 30 having a plurality of connection parts 33 connected to the plurality of holders 80, and a drive unit 50 for rotating the swing plate 30 about a rotation axis Ax0 parallel to the plurality of rotation axes Ax. The drive unit 50 rotates the swing plate 30 while maintaining the orientation of the swing plate 30 in the axial view of the rotation axis Ax0. Each connection part 33 is arranged so that when the swing plate 30 is rotated by the drive unit 50, it rotates about the rotation axis Ax of the holder 80 corresponding to each connection part 33. According to the base body rotation device 10, the swing plate 30 rotates while maintaining the orientation of the rotation axis Ax0 as viewed in the axial direction, so that the multiple connection parts 33 provided on the swing plate 30 each rotate around the rotation axis Ax of the corresponding holder 80. As a result, the holder 80 connected to each connection part 33 and supported by the bearing 70 rotates on its axis. Therefore, according to the base body rotation device 10, it is possible to rotate multiple bases on its axis with a simple configuration of one swing plate 30 and a drive part 50 that rotates the swing plate 30.
上記構成は、例えば複数のアクチュエータがそれぞれ1つのホルダを回転させる従来の構成よりも簡易である。上記構成は、また、例えば1つのアクチュエータの駆動力を複数のギア等を介して複数のホルダに伝達する構成と比較しても簡易である。このような従来の構成は、成膜装置100のチャンバ101内の高温(熱フィラメントCVD装置では、基体の温度は600℃以上となることがある)かつ反応性ガス雰囲気の環境では、短期間で故障しやすい。例えば、ギア同士を噛み合わせる構成は、高温環境下では、ギアの熱膨張による寸法変化によってギア同士が齧りやすい。また、反応性ガス雰囲気の環境では、例えば、反応性ガスの反応による生成物が軸受部等に固着し、回転不良を引き起こしやすい。それに対して、本実施形態に係る基体回転装置10の構成は簡易であるため、上記したような環境においても故障しにくい。反応性ガスの生成物は、基体回転装置の構成に関わらず可動部に固着し得るが、基体回転装置の構成が簡易な方が、生成物の固着による故障のおそれは低減される。 The above configuration is simpler than a conventional configuration in which, for example, multiple actuators each rotate one holder. The above configuration is also simpler than a configuration in which, for example, the driving force of one actuator is transmitted to multiple holders via multiple gears or the like. Such a conventional configuration is prone to failure in a short period of time in a high temperature environment in the chamber 101 of the film formation apparatus 100 (in a hot filament CVD apparatus, the temperature of the substrate can reach 600°C or higher) and in a reactive gas atmosphere. For example, a configuration in which gears mesh with each other is prone to the gears grinding against each other due to dimensional changes caused by thermal expansion of the gears in a high temperature environment. In addition, in a reactive gas atmosphere environment, for example, products of the reaction of the reactive gas are likely to adhere to the bearings, etc., causing rotation problems. In contrast, the configuration of the substrate rotation device 10 according to this embodiment is simple, so it is less likely to fail even in the above-mentioned environment. Products of the reactive gas can adhere to the moving parts regardless of the configuration of the substrate rotation device, but a simpler configuration of the substrate rotation device reduces the risk of failure due to adhesion of the products.
さらには、上記構成は、上部プレート60上にホルダ80を密に配置することを可能にする。複数のアクチュエータがそれぞれ1つのホルダを回転させる従来の構成では、アクチュエータがスペースを占めるため、ホルダを密に配置するのに限界がある。1つのアクチュエータの駆動力を複数のギア等を介して複数のホルダに伝達する構成は、ギア等がスペースを占めるため、やはりホルダを密に配置するのに限界がある。それに比べて、本実施形態では、1つのホルダ80の回転に必要なスペースは、ホルダ80の回転軌道(詳しくは、受力レバー83の回転軌道)の内部に収まる。そのため、ホルダ80を密に配置することができる。 Furthermore, the above configuration makes it possible to arrange the holders 80 densely on the upper plate 60. In a conventional configuration in which multiple actuators each rotate one holder, the actuators take up space, so there is a limit to how densely the holders can be arranged. In a configuration in which the driving force of one actuator is transmitted to multiple holders via multiple gears, etc., the gears take up space, so there is also a limit to how densely the holders can be arranged. In contrast, in this embodiment, the space required for rotation of one holder 80 fits within the rotational orbit of the holder 80 (more specifically, the rotational orbit of the force-receiving lever 83). Therefore, the holders 80 can be arranged densely.
1つのスイングプレート30は、複数の接続部33を備え、複数のホルダ80を回転させる。ただし、基体回転装置10は、それぞれ複数のホルダ80を回転させるように構成された複数のスイングプレート30を備えていてもよい。その場合、1つの駆動部50が複数のスイングプレート30を旋回させてもよい。 One swing plate 30 has multiple connection parts 33 and rotates multiple holders 80. However, the base rotation device 10 may have multiple swing plates 30 each configured to rotate multiple holders 80. In that case, one drive unit 50 may rotate multiple swing plates 30.
本実施形態では、駆動部50は、第1駆動部51と、第2駆動部52と、を備えている。第1駆動部51は、スイングプレート30に対して摺動可能に連結された第1連結ピン51bを備え、第1連結ピン51bをホルダ80の回転軸Axと平行な第1旋回軸Ax1周りに旋回させる。第2駆動部52は、スイングプレート30に対して摺動可能に連結された第2連結ピン52bを備え、第2連結ピン52bを、ホルダ80の回転軸Axと平行な第2旋回軸Ax2周りに、第1連結ピン51bの旋回と同期させて旋回させる。かかる基体回転装置10によれば、いずれもスイングプレート30に摺動可能に連結された第1連結ピン51bと第2連結ピン52bとが、ホルダ80の回転軸Axに平行な各々の旋回軸Ax1、Ax2周りに同期して旋回する。これにより、旋回軸Ax0の軸方向視におけるスイングプレート30の向きを変化させることなく、スイングプレート30を旋回させることができる。なお、駆動部50は、第1連結ピン51bおよび第2連結ピン52bと同期して旋回する他の連結部材を備えた他の駆動部をさらに備えていてもよい。 In this embodiment, the drive unit 50 includes a first drive unit 51 and a second drive unit 52. The first drive unit 51 includes a first connecting pin 51b slidably connected to the swing plate 30, and rotates the first connecting pin 51b around a first rotation axis Ax1 parallel to the rotation axis Ax of the holder 80. The second drive unit 52 includes a second connecting pin 52b slidably connected to the swing plate 30, and rotates the second connecting pin 52b around a second rotation axis Ax2 parallel to the rotation axis Ax of the holder 80 in synchronization with the rotation of the first connecting pin 51b. According to the base rotation device 10, the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b, both of which are slidably connected to the swing plate 30, rotate in synchronization with each other around the respective rotation axes Ax1 and Ax2 parallel to the rotation axis Ax of the holder 80. This allows the swing plate 30 to rotate without changing the orientation of the swing plate 30 when viewed in the axial direction of the rotation axis Ax0. The drive unit 50 may further include another drive unit that includes another connecting member that rotates in synchronization with the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b.
さらに本実施形態では、駆動部50は、主軸53aを備えた駆動モータ53と、駆動モータ53の主軸53aと第1駆動部51および第2駆動部52とを接続する伝動機構54と、を備えている。伝動機構54は、第1駆動部51および第2駆動部52に主軸53aの回転を伝達する。かかる基体回転装置10によれば、第1駆動部51および第2駆動部52は、伝動機構54を介して1つの駆動モータ53により駆動される。そのため、第1連結ピン51bと第2連結ピン52bとを同期して旋回させることが容易にできる。 Furthermore, in this embodiment, the drive unit 50 includes a drive motor 53 having a main shaft 53a, and a transmission mechanism 54 that connects the main shaft 53a of the drive motor 53 to the first drive unit 51 and the second drive unit 52. The transmission mechanism 54 transmits the rotation of the main shaft 53a to the first drive unit 51 and the second drive unit 52. According to the base rotation device 10, the first drive unit 51 and the second drive unit 52 are driven by one drive motor 53 via the transmission mechanism 54. Therefore, the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b can be easily rotated in synchronization.
なお、第1連結ピン51bと第2連結ピン52bとは、別々のアクチュエータにより、同期して旋回されてもよい。または、第1連結ピン51bと第2連結ピン52bとのうちの一方だけがアクチュエータにより旋回され、他方は従動的に旋回するだけでもよい。 The first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b may be rotated in synchronization by separate actuators. Alternatively, only one of the first connecting pin 51b and the second connecting pin 52b may be rotated by an actuator, and the other may be rotated passively.
本実施形態では、スイングプレート30は、水平面に沿って広がる板状に構成されており、基体回転装置10は、スイングプレート30の下方に設けられスイングプレート30を支持する複数の支持部40を備えている。複数の支持部40は、スイングプレート30の下面に当接するとともにスイングプレート30を支持する回転自在なボール41をそれぞれ備えている。かかる基体回転装置10によれば、複数の支持部40の各ボール41が回転自在であるため、ボール41により、スイングプレート30を旋回可能に支持することができる。かかる構成はシンプルであるため、チャンバ101内の高温のガス雰囲気でも故障しにくい。さらに、かかるシンプルな構成は、基体回転装置10のコスト削減にも寄与する。 In this embodiment, the swing plate 30 is configured as a plate extending along a horizontal plane, and the base rotation device 10 includes a plurality of support parts 40 that are provided below the swing plate 30 and support the swing plate 30. Each of the support parts 40 includes a rotatable ball 41 that abuts against the lower surface of the swing plate 30 and supports the swing plate 30. According to the base rotation device 10, since each ball 41 of the plurality of support parts 40 is rotatable, the swing plate 30 can be supported so as to be rotatable by the ball 41. Since this configuration is simple, it is unlikely to break down even in the high-temperature gas atmosphere in the chamber 101. Furthermore, this simple configuration also contributes to reducing the cost of the base rotation device 10.
本実施形態では、各接続部33は、旋回ピン33aを備え、各ホルダ80は、旋回ピン33aがホルダ80の回転軸Axの周りを旋回する際に旋回ピン33aが当接する受力レバー83を備えている。かかる基体回転装置10によれば、旋回ピン33aが受力レバー83に当接し、受力レバー83を押すというシンプルな構成によってホルダ80が回転する。そのため、例えば、ギアによる接続などと比べて、接続部33とホルダ80とが齧るおそれを低減できる。さらに、本実施形態では、旋回ピン33aと受力レバー83とは、離間可能に接続されている。そのため、接続部33とホルダ80とが齧るおそれをさらに低減できる。チャンバ101内の高温のガス雰囲気は、可動部が齧るおそれの大きい環境である。旋回ピン33aと受力レバー83とが当接することによって駆動部50の力をホルダ80に伝達する構成は、特にこのような環境で効果を発揮する。 In this embodiment, each connection part 33 has a pivot pin 33a, and each holder 80 has a force-receiving lever 83 against which the pivot pin 33a abuts when the pivot pin 33a rotates around the rotation axis Ax of the holder 80. According to the base rotation device 10, the holder 80 rotates by a simple configuration in which the pivot pin 33a abuts against the force-receiving lever 83 and pushes the force-receiving lever 83. Therefore, compared to, for example, a connection by a gear, the risk of the connection part 33 and the holder 80 being galled can be reduced. Furthermore, in this embodiment, the pivot pin 33a and the force-receiving lever 83 are connected so as to be separable. Therefore, the risk of the connection part 33 and the holder 80 being galled can be further reduced. The high-temperature gas atmosphere in the chamber 101 is an environment in which the movable part is likely to be galled. The configuration in which the force of the drive unit 50 is transmitted to the holder 80 by the pivot pin 33a coming into contact with the force-receiving lever 83 is particularly effective in such an environment.
本実施形態では、旋回ピン33aは、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、受力レバー83に当接不能なように曲がるように構成されている。旋回ピン33aは、受力レバー83に当接不能なように折れてもよい。かかる構成によれば、駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、旋回ピン33aが受力レバー83に当接しなくなる。つまり、回転が阻害されているホルダ80とスイングプレート30との接続が切れる。そのため、何らかの理由でホルダ80の回転が阻害されても、当該ホルダ80の回転抵抗がスイングプレート30の旋回および他のホルダ80の回転に影響しにくい。駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されても旋回ピン33aが受力レバー83に当接し続ける構成であれば、1つのホルダ80の回転不良によって全てのホルダ80の自転が停止してしまう。旋回ピン33aが折れるか、または曲がる構成は、このような状況を防止するためのものである。また、このように旋回ピン33aが変形する(曲がる、または折れる)構成によれば、成膜後に旋回ピン33aを点検することにより、変形した旋回ピン33aに対応する基体が少なくとも途中からは自転していなかったことが容易に分かる。そのため、当該基体を成膜不良として除くことが確実にできる。 In this embodiment, the pivot pin 33a is configured to bend so as not to abut against the force receiving lever 83 when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30. The pivot pin 33a may be bent so as not to abut against the force receiving lever 83. With this configuration, when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30, the pivot pin 33a does not abut against the force receiving lever 83. In other words, the connection between the holder 80 whose rotation is inhibited and the swing plate 30 is cut off. Therefore, even if the rotation of the holder 80 is inhibited for some reason, the rotation resistance of the holder 80 is unlikely to affect the rotation of the swing plate 30 and the rotation of other holders 80. If the pivot pin 33a continues to abut against the force-receiving lever 83 even when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30, the rotation of all the holders 80 will stop due to a rotation failure of one holder 80. The structure in which the pivot pin 33a breaks or bends is intended to prevent such a situation. Also, with such a structure in which the pivot pin 33a is deformed (bends or breaks), by inspecting the pivot pin 33a after film formation, it is easy to see that the substrate corresponding to the deformed pivot pin 33a has not rotated at least partway through. Therefore, it is possible to reliably exclude the substrate as a substrate with a film formation failure.
駆動部50がスイングプレート30を旋回させている状態でホルダ80の回転が停止されると、受力レバー83が旋回ピン33aに当接不能なように折れるか、または曲がる構成の場合も同様である。 The same applies when the rotation of the holder 80 is stopped while the drive unit 50 is rotating the swing plate 30, and the force receiving lever 83 is configured to break or bend so that it cannot abut against the pivot pin 33a.
本実施形態に係る基体回転装置10は、複数の軸受70が設けられるとともに、水平面に沿って広がる上部プレート60を備えている。ホルダ80は、上部プレート60の上面に露出している。スイングプレート30および駆動部50は、上部プレート60よりも下方に配置されている。かかる基体回転装置10によれば、複数のホルダ80が露出した上部プレート60の上面側ではなく、上部プレート60の下方側にスイングプレート30および駆動部50が配置されている。そのため、多数のホルダ80を上部プレート60に設けることができる。また、上部プレート60により、上部プレート60よりも上方に生成される高温のガス雰囲気からスイングプレート30および駆動部50を守ることができる。 The base body rotation device 10 according to this embodiment is provided with a plurality of bearings 70 and an upper plate 60 extending along a horizontal plane. The holder 80 is exposed on the upper surface of the upper plate 60. The swing plate 30 and the drive unit 50 are disposed below the upper plate 60. According to this base body rotation device 10, the swing plate 30 and the drive unit 50 are disposed below the upper plate 60, not on the upper surface side of the upper plate 60 where the plurality of holders 80 are exposed. Therefore, a large number of holders 80 can be provided on the upper plate 60. In addition, the upper plate 60 can protect the swing plate 30 and the drive unit 50 from the high-temperature gas atmosphere generated above the upper plate 60.
[他の実施形態]
以上、好適な一実施形態について説明した。しかし、上記実施形態は一例に過ぎず、他にも様々な実施形態が可能である。例えば、上記した実施形態では、スイングプレート30は、ホルダ80の下方に設けられていた。しかし、基体を保持する保持部材と旋回体との位置関係は、これに限定されない。例えば、旋回体は、保持部材の上方に設けられていてもよい。複数の保持部材は、例えば、上下方向に並ぶように設けられていてもよく、旋回体は、複数の保持部材の側方に設けられていてもよい。
[Other embodiments]
A preferred embodiment has been described above. However, the above embodiment is merely an example, and various other embodiments are possible. For example, in the above embodiment, the swing plate 30 is provided below the holder 80. However, the positional relationship between the holding member that holds the base body and the rotating body is not limited to this. For example, the rotating body may be provided above the holding member. For example, the multiple holding members may be provided so as to be aligned in the vertical direction, and the rotating body may be provided to the side of the multiple holding members.
旋回体の旋回は、2つ以上の連結ピンの同期した旋回によるものには限定されない。例えば、旋回体は、旋回する1つの連結部材に摺動可能に連結され、接続部と保持部材とが位置関係を変更不能に接続されることにより、旋回軸の軸方向視における向きを維持してもよい。かかる構成によっても、旋回体の向きを維持しながら旋回体を旋回させることができる。旋回体を支持する支持部は、ボールを備えたものには限定されない。支持部は、例えば、先端部が曲面に形成された部材であってもよい。駆動部によって旋回体が支持可能であれば、支持部は設けられなくてもよい。 The rotation of the rotating body is not limited to being caused by the synchronous rotation of two or more connecting pins. For example, the rotating body may be slidably connected to one rotating connecting member, and the connection part and the holding member may be connected so that the positional relationship cannot be changed, thereby maintaining the orientation of the rotating shaft as viewed in the axial direction. With such a configuration, the rotating body can be rotated while maintaining its orientation. The support part that supports the rotating body is not limited to one equipped with a ball. The support part may be, for example, a member whose tip is formed into a curved surface. If the rotating body can be supported by the drive part, a support part may not be provided.
接続部は、旋回ピンを備えなくてもよい。例えば、接続部は、受力レバーが挿通される凹部を備えていてもよい。接続部は、保持部材と離れることができなくてもよい。旋回ピンは、ホルダの回転軸と平行な方向ではなく、回転軸と交差する方向に延びていてもよい。例えば、旋回ピンと当接する保持部材の受力部は、保持部材の径方向に延びる旋回ピンが挿通される凹部であってもよい。 The connection part may not include a pivot pin. For example, the connection part may include a recess through which the force-receiving lever is inserted. The connection part may not be able to separate from the holding member. The pivot pin may extend in a direction intersecting the rotation axis of the holder, rather than in a direction parallel to the rotation axis. For example, the force-receiving part of the holding member that abuts against the pivot pin may be a recess through which the pivot pin extending radially of the holding member is inserted.
基体回転装置の一部または全部は、成膜装置のチャンバ内から取り出すことができてもよい。上記した実施形態の符号を使用して説明すると、例えば、1つの好適な例では、成膜装置100のチャンバ101内には、基体回転装置10の駆動モータ53および主動ギア54a以外の部材(以下、上部機構とも呼ぶ)を前後方向にスライド可能に支持するレールが設けられていてもよい。上部機構は、基体回転装置10のうち、ベースプレート20によって直接間接に支持された部位である。かかる構成では、レールに沿って上部機構を容易にチャンバ101内に出し入れすることができる。上部機構と駆動モータ53とを接続する際には、主動ギア54aと第1従動ギア51aとが当接するまで上部機構を押し込むだけで、上部機構と駆動モータ53とを接続できる。かかる構成によれば、上部機構をチャンバ101の外部に引き出した状態または取り出した状態で、基体の装着や上部機構のクリーニングを行うことができる。そのため、これらの作業が容易である。また、上記したように、上部機構と駆動モータ53とを接続または分離する作業も容易である。 A part or all of the substrate rotation device may be removable from the chamber of the film formation device. Using the symbols of the above-mentioned embodiment, for example, in one preferred example, a rail may be provided in the chamber 101 of the film formation device 100 to support members (hereinafter also referred to as the upper mechanism) other than the drive motor 53 and the main gear 54a of the substrate rotation device 10 so that they can slide forward and backward. The upper mechanism is a part of the substrate rotation device 10 that is directly or indirectly supported by the base plate 20. In this configuration, the upper mechanism can be easily inserted and removed from the chamber 101 along the rail. When connecting the upper mechanism and the drive motor 53, the upper mechanism and the drive motor 53 can be connected by simply pushing the upper mechanism until the main gear 54a and the first driven gear 51a come into contact. According to this configuration, the substrate can be attached and the upper mechanism can be cleaned with the upper mechanism pulled out or removed from the chamber 101. Therefore, these operations are easy. Also, as mentioned above, the upper mechanism and the drive motor 53 can be easily connected or disconnected.
成膜装置の成膜方式、構成などは特に限定されない。成膜する材料もダイヤモンドには限定されない。基体回転装置における保持部材の配置はマトリクス状には限定されず、任意の配置をとることができる。 There are no particular limitations on the deposition method or configuration of the deposition device. The material used for deposition is not limited to diamond. The arrangement of the holding members in the substrate rotation device is not limited to a matrix, and can be any arrangement.
5 切削工具(基体)
10 基体回転装置
30 スイングプレート(旋回体)
33 接続部
33a 旋回ピン(ピン)
40 支持部
41 ボール
50 駆動部
51 第1駆動部
51b 第1連結ピン(第1連結部材)
52 第2駆動部
52b 第2連結ピン(第2連結部材)
53 駆動モータ(アクチュエータ)
53a 主軸
54 伝動機構
60 上部プレート(プレート)
70 軸受(軸受部)
80 ホルダ(保持部材)
83 受力レバー(受力部)
100 成膜装置
101 チャンバ
102 熱フィラメント
Ax ホルダの回転軸(旋回ピンの旋回軸)
Ax0 スイングプレートの旋回軸
Ax1 第1旋回軸
Ax2 第2旋回軸
5 Cutting tool (base)
10 Base body rotating device 30 Swing plate (rotating body)
33 Connection portion 33a Swivel pin (pin)
40 Support portion 41 Ball 50 Drive portion 51 First drive portion 51b First connecting pin (first connecting member)
52 Second drive portion 52b Second connecting pin (second connecting member)
53 Drive motor (actuator)
53a Main shaft 54 Transmission mechanism 60 Upper plate (plate)
70 Bearing (bearing part)
80 Holder (holding member)
83 Force receiving lever (force receiving part)
100 Film forming apparatus 101 Chamber 102 Hot filament Ax Rotation axis of holder (rotation axis of pivot pin)
Ax0: Swing plate pivot axis Ax1: First pivot axis Ax2: Second pivot axis
Claims (8)
互いに平行な複数の回転軸周りにそれぞれ回転させることが可能なように、前記複数の保持部材を支持する複数の軸受部と、
前記複数の保持部材にそれぞれ接続される複数の接続部を備えた旋回体と、
前記複数の回転軸と平行な旋回軸周りに前記旋回体を旋回させる駆動部と、を備え、
前記駆動部は、前記旋回軸の軸方向視における前記旋回体の向きを維持しながら前記旋回体を旋回させるように構成され、
前記各接続部は、前記駆動部によって前記旋回体が旋回されると、前記各接続部に対応する前記保持部材の回転軸の周りを旋回するように配置されている、
成膜装置用の基体回転装置。 A plurality of holding members each holding a substrate which is an object to be film-formed;
a plurality of bearings supporting the plurality of holding members so as to be rotatable about a plurality of rotation axes parallel to each other;
A rotating body including a plurality of connection portions respectively connected to the plurality of holding members;
a drive unit that rotates the rotating body around a rotation axis parallel to the plurality of rotation axes,
The drive unit is configured to rotate the rotating body while maintaining an orientation of the rotating body when viewed in the axial direction of the rotating shaft,
Each of the connection parts is arranged to rotate around a rotation axis of the holding member corresponding to each of the connection parts when the rotating body is rotated by the drive part.
Substrate rotation device for film formation equipment.
前記旋回体に対して摺動可能に連結された第1連結部材を備え、前記第1連結部材を前記複数の回転軸に平行な第1旋回軸周りに旋回させる第1駆動部と、
前記旋回体に対して摺動可能に連結された第2連結部材を備え、前記第2連結部材を、前記複数の回転軸と平行な第2旋回軸周りに、前記第1連結部材の旋回と同期させて旋回させる第2駆動部と、を備えている、
請求項1に記載の基体回転装置。 The drive unit is
a first drive unit including a first connecting member slidably connected to the rotating body and configured to rotate the first connecting member about a first rotation axis parallel to the plurality of rotation axes;
a second connecting member slidably connected to the rotating body, and a second drive unit configured to rotate the second connecting member around a second rotation axis parallel to the multiple rotation axes in synchronization with the rotation of the first connecting member,
2. The substrate rotating device according to claim 1.
回転する主軸を備えたアクチュエータと、
前記アクチュエータの前記主軸と前記第1駆動部および前記第2駆動部とを接続し、前記第1駆動部および前記第2駆動部に前記主軸の回転を伝達する伝動機構と、を備えている、
請求項2に記載の基体回転装置。 The drive unit is
An actuator having a rotating main shaft;
a transmission mechanism that connects the main shaft of the actuator to the first drive unit and the second drive unit and transmits rotation of the main shaft to the first drive unit and the second drive unit,
3. The substrate rotating device according to claim 2.
前記旋回体の下方に設けられ、前記旋回体を支持する複数の支持部をさらに備え、
前記複数の支持部は、前記旋回体の下面に当接するとともに前記旋回体を支持する回転自在なボールをそれぞれ備えている、
請求項1~3のいずれか一つに記載の基体回転装置。 The rotating body is configured in a plate shape extending along a horizontal plane,
Further comprising a plurality of support parts provided below the rotating body and supporting the rotating body,
The plurality of support parts each include a rotatable ball that contacts the lower surface of the rotating body and supports the rotating body.
The substrate rotating device according to any one of claims 1 to 3.
前記各保持部材は、前記ピンが前記回転軸の周りを旋回する際に前記ピンが当接する受力部を備えている、
請求項1~4のいずれか一つに記載の基体回転装置。 Each of the connections comprises a pin;
Each of the holding members includes a force receiving portion against which the pin abuts when the pin rotates around the rotation axis.
The substrate rotating device according to any one of claims 1 to 4.
請求項5に記載の基体回転装置。 The pin is configured to break or bend so as not to be able to contact the force receiving portion when the rotation of the holding member is stopped while the driving portion is rotating the rotating body.
6. The substrate rotating device according to claim 5.
請求項5に記載の基体回転装置。 The force receiving portion is configured to break or bend so as not to be able to contact the pin when the rotation of the holding member is stopped while the drive portion is rotating the rotating body.
6. The substrate rotating device according to claim 5.
前記各保持部材は、前記プレートの上面に露出しており、
前記旋回体および前記駆動部は、前記プレートよりも下方に配置されている、
請求項1~7のいずれか一つに記載の基体回転装置。 The bearing portion is provided, and the bearing portion further includes a plate extending along a horizontal plane,
Each of the holding members is exposed on an upper surface of the plate,
The rotating body and the drive unit are disposed below the plate.
The substrate rotating device according to any one of claims 1 to 7.
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