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JP7711966B2 - Acoustic wave device and method for manufacturing same - Google Patents
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JP7711966B2 - Acoustic wave device and method for manufacturing same - Google Patents

Acoustic wave device and method for manufacturing same

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JP7711966B2 JP2023016447A JP2023016447A JP7711966B2 JP 7711966 B2 JP7711966 B2 JP 7711966B2 JP 2023016447 A JP2023016447 A JP 2023016447A JP 2023016447 A JP2023016447 A JP 2023016447A JP 7711966 B2 JP7711966 B2 JP 7711966B2
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Description

本開示は、弾性波デバイスおよびその製造方法に関する。詳しくはSH波を用いる弾性表面波デバイスやBAWを用いるFBARであり、例えば、デュプレクサまたはマルチプレクサに関する。 This disclosure relates to an acoustic wave device and a manufacturing method thereof. More specifically, it relates to a surface acoustic wave device using SH waves and an FBAR using BAW, for example, a duplexer or multiplexer.

スマートフォンを代表とする移動通信端末の高周波通信用システムにおいて、通信に使用する周波数帯以外の不要な信号を除去するために、高周波フィルタ等が用いられている。 In high-frequency communication systems for mobile communication terminals, such as smartphones, high-frequency filters are used to remove unnecessary signals outside the frequency band used for communication.

高周波フィルタ等には、弾性表面波(SAW:Surface acoustic wave)素子等を有する弾性波デバイスが用いられている。SAW素子は、圧電基板上に一対の櫛型電極を有するIDT(Interdigital Transducer)を形成した素子である。 High frequency filters and the like use acoustic wave devices that have surface acoustic wave (SAW) elements. A SAW element is an element in which an IDT (Interdigital Transducer) with a pair of comb-shaped electrodes is formed on a piezoelectric substrate.

例えば、弾性表面波デバイスは、以下のように製造される。まず、弾性波を伝搬させる圧電基板とこの圧電基板よりも小さな熱膨張係数を持つ支持基板とを接合した多層膜基板を作成する。次に、その多層膜基板にフォトリソグラフィ技術を用いて多数のIDT電極を形成し、その後、ダイシングにより所定のサイズに切り出して弾性表面波デバイスとする。この製造方法では、多層膜基板を利用することにより、温度が変化したときの圧電基板の大きさの変化が支持基板により抑制されるため、弾性波デバイスとしての周波数特性が安定化する。 For example, a surface acoustic wave device is manufactured as follows. First, a multilayer film substrate is created by bonding a piezoelectric substrate that propagates acoustic waves to a support substrate that has a smaller thermal expansion coefficient than the piezoelectric substrate. Next, multiple IDT electrodes are formed on the multilayer film substrate using photolithography technology, and then the substrate is cut to a specified size by dicing to create a surface acoustic wave device. In this manufacturing method, by using a multilayer film substrate, changes in size of the piezoelectric substrate when the temperature changes are suppressed by the support substrate, stabilizing the frequency characteristics of the acoustic wave device.

特許文献1には、弾性波デバイスに関する技術の一例が開示されている。 Patent document 1 discloses an example of technology related to acoustic wave devices.

特開2019-54354Patent Publication No. 2019-54354

本開示が解決しようとする主たる課題について説明する。 The main problem that this disclosure aims to solve is explained below.

バンドパスフィルタやデュプレクサなどの弾性波デバイスにおいては、SAWフィルタなどのデバイスチップが、配線基板にフリップチップボンディングされている。 In acoustic wave devices such as bandpass filters and duplexers, device chips such as SAW filters are flip-chip bonded to wiring substrates.

SAWフィルタを構成する共振器が機械的振動をするための中空領域を形成して、合成樹脂や金属などにより封止する。封止部と配線基板が剥離することを防止するため、封止部と配線基板の密着性は高いことが望まれる。また、封止された中空領域への水分の浸入を抑制するため、封止部と配線基板の密着性が高いことが望まれる。 A hollow region is formed in which the resonators that make up the SAW filter can mechanically vibrate, and is then sealed with synthetic resin, metal, or the like. To prevent the sealing portion from peeling off from the wiring board, it is desirable for there to be strong adhesion between the sealing portion and the wiring board. It is also desirable for there to be strong adhesion between the sealing portion and the wiring board to prevent moisture from penetrating into the sealed hollow region.

また、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンは、外部からの電磁波により干渉を受けることがある。したがって、シールド効果が高い構造が望まれる。 In addition, the metal pattern through which electrical signals in the desired frequency band pass can be subject to interference from external electromagnetic waves. Therefore, a structure with a high shielding effect is desirable.

また、弾性波デバイスは、より小型化が要請される。配線基板のパッドのシールド効果を高めるため、周囲をメタルパターンで囲うと、配線基板が大型化してしまう。また、配線基板の外延部のメタルパターンが多すぎると、封止部と配線基板の密着性が低下し、配線基板と封止部の剥離につながる恐れがある。 In addition, there is a demand for acoustic wave devices to be made smaller. If the pads on the wiring board are surrounded by a metal pattern to improve the shielding effect, the wiring board will end up becoming larger. Furthermore, if there are too many metal patterns on the outer periphery of the wiring board, the adhesion between the sealing part and the wiring board will decrease, which may lead to peeling between the wiring board and the sealing part.

本開示は、上記課題に鑑みなされたものであり、小型で、信号ラインのシールド効果およびグランド電極をより強化し、かつ、封止部と配線基板の密着性に優れた特性の弾性波デバイスを提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in consideration of the above problems, and aims to provide an acoustic wave device that is small, has a stronger shielding effect for signal lines and a stronger ground electrode, and has excellent adhesion between the sealing portion and the wiring board.

本開示にかかる弾性波デバイスは、
実装面を有する配線基板と、
前記実装面に形成されたグランド電極、アンテナ用パッド、送信用パッド、受信用パッド、前記アンテナ用パッドを囲うアンテナ用メタルリング、前記送信用パッドを囲う送信用メタルリングおよび前記受信用パッドを囲う受信用メタルリングと、
前記配線基板上に実装されるデバイスチップと
を備え、
前記アンテナ用メタルリング、前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングは、前記グランド電極と接続しており、
前記配線基板の外延から前記グランド電極までの平均距離は、前記配線基板の外延から前記アンテナ用メタルリング、前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングまでの平均距離よりも長い、弾性波デバイスとした。
The acoustic wave device according to the present disclosure comprises:
A wiring board having a mounting surface;
a ground electrode, an antenna pad, a transmission pad, a reception pad, an antenna metal ring surrounding the antenna pad, a transmission metal ring surrounding the transmission pad, and a reception metal ring surrounding the reception pad, which are formed on the mounting surface;
a device chip mounted on the wiring substrate;
the antenna metal ring, the transmitting metal ring, and the receiving metal ring are connected to the ground electrode,
The acoustic wave device is such that the average distance from the outer periphery of the wiring board to the ground electrode is longer than the average distance from the outer periphery of the wiring board to the antenna metal ring, the transmitting metal ring, and the receiving metal ring.

前記実装面は、インダクタ用パッドと前記インダクタ用パッドを囲うインダクタ用メタルリングを備えることが、本開示の一形態とされる。 In one aspect of the present disclosure, the mounting surface includes an inductor pad and an inductor metal ring surrounding the inductor pad.

前記デバイスチップを前記配線基板とともに封止する封止部を備え、
前記封止部は、前記アンテナ用パッドと前記アンテナ用メタルリングの間における絶縁領域に接合していることが、本開示の一形態とされる。
a sealing portion that seals the device chip together with the wiring substrate,
In one aspect of the present disclosure, the sealing portion is joined to an insulating region between the antenna pad and the antenna metal ring.

前記デバイスチップを前記配線基板とともに封止する封止部を備え、
前記封止部は、前記送信用パッドと前記送信用メタルリングの間における絶縁領域および前記受信用パッドと前記受信用メタルリングの間における絶縁領域にそれぞれ接合していることが、本開示の一形態とされる。
a sealing portion that seals the device chip together with the wiring substrate,
In one embodiment of the present disclosure, the sealing portion is bonded to an insulating region between the transmitting pad and the transmitting metal ring, and to an insulating region between the receiving pad and the receiving metal ring.

前記配線基板の辺の外延から前記送信用メタルリングまでの最短距離は、前記配線基板の角の外延から前記送信用メタルリングまでの最短距離よりも短いことが、本発明の一形態とされる。 It is one aspect of the present invention that the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the transmitting metal ring is shorter than the shortest distance from the outer edge of the corner of the wiring board to the transmitting metal ring.

前記配線基板の辺の外延から前記受信用メタルリングまでの最短距離は、前記配線基板の角の外延から前記受信用メタルリングまでの最短距離よりも短いことが、本発明の一形態とされる。 It is one aspect of the present invention that the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the receiving metal ring is shorter than the shortest distance from the outer edge of the corner of the wiring board to the receiving metal ring.

前記アンテナ用メタルリングの厚みは、10μm~35μmであることが、本発明の一形態とされる。 In one aspect of the present invention, the thickness of the antenna metal ring is 10 μm to 35 μm.

前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングの厚みは、10μm~35μmであることが、本発明の一形態とされる。 In one embodiment of the present invention, the thickness of the transmitting metal ring and the receiving metal ring is 10 μm to 35 μm.

前記デバイスチップは、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶からなる圧電基板を含むことが、本発明の一形態とされる。 In one aspect of the present invention, the device chip includes a piezoelectric substrate made of lithium tantalate, lithium niobate, or quartz crystal.

前記デバイスチップは、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、窒化珪素、アルミナイトライド、酸化アルミニウム、炭化珪素、酸窒化珪素、ダイヤモンド、水晶またはガラスからなることが、本発明の一形態とされる。 In one aspect of the present invention, the device chip is made of sapphire, silicon, alumina, spinel, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, silicon carbide, silicon oxynitride, diamond, quartz, or glass.

前記弾性波デバイスを備えるモジュールが、本発明の一形態とされる。 A module including the above-described acoustic wave device is one aspect of the present invention.

本開示によれば、より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを提供できる。 The present disclosure provides an acoustic wave device with excellent characteristics, including better heat dissipation, excellent adhesion between the sealing portion and the wiring substrate, and reduced coupling between a metal pattern through which an electrical signal of a desired frequency band passes and a metal pattern through which an electrical signal of the desired frequency band does not pass.

図1は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of an acoustic wave device 1 according to a first embodiment. 図2は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1の配線基板3の実装面の概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a mounting surface of a wiring board 3 of the acoustic wave device 1 according to the first embodiment. 図3は、実施の形態1にかかる弾性波デバイスの弾性波素子50の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an acoustic wave element 50 of the acoustic wave device according to the first embodiment. 図4は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1が適用されるモジュールの縦断面図である。FIG. 4 is a vertical cross-sectional view of a module to which the acoustic wave device 1 according to the first embodiment is applied.

実施の形態について添付の図面に従って説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は適宜に簡略化ないし省略される。 The embodiment will be described with reference to the attached drawings. In each drawing, the same or corresponding parts are given the same reference numerals. Duplicate explanations of the parts will be appropriately simplified or omitted.

実施の形態1.
図1は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1を示す断面図である。
Embodiment 1.
FIG. 1 is a cross-sectional view of an acoustic wave device 1 according to a first embodiment.

図1に示すように、弾性波デバイス1は、配線基板3、外部接続端子31、デバイスチップ5、バンプ15および封止部17を備える。 As shown in FIG. 1, the acoustic wave device 1 includes a wiring substrate 3, an external connection terminal 31, a device chip 5, bumps 15, and a sealing portion 17.

例えば、配線基板3は、樹脂からなる多層基板である。例えば、配線基板3は、複数の誘電体層からなる低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics:LTCC)多層基板である。 For example, the wiring board 3 is a multi-layer board made of resin. For example, the wiring board 3 is a low temperature co-fired ceramics (LTCC) multi-layer board made of multiple dielectric layers.

外部接続端子31は、配線基板3の実装面とは反対の主面に複数形成される。 Multiple external connection terminals 31 are formed on the main surface opposite the mounting surface of the wiring board 3.

配線基板3の実装面上には、グランド電極20、送信用パッド22、受信用パッド23、送信用パッド22を囲う送信用メタルリング25、受信用パッド23を囲う受信用メタルリング26が形成されている。 On the mounting surface of the wiring board 3, a ground electrode 20, a transmitting pad 22, a receiving pad 23, a transmitting metal ring 25 surrounding the transmitting pad 22, and a receiving metal ring 26 surrounding the receiving pad 23 are formed.

バンプ15は、電極パッド9のそれぞれの上面に形成される。例えば、バンプ15は、金バンプである。例えば、バンプ15の高さは、10μmから50μmである。 The bumps 15 are formed on the upper surface of each of the electrode pads 9. For example, the bumps 15 are gold bumps. For example, the height of the bumps 15 is 10 μm to 50 μm.

配線基板3とデバイスチップ5の間は、空隙16が形成されている。 A gap 16 is formed between the wiring substrate 3 and the device chip 5.

デバイスチップ5は、バンプ15を介して、配線基板3にフリップチップボンディングにより実装される。デバイスチップ5は、複数のバンプ15を介して複数のパッドと電気的に接続される。 The device chip 5 is mounted on the wiring substrate 3 by flip-chip bonding via the bumps 15. The device chip 5 is electrically connected to multiple pads via multiple bumps 15.

デバイスチップ5は、弾性波素子50が形成される基板である。例えば、デバイスチップ5の主面において、複数の弾性波素子50を含む、送信用フィルタと受信用フィルタとが形成される。 The device chip 5 is a substrate on which the acoustic wave elements 50 are formed. For example, a transmission filter and a reception filter including a plurality of acoustic wave elements 50 are formed on the main surface of the device chip 5.

送信用フィルタは、所望の周波数帯域の電気信号が通過し得るように形成される。例えば、送信用フィルタは、複数の直列共振器と複数の並列共振器からなるラダー型フィルタである。 The transmit filter is formed so that electrical signals in the desired frequency band can pass through. For example, the transmit filter is a ladder-type filter consisting of multiple series resonators and multiple parallel resonators.

受信用フィルタは、所望の周波数帯域の電気信号が通過し得るように形成される。例えば、受信用フィルタは、ラダー型フィルタである。 The receiving filter is formed so that electrical signals in the desired frequency band can pass through. For example, the receiving filter is a ladder filter.

デバイスチップ5は、圧電基板11、支持基板13を備える。圧電基板11は、例えば、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶などの圧電単結晶で形成された基板である。別の例では、圧電基板11は、圧電セラミックスで形成された基板である。 The device chip 5 includes a piezoelectric substrate 11 and a support substrate 13. The piezoelectric substrate 11 is, for example, a substrate formed of a piezoelectric single crystal such as lithium tantalate, lithium niobate, or quartz. In another example, the piezoelectric substrate 11 is a substrate formed of a piezoelectric ceramic.

圧電基板11の厚みは、例えば、0.3μmから5μmとすることができる。 The thickness of the piezoelectric substrate 11 can be, for example, 0.3 μm to 5 μm.

支持基板13は、例えば、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、窒化珪素、アルミナイトライド、酸化アルミニウム、炭化珪素、酸窒化珪素、ダイヤモンド、水晶、ガラスなどで形成することができる。支持基板13は、熱膨張係数が小さいほどよい。弾性波デバイス1の温度特性が向上するからである。 The support substrate 13 can be made of, for example, sapphire, silicon, alumina, spinel, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, silicon carbide, silicon oxynitride, diamond, quartz, glass, etc. The smaller the thermal expansion coefficient of the support substrate 13, the better. This is because the temperature characteristics of the acoustic wave device 1 are improved.

支持基板13の厚みは、例えば、50μmから200μmとすることができる。 The thickness of the support substrate 13 can be, for example, 50 μm to 200 μm.

封止部17は、デバイスチップ5を覆うように形成される。デバイスチップ5は、配線基板3と封止部17により、気密封止されている。例えば、封止部17は、合成樹脂等の絶縁体により形成される。例えば、封止部17は、金属で形成される。 The sealing portion 17 is formed to cover the device chip 5. The device chip 5 is hermetically sealed by the wiring substrate 3 and the sealing portion 17. For example, the sealing portion 17 is formed of an insulating material such as a synthetic resin. For example, the sealing portion 17 is formed of a metal.

封止部17が合成樹脂で形成される場合、当該合成樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミドなどである。好ましくは、封止部17は、エポキシ樹脂を用い、低温硬化プロセスを用いてエポキシ樹脂で形成される。 When the sealing portion 17 is formed of a synthetic resin, the synthetic resin is an epoxy resin, a polyimide, or the like. Preferably, the sealing portion 17 is formed of an epoxy resin using a low-temperature curing process.

図1に示すように、封止部17は、送信用パッド22と送信用メタルリング25の間における絶縁領域17Txに接合している。また、封止部17は、受信用パッド23と受信用メタルリング26の間における絶縁領域17Rxに接合している。これにより、配線基板3と封止部17の密着性は向上する。 As shown in FIG. 1, the sealing portion 17 is bonded to the insulating region 17Tx between the transmitting pad 22 and the transmitting metal ring 25. The sealing portion 17 is also bonded to the insulating region 17Rx between the receiving pad 23 and the receiving metal ring 26. This improves the adhesion between the wiring board 3 and the sealing portion 17.

図2は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1の配線基板3の実装面の概略図である。図2に示すように、配線基板3の実装面は、グランド電極20、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23、アンテナ用パッド21を囲うアンテナ用メタルリング24、送信用パッド22を囲う送信用メタルリング25、受信用パッド23を囲う受信用メタルリング26、インダクタ用パッド27およびインダクタ用パッド27を囲うインダクタ用メタルリング28を備える。 Figure 2 is a schematic diagram of the mounting surface of the wiring board 3 of the acoustic wave device 1 according to the first embodiment. As shown in Figure 2, the mounting surface of the wiring board 3 includes a ground electrode 20, an antenna pad 21, a transmission pad 22, a reception pad 23, an antenna metal ring 24 surrounding the antenna pad 21, a transmission metal ring 25 surrounding the transmission pad 22, a reception metal ring 26 surrounding the reception pad 23, an inductor pad 27, and an inductor metal ring 28 surrounding the inductor pad 27.

図2に示すように、アンテナ用メタルリング24、送信用メタルリング25、受信用メタルリング26およびインダクタ用メタルリング28は、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23およびインダクタ用パッド27をそれぞれ囲んでいる。これにより、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23を通過する電気信号についてシールド効果が強化される。 As shown in FIG. 2, the antenna metal ring 24, the transmit metal ring 25, the receive metal ring 26, and the inductor metal ring 28 surround the antenna pad 21, the transmit pad 22, the receive pad 23, and the inductor pad 27, respectively. This enhances the shielding effect for electrical signals passing through the antenna pad 21, the transmit pad 22, and the receive pad 23.

グランド電極20、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23、アンテナ用パッド21を囲うアンテナ用メタルリング24、送信用パッド22を囲う送信用メタルリング25、受信用パッド23を囲う受信用メタルリング26、インダクタ用パッド27およびインダクタ用パッド27を囲うインダクタ用メタルリング28の厚みは、例えば、10μmから35μmである。15μmから30μmの厚みがより望ましい。発明者らの試作した弾性波デバイス1は、これらの厚みが15μmであった。特に5ギガ、サブ6ギガ帯などの高周波用途の弾性波デバイスにおいて、このような厚みを有する各パッドは、横方向(厚み方向に対する垂直な方向)からの電気的な干渉を受ける。そのため、各メタルリングで各パッドを囲うことが望まれる。 The thickness of the ground electrode 20, the antenna pad 21, the transmission pad 22, the reception pad 23, the antenna metal ring 24 surrounding the antenna pad 21, the transmission metal ring 25 surrounding the transmission pad 22, the reception metal ring 26 surrounding the reception pad 23, the inductor pad 27, and the inductor metal ring 28 surrounding the inductor pad 27 is, for example, 10 μm to 35 μm. A thickness of 15 μm to 30 μm is more preferable. The thickness of the acoustic wave device 1 prototyped by the inventors was 15 μm. In particular, in acoustic wave devices for high-frequency applications such as the 5 GHz and sub-6 GHz bands, each pad having such a thickness is subject to electrical interference from the lateral direction (perpendicular to the thickness direction). Therefore, it is desirable to surround each pad with each metal ring.

さらに、図2に示すように、アンテナ用メタルリング24、送信用メタルリング25、受信用メタルリング26、インダクタ用メタルリング28は、グランド電極20と接続している。これにより、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23を通過する電気信号についてさらにシールド効果が強化される。 Furthermore, as shown in FIG. 2, the antenna metal ring 24, the transmission metal ring 25, the reception metal ring 26, and the inductor metal ring 28 are connected to the ground electrode 20. This further enhances the shielding effect for electrical signals passing through the antenna pad 21, the transmission pad 22, and the reception pad 23.

グランド電極20、アンテナ用パッド21、送信用パッド22、受信用パッド23、アンテナ用パッド21を囲うアンテナ用メタルリング24、送信用パッド22を囲う送信用メタルリング25、受信用パッド23を囲う受信用メタルリング26、インダクタ用パッド27およびインダクタ用パッド27を囲うインダクタ用メタルリング28は、例えば、銅または銅を含む合金で形成される。 The ground electrode 20, the antenna pad 21, the transmission pad 22, the reception pad 23, the antenna metal ring 24 surrounding the antenna pad 21, the transmission metal ring 25 surrounding the transmission pad 22, the reception metal ring 26 surrounding the reception pad 23, the inductor pad 27 and the inductor metal ring 28 surrounding the inductor pad 27 are formed, for example, from copper or an alloy containing copper.

図2に示すように、配線基板3の外延からグランド電極20までの距離Aおよび平均の距離は、配線基板3の外延からアンテナ用メタルリング24までの距離Bおよび平均の距離よりも長い。配線基板3の外延からグランド電極20までの距離Aおよび平均距離は、配線基板3の外延から送信用メタルリング25までの距離Cおよび平均距離よりも長い。線基板3の外延からグランド電極20までの距離Aおよび平均距離は、配線基板3の外延から受信用メタルリング26までの距離Dおよび平均距離よりも長い。 As shown in FIG. 2, the distance A and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the ground electrode 20 are longer than the distance B and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the antenna metal ring 24. The distance A and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the ground electrode 20 are longer than the distance C and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the transmitting metal ring 25. The distance A and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the ground electrode 20 are longer than the distance D and the average distance from the exterior of the wiring board 3 to the receiving metal ring 26.

発明者らの試作した弾性波デバイス1は、配線基板3の外延からグランド電極20までの平均の距離は、約75μmであった。配線基板3の外延からアンテナ用メタルリング24までの平均距離は、15μmであった。配線基板3の外延から送信用メタルリング25までの平均距離は、15μmであった。配線基板3の外延から受信用メタルリング26までの平均距離は、15μmであった。 In the acoustic wave device 1 prototyped by the inventors, the average distance from the outer periphery of the wiring board 3 to the ground electrode 20 was approximately 75 μm. The average distance from the outer periphery of the wiring board 3 to the antenna metal ring 24 was 15 μm. The average distance from the outer periphery of the wiring board 3 to the transmitting metal ring 25 was 15 μm. The average distance from the outer periphery of the wiring board 3 to the receiving metal ring 26 was 15 μm.

図2に示すように、配線基板3の外延から送信用メタルリング25までの最短距離は、配線基板3の角の外延から送信用メタルリング25までの最短距離Eよりも短い。発明者らの試作した弾性波デバイス1は、配線基板3の外延から送信用メタルリング25までの最短距離は15μm、最短距離Eは75μmであった。 As shown in FIG. 2, the shortest distance from the exterior of the wiring board 3 to the transmitting metal ring 25 is shorter than the shortest distance E from the exterior of a corner of the wiring board 3 to the transmitting metal ring 25. In the acoustic wave device 1 prototyped by the inventors, the shortest distance from the exterior of the wiring board 3 to the transmitting metal ring 25 was 15 μm, and the shortest distance E was 75 μm.

配線基板3の外延から受信用メタルリング26までの最短距離は、配線基板3の角の外延から受信用メタルリング26までの最短距離Fよりも短い。発明者らの試作した弾性波デバイス1は、配線基板3の外延から受信用メタルリング26までの最短距離は15μm、最短距離Fは75μmであった。 The shortest distance from the exterior of the wiring board 3 to the receiving metal ring 26 is shorter than the shortest distance F from the exterior of a corner of the wiring board 3 to the receiving metal ring 26. In the acoustic wave device 1 prototyped by the inventors, the shortest distance from the exterior of the wiring board 3 to the receiving metal ring 26 was 15 μm, and the shortest distance F was 75 μm.

送信用パッド22の角部や、受信用パッド23の角部は、電気的な干渉を受けにくい。一方で、配線基板3の角部は、配線基板3と封止部17の剥離の起点となりやすい。よって、配線基板3の角部においては、封止部と密着性の良い樹脂部の面積を大きくとることで、少ないデメリットを受け入れつつ、大きなメリットを享受している。 The corners of the transmitting pads 22 and the receiving pads 23 are less susceptible to electrical interference. On the other hand, the corners of the wiring board 3 are prone to becoming the starting point for peeling between the wiring board 3 and the sealing part 17. Therefore, by making the area of the resin part that has good adhesion to the sealing part large at the corners of the wiring board 3, it is possible to enjoy great benefits while accepting minor disadvantages.

次に、図3を用いて、圧電基板11上に形成された弾性波素子の例を説明する。図3は、実施の形態1にかかる弾性波デバイスの弾性波素子50の例を示す図である。 Next, an example of an acoustic wave element formed on a piezoelectric substrate 11 will be described with reference to FIG. 3. FIG. 3 is a diagram showing an example of an acoustic wave element 50 of an acoustic wave device according to the first embodiment.

図3に示されるように、IDT(Interdigital Transducer)51と一対の反射器52とは、圧電基板11の主面に形成される。IDT電極51と一対の反射器52は、弾性波(主にSH波)を励振し得るように設けられる。 As shown in FIG. 3, an IDT (Interdigital Transducer) 51 and a pair of reflectors 52 are formed on the main surface of the piezoelectric substrate 11. The IDT electrode 51 and the pair of reflectors 52 are arranged so as to excite elastic waves (mainly SH waves).

例えば、IDT電極51と一対の反射器52とは、アルミニウムと銅の合金で形成される。例えば、IDT電極51と一対の反射器52とは、アルミニウム、モリブデン、イリジウム、タングステン、コバルト、ニッケル、ルテニウム、クロム、ストロンチウム、チタン、パラジウム、銀などの適宜の金属もしくはこれらの合金で形成される。 For example, the IDT electrode 51 and the pair of reflectors 52 are formed of an alloy of aluminum and copper. For example, the IDT electrode 51 and the pair of reflectors 52 are formed of an appropriate metal such as aluminum, molybdenum, iridium, tungsten, cobalt, nickel, ruthenium, chromium, strontium, titanium, palladium, silver, or an alloy of these metals.

例えば、IDT電極51と一対の反射器52とは、複数の金属層が積層した積層金属膜により形成される。例えば、IDT電極51と一対の反射器52との厚みは、150nmから450nmである。 For example, the IDT electrode 51 and the pair of reflectors 52 are formed from a laminated metal film in which multiple metal layers are stacked. For example, the thickness of the IDT electrode 51 and the pair of reflectors 52 is 150 nm to 450 nm.

IDT電極51は、一対の櫛形電極51aを備える。一対の櫛形電極51aは、互いに対向する。櫛形電極51aは、複数の電極指51bとバスバー51cとを備える。 The IDT electrode 51 has a pair of comb electrodes 51a. The pair of comb electrodes 51a face each other. The comb electrode 51a has a plurality of electrode fingers 51b and a bus bar 51c.

複数の電極指51bは、長手方向を合わせて配置される。バスバー51cは、複数の電極指51bを接続する。 The multiple electrode fingers 51b are arranged with their longitudinal directions aligned. The bus bar 51c connects the multiple electrode fingers 51b.

一対の反射器52の一方は、IDT電極51の一側に隣接する。一対の反射器52の他方は、IDT電極51の他側に隣接する。 One of the pair of reflectors 52 is adjacent to one side of the IDT electrode 51. The other of the pair of reflectors 52 is adjacent to the other side of the IDT electrode 51.

以上で説明された実施の形態1によれば、小型で、信号ラインのシールド効果およびグランド電極をより強化し、かつ、封止部と配線基板の密着性に優れた特性の弾性波デバイスを提供することができる。 According to the first embodiment described above, it is possible to provide an acoustic wave device that is small, has a stronger shielding effect for the signal lines and the ground electrode, and has excellent adhesion between the sealing portion and the wiring board.

実施の形態2.
図4は、実施の形態1にかかる弾性波デバイス1が適用されるモジュールの縦断面図である。なお、実施の形態1の部分と同一又は相当部分には同一符号が付される。当該部分の説明は省略される。
Embodiment 2.
4 is a vertical cross-sectional view of a module to which the acoustic wave device 1 according to the first embodiment is applied. Note that the same reference numerals are used to designate the same or corresponding parts as those in the first embodiment, and the description of these parts is omitted.

図4において、モジュール100は、配線基板130と複数の外部接続端子131と集積回路部品ICと弾性波デバイス1とインダクタ111と封止部117とを備える。 In FIG. 4, the module 100 includes a wiring board 130, a plurality of external connection terminals 131, an integrated circuit component IC, an acoustic wave device 1, an inductor 111, and a sealing portion 117.

複数の外部接続端子31は、配線基板130の下面に形成される。複数の外部接続端子131は、予め設定された移動通信端末のマザーボードに実装される。 The multiple external connection terminals 31 are formed on the underside of the wiring board 130. The multiple external connection terminals 131 are mounted on the motherboard of a pre-set mobile communication terminal.

例えば、集積回路部品ICは、配線基板130の内部に実装される。集積回路部品ICは、スイッチング回路とローノイズアンプとを含む。 For example, the integrated circuit component IC is mounted inside the wiring board 130. The integrated circuit component IC includes a switching circuit and a low-noise amplifier.

弾性波デバイス1は、配線基板130の主面に実装される。 The acoustic wave device 1 is mounted on the main surface of the wiring board 130.

インダクタ111は、配線基板130の主面に実装される。インダクタ111は、インピーダンスマッチングのために実装される。例えば、インダクタ111は、Integrated Passive Device(IPD)である。 The inductor 111 is mounted on the main surface of the wiring board 130. The inductor 111 is mounted for impedance matching. For example, the inductor 111 is an integrated passive device (IPD).

封止部117は、弾性波デバイス1を含む複数の電子部品を封止する。 The sealing portion 117 seals multiple electronic components including the acoustic wave device 1.

以上で説明された実施の形態2によれば、モジュール100は、弾性波デバイス1を備える。このため、小型で、信号ラインのシールド効果およびグランド電極をより強化し、かつ、封止部と配線基板の密着性に優れた特性の弾性波デバイスを備えるモジュールを提供できる。 According to the second embodiment described above, the module 100 includes the acoustic wave device 1. This makes it possible to provide a module that includes an acoustic wave device that is small, has a stronger shielding effect for the signal line and the ground electrode, and has excellent adhesion between the sealing portion and the wiring board.

少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面が説明されたが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本開示の範囲内にあることが意図される。 While several aspects of at least one embodiment have been described, it should be understood that various alterations, modifications, and improvements will readily occur to those skilled in the art. Such alterations, modifications, and improvements are intended to be part of this disclosure, and are intended to be within the scope of this disclosure.

理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。 It should be understood that the embodiments of the methods and apparatus described herein are not limited in their application to the details of construction and arrangement of components set forth in the above description or illustrated in the accompanying drawings. The methods and apparatus may be implemented in other embodiments and practiced or carried out in various ways.

特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 The specific implementation examples are provided here for illustrative purposes only and are not intended to be limiting.

本開示で使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。 The phraseology and terminology used in this disclosure are for purposes of description and should not be regarded as limiting. The use herein of "including," "comprising," "having," "including" and variations thereof means the inclusion of the items listed thereafter and equivalents thereof as well as additional items.

「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。 References to "or" may be construed as meaning that any term described using "or" refers to one, more than one, and all of those described terms.

前後左右、頂底上下、横縦、表裏への言及は、いずれも、記載の便宜を意図する。当該言及は、本開示の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は、例示にすぎない。 All references to front, back, left, right, top, bottom, top, bottom, width, length, front and back are intended for convenience of description. Such references are not intended to limit the components of this disclosure to any one positional or spatial orientation. Accordingly, the above description and drawings are by way of example only.

1 弾性波デバイス、 3 配線基板、 5 デバイスチップ
11 圧電基板、 13 支持基板、 17 封止部、 50 弾性波素子
20 グランド電極、 21 アンテナ用パッド、 22 送信用パッド
23受信用パッド
24 アンテナ用メタルリング、 25 送信用メタルリング
26 受信用メタルリング
27 インダクタ用パッド、 28 インダクタ用メタルリング
100 モジュール、 111 インダクタ、 117 封止部
130 配線基板


REFERENCE SIGNS LIST 1 Acoustic wave device, 3 Wiring substrate, 5 Device chip 11 Piezoelectric substrate, 13 Support substrate, 17 Sealing portion, 50 Acoustic wave element 20 Ground electrode, 21 Antenna pad, 22 Transmitting pad 23 Receiving pad 24 Antenna metal ring, 25 Transmitting metal ring 26 Receiving metal ring 27 Inductor pad, 28 Inductor metal ring 100 Module, 111 Inductor, 117 Sealing portion 130 Wiring substrate


Claims (11)

実装面を有する配線基板と、
前記実装面に形成されたグランド電極、アンテナ用パッド、送信用パッド、受信用パッド、前記アンテナ用パッドを囲うアンテナ用メタルリング、前記送信用パッドを囲う送信用メタルリングおよび前記受信用パッドを囲う受信用メタルリングと、
前記配線基板上に実装されるデバイスチップと
を備え、
前記アンテナ用メタルリング、前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングは、前記グランド電極と接続しており、
前記配線基板の外延から前記グランド電極までの平均距離は、前記配線基板の外延から前記アンテナ用メタルリング、前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングまでの平均距離よりも長い、弾性波デバイス。
A wiring board having a mounting surface;
a ground electrode, an antenna pad, a transmission pad, a reception pad, an antenna metal ring surrounding the antenna pad, a transmission metal ring surrounding the transmission pad, and a reception metal ring surrounding the reception pad, which are formed on the mounting surface;
a device chip mounted on the wiring substrate;
the antenna metal ring, the transmitting metal ring, and the receiving metal ring are connected to the ground electrode,
An acoustic wave device, wherein an average distance from an outer periphery of the wiring board to the ground electrode is longer than an average distance from the outer periphery of the wiring board to the antenna metal ring, the transmitting metal ring, and the receiving metal ring.
前記実装面は、インダクタ用パッドと前記インダクタ用パッドを囲うインダクタ用メタルリングを備える請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the mounting surface comprises an inductor pad and an inductor metal ring surrounding the inductor pad. 前記デバイスチップを前記配線基板とともに封止する封止部を備え、
前記封止部は、前記アンテナ用パッドと前記アンテナ用メタルリングの間における絶縁領域に接合している請求項1に記載の弾性波デバイス。
a sealing portion that seals the device chip together with the wiring substrate,
The acoustic wave device according to claim 1 , wherein the sealing portion is bonded to an insulating region between the antenna pad and the antenna metal ring.
前記デバイスチップを前記配線基板とともに封止する封止部を備え、
前記封止部は、前記送信用パッドと前記送信用メタルリングの間における絶縁領域および前記受信用パッドと前記受信用メタルリングの間における絶縁領域にそれぞれ接合している請求項1に記載の弾性波デバイス。
a sealing portion that seals the device chip together with the wiring substrate,
The acoustic wave device according to claim 1 , wherein the sealing portion is bonded to an insulating region between the transmitting pad and the transmitting metal ring and an insulating region between the receiving pad and the receiving metal ring.
前記配線基板の辺の外延から前記送信用メタルリングまでの最短距離は、前記配線基板の角の外延から前記送信用メタルリングまでの最短距離よりも短い請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the transmitting metal ring is shorter than the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the transmitting metal ring. 前記配線基板の辺の外延から前記受信用メタルリングまでの最短距離は、前記配線基板の角の外延から前記受信用メタルリングまでの最短距離よりも短い請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the receiving metal ring is shorter than the shortest distance from the outer edge of the wiring board to the receiving metal ring. 前記アンテナ用メタルリングの厚みは、10μm~35μmである請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the thickness of the antenna metal ring is 10 μm to 35 μm. 前記送信用メタルリングおよび前記受信用メタルリングの厚みは、10μm~35μmである請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the thickness of the transmitting metal ring and the receiving metal ring is 10 μm to 35 μm. 前記デバイスチップは、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶からなる圧電基板を含む請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the device chip includes a piezoelectric substrate made of lithium tantalate, lithium niobate, or quartz. 前記デバイスチップは、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、窒化珪素、アルミナイトライド、酸化アルミニウム、炭化珪素、酸窒化珪素、ダイヤモンド、水晶またはガラスからなる支持基板を含む請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, wherein the device chip includes a support substrate made of sapphire, silicon, alumina, spinel, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, silicon carbide, silicon oxynitride, diamond, quartz, or glass. 請求項1から10のいずれか一項に記載の弾性波デバイスを備えるモジュール。



A module comprising an acoustic wave device according to claim 1 .



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