Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7716038B2 - Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7716038B2 - Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering - Google Patents

Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering

Info

Publication number
JP7716038B2
JP7716038B2 JP2021036303A JP2021036303A JP7716038B2 JP 7716038 B2 JP7716038 B2 JP 7716038B2 JP 2021036303 A JP2021036303 A JP 2021036303A JP 2021036303 A JP2021036303 A JP 2021036303A JP 7716038 B2 JP7716038 B2 JP 7716038B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
tempered glass
compressive stress
glass
glass sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021036303A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022076438A (en
Inventor
健 結城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to PCT/JP2021/037138 priority Critical patent/WO2022097416A1/en
Priority to KR1020237017753A priority patent/KR102941426B1/en
Priority to CN202180072995.0A priority patent/CN116348425B/en
Priority to US18/033,472 priority patent/US20230399258A1/en
Priority to TW110139122A priority patent/TWI913340B/en
Publication of JP2022076438A publication Critical patent/JP2022076438A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7716038B2 publication Critical patent/JP7716038B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、強化ガラス板、強化ガラス板の製造方法及び強化用ガラス板に関し、特に携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)等のタッチパネルディスプレイのカバーガラスに好適な強化ガラス板、強化ガラス板の製造方法及び強化用ガラス板に関するものである。 The present invention relates to tempered glass sheets, a method for manufacturing tempered glass sheets, and glass sheets for tempering, and in particular to tempered glass sheets, a method for manufacturing tempered glass sheets, and glass sheets for tempering that are suitable as cover glass for touch panel displays in mobile phones, digital cameras, PDAs (personal digital assistants), and the like.

携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)等の用途では、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして、イオン交換処理された強化ガラス板が用いられている(特許文献1、非特許文献1参照)。 Ion-exchanged tempered glass sheets are used as cover glass for touch panel displays in applications such as mobile phones, digital cameras, and PDAs (personal digital assistants) (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).

特開2006-83045号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-83045 特表2016-524581号公報Special table 2016-524581 publication 特表2011-510903号公報Special Publication No. 2011-510903

泉谷徹郎等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、1984年8月20日、p.451-498Tetsuro Izumiya et al., "New Glass and its Physical Properties," First Edition, Management Systems Research Institute, August 20, 1984, pp. 451-498

ところで、スマートフォンを誤って路面等に落とすと、カバーガラスが破損して、スマートフォンを使用できなくなることがある。このような事態を回避するためには、強化ガラス板の強度を高めることが重要となる。 However, if a smartphone is accidentally dropped on the road or other surface, the cover glass may break, rendering the smartphone unusable. To prevent this from happening, it is important to increase the strength of the tempered glass plate.

強化ガラス板の強度を高める方法として、応力深さを深くすることが有用である。詳述すると、スマートフォンの落下時にカバーガラスが路面と衝突すると、路面の突起物や砂粒が、カバーガラスに貫入し引っ張り応力層に達して、破損に至る。そこで、圧縮応力層の応力深さを深くすると、路面の突起物や砂粒が引っ張り応力層まで到達し難くなり、カバーガラスの破損確率を低下させることが可能になる。 Increasing the stress depth is an effective way to increase the strength of tempered glass sheets. More specifically, when a smartphone is dropped and the cover glass collides with the road surface, protrusions and sand particles on the road surface penetrate the cover glass, reaching the tensile stress layer and causing breakage. Therefore, by increasing the stress depth of the compressive stress layer, it becomes more difficult for protrusions and sand particles on the road surface to reach the tensile stress layer, reducing the probability of breakage of the cover glass.

リチウムアルミノシリケートガラスは、深い応力深さを得る上で有利である。特に、NaNOを含む溶融塩中に、リチウムアルミノシリケートガラスからなる強化用ガラス板を浸漬し、ガラス中のLiイオンと溶融塩中のNaイオンをイオン交換すると、深い応力深さを有する強化ガラス板を得ることができる。 Lithium aluminosilicate glass is advantageous for achieving deep stress depth. In particular, by immersing a glass plate to be tempered made of lithium aluminosilicate glass in a molten salt containing NaNO3 and ion-exchanging the Li ions in the glass with the Na ions in the molten salt, a tempered glass plate with deep stress depth can be obtained.

しかし、従来のリチウムアルミノシリケートガラスでは、圧縮応力層の圧縮応力値が小さくなり過ぎる虞がある。その一方で、圧縮応力層の圧縮応力値を大きくするようにガラス組成を設計すると、化学的安定性が低下する虞がある。 However, with conventional lithium aluminosilicate glass, there is a risk that the compressive stress value of the compressive stress layer will be too small. On the other hand, if the glass composition is designed to increase the compressive stress value of the compressive stress layer, there is a risk that chemical stability will decrease.

更に、従来のリチウムアルミノシリケートガラスでは、清澄性が不十分であり、板状成形した際にガラス中に泡が残る虞がある。その一方で、泡低減のために、ガラス組成中に清澄剤として酸化スズ(SnO)を導入すると、SnOの失透ブツが発生して、板状成形が困難になる虞がある。 Furthermore, conventional lithium aluminosilicate glasses have insufficient clarity, which can lead to bubbles remaining in the glass when formed into a sheet. On the other hand, when tin oxide (SnO 2 ) is introduced into the glass composition as a fining agent to reduce bubbles, devitrification particles of SnO 2 are generated, which can make forming into a sheet difficult.

本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その技術的課題は、落下時に破損し難く、化学的安定性、清澄性に優れており、且つ成形時に失透ブツが発生し難い強化ガラス板を提供することである。 The present invention was developed in consideration of the above circumstances, and its technical objective is to provide a tempered glass sheet that is resistant to breakage when dropped, has excellent chemical stability and clarity, and is less likely to develop devitrification particles during forming.

本発明者が種々の検討を行った結果、ガラス組成を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。ここで、[LiO]は、LiOのモル%含有量を指す。[NaO]は、NaOのモル%含有量を指す。[KO]は、KOのモル%含有量を指す。[Al]は、Alのモル%含有量を指す。([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]は、LiO、NaO及びKOの合量を、Alの含有量で除した値を指す。[SiO]は、SiOのモル%含有量を指す。[B]は、Bのモル%含有量を指す。[P]は、Pのモル%含有量を指す。[SnO]は、SnOのモル%含有量を指す。[MgO]は、MgOのモル%含有量を指す。[CaO]は、CaOのモル%含有量を指す。[SrO]は、SrOのモル%含有量を指す。[BaO]は、BaOのモル%含有量を指す。[ZnO]は、ZnOのモル%含有量を指す。([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))は、SiO、B及びPの合量に対して、SnOの100倍の含有量とAl、LiO、NaO、KO、MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合量とを乗じた値で除した値を指す。 As a result of various investigations, the present inventors have found that the above technical problems can be solved by restricting the glass composition to a predetermined range, and have proposed this invention. That is, the tempered glass plate of the present invention is a tempered glass plate having a compressive stress layer on a surface thereof, and contains, in mol %, 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O 5 , and 0.001 to 0.30% SnO 2 , and satisfies ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ]) × ([Al 2 O 3 ] + [Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO])) ≥ 0.40. Here, [Li 2 O] refers to the mol% content of Li 2 O. [Na 2 O] refers to the mol% content of Na 2 O. [K 2 O] refers to the mol% content of K 2 O. [Al 2 O 3 ] refers to the mol% content of Al 2 O 3 . ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ])/[ Al2O3 ] refers to the value obtained by dividing the total amount of Li2O , Na2O , and K2O by the content of Al2O3 . [ SiO2 ] refers to the mole percent content of SiO2 . [ B2O3 ] refers to the mole percent content of B2O3 . [ P2O5 ] refers to the mole percent content of P2O5 . [ SnO2 ] refers to the mole percent content of SnO2 . [ MgO ] refers to the mole percent content of MgO . [CaO] refers to the mole percent content of CaO. [SrO] refers to the mole percent content of SrO. [BaO] refers to the mole percent content of BaO. [ZnO] refers to the mole percent content of ZnO. ([ SiO2 ] + [ B2O3 ] + [ P2O5 ]) / ( (100 × [ SnO2 ]) × ([ Al2O3 ] + [ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ] + [ MgO ] + [CaO] + [ SrO ] + [BaO] + [ZnO])) refers to the value obtained by dividing the total amount of SiO2 , B2O3 , and P2O5 by the product of 100 times the SnO2 content and the total amount of Al2O3 , Li2O , Na2O , K2O , MgO, CaO, SrO, BaO, and ZnO.

また、本発明の強化ガラス板では、Bの含有量が0.1~3モル%であることが好ましい。 In the tempered glass plate of the present invention, the content of B 2 O 3 is preferably 0.1 to 3 mol %.

また、本発明の強化ガラス板では、SnOの含有量が0.045モル%以下であることが好ましい。 In the tempered glass plate of the present invention, the content of SnO2 is preferably 0.045 mol% or less.

また、本発明の強化ガラス板では、Clの含有量が0.02~0.3モル%であることが好ましい。 Furthermore, in the tempered glass sheet of the present invention, the Cl content is preferably 0.02 to 0.3 mol%.

本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.045%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。 The tempered glass plate of the present invention has a compressive stress layer on a surface thereof, and contains, in mole percent, 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.045% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, and satisfies ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40.

本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0.1~3%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。 The tempered glass plate of the present invention has a compressive stress layer on a surface thereof, and contains, in mole %, a glass composition of 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0.1 to 3 % B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.30% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, and satisfies ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40.

また、本発明の強化ガラス板では、Pの含有量が2.5モル%以上であることが好ましい。 In the tempered glass plate of the present invention, the content of P 2 O 5 is preferably 2.5 mol % or more.

また、本発明の強化ガラス板では、Feの含有量が0.001~0.1モル%であることが好ましい。 In the tempered glass plate of the present invention, the content of Fe 2 O 3 is preferably 0.001 to 0.1 mol %.

また、本発明の強化ガラス板では、TiOの含有量が0.001~0.1モル%であることが好ましい。 In the tempered glass plate of the present invention, the content of TiO 2 is preferably 0.001 to 0.1 mol%.

また、本発明の強化ガラス板では、圧縮応力層の最表面の圧縮応力値が200~1200MPaであることが好ましい。ここで、「最表面の圧縮応力値」と「応力深さ」は、例えば、散乱光光弾性応力計SLP-1000(株式会社折原製作所製)を用いて観察される位相差分布曲線から測定した値を指す。そして、応力深さは、応力値がゼロになる深さを指す。なお、応力特性の算出に当たり、各測定試料の屈折率を1.51、光学弾性定数を29.0[(nm/cm)/MPa]とする。 In addition, in the tempered glass sheet of the present invention, the compressive stress value of the outermost surface of the compressive stress layer is preferably 200 to 1200 MPa. Here, the "compressive stress value of the outermost surface" and "stress depth" refer to values measured from a phase difference distribution curve observed using, for example, a scattered light photoelastic stress meter SLP-1000 (manufactured by Orihara Manufacturing Co., Ltd.). The stress depth refers to the depth at which the stress value becomes zero. When calculating the stress characteristics, the refractive index of each measurement sample is set to 1.51, and the photoelastic constant is set to 29.0 [(nm/cm)/MPa].

また、本発明の強化ガラス板では、圧縮応力層の応力深さが50~200μmであることが好ましい。 Furthermore, in the tempered glass plate of the present invention, the stress depth of the compressive stress layer is preferably 50 to 200 μm.

また、本発明の強化ガラス板では、深さ2.5μmにおける圧縮応力値が350MPa以上であることが好ましい。このようにすれば、曲げ強度が高くなる Furthermore, it is preferable that the compressive stress value of the tempered glass sheet of the present invention at a depth of 2.5 μm be 350 MPa or more. This increases the bending strength.

また、本発明の強化ガラス板では、深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値が85MPa以上であることが好ましい。このようにすれば、落下強度が高くなる。 Furthermore, it is preferable that the tempered glass sheet of the present invention has an average compressive stress value of 85 MPa or more at a depth of 30 to 45 μm. This increases drop strength.

また、本発明の強化ガラス板では、高温粘度102.5dPa・sにおける温度が1650℃未満であることが好ましい。ここで、「高温粘度102.5dPa・sにおける温度」は、例えば、白金球引き上げ法で測定することができる。 In addition, in the tempered glass sheet of the present invention, the temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa·s is preferably lower than 1650° C. Here, the "temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa·s" can be measured by, for example, a platinum sphere pull-up method.

また、本発明の強化ガラス板は、板厚方向の中央部にオーバーフロー合流面を有することが好ましい。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、成形体耐火物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを成形体耐火物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を製造する方法である。 The tempered glass sheet of the present invention preferably has an overflow confluence surface in the center in the sheet thickness direction. Here, the "overflow downdraw method" is a method for producing a glass sheet by allowing molten glass to overflow from both sides of a refractory shaped body, and drawing the overflowing molten glass downward while allowing it to join at the lower end of the refractory shaped body.

また、本発明の強化ガラス板は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスに用いることが好ましい。 The tempered glass plate of the present invention is also preferably used as a cover glass for a touch panel display.

また、本発明の強化ガラス板は、厚み方向の応力プロファイルが、少なくとも第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有することが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the tempered glass sheet of the present invention has a stress profile in the thickness direction that has at least a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom.

本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40である強化用ガラス板を用意する準備工程と、該強化用ガラス板に対して、複数回のイオン交換処理を行い、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板を得るイオン交換工程と、を備えることを特徴とする。 The method for producing a tempered glass plate of the present invention is directed to a glass having a glass composition containing, in mole percent, 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO, 0 to 10% ZnO, 0 to 15% P 2 O 5 , and 0.001 to 0.30% SnO 2 , wherein ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 and an ion exchange step of performing ion exchange treatment on the glass plate to be tempered multiple times to obtain a tempered glass plate having a compressive stress layer on the surface.

本発明の強化用ガラス板は、イオン交換可能な強化用ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。 The glass plate to be tempered of the present invention is an ion-exchangeable glass plate to be tempered, and has a glass composition, in mole %, of SiO 2 40 to 80%, Al 2 O 3 6 to 25%, B 2 O 3 0 to 10%, Li 2 O 3 to 15%, Na 2 O 1 to 21%, K 2 O 0 to 10%, MgO 0 to 10%, ZnO 0 to 10%, P 2 O 5 0 to 15%, and SnO 2 0.001 to 0.30%, in which ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86 and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40.

本発明の強化用ガラス板は、イオン交換可能な強化用ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.045%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。 The glass plate to be tempered of the present invention is an ion-exchangeable glass plate to be tempered, and contains, in mole percent, 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO, 0 to 10% ZnO, 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.045% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, and the relationship ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86 is satisfied, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40.

本発明の強化用ガラス板は、イオン交換可能な強化用ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0.1~3%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。 The glass plate to be tempered of the present invention is an ion-exchangeable glass plate to be tempered, and has a glass composition, in mole %, of SiO 2 40 to 80%, Al 2 O 3 6 to 25%, B 2 O 3 0.1 to 3%, Li 2 O 3 to 15%, Na 2 O 1 to 21%, K 2 O 0 to 10%, MgO 0 to 10%, ZnO 0 to 10%, P 2 O 5 0 to 15%, SnO 2 0.001 to 0.30%, and Cl 0.02 to 0.3%, in which ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40.

第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有する応力プロファイルを例示する説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a stress profile having a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom. 実施例3に係る強化ガラス板の応力プロファイルである。10 is a stress profile of a strengthened glass sheet according to Example 3. 実施例3に係る強化ガラス板の応力プロファイルである。10 is a stress profile of a strengthened glass sheet according to Example 3.

本発明の強化ガラス板(強化用ガラス板)は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 6~25%、B 0~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であることを特徴とする。各成分の含有範囲を限定した理由を下記に示す。なお、各成分の含有範囲の説明において、%表示は、特に断りがない限り、モル%を指す。 The tempered glass plate (glass plate to be tempered) of the present invention is a tempered glass plate having a compressive stress layer on a surface thereof, and contains, in mol %, 40 to 80% SiO 2 , 6 to 25% Al 2 O 3 , 0 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO, 0 to 10% ZnO, 0 to 15% P 2 O 5 , and 0.001 to 0.30% SnO 2 , and satisfies ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[ SnO2 ])×([ Al2O3 ]+[ Li2O ]+[ Na2O ]+[ K2O ]+[ MgO ]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40. The reasons for limiting the content range of each component are as follows. In the explanation of the content range of each component, % refers to mol % unless otherwise specified.

SiOは、ガラスのネットワークを形成する成分である。SiOの含有量が少な過ぎると、ガラス化し難くなり、また熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下し易くなる。よって、SiOの好適な下限範囲は40%以上、45%以上、50%以上、55%以上、57%以上、特に59%以上である。一方、SiOの含有量が多過ぎると、溶融性や成形性が低下し易くなり、また熱膨張係数が低くなり過ぎて、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。よって、SiOの好適な上限範囲は80%以下、70%以下、68%以下、66%以下、65%以下、64.5%以下、64%以下、63%以下、特に62%以下である。 SiO2 is a component that forms the glass network. If the SiO2 content is too low, vitrification becomes difficult, and the thermal expansion coefficient becomes too high, which tends to reduce thermal shock resistance. Therefore, the preferred lower limit range of SiO2 is 40% or more, 45% or more, 50% or more, 55% or more, 57% or more, and particularly 59% or more. On the other hand, if the SiO2 content is too high, meltability and formability tend to decrease, and the thermal expansion coefficient becomes too low, making it difficult to match the thermal expansion coefficient of surrounding materials. Therefore, the preferred upper limit range of SiO2 is 80% or less, 70% or less, 68% or less, 66% or less, 65% or less, 64.5% or less, 64% or less, 63% or less, and particularly 62% or less.

Alは、イオン交換性能を高める成分であり、また歪点、ヤング率、破壊靱性、ビッカース硬度を高める成分である。よって、Alの好適な下限範囲は6%以上、7%以上、8%以上、10%以上、12%以上、13%以上、14%以上、14.4%以上、15%以上、15.3%以上、15.6%以上、16%以上、16.5%以上、17%以上、17.2%以上、17.5%以上、17.8%以上、18%以上、18%超、18.3%以上、特に18.5%以上、18.6%以上、18.7%以上、18.8%以上である。一方、Alの含有量が多過ぎると、高温粘度が上昇して、溶融性や成形性が低下し易くなる。またガラスに失透結晶が析出し易くなって、オーバーフローダウンドロー法等で板状に成形し難くなる。特に、成形体耐火物としてアルミナ系耐火物を用いて、オーバーフローダウンドロー法で板状に成形する場合、アルミナ系耐火物との界面にスピネルの失透結晶が析出し易くなる。更に耐酸性も低下し、酸処理工程に適用し難くなる。よって、Alの好適な上限範囲は25%以下、21%以下、20.5%以下、20%以下、19.9%以下、19.5%以下、19.0%以下、特に18.9%以下である。イオン交換性能への影響の大きいAlの含有量を好適な範囲にすれば、第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有するプロファイルを形成し易くなる。 Al 2 O 3 is a component that enhances ion exchange performance, and also enhances strain point, Young's modulus, fracture toughness, and Vickers hardness. Therefore, the preferred lower limit range of Al 2 O 3 is 6% or more, 7% or more, 8% or more, 10% or more, 12% or more, 13% or more, 14% or more, 14.4% or more, 15% or more, 15.3% or more, 15.6% or more, 16% or more, 16.5% or more, 17% or more, 17.2% or more, 17.5% or more, 17.8% or more, 18% or more, more than 18%, 18.3% or more, particularly 18.5% or more, 18.6% or more, 18.7% or more, and 18.8% or more. On the other hand, if the Al 2 O 3 content is too high, the high-temperature viscosity increases, and meltability and moldability tend to deteriorate. Furthermore, devitrification crystals are likely to precipitate in the glass, making it difficult to form it into a plate by the overflow downdraw method or the like. In particular, when an alumina-based refractory is used as the formed refractory and the glass is formed into a plate by the overflow downdraw method, devitrification crystals of spinel are likely to precipitate at the interface with the alumina-based refractory. Furthermore, acid resistance is also reduced, making it difficult to apply to an acid treatment process. Therefore, the preferred upper limit range of Al2O3 is 25% or less, 21% or less, 20.5% or less, 20% or less, 19.9% or less, 19.5% or less, 19.0% or less, particularly 18.9% or less. Setting the content of Al2O3 , which has a significant effect on ion exchange performance, within a preferred range makes it easier to form a profile having a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom.

は、高温粘度や密度を低下させると共に、ガラスを安定化させて、結晶を析出させ難くし、液相温度を低下させる成分である。さらには陽イオンによる酸素電子の拘束力を高め、ガラスの塩基度を下げる成分である。Bの含有量が少な過ぎると、ガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンのイオン交換における応力深さが深くなり過ぎて、結果として圧縮応力層の圧縮応力値(CSNa)が小さくなり易い。また、ガラスが不安定になり、耐失透性が低下する虞もある。また、ガラスの塩基度が大きくなり過ぎて、清澄剤の反応によるO放出量が少なくなり、発泡性が低下して、板状成形した際にガラス中に泡が残る虞がある。よって、Bの好適な下限範囲は0%以上、0.10%以上、0.12%以上、0.15%以上、0.18%以上、0.20%以上、0.23%以上、0.25%以上、0.27%以上、0.30%以上、0.35%以上、特に0.4%以上である。一方、Bの含有量が多過ぎると、応力深さが浅くなる虞がある。特にガラス中に含まれるNaイオンと溶融塩中のKイオンのイオン交換の効率が低下し易くなり、圧縮応力層の応力深さ(DOL_ZERO)が小さくなり易い。よって、Bの好適な上限範囲は10%以下、5%以下、4%以下、3.8%以下、3.5%以下、3.3%以下、3.2%以下、3.1%以下、3%以下、2.9%以下、2.8%以下、2.5%以下、2.0%以下、1.5%以下、1.0%以下、1.0%未満、0.8%以下、特に0.5%以下である。Bの含有量を好適な範囲にすれば、第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有するプロファイルを形成し易くなる。 B 2 O 3 is a component that reduces the high-temperature viscosity and density, stabilizes the glass, makes it difficult for crystals to precipitate, and lowers the liquidus temperature. Furthermore, it is a component that increases the binding force of oxygen electrons by cations and reduces the basicity of the glass. If the B 2 O 3 content is too low, the stress depth in the ion exchange between Li ions contained in the glass and Na ions in the molten salt becomes too deep, and as a result, the compressive stress value (CS Na ) of the compressive stress layer tends to become small. Furthermore, there is a risk that the glass becomes unstable and the devitrification resistance decreases. Furthermore, if the basicity of the glass becomes too high, the amount of O 2 released by the reaction of the fining agent decreases, the foaming property decreases, and bubbles may remain in the glass when formed into a plate. Therefore, the preferable lower limit range of B2O3 is 0% or more, 0.10% or more, 0.12% or more, 0.15% or more, 0.18% or more, 0.20% or more, 0.23% or more, 0.25% or more, 0.27% or more, 0.30% or more, 0.35% or more, particularly 0.4% or more. On the other hand, if the B2O3 content is too high, the stress depth may become shallow. In particular, the efficiency of ion exchange between Na ions contained in the glass and K ions in the molten salt is likely to decrease, and the stress depth of the compressive stress layer (DOL_ZERO K ) is likely to become small. Therefore, the preferred upper limit range of B2O3 is 10% or less, 5% or less, 4% or less, 3.8% or less, 3.5% or less, 3.3% or less, 3.2% or less, 3.1% or less, 3% or less, 2.9% or less, 2.8% or less, 2.5% or less, 2.0% or less, 1.5% or less, 1.0% or less, less than 1.0%, 0.8% or less, and particularly 0.5% or less. If the B2O3 content is within the preferred range, it becomes easier to form a profile having a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom.

アルカリ金属酸化物は、イオン交換成分であり、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。しかし、アルカリ金属酸化物の含有量([LiO]+[NaO]+[KO])が多過ぎると、熱膨張係数が高くなる虞がある。また、耐酸性が低下する虞がある。よって、アルカリ金属酸化物([LiO]+[NaO]+[KO])の好適な下限範囲は10%以上、11%以上、12%以上、13%以上、14%以上、14.2%以上、14.5%以上、14.8%以上、15%以上、15.2%以上、15.5%以上、15.8%以上、特に16%以上であり、また好適な上限範囲は25%以下、23%以下、20%以下、19%以下、特に18%以下である。 Alkali metal oxides are ion-exchange components that reduce high-temperature viscosity and improve melting and moldability. However, if the alkali metal oxide content ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O]) is too high, the thermal expansion coefficient may increase. Furthermore, acid resistance may decrease. Therefore, the preferred lower limit of the alkali metal oxide content ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O]) is 10% or more, 11% or more, 12% or more, 13% or more, 14% or more, 14.2% or more, 14.5% or more, 14.8% or more, 15% or more, 15.2% or more, 15.5% or more, 15.8% or more, particularly 16% or more. The preferred upper limit is 25% or less, 23% or less, 20% or less, 19% or less, particularly 18% or less.

LiOは、イオン交換成分であり、特にガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンをイオン交換して、深い応力深さを得るために必須の成分である。また、LiOは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分であると共に、ヤング率を高める成分である。よって、LiOの好適な下限範囲は3%以上、4%以上、5%以上、5.5%以上、6.5%以上、7%以上、7.3%以上、7.5%以上、7.8%以上、特に8%以上である。よって、LiOの好適な上限範囲は15%以下、13%以下、12%以下、11.5%以下、11%以下、10.5%以下、10%未満、9.9%以下、9%以下、特に8.9%以下である。 Li 2 O is an ion-exchange component, particularly an essential component for ion-exchanging Li ions contained in the glass with Na ions in the molten salt to obtain a deep stress depth. Li 2 O also reduces high-temperature viscosity, improves meltability and formability, and increases Young's modulus. Therefore, the preferred lower limit of Li 2 O is 3% or more, 4% or more, 5% or more, 5.5% or more, 6.5% or more, 7% or more, 7.3% or more, 7.5% or more, 7.8% or more, particularly 8% or more. Therefore, the preferred upper limit of Li 2 O is 15% or less, 13% or less, 12% or less, 11.5% or less, 11% or less, 10.5% or less, less than 10%, 9.9% or less, 9% or less, particularly 8.9% or less.

NaOは、イオン交換成分であり、また高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。またNaOは、耐失透性を高める成分であり、特にアルミナ系耐火物との反応で生じる失透を抑制する成分である。よって、NaOの好適な下限範囲は1%以上、2%以上、3%以上、4%以上、5%以上、6%以上、7%以上、7.5%以上、8%以上、8.5%以上、8.8%以上、特に9%以上である。一方、NaOの含有量が多過ぎると、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下し易くなる。またガラス組成の成分バランスが崩れて、かえって耐失透性が低下する場合がある。よって、NaOの好適な上限範囲は21%以下、20%以下、19%以下、特に18%以下、15%以下、13%以下、11%以下、特に10%以下である。 Na 2 O is an ion exchange component and a component that reduces high-temperature viscosity and improves meltability and formability. Na 2 O also improves devitrification resistance, particularly suppressing devitrification caused by reaction with alumina-based refractories. Therefore, the preferred lower limit of Na 2 O is 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 7.5% or more, 8% or more, 8.5% or more, 8.8% or more, and particularly 9% or more. On the other hand, if the Na 2 O content is too high, the thermal expansion coefficient becomes too high, which tends to reduce thermal shock resistance. Furthermore, the component balance of the glass composition may be disrupted, which may actually reduce devitrification resistance. Therefore, the preferred upper limit of Na 2 O is 21% or less, 20% or less, 19% or less, particularly 18% or less, 15% or less, 13% or less, 11% or less, and particularly 10% or less.

Oは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高める成分である。しかし、KOの含有量が多過ぎると、熱膨張係数が高くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下し易くなる。また最表面の圧縮応力値が低下し易くなる。よって、KOの好適な上限範囲は10%以下、7%以下、6%以下、5%以下、4%以下、3%以下、2%以下、特に1.5%以下である。なお、応力深さを深くする観点を重視すると、KOの好適な下限範囲は0%以上、0.1%以上、0.3%以上、特に0.4%以上である。 K 2 O is a component that reduces high-temperature viscosity and improves meltability and moldability. However, if the K 2 O content is too high, the thermal expansion coefficient becomes too high, which tends to reduce thermal shock resistance. In addition, the compressive stress value of the outermost surface tends to decrease. Therefore, the preferred upper limit range of K 2 O is 10% or less, 7% or less, 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, particularly 1.5% or less. In addition, from the viewpoint of increasing the stress depth, the preferred lower limit range of K 2 O is 0% or more, 0.1% or more, 0.3% or more, particularly 0.4% or more.

([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]の好適な下限範囲は、好ましくは0.86以上、0.87以上、特に0.88以上である。([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]が小さ過ぎると、イオン交換の効率が低下し易くなる。一方、モル比([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]が大き過ぎても、イオン交換の効率が低下し易くなる。よって、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]の好適な上限範囲は、好ましくは、2.0以下、1.8以下、1.7以下、1.6以下、1.5以下、1.4以下、1.3以下、1.2以下、1.1以下、1.0以下、特に0.95以下である。 The preferred lower limit of ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ])/ [ Al2O3 ] is preferably 0.86 or more, 0.87 or more, particularly 0.88 or more. If ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ])/ [ Al2O3 ] is too small, the efficiency of ion exchange tends to decrease. On the other hand, if the molar ratio ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ])/ [ Al2O3 ] is too large, the efficiency of ion exchange tends to decrease. Therefore, the preferred upper limit range of ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ] is preferably 2.0 or less, 1.8 or less, 1.7 or less, 1.6 or less, 1.5 or less, 1.4 or less, 1.3 or less, 1.2 or less, 1.1 or less, 1.0 or less, particularly 0.95 or less.

([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]+[Al]))は、好ましくは0.40以上、0.41以上、0.42以上、0.43以上、0.44以上、0.45以上、0.48以上、0.50以上、0.51以上、0.52以上、0.53以上、0.54以上、特に0.55以上である。モル比([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]+[Al]))が小さ過ぎると、SnOブツが析出し易くなる。また溶融、成形時に清澄剤から放出される酸素が少なくなり、板状成形した際にガラス中に泡が残り易くなる。([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]+[Al]))の上限は特に限定されないが、清澄性を高めつつ、失透を抑制するために、好ましくは4.0以下、3.0以下、2.0以下、1.8以下、1.5以下、1.2以下、1.0以下、0.90以下、0.80以下、特に0.70以下である。 ([ SiO2 ] + [ B2O3 ] + [ P2O5 ])/((100 × [ SnO2 ]) × ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [K2O] + [ MgO ] + [CaO] + [ SrO ] + [BaO] + [ZnO] + [ Al2O3 ] ) ) is preferably 0.40 or more, 0.41 or more, 0.42 or more, 0.43 or more, 0.44 or more, 0.45 or more, 0.48 or more, 0.50 or more, 0.51 or more, 0.52 or more, 0.53 or more, 0.54 or more, particularly 0.55 or more. If the molar ratio ([SiO2] + [B2O3 ] + [ P2O5 ] )/((100 × [ SnO2 ]) × ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO] + [ Al2O3 ])) is too small, SnO2 particles are likely to precipitate. Also, less oxygen is released from the fining agent during melting and molding, making it more likely that bubbles will remain in the glass when it is molded into a plate. The upper limit of ([SiO2] + [B2O3 ] + [ P2O5 ])/((100 × [ SnO2 ]) × ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO] + [ Al2O3 ] ) ) is not particularly limited, but in order to enhance clarity while suppressing devitrification, it is preferably 4.0 or less, 3.0 or less, 2.0 or less, 1.8 or less, 1.5 or less, 1.2 or less, 1.0 or less, 0.90 or less, 0.80 or less, and particularly 0.70 or less.

[LiO]/([NaO]+[KO])は、好ましくは0.4~1.0、0.5~0.9、特に0.6~0.8である。 [LiO]/([NaO]+[KO])が小さ過ぎると、イオン交換性能を十分に発揮できない虞が生じる。特にガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンのイオン交換の効率が低下し易くなる。一方、モル比[LiO]/([NaO]+[KO])が大き過ぎると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、オーバーフローダウンドロー法等で板状に成形し難くなる。なお、[LiO]/([NaO]+[KO])は、LiOの含有量をNaOとKOの合量で除した値を指す。 [Li 2 O]/([Na 2 O]+[K 2 O]) is preferably 0.4 to 1.0, 0.5 to 0.9, particularly 0.6 to 0.8. If [Li 2 O]/([Na 2 O]+[K 2 O]) is too small, there is a risk that the ion exchange performance will not be fully exhibited. In particular, the efficiency of ion exchange between Li ions contained in the glass and Na ions in the molten salt is likely to decrease. On the other hand, if the molar ratio [Li 2 O]/([Na 2 O]+[K 2 O]) is too large, devitrification crystals are likely to precipitate in the glass, making it difficult to form it into a plate shape by the overflow downdraw method or the like. [Li 2 O]/([Na 2 O]+[K 2 O]) refers to the value obtained by dividing the Li 2 O content by the combined amount of Na 2 O and K 2 O.

MgOは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やビッカース硬度を高める成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を高める効果が大きい成分である。しかし、MgOの含有量が多過ぎると、耐失透性が低下し易くなり、特にアルミナ系耐火物との反応で生じる失透を抑制し難くなる。よって、MgOの好適な含有量は0~10%、0~7%、0~5%、0.1~3%、0.2~2.5%、0.3~2%、0.4~1.5%、特に0.5~1.0%である。 MgO is a component that reduces high-temperature viscosity, improves meltability and formability, and increases strain point and Vickers hardness. Among alkaline earth metal oxides, it is a component that is particularly effective in improving ion exchange performance. However, if the MgO content is too high, devitrification resistance tends to decrease, and it becomes particularly difficult to suppress devitrification caused by reaction with alumina-based refractories. Therefore, the preferred MgO content is 0-10%, 0-7%, 0-5%, 0.1-3%, 0.2-2.5%, 0.3-2%, 0.4-1.5%, and especially 0.5-1.0%.

CaOは、他の成分と比較して、耐失透性の低下を伴うことなく、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やビッカース硬度を高める成分である。しかし、CaOの含有量が多過ぎると、イオン交換性能が低下したり、イオン交換処理時にイオン交換溶液を劣化させる虞がある。よって、CaOの好適な上限範囲は6%以下、5%以下、4%以下、3.5%以下、3%以下、2%以下、1%以下、1%未満、0.7%以下、0.5%以下、0.3%以下、0.1%以下、0.05%以下、特に0.01%以下である。 Compared to other components, CaO reduces high-temperature viscosity, improves meltability and formability, and increases strain point and Vickers hardness without reducing devitrification resistance. However, if the CaO content is too high, there is a risk of reduced ion exchange performance and deterioration of the ion exchange solution during ion exchange treatment. Therefore, the preferred upper limit range for CaO is 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3.5% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, less than 1%, 0.7% or less, 0.5% or less, 0.3% or less, 0.1% or less, 0.05% or less, and particularly 0.01% or less.

SrOとBaOは、高温粘度を低下させて、溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分であるが、それらの含有量が多過ぎると、イオン交換反応が阻害され易くなることに加えて、密度や熱膨張係数が不当に高くなったり、ガラスが失透し易くなる。よって、SrOとBaOの好適な含有量は、それぞれ0~2%、0~1.5%、0~1%、0~0.5%、0~0.1%、特に0~0.1%未満である。 SrO and BaO are components that reduce high-temperature viscosity, improve meltability and formability, and increase the strain point and Young's modulus. However, if their content is too high, the ion exchange reaction is likely to be inhibited, the density and thermal expansion coefficient become unduly high, and the glass is prone to devitrification. Therefore, the preferred contents of SrO and BaO are 0-2%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.5%, and 0-0.1%, respectively, and especially 0-less than 0.1%.

ZnOは、イオン交換性能を高める成分であり、特に最表面の圧縮応力値を高める効果が大きい成分である。また低温粘性を低下させずに、高温粘性を低下させる成分である。ZnOの好適な下限範囲は0%以上、0.1%以上、0.3%以上、0.5%以上、0.7%以上、特に1%以上である。一方、ZnOの含有量が多過ぎると、ガラスが分相したり、耐失透性が低下したり、密度が高くなったり、応力深さが浅くなる傾向がある。よって、ZnOの好適な上限範囲は10%以下、6%以下、5%以下、4%以下、3%以下、2%以下、1.5%以下、1.3%以下、1.2%以下、特に1.1%以下である。 ZnO is a component that enhances ion exchange performance, and is particularly effective in increasing the compressive stress value of the outermost surface. It also reduces high-temperature viscosity without reducing low-temperature viscosity. The preferred lower limit of ZnO is 0% or more, 0.1% or more, 0.3% or more, 0.5% or more, 0.7% or more, and particularly 1% or more. On the other hand, if the ZnO content is too high, the glass tends to undergo phase separation, reduce devitrification resistance, increase density, and reduce stress depth. Therefore, the preferred upper limit of ZnO is 10% or less, 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5% or less, 1.3% or less, 1.2% or less, and particularly 1.1% or less.

は、イオン交換性能を高める成分であり、特に応力深さを深くする成分である。更に耐酸性も向上させる成分である。さらには陽イオンによる酸素電子の拘束力を高め、ガラスの塩基度を下げる成分である。Pの含有量が少な過ぎると、イオン交換性能を十分に発揮できない虞が生じる。特にガラス中に含まれるNaイオンと溶融塩中のKイオンのイオン交換の効率が低下し易くなり、圧縮応力層の応力深さ(DOL_ZERO)が小さくなり易い。また、ガラスが不安定になり、耐失透性が低下する虞もある。また、ガラスの塩基度が大きくなり過ぎて、清澄剤の反応によるO放出量が少なくなり、発泡性が低下して、板状成形した際にガラス中に泡が残る虞がある。よって、Pの好適な下限範囲は0%以上、0.1%以上、0.4%以上、0.7%以上、1%以上、1.2%以上、1.4%以上、1.6%以上、2%以上、2.3%以上、2.5%以上、2.6%以上、2.7%以上、2.8%以上、2.9%以上、3.0%以上、3.2%以上、3.5%以上、3.8%以上、3.9%以上、4.0%以上、4.1%以上、4.2%以上、4.3%以上、4.4%以上、4.5%以上、特に4.6%以上である。一方、Pの含有量が多過ぎると、ガラスが分相したり、耐水性が低下し易くなる。また、ガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンのイオン交換における応力深さが深くなり過ぎて、結果として圧縮応力層の圧縮応力値(CSNa)が小さくなり易い。よって、Pの好適な上限範囲は15%以下、10%以下、8%以下、7%以下、6%以下、5%以下、4.9%以下、4.8%以下である。Pの含有量を好適な範囲にすれば、非単調のプロファイルを形成し易くなる。 P2O5 is a component that enhances ion exchange performance, particularly deepening the stress depth. It also improves acid resistance. Furthermore, it is a component that increases the binding force of oxygen electrons by cations and reduces the basicity of the glass. If the P2O5 content is too low, there is a risk that the ion exchange performance will not be fully exhibited. In particular, the efficiency of ion exchange between Na ions contained in the glass and K ions in the molten salt is likely to decrease, and the stress depth of the compressive stress layer (DOL_ZERO K ) is likely to decrease. Furthermore, there is a risk that the glass will become unstable and its devitrification resistance will decrease. Furthermore, if the basicity of the glass becomes too high, the amount of O2 released by the reaction of the fining agent will decrease, reducing foamability and leaving bubbles in the glass when formed into a plate. Therefore, the preferred lower limit range of P2O5 is 0% or more, 0.1% or more, 0.4% or more, 0.7% or more, 1% or more, 1.2% or more, 1.4% or more, 1.6% or more, 2% or more, 2.3% or more, 2.5% or more, 2.6% or more, 2.7% or more, 2.8% or more, 2.9% or more, 3.0% or more, 3.2% or more, 3.5% or more, 3.8% or more, 3.9% or more, 4.0% or more, 4.1% or more, 4.2% or more, 4.3% or more, 4.4% or more, 4.5% or more, and particularly 4.6% or more. On the other hand, if the P2O5 content is too high, the glass is likely to undergo phase separation or the water resistance is likely to decrease. Furthermore, the stress depth due to ion exchange between Li ions contained in the glass and Na ions in the molten salt becomes too deep, resulting in a small compressive stress value (CS Na ) of the compressive stress layer. Therefore, the preferred upper limit range of P 2 O 5 is 15% or less, 10% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, 5% or less, 4.9% or less, or 4.8% or less. If the P 2 O 5 content is within the preferred range, it becomes easier to form a non-monotonic profile.

([SiO]+1.2×[P])-(3×[Al]+2×[LiO]+1.5×[NaO]+[KO]+[B])は、好ましくは-40%以上、-30%以上、-25%以上、-24%以上、-23%以上、-22%以上、-21%以上、-20%以上、-19%以上、特に-18%以上である。([SiO]+1.2×[P])-(3×[Al]+2×[LiO]+1.5×[NaO]+[KO]+[B])が小さ過ぎると、耐酸性が低下し易くなる。一方、([SiO]+1.2×[P])-(3×[Al]+2×[LiO]+1.5×[NaO]+[KO]+[B])が大き過ぎると、イオン交換性能を十分に発揮できない虞が生じる。よって、([SiO]+1.2×[P])-(3×[Al]+2×[LiO]+1.5×[NaO]+[KO]+[B])は、好ましくは30モル%以下、20モル%以下、15モル%以下、10モル%以下、5モル%以下、特に0モル%以下である。なお、([SiO]+1.2×[P])-(3×[Al]+2×[LiO]+1.5×[NaO]+[KO]+[B])は、SiOの含有量とPの1.2倍の含有量の合計から、Alの3倍の含有量、LiOの2倍の含有量、NaOの1.5倍の含有量、KOの含有量、Bの含有量の合計を減じた値を指す。 ( [ SiO2 ] + 1.2 × [ P2O5 ]) - (3 × [ Al2O3 ] + 2 × [ Li2O ] + 1.5 × [ Na2O ] + [ K2O ] + [ B2O3 ]) is preferably -40 % or more, -30% or more, -25% or more, -24% or more, -23% or more, -22% or more, -21% or more, -20% or more, -19% or more, and particularly -18% or more. If ([ SiO2 ] + 1.2 × [ P2O5 ]) - ( 3 × [ Al2O3 ] + 2 × [ Li2O ] + 1.5 × [ Na2O ] + [ K2O ] + [ B2O3 ]) is too small, acid resistance is likely to decrease. On the other hand, if ([ SiO2 ] + 1.2 × [ P2O5 ]) - (3 × [ Al2O3 ] + 2 × [ Li2O ] + 1.5 × [ Na2O ] + [ K2O ] + [ B2O3 ]) is too large, there is a risk that the ion exchange performance will not be fully exhibited. Therefore, ([ SiO2 ] + 1.2 × [ P2O5 ]) - (3 × [ Al2O3 ] + 2 × [ Li2O ] + 1.5 × [ Na2O ] + [ K2O ] + [ B2O3 ]) is preferably 30 mol% or less, 20 mol% or less , 15 mol% or less, 10 mol% or less, 5 mol% or less, and particularly 0 mol% or less. Note that ([SiO 2 ] + 1.2 × [P 2 O 5 ]) - (3 × [Al 2 O 3 ] + 2 × [Li 2 O] + 1.5 × [Na 2 O] + [K 2 O] + [B 2 O 3 ]) refers to the value obtained by subtracting the sum of 3 times the content of Al 2 O 3 , 2 times the content of Li 2 O, 1.5 times the content of Na 2 O, the content of K 2 O, and the content of B 2 O 3 from the sum of the content of SiO 2 and 1.2 times the content of P 2 O 5.

SnOは、清澄剤であるとともに、イオン交換性能を高める成分であるが、その含有量が多過ぎると、耐失透性が低下し易くなる。よって、SnOは好適な下限範囲は0.001%以上、0.002%以上、0.005%以上、0.007%以上、特に0.010%以上であり、好適な上限範囲は0.30%以下、0.27%以下、0.25%以下、0.20%以下、0.18%以下、0.15%以下、0.12%以下、0.10%以下、0.09%以下、0.08%以下、0.07%以下、0.06%以下、0.05%以下、0.047%以下、0.045%以下、0.042%以下、0.040%以下、0.038%以下、0.035%以下、0.032%以下、特に0.030%以下である。 SnO2 is a fining agent and a component that enhances ion exchange performance, but if its content is too high, devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferred lower limit range for SnO2 is 0.001% or more, 0.002% or more, 0.005% or more, 0.007% or more, particularly 0.010% or more, and the preferred upper limit range is 0.30% or less, 0.27% or less, 0.25% or less, 0.20% or less, 0.18% or less, 0.15% or less, 0.12% or less, 0.10% or less, 0.09% or less, 0.08% or less, 0.07% or less, 0.06% or less, 0.05% or less, 0.047% or less, 0.045% or less, 0.042% or less, 0.040% or less, 0.038% or less, 0.035% or less, 0.032% or less, particularly 0.030% or less.

上記成分以外にも、例えば以下の成分を添加してもよい。 In addition to the above ingredients, the following ingredients may also be added:

ZrOは、ビッカース硬度を高める成分であると共に、液相粘度付近の粘性や歪点を高める成分であるが、その含有量が多過ぎると、耐失透性が著しく低下する虞がある。よって、ZrOの好適な含有量は0~3%、0~1.5%、0~1%、特に0~0.1%である。 ZrO2 is a component that increases the Vickers hardness and also increases the viscosity near the liquidus viscosity and the strain point, but if its content is too high, there is a risk that devitrification resistance will be significantly reduced. Therefore, the preferred content of ZrO2 is 0 to 3%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, and particularly 0 to 0.1%.

TiOは、イオン交換性能を高める成分であり、また高温粘度を低下させる成分であるが、その含有量が多過ぎると、透明性や耐失透性が低下し易くなる。よって、TiOの好適な含有量は0~3%、0~1.5%、0~1%、0~0.1%、特に、0.001~0.1%である。 TiO2 is a component that enhances ion exchange performance and reduces high-temperature viscosity, but if its content is too high, transparency and devitrification resistance tend to decrease. Therefore, the preferred TiO2 content is 0 to 3%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, 0 to 0.1%, and particularly 0.001 to 0.1%.

Clは、清澄剤である。特にSnOとの併用により、ガラス中の泡径が拡大し易くなり、清澄効果を発揮し易くなる。その関係で、SnOとClを併用すれば、SnOの含有量を低減しても、清澄効果を維持することができる。一方、Clの含有量が多過ぎると、環境や設備に悪影響を与える成分である。よって、Clの好適な下限範囲は0%以上、0.001%以上、0.005%以上、0.008%以上、0.010%以上、0.015%以上、0.018%以上、0.019%以上、0.020%以上、0.021%以上、0.022%以上、0.023%以上、0.024%以上、0.025%以上、0.027%以上、0.030%以上、0.035%以上、0.040%以上、0.050%以上、0.070%以上、0.090%以上、特に0.100%以上であり、好適な上限範囲は0.3%以下、0.2%以下、0.17%以下、0.15%以下、特に0.12%以下である。 Cl is a fining agent. When used in combination with SnO2 , in particular, it facilitates enlarging the bubble diameter in the glass, making it easier to exert a fining effect. Therefore, when SnO2 and Cl are used in combination, the fining effect can be maintained even if the SnO2 content is reduced. On the other hand, if the Cl content is too high, it is a component that has a negative impact on the environment and equipment. Therefore, the preferred lower limit range of Cl is 0% or more, 0.001% or more, 0.005% or more, 0.008% or more, 0.010% or more, 0.015% or more, 0.018% or more, 0.019% or more, 0.020% or more, 0.021% or more, 0.022% or more, 0.023% or more, 0.024% or more, 0.025% or more, 0.027% or more, 0.030% or more, 0.035% or more, 0.040% or more, 0.050% or more, 0.070% or more, 0.090% or more, particularly 0.100% or more, and the preferred upper limit range is 0.3% or less, 0.2% or less, 0.17% or less, 0.15% or less, particularly 0.12% or less.

清澄剤として、上記以外にも、SO、CeOを0.001~1%添加してもよい。 In addition to the above, 0.001 to 1% of SO 3 and CeO 2 may be added as fining agents.

Feは、原料から不可避的に混入する不純物である。Feの好適な含有量は1000ppm未満(0.1%未満)、800ppm未満、600ppm未満、400ppm未満、特に300ppm未満である。Feの含有量が多過ぎると、カバーガラスの透過率が低下し易くなる。一方、Feの好適な下限範囲は、10ppm以上、20ppm以上、30ppm以上、50ppm以上、80ppm以上、特に100ppm以上である。Feの含有量が少な過ぎると、高純度原料の使用により、原料コストが高騰し易くなる。 Fe2O3 is an impurity that is inevitably mixed in from raw materials. The preferred content of Fe2O3 is less than 1000 ppm (less than 0.1%), less than 800 ppm, less than 600 ppm, less than 400 ppm, particularly less than 300 ppm. If the content of Fe2O3 is too high, the transmittance of the cover glass is likely to decrease. On the other hand, the preferred lower limit range of Fe2O3 is 10 ppm or more, 20 ppm or more, 30 ppm or more, 50 ppm or more, 80 ppm or more, particularly 100 ppm or more. If the content of Fe2O3 is too low, the raw material cost is likely to rise due to the use of high-purity raw materials.

Nd、La、Y、Nb、Ta,Hf等の希土類酸化物は、ヤング率を高める成分である。しかし、原料コストが高く、また多量に添加すると、耐失透性が低下し易くなる。よって、希土類酸化物の好適な含有量は5%以下、4%以下、3%以下、2%以下、1%以下、0.5%以下、特に0.1%以下である。 Rare earth oxides such as Nd2O3 , La2O3 , Y2O3 , Nb2O5 , Ta2O5 , and Hf2O3 are components that increase Young's modulus. However, the raw material cost is high, and adding a large amount of them tends to reduce devitrification resistance. Therefore, the preferred content of rare earth oxides is 5% or less, 4% or less, 3 % or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly 0.1% or less.

本発明の強化ガラス板(強化用ガラス板)は、環境的配慮から、ガラス組成として、実質的にAs、Sb、PbO、及びFを含有しないことが好ましい。また、環境的配慮から、実質的にBiを含有しないことも好ましい。「実質的に~を含有しない」とは、ガラス成分として積極的に明示の成分を添加しないものの、不純物レベルの添加を許容する趣旨であり、具体的には、明示の成分の含有量が0.05%未満の場合を指す。 From an environmental perspective, the tempered glass plate (glass plate to be tempered) of the present invention preferably contains, as a glass composition, substantially no As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , PbO, and F. From an environmental perspective, it is also preferable that the tempered glass plate substantially contains no Bi 2 O 3. The phrase "substantially does not contain ..." means that the specified components are not actively added as glass components, but impurity-level addition is permitted, and specifically refers to a case where the content of the specified components is less than 0.05%.

本発明の強化ガラス板(強化用ガラス板)は、以下の特性を有することが好ましい。 The tempered glass sheet (glass sheet to be tempered) of the present invention preferably has the following properties:

密度は、好ましくは2.55g/cm以下、2.53g/cm以下、2.50g/cm以下、2.49g/cm以下、2.45g/cm以下、特に2.35~2.44g/cmである。密度が低い程、強化ガラス板を軽量化することができる。なお、「密度」は、周知のアルキメデス法等で測定可能である。 The density is preferably 2.55 g/cm or less , 2.53 g/cm or less, 2.50 g/cm or less, 2.49 g/cm or less , or 2.45 g/cm or less , particularly 2.35 to 2.44 g/cm. The lower the density, the more lightweight the tempered glass sheet can be. The "density" can be measured by the well-known Archimedes method or the like.

30~380℃における熱膨張係数は、好ましくは150×10-7/℃以下、100×10-7/℃以下、特に50×10-7~95×10-7/℃である。なお、「30~380℃における熱膨張係数」は、ディラトメーターを用いて、平均熱膨張係数を測定した値を指す。 The thermal expansion coefficient at 30 to 380° C. is preferably 150×10 −7 /° C. or less, 100×10 −7 /° C. or less, particularly 50×10 −7 to 95×10 −7 /° C. Note that the "thermal expansion coefficient at 30 to 380° C." refers to a value obtained by measuring the average thermal expansion coefficient using a dilatometer.

軟化点は、好ましくは950℃以下、930℃以下、920℃以下、910℃以下、900℃以下、特に880~900℃である。軟化点が高過ぎると、熱処理による曲げ加工が困難になる。なお、「軟化点」は、ASTM C338の方法に基づいて測定した値を指す。 The softening point is preferably 950°C or less, 930°C or less, 920°C or less, 910°C or less, or 900°C or less, and particularly 880 to 900°C. If the softening point is too high, bending by heat treatment becomes difficult. Note that "softening point" refers to the value measured based on the method of ASTM C338.

高温粘度102.5dPa・sにおける温度は、好ましくは1660℃以下、1600℃未満、1590℃以下、1580℃以下、1570℃以下、1560℃以下、特に1400~1550℃が好ましい。高温粘度102.5dPa・sにおける温度が高過ぎると、溶融性や成形性が低下して、溶融ガラスを板状に成形し難くなる。なお、「高温粘度102.5dPa・sにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値を指す。 The temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa s is preferably 1660°C or lower, less than 1600°C, 1590°C or lower, 1580°C or lower, 1570°C or lower, or 1560°C or lower, particularly preferably 1400 to 1550°C. If the temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa s is too high, the melting property and formability decrease, making it difficult to form the molten glass into a plate. Note that the "temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa s" refers to a value measured by the platinum sphere pulling method.

液相粘度は、好ましくは103.74dPa・s以上、104.5dPa・s以上、104.8dPa・s以上、104.9dPa・s以上、105.0dPa・s以上、105.1dPa・s以上、105.2dPa・s以上、105.3dPa・s以上、105.4dPa・s以上、特に105.5dPa・s以上である。なお、液相粘度が高い程、耐失透性が向上し、成形時に失透ブツが発生し難くなる。ここで、「液相粘度」とは、液相温度における粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」とは、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に24時間保持した後、白金ボートを取り出し、顕微鏡観察により、ガラス内部に失透(失透ブツ)が認められた最も高い温度とする。 The liquidus viscosity is preferably 10 3.74 dPa s or more, 10 4.5 dPa s or more, 10 4.8 dPa s or more, 10 4.9 dPa s or more, 10 5.0 dPa s or more, 10 5.1 dPa s or more, 10 5.2 dPa s or more, 10 5.3 dPa s or more, 10 5.4 dPa s or more, particularly 10 5.5 dPa s or more. The higher the liquidus viscosity, the better the resistance to devitrification, and the less likely devitrification particles are to occur during molding. Here, "liquidus viscosity" refers to the value of the viscosity at the liquidus temperature measured by the platinum sphere pulling method. The "liquidus temperature" is defined as the highest temperature at which devitrification (devitrification particles) is observed inside the glass when a glass powder that passes through a standard sieve of 30 mesh (500 μm) and remains on a 50 mesh (300 μm) sieve is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours, and then the platinum boat is removed.

ヤング率は、好ましくは70GPa以上、74GPa以上、75~100GPa、特に76~90GPaである。ヤング率が低いと、板厚が薄い場合に、カバーガラスが撓み易くなる。なお、「ヤング率」は、周知の共振法で算出可能である。 The Young's modulus is preferably 70 GPa or more, 74 GPa or more, 75 to 100 GPa, and particularly 76 to 90 GPa. If the Young's modulus is low, the cover glass will be more likely to bend if the plate thickness is thin. The "Young's modulus" can be calculated using the well-known resonance method.

本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有している。最表面の圧縮応力値は、好ましくは200MPa以上、220MPa以上、250MPa以上、280MPa以上、300MPa以上、310MPa以上、特に320MPa以上である。最表面の圧縮応力値が大きい程、ビッカース硬度が高くなる。一方、表面に極端に大きな圧縮応力が形成されると、強化ガラスに内在する引っ張り応力が極端に高くなり、またイオン交換処理前後の寸法変化が大きくなる虞がある。このため、最表面の圧縮応力値は、好ましくは1200MPa以下、1100MPa以下、1000MPa以下、900MPa以下、700MPa以下、680MPa以下、650MPa以下、特に600MPa以下である。なお、イオン交換時間を短くしたり、イオン交換溶液の温度を下げれば、最表面の圧縮応力値が大きくなる傾向がある。 The tempered glass sheet of the present invention has a compressive stress layer on its surface. The compressive stress value of the outermost surface is preferably 200 MPa or more, 220 MPa or more, 250 MPa or more, 280 MPa or more, 300 MPa or more, 310 MPa or more, and particularly 320 MPa or more. The higher the compressive stress value of the outermost surface, the higher the Vickers hardness. On the other hand, if extremely large compressive stress is formed on the surface, the tensile stress inherent in the tempered glass will become extremely high, and there is a risk of significant dimensional change before and after the ion exchange treatment. For this reason, the compressive stress value of the outermost surface is preferably 1200 MPa or less, 1100 MPa or less, 1000 MPa or less, 900 MPa or less, 700 MPa or less, 680 MPa or less, 650 MPa or less, and particularly 600 MPa or less. Note that shortening the ion exchange time or lowering the temperature of the ion exchange solution tends to increase the compressive stress value of the outermost surface.

応力深さは、好ましくは50μm以上、60μm以上、80μm以上、100μm以上、110μm以上、120μm以上、130μm以上、特に140μm以上である。応力深さが深い程、スマートフォンを落下させた際に、路面の突起物や砂粒が引っ張り応力層まで到達し難くなり、カバーガラスの破損確率を低下させることが可能になる。一方、応力深さが深過ぎると、イオン交換処理前後で寸法変化が大きくなる虞がある。更に最表面の圧縮応力値が低下する傾向がある。よって、応力深さは、好ましくは200μm以下、180μm以下、特に170μm以下である。なお、イオン交換時間を長くしたり、イオン交換溶液の温度を上げたりすれば、応力深さが深くなる傾向がある。 The stress depth is preferably 50 μm or more, 60 μm or more, 80 μm or more, 100 μm or more, 110 μm or more, 120 μm or more, 130 μm or more, and particularly 140 μm or more. The deeper the stress depth, the more difficult it is for road surface protrusions and sand particles to reach the tensile stress layer when the smartphone is dropped, reducing the probability of breakage of the cover glass. On the other hand, if the stress depth is too deep, there is a risk of significant dimensional change before and after the ion exchange treatment. Furthermore, the compressive stress value of the outermost surface tends to decrease. Therefore, the stress depth is preferably 200 μm or less, 180 μm or less, and particularly 170 μm or less. Note that the stress depth tends to deepen if the ion exchange time is extended or the temperature of the ion exchange solution is increased.

深さ2.5μmにおける圧縮応力値は、好ましくは350MPa以上、360MPa以上、370MPa以上、380MPa以上、390MPa以上、400MPa以上、410MPa以上、420MPa以上、430MPa以上、440MPa以上、450MPa以上、460MPa以上、470MPa以上、480MPa以上、490MPa以上、500MPa以上、510MPa以上、520MPa以上、530MPa以上、540MPa以上、550MPa以上、特に600MPa以上である。深さ2.5μmにおける圧縮応力値が大きい程、曲げ強度が高くなる。一方、深さ2.5μmにおいて極端に大きな圧縮応力が形成されると、強化ガラス板に内在する引っ張り応力が極端に高くなる虞がある。よって、深さ2.5μmにおける圧縮応力値は、好ましくは800MPa以下、750MPa以下、730MPa以下、700MPa以下、680MPa以下、650MPa以下、640MPa以下、特に630MPa以下である。 The compressive stress value at a depth of 2.5 μm is preferably 350 MPa or more, 360 MPa or more, 370 MPa or more, 380 MPa or more, 390 MPa or more, 400 MPa or more, 410 MPa or more, 420 MPa or more, 430 MPa or more, 440 MPa or more, 450 MPa or more, 460 MPa or more, 470 MPa or more, 480 MPa or more, 490 MPa or more, 500 MPa or more, 510 MPa or more, 520 MPa or more, 530 MPa or more, 540 MPa or more, 550 MPa or more, and particularly 600 MPa or more. The higher the compressive stress value at a depth of 2.5 μm, the higher the bending strength. On the other hand, if extremely large compressive stress is formed at a depth of 2.5 μm, the tensile stress inherent in the tempered glass sheet may become extremely high. Therefore, the compressive stress value at a depth of 2.5 μm is preferably 800 MPa or less, 750 MPa or less, 730 MPa or less, 700 MPa or less, 680 MPa or less, 650 MPa or less, 640 MPa or less, and particularly 630 MPa or less.

深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値は、好ましくは85MPa以上、86MPa以上、87MPa以上、88MPa以上、89MPa以上、90MPa以上、92MPa以上、95MPa以上、98MPa以上、特に100MPa以上である。深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値が大きい程、スマートフォンを落下させた際に、路面の突起物や砂粒による割れが発生し難くなり、カバーガラスの破損確率を低下させることが可能になる。一方、深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値が極端に大きくなると、強化ガラス板に内在する引っ張り応力が極端に高くなる虞がある。このため、深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値は、好ましくは150MPa以下、140MPa以下、130MPa以下、125MPa以下、120MPa以下、115MPa以下、110MPa以下、特に105MPa以下である。 The average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm is preferably 85 MPa or more, 86 MPa or more, 87 MPa or more, 88 MPa or more, 89 MPa or more, 90 MPa or more, 92 MPa or more, 95 MPa or more, 98 MPa or more, and particularly 100 MPa or more. The higher the average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm, the less likely the smartphone will crack due to road surface protrusions or sand particles when dropped, reducing the probability of breakage of the cover glass. On the other hand, if the average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm becomes extremely high, the tensile stress inherent in the tempered glass sheet may become extremely high. For this reason, the average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm is preferably 150 MPa or less, 140 MPa or less, 130 MPa or less, 125 MPa or less, 120 MPa or less, 115 MPa or less, 110 MPa or less, and particularly 105 MPa or less.

本発明の強化ガラス板において、板厚は、好ましくは2.0mm以下、1.5mm以下、1.3mm以下、1.1mm以下、1.0mm以下、0.9mm以下、特に0.8mm以下である。板厚が小さい程、強化ガラス板を軽量化することができる。一方、板厚が薄過ぎると、所望の機械的強度を得難くなる。よって、板厚は、好ましくは0.3mm以上、0.4mm以上、0.5mm以上、0.6mm以上、特に0.7mm以上である。 The tempered glass sheet of the present invention preferably has a thickness of 2.0 mm or less, 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 1.0 mm or less, 0.9 mm or less, and particularly 0.8 mm or less. The smaller the thickness, the lighter the tempered glass sheet can be. On the other hand, if the thickness is too thin, it becomes difficult to obtain the desired mechanical strength. Therefore, the thickness is preferably 0.3 mm or more, 0.4 mm or more, 0.5 mm or more, 0.6 mm or more, and particularly 0.7 mm or more.

本発明の強化ガラス板の製造方法は、上記のガラス組成となるように作製した強化用ガラス板を用意する準備工程と、該強化用ガラス板に対して、複数回のイオン交換処理を行い、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板を得るイオン交換工程と、を備えることを特徴とする。なお、本発明の強化ガラス板の製造方法は、複数回のイオン交換処理を行うことを特徴にしているが、本発明の強化ガラス板は、複数回のイオン交換処理が行われている場合のみならず、1回だけイオン交換処理が行われている場合も包含するものとする。 The method for manufacturing a tempered glass sheet of the present invention is characterized by comprising: a preparation step of preparing a glass sheet to be tempered that has the above-described glass composition; and an ion exchange step of subjecting the glass sheet to be tempered to multiple ion exchange treatments to obtain a tempered glass sheet having a compressive stress layer on its surface. While the method for manufacturing a tempered glass sheet of the present invention is characterized by performing multiple ion exchange treatments, the tempered glass sheet of the present invention encompasses not only glass sheets that have undergone multiple ion exchange treatments, but also glass sheets that have undergone only one ion exchange treatment.

本発明に係る強化用ガラスを製造する方法は、例えば、以下の通りである。まず所望のガラス組成になるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入して、1400~1700℃で加熱溶融し、清澄した後、溶融ガラスを成形装置に供給した上で板状に成形し、冷却することが好ましい。板状に成形した後に、所定寸法に切断加工する方法は、周知の方法を採用することができる。 The method for producing tempered glass according to the present invention is, for example, as follows. First, glass raw materials prepared to obtain the desired glass composition are charged into a continuous melting furnace, where they are heated and melted at 1400 to 1700°C. After clarification, the molten glass is preferably supplied to a forming device, formed into a sheet, and cooled. After forming into a sheet, the glass can be cut to the desired dimensions using well-known methods.

溶融ガラスを板状に成形する方法として、オーバーフローダウンドロー法が好ましい。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は成形体耐火物の表面に接触せず、自由表面の状態で板状に成形される。このため、未研磨でありながら、表面品位が良好なガラス板を安価に製造することができる。更に、オーバーフローダウンドロー法では、成形体耐火物として、アルミナ系耐火物やジルコニア系耐火物が使用される。そして、本発明の強化ガラス板(強化用ガラス板)は、アルミナ系耐火物やジルコニア系耐火物(特にアルミナ系耐火物)との適合性が良好であるため、これらの耐火物と反応して泡やブツ等を発生させ難い性質を有する。 The overflow downdraw method is a preferred method for forming molten glass into a sheet. In the overflow downdraw method, the surface that will become the glass sheet does not come into contact with the surface of the refractory molding, and is formed into a sheet in a free surface state. This makes it possible to inexpensively produce unpolished glass sheets with good surface quality. Furthermore, in the overflow downdraw method, alumina-based refractories or zirconia-based refractories are used as the refractory molding. The tempered glass sheet (glass sheet to be tempered) of the present invention has good compatibility with alumina-based refractories and zirconia-based refractories (particularly alumina-based refractories), and therefore is less likely to react with these refractories to produce bubbles, pimples, etc.

オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法を採用することができる。例えば、フロート法、ダウンドロー法(スロットダウンドロー法、リドロー法等)、ロールアウト法、プレス法等の成形方法を採用することができる。 In addition to the overflow downdraw method, various other forming methods can be used. For example, the float method, downdraw method (slot downdraw method, redraw method, etc.), rollout method, press method, etc. can be used.

溶融ガラスの成形時に、溶融ガラスの徐冷点から歪点の間の温度域を3℃/分以上、且つ1000℃/分未満の冷却速度で冷却することが好ましく、その冷却速度の下限範囲は、好ましくは10℃/分以上、20℃/分以上、30℃/分以上、特に50℃/分以上であり、上限範囲は、好ましくは1000℃/分未満、500℃/分未満、特に300℃/分未満である。冷却速度を速過ぎると、ガラスの構造が粗になり、イオン交換処理後にビッカース硬度を高めることが困難になる。一方、冷却速度が遅過ぎると、ガラス板の生産効率が低下してしまう。 When forming the molten glass, it is preferable to cool the molten glass through the temperature range between the annealing point and the strain point at a cooling rate of at least 3°C/min and less than 1000°C/min. The lower limit of the cooling rate is preferably at least 10°C/min, at least 20°C/min, at least 30°C/min, and particularly at least 50°C/min, and the upper limit is preferably less than 1000°C/min, less than 500°C/min, and particularly less than 300°C/min. If the cooling rate is too fast, the glass structure will become coarse, making it difficult to increase the Vickers hardness after ion exchange treatment. On the other hand, if the cooling rate is too slow, the production efficiency of glass sheets will decrease.

本発明の強化ガラス板の製造方法では、複数回のイオン交換処理を行う。複数回のイオン交換処理として、KNO溶融塩を含む溶融塩に浸漬させるイオン交換処理を行った後、NaNO溶融塩を含む溶融塩に浸漬させるイオン交換処理を行うことが好ましい。このようにすれば、深い応力深さを確保しながら、最表面の圧縮応力値を高めることができる。 In the method for producing a tempered glass sheet of the present invention, multiple ion exchange treatments are performed. Preferably, the multiple ion exchange treatments include immersion in a molten salt containing KNO3 , followed by immersion in a molten salt containing NaNO3 . This allows for an increase in the compressive stress value of the outermost surface while ensuring a deep stress depth.

特に、本発明の強化ガラス板の製造方法では、NaNO溶融塩又はNaNOとKNOの混合溶融塩に浸漬させるイオン交換処理(第1のイオン交換工程)を行った後、KNOとLiNOの混合溶融塩に浸漬させるイオン交換処理(第2のイオン交換工程)を行うことが好ましい。このようにすれば、図1に示す非単調の応力プロファイル、つまり少なくとも第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有する応力プロファイルを形成することができる。結果として、スマートフォンを落下させた際のカバーガラスの破損確率を大幅に低下させることが可能になる。 In particular, in the method for producing a tempered glass sheet of the present invention, it is preferable to perform an ion exchange treatment (first ion exchange step) by immersing the glass in a NaNO3 molten salt or a mixed molten salt of NaNO3 and KNO3 , followed by an ion exchange treatment (second ion exchange step) by immersing the glass in a mixed molten salt of KNO3 and LiNO3. This makes it possible to form the non-monotonic stress profile shown in Figure 1, i.e., a stress profile having at least a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom. As a result, it is possible to significantly reduce the probability of breakage of the cover glass when the smartphone is dropped.

第1のイオン交換工程では、ガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンがイオン交換し、NaNOとKNOの混合溶融塩を用いる場合、更にガラス中に含まれるNaイオンと溶融塩中のKイオンがイオン交換する。ここで、ガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンのイオン交換は、ガラス中に含まれるNaイオンと溶融塩中のKイオンのイオン交換よりもスピードが速く、イオン交換の効率が高い。第2のイオン交換工程では、ガラス表面近傍(最表面から板厚の20%までの浅い領域)におけるNaイオンと溶融塩中のLiイオンがイオン交換し、加えてガラス表面近傍(最表面から板厚の20%までの浅い領域)におけるNaイオンと溶融塩中のKイオンがイオン交換する。すなわち、第2のイオン交換工程では、ガラス表面近傍におけるNaイオンを離脱させつつ、イオン半径の大きいKイオンを導入することができる。結果として、深い応力深さを維持しながら、最表面の圧縮応力値を高めることができる。 In the first ion exchange process, Li ions contained in the glass undergo ion exchange with Na ions in the molten salt. When a mixed molten salt of NaNO3 and KNO3 is used, Na ions contained in the glass also undergo ion exchange with K ions in the molten salt. Here, the ion exchange between Li ions contained in the glass and Na ions in the molten salt is faster and more efficient than the ion exchange between Na ions contained in the glass and K ions in the molten salt. In the second ion exchange process, Na ions in the vicinity of the glass surface (a shallow region from the outermost surface to 20% of the plate thickness) undergo ion exchange with Li ions in the molten salt. Additionally, Na ions in the vicinity of the glass surface (a shallow region from the outermost surface to 20% of the plate thickness) also undergo ion exchange with K ions in the molten salt. That is, in the second ion exchange process, Na ions in the vicinity of the glass surface can be removed while K ions with a large ionic radius can be introduced. As a result, the compressive stress value of the outermost surface can be increased while maintaining a deep stress depth.

第1のイオン交換工程では、溶融塩の温度は360~400℃が好ましく、イオン交換時間は30分~6時間が好ましい。第2のイオン交換工程では、イオン交換溶液の温度は370~400℃が好ましく、イオン交換時間は15分~3時間が好ましい。 In the first ion exchange process, the temperature of the molten salt is preferably 360 to 400°C, and the ion exchange time is preferably 30 minutes to 6 hours. In the second ion exchange process, the temperature of the ion exchange solution is preferably 370 to 400°C, and the ion exchange time is preferably 15 minutes to 3 hours.

非単調の応力プロファイルを形成する上で、第1のイオン交換工程で用いるNaNOとKNOの混合溶融塩では、NaNOの濃度がKNOの濃度よりも高いことが好ましく、第2のイオン交換工程で用いるKNOとLiNOの混合溶融塩では、KNOの濃度がLiNOの濃度よりも高いことが好ましい。 In order to form a non-monotonic stress profile, it is preferable that the NaNO3 concentration be higher than the KNO3 concentration in the mixed molten salt of NaNO3 and KNO3 used in the first ion exchange step, and it is preferable that the KNO3 concentration be higher than the LiNO3 concentration in the mixed molten salt of KNO3 and LiNO3 used in the second ion exchange step.

第1のイオン交換工程で用いるNaNOとKNOの混合溶融塩において、KNOの濃度は、好ましくは0質量%以上、0.5質量%以上、1質量%以上、5質量%以上、7質量%以上、10質量%以上、15質量%以上、特に20~90質量%である。KNOの濃度が高過ぎると、ガラス中に含まれるLiイオンと溶融塩中のNaイオンがイオン交換する際に形成される圧縮応力値が低下し過ぎる虞がある。また、KNOの濃度が低過ぎると、表面応力計による応力測定が困難になる虞がある。 In the mixed molten salt of NaNO3 and KNO3 used in the first ion exchange step, the KNO3 concentration is preferably 0 mass% or more, 0.5 mass% or more, 1 mass% or more, 5 mass% or more, 7 mass% or more, 10 mass% or more, 15 mass% or more, and particularly 20 to 90 mass%. If the KNO3 concentration is too high, the compressive stress value formed during ion exchange between Li ions contained in the glass and Na ions in the molten salt may be too low. On the other hand, if the KNO3 concentration is too low, stress measurement using a surface stress meter may become difficult.

第2のイオン交換工程で用いるKNOとLiNOの混合溶融塩において、LiNOの濃度は、好ましくは0超~5質量%、0超~3質量%、0超~2質量%、特に0.1~1質量%である。LiNOの濃度が低過ぎると、ガラス表面近傍におけるNaイオンが離脱し難くなる。一方、LiNOの濃度が高過ぎると、ガラス表面近傍におけるNaイオンと溶融塩中のKイオンのイオン交換によって形成される圧縮応力値が低下し過ぎる虞がある。 In the mixed molten salt of KNO3 and LiNO3 used in the second ion exchange step, the LiNO3 concentration is preferably greater than 0 to 5 mass%, greater than 0 to 3 mass%, greater than 0 to 2 mass%, and particularly 0.1 to 1 mass%. If the LiNO3 concentration is too low, Na ions near the glass surface are less likely to be released. On the other hand, if the LiNO3 concentration is too high, there is a risk that the compressive stress value formed by ion exchange between Na ions near the glass surface and K ions in the molten salt will be too low.

以下、実施例に基づいて、本発明を説明する。なお、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 The present invention will be described below based on examples. Please note that the following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples in any way.

表1は、本発明の実施例(試料No.1~8及びNo.12)のガラス組成とガラス特性を示している。また、表2は、本発明の比較例(試料No.9~11)のガラス組成とガラス特性を示している。なお、表中で「N.A.」は未測定を意味しており、「(LiO+NaO+KO)/Al」は、モル比([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]を意味しており、「(Si+P+B)/((100Sn)×(Al+Li+Na+K+Mg+Ca+Sr+Ba+Zn))」は、モル比([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))を意味している。 Table 1 shows the glass compositions and glass properties of examples of the present invention (samples Nos. 1 to 8 and 12), and Table 2 shows the glass compositions and glass properties of comparative examples of the present invention (samples Nos. 9 to 11). In the table, "N.A." means not measured, "(Li 2 O + Na 2 O + K 2 O)/Al 2 O 3 " means the molar ratio ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ], and "(Si + P + B)/((100Sn) × (Al + Li + Na + K + Mg + Ca + Sr + Ba + Zn))" means the molar ratio ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100 × [SnO 2 ]) × ([Al 2 O 3 ] + [Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O ]) . O] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO]).

次のようにして表中の各試料を作製した。まず表中のガラス組成になるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて1600℃で21時間溶融した。続いて、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して、平板形状に成形した後、徐冷点から歪点の間の温度域を3℃/分で冷却し、ガラス板(強化用ガラス板)を得た。得られたガラス板について、板厚が1.5mmになるように表面を光学研磨した後、種々の特性を評価した。 Each sample in the table was prepared as follows. First, glass raw materials were mixed to achieve the glass composition shown in the table, and melted in a platinum pot at 1600°C for 21 hours. The resulting molten glass was then poured onto a carbon plate and formed into a flat plate. It was then cooled at 3°C/min through the temperature range from the annealing point to the strain point to obtain a glass plate (glass plate to be tempered). The surface of the resulting glass plate was optically polished to a thickness of 1.5 mm, and various properties were evaluated.

密度(ρ)は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。 Density (ρ) is a value measured using the well-known Archimedes method.

30~380℃における熱膨張係数(α30-380℃)は、ディラトメーターを用いて、平均熱膨張係数を測定した値である。 The thermal expansion coefficient in the range of 30 to 380° C. (α 30-380° C. ) is a value obtained by measuring the average thermal expansion coefficient using a dilatometer.

高温粘度102.5dPa・sにおける温度(102.5dPa・s)は、白金球引き上げ法で測定した値である。 The temperature at which the high-temperature viscosity is 10 2.5 dPa·s (10 2.5 dPa·s) is a value measured by the platinum sphere pull-up method.

軟化点(Ts)は、ASTM C338の方法に基づいて測定した値である。 The softening point (Ts) was measured according to the ASTM C338 method.

液相温度(TL)は、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に24時間保持した後、白金ボートを取り出し、顕微鏡観察により、ガラス内部に失透(失透ブツ)が認められた最も高い温度とした。液相粘度(logη at TL)は、液相温度における粘度を白金球引き上げ法で測定した値であり、対数を取ってlogηで示したものである。 The liquidus temperature (TL) was determined by placing glass powder that passed through a standard 30 mesh (500 μm) sieve and remained on the 50 mesh (300 μm) sieve in a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. The platinum boat was then removed and observed under a microscope. This was the highest temperature at which devitrification (devitrification particles) was observed inside the glass. The liquidus viscosity (logη at TL) was the viscosity at the liquidus temperature measured using the platinum sphere pull-up method, and is expressed as logη by taking the logarithm.

耐酸性試験は、測定試料として50×10×1.0mmの寸法に両面鏡面研磨加工したガラス試料を用い、中性洗剤及び純水で十分に洗浄した後、80℃に加温した5質量%HCl水溶液に24時間浸漬させると共に、浸漬前後の単位表面積当たりの質量損失(mg/cm)を算出することで評価したものである。 The acid resistance test was carried out by using a glass sample having dimensions of 50 × 10 × 1.0 mm and mirror polished on both sides as a measurement sample, thoroughly washing it with a neutral detergent and pure water, and then immersing it in a 5% by mass HCl aqueous solution heated to 80°C for 24 hours, and calculating the mass loss per unit surface area (mg/cm 2 ) before and after immersion.

耐アルカリ性試験は、測定試料として50×10×1.0mmの寸法に両面鏡面研磨加工したガラス試料を用い、中性洗剤及び純水で十分に洗浄した後、80℃に加温した5質量%NaOH水溶液に6時間浸漬させると共に、浸漬前後の単位表面積当たりの質量損失(mg/cm)を算出することで評価したものである。 The alkali resistance test was carried out by using a glass sample having dimensions of 50 × 10 × 1.0 mm and mirror polished on both sides as a measurement sample, thoroughly washing it with a neutral detergent and pure water, and then immersing it in a 5 mass % NaOH aqueous solution heated to 80°C for 6 hours, and calculating the mass loss per unit surface area (mg/cm 2 ) before and after immersion.

ヤング率(E)は、JIS R1602-1995「ファインセラミックスの弾性率試験方法」に準拠した方法で算出したものである。 Young's modulus (E) was calculated using a method in accordance with JIS R1602-1995 "Testing method for elastic modulus of fine ceramics."

続いて、430℃のKNO溶融塩中に、各ガラス板を4時間浸漬することにより、イオン交換処理を行い、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板を得た後、ガラス表面を洗浄した上で、表面応力計FSM-6000(株式会社折原製作所製)を用いて観察される干渉縞の本数とその間隔から最表面の圧縮応力層の圧縮応力値(CS)と応力深さ(DOL_ZERO)を算出した。ここで、DOL_ZEROは、圧縮応力値がゼロになる深さである。なお、応力特性の算出に当たり、各試料の屈折率を1.51、光学弾性定数を29.0[(nm/cm)/MPa]とした。 Subsequently, each glass plate was immersed in a KNO 3 molten salt at 430 ° C. for 4 hours to perform an ion exchange treatment to obtain a tempered glass plate having a compressive stress layer on the surface. After cleaning the glass surface, the compressive stress value (CS K ) and stress depth (DOL_ZERO K ) of the compressive stress layer on the outermost surface were calculated from the number and spacing of interference fringes observed using a surface stress meter FSM- 6000 (manufactured by Orihara Seisakusho Co., Ltd.). Here, DOL_ZERO K is the depth at which the compressive stress value becomes zero. In calculating the stress characteristics, the refractive index of each sample was 1.51 and the optical elastic constant was 29.0 [(nm / cm) / MPa].

また、380℃のNaNO溶融塩中に、各ガラス板を1時間浸漬することにより、イオン交換処理を行い、強化ガラス板を得た後、ガラス表面を洗浄した上で、散乱光光弾性応力計SLP-1000(株式会社折原製作所製)を用いて観察される位相差分布曲線から最表面の圧縮応力値(CSNa)と応力深さ(DOL_ZERONa)を算出した。ここで、DOL_ZERONaは、応力値がゼロになる深さである。なお、応力特性の算出に当たり、各試料の屈折率を1.51、光学弾性定数を29.0[(nm/cm)/MPa]とした。 In addition, each glass plate was immersed in a 380 ° C. NaNO 3 molten salt for 1 hour to perform an ion exchange treatment to obtain a tempered glass plate. After cleaning the glass surface, the outermost surface compressive stress value (CS Na ) and stress depth (DOL_ZERO Na ) were calculated from the phase difference distribution curve observed using a scattered light photoelastic stress meter SLP-1000 (manufactured by Orihara Seisakusho Co., Ltd.). Here, DOL_ZERO Na is the depth at which the stress value becomes zero. In calculating the stress characteristics, the refractive index of each sample was 1.51 and the photoelastic constant was 29.0 [(nm / cm) / MPa].

また、各ガラス板を2~5.6mmのサイズに粉砕、分級した後、1650℃まで昇温し、溶融ガラスを直接観察(High Temperature Observation;HTO)した際に、75μm以上の泡が観察されなかったものについて、清澄性の評価を「〇」とし、それ以外のものについて、清澄性の評価を「△」とした。 Furthermore, each glass plate was crushed and classified into sizes between 2 and 5.6 mm, and then heated to 1650°C. The molten glass was directly observed (High Temperature Observation; HTO). If no bubbles of 75 μm or larger were observed, the clarity was rated as "Good." Otherwise, the clarity was rated as "Good."

表1から明らかなように、試料No.1~8及びNo.12は、モル比([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]が大きいため、KNO溶融塩でイオン交換処理した場合、圧縮応力層の圧縮応力値(CS)が1090MPa以上であり、更にNaNO溶融塩でイオン交換処理した場合、最表面の圧縮応力層の圧縮応力値(CSNa)が279MPa以上であった。 As is clear from Table 1, samples No. 1 to 8 and No. 12 had a large molar ratio ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ], and therefore when subjected to ion exchange treatment with KNO 3 molten salt, the compressive stress value (CS K ) of the compressive stress layer was 1090 MPa or more, and when further subjected to ion exchange treatment with NaNO 3 molten salt, the compressive stress value (CS Na ) of the outermost compressive stress layer was 279 MPa or more.

そして、表1から明らかなように、試料No.1~8及びNo.12は、モル比([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))が0.40以上であるため、清澄性の評価が良好であった。 As is clear from Table 1, Samples No. 1 to 8 and No. 12 had a molar ratio ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100 × [SnO 2 ]) × ([Al 2 O 3 ] + [Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO])) of 0.40 or more, and therefore were evaluated as having good clarity.

一方、表2から明らかなように、試料No.9、10は、モル比([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]が0.86未満であるため、実施例の各試料に比べて圧縮応力層の圧縮応力値(CS)が低かった。また、試料No.11は、モル比([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))が0.40未満であるため、清澄性の評価が不良であった。 On the other hand, as is clear from Table 2, Samples No. 9 and 10 had a molar ratio ([ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ])/ [ Al2O3 ] of less than 0.86 , and therefore had lower compressive stress values (CS K ) of the compressive stress layer than the samples of the Examples. Also, Sample No. 11 had a molar ratio ([ SiO2 ] + [ B2O3 ] + [ P2O5 ])/((100 × [ SnO2 ]) × ([ Al2O3 ] + [ Li2O ] + [ Na2O ] + [ K2O ] + [ MgO ] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO])) of less than 0.40, and therefore the evaluation of clarity was poor.

まず表1の試料No.1及びNo.6のガラス組成になるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて1600℃で21時間溶融した。続いて、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して、平板形状に成形した後、徐冷点から歪点の間の温度域を3℃/分で冷却し、ガラス板(強化用ガラス板)を得た。得られたガラス板は板厚0.7mmになるように表面を光学研磨した。 First, glass raw materials were mixed to obtain the glass compositions of Samples No. 1 and No. 6 in Table 1, and melted in a platinum pot at 1600°C for 21 hours. The resulting molten glass was then poured onto a carbon plate and formed into a flat plate. It was then cooled at 3°C/min through the temperature range from the annealing point to the strain point to obtain a glass plate (glass plate to be tempered). The surface of the resulting glass plate was optically polished to a thickness of 0.7 mm.

得られた強化用ガラス板を380℃のNaNO溶融塩中(NaNOの濃度100質量%)に3時間浸漬することによりイオン交換処理を行った後、380℃のKNOとLiNO混合溶融塩中(LiNOの濃度2.5質量%)に75分間浸漬することによりイオン交換処理を行った。更に、得られた強化ガラス板の表面を洗浄した上で、散乱光光弾性応力計SLP-1000(株式会社折原製作所製)及び表面応力計FSM-6000(株式会社折原製作所製)を用いて強化ガラス板の応力プロファイルを測定したところ、何れも図1と同様の非単調の応力プロファイル、つまり第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有する応力プロファイルが得られた。 The obtained tempered glass sheet was subjected to an ion exchange treatment by immersing it in a NaNO 3 molten salt (NaNO 3 concentration 100% by mass) at 380 ° C for 3 hours, and then immersed in a mixed molten salt of KNO 3 and LiNO 3 (LiNO 3 concentration 2.5% by mass) at 380 ° C for 75 minutes. Furthermore, after cleaning the surface of the obtained tempered glass sheet, the stress profile of the tempered glass sheet was measured using a scattered light photoelastic stress meter SLP-1000 (manufactured by Orihara Corporation) and a surface stress meter FSM-6000 (manufactured by Orihara Corporation). In both cases, a non-monotonic stress profile similar to that shown in FIG. 1, that is, a stress profile having a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom, was obtained.

まず表1の試料No.6、9及び12のガラス組成になるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて1600℃で21時間溶融した。続いて、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して、平板形状に成形した後、徐冷点から歪点の間の温度域を3℃/分で冷却し、ガラス板(強化用ガラス板)を得た。得られたガラス板は板厚0.8mmになるように表面を光学研磨した。 First, glass raw materials were mixed to obtain the glass compositions of Samples No. 6, 9, and 12 in Table 1, and melted in a platinum pot at 1600°C for 21 hours. The resulting molten glass was then poured onto a carbon plate and formed into a flat plate. It was then cooled at 3°C/min through the temperature range from the annealing point to the strain point to obtain a glass plate (glass plate to be tempered). The surface of the resulting glass plate was optically polished to a thickness of 0.8 mm.

得られた強化用ガラス板を380℃のKNOとNaNO混合溶融塩中(NaNOの濃度60質量%)に3時間浸漬することによりイオン交換処理を行った後、380℃のKNOとLiNO混合溶融塩中(LiNOの濃度1.0質量%)に30分間浸漬することによりイオン交換処理(条件A)を行った。更に、得られた強化ガラス板の表面を洗浄した上で、散乱光光弾性応力計SLP-1000(株式会社折原製作所製)及び表面応力計FSM-6000(株式会社折原製作所製)を用いて強化ガラス板の応力プロファイルを測定したところ、何れも図2に示す非単調の応力プロファイルが得られた。 The obtained tempered glass sheet was subjected to an ion exchange treatment by immersing it in a mixed molten salt of KNO3 and NaNO3 ( NaNO3 concentration 60% by mass) at 380 ° C for 3 hours, and then ion exchange treatment (condition A) was performed by immersing it in a mixed molten salt of KNO3 and LiNO3 ( LiNO3 concentration 1.0% by mass) at 380 ° C for 30 minutes. Furthermore, after cleaning the surface of the obtained tempered glass sheet, the stress profile of the tempered glass sheet was measured using a scattered light photoelastic stress meter SLP-1000 (manufactured by Orihara Corporation) and a surface stress meter FSM-6000 (manufactured by Orihara Corporation). In both cases, the non-monotonic stress profile shown in Figure 2 was obtained.

得られた強化用ガラス板を380℃のKNOとNaNO混合溶融塩中(NaNOの濃度60質量%)に3時間浸漬することによりイオン交換処理を行った後、380℃のKNOとNaNOとLiNO混合溶融塩中(NaNOの濃度4.0質量%、LiNOの濃度1.0質量%)に45分間浸漬することによりイオン交換処理(条件B)を行った。更に、得られた強化ガラス板の表面を洗浄した上で、散乱光光弾性応力計SLP-1000(株式会社折原製作所製)及び表面応力計FSM-6000(株式会社折原製作所製)を用いて強化ガラス板の応力プロファイルを測定したところ、何れも図3に示す非単調の応力プロファイルが得られた。 The obtained tempered glass plate was subjected to an ion exchange treatment by immersing it in a mixed molten salt of KNO3 and NaNO3 ( NaNO3 concentration 60% by mass) at 380 ° C. for 3 hours, and then immersed in a mixed molten salt of KNO3, NaNO3 and LiNO3 ( NaNO3 concentration 4.0% by mass, LiNO3 concentration 1.0% by mass) at 380 ° C. for 45 minutes to perform an ion exchange treatment (condition B). Furthermore, after cleaning the surface of the obtained tempered glass plate, the stress profile of the tempered glass plate was measured using a scattered light photoelastic stress meter SLP-1000 (manufactured by Orihara Seisakusho Co., Ltd.) and a surface stress meter FSM-6000 (manufactured by Orihara Seisakusho Co., Ltd.). In both cases, the non-monotonic stress profile shown in FIG. 3 was obtained.

表3は、各試料の応力プロファイルの最表面の圧縮応力値(CS)、応力深さ(DOC)、深さ2.5μmにおける圧縮応力値(CS2.5)、及び深さ30~45μmにおける圧縮応力の平均値(CS30‐45)、を示している。 Table 3 shows the compressive stress value (CS) at the outermost surface of the stress profile of each sample, the stress depth (DOC), the compressive stress value at a depth of 2.5 μm (CS 2.5 ), and the average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm (CS 30-45 ).

図3、図4、表3から明らかなように、試料No.6、12は、条件A、Bでイオン交換した後の応力プロファイルにおいてCS2.5が350MPa以上、且つCS30‐45が85MPa以上であるため、曲げ強度が高く、且つ落下強度も高いと考えられる。一方、試料No.9は、条件A、B後の応力プロファイルにおいてCS30‐45が85MPa未満であるため、落下強度が低いと考えられる。 As is clear from Figures 3 and 4 and Table 3, Samples No. 6 and 12 are considered to have high bending strength and high drop strength because CS2.5 is 350 MPa or more and CS30-45 is 85 MPa or more in the stress profiles after ion exchange under Conditions A and B. On the other hand, Sample No. 9 is considered to have low drop strength because CS30-45 is less than 85 MPa in the stress profiles after ion exchange under Conditions A and B.

本発明の強化ガラス板は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)等のタッチパネルディスプレイのカバーガラスとして好適である。また、本発明の強化ガラス板は、これらの用途以外にも、高い機械的強度が要求される用途、例えば窓ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板、フレキシブルディスプレイ用基板、太陽電池用カバーガラス、固体撮像素子用カバーガラス、車載用カバーガラスへの応用が期待される。 The tempered glass sheet of the present invention is suitable as a cover glass for touch panel displays in mobile phones, digital cameras, PDAs (personal digital assistants), and the like. In addition to these applications, the tempered glass sheet of the present invention is also expected to be used in applications requiring high mechanical strength, such as window glass, magnetic disk substrates, flat panel display substrates, flexible display substrates, solar cell cover glass, solid-state imaging device cover glass, and automotive cover glass.

Claims (18)

表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 16~25%、B 0.1~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であり、圧縮応力層の応力深さが50~200μmであることを特徴とする強化ガラス板。 A tempered glass plate having a compressive stress layer on a surface thereof contains, in mole percent, 40 to 80% SiO 2 , 16 to 25% Al 2 O 3 , 0.1 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.30% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, wherein ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40, and the stress depth of the compressive stress layer is 50 to 200 μm. の含有量が0.1~3モル%を特徴とする請求項1に記載の強化ガラス板。 2. The tempered glass sheet according to claim 1, wherein the content of B 2 O 3 is 0.1 to 3 mol %. SnOの含有量が0.045モル%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の強化ガラス板。 3. The tempered glass sheet according to claim 1, wherein the SnO2 content is 0.045 mol% or less. Clの含有量が0.100~0.3モル%であることを特徴とする請求項1~3の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the Cl content is 0.100 to 0.3 mol%. 表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 16~25%、B 0.1~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.045%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ圧縮応力層の応力深さが50~200μmであることを特徴とする強化ガラス板。 A tempered glass plate having a compressive stress layer on its surface contains, as a glass composition, in mole %, 40 to 80% SiO 2 , 16 to 25% Al 2 O 3 , 0.1 to 10% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.045% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, and the relationship between the mole fractions of the tempered glass and the compressive stress layer is expressed as ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O ])/((100 × [SnO 2 ]) × ([Al 2 O 3 ] + [Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O] + [MgO] + [CaO] + [SrO] + [BaO] + [ZnO])) ≥ 0.40, ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ] ≥ 0.86, and the stress depth of the compressive stress layer is 50 to 200 μm. 表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板において、ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 16~25%、B 0.1~3%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40であり、且つ圧縮応力層の応力深さが50~200μmであることを特徴とする強化ガラス板。 A tempered glass plate having a compressive stress layer on a surface thereof contains, in mole percent, 40 to 80% SiO 2 , 16 to 25% Al 2 O 3 , 0.1 to 3% B 2 O 3 , 3 to 15% Li 2 O , 1 to 21% Na 2 O , 0 to 10% K 2 O , 0 to 10% MgO , 0 to 10% ZnO , 0 to 15% P 2 O , 0.001 to 0.30% SnO 2 , and 0.02 to 0.3% Cl, and the relationship ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O ] is ≧0.86, and ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40, and the stress depth of the compressive stress layer is 50 to 200 μm. の含有量が2.5モル%以上であることを特徴とする請求項1~6の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass plate according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the P 2 O 5 content is 2.5 mol % or more. Feの含有量が0.001~0.1モル%であることを特徴とする請求項1~7の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the Fe 2 O 3 content is 0.001 to 0.1 mol%. TiOの含有量が0.001~0.1モル%であることを特徴とする請求項1~8の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass plate according to any one of claims 1 to 8, characterized in that the content of TiO2 is 0.001 to 0.1 mol%. 圧縮応力層の最表面の圧縮応力値が200~1200MPaであることを特徴とする請求項1~9の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the compressive stress value of the outermost surface of the compressive stress layer is 200 to 1200 MPa. 圧縮応力層の応力深さが100~200μmであることを特徴とする請求項1~10の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 10, characterized in that the stress depth of the compressive stress layer is 100 to 200 μm. 深さ2.5μmにおける圧縮応力値が350MPa以上であることを特徴とする請求項1~11の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 11, characterized in that the compressive stress value at a depth of 2.5 μm is 350 MPa or more. 深さ30~45μmにおける平均圧縮応力値が85MPa以上であることを特徴とする請求項1~12の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 12, characterized in that the average compressive stress value at a depth of 30 to 45 μm is 85 MPa or more. 高温粘度102.5dPa・sにおける温度が1650℃未満であることを特徴とする請求項1~13の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 13, characterized in that the temperature at a high-temperature viscosity of 10 2.5 dPa·s is lower than 1650°C. 板厚方向の中央部にオーバーフロー合流面を有することを特徴とする請求項1~14の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 14, characterized in that it has an overflow confluence surface at the center in the sheet thickness direction. タッチパネルディスプレイのカバーガラスに用いることを特徴とする請求項1~15の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 15, characterized in that it is used as a cover glass for a touch panel display. 厚み方向の応力プロファイルが、少なくとも第1ピーク、第2ピーク、第1ボトム、第2ボトムを有することを特徴とする請求項1~16の何れか一項に記載の強化ガラス板。 The tempered glass sheet according to any one of claims 1 to 16, characterized in that the stress profile in the thickness direction has at least a first peak, a second peak, a first bottom, and a second bottom. ガラス組成として、モル%で、SiO 40~80%、Al 16~25%、B 0.1~10%、LiO 3~15%、NaO 1~21%、KO 0~10%、MgO 0~10%、ZnO 0~10%、P 0~15%、SnO 0.001~0.30%、Cl 0.02~0.3%を含有し、([LiO]+[NaO]+[KO])/[Al]≧0.86であり、且つ([SiO]+[B]+[P])/((100×[SnO])×([Al]+[LiO]+[NaO]+[KO]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40である強化用ガラス板を用意する準備工程と、該強化用ガラス板に対して、複数回のイオン交換処理を行い、表面に応力深さ50~200μmの圧縮応力層を有する強化ガラス板を得るイオン交換工程と、を備えることを特徴とする強化ガラス板の製造方法。 The glass composition contains, in mole percent, SiO 2 40-80%, Al 2 O 3 16-25 %, B 2 O 3 0.1-10 %, Li 2 O 3-15%, Na 2 O 1-21%, K 2 O 0-10%, MgO 0-10%, ZnO 0-10%, P 2 O 5 0-15%, SnO 2 0.001-0.30%, and Cl 0.02-0.3%, and the relationship ([Li 2 O] + [Na 2 O] + [K 2 O])/[Al 2 O 3 ]≧0.86 is satisfied, and the relationship ([SiO 2 ] + [B 2 O 3 ] + [P 2 O 5 ])/((100×[SnO 2 ])×([Al 2 O 3 ]+[Li 2 O]+[Na 2 O]+[K 2 O]+[MgO]+[CaO]+[SrO]+[BaO]+[ZnO]))≧0.40; and an ion exchange process of performing ion exchange treatment on the glass plate to be tempered multiple times to obtain a tempered glass plate having a compressive stress layer on its surface with a stress depth of 50 to 200 μm.
JP2021036303A 2020-11-09 2021-03-08 Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering Active JP7716038B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2021/037138 WO2022097416A1 (en) 2020-11-09 2021-10-07 Toughened glass plate, method for manufacturing toughened glass plate, and glass plate to be toughened
KR1020237017753A KR102941426B1 (en) 2020-11-09 2021-10-07 Tempered glass plate, method for manufacturing a tempered glass plate, and glass plate for tempering
CN202180072995.0A CN116348425B (en) 2020-11-09 2021-10-07 Tempered glass sheet, method for producing tempered glass sheet, and tempered glass sheet
US18/033,472 US20230399258A1 (en) 2020-11-09 2021-10-07 Toughened glass plate, method for manufacturing toughened glass plate, and glass plate to be toughened
TW110139122A TWI913340B (en) 2020-11-09 2021-10-21 Strengthened glass sheet, manufacturing method of strengthened glass sheet, and glass sheet for strengthening

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020186608 2020-11-09
JP2020186608 2020-11-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022076438A JP2022076438A (en) 2022-05-19
JP7716038B2 true JP7716038B2 (en) 2025-07-31

Family

ID=81606789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021036303A Active JP7716038B2 (en) 2020-11-09 2021-03-08 Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7716038B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117776535B (en) * 2023-12-25 2025-01-17 重庆鑫景特种玻璃有限公司 Transparent glass ceramics, base material glass, chemically strengthened glass ceramics and application thereof

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009116278A1 (en) 2008-03-19 2009-09-24 Hoya株式会社 Glasses for substrate for magnetic recording medium, substrates for magnetic recording medium, magnetic recording media, and processes for producing these
JP2011136895A (en) 2009-12-04 2011-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Laminated glass
JP2011201711A (en) 2010-03-24 2011-10-13 Hoya Corp Display cover glass and display
JP2013520388A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット アクチエンゲゼルシャフト Chemically tempered glass
JP2013520385A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット グラス テクノロジーズ (スゾウ) カンパニー リミテッド Thin lithium aluminosilicate glass for 3D precision molding
JP2013520387A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット アクチエンゲゼルシャフト Lithium aluminosilicate glass having high elastic modulus and method for producing the same
WO2017183382A1 (en) 2016-04-18 2017-10-26 日本電気硝子株式会社 Laminated glass for vehicles
JP2019513663A (en) 2016-04-08 2019-05-30 コーニング インコーポレイテッド Glass-based article comprising a stress profile comprising two zones and method of manufacture
JP2019517448A (en) 2016-05-27 2019-06-24 コーニング インコーポレイテッド Glass articles having crushing and scratch resistance

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009116278A1 (en) 2008-03-19 2009-09-24 Hoya株式会社 Glasses for substrate for magnetic recording medium, substrates for magnetic recording medium, magnetic recording media, and processes for producing these
JP2011136895A (en) 2009-12-04 2011-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Laminated glass
JP2013520388A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット アクチエンゲゼルシャフト Chemically tempered glass
JP2013520385A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット グラス テクノロジーズ (スゾウ) カンパニー リミテッド Thin lithium aluminosilicate glass for 3D precision molding
JP2013520387A (en) 2010-02-26 2013-06-06 ショット アクチエンゲゼルシャフト Lithium aluminosilicate glass having high elastic modulus and method for producing the same
JP2011201711A (en) 2010-03-24 2011-10-13 Hoya Corp Display cover glass and display
JP2019513663A (en) 2016-04-08 2019-05-30 コーニング インコーポレイテッド Glass-based article comprising a stress profile comprising two zones and method of manufacture
WO2017183382A1 (en) 2016-04-18 2017-10-26 日本電気硝子株式会社 Laminated glass for vehicles
JP2019517448A (en) 2016-05-27 2019-06-24 コーニング インコーポレイテッド Glass articles having crushing and scratch resistance

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022076438A (en) 2022-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7651862B2 (en) Tempered glass sheet and its manufacturing method
JP5743125B2 (en) Tempered glass and tempered glass substrate
JP7684639B2 (en) Tempered glass sheets and glass sheets for tempering
JP7652211B2 (en) Coverslips
JP2025156434A (en) Glass and chemically strengthened glass
JP7709131B2 (en) Plate glass
JP7853650B2 (en) Tempered glass plate
JP5413817B2 (en) Tempered glass substrate, glass and method for producing tempered glass substrate
JP7716038B2 (en) Tempered glass sheet, method for manufacturing tempered glass sheet, and glass sheet for tempering
US20230399258A1 (en) Toughened glass plate, method for manufacturing toughened glass plate, and glass plate to be toughened
CN111819159A (en) Tempered glass and tempered glass
JPWO2020021933A1 (en) Tempered glass and tempered glass
CN116745247A (en) Reinforced glass plate and method for manufacturing same
WO2024043194A1 (en) Strengthened glass plate, strengthened glass plate production method, and glass plate to be strengthened
JP2019031428A (en) Strengthened glass sheet and strengthened glass sphere
TWI913340B (en) Strengthened glass sheet, manufacturing method of strengthened glass sheet, and glass sheet for strengthening
US20240101471A1 (en) Strengthened glass sheet and manufacturing method therefor
WO2023210506A1 (en) Reinforced glass plate, method for manufacturing reinforced glass plate, and glass plate to be reinforced
JP2017057134A (en) Method for producing tempered glass and method for producing tempered glass
JPWO2019031189A1 (en) Tempered glass plate and tempered glass sphere

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250205

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250402

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250521

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250618

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250701

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7716038

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150