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JP7716415B2 - adhesive composition - Google Patents
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JP7716415B2 - adhesive composition - Google Patents

adhesive composition

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JP7716415B2 JP2022545649A JP2022545649A JP7716415B2 JP 7716415 B2 JP7716415 B2 JP 7716415B2 JP 2022545649 A JP2022545649 A JP 2022545649A JP 2022545649 A JP2022545649 A JP 2022545649A JP 7716415 B2 JP7716415 B2 JP 7716415B2
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Description

本発明は、接着剤組成物に関する。詳しくは、電子部品等の接着用途に使用することができる接着剤組成物に関する。 The present invention relates to an adhesive composition. More specifically, it relates to an adhesive composition that can be used for bonding electronic components, etc.

電子機器の小型化、軽量化等に伴い、電子部品等の接着用途は多様化し、接着剤層付き積層体の需要は増大している。
また、電子部品の1つであるフレキシブルプリント配線板(以下、FPCともいう)では、大量のデータを高速で処理する必要があり、高周波数への対応が進んでいる。
5Gの実用化により通信速度の向上、高周波数化が予測されており、優れた低伝送損失の実現、大容量通信の安定化が求められている。それに伴い現在、FPCにおける低誘電素材の開発や接着剤層を構成する接着剤の開発が進んでいる。
BACKGROUND ART As electronic devices become smaller and lighter, the adhesive applications for electronic components and the like are becoming more diverse, and the demand for laminates with adhesive layers is increasing.
Furthermore, flexible printed circuit boards (hereinafter also referred to as FPCs), which are one type of electronic component, are required to process large amounts of data at high speed, and progress is being made in supporting high frequencies.
With the practical application of 5G, improvements in communication speeds and frequencies are predicted, requiring the realization of excellent low transmission loss and the stability of large-capacity communication. Accordingly, progress is currently being made in the development of low-dielectric materials for FPCs and adhesives that make up the adhesive layer.

良好な電気特性を有しつつ、高い接着性に応えるため、カルボキシ基含有スチレン系エラストマー(A)と、エポキシ樹脂(B)とを含有する接着剤組成物を用い、該接着剤組成物からなる接着剤層と基材フィルムとからなる積層体についての提案がなされている(例えば、特許文献1参照)。In order to achieve high adhesive properties while maintaining good electrical properties, a laminate has been proposed that uses an adhesive composition containing a carboxyl group-containing styrene-based elastomer (A) and an epoxy resin (B), and that is composed of an adhesive layer made of the adhesive composition and a substrate film (see, for example, Patent Document 1).

国際公開第2016/017473号International Publication No. 2016/017473

プリント配線板の製造工程には、熱圧着の工程があるが、接着剤の機械的特性が悪いと、規定通りの厚みや大きさで接着できないことがある。
例えば、接着剤が柔らかいために熱圧着の際に樹脂流れが発生したり、熱膨張率(CTE)が大きいために熱圧着の際に変形する等の問題が生じる。
樹脂流れを防止するため、無機フィラーを添加した場合、接着剤層の電気特性が悪化したり、あるいは接着剤層の密着力が低下する等の問題が生じる。
そこで、機械的特性を制御することで、熱圧着の際の樹脂流れを防止でき、良好な電気特性を示し、かつ接着剤層と基材フィルムとの密着性が良好な接着剤層付き積層体の提供が望まれている。
The manufacturing process for printed wiring boards involves a thermocompression bonding process, but if the adhesive has poor mechanical properties, it may not be possible to bond the board to the specified thickness or size.
For example, problems may arise such as resin flow occurring during thermocompression bonding due to the adhesive being soft, or deformation occurring during thermocompression bonding due to a large coefficient of thermal expansion (CTE).
When an inorganic filler is added to prevent the resin from flowing, problems arise such as deterioration of the electrical properties of the adhesive layer or a decrease in the adhesive strength of the adhesive layer.
Therefore, it is desirable to provide a laminate with an adhesive layer that can prevent resin flow during thermocompression bonding by controlling the mechanical properties, exhibits good electrical properties, and has good adhesion between the adhesive layer and the base film.

本発明は、機械的特性を制御することで、熱圧着の際の樹脂流れを防止でき、良好な電気特性を示し、かつ密着性が良好な接着剤層を形成できる、接着剤組成物を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide an adhesive composition that can prevent resin flow during thermocompression bonding by controlling its mechanical properties, exhibits good electrical properties, and can form an adhesive layer with good adhesion.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、スチレン系エラストマーに特定の無機フィラーを加えることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of extensive research to solve the above problems, the inventors discovered that the above problems could be solved by adding a specific inorganic filler to a styrene-based elastomer, and thus completed the present invention.

本発明は、以下の態様を包含するものである。
(1)少なくともスチレン系エラストマーを含む樹脂組成物と無機フィラーとを含有する接着剤組成物であって、
前記無機フィラーの含有量が、前記樹脂組成物100質量部に対して1~180質量部であり、
前記無機フィラーが、板状又は鱗片状の形状を有し、
前記接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の周波数28GHzにおける比誘電率が3.5以下であり、前記接着剤層の周波数28GHzにおける誘電正接が0.005以下である接着剤組成物。
(2)前記無機フィラーのアスペクト比が5~500以下である、(1)に記載の接着剤組成物。
(3)前記無機フィラーの平均粒径が3.0μm以下である、(1)又は(2)に記載の接着剤組成物。
(4)前記無機フィラーが、ケイ素系無機フィラー、及び窒化ホウ素の少なくともいずれかを含む、(1)~(3)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(5)前記ケイ素系無機フィラーが、マイカ、及びタルクの少なくともいずれかを含む、(1)~(4)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(6)前記スチレン系エラストマーがカルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーである、(1)~(5)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(7)前記スチレン系エラストマーがアミノ基を含有するスチレン系エラストマーである、(1)~(5)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(8)前記樹脂組成物がエポキシ樹脂を含有する、(1)~(7)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(9)前記エポキシ樹脂の含有量が、前記樹脂組成物100質量部に対して1~25質量部である、(8)に記載の接着剤組成物。
(10)前記接着剤組成物の硬化前接着剤層の150℃における貯蔵弾性率が1.0E+5Pa以上である、(1)~(9)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(11)前記接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の熱膨張率(CTE)が500ppm/K以下である、(1)~(10)のいずれかに記載の接着剤組成物。
(12)基材フィルムと、
(1)~(10)のいずれかに記載の接着剤組成物からなる接着剤層と、を有する積層体。
(13)前記基材フィルムが、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂を含有する、(12)に記載の積層体。
(14)(12)又は(13)に記載の積層体を含む接着剤層付きカバーレイフィルム。
(15)(12)又は(13)に記載の積層体を含む銅張積層板。
(16)(12)又は(13)に記載の積層体を含むプリント配線板。
(17)(12)又は(13)に記載の積層体を含むシールドフィルム。
(18)(12)又は(13)に記載の積層体を含むシールドフィルム付きプリント配線板。
The present invention includes the following aspects.
(1) An adhesive composition containing a resin composition containing at least a styrene-based elastomer and an inorganic filler,
the content of the inorganic filler is 1 to 180 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin composition,
the inorganic filler has a plate-like or scaly shape,
An adhesive composition, wherein the adhesive layer obtained by curing the adhesive composition has a relative dielectric constant of 3.5 or less at a frequency of 28 GHz, and a dielectric loss tangent of the adhesive layer at a frequency of 28 GHz of 0.005 or less.
(2) The adhesive composition according to (1), wherein the inorganic filler has an aspect ratio of 5 to 500.
(3) The adhesive composition according to (1) or (2), wherein the inorganic filler has an average particle size of 3.0 μm or less.
(4) The adhesive composition according to any one of (1) to (3), wherein the inorganic filler comprises at least one of a silicon-based inorganic filler and boron nitride.
(5) The adhesive composition according to any one of (1) to (4), wherein the silicon-based inorganic filler contains at least one of mica and talc.
(6) The adhesive composition according to any one of (1) to (5), wherein the styrene-based elastomer is a carboxyl group-containing styrene-based elastomer.
(7) The adhesive composition according to any one of (1) to (5), wherein the styrene-based elastomer is an amino group-containing styrene-based elastomer.
(8) The adhesive composition according to any one of (1) to (7), wherein the resin composition contains an epoxy resin.
(9) The adhesive composition according to (8), wherein the content of the epoxy resin is 1 to 25 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
(10) The adhesive composition according to any one of (1) to (9), wherein the adhesive layer of the adhesive composition before curing has a storage modulus of 1.0E+5 Pa or more at 150°C.
(11) The adhesive composition according to any one of (1) to (10), wherein the adhesive layer obtained by curing the adhesive composition has a coefficient of thermal expansion (CTE) of 500 ppm/K or less.
(12) a base film;
and an adhesive layer made of the adhesive composition according to any one of (1) to (10).
(13) The laminate according to (12), wherein the substrate film contains polyether ether ketone (PEEK) resin.
(14) A coverlay film with an adhesive layer, comprising the laminate according to (12) or (13).
(15) A copper-clad laminate comprising the laminate according to (12) or (13).
(16) A printed wiring board comprising the laminate according to (12) or (13).
(17) A shielding film comprising the laminate according to (12) or (13).
(18) A printed wiring board with a shielding film, comprising the laminate according to (12) or (13).

本発明によれば、機械的特性を制御することで、熱圧着の際の樹脂流れを防止でき、良好な電気特性を示し、かつ密着性が良好な接着剤層を形成できる、接着剤組成物を提供することができる。 According to the present invention, by controlling the mechanical properties, it is possible to provide an adhesive composition that can prevent resin flow during thermocompression bonding, exhibits good electrical properties, and can form an adhesive layer with good adhesion.

以下、本発明の接着剤組成物、該接着剤組成物からなる接着剤層を含む積層体、及び該積層体を含む電子部品関連の構成部材について詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の一実施態様としての一例であり、これらの内容に特定されるものではない。 The adhesive composition of the present invention, a laminate including an adhesive layer made of the adhesive composition, and electronic component-related components including the laminate are described in detail below. However, the description of the constituent elements described below is an example of one embodiment of the present invention and is not intended to be limiting.

(接着剤組成物)
本発明の接着剤組成物は、少なくともスチレン系エラストマーを含む樹脂組成物と無機フィラーとを含有する。
本発明の接着剤組成物に含有される無機フィラーは、板状又は鱗片状の形状を有する。
本発明の接着剤組成物に含有される無機フィラーの含有量は、樹脂組成物100質量部に対して1~180質量部である。
本発明の接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の周波数28GHzにおける比誘電率は3.5以下であり、該接着剤層の周波数28GHzにおける誘電正接は0.005以下である。
接着剤組成物は、樹脂組成物と無機フィラーの他に、必要に応じて、その他の成分を含有してもよい。
(Adhesive composition)
The adhesive composition of the present invention contains a resin composition containing at least a styrene-based elastomer and an inorganic filler.
The inorganic filler contained in the adhesive composition of the present invention has a plate-like or scale-like shape.
The content of the inorganic filler contained in the adhesive composition of the present invention is 1 to 180 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
The adhesive layer obtained by curing the adhesive composition of the present invention has a relative dielectric constant of 3.5 or less at a frequency of 28 GHz, and a dielectric loss tangent of the adhesive layer at a frequency of 28 GHz of 0.005 or less.
The adhesive composition may contain other components in addition to the resin composition and inorganic filler, as required.

<樹脂組成物>
本発明に係る樹脂組成物は、少なくともスチレン系エラストマーを含む。該スチレン系エラストマーの中でも、カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーやアミノ基を含有するスチレン系エラストマーを含むことが好ましい。
樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含有することができる。
樹脂組成物は、必要に応じて、スチレン系エラストマー及びエポキシ樹脂以外のその他の樹脂成分を含有してもよい。
<Resin composition>
The resin composition according to the present invention contains at least a styrene-based elastomer, and among the styrene-based elastomers, it is preferable to contain a styrene-based elastomer containing a carboxy group or a styrene-based elastomer containing an amino group.
The resin composition may contain an epoxy resin.
The resin composition may contain other resin components in addition to the styrene-based elastomer and the epoxy resin, as needed.

<<スチレン系エラストマー>>
スチレン系エラストマーは、極性の高い結合基を含まないため、電気特性も優れ、スチレンの構造間の相互作用による凝集力がある点と、分子量の調整が容易な点とにより、可撓性と密着力の調整が可能な樹脂である。また、変性することで、無機フィラーの分散性や密着力を向上することもできる。
スチレン系エラストマーは、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とのブロック及びランダム構造を主体とする共重合体、並びにその水素添加物をいう。
芳香族ビニル化合物としては、例えばスチレン、t-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1-ジフェニルエチレン、N,N-ジエチル-p-アミノエチルスチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。また、共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチル-1,3-ブタジエン等を挙げることができる。
スチレン系エラストマーの具体例としては、スチレン-ブタジエンブロック共重合体、スチレン-エチレンプロピレンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-エチレンブチレン-スチレンブロック共重合体及びスチレン-エチレンプロピレン-スチレンブロック共重合体等が挙げられる。
<<Styrene-based elastomer>>
Styrene elastomers have excellent electrical properties because they do not contain highly polar bonding groups, and because they have cohesive strength due to the interaction between styrene structures and their molecular weights are easily adjustable, they are resins whose flexibility and adhesive strength can be adjusted. Furthermore, modification can improve the dispersibility and adhesive strength of inorganic fillers.
The styrene elastomer refers to a copolymer mainly composed of a block or random structure of a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, and a hydrogenated product thereof.
Examples of aromatic vinyl compounds include styrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, N,N-diethyl-p-aminoethylstyrene, vinyltoluene, etc. Examples of conjugated diene compounds include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, etc.
Specific examples of the styrene-based elastomer include a styrene-butadiene block copolymer, a styrene-ethylene propylene block copolymer, a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer, and a styrene-ethylene propylene-styrene block copolymer.

これらのスチレン系エラストマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。上記共重合体の中でも、接着性及び電気特性の観点から、スチレン-エチレンブチレン-スチレンブロック共重合体及びスチレン-エチレンプロピレン-スチレンブロック共重合体が好ましい。また、スチレン-エチレンブチレン-スチレンブロック共重合体におけるスチレン/エチレンブチレンの質量比、及びスチレン-エチレンプロピレン-スチレンブロック共重合体におけるスチレン/エチレンプロピレンの質量比は、10/90~50/50であることが好ましく、20/80~40/60であることがより好ましい。当該質量比がこの範囲内であれば、優れた接着特性を有する接着剤組成物とすることができる。 These styrene-based elastomers may be used alone or in combination of two or more. Of the above copolymers, styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymers and styrene-ethylenepropylene-styrene block copolymers are preferred from the standpoints of adhesiveness and electrical properties. Furthermore, the mass ratio of styrene/ethylenebutylene in the styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer and the mass ratio of styrene/ethylenepropylene in the styrene-ethylenepropylene-styrene block copolymer are preferably 10/90 to 50/50, and more preferably 20/80 to 40/60. When the mass ratios are within these ranges, an adhesive composition with excellent adhesive properties can be obtained.

スチレン系エラストマーの含有量は、樹脂組成物の固形分100質量部に対して10.0質量部~99.0質量部であることが好ましい。 The content of the styrene-based elastomer is preferably 10.0 to 99.0 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the resin composition.

<<<カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマー>>>
カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーは、密着性が高く、硬化物に柔軟性を付与でき、良好な電気特性を与える成分として有効である。
接着剤組成物中にカルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーが含有されていることで、電気特性が良く極性が低い基材フィルムや金属箔等の被着体であっても、柔軟な接着剤組成物が被着体の表面に十分に追従できることで、極性の高いカルボキシ基が密着性を発現できるため、接着剤層の密着性が向上する。また、カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーは反応性があるため、エポキシ硬化により接着剤層の耐熱性や耐薬品性も向上する。
また、カルボキシ基を含有していることで、分散液中の無機フィラーの分散性が向上する。
カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーとは、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とのブロック及びランダム構造を主体とする共重合体、並びにその水素添加物を、不飽和カルボン酸で変性したものである。
芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物の種類やスチレン系エラストマーの具体例としては、上記<<スチレン系エラストマー>>の欄で述べたとおりである。
<<<Carboxy group-containing styrene elastomer>>>
Carboxy group-containing styrene elastomers have high adhesiveness, can impart flexibility to the cured product, and are effective as a component that imparts good electrical properties.
The adhesive composition contains a carboxyl group-containing styrene elastomer, which allows the flexible adhesive composition to conform sufficiently to the surface of the adherend, even if the adherend has good electrical properties and low polarity, such as a substrate film or metal foil, and the highly polar carboxyl group can exhibit adhesion, thereby improving the adhesion of the adhesive layer. Furthermore, because the carboxyl group-containing styrene elastomer is reactive, epoxy curing also improves the heat resistance and chemical resistance of the adhesive layer.
Furthermore, the inclusion of a carboxy group improves the dispersibility of the inorganic filler in the dispersion liquid.
The carboxyl group-containing styrene elastomer is a copolymer mainly consisting of block and random structures of a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, or a hydrogenated product thereof modified with an unsaturated carboxylic acid.
The types of aromatic vinyl compounds and conjugated diene compounds and specific examples of styrene-based elastomers are as described above in the section <<Styrene-based elastomers>>.

カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーの変性は、例えば、スチレン系エラストマーの重合時に、不飽和カルボン酸を共重合させることにより行うことができる。また、スチレン系エラストマーと不飽和カルボン酸を有機パーオキサイドの存在下に加熱、混練することにより行うこともできる。
不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸等を挙げることができる。
不飽和カルボン酸による変性量は、0.1~10質量%であることが好ましい。
カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーの酸価は、0.1~30mgKOH/gであることが好ましく、0.5~25mgKOH/gであることがより好ましく、0.5~5mgKOH/gであることがさらに好ましい。この酸価が0.1mgKOH/g以上であると、無機フィラーの分散性が良くなる。酸価が0.5mgKOH/g以上であると、接着剤組成物の硬化が十分であり、良好な接着性、及び耐熱性が得られる。一方、前記酸価が30mgKOH/g以下であると、接着剤組成物の凝集力が抑えられるため粘着性に優れ、電気特性にも優れる。酸価が5mgKOH/g以下であると、PEEK基材との密着力が向上する。
The modification of a carboxyl group-containing styrene elastomer can be carried out, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid during polymerization of the styrene elastomer, or by heating and kneading the styrene elastomer and the unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide.
Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, and itaconic anhydride.
The amount of modification with the unsaturated carboxylic acid is preferably 0.1 to 10% by mass.
The acid value of the carboxyl group-containing styrene-based elastomer is preferably 0.1 to 30 mgKOH/g, more preferably 0.5 to 25 mgKOH/g, and even more preferably 0.5 to 5 mgKOH/g. When this acid value is 0.1 mgKOH/g or higher, the dispersibility of the inorganic filler is improved. When the acid value is 0.5 mgKOH/g or higher, the adhesive composition cures sufficiently, resulting in good adhesion and heat resistance. On the other hand, when the acid value is 30 mgKOH/g or lower, the cohesive strength of the adhesive composition is suppressed, resulting in excellent adhesiveness and electrical properties. When the acid value is 5 mgKOH/g or lower, the adhesive strength with the PEEK substrate is improved.

また、カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーの重量平均分子量は、1~50万であることが好ましく、3~30万であることがより好ましく、5~20万であることが更に好ましい。重量平均分子量が上記下限以上であれば、優れた接着性を発現することができ、溶媒に溶解させて塗工する際の塗工性もよくなる。重量平均分子量が上記上限以下であれば、エポキシ樹脂との相溶性がよくなる。
重量平均分子量が上記範囲内であれば、機械的特性を適度な範囲に制御でき、樹脂流れの防止と分散液中の無機フィラー分散性を両立できる。
重量平均分子量は、ゲル・パーミエーションクロマトグラフィー(以下、「GPC」ともいう)により測定した分子量をポリスチレン換算した値である。
The weight-average molecular weight of the carboxyl group-containing styrene elastomer is preferably 10,000 to 500,000, more preferably 30,000 to 300,000, and even more preferably 50,000 to 200,000. If the weight-average molecular weight is equal to or greater than the lower limit, excellent adhesive properties can be exhibited, and the coatability when dissolved in a solvent and applied is also improved. If the weight-average molecular weight is equal to or less than the upper limit, compatibility with epoxy resins is improved.
If the weight average molecular weight is within the above range, the mechanical properties can be controlled within an appropriate range, and both prevention of resin flow and dispersibility of the inorganic filler in the dispersion can be achieved.
The weight average molecular weight is a value obtained by measuring the molecular weight by gel permeation chromatography (hereinafter also referred to as "GPC") and converting it into polystyrene equivalent.

カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーの含有量は、樹脂組成物の固形分100質量部に対して10.0~99.0質量部であることが好ましい。含有量が上記範囲内であれば、優れた接着特性を有する接着剤組成物とすることができる。
樹脂組成物の固形分100質量部に対して20~49質量部であることがさらに好ましい。含有量が上記範囲内であれば、機械的特性を適度な範囲に制御でき、樹脂流れの防止と分散液中の無機フィラーの分散性を両立できる。
The content of the carboxyl group-containing styrene elastomer is preferably 10.0 to 99.0 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the resin composition. If the content is within this range, an adhesive composition with excellent adhesive properties can be obtained.
It is more preferable that the content is 20 to 49 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the resin composition. If the content is within the above range, the mechanical properties can be controlled within an appropriate range, and both prevention of resin flow and dispersibility of the inorganic filler in the dispersion can be achieved.

<<<アミノ基を含有するスチレン系エラストマー>>>
接着剤組成物中にアミノ基を含有するスチレン系エラストマーが含有されていることで、反応性が高くなり、接着剤層の密着性が向上する。また、アミノ基を含有するスチレン系エラストマーは反応性があるため、エポキシ硬化により接着剤層の耐熱性や耐薬品性も向上する。
アミノ基を含有するため金属との密着性が向上する。
また、アミノ基を含有するためエポキシ樹脂との反応性が高く、樹脂が流れ出る前に硬化が可能であり、樹脂流れを有効に防止できる。
アミノ基を含有するスチレン系エラストマーとは、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とのブロック及びランダム構造を主体とする共重合体、並びにその水素添加物を、アミン変性したものである。
芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物の種類やスチレン系エラストマーの具体例としては、上記<<スチレン系エラストマー>>の欄で述べたとおりである。
<<<Styrene-based elastomer containing amino groups>>>
The inclusion of an amino group-containing styrene elastomer in the adhesive composition increases reactivity and improves the adhesiveness of the adhesive layer. Furthermore, because the amino group-containing styrene elastomer is reactive, the adhesive layer also improves heat resistance and chemical resistance upon epoxy curing.
The amino group improves adhesion to metals.
Furthermore, since it contains amino groups, it is highly reactive with epoxy resins, and can be cured before the resin flows out, effectively preventing the resin from flowing out.
The amino group-containing styrene elastomer is an amine-modified copolymer of a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, which is mainly composed of block and random structures, or a hydrogenated product thereof.
The types of aromatic vinyl compounds and conjugated diene compounds and specific examples of styrene-based elastomers are as described above in the section <<Styrene-based elastomers>>.

スチレン系エラストマーをアミン変性する方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができ、例えば、アミノ基を有する重合開始剤を用いて(水添)ブロック共重合体を重合することによりアミン変性する方法、アミノ基を有する不飽和単量体を、共重合する原料と用いることにより(水添)共重合体をアミン変性する方法、カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーにアミノ基を2つ以上有するアミン変性剤を反応させ、アミド構造、あるいは、またはイミド構造を形成することでアミン変性する方法等が挙げられる。There are no particular limitations on the method for amine-modifying a styrene-based elastomer, and known methods can be used. Examples include a method of amine-modifying a (hydrogenated) block copolymer by polymerizing it using a polymerization initiator having an amino group, a method of amine-modifying a (hydrogenated) copolymer by using an unsaturated monomer having an amino group as a copolymerization raw material, and a method of amine-modifying a styrene-based elastomer containing a carboxyl group by reacting it with an amine modifier having two or more amino groups to form an amide structure or an imide structure.

また、アミノ基を含有するスチレン系エラストマーの重量平均分子量は、1~50万であることが好ましく、3~30万であることがより好ましく、5~20万であることが更に好ましい。重量平均分子量が上記下限以上であれば、優れた接着性を発現することができ、溶媒に溶解させて塗工する際の塗工性もよくなる。重量平均分子量が上記上限以下であれば、エポキシ樹脂との相溶性がよくなる。
重量平均分子量が上記範囲内であれば、機械的特性を適度な範囲に制御でき、樹脂流れの防止と分散液中の無機フィラー分散性を両立できる。
The weight-average molecular weight of the amino group-containing styrene elastomer is preferably 10,000 to 500,000, more preferably 30,000 to 300,000, and even more preferably 50,000 to 200,000. If the weight-average molecular weight is equal to or greater than the lower limit, excellent adhesive properties can be exhibited, and the coatability when dissolved in a solvent and applied is also improved. If the weight-average molecular weight is equal to or less than the upper limit, compatibility with epoxy resins is improved.
If the weight average molecular weight is within the above range, the mechanical properties can be controlled within an appropriate range, and both prevention of resin flow and dispersibility of the inorganic filler in the dispersion can be achieved.

アミノ基を含有するスチレン系エラストマーの含有量は、樹脂組成物の固形分100質量部に対して10.0~99.0質量部であることが好ましい。樹脂組成物の固形分100質量部に対して20~49質量部であることがさらに好ましい。含有量が10.0~99.0質量部であれば、優れた接着特性を有する接着剤組成物とすることができる。含有量が20~49質量部であれば、機械的特性を適度な範囲に制御でき、樹脂流れの防止と分散液中の無機フィラーの分散性を両立できる。 The content of the amino group-containing styrene-based elastomer is preferably 10.0 to 99.0 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the resin composition. It is even more preferably 20 to 49 parts by mass per 100 parts by mass of the solid content of the resin composition. A content of 10.0 to 99.0 parts by mass can result in an adhesive composition with excellent adhesive properties. A content of 20 to 49 parts by mass can control the mechanical properties within an appropriate range, preventing resin flow and achieving both dispersibility of the inorganic filler in the dispersion.

無変性スチレン系エラストマーと変性スチレン系エラストマーを混ぜることで、接着性を維持しつつ、硬さの調整やMFRの制御が可能である。 By mixing unmodified styrene-based elastomers with modified styrene-based elastomers, it is possible to adjust hardness and control MFR while maintaining adhesive properties.

<<エポキシ樹脂>>
エポキシ樹脂は、上記カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマー中のカルボキシ基や上記アミノ基を含有するスチレン系エラストマー中のアミノ基と反応し、被着体に対する高い接着性や、接着剤硬化物の耐熱性を発現させる成分である。
<<Epoxy resin>>
The epoxy resin is a component that reacts with the carboxy group in the carboxy group-containing styrene-based elastomer or the amino group in the amino group-containing styrene-based elastomer, thereby imparting high adhesion to the adherend and heat resistance to the cured adhesive.

エポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、又はそれらに水素添加したもの;フタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、p-ヒドロキシ安息香酸グリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、コハク酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシジルエステル等のグリシジルエステル系エポキシ樹脂;エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ソルビトールのポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールのポリグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂;エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油等の線状脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらに限定するものではない。また、キシレン構造含有ノボラックエポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、o-クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂も用いることができる。Examples of epoxy resins include bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, and hydrogenated versions of these; glycidyl ester-based epoxy resins such as phthalic acid diglycidyl ester, isophthalic acid diglycidyl ester, terephthalic acid diglycidyl ester, p-hydroxybenzoic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, succinic acid diglycidyl ester, adipic acid diglycidyl ester, sebacic acid diglycidyl ester, and trimellitic acid triglycidyl ester; ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, and glycidyl esters of 1,4-butanediol diglycidyl ester. Examples of epoxy resins that can be used include, but are not limited to, glycidyl ether-based epoxy resins such as glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, tetraphenylglycidyl ether ethane, triphenylglycidyl ether ethane, polyglycidyl ether of sorbitol, and polyglycerol polyglycidyl ether; glycidyl amine-based epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate and tetraglycidyldiaminodiphenylmethane; and linear aliphatic epoxy resins such as epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil. Additionally, novolac-type epoxy resins such as xylene structure-containing novolac epoxy resins, naphthol novolac-type epoxy resins, phenol novolac epoxy resins, o-cresol novolac epoxy resins, and bisphenol A novolac epoxy resins can also be used.

更に、エポキシ樹脂の例として臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、フッ素含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ターシャリーブチルカテコール型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等を用いることができる。これらのエポキシ樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記エポキシ樹脂の中でも、電気特性に優れた接着剤組成物が得られ、スチレン系エラストマーとの相溶性が良好なことから、水酸基を有しないエポキシ樹脂が好ましい。特に、ノボラックエポキシ樹脂や下記構造のようなエポキシ樹脂は、適度に柔軟骨格を有するエポキシ樹脂のため、硬化物が脆性破壊を起こしづらくなり、接着剤組成物の硬化物の長期使用に対する性能の安定性が向上し、官能基数も高いため、耐熱性も向上するため、より好ましい。スチレン-ブタジエンブロック共重合体のエポキシ化合物であることがより好ましい。スチレン-ブタジエンブロック共重合体のエポキシ化合物は、エポキシ構造の反応にオレフィン骨格やビニル基のような芳香環以外に不飽和結合が関わることにより、反応速度の促進と架橋密度を高めることができ、結果として、少ない配合量でも耐熱性や耐薬品性を向上することができる。また、スチレン-ブタジエンブロック共重合体のエポキシ化合物は、分子量が大きく、エポキシ基が含まれることで、分散剤のように働き、無機フィラーの分散性をさらに向上する。スチレン-ブタジエンブロック共重合体のエポキシ化合物としては、市販のエポキシ化合物を使用することもでき、例えば、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2000(ダイセル社製)や、エポリードGT401、エポリードPB3600、エポリードPB4700(ダイセル社製)や、エポフレンドAT501、エポフレンドCT310(ダイセル社製)が挙げられる。
Further, examples of epoxy resins that can be used include brominated bisphenol A type epoxy resins, phosphorus-containing epoxy resins, fluorine-containing epoxy resins, dicyclopentadiene skeleton-containing epoxy resins, naphthalene skeleton-containing epoxy resins, anthracene type epoxy resins, tertiary butylcatechol type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, tetraphenylethane type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, etc. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
Among the above epoxy resins, epoxy resins without hydroxyl groups are preferred because they yield adhesive compositions with excellent electrical properties and have good compatibility with styrene-based elastomers. In particular, novolac epoxy resins and epoxy resins such as those shown in the following structure are more preferred because they have a moderately flexible backbone, making the cured product less susceptible to brittle fracture, improving the performance stability of the cured adhesive composition over long-term use, and also improving heat resistance due to their high number of functional groups. Epoxy compounds of styrene-butadiene block copolymers are more preferred. Epoxy compounds of styrene-butadiene block copolymers can accelerate the reaction rate and increase crosslink density by involving unsaturated bonds in addition to aromatic rings such as olefin backbones and vinyl groups in the reaction of the epoxy structure, resulting in improved heat resistance and chemical resistance even at low loadings. Furthermore, epoxy compounds of styrene-butadiene block copolymers have a high molecular weight and contain epoxy groups, which act as dispersants and further improve the dispersibility of inorganic fillers. As the epoxy compound for the styrene-butadiene block copolymer, commercially available epoxy compounds can also be used, and examples thereof include CELLOXIDE 2021P, CELLOXIDE 2081, CELLOXIDE 2000 (manufactured by Daicel Corporation), EPOLEAD GT401, EPOLEAD PB3600, EPOLEAD PB4700 (manufactured by Daicel Corporation), EPOFRIEND AT501, and EPOFRIEND CT310 (manufactured by Daicel Corporation).

(Rはメチレン-アリール-メチレンを含む構造、あるいは炭素数が6以上の脂肪族炭化水素構造を含む構造であり、アリールとしてはベンゼン、キシレン、ナフタレン、ビフェニル等が挙げられ、脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ジシクロペンタジエン等が挙げられる。)
ノボラック型のエポキシ樹脂の具体例としては、例えば、三菱ケミカル株式会社製の「YX7700」(キシレン構造含有ノボラック型エポキシ樹脂)、日本化薬株式会社製の「NC7000L」(ナフトールノボラック型エポキシ樹脂)、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社社製の「ESN485」(ナフトールノボラック型エポキシ樹脂)、DIC株式会社製の「N-690」(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、DIC株式会社製の「N-695」(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)等が挙げられる。
(R is a structure containing methylene-aryl-methylene or a structure containing an aliphatic hydrocarbon structure having 6 or more carbon atoms, and examples of the aryl include benzene, xylene, naphthalene, and biphenyl, and examples of the aliphatic hydrocarbon include hexane, dimethylcyclohexane, and dicyclopentadiene.)
Specific examples of novolac-type epoxy resins include "YX7700" (xylene structure-containing novolac-type epoxy resin) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "NC7000L" (naphthol novolac-type epoxy resin) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "ESN485" (naphthol novolac-type epoxy resin) manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., "N-690" (cresol novolac-type epoxy resin) manufactured by DIC Corporation, and "N-695" (cresol novolac-type epoxy resin) manufactured by DIC Corporation.

また、アミノ基を有するエポキシ樹脂は、アミノ基の触媒作用により硬化時間を短くしたり、硬化温度を下げることができるため、作業性を向上できる。また、アミノ基を含むため金属層との密着性が向上する。
特にエポキシ樹脂がグリシジルアミン型エポキシ樹脂であるとより好ましい。グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、多官能であるため、少量で硬化が可能であり、分子骨格にアミンを含むため、アミノ基含有スチレン系エラストマーとの相溶性が良く、また反応促進効果もある。また、アミノ基を含むため金属層との密着性を向上できる。
グリシジルアミン型のエポキシ樹脂の具体例としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタンとして、三菱ケミカル株式会社製の「jER604」、住友化学株式会社製の「スミエポキシELM434」、ハンツマン・アドバンスト・マテリアルズ株式会社製の「アラルダイトMY720」、「アラルダイトMY721」、「アラルダイトMY9512」、「アラルダイトMY9612」、「アラルダイトMY9634」、「アラルダイトMY9663」、三菱ガス化学株式会社製「TETRAD-X」、「TETRAD-C」等が挙げられる。
Furthermore, epoxy resins containing amino groups can improve workability by shortening the curing time and lowering the curing temperature due to the catalytic action of the amino groups. In addition, the amino groups improve adhesion to metal layers.
In particular, it is more preferable that the epoxy resin is a glycidylamine-type epoxy resin. Glycidylamine-type epoxy resins are multifunctional, so they can be cured with a small amount, and because they contain amines in their molecular skeleton, they have good compatibility with amino-group-containing styrene-based elastomers and also have a reaction-accelerating effect. In addition, because they contain amino groups, they can improve adhesion to metal layers.
Specific examples of glycidylamine-type epoxy resins include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, such as "jER604" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "Sumiepoxy ELM434" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "Araldite MY720,""AralditeMY721,""AralditeMY9512,""AralditeMY9612,""AralditeMY9634," and "Araldite MY9663" manufactured by Huntsman Advanced Materials, Inc., and "TETRAD-X" and "TETRAD-C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

本発明に用いるエポキシ樹脂としては、一分子中に2個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。カルボキシ基含有スチレン系エラストマーとの反応で架橋構造を形成し、高い耐熱性を発現させることができるからである。また、エポキシ基が2個以上のエポキシ樹脂を用いた場合、カルボキシ基含有スチレン系エラストマーとの架橋度が十分であり、十分な耐熱性が得られる。 The epoxy resin used in this invention preferably has two or more epoxy groups per molecule. This is because a crosslinked structure is formed upon reaction with the carboxyl group-containing styrene-based elastomer, allowing for high heat resistance. Furthermore, when an epoxy resin with two or more epoxy groups is used, the degree of crosslinking with the carboxyl group-containing styrene-based elastomer is sufficient, resulting in sufficient heat resistance.

上記エポキシ樹脂の含有量は、樹脂組成物100質量部に対して1~25質量部であることが好ましい。上記エポキシ樹脂の含有量が上記下限値以上であれば、接着剤組成物は十分硬化し、良好な耐熱性や耐薬品性を担保することができる。一方、エポキシ樹脂の含有量が多いと密着性が低下するため、上記上限値以下であれば、良好な密着性を担保できる。 The content of the epoxy resin is preferably 1 to 25 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition. If the content of the epoxy resin is equal to or greater than the lower limit, the adhesive composition will cure sufficiently and good heat resistance and chemical resistance can be ensured. On the other hand, if the content of the epoxy resin is too high, adhesion will decrease, so if the content is equal to or less than the upper limit, good adhesion can be ensured.

上記エポキシ樹脂の軟化点又は融点は、90℃以下であることが好ましい。エポキシ樹脂の軟化点又は融点が90℃以下であると、接着剤組成物のガラス転移点を下げ、硬化前の接着剤組成物の高温域での弾性率を下げ、硬化後の接着剤組成物の常温域(室温)での弾性率を上げることができる。また、反応温度でエポキシ樹脂は溶解していた方が、反応が早いので好ましい。The softening point or melting point of the above epoxy resin is preferably 90°C or lower. If the softening point or melting point of the epoxy resin is 90°C or lower, the glass transition point of the adhesive composition can be lowered, the elastic modulus of the adhesive composition at high temperatures before curing can be lowered, and the elastic modulus of the adhesive composition at room temperature after curing can be increased. In addition, it is preferable for the epoxy resin to be molten at the reaction temperature, as this will speed up the reaction.

<<その他の樹脂成分>>
樹脂組成物は、上述したスチレン系エラストマー、及び適宜含有されるエポキシ樹脂に加えて、スチレン系エラストマー以外の他の熱可塑性樹脂を、接着剤組成物の機能に影響を与えない程度に含有することができる。
<<Other resin components>>
In addition to the above-mentioned styrene-based elastomer and the epoxy resin that is appropriately contained, the resin composition may contain other thermoplastic resins other than the styrene-based elastomer to an extent that does not affect the function of the adhesive composition.

上記他の熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂及びポリビニル系樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the other thermoplastic resins include phenoxy resin, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyphenylene oxide resin, polyurethane resin, polyacetal resin, polyethylene resin, polypropylene resin, and polyvinyl resin. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

<無機フィラー>
無機フィラーは、板状又は鱗片状の形状を有する。
本発明の接着剤組成物に含有される無機フィラーの含有量は、樹脂組成物100質量部に対して1~180質量部である。
無機フィラーの含有量が、樹脂組成物100質量部に対して30~175質量部であるとより好ましい。
無機フィラーの含有量が、上記範囲内であれば、機械的特性を適度な範囲に制御でき、樹脂流れの防止と良好な密着性を両立できる。
<Inorganic filler>
The inorganic filler has a plate-like or scale-like shape.
The content of the inorganic filler contained in the adhesive composition of the present invention is 1 to 180 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
The content of the inorganic filler is more preferably 30 to 175 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin composition.
If the content of the inorganic filler is within the above range, the mechanical properties can be controlled within an appropriate range, and both prevention of resin flow and good adhesion can be achieved.

本発明に係る無機フィラーとしては、板状又は鱗片状の形状を有していれば、種類としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、耐熱性や誘電特性の観点から、ケイ素系無機フィラーおよび窒化ホウ素が好ましい。また、ケイ素系無機フィラーの中でもアスペクト比の観点から天然マイカ、合成マイカ、天然タルクがより好ましく、その中でも吸水率の観点から合成マイカがさらに好ましい。
これらは、単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明では、特定の形状の無機フィラーを特定量接着剤組成物に含有させ、該接着剤組成物から接着剤層を形成する。得られた接着剤層は、熱圧着の際の樹脂流れを防止でき、良好な電気特性を示し、かつ密着性が良好な接着剤層となる。
The inorganic filler according to the present invention is not particularly limited in type as long as it has a plate-like or scaly shape and can be appropriately selected depending on the purpose, but for example, silicon-based inorganic fillers and boron nitride are preferred from the viewpoint of heat resistance and dielectric properties. Furthermore, among silicon-based inorganic fillers, natural mica, synthetic mica, and natural talc are more preferred from the viewpoint of aspect ratio, and among these, synthetic mica is even more preferred from the viewpoint of water absorption.
These may be used alone or in combination of two or more.
In the present invention, an adhesive composition is prepared by incorporating a specific amount of inorganic filler having a specific shape into the adhesive composition, and the adhesive layer is formed from the adhesive composition. The resulting adhesive layer is capable of preventing resin flow during thermocompression bonding, exhibits good electrical properties, and exhibits good adhesion.

本発明に係る無機フィラーの平均粒径は、3.0μm以下であることが好ましい。無機フィラーの平均粒径は、例えば、レーザー散乱法を用いることにより算出することができる。また、無機フィラーのアスペクト比は、熱膨張率(CTE)、フィルム強度の観点から5以上500以下であることが好ましい。The inorganic filler used in the present invention preferably has an average particle size of 3.0 μm or less. The average particle size of the inorganic filler can be calculated, for example, using a laser scattering method. Furthermore, from the viewpoints of coefficient of thermal expansion (CTE) and film strength, the aspect ratio of the inorganic filler is preferably 5 or more and 500 or less.

[アスペクト比の測定]
無機フィラーのアスペクト比は、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)又は透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて観察し、測定値の平均から求めることができる。例えば、フィルム(層)中に存在する無機フィラーのアスペクト比については、フィルムをエポキシ樹脂で包埋した後、イオンミリング装置を用いてフィルム断面のイオンミリングを行って断面観察用試料を作製し、得られた試料の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)又は透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて観察し、無機フィラーの面方向の長さと厚さの測定値の平均から求めることができる。
[Aspect ratio measurement]
The aspect ratio of the inorganic filler can be determined, for example, by observing the film using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM) and averaging the measured values. For example, the aspect ratio of the inorganic filler present in a film (layer) can be determined by embedding the film in an epoxy resin, then ion milling the cross section of the film using an ion milling device to prepare a sample for cross-section observation, observing the cross section of the obtained sample using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM), and averaging the measured values of the length and thickness in the planar direction of the inorganic filler.

フィルム中の無機フィラーの含有量が1~50体積%であることが好ましい。フィルム中の無機フィラーの含有量が2~30体積%であるとさらに好ましい。
無機フィラーの含有量が上記下限以上であれば、接着剤層の樹脂流れを防止することができる。無機フィラーの含有量が50体積%以下であれば、無機フィラーの分散性や耐熱性の向上が可能である。無機フィラーの含有量が30体積%以下であれば、良好な密着性を確保することができる。
The content of the inorganic filler in the film is preferably 1 to 50% by volume, and more preferably 2 to 30% by volume.
When the content of the inorganic filler is equal to or greater than the lower limit, resin flow in the adhesive layer can be prevented. When the content of the inorganic filler is 50% by volume or less, the dispersibility and heat resistance of the inorganic filler can be improved. When the content of the inorganic filler is 30% by volume or less, good adhesion can be ensured.

<その他の成分>
接着剤組成物は、上述したスチレン系エラストマー、及び無機フィラー以外に、その他の成分として、例えば、粘着付与剤、難燃剤、硬化剤、硬化促進剤、カップリング剤、熱老化防止剤、レベリング剤、消泡剤、顔料、及び溶媒等を、接着剤組成物の機能に影響を与えない程度に含有することができる。
<Other ingredients>
In addition to the above-described styrene-based elastomer and inorganic filler, the adhesive composition may contain other components such as a tackifier, a flame retardant, a curing agent, a curing accelerator, a coupling agent, a heat aging inhibitor, a leveling agent, an antifoaming agent, a pigment, and a solvent, to an extent that the functionality of the adhesive composition is not affected.

上記粘着付与剤としては、例えば、クマロン-インデン樹脂、テルペン樹脂、テルペン-フェノール樹脂、ロジン樹脂、p-t-ブチルフェノール-アセチレン樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、キシレン-ホルムアルデヒド樹脂、石油系炭化水素樹脂、水素添加炭化水素樹脂、テレピン系樹脂等を挙げることができる。これらの粘着付与剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the tackifier include coumarone-indene resin, terpene resin, terpene-phenol resin, rosin resin, p-t-butylphenol-acetylene resin, phenol-formaldehyde resin, xylene-formaldehyde resin, petroleum-based hydrocarbon resin, hydrogenated hydrocarbon resin, and turpentine-based resin. These tackifiers may be used alone or in combination of two or more.

上記難燃剤は、有機系難燃剤及び無機系難燃剤のいずれでもよい。有機系難燃剤としては、例えば、リン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、リン酸グアニジン、ポリリン酸グアニジン、リン酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、リン酸アミドアンモニウム、ポリリン酸アミドアンモニウム、リン酸カルバメート、ポリリン酸カルバメート、トリスジエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスメチルエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスジフェニルホスフィン酸アルミニウム、ビスジエチルホスフィン酸亜鉛、ビスメチルエチルホスフィン酸亜鉛、ビスジフェニルホスフィン酸亜鉛、ビスジエチルホスフィン酸チタニル、テトラキスジエチルホスフィン酸チタン、ビスメチルエチルホスフィン酸チタニル、テトラキスメチルエチルホスフィン酸チタン、ビスジフェニルホスフィン酸チタニル、テトラキスジフェニルホスフィン酸チタン等のリン系難燃剤; メラミン、メラム、メラミンシアヌレート等のトリアジン系化合物や、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール化合物、ジアゾ化合物、尿素等の窒素系難燃剤;シリコーン化合物、シラン化合物等のケイ素系難燃剤等が挙げられる。また、無機系難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物;酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化ニッケル等の金属酸化物;炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、ホウ酸亜鉛、水和ガラス等が挙げられる。これらの難燃剤は、2種以上を併用することができる。 The above flame retardant may be either an organic flame retardant or an inorganic flame retardant. Examples of organic flame retardants include phosphorus-based flame retardants such as melamine phosphate, melamine polyphosphate, guanidine phosphate, guanidine polyphosphate, ammonium phosphate, ammonium polyphosphate, ammonium amido phosphate, ammonium amido polyphosphate, carbamate phosphate, carbamate polyphosphate, aluminum trisdiethylphosphinate, aluminum trismethylethylphosphinate, aluminum trisdiphenylphosphinate, zinc bisdiethylphosphinate, zinc bismethylethylphosphinate, zinc bisdiphenylphosphinate, titanyl bisdiethylphosphinate, titanium tetrakisdiethylphosphinate, titanyl bismethylethylphosphinate, titanium tetrakismethylethylphosphinate, titanyl bisdiphenylphosphinate, and titanium tetrakisdiphenylphosphinate; nitrogen-based flame retardants such as triazine-based compounds such as melamine, melam, and melamine cyanurate, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, triazole-based compounds, tetrazole compounds, diazo compounds, and urea; and silicon-based flame retardants such as silicone compounds and silane compounds. Examples of inorganic flame retardants include metal hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zirconium hydroxide, barium hydroxide, and calcium hydroxide; metal oxides such as tin oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, and nickel oxide; zinc carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, zinc borate, and hydrated glass. Two or more of these flame retardants can be used in combination.

上記硬化剤としては、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。アミン系硬化剤としては、例えば、メチル化メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等のメラミン樹脂、ジシアンジアミド、4,4’-ジフェニルジアミノスルホン等が挙げられる。また、酸無水物としては、芳香族系酸無水物、及び脂肪族系酸無水物が挙げられる。これらの硬化剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
硬化剤の含有量は、接着剤組成物100質量部に対して、0.5~100質量部であることが好ましく、5~70質量部であることがより好ましい。
Examples of the curing agent include, but are not limited to, amine-based curing agents and acid anhydride-based curing agents. Examples of the amine-based curing agent include melamine resins such as methylated melamine resin, butylated melamine resin, and benzoguanamine resin, dicyandiamide, and 4,4'-diphenyldiaminosulfone. Examples of the acid anhydride include aromatic acid anhydrides and aliphatic acid anhydrides. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.
The content of the curing agent is preferably 0.5 to 100 parts by mass, and more preferably 5 to 70 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition.

上記硬化促進剤は、カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマーとエポキシ樹脂との反応を促進させる目的で使用するものであり、第三級アミン系硬化促進剤、第三級アミン塩系硬化促進剤及びイミダゾール系硬化促進剤等を使用することができる。
上記硬化促進剤を添加することで反応が早く進み、樹脂が流れ出る前に硬化が可能であり、樹脂流れを有効に防止できる。
The curing accelerator is used for the purpose of accelerating the reaction between the carboxyl group-containing styrene-based elastomer and the epoxy resin, and examples of the curing accelerator that can be used include tertiary amine-based curing accelerators, tertiary amine salt-based curing accelerators, and imidazole-based curing accelerators.
By adding the curing accelerator, the reaction proceeds quickly, allowing the resin to cure before it flows out, and effectively preventing the resin from flowing out.

第三級アミン系硬化促進剤としては、ベンジルジメチルアミン、2-(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、テトラメチルグアニジン、トリエタノールアミン、N,N’-ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン等が挙げられる。 Tertiary amine curing accelerators include benzyldimethylamine, 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, tetramethylguanidine, triethanolamine, N,N'-dimethylpiperazine, triethylenediamine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, etc.

第三級アミン塩系硬化促進剤としては、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンの、ギ酸塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、o-フタル酸塩、フェノール塩又はフェノールノボラック樹脂塩や、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネンの、ギ酸塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、o-フタル酸塩、フェノール塩又はフェノールノボラック樹脂塩等が挙げられる。 Tertiary amine salt curing accelerators include the formate, octylate, p-toluenesulfonate, o-phthalate, phenolate, or phenol novolac resin salt of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, and the formate, octylate, p-toluenesulfonate, o-phthalate, phenolate, or phenol novolac resin salt of 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene.

イミダゾール系硬化促進剤としては、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-メチル-4-エチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、2,4-ジアミノ-6-[2’-メチルイミダゾリル-(1’)]エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2’-ウンデシルイミダゾリル-(1’)]エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2’-エチル-4’-メチルイミダゾリル-(1’)]エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2’-メチルイミダゾリル-(1’)]エチル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Imidazole curing accelerators include 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-methyl-4-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2' 2,4-diamino-6-[2'-ethyl-4'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-ethyl-4'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, etc. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

接着剤組成物が硬化促進剤を含有する場合、硬化促進剤の含有量は、接着剤組成物100質量部に対して、0.05~10質量部であることが好ましく、0.1~5質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の含有量が上記範囲内であれば、スチレン系エラストマーとエポキシ樹脂との反応や、エポキシ樹脂同士の反応を容易に進行でき、接着性及び耐熱性を確保しやすい。 When the adhesive composition contains a curing accelerator, the content of the curing accelerator is preferably 0.05 to 10 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the adhesive composition. When the content of the curing accelerator is within the above range, the reaction between the styrene-based elastomer and the epoxy resin, and the reaction between epoxy resins themselves, can proceed easily, making it easier to ensure adhesion and heat resistance.

また、上記カップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトシキシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネ-トプロピルトリエトキシシラン、イミダゾールシラン等のシラン系カップリング剤;チタネ-ト系カップリング剤;アルミネ-ト系カップリング剤;ジルコニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Further examples of the coupling agent include silane-based coupling agents such as vinyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, and imidazole silane; titanate-based coupling agents; aluminate-based coupling agents; and zirconium-based coupling agents. These may be used alone or in combination of two or more.

上記熱老化防止剤としては、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノ-ル、n-オクタデシル-3-(3’,5’-ジ-tert-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネ-ト、テトラキス〔メチレン-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネ-ト〕メタン、ペンタエリスリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェノール、トリエチレングリコール-ビス〔3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のフェノ-ル系酸化防止剤;ジラウリル-3,3’-チオジプロピオネ-ト、ジミリスチル-3,3’-ジチオプロピオネ-ト等のイオウ系酸化防止剤;トリスノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト等のリン系酸化防止剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The above-mentioned heat aging inhibitors include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, n-octadecyl-3-(3',5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate, tetrakis[methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]methane, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenol, triethylene glycol-bis[3 phenol-based antioxidants such as 3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate; sulfur-based antioxidants such as dilauryl-3,3'-thiodipropionate and dimyristyl-3,3'-dithiopropionate; and phosphorus-based antioxidants such as trisnonylphenyl phosphite and tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite. These may be used alone or in combination of two or more.

<接着剤組成物からなる接着剤層の特性>
本発明の接着剤組成物からなる接着剤層は、接着剤組成物を成膜し硬化することにより形成される。
硬化方法としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化等が挙げられる。
接着剤層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、薄膜化の観点から3~100μmであることが好ましく、密着力を確保できるため、5~70μmであることがより好ましく、レジンフローをより正確に制御できるため、10~50μmであることが更に好ましい。
<Characteristics of adhesive layer made of adhesive composition>
The adhesive layer made of the adhesive composition of the present invention is formed by forming the adhesive composition into a film and curing it.
The curing method is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, and examples thereof include thermal curing.
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, it is preferably 3 to 100 μm from the viewpoint of thinning, more preferably 5 to 70 μm to ensure adhesion, and even more preferably 10 to 50 μm to enable more accurate control of resin flow.

本発明の接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の周波数28GHzにおける比誘電率(εr)は3.5以下であり、該接着剤層の周波数28GHzにおける誘電正接(tanδ)は0.005以下である。さらに比誘電率が3.2以下であり、かつ、誘電正接が0.002以下であることが望ましい。
比誘電率が3.5以下であり、かつ、誘電正接が0.005以下であれば、電気特性の要求が厳しいFPC関連製品にも好適に用いることができる。比誘電率が3.2以下であり、かつ、誘電正接が0.002以下であれば、高周波での伝送においても減衰をさらに軽減できる。
The adhesive layer obtained by curing the adhesive composition of the present invention has a relative dielectric constant (εr) of 3.5 or less at a frequency of 28 GHz, and a dielectric dissipation factor (tanδ) of 0.005 or less at a frequency of 28 GHz. It is further desirable that the relative dielectric constant is 3.2 or less and the dielectric dissipation factor is 0.002 or less.
If the dielectric constant is 3.5 or less and the dielectric dissipation factor is 0.005 or less, the material can be suitably used in FPC-related products that require strict electrical properties. If the dielectric constant is 3.2 or less and the dielectric dissipation factor is 0.002 or less, attenuation can be further reduced even in high-frequency transmission.

[比誘電率及び誘電正接]
接着剤層の比誘電率及び誘電正接は、ネットワークアナライザーMS46122B(Anritsu社製)と開放型共振器ファブリペローDPS-03(KEYCOM社製)とを使用し、開放型共振器法で、温度23℃、周波数28GHzの条件で測定することができる。
[Relative permittivity and dielectric loss tangent]
The dielectric constant and dielectric loss tangent of the adhesive layer can be measured using a network analyzer MS46122B (manufactured by Anritsu) and an open resonator Fabry-Perot DPS-03 (manufactured by KEYCOM) by the open resonator method under conditions of a temperature of 23°C and a frequency of 28 GHz.

本発明の接着剤組成物の硬化後の接着剤層の25℃における貯蔵弾性率は積層体時の密着力の観点から1.0E+8Pa以上であることが好ましい。また、該接着剤組成物の硬化後接着剤層の25℃における貯蔵弾性率は1.0E+9Pa以下であることが好ましい。貯蔵弾性率が上記範囲内であると、積層体時の密着力の維持が可能である。
本発明の接着剤組成物の硬化前接着剤層の150℃における貯蔵弾性率は密着力の観点から1.0E+5Pa以上1.0E+8Pa以下であることが好ましい。また、被着体表面への追従性の観点から1.0E+5Pa以上1.0E+7Pa以下であることがより好ましく、レジンフローの観点から1.0E+6Pa以上1.0E+7Pa以下であることがさらに好ましい。
貯蔵弾性率が上記範囲内であると、熱圧着時に機械的特性の制御が可能で、レジンフローと密着力の両立が可能であるため、好ましい。
From the viewpoint of adhesive strength when laminated, the storage modulus at 25°C of the adhesive layer after curing of the adhesive composition of the present invention is preferably 1.0E+8 Pa or more. Furthermore, the storage modulus at 25°C of the adhesive layer after curing of the adhesive composition is preferably 1.0E+9 Pa or less. When the storage modulus is within the above range, it is possible to maintain adhesive strength when laminated.
From the viewpoint of adhesion, the storage modulus of the adhesive layer of the adhesive composition of the present invention before curing is preferably 1.0E+5 Pa or more and 1.0E+8 Pa or less at 150°C. From the viewpoint of conformability to the surface of the adherend, it is more preferably 1.0E+5 Pa or more and 1.0E+7 Pa or less, and from the viewpoint of resin flow, it is even more preferably 1.0E+6 Pa or more and 1.0E+7 Pa or less.
It is preferable that the storage modulus is within the above range, since it is possible to control the mechanical properties during thermocompression bonding and to achieve both resin flow and adhesive strength.

[貯蔵弾性率(Pa)]
接着剤層の貯蔵弾性率は、例えば、接着剤層からなる試料について、厚さ100μmの接着剤フィルムを作製し、粘弾性測定装置(TA Instruments社製RSA-G2を用い、測定周波数1Hz、昇温速度5℃/minの条件下でJIS K7244に従い、測定することにより求める。
[Storage modulus (Pa)]
The storage modulus of the adhesive layer is determined, for example, by preparing a 100 μm thick adhesive film for a sample made of the adhesive layer and measuring it using a viscoelasticity measuring device (RSA-G2 manufactured by TA Instruments) under conditions of a measurement frequency of 1 Hz and a temperature rise rate of 5° C./min in accordance with JIS K7244.

本発明の接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の熱膨張率(CTE)は、500ppm/K以下であることが好ましい。熱膨張率が上記値以下であると、熱圧着時の変形が少ないため、好ましい。
熱膨張率の測定は、例えば、熱機械分析装置〔日立ハイテクサイエンス社製 製品名:SII//SS7100〕を用いた引張モードにより、荷重:50mN、昇温速度:5℃/min.の割合で25℃から250℃まで昇温速度:5℃/minの割合で昇温し、寸法の温度変化を測定し、25℃から125℃までの範囲の傾きから線膨張係数を求めることにより、行うことができる。
The adhesive layer obtained by curing the adhesive composition of the present invention preferably has a coefficient of thermal expansion (CTE) of 500 ppm/K or less. A coefficient of thermal expansion of this value or less is preferred because deformation during thermocompression bonding is small.
The thermal expansion coefficient can be measured, for example, by using a thermomechanical analyzer (Hitachi High-Tech Science Corporation, product name: SII//SS7100) in a tensile mode under a load of 50 mN, raising the temperature from 25°C to 250°C at a rate of 5°C/min, measuring the change in dimension with temperature, and determining the linear expansion coefficient from the slope in the range from 25°C to 125°C.

<接着剤層の製造方法>
上記接着剤組成物を成膜することで接着剤層を製造することができる。
上記接着剤組成物は、少なくともスチレン系エラストマーを含む樹脂組成物、無機フィラー、及び必要に応じてその他の樹脂成分やその他の成分を混合することにより製造することができる。混合方法は特に限定されず、接着剤組成物が均一になればよい。接着剤組成物は、溶液又は分散液の状態で好ましく用いられることから、通常は、溶媒も使用される。
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、イソブチルアルコール、n-ブチルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類;トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ-ト、3-メトキシブチルアセテート等のエステル類;ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
接着剤組成物が溶媒を含む溶液又は分散液(樹脂ワニス)であると、基材フィルムへの塗工及び接着剤層の形成を円滑に行うことができ、所望の厚さの接着剤層を容易に得ることができる。
接着剤組成物が溶媒を含む場合、接着剤層の形成を含む作業性等の観点から、固形分濃度は、好ましくは3~80質量%、より好ましくは10~50質量%の範囲である。固形分濃度が80質量%以下であると、溶液の粘度が適度であり、均一に塗工し易い。
接着剤層の製造方法のより具体的な実施態様としては、上記接着剤組成物及び溶媒を含有する樹脂ワニスを、基材フィルムの表面に塗布して樹脂ワニス層を形成した後、該樹脂ワニス層から溶媒を除去することにより、Bステージ状の接着剤層を形成することができる。ここで、接着剤層がBステージ状であるとは、接着剤組成物が未硬化状態あるいは一部が硬化し始めた半硬化状態をいい、加熱等により、接着剤組成物の硬化が更に進行する状態をいう。
ここで、基材フィルム上に樹脂ワニスを塗布する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、ドクターブレード法、カーテンコート法、スリットコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、ディスペンス法等が挙げられる。
上記Bステージ状の接着剤層は、さらに加熱等を施し、硬化した接着剤層を形成することができる。
<Method of manufacturing adhesive layer>
An adhesive layer can be produced by forming the adhesive composition into a film.
The adhesive composition can be produced by mixing a resin composition containing at least a styrene-based elastomer, an inorganic filler, and, if necessary, other resin components and other components. The mixing method is not particularly limited as long as the adhesive composition is homogeneous. Since the adhesive composition is preferably used in the form of a solution or dispersion, a solvent is usually also used.
Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, isobutyl alcohol, n-butyl alcohol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diacetone alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, and isophorone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, and mesitylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl acetate; and aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
When the adhesive composition is a solution or dispersion containing a solvent (resin varnish), coating onto a substrate film and formation of an adhesive layer can be carried out smoothly, and an adhesive layer of the desired thickness can be easily obtained.
When the adhesive composition contains a solvent, the solid content is preferably in the range of 3 to 80% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, from the viewpoint of workability including the formation of the adhesive layer. When the solid content is 80% by mass or less, the viscosity of the solution is appropriate, and uniform application is facilitated.
In a more specific embodiment of the method for producing an adhesive layer, a resin varnish containing the adhesive composition and a solvent is applied to the surface of a substrate film to form a resin varnish layer, and then the solvent is removed from the resin varnish layer to form a B-stage adhesive layer. Here, the B-stage adhesive layer refers to an adhesive composition in an uncured state or a semi-cured state in which a portion of the adhesive composition has begun to cure, and refers to a state in which curing of the adhesive composition progresses further by heating or the like.
Here, the method for applying the resin varnish onto the substrate film is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, and examples thereof include spraying, spin coating, dipping, roll coating, blade coating, doctor roll method, doctor blade method, curtain coating, slit coating, screen printing, inkjet method, and dispensing method.
The adhesive layer in the B-stage state can be further heated or the like to form a cured adhesive layer.

(積層体)
本発明の積層体は、基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の表面に上記接着剤層とを備える。
(Laminate)
The laminate of the present invention comprises a substrate film and the above-described adhesive layer on at least one surface of the substrate film.

<基材フィルム>
本発明に用いる基材フィルムは、積層体の用途により選択することができる。例えば、積層体をカバーレイフィルムや銅張積層板(CCL)として用いる場合は、ポリイミドフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、アラミドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、及び液晶ポリマーフィルム等が挙げられる。これらの中でも、接着性及び電気特性の観点から、ポリイミドフィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)フィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、及び液晶ポリマーフィルムが好ましい。
<Base film>
The substrate film used in the present invention can be selected depending on the application of the laminate. For example, when the laminate is used as a coverlay film or a copper-clad laminate (CCL), examples of the substrate film include polyimide films, polyether ether ketone films, polyphenylene sulfide films, aramid films, polyethylene naphthalate films, and liquid crystal polymer films. Among these, polyimide films, polyether ether ketone (PEEK) films, polyethylene naphthalate films, and liquid crystal polymer films are preferred from the viewpoints of adhesiveness and electrical properties.

また、本発明の積層体をボンディングシートとして用いる場合には、基材フィルムは離型性フィルムである必要があり、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、シリコーン離型処理紙、ポリオレフィン樹脂コート紙、TPX(ポリメチルペンテン)フィルム、及びフッ素系樹脂フィルム等が挙げられる。 Furthermore, when the laminate of the present invention is used as a bonding sheet, the base film must be a release film, such as polyethylene terephthalate film, polyethylene film, polypropylene film, silicone release-treated paper, polyolefin resin-coated paper, TPX (polymethylpentene) film, and fluorine-based resin film.

本発明の積層体をシールドフィルムとして用いる場合には、基材フィルムは電磁波遮蔽能を有するフィルムである必要があり、例えば、保護絶縁層と金属箔の積層体等が挙げられる。 When the laminate of the present invention is used as a shielding film, the base film must be a film with electromagnetic wave shielding ability, such as a laminate of a protective insulating layer and a metal foil.

(カバーレイフィルム)
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、カバーレイフィルムが挙げられる。
FPCを製造する場合、配線部分を保護するために、通常、「カバーレイフィルム」と呼ばれる接着剤層を有する積層体が用いられる。このカバーレイフィルムは、絶縁樹脂層と、その表面に形成された接着剤層とを備えている。
例えば、カバーレイフィルムは、上記基材フィルムの少なくとも一方の表面に上記接着剤層が形成されており、基材フィルムと接着剤層の剥離が一般に困難な積層体である。
カバーレイフィルムに含まれる基材フィルムの厚さは、5~100μmであることが好ましく、5~50μmであることがより好ましく、5~30μmであることが更に好ましい。基材フィルムの厚さが上記上限以下であれば、カバーレイフィルムを薄膜化することができる。基材フィルムの厚さが上記下限以上であれば、プリント配線板の設計が容易にでき、ハンドリングもよい。
カバーレイフィルムを製造する方法としては、例えば、上記接着剤組成物及び溶媒を含有する樹脂ワニスを、上記基材フィルムの表面に塗布して樹脂ワニス層を形成した後、該樹脂ワニス層から溶媒を除去することにより、Bステージ状の接着剤層が形成されたカバーレイフィルムを製造することができる。
溶媒を除去するときの乾燥温度は、40~250℃であることが好ましく、70~170℃であることがより好ましい。
乾燥は、接着剤組成物が塗布された積層体を、熱風乾燥、遠赤外線加熱、及び高周波誘導加熱等がなされる炉の中を通過させることにより行われる。
なお、必要に応じて、接着剤層の表面には、保管等のため、離型性フィルムを積層してもよい。離型性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、シリコーン離型処理紙、ポリオレフィン樹脂コート紙、TPXフィルム、フッ素系樹脂フィルム等の公知のものが用いられる。
本発明に係るカバーレイフィルムは、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送が可能であり、さらに電子機器との接着安定性にも優れたものとなる。
(Coverlay film)
A preferred embodiment of the laminate according to the present invention is a coverlay film.
When manufacturing an FPC, a laminate with an adhesive layer called a "coverlay film" is usually used to protect the wiring portion. This coverlay film has an insulating resin layer and an adhesive layer formed on the surface of the insulating resin layer.
For example, a coverlay film is a laminate in which the adhesive layer is formed on at least one surface of the base film, and peeling of the base film and the adhesive layer is generally difficult.
The thickness of the base film included in the coverlay film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 5 to 50 μm, and even more preferably 5 to 30 μm. If the thickness of the base film is equal to or less than the upper limit, the coverlay film can be made thinner. If the thickness of the base film is equal to or greater than the lower limit, the printed wiring board can be easily designed and handled.
As a method for producing a coverlay film, for example, a resin varnish containing the adhesive composition and a solvent is applied to the surface of the base film to form a resin varnish layer, and then the solvent is removed from the resin varnish layer, thereby producing a coverlay film having a B-stage adhesive layer formed thereon.
The drying temperature when removing the solvent is preferably 40 to 250°C, more preferably 70 to 170°C.
Drying is carried out by passing the laminate coated with the adhesive composition through a furnace in which hot air drying, far infrared heating, high frequency induction heating, or the like is performed.
If necessary, a release film may be laminated on the surface of the adhesive layer for storage, etc. As the release film, known films such as polyethylene terephthalate film, polyethylene film, polypropylene film, silicone release-treated paper, polyolefin resin-coated paper, TPX film, and fluorine-based resin film can be used.
The coverlay film according to the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, which enables high-speed transmission in electronic devices and also provides excellent adhesion stability to electronic devices.

(ボンディングシート)
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、ボンディングシートが挙げられる。
ボンディングシートは、離型性フィルム(基材フィルム)の表面に上記接着剤層が形成されているものである。また、ボンディングシートは、2枚の離型性フィルムの間に接着剤層を備える態様であってもよい。ボンディングシートを使用するときに、離型性フィルムを剥離して使用する。離型性フィルムは、上記(カバーレイフィルム)の欄で記載したものと同様なものを用いることができる。
ボンディングシートに含まれる基材フィルムの厚さは、5~100μmであることが好ましく、25~75μmであることがより好ましく、38~50μmであることが更に好ましい。基材フィルムの厚さが上記範囲内であれば、ボンディングシートの製造が容易であり、ハンドリングもよい。
ボンディングシートを製造する方法としては、例えば、離型性フィルムの表面に上記接着剤組成物及び溶媒を含有する樹脂ワニスを塗布し、上記カバーレイフィルムの場合と同様にして乾燥する方法がある。
本発明に係るボンディングシートは、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送が可能であり、さらに電子機器との接着安定性にも優れたものとなる。
(Bonding sheet)
A preferred embodiment of the laminate according to the present invention is a bonding sheet.
The bonding sheet is a sheet in which the adhesive layer is formed on the surface of a release film (substrate film). The bonding sheet may also be in a form in which the adhesive layer is provided between two release films. When using the bonding sheet, the release film is peeled off. The release film may be the same as that described in the above (coverlay film) section.
The thickness of the substrate film included in the bonding sheet is preferably 5 to 100 μm, more preferably 25 to 75 μm, and even more preferably 38 to 50 μm. If the thickness of the substrate film is within the above range, the bonding sheet is easy to manufacture and easy to handle.
A bonding sheet can be produced, for example, by applying a resin varnish containing the adhesive composition and a solvent to the surface of a release film and drying it in the same manner as in the case of the coverlay film.
The bonding sheet according to the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, which enables high-speed transmission in electronic devices and also provides excellent adhesive stability to electronic devices.

(銅張積層板(CCL))
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、本発明の積層体中の接着剤層に、銅箔を貼り合せてなる銅張積層板が挙げられる。
銅張積層板は、上記積層体を用いて、銅箔が貼り合わされており、例えば、基材フィルム、接着剤層及び銅箔の順に構成されている。なお、接着剤層及び銅箔は、基材フィルムの両面に形成されていてもよい。
本発明で用いる接着剤組成物は、銅を含む物品との接着性にも優れている。
本発明に係る銅張積層板は、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送を可能とし、かつ接着安定性に優れたものとなる。
(Copper-clad laminate (CCL))
A preferred embodiment of the laminate according to the present invention is a copper-clad laminate obtained by laminating a copper foil to the adhesive layer in the laminate according to the present invention.
A copper-clad laminate is formed by laminating a copper foil to the above-mentioned laminate, and is composed of, for example, a base film, an adhesive layer, and a copper foil in this order. The adhesive layer and the copper foil may be formed on both sides of the base film.
The adhesive composition used in the present invention also has excellent adhesion to articles containing copper.
The copper-clad laminate of the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, and therefore enables high-speed transmission in electronic devices and has excellent adhesive stability.

銅張積層板を製造する方法としては、例えば、上記積層体の接着剤層と銅箔とを面接触させ、80℃~150℃で熱ラミネートを行い、更にアフターキュアにより接着剤層を硬化する方法がある。アフターキュアの条件は、例えば、不活性ガスの雰囲気下で100℃~200℃、30分~4時間とすることができる。なお、上記銅箔は、特に限定されず、電解銅箔、圧延銅箔等を用いることができる。 One method for producing a copper-clad laminate is to bring the adhesive layer of the laminate into face-to-face contact with copper foil, thermally laminate the laminate at 80°C to 150°C, and then cure the adhesive layer by after-curing. After-curing conditions can be, for example, 100°C to 200°C in an inert gas atmosphere for 30 minutes to 4 hours. The copper foil is not particularly limited, and electrolytic copper foil, rolled copper foil, etc. can be used.

(プリント配線板)
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、本発明の積層体中の接着剤層に、銅配線を貼り合せてなるプリント配線板が挙げられる。
プリント配線板は、上記銅張積層板に電子回路を形成することにより得られる。
プリント配線板は、上記積層体を用いて、基材フィルムと銅配線とが貼り合わされており、基材フィルム、接着層及び銅配線の順に構成されている。なお、接着層及び銅配線は、基材フィルムの両面に形成されていてもよい。
例えば、熱プレス等を利用して、配線部分を有する面に、接着剤層を介してカバーレイフィルムを貼り付けることにより、プリント配線板が製造される。
本発明に係るプリント配線板は、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送を可能とし、かつ接着安定性に優れたものとなる。
本発明に係るプリント配線板を製造する方法としては、例えば、上記積層体の接着剤層と銅配線とを接触させ、80℃~150℃で熱ラミネートを行い、更にアフターキュアにより接着剤層を硬化する方法がある。アフターキュアの条件は、例えば、100℃~200℃、30分~4時間とすることができる。上記銅配線の形状は、特に限定されず、所望に応じ、適宜形状等を選択すればよい。
(Printed wiring board)
A preferred embodiment of the laminate of the present invention is a printed wiring board obtained by laminating copper wiring to the adhesive layer in the laminate of the present invention.
A printed wiring board can be obtained by forming an electronic circuit on the copper-clad laminate.
The printed wiring board is formed by bonding a base film and copper wiring using the laminate, and is composed of the base film, adhesive layer, and copper wiring in that order. The adhesive layer and copper wiring may be formed on both sides of the base film.
For example, a printed wiring board is manufactured by using a heat press or the like to attach a coverlay film via an adhesive layer to a surface having wiring portions.
The printed wiring board according to the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, and therefore enables high-speed transmission in electronic devices and has excellent adhesive stability.
A method for producing the printed wiring board according to the present invention includes, for example, contacting the adhesive layer of the laminate with copper wiring, performing thermal lamination at 80°C to 150°C, and then curing the adhesive layer by after-curing. The after-curing conditions can be, for example, 100°C to 200°C and 30 minutes to 4 hours. The shape of the copper wiring is not particularly limited, and an appropriate shape can be selected as desired.

(シールドフィルム)
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、シールドフィルムが挙げられる。
シールドフィルムは、コンピュータや携帯電話や分析機器等の各種電子機器に影響し誤作動の原因となる電磁波ノイズをカットするために、各種電子機器にシールドするためのフィルムである。電磁波シールドフィルムともいう。
電磁波シールドフィルムは、例えば、絶縁樹脂層、金属層、及び本発明の接着剤層をこの順で積層してなる。
本発明に係るシールドフィルムは、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送が可能であり、さらに電子機器との接着安定性にも優れたものとなる。
(Shielding film)
A preferred embodiment of the laminate according to the present invention is a shielding film.
Shielding film is a film used to shield various electronic devices, such as computers, mobile phones, and analytical equipment, in order to cut out electromagnetic noise that can affect these devices and cause them to malfunction. It is also called electromagnetic wave shielding film.
The electromagnetic wave shielding film is formed by laminating, for example, an insulating resin layer, a metal layer, and the adhesive layer of the present invention in this order.
The shielding film of the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, which enables high-speed transmission in electronic devices and also provides excellent adhesion stability to electronic devices.

(シールドフィルム付プリント配線板)
本発明に係る積層体の好ましい一実施態様として、シールドフィルム付プリント配線板が挙げられる。
シールドフィルム付プリント配線板は、基板の少なくとも片面にプリント回路が設けられたプリント配線板上に、上記電磁波シールドフィルムが貼付されたものである。
シールドフィルム付プリント配線板は、例えば、プリント配線板と、プリント配線板のプリント回路が設けられた側の面に隣接する絶縁フィルムと、上記電磁波シールドフィルムとを有する。
本発明に係るシールドフィルム付プリント配線板は、低誘電な本発明の接着剤組成物を使用しているため、電子機器の高速伝送を可能とし、かつ接着安定性に優れたものとなる。
(Printed wiring board with shielding film)
A preferred embodiment of the laminate according to the present invention is a printed wiring board with a shielding film.
A printed wiring board with a shielding film is a printed wiring board having a printed circuit provided on at least one surface of the substrate, and the electromagnetic wave shielding film is attached to the printed wiring board.
A printed wiring board with a shielding film includes, for example, a printed wiring board, an insulating film adjacent to the surface of the printed wiring board on which the printed circuit is provided, and the electromagnetic wave shielding film.
The printed wiring board with a shielding film according to the present invention uses the low-dielectric adhesive composition of the present invention, and therefore enables high-speed transmission in electronic devices and has excellent adhesive stability.

以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、下記において、部及び%は、特に断らない限り、質量基準である。The present invention will be described in further detail below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples. In the following, parts and percentages are by weight unless otherwise specified.

(カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマー)
旭化成株式会社製の商品名「タフテックM1913」(マレイン酸変性スチレン-エチレンブチレン-スチレンブロック共重合体)を用いた。この共重合体の酸価は10mgKOH/gであり、スチレン/エチレンブチレン比は30/70であり、重量平均分子量は67,000である。
(カルボキシ基を含有するスチレン系エラストマー)
旭化成株式会社製の商品名「タフテックM1911」(マレイン酸変性スチレン-エチレンブチレン-スチレンブロック共重合体)を用いた。この共重合体の酸価は2mgKOH/gであり、スチレン/エチレンブチレン比は30/70であり、重量平均分子量は69,000である。
(カルボキシ基を含有しないスチレン系エラストマー)
旭化成株式会社製の商品名「タフテックP1500」(水添スチレン系エラストマー)を用いた。この共重合体の酸価は0mgKOH/gであり、スチレン/エチレンブチレン比は30/70であり、重量平均分子量は67,000である。
(アミノ基を含有するスチレン系エラストマー)
旭化成株式会社製の商品名「タフテックMP10」(アミン変性水添スチレン-ブタジエン共重合体(アミン変性スチレン-エチレンブチレン-スチレン共重合体))を用いた。この共重合体のスチレン比は30であり、重量平均分子量は78,000である。
(エポキシ樹脂)
DIC株式会社製の商品名「HP-7200」(エポキシ樹脂、軟化点56-66℃)を用いた。
(エポキシ樹脂)
株式会社ダイセル製の商品名「エポフレンドCT310」(スチレン-ブタジエンブロック共重合体のエポキシ化物)を用いた。この共重合体のスチレン/エチレンブチレン比は40/60であり、重量平均分子量は93,000であり、エポキシ当量は2125g/eq.である。
(溶剤)
トルエン及びメチルエチルケトンからなる混合溶媒(質量比=90:10)を用いた。
(基材フィルム)
基材フィルムとして、信越ポリマー社製の「Shin-Etsu Sepla Film PEEK」(ポリエーテルエーテルケトン、厚さ50μm)を用いた。
(電解銅箔)
電解銅箔として、三井金属鉱業製の「TQ-M7-VSP」(電解銅箔、厚さ12μm、光沢面Rz1.27μm、光沢面Ra0.197μm、光沢面Rsm12.95μm)を用いた。光沢面の表面粗さは、レーザー顕微鏡を用いて粗さ曲線を測定し、この粗さ曲線から、JIS B 0601:2013(ISO 4287:1997 Amd.1:2009)に基づいて求めた値である。
(離型フィルム)
離型フィルムとして、パナック社製NP75SA(シリコーン離型PETフィルム、75μm)を用いた。
(フィラー)
フィラーとして、下記に記載のフィラーを用いた。
MK-100DS ミクロマイカ(雲母)(片倉コープアプリ株式会社製)
アスペクト比 27.5
UHP-S2 六方晶窒化ホウ素(昭和電工株式会社製)
アスペクト比 6
MX-300 アクリル粒子(総研化学株式会社製)
SQ-C8 シリカ(株式会社アドマテックス社製)
MC6000 メラミンイソシアヌレート(日産化学株式会社製)
(Carboxy group-containing styrene elastomer)
The product used was "Tuftec M1913" (maleic acid-modified styrene-ethylene butylene-styrene block copolymer) manufactured by Asahi Kasei Corporation. The copolymer had an acid value of 10 mg KOH/g, a styrene/ethylene butylene ratio of 30/70, and a weight-average molecular weight of 67,000.
(Carboxy group-containing styrene elastomer)
The product used was "Tuftec M1911" (maleic acid-modified styrene-ethylene butylene-styrene block copolymer) manufactured by Asahi Kasei Corporation. The copolymer had an acid value of 2 mg KOH/g, a styrene/ethylene butylene ratio of 30/70, and a weight-average molecular weight of 69,000.
(Carboxy-free styrene-based elastomer)
The copolymer used was "Tuftec P1500" (hydrogenated styrene-based elastomer) manufactured by Asahi Kasei Corporation. The copolymer had an acid value of 0 mgKOH/g, a styrene/ethylene butylene ratio of 30/70, and a weight average molecular weight of 67,000.
(Amino group-containing styrene elastomer)
The product used was "Tuftec MP10" (amine-modified hydrogenated styrene-butadiene copolymer (amine-modified styrene-ethylenebutylene-styrene copolymer) manufactured by Asahi Kasei Corporation. The styrene ratio of this copolymer was 30, and the weight average molecular weight was 78,000.
(epoxy resin)
The product used was "HP-7200" (epoxy resin, softening point 56-66°C) manufactured by DIC Corporation.
(epoxy resin)
The product used was "Epofriend CT310" (epoxidized styrene-butadiene block copolymer) manufactured by Daicel Corporation. The styrene/ethylene-butylene ratio of this copolymer was 40/60, the weight-average molecular weight was 93,000, and the epoxy equivalent was 2125 g/eq.
(solvent)
A mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone (mass ratio = 90:10) was used.
(Base film)
As the substrate film, "Shin-Etsu Sepla Film PEEK" (polyether ether ketone, thickness 50 μm) manufactured by Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. was used.
(electrolytic copper foil)
The electrolytic copper foil used was "TQ-M7-VSP" manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. (electrolytic copper foil, thickness 12 μm, shiny side Rz 1.27 μm, shiny side Ra 0.197 μm, shiny side Rsm 12.95 μm). The surface roughness of the shiny side was determined from a roughness curve measured using a laser microscope in accordance with JIS B 0601:2013 (ISO 4287:1997 Amd.1:2009).
(Release film)
As the release film, NP75SA (silicone release PET film, 75 μm) manufactured by Panac Corporation was used.
(filler)
As the filler, the fillers described below were used.
MK-100DS Micro Mica (manufactured by Katakura Coop Appli Co., Ltd.)
Aspect ratio 27.5
UHP-S2 hexagonal boron nitride (Showa Denko K.K.)
Aspect Ratio 6
MX-300 Acrylic Particles (Soken Chemical Co., Ltd.)
SQ-C8 Silica (manufactured by Admatechs Co., Ltd.)
MC6000 Melamine Isocyanurate (Nissan Chemical Co., Ltd.)

(実施例1)
表1に示す樹脂組成物を構成する各成分を表1に示す割合で含有し、樹脂組成物を作製した。
次に、表2に示す接着剤層を構成する各成分を表2に示す割合で含有し、これら成分を溶剤に溶かし、固形分濃度が20質量%の樹脂ワニスを作製した。
使用したフィラーの形状及び平均粒径を表2に示す。
基材フィルムの表面にコロナ処理を行った。
該樹脂ワニスを基材フィルムの表面に塗布し、110℃のオーブンで4分間乾燥させ、トルエンを揮発させることで接着剤層を形成し、接着剤付き基材フィルムを得た。接着剤積層体の接着剤層が電解銅箔の光沢面と接する様に重ね、120℃で熱ラミネートを行い、硬化前接着剤積層体を得た。硬化前接着剤積層体を180℃、3MPa、3分間プレスし、その後180℃で、30分間、アフターキュアを行うことにより接着剤層を硬化し、硬化後接着剤積層体を得た。
実施例1の硬化後接着剤積層体の電解銅箔と基材フィルムとの密着力(N/cm)を測定した。
Example 1
Resin compositions were prepared by mixing the components constituting the resin compositions shown in Table 1 in the proportions shown in Table 1.
Next, the components constituting the adhesive layer shown in Table 2 were dissolved in a solvent in the proportions shown in Table 2 to prepare a resin varnish with a solids concentration of 20 mass %.
The shapes and average particle sizes of the fillers used are shown in Table 2.
The surface of the substrate film was subjected to a corona treatment.
The resin varnish was applied to the surface of a substrate film, dried in an oven at 110°C for 4 minutes, and the toluene was volatilized to form an adhesive layer, yielding a substrate film with an adhesive. The adhesive layer of the adhesive laminate was placed in contact with the shiny side of the electrolytic copper foil, and thermal lamination was performed at 120°C to obtain a pre-cured adhesive laminate. The pre-cured adhesive laminate was pressed at 180°C and 3 MPa for 3 minutes, and then after-cured at 180°C for 30 minutes to cure the adhesive layer, yielding a cured adhesive laminate.
After curing, the adhesive strength (N/cm) between the electrolytic copper foil and the substrate film of the adhesive laminate of Example 1 was measured.

[密着力(N/cm)]
密着力は、硬化後接着剤積層体をカットして幅25mmの試験体とし、JIS Z0237:2009(粘着テープ・粘着シート試験方法)に準拠して、剥離速度0.3m/分、剥離角180°にて支持体に固定した接着剤付き基材フィルムから電解銅箔を剥がす際の剥離強度を測定することにより、密着力を測定した。
[Adhesion strength (N/cm)]
The adhesive strength was measured by cutting the cured adhesive laminate into a 25 mm wide test piece, and measuring the peel strength when peeling the electrolytic copper foil from the adhesive-attached substrate film fixed to a support at a peel speed of 0.3 m/min and a peel angle of 180° in accordance with JIS Z0237:2009 (Test methods for adhesive tapes and adhesive sheets).

さらに、硬化後の25℃及び硬化前の150℃における貯蔵弾性率(Pa)も測定した。 In addition, the storage modulus (Pa) was measured at 25°C after curing and at 150°C before curing.

[貯蔵弾性率(Pa)]
接着剤層の貯蔵弾性率は、接着剤層からなる試料について、厚さ100μmの接着剤フィルムを作製し、粘弾性測定装置(TA Instruments社製RSA-G2を用い、測定周波数1Hz、昇温速度5℃/minの条件下でJIS K7244に従い、測定した。測定試料は、離型フィルム上に樹脂ワニスを、ロ-ル塗布し、次いで、この塗膜付きフィルムをオーブン内に静置して、110℃で4分間乾燥させてBステージ状の接着剤層(厚さ50μm)を形成した。次に、この接着剤層を接着面同士が接する様に120℃で熱ラミネートして硬化前接着剤フィルム(厚さ100μm)を形成し、硬化前接着剤フィルム(100mm×100mm)を作製した。接着剤フィルムから離型フィルムを剥離して硬化前接着剤層の貯蔵弾性率(Pa)を測定した。
また、硬化前接着剤フィルム(厚さ100μm)をオーブン内に静置して、150℃で60分間加熱硬化処理をして、硬化後接着剤フィルム(100mm×100mm)を作製した。接着剤フィルムから離形フィルムを剥離して硬化後接着剤層の貯蔵弾性率(Pa)を測定した。
[Storage modulus (Pa)]
The storage modulus of the adhesive layer was measured using a viscoelasticity measuring device (RSA-G2 manufactured by TA Instruments) in accordance with JIS K7244 under conditions of a measurement frequency of 1 Hz and a temperature rise rate of 5°C/min. For the measurement sample, a resin varnish was roll-coated onto a release film, and then this coated film was placed in an oven and dried at 110°C for 4 minutes to form a B-stage adhesive layer (thickness 50 μm). Next, this adhesive layer was thermally laminated at 120°C so that the adhesive surfaces were in contact with each other to form a pre-cure adhesive film (thickness 100 μm), and a pre-cure adhesive film (100 mm x 100 mm) was produced. The release film was peeled off from the adhesive film, and the storage modulus (Pa) of the pre-cure adhesive layer was measured.
Furthermore, a pre-cured adhesive film (thickness 100 μm) was placed in an oven and subjected to a heat curing treatment at 150° C. for 60 minutes to produce a cured adhesive film (100 mm × 100 mm). The release film was peeled off from the adhesive film, and the storage modulus (Pa) of the cured adhesive layer was measured.

実施例1の硬化後接着剤積層体中の接着剤層について、周波数28GHzにおける比誘電率、及び誘電正接も測定した。 The relative dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 28 GHz were also measured for the adhesive layer in the cured adhesive laminate of Example 1.

[比誘電率及び誘電正接]
接着剤層の比誘電率及び誘電正接は、ネットワークアナライザーMS46122B(Anritsu社製)と開放型共振器ファブリペローDPS-03(KEYCOM社製)とを使用し、開放型共振器法で、温度23℃、周波数28GHzの条件で測定した。測定試料は、離型フィルム上に樹脂ワニスを、ロ-ル塗布し、次いで、この塗膜付きフィルムをオーブン内に静置して、110℃で4分間乾燥させてBステージ状の接着剤層(厚さ50μm)を形成した。次に、この接着剤層を接着面同士が接する様に120℃で熱ラミネートして硬化前接着剤フィルム(厚さ100μm)を形成した。この硬化前接着剤フィルム(厚さ100μm)をオーブン内に静置して、150℃で60分間加熱硬化処理をして、硬化後接着剤フィルム(100mm×100mm)を作製した。硬化後接着剤フィルムから離型フィルムを剥離して接着剤層の比誘電率及び誘電正接を測定した。
[Relative permittivity and dielectric loss tangent]
The dielectric constant and dielectric loss tangent of the adhesive layer were measured using a network analyzer MS46122B (manufactured by Anritsu) and an open-type resonator Fabry-Perot DPS-03 (manufactured by KEYCOM) using the open-type resonator method at a temperature of 23 ° C and a frequency of 28 GHz. The measurement sample was prepared by roll-coating a resin varnish onto a release film, and then placing the coated film in an oven and drying it at 110 ° C for 4 minutes to form a B-stage adhesive layer (thickness 50 μm). Next, this adhesive layer was thermally laminated at 120 ° C so that the adhesive surfaces were in contact with each other to form a pre-cured adhesive film (thickness 100 μm). This pre-cured adhesive film (thickness 100 μm) was placed in an oven and subjected to a heat-curing treatment at 150 ° C for 60 minutes to produce a cured adhesive film (100 mm x 100 mm). After curing, the release film was peeled off from the adhesive film, and the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the adhesive layer were measured.

実施例1の硬化後接着剤積層体中の接着剤層について、30~50℃における熱膨張率(CTE)も測定した。 The coefficient of thermal expansion (CTE) of the adhesive layer in the cured adhesive laminate of Example 1 was also measured at 30 to 50°C.

[熱膨張率(CTE)]
熱膨張率の測定は、熱機械分析装置〔日立ハイテクサイエンス社製 製品名:SII//SS7100〕を用いた引張モードにより、荷重:50mN、昇温速度:5℃/min.の割合で25℃から125℃まで昇温速度:5℃/minの割合で昇温し、寸法の温度変化を測定し、30℃から50℃までの範囲の傾きから線膨張係数を求めることにより、行った。
[Coefficient of thermal expansion (CTE)]
The thermal expansion coefficient was measured in a tensile mode using a thermomechanical analyzer (Hitachi High-Tech Science Corporation, product name: SII//SS7100) with a load of 50 mN, by increasing the temperature from 25°C to 125°C at a rate of 5°C/min, measuring the change in dimension with temperature, and determining the linear expansion coefficient from the slope in the range from 30°C to 50°C.

実施例1の硬化後接着剤積層体について、はんだ耐熱試験を行った。 A solder heat resistance test was performed on the cured adhesive laminate of Example 1.

[はんだ耐熱試験]
はんだ耐熱試験は基材フィルム面を上にして、硬化後接着剤積層体を288℃のはんだ浴に10秒間×3回浮かべ、接着剤層の膨れ剥がれ等の外観異常がないかを確認した。
以下の評価基準により、積層体の耐熱性を評価した。
◎ 異常なし(溶解もなし)。
○ 最終的に異常はないが、試験中に接着剤層の軟化がみられる。
△ 剥離はしていないが、接着剤層が軟化して「シミ模様」ができている。
× 剥離している。
[Solder heat resistance test]
For the solder heat resistance test, the cured adhesive laminate was placed with the substrate film side facing up in a solder bath at 288°C for 10 seconds three times, and the adhesive layer was checked for any external abnormalities such as swelling or peeling.
The heat resistance of the laminate was evaluated according to the following evaluation criteria.
◎ No abnormalities (no dissolution).
○ No abnormalities are found in the final product, but the adhesive layer softens during the test.
△: No peeling, but the adhesive layer has softened and a "stain pattern" has formed.
× Peeling off.

実施例1の積層体に対し、積層体の作製時における接着剤層の樹脂流れ試験を行った。 A resin flow test was conducted on the adhesive layer of the laminate of Example 1 during the production of the laminate.

[樹脂流れ試験]
樹脂流れ試験は接着剤付き基材フィルムを30mm×90mmの大きさにカットし、ベルトポンチを使用して5mm径の穴を3か所空けた。接着剤付き基材フィルムの接着剤層が電解銅箔の光沢面と接するように重ね、150℃で熱ラミネートを行い、180℃、3MPa、3分でプレスし、銅箔にはみ出た樹脂の長さを顕微鏡[KEYENCE社製 製品名:DIGITAL MICROSCOPE VHX-500 レンズ倍率:300倍]で(4点×3か所)12点測定し、平均値を記載した。
[Resin flow test]
For the resin flow test, the adhesive-backed substrate film was cut to a size of 30 mm x 90 mm, and three 5 mm diameter holes were punched using a belt punch. The adhesive-backed substrate film was placed so that the adhesive layer was in contact with the shiny side of the electrolytic copper foil, and the films were thermally laminated at 150°C and pressed at 180°C, 3 MPa, and 3 minutes. The length of the resin that protruded onto the copper foil was measured at 12 points (4 points x 3 points) using a microscope [manufactured by KEYENCE Corporation, product name: DIGITAL MICROSCOPE VHX-500, lens magnification: 300x], and the average value was recorded.

各測定結果を表3に示す。 The measurement results are shown in Table 3.

(実施例2~実施例11)
実施例1において、接着剤層を構成する成分の種類及び配合量を表1及び表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2~実施例11の積層体を作製した。
作製した積層体に対して、実施例1と同様の評価を行った。
結果を表3に示す。
(Examples 2 to 11)
Laminates of Examples 2 to 11 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the types and blending amounts of the components constituting the adhesive layer in Example 1 were changed as shown in Tables 1 and 2.
The laminate thus produced was evaluated in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 3.

(比較例1~比較例8)
実施例1において、接着剤層を構成する成分の種類及び配合量を表1及び表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1~比較例8の積層体を作製した。
作製した積層体に対して、実施例1と同様の評価を行った。
結果を表3に示す。
(Comparative Examples 1 to 8)
Laminates of Comparative Examples 1 to 8 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the types and blending amounts of the components constituting the adhesive layer in Example 1 were changed as shown in Tables 1 and 2.
The laminate thus produced was evaluated in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 3.


実施例で示されるように、本発明の接着剤組成物からなる接着剤層は、機械的特性を制御することで、熱圧着の際の樹脂流れを防止でき、良好な電気特性を示し、かつ密着性にも優れている。

As shown in the examples, the adhesive layer made of the adhesive composition of the present invention can prevent resin flow during thermocompression bonding by controlling the mechanical properties, and also exhibits good electrical properties and excellent adhesion.

本発明の接着剤組成物からなる接着剤層を有する積層体は、スマートフォン、携帯電話、光モジュール、デジタルカメラ、ゲーム機、ノートパソコン、医療器具等の電子機器用のFPC関連製品の製造に好適に用いられ得る。 Laminates having an adhesive layer made from the adhesive composition of the present invention can be suitably used in the manufacture of FPC-related products for electronic devices such as smartphones, mobile phones, optical modules, digital cameras, game consoles, laptops, and medical devices.

Claims (10)

少なくともアミノ基を含有するスチレン系エラストマーを含む樹脂組成物と無機フィラーとを含有する接着剤組成物であって、
前記無機フィラーの含有量が、前記樹脂組成物100質量部に対して1~180質量部であり、
前記無機フィラーが、板状又は鱗片状の形状を有し、
前記接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の周波数28GHzにおける比誘電率が3.5以下であり、前記接着剤層の周波数28GHzにおける誘電正接が0.005以下である接着剤組成物。
An adhesive composition containing a resin composition including at least an amino group -containing styrene-based elastomer and an inorganic filler,
the content of the inorganic filler is 1 to 180 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin composition,
the inorganic filler has a plate-like or scaly shape,
An adhesive composition, wherein the adhesive layer obtained by curing the adhesive composition has a relative dielectric constant of 3.5 or less at a frequency of 28 GHz, and a dielectric loss tangent of the adhesive layer at a frequency of 28 GHz of 0.005 or less.
前記無機フィラーのアスペクト比が5~500以下である、請求項1に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1, wherein the inorganic filler has an aspect ratio of 5 to 500. 前記無機フィラーの平均粒径が3.0μm以下である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler has an average particle size of 3.0 μm or less. 前記無機フィラーが、ケイ素系無機フィラー、及び窒化ホウ素の少なくともいずれかを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic filler includes at least one of a silicon-based inorganic filler and boron nitride. 前記ケイ素系無機フィラーが、マイカ、及びタルクの少なくともいずれかを含む、請求項4に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 4, wherein the silicon-based inorganic filler includes at least one of mica and talc. 前記樹脂組成物がエポキシ樹脂を含有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the resin composition contains an epoxy resin. 前記エポキシ樹脂の含有量が、前記樹脂組成物100質量部に対して1~25質量部である、請求項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 6 , wherein the content of the epoxy resin is 1 to 25 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition. 前記接着剤組成物の硬化前接着剤層の150℃における貯蔵弾性率が1.0E+5Pa以上である、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the adhesive layer of the adhesive composition before curing has a storage modulus of 1.0E+5 Pa or more at 150°C. 基材フィルムと、
接着剤組成物からなる接着剤層と、を有する積層体であって、
前記接着剤組成物は、
少なくともスチレン系エラストマーを含む樹脂組成物と無機フィラーとを含有する接着剤組成物であって、
前記無機フィラーの含有量が、前記樹脂組成物100質量部に対して1~180質量部であり、
前記無機フィラーが、板状又は鱗片状の形状を有し、
前記接着剤組成物を硬化させてなる接着剤層の周波数28GHzにおける比誘電率が3.5以下であり、前記接着剤層の周波数28GHzにおける誘電正接が0.005以下である接着剤組成物であり、
前記基材フィルムが、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂を含有する、積層体。
A base film;
An adhesive layer made of an adhesive composition,
The adhesive composition comprises:
An adhesive composition containing a resin composition containing at least a styrene-based elastomer and an inorganic filler,
the content of the inorganic filler is 1 to 180 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin composition,
the inorganic filler has a plate-like or scaly shape,
an adhesive layer formed by curing the adhesive composition has a relative dielectric constant of 3.5 or less at a frequency of 28 GHz, and a dielectric loss tangent of the adhesive layer at a frequency of 28 GHz of 0.005 or less;
The laminate , wherein the substrate film contains a polyether ether ketone (PEEK) resin .
請求項9に記載の積層体を含むプリント配線板。 A printed wiring board comprising the laminate of claim 9 .
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