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JP7717658B2 - Resin, resin composition, coating composition, film, coating film, electrophotographic photoreceptor, insulating material, molded product, electronic device, and method for producing resin - Google Patents
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JP7717658B2 - Resin, resin composition, coating composition, film, coating film, electrophotographic photoreceptor, insulating material, molded product, electronic device, and method for producing resin - Google Patents

Resin, resin composition, coating composition, film, coating film, electrophotographic photoreceptor, insulating material, molded product, electronic device, and method for producing resin

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JP7717658B2 JP2022059799A JP2022059799A JP7717658B2 JP 7717658 B2 JP7717658 B2 JP 7717658B2 JP 2022059799 A JP2022059799 A JP 2022059799A JP 2022059799 A JP2022059799 A JP 2022059799A JP 7717658 B2 JP7717658 B2 JP 7717658B2
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Description

本発明は、樹脂、樹脂組成物、塗液組成物、フィルム、コーティング膜、電子写真感光体、絶縁材料、成形物、電子デバイス、および樹脂の製造方法に関する。 The present invention relates to resins, resin compositions, coating compositions, films, coating films, electrophotographic photoreceptors, insulating materials, molded articles, electronic devices, and methods for producing resins.

ポリカーボネート樹脂は、機械的性質や熱的性質、電気的性質に優れていることから、様々な産業分野において成形品の素材に用いられてきた。近年、ポリカーボネート樹脂は、その光学的性質などをも併せて利用した機能的な製品の分野においても多用されている。そして、このような用途分野の拡大に伴って、ポリカーボネート樹脂に対する要求性能も多様化し従来から用いられてきたポリカーボネート樹脂のみではなく、様々な化学構造を有するポリカーボネート樹脂が提案されてきている。 Due to its excellent mechanical, thermal, and electrical properties, polycarbonate resin has been used as a material for molded products in a variety of industrial fields. In recent years, polycarbonate resin has also come to be widely used in functional products that take advantage of its optical properties. As the range of applications expands, the performance requirements for polycarbonate resin have become more diverse, and in addition to the polycarbonate resins that have been used traditionally, polycarbonate resins with a variety of chemical structures have been proposed.

機能的な製品の一例として、ポリカーボネート樹脂を電荷発生材料や電荷輸送材料といった機能性材料のバインダー樹脂として使用した有機電子写真感光体がある。
この有機電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応じて、所定の感度や電気特性、光学特性を備えていることが要求される。電子写真感光体は、その感光層の表面に、コロナ帯電、トナー現像、紙への転写、およびクリーニング処理などの操作が繰返し行われるため、これら操作を行う度に電気的または機械的な外力が加えられる。したがって、長期間にわたって電子写真の画質を維持するためには、電子写真感光体の表面に設けた感光層に、これら外力に対する耐久性が要求される。また、有機電子写真感光体は、通常機能性材料と共にバインダー樹脂を有機溶剤に溶解し、導電性基板などにキャスト製膜する方法で製造されることから、有機溶剤への溶解性・安定性が求められる。
An example of a functional product is an organic electrophotographic photoreceptor that uses a polycarbonate resin as a binder resin for functional materials such as a charge generating material and a charge transporting material.
This organic electrophotographic photoreceptor is required to have predetermined sensitivity, electrical characteristics, and optical characteristics depending on the electrophotographic process to be applied. Since the surface of the photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor is repeatedly subjected to operations such as corona charging, toner development, transfer to paper, and cleaning, electrical or mechanical external forces are applied each time these operations are performed. Therefore, in order to maintain the image quality of electrophotography over a long period of time, the photosensitive layer provided on the surface of the electrophotographic photoreceptor must be durable against these external forces. Furthermore, since organic electrophotographic photoreceptors are typically manufactured by dissolving a binder resin together with functional materials in an organic solvent and casting the resulting solution onto a conductive substrate or the like, they are required to be soluble in and stable with the organic solvent.

従来、感光体用バインダー樹脂として、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンや、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどを原料とするポリカーボネート樹脂が使用されてきたが、耐久性の点で充分に満足できなかった。耐久性の改善策の一つとして、感光層の耐摩耗性を向上させることが考えられる。感光層の耐摩耗性を向上させるための効果的な技術としては、ポリカーボネートに反応性の官能基を導入し、高分子反応により改質する技術が知られている。 Traditionally, polycarbonate resins made from raw materials such as 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane and 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane have been used as binder resins for photoreceptors, but they have not been fully satisfactory in terms of durability. One way to improve durability is to improve the abrasion resistance of the photosensitive layer. A known effective technique for improving the abrasion resistance of the photosensitive layer is to introduce reactive functional groups into polycarbonate and modify it through a polymer reaction.

高分子反応の一例として、特許文献1に記載の樹脂においては、アリル基を持つPCを、ラジカル開始剤を用いて架橋する技術が開示されており、ビスフェノールA型ポリカーボネート樹脂よりも機械強度(引張り強度など)が良好になる結果が得られている。 As an example of a polymer reaction, Patent Document 1 discloses a technique for crosslinking PC containing allyl groups using a radical initiator, resulting in resins with better mechanical strength (such as tensile strength) than bisphenol A polycarbonate resin.

また、特許文献2には、ポリカーボネート共重合体において、エポキシ基など、イオン機構で架橋した樹脂が記載されている。さらに、特許文献3には、二重結合を持つポリカーボネートと複数のケイ素-水素結合を持つ化合物を白金触媒存在下に反応させることによる架橋、および二重結合を持つポリカーボネートとケイ素原子上にアルコキシ基および水素を持つ化合物を白金触媒存在下に反応させ、その後に加水分解と縮合反応を行うことによる架橋技術が記載されている。 Patent Document 2 also describes a resin in a polycarbonate copolymer that is crosslinked by an ionic mechanism, such as an epoxy group. Furthermore, Patent Document 3 describes a crosslinking technique in which a polycarbonate having a double bond is reacted with a compound having multiple silicon-hydrogen bonds in the presence of a platinum catalyst, and a crosslinking technique in which a polycarbonate having a double bond is reacted with a compound having an alkoxy group and hydrogen on the silicon atom in the presence of a platinum catalyst, followed by hydrolysis and condensation reactions.

また、特許文献4には、アリル基を持つポリカーボネートを120℃から260℃に加熱した状態で電子線を照射することによる架橋技術が開示されている。
特許文献5には、アリル基を持つポリカーボネートに特定構造のトリアリールアミン、およびトリアリールアミン構造を持たないラジカル重合性化合物を用いて、無触媒で加熱により架橋する方法が開示されている。
Furthermore, Patent Document 4 discloses a crosslinking technique in which polycarbonate having allyl groups is heated to 120° C. to 260° C. and then irradiated with an electron beam.
Patent Document 5 discloses a method of crosslinking a polycarbonate having an allyl group by heating without a catalyst using a triarylamine of a specific structure and a radical polymerizable compound not having a triarylamine structure.

特許文献6には、脂肪族-芳香族ポリエステルの末端にアントラセン骨格を持つ樹脂をビスマレイミドで鎖長伸長した樹脂が報告されている。
また、特許文献7には、フラン構造を持つ脂肪族ポリエステル、ポリアミド、またはポリウレアと多官能マレイミドとの反応による架橋樹脂が開示されている。
特許文献8には、アントラセン骨格にアクリル基などの重合性官能基を導入し、当該官能基の部分で架橋反応を行う硬化性組成物が開示されている。
特許文献9には、アントラセン構造を含むポリアリールエーテルスルホン(PAES)などの樹脂、およびマレイミド構造を持つPAESなどの樹脂を含む組成物をディールスアルダー反応で結合させた樹脂が開示されている。
非特許文献1には、脂肪族-芳香族ポリエステルの一部にアントラセンジカルボン酸骨格を導入した樹脂を2官能のマレイミド化合物で架橋した樹脂が開示されている。
Patent Document 6 reports a resin in which the chain length of a resin having an anthracene skeleton at the end of an aliphatic-aromatic polyester is extended with bismaleimide.
Furthermore, Patent Document 7 discloses a crosslinked resin obtained by reacting an aliphatic polyester, polyamide, or polyurea having a furan structure with a polyfunctional maleimide.
Patent Document 8 discloses a curable composition in which a polymerizable functional group such as an acrylic group is introduced into an anthracene skeleton, and a crosslinking reaction occurs at the functional group.
Patent Document 9 discloses a resin obtained by bonding a composition containing a resin such as polyarylethersulfone (PAES) containing an anthracene structure and a resin such as PAES having a maleimide structure through a Diels-Alder reaction.
Non-Patent Document 1 discloses a resin in which an anthracenedicarboxylic acid skeleton is introduced into a part of an aliphatic-aromatic polyester, and the resin is crosslinked with a bifunctional maleimide compound.

特開平10-77338号公報Japanese Patent Application Publication No. 10-77338 特開平9-319102号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-319102 特開2000-44668号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-44668 特開2007-314719号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-314719 特開2010-72019号公報JP 2010-72019 A 特開2003-286347号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-286347 米国特許第3435003号明細書U.S. Pat. No. 3,435,003 特開2012-224569号公報JP 2012-224569 A 特表2020-509140号公報Special Publication No. 2020-509140

Macromolecules 1999,32,5786~5792Macromolecules 1999, 32, 5786-5792

しかしながら、特許文献1に記載のポリカーボネートにおいては、ラジカル開始剤を使用することで電荷輸送物質(CTM)が変質したり、加えた開始剤が感光体に残存するため感光体として使用した際に残留電位が上昇するという問題があった。 However, the polycarbonate described in Patent Document 1 had problems such as the charge transport material (CTM) being altered by the use of a radical initiator, and the added initiator remaining in the photoreceptor, resulting in an increase in residual potential when used as a photoreceptor.

また、特許文献2に記載のポリカーボネートにおいては、開始反応にアミノ基などの求核性基を持つ化合物や、または無水カルボン酸基などの酸性基を使用するため、CTMが変質したり、加えた化合物が感光体に残存するため感光体として使用した際に残留電位が上昇するという問題があった。また、開示された樹脂が架橋していることを確認した記載が無く、開示された物性向上の効果が、架橋構造に由来したものであるかが不明確であった。 Furthermore, the polycarbonate described in Patent Document 2 uses a compound with a nucleophilic group such as an amino group, or an acidic group such as a carboxylic anhydride group, in the initiation reaction, which causes problems such as alteration of the CTM and an increase in residual potential when used as a photoreceptor because the added compound remains in the photoreceptor. Furthermore, there is no statement confirming that the disclosed resin is crosslinked, making it unclear whether the disclosed effect of improving physical properties is due to the crosslinked structure.

また、特許文献3に記載のポリカーボネートにおいては、白金触媒を使用するため、CTMが変質したり、加えた触媒が感光体に残存するため感光体として使用した際に残留電位が上昇するという問題があった。また塗液中での反応抑制が困難であり、塗液保管中に粘度が上昇したり、ゲル化するなどの問題があった。 Furthermore, the polycarbonate described in Patent Document 3 uses a platinum catalyst, which causes problems such as CTM deterioration and an increase in residual potential when used as a photoreceptor because the added catalyst remains in the photoreceptor. It is also difficult to suppress reactions in the coating liquid, which can cause problems such as an increase in viscosity and gelation during storage of the coating liquid.

また、特許文献4に記載のポリカーボネートにおいては、電子線を照射した際にCTMが変質し、感光体として使用した際に残留電位が上昇するという問題があった。 Furthermore, the polycarbonate described in Patent Document 4 has the problem that the CTM changes when irradiated with an electron beam, resulting in an increase in residual potential when used as a photoreceptor.

上記に見られるように、電気特性悪化の原因となるラジカル開始剤、または反応触媒を含まず、またCTMを変質させるUV、および電子線などを用いることなく、架橋ポリカーボネート、および架橋ポリアリレートが得られる例もある。
このような例として、特許文献5には、ラジカル重合活性が高く、開始剤の使用やUVの照射なく加熱するだけでラジカル重合するモノマーを使用し、そこにアリル基を持つポリカーボネートを共存させる技術が報告されている。しかしながら、開始剤や光照射がなくてもラジカル重合するモノマーを使用していることから当該重合性モノマー単独の重合物が主に生成し、相対的にラジカル重合活性が低いアリル基を持つポリカーボネートと当該重合性モノマーの反応確率は低いと考えられる。そのため、得られた組成物はポリマーの緻密な3次元網目構造を持つのではなく、ポリカーボネート樹脂とラジカル重合モノマーの架橋重合物が別々に存在し、その一部分のみが結合された組成物になっていると考えられる。そして、通常低分子として存在する電荷輸送物質が高分子量化することによる物性向上の効果が支配的で、ポリカーボネート部分が架橋されることによる物性向上は不十分なものであった。また、開始剤がなくてもラジカル重合が進行する高活性な化合物を使用しているため、塗液組成物の段階で重合が進行することを抑制するのが困難であり、塗液保管中の粘度の上昇や、ゲル化などの問題があった。
As seen above, there are also examples where crosslinked polycarbonates and crosslinked polyarylates can be obtained without using radical initiators or reaction catalysts that cause deterioration of electrical properties, and without using UV or electron beams that alter CTM.
As an example of such a technique, Patent Document 5 reports a technology in which a monomer with high radical polymerization activity undergoes radical polymerization simply by heating without the use of an initiator or UV irradiation is used, and a polycarbonate having an allyl group is coexisted with the monomer. However, because a monomer that undergoes radical polymerization without the use of an initiator or light irradiation is used, a polymer of the polymerizable monomer alone is mainly produced, and the probability of reaction between the polymerizable monomer and the polycarbonate having an allyl group, which has relatively low radical polymerization activity, is thought to be low. Therefore, the resulting composition does not have a dense three-dimensional polymer network structure, but rather is thought to be a composition in which the polycarbonate resin and the crosslinked polymer of the radical polymerization monomer exist separately, with only a portion of them bonded together. Furthermore, the effect of improving physical properties due to the increase in molecular weight of the charge transport material, which is usually present as a low molecular weight, is dominant, and the improvement in physical properties due to the crosslinking of the polycarbonate portion is insufficient. Furthermore, because a highly active compound that undergoes radical polymerization even without an initiator is used, it is difficult to suppress the progression of polymerization at the coating liquid composition stage, resulting in problems such as increased viscosity and gelation during storage of the coating liquid.

これらの要求を満たしうる架橋技術として、特許文献6には、ポリカーボネート以外の樹脂を用いた例としては、ディールス・アルダー反応による脂肪族-芳香族ポリエステルの分子量伸長反応による直鎖高分子が開示されている。しかしながら、特許文献6には、当該特許文献6に記載の技術を芳香族ポリカーボネート、または全芳香族ポリエステルに適用することは記載も示唆も無い。 As an example of a crosslinking technology that can meet these requirements, Patent Document 6 discloses a linear polymer obtained by a molecular weight extension reaction of an aliphatic-aromatic polyester via a Diels-Alder reaction, using a resin other than polycarbonate. However, Patent Document 6 does not state or suggest that the technology described therein can be applied to aromatic polycarbonates or wholly aromatic polyesters.

また、脂肪族ポリエステル、ポリアミド、またはポリウレアをディールス・アルダー反応で架橋する例が特許文献7に記載されている。しかしながら、これらの例は、軟質な脂肪族樹脂を架橋することで耐溶剤性の付与と、使用目的であるダイアフラムシールや接着剤に適用可能なエラストマーを得ることを目的としている。そして、これらの例の技術思想は、機械的強度が高い芳香族ポリカーボネートや、全芳香族ポリエステルを改質成分との反応によりさらに高機能化する本発明の思想とは異なるものである。また、特許文献7には、当該特許文献7に記載の技術を芳香族ポリカーボネート、または全芳香族ポリエステルに適用することは記載も示唆も無い。
非特許文献1には、ポリエチレンテレフタレート(PET)にアントラセンジカルボン酸骨格を導入し、2官能のマレイミド化合物により架橋する例が記載されている。この例の目的は、加熱架橋により機械物性を向上させる点では本発明の目的と類似するが、非特許文献1には、ポリカーボネートやポリアリレートに適用する例は記載も示唆も無い。また、PETは、電子写真感光体用途に使用することを考えると通常塗布溶剤として使用されるTHFなどの有機溶剤への溶解性が低く、またトリアリールアミンなどの電荷輸送物質との相溶性が悪く、当該用途には使用することができない。
Furthermore, Patent Document 7 describes an example of crosslinking aliphatic polyesters, polyamides, or polyureas by the Diels-Alder reaction. However, these examples aim to impart solvent resistance by crosslinking soft aliphatic resins and to obtain elastomers applicable to diaphragm seals and adhesives, which are intended uses. The technical concepts of these examples differ from the concept of the present invention, which aims to further enhance the functionality of aromatic polycarbonates, which have high mechanical strength, or wholly aromatic polyesters by reacting them with a modifying component. Furthermore, Patent Document 7 does not describe or suggest the application of the technology described therein to aromatic polycarbonates or wholly aromatic polyesters.
Non-Patent Document 1 describes an example in which an anthracene dicarboxylic acid skeleton is introduced into polyethylene terephthalate (PET) and crosslinked with a bifunctional maleimide compound. The purpose of this example is similar to that of the present invention in that mechanical properties are improved by thermal crosslinking, but Non-Patent Document 1 does not describe or suggest an example of application to polycarbonate or polyarylate. Furthermore, considering its use in electrophotographic photoreceptors, PET has low solubility in organic solvents such as THF, which are commonly used as coating solvents, and poor compatibility with charge transport materials such as triarylamines, making it unusable for such applications.

特許文献8には、アントラセン骨格にアクリル基などの重合性官能基を導入し、当該官能基の部分で架橋反応を行う例が開示されている。しかしながら、特許文献8には、アントラセン部分を架橋反応に利用する記載も示唆も無い。加えて、特許文献8に記載の発明は、アントラセン骨格の機能を残存させることを目的としており、反応によりアントラセン骨格を消失させるディールス・アルダー反応を適用する本発明の技術は、当該目的に反している。
特許文献9には、アントラセン骨格を持つPAESとマレイミド末端を持つPAESが反応し、高分子量化する例が示されている。また、請求項にはポリカーボネートにも適用可能であることが開示されている。しかしながら、ポリカーボネートの具体的な構造は示されておらず、また例示されている方法を適用するにはアミノ基を持つポリカーボネートが必要となるが、アミノ基を持つポリカーボネートの合成は、(i)アミノ基が3官能反応基として作用するため重合工程で多分岐構造を生成することでゲルを生じさせる。(ii)重合の過程で親水性のアミノ末端が界面活性剤と類似した作用をすることで製造時の洗浄工程で有機層と水層の分液が著しく悪化する。以上のような理由で困難と考えられ、特許文献9の開示によってポリカーボネートでも十分実施できるとは言えず、発明が十分開示されているとは言えない。
Patent Document 8 discloses an example in which a polymerizable functional group such as an acrylic group is introduced into an anthracene skeleton and a crosslinking reaction is carried out at the functional group. However, Patent Document 8 does not describe or suggest using the anthracene moiety in a crosslinking reaction. In addition, the invention described in Patent Document 8 aims to retain the functionality of the anthracene skeleton, and the technology of the present invention, which applies a Diels-Alder reaction that eliminates the anthracene skeleton through the reaction, is contrary to this aim.
Patent Document 9 discloses an example in which PAES having an anthracene skeleton reacts with PAES having maleimide terminals to produce a high molecular weight. The claims also disclose that the method is applicable to polycarbonates. However, the specific structure of the polycarbonate is not disclosed, and application of the exemplified method requires a polycarbonate having amino groups. However, synthesis of polycarbonates having amino groups involves the following problems: (i) the amino groups act as trifunctional reactive groups, generating a multi-branched structure during the polymerization process, resulting in a gel. (ii) The hydrophilic amino terminals act similarly to surfactants during the polymerization process, significantly impairing separation of the organic and aqueous layers during the washing process during production. For these reasons, it is considered difficult, and the disclosure of Patent Document 9 does not necessarily mean that the method can be adequately implemented with polycarbonates, and the invention is not adequately disclosed.

本発明の第一の目的は、高分子反応することが可能であり、反応性基となるアントラセン構造を持つ樹脂を提供することである。本発明の第二の目的は、電気特性悪化の原因となるラジカル開始剤または反応触媒などを含まず、かつ、電荷輸送物質(CTM)を変質させるUVまたは電子線などを用いること無く、高分子反応することにより架橋、高分子の伸長、グラフト、機能性成分の担持、異種ポリマーのブロック共重合体の合成、またはポリマーブラシなど種々の目的に適用可能な反応性基であるアントラセン構造を持つ芳香族ポリカーボネートおよびポリアリレートの少なくともいずれかの樹脂を提供することである。本発明の第三の目的は、塗液組成物の段階での反応が起こりにくいことで特性変化の少ない特徴を持つ樹脂組成物、および塗液組成物を提供することである。また、本発明の第四の目的は、前記樹脂を含むことにより、耐溶剤性、および耐摩耗性に優れ、機械的劣化が起こりにくく、残留電位の悪化が無い電子写真感光体を提供することである。 The first object of the present invention is to provide a resin capable of undergoing a polymer reaction and having an anthracene structure as a reactive group. The second object of the present invention is to provide at least one of aromatic polycarbonate and polyarylate resins having an anthracene structure as a reactive group, which can be used for various purposes such as crosslinking, polymer elongation, grafting, functional component loading, synthesis of block copolymers of heterogeneous polymers, or polymer brushes through a polymer reaction, without containing radical initiators or reaction catalysts that can deteriorate electrical properties, and without using UV or electron beams that alter charge transport materials (CTMs). The third object of the present invention is to provide a resin composition and a coating composition characterized by minimal changes in properties due to the fact that reactions are unlikely to occur at the coating composition stage. The fourth object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor containing the above resin, which has excellent solvent resistance and abrasion resistance, is resistant to mechanical degradation, and does not deteriorate residual potential.

本発明の一態様によれば、芳香族ポリカーボネートおよびポリアリレートからなる群から選択される少なくとも1つの樹脂であって、前記樹脂は、特定のアントラセン構造を持つ成分を有する、樹脂が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided at least one resin selected from the group consisting of aromatic polycarbonates and polyarylates, the resin having a component with a specific anthracene structure.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、樹脂組成物が提供される。 According to one aspect of the present invention, a resin composition is provided, comprising the resin according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂組成物と、有機溶剤とを含む、塗液組成物が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a coating liquid composition comprising the resin composition according to the above-described one aspect of the present invention and an organic solvent.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む層を有する、電子写真感光体が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an electrophotographic photoreceptor having a layer containing the resin according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、成形物が提供される。 According to one aspect of the present invention, a molded article is provided that includes the resin according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, a film is provided that includes the resin according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、コーティング膜が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a coating film containing the resin according to the above-mentioned aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、絶縁材料が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an insulating material containing the resin according to the above-mentioned aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂を含む、電子デバイスが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an electronic device comprising the resin according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る樹脂組成物を加熱することにより、前記樹脂組成物の高分子反応を行う工程を有する、樹脂の製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method for producing a resin, comprising the step of heating the resin composition according to the aforementioned aspect of the present invention to cause a polymer reaction of the resin composition.

本発明の一態様によれば、高分子反応することが可能であり、反応性基となるアントラセン構造を持つ樹脂を提供することができる。本発明の一態様によれば、芳香族ポリカーボネートおよびポリアリレートの少なくともいずれかの樹脂において、電気特性悪化の原因となるラジカル開始剤または反応触媒などを含まず、かつ、電荷輸送物質(CTM)を変質させるUVまたは電子線などを用いること無く製造でき、重合性成分の単独重合体が実質的に含まれない新規な構造を持つ樹脂を提供することができる。また、本発明の一態様によれば、塗液組成物の段階での反応が起こりにくいことで特性変化の少ない特徴を持つ樹脂組成物、および塗液組成物を提供することができる。また、本発明の一態様によれば、前記樹脂を含むことにより、耐溶剤性に優れ、耐摩耗性に優れ、機械的劣化が起こりにくく、残留電位の悪化が無い電子写真感光体を提供することができる。 According to one aspect of the present invention, a resin capable of polymerizing and having an anthracene structure as a reactive group can be provided. According to another aspect of the present invention, a resin having a novel structure, substantially free of homopolymers of polymerizable components, can be produced without using UV or electron beams that alter the charge transport material (CTM) and is at least one of aromatic polycarbonate and polyarylate resins. This resin does not contain a radical initiator or reaction catalyst that can deteriorate electrical properties, and the resin can be produced without using UV or electron beams that alter the charge transport material (CTM). Furthermore, according to another aspect of the present invention, a resin composition and a coating composition can be provided that are characterized by minimal changes in properties due to the fact that reactions are unlikely to occur at the coating composition stage. Furthermore, according to another aspect of the present invention, an electrophotographic photoreceptor containing the resin can be provided that has excellent solvent resistance, excellent abrasion resistance, is resistant to mechanical degradation, and does not deteriorate residual potential.

実施例1で得られた試料について、加熱処理を行ったときのゲル浸透クロマトグラフィーでの測定結果を示すグラフである。1 is a graph showing the results of gel permeation chromatography measurement of the sample obtained in Example 1 when heat treatment was performed. 実施例1で得られた試料について、加熱処理を行ったときの、分子量と加熱温度および加熱時間との関係を示すグラフである。1 is a graph showing the relationship between molecular weight and heating temperature and heating time when the sample obtained in Example 1 was subjected to heat treatment. 実施例2で得られた積層型の電子写真感光体の光照射エネルギーと表面電位の関係を表すグラフである。10 is a graph showing the relationship between light irradiation energy and surface potential of the laminated electrophotographic photosensitive member obtained in Example 2.

[樹脂]
本実施形態に係る樹脂は、芳香族ポリカーボネートおよびポリアリレートからなる群から選択される少なくとも1つの樹脂である。具体的な樹脂としては、芳香族ポリカーボネート、ポリアリレート、および芳香族ポリカーボネート-ポリアリレート共重合体(以下、これらを単に「PC類」ともいう)が挙げられる。
[resin]
The resin according to this embodiment is at least one resin selected from the group consisting of aromatic polycarbonates and polyarylates. Specific examples of the resin include aromatic polycarbonates, polyarylates, and aromatic polycarbonate-polyarylate copolymers (hereinafter, these may also be simply referred to as "PCs").

本実施形態に係る樹脂は、ディールス・アルダー反応による高分子反応を生じる性質を示す。高分子反応を生じる場合、後述の一般式(DE1)で表される構造のうち、アントラセン構造が、反応性基となる。一般式(DE1)で表される構造を有する樹脂が、高分子反応することによって得られた樹脂は、下記一般式(S1)で表される構造を有する。下記一般式(S1)において、*は、結合位置を表す。 The resin according to this embodiment exhibits the property of undergoing a polymer reaction via a Diels-Alder reaction. When a polymer reaction occurs, the anthracene structure in the structure represented by general formula (DE1) described below becomes the reactive group. A resin obtained by polymerizing a resin having a structure represented by general formula (DE1) has a structure represented by general formula (S1) below. In general formula (S1) below, * represents a bond position.

本実施形態に係る樹脂は、ディールス・アルダー反応による高分子反応により、種々の目的(架橋、グラフト、高分子ブラシ、機能性成分の担持、異種ポリマーのブロック共重合、および分子鎖伸長など)に適用できる。そして、高分子鎖間を結合する架橋部位の構造は、例えば、下記一般式(P1)で示すような結合様式となる。 The resin according to this embodiment can be used for a variety of purposes (crosslinking, grafting, polymer brushes, functional component loading, block copolymerization of different polymers, molecular chain extension, etc.) through a polymer reaction via the Diels-Alder reaction. The structure of the crosslinking moiety that connects the polymer chains has a bonding pattern such as that shown in the following general formula (P1).

前記一般式(P1)において、*PCは、PC類の高分子鎖を表す。楕円部分は、架橋、グラフト、樹脂ブラシ、機能性成分の担持、分子量伸長などを表す。一般式(P1)が示す楕円部分は、架橋、グラフトポリマー合成、樹脂ブラシ、機能性成分の担持、分子鎖伸長、異種ポリマーとのブロック共重合体の合成などのいずれでもよく、目的に応じて、適宜選定できる。
また、特許文献9においては、反応性基であるアントラセンを高分子量反応で導入しているが、反応収率が22%程度と低く、「反応による高分子量化」が起こりにくい構造になっている。この理由は、高分子量化には「両末端が反応」する必要が有るが、アントラセン末端が反応した場合でも、その分子の反対の側の末端は78%存在するアントラセン以外の末端である可能性が高く、一つの分子がマレイミド基に結合しただけで停止してしまう場合が大半と考えられる。そのため、アントラセン構造を100%に近い効率的な導入方法が必要とされる。これに対し、本実施形態に係る樹脂は、特定のアントラセン構造を持つことで、反応収率を向上できる。
なお、本発明者らは、前記した本発明の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ディールス・アルダー反応により高分子反応するPC類が溶液安定性に優れ、現状の感光体製造プロセス温度で反応し、得られた樹脂の電気特性の悪化が見られないことを見出した。本発明は、このような知見に基づいて完成されたものである。
In the general formula (P1), *PC represents a polymer chain of PCs. The oval portion represents crosslinking, grafting, resin brushes, the support of a functional component, molecular weight extension, etc. The oval portion represented by the general formula (P1) may represent any of crosslinking, graft polymer synthesis, resin brushes, the support of a functional component, molecular chain extension, synthesis of a block copolymer with a different polymer, etc., and can be appropriately selected depending on the purpose.
Furthermore, in Patent Document 9, the reactive group anthracene is introduced by a polymerizing reaction, but the reaction yield is low at around 22%, resulting in a structure that is difficult to "polymerize by reaction." The reason for this is that "both ends must react" to increase the molecular weight. Even if the anthracene end reacts, the end on the opposite side of the molecule is likely to be an end other than anthracene, which is present in 78% of cases. It is thought that in most cases, one molecule terminates simply by bonding to a maleimide group. Therefore, a method for efficiently introducing an anthracene structure close to 100% is required. In contrast, the resin according to this embodiment can improve the reaction yield by having a specific anthracene structure.
As a result of extensive research into solving the problems of the present invention, the inventors have found that PCs that undergo a polymer reaction via the Diels-Alder reaction have excellent solution stability, react at temperatures currently used in photoreceptor manufacturing processes, and do not exhibit deterioration in the electrical properties of the resulting resin. The present invention was completed based on this finding.

本実施形態に係る樹脂は、ディールス・アルダー反応性を持つ特定のアントラセン構造すなわち、下記一般式(DE1)で表される構造を有する高分子である。 The resin according to this embodiment is a polymer having a specific anthracene structure with Diels-Alder reactivity, i.e., a structure represented by the following general formula (DE1):

前記一般式(DE1)において、
Rは、各々独立に、
炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基、
環形成炭素数6以上、12以下の芳香族炭化水素基、
炭素数1以上、10以下のアルコキシ基、または
ハロゲン原子である。
また、複数のRが連結された環状構造(芳香族環、および複素環を含む)を形成してもよい。
また、Rが複数存在するときは、Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。
nは、0以上、4以下の整数を表し、
mは、0以上、9以下の整数を表す。
In the general formula (DE1),
Each R is independently
an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms;
an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 ring carbon atoms;
It is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom.
Furthermore, a plurality of Rs may be linked to form a cyclic structure (including an aromatic ring and a heterocyclic ring).
When a plurality of R's are present, they may be the same or different.
n represents an integer of 0 to 4,
m represents an integer of 0 or more and 9 or less.

前記一般式(DE1)中、Rが示す炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基は、飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基)が挙げられる。
炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基としてのアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、イソヘキシル基、sec-ヘキシル基、tert-ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、およびドデシル基などが挙げられる。
炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基としてのアルケニル基は、例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、2-ブテニル基、1-ブテニル基、1-ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、およびドデセニル基などが挙げられる。
炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基としてのアルキニル基は、例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、3-ヘキシニル基、オクチニル基、デシニル基、およびドデシニル基などが挙げられる。
In the general formula (DE1), the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R includes saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon groups (alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups).
Examples of the alkyl group as an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, an isohexyl group, a sec-hexyl group, a tert-hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group.
Examples of alkenyl groups as aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 2-butenyl, 1-butenyl, 1-hexenyl, octenyl, decenyl, and dodecenyl groups.
Examples of alkynyl groups as aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 3-hexynyl, octynyl, decynyl, and dodecynyl groups.

前記一般式(DE1)中、Rが示す環形成炭素数6以上、12以下の芳香族炭化水素基は、例えば、フェニル基、ナフチル基、およびビフェニル基などが挙げられる。 In the general formula (DE1), examples of aromatic hydrocarbon groups represented by R and having 6 to 12 ring carbon atoms include phenyl, naphthyl, and biphenyl groups.

前記一般式(DE1)中、Rが示す炭素数1以上、10以下のアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、sec-ヘキシルオキシ基、tert-ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、sec-ヘプチルオキシ基、tert-ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec-オクチルオキシ基、tert-オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、sec-ノニルオキシ基、tert-ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、sec-デシルオキシ基、およびtert-デシルオキシ基などが挙げられる。 In the general formula (DE1), the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms represented by R is a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an n-butoxy group, an n-pentyloxy group, an n-hexyloxy group, an n-heptyloxy group, an n-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an n-decyloxy group, an isopropoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, an isopentyloxy group, a neopentyloxy group, or a tert-pentyloxy group. Examples of such groups include oxy, isohexyloxy, sec-hexyloxy, tert-hexyloxy, isoheptyloxy, sec-heptyloxy, tert-heptyloxy, isooctyloxy, sec-octyloxy, tert-octyloxy, isononyloxy, sec-nonyloxy, tert-nonyloxy, isodecyloxy, sec-decyloxy, and tert-decyloxy groups.

前記一般式(DE1)中、Rが示すハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子などが挙げられる。 In the general formula (DE1), examples of the halogen atom represented by R include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

本実施形態に係る樹脂に高分子反応させるジエノフィル構造としては、ディールス・アルダー反応を起こす構造であればどのようなものも適用できるが、その反応性の高さより、マレイミド骨格を持つものが好適に使用される。
ジエノフィル構造としては、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、m-フェニレンビスマレイミド、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、1,6’-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、4,4’-ジフェニルエーテルビスマレイミド、4,4’-ジフェニルスルフォンビスマレイミド、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、4,4’-メチレンジアニリンを有するジフェニルメタン-4,4’-ビスマレイミドポリマー、N,N’-(2,2’-ジエチル-6,6’-ジメチレンジフェニレン)ビスマレイミド、N,N’-(4-メチル-m-フェニレン)ビスマレイミド、N,N’-m-フェニレンジマレイミド、N,N’-m-フェニレンビスマレイミド、ポリフェニルメタンビスマレイミドなどのビスマレイミド類、N-フェニルマレイミドなどのモノマレイミド類、および下記化合物で分子末端が停止された構造を持つPC類が挙げられる。
Any dienophile structure that undergoes a Diels-Alder reaction can be used as the dienophile structure that undergoes a polymer reaction with the resin of this embodiment, but due to its high reactivity, one having a maleimide skeleton is preferably used.
Dienophile structures include 4,4'-diphenylmethane bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, 1,6'-bismaleimide-(2,2,4-trimethyl)hexane, 4,4'-diphenyl ether bismaleimide, 4,4'-diphenylsulfone bismaleimide, and 1,3-bis(3-maleimidophenoxy) Examples include bismaleimides such as benzene, 1,3-bis(4-maleimidophenoxy)benzene, diphenylmethane-4,4'-bismaleimide polymer having 4,4'-methylenedianiline, N,N'-(2,2'-diethyl-6,6'-dimethylenediphenylene)bismaleimide, N,N'-(4-methyl-m-phenylene)bismaleimide, N,N'-m-phenylenedimaleimide, N,N'-m-phenylenebismaleimide, polyphenylmethane bismaleimide, monomaleimides such as N-phenylmaleimide, and PCs having a structure in which the molecular terminals are terminated with the following compounds:

本実施形態において、ジエノフィル構造またはジエノフィル基(以下、これらを単に「ジエノフィル」ともいう)は、下記一般式(DP1)で表される構造を含むことが好ましい。 In this embodiment, the dienophile structure or dienophile group (hereinafter also simply referred to as "dienophile") preferably includes a structure represented by the following general formula (DP1):

前記一般式(DP1)において、
は、単結合、または他の骨格との連結基であり、
当該連結基としてのXは、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子およびホウ素原子からなる群から選択される少なくともいずれかの原子を含み、連結基を構成する原子同士の結合様式が全て共有結合からなる基である。
*は、結合位置を示す。
In the general formula (DP1),
X2 is a single bond or a linking group to another skeleton,
X2 as the linking group contains at least one atom selected from the group consisting of carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, silicon atom, phosphorus atom and boron atom, and is a group in which all of the atoms constituting the linking group are bonded together by covalent bonds.
* indicates the bond position.

本実施形態において、ジエノフィル構造またはジエノフィル基は、下記一般式(DP2)で表される構造を含むことが特に好ましい。なお、下記一般式(DP2)において、*は、結合位置を示す。 In this embodiment, it is particularly preferable that the dienophile structure or dienophile group contains a structure represented by the following general formula (DP2). In the following general formula (DP2), * indicates the bonding position.

本実施形態において高分子反応により機能を付与する場合、アントラセンとジエノフィルとの割合は、目標とする物性や目的とする用途に応じて適宜設定可能である。ジエノフィルに対するアントラセンのモル比(アントラセン/ジエノフィル)は、0.01以上、100以下であることが好ましく、0.1以上、10以下であることがより好ましく、0.2以上、5以下であることがさらに好ましく、0.5以上、1.5以下であることが特に好ましい。ジエノフィルに対するアントラセンのモル比が、0.01未満である場合、或いは100を超える場合は、高分子反応により導入される構造が少ないため、改質効果が十分得られないおそれがある。 In this embodiment, when functionality is imparted by a polymer reaction, the ratio of anthracene to dienophile can be set appropriately depending on the target physical properties and intended use. The molar ratio of anthracene to dienophile (anthracene/dienophile) is preferably 0.01 or more and 100 or less, more preferably 0.1 or more and 10 or less, even more preferably 0.2 or more and 5 or less, and particularly preferably 0.5 or more and 1.5 or less. If the molar ratio of anthracene to dienophile is less than 0.01 or more than 100, there is a risk that the modification effect will be insufficient due to the small amount of structure introduced by the polymer reaction.

本実施形態に係る樹脂は、下記一般式(UN1)および一般式(UN2)で表される構造の少なくともいずれかの構造を含むことが好ましい。 The resin according to this embodiment preferably contains at least one of the structures represented by the following general formula (UN1) and general formula (UN2).

前記一般式(UN1)および一般式(UN2)において、Ar、Ar31およびAr32は、各々独立に、下記一般式(UN11)で表される基である。
*は、結合位置を示す。
In the general formulae (UN1) and (UN2), Ar 3 , Ar 31 and Ar 32 are each independently a group represented by the following general formula (UN11).
* indicates the bond position.

前記一般式(UN11)において、
m3は、0、1または2であり、
n3は、4であり、
複数のRは、各々独立に
水素原子、
ハロゲン原子、
炭素数1以上、10以下のアルキル、
環形成炭素数6以上、12以下のアリール、または
炭素数1以上、10以下のフッ化アルキルであり、
また、Rが複数存在するときは、Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。
は、各々独立に、
単結合、
-C(-R31-、
-O-、
-S-、
-SO-、
-SO-、
-N(-R32)-,
-P(-R33)-、
-P=O(-R34)-、
カルボニル、
エステル、
アミド、
炭素数2以上、20以下のアルキレン、
炭素数2以上、20以下のアルキリデン、
環形成炭素数3以上、20以下のシクロアルキレン、
環形成炭素数3以上、20以下のシクロアルキリデン、
環形成炭素数6以上、20以下のアリーレン、
環形成炭素数4以上、20以下のビシクロアルカンジイル、
環形成炭素数5以上、20以下のトリシクロアルカンジイル、
環形成炭素数4以上、20以下のビシクロアルキリデン、および
環形成炭素数5以上、20以下のトリシクロアルキリデンからなる群から選択される1種または2種以上からなる基であり、
31からR34は、各々独立に、
水素原子、
ハロゲン原子、
炭素数1以上、10以下のアルキル、
環形成炭素数6以上、12以下のアリール、または
炭素数1以上、10以下のフッ化アルキルである。
*は、結合位置を示す。
In the general formula (UN11),
m3 is 0, 1 or 2;
n3 is 4,
A plurality of R3 's each independently represent a hydrogen atom,
halogen atoms,
alkyl having 1 to 10 carbon atoms;
an aryl having 6 to 12 ring carbon atoms, or a fluoroalkyl having 1 to 10 carbon atoms;
When a plurality of R3 's are present, they may be the same or different.
Each X3 independently represents
single bond,
-C(-R 31 ) 2 -,
-O-,
-S-,
-SO-,
-SO 2 -,
-N(-R 32 )-,
-P(-R 33 )-,
-P=O(-R 34 )-,
carbonyl,
ester,
amides,
alkylene having 2 to 20 carbon atoms;
alkylidene having 2 to 20 carbon atoms,
cycloalkylene having 3 to 20 ring carbon atoms;
cycloalkylidene having 3 to 20 ring carbon atoms,
an arylene having 6 to 20 ring carbon atoms;
bicycloalkanediyl having 4 to 20 ring carbon atoms,
tricycloalkanediyl having 5 to 20 ring carbon atoms,
a group consisting of one or more selected from the group consisting of bicycloalkylidene having 4 to 20 ring carbon atoms, and tricycloalkylidene having 5 to 20 ring carbon atoms,
R 31 to R 34 each independently represent
hydrogen atoms,
halogen atoms,
alkyl having 1 to 10 carbon atoms;
It is an aryl having 6 to 12 ring carbon atoms, or a fluoroalkyl having 1 to 10 carbon atoms.
* indicates the bond position.

前記一般式(UN11)中、Rが示すハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子などが挙げられる。 In the general formula (UN11), examples of the halogen atom represented by R 3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

一般式(UN11)中、Rが示す炭素数1以上、10以下のアルキルは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、n-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、イソヘキシル、sec-ヘキシル、tert-ヘキシル、イソヘプチル、sec-ヘプチル、tert-ヘプチル、イソオクチル、sec-オクチル、tert-オクチル、イソノニル、sec-ノニル、tert-ノニル、イソデシル、sec-デシル、およびtert-デシルなどの基が挙げられる。 In general formula (UN11), examples of the alkyl having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, isohexyl, sec-hexyl, tert-hexyl, isoheptyl, sec-heptyl, tert-heptyl, isooctyl, sec-octyl, tert-octyl, isononyl, sec-nonyl, tert-nonyl, isodecyl, sec-decyl, and tert-decyl groups.

前記一般式(UN11)中、Rが示す環形成炭素数6以上、12以下のアリールは、
例えば、フェニル、ナフチル、およびビフェニルなどの基が挙げられる。
In the general formula (UN11), the aryl having 6 to 12 ring carbon atoms represented by R 3 is
Examples include groups such as phenyl, naphthyl, and biphenyl.

前記一般式(UN11)中、Rが示す炭素数1以上、10以下のフッ化アルキルは、例えば、前述の一般式(UN11)のRが示す炭素数1以上、10以下のアルキルで例示したアルキルにおいて、炭素原子が持つ少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキルの基が挙げられる。 In the general formula (UN11), examples of the fluorinated alkyl having 1 to 10 carbon atoms represented by R3 include alkyl groups in which at least one hydrogen atom on a carbon atom in the alkyl exemplified as the alkyl having 1 to 10 carbon atoms represented by R3 in the general formula (UN11) is substituted with a fluorine atom.

前記一般式(UN11)中、Xが示す炭素数2以上、20以下のアルキレンは、直鎖状または分岐状のアルキレン基が挙げられ、例えば、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、へキシレン、オクチレン、およびデシレンなどの基が挙げられる。
前記一般式(UN11)中、Xが示す炭素数2以上、20以下のアルキリデンは、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、ヘキシリデン、オクチリデン、デシリデン、ペンタデシリデン、イコシリデンなどの基が挙げられる。
前記一般式(UN11)中、Xが示す炭素数3以上、20以下のシクロアルキレンは、直鎖状または分岐状のアルキレン基が挙げられ、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロへキシレン、シクロオクチレン、シクロデシレン、シクロドデシレン、シクロペンタデシレン、およびシクロイコシレンなどの基が挙げられる。
前記一般式(UN11)中、Xが示す炭素数3以上、20以下のシクロアルキリデンは、シクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロヘキシリデン、シクロオクチリデン、シクロデシリデン、シクロドデシリデン、シクロペンタデシリデン、およびシクロイコシリデンなどの基が挙げられる。
前記一般式(UN11)中、Xが示す環形成炭素数6以上、20以下のアリーレンは、例えば、フェニレン、ナフチレン、およびビフェニレンなどの基が挙げられる。
In the general formula (UN11), the alkylene having 2 to 20 carbon atoms represented by X3 includes linear or branched alkylene groups, such as ethylene, propylene, isopropylene, butylene, hexylene, octylene, and decylene.
In the general formula (UN11), examples of the alkylidene having 2 to 20 carbon atoms represented by X 3 include ethylidene, propylidene, butylidene, hexylidene, octylidene, decylidene, pentadecylidene, and icosylidene groups.
In the general formula (UN11), the cycloalkylene having 3 to 20 carbon atoms represented by X3 includes a linear or branched alkylene group, such as cyclopropylene, cyclobutylene, cyclohexylene, cyclooctylene, cyclodecylene, cyclododecylene, cyclopentadecylene, and cycloicosylene.
In the general formula (UN11), cycloalkylidene having 3 to 20 carbon atoms represented by X 3 includes groups such as cyclopropylidene, cyclobutylidene, cyclohexylidene, cyclooctylidene, cyclodecylidene, cyclododecylidene, cyclopentadecylidene, and cycloicosylidene.
In the general formula (UN11), examples of the arylene having 6 to 20 ring carbon atoms represented by X 3 include phenylene, naphthylene, and biphenylene groups.

前記一般式(UN11)中、Xが示す環形成炭素数4以上、20以下のビシクロアルカンジイルは、例えば、上述のシクロアルキレンの二環体が例示され、環形成炭素数5以上、20以下のトリシクロアルカンジイルは、上述のシクロアルキレンの三環体、例えばアダマンタンジイル、トリシクロデカンジイルが例示される。
前記一般式(UN11)中、Xが示す環形成炭素数4以上、20以下のビシクロアルキリデンは、上述のシクロアルキリデンの二環体が例示され、環形成炭素数5以上、20以下のトリシクロアルキリデンは、上述のシクロアルキリデンの三環体、例えばアダマンチリデン、トリシクロデシリデンが例示される。
In the general formula (UN11), examples of the bicycloalkanediyl having 4 to 20 ring carbon atoms represented by X3 include the above-mentioned bicyclic cycloalkylene rings, and examples of the tricycloalkanediyl having 5 to 20 ring carbon atoms include the above-mentioned tricyclic cycloalkylene rings, such as adamantanediyl and tricyclodecanediyl.
In the general formula (UN11), examples of bicycloalkylidene having 4 to 20 ring carbon atoms represented by X3 include the above-mentioned bicyclic cycloalkylidene, and examples of tricycloalkylidene having 5 to 20 ring carbon atoms include the above-mentioned tricyclic cycloalkylidene, for example, adamantylidene and tricyclodecylidene.

前記一般式(UN11)中、XのR31からR34が示すハロゲン原子、炭素数1以上、10以下のアルキル、環形成炭素数6以上、12以下のアリール、および炭素数1以上、10以下のフッ化アルキルは、前述の一般式(UN11)中、Rが示す基と同様の基が例示される。 In general formula (UN11), examples of the halogen atom, alkyl having 1 to 10 carbon atoms, aryl having 6 to 12 ring carbon atoms, and fluorinated alkyl having 1 to 10 carbon atoms represented by R 31 to R 34 of X 3 include the same groups as the group represented by R 3 in general formula (UN11).

[高分子反応によって得られる樹脂の製造方法]
本実施形態に樹脂において、高分子反応よって得られる樹脂の製造方法は、後述の本実施形態に係る樹脂組成物を加熱することにより、樹脂組成物の高分子反応を行う工程、を有する。樹脂組成物の高分子反応を行う工程において、加熱温度は、目的とする特性、用途などに応じて決定すればよい。高分子反応を行う加熱温度は、例えば、60℃以上250℃以下であることが挙げられる。高分子反応よって得られる樹脂の製造方法は、後述の塗液組成物を湿式成形法で、対象物に塗布する工程と、加熱を行うことにより、この塗液組成物中の有機溶剤を除去する工程と、この有機溶剤を除去する工程における加熱と同時、または引き続き加熱を行うことにより、この塗液組成物中の樹脂組成物の高分子反応を行う工程と、を有する方法であってもよい。また、予め高分子反応により樹脂を改質し、得られた樹脂を用いて成形体を得る方法であっても構わない。
[Method of producing resin obtained by polymer reaction]
In the resin of this embodiment, the method for producing a resin obtained by a polymer reaction includes a step of heating the resin composition according to this embodiment described below to cause a polymer reaction of the resin composition. In the step of causing a polymer reaction of the resin composition, the heating temperature may be determined depending on the desired properties, application, etc. The heating temperature for causing the polymer reaction may be, for example, 60°C or higher and 250°C or lower. The method for producing a resin obtained by a polymer reaction may include a step of applying the coating composition described below to an object using a wet molding method, a step of removing the organic solvent in the coating composition by heating, and a step of causing a polymer reaction of the resin composition in the coating composition by heating simultaneously with or subsequent to the heating in the step of removing the organic solvent. Alternatively, a method may be used in which a resin is modified in advance by a polymer reaction and then a molded product is obtained using the resulting resin.

[樹脂組成物]
本実施形態に係る樹脂組成物は、前述の本実施形態に係る樹脂を含む。つまり、本実施形態に係る樹脂組成物は、特定のアントラセン構造を有する樹脂、並びに、ジエノフィル構造を含む化合物または樹脂を含む。
本実施形態に係る樹脂組成物は、高分子反応によって得られる前述の本実施形態に係る樹脂を作製できるものであってもよい。
すなわち、本実施形態に係る樹脂組成物は、ディールス・アルダー反応性を持つ特定のアントラセン構造を構造中に有する高分子、およびジエノフィル基またはジエノフィル構造を持つ反応剤または高分子を組合せで含んでいてもよい。また、本実施形態に係る樹脂組成物は、高分子反応する前のディールス・アルダー反応性を持つ特定のアントラセン構造とジエノフィル構造とを有する高分子を含んでいてもよい。一つの高分子に特定のアントラセン構造とジエノフィル構造とを有する場合、分子中のジエノフィル構造は、ジエノフィル構造を持つ反応剤となる。
[Resin composition]
The resin composition according to the present embodiment includes the resin according to the present embodiment described above. That is, the resin composition according to the present embodiment includes a resin having a specific anthracene structure and a compound or resin having a dienophile structure.
The resin composition according to this embodiment may be one that can produce the resin according to this embodiment described above, which is obtained by a polymer reaction.
That is, the resin composition according to this embodiment may contain a polymer having a specific anthracene structure with Diels-Alder reactivity in its structure, and a reactant or polymer having a dienophile group or dienophile structure in combination. Also, the resin composition according to this embodiment may contain a polymer having a specific anthracene structure with Diels-Alder reactivity and a dienophile structure before polymer reaction. When a polymer has a specific anthracene structure and a dienophile structure, the dienophile structure in the molecule becomes a reactant having a dienophile structure.

また、本実施形態に係る樹脂組成物は、特定のアントラセン構造を有する高分子と、ジエノフィル構造を持つ反応剤とが、高分子反応した後の樹脂を含んでいてもよい。 The resin composition according to this embodiment may also contain a resin resulting from a polymer reaction between a polymer having a specific anthracene structure and a reactant having a dienophile structure.

本実施形態に係る樹脂組成物において、アントラセン、ジエノフィル、およびアントラセンとジエノフィルとの割合については、本実施形態に係る樹脂と同様である。 In the resin composition according to this embodiment, the anthracene, dienophile, and ratio of anthracene to dienophile are the same as those in the resin according to this embodiment.

また、本実施形態に係る樹脂組成物中のアントラセン、およびジエノフィルの濃度は、目標とする物性や目的とする用途に応じて適宜設定可能である。ディールス・アルダー反応性基を持つ組成物の合計量に対して、アントラセンのモル数を官能基濃度とした場合、この官能基濃度は、0.01mmol/g以上、10mmol/g以下であることが好ましく、0.03mmol/g以上、7mmol/g以下であることがより好ましく、0.1mmol/g以上、5mmol/g以下であることがさらに好ましく、0.3mmol/g以上、5mmol/g以下であることがさらにより好ましく、0.5mmol/g以上、2mmol/g以下であることが特に好ましい。官能基濃度が0.01mmol/g未満の場合は、高分子反応による改質効果が不十分になるおそれがある。官能基濃度が10mmol/gを超える場合は、末端型のアントラセン構造の割合が多すぎるため、分子量が低くなることによる機械強度の低下が起こるため、好ましくない。 The concentrations of anthracene and dienophile in the resin composition according to this embodiment can be appropriately set depending on the desired physical properties and intended application. When the functional group concentration is the number of moles of anthracene relative to the total amount of the composition having Diels-Alder reactive groups, this functional group concentration is preferably 0.01 mmol/g or more and 10 mmol/g or less, more preferably 0.03 mmol/g or more and 7 mmol/g or less, even more preferably 0.1 mmol/g or more and 5 mmol/g or less, even more preferably 0.3 mmol/g or more and 5 mmol/g or less, and particularly preferably 0.5 mmol/g or more and 2 mmol/g or less. If the functional group concentration is less than 0.01 mmol/g, the modifying effect due to the polymer reaction may be insufficient. If the functional group concentration exceeds 10 mmol/g, the proportion of terminal anthracene structures is too high, resulting in a lower molecular weight and a decrease in mechanical strength, which is undesirable.

本実施形態に係る樹脂組成物としては、例えば、以下の(i)~(iii)のような成分が挙げられる。
(i)高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造を持つ高分子と、ジエノフィル基を持つ化合物(ii)高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造を持つ高分子と、高分子鎖にジエノフィル構造を持つ高分子(iii)一本の高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造およびジエノフィル構造の双方の構造を持つ高分子
The resin composition according to this embodiment may include, for example, the following components (i) to (iii).
(i) A polymer having a structure represented by the general formula (DE1) in the polymer chain and a compound having a dienophile group. (ii) A polymer having a structure represented by the general formula (DE1) in the polymer chain and a polymer having a dienophile structure in the polymer chain. (iii) A polymer having both the structure represented by the general formula (DE1) and a dienophile structure in a single polymer chain.

前記(i)の成分を含有する組成物の場合、高分子の末端に存在する前記一般式(DE1)で表される構造の合計の数、および2官能以上のジエノフィル構造を持つ化合物に存在するジエノフィル基の数の少なくともいずれかは2を超える数であってもよい。また、このとき、高分子鎖の両末端に前記一般式(DE1)で表される構造を1つずつ有してもよい。 In the case of a composition containing component (i), at least one of the total number of structures represented by general formula (DE1) present at the polymer terminals and the number of dienophile groups present in the compound having a difunctional or higher dienophile structure may be greater than 2. In this case, the polymer chain may have one structure represented by general formula (DE1) at each end.

例えば、前記(ii)の成分を含有する組成物の場合、1つ以上の前記一般式(DE1)で表される構造を有する高分子において、高分子鎖の一方の末端および他方の末端の少なくともいずれかの末端には、前記一般式(DE1)で表される構造が結合し、かつ、2つ以上のジエノフィル構造を有する高分子において、高分子鎖の一方の末端および他方の末端の少なくともいずれかの末端には、ジエノフィル構造が結合しもよい。
また、高分子の主鎖、および末端に存在する前記一般式(DE1)で表される構造の合計の数、およびジエノフィル構造を持つ高分子の主鎖、および末端に存在するジエノフィル基の合計の数の少なくともいずれかは2を超える数であってもよい。
For example, in the case of a composition containing the component (ii), in a polymer having one or more structures represented by the general formula (DE1), a structure represented by the general formula (DE1) may be bonded to at least one of the ends of the polymer chain, and in a polymer having two or more dienophile structures, a dienophile structure may be bonded to at least one of the ends of the polymer chain, and
In addition, at least one of the total number of structures represented by the general formula (DE1) present in the main chain and terminals of the polymer, and the total number of dienophile groups present in the main chain and terminals of the polymer having a dienophile structure may be a number greater than 2.

前記(ii)の成分を含有する組成物を反応させて、形成できる高分子鎖間の結合は、例えば、以下のような組み合わせの反応により形成できる。 The bonds between polymer chains that can be formed by reacting a composition containing component (ii) can be formed, for example, by the reaction of the following combinations:

(ii-1)
2つのジエノフィル構造を有する高分子であって、高分子鎖の両末端に当該ジエノフィル構造を1つずつ有する高分子と、
高分子鎖に1つ以上の前記一般式(DE1)で表される構造を有する高分子と、の反応(このとき、高分子鎖の両末端に前記一般式(DE1)で表される構造を1つずつ有してもよい。)
(ii-1)
A polymer having two dienophile structures, each of which is located at one end of a polymer chain;
a reaction with a polymer having one or more structures represented by the general formula (DE1) in the polymer chain (in this case, the polymer chain may have one structure represented by the general formula (DE1) at each end).

(ii-2)
2つのジエノフィル構造を有する高分子であって、当該高分子鎖の一方の末端にジエノフィル構造を1つ有し、他方の末端にはジエノフィル構造を有さず、かつ主鎖内にジエノフィル構造を1つ有する高分子と、
高分子鎖に1つ以上の前記一般式(DE1)で表される構造を有する高分子と、の反応(このとき、高分子鎖の両末端に前記一般式(DE1)で表される構造を1つずつ有してもよい。)
(ii-2)
A polymer having two dienophile structures, wherein the polymer has one dienophile structure at one end of the polymer chain and no dienophile structure at the other end, and has one dienophile structure within the main chain;
a reaction with a polymer having one or more structures represented by the general formula (DE1) in the polymer chain (in this case, the polymer chain may have one structure represented by the general formula (DE1) at each end).

(ii-3)
1つ以上のジエノフィル構造を有する高分子と、
高分子鎖に1つ以上の前記一般式(DE1)で表される構造を有する高分子と、の反応(このとき、高分子鎖の両末端に前記一般式(DE1)で表される構造を1つずつ有してもよい。)
(ii-3)
a polymer having one or more dienophile structures;
a reaction with a polymer having one or more structures represented by the general formula (DE1) in the polymer chain (in this case, the polymer chain may have one structure represented by the general formula (DE1) at each end).

次に、本実施形態に係るポリカーボネート重合体について説明する。
本実施形態に係るポリカーボネート重合体(以下、PC重合体ともいう)の第一の形態は、下記一般式(1)で表される繰返し単位A、および下記一般式(2)で表される繰返し単位Bから選ばれる繰返し単位を少なくとも有し、かつ、下記一般式(1A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマー、下記一般式(2A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマーおよび下記一般式(2C)で表されるビスクロロホーメートオリゴマーの少なくともいずれかを原料として得られる。なお、本実施形態で用いる原料は、この第一の形態で用いた原料に、限定されない。例えば、下記一般式(2)で表される繰返し単位Bから選ばれる繰返し単位を有する、下記一般式(2A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマーを原料としてもよい。
Next, the polycarbonate polymer according to this embodiment will be described.
A first form of the polycarbonate polymer (hereinafter also referred to as PC polymer) according to this embodiment has at least a repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit A represented by the following general formula (1) and a repeating unit B represented by the following general formula (2), and is obtained from at least one of a bischloroformate oligomer represented by the following general formula (1A), a bischloroformate oligomer represented by the following general formula (2A), and a bischloroformate oligomer represented by the following general formula (2C). The raw materials used in this embodiment are not limited to the raw materials used in this first form. For example, a bischloroformate oligomer represented by the following general formula (2A) having a repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit B represented by the following general formula (2) may be used as the raw material.

前記一般式(1)および一般式(1A)において、Ar33は、前記一般式(UN11)で表される基であり、n31は、平均量体数を表す。また、平均量体数n31は、1.0以上、10以下である。
前記一般式(2)および一般式(2A)において、Ar34は、前記一般式(UN11)で表される基であり、n32は、平均量体数を表す。また、平均量体数n32は、1.0以上、10以下である。
前記一般式(2C)において、Ar33は、前記一般式(UN11)で表される基であり、Ar34は、前記一般式(UN11)で表される基である。また、n33およびn34は、それぞれ平均量体数を表す。また、平均量体数n33およびn34の合計は、1.0以上、10以下である。
*は、結合位置を示す。
ただし、Ar33およびAr34は、互いに異なる。前記一般式(2C)において、各繰り返し単位は必ずしも連続していなくてもよい。
平均量体数の算出方法は、後述する実施例において説明する方法が挙げられる。
In the general formula (1) and the general formula (1A), Ar33 is a group represented by the general formula (UN11), and n31 represents the average number of monomers. The average number of monomers, n31 , is 1.0 or more and 10 or less.
In the general formula (2) and the general formula (2A), Ar 34 is a group represented by the general formula (UN11), and n 32 represents the average number of monomers. The average number of monomers, n 32 , is 1.0 or more and 10 or less.
In the general formula (2C), Ar33 is a group represented by the general formula (UN11), and Ar34 is a group represented by the general formula (UN11). Furthermore, n33 and n34 each represent an average number of monomers. Furthermore, the sum of the average numbers of monomers , n33 and n34 , is 1.0 or more and 10 or less.
* indicates the bond position.
However, Ar 33 and Ar 34 are different from each other. In the general formula (2C), the repeating units do not necessarily have to be consecutive.
The average number of monomers can be calculated by the method described in the Examples below.

前記一般式(1)で表される繰り返し単位A単独の繰返し単位を有するPC重合体、および前記一般式(1)で表される繰り返し単位Aと、前記一般式(2)で表される繰返し単位Bとを有するPC重合体としては、下記一般式(100)で表されるものが好ましい。 As a PC polymer having a single repeating unit A represented by the general formula (1), and a PC polymer having a repeating unit A represented by the general formula (1) and a repeating unit B represented by the general formula (2), one represented by the following general formula (100) is preferred.

前記一般式(100)において、aは、前記繰返し単位Aにおけるモル共重比を表し、bは、前記繰り返し単位Bにおけるモル共重比を表す。
aは、[Ar33]/([Ar33]+[Ar34])であり、bは、[Ar34]/([Ar33]+[Ar34])であり、bが0の場合も含む。[Ar33]は、PC重合体中のAr33で表される基を含む繰り返し単位Aのモル数を表し、[Ar34]は、PC重合体中のAr34で表される基を含む繰り返し単位Bのモル数を表す。
In the general formula (100), a represents the molar copolymer ratio in the repeating unit A, and b represents the molar copolymer ratio in the repeating unit B.
a is [Ar 33 ]/([Ar 33 ] + [Ar 34 ]), and b is [Ar 34 ]/([Ar 33 ] + [Ar 34 ]), including the case where b is 0. [Ar 33 ] represents the number of moles of repeating units A containing a group represented by Ar 33 in the PC polymer, and [Ar 34 ] represents the number of moles of repeating units B containing a group represented by Ar 34 in the PC polymer.

なお、前記一般式(100)において、各繰り返し単位は必ずしも連続していない。
前記一般式(100)で表されるPC重合体は、ブロック共重合体、交互共重合体、およびランダム共重合体など、いずれであってもよい。
本実施形態に係るPC重合体の第一の形態においては、前記したPC重合体の連鎖末端として、前記一般式(DE1)で表される構造を有するものである。そのため、高分子鎖に共役ジエン構造を持つ高分子となる。
In the general formula (100), the repeating units are not necessarily consecutive.
The PC polymer represented by the general formula (100) may be any of a block copolymer, an alternating copolymer, a random copolymer, and the like.
In a first embodiment of the PC polymer according to this embodiment, the chain terminal of the PC polymer has the structure represented by the general formula (DE1), and therefore the polymer has a conjugated diene structure in the polymer chain.

本実施形態に係るPC重合体の連鎖末端は、上記特定の末端基以外に、本願の要求を満たす範囲で一価の芳香族基または一価のフッ素含有脂肪族基により封止されていてもよい。
一価の芳香族基は、脂肪族基を含有する基であってもよい。
一価のフッ素含有脂肪族基は、芳香族基を含有する基であってもよい。
また、一価の芳香族基および一価のフッ素含有脂肪族基には、アルキル基、ハロゲン原子、およびアリール基からなる群から選択される少なくともいずれかの置換基が付加していてもよい。これらの置換基には、アルキル基、ハロゲン原子、およびアリール基からなる群から選択される少なくともいずれかの置換基がさらに付加していてもよい。また、置換基が複数ある場合、これらの置換基同士が互いに結合して環を形成してもよい。
The chain ends of the PC polymer according to this embodiment may be blocked with a monovalent aromatic group or a monovalent fluorine-containing aliphatic group in addition to the specific terminal groups described above, as long as the requirements of the present application are met.
The monovalent aromatic group may be a group containing an aliphatic group.
The monovalent fluorine-containing aliphatic group may be a group containing an aromatic group.
In addition, the monovalent aromatic group and the monovalent fluorine-containing aliphatic group may have at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, a halogen atom, and an aryl group added thereto. These substituents may further have at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, a halogen atom, and an aryl group added thereto. In addition, when there are multiple substituents, these substituents may be bonded to each other to form a ring.

連鎖末端を構成する一価の芳香族基は、環形成炭素数6から12のアリール基を含むことが好ましい。このようなアリール基としては、例えば、フェニル基やビフェニル基が挙げられる。
芳香族基に付加する置換基、および芳香族基に付加しているアルキル基に付加する置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が挙げられる。また、芳香族基に付加する置換基として炭素数1から20のアルキル基が挙げられる。このアルキル基は、上記のようにハロゲン原子が付加した基であってもよく、アリール基が付加した基であってもよい。
The monovalent aromatic group constituting the chain end preferably contains an aryl group having ring carbon atoms of 6 to 12. Examples of such an aryl group include a phenyl group and a biphenyl group.
Examples of the substituent added to the aromatic group and the substituent added to the alkyl group added to the aromatic group include halogen atoms such as fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms. Examples of the substituent added to the aromatic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. This alkyl group may be a group to which a halogen atom has been added as described above, or may be a group to which an aryl group has been added.

連鎖末端を構成する一価のフッ素含有脂肪族基としては、フッ素含有アルコールから誘導される一価の基が挙げられる。 Examples of the monovalent fluorine-containing aliphatic group constituting the chain end include monovalent groups derived from fluorine-containing alcohols.

フッ素含有アルコールとしては、炭素数2から6である複数のフルオロアルキル鎖同士が、エーテル結合を介して連結し、全フッ素原子数が13から19のものが好ましい。全フッ素原子数が13以上であれば、十分な撥水性、撥油性を発現させることができる。一方、全フッ素原子数が19以下であれば、重合時の反応性の低下を抑制し、得られたPC重合体の機械的強度、表面硬度、および耐熱性などの少なくともいずれかが向上し得る。
さらに、一価のフッ素含有脂肪族基としては、エーテル結合を2つ以上有するフッ素含有アルコールから誘導される一価の基でも好ましい。このようなフッ素含有アルコールを用いることで、塗液組成物におけるPC重合体の分散性が良くなり、成形体や電子写真感光体における耐摩耗性を向上させ、摩耗後の、表面潤滑性、撥水性および撥油性を保持することができる。
The fluorine-containing alcohol is preferably one in which a plurality of fluoroalkyl chains each having 2 to 6 carbon atoms are linked together via ether bonds and the total number of fluorine atoms is 13 to 19. If the total number of fluorine atoms is 13 or more, sufficient water repellency and oil repellency can be exhibited. On the other hand, if the total number of fluorine atoms is 19 or less, a decrease in reactivity during polymerization can be suppressed, and at least one of the mechanical strength, surface hardness, and heat resistance of the obtained PC polymer can be improved.
Furthermore, the monovalent fluorine-containing aliphatic group is preferably a monovalent group derived from a fluorine-containing alcohol having two or more ether bonds. The use of such a fluorine-containing alcohol improves the dispersibility of the PC polymer in the coating composition, improves the abrasion resistance of the molded article or electrophotographic photoreceptor, and allows the surface lubricity, water repellency, and oil repellency to be maintained after abrasion.

あるいは、フッ素含有アルコールとしては、下記一般式(30)もしくは(31)で表されるフッ素含有アルコール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノールなどのフッ素含有アルコール、または下記一般式(32)、(33)、もしくは(34)で表されるエーテル結合を介したフッ素含有アルコールも好ましい。 Alternatively, the fluorine-containing alcohol may be a fluorine-containing alcohol represented by the following general formula (30) or (31), a fluorine-containing alcohol such as 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, or a fluorine-containing alcohol via an ether bond represented by the following general formula (32), (33), or (34).

H(CFn1CHOH・・・(30)
F(CFm1CHOH・・・(31)
H(CF 2 ) n1 CH 2 OH...(30)
F( CF2 ) m1 CH2OH ...(31)

前記一般式(30)において、n1は1から12の整数であり、前記一般式(31)において、m1は1から12の整数である。 In the general formula (30), n1 is an integer from 1 to 12, and in the general formula (31), m1 is an integer from 1 to 12.

F-(CF 31-OCFCH-OH・・・(32)
F-(CFCF 32-(CFCFO) 33-CFCHOH・・・(33)
CR-(CF 35-O-(CFCFO) 34-CFCHOH・・・(34)
F-(CF 2 ) n 31 -OCF 2 CH 2 -OH...(32)
F-(CF 2 CF 2 ) n 32 -(CF 2 CF 2 O) n 33 -CF 2 CH 2 OH...(33)
CR 3 -(CF 2 ) n 35 -O-(CF 2 CF 2 O) n 34 -CF 2 CH 2 OH...(34)

前記一般式(32)において、n31は1から10の整数であり、好ましくは、5から8の整数である。
前記一般式(33)において、n32は0から5の整数であり、好ましくは、0から3の整数である。n33は1から5の整数であり、好ましくは、1から3の整数である。
前記一般式(34)において、n34は1から5の整数であり、好ましくは、1から3の整数である。n35は0から5の整数であり、好ましくは、0から3の整数である。Rは、CFまたはFである。
In the general formula (32), n 31 is an integer of 1 to 10, and preferably an integer of 5 to 8.
In the general formula (33), n32 is an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3. n33 is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3.
In the general formula (34), n34 is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3. n35 is an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3. R is CF3 or F.

本実施形態において、電気特性や耐摩耗性の改善の点から、PC重合体の連鎖末端は、下記一般式(35)で表されるフェノールから誘導される一価の基または下記一般式(36)で表されるフッ素含有アルコールから誘導される一価の基により封止されていることが好ましい。 In this embodiment, from the viewpoint of improving electrical properties and abrasion resistance, it is preferable that the chain ends of the PC polymer are blocked with a monovalent group derived from a phenol represented by the following general formula (35) or a monovalent group derived from a fluorine-containing alcohol represented by the following general formula (36).

前記一般式(35)において、R30は炭素数1から10のアルキル基、または炭素数1から10のフルオロアルキル基を表し、pは1から3の整数である。
前記一般式(36)において、Rは、炭素数が5以上、かつ、フッ素原子数が11以上であるパーフルオロアルキル基、あるいは下記一般式(37)で表されるパーフルオロアルキルオキシ基を示す。
In the general formula (35), R 30 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms; and p represents an integer of 1 to 3.
In the general formula (36), Rf represents a perfluoroalkyl group having 5 or more carbon atoms and 11 or more fluorine atoms, or a perfluoroalkyloxy group represented by the following general formula (37).

前記一般式(37)において、Rf2は炭素数1から6の直鎖または分岐のパーフルオロアルキル基である。mxは1から3の整数である。 In the general formula (37), Rf2 is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. mx is an integer of 1 to 3.

本実施形態に係るPC重合体の製造方法の一態様としては、前記一般式(1A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマー化合物、および前記一般式(2A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマー化合物の少なくともいずれかと、有機溶剤と、アルカリ水溶液と、ビスフェノール化合物などのモノマーを用い、有機層と水層とを混合して界面重縮合反応を行う製造方法が挙げられる。 One aspect of the method for producing a PC polymer according to this embodiment is a production method in which an organic layer and an aqueous layer are mixed together using at least one of a bischloroformate oligomer compound represented by general formula (1A) and a bischloroformate oligomer compound represented by general formula (2A), an organic solvent, an alkaline aqueous solution, and a monomer such as a bisphenol compound, and an interfacial polycondensation reaction is carried out.

本実施形態に係るPC重合体の製造方法において、連鎖末端を生成させる末端封止剤としては、一価のカルボン酸およびその誘導体や、一価のフェノールを用いることができる。
例えば、p-tert-ブチル-フェノール、p-フェニルフェノール、p-クミルフェノール、p-パーフルオロノニルフェノール、p-(パーフルオロノニルフェニル)フェノール、p-(パーフルオロヘキシル)フェノール、p-tert-パーフルオロブチルフェノール、p-パーフルオロオクチルフェノール、1-(p-ヒドロキシベンジル)パーフルオロデカン、p-〔2-(1H,1H-パーフルオロトリドデシルオキシ)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロピル〕フェノール、3,5-ビス(パーフルオロヘキシルオキシカルボニル)フェノール、p-ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、p-(1H,1H-パーフルオロオクチルオキシ)フェノール、2H,2H,9H-パーフルオロノナン酸などが好適に用いられる。
In the method for producing a PC polymer according to this embodiment, a monovalent carboxylic acid or a derivative thereof, or a monovalent phenol can be used as an end-capping agent for generating chain ends.
For example, p-tert-butyl-phenol, p-phenylphenol, p-cumylphenol, p-perfluorononylphenol, p-(perfluorononylphenyl)phenol, p-(perfluorohexyl)phenol, p-tert-perfluorobutylphenol, p-perfluorooctylphenol, 1-(p-hydroxybenzyl)perfluorodecane, p-[2-(1H,1H-perfluorotridodecyloxy)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl]phenol, 3,5-bis(perfluorohexyloxycarbonyl)phenol, perfluorododecyl p-hydroxybenzoate, p-(1H,1H-perfluorooctyloxy)phenol, 2H,2H,9H-perfluorononanoic acid, and the like are preferably used.

あるいは、連鎖末端を生成させる末端封止剤として、前記一般式(30)または(31)で表されるフッ素含有アルコール、または1,1,1,3,3,3-ヘキサフロロ-2-プロパノールなどの一価のフッ素含有アルコールも好適に用いられる。また、連鎖末端を生成させる末端封止剤として、前記一般式(32)、(33)、または(34)で表されるエーテル結合を介したフッ素含有アルコールを用いることも好ましい。 Alternatively, as an end-capping agent for generating chain ends, fluorine-containing alcohols represented by the above general formula (30) or (31), or monohydric fluorine-containing alcohols such as 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, are also preferably used. It is also preferable to use fluorine-containing alcohols via an ether bond represented by the above general formula (32), (33), or (34) as an end-capping agent for generating chain ends.

連鎖末端を生成させる末端封止剤としては、これらの中でも、電気特性や耐摩耗性の改善の点から、前記一般式(35)で表される一価のフェノールまたは前記一般式(36)で表される一価のフッ素含有アルコールを用いることが好ましい。 Of these, it is preferable to use a monohydric phenol represented by the general formula (35) or a monohydric fluorine-containing alcohol represented by the general formula (36) as an end-capping agent for generating chain ends, in terms of improving electrical properties and abrasion resistance.

前記一般式(35)で表される一価のフェノールとしては、例えば、p-tert-ブチル-フェノール、p-パーフルオロノニルフェノール、p-パーフルオロヘキシルフェノール、p-tert-パーフルオロブチルフェノール、p-パーフルオロオクチルフェノールなどが好適に用いられる。すなわち、本実施形態においては、連鎖末端は、p-tert-ブチル-フェノール、p-パーフルオロノニルフェノール、p-パーフルオロヘキシルフェノール、p-tert-パーフルオロブチルフェノール、およびp-パーフルオロオクチルフェノールからなる群から選ばれる末端封止剤を用いて封止されていることが好ましい。 Suitable examples of the monohydric phenol represented by general formula (35) include p-tert-butylphenol, p-perfluorononylphenol, p-perfluorohexylphenol, p-tert-perfluorobutylphenol, and p-perfluorooctylphenol. In other words, in this embodiment, the chain ends are preferably capped with an end-capping agent selected from the group consisting of p-tert-butylphenol, p-perfluorononylphenol, p-perfluorohexylphenol, p-tert-perfluorobutylphenol, and p-perfluorooctylphenol.

前記一般式(36)で表されるエーテル結合を介したフッ素含有アルコールとしては、例えば、以下の化合物が挙げられる。すなわち、本実施形態の連鎖末端は、下記フッ素含有アルコールのいずれかから選ばれる末端封止剤を用いて封止されていても好ましい。 Examples of the fluorine-containing alcohol via an ether bond represented by general formula (36) include the following compounds. That is, in this embodiment, the chain ends are preferably capped with an end-capping agent selected from any of the fluorine-containing alcohols listed below.

末端封止剤の添加割合は、末端の分率により架橋性反応基の濃度、および分子量が連動して変化する。主鎖、および末端の繰り返し単位の合計、に対する前記一般式(DE1)で表される構造の共重合組成のモル百分率として、好ましくは0.1モル%以上67モル%以下であり、さらに好ましくは0.5モル%以上50モル%以下である。末端封止剤の添加割合が、67モル%以下であると機械的強度の低下を抑制でき、0.1モル%以上であると架橋による特性向上の効果を得ることができる。
本実施形態に係る樹脂の全末端に占める前記一般式(DE1)で表される構造の割合は、モル比で50%以上であり、好ましくは70%以上であり、さらに好ましくは80%以上、さらにより好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。この割合が50%以上であることで、高分子反応による改質効果を効率的に発揮することができる。
The addition ratio of the terminal blocking agent changes depending on the fraction of the terminal, and the concentration of crosslinkable reactive groups and molecular weight change in conjunction with each other.The molar percentage of the copolymer composition of the structure represented by the general formula (DE1) relative to the total of the main chain and terminal repeating units is preferably 0.1 mol% or more and 67 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or more and 50 mol% or less.When the addition ratio of the terminal blocking agent is 67 mol% or less, the decrease in mechanical strength can be suppressed, and when it is 0.1 mol% or more, the effect of improving properties by crosslinking can be obtained.
The proportion of the structure represented by general formula (DE1) in all terminals of the resin according to this embodiment is 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more, by molar ratio. When this proportion is 50% or more, the modifying effect due to the polymer reaction can be efficiently exerted.

また、本実施形態に係るPC重合体の製造方法において用いることができる分岐剤は、特に限定されないが、分岐剤の具体例としては、フロログルシン、ピロガロール、4,6-ジメチル-2,4,6-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-2-ヘプテン、2,6-ジメチル-2,4,6-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-3-ヘプテン、2,4-ジメチル-2,4,6-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ヘプタン、1,3,5-トリス(2-ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、トリス(4-ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビス〔4,4-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル〕プロパン、2,4-ビス〔2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-2-プロピル〕フェノール、2,6-ビス(2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェノール、2-(4-ヒドロキシフェニル)-2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)プロパン、テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、テトラキス〔4-(4-ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノキシ〕メタン、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、3,3-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドール、3,3-ビス(4-ヒドロキシアリール)オキシインドール、5-クロロイサチン、5,7-ジクロロイサチン、5-ブロモイサチンなどが挙げられる。
これら分岐剤の添加割合は、繰り返し単位A、繰り返し単位B、および連鎖末端の共重合組成のモル百分率で、または繰り返し単位A、および連鎖末端の共重合組成のモル百分率で30モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。分岐剤の添加割合が30モル%以下であると、成形性の低下を抑制できる。
The branching agent that can be used in the method for producing a PC polymer according to this embodiment is not particularly limited. Specific examples of the branching agent include phloroglucin, pyrogallol, 4,6-dimethyl-2,4,6-tris(4-hydroxyphenyl)-2-heptene, 2,6-dimethyl-2,4,6-tris(4-hydroxyphenyl)-3-heptene, 2,4-dimethyl-2,4,6-tris(4-hydroxyphenyl)heptane, 1,3,5-tris(2-hydroxyphenyl)benzene, 1,3,5-tris(4-hydroxyphenyl)benzene, 1,1,1-tris(4-hydroxyphenyl)ethane, tris(4-hydroxyphenyl)phenylmethane, 2,2-bis[4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]cyclohexane], and the like. [4-hydroxyphenyl]propane, 2,4-bis[2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-propyl]phenol, 2,6-bis(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4-methylphenol, 2-(4-hydroxyphenyl)-2-(2,4-dihydroxyphenyl)propane, tetrakis(4-hydroxyphenyl)methane, tetrakis[4-(4-hydroxyphenylisopropyl)phenoxy]methane, 2,4-dihydroxybenzoic acid, trimesic acid, cyanuric acid, 3,3-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)-2-oxo-2,3-dihydroindole, 3,3-bis(4-hydroxyaryl)oxindole, 5-chloroisatin, 5,7-dichloroisatin, and 5-bromoisatin.
The proportion of these branching agents added is preferably 30 mol % or less, more preferably 5 mol % or less, in terms of the molar percentage of the copolymer composition of repeating unit A, repeating unit B, and chain terminals, or the molar percentage of the copolymer composition of repeating unit A and chain terminals. When the proportion of branching agent added is 30 mol % or less, deterioration in moldability can be suppressed.

界面重縮合を行う場合、酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物や、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸カルシウムなどのアルカリ金属弱酸塩、アルカリ土類金属弱酸塩、ピリジンなどの有機塩基が挙げられる。界面重縮合を行う場合に好ましい酸結合剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物である。また、これらの酸結合剤は、混合物としても用いることができる。酸結合剤の使用割合も反応の化学量論比(当量)を考慮して適宜調製すればよい。具体的には、原料である二価フェノールの水酸基の合計1モル当たり、1当量もしくはそれより過剰量の酸結合剤を使用すればよく、好ましくは1~10当量の酸結合剤を使用すればよい。 When performing interfacial polycondensation, examples of acid binders include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and cesium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide; weak alkali metal acid salts such as sodium carbonate, potassium carbonate, and calcium acetate; weak alkaline earth metal acid salts; and organic bases such as pyridine. Preferred acid binders for performing interfacial polycondensation are alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide. These acid binders can also be used as mixtures. The proportion of acid binder used can be adjusted appropriately, taking into account the stoichiometric ratio (equivalents) of the reaction. Specifically, 1 equivalent or more of acid binder can be used per mole of the total hydroxyl groups of the dihydric phenol raw material, and preferably 1 to 10 equivalents of acid binder can be used.

本実施形態に係るPC重合体の製造方法で用いる溶媒としては、得られた共重合体に対して一定以上の溶解性を示せば問題無い。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素や、塩化メチレン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、1,1,1,2-テトラクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、シクロヘキサノン、アセトン、アセトフェノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどのエーテル類などが好適なものとして挙げられる。これら溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、互いに混ざり合わない2種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行ってもよい。 The solvent used in the PC polymer production method according to this embodiment is sufficient as long as it exhibits a certain level of solubility for the resulting copolymer. Suitable solvents include, for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, and chlorobenzene; ketones such as cyclohexanone, acetone, and acetophenone; and ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, the interfacial polycondensation reaction may be carried out using two immiscible solvents.

本実施形態に係るPC重合体の製造方法で用いる有機溶剤として、実質的に水と混じりあわなく、最終的に得られるポリカーボネート共重合体を5質量%以上溶解可能な有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤は、実質的に水と混じりあわなく、最終的に得られるポリカーボネート共重合体を5質量%以上溶解可能な有機溶剤であることが好ましい。
ここで、「実質的に水と混じりあわない」有機溶剤とは、常温常圧条件で、水と有機溶剤を1:9~9:1の組成範囲で混合した場合に、均一な層からなる溶液(ゲル化物および不溶物のいずれもみられない溶液)が得られない有機溶剤である。
また、有機溶剤が「最終的に得られるポリカーボネート共重合体を5質量%以上溶解可能」とは、温度20~30℃、常圧の条件で測定した際のポリカーボネート共重合体の溶解度である。
また、「最終的に得られるポリカーボネート重合体」とは、本実施形態のポリカーボネート重合体の製造方法における重合工程を経て得られる重合体のことで、架橋前のものである。
このような有機溶剤としては、例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素類、シクロヘキサノンなどのケトン類、および塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。中でも、溶解性が高いことから、塩化メチレンが好ましい。
The organic solvent used in the method for producing a PC polymer according to this embodiment is preferably an organic solvent that is substantially immiscible with water and capable of dissolving 5% by mass or more of the polycarbonate copolymer that is finally obtained. The organic solvent is preferably an organic solvent that is substantially immiscible with water and capable of dissolving 5% by mass or more of the polycarbonate copolymer that is finally obtained.
Here, an organic solvent that is "substantially immiscible with water" refers to an organic solvent that does not give a solution consisting of a uniform layer (a solution in which neither a gelled substance nor an insoluble substance is observed) when mixed with water in a composition range of 1:9 to 9:1 under normal temperature and pressure conditions.
Furthermore, the phrase "the organic solvent is capable of dissolving 5% by mass or more of the finally obtained polycarbonate copolymer" refers to the solubility of the polycarbonate copolymer when measured under conditions of a temperature of 20 to 30° C. and atmospheric pressure.
The "finally obtained polycarbonate polymer" refers to a polymer obtained through the polymerization step in the method for producing a polycarbonate polymer of the present embodiment, and is a polymer before crosslinking.
Examples of such organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, ketones such as cyclohexanone, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, among which methylene chloride is preferred due to its high solubility.

また、本実施形態のPC重合体の製造方法で用いる触媒としては、特に限定されないが、例えば、トリメチルアミンや、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、N,N-ジエチルアニリン、N,N-ジメチルアニリンなどの第三級アミン、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリブチルベンジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの四級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどの四級ホスホニウム塩などが好適である。
さらに、必要に応じて、本実施形態のPC重合体の反応系に亜硫酸ナトリウムやハイドロサルファイト塩などの酸化防止剤を少量添加してもよい。
The catalyst used in the method for producing a PC polymer of the present embodiment is not particularly limited, but suitable examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N,N-dimethylcyclohexylamine, pyridine, N,N-diethylaniline, and N,N-dimethylaniline; quaternary ammonium salts such as trimethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, tributylbenzylammonium chloride, trioctylmethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, and tetrabutylammonium bromide; and quaternary phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium chloride and tetrabutylphosphonium bromide.
Furthermore, if necessary, a small amount of an antioxidant such as sodium sulfite or a hydrosulfite salt may be added to the reaction system of the PC polymer of this embodiment.

[塗液組成物]
本実施形態に係る塗液組成物は、本実施形態に係る樹脂組成物と、有機溶剤とを含む。すなわち、本実施形態に係る塗液組成物は、本実施形態に係る樹脂と、有機溶剤とを含む。
[Coating liquid composition]
The coating composition according to this embodiment includes the resin composition according to this embodiment and an organic solvent. That is, the coating composition according to this embodiment includes the resin according to this embodiment and an organic solvent.

本実施形態に係る有機溶剤としては、樹脂組成物などの材料の溶解性、成形後の乾燥速度、成形物への残留時の影響、および危険性(火災、または健康有害性)を考慮し、適宜選定可能である。
本実施形態に係る有機溶剤としては、環状エーテル類(テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、およびジオキソランなど)、環状ケトン類(シクロヘキサノン、シクロペンタノン、およびシクロヘプタノンなど)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン、およびクロロベンゼンなど)、ケトン類(メチルエチルケトン(MEK)、およびメチルイソブチルケトン(MIBK)など)、ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、およびクロロホルムなど)、エステル類(酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、および酢酸ブチルなど)、エーテル類(エチレングリコールジメチルエーテル、およびエチレングリコールモノエチルエーテルなど)、アミド類(フマル酸ジメチル(DMF)、およびジメチルアセトアミド(DMAc)など)、および非プロトン性極性溶媒(ジメチルスルホキシド(DMSO)など)などが挙げられる。
The organic solvent according to the present embodiment can be appropriately selected taking into consideration the solubility of materials such as the resin composition, the drying speed after molding, the effect of the solvent remaining on the molded product, and the risk of fire or health hazards.
Examples of organic solvents according to the present embodiment include cyclic ethers (such as tetrahydrofuran (THF), dioxane, and dioxolane), cyclic ketones (such as cyclohexanone, cyclopentanone, and cycloheptanone), aromatic hydrocarbons (such as toluene, xylene, and chlorobenzene), ketones (such as methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK)), halogenated hydrocarbons (such as dichloromethane and chloroform), esters (such as ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, and butyl acetate), ethers (such as ethylene glycol dimethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether), amides (such as dimethyl fumarate (DMF) and dimethylacetamide (DMAc)), and aprotic polar solvents (such as dimethyl sulfoxide (DMSO)).

本実施形態に係る塗液組成物中の、本実施形態に係る樹脂組成物の濃度は、同塗液組成物の使用法に合わせた適切な粘度となる濃度であればよく、0.1質量%以上40質量%以下であることが好ましく、1質量%以上35質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上30質量%以下であることがさらに好ましい。40質量%以下であれば、粘度が高くなりすぎることもなく塗工性が良好となる。0.1質量%以上であれば、適度な粘度に保つことができ、均質な膜が得られる。また、塗工後の乾燥時間の短縮や、容易に目標とする膜厚とするのに適度な濃度となる。 The concentration of the resin composition according to this embodiment in the coating composition according to this embodiment may be any concentration that provides an appropriate viscosity for the intended use of the coating composition, and is preferably 0.1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 35% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less. If it is 40% by mass or less, the viscosity will not become too high and coatability will be good. If it is 0.1% by mass or more, it will be possible to maintain an appropriate viscosity and obtain a homogeneous film. In addition, it will be an appropriate concentration that shortens the drying time after coating and easily achieves the target film thickness.

塗液組成物には、本実施形態に係る樹脂組成物および有機溶剤以外に、添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、低分子化合物、着色剤(例えば、染料、および顔料など)、機能性化合物(例えば、電荷輸送材、電子輸送材、正孔輸送材、および電荷発生材など)、充填材(例えば、無機または有機のフィラー、ファイバー、クロス、および微粒子など)、酸化防止剤、紫外線吸収剤、並びに酸捕捉剤などが挙げられる。また、塗液組成物には、本発明の一実施形態に係る樹脂組成物以外の他の樹脂が含まれていてもよい。
これら添加剤や他の樹脂としては、樹脂組成物と配合し得る物質として公知の物質を用いることができる。
The coating composition may contain additives in addition to the resin composition and organic solvent according to this embodiment. Examples of additives include low-molecular-weight compounds, colorants (e.g., dyes and pigments), functional compounds (e.g., charge transport materials, electron transport materials, hole transport materials, and charge generation materials), fillers (e.g., inorganic or organic fillers, fibers, cloths, and fine particles), antioxidants, ultraviolet absorbers, and acid scavengers. The coating composition may also contain resins other than the resin composition according to one embodiment of the present invention.
As these additives and other resins, known substances that can be blended with resin compositions can be used.

また、電荷輸送物質を含む場合、製品性能の観点から、本実施形態に係る塗液組成物中の樹脂組成物と電荷輸送物質との割合は、質量比で20:80から80:20の範囲であることが好ましく、30:70から70:30の範囲であることがより好ましい。
本実施形態に係る塗液組成物中、本実施形態に係る樹脂組成物は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Furthermore, when a charge transport substance is contained, from the viewpoint of product performance, the mass ratio of the resin composition to the charge transport substance in the coating liquid composition according to this embodiment is preferably in the range of 20:80 to 80:20, and more preferably in the range of 30:70 to 70:30.
In the coating liquid composition according to this embodiment, the resin composition according to this embodiment may be used alone or in combination of two or more kinds.

本実施形態に係る塗液組成物は、通常、積層型電子写真感光体の感光層の形成に好適に用いられる。積層型電子写真感光体の感光層は、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを含むことが好ましく、本実施形態に係る塗液組成物は、電荷輸送層の形成に好適に用いられる。また、本実施形態に係る塗液組成物に、上記電荷発生物質をさらに含有させることにより、単層型の電子写真感光体の感光層の形成に使用することも可能である。
また、感光体の保護層の形成に使用することも可能である。
The coating composition according to this embodiment is usually suitable for use in forming a photosensitive layer of a multilayer electrophotographic photoreceptor. The photosensitive layer of a multilayer electrophotographic photoreceptor preferably includes at least a charge generation layer and a charge transport layer, and the coating composition according to this embodiment is suitable for use in forming the charge transport layer. Furthermore, by further incorporating the charge generation material into the coating composition according to this embodiment, it is also possible to use the coating composition according to this embodiment in forming a photosensitive layer of a single-layer electrophotographic photoreceptor.
It can also be used to form a protective layer for a photoreceptor.

[成形物]
本実施形態に係る成形物は、本実施形態に係る樹脂を含む。本実施形態に係る成形物は、後述する電子写真感光体の用途の他に、様々な用途に使用できる。例えば、電子デバイスなどの基板、絶縁層、保護層、接着層、導電層、および構造材などの用途に好適に用いることができる。さらに、本実施形態に係る成形物は、フィルム、コーティング膜、絶縁材料などにも適用できる。ここに例示した成形物は、本実施形態に係る樹脂を少なくとも含んでいればよい。なお、本実施形態に係る樹脂を含む成形物において、前述の一般式(DE1)で表される構造を少なくとも含む樹脂と、ジエノフィル構造を含む化合物またはジエノフィル構造を含む樹脂とは、同一の層に含まれていてもよく、異なる層に含まれていてもよい。前述の一般式(DE1)で表される構造を少なくとも含む樹脂と、ジエノフィル構造を含む化合物またはジエノフィル構造を含む樹脂とが異なる層に含まれている場合、前記一般式(DE1)で表される構造を少なくとも含む樹脂と、ジエノフィル構造を含む化合物またはジエノフィル構造を含む樹脂とは、それぞれ、隣り合う層に含まれていてもよい。
[Molded product]
The molded article according to this embodiment contains the resin according to this embodiment. The molded article according to this embodiment can be used for various purposes in addition to the application of the electrophotographic photoreceptor described below. For example, it can be suitably used for applications such as substrates, insulating layers, protective layers, adhesive layers, conductive layers, and structural materials for electronic devices. Furthermore, the molded article according to this embodiment can also be applied to films, coating films, insulating materials, and the like. The molded article exemplified here may contain at least the resin according to this embodiment. Note that in a molded article containing the resin according to this embodiment, the resin containing at least the structure represented by the general formula (DE1) and the compound containing a dienophile structure or the resin containing a dienophile structure may be contained in the same layer or in different layers. When the resin containing at least the structure represented by the general formula (DE1) and the compound containing a dienophile structure or the resin containing a dienophile structure are contained in different layers, the resin containing at least the structure represented by the general formula (DE1) and the compound containing a dienophile structure or the resin containing a dienophile structure may be contained in adjacent layers.

ここで、本明細書において、本実施形態に係る樹脂を含むフィルムと、本実施形態に係る樹脂を含むコーティング膜とは、明確に区別される。
本実施形態に係る樹脂を含むフィルムは、本実施形態に係る樹脂から形成された樹脂体であり、長さおよび幅に比べて厚さが小さい樹脂体を指す。例えば、本実施形態に係るフィルムが、本実施形態に係る塗料組成物を対象物に塗布し、対象物から剥離して形成した樹脂体である場合、この樹脂体は、フィルムである。
本実施形態に係る樹脂を含むコーティング膜は、本実施形態に係る塗料組成物を、対象物にコーティングすることよって形成された層を指す。一般的には、コーティング膜は、対象物上にそのまま残り、完成品の一部を構成する。
Here, in this specification, a film containing the resin according to this embodiment and a coating film containing the resin according to this embodiment are clearly distinguished.
The film containing the resin according to the present embodiment is a resin body formed from the resin according to the present embodiment, and refers to a resin body having a thickness smaller than its length and width. For example, when the film according to the present embodiment is a resin body formed by applying the coating composition according to the present embodiment to an object and peeling it off from the object, this resin body is a film.
The coating film containing the resin according to the present embodiment refers to a layer formed by coating an object with the paint composition according to the present embodiment. Generally, the coating film remains on the object and constitutes a part of the finished product.

また、本実施形態に係る成形物は、本実施形態に係る樹脂組成物を用いて作製できる。
本実施形態に係る樹脂組成物を用いる場合、その成形方法としては、湿式成形法、および溶融成形法のいずれの方法も適用できる。
The molded article according to this embodiment can be produced using the resin composition according to this embodiment.
When the resin composition according to this embodiment is used, either a wet molding method or a melt molding method can be used as the molding method.

湿式成形法により成形物を得る場合には、(i)高分子反応が進行する温度で成形する方法、(ii)高分子反応が実質的に進行しない温度でウェット成形物を得た後、溶剤を除去する工程中に高分子反応が進行する温度に上昇させ、乾燥と高分子反応を同時に行う方法、(iii)高分子反応が実質的に進行しない温度で湿式成形、乾燥によりドライ成形物を得た後、成形物を高分子反応が進行する温度に上昇させ高分子反応する方法を採用できる。これらの方法は、いずれであっても構わない。また、予め高分子反応により改質した樹脂を得た後に、同樹脂を用いて塗液を調製し、成形物を得る方法であっても構わない。
なお、湿式成形法においては、前述の本実施形態に係る塗液組成物を用いることができる。
When a molded product is obtained by a wet molding method, (i) a method of molding at a temperature at which the polymer reaction proceeds, (ii) a method of obtaining a wet molded product at a temperature at which the polymer reaction does not substantially proceed, and then raising the temperature to a temperature at which the polymer reaction proceeds during the solvent removal process to simultaneously perform drying and the polymer reaction, or (iii) a method of obtaining a dry molded product by wet molding and drying at a temperature at which the polymer reaction does not substantially proceed, and then raising the temperature of the molded product to a temperature at which the polymer reaction proceeds to perform the polymer reaction. Any of these methods may be used. Alternatively, a molded product may be obtained by first obtaining a resin modified by a polymer reaction, and then using the resin to prepare a coating liquid to obtain the molded product.
In the wet molding method, the coating liquid composition according to the present embodiment can be used.

溶融成形法を行う場合には、ディールス・アルダー反応が進行する温度以上で実施する方法が通常である。一方で、レトロディールス・アルダー反応が生じるまで成形温度を上昇させることで溶融粘度を低下させ、流動性を向上させる方法も好適に行える。このレトロディールス・アルダー反応が生じる条件で成形を行う場合、成形物を冷却する速度と温度を制御することにより、適宜再度ディールス・アルダー反応の進行を制御することができる。これにより、成形流動性が良好であり、高分子反応により得られる構造を持つことで樹脂物性が改良された樹脂からなる成形体を得ることができる。 When melt molding is performed, it is usually carried out at a temperature above the temperature at which the Diels-Alder reaction proceeds. However, a suitable method is to increase the molding temperature until the retro Diels-Alder reaction occurs, thereby reducing the melt viscosity and improving fluidity. When molding is performed under conditions that cause the retro Diels-Alder reaction, the progress of the Diels-Alder reaction can be appropriately controlled again by controlling the cooling rate and temperature of the molded product. This allows for the production of molded products made from resins with good molding fluidity and improved resin properties due to the structure obtained through the polymer reaction.

高分子反応の温度は、目標とする物性や目的とする用途に応じて適宜設定可能である。この反応温度に合わせて、高分子反応させる官能基の種類、アントラセンとジエノフィルとの割合、および官能基濃度などを調整して架橋方法を設定すればよい。 The temperature of the polymer reaction can be set appropriately depending on the target physical properties and intended application. The crosslinking method can be set by adjusting the type of functional group to be polymerized, the ratio of anthracene to dienophile, and the functional group concentration, etc., in accordance with this reaction temperature.

一例として、電子写真感光体向けの高分子反応温度は、通常湿式成形によりウェット成形品を得た後、乾燥工程で高分子反応させることが好ましく、その温度は機能性低分子化合物が変質しない温度で行うことが求められる。例えば、電子写真感光体向けの高分子反応の温度は、60℃以上170℃以下であることが好ましく、80℃以上160℃以下であることがより好ましく、100℃以上150℃以下であることがさらに好ましい。110℃以上140℃以下でもよい。反応温度が170℃を超える温度では、電荷輸送物質などの機能性低分子化合物が変質することがある。反応温度が60℃未満では、乾燥が十分進行しなかったり、乾燥に長時間を要することになり好ましくない。 As an example, the polymer reaction temperature for electrophotographic photoreceptors is preferably set in the drying process after obtaining a wet-molded product by normal wet molding, and the temperature must be such that the functional low-molecular-weight compound does not deteriorate. For example, the polymer reaction temperature for electrophotographic photoreceptors is preferably 60°C or higher and 170°C or lower, more preferably 80°C or higher and 160°C or lower, and even more preferably 100°C or higher and 150°C or lower. It may also be 110°C or higher and 140°C or lower. At reaction temperatures above 170°C, functional low-molecular-weight compounds such as charge transport materials may deteriorate. At reaction temperatures below 60°C, drying may not proceed sufficiently or may take a long time, which is undesirable.

一方で、電子デバイスの用途では、塗工製膜時の乾燥や硬化速度により膜物性を調整するためプロセスが高温になるものがある。そこで、電子デバイス向けの反応温度は、60℃以上250℃以下であることが好ましく、100℃以上200℃以下であることがより好ましい。110℃以上180℃以下であることがさらに好ましい。反応温度が250℃を超える条件では、電子部品の故障やその他の有機材料の分解が生じるおそれがある。反応温度が60℃未満では、高分子反応が十分進行しなかったり、このような低温で反応が進行する材料は塗液組成物中でも一部反応が進行することで粘度が上昇するなど、塗工液の安定性に問題がでるおそれがある。 On the other hand, for applications in electronic devices, the process can be very high, as the film properties are adjusted by the drying and curing speed during coating film formation. Therefore, the reaction temperature for electronic devices is preferably between 60°C and 250°C, more preferably between 100°C and 200°C, and even more preferably between 110°C and 180°C. Reaction temperatures above 250°C may result in failure of electronic components or decomposition of other organic materials. Reaction temperatures below 60°C may result in insufficient polymer reaction, or materials that undergo reaction at such low temperatures may undergo partial reaction within the coating composition, increasing viscosity and posing problems with the stability of the coating liquid.

本実施形態において、樹脂組成物の高分子反応は、触媒や重合開始剤などを添加することなく実施することができる。ただし、本実施形態の効果を阻害しない限りでは、他の高分子反応システムとの併用などの目的で、触媒や重合開始剤などの物質を添加しても構わない。 In this embodiment, the polymer reaction of the resin composition can be carried out without adding a catalyst, polymerization initiator, or the like. However, as long as the effects of this embodiment are not impaired, substances such as catalysts and polymerization initiators may be added for purposes such as combined use with other polymer reaction systems.

[電子写真感光体]
本実施形態に係る電子写真感光体は、本実施形態に係る樹脂を含む層を有する。本実施形態に係る樹脂は、本実施形態に係る電子写真感光体を最外層に含むことが好ましい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、基板と、この基板上に設けられた感光層とを有し、この感光層に、本実施形態に係る樹脂を含む。
本実施形態の電子写真感光体は、本実施形態に係る樹脂を感光層中に用いる限り、公知の種々の形式の電子写真感光体はもとより、どのような電子写真感光体としてもよいが、感光層が、少なくとも1層の電荷発生層と少なくとも1層の電荷輸送層とを有する積層型電子写真感光体、または、一層に電荷発生物質と電荷輸送物質とを有する単層型電子写真感光体とすることが好ましい。
[Electrophotographic Photoreceptor]
The electrophotographic photoreceptor according to this embodiment has a layer containing the resin according to this embodiment. The resin according to this embodiment is preferably contained in the outermost layer of the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment.
The electrophotographic photoreceptor according to this embodiment has a substrate and a photosensitive layer provided on the substrate, and the photosensitive layer contains the resin according to this embodiment.
The electrophotographic photoreceptor of the present embodiment may be any electrophotographic photoreceptor, including various known types of electrophotographic photoreceptors, as long as the resin of the present embodiment is used in the photosensitive layer. However, it is preferred that the photosensitive layer is a multilayer electrophotographic photoreceptor having at least one charge generation layer and at least one charge transport layer, or a single-layer electrophotographic photoreceptor having a charge generation material and a charge transport material in one layer.

本実施形態に係る樹脂は、感光層中のどの部分にも使用してもよいが、本実施形態の効果を十分に発揮するためには、電荷輸送層中において電荷移動物質のバインダー樹脂として使用するか、単一の感光層のバインダー樹脂として使用することが望ましい。また、感光層のみならず、表面保護層として使用することが望ましい。電荷輸送層を2層有する多層型の電子写真感光体の場合には、そのいずれかの電荷輸送層に使用することが好ましい。
本実施形態の電子写真感光体において、本実施形態に係る樹脂は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。また、所望に応じて本実施形態の目的を阻害しない範囲で、他のポリカーボネートなどのバインダー樹脂成分を含有させてもよい。さらに、酸化防止剤などの添加物を含有させてもよい。
The resin according to this embodiment may be used in any part of the photosensitive layer, but to fully exhibit the effects of this embodiment, it is preferable to use it as a binder resin for a charge transport material in a charge transport layer or as a binder resin for a single photosensitive layer. It is also preferable to use it not only in the photosensitive layer but also in a surface protective layer. In the case of a multilayer electrophotographic photoreceptor having two charge transport layers, it is preferable to use it in one of the charge transport layers.
In the electrophotographic photoreceptor of this embodiment, the resin according to this embodiment may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, if desired, other binder resin components such as polycarbonates may be contained within a range that does not impair the object of this embodiment. Furthermore, additives such as antioxidants may be contained.

本実施形態の電子写真感光体は、感光層を導電性基板上に有する。感光層が電荷発生層と電荷輸送層とを有する場合、電荷発生層上に電荷輸送層が積層されていてもよく、また逆に電荷輸送層上に電荷発生層が積層されていてもよい。また、一層中に電荷発生物質と電荷輸送物質を同時に含む感光層であってもよい。さらにまた、必要に応じて表面層に導電性または絶縁性の保護膜が形成されていてもよい。最外層に本実施形態に係る樹脂を用いることで、耐溶剤性や耐摩耗性に優れた電子写真感光体を得ることができる。
さらに、各層間の接着性を向上させるための接着層あるいは電荷のブロッキングの役目を果すブロッキング層などの中間層などが形成されていてもよい。
The electrophotographic photoreceptor of this embodiment has a photosensitive layer on a conductive substrate. When the photosensitive layer has a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer may be laminated on the charge generation layer, or conversely, the charge generation layer may be laminated on the charge transport layer. Alternatively, the photosensitive layer may contain both a charge generation material and a charge transport material in one layer. Furthermore, if necessary, a conductive or insulating protective film may be formed on the surface layer. By using the resin according to this embodiment in the outermost layer, an electrophotographic photoreceptor with excellent solvent resistance and abrasion resistance can be obtained.
Furthermore, an intermediate layer such as an adhesive layer for improving adhesion between layers or a blocking layer for blocking charges may be formed.

本実施形態の電子写真感光体に用いられる導電性基板材料としては、公知の材料など各種の材料を使用することができ、具体的には、アルミニウム、ニッケル、クロム、パラジウム、チタン、モリブデン、インジウム、金、白金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス鋼、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ITO(インジウムチンオキサイド:錫ドープ酸化インジウム)もしくはグラファイトからなる、板、ドラム、およびシート、蒸着、スパッタリング、または塗布などによりコーティングするなどして導電処理した、ガラス、布、紙、およびプラスチックのフィルム、シートもしくはシームレスベルト、並びに電極酸化などにより金属酸化処理した金属ドラムなどを使用することができる。 Conductive substrate materials used in the electrophotographic photoreceptor of this embodiment can be various materials, including well-known materials. Specifically, plates, drums, and sheets made of aluminum, nickel, chromium, palladium, titanium, molybdenum, indium, gold, platinum, silver, copper, zinc, brass, stainless steel, lead oxide, tin oxide, indium oxide, ITO (indium tin oxide: tin-doped indium oxide), or graphite can be used; glass, cloth, paper, and plastic films, sheets, or seamless belts that have been treated to be conductive by coating using vapor deposition, sputtering, or painting; and metal drums that have been treated to be metal-oxidized by electrochemical oxidation or the like can be used.

前記電荷発生層は少なくとも電荷発生材料を有する。この電荷発生層はその下地となる基板上に真空蒸着もしくはスパッタ法などにより電荷発生材料の層を形成するか、またはその下地となる基板上に電荷発生材料を、バインダー樹脂を用いて結着してなる層を形成することによって得ることができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形成方法としては公知の方法など各種の方法を使用することができる。通常、例えば、電荷発生材料をバインダー樹脂と共に適当な溶媒により分散若しくは溶解した塗液組成物を、所定の下地となる基板上に塗布し、乾燥せしめて湿式成形体として得る方法が好適である。 The charge generation layer contains at least a charge generation material. This charge generation layer can be obtained by forming a layer of charge generation material on the underlying substrate by vacuum deposition or sputtering, or by forming a layer of charge generation material bound to the underlying substrate using a binder resin. Various methods, including well-known methods, can be used to form a charge generation layer using a binder resin. A commonly used method is to apply a coating composition, in which the charge generation material is dispersed or dissolved together with the binder resin in an appropriate solvent, to the underlying substrate, and then dry it to obtain a wet-formed body.

前記電荷発生層における電荷発生材料としては、公知の各種の材料を使用することができる。具体的な化合物としては、セレン単体(例えば、非晶質セレン、および三方晶セレンなど)、セレン合金(例えば、セレン-テルルなど)、セレン化合物もしくはセレン含有組成物(例えば、AsSeなど)、周期律表第12族および第16族元素からなる無機材料(例えば、酸化亜鉛、およびCdS-Seなど)、酸化物系半導体(例えば、酸化チタンなど)、シリコン系材料(例えば、アモルファスシリコンなど)、無金属フタロシアニン顔料(例えば、τ型無金属フタロシアニン、およびχ型無金属フタロシアニンなど)、金属フタロシアニン顔料(例えば、α型銅フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、ε型銅フタロシアニン、X型銅フタロシアニン、A型チタニルフタロシアニン、B型チタニルフタロシアニン、C型チタニルフタロシアニン、D型チタニルフタロシアニン、E型チタニルフタロシアニン、F型チタニルフタロシアニン、G型チタニルフタロシアニン、H型チタニルフタロシアニン、K型チタニルフタロシアニン、L型チタニルフタロシアニン、M型チタニルフタロシアニン、N型チタニルフタロシアニン、Y型チタニルフタロシアニン、Y型オキソチタニルフタロシアニン、α型オキソチタニルフタロシアニン、β型オキソチタニルフタロシアニン、X線回折図におけるブラック角2θが27.3±0.2度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシアニン、およびガリウムフタロシアニンなど)、シアニン染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリウム染料、スクアリウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料、チアピリリウム染料、ポリビニルカルバゾール、並びにビスベンゾイミダゾール顔料などが挙げられる。これら化合物は、1種を単独であるいは2種以上の化合物を混合して、電荷発生物質として用いることができる。これら電荷発生物質の中でも、好適な電荷発生物質としては、特開平11-172003号公報に具体的に記載の電荷発生物質が挙げられる。 As the charge generating material in the charge generating layer, various known materials can be used. Specific compounds include selenium alone (e.g., amorphous selenium and trigonal selenium), selenium alloys (e.g., selenium-tellurium), selenium compounds or selenium-containing compositions (e.g., As 2 Se 3 , etc.), inorganic materials consisting of elements of Groups 12 and 16 of the periodic table (for example, zinc oxide and CdS—Se, etc.), oxide-based semiconductors (for example, titanium oxide, etc.), silicon-based materials (for example, amorphous silicon, etc.), metal-free phthalocyanine pigments (for example, τ-type metal-free phthalocyanine and χ-type metal-free phthalocyanine, etc.), metal phthalocyanine pigments (for example, α-type copper phthalocyanine, β-type copper phthalocyanine, γ-type copper phthalocyanine, ε-type copper phthalocyanine, X-type copper phthalocyanine, A-type titanyl phthalocyanine, B-type titanyl phthalocyanine, C-type titanyl phthalocyanine, D-type titanyl phthalocyanine, E-type titanyl phthalocyanine, F-type titanyl phthalocyanine, G-type titanyl phthalocyanine, H-type titanyl phthalocyanine, K-type titanyl phthalocyanine, L-type titanyl phthalocyanine, M-type titanyl phthalocyanine, N-type titanyl phthalocyanine, [0033] Examples of suitable pigments include phthalocyanines, Y-type titanyl phthalocyanines, Y-type oxo-titanyl phthalocyanines, α-type oxo-titanyl phthalocyanines, β-type oxo-titanyl phthalocyanines, titanyl phthalocyanines that exhibit a strong diffraction peak at a Bragg angle 2θ of 27.3±0.2 degrees in an X-ray diffraction diagram, and gallium phthalocyanines), cyanine dyes, anthracene pigments, bisazo pigments, pyrene pigments, polycyclic quinone pigments, quinacridone pigments, indigo pigments, perylene pigments, pyrylium dyes, squalium pigments, anthanthrone pigments, benzimidazole pigments, azo pigments, thioindigo pigments, quinoline pigments, lake pigments, oxazine pigments, dioxazine pigments, triphenylmethane pigments, azulenium dyes, triarylmethane dyes, xanthine dyes, thiazine dyes, thiapyrylium dyes, polyvinylcarbazole, and bisbenzimidazole pigments. These compounds can be used alone or in combination as a charge generating material. Among these charge generating materials, the charge generating materials specifically described in JP-A-11-172003 are preferred.

前記電荷輸送層は、下地となる基板上に、電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着してなる層を形成することによって、湿式成形体として得ることができる。
前記した電荷発生層や電荷輸送層のバインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知の各種の樹脂を使用することができる。具体的には、例えば、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン-塩化ビニル共重合体、メタクリル樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコンアルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、スチレン-アルキッド樹脂、メラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、ニトロセルロース、カルボキシ-メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、ビニルトルエン-スチレン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリチオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、およびポリエステルアクリレートなどが挙げられる。
これらは、1種を単独で用いることもできるし、また、2種以上を混合して用いることもできる。なお、電荷発生層および/または電荷輸送層におけるバインダー樹脂としては、前記した本実施形態のPC重合体を使用することが好適である。
The charge transport layer can be obtained as a wet molded body by forming a layer on a substrate, which serves as a base, in which a charge transport material is bound with a binder resin.
The binder resin for the charge generating layer and charge transport layer is not particularly limited, and various known resins can be used. Specific examples include polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetal, alkyd resin, acrylic resin, polyacrylonitrile, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, phenol resin, polyamide, polyketone, polyacrylamide, butyral resin, polyester resin, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, methacrylic resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, melamine resin, and polyether resin. , benzoguanamine resin, epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, poly-N-vinyl carbazole, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polysulfone, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, nitrocellulose, carboxy-methyl cellulose, vinylidene chloride polymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyltoluene-styrene copolymer, soybean oil-modified alkyd resin, nitrated polystyrene, polymethylstyrene, polyisoprene, polythiocarbonate, polyarylate, polyhaloarylate, polyallyl ether, polyvinyl acrylate, and polyester acrylate.
These may be used alone or in combination of two or more. As the binder resin in the charge generating layer and/or charge transport layer, it is preferable to use the PC polymer of this embodiment described above.

電荷輸送層の形成方法としては、公知の各種の方式を使用することができるが、電荷輸送物質を本実施形態のPC重合体とともに適当な溶媒に分散または溶解した塗液組成物を、所定の下地となる基板上に塗布し、乾燥して湿式成形体として得る方法が好適である。電荷輸送層形成に用いられる電荷輸送物質とPC重合体との配合割合は、好ましくは質量比で20:80から80:20までの範囲、さらに好ましくは30:70から70:30までの範囲である。
この電荷輸送層において、本実施形態のPC重合体は1種単独で用いることもでき、また2種以上混合して用いることもできる。また、本発明の目的を阻害しない範囲で、他のバインダー樹脂を本実施形態のPC重合体と併用することも可能である。
Although various known methods can be used to form the charge transport layer, a preferred method is to apply a coating composition prepared by dispersing or dissolving a charge transport material together with the PC polymer of this embodiment in an appropriate solvent onto a substrate as a predetermined base, and then dry the resulting composition to obtain a wet molded body. The blending ratio of the charge transport material to the PC polymer used to form the charge transport layer is preferably in the range of 20:80 to 80:20 by mass, more preferably in the range of 30:70 to 70:30.
In the charge transport layer, the PC polymer of this embodiment can be used alone or in combination with two or more other binder resins, provided that the object of the present invention is not impaired.

このようにして形成される電荷輸送層の厚さは、通常5μm以上100μm以下程度、好ましくは10μm以上50μm以下、さらに好ましくは15μm以上40μm以下である。この厚さが5μm以上であれば、初期電位が低くなることもなく、100μm以下であれば、電子写真特性の低下を防ぐことができる。
本実施形態のPC重合体と共に使用できる電荷輸送物質としては、公知の各種の化合物を使用することができる。このような化合物としては、例えば、カルバゾール化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物、スチルベン化合物、フルオレノン化合物、ブタジエン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ-9-ビニルフェニルアントラセン、ピレン-ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれらの構造を主鎖や側鎖に有する重合体などが好適に用いられる。これら化合物は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
これら電荷輸送物質の中でも、特開平11-172003号公報において具体的に例示されている化合物、および以下の構造で表される電荷輸送物質が特に好適に用いられる。
The thickness of the charge transport layer thus formed is usually about 5 μm to 100 μm, preferably 10 μm to 50 μm, and more preferably 15 μm to 40 μm. If the thickness is 5 μm or more, the initial potential does not decrease, and if it is 100 μm or less, the electrophotographic properties can be prevented from deteriorating.
The charge transport material that can be used with the PC polymer of this embodiment may be any of various known compounds. Suitable examples of such compounds include carbazole compounds, indole compounds, imidazole compounds, oxazole compounds, pyrazole compounds, oxadiazole compounds, pyrazoline compounds, thiadiazole compounds, aniline compounds, hydrazone compounds, aromatic amine compounds, aliphatic amine compounds, stilbene compounds, fluorenone compounds, butadiene compounds, quinone compounds, quinodimethane compounds, thiazole compounds, triazole compounds, imidazolone compounds, imidazolidine compounds, bisimidazolidine compounds, oxazolone compounds, benzothiazole compounds, benzimidazole compounds, quinazoline compounds, benzofuran compounds, acridine compounds, phenazine compounds, poly-N-vinylcarbazole, polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polyvinylacridine, poly-9-vinylphenylanthracene, pyrene-formaldehyde resin, ethylcarbazole resin, and polymers having these structures in the main chain or side chain. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
Among these charge transport materials, the compounds specifically exemplified in JP-A No. 11-172003 and the charge transport materials represented by the following structures are particularly suitable.

なお、本実施形態に係る電子写真感光体においては、電荷発生層、電荷輸送層、および表面保護層の少なくともいずれかに本実施形態に係る樹脂組成物をバインダー樹脂として用いることが好適である。 In the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment, it is preferable to use the resin composition according to this embodiment as a binder resin in at least one of the charge generation layer, charge transport layer, and surface protection layer.

本実施形態に係る電子写真感光体においては、前記導電性基板と感光層との間に、通常使用されるような下引き層を設けることができる。この下引き層としては、例えば、微粒子(例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化インジウム、および酸化珪素など)、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、並びにポリビニルブチラール樹脂などの成分を使用することができる。また、この下引き層に用いる樹脂として、前記バインダー樹脂を用いてもよいし、本実施形態に係る樹脂組成物を用いてもよい。これら微粒子および樹脂は、単独または種々混合して用いることができる。これらの混合物として用いる場合には、無機質微粒子と樹脂を併用すると、平滑性のよい皮膜が形成されることから好適である。 In the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment, a commonly used undercoat layer can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. This undercoat layer can be made of components such as fine particles (e.g., titanium oxide, aluminum oxide, zirconia, titanic acid, zirconic acid, lanthanum lead, titanium black, silica, lead titanate, barium titanate, tin oxide, indium oxide, and silicon oxide), polyamide resin, phenolic resin, casein, melamine resin, benzoguanamine resin, polyurethane resin, epoxy resin, cellulose, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral resin. The resin used in this undercoat layer can be the binder resin described above or the resin composition according to this embodiment. These fine particles and resins can be used alone or in various mixtures. When used as a mixture, combining inorganic fine particles with a resin is preferable because it forms a coating with excellent smoothness.

この下引き層の厚みは、0.01μm以上10μm以下、好ましくは0.1μm以上7μm以下である。この厚みが0.01μm以上であると、下引き層を均一に形成することが可能となり、また10μm以下であると電子写真特性が低下することを抑制できる。
また、前記導電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公知のブロッキング層を設けることができる。このブロッキング層としては、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることができる。また本実施形態に係る樹脂組成物を用いてもよい。このブロッキング層の厚みは、0.01μm以上20μm以下、好ましくは0.1μm以上10μm以下である。この厚みが0.01μm以上であると、ブロッキング層を均一に形成することが可能となり、また20μm以下であると電子写真特性が低下することを抑制できる。
The thickness of the undercoat layer is from 0.01 μm to 10 μm, preferably from 0.1 μm to 7 μm. When the thickness is 0.01 μm or more, the undercoat layer can be formed uniformly, and when the thickness is 10 μm or less, deterioration of electrophotographic properties can be suppressed.
A commonly used known blocking layer can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. The same resin as the binder resin can be used as the blocking layer. The resin composition according to this embodiment can also be used. The thickness of the blocking layer is 0.01 μm or more and 20 μm or less, preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less. A thickness of 0.01 μm or more allows the blocking layer to be formed uniformly, and a thickness of 20 μm or less can prevent deterioration of electrophotographic properties.

さらに、本実施形態に係る電子写真感光体には、感光層の上に、保護層を積層してもよい。この保護層には、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることができる。また、本実施形態に係る樹脂組成物を用いることが特に好ましい。この保護層の厚みは、0.01μm以上20μm以下、好ましくは0.1μm以上10μm以下である。そして、この保護層には、前記電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、金属およびその酸化物、窒化物、または塩、合金、カーボンブラック、並びに有機導電性化合物などの導電性材料を含有していてもよい。 Furthermore, the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment may have a protective layer laminated on the photosensitive layer. This protective layer may be made of the same resin as the binder resin described above. It is particularly preferable to use the resin composition according to this embodiment. The thickness of this protective layer is 0.01 μm or more and 20 μm or less, and preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less. This protective layer may contain the charge generation material, charge transport material, additives, metals and their oxides, nitrides, salts, alloys, carbon black, and conductive materials such as organic conductive compounds.

さらに、この電子写真感光体の性能向上のために、本発明の効果を失わない範囲で前記電荷発生層および電荷輸送層には、結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤、および分光感度増感剤(増感染料)などを添加してもよい。また、繰り返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、および感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、およびレベリング剤などの添加剤を添加することができる。 Furthermore, to improve the performance of this electrophotographic photoreceptor, binders, plasticizers, curing catalysts, fluidity-imparting agents, pinhole control agents, and spectral sensitivity enhancers (sensitizing dyes) may be added to the charge generation layer and charge transport layer, as long as the effects of the present invention are not lost. Furthermore, various additives such as chemicals, antioxidants, surfactants, anti-curl agents, and leveling agents can be added to prevent an increase in residual potential, a decrease in charging potential, and a decrease in sensitivity due to repeated use.

前記結合剤としては、例えば、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合樹脂、およびポリエステルカーボネート樹脂などが挙げられる。また、熱硬化性樹脂および光硬化性樹脂の少なくとも一方も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し得る樹脂であり、本実施形態の効果を損なわない範囲であれば、特に制限はない。 Examples of binders include silicone resins, polyamide resins, polyurethane resins, polyester resins, epoxy resins, polyketone resins, polycarbonate copolymers, polystyrene resins, polymethacrylate resins, polyacrylamide resins, polybutadiene resins, polyisoprene resins, melamine resins, benzoguanamine resins, polychloroprene resins, polyacrylonitrile resins, ethyl cellulose resins, nitrocellulose resins, urea resins, phenolic resins, phenoxy resins, polyvinyl butyral resins, formal resins, vinyl acetate resins, vinyl acetate/vinyl chloride copolymer resins, and polyester carbonate resins. Thermosetting resins and/or photocurable resins can also be used. In any case, there are no particular limitations on the resin, as long as it is electrically insulating and capable of forming a film under normal conditions and does not impair the effects of this embodiment.

前記可塑剤の具体例としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、o-ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレート、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、およびフルオロ炭化水素などが挙げられる。 Specific examples of the plasticizer include biphenyl, chlorinated biphenyl, o-terphenyl, halogenated paraffin, dimethylnaphthalene, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethylene glycol phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methylphthalylethyl glycolate, dimethyl glycol phthalate, methylnaphthalene, benzophenone, polypropylene, polystyrene, and fluorohydrocarbons.

前記硬化触媒の具体例としては、例えば、メタンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、およびジノニルナフタレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤としては、例えば、モダフロー、およびアクロナール4Fなどが挙げられ、ピンホール制御剤としては、例えば、ベンゾイン、およびジメチルフタレートが挙げられる。これら可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、およびピンホール制御剤は、本発明の効果を失わない範囲で前記電荷輸送物質に対して、5質量%以下で用いることが好ましい。 Specific examples of the curing catalyst include methanesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and dinonylnaphthalenedisulfonic acid. Examples of fluidity imparting agents include Modaflow and Acronal 4F. Examples of pinhole control agents include benzoin and dimethyl phthalate. These plasticizers, curing catalysts, fluidity imparting agents, and pinhole control agents are preferably used in amounts of 5% by mass or less relative to the charge transport material, as long as the effects of the present invention are not lost.

また、分光感度増感剤としては、増感染料を用いる場合には,例えば、トリフェニルメタン系染料(例えば、メチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、およびビクトリアブルーなど)、アクリジン染料(例えば、エリスロシン、ローダミンB、ローダミン3R、アクリジンオレンジ、およびフラペオシンなど)、チアジン染料(例えば、メチレンブルー、およびメチレングリーンなど)、オキサジン染料(カプリブルー、およびメルドラブルーなど)、シアニン染料、メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリウム塩染料、並びにチオピリリウム塩染料などが適している。 When a sensitizing dye is used, suitable spectral sensitivity sensitizers include, for example, triphenylmethane dyes (e.g., methyl violet, crystal violet, night blue, and Victoria blue), acridine dyes (e.g., erythrosine, rhodamine B, rhodamine 3R, acridine orange, and flapeocin), thiazine dyes (e.g., methylene blue and methylene green), oxazine dyes (e.g., capri blue and meldola blue), cyanine dyes, merocyanine dyes, styryl dyes, pyrylium salt dyes, and thiopyrylium salt dyes.

感光層には、感度の向上、残留電位の減少、反復使用時の疲労低減などの目的で、本発明の効果を失わない範囲で電子受容性物質を添加することができる。その具体例としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、3-ニトロ無水フタル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼン、1,3,5-トリニトロベンゼン、p-ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、2,3-ジクロロベンゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、1-クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、4-ニトロベンゾフェノン、4,4’-ジニトロベンゾフェノン、4-ニトロベンザルマロンジニトリル、α-シアノ-β-(p-シアノフェニル)アクリル酸エチル、9-アントラセニルメチルマロンジニトリル、1-シアノ-(p-ニトロフェニル)-2-(p-クロロフェニル)エチレン、2,7-ジニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデン-(ジシアノメチレンマロノニトリル)、ポリニトロ-9-フルオレニリデン-(ジシアノメチレンマロノジニトリル)、ピクリン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、およびメリット酸などの電子親和力の大きい化合物が好ましい。これら化合物は電荷発生層および電荷輸送層のいずれに加えてもよく、その配合割合は、本発明の効果を失わない範囲で電荷発生物質または電荷輸送物質の量を100質量部としたときに、0.01質量部以上200質量部以下、好ましくは0.1質量部以上50質量部以下である。 Electron-accepting substances can be added to the photosensitive layer to improve sensitivity, reduce residual potential, and reduce fatigue during repeated use, as long as the effects of the present invention are not lost. Specific examples include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 3-nitrophthalic anhydride, 4-nitrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, mellitic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3,5-trinitrobenzene, p-nitrobenzonitrile, picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, bromanil, benzoquinone, 2,3-dichlorobenzoquinone, dichlorodicyanoparabenzoquinone, naphthoquinone, diphenoquinone, tropoquinone, anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, dinitroanthraquinone, 4-nitrobenzophenone, 4,4'-dinitro Compounds having a large electron affinity, such as benzophenone, 4-nitrobenzalmalondinitrile, α-cyano-β-(p-cyanophenyl)ethyl acrylate, 9-anthracenylmethylmalondinitrile, 1-cyano-(p-nitrophenyl)-2-(p-chlorophenyl)ethylene, 2,7-dinitrofluorenone, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidene-(dicyanomethylenemalononitrile), polynitro-9-fluorenylidene-(dicyanomethylenemalonodinitrile), picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid, phthalic acid, and mellitic acid, are preferred. These compounds may be added to either the charge generation layer or the charge transport layer, and the blending ratio is from 0.01 to 200 parts by weight, preferably from 0.1 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the charge generation substance or charge transport substance, within a range that does not impair the effects of the present invention.

また、表面性の改良のため、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体、並びにフッ素系グラフトポリマーなどを本発明の効果を失わない範囲で用いてもよい。これら表面改質剤の配合割合は、前記バインダー樹脂に対して、本発明の効果を失わない範囲で0.1質量%以上60質量%以下、好ましくは5質量%以上40質量%以下である。この配合割合が0.1質量%以上であれば、表面耐久性および表面エネルギー低下などの表面改質が充分となり、60質量%以下であれば、電子写真特性の低下を招くこともない。 In addition, to improve surface properties, tetrafluoroethylene resin, trifluorochloroethylene resin, tetrafluoroethylene hexafluoropropylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, difluorodichloroethylene resin, copolymers thereof, and fluorine-based graft polymers may be used as long as the effects of the present invention are not lost. The blending ratio of these surface modifiers relative to the binder resin is 0.1% by mass to 60% by mass, preferably 5% by mass to 40% by mass, as long as the effects of the present invention are not lost. A blending ratio of 0.1% by mass or more ensures sufficient surface modification, such as improved surface durability and reduced surface energy, while a blending ratio of 60% by mass or less does not result in a deterioration in electrophotographic properties.

前記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、および有機リン酸系酸化防止剤などが好ましい。これら酸化防止剤の配合割合は、本発明の効果を失わない範囲で前記電荷輸送物質に対して、通常、0.01質量%以上10質量%以下、好ましくは0.1質量%以上2質量%以下である。
このような酸化防止剤の具体例としては、特開平11-172003号公報の明細書に記載された化学一般式[化94]から[化101]の化合物が好適である。
これら酸化防止剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい、そして、これらは前記感光層のほか、表面保護層や下引き層、ブロッキング層に添加してもよい。
Preferred examples of the antioxidant include hindered phenol antioxidants, aromatic amine antioxidants, hindered amine antioxidants, sulfide antioxidants, and organic phosphoric acid antioxidants. The blending ratio of these antioxidants is usually 0.01% by mass to 10% by mass, preferably 0.1% by mass to 2% by mass, based on the charge transport material, within a range that does not impair the effects of the present invention.
Specific examples of such antioxidants include compounds represented by general chemical formulas [Chemical Formula 94] to [Chemical Formula 101] described in the specification of JP-A-11-172003.
These antioxidants may be used alone or in combination of two or more. They may be added to the surface protective layer, undercoat layer, and blocking layer in addition to the photosensitive layer.

前記電荷発生層および電荷輸送層の少なくとも一方の形成の際に使用する前記溶媒の具体例としては、例えば、芳香族系溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、およびクロロベンゼンなど)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、およびシクロヘキサノンなど)、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、およびイソプロパノールなど)、エステル(例えば、酢酸エチル、およびエチルセロソルブなど)、ハロゲン化炭化水素(例えば、四塩化炭素、四臭化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタンなど)、エーテル(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、およびジオキサンなど)、スルホキシド(例えば、ジメチルスルホキシドなど)、並びにアミド(例えば、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミドなど)などを挙げることができる。これらの溶媒は、1種単独で使用してもよく、あるいは、2種以上を混合溶媒として使用してもよい。 Specific examples of the solvent used in forming at least one of the charge generation layer and the charge transport layer include aromatic solvents (e.g., benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene), ketones (e.g., acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone), alcohols (e.g., methanol, ethanol, and isopropanol), esters (e.g., ethyl acetate and ethyl cellosolve), halogenated hydrocarbons (e.g., carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, chloroform, dichloromethane, and tetrachloroethane), ethers (e.g., tetrahydrofuran, dioxolane, and dioxane), sulfoxides (e.g., dimethyl sulfoxide), and amides (e.g., dimethylformamide and diethylformamide). These solvents may be used alone or in combination.

単層型電子写真感光体の感光層は、前記の電荷発生物質、電荷輸送物質、および添加剤を用い、本実施形態に係る樹脂組成物をバインダー樹脂として適用することで容易に形成することができる。また、電荷輸送物質としては前述したホール輸送性物質および電子輸送物質の少なくとも一方を添加することが好ましい。電子輸送物質としては、特開2005-139339号公報に例示される電子輸送物質が好ましく適用できる。
各層の塗布は公知の装置など各種の塗布装置を用いて行うことができ、具体的には、例えば、アプリケーター、スプレーコーター、バーコーター、チップコーター、ロールコーター、ディップコーター、およびドクターブレードなどを用いて行うことができる。
The photosensitive layer of a single-layer electrophotographic photoreceptor can be easily formed by using the charge generating material, charge transport material, and additives described above, and applying the resin composition according to this embodiment as a binder resin. It is preferable to add at least one of the hole transport material and the electron transport material described above as the charge transport material. The electron transport material exemplified in JP-A-2005-139339 can be preferably used.
The application of each layer can be carried out using various coating devices such as known devices, specifically, for example, an applicator, a spray coater, a bar coater, a tip coater, a roll coater, a dip coater, and a doctor blade.

電子写真感光体における感光層の厚さは、5μm以上100μm以下、好ましくは8μm以上50μm以下であり、これが5μm以上であると初期電位が低くなることを防ぐことができ、100μm以下であると電子写真特性が低下することを抑制することができる。電子写真感光体の製造に用いられる電荷発生物質:樹脂組成物の比率は、質量比で20:80から80:20の範囲であることが好ましく、30:70から70:30の範囲であることがより好ましい。 The thickness of the photosensitive layer in the electrophotographic photoreceptor is 5 μm or more and 100 μm or less, preferably 8 μm or more and 50 μm or less. A thickness of 5 μm or more can prevent a decrease in initial potential, while a thickness of 100 μm or less can suppress a decrease in electrophotographic characteristics. The ratio of charge-generating material to resin composition used in the manufacture of the electrophotographic photoreceptor is preferably in the range of 20:80 to 80:20 by mass, and more preferably in the range of 30:70 to 70:30.

このようにして得られる電子写真感光体は、感光層中に本実施形態に係る樹脂組成物からなる高分子反応により改質された樹脂をバインダー樹脂として有しているため、耐久性などの特性に優れるとともに、優れた電気特性(電子写真特性)を有しており、長期間にわたって優れた電子写真特性を維持する感光体である。そして、電子写真感光体は、複写機(モノクロ、マルチカラー、フルカラー、アナログ、デジタル)、プリンター(レーザー、LED、液晶シャッター)、ファクシミリ、製版機、およびこれら複数の機能を有する機器など各種の電子写真分野に好適に用いられる。 The electrophotographic photoreceptor obtained in this manner has a resin modified by a polymer reaction from the resin composition according to this embodiment as a binder resin in the photosensitive layer. Therefore, it has excellent properties such as durability, as well as excellent electrical properties (electrophotographic properties), and is a photoreceptor that maintains excellent electrophotographic properties over an extended period of time. The electrophotographic photoreceptor is suitable for use in a variety of electrophotographic applications, including copiers (monochrome, multicolor, full-color, analog, digital), printers (laser, LED, liquid crystal shutter), facsimiles, platemaking machines, and devices with multiple functions.

[電子写真感光体の製造方法]
本実施形態に係る電子写真感光体の製造方法は、本実施形態に係る塗液組成物を湿式成形法で導電性基体に塗布する工程と、加熱を行うことにより、この塗液組成物中の有機溶剤を除去する工程と、この有機溶剤を除去する工程における加熱と同時、または引き続き加熱を行うことにより、この塗液組成物中の樹脂組成物の高分子反応を行う工程と、を備える方法である。
[Method of Manufacturing Electrophotographic Photoreceptor]
The method for producing an electrophotographic photoreceptor according to this embodiment includes the steps of applying the coating composition according to this embodiment to a conductive substrate by a wet molding method, removing the organic solvent in the coating composition by heating, and causing a polymer reaction of the resin composition in the coating composition by heating simultaneously with or subsequent to the heating in the step of removing the organic solvent.

導電性基体に塗布する工程において、塗液組成物の塗布厚みは、本実施形態に係る電子写真感光体の感光層の厚さに応じて、適宜設定できる。
有機溶剤を除去する工程において、本実施形態に係る塗液組成物における有機溶剤の種類に応じて、適宜設定できる。
樹脂組成物の高分子反応を行う工程において、加熱温度は、本実施形態に係る成形物における電子写真感光体向けの反応温度と同様である。
In the step of applying the coating liquid composition to the conductive substrate, the coating thickness of the coating liquid composition can be appropriately set depending on the thickness of the photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor according to this embodiment.
In the step of removing the organic solvent, the amount of the organic solvent can be appropriately set depending on the type of the organic solvent in the coating liquid composition according to this embodiment.
In the step of carrying out the polymer reaction of the resin composition, the heating temperature is the same as the reaction temperature for the electrophotographic photoreceptor in the molded product according to this embodiment.

次に、本発明を実施例および比較例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の思想を逸脱しない範囲での種々の変形および応用が可能である。 Next, the present invention will be explained in more detail using examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples, and various modifications and applications are possible within the scope of the concept of the present invention.

[製造例:モノマーの調製]
<製造例1:9-(4-ヒドロキシフェニル)アントラセンの合成>
メカニカルスターラー、撹拌羽根、邪魔板、還流管を装着した反応容器をArで置換し、9-ブロモアントラセン(117g)、4-メトキシフェニルボロン酸(117g)、トルエン/エタノール混合溶媒(3.0L)を仕込み、室温で10分間撹拌した。
続いて2NのKCO水溶液(875mL)を加え、反応液にアルゴンを吹込30分間吹込んだ。脱気後、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(32.4g)を添加し、加熱還流下18時間撹拌した。
反応液に酢酸エチルを加え抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮して粗生成物(360g)を得た。
続いてトルエンを展開溶媒としたカラムクロマトグラフィーにより不純物を除去し、トルエン/ヘキサン混合溶媒で再結晶し、9-(4-メトキシフェニル)アントラセン(145g)を得た。
メカニカルスターラー、撹拌羽根、邪魔板を装着した反応容器をArで置換し、上記で得た9-(4-メトキシフェニル)アントラセン(97g)、ジクロロメタン(1.2L)を仕込み、-75℃に冷却した。この中に三臭化ホウ素(98g)のジクロロメタン溶液(0.5L)を3時間かけて滴下した。滴下終了後、徐々に室温まで昇温し、続けて24時間撹拌を継続した。
その後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。イオン交換水(1L)を加え、酢酸エチル(1L)で2回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで脱水し、濃縮して粗生成物(120g)を得た。
続いて酢酸エチル/ヘキサンを展開溶媒としたカラムクロマトグラフィーにより不純物を除去し、酢酸エチル/ヘキサン混合溶媒で再結晶し、続いてクロロホルム/ヘキサンで再沈殿を行い、9-(4-ヒドロキシフェニル)アントラセン(66g)を得た。
[Production Example: Preparation of Monomer]
<Production Example 1: Synthesis of 9-(4-hydroxyphenyl)anthracene>
A reaction vessel equipped with a mechanical stirrer, a stirring blade, a baffle, and a reflux condenser was purged with Ar, and 9-bromoanthracene (117 g), 4-methoxyphenylboronic acid (117 g), and a toluene/ethanol mixed solvent (3.0 L) were charged and stirred at room temperature for 10 minutes.
Subsequently, 2N aqueous K2CO3 solution (875 mL ) was added, and argon was bubbled into the reaction solution for 30 minutes. After degassing, tetrakistriphenylphosphine palladium (32.4 g) was added, and the mixture was stirred under heating and reflux for 18 hours.
Ethyl acetate was added to the reaction mixture for extraction, and the organic layer was washed with saturated brine, dried over sodium sulfate, and concentrated to obtain a crude product (360 g).
Subsequently, impurities were removed by column chromatography using toluene as a developing solvent, and the residue was recrystallized from a toluene/hexane mixed solvent to obtain 9-(4-methoxyphenyl)anthracene (145 g).
A reaction vessel equipped with a mechanical stirrer, stirring blades, and baffles was purged with Ar, and the 9-(4-methoxyphenyl)anthracene (97 g) obtained above and dichloromethane (1.2 L) were charged and cooled to -75°C. A dichloromethane solution (0.5 L) of boron tribromide (98 g) was added dropwise to the vessel over 3 hours. After the dropwise addition was completed, the temperature was gradually raised to room temperature, and stirring was continued for 24 hours.
The reaction mixture was then poured into ice water and extracted three times with ethyl acetate. Ion-exchanged water (1 L) was added, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (1 L). The organic layer was washed with saturated brine, dehydrated over sodium sulfate, and concentrated to obtain a crude product (120 g).
Subsequently, impurities were removed by column chromatography using ethyl acetate/hexane as a developing solvent, and the residue was recrystallized from an ethyl acetate/hexane mixed solvent, followed by reprecipitation from chloroform/hexane to obtain 9-(4-hydroxyphenyl)anthracene (66 g).

[製造例:オリゴマーの調製]
<製造例2:ビスフェノールCZオリゴマー(ビスクロロホーメート)の合成>
1,1-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(ビスフェノールZ)66.3g(224ミリモル)を塩化メチレン1080mLで懸濁し、そこにホスゲン66.0g(667ミリモル)を加えて溶解させた。これにトリエチルアミン44.0g(435ミリモル)を塩化メチレン120mLに溶解させた液を、温度5℃から15℃の範囲で滴下した。次に、30分間撹拌後、塩化メチレンを所定濃度になるまで留去した。残液に、純水210mL、濃塩酸1.2g、ハイドロサルファイト450mgを加え洗浄した。その後、純水210mLで5回洗浄を繰り返し、分子末端にクロロホーメート基を有するビスフェノールCZオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られた溶液のクロロホーメート濃度は1.13モル/L、固形物濃度は0.247kg/L、平均量体数は1.05であった。以後この得られた原料をCZ-CFという。
[Production Example: Preparation of Oligomer]
<Production Example 2: Synthesis of bisphenol CZ oligomer (bischloroformate)>
66.3 g (224 mmol) of 1,1-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane (bisphenol Z) was suspended in 1,080 mL of methylene chloride, and 66.0 g (667 mmol) of phosgene was added and dissolved therein. A solution of 44.0 g (435 mmol) of triethylamine dissolved in 120 mL of methylene chloride was added dropwise to the suspension at a temperature between 5°C and 15°C. After stirring for 30 minutes, the methylene chloride was distilled off until the desired concentration was reached. The remaining liquid was washed with 210 mL of pure water, 1.2 g of concentrated hydrochloric acid, and 450 mg of hydrosulfite. This was followed by five washes with 210 mL of pure water, yielding a methylene chloride solution of bisphenol CZ oligomer having chloroformate groups at the molecular terminals. The resulting solution had a chloroformate concentration of 1.13 mol/L, a solids concentration of 0.247 kg/L, and an average number of monomers of 1.05. Hereinafter, this obtained raw material will be referred to as CZ-CF.

なお、下記一般式(X1)で表されるビスクロロホーメート化合物の平均量体数(n)は、次の数式(数1)を用いて求めた。
平均量体数(n)=1+(Mav-M1)/M2・・・(数1)
(前記数式(数1)において、Mavは(2×1000/(CF価))であり、M2は(M1-98.92)であり、M1は、下記一般式(X1)において、n=1のときのビスクロロホーメート化合物の分子量であり、CF価(N/kg)は(CF値/濃度)であり、CF値(N)は反応溶液1Lに含まれる下記一般式(X1)で表されるビスクロロホーメート化合物中のクロル原子数であり、濃度(kg/L)は反応溶液1Lを濃縮して得られる固形分の量である。ここで、98.92は、ビスクロロホーメート化合物同士の重縮合で脱離する2個の塩素原子、1個の酸素原子および1個の炭素原子の合計の原子量である。)
なお、2種類以上の原料を用いてビスクロロホーメートを合成した場合の平均量体数を求める際には、用いた原料の分子量をモル比で平均した分子量に基づきM1を算出して求める。例として、分子量268のモノマーを366モル、分子量214のモノマーを108モル使用して合成した場合、M1は、 次の計算式で算出される。
M1=(268×(366÷(366+108)))+214×(108÷(366+108))+124.9
このM1の計算式における「124.9」は、使用するモノマーの水素原子2つが無くなり、炭素原子、酸素原子、および塩素原子がそれぞれ2つ増加した際の分子量増分である。
The average number of monomers (n x ) of the bischloroformate compound represented by the following general formula (X1) was calculated using the following formula (Equation 1).
Average number of molecules ( n
(In the above formula (Mathematical Formula 1), Mav is (2×1000/(CF value)), M2 is (M1−98.92), M1 is the molecular weight of the bischloroformate compound when nX = 1 in the following general formula (X1), the CF value (N/kg) is (CF value/concentration), the CF value (N) is the number of chlorine atoms in the bischloroformate compound represented by the following general formula (X1) contained in 1 L of reaction solution, and the concentration (kg/L) is the amount of solids obtained by concentrating 1 L of the reaction solution. Here, 98.92 is the total atomic weight of the two chlorine atoms, one oxygen atom, and one carbon atom that are eliminated by polycondensation of the bischloroformate compounds themselves.)
When synthesizing bischloroformate using two or more raw materials, the average number of monomers is calculated by averaging the molecular weights of the raw materials used in the synthesis using a molar ratio to calculate M1. For example, when synthesis is performed using 366 moles of a monomer with a molecular weight of 268 and 108 moles of a monomer with a molecular weight of 214, M1 is calculated using the following formula:
M1=(268×(366÷(366+108)))+214×(108÷(366+108))+124.9
The "124.9" in the formula for M1 is the molecular weight increase when two hydrogen atoms are lost from the monomer used and two carbon atoms, two oxygen atoms, and two chlorine atoms are added.

前記一般式(X1)において、ArX1は、2価の基である。例えば、製造例2に係るビスクロロホーメート化合物(ビスフェノールCZオリゴマー)の場合は、下記一般式(10)で表される2価の基が、ArX1に相当する。 In the general formula (X1), Ar X1 is a divalent group. For example, in the case of the bischloroformate compound (bisphenol CZ oligomer) according to Production Example 2, a divalent group represented by the following general formula (10) corresponds to Ar X1 :

前記一般式(1A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマーの場合は、Ar33が、ArX1に相当し、n31が、nに相当する。
前記一般式(2A)で表されるビスクロロホーメートオリゴマーの場合は、Ar34が、ArX1に相当し、n32が、nに相当する。
In the case of the bischloroformate oligomer represented by the general formula (1A), Ar 33 corresponds to Ar X1 , and n 31 corresponds to nX .
In the case of the bischloroformate oligomer represented by the general formula (2A), Ar 34 corresponds to Ar X1 , and n 32 corresponds to nX .

<製造例3:ビスフェノールCオリゴマー(ビスクロロホーメート)の合成>
2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールC)57.3g(224ミリモル)を塩化メチレン1080mLで懸濁し、そこにホスゲン66.0g(667ミリモル)を加えて溶解させた。これにトリエチルアミン44.0g(435ミリモル)を塩化メチレン120mLに溶解させた液を、温度5℃から15℃の範囲で滴下した。次に、30分間撹拌後、塩化メチレンを所定濃度になるまで留去した。残液に、純水210mL、濃塩酸1.2g、ハイドロサルファイト450mgを加え洗浄した。その後、純水210mLで5回洗浄を繰り返し、分子末端にクロロホーメート基を有するビスフェノールCZオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られた溶液のクロロホーメート濃度は1.13モル/L、固形物濃度は0.215kg/L、平均量体数は1.00であった。以後この得られた原料をC-CFという。
<Production Example 3: Synthesis of bisphenol C oligomer (bischloroformate)>
57.3 g (224 mmol) of 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane (bisphenol C) was suspended in 1,080 mL of methylene chloride, and 66.0 g (667 mmol) of phosgene was added and dissolved therein. A solution of 44.0 g (435 mmol) of triethylamine dissolved in 120 mL of methylene chloride was added dropwise to the suspension at a temperature between 5 and 15°C. After stirring for 30 minutes, the methylene chloride was distilled off until the desired concentration was reached. The remaining liquid was washed with 210 mL of pure water, 1.2 g of concentrated hydrochloric acid, and 450 mg of hydrosulfite. This was followed by five washes with 210 mL of pure water, yielding a methylene chloride solution of bisphenol CZ oligomer having chloroformate groups at the molecular terminals. The resulting solution had a chloroformate concentration of 1.13 mol/L, a solids concentration of 0.215 kg/L, and an average number of monomers of 1.00. Hereinafter, this obtained raw material will be referred to as C-CF.

[合成例1]
(PC重合体の製造)
メカニカルスターラー、撹拌羽根、邪魔板を装着した反応容器に、製造例2のCZ-CF(69mL)と塩化メチレン(121mL)を注入した。これに末端停止剤として製造例1の9-(4-ヒドロキシフェニル)アントラセン(0.637g)を添加し、十分に混合されるように撹拌した。反応器内の温度が10℃になるまで冷却した後、この溶液に調製した1,1-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン水酸化カリウム溶液(溶液調製法:1.8Nの水酸化カリウム水溶液63mL(水酸化カリウム7.3g)を調製し、室温以下に冷却した後、酸化防止剤としてハイドロサルファイトを100mgを添加し、完全に溶解して調製した)を全量添加し、撹拌しながらトリエチルアミン水溶液(7vol%)を1.0mL添加し、1時間撹拌を継続した。
得られた反応混合物を塩化メチレン300mL、水50mLLで希釈し、洗浄を行った。下層を分離し、さらに水100mLで1回、0.03N塩酸100mLで1回、水100mLで3回の順で洗浄を行った。得られた塩化メチレン溶液を、撹拌下メタノールに滴下投入し、得られた再沈物をろ過、乾燥することにより下記構造のPC重合体(PC-1)を得た。
[Synthesis Example 1]
(Production of PC polymer)
CZ-CF (69 mL) from Production Example 2 and methylene chloride (121 mL) were poured into a reaction vessel equipped with a mechanical stirrer, stirring blades, and baffles. 9-(4-hydroxyphenyl)anthracene (0.637 g) from Production Example 1 was added as an end-capping agent, and the mixture was stirred to ensure thorough mixing. After cooling the temperature inside the reactor to 10°C, the entire amount of the 1,1-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane potassium hydroxide solution (solution preparation method: 63 mL of 1.8 N aqueous potassium hydroxide solution (7.3 g of potassium hydroxide) was prepared, cooled to below room temperature, and then 100 mg of hydrosulfite was added as an antioxidant and completely dissolved) was added to the solution. While stirring, 1.0 mL of an aqueous triethylamine solution (7 vol%) was added, and stirring was continued for 1 hour.
The resulting reaction mixture was diluted with 300 mL of methylene chloride and 50 mL of water and washed. The lower layer was separated and further washed once with 100 mL of water, once with 100 mL of 0.03 N hydrochloric acid, and three times with 100 mL of water, in that order. The resulting methylene chloride solution was added dropwise to methanol with stirring, and the resulting reprecipitate was filtered and dried to obtain a PC polymer (PC-1) having the following structure.

(PC重合体の特定)
このようにして得られたPC重合体(PC-1)を塩化メチレンに溶解して、濃度0.5g/dLの溶液を調製し、20℃における還元粘度[ηsp/C]を測定したところ、1.06dL/gであった。なお、得られたPC-1の構造および組成をH-NMRスペクトルにより分析したところ、下記の繰り返し単位、繰り返し単位数、組成、および末端組成からなるPC重合体であることが確認された。なお、以下の記載において、「DE1」は、一般式(DE1)で表される構造である。
また、還元粘度は、離合社製、自動粘度測定装置VMR-042を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計(RM型)で測定した。H-NMRスペクトルは、日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置JNM-ECZ400Sで測定した。また、H-NMRスペクトルの測定条件は以下のとおりである。
(Identification of PC polymer)
The PC polymer (PC-1) thus obtained was dissolved in methylene chloride to prepare a solution with a concentration of 0.5 g/dL, and the reduced viscosity [ηsp/C] at 20°C was measured and found to be 1.06 dL/g. Analysis of the structure and composition of the obtained PC-1 by 1H -NMR spectroscopy confirmed that it was a PC polymer consisting of the following repeating unit, number of repeating units, composition, and terminal composition. In the following description, "DE1" refers to the structure represented by general formula (DE1).
The reduced viscosity was measured with an improved Ubbelohde viscometer for automatic viscosity (RM type) using an automatic viscosity measuring device VMR-042 manufactured by Rigo Co., Ltd. The 1 H-NMR spectrum was measured with a nuclear magnetic resonance spectrometer JNM-ECZ400S manufactured by JEOL Ltd. The measurement conditions for the 1 H-NMR spectrum were as follows:

H-NMRスペクトルの測定条件)
・溶媒 :CDCl
・測定濃度(サンプル量/溶媒量):10mg/mL
・積算回数:16回
( 1H -NMR spectrum measurement conditions)
Solvent : CD2Cl2
Measurement concentration (sample amount/solvent amount): 10 mg/mL
・Number of times accumulated: 16 times

組成比(モル%)は、BisCZ:DE1=97:3である。
また、全末端に対するDE1成分のモル組成は98.7%であり、残りの1.3%は1,1-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンの未反応で残存したOH基であった。
アントラセン濃度は、0.09mmol/gである。
The composition ratio (mol %) of BisCZ:DE1 was 97:3.
The molar composition of the DE1 component relative to all terminals was 98.7%, with the remaining 1.3% being unreacted OH groups remaining in 1,1-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane.
The anthracene concentration is 0.09 mmol/g.

[合成例2]
(PC重合体の製造)
メカニカルスターラー、撹拌羽根、邪魔板を装着した反応容器に、製造例3のC-CF(109mL)と塩化メチレン(91mL)を注入した。これに末端停止剤としてN-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド(以下、Male1と表記)(2.87g)をアセトン40mLに溶解して添加し、十分に混合されるように撹拌した。反応器内の温度が10℃になるまで冷却した後、2.4mol/Lの炭酸カリウム水溶液10mL(炭酸カリウム3.3g、および酸化防止剤としてハイドロサルファイトを0.1g)を添加し、撹拌しながらトリエチルアミン水溶液(7vol%)を2.0mL添加し、30分撹拌した。この溶液に調製した2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン(BisC)溶液(溶液調製法:2.0mol/Lの水酸化カリウム水溶液57mL(水酸化カリウム6.3gを調製し、室温以下に冷却した後、BisC8.1gを添加して調製した)を全量添加し、さらに30分撹拌を継続した。
得られた反応混合物を塩化メチレン0.5L、水0.1Lで希釈し、洗浄を行った。下層を分離し、さらに水0.15Lで1回、0.03N塩酸0.15Lで1回、水0.15Lで3回の順で洗浄を行った。得られた塩化メチレン溶液を、撹拌下メタノールに滴下投入し、得られた再沈物をろ過、乾燥することにより下記構造のPC重合体(PC-2)を得た。
[Synthesis Example 2]
(Production of PC polymer)
C-CF (109 mL) from Production Example 3 and methylene chloride (91 mL) were poured into a reaction vessel equipped with a mechanical stirrer, stirring blades, and baffles. To this was added 2.87 g of N-(4-hydroxyphenyl)maleimide (hereinafter referred to as Male 1) dissolved in 40 mL of acetone as a terminal terminator, followed by stirring to ensure thorough mixing. After cooling the reactor to a temperature of 10°C, 10 mL of a 2.4 mol/L aqueous potassium carbonate solution (3.3 g of potassium carbonate and 0.1 g of hydrosulfite as an antioxidant) was added, followed by stirring for 30 minutes. To this solution, the entire amount of the prepared 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane (BisC) solution (solution preparation method: 57 mL of a 2.0 mol/L aqueous potassium hydroxide solution (6.3 g of potassium hydroxide was prepared, cooled to room temperature or below, and then 8.1 g of BisC was added) was added, and stirring was continued for another 30 minutes.
The resulting reaction mixture was diluted with 0.5 L of methylene chloride and 0.1 L of water and washed. The lower layer was separated and further washed once with 0.15 L of water, once with 0.15 L of 0.03 N hydrochloric acid, and three times with 0.15 L of water, in that order. The resulting methylene chloride solution was added dropwise to methanol with stirring, and the resulting reprecipitate was filtered and dried to obtain a PC polymer (PC-2) having the following structure.

(PC重合体の特定)
このようにして得られたPC重合体(PC-2)を塩化メチレンに溶解して、濃度0.5g/dLの溶液を調製し、20℃における還元粘度[ηsp/C]を測定したところ、0.19dL/gであった。なお、得られたPC-2の構造および組成をH-NMRスペクトルにより分析したところ、下記の繰り返し単位、繰り返し単位数、および組成からなるPC重合体であることが確認された。
(Identification of PC polymer)
The PC polymer (PC-2) thus obtained was dissolved in methylene chloride to prepare a solution with a concentration of 0.5 g/dL, and the reduced viscosity [ηsp/C] at 20°C was measured and found to be 0.19 dL/g. The structure and composition of the obtained PC-2 were analyzed by 1 H-NMR spectroscopy, and it was confirmed that the PC-2 was a PC polymer consisting of the following repeating units, number of repeating units, and composition:

組成比(モル%)は、BisC:Male1=86:14である。
ジエノフィル基(マレイミド基)濃度は、0.50mmol/gである。
The composition ratio (mol %) of BisC:Male1 was 86:14.
The dienophile group (maleimide group) concentration is 0.50 mmol/g.

[実施例1]
[作製1]高分子反応の確認
PC-1を2.97g、PC-2を0.53gスクリューキャップ付きのサンプルチューブに計り取り、ジクロロメタン15mLに溶解して、塗液組成物を得た。
得られた塗液組成物を、ギャップ500μmのアプリケーターを用い、平滑なガラス板にキャスト成膜した。1時間風乾した後、フィルムをガラス板から剥離し、真空乾燥機(減圧度は1~100Pa)で温度50℃、16時間処理し溶剤を除去して、塗布部分の膜厚が70μmの樹脂フィルムを得た。
得られた樹脂フィルムをサンプルとして、真空乾燥機で下記の加熱処理の条件で、加熱処理し、分子量分布の変化を、下記条件にて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で確認した。
なお、サンプルは、20mLサンプル瓶に試料10mgを精密天秤で秤量し、THF10mLを加え溶解する。0.45μmのカートリッジ式フィルターを通して、バイアル瓶に採取する。
(GPCの条件)
SEC装置:東ソー社製 HLC-8420 GPCカラム:東ソー社製 TSKguardcolumn HXL-H 1本 + TSKgel GMH-XL 2本 + G2000H-XL 1
本溶媒:THF(和光純薬工業製安定剤不含特級)
検出器:示差屈折率(RI)検出器
濃度:0.1w/v%
注入量:100μL
流速:1.0mL/min
カラム温度:40℃
検量線用標準試料:東ソー社製 TSK標準ポリスチレン
得られた分子量分布を図1に示す。また、加熱処理の条件ごとの、分子量と、加熱温度および加熱時間との関係を示すグラフを図2に示す。
(加熱処理の条件)
(i)温度150℃、1時間
(ii)温度150℃、2時間
(iii)温度150℃、3時間
(iv)温度200℃、1時間
[Example 1]
[Preparation 1] Confirmation of Polymer Reaction 2.97 g of PC-1 and 0.53 g of PC-2 were weighed out into a sample tube with a screw cap and dissolved in 15 mL of dichloromethane to obtain a coating liquid composition.
The resulting coating composition was cast onto a smooth glass plate using an applicator with a gap of 500 μm to form a film. After air-drying for 1 hour, the film was peeled off from the glass plate and treated in a vacuum dryer (reduced pressure: 1 to 100 Pa) at a temperature of 50°C for 16 hours to remove the solvent, yielding a resin film with a coating thickness of 70 μm.
The obtained resin film was used as a sample and was heat-treated in a vacuum dryer under the following heat treatment conditions, and the change in molecular weight distribution was confirmed by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
The sample was prepared by weighing 10 mg of sample into a 20 mL sample bottle using a precision balance, dissolving it in 10 mL of THF, and passing it through a 0.45 μm cartridge filter into a vial.
(GPC conditions)
SEC device: Tosoh Corporation HLC-8420 GPC column: Tosoh Corporation TSKguard column HXL-H 1 tube + TSKgel GMH-XL 2 tubes + G2000H-XL 1 tube
Main solvent: THF (special grade without stabilizers manufactured by Wako Pure Chemical Industries)
Detector: Refractive index (RI) detector Concentration: 0.1 w/v%
Injection volume: 100μL
Flow rate: 1.0mL/min
Column temperature: 40°C
Standard sample for calibration curve: TSK standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation The molecular weight distribution obtained is shown in Figure 1. Figure 2 is a graph showing the relationship between molecular weight, heating temperature, and heating time for each heat treatment condition.
(Heat treatment conditions)
(i) Temperature 150℃, 1 hour (ii) Temperature 150℃, 2 hours (iii) Temperature 150℃, 3 hours (iv) Temperature 200℃, 1 hour

[実施例2]
(共重合体と反応性物質を含む電子写真感光体感光層塗布用塗液の調製、および積層型電子写真感光体の作製)
導電性基体として膜厚100μmのアルミニウム板を用い、その表面に、電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して、積層型感光層を形成した電子写真感光体を製造した。電荷発生物質としてY型オキソチタニウムフタロシアニン0.5質量部を用い、バインダー樹脂としてブチラール樹脂0.5質量部を用いた。これらを溶媒のTHF19質量部に加え、ボールミルにて分散し、この分散液をバーコーターにより、前記導電性基体フィルム表面に塗工し、70℃、30分間乾燥させることにより、膜厚約0.5μmの電荷発生層を形成した。
次に、電荷輸送層用の塗液組成物として、PC-1(2.97g:アントラセン基0.27mmol)、PC-2(0.53g:マレイミド基0.27mmol)、および下記構造の電荷輸送物質(CTM-1(2.34g))をスクリューキャップ付きのサンプルチューブに計り取り、ジクロロメタン30mLに溶解して、電荷輸送層の塗液組成物を得た。樹脂塗液は室温で1週間以上ゲル化など起こすことが無く、塗液として安定であることを確認した。
[Example 2]
(Preparation of a coating liquid for coating a photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor containing a copolymer and a reactive substance, and production of a laminated electrophotographic photoreceptor)
An electrophotographic photoreceptor was manufactured using a 100 μm thick aluminum plate as a conductive substrate, with a charge generation layer and a charge transport layer sequentially laminated on its surface to form a laminated photosensitive layer. 0.5 parts by weight of Y-type oxotitanium phthalocyanine was used as the charge generation material, and 0.5 parts by weight of butyral resin was used as the binder resin. These were added to 19 parts by weight of THF solvent and dispersed in a ball mill. The dispersion was applied to the surface of the conductive substrate film using a bar coater and dried at 70° C. for 30 minutes to form a charge generation layer with a thickness of approximately 0.5 μm.
Next, PC-1 (2.97 g: 0.27 mmol of anthracene groups), PC-2 (0.53 g: 0.27 mmol of maleimide groups), and a charge transport material having the following structure (CTM-1 (2.34 g)) were weighed into a screw-capped sample tube and dissolved in 30 mL of dichloromethane to obtain a coating composition for the charge transport layer. The resin coating liquid was confirmed to be stable as a coating liquid, remaining at room temperature for more than one week without gelling.

得られた塗液組成物を、ギャップ375μmのアプリケーターを用い、上記で得た電荷発生層の上にキャスト成膜した。1時間風乾した後、真空乾燥機(減圧度は1Paから100Pa)で温度50℃、16時間処理し、溶剤を除去して、塗布部分の膜厚が30μmの樹脂フィルムを得た。
上記で得た積層型の電子写真感光体、および同電子写真感光体をさらに真空乾燥機で温度150℃、1時間処理したものについて、φ60mmのアルミドラムに貼りつけ、電子写真特性を静帯電試験装置CYNTHIA54IM(ジェンテック株式会社製)を用い、EVモードにて表面電位の光減衰特性を評価した。得られた感光体は、光量に応じて表面電位が減衰し、初期帯電量の1/2以下まで表面電位が低減することを確認し、同組成物が電子写真感光体として機能することを確認した。得られた結果を図3に示す。
次に、上記電子写真感光体の耐摩耗性を確認するため、最表層である電荷輸送層と同じ組成の塗液を調製し、ギャップ250μmのアプリケーターを用い、市販の200μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムにキャスト成膜した。1時間風乾した後、真空乾燥機(減圧度は1Paから100Pa)で温度50℃、16時間処理し、溶剤を除去して、塗布部分の膜厚が20μmの樹脂フィルムを得た。
上記で得た電荷輸送性組成物フィルム、および同フィルムをさらに真空乾燥機で温度150℃、1時間処理したものについて、樹脂フィルムのキャスト面の耐摩耗性をスガ摩耗試験機NUS-ISO-3型(スガ試験機社製)を用いて評価した。試験条件は4.9Nの荷重をかけた摩耗紙(粒径3μmのアルミナ粒子を含有)をキャスト面(感光層表面を模した面)と接触させて800回往復運動を行い、質量減少量(摩耗量、単位:mg)を測定した。得られた結果を表1に示す。
The resulting coating composition was cast onto the charge generating layer using an applicator with a gap of 375 μm to form a film. After air drying for 1 hour, the film was treated in a vacuum dryer (reduced pressure: 1 Pa to 100 Pa) at 50° C. for 16 hours to remove the solvent, yielding a resin film with a coating thickness of 30 μm.
The laminated electrophotographic photoreceptor obtained above, and the electrophotographic photoreceptor further treated in a vacuum dryer at 150°C for 1 hour, were attached to a φ60mm aluminum drum, and the electrophotographic characteristics were evaluated using a CYNTHIA54IM electrostatic charge tester (manufactured by Gentec Co., Ltd.) in EV mode to evaluate the photoelectric decay characteristics of the surface potential. It was confirmed that the surface potential of the obtained photoreceptor decayed depending on the amount of light, decreasing to less than half of the initial charge amount, confirming that the composition functions as an electrophotographic photoreceptor. The results are shown in Figure 3.
Next, to check the abrasion resistance of the electrophotographic photoreceptor, a coating liquid having the same composition as the outermost charge transport layer was prepared, and cast onto a commercially available polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 200 μm using an applicator with a gap of 250 μm. After air-drying for 1 hour, the coating was treated in a vacuum dryer (reduced pressure: 1 Pa to 100 Pa) at a temperature of 50° C. for 16 hours to remove the solvent, yielding a resin film having a thickness of 20 μm in the coated area.
The abrasion resistance of the cast surface of the resin film obtained above, and that of the same film further treated in a vacuum dryer at 150°C for 1 hour, were evaluated using a Suga abrasion tester, NUS-ISO-3 model (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). The test conditions were as follows: abrasion paper (containing 3 μm alumina particles) was applied with a load of 4.9 N and brought into contact with the cast surface (a surface simulating the photosensitive layer surface) and moved back and forth 800 times, and the mass loss (abrasion amount, unit: mg) was measured. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
実施例2におけるPC-1およびPC-2の代わりに下記構造であり、濃度0.5g/dLの溶液を調製し、20℃における還元粘度[ηsp/C]が1.19dL/gのポリカーボネート(PCA)を用い、電荷輸送層組成物フィルムを調製し、上記と同様に耐摩耗性を評価した。得られた結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Instead of PC-1 and PC-2 in Example 2, a 0.5 g/dL solution of polycarbonate (PCA) having the following structure and a reduced viscosity [ηsp/C] at 20°C of 1.19 dL/g was prepared, and a charge transport layer composition film was prepared. The abrasion resistance was evaluated in the same manner as above. The results are shown in Table 1.

表1に示す結果から、実施例2は、150℃加熱により、PC-1とPC-2のポリマー化反応が進行し、高分子量化することで摩耗量が47%低減しており、反応性樹脂の耐摩耗性が優れることが確認された。
また、比較例1に対して実施例2の摩耗量が9%小さな値であることから、本樹脂が耐摩耗性に優れることが確認された。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that in Example 2, heating at 150°C caused the polymerization reaction between PC-1 and PC-2 to proceed, resulting in a high molecular weight, which reduced the amount of wear by 47%, demonstrating the excellent wear resistance of the reactive resin.
Furthermore, the amount of wear in Example 2 was 9% smaller than that in Comparative Example 1, confirming that the resin of the present invention has excellent wear resistance.

Claims (13)

芳香族ポリカーボネートおよびポリアリレートからなる群から選択される少なくとも1つの樹脂であって、下記一般式(DE1)で表される構造を含む、
樹脂。
(前記一般式(DE1)において、
Rは、各々独立に、
炭素数1以上、12以下の脂肪族炭化水素基、
環形成炭素数6以上、12以下の芳香族炭化水素基、
炭素数1以上、10以下のアルコキシ基、または
ハロゲン原子であり、
また、複数のRが連結された環状構造(芳香族環、および複素環を含む)を形成してもよく、
nは、0以上、4以下の整数を表し、
mは、0以上、9以下の整数を表す。)
At least one resin selected from the group consisting of aromatic polycarbonates and polyarylates, which has a structure represented by the following general formula (DE1):
resin.
(In the general formula (DE1),
Each R is independently
an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms;
an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 ring carbon atoms;
an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom;
In addition, a plurality of R may be linked to form a cyclic structure (including an aromatic ring and a heterocyclic ring),
n represents an integer of 0 to 4,
m represents an integer of 0 or more and 9 or less.
請求項1に記載の樹脂において、
下記一般式(S1)で表される構造を含む、
樹脂。
The resin according to claim 1,
Including a structure represented by the following general formula (S1):
resin.
請求項1に記載の樹脂、並びに、ジエノフィル構造を含む化合物または樹脂を含む、
樹脂組成物。
The resin according to claim 1 and a compound or resin containing a dienophile structure.
Resin composition.
請求項3に記載の樹脂組成物において、
前記ジエノフィル構造は、下記一般式(DP1)で表される構造を含む、
樹脂組成物。
(前記一般式(DP1)において、
は、単結合、または他の骨格との連結基であり、
当該連結基としてのXは、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子およびホウ素原子からなる群から選択される少なくともいずれかの原子を含み、連結基を構成する原子同士の結合様式が全て共有結合からなる基である。)
The resin composition according to claim 3,
The dienophile structure includes a structure represented by the following general formula (DP1):
Resin composition.
(In the general formula (DP1),
X2 is a single bond or a linking group to another skeleton,
X2 as the linking group contains at least one atom selected from the group consisting of carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, silicon atom, phosphorus atom and boron atom, and is a group in which all of the atoms constituting the linking group are bonded together by covalent bonds.
請求項3または請求項4に記載の樹脂組成物において、
前記樹脂組成物が、下記成分(i)、下記成分(ii)、および下記成分(iii)から選択されるいずれかの成分を含む、樹脂組成物。
(i)高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造を持つ高分子と、ジエノフィル基を持つ化合物(ii)高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造を持つ高分子と、高分子鎖にジエノフィル構造を持つ高分子(iii)一本の高分子鎖に前記一般式(DE1)で表される構造およびジエノフィル構造の双方の構造を持つ高分子
The resin composition according to claim 3 or claim 4,
The resin composition comprises any one component selected from the following component (i), component (ii), and component (iii):
(i) A polymer having a structure represented by the general formula (DE1) in the polymer chain and a compound having a dienophile group. (ii) A polymer having a structure represented by the general formula (DE1) in the polymer chain and a polymer having a dienophile structure in the polymer chain. (iii) A polymer having both the structure represented by the general formula (DE1) and a dienophile structure in a single polymer chain.
請求項3から請求項5のいずれか一項に記載の樹脂組成物と、有機溶剤と、を含む、
塗液組成物。
The resin composition according to any one of claims 3 to 5 and an organic solvent,
Coating liquid composition.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む、
フィルム。
The resin according to claim 1 or claim 2 is included.
film.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む、
コーティング膜。
The resin according to claim 1 or claim 2 is included.
Coating film.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む層を有する、
電子写真感光体。
A layer containing the resin according to claim 1 or 2.
Electrophotographic photoreceptor.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む、
絶縁材料。
The resin according to claim 1 or claim 2 is included.
Insulating material.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む、
成形物。
The resin according to claim 1 or claim 2 is included.
Molded object.
請求項1または請求項2に記載の樹脂を含む、
電子デバイス。
The resin according to claim 1 or claim 2 is included.
Electronic devices.
請求項3から請求項5のいずれか一項に記載の樹脂組成物を加熱することにより、前記樹脂組成物の高分子反応を行う工程、を有する、
樹脂の製造方法。
A step of heating the resin composition according to any one of claims 3 to 5 to perform a polymer reaction of the resin composition,
Resin manufacturing method.
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